KR830005167A - 테트라졸 유도체 및 그것의 제조방법과 그것을 포함하는 궤양 치료제 - Google Patents
테트라졸 유도체 및 그것의 제조방법과 그것을 포함하는 궤양 치료제Info
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (6)
- 다음 구조식 테트라졸 유도체 및 그 유도체의 약리적으로 허용되는 염의 제조방법으로서,위 식에서 R1은 수소, 저급알킬, 사이크로알킬 또는 페닐이고;A는 유황 또는 저급알킬렌-티오이며;ℓ는 0 또는 1이고; B는 저급알키렌이며,R3및 R4는 같거나 다를수가 있으며, 그 각기는 수소 또는 저급알킬 또는 사이크로알킬 또는 페닐 또는 사이크로아크릴(저급) 알킬, 또는 페닐(저급) 알킬, 또는 하이드록시(저급) 알킬 또는 질소, 산소, 유황으로 구성된 그룹으로부터 선택한 하나 또는 2개의 이형원자를 포함하는 포화 또는 불포화 헤테로사이클 그룹 또는 그 포화 또는 불포화 헤테로 사이클 그룹으로 치환된 저급알킬이거나 또한 그 R3및 R4는 그것들이 산소 또는 질소와 중간 개입이 있고 또는 없이 결합되는 질소원자와 함께 결합하여 저급알킬 또는 저급알카노일로 치환될 수 있는 포화 또는 불포화 헤테로사이클 그룹을 형성할 수 있으며; 그 사이크로알킬, 페닐, 페닐(저급)알킬은 사이크로알킬 또는 페닐링에 저급알콕시, 저급알킬, 할로겐, N,N-디(저급알킬아미노, 니트로, 아미노설퍼닐, 하이드록시, 저급알카노이옥시로 구성되는 그룹으로부터 선택한 하나 또는 두개의 치환체를 가질 수 있으며, 다음 구조식의 카르복시산 화합물(식중의 R1,A,ℓ,B는 전술한 바와 같다) 또는 그 반응 유도체를 구조식,(R4는 전술한 바와 같음)의 아민 또는 그 유도체로 반응시키는 것을 포함하는 방법.
- 다음 구조식의 테트라졸 유도체 및 약리적으로 허용되는 그 유도체 염의 제조방법으로서 식중의R1는 수소 또는 저급알킬 또는 사이크로알킬 또는 페닐이며; A는 유황 또는 저급알킬렌티오이며; ℓ'는 1; B는 저급알킬렌; R2는 하이드록시 또는 저급알콕시 또는그룹이며, 그 그룹의 식중의 R3및 R4는 같거나 다를 수가 있으며, 그 각기는 수소 또는 저급알킬 또는 사이크로알킬 또는 페닐, 또는 사이크로아크릴(저급) 알킬, 또는 페닐(저급)알킬, 또는 하이드록시(저급)알킬, 또는 질소, 산소, 유황으로 구성되는 그룹으로부터 선택한 하나 또는 두개의 이형 원자를 포함하는 포화 또는 불포화 헤테로사이클 그룹 또는 포화 또는 불포화 헤테로사이클 그룹으로 치환되는 저급알킬이 되거나 또는 R3및 R4가 함께 그들이 산소 또는 질소와 중간 개입이 있거나 또는 없이 결합되게 되어 있는 질소 원자와 결합하여 저급알킬 또는 저급알카노일로 치환할 수 있는 포화 또는 불포화 헤테로사이클 그룹을 형성하며, 전기 사이크로알킬 및 페닐 및 페닐(저급) 알킬이 그 사이크로알킬 또는 페닐링에 저급알콕시, 저급알킬, 할로겐, N,N-디(저급) 알킬아미노, 니트로, 아미노설퍼닐, 하이드록시, 저급알카노일옥시로 구성되는 그룹에서 선택한 하나 또는 두개의 치환체를 가지고 있으며 다음 구조식의 5-메르카프터 테트라졸 유도체.를 (식에서 R1,A,ℓ'는 전술한 바와 같음)구조식 X-B-COR2[V](식중의 X는 할로겐이며 B 및 R2는 전술한 바와같음)의 할로우알케인 카르복시산 유도체로 반응시키는 것을 포함하는 방법.
- 다음 구조식의 테트라졸 유도체 또는 그 유도체의 양리상 허용되는 염의 제조방법으로서,식중의 R1은 수소, 저급알킬, 사이크로알킬 또는 페닐이며; B는 저급알킬렌, R5는 저급알킬이며; 동 사이크로알킬 및 페닐은 링에 저급알콕시, 저급알킬, 할로겐, N,N-디(저급) 알킬아미노, 니트로, 아미노설포닐, 하이드록시, 저급알카노일옥시로 구성되는 그룹으로부터 선택한 하나 또는 두개의 치환체를 가질수 있으며, 구조식R5OOC-B-CONHR1(Ⅶ)(식중의 R5, B, R1은 전술한 바와 같음)의 카르복시산아미드를 포스포로스펜타클로라이드와 다음 차례로 하이드로젠아지드로 반응시키는 것을 포함하는 방법.
- 구조식의 테트라졸 유도체 및 그 유도체의 양리상 허용되는 염의 제조방법으로서 구조식 중의 R1은 수소 또는 저급 알킬 또는 사이크로알킬 또는 페닐이고; D는 저급알킬렌이며; B는 저급알킬렌이고; R2는 하이드록시 또는 저급알콕시 또는 그룹이며, 이 식중의 R3및 R4는 같거나 다를수가 있으며, 그 각기는 수소 또는 저급알킬, 또는 사이크로알킬, 또는 페닐, 또는 사이크로아크릴(저급) 알킬, 또는 페닐(저급) 알킬, 또는 하이드록시(저급) 알킬 또는 질소, 산소, 유황으로 구성된 그룹으로부터 선택한 하나 또는 두개의 이형원자를 가진 포화 또는 불포화 헤테로사이클 그룹 또는 상기 포화 또는 불포화 헤테로사이클 그룹으로 치환한 저급알킬 등이며 또한 R3및 R4는 그들이 중간 개입이 있거나 또는 없이 산소 또는 질소와 결합되게 되어있는 질소원자와 함께 결합하여 저급알킬 또는 저급알카노일로 치환할 수 있는 포화 또는 불포화 헤테로사이클 그룹을 형성할 수 있으며, 상기 사이클로알킬, 페닐, 페닐(저급)알킬은 사이크로알킬 또는 페닐링에 저급알콕시, 저급알킬, 할로겐, N,N-디(저급)알킬아미노, 니트로, 아미노설포닐, 하이드록시, 저급알카노일옥시로 구성된 그룹으로부터 선택한 하나 또는 두개의 치환물을 가질수도 있게 되어있으며 구조식,(R1및 D는 전기한 바와같고 X는 할로겐이다)의 테트라졸 화합물을 구조식 HS-B-COR2(XII)(B 및 R2는 전기와 같음)의 메르카프터 화합물과 반응시키는 것을 포함하는 방법.
- 구조식:의 테트라졸 유도체의 제조방법으로서 식중의 R1은 수소 또는 저급알킬 또는 사이크로알킬 또는 페닐알킬이고, (A)는 유황 또는 저급알킬렌-티오; ℓ는 0 또 1이고; B는 저급알킬렌이며, R5는 저급알킬이고; 전기 사이크로알킬 및 페닐은 링에 저급알콕시, 저급알킬, 할로겐, N,N-디(저급)알킬아미노, 니트로, 아미노설포닐, 하이드록시, 저급알카노일옥시로 구성되는 그룹에서 선택한 하나 또는 두개의 치환체를 가질 수 있게 되어있고구조식 :(R1,A,ℓ,B는 전술한 바와같다)의 테트라졸 유도체를 에스테르화 반응을 받게하는 것을 포함하는 방법.
- 구조식,의 테트라졸 유도체의 제조방법으로서, 식중의 R1을 수소 또는 저급알킬 또는 사이크로알킬 또는 페닐이고; A는 유황 또는 저급알킬렌-티오이며; ℓ는 0 또는 1이고; B는 저급알킬렌이며; 전기 사이크로알킬 및 페닐은 링그에 저급알콕시, 저급알킬, 할로겐, N,N-디(저급)알킬아미노, 니트로, 아미노설포닐, 하이드록시, 저급알카노일옥시 등으로 구성되는 그룹으로부터 선택한 하나 또는 두개의 치환을 가질수 있게 되어있고 구조식:(식중의 R1,A,ℓ,B는 전술한 바와같고 R5는 저급알킬임)의 테트라졸 유도체를 가수분해를 하게하는 것을 포함하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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1984
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| KR840001578B1 (ko) | 1984-10-08 |
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