KR830004318A - 새로운 세펨 화합물의 제조방법 - Google Patents

새로운 세펨 화합물의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR830004318A
KR830004318A KR1019800003907A KR800003907A KR830004318A KR 830004318 A KR830004318 A KR 830004318A KR 1019800003907 A KR1019800003907 A KR 1019800003907A KR 800003907 A KR800003907 A KR 800003907A KR 830004318 A KR830004318 A KR 830004318A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
compound
carboxy
group
salt
Prior art date
Application number
KR1019800003907A
Other languages
English (en)
Inventor
쯔도무 데라지
가즈오 사까네
지로오 고도오
Original Assignee
후지사와 유우기찌로오
후지사와 야꾸힝 고오교오 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지사와 유우기찌로오, 후지사와 야꾸힝 고오교오 가부시끼가이샤 filed Critical 후지사와 유우기찌로오
Priority to KR1019800003907A priority Critical patent/KR830004318A/ko
Publication of KR830004318A publication Critical patent/KR830004318A/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/38—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof
    • C07D501/46—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

새로운 세펨 화합물의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (6)

  1. 하기 구조식(2)의 화합물과 하기 구조식(3)의 화합물을 반응시켜서 하기 구조식(1)의 신규의 세펨화합물을 제조하는 방법.
    (1) 식에서
    R1은 아미노 또는 보호된 아미노기;
    R2는 수소, 적절한 치환물로 대치될 수 있는 저급 알킬, 저급알케닐, 저급 알키닐, 시클로(저급)알킬, 시클로(저급)알케닐, 또는 옥소기로 치환된 0함유 5-성분의 헤테로시클릭기; R3는 하기 구조식의 기 :단 X는 수소 또는 카르바모일임; 및 R4는 -COO-; 또는 R3는 2-저급알킬 -5-옥소-6-히드록시-2,5-디히드로-1,2,4-트리아지닐티오; 및 R4는 카르복시 또는 보호된 카르복시, 또는 제약학적으로 바람직한 이것의 염 :
    (2) 식에서
    R3와 R4는 위에서 정의한 대로이고, 혹은 아미노기 또는 그것의 염이다 :
    (3) 식에서
    R1과 R2는 위에서 정의한 대로이고, 혹은 카르복시기에 반응성 유도체를 지닌것 또는 그것의 염이다.
  2. 하기 구조식(2)의 화합물과 하기 구조식(3)의 화합물을 반응시켜 하기 구조식(1)의 화합물을 제조하는 방법.
    (3) R3b
    (1) 식에서
    R1는 아미노 또는 보호된 아미노기 : R2는 수소, 적절한 치환물로 치환될 수 있는 저급 알킬, 저급 알케닐, 저급알키닐, 시클로(저급)알킬, 시클로(저급)알케닐 또는 옥소기로 치환된 0함유 5-성분의 헤테로시클릭기임 ;
    R3는 하기 구조식의 기 :단 R4는 수소 또는 카르바모일 : 및 R4는 -COO-임; 또는 R3는 2-저급알킬-5-옥소-6-히드록시-2,5-디히드로-1,2,4-트리아지닐티오; 및 R4는 카르복시 또는 보호된 카르복시, 또는 제약학적으로 적절한 그것의 염 :
    (2) 식에서
    R1과 R2는 위에서 정의한 대로이고; R3a는 R3가 위에서 정의한 대로인 R3의 구조식의 기로 치환될 수 있는 기; 및 R4a는 R3가 하기 구조식 화합물일 경우 카르복시임; 또는 R4a는 R3b가 다음과 같을 경우 카르복시 또는 보호된 카르복시임 : R3c-H, 단 R3c는 2-저급알킬-5-옥소-6-히드록시-2,5-디히드로-1,2,4-트리아지닐티오; 또는 그것의 염 :
    (3) 식에서
    R3b는 위에서 정의한 대로이고, 혹은 그것의 반응성 유도체임.
  3. 하기 구조식(2)의 화합물을 카르복시 보호기의 제거 반응에 가하여 하기 구조식(1)의 화합물을 제조하는 방법.
    (1) 식에서
    R1는 아미노 또는 보호된 아미노기 : R2b는 카르복시(저급)알킬; R3는 하기 구조식의 기 :
    단, X는 수소 또는 카르바모일임; 및 R4는 -COO-임; 또는 R3는 2-저급알킬-5-옥소-6-히드록시-2,5-디히드로-1,2,4-트리아지닐티오; 및 R4는 카르복시 또는 보호된 카르복시; 또는 제약학적으로 바람직한 그것의 염.
    (2) 식에서
    R1,R3와 R4는 위에서 정의한 대로이고, R2a는 보호된 카르복시(저급)알킬 또는 그것의 염임.
  4. 하기 구조식(2)의 화합물을 히드록시 보호기의 제거 반응에 가하여 하기 구조식(1)의 화합물을 제조하는 방법.
    (1) 식에서
    R1는 아미노 또는 보호된 아미노기; R3는 하기 구조식의 기 :단 X는 수소 또는 카르바모일; 및 R4는 -COO-: 또는 R3는 2-저급알킬-5-옥소-6-히드록시-2,5-디히드로-1,2,4-트리아지닐티오; 및 R4는 카르복시 또는 보호된 카르복시, 또는 제약적으로 적절한 그것의 염임 :
    (2) 식에서
    R1,R3와 R4는 위에서 정의한 대로이고, R2c는 히드록시 보호기 또는 그것의 염이다.
  5. (가)하기 구조식(2)의 화합물을 하기 구조식(3)의 화합물과 반응시켜서 하기 구조식(1)의 화합물 제조하거나(2(나)하기 구조식(1)'를 카르복시 보호기의 제거반응에 가하여 하기 구조식(2)'를 제조하는 방법.
    (1) 식에서
    R1는 아미노 또는 보호된 아미노기; R2는 수소, 적절한 치환물로 치환될 수 있는 저급알킬, 저급알케닐 저급알키닐, 시클로(저급)알킬, 시클로(저급)알케닐, 또는 옥소기로 치환된 0함유 5-성분 헤테로시클릭기; R3d는 저급 알카노일(저급)알카노일옥시 및 R4b는 카르복시 또는 보호된 카르복시, 또는 그것의 염임.
    (2) 식에서
    R3d와 R4b는 위에서 정의한 대로이고, 혹은 아미노기에 그것의 반응성 유도체를 지닌 것 또는 그것의 염임.
    (3) 식에서
    R1과 R2는 위에서 정의한 대로이고, 혹은 카르복시기에 그것의 반응성 유도체를 지닌 것 또는 그것의 염임.
    (1)'식에서
    R1,R3d와 R4b는 위에서 정의한 대로이고, R2a는 보호된 카르복시(저급)알킬, 또는 그것의 염임.
    (2)'식에서
    R1,R3d와 R4b는 위에서 정의한 대로이며, R2b는 카르복시(저급)알킬 또는 그것의 염임.
  6. 하기 구조식(2)의 화합물을 하기 구조식(3)의 화합물과 반응시켜서 하기 구조식(1)의 화합물을 제조하는 방법.
    (1) 식에서
    X는 수소 또는 카르바모일 또는 그것의 염,
    (2) 식에서
    R2e는 하기 구조식의 기로 치환될 수 있는 기임 :단, X는 위에서 정의한 대로 또는 그것의 염임.
    (3) 식에서
    X는 위에서 정의한 대로임.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019800003907A 1980-10-11 1980-10-11 새로운 세펨 화합물의 제조방법 KR830004318A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019800003907A KR830004318A (ko) 1980-10-11 1980-10-11 새로운 세펨 화합물의 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019800003907A KR830004318A (ko) 1980-10-11 1980-10-11 새로운 세펨 화합물의 제조방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR830004318A true KR830004318A (ko) 1983-07-09

Family

ID=54847103

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019800003907A KR830004318A (ko) 1980-10-11 1980-10-11 새로운 세펨 화합물의 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR830004318A (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES8204739A1 (es) Un procedimiento para preparar compuestos de cefem
KR900009598A (ko) 혈관평활근 이완작용을 가진 화합물과 그의 제조방법
KR880012526A (ko) l-페닐-3-나프탈레닐옥시프로판아민
EP0356214A3 (en) Thiazolidine dione derivatives
KR830004277A (ko) 모르폴린 유도체
KR870006039A (ko) 신규 티아졸 화합물, 그 제조방법 및 이 화합물을 함유하는 약학적 조성물
JPS55136266A (en) Derivatives of 2-imidazoline
IE41528L (en) Furfuryl-benzomorphane derivatives.
ATE59632T1 (de) Dihydrodibenzocycloheptylidenethylamin-derivate
ES8800145A1 (es) Un procedimiento para preparar un derivado de semicarbazida
KR860008111A (ko) 인딘과 나프탈렌 유도체의 제조방법
KR830009067A (ko) 2-치환된 하이드록시이미노-2(5-아미노-1,2,4-티아디아졸-3-일) 초산 혹은 그것의 염 그리고 그것의 중간생성물의 제조방법
KR860003247A (ko) 티아디아진 화합물 및 그 염의 제조방법
KR850004493A (ko) 헤테로사이클릭 그룹을 함유하는 이미다조 퀴놀린 유도체의 제조방법
KR830004318A (ko) 새로운 세펨 화합물의 제조방법
KR830001900A (ko) 페닐모르판과 그의 중간물질및 제조방법
KR840005426A (ko) 피리딜알킬 나이트레이트 화합물의 제조방법
ES392848A1 (es) Un procedimiento para la preparacion de nuevos derivados de indenopirrol.
KR860001815A (ko) 옥타하이드로-옥사졸로[4,5-g]퀴놀린의 제조방법
KR880013896A (ko) 벤조푸로[3,2-c]퀴놀린 화합물
KR920002594A (ko) 5-이소티아졸아민 유도체
ES446132A1 (es) Un procedimiento para la preparacion de nuevos derivados de acido 2-alquil (inferior)-2 o 3-cefem-4-carboxilico.
KR830004316A (ko) 7α-메톡시 세팔로스포린 유도체, 그들의 제조방법 및 이들을 함유하는 항균제의 제조방법
KR840008012A (ko) 아미노에틸-피리딘 및 -피라진유도체의 제조방법
GB1420758A (en) Anti-ulcer compositions