KR830001293A - 7-아미노티아졸릴아세트 아미도 세팔로스포라닉산으로 부터 유도된 생성물 제조에 대한 새로운 공정 - Google Patents

7-아미노티아졸릴아세트 아미도 세팔로스포라닉산으로 부터 유도된 생성물 제조에 대한 새로운 공정 Download PDF

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KR830001293A
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hydrogen atom
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alkyl
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쥬리엔 워넌트
진 죠리
Original Assignee
후리텔 허버트
로우셀 우크라프
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B31—MAKING ARTICLES OF PAPER, CARDBOARD OR MATERIAL WORKED IN A MANNER ANALOGOUS TO PAPER; WORKING PAPER, CARDBOARD OR MATERIAL WORKED IN A MANNER ANALOGOUS TO PAPER
    • B31F—MECHANICAL WORKING OR DEFORMATION OF PAPER, CARDBOARD OR MATERIAL WORKED IN A MANNER ANALOGOUS TO PAPER
    • B31F1/00—Mechanical deformation without removing material, e.g. in combination with laminating
    • B31F1/20—Corrugating; Corrugating combined with laminating to other layers
    • B31F1/24—Making webs in which the channel of each corrugation is transverse to the web feed
    • B31F1/26—Making webs in which the channel of each corrugation is transverse to the web feed by interengaging toothed cylinders cylinder constructions
    • B31F1/28—Making webs in which the channel of each corrugation is transverse to the web feed by interengaging toothed cylinders cylinder constructions combined with uniting the corrugated webs to flat webs ; Making double-faced corrugated cardboard
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract

내용 없음

Description

7-아미노티아졸릴아세트 아미도 세팔로스포라닉산으로 부터 유도된 생성물 제조에 대한 새로운 공정
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (1)

  1. 구조식 I에 해당하는 생성물을 제조하는 공정으로써
    여기서 R은 아미노기에 대한 보호그룹이고, ns는 0-2의 정수를 나타내고 R1은
    (1) 하이드록실기에 대한 보호그룹 또는
    (2) 1-4의 탄소 원자를 가진 포화 또는 불포화 알킬기 또는
    (3)기를 나타내며 여기서 R5는
    ① CO2R6기이며 R6는 1-3의 탄소원자를 가진 알킬기 또는 쉽게 치환될 수 있는 에스테르 그룹 또는
    ② 나트릴기 또는
    ③ 카르바모일기 -CONH2이며 R'와 R"는 각각 하나의 수소원자 또는 1-3의 탄소 원자를 가진 알킬기를 나타낸다.
    (4)기로서 X는 황 또는 산소 원자이며 R7은
    ① 1-4탄소 원자를 가진 알킬 또는 알콕실기 또는
    ② 페닐기 또는
    ③기로서 n은 0-4의 정수이고, R8과 R9은 같은 것이거나 다른 것일 수있으며
    -아미노그룹에 대한 보호 그룹 또는
    -수소 원자 또는
    -1-4탄소원자를 가진 알킬기 또는
    -R8과 R9는 질소 원자로서 피페리디노, 모르폴리노 또는 프탈리미도 그룹을 나타낸다.
    (5)기 이며 여기서 A'는 쉽게 치환될 수 입는 에스테르 그룹이고 R10은 수소원자나 1-4의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타내고 R11은 페닐 또는 니트릴기를 나타낸다. 또한
    (6)의 구조식을 가진 γ-락톤 또는 -(CH2)nR12기로서 n'는 1-4의 정수를 나타내고 R12는
    ① 알콕시기 또는 1-4의 탄소원자를 갖는이며 n's는 0-2의 정수를 나타낸다. 또한
    ②이며 여기서 R13,R14는
    -수소 원자 또는
    -아미노기에 대한 보호 그룹 또는-1-4의 탄소원자를 갖는 알킬기이며 R13과 R14는 동시에 수소원자를 나타낼 수 없고 R13과 R14는 질소원자로서 프탈리미도 또는 1-피리디닐그룹을 형성한다.
    -n'가 1이 아닐때는 니트릴기 또는
    -기로서 X'는 황 원자를 나타내며 가 1이 아닐때는 산소원자를 나타낸다. 또는
    -4-메틸 또는 4-아미노 1,3-티아졸-2-일기 또는
    -1,2,3,4,-테트라졸-5-일기 또는
    -아지도기 또는
    -2-4 탄소 원자를 갖는 아실기 또는
    -할로겐원자 또는
    --S-R15기로서 R15는 페닐기 또는 황, 질소 그리고 산소로부터 선택된 1-4의 헤테로 원자로구성된 5 또는 6개의 결합을 가진 헤테로 사이클릭 아로마틱기
    R2는 수소원자 또는 쉽게 치환될 수 있는 에스테르 그룹을 나타내며,
    R3와 R4는
    (1) R3는 수소원자를 나타내고 R4는 수소원자 또는 1-4의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타내거나, 또는
    (2) R4는 수소원자를 나타내고 R3는
    ① 클로로 또는 메톡시기 또는
    ② 최대한 5의 탄소원자를 갖는 알킬, 사이클로알킬 또는 알킬티오기 또는
    ③ -CH2-S-R16기로서 R16는
    -질소를 함유하는 헤테로 사이클릭기 또는
    -2-4탄소 원자를 가진 아실기 또는
    -2-옥소(3H)-티아졸린-4-일 카르보닐기 또는
    3-메틸 1,2-옥사졸-2-일-카르보닐기를 나타낸다.
    ④ 아세트옥시메틸 또는 카르바모일옥시 메틸기 또는
    ⑤기로서 Al ka는 1-4의 탄소원자를 포함한다.
    (3) R1이 하이드록실기에 대한 보호 그룹이거나 최대한 4의 탄소원자를 가진 포화 또는 불포화 알킬기 또는 -(CH2)naRa1기 Ra1은 R6a가 쉽게 치환될 수있는 에스테르를 나타내는 -(CH2)naRa1기 이거나 R13a가아미노기 또는 벤죠일기에 대한 보호그룹을 나타내는기 이다)를 나타낼때, R3는 아지도메틸기를 나타내며 이러한 생성물(I)을 생성하는 공정에 있어서 구조식(II)의 물질이 쓰이며,
    R,R1은 전술한 의미를 가지며 Ad는 수소원자나 알칼리 금속 또는 아미노 유기염기에 해당하는 것을 나타내며, 이것은 구조식(A)에 해당하는 물질과 반응하며,
    여기서 Y,Z는 ①Y가 토실 도는 메실이온을 나타내고 Z가 할로겐 이온을 나타내거나 ②Y 와 Z가 각각 토실이온을 나타내거나 ③ 또는 Y와 Z가 각각 메실이온을 나타내며, 이로써 구조식(III)에 해당하는 생성물이 얻어진다.
    이것은 염기존재하에서 반응하여 구조식(IV)의 생성물이 얻어지며,
    R2'는 R2를 나타내거나 알칼리금속 또는 아민 유기 염기에 해당하는 것을 나타내며 R3와 R4와 ns는 전술한 의미를 가지며 산의 첨가로 구조식(I)의 생성물을 얻는 공정.
    ※참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019790003664A 1979-10-22 1979-10-22 7-아미노티아졸릴아세트 아미도 세팔로스포라닉산으로 부터 유도된 생성물 제조에 대한 새로운 공정 KR830001293A (ko)

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