KR20240118330A - 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물 - Google Patents

티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물 Download PDF

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KR20240118330A
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권병완
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Abstract

본 발명은 황산 100중량부 기준으로, 무수크롬산 12 내지 15중량부; 붕산 0.3 내지 0.5중량부; 유기산 1.5 내지 3중량부; 붕불산 0.1 내지 0.3중량부; 불화암모늄 0.4 내지 0.8중량부; 및 수산화나트륨 1 내지 1.5중량부를 포함하는 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물을 제공한다.
본 발명에 따른 양극산화 피막처리 전해액 조성물, 특정적으로 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물은 티타늄 스캔바디부를 양극산화 피막처리시 전압 및 시간에 따라 다양한 색상이 발현될 수 있도록 하는 효과가 있다.

Description

티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물{Electrolyte Compositions of Anodaizing Solution for Titanium Scanbody}
본 발명은 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물 및 이를 이용한 티타늄 스캔바디부 피막처리방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 양극에 티타늄 스캔바디부 시편을 음극에 백금판을 연결하고 직류 전압을 인가하여 티타늄 재료 표면에 산화층을 형성하기 위한 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물에 관한 것이다.
티타늄은 우수한 기계적 성질과 생체적합성, 그리고 골유착성으로 인해 치과 및 정형외과 임플란트의 재료로 많이 사용된다.
임플란트의 장기적 성공을 위해서는 생체재료와 주위 조직 간 유착이 매우 중요하다. 그러나 식립된 임플란트가 구강 내에 노출되면 2주 내에 치주염을 유발하는 세균의 군락(colony)이 형성되고, 4주 내에 치은연하 세균총이 완성되어 임플란트 실패로 이어질 수 있다.
임플란트주위염이란 임플란트 표면에 형성된 세균막(biofilm)에 의해 발생하는 치주염과 비슷한 염증이다.
세균막은 여러 가지 세균총으로 이루어져 있으며, 표면에 타액 단백질이 부착되면서 획득피막(acquired pellicle)을 형성한다.
스트렙토코쿠스 무탄스(Streptococcus mutans)는 그람 양성 통성균으로서, 구강 내에서 흔히 발견되며 섬모를 가지고 있어 다른 세균보다 치아 표면이나 조직에 부착이 용이해 초기 세균막을 주로 형성한다. 스트렙토코쿠스무탄스에 의해 형성된 세균막은 치은 하방까지 축적되며, 상호 작용을 통하여 'red complex'라고 불리는 Porphyromonas gingivalis, Aggregatibacter actinomycetemcomitans, Fusobacterium nucleatum 등과 같은 세균 부착을 유도하여 후기 군락 형성을 용이하게 한다. 이 중 포르피로모나스 진지발리스(Porphyromonas gingivalis)는 그람음성균으로서 치주염 환자의 치주낭에서 흔히 발견되며, 임플란트주위염이 진행된 골유합부위에서도 관찰할 수 있다.
포르피로모나스 진지발리스는 숙주의 다양한 조직이나 세포에 침입하여 증식하므로구강 내 포르피로모나스 진지발리스의 부착은 병원성을 이끌 수 있다.
임플란트는 자연 치아와 달리 혈관과 신경조직이 없기 때문에 특별한 증상을 느끼지 못한 채로 골조직의 손상이 심하게 진행될 확률이 높다. 이 염증이 골조직까지 확산되면 골소실이 일어난다. 따라서 임플란트 표면에 세균막의 형성을 억제하는 것은 임플란트 유지에 매우 중요하다.
임플란트주위염을 치료하는 방법에는 기계적인 제거와 소독치료, 그리고 항생제 치료 요법 등이 있다.
소독치와 항생제등을 이용한 치료는 임플란트주위염을 치료하는데 제한적이며, 표면에 부착된 세균막을 기계적으로 제거하는 술식이 필수적이라는 한계가 있다. 그리고, 기계적으로 제거하는 요법은 임플란트 표면에 손상을 줄 가능성이 높기 때문에 탄소 섬유 큐렛 등 임플란트 표면의 손상을 최소화하는 특수화된 기구를 사용해야 하는 어려움이 있다.
따라서 임플란트주위염의 보다 효과적인 치료법 개발이 요구되고 있는 실정이다.
티타늄의 양극산화과정은 알칼라인 세척, 산-활성화(acid activation), 전해질 양극산화로 진행된다.
상기 산-활성화는 자연적으로 형성된 티타늄 산화물과 불순물(철, 다른 입자와 같은)을 제거하기 위해 질산과 불산의 혼합용액을 사용한다.
양극산화의 전기화학적 셀(cell)은 보통 3전극(또는 2전극)을 사용하며, 티타늄이 양극, 백금이 음극, 기준전극으로는 보통 Ag/AgCl이 사용된다. 일정한 전압과 전류가 양극과 음극사이에 인가되었을 때 자계-기동이온의 확산(field-driven ion diffusion)에 의해 양극표면에 산화막이 형성된다.
티타늄 스캔바디부의 골융합(osseointergration)을 증진시키기 위해 최근 개발되어 지기 시작 했으며 주요기술은 전해질 용액에서 티타늄을 고전압으로 양극산화(ASD)하며 스파크를 유도하여 이때 발생하는 고온으로 인하여 국부적으로 마이크로 크기의 다공을 형성하는 방법이다.
한편, 국내공개특허 2020-0097899호에는 티타늄 스캔바디부 양극산화의 제조방법을 개시하고 있다.
최근 들어 임플란트 표면에 조골세포의 초기 부착을 증진시켜 초기 고정을 얻기 위하여 다양한 티타늄 표면처리 방법들이 개발되어 사용하고 있다.
상기 티타늄 표면처리 방법의 일례로서, 양극에 티타늄 스캔바디부 시편을 음극에 백금판을 연결하고 직류 전압을 인가하면 티타늄 재료 표면에 산화층이 생성되는 원리를 이용한 것이다.
여기서 정전류(galvanostatic)방식에서는 시간에 따라 일정한 전류가 인가되어지기 때문에 산화막의 생성 속도조절이 용이하고, 색상의 변화도 쉽게 추적하면서 제조 할 수 있는 장점이 있다.
본 발명은 전술한 문제점을 극복하기 위해 창출된 것으로서, 티타늄 스캔바디부를 양극산화 피막처리할 경우 다양한 색상을 발현할 수 있도록 하는 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물을 제공한다.
본 발명은
황산 100중량부 기준으로,
무수크롬산 12 내지 15중량부;
붕산 0.3 내지 0.5중량부;
유기산 1.5 내지 3중량부;
붕불산 0.1 내지 0.3중량부;
불화암모늄 0.4 내지 0.8중량부; 및
수산화나트륨 1 내지 1.5중량부를 포함하는 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물을 제공한다.
또한, 본 발명은 초음파를 이용하여 피도금체의 표면에 존재하는 유분을 제거하는 탈지단계;
상기 탈지단계가 종료된 후 피도금체의 표면을 산처리하는 산세단계;
상기 산세단계가 종료된 후 상기 피도금체를 황산 100중량부 기준으로, 무수크롬산 12 내지 15중량부, 붕산 0.3 내지 0.5중량부, 유기산 1.5 내지 3중량부, 붕불산 0.1 내지 0.3중량부, 불화암모늄 0.4 내지 0.8중량부, 및 수산화나트륨 1 내지 1.5중량부를 포함하는 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물에 침지시킨 후 18 내지 22℃의 온도범위에서 전류를 인가하여 4 내지 12mA의 전압으로 1 내지 300초 동안 양극산화하는 양극산화단계; 및
상기 양극산화단계가 종료된 후 양극산화된 피도금체를 열탕처리하는 열탕처리단계를 포함하는 티타늄 스캔바디부 피막처리 방법을 제공한다.
본 발명에 따른 양극산화 피막처리 전해액 조성물, 특정적으로 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물은 티타늄 스캔바디부를 양극산화 피막처리시 전압 및 시간에 따라 다양한 색상이 발현될 수 있도록 하는 효과가 있다.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명한다.
한 가지 관점에서, 본 발명은 황산 100중량부 기준으로, 무수크롬산 12 내지 15중량부; 붕산 0.3 내지 0.5중량부; 유기산 1.5 내지 3중량부; 붕불산 0.1 내지 0.3중량부; 불화암모늄 0.4 내지 0.8중량부; 및 수산화나트륨 1 내지 1.5중량부를 포함하는 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물을 제공한다.
다른 관점에서, 본 발명은 초음파를 이용하여 피도금체의 표면에 존재하는 유분을 제거하는 탈지단계; 상기 탈지단계가 종료된 후 피도금체의 표면을 산처리하는 산세단계; 상기 산세단계가 종료된 후 상기 피도금체를 황산 100중량부 기준으로, 무수크롬산 12 내지 15중량부, 붕산 0.3 내지 0.5중량부, 유기산 1.5 내지 3중량부, 붕불산 0.1 내지 0.3중량부, 불화암모늄 0.4 내지 0.8중량부, 및 수산화나트륨 1 내지 1.5중량부를 포함하는 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물에 침지시킨 후 18 내지 22℃의 온도범위에서 전류를 인가하여 4 내지 12mA의 전압으로 1 내지 300초 동안 양극산화하는 양극산화단계; 및 상기 양극산화단계가 종료된 후 양극산화된 피도금체를 열탕처리하는 열탕처리단계를 포함하는 티타늄 스캔바디부 피막처리 방법을 제공한다.
본 발명에 따른 양극산화 피막처리 전해액 조성물, 특정적으로 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물은 도금, 특정적으로 티타늄 스캔바디부에 다양한 색상을 구현할 수 있도록 양극산화 피막을 형성하기 위한 양극산화 피막처리 전해액 조성물이라면 특별히 한정되지 않는다.
본 발명에 따른 황산(H2SO4)은 피막을 형성하기 위한 양극산화에 사용되는 전해액으로서, 무색으로 점성이 있는 기름 같은 액체로서, 녹는점 10.4℃, 비중 1.84(15℃)이다.
상기 황산은 많은 무기물 및 유기물을 녹이며, 가열하면 290℃에서 분해하기 시작하여 삼산화황을 발생하고, 317℃에서 끓기 시작하여 공비혼합물(98.54% 수용액)이 된다. 이와 같은 황산은 건조제, 탈수제로 사용되기도 하고, 강한 산화작용으로 철의 녹 제거 등에 사용되지만, 통상적인 양극산화에 사용되는 전해액으로 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 양극산화 피막처리 전해액 조성물, 특정적으로 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물을 구성하는 황산 외 나머지 성분들의 함량은 황산 100중량부 기준으로 한다.
본 발명에 따른 무수크롬산은 산화피막의 부착성을 향상시키는 동시에 내식성을 제공하기 위한 것으로서, 이러한 목적을 갖는 당업계의 통상적인 무수크롬산이라면 어떠한 것을 사용하여도 무방하다.
바람직한 무수크롬산의 사용량은 사용자의 선택에 따라 변경 가능하지만, 추천하기로는 황산 100중량부 기준으로 12 내지 15중량부인 것이 좋다.
본 발명에 따른 붕산은 전해액 조성물은 pH 완충작용을 하기 위한 것으로서, 이러한 목적을 갖는 당업계의 통상적인 붕산이라면 어떠한 것을 사용하여도 무방하다.
바람직한 붕산의 사용량은 황산 100중량부 기준으로 0.3 내지 0.5중량부인 것을 추천한다.
본 발명에 따른 유기산은 양극산하 피막처리 전해액 조성물에 이온을 제공하는 동시에 착화성을 향상시켜 색상발현을 용이하게 하고, 안정적인 피막을 형성할 수 있도록 하기 위한 것으로서, 이러한 목적을 갖는 당업계의 통상적인 유기산이라면 어떠한 것을 사용하여도 무방하지만, 바람직하게는 아세틱산(acetic acid), 시트릭산(citric acid) 또는 이들로부터 선택된 적어도 하나 이상의 혼합물을 사용하는 것이 좋다.
바람직한 유기산의 사용량은 특별히 한정되지 않지만, 추천하기로는 황산 100중량부 기준으로 0.5 내지 3중량부인 것이 좋다.
여기서, 상기 시트릭산은 통상적으로 지방, 단백질, 탄수화물이 생리적 산화작용을 통해 이산화탄소와 물로 변하는 과정에서 나타나는 일련의 화합물들 중의 하나로서, 카르복시산류의 일종으로 많은 동식물의 조직과 체액속에 존재하며, 용해된 금속염의 유해작용을 억제하여 식품이나 기타유기물질의 안정성을 높이는데 널리 사용되고 있다.
본 발명에 따른 붕불산(Fluoroboric Acid)은 피막처리하고자 하는 도금체의 오염물질 등을 박리시키고, 전해액 조성물 중에 용해되어 있는 기체 또는 증기를 기체상 안으로 이동시키는 스트리핑(stripping)을 하기 위한 것으로서, 이러한 목적을 위해 당업계에서 통상적으로 사용하는 붕불산이라면 어떠한 것을 사용하여도 무방하며, 그 사용량은 황산 100중량부 기준으로 0.1 내지 0.3중량부인 것이 좋다.
본 발명에 따른 불화암모늄은 도금체, 특정적으로 티타늄 스캔바디부 등의 도금체 표면의 오염물 등을 탈지하는 동시에 이온의 용해상태를 유자하기 위한 전도염으로서, 이러한 목적을 갖는 당업계의 통상적인 불화암모늄이라면 어떠한 것을 사용하여도 무방하며, 그 사용량은 황산 100중량부 기준으로 0.4 내지 0.8중량부인 것을 추천한다.
본 발명에 따른 수산화나트륨은 피막처리 전해액 조성물의 중화하기 위한 것으로서, 이러한 목적을 갖는 당업계의 통상적인 수산화나트륨이라면 어떠한 것을 사용하여도 무방하며, 그 사용량은 황산 100중량부 기준으로 1 내지 1.5중량부인 것이 좋다.
본 발명에 따른 양극산화 피막처리 전해액 조성물, 특정적으로 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물은 하기의 특정 양태에 따른 부가물을 1종 또는 1종 이상 더 포함할 수 있다.
특정 양태로서, 본 발명에 따른 양극산화 피막처리 전해액 조성물, 특정적으로 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물은 촉진제로서의 역할을 제공하기 위하여 황산 100중량부 기준으로 0.5 내지 1.5중량부의 아질산나트륨(Sodium Nitrite, NaNO2)을 더 포함할 수 있다.
여기서, 아질산나트륨은 촉진제로서 농도가 높으면 피막의 생성량이 적어지므로 농도의 관리가 중요하다.
다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 양극산화 피막처리 전해액 조성물, 특정적으로 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물은 착화제로서 황산 100중량부 기준으로 0.1 내지 2중량부의 타르타르산, 에틸렌다이아민테트라아세트산(EDTA), 글리신 또는 이들로부터 선택된 적어도 하나 이상의 혼합물을 더 포함할 수 있다.
또 다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 양극산화 피막처리 전해액 조성물은 안정화제로서의 역할을 제공하기 위하여 암모늄 브로마이드(Ammonium Bromide, NH4Br)를 황산 100중량부 기준으로 0.1 내지 0.3중량부 더 포함할 수 있다.
또 다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 양극산화 피막처리 전해액 조성물은 양극산화 피막처리 전해액 조성물이 효과적으로 퍼지고 침투될 수 있도록 표면장력을 감소시키는 동시에 비정질 조직의 치밀함을 높여 광택성을 향상시키기 위하여 L-아스코빈산을 황산 100중량부 기준으로 0.001 내지 0.1중량부 더 포함할 수 있다.
또 다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 양극산화 피막처리 전해액 조성물은 내식성을 향상시키기 위하여 마그네슘을 황산 100중량부 기준으로 0.1 내지 0.5중량부 더 포함할 수 있다.
또 다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 양극산화 피막처리 전해액 조성물은 피막층의 용해 속도를 낮춤으로써 피팅 현상을 억제할 수 있도록 몰리브덴산염 칼륨을 황산 100중량부 기준으로 0.1 내지 0.3중량부 더 포함할 수 있다.
또 다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 양극산화 피막처리 전해액 조성물은 피막형성을 화학적으로 촉진하기 위하여 니트로벤젠설퍼네이트를 황산 100중량부 기준으로 0.1 내지 0.3중량부 더 포함할 수 있다.
또 다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 양극산화 피막처리 전해액 조성물은 피막형성을 용이하게 하기 위하여 히드록실아민을 황산 100중량부 기준으로 0.1 내지 0.3중량부 더 포함할 수 있다.
이와 같은 구성을 갖는 본 발명에 따른 양극산화 피막처리 전해액 조성물, 특정적으로 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물을 이용한 피막처리 방법을 설명하면 다음과 같다.
여기서, 하기 피막처리 방법은 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물을 이용한 피막처리 방법의 일 실시양태로서 이에 한정되지 않고, 당업계의 통상적인 피막처리 방법이라면 어떠한 것을 사용하여도 무방하다.
본 발명에 따른 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물 피막처리 방법, 즉 티타늄 스캔바디부 피막처리 방법은 초음파를 이용하여 피도금체의 표면에 존재하는 유분을 제거하는 탈지단계;
상기 탈지단계가 종료된 후 피도금체의 표면을 산처리하는 산세단계;
상기 산세단계가 종료된 후 상기 피도금체를 황산 100중량부 기준으로, 무수크롬산 12 내지 15중량부, 붕산 0.3 내지 0.5중량부, 유기산 1.5 내지 3중량부, 붕불산 0.1 내지 0.3중량부, 불화암모늄 0.4 내지 0.8중량부, 및 수산화나트륨 1 내지 1.5중량부를 포함하는 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물에 침지시킨 후 18 내지 22℃의 온도범위에서 전류를 인가하여 4 내지 12mA의 전압으로 1 내지 300초 동안 양극산화하는 양극산화단계; 및
상기 양극산화단계가 종료된 후 양극산화된 피도금체를 열탕처리하는 열탕처리단계를 포함한다.
여기서, 상기 산세단계는 피도금체 표면에 부착된 산화피막 스케일을 산용액, 예를 들면 염화수소(HCl) 등을 사용하여 스케일 제거하고, 그 표면의 버(Burr)를 제거하는 것을 포함한다.
또한, 본 발명에 따른 상기 연마단계, 탈지단계, 산세단계, 표면조정단계 또는 이들로부터 선택된 적어도 하나의 단계의 후단에 각 단계가 종료된 피도금체를 세정하는 세정단계가 포함될 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 티타늄 스캔바디부 피막처리 방법에 있어서, 상기 전압 및 도금시간은 그 범위에 따라 다양한 색상변화를 갖는바, 예를 들면 전압이 5mA에서 약 4초인 경우에는 호도색, 약 7초인 경우에는 황갈색, 약 15초인 경우 군청색, 약 30초인 경우 청색, 약 50초인 경우 연푸른색, 약 100초인 경우 노란색을 뛸 수 있으며; 전압이 10mA에서 약 35초인 경우 황록색, 약 80초인 경우 연보라색, 약 110초인 경우 꽃 분홍색, 약 140초인 경우 보라색, 약 200초인 경우 청록색, 약 220초인 경우 에메랄드색, 약 250초인 경우 녹색을 띌 수 있다.
이하에서 실시예를 통하여 본 발명을 구체적으로 설명하기로 한다. 그러나 하기의 실시예는 오로지 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로 이들 실시예에 의해 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다.
[실시예 1]
황산 100g, 무수크롬산 13g, 붕산 0.4g, 시트릭산 2g, 붕불산 0.2g, 불화암모늄 0.6g 및 수산화나트륨 1.3g을 혼합하여 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물을 제조하였다.
[실시예 2]
실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 시트릭산 2g 대신 아세틱산 2g을 사용하여 실시하였다.
[실시예 3]
실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 시트릭산 2g 대신 시트릭산 1g 및 아세틱산 1g을 사용하여 실시하였다.
[실시예 4]
실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 아질산나트륨 1g을 더 부가하여 실시하였다.
[실시예 5]
실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 타르타르산 0.1g을 더 부가하여 실시하였다.
[실시예 6]
실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 암모늄 브로마이드 0.2g을 더 부가하여 실시하였다.
[실시예 7]
실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, L-아스코빈산 0.05g을 더 부가하여 실시하였다.
[실시예 8]
실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 마그네슘 0.3g을 더 부가하여 실시하였다.
[실시예 9]
실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 몰리브덴산염 칼륨 0.2g을 더 부가하여 실시하였다.
[실시예 10]
실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 니트로벤젠설퍼네이트 0.2g을 더 부가하여 실시하였다.
[실시예 11]
실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 히드록실아민 0.2g을 더 부가하여 실시하였다.
[실시예 12]
실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 실시예 4 내지 실시예 11을 모두 부가하여 실시하였다.
[실 험]
실시예들에 따라 제조된 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물을 피막형성을 위한 도금조에 넣은 뒤 약 20℃의 온도에서 아래 표 1의 전압 및 시간 동안 전류를 인가하여 티타늄 스캔바디부를 피막처리하여, 그 결과를 표 1로 나타냈다.
전압(mA) 시간 색상 밀착력 실험
실시예 1 5 4 호도색 이상무
실시예 1 5 7 황갈색 이상무
실시예 2 5 15 군청색 이상무
실시예 3 5 30 청색 이상무
실시예 4 5 50 연푸른색 이상무
실시예 5 5 100 노란색 이상무
실시예 6 10 35 황록색 이상무
실시예 7 10 80 연보라색 이상무
실시예 8 10 110 꽃분홍색 이상무
실시예 9 10 140 보라색 이상무
실시예 10 10 200 청록색 이상무
실시예 11 10 220 에메랄드색 이상무
실시예 12 10 250 녹색 이상무
표 1에 나타낸 바와 같이, 실시예들의 밀착성이 좋고, 전압에 따라 다양한 색상이 발현되는 것으로 나타났다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예는 모두 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모두 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (2)

  1. 황산 100중량부 기준으로,
    무수크롬산 12 내지 15중량부;
    붕산 0.3 내지 0.5중량부;
    유기산 1.5 내지 3중량부;
    붕불산 0.1 내지 0.3중량부;
    불화암모늄 0.4 내지 0.8중량부; 및
    수산화나트륨 1 내지 1.5중량부를 포함하는 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물.
  2. 초음파를 이용하여 피도금체의 표면에 존재하는 유분을 제거하는 탈지단계;
    상기 탈지단계가 종료된 후 피도금체의 표면을 산처리하는 산세단계;
    상기 산세단계가 종료된 후 상기 피도금체를 황산 100중량부 기준으로, 무수크롬산 12 내지 15중량부, 붕산 0.3 내지 0.5중량부, 유기산 1.5 내지 3중량부, 붕불산 0.1 내지 0.3중량부, 불화암모늄 0.4 내지 0.8중량부, 및 수산화나트륨 1 내지 1.5중량부를 포함하는 티타늄 스캔바디부 양극산화 피막처리 전해액 조성물에 침지시킨 후 18 내지 22℃의 온도범위에서 전류를 인가하여 4 내지 12mA의 전압으로 1 내지 300초 동안 양극산화하는 양극산화단계; 및
    상기 양극산화단계가 종료된 후 양극산화된 피도금체를 열탕처리하는 열탕처리단계를 포함하는 티타늄 스캔바디부 피막처리 방법.
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