KR20240072502A - Multi-component polyimide composition having self-healing property by carbon chain control and film comprising the same - Google Patents

Multi-component polyimide composition having self-healing property by carbon chain control and film comprising the same Download PDF

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KR20240072502A
KR20240072502A KR1020220154154A KR20220154154A KR20240072502A KR 20240072502 A KR20240072502 A KR 20240072502A KR 1020220154154 A KR1020220154154 A KR 1020220154154A KR 20220154154 A KR20220154154 A KR 20220154154A KR 20240072502 A KR20240072502 A KR 20240072502A
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Abstract

본 명세서에서는 다성분 폴리이미드 조합하고 디아민계 화합물의 탄화수소 길이를 조절하여 반복적인 자가복원이 가능하면서도 우수한 투명성 및 기계석 물성을 나타내는 폴리이미드 수지 조성물 및 이를 포함하는 필름이 제공된다. 본 개시에 따른 필름은 상온에서 발생된 균열(crack) 내지 형상 변형과 같은 손상을 자기치유할 수 있는 자기 복원성을 나타내며, 이는 반복성을 가지므로, 필름의 수명을 연장시키고 재사용이 가능하다. 본 개시는 접착제 또는 코팅제로서 전기전자재료 등에 사용될 수 있으며, 예를 들어 모바일 또는 디스플레이 등의 표면 보호를 위한 커버 윈도우로 유용하게 사용될 수 있다. In the present specification, a polyimide resin composition that exhibits excellent transparency and mechanical properties while enabling repeated self-restoration by combining multi-component polyimides and controlling the hydrocarbon length of the diamine-based compound, and a film containing the same are provided. The film according to the present disclosure exhibits self-healing properties that can self-heal damage such as cracks or shape deformation occurring at room temperature, and has repeatability, thereby extending the life of the film and making it reusable. The present disclosure can be used as an adhesive or coating agent for electrical and electronic materials, and can be usefully used as a cover window for surface protection of mobile devices or displays, for example.

Description

탄소사슬길이 조절을 통해 자가복원성을 갖는 다성분계 폴리이미드 조성물과 이를 포함하는 필름{Multi-component polyimide composition having self-healing property by carbon chain control and film comprising the same}Multi-component polyimide composition having self-healing property by carbon chain control and film comprising the same}

본 명세서는 다성분계 폴리이미드 조성물과 이를 포함하는 필름에 관하여 개시한다.This specification discloses a multi-component polyimide composition and a film containing the same.

자가치유 소재는 물리적인 손상으로 물성과 수명이 저하될 경우 열, 빛, 또는 전기 등과 같은 외부에너지를 사용하여 손상 부위를 쉽고 빠르게 복원시킬 수 있는 소재를 의미하는 것으로, 마이크로 캡슐 등의 외부물질을 이용하는 외적 방법과, 고분자 스스로 상처를 감지하고 치유하는 내적 방법에 의한 것으로 구분된다. 내적 방법은 소재 스스로 손상을 감지하고 치유가 가능한 방법으로, 고분자내에 가역적인 결합 또는 고분자의 사슬의 얽힘과(entanglement) 확산(diffusion)으로 분자간의 빠른 상호교환결합으로 반복적인 치유가 가능하다는 장점이 있다. 그러나, 기존에 보고된 자가치유 소재들은 자가치유가 가능한 온도범위가 높아 사용이 매우 제한적이며, 최근 보고된 상온 또는 40-60℃에서 사용가능한 소재들은 하이드로겔 또는 엘라스토머와 유사한 기계적 특성을 나타내어 적용 범위에 한계가 있다. 치유 온도를 낮추기 위해서는 고분자사슬이 움직이기 시작하는 고분자의 유리전이온도를 조절해야 하는데, 유리전이 온도를 낮추기 위해서는 고분자구조를 유연하게 설계하여 고분자의 이동성을 높게 만들어야 하므로 결과적으로 낮은 기계적 물성을 갖게 되는 단점이 있었다.Self-healing material refers to a material that can easily and quickly restore the damaged area using external energy such as heat, light, or electricity when its properties and lifespan are reduced due to physical damage. It is divided into an external method used and an internal method in which the polymer itself detects and heals the wound. The internal method is a method that detects and heals damage to the material itself. It has the advantage of enabling repeated healing through rapid interchange between molecules through reversible bonding within the polymer or entanglement and diffusion of polymer chains. there is. However, the use of previously reported self-healing materials is very limited due to the high temperature range in which self-healing is possible, and the recently reported materials that can be used at room temperature or 40-60°C exhibit mechanical properties similar to hydrogels or elastomers, narrowing the range of application. There is a limit to In order to lower the healing temperature, the glass transition temperature of the polymer, where the polymer chains begin to move, must be controlled. In order to lower the glass transition temperature, the polymer structure must be designed flexibly to increase the mobility of the polymer, resulting in low mechanical properties. There was a downside.

폴리이미드는 뛰어난 내열성과 내화학성, 우수한 기계적 물성과 전기적 특성을 갖고 있는 대표적인 엔지니어링 플라스틱 재료(engineering plastic material)이다. 폴리이미드는 1960년대에서부터 개발이 시작되어 지금까지도 우주항공, 절연체, 전자소자 등의 다양한 산업분야에서 꾸준히 사용되고 있으며, 최근에는 유리기판(액정) 대체소재로 고투명 폴리이미드(Colorless polyimide, CPI)가 개발되고 있다. 그러나 최근 전자기기의 휴대성과 웨어러블 특성의 강조로 고투명성과 굽힘성, 접힘이 가능한 CPI기반 디스플레이 외장소재가 요구되고 있지만, 현존하는 폴리이미드 또는 고투명 폴리이미드 필름은 반복적인 사용과 충격으로 인한 물성저하와 수명 단축 등에 기능적 한계가 있었다. Polyimide is a representative engineering plastic material with excellent heat resistance, chemical resistance, and excellent mechanical and electrical properties. Polyimide began to be developed in the 1960s and is still used in various industrial fields such as aerospace, insulators, and electronic devices. Recently, highly transparent polyimide (Colorless polyimide, CPI) was developed as an alternative material for glass substrates (liquid crystals). It is becoming. However, with the recent emphasis on the portability and wearable characteristics of electronic devices, there is a demand for CPI-based display exterior materials that are highly transparent, bendable, and foldable. However, existing polyimide or highly transparent polyimide films suffer from deterioration of physical properties and physical properties due to repeated use and impact. There were functional limitations such as shortened lifespan.

전방향족(fully aromatic) 폴리이미드는 주사슬에 위치한 파이 전자들의 공액시스템(conjugated system)에 기인한 폴리이미드 분자 내 사슬간의 전하전이복합화(Charge Transfer Complex, CTC)에 의해 가시광선 영역인 550 nm 부근의 빛을 주로 흡수하여 짙은 갈색을 띄고, 고분자 사슬의 강직성을 유도하여 높은 유리전이온도(200℃ 이상)을 갖는다. 폴리이미드의 강한 강직성은 고분자 사슬의 이동성을 방해하기 때문에, 폴리이미드를 자가치유 소재로 개발하기 위하여는 낮은 온도에서 자가치유가 진행되도록 폴리이미드 고분자사슬의 이동성을 증가시킴과 동시에 기계적 물성의 감소를 줄여야 한다. Fully aromatic polyimide has a charge transfer complex (CTC) between the chains within the polyimide molecule resulting from the conjugated system of pi electrons located in the main chain, causing a change in the visible light range around 550 nm. It mainly absorbs light, giving it a dark brown color, and has a high glass transition temperature (above 200°C) by inducing the rigidity of the polymer chain. Because the strong rigidity of polyimide hinders the mobility of the polymer chain, in order to develop polyimide as a self-healing material, the mobility of the polyimide polymer chain must be increased to allow self-healing to proceed at low temperatures, while at the same time reducing the mechanical properties. It must be reduced.

폴리이미드의 유리전이온도를 낮추고자 입체 장애(steric hinderence)를 유도하는 분지형 지방족 디아민 모노머를 이용하여 유리전이온도를 상온에 가깝게 구조설계한 연구 결과가 보고된 바 있지만, 엘라스토머와 같은 낮은 기계적 물성을 나타내는 한계가 있었다. 이에 이황산 결합과 에테르 기능기를 포함하는 지방족 디아민 모노머의 조합을 통한 반-방향족(semi-aromatic) 폴리이미드 구조가 제안되었지만, 유리전이온도를 100℃ 이하로 낮추면서 60MPa 이상의 높은 기계적 물성을 가짐에도 이와 같은 기계적 물성이 상용적으로 많이 쓰이는 캡톤 PI(Kapton PI; fully aromatic structure polyimide) 보다 낮으며, 여전히 높은 치유온도 범위를 갖는다는 단점을 가지고 있다.In order to lower the glass transition temperature of polyimide, research results have been reported using branched aliphatic diamine monomers that induce steric hindrance to design a structure with a glass transition temperature close to room temperature. However, it has low mechanical properties like elastomers. There was a limit to . Accordingly, a semi-aromatic polyimide structure was proposed through a combination of an aliphatic diamine monomer containing a disulfuric acid bond and an ether functional group, but although it has high mechanical properties of over 60 MPa while lowering the glass transition temperature to below 100°C. These mechanical properties are lower than those of Kapton PI (fully aromatic structure polyimide), which is widely used commercially, and it still has the disadvantage of having a high healing temperature range.

대한민국 등록특허공보 제10-2401307호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2401307

일 관점에서, 본 개시는 자가치유 온도의 조절이 가능한 자기 복원성을 갖는 폴리이미드계 수지 조성물 및 이를 포함하는 필름을 제공하고자 한다.In one aspect, the present disclosure seeks to provide a polyimide-based resin composition having self-restoring properties capable of controlling self-healing temperature and a film containing the same.

일 관점에서, 본 개시는 투명성과 기계적 물성이 우수한 폴리이미드계 수지 조성물, 이를 포함하는 필름, 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.From one perspective, the present disclosure seeks to provide a polyimide-based resin composition having excellent transparency and mechanical properties, a film containing the same, and a method for manufacturing the same.

전술한 목적을 달성하기 위하여 본 개시에 따른 일 구현예는, In order to achieve the above-described purpose, one implementation according to the present disclosure is,

트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머; Phthalic anhydride-based monomer containing a trifluoromethyl group;

디설파이드 결합을 포함하는 방향족 디아민계 모노머; 및Aromatic diamine-based monomer containing a disulfide bond; and

탄소수 9 내지 16인 사슬 구조의 지방족 디아민계 모노머;Aliphatic diamine-based monomers with a chain structure having 9 to 16 carbon atoms;

를 포함하여 공중합된 것이고,It is copolymerized including,

주쇄 또는 측쇄에 수소 결합 및 디설파이드 결합을 포함하는,Containing hydrogen bonds and disulfide bonds in the main chain or side chains,

폴리이미드 수지 조성물을 제공한다.A polyimide resin composition is provided.

본 개시에 따른 다른 일 구현예는, 상기 폴리이미드 수지 조성물을 포함하는, 폴리이미드 필름을 제공한다.Another embodiment according to the present disclosure provides a polyimide film including the polyimide resin composition.

본 개시에 따른 다른 일 구현예는, 유기용매에 트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머, 디설파이드 결합을 포함하는 방향족 디아민계 모노머 및 탄소수 9 내지 16인 사슬 구조의 지방족 디아민계 모노머를 투입하고 불활성 분위기 하에서 반응시켜 폴리아믹산 용액을 제조하는 단계; 및In another embodiment according to the present disclosure, a phthalic anhydride-based monomer containing a trifluoromethyl group, an aromatic diamine-based monomer containing a disulfide bond, and an aliphatic diamine-based monomer having a chain structure of 9 to 16 carbon atoms are added to an organic solvent, Preparing a polyamic acid solution by reacting under an inert atmosphere; and

상기 폴리아믹산 용액을 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지 조성물을 제조하는 단계;Preparing a polyimide resin composition by imidizing the polyamic acid solution;

를 포함하는 상기 폴리이미드 수지 조성물의 제조방법을 제공한다.It provides a method for producing the polyimide resin composition comprising.

본 개시에 따른 다른 일 구현예는, 상기 폴리이미드 수지 조성물을 제조하는 단계; 및Another embodiment according to the present disclosure includes preparing the polyimide resin composition; and

상기 제조된 폴리이미드 수지 조성물을 기재 상에 코팅하는 단계; Coating the prepared polyimide resin composition on a substrate;

를 포함하는 폴리이미드 필름의 제조방법을 제공한다.It provides a method for manufacturing a polyimide film comprising.

본 개시의 일 실시예는 다성분 폴리이미드 조합을 포함하되 디아민계 화합물의 탄화수소 길이를 조절하여 반복적인 자가복원이 가능하면서도 우수한 투명성 및 기계석 물성을 나타내는 폴리이미드 수지 조성물 및 이를 포함하는 필름을 제공한다. 본 개시에 따른 필름은 상온에서 발생된 균열(crack) 내지 형상 변형과 같은 손상을 자기치유할 수 있는 자기 복원성을 나타내며, 이는 반복성을 가지므로, 필름의 수명을 연장시키고 재사용이 가능하다는 기술적 이점을 가진다. 본 개시의 일 실시예는 접착제 또는 코팅제로서 전기전자재료 등에 사용될 수 있으며, 예를 들어 모바일 또는 디스플레이 등의 표면 보호를 위한 커버 윈도우로 유용하게 사용될 수 있다. An embodiment of the present disclosure provides a polyimide resin composition that includes a combination of multi-component polyimides, allows repeated self-restoration by controlling the hydrocarbon length of the diamine-based compound, and exhibits excellent transparency and mechanical properties, and a film containing the same. do. The film according to the present disclosure exhibits self-healing properties that can self-heal damage such as cracks or shape deformation occurring at room temperature, and has repeatability, so it has the technical advantage of extending the life of the film and enabling reuse. have One embodiment of the present disclosure can be used as an adhesive or coating agent for electrical and electronic materials, and can be usefully used as a cover window to protect the surface of a mobile device or display, for example.

도 1은 비교예 1의 필름에 스크래치를 낸 후, 유리전이온도 (Tg)에서의 자가치유된 정도를 광학 현미경으로 촬영한 이미지를 나타낸 것이다.
도 2는 실시예 6의 필름에 스크래치를 낸 후, 유리전이온도 (Tg)에서의 자가치유된 정도를 광학 현미경으로 촬영한 이미지를 나타낸 것이다.
도 3은 실시예 7의 필름에 스크래치를 낸 후, 유리전이온도 (Tg)에서의 자가치유된 정도를 광학 현미경으로 촬영한 이미지를 나타낸 것이다.
도 4는 실시예 8의 필름에 스크래치를 낸 후, 유리전이온도 (Tg)에서의 자가치유된 정도를 광학 현미경으로 촬영한 이미지를 나타낸 것이다.
Figure 1 shows an image taken with an optical microscope to show the degree of self-healing at the glass transition temperature (Tg) after scratching the film of Comparative Example 1.
Figure 2 shows an image taken with an optical microscope to show the degree of self-healing at the glass transition temperature (Tg) after scratching the film of Example 6.
Figure 3 shows an image taken with an optical microscope to show the degree of self-healing at the glass transition temperature (Tg) after scratching the film of Example 7.
Figure 4 shows an image taken with an optical microscope to show the degree of self-healing at the glass transition temperature (Tg) after scratching the film of Example 8.

이하, 본 개시의 실시예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described in more detail.

본문에 개시되어 있는 본 개시의 실시예들은 단지 설명을 위한 목적으로 예시된 것으로서, 본 개시의 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본문에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 개시는 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예들은 본 개시를 특정한 개시 형태로 한정하려는 것이 아니며, 본 개시의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 할 것이다. The embodiments of the present disclosure disclosed in the text are illustrative only for illustrative purposes, and the embodiments of the present disclosure may be implemented in various forms and should not be construed as limited to the embodiments described in the text. . The present disclosure can be subject to various changes and may take various forms. The embodiments are not intended to limit the present disclosure to a specific disclosed form, and all changes, equivalents, or substitutes included in the spirit and technical scope of the present disclosure are included. It should be understood as including.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this application, terms such as “comprise” or “have” are intended to designate the presence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but are not intended to indicate the presence of one or more other features. It should be understood that this does not exclude in advance the possibility of the existence or addition of elements, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

본 개시의 일 실시예는 트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머; 디설파이드 결합을 포함하는 방향족 디아민계 모노머; 및 탄소수 9 내지 16인 사슬 구조의 지방족 디아민계 모노머를 포함하여 공중합된 것이고, 주쇄 또는 측쇄에 수소 결합 및 디설파이드 결합을 포함하는, 폴리이미드 수지 조성물을 제공할 수 있다. One embodiment of the present disclosure is a phthalic anhydride-based monomer containing a trifluoromethyl group; Aromatic diamine-based monomer containing a disulfide bond; and an aliphatic diamine-based monomer having a chain structure of 9 to 16 carbon atoms, and which contains a hydrogen bond and a disulfide bond in the main chain or side chain.

종래 다성분계 폴리이미드 수지 조성물은 4,4'-(헥사플루오르이소프로필리덴)디프탈산무수물(6FDA) 등을 통해 CF3를 고함량으로 포함하여 투명성은 확보하였지만 트리플루오로메틸기(-CF3)로 인한 고분자 사슬간의 높은 반발력 때문에 주쇄(main backbone)가 강직해지는 단점이 있었다. 그러나 본 개시의 일 실시예는 트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머; 디설파이드 결합을 포함하는 방향족 디아민계 모노머; 및 지방족 디아민계 모노머를 포함하여 공중합시키되, 상기 지방족 디아민계 모노머의 탄소수 조절을 통해 사슬 길이를 조절함으로써, 중합체 내 탄화수소 사슬 간격과 사슬 내/외부의 유동성에 영향을 미쳐 자가복원 온도와 자가복원율, 인장강도 등을 조절할 수 있다. Conventional multi-component polyimide resin compositions secure transparency by including a high content of CF 3 through 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride (6FDA), but do not contain trifluoromethyl group (-CF 3 ). There was a disadvantage in that the main backbone became rigid due to the high repulsion between polymer chains. However, one embodiment of the present disclosure is a phthalic anhydride-based monomer containing a trifluoromethyl group; Aromatic diamine-based monomer containing a disulfide bond; and copolymerization with an aliphatic diamine-based monomer, and by controlling the chain length by controlling the carbon number of the aliphatic diamine-based monomer, the hydrocarbon chain spacing within the polymer and the fluidity inside/outside the chain are affected, resulting in self-recovery temperature and self-recovery rate; Tensile strength, etc. can be adjusted.

본 명세서에서, 용어 '자기 복원성'은 자가치유와 동일한 의미로 사용되며, 재료의 물리적인 손상으로 물성과 수명이 저하될 경우 열, 빛, 또는 전기 등과 같은 외부에너지를 사용하여 손상 부위를 쉽고 빠르게 복원시킬 수 있는 특성을 의미한다. 본 개시에서 상기 자기 복원성 또는 자가치유는 외부물질을 이용하는 외적 방법과 고분자 스스로 손상을 감지하고 치유하는 내적 방법에 의한 것을 모두 포함하며, 구체적으로는 고분자 내에 가역적인 결합 또는 고분자의 사슬의 얽힘과(entanglement) 확산(diffusion)으로 분자간의 빠른 상호교환 결합에 의한 것일 수 있다. 또한, 본 개시의 일 실시에에서 상기 자기 복원성 또는 자가치유는 반복적인 복원 또는 치유를 포함할 수 있다.In this specification, the term 'self-healing' is used in the same sense as self-healing, and when the physical properties and lifespan of the material are reduced due to physical damage to the material, external energy such as heat, light, or electricity can be used to easily and quickly repair the damaged area. It refers to characteristics that can be restored. In the present disclosure, the self-restoration or self-healing includes both external methods using external substances and internal methods of detecting and healing damage by the polymer itself, and specifically, reversible bonding within the polymer or entanglement of polymer chains ( Entanglement may be due to rapid exchange bonding between molecules due to diffusion. Additionally, in one embodiment of the present disclosure, the self-restoration or self-healing may include repetitive restoration or healing.

기존의 자기 복원성을 갖는 폴리이미드 소재는 200℃ 이상의 높은 유리전이온도(Tg)를 갖거나, 낮은 유리전이온도를 가질 경우에는 기계적 물성이 떨어져 실제 적용이 어렵다는 문제가 있었지만, 본 개시의 일 실시예들은 탄화수소 사슬 길이 조절을 통해 트레이드-오프(trade-off) 관계에 놓여있는 고분자 소재의 기계적 물성과 유연성을 동시에 향상시킴으로써 낮은 유리전이온도에서 우수한 자기 복원성을 나타내면서도 높은 기계적 물성을 갖는 신규한 다성분계 폴리이미드 수지 조성물을 제공할 수 있다. Existing polyimide materials with self-restoring properties have a high glass transition temperature (Tg) of 200°C or higher, or when they have a low glass transition temperature, there is a problem that their mechanical properties are poor, making practical application difficult. However, an embodiment of the present disclosure This is a novel multi-component system that exhibits excellent self-restoration at a low glass transition temperature and has high mechanical properties by simultaneously improving the mechanical properties and flexibility of polymer materials in a trade-off relationship by adjusting the hydrocarbon chain length. A polyimide resin composition can be provided.

일 실시예로서, 상기 트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머는 4,4'-(헥사플루오르이소프로필리덴)디프탈산무수물(4,4'-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 6FDA)일 수 있다.As an example, the phthalic anhydride-based monomer containing the trifluoromethyl group may be 4,4'-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride (6FDA). .

일 실시예로서, 방향족 디아민계 모노머는 4,4'-디티오아닐린(4AD), 2,2'-디티오아닐린, 2-하이드록실 디설파이드, 3,3'-디티오디프로피온산, 2,2'-(디티오디메틸렌)디퓨란, 4-아미노페닐 디설파이드, 2,2'-디아미노디에틸 디설파이드 디하이드로클로라이드 및 3,3'-디하이드록시디페닐 디설파이드로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다. As an example, the aromatic diamine monomer is 4,4'-dithioaniline (4AD), 2,2'-dithioaniline, 2-hydroxyl disulfide, 3,3'-dithiodipropionic acid, 2,2' -(dithiodimethylene)difuran, 4-aminophenyl disulfide, 2,2'-diaminodiethyl disulfide dihydrochloride, and 3,3'-dihydroxydiphenyl disulfide. .

일 실시예로서, 상기 지방족 디아민계 모노머는 1,9-디아미노노난(1,9-Diaminononane), 1,10-디아미노데칸(1,10-diaminodecane), 1,12-디아미노도데칸(1,12-diaminododecane) 및 4,7,10-트리옥사-1,13-트리데칸디아민(TTDA)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다. 일 실시예로서, 상기 지방족 디아민계 모노머는 탄화수소사슬에 에테르 결합을 더 포함하는 것일 수 있다As an example, the aliphatic diamine-based monomer is 1,9-diaminononane, 1,10-diaminodecane, and 1,12-diaminododecane. It may be one or more selected from the group consisting of (1,12-diaminododecane) and 4,7,10-trioxa-1,13-tridecanediamine (TTDA). As an example, the aliphatic diamine-based monomer may further include an ether bond in the hydrocarbon chain.

일 실시예로서, 상기 폴리이미드 수지 조성물은 아래 화학식 1로 표시되는 화합물일 수 있다. 구체적으로, 상기 조성물은 아래의 반복단위를 기반으로 다분산 지수(PDI)가 1.3 내지 2.5인 것일 수 있다.As an example, the polyimide resin composition may be a compound represented by Formula 1 below. Specifically, the composition may have a polydispersity index (PDI) of 1.3 to 2.5 based on the repeating units below.

[화학식 1][Formula 1]

상기 화학식에서 n은 6 내지 13 중 어느 하나의 정수일 수 있으며, m은 1 내지 100 중 어느 하나의 정수일 수 있다. In the above formula, n may be any integer from 6 to 13, and m may be any integer from 1 to 100.

높은 기계적 물성 및 투명성과 함께 낮은 유리전이온도를 가짐으로써 낮은 온도에서의 자기 복원성을 제공하기 위한 관점에서, 일 실시예에 따른 상기 조성물은 상기 트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머에 대한 상기 지방족 디아민계 모노머 및 상기 방향족 디아민계 모노머의 합이 10: 5 내지 15의 몰비로 공중합된 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머에 대한 상기 지방족 디아민계 모노머 및 상기 방향족 디아민계 모노머의 합의 몰비는 10: 5 이상, 6 이상, 7 이상, 8 이상, 9 이상, 10 이상, 11 이상, 12 이상, 13 이상 또는 14 이상일 수 있으며, 15 이하, 14 이하, 13 이하, 12 이하, 11 이하, 10 이하, 9 이하, 8 이하, 7 이하 또는 6 이하일 수 있다.In view of providing self-restoration at low temperatures by having a low glass transition temperature along with high mechanical properties and transparency, the composition according to one embodiment includes the above-described composition for the phthalic anhydride-based monomer containing the trifluoromethyl group. The aliphatic diamine-based monomer and the aromatic diamine-based monomer may be copolymerized at a molar ratio of 10:5 to 15. Specifically, the molar ratio of the sum of the aliphatic diamine-based monomer and the aromatic diamine-based monomer to the phthalic anhydride-based monomer containing the trifluoromethyl group is 10: 5 or more, 6 or more, 7 or more, 8 or more, 9 or more, 10. It may be 11 or more, 12 or more, 13 or more, or 14 or more, and may be 15 or less, 14 or less, 13 or less, 12 or less, 11 or less, 10 or less, 9 or less, 8 or less, 7 or less, or 6 or less.

일 실시예에 따른 상기 조성물은 디설파이드 결합을 포함하는 방향족 디아민계 모노머 및 탄소수 9 내지 16인 사슬 구조의 지방족 디아민계 모노머가 1: 2 내지 8의 몰비로 포함되어 공중합된 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 방향족 디아민계 모노머에 대한 상기 지방족 디아민계 모노머의 몰 비율은 1: 2 이상, 3 이상, 4 이상, 5 이상, 6 이상 또는 7 이상일 수 있으며, 8 이하, 7 이하, 6 이하, 5 이하, 4 이하 또는 3 이하일 수 있다. 상기 범위를 벗어날 경우 디설파이드 결합(S-S)에 의한 자기 복원성이 저하되거나 방향족 고리 그룹의 증가로 유리전이온도가 증가할 수 있다.The composition according to one embodiment may be a copolymerization of an aromatic diamine-based monomer containing a disulfide bond and an aliphatic diamine-based monomer having a chain structure of 9 to 16 carbon atoms at a molar ratio of 1:2 to 8. Specifically, the molar ratio of the aliphatic diamine-based monomer to the aromatic diamine-based monomer may be 1: 2 or more, 3 or more, 4 or more, 5 or more, 6 or more, or 7 or more, 8 or less, 7 or less, 6 or less, It may be 5 or less, 4 or less, or 3 or less. If it is outside the above range, the magnetic restoration property due to disulfide bond (S-S) may decrease or the glass transition temperature may increase due to an increase in the aromatic ring group.

일 실시예로서, 상기 폴리이미드 수지 조성물은 중량평균분자량이 5,000 내지 70,000 g/mol이고, 다분산 지수(PDI)가 1.3 내지 2.5인 것일 수 있다. 상기 조성물이 상술된 범위의 중량평균분자량과 다분산 지수를 벗어날 경우 기계적 물성이 저하되거나 투명성, 자기 복원성이 저하될 수 있다.As an example, the polyimide resin composition may have a weight average molecular weight of 5,000 to 70,000 g/mol and a polydispersity index (PDI) of 1.3 to 2.5. If the composition exceeds the weight average molecular weight and polydispersity index of the above-mentioned ranges, mechanical properties may be deteriorated or transparency and self-restoring properties may be deteriorated.

본 개시는 일 실시예로서 상기 폴리이미드 수지 조성물을 포함하는, 폴리이미드 필름을 제공할 수 있다. 이때 상기 폴리이미드 수지 조성물에 대한 구성은 상술된 바와 같다.As an example, the present disclosure may provide a polyimide film containing the polyimide resin composition. At this time, the composition of the polyimide resin composition is as described above.

일 실시예로서, 상기 필름은 상기 폴리이미드 수지 조성물이 도포된 기재(substrate)를 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 기재는 세라믹, 고분자 및 금속 중 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 예를 들어, 상기 세라믹은 유리, 실리콘 웨이퍼 등을 포함할 수 있다. 상기 고분자는 상기 고분자는 폴리이미드계, 폴리우레탄계, 폴리에스터계, 폴리스틸렌계, 폴리에틸렌계, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 금속은 예를 들어 알루미늄, 철, 니켈, 스테인리스 강, 금속 합금 등 포함할 수 있다.As an example, the film may further include a substrate onto which the polyimide resin composition is applied. Specifically, the substrate may include one or more of ceramics, polymers, and metals, but is not limited thereto. For example, the ceramic may include glass, silicon wafer, etc. The polymer may include polyimide-based, polyurethane-based, polyester-based, polystyrene-based, polyethylene-based, polyethylene terephthalate, etc. For example, the metal may include aluminum, iron, nickel, stainless steel, metal alloy, etc.

일 실시예로서, 상기 폴리이미드 필름의 두께는 제한되지 않으나, 예를 들어 1 내지 100 ㎛일 수 있다. 구체적으로, 상기 폴리이미드 필름의 두께는 1μm 이상, 10 μm 이상, 20 μm 이상, 30 μm 이상, 40 μm 이상, 50 μm 이상, 60 μm 이상, 70 μm 이상, 80 μm 이상, 90 μm 이상 또는 100 μm 이상일 수 있으며, 100 μm 이하, 90 μm 이하, 80 μm 이하, 70 μm 이하, 60 μm 이하, 50 μm 이하, 40 μm 이하, 30 μm 이하, 20 μm 이하 또는 10 μm 이하일 수 있다. As an example, the thickness of the polyimide film is not limited, but may be, for example, 1 to 100 ㎛. Specifically, the thickness of the polyimide film is 1 μm or more, 10 μm or more, 20 μm or more, 30 μm or more, 40 μm or more, 50 μm or more, 60 μm or more, 70 μm or more, 80 μm or more, 90 μm or more, or 100 μm or more. It may be 100 μm or less, 90 μm or less, 80 μm or less, 70 μm or less, 60 μm or less, 50 μm or less, 40 μm or less, 30 μm or less, 20 μm or less, or 10 μm or less.

일 실시예로서, 상기 폴리이미드 필름은 필름 두께 30 ㎛을 기준으로 450 내지 800 nm의 파장범위에서 광투과율이 90% 이상일 수 있다. 구체적으로, 상기 광투과율은 91% 이상, 92% 이상, 93% 이상, 94% 이상, 95% 이상 96% 이상 일 수 있다. 구체적으로, 상기 광투과율은 90 내지 95%일 수 있다.As an example, the polyimide film may have a light transmittance of 90% or more in a wavelength range of 450 to 800 nm based on a film thickness of 30 ㎛. Specifically, the light transmittance may be 91% or more, 92% or more, 93% or more, 94% or more, 95% or more, and 96% or more. Specifically, the light transmittance may be 90 to 95%.

본 개시의 일 실시예에 따른 상기 필름은 상술된 바와 같은 다성분계 폴리이미드 수지 조성물을 포함함으로써 반복적인 굽힘 현상에서도 찢어지지 않는 유연성을 가지면서도 우수한 기계적 강도를 나타냄과 동시에, 별도의 외부자극원(열, 빛 등)을 이용하지 않고 고분자사슬의 얽힘만으로 자가복원이 가능할 뿐만 아니라, 자가복원 온도범위를 약 100℃까지 낮출 수 있다. The film according to an embodiment of the present disclosure includes the multi-component polyimide resin composition as described above, thereby exhibiting excellent mechanical strength while having flexibility that does not tear even during repeated bending, and at the same time, protecting against a separate external stimulus ( Not only is self-restoration possible through entanglement of polymer chains without using heat, light, etc., but the self-restoration temperature range can be lowered to about 100°C.

상기 관점에서, 일 실시예에 따른 상기 폴리이미드 필름은 100 내지 165 ℃의 온도에서 20분 동안 90% 이상의 자가복원율을 나타낼 수 있다. 구체적으로, 상기 자가복원 온도는 100℃ 이상, 105℃ 이상, 110℃ 이상, 115℃ 이상, 120℃ 이상, 125℃ 이상, 130℃ 이상, 135℃ 이상, 140℃ 이상, 145℃ 이상, 150℃ 이상, 155℃ 이상 또는 160℃ 이상일 수 있으며, 165℃ 이하, 160℃ 이하, 155℃ 이하, 150℃ 이하, 145℃ 이하, 140℃ 이하, 135℃ 이하, 130℃ 이하, 125℃ 이하, 120℃ 이하, 115℃ 이하, 110℃ 이하 또는 105℃ 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 자가복원율은 90% 이상, 91% 이상, 92% 이상, 93% 이상, 94% 이상, 95% 이상, 96% 이상, 97% 이상 또는 98% 이상일 수 있다.From the above perspective, the polyimide film according to one embodiment may exhibit a self-recovery rate of 90% or more for 20 minutes at a temperature of 100 to 165 ° C. Specifically, the self-recovery temperature is 100 ℃ or higher, 105 ℃ or higher, 110 ℃ or higher, 115 ℃ or higher, 120 ℃ or higher, 125 ℃ or higher, 130 ℃ or higher, 135 ℃ or higher, 140 ℃ or higher, 145 ℃ or higher, 150 ℃ or higher. It may be above 155℃ or above 160℃, below 165℃, below 160℃, below 155℃, below 150℃, below 145℃, below 140℃, below 135℃, below 130℃, below 125℃, below 120℃. Below, it may be 115°C or less, 110°C or less, or 105°C or less. Specifically, the self-recovery rate may be 90% or higher, 91% or higher, 92% or higher, 93% or higher, 94% or higher, 95% or higher, 96% or higher, 97% or higher, or 98% or higher.

일 실시예로서 상기 자가복원시 소요시간은 10분 내지 60분일 수 있다. 구체적으로, 상기 자가복원시 소요시간은 10분 이상, 15분 이상, 20 분 이상, 25 분 이상, 30 분 이상, 35 분 이상, 40 분 이상, 45 분 이상, 50 분 이상 또는 55 분 이상일 수 있으며, 60분 이하, 55 분 이하, 50 분 이하, 45 분 이하, 40 분 이하, 35 분 이하, 30 분 이하, 25 분 이하, 20 분 이하 또는 15 분 이하일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 자기복원 시간은 30분 이하일 수 있다.As an example, the time required for self-restoration may be 10 to 60 minutes. Specifically, the time required for self-restoration may be 10 minutes or more, 15 minutes or more, 20 minutes or more, 25 minutes or more, 30 minutes or more, 35 minutes or more, 40 minutes or more, 45 minutes or more, 50 minutes or more, or 55 minutes or more. and may be 60 minutes or less, 55 minutes or less, 50 minutes or less, 45 minutes or less, 40 minutes or less, 35 minutes or less, 30 minutes or less, 25 minutes or less, 20 minutes or less, or 15 minutes or less. More specifically, the self-recovery time may be 30 minutes or less.

일 실시예로서, 상기 폴리이미드 필름은 인장강도가 60 MPa 이상, 65 MPa 이상 또는 70 MPa 이상일 수 있다. 구체적으로, 상기 폴리이미드 필름의 인장강도는 60 내지 75MPa일 수 있다. As an example, the polyimide film may have a tensile strength of 60 MPa or more, 65 MPa or more, or 70 MPa or more. Specifically, the tensile strength of the polyimide film may be 60 to 75 MPa.

일 실시예로서 상기 필름은 방오성 및/또는 항균성을 나타내는 것일 수 있다. As an example, the film may exhibit antifouling and/or antibacterial properties.

일 실시예로서, 상기 필름은 코팅 필름 또는 접착 필름일 수 있다. 일 시예로서, 상기 필름은 디스플레이 표면 보호용 필름일 수 있다. 구체적으로, 상기 필름은 디스플레이 커버 윈도우용 필름일 수 있다.As an example, the film may be a coating film or an adhesive film. As an example, the film may be a display surface protection film. Specifically, the film may be a film for a display cover window.

본 개시는 일 실시예로서 상기 폴리이미드 필름을 포함하는 전자소자를 제공할 수 있다. 일 실시예로서, 상기 전자소자는 디스플레이, 반도체, 트랜지스터, 발광다이오드 및 레이저 소자 중에서 선택된 어느 하나일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. As an example, the present disclosure can provide an electronic device including the polyimide film. As an example, the electronic device may be any one selected from a display, a semiconductor, a transistor, a light emitting diode, and a laser device, but is not limited thereto.

또한, 본 개시는 일 실시예로서, 상술된 바와 같은 폴리이미드 수지 조성물을 제조하는 방법을 제공할 수 있다. 구체적으로, 상기 방법은 유기용매에 트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머, 디설파이드 결합을 포함하는 방향족 디아민계 모노머 및 탄소수 9 내지 16인 사슬 구조의 지방족 디아민계 모노머를 투입하고 불활성 분위기 하에서 반응시켜 폴리아믹산 용액을 제조하는 단계; 및 상기 폴리아믹산 용액을 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지 조성물을 제조하는 단계;를 포함할 수 있다. Additionally, as an example, the present disclosure may provide a method for producing the polyimide resin composition as described above. Specifically, the method involves adding a phthalic anhydride monomer containing a trifluoromethyl group, an aromatic diamine monomer containing a disulfide bond, and an aliphatic diamine monomer having a chain structure of 9 to 16 carbon atoms into an organic solvent and reacting under an inert atmosphere. Preparing a polyamic acid solution; and preparing a polyimide resin composition by subjecting the polyamic acid solution to an imidization reaction.

일 실시예에 따른 상기 투입되는 트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머, 디설파이드 결합을 포함하는 방향족 디아민계 모노머 및 탄소수 9 내지 16인 사슬 구조의 지방족 디아민계 모노머를 방향족 디아민계 모노머의 몰비 범위와 구체적인 종류의 예시는 상술된 폴리이미드 수지 조성물에 대한 기재가 모두 동일하게 적용된다.According to one embodiment, the phthalic anhydride-based monomer containing a trifluoromethyl group, the aromatic diamine-based monomer containing a disulfide bond, and the aliphatic diamine-based monomer having a chain structure of 9 to 16 carbon atoms are added in a molar ratio range of the aromatic diamine-based monomer. For examples of specific types, the description of the polyimide resin composition described above applies equally.

일 실시예로서, 상기 유기용매는 N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, N,N-다이메틸포름아미드, N-비닐피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 디메틸술폭시드, 테트라메틸요소, 피리딘, 디메틸술폰, 헥사메틸술폭시드, 메타-크레졸, 감마-부티로락톤, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 에틸카르비톨 아세테이트, 부틸카르비톨 아세테이트, 에틸렌글리콜, 젖산에틸, 젖산부틸, 시클로헥사논 및 시클로펜타논으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. As an example, the organic solvent is N,N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N-vinylpyrrolidone, N-methylcaprolactam, dimethyl sulfoxide, Tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylsulfoxide, meta-cresol, gamma-butyrolactone, ethylcellosolve, butylcellosolve, ethylcarbitol, butylcarbitol, ethylcarbitol acetate, butylcarbitol. It may be one or more selected from the group consisting of acetate, ethylene glycol, ethyl lactate, butyl lactate, cyclohexanone, and cyclopentanone, but is not limited thereto.

일 실시예로서, 상기 불활성 분위기는 질소, 아르곤, 수소, 헬륨, 네온, 제논 및 크립톤으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 불활성 가스가 공급되는 분위기일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 구체적으로, 상기 불활성 가스는 질소일 수 있다.As an example, the inert atmosphere may be an atmosphere in which one or more inert gases selected from the group consisting of nitrogen, argon, hydrogen, helium, neon, xenon, and krypton are supplied, but is not limited thereto. Specifically, the inert gas may be nitrogen.

일 실시예로서, 상기 폴리아믹산 용액을 제조하는 단계는 -5 내지 5℃에서 30분 내지 2시간 동안 반응시키고, 이어서 20 내지 25℃에서 10 내지 14 시간 동안 교반하여 폴리아믹산 용액을 제조하는 것을 포함할 수 있다.As an example, the step of preparing the polyamic acid solution includes reacting at -5 to 5°C for 30 minutes to 2 hours, and then stirring at 20 to 25°C for 10 to 14 hours to prepare the polyamic acid solution. can do.

일 실시예로서, 상기 이미드화 반응 단계는 상기 폴리아믹산 용액에 이미드화 촉매 및 탈수제를 첨가하여 이미드화 반응시키는 것을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 이미드화 촉매는 피리딘, 이소퀴놀린 및 베타-피콜린 중 1종 이상일 수 있다. 구체적으로, 상기 탈수제는 아세트산 무수물을 포함할 수 있다.As an example, the imidization reaction step may include adding an imidization catalyst and a dehydrating agent to the polyamic acid solution to perform an imidization reaction. Specifically, the imidization catalyst may be one or more of pyridine, isoquinoline, and beta-picoline. Specifically, the dehydrating agent may include acetic anhydride.

일 실시예로서, 상기 이미드화 반응은 40 내지 60℃에서 5 내지 15 시간 동안 반응시키는 것일 수 있다.As an example, the imidization reaction may be performed at 40 to 60°C for 5 to 15 hours.

본 개시의 일 실시예는 상기 기재된 방법에 따라 폴리이미드 수지 조성물을 제조하는 단계; 및 One embodiment of the present disclosure includes preparing a polyimide resin composition according to the method described above; and

상기 제조된 폴리이미드 수지 조성물을 기재 상에 코팅하는 단계; Coating the prepared polyimide resin composition on a substrate;

를 포함하는 폴리이미드 필름의 제조방법을 제공할 수 있다.A method for producing a polyimide film comprising a can be provided.

일 실시예로서, 상기 코팅 단계는 본 개시의 상기 조성물을 기재에 코팅할 수 있는 것이라면 그 방법에 제한되지 않으며, 예를 들어 바(Bar) 코팅, 스핀 코팅(Spin-coating), 딥 코팅 (Dip-Coating), 드롭 캐스팅(Drop-casting), 그라비아 롤 코팅 또는 잉크젯 프린팅(Inkjet Printing)에 의해 코팅하는 것일 수 있다. As an example, the coating step is not limited to the method as long as the composition of the present disclosure can be coated on a substrate, for example, bar coating, spin-coating, or dip coating. -Coating), drop-casting, gravure roll coating, or inkjet printing.

이하, 실시예를 통하여 본 개시를 더욱 상세히 설명하고자 한다. 이들 실시예는 오로지 본 개시를 예시하기 위한 것으로, 본 개시의 범위가 이들 실시예들에 의해 제한되는 것으로 해석되지 않는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에 있어서 자명할 것이다.Hereinafter, the present disclosure will be described in more detail through examples. These examples are only for illustrating the present disclosure, and it will be apparent to those skilled in the art that the scope of the present disclosure should not be construed as limited by these examples.

[제조예 1] 폴리이미드 수지 조성물의 제조 [Preparation Example 1] Preparation of polyimide resin composition

아래와 같은 3개의 상이한 모노머를 사용하여 2단계 중합 공정을 통해 폴리이미드 수지 조성물을 합성하였다. 트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머로는 4,4'-(헥사플루오르이소프로필리덴)디프탈산무수물 (6FDA)(99%, Changzhou Sunlight Pharmaceutical Co., Ltd.), 디설파이드 결합을 포함하는 방향족 디아민계 모노머로는 4,4'-디티오아닐린(4AD)(98%, Tokyo Chemical Industry)를 사용하였다. 탄소수 9 내지 16인 사슬 구조의 지방족 디아민계 모노머로는 1,9-디아미노노난(실시예 1)(95%, Sigma-Aldrich), 1,10-디아미노데칸(실시예 2)(95%, Sigma-Aldrich), 1,12-디아미노도데칸(실시예 3)(95%, Sigma-Aldrich) 또는4,7,10-트리옥사-1,13-트리데칸디아민 (TTDA, 실시예 4)(97%, Sigma-Aldrich)를 각각 사용하였다. A polyimide resin composition was synthesized through a two-step polymerization process using three different monomers as follows. Phthalic anhydride-based monomers containing a trifluoromethyl group include 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride (6FDA) (99%, Changzhou Sunlight Pharmaceutical Co., Ltd.), which contains a disulfide bond. 4,4'-dithioaniline (4AD) (98%, Tokyo Chemical Industry) was used as the aromatic diamine monomer. Examples of aliphatic diamine-based monomers with a chain structure of 9 to 16 carbon atoms include 1,9-diaminononane (Example 1) (95%, Sigma-Aldrich) and 1,10-diaminodecane (Example 2) (95). %, Sigma-Aldrich), 1,12-diaminododecane (Example 3) (95%, Sigma-Aldrich) or 4,7,10-trioxa-1,13-tridecanediamine (TTDA, Example 4) (97%, Sigma-Aldrich) was used, respectively.

이 때, 상기 트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머(6FDA)와 상기 2종의 디아민계 모노머의 합 간의 몰비는 1:1이었다. 이 중 디설파이드 결합을 포함하는 방향족 디아민계 모노머와 탄소수 9 내지 16인 사슬 구조의 지방족 디아민계 모노머의 몰비는 1:4였다. At this time, the molar ratio between the sum of the phthalic anhydride-based monomer (6FDA) containing the trifluoromethyl group and the two types of diamine-based monomers was 1:1. Among these, the molar ratio of the aromatic diamine monomer containing a disulfide bond and the aliphatic diamine monomer having a chain structure of 9 to 16 carbon atoms was 1:4.

합성은 총 고형분(단량체) 함량이 25wt%인 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc, Daejung Chemical) 극성 비양성자성 용매에서 수행하였다. 2종의 디아민계 모노머(4AD 및 TTDA)(총 20mmol)을 DMAc의 각 샘플에 첨가하였다. 트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머(6FDA)(총 20mmol)을 용액에 첨가하였다. 상기 첨가된 용액을 0℃에서 1시간 동안 교반한 다음, 질소 분위기에서 실온에서 밤새 교반하였다. 첫 번째 반응 단계는 고리탈수를 통한 폴리아믹산(PAA) 반응이었고, 두 번째 반응 단계는 피리딘과 아세트산 무수물을 이용한 화학적 이미드화(imidizaiton)였다. 최종 반응된 용액을 메탄올/탈이온수 혼합 용액에 침전시키고 에탄올로 세척하였다. 상기 세척 단계 후 제조된 각 폴리이미드 수지 조성물을 70℃에서 12시간 동안 건조하여 잔류 용매를 제거하여, 최종적으로 섬유상 구조의 고체 폴리이미드 수지 조성물을 얻었다.The synthesis was performed in N,N-dimethylacetamide (DMAc, Daejung Chemical) polar aprotic solvent with a total solids (monomer) content of 25 wt%. Two diamine-based monomers (4AD and TTDA) (20 mmol total) were added to each sample of DMAc. Phthalic anhydride-based monomer (6FDA) containing a trifluoromethyl group (total 20 mmol) was added to the solution. The added solution was stirred at 0°C for 1 hour and then stirred overnight at room temperature in a nitrogen atmosphere. The first reaction step was polyamic acid (PAA) reaction through ring dehydration, and the second reaction step was chemical imidization using pyridine and acetic anhydride. The final reacted solution was precipitated in a methanol/deionized water mixed solution and washed with ethanol. After the washing step, each polyimide resin composition prepared was dried at 70°C for 12 hours to remove residual solvent, and finally, a solid polyimide resin composition with a fibrous structure was obtained.

[제조예 2] 폴리이미드 필름의 제조 [Preparation Example 2] Preparation of polyimide film

본 개시의 일 실시예로서, 상기 제조된 실시예 1 내지 4의 각 고체 폴리이미드 수지 조성물을 DMAc 용매에 25중량%의 농도로 용해시킨 후, 용해된 상기 용액을 상온에서 진공으로 기포를 제거하였다. 기포가 충분히 제거된 각 조성물을 유리기판에 스핀코팅하여 필름을 제조하였다. 상기 스핀코팅은 막 두께에 따라 500~1000rpm의 속도로 10초간 유지되었다. 스핀 코터의 속도에 따라 30~80㎛ 범위의 두께를 갖는 필름(실시예 5 내지 8)를 얻었다.As an example of the present disclosure, each of the solid polyimide resin compositions of Examples 1 to 4 prepared above was dissolved in DMAc solvent at a concentration of 25% by weight, and then bubbles were removed from the dissolved solution under vacuum at room temperature. . Each composition from which bubbles were sufficiently removed was spin-coated on a glass substrate to prepare a film. The spin coating was maintained for 10 seconds at a speed of 500 to 1000 rpm depending on the film thickness. Films (Examples 5 to 8) having a thickness ranging from 30 to 80 μm were obtained depending on the speed of the spin coater.

[비교제조예 1] [Comparative Manufacturing Example 1]

지방족 디아민계 모노머로 탄소수 6의 1,6-디아미노헥산(비교예 1) 또는 1,8-디아미노옥탄(비교예 2)을 사용하여 제조한 것을 제외하고는 상기 제조예 1 및 2와 동일한 방법으로 제조하여 30 ㎛ 두께의 투명 폴리이미드 필름을 제조하였다.The same as Preparation Examples 1 and 2 except that it was prepared using 1,6-diaminohexane (Comparative Example 1) or 1,8-diaminoctane (Comparative Example 2) having 6 carbon atoms as an aliphatic diamine monomer. A transparent polyimide film with a thickness of 30 ㎛ was prepared using this method.

[시험예 1][Test Example 1]

상기 제조된 실시예 5 내지 8 및 비교예 1 및 2의 폴리이미드 필름의 물성을 확인하기에 앞서, 각 필름들의 유리전이온도(Tg)를 열중량 분석(TGA, Q50, TA Instruments, USA)과 시차 주사 열량계(DSC, Q20, TA Instruments, USA)를 통해 분석했다. 구체적으로, 열중량 분석은 실시예 5 내지 8 및 비교예 1 및 2 각 10mg을 질소 분위기에서 10℃/min의 속도로 35℃에서 800℃로 가열하며 측정하였다. DSC 측정은 10℃/min의 속도로 (1) 35℃에서 300℃로 가열; (2) 0℃로 냉각; 및 (3) (1) 및 (2)를 반복하는 단계에 따라 수행되었다. Tg는 두 번째 가열 사이클로부터 결정되었으며, 그 결과는 아래 표 1에 나타내었다. Before confirming the physical properties of the polyimide films of Examples 5 to 8 and Comparative Examples 1 and 2, the glass transition temperature (Tg) of each film was measured by thermogravimetric analysis (TGA, Q50, TA Instruments, USA). Analyzed by differential scanning calorimetry (DSC, Q20, TA Instruments, USA). Specifically, thermogravimetric analysis was performed by heating 10 mg of each of Examples 5 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 from 35°C to 800°C at a rate of 10°C/min in a nitrogen atmosphere. DSC measurements were performed by (1) heating from 35°C to 300°C at a rate of 10°C/min; (2) cooling to 0°C; and (3) repeating steps (1) and (2). Tg was determined from the second heating cycle and the results are shown in Table 1 below.

그 다음, 도 1 내지 4에 나타난 바와 같이 상기 필름들에 각각 단면도(DN-52, DORCO)를 이용하여 스크래치 테스터(Zest Co. Ltd. South Korea)를 통해 1N의 힘을 가한 다음, 1N/min의 속도로 30㎛ 너비의 스크래치를 만들었다. 각 긁힌 필름을 유리기판에 올려놓은 후 각각에 해당하는 유리전이온도를 기준으로 핫 플레이트(IKA, C-MAG HP 7)의 온도를 조절하여 20분 동안 열처리한 후 치유되는 정도를 광학 현미경(Olympus, SZX16 광학현미경)으로 촬영하여 확인하고, 자기복원율을 측정하였다. Next, as shown in FIGS. 1 to 4, a force of 1N was applied to each of the films through a scratch tester (Zest Co. Ltd. South Korea) using a cross-sectional view (DN-52, DORCO), and then 1N/min. A scratch with a width of 30㎛ was created at a speed of . After placing each scratched film on a glass substrate, the temperature of the hot plate (IKA, C-MAG HP 7) was adjusted based on the respective glass transition temperature, heat treated for 20 minutes, and the degree of healing was measured using an optical microscope (Olympus). , SZX16 optical microscope) was photographed and confirmed, and the self-restoration rate was measured.

실시예 5 내지 8 및 비교예 1 및 2 필름의 기계적 물성은 ASTM D638 시험법에 따라 만능 인장기(UTM, Instron model 5567A)를 사용하여 로드셀 100N, 게이지 길이 10mm, 크로스헤드 속도 5mm/min에서 측정 및 분석하였다. 도그본형 덤벨 표본을 사용하였으며, 시편의 치수는 30(길이)Х5(폭)Х10(좁은 부분 길이)Х1.5(좁은 부분 너비)Х0.03(두께)mm였다. 각 필름 별로 최소 10개의 샘플을 테스트하고 각 측정 세트의 평균을 사용했다. The mechanical properties of the films of Examples 5 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 were measured using a universal tensile machine (UTM, Instron model 5567A) according to the ASTM D638 test method at a load cell of 100N, gauge length of 10mm, and crosshead speed of 5mm/min. and analyzed. A dogbone dumbbell specimen was used, and the dimensions of the specimen were 30 (length) Х5 (width) Х10 (length of narrow part) Х1.5 (width of narrow part) Х0.03 (thickness) mm. A minimum of 10 samples of each film were tested and the average of each set of measurements was used.

자가복원온도(℃)Self-recovery temperature (℃) 자가복원율(%)Self-recovery rate (%) 자가복원 시간(min)Self-recovery time (min) 인장강도(MPa)Tensile strength (MPa) 비교예 1Comparative Example 1 175±5175±5 90±390±3 2020 -- 비교예 2Comparative Example 2 165±5165±5 -- 실시예 5Example 5 160±5160±5 70±1.570±1.5 실시예 6Example 6 155±5155±5 67±2.267±2.2 실시예 7Example 7 145±5145±5 65±2.565±2.5 실시예 8Example 8 110±5110±5 ≥95±4≥95±4 65±3.065±3.0

그 결과, 지방족 디아민계 모노머의 탄화수소 사슬길이에 따라 자기복원온도, 자기복원율과 인장강도가 다르게 나타났다. 탄소수 6 또는 8인 사슬 구조의 지방족 디아민계 모노머를 포함하는 비교예 1 및 2는 필름자체가 형성되지 않아 인장강도 측정이 불가능하였으며, 실시예 5 내지 8보다 높은 자기복원온도를 나타내었다. 반면, 본 개시의 일 실시예들에 따른 실시예 5 내지 8은 탄소수 9 이상의 사슬 구조의 지방족 디아민계 모노머를 포함함으로써 상대적으로 낮은 자기복원온도를 나타냄과 동시에 기계적 물성이 우수함을 확인하였다. As a result, the self-recovery temperature, self-recovery rate, and tensile strength were different depending on the hydrocarbon chain length of the aliphatic diamine monomer. Comparative Examples 1 and 2, which contain an aliphatic diamine-based monomer with a chain structure of 6 or 8 carbon atoms, were unable to measure tensile strength because the film itself was not formed, and showed a higher self-restoration temperature than Examples 5 to 8. On the other hand, it was confirmed that Examples 5 to 8 according to one embodiment of the present disclosure showed a relatively low self-recovery temperature and excellent mechanical properties by including an aliphatic diamine-based monomer with a chain structure of 9 or more carbon atoms.

앞에서 설명된 본 개시의 실시예는 본 개시의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 개시의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 개시의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 개시의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서, 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 개시의 보호범위에 속하게 될 것이다.The embodiments of the present disclosure described above should not be construed as limiting the technical idea of the present disclosure. The scope of protection of this disclosure is limited only by the matters stated in the claims, and those skilled in the art can improve and change the technical idea of this disclosure into various forms. Accordingly, such improvements and changes will fall within the scope of protection of the present disclosure as long as they are obvious to those skilled in the art.

Claims (17)

트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머;
디설파이드 결합을 포함하는 방향족 디아민계 모노머; 및
탄소수 9 내지 16인 사슬 구조의 지방족 디아민계 모노머;
를 포함하여 공중합된 것이고,
주쇄 또는 측쇄에 수소 결합 및 디설파이드 결합을 포함하는,
폴리이미드 수지 조성물.
Phthalic anhydride-based monomer containing a trifluoromethyl group;
Aromatic diamine-based monomer containing a disulfide bond; and
Aliphatic diamine-based monomers with a chain structure having 9 to 16 carbon atoms;
It is copolymerized including,
Containing hydrogen bonds and disulfide bonds in the main chain or side chains,
Polyimide resin composition.
제1항에 있어서, 상기 트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머는 4,4'-(헥사플루오르이소프로필리덴)디프탈산무수물(6FDA)인, 폴리이미드 수지 조성물.The polyimide resin composition according to claim 1, wherein the phthalic anhydride-based monomer containing a trifluoromethyl group is 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride (6FDA). 제1항에 있어서, 상기 방향족 디아민계 모노머는 4,4'-디티오아닐린(4AD), 2,2'-디티오아닐린, 2-하이드록실 디설파이드, 3,3'-디티오디프로피온산, 2,2'-(디티오디메틸렌)디퓨란, 4-아미노페닐 디설파이드, 2,2'-디아미노디에틸 디설파이드 디하이드로클로라이드 및 3,3'-디하이드록시디페닐 디설파이드로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 폴리이미드 수지 조성물.The method of claim 1, wherein the aromatic diamine-based monomer is 4,4'-dithioaniline (4AD), 2,2'-dithioaniline, 2-hydroxyl disulfide, 3,3'-dithiodipropionic acid, 2, At least one selected from the group consisting of 2'-(dithiodimethylene)difuran, 4-aminophenyl disulfide, 2,2'-diaminodiethyl disulfide dihydrochloride, and 3,3'-dihydroxydiphenyl disulfide. , polyimide resin composition. 제1항에 있어서, 상기 지방족 디아민계 모노머는 1,9-디아미노노난(1,9-Diaminononane), 1,10-디아미노데칸(1,10-diaminodecane), 1,12-디아미노도데칸(1,12-diaminododecane) 및 4,7,10-트리옥사-1,13-트리데칸디아민(TTDA)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 폴리이미드 수지 조성물.The method of claim 1, wherein the aliphatic diamine monomer is 1,9-diaminononane, 1,10-diaminodecane, 1,12-diaminode. A polyimide resin composition, which is at least one selected from the group consisting of decane (1,12-diaminododecane) and 4,7,10-trioxa-1,13-tridecanediamine (TTDA). 제1항에 있어서, 상기 폴리이미드 수지 조성물은 아래 화학식 1로 표시되는 화합물인, 폴리이미드 수지 조성물:
[화학식 1]

상기 화학식에서 n은 6 내지 13 중 어느 하나의 정수이며, m은 1 내지 100 중 어느 하나의 정수이다.
The polyimide resin composition according to claim 1, wherein the polyimide resin composition is a compound represented by the following formula (1):
[Formula 1]

In the above formula, n is any integer from 6 to 13, and m is any integer from 1 to 100.
제1항에 있어서, 상기 조성물은 디설파이드 결합을 포함하는 방향족 디아민계 모노머 및 탄소수 9 내지 16인 사슬 구조의 지방족 디아민계 모노머가 1: 2 내지 8의 몰비로 포함되어 공중합된 것인, 폴리이미드 수지 조성물. The polyimide resin of claim 1, wherein the composition is a copolymerization of an aromatic diamine-based monomer containing a disulfide bond and an aliphatic diamine-based monomer having a chain structure of 9 to 16 carbon atoms at a molar ratio of 1:2 to 8. Composition. 제1항에 있어서, 상기 조성물은 상기 트리플루오로메틸기를 포함하는 프탈산무수물계 모노머에 대한 상기 지방족 디아민계 모노머 및 상기 방향족 디아민계 모노머의 합이 10: 5 내지 15의 몰비로 공중합된 것인, 폴리이미드 수지 조성물.The method of claim 1, wherein the composition is copolymerized in a molar ratio of 10:5 to 15, wherein the sum of the aliphatic diamine monomer and the aromatic diamine monomer relative to the phthalic anhydride monomer containing the trifluoromethyl group is 10:5 to 15. Polyimide resin composition. 제1항에 있어서, 상기 폴리이미드 수지 조성물은 중량평균분자량이 5,000 내지 70,000 g/mol이고, 다분산 지수(PDI)가 1.3 내지 2.5인 것인, 폴리이미드 수지 조성물.The polyimide resin composition of claim 1, wherein the polyimide resin composition has a weight average molecular weight of 5,000 to 70,000 g/mol and a polydispersity index (PDI) of 1.3 to 2.5. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 폴리이미드 수지 조성물을 포함하는, 폴리이미드 필름.A polyimide film comprising the polyimide resin composition according to any one of claims 1 to 8. 제9항에 있어서, 상기 폴리이미드 수지 조성물이 도포된 기재(substrate)를 더 포함하는, 폴리이미드 필름.According to clause 9, A polyimide film further comprising a substrate onto which the polyimide resin composition is applied. 제9항에 있어서,
상기 폴리이미드 필름은 두께가 1 내지 100 ㎛인 것인, 폴리이미드 필름.
According to clause 9,
The polyimide film has a thickness of 1 to 100 ㎛.
제9항에 있어서, 상기 폴리이미드 필름은 450 내지 800 nm의 파장범위에서 광투과율이 90% 이상인 것인 폴리이미드 필름.The polyimide film according to claim 9, wherein the polyimide film has a light transmittance of 90% or more in a wavelength range of 450 to 800 nm. 제9항에 있어서, 상기 폴리이미드 필름은 100 내지 165℃의 온도에서 20분 동안 85% 이상의 자가복원율을 보이는 것인, 폴리이미드 필름.The polyimide film of claim 9, wherein the polyimide film exhibits a self-recovery rate of 85% or more for 20 minutes at a temperature of 100 to 165°C. 제9항에 있어서, 상기 폴리이미드 필름의 인장강도는 60 내지 75MPa인, 폴리이미드 필름.The polyimide film according to claim 9, wherein the polyimide film has a tensile strength of 60 to 75 MPa. 제9항에 있어서, 상기 필름은 코팅 필름 또는 접착 필름인, 폴리이미드 필름.The polyimide film of claim 9, wherein the film is a coating film or an adhesive film. 제9항의 폴리이미드 필름을 포함하는 전자소자.An electronic device comprising the polyimide film of claim 9. 제16항에 있어서, 상기 전자소자는 디스플레이, 반도체, 트랜지스터, 발광다이오드 및 레이저 소자 중에서 선택된 어느 하나인 것인 전자소자.The electronic device according to claim 16, wherein the electronic device is any one selected from a display, a semiconductor, a transistor, a light emitting diode, and a laser device.
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