KR101598667B1 - Glass-polymer composite substrate and method for manufacturing same - Google Patents

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KR101598667B1 KR1020130116909A KR20130116909A KR101598667B1 KR 101598667 B1 KR101598667 B1 KR 101598667B1 KR 1020130116909 A KR1020130116909 A KR 1020130116909A KR 20130116909 A KR20130116909 A KR 20130116909A KR 101598667 B1 KR101598667 B1 KR 101598667B1
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정혜원
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주식회사 엘지화학
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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    • C03C17/32Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with synthetic or natural resins
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Abstract

본 발명은 높은 투명성 및 낮은 위상차와 함께 우수한 내열성, 내화학성 및 기계적 물성을 나타내며, 고온고습 하에서도 우수한 접착력을 나타내는 유리-폴리머 복합 기재 및 그 제조방법에 관한 것으로, 상기 유리-폴리머 복합 기재는 유리 기재 및 상기 유리 기재의 적어도 일면에 위치하며 하기 화학식 1의 폴리이미드를 포함하는 폴리머층을 포함한다:
[화학식 1]

Figure 112013088888985-pat00037

상기 화학식 1에서 X, Y1, Y2, R1 내지 R3, m, n 및 z는 본 명세서 중에서 정의한 바와 동일하다.The present invention relates to a glass-polymer composite substrate exhibiting excellent heat resistance, chemical resistance and mechanical properties together with high transparency and low retardation, and exhibiting excellent adhesion even under high temperature and high humidity, and a process for producing the glass- And a polymer layer located on at least one side of the glass substrate and comprising a polyimide of the following formula:
[Chemical Formula 1]
Figure 112013088888985-pat00037

In Formula 1, X, Y 1 , Y 2 , R 1 to R 3 , m, n and z are the same as defined in the present specification.

Description

유리-폴리머 복합 기재 및 그 제조방법{GLASS-POLYMER COMPOSITE SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME}GLASS-POLYMER COMPOSITE SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME [0002]

본 발명은 유리-폴리머 복합 기재 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 높은 투명성 및 낮은 위상차(retardation)와 함께 우수한 내열성, 내화학성 및 기계적 물성을 나타내며, 고온고습 하에서도 우수한 접착력을 나타내는 유리-폴리머 복합 기재 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a glass-polymer composite substrate and a method for producing the glass-polymer composite substrate, and more particularly, to a glass-polymer composite substrate having excellent transparency and low retardation as well as excellent heat resistance, chemical resistance and mechanical properties, - polymer composite substrate and a method for producing the same.

플렉서블 디바이스는 일반적으로 고온의 TFT(thin film transistor) 공정 기반에서 제조되고 있다. 플렉서블 디바이스의 제조시 디바이스 내에 포함되는 반도체층, 절연막 및 배리어층의 종류에 따라 공정 온도가 달라질 수 있지만, 통상 TFT 공정시 300 내지 500℃ 정도의 온도가 필요하다. 그러나, 이러한 공정온도를 견딜 수 있는 폴리머 재료는 극히 제한적이며, 내열성이 우수한 것으로 알려진 폴리이미드가 주로 사용되고 있다.Flexible devices are typically manufactured on the basis of high temperature thin film transistor (TFT) processes. The process temperature may vary depending on the type of the semiconductor layer, the insulating film, and the barrier layer included in the device during the manufacture of the flexible device, but usually a temperature of about 300 to 500 ° C is required in the TFT process. However, the polymer material capable of withstanding such a processing temperature is extremely limited, and polyimide known to have excellent heat resistance is mainly used.

폴리이미드는 산이무수물과 다이아민 또는 디이소시아네이트의 반응에 의하여 합성되는 고분자로서, 내열성, 내화학성, 기계적 특성, 전기 절연성이 다른 고분자들에 비교하여 우수하다. 그러나, 일반적인 폴리이미드는 이미드 고리와 방향족 구조로 인하여 고온에서 순간적으로 접착할 경우 고온 흐름성이 좋지 않기 때문에 접착시키고자 하는 단면과의 접착력이 낮으며, 더욱이 이 같은 낮은 접착력은 고온 및 다습 환경에서의 폭로 후에는 더욱 심화되는 문제점이 있다. Polyimide is a polymer synthesized by the reaction of an acid anhydride with a diamine or a diisocyanate, and is superior to a polymer having heat resistance, chemical resistance, mechanical properties, and electrical insulating properties. However, when the polyimide is bonded instantaneously at a high temperature due to the imide ring and the aromatic structure, the adhesion to the cross section to be bonded is low because the high temperature flowability is poor, and furthermore, There is a problem in that it is further intensified after the exposure in FIG.

한국특허공개 제2009-0057414호 (2009.06.05 공개)Korean Patent Publication No. 2009-0057414 (published on Jun. 5, 2009)

본 발명의 목적은 높은 투명성 및 낮은 위상차(retardation)와 함께 우수한 내열성, 내화학성 및 기계적 물성을 나타내며, 고온고습 하에서도 우수한 접착력을 나타낼 수 있는 유리-폴리머 복합 기재 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a glass-polymer composite substrate exhibiting excellent heat resistance, chemical resistance and mechanical properties together with high transparency and low retardation, and exhibiting excellent adhesion even under high temperature and high humidity, and a process for producing the same.

본 발명의 일 측면에 따른 유리-폴리머 복합 기재는, 유리 기재, 및 상기 유리 기재의 적어도 일면에 위치하며, 하기 화학식 1의 폴리이미드를 포함하는 폴리머층을 포함한다:A glass-polymer composite substrate according to one aspect of the present invention comprises a glass substrate and a polymer layer disposed on at least one side of the glass substrate and including a polyimide of the following formula:

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112013088888985-pat00001
Figure 112013088888985-pat00001

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

X1 및 X2는 각각 독립적으로 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족 4가 유기기이며, 단 상기 X1 및 X2 중 적어도 하나는 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족의 4가 유기기로서, 4가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100mol%로 포함되고,X 1 and X 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid dianhydride, provided that at least one of X 1 and X 2 is an ether group, an ester group, An aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid dianhydride containing a functional group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group,

Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 다이아민으로부터 유도된 방향족, 지환족 또는 지방족의 2가 유기기이며, 단 Y1 및 Y2 중 적어도 하나는 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 다이아민으로부터 유도된 방향족, 지환족 또는 지방족의 2가 유기기로서, 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100mol%로 포함되며, 그리고Y 1 and Y 2 are each independently an aromatic, alicyclic or aliphatic divalent organic group derived from a diamine, provided that at least one of Y 1 and Y 2 is composed of an ether group, an ester group, Aromatic, alicyclic or aliphatic divalent organic group derived from a diamine containing a functional group selected from the group consisting of a divalent organic group derived from a diamine in an amount of 20 to 100 mol%

m 및 n은 각각 독립적으로 1 이상의 정수이다.m and n are each independently an integer of 1 or more.

상기 화학식 1에서, X1 및 X2 중에서 적어도 하나는 하기 화학식 3a 내지 3d의 산 이무수물로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나로부터 유도된 4가 유기기일 수 있다:In Formula 1, at least one of X 1 and X 2 may be a tetravalent organic group derived from any one selected from the group consisting of acid dianhydrides represented by the following Chemical Formulas 3a to 3d:

Figure 112013088888985-pat00002
Figure 112013088888985-pat00002

상기 화학식 3a 내지 3d에서, R21 내지 R24는 각각 독립적으로 단일결합, -O-, -CR25R26-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO-, -SO2-, -O[CH2CH2O]p-, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 시클로알킬렌기, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 아릴렌기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며, 이때 상기 R25 및 R26은 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고, p는 1 내지 44의 정수이다.Wherein R 21 to R 24 each independently represents a single bond, -O-, -CR 25 R 26 -, -C (═O) -, -C (═O) O-, -C = O) NH-, -S-, -SO-, -SO 2 -, -O [CH 2 CH 2 O] p -, a monocyclic or polycyclic cycloalkylene group having 6 to 18 carbon atoms, And R 25 and R 26 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, And p is an integer of 1 to 44. [

또한, 상기 화학식 1에서 X1 및 X2 중에서 적어도 하나는 X1 및 X2 중에서 적어도 하나는 하기 화학식 4a 내지 4l의 구조를 갖는 작용기로 이루어진 군에서 선택되는 4가 유기기일 수 있다:In addition, at least one of X 1 and X 2 in formula (I) has 4 is selected from the group consisting of functional groups having the structure of Formula 4a to 4l at least one of X 1 and X 2 are to be organic date:

Figure 112013088888985-pat00003
Figure 112013088888985-pat00003

또한, 상기 화학식 1에서 Y1 및 Y2 중에서 적어도 하나는 하기 화학식 6a 내지 6e로 이루어진 군에서 선택되는 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기일 수 있다:In Formula 1, at least one of Y 1 and Y 2 may be a divalent organic group derived from a diamine selected from the group consisting of the following Formulas 6a to 6e:

Figure 112013088888985-pat00004
Figure 112013088888985-pat00004

상기 화학식 6a 내지 6d에서, R51 내지 R54는 각각 독립적으로 단일결합, -O-, -CR55R56-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO-, -SO2-, -O[CH2CH2O]p-, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 시클로알킬렌기, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 아릴렌기, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며, 이때 상기 R55 및 R56은 각각 독립적으로 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이고, 그리고 p는 1 내지 44의 정수이고, q는 1 내지 8의 정수이다.In formulas (6a) to (6d), R 51 to R 54 each independently represents a single bond, -O-, -CR 55 R 56 -, -C (═O) -, -C = O) NH-, -S-, -SO-, -SO 2 -, -O [CH 2 CH 2 O] p -, a monocyclic or polycyclic cycloalkylene group having 6 to 18 carbon atoms, And R 55 and R 56 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms And p is an integer of 1 to 44, and q is an integer of 1 to 8.

또한 상기 화학식 1에서 Y1 및 Y2 중에서 적어도 하나는 하기 화학식 7a 내지 7p의 구조를 갖는 작용기로 이루어진 군에서 선택되는 2가 유기기일 수 있다:In formula (1), at least one of Y 1 and Y 2 may be a divalent organic group selected from the group consisting of functional groups represented by the following formulas (7a) to (7p)

Figure 112013088888985-pat00005
Figure 112013088888985-pat00005

상기 식에서, q는 1 내지 8의 정수이다.In the above formula, q is an integer of 1 to 8.

또한 상기 폴리이미드는 폴리이미드 전구체의 이미드화율이 90% 이상인 것일 수 있다.The polyimide may have a polyimide precursor having an imidization ratio of 90% or more.

상기 유리-폴리머 복합 기재에 있어서, 상기 폴리머층은 1 내지 10㎛의 두께에서 400nm의 광투과율이 10 내지 100%인 것일 수 있다.In the glass-polymer composite substrate, the polymer layer may have a light transmittance of 400 to 100% at a thickness of 1 to 10 mu m.

또한, 상기 폴리머층은 면방향과 두께방향의 위상차가 0.001 내지 100nm인 것일 수 있다.The polymer layer may have a retardation in the plane direction and a thickness direction of 0.001 to 100 nm.

또한, 상기 폴리머층은 50 내지 500MPa의 인장강도 및 10 내지 100%의 파단신율을 갖는 것일 수 있다.Further, the polymer layer may have a tensile strength of 50 to 500 MPa and a elongation at break of 10 to 100%.

또한, 상기 폴리머층은 고온고습, 100℃, 100%RH, 6일간의 조건에서 유리기판에 대해 30N/cm 이상의 접착력을 나타내는 것일 수 있다.The polymer layer may exhibit an adhesive strength of 30 N / cm or more to the glass substrate under conditions of high temperature and high humidity, 100 DEG C, 100% RH, and 6 days.

본 발명의 다른 일 측면에 따른 디스플레이 기판은 상기한 유리-폴리머 복합 기재를 포함한다.A display substrate according to another aspect of the present invention includes the aforementioned glass-polymer composite substrate.

본 발명의 또 다른 일 측면에 따른 유리-폴리머 복합 기재의 제조방법은, 상기 화학식 1의 폴리이미드 또는 그 전구체를 포함하는 조성물을 제조하는 단계; 그리고, 상기 조성물을 유리 기재의 적어도 일면에 도포한 후 경화하여 폴리머층을 형성하거나, 또는 상기 조성물을 지지체의 일면에 도포한 후 건조하여 코팅층을 형성하고, 이를 유리 기재의 일면에 라미네이팅한 후 경화하여 폴리머층을 형성하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a glass-polymer composite substrate, comprising: preparing a composition comprising the polyimide of Formula 1 or a precursor thereof; The composition is coated on at least one surface of a glass substrate and cured to form a polymer layer, or the composition is coated on one side of a support and dried to form a coating layer, which is laminated on one side of the glass substrate, Thereby forming a polymer layer.

상기 유리-폴리머 복합 기재의 제조방법에 있어서, 상기 폴리이미드는 하기 화학식 8의 폴리이미드 전구체를 3급 아민의 존재 하에서 130℃ 이상의 온도에서 화학적 이미드화 하거나, 또는 진공 또는 비활성 기체 분위기하에서, 150 내지 380℃의 온도에서 열적 이미드화 하여 제조된 것일 수 있다:In the process for producing the glass-polymer composite substrate, the polyimide is chemically imidized in the presence of a tertiary amine at a temperature of 130 ° C or higher, or in a vacuum or an inert gas atmosphere, Lt; RTI ID = 0.0 > 380 C: < / RTI >

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure 112013088888985-pat00006
Figure 112013088888985-pat00006

상기 화학식 8에서, In Formula 8,

X1 및 X2는 각각 독립적으로 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족 4가 유기기이며, 단 상기 X1 및 X2 중 적어도 하나는 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족의 4가 유기기로서, 4가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100mol%로 포함되고,X 1 and X 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid dianhydride, provided that at least one of X 1 and X 2 is an ether group, an ester group, An aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid dianhydride containing a functional group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group,

Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 다이아민으로부터 유도된 방향족, 지환족 또는 지방족의 2가 유기기이며, 단 Y1 및 Y2 중 적어도 하나는 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 다이아민으로부터 유도된 방향족, 지환족 또는 지방족의 2가 유기기로서, 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100mol%로 포함되며, 그리고Y 1 and Y 2 are each independently an aromatic, alicyclic or aliphatic divalent organic group derived from a diamine, provided that at least one of Y 1 and Y 2 is composed of an ether group, an ester group, Aromatic, alicyclic or aliphatic divalent organic group derived from a diamine containing a functional group selected from the group consisting of a divalent organic group derived from a diamine in an amount of 20 to 100 mol%

m 및 n은 각각 독립적으로 1 이상의 정수이다.m and n are each independently an integer of 1 or more.

또한, 상기 폴리이미드 전구체는 산 이무수물 및 다이아민을 중합반응시키되, 상기 산 이무수물로서 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 작용기를 포함하는 산 이무수물을, 폴리이미드 전구체내 산이무수물 유래 4가 유기기 총 몰에 대하여 상기 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 작용기를 포함하는 산 이무수물 유래 4가 유기기의 함량이 20 내지 100mol%이 되도록 하는 양으로 사용하고, 상기 다이아민으로서 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 작용기를 포함하는 다이아민을 폴리이미드 전구체 내 다이아민 유래 2가 유기기 총 몰에 대하여 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 작용기를 포함하는 다이아민 유래 2가 유기기의 함량이 20 내지 100mol%가 되도록 하는 양으로 반응시켜 제조되는 것일 수 있다.Also, the polyimide precursor may be prepared by polymerizing an acid dianhydride and a diamine, wherein the acid dianhydride is an acid dianhydride containing a functional group selected from the group consisting of an ether group, an ester group, Wherein the content of the acid dianhydride-derived tetravalent organic group containing a functional group selected from the group consisting of an ether group, an ester group and a combination thereof in the molecule with respect to the total moles of acid anhydride-derived tetravalent organic groups in the polyester precursor is from 20 to 100 mol %, And the diamine containing a functional group selected from the group consisting of an ether group, an ester group, and a combination thereof in the molecule is used as the diamine in the total molar amount of the diamine-derived divalent organic group in the polyimide precursor A functional group selected from the group consisting of an intramolecular ether group, an ester group, and combinations thereof It was derived from the diamine to react together in an amount such that the amount of the organic group of 20 to 100mol% may be produced.

또한, 상기 조성물은 폴리이미드 또는 그 전구체를 고형분 기준으로 조성물 총 중량에 대해 5 내지 50중량%로 포함하는 것일 수 있다.In addition, the composition may include polyimide or a precursor thereof in an amount of 5 to 50 wt% based on the total weight of the composition based on the solid content.

또한, 상기 조성물은 200 내지 25,000cP의 점도를 갖는 것일 수 있다.In addition, the composition may have a viscosity of 200 to 25,000 cP.

또한, 상기 경화 공정은 150 내지 380℃ 온도에서의 열처리에 의해 실시될 수 있다.Also, the curing process may be performed by heat treatment at a temperature of 150 to 380 ° C.

기타 본 발명의 구현예들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Other details of the embodiments of the present invention are included in the following detailed description.

본 발명에 따른 유리-폴리머 복합 기재는 높은 투명성 및 낮은 위상차와 함께 우수한 내열성, 내화학성 및 기계적 물성을 나타내며, 고온고습 하에서도 우수한 접착력을 나타낸다. 그 결과 플렉서블 투명 디스플레이, OLED 플렉서블 조명, 3D 편광판 필름 등과 같은 투명성과 등방성이 요구되는 디스플레이 소자에서의 기판으로 유용하다. The glass-polymer composite substrate according to the present invention exhibits excellent heat resistance, chemical resistance and mechanical properties together with high transparency and low retardation, and exhibits excellent adhesion even under high temperature and high humidity. As a result, it is useful as a substrate in a display device requiring transparency and isotropy such as flexible transparent display, OLED flexible light, 3D polarizer film and the like.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 명세서에서 모든 화합물 또는 작용기는 특별한 언급이 없는 한 치환되거나 비치환된 것일 수 있다. 여기서, '치환된' 이란 화합물 또는 작용기에 포함된 적어도 하나의 수소가 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 할로겐화알킬기, 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 하이드록시기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 카르복실산기, 알데히드기, 에폭시기, 시아노기, 니트로기, 아미노기, 술폰산기 및 이들의 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 치환기로 대체된 것을 의미한다.In the present specification, all the compounds or functional groups may be substituted or unsubstituted, unless otherwise specified. Herein, the term "substituted" means that at least one hydrogen contained in the compound or the functional group is a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group, a cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, Substituted with a substituent selected from the group consisting of an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a carboxylic acid group, an aldehyde group, an epoxy group, a cyano group, a nitro group, an amino group, a sulfonic acid group and derivatives thereof.

또한 본 명세서에서 '이들의 조합' 이란 특별한 언급이 없는 한, 둘 이상의 작용기가 단일결합, 이중결합, 삼중결합, 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기(예를 들면, 메틸렌(-CH2-), 에틸렌(-CH2CH2-) 등), 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬렌기(예를 들면, 플루오로메틸렌 (-CF2-), 퍼플루오로에틸렌(-CF2CF2-) 등), 탄소수 4 내지 18의 시클로알킬렌기(예를 들면, 시클로헥센기 등), 탄소수 6 내지 12의 아릴렌기(예를 들면 페닐렌기 등), N, O, P, S, 또는 Si와 같은 헤테로 원자 또는 이를 포함하는 작용기(구체적으로는, 분자내 카르보닐기(-C=O-), 에테르기(-O-), 에스테르기(-COO-), -S-, -NH- 또는 -N=N- 등을 포함하는 헤테로알킬렌기)와 같은 연결기에 의해 결합되어 있거나, 또는 둘 이상의 작용기가 축합, 연결되어 있는 것을 의미한다.In the present specification, unless otherwise specified, the term "a combination thereof" means a compound wherein at least two functional groups are a single bond, a double bond, a triple bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methylene (-CH 2 -), ethylene (-CH 2 CH 2 -) and the like), a fluoroalkylene group having 1 to 10 carbon atoms (for example, fluoromethylene (-CF 2 -), perfluoroethylene (-CF 2 CF 2 -) and the like) A cycloalkylene group having 4 to 18 carbon atoms (e.g., cyclohexene group), an arylene group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., a phenylene group), a heteroatom such as N, O, P, (-C═O-), an ether group (-O-), an ester group (-COO-), -S-, -NH- or -N═N- or the like Or a heteroalkylene group containing one or more heteroatom (s)), or two or more functional groups are condensed and connected to each other.

본 발명은 유리 기재, 및 상기 유리 기재의 적어도 일면에 위치하며, 하기 화학식 1의 폴리이미드를 포함하는 폴리머층을 포함하는 유리-폴리머 복합 기재를 제공한다:The present invention provides a glass-polymer composite substrate comprising a glass substrate, and a polymer layer disposed on at least one side of the glass substrate, the polymer layer comprising a polyimide of the following general formula:

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112013088888985-pat00007
Figure 112013088888985-pat00007

상기 화학식 1에서, In Formula 1,

X1 및 X2는 각각 독립적으로 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족 4가 유기기이며, 단 상기 X1 및 X2 중 적어도 하나는 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족의 4가 유기기로서, 4가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100mol%로 포함되고,X 1 and X 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid dianhydride, provided that at least one of X 1 and X 2 is an ether group, an ester group, An aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid dianhydride containing a functional group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group,

Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 다이아민으로부터 유도된 방향족, 지환족 또는 지방족의 2가 유기기이며, 단 Y1 및 Y2 중 적어도 하나는 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 다이아민으로부터 유도된 방향족, 지환족 또는 지방족의 2가 유기기로서, 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100mol%로 포함되며, 그리고Y 1 and Y 2 are each independently an aromatic, alicyclic or aliphatic divalent organic group derived from a diamine, provided that at least one of Y 1 and Y 2 is composed of an ether group, an ester group, Aromatic, alicyclic or aliphatic divalent organic group derived from a diamine containing a functional group selected from the group consisting of a divalent organic group derived from a diamine in an amount of 20 to 100 mol%

m 및 n은 각각 독립적으로 1 이상의 정수이다.m and n are each independently an integer of 1 or more.

본 발명은 또한 상기 유리-폴리머 복합 기재를 포함하는 디스플레이 기판을 제공한다.The present invention also provides a display substrate comprising the glass-polymer composite substrate.

본 발명은 또한 상기 화학식 1의 폴리이미드 또는 그 전구체를 포함하는 조성물을 제조하는 단계; 그리고, 상기 조성물을 유리 기재의 적어도 일면에 도포한 후 경화하여 폴리머층을 형성하거나, 또는 상기 조성물을 지지체의 일면에 도포한 후 건조하여 코팅층을 형성하고, 이를 유리 기재의 일면에 라미네이팅한 후 경화하여 폴리머층을 형성하는 단계를 포함하는 유리-폴리머 복합 기재의 제조방법을 제공한다.The present invention also relates to a process for preparing a polyimide of formula 1 or a precursor thereof; The composition is coated on at least one surface of a glass substrate and cured to form a polymer layer, or the composition is coated on one side of a support and dried to form a coating layer, which is laminated on one side of the glass substrate, Thereby forming a polymer layer. The present invention also provides a method for producing a glass-polymer composite substrate.

이하, 발명의 구현예에 따른 유리-폴리머 복합 기재 및 그 제조방법 그리고 상기 유리-폴리머 복합 기재를 포함하는 디스플레이 기판에 대하여 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, a glass-polymer composite substrate according to an embodiment of the invention, a method of manufacturing the glass-polymer composite substrate, and a display substrate including the glass-polymer composite substrate will be described in detail.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 유리 기재, 및 상기 유리 기재의 적어도 일면에 위치하며, 하기 화학식 1의 폴리이미드를 포함하는 폴리머층을 포함하는 유리-폴리머 복합 기재가 제공된다.According to one embodiment of the present invention, there is provided a glass-polymer composite substrate comprising a glass base material and a polymer layer located on at least one side of the glass base material and comprising a polyimide of the following general formula (1).

상기 유리-폴리머 복합 기재에 있어서, 유리 기재는 투명도가 우수할 뿐 아니라 열 및 화학적 안정성이 우수하다. In the above-mentioned glass-polymer composite substrate, the glass base material is not only excellent in transparency but also excellent in heat and chemical stability.

구체적으로는 상기 유리 기재는 10 내지 500㎛의 두께를 갖는 것이 바람직할 수 있다.Specifically, it is preferable that the glass base material has a thickness of 10 to 500 탆.

또한 상기 유리 기재의 적어도 일면에는 하기 화학식 1의 폴리이미드를 포함하는 폴리머층이 형성될 수 있다.Further, a polymer layer containing a polyimide of the following formula 1 may be formed on at least one surface of the glass substrate.

[화학식 1] [Chemical Formula 1]

Figure 112013088888985-pat00008
Figure 112013088888985-pat00008

상기 화학식 1에서 In Formula 1,

X1 및 X2는 각각 독립적으로 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족 4가 유기기이며, 단 상기 X1 및 X2 중 적어도 하나는 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족의 4가 유기기로서, 4가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100mol%로 포함되고,X 1 and X 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid dianhydride, provided that at least one of X 1 and X 2 is an ether group, an ester group, An aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid dianhydride containing a functional group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group,

Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 다이아민으로부터 유도된 방향족, 지환족 또는 지방족의 2가 유기기이며, 단 Y1 및 Y2 중 적어도 하나는 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 다이아민으로부터 유도된 방향족 지환족 또는 지방족의 2가 유기기로서, 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100mol%로 포함되며, 그리고Y 1 and Y 2 are each independently an aromatic, alicyclic or aliphatic divalent organic group derived from a diamine, provided that at least one of Y 1 and Y 2 is composed of an ether group, an ester group, Aromatic alicyclic or aliphatic divalent organic group derived from diamines containing a functional group selected from the group consisting of 20 to 100 mol% based on the total moles of divalent organic-derived divalent organic groups, and

m 및 n은 각 반복단위의 몰비를 나타내는 수로서, 각각 독립적으로 1 이상의 정수일 수 있다. m and n are numbers representing the molar ratio of the respective repeating units, and may be independently an integer of 1 or more.

구체적으로, 상기 화학식 1에서 X1 및 X2는 각각 독립적으로 테트라카르복실산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족 4가 유기기일 수 있으며, 보다 구체적으로는 하기 화학식 2a 내지 2d의 방향족 4가 유기기, 탄소수 3 내지 12의 시클로알칸의 구조를 포함하는 지환족 4가 유기기, 하기 화학식 2e의 지환족 4가 유기기, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있다:Specifically, in Formula 1, X 1 and X 2 are each independently an aromatic or alicyclic tetravalent organic group derived from a tetracarboxylic dianhydride, and more specifically, an aromatic tetravalent organic group represented by the following general formulas (2a) to (2d) An alicyclic divalent organic group containing a structure of a cycloalkane having 3 to 12 carbon atoms, an alicyclic divalent organic group represented by the following formula (2e), and combinations thereof:

[화학식 2a](2a)

Figure 112013088888985-pat00009
Figure 112013088888985-pat00009

[화학식 2b](2b)

Figure 112013088888985-pat00010
Figure 112013088888985-pat00010

[화학식 2c][Chemical Formula 2c]

Figure 112013088888985-pat00011
Figure 112013088888985-pat00011

[화학식 2d](2d)

Figure 112013088888985-pat00012
Figure 112013088888985-pat00012

[화학식 2e] [Formula 2e]

Figure 112013088888985-pat00013
Figure 112013088888985-pat00013

상기 화학식 2a 내지 2e에서, R11 내지 R17은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기이고, a1은 0 또는 2의 정수, b1은 0 내지 4의 정수, c1은 0 내지 8의 정수, d1 및 e1은 각각 독립적으로 0 내지 3의 정수, f1 및 g1은 각각 독립적으로 0 내지 9의 정수이며, 그리고 A11 및 A12는 각각 독립적으로 단일결합, -O-, -CR18R19-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO-, -SO2-, -O[CH2CH2O]p-, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 시클로알킬렌기(예를 들면, 시클로헥실렌기 등), 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 아릴렌기(예를 들면, 페닐렌기, 나프탈렌기 등), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며, 이때 상기 R18 및 R19는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기(예를 들면, 트리플루오로메틸기 등)로 이루어진 군으로부터 선택되고, p는 1 내지 44의 정수일 수 있다.In Formula 2a through 2e, R 11 to R 17 are each independently a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon alkyl group or a C 1 -C 10, a1 is an integer of 0 or 2, b1 is in the range of 0 to 4 integer, c1 is an integer of 0 to 8, d1 and e1 are each independently an integer of 0 to 3, f1, and g1 is an integer from 0 to 9, each independently, and a 11 and a 12 represents a single bond, each independently, -O- , -CR 18 R 19 -, -C (= O) -, -C (= O) O-, -C (= O) NH-, -S-, -SO-, -SO 2 -, -O [ CH 2 CH 2 O] p -, a monocyclic or polycyclic cycloalkylene group having 6 to 18 carbon atoms (e.g., cyclohexylene group and the like), a monocyclic or polycyclic arylene group having 6 to 18 carbon atoms A phenylene group, a naphthalene group, etc.), and combinations thereof, wherein R 18 and R 19 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms (example Surface, is selected from the group consisting of a methyl group, etc.), trifluoromethyl, p may be an integer of from 1 to 44.

또한, 상기와 같은 X1 및 X2 중에서 적어도 하나는 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지방족 고리의 4가 유기기로서, 구체적으로는 하기 화학식 3a 내지 3d의 산 이무수물로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나로부터 유도된 4가 유기기일 수 있다:In addition, at least one of X 1 and X 2 as described above may be an aromatic or aliphatic cyclic organic group derived from an acid dianhydride containing a functional group selected from the group consisting of an ether group, an ester group, , Specifically acid dianhydrides of the following formulas (3a) to (3d):

Figure 112013088888985-pat00014
Figure 112013088888985-pat00014

상기 화학식 3a 내지 3d에서, R21 내지 R24는 각각 독립적으로 단일결합, -O-, -CR25R26-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO-, -SO2-, -O[CH2CH2O]p-, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 시클로알킬렌기(예를 들면, 시클로헥실렌기 등), 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 아릴렌기(예를 들면, 페닐렌기, 나프탈렌기 등), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며, 이때 상기 R25 및 R26은 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기(예를 들면, 트리플루오로메틸기 등)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이고, p는 1 내지 44의 정수일 수 있다.Wherein R 21 to R 24 each independently represents a single bond, -O-, -CR 25 R 26 -, -C (═O) -, -C (═O) O-, -C = O) NH-, -S-, -SO- , -SO 2 -, -O [CH 2 CH 2 O] p -, a cycloalkylene group of part formula or polycyclic of 6 to 18 carbon atoms (for example, Cyclohexylene group, etc.), a monocyclic or polycyclic arylene group having 6 to 18 carbon atoms (e.g., a phenylene group, a naphthalene group, etc.), and combinations thereof, wherein R 25 and R 26 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, trifluoromethyl group and the like), and p may be an integer of 1 to 44 .

보다 구체적으로, X1 및 X2 중에서 적어도 하나는 하기 화학식 4a 내지 4l의 구조를 갖는 작용기로 이루어진 군에서 선택되는 4가 유기기일 수 있다:More specifically, at least one of X < 1 > and X < 2 > may be a tetravalent organic group selected from the group consisting of functional groups having the structures of the following formulas (4a)

Figure 112013088888985-pat00015
Figure 112013088888985-pat00015

또한, 상기 화학식 1에 있어서, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 하기 화학식 5a 내지 5d의 방향족 2가 유기기, 하기 화학식 5e의 지환족 2가 유기기, 탄소수 4 내지 18의 시클로알칸디일기를 포함하는 지환족 2가 유기기, 하기 화학식 5f의 2가 유기기, 하기 화학식 5g의 2가 유기기 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2가 유기기일 수 있다:Y 1 and Y 2 each independently represent an aromatic divalent organic group represented by the following general formulas (5a) to (5d), an alicyclic divalent organic group represented by the following general formula (5e), a cycloalkanediyl group having 4 to 18 carbon atoms A divalent organic group selected from the group consisting of an alicyclic divalent organic group, a divalent organic group represented by the following formula (5f), a divalent organic group represented by the following formula (5g), and combinations thereof:

[화학식 5a][Chemical Formula 5a]

Figure 112013088888985-pat00016
Figure 112013088888985-pat00016

[화학식 5b][Chemical Formula 5b]

Figure 112013088888985-pat00017
Figure 112013088888985-pat00017

[화학식 5c][Chemical Formula 5c]

Figure 112013088888985-pat00018
Figure 112013088888985-pat00018

[화학식 5d][Chemical Formula 5d]

Figure 112013088888985-pat00019
Figure 112013088888985-pat00019

[화학식 5e][Chemical Formula 5e]

Figure 112013088888985-pat00020
Figure 112013088888985-pat00020

[화학식 5f][Chemical Formula 5f]

Figure 112013088888985-pat00021
Figure 112013088888985-pat00021

[화학식 5g][Chemical Formula 5g]

Figure 112013088888985-pat00022
Figure 112013088888985-pat00022

상기 화학식 5a 내지 5g에서,R31 내지 R37은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 것이고, a3, d3 및 e3은 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수, b3은 0 내지 6의 정수, c3은 0 내지 3의 정수, 그리고 f3 및 g3은 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이며, 그리고 A31 및 A32는 각각 독립적으로 단일결합, -O-, -CR38R39-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO-, -SO2-, -O[CH2CH2O]p-, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 시클로알킬렌기(예를 들면, 시클로헥실렌기 등), 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 아릴렌기(예를들면, 페닐렌기, 나프탈렌기 등) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되고, A33은 -[CRaRb-CH2O]q-며, 이때 R38 내지 R40, Ra 및 Rb는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기(예를 들면, 트리플루오로메틸기 등)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이고, p는 1 내지 44의 정수이고, q는 1 내지 8의 정수이며, 상기 R41 내지 R48은 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 페닐기로 이루어진 군에서 선택되고, 그리고 x 및 y는 각각 독립적으로 1 내지 15의 정수이다.In formulas (5a) to (5g), R 31 to R 37 are each independently selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a3, d3 and e3 are each independently 0 4 integer, b3 is the integer 0 to 6, c3 is an integer of 0 to 3, and f3 and g3 is an integer from 0 to 10, each independently, and a 31 and a 32 represents a single bond, -O, each independently -, -CR 38 R 39 -, -C (= O) -, -C (= O) O-, -C (= O) NH-, -S-, -SO-, -SO 2 -, -O (CH 2 CH 2 O) p -, a monocyclic or polycyclic cycloalkylene group having 6 to 18 carbon atoms (such as a cyclohexylene group), a monocyclic or polycyclic arylene group having 6 to 18 carbon atoms A 33 is - [CR a R b -CH 2 O] q-, wherein R 38 to R 40 , R a, and R a are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, R b is within a independently represents a hydrogen atom, a C 1 each Will be selected from the group consisting of the 10-alkyl group and having 1 to 10 carbon atoms in the haloalkyl group (e. G., Such as a trifluoromethyl group), p is an integer from 1 to 44, q is an integer from 1 to 8, wherein R 41 to R 48 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a phenyl group, and x and y are each independently an integer of 1 to 15.

또한 상기와 같은 Y1 및 Y2 중에서 적어도 하나는, 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 다이아민으로부터 유도된 방향족 또는 지방족 고리의 2가 유기기로서, 구체적으로는 하기 화학식 6a 내지 6e로 이루어진 군에서 선택되는 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기일 수 있다:Also, at least one of Y 1 and Y 2 is a divalent aromatic or aliphatic cyclic organic group derived from a diamine containing a functional group selected from the group consisting of an ether group, an ester group and a combination thereof, Specifically, it may be a divalent organic group derived from a diamine selected from the group consisting of the following formulas (6a) to (6e):

Figure 112013088888985-pat00023
Figure 112013088888985-pat00023

상기 화학식 6a 내지 6e에서, R51 내지 R54는 각각 독립적으로 단일결합, -O-, -CR55R56-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO-, -SO2-, -O[CH2CH2O]p-, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 시클로알킬렌기(예를 들면, 시클로헥실렌기 등), 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 아릴렌기(예를 들면, 페닐렌기, 나프탈렌기 등), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며, 이때 상기 R55 및 R56은 각각 독립적으로 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기(예를 들면, 트리플루오로메틸기 등)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이고, 그리고 p는 1 내지 44의 정수이고, q는 1 내지 8의 정수일 수 있다.In formulas (6a) to (6e), R 51 to R 54 each independently represents a single bond, -O-, -CR 55 R 56 -, -C (= O) -, -C = O) NH-, -S-, -SO- , -SO 2 -, -O [CH 2 CH 2 O] p -, a cycloalkylene group of part formula or polycyclic of 6 to 18 carbon atoms (for example, Cyclohexylene group and the like), a monocyclic or polycyclic arylene group having 6 to 18 carbon atoms (e.g., a phenylene group, a naphthalene group and the like), and a combination thereof, wherein R 55 and R 56 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, trifluoromethyl group and the like), and p is 1 to 44 And q may be an integer of 1 to 8.

보다 구체적으로, Y1 및 Y2 중에서 적어도 하나는 하기 화학식 7a 내지 7p의 구조를 갖는 작용기로 이루어진 군에서 선택되는 2가 유기기일 수 있다:More specifically, at least one of Y < 1 > and Y < 2 > may be a divalent organic group selected from the group consisting of functional groups having the structures of the following formulas (7a)

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상기 식에서, q는 1 내지 8의 정수일 수 있다.In the above formula, q may be an integer of 1 to 8.

상기와 같은 구조를 갖는 화학식 1의 폴리이미드는, 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지방족 고리의 4가 유기기를 폴리이미드 전구체내 산 이무수물 유래 4가 유기기 총 몰에 대해 20 내지 100몰%로 포함하고, 동시에 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 다이아민으로부터 유도된 방향족, 지환족 또는 지방족의 2가 유기기를 폴리이미드 전구체내 다이아민 유래 2가 유기기 총 몰에 대해 20 내지 100몰%로 포함한다. 이와 같은 최적 함량으로 에테르 또는 에스테르기를 포함하는 산 이무수물 유래 4가 유기기 및 에테르 또는 에스테르기를 포함하는 다이아민 유래 2가 유기기를 포함함으로써, 높은 투명성 및 낮은 위상차와 함께 우수한 내열성, 내화학성 및 기계적 물성을 나타내며, 고온고습 하에서도 우수한 접착력을 나타낼 수 있다.The polyimide of the formula (1) having the above structure is obtained by reacting a tetravalent organic group of an aromatic or aliphatic ring derived from an acid dianhydride containing a functional group selected from the group consisting of an ether group, an ester group, Based on the total moles of the dianhydrides derived from the acid dianhydride in the precursor, and at the same time, an aromatic group derived from a diamine containing a functional group selected from the group consisting of an ether group, an ester group, , Alicyclic or aliphatic divalent organic groups of 20 to 100 mol% based on the total moles of diamine-derived divalent organic groups in the polyimide precursor. With such optimum contents, it is possible to obtain a diimine-derived divalent organic group containing an ether or ester group and an acid or a dianhydride-derived divalent organic group containing an ether or ester group, thereby exhibiting excellent heat resistance, chemical resistance and mechanical And can exhibit excellent adhesive force even under high temperature and high humidity.

상기와 같은 유리-폴리머 복합 기재는, 상기 화학식 1의 폴리이미드 또는 그 전구체를 포함하는 조성물을 제조하는 단계; 그리고, 상기 조성물을 유리 기재의 적어도 일면에 도포한 후 경화하여 폴리머층을 형성하거나, 또는 상기 조성물을 지지체의 일면에 도포한 후 건조하여 코팅층을 형성하고, 이를 유리 기재의 일면에 라미네이팅한 후 경화하여 폴리머층을 형성하는 단계를 포함하는 제조방법에 의해 제조될 수 있다.The glass-polymer composite substrate may be prepared by preparing a composition comprising the polyimide of Formula 1 or a precursor thereof; The composition is coated on at least one surface of a glass substrate and cured to form a polymer layer, or the composition is coated on one side of a support and dried to form a coating layer, which is laminated on one side of the glass substrate, To thereby form a polymer layer.

이하 각 제조 단계별로 상세히 설명하면, 단계 1은 상기 폴리이미드 또는 그 전구체를 포함하는 조성물을 제조하는 단계이다.In detail, step 1 is a step of preparing a composition comprising the polyimide or a precursor thereof.

상기 조성물은 상기 화학식 1의 폴리이미드 또는 전구체를 용매 중에서 용해시켜 제조될 수도 있고, 또는 산이무수물과 다이아민의 중합반응의 결과로 수득된 폴리이미드 전구체를 포함하는 용액이 폴리머층 형성을 위한 조성물로서 이용될 수도 있다.The composition may be prepared by dissolving the polyimide or precursor of Formula 1 in a solvent, or a solution containing a polyimide precursor obtained as a result of the polycondensation reaction of an acid dianhydride and diamine is used as a composition for forming a polymer layer .

또한, 상기 화학식 1의 폴리이미드는, 하기 화학식 8의 폴리이미드 전구체의 중합용액 중에 3급 아민(예를 들면, 피리딘 또는 트라이에틸아민 등)을 첨가한 후 130℃ 이상의 온도에서 화학적 이미드화 하거나, 또는 진공 또는 비활성 기체 분위기하에서, 150 내지 380℃의 온도에서 열적 이미드화 하여 제조된 것일 수 있다:The polyimide of Formula 1 may be prepared by adding a tertiary amine (for example, pyridine or triethylamine) to a polymerization solution of a polyimide precursor of Formula 8 and then chemically imidizing the polymer at a temperature of 130 ° C or higher, Or by thermal imidization at a temperature of 150 to 380 [deg.] C in a vacuum or an inert gas atmosphere:

[화학식 8][Chemical Formula 8]

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상기 화학식 8에서, X1, X2, Y1, Y2, m 및 n은 앞서 정의한 바와 동일하다.In Formula 8, X 1 , X 2 , Y 1 , Y 2 , m and n are the same as defined above.

또한, 상기 화학식 8의 폴리이미드 전구체는, 산 이무수물 및 다이아민을 중합반응시키는 단계를 포함하는 제조방법에 의해 제조될 수 있으며, 이때 상기 산 이무수물(이하 간단히 제1산이무수물이라 함)로서 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 작용기를 포함하는 산 이무수물(이하 간단히 제2산이무수물이라 함)을, 폴리이미드 전구체내 산이무수물 유래 4가 유기기 총 몰에 대하여 상기 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 작용기를 포함하는 산 이무수물 유래 4가 유기기의 함량이 20 내지 100mol%이 되도록 하는 양으로 사용하고, 상기 다이아민(이하 간단히 제1다이아민이라 함)으로서 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 작용기를 포함하는 다이아민(이하 간단히 제2다이아민이라 함)을 폴리이미드 전구체 내 다이아민 유래 2가 유기기 총 몰에 대하여 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 작용기를 포함하는 다이아민 유래 2가 유기기의 함량이 20 내지 100mol%가 되도록 하는 양으로 사용한다.The polyimide precursor of Formula 8 may be prepared by a method comprising the step of polymerizing an acid dianhydride and a diamine, wherein the acid dianhydride (hereinafter, simply referred to as a first acid dianhydride) An acid dianhydride (hereinafter, simply referred to as a second acid dianhydride) containing a functional group selected from the group consisting of an ether group, an ester group, and a combination thereof in the molecule is reacted with a polyhydric precursor in the total moles of acid anhydride- Is used in an amount such that the content of the acid dianhydride-derived tetravalent organic group-containing functional group selected from the group consisting of an ether group, an ester group, and a combination thereof is from 20 to 100 mol% Hereinafter simply referred to as a first diamine), a functional group selected from the group consisting of an ether group, an ester group, (Hereinafter, simply referred to as a second diamine) is contained in the polyimide precursor with a functional group selected from the group consisting of an intramolecular ether group, an ester group, and a combination thereof in the total moles of the diamine-derived divalent organic group Is used in an amount such that the content of the diamine-derived divalent organic group is from 20 to 100 mol%.

구체적으로, 상기 화학식 8의 폴리이미드 전구체 제조시 사용가능한 제1산이무수물은, 방향족 또는 지환족 4가 유기기를 포함하는 테트라카르복실산 이무수물일 수 있으며, 이때 상기 방향족 또는 지환족 4가 유기기는 앞서 설명한 바와 동일하다. 보다 구체적으로 상기 제1산이무수물은 4,4’-옥시디프탈릭다이언하이드라이드, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실릭 다이언하이드라이드, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르복실릭 다이언하이드라이드, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실릭 다이언하이드라이드, 바이시클로펜탄테트라카르복실릭 다이언하이드라이드, 시클로프로판테트라카르복실릭 다이언하이드라이드, 3,3’,4,4’-벤조페논테트라카르복실릭 다이언하이드라이드, 3,4,9,10-페릴렌테트라카르복실릭 다이언하이드라이드, 4,4’-술포닐디프탈릭 다이언하이드라이드, 3,3’,4,4’-바이페닐테트라카르복실릭 다이언하이드라이드, 1,2,5,6-나프탈렌테트라카르복실릭 다이언하이드라이드, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르복실릭 다이언하이드라이드, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실릭 다이언하이드라이드, 2,3,5,6,-피리딘테트라카르복실릭 다이언하이드라이드, m-터페닐-3,3’,4,4’-테트라카르복실릭 다이언하이드라이드, p-터페닐-3,3’,4,4’-테트라카르복실릭 다이언하이드라이드, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것일 수 있다.Specifically, the first acid dianhydride which can be used in preparing the polyimide precursor of Formula 8 may be a tetracarboxylic dianhydride having an aromatic or alicyclic tetravalent organic group, wherein the aromatic or alicyclic di The same as described above. More specifically, the first acid dianhydride is selected from the group consisting of 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetra Cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, bicyclopentanetetracarboxylic dianhydride, cyclopropane tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4'-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, , 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylene tetracarboxylic dianhydride, 4,4'-sulfonyldiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride , 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 2,3 , 5,6-pyridine tetracarboxylic dianhydride, m-terphenyl-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, p-terphenyl-3,3' 4'-tetracarboxylic dianhydride, and mixtures thereof.

또한 상기 화학식 8의 폴리이미드 전구체 제조시 사용가능한 제2산이무수물은 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 작용기를 포함하는 산 이무수물로서, 구체적으로는 하기 화학식 3a 내지 3d의 산 이무수물일 수 있다:The second acid dianhydride which can be used in the preparation of the polyimide precursor of Formula 8 is an acid dianhydride containing a functional group selected from the group consisting of ether, ester and combinations thereof, The mountain of 3d can be water diarrhea:

Figure 112013088888985-pat00026
Figure 112013088888985-pat00026

상기 화학식 3a 내지 3d에서, R21내지 R24는 앞서 정의한 바와 동일하다.In the above formulas (3a) to (3d), R 21 to R 24 are the same as defined above.

보다 구체적으로 상기 제2산 이무수물은, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2,2-비스[4-(2,3- 또는 3,4-디카르복시페녹시)페닐]프로판 다이언하이드라이드, 2,2-비스[4-(2,3- 또는 3,4-디카르복시페녹시)페닐]프로판 다이언하이드라이드, 에틸렌글리콜 비스(4-트리멜리틱 언하이드라이드), 4,4’-옥시디프탈릭 언하이드라이드, 5-이소벤조퓨란카르복실산 1,3-디하이드로-1,3-디옥소-5,5’-(1,4-페닐렌)에스테르, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있다.More specifically, the second acid dianhydride is 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis [4- (2,3- or 3,4-dicarboxyphenoxy) Phenyl] propane dianhydride, ethylene glycol bis (4-trimellitic anhydride), 2,2-bis [4- (2,3- or 3,4-dicarboxyphenoxy) , 4,4'-oxydiphthalic anhydride, 5-isobenzofurancarboxylic acid 1,3-dihydro-1,3-dioxo-5,5 '- (1,4-phenylene) And a mixture thereof.

또 상기 화학식 8의 폴리이미드 전구체 제조시 사용가능한 제1다이아민은, 구체적으로 분자내 방향족 지환족 또는 지방족 2가 유기기를 포함하는 다이아민일 수 있으며, 이때 방향족 또는 지환족 2가 유기기는 앞서 설명한 바와 동일하다. 보다 구체적으로 상기 제1다이아민은 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술파이드, 4,4’-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노벤조페논, 4,4'-비스(4-아미노페닐술포닐)디페닐에테르, 3,3'-디아미노 디페닐에테르, 3,3-디아미노 디페닐술파이드, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 2,2’-비스(트리플루오로메틸)-4,4’-다이아미노비페닐, 4,4’-메틸렌비스(사이클로헥실아민) 또는 3,3'-디아미노 벤조페논, 등 일 수 있다.The first diamine that can be used in the preparation of the polyimide precursor of Formula 8 is specifically a diamine containing an intramolecular alicyclic or aliphatic divalent organic group, wherein the aromatic or alicyclic divalent organic group is as described above same. More specifically, the first diamine may include 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diamino Benzophenone, 4,4'-bis (4-aminophenylsulfonyl) diphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,3-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diamino Diphenyl sulfone, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine) or 3,3'-diaminobenzophenone, And the like.

이들 중에서도 상기 제1다이아민은 하기 화학식 9a 내지 9j로 이루어진 군에서 선택되는 2가 작용기를 포함하는 다이아민인 것이 접착력 향상 면에서 바람직할 수 있다:Among them, the first diamine may preferably be a diamine containing a divalent functional group selected from the group consisting of the following formulas (9a) to (9j)

Figure 112013088888985-pat00027
Figure 112013088888985-pat00027

또 상기 화학식 8의 폴리이미드 전구체 제조시 사용가능한 제2다이아민은, 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 작용기를 포함하는 다이아민으로서, 하기 화학식 6a 내지 6e로 이루어진 군에서 선택되는 다이아민일 수 있다:The second diamine usable in the preparation of the polyimide precursor of formula (8) is a diamine containing a functional group selected from the group consisting of ether, ester and combinations thereof, It can be a diamine selected from the group:

Figure 112013088888985-pat00028
Figure 112013088888985-pat00028

상기 화학식 6a 내지 6d에서, R51 내지 R54, 및 q는 앞서 정의한 바와 동일하다.In the general formulas (6a) to (6d), R 51 to R 54 , and q are as defined above.

보다 구체적으로 상기 제2다이아민은, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 4,4'-비스(4-아미노페녹시) 비페닐, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]케톤, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폭사이드, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]에테르, 4,4'-비스(4-아미노티오페녹시)디페닐술폰, 1,4-비스[4-(4-아미노페녹시)벤조일]벤젠, 비스[4-(3-아미노페녹시)-페닐]메탄, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 4,4'-비스(3-아미노페녹시)비페닐, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]케톤, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술파이드, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]에테르, 4,4'-비스(3-아미노페닐술포닐)디페닐에테르, 4,4'-비스(3-아미노티오페녹시)디페닐술폰, 1,4-비스[4-(3-아미노페녹시)벤조일]벤젠 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있다.More specifically, the second diamine is at least one selected from the group consisting of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- , 4,3'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (4 (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ) Phenyl] ether, 4,4'-bis (4-aminothiophenoxy) diphenyl sulfone, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] benzene, Phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl-1,1,1 , 3,3,3-hexafluoropropane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis Bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (Aminophenoxy) phenyl] ether, 4,4'-bis (3-aminophenylsulfonyl) diphenyl ether, 4,4'- Bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, and mixtures thereof.

이들 중에서도 상기 제2다이아민은 하기 화학식 7a 내지 7p의 구조를 갖는 작용기로 이루어진 군에서 선택되는 2가 유기기를 포함하는 다이아민이 바람직할 수 있다:Of these, the diamines preferably comprise a divalent organic group selected from the group consisting of functional groups having the structures of the following formulas (7a) to (7p):

Figure 112013088888985-pat00029
Figure 112013088888985-pat00029

상기 식에서, q는 1 내지 8의 정수일 수 있다.In the above formula, q may be an integer of 1 to 8.

상기 중합 반응은 용액 중합 등 통상의 폴리이미드 전구체의 중합 제조방법에 따라 실시될 수 있다. 구체적으로는, 제1 및 제2다이아민을 유기 용매 중에 용해시킨 후, 결과로 수득된 혼합용액에 제1 및 제2산 이무수물을 첨가하여 중합반응시킴으로써 실시될 수 있다. The above-mentioned polymerization reaction can be carried out according to a usual polymerization method for producing a polyimide precursor such as solution polymerization. Specifically, it can be carried out by dissolving the first and second diamines in an organic solvent, and then adding the first and second acid dianhydrides to the resulting mixed solution to effect polymerization reaction.

이때 상기 중합반응은 무수 조건에서 실시될 수 있으며, 상기 중합반응시 온도는 25 내지 50℃, 바람직하게는 40 내지 45℃일 수 있다. At this time, the polymerization reaction may be carried out under anhydrous conditions, and the temperature during the polymerization reaction may be 25 to 50 ° C, preferably 40 to 45 ° C.

또한 상기 유기용매로는 구체적으로, N,N-디메틸아세트아미드(DMAc), N-메틸피롤리돈(NMP), N,N-디메틸포름아미드(DMF), 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, N,N-디에틸아세트아미드(DEAc), N,N-디메틸메톡시아세트아미드, 디메틸술폭사이드, 피리딘, 디메틸술폰, 헥사메틸포스포아미드, 테트라메틸우레아, N-메틸카프로락탐, 테트라히드로퓨란, m-디옥산, P-디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 비스(2-메톡시에틸)에테르, 1,2-비스(2-메톡시에톡시)에탄, 비스[2-(2-메톡시에톡시)]에테르, 폴리(에틸렌글리콜)메타크릴레이트(PEGMA), 감마-부티로락톤(GBL), 에크아미드(Equamide®M100, Idemitsu Kosan Co., Ltd)와 같은 아미드계 용매, 물 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것이 사용될 수 있다.Specific examples of the organic solvent include N, N-dimethylacetamide (DMAc), N-methylpyrrolidone (NMP), N, N-dimethylformamide (DEAc), N, N-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoramide, tetramethylurea, N-methylcaprolactam Bis (2-methoxyethoxy) ethane, bis [2-methoxyethoxy] ethane, 2- (2-methoxyethoxy) ether, poly (ethylene glycol) methacrylate (PEGMA), gamma-butyrolactone (GBL), amides such as Ek (Equamide ® M100, Idemitsu Kosan Co., Ltd) Amide-based solvents, water, and mixtures thereof.

또한, 상기 중합반응시 사용되는 제1 및 제2 다이아민, 그리고 제1 및 제2산 이무수물은 최종 제조되는 폴리이미드 전구체에 있어서, 제2다이아민과 제2산이무수물 유래 작용기의 함량비를 고려하여 사용되는 것이 바람직할 수 있다.Also, in the polyimide precursor in which the first and second diamines and the first and second acid dianhydrides used in the polymerization reaction are finally prepared, the content ratio of the second diamine and the second acid to the anhydride- It may be desirable to be used in consideration.

상기와 같은 제조방법에 의해 제조된 폴리이미드 전구체는 10,000g/mol 이상의 중량평균 분자량을 갖는 것이 바람직할 수 있으며, 보다 바람직하게는 10,000 내지 100,000g/mol 의 중량평균분자량을 갖는 것일 수 있다. 폴리이미드 전구체의 중량평균 분자량이 10,000g/mol 미만이면 기계적 물성이 저하될 우려가 있어 바람직하지 않다.The polyimide precursor prepared by the above production method may have a weight average molecular weight of 10,000 g / mol or more, more preferably 10,000 to 100,000 g / mol. If the weight average molecular weight of the polyimide precursor is less than 10,000 g / mol, the mechanical properties may deteriorate.

상기 폴리머층 형성을 위한 조성물은 상기와 같은 방법으로 제조된 화학식 1의 폴리이미드 또는 화학식 8의 폴리이미드 전구체를 용매 중에 용해시켜 제조될 수 있다. 이때 상기 용매로는 앞서 용매중합에 의한 폴리이미드 전구체 제조시 사용된 유기용매와 동일한 것이 사용될 수 있으며, 구체적으로는 NMP, DMAc, DMF, DEAc, PEGMA, GBL, 에크아미드(Equamide® M100, Idemitsu Kosan Co., Ltd)와 같은 아미드계 용매, 물 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 용매를 더 포함할 수 있다.The composition for forming the polymer layer may be prepared by dissolving the polyimide of formula (1) or the polyimide precursor of formula (8) prepared in the same manner as described above in a solvent. At this time, the solvent as may be used to advance the same as the organic solvent used upon producing the polyimide precursor by solvent polymerization, specifically, NMP, DMAc, DMF, DEAc, PEGMA, GBL, Ek amide (Equamide ® M100, Idemitsu Kosan Co., Ltd), water, and a mixture thereof.

또한 상기 용매는 상기 조성물이 200 내지 25,000cP의 점도를 갖도록 하는 양으로 포함되는 것이 바람직할 수 있다. 유기용매의 함량이 지나치게 적어 폴리이미드 전구체 조성물의 점도가 200cp 미만이거나, 유기용매의 함량이 지나치게 많아 폴리이미드 전구체 조성물의 점도가 25,000cp를 초과할 경우 폴리이미드 전구체 조성물을 이용한 유리-폴리머 복합 기재의 제조시 공정성이 저하될 우려가 있다.The solvent may also be included in an amount such that the composition has a viscosity of from 200 to 25,000 cP. In the case where the content of the organic solvent is too small and the viscosity of the polyimide precursor composition is less than 200 cp or the content of the organic solvent is excessively large and the viscosity of the polyimide precursor composition exceeds 25,000 cp, There is a possibility that the processability in manufacturing is lowered.

또, 상기 폴리머층 형성을 위한 조성물로서 산이무수물과 다이아민의 중합반응의 결과로 수득된 폴리이미드 전구체를 포함하는 용액을 사용하는 경우, 폴리이미드 또는 그 전구체가 고형분 기준으로 조성물 총 중량에 대해 5 내지 50중량%로 포함되도록 하는 것이 바람직할 수 있다.When a solution containing the polyimide precursor obtained as a result of the polymerization reaction of the acid dianhydride and the diamine is used as the composition for forming the polymer layer, the polyimide or the precursor thereof is preferably added in an amount of 5 to 100 parts by weight, 50% by weight.

단계 2는 단계 1에서 제조한 조성물을 이용하여 유기 기재의 적어도 일면에 폴리머층을 형성함으로써 유리-폴리머 복합 기재를 제조하는 단계이다.Step 2 is a step of preparing a glass-polymer composite substrate by forming a polymer layer on at least one surface of the organic substrate using the composition prepared in Step 1. [

상기 폴리머층 형성 방법은 폴리이미드 전구체 조성물을 유리 기재의 적어도 일면에 직접 도포한 후 경화하거나, 또는 상기 조성물을 지지체의 일면에 도포한 후 건조하여 코팅층을 형성하고, 이를 유리 기재의 일면에 라미네이팅한 후 경화하여 폴리머층을 형성하는 방법에 의해 실시될 수 있다.The method of forming the polymer layer may include a method of directly applying a polyimide precursor composition to at least one surface of a glass substrate and curing the coating composition or applying the composition to one side of a support and drying the coated layer to form a coating layer, Followed by post-curing to form a polymer layer.

상기 폴리머층 형성을 위한 조성물을 유리 기재의 적어도 일면에 직접 도포하는 경우, 상기 도포 공정은 통상의 도포 방법에 따라 실시될 수 있으며, 구체적으로는 스핀코팅법, 바코팅법, 롤코팅법, 에어-나이프법, 그라비아법, 리버스 롤법, 키스 롤법, 닥터 블레이드법, 스프레이법, 침지법 또는 솔질법 등이 이용될 수 있으며, 용매 캐스팅 법에 의해 실시될 수도 있다.When the composition for forming the polymer layer is directly applied to at least one surface of the glass substrate, the coating process may be performed according to a conventional coating method, and specifically, a spin coating method, a bar coating method, a roll coating method, A knife method, a gravure method, a reverse roll method, a kiss roll method, a doctor blade method, a spray method, a dipping method, a brushing method or the like may be used and may be carried out by a solvent casting method.

또한, 상기 조성물의 도포량은 최종 제조되는 폴리이미드 필름의 두께가 1 내지 10㎛가 되도록 하는 양으로 도포될 수 있다.The coating amount of the composition may be applied in an amount such that the thickness of the final polyimide film is 1 to 10 mu m.

또한, 상기 경화 공정은 150 내지 380℃ 온도에서의 열처리에 의해 진행될 수 있으며, 또한 상기 온도범위 내에서 다양한 온도에서의 다단계 가열처리로 진행될 수도 있다.The curing process may be performed by a heat treatment at a temperature of 150 to 380 ° C, or may be performed by a multi-step heating process at various temperatures within the temperature range.

상기한 바와 같은 경화 공정에 의해, 폴리이미드 전구체에서 이미드화 반응이 일어나게 되어 폴리이미드 필름이 형성되게 된다. 상기와 같은 경화처리에 의해 폴리이미드 전구체의 이미드화율은 90% 이상일 수 있으며, 바람직하게는 98% 이상일 수 있다.By the curing process as described above, an imidization reaction occurs in the polyimide precursor, and a polyimide film is formed. The imidization rate of the polyimide precursor may be 90% or more, preferably 98% or more, by the above curing treatment.

또 다른 방법으로, 상기 조성물을 지지체의 일면에 도포 및 건조하여 코팅층을 형성하고, 형성된 코팅층을 유리 기재의 적어도 일면에 라미네이팅한 후 경화하는 방법의 경우, 지지체 위에 형성된 폴리이미드 필름을 유리 기재에 라미네이팅하는 공정을 더 실시하는 것을 제외하고는 앞서와 동일한 방법에 따라 실시될 수 있다.As another method, in the case of coating the above composition on one side of a support to form a coating layer, and then laminating the coating layer on at least one side of the glass substrate and then curing, the polyimide film formed on the support is laminated to the glass substrate Except that the above-mentioned process is further carried out.

또한 상기 라미네이팅 공정은 열 전사 등 통상의 라미네이팅 방법에 따라 실시될 수 있다.The laminating process may be performed according to a conventional laminating method such as heat transfer.

상기와 같은 제조방법에 의해 제조된 유리-폴리머 복합 기재는 상기한 화학식 1의 폴리이미드의 폴리머층을 포함함으로써 높은 투명성 및 낮은 위상차와 함께 우수한 내열성, 내화학성 및 기계적 물성을 나타내며, 고온고습 하에서도 우수한 접착력을 나타낸다. 구체적으로, 상기 폴리머층은 1 내지 10㎛의 두께에서 400nm의 광투과율이 10 내지 100%인 것일 수 있다. 또한 상기 폴리이미드 필름은 면방향과 두께방향의 위상차가 0.001 내지 100nm인 것일 수 있다. 또한 상기 폴리머층은 50 내지 500MPa의 인장강도를 가지며, 10 내지 100%의 파단신율(elongation at break)을 갖는 것일 수 있다. 또한 상기 폴리머층은 종래 접착력 시험으로는 측정할 수 없을 정도의 현저히 개선된 접착력을 나타내며, 구체적으로는 고온고습, 100℃, 100%RH, 6일간의 조건에서의 접착성 평가시 유리 기판에 대해 30N/cm 이상의 접착력을 나타내는 것일 수 있다. 이와 같이 폴리머층의 우수한 접착력으로 인해 유리-폴리머 복합 기재의 제조시 별도의 접착층 형성없이 유리 기재 위에 폴리머층이 직접 형성될 수 있으며, 그 결과 종래 접착층을 포함하는 디스플레이 기판에서의 접착층에 의해 야기되는 문제를 방지할 수 있다.The glass-polymer composite substrate produced by the above-described production method exhibits excellent heat resistance, chemical resistance and mechanical properties together with a high transparency and a low retardation by including the polymer layer of the polyimide of the formula (1) And exhibits excellent adhesion. Specifically, the polymer layer may have a light transmittance of 400 to 100% at a thickness of 1 to 10 mu m. The polyimide film may have a retardation in the plane direction and a thickness direction of 0.001 to 100 nm. The polymer layer also has a tensile strength of 50 to 500 MPa and may have an elongation at break of 10 to 100%. In addition, the polymer layer prior adhesive strength test represents a significant improvement in adhesion of can not be measured degree, specifically, for the adhesiveness evaluation glass substrate in the high temperature and high humidity, 100 ℃, 100% RH, the 6-day conditions It may exhibit an adhesive force of 30 N / cm or more. As described above, the polymer layer can be directly formed on the glass substrate without forming a separate adhesive layer in the production of the glass-polymer composite substrate due to the excellent adhesive force of the polymer layer. As a result, The problem can be prevented.

상기와 같은 우수한 특성들로 인하여 상기 유리-폴리머 복합 기재는 플렉서블 투명 디스플레이, OLED 플렉서블 조명, 3D 편광판 필름 등과 같은 투명성과 등방성이 요구되는 디스플레이 소자에서의 기판으로 유용하다. 특히 OLED 플렉서블 조명의 경우 유리기판을 기재로 배치(batch type)으로 제작할 경우 생산성이 저하되고, 유리기판의 두께가 두꺼워 중량이 증가하며, 또 이를 해결하기 위해 박막유리를 이용하여 롤투롤 방식으로 적용시 깨지기 쉬운 문제점이 있으나, 상기 유리-폴리머 복합 기재를 적용시 이 같은 문제점을 해결할 수 있다.Due to such excellent properties, the glass-polymer composite substrate is useful as a substrate in a display device requiring transparency and isotropy such as a flexible transparent display, an OLED flexible light, and a 3D polarizer film. In particular, in the case of OLED flexible lighting, when a glass substrate is manufactured by a batch type, the productivity is lowered, the thickness of the glass substrate is increased and the weight is increased. In order to solve this problem, the glass substrate is used in a roll- However, such a problem can be solved when the glass-polymer composite substrate is applied.

이에 따라 본 발명의 다른 일 구현예에 따르면, 상기한 유리-폴리머 복합 기재를 포함하는 디스플레이 기판이 제공된다.Accordingly, according to another embodiment of the present invention, there is provided a display substrate comprising the above glass-polymer composite substrate.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

실시예Example 1 One

1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠(1,3-B3APB, 0.039mol)와 2,2’-비스(트리플루오로메틸)-4,4’-다이아미노비페닐(TFMB, 0.004mol)을 DMAc 80g에 녹이고, 5-이소벤조퓨란카르복실산, 1,3-디하이드로-1,3-디옥소-5,5’-(1,4-페닐렌)에스테르(TAHQ, 0.044mol)를 첨가하고 DMAc 50g에 넣어 50℃에서 24시간 중합하여 폴리아믹산을 포함하는 용액을 제조하였다. (3-aminophenoxy) benzene (1,3-B3APB, 0.039 mol) and 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'- diaminobiphenyl (TFMB, 0.004 mol) was dissolved in 80 g of DMAc, and 5-isobenzofurancarboxylic acid, 1,3-dihydro-1,3-dioxo-5,5 '- (1,4- phenylene) ester (TAHQ, 0.044 mol ) Was added and 50 g of DMAc was polymerized at 50 캜 for 24 hours to prepare a solution containing polyamic acid.

결과로 수득된 폴리아믹산 고분자 함유 용액에 몰 비율로 계산하여 고형분 대비 경화제 0.5mol을 첨가하여 페이스트 혼합기로 1400rpm으로 10분간 혼합하여 폴리이미드 필름 형성용 조성물을 제조하였다.The resulting polyamic acid polymer-containing solution was added at a mole ratio of 0.5 mol of a curing agent to the solid content, and the mixture was mixed at 1400 rpm for 10 minutes in a paste mixer to prepare a composition for forming a polyimide film.

상기에서 제조한 조성물을 1~3㎛ 두께로 유리기판에 바코팅하였다. 이어서 상기 유리기판을 210℃의 핫 플레이트에서 3분간 열처리함으로써 경화 공정을 진행하였다. 경화 공정 완료 후에, 유리기판에 접착된 필름을 얻었다.The composition prepared above was bar coated on a glass substrate to a thickness of 1 to 3 탆. Subsequently, the glass substrate was subjected to a heat treatment for 3 minutes on a hot plate at 210 DEG C to perform a curing process. After completion of the curing process, a film adhered to the glass substrate was obtained.

실시예 2Example 2

2,2’-비스(트리플루오로메틸)-4,4’-다이아미노비페닐(TFMB, 0.037mol)을 DMAc 30g에 녹이고, 에틸렌글리콜 비스(4-트리멜리틱 언하이드라이드)(TMBG-100, 0.037mol)을 첨가하고 DMAc 30g에 넣어 50℃에서 24시간 중합하여 폴리아믹산을 포함하는 용액을 제조하였다. (TFMB, 0.037 mol) was dissolved in 30 g of DMAc, and ethylene glycol bis (4-trimellitic anhydride) (TMBG- 100, 0.037 mol) was added, and the mixture was polymerized in 30 g of DMAc at 50 DEG C for 24 hours to prepare a solution containing polyamic acid.

결과로 수득된 폴리아믹산 고분자 함유 용액에 mol 비율로 계산하여 고형분 대비 경화제 0.5mol을 첨가하여 페이스트 혼합기로 1400rpm으로 10분간 혼합하여 폴리이미드 필름 형성용 조성물을 제조하였다. The resulting polyamic acid polymer-containing solution was added with 0.5 mol of a curing agent based on the molar ratio to the solids content, and the mixture was mixed at 1400 rpm for 10 minutes in a paste mixer to prepare a composition for forming a polyimide film.

상기에서 제조한 조성물을 1~3㎛ 두께로 유리기판에 바코팅하였다. 이어서 상기 유리기판을 210℃의 핫 플레이트에서 3분간 열처리함으로써 경화 공정을 진행하였다. 경화 공정 완료 후에, 유리기판에 접착된 필름을 얻었다.The composition prepared above was bar coated on a glass substrate to a thickness of 1 to 3 탆. Subsequently, the glass substrate was subjected to a heat treatment for 3 minutes on a hot plate at 210 DEG C to perform a curing process. After completion of the curing process, a film adhered to the glass substrate was obtained.

실시예 3Example 3

에틸렌글리콜 비스(4-트리멜리틱 언하이드라이드)(TMEG-100, 0.037mol)을 첨가하고 DMAc 50g에 녹이고, 4,4’-메틸렌비스(사이클로헥실아민)(MBCHA, 0.037mol)을 첨가하고 DMAc 50g에 넣어 0℃에서 1시간 교반한 후 50℃에서 24시간 중합하여 폴리아믹산을 포함하는 용액을 제조하였다. Ethylene glycol bis (4-trimellitic anhydride) (TMEG-100, 0.037 mol) was added and dissolved in 50 g of DMAc. 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine) (MBCHA, 0.037 mol) was added And the mixture was stirred at 0 ° C for 1 hour and then polymerized at 50 ° C for 24 hours to prepare a solution containing polyamic acid.

결과로 수득된 폴리아믹산 고분자 함유 용액에 mol 비율로 계산하여 고형분 대비 경화제 0.5mol을 첨가하고 페이스트 혼합기로 1400rpm으로 10분간 혼합하여 폴리이미드 필름 형성용 조성물을 제조하였다. The resulting polyamic acid polymer-containing solution was added with 0.5 mol of a curing agent based on the molar ratio to the solids content, and the mixture was mixed with a paste mixer at 1400 rpm for 10 minutes to prepare a composition for forming a polyimide film.

상기에서 제조한 조성물을 1~3㎛ 두께로 유리기판에 바코팅하였다. 이어서 상기 유리기판을 210℃의 핫 플레이트에서 3분간 열처리함으로써 경화 공정을 진행하였다. 경화 공정 완료 후에, 유리기판에 접착된 필름을 얻었다.The composition prepared above was bar coated on a glass substrate to a thickness of 1 to 3 탆. Subsequently, the glass substrate was subjected to a heat treatment for 3 minutes on a hot plate at 210 DEG C to perform a curing process. After completion of the curing process, a film adhered to the glass substrate was obtained.

실시예 4Example 4

1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠(1,3-B3APB, 0.039nol)과 2,2’-비스(트리플루오로메틸)-4.4’-다이아미노비페닐(TFMB, 0.004mol)을 NMP 30g에 녹이고, 5-이소벤조퓨란카르복실산, 1,3-디하이드로-1,3-디옥소-5,5’-(1,4-페닐렌)에스테르(TAHQ, 0.044 mol)을 첨가하고 NMP 300g을 넣어 50℃에서 6시간 교반한 후 톨루엔 12.6g을 넣고 180℃에서 24시간 중합하여 폴리이미드 필름 형성용 용액을 제조하였다. Bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl (TFMB, 0.004 mol) and 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene Was dissolved in 30 g of NMP, and 5-isobenzofurancarboxylic acid, 1,3-dihydro-1,3-dioxo-5,5 '- (1,4-phenylene) ester (TAHQ, 0.044 mol) And 300 g of NMP was added thereto. The mixture was stirred at 50 ° C for 6 hours, 12.6 g of toluene was added, and the mixture was polymerized at 180 ° C for 24 hours to prepare a solution for forming a polyimide film.

상기에서 제조한 조성물을 1~3㎛ 두께로 유리기판에 바코팅하였다. 이어서 상기 유리기판을 210℃의 핫 플레이트에서 3분간 열처리함으로써 경화 공정을 진행하였다. 경화 공정 완료 후에, 유리기판에 접착된 필름을 얻었다.The composition prepared above was bar coated on a glass substrate to a thickness of 1 to 3 탆. Subsequently, the glass substrate was subjected to a heat treatment for 3 minutes on a hot plate at 210 DEG C to perform a curing process. After completion of the curing process, a film adhered to the glass substrate was obtained.

실시예 5Example 5

2,2’-비스(트리플루오로메틸)-4,4’-다이아미노비페닐(TFMB, 0.049mol)을 NMP 40g에 녹이고, 에틸렌글리콜 비스(4-트리멜리틱 언하이드라이드)(TMEG-100, 0,049mol)을 첨가하고 NMP 30g에 넣어 50℃에서 6시간 교반한 후 톨루엔 13.8g을 넣고 180℃에서 24시간 중합하여 폴리이미드 필름 형성용 조성물을 제조하였다. (TFMB, 0.049 mol) was dissolved in 40 g of NMP and ethylene glycol bis (4-trimellitic anhydride) (TMEG- 100, 0.049 mol) was added, and the mixture was added to 30 g of NMP and stirred at 50 ° C for 6 hours. Then, 13.8 g of toluene was added and polymerization was carried out at 180 ° C for 24 hours to prepare a composition for forming a polyimide film.

상기에서 제조한 조성물을 1~3㎛ 두께로 유리기판에 바코팅하였다. 이어서 상기 유리기판을 210℃의 핫 플레이트에서 3분간 열처리함으로써 경화 공정을 진행하였다. 경화 공정 완료 후에, 유리기판에 접착된 필름을 얻었다.The composition prepared above was bar coated on a glass substrate to a thickness of 1 to 3 탆. Subsequently, the glass substrate was subjected to a heat treatment for 3 minutes on a hot plate at 210 DEG C to perform a curing process. After completion of the curing process, a film adhered to the glass substrate was obtained.

실시예 6Example 6

에틸렌글리콜 비스(4-트리멜리릭 언하이드라이드)(TMEG-100, 0.037mol)을 NMP 30g에 녹이고, 4,4’-메틸렌비스(사이클로헥실아민)(MBCHA, 0.037mol)을 첨가하고 NMP 30g에 넣어 0℃에서 1시간 그리고 50℃에서 6시간 교반한 후 톨루엔 11.8g을 넣고 180℃에서 24시간 중합하여 폴리이미드 필름 형성용 조성물을 제조하였다. (4-trimellitic anhydride) (TMEG-100, 0.037 mol) was dissolved in 30 g of NMP and 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine) (MBCHA, 0.037 mol) , And the mixture was stirred at 0 ° C for 1 hour and at 50 ° C for 6 hours. Then, 11.8 g of toluene was added and polymerization was carried out at 180 ° C for 24 hours to prepare a composition for forming a polyimide film.

상기에서 제조한 조성물을 1~3㎛ 두께로 유리기판에 바코팅하였다. 이어서 상기 유리기판을 210℃의 핫 플레이트에서 3분간 열처리함으로써 경화 공정을 진행하였다. 경화 공정 완료 후에, 유리기판에 접착된 필름을 얻었다.The composition prepared above was bar coated on a glass substrate to a thickness of 1 to 3 탆. Subsequently, the glass substrate was subjected to a heat treatment for 3 minutes on a hot plate at 210 DEG C to perform a curing process. After completion of the curing process, a film adhered to the glass substrate was obtained.

비교예 1Comparative Example 1

4,4’-메틸렌비스(2-메틸사이클로헥실아민)(TFMB, 0.084mol)을 무수 DMAc 100g에 녹이고 3,3’,4,4’-바이페닐테트라카르복실릭 다이언하이드라이드(BPDA, 0.085mol)을 첨가하고 40℃에서 24시간 교반하여 폴리아믹산을 포함하는 용액을 제조하였다. 상기 반응은 무수 조건 하에서 진행하였다. 4,4'-Methylenebis (2-methylcyclohexylamine) (TFMB, 0.084 mol) was dissolved in 100 g of anhydrous DMAc and 3,3 ', 4,4'- biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA, 0.085 mol) was added and stirred at 40 DEG C for 24 hours to prepare a solution containing polyamic acid. The reaction proceeded under anhydrous conditions.

결과로 수득된 폴리아믹산 고분자 함유 용액에 mol 비율로 계산하여 고형분 대비 경화제 0.5mol을 첨가하고 페이스트 혼합기로 1400rpm으로 10분간 혼합하여 폴리이미드 필름 형성용 조성물을 제조하였다. The resulting polyamic acid polymer-containing solution was added with 0.5 mol of a curing agent based on the molar ratio to the solids content, and the mixture was mixed with a paste mixer at 1400 rpm for 10 minutes to prepare a composition for forming a polyimide film.

상기에서 제조한 조성물을 1~3㎛ 두께로 유리기판에 바코팅하였다. 이어서 상기 유리기판을 210℃의 핫 플레이트에서 3분간 열처리함으로써 경화 공정을 진행하였다. 경화 공정 완료 후에, 유리기판에 접착된 필름을 얻었다.The composition prepared above was bar coated on a glass substrate to a thickness of 1 to 3 탆. Subsequently, the glass substrate was subjected to a heat treatment for 3 minutes on a hot plate at 210 DEG C to perform a curing process. After completion of the curing process, a film adhered to the glass substrate was obtained.

비교예 2Comparative Example 2

4,4’-메틸렌비스(2-메틸사이클로헥실아민)(TFMB, 0.064mol)을 무수 DMAc 100g에 녹이고 4,4’-옥시디프탈릭 언하이드라이드(ODPA, 0.064mol)을 첨가하고 실온에서 24시간 교반하여 폴리아믹산을 포함하는 용액을 제조하였다. 상기 반응은 무수 조건 하에서 진행하였다. 4,4'-methylenebis (2-methylcyclohexylamine) (TFMB, 0.064 mol) was dissolved in 100 g of anhydrous DMAc, 4,4'-oxydiptalic anhydride (ODPA, 0.064 mol) And stirred for a time to prepare a solution containing polyamic acid. The reaction proceeded under anhydrous conditions.

결과로 수득된 폴리아믹산 고분자 함유 용액에 mol 비율로 계산하여 고형분 대비 경화제 0.5 mol을 첨가하고 페이스트 혼합기로 1400rpm으로 10분간 혼합하여 폴리이미드 필름 형성용 조성물을 제조하였다.The resultant polyamic acid polymer-containing solution was added with 0.5 mol of a curing agent based on the molar ratio, and the mixture was mixed at 1400 rpm for 10 minutes in a paste mixer to prepare a composition for forming a polyimide film.

상기에서 제조한 조성물을 1~3㎛ 두께로 유리기판에 바코팅하였다. 이어서 상기 유리기판을 210℃의 핫 플레이트에서 3분간 열처리함으로써 경화 공정을 진행하였다. 경화 공정 완료 후에, 유리기판에 접착된 필름을 얻었다.The composition prepared above was bar coated on a glass substrate to a thickness of 1 to 3 탆. Subsequently, the glass substrate was subjected to a heat treatment for 3 minutes on a hot plate at 210 DEG C to perform a curing process. After completion of the curing process, a film adhered to the glass substrate was obtained.

실시예 및 비교예에서 사용된 다이아민 과 산이무수물 성분은 다음과 같다. The diamine and acid dianhydride components used in Examples and Comparative Examples are as follows.

다이아민Diamine 산이무수물Acid anhydride 실시예 1Example 1 1,3-B3APB /TFMB1,3-B3APB / TFMB TAHQTAHQ 실시예 2Example 2 TFMBTFMB TMEGTMEG 실시예 3Example 3 MBCHAMBCHA TMEGTMEG 실시예 4Example 4 1,3-B3APB /TFMB1,3-B3APB / TFMB TAHQTAHQ 실시예 5Example 5 TFMBTFMB TMEGTMEG 실시예 6Example 6 MBCHAMBCHA TMEGTMEG 비교예 1Comparative Example 1 TFMBTFMB BPDABPDA 비교예 2Comparative Example 2 TFMBTFMB ODPAODPA

제조예Manufacturing example 1 One

실시예 1~6에서 제조된 폴리아믹산 용액, 그리고 비교예에서 제조된 폴리아믹산을 포함하는 용액을 각각 10,000cP의 점도를 갖도록 고형분 중량%를 조절한 후, 10㎛의 두께로 유리 기판에 각각 스핀 코팅하였다. 폴리아믹산 용액이 코팅된 각각의 유리기판을 210℃의 핫 플레이트에서 3분동안 유지하여 경화공정을 진행하였다. The solution containing the polyamic acid solution prepared in Examples 1 to 6 and the polyamic acid prepared in Comparative Example was adjusted to have a solid content weight percentage of 10,000 cP, Respectively. Each of the glass substrates coated with the polyamic acid solution was held on a hot plate at 210 DEG C for 3 minutes to perform a curing process.

경화 공정 완료 후, 유리 기판을 10% 불산 용액에 넣어 유리기판을 녹인 후 형성된 필름을 떼어내어 100℃의 오븐에서 건조하여 폴리이미드 필름을 제조하였다.
After completion of the curing process, the glass substrate was immersed in a 10% hydrofluoric acid solution to dissolve the glass substrate, and the formed film was peeled off and dried in an oven at 100 ° C to produce a polyimide film.

제조예Manufacturing example 2 2

실시예 1~3에서 제조된 폴리아믹산 고분자 복합체를 포함하는 용액을 각각 10,000cP의 점도를 갖도록 고형분 중량%를 조절한 후, 10㎛의 두께로 유리 기판 위에 각각 스핀 코팅하였다. 상기 실시예 1 및 비교예의 용액이 코팅된 유리기판을 오븐에 넣고 2℃/min의 속도로 가열하였으며, 80℃에서 15분, 150℃에서 30분, 220℃에서 30분, 300℃에서 30분, 그리고 350℃에서 1시간을 유지하여 경화 공정을 진행하였다. 경화 공정 완료 후에 유리 기판을 10% 불산 용액에 넣어 유리 기판을 녹인 후 형성된 필름을 떼어내고 100℃의 오븐에서 건조하여 폴리이미드 필름을 제조하였다.
The solutions containing the polyamic acid polymer complexes prepared in Examples 1 to 3 were each adjusted to have a weight percentage of solids of 10,000 cP and then spin-coated on glass substrates with a thickness of 10 탆. The glass substrate coated with the solution of Example 1 and the comparative example was placed in an oven and heated at a rate of 2 ° C / min, followed by heating at 80 ° C for 15 minutes, at 150 ° C for 30 minutes, at 220 ° C for 30 minutes, , And the curing process was carried out at 350 ° C for 1 hour. After completion of the curing process, the glass substrate was immersed in a 10% hydrofluoric acid solution to dissolve the glass substrate, and the formed film was removed and dried in an oven at 100 ° C. to produce a polyimide film.

시험예Test Example 1:  One: 이미드화율Imidization rate

필름의 물성은 폴리이미드의 전구체인 폴리아믹산의 경화로 인한 이미드화율에 의존한다. 즉, 이미드화율이 완벽하게 진행되지 않으면 기계적 물성이 크게 저하되게 된다.The physical properties of the film depend on the imidization rate due to the curing of the polyamic acid, which is the precursor of the polyimide. That is, if the imidization rate is not completely progressed, the mechanical properties will be greatly reduced.

이에 따라 상기 실시예 1~6 및 비교예 1에서 제조된 폴리아믹산 전구체 용액에 대해 210℃, 3분의 조건에서의 열적 이미드화를 그리고, 경화제를 사용하여 화학적 이미드화를 실시한 후 이미드화율을 하기 수학식에 따라 평가하였다. 단 비교예 1의 경우 210℃ 오븐에서 1시간 경화하여 열적 이미드화를 실시하였다:Thus, the polyamic acid precursor solution prepared in Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 was subjected to thermal imidization at 210 DEG C for 3 minutes and then subjected to chemical imidization using a curing agent, And evaluated according to the following formula. In the case of Comparative Example 1, thermal imidization was performed by curing in an oven at 210 ° C for 1 hour:

[수학식 1][Equation 1]

이미드화율은 경화조건에 따라 만들어진 필름을 AT-IR로 측정한 결과를 토대로 아래의 수학식을 이용하여 계산하였다. The imidization rate was calculated using the following equation based on the results of AT-IR measurement of films made according to the curing conditions.

이미드화율(%)=(A1386/A1501) 샘플 /(A1386/A1501) 완전 이미드화된 것Ⅹ100Imidization rate (%) = (A1386 / A1501) sample / (A1386 / A1501) Completely imaged X100

상기 수학식 1에서 A1386은 C-N st 이미드 링 그룹의 C-N 신축운동을 의미하고, A1501은 aromatic st. 방향족 C-C 신축운동을 의미한다. In the above formula (1), A1386 represents the C-N stretching motion of the C-N st imide ring group, and A1501 represents the aromatic st. Aromatic C-C stretching movement.

폴리아믹산에서 열 및 화학적 반응으로 인해 폴리이미드 링이 만들어질 때 폴리아믹산의 -COOH-NH-가 물이 빠지면서 링을 형성하며, 그때 C-N 결합이 만들어진다. 그 결과 이미드화가 진행됨에 따라 COOH와 N-H 피크가 감소되면서 C-N 피크가 증가하게 된다. 하지만 폴리머 구조에 포함되어 있는 벤젠고리는 이미드 반응에 상관없이 항상 일정한 강도를 나타내기에 이미드화율의 계산에서 변함이 없는 벤젠 피크 A1501을 기준으로 A1386의 변화율을 면적으로 계산하여 산출한 것이다. When polyimide rings are made by thermal and chemical reactions in polyamic acid, the -COOH-NH- of the polyamic acid forms a ring with the water leaving the C-N bond. As a result, as the imidization progresses, the COOH and N-H peaks decrease and the C-N peak increases. However, the benzene ring included in the polymer structure was calculated by calculating the area change ratio of A1386 based on the benzene peak A1501, which is constant in the calculation of the imidization rate, regardless of the imide reaction.

그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.  The results are shown in Table 2 below.

기준치Reference value 열적 이미드화Thermal imidization 화학적 이미드화Chemical imidization 실시예1Example 1 100.0100.0 99.199.1 99.299.2 실시예2Example 2 100.0100.0 99.099.0 99.399.3 실시예3Example 3 100.0100.0 99.199.1 99.299.2 실시예4Example 4 100.0100.0 98.998.9 99.199.1 실시예5Example 5 100.0100.0 99.599.5 99.199.1 실시예6Example 6 100.0100.0 99.099.0 98.998.9 비교예1Comparative Example 1 100.0100.0 30.430.4 용해되지 않음Not soluble

상기 표 2에 나타난 바와 같이, 실시예 1~3은 열적 이미드화율이 99 이상인 것을 알 수 있다. 이 같은 결과는 구조적인 특징에 따른 것으로, 실시예 1~3은 유연한 구조를 가지고 있기 때문에 고분자의 열전이 온도가 비교적 낮아 열전이 온도 이상에서 단시간의 열처리로 인해 효과적으로 이미드화를 진행시킬 수 있다.As shown in Table 2, in Examples 1 to 3, the thermal imidization rate is 99 or more. These results are in accordance with the structural characteristics. Since Examples 1 to 3 have a flexible structure, the heat transfer temperature of the polymer is relatively low, so that the imidization can proceed effectively due to a short heat treatment at a temperature higher than the heat transfer temperature.

또, 실시예 4~6은 NMP 용매상에서 화학적 이미드 반응을 진행시킴으로써 이미드화율이 99% 이상인 것을 알 수 있다. 이러한 구조로 인해 가용성 폴리이미드이면서 일반적인 용매에는 녹지 않으며, 반도체 세정제에도 높은 내화학성을 나타낼 수 있다.In Examples 4 to 6, the imidization rate is 99% or more by proceeding the chemical imide reaction in an NMP solvent. Due to such a structure, soluble polyimide is not soluble in common solvents and can exhibit high chemical resistance even in a semiconductor cleaning agent.

뿐만 아니라 실시예 1~6은 가용성 폴리이미드 원 포트 합성(one pot method) 의 중합으로 중합시간이 짧고, 또 중합 후 210℃, 3분에서의 경화만으로도 충분히 물성을 유지하였다. 이 같은 결과로부터 실시예 1 내지 6은 PAA 경화시간을 가져 전체적인 공정시간을 줄일 수 있음을 확인할 수 있다. In addition, in Examples 1 to 6, the polymerization time was shortened by the polymerization of soluble polyimide one pot method and the physical properties were sufficiently maintained even after curing at 210 ° C for 3 minutes after polymerization. From these results, it can be seen that Examples 1 to 6 have a PAA curing time, which can reduce the overall process time.

한편, 비교예 1의 구조는 상당히 리지드(rigid) 하기 때문에 열전이온도가 높으며, 따라서, 210℃에서의 열경화 온도로는 이미드화율이 30% 밖에 진행되지 않는다. 그 결과, 이미드화가 완벽하게 진행된 비교예 1의 구조는 그 어떤 용매에도 녹지 않는 높은 내화학성을 갖는 구조이기 때문에 화학적 반응으로 이미드 반응을 보내기는 어렵다. 비교예 2~3도 비교예 1과 같은 현상임을 확인하였다.
On the other hand, since the structure of Comparative Example 1 is considerably rigid, the heat transfer temperature is high, and therefore the imidization rate is only 30% at the heat curing temperature at 210 캜. As a result, since the structure of Comparative Example 1 in which the imidization is completely completed has a structure having high chemical resistance which does not dissolve in any solvent, it is difficult to transmit an imide reaction by a chemical reaction. It was confirmed that Comparative Examples 2 to 3 were the same as those of Comparative Example 1.

시험예Test Example 2: 폴리이미드 필름의 물성 평가 2: Evaluation of physical properties of polyimide film

상기 실시예 1~6의 폴리아믹산 용액을 하기와 같은 방법으로 실시하여 필름을 제작한 후 하기와 같은 방법으로 필름의 물성을 측정하였다. 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.The polyamic acid solutions of Examples 1 to 6 were prepared as follows to prepare films, and then physical properties of the films were measured in the following manner. The results are shown in Table 3 below.

상세하게는 실시예 1~6에서 제조된 폴리아믹산 용액, 그리고 비교예에서 제조된 폴리아믹산을 포함하는 용액을 각각 10,000cP의 점도를 갖도록 고형분 중량%를 조절한 후, 10㎛의 두께로 유리 기판에 각각 스핀 코팅하였다. 폴리아믹산 용액이 코팅된 각각의 유리기판을 210℃의 핫 플레이트에서 3분동안 유지하여 경화공정을 진행하였다. Specifically, the solution containing the polyamic acid solution prepared in Examples 1 to 6 and the polyamic acid prepared in Comparative Example was adjusted to have a solid content weight percentage of 10,000 cP, Respectively. Each of the glass substrates coated with the polyamic acid solution was held on a hot plate at 210 DEG C for 3 minutes to perform a curing process.

경화 공정 완료 후, 유리 기판을 10% 불산 용액에 넣어 유리기판을 녹인 후 형성된 필름을 떼어내어 100℃의 오븐에서 건조하여 폴리이미드 필름을 제조하였다.After completion of the curing process, the glass substrate was immersed in a 10% hydrofluoric acid solution to dissolve the glass substrate, and the formed film was peeled off and dried in an oven at 100 ° C to produce a polyimide film.

하기 표 3에서, T는 TESA-HITEGAUGES, 열전이 온도 (Tg)는 DSC, 열분해온도(Td1%)는 TGA, 열팽창계수(CTE)는 TMA, 두께방향위상차(Rth) 및 면방향위상차(Ro)는 Axoscan, T550는 UV-Vis spectrum, 인장강도와 파단신율은 UTM으로 KS M ISO 527 측정방법에 따라 측정하였다.To in Table 3, T is TESA-HITEGAUGES, heat transfer temperature (Tg) of DSC, the thermal decomposition temperature (Td1%) is TGA, coefficient of thermal expansion (CTE) is TMA, the thickness retardation (R th), and a plane direction retardation (Ro ) Was measured by Axoscan, T 550 by UV-Vis spectrum, and tensile strength and elongation at break by UTM according to KS M ISO 527 measurement method.

실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 실시예5Example 5 실시예6Example 6 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 T(㎛)T (占 퐉) 9.89.8 1111 9.19.1 10.510.5 10.210.2 10.710.7 1212 1414 Tg(℃)Tg (占 폚) 180180 210210 177177 180180 210210 177177 320320 300300 Td1%(℃)Td1% (占 폚) 450450 400400 390390 450450 400400 390390 470470 454454 CTE(ppm)CTE (ppm) 5656 7070 8282 5656 7070 8282 2323 41.841.8 Rth(nm)R th (nm) -30-30 -37-37 -15-15 -30-30 -37-37 -15-15 440440 183183 Ro(nm)Ro (nm) 0.190.19 0.450.45 0.410.41 0.190.19 0.450.45 0.410.41 2.32.3 0.230.23 T550 T 550 87.987.9 88.988.9 89.489.4 87.987.9 88.988.9 89.489.4 8888 8989 파단신율
(%)
Elongation at break
(%)
123123 128128 4949 123123 128128 4949 5.75.7 6.26.2
인장강도
(kgf/mm2)
The tensile strength
(kgf / mm 2 )
107107 84.984.9 99.199.1 107107 84.984.9 99.199.1 82.582.5 75.675.6

상기 표 3에 나타난 바와 같이, 실시예 1~6의 폴리이미드의 열전이온도(Tg)는 180 내지 210℃로 낮은 반면, 열분해온도 Td1%는 390 내지 450℃로 열전이 온도에 비해 상당히 높기 때문에 열적 안정성이 우수하다. 또 두께 방향의 복굴절율값을 나타내는 Rth는 30nm 이하로 등방성을 나타내었다. 또, 빛의 두과율은 90%로 투명성이 높으며, 적당한 연신강도를 유지하면서 연신율이 약 50% 이상이기에 강하면서도 유연한 물성을 가짐을 확인할 수 있다. 이러한 물성은 연속 롤 공정시 박막 유리기판의 깨짐 현상으로 인해 파편이 롤 안으로 파고들어 공정이 정지되는 현상을 막아주는 역할을 한다.As shown in Table 3, the polyimides of Examples 1 to 6 had a low thermal transition temperature (Tg) of 180 to 210 ° C, while the thermal decomposition temperature Td1% was 390 to 450 ° C, which was considerably higher than the heat transfer temperature Excellent thermal stability. Also, Rth representing the birefringence value in the thickness direction exhibited isotropy of 30 nm or less. In addition, it can be confirmed that the two factors of light have a high transparency at 90% and a strong and flexible physical property because the elongation is about 50% or more while maintaining a proper stretching strength. This property prevents cracking of the thin film glass substrate during the continuous roll process and prevents the process from stopping due to the broken pieces entering into the roll.

한편, 비교예 1 및 2는 리지드한 구조로 인해 열전이 온도가 상당히 높으며, 열정 안정성도 우수하다. 그러나 리지드한 구조는 분자간의 패킹 밀도(packing densitiy)를 높이기 때문에 결정성 구조를 가지는 경향이 있다. 그 결과 Rth값이 상당히 높으며, 이방성의 물성을 가지게 되어 빛의 굴곡이 일어나 광학용 필름으로 사용하기에는 적합하지 않다. 또, 비교예 1 및 2의 연신율과 연신강도는 상당히 낮은 값을 갖는데, 그 이유는 210℃, 3분의 열경화 조건에서 충분히 이미드화 반응이 진행되지 않았기 때문이다.
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, due to the rigid structure, the heat transfer temperature is considerably high and the heat stability is also excellent. However, the rigid structure tends to have a crystalline structure because it increases packing densities between molecules. As a result, the Rth value is considerably high, and the film has anisotropic physical properties, resulting in bending of light, which is not suitable for use as an optical film. In addition, the elongation and the stretching strength of Comparative Examples 1 and 2 are considerably low because the imidization reaction did not sufficiently proceed at 210 DEG C for 3 minutes.

시험예Test Example 3. 접착성 시험 3. Adhesion test

실시예 1 내지 6에서 유리기판에 제막한 필름을 상하좌우 끝에서 5mm 간격으로 절단한 후 90℃ 열탕에 기판을 담그로 3일간 방치하였다. 3일 후 기판을 꺼내어 절단한 단면으로부터 필름을 박리하여 기판에서의 박리정도를 확인하였다.The films formed on the glass substrates in Examples 1 to 6 were cut at intervals of 5 mm from the top and bottom and left and right sides, and then the substrates were allowed to stand in hot water at 90 캜 for 3 days by dipping. Three days later, the substrate was taken out and the film was peeled off from the cut end to confirm the degree of peeling off the substrate.

비교예 1, 2에 대해서도 상기와 동일한 방법으로 실시하여 접착성 테스트를 실시하였다.Comparative Examples 1 and 2 were also carried out in the same manner as above to carry out an adhesion test.

그 결과, 실시예 1~6은 접착성이 매우 우수하여 3일간 열탕에 담그어도 절단면으로부터 박리가 일어나지 않았다. 또한 폴리이미드 전구체인 폴리아믹산 상태에서 경화한 필름과 화학반응을 통해서 만들어진 폴리이미드 상태에서 경화한 필름의 유리 기판에 대한 접착성은 변화없이 동등한 접착성을 유지하였다. 그러나 비교예 1 및 2의 경우 3시간 경화 후 기판에서 필름이 분리되어 수중에 떠 있는 상태였다. As a result, in Examples 1 to 6, the adhesiveness was very excellent, so that peeling did not occur from the cut surface even when it was immersed in hot water for 3 days. In addition, the adhesiveness of the film cured in the polyimide state produced by the chemical reaction with the film cured in the polyimide precursor polyimide state remained the same without changing the adhesion to the glass substrate. However, in the case of Comparative Examples 1 and 2, the film was separated from the substrate after being cured for 3 hours and floated in water.

이 같은 차이는 실시예 1~6의 구조에는 에스터기와 에테르기를 보유하고 있기 때문이 이것이 유리기판의 표면과 수소결합을 형성하여 우수한 접착성을 유지할 수 있기 때문이다. 또한 이러한 접착성은 유리기판뿐만 아니라 금속 기판에서도 동일한 효과를 볼 수 있다.
This difference is due to the fact that the structures of Examples 1 to 6 have an ester group and an ether group, which can form hydrogen bonds with the surface of the glass substrate and maintain excellent adhesiveness. In addition, the adhesiveness can be the same not only on the glass substrate but also on the metal substrate.

이상으로 본 발명 내용의 특정한 부분을 상세히 기술하였는바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서, 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시 양태일 뿐이며, 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아닌 점은 명백할 것이다. 따라서 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 청구항들과 그것들의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to specific embodiments thereof, those skilled in the art will appreciate that such specific embodiments are merely preferred embodiments and that the scope of the present invention is not limited thereby. something to do. It is therefore intended that the scope of the invention be defined by the claims appended hereto and their equivalents.

Claims (17)

유리 기재, 및
상기 유리 기재의 적어도 일면에 위치하며, 하기 화학식 1의 폴리이미드를 포함하는 폴리머층을 포함하는 유리-폴리머 복합 기재:
[화학식 1]
Figure 112015107012090-pat00030

상기 화학식 1에서,
m 및 n은 각각 독립적으로 1 이상의 정수이고,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족 4가 유기기이며, 단 상기 X1 및 X2 중 적어도 하나는 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족의 4가 유기기로서, 4가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100mol%로 포함되고,
Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 다이아민으로부터 유도된 방향족, 지환족 또는 지방족의 2가 유기기이며, 단 상기 Y1 및 Y2 중에서 적어도 하나는, 하기 화학식 6a 내지 6e로 이루어진 군에서 선택되는 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기로서, 상기 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100mol%로 포함되며,
Figure 112015107012090-pat00038

상기 화학식 6a 내지 6d에서, R51 내지 R54는 각각 독립적으로 단일결합, -O-, -CR55R56-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO-, -SO2-, -O[CH2CH2O]p-, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 시클로알킬렌기, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 아릴렌기, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며, 이때 상기 R55 및 R56은 각각 독립적으로 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이고, 그리고 p는 1 내지 44의 정수이고, q는 1 내지 8의 정수이다.
Glass substrate, and
A glass-polymer composite substrate comprising a polymer layer located on at least one side of the glass substrate and comprising a polyimide of formula 1:
[Chemical Formula 1]
Figure 112015107012090-pat00030

In Formula 1,
m and n are each independently an integer of 1 or more,
X 1 and X 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid dianhydride, provided that at least one of X 1 and X 2 is an ether group, an ester group, An aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid dianhydride containing a functional group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group,
Y 1 and Y 2 are each independently an aromatic, alicyclic or aliphatic divalent organic group derived from a diamine, provided that at least one of Y 1 and Y 2 is selected from the group consisting of the following formulas (6a) to (6e) The divalent organic group derived from diamine is contained in an amount of 20 to 100 mol% based on the total moles of divalent organic groups derived from the diamine,
Figure 112015107012090-pat00038

In formulas (6a) to (6d), R 51 to R 54 each independently represents a single bond, -O-, -CR 55 R 56 -, -C (═O) -, -C = O) NH-, -S-, -SO-, -SO 2 -, -O [CH 2 CH 2 O] p -, a monocyclic or polycyclic cycloalkylene group having 6 to 18 carbon atoms, And R 55 and R 56 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms And p is an integer of 1 to 44, and q is an integer of 1 to 8.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1에서 X1 및 X2 중에서 적어도 하나는, 하기 화학식 3a 내지 3d의 산 이무수물로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나로부터 유도된 4가 유기기인 것인 유리-폴리머 복합 기재:
Figure 112013088888985-pat00031

상기 화학식 3a 내지 3d에서, R21 내지 R24는 각각 독립적으로 단일결합, -O-, -CR25R26-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO-, -SO2-, -O[CH2CH2O]p-, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 시클로알킬렌기, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 아릴렌기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며, 이때 상기 R25 및 R26은 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고, p는 1 내지 44의 정수이다.
The method according to claim 1,
Wherein at least one of X 1 and X 2 in Formula 1 is a tetravalent organic group derived from any one selected from the group consisting of acid dianhydrides of the following Chemical Formulas 3a to 3d:
Figure 112013088888985-pat00031

Wherein R 21 to R 24 each independently represents a single bond, -O-, -CR 25 R 26 -, -C (═O) -, -C (═O) O-, -C = O) NH-, -S-, -SO-, -SO 2 -, -O [CH 2 CH 2 O] p -, a monocyclic or polycyclic cycloalkylene group having 6 to 18 carbon atoms, And R 25 and R 26 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, And p is an integer of 1 to 44. [
제1항에 있어서,
상기 화학식 1에서 X1 및 X2 중에서 적어도 하나는, X1 및 X2 중에서 적어도 하나는 하기 화학식 4a 내지 4l의 구조를 갖는 작용기로 이루어진 군에서 선택되는 4가 유기기인 것인 유리-폴리머 복합 기재:
Figure 112013088888985-pat00032
The method according to claim 1,
At least one of X 1 and X 2 in the formula (1), X 1 and X 2 in at least one to the glass 4 is selected from the group consisting of functional groups having the structure of Formula 4a to 4l will organic group-polymer composite substrate :
Figure 112013088888985-pat00032
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 화학식 1에서 Y1 및 Y2 중에서 적어도 하나는, 하기 화학식 7a 내지 7p 의 구조를 갖는 작용기로 이루어진 군에서 선택되는 2가 유기기인 것인 유리-폴리머 복합 기재:
Figure 112013088888985-pat00034

상기 식에서, q는 1 내지 8의 정수이다.
The method according to claim 1,
Wherein at least one of Y 1 and Y 2 in the general formula (1) is a divalent organic group selected from the group consisting of functional groups having the following general formulas (7a) to (7p)
Figure 112013088888985-pat00034

In the above formula, q is an integer of 1 to 8.
제1항에 있어서,
상기 폴리이미드는 폴리이미드 전구체의 이미드화율이 90% 이상인 것인 유리-폴리머 복합 기재.
The method according to claim 1,
Wherein the polyimide has an imidization ratio of 90% or more of the polyimide precursor.
제1항에 있어서,
상기 폴리머층은 1 내지 10㎛의 두께에서 400nm의 광투과율이 10 내지 100%인 것인 유리-폴리머 복합 기재.
The method according to claim 1,
Wherein the polymer layer has a light transmittance of 10 to 100% at a thickness of 1 to 10 mu m and a thickness of 400 nm.
제1항에 있어서,
상기 폴리머층은 면방향과 두께방향의 위상차가 0.001 내지 100nm인 것인 유리-폴리머 복합 기재.
The method according to claim 1,
Wherein the polymer layer has a retardation in a plane direction and a thickness direction of 0.001 to 100 nm.
제1항에 있어서,
상기 폴리머층은 50 내지 500MPa의 인장강도 및 10 내지 100%의 파단신율을 갖는 것인 유리-폴리머 복합 기재.
The method according to claim 1,
Wherein the polymer layer has a tensile strength of 50 to 500 MPa and a elongation at break of 10 to 100%.
제1항에 있어서,
상기 폴리머층은 고온고습, 100℃, 100%RH, 6일간의 조건에서 유리 기판에 대해 30N/cm 이상의 접착력을 나타내는 것인 유리-폴리머 복합 기재.
The method according to claim 1,
Wherein the polymer layer exhibits an adhesive strength of 30 N / cm or more to a glass substrate under conditions of high temperature and high humidity, 100 DEG C and 100% RH for 6 days.
제1항 내지 제3항 및 제5항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 유리-폴리머 복합 기재를 포함하는 디스플레이 기판.A display substrate comprising a glass-polymer composite substrate according to any one of claims 1 to 3 and 5 to 10. 하기 화학식 1의 폴리이미드 또는 그 전구체를 포함하는 조성물을 제조하는 단계; 그리고,
상기 조성물을 유리 기재의 적어도 일면에 도포한 후 경화하여 폴리머층을 형성하거나, 또는 상기 조성물을 지지체의 일면에 도포한 후 건조하여 코팅층을 형성하고, 이를 유리 기재의 일면에 라미네이팅한 후 경화하여 폴리머층을 형성하는 단계를 포함하는 유리-폴리머 복합 기재의 제조방법:
[화학식 1]
Figure 112015107012090-pat00035

상기 화학식 1에서,
m 및 n은 각각 독립적으로 1 이상의 정수이고,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족 4가 유기기이며, 단 상기 X1 및 X2 중 적어도 하나는 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족의 4가 유기기로서, 4가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100mol%로 포함되고,
Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 다이아민으로부터 유도된 방향족, 지환족 또는 지방족의 2가 유기기이며, 단 상기 Y1 및 Y2 중에서 적어도 하나는, 하기 화학식 6a 내지 6e로 이루어진 군에서 선택되는 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기로서, 상기 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100mol%로 포함되며,
Figure 112015107012090-pat00039

상기 화학식 6a 내지 6d에서, R51 내지 R54는 각각 독립적으로 단일결합, -O-, -CR55R56-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO-, -SO2-, -O[CH2CH2O]p-, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 시클로알킬렌기, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 아릴렌기, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며, 이때 상기 R55 및 R56은 각각 독립적으로 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이고, 그리고 p는 1 내지 44의 정수이고, q는 1 내지 8의 정수이다.
Preparing a composition comprising a polyimide of formula 1 or a precursor thereof; And,
The composition is coated on at least one surface of a glass substrate and then cured to form a polymer layer. Alternatively, the composition is coated on one surface of a support and dried to form a coating layer, which is laminated on one side of the glass substrate, Polymer composite substrate comprising the steps of:
[Chemical Formula 1]
Figure 112015107012090-pat00035

In Formula 1,
m and n are each independently an integer of 1 or more,
X 1 and X 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid dianhydride, provided that at least one of X 1 and X 2 is an ether group, an ester group, An aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid dianhydride containing a functional group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group,
Y 1 and Y 2 are each independently an aromatic, alicyclic or aliphatic divalent organic group derived from a diamine, provided that at least one of Y 1 and Y 2 is selected from the group consisting of the following formulas (6a) to (6e) The divalent organic group derived from diamine is contained in an amount of 20 to 100 mol% based on the total moles of divalent organic groups derived from the diamine,
Figure 112015107012090-pat00039

In formulas (6a) to (6d), R 51 to R 54 each independently represents a single bond, -O-, -CR 55 R 56 -, -C (═O) -, -C = O) NH-, -S-, -SO-, -SO 2 -, -O [CH 2 CH 2 O] p -, a monocyclic or polycyclic cycloalkylene group having 6 to 18 carbon atoms, And R 55 and R 56 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms And p is an integer of 1 to 44, and q is an integer of 1 to 8.
제12항에 있어서,
상기 폴리이미드는 하기 화학식 8의 폴리이미드 전구체를 3급 아민의 존재 하에서 130℃ 이상의 온도에서 화학적 이미드화 하거나, 또는 진공 또는 비활성 기체 분위기하에서, 150 내지 380℃의 온도에서 열적 이미드화 하여 제조된 것인 유리-폴리머 복합 기재의 제조방법:
[화학식 8]
Figure 112013088888985-pat00036

상기 화학식 8에서,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족 4가 유기기이며, 단 상기 X1 및 X2 중 적어도 하나는 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족의 4가 유기기로서, 4가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100mol%로 포함되고,
Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 다이아민으로부터 유도된 방향족, 지환족 또는 지방족의 2가 유기기이며, 단 Y1 및 Y2 중 적어도 하나는 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 작용기를 포함하는 다이아민으로부터 유도된 방향족, 지환족 또는 지방족의 2가 유기기로서, 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100mol%로 포함되며, 그리고
m 및 n은 각각 독립적으로 1 이상의 정수이다.
13. The method of claim 12,
The polyimide is prepared by chemically imidizing a polyimide precursor of the following formula (8) in the presence of a tertiary amine at a temperature of 130 ° C or higher, or by thermally imidizing it at a temperature of 150 to 380 ° C in a vacuum or an inert gas atmosphere ≪ RTI ID = 0.0 > 1, < / RTI >
[Chemical Formula 8]
Figure 112013088888985-pat00036

In Formula 8,
X 1 and X 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid dianhydride, provided that at least one of X 1 and X 2 is an ether group, an ester group, An aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid dianhydride containing a functional group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group,
Y 1 and Y 2 are each independently an aromatic, alicyclic or aliphatic divalent organic group derived from a diamine, provided that at least one of Y 1 and Y 2 is composed of an ether group, an ester group, Aromatic, alicyclic or aliphatic divalent organic group derived from a diamine containing a functional group selected from the group consisting of a divalent organic group derived from a diamine in an amount of 20 to 100 mol%
m and n are each independently an integer of 1 or more.
제13항에 있어서,
상기 폴리이미드 전구체는 산 이무수물 및 다이아민을 중합반응시키되, 상기 산 이무수물로서 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 작용기를 포함하는 산 이무수물을, 폴리이미드 전구체내 산이무수물 유래 4가 유기기 총 몰에 대하여 상기 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 작용기를 포함하는 산 이무수물 유래 방향족 또는 지환족의 4가 유기기의 함량이 20 내지 100mol%이 되도록 하는 양으로 사용하고, 상기 다이아민으로서 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 작용기를 포함하는 다이아민을 폴리이미드 전구체 내 다이아민 유래 2가 유기기 총 몰에 대하여 분자내 에테르기, 에스테르기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 작용기를 포함하는 다이아민 유래 2가 유기기의 함량이 20 내지 100mol%가 되도록 하는 양으로 반응시켜 제조된 것인 유리-폴리머 복합 기재의 제조방법.
14. The method of claim 13,
Wherein the polyimide precursor is obtained by polymerizing an acid dianhydride and a diamine, wherein the acid dianhydride comprises an acid dianhydride containing a functional group selected from the group consisting of ether groups, ester groups, The content of an acid dianhydride-derived aromatic or alicyclic divalent organic group containing a functional group selected from the group consisting of an ether group, an ester group, and a combination thereof in the molecule relative to the total moles of an acid anhydride- And 20 to 100 mol%, and the diamine containing a functional group selected from the group consisting of an ether group, an ester group, and a combination thereof in the molecule is used as the diamine in the polyimide precursor, Selected from the group consisting of intramolecular ether groups, ester groups and combinations thereof relative to the total moles of the device By weight based on the total amount of the diamine-containing divalent organic group-containing functional group and the diamine-containing divalent organic group-containing functional group is 20 to 100 mol%.
제12항에 있어서,
상기 조성물은 폴리이미드 또는 그 전구체를 고형분 기준으로 조성물 총 중량에 대해 5 내지 50중량%로 포함하는 것인 유리-폴리머 복합 기재의 제조방법.
13. The method of claim 12,
Wherein the composition comprises polyimide or a precursor thereof in an amount of 5 to 50 wt% based on the total weight of the composition based on the solid content.
제12항에 있어서,
상기 조성물은 200 내지 25,000cP의 점도를 갖는 것인 유리-폴리머 복합 기재의 제조방법.
13. The method of claim 12,
Wherein the composition has a viscosity of 200 to 25,000 cP.
제12항에 있어서,
상기 경화 공정은 150 내지 380℃ 온도에서의 열처리에 의해 실시되는 것인 유리-폴리머 복합 기재의 제조방법.
13. The method of claim 12,
Wherein the curing step is carried out by heat treatment at a temperature of 150 to 380 占 폚.
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