KR20240071970A - Printed circuit board and manufacturing method for the same - Google Patents
Printed circuit board and manufacturing method for the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR20240071970A KR20240071970A KR1020230008891A KR20230008891A KR20240071970A KR 20240071970 A KR20240071970 A KR 20240071970A KR 1020230008891 A KR1020230008891 A KR 1020230008891A KR 20230008891 A KR20230008891 A KR 20230008891A KR 20240071970 A KR20240071970 A KR 20240071970A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- patterns
- metal
- layer
- printed circuit
- insulating layer
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 459
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 459
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 90
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 69
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 57
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 55
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 37
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 35
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 366
- 238000000034 method Methods 0.000 description 40
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 36
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 20
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 20
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 20
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 14
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 12
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000013461 design Methods 0.000 description 10
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 10
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 10
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 9
- 230000006870 function Effects 0.000 description 8
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 6
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 4
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 4
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- 208000032365 Electromagnetic interference Diseases 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000013473 artificial intelligence Methods 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000010344 co-firing Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4644—Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
- H05K3/4661—Adding a circuit layer by direct wet plating, e.g. electroless plating; insulating materials adapted therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/11—Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K1/115—Via connections; Lands around holes or via connections
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Structure Of Printed Boards (AREA)
Abstract
본 개시는 제1 절연층; 상기 제1 절연층 상에 각각 배치된 복수의 제1 회로패턴; 및 상기 제1 절연층 상에 각각 배치되며, 상기 복수의 제1 회로패턴보다 두께가 얇은 복수의 제2 회로패턴; 을 포함하며, 상기 복수의 제1 회로패턴 중 적어도 한 개와 상기 복수의 제2 회로패턴 중 적어도 한 개가 서로 교대로 반복적으로 배치되는, 인쇄회로기판과 그 제조방법에 관한 것이다.The present disclosure includes: a first insulating layer; a plurality of first circuit patterns each disposed on the first insulating layer; and a plurality of second circuit patterns each disposed on the first insulating layer and having a thickness thinner than the plurality of first circuit patterns. It relates to a printed circuit board and a method of manufacturing the same, wherein at least one of the plurality of first circuit patterns and at least one of the plurality of second circuit patterns are repeatedly and alternately arranged with each other.
Description
본 개시는 인쇄회로기판, 예를 들면, 미세회로를 포함하는 인쇄회로기판과 그 제조방법에 관한 것이다.The present disclosure relates to a printed circuit board, for example, a printed circuit board including microcircuits, and a method of manufacturing the same.
최근 전자부품 산업에서 5G 고속 통신 및 인공지능에 대응하기 위해 고집적 인쇄회로기판이 요구되고 있다. 미세회로는 고집적 인쇄회로기판을 제조하기 위한 핵심 기술로, 예컨대 라인(Line)/스페이스(Space)가 대략 수 마이크로인 미세회로를 구현할 수 있는 기술 확보를 위한 연구개발을 활발히 진행 중이다. 다만, 종래의 회로형성 방법, 예컨대 SAP(Semi Additive Process), MSAP(Modified Semi Additive Process) 등의 회로형성 방법은 노광 설비의 해상력의 한계와 시드 식각 공정의 마진 등으로 인하여 상술한 라인/스페이스 범위의 미세회로를 구현하는데 한계가 있다.Recently, in the electronic components industry, highly integrated printed circuit boards are being required to respond to 5G high-speed communication and artificial intelligence. Microcircuitry is a core technology for manufacturing highly integrated printed circuit boards, and research and development is actively underway to secure technology that can implement microcircuits with lines/spaces of approximately several microns, for example. However, conventional circuit formation methods, such as SAP (Semi Additive Process) and MSAP (Modified Semi Additive Process), are limited to the above-mentioned line/space range due to limitations in the resolution of exposure equipment and margins in the seed etching process. There are limitations in implementing microcircuits.
본 개시의 여러 목적 중 하나는 미세회로 형성이 가능한 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.One of the several purposes of the present disclosure is to provide a printed circuit board capable of forming fine circuits and a method of manufacturing the same.
본 개시를 통하여 제안하는 여러 해결 수단 중 하나는 제1 도금 공정으로 복수의 제1 금속패턴을 형성하고, 그 위에 금속층을 형성하고, 그 위에 제2 도금 공정으로 복수의 제2 금속패턴을 형성하며, 이후 금속층을 선택적으로 식각하는 공정을 통하여, 미세회로를 형성하는 것이다.One of the several solutions proposed through this disclosure is to form a plurality of first metal patterns through a first plating process, form a metal layer thereon, and form a plurality of second metal patterns thereon through a second plating process. , Then, through a process of selectively etching the metal layer, a fine circuit is formed.
예를 들면, 일례에 따른 인쇄회로기판의 제조방법은 기판 상에 복수의 제1 금속패턴을 형성하는 단계; 상기 기판 상에 상기 복수의 제1 금속패턴을 덮으며 상기 복수의 제1 금속패턴과 상이한 금속을 포함하는 금속층을 형성하는 단계; 상기 금속층 상에 상기 금속층 사이의 공간의 적어도 일부를 각각 채우며 상기 금속층과 상이한 금속을 포함하는 복수의 제2 금속패턴을 형성하는 단계; 상기 금속층의 일부를 식각하여 상기 복수의 제1 금속패턴 각각의 적어도 일부를 상기 금속층으로부터 노출시키는 단계; 상기 복수의 제1 및 제2 금속패턴 상에 제1 절연층을 형성하는 단계; 상기 기판을 제거하는 단계; 및 상기 금속층의 잔존하는 나머지를 식각하는 단계; 를 포함하는 것일 수 있다.For example, a method of manufacturing a printed circuit board according to one example includes forming a plurality of first metal patterns on a substrate; forming a metal layer covering the plurality of first metal patterns on the substrate and including a metal different from the plurality of first metal patterns; forming a plurality of second metal patterns on the metal layer, each filling at least a portion of the space between the metal layers, and each containing a different metal from the metal layer; etching a portion of the metal layer to expose at least a portion of each of the plurality of first metal patterns from the metal layer; forming a first insulating layer on the plurality of first and second metal patterns; removing the substrate; and etching the remaining portion of the metal layer; It may include.
또한, 일례에 따른 인쇄회로기판은 제1 절연층; 상기 제1 절연층 상에 각각 배치된 복수의 제1 회로패턴; 및 상기 제1 절연층 상에 각각 배치되며, 상기 복수의 제1 회로패턴보다 두께가 얇은 복수의 제2 회로패턴; 을 포함하며, 상기 복수의 제1 회로패턴 중 적어도 한 개와 상기 복수의 제2 회로패턴 중 적어도 한 개가 서로 교대로 반복적으로 배치되는 것일 수 있다.In addition, the printed circuit board according to one example includes a first insulating layer; a plurality of first circuit patterns each disposed on the first insulating layer; and a plurality of second circuit patterns each disposed on the first insulating layer and having a thickness thinner than the plurality of first circuit patterns. It may include, wherein at least one of the plurality of first circuit patterns and at least one of the plurality of second circuit patterns are alternately and repetitively arranged.
또는, 일례에 따른 인쇄회로기판은 제1 절연층; 상기 제1 절연층의 상측에 배치되며, 두께가 서로 상이한 제1 및 제2 회로패턴을 포함하는 제1 배선층; 및 상기 제1 절연층의 하측에 배치되며, 상기 제1 및 제2 회로패턴 각각보다 선폭이 넓은 제3 회로패턴을 포함하는 제2 배선층; 을 포함하는 것일 수 있다.Alternatively, a printed circuit board according to one example may include a first insulating layer; a first wiring layer disposed on the first insulating layer and including first and second circuit patterns having different thicknesses; and a second wiring layer disposed below the first insulating layer and including a third circuit pattern having a wider line width than each of the first and second circuit patterns. It may include.
본 개시의 여러 효과 중 일 효과로서 미세회로 형성이 가능한 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공할 수 있다.As one of the many effects of the present disclosure, a printed circuit board capable of forming a fine circuit and a method of manufacturing the same can be provided.
도 1은 전자기기 시스템의 예를 개략적으로 나타내는 블록도다.
도 2는 전자기기의 일례를 개략적으로 나타낸 사시도다.
도 3은 인쇄회로기판의 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 4 내지 도 6은 도 3의 인쇄회로기판의 변형 예들을 계략적으로 나타낸 단면도들이다.
도 7a 내지 도 7k는 도 3의 인쇄회로기판의 제조 일례를 개략적으로 나타낸 공정 단면도들이다.
도 8a 내지 도 8d는 각각 도 3 내지 도 6의 인쇄회로기판의 제조를 위한 복수의 제1 및 제2 금속패턴과 금속층의 형태 및 금속층 중 일부의 식각 정도를 개략적으로 나타난 공정 단면도들이다.
도 9는 내지 도 12는 각각 도 3 내지 도 6의 인쇄회로기판이 다층 인쇄회로기판에 적용된 경우를 개략적으로 나타낸 단면도들이다.
도 13은 인쇄회로기판의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 14 내지 도 16은 도 13의 인쇄회로기판의 변형 예들을 계략적으로 나타낸 단면도들이다.
도 17a 내지 도 17l은 도 13의 인쇄회로기판의 제조 일례를 개략적으로 나타낸 공정 단면도들이다.
도 18a 내지 도 18d는 각각 도 13 내지 도 16의 인쇄회로기판의 제조를 위한 복수의 제1 및 제2 금속패턴과 금속층의 형태 및 금속층 중 일부의 식각 정도를 개략적으로 나타난 공정 단면도들이다.
도 19는 내지 도 22는 각각 도 13 내지 도 16의 인쇄회로기판이 다층 인쇄회로기판에 적용된 경우를 개략적으로 나타낸 단면도들이다.1 is a block diagram schematically showing an example of an electronic device system.
Figure 2 is a perspective view schematically showing an example of an electronic device.
Figure 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of a printed circuit board.
Figures 4 to 6 are cross-sectional views schematically showing modified examples of the printed circuit board of Figure 3.
FIGS. 7A to 7K are cross-sectional views schematically showing an example of manufacturing the printed circuit board of FIG. 3.
FIGS. 8A to 8D are cross-sectional views schematically showing the shape of a plurality of first and second metal patterns and metal layers and the degree of etching of some of the metal layers for manufacturing the printed circuit boards of FIGS. 3 to 6, respectively.
FIGS. 9 to 12 are cross-sectional views schematically showing the case where the printed circuit board of FIGS. 3 to 6 is applied to a multilayer printed circuit board, respectively.
Figure 13 is a cross-sectional view schematically showing another example of a printed circuit board.
Figures 14 to 16 are cross-sectional views schematically showing modified examples of the printed circuit board of Figure 13.
FIGS. 17A to 17L are cross-sectional views schematically showing an example of manufacturing the printed circuit board of FIG. 13.
FIGS. 18A to 18D are process cross-sectional views schematically showing the shapes of a plurality of first and second metal patterns and metal layers and the degree of etching of some of the metal layers for manufacturing the printed circuit boards of FIGS. 13 to 16, respectively.
FIGS. 19 to 22 are cross-sectional views schematically showing the case where the printed circuit board of FIGS. 13 to 16 is applied to a multilayer printed circuit board, respectively.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 개시에 대해 설명한다. 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장되거나 축소될 수 있다.Hereinafter, the present disclosure will be described with reference to the attached drawings. The shapes and sizes of elements in the drawings may be exaggerated or reduced for clearer explanation.
전자기기Electronics
도 1은 전자기기 시스템의 예를 개략적으로 나타내는 블록도다.1 is a block diagram schematically showing an example of an electronic device system.
도면을 참조하면, 전자기기(1000)는 메인보드(1010)를 수용한다. 메인보드(1010)에는 칩 관련부품(1020), 네트워크 관련부품(1030), 및 기타부품(1040) 등이 물리적 및/또는 전기적으로 연결되어 있다. 이들은 후술하는 다른 전자부품과도 결합되어 다양한 신호라인(1090)을 형성한다.Referring to the drawing, the
칩 관련부품(1020)으로는 휘발성 메모리(예컨대, DRAM), 비-휘발성 메모리(예컨대, ROM), 플래시 메모리 등의 메모리 칩; 센트랄 프로세서(예컨대, CPU), 그래픽 프로세서(예컨대, GPU), 디지털 신호 프로세서, 암호화 프로세서, 마이크로 프로세서, 마이크로 컨트롤러 등의 어플리케이션 프로세서 칩; 아날로그-디지털 컨버터, ASIC(application-specific IC) 등의 로직 칩 등이 포함되며, 이에 한정되는 것은 아니고, 이 외에도 기타 다른 형태의 칩 관련 전자부품이 포함될 수 있음은 물론이다. 또한, 이들 칩 관련부품(1020)이 서로 조합될 수 있음은 물론이다. 칩 관련부품(1020)은 상술한 칩이나 전자부품을 포함하는 패키지 형태일 수도 있다.Chip-
네트워크 관련부품(1030)으로는, Wi-Fi(IEEE 802.11 패밀리 등), WiMAX(IEEE 802.16 패밀리 등), IEEE 802.20, LTE(long term evolution), Ev-DO, HSPA+, HSDPA+, HSUPA+, EDGE, GSM, GPS, GPRS, CDMA, TDMA, DECT, Bluetooth, 3G, 4G, 5G 및 그 이후의 것으로 지정된 임의의 다른 무선 및 유선 프로토콜들이 포함되며, 이에 한정되는 것은 아니고, 이 외에도 기타 다른 다수의 무선 또는 유선 표준들이나 프로토콜들 중의 임의의 것이 포함될 수 있다. 또한, 네트워크 관련부품(1030)이 칩 관련부품(1020)과 더불어 서로 조합될 수 있음은 물론이다.Network-related parts (1030) include Wi-Fi (IEEE 802.11 family, etc.), WiMAX (IEEE 802.16 family, etc.), IEEE 802.20, LTE (long term evolution), Ev-DO, HSPA+, HSDPA+, HSUPA+, EDGE, GSM. , GPS, GPRS, CDMA, TDMA, DECT, Bluetooth, 3G, 4G, 5G and any other wireless and wired protocols designated as such, but are not limited to, and many other wireless or wired protocols. Any of the standards or protocols may be included. In addition, of course, the network-
기타부품(1040)으로는, 고주파 인덕터, 페라이트 인덕터, 파워 인덕터, 페라이트 비즈, LTCC(low Temperature Co-Firing Ceramics), EMI(Electro Magnetic Interference) filter, MLCC(Multi-Layer Ceramic Condenser) 등이 포함된다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니고, 이 외에도 기타 다른 다양한 용도를 위하여 사용되는 칩 부품 형태의 수동소자 등이 포함될 수 있다. 또한, 기타부품(1040)이 칩 관련부품(1020) 및/또는 네트워크 관련부품(1030)과 서로 조합될 수도 있음은 물론이다.Other parts (1040) include high-frequency inductors, ferrite inductors, power inductors, ferrite beads, LTCC (low temperature co-firing ceramics), EMI (Electro Magnetic Interference) filter, MLCC (Multi-Layer Ceramic Condenser), etc. . However, it is not limited to this, and may include passive elements in the form of chip components used for various other purposes. In addition, of course, the
전자기기(1000)의 종류에 따라, 전자기기(1000)는 메인보드(1010)에 물리적 및/또는 전기적으로 연결되거나 그렇지 않을 수도 있는 다른 전자부품을 포함할 수 있다. 다른 전자부품의 예를 들면, 카메라 모듈(1050), 안테나 모듈(1060), 디스플레이(1070), 배터리(1080) 등이 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니고, 오디오 코덱, 비디오 코덱, 전력 증폭기, 나침반, 가속도계, 자이로스코프, 스피커, 대량 저장 장치(예컨대, 하드디스크 드라이브), CD(compact disk), DVD(digital versatile disk) 등일 수도 있다. 이 외에도 전자기기(1000)의 종류에 따라 다양한 용도를 위하여 사용되는 기타 전자부품 등이 포함될 수 있음은 물론이다.Depending on the type of
전자기기(1000)는, 스마트폰(smart phone), 개인용 정보 단말기(personal digital assistant), 디지털 비디오 카메라(digital video camera), 디지털 스틸 카메라(digital still camera), 네트워크 시스템(network system), 컴퓨터(computer), 모니터(monitor), 태블릿(tablet), 랩탑(laptop), 넷북(netbook), 텔레비전(television), 비디오 게임(video game), 스마트 워치(smart watch), 오토모티브(Automotive) 등일 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들 외에도 데이터를 처리하는 임의의 다른 전자기기일 수 있음은 물론이다.The
도 2는 전자기기의 일례를 개략적으로 나타낸 사시도다.Figure 2 is a perspective view schematically showing an example of an electronic device.
도면을 참조하면, 전자기기는, 예를 들면, 스마트폰(1100)일 수 있다. 스마트폰(1100)의 내부에는 마더보드(1110)가 수용되어 있으며, 이러한 마더보드(1110)에는 다양한 부품(1120)들이 물리적 및/또는 전기적으로 연결되어 있다. 또한, 카메라 모듈(1130) 및/또는 스피커(1140)와 같이 마더보드(1110)에 물리적 및/또는 전기적으로 연결되거나 그렇지 않을 수도 있는 다른 부품이 내부에 수용되어 있다. 부품(1120) 중 일부는 상술한 칩 관련부품일 수 있으며, 예를 들면, 부품 패키지(1121)일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 부품 패키지(1121)는 능동부품 및/또는 수동부품을 포함하는 전자부품이 표면실장 배치된 인쇄회로기판 형태일 수 있다. 또는, 부품 패키지(1121)는 능동부품 및/또는 수동부품이 내장된 인쇄회로기판 형태일 수도 있다. 한편, 전자기기는 반드시 스마트폰(1100)에 한정되는 것은 아니며, 상술한 바와 같이 다른 전자기기일 수도 있음은 물론이다.Referring to the drawings, the electronic device may be, for example, a
인쇄회로기판printed circuit board
도 3은 인쇄회로기판의 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.Figure 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of a printed circuit board.
도면을 참조하면, 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)은 제1 절연층(111), 제1 절연층(111) 상에 각각 배치된 복수의 제1 회로패턴(121), 및 제1 절연층(111) 상에 각각 배치되는 복수의 제2 회로패턴(122)을 포함한다. 복수의 제1 회로패턴(121)의 두께(T1)는 복수의 제2 회로패턴(122)의 두께(T2)보다 두껍다. 복수의 제1 회로패턴(121) 중 한 개와 복수의 제2 회로패턴(122) 중 한 개는 서로 교대로 반복적으로 배치된다. 서로 교대로 반복적으로 배치되는 것은 적어도 두 번 서로 교대로 배치되는 것일 수 있으며, 예를 들면, 단면 상에서 제2 회로패턴(122), 제1 회로패턴(121), 제2 회로패턴(122), 제1 회로패턴(121), 제2 회로패턴(122), 제1 회로패턴(121), 제2 회로패턴(122) 등이 제1 절연층(111) 상에 이 순서로 배치될 수 있다. 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122)의 교대로 반복 배치되는 수는 특별히 한정되지 않으며, 설계에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 이러한 반복 배치에 있어서, 한 개의 제1 회로패턴(121)의 선폭(W1)과 한 개의 제2 회로패턴(122)의 선폭(W2)과 한 개의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 사이의 간격(S1)은 서로 실질적으로 동일할 수 있다.Referring to the drawing, a printed
한편, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122)은 미세회로 패턴일 수 있다. 예를 들면, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122)은 각각의 선폭(W1, W2)이 10㎛ 이하, 또는 5㎛ 이하, 또는 2㎛ 이하일 수 있다. 또한, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122)은 그 사이의 간격(S1)이 각각 10㎛ 이하, 또는 5㎛ 이하, 또는 2㎛ 이하일 수 있다. 예를 들면, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122)은 L(Line)/S(Space)가 10㎛/10㎛ 이하, 또는 5㎛/5㎛ 이하, 또는 2㎛/2㎛ 이하인 미세회로 패턴일 수 있다.Meanwhile, the plurality of first and
이러한 구조의 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)은 후술하는 새로운 공정을 통하여 형성될 수 있으며, 이 경우 종래의 SAP, MSAP 등과 다르게 노광 설비의 해상력의 한계를 극복할 수 있으며, 별도의 시드 식각 공정을 진행하지 않을 수 있는바, 결과적으로는 L/S가 10㎛/10㎛ 이하, 또는 5㎛/5㎛ 이하, 또는 2㎛/2㎛ 이하인 미세회로 패턴을 용이하게 형성할 수 있다.A printed circuit board (100A) according to an example of this structure can be formed through a new process described later, and in this case, unlike conventional SAP, MSAP, etc., the limitation of resolution of exposure equipment can be overcome, and a separate seed etching process can be used. may not proceed, and as a result, a fine circuit pattern with L/S of 10㎛/10㎛ or less, or 5㎛/5㎛ or less, or 2㎛/2㎛ or less can be easily formed.
한편, 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)은 제1 절연층(111) 상에 각각 배치되며 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 각각의 선폭(W1, W2)보다 폭 또는 선폭(W3)이 넓은 한 개 이상의 제3 회로패턴(123)을 더 포함할 수 있다. 한 개 이상의 제3 회로패턴(123)은 미세회로 패턴이 아닌 일반회로 패턴, 예컨대 선폭과 그 사이의 간격이 각각 10㎛ 초과인 일반회로 패턴, 및/또는 패드 패턴, 예컨대 폭이 10㎛ 초과인 패드 패턴을 포함할 수 있다.Meanwhile, the printed
한편, 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)은 제1 절연층(111) 상에 각각 배치되며 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 각각의 선폭(W1, W2)보다 폭 또는 선폭(W4)이 넓은 한 개 이상의 제4 회로패턴(124)을 더 포함할 수 있다. 한 개 이상의 제4 회로패턴(124)의 두께(T4)는 한 개 이상의 제3 회로패턴(123)의 두께(T3)보다 얇을 수 있다. 한 개 이상의 제4 회로패턴(124)은 미세회로 패턴이 아닌 일반회로 패턴, 예컨대 선폭과 그 사이의 간격이 각각 10㎛ 초과인 일반회로 패턴, 및/또는 플레인 패턴, 예컨대 폭이 10㎛ 초과인 플레인 패턴을 포함할 수 있다.Meanwhile, the printed
이하에서는 도면을 참조하여 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)의 구성요소에 대하여 보다 자세히 설명한다.Hereinafter, components of the printed
제1 절연층(111)은 절연재를 포함할 수 있다. 절연재는 에폭시 수지와 같은 열경화성 수지, 폴리이미드와 같은 열가소성 수지, 또는 수지와 함께 무기필러, 유기필러 및/또는 유리섬유(Glass Fiber, Glass Cloth, Glass Fabric)를 포함하는 재료를 포함할 수 있다. 예를 들면, 절연재는 ABF(Ajinomoto Build-up Film), PPG(Prepreg) 등의 비감광성 절연재일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 그 외에도 다른 기타 고분자 소재가 이용될 수 있다. 또한, 절연재는 PID(Photo Imageable Dielectric) 등의 감광성 절연재일 수도 있다.The first insulating
복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122)은 각각 금속을 포함할 수 있다. 금속은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 및/또는 이들의 합금 등을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 구리(Cu)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122)은 각각 설계 디자인에 따라 다양한 기능을 수행할 수 있다. 예를 들면, 신호 패턴을 포함할 수 있다. 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122)은 각각 별도의 시드 금속층을 포함하지 않을 수 있다. 예를 들면, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122)은 각각 전해 도금층(또는 전기동)을 포함할 수 있으며, 무전해 도금층(또는 화학동)이나 스퍼터층은 포함하지 않을 수 있다.Each of the plurality of first and
한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124)은 각각 금속을 포함할 수 있다. 금속은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 및/또는 이들의 합금 등을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 구리(Cu)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124)은 각각 설계 디자인에 따라 다양한 기능을 수행할 수 있다. 예를 들면, 신호 패턴, 파워 패턴, 그라운드 패턴을 포함할 수 있다. 이들 패턴은 각각 라인 패턴, 패드 패턴, 플레인 패턴 등을 포함할 수 있다. 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124)은 각각 별도의 시드 금속층을 포함하지 않을 수 있다. 예를 들면, 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124)은 각각 전해 도금층(또는 전기동)을 포함할 수 있으며, 무전해 도금층(또는 화학동)이나 스퍼터층은 포함하지 않을 수 있다.Each of the one or more third and
도 4 내지 도 6은 도 3의 인쇄회로기판의 변형 예들을 계략적으로 나타낸 단면도들이다.Figures 4 to 6 are cross-sectional views schematically showing modified examples of the printed circuit board of Figure 3.
도 4를 참조하면, 변형 예에 따른 인쇄회로기판(100B)은, 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)에 있어서, 제1 절연층(111)의 일부(111P)가 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 사이로 돌출되어 배치된다. 예컨대, 제1 절연층(111)의 일부(111P)는 상술한 반복 배치에 있어서, 단면 상에서, 한 개의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 각각의 일 측면 및 타 측면 중 적어도 하나 사이로 돌출되어 배치될 수 있다. 이 경우, 제1 절연층(111)과 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 사이의 접속 신뢰성을 보다 개선할 수 있다. 한편, 제1 절연층(111)의 일부(111P)는 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 중 적어도 하나와 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124) 중 적어도 하나 사이로도 돌출되어 배치될 수 있다. 또한, 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124) 사이로도 돌출되어 배치될 수 있다. 이 경우, 제1 절연층(111)과 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124) 사이의 접속 신뢰성 역시 보다 개선할 수 있다.Referring to FIG. 4, the printed
도 5를 참조하면, 다른 변형 예에 따른 인쇄회로기판(100C)은, 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)에 있어서, 복수의 제1 회로패턴(121) 각각의 하측의 적어도 일부에 언더컷이 형성되며, 복수의 제2 회로패턴(122) 각각의 하측의 적어도 일부에 풋이 형성된다. 예컨대, 상술한 반복 배치에 있어서, 단면 상에서, 한 개의 제1 회로패턴(121)은 양 측면의 하측에 홈부(121U)를 가질 수 있으며, 한 개의 제2 회로패턴(122)은 양 측면의 하측에 돌출부(122F)를 가질 수 있다. 이 경우, 제1 절연층(111)과 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 사이의 접속 신뢰성을 보다 개선할 수 있다. 한편, 한 개 이상의 제3 회로패턴(123) 각각의 하측의 적어도 일부에도 언더컷이 형성될 수 있으며, 한 개 이상의 제4 회로패턴(124) 각각의 하측의 적어도 일부에도 풋이 형성될 수 있다. 이 경우, 제1 절연층(111)과 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124) 사이의 접속 신뢰성 역시 보다 개선할 수 있다.Referring to FIG. 5, in the printed
도 6을 참조하면, 또 다른 변형 예에 따른 인쇄회로기판(100D)은, 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)에 있어서, 제1 절연층(111)의 일부(111P)가 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 사이로 돌출되어 배치된다. 또한, 복수의 제1 회로패턴(121) 각각의 하측의 적어도 일부에 언더컷이 형성되며, 복수의 제2 회로패턴(122) 각각의 하측의 적어도 일부에 풋이 형성된다. 이에 대한 구체적인 구조 및 효과는 상술한 바와 같다. 한편, 제1 절연층(111)의 일부(111P)는 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 중 적어도 하나와 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124) 중 적어도 하나 사이로도 돌출되어 배치될 수 있으며, 또한 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124) 사이로도 돌출되어 배치될 수 있다. 또한, 한 개 이상의 제3 회로패턴(123) 각각의 하측의 적어도 일부에도 언더컷이 형성될 수 있으며, 한 개 이상의 제4 회로패턴(124) 각각의 하측의 적어도 일부에도 풋이 형성될 수 있다. 이에 대한 구체적인 구조 및 효과 역시 상술한 바와 같다.Referring to FIG. 6, the printed
그 외에 다른 내용은 상술한 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)에서 설명한 바와 실질적으로 동일하며, 이에 대한 중복되는 설명은 생략한다.Other than that, other contents are substantially the same as those described in the printed
도 7a 내지 도 7k는 도 3의 인쇄회로기판의 제조 일례를 개략적으로 나타낸 공정 단면도들이다.FIGS. 7A to 7K are cross-sectional views schematically showing an example of manufacturing the printed circuit board of FIG. 3.
도면을 참조하면, 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)의 제조방법은 기판(210) 상에 복수의 제1 금속패턴(221)을 형성하는 단계, 기판(210) 상에 복수의 제1 금속패턴(221)을 덮으며 복수의 제1 금속패턴(221)과 상이한 금속을 포함하는 금속층(231)을 형성하는 단계, 금속층(231) 상에 금속층(231) 사이의 공간(G1)의 적어도 일부를 각각 채우며 금속층(231)과 상이한 금속을 포함하는 복수의 제2 금속패턴(222)을 형성하는 단계, 금속층(231)의 일부를 식각하여 복수의 제1 금속패턴(221) 각각의 적어도 일부를 금속층(231)으로부터 노출시키는 단계, 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222) 상에 제1 절연층(111)을 형성하는 단계, 기판(210)을 제거하는 단계, 및 금속층(231)의 잔존하는 나머지를 식각하는 단계를 포함한다. 금속층(231)은 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222)과 상이한 금속을 포함할 수 있다. 예를 들면, 금속층(231)은 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222)과 금속층(231) 식각을 위한 식각액에 대한 식각비가 상이할 수 있다. 예를 들면, 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222)은 구리(Cu)를 포함할 수 있으며, 금속층(231)은 니켈(Ni)을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Referring to the drawings, a method of manufacturing a printed circuit board (100A) according to an example includes forming a plurality of
한편, 복수의 제1 금속패턴(221)을 형성하는 단계에서, 복수의 제1 금속패턴(221) 각각의 폭을 n이라 할 때, 복수의 제1 금속패턴(221) 사이의 간격은 각각 실질적으로 3n을 만족할 수 있다. 또한, 금속층(231)을 형성하는 단계에서, 금속층(231)의 두께 또는 폭은 실질적으로 n을 만족할 수 있다. 따라서, 최종적으로 L/S가 n/n인 미세회로를 형성할 수 있다. 이와 같이, 최초 금속패턴의 간격을 3n으로 하여도 최종적으로는 미세회로의 선폭과 간격을 각각 n으로 형성할 수 있다.Meanwhile, in the step of forming the plurality of
이러한 제조방법으로 형성되는 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)은 상술한 바와 같이 최초 금속패턴의 간격을 여유롭게 형성할 수 있는바 종래의 SAP, MSAP 등과 다르게 노광 설비의 해상력의 한계를 극복할 수 있으며, 별도의 시드 식각 공정을 진행하지 않을 수 있는바, 결과적으로는 L/S가 10㎛/10㎛ 이하, 또는 5㎛/5㎛ 이하, 또는 2㎛/2㎛ 이하인 미세회로 패턴을 용이하게 형성할 수 있다.As described above, the printed circuit board (100A) according to an example formed by this manufacturing method can comfortably form the spacing of the initial metal pattern, and unlike conventional SAP, MSAP, etc., it can overcome the limitations of the resolution of exposure equipment. , a separate seed etching process may not be performed, and as a result, it is possible to easily form a fine circuit pattern with an L/S of 10㎛/10㎛ or less, or 5㎛/5㎛ or less, or 2㎛/2㎛ or less. can do.
한편, 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)의 제조방법은 기판(210) 상에 복수의 제1 금속패턴(221) 각각보다 폭 또는 선폭이 넓은 한 개 이상의 제3 금속패턴(223)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 한 개 이상의 제3 금속패턴(223)은 복수의 제1 금속패턴(221)을 형성할 때 함께 형성할 수 있다. 한 개 이상의 제3 금속패턴(223)은 금속층(231)과 상이한 금속을 포함할 수 있다. 예를 들면, 한 개 이상의 제3 금속패턴(223)은 구리(Cu)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Meanwhile, the method of manufacturing the printed
한편, 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)의 제조방법은 금속층(231) 상에 금속층(231) 사이의 다른 공간(G2)의 적어도 일부를 각각 채우며 복수의 제2 금속패턴(222) 각각보다 폭 또는 선폭이 넓은 한 개 이상의 제4 금속패턴(224)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 한 개 이상의 제4 금속패턴(224)은 복수의 제2 금속패턴(222)을 형성할 때 함께 형성할 수 있다. 한 개 이상의 제4 금속패턴(224)은 금속층(231)과 상이한 금속을 포함할 수 있다. 예를 들면, 한 개 이상의 제4 금속패턴(224)은 구리(Cu)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Meanwhile, the method of manufacturing the printed
한편, 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)의 제조방법은 기판(210)을 제거하는 단계 이후에 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 상에 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 중 적어도 하나의 일부를 노출시키는 드라이 필름(241)을 형성하는 단계, 및 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 중 적어도 하나의 노출된 일부를 식각하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이를 통하여, 복수의 제1 금속패턴(221), 복수의 제2 금속패턴(221), 한 개 이상의 제3 금속패턴(223), 및/또는 한 개 이상의 제4 금속패턴(234) 중 서로 연결된 부분이나 불필요한 부분 등을 제거할 수 있다.Meanwhile, the method of manufacturing the printed
이하에서는 도면을 참조하여 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)의 제조방법에 대하여 보다 자세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a printed circuit board (100A) according to an example will be described in more detail with reference to the drawings.
도 7a를 참조하면, 기판(210)을 준비한다. 기판(210)은 CCL(Copper Clad Laminate)일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 디테치가 가능한 다양한 종류의 캐리어 기판이 이용될 수 있다. 기판(210)은 디테치 코어(211)와 디테치 금속층(212)을 포함할 수 있다. 디테치 금속층(212)은 디테치 코어(211)의 일면 또는 양면 상에 배치될 수 있다. 디테치 코어(211)는 절연재, 예컨대 유리섬유가 함침된 에폭시 수지를 포함할 수 있으며, 디테치 금속층(212)은 금속, 예컨대 구리(Cu)를 포함할 수 있다. 필요에 따라서는, 디테치 코어(211)와 디테치 금속층(212) 사이에 이형층이 더 배치될 수 있다.Referring to FIG. 7A, a
도 7b를 참조하면, 기판(210) 상에 복수의 제1 금속패턴(221)을 형성한다. 이때, 복수의 제1 금속패턴(221) 각각보다 폭이 넓은 한 개 이상의 제3 금속패턴(223)을 더 형성할 수 있다. 복수의 제1 금속패턴(221)과 한 개 이상의 제3 금속패턴(223)은 기판(210) 상에 감광성 절연재를 포함하는 드라이 필름을 형성하고, 포토리소그래피 공정, 예컨대 노광 및 현상으로 드라이 필름에 패턴 개구를 형성하고, 패턴 개구를 통하여 노출되는 디테치 금속층(212)을 시드 금속층으로 이용하여 도금 공정, 예컨대 전해 도금(또는 전기동)으로 패턴 개구의 적어도 일부를 채워서 형성할 수 있다. 한 개 이상의 제3 금속패턴(223)은 복수의 제1 금속패턴(221)과 동일한 금속, 예컨대 구리(Cu)를 포함할 수 있다. 복수의 제1 금속패턴(221) 각각의 폭을 n이라 할 때, 복수의 제1 금속패턴(221) 사이의 간격은 각각 실질적으로 3n을 만족할 수 있다.Referring to FIG. 7B, a plurality of
도 7c를 참조하면, 복수의 제1 금속패턴(221)과 한 개 이상의 제3 금속패턴(223) 상에 복수의 제1 금속패턴(221)과 한 개 이상의 제3 금속패턴(223)을 덮는 금속층(231)을 형성한다. 금속층(231)은 도금 공정, 예컨대 전해 도금(또는, 전기동)으로 형성할 수 있다. 금속층(231)은 복수의 제1 금속패턴(221) 및 한 개 이상의 제3 금속패턴(223)과 상이한 금속, 예컨대 니켈(Ni)을 포함할 수 있다. 복수의 제1 금속패턴(221) 각각의 폭을 n이라 할 때, 금속층(231)은 두께 또는 폭은 실질적으로 n을 만족할 수 있다.Referring to FIG. 7C, a plurality of
도 7d를 참조하면, 금속층(231) 상에 금속층(231) 사이의 공간(G1)의 적어도 일부를 각각 채우는 복수의 제2 금속패턴(222)을 형성한다. 이때, 금속층(231) 상에 금속층(231) 사이의 다른 공간(G2)의 적어도 일부를 각각 채우는 한 개 이상의 제4 금속패턴(224)을 더 형성할 수 있다. 복수의 제2 금속패턴(222)과 한 개 이상의 제4 금속패턴(224)은 도금 공정, 예컨대 전해 도금(또는 전기동)으로 공간(G1, G2) 각각의 적어도 일부를 채워서 형성할 수 있다. 한 개 이상의 제4 금속패턴(224)은 복수의 제2 금속패턴(222)과 동일한 금속, 예컨대 구리(Cu)를 포함할 수 있다. 복수의 제1 금속패턴(221) 각각의 폭을 n이라 할 때, 복수의 제2 금속패턴(222) 각각의 폭은 실질적으로 n을 만족할 수 있다.Referring to FIG. 7D, a plurality of
도 7e를 참조하면, 금속층(231)의 일부를 식각하여 복수의 제1 금속패턴(221) 각각의 적어도 일부와 한 개 이상의 제3 금속패턴(223) 각각의 적어도 일부를 금속층(231)으로부터 노출시킨다. 금속층(231)은 복수의 제1 금속패턴(221) 및 한 개 이상의 제3 금속패턴(223)과 상이한 금속, 예컨대 니켈(Ni)을 포함하는바, 예컨대 니켈(Ni)용 식각액을 이용하여 선택적으로 식각할 수 있다. 니켈(Ni)용 식각액은 니켈(Ni)과 구리(Cu)의 식각비가 최소 8:2 이상인 것을 이용할 수 있다.Referring to FIG. 7E, a portion of the
도 7f를 참조하면, 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 상에 제1 절연층(111)을 형성한다. 제1 절연층(111)은 미경화 상태의 필름을 적층한 후 경화하여 형성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Referring to FIG. 7F, the first insulating
도 7g 및 도 7h를 참조하면, 기판(210)을 제거한다. 디테치 코어(211)는 디테치 금속층(212)로부터 분리하여 제거할 수 있다. 디테치 코어(211)의 분리 제거 이후에 잔존하는 디테치 금속층(212)은 식각하여 제거할 수 있다.Referring to FIGS. 7G and 7H, the
도 7i를 참조하면, 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 상에 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 중 적어도 하나의 일부를 노출시키는 드라이 필름(241)을 형성한다. 드라이 필름(241)은 네가티브 타입의 감광성 절연재 또는 파지티브 타입의 감광성 절연재를 포함할 수 있다. 드라이 필름(241)은 포토리소그래피 공정, 예컨대 노광 및 현상으로 일부를 제거할 수 있으며, 이를 통하여 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 중 적어도 하나의 일부를 선택적으로 노출시킬 수 있다.Referring to FIG. 7I, a plurality of first and
도 7j를 참조하면, 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 중 적어도 하나의 노출된 일부를 식각한다. 이를 통하여, 복수의 제1 금속패턴(221), 복수의 제2 금속패턴(221), 한 개 이상의 제3 금속패턴(223), 및/또는 한 개 이상의 제4 금속패턴(234) 중 서로 연결된 부분이나 불필요한 부분 등을 선택적으로 제거할 수 있다.Referring to FIG. 7J, an exposed portion of at least one of the plurality of first and
도 7k를 참조하면, 금속층(231)의 잔존하는 나머지를 식각한다. 금속층(231)의 식각에 의하여 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 각각으로부터 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122)과 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124)이 형성될 수 있다.Referring to FIG. 7K, the remaining portion of the
일련의 과정을 통하여 상술한 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)이 형성될 수 있으며, 그 외에 다른 내용은 상술한 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)에서 설명한 바와 실질적으로 동일한바, 이에 대한 중복되는 설명은 생략한다.Through a series of processes, the printed
도 8a 내지 도 8d는 각각 도 3 내지 도 6의 인쇄회로기판의 제조를 위한 복수의 제1 및 제2 금속패턴과 금속층의 형태 및 금속층 중 일부의 식각 정도를 개략적으로 나타난 공정 단면도들이다.FIGS. 8A to 8D are cross-sectional views schematically showing the shape of a plurality of first and second metal patterns and metal layers and the degree of etching of some of the metal layers for manufacturing the printed circuit boards of FIGS. 3 to 6, respectively.
도 8a를 참조하면, (a) 단계에서와 같이, 복수의 제1 금속패턴(221)은 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 실질적으로 수직하게 형성될 수 있으며, 따라서 금속층(231)과 복수의 제2 금속패턴(222)도 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 실질적으로 수직하게 형성될 수 있다. 이때, 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 역시 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 실질적으로 수직하게 형성될 수 있다. 또한, (b) 단계에서와 같이, 금속층(231)이 선택적으로 제거될 때 금속층(231)의 탑 면은 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222) 각각의 탑 면과 실질적으로 코플래너하게 식각될 수 있다. 이때, 금속층(231)은 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 각각의 탑 면과도 실질적으로 코플래너하게 식각될 수 있다. 따라서, (c) 단계에서와 같이, 제1 절연층(111)이 실질적으로 코플래너한 평평한 면에 형성될 수 있다. 또한, (d) 단계에서와 같이, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122)의 바텀 측에 언더컷이나 풋이 형성되지 않을 수 있다. 이때, 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124)도 바텀 측에 언더컷이나 풋이 형성되지 않을 수 있다. 또한, 제1 절연층(111)의 탑 면이 단차 없이 실질적으로 평평할 수 있다. 예를 들면, 일례에 따른 인쇄회로기판(100A)의 구조가 형성될 수 있다.Referring to FIG. 8A, as in step (a), at least a portion of the edge of each top surface of the plurality of
도 8b를 참조하면, 도 8a에서와 다르게, (b) 단계에서 금속층(231)이 선택적으로 제거될 때 금속층(231)이 과 식각되어 금속층(231)의 탑 면이 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222) 각각의 탑 면과 단차를 가지도록 식각될 수 있다. 이때, 금속층(231)은 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 각각의 탑 면과도 단차를 가지도록 식각될 수 있다. 따라서, (c) 단계에서 제1 절연층(111)이 과 식각된 영역으로 연장될 수 있다. 또한 (d) 단계에서 제1 절연층(111)의 일부(111P)가 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 사이로 돌출될 수 있다. 이때, 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124) 사이 등으로도 돌출될 수 있다. 예를 들면, 변형 예에 따른 인쇄회로기판(100B)의 구조가 형성될 수 있다.Referring to FIG. 8B, unlike in FIG. 8A, when the
도 8c를 참조하면, 도 8a에서와 다르게, (a) 단계에 복수의 제1 금속패턴(221)은 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 라운드지게 형성될 수 있다. 따라서, 금속층(231)의 탑 면의 엣지의 적어도 일부도 라운드지게 형성될 수 있으며, 복수의 제2 금속패턴(222) 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부는 뾰족하게 형성될 수 있다. 이때, 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 역시 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 라운드지게 또는 뾰족하게 형성될 수 있다. 따라서, (d) 단계에서 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 각각의 바텀 측의 적어도 일부에 언더컷이나 풋, 예컨대 홈부(121U)와 돌출부(122F)가 형성될 수 있다. 이때, 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124) 각각의 바텀 측의 적어도 일부에도 언더컷이나 풋이 형성될 수 있다. 예를 들면, 다른 변형 예에 따른 인쇄회로기판(100C)의 구조가 형성될 수 있다.Referring to FIG. 8C, unlike in FIG. 8A, in step (a), the plurality of
도 8d를 참조하면, 도 8a에서와 다르게, (a) 단계에서 복수의 제1 금속패턴(221)은 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 라운드지게 형성될 수 있다. 따라서, 금속층(231)의 탑 면의 엣지의 적어도 일부도 라운드지게 형성될 수 있으며, 복수의 제2 금속패턴(222) 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부는 뾰족하게 형성될 수 있다. 이때, 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 역시 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 라운드지게 또는 뾰족하게 형성될 수 있다. 또한, (b) 단계에서 금속층(231)이 선택적으로 제거될 때 금속층(231)이 과 식각되어 금속층(231)의 탑 면이 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222) 각각의 탑 면과 단차를 가지도록 식각될 수 있다. 이때, 금속층(231)은 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 각각의 탑 면과도 단차를 가지도록 식각될 수 있다. 따라서, (c) 단계에서 제1 절연층(111)이 과 식각된 영역으로 연장될 수 있다. 또한, (d) 단계에서 제1 절연층(111)의 일부(111P)가 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 사이로 돌출될 수 있다. 이때, 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124) 사이 등으로도 돌출될 수 있다. 또한, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 각각의 바텀 측의 적어도 일부에 언더컷이나 풋, 예컨대 홈부(121U)와 돌출부(122F)가 형성될 수 있다. 이때, 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124) 각각의 바텀 측의 적어도 일부에도 언더컷이나 풋이 형성될 수 있다. 예를 들면, 또 다른 변형 예에 따른 인쇄회로기판(100D)의 구조가 형성될 수 있다.Referring to FIG. 8D, unlike in FIG. 8A, in step (a), the plurality of
그 외에 다른 내용은 상술한 인쇄회로기판들(100A, 100B, 100C, 100D)과 상술한 인쇄회로기판(100A)의 제조방법에서 설명한 바와 실질적으로 동일하며, 이에 대한 중복되는 설명은 생략한다.Other contents are substantially the same as those described in the above-described printed
도 9는 내지 도 12는 각각 도 3 내지 도 6의 인쇄회로기판이 다층 인쇄회로기판에 적용된 경우를 개략적으로 나타낸 단면도들이다.FIGS. 9 to 12 are cross-sectional views schematically showing the case where the printed circuit board of FIGS. 3 to 6 is applied to a multilayer printed circuit board, respectively.
도면을 참조하면, 다층 형태의 인쇄회로기판들(300A, 300B, 300C, 300D)은 각각, 상술한 인쇄회로기판들(100A, 100B, 100C, 100D)에 있어서, 제1 절연층(111)의 상면 상에 배치되며 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122)과 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124)을 포함하는 제1 배선층(120), 제1 절연층(111)의 하면 상에 배치되는 복수의 제5 회로패턴(131)을 포함하는 제2 배선층(130), 제1 절연층(111)을 관통하며 제2 배선층(130)의 적어도 일부와 연결되는 제1 접속비아(151), 제2 절연층의 하면 상에 배치되며 제2 배선층(130)의 적어도 일부를 덮는 제2 절연층(112), 제2 절연층(112)의 하면 상에 배치되는 복수의 제6 회로패턴(141)을 포함하는 제3 배선층(140), 및 제2 절연층(112)을 관통하며 제3 배선층(140)의 적어도 일부와 연결되는 제2 접속비아(152)를 더 포함한다. 필요에 따라서는, 제1 절연층(111)의 상면 상에 배치되며 제1 배선층(120)의 적어도 일부를 덮는 제1 레지스트층(161), 및 제2 절연층(112)의 하면 상에 배치되며 제3 배선층(140)의 적어도 일부를 덮는 제2 레지스트층(162)을 더 포함할 수 있다.Referring to the drawings, the multi-layer printed circuit boards (300A, 300B, 300C, and 300D) are the first insulating
한편, 복수의 제5 및 제6 회로패턴(131, 141)은 각각의 폭 또는 선폭(W5, W6)은 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 각각의 선폭(W1, W2)보다 넓을 수 있다. 또한, 복수의 제5 및 제6 회로패턴(131, 142) 사이의 간격(S2, S3)은 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122) 사이의 간격(S1)보다 넓을 수 있다. 예를 들면, 복수의 제5 및 제6 회로패턴(131, 141)은 각각 미세회로 패턴이 아닌 일반회로 패턴, 예컨대 선폭(W5, W6)이 10㎛ 초과이며 그 간격(S2, S3)이 10㎛ 초과인 일반회로 패턴을 포함할 수 있으며, 또한 패드 패턴이나 플레인 패턴, 예컨대 폭이 10㎛ 초과인 패드 패턴이나 플레인 패턴을 포함할 수 있다.Meanwhile, the width or line width (W5, W6) of the plurality of fifth and sixth circuit patterns (131, 141) is the line width (W1, W2) of each of the plurality of first and second circuit patterns (121, 122). It could be wider. Additionally, the spacing S2 and S3 between the plurality of fifth and
한편, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122)과 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124)은 시드 금속층을 포함하지 않을 수 있으며, 복수의 제5 회로패턴(131)과 복수의 제6 회로패턴(132)은 시드 금속층(m1, m2)을 포함할 수 있다. 이와 같이, MSAP, SAP 등의 도금 공정으로 형성하는 복수의 제5 회로패턴(131)과 복수의 제6 회로패턴(132)과는 다르게 복수의 제1 및 제2 회로패턴(121, 122)과 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(123, 124)은 상술한 미세회로 형성 공정으로 형성할 수 있는바, 시드 금속층을 포함하지 않을 수 있다.Meanwhile, the plurality of first and
이하에서는 도면을 참조하여 다층 형태의 인쇄회로기판들(300A, 300B, 300C, 300D)의 구성요소에 대하여 보다 자세히 설명한다.Hereinafter, the components of the multi-layer printed
제2 절연층(112)은 절연재를 포함할 수 있다. 절연재는 에폭시 수지와 같은 열경화성 수지, 폴리이미드와 같은 열가소성 수지, 또는 수지와 함께 무기필러, 유기필러 및/또는 유리섬유(Glass Fiber, Glass Cloth, Glass Fabric)를 포함하는 재료를 포함할 수 있다. 예를 들면, 절연재는 ABF(Ajinomoto Build-up Film), PPG(Prepreg) 등의 비감광성 절연재일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 그 외에도 다른 기타 고분자 소재가 이용될 수 있다. 또한, 절연재는 PID(Photo Imageable Dielectric) 등의 감광성 절연재일 수도 있다.The second
복수의 제5 및 제6 회로패턴(131, 141)은 각각 금속을 포함할 수 있다. 금속은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 및/또는 이들의 합금 등을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 구리(Cu)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 복수의 제5 및 제6 회로패턴(131, 141)은 각각 설계 디자인에 따라 다양한 기능을 수행할 수 있다. 예를 들면, 신호 패턴, 파워 패턴, 그라운드 패턴을 포함할 수 있다. 이들 패턴은 각각 라인 패턴, 패드 패턴, 플레인 패턴 등을 포함할 수 있다. 복수의 제5 및 제6 회로패턴(131, 141)은 각각 무전해 도금층(또는 화학동)과 전해 도금층(또는 전기동)을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 무전해 도금층 대신 스퍼터층이 형성될 수도 있으며, 양자를 모두 포함할 수도 있다. 또한, 동박을 더 포함할 수 있다.Each of the plurality of fifth and
시드 금속층(m1, m2)은 각각 금속을 포함할 수 있다. 금속은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 및/또는 이들의 합금 등을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 구리(Cu)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 시드 금속층(m)은 무전해 도금층(또는 화학동) 및/또는 스퍼터층을 포함할 수 있다. 스퍼터층은 한층 또는 복수 층일 수 있다.The seed metal layers m1 and m2 may each include a metal. Metals include copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), lead (Pb), titanium (Ti), and/or alloys thereof. It can be included. Preferably, it may include copper (Cu), but is not limited thereto. The seed metal layer (m) may include an electroless plating layer (or chemical copper) and/or a sputtering layer. The sputter layer may be one layer or multiple layers.
제1 및 제2 접속비아(151, 152)는 각각 복수의 마이크로 비아를 포함할 수 있다. 마이크로 비아는 비아홀을 채우는 필드 비아(filed VIA)이거나 또는 비아홀의 벽면을 따라 배치되는 컨퍼멀 비아(conformal VIA)일 수 있다. 마이크로 비아는 스택 타입(stacked type) 및/또는 스태거리드 타입(staggered type)으로 배치될 수 있다. 마이크로 비아는 상면의 폭이 하면의 폭보다 좁은 테이퍼진 형태를 가질 수 있다. 제1 및 제2 접속비아(151, 152)는 각각 금속을 포함할 수 있으며, 금속은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 구리(Cu)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 제1 및 제2 접속비아(151, 152)는 각각 무전해 도금층(또는 화학동)과 전해 도금층(또는 전기동)을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 무전해 도금층 대신 스퍼터층이 형성될 수도 있으며, 양자를 모두 포함할 수도 있다. 제1 및 제2 접속비아(151, 152)는 각각 해당 층의 설계 디자인에 따라서 다양한 기능을 수행할 수 있다. 예를 들면, 그라운드 비아, 파워 비아, 신호 비아 등을 포함할 수 있다.The first and
제1 및 제2 레지스트층(161, 162)은 액상 또는 필름 타입의 솔더 레지스트(Solder Resist)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 종류의 절연재가 사용될 수도 있다. 제1 레지스트층(161)은 한 개 이상의 제3 회로패턴(123) 중 적어도 하나의 적어도 일부 및/또는 한 개 이상의 제4 회로패턴(124) 중 적어도 하나의 적어도 일부를 노출시키는 제1 및/또는 제2 개구(h1, h3)를 가질 수 있다. 제2 레지스트층(162)은 복수의 제6 회로패턴(141) 중 적어도 하나의 적어도 일부를 노출시키는 제3 개구(h2)를 가질 수 있다. 제1 개구(h1), 제2 개구(h3) 및/또는 제3 개구(h2)로 노출되는 패턴 상에는 표면처리층이 형성될 수 있다. 또는, 제1 개구(h1), 제2 개구(h3) 및/또는 제3 개구(h2)로 노출되는 패턴 상에는 금속범프가 형성될 수도 있다. 제2 개구(h3)는 제1 개구(h1)보다 깊이가 깊을 수 있다.The first and second resist
필요에 따라서는, 다층 형태의 인쇄회로기판들(300A, 300B, 300C, 300D)은 도면에 도시한 것 보다 많은 수의 절연층과 배선층과 접속비아층을 포함할 수 있으며, 예컨대 제1 및 제2 절연층(111, 112) 사이에 이들 구성이 추가될 수 있다.If necessary, the multi-layer printed circuit boards (300A, 300B, 300C, 300D) may include a larger number of insulating layers, wiring layers, and connection via layers than shown in the drawings, for example, first and first These components may be added between the two insulating
그 외에 다른 내용은 상술한 인쇄회로기판들(100A, 100B, 100C, 100D)에서 설명한 바와 실질적으로 동일하며, 이에 대한 중복되는 설명은 생략한다.Other contents are substantially the same as those described for the above-mentioned printed
한편, 다층 형태의 인쇄회로기판들(300A, 300B, 300C, 300D)은, 상술한 도 7a 내지 도 7k와 상술한 도 8a 내지 도 8d에서 설명한 제조방법에 있어서, 제1 절연층(111)을 형성하는 단계 이후에, 제1 절연층(111) 상에 제2 배선층(130)을 형성하는 단계, 제1 절연층(111)을 관통하며 제2 배선층(130) 의 적어도 일부와 연결되는 제1 접속비아(151)를 형성하는 단계, 제1 절연층(111) 상에 제2 배선층(130)의 적어도 일부를 덮는 제2 절연층(112)을 형성하는 단계, 제2 절연층(112) 상에 제3 배선층(140)을 형성하는 단계, 및 제2 절연층(112)을 관통하며 제3 배선층(140)의 적어도 일부와 연결되는 제2 접속비아(152)를 형성하는 단계를 더 포함하는 방법으로 형성할 수 있다. 필요에 따라서는, 금속층(231)의 잔존하는 나머지를 식각하는 단계 이후에, 제1 절연층(111) 상에 복수의 제1 및 제2 금속패턴(221, 222) 각각의 적어도 일부와 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(223, 224) 각각의 적어도 일부를 덮는 제1 레지스트층(161)을 형성하는 단계, 및 제2 절연층(112) 상에 제3 배선층(140)의 적어도 일부를 덮는 제2 레지스트층(162)을 형성하는 단계를 더 포함하여 형성할 수 있다.On the other hand, the multi-layer printed circuit boards (300A, 300B, 300C, 300D) include the first insulating
제2 절연층(112)과 제2 및 제3 배선층(130, 140)과 제1 및 제2 접속비아(151, 52)는 빌드업 공정으로 형성할 수 있다. 예를 들면, 제2 절연층(112)은 미경화 상태의 필름을 적층한 후 경화하여 형성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 제2 및 제3 배선층(130, 140)과 제1 및 제2 접속비아(151, 152)는 제1 및 제2 절연층(111, 112)에 비아홀을 가공한 후 SAP, MSAP 등을 이용하는 도금 공정으로 형성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The second
그 외에 다른 내용은 상술한 도 7a 내지 도 7k와 상술한 도 8a 내지 도 8d에서 설명한 제조방법에서 설명한 바와 실질적으로 동일하며, 이에 대한 중복되는 설명은 생략한다.Other contents are substantially the same as those described in the manufacturing method described in FIGS. 7A to 7K and FIGS. 8A to 8D, and overlapping description thereof will be omitted.
도 13은 인쇄회로기판의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.Figure 13 is a cross-sectional view schematically showing another example of a printed circuit board.
도면을 참조하면, 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)은 제1 절연층(411), 제1 절연층(411) 상에 각각 배치된 복수의 제1 회로패턴(421a, 421b), 및 제1 절연층(411) 상에 각각 배치되는 복수의 제2 회로패턴(422)을 포함한다. 복수의 제1 회로패턴(421a, 421b)의 두께(H1)는 복수의 제2 회로패턴(422)의 두께(H2)보다 두껍다. 복수의 제1 회로패턴(421a, 421b) 중 두 개는 한 쌍(421)으로 복수의 제2 회로패턴(422) 중 한 개와 서로 교대로 반복적으로 배치된다. 서로 교대로 반복적으로 배치되는 것은 적어도 두 번 서로 교대로 배치되는 것일 수 있으며, 예를 들면, 단면 상에서 제2 회로패턴(422), 제1-1 회로패턴(421a), 제1-2 회로패턴(421b), 제2 회로패턴(422), 제1-1 회로패턴(421a), 제1-2 회로패턴(421b), 제2 회로패턴(422) 등이 제1 절연층(411) 상에 이 순서로 배치될 수 있다. 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422)의 교대로 반복 배치되는 수는 특별히 한정되지 않으며, 설계에 따라 달라질 수 있다. 한 쌍의 제1 회로패턴들(421) 각각의 서로 마주보는 일 측면은 그 사이의 간격이 제1 절연층(111)과 가까워질수록 실질적으로 작아지도록 기울어질 수 있다. 한 쌍의 제1 회로패턴들(421) 각각의 타 측면은 실질적으로 수직할 수 있다. 이러한 반복 배치에 있어서, 한 쌍의 제1 회로패턴들(421) 각각의 의 선폭(V1)과 한 개의 제2 회로패턴(422)의 의 선폭(V2)과 한 쌍의 제1 회로패턴들(421)과 한 개의 제2 회로패턴(422) 사이의 간격(C1)과 한 쌍의 제1 회로패턴들(421) 사이의 간격(C2)은 서로 실질적으로 동일할 수 있다.Referring to the drawings, a printed
한편, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422)은 미세회로 패턴일 수 있다. 예를 들면, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422)은 각각의 선폭(V1, V2)이 10㎛ 이하, 또는 5㎛ 이하, 또는 2㎛ 이하일 수 있다. 또한, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422)은 그 사이의 간격(C1, C2)이 각각 10㎛ 이하, 또는 5㎛ 이하, 또는 2㎛ 이하일 수 있다. 예를 들면, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422)은 L(Line)/S(Space)가 10㎛/10㎛ 이하, 또는 5㎛/5㎛ 이하, 또는 2㎛/2㎛ 이하인 미세회로 패턴일 수 있다.Meanwhile, the plurality of first and
이러한 구조의 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400B)은 후술하는 새로운 공정을 통하여 형성될 수 있으며, 이 경우 종래의 SAP, MSAP 등과 다르게 노광 설비의 해상력의 한계를 극복할 수 있으며, 별도의 시드 식각 공정을 진행하지 않을 수 있는바, 결과적으로는 L/S가 10㎛/10㎛ 이하, 또는 5㎛/5㎛ 이하, 또는 2㎛/2㎛ 이하인 미세회로 패턴을 용이하게 형성할 수 있다.A printed
한편, 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400B)은 제1 절연층(411) 상에 각각 배치되며 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422) 각각의 선폭(V1, V2)보다 폭 또는 선폭(V3)이 넓은 한 개 이상의 제3 회로패턴(423)을 더 포함할 수 있다. 한 개 이상의 제3 회로패턴(423)은 미세회로 패턴이 아닌 일반회로 패턴, 예컨대 선폭과 그 사이의 간격이 각각 10㎛ 초과인 일반회로 패턴, 및/또는 패드 패턴, 예컨대 폭이 10㎛ 초과인 패드 패턴을 포함할 수 있다.Meanwhile, the printed
한편, 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400B)은 제1 절연층(411) 상에 각각 배치되며 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422) 각각의 선폭(W1, W2)보다 폭 또는 선폭(V4)이 넓은 한 개 이상의 제4 회로패턴(424)을 더 포함할 수 있다. 한 개 이상의 제4 회로패턴(424)의 두께(H4)는 한 개 이상의 제3 회로패턴(423)의 두께(H3)보다 두꺼울 수 있다. 한 개 이상의 제4 회로패턴(424)은 미세회로 패턴이 아닌 일반회로 패턴, 예컨대 선폭과 그 사이의 간격이 각각 10㎛ 초과인 일반회로 패턴, 및/또는 플레인 패턴, 예컨대 폭이 10㎛ 초과인 플레인 패턴을 포함할 수 있다.Meanwhile, the printed
이하에서는 도면을 참조하여 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)의 구성요소에 대하여 보다 자세히 설명한다.Hereinafter, components of the printed
제1 절연층(411)은 절연재를 포함할 수 있다. 절연재는 에폭시 수지와 같은 열경화성 수지, 폴리이미드와 같은 열가소성 수지, 또는 수지와 함께 무기필러, 유기필러 및/또는 유리섬유(Glass Fiber, Glass Cloth, Glass Fabric)를 포함하는 재료를 포함할 수 있다. 예를 들면, 절연재는 ABF(Ajinomoto Build-up Film), PPG(Prepreg) 등의 비감광성 절연재일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 그 외에도 다른 기타 고분자 소재가 이용될 수 있다. 또한, 절연재는 PID(Photo Imageable Dielectric) 등의 감광성 절연재일 수도 있다.The first insulating
복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422)은 각각 금속을 포함할 수 있다. 금속은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 및/또는 이들의 합금 등을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 구리(Cu)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422)은 각각 설계 디자인에 따라 다양한 기능을 수행할 수 있다. 예를 들면, 신호 패턴을 포함할 수 있다. 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422)은 각각 별도의 시드 금속층을 포함하지 않을 수 있다. 예를 들면, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422)은 각각 전해 도금층(또는 전기동)을 포함할 수 있으며, 무전해 도금층(또는 화학동)이나 스퍼터층은 포함하지 않을 수 있다.Each of the first and
한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424)은 각각 금속을 포함할 수 있다. 금속은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 및/또는 이들의 합금 등을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 구리(Cu)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424)은 각각 설계 디자인에 따라 다양한 기능을 수행할 수 있다. 예를 들면, 신호 패턴, 파워 패턴, 그라운드 패턴을 포함할 수 있다. 이들 패턴은 각각 라인 패턴, 패드 패턴, 플레인 패턴 등을 포함할 수 있다. 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424)은 각각 별도의 시드 금속층을 포함하지 않을 수 있다. 예를 들면, 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424)은 각각 전해 도금층(또는 전기동)을 포함할 수 있으며, 무전해 도금층(또는 화학동)이나 스퍼터층은 포함하지 않을 수 있다.One or more third and
도 14 내지 도 16은 도 13의 인쇄회로기판의 변형 예들을 계략적으로 나타낸 단면도들이다.Figures 14 to 16 are cross-sectional views schematically showing modified examples of the printed circuit board of Figure 13.
도 14를 참조하면, 변형 예에 따른 인쇄회로기판(400B)은, 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)에 있어서, 제1 절연층(411)의 일부(411P1)가 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422) 사이 중 적어도 하나 사이로 돌출되어 배치된다. 예컨대, 제1 절연층(411)의 일부(411P)는 상술한 반복 배치에 있어서, 단면 상에서, 한 쌍의 제1 회로패턴들(421) 각각의 타 측면 중 적어도 하나와 한 개의 제2 회로패턴(422)의 일 측면 및 타 측면 중 적어도 하나 사이로 돌출되어 배치될 수 있다. 이 경우, 제1 절연층(411)과 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422) 사이의 접속 신뢰성을 보다 개선할 수 있다. 한편, 제1 절연층(411)의 일부(411P1)는 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422) 중 적어도 하나와 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424) 중 적어도 하나 사이, 및/또는 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424) 사이로도 돌출되어 배치될 수 있다. 이 경우, 제1 절연층(411)과 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424) 사이의 접속 신뢰성 역시 보다 개선할 수 있다. 한편, 제1 절연층(111)의 다른 일부(411P2), 예컨대 상술한 반복 배치에 있어서, 단면 상에서, 한 쌍의 제1 회로패턴들(421) 각각의 일 측면 사이에 배치되는 다른 일부(411P2)는 한 쌍의 제1 회로패턴들(421) 각각의 일 측면 사이로 돌출되지 않을 수 있으며, 따라서 상술한 일부(411P1)와 단차를 가질 수 있다.Referring to FIG. 14, the printed
도 15를 참조하면, 다른 변형 예에 따른 인쇄회로기판(400C)은, 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)에 있어서, 복수의 제1 회로패턴(421a, 421b) 각각의 하측의 적어도 일부에 언더컷이 형성되며, 복수의 제2 회로패턴(422) 각각의 하측의 적어도 일부에 풋이 형성된다. 예컨대, 상술한 반복 배치에 있어서, 단면 상에서, 한 쌍의 제1 회로패턴들(421) 각각은 타 측면의 하측에 홈부(421aU, 421bU)를 가질 수 있으며, 한 개의 제2 회로패턴(422)은 양 측면의 하측에 돌출부(422F)를 가질 수 있다. 이 경우, 제1 절연층(111)과 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422) 사이의 접속 신뢰성을 보다 개선할 수 있다. 한편, 한 개 이상의 제3 회로패턴(423) 각각의 하측의 적어도 일부에도 언더컷이 형성될 수 있으며, 한 개 이상의 제4 회로패턴(424) 각각의 하측의 적어도 일부에도 풋이 형성될 수 있다. 이 경우, 제1 절연층(411)과 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424) 사이의 접속 신뢰성 역시 보다 개선할 수 있다.Referring to FIG. 15, the printed
도 16을 참조하면, 또 다른 변형 예에 따른 인쇄회로기판(400D)은, 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)에 있어서, 제1 절연층(411)의 일부(411P1)가 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422) 사이 중 적어도 하나 사이로 돌출되어 배치된다. 또한, 복수의 제1 회로패턴(421a, 421b) 각각의 하측의 적어도 일부에 언더컷이 형성되며, 복수의 제2 회로패턴(422) 각각의 하측의 적어도 일부에 풋이 형성된다. 한편, 제1 절연층(411)의 일부(411P1)는 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422) 중 적어도 하나와 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424) 중 적어도 하나 사이, 및/또는 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424) 사이로도 돌출되어 배치될 수 있다. 또한, 한 개 이상의 제3 회로패턴(423) 각각의 하측의 적어도 일부에도 언더컷이 형성될 수 있으며, 한 개 이상의 제4 회로패턴(424) 각각의 하측의 적어도 일부에도 풋이 형성될 수 있다. 이에 대한 구체적인 구조 및 효과는 상술한 바와 같다. 한편, 제1 절연층(111)의 다른 일부(411P2), 예컨대 상술한 반복 배치에 있어서, 단면 상에서, 한 쌍의 제1 회로패턴들(421) 각각의 일 측면 사이에 배치되는 다른 일부(411P2)는 한 쌍의 제1 회로패턴들(421) 각각의 일 측면 사이로 돌출되지 않을 수 있으며, 따라서 상술한 일부(411P1)와 단차를 가질 수 있다.Referring to FIG. 16, the printed
그 외에 다른 내용은 상술한 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)에서 설명한 바와 실질적으로 동일하며, 이에 대한 중복되는 설명은 생략한다.Other than that, other contents are substantially the same as those described in the printed
도 17a 내지 도 17l은 도 13의 인쇄회로기판의 제조 일례를 개략적으로 나타낸 공정 단면도들이다.FIGS. 17A to 17L are cross-sectional views schematically showing an example of manufacturing the printed circuit board of FIG. 13.
도면을 참조하면, 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)의 제조방법은 기판(510) 상에 복수의 제1 금속패턴(521)을 형성하는 단계, 기판(510) 상에 복수의 제1 금속패턴(521)을 덮으며 복수의 제1 금속패턴(521)과 상이한 금속을 포함하는 금속층(531)을 형성하는 단계, 금속층(531) 상에 금속층(531) 사이의 공간(D1)의 적어도 일부를 각각 채우며 금속층(531)과 상이한 금속을 포함하는 복수의 제2 금속패턴(522)을 형성하는 단계, 금속층(531)의 일부를 식각하여 복수의 제1 금속패턴(521) 각각의 적어도 일부를 금속층(531)으로부터 노출시키는 단계, 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522) 상에 제1 절연층(411)을 형성하는 단계, 기판(510)을 제거하는 단계, 복수의 제1 금속패턴(521) 각각을 식각하여 복수의 제1 금속패턴(521) 각각을 적어도 두 개(521a, 521b)로 나누는 단계, 및 금속층(531)의 잔존하는 나머지를 식각하는 단계를 포함한다. 금속층(531)은 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522)과 상이한 금속을 포함할 수 있다. 예를 들면, 금속층(531)은 금속층(531) 식각을 위한 식각액에 대한 식각비가 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522)과 상이할 수 있다. 예를 들면, 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522)은 구리(Cu)를 포함할 수 있으며, 금속층(531)은 니켈(Ni)을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Referring to the drawings, a method of manufacturing a printed
한편, 복수의 제1 금속패턴(521)을 형성하는 단계에서, 복수의 제1 금속패턴(521) 각각의 폭을 3n이라 할 때, 복수의 제1 금속패턴(521) 사이의 간격은 각각 실질적으로 3n을 만족할 수 있다. 또한, 금속층(531)을 형성하는 단계에서, 금속층(531)의 두께 또는 폭은 실질적으로 n을 만족할 수 있다. 또한, 복수의 제1 금속패턴(521) 각각을 적어도 두 개(521a, 521b)로 나누는 단계에서, 복수의 제1 금속패턴(521) 각각의 나누어진 적어도 두 개(521a, 521b) 각각의 폭은 실질적으로 n을 만족할 수 있다. 따라서, 최종적으로 L/S가 n/n인 미세회로를 형성할 수 있다. 이와 같이, 최초 금속패턴의 폭과 간격을 각각 3n으로 하여도 최종적으로는 미세회로의 선폭과 간격을 각각 n으로 형성할 수 있다.Meanwhile, in the step of forming the plurality of
이러한 제조방법으로 형성되는 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)은 상술한 바와 같이 최초 금속패턴의 간격을 여유롭게 형성할 수 있는바 종래의 SAP, MSAP 등과 다르게 노광 설비의 해상력의 한계를 극복할 수 있으며, 별도의 시드 식각 공정을 진행하지 않을 수 있는바, 결과적으로는 L/S가 10㎛/10㎛ 이하, 또는 5㎛/5㎛ 이하, 또는 2㎛/2㎛ 이하인 미세회로 패턴을 용이하게 형성할 수 있다.The printed
한편, 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)의 제조방법은 기판(510) 상에 한 개 이상의 제3 금속패턴(523)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 한 개 이상의 제3 금속패턴(523)은 복수의 제1 금속패턴(521)을 형성할 때 함께 형성할 수 있다. 한 개 이상의 제3 금속패턴(523)은 금속층(531)과 상이한 금속을 포함할 수 있다. 예를 들면, 한 개 이상의 제3 금속패턴(523)은 구리(Cu)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Meanwhile, the method of manufacturing the printed
한편, 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)의 제조방법은 금속층(531) 상에 금속층(531) 사이의 다른 공간(D2)의 적어도 일부를 각각 채우는 한 개 이상의 제4 금속패턴(524)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 한 개 이상의 제4 금속패턴(524)은 금속층(531)과 상이한 금속을 포함할 수 있다. 예를 들면, 한 개 이상의 제4 금속패턴(524)은 구리(Cu)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Meanwhile, a method of manufacturing a printed circuit board (400A) according to another example involves forming one or more
한편, 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)의 제조방법은 기판(510)을 제거하는 단계 이후에 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 상에 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 중 적어도 하나의 일부를 노출시키는 드라이 필름(542)을 형성하는 단계, 및 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 중 적어도 하나의 노출된 일부를 식각하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이러한 단계들은 복수의 제1 금속패턴(521) 각각을 적어도 두 개(521a, 521b)로 나누는 단계 전에 또는 후에 수행할 수 있다. 이를 통하여, 복수의 제1 금속패턴(521), 복수의 제2 금속패턴(521), 한 개 이상의 제3 금속패턴(523), 및/또는 한 개 이상의 제4 금속패턴(534) 중 서로 연결된 부분이나 불필요한 부분 등을 제거할 수 있다.Meanwhile, a method of manufacturing a printed circuit board (400A) according to another example includes a plurality of first and second metal patterns (521, 522) and one or more third and fourth metals after the step of removing the substrate (510). A
이하에서는 도면을 참조하여 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)의 제조방법에 대하여 보다 자세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a printed
도 17a를 참조하면, 기판(510)을 준비한다. 기판(510)은 CCL(Copper Clad Laminate)일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 디테치가 가능한 다양한 종류의 캐리어 기판이 이용될 수 있다. 기판(510)은 디테치 코어(511)와 디테치 금속층(512)을 포함할 수 있다. 디테치 금속층(512)은 디테치 코어(511)의 일면 또는 양면 상에 배치될 수 있다. 디테치 코어(511)는 절연재, 예컨대 유리섬유가 함침된 에폭시 수지를 포함할 수 있으며, 디테치 금속층(512)은 금속, 예컨대 구리(Cu)를 포함할 수 있다. 필요에 따라서는, 디테치 코어(511)와 디테치 금속층(512) 사이에 이형층이 더 배치될 수 있다.Referring to FIG. 17A, a
도 17b를 참조하면, 기판(510) 상에 복수의 제1 금속패턴(521)을 형성한다. 이때, 한 개 이상의 제3 금속패턴(523)을 더 형성할 수 있다. 복수의 제1 금속패턴(521)과 한 개 이상의 제3 금속패턴(523)은 기판(510) 상에 감광성 절연재를 포함하는 드라이 필름을 형성하고, 포토리소그래피 공정, 예컨대 노광 및 현상으로 드라이 필름에 패턴 개구를 형성하고, 패턴 개구를 통하여 노출되는 디테치 금속층(512)을 시드 금속층으로 이용하여 도금 공정, 예컨대 전해 도금(또는 전기동)으로 패턴 개구의 적어도 일부를 채워서 형성할 수 있다. 한 개 이상의 제3 금속패턴(523)은 복수의 제1 금속패턴(521)과 동일한 금속, 예컨대 구리(Cu)를 포함할 수 있다. 복수의 제1 금속패턴(521) 각각의 폭을 3n이라 할 때, 복수의 제1 금속패턴(521) 사이의 간격은 각각 실질적으로 3n을 만족할 수 있다.Referring to FIG. 17B, a plurality of
도 17c를 참조하면, 복수의 제1 금속패턴(521)과 한 개 이상의 제3 금속패턴(523) 상에 복수의 제1 금속패턴(521)과 한 개 이상의 제3 금속패턴(523)을 덮는 금속층(531)을 형성한다. 금속층(531)은 도금 공정, 예컨대 전해 도금(또는, 전기동)으로 형성할 수 있다. 금속층(531)은 복수의 제1 금속패턴(521) 및 한 개 이상의 제3 금속패턴(523)과 상이한 금속, 예컨대 니켈(Ni)을 포함할 수 있다. 복수의 제1 금속패턴(521) 각각의 폭을 n이라 할 때, 금속층(531)은 두께 또는 폭은 실질적으로 n을 만족할 수 있다.Referring to FIG. 17C, a plurality of
도 17d를 참조하면, 금속층(531) 상에 금속층(531) 사이의 공간(D1)의 적어도 일부를 각각 채우는 복수의 제2 금속패턴(522)을 형성한다. 이때, 금속층(531) 상에 금속층(531) 사이의 다른 공간(D2)의 적어도 일부를 각각 채우는 한 개 이상의 제4 금속패턴(524)을 더 형성할 수 있다. 복수의 제2 금속패턴(522)과 한 개 이상의 제4 금속패턴(524)은 도금 공정, 예컨대 전해 도금(또는 전기동)으로 공간(G1, G2) 각각의 적어도 일부를 채워서 형성할 수 있다. 한 개 이상의 제4 금속패턴(524)은 복수의 제2 금속패턴(522)과 동일한 금속, 예컨대 구리(Cu)를 포함할 수 있다. 복수의 제1 금속패턴(521) 각각의 폭을 3n이라 할 때, 복수의 제2 금속패턴(522) 각각의 폭은 실질적으로 n을 만족할 수 있다.Referring to FIG. 17D, a plurality of
도 17e를 참조하면, 금속층(531)의 일부를 식각하여 복수의 제1 금속패턴(521) 각각의 적어도 일부와 한 개 이상의 제3 금속패턴(523) 각각의 적어도 일부를 금속층(531)으로부터 노출시킨다. 금속층(531)은 복수의 제1 금속패턴(521) 및 한 개 이상의 제3 금속패턴(523)과 상이한 금속, 예컨대 니켈(Ni)을 포함하는바, 예컨대 니켈(Ni)용 식각액을 이용하여 선택적으로 식각할 수 있다. 니켈(Ni)용 식각액은 니켈(Ni)과 구리(Cu)의 식각비가 최소 8:2 이상인 것을 이용할 수 있다.Referring to FIG. 17E, a portion of the
도 17f를 참조하면, 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 상에 제1 절연층(411)을 형성한다. 제1 절연층(411)은 미경화 상태의 필름을 적층한 후 경화하여 형성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Referring to FIG. 17F, a first insulating
도 17g 및 도 17h를 참조하면, 기판(510)을 제거한다. 디테치 코어(511)는 디테치 금속층(512)로부터 분리하여 제거할 수 있다. 디테치 코어(511)의 분리 제거 이후에 잔존하는 디테치 금속층(512)은 식각하여 제거할 수 있다.Referring to FIGS. 17G and 17H, the
도 17i를 참조하면, 복수의 제1 금속패턴(521) 각각을 식각하여 복수의 제1 금속패턴(521) 각각을 적어도 두 개(521a, 521b)로 나눈다. 식각 방법으로는, 예를 들면, 텐팅을 이용할 수 있다. 예를 들면, 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 상에 복수의 제1 금속패턴(521) 각각의 중심부를 노출시키는 개구를 가지는 제1 드라이 필름(541)을 형성한 후, 복수의 제1 금속패턴(521) 각각의 노출되는 부분을 식각하여 복수의 제1 금속패턴(521) 각각을 적어도 두 개(521a, 521b)로 나눌 수 있다. 제1 드라이 필름(541)의 개구는 포토리소그래피 공정, 예컨대 노광 및 현상으로 형성할 수 있다. 제1 드라이 필름(541)의 개구는 실질적으로 n을 만족할 수 있으며, 따라서 복수의 제1 금속패턴(521) 각각의 나누어진 적어도 두 개(521a, 521b) 각각의 폭은 실질적으로 n을 만족할 수 있다.Referring to FIG. 17I, each of the plurality of
도 17j 및 도 17k를 참조하면, 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 상에 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 중 적어도 하나의 일부를 노출시키는 제2 드라이 필름(542)을 형성하며, 이후 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 중 적어도 하나의 노출된 일부를 식각한다. 제2 드라이 필름(542)의 개구는 포토리소그래피 공정, 예컨대 노광 및 현상으로 형성할 수 있다. 이러한 공정들은 복수의 제1 금속패턴(521) 각각을 적어도 두 개(521a, 521b)로 나누기 전에 수행할 수도 있다. 이를 통하여, 복수의 제1 금속패턴(521), 복수의 제2 금속패턴(521), 한 개 이상의 제3 금속패턴(523), 및/또는 한 개 이상의 제4 금속패턴(534) 중 서로 연결된 부분이나 불필요한 부분 등을 제거할 수 있다.Referring to FIGS. 17J and 17K, a plurality of first and
도 17l을 참조하면, 금속층(531)의 잔존하는 나머지를 식각한다. 금속층(531)의 식각에 의하여 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522)과 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 각각으로부터 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422)과 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424)이 형성될 수 있다.Referring to FIG. 17L, the remaining portion of the
일련의 과정을 통하여 상술한 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)이 형성될 수 있으며, 그 외에 다른 내용은 상술한 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)에서 설명한 바와 실질적으로 동일한바, 이에 대한 중복되는 설명은 생략한다.Through a series of processes, the printed
도 18a 내지 도 18d는 각각 도 13 내지 도 16의 인쇄회로기판의 제조를 위한 복수의 제1 및 제2 금속패턴과 금속층의 형태 및 금속층 중 일부의 식각 정도를 개략적으로 나타난 공정 단면도들이다.FIGS. 18A to 18D are process cross-sectional views schematically showing the shapes of a plurality of first and second metal patterns and metal layers and the degree of etching of some of the metal layers for manufacturing the printed circuit boards of FIGS. 13 to 16, respectively.
도 18a를 참조하면, (a) 단계에서와 같이, 복수의 제1 금속패턴(521)은 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 실질적으로 수직하게 형성될 수 있으며, 따라서 금속층(531)과 복수의 제2 금속패턴(522)도 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 실질적으로 수직하게 형성될 수 있다. 이때, 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 역시 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 실질적으로 수직하게 형성될 수 있다. 또한, (b) 단계에서와 같이, 금속층(531)이 선택적으로 제거될 때 금속층(531)의 탑 면은 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522) 각각의 탑 면과 실질적으로 코플래너하게 식각될 수 있다. 이때, 금속층(531)은 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 각각의 탑 면과도 실질적으로 코플래너하게 식각될 수 있다. 따라서, (c) 단계에서와 같이, 제1 절연층(411)이 실질적으로 코플래너한 평평한 면에 형성될 수 있다. 또한, (d) 단계에서와 같이, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422)의 바텀 측에 언더컷이나 풋이 형성되지 않을 수 있다. 이때, 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424)의 바텀 측에도 언더컷이나 풋이 형성되지 않을 수 있다. 또한, 제1 절연층(411)의 탑 면이 단차 없이 실질적으로 평평할 수 있다. 예를 들면, 다른 일례에 따른 인쇄회로기판(400A)의 구조가 형성될 수 있다.Referring to FIG. 18A, as in step (a), at least a portion of the edge of each top surface of the plurality of
도 18b를 참조하면, 도 18a에서와 다르게, (b) 단계에서 금속층(531)이 선택적으로 제거될 때 금속층(531)이 과 식각되어 금속층(531)의 탑 면이 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522) 각각의 탑 면과 단차를 가지도록 식각될 수 있다. 이때, 금속층(531)은 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 각각의 탑 면과도 단차를 가지도록 식각될 수 있다. 따라서, (c) 단계에서 제1 절연층(411)이 과 식각된 영역으로 연장될 수 있다. 또한 (d) 단계에서 제1 절연층(411)의 일부(411P1)가 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422) 사이 중 일부 사이로 돌출될 수 있다. 이때, 제1 절연층(411)의 일부(411P1)가 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424) 사이 등으로도 돌출될 수 있다. 예를 들면, 변형 예에 따른 인쇄회로기판(400B)의 구조가 형성될 수 있다.Referring to FIG. 18B, unlike in FIG. 18A, when the
도 18c를 참조하면, 도 18a에서와 다르게, (a) 단계에서 복수의 제1 금속패턴(521)은 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 라운드지게 형성될 수 있다. 따라서, 금속층(531)의 탑 면의 엣지의 적어도 일부도 라운드지게 형성될 수 있으며, 복수의 제2 금속패턴(522) 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부는 뾰족하게 형성될 수 있다. 이때, 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 역시 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 라운드지게 또는 뾰족하게 형성될 수 있다. 따라서, (d) 단계에서 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422) 각각의 바텀 측의 적어도 일부에 언더컷이나 풋, 예컨대 홈부(421aU, 421bU)와 돌출부(422F)가 형성될 수 있다. 이때, 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424) 각각의 바텀 측의 적어도 일부에 언더컷이나 풋이 형성될 수 있다. 예를 들면, 다른 변형 예에 따른 인쇄회로기판(400C)의 구조가 형성될 수 있다.Referring to FIG. 18C, unlike in FIG. 18A, in step (a), the plurality of
도 18d를 참조하면, 도 18a에서와 다르게, (a) 단계에서 복수의 제1 금속패턴(521)은 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 라운드지게 형성될 수 있다. 따라서, 금속층(531)의 탑 면의 엣지의 적어도 일부도 라운드지게 형성될 수 있으며, 복수의 제2 금속패턴(522) 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부는 뾰족하게 형성될 수 있다. 이때, 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 역시 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 라운드지게 또는 뾰족하게 형성될 수 있다. 또한, (b) 단계에서 금속층(531)이 선택적으로 제거될 때 금속층(531)이 과 식각되어 금속층(531)의 탑 면이 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522) 각각의 탑 면과 단차를 가지도록 식각될 수 있다. 이때, 금속층(531)은 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 각각의 탑 면과도 단차를 가지도록 식각될 수 있다. 따라서, (c) 단계에서 제1 절연층(411)이 과 식각된 영역으로 연장될 수 있다. 또한, (d) 단계에서 제1 절연층(411)의 일부(411P1)가 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422) 사이 중 일부 사이로 돌출될 수 있다. 이때, 제1 절연층(411)의 일부(411P1)가 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424) 사이 등으로도 돌출될 수 있다. 또한, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422) 각각의 바텀 측의 적어도 일부에 언더컷이나 풋, 예컨대 홈부(421aU, 421bU)와 돌출부(422F)가 형성될 수 있다. 이때, 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424) 각각의 바텀 측의 적어도 일부에 언더컷이나 풋이 형성될 수 있다. 예를 들면, 또 다른 변형 예에 따른 인쇄회로기판(400D)의 구조가 형성될 수 있다.Referring to FIG. 18D, unlike in FIG. 18A, in step (a), the plurality of
그 외에 다른 내용은 상술한 인쇄회로기판들(400A, 400B, 400C, 400D)과 상술한 인쇄회로기판(400A)의 제조방법에서 설명한 바와 실질적으로 동일하며, 이에 대한 중복되는 설명은 생략한다.Other contents are substantially the same as those described in the above-mentioned printed
도 19는 내지 도 22는 각각 도 13 내지 도 16의 인쇄회로기판이 다층 인쇄회로기판에 적용된 경우를 개략적으로 나타낸 단면도들이다.FIGS. 19 to 22 are cross-sectional views schematically showing the case where the printed circuit board of FIGS. 13 to 16 is applied to a multilayer printed circuit board, respectively.
도면을 참조하면, 다층 형태의 인쇄회로기판들(600A, 600B, 600C, 600D)은 각각, 상술한 인쇄회로기판들(400A, 400B, 400C, 400D)에 있어서, 제1 절연층(411)의 상면 상에 배치되며 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422)과 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424)을 포함하는 제1 배선층(420), 제1 절연층(411)의 하면 상에 배치되는 복수의 제5 회로패턴(431)을 포함하는 제2 배선층(430), 제1 절연층(411)을 관통하며 제2 배선층(430)의 적어도 일부와 연결되는 제1 접속비아(451), 제2 절연층의 하면 상에 배치되며 제2 배선층(430)의 적어도 일부를 덮는 제2 절연층(412), 제2 절연층(412)의 하면 상에 배치되는 복수의 제6 회로패턴(441)을 포함하는 제3 배선층(440), 및 제2 절연층(412)을 관통하며 제3 배선층(440)의 적어도 일부와 연결되는 제2 접속비아(452)를 더 포함한다. 필요에 따라서는, 제1 절연층(411)의 상면 상에 배치되며 제1 배선층(420)의 적어도 일부를 덮는 제1 레지스트층(461), 및 제2 절연층(412)의 하면 상에 배치되며 제3 배선층(440)의 적어도 일부를 덮는 제2 레지스트층(462)을 더 포함할 수 있다.Referring to the drawings, the multi-layer printed circuit boards (600A, 600B, 600C, 600D) are the first insulating
한편, 복수의 제5 및 제6 회로패턴(431, 441)은 각각의 폭 또는 선폭(V5, V6)은 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422) 각각의 선폭(V1, V2)보다 넓을 수 있다. 또한, 복수의 제5 및 제6 회로패턴(431, 442) 사이의 간격(C3, C4)은 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422) 사이의 간격(C1, C2)보다 넓을 수 있다. 예를 들면, 복수의 제5 및 제6 회로패턴(431, 441)은 각각 미세회로 패턴이 아닌 일반회로 패턴, 예컨대 선폭(V5, V6)이 10㎛ 초과이며 그 간격(C3, C4)이 10㎛ 초과인 일반회로 패턴을 포함할 수 있으며, 또한 패드 패턴이나 플레인 패턴, 예컨대 폭이 10㎛ 초과인 패드 패턴이나 플레인 패턴을 포함할 수 있다.Meanwhile, the width or line width (V5, V6) of the plurality of fifth and sixth circuit patterns (431, 441) is the line width (V1, It can be wider than V2). In addition, the intervals C3 and C4 between the plurality of fifth and sixth circuit patterns 431 and 442 are longer than the intervals C1 and C2 between the plurality of first and
한편, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422)과 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424)은 시드 금속층을 포함하지 않을 수 있으며, 복수의 제5 회로패턴(431)과 복수의 제6 회로패턴(432)은 시드 금속층(n1, n2)을 포함할 수 있다. 이와 같이, 복수의 제1 및 제2 회로패턴(421a, 421b, 422)과 한 개 이상의 제3 및 제4 회로패턴(423, 424)은 MSAP, SAP 등의 도금 공정으로 형성하는 복수의 제5 회로패턴(431)과 복수의 제6 회로패턴(432)과는 다르게 상술한 미세회로 형성 공정으로 형성할 수 있는바, 시드 금속층을 포함하지 않을 수 있다.Meanwhile, the plurality of first and
이하에서는 도면을 참조하여 다층 형태의 인쇄회로기판들(600A, 600B, 600C, 600D)의 구성요소에 대하여 보다 자세히 설명한다.Hereinafter, the components of the multi-layer printed
제2 절연층(412)은 절연재를 포함할 수 있다. 절연재는 에폭시 수지와 같은 열경화성 수지, 폴리이미드와 같은 열가소성 수지, 또는 수지와 함께 무기필러, 유기필러 및/또는 유리섬유(Glass Fiber, Glass Cloth, Glass Fabric)를 포함하는 재료를 포함할 수 있다. 예를 들면, 절연재는 ABF(Ajinomoto Build-up Film), PPG(Prepreg) 등의 비감광성 절연재일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 그 외에도 다른 기타 고분자 소재가 이용될 수 있다. 또한, 절연재는 PID(Photo Imageable Dielectric) 등의 감광성 절연재일 수도 있다.The second insulating layer 412 may include an insulating material. The insulating material may include a thermosetting resin such as an epoxy resin, a thermoplastic resin such as polyimide, or a material containing an inorganic filler, an organic filler, and/or glass fiber (Glass Fiber, Glass Cloth, Glass Fabric) along with a resin. For example, the insulating material may be a non-photosensitive insulating material such as ABF (Ajinomoto Build-up Film) or PPG (Prepreg), but is not limited thereto, and other polymer materials may be used. Additionally, the insulating material may be a photosensitive insulating material such as PID (Photo Imageable Dielectric).
복수의 제5 및 제6 회로패턴(431, 441)은 각각 금속을 포함할 수 있다. 금속은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 및/또는 이들의 합금 등을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 구리(Cu)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 복수의 제5 및 제6 회로패턴(431, 441)은 각각 설계 디자인에 따라 다양한 기능을 수행할 수 있다. 예를 들면, 신호 패턴, 파워 패턴, 그라운드 패턴을 포함할 수 있다. 이들 패턴은 각각 라인 패턴, 패드 패턴, 플레인 패턴 등을 포함할 수 있다. 복수의 제5 및 제6 회로패턴(431, 441)은 각각 무전해 도금층(또는 화학동)과 전해 도금층(또는 전기동)을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 무전해 도금층 대신 스퍼터층이 형성될 수도 있으며, 양자를 모두 포함할 수도 있다. 또한, 동박을 더 포함할 수 있다.Each of the plurality of fifth and sixth circuit patterns 431 and 441 may include metal. Metals include copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), lead (Pb), titanium (Ti), and/or alloys thereof. It can be included. Preferably, it may include copper (Cu), but is not limited thereto. Each of the fifth and sixth circuit patterns 431 and 441 may perform various functions depending on the design. For example, it may include a signal pattern, power pattern, and ground pattern. Each of these patterns may include a line pattern, a pad pattern, a plane pattern, etc. The plurality of fifth and sixth circuit patterns 431 and 441 may include an electroless plating layer (or chemical copper) and an electrolytic plating layer (or electrolytic copper), respectively, but are not limited thereto. A sputtered layer may be formed instead of an electroless plating layer, and both may be included. Additionally, copper foil may be further included.
시드 금속층(n1, n2)은 각각 금속을 포함할 수 있다. 금속은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 및/또는 이들의 합금 등을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 구리(Cu)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 시드 금속층(m)은 무전해 도금층(또는 화학동) 및/또는 스퍼터층을 포함할 수 있다. 스퍼터층은 한층 또는 복수 층일 수 있다.The seed metal layers (n1, n2) may each include a metal. Metals include copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), lead (Pb), titanium (Ti), and/or alloys thereof. It can be included. Preferably, it may include copper (Cu), but is not limited thereto. The seed metal layer (m) may include an electroless plating layer (or chemical copper) and/or a sputtering layer. The sputter layer may be one layer or multiple layers.
제1 및 제2 접속비아(451, 452)는 각각 복수의 마이크로 비아를 포함할 수 있다. 마이크로 비아는 비아홀을 채우는 필드 비아(filed VIA)이거나 또는 비아홀의 벽면을 따라 배치되는 컨퍼멀 비아(conformal VIA)일 수 있다. 마이크로 비아는 스택 타입(stacked type) 및/또는 스태거리드 타입(staggered type)으로 배치될 수 있다. 마이크로 비아는 상면의 폭이 하면의 폭보다 좁은 테이퍼진 형태를 가질 수 있다. 제1 및 제2 접속비아(451, 452)는 각각 금속을 포함할 수 있으며, 금속은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 구리(Cu)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 제1 및 제2 접속비아(451, 452)는 각각 무전해 도금층(또는 화학동)과 전해 도금층(또는 전기동)을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 무전해 도금층 대신 스퍼터층이 형성될 수도 있으며, 양자를 모두 포함할 수도 있다. 제1 및 제2 접속비아(451, 452)는 각각 해당 층의 설계 디자인에 따라서 다양한 기능을 수행할 수 있다. 예를 들면, 그라운드 비아, 파워 비아, 신호 비아 등을 포함할 수 있다.The first and second connection vias 451 and 452 may each include a plurality of micro vias. Micro vias may be field vias that fill a via hole or conformal vias arranged along the wall of the via hole. Micro vias may be arranged as a stacked type and/or a staggered type. Micro vias may have a tapered shape where the width of the upper surface is narrower than the width of the lower surface. The first and second connection vias 451 and 452 may each include metal, and the metal may include copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), and nickel ( It may include Ni), lead (Pb), titanium (Ti), or alloys thereof, and preferably includes copper (Cu), but is not limited thereto. The first and second connection vias 451 and 452 may include an electroless plating layer (or chemical copper) and an electrolytic plating layer (or electrical copper), respectively, but are not limited thereto. A sputtered layer may be formed instead of an electroless plating layer, and both may be included. The first and second connection vias 451 and 452 may perform various functions depending on the design of the corresponding layer. For example, it may include ground vias, power vias, signal vias, etc.
제1 및 제2 레지스트층(461, 462)은 액상 또는 필름 타입의 솔더 레지스트(Solder Resist)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 종류의 절연재가 사용될 수도 있다. 제1 레지스트층(461)은 한 개 이상의 제3 회로패턴(423) 중 적어도 하나의 적어도 일부 및/또는 한 개 이상의 제4 회로패턴(424) 중 적어도 하나의 적어도 일부를 노출시키는 제1 및/또는 제2 개구(k1, k3)를 가질 수 있다. 제2 레지스트층(462)은 복수의 제6 회로패턴(441) 중 적어도 하나의 적어도 일부를 노출시키는 제3 개구(k2)를 가질 수 있다. 제1 개구(k1), 제2 개구(k3) 및/또는 제3 개구(k2)로 노출되는 패턴 상에는 표면처리층이 형성될 수 있다. 또는, 제1 개구(k1), 제2 개구(k3) 및/또는 제3 개구(k2)로 노출되는 패턴 상에는 금속범프가 형성될 수도 있다. 제2 개구(k3)는 제1 개구(k1)보다 깊이가 깊을 수 있다.The first and second resist layers 461 and 462 may include liquid or film-type solder resist, but are not limited thereto, and other types of insulating materials may be used. The first resist layer 461 exposes at least a portion of at least one of the one or more
필요에 따라서는, 다층 형태의 인쇄회로기판들(600A, 600B, 600C, 600D)은 도면에 도시한 것 보다 많은 수의 절연층과 배선층과 접속비아층을 포함할 수 있으며, 예컨대 제1 및 제2 절연층(311, 312) 사이에 이들 구성이 추가될 수 있다.If necessary, the multi-layer printed circuit boards (600A, 600B, 600C, 600D) may include a larger number of insulating layers, wiring layers, and connection via layers than shown in the drawings, for example, first and first These components may be added between the two insulating
그 외에 다른 내용은 상술한 인쇄회로기판들(400A, 400B, 400C, 400D)에서 설명한 바와 실질적으로 동일하며, 이에 대한 중복되는 설명은 생략한다.Other contents are substantially the same as those described for the above-mentioned printed
한편, 다층 형태의 인쇄회로기판들(600A, 600B, 600C, 600D)은, 상술한 도 17a 내지 도 17l과 상술한 도 18a 내지 도 18d에서 설명한 제조방법에 있어서, 제1 절연층(411)을 형성하는 단계 이후에, 제1 절연층(411) 상에 제2 배선층(430)을 형성하는 단계, 제1 절연층(411)을 관통하며 제2 배선층(430)의 적어도 일부와 연결되는 제1 접속비아(451)를 형성하는 단계, 제1 절연층(411) 상에 제2 배선층(430)의 적어도 일부를 덮는 제2 절연층(412)을 형성하는 단계, 제2 절연층(412) 상에 제3 배선층(440)을 형성하는 단계, 및 제2 절연층(412)을 관통하며 제3 배선층(440)의 적어도 일부와 연결되는 제2 접속비아(452)를 형성하는 단계를 더 포함하는 방법으로 형성할 수 있다. 필요에 따라서는, 금속층(531)의 잔존하는 나머지를 식각하는 단계 이후에, 제1 절연층(411) 상에 복수의 제1 및 제2 금속패턴(521, 522) 각각의 적어도 일부와 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴(523, 524) 각각의 적어도 일부를 덮는 제1 레지스트층(461)을 형성하는 단계, 및 제2 절연층(412) 상에 제3 배선층(440)의 적어도 일부를 덮는 제2 레지스트층(462)을 형성하는 단계를 더 포함하여 형성할 수 있다.On the other hand, the multi-layer printed circuit boards (600A, 600B, 600C, 600D) have a first insulating
제2 절연층(412)과 제2 및 제3 배선층(430, 440)과 제1 및 제2 접속비아(451, 52)는 빌드업 공정으로 형성할 수 있다. 예를 들면, 제2 절연층(412)은 미경화 상태의 필름을 적층한 후 경화하여 형성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 제2 및 제3 배선층(430, 440)과 제1 및 제2 접속비아(451, 452)는 제1 및 제2 절연층(411, 412)에 비아홀을 가공한 후 SAP, MSAP 등을 이용하는 도금 공정으로 형성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The second insulating layer 412, the second and third wiring layers 430 and 440, and the first and second connection vias 451 and 52 can be formed through a build-up process. For example, the second insulating layer 412 may be formed by laminating an uncured film and then curing it, but is not limited to this. In addition, the second and third wiring layers (430, 440) and the first and second connection vias (451, 452) are formed by machining via holes in the first and second insulating layers (411, 412) and then using SAP, MSAP, etc. It can be formed using a plating process, but is not limited to this.
그 외에 다른 내용은 상술한 도 17a 내지 도 17l과 상술한 도 18a 내지 도 18d에서 설명한 제조방법에서 설명한 바와 실질적으로 동일하며, 이에 대한 중복되는 설명은 생략한다.Other contents are substantially the same as those described in the manufacturing method described in FIGS. 17A to 17L and FIGS. 18A to 18D, and overlapping description thereof will be omitted.
본 개시에서, 덮는다는 표현은 전체적으로 덮는 경우뿐만 아니라 적어도 일부를 덮는 경우를 포함할 수 있으며, 또한 직접 덮는 경우뿐만 아니라 간접적으로 덮는 경우도 포함할 수 있다.In the present disclosure, the expression to cover may include not only the case of covering entirely but also the case of covering at least part of the case, and may also include the case of covering indirectly as well as the case of directly covering.
본 개시에서, 채운다는 표현은 완전히 채우는 경우뿐만 아니라 대략적으로 채우는 경우를 포함할 수 있으며, 예를 들면, 일부 공극이나 보이드 등이 존재하는 경우를 포함할 수 있다.In the present disclosure, the expression to fill may include not only completely filling but also approximately filling, and may include, for example, cases where some voids or voids exist.
본 개시에서, 두께, 폭, 선폭, 간격, 깊이 등은 인쇄회로기판의 연마 또는 절단 단면을 기준으로 주사 현미경 또는 광학 현미경을 이용하여 측정할 수 있다. 예컨대, 단면 상에서 측정할 수 있다. 두께, 폭, 선폭, 간격, 깊이 등이 일정하지 않은 경우에는, 임의의 다섯 지점에서 측정한 값의 평균 값으로 두께, 폭, 선폭, 간격, 깊이 등을 비교할 수 있다. 패턴의 측면이 테이퍼진 형태를 가지는 경우의 해당 패턴의 선폭 또는 폭은, 두께 방향을 기준으로 임의의 다섯 지점에서의 선폭 또는 폭을 측정한 후, 이들의 평균 값을 이용할 수 있다.In the present disclosure, thickness, width, line width, spacing, depth, etc. can be measured using a scanning microscope or an optical microscope based on a polished or cut cross section of the printed circuit board. For example, it can be measured on a cross section. If the thickness, width, line width, gap, depth, etc. are not constant, the thickness, width, line width, gap, depth, etc. can be compared with the average value of the values measured at five arbitrary points. When the side of the pattern has a tapered shape, the line width or width of the pattern can be measured at five arbitrary points based on the thickness direction, and then use the average value thereof.
본 개시에서, 실질적으로는 제조 공정상에서 발생하는 공정오차나 위치편차, 측정 시의 오차 등을 포함하여 판단할 수 있다. 예를 들면, 실질적으로 동일한 선폭 등을 가지는 것은 완전히 수치상으로 동일한 경우뿐만 아니라, 오차 범위 내에서 대략적으로 유사한 수치를 가지는 것을 포함할 수 있으며, 나아가 테이퍼진 형태에 따른 일부 차이를 포함하여 판단할 수 있다. 또한, 실질적으로 코플래너 하다는 것은 완전히 동일 평면에 존재하는 경우뿐만 아니라, 대략적으로 동일 평면에 존재하는 경우도 포함할 수 있다.In the present disclosure, the judgment can actually include process errors, position deviations, errors during measurement, etc. that occur during the manufacturing process. For example, having substantially the same line width, etc. may include not only being completely numerically identical, but also having approximately similar values within an error range, and may also include some differences due to the tapered shape. there is. In addition, substantially coplanar may include not only the case of being completely on the same plane, but also the case of being approximately on the same plane.
본 개시에서, 동일한 절연재는 완전하게 동일한 절연재인 경우뿐만 아니라, 동일한 타입의 절연재를 포함하는 의미일 수 있다. 따라서, 절연재의 조성은 실질적으로 동일하되, 이들의 구체적인 조성비는 조금씩 다를 수 있다.In the present disclosure, the same insulating material may mean not only the exact same insulating material but also the same type of insulating material. Accordingly, the composition of the insulating materials is substantially the same, but their specific composition ratios may vary slightly.
본 개시에서, 단면 상에서의 의미는 대상물을 수직하게 절단하였을 때의 단면 형상, 또는 대상물을 수직하게 절단하였을 때의 단면 형상, 또는 대상물을 사이드-뷰로 바라 보았을 때의 단면 형상을 의미할 수 있다. 또한, 평면 상에서의 의미는 대상물을 수평하게 절단하였을 때의 평면 형상, 또는 대상물을 탑-뷰 또는 바텀-뷰로 바라 보았을 때의 평면 형상을 의미할 수 있다.In the present disclosure, the meaning of cross-section may mean the cross-sectional shape when the object is cut vertically, the cross-sectional shape when the object is cut vertically, or the cross-sectional shape when the object is viewed from a side view. In addition, the meaning on a plane may mean a planar shape when the object is cut horizontally, or a planar shape when the object is viewed from a top-view or bottom-view.
본 개시에서 하측, 하부, 하면 등은 편의상 도면의 단면을 기준으로 아래쪽 방향을 의미하는 것으로 사용하였고, 상측, 상부, 상면 등은 그 반대 방향을 의미하는 것으로 사용하였다. 다만, 이는 설명의 편의상 방향을 정의한 것으로, 특허청구범위의 권리범위가 이러한 방향에 대한 기재에 의하여 특별히 한정되는 것이 아님은 물론이며, 상/하의 개념은 언제든지 바뀔 수 있다.In the present disclosure, lower, lower, bottom, etc. are used for convenience to mean a downward direction based on the cross section of the drawing, and upper, upper, upper, etc. are used to mean the opposite direction. However, this direction is defined for convenience of explanation, and the scope of the patent claims is not particularly limited by the description of this direction, and the concept of top/bottom can change at any time.
본 개시에서 연결된다는 의미는 직접 연결된 것뿐만 아니라, 접착제 층 등을 통하여 간접적으로 연결된 것을 포함하는 개념이다. 또한, 전기적으로 연결된다는 의미는 물리적으로 연결된 경우와 연결되지 않은 경우를 모두 포함하는 개념이다. 또한, 제1, 제2 등의 표현은 한 구성요소와 다른 구성요소를 구분 짓기 위해 사용되는 것으로, 해당 구성요소들의 순서 및/또는 중요도 등을 한정하지 않는다. 경우에 따라서는 권리범위를 벗어나지 않으면서, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수도 있고, 유사하게 제2 구성요소는 제1 구성요소로 명명될 수도 있다.In the present disclosure, the meaning of connected is a concept that includes not only directly connected, but also indirectly connected through an adhesive layer or the like. In addition, the meaning of being electrically connected is a concept that includes both cases where it is physically connected and cases where it is not connected. In addition, expressions such as first, second, etc. are used to distinguish one component from another component and do not limit the order and/or importance of the components. In some cases, the first component may be named the second component, and similarly, the second component may be named the first component without departing from the scope of rights.
본 개시에서 사용된 일례 라는 표현은 서로 동일한 실시 예를 의미하지 않으며, 각각 서로 다른 고유한 특징을 강조하여 설명하기 위해서 제공된 것이다. 그러나, 상기 제시된 일례들은 다른 일례의 특징과 결합되어 구현되는 것을 배제하지 않는다. 예를 들어, 특정한 일례에서 설명된 사항이 다른 일례에서 설명되어 있지 않더라도, 다른 일례에서 그 사항과 반대되거나 모순되는 설명이 없는 한, 다른 일례에 관련된 설명으로 이해될 수 있다. The expression 'example' used in the present disclosure does not mean identical embodiments, but is provided to emphasize and explain different unique features. However, the examples presented above do not exclude being implemented in combination with features of other examples. For example, even if a matter explained in a specific example is not explained in another example, it can be understood as an explanation related to the other example, as long as there is no explanation contrary to or contradictory to the matter in the other example.
본 개시에서 사용된 용어는 단지 일례를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 개시를 한정하려는 의도가 아니다. 이때, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.The terminology used in this disclosure is used to describe examples only and is not intended to limit the disclosure. At this time, singular expressions include plural expressions, unless the context clearly indicates otherwise.
1000: 전자기기
1010: 메인보드
1020: 칩 관련부품
1030: 네트워크 관련부품
1040: 기타부품
1050: 카메라
1060: 안테나
1070: 디스플레이
1080: 배터리
1090: 신호라인
1100: 스마트폰
1110: 마더보드
1120: 부품
1121: 부품 패키지
1130: 카메라 모듈
1140: 스피커
100A, 100B, 100C, 100D, 300A, 300B, 300C, 300D: 인쇄회로기판
111, 112: 절연층
120, 130, 140: 배선층
121, 122, 123, 124, 131, 141: 회로패턴
151, 152: 접속비아
161, 162: 레지스트층
210: 기판
211: 디테치 코어
212: 디테치 금속층
221, 222, 223, 224: 금속패턴
231: 금속층
241: 드라이 필름
400A, 400B, 400C, 400D, 600A, 600B, 600C, 600D: 인쇄회로기판
411, 412: 절연층
420, 430, 440: 배선층
421, 422, 423, 424, 431, 441: 회로패턴
451, 452: 접속비아
461, 462: 레지스트층
510: 기판
511: 디테치 코어
512: 디테치 금속층
521, 522, 523, 524: 금속패턴
531: 금속층
541, 542: 드라이 필름1000: Electronic devices
1010: Motherboard
1020: Chip related parts
1030: Network related parts
1040: Other parts
1050: Camera
1060: Antenna
1070: display
1080: Battery
1090: signal line
1100: Smartphone
1110: motherboard
1120: parts
1121: Parts package
1130: Camera module
1140: Speaker
100A, 100B, 100C, 100D, 300A, 300B, 300C, 300D: Printed circuit board
111, 112: insulating layer
120, 130, 140: wiring layer
121, 122, 123, 124, 131, 141: Circuit pattern
151, 152: Connection via
161, 162: Resist layer
210: substrate
211: Detach Core
212: Detach metal layer
221, 222, 223, 224: Metal pattern
231: metal layer
241: dry film
400A, 400B, 400C, 400D, 600A, 600B, 600C, 600D: Printed circuit board
411, 412: insulating layer
420, 430, 440: wiring layer
421, 422, 423, 424, 431, 441: Circuit pattern
451, 452: Connection via
461, 462: resist layer
510: substrate
511: Detach Core
512: Detach metal layer
521, 522, 523, 524: Metal pattern
531: metal layer
541, 542: dry film
Claims (35)
상기 제1 절연층 상에 각각 배치된 복수의 제1 회로패턴; 및
상기 제1 절연층 상에 각각 배치되며, 상기 복수의 제1 회로패턴보다 두께가 얇은 복수의 제2 회로패턴; 을 포함하며,
상기 복수의 제1 회로패턴 중 적어도 한 개와 상기 복수의 제2 회로패턴 중 적어도 한 개가 서로 교대로 반복적으로 배치되는,
인쇄회로기판.
first insulating layer;
a plurality of first circuit patterns each disposed on the first insulating layer; and
a plurality of second circuit patterns each disposed on the first insulating layer and having a thickness thinner than the plurality of first circuit patterns; Includes,
At least one of the plurality of first circuit patterns and at least one of the plurality of second circuit patterns are alternately and repeatedly arranged with each other,
Printed circuit board.
상기 복수의 제1 및 제2 회로패턴 각각의 선폭은 10㎛ 이하이며,
상기 복수의 제1 및 제2 회로패턴 사이의 간격은 각각 10㎛ 이하인,
인쇄회로기판.
According to claim 1,
The line width of each of the plurality of first and second circuit patterns is 10㎛ or less,
The spacing between the plurality of first and second circuit patterns is each 10㎛ or less,
Printed circuit board.
상기 복수의 제1 회로패턴 중 한 개와 상기 복수의 제2 회로패턴 중 한 개가 서로 교대로 반복적으로 배치되는,
인쇄회로기판.
According to claim 1,
One of the plurality of first circuit patterns and one of the plurality of second circuit patterns are alternately and repeatedly arranged with each other,
Printed circuit board.
단면 상에서,
상기 한 개의 제1 회로패턴은 양 측면의 하측에 홈부를 가지며,
상기 한 개의 제2 회로패턴은 양 측면의 하측에 돌출부를 가지는,
인쇄회로기판.
According to claim 3,
In cross section,
The one first circuit pattern has grooves on the lower sides of both sides,
The one second circuit pattern has protrusions on the lower sides of both sides,
Printed circuit board.
상기 한 개의 제1 회로패턴의 선폭과, 상기 한 개의 제2 회로패턴의 선폭과, 상기 한 개의 제1 및 제2 회로패턴 사이의 간격은, 서로 실질적으로 동일한,
인쇄회로기판.
According to claim 4,
The line width of the one first circuit pattern, the line width of the one second circuit pattern, and the spacing between the one first and second circuit patterns are substantially equal to each other,
Printed circuit board.
상기 제1 절연층의 일부는 상기 한 개의 제1 및 제2 회로패턴 각각의 일 측면 및 타 측면 중 적어도 하나 사이로 돌출되어 배치되는,
인쇄회로기판.
According to claim 4,
A portion of the first insulating layer is disposed to protrude between at least one of one side and the other side of each of the first and second circuit patterns,
Printed circuit board.
상기 복수의 제1 회로패턴 중 두 개가 한쌍으로 상기 복수의 제2 회로패턴 중 한 개와 서로 교대로 반복적으로 배치되는,
인쇄회로기판.
According to claim 1,
Two of the plurality of first circuit patterns are repeatedly and alternately arranged in pairs with one of the plurality of second circuit patterns,
Printed circuit board.
상기 한 쌍의 제1 회로패턴들 각각의 서로 마주보는 일 측면은 그 사이의 간격이 상기 제1 절연층과 가까워질수록 실질적으로 작아지도록 기울어진,
인쇄회로기판.
According to claim 7,
One side of each of the pair of first circuit patterns facing each other is inclined so that the gap between them becomes substantially smaller as it approaches the first insulating layer,
Printed circuit board.
단면 상에서,
상기 한 쌍의 제1 회로패턴들 각각은 타 측면의 하측에 홈부를 가지며,
상기 한 개의 제2 회로패턴은 양 측면의 하측에 돌출부를 가지는,
인쇄회로기판.
According to claim 8,
In cross section,
Each of the pair of first circuit patterns has a groove on the lower side of the other side,
The one second circuit pattern has protrusions on the lower sides of both sides,
Printed circuit board.
상기 한 쌍의 제1 회로패턴들 각각의 선폭과, 상기 한 개의 제2 회로패턴의 선폭과, 상기 한 쌍의 제1 회로패턴들과 상기 한 개의 제2 회로패턴 사이의 간격과, 상기 한 쌍의 제1 회로패턴들 사이의 간격은, 서로 실질적으로 동일한,
인쇄회로기판.
According to clause 9,
A line width of each of the pair of first circuit patterns, a line width of the one second circuit pattern, a gap between the pair of first circuit patterns and the one second circuit pattern, and the pair of first circuit patterns. The spacing between the first circuit patterns is substantially the same as each other,
Printed circuit board.
상기 제1 절연층의 일부는 상기 한 쌍의 제1 회로패턴들 각각의 타 측면 중 적어도 하나와 상기 한 개의 제2 회로패턴의 일 측면 및 타 측면 중 적어도 하나 사이로 돌출되어 배치되는,
인쇄회로기판.
According to clause 9,
A portion of the first insulating layer is arranged to protrude between at least one of the other sides of each of the pair of first circuit patterns and at least one of the one side and the other side of the one second circuit pattern,
Printed circuit board.
상기 제1 절연층의 돌출되어 배치되는 일부는 상기 제1 절연층의 상기 한 쌍의 제1 회로패턴들 각각의 일 측면 사이에 배치되는 다른 일부와 단차를 가지는,
인쇄회로기판.
According to claim 11,
The protruding portion of the first insulating layer has a step difference from the other portion disposed between one side of each of the pair of first circuit patterns of the first insulating layer.
Printed circuit board.
상기 제1 절연층 상에 각각 배치되며, 상기 복수의 제1 및 제2 회로패턴 각각의 선폭보다 폭 또는 선폭이 넓은 한 개 이상의 제3 회로패턴; 및
상기 제1 절연층 상에 각각 배치되며, 상기 한 개 이상의 제3 회로패턴보다 두께가 얇으며, 상기 복수의 제1 및 제2 회로패턴 각각의 선폭보다 폭 또는 선폭이 넓은 한 개 이상의 제4 회로패턴; 을 더 포함하는,
인쇄회로기판.
According to claim 1,
one or more third circuit patterns each disposed on the first insulating layer and having a width or a wider line width than each of the plurality of first and second circuit patterns; and
One or more fourth circuits each disposed on the first insulating layer, having a thickness thinner than the one or more third circuit patterns, and having a width or a line width wider than the line width of each of the plurality of first and second circuit patterns. pattern; Containing more,
Printed circuit board.
제1 절연층의 상면 상에 배치되며, 상기 복수의 제1 및 제2 회로패턴과 상기 한 개 이상의 제3 회로패턴을 포함하는 제1 배선층;
상기 제1 절연층의 하면 상에 배치되며, 상기 복수의 제1 및 제2 회로패턴 각각보다 폭 또는 선폭이 넓은 복수의 제5 회로패턴을 포함하는 제2 배선층;
상기 제1 절연층을 관통하며, 상기 제2 배선층의 적어도 일부와 연결되는 제1 접속비아;
상기 제1 절연층의 하면 상에 배치되며, 상기 제2 배선층의 적어도 일부를 덮는 제2 절연층;
상기 제2 절연층의 하면 상에 배치되며, 상기 복수의 제1 및 제2 회로패턴 각각의 선폭보다 폭 또는 선폭이 넓은 복수의 제6 회로패턴을 포함하는 제3 배선층; 및
상기 제2 절연층을 관통하며, 상기 제3 배선층의 적어도 일부와 연결되는 제2 접속비아; 를 더 포함하는,
인쇄회로기판.
According to claim 13,
a first wiring layer disposed on the upper surface of the first insulating layer and including the plurality of first and second circuit patterns and the one or more third circuit patterns;
a second wiring layer disposed on a lower surface of the first insulating layer and including a plurality of fifth circuit patterns having a wider width or line width than each of the plurality of first and second circuit patterns;
a first connection via that penetrates the first insulating layer and is connected to at least a portion of the second wiring layer;
a second insulating layer disposed on a lower surface of the first insulating layer and covering at least a portion of the second wiring layer;
a third wiring layer disposed on the lower surface of the second insulating layer and including a plurality of sixth circuit patterns that are wider or wider than the line widths of each of the plurality of first and second circuit patterns; and
a second connection via that penetrates the second insulating layer and is connected to at least a portion of the third wiring layer; Containing more,
Printed circuit board.
상기 제1 절연층의 상면 상에 배치되며, 상기 제1 배선층의 적어도 일부를 덮으며, 상기 한 개 이상의 제3 회로패턴 중 적어도 하나의 적어도 일부를 노출시키는 제1 개구 및 상기 한 개 이상의 제4 회로패턴 중 적어도 하나의 적어도 일부를 노출시키는 제2 개구 중 적어도 하나를 가지는 제1 레지스트층; 및
상기 제2 절연층의 하면 상에 배치되며, 상기 제3 배선층의 적어도 일부를 덮으며, 상기 복수의 제6 회로패턴 중 적어도 하나의 적어도 일부를 노출시키는 제3 개구를 가지는 제2 레지스트층; 을 더 포함하는,
인쇄회로기판.
According to claim 14,
a first opening disposed on the upper surface of the first insulating layer, covering at least a portion of the first wiring layer, and exposing at least a portion of at least one of the one or more third circuit patterns; and the one or more fourth openings. a first resist layer having at least one of second openings exposing at least a portion of at least one of the circuit patterns; and
a second resist layer disposed on a lower surface of the second insulating layer, covering at least a portion of the third wiring layer, and having a third opening exposing at least a portion of at least one of the plurality of sixth circuit patterns; Containing more,
Printed circuit board.
상기 제2 개구의 깊이는 상기 제1 개구의 깊이보다 깊은,
인쇄회로기판.
According to claim 15,
The depth of the second opening is deeper than the depth of the first opening,
Printed circuit board.
상기 제1 절연층의 상측에 배치되며, 두께가 서로 상이한 제1 및 제2 회로패턴을 포함하는 제1 배선층; 및
상기 제1 절연층의 하측에 배치되며, 상기 제1 및 제2 회로패턴 각각보다 선폭이 넓은 제3 회로패턴을 포함하는 제2 배선층; 을 포함하는,
인쇄회로기판.
first insulating layer;
a first wiring layer disposed on the first insulating layer and including first and second circuit patterns having different thicknesses; and
a second wiring layer disposed below the first insulating layer and including a third circuit pattern having a wider line width than each of the first and second circuit patterns; Including,
Printed circuit board.
상기 제1 및 제2 회로패턴 각각의 선폭은 10㎛ 이하이며,
상기 제3 회로패턴의 선폭은 10㎛ 초과인,
인쇄회로기판.
According to claim 17,
The line width of each of the first and second circuit patterns is 10㎛ or less,
The line width of the third circuit pattern is greater than 10㎛,
Printed circuit board.
상기 제1 내지 제3 회로패턴은 각각 복수 개로 배치되며,
상기 복수의 제3 회로패턴 사이의 간격은 상기 복수의 제1 및 제2 회로패턴 사이의 간격보다 넓은,
인쇄회로기판.
According to claim 17,
The first to third circuit patterns are each arranged in plural numbers,
The spacing between the plurality of third circuit patterns is wider than the spacing between the plurality of first and second circuit patterns,
Printed circuit board.
상기 복수의 제1 회로패턴 중 한 개와 상기 복수의 제2 회로패턴 중 한 개가 서로 교대로 반복적으로 배치되는,
인쇄회로기판.
According to claim 19,
One of the plurality of first circuit patterns and one of the plurality of second circuit patterns are alternately and repeatedly arranged with each other,
Printed circuit board.
상기 복수의 제1 회로패턴 중 두 개가 한 쌍으로 상기 복수의 제2 회로패턴 중 한 개와 서로 교대로 반복적으로 배치되는,
인쇄회로기판.
According to claim 19,
Two of the plurality of first circuit patterns are repeatedly and alternately arranged as a pair with one of the plurality of second circuit patterns,
Printed circuit board.
상기 제1 절연층을 관통하며, 상기 제1 및 제2 배선층 각각의 적어도 일부를 서로 연결하는 접속비아; 를 더 포함하며,
상기 접속비아는 상기 제2 배선층과 접하는 면에서 상기 제1 배선층과 접하는 면으로 갈수록 폭이 실질적으로 작아지도록 테이퍼진,
인쇄회로기판.
According to claim 17,
a connection via penetrating the first insulating layer and connecting at least a portion of each of the first and second wiring layers to each other; It further includes,
The connection via is tapered so that its width becomes substantially smaller as it moves from the surface in contact with the second wiring layer to the surface in contact with the first wiring layer.
Printed circuit board.
상기 제1 및 제2 회로패턴은 시드 금속층을 포함하지 않으며,
상기 제3 회로패턴은 시드 금속층을 포함하는,
인쇄회로기판.
According to claim 17,
The first and second circuit patterns do not include a seed metal layer,
The third circuit pattern includes a seed metal layer,
Printed circuit board.
상기 기판 상에 상기 복수의 제1 금속패턴을 덮으며 상기 복수의 제1 금속패턴과 상이한 금속을 포함하는 금속층을 형성하는 단계;
상기 금속층 상에 상기 금속층 사이의 공간의 적어도 일부를 각각 채우며 상기 금속층과 상이한 금속을 포함하는 복수의 제2 금속패턴을 형성하는 단계;
상기 금속층의 일부를 식각하여 상기 복수의 제1 금속패턴 각각의 적어도 일부를 상기 금속층으로부터 노출시키는 단계;
상기 복수의 제1 및 제2 금속패턴 상에 제1 절연층을 형성하는 단계;
상기 기판을 제거하는 단계; 및
상기 금속층의 잔존하는 나머지를 식각하는 단계; 를 포함하는,
인쇄회로기판의 제조방법.
forming a plurality of first metal patterns on a substrate;
forming a metal layer covering the plurality of first metal patterns on the substrate and including a metal different from the plurality of first metal patterns;
forming a plurality of second metal patterns on the metal layer, each filling at least a portion of the space between the metal layers, and each containing a different metal from the metal layer;
etching a portion of the metal layer to expose at least a portion of each of the plurality of first metal patterns from the metal layer;
forming a first insulating layer on the plurality of first and second metal patterns;
removing the substrate; and
etching the remaining portion of the metal layer; Including,
Manufacturing method of printed circuit boards.
상기 복수의 제1 및 제2 금속패턴은 구리(Cu)를 포함하며,
상기 금속층은 니켈(Ni)을 포함하는,
인쇄회로기판의 제조방법.
According to claim 24,
The plurality of first and second metal patterns include copper (Cu),
The metal layer contains nickel (Ni),
Manufacturing method of printed circuit board.
상기 복수의 제1 금속패턴을 형성하는 단계에서,
상기 복수의 제1 금속패턴 각각의 폭을 n이라 할 때, 상기 복수의 제1 금속패턴 사이의 간격은 각각 실질적으로 3n을 만족하며,
상기 금속층을 형성하는 단계에서,
상기 금속층의 두께 또는 폭은 실질적으로 n을 만족하는,
인쇄회로기판의 제조방법.
According to claim 24,
In forming the plurality of first metal patterns,
When the width of each of the plurality of first metal patterns is n, the spacing between the plurality of first metal patterns each substantially satisfies 3n,
In the step of forming the metal layer,
The thickness or width of the metal layer substantially satisfies n,
Manufacturing method of printed circuit boards.
상기 기판을 제거하는 단계 이후에,
상기 복수의 제1 금속패턴 각각을 식각하여 상기 복수의 제1 금속패턴 각각을 적어도 두 개로 나누는 단계; 를 더 포함하는,
인쇄회로기판의 제조방법.
According to claim 24,
After removing the substrate,
Etching each of the plurality of first metal patterns to divide each of the plurality of first metal patterns into at least two; Containing more,
Manufacturing method of printed circuit board.
상기 복수의 제1 금속패턴을 형성하는 단계에서,
상기 복수의 제1 금속패턴 각각의 폭을 3n이라 할 때, 상기 복수의 제1 금속패턴 사이의 간격은 각각 실질적으로 3n을 만족하고,
상기 금속층을 형성하는 단계에서,
상기 금속층의 두께 또는 폭은 실질적으로 n을 만족하며,
상기 복수의 제1 금속패턴 각각을 적어도 두 개로 나누는 단계에서,
상기 복수의 제1 금속패턴 각각의 나누어진 적어도 두 개 각각의 폭은 실질적으로 n을 만족하는,
인쇄회로기판의 제조방법.
According to clause 27,
In forming the plurality of first metal patterns,
When the width of each of the plurality of first metal patterns is 3n, the spacing between the plurality of first metal patterns each substantially satisfies 3n,
In the step of forming the metal layer,
The thickness or width of the metal layer substantially satisfies n,
In the step of dividing each of the plurality of first metal patterns into at least two,
The width of each of at least two divisions of each of the plurality of first metal patterns substantially satisfies n,
Manufacturing method of printed circuit board.
상기 복수의 제1 금속패턴을 형성하는 단계에서,
상기 복수의 제1 금속패턴은 각각의 탑 면의 엣지의 적어도 일부가 라운드지게 형성되는,
인쇄회로기판의 제조방법.
According to claim 24,
In forming the plurality of first metal patterns,
The plurality of first metal patterns are formed so that at least a portion of the edge of each top surface is rounded,
Manufacturing method of printed circuit board.
상기 금속층의 일부를 식각하는 단계에서,
상기 금속층은 탑 면이 상기 복수의 제1 및 제2 회로패턴 각각의 탑 면과 단차를 가지도록 식각되는,
인쇄회로기판의 제조방법.
According to claim 24,
In the step of etching a portion of the metal layer,
The metal layer is etched so that the top surface has a step difference from the top surface of each of the plurality of first and second circuit patterns,
Manufacturing method of printed circuit boards.
상기 기판은 디테치 코어 및 상기 디테치 코어 상에 배치되며 상기 금속층과 상이한 금속을 포함하는 디테치 금속층을 포함하며,
상기 기판을 제거하는 단계에서,
상기 디테치 코어가 상기 디테치 금속층으로부터 분리되어 제거되며,
상기 디테치 금속층은 식각하여 제거되는,
인쇄회로기판의 제조방법.
According to claim 24,
The substrate includes a detach core and a detach metal layer disposed on the detach core and including a metal different from the metal layer,
In the step of removing the substrate,
The detach core is separated from the detach metal layer and removed,
The detach metal layer is removed by etching,
Manufacturing method of printed circuit boards.
상기 기판을 제거하는 단계 이후에,
상기 복수의 제1 및 제2 금속패턴 상에 상기 복수의 제1 및 제2 금속패턴 중 적어도 하나의 일부를 노출시키는 드라이 필름을 형성하는 단계; 및
상기 복수의 제1 및 제2 금속패턴 중 적어도 하나의 노출된 일부를 식각하는 단계; 를 더 포함하는,
인쇄회로기판의 제조방법.
According to claim 31,
After removing the substrate,
forming a dry film exposing a portion of at least one of the plurality of first and second metal patterns on the plurality of first and second metal patterns; and
etching an exposed portion of at least one of the plurality of first and second metal patterns; Containing more,
Manufacturing method of printed circuit board.
상기 복수의 제1 금속패턴을 형성하는 단계에서,
상기 기판 상에 한 개 이상의 제3 금속패턴을 더 형성하며,
상기 금속층을 형성하는 단계에서,
상기 금속층은 상기 한 개 이상의 제3 금속패턴을 더 덮으며,
상기 복수의 제2 금속패턴을 형성하는 단계에서,
상기 금속층 상에 상기 금속층 사이의 다른 공간의 적어도 일부를 각각 채우는 한 개 이상의 제4 금속패턴을 더 형성하며,
상기 금속층은 상기 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴과 상이한 금속을 포함하는,
인쇄회로기판의 제조방법.
According to claim 24,
In forming the plurality of first metal patterns,
Further forming one or more third metal patterns on the substrate,
In the step of forming the metal layer,
The metal layer further covers the one or more third metal patterns,
In forming the plurality of second metal patterns,
Further forming one or more fourth metal patterns on the metal layer, each filling at least a portion of the other space between the metal layers,
The metal layer includes a metal different from the one or more third and fourth metal patterns,
Manufacturing method of printed circuit board.
상기 제1 절연층을 형성하는 단계 이후에,
상기 제1 절연층 상에 제2 배선층을 형성하는 단계;
상기 제1 절연층을 관통하며, 상기 제2 배선층의 적어도 일부와 연결되는 제1 접속비아를 형성하는 단계;
상기 제1 절연층 상에 상기 제2 배선층의 적어도 일부를 덮는 제2 절연층을 형성하는 단계;
상기 제2 절연층 상에 제3 배선층을 형성하는 단계; 및
상기 제2 절연층을 관통하며, 상기 제3 배선층의 적어도 일부와 연결되는 제2 접속비아를 형성하는 단계; 를 더 포함하는,
인쇄회로기판의 제조방법.
According to claim 33,
After forming the first insulating layer,
forming a second wiring layer on the first insulating layer;
forming a first connection via that penetrates the first insulating layer and is connected to at least a portion of the second wiring layer;
forming a second insulating layer covering at least a portion of the second wiring layer on the first insulating layer;
forming a third wiring layer on the second insulating layer; and
forming a second connection via that penetrates the second insulating layer and is connected to at least a portion of the third wiring layer; Containing more,
Manufacturing method of printed circuit board.
상기 금속층의 잔존하는 나머지를 식각하는 단계 이후에,
상기 제1 절연층 상에 상기 복수의 제1 및 제2 금속패턴 각각의 적어도 일부와 상기 한 개 이상의 제3 및 제4 금속패턴 각각의 적어도 일부를 덮는 제1 레지스트층을 형성하는 단계; 및
상기 제2 절연층 상에 상기 제3 배선층의 적어도 일부를 덮는 제2 레지스트층을 형성하는 단계; 를 더 포함하는,
인쇄회로기판의 제조방법.According to claim 34,
After etching the remaining portion of the metal layer,
forming a first resist layer covering at least a portion of each of the plurality of first and second metal patterns and at least a portion of each of the one or more third and fourth metal patterns on the first insulating layer; and
forming a second resist layer covering at least a portion of the third wiring layer on the second insulating layer; Containing more,
Manufacturing method of printed circuit board.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US18/218,753 US20240164028A1 (en) | 2022-11-16 | 2023-07-06 | Printed circuit board and manufacturing method for the same |
JP2023116102A JP2024072766A (en) | 2022-11-16 | 2023-07-14 | Printed circuit board and its manufacturing method |
CN202311310545.8A CN118055562A (en) | 2022-11-16 | 2023-10-10 | Printed circuit board and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020220153873 | 2022-11-16 | ||
KR20220153873 | 2022-11-16 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20240071970A true KR20240071970A (en) | 2024-05-23 |
Family
ID=91283824
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020230008891A KR20240071970A (en) | 2022-11-16 | 2023-01-20 | Printed circuit board and manufacturing method for the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20240071970A (en) |
-
2023
- 2023-01-20 KR KR1020230008891A patent/KR20240071970A/en unknown
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20220065550A (en) | Connection structure embedded substrate | |
KR20240071970A (en) | Printed circuit board and manufacturing method for the same | |
JP2024072766A (en) | Printed circuit board and its manufacturing method | |
US20240215158A1 (en) | Printed circuit board and manufacturing method thereof | |
CN118055562A (en) | Printed circuit board and method for manufacturing the same | |
US20240164013A1 (en) | Printed circuit board and manufacturing method for the same | |
US11895771B2 (en) | Printed circuit board | |
KR20240098795A (en) | Printed circuit board | |
KR20240071966A (en) | Printed circuit board and manufacturing method for the same | |
KR20230168426A (en) | Printed circuit board | |
KR20240099668A (en) | Printed circuit board and manufacturing method thereof | |
KR20230147884A (en) | Printed circuit board and method for manufacturing the same | |
US20240215157A1 (en) | Printed circuit board | |
KR20240067555A (en) | Printed circuit board | |
US20240172373A1 (en) | Printed circuit board and manufacturing method for the same | |
US20230147912A1 (en) | Printed circuit board | |
KR20240027504A (en) | Printed circuit board | |
KR20240021482A (en) | Printed Circuit Board | |
KR20240071853A (en) | Printed circuit board | |
KR20230101135A (en) | Printed circuit board and manufacturing method of the same | |
JP2024091240A (en) | Printed circuit board and method for manufacturing the same | |
KR20220001568A (en) | Printed circuit board | |
KR20240062745A (en) | Printed circuit board | |
JP2024064950A (en) | Printed Circuit Board | |
KR20240105954A (en) | Printed circuit board |