KR20240051864A - Optical laminate - Google Patents

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KR20240051864A
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타쿠야 타나카
아키노리 이자키
슈사쿠 고토
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 적층 방향 및 경사 방향에서, 우수한 광학 보상 성능을 갖는 광학 적층체를 제공하는 것이다.
본 발명의 실시형태에 따른 광학 적층체는, 편광 부재와; 편광 부재의 시인 측에 배치되는 복수의 위상차 부재를 구비하고, 방위각 0°에서 앙각 90° 및 앙각 30°의 각각에서 측정되는 타원율이 0.8 이상이다.
The present invention provides an optical laminate having excellent optical compensation performance in the stacking direction and the tilt direction.
An optical laminate according to an embodiment of the present invention includes a polarizing member; It is provided with a plurality of phase difference members disposed on the viewing side of the polarizing member, and has an ellipticity measured at each of an elevation angle of 90° and an elevation angle of 30° from an azimuth angle of 0° of 0.8 or more.

Description

광학 적층체{OPTICAL LAMINATE}Optical laminate {OPTICAL LAMINATE}

본 발명은 광학 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to optical laminates.

액정 표시 장치 및 일렉트로루미네센스(EL) 표시 장치(예컨대, 유기 EL 표시 장치, 무기 EL 표시 장치)로 대표되는 화상 표시 장치가 급속하게 보급되고 있다. 화상 표시 장치에서는, 화상 표시를 실현하고, 화상 표시의 성능을 높이기 위하여, 편광 부재와 위상차 부재를 포함하는 광학 적층체가 널리 사용되고 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조). 그런데, 근래 화상 표시 장치의 새로운 용도가 개발되고 있다. 그와 같은 용도의 일례로서는, 버추얼 리얼리티(VR) 고글을 들 수 있다. VR 고글은 다양한 측면에서의 이용이 검토되고 있고, 고정밀화가 요망되고 있다. 그러나, 특허문헌 1에 기재된 광학 적층체를 VR 고글에 적용하여도, 화상 표시 화면을 경사 방향으로부터 본 경우에서, 광학 보상 성능이 불충분하여, 고정밀화에는 개선의 여지가 남아있다.Image display devices represented by liquid crystal displays and electroluminescence (EL) display devices (eg, organic EL display devices and inorganic EL display devices) are rapidly becoming popular. In image display devices, in order to realize image display and improve image display performance, an optical laminate including a polarizing member and a retardation member is widely used (see, for example, Patent Document 1). However, new uses for image display devices have been developed in recent years. An example of such a use is virtual reality (VR) goggles. VR goggles are being considered for use in various aspects, and there is a demand for high precision. However, even when the optical laminate described in Patent Document 1 is applied to VR goggles, when the image display screen is viewed from an oblique direction, the optical compensation performance is insufficient, and there remains room for improvement in achieving high precision.

일본 공개특허공보 제2013-182162호Japanese Patent Publication No. 2013-182162

본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것이며, 그의 주된 목적은 적층 방향, 및 적층 방향과 교차하는 경사 방향에서, 우수한 광학 보상 성능을 갖는 광학 적층체를 제공하는 것에 있다.The present invention was made to solve the above conventional problems, and its main purpose is to provide an optical laminate having excellent optical compensation performance in the stacking direction and the tilt direction intersecting the stacking direction.

[1] 본 발명의 실시형태에 따른 광학 적층체는, 편광 부재와; 해당 편광 부재의 시인 측에 배치되는 복수의 위상차 부재를 구비하고, 방위각 0°에서 앙각 90° 및 앙각 30°의 각각에서 측정되는 타원율이 0.80 이상이다.[1] An optical laminate according to an embodiment of the present invention includes a polarizing member; It is provided with a plurality of retardation members disposed on the viewing side of the polarizing member, and the ellipticity measured at each of the elevation angles of 90° and 30° from the azimuth angle of 0° is 0.80 or more.

[2] 상기 [1]에 기재된 광학 적층체에서, 방위각 45°에서의 앙각 90° 및 앙각 30°의 각각에서 측정되는 타원율이 0.80 이상이어도 된다.[2] In the optical laminate described in [1] above, the ellipticity measured at each of the elevation angles of 90° and 30° at an azimuth angle of 45° may be 0.80 or more.

[3] 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 광학 적층체에서, 상기 복수의 위상차 부재는 nz>nx=ny의 굴절률을 갖는 제1 위상차 부재와; λ/4 부재로서 기능하는 제2 위상차 부재와; nz>nx≥ny의 굴절률을 갖는 제3 위상차 부재와; nx>ny≥nz의 굴절률을 갖는 제4 위상차 부재를 시인 측으로부터 이 순서대로 포함하여도 된다.[3] In the optical laminate according to [1] or [2], the plurality of retardation members include a first retardation member having a refractive index of nz>nx=ny; a second phase difference member functioning as a λ/4 member; a third phase difference member having a refractive index of nz>nx≥ny; The fourth phase difference member having a refractive index of nx>ny≥nz may be included in this order from the viewer's side.

[4] 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 광학 적층체에서, 상기 복수의 위상차 부재는 nz>nx=ny의 굴절률을 갖는 제1 위상차 부재와; λ/4 부재로서 기능하는 제2 위상차 부재와; nx>nz>ny의 굴절률을 갖는 제5 위상차 부재를 시인 측으로부터 이 순서대로 포함하여도 된다.[4] In the optical laminate according to [1] or [2], the plurality of retardation members include a first retardation member having a refractive index of nz>nx=ny; a second phase difference member functioning as a λ/4 member; A fifth phase difference member having a refractive index of nx>nz>ny may be included in this order from the viewer's side.

본 발명의 실시형태에 따르면, 적층 방향 및 경사 방향에서, 우수한 광학 보상 성능을 갖는 광학 적층체를 실현할 수 있다.According to the embodiment of the present invention, an optical laminate having excellent optical compensation performance in the stacking direction and the oblique direction can be realized.

도 1은, 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 광학 적층체의 개략 단면도이다.
도 2는, 본 발명의 다른 실시형태에 따른 광학 적층체의 개략 단면도이다.
도 3은, 도 1의 광학 적층체에서의 방위각을 설명하기 위한 개략 평면도이다.
도 4는, 도 1의 광학 적층체에서의 앙각을 설명하기 위한 개략 측면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to one embodiment of the present invention.
Figure 2 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to another embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a schematic plan view for explaining the azimuth angle in the optical laminate of FIG. 1.
FIG. 4 is a schematic side view for explaining the elevation angle in the optical laminate of FIG. 1.

이하, 본 발명의 대표적인 실시형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태로는 한정되지 않는다.Hereinafter, representative embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these embodiments.

(용어 및 기호의 정의)(Definition of terms and symbols)

본 명세서에서의 용어 및 기호의 정의는 하기와 같다.The definitions of terms and symbols in this specification are as follows.

(1) 굴절률(nx, ny, nz)(1) Refractive index (nx, ny, nz)

‘nx’는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절률이고, ‘ny’는 면내에서 지상축과 직교하는 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절률이며, ‘nz’는 두께 방향의 굴절률이다.'nx' is the refractive index in the direction where the in-plane refractive index is maximum (i.e., slow axis direction), 'ny' is the refractive index in the direction orthogonal to the slow axis in the plane (i.e., fast axis direction), and 'nz' is It is the refractive index in the thickness direction.

(2) 면내 위상차(Re)(2) In-plane phase difference (Re)

‘Re(λ)'는, 23℃에서의 파장 λ㎚의 광으로 측정한 면내 위상차이다. 예컨대, ‘Re(550)'는, 23℃에서의 파장 550㎚의 광으로 측정한 면내 위상차이다. Re(λ)는, 층(필름)의 두께를 d(㎚)로 하였을 때, 식: Re(λ)=(nx-ny)×d에 의해 구할 수 있다.‘Re(λ)’ is the in-plane phase difference measured with light with a wavelength of λ nm at 23°C. For example, ‘Re(550)’ is the in-plane phase difference measured with light with a wavelength of 550 nm at 23°C. Re(λ) can be obtained by the formula: Re(λ)=(nx-ny)×d, when the thickness of the layer (film) is d (nm).

(3) 두께 방향의 위상차(Rth)(3) Phase difference in the thickness direction (Rth)

‘Rth(λ)'는, 23℃에서의 파장 λ㎚의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. 예컨대, ‘Rth(550)'는, 23℃에서의 파장 550㎚의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는, 층(필름)의 두께를 d(㎚)로 하였을 때, 식: Rth(λ)=(nx-nz)×d에 의해 구할 수 있다.‘Rth(λ)’ is the phase difference in the thickness direction measured with light with a wavelength of λ nm at 23°C. For example, ‘Rth(550)’ is the phase difference in the thickness direction measured with light with a wavelength of 550 nm at 23°C. Rth(λ) can be obtained by the formula: Rth(λ)=(nx-nz)×d, when the thickness of the layer (film) is d (nm).

(4) Nz 계수(4) Nz coefficient

Nz 계수는, Nz=Rth/Re에 의해 구할 수 있다.The Nz coefficient can be obtained by Nz=Rth/Re.

(5) 각도(5) angle

본 명세서에서 각도를 언급할 때는, 당해 각도는 기준 방향에 대하여 시계 방향 및 반시계 방향, 양쪽을 포함한다. 따라서, 예컨대 ‘45°’는 ±45°를 의미한다.When an angle is mentioned herein, the angle includes both clockwise and counterclockwise with respect to the reference direction. Therefore, for example, ‘45°’ means ±45°.

A. 광학 적층체의 전체 구성A. Overall composition of optical laminate

도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 광학 적층체의 개략 단면도이고; 도 2는 본 발명의 다른 실시형태에 따른 광학 적층체의 개략 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to one embodiment of the present invention; Figure 2 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to another embodiment of the present invention.

도시예의 광학 적층체(100)는 편광막(51)을 포함하는 편광 부재(5)와; 편광 부재(5)의 시인 측에 배치되는 복수의 위상차 부재;를 구비하고 있다. 광학 적층체(100)에서는, 방위각 0°에서 앙각 90° 및 앙각 30°의 각각에서 측정되는 타원율이 0.80 이상이다. 방위각 0°에서의 앙각 90°에서 측정되는 타원율은 바람직하게는 0.85 이상, 보다 바람직하게는 0.88 이상, 더욱 바람직하게는 0.90 이상이다. 방위각 0°에서의 앙각 30°에서 측정되는 타원율은 바람직하게는 0.82 이상, 보다 바람직하게는 0.84 이상, 더욱 바람직하게는 0.85 이상이다.The optical laminate 100 of the illustrated example includes a polarizing member 5 including a polarizing film 51; and a plurality of phase difference members disposed on the viewing side of the polarizing member 5. In the optical laminate 100, the ellipticity measured at an azimuth angle of 0° and an elevation angle of 90° and an elevation angle of 30° is 0.80 or more. The ellipticity measured at an elevation angle of 90° from an azimuth angle of 0° is preferably 0.85 or more, more preferably 0.88 or more, and even more preferably 0.90 or more. The ellipticity measured at an elevation angle of 30° from an azimuth angle of 0° is preferably 0.82 or more, more preferably 0.84 or more, and even more preferably 0.85 or more.

방위각 0°에서 앙각 90° 및 앙각 30°의 각각에서 측정되는 타원율이 상기 하한 이상이면, 광학 적층체의 적층 방향, 및 적층 방향과 교차하는 경사 방향에서, 광학 보상 성능을 향상할 수 있다. 방위각 0°에서 앙각 90° 및 앙각 30°의 각각에서 측정되는 타원율의 상한은 대표적으로는 1.00 이하이고, 또한 예컨대 0.95 이하이다.If the ellipticity measured at each of the elevation angles of 90° and 30° at the azimuth angle of 0° is more than the above lower limit, optical compensation performance can be improved in the stacking direction of the optical laminate and the tilt direction intersecting the stacking direction. The upper limit of the ellipticity measured at an azimuth angle of 0° and an elevation angle of 90° and an elevation angle of 30° is typically 1.00 or less, for example, 0.95 or less.

본 명세서에서 ‘방위각’이란, 도 3에 나타내는 바와 같이, 편광막의 흡수축 방향을 기준으로 하여, 당해 기준 방향과; 광학 적층체의 면 방향(적층 방향과 직교하는 방향)이 이루는 각도 θ1을 의미한다. 방위각 θ1이 0°인 경우, 면 방향과 기준 방향은 실질적으로 평행이다.In this specification, ‘azimuth angle’ refers to the reference direction based on the absorption axis direction of the polarizing film, as shown in FIG. 3; It means the angle θ1 formed by the plane direction (direction perpendicular to the stacking direction) of the optical laminate. When the azimuth angle θ1 is 0°, the plane direction and the reference direction are substantially parallel.

본 명세서에서 ‘앙각’이란, 도 4에 나타내는 바와 같이, 광학 적층체의 면 방향을 기준으로 하여, 당해 기준 방향과; 당해 기준 방향과 동일한 가상 평면 상에 위치한 측정 방향이 이루는 각도 θ2이다. 측정 방향은 대표적으로는 타원율의 측정 시에서 타원율 측정 장치(대표적으로는 뮐러 매트릭스·폴라리미터)의 수광부와, 광학 적층체의 표면의 임의의 점을 연결하는 방향이다. 앙각이 0°인 경우, 측정 방향과 기준 방향은 실질적으로 평행이고, 앙각이 90°인 경우, 측정 방향과 적층 방향은 실질적으로 평행이다.In this specification, the “elevation angle” refers to the reference direction based on the surface direction of the optical laminate, as shown in FIG. 4; It is the angle θ2 formed by the measurement direction located on the same virtual plane as the reference direction. The measurement direction is typically a direction that connects the light receiving part of an ellipticity measuring device (typically a Müller matrix polarimeter) and an arbitrary point on the surface of the optical laminate when measuring the ellipticity. When the elevation angle is 0°, the measurement direction and the reference direction are substantially parallel, and when the elevation angle is 90°, the measurement direction and the stacking direction are substantially parallel.

본 명세서에서 ‘타원율’이란, 광(편광)이 원편광에 가까운지 직선 편광에 가까운지를 나타내는 지표로서, 타원 편광의 장축 반경 a에 대한 단축 반경 b의 비(b/a)이다. 타원율이 1.0이란 실질적으로 원편광을 의미하고, 타원율이 0이란 실질적으로 직선 편광을 나타낸다.In this specification, ‘ellipticity’ is an index indicating whether light (polarization) is close to circular or linear polarization, and is the ratio (b/a) of the minor axis radius b to the major axis radius a of elliptically polarized light. An ellipticity of 1.0 means substantially circular polarization, and an ellipticity of 0 means substantially linear polarization.

타원율은 예컨대 이하의 방법에 의해 산출할 수 있다.The ellipticity can be calculated, for example, by the following method.

파장 450nm, 550nm 및 650nm의 각각의 광을, 편광 부재 측으로부터 광학 적층체에 입사하고, 복수의 위상차 부재를 통과하여 출사된 출사광(타원 편광)의 장축 반경 a 및 단축 반경 b를 소정의 앙각 및 방위각에서 측정하여, 그들 파장의 상이한 광의 단축 반경 b/장축 반경 a의 평균값을 타원율로 한다. 또한, 보다 상세하게는 타원율은 후술하는 실시예에 기재된 방법에 준거하여 산출할 수 있다.Each light with a wavelength of 450 nm, 550 nm, and 650 nm is incident on the optical laminate from the polarizing member side, and the major axis radius a and minor axis radius b of the emitted light (elliptically polarized light) passing through the plurality of retardation members are set at a predetermined elevation angle. and azimuth, and the average value of minor axis radius b/major axis radius a of different lights of those wavelengths is taken as the ellipticity. In addition, in more detail, the ellipticity can be calculated based on the method described in the Examples described later.

하나의 실시형태에서, 광학 적층체(100)에서는, 방위각 45°에서 앙각 90° 및 앙각 30°의 각각에서 측정되는 타원율이 0.8 이상이다. 방위각 45°에서의 앙각 90°에서 측정되는 타원율은 바람직하게는 0.85 이상, 보다 바람직하게는 0.88 이상, 더욱 바람직하게는 0.90 이상이다. 방위각 45°에서의 앙각 30°에서 측정되는 타원율은 바람직하게는 0.81 이상, 보다 바람직하게는 0.83 이상, 더욱 바람직하게는 0.84 이상이다.In one embodiment, the optical laminate 100 has an ellipticity measured at each of an elevation angle of 90° and an elevation angle of 30° at an azimuth of 45° of 0.8 or greater. The ellipticity measured at an elevation angle of 90° at an azimuth angle of 45° is preferably 0.85 or more, more preferably 0.88 or more, and even more preferably 0.90 or more. The ellipticity measured at an elevation angle of 30° at an azimuth of 45° is preferably 0.81 or more, more preferably 0.83 or more, and still more preferably 0.84 or more.

방위각 45°에서 앙각 90° 및 앙각 30°의 각각에서 측정되는 타원율이 상기 하한 이상이면, 적층 방향 및 경사 방향에서의 광학 보상 성능을 안정적으로 향상할 수 있다. 방위각 45°에서 앙각 90° 및 앙각 30°의 각각에서 측정되는 타원율의 상한은 대표적으로는 1.00 이하이고, 또한 예컨대 0.95 이하이다.If the ellipticity measured at each of the elevation angles of 90° and 30° at an azimuth angle of 45° is more than the above lower limit, optical compensation performance in the stacking direction and tilt direction can be stably improved. The upper limit of the ellipticity measured at an elevation angle of 90° and an elevation angle of 30° at an azimuth angle of 45° is typically 1.00 or less, for example, 0.95 or less.

도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 복수의 위상차 부재는 대표적으로는 nz>nx=ny의 굴절률을 갖는 제1 위상차 부재(1)와; λ/4 부재로서 기능하는 제2 위상차 부재(2)를 시인 측으로부터 이 순서대로 포함하고 있다. 이와 같은 구성에 따르면, 적층 방향 및 경사 방향에서의 광학 보상 성능을 보다 안정적으로 향상할 수 있다.As shown in FIGS. 1 and 2, the plurality of retardation members typically include a first retardation member 1 having a refractive index of nz>nx=ny; The second phase difference member 2, which functions as a λ/4 member, is included in this order from the viewer side. According to this configuration, optical compensation performance in the stacking direction and tilt direction can be improved more stably.

도 1에 나타내는 바와 같이, 하나의 실시형태에서, 복수의 위상차 부재는 상기한 제1 위상차 부재(1)와; 상기한 제2 위상차 부재(2)와; nz>nx≥ny의 굴절률을 갖는 제3 위상차 부재(3)와; nx>ny≥nz의 굴절률을 갖는 제4 위상차 부재(4)를 시인 측으로부터 이 순서대로 포함하고 있다.As shown in Fig. 1, in one embodiment, a plurality of phase difference members include the above-described first phase difference member 1; The second phase difference member 2 described above; a third phase difference member (3) having a refractive index of nz>nx≥ny; The fourth phase difference member 4 having a refractive index of nx>ny≥nz is included in this order from the viewer side.

또한, 도 2에 나타내는 바와 같이, 복수의 위상차 부재는 상기한 제1 위상차 부재(1)와; 상기한 제2 위상차 부재(2)와; nx>nz>ny의 굴절률을 갖는 제5 위상차 부재(50)를 시인 측으로부터 이 순서대로 포함하고 있다. 즉, 복수의 위상차 부재는 제3 위상차 부재(3) 및 제4 위상차 부재(4)를 대신하여, 제5 위상차 부재(50)를 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 광학 부재(5)가 구비하는 편광막(51)의 흡수축 방향과 제5 위상차 부재(50)의 지상축 방향이 이루는 각도는, 예컨대 90°±1° 미만(즉 89.0° 초과, 91.0° 미만)이고, 바람직하게는 90°±0.5° 이하(즉 89.5° 이상, 90.5° 이하)이다.Additionally, as shown in FIG. 2, the plurality of phase difference members include the above-described first phase difference member 1; The second phase difference member 2 described above; The fifth phase difference member 50 having a refractive index of nx>nz>ny is included in this order from the viewer side. That is, the plurality of phase difference members may include the fifth phase difference member 50 instead of the third phase difference member 3 and the fourth phase difference member 4. In this case, the angle formed by the absorption axis direction of the polarizing film 51 included in the optical member 5 and the slow axis direction of the fifth phase difference member 50 is, for example, less than 90°±1° (i.e., more than 89.0°, less than 91.0°), and preferably 90°±0.5° or less (i.e., 89.5° or more, 90.5° or less).

이들 구성에 따르면, 적층 방향 및 경사 방향에서의 광학 보상 성능을 보다 안정적으로 향상할 수 있다.According to these configurations, optical compensation performance in the stacking direction and tilt direction can be improved more stably.

또한, 도 1에서는 위상차 부재의 수가 4개이고, 도 2에서는 위상차 부재의 수가 3개이지만, 위상차 부재의 수는 이것으로 한정되지 않는다. 복수의 위상차 부재는, 상기한 위상차 부재에 더하여, 다른 위상차 부재를 추가로 포함하고 있어도 된다.In addition, although the number of phase difference members in FIG. 1 is four and the number of phase difference members in FIG. 2 is three, the number of phase difference members is not limited to this. The plurality of phase difference members may further include other phase difference members in addition to the above-mentioned phase difference members.

하나의 실시형태에서, 광학 적층체(100)는 제1 위상차 부재(1)에 대하여 제2 위상차 부재(2)와 반대 측에 위치하는 기재(6)와; 기재(6)에 대하여 제1 위상차 부재(1)의 반대 측에 위치하는 광학 기능층(7)을 추가로 구비하고 있다. 광학 적층체가 광학 기능층을 구비하는 것에 의해, 광학 기능층에 따른 광학적 기능을 광학 적층체에 부여할 수 있다.In one embodiment, the optical laminate 100 includes a substrate 6 located on an opposite side of the second retardation member 2 with respect to the first retardation member 1; The base material 6 is further provided with an optical function layer 7 located on the opposite side of the first retardation member 1. By providing an optical layered product with an optical function layer, an optical function according to the optical function layer can be provided to the optical layered product.

하나의 실시형태에서, 광학 적층체(100)는 제1 위상차 부재(1)에 대하여 제2 위상차 부재(2)와 반대 측에 위치하는 제1 표면 보호 필름(8)을 추가로 구비하고 있다. 도시예에서는, 제1 표면 보호 필름(8)은 기재(6)에 대하여 제1 위상차 부재(1)와 반대 측에 위치하고 있다.In one embodiment, the optical laminate 100 further includes a first surface protection film 8 located on the opposite side of the second retardation member 2 with respect to the first retardation member 1 . In the illustrated example, the first surface protection film 8 is located on the side opposite to the first retardation member 1 with respect to the substrate 6.

또한, 광학 적층체(100)는, 제2 표면 보호 필름(9)을 추가로 구비하고 있어도 된다. 제2 표면 보호 필름(9)은, 제1 표면 보호 필름(8)에 대하여 제1 위상차 부재(1)와 반대 측에 위치하고 있고, 제1 표면 보호 필름(8)에 가착되어 있다.Additionally, the optical laminate 100 may be further provided with a second surface protection film 9. The 2nd surface protection film 9 is located on the side opposite to the 1st retardation member 1 with respect to the 1st surface protection film 8, and is temporarily attached to the 1st surface protection film 8.

하나의 실시형태에서, 광학 적층체(100)는, 편광 부재(5)에 대하여 복수의 위상차 부재와 반대 측(시인 측과 반대 측)에 위치하는 점착제층(20)을 추가로 구비하고 있다. 이에 따라, 광학 적층체(100)는 점착제층(20)에 의해 화상 표시 셀에 첩부 가능해진다.In one embodiment, the optical laminate 100 further includes an adhesive layer 20 located on the side opposite to the plurality of retardation members (the side opposite to the viewing side) with respect to the polarizing member 5. Accordingly, the optical laminate 100 can be attached to the image display cell using the adhesive layer 20.

또한, 광학 적층체(100)는, 박리 라이너(10)를 추가로 구비하고 있어도 된다. 박리 라이너(10)는 점착제층(20)에 대하여 편광 부재(5)와 반대 측에 위치하고 있고, 점착제층(20)의 표면에 가착되어 있다. 박리 라이너(10)는 광학 적층체가 화상 표시 셀에 첩부되기까지 점착제층(20)에 가착되어 있고, 광학 적층체의 첩부 시에 점착제층(20)으로부터 박리된다.Additionally, the optical laminate 100 may further include a release liner 10. The release liner 10 is located on the side opposite to the polarizing member 5 with respect to the adhesive layer 20, and is temporarily attached to the surface of the adhesive layer 20. The release liner 10 is temporarily attached to the adhesive layer 20 until the optical laminate is attached to the image display cell, and is peeled off from the adhesive layer 20 when the optical laminate is attached.

광학 적층체(100)는 대표적으로는 적층 방향으로부터 보아 직사각형상이다. 보다 구체적으로는, 광학 적층체(100)는 장변 10mm~70mm 및 단변 10mm~70mm 정도, 또한 장변 20mm~40mm 및 단변 10mm~30mm 정도, 보다 상세하게는 장변 30mm 및 단변 20mm 정도의 직사각형상일 수 있다.The optical laminate 100 typically has a rectangular shape when viewed from the stacking direction. More specifically, the optical laminate 100 may have a rectangular shape with a long side of about 10 mm to 70 mm and a short side of about 10 mm to 70 mm, a long side of about 20 mm to 40 mm and a short side of about 10 mm to 30 mm, and more specifically, a long side of about 30 mm and a short side of about 20 mm. .

이하, 광학 적층체의 구성 요소에 대하여 설명한다.Hereinafter, the components of the optical laminate will be described.

B. 편광 부재B. Absence of polarization

편광 부재(5)는 대표적으로는 흡수형 편광 부재이다. 편광 부재(5)는 편광막(51)을 구비하고 있다. 편광 부재(5)는 보호층을 추가로 구비하여도 된다. 보호층은 편광막의 적어도 한쪽 면에 마련되어도 되고, 편광막의 양면에 마련되어도 된다. 도시예에서는, 편광 부재(5)는 편광막(51)의 시인 측과 반대 측의 면에 마련되는 보호층(52)을 구비하고 있다. 보호층(52)은, 대표적으로는, 임의의 적절한 접착제층(53)을 개재하여 편광막(51)에 첩합되어 있다. 접착제층(53)을 형성하는 접착제로서, 대표적으로는 자외선 경화형 접착제를 들 수 있다. 접착제층(53)의 두께는, 예컨대 1.5㎛ 이상, 바람직하게는 2.0㎛ 이상이며, 예컨대 5.0㎛ 이하, 바람직하게는 3.0㎛ 이하이다.The polarizing member 5 is typically an absorption-type polarizing member. The polarizing member 5 is provided with a polarizing film 51 . The polarizing member 5 may be additionally provided with a protective layer. The protective layer may be provided on at least one side of the polarizing film, or may be provided on both sides of the polarizing film. In the illustrated example, the polarizing member 5 is provided with a protective layer 52 provided on the surface of the polarizing film 51 opposite to the viewing side. The protective layer 52 is typically bonded to the polarizing film 51 via any suitable adhesive layer 53. As an adhesive that forms the adhesive layer 53, a representative example is an ultraviolet curing adhesive. The thickness of the adhesive layer 53 is, for example, 1.5 μm or more, preferably 2.0 μm or more, for example, 5.0 μm or less, preferably 3.0 μm or less.

B-1. 편광막B-1. polarizer

편광막(51)은 임의의 적절한 흡수형 편광막이 채용될 수 있다. 편광막(51)은 대표적으로는 이색성(二色性) 물질을 포함하는 수지 필름을 포함한다. 편광막(51)은 단층의 수지 필름으로부터 제작하여도 되고, 2층 이상의 적층체를 이용하여 제작하여도 된다.The polarizing film 51 may be any suitable absorption-type polarizing film. The polarizing film 51 typically includes a resin film containing a dichroic material. The polarizing film 51 may be produced from a single-layer resin film, or may be produced using a laminate of two or more layers.

단층의 수지 필름으로 제작하는 경우, 예컨대, 폴리비닐알코올(PVA)계 필름, 부분 포르말화 PVA계 필름, 에틸렌·초산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 물질에 의한 염색 처리, 연신 처리 등을 실시함으로써 흡수형 편광막을 얻을 수 있다. 그 중에서도, PVA계 필름을 요오드로 염색하고 1축 연신하여 얻어지는 흡수형 편광막이 바람직하다.When producing a single-layer resin film, for example, hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol (PVA)-based films, partially formalized PVA-based films, and ethylene-vinyl acetate copolymer-based partially saponified films, are mixed with iodine or dichroic dyes. An absorption-type polarizing film can be obtained by performing dyeing treatment with a dichroic substance, stretching treatment, etc. Among them, an absorption-type polarizing film obtained by dyeing a PVA-based film with iodine and uniaxially stretching it is preferable.

상기 요오드에 의한 염색은, 예컨대, PVA계 필름을 요오드 수용액에 침지함으로써 행하여진다. 상기 1축 연신의 연신 배율은 바람직하게는 3~7배이다. 연신은 염색 처리 후에 행하여도 되고, 염색하면서 행하여도 된다. 또한, 연신하고 나서 염색하여도 된다. 필요에 따라서, PVA계 필름에 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다.The dyeing with iodine is performed, for example, by immersing the PVA-based film in an aqueous iodine solution. The draw ratio of the uniaxial stretching is preferably 3 to 7 times. Stretching may be performed after dyeing treatment or may be performed while dyeing. Additionally, it may be dyed after stretching. If necessary, the PVA-based film is subjected to swelling treatment, crosslinking treatment, washing treatment, drying treatment, etc.

상기 2층 이상의 적층체를 이용하여 제작하는 경우의 적층체로서는, 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)의 적층체, 또는 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층의 적층체를 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층의 적층체를 이용하여 얻어지는 흡수형 편광막은, 예컨대, PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜 수지 기재 위에 PVA계 수지층을 형성하여, 수지 기재와 PVA계 수지층의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 흡수형 편광막으로 하는 것에 의해 제작될 수 있다. 본 실시형태에서는, 바람직하게는 수지 기재의 편측에 할로겐화물과 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 폴리비닐알코올계 수지층을 형성한다. 연신은 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은 필요에 따라 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온(예컨대, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 더 포함할 수 있다. 더하여, 본 실시형태에서는, 바람직하게는 적층체는, 긴 방향으로 반송하면서 가열하는 것에 의해 폭 방향으로 2% 이상 수축시키는 건조 수축 처리에 제공된다. 대표적으로는, 본 실시형태의 제조 방법은, 적층체에, 공중 보조 연신 처리와 염색 처리와 수중 연신 처리와 건조 수축 처리를 이 순서대로 실시하는 것을 포함한다. 보조 연신을 도입함으로써, 열가소성 수지 위에 PVA를 도포하는 경우에서도, PVA의 결정성을 높이는 것이 가능해져, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능하게 된다. 또한, 동시에 PVA의 배향성을 사전에 높임으로써, 후의 염색 공정이나 연신 공정에서 물에 침지되었을 때에, PVA의 배향성의 저하나 용해 등의 문제를 방지할 수 있어, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능하게 된다. 또한, PVA계 수지층을 액체에 침지한 경우에서, PVA계 수지층이 할로겐화물을 포함하지 않는 경우에 비해, 폴리비닐알코올 분자의 배향의 흐트러짐, 및 배향성의 저하가 억제될 수 있다. 이것에 의해, 염색 처리 및 수중 연신 처리 등, 적층체를 액체에 침지하여 행하는 처리 공정을 거쳐 얻어지는 흡수형 편광막의 광학 특성은 향상될 수 있다. 또한, 건조 수축 처리에 의해 적층체를 폭 방향으로 수축시킴으로써, 광학 특성을 향상시킬 수 있다. 얻어진 수지 기재/흡수형 편광막의 적층체는 그대로 이용하여도 되고(즉, 수지 기재를 흡수형 편광막의 보호층으로 하여도 되고), 수지 기재/흡수형 편광막의 적층체로부터 수지 기재를 박리한 박리면에, 또는 박리면과는 반대 측의 면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호층을 적층하여 이용하여도 된다. 이와 같은 흡수형 편광막의 제조 방법의 상세는, 예컨대 일본 공개특허공보 2012-73580호, 일본 특허공보 제6470455호에 기재되어 있다. 이들 공보는, 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.The laminate when manufactured using the above two or more layered laminate is a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer (PVA-based resin film) laminated on the resin substrate, or a laminate formed by applying a resin substrate and the resin substrate. A laminate of a PVA-based resin layer can be mentioned. An absorption-type polarizing film obtained by using a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer formed by applying to the resin substrate is, for example, applying a PVA-based resin solution to a resin substrate and drying it to form a PVA-based resin layer on the resin substrate. , obtaining a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer; It can be produced by stretching and dyeing the laminate and turning the PVA-based resin layer into an absorption-type polarizing film. In this embodiment, a polyvinyl alcohol-based resin layer containing a halide and a polyvinyl alcohol-based resin is preferably formed on one side of the resin substrate. Stretching typically involves immersing the laminate in an aqueous boric acid solution and stretching it. Additionally, stretching may further include air stretching the laminate at a high temperature (eg, 95°C or higher) before stretching in an aqueous boric acid solution, if necessary. In addition, in this embodiment, the laminate is preferably subjected to dry shrinkage treatment to shrink the laminate by 2% or more in the width direction by heating while conveying in the longitudinal direction. Typically, the manufacturing method of this embodiment includes performing aerial auxiliary stretching treatment, dyeing treatment, underwater stretching treatment, and dry shrink treatment on the laminate in this order. By introducing auxiliary stretching, even in the case of applying PVA on a thermoplastic resin, it becomes possible to increase the crystallinity of PVA and achieve high optical properties. Moreover, by simultaneously increasing the orientation of PVA in advance, problems such as a decrease in orientation or dissolution of PVA when immersed in water in the subsequent dyeing or stretching process can be prevented, making it possible to achieve high optical properties. do. Additionally, when the PVA-based resin layer is immersed in a liquid, the disruption of the orientation of polyvinyl alcohol molecules and the decrease in orientation can be suppressed compared to the case where the PVA-based resin layer does not contain a halide. As a result, the optical properties of the absorption-type polarizing film obtained through a treatment process performed by immersing the laminate in a liquid, such as dyeing treatment and underwater stretching treatment, can be improved. Additionally, optical properties can be improved by shrinking the laminate in the width direction through dry shrinkage treatment. The obtained resin substrate/absorption type polarizing film laminate may be used as is (i.e., the resin substrate may be used as a protective layer for the absorption type polarizing film), or a foil obtained by peeling the resin substrate from the resin substrate/absorption type polarizing film laminate may be used as is. Any suitable protective layer depending on the purpose may be laminated on the back surface or on the surface opposite to the peeling surface. Details of the manufacturing method of such an absorption-type polarizing film are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580 and Japanese Patent Application Publication No. 6470455. The entire descriptions of these publications are incorporated herein by reference.

편광막의 두께는 예컨대 1㎛ 이상 20㎛ 이하, 바람직하게는 2㎛ 이상 15㎛ 이하, 보다 바람직하게는 12㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 10㎛ 이하, 특히 바람직하게는 8㎛ 이하, 더욱 특히 바람직하게는 5㎛ 이하이다.The thickness of the polarizing film is, for example, 1 μm or more and 20 μm or less, preferably 2 μm or more and 15 μm or less, more preferably 12 μm or less, further preferably 10 μm or less, particularly preferably 8 μm or less, and even more particularly preferably. is 5㎛ or less.

편광막은, 바람직하게는, 파장 380nm~780nm의 어느 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다. 편광막의 직교 투과율(Tc)은 예컨대 0.5% 이하, 바람직하게는 0.1% 이하, 보다 바람직하게는 0.05% 이하이다. 편광막의 단체 투과율(Ts)은 예컨대 41.0%~46.0%이며, 바람직하게는 42.0% 이상이다. 편광막의 편광도는, 예컨대 97.0%~99.997%이고, 바람직하게는 99.0% 이상이며, 보다 바람직하게는 99.9% 이상이다.The polarizing film preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength between 380 nm and 780 nm. The orthogonal transmittance (Tc) of the polarizing film is, for example, 0.5% or less, preferably 0.1% or less, and more preferably 0.05% or less. The single transmittance (Ts) of the polarizing film is, for example, 41.0% to 46.0%, and is preferably 42.0% or more. The polarization degree of the polarizing film is, for example, 97.0% to 99.997%, preferably 99.0% or more, and more preferably 99.9% or more.

B-2. 보호층B-2. protective layer

보호층은, 편광막의 보호층으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 형성된다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로서는, 폴리노보넨계 등의 시클로올레핀(COP)계, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)계 등의 폴리에스테르계, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지, 폴리카보네이트(PC)계, (메트)아크릴계, 폴리비닐알코올계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르설폰계, 폴리설폰계, 폴리스티렌계, 폴리올레핀계, 아세테이트계 등의 투명 수지를 들 수 있다. 또한, (메트)아크릴계, 우레탄계, (메트)아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화형 수지 또는 자외선 경화형 수지 등도 들 수 있다. 또한, ‘(메트)아크릴계 수지’란, 아크릴계 수지 및/또는 메타크릴계 수지를 말한다. 이 밖에도, 예컨대, 실록산계 폴리머 등의 유리질계 폴리머도 들 수 있다. 또한, 일본 공개특허공보 2001-343529호(WO01/37007)에 기재된 폴리머 필름도 사용할 수 있다. 이 필름의 재료로서는, 예컨대, 측쇄에 치환 또는 비치환의 이미드기를 갖는 열가소성 수지와, 측쇄에 치환 또는 비치환의 페닐기 및 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물을 사용할 수 있고, 예컨대, 이소부텐과 N-메틸말레이미드로 이루어진 교호 공중합체와, 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체를 갖는 수지 조성물을 들 수 있다. 당해 폴리머 필름은, 예컨대, 상기 수지 조성물의 압출 성형물일 수 있다. 수지 필름의 재료는, 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다.The protective layer is formed from any suitable film that can be used as a protective layer for a polarizing film. Specific examples of materials that become the main components of the film include cycloolefin (COP)-based polynorbornene-based, polyester-based such as polyethylene terephthalate (PET)-based, cellulose-based resins such as triacetylcellulose (TAC), and polycarbonate. Transparent resins such as (PC)-based, (meth)acrylic-based, polyvinyl alcohol-based, polyamide-based, polyimide-based, polyethersulfone-based, polysulfone-based, polystyrene-based, polyolefin-based, and acetate-based resins can be mentioned. In addition, thermosetting resins or ultraviolet curing resins such as (meth)acrylic, urethane, (meth)acrylic urethane, epoxy, silicone, etc. may also be included. Additionally, ‘(meth)acrylic resin’ refers to acrylic resin and/or methacrylic resin. In addition, for example, glassy polymers such as siloxane polymers can also be mentioned. Additionally, the polymer film described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-343529 (WO01/37007) can also be used. As a material for this film, for example, a resin composition containing a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted imide group in the side chain and a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted phenyl group and a nitrile group in the side chain can be used, for example, isobutene and A resin composition containing an alternating copolymer made of N-methylmaleimide and an acrylonitrile/styrene copolymer can be mentioned. The polymer film may be, for example, an extrusion molded product of the resin composition. The materials of the resin film can be used individually or in combination.

보호층의 두께는, 대표적으로는 5mm 이하이고, 바람직하게는 1mm 이하, 보다 바람직하게는 1㎛~500㎛, 더욱 바람직하게는 5㎛~150㎛이다.The thickness of the protective layer is typically 5 mm or less, preferably 1 mm or less, more preferably 1 μm to 500 μm, and still more preferably 5 μm to 150 μm.

또한, 보호층(52)에서의 편광막(51)과 반대 측(시인 측과 반대 측)의 표면에는, 하드 코트층(54)이 마련되어 있어도 된다. 즉, 광학 부재(5)는 하드 코트층(54)을 포함하고 있어도 된다. 하드 코트층(54)은, 보호층(52)의 표면에 직접 형성되어 있다. 본 명세서에서 ‘직접’이란 접착층(접착제층 또는 점착제층)이 개재하지 않는 것을 의미한다.Additionally, a hard coat layer 54 may be provided on the surface of the protective layer 52 on the side opposite to the polarizing film 51 (the side opposite to the viewing side). That is, the optical member 5 may include the hard coat layer 54. The hard coat layer 54 is formed directly on the surface of the protective layer 52. In this specification, ‘directly’ means that no adhesive layer (adhesive layer or adhesive layer) is interposed.

하드 코트층(54)은, 바람직하게는 충분한 표면 경도, 우수한 기계적 강도, 및 우수한 광 투과성을 갖는다. 하드 코트층(54)은 임의의 적절한 수지로부터 형성될 수 있다. 하드 코트층(54)은, 대표적으로는 자외선 경화형 수지로부터 형성된다. 자외선 경화형 수지로서는, 예컨대, 폴리에스테르계, 아크릴계, 우레탄계, 아미드계, 실리콘계, 에폭시계를 들 수 있다. 하드 코트층(54)의 두께는, 예컨대 0.5㎛ 이상, 바람직하게는 1㎛ 이상, 예컨대 20㎛ 이하, 바람직하게는 15㎛ 이하이다.The hard coat layer 54 preferably has sufficient surface hardness, excellent mechanical strength, and excellent light transmittance. Hard coat layer 54 may be formed from any suitable resin. The hard coat layer 54 is typically formed from an ultraviolet curable resin. Examples of ultraviolet curable resins include polyester-based, acrylic-based, urethane-based, amide-based, silicone-based, and epoxy-based resins. The thickness of the hard coat layer 54 is, for example, 0.5 μm or more, preferably 1 μm or more, for example, 20 μm or less, and preferably 15 μm or less.

C. 제1 위상차 부재C. Absence of first phase difference

제1 위상차 부재(1)는, 제2 위상차 부재(2)에 대하여 편광 부재(5)와 반대 측에 위치하고 있다. 제1 위상차 부재(1)는 대표적으로는 위상차 필름이다. 제1 위상차 부재(1)는, 대표적으로는, 임의의 적절한 접착제층(11)을 개재하여 제2 위상차 부재(2)에 첩부되어 있다. 접착제층(11)을 형성하는 접착제로서, 대표적으로는 자외선 경화형 접착제를 들 수 있다. 접착제층(11)의 두께는, 예컨대 1.5㎛ 이상, 바람직하게는 2.0㎛ 이상이며, 예컨대 5.0㎛ 이하, 바람직하게는 3.0㎛ 이하이다.The first retardation member 1 is located on the opposite side to the polarizing member 5 with respect to the second retardation member 2. The first retardation member 1 is typically a retardation film. The first phase difference member 1 is typically attached to the second phase difference member 2 via an arbitrary appropriate adhesive layer 11. As an adhesive that forms the adhesive layer 11, a typical example is an ultraviolet curing adhesive. The thickness of the adhesive layer 11 is, for example, 1.5 μm or more, preferably 2.0 μm or more, for example, 5.0 μm or less, preferably 3.0 μm or less.

제1 위상차 부재(1)는, 상기와 같이 nz>nx=ny의 굴절률을 갖는다. nz>nx=ny의 굴절률을 갖는 층(필름)은, ‘포지티브 C 플레이트’ 등으로 칭해지는 경우가 있다. 또한, ‘nx=ny’는 nx와 ny가 완전하게 동일한 경우뿐만 아니라, 실질적으로 동일한 경우를 포함한다. 제1 위상차 부재(1)의 면내 위상차 Re(550)는, 예컨대 0nm 이상 10nm 미만일 수 있다.The first phase difference member 1 has a refractive index of nz>nx=ny as described above. The layer (film) having a refractive index of nz>nx=ny is sometimes called a “positive C plate” or the like. Additionally, ‘nx=ny’ includes not only cases where nx and ny are completely identical, but also cases where nx and ny are substantially identical. The in-plane phase difference Re(550) of the first phase difference member 1 may be, for example, 0 nm or more and less than 10 nm.

제1 위상차 부재(1)의 두께 방향의 위상차 Rth(550)는, 대표적으로는 0nm 미만, 바람직하게는 -5nm 이하, 보다 바람직하게는 -50nm 이하이며, 예컨대 -200nm 이상, 바람직하게는 -150nm 이상, 보다 바람직하게는 -110nm 이상이다.The phase difference Rth (550) in the thickness direction of the first phase difference member 1 is typically less than 0 nm, preferably less than -5 nm, more preferably less than -50 nm, for example, -200 nm or more, preferably -150 nm. or more, more preferably -110 nm or more.

제1 위상차 부재(1)는, 임의의 적절한 재료로 형성될 수 있다. 제1 위상차 부재(1)는, 바람직하게는, 호메오트로픽 배향으로 고정된 액정 재료를 포함하는 필름으로 구성된다. 호메오트로픽 배향시킬 수 있는 액정 재료(액정 화합물)는, 액정 모노머이어도 되고 액정 폴리머이어도 된다. 당해 액정 화합물 및 당해 광학 보상층의 형성 방법의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2002-333642호의 [0020]~[0028]에 기재된 액정 화합물 및 당해 광학 보상층의 형성 방법을 들 수 있다. 이 경우, 제1 위상차 부재(1)의 두께는, 예컨대 10㎛ 이하, 바람직하게는 8㎛ 이하, 보다 바람직하게는 5㎛ 이하이고, 대표적으로는 0.5㎛ 이상이다.The first retardation member 1 may be formed of any suitable material. The first retardation member 1 is preferably made of a film containing a liquid crystal material fixed in homeotropic orientation. The liquid crystal material (liquid crystal compound) capable of homeotropic alignment may be a liquid crystal monomer or a liquid crystal polymer. Specific examples of the liquid crystal compound and the method for forming the optical compensation layer include the liquid crystal compound and the method for forming the optical compensation layer described in [0020] to [0028] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-333642. In this case, the thickness of the first phase difference member 1 is, for example, 10 μm or less, preferably 8 μm or less, more preferably 5 μm or less, and typically 0.5 μm or more.

D. 제2 위상차 부재D. Absence of second phase difference

제2 위상차 부재(2)는 도 1에서 제1 위상차 부재(1)와 제3 위상차 부재(3)의 사이에 위치하고, 도 2에서 제1 위상차 부재(1)와 제5 위상차 부재(50)의 사이에 위치하고 있다. 제2 위상차 부재(2)는 대표적으로는 위상차 필름이다. 제2 위상차 부재(2)는, 대표적으로는, 임의의 적절한 점착제층(21)을 개재하여 제3 위상차 부재(3) 또는 제5 위상차 부재(50)에 첩부되어 있다. 점착제층(21)을 형성하는 점착제로서는, 예컨대 (메트)아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 실리콘계 점착제, 고무계 점착제를 들 수 있고, 바람직하게는 (메트)아크릴계 점착제를 들 수 있다. 점착제층(21)의 두께는, 예컨대 3.5㎛ 이상 35㎛ 이하이다.The second phase difference member 2 is located between the first phase difference member 1 and the third phase difference member 3 in FIG. 1, and is positioned between the first phase difference member 1 and the fifth phase difference member 50 in FIG. 2. It is located in between. The second retardation member 2 is typically a retardation film. The second retardation member 2 is typically attached to the third retardation member 3 or the fifth retardation member 50 via any appropriate adhesive layer 21. Examples of the adhesive forming the adhesive layer 21 include (meth)acrylic adhesives, urethane adhesives, silicone adhesives, and rubber adhesives, and preferably (meth)acrylic adhesives. The thickness of the adhesive layer 21 is, for example, 3.5 μm or more and 35 μm or less.

제2 위상차 부재(2)는 상기와 같이 λ/4 부재로서 기능한다. 제2 위상차 부재(2)는, 대표적으로는 nx>ny≥nz의 굴절률을 갖는다. 또한, 여기에서 ‘ny=nz’는 ny와 nz가 완전하게 동일한 경우뿐만 아니라, 실질적으로 동일한 경우를 포함한다.The second phase difference member 2 functions as a λ/4 member as described above. The second phase difference member 2 typically has a refractive index of nx>ny≥nz. Additionally, here, ‘ny=nz’ includes not only the case where ny and nz are completely the same, but also the case where they are substantially the same.

제2 위상차 부재(2)의 면내 위상차 Re(550)는, 대표적으로는 100nm 이상 200nm 이하, 바람직하게는 110nm 이상 180nm 이하, 보다 바람직하게는 130nm 이상 150nm 이하이다. 제2 위상차 부재(2)의 Nz 계수는, 바람직하게는 0.9~2.0이고, 보다 바람직하게는 0.9~1.5이며, 더욱 바람직하게는 0.9~1.2이다.The in-plane retardation Re(550) of the second phase difference member 2 is typically 100 nm or more and 200 nm or less, preferably 110 nm or more and 180 nm or less, and more preferably 130 nm or more and 150 nm or less. The Nz coefficient of the second phase difference member 2 is preferably 0.9 to 2.0, more preferably 0.9 to 1.5, and still more preferably 0.9 to 1.2.

편광막(51)의 흡수축 방향과 제2 위상차 부재(2)의 지상축 방향이 이루는 각도는, 대표적으로는 40° 이상 50° 이하, 바람직하게는 42° 이상 48° 이하, 보다 바람직하게는 44° 이상 46° 이하, 특히 바람직하게는 45°이다.The angle formed by the absorption axis direction of the polarizing film 51 and the slow axis direction of the second retardation member 2 is typically 40° or more and 50° or less, preferably 42° or more and 48° or less, more preferably It is 44° or more and 46° or less, especially preferably 45°.

제2 위상차 부재(2)는, 위상차값이 측정광의 파장에 따라 커지는 역분산 파장 특성을 나타내도 되고, 위상차값이 측정광의 파장에 따라 작아지는 양(正)의 파장 분산 특성을 나타내도 되며, 위상차값이 측정광의 파장에 의해서도 거의 변화하지 않는 플랫한 파장 분산 특성을 나타내도 된다. 제2 위상차 부재(2)는, 바람직하게는 역분산 파장 특성을 나타낸다. 즉, 제2 위상차 부재(2)는, 바람직하게는 Re(450)<Re(550)의 관계를 충족한다.The second phase difference member 2 may exhibit inverse dispersion wavelength characteristics in which the phase difference value increases depending on the wavelength of the measurement light, or may exhibit positive wavelength dispersion characteristics in which the phase difference value decreases depending on the wavelength of the measurement light, The phase difference value may exhibit flat wavelength dispersion characteristics that hardly change depending on the wavelength of the measurement light. The second phase difference member 2 preferably exhibits inverse dispersion wavelength characteristics. That is, the second phase difference member 2 preferably satisfies the relationship Re(450)<Re(550).

제2 위상차 부재(2)를 구성하는 수지로서는, 예컨대 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐아세탈계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 환상 올레핀계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리스티렌계 수지, (메트)아크릴계 수지를 들 수 있다. 이와 같은 수지는, 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 제2 위상차 부재(2)를 구성하는 수지는, 바람직하게는, 폴리카보네이트계 수지를 포함한다.The resin constituting the second phase difference member 2 includes, for example, polycarbonate-based resin, polyestercarbonate-based resin, polyester-based resin, polyvinyl acetal-based resin, polyarylate-based resin, cyclic olefin-based resin, cellulose-based resin, Examples include polyvinyl alcohol-based resin, polyamide-based resin, polyimide-based resin, polyether-based resin, polystyrene-based resin, and (meth)acrylic-based resin. These resins can be used individually or in combination. The resin constituting the second phase difference member 2 preferably contains polycarbonate-based resin.

폴리카보네이트계 수지는, 바람직하게는, 하기 일반식 (1)에서 나타내는 구조 단위 및/또는 하기 일반식 (2)에서 나타내는 구조 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구조 단위를 포함한다. 이들 구조 단위는, 2가의 올리고플루오렌에서 유래되는 구조 단위이며, 이하, 올리고플루오렌 구조 단위라 칭하는 경우가 있다. 이와 같은 폴리카보네이트계 수지 등은, 양의 굴절률 이방성을 갖는다.The polycarbonate-based resin preferably contains at least one structural unit selected from the group consisting of structural units represented by the following general formula (1) and/or structural units shown by the following general formula (2). These structural units are structural units derived from divalent oligofluorene, and may hereinafter be referred to as oligofluorene structural units. Such polycarbonate-based resins and the like have positive refractive index anisotropy.

일반식 (1) 및 (2) 중, R1~R3은, 각각 독립적으로, 직접 결합, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~4의 알킬렌기이고; R4~R9는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 4~10의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 아실기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 알콕시기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 아릴옥시기, 치환 또는 비치환의 아미노기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 비닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 에티닐기, 치환기를 갖는 황 원자, 치환기를 갖는 규소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 또는 시아노기이며; 단, R4~R9는, 서로 동일해도 되고, 달라도 되며, R4~R9 중 인접하는 적어도 2개의 기가 서로 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다.In general formulas (1) and (2), R 1 to R 3 are each independently a directly bonded, substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 4 carbon atoms; R 4 to R 9 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group with 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group with 4 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted acyl group with 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or an unsubstituted alkoxy group with 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryloxy group with 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted amino group, a substituted or unsubstituted vinyl group with 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted vinyl group with 1 to 10 carbon atoms. is an ethynyl group, a sulfur atom with a substituent, a silicon atom with a substituent, a halogen atom, a nitro group, or a cyano group; However, R 4 to R 9 may be the same or different from each other, and at least two adjacent groups among R 4 to R 9 may be bonded to each other to form a ring.

폴리카보네이트계 수지에서의 올리고플루오렌 구조 단위의 함유 비율은, 예컨대 1질량% 이상, 바람직하게는 10질량% 이상, 보다 바람직하게는 15질량% 이상, 더욱 바람직하게는 18질량% 이상이고, 예컨대 40질량% 이하, 바람직하게는 35질량% 이하, 보다 바람직하게는 30질량% 이하, 더욱 바람직하게는 25질량% 이하이다. 올리고플루오렌 구조 단위의 함유 비율이 상기 하한 이상이면, 제2 위상차 부재에서 소망하는 역분산 파장 의존성을 안정적으로 발현시킬 수 있다. 올리고플루오렌 구조 단위의 함유 비율이 상기 상한 이하이면, 위상차를 안정적으로 발현할 수 있다.The content ratio of the oligofluorene structural unit in the polycarbonate-based resin is, for example, 1% by mass or more, preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, further preferably 18% by mass or more, such as It is 40 mass% or less, preferably 35 mass% or less, more preferably 30 mass% or less, and even more preferably 25 mass% or less. If the content ratio of the oligofluorene structural unit is more than the above lower limit, the desired inverse dispersion wavelength dependence can be stably expressed in the second phase difference member. If the content ratio of the oligofluorene structural unit is below the above upper limit, phase difference can be stably expressed.

폴리카보네이트계 수지는, 보다 바람직하게는, 올리고플루오렌 구조 단위에 더하여, 하기 구조식(3)에서 나타내는 구조 단위, 및/또는 하기 구조식(4)에서 나타내는 구조 단위를 포함한다. 폴리카보네이트계 수지가 하기 구조식(3) 및/또는 하기 구조식(4)에서 나타내는 구조 단위를 함유하면, 제2 위상차 부재(2)에서 소망하는 역분산 파장 의존성을 보다 안정적으로 발현시킬 수 있다.The polycarbonate-based resin more preferably contains, in addition to the oligofluorene structural unit, a structural unit represented by the following structural formula (3) and/or a structural unit represented by the following structural formula (4). If the polycarbonate-based resin contains the structural units shown in the following structural formula (3) and/or the following structural formula (4), the desired inverse dispersion wavelength dependence can be more stably expressed in the second phase difference member 2.

폴리카보네이트계 수지에서의 상기 구조식 (3)에서 나타내는 구조 단위의 함유 비율은, 예컨대 5질량% 이상, 바람직하게는 10질량% 이상, 보다 바람직하게는 20질량% 이상, 더욱 바람직하게는 25질량% 이상이며, 예컨대 90질량% 이하, 바람직하게는 70질량% 이하, 보다 바람직하게는 50질량% 이하이다.The content ratio of the structural unit represented by the structural formula (3) in the polycarbonate resin is, for example, 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, and still more preferably 25% by mass. or more, for example, 90 mass% or less, preferably 70 mass% or less, more preferably 50 mass% or less.

폴리카보네이트계 수지에서의 상기 구조식 (4)에서 나타내는 구조 단위의 함유 비율은, 예컨대 5질량% 이상, 바람직하게는 10질량% 이상, 보다 바람직하게는 15질량% 이상이며, 예컨대 90질량% 이하, 바람직하게는 70질량% 이하, 보다 바람직하게는 50질량% 이하이다.The content ratio of the structural unit represented by the structural formula (4) in the polycarbonate resin is, for example, 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, for example, 90% by mass or less, Preferably it is 70 mass% or less, more preferably 50 mass% or less.

제2 위상차 부재(2)를 구성하는 수지는, 특히 바람직하게는, 폴리카보네이트계 수지에 더하여, (메트)아크릴계 수지를 포함한다.The resin constituting the second phase difference member 2 particularly preferably contains (meth)acrylic resin in addition to polycarbonate resin.

(메트)아크릴계 수지는, 대표적으로는 메타크릴산 메틸 유래의 구조 단위를 포함한다. (메트)아크릴계 수지에서의 메타크릴산 메틸 유래의 구조 단위의 함유 비율은, 예컨대 70질량% 이상, 바람직하게는 80질량% 이상, 보다 바람직하게는 90질량% 이상, 더욱 바람직하게는 95질량% 이상이다. 메타크릴산 메틸 유래의 구조 단위의 함유 비율이 상기 하한 이상이면, 폴리카보네이트계 수지와의 우수한 상용(相溶)성을 발현할 수 있다. 메타크릴산 메틸 유래의 구조 단위의 함유 비율은, 대표적으로는 100질량% 이하이다.(meth)acrylic resin typically contains structural units derived from methyl methacrylate. The content ratio of the structural unit derived from methyl methacrylate in the (meth)acrylic resin is, for example, 70% by mass or more, preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and still more preferably 95% by mass. That's it. If the content ratio of the structural unit derived from methyl methacrylate is more than the above lower limit, excellent compatibility with the polycarbonate-based resin can be exhibited. The content rate of structural units derived from methyl methacrylate is typically 100% by mass or less.

(메트)아크릴계 수지의 중량평균 분자량(Mw)은, 예컨대 10,000 이상, 바람직하게는 30,000 이상, 보다 바람직하게는 50,000 이상이며, 예컨대 200,000 이하, 바람직하게는 180,000 이하, 보다 바람직하게는 150,000 이하이다. 또한, 상기의 중량평균 분자량은 GPC에 의해 측정되는 폴리스티렌 환산의 분자량이다. 중량평균 분자량(Mw)이 이와 같은 범위이면, 폴리카보네이트계 수지와의 우수한 상용성을 안정적으로 발현할 수 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic resin is, for example, 10,000 or more, preferably 30,000 or more, more preferably 50,000 or more, and for example, 200,000 or less, preferably 180,000 or less, more preferably 150,000 or less. In addition, the above weight average molecular weight is the molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC. If the weight average molecular weight (Mw) is within this range, excellent compatibility with polycarbonate-based resin can be stably achieved.

제2 위상차 부재(2)를 구성하는 수지에서의 (메트)아크릴계 수지의 함유 비율은, 예컨대 0질량% 이상, 바람직하게는 0.5질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.6질량% 이상이며, 예컨대 2.0질량% 이하, 바람직하게는 1.5질량% 이하, 보다 바람직하게는 1.0질량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.9질량% 이하, 특히 바람직하게는 0.8질량% 이하이다. (메트)아크릴계 수지의 함유 비율이 상기 범위 내이면, 신장성 및 위상차 발현성을 현저하게 증대시킬 수 있고, 또한, 헤이즈를 억제할 수 있다.The content ratio of (meth)acrylic resin in the resin constituting the second phase difference member 2 is, for example, 0 mass% or more, preferably 0.5 mass% or more, more preferably 0.6 mass% or more, for example, 2.0 mass% or more. % or less, preferably 1.5 mass% or less, more preferably 1.0 mass% or less, further preferably 0.9 mass% or less, particularly preferably 0.8 mass% or less. If the content ratio of the (meth)acrylic resin is within the above range, extensibility and retardation development can be significantly increased, and haze can be suppressed.

이와 같은 제2 위상차 부재(2)는, 대표적으로는, 상기한 제2 위상차 부재를 구성하는 수지로부터 형성되는 고분자 필름의 연신 필름이며, 고분자 필름을 연신함으로써 조제된다.Such a second retardation member 2 is typically a stretched polymer film formed from a resin constituting the second retardation member described above, and is prepared by stretching the polymer film.

제2 위상차 부재(2)의 두께는, 소망하는 광학 특성이 얻어지도록 설정될 수 있다. 제2 위상차 부재(2)의 두께는, 예컨대 10㎛ 이상, 바람직하게는 15㎛ 이상, 보다 바람직하게는 20㎛ 이상이고, 예컨대 60㎛ 이하, 바람직하게는 55㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 50㎛ 이하이다.The thickness of the second retardation member 2 can be set so that desired optical properties are obtained. The thickness of the second phase difference member 2 is, for example, 10 μm or more, preferably 15 μm or more, more preferably 20 μm or more, and for example, 60 μm or less, preferably 55 μm or less, more preferably 50 μm. It is as follows.

E. 제3 위상차 부재E. Absence of third phase difference

도 1에 나타내는 바와 같이, 제3 위상차 부재(3)는 제2 위상차 부재(2)와 제4 위상차 부재(4)의 사이에 위치하고 있다. 제3 위상차 부재(3)는, 대표적으로는, 임의의 적절한 접착제층(31)을 개재하여 제4 위상차 부재(4)에 첩부되어 있다. 접착제층(31)을 형성하는 접착제, 및 접착제층(31)의 두께의 범위는 상기한 접착제층(11)과 마찬가지이다.As shown in FIG. 1, the third phase difference member 3 is located between the second phase difference member 2 and the fourth phase difference member 4. The third retardation member 3 is typically attached to the fourth retardation member 4 via an arbitrary appropriate adhesive layer 31. The adhesive forming the adhesive layer 31 and the thickness range of the adhesive layer 31 are the same as those of the adhesive layer 11 described above.

제3 위상차 부재(3)는, 상기와 같이 nz>nx≥ny의 굴절률을 갖는다. 제3 위상차 부재(3)는, 바람직하게는 nz>nx>ny의 굴절률을 갖는다. nz>nx>ny의 굴절률을 갖는 층(필름)은, ‘포지티브 B 플레이트’ 등으로 칭해지는 경우가 있다.The third phase difference member 3 has a refractive index of nz>nx≥ny as described above. The third phase difference member 3 preferably has a refractive index of nz>nx>ny. The layer (film) having a refractive index of nz>nx>ny is sometimes called a “positive B plate” or the like.

제3 위상차 부재(3)의 면내 위상차 Re(550)는, 예컨대 15nm 이상, 바람직하게는 20nm 이상이고, 예컨대 55nm 이하, 바람직하게는 45nm 이하이다.The in-plane retardation Re(550) of the third retardation member 3 is, for example, 15 nm or more, preferably 20 nm or more, for example, 55 nm or less, preferably 45 nm or less.

제3 위상차 부재(1)의 두께 방향의 위상차 Rth(550)는, 대표적으로는 0nm 이하, 바람직하게는 -20nm 이하, 보다 바람직하게는 -60nm 이하이며, 예컨대 -250nm 이상, 바람직하게는 -200nm 이상, 보다 바람직하게는 -150nm 이상이다.The phase difference Rth (550) in the thickness direction of the third phase difference member 1 is typically 0 nm or less, preferably -20 nm or less, more preferably -60 nm or less, for example -250 nm or more, preferably -200 nm. or more, more preferably -150 nm or more.

제3 위상차 부재(3)가 nz>nx>ny의 굴절률을 갖는 경우, 제3 위상차 부재(3)의 지상축 방향과 편광막(51)의 흡수축 방향이 이루는 각도는 대표적으로는 80° 이상 100° 이하, 바람직하게는 85° 이상 95° 이하, 보다 바람직하게는 88° 이상 92° 이하, 더욱 바람직하게는 89° 이상 91° 이하이다. 또한, 제3 위상차 부재(3)의 지상축 방향과 편광막(51)의 흡수축 방향은 실질적으로 평행이어도 된다. 이 경우, 제3 위상차 부재(3)의 지상축 방향과 편광막(51)의 흡수축 방향이 이루는 각도는, 대표적으로는 0°±5° 이하, 바람직하게는 0°±1° 이하이다.When the third retardation member 3 has a refractive index of nz>nx>ny, the angle formed by the slow axis direction of the third retardation member 3 and the absorption axis direction of the polarizing film 51 is typically 80° or more. 100° or less, preferably 85° or more and 95° or less, more preferably 88° or more and 92° or less, and even more preferably 89° or more and 91° or less. Additionally, the slow axis direction of the third retardation member 3 and the absorption axis direction of the polarizing film 51 may be substantially parallel. In this case, the angle formed by the slow axis direction of the third retardation member 3 and the absorption axis direction of the polarizing film 51 is typically 0°±5° or less, and preferably 0°±1° or less.

제3 위상차 부재(3)는, 역분산 파장 특성을 나타내도 되고, 양의 파장 분산 특성을 나타내도 되며, 플랫한 파장 분산 특성을 나타내도 된다. 제3 위상차 부재(3)는, 바람직하게는 역분산 파장 특성을 나타낸다. 즉, 제3 위상차 부재(3)는, 바람직하게는 Re(450)<Re(550)의 관계를 충족한다.The third phase difference member 3 may exhibit inverse dispersion wavelength characteristics, positive wavelength dispersion characteristics, or flat wavelength dispersion characteristics. The third phase difference member 3 preferably exhibits inverse dispersion wavelength characteristics. That is, the third phase difference member 3 preferably satisfies the relationship of Re(450)<Re(550).

제3 위상차 부재(3)는, 임의의 적절한 구성일 수 있다. 구체적으로는, 위상차 부재 단독이어도 되고, 동일 또는 상이한 2매 이상의 위상차 부재의 적층체이어도 된다. 제3 위상차 부재(3)는, 바람직하게는, 단독의 위상차 부재(위상차 필름)이다.The third phase difference member 3 may have any suitable configuration. Specifically, the phase difference member may be used alone, or may be a laminate of two or more identical or different phase difference members. The third retardation member 3 is preferably a single retardation member (retardation film).

제3 위상차 부재(3)를 구성하는 수지로서는, 예컨대 열가소성 수지를 들 수 있고, 바람직하게는, 음의 복굴절을 나타내는 폴리머, 양의 복굴절을 나타내는 폴리머를 들 수 있다. 이와 같은 수지는, 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 제3 위상차 부재(3)를 구성하는 수지는, 보다 바람직하게는, 음의 복굴절을 나타내는 폴리머를 포함한다. 음의 복굴절을 나타내는 폴리머를 이용함으로써, nz>nx>ny의 굴절률 타원체를 갖는 위상차 부재이며, 지상축 방향의 균일성이 우수한 위상차 부재를 간편하게 얻을 수 있다. 여기에서, ‘음의 복굴절을 나타낸다’란, 폴리머를 연신 등에 의해 배향시킨 경우에, 그의 연신 방향의 굴절률이 상대적으로 작아지는 것을 말한다. 환언하면, 연신 방향과 직교하는 방향의 굴절률이 커지는 것을 말한다. 음의 복굴절을 나타내는 폴리머로서는, 예컨대, 방향환이나 카보닐기 등의 분극 이방성이 큰 화학 결합이나 관능기가, 측쇄에 도입된 폴리머를 들 수 있다. 구체적으로는, 아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 말레이미드계 수지, 푸마르산 에스테르계 수지를 들 수 있고, 바람직하게는 스티렌계 수지 및 푸마르산 에스테르계 수지를 들 수 있다.The resin constituting the third phase difference member 3 includes, for example, a thermoplastic resin, preferably a polymer showing negative birefringence or a polymer showing positive birefringence. These resins can be used individually or in combination. The resin constituting the third retardation member 3 more preferably contains a polymer that exhibits negative birefringence. By using a polymer that exhibits negative birefringence, a retardation member having a refractive index ellipsoid of nz>nx>ny and excellent uniformity in the slow axis direction can be easily obtained. Here, “exhibiting negative birefringence” means that when a polymer is oriented by stretching, etc., the refractive index in the stretching direction becomes relatively small. In other words, it means that the refractive index in the direction orthogonal to the stretching direction increases. Examples of polymers that exhibit negative birefringence include polymers in which chemical bonds or functional groups with high polarization anisotropy, such as aromatic rings or carbonyl groups, are introduced into the side chains. Specifically, acrylic resin, styrene-based resin, maleimide-based resin, and fumaric acid ester-based resin can be used, and styrene-based resin and fumaric acid ester-based resin are preferred.

제3 위상차 부재(3)를 구성하는 스티렌계 수지로서, 바람직하게는 스티렌-무수 말레산 공중합체, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, 스티렌-(메트)아크릴레이트 공중합체, 스티렌-말레이미드 공중합체, 비닐에스테르-말레이미드 공중합체, 올레핀-말레이미드 공중합체를 들 수 있다.The styrene-based resin constituting the third phase difference member 3 is preferably styrene-maleic anhydride copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-(meth)acrylate copolymer, and styrene-maleimide copolymer. , vinyl ester-maleimide copolymer, and olefin-maleimide copolymer.

제3 위상차 부재(3)를 구성하는 푸마르산 에스테르계 수지로서, 바람직하게는 푸마르산 에스테르-(메트)아크릴레이트 공중합체를 들 수 있다.As the fumaric acid ester-based resin constituting the third phase difference member 3, a fumaric acid ester-(meth)acrylate copolymer is preferably used.

이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.These can be used individually or in combination of two or more types.

또한, 상기 음의 복굴절을 나타내는 폴리머로서, 바람직하게는, 하기 일반식 (I)에서 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머도 이용된다. 이와 같은 폴리머는, 보다 한층, 높은 음의 복굴절을 나타내고, 또한, 내열성, 기계적 강도가 우수할 수 있다. 이와 같은 폴리머는, 예컨대, 출발 원료인 말레이미드계 모노머의 N치환기로서 적어도 오르토 위치에 치환기를 갖는 페닐기를 도입한 N-페닐 치환 말레이미드를 이용함으로써 얻을 수 있다.Furthermore, as the polymer showing the negative birefringence, a polymer having a repeating unit represented by the following general formula (I) is preferably also used. Such a polymer may exhibit a higher negative birefringence and may also be excellent in heat resistance and mechanical strength. Such a polymer can be obtained, for example, by using an N-phenyl substituted maleimide in which a phenyl group having a substituent at least in the ortho position is introduced as the N substituent of the maleimide monomer that is the starting material.

상기 일반식 (I) 중, R1~R5는, 각각 독립적으로, 수소, 할로겐 원자, 카복실산, 카복실산 에스테르, 수산기, 니트로기, 또는 탄소수 1~8의 직쇄 혹은 분기의 알킬기 혹은 알콕시기를 나타내고(단, R1 및 R5는, 동시에 수소 원자는 아님), R6 및 R7은, 수소 또는 탄소수 1~8의 직쇄 혹은 분기의 알킬기 혹은 알콕시기를 나타내며, n은, 2 이상의 정수를 나타낸다.In the general formula (I), R 1 to R 5 each independently represent hydrogen, a halogen atom, carboxylic acid, carboxylic acid ester, hydroxyl group, nitro group, or a straight or branched alkyl group or alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms ( However, R 1 and R 5 are not hydrogen atoms at the same time), R 6 and R 7 represent hydrogen or a straight-chain or branched alkyl group or alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents an integer of 2 or more.

이와 같은 제3 위상차 부재(3)는, 대표적으로는, 상기한 제3 위상차 부재(3)를 구성하는 수지로부터 형성되는 고분자 필름의 연신 필름이며, 고분자 필름을 임의의 적절한 연신 조건으로 연신함으로써 조제된다.Such a third retardation member 3 is typically a stretched film of a polymer film formed from a resin constituting the above-described third retardation member 3, and is prepared by stretching the polymer film under any appropriate stretching conditions. do.

제3 위상차 부재(3)의 두께는, 소망하는 광학 특성이 얻어지도록 설정될 수 있다. 제3 위상차 부재(3)의 두께는, 예컨대 5㎛ 이상, 바람직하게는 10㎛ 이상, 보다 바람직하게는 20㎛ 이상이고, 예컨대 70㎛ 이하, 바람직하게는 60㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 40㎛ 이하이다.The thickness of the third retardation member 3 can be set so that desired optical properties are obtained. The thickness of the third phase difference member 3 is, for example, 5 μm or more, preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, and for example, 70 μm or less, preferably 60 μm or less, more preferably 40 μm. It is as follows.

F. 제4 위상차 부재(4)F. Fourth phase difference member (4)

제4 위상차 부재(4)는, 대표적으로는, 임의의 적절한 접착제층(41)을 개재하여 편광막(51)에 첩합되어 있다. 접착제층(41)을 형성하는 접착제, 및 접착제층(41)의 두께의 범위는 상기한 접착제층(11)과 마찬가지이다. 제4 위상차 부재(4)는 대표적으로는 위상차 필름이다.The fourth retardation member 4 is typically bonded to the polarizing film 51 via any suitable adhesive layer 41. The adhesive forming the adhesive layer 41 and the thickness range of the adhesive layer 41 are the same as those of the adhesive layer 11 described above. The fourth retardation member 4 is typically a retardation film.

제4 위상차 부재(4)는, 상기와 같이 nx>ny≥nz의 굴절률을 나타낸다. nx>ny>nz의 굴절률을 갖는 층(필름)은, ‘네거티브 B 플레이트’ 등으로 칭해지는 경우가 있다. nx>ny=nz의 굴절률을 갖는 층(필름)은, ‘포지티브 A 플레이트’ 등으로 칭해지는 경우가 있다. 또한, ‘ny=nz'는 ny와 nz가 완전하게 동일한 경우뿐만 아니라, 실질적으로 동일한 경우를 포함한다. 제4 위상차 부재(4)는, 바람직하게는 nx>ny>nz의 굴절률을 나타낸다.The fourth phase difference member 4 exhibits a refractive index of nx>ny≥nz as described above. The layer (film) having a refractive index of nx>ny>nz is sometimes called a “negative B plate” or the like. A layer (film) having a refractive index of nx>ny=nz may be referred to as a “positive A plate” or the like. Additionally, ‘ny=nz’ includes not only the case where ny and nz are completely the same, but also the case where they are substantially the same. The fourth phase difference member 4 preferably exhibits a refractive index of nx>ny>nz.

제4 위상차 부재(4)의 면내 위상차 Re(550)는, 예컨대 70nm 이상, 바람직하게는 90nm 이상이고, 예컨대 140nm 이하, 바람직하게는 130nm 이하이다.The in-plane retardation Re(550) of the fourth retardation member 4 is, for example, 70 nm or more, preferably 90 nm or more, for example, 140 nm or less, preferably 130 nm or less.

제4 위상차 부재(4)의 두께 방향의 위상차 Rth(550)는, 예컨대 40nm 이상, 바람직하게는 60nm 이상이고, 예컨대 120nm 이하, 바람직하게는 100nm 이하이다.The phase difference Rth (550) in the thickness direction of the fourth phase difference member 4 is, for example, 40 nm or more, preferably 60 nm or more, and is, for example, 120 nm or less, preferably 100 nm or less.

제4 위상차 부재(4)의 지상축 방향과 편광막(51)의 흡수축 방향이 이루는 각도는 대표적으로는 80° 이상 100° 이하, 바람직하게는 85° 이상 95° 이하, 보다 바람직하게는 88° 이상 92° 이하, 더욱 바람직하게는 89° 이상 91° 이하이다. 또한, 제4 위상차 부재(4)의 지상축 방향과 편광막(51)의 흡수축 방향은 실질적으로 평행이어도 된다. 이 경우, 제4 위상차 부재(4)의 지상축 방향과 편광막(51)의 흡수축 방향이 이루는 각도는, 대표적으로는 0°±5° 이하, 바람직하게는 0°±1° 이하이다.The angle formed by the slow axis direction of the fourth retardation member 4 and the absorption axis direction of the polarizing film 51 is typically 80° or more and 100° or less, preferably 85° or more and 95° or less, and more preferably 88°. ° or more and 92° or less, more preferably 89° or more and 91° or less. Additionally, the slow axis direction of the fourth retardation member 4 and the absorption axis direction of the polarizing film 51 may be substantially parallel. In this case, the angle formed by the slow axis direction of the fourth retardation member 4 and the absorption axis direction of the polarizing film 51 is typically 0°±5° or less, and preferably 0°±1° or less.

제3 위상차 부재(3)의 지상축 방향과 제4 위상차 부재(4)의 지상축 방향은 바람직하게는 실질적으로 평행이다. 이 경우, 제3 위상차 부재(3)의 지상축 방향과 제4 위상차 부재(4)의 지상축 방향이 이루는 각도는, 대표적으로는 0°±5° 이하, 바람직하게는 0°±1° 이하이다.The slow axis direction of the third phase difference member 3 and the slow axis direction of the fourth phase difference member 4 are preferably substantially parallel. In this case, the angle formed by the slow axis direction of the third phase difference member 3 and the slow axis direction of the fourth phase difference member 4 is typically 0°±5° or less, preferably 0°±1° or less. am.

제4 위상차 부재(4)는, 역분산 파장 특성을 나타내도 되고, 양의 파장 분산 특성을 나타내도 되며, 플랫한 파장 분산 특성을 나타내도 된다. 제4 위상차 부재(4)는, 바람직하게는 플랫한 파장 분산 특성을 나타낸다.The fourth phase difference member 4 may exhibit inverse dispersion wavelength characteristics, positive wavelength dispersion characteristics, or flat wavelength dispersion characteristics. The fourth phase difference member 4 preferably exhibits flat wavelength dispersion characteristics.

제4 위상차 부재(4)를 구성하는 수지로서는, 예컨대 노보넨계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리설폰계 수지를 들 수 있다. 이와 같은 수지는, 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 제4 위상차 부재(4)를 구성하는 수지는, 바람직하게는, 노보넨계 수지 및/또는 셀룰로오스계 수지를 포함한다.Examples of the resin constituting the fourth phase difference member 4 include norbornene-based resin, polycarbonate-based resin, cellulose-based resin, polyvinyl alcohol-based resin, and polysulfone-based resin. These resins can be used individually or in combination. The resin constituting the fourth phase difference member 4 preferably contains norbornene-based resin and/or cellulose-based resin.

이와 같은 제4 위상차 부재(4)는, 대표적으로는, 상기한 제4 위상차 부재(4)를 구성하는 수지로부터 형성되는 고분자 필름의 연신 필름이며, 고분자 필름을 임의의 적절한 연신 조건으로 연신함으로써 조제된다.Such a fourth retardation member 4 is typically a stretched film of a polymer film formed from a resin constituting the above-mentioned fourth retardation member 4, and is prepared by stretching the polymer film under any appropriate stretching conditions. do.

제4 위상차 부재(4)의 두께는, 소망하는 광학 특성이 얻어지도록 설정될 수 있다. 제4 위상차 부재(4)의 두께는, 예컨대 10㎛ 이상, 바람직하게는 20㎛ 이상, 보다 바람직하게는 60㎛ 이상이고, 예컨대 100㎛ 이하, 바람직하게는 90㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 80㎛ 이하이다.The thickness of the fourth retardation member 4 can be set so that desired optical properties are obtained. The thickness of the fourth phase difference member 4 is, for example, 10 μm or more, preferably 20 μm or more, more preferably 60 μm or more, and for example, 100 μm or less, preferably 90 μm or less, more preferably 80 μm. It is as follows.

G. 제5 위상차 부재G. Absence of fifth phase difference

도 2에 나타내는 바와 같이, 제5 위상차 부재(50)는, 대표적으로는, 임의의 적절한 접착제층(41)을 개재하여 편광막(51)에 첩합되어 있다.As shown in FIG. 2 , the fifth retardation member 50 is typically bonded to the polarizing film 51 via any suitable adhesive layer 41 .

제5 위상차 부재(50)는, 상기와 같이 nx>nz>ny의 굴절률을 갖는다. nx>nz>ny의 굴절률을 갖는 층(필름)은, ‘Z 필름’ 등으로 칭해지는 경우가 있다.The fifth phase difference member 50 has a refractive index of nx>nz>ny as described above. A layer (film) having a refractive index of nx>nz>ny may be referred to as a “Z film” or the like.

제5 위상차 부재(50)의 면내 위상차 Re(550)는, 대표적으로는 210nm 이상 360nm 이하, 바람직하게는 250nm 이상 290nm 이하이다.The in-plane phase difference Re(550) of the fifth phase difference member 50 is typically 210 nm or more and 360 nm or less, and preferably 250 nm or more and 290 nm or less.

제5 위상차 부재(50)의 Nz 계수는, 대표적으로는 0.1 이상 1.0 이하이고, 바람직하게는 0.3 이상 0.7 이하이다.The Nz coefficient of the fifth phase difference member 50 is typically 0.1 or more and 1.0 or less, and preferably 0.3 or more and 0.7 or less.

제5 위상차 부재(50)는, 역분산 파장 특성을 나타내도 되고, 양의 파장 분산 특성을 나타내도 되며, 플랫한 파장 분산 특성을 나타내도 된다. 제5 위상차 부재(50)는, 바람직하게는 플랫한 파장 분산 특성을 나타낸다.The fifth phase difference member 50 may exhibit inverse dispersion wavelength characteristics, positive wavelength dispersion characteristics, or flat wavelength dispersion characteristics. The fifth phase difference member 50 preferably exhibits flat wavelength dispersion characteristics.

제5 위상차 부재(50)는 대표적으로는 상기 특성을 실현할 수 있는 임의의 적절한 수지로 구성된 위상차 필름이다. 제5 위상차 부재(50)를 구성하는 수지로서는, 예컨대, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리아릴에테르케톤계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 폴리에스테르이미드계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리푸마르산에스테르계 수지, 폴리에테르설폰계 수지, 폴리설폰계 수지, 시클로올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 셀룰로오스계 수지 및 폴리우레탄계 수지를 들 수 있다. 이와 같은 수지는, 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다.The fifth retardation member 50 is typically a retardation film made of any suitable resin capable of realizing the above properties. The resin constituting the fifth phase difference member 50 includes, for example, polyarylate-based resin, polyamide-based resin, polyimide-based resin, polyester-based resin, polyaryl ether ketone-based resin, polyamidoimide-based resin, and polyester. Examples include mead-based resin, polyvinyl alcohol-based resin, polyfumaric acid ester-based resin, polyethersulfone-based resin, polysulfone-based resin, cycloolefin-based resin, polycarbonate-based resin, cellulose-based resin and polyurethane-based resin. These resins can be used individually or in combination.

제5 위상차 부재(50)를 구성하는 수지로서, 바람직하게는 시클로올레핀계 수지를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 노보넨계 수지를 들 수 있다. 노보넨계 수지로서 구체적으로는, 일본 공개특허공보 2006-208925호에 기재되는 ‘노보넨계 모노머의 개환 중합체를 수소 첨가한 시클로올레핀계 수지’를 들 수 있다.The resin constituting the fifth phase difference member 50 is preferably a cycloolefin-based resin, and more preferably a norbornene-based resin. Specific examples of the norbornene-based resin include “cycloolefin-based resin obtained by hydrogenating a ring-opening polymer of a norbornene-based monomer” described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-208925.

제5 위상차 부재(50)는 예컨대, 상기한 수지를 주성분으로 하는 고분자 필름의 양면에 고수축성 필름(예컨대, 폴리프로필렌 필름)을 첩합하여, 롤 연신기에서 종 1축 연신법으로 가열 연심함으로써 제작할 수 있다. 고수축성 필름은 가열 연신시에 연신 방향과 직교하는 방향의 수축력을 부여하고, 제5 위상차 부재(50)의 두께 방향의 굴절률(nz)을 높히기 위해 이용된다. 상기 고분자 필름의 양면에 고수축성 필름을 첩합하는 방법으로서는, 특별히 제한은 없지만, 상기 고분자 필름과 상기 고수축성 필름 사이에, 아크릴계 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 아크릴계 점착제층을 마련하여 접착하는 방법을 들 수 있다.The fifth retardation member 50 can be manufactured, for example, by bonding a high-shrinkage film (e.g., polypropylene film) to both sides of a polymer film containing the above-mentioned resin as a main component, and heating and drawing using a longitudinal uniaxial stretching method in a roll stretching machine. You can. The high shrinkage film is used to provide a shrinkage force in a direction perpendicular to the stretching direction during heat stretching and to increase the refractive index (nz) in the thickness direction of the fifth phase difference member 50. There is no particular limitation on the method of bonding the high-shrinkage film to both sides of the polymer film, but a method of bonding the polymer film to the high-shrinkage film includes providing an acrylic adhesive layer with an acrylic polymer as the base polymer and bonding the film. there is.

제5 위상차 부재(50)의 두께는, 대표적으로는 20㎛ 이상, 바람직하게는 30㎛ 이상, 보다 바람직하게는 40㎛ 이상이고, 대표적으로는 200㎛ 이하, 바람직하게는 150㎛ 이하이다.The thickness of the fifth phase difference member 50 is typically 20 μm or more, preferably 30 μm or more, more preferably 40 μm or more, and typically 200 μm or less, preferably 150 μm or less.

H. 기재H. Description

기재(6)는 광학 기능층(7)을 형성하기 위한 기능층 형성용 기재이며, 제1 위상차 부재(1)에 대하여 제2 위상차 부재(2)와 반대 측(시인 측)에 위치한다. 기재(6)는 대표적으로는, 임의의 적절한 점착제층(61)을 개재하여 제1 위상차 부재(1)에 첩부되어 있다. 점착제층(61)을 형성하는 점착제, 및 점착제층(61)의 두께의 범위는 상기한 점착제층(21)과 마찬가지이다.The substrate 6 is a functional layer forming substrate for forming the optical functional layer 7, and is located on the side opposite to the second phase difference member 2 (visible side) with respect to the first phase difference member 1. The base material 6 is typically affixed to the first retardation member 1 via any suitable adhesive layer 61. The range of the adhesive forming the adhesive layer 61 and the thickness of the adhesive layer 61 are the same as those of the adhesive layer 21 described above.

기재(6)는, 임의의 적절한 수지 필름으로 형성된다. 수지 필름을 구성하는 수지로서는, 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등의 폴리에스테르계 수지, 노보넨계 수지 등의 시클로올레핀계 수지, 시클로올레핀(예컨대, 노보넨)과 α-올레핀(예컨대, 에틸렌)의 부가 중합에 의해 얻어지는 수지(COC), 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지, (메트)아크릴계 수지를 들 수 있다. 이와 같은 수지는, 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 기재(6)를 구성하는 수지는, 바람직하게는 (메트)아크릴계 수지를 포함하고, 보다 바람직하게는 글루타르이미드 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지를 포함한다.The base material 6 is formed of any suitable resin film. Resins constituting the resin film include, for example, polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), cycloolefin resins such as norbornene resins, cycloolefins (e.g. norbornene) and α-olefins (e.g. ethylene). Resins obtained by addition polymerization (COC), cellulose-based resins such as triacetylcellulose (TAC), and (meth)acrylic-based resins can be mentioned. These resins can be used individually or in combination. The resin constituting the base material 6 preferably contains a (meth)acrylic resin, and more preferably contains a (meth)acrylic resin having a glutarimide structure.

기재(6)의 두께는 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 기재(6)의 두께는, 예컨대 20㎛ 이상, 바람직하게는 50㎛ 이상, 보다 바람직하게는 70㎛ 이상이고, 예컨대 200㎛ 이하, 바람직하게는 150㎛ 이하, 보다 바람직하게는 90㎛ 이하이다.The thickness of the base material 6 can be appropriately set depending on the purpose. The thickness of the substrate 6 is, for example, 20 μm or more, preferably 50 μm or more, more preferably 70 μm or more, and for example, 200 μm or less, preferably 150 μm or less, and more preferably 90 μm or less.

I. 광학 기능층I. Optical functional layer

광학 기능층(7)은 대표적으로는 기재(6)에서의 제1 위상차 부재(1)와 반대 측의 표면(시인 측의 표면)에 직접 형성되어 있다. 광학 기능층(7)으로서 예컨대, 하드 코트층, 반사 방지층, 스티킹 방지층, 안티글레어층을 들 수 있다. 도시예에서는, 광학 기능층(7)은, 반사 방지층(7a)이다.The optical functional layer 7 is typically formed directly on the surface of the substrate 6 opposite to the first retardation member 1 (the surface on the viewing side). Examples of the optical function layer 7 include a hard coat layer, an anti-reflection layer, an anti-sticking layer, and an anti-glare layer. In the illustrated example, the optical function layer 7 is the anti-reflection layer 7a.

반사 방지층(7a)은 외광(예컨대, 형광등) 등의 반사를 방지하기 위해 마련된다.The anti-reflection layer 7a is provided to prevent reflection of external light (eg, fluorescent lamps).

반사 방지층(7a)으로서는, 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 반사 방지층(7a)의 대표적인 구성으로서는, (1) 광학 막 두께가 120nm~140nm인, 굴절률 1.35~1.55 정도의 저굴절률층의 단일층; (2) 기재(6)로부터 순서대로 중굴절률층과 고굴절률층과 저굴절률층을 갖는 적층체; (3) 고굴절률층과 저굴절률층과의 교호 다층 적층체를 들 수 있다.As the anti-reflection layer 7a, any suitable structure may be adopted. A typical configuration of the anti-reflection layer 7a includes (1) a single layer of a low refractive index layer with an optical film thickness of 120 nm to 140 nm and a refractive index of about 1.35 to 1.55; (2) a laminate having a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer in that order from the base material 6; (3) An alternating multilayer laminate of high refractive index layers and low refractive index layers can be given.

저굴절률층을 형성할 수 있는 재료로서는, 예컨대, 산화규소(SiO2), 플루오르화마그네슘(MgF2)을 들 수 있다. 저굴절률층의 굴절률은 대표적으로는 1.35~1.55 정도이다. 고굴절률층을 형성할 수 있는 재료로서는, 예컨대, 산화티타늄(TIO2), 산화니오브(Nb2O3 또는 Nb2O5), 주석 도프 산화인듐(ITO), 안티몬 도프 산화주석(ATO), ZrO2-TiO2를 들 수 있다. 고굴절률층의 굴절률은 대표적으로는 약 1.60~2.20 정도이다. 중굴절률층을 형성할 수 있는 재료로서는, 예컨대, 산화티타늄(TiO2), 저굴절률층을 형성할 수 있는 재료와 고굴절률층을 형성할 수 있는 재료의 혼합물(예컨대, 산화티타늄과 산화규소의 혼합물)을 들 수 있다. 중굴절률층의 굴절률은 대표적으로는 약 1.50~1.85 정도이다. 저굴절률층, 중굴절률층 및 고굴절률층의 두께는, 반사 방지층의 구조층, 소망하는 반사 방지 성능 등에 따른 적절한 광학 막 두께가 실현되도록 설정될 수 있다.Materials that can form a low refractive index layer include, for example, silicon oxide (SiO 2 ) and magnesium fluoride (MgF 2 ). The refractive index of the low refractive index layer is typically around 1.35 to 1.55. Materials that can form a high refractive index layer include, for example, titanium oxide (TIO 2 ), niobium oxide (Nb 2 O 3 or Nb 2 O 5 ), tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), ZrO 2 -TiO 2 may be mentioned. The refractive index of the high refractive index layer is typically about 1.60 to 2.20. As a material capable of forming a medium refractive index layer, for example, titanium oxide (TiO 2 ), a mixture of a material capable of forming a low refractive index layer and a material capable of forming a high refractive index layer (e.g., titanium oxide and silicon oxide) mixture). The refractive index of the medium refractive index layer is typically about 1.50 to 1.85. The thicknesses of the low refractive index layer, the middle refractive index layer, and the high refractive index layer can be set to realize an appropriate optical film thickness depending on the structural layer of the antireflection layer, the desired antireflection performance, etc.

반사 방지층(7a)의 두께는 예컨대 20nm~300nm 정도이다.The thickness of the anti-reflection layer 7a is, for example, about 20 nm to 300 nm.

반사 방지층(7a)은 파장 400nm~700nm의 범위에서의 최대 반사율과 최소 반사율의 차가 바람직하게는 2.0% 이하이고, 보다 바람직하게는 1.9% 이하이며, 더욱 바람직하게는 1.8% 이하이다. 최대 반사율과 최소 반사율의 차가 이와 같은 범위이면, 반사광의 착색이 양호하게 방지될 수 있다.In the anti-reflection layer 7a, the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance in the wavelength range of 400 nm to 700 nm is preferably 2.0% or less, more preferably 1.9% or less, and even more preferably 1.8% or less. If the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance is within this range, coloring of reflected light can be well prevented.

J. 제1 표면 보호 필름J. First surface protection film

도시예에서, 제1 표면 보호 필름(8)은, 기재(6)에 대하여 제1 위상차 부재(1)와 반대 측(시인 측)에 위치하고 있고, 접착층(82)에 의해, 광학 기능층(7)(보다 구체적으로는 반사 방지층(7a)에 첩부되어 있다. 제1 표면 보호 필름(8)은, 광학 적층체의 수송 공정에서 일시적으로 가착되어 광학 적층체의 사용 전에 박리되는 것(공정재로서 이용되는 것)이어도 되고, 광학 적층체의 표면에 첩착한 채로의 상태로 사용되는 것(영구 접착을 목적으로 한 것)이어도 된다.In the illustrated example, the first surface protection film 8 is located on the side opposite to the first retardation member 1 (visible side) with respect to the substrate 6, and is formed by the adhesive layer 82 to form the optical function layer 7. )(More specifically, it is attached to the anti-reflection layer 7a. The first surface protection film 8 is temporarily attached during the transport process of the optical laminate and peeled off before use of the optical laminate (as a process material) used) may be used, or may be used in a state affixed to the surface of an optical laminate (intended for permanent adhesion).

제1 표면 보호 필름(8)은 필름 기재(81)와; 필름 기재(81)에 적층되어 있는 접착층(82)을 구비하고 있다.The first surface protection film 8 includes a film substrate 81; It is provided with an adhesive layer 82 laminated on a film substrate 81.

K. 제2 표면 보호 필름K. Second surface protection film

제2 표면 보호 필름(9)은, 광학 적층체의 수송 공정에서 일시적으로 가착되어, 광학 적층체의 이물 검사 전에 제1 표면 보호 필름(8)으로부터 박리되는 공정재이다. 제2 표면 보호 필름(9)은 제1 표면 보호 필름(8)의 필름 기재(81)에 첩부되어 있다.The 2nd surface protection film 9 is a process material temporarily attached in the transport process of an optical laminated body and peeled from the 1st surface protection film 8 before the foreign matter inspection of an optical laminated body. The second surface protection film 9 is affixed to the film base 81 of the first surface protection film 8.

L. 점착제층L. Adhesive layer

도시예에서는, 점착제층(20)은, 보호층(52)에 대하여 편광막(51)의 반대 측에 위치하고 있으며, 하드 코트층(54)에 적층되어 있다. 점착제층(20)을 형성하는 점착제는 상기한 점착제층(21)과 마찬가지이다.In the illustrated example, the adhesive layer 20 is located on the opposite side of the polarizing film 51 with respect to the protective layer 52, and is laminated on the hard coat layer 54. The adhesive forming the adhesive layer 20 is the same as that of the adhesive layer 21 described above.

점착제층(20)의 두께는, 대표적으로는 1㎛ 이상, 바람직하게는 5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 12㎛ 이상이고, 대표적으로는 60㎛ 이하, 바람직하게는 30㎛ 이하, 보다 바람직하게는 23㎛ 이하이다.The thickness of the adhesive layer 20 is typically 1 μm or more, preferably 5 μm or more, more preferably 12 μm or more, and typically 60 μm or less, preferably 30 μm or less, more preferably It is 23㎛ or less.

M. 박리 라이너M. Release Liner

박리 라이너(10)는, 임의의 적절한 수지 필름으로 형성된다. 당해 수지 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로서는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌, 폴리프로필렌을 들 수 있다. 수지 필름의 재료는, 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 박리 라이너(10)는 투명하여도 되고, 투명하지 않아도 된다.The release liner 10 is formed of any suitable resin film. Specific examples of materials that serve as the main component of the resin film include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene, and polypropylene. The materials of the resin film can be used individually or in combination. The release liner 10 may or may not be transparent.

박리 라이너(10)에서의 점착제층(20)의 접착면에는, 이형 처리층이 마련되어 있어도 된다. 이형 처리층을 형성하는 이형 처리제로서는, 예컨대, 실리콘계 이형 처리제, 불소계 이형 처리제, 장쇄 알킬아크릴레이트계 박리제를 들 수 있다. 이형 처리제는, 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 이형 처리층의 두께는 대표적으로는 50nm 이상 400nm 이하이다.A release treatment layer may be provided on the adhesive surface of the adhesive layer 20 of the release liner 10. Examples of the release treatment agent that forms the release treatment layer include a silicone-based release treatment agent, a fluorine-based release treatment agent, and a long-chain alkyl acrylate-based release agent. The mold release treatment agent can be used individually or in combination. The thickness of the release treatment layer is typically 50 nm or more and 400 nm or less.

박리 라이너(10)의 두께는, 대표적으로는 5㎛ 이상, 바람직하게는 20㎛ 이상이고, 대표적으로는 60㎛ 이하, 바람직하게는 45㎛ 이하이다. 또한, 이형 처리층이 실시되어 있는 경우, 박리 라이너의 두께는 이형 처리층의 두께를 포함한 두께이다.The thickness of the release liner 10 is typically 5 μm or more, preferably 20 μm or more, and typically is 60 μm or less, preferably 45 μm or less. In addition, when a release treatment layer is applied, the thickness of the release liner is a thickness including the thickness of the release treatment layer.

N. 화상 표시 장치N. Image display device

상기 A항~M항에 기재된 광학 적층체는, 화상 표시 장치에 적용될 수 있다. 보다 자세하게는, 제2 표면 보호 필름(9)을 제1 표면 보호 필름(8)으로부터 박리하고, 박리 라이너(10)를 점착제층(20)으로부터 박리한 후, 그 광학 적층체를 점착제층(20)에 의해 화상 표시 소자(화상 표시 셀)에 첩부하여, 화상 표시 장치에 적용한다. 따라서, 본 발명의 하나의 실시형태는, 그와 같은 광학 적층체를 이용한 화상 표시 장치도 포함한다. 화상 표시 장치의 대표예로서는, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다. 본 발명의 실시형태에 따른 화상 표시 장치는, 대표적으로는, 그의 시인 측에 상기 A항~M항에 기재된 광학 적층체를 구비한다. 화상 표시 장치는, 화상 표시 패널을 포함한다. 화상 표시 패널은, 화상 표시 소자(화상 표시 셀)를 포함한다. 또한, 화상 표시 장치를 광학 표시 장치라고 칭하는 경우가 있고, 화상 표시 패널을 광학 표시 패널이라고 칭하는 경우가 있으며, 화상 표시 셀을 광학 표시 셀이라고 칭하는 경우가 있다.The optical laminated body described in items A to M above can be applied to an image display device. More specifically, after peeling the second surface protection film 9 from the first surface protection film 8 and peeling the release liner 10 from the adhesive layer 20, the optical laminate is peeled off from the adhesive layer 20. ) and applied to an image display device by attaching it to an image display element (image display cell). Accordingly, one embodiment of the present invention also includes an image display device using such an optical laminate. Representative examples of image display devices include liquid crystal display devices and organic EL display devices. An image display device according to an embodiment of the present invention typically includes the optical laminated body described in paragraphs A to M above on its viewer side. An image display device includes an image display panel. The image display panel includes image display elements (image display cells). Additionally, an image display device may be referred to as an optical display device, an image display panel may be referred to as an optical display panel, and an image display cell may be referred to as an optical display cell.

하나의 실시형태에서, 광학 적층체는, 그의 적층 방향이 화상 표시 패널의 두께 방향과 실질적으로 평행이 되도록 화상 표시 장치에 적용된다. 이에 의해, 화상 표시 장치에 정면 방향 및 정면 방향과 교차하는 경사 방향에서의 우수한 광학 보상 성능을 안정적으로 부여할 수 있다.In one embodiment, the optical laminate is applied to an image display device such that its lamination direction is substantially parallel to the thickness direction of the image display panel. Thereby, excellent optical compensation performance can be stably provided to the image display device in the frontal direction and in the oblique direction intersecting the frontal direction.

하나의 실시형태에서, 광학 적층체는 VR 고글 등의 소형의 표시 시스템에 적합하게 적용될 수 있다. 표시 시스템은 화상 표시 소자(이하 표시 소자라고 함)와, 반사부와, 제1 렌즈부와, 하프 미러와, 제2 렌즈부를 구비하고 있다. 하프 미러로부터 전방에 배치되는 구성 요소(도시예에서는, 하프 미러, 제1 렌즈부 및 제2 렌즈부)를 통틀어 렌즈부라고 칭하는 경우가 있다.In one embodiment, the optical laminate can be suitably applied to a small display system such as VR goggles. The display system includes an image display element (hereinafter referred to as a display element), a reflector, a first lens unit, a half mirror, and a second lens unit. The components disposed in front of the half mirror (in the illustrated example, the half mirror, the first lens unit, and the second lens unit) may be collectively referred to as the lens unit.

표시 소자는 예컨대, 액정 디스플레이 또는 유기 EL 디스플레이이고, 화상을 표시하기 위한 표시면을 포함하고 있다. 반사부는 표시 소자의 표시 면 측인 전방에 배치되어 있다. 제1 렌즈부는 표시 소자와 반사부 사이의 광로 위에 배치되어 있다. 하프 미러는 표시 소자와 제1 렌즈부 사이에 배치되어 있다. 하프 미러는 제1 렌즈부에 일체로 마련되어 있다. 제2 렌즈부는 반사부에 대하여 제1 렌즈부와 반대 측에 배치되어 있다.The display element is, for example, a liquid crystal display or an organic EL display, and includes a display surface for displaying an image. The reflection portion is disposed in the front, on the display surface side of the display element. The first lens unit is disposed on the optical path between the display element and the reflection unit. The half mirror is disposed between the display element and the first lens unit. The half mirror is provided integrally with the first lens unit. The second lens unit is disposed on the side opposite to the first lens unit with respect to the reflection unit.

이와 같은 표시 시스템에 광학 적층체를 적용하는 경우, 광학 적층체는 표시 소자와 하프 미러부 사이의 광로 위에 배치된다. 광학 적층체의 적층 방향은 바람직하게는 표시 소자의 표시면과 직교하는 방향과 실질적으로 평행이다. 이와 같은 구성에 따르면, VR 고글 등의 표시 시스템에, 정면 방향 및 경사 방향에서의 우수한 광학 보상 성능을 안정적으로 부여할 수 있다.When applying an optical laminate to such a display system, the optical laminate is disposed on an optical path between the display element and the half mirror portion. The lamination direction of the optical laminate is preferably substantially parallel to a direction perpendicular to the display surface of the display element. According to this configuration, excellent optical compensation performance in the frontal direction and oblique direction can be stably provided to a display system such as VR goggles.

표시 소자로부터 출사된 광은 광학 적층체를 통과한 후, 하프 미러를 투과하여 반사부에 도달한다. 반사부는 당해 광을 하프 미러를 향하여 반사한다. 하프 미러는 반사부로부터의 반사광을 재차 반사부를 향하여 반사시킨다. 그 후, 광은 반사부 및 제2 렌즈부를 순서대로 통과하여 유저(user)의 눈으로 입사한다.The light emitted from the display element passes through the optical laminate, then passes through the half mirror and reaches the reflection portion. The reflector reflects the light toward the half mirror. The half mirror reflects the reflected light from the reflector again toward the reflector. After that, the light passes through the reflection unit and the second lens unit in that order and enters the user's eyes.

[실시예][Example]

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 각 특성의 측정 방법은 이하와 같다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited to these examples. The measurement method for each characteristic is as follows.

(1) 위상차값의 측정(1) Measurement of phase difference value

실시예 및 비교예에 이용한 제1 위상차 부재~제5 위상차 부재의 각각의 위상차에 대해서, 오지 계측 제조 KOBRA-WPR을 이용하여 자동 계측하였다. 측정 파장은 550nm, 측정 온도는 23℃이었다.The phase differences of each of the first to fifth phase difference members used in the examples and comparative examples were automatically measured using KOBRA-WPR, manufactured by Oji Instruments. The measurement wavelength was 550 nm and the measurement temperature was 23°C.

(2) 타원율의 측정(2) Measurement of ellipticity

실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 적층체의 타원율을 고속·고정밀도 뮐러 행렬 폴라리미터(액소메트릭스(Axometrics)사 제조, AxoScan)를 이용하여 측정하였다. 보다 자세하게는, 광학 적층체를 상기 폴라리미터에 세트하여, 23℃에서 편광 부재 측으로부터 파장 450nm, 550nm, 650nm의 광을 입사하고, 제1 위상차 부재 측으로부터 광을 출사시켜, 표 1에 나타내는 방위각 및 앙각에서의 출사광의 단축 반경 b/장축 반경 a를 측정하고, 상기 3종류의 파장의 광에서의 단축 반경 b/장축 반경 a의 평균값을 타원율로 하여 표 1에 나타낸다.The ellipticity of the optical laminates obtained in Examples and Comparative Examples was measured using a high-speed, high-precision Müller matrix polarimeter (AxoScan, manufactured by Axometrics). More specifically, the optical laminate is set on the polarimeter, light with a wavelength of 450 nm, 550 nm, and 650 nm is incident from the polarizing member side at 23°C, and light is emitted from the first phase difference member side, and the azimuth angle shown in Table 1 and the minor axis radius b/major axis radius a of the emitted light at the elevation angle were measured, and the average value of minor axis radius b/major axis radius a for the light of the above three types of wavelengths was taken as the ellipticity and is shown in Table 1.

[편광 부재의 제작][Production of polarizing member]

<제조예 1><Manufacturing Example 1>

열가소성 수지 기재로서 장척상이고 Tg 약 75℃인 비정질의 이소프탈 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(두께: 100㎛)을 이용하고, 수지 기재의 편면에 코로나 처리를 실시하였다.As a thermoplastic resin substrate, an amorphous isophthalic copolymerized polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) with a long shape and a Tg of about 75°C was used, and corona treatment was performed on one side of the resin substrate.

폴리비닐알코올(중합도 4200, 비누화도 99.2몰%) 및 아세토아세틸 변성 PVA(일본합성화학공업사 제조, 상품명 '고세화이머')를 9:1로 혼합한 PVA계 수지 100질량부에, 요오드화칼륨 13질량부를 첨가한 것을 물에 녹여, PVA 수용액(도포액)을 조제하였다.Potassium iodide 13 is added to 100 parts by mass of PVA-based resin, which is a mixture of polyvinyl alcohol (polymerization degree 4200, saponification degree 99.2 mol%) and acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Japan Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., brand name 'Kosefaimer') at a ratio of 9:1. The added mass was dissolved in water to prepare a PVA aqueous solution (coating solution).

수지 기재의 코로나 처리면에 상기 PVA 수용액을 도포하여 60℃에서 건조함으로써, 두께 13㎛의 PVA계 수지층을 형성하고 적층체를 제작하였다.The PVA aqueous solution was applied to the corona-treated surface of the resin substrate and dried at 60°C to form a PVA-based resin layer with a thickness of 13 μm, thereby producing a laminate.

얻어진 적층체를, 130℃의 오븐 내에서 종방향(긴 방향)으로 2.4배로 1축 연신하였다(공중 보조 연신 처리).The obtained laminate was uniaxially stretched 2.4 times in the machine direction (longitudinal direction) in an oven at 130°C (air auxiliary stretching treatment).

이어서, 적층체를, 액체 온도 40℃의 불용화욕(물 100질량부에 대하여, 붕산을 4질량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).Next, the laminate was immersed in an insolubilization bath (boric acid aqueous solution obtained by mixing 4 parts by mass of boric acid with 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (insolubilization treatment).

이어서, 액체 온도 30℃의 염색욕(물 100질량부에 대하여, 요오드와 요오드화칼륨을 1:7의 중량비로 배합하여 얻어진 요오드 수용액)에, 최종적으로 얻어지는 편광막의 단체 투과율(Ts)이 소망하는 값이 되도록 농도를 조정하면서 60초간 침지시켰다(염색 처리).Next, in a dyeing bath (iodine aqueous solution obtained by mixing iodine and potassium iodide at a weight ratio of 1:7 with respect to 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 30°C, the single transmittance (Ts) of the finally obtained polarizing film is set to a desired value. It was immersed for 60 seconds while adjusting the concentration to achieve this (dyeing treatment).

이어서, 액체 온도 40℃의 가교욕(물 100질량부에 대하여, 요오드화칼륨을 3질량부 배합하고, 붕산을 5질량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).Next, it was immersed in a crosslinking bath (a boric acid aqueous solution obtained by mixing 3 parts by mass of potassium iodide and 5 parts by mass of boric acid with respect to 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (crosslinking treatment).

그 후, 적층체를, 액체 온도 70℃의 붕산 수용액(붕산 농도 4중량%, 요오드화칼륨 농도 5중량%)에 침지시키면서, 원주 속도가 상이한 롤 사이에서 종방향(긴 방향)으로 총 연신 배율이 5.5배가 되도록 1축 연신을 행하였다(수중 연신 처리).Thereafter, the laminate was immersed in an aqueous solution of boric acid (boric acid concentration: 4% by weight, potassium iodide concentration: 5% by weight) at a liquid temperature of 70°C, while the total stretch ratio was stretched in the longitudinal direction (longitudinal direction) between rolls with different circumferential speeds. Uniaxial stretching was performed to increase the size by 5.5 times (underwater stretching treatment).

그 후, 적층체를 액체 온도 20℃의 세정욕(물 100질량부에 대하여, 요오드화칼륨을 4중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시켰다(세정 처리).Thereafter, the laminate was immersed in a washing bath (aqueous solution obtained by mixing 4 parts by weight of potassium iodide with respect to 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 20°C (washing treatment).

그 후, 약 90℃로 유지된 오븐 중에서 건조하면서, 표면 온도가 약 75℃로 유지된 SUS제의 가열 롤에 접촉시켰다(건조 수축 처리).Afterwards, it was dried in an oven maintained at about 90°C and brought into contact with a heating roll made of SUS whose surface temperature was maintained at about 75°C (dry shrink treatment).

이와 같이 하여, 수지 기재 위에 두께 약 5㎛의 편광막을 형성하여, 수지 기재/편광막의 구성을 갖는 적층체를 얻었다.In this way, a polarizing film with a thickness of approximately 5 μm was formed on the resin substrate, and a laminate having a resin substrate/polarizing film configuration was obtained.

얻어진 적층체의 편광막 표면(수지 기재와는 반대 측의 면)에 보호층으로서, 하드 코트층이 마련된 셀룰로오스계 수지 필름(두께: 32㎛)을 자외선 경화형 접착제층을 개재하여 첩합하였다. 이어서, 수지 기재를 박리하여 보호층/편광막의 구성을 갖는 편광 부재를 얻었다.A cellulose-based resin film (thickness: 32 μm) provided with a hard coat layer as a protective layer was bonded to the surface of the polarizing film (the side opposite to the resin substrate) of the obtained laminate through an ultraviolet curing adhesive layer. Next, the resin substrate was peeled to obtain a polarizing member having a protective layer/polarizing film configuration.

[nz>nx=ny의 굴절률을 갖는 제1 위상차 부재(포지티브 C 플레이트)의 제작][Production of the first phase difference member (positive C plate) with a refractive index of nz>nx=ny]

<제조예 2><Manufacturing Example 2>

하기 화학식 (II)(식 중의 숫자 65 및 35는 모노머 유닛의 몰%를 나타내고, 편의적으로 블록 폴리머체로 나타내고 있음: 중량평균 분자량 5000)으로 나타내는 측쇄형 액정 폴리머 20질량부, 네마틱 액정상으로 나타내는 중합성 액정(바스프(BASF)사 제조: 상품명: Paliocolor LC242) 80질량부 및 광중합 개시제(치바 스페셜티 케미컬즈사 제조: 상품명 이르가큐어 907) 5질량부를 시클로펜타논 200질량부에 용해하여 액정 도공액을 조제하였다.20 parts by mass of a side-chain liquid crystal polymer represented by the following formula (II) (the numbers 65 and 35 in the formula represent the mole percent of the monomer unit, and are expressed as a block polymer for convenience: weight average molecular weight 5000), represented by a nematic liquid crystalline phase. 80 parts by mass of polymerizable liquid crystal (manufactured by BASF, brand name: Paliocolor LC242) and 5 parts by mass of a photopolymerization initiator (manufactured by Chiba Specialty Chemicals, brand name: Irgacure 907) were dissolved in 200 parts by mass of cyclopentanone to prepare a liquid crystal coating solution. was prepared.

그리고, 기재 필름(노보넨계 수지 필름: 일본제온사 제조, 상품명 ‘제오넥스’)에 당해 도공액을 바코터에 의해 도공한 후, 80℃에서 4분간 가열 건조함으로써 액정을 배향시켰다. 이 액정층에 자외선을 조사하고, 액정층을 경화시킴으로써 두께 4㎛의 제1 위상차 부재(제1 위상차 필름)를 기재 위에 형성하였다.Then, the coating solution was applied to a base film (norbornene-based resin film: manufactured by Zeon Corporation, brand name “Zeonex”) using a bar coater, and then heated and dried at 80°C for 4 minutes to orient the liquid crystal. By irradiating ultraviolet rays to this liquid crystal layer and curing the liquid crystal layer, a first phase difference member (first phase difference film) with a thickness of 4 μm was formed on the substrate.

이와 같이 하여 얻어진 제1 위상차 부재는 nz>nx=ny의 굴절률을 갖고 있었다. 제1 위상차 부재(포지티브 C 플레이트)의 두께 방향의 위상차 Rth(550)를 표 1에 나타낸다.The first phase difference member obtained in this way had a refractive index of nz>nx=ny. The phase difference Rth (550) in the thickness direction of the first phase difference member (positive C plate) is shown in Table 1.

[λ/4판으로서 기능하는 제2 위상차 부재의 제작][Production of a second phase difference member functioning as a λ/4 plate]

<제조예 3><Production Example 3>

교반 날개 및 100℃로 제어되는 환류 냉각기를 구비한 종형 반응기 2기를 포함하는 배치 중합 장치에, 비스[9-(2-페녹시카보닐에틸)플루오렌-9-일]메탄 29.60질량부(0.046mol), 이소소르비드(ISB) 29.21질량부(0.200mol), 스피로글리콜(SPG) 42.28질량부(0.139mol), 디페닐카보네이트(DPC) 63.77질량부(0.298mol), 및 촉매로서 초산칼슘 1수화물 1.19×10-2질량부(6.78×10-5mol)를 투입하였다. 반응기 내를 감압 질소 치환한 후, 열매(熱媒)로 가온을 행하여, 내부 온도가 100℃가 된 시점에서 교반을 개시하였다. 승온 개시 40분 후에 내부 온도를 220℃로 도달시키고, 이 온도를 유지하도록 제어함과 동시에 감압을 개시하며, 220℃에 도달하고 나서 90분에서 13.3kPa로 하였다. 중합 반응과 함께 부생하는 페놀 증기를 100℃의 환류 냉각기로 유도하고, 페놀 증기 중에 약간량 포함되는 모노머 성분을 반응기로 되돌려, 응축하지 않는 페놀 증기는 45℃의 응축기로 유도하여 회수하였다. 제1 반응기에 질소를 도입하고 일단 대기압까지 복압시킨 후, 제1 반응기 내의 올리고머화된 반응액을 제2 반응기로 옮겼다. 이어서, 제2 반응기 내의 승온 및 감압을 개시하고, 50분에서 내부 온도 240℃, 압력 0.2kPa로 하였다. 그 후, 소정의 교반 동력이 될 때까지 중합을 진행시켰다. 소정 동력에 도달한 시점에서 반응기에 질소를 도입하여 복압하고, 생성한 폴리에스테르카보네이트계 수지를 수중에 압출하고, 스트랜드를 컷팅하여 펠릿을 얻었다.In a batch polymerization apparatus comprising two vertical reactors equipped with stirring blades and a reflux condenser controlled at 100°C, 29.60 parts by mass (0.046 parts by mass) of bis[9-(2-phenoxycarbonylethyl)fluoren-9-yl]methane was added. mol), isosorbide (ISB) 29.21 parts by mass (0.200 mol), spiroglycol (SPG) 42.28 parts by mass (0.139 mol), diphenyl carbonate (DPC) 63.77 parts by mass (0.298 mol), and calcium acetate 1 as a catalyst. 1.19×10 -2 mass parts (6.78×10 -5 mol) of hydrate were added. After purging the inside of the reactor with reduced pressure nitrogen, heating was performed using a heat exchanger, and stirring was started when the internal temperature reached 100°C. 40 minutes after the start of the temperature increase, the internal temperature reached 220°C, and while controlling to maintain this temperature, pressure reduction was started, and 90 minutes after reaching 220°C, the temperature was adjusted to 13.3 kPa. The phenol vapor produced by-product with the polymerization reaction was guided to a reflux condenser at 100°C, the monomer component contained in a small amount in the phenol vapor was returned to the reactor, and the phenol vapor that did not condense was guided to a condenser at 45°C for recovery. After nitrogen was introduced into the first reactor and the pressure was restored to atmospheric pressure, the oligomerized reaction liquid in the first reactor was transferred to the second reactor. Next, the temperature increase and pressure reduction in the second reactor were started, and the internal temperature was 240°C and the pressure was 0.2 kPa in 50 minutes. After that, polymerization was allowed to proceed until the predetermined stirring power was reached. When the predetermined power was reached, nitrogen was introduced into the reactor to restore pressure, the resulting polyester carbonate-based resin was extruded into water, and the strands were cut to obtain pellets.

얻어진 폴리에스테르카보네이트계 수지(펠릿)를 80℃에서 5시간 진공 건조를 한 후, 단축 압출기(토시바 기계사 제조, 실린더 설정 온도: 250℃), T다이(폭 200mm, 설정 온도: 250℃), 칠드 롤(설정 온도: 120~130℃) 및 권취기를 구비한 필름 제막 장치를 이용하여, 연신 온도 150℃에서 롤의 폭 방향으로 연신하고, 표 1에 기재된 두께 47㎛의 제2 위상차 부재(제2 위상차 필름)를 얻었다. After vacuum drying the obtained polyester carbonate resin (pellets) at 80°C for 5 hours, a single screw extruder (manufactured by Toshiba Machinery Co., Ltd., cylinder set temperature: 250°C), T die (width 200 mm, set temperature: 250°C), Using a film forming device equipped with a chilled roll (set temperature: 120 to 130°C) and a winder, the film is stretched in the width direction of the roll at a stretching temperature of 150°C, and a second retardation member (second phase difference member) with a thickness of 47 μm listed in Table 1 is formed. 2 retardation film) was obtained.

이와 같이 하여 얻어진 제2 위상차 부재의 Re(550)는 147nm이고, λ/4 부재로서 기능할 수 있다.Re(550) of the second phase difference member obtained in this way is 147 nm, and can function as a λ/4 member.

[nz>nx>ny의 굴절률을 갖는 제3 위상차 부재(포지티브 B 플레이트)의 제작][Production of the third phase difference member (positive B plate) having a refractive index of nz>nx>ny]

<제조예 4><Production Example 4>

히드록시프로필메틸셀룰로오스(신에츠화학사 제조, 상품명 메트로즈 60SH-50) 48질량부, 증류수 15601질량부, 푸마르산 디이소프로필 8161질량부, 아크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸 240질량부 및 중합 개시제인 t-부틸퍼옥시피발레이트 45질량부를 넣어, 질소 버블링을 1시간 행한 후, 교반하면서 49℃에서 24시간 유지함으로써, 라디칼 현탁 중합을 행하였다. 이어서, 실온까지 냉각하고, 생성한 폴리머 입자를 포함하는 현탁액을 원심 분리하였다. 얻어진 폴리머를 증류수로 2회 및 메탄올로 2회 세정한 후, 감압 건조하였다.48 parts by mass of hydroxypropylmethylcellulose (manufactured by Shin-Etsu Chemical Company, brand name: Metroz 60SH-50), 15601 parts by mass of distilled water, 8161 parts by mass of diisopropyl fumarate, 240 parts by mass of 3-ethyl-3-oxetanylmethyl acrylate, and polymerization. Radical suspension polymerization was performed by adding 45 parts by mass of t-butylperoxypivalate as an initiator, nitrogen bubbling for 1 hour, and then holding the mixture at 49°C for 24 hours while stirring. Next, it was cooled to room temperature, and the suspension containing the resulting polymer particles was centrifuged. The obtained polymer was washed twice with distilled water and twice with methanol, and then dried under reduced pressure.

얻어진 푸마르산 에스테르계 수지를 톨루엔·메틸에틸케톤 혼합 용액(톨루엔/메틸에틸케톤 50질량%/50질량%)에 용해하여 20질량% 용액으로 하였다. 또한, 푸마르산 에스테르계 수지 100질량부에 대하여, 가소제로서 트리부틸트리멜리테이트 5질량부를 첨가하여 도프를 조제하였다.The obtained fumaric acid ester-based resin was dissolved in a toluene/methyl ethyl ketone mixed solution (toluene/methyl ethyl ketone 50% by mass/50% by mass) to obtain a 20% by mass solution. Furthermore, dope was prepared by adding 5 parts by mass of tributyl trimellitate as a plasticizer to 100 parts by mass of fumaric acid ester resin.

지지체 필름으로서, 폴리에스테르(폴리에틸렌-테레프탈레이트/이소프탈레이트 공중합체)의 2축 연신 필름(두께 75㎛, 폭 1350mm)을 이용하여, 조정한 도프를 임의의 두께로 제막하고 가열 건조시켰다.As a support film, a biaxially stretched film (thickness 75 μm, width 1350 mm) of polyester (polyethylene-terephthalate/isophthalate copolymer) was used, and the adjusted dope was formed into a film of arbitrary thickness and heated and dried.

상기의 적층체를, 연신 장치의 조출부에 세트하고, 적층체를 조출하여 하류 측으로 반송하면서 표 1에 나타내는 위상차값이 되도록 연신 배율 및 연신 온도를 조제하여, 연신로 내에서 자유단 1축 연신을 행하였다. 연신 후의 적층체로부터 지지체를 박리하고, 제3 위상차 부재(제3 위상차 필름)를 얻었다.The above-described laminate is set in the feeding section of the stretching device, and while feeding and conveying the laminate to the downstream side, the stretching ratio and stretching temperature are adjusted to achieve the phase difference values shown in Table 1, and free-end uniaxial stretching is carried out in the stretching furnace. was carried out. The support was peeled from the stretched laminate, and a third retardation member (third retardation film) was obtained.

이와 같이 하여 얻어진 제3 위상차 부재(제3 위상차 필름)는 nz>nx>ny의 굴절률을 갖고 있었다. 제3 위상차 부재의 면내 위상차 Re(550), 및 두께 방향의 위상차 Rth(550)를 표 1에 나타낸다.The third retardation member (third retardation film) obtained in this way had a refractive index of nz>nx>ny. The in-plane phase difference Re (550) and the thickness direction phase difference Rth (550) of the third phase difference member are shown in Table 1.

<제조예 5~9><Production Examples 5 to 9>

표 1에 나타내는 위상차값이 되도록 연신 배율을 변경한 것 이외에는, 제조예 4와 마찬가지로 하여, 표 1에 기재된 두께 5㎛의 제3 위상차 부재(제3 위상차 필름)를 얻었다.A third retardation member (third retardation film) with a thickness of 5 μm shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Production Example 4, except that the stretching ratio was changed to obtain the retardation value shown in Table 1.

[nx>ny>nz의 굴절률을 갖는 제4 위상차 부재(네거티브 B 플레이트)의 제작][Production of the fourth retardation member (negative B plate) with a refractive index of nx>ny>nz]

<제조예 10><Production Example 10>

장척의 노보넨계 수지 필름(일본제온사 제조, 상품명 Zeonor, 두께 40㎛, 광탄성계수 3.10×10-12㎡/N)을, 표 1에 나타내는 위상차값이 되도록 연신 배율 및 건조 온도를 조제하고, 고정단 횡연신함으로써, 두께 18㎛의 제4 위상차 부재(제4 위상차 필름)를 제작하였다.A long norbornene-based resin film (manufactured by Zeon Corporation, Japan, brand name Zeonor, thickness 40 ㎛, photoelastic coefficient 3.10 However, by transverse stretching, a fourth retardation member (fourth retardation film) with a thickness of 18 μm was produced.

이와 같이 하여 얻어진 제4 위상차 부재는 nx>ny>nz의 굴절률을 갖고 있었다. 제4 위상차 부재의 면내 위상차 Re(550), 및 두께 방향의 위상차 Rth(550)를 표 1에 나타낸다.The fourth phase difference member obtained in this way had a refractive index of nx>ny>nz. Table 1 shows the in-plane phase difference Re (550) and the phase difference Rth (550) in the thickness direction of the fourth phase difference member.

<제조예 11><Production Example 11>

표 1에 나타내는 위상차값이 되도록 연신 배율 및 건조 온도를 변경한 것 이외에는, 제조예 10와 마찬가지로 하여, 표 1에 기재된 제4 위상차 부재를 얻었다.The fourth retardation member shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Production Example 10, except that the stretching ratio and drying temperature were changed to obtain the retardation value shown in Table 1.

[nx>nz>ny의 굴절률을 갖는 제5 위상차 부재(Z 필름)의 제작][Production of the fifth retardation member (Z film) with a refractive index of nx>nz>ny]

<제조예 12><Production Example 12>

두께 130㎛의 노보넨계 수지 필름(옵테스사 제조, 제오노아 ZF-14-100)의 편측에, 두께 60㎛의 수축성 필름(도레이사 제조, 토레판 BO2873)을 아크릴계 점착제층(두께 20㎛)을 개재하여 첩합하였다. 그 후, 146℃의 공기 순환식 오븐 내에서 1.3배로 연신함으로써 수축성 필름 위에 제5 위상차 부재(제5 위상차 필름)가 형성된 적층체를 얻었다. 이어서, 수축성 필름으로부터 제5 위상차 부재를 박리하였다.On one side of the 130 ㎛ thick norbornene-based resin film (Optes, Zeonoa ZF-14-100), a 60 ㎛ thick shrinkable film (Toray, Torepan BO2873) was applied as an acrylic adhesive layer (20 ㎛ thick). It was joined together through an interposition. Afterwards, it was stretched 1.3 times in an air circulation oven at 146°C to obtain a laminate in which the fifth retardation member (fifth retardation film) was formed on the shrinkable film. Next, the fifth retardation member was peeled from the shrinkable film.

이와 같이 하여 얻어진 제5 위상차 부재는 nx>nz>ny의 굴절률을 갖고 있었다. 제5 위상차 부재의 면내 위상차 Re(550), 및 Nz 계수를 표 1에 나타낸다.The fifth phase difference member obtained in this way had a refractive index of nx>nz>ny. The in-plane phase difference Re(550) and Nz coefficient of the fifth phase difference member are shown in Table 1.

<<실시예 1~7>><<Examples 1 to 7>>

표 1에 나타내는 바와 같이, 제조예 2의 제1 위상차 부재, 제조예 3의 제2 위상차 부재, 제조예 4~9 중 어느 하나의 제3 위상차 부재, 제조예 10 또는 11의 제4 위상차 부재, 및 제조예 1의 편광 부재(편광막/보호층)를 이 순서대로 적층하였다. 적층은 편광자의 흡수축 방향과, 위상차 부재(제1 위상차 부재~제4 위상차 부재의 각각)의 지상축 방향이 이루는 각도가 표 1의 값이 되도록 하여 행하였다. 또한, 제1 위상차 부재와 제2 위상차 부재는 자외선 경화형 접착제층(두께 1㎛)에 의해 첩합되었다. 제2 위상차 부재와 제3 위상차 부재는 (메트)아크릴계 점착제층(두께 23㎛)에 의해 첩합되었다. 제3 위상차 부재와 제4 위상차 부재는 자외선 경화형 접착제층(두께 1㎛)에 의해 첩합되었다. 제4 위상차 부재와 편광 부재(구체적으로는 편광막)는 자외선 경화형 접착제층(두께 1㎛)에 의해 첩합되었다.As shown in Table 1, the first phase difference member of Production Example 2, the second phase difference member of Production Example 3, the third phase difference member of any one of Production Examples 4 to 9, and the fourth phase difference member of Production Examples 10 or 11, and the polarizing member (polarizing film/protective layer) of Preparation Example 1 were laminated in this order. Lamination was performed so that the angle formed between the absorption axis direction of the polarizer and the slow axis direction of the retardation members (each of the first to fourth retardation members) was the value shown in Table 1. Additionally, the first phase difference member and the second phase difference member were bonded together with an ultraviolet curing adhesive layer (thickness of 1 μm). The second phase difference member and the third phase difference member were bonded together with a (meth)acrylic adhesive layer (thickness: 23 μm). The third phase difference member and the fourth phase difference member were bonded together with an ultraviolet curing adhesive layer (thickness of 1 μm). The fourth retardation member and the polarizing member (specifically, the polarizing film) were bonded together with an ultraviolet curing adhesive layer (thickness of 1 μm).

이에 의해, 광학 적층체를 제작하였다. 얻어진 광학 적층체를 상기한 타원율의 측정에 제공하였다.In this way, an optical laminate was produced. The obtained optical laminate was subjected to the measurement of ellipticity described above.

<<실시예 8>><<Example 8>>

표 1에 나타내는 바와 같이, 제조예 2의 제1 위상차 부재, 제조예 3의 제2 위상차 부재, 제조예 12의 제5 위상차 부재, 및 제조예 1의 편광 부재(편광막/보호층)를 이 순서대로 적층하였다. 적층은 편광자의 흡수축 방향과, 위상차 부재(제1 위상차 부재, 제2 위상차 부재, 및 제5 위상차 부재의 각각)의 지상축 방향이 이루는 각도가 표 1의 값이 되도록 하여 행하였다. 또한, 제1 위상차 부재와 제2 위상차 부재는 자외선 경화형 접착제층(두께 1㎛)에 의해 첩합되었다. 제2 위상차 부재와 제5 위상차 부재는 (메트)아크릴계 점착제층(두께 23㎛)에 의해 첩합되었다. 제5 위상차 부재와 편광 부재(구체적으로는 편광막)는 자외선 경화형 접착제층(두께 1㎛)에 의해 첩합되었다.As shown in Table 1, the first retardation member of Preparation Example 2, the second retardation member of Preparation Example 3, the fifth retardation member of Preparation Example 12, and the polarizing member (polarizing film/protective layer) of Preparation Example 1. They were stacked in order. Lamination was performed so that the angle formed between the absorption axis direction of the polarizer and the slow axis direction of the retardation members (each of the first retardation member, the second retardation member, and the fifth retardation member) was the value shown in Table 1. Additionally, the first phase difference member and the second phase difference member were bonded together with an ultraviolet curing adhesive layer (thickness of 1 μm). The second phase difference member and the fifth phase difference member were bonded together with a (meth)acrylic adhesive layer (thickness: 23 μm). The fifth retardation member and the polarizing member (specifically, the polarizing film) were bonded together with an ultraviolet curing adhesive layer (thickness of 1 μm).

이에 의해, 광학 적층체를 제작하였다. 얻어진 광학 적층체를 상기한 타원율의 측정에 제공하였다.In this way, an optical laminate was produced. The obtained optical laminate was subjected to the measurement of ellipticity described above.

<<실시예 9>><<Example 9>>

표 1에 나타내는 바와 같이, 제조예 2의 제1 위상차 부재, 제조예 3의 제2 위상차 부재, 및 제조예 1의 편광 부재(편광막/보호층)를 이 순서대로 적층하였다. 적층은 편광자의 흡수축 방향과, 위상차 부재(제1 위상차 부재 또는 제2 위상차 부재)의 지상축 방향이 이루는 각도가 표 1의 값이 되도록 하여 행하였다. 또한, 제1 위상차 부재와 제2 위상차 부재는 자외선 경화형 접착제층(두께 1㎛)에 의해 첩합되었다. 제2 위상차 부재와 편광 부재(구체적으로는 편광막)는 자외선 경화형 접착제층(두께 1㎛)에 의해 첩합되었다.As shown in Table 1, the first retardation member of Production Example 2, the second retardation member of Production Example 3, and the polarizing member (polarizing film/protective layer) of Production Example 1 were laminated in this order. Lamination was performed so that the angle formed between the absorption axis direction of the polarizer and the slow axis direction of the retardation member (first retardation member or second retardation member) was the value shown in Table 1. Additionally, the first phase difference member and the second phase difference member were bonded together with an ultraviolet curing adhesive layer (thickness of 1 μm). The second retardation member and the polarizing member (specifically, the polarizing film) were bonded together with an ultraviolet curing adhesive layer (1 μm thick).

이에 의해, 광학 적층체를 제작하였다. 얻어진 광학 적층체를 상기한 타원율의 측정에 제공하였다.In this way, an optical laminate was produced. The obtained optical laminate was subjected to the measurement of ellipticity described above.

<<비교예 1>><<Comparative Example 1>>

표 1에 나타내는 바와 같이, 제조예 3의 제2 위상차 부재, 및 제조예 1의 편광 부재(편광막/보호층)를 이 순서대로 적층하였다. 적층은 편광자의 흡수축 방향과, 제2 위상차 부재의 지상축 방향이 이루는 각도가 표 1의 값이 되도록 하여 행하였다. 또한, 제2 위상차 부재와 편광 부재(구체적으로는 편광막)는 자외선 경화형 접착제층(두께 1㎛)에 의해 첩합되었다.As shown in Table 1, the second retardation member of Production Example 3 and the polarizing member (polarizing film/protective layer) of Production Example 1 were laminated in this order. Lamination was performed so that the angle between the absorption axis direction of the polarizer and the slow axis direction of the second retardation member was the value shown in Table 1. Additionally, the second retardation member and the polarizing member (specifically, the polarizing film) were bonded together with an ultraviolet curing adhesive layer (thickness of 1 μm).

이에 의해, 광학 적층체를 제작하였다. 얻어진 광학 적층체를 상기한 타원율의 측정에 제공하였다.In this way, an optical laminate was produced. The obtained optical laminate was subjected to the measurement of ellipticity described above.

<<비교예 2~5>><<Comparative Examples 2 to 5>>

편광자의 흡수축 방향과 제5 위상차 부재의 지상축 방향이 이루는 각도가 표 1의 값이 되도록 변경한 것 이외에는, 실시예 8과 마찬가지로 하여 광학 적층체를 제작하였다. 얻어진 광학 적층체를 상기한 타원율의 측정에 제공하였다.An optical laminate was produced in the same manner as in Example 8, except that the angle between the absorption axis direction of the polarizer and the slow axis direction of the fifth retardation member was changed to the value in Table 1. The obtained optical laminate was subjected to the measurement of ellipticity described above.

[표 1][Table 1]

본 발명은 상기 실시형태로 한정되는 것은 아니고, 다양한 변형이 가능하다. 예컨대, 상기 실시형태에서 나타낸 구성과 실질적으로 동일한 구성, 동일한 작용 효과를 발휘하는 구성 또는 동일한 목적을 달성할 수 있는 구성으로 치환할 수 있다.The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are possible. For example, it can be replaced with a configuration that is substantially the same as the configuration shown in the above embodiment, a configuration that exerts the same effect, or a configuration that can achieve the same purpose.

본 발명의 광학 적층체는 화상 표시 장치(대표적으로는, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치)에 이용되고, 특히 매우 소형의 화상 표시 장치(예컨대, VR 고글)에 적합하게 이용될 수 있다.The optical laminate of the present invention is used in image display devices (typically liquid crystal display devices and organic EL display devices), and can be particularly suitably used in very small image display devices (e.g., VR goggles).

100: 광학 적층체
1: 제1 위상차 부재
2: 제2 위상차 부재
3: 제3 위상차 부재
4: 제4 위상차 부재
5: 편광 부재
51: 편광막
100: Optical laminate
1: Absence of first phase difference
2: Absence of second phase difference
3: Absence of third phase difference
4: Fourth phase difference member
5: Absence of polarization
51: polarizing film

Claims (4)

편광 부재와,
상기 편광 부재의 시인 측에 배치되는 복수의 위상차 부재를 구비하고,
방위각 0°에서 앙각 90° 및 앙각 30°의 각각에서 측정되는 타원율이 0.80 이상인, 광학 적층체.
Absence of polarization,
Provided with a plurality of retardation members disposed on a viewing side of the polarizing member,
An optical laminate having an ellipticity of 0.80 or more measured at an elevation angle of 90° and an elevation angle of 30° at an azimuth angle of 0°.
제1항에 있어서,
방위각 45°에서 앙각 90° 및 앙각 30°의 각각에서 측정되는 타원율이 0.80 이상인, 광학 적층체.
According to paragraph 1,
An optical laminate having an ellipticity of 0.80 or more measured at an elevation angle of 90° and an elevation angle of 30° at an azimuth angle of 45°.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 복수의 위상차 부재는
nz>nx=ny의 굴절률을 갖는 제1 위상차 부재와,
λ/4 부재로서 기능하는 제2 위상차 부재와,
nz>nx≥ny의 굴절률을 갖는 제3 위상차 부재와,
nx>ny≥nz의 굴절률을 갖는 제4 위상차 부재를, 시인 측으로부터 이 순서대로 포함하는, 광학 적층체.
According to claim 1 or 2,
The plurality of phase difference members are
A first phase difference member having a refractive index of nz>nx=ny,
a second phase difference member functioning as a λ/4 member;
a third phase difference member having a refractive index of nz>nx≥ny;
An optical laminate comprising a fourth phase difference member having a refractive index of nx>ny≥nz in this order from the viewing side.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 복수의 위상차 부재는,
nz>nx=ny의 굴절률을 갖는 제1 위상차 부재와,
λ/4 부재로서 기능하는 제2 위상차 부재와,
nx>nz>ny의 굴절률을 갖는 제5 위상차 부재를, 시인 측으로부터 이 순서대로 포함하고,
상기 편광 부재의 흡수축 방향과 상기 제5 위상차 부재의 지상축 방향이 이루는 각도가 90°±1° 미만인, 광학 적층체.
According to claim 1 or 2,
The plurality of phase difference members are,
A first phase difference member having a refractive index of nz>nx=ny,
a second phase difference member functioning as a λ/4 member;
A fifth phase difference member having a refractive index of nx>nz>ny is included in this order from the viewer side,
An optical laminate wherein the angle between the absorption axis direction of the polarizing member and the slow axis direction of the fifth retardation member is less than 90°±1°.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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