KR20240040058A - Resin composition, resin sheet, prepreg, metal foil-clad laminate and printed wiring board - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 드릴 가공성이 우수한 수지 시트 및 프리프레그의 제조에 적합하게 사용되는 수지 조성물, 그 수지 조성물을 사용하여 얻어지는, 수지 시트, 프리프레그, 금속박 피복 적층판, 및 프린트 배선판을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 수지 조성물은, 몰리브덴 화합물 (A) 와, 말레이미드기, 아미노기, 에폭시기, 카르복실기, 비닐기, 하이드록시기, 및 (메트)아크릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물 (B) 와, 상기 열경화성 화합물 (B) 와는 상이한 열경화성 수지 (C) 와, 상기 몰리브덴 화합물 (A) 와는 상이한 무기 충전재 (D) 를 포함한다.
The present invention aims to provide a resin composition suitably used in the production of resin sheets and prepregs with excellent drillability, and resin sheets, prepregs, metal foil-clad laminates, and printed wiring boards obtained by using the resin composition. do.
The resin composition of the present invention includes a molybdenum compound (A), at least one group selected from the group consisting of a maleimide group, an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, a vinyl group, a hydroxy group, and a (meth)acrylic group, and a polysiloxane structure. A thermosetting compound (B) containing a thermosetting resin (C) different from the thermosetting compound (B), and an inorganic filler (D) different from the molybdenum compound (A).

Description

수지 조성물, 수지 시트, 프리프레그, 금속박 피복 적층판 및 프린트 배선판Resin composition, resin sheet, prepreg, metal foil-clad laminate and printed wiring board

본 발명은, 수지 조성물, 수지 시트, 프리프레그, 금속박 피복 적층판 및 프린트 배선판에 관한 것이다.The present invention relates to resin compositions, resin sheets, prepregs, metal foil-clad laminates, and printed wiring boards.

최근, 전자 기기, 통신기, 및 퍼스널 컴퓨터 등에 널리 사용되고 있는 반도체 패키지의 고집적화, 고기능화 및 고밀도 실장화가 가속되고 있다. 이에 수반하여, 반도체 패키지용의 프린트 배선판에 요구되는 제특성은, 점점 더 엄격해지고 있다. 그러한 특성으로는, 열팽창률, 드릴 가공성, 내열성 및 난연성 등을 들 수 있지만, 그 중에서도, 보다 고밀도의 실장을 실현하기 위해 우수한 드릴 가공성의 요구가 높아지고 있다.Recently, high integration, high functionality, and high-density packaging of semiconductor packages widely used in electronic devices, communication devices, and personal computers are accelerating. In line with this, the characteristics required for printed wiring boards for semiconductor packages are becoming increasingly stringent. Such characteristics include thermal expansion coefficient, drillability, heat resistance, and flame retardancy. Among these, the demand for excellent drillability is increasing in order to realize higher density packaging.

이 점, 특허문헌 1 에는, 몰리브덴 화합물을 포함하는, 프린트 배선판용의 수지 조성물이 기재되어 있다. 또한, 이 수지 조성물에는, 실리콘 파우더를 포함해도 되는 것이 기재되어 있다.In this regard, Patent Document 1 describes a resin composition for printed wiring boards containing a molybdenum compound. Additionally, it is described that this resin composition may contain silicone powder.

WO2013/047203WO2013/047203

그러나, 특허문헌 1 에 기재된 수지 조성물을 사용하여 얻어지는 경화물은, 딱딱한 것이나, 드릴 가공시에 발생하는 절삭편 (절삭분) 의 배출성이 나쁜 것 등에서 기인하여, 드릴 가공시의 구멍 위치 정밀도가 저하되는 것, 드릴 비트의 마모가 빨라져 드릴 비트의 교환 빈도가 증가하는 것, 드릴 비트의 파손이 발생하기 쉬워지는 것 등, 드릴 가공성을 악화시킨다는 문제가 있다. 또한, 드릴 비트의 마모에 의해, 가공 구멍의 내경이 불균일해지고, 나아가, 그 내경의 요철에서 기인하여 층간 박리가 발생한다는 문제가 있다.However, the cured product obtained using the resin composition described in Patent Document 1 is hard and has poor dischargeability of cutting chips (cutting powder) generated during drilling, so the hole position accuracy during drilling is low. There are problems that deteriorate drill workability, such as deterioration, accelerated wear of the drill bit, increasing the frequency of drill bit replacement, and increased risk of drill bit breakage. In addition, there is a problem that the inner diameter of the machined hole becomes non-uniform due to wear of the drill bit, and further, interlayer peeling occurs due to the unevenness of the inner diameter.

본 발명은 상기 서술한 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 드릴 가공성이 우수한 수지 시트 및 프리프레그의 제조에 적합하게 사용되는 수지 조성물, 그 수지 조성물을 사용하여 얻어지는, 수지 시트, 프리프레그, 금속박 피복 적층판 및 프린트 배선판을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention was made to solve the above-mentioned problems, and provides a resin composition suitably used in the production of resin sheets and prepregs with excellent drillability, and resin sheets, prepregs, and metal foil-clad laminates obtained by using the resin composition. and a printed wiring board.

즉, 본 발명은 이하와 같다.That is, the present invention is as follows.

[1] 몰리브덴 화합물 (A) 와, 말레이미드기, 아미노기, 에폭시기, 카르복실기, 비닐기, 하이드록시기, 및 (메트)아크릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물 (B) 와, 상기 열경화성 화합물 (B) 와는 상이한 열경화성 수지 (C) 와, 상기 몰리브덴 화합물 (A) 와는 상이한 무기 충전재 (D) 를 포함하는, 수지 조성물.[1] A thermosetting compound comprising a molybdenum compound (A), at least one group selected from the group consisting of a maleimide group, an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, a vinyl group, a hydroxy group, and a (meth)acrylic group, and a polysiloxane structure. A resin composition comprising a compound (B), a thermosetting resin (C) different from the thermosetting compound (B), and an inorganic filler (D) different from the molybdenum compound (A).

[2] 상기 몰리브덴 화합물 (A) 가, 몰리브덴산, 몰리브덴산아연, 몰리브덴산암모늄, 몰리브덴산나트륨, 몰리브덴산칼륨, 몰리브덴산칼슘, 이황화몰리브덴, 삼산화몰리브덴, 몰리브덴산 수화물, 및 몰리브덴산아연암모늄 수화물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는, [1] 에 기재된 수지 조성물.[2] The molybdenum compound (A) is molybdate, zinc molybdate, ammonium molybdate, sodium molybdate, potassium molybdate, calcium molybdate, molybdenum disulfide, molybdenum trioxide, molybdate hydrate, and zinc ammonium molybdate hydrate. The resin composition according to [1], comprising at least one member selected from the group consisting of.

[3] 상기 열경화성 화합물 (B) 가 상기 말레이미드기를 포함하는, [1] 또는 [2] 에 기재된 수지 조성물.[3] The resin composition according to [1] or [2], wherein the thermosetting compound (B) contains the maleimide group.

[4] 상기 열경화성 화합물 (B) 가 적어도, 아미노 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와, 말레이미드 화합물에서 유래하는 구성 단위를 포함하는, [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물.[4] The resin composition according to any one of [1] to [3], wherein the thermosetting compound (B) contains at least a structural unit derived from amino-modified silicone and a structural unit derived from a maleimide compound.

[5] 상기 열경화성 화합물 (B) 가 적어도, 아미노 변성 실리콘과, 말레이미드 화합물과, 카르복실산 및/또는 카르복실산 무수물을 중합하여 얻어지는 중합체인, [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물.[5] Any one of [1] to [4], wherein the thermosetting compound (B) is a polymer obtained by polymerizing at least an amino-modified silicone, a maleimide compound, and carboxylic acid and/or carboxylic acid anhydride. The resin composition described.

[6] 상기 아미노 변성 실리콘이, 하기 식 (1) 로 나타내는 아미노 변성 실리콘을 포함하는, [4] 또는 [5] 에 기재된 수지 조성물.[6] The resin composition according to [4] or [5], wherein the amino-modified silicone contains an amino-modified silicone represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 (1) 중, Ra 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, Rb 는, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기 또는 아릴렌기를 나타내고, n 은 1 ∼ 100 의 정수를 나타낸다.)(In formula (1), R a each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group, R b each independently represents a single bond, an alkylene group or an arylene group, and n is an integer of 1 to 100. represents.)

[7] 상기 몰리브덴 화합물 (A) 가, 몰리브덴산, 몰리브덴산아연, 몰리브덴산암모늄, 몰리브덴산나트륨, 몰리브덴산칼륨, 몰리브덴산칼슘, 이황화몰리브덴, 삼산화몰리브덴, 몰리브덴산 수화물, 및 몰리브덴산아연암모늄 수화물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고, 상기 열경화성 화합물 (B) 가 상기 말레이미드기를 포함하고, 상기 열경화성 화합물 (B) 가 적어도 아미노 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와 말레이미드 화합물에서 유래하는 구성 단위를 추가로 포함하고, 상기 아미노 변성 실리콘이 하기 식 (1) 로 나타내는 아미노 변성 실리콘을 포함하는, [1] 에 기재된 수지 조성물.[7] The molybdenum compound (A) is molybdate, zinc molybdate, ammonium molybdate, sodium molybdate, potassium molybdate, calcium molybdate, molybdenum disulfide, molybdenum trioxide, molybdate hydrate, and zinc ammonium molybdate hydrate. It contains at least one member selected from the group consisting of, wherein the thermosetting compound (B) contains the maleimide group, and the thermosetting compound (B) contains at least a structural unit derived from amino-modified silicone and a maleimide compound. The resin composition according to [1], further comprising a structural unit, wherein the amino-modified silicone contains an amino-modified silicone represented by the following formula (1).

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

(식 (1) 중, Ra 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, Rb 는, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기 또는 아릴렌기를 나타내고, n 은 1 ∼ 100 의 정수를 나타낸다.)(In formula (1), R a each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group, R b each independently represents a single bond, an alkylene group or an arylene group, and n is an integer of 1 to 100. represents.)

[8] 상기 열경화성 화합물 (B) 가, 상기 에폭시기 및/또는 상기 하이드록시기를 포함하는, [1] 또는 [2] 에 기재된 수지 조성물.[8] The resin composition according to [1] or [2], wherein the thermosetting compound (B) contains the epoxy group and/or the hydroxy group.

[9] 상기 열경화성 화합물 (B) 가 적어도, 알케닐페놀에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와, 상기 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위를 포함하는, [1], [2] 및 [8] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물.[9] The thermosetting compound (B) contains at least a structural unit derived from alkenylphenol, a structural unit derived from epoxy-modified silicone, and a structural unit derived from an epoxy compound other than the epoxy-modified silicone, [ The resin composition according to any one of 1], [2], and [8].

[10] 상기 열경화성 화합물 (B) 가 적어도, 알케닐페놀과, 에폭시 변성 실리콘과, 상기 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물을 중합하여 얻어지는 중합체인, [1], [2], [8] 및 [9] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물.[10] The thermosetting compound (B) is a polymer obtained by polymerizing at least an alkenylphenol, an epoxy-modified silicone, and an epoxy compound other than the epoxy-modified silicone, [1], [2], [8], and [ 9] The resin composition according to any one of the above.

[11] 상기 에폭시 변성 실리콘이, 하기 식 (2) 로 나타내는 에폭시 변성 실리콘을 포함하는, [8] ∼ [10] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물.[11] The resin composition according to any one of [8] to [10], wherein the epoxy modified silicone contains epoxy modified silicone represented by the following formula (2).

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

(식 (2) 중, R1 은, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기, 아릴렌기 또는 아르알킬렌기를 나타내고, R2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n 은 0 ∼ 100 의 정수를 나타낸다.)(In formula (2), R 1 each independently represents a single bond, an alkylene group, an arylene group or an aralkylene group, R 2 each independently represents an alkyl group or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer from 0 to 100.)

[12] 상기 몰리브덴 화합물 (A) 가, 몰리브덴산, 몰리브덴산아연, 몰리브덴산암모늄, 몰리브덴산나트륨, 몰리브덴산칼륨, 몰리브덴산칼슘, 이황화몰리브덴, 삼산화몰리브덴, 몰리브덴산 수화물, 및 몰리브덴산아연암모늄 수화물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고, 상기 열경화성 화합물 (B) 가 상기 에폭시기 및/또는 상기 하이드록시기를 포함하고, 상기 열경화성 화합물 (B) 가 적어도, 알케닐페놀에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와, 상기 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위를 추가로 포함하고, 상기 에폭시 변성 실리콘이 하기 식 (2) 로 나타내는 에폭시 변성 실리콘을 포함하는, [1] 에 기재된 수지 조성물.[12] The molybdenum compound (A) is molybdate, zinc molybdate, ammonium molybdate, sodium molybdate, potassium molybdate, calcium molybdate, molybdenum disulfide, molybdenum trioxide, molybdate hydrate, and zinc ammonium molybdate hydrate. The thermosetting compound (B) contains at least one member selected from the group consisting of, the thermosetting compound (B) contains the epoxy group and/or the hydroxy group, and the thermosetting compound (B) contains at least a structural unit derived from alkenylphenol and [ 1] The resin composition described in .

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

(식 (2) 중, R1 은, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기, 아릴렌기 또는 아르알킬렌기를 나타내고, R2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n 은 0 ∼ 100 의 정수를 나타낸다.)(In formula (2), R 1 each independently represents a single bond, an alkylene group, an arylene group or an aralkylene group, R 2 each independently represents an alkyl group or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer from 0 to 100.)

[13] 상기 열경화성 수지 (C) 가, 말레이미드 화합물, 시안산에스테르 화합물, 페놀 화합물, 알케닐 치환 나드이미드 화합물, 및 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는, [1] ∼ [12] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물.[13] The thermosetting resin (C) contains at least one member selected from the group consisting of maleimide compounds, cyanate ester compounds, phenol compounds, alkenyl substituted nadimide compounds, and epoxy resins, [1] - The resin composition according to any one of [12].

[14] 상기 열경화성 수지 (C) 가 말레이미드 화합물을 포함하는, [13] 에 기재된 수지 조성물.[14] The resin composition according to [13], wherein the thermosetting resin (C) contains a maleimide compound.

[15] 상기 말레이미드 화합물이, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)-페닐)프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 폴리테트라메틸렌옥사이드-비스(4-말레이미드벤조에이트) 및 하기 식 (4) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는, [14] 에 기재된 수지 조성물.[15] The maleimide compounds include bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis(4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl)propane, and bis(3-ethyl-5-methyl- In [14], comprising at least one member selected from the group consisting of 4-maleimide phenyl) methane, polytetramethylene oxide-bis (4-maleimide benzoate), and maleimide compounds represented by the following formula (4) The resin composition described.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

(식 (4) 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n1 은 1 이상의 정수를 나타낸다.)(In formula (4), R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 or more.)

[16][16]

상기 말레이미드 화합물이, 하기 식 (9) 로 나타내는 말레이미드 화합물을 포함하는, [14] 에 기재된 수지 조성물.The resin composition according to [14], wherein the maleimide compound contains a maleimide compound represented by the following formula (9).

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

(식 (9) 중, R13 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n4 는 1 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.)(In formula (9), R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and n 4 represents an integer from 1 to 10.)

[17] 상기 무기 충전재 (D) 가, 실리카, 수산화알루미늄, 알루미나, 베마이트, 질화붕소, 질화알루미늄, 산화티탄, 티탄산바륨, 산화마그네슘, 및 수산화마그네슘으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는, [1] ∼ [16] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물.[17] The inorganic filler (D) includes at least one member selected from the group consisting of silica, aluminum hydroxide, alumina, boehmite, boron nitride, aluminum nitride, titanium oxide, barium titanate, magnesium oxide, and magnesium hydroxide. The resin composition according to any one of [1] to [16].

[18] 상기 몰리브덴 화합물 (A) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 0.1 ∼ 30 질량부인, [1] ∼ [17] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물.[18] Any one of [1] to [17], wherein the content of the molybdenum compound (A) is 0.1 to 30 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C). The resin composition described.

[19] 상기 열경화성 화합물 (B) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 5 ∼ 50 질량부인, [1] ∼ [18] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물.[19] Any one of [1] to [18], wherein the content of the thermosetting compound (B) is 5 to 50 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C). The resin composition described.

[20] 상기 열경화성 수지 (C) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 50 ∼ 95 질량부인, [1] ∼ [19] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물.[20] Any one of [1] to [19], wherein the content of the thermosetting resin (C) is 50 to 95 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C). The resin composition described.

[21] 상기 무기 충전재 (D) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 40 ∼ 600 질량부인, [1] ∼ [20] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물.[21] Any one of [1] to [20], wherein the content of the inorganic filler (D) is 40 to 600 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C). The resin composition described.

[22] 상기 열경화성 수지 (C) 가, 말레이미드 화합물, 시안산에스테르 화합물, 페놀 화합물, 알케닐 치환 나드이미드 화합물, 및 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고, 상기 열경화성 수지 (C) 가 말레이미드 화합물을 포함하고, 상기 말레이미드 화합물이, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)-페닐)프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 폴리테트라메틸렌옥사이드-비스(4-말레이미드벤조에이트), 하기 식 (4) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 및 하기 식 (9) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고, 상기 무기 충전재 (D) 가, 실리카, 수산화알루미늄, 알루미나, 베마이트, 질화붕소, 질화알루미늄, 산화티탄, 티탄산바륨, 산화마그네슘, 및 수산화마그네슘으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고, 상기 몰리브덴 화합물 (A) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 0.1 ∼ 30 질량부이고, 상기 열경화성 화합물 (B) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 5 ∼ 50 질량부이고, 상기 열경화성 수지 (C) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 50 ∼ 95 질량부이고, 상기 무기 충전재 (D) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 40 ∼ 600 질량부인, [7] 에 기재된 수지 조성물.[22] The thermosetting resin (C) contains at least one member selected from the group consisting of a maleimide compound, a cyanate ester compound, a phenol compound, an alkenyl substituted nadimide compound, and an epoxy resin, and the thermosetting resin ( C) includes a maleimide compound, and the maleimide compound is bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis(4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl)propane, bis(3) -Ethyl-5-methyl-4-maleimide phenyl)methane, polytetramethylene oxide-bis(4-maleimide benzoate), maleimide compound represented by the following formula (4), and maleimide represented by the following formula (9) It contains at least one member selected from the group consisting of mead compounds, wherein the inorganic filler (D) is silica, aluminum hydroxide, alumina, boehmite, boron nitride, aluminum nitride, titanium oxide, barium titanate, magnesium oxide, and hydroxide. It contains at least one member selected from the group consisting of magnesium, and the content of the molybdenum compound (A) is 0.1 to 30 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C). , the content of the thermosetting compound (B) is 5 to 50 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C), and the content of the thermosetting resin (C) is The content of the inorganic filler (D) is 50 to 95 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the compound (B) and the thermosetting resin (C), and the content of the inorganic filler (D) is the total of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C). The resin composition according to [7], which is 40 to 600 parts by mass relative to 100 parts by mass.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

(식 (4) 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n1 은 1 이상의 정수를 나타낸다.)(In formula (4), R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 or more.)

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

(식 (9) 중, R13 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n4 는 1 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.)(In formula (9), R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and n 4 represents an integer from 1 to 10.)

[23] 상기 열경화성 수지 (C) 가, 말레이미드 화합물, 시안산에스테르 화합물, 페놀 화합물, 알케닐 치환 나드이미드 화합물, 및 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고, 상기 열경화성 수지 (C) 가 말레이미드 화합물을 포함하고, 상기 말레이미드 화합물이, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)-페닐)프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 폴리테트라메틸렌옥사이드-비스(4-말레이미드벤조에이트), 하기 식 (4) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 및 하기 식 (9) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고, 상기 무기 충전재 (D) 가, 실리카, 수산화알루미늄, 알루미나, 베마이트, 질화붕소, 질화알루미늄, 산화티탄, 티탄산바륨, 산화마그네슘, 및 수산화마그네슘으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고, 상기 몰리브덴 화합물 A) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 0.1 ∼ 30 질량부이고, 상기 열경화성 화합물 (B) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 5 ∼ 50 질량부이고,[23] The thermosetting resin (C) contains at least one member selected from the group consisting of a maleimide compound, a cyanate ester compound, a phenol compound, an alkenyl substituted nadimide compound, and an epoxy resin, and the thermosetting resin ( C) includes a maleimide compound, and the maleimide compound is bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis(4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl)propane, bis(3) -Ethyl-5-methyl-4-maleimide phenyl)methane, polytetramethylene oxide-bis(4-maleimide benzoate), maleimide compound represented by the following formula (4), and maleimide represented by the following formula (9) It contains at least one member selected from the group consisting of mead compounds, wherein the inorganic filler (D) is silica, aluminum hydroxide, alumina, boehmite, boron nitride, aluminum nitride, titanium oxide, barium titanate, magnesium oxide, and hydroxide. It contains at least one member selected from the group consisting of magnesium, and the content of the molybdenum compound A) is 0.1 to 30 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C), The content of the thermosetting compound (B) is 5 to 50 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C),

상기 열경화성 수지 (C) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 50 ∼ 95 질량부이고, 상기 무기 충전재 (D) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 40 ∼ 600 질량부인, [12] 에 기재된 수지 조성물.The content of the thermosetting resin (C) is 50 to 95 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C), and the content of the inorganic filler (D) is 50 to 95 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C). The resin composition according to [12], which is 40 to 600 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of (B) and the thermosetting resin (C).

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

(식 (4) 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n1 은 1 이상의 정수를 나타낸다.)(In formula (4), R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 or more.)

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

(식 (9) 중, R13 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n4 는 1 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.)(In formula (9), R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and n 4 represents an integer from 1 to 10.)

[24] 지지체와, 상기 지지체의 편면 또는 양면에 배치된 수지층을 갖고, 상기 수지층이, [1] ∼ [23] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물을 포함하는, 수지 시트.[24] A resin sheet having a support and a resin layer disposed on one or both sides of the support, wherein the resin layer contains the resin composition according to any one of [1] to [23].

[25] 기재와, 상기 기재에 함침 또는 도포된, [1] ∼ [23] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물을 포함하는, 프리프레그.[25] A prepreg comprising a substrate and the resin composition according to any one of [1] to [23] impregnated or applied to the substrate.

[26] [24] 에 기재된 수지 시트로 형성된 적층체와, 상기 적층체의 편면 또는 양면에 배치된 금속박을 포함하는, 금속박 피복 적층판.[26] A metal foil-clad laminate comprising a laminate formed from the resin sheet according to [24] and metal foil disposed on one or both sides of the laminate.

[27] [25] 에 기재된 프리프레그로 형성된 적층체와, 상기 적층체의 편면 또는 양면에 배치된 금속박을 포함하는, 금속박 피복 적층판.[27] A metal foil-clad laminate comprising a laminate formed from the prepreg according to [25] and metal foil disposed on one or both sides of the laminate.

[28] [24] 에 기재된 수지 시트, 및 [25] 에 기재된 프리프레그로 형성된 적층체와, 상기 적층체의 편면 또는 양면에 배치된 금속박을 포함하는, 금속박 피복 적층판.[28] A metal foil-clad laminate comprising a laminate formed from the resin sheet according to [24] and the prepreg according to [25], and metal foil disposed on one or both sides of the laminate.

[24] 에 기재된 수지 시트, 및 [25] 에 기재된 프리프레그로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 형성된 적층체와, 상기 적층체의 편면 또는 양면에 배치된 금속박을 포함하는, 금속박 피복 적층판.A metal foil-clad laminate comprising a laminate formed of at least one member selected from the group consisting of the resin sheet described in [24] and the prepreg described in [25], and metal foil disposed on one or both sides of the laminate.

[29] 절연층과, 상기 절연층의 편면 또는 양면에 형성된 도체층을 갖고, 상기 절연층이, [1] ∼ [23] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물의 경화물을 포함하는, 프린트 배선판.[29] A printed wiring board having an insulating layer and a conductor layer formed on one or both sides of the insulating layer, wherein the insulating layer contains a cured product of the resin composition according to any one of [1] to [23].

본 발명의 수지 조성물에 의하면, 드릴 가공성이 우수한, 수지 시트, 프리프레그, 금속박 피복 적층판, 및 프린트 배선판을 제공할 수 있다.According to the resin composition of the present invention, resin sheets, prepregs, metal foil-clad laminates, and printed wiring boards excellent in drillability can be provided.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태 (이하, 간단히 「본 실시형태」라고 한다) 에 대해 상세하게 설명한다. 이하의 본 실시형태는, 본 발명을 설명하기 위한 예시이며, 본 발명을 이하의 내용으로 한정하는 취지는 아니다. 본 발명은 그 요지의 범위 내에서, 적절히 변형하여 실시할 수 있다.Hereinafter, an embodiment for carrying out the present invention (hereinafter simply referred to as “this embodiment”) will be described in detail. The following embodiments are examples for illustrating the present invention, and are not intended to limit the present invention to the following content. The present invention can be implemented with appropriate modifications within the scope of its gist.

또한, 본 명세서에 있어서의 「(메트)아크릴」이란 「아크릴」 및 그것에 대응하는 「메타크릴」의 양방을 의미한다. 본 실시형태에 있어서, 「수지 고형분」 또는 「수지 조성물 중의 수지 고형분」이란, 특별히 언급이 없는 한, 수지 조성물에 있어서의, 첨가제, 용제 및 충전재를 제외한 성분을 말하며, 「수지 고형분 100 질량부」란, 수지 조성물에 있어서의, 첨가제, 용제 및 충전재를 제외한 성분의 합계가 100 질량부인 것을 말한다. 또한, 「수지 고형분 100 질량%」란, 수지 조성물에 있어서의, 첨가제, 용제 및 충전재를 제외한 성분의 합계가 100 질량% 인 것을 말한다. 또한, 충전재에는, 몰리브덴 화합물 (A) 및 무기 충전재 (D) 가 포함된다.In addition, “(meth)acryl” in this specification means both “acryl” and the corresponding “methacryl.” In this embodiment, “resin solid content” or “resin solid content in a resin composition” refers to components excluding additives, solvents, and fillers in a resin composition, unless otherwise specified, and “resin solid content is 100 parts by mass.” This means that the total of components in the resin composition excluding additives, solvents, and fillers is 100 parts by mass. In addition, “resin solid content of 100% by mass” means that the total of components in the resin composition excluding additives, solvents and fillers is 100% by mass. Additionally, the filler includes a molybdenum compound (A) and an inorganic filler (D).

[수지 조성물][Resin composition]

본 실시형태의 수지 조성물은, 몰리브덴 화합물 (A) 와, 말레이미드기, 아미노기, 에폭시기, 카르복실기, 비닐기, 하이드록시기, 및 (메트)아크릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물 (B) 와, 열경화성 화합물 (B) 와는 상이한 열경화성 수지 (C) 와, 몰리브덴 화합물 (A) 와는 상이한 무기 충전재 (D) 를 포함한다.The resin composition of the present embodiment includes a molybdenum compound (A), at least one group selected from the group consisting of a maleimide group, an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, a vinyl group, a hydroxy group, and a (meth)acrylic group, and polysiloxane It contains a thermosetting compound (B) containing a structure, a thermosetting resin (C) different from the thermosetting compound (B), and an inorganic filler (D) different from the molybdenum compound (A).

<몰리브덴 화합물 (A)><Molybdenum compound (A)>

본 실시형태의 수지 조성물은, 몰리브덴 화합물 (A) 를 포함한다. 수지 조성물이 몰리브덴 화합물 (A) 를 포함함으로써, 그 수지 조성물을 사용하여 얻어지는, 수지 시트, 프리프레그, 및 금속박 피복 적층판 등의 드릴 가공성이 향상되어, 양호한 가공 구멍 품질이 얻어지고, 드릴 가공의 수명을 연장시킬 수 있다.The resin composition of this embodiment contains a molybdenum compound (A). When the resin composition contains the molybdenum compound (A), the drillability of resin sheets, prepregs, and metal foil-clad laminates obtained by using the resin composition is improved, good hole quality is obtained, and drilling life is improved. can be extended.

본 실시형태의 수지 조성물을 사용함으로써, 수지 시트, 프리프레그, 및 금속박 피복 적층판 등의 드릴 가공성이 우수한 이유에 대해서, 본 발명자들은 다음과 같이 추정하고 있다. 즉, 몰리브덴 화합물 (A) 가 나타내는 윤활성과, 열경화성 화합물 (B) 가 갖는 폴리실록산 구조에서 유래하는 이형 작용에 의해, 드릴 가공에 있어서 발생하는 절삭분이 덩어리 형상 등이 되지 않고, 원활하게 배출된다. 또한, 몰리브덴 화합물 (A) 와, 열경화성 화합물 (B) 와, 열경화성 수지 (C) 와, 무기 충전재 (D) 가 경화되어 얻어지는 경화물은, 우수한 열 안정성을 갖는다. 그 때문에, 드릴 가공에 있어서 마찰열이 발생해도, 경화물을 구성하는 몰리브덴 화합물 (A) 및 열경화성 화합물 (B) 가 열분해되지 않고, 공구 날끝과 절삭하는 피가공재 사이의 마찰력을 저감시키는 윤활 작용과, 절삭분을 배출시키는 이형 작용을 유지할 수 있다. 그 결과, 덩어리 형상 등의 절삭분을 드릴 비트가 밟음으로써 일어나는 드릴 비트의 마모 및 절손을 방지할 수 있다. 또한, 이들의 상승 효과에 의해, 드릴 비트의 가공 대상에 대한 달라붙음성도 양호해지고, 드릴 비트의 구심성이 향상됨으로써, 구멍 위치 정밀도가 향상되는 것으로 추정하고 있다.The present inventors estimate as follows why drillability of resin sheets, prepregs, metal foil-clad laminates, etc. is excellent by using the resin composition of this embodiment. That is, due to the lubricity shown by the molybdenum compound (A) and the mold release effect derived from the polysiloxane structure of the thermosetting compound (B), the cutting powder generated during drilling does not form lumps and is smoothly discharged. Additionally, the cured product obtained by curing the molybdenum compound (A), the thermosetting compound (B), the thermosetting resin (C), and the inorganic filler (D) has excellent thermal stability. Therefore, even if frictional heat is generated during drilling, the molybdenum compound (A) and the thermosetting compound (B) constituting the hardened material are not thermally decomposed, and have a lubricating effect that reduces the frictional force between the tip of the tool and the workpiece to be cut, The mold release action that discharges cutting chips can be maintained. As a result, it is possible to prevent wear and breakage of the drill bit that occurs when the drill bit steps on cutting chips such as lumps. In addition, it is estimated that due to these synergistic effects, the adhesion of the drill bit to the processing target is improved, and the centripetality of the drill bit is improved, thereby improving the hole position accuracy.

몰리브덴 화합물 (A) 로는, 몰리브덴을 분자 내에 포함하는 것이면, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 몰리브덴산, ZnMoO4 및 Zn3Mo2O9 등의 몰리브덴산아연, 몰리브덴산암모늄, 몰리브덴산나트륨, 몰리브덴산칼륨, 몰리브덴산칼슘, 이황화몰리브덴, 삼산화몰리브덴, 몰리브덴산 수화물, 및 (NH4)Zn2Mo2O9·(H3O) 등의 몰리브덴산아연암모늄 수화물 등을 들 수 있다. 이들 화합물은, 1 종 단독으로 또는 2 종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.The molybdenum compound (A) is not particularly limited as long as it contains molybdenum in the molecule. For example, molybdic acid, zinc molybdate such as ZnMoO 4 and Zn 3 Mo 2 O 9 , ammonium molybdate, sodium molybdate, potassium molybdate, calcium molybdate, molybdenum disulfide, molybdenum trioxide, molybdic acid hydrate, and ( and zinc ammonium molybdate hydrate such as NH 4 )Zn 2 Mo 2 O 9 ·(H 3 O). These compounds can be used individually or in appropriate combinations of two or more.

이들 중에서도, 유기 금속 촉매로서 작용하지 않는 점과, 보다 양호한 드릴 가공성 및 열 안정성이 얻어지는 점에서, 몰리브덴산, 몰리브덴산아연 및 몰리브덴산아연암모늄 수화물이 바람직하다.Among these, molybdic acid, zinc molybdate and zinc ammonium molybdate hydrate are preferred because they do not act as organometallic catalysts and provide better drilling properties and thermal stability.

몰리브덴 화합물 (A) 는, 수지 조성물에 대한 배합시의 형태는 특별히 한정되지 않으며, 단독 (비담지형) 이어도 된다. 본 실시형태에 있어서, 몰리브덴 화합물의 비담지형이란, 몰리브덴 화합물로 이루어지는 코어 입자의 표면의 적어도 일부에 무기 산화물 등이 아무것도 형성되어 있지 않은, 몰리브덴 화합물 단독인 형태를 칭한다.The form of the molybdenum compound (A) when incorporated into the resin composition is not particularly limited, and may be used alone (unsupported). In the present embodiment, the non-supported type of the molybdenum compound refers to a form in which the molybdenum compound is used alone, in which no inorganic oxide or the like is formed on at least part of the surface of the core particle made of the molybdenum compound.

몰리브덴 화합물 (비담지형) 의 평균 입자경 (D50) 은, 수지 조성물에 대한 분산성 및 드릴 가공성의 관점에서 0.1 ∼ 10 ㎛ 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 8 ㎛ 이고, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 4 ㎛ 이고, 보다 더 바람직하게는 1 ∼ 3 ㎛ 이다. 또한, 본 실시형태에 있어서, 평균 입자경 (D50) 이란, 메디안 직경을 의미하며, 측정한 분체의 입도 분포를 둘로 나누었을 때의 큰 쪽과 작은 쪽이 등량이 되는 값이다. 평균 입자경 (D50) 은, 레이저 회절 산란식의 입자경 분포 측정 장치에 의해, 분산매 중에 소정량 투입된 분체의 입도 분포를 측정하여, 작은 입자에서부터 체적 적산하여 전체 체적의 50 % 에 도달했을 때의 값을 의미한다.The average particle diameter (D50) of the molybdenum compound (unsupported type) is preferably 0.1 to 10 μm, more preferably 0.5 to 8 μm, and even more preferably 1 from the viewpoint of dispersibility in the resin composition and drillability. ~ 4 ㎛, more preferably 1 ~ 3 ㎛. In addition, in this embodiment, the average particle diameter (D50) means the median diameter, and is a value where the larger and smaller particles are equivalent when the particle size distribution of the measured powder is divided into two. The average particle diameter (D50) is determined by measuring the particle size distribution of a predetermined amount of powder injected into a dispersion medium using a laser diffraction scattering type particle size distribution measuring device, and calculating volume integration starting from the smallest particles. The value obtained when the particle size reaches 50% of the total volume. it means.

또한, 몰리브덴 화합물 (A) 는, 몰리브덴 화합물로 이루어지는 코어 입자의 표면의 적어도 일부에 무기 산화물이 형성된 표면 처리 몰리브덴 입자 (담지형) 여도 된다. 무기 산화물은, 코어 입자의 표면의 적어도 일부에 부여되어 있으면 된다. 무기 산화물은, 코어 입자의 표면에 부분적으로 부여되어 있어도 되고, 코어 입자의 표면의 전체를 덮도록 부여되어 있어도 된다. 드릴 가공성 및 내열성의 양립의 관점에서, 무기 산화물은 코어 입자의 표면의 전체를 덮도록 균일하게 부여되어 있는 것, 즉, 코어 입자의 표면에 무기 산화물의 피막이 균일하게 형성되어 있는 것이 바람직하다.In addition, the molybdenum compound (A) may be surface-treated molybdenum particles (supported type) in which an inorganic oxide is formed on at least part of the surface of a core particle made of a molybdenum compound. The inorganic oxide may be applied to at least part of the surface of the core particle. The inorganic oxide may be provided partially on the surface of the core particle, or may be provided so as to cover the entire surface of the core particle. From the viewpoint of both drillability and heat resistance, it is preferable that the inorganic oxide is uniformly applied to cover the entire surface of the core particle, that is, that the inorganic oxide film is uniformly formed on the surface of the core particle.

표면 처리 몰리브덴 입자 (담지형) 로는, 예를 들어, 상기 서술한 몰리브덴 화합물의 입자를, 실란 커플링제를 사용하여 표면 처리하여 얻어지는 것, 혹은, 졸겔법 또는 액상 석출법 등의 수법으로 그 표면을 무기 산화물로 처리하여 얻어지는 것을 들 수 있다. 표면에 무기 산화물이 형성된 표면 처리 몰리브덴 입자는, 열에 대해서는 무기 산화물이 유효하게 작용하고, 드릴 가공에 대해서는 몰리브덴 화합물이 유효하게 작용한다. 그 때문에, 드릴 가공성과 내열성이라는 두 개의 상반되는 특성을 고도로 양립시키는 것이 가능해진다.Surface-treated molybdenum particles (supported type) include, for example, those obtained by surface-treating particles of the molybdenum compound described above using a silane coupling agent, or those obtained by surface-treating them by methods such as the sol-gel method or liquid phase precipitation method. Examples include those obtained by treatment with an inorganic oxide. As for surface-treated molybdenum particles with inorganic oxide formed on the surface, the inorganic oxide acts effectively against heat, and the molybdenum compound acts effectively against drilling. Therefore, it becomes possible to achieve a high degree of compatibility between the two conflicting characteristics of drillability and heat resistance.

무기 산화물로는, 내열성이 우수한 것이 바람직하고, 그 종류는 특별히 한정되지 않지만, 금속 산화물이 보다 바람직하다. 금속 산화물로는, 예를 들어, SiO2, Al2O3, TiO2, ZnO, In2O3, SnO2, NiO, CoO, V2O5, CuO, MgO, 및 ZrO2 등을 들 수 있다. 이들은, 1 종 단독으로 또는 2 종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 내열성, 절연 특성 및 비용 등의 점에서, 실리카 (SiO2), 티타니아 (TiO2), 알루미나 (Al2O3), 및 지르코니아 (ZrO2) 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하고, 실리카가 보다 바람직하다.As the inorganic oxide, one having excellent heat resistance is preferable, and the type is not particularly limited, but metal oxide is more preferable. Metal oxides include, for example, SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , ZnO, In 2 O 3 , SnO 2 , NiO, CoO, V 2 O 5 , CuO, MgO, and ZrO 2 . there is. These can be used individually or in appropriate combination of two or more types. Among these, at least one selected from the group consisting of silica (SiO 2 ), titania (TiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), and zirconia (ZrO 2 ) is preferable in terms of heat resistance, insulation properties, cost, etc. And silica is more preferable.

즉, 몰리브덴 화합물 (A) 로는, 몰리브덴 화합물을로 이루어지는 코어 입자의 표면의 적어도 일부 또는 표면의 전부, 즉 코어 입자의 외주의 적어도 일부 또는 외주의 전부에, 무기 산화물이 부여되어 있는 것이 바람직하다. 이와 같은 몰리브덴 화합물 (A) 중에서도, 몰리브덴 화합물로 이루어지는 코어 입자의 표면의 적어도 일부 또는 표면의 전부, 즉 코어 입자의 외주의 적어도 일부 또는 외주의 전부에, 무기 산화물로서 실리카가 부여되어 있는 것이 보다 바람직하다. 코어 입자로는, 몰리브덴산, 몰리브덴산아연 및 몰리브덴산아연암모늄 수화물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 보다 바람직하다.That is, the molybdenum compound (A) is preferably one in which an inorganic oxide is applied to at least part or all of the surface of the core particle made of a molybdenum compound, that is, to at least part of the outer periphery or the entire outer periphery of the core particle. Among such molybdenum compounds (A), it is more preferable that silica is provided as an inorganic oxide to at least part or all of the surface of the core particle made of a molybdenum compound, that is, to at least part of the outer periphery or all of the outer periphery of the core particle. do. The core particle is more preferably at least one selected from the group consisting of molybdic acid, zinc molybdate, and zinc ammonium molybdate hydrate.

표면의 무기 산화물의 두께는, 원하는 성능에 따라 적절히 설정할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 균일한 무기 산화물의 피막을 형성하는 점과, 드릴 가공성의 개선 효과를 보다 현저하게 발휘시킴과 함께, 보다 높은 내열성을 부여하는 점에서, 그 두께는 3 ∼ 500 ㎚ 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 ∼ 200 ㎚ 이고, 더욱 바람직하게는 15 ∼ 100 ㎚ 이다.The thickness of the inorganic oxide on the surface can be appropriately set depending on the desired performance and is not particularly limited. In terms of forming a uniform inorganic oxide film, exhibiting the effect of improving drillability more significantly, and providing higher heat resistance, the thickness is preferably 3 to 500 nm, and more preferably. is 10 to 200 nm, more preferably 15 to 100 nm.

표면 처리 몰리브덴 입자의 평균 입자경 (D50) 은, 수지 조성물에 대한 분산성 및 드릴 가공성의 관점에서 0.1 ∼ 10 ㎛ 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 8 ㎛ 이고, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 4 ㎛ 이고, 보다 더 바람직하게는 1 ∼ 3 ㎛ 이다.The average particle diameter (D50) of the surface-treated molybdenum particles is preferably 0.1 to 10 μm, more preferably 0.5 to 8 μm, and still more preferably 1 to 4 from the viewpoint of dispersibility in the resin composition and drillability. ㎛, and more preferably 1 to 3 ㎛.

몰리브덴 화합물로 이루어지는 코어 입자는, 분쇄법이나 조립법 (造粒法) 등의 각종 공지된 방법에 의해 제조할 수 있고, 그 제법은 특별히 한정되지 않는다. 또, 그 시판품을 사용해도 된다.Core particles made of a molybdenum compound can be produced by various known methods such as grinding or granulation, and the production method is not particularly limited. Additionally, the commercially available product may be used.

표면 처리 몰리브덴 입자의 제조 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 졸겔법, 액상 석출법, 침지 도포법, 스프레이 도포법, 인쇄법, 무전해 도금법, 스퍼터링법, 증착법, 이온 플레이팅법, 및 CVD 법 등의 각종 공지된 수법을 적절히 채용하여, 무기 산화물 또는 그 전구체를 몰리브덴 화합물로 이루어지는 코어 입자의 표면에 부여함으로써, 표면 처리 몰리브덴 입자를 얻을 수 있다. 무기 산화물 또는 그 전구체를 몰리브덴 화합물로 이루어지는 코어 입자의 표면에 부여하는 방법은, 습식법, 혹은 건식법 중 어느 것이어도 상관없다.The method for producing surface-treated molybdenum particles is not particularly limited and includes, for example, sol-gel method, liquid phase precipitation method, dip coating method, spray coating method, printing method, electroless plating method, sputtering method, vapor deposition method, ion plating method, and CVD. Surface-treated molybdenum particles can be obtained by applying an inorganic oxide or its precursor to the surface of a core particle made of a molybdenum compound by appropriately employing various known methods such as a method. The method for applying the inorganic oxide or its precursor to the surface of the core particles made of a molybdenum compound may be either a wet method or a dry method.

표면 처리 몰리브덴 입자의 바람직한 제조 방법으로는, 예를 들어, 규소알콕시드 (알콕시실란), 알루미늄알콕시드 등의 금속 알콕시드를 용해시킨 알코올 용액에, 몰리브덴 화합물 (코어 입자) 을 분산시키고, 교반시키면서 물과 알코올 및 촉매의 혼합 용액을 적하하고, 알콕시드를 가수분해함으로써, 화합물 표면에 저굴절률 피막으로서 산화규소 혹은 산화알루미늄 등의 피막을 형성하고, 그 후, 얻어진 분체를 고액 분리하고, 진공 건조 후, 열처리를 실시하는 방법을 들 수 있다. 이 다른 바람직한 제조 방법으로서 예를 들어, 규소알콕시드, 알루미늄알콕시드 등의 금속 알콕시드를 용해한 알코올 용액에, 몰리브덴 화합물 (코어 입자) 을 분산시키고, 고온 저압하에서 혼합 처리를 하여, 화합물 표면에 산화규소 혹은 산화알루미늄 등의 피막을 형성하고, 그 후, 얻어진 분체를 진공 건조시키고, 해쇄 처리하는 방법을 들 수 있다. 이들 방법에 의해, 몰리브덴 화합물의 표면에 실리카나 알루미나 등의 금속 산화물의 피막을 갖는 몰리브덴 입자가 얻어진다.As a preferred method for producing surface-treated molybdenum particles, for example, molybdenum compounds (core particles) are dispersed in an alcohol solution in which metal alkoxides such as silicon alkoxide (alkoxysilane) and aluminum alkoxide are dissolved, and stirred. A mixed solution of water, alcohol and catalyst is added dropwise and the alkoxide is hydrolyzed to form a low refractive index film such as silicon oxide or aluminum oxide on the surface of the compound. Afterwards, the obtained powder is separated into solid and liquid and vacuum dried. Afterwards, a method of performing heat treatment may be mentioned. As another preferred production method, for example, a molybdenum compound (core particle) is dispersed in an alcohol solution containing a metal alkoxide such as silicon alkoxide or aluminum alkoxide, and mixed at high temperature and low pressure to cause oxidation on the surface of the compound. A method of forming a film of silicon or aluminum oxide, etc., and then vacuum drying the obtained powder and subjecting it to pulverization treatment, is an example. By these methods, molybdenum particles having a film of metal oxide such as silica or alumina on the surface of the molybdenum compound are obtained.

몰리브덴 화합물 (A) 의 함유량은, 드릴 가공성 및 내열성의 관점에서, 후술하는 열경화성 화합물 (B) 와 후술하는 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 0.1 ∼ 30 질량부인 것이 바람직하고, 0.3 ∼ 10 질량부인 것이 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 5 질량부인 것이 더욱 바람직하다.From the viewpoint of drillability and heat resistance, the content of the molybdenum compound (A) is preferably 0.1 to 30 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) described later and the thermosetting resin (C) described later, and is 0.3 to 0.3 parts by mass. It is more preferable that it is 10 parts by mass, and it is still more preferable that it is 0.5 to 5 parts by mass.

<열경화성 화합물 (B)><Thermosetting compound (B)>

본 실시형태의 수지 조성물은, 말레이미드기, 아미노기, 에폭시기, 카르복실기, 비닐기, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물 (B) 를 포함한다. 이들 열경화성 화합물 (B) 는, 1 종 단독으로 또는 2 종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.The resin composition of the present embodiment is a thermosetting compound (B) containing at least one group selected from the group consisting of a maleimide group, an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, a vinyl group, a hydroxy group, and a (meth)acrylic group, and a polysiloxane structure. ) includes. These thermosetting compounds (B) can be used individually or in appropriate combinations of two or more types.

열경화성 화합물 (B) 는, 분자 중에, 실록산 결합이 반복 형성된 폴리실록산 골격을 갖고, 말레이미드기, 아미노기, 에폭시기, 카르복실기, 비닐기, 하이드록시기, 및 (메트)아크릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기를 가지면, 특별히 한정되지 않는다. 열경화성 화합물 (B) 는, 후술하는 열경화성 수지 (C) 와 양호한 반응성을 나타내고, 또한 열경화성 수지 (C) 와의 상용성이 우수하다. 폴리실록산 골격은, 직사슬형의 골격이어도 되고, 고리형의 골격이어도 되고, 망목상의 골격이어도 된다. 이 중에서도, 본 실시형태의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 직사슬형의 골격인 것이 바람직하다. 또한, 열경화성 화합물 (B) 는, 분자 중의 양 말단에, 말레이미드기, 아미노기, 에폭시기, 카르복실기, 비닐기, 하이드록시기, 및 (메트)아크릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기를 갖는 것이 바람직하다. 분자 중의 양 말단의 기는 동일해도 되고 상이해도 되지만, 경화 반응의 제어가 용이하고, 취급이 용이해지는 점에서, 동일한 것이 바람직하다.The thermosetting compound (B) has a polysiloxane skeleton in which siloxane bonds are repeatedly formed in the molecule, and contains at least one selected from the group consisting of a maleimide group, an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, a vinyl group, a hydroxy group, and a (meth)acryl group. There is no particular limitation as long as it has a species flag. The thermosetting compound (B) exhibits good reactivity with the thermosetting resin (C) described later, and has excellent compatibility with the thermosetting resin (C). The polysiloxane skeleton may be a linear skeleton, a cyclic skeleton, or a mesh-like skeleton. Among these, a linear skeleton is preferable from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment. In addition, the thermosetting compound (B) has at least one group selected from the group consisting of a maleimide group, an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, a vinyl group, a hydroxy group, and a (meth)acryl group at both terminals in the molecule. desirable. The groups at both terminals in the molecule may be the same or different, but they are preferably the same because it facilitates control of the curing reaction and ease of handling.

열경화성 화합물 (B) 는, 23 ℃ 의 온도하에서 액상이거나, 혹은 메틸에틸케톤을 용제로 하는 경우에 23 ℃ 의 온도하에서 그 용제에 대한 용해도가 1 질량% 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 질량% 이상이다. 여기서, 메틸에틸케톤에 대한 용해도는 「(열경화성 화합물 (B) 의 합계량/(열경화성 화합물 (B) 의 합계량+용제의 합계량))×100 (질량%)」로 정의된다. 본 실시형태에 있어서, 예를 들어, 열경화성 화합물 (B) 의 합계량 1 g 이상이 메틸에틸케톤 99 g 에 대해 용해된다고 평가되는 것은, 열경화성 화합물 (B) 의 메틸에틸케톤에 대한 용해도가 「1 질량% 이상」이 되는 경우이고, 용해성이 높지 않다고 평가되는 것은, 당해 용해도가 「1 질량% 미만」이 되는 경우이다.The thermosetting compound (B) is preferably in a liquid state at a temperature of 23°C, or when using methyl ethyl ketone as a solvent, the solubility in the solvent at a temperature of 23°C is preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass. It is more than %. Here, the solubility in methyl ethyl ketone is defined as “(total amount of thermosetting compound (B)/(total amount of thermosetting compound (B) + total amount of solvent)) x 100 (mass%).” In this embodiment, for example, the evaluation that a total amount of 1 g or more of the thermosetting compound (B) is soluble in 99 g of methyl ethyl ketone means that the solubility of the thermosetting compound (B) in methyl ethyl ketone is “1 mass. % or more”, and the solubility is evaluated as not being high when the solubility is “less than 1% by mass.”

분자 중에, 말레이미드기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물로는, 분자 중에 1 개 이상의 말레이미드기와 폴리실록산 구조를 가지면, 특별히 한정되지 않는다.The thermosetting compound containing a maleimide group and a polysiloxane structure in the molecule is not particularly limited as long as it has at least one maleimide group and a polysiloxane structure in the molecule.

분자 중에, 아미노기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물로는, 분자 중에 1 개 이상의 아미노기와 폴리실록산 구조를 가지면, 특별히 한정되지 않는다.The thermosetting compound containing an amino group and a polysiloxane structure in the molecule is not particularly limited as long as it has at least one amino group and a polysiloxane structure in the molecule.

분자 중에, 에폭시기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물로는, 분자 중에 1 개 이상의 에폭시기와 폴리실록산 구조를 가지면, 특별히 한정되지 않는다.The thermosetting compound containing an epoxy group and a polysiloxane structure in the molecule is not particularly limited as long as it has at least one epoxy group and a polysiloxane structure in the molecule.

분자 중에, 카르복실기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물로는, 분자 중에 1 개 이상의 카르복실기와 폴리실록산 구조를 가지면, 특별히 한정되지 않는다.The thermosetting compound containing a carboxyl group and a polysiloxane structure in the molecule is not particularly limited as long as it has at least one carboxyl group and a polysiloxane structure in the molecule.

분자 중에, 비닐기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물로는, 분자 중에 1 개 이상의 비닐기와 폴리실록산 구조를 가지면, 특별히 한정되지 않는다.The thermosetting compound containing a vinyl group and a polysiloxane structure in the molecule is not particularly limited as long as it has at least one vinyl group and a polysiloxane structure in the molecule.

분자 중에, 하이드록시기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물로는, 분자 중에 1 개 이상의 하이드록시기와 폴리실록산 구조를 가지면, 특별히 한정되지 않는다.The thermosetting compound containing a hydroxy group and a polysiloxane structure in the molecule is not particularly limited as long as it has at least one hydroxy group and a polysiloxane structure in the molecule.

분자 중에, (메트)아크릴기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물로는, 분자 중에 1 개 이상의 (메트)아크릴기와 폴리실록산 구조를 가지면, 특별히 한정되지 않는다.The thermosetting compound containing a (meth)acrylic group and a polysiloxane structure in the molecule is not particularly limited as long as it has one or more (meth)acrylic groups and a polysiloxane structure in the molecule.

열경화성 화합물 (B) 로는, 열경화성 수지 (C) 와의 상용성이 보다 우수한 관점에서, 분자 중에, 말레이미드기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물이 바람직하다.The thermosetting compound (B) is preferably a thermosetting compound containing a maleimide group and a polysiloxane structure in the molecule from the viewpoint of better compatibility with the thermosetting resin (C).

또한, 열경화성 화합물 (B) 로는, 열경화성 수지 (C) 와의 상용성을 정밀하게 제어하는 점과, 열경화성 화합물 (B) 의 점도를 낮게 유지하여 성형성을 향상시키는 관점에서, 분자 중에, 에폭시기 및/또는 하이드록시기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물이 바람직하다.In addition, the thermosetting compound (B) contains an epoxy group and/or Alternatively, a thermosetting compound containing a hydroxy group and a polysiloxane structure is preferred.

에폭시기 및 하이드록시기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물로는, 분자 중에 1 개 이상의 에폭시기와, 분자 중에 1 개 이상의 하이드록시기와, 폴리실록산 구조를 가지면, 특별히 한정되지 않는다.The thermosetting compound containing an epoxy group, a hydroxy group, and a polysiloxane structure is not particularly limited as long as it has one or more epoxy groups in the molecule, one or more hydroxy groups in the molecule, and a polysiloxane structure.

열경화성 화합물 (B) 의 함유량은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 우수한 내열성 및 내약품성을 발휘하는 점에서, 열경화성 화합물 (B) 와 후술하는 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 5 ∼ 50 질량부인 것이 바람직하고, 10 ∼ 45 질량부인 것이 보다 바람직하고, 15 ∼ 40 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The content of the thermosetting compound (B) is 100 parts by mass in total of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C) described later, since it has a superior mold release effect for discharging cutting chips and exhibits excellent heat resistance and chemical resistance. It is preferably 5 to 50 parts by mass, more preferably 10 to 45 parts by mass, and even more preferably 15 to 40 parts by mass.

또한, 후술하는 중합체 (B1) 및 (B2) 의 합계의 함유량은, 수지 고형분 100 질량% 에 대해 5 ∼ 50 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 45 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 15 ∼ 40 질량% 인 것이 더욱 바람직하다. 함유량이 상기 범위 내이면, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 한층 우수한 상용성, 저열팽창성 및 내약품성을 균형있게 발현할 수 있는 경향이 있다.In addition, the total content of the polymers (B1) and (B2) described later is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 45% by mass, and 15 to 40% by mass, based on 100% by mass of the resin solid content. % is more preferable. If the content is within the above range, the mold release action of discharging cutting chips is more excellent, and there is a tendency to exhibit excellent compatibility, low thermal expansion, and chemical resistance in a balanced manner.

(열경화성 화합물 (B1))(Thermosetting compound (B1))

열경화성 화합물 (B) 는, 열경화성 화합물 (B) 를 구성하는 성분끼리의 반응성과 열경화성 수지 (C) 와의 상용성 개선의 관점에서, 적어도, 아미노 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와, 말레이미드 화합물에서 유래하는 구성 단위를 포함하는, 열경화성 화합물 (B1) 인 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「아미노 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위」 및 「말레이미드 화합물에서 유래하는 구성 단위」란, 열경화성 화합물 (B1) 중에, 아미노 변성 실리콘 및 말레이미드 화합물의 각 성분을 중합시킨 구성 단위를 포함하는 것에 추가하여, 동일한 구성 단위를 부여할 수 있는 반응 등에 의해 형성한 구성 단위를 포함하는 것으로 한다. 이하, 본 명세서에 있어서 「… 에서 유래하는 구성 단위」에 대해서는, 동일하게 해석하는 것으로 한다. 후술하는 중합체 (B1) 은, 열경화성 화합물 (B1) 의 일종 (구체예) 이고, 아미노 변성 실리콘 및 말레이미드 화합물에 대해서는 후술을 참조할 수 있다.The thermosetting compound (B) contains at least a structural unit derived from amino-modified silicone and a maleimide compound from the viewpoint of improving the reactivity of the components constituting the thermosetting compound (B) and compatibility with the thermosetting resin (C). It is preferable that it is a thermosetting compound (B1) containing the following structural units. In addition, in this specification, “structural unit derived from amino-modified silicone” and “structural unit derived from maleimide compound” refer to a thermosetting compound (B1) obtained by polymerizing each component of amino-modified silicone and maleimide compound. In addition to including structural units, it shall include structural units formed by reactions that can give the same structural units, etc. Hereinafter, in this specification, “… “Constitutive units derived from” shall be interpreted in the same way. The polymer (B1) described later is a type (specific example) of the thermosetting compound (B1), and the description below can be referred to for the amino-modified silicone and maleimide compound.

아미노 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위의 함유량은, 열경화성 화합물 (B1) 중의 전체 구성 단위 100 질량% 에 대해, 바람직하게는 5 ∼ 70 질량% 이고, 보다 바람직하게는 10 ∼ 50 질량% 이고, 더욱 바람직하게는 15 ∼ 45 질량% 이다.The content of the structural unit derived from amino-modified silicone is preferably 5 to 70% by mass, more preferably 10 to 50% by mass, and even more preferably 100% by mass of the total structural units in the thermosetting compound (B1). Typically, it is 15 to 45 mass%.

말레이미드 화합물에서 유래하는 구성 단위의 함유량은, 열경화성 화합물 (B1) 중의 전체 구성 단위 100 질량% 에 대해, 바람직하게는 30 ∼ 95 질량% 이고, 보다 바람직하게는 50 ∼ 90 질량% 이고, 더욱 바람직하게는 55 ∼ 85 질량% 이다.The content of the structural unit derived from the maleimide compound is preferably 30 to 95% by mass, more preferably 50 to 90% by mass, and even more preferably 50 to 90% by mass, based on 100% by mass of all structural units in the thermosetting compound (B1). Typically, it is 55 to 85 mass%.

열경화성 화합물 (B1) 에 있어서의 아민가는, 바람직하게는 2.0 mgKOH/g 이하이고, 보다 바람직하게는 1.0 mgKOH/g 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.5 mgKOH/g 이하이다. 또한, 아민가는, 1 급 아민 및 2 급 아민의 합계량이다. 아민가가 2.0 mgKOH/g 이하이면, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 수지 조성물의 점도의 증가, 분자량의 증가, 바니시의 겔화 및 프리프레그 점도의 상승을 억제할 수 있는 경향이 있다. 또, 아민가는, 작을수록 수지 조성물의 점도의 증가, 및 분자량의 증가 등을 억제할 수 있는 경향이 있다. 아민가의 하한값은, 바람직하게는 0 ㎎KOH/g 이다. 아민가는, JIS K 7237:1995 에 준거하는 방법에 의해 측정된다.The amine titer in the thermosetting compound (B1) is preferably 2.0 mgKOH/g or less, more preferably 1.0 mgKOH/g or less, and still more preferably 0.5 mgKOH/g or less. In addition, the amine titer is the total amount of primary amine and secondary amine. If the amine value is 2.0 mgKOH/g or less, the mold release effect of discharging cutting chips is excellent, and there is a tendency to suppress the increase in viscosity of the resin composition, increase in molecular weight, gelation of the varnish, and increase in prepreg viscosity. Additionally, the smaller the amine number, the more likely it is to be able to suppress increases in viscosity and molecular weight of the resin composition. The lower limit of the amine titer is preferably 0 mgKOH/g. The amine titer is measured by a method based on JIS K 7237:1995.

열경화성 화합물 (B1) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 바람직하게는 5000 ∼ 20000 이고, 보다 바람직하게는 10000 ∼ 15000 이다. 중량 평균 분자량이 5000 이상임으로써, 프리프레그의 열팽창률이 저하되는 경향이 있고, 중량 평균 분자량이 20000 이하임으로써, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 수지 조성물의 점도의 증가, 분자량의 증가, 바니시의 겔화 및 프리프레그 점도의 상승을 억제할 수 있는 경향이 있다. 열경화성 화합물 (B1) 의 중량 평균 분자량을 5000 ∼ 20000 으로 하려면, 열경화성 화합물 (B1) 을 조제할 때의 온도나 시간 등의 반응 조건을 제어하면 된다. 본 실시형태에 있어서, 중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 법으로 측정하여, 표준 폴리스티렌 검량선을 사용하여 환산한 값으로서 구할 수 있다. 구체적으로는, 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정된다.The weight average molecular weight (Mw) of the thermosetting compound (B1) is preferably 5,000 to 20,000, and more preferably 10,000 to 15,000. When the weight average molecular weight is 5,000 or more, the thermal expansion coefficient of the prepreg tends to decrease, and when the weight average molecular weight is 20,000 or less, the mold release effect of discharging cutting chips is more excellent, the viscosity of the resin composition increases, and the molecular weight decreases. There is a tendency to suppress the increase in varnish gelation and prepreg viscosity. In order to set the weight average molecular weight of the thermosetting compound (B1) to 5,000 to 20,000, reaction conditions such as temperature and time when preparing the thermosetting compound (B1) can be controlled. In this embodiment, the weight average molecular weight can be measured by gel permeation chromatography (GPC) and obtained as a value converted using a standard polystyrene calibration curve. Specifically, it is measured by the method described in the Examples described later.

(중합체 (B1))(polymer (B1))

열경화성 화합물 (B) 는, 그것을 구성하는 성분끼리의 반응성과 열경화성 수지 (C) 와의 상용성 개선의 관점에서, 적어도, 아미노 변성 실리콘과, 말레이미드 화합물과, 카르복실산 및/또는 카르복실산 무수물을 중합하여 얻어지는 중합체 (B1) 인 것이 바람직하다. 중합체 (B1) 은 적어도, 아미노 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와, 말레이미드 화합물에서 유래하는 구성 단위를 포함한다.The thermosetting compound (B) contains at least amino-modified silicone, a maleimide compound, carboxylic acid and/or carboxylic acid anhydride from the viewpoint of improving the reactivity of the components constituting it and compatibility with the thermosetting resin (C). It is preferable that it is polymer (B1) obtained by polymerizing. Polymer (B1) contains at least a structural unit derived from amino-modified silicone and a structural unit derived from a maleimide compound.

·아미노 변성 실리콘·Amino modified silicone

아미노 변성 실리콘은, 분자 중에 1 개 이상의 아미노기를 갖는 실리콘이면 특별히 한정되지 않지만, 분자 중에 2 개 이상의 아미노기를 갖는 실리콘인 것이 바람직하고, 하기 식 (1) 로 나타내는 아미노 변성 실리콘을 포함하는 것이 보다 바람직하다. 열경화성 화합물 (B1) 또는 중합체 (B1) 은, 아미노 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위를 포함함으로써, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 우수한 상용성을 발현할 수 있다. 아미노 변성 실리콘은, 1 종 단독으로 또는 2 종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.The amino-modified silicone is not particularly limited as long as it is a silicone having one or more amino groups in the molecule, but is preferably a silicone having two or more amino groups in the molecule, and more preferably contains an amino-modified silicone represented by the following formula (1): do. By containing a structural unit derived from amino-modified silicone, the thermosetting compound (B1) or polymer (B1) has a better mold release effect for discharging cutting chips and can exhibit excellent compatibility. Amino-modified silicones can be used individually or in appropriate combinations of two or more.

[화학식 11][Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

식 (1) 중, Ra 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 페닐기를 나타낸다. Rb 는, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기 또는 아릴렌기를 나타낸다. n 은, 1 ∼ 100 의 정수를 나타낸다.In formula (1), R a each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a phenyl group. R b each independently represents a single bond, an alkylene group, or an arylene group. n represents an integer from 1 to 100.

알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 및 헥실기 등의 직사슬형 알킬기 ; 이소프로필기, 이소부틸기 및 tert-부틸기 등의 분기형 알킬기를 들 수 있다. 이들 중에서도, 메틸기가 바람직하다.Examples of the alkyl group include straight-chain alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, and hexyl group; and branched alkyl groups such as isopropyl group, isobutyl group, and tert-butyl group. Among these, a methyl group is preferable.

Rb 로는, 알킬렌기가 바람직하다. 알킬렌기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기 및 테트라메틸렌기를 들 수 있다. 또한, 알킬렌기로는, 그 주사슬에 있어서, 탄소수가 1 ∼ 4 인 것이 보다 바람직하고, 트리메틸렌기인 것이 더욱 바람직하다.As R b , an alkylene group is preferable. Examples of the alkylene group include methylene group, ethylene group, trimethylene group, and tetramethylene group. Furthermore, the alkylene group is more preferably one with 1 to 4 carbon atoms in the main chain, and even more preferably a trimethylene group.

아릴렌기로는, 예를 들어, 페닐기, 나프틸기, 인데닐기, 비페닐기, 및 안트릴기를 들 수 있다.Examples of the arylene group include phenyl group, naphthyl group, indenyl group, biphenyl group, and anthryl group.

아미노 변성 실리콘의 아미노기 당량은, 바람직하게는 130 ∼ 6000 g/mol 이고, 보다 바람직하게는 500 ∼ 3000 g/mol 이고, 더욱 바람직하게는 600 ∼ 2500 g/mol 이다. 아미노기 당량이 상기 범위 내임으로써, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수한 경화물을 얻을 수 있다. 아미노기 당량은, JIS K 7237:1995 에 준거하는 방법에 의해 측정된다.The amino group equivalent of the amino-modified silicone is preferably 130 to 6000 g/mol, more preferably 500 to 3000 g/mol, and still more preferably 600 to 2500 g/mol. When the amino group equivalent is within the above range, a cured product with a more excellent mold release effect for discharging cutting chips can be obtained. The amino group equivalent is measured by a method based on JIS K 7237:1995.

아미노 변성 실리콘은, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 아미노 변성 실리콘의 시판품으로는, 신에츠 화학 공업 (주) 제조의 「X-22-161A」 (아미노기 당량 : 800 g/mol), 「X-22-161B」 (아미노기 당량 : 1500 g/mol) 및 「KF-8010」 (아미노기 당량 : 430 g/mol) 등을 들 수 있다.The amino-modified silicone may be a commercially available product or a product manufactured by a known method. Commercially available amino-modified silicone products include “X-22-161A” (amino group equivalent: 800 g/mol) and “X-22-161B” (amino group equivalent: 1500 g/mol) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. “KF-8010” (amino group equivalent: 430 g/mol), etc. can be mentioned.

·말레이미드 화합물·Maleimide compound

말레이미드 화합물은, 분자 중에 1 개 이상의 말레이미드기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 말레이미드 화합물 중의 말레이미드기의 수는 2 이상인 것이 바람직하다. 말레이미드 화합물로는, 예를 들어, N-페닐말레이미드, N-하이드록시페닐말레이미드, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)-페닐)프로판, 비스(3,5-디메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 비스(3,5-디에틸-4-말레이미드페닐)메탄, 폴리테트라메틸렌옥사이드-비스(4-말레이미드벤조에이트), 식 (4) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 식 (9) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 이들 말레이미드 화합물의 프레폴리머, 및 말레이미드 화합물과 아민 화합물의 프레폴리머를 들 수 있다. 말레이미드 화합물은, 1 종 단독으로 또는 2 종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.The maleimide compound is not particularly limited as long as it is a compound having one or more maleimide groups in the molecule. It is preferable that the number of maleimide groups in the maleimide compound is 2 or more. Examples of maleimide compounds include N-phenylmaleimide, N-hydroxyphenylmaleimide, bis(4-maleimidephenyl)methane, and 2,2-bis(4-(4-maleimidephenoxy). -phenyl)propane, bis(3,5-dimethyl-4-maleimidephenyl)methane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl)methane, bis(3,5-diethyl-4- maleimide phenyl) methane, polytetramethylene oxide-bis(4-maleimide benzoate), maleimide compound represented by formula (4), maleimide compound represented by formula (9), prepolymer of these maleimide compounds, and Prepolymers of maleimide compounds and amine compounds can be mentioned. A maleimide compound can be used individually by 1 type or in appropriate combination of 2 or more types.

이들 중에서도, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)-페닐)프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 폴리테트라메틸렌옥사이드-비스(4-말레이미드벤조에이트), 식 (4) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 및 식 (9) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 것이 바람직하고, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)-페닐)프로판을 포함하는 것이 보다 바람직하다.Among these, bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis(4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl)propane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl) Containing at least one member selected from the group consisting of methane, polytetramethylene oxide-bis(4-maleimide benzoate), a maleimide compound represented by formula (4), and a maleimide compound represented by formula (9). It is preferable, and it is more preferable that it contains 2,2-bis(4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl)propane.

[화학식 12][Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

식 (4) 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n1 은 1 이상의 정수를 나타낸다.In formula (4), R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 or more.

R5 는, 수소 원자인 것이 바람직하다. n1 의 상한값은, 바람직하게는 10 이고, 보다 바람직하게는 7 이다.R 5 is preferably a hydrogen atom. The upper limit of n 1 is preferably 10, more preferably 7.

[화학식 13][Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

식 (9) 중, R13 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n4 는 1 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.In formula (9), R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and n 4 represents an integer of 1 to 10.

말레이미드 화합물은, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 조제한 조제품을 사용해도 된다. 말레이미드 화합물의 시판품으로는, 케이·아이 화성 주식회사 제품인 「BMI-70」, 「BMI-80」, 「BMI-1000P」, 다이와 화성 공업 주식회사 제품인 「BMI-3000」, 「BMI-4000」, 「BMI-5100」, 「BMI-7000」, 및 「BMI-2300」, 그리고 닛폰 화약 주식회사 제품인「MIR-3000-70MT」등을 들 수 있다.As the maleimide compound, a commercial item may be used, or a crude product prepared by a known method may be used. Commercially available maleimide compounds include "BMI-70", "BMI-80", and "BMI-1000P" manufactured by K.I Chemical Co., Ltd., and "BMI-3000", "BMI-4000", and "BMI-3000" manufactured by Daiwa Chemical Industry Co., Ltd. Examples include "BMI-5100", "BMI-7000", and "BMI-2300", and "MIR-3000-70MT" manufactured by Nippon Explosives Co., Ltd.

·카르복실산 및 카르복실산 무수물·Carboxylic acid and carboxylic acid anhydride

카르복실산은 특별히 한정되지 않지만, 말레산, 프탈산, 숙신산, 아세트산 및 프로피온산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 바람직하고, 말레산, 프탈산, 숙신산 및 아세트산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 보다 바람직하고, 말레산, 프탈산 및 숙신산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 더욱 바람직하다.The carboxylic acid is not particularly limited, but is preferably at least one selected from the group consisting of maleic acid, phthalic acid, succinic acid, acetic acid, and propionic acid, and more preferably at least one selected from the group consisting of maleic acid, phthalic acid, succinic acid, and acetic acid. It is preferable, and it is more preferable that it is at least one type selected from the group consisting of maleic acid, phthalic acid, and succinic acid.

카르복실산 무수물은 특별히 한정되지 않지만, 무수 말레산, 무수 프탈산, 무수 숙신산, 무수 아세트산 및 무수 프로피온산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 바람직하고, 무수 말레산, 무수 프탈산, 무수 숙신산 및 무수 아세트산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 보다 바람직하고, 무수 말레산, 무수 프탈산 및 무수 숙신산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 더욱 바람직하다.The carboxylic acid anhydride is not particularly limited, but is preferably at least one selected from the group consisting of maleic anhydride, phthalic anhydride, succinic anhydride, acetic anhydride, and propionic anhydride, and is preferably at least one selected from the group consisting of maleic anhydride, phthalic anhydride, succinic anhydride, and acetic anhydride. It is more preferable that it is at least 1 type selected from the group consisting of maleic anhydride, phthalic anhydride, and succinic anhydride.

이들 중에서도, 1 가의 카르복실산 및/또는 1 가의 카르복실산 무수물, 혹은 2 가의 카르복실산 및/또는 2 가의 카르복실산 무수물인 것이 바람직하고, 2 가의 카르복실산 및/또는 2 가의 카르복실산 무수물인 것이 더욱 바람직하다. 카르복실산 및/또는 카르복실산 무수물은, 각각, 2 가의 카르복실산 및/또는 2 가의 카르복실산 무수물임으로써, 1 가의 카르복실산 및/또는 1 가의 카르복실산 무수물인 경우와 비교하여, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수한 경화물이 얻어지는 경향이 있다.Among these, monovalent carboxylic acid and/or monovalent carboxylic acid anhydride, or divalent carboxylic acid and/or divalent carboxylic acid anhydride are preferable, and divalent carboxylic acid and/or divalent carboxylic acid anhydride are preferable. It is more preferable that it is an acid anhydride. The carboxylic acid and/or carboxylic acid anhydride are divalent carboxylic acid and/or divalent carboxylic acid anhydride, respectively, compared to the case where they are monovalent carboxylic acid and/or monovalent carboxylic acid anhydride. , there is a tendency to obtain a cured product with a better mold release effect for discharging cutting chips.

카르복실산 및 카르복실산 무수물은, 각각 1 종 단독으로 또는 2 종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다. 또, 카르복실산 및 카르복실산 무수물은, 각각을 단독으로 사용해도 되고, 병용해도 된다.Carboxylic acid and carboxylic acid anhydride can be used individually or in appropriate combinations of two or more. In addition, carboxylic acid and carboxylic acid anhydride may be used individually or in combination.

본 실시형태에 있어서, 카르복실산만을 사용하는 것과 비교하여, 카르복실산 무수물만을 사용하는 것이 바람직하다. 카르복실산 무수물은 반응성이 보다 우수하기 때문에, 중합체 (B1) 중의 아미노기와 반응함으로써, 중합체 (B1) 의 반응성을 적절하게 억제할 수 있는 경향이 있다. 그 결과, 중합체 (B1) 을 포함하는 수지 조성물 및 프리프레그의 보존 안정성 (예를 들면, 수지 조성물의 점도의 증가, 분자량의 증가, 바니시의 겔화, 및 프리프레그 점도의 상승 등의 억제) 이 우수하고, 열경화성 수지 (C) 와 혼합했을 때의 성형성도 우수한 경향이 있다.In this embodiment, it is preferable to use only carboxylic acid anhydride compared to using only carboxylic acid. Since carboxylic acid anhydride has superior reactivity, it tends to be able to appropriately suppress the reactivity of polymer (B1) by reacting with the amino group in polymer (B1). As a result, the resin composition containing the polymer (B1) and the prepreg are excellent in storage stability (e.g., suppression of increase in viscosity of the resin composition, increase in molecular weight, gelation of the varnish, and increase in prepreg viscosity, etc.). And, the moldability when mixed with the thermosetting resin (C) also tends to be excellent.

중합체 (B1) 에 있어서의, 아미노 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위의 함유량은, 중합체 (B1) 중의 전체 구성 단위 100 질량% 에 대해, 바람직하게는 15 ∼ 60 질량% 이고, 보다 바람직하게는 20 ∼ 55 질량% 이고, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 50 질량% 이다.The content of the structural unit derived from amino-modified silicone in the polymer (B1) is preferably 15 to 60% by mass, more preferably 20 to 60% by mass, based on 100% by mass of the total structural units in the polymer (B1). It is 55 mass%, more preferably 30 to 50 mass%.

중합체 (B1) 에 있어서의, 말레이미드 화합물에서 유래하는 구성 단위의 함유량은, 중합체 (B1) 중의 전체 구성 단위 100 질량% 에 대해, 바람직하게는 35 ∼ 75 질량% 이고, 보다 바람직하게는 40 ∼ 70 질량% 이고, 더욱 바람직하게는 44 ∼ 65 질량% 이다.The content of the structural unit derived from the maleimide compound in the polymer (B1) is preferably 35 to 75% by mass, more preferably 40 to 75% by mass, based on 100% by mass of all structural units in the polymer (B1). It is 70 mass%, more preferably 44 to 65 mass%.

중합체 (B1) 에 있어서의, 카르복실산 및/또는 카르복실산 무수물에서 유래하는 구성 단위의 함유량 (합계 함유량) 은, 중합체 (B1) 중의 전체 구성 단위 100 질량% 에 대해, 바람직하게는 0.1 ∼ 10 질량% 이고, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 7 질량% 이고, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 6 질량% 이다.The content (total content) of structural units derived from carboxylic acid and/or carboxylic acid anhydride in polymer (B1) is preferably 0.1 to 0.1 with respect to 100% by mass of all structural units in polymer (B1). It is 10 mass%, more preferably 0.5 to 7 mass%, and even more preferably 1 to 6 mass%.

·열경화성 화합물 (B1) 또는 중합체 (B1) 의 제조 방법· Method for producing thermosetting compound (B1) or polymer (B1)

열경화성 화합물 (B1) 또는 중합체 (B1) 의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 아미노 변성 실리콘과 말레이미드 화합물을 반응시켜 1 차 폴리머를 얻는 제 1 반응 공정 (이하, 간단히 「제 1 반응 공정」이라고도 부른다) 과, 1 차 폴리머와 카르복실산 및/또는 카르복실산 무수물을 반응시키는 제 2 반응 공정 (이하, 간단히 「제 2 반응 공정」이라고도 부른다) 을 갖는 것이, 보다 우수한 보존 안정성을 갖는, 열경화성 화합물 (B1) 또는 중합체 (B1) 이 얻어지는 점에서 바람직하다.The method for producing the thermosetting compound (B1) or polymer (B1) is not particularly limited, but includes a first reaction step of reacting an amino-modified silicone and a maleimide compound to obtain a primary polymer (hereinafter also simply referred to as the “first reaction step”) ) and a second reaction step of reacting the primary polymer with carboxylic acid and/or carboxylic acid anhydride (hereinafter, simply referred to as “second reaction step”) is a thermosetting compound that has better storage stability. (B1) or polymer (B1) is preferable in that it can be obtained.

제 1 반응 공정에 있어서, 아미노 변성 실리콘의 배합량은, 아미노 변성 실리콘과 말레이미드 화합물의 합계 100 질량% 에 대해, 바람직하게는 5 ∼ 70 질량% 이고, 보다 바람직하게는 10 ∼ 50 질량% 이고, 더욱 바람직하게는 15 ∼ 45 질량% 이다.In the first reaction step, the compounding amount of amino-modified silicone is preferably 5 to 70 mass%, more preferably 10 to 50 mass%, based on a total of 100 mass% of amino-modified silicone and maleimide compound. More preferably, it is 15 to 45 mass%.

제 1 반응 공정에 있어서, 말레이미드 화합물의 배합량은, 아미노 변성 실리콘과 말레이미드 화합물의 합계 100 질량% 에 대해, 바람직하게는 30 ∼ 95 질량% 이고, 보다 바람직하게는 50 ∼ 90 질량% 이고, 더욱 바람직하게는 55 ∼ 85 질량% 이다.In the first reaction step, the compounding amount of the maleimide compound is preferably 30 to 95% by mass, more preferably 50 to 90% by mass, based on a total of 100% by mass of the amino-modified silicone and the maleimide compound. More preferably, it is 55 to 85 mass%.

제 1 반응 공정에 있어서, 아미노 변성 실리콘에 대한 말레이미드 화합물의 배합량비는, 질량 기준으로, 바람직하게는 1.0 ∼ 3.0 이고, 보다 바람직하게는 1.0 ∼ 2.5 이고, 더욱 바람직하게는 1.0 ∼ 2.0 이다. 배합량비가 상기 범위 내임으로써, 열경화성 화합물 (B1) 또는 중합체 (B1) 의 제조성이 우수한 경향이 있다.In the first reaction step, the mixing ratio of the maleimide compound to the amino-modified silicone is preferably 1.0 to 3.0, more preferably 1.0 to 2.5, and still more preferably 1.0 to 2.0, based on mass. When the compounding amount ratio is within the above range, the manufacturability of the thermosetting compound (B1) or polymer (B1) tends to be excellent.

제 1 반응 공정에 있어서의 반응 온도는, 아미노 변성 실리콘과 말레이미드 화합물의 반응이 진행되는 온도이면 특별히 한정되지 않지만, 50 ∼ 200 ℃ 인 것이 바람직하고, 100 ∼ 150 ℃ 인 것이 보다 바람직하다.The reaction temperature in the first reaction step is not particularly limited as long as it is the temperature at which the reaction between the amino-modified silicone and the maleimide compound proceeds, but is preferably 50 to 200°C, and more preferably 100 to 150°C.

제 2 반응 공정에 제공되는, 제 1 반응 공정에 의해 얻어지는 1 차 폴리머의 점도는, 보다 우수한 보존 안정성을 갖는 열경화성 화합물 (B1) 또는 중합체 (B1) 로 하는 관점에서, 용제를 포함하는 농도 50 % 에 있어서, 100 ∼ 500 mPa·s 인 것이 바람직하고, 150 mPa·s ∼ 400 mPa·s 인 것이 보다 바람직하다. 또한, 1 차 폴리머의 점도의 측정 방법은, 일반적인 점도계를 사용하여 측정할 수 있다. 예를 들어, 콘 플레이트형 점도계 (예를 들어, ICI 점도계) 를 사용하여 측정할 수 있다.The viscosity of the primary polymer obtained through the first reaction step, which is applied to the second reaction step, is 50% at a solvent-containing concentration from the viewpoint of producing a thermosetting compound (B1) or polymer (B1) with better storage stability. It is preferable that it is 100 to 500 mPa·s, and it is more preferable that it is 150 mPa·s to 400 mPa·s. Additionally, the viscosity of the primary polymer can be measured using a general viscometer. For example, it can be measured using a cone plate type viscometer (eg, ICI viscometer).

제 2 반응 공정에 있어서, 아미노 변성 실리콘에 대한 카르복실산과 카르복실산 무수물의 합계의 배합량비는, 질량 기준으로, 바람직하게는 0.01 ∼ 0.4 이고, 보다 바람직하게는 0.01 ∼ 0.2 이고, 더욱 바람직하게는 0.02 ∼ 0.1 이다. 배합량비가 상기 범위 내임으로써, 중합체 (B1) 의 보존 안정성이 보다 우수한 경향이 있다.In the second reaction step, the ratio of the total amount of carboxylic acid and carboxylic acid anhydride to amino-modified silicone is preferably 0.01 to 0.4, more preferably 0.01 to 0.2, and still more preferably 0.01 to 0.4, based on mass. is 0.02 to 0.1. When the compounding amount ratio is within the above range, the storage stability of polymer (B1) tends to be more excellent.

제 2 반응 공정에 있어서의 반응 온도는, 50 ∼ 200 ℃ 인 것이 바람직하고, 100 ∼ 150 ℃ 인 것이 보다 바람직하다. 반응 시간은, 바람직하게는 0.5 ∼ 5 시간이고, 보다 바람직하게는 1.5 ∼ 3.5 시간이다.The reaction temperature in the second reaction step is preferably 50 to 200°C, and more preferably 100 to 150°C. The reaction time is preferably 0.5 to 5 hours, more preferably 1.5 to 3.5 hours.

본 실시형태에 있어서, 아미노 변성 실리콘과, 말레이미드 화합물과, 카르복실산 및/또는 카르복실산 무수물을 동시에 반응시켜도 된다. 즉, 제 1 반응 공정과 제 2 반응 공정을 동시에 실시해도 된다.In this embodiment, the amino-modified silicone, the maleimide compound, and carboxylic acid and/or carboxylic acid anhydride may be reacted simultaneously. That is, the first reaction step and the second reaction step may be performed simultaneously.

제 1 공정 및 제 2 공정에 있어서는, 용제를 사용해도 된다. 용제로는, 예를 들어, 아세톤, 메틸에틸케톤, 및 메틸셀로솔브 등의 케톤류 ; 톨루엔, 및 자일렌 등의 방향족 탄화수소류 ; 디메틸포름아미드 등의 아미드류 ; 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 및 그 아세테이트를 들 수 있다. 용제는, 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.In the first process and the second process, a solvent may be used. Examples of solvents include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl cellosolve; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Amides such as dimethylformamide; Propylene glycol monomethyl ether and its acetate can be mentioned. Solvents can be used individually or in appropriate combinations of two or more.

(열경화성 화합물 (B2))(Thermosetting compound (B2))

열경화성 화합물 (B) 는, 열경화성 수지 (C) 와의 상용성을 정밀하게 제어하는 점과, 열경화성 화합물 (B) 의 점도를 낮게 유지하여 성형성을 향상시키는 관점에서, 적어도, 알케닐페놀에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위를 포함하는, 열경화성 화합물 (B2) 인 것이 바람직하다. 또한, 열경화성 화합물 (B2) 는, 필요에 따라서, 알케닐페놀 이외의 페놀 화합물에서 유래하는 구성 단위를 추가로 포함하고 있어도 된다. 후술하는 중합체 (B2) 는, 열경화성 화합물 (B2) 의 일종 (구체예) 이며, 알케닐페놀, 에폭시 변성 실리콘, 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물, 및 알케닐페놀 이외의 페놀 화합물에 대해서는, 후술을 참조할 수 있다.The thermosetting compound (B) is at least derived from alkenylphenol from the viewpoint of precisely controlling compatibility with the thermosetting resin (C) and improving moldability by keeping the viscosity of the thermosetting compound (B) low. It is preferable that it is a thermosetting compound (B2) containing a structural unit, a structural unit derived from epoxy-modified silicone, and a structural unit derived from an epoxy compound other than epoxy-modified silicone. In addition, the thermosetting compound (B2) may further contain structural units derived from phenol compounds other than alkenylphenol, as needed. Polymer (B2) described later is a type (specific example) of thermosetting compound (B2), and epoxy compounds other than alkenylphenol, epoxy-modified silicone, epoxy-modified silicone, and phenol compounds other than alkenylphenol are described later. You can refer to it.

알케닐페놀에서 유래하는 구성 단위의 함유량은, 열경화성 화합물 (B2) 의 총 질량에 대해, 5 ∼ 50 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 45 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 10 ∼ 40 질량% 인 것이 더욱 바람직하다. 이 구성 단위의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 더욱 우수한 상용성을 발현할 수 있는 경향이 있다.The content of the structural unit derived from alkenylphenol is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 45% by mass, and 10 to 40% by mass, based on the total mass of the thermosetting compound (B2). It is more desirable. When the content of this structural unit is within the above range, the mold release action of discharging cutting chips is more excellent, and there is a tendency to exhibit more excellent compatibility.

에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위의 함유량은, 열경화성 화합물 (B2) 중의 총 질량에 대해, 20 ∼ 60 질량% 인 것이 바람직하고, 25 ∼ 55 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 30 ∼ 50 질량% 인 것이 더욱 바람직하다. 이 구성 단위의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 수지 조성물의 경화물은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 한층 우수한 저열팽창성 및 내약품성을 균형있게 발현할 수 있는 경향이 있다.The content of the structural unit derived from epoxy-modified silicone is preferably 20 to 60% by mass, more preferably 25 to 55% by mass, and 30 to 50% by mass, relative to the total mass in the thermosetting compound (B2). It is more desirable. When the content of this structural unit is within the above range, the cured product of the resin composition tends to have a more excellent mold release effect for discharging cutting chips and to exhibit excellent low thermal expansion and chemical resistance in a balanced manner.

에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위는, 50 ∼ 350 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘 (이하, 「저당량 에폭시 변성 실리콘」이라고도 부른다) 과, 400 ∼ 4000 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘 (이하, 「고당량 에폭시 변성 실리콘」이라고도 부른다) 에서 유래하는 구성 단위인 것이 바람직하다.The structural units derived from epoxy-modified silicone include epoxy-modified silicone having an epoxy equivalent of 50 to 350 g/mol (hereinafter also referred to as “low-equivalent epoxy-modified silicone”) and epoxy-modified silicone having an epoxy equivalent of 400 to 4000 g/mol. It is preferable that it is a structural unit derived from epoxy-modified silicone (hereinafter also referred to as "high-equivalent epoxy-modified silicone").

저당량 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위의 함유량은, 열경화성 화합물 (B2) 중의 총 질량에 대해, 5 ∼ 25 질량% 인 것이 바람직하고, 7.5 ∼ 20 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 10 ∼ 17 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.The content of the structural unit derived from low-equivalent epoxy-modified silicone is preferably 5 to 25% by mass, more preferably 7.5 to 20% by mass, and 10 to 17% by mass, relative to the total mass in the thermosetting compound (B2). % is more preferable.

고당량 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위의 함유량은, 열경화성 화합물 (B2) 중의 총 질량에 대해, 15 ∼ 55 질량% 인 것이 바람직하고, 20 ∼ 52.5 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 25 ∼ 50 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.The content of the structural unit derived from the high-equivalent epoxy-modified silicone is preferably 15 to 55% by mass, more preferably 20 to 52.5% by mass, and 25 to 50% by mass, relative to the total mass in the thermosetting compound (B2). % is more preferable.

저당량 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위의 함유량에 대한 고당량 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위의 함유량의 질량비는, 1.5 ∼ 4 인 것이 바람직하고, 1.7 ∼ 3.5 인 것이 보다 바람직하고, 1.9 ∼ 3.1 인 것이 더욱 바람직하다. 이 질량비가 상기 범위에 있으면, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 한층 우수한 상용성, 내약품성, 동박 밀착성 및 절연 신뢰성을 발현할 수 있는 경향이 있다.The mass ratio of the content of the structural units derived from the high-equivalent epoxy-modified silicone to the content of the structural units derived from the low-equivalent epoxy-modified silicone is preferably 1.5 to 4, more preferably 1.7 to 3.5, and 1.9 to 3.1. It is more preferable to be When this mass ratio is within the above range, the mold release action of discharging cutting chips is more excellent, and there is a tendency to exhibit even more excellent compatibility, chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability.

에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위의 함유량은, 열경화성 화합물 (B2) 중의 총 질량에 대해, 5 ∼ 40 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 30 질량% 인 것이 바람직하고, 15 ∼ 20 질량% 인 것이 더욱 바람직하다. 이 구성 단위의 함유량이 상기 범위 내이면, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 한층 우수한 상용성, 내약품성, 동박 밀착성 및 절연 신뢰성을 발현할 수 있는 경향이 있다.The content of structural units derived from epoxy compounds other than epoxy-modified silicone is preferably 5 to 40% by mass, preferably 10 to 30% by mass, and 15 to 20% by mass, relative to the total mass in the thermosetting compound (B2). It is more preferable that it is mass%. If the content of this structural unit is within the above range, the mold release action of discharging cutting chips is more excellent, and there is a tendency to exhibit even more excellent compatibility, chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability.

또한, 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위의 함유량은, 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위 및 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위의 총 질량에 대해, 5 ∼ 95 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 90 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 15 ∼ 60 질량% 인 것이 더욱 바람직하고, 20 ∼ 50 질량% 인 것이 특히 바람직하다. 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위의 함유량은, 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위 및 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위의 총 질량에 대해, 5 ∼ 95 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 90 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 40 ∼ 85 질량% 인 것이 더욱 바람직하고, 50 ∼ 80 질량% 인 것이 특히 바람직하다. 이들 구성 단위의 함유량이 상기 관계를 가짐으로써, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 한층 우수한 상용성, 내약품성, 동박 밀착성, 및 절연 신뢰성이 보다 향상되는 경향이 있다.In addition, the content of structural units derived from epoxy-modified silicone is preferably 5 to 95% by mass with respect to the total mass of structural units derived from epoxy-modified silicone and structural units derived from epoxy compounds other than epoxy-modified silicone. , it is more preferable that it is 10 to 90 mass%, it is still more preferable that it is 15 to 60 mass%, and it is especially preferable that it is 20 to 50 mass%. The content of structural units derived from epoxy compounds other than epoxy-modified silicone is 5 to 95% by mass with respect to the total mass of structural units derived from epoxy-modified silicone and structural units derived from epoxy compounds other than epoxy-modified silicone. It is preferable, and it is more preferable that it is 10-90 mass %, it is still more preferable that it is 40-85 mass %, and it is especially preferable that it is 50-80 mass %. When the content of these structural units has the above-mentioned relationship, the release action of discharging cutting chips is more excellent, and the excellent compatibility, chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability tend to be further improved.

알케닐페놀 이외의 페놀 화합물에서 유래하는 구성 단위의 함유량은, 열경화성 화합물 (B2) 중의 총 질량에 대해, 5 ∼ 30 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 27.5 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 25 질량% 인 것이 더욱 바람직하다. 이 구성 단위의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 수지 조성물의 경화물은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 한층 우수한 동박 밀착성을 발현할 수 있는 경향이 있다.The content of structural units derived from phenolic compounds other than alkenylphenol is preferably 5 to 30% by mass, preferably 10 to 27.5% by mass, and 10 to 25% by mass, relative to the total mass in the thermosetting compound (B2). It is more preferable that it is mass%. When the content of this structural unit is within the above range, the cured product of the resin composition has a more excellent mold release effect for discharging cutting chips and tends to exhibit even more excellent copper foil adhesion.

열경화성 수지 (B2) 에 있어서의 알케닐기 당량은, 300 ∼ 1500 g/mol 인 것이 바람직하고, 350 ∼ 1200 g/mol 인 것이 바람직하고, 400 ∼ 1000 g/mol 인 것이 더욱 바람직하다. 알케닐기 당량이 300 g/mol 이상임으로써, 수지 조성물의 경화물은 탄성률이 한층 저하되는 경향이 있고, 그 결과, 경화물을 사용하여 얻어지는 기판 등의 열팽창성을 한층 저하시킬 수 있는 경향이 있다. 알케닐기 당량이 1500 g/mol 이하임으로써, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 수지 조성물의 상용성, 내약품성, 및 절연 신뢰성이 한층 향상되는 경향이 있다.The alkenyl group equivalent weight in the thermosetting resin (B2) is preferably 300 to 1,500 g/mol, preferably 350 to 1,200 g/mol, and more preferably 400 to 1,000 g/mol. When the alkenyl group equivalent is 300 g/mol or more, the cured product of the resin composition tends to have a further lowered elastic modulus, and as a result, the thermal expansion property of a substrate or the like obtained using the cured product tends to be further reduced. When the alkenyl group equivalent is 1500 g/mol or less, the mold release action of discharging cutting chips is more excellent, and the compatibility, chemical resistance, and insulation reliability of the resin composition tend to be further improved.

열경화성 수지 (B2) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, GPC 법에 있어서의 폴리스티렌 환산으로, 3.0×103 ∼ 5.0×104 인 것이 바람직하고, 3.0×103 ∼ 2.0×104 인 것이 보다 바람직하다. 중량 평균 분자량이 3.0×103 이상임으로써, 프리프레그의 열팽창률이 저하되는 경향이 있고, 중량 평균 분자량이 5.0×104 이하임으로써, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 수지 조성물의 점도의 증가, 분자량의 증가, 바니시의 겔화 및 프리프레그 점도의 상승을 억제할 수 있는 경향이 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the thermosetting resin (B2) is preferably 3.0×10 3 to 5.0×10 4 , and more preferably 3.0×10 3 to 2.0×10 4 , in terms of polystyrene in the GPC method. do. When the weight average molecular weight is 3.0×10 3 or more, the thermal expansion coefficient of the prepreg tends to decrease, and when the weight average molecular weight is 5.0×10 4 or less, the mold release action of discharging cutting chips is more excellent, and the resin composition It tends to suppress the increase in viscosity, increase in molecular weight, gelation of varnish, and increase in prepreg viscosity.

(중합체 (B2))(Polymer (B2))

열경화성 화합물 (B) 는, 열경화성 수지 (C) 와의 상용성이 한층 더 우수하다고 하는 이유에서, 적어도, 알케닐페놀과 에폭시 변성 실리콘과 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물을 중합하여 얻어지는 중합체 (B2) 인 것이 바람직하다. 또한, 중합체 (B2) 는 적어도, 알케닐페놀과, 에폭시 변성 실리콘과, 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물과, 알케닐페놀 이외의 페놀 화합물을 중합하여 얻어지는 중합체인 것이 보다 바람직하다. 중합체 (B2) 는 적어도, 알케닐페놀에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위를 포함한다.Since the thermosetting compound (B) is said to have even better compatibility with the thermosetting resin (C), it is at least a polymer (B2) obtained by polymerizing alkenylphenol, epoxy modified silicone, and an epoxy compound other than epoxy modified silicone. It is desirable. Moreover, it is more preferable that the polymer (B2) is a polymer obtained by polymerizing at least alkenylphenol, epoxy-modified silicone, an epoxy compound other than epoxy-modified silicone, and a phenol compound other than alkenylphenol. Polymer (B2) contains at least a structural unit derived from alkenylphenol, a structural unit derived from epoxy-modified silicone, and a structural unit derived from an epoxy compound other than epoxy-modified silicone.

·알케닐페놀·Alkenylphenol

알케닐페놀은, 1 개 이상의 알케닐기가 페놀성 방향 고리에 직접 결합한 구조를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 열경화성 화합물 (B2) 또는 중합체 (B2) 는, 알케닐페놀에서 유래하는 구성 단위를 함유함으로써, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 우수한 상용성을 발현할 수 있다.The alkenylphenol is not particularly limited as long as it is a compound having a structure in which one or more alkenyl groups are directly bonded to a phenolic aromatic ring. By containing a structural unit derived from alkenylphenol, the thermosetting compound (B2) or polymer (B2) has a better mold release effect for discharging cutting chips and can exhibit excellent compatibility.

알케닐기로는, 예를 들어, 비닐기, 알릴기, 프로페닐기, 부테닐기 및 헥세닐기 등의 탄소수 2 ∼ 30 의 알케닐기를 들 수 있다. 이들 중에서도, 본 실시형태의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 알케닐기는, 알릴기 및/또는 프로페닐기인 것이 바람직하고, 알릴기인 것이 더욱 바람직하다. 1 개의 페놀성 방향 고리에 직접 결합하고 있는 알케닐기의 수는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 1 ∼ 4 이다. 본 실시형태의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 1 개의 페놀성 방향 고리에 직접 결합하고 있는 알케닐기의 수는, 바람직하게는 1 ∼ 2 이고, 더욱 바람직하게는 1 이다. 또한, 알케닐기의 페놀성 방향 고리에 대한 결합 위치도 특별히 한정되지 않는다.Examples of the alkenyl group include alkenyl groups having 2 to 30 carbon atoms, such as vinyl, allyl, propenyl, butenyl, and hexenyl. Among these, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment, the alkenyl group is preferably an allyl group and/or a propenyl group, and more preferably an allyl group. The number of alkenyl groups directly bonded to one phenolic aromatic ring is not particularly limited, and is, for example, 1 to 4. From the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment, the number of alkenyl groups directly bonded to one phenolic aromatic ring is preferably 1 to 2, and more preferably 1. Additionally, the bonding position of the alkenyl group to the phenolic aromatic ring is not particularly limited.

페놀성 방향 고리는, 1 개 이상의 수산기가 방향 고리에 직접 결합한 것을 말하고, 페놀 고리나 나프톨 고리를 들 수 있다. 1 개의 페놀성 방향 고리에 직접 결합하고 있는 수산기의 수는, 예를 들면 1 ∼ 2 이고, 바람직하게는 1 이다.A phenolic aromatic ring refers to one in which one or more hydroxyl groups are directly bonded to an aromatic ring, and examples include a phenol ring and a naphthol ring. The number of hydroxyl groups directly bonded to one phenolic aromatic ring is, for example, 1 to 2, and is preferably 1.

페놀성 방향 고리는, 알케닐기 이외의 치환기를 가지고 있어도 된다. 그러한 치환기로는, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬형 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 분기형 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 고리형 알킬기, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬형 알콕시기, 탄소수 3 ∼ 10 의 분기형 알콕시기, 탄소수 3 ∼ 10 의 고리형 알콕시기, 및 할로겐 원자를 들 수 있다. 페놀성 방향 고리가 알케닐기 이외의 치환기를 갖는 경우, 1 개의 페놀성 방향 고리에 직접 결합하고 있는 당해 치환기의 수는, 예를 들어 1 ∼ 2 이다. 또, 당해 치환기의 페놀성 방향 고리에 대한 결합 위치도 특별히 한정되지 않는다.The phenolic aromatic ring may have a substituent other than the alkenyl group. Such substituents include, for example, a linear alkyl group with 1 to 10 carbon atoms, a branched alkyl group with 3 to 10 carbon atoms, a cyclic alkyl group with 3 to 10 carbon atoms, a linear alkoxy group with 1 to 10 carbon atoms, and a C3 group. Examples include a branched alkoxy group having from 10 to 10 carbon atoms, a cyclic alkoxy group having from 3 to 10 carbon atoms, and a halogen atom. When the phenolic aromatic ring has a substituent other than an alkenyl group, the number of substituents directly bonded to one phenolic aromatic ring is, for example, 1 to 2. Additionally, the bonding position of the substituent to the phenolic aromatic ring is not particularly limited.

알케닐페놀은, 1 개 이상의 알케닐기가 페놀성 방향 고리에 직접 결합한 구조를 1 개 또는 복수 가져도 된다. 본 실시형태의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 알케닐페놀은, 1 개 이상의 알케닐기가 페놀성 방향 고리에 직접 결합한 구조를 1 개 또는 2 개 갖는 것이 바람직하고, 2 개 갖는 것이 바람직하다.The alkenylphenol may have one or more structures in which one or more alkenyl groups are directly bonded to a phenolic aromatic ring. From the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment, the alkenylphenol preferably has one or two structures in which one or more alkenyl groups are directly bonded to a phenolic aromatic ring, and two It is desirable to have it.

알케닐페놀은, 예를 들어, 하기 식 (1A) 또는 하기 식 (1B) 로 나타내는 화합물이어도 된다.The alkenylphenol may be, for example, a compound represented by the following formula (1A) or the following formula (1B).

[화학식 14][Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

식 (1A) 중, Rxa 는, 각각 독립적으로, 탄소수 2 ∼ 8 의 알케닐기를 나타내고, Rxb 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타내고, Rxc 는, 각각 독립적으로, 탄소수 4 ∼ 12 의 방향 고리를 나타내고, Rxc 는 벤젠 고리와 축합 구조를 형성해도 되고, Rxc 는 존재하고 있어도 되고, 존재하고 있지 않아도 되며, A 는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기, 탄소수 7 ∼ 16 의 아르알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴렌기, 플루오레닐리덴기, 술포닐기, 산소 원자, 황 원자, 또는 직접 결합 (단결합) 을 나타내고, Rxc 가 존재하지 않는 경우에는, 1 개의 벤젠 고리에 Rxa 및/또는 Rxb 의 기를 2 개 이상 가져도 된다.In formula (1A), Rxa each independently represents an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, Rxb each independently represents an alkyl group or a hydrogen atom having 1 to 10 carbon atoms, and Rxc each independently represents an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms. Represents an aromatic ring with 4 to 12 carbon atoms, Rxc may form a condensed structure with a benzene ring, Rxc may or may not be present, and A is an alkylene group with 1 to 6 carbon atoms, or an alkylene group with 7 to 16 carbon atoms. It represents an aralkylene group, an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, a fluorenylidene group, a sulfonyl group, an oxygen atom, a sulfur atom, or a direct bond (single bond), and when Rxc is not present, Rxa is attached to one benzene ring. and/or may have two or more groups of Rxb.

[화학식 15][Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

식 (1B) 중, Rxd 는, 각각 독립적으로, 탄소수 2 ∼ 8 의 알케닐기를 나타내고, Rxe 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타내고, Rxf 는, 탄소수 4 ∼ 12 의 방향 고리를 나타내고, Rxf 는 벤젠 고리와 축합 구조를 형성해도 되고, Rxf 는 존재하고 있어도 되고, 존재하고 있지 않아도 되며, Rxf 가 존재하지 않는 경우에는, 1 개의 벤젠 고리에 Rxd 및/또는 Rxe 의 기를 2 개 이상 가져도 된다.In formula (1B), Rxd each independently represents an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, Rxe each independently represents an alkyl group or hydrogen atom having 1 to 10 carbon atoms, and Rxf represents an alkenyl group having 4 to 12 carbon atoms. Represents an aromatic ring, Rxf may form a condensed structure with a benzene ring, Rxf may or may not be present, and if Rxf does not exist, Rxd and/or Rxe groups may be attached to one benzene ring. You may have two or more.

식 (1A) 및 식 (1B) 중, Rxa 및 Rxd 로서 나타내는 탄소수 2 ∼ 8 의 알케닐기로는, 예를 들어, 비닐기, 알릴기, 프로페닐기, 부테닐기, 헥세닐기 등을 들 수 있다. Rxa 및 Rxd 는, 알릴기 및/또는 프로페닐기인 것이 바람직하고, 알릴기인 것이 더욱 바람직하다.In formula (1A) and formula (1B), alkenyl groups having 2 to 8 carbon atoms represented by Rxa and Rxd include, for example, vinyl group, allyl group, propenyl group, butenyl group, and hexenyl group. . Rxa and Rxd are preferably allyl groups and/or propenyl groups, and more preferably allyl groups.

식 (1A) 및 식 (1B) 중, Rxc 및 Rxf 로 나타내는 기가 벤젠 고리와 축합 구조를 형성하고 있는 경우로는, 예를 들어, 페놀성 방향 고리로서, 나프톨 고리를 포함하는 화합물을 들 수 있다. 또, 식 (1A) 및 식 (1B) 중, Rxc 및 Rxf 로 나타내는 기가 존재하지 않는 경우로는, 예를 들어, 페놀성 방향 고리로서, 페놀 고리를 포함하는 화합물을 들 수 있다.In Formula (1A) and Formula (1B), when the groups represented by Rxc and Rxf form a condensed structure with a benzene ring, for example, a compound containing a naphthol ring as a phenolic aromatic ring can be mentioned. . Moreover, in Formula (1A) and Formula (1B), examples of cases in which the groups represented by Rxc and Rxf do not exist include compounds containing a phenol ring as the phenolic aromatic ring.

식 (1A) 및 식 (1B) 중, Rxb 및 Rxe 로서 나타내는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기 등의 직사슬형 알킬기, 이소프로필기, 이소부틸기, tert-부틸기 등의 분기형 알킬기를 들 수 있다.In formulas (1A) and (1B), the alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms represented by Rxb and Rxe include, for example, linear alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, and hexyl groups. , branched alkyl groups such as isopropyl group, isobutyl group, and tert-butyl group.

식 (1A) 중, A 로서 나타내는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 프로필렌기를 들 수 있다. A 로서 나타내는 탄소수 7 ∼ 16 의 아르알킬렌기로는, 예를 들어, 식 : -CH2-Ar-CH2-, -CH2-CH2-Ar-CH2-CH2-, 또는 식 : -CH2-Ar-CH2-CH2- (식 중, Ar 은, 페닐렌기, 나프틸렌기, 또는 비페닐렌기를 나타낸다) 로 나타내는 기를 들 수 있다. A 로서 나타내는 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴렌기로는, 예를 들어, 페닐렌 고리를 들 수 있다.In formula (1A), examples of the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms represented by A include methylene group, ethylene group, trimethylene group, and propylene group. Examples of the aralkylene group having 7 to 16 carbon atoms represented by A include the formula: -CH 2 -Ar-CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -Ar-CH 2 -CH 2 -, or the formula: - A group represented by CH 2 -Ar-CH 2 -CH 2 - (wherein Ar represents a phenylene group, a naphthylene group, or a biphenylene group) can be mentioned. Examples of the arylene group having 6 to 10 carbon atoms represented by A include a phenylene ring.

식 (1B) 로 나타내는 화합물은, 본 실시형태의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, Rxf 가 벤젠 고리인 것 (디하이드록시나프탈렌 골격을 포함하는 화합물) 이 바람직하다.The compound represented by formula (1B) is preferably one in which Rxf is a benzene ring (a compound containing a dihydroxynaphthalene skeleton) from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment.

알케닐페놀은, 상용성을 한층 향상시키는 관점에서, 비스페놀류의 2 개의 페놀성 방향 고리에 각각 1 개의 알케닐기가 결합한 알케닐비스페놀인 것이 바람직하다. 동일한 관점에서, 알케닐비스페놀은, 비스페놀류의 2 개의 페놀성 방향 고리에 각각 1 개의 알릴기가 결합한 디알릴비스페놀 및/또는 비스페놀류의 2 개의 페놀성 방향 고리에 각각 1 개의 프로페닐기가 결합한 디프로페닐비스페놀인 것이 바람직하다.From the viewpoint of further improving compatibility, the alkenyl phenol is preferably an alkenyl bisphenol in which one alkenyl group is bonded to two phenolic aromatic rings of bisphenols. From the same point of view, alkenylbisphenol refers to diallylbisphenol, in which one allyl group is bonded to each of two phenolic aromatic rings of bisphenols, and/or dipro, in which one propenyl group is bonded to each of two phenolic aromatic rings of bisphenols. Phenylbisphenol is preferred.

디알릴비스페놀로는, 예를 들어, o,o'-디알릴비스페놀 A (DABPA (상품명), 다이와 화성 공업 (주)), o,o'-디알릴비스페놀 F, o,o'-디알릴비스페놀 S, o,o'-디알릴비스페놀플루오렌을 들 수 있다. 디프로페닐비스페놀로는, 예를 들면, o,o'-디프로페닐비스페놀 A (PBA01 (상품명), 군에이 화학 공업 (주)), o,o'-디프로페닐비스페놀 F, o,o'-디프로페닐비스페놀 S, 및 o,o'-디프로페닐비스페놀플루오렌을 들 수 있다.Examples of diallylbisphenol include o,o'-diallylbisphenol A (DABPA (trade name), Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.), o,o'-diallylbisphenol F, o,o'-diallyl Bisphenol S, o,o'-diallylbisphenol fluorene can be mentioned. Dipropenylbisphenol includes, for example, o,o'-dipropenylbisphenol A (PBA01 (brand name), Gun A Chemical Industry Co., Ltd.), o,o'-dipropenylbisphenol F, o,o '-dipropenylbisphenol S, and o,o'-dipropenylbisphenolfluorene.

알케닐페놀의 1 분자당 평균 페놀기수는, 본 실시형태의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 1 이상 3 미만인 것이 바람직하고, 1.5 이상 2.5 이하인 것이 보다 바람직하다. 평균 페놀기수는, 이하의 식에 의해 산출된다.The average number of phenol groups per molecule of alkenylphenol is preferably 1 to 3, more preferably 1.5 to 2.5, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment. The average number of phenol groups is calculated by the following formula.

[수학식 1][Equation 1]

Figure pct00016
Figure pct00016

식 중, Ai 는, 분자 중에 i 개의 페놀기를 갖는 알케닐페놀의 페놀기수를 나타내고, Xi 는, 분자 중에 i 개의 페놀기를 갖는 알케닐페놀의 알케닐페놀 전체에서 차지하는 비율을 나타내고, X1+X2 +…Xn = 1 이다.In the formula, Ai represents the number of phenol groups of the alkenylphenol having i phenol groups in the molecule, Xi represents the proportion of the alkenylphenol having i phenol groups in the molecule to all alkenylphenols, and X 1 + X 2 +… X n = 1.

·에폭시 변성 실리콘·Epoxy modified silicone

에폭시 변성 실리콘은, 에폭시기 함유기에 의해 변성된 실리콘 화합물 또는 수지이면 특별히 한정되지 않는다. 열경화성 화합물 (B2) 또는 중합체 (B2) 는, 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위를 함유함으로써, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 우수한 저열팽창성 및 내약품성을 발현할 수 있다.Epoxy-modified silicone is not particularly limited as long as it is a silicone compound or resin modified with an epoxy group-containing group. By containing a structural unit derived from epoxy-modified silicone, the thermosetting compound (B2) or polymer (B2) has a better mold release effect for discharging cutting chips and can exhibit excellent low thermal expansion and chemical resistance.

실리콘 화합물 또는 수지는, 실록산 결합이 반복 형성된 폴리실록산 골격을 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 폴리실록산 골격은, 직사슬형의 골격이어도 되고, 고리형의 골격이어도 되고, 망목상의 골격이어도 된다. 이 중에서도, 본 실시형태의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 폴리실록산 골격은 직사슬형의 골격인 것이 바람직하다.The silicone compound or resin is not particularly limited as long as it is a compound having a polysiloxane skeleton in which siloxane bonds are repeatedly formed. The polysiloxane skeleton may be a linear skeleton, a cyclic skeleton, or a mesh-like skeleton. Among these, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment, it is preferable that the polysiloxane skeleton is a linear skeleton.

에폭시기 함유기로는, 예를 들어, 하기 식 (a1) 로 나타내는 기를 들 수 있다.Examples of the epoxy group-containing group include group represented by the following formula (a1).

[화학식 16][Formula 16]

Figure pct00017
Figure pct00017

식 (a1) 중, R0 은, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기 (예를 들면, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬렌기), 아릴렌기 또는 아르알킬렌기를 나타내고, X 는, 하기 식 (a2) 로 나타내는 1 가의 기 또는 하기 식 (a3) 으로 나타내는 1 가의 기를 나타낸다.In formula (a1), R 0 each independently represents a single bond, an alkylene group (for example, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms such as a methylene group, ethylene group, or propylene group), an arylene group, or an aralkylene group. and X represents a monovalent group represented by the following formula (a2) or a monovalent group represented by the following formula (a3).

[화학식 17][Formula 17]

Figure pct00018
Figure pct00018

[화학식 18][Formula 18]

Figure pct00019
Figure pct00019

에폭시 변성 실리콘은, 140 ∼ 250 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는 것이 바람직하고, 145 ∼ 245 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는 것이 보다 바람직하고, 150 ∼ 240 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는 것이 더욱 바람직하다. 에폭시 변성 실리콘은, 상기 범위 내에 있는 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘을 함유함으로써, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 수지 조성물 중에 있어서의 다른 수지 또는 화합물과의 상용성, 저열팽창성 및 내약품성을 균형있게 한층 더 향상시킬 수 있는 경향이 있다.The epoxy-modified silicone preferably contains epoxy-modified silicone with an epoxy equivalent of 140 to 250 g/mol, more preferably contains epoxy-modified silicone with an epoxy equivalent of 145 to 245 g/mol, and 150 to 250 g/mol. It is more preferred to contain an epoxy modified silicone with an epoxy equivalent weight of 240 g/mol. By containing epoxy-modified silicone having an epoxy equivalent within the above range, the epoxy-modified silicone has a more excellent mold release effect for discharging cutting chips, compatibility with other resins or compounds in the resin composition, low thermal expansion property, and resistance. There is a tendency to further improve drug properties in a balanced manner.

에폭시 변성 실리콘은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 수지 조성물 중에 있어서의 다른 수지 또는 화합물과의 상용성, 저열팽창성 및 내약품성을 균형있게 한층 더 향상시킬 수 있는 관점에서, 2 종 이상의 에폭시 변성 실리콘을 함유하는 것이 바람직하다. 이 경우, 2 종 이상의 에폭시 변성 실리콘은, 각각 상이한 에폭시 당량을 갖는 것이 바람직하고, 50 ∼ 350 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘 (저당량 에폭시 변성 실리콘) 과, 400 ∼ 4000 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘 (고당량 에폭시 변성 실리콘) 을 함유하는 것이 보다 바람직하고, 140 ∼ 250 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘과, 450 ∼ 3000 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는 것이 더욱 바람직하다.There are two types of epoxy-modified silicone, from the viewpoint of having a superior mold release effect for discharging cutting chips and being able to further improve compatibility with other resins or compounds in the resin composition, low thermal expansion, and chemical resistance in a balanced manner. It is preferable to contain the above epoxy modified silicone. In this case, the two or more types of epoxy-modified silicones preferably have different epoxy equivalents, and include epoxy-modified silicone (low-equivalent epoxy-modified silicone) having an epoxy equivalent of 50 to 350 g/mol and 400 to 4000 g/mol. It is more preferable to contain an epoxy-modified silicone (high-equivalent epoxy-modified silicone) having an epoxy equivalent weight of It is more preferable to contain epoxy-modified silicone.

에폭시 변성 실리콘이 2 종 이상의 에폭시 변성 실리콘을 함유하는 경우, 에폭시 변성 실리콘의 평균 에폭시 당량은, 140 ∼ 3000 g/mol 인 것이 바람직하고, 250 ∼ 2000 g/mol 인 것이 보다 바람직하고, 300 ∼ 1000 g/mol 인 것이 더욱 바람직하다. 평균 에폭시 당량은, 이하의 식에 의해 산출된다.When the epoxy modified silicone contains two or more types of epoxy modified silicone, the average epoxy equivalent weight of the epoxy modified silicone is preferably 140 to 3000 g/mol, more preferably 250 to 2000 g/mol, and 300 to 1000 g/mol. It is more preferable that it is g/mol. The average epoxy equivalent is calculated by the following formula.

[수학식 2][Equation 2]

Figure pct00020
Figure pct00020

식 중, Ei 는, 2 종 이상의 에폭시 변성 실리콘 중 1 종의 에폭시 변성 실리콘의 에폭시 당량을 나타내고, Wi 는, 에폭시 변성 실리콘 B 중의 상기 에폭시 변성 실리콘의 비율을 나타내고, W1+W2+…Wn = 1 이다.In the formula, Ei represents the epoxy equivalent of one type of epoxy-modified silicone among two or more types of epoxy-modified silicone, Wi represents the ratio of the epoxy-modified silicone in epoxy-modified silicone B, and W 1 + W 2 + . W n = 1.

에폭시 변성 실리콘은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 수지 조성물 중에 있어서의 다른 수지 또는 화합물과의 상용성, 저열팽창성 및 내약품성을 균형있게 한층 더 향상시킬 수 있는 관점에서, 하기 식 (2) 로 나타내는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는 것이 바람직하다.Epoxy-modified silicone has a superior mold release effect for discharging cutting chips, and from the viewpoint of being able to further improve compatibility with other resins or compounds in the resin composition, low thermal expansion property, and chemical resistance in a balanced manner, the formula is as follows: It is preferable to contain epoxy-modified silicone represented by (2).

[화학식 19][Formula 19]

Figure pct00021
Figure pct00021

식 (2) 중, R1 은, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기, 아릴렌기 또는 아르알킬렌기를 나타내고, R2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n 은 0 ∼ 100 의 정수를 나타낸다.In formula (2), R 1 each independently represents a single bond, an alkylene group, an arylene group or an aralkylene group, R 2 each independently represents an alkyl group or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is Represents an integer from 0 to 100.

식 (2) 중, R1 로 나타내는 알킬렌기는, 직사슬형, 분기형 또는 고리형 중 어느 것이어도 된다. 알킬렌기의 탄소수는, 바람직하게는 1 ∼ 12 이고, 보다 바람직하게는 1 ∼ 4 이다. 알킬렌기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기 또는 프로필렌기를 들 수 있다. 이들 중에서도, R1 은, 프로필렌기인 것이 바람직하다.In formula (2), the alkylene group represented by R 1 may be linear, branched, or cyclic. The carbon number of the alkylene group is preferably 1 to 12, and more preferably 1 to 4. Examples of the alkylene group include methylene group, ethylene group, or propylene group. Among these, it is preferable that R 1 is a propylene group.

식 (2) 중, R1 로 나타내는 아릴렌기는, 치환기를 가지고 있어도 된다. 아릴렌기의 탄소수로는, 바람직하게는 6 ∼ 40 이고, 보다 바람직하게는 6 ∼ 20 이다. 아릴렌기로는, 예를 들어, 페닐렌기, 시클로헥실페닐렌기, 하이드록시페닐렌기, 시아노페닐렌기, 니트로페닐렌기, 나프틸릴렌기, 비페닐렌기, 안트릴렌기, 피레닐렌기, 및 플루오레닐렌기 등을 들 수 있다. 이들 기에는, 에테르 결합, 케톤 결합, 혹은 에스테르 결합을 포함하고 있어도 된다.In formula (2), the arylene group represented by R 1 may have a substituent. The number of carbon atoms of the arylene group is preferably 6 to 40, and more preferably 6 to 20. Examples of arylene groups include phenylene group, cyclohexylphenylene group, hydroxyphenylene group, cyanophenylene group, nitrophenylene group, naphthylylene group, biphenylene group, anthrylene group, pyrenylene group, and fluorescein. Nylene group, etc. can be mentioned. These groups may contain an ether bond, a ketone bond, or an ester bond.

식 (2) 중, R1 로 나타내는 아르알킬렌기의 탄소수는, 바람직하게는 7 ∼ 30 이고, 보다 바람직하게는 7 ∼ 13 이다. 아르알킬렌기로는, 예를 들어, 하기 식 (X-I) 로 나타내는 기를 들 수 있다.In formula (2), the carbon number of the aralkylene group represented by R 1 is preferably 7 to 30, more preferably 7 to 13. Examples of the aralkylene group include a group represented by the following formula (XI).

[화학식 20][Formula 20]

Figure pct00022
Figure pct00022

식 (X-I) 중, * 는 결합손을 나타낸다.In formula (X-I), * represents a bond.

식 (2) 중, R1 로 나타내는 기는, 추가로 치환기를 가지고 있어도 되고, 치환기로는, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬형 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 분기형 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 고리형 알킬기, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬형 알콕시기, 탄소수 3 ∼ 10 의 분기형 알콕시기, 및 탄소수 3 ∼ 10 의 고리형 알콕시기를 들 수 있다.In formula (2), the group represented by R 1 may further have a substituent, and examples of the substituent include a linear alkyl group with 1 to 10 carbon atoms, a branched alkyl group with 3 to 10 carbon atoms, and a C3 to 10 alkyl group. Examples include a cyclic alkyl group of 10 carbon atoms, a linear alkoxy group of 1 to 10 carbon atoms, a branched alkoxy group of 3 to 10 carbon atoms, and a cyclic alkoxy group of 3 to 10 carbon atoms.

식 (2) 중, R2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 페닐기를 나타낸다. 상기 알킬기 및 페닐기는, 치환기를 가져도 된다. 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기는, 직사슬형, 분기형 또는 고리형 중 어느 것이어도 된다. 알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 이소프로필기, 이소부틸기 및 시클로헥실기를 들 수 있다. 이들 중에서도, R2 는, 메틸기 또는 페닐기인 것이 바람직하다.In formula (2), R 2 each independently represents an alkyl group or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms. The alkyl group and phenyl group may have a substituent. The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, isopropyl group, isobutyl group, and cyclohexyl group. Among these, R 2 is preferably a methyl group or a phenyl group.

식 (2) 중, n 은 0 ∼ 100 의 정수이다. 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 수지 조성물 중에 있어서의 다른 수지 또는 화합물과의 상용성, 저열팽창성 및 내약품성을 균형있게 한층 더 향상시킬 수 있는 관점에서, n 의 하한값은 1 이상인 것이 바람직하다. 마찬가지로, n 의 상한값은, 바람직하게는 50 이하이고, 보다 바람직하게는 30 이하이고, 더욱 바람직하게는 20 이하이다.In formula (2), n is an integer of 0 to 100. The lower limit of n should be 1 or more from the viewpoint of superior mold release action for discharging cutting chips and further improved compatibility with other resins or compounds in the resin composition, low thermal expansion, and chemical resistance in a balanced manner. desirable. Likewise, the upper limit of n is preferably 50 or less, more preferably 30 or less, and still more preferably 20 or less.

에폭시 변성 실리콘은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 수지 조성물 중에 있어서의 다른 수지 또는 화합물과의 상용성, 저열팽창성, 및 내약품성을 균형있게 한층 더 향상시키는 관점에서, 식 (2) 로 나타내는 에폭시 변성 실리콘을 2 종류 이상 함유하는 것이 바람직하다. 이 경우, 2 종류 이상 함유하는 에폭시 변성 실리콘은, 각각 상이한 n 을 갖는 것이 바람직하고, 식 (2) 에 있어서 n 이 1 ∼ 2 인 에폭시 변성 실리콘과, 식 (2) 에 있어서 n 이 5 ∼ 20 인 에폭시 변성 실리콘을 함유하는 것이 보다 바람직하다.Epoxy-modified silicone has a superior mold release effect for discharging cutting chips, and from the viewpoint of further improving compatibility with other resins or compounds in the resin composition, low thermal expansion, and chemical resistance in a balanced manner, it is used in formula (2) ) It is preferable to contain two or more types of epoxy-modified silicone represented by . In this case, it is preferable that the two or more types of epoxy-modified silicone contained each have a different n, and that n is 1 to 2 in the formula (2), and epoxy-modified silicone in which n is 5 to 20 in the formula (2). It is more preferable to contain phosphorus epoxy modified silicone.

에폭시 변성 실리콘의 1 분자당 평균 에폭시기수는, 본 실시형태의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 1 이상 3 미만인 것이 바람직하고, 1.5 이상 2.5 이하인 것이 보다 바람직하다. 평균 에폭시기수는, 이하의 식에 의해 산출된다.The average number of epoxy groups per molecule of the epoxy-modified silicone is preferably 1 to 3, and more preferably 1.5 to 2.5, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment. The average epoxy group number is calculated by the following formula.

[수학식 3][Equation 3]

Figure pct00023
Figure pct00023

식 중, Bi 는, 분자 중에 i 개의 에폭시기를 갖는 에폭시 변성 실리콘의 에폭시기수를 나타내고, Yi 는, 분자 중에 i 개의 에폭시기를 갖는 에폭시 변성 실리콘의 에폭시 변성 실리콘 전체에서 차지하는 비율을 나타내고, Y1+Y2+…Yn = 1 이다.In the formula, Bi represents the epoxy group number of the epoxy-modified silicone having i epoxy groups in the molecule, Yi represents the ratio of the epoxy-modified silicone having i epoxy groups in the molecule to the entire epoxy-modified silicon, and Y 1 + Y 2 +… Y n = 1.

저당량 에폭시 변성 실리콘 및 고당량 에폭시 변성 실리콘은, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 조제한 조제품을 사용해도 된다. 저당량 에폭시 변성 실리콘의 시판품으로는, 신에츠 화학 공업 (주) 제조의 「X-22-163」 (관능기 당량 : 200 g/mol) 등을 들 수 있다. 고당량 에폭시 변성 실리콘의 시판품으로는, 신에츠 화학 공업 (주) 제조의 「KF-105」 (관능기 당량 : 490 g/mol), 「X-22-163A」 (관능기 당량 : 1000 g/mol), 및 「X-22-163B」 (관능기 당량 : 1800 g/mol) 등을 들 수 있다.Low-equivalent epoxy-modified silicone and high-equivalent epoxy-modified silicone may be commercially available products or prepared products prepared by known methods. Commercially available low-equivalent epoxy-modified silicone products include "X-22-163" (functional group equivalent weight: 200 g/mol) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Commercially available products of high-equivalent epoxy-modified silicone include “KF-105” (functional group equivalent: 490 g/mol), “X-22-163A” (functional group equivalent: 1000 g/mol) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and “X-22-163B” (functional group equivalent: 1800 g/mol).

·에폭시 화합물·Epoxy compound

에폭시 화합물은, 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물이며, 보다 구체적으로는, 폴리실록산 골격을 갖지 않는 에폭시 화합물이다. 열경화성 화합물 (B2) 또는 중합체 (B2) 는, 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위를 함유함으로써, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 우수한 상용성, 내약품성, 동박 밀착성 및 절연 신뢰성을 발현할 수 있다.An epoxy compound is an epoxy compound other than epoxy modified silicone, and more specifically, an epoxy compound that does not have a polysiloxane skeleton. By containing a structural unit derived from an epoxy compound, the thermosetting compound (B2) or polymer (B2) has a superior mold release effect for discharging cutting chips and exhibits excellent compatibility, chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability. You can.

에폭시 화합물로는, 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 에폭시 화합물은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 한층 우수한 상용성, 내약품성, 동박 밀착성, 및 절연 신뢰성을 발현할 수 있는 관점에서, 1 분자 중에 에폭시기를 2 개 갖는 2 관능 에폭시 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.The epoxy compound is not particularly limited as long as it is an epoxy compound other than epoxy-modified silicone. The epoxy compound is a bifunctional epoxy compound having two epoxy groups in one molecule from the viewpoint of superior mold release action for discharging cutting chips and excellent compatibility, chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability. It is preferable to contain.

2 관능 에폭시 화합물로는, 예를 들면, 비스페놀형 에폭시 수지 (예를 들어, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 E 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 및 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지), 페놀류 노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지), 트리스페놀메탄형 에폭시 수지, 아르알킬형 에폭시 수지, 비페닐 골격을 함유하는 비페닐형 에폭시 수지, 나프탈렌 골격을 함유하는 나프탈렌형 에폭시 수지, 디하이드로안트라센 골격을 함유하는 안트라센형 에폭시 수지, 글리시딜에스테르형 에폭시 수지, 폴리올형 에폭시 수지, 이소시아누레이트 고리 함유 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 플루오렌 골격을 함유하는 플루오렌형 에폭시 수지, 비스페놀 A 형 구조 단위와 탄화수소계 구조 단위로 이루어지는 에폭시 수지 ; 이들의 할로겐 화합물을 들 수 있다. 이들 에폭시 화합물은, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다.Examples of bifunctional epoxy compounds include bisphenol-type epoxy resins (e.g., bisphenol A-type epoxy resins, bisphenol E-type epoxy resins, bisphenol F-type epoxy resins, bisphenol S-type epoxy resins, and bisphenol fluorene-type epoxy resins). resin), phenolic novolak-type epoxy resin (e.g., phenol novolak-type epoxy resin, bisphenol A novolak-type epoxy resin, cresol novolak-type epoxy resin), trisphenolmethane-type epoxy resin, aralkyl-type epoxy resin, Biphenyl-type epoxy resin containing a biphenyl skeleton, naphthalene-type epoxy resin containing a naphthalene skeleton, anthracene-type epoxy resin containing a dihydroanthracene skeleton, glycidyl ester-type epoxy resin, polyol-type epoxy resin, isocyanurate. epoxy resins containing a late ring, dicyclopentadiene-type epoxy resins, fluorene-type epoxy resins containing a fluorene skeleton, and epoxy resins composed of a bisphenol A-type structural unit and a hydrocarbon-based structural unit; These halogen compounds can be mentioned. These epoxy compounds are used individually or in combination of two or more types.

아르알킬형 에폭시 수지로는, 예를 들어, 하기 식 (b1) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Examples of the aralkyl type epoxy resin include a compound represented by the following formula (b1).

[화학식 21][Formula 21]

Figure pct00024
Figure pct00024

식 (b1) 중, Ar3 은, 각각 독립적으로, 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리를 나타내고, Ar4 는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 비페닐 고리를 나타내고, R3a 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 각 고리는 글리시딜옥시기 이외의 치환기 (예를 들면, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기) 를 가져도 된다.In formula (b1), Ar 3 each independently represents a benzene ring or a naphthalene ring, Ar 4 represents a benzene ring, a naphthalene ring or a biphenyl ring, and R 3a each independently represents a hydrogen atom or a methyl group. represents, and each ring may have a substituent other than a glycidyloxy group (for example, an alkyl group or a phenyl group having 1 to 5 carbon atoms).

비페닐형 에폭시 수지로는, 예를 들어, 하기 식 (b2) 로 나타내는 화합물 (화합물 b2) 을 들 수 있다.Examples of the biphenyl type epoxy resin include a compound (compound b2) represented by the following formula (b2).

[화학식 22][Formula 22]

Figure pct00025
Figure pct00025

식 (b2) 중, Ra 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다.In formula (b2), Ra each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom.

식 (b2) 중, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기는, 직사슬형, 분기형 또는 고리형 중 어느 것이어도 된다. 알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 이소프로필기, 이소부틸기 및 시클로헥실기를 들 수 있다.In formula (b2), the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, isopropyl group, isobutyl group, and cyclohexyl group.

비페닐형 에폭시 수지가 화합물 b2 인 경우, 비페닐형 에폭시 수지는, 알킬기인 Ra 의 수가 상이한 화합물 b2 의 혼합물의 형태여도 된다. 구체적으로는, 알킬기인 Ra 의 수가 상이한 비페닐형 에폭시 수지의 혼합물이 바람직하고, 알킬기인 Ra 의 수가 0 인 화합물 b2 와, 알킬기인 Ra 의 수가 4 인 화합물 b2 의 혼합물이 보다 바람직하다.When the biphenyl type epoxy resin is compound b2, the biphenyl type epoxy resin may be in the form of a mixture of compounds b2 with different numbers of Ra, which is an alkyl group. Specifically, a mixture of biphenyl-type epoxy resins having different numbers of Ra, which is an alkyl group, is preferable, and a mixture of compound b2, where the number of Ra, which is an alkyl group, is 0, and compound b2, where the number of Ra, which is an alkyl group, is 4, is more preferable.

나프탈렌형 에폭시 수지로는, 예를 들어, 하기 식 (b3) 으로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Examples of the naphthalene type epoxy resin include a compound represented by the following formula (b3).

[화학식 23][Formula 23]

Figure pct00026
Figure pct00026

식 (b3) 중, R3b 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 (예를 들어, 메틸기 또는 에틸기), 아르알킬기, 벤질기, 나프틸기 또는 글리시딜옥시기를 함유하는 나프틸기를 나타내고, n 은 0 이상의 정수 (예를 들어, 0 ∼ 2) 를 나타낸다.In formula (b3), R 3b is each independently a naph group containing a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group), an aralkyl group, a benzyl group, a naphthyl group, or a glycidyloxy group. It represents a til group, and n represents an integer of 0 or more (for example, 0 to 2).

상기 식 (b3) 으로 나타내는 화합물의 시판품으로는, 예를 들면, DIC 주식회사 제품의 「HP-4032」(상기 식 (b3) 에 있어서 n = 0), 「HP-4710」(상기 식 (b3) 에 있어서, n = 0 이며, R3b = 적어도 1 개의 글리시딜옥시기를 함유하는 나프틸메틸기) 등을 들 수 있다.Commercially available products of the compound represented by the above formula (b3) include, for example, “HP-4032” manufactured by DIC Corporation (n = 0 in the above formula (b3)) and “HP-4710” (the above formula (b3) where n = 0 and R 3b = a naphthylmethyl group containing at least one glycidyloxy group).

디시클로펜타디엔형 에폭시 수지로는, 예를 들어, 하기 식 (b4) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Examples of the dicyclopentadiene type epoxy resin include a compound represented by the following formula (b4).

[화학식 24][Formula 24]

Figure pct00027
Figure pct00027

식 (b4) 중, R3c 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 (예를 들면, 메틸기 또는 에틸기) 를 나타낸다.In formula (b4), R 3c each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group).

디시클로펜타디엔형 에폭시 수지는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 조제한 조제품을 사용해도 된다. 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지의 시판품으로는, 다이닛폰 잉크 화학 공업 주식회사 제품인 「EPICRON HP-7200L」, 「EPICRON HP-7200」, 「EPICRON HP-7200H」, 「EPICRON HP-7000HH」 등을 들 수 있다.As the dicyclopentadiene type epoxy resin, a commercial product may be used, or a preparation prepared by a known method may be used. Commercially available products of dicyclopentadiene type epoxy resin include “EPICRON HP-7200L,” “EPICRON HP-7200,” “EPICRON HP-7200H,” and “EPICRON HP-7000HH” manufactured by Dainippon Ink Chemical Industry Co., Ltd. there is.

비스페놀 A 형 구조 단위와 탄화수소계 구조 단위로 이루어지는 에폭시 수지로는, 예를 들어, 하기 식 (b5) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Examples of the epoxy resin consisting of a bisphenol A structural unit and a hydrocarbon-based structural unit include a compound represented by the following formula (b5).

[화학식 25][Formula 25]

Figure pct00028
Figure pct00028

식 (b5) 중, R1x 및 R2x 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R3x ∼ R6x 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기, 염소 원자 또는 브롬 원자를 나타내고, X 는, 에틸렌옥시에틸기, 디(에틸렌옥시)에틸기, 트리(에틸렌옥시)에틸기, 프로필렌옥시프로필기, 디(프로필렌옥시)프로필기, 트리 (프로필렌옥시)프로필기, 또는 탄소수 2 ∼ 15 의 알킬렌기 (예를 들면, 메틸렌기 또는 에틸렌기) 를 나타낸다.In formula (b5), R 1x and R 2x each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 3x to R 6x each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, a chlorine atom or a bromine atom, and , ethyleneoxyethyl group, di(ethyleneoxy)ethyl group, tri(ethyleneoxy)ethyl group, propyleneoxypropyl group, di(propyleneoxy)propyl group, tri(propyleneoxy)propyl group, or alkylene group having 2 to 15 carbon atoms (e.g. For example, methylene group or ethylene group).

이들 중에서도, 에폭시 화합물은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 한층 우수한 상용성, 내약품성, 동박 밀착성 및 절연 신뢰성을 발현할 수 있는 관점에서, 비스페놀형 에폭시 수지, 아르알킬형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지 및 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상인 것이 바람직하고, 비페닐형 에폭시 수지 및/또는 나프탈렌형 에폭시 수지인 것이 보다 바람직하다.Among these, epoxy compounds have a better mold release effect for discharging cutting chips, and from the viewpoint of being able to exhibit even better compatibility, chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability, bisphenol-type epoxy resins and aralkyl-type epoxy resins are preferred. , it is preferably at least one selected from the group consisting of biphenyl-type epoxy resin, naphthalene-type epoxy resin, and dicyclopentadiene-type epoxy resin, and more preferably it is biphenyl-type epoxy resin and/or naphthalene-type epoxy resin.

에폭시 화합물 1 분자당 평균 에폭시기수는, 본 실시형태의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 1 이상 3 미만인 것이 바람직하고, 1.5 이상 2.5 이하인 것이 보다 바람직하다. 평균 에폭시기수는, 이하의 식에 의해 산출된다.The average number of epoxy groups per molecule of the epoxy compound is preferably 1 to 3, and more preferably 1.5 to 2.5, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment. The average epoxy group number is calculated by the following formula.

[수학식 4][Equation 4]

Figure pct00029
Figure pct00029

식 중, Ci 는, 분자 중에 i 개의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물의 에폭시기수를 나타내고, Zi 는, 분자 중에 i 개의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물의 에폭시 화합물 전체에서 차지하는 비율을 나타내고, Z1+Z2+…Zn = 1 이다.In the formula, Ci represents the epoxy group number of the epoxy compound having i epoxy groups in the molecule, Zi represents the ratio of the epoxy compound having i epoxy groups in the molecule to the entire epoxy compound, and Z 1 + Z 2 + . Z n = 1.

·알케닐페놀 이외의 페놀 화합물·Phenol compounds other than alkenylphenol

열경화성 화합물 (B2) 또는 중합체 (B2) 는, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 한층 우수한 동박 밀착성을 발현할 수 있는 관점에서, 알케닐페놀 이외의 페놀 화합물 (이하, 간단히 「페놀 화합물」이라고도 부른다) 을 함유하는 것이 바람직하다.The thermosetting compound (B2) or polymer (B2) is a phenolic compound other than alkenylphenol (hereinafter simply referred to as “phenolic compound”) from the viewpoint of having a better mold release effect for discharging cutting chips and being able to exhibit even better copper foil adhesion. It is preferable to contain .

알케닐페놀 이외의 페놀 화합물로는, 비스페놀형 페놀 수지 (예를 들어, 비스페놀 A 형 수지, 비스페놀 E 형 수지, 비스페놀 F 형 수지, 비스페놀 S 형 수지 등), 페놀류 노볼락 수지 (예를 들어, 페놀 노볼락 수지, 나프톨 노볼락 수지, 크레졸 노볼락 수지 등), 글리시딜에스테르형 페놀 수지, 나프탈렌형 페놀 수지, 안트라센형 페놀 수지, 디시클로펜타디엔형 페놀 수지, 비페닐형 페놀 수지, 지환식 페놀 수지, 폴리올형 페놀 수지, 아르알킬형 페놀 수지, 페놀 변성 방향족 탄화수소 포름알데히드 수지, 플루오렌형 페놀 수지 등을 들 수 있다. 이들 페놀 화합물은, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다.Phenol compounds other than alkenylphenol include bisphenol-type phenol resins (e.g., bisphenol A-type resin, bisphenol E-type resin, bisphenol F-type resin, bisphenol S-type resin, etc.), phenol-type novolac resins (e.g., (phenol novolak resin, naphthol novolak resin, cresol novolak resin, etc.), glycidyl ester type phenol resin, naphthalene type phenol resin, anthracene type phenol resin, dicyclopentadiene type phenol resin, biphenyl type phenol resin, alicyclic Formula phenol resin, polyol type phenol resin, aralkyl type phenol resin, phenol-modified aromatic hydrocarbon formaldehyde resin, fluorene type phenol resin, etc. are mentioned. These phenol compounds are used individually or in combination of two or more types.

이들 중에서도, 페놀 화합물은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 한층 우수한 상용성 및 동박 밀착성을 발현할 수 있는 관점에서, 1 분자 중에 페놀성 수산기를 2 개 갖는 2 관능 페놀 화합물인 것이 바람직하다.Among these, the phenol compound is more excellent in the release action of discharging cutting chips and is a bifunctional phenolic compound having two phenolic hydroxyl groups in one molecule from the viewpoint of being able to exhibit even better compatibility and copper foil adhesion. desirable.

2 관능 페놀 화합물로는, 비스페놀, 비스크레졸, 플루오렌 골격을 갖는 비스페놀류 (예를 들어, 플루오렌 골격을 갖는 비스페놀, 플루오렌 골격을 갖는 비스크레졸 등), 비페놀 (예를 들어, p,p'-비페놀 등), 디하이드록시디페닐에테르 (예를 들어, 4,4'-디하이드록시디페닐에테르 등), 디하이드록시디페닐케톤 (예를 들어, 4,4'-디하이드록시디페닐케톤 등), 디하이드록시디페닐술파이드 (예를 들어, 4,4'-디하이드록시디페닐술파이드 등), 디하이드록시아렌 (예를 들어, 하이드로퀴논 등) 을 들 수 있다. 이들 2 관능 페놀 화합물은, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 2 관능 페놀 화합물은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 더욱 우수한 동박 밀착성을 발현할 수 있는 관점에서, 비스페놀, 비스크레졸, 및 플루오렌 골격을 갖는 비스페놀류로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 것이 바람직하고, 플루오렌 골격을 갖는 비스페놀류를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 상기와 동일한 관점에서, 플루오렌 골격을 갖는 비스페놀류로는, 비스크레졸플루오렌이 바람직하다.Bifunctional phenol compounds include bisphenol, biscresol, bisphenols with a fluorene skeleton (e.g., bisphenol with a fluorene skeleton, biscresol with a fluorene skeleton, etc.), biphenols (e.g., p, p'-biphenol, etc.), dihydroxydiphenyl ether (e.g., 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, etc.), dihydroxydiphenyl ketone (e.g., 4,4'-diphenyl ketone) hydroxydiphenyl ketone, etc.), dihydroxydiphenyl sulfide (e.g., 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, etc.), dihydroxyarene (e.g., hydroquinone, etc.) You can. These bifunctional phenol compounds are used individually or in combination of two or more types. Among these, bifunctional phenol compounds are more excellent in the mold release action of discharging cutting chips and can exhibit more excellent copper foil adhesion, so they are selected from the group consisting of bisphenol, biscresol, and bisphenols with a fluorene skeleton. It is preferable to include at least one selected type, and it is more preferable to include bisphenols having a fluorene skeleton. From the same viewpoint as above, bisphenol having a fluorene skeleton is preferably biscresol fluorene.

알케닐페놀 이외의 페놀 화합물은, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 알케닐페놀 이외의 페놀 화합물의 시판품으로는, 오사카 가스 화학 (주) 제조의 「BCF」 (비스크레졸플루오렌), 및 미츠이 화학 (주) 제조의 「비스페놀 M」등을 들 수 있다.Phenol compounds other than alkenylphenol may be commercially available or products manufactured by known methods may be used. Commercially available products of phenol compounds other than alkenyl phenol include “BCF” (biscresol fluorene) manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd. and “Bisphenol M” manufactured by Mitsui Chemical Co., Ltd.

·열경화성 화합물 (B2) 또는 중합체 (B2) 의 제조 방법· Method for producing thermosetting compound (B2) or polymer (B2)

열경화성 화합물 (B2) 또는 중합체 (B2) 의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 알케닐페놀과, 에폭시 변성 실리콘과, 에폭시 화합물과, 필요에 따라서 페놀 화합물을, 후술하는 중합 촉매의 존재하에서 반응시키는 공정에 의해 얻어진다. 당해 반응은, 유기 용매의 존재하에서 실시해도 된다. 보다 구체적으로는, 상기 공정에 있어서, 에폭시 변성 실리콘 및 에폭시 화합물이 갖는 에폭시기와 알케닐페놀이 갖는 수산기의 부가 반응과, 얻어진 부가 반응물이 갖는 수산기와 에폭시 변성 실리콘 및 에폭시 화합물이 갖는 에폭시기의 부가 반응 등이 진행됨으로써, 열경화성 화합물 (B2) 또는 중합체 (B2) 를 얻을 수 있다.The method for producing the thermosetting compound (B2) or polymer (B2) is not particularly limited, but includes, for example, alkenylphenol, epoxy-modified silicone, an epoxy compound, and, if necessary, a phenol compound in the presence of a polymerization catalyst described later. It is obtained by a process of reacting under The reaction may be carried out in the presence of an organic solvent. More specifically, in the above process, an addition reaction between the epoxy group of the epoxy modified silicone and the epoxy compound and the hydroxyl group of the alkenylphenol, and the addition reaction of the hydroxyl group of the obtained addition reactant with the epoxy group of the epoxy modified silicone and the epoxy compound. By proceeding with the above, thermosetting compound (B2) or polymer (B2) can be obtained.

열경화성 화합물 (B2) 또는 중합체 (B2) 의 제조에 있어서, 알케닐페놀의 배합량은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 한층 더 우수한 상용성을 발현할 수 있는 관점에서, 알케닐페놀, 에폭시 변성 실리콘, 에폭시 화합물 및 페놀 화합물의 합계 100 질량부에 대해 1 ∼ 50 질량부인 것이 바람직하고, 3 ∼ 40 질량부인 것이 보다 바람직하고, 5 ∼ 30 질량부인 것이 더욱 바람직하다.In the production of thermosetting compound (B2) or polymer (B2), the blending amount of alkenylphenol is selected from the viewpoint of superior mold release action for discharging cuttings and excellent compatibility. , it is preferably 1 to 50 parts by mass, more preferably 3 to 40 parts by mass, and still more preferably 5 to 30 parts by mass, relative to a total of 100 parts by mass of the epoxy modified silicone, epoxy compound, and phenol compound.

에폭시 변성 실리콘의 배합량은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 한층 우수한 저열팽창성 및 내약품성을 균형있게 발현할 수 있는 관점에서, 알케닐페놀, 에폭시 변성 실리콘, 에폭시 화합물 및 페놀 화합물의 합계 100 질량부에 대해 5 ∼ 70 질량부인 것이 바람직하고, 10 ∼ 60 질량부인 것이 보다 바람직하고, 20 ∼ 55 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The mixing amount of the epoxy-modified silicone is that of alkenylphenol, epoxy-modified silicone, epoxy compound, and phenolic compound from the viewpoint of better mold release action for discharging cutting chips and balanced expression of excellent low thermal expansion and chemical resistance. It is preferably 5 to 70 parts by mass, more preferably 10 to 60 parts by mass, and even more preferably 20 to 55 parts by mass, relative to a total of 100 parts by mass.

에폭시 화합물의 배합량은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 한층 우수한 상용성, 내약품성, 동박 밀착성 및 절연 신뢰성을 발현할 수 있는 관점에서, 알케닐페놀, 에폭시 변성 실리콘, 에폭시 화합물 및 페놀 화합물의 합계 100 질량부에 대해 5 ∼ 50 질량부인 것이 바람직하고, 10 ∼ 30 질량부인 것이 보다 바람직하고, 15 ∼ 25 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The mixing amount of the epoxy compound is alkenylphenol, epoxy-modified silicone, epoxy compound, and It is preferably 5 to 50 parts by mass, more preferably 10 to 30 parts by mass, and even more preferably 15 to 25 parts by mass, relative to a total of 100 parts by mass of the phenol compound.

페놀 화합물의 배합량은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 한층 우수한 동박 밀착성을 발현할 수 있는 관점에서, 알케닐페놀, 에폭시 변성 실리콘, 에폭시 화합물, 및 페놀 화합물의 합계 100 질량부에 대해 5 ∼ 30 질량부인 것이 바람직하고, 10 ∼ 30 질량부인 것이 보다 바람직하고, 15 ∼ 25 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The compounding amount of the phenolic compound is 100 parts by mass in total of alkenylphenol, epoxy-modified silicone, epoxy compound, and phenol compound from the viewpoint of being more excellent in the mold release action of discharging cutting chips and being able to express even more excellent copper foil adhesion. It is preferably 5 to 30 parts by mass, more preferably 10 to 30 parts by mass, and even more preferably 15 to 25 parts by mass.

또한, 열경화성 화합물 (B2) 또는 중합체 (B2) 가 페놀 화합물을 함유하지 않는 경우, 상기 서술한 알케닐페놀, 에폭시 변성 실리콘 및 에폭시 화합물의 각 배합량은 알케닐페놀, 에폭시 변성 실리콘 및 에폭시 화합물의 합계 100 질량부에 대한 배합량을 나타낸다.In addition, when the thermosetting compound (B2) or polymer (B2) does not contain a phenol compound, the respective blending amounts of the alkenylphenol, epoxy-modified silicone, and epoxy compound described above are the sum of the alkenylphenol, epoxy-modified silicone, and epoxy compound. The mixing amount is expressed per 100 parts by mass.

중합 촉매로는, 예를 들어, 이미다졸 촉매 및 인계 촉매를 들 수 있다. 이들 촉매는 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 이미다졸 촉매가 바람직하다.Examples of polymerization catalysts include imidazole catalysts and phosphorus-based catalysts. These catalysts are used individually or in combination of two or more types. Among these, imidazole catalysts are preferable.

이미다졸 촉매로는, 예를 들어, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐-4,5-디하이드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-하이드록시메틸이미다졸, 2,3-디하이드로-1H-피롤로[1,2-a]벤조이미다졸 (TBZ (상품명), 시코쿠 화성 공업 (주)), 및 2,4,5-트리페닐이미다졸 (TPIZ (상품명), 도쿄 화성 공업 (주)) 등의 이미다졸류를 들 수 있다. 이 중에서도 에폭시 성분의 단독 중합을 방지하는 관점에서, 2,3-디하이드로-1H-피롤로[1,2-a]벤조이미다졸 및/또는 2,4,5-트리페닐이미다졸이 바람직하다.Imidazole catalysts include, for example, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1- Cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2, 3-dihydro-1H-pyrrolo[1,2-a]benzoimidazole (TBZ (trade name), Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.), and 2,4,5-triphenylimidazole (TPIZ (trade name) and imidazoles from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.). Among these, from the viewpoint of preventing homopolymerization of the epoxy component, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo[1,2-a]benzimidazole and/or 2,4,5-triphenylimidazole are preferred. do.

중합 촉매 (바람직하게는 이미다졸 촉매) 의 사용량은, 예를 들어 알케닐페놀, 에폭시 변성 실리콘, 에폭시 화합물, 및 페놀 화합물의 합계 100 질량부에 대해 0.1 ∼ 10 질량부이다. 열경화성 화합물 (B2) 또는 중합체 (B2) 의 중량 평균 분자량을 크게 하는 관점에서, 중합 촉매의 사용량은 0.5 질량부 이상인 것이 바람직하고, 4.0 질량부 이하인 것이 보다 바람직하다.The amount of the polymerization catalyst (preferably an imidazole catalyst) used is, for example, 0.1 to 10 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of alkenylphenol, epoxy modified silicone, epoxy compound, and phenol compound. From the viewpoint of increasing the weight average molecular weight of the thermosetting compound (B2) or polymer (B2), the amount of the polymerization catalyst used is preferably 0.5 parts by mass or more, and more preferably 4.0 parts by mass or less.

유기 용제로는, 예를 들어, 극성 용제 또는 무극성 용제를 사용할 수 있다. 극성 용제로는, 예를 들어, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 ; 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 셀로솔브계 용매 ; 락트산에틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산이소아밀, 락트산에틸, 메톡시프로피온산메틸, 하이드록시이소부티르산메틸 등의 에스테르계 용매 ; 디메틸아세트아미드, 디메틸포름아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있다. 무극성 용제로는, 예를 들어, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소 등을 들 수 있다. 이들 용제는, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다.As an organic solvent, for example, a polar solvent or a non-polar solvent can be used. Examples of polar solvents include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; Cellosolve-based solvents such as propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate; Ester solvents such as ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, isoamyl acetate, ethyl lactate, methyl methoxypropionate, and methyl hydroxyisobutyrate; Amides such as dimethylacetamide and dimethylformamide can be mentioned. Examples of nonpolar solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. These solvents are used individually or in combination of two or more types.

유기 용제의 사용량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어, 알케닐페놀, 에폭시 변성 실리콘, 에폭시 화합물 및 페놀 화합물의 합계 100 질량부에 대해 50 ∼ 150 질량부이다.The amount of the organic solvent used is not particularly limited, but is, for example, 50 to 150 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of alkenylphenol, epoxy modified silicone, epoxy compound, and phenol compound.

가열 온도는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 100 ∼ 170 ℃ 여도 된다. 가열 시간도 또한 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어, 3 ∼ 8 시간이어도 된다.The heating temperature is not particularly limited, and may be, for example, 100 to 170°C. The heating time is also not particularly limited, and may be, for example, 3 to 8 hours.

본 공정에 있어서의 반응 종료 후, 관용되는 방법으로 반응 혼합물로부터, 열경화성 화합물 (B2) 또는 중합체 (B2) 를 분리 정제해도 된다.After completion of the reaction in this step, the thermosetting compound (B2) or polymer (B2) may be separated and purified from the reaction mixture by a commonly used method.

<열경화성 수지 (C)><Thermosetting resin (C)>

본 실시형태의 수지 조성물은, 본 실시형태에 관련된 열경화성 화합물 (B) 와는 상이한 열경화성 수지 (C) 를 포함한다. 열경화성 화합물 (B) 는, 실리콘계 화합물과의 상용성이 부족한 열경화성 수지에 대해서도 우수한 상용성을 발휘한다. 그 때문에, 열경화성 화합물 (B) 와 열경화성 수지 (C) 를 조합해도, 수지 조성물 내에서 각 성분이 분리되지 않고, 상용성이 우수하다.The resin composition of the present embodiment contains a thermosetting resin (C) different from the thermosetting compound (B) according to the present embodiment. The thermosetting compound (B) exhibits excellent compatibility even with thermosetting resins that lack compatibility with silicone-based compounds. Therefore, even if the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C) are combined, each component is not separated in the resin composition and has excellent compatibility.

열경화성 수지 (C) 는, 얻어지는 경화물의 저열팽창성, 내약품성, 및 동박 밀착성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 말레이미드 화합물, 시안산에스테르 화합물, 페놀 화합물, 알케닐 치환 나드이미드 화합물, 및 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 것이 바람직하고, 말레이미드 화합물, 시안산에스테르 화합물, 페놀 화합물, 및 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 것이 보다 바람직하다. 이들 열경화성 수지 (C) 는, 1 종 단독으로 또는 2 종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.The thermosetting resin (C) is composed of a maleimide compound, a cyanate ester compound, a phenol compound, an alkenyl substituted nadimide compound, and an epoxy resin from the viewpoint of further improving the low thermal expansion property, chemical resistance, and copper foil adhesion of the resulting cured product. It is preferable that it contains at least one type selected from the group consisting of a maleimide compound, a cyanate ester compound, a phenol compound, and an epoxy resin. These thermosetting resins (C) can be used individually or in appropriate combinations of two or more types.

열경화성 수지 (C) 의 함유량은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 우수한 내열성 및 내약품성을 발휘하는 점에서, 열경화성 화합물 (B) 와 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 50 ∼ 95 질량부인 것이 바람직하고, 55 ∼ 90 질량부인 것이 보다 바람직하고, 60 ∼ 85 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The content of the thermosetting resin (C) is based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C), since it has a superior mold release effect for discharging cutting chips and exhibits excellent heat resistance and chemical resistance. It is preferably 50 to 95 parts by mass, more preferably 55 to 90 parts by mass, and even more preferably 60 to 85 parts by mass.

·말레이미드 화합물·Maleimide compound

열경화성 수지 (C) 는, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 저열팽창성 및 내약품성을 한층 향상시키는 관점에서, 말레이미드 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 열경화성 수지 (C) 에 포함되는 말레이미드 화합물은, 열경화성 화합물 (B) 를 제조하기 위해 사용되는 말레이미드 화합물과 동일해도 되고, 상이해도 된다. 말레이미드 화합물은, 1 종 단독으로 또는 2 종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.The thermosetting resin (C) preferably contains a maleimide compound from the viewpoint of having a more excellent mold release effect for discharging cutting chips and further improving low thermal expansion and chemical resistance. The maleimide compound contained in the thermosetting resin (C) may be the same as or different from the maleimide compound used to produce the thermosetting compound (B). Maleimide compounds can be used individually or in appropriate combinations of two or more.

말레이미드 화합물로는, 1 분자 중에 1 개 이상의 말레이미드기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 1 분자 중에 말레이미드기를 1 개 갖는 모노말레이미드 화합물 (예를 들어, N-페닐말레이미드, N-하이드록시페닐말레이미드 등), 1 분자 중에 말레이미드기를 2 개 이상 갖는 폴리말레이미드 화합물 (예를 들어, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)-페닐)프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 비스(3,5-디메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 비스(3,5-디에틸-4-말레이미드페닐)메탄), m-페닐렌비스말레이미드, 4-메틸-1,3-페닐렌비스말레이미드, 1,6'-비스말레이미드-(2,2,4-트리메틸)헥산, 폴리테트라메틸렌옥사이드-비스(4-말레이미드벤조에이트), 하기 식 (4) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 식 (9) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 및 이들 말레이미드 화합물과 아민 화합물의 프레폴리머 등) 을 들 수 있다.The maleimide compound is not particularly limited as long as it is a compound having one or more maleimide groups in one molecule, for example, a monomaleimide compound having one maleimide group in one molecule (for example, N-phenylmaleimide , N-hydroxyphenylmaleimide, etc.), polymaleimide compounds having two or more maleimide groups in one molecule (e.g., bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis(4-(4) -maleimidephenoxy)-phenyl)propane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl)methane, bis(3,5-dimethyl-4-maleimidephenyl)methane, bis(3,5) -diethyl-4-maleimidephenyl)methane), m-phenylenebismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide, 1,6'-bismaleimide-(2,2,4 -trimethyl)hexane, polytetramethylene oxide-bis(4-maleimide benzoate), a maleimide compound represented by the following formula (4), a maleimide compound represented by the formula (9), and these maleimide compounds and amine compounds. prepolymer, etc.).

[화학식 26][Formula 26]

Figure pct00030
Figure pct00030

식 (4) 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n1 은 1 이상의 정수를 나타낸다.In formula (4), R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 or more.

n1 은, 1 이상이고, 바람직하게는 1 ∼ 100 이고, 보다 바람직하게는 1 ∼ 10 이다.n 1 is 1 or more, preferably 1 to 100, and more preferably 1 to 10.

[화학식 27][Formula 27]

Figure pct00031
Figure pct00031

식 (9) 중, R13 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n4 는 1 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.In formula (9), R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and n 4 represents an integer of 1 to 10.

말레이미드 화합물 중의 말레이미드기의 수는, 1 분자 중에 2 이상인 것이 바람직하다. 이들 말레이미드 화합물은, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 저열팽창성 및 내약품성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 말레이미드 화합물은, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)-페닐)프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 폴리테트라메틸렌옥사이드-비스(4-말레이미드벤조에이트), 식 (4) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 및 식 (9) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 것이 바람직하고, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)-페닐)프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 및 하기 식 (4) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the number of maleimide groups in a maleimide compound is 2 or more per molecule. These maleimide compounds are used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Among these, from the viewpoint of further improving low thermal expansion and chemical resistance, maleimide compounds include bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis(4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl) Propane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimide phenyl)methane, polytetramethylene oxide-bis(4-maleimide benzoate), maleimide compound represented by formula (4), and formula (9) It is preferable to include at least one selected from the group consisting of maleimide compounds represented by, bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis(4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl) It is more preferable that it contains at least one type selected from the group consisting of propane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl)methane, and a maleimide compound represented by the following formula (4).

말레이미드 화합물은, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 조제한 조제품을 사용해도 된다. 말레이미드 화합물의 시판품으로는, 케이·아이 화성 주식회사 제품인 「BMI-70」, 「BMI-80」, 「BMI-1000P」, 다이와 화성 공업 주식회사 제품인 「BMI-3000」, 「BMI-4000」, 「BMI-5100」, 「BMI-7000」, 및 「BMI-2300」, 그리고 닛폰 화약 주식회사 제품인「MIR-3000-70MT」등을 들 수 있다.As the maleimide compound, a commercial item may be used, or a crude product prepared by a known method may be used. Commercially available maleimide compounds include "BMI-70", "BMI-80", and "BMI-1000P" manufactured by K.I Chemical Co., Ltd., and "BMI-3000", "BMI-4000", and "BMI-3000" manufactured by Daiwa Chemical Industry Co., Ltd. Examples include "BMI-5100", "BMI-7000", and "BMI-2300", and "MIR-3000-70MT" manufactured by Nippon Explosives Co., Ltd.

말레이미드 화합물의 함유량은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 저열팽창성 및 내약품성을 한층 향상시키는 관점에서, 수지 고형분 100 질량부에 대해, 바람직하게는 1 ∼ 50 질량부이고, 5 ∼ 40 질량부인 것이 보다 바람직하고, 10 ∼ 40 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The content of the maleimide compound is preferably 1 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin solid content, from the viewpoint of superior mold release action for discharging cutting chips and further improving low thermal expansion and chemical resistance. It is more preferable that it is - 40 parts by mass, and it is still more preferable that it is 10 - 40 parts by mass.

·시안산에스테르 화합물·Cyanate ester compound

열경화성 수지 (C) 는, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 저열팽창성 및 내약품성을 한층 향상시키는 관점에서, 시안산에스테르 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The thermosetting resin (C) preferably contains a cyanate ester compound from the viewpoint of having a better mold release effect for discharging cutting chips and further improving low thermal expansion and chemical resistance.

시안산에스테르 화합물로는, 1 분자 중에 2 개 이상의 시아나토기 (시안산에스테르기) 를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 식 (5) 로 나타내는 화합물 등의 나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물, 식 (5) 로 나타내는 화합물을 제외한 식 (6) 으로 나타내는 화합물 등의 노볼락형 시안산에스테르 화합물, 비페닐아르알킬형 시안산에스테르, 디알릴비스페놀형 시안산에스테르 화합물, 비스(3,3-디메틸-4-시아나토페닐)메탄, 비스(4-시아나토페닐)메탄, 1,3-디시아나토벤젠, 1,4-디시아나토벤젠, 1,3,5-트리시아나토벤젠, 1,3-디시아나토나프탈렌, 1,4-디시아나토나프탈렌, 1,6-디시아나토나프탈렌, 1,8-디시아나토나프탈렌, 2,6-디시아나토나프탈렌, 2,7-디시아나토나프탈렌, 1,3,6-디시아나토나프탈렌, 4',4-디시아나토나프탈렌, 비스(4-시아나토페닐)에테르, 비스(4-시아나토페닐)티오에테르, 비스(4-시아나토페닐)술폰, 2,2-비스(4-시아나토페닐)프로판을 들 수 있다. 이들 시안산에스테르 화합물은, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 시안산에스테르 화합물은, 이들 중에서도, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 더욱 우수하고, 저열팽창성 및 내약품성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물 및/또는 노볼락형 시안산에스테르 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The cyanate ester compound is not particularly limited as long as it is a compound having two or more cyanato groups (cyanate ester groups) in one molecule. For example, naphthol aralkyl type cyanic acid such as the compound represented by formula (5). Ester compounds, novolak-type cyanate compounds such as compounds represented by formula (6) excluding the compounds represented by formula (5), biphenyl aralkyl-type cyanate esters, diallyl bisphenol-type cyanate ester compounds, bis(3) ,3-dimethyl-4-cyanatophenyl)methane, bis(4-cyanatophenyl)methane, 1,3-dicyanatobenzene, 1,4-dicyanatobenzene, 1,3,5-tricyanatobenzene , 1,3-dicyanatonaphthalene, 1,4-dicyanatonaphthalene, 1,6-dicyanatonaphthalene, 1,8-dicyanatonaphthalene, 2,6-dicyanatonaphthalene, 2,7- Dicyanatonaphthalene, 1,3,6-dicyanatonaphthalene, 4',4-dicyanatonaphthalene, bis(4-cyanatophenyl)ether, bis(4-cyanatophenyl)thioether, bis(4) -cyanatophenyl)sulfone and 2,2-bis(4-cyanatophenyl)propane. These cyanate ester compounds are used individually or in combination of two or more types. Among these, cyanate ester compounds are more excellent in the mold release action of discharging cutting chips, and from the viewpoint of further improving low thermal expansion and chemical resistance, naphthol aralkyl type cyanate compounds and/or novolac type cyanic acid are used. It is preferable to include an ester compound.

시안산에스테르 화합물은, 이들 중에서도, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 저열팽창성 및 내약품성을 한층 향상시키는 관점에서, 식 (5) 및/또는 식 (6) 으로 나타내는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 시안산에스테르 화합물은, 식 (5) 로 나타내는 화합물을 포함하는 것이, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 저열팽창성 및 내약품성을 더욱 향상시키고, 나아가, 더욱 우수한 난연성 및 저열팽창 계수를 갖기 때문에 보다 바람직하다.Among these, the cyanate ester compound is more excellent in the mold release action of discharging cutting chips, and from the viewpoint of further improving low thermal expansion and chemical resistance, it contains the compounds represented by formula (5) and/or formula (6). It is desirable. The cyanate ester compound containing the compound represented by formula (5) has a more excellent mold release effect for discharging cutting chips, further improves low thermal expansion and chemical resistance, and further has excellent flame retardancy and a low thermal expansion coefficient. It is more desirable because it has

[화학식 28][Formula 28]

Figure pct00032
Figure pct00032

식 (5) 중, R6 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n2 는 1 이상의 정수를 나타낸다. n2 는, 1 ∼ 20 의 정수인 것이 바람직하고, 1 ∼ 10 의 정수인 것이 보다 바람직하고, 1 ∼ 6 의 정수인 것이 더욱 바람직하다.In formula (5), R 6 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 2 represents an integer of 1 or more. n 2 is preferably an integer of 1 to 20, more preferably an integer of 1 to 10, and still more preferably an integer of 1 to 6.

[화학식 29][Formula 29]

Figure pct00033
Figure pct00033

식 (6) 중, Rya 는, 각각 독립적으로, 탄소수 2 ∼ 8 의 알케닐기 또는 수소 원자를 나타내고, Ryb 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타내고, Ryc 는, 각각 독립적으로, 탄소수 4 ∼ 12 의 방향 고리를 나타내고, Ryc 는 벤젠 고리와 축합 구조를 형성해도 되고, Ryc 는 존재하고 있어도 되고, 존재하지 않아도 되며, A1a 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기, 탄소수 7 ∼ 16 의 아르알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴렌기, 플루오레닐리덴기, 술포닐기, 산소 원자, 황 원자, 또는 단결합 (직접 결합) 을 나타내고, Ryc 가 존재하지 않는 경우에는, 1 개의 벤젠 고리에 Rya 및/또는 Ryb 의 기를 2 개 이상 가져도 된다. n 은, 1 ∼ 20 의 정수를 나타낸다.In formula (6), R ya each independently represents an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms or a hydrogen atom, R yb each independently represents an alkyl group or a hydrogen atom having 1 to 10 carbon atoms, and R yc is , each independently represents an aromatic ring having 4 to 12 carbon atoms, R yc may form a condensed structure with a benzene ring, R yc may or may not be present, and A 1a each independently represents a carbon number. Represents an alkylene group of 1 to 6 carbon atoms, an aralkylene group of 7 to 16 carbon atoms, an arylene group of 6 to 10 carbon atoms, a fluorenylidene group, a sulfonyl group, an oxygen atom, a sulfur atom, or a single bond (direct bond), R yc When not present, one benzene ring may have two or more R ya and/or R yb groups. n represents an integer from 1 to 20.

식 (6) 중, Rya 로서 나타내는 탄소수 2 ∼ 8 의 알케닐기로는, 예를 들어, 비닐기, 알릴기, 프로페닐기, 부테닐기, 헥세닐기 등을 들 수 있다.In formula (6), examples of the alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms represented by R ya include vinyl group, allyl group, propenyl group, butenyl group, and hexenyl group.

식 (6) 중, Ryb 로 나타내는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기 등의 직사슬형 알킬기 ; 이소프로필기, 이소부틸기, tert-부틸기 등의 분기형 알킬기를 들 수 있다.In formula (6), examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R yb include linear alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, and hexyl group; Branched alkyl groups such as isopropyl group, isobutyl group, and tert-butyl group can be mentioned.

식 (6) 중, A1a 로서 나타내는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 프로필렌기를 들 수 있다. 또, 식 (6) 중, A1a 로서 나타내는 탄소수 7 ∼ 16 의 아르알킬렌기로는, 예를 들어, 식 : -CH2-Ar-CH2-, -CH2-CH2-Ar-CH2-CH2-, 또는 식 : -CH2-Ar-CH2-CH2- (식 중, Ar 은, 페닐렌기, 나프틸렌기, 또는 비페닐렌기를 나타낸다) 로 나타내는 기를 들 수 있다. 또한, A1a 로서 나타내는 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴렌기로는, 예를 들어 페닐렌 고리를 들 수 있다.In formula (6), examples of the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms represented by A 1a include methylene group, ethylene group, trimethylene group, and propylene group. Moreover, in formula (6), the aralkylene group having 7 to 16 carbon atoms represented by A 1a includes, for example, the formula: -CH 2 -Ar-CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -Ar-CH 2 -CH 2 -, or a group represented by the formula: -CH 2 -Ar-CH 2 -CH 2 - (wherein Ar represents a phenylene group, naphthylene group, or biphenylene group). In addition, examples of the arylene group having 6 to 10 carbon atoms represented by A 1a include a phenylene ring.

식 (6) 중, n 은, 1 ∼ 20 의 정수를 나타내고, 1 ∼ 15 의 정수인 것이 바람직하고, 1 ∼ 10 의 정수인 것이 보다 바람직하다.In formula (6), n represents an integer of 1 to 20, is preferably an integer of 1 to 15, and is more preferably an integer of 1 to 10.

절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 저열팽창성 및 내약품성을 한층 향상시키며, 또한, 보다 높은 유리 전이 온도를 갖는 점에서, 식 (6) 으로 나타내는 화합물은, 페놀노볼락형 시안산에스테르 화합물이 바람직하고, 페놀노볼락형 시안산에스테르 화합물로는, 식 (c1) 로 나타내는 화합물인 것이 보다 바람직하다.The compound represented by formula (6) is a phenol novolak-type cyanate ester because it has a superior mold release effect for discharging cutting chips, further improves low thermal expansion and chemical resistance, and has a higher glass transition temperature. The compound is preferable, and as the phenol novolak-type cyanate ester compound, it is more preferable that it is a compound represented by formula (c1).

[화학식 30][Formula 30]

Figure pct00034
Figure pct00034

식 (c1) 중, Rx 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R 은, 각각 독립적으로, 탄소수 2 ∼ 8 의 알케닐기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는 수소 원자를 나타내고, n 은 1 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.In formula (c1), Rx each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, R each independently represents an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a hydrogen atom, and n is It represents an integer from 1 to 10.

이들 시안산에스테르 화합물은, 공지된 방법에 준하여 제조해도 된다. 구체적인 제조 방법으로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2017-195334호 (특히 단락 0052 ∼ 0057) 등에 기재된 방법을 들 수 있다.These cyanate ester compounds may be produced according to known methods. Specific manufacturing methods include, for example, the methods described in Japanese Patent Application Publication No. 2017-195334 (particularly paragraphs 0052 to 0057).

열경화성 수지 (C) 로서의 시안산 에스테르 화합물의 함유량은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 저열팽창성 및 내약품성을 한층 향상시키는 관점에서, 수지 고형분 100 질량부에 대해, 바람직하게는 10 ∼ 70 질량부인 것이 바람직하고, 15 ∼ 60 질량부인 것이 보다 바람직하고, 20 ∼ 50 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The content of the cyanic acid ester compound as the thermosetting resin (C) is preferably 10 per 100 parts by mass of the resin solid content from the viewpoint of having a more excellent mold release effect for discharging cutting chips and further improving low thermal expansion and chemical resistance. It is preferably 70 to 70 parts by mass, more preferably 15 to 60 parts by mass, and even more preferably 20 to 50 parts by mass.

·페놀 화합물·Phenolic compounds

열경화성 수지 (C) 는, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 동박 밀착성을 한층 향상시키는 관점에서, 페놀 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 열경화성 수지 (C) 에 포함되는 페놀 화합물은, 열경화성 화합물 (B) 를 제조하기 위해서 사용되는 페놀 화합물과 동일해도 되고, 상이해도 된다. 페놀 화합물은, 1 종 단독으로 또는 2 종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.It is preferable that the thermosetting resin (C) contains a phenolic compound from the viewpoint of having a more excellent mold release effect for discharging cutting chips and further improving copper foil adhesion. The phenol compound contained in the thermosetting resin (C) may be the same as or different from the phenolic compound used to produce the thermosetting compound (B). Phenol compounds can be used individually or in appropriate combinations of two or more.

페놀 화합물로는, 1 분자 중에 2 개 이상의 페놀성 수산기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 1 분자 중에 페놀성 수산기를 2 개 이상 갖는 페놀류, 비스페놀류 (예를 들어, 비스페놀 A, 비스페놀 E, 비스페놀 F, 비스페놀 S 등), 디알릴비스페놀류 (예를 들어, 디알릴비스페놀 A, 디알릴비스페놀 E, 디알릴비스페놀 F, 디알릴비스페놀 S 등), 페놀류 노볼락 수지 (예를 들어, 페놀 노볼락 수지, 나프톨 노볼락 수지, 크레졸 노볼락 수지 등), 나프탈렌형 페놀 수지, 디하이드로안트라센형 페놀 수지, 디시클로펜타디엔형 페놀 수지, 비페닐형 페놀 수지, 및 아르알킬형 페놀 수지를 들 수 있다. 이들 페놀 화합물은, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 페놀 화합물은, 동박 밀착성을 한층 향상시키는 관점에서, 아르알킬형 페놀 수지를 함유하는 것이 바람직하다.The phenolic compound is not particularly limited as long as it is a compound having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, but examples include phenols and bisphenols (e.g., bisphenol A, Bisphenol E, Bisphenol F, Bisphenol S, etc.), diallylbisphenols (e.g., diallylbisphenol A, diallylbisphenol E, diallylbisphenol F, diallylbisphenol S, etc.), phenolic novolak resins (e.g. , phenol novolak resin, naphthol novolak resin, cresol novolak resin, etc.), naphthalene type phenol resin, dihydroanthracene type phenol resin, dicyclopentadiene type phenol resin, biphenyl type phenol resin, and aralkyl type phenol resin. can be mentioned. These phenol compounds are used individually or in combination of two or more types. Among these, it is preferable that the phenol compound contains an aralkyl type phenol resin from the viewpoint of further improving copper foil adhesion.

(아르알킬형 페놀 수지)(Aralkyl type phenolic resin)

아르알킬형 페놀 수지로는, 예를 들어, 식 (c2) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Examples of the aralkyl type phenol resin include a compound represented by formula (c2).

[화학식 31][Formula 31]

Figure pct00035
Figure pct00035

식 (c2) 중, Ar1 은, 각각 독립적으로, 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리를 나타내고, Ar2 는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 비페닐 고리를 나타내고, R2a 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, m 은 1 ∼ 50 의 정수를 나타내고, 각 고리는, 수산기 이외의 치환기 (예를 들어, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기 등) 를 가져도 된다.In formula (c2), Ar 1 each independently represents a benzene ring or a naphthalene ring, Ar 2 represents a benzene ring, a naphthalene ring, or a biphenyl ring, and R 2a each independently represents a hydrogen atom or a methyl group. represents an integer of 1 to 50, and each ring may have a substituent other than a hydroxyl group (for example, an alkyl group or phenyl group having 1 to 5 carbon atoms, etc.).

식 (c2) 로 나타내는 화합물은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 동박 밀착성을 한층 향상시키는 관점에서, 식 (c2) 중, Ar1 이 나프탈렌 고리이고, Ar2 가 벤젠 고리인 화합물 (이하, 「나프톨아르알킬형 페놀 수지」라고도 한다), 및 식 (c2) 중, Ar1 이 벤젠 고리이고, Ar2 가 비페닐 고리인 화합물 (이하, 「비페닐아르알킬형 페놀 수지」라고도 한다) 인 것이 바람직하다.The compound represented by the formula (c2) is superior in the mold release action of discharging cutting chips, and from the viewpoint of further improving the copper foil adhesion, in the formula (c2), Ar 1 is a naphthalene ring and Ar 2 is a benzene ring. (hereinafter also referred to as “naphthol aralkyl type phenol resin”), and a compound in formula (c2) where Ar 1 is a benzene ring and Ar 2 is a biphenyl ring (hereinafter also referred to as “biphenyl aralkyl type phenol resin”) ) is desirable.

나프톨아르알킬형 페놀 수지는, 식 (2b) 로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.The naphthol aralkyl type phenol resin is preferably a compound represented by formula (2b).

[화학식 32][Formula 32]

Figure pct00036
Figure pct00036

화학식 (2b) 중, R2a 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기 (바람직하게는 수소 원자) 를 나타내고, m 은 1 ∼ 10 의 정수 (바람직하게는 1 ∼ 6 의 정수) 를 나타낸다.In the formula (2b), R 2a each independently represents a hydrogen atom or a methyl group (preferably a hydrogen atom), and m represents an integer of 1 to 10 (preferably an integer of 1 to 6).

비페닐아르알킬형 페놀 수지는, 식 (2c) 로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.The biphenyl aralkyl type phenol resin is preferably a compound represented by formula (2c).

[화학식 33][Formula 33]

Figure pct00037
Figure pct00037

식 (2c) 중, R2b 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기 (바람직하게는 수소 원자) 를 나타내고, m1 은 1 ∼ 20 의 정수 (바람직하게는 1 ∼ 6 의 정수) 를 나타낸다.In formula (2c), R 2b each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group (preferably a hydrogen atom), and m1 is an integer of 1 to 20 (preferably an integer of 1 to 6). represents an integer).

아르알킬형 페놀 수지는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 아르알킬형 페놀 수지의 시판품으로는, 닛폰 화약 주식회사 제품인 「KAYAHARD GPH-65」, 「KAYAHARD GPH-78」, 「KAYAHARD GPH-103」 (비페닐아르알킬형 페놀 수지), 신닛테츠 화학 주식회사 제품인 「SN-495」 (나프톨아르알킬형 페놀 수지) 를 들 수 있다.The aralkyl type phenol resin may be a commercial product or a product manufactured by a known method. Commercially available aralkyl-type phenolic resins include "KAYAHARD GPH-65", "KAYAHARD GPH-78", and "KAYAHARD GPH-103" (biphenyl aralkyl-type phenol resin) manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd., and "KAYAHARD GPH-65" manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd. SN-495” (naphthol aralkyl type phenol resin).

열경화성 수지 (C) 로서의 페놀 화합물의 함유량은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 동박 밀착성을 한층 향상시키는 관점에서, 수지 고형분 100 질량부에 대해, 10 ∼ 40 질량부인 것이 바람직하고, 15 ∼ 35 질량부인 것이 보다 바람직하고, 20 ∼ 30 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The content of the phenol compound as the thermosetting resin (C) is preferably 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content, from the viewpoint of superior mold release action for discharging cutting chips and further improving copper foil adhesion, It is more preferable that it is 15 to 35 parts by mass, and it is still more preferable that it is 20 to 30 parts by mass.

·알케닐 치환 나드이미드 화합물·Alkenyl substituted nadimide compound

열경화성 수지 (C) 는, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 내열성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 알케닐 치환 나드이미드 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 알케닐 치환 나드이미드 화합물은, 1 종 단독으로 또는 2 종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.The thermosetting resin (C) preferably contains an alkenyl-substituted nadimide compound from the viewpoint of having a better mold release effect for discharging cutting chips and further improving heat resistance. The alkenyl substituted nadimide compound can be used individually or in appropriate combination of two or more types.

알케닐 치환 나드이미드 화합물은, 1 분자 중에 1 개 이상의 알케닐 치환 나드이미드기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 하기 식 (2d) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.The alkenyl substituted nadimide compound is not particularly limited as long as it is a compound having one or more alkenyl substituted nadimide groups in one molecule, but examples include compounds represented by the following formula (2d).

[화학식 34][Formula 34]

Figure pct00038
Figure pct00038

식 (2d) 중, R1 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 (예를 들어, 메틸기 또는 에틸기) 를 나타내고, R2 는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기, 페닐렌기, 비페닐렌기, 나프틸렌기, 또는 하기 식 (7) 혹은 하기 식 (8) 로 나타내는 기를 나타낸다.In formula (2d), R 1 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group), and R 2 represents an alkylene group or phenylene group having 1 to 6 carbon atoms. , a biphenylene group, a naphthylene group, or a group represented by the following formula (7) or the following formula (8).

[화학식 35][Formula 35]

Figure pct00039
Figure pct00039

식 (7) 중, R3 은, 메틸렌기, 이소프로필리덴기, CO, O, S 또는 SO2 를 나타낸다.In formula (7), R 3 represents a methylene group, an isopropylidene group, CO, O, S, or SO 2 .

[화학식 36][Formula 36]

Figure pct00040
Figure pct00040

식 (8) 중, R4 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 탄소수 5 ∼ 8 의 시클로알킬렌기를 나타낸다.In formula (8), R 4 each independently represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a cycloalkylene group having 5 to 8 carbon atoms.

식 (2d) 로 나타내는 알케닐 치환 나드이미드 화합물은, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 준하여 제조한 제조품을 사용해도 된다. 시판품으로는, 마루젠 석유 화학 주식회사 제품인「BANI-M」, 및 「BANI-X」를 들 수 있다.The alkenyl-substituted nadimide compound represented by formula (2d) may be a commercial product or a product manufactured according to a known method. Commercially available products include “BANI-M” and “BANI-X” manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.

열경화성 수지 (C) 로서의 알케닐 치환 나드이미드 화합물의 함유량은, 수지 고형분 100 질량부에 대해, 바람직하게는 1 ∼ 45 질량부이고, 5 ∼ 40 질량부인 것이 보다 바람직하고, 10 ∼ 35 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The content of the alkenyl substituted nadimide compound as the thermosetting resin (C) is preferably 1 to 45 parts by mass, more preferably 5 to 40 parts by mass, and 10 to 35 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin solid content. It is more desirable.

·에폭시 수지·Epoxy resin

열경화성 수지 (C) 는, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 내약품성, 동박 밀착성 및 절연 신뢰성을 한층 향상시키는 관점에서, 에폭시 수지를 포함하는 것이 바람직하다. 열경화성 수지 (C) 에 포함되는 에폭시 수지는, 열경화성 화합물 (B) 를 제조하기 위하여 사용되는, 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물과 동일해도 되고, 상이해도 되지만, 에폭시 변성 실리콘과는 다른 에폭시 화합물이다. 에폭시 수지는, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다.It is preferable that the thermosetting resin (C) contains an epoxy resin from the viewpoint of having a more excellent mold release effect for discharging cutting chips and further improving chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability. The epoxy resin contained in the thermosetting resin (C) may be the same as or different from the epoxy compound other than the epoxy-modified silicone used to produce the thermosetting compound (B), but is an epoxy compound different from the epoxy-modified silicone. Epoxy resins are used individually or in combination of two or more types.

에폭시 수지로는, 전형적으로는, 1 분자 중에 에폭시기를 2 개 갖는 2 관능 에폭시 화합물이나 1 분자 중에 에폭시기를 3 개 이상 갖는 다관능 에폭시 화합물을 사용할 수 있다. 에폭시 수지는, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 더욱 우수하고, 내약품성, 동박 밀착성, 및 절연 신뢰성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 2 관능 에폭시 화합물 및/또는 다관능 에폭시 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.As an epoxy resin, typically, a bifunctional epoxy compound having two epoxy groups in one molecule or a polyfunctional epoxy compound having three or more epoxy groups in one molecule can be used. It is preferable that the epoxy resin contains a bifunctional epoxy compound and/or a polyfunctional epoxy compound from the viewpoint of having a more excellent mold release effect for discharging cutting chips and further improving chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability. .

에폭시 수지로는, 특별히 한정되지 않지만, 하기 식 (3a) 로 나타내는 화합물을 사용할 수 있다.The epoxy resin is not particularly limited, but a compound represented by the following formula (3a) can be used.

[화학식 37][Formula 37]

Figure pct00041
Figure pct00041

화학식 (3a) 중, Ar3 은, 각각 독립적으로, 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리를 나타내고, Ar4 는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 비페닐 고리를 나타내고, R3a 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, k 는 1 ∼ 50 의 정수를 나타내고,In the formula (3a), Ar 3 each independently represents a benzene ring or a naphthalene ring, Ar 4 represents a benzene ring, a naphthalene ring or a biphenyl ring, and R 3a each independently represents a hydrogen atom or a methyl group. , k represents an integer from 1 to 50,

여기서, Ar3 에 있어서의 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리는 추가로 하나 또는 복수의 치환기를 가져도 되고, 당해 치환기는 도시하지 않은 글리시딜옥시기여도 되고, 그 밖의 치환기, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 페닐기 등이어도 되며,Here, the benzene ring or naphthalene ring in Ar 3 may further have one or more substituents, and the substituent may be a glycidyloxy group (not shown), or other substituents, for example, having 1 to 5 carbon atoms. It may be an alkyl group, phenyl group, etc.,

Ar4 에 있어서의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 비페닐 고리는 추가로 하나 또는 복수의 치환기를 가져도 되고, 당해 치환기는 글리시딜옥시기여도 되고, 그 밖의 치환기, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 페닐기 등이어도 된다.The benzene ring, naphthalene ring, or biphenyl ring for Ar 4 may further have one or more substituents, and the substituent may be a glycidyloxy group, or other substituents, for example, having 1 to 5 carbon atoms. It may be an alkyl group, a phenyl group, etc.

상기 식 (3a) 로 나타내는 화합물 중, 2 관능 에폭시 화합물로는, 예를 들어, 하기 식 (b1) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Among the compounds represented by the above formula (3a), examples of the bifunctional epoxy compound include those represented by the following formula (b1).

[화학식 38][Formula 38]

Figure pct00042
Figure pct00042

식 (b1) 중, Ar3 은, 각각 독립적으로, 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리를 나타내고, Ar4 는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 비페닐 고리를 나타내고, R3a 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고,In formula (b1), Ar 3 each independently represents a benzene ring or a naphthalene ring, Ar 4 represents a benzene ring, a naphthalene ring or a biphenyl ring, and R 3a each independently represents a hydrogen atom or a methyl group. represents,

여기서, Ar3 에 있어서의 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리는 추가로 하나 또는 복수의 치환기를 가져도 되고, 당해 치환기는, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기나 페닐기 등의 글리시딜옥시기 이외의 치환기여도 되며,Here, the benzene ring or naphthalene ring for Ar 3 may further have one or more substituents, and the substituents are, for example, substituted other than glycidyloxy groups such as alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms or phenyl groups. It can also contribute,

Ar4 에 있어서의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 비페닐 고리는 추가로 하나 또는 복수의 치환기를 가져도 되고, 당해 치환기는, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기나 페닐기 등의 글리시딜옥시기 이외의 치환기여도 된다.The benzene ring, naphthalene ring, or biphenyl ring for Ar 4 may further have one or more substituents, and the substituents include, for example, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a glycidyloxy group such as a phenyl group. A substitution contribution may also be made.

식 (3a) 로 나타내는 화합물은, 식 (3a) 에 있어서 Ar4 가 적어도 글리시딜옥시기로 치환된, 페놀류 노볼락형 에폭시 수지인 것이 바람직하다. 페놀류 노볼락형 에폭시 수지로는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 하기 식 (3-1) 로 나타내는 화합물 (나프탈렌 골격을 갖는 나프탈렌 골격 함유 다관능 에폭시 수지) 이나, 나프탈렌 크레졸 노볼락형 에폭시 수지를 들 수 있다. 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 내약품성, 동박 밀착성, 및 절연 신뢰성을 한층 향상시키는 관점에서, 나프탈렌 크레졸 노볼락형 에폭시 수지가 바람직하다.The compound represented by formula (3a) is preferably a phenolic novolak-type epoxy resin in which Ar 4 in formula (3a) is at least substituted with a glycidyloxy group. There is no particular limitation on the phenolic novolak-type epoxy resin, but examples include a compound represented by the following formula (3-1) (a multifunctional epoxy resin containing a naphthalene skeleton) or a naphthalene cresol novolak-type epoxy resin. I can hear it. Naphthalene cresol novolak-type epoxy resin is preferable from the viewpoint of superior mold release action for discharging cutting chips and further improving chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability.

[화학식 39][Formula 39]

Figure pct00043
Figure pct00043

식 (3-1) 중, Ar31 은, 각각 독립적으로, 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리를 나타내고, Ar41 은, 각각 독립적으로, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 비페닐 고리를 나타내고, R31a 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, kz 는 1 ∼ 50 의 정수를 나타내고, 각 고리는, 글리시딜옥시기 이외의 치환기 (예를 들면, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 또는 페닐기) 를 가져도 되고, Ar31 및 Ar41 의 적어도 일방은 나프탈렌 고리를 나타낸다.In formula (3-1), Ar 31 each independently represents a benzene ring or a naphthalene ring, Ar 41 each independently represents a benzene ring, a naphthalene ring or a biphenyl ring, and R 31a each independently represents represents a hydrogen atom or a methyl group, kz represents an integer of 1 to 50, and each ring has a substituent other than a glycidyloxy group (for example, an alkyl group with 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group with 1 to 5 carbon atoms, or phenyl group), and at least one of Ar 31 and Ar 41 represents a naphthalene ring.

식 (3-1) 로 나타내는 화합물로는, 식 (3-2) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Examples of the compound represented by formula (3-1) include compounds represented by formula (3-2).

[화학식 40][Formula 40]

Figure pct00044
Figure pct00044

식 (3-2) 중, R 은 메틸기를 나타내고, kz 는 상기 식 (3-1) 중의 kz 와 동일한 의미이다.In formula (3-2), R represents a methyl group, and kz has the same meaning as kz in the formula (3-1).

나프탈렌 크레졸 노볼락형 에폭시 수지로는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 하기 식 (NE) 로 나타내는 크레졸/나프톨 노볼락형 에폭시 수지가 바람직하다. 또한, 하기 (NE) 로 나타내는 화합물은, 크레졸노볼락에폭시의 구성 단위와, 나프톨노볼락에폭시의 구성 단위의 랜덤 공중합체이고, 크레졸에폭시 및 나프톨에폭시 모두가 말단이 될 수 있다.The naphthalene cresol novolak type epoxy resin is not particularly limited, but for example, a cresol/naphthol novolak type epoxy resin represented by the following formula (NE) is preferable. In addition, the compound represented by (NE) below is a random copolymer of a structural unit of cresol novolac epoxy and a structural unit of naphthol novolak epoxy, and both cresol epoxy and naphthol epoxy can be terminals.

[화학식 41][Formula 41]

Figure pct00045
Figure pct00045

식 (NE) 에 있어서의 m 및 n 은, 각각 1 이상의 정수를 나타낸다. m 및 n 의 상한 및 그 비에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 저열팽창성의 관점에서, m : n (여기서, m+n = 100) 으로서, 30 ∼ 50 : 70 ∼ 50 인 것이 바람직하고, 45 ∼ 55 : 55 ∼ 45 가 보다 바람직하다.m and n in the formula (NE) each represent an integer of 1 or more. The upper limit and ratio of m and n are not particularly limited, but from the viewpoint of low thermal expansion, m:n (where m+n=100) is preferably 30 to 50:70 to 50, and 45 to 55:55. ~45 is more preferable.

나프탈렌 크레졸 노볼락형 에폭시 수지로는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 시판품으로는, 예를 들면, 닛폰 화약 주식회사 제품인 「NC-7000」, 「NC-7300」, 「NC-7300L」이나, DIC 주식회사 제품인 「HP-9540」, 「HP-9500」등을 들 수 있고, 「HP-9540」이 특히 바람직하다.As the naphthalene cresol novolak-type epoxy resin, a commercial product may be used, or a product manufactured by a known method may be used. Commercially available products include, for example, "NC-7000", "NC-7300", and "NC-7300L" manufactured by Nippon Explosives Co., Ltd., and "HP-9540" and "HP-9500" manufactured by DIC Corporation. , “HP-9540” is particularly preferable.

식 (3a) 로 나타내는 화합물은, 상기 서술한 페놀류 노볼락형 에폭시 수지에 해당하지 않는 화합물 (이하, 「아르알킬형 에폭시 수지」라고도 한다) 이어도 된다.The compound represented by formula (3a) may be a compound (hereinafter also referred to as “aralkyl type epoxy resin”) that does not correspond to the phenol novolac type epoxy resin described above.

아르알킬형 에폭시 수지로는, 식 (3a) 에 있어서 Ar3 이 나프탈렌 고리이고, Ar4 가 벤젠 고리인 화합물 (「나프톨아르알킬형 에폭시 수지」라고도 한다), 및 식 (3a) 에 있어서 Ar3 이 벤젠 고리이고, Ar4 가 비페닐 고리인 화합물 (「비페닐아르알킬형 에폭시 수지」라고도 한다) 인 것이 바람직하고, 비페닐아르알킬형 에폭시 수지인 것이 보다 바람직하다.Examples of the aralkyl type epoxy resin include compounds in which Ar 3 is a naphthalene ring and Ar 4 is a benzene ring in formula (3a) (also referred to as “naphthol aralkyl type epoxy resin”), and Ar 3 in formula (3a) It is preferable that it is a benzene ring and Ar 4 is a biphenyl ring (also referred to as “biphenyl aralkyl type epoxy resin”), and more preferably it is a biphenyl aralkyl type epoxy resin.

나프톨아르알킬형 에폭시 수지로는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 시판품으로는, 예를 들면, DIC 주식회사 제품인 「HP-5000」, 「HP-9900」, 닛테츠 케미컬 주식회사 제품인 「ESN-375」, 「ESN-475」등을 들 수 있다.As the naphthol aralkyl type epoxy resin, a commercial product may be used, or a product manufactured by a known method may be used. Commercially available products include, for example, "HP-5000" and "HP-9900" manufactured by DIC Corporation, and "ESN-375" and "ESN-475" manufactured by Nittetsu Chemical Corporation.

비페닐아르알킬형 에폭시 수지는, 식 (3b) 로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.It is preferable that the biphenyl aralkyl type epoxy resin is a compound represented by formula (3b).

[화학식 42][Formula 42]

Figure pct00046
Figure pct00046

식 (3b) 중, ka 는 1 이상의 정수를 나타내고, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 6 이 보다 바람직하다.In formula (3b), ka represents an integer of 1 or more, preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 6.

상기 식 (3b) 로 나타내는 화합물 중, 2 관능 에폭시 화합물로는, 예를 들어, 식 (3b) 에 있어서 ka 가 1 인 화합물을 들 수 있다.Among the compounds represented by the formula (3b), examples of the bifunctional epoxy compound include compounds where ka is 1 in the formula (3b).

비페닐아르알킬형 에폭시 수지로는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 시판품으로는, 예를 들어 닛폰 화약 주식회사 제품인 「NC-3000」, 「NC-3000L」, 「NC-3000FH」등을 들 수 있다.As the biphenyl aralkyl type epoxy resin, a commercial product may be used, or a product manufactured by a known method may be used. Commercially available products include, for example, "NC-3000", "NC-3000L", and "NC-3000FH" manufactured by Nippon Explosives Co., Ltd.

또한, 에폭시 수지로는, 나프탈렌형 에폭시 수지 (식 (3a) 로 나타내는 화합물에 해당하는 것을 제외한다) 를 사용하는 것이 바람직하다. 나프탈렌형 에폭시 수지로는, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 내약품성, 동박 밀착성 및 절연 신뢰성을 한층 향상시키는 관점에서, 나프틸렌에테르형 에폭시 수지인 것이 바람직하다.Additionally, as the epoxy resin, it is preferable to use a naphthalene type epoxy resin (excluding those corresponding to the compound represented by formula (3a)). The naphthalene type epoxy resin is preferably a naphthylene ether type epoxy resin because it has a superior mold release effect for discharging cutting chips and further improves chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability.

나프틸렌에테르형 에폭시 수지는, 절삭 분말을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 내약품성, 동박 밀착성, 및 절연 신뢰성을 한층 향상시키는 관점에서, 식 (3-3) 으로 나타내는 2 관능 에폭시 화합물 또는 하기 식 (3-4) 로 나타내는 다관능 에폭시 화합물, 혹은 그들의 혼합물인 것이 바람직하다.The naphthylene ether type epoxy resin has a better mold release effect for discharging cutting powder, and from the viewpoint of further improving chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability, a bifunctional epoxy compound represented by formula (3-3) or the following A polyfunctional epoxy compound represented by formula (3-4) or a mixture thereof is preferable.

[화학식 43][Formula 43]

Figure pct00047
Figure pct00047

식 (3-3) 중, R13 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기 (예를 들어, 메틸기 또는 에틸기), 또는 탄소수 2 ∼ 3 의 알케닐기 (예를 들어, 비닐기, 알릴기 또는 프로페닐기) 를 나타낸다.In formula (3-3), R 13 is each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group), or an alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms (for example, a vinyl group) , allyl group, or propenyl group).

[화학식 44][Formula 44]

Figure pct00048
Figure pct00048

식 (3-4) 중, R14 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기 (예를 들어, 메틸기 또는 에틸기), 또는 탄소수 2 ∼ 3 의 알케닐기 (예를 들어, 비닐기, 알릴기 또는 프로페닐기) 를 나타낸다.In formula (3-4), R 14 is each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group), or an alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms (for example, a vinyl group) , allyl group, or propenyl group).

나프틸렌에테르형 에폭시 수지는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 나프틸렌에테르형 에폭시 수지의 시판품으로는, 예를 들어 DIC 주식회사 제품인 「HP-6000」, 「EXA-7300」, 「EXA-7310」, 「EXA-7311」, 「EXA-7311L」, 「EXA7311-G3」, 「EXA7311-G4」, 「EXA-7311G4S」, 「EXA-7311G5」등을 들 수 있고, 특히 HP-6000 이 바람직하다.As the naphthylene ether type epoxy resin, a commercial product may be used, or a product manufactured by a known method may be used. Commercial products of naphthylene ether type epoxy resin include, for example, “HP-6000”, “EXA-7300”, “EXA-7310”, “EXA-7311”, “EXA-7311L”, and “EXA7311-” manufactured by DIC Corporation. G3", "EXA7311-G4", "EXA-7311G4S", "EXA-7311G5", etc., and HP-6000 is especially preferable.

나프탈렌형 에폭시 수지의 상기한 것 이외의 예로는, 이하에 한정되지 않지만, 하기 식 (b3) 으로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Examples of the naphthalene type epoxy resin other than those mentioned above include, but are not limited to, a compound represented by the following formula (b3).

[화학식 45][Formula 45]

Figure pct00049
Figure pct00049

식 (b3) 중, R3b 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 (예를 들어, 메틸기 또는 에틸기), 아르알킬기, 벤질기, 나프틸기, 적어도 1 개의 글리시딜옥시기를 함유하는 나프틸기, 또는 적어도 1 개의 글리시딜옥시기를 함유하는 나프틸메틸기를 나타내고, n 은 0 이상의 정수 (예를 들어, 0 ∼ 2) 를 나타낸다.In formula (b3), R 3b each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group), an aralkyl group, a benzyl group, a naphthyl group, or at least one glycidyloxy group. It represents a naphthyl group containing or a naphthylmethyl group containing at least one glycidyloxy group, and n represents an integer of 0 or more (for example, 0 to 2).

상기 식 (b3) 으로 나타내는 화합물의 시판품으로는, 예를 들면, DIC 주식회사 제품인 「HP-4032」(상기 식 (b3) 에 있어서 n = 0), 「HP-4710」(상기 식 (b3) 에 있어서, n = 0 이며, R3b 가 적어도 1 개의 글리시딜옥시기를 함유하는 나프틸메틸기) 등을 들 수 있다.Commercially available products of the compound represented by the above formula (b3) include, for example, “HP-4032” manufactured by DIC Corporation (n = 0 in the above formula (b3)) and “HP-4710” (in the above formula (b3)). where n = 0 and R 3b is a naphthylmethyl group containing at least one glycidyloxy group).

또한, 에폭시 수지로는, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지를 사용할 수 있다.Additionally, as the epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin can be used.

디시클로펜타디엔형 에폭시 수지로는 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 식 (3-5) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.The dicyclopentadiene type epoxy resin is not particularly limited, but examples include compounds represented by formula (3-5).

[화학식 46][Formula 46]

Figure pct00050
Figure pct00050

식 (3-5) 중, R3c 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타내고, k2 는 0 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.In formula (3-5), R 3c each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and k2 represents an integer of 0 to 10.

상기 식 (3-5) 로 나타내는 화합물은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 하기 식 (b4) 로 나타내는 화합물이어도 된다.The compound represented by the above formula (3-5) is not particularly limited, but for example, it may be a compound represented by the following formula (b4).

[화학식 47][Formula 47]

Figure pct00051
Figure pct00051

식 (b4) 중, R3c 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 (예를 들면, 메틸기 또는 에틸기) 를 나타낸다.In formula (b4), R 3c each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group).

디시클로펜타디엔형 에폭시 수지는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지의 시판품으로는, 다이닛폰 잉크 화학 공업 주식회사 제품인 「EPICRON HP-7200L」, 「EPICRON HP-7200」, 「EPICRON HP-7200H」, 「EPICRON HP-7000HH」 등을 들 수 있다.The dicyclopentadiene type epoxy resin may be a commercially available product or a product manufactured by a known method. Commercially available products of dicyclopentadiene type epoxy resin include “EPICRON HP-7200L,” “EPICRON HP-7200,” “EPICRON HP-7200H,” and “EPICRON HP-7000HH” manufactured by Dainippon Ink Chemical Industry Co., Ltd. there is.

이들 중에서도, 에폭시 수지는, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 내약품성, 동박 밀착성, 및 절연 신뢰성을 한층 향상시키는 관점에서, 식 (3a) 로 나타내는 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 및 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상인 것이 바람직하고, 나프탈렌형 에폭시 수지를 함유하는 것이 보다 바람직하다. 이 경우에 있어서, 식 (3a) 로 나타내는 에폭시 수지는 나프탈렌 크레졸 노볼락형 에폭시 수지를 포함하고, 나프탈렌형 에폭시 수지는 상기 식 (NE) 로 나타내는 크레졸/나프톨 노볼락형 에폭시 수지를 포함하는 것이 바람직하다.Among these, the epoxy resin has a more excellent mold release effect for discharging cutting chips, and from the viewpoint of further improving chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability, the epoxy resin represented by formula (3a), the naphthalene type epoxy resin, and It is preferable that it is at least one type selected from the group consisting of dicyclopentadiene type epoxy resin, and it is more preferable that it contains naphthalene type epoxy resin. In this case, it is preferable that the epoxy resin represented by formula (3a) contains a naphthalene cresol novolak-type epoxy resin, and the naphthalene-type epoxy resin contains a cresol/naphthol novolak-type epoxy resin represented by the formula (NE). do.

에폭시 수지로는, 전술한 에폭시 수지 또는 에폭시 화합물에 해당하지 않는, 다른 에폭시 수지를 포함하고 있어도 된다.The epoxy resin may contain other epoxy resins that do not correspond to the above-mentioned epoxy resins or epoxy compounds.

다른 에폭시 수지로는 특별히 한정되지 않지만, 비스페놀형 에폭시 수지, 트리스페놀메탄형 에폭시 수지, 안트라센형 에폭시 수지, 글리시딜에스테르형 에폭시 수지, 폴리올형 에폭시 수지, 이소시아누레이트 고리 함유 에폭시 수지, 플루오렌형 에폭시 수지 및 비스페놀 A 형 구조 단위와 탄화수소계 구조 단위로 이루어지는 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Other epoxy resins are not particularly limited, but include bisphenol-type epoxy resin, trisphenolmethane-type epoxy resin, anthracene-type epoxy resin, glycidyl ester-type epoxy resin, polyol-type epoxy resin, isocyanurate ring-containing epoxy resin, and fluoride-type epoxy resin. Examples include an orene-type epoxy resin and an epoxy resin composed of a bisphenol A-type structural unit and a hydrocarbon-based structural unit.

다른 에폭시 수지로는, 상기한 것 중에서도, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 내약품성, 동박 밀착성 및 절연 신뢰성을 한층 향상시키는 관점에서, 비스페놀형 에폭시 수지를 포함할 수 있다. 비스페놀형 에폭시 수지로는, 예를 들어, 디알릴비스페놀형 에폭시 수지 (예를 들어, 디알릴비스페놀 A 형 에폭시 수지, 디알릴비스페놀 E 형 에폭시 수지, 디알릴비스페놀 F 형 에폭시 수지, 디알릴비스페놀 S 형 에폭시 수지 등) 등을 사용할 수 있다.Among the above-described epoxy resins, bisphenol-type epoxy resins may be included from the viewpoint of superior mold release action for discharging cutting chips and further improving chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability. Bisphenol-type epoxy resins include, for example, diallylbisphenol-type epoxy resins (e.g., diallylbisphenol A-type epoxy resin, diallylbisphenol E-type epoxy resin, diallylbisphenol F-type epoxy resin, diallylbisphenol S) type epoxy resin, etc.) can be used.

에폭시 수지로는, 전술한 에폭시 수지 및 에폭시 화합물 중, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다.As an epoxy resin, one type is used individually or in combination of 2 or more types among the above-mentioned epoxy resins and epoxy compounds.

에폭시 수지의 1 분자당 평균 에폭시기수는, 본 실시형태의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 1 이상 3 미만인 것이 바람직하고, 1.5 이상 2.5 이하인 것이 보다 바람직하다. 평균 에폭시기수는, 이하의 식에 의해 산출된다.The average number of epoxy groups per molecule of the epoxy resin is preferably 1 to 3, and more preferably 1.5 to 2.5, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment. The average epoxy group number is calculated by the following formula.

[수학식 5][Equation 5]

Figure pct00052
Figure pct00052

상기 식 중, Ci 는, 분자 중에 i 개의 에폭시기를 갖는 에폭시 수지의 에폭시기수를 나타내고, Zi 는, 분자 중에 i 개의 에폭시기를 갖는 에폭시 수지의 에폭시 수지 전체에서 차지하는 비율을 나타내고, Z1+Z2+…Zn = 1 이다.In the above formula, Ci represents the epoxy group number of the epoxy resin having i epoxy groups in the molecule, Zi represents the ratio of the epoxy resin having i epoxy groups in the molecule to the entire epoxy resin, and Z 1 + Z 2 + . Z n = 1.

열경화성 수지 (C) 로서의 에폭시 수지의 함유량은, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 내약품성, 동박 밀착성, 및 절연 신뢰성을 한층 향상시키는 관점에서, 수지 고형분 100 질량부에 대해, 바람직하게는 1 ∼ 60 질량부인 것이 바람직하고, 3 ∼ 50 질량부인 것이 보다 바람직하고, 5 ∼ 40 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The content of the epoxy resin as the thermosetting resin (C) is preferably set to 100 parts by mass of the resin solid content from the viewpoint of superior mold release action for discharging cuttings and further improving chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability. It is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 3 to 50 parts by mass, and even more preferably 5 to 40 parts by mass.

·그 밖의 수지·Other resins

열경화성 수지 (C) 는, 본 실시형태의 수지 조성물에 있어서의 효과를 저해하지 않는 한, 그 밖의 수지를 추가로 포함해도 된다. 그 밖의 수지로는, 예를 들어, 옥세탄 수지, 벤조옥사진 화합물, 및 중합 가능한 불포화기를 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 이들 수지 또는 화합물은. 1 종 단독으로 또는 2 종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.The thermosetting resin (C) may further contain other resins as long as it does not impair the effect in the resin composition of this embodiment. Other resins include, for example, oxetane resins, benzoxazine compounds, and compounds having a polymerizable unsaturated group. These resins or compounds are. One type can be used individually or two or more types can be used in appropriate combination.

·옥세탄 수지·Oxetane resin

옥세탄 수지로는, 예를 들어, 옥세탄, 2-메틸옥세탄, 2,2-디메틸옥세탄, 3-메틸옥세탄, 3,3-디메틸옥세탄 등의 알킬옥세탄, 3-메틸-3-메톡시메틸옥세탄, 3,3'-디(트리플루오로메틸)퍼플루옥세탄, 2-클로로메틸옥세탄, 3,3-비스(클로로메틸)옥세탄, 비페닐형 옥세탄, 토아 합성 주식회사 제품인 「OXT-101」, 「OXT-121」등을 들 수 있다.Oxetane resins include, for example, alkyloxetane such as oxetane, 2-methyloxetane, 2,2-dimethyloxetane, 3-methyloxetane, and 3,3-dimethyloxetane, and 3-methyl- 3-methoxymethyloxetane, 3,3'-di(trifluoromethyl)perfluoxetane, 2-chloromethyloxetane, 3,3-bis(chloromethyl)oxetane, biphenyl type oxetane, Toa Examples include “OXT-101” and “OXT-121” manufactured by Synthesis Co., Ltd.

·벤조옥사진 화합물·Benzoxazine compound

본 명세서에서 말하는 「벤조옥사진 화합물」이란, 1 분자 중에 2 개 이상의 디하이드로벤조옥사진 고리를 갖는 화합물을 말한다. 벤조옥사진 화합물로는, 코니시 화학 주식회사 제품인 「비스페놀 F 형 벤조옥사진 BF-BXZ」, 「비스페놀 S 형 벤조옥사진 BS-BXZ」등을 들 수 있다.The term “benzoxazine compound” as used herein refers to a compound having two or more dihydrobenzoxazine rings in one molecule. Examples of the benzoxazine compound include "Bisphenol F-type benzoxazine BF-BXZ" and "Bisphenol S-type benzoxazine BS-BXZ" manufactured by Konishi Chemical Co., Ltd.

·중합 가능한 불포화기를 갖는 화합물· Compounds having a polymerizable unsaturated group

중합 가능한 불포화기를 갖는 화합물로는, 예를 들어, 에틸렌, 프로필렌, 스티렌, 디비닐벤젠, 디비닐비페닐 등의 비닐 화합물 ; 메틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 1 가 또는 다가 알코올의 (메트)아크릴레이트류 ; 비스페놀 A 형 에폭시(메트)아크릴레이트, 비스페놀 F 형 에폭시(메트)아크릴레이트 등의 에폭시(메트)아크릴레이트류 ; 벤조시클로부텐 수지 등을 들 수 있다.Examples of the compound having a polymerizable unsaturated group include vinyl compounds such as ethylene, propylene, styrene, divinylbenzene, and divinylbiphenyl; Methyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate, trimethyl (meth)acrylates of monohydric or polyhydric alcohols, such as allpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate; Epoxy (meth)acrylates such as bisphenol A-type epoxy (meth)acrylate and bisphenol F-type epoxy (meth)acrylate; Benzocyclobutene resin, etc. can be mentioned.

<무기 충전재 (D)><Inorganic Filler (D)>

본 실시형태의 수지 조성물은, 본 실시형태에 관련된 몰리브덴 화합물 (A) 와는 상이한 무기 충전재 (D) 를 포함한다. 수지 조성물이 무기 충전재 (D) 를 포함하면, 내열성 및 저열팽창성을 한층 향상시키는 경향이 있다.The resin composition of the present embodiment contains an inorganic filler (D) different from the molybdenum compound (A) according to the present embodiment. When the resin composition contains an inorganic filler (D), heat resistance and low thermal expansion properties tend to be further improved.

무기 충전재 (D) 로는, 예를 들어 실리카, 규소 화합물 (예를 들어, 화이트 카본 등), 금속 산화물 (예를 들어, 알루미나, 티탄화이트, 산화티탄, 티탄산바륨, 산화아연, 산화마그네슘, 산화지르코늄 등), 금속 질화물 (예를 들어, 질화붕소, 응집 질화붕소, 질화규소, 질화알루미늄 등), 금속 황산화물 (예를 들어, 황산바륨 등), 금속 수산화물 (예를 들어, 수산화알루미늄, 수산화알루미늄 가열 처리품 (예를 들어, 수산화알루미늄을 가열 처리하여, 결정수의 일부를 줄인 것), 베마이트, 수산화마그네슘 등), 아연 화합물 (예를 들어, 붕산아연, 주석산아연 등), 클레이, 카올린, 탤크, 소성 클레이, 소성 카올린, 소성 탤크, 마이카, E-유리, A-유리, NE-유리, C-유리, L-유리, D-유리, S-유리, M-유리 G20, 유리 단섬유 (E 유리, T 유리, D 유리, S 유리, Q 유리 등의 유리 미분말류를 포함한다), 중공 유리, 구상 유리 등을 들 수 있다. 이들 무기 충전재 (D) 는, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 무기 충전재 (D) 는, 절삭분을 배출시키는 이형 작용이 보다 우수하고, 저열팽창성을 한층 향상시키는 관점에서, 실리카, 수산화알루미늄, 알루미나, 베마이트, 질화붕소, 질화알루미늄, 산화티탄, 티탄산바륨, 산화마그네슘, 및 수산화마그네슘으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 것이 바람직하고, 실리카를 포함하는 것이 보다 바람직하다.Inorganic fillers (D) include, for example, silica, silicon compounds (e.g., white carbon, etc.), metal oxides (e.g., alumina, titanium white, titanium oxide, barium titanate, zinc oxide, magnesium oxide, zirconium oxide). etc.), metal nitrides (e.g. boron nitride, agglomerated boron nitride, silicon nitride, aluminum nitride, etc.), metal sulfates (e.g. barium sulfate, etc.), metal hydroxides (e.g. aluminum hydroxide, aluminum hydroxide heating) Processed products (for example, aluminum hydroxide is heat treated to reduce some of the crystal water), boehmite, magnesium hydroxide, etc.), zinc compounds (for example, zinc borate, zinc tartrate, etc.), clay, kaolin, Talc, calcined clay, calcined kaolin, calcined talc, mica, E-glass, A-glass, NE-glass, C-glass, L-glass, D-glass, S-glass, M-glass G20, short glass fiber ( (including glass fine powders such as E glass, T glass, D glass, S glass, Q glass, etc.), hollow glass, spherical glass, etc. These inorganic fillers (D) are used individually or in combination of two or more types. Among these, the inorganic filler (D) has a superior mold release effect for discharging cutting chips, and from the viewpoint of further improving low thermal expansion properties, silica, aluminum hydroxide, alumina, boehmite, boron nitride, aluminum nitride, titanium oxide, It is preferable that it contains at least one type selected from the group consisting of barium titanate, magnesium oxide, and magnesium hydroxide, and it is more preferable that it contains silica.

실리카로는, 예를 들어, 천연 실리카, 용융 실리카, 합성 실리카, 아에로질, 중공 실리카 등을 들 수 있다. 이들 실리카는 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 수지 조성물에 대한 분산성의 관점에서, 용융 실리카인 것이 바람직하다.Examples of silica include natural silica, fused silica, synthetic silica, aerosil, and hollow silica. These silicas are used individually or in combination of two or more types. Among these, fused silica is preferable from the viewpoint of dispersibility in the resin composition.

실리카는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 실리카의 시판품으로는, 덴카 (주) 제조의 「SFP-130MC, (주) 아드마텍스 제조의 「SC-2050MB」, 「SC-1050MLE」, 「YA010C-MFN」, 및 「YA050C-MJA」등을 들 수 있다.Silica may be a commercially available product or a product manufactured by a known method. Commercially available silica products include “SFP-130MC” manufactured by Denka Co., Ltd., “SC-2050MB”, “SC-1050MLE”, “YA010C-MFN”, and “YA050C-MJA” manufactured by Admatex Co., Ltd. can be mentioned.

무기 충전재 (D) 의 함유량은, 드릴의 마모를 억제하고, 저열팽창성을 한층 향상시키는 관점에서, 열경화성 화합물 (B) 와 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 40 ∼ 600 질량부인 것이 바람직하고, 100 ∼ 400 질량부인 것이 보다 바람직하다.The content of the inorganic filler (D) is preferably 40 to 600 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C) from the viewpoint of suppressing wear of the drill and further improving low thermal expansion properties. And, it is more preferable that it is 100 to 400 parts by mass.

<실란 커플링제><Silane coupling agent>

본 실시형태의 수지 조성물은, 실란 커플링제를 추가로 포함해도 된다. 수지 조성물이 실란 커플링제를 포함함으로써, 무기 충전재 (D) 의 분산성 및 수지 조성물과 후술하는 기재의 접착 강도가, 한층 향상되는 경향이 있다.The resin composition of this embodiment may further contain a silane coupling agent. When the resin composition contains a silane coupling agent, the dispersibility of the inorganic filler (D) and the adhesive strength between the resin composition and the substrate described later tend to be further improved.

실란 커플링제로는 특별히 한정되지 않고, 일반적으로 무기물의 표면 처리에 사용되는 실란 커플링제를 들 수 있다. 예를 들어, 아미노실란계 화합물 (예를 들어, γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란 등), 에폭시실란계 화합물 (예를 들어, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 등), 아크릴실란계 화합물 (예를 들어, γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란 등), 카티오닉실란계 화합물 (예를 들어, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란염산염 등), 스티릴실란계 화합물, 페닐실란계 화합물 등을 들 수 있다. 실란 커플링제는, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 실란 커플링제는, 에폭시실란계 화합물인 것이 바람직하다. 에폭시실란계 화합물로는, 예를 들어, 신에츠 화학 공업 (주) 제조의 「KBM-403」, 「KBM-303」, 「KBM-402」, 「KBE-403」등을 들 수 있다.The silane coupling agent is not particularly limited and includes silane coupling agents generally used for surface treatment of inorganic materials. For example, aminosilane-based compounds (e.g., γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, etc.), epoxysilane-based compounds (e.g. , γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, etc.), acrylic silane-based compounds (e.g., γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, etc.), cationic silane-based compounds (e.g., N-β-( N-vinylbenzylaminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, etc.), styrylsilane-based compounds, and phenylsilane-based compounds. Silane coupling agents are used individually or in combination of two or more types. Among these, it is preferable that the silane coupling agent is an epoxysilane-based compound. Examples of the epoxysilane-based compound include "KBM-403", "KBM-303", "KBM-402", and "KBE-403" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

실란 커플링제의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 수지 고형분 100 질량부에 대해 0.1 ∼ 10 질량부여도 된다.The content of the silane coupling agent is not particularly limited, but may be 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the resin solid content.

<습윤 분산제><Wetting and dispersing agent>

본 실시형태의 수지 조성물은, 습윤 분산제를 추가로 포함해도 된다. 수지 조성물은 습윤 분산제를 포함함으로써, 충전재의 분산성이 한층 향상되는 경향이 있다.The resin composition of this embodiment may further contain a wetting and dispersing agent. When the resin composition contains a wet dispersant, the dispersibility of the filler tends to be further improved.

습윤 분산제로는, 충전재를 분산시키기 위해서 사용되는 공지된 분산제 (분산 안정제) 이면 되고, 예를 들어 빅 케미·재팬 (주) 제조의 DISPERBYK (등록상표)-110, 111, 118, 180, 161, BYK (등록상표)-W996, W9010, W903 등을 들 수 있다.The wet dispersant may be any known dispersant (dispersion stabilizer) used to disperse the filler, for example, DISPERBYK (registered trademark) -110, 111, 118, 180, 161, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. BYK (registered trademark) -W996, W9010, W903, etc. are mentioned.

습윤 분산제의 함유량은, 특별히 한정되지 않지만, 수지 고형분 100 질량부에 대해, 0.5 질량부 이상 5.0 질량부 이하인 것이 바람직하다.The content of the wetting and dispersing agent is not particularly limited, but is preferably 0.5 parts by mass or more and 5.0 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin solid content.

<경화 촉매><Curing catalyst>

본 실시형태의 수지 조성물은, 경화 촉매를 추가로 포함해도 된다. 경화 촉매로는, 예를 들어 이미다졸 촉매 및 인계 촉매를 들 수 있다. 이들 촉매는 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 이미다졸 촉매가 바람직하다.The resin composition of this embodiment may further contain a curing catalyst. Examples of the curing catalyst include an imidazole catalyst and a phosphorus-based catalyst. These catalysts are used individually or in combination of two or more types. Among these, imidazole catalysts are preferable.

이미다졸 촉매로는, 예를 들면, 상기한 이미다졸을 들 수 있다. 그 중에서도, 에폭시 성분의 단독 중합을 방지하는 관점에서, 2,3-디하이드로-1H-피롤로[1,2-a]벤조이미다졸 및/또는 2,4,5-트리페닐이미다졸 (TPIZ (상품명), 도쿄 화성 공업 (주)) 이 바람직하다.Examples of the imidazole catalyst include the imidazole described above. Among them, from the viewpoint of preventing homopolymerization of the epoxy component, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo[1,2-a]benzimidazole and/or 2,4,5-triphenylimidazole ( TPIZ (trade name), Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) is preferred.

경화 촉매 (바람직하게는 이미다졸 촉매) 의 사용량은, 예를 들면, 수지 고형분 100 질량부에 대해 0.1 ∼ 10 질량부이다.The amount of the curing catalyst (preferably an imidazole catalyst) used is, for example, 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the resin solid content.

<용제><Solvent>

본 실시형태의 수지 조성물은, 용제를 추가로 포함해도 된다. 본 실시형태의 수지 조성물은, 용제를 포함함으로써, 수지 조성물의 조제시에 있어서의 점도가 내려가, 핸들링성 (취급성) 이 더욱 향상되거나, 기재에 대한 함침성이 더욱 향상되거나 하는 경향이 있다.The resin composition of this embodiment may further contain a solvent. By containing a solvent, the resin composition of the present embodiment tends to lower the viscosity at the time of preparation of the resin composition, further improve handling properties, or further improve impregnation into the substrate.

용제로는, 수지 조성물 중의 각 성분의 일부 또는 전부를 용해 가능하면, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 케톤류 (아세톤, 메틸에틸케톤 등), 방향족 탄화수소류 (예를 들어, 톨루엔, 자일렌 등), 아미드류 (예를 들어, 디메틸포름알데히드 등), 프로필렌글리콜모노메틸에테르 및 그 아세테이트 등을 들 수 있다. 이들 용제는, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다.The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve part or all of each component in the resin composition. For example, ketones (acetone, methyl ethyl ketone, etc.), aromatic hydrocarbons (e.g. toluene, xylene, etc.), amides (e.g. dimethyl formaldehyde, etc.), propylene glycol monomethyl ether and its acetate. etc. can be mentioned. These solvents are used individually or in combination of two or more types.

[수지 조성물의 제조 방법][Method for producing resin composition]

본 실시형태의 수지 조성물의 제조 방법으로는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 상기 서술한 각 성분을 일괄적으로 또는 축차적으로 용제에 배합하고, 교반하는 방법을 들 수 있다. 이 때, 각 성분을 균일하게 용해 또는 분산시키기 위해, 교반, 혼합, 혼련 처리 등의 공지된 처리가 이용된다.The method for producing the resin composition of the present embodiment is not particularly limited, but examples include a method of mixing each of the above-described components in a solvent all at once or sequentially and stirring them. At this time, known processes such as stirring, mixing, and kneading are used to uniformly dissolve or disperse each component.

[용도][Usage]

본 실시형태의 수지 조성물은, 경화물, 프리프레그, 수지 시트, 적층판, 금속박 피복 적층판, 프린트 배선판으로서 적합하게 사용할 수 있다. 이하, 이들에 대해 설명한다.The resin composition of this embodiment can be suitably used as a cured product, prepreg, resin sheet, laminated board, metal foil-clad laminated board, and printed wiring board. Below, these will be explained.

[경화물][Hardened product]

경화물은, 본 실시형태의 수지 조성물을 경화시켜 얻어진다. 경화물의 제조 방법으로는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 본 실시형태의 수지 조성물을 용융 또는 용매에 용해시킨 후, 형틀 내에 흘려 넣고, 열이나 광 등을 사용하여 통상적인 조건으로 경화시킴으로써 얻을 수 있다. 열 경화의 경우, 경화 온도는, 경화가 효율적으로 진행되며, 또한 얻어지는 경화물의 열화를 방지하는 관점에서, 120 ∼ 300 ℃ 의 범위 내가 바람직하다.The cured product is obtained by curing the resin composition of this embodiment. The method for producing the cured product is not particularly limited, and can be obtained, for example, by melting or dissolving the resin composition of the present embodiment in a solvent, pouring it into a mold, and curing it under conventional conditions using heat, light, etc. there is. In the case of thermal curing, the curing temperature is preferably within the range of 120 to 300°C from the viewpoint of efficiently progressing curing and preventing deterioration of the resulting cured product.

[수지 시트][Resin sheet]

본 실시형태의 수지 시트는, 지지체와, 지지체의 편면 또는 양면에 배치된 수지층을 갖고, 수지층이, 본 실시형태의 수지 조성물을 포함한다. 수지 시트는, 예를 들어, 본 실시형태의 수지 조성물을 지지체의 편면 또는 양면에 도포함으로써 형성된 것이어도 된다. 수지 시트는, 예를 들면, 금속박이나 필름 등의 지지체에, 직접, 본 실시형태의 수지 조성물 (바니시) 을 도포 및 건조시켜 제조할 수 있다.The resin sheet of this embodiment has a support body and a resin layer disposed on one or both surfaces of the support body, and the resin layer contains the resin composition of this embodiment. The resin sheet may be formed, for example, by applying the resin composition of this embodiment to one side or both sides of a support. The resin sheet can be manufactured, for example, by applying and drying the resin composition (varnish) of this embodiment directly onto a support such as metal foil or film.

지지체로는, 예를 들어, 각종 프린트 배선판 재료에 사용되고 있는 공지된 것을 사용할 수 있으며, 수지 필름 또는 금속박인 것이 바람직하다. 수지 필름 및 금속박으로는, 예를 들어, 폴리이미드 필름, 폴리아미드 필름, 폴리에스테르 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 (PBT) 필름, 폴리프로필렌 (PP) 필름, 폴리에틸렌 (PE) 필름 등의 수지 필름, 및 알루미늄박, 동박, 금박 등의 금속박을 들 수 있다. 지지체는, 이들 중에서도, 전해 동박, PET 필름이 바람직하다.As the support, for example, a known material used in various printed wiring board materials can be used, and a resin film or metal foil is preferable. Resin films and metal foils include, for example, polyimide film, polyamide film, polyester film, polyethylene terephthalate (PET) film, polybutylene terephthalate (PBT) film, polypropylene (PP) film, and polyethylene ( Resin films such as PE) films and metal foils such as aluminum foil, copper foil, and gold foil can be mentioned. Among these, electrolytic copper foil and PET film are preferable for the support.

수지 시트는, 예를 들어, 본 실시형태의 수지 조성물을 지지체에 도포 후, 반경화 (B 스테이지화) 시킴으로써 얻어진다. 수지 시트의 제조 방법은, 일반적으로 B 스테이지 수지 및 지지체의 복합체를 제조하는 방법이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들어, 상기 수지 조성물을 동박 등의 지지체에 도포한 후, 100 ∼ 200 ℃ 의 건조기 중에서, 1 ∼ 60 분 가열시키는 방법 등에 의해 반경화시켜, 수지 시트를 제조하는 방법 등을 들 수 있다. 지지체에 대한 수지 조성물의 부착량은, 수지 시트의 수지 두께로 1.0 ∼ 300 ㎛ 의 범위가 바람직하다. 수지 시트는, 프린트 배선판의 빌드업 재료로서 사용 가능하다.The resin sheet is obtained, for example, by applying the resin composition of this embodiment to a support and then semi-curing it (B-staging). As a method for producing a resin sheet, a method for producing a composite of a B-stage resin and a support is generally preferable. Specifically, for example, after applying the resin composition to a support such as copper foil, the resin composition is semi-cured by heating for 1 to 60 minutes in a dryer at 100 to 200° C. to produce a resin sheet. I can hear it. The adhesion amount of the resin composition to the support is preferably in the range of 1.0 to 300 μm in terms of the resin thickness of the resin sheet. The resin sheet can be used as a build-up material for a printed wiring board.

[프리프레그][Prepreg]

본 실시형태의 프리프레그는, 기재와, 그 기재에 함침 또는 도포된, 본 실시형태의 수지 조성물을 포함한다. 프리프레그의 형성 방법은, 공지된 방법이어도 되고, 구체적으로는, 본 실시형태의 수지 조성물을 기재에 함침 또는 도포시킨 후, 100 ∼ 200 ℃ 의 조건으로 가열 건조시키는 것에 의해 반경화 (B 스테이지화) 시킴으로써 얻어진다.The prepreg of this embodiment includes a base material and the resin composition of this embodiment impregnated or applied to the base material. The method for forming the prepreg may be a known method. Specifically, the resin composition of the present embodiment is impregnated or applied to a substrate, followed by semi-curing by heating and drying under conditions of 100 to 200°C (B-staging). ) is obtained by:

본 실시형태의 프리프레그는, 반경화 상태의 프리프레그를 180 ∼ 230 ℃ 의 가열 온도 및 60 ∼ 180 분의 가열 시간의 조건으로 열경화시켜 얻어지는 경화물의 형태도 포함한다.The prepreg of this embodiment also includes the form of a cured product obtained by heat curing a prepreg in a semi-cured state under the conditions of a heating temperature of 180 to 230 ° C. and a heating time of 60 to 180 minutes.

프리프레그에 있어서의 수지 조성물의 함유량은, 프리프레그의 총량에 대해, 프리프레그의 고형분 환산으로, 바람직하게는 30 ∼ 90 체적% 이고, 보다 바람직하게는 35 ∼ 85 체적% 이고, 더욱 바람직하게는 40 ∼ 80 체적% 이다. 수지 조성물의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 성형성이 보다 향상되는 경향이 있다. 또한, 여기서 말하는 프리프레그의 고형분은, 프리프레그 중에서 용제를 제거한 성분을 말하며, 예를 들어, 충전재는 프리프레그의 고형분에 포함된다. 또한, 여기서 말하는 수지 조성물의 함유량에는, 경화된 수지 조성물의 성분도 포함된다.The content of the resin composition in the prepreg is preferably 30 to 90 volume%, more preferably 35 to 85 volume%, in terms of solid content of the prepreg, relative to the total amount of prepreg, and even more preferably It is 40 to 80 volume%. When the content of the resin composition is within the above range, moldability tends to be further improved. In addition, the solid content of the prepreg referred to here refers to the component from which the solvent has been removed from the prepreg, and for example, the filler is included in the solid content of the prepreg. In addition, the content of the resin composition referred to here also includes components of the cured resin composition.

기재로는, 예를 들어, 각종 프린트 배선판의 재료에 사용되고 있는 공지된 기재를 들 수 있다. 예를 들어, 유리 기재, 유리 이외의 무기 기재 (예를 들어, 쿼츠 등의 유리 이외의 무기 섬유로 구성된 무기 기재), 유기 기재 (예를 들어, 전방향족 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리파라페닐렌벤즈옥사졸, 폴리이미드 등의 유기 섬유로 구성된 유기 기재) 등을 들 수 있다. 이들 기재는, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 가열 치수 안정성이 한층 우수한 관점에서, 유리 기재가 바람직하다.Examples of the base material include known base materials used for materials of various printed wiring boards. For example, glass substrates, inorganic substrates other than glass (e.g., inorganic substrates made of inorganic fibers other than glass, such as quartz), organic substrates (e.g., wholly aromatic polyamide, polyester, polyparaphenylene) and organic substrates composed of organic fibers such as benzoxazole and polyimide. These base materials are used individually or in combination of two or more types. Among these, a glass substrate is preferable from the viewpoint of superior heat dimensional stability.

유리 기재를 구성하는 섬유로는, 예를 들어, E 유리, D 유리, S 유리, T 유리, Q 유리, L 유리, NE 유리, HME 유리 등의 섬유를 들 수 있다. 이들 중에서도, 유리 기재를 구성하는 섬유는, 강도와 저흡수성이 한층 더 우수한 관점에서, E 유리, D 유리, S 유리, T 유리, Q 유리, L 유리, NE 유리, 및 HME 유리로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 섬유인 것이 바람직하다.Examples of the fibers constituting the glass substrate include fibers such as E glass, D glass, S glass, T glass, Q glass, L glass, NE glass, and HME glass. Among these, the fibers constituting the glass substrate are selected from the group consisting of E glass, D glass, S glass, T glass, Q glass, L glass, NE glass, and HME glass from the viewpoint of superior strength and low water absorption. It is preferable that at least one type of fiber is selected.

기재의 형태로는 예를 들면, 직포, 부직포, 로빙, 촙드 스트랜드 매트, 서페이싱 매트 등의 형태를 들 수 있다. 직포의 짜는 방법으로는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 평직, 사자직, 능직 등이 알려져 있고, 이들 공지된 것으로부터 목적으로 하는 용도나 성능에 따라서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또, 이들을 개섬 (開纖) 처리한 것이나 실란 커플링제 등으로 표면 처리한 유리 직포가 바람직하게 사용된다. 기재의 두께나 질량은, 통상 0.01 ∼ 0.1 mm 정도의 것이 바람직하게 사용된다.Examples of the substrate include woven fabric, non-woven fabric, roving, chopped strand mat, and surfacing mat. The weaving method of the woven fabric is not particularly limited, but for example, plain weave, twill weave, twill weave, etc. are known, and these known weaves can be appropriately selected and used depending on the intended use or performance. In addition, glass woven fabrics that have been opened or surface-treated with a silane coupling agent or the like are preferably used. The thickness and mass of the base material are usually preferably around 0.01 to 0.1 mm.

[금속박 피복 적층판][Metal foil clad laminate]

본 실시형태의 금속박 피복 적층판은, 본 실시형태의 수지 시트, 및 본 실시형태의 프리프레그로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 형성된 적층체와, 적층체의 편면 또는 양면에 배치된 금속박을 포함한다. 적층체는, 1 개의 수지 시트 또는 1 개의 프리프레그로 형성되어 있어도 되고, 복수의 수지 시트 및/또는 복수의 프리프레그로 형성되어 있어도 된다.The metal foil-clad laminate of the present embodiment includes a laminate formed of at least one member selected from the group consisting of the resin sheet of the present embodiment and the prepreg of the present embodiment, and metal foil disposed on one or both surfaces of the laminate. do. The laminated body may be formed of one resin sheet or one prepreg, or may be formed of multiple resin sheets and/or multiple prepregs.

금속박 (도체층) 으로는, 각종 프린트 배선판 재료에 사용되는 금속박이면 되고, 예를 들면, 구리, 알루미늄 등의 금속박을 들 수 있으며, 구리의 금속박으로는, 압연 동박, 전해 동박 등의 동박을 들 수 있다. 도체층의 두께는, 예를 들어 1 ∼ 70 ㎛ 이고, 바람직하게는 1.5 ∼ 35 ㎛ 이다.The metal foil (conductor layer) may be any metal foil used in various printed wiring board materials, and examples include metal foils such as copper and aluminum. Examples of the copper foil include copper foils such as rolled copper foil and electrolytic copper foil. You can. The thickness of the conductor layer is, for example, 1 to 70 μm, and is preferably 1.5 to 35 μm.

금속박 피복 적층판의 성형 방법 및 그 성형 조건은 특별히 한정되지 않고, 일반적인 프린트 배선판용 적층판 및 다층판의 수법 및 조건을 적용할 수 있다. 예를 들어, 적층판 (상기 서술한 적층체) 또는 금속박 피복 적층판의 성형시에는, 다단 프레스기, 다단 진공 프레스기, 연속 성형기, 오토클레이브 성형기 등을 사용할 수 있다. 또한, 적층판 (상기 서술한 적층체) 또는 금속박 피복 적층판의 성형 (적층 성형) 에 있어서, 온도는 100 ∼ 300 ℃, 압력은 면압 2 ∼ 100 kgf/cm2, 가열 시간은 0.05 ∼ 5 시간의 범위가 일반적이다. 또한 필요에 따라서, 150 ∼ 300 ℃ 의 온도에서 후경화를 실시할 수도 있다. 특히 다단 프레스기를 사용한 경우는, 프리프레그의 경화를 충분히 촉진시키는 관점에서, 온도 200 ∼ 250 ℃, 압력 10 ∼ 40 kgf/cm2, 가열 시간 80 ∼ 130 분이 바람직하고, 온도 215 ∼ 235 ℃, 압력 25 ∼ 35 kgf/cm2, 가열 시간 90 ∼ 120 분이 보다 바람직하다. 또, 프리프레그와, 별도 제작한 내층용의 배선판을 조합하여 적층 성형함으로써, 다층판으로 하는 것도 가능하다.The forming method and conditions for forming the metal foil-clad laminate are not particularly limited, and general methods and conditions for laminates and multilayer boards for printed wiring boards can be applied. For example, when molding a laminate (the above-described laminate) or a metal foil-clad laminate, a multi-stage press machine, a multi-stage vacuum press machine, a continuous molding machine, an autoclave molding machine, etc. can be used. In addition, in the molding (lamination molding) of a laminate (the above-mentioned laminate) or a metal foil-clad laminate, the temperature is 100 to 300 ° C., the pressure is in the range of 2 to 100 kgf / cm 2 , and the heating time is in the range of 0.05 to 5 hours. is common. Additionally, if necessary, post-curing may be performed at a temperature of 150 to 300°C. In particular, when a multi-stage press machine is used, from the viewpoint of sufficiently promoting curing of the prepreg, a temperature of 200 to 250 ° C., a pressure of 10 to 40 kgf / cm 2 , and a heating time of 80 to 130 minutes are preferable, and a temperature of 215 to 235 ° C. and a pressure of 80 to 130 minutes are preferable. 25 to 35 kgf/cm 2 and a heating time of 90 to 120 minutes are more preferable. In addition, it is also possible to make a multilayer board by combining prepreg and a separately manufactured wiring board for the inner layer and lamination molding.

[프린트 배선판][Printed wiring board]

본 실시형태의 프린트 배선판은, 절연층과, 절연층의 편면 또는 양면에 형성된 도체층을 갖고, 절연층이 본 실시형태의 수지 조성물의 경화물을 포함한다. 절연층은, 본 실시형태의 수지 시트 및/또는 프리프레그로 형성되는 것이 바람직하다. 프린트 배선판은, 예를 들면, 본 실시형태의 금속박 피복 적층판의 금속박을 소정의 배선 패턴으로 에칭하여 도체층으로 함으로써 형성할 수 있다.The printed wiring board of this embodiment has an insulating layer and a conductor layer formed on one side or both sides of the insulating layer, and the insulating layer contains a cured product of the resin composition of this embodiment. The insulating layer is preferably formed from the resin sheet and/or prepreg of this embodiment. A printed wiring board can be formed, for example, by etching the metal foil of the metal foil-clad laminate of the present embodiment into a predetermined wiring pattern to form a conductor layer.

프린트 배선판은, 예를 들면, 이하의 방법에 의해 제조할 수 있다. 먼저, 본 실시형태의 금속박 피복 적층판을 준비한다. 금속박 피복 적층판의 금속박을 소정의 배선 패턴으로 에칭하여 도체층 (내층 회로) 을 갖는 내층 기판을 제작한다. 다음으로, 내층 기판의 도체층 (내장 회로) 표면에, 소정 수의 프리프레그와, 외층 회로용의 금속박을 이 순서로 적층하고, 가열 가압하여 일체 성형 (적층 성형) 함으로써, 적층체를 얻는다. 또한, 적층 성형의 방법 및 그 성형 조건은, 상기한 적층판 및 금속박 피복 적층판에 있어서의 적층 성형의 방법 및 그 성형 조건과 동일하다. 다음으로, 적층체에 스루홀, 비아홀용의 구멍뚫기 가공을 실시하고, 이것에 의해 형성된 구멍의 벽면에 도체층 (내장 회로) 과, 외층 회로용의 금속박을 도통시키기 위한 도금 금속 피막을 형성한다. 다음으로, 외층 회로용의 금속박을 소정의 배선 패턴으로 에칭하여 도체층 (외층 회로) 을 갖는 외층 기판을 제작한다. 이와 같이 하여 프린트 배선판이 제조된다.A printed wiring board can be manufactured by, for example, the following method. First, the metal foil-clad laminate of this embodiment is prepared. The metal foil of the metal foil-clad laminate is etched into a predetermined wiring pattern to produce an inner layer substrate having a conductor layer (inner layer circuit). Next, a predetermined number of prepregs and a metal foil for the outer layer circuit are laminated on the surface of the conductor layer (built-in circuit) of the inner layer substrate in this order, heated and pressed, and integrally molded (lamination molding) to obtain a laminate. In addition, the method of lamination molding and its molding conditions are the same as the method and molding conditions of lamination molding for the above-mentioned laminated board and metal foil-clad laminated board. Next, the laminate is subjected to hole drilling processing for through holes and via holes, and a plating metal film is formed on the wall of the hole thus formed to conduct the conductor layer (built-in circuit) and the metal foil for the outer layer circuit. . Next, the metal foil for the outer layer circuit is etched into a predetermined wiring pattern to produce an outer layer substrate with a conductor layer (outer layer circuit). In this way, a printed wiring board is manufactured.

또, 금속박 피복 적층판을 사용하지 않는 경우에는, 상기 절연층에, 회로가 되는 도체층을 형성하여 프린트 배선판을 제조해도 된다. 이 때, 도체층의 형성에 무전해 도금의 수법을 이용할 수도 있다.In addition, when a metal foil-clad laminate is not used, a printed wiring board may be manufactured by forming a conductor layer that becomes a circuit on the insulating layer. At this time, electroless plating may be used to form the conductor layer.

상기 제조예에서 얻어지는 프린트 배선판은, 절연층과, 이 절연층의 표면에 형성된 도체층을 갖고, 절연층이 본 실시형태에 관련된 수지 조성물의 경화물을 포함하는 구성이 된다. 즉, 본 실시형태에 관련된 프리프레그 (기재 및 이것에 함침 또는 도포된 본 실시형태의 수지 조성물의 경화물을 포함한다), 본 실시형태의 금속박 피복 적층판의 수지 조성물의 층 (본 실시형태의 수지 조성물의 경화물을 포함하는 층) 이, 본 실시형태의 수지 조성물의 경화물을 포함하는 절연층으로부터 구성되게 된다.The printed wiring board obtained in the above production example has an insulating layer and a conductor layer formed on the surface of the insulating layer, and the insulating layer contains a cured product of the resin composition according to the present embodiment. That is, the prepreg according to the present embodiment (including the base material and the cured product of the resin composition of the present embodiment impregnated or applied thereto), the layer of the resin composition of the metal foil-clad laminate of the present embodiment (the resin of the present embodiment) The layer containing the cured product of the composition) is composed of an insulating layer containing the cured product of the resin composition of the present embodiment.

실시예Example

이하, 본 실시형태를 실시예 및 비교예를 사용하여 보다 구체적으로 설명한다. 본 실시형태는, 이하의 실시예에 의해 하등 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, this embodiment will be described in more detail using examples and comparative examples. This embodiment is not limited in any way by the examples below.

〔중량 평균 분자량 (Mw) 의 측정 방법〕[Method for measuring weight average molecular weight (Mw)]

열경화성 화합물의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 이하와 같이, GPC 법에 의해 측정하였다. 열경화성 화합물 0.5 g 을 2 g 의 테트라하이드로푸란 (THF) 에 용해시킨 용액 20 μL 를, 고속 액체 크로마토그래피 ((주) 시마즈 제작소, 펌프 : LC-20AD (상품명)) 에 주입하여, 분석을 실시하였다. 칼럼은, 쇼와 전공 제조 Shodex (등록상표) GPC KF-804 (상품명, 길이 30 cm×내경 8 mm), Shodex (등록상표) GPC KF-803 (상품명, 길이 30 cm×내경 8 mm), Shodex (등록상표) GPC KF-802 (상품명, 길이 30 cm×내경 8 mm), 및 Shodex (등록상표) GPC KF-801 (상품명, 길이 30 cm×내경 8 mm) 의 합계 4 개 사용하고, 이동상으로서 THF (용제) 를 사용하고, 유속을 1 mL/min. 으로 하며, 검출기는 RID-10A (상품명, 시차 굴절률 검출기, (주) 시마즈 제작소) 를 사용하였다. 중량 평균 분자량 (Mw) 은, GPC 법에 의해 표준 폴리스티렌을 표준 물질로 하여 구했다.The weight average molecular weight (Mw) of the thermosetting compound was measured by GPC method as follows. 20 μL of a solution of 0.5 g of a thermosetting compound dissolved in 2 g of tetrahydrofuran (THF) was injected into high-performance liquid chromatography (Shimadzu Corporation, pump: LC-20AD (brand name)) for analysis. . The column is Shodex (registered trademark) GPC KF-804 (brand name, length 30 cm (registered trademark) GPC KF-802 (trade name, length 30 cm Use THF (solvent) and set the flow rate to 1 mL/min. , and the detector used was RID-10A (product name, differential refractive index detector, Shimadzu Corporation). The weight average molecular weight (Mw) was determined by GPC method using standard polystyrene as a standard material.

〔제조예 1〕 몰리브덴산아연암모늄 수화물 ((NH4)Zn2MoO9·(H3O)) 의 합성[Preparation Example 1] Synthesis of zinc ammonium molybdate hydrate ((NH 4 )Zn 2 MoO 9 ·(H 3 O))

순수 100 g 에 몰리브덴산암모늄 0.015 mol (30.0 g) 과 염화아연 0.105 mol (14.3 g) 을 용해하였다. 이 용액에, 20 ℃ 에서 교반하면서, 10 mol/L 의 수산화나트륨 수용액 0.5 g 을 적하하여, 침전을 얻었다.0.015 mol (30.0 g) of ammonium molybdate and 0.105 mol (14.3 g) of zinc chloride were dissolved in 100 g of pure water. To this solution, 0.5 g of a 10 mol/L aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise while stirring at 20°C to obtain a precipitate.

생성된 침전을 멤브레인 필터로 여과한 후, 120 ℃ 에서 1 시간 건조하여, 백색의 분체를 얻었다. 얻어진 분체를 X 선 회절 장치 ((주) 리가쿠 MiniFlex600 (상품명)) 로 분석한 결과, 몰리브덴산아연암모늄 수화물 ((NH4)Zn2MoO9·(H3O)) 인 것을 확인하였다.The resulting precipitate was filtered through a membrane filter and then dried at 120°C for 1 hour to obtain a white powder. As a result of analyzing the obtained powder with an

계속해서, 얻어진 분체에 대하여, 제트밀 분쇄기 (닛신 엔지니어링 (주), 슈퍼제트밀 SJ-500) 를 사용하여 분쇄 처리를 실시하고, 분쇄 처리에서 얻어진 분체를 레이저 회절·산란식 입자경 분포 측정 장치 (Microtrac MT3300EXII (상품명)) 로 측정한 결과, 평균 입자경 (D50 입자경) 은 2.2 ㎛ 였다.Subsequently, the obtained powder was subjected to pulverization using a jet mill grinder (Nissin Engineering Co., Ltd., Super Jet Mill SJ-500), and the powder obtained from the pulverization process was subjected to a laser diffraction/scattering type particle size distribution measuring device ( As a result of measurement with Microtrac MT3300EXII (brand name), the average particle diameter (D50 particle diameter) was 2.2 ㎛.

〔제조예 2〕 15 nm 의 실리카로 표면을 피복한 몰리브덴산아연암모늄 수화물 (실리카 코팅 몰리브덴산아연암모늄 수화물) 의 분체의 제조[Preparation Example 2] Preparation of powder of zinc ammonium molybdate hydrate (silica-coated zinc ammonium molybdate hydrate) whose surface is coated with 15 nm of silica.

용기 중에서, 제조예 1 에서 얻어진 몰리브덴산아연암모늄 수화물의 분체 (평균 입자경 2.2 ㎛) 33 g 을 에탄올 100 ml 에 분산시키고, 오일 배스에서 용기를 가열함으로써, 얻어진 분산액의 액온을 55 ℃ 로 유지하였다. 이것에 실리콘테트라에톡시드 6 g 과 암모니아수 (29 % 농도) 6 g 을 첨가하여, 교반하면서 2 시간 반응시켰다. 그 후, 건조 및 가열 처리하여, 피막 두께가 15 nm 가 되도록 조절하였다. 그 후, 에탄올로 희석 세정, 여과하고, 진공 건조기를 사용하여 110 ℃ 에서 3 시간 건조시켰다. 건조 후, 회전식 튜브로를 사용하여 650 ℃ 에서 30 분간의 가열 처리를 실시함으로써, 실리카 코팅 몰리브덴산아연암모늄 수화물의 분체 (평균 입자경 : 2.5 ㎛) 를 얻었다. 얻어진 실리카 코팅 몰리브덴산아연암모늄 수화물의 분체의 분산 상태는 매우 양호하였다.In a container, 33 g of the powder of zinc ammonium molybdate hydrate (average particle diameter 2.2 μm) obtained in Production Example 1 was dispersed in 100 ml of ethanol, and the liquid temperature of the obtained dispersion was maintained at 55° C. by heating the container in an oil bath. To this, 6 g of silicon tetraethoxide and 6 g of aqueous ammonia (29% concentration) were added, and the mixture was allowed to react for 2 hours while stirring. Afterwards, it was dried and heat treated to adjust the film thickness to 15 nm. After that, it was diluted with ethanol, washed, filtered, and dried at 110°C for 3 hours using a vacuum dryer. After drying, heat treatment was performed at 650°C for 30 minutes using a rotary tube furnace to obtain silica-coated zinc ammonium molybdate hydrate powder (average particle diameter: 2.5 μm). The dispersion state of the obtained silica-coated zinc ammonium molybdate hydrate powder was very good.

〔합성예 1〕1-나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물 (SN495V-CN) 의 합성[Synthesis Example 1] Synthesis of 1-naphthol aralkyl type cyanate ester compound (SN495V-CN)

상기 식 (2b) 에 있어서의 R2a 가 모두 수소 원자인 α-나프톨아르알킬형 페놀 수지 (SN495V, OH 기 당량 : 236 g/mol, 신닛테츠 화학 (주) 제조) 300 g (하이드록시기 (OH 기) 환산 1.28 mol) 및 트리에틸아민 194.6 g (1.92 mol) (하이드록시기 1 mol 에 대해 1.5 mol) 을 디클로로메탄 1800 g 에 용해시켜, 이것을 용액 1 로 하였다. 염화시안 125.9 g (2.05 mol) (하이드록실기 1 mol 에 대해 1.6 mol), 디클로로메탄 293.8 g, 36 % 염산 194.5 g (1.92 mol) (하이드록실기 1 mol 에 대해 1.5 mol), 물 1205.9 g 을, 교반하에, 액온 -2 ∼ -0.5 ℃ 로 유지하면서, 용액 1 을 30 분에 걸쳐 주하 (注下) 하였다. 용액 1 의 주하 종료 후, 동 온도에서 30 분 교반한 후, 트리에틸아민 65 g (0.64 mol) (하이드록시기 1 mol 에 대해 0.5 mol) 을 디클로로메탄 65 g 에 용해시킨 용액 (용액 2) 을 10 분에 걸쳐 주하하였다. 용액 2 의 주하 종료 후, 동 온도에서 30 분 교반하여 반응을 완결시켰다. 그 후 반응액을 가만히 두어 유기상과 수상을 분리하였다. 얻어진 유기상을 물 1300 g 으로 5 회 세정하였다. 수세 5 회째의 폐수의 전기 전도도는 5 μS/cm 이고, 물에 의한 세정에 의해 제거할 수 있는 이온성 화합물은 충분히 제거되어 있음을 확인하였다. 수세 후의 유기상을 감압하에서 농축하고, 최종적으로 90 ℃ 에서 1 시간 농축 건고 (乾固) 시켜 목적으로 하는 1-나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물 (SN495V-CN, 시안산에스테르기 당량 : 261 g/mol) (등색 점성물) 331 g 을 얻었다. 얻어진 SN495V-CN 의 적외 흡수 스펙트럼은 2250 cm-1 (시안산에스테르기) 의 흡수를 나타내고, 또한, 하이드록시기의 흡수는 나타내지 않았다.300 g of α-naphthol aralkyl type phenol resin (SN495V, OH group equivalent: 236 g/mol, manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd.) in which all R 2a in the formula (2b) is a hydrogen atom (hydroxyl group ( OH group (1.28 mol) and 194.6 g (1.92 mol) of triethylamine (1.5 mol per 1 mol of hydroxy group) were dissolved in 1800 g of dichloromethane to prepare Solution 1. 125.9 g (2.05 mol) of cyanogen chloride (1.6 mol per 1 mol of hydroxyl group), 293.8 g of dichloromethane, 194.5 g (1.92 mol) of 36% hydrochloric acid (1.5 mol per 1 mol of hydroxyl group), and 1205.9 g of water. Solution 1 was poured over 30 minutes while stirring and maintaining the liquid temperature at -2 to -0.5°C. After completing the addition of solution 1, stirring at the same temperature for 30 minutes, a solution (solution 2) prepared by dissolving 65 g (0.64 mol) of triethylamine (0.5 mol for 1 mol of hydroxyl group) in 65 g of dichloromethane was added. The injection was administered over 10 minutes. After completion of adding solution 2, the reaction was completed by stirring at the same temperature for 30 minutes. Afterwards, the reaction solution was left alone to separate the organic phase and the aqueous phase. The obtained organic phase was washed 5 times with 1300 g of water. The electrical conductivity of the wastewater after the 5th washing with water was 5 μS/cm, and it was confirmed that ionic compounds that can be removed by washing with water were sufficiently removed. The organic phase after washing with water was concentrated under reduced pressure, and finally concentrated to dryness at 90°C for 1 hour to obtain the target 1-naphthol aralkyl type cyanate ester compound (SN495V-CN, cyanate ester group equivalent: 261 g/ mol) (orange viscous substance) 331 g was obtained. The obtained infrared absorption spectrum of SN495V-CN showed absorption at 2250 cm -1 (cyanic acid ester group) and did not show absorption of the hydroxy group.

〔실시예 1〕[Example 1]

(중합체 (B1) 의 제조)(Preparation of polymer (B1))

말레이미드 화합물 (말레이미드기 당량 285 g/mol, BMI-80 (상품명), 케이·아이 화성 (주)) 14 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르 (KH 네오켐 (주)) 40 질량부에 가열 환류 온도 130 ℃ 의 조건하에 있어서 용해시킨 용액에, 디아미노 변성 실리콘 (아미노기 당량 1500 g/mol, X-22-161B (상품명), 신에츠 화학 공업 (주)) 10 질량부를 용해 및 반응시켜, 1 차 폴리머를 조제하였다. 그 후, 가열 환류 온도 130 ℃ 의 조건하에서 교반을 계속하고, ICI 점도계 (콘 플레이트형 점도계, 토와 공업사 제조) 로 1 차 폴리머를 포함하는 용액의 점도가 200 ∼ 300 mPa·s 까지 증가한 시점에서, 이 용액에, 무수 숙신산 (도쿄 화성사 제조) 1.0 질량부를 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 (다우·케미컬사 제조) 22.5 질량부에 용해시킨 용액을 첨가하고, 가열 환류 온도 130 ℃ 의 조건하인 채로, 수 시간 반응시켜, 열경화성 화합물 (B) 인 중합체 (B1) 을 포함하는 용액을 얻었다.Maleimide compound (maleimide group equivalent weight 285 g/mol, BMI-80 (brand name), K.I Chemical Co., Ltd.) 14 parts by mass is heated to reflux with 40 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether (KH Neochem Co., Ltd.) In a solution dissolved under conditions of a temperature of 130°C, 10 parts by mass of diamino-modified silicone (amino group equivalent 1500 g/mol, A polymer was prepared. After that, stirring was continued under the condition of a heating-reflux temperature of 130°C, and when the viscosity of the solution containing the primary polymer increased to 200 to 300 mPa·s using an ICI viscometer (cone plate type viscometer, manufactured by Towa Kogyo Co., Ltd.), To this solution, a solution prepared by dissolving 1.0 parts by mass of succinic anhydride (manufactured by Tokyo Chemical Company) in 22.5 parts by mass of propylene glycol monoethyl ether acetate (manufactured by Dow Chemical Company) was added, under the condition of a heating-reflux temperature of 130°C. The reaction was conducted for several hours to obtain a solution containing polymer (B1), which is a thermosetting compound (B).

얻어진 중합체 (B1) 은, 분자 중에, 말레이미드기와 폴리실록산 구조를 포함하는 것을 확인하였다.It was confirmed that the obtained polymer (B1) contained a maleimide group and a polysiloxane structure in the molecule.

또한, 중합체 (B1) 은, 아미노 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와, 말레이미드 화합물에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 것을 확인하였다.In addition, it was confirmed that the polymer (B1) contains a structural unit derived from amino-modified silicone and a structural unit derived from a maleimide compound.

또한, JIS K 7237 : 1995 에 준거하여, 중합체 (B1) 중에 있어서의 1 급 아민 및 2 급 아민의 합계량을 측정한 결과, 중합체 (B1) 의 아민가는 0.1 mgKOH/g 이었다.In addition, based on JIS K 7237:1995, the total amount of primary amine and secondary amine in polymer (B1) was measured, and the amine value of polymer (B1) was 0.1 mgKOH/g.

또한, 중합체 (B1) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 상기한 방법으로 측정한 결과, GPC 법에 있어서의 폴리스티렌 환산으로 12000 이었다.Additionally, the weight average molecular weight (Mw) of polymer (B1) was measured by the method described above and was found to be 12000 in terms of polystyrene in the GPC method.

(프리프레그의 제조)(Manufacture of prepreg)

얻어진 중합체 (B1) 25 질량부 (고형분 환산) 와, 말레이미드 화합물 (말레이미드기 당량 186 g/mol, BMI-2300 (상품명), 다이와 화성 공업 (주)) 35 질량부와, 비페닐아르알킬형 에폭시 수지 (NC-3000H (상품명), 닛폰 화약 (주)) 8 질량부와, 알케닐 치환 나드이미드 화합물 (알케닐기 당량 286 g/mol, BANI-M (상품명), 마루젠 석유 화학 (주)) 32 질량부와, 제조예 2 에서 얻어진 실리카 코팅 몰리브덴산아연암모늄 수화물의 분체 3 질량부와, 슬러리 실리카 (SC-2050MB (상품명), (주) 아드마텍스) 200 질량부와, 에폭시실란 커플링제 (KBM-403 (상품명), 도레이·다우 코팅 (주)) 5 질량부와, 습윤 분산제 (DISPERBYK-161 (상품명), 빅 케미·재팬 (주)) 1 질량부와, 2,4,5-트리페닐이미다졸 (도쿄 화성 공업사 제조) 1 질량부와, 용제로서 메틸에틸케톤을 혼합하여, 바니시 (수지 조성물) 를 얻었다. 이 바니시를 S 유리 직포 (두께 100 ㎛) 에 함침 도공하고, 150 ℃ 에서 3 분간 가열 건조시켜, 수지 조성물의 고형분 (충전재를 포함한다) 함유량 46 질량% 의 프리프레그를 얻었다.25 parts by mass of the obtained polymer (B1) (solid content conversion), 35 parts by mass of a maleimide compound (maleimide group equivalent 186 g/mol, BMI-2300 (trade name), Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.), and biphenyl aralkyl 8 parts by mass of type epoxy resin (NC-3000H (trade name), Nippon Kayak Co., Ltd.), and an alkenyl-substituted nadimide compound (alkenyl group equivalent weight 286 g/mol, BANI-M (trade name), Maruzen Petrochemical Co., Ltd. )) 32 parts by mass, 3 parts by mass of the powder of the silica-coated zinc ammonium molybdate hydrate obtained in Production Example 2, 200 parts by mass of slurry silica (SC-2050MB (trade name), Admatex Co., Ltd.), and epoxysilane 5 parts by mass of coupling agent (KBM-403 (brand name), Toray Dow Coating Co., Ltd.), 1 part by mass of wetting and dispersing agent (DISPERBYK-161 (brand name), Big Chemie Japan Co., Ltd.), 2, 4, 1 part by mass of 5-triphenylimidazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was mixed with methyl ethyl ketone as a solvent to obtain a varnish (resin composition). This varnish was impregnated and coated on S glass woven fabric (thickness 100 µm) and dried by heating at 150°C for 3 minutes to obtain a prepreg with a solid content (including filler) of the resin composition of 46% by mass.

(금속박 피복 적층판의 제조)(Manufacture of metal foil clad laminate)

얻어진 프리프레그를 4 장 중첩하여, 적층체를 얻었다. 이 적층체의 양면에 12 ㎛ 두께의 전해 동박 (3EC-III, 미츠이 금속 광업(주) 제조) 을 배치하고, 압력 30 kgf/cm2, 220 ℃, 및 120 분간의 진공 프레스를 실시하여 적층 성형함으로써, 절연층의 두께가 0.8 mm 인 금속박 피복 적층판 (양면 구리 피복 적층판) 을 제작하였다.Four sheets of the obtained prepreg were overlapped to obtain a laminate. Electrolytic copper foil (3EC-III, manufactured by Mitsui Metal Mining Co., Ltd.) with a thickness of 12 μm was placed on both sides of this laminate, and vacuum pressing was performed at a pressure of 30 kgf/cm 2 , 220° C., and 120 minutes for lamination molding. By doing so, a metal foil-clad laminate (double-sided copper-clad laminate) with an insulating layer thickness of 0.8 mm was produced.

〔실시예 2〕[Example 2]

제조예 2 에서 얻어진 실리카 코팅 몰리브덴산아연암모늄 수화물의 분체 3 질량부 대신에, 제조예 1 에서 얻어진 몰리브덴산아연암모늄 수화물의 분체 3 질량부를 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.A prepreg was prepared in the same manner as in Example 1, except that 3 parts by mass of the powder of the silica-coated zinc ammonium molybdate hydrate obtained in Preparation Example 2 was used instead of 3 parts by mass of the powder of the silica-coated zinc ammonium molybdate hydrate obtained in Preparation Example 1. got it

얻어진 프리프레그를 사용해서, 실시예 1 과 동일하게 하여, 절연층의 두께가 0.8 mm 인 금속박 피복 적층판 (양면 구리 피복 적층판) 을 제작하였다.Using the obtained prepreg, a metal foil-clad laminate (double-sided copper-clad laminate) with an insulating layer thickness of 0.8 mm was produced in the same manner as in Example 1.

〔실시예 3〕[Example 3]

(중합체 (B2) 의 제조)(Preparation of polymer (B2))

온도계, 딤로트를 장착한 3 구 플라스크에, 디알릴비스페놀 A (DABPA (상품명), 다이와 화성 공업 (주)) 5.3 질량부, 비스크레졸플루오렌 (BCF (상품명), 오사카 가스 화학 (주)) 5.8 질량부, 에폭시 변성 실리콘 b1 (X-22-163 (상품명), 신에츠 화학 공업 (주), 관능기 당량 200 g/mol) 4.4 질량부, 에폭시 변성 실리콘 b2 (KF-105 (상품명), 신에츠 화학 공업 (주), 관능기 당량 490 g/mol) 8.7 질량부, 비페닐형 에폭시 화합물 c1 (YL-6121H (상품명), 미츠비시 케미컬 (주)) 5.8 질량부, 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 (DOWANOL PMA (상품명), 다우·케미컬 일본 (주)) 30 질량부를 첨가하고, 오일 배스에서 120 ℃ 까지 가열 교반하였다. 이들 원료가 용제에 용해된 것을 확인한 후, 이미다졸 촉매 (TBZ (상품명), 시코쿠 화성 공업 (주)) 0.3 질량부를 첨가하여 140 ℃ 까지 승온하고, 5 시간 교반하였다. 냉각 후, 열경화성 화합물 (B) 인 중합체 (B2) 를 포함하는 용액 (고형분 50 질량%) 을 얻었다. 또한, 중합체 (B2) 의 조제에 사용하였다.In a three-necked flask equipped with a thermometer and a dimrot, 5.3 parts by mass of diallylbisphenol A (DABPA (trade name), Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.), biscresol fluorene (BCF (trade name), Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) 5.8 parts by mass, epoxy-modified silicone b1 (X-22-163 (trade name), Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., functional group equivalent 200 g/mol) 4.4 parts by mass, epoxy-modified silicone b2 (KF-105 (trade name), Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Kogyo Co., Ltd., functional group equivalent weight 490 g/mol) 8.7 parts by mass, biphenyl-type epoxy compound c1 (YL-6121H (trade name), Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) 5.8 parts by mass, propylene glycol monomethyl ether acetate (DOWANOL) as solvent 30 parts by mass of PMA (trade name), Dow Chemical Japan Co., Ltd.) was added, and the mixture was heated and stirred in an oil bath to 120°C. After confirming that these raw materials were dissolved in the solvent, 0.3 parts by mass of an imidazole catalyst (TBZ (trade name), Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.) was added, the temperature was raised to 140°C, and the mixture was stirred for 5 hours. After cooling, a solution (solid content: 50% by mass) containing polymer (B2), which is a thermosetting compound (B), was obtained. It was also used in the preparation of polymer (B2).

또한, 디알릴비스페놀 A 는, 「알케닐페놀」에 상당하고, 에폭시 변성 실리콘 b1 및 에폭시 변성 실리콘 b2 는, 「에폭시 변성 실리콘」에 상당하고, 비페닐형 에폭시 화합물 c1 은, 「에폭시 화합물 C」에 상당한다.In addition, diallylbisphenol A corresponds to “alkenylphenol,” epoxy-modified silicone b1 and epoxy-modified silicone b2 correspond to “epoxy-modified silicone,” and biphenyl-type epoxy compound c1 corresponds to “epoxy compound C.” Equivalent to

얻어진 중합체 (B2) 는, 분자 중에, 에폭시기와, 하이드록시기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 것을 확인하였다.It was confirmed that the obtained polymer (B2) contained an epoxy group, a hydroxy group, and a polysiloxane structure in the molecule.

또한, 중합체 (B2) 는, 알케닐페놀에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위와, 페놀 화합물에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 것을 확인하였다.In addition, it was confirmed that polymer (B2) contains structural units derived from alkenylphenol, structural units derived from epoxy modified silicone, structural units derived from epoxy compounds, and structural units derived from phenol compounds. .

또한, 중합체 (B2) 에 대한 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위의 함유량은, 43.5 질량% 였다.Additionally, the content of structural units derived from epoxy-modified silicone in polymer (B2) was 43.5 mass%.

또한, 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위 및 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위의 총 질량 (100 질량%) 에 대한, 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위의 함유량은, 30.8 질량% 였다.Additionally, the content of the structural unit derived from the epoxy compound relative to the total mass (100 mass%) of the structural units derived from the epoxy modified silicone and the structural units derived from the epoxy compound was 30.8 mass%.

또한, 중합체 (B2) 중에 있어서의 알케닐기 당량은, 872 g/mol 이었다.Additionally, the alkenyl group equivalent weight in polymer (B2) was 872 g/mol.

중합체 (B2) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, GPC 법에 있어서의 폴리스티렌 환산으로 11900 이었다.The weight average molecular weight (Mw) of polymer (B2) was 11900 in terms of polystyrene according to the GPC method.

(프리프레그의 제조)(Manufacture of prepreg)

얻어진 중합체 (B2) 를 포함하는 용액 30 질량부 (고형분 환산) 에, 합성예 1 에 의해 얻어진 1-나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물 26 질량부와, 노볼락형 말레이미드 화합물 (BMI-2300 (상품명), 다이와 화성 공업 (주)) 17 질량부와, 나프탈렌 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 (에폭시기 (관능기) 당량 : 244 g/eq, HP-9540 (상품명), DIC (주)) 27 질량부와, 제조예 2 에서 얻어진 실리카 코팅 몰리브덴산아연암모늄 수화물의 분체 3 질량부와, 슬러리 실리카 (SC-2050MB (상품명), (주) 아드마텍스) 200 질량부와, 에폭시 실란 커플링제 (KBM-403 (상품명), 도레이·다우 코팅 (주)) 5 질량부와, 습윤 분산제 (DISPERBYK-161 (상품명), 빅 케미·재팬 (주)) 1 질량부와, 2,4,5-트리페닐이미다졸 (도쿄 화성 공업사 제조) 0.5 질량부와, 용제로서 메틸에틸케톤을 혼합하여, 바니시 (수지 조성물) 를 얻었다. 이 바니시를 S 유리 직포 (두께 100 ㎛) 에 함침 도공하고, 150 ℃ 에서 3 분간 가열 건조시켜, 수지 조성물의 고형분 (충전재를 포함한다) 함유량 46 질량% 의 프리프레그를 얻었다.To 30 parts by mass (in terms of solid content) of the solution containing the obtained polymer (B2), 26 parts by mass of the 1-naphthol aralkyl type cyanate compound obtained in Synthesis Example 1 and a novolac type maleimide compound (BMI-2300 ( Product name), Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.) 17 parts by mass, naphthalene cresol novolac type epoxy resin (epoxy group (functional group) equivalent weight: 244 g/eq, HP-9540 (product name), DIC Co., Ltd.) 27 parts by mass , 3 parts by mass of the powder of the silica-coated zinc ammonium molybdate hydrate obtained in Production Example 2, 200 parts by mass of slurry silica (SC-2050MB (trade name), Admatex Co., Ltd.), and an epoxy silane coupling agent (KBM-403) (brand name), Toray Dow Coating Co., Ltd.) 5 parts by mass, wetting and dispersing agent (DISPERBYK-161 (brand name), Big Chemi Japan Co., Ltd.) 1 part by mass, and 2,4,5-triphenyl imida 0.5 parts by mass of sol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was mixed with methyl ethyl ketone as a solvent to obtain a varnish (resin composition). This varnish was impregnated and coated on S glass woven fabric (thickness 100 µm) and dried by heating at 150°C for 3 minutes to obtain a prepreg with a solid content (including filler) of the resin composition of 46% by mass.

(금속박 피복 적층판의 제조)(Manufacture of metal foil clad laminate)

얻어진 프리프레그를 4 장 중첩하여, 적층체를 얻었다. 이 적층체의 양면에 12 ㎛ 두께의 전해 동박 (3EC-III, 미츠이 금속 광업 (주) 제조) 을 배치하고, 압력 30 kgf/cm2, 220 ℃, 120 분간의 진공 프레스를 실시하여 적층 성형함으로써, 절연층의 두께가 0.8 mm 인 금속박 피복 적층판 (양면 구리 피복 적층판) 을 제작하였다.Four sheets of the obtained prepreg were overlapped to obtain a laminate. Electrolytic copper foil (3EC-III, manufactured by Mitsui Metal Mining Co., Ltd.) with a thickness of 12 ㎛ is placed on both sides of this laminate, and vacuum pressed at a pressure of 30 kgf/cm 2 at 220° C. for 120 minutes to form a laminate. , a metal foil-clad laminate (double-sided copper-clad laminate) with an insulating layer thickness of 0.8 mm was produced.

〔비교예 1〕[Comparative Example 1]

(프리프레그의 제조)(Manufacture of prepreg)

비스말레이미드 화합물 (BMI-70 (상품명), 케이·아이 화성 (주)) 21.2 질량부와, 나프탈렌형 페놀 수지 (HPC-9500-60M (상품명), DIC (주)) 16.8 질량부와, 비페닐아르알킬형 페놀 수지 (GPH-103 (상품명), 닛폰 화약 (주)) 16.8 질량부와, 비페닐아르알킬형 에폭시 수지 (NC-3000H (상품명), 닛폰 화약 (주)) 42.2 질량부와, 몰리브덴산아연으로 표면을 피복한 탤크의 분체 (평균 입자경 3 ㎛, KEMGARD911C, 셔윈윌리엄스 제조) 5 질량부와, 제조예 1 에서 얻어진 몰리브덴산아연암모늄 수화물의 분체 3 질량부와, 슬러리 실리카 (SC-2050MB (상품명), (주) 아드마텍스) 120 질량부와, 에폭시실란 커플링제 (KBM-403 (상품명), 도레이·다우 코팅 (주)) 5 질량부와, 습윤 분산제 (DISPERBYK-161 (상품명), 빅 케미·재팬 (주)) 1 질량부와, 2,4,5-트리페닐이미다졸 (도쿄 화성 공업사 제조) 0.5 질량부와, 용제로서 메틸에틸케톤을 혼합하여, 바니시 (수지 조성물) 를 얻었다. 이 바니시를 S 유리 직포 (두께 100 ㎛) 에 함침 도공하고, 150 ℃ 에서 3 분간 가열 건조시켜, 수지 조성물의 고형분 (충전재를 포함한다) 함유량 46 질량% 의 프리프레그를 얻었다.Bismaleimide compound (BMI-70 (trade name), K.I Chemical Co., Ltd.) 21.2 parts by mass, naphthalene type phenol resin (HPC-9500-60M (trade name), DIC Co., Ltd.) 16.8 parts by mass, ratio 16.8 parts by mass of phenyl aralkyl type phenol resin (GPH-103 (trade name), Nippon Kayak Co., Ltd.), and 42.2 parts by mass of biphenyl aralkyl type epoxy resin (NC-3000H (trade name), Nippon Kayak Co., Ltd.) , 5 parts by mass of talc powder (average particle diameter 3 μm, KEMGARD911C, manufactured by Sherwin Williams) whose surface was coated with zinc molybdate, 3 parts by mass of powder of zinc ammonium molybdate hydrate obtained in Production Example 1, and slurry silica (SC) -2050MB (trade name), 120 parts by mass of Admatex Co., Ltd.), 5 parts by mass of epoxysilane coupling agent (KBM-403 (trade name), Toray Dow Coating Co., Ltd.), and wetting and dispersing agent (DISPERBYK-161 ( 1 part by mass of (brand name), Big Chemie Japan Co., Ltd.), 0.5 parts by mass of 2,4,5-triphenylimidazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and methyl ethyl ketone as a solvent were mixed to prepare a varnish (resin). composition) was obtained. This varnish was impregnated and coated on S glass woven fabric (thickness 100 µm) and dried by heating at 150°C for 3 minutes to obtain a prepreg with a solid content (including filler) of the resin composition of 46% by mass.

(금속박 피복 적층판의 제조)(Manufacture of metal foil clad laminate)

얻어진 프리프레그를 4 장 중첩하여, 적층체를 얻었다. 이 적층체의 양면에 12 ㎛ 두께의 전해 동박 (3EC-III, 미츠이 금속 광업 (주) 제조) 을 배치하고, 압력 30 kgf/cm2, 220 ℃, 120 분간의 진공 프레스를 실시하여 적층 성형함으로써, 절연층의 두께가 0.8 mm 인 금속박 피복 적층판 (양면 구리 피복 적층판) 을 제작하였다.Four sheets of the obtained prepreg were overlapped to obtain a laminate. Electrolytic copper foil (3EC-III, manufactured by Mitsui Metal Mining Co., Ltd.) with a thickness of 12 ㎛ is placed on both sides of this laminate, and vacuum pressed at a pressure of 30 kgf/cm 2 at 220° C. for 120 minutes to form a laminate. , a metal foil-clad laminate (double-sided copper-clad laminate) with an insulating layer thickness of 0.8 mm was produced.

〔비교예 2〕[Comparative Example 2]

(프리프레그의 제조)(Manufacture of prepreg)

합성예 1 에 의해 얻어진 1-나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물 37 질량부와, 노볼락형 말레이미드 화합물 (BMI-2300 (상품명), 다이와 화성 공업 (주)) 24 질량부와, 나프탈렌 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 (에폭시기 (관능기) 당량 : 244 g/eq, HP-9540 (상품명), DIC (주)) 39 질량부와, 제조예 2 에서 얻어진 실리카 코팅 몰리브덴산아연암모늄 수화물의 분체 3 질량부와, 슬러리 실리카 (SC-2050MB (상품명), (주) 아드마텍스) 200 질량부와, 실리콘 복합 파우더 (KMP-605 (상품명), 신에츠 화학 공업 (주)) 15 질량부와, 에폭시 실란 커플링제 (KBM-403 (상품명), 도레이·다우 코팅 (주)) 5 질량부와, 습윤 분산제 (DISPERBYK-161 (상품명), 빅 케미·재팬 (주)) 1 질량부와, 2,4,5-트리페닐이미다졸 (도쿄 화성 공업사 제조) 0.5 질량부와, 용제로서 메틸에틸케톤을 혼합하여, 바니시 (수지 조성물) 를 얻었다. 이 바니시를 S 유리 직포 (두께 100 ㎛) 에 함침 도공하고, 150 ℃ 에서 3 분간 가열 건조시켜, 수지 조성물의 고형분 (충전재를 포함한다) 함유량 46 질량% 의 프리프레그를 얻었다.37 parts by mass of the 1-naphthol aralkyl type cyanate compound obtained in Synthesis Example 1, 24 parts by mass of a novolak type maleimide compound (BMI-2300 (trade name), Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.), and naphthalene cresol 39 parts by mass of rock-type epoxy resin (epoxy group (functional group) equivalent: 244 g/eq, HP-9540 (brand name), DIC Co., Ltd.) and 3 parts by mass of powder of silica-coated zinc ammonium molybdate hydrate obtained in Production Example 2 200 parts by mass of slurry silica (SC-2050MB (trade name), Admatex Co., Ltd.), 15 parts by mass of silicon composite powder (KMP-605 (trade name), Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and an epoxy silane couple. Ringing agent (KBM-403 (brand name), Toray Dow Coating Co., Ltd.) 5 parts by mass, wetting and dispersing agent (DISPERBYK-161 (brand name), Big Chemi Japan Co., Ltd.) 1 part by mass, 2, 4, 5 -0.5 parts by mass of triphenylimidazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was mixed with methyl ethyl ketone as a solvent to obtain a varnish (resin composition). This varnish was impregnated and coated on S glass woven fabric (thickness 100 µm) and dried by heating at 150°C for 3 minutes to obtain a prepreg with a solid content (including filler) of the resin composition of 46% by mass.

(금속박 피복 적층판의 제조)(Manufacture of metal foil clad laminate)

얻어진 프리프레그를 4 장 중첩하여, 적층체를 얻었다. 이 적층체의 양면에 12 ㎛ 두께의 전해 동박 (3EC-III, 미츠이 금속 광업 (주) 제조) 을 배치하고, 압력 30 kgf/cm2, 220 ℃, 120 분간의 진공 프레스를 실시하여 적층 성형함으로써, 절연층의 두께가 0.8 mm 인 금속박 피복 적층판 (양면 구리 피복 적층판) 을 제작하였다.Four sheets of the obtained prepreg were overlapped to obtain a laminate. Electrolytic copper foil (3EC-III, manufactured by Mitsui Metal Mining Co., Ltd.) with a thickness of 12 ㎛ is placed on both sides of this laminate, and vacuum pressed at a pressure of 30 kgf/cm 2 at 220° C. for 120 minutes to form a laminate. , a metal foil-clad laminate (double-sided copper-clad laminate) with an insulating layer thickness of 0.8 mm was produced.

〔비교예 3〕[Comparative Example 3]

제조예 2 에서 얻어진 실리카 코팅 몰리브덴산아연암모늄 수화물의 분체를 사용하지 않고, 실리콘 복합 파우더 (KMP-605 (상품명), 신에츠 화학 공업 (주)) 를 15 질량부 대신에 25 질량부 배합한 것 이외에는, 비교예 2 와 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.Except that the powder of the silica-coated zinc ammonium molybdate hydrate obtained in Production Example 2 was not used, and 25 parts by mass of silicon composite powder (KMP-605 (trade name), Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added instead of 15 parts by mass. A prepreg was obtained in the same manner as in Comparative Example 2.

얻어진 프리프레그를 사용해서, 비교예 2 와 동일하게 하여, 절연층의 두께가 0.8 mm 인 금속박 피복 적층판 (양면 구리 피복 적층판) 을 제작하였다.Using the obtained prepreg, a metal foil-clad laminate (double-sided copper-clad laminate) with an insulating layer thickness of 0.8 mm was produced in the same manner as in Comparative Example 2.

〔비교예 4〕[Comparative Example 4]

제조예 2 에서 얻어진 실리카 코팅 몰리브덴산아연암모늄 수화물의 분체를 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.A prepreg was obtained in the same manner as in Example 1, except that the powder of the silica-coated zinc ammonium molybdate hydrate obtained in Production Example 2 was not used.

얻어진 프리프레그를 사용해서, 실시예 1 과 동일하게 하여, 절연층의 두께가 0.8 mm 인 금속박 피복 적층판 (양면 구리 피복 적층판) 을 제작하였다.Using the obtained prepreg, a metal foil-clad laminate (double-sided copper-clad laminate) with an insulating layer thickness of 0.8 mm was produced in the same manner as in Example 1.

〔평가〕〔evaluation〕

실시예 및 비교예에서 얻어진 금속박 피복 적층판을 사용하여, 다음 방법에 의해 드릴 가공성을 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Using the metal foil-clad laminates obtained in Examples and Comparative Examples, drill workability was evaluated by the following method. The results are shown in Table 1.

(드릴 가공성)(Drill machinability)

실시예 및 비교예에서 얻어진 금속박 피복 적층판을 사용하여, 드릴 가공성 (구멍 위치 정밀도) 의 평가를 실시하였다. 평가는, 다음의 드릴 가공 조건으로 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Drill workability (hole position accuracy) was evaluated using the metal foil-clad laminates obtained in the examples and comparative examples. The evaluation was conducted under the following drilling conditions. The results are shown in Table 1.

엔트리 시트 (미츠비시 가스 화학 (주) 제조 LE R12F3 (상품명)), 금속박 피복 적층판 3 장 (기재 두께 & 스택 : 0.8 mm×3) 및 백업 보드 (니혼 데코락스 (주) 제조 SPB-W (상품명)) 를 이 순서대로 포개고, 가공기 (히타치 비아메카닉스 (주) 제조 ND-1 V212 (상품명)) 를 사용하여, 이하의 조건으로 드릴 가공을 실시하여, 드릴 가공 구멍의 위치 편차량을 측정하였다. 이 위치 편차량은, 3 장 포개어 가공한 금속박 피복 적층판 중, 가장 아래의 금속박 피복 적층판의 뒷면측의 위치 편차량으로 하였다. 또한, 위치 편차량은, 드릴 1 개당 가공 구멍에 대해서 전수 측정하며, 표 1 의 측정 결과는, 위치 편차량의 평균값+3σ 를 나타낸다 (σ 는 표준 편차치를 나타낸다).Entry sheet (LE R12F3 (product name) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), 3 sheets of metal foil-clad laminate (base thickness & stack: 0.8 mm × 3), and backing board (SPB-W (product name) manufactured by Nippon Decorax Co., Ltd. ) were stacked in this order, drilling was performed using a processing machine (ND-1 V212 (trade name) manufactured by Hitachi Via Mechanics Co., Ltd.) under the following conditions, and the amount of positional deviation of the drilled hole was measured. This positional deviation amount was set as the positional deviation amount on the back side of the lowest metal foil clad laminate among three metal foil clad laminates processed by stacking them. In addition, the amount of positional deviation is measured for all holes processed per drill, and the measurement results in Table 1 show the average value of the amount of positional deviation + 3σ (σ represents the standard deviation value).

(가공 조건)(processing conditions)

드릴 비트 : 유니온 툴 (주) 제조 MC L692BWU (상품명) 0.15 mm×2.7 mmDrill bit: MC L692BWU manufactured by Union Tool Co., Ltd. (Product name) 0.15 mm × 2.7 mm

비트 직경 : 0.15 mmBit diameter: 0.15 mm

회전수 : 160 krpmRotation speed: 160 krpm

이송 속도 : 1.6 m/minFeed speed: 1.6 m/min

인입 속도 : 25.4 m/minRetraction speed: 25.4 m/min

돌입량 : 0.3 mmInjection amount: 0.3 mm

가공 구멍수 : 5000 (hit) 또는 10000 (hit)Number of holes processed: 5000 (hit) or 10000 (hit)

Figure pct00053
Figure pct00053

본 출원은, 2021년 08월 05일에 출원된 일본 특허출원 (특원 2021-128685호) 에 기초한 것으로, 그 내용은 여기에 참조로서 받아들여진다.This application is based on a Japanese patent application (Japanese Patent Application No. 2021-128685) filed on August 5, 2021, the contents of which are hereby incorporated by reference.

본 발명에 의하면, 드릴 가공성이 우수한 수지 시트 및 프리프레그의 제조에 적합하게 사용되는 수지 조성물, 그 수지 조성물을 사용하여 얻어지는, 수지 시트, 프리프레그, 금속박 피복 적층판, 및 프린트 배선판을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a resin composition suitably used in the production of resin sheets and prepregs with excellent drillability, and resin sheets, prepregs, metal foil-clad laminates, and printed wiring boards obtained by using the resin composition. .

Claims (29)

몰리브덴 화합물 (A) 와,
말레이미드기, 아미노기, 에폭시기, 카르복실기, 비닐기, 하이드록시기, 및 (메트)아크릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기와, 폴리실록산 구조를 포함하는 열경화성 화합물 (B) 와,
상기 열경화성 화합물 (B) 와는 상이한 열경화성 수지 (C) 와,
상기 몰리브덴 화합물 (A) 와는 상이한 무기 충전재 (D) 를 포함하는, 수지 조성물.
Molybdenum compound (A) and,
A thermosetting compound (B) comprising at least one group selected from the group consisting of a maleimide group, an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, a vinyl group, a hydroxy group, and a (meth)acrylic group, and a polysiloxane structure,
A thermosetting resin (C) different from the thermosetting compound (B),
A resin composition containing an inorganic filler (D) different from the molybdenum compound (A).
제 1 항에 있어서,
상기 몰리브덴 화합물 (A) 가, 몰리브덴산, 몰리브덴산아연, 몰리브덴산암모늄, 몰리브덴산나트륨, 몰리브덴산칼륨, 몰리브덴산칼슘, 이황화몰리브덴, 삼산화몰리브덴, 몰리브덴산 수화물, 및 몰리브덴산아연암모늄 수화물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는, 수지 조성물.
According to claim 1,
The molybdenum compound (A) is a group consisting of molybdate, zinc molybdate, ammonium molybdate, sodium molybdate, potassium molybdate, calcium molybdate, molybdenum disulfide, molybdenum trioxide, molybdate hydrate, and zinc ammonium molybdate hydrate. A resin composition containing at least one member selected from the following.
제 1 항에 있어서,
상기 열경화성 화합물 (B) 가 상기 말레이미드기를 포함하는, 수지 조성물.
According to claim 1,
A resin composition in which the thermosetting compound (B) contains the maleimide group.
제 1 항에 있어서,
상기 열경화성 화합물 (B) 가 적어도, 아미노 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와, 말레이미드 화합물에서 유래하는 구성 단위를 포함하는, 수지 조성물.
According to claim 1,
A resin composition in which the thermosetting compound (B) contains at least a structural unit derived from amino-modified silicone and a structural unit derived from a maleimide compound.
제 1 항에 있어서,
상기 열경화성 화합물 (B) 가 적어도, 아미노 변성 실리콘과, 말레이미드 화합물과, 카르복실산 및/또는 카르복실산 무수물을 중합하여 얻어지는 중합체인, 수지 조성물.
According to claim 1,
A resin composition in which the thermosetting compound (B) is a polymer obtained by polymerizing at least an amino-modified silicone, a maleimide compound, and carboxylic acid and/or carboxylic acid anhydride.
제 4 항에 있어서,
상기 아미노 변성 실리콘이, 하기 식 (1) 로 나타내는 아미노 변성 실리콘을 포함하는, 수지 조성물.
Figure pct00054

(식 (1) 중, Ra 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, Rb 는, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기 또는 아릴렌기를 나타내고, n 은 1 ∼ 100 의 정수를 나타낸다.)
According to claim 4,
A resin composition in which the amino-modified silicone contains amino-modified silicone represented by the following formula (1).
Figure pct00054

(In formula (1), R a each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group, R b each independently represents a single bond, an alkylene group or an arylene group, and n is an integer of 1 to 100. represents.)
제 1 항에 있어서,
상기 몰리브덴 화합물 (A) 가, 몰리브덴산, 몰리브덴산아연, 몰리브덴산암모늄, 몰리브덴산나트륨, 몰리브덴산칼륨, 몰리브덴산칼슘, 이황화몰리브덴, 삼산화몰리브덴, 몰리브덴산 수화물, 및 몰리브덴산아연암모늄 수화물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고,
상기 열경화성 화합물 (B) 가 상기 말레이미드기를 포함하고,
상기 열경화성 화합물 (B) 가 적어도, 아미노 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와, 말레이미드 화합물에서 유래하는 구성 단위를 추가로 포함하고,
상기 아미노 변성 실리콘이, 하기 식 (1) 로 나타내는 아미노 변성 실리콘을 포함하는, 수지 조성물.
Figure pct00055

(식 (1) 중, Ra 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, Rb 는, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기 또는 아릴렌기를 나타내고, n 은 1 ∼ 100 의 정수를 나타낸다.)
According to claim 1,
The molybdenum compound (A) is a group consisting of molybdate, zinc molybdate, ammonium molybdate, sodium molybdate, potassium molybdate, calcium molybdate, molybdenum disulfide, molybdenum trioxide, molybdate hydrate, and zinc ammonium molybdate hydrate. Contains at least one species selected from,
The thermosetting compound (B) contains the maleimide group,
The thermosetting compound (B) further contains at least a structural unit derived from amino-modified silicone and a structural unit derived from a maleimide compound,
A resin composition in which the amino-modified silicone contains amino-modified silicone represented by the following formula (1).
Figure pct00055

(In formula (1), R a each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group, R b each independently represents a single bond, an alkylene group or an arylene group, and n is an integer of 1 to 100. represents.)
제 1 항에 있어서,
상기 열경화성 화합물 (B) 가, 상기 에폭시기 및/또는 상기 하이드록시기를 포함하는, 수지 조성물.
According to claim 1,
A resin composition in which the thermosetting compound (B) contains the epoxy group and/or the hydroxy group.
제 1 항에 있어서,
상기 열경화성 화합물 (B) 가 적어도, 알케닐페놀에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와, 상기 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위를 포함하는, 수지 조성물.
According to claim 1,
A resin composition in which the thermosetting compound (B) contains at least a structural unit derived from alkenylphenol, a structural unit derived from epoxy-modified silicone, and a structural unit derived from an epoxy compound other than the epoxy-modified silicone.
제 1 항에 있어서,
상기 열경화성 화합물 (B) 가 적어도, 알케닐페놀과, 에폭시 변성 실리콘과, 상기 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물을 중합하여 얻어지는 중합체인, 수지 조성물.
According to claim 1,
A resin composition in which the thermosetting compound (B) is a polymer obtained by polymerizing at least an alkenylphenol, an epoxy-modified silicone, and an epoxy compound other than the epoxy-modified silicone.
제 8 항에 있어서,
상기 에폭시 변성 실리콘이, 하기 식 (2) 로 나타내는 에폭시 변성 실리콘을 포함하는, 수지 조성물.
Figure pct00056

(식 (2) 중, R1 은, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기, 아릴렌기 또는 아르알킬렌기를 나타내고, R2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n 은 0 ∼ 100 의 정수를 나타낸다.)
According to claim 8,
A resin composition in which the epoxy-modified silicone contains epoxy-modified silicone represented by the following formula (2).
Figure pct00056

(In formula (2), R 1 each independently represents a single bond, an alkylene group, an arylene group or an aralkylene group, R 2 each independently represents an alkyl group or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer from 0 to 100.)
제 1 항에 있어서,
상기 몰리브덴 화합물 (A) 가, 몰리브덴산, 몰리브덴산아연, 몰리브덴산암모늄, 몰리브덴산나트륨, 몰리브덴산칼륨, 몰리브덴산칼슘, 이황화몰리브덴, 삼산화몰리브덴, 몰리브덴산 수화물, 및 몰리브덴산아연암모늄 수화물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고,
상기 열경화성 화합물 (B) 가, 상기 에폭시기 및/또는 상기 하이드록시기를 포함하고,
상기 열경화성 화합물 (B) 가 적어도, 알케닐페놀에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와, 상기 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위를 추가로 포함하고,
상기 에폭시 변성 실리콘이, 하기 식 (2) 로 나타내는 에폭시 변성 실리콘을 포함하는, 수지 조성물.
Figure pct00057

(식 (2) 중, R1 은, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기, 아릴렌기 또는 아르알킬렌기를 나타내고, R2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n 은 0 ∼ 100 의 정수를 나타낸다.)
According to claim 1,
The molybdenum compound (A) is a group consisting of molybdate, zinc molybdate, ammonium molybdate, sodium molybdate, potassium molybdate, calcium molybdate, molybdenum disulfide, molybdenum trioxide, molybdate hydrate, and zinc ammonium molybdate hydrate. Contains at least one species selected from,
The thermosetting compound (B) contains the epoxy group and/or the hydroxy group,
The thermosetting compound (B) further comprises at least a structural unit derived from alkenylphenol, a structural unit derived from epoxy-modified silicone, and a structural unit derived from an epoxy compound other than the epoxy-modified silicone,
A resin composition in which the epoxy-modified silicone contains epoxy-modified silicone represented by the following formula (2).
Figure pct00057

(In formula (2), R 1 each independently represents a single bond, an alkylene group, an arylene group or an aralkylene group, R 2 each independently represents an alkyl group or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer from 0 to 100.)
제 1 항에 있어서,
상기 열경화성 수지 (C) 가, 말레이미드 화합물, 시안산에스테르 화합물, 페놀 화합물, 알케닐 치환 나드이미드 화합물, 및 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는, 수지 조성물.
According to claim 1,
A resin composition in which the thermosetting resin (C) contains at least one member selected from the group consisting of a maleimide compound, a cyanate ester compound, a phenol compound, an alkenyl substituted nadimide compound, and an epoxy resin.
제 13 항에 있어서,
상기 열경화성 수지 (C) 가 말레이미드 화합물을 포함하는, 수지 조성물.
According to claim 13,
A resin composition in which the thermosetting resin (C) contains a maleimide compound.
제 14 항에 있어서,
상기 말레이미드 화합물이, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)-페닐)프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 폴리테트라메틸렌옥사이드-비스(4-말레이미드벤조에이트) 및 하기 식 (4) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는, 수지 조성물.
Figure pct00058

(식 (4) 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n1 은 1 이상의 정수를 나타낸다.)
According to claim 14,
The maleimide compound is bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis(4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl)propane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-malei) A resin composition containing at least one member selected from the group consisting of midphenyl)methane, polytetramethylene oxide-bis(4-maleimide benzoate), and a maleimide compound represented by the following formula (4).
Figure pct00058

(In formula (4), R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 or more.)
제 14 항에 있어서,
상기 말레이미드 화합물이 하기 식 (9) 로 나타내는 말레이미드 화합물을 포함하는, 수지 조성물.
Figure pct00059

(식 (9) 중, R13 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n4 는 1 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.)
According to claim 14,
A resin composition in which the maleimide compound contains a maleimide compound represented by the following formula (9).
Figure pct00059

(In formula (9), R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and n 4 represents an integer from 1 to 10.)
제 1 항에 있어서,
상기 무기 충전재 (D) 가, 실리카, 수산화알루미늄, 알루미나, 베마이트, 질화붕소, 질화알루미늄, 산화티탄, 티탄산바륨, 산화마그네슘, 및 수산화마그네슘으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는, 수지 조성물.
According to claim 1,
A resin wherein the inorganic filler (D) contains at least one member selected from the group consisting of silica, aluminum hydroxide, alumina, boehmite, boron nitride, aluminum nitride, titanium oxide, barium titanate, magnesium oxide, and magnesium hydroxide. Composition.
제 1 항에 있어서,
상기 몰리브덴 화합물 (A) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 0.1 ∼ 30 질량부인, 수지 조성물.
According to claim 1,
A resin composition in which the content of the molybdenum compound (A) is 0.1 to 30 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C).
제 1 항에 있어서,
상기 열경화성 화합물 (B) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 5 ∼ 50 질량부인, 수지 조성물.
According to claim 1,
A resin composition in which the content of the thermosetting compound (B) is 5 to 50 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C).
제 1 항에 있어서,
상기 열경화성 수지 (C) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 50 ∼ 95 질량부인, 수지 조성물.
According to claim 1,
A resin composition in which the content of the thermosetting resin (C) is 50 to 95 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C).
제 1 항에 있어서,
상기 무기 충전재 (D) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 40 ∼ 600 질량부인, 수지 조성물.
According to claim 1,
A resin composition in which the content of the inorganic filler (D) is 40 to 600 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C).
제 7 항에 있어서,
상기 열경화성 수지 (C) 가, 말레이미드 화합물, 시안산에스테르 화합물, 페놀 화합물, 알케닐 치환 나드이미드 화합물, 및 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고,
상기 열경화성 수지 (C) 가 말레이미드 화합물을 포함하고,
상기 말레이미드 화합물이, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)-페닐)프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 폴리테트라메틸렌옥사이드-비스(4-말레이미드벤조에이트), 하기 식 (4) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 및 하기 식 (9) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고,
상기 무기 충전재 (D) 가, 실리카, 수산화알루미늄, 알루미나, 베마이트, 질화붕소, 질화알루미늄, 산화티탄, 티탄산바륨, 산화마그네슘 및 수산화마그네슘으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고,
상기 몰리브덴 화합물 (A) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 0.1 ∼ 30 질량부이고,
상기 열경화성 화합물 (B) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 5 ∼ 50 질량부이고,
상기 열경화성 수지 (C) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 50 ∼ 95 질량부이고,
상기 무기 충전재 (D) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 40 ∼ 600 질량부인, 수지 조성물.
Figure pct00060

(식 (4) 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n1 은 1 이상의 정수를 나타낸다.)
Figure pct00061

(식 (9) 중, R13 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n4 는 1 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.)
According to claim 7,
The thermosetting resin (C) contains at least one member selected from the group consisting of a maleimide compound, a cyanate ester compound, a phenol compound, an alkenyl substituted nadimide compound, and an epoxy resin,
The thermosetting resin (C) contains a maleimide compound,
The maleimide compound is bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis(4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl)propane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-malei) At least one selected from the group consisting of midphenyl)methane, polytetramethylene oxide-bis(4-maleimide benzoate), a maleimide compound represented by the following formula (4), and a maleimide compound represented by the following formula (9) Includes species,
The inorganic filler (D) contains at least one member selected from the group consisting of silica, aluminum hydroxide, alumina, boehmite, boron nitride, aluminum nitride, titanium oxide, barium titanate, magnesium oxide, and magnesium hydroxide,
The content of the molybdenum compound (A) is 0.1 to 30 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C),
The content of the thermosetting compound (B) is 5 to 50 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C),
The content of the thermosetting resin (C) is 50 to 95 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C),
A resin composition in which the content of the inorganic filler (D) is 40 to 600 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C).
Figure pct00060

(In formula (4), R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 or more.)
Figure pct00061

(In formula (9), R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and n 4 represents an integer from 1 to 10.)
제 12 항에 있어서,
상기 열경화성 수지 (C) 가, 말레이미드 화합물, 시안산에스테르 화합물, 페놀 화합물, 알케닐 치환 나드이미드 화합물, 및 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고,
상기 열경화성 수지 (C) 가 말레이미드 화합물을 포함하고,
상기 말레이미드 화합물이, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)-페닐)프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 폴리테트라메틸렌옥사이드-비스(4-말레이미드벤조에이트), 하기 식 (4) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 및 하기 식 (9) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고,
상기 무기 충전재 (D) 가, 실리카, 수산화알루미늄, 알루미나, 베마이트, 질화붕소, 질화알루미늄, 산화티탄, 티탄산바륨, 산화마그네슘 및 수산화마그네슘으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하고,
상기 몰리브덴 화합물 (A) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 0.1 ∼ 30 질량부이고,
상기 열경화성 화합물 (B) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 5 ∼ 50 질량부이고,
상기 열경화성 수지 (C) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 50 ∼ 95 질량부이고,
상기 무기 충전재 (D) 의 함유량이, 상기 열경화성 화합물 (B) 와 상기 열경화성 수지 (C) 의 합계 100 질량부에 대해 40 ∼ 600 질량부인, 수지 조성물.
Figure pct00062

(식 (4) 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n1 은 1 이상의 정수를 나타낸다.)
Figure pct00063

(식 (9) 중, R13 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n4 는 1 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.)
According to claim 12,
The thermosetting resin (C) contains at least one member selected from the group consisting of a maleimide compound, a cyanate ester compound, a phenol compound, an alkenyl substituted nadimide compound, and an epoxy resin,
The thermosetting resin (C) contains a maleimide compound,
The maleimide compound is bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis(4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl)propane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-malei) At least one selected from the group consisting of midphenyl)methane, polytetramethylene oxide-bis(4-maleimide benzoate), a maleimide compound represented by the following formula (4), and a maleimide compound represented by the following formula (9) Includes species,
The inorganic filler (D) contains at least one member selected from the group consisting of silica, aluminum hydroxide, alumina, boehmite, boron nitride, aluminum nitride, titanium oxide, barium titanate, magnesium oxide, and magnesium hydroxide,
The content of the molybdenum compound (A) is 0.1 to 30 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C),
The content of the thermosetting compound (B) is 5 to 50 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C),
The content of the thermosetting resin (C) is 50 to 95 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C),
A resin composition in which the content of the inorganic filler (D) is 40 to 600 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the thermosetting compound (B) and the thermosetting resin (C).
Figure pct00062

(In formula (4), R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 or more.)
Figure pct00063

(In formula (9), R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and n 4 represents an integer from 1 to 10.)
지지체와,
상기 지지체의 편면 또는 양면에 배치된 수지층을 갖고,
상기 수지층이, 제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물을 포함하는, 수지 시트.
A support body,
It has a resin layer disposed on one or both sides of the support,
A resin sheet in which the resin layer contains the resin composition according to any one of claims 1 to 23.
기재와,
상기 기재에 함침 또는 도포된, 제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물을 포함하는, 프리프레그.
With equipment,
A prepreg comprising the resin composition according to any one of claims 1 to 23, impregnated or applied to the substrate.
제 24 항에 기재된 수지 시트로 형성된 적층체와,
상기 적층체의 편면 또는 양면에 배치된 금속박을 포함하는, 금속박 피복 적층판.
A laminate formed from the resin sheet according to claim 24,
A metal foil-clad laminate comprising metal foil disposed on one or both sides of the laminate.
제 25 항에 기재된 프리프레그로 형성된 적층체와,
상기 적층체의 편면 또는 양면에 배치된 금속박을 포함하는, 금속박 피복 적층판.
A laminate formed from the prepreg according to claim 25,
A metal foil-clad laminate comprising metal foil disposed on one or both sides of the laminate.
제 24 항에 기재된 수지 시트, 및 제 25 항에 기재된 프리프레그로 형성된 적층체와,
상기 적층체의 편면 또는 양면에 배치된 금속박을 포함하는, 금속박 피복 적층판.
A laminate formed from the resin sheet according to claim 24 and the prepreg according to claim 25,
A metal foil-clad laminate comprising metal foil disposed on one or both sides of the laminate.
절연층과,
상기 절연층의 편면 또는 양면에 형성된 도체층을 갖고,
상기 절연층이, 제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물의 경화물을 포함하는, 프린트 배선판.
an insulating layer,
It has a conductor layer formed on one or both sides of the insulating layer,
A printed wiring board in which the insulating layer contains a cured product of the resin composition according to any one of claims 1 to 23.
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