KR20240030642A - 가스 공급 장치 및 가스 공급 방법 - Google Patents

가스 공급 장치 및 가스 공급 방법 Download PDF

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Abstract

가스 공급 장치로써, 공정 챔버로 공정 가스를 공급하도록 구비되는 공급 라인을 포함하고, 그리고 상기 공정 챔버를 사용하는 처리 공정에서의 공정 조건을 제어하도록 구비되는 제어부를 더 포함할 수 있는데, 상기 제어부는 공정 대기시에는 상기 공급 라인에 잔류하는 잔류 가스가 제거될 수 있게 공급 라인을 펌핑하도록 상기 공정 조건을 제어하고, 그리고 상기 공정 대기 이후 이루어지는 공정 수행시에는 상기 공급 라인으로 공정 가스가 공급될 수 있게 상기 공급 라인이 가압 상태가 유지되도록 상기 공정 조건을 제어할 수 있다.

Description

가스 공급 장치 및 가스 공급 방법{APPARATUS FOR SUPPLYING GAS AND METHOD FOR SUPPLYING GAS}
본 발명은 가스 공급 장치 및 가스 공급 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게 본 발명은 반도체 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조에서의 박막 증착 공정, 식각 공정 등에 사용되는 공정 가스를 공급하기 위한 가스 공급 장치 및 가스 공급 방법에 관한 것이다.
반도체 소자 등과 같은 집적회로 소자는 기판 상에 박막을 증착하는 박막 증착 공정, 기판 상에 증착한 박막을 식각하는 식각 공정 등과 같은 다양한 단위 공정들을 수행함에 의해 제조될 수 있다.
언급한 박막 증착 공정, 식각 공정 등은 공정 조건에 부합하는 공정 가스들을 사용함에 의해 수행될 수 있고, 그리고 공급 라인을 포함하는 가스 공급 장치를 사용하여 공정 챔버로 공정 가스를 공급함에 의해 수행될 수 있다.
다만, 공정 가스를 공급하는 처리 공정 중에서 공정 대기시 공급 라인을 일정 진공 상태를 유지할 경우에는 공급 라인으로 외부 가스가 유입될 가능성이 있고, 이후 공정 수행에서 공정 가스와 함께 외부 가스도 공정 챔버로 공급될 수 있을 것이고, 그 결과 공정 챔버를 오염시킬 수도 있을 것이다.
또한, 공정 대기 이후 공정 수행시 일정 진공 상태를 유지하고 있는 공급 라인을 공정 가스로 충분하게 충진시키기 위해서는 상대적으로 많은 시간이 소요될 수 있고, 다량의 공정 가스가 소모되는 상황까지도 발생할 수 있을 것이다.
그리고 적어도 두 개의 공급 라인들을 어느 한 지점에서 전부 결속시키는 단일 공급 라인을 공정 챔버와 연결하는 구조를 갖는 가스 공급 장치를 사용하여 공정 챔버로 적어도 두 가지의 공정 가스들을 혼합하여 공급할 경우 단일 공급 라인으로 적어도 두 가지의 공정 가스가 함께 공급될 수 있을 것이고, 이에 적어도 두 가지의 공정 가스가 단일 공급 라인에 잔류할 경우 이후 추가로 공급되는 공정 가스와 혼합되는 상황이 발생할 수 있고, 이는 가스 혼합으로 인한 안전 문제가 야기되는 원인이 될 수도 있을 것이다.
본 발명의 일 과제는 공정 가스를 공급하는 공급 라인의 상태를 공정 대기시 그리고 공정 수행시에 부합되는 공정 조건으로 제어하도록 이루어지는 가스 공급 장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 다른 과제는 공정 가스를 공급하는 공급 라인의 상태를 공정 대기시 그리고 공정 수행시에 부합되는 공정 조건으로 제어하도록 이루어지는 가스 공급 방법을 제공하는데 있다.
상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치로써, 공정 챔버로 공정 가스를 공급하도록 구비되는 공급 라인을 포함하고, 그리고 상기 공정 챔버를 사용하는 처리 공정에서의 공정 조건을 제어하도록 구비되는 제어부를 더 포함할 수 있는데, 상기 제어부는 공정 대기시에는 상기 공급 라인에 잔류하는 잔류 가스가 제거될 수 있게 공급 라인을 펌핑하도록 상기 공정 조건을 제어하고, 그리고 상기 공정 대기 이후 이루어지는 공정 수행시에는 상기 공급 라인으로 공정 가스가 공급될 수 있게 상기 공급 라인이 가압 상태가 유지되도록 상기 공정 조건을 제어할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 공급 라인은 적어도 두 가지의 공정 가스들을 혼합하여 상기 공정 챔버로 공급할 수 있게 상기 적어도 두 가지의 공정 가스들 각각이 공급되는 적어도 두 개의 개별 공급 라인으로 구비됨과 아울러 상기 적어도 두 개의 개별 공급 라인이 단일 공급 라인으로 결속되어 상기 공정 챔버에 연결되도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 공급 라인에 구비되는 릴리프 밸브를 더 포함할 때, 상기 제어부는 상기 공급 라인에서의 가압 상태를 일정하게 유지할 수 있게 상기 릴리프 밸브의 개폐를 제어할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 공급 라인에 구비되는 압력계를 더 포함할 때, 상기 제어부는 상기 압력계로부터 상기 공급 라인의 압력 상태를 입력받고, 그 결과에 따라 상기 공급 라인을 펌핑하도록 상기 공정 조건을 제어할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제어부는 필요에 따라 상기 공급 라인에 공정 가스를 충진시키도록 제어할 수 있다.
상기 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 방법은 공급 라인을 통하여 공정 챔버로 공정 가스를 공급하도록 이루어지는 것으로써, 상기 공급 라인에 잔류하는 잔류 가스가 제거될 수 있게 상기 공급 라인을 펌핑하도록 공정 조건을 제어하는 공정 대기 단계와, 상기 공정 대기 이후 상기 공급 라인으로 공정 가스가 공급될 수 있게 상기 공급 라인이 가압 상태가 유지되도록 공정 조건을 제어하는 공정 수행 단계를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 공정 가스는 두 개의 개별 공급 라인이 단일 공급 라인으로 결속되어 상기 공정 챔버에 연결되는 공급 라인을 이용하여 적어도 두 가지의 공정 가스들을 혼합하여 상기 공정 챔버로 공급할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 공정 수행시 상기 공급 라인에서의 가압 상태를 일정하게 유지할 수 있게 상기 공급 라인에 구비되는 릴리프 밸브의 개폐를 제어할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 공정 대기시 상기 공급 라인에서의 압력 상태에 따라 상기 공급 라인을 펌핑하도록 제어할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 공급 라인에 공정 가스를 충진시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치 및 가스 공급 방법은 공정 대기시에는 공급 라인을 펌핑하고, 그리고 공정 수행시에는 공급 라인이 가압 상태가 유지되도록 함을 통하여 공정 챔버로 잔류 가스가 유입되는 것을 사전에 차단할 수 있을 것이고, 공정 챔버로 공정 가스가 공급되는 시간을 충분하게 단축시킬 수 있을 것이다.
이에, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치 및 가스 공급 방법은 잔류 가스를 용이하게 차단시킬 수 있기 때문에 반도체 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조에 따른 공정 신뢰도의 향상을 기대할 수 있을 것이고, 공정 챔버로 공정 가스의 공급 시간을 단축시킬 수 있기 때문에 반도체 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조에 따른 생산성의 향상을 기대할 수 있을 것이다.
더불어, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치 및 가스 공급 방법은 서로 혼합 가능한 공정 가스들만 혼합시켜 공정 챔버로 공급하는 구조를 갖는 공급 라인을 구비할 수 있기 때문에 가스 혼합으로 인한 안전 문제가 발생하는 것을 최소화할 수 있을 것이다.
따라서 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치 및 가스 공급 방법은 안전 문제 발생의 최소화를 통하여 반도체 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조에 따른 공정 신뢰도의 향상을 기대할 수 있을 것이다.
다만, 본 발명의 효과는 상기 언급한 효과에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
그리고 첨부한 도면들을 참조하여 예시적인 실시예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용하고 동일한 구성 요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 반도체 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조에서의 박막 증착 공정, 식각 공정 등의 수행시 공정 챔버(25)로 공정 가스를 공급하도록 구비될 수 있다.
이에, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 박막 증착 공정, 식각 공정 등이 이루어지는 공정 챔버(25)와 연결되는 구조를 갖도록 이루어질 수 있다.
그리고 언급한 박막 증착 공정, 식각 공정 등의 수행에서는 적어도 두 가지의 공정 가스들을 사용할 수도 있기에, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 공정 챔버(25)로 적어도 두 가지의 공정 가스들을 공급하는 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
또한, 박막 증착 공정, 식각 공정 등의 수행에서는 적어도 두 가지의 공정 가스들을 혼합하여 사용할 수도 있기에 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 공정 챔버(25)로 적어도 두 가지의 공정 가스들을 혼합하여 공급하는 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
더욱이, 언급한 박막 증착 공정, 식각 공정 등은 공정 조건에 따라 보다 다양한 공정 가스들을 사용할 수도 있는 것으로써, 도 1에 도시된 본 발명의 예시적일 실시예들에 따른 가스 공급 장치에서와 같이 퍼지 가스, 제1 내지 제4 공정 가스를 공정 챔버(25)로 공급하는 구조에 한정되지 않을 것이다.
다만, 이하에서는 도 1을 참조하여 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치에 대하여 설명하기로 한다.
도 1에서와 같이 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 공정 챔버(25)로 퍼지 가스, 제1 내지 제4 공정 가스를 공급하는 구조를 갖도록 구비될 수 있고, 더욱이 제1 공정 가스와 제2 공정 가스의 경우, 그리고 제3 공정 가스와 제4 공정 가스의 경우 공정 챔버(25)로 제1 내지 제4 고정 가스 각각을 단독으로 공급하거나, 제1 및 제2 공정 가스를 서로 혼합하여 공급하거나, 또는 제3 및 제4 공정 가스를 혼합하여 공급하는 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
구체적으로, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 공정 챔버(25)로 퍼지 가스를 공급하는 퍼지 라인(11), 제1 공정 가스를 공급하는 제1 공급 라인(13), 제2 공정 가스를 공급하는 제2 공급 라인(15), 제3 공정 가스를 공급하는 제3 공급 라인(19), 및 제4 공정 가스를 공급하는 제4 공급 라인(21)을 구비하는 구조를 갖도록 이루어질 수 있다.
그리고 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 퍼지 가스, 제1 내지 제4 공정 가스의 공급에 따른 퍼지 라인(11), 제1 내지 제4 공급 라인(13, 15, 19, 21)을 개폐시킬 수 있도록 밸브 등과 같은 공급량 조정 등을 위한 다양한 부재들이 구비되는 구조를 갖도록 이루어질 수 있다.
특히, 언급한 박막 증착 공정, 식각 공정 등의 수행에서는 공정 조건에 따라 공정 챔버(25)로 제1 공정 가스와 제2 공정 가스를 혼합하여 공급하거나 또는 제3 공정 가스와 제4 공정 가스를 혼합하여 공급하도록 이루어질 수도 있기에 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 제1 공정 가스와 제2 공정 가스를 혼합하여 공급할 수 있게 제1 공급 라인(13)과 제2 공급 라인(15)을 단일 공급 라인으로 결속하는 제1 혼합 라인(17)을 구비함과 아울러 제3 공정 가스와 제4 공정 가스를 혼합하여 공급할 수 있게 제3 공급 라인(19)과 제4 공급 라인(21)을 단일 공급 라인으로 결속하는 제2 혼합 라인(23)을 구비하는 구조를 갖도록 이루어질 수 있을 것이다.
즉, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 적어도 두 가지의 공정 가스들(제1 공정 가스와 제2 공정 가스, 또는 제3 공정 가스와 제4 공정 가스)을 혼합하여 공정 챔버(25)로 공급할 수 있게 적어도 두 가지의 공정 가스들 각각이 공급되는 적어도 두 개의 개별 공급 라인(제1 공급 라인과 제2 공급 라인, 또는 제3 공급 라인과 제4 공급 라인)으로 구비됨과 아울러 적어도 두 개의 개별 공급 라인이 단일 공급 라인(제1 혼합 라인, 또는 제2 혼합 라인)으로 결속되어 공정 챔버(25)에 연결되도록 구비될 수 있는 것이다.
이에, 언급한 박막 증착 공정, 식각 공정 등의 수행에서는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치를 사용하여 공정 조건에 부합되게 공정 챔버(25)로 퍼지 가스, 제1 내지 제4 공정 가스, 제1 및 제2 공정 가스를 혼합하는 혼합 가스, 제3 및 제4 공정 가스를 혼합하는 혼합 가스 등의 공급이 이루어질 수 있는 것이다.
그리고 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 공정 챔버(25)를 사용하는 처리 공정, 즉 공정 챔버(25)로 공정 가스의 공급이 이루어지는 처리 공정에서의 공정 조건을 제어하는 제어부(27)를 더 포함하는 구조를 갖도록 이루어질 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치에서의 제어부(27)는 공정 대기시 및 공정 수행시 공급 라인에 이루어지는 공정 조건을 서로 달리할 수 있게 제어하도록 구비될 수 있다.
만약, 공정 대기시 공급 라인이 진공 상태를 일정하게 유지할 경우 공급 라인으로 외부 가스가 유입될 가능성이 크게 있을 수 있고, 그 결과 공정 챔버(25)를 오염시키는 상황까지도 발생할 수 있을 것이다.
이에, 본 발명의 가스 공급 장치에서의 제어부(27)는 공정 대기시 공급 라인에 잔류하는 잔류 가스가 제거될 수 있게 함은 물론이고 공급 라인으로 외부 가스가 유입되는 것까지도 방지할 수 있게 공급 라인을 펌핑하도록 공정 조건을 제어하는 구성을 가질 수 있을 것이다.
그리고 공정 대기 이후 공정 수행시, 구체적으로 공정 챔버(25)로 공정 가스를 공급하기 위한 직전까지 공급 라인이 진공 상태를 유지하고 있을 경우에는 공정 가스의 공급이 이루어질 수 있게 공급 라인을 충진시키는데 많은 시간이 소요될 수도 있을 것이다.
따라서 본 발명의 가스 공급 장치에서의 제어부(27)는 공정 수행시, 즉 공정 챔버(25)로 공정 가스를 공급하기 위한 직전에는 공급 라인이 가압 상태가 유지되도록 공정 조건을 제어하는 구성을 가질 수 있을 것이다.
언급한 바에 따르면, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 공정 대기시에는 공급 라인을 펌핑하도록 공정 조건을 제어하는 구성을 가질 수 있고, 그리고 공정 대기 이후 이루어지는 공정 수행시에는 공급 라인으로 공정 가스가 공급될 수 있게 공급 라인이 가압 상태가 유지되도록 공정 조건을 제어하는 구성을 가질 수 있다.
특히, 본 발명에서는 공정 가스가 공급되기 직전에 공급 라인을 가압 상태로 유지함으로써 공정 가스의 공급시 공급 라인으로 공정 가스를 보다 빠른 시간 내에 공급하도록 할 수 있을 것이다.
이와 같이, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 공정 대기시에는 공급 라인을 펌핑하고, 그리고 공정 수행시에는 공급 라인이 가압 상태가 유지되도록 함을 통하여 공정 챔버(25)로 잔류 가스가 유입되는 것을 사전에 차단할 수 있을 것이고, 공정 챔버(25)로 공정 가스가 공급되는 시간을 충분하게 단축시킬 수 있을 것이다.
또한, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 서로 혼합 가능한 공정 가스들만 혼합시켜 공정 챔버(25)로 공급하는 구조를 갖는 공급 라인을 구비할 수 있기 때문에 가스 혼합으로 인한 안전 문제가 발생하는 것을 최소화할 수 있을 것이다.
그리고 본 발명의 가스 공급 장치에서의 제어부(27)는 공정 대기시에 공급 라인을 펌핑하도록 제어함과 아울러 공정 수행시 가압 상태가 되도록 제어하는 과정에서 필요에 따라 공급 라인이 충진되도록 제어할 수 있게도 이루어질 수 있는데, 이를 통하여 공정 수행시 공정 챔버(25)로 공급되는 공정 가스의 소모를 최소화할 수 있을 것이고, 나아가 공급 라인에서의 잔류 가스의 처리 또한 보다 용이하게 해결할 수 있을 것이다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 공급 라인에 릴리프 밸브(29)가 더 구비되는 구조를 갖도록 이루어질 수 있는 것으로써, 퍼지 라인(11), 제1 내지 제4 공급 라인(13, 15, 19, 21), 제1 혼합 라인(17), 제2 혼합 라인(23) 각각 마다에 릴리프 밸브(29)가 더 구비되는 구조를 갖도록 이루어질 수도 있을 것이다.
이와 같이, 본 발명의 가스 공급 장치에 릴리프 밸브(29)가 더 구비될 경우 제어부(27)는 릴리프 밸브(29)의 개폐를 제어하도록 구비될 수 있고, 릴리프 밸브(29)의 개폐 제어를 통하여 공급 라인에서의 가압 상태를 일정하게 유지할 수 있을 것이다.
또한, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치는 공급 라인에 압력계(31)가 더 구비되는 구조를 갖도록 이루어질 수 있는 것으로써, 퍼지 라인(11), 제1 내지 제4 공급 라인(13, 15, 19, 21), 제1 혼합 라인(17), 제2 혼합 라인(23) 각각 마다에 압력계(31)가 더 구비되는 구조를 갖도록 이루어질 수도 있을 것이다.
이와 같이, 본 발명의 가스 공급 장치에 압력계(31)가 더 구비될 경우 제어부(27)는 압력계(31)로부터 공급 라인의 압력 상태를 입력받도록 구비될 수 있고, 그 결과에 따라 공급 라인을 펌핑하도록 제어할 수 있게 이루어짐으로써 공급 라인의 압력 상태를 보다 정확하게 유지하도록 할 수 있을 것이다.
이하, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치를 사용하는 사용예, 즉 가스 공급 방법에 대하여 설명하기로 한다.
먼저 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 방법에서의 공정 대기 단계에서는 공급 라인에잔류하는 잔류 가스가 제거될 수 있게 공급 라인을 펌핑하도록 공정 조건을 제어할 수 있다.
계속해서, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 방법에서의 공정 수행 단계에서는 공정 대기 이후 공급 라인으로 공정 가스가 공급될 수 있게 공급 라인이 가압 상태가 유지되도록 공정 조건을 제어할 수 있을 것이다.
그리고 본 발명에서의 가스 공급 방법에서는 공급 라인으로 공정 가스를 공급함과 아울러 이를 통하여 공정 챔버(25)로 공정 가스를 공급함으로써 박막 증착 공정, 식각 공정 등을 수행할 수 있을 것이다.
아울러, 본 발명에서의 가스 공급 방법에서는 공정 대기 단계, 및 공정 수행 단계를 반복해서 진행할 때 필요에 따라 공급 라인에 공정 가스를 충진시키는 단계를 더 수행하도록 이루어질 수 있는데, 이를 통하여 공정 수행시 공정 챔버(25)로 공급되는 공정 가스의 소모를 최소화할 수 있을 것이고, 나아가 공급 라인에서의 잔류 가스의 처리 또한 보다 용이하게 해결할 수 있을 것이다.
또한, 본 발명의 가스 공급 방법에서는 공정 수행시 공급 라인에서의 가압 상태를 일정하게 유지할 수 있게 공급 라인에 구비되는 릴리프 밸브(29)의 개폐를 제어할 수 있게 이루어질 수도 있을 것이고, 그리고 공정 대기시 공급 라인에서의 압력 상태에 따라 공급 라인을 펌핑하도록 제어할 수 있게 이루어질 수도 있을 것이다.
이와 같이, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 방법은 공정 대기시에는 공급 라인을 펌핑하고, 그리고 공정 수행시에는 공급 라인이 가압 상태가 유지되도록 함을 통하여 공정 챔버(25)로 잔류 가스가 유입되는 것을 사전에 차단할 수 있을 것이고, 공정 챔버(25)로 공정 가스가 공급되는 시간을 충분하게 단축시킬 수 있을 것이고, 서로 혼합 가능한 공정 가스들만 혼합시켜 공정 챔버(25)로 공급하도록 할 수 있기 때문에 가스 혼합으로 인한 안전 문제가 발생하는 것을 최소화할 수 있을 것이다.
더욱이, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 방법은 릴리프 밸브(29)의 개폐 제어를 통하여 공급 라인에서의 가압 상태를 일정하게 유지할 수 있을 것이고, 압력 결과에 따라 공급 라인을 펌핑하도록 제어할 수 있게 이루어짐으로써 공급 라인의 압력 상태를 보다 정확하게 유지하도록 할 수 있을 것이다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 가스 공급 장치 및 가스 공급 방법은 반도체 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조에서의 박막 증착 공정, 식각 공정 등에 적용할 수 있는 것으로써, 예를 들면 박막 증착 공정, 식각 공정 등을 통하여 수득할 수 있는 디램, 낸드, 시스템 반도체, 이미지 센서 등의 제조에 보다 용이하게 적용할 수 있을 것이다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
11 : 퍼지 라인 13, 15, 19, 21 : 공급 라인
17, 23 : 혼합 라인 25 : 공정 챔버
27 : 제어부 29 : 릴리프 밸브
31 : 압력계

Claims (10)

  1. 공정 챔버로 공정 가스를 공급하도록 구비되는 공급 라인을 포함하는 가스 공급 장치에 있어서,
    상기 공정 챔버를 사용하는 처리 공정에서의 공정 조건을 제어하도록 구비되는 제어부를 더 포함하되, 상기 제어부는 공정 대기시에는 상기 공급 라인에 잔류하는 잔류 가스가 제거될 수 있게 공급 라인을 펌핑하도록 상기 공정 조건을 제어하고, 그리고 상기 공정 대기 이후 이루어지는 공정 수행시에는 상기 공급 라인으로 공정 가스가 공급될 수 있게 상기 공급 라인이 가압 상태가 유지되도록 상기 공정 조건을 제어하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 공급 라인은 적어도 두 가지의 공정 가스들을 혼합하여 상기 공정 챔버로 공급할 수 있게 상기 적어도 두 가지의 공정 가스들 각각이 공급되는 적어도 두 개의 개별 공급 라인으로 구비됨과 아울러 상기 적어도 두 개의 개별 공급 라인이 단일 공급 라인으로 결속되어 상기 공정 챔버에 연결되도록 구비되는 것을 특징으로 하는 가스 공급 장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 공급 라인에 구비되는 릴리프 밸브를 더 포함할 때,
    상기 제어부는 상기 공급 라인에서의 가압 상태를 일정하게 유지할 수 있게 상기 릴리프 밸브의 개폐를 제어하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 장치.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 공급 라인에 구비되는 압력계를 더 포함할 때,
    상기 제어부는 상기 압력계로부터 상기 공급 라인의 압력 상태를 입력받고, 그 결과에 따라 상기 공급 라인을 펌핑하도록 상기 공정 조건을 제어하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 장치.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 제어부는 필요에 따라 상기 공급 라인에 공정 가스를 충진시키도록 제어하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 장치.
  6. 공급 라인을 통하여 공정 챔버로 공정 가스를 공급하도록 이루어지는 가스 공급 방법에 있어서,
    상기 공급 라인에 잔류하는 잔류 가스가 제거될 수 있게 상기 공급 라인을 펌핑하도록 공정 조건을 제어하는 공정 대기 단계; 및
    상기 공정 대기 이후 상기 공급 라인으로 공정 가스가 공급될 수 있게 상기 공급 라인이 가압 상태가 유지되도록 공정 조건을 제어하는 공정 수행 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 방법.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 공정 가스는 두 개의 개별 공급 라인이 단일 공급 라인으로 결속되어 상기 공정 챔버에 연결되는 공급 라인을 이용하여 적어도 두 가지의 공정 가스들을 혼합하여 상기 공정 챔버로 공급하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 방법.
  8. 제6 항에 있어서,
    상기 공정 수행시 상기 공급 라인에서의 가압 상태를 일정하게 유지할 수 있게 상기 공급 라인에 구비되는 릴리프 밸브의 개폐를 제어하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 방법.
  9. 제6 항에 있어서,
    상기 공정 대기시 상기 공급 라인에서의 압력 상태에 따라 상기 공급 라인을 펌핑하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 방법.
  10. 제6 항에 있어서,
    상기 공급 라인에 공정 가스를 충진시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 방법.
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