KR20240005052A - Polymer particles and method for producing the same - Google Patents

Polymer particles and method for producing the same Download PDF

Info

Publication number
KR20240005052A
KR20240005052A KR1020237042174A KR20237042174A KR20240005052A KR 20240005052 A KR20240005052 A KR 20240005052A KR 1020237042174 A KR1020237042174 A KR 1020237042174A KR 20237042174 A KR20237042174 A KR 20237042174A KR 20240005052 A KR20240005052 A KR 20240005052A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
meth
cyclic ether
polymer particles
acrylic acid
ring
Prior art date
Application number
KR1020237042174A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
료타 코지마
Original Assignee
소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드 filed Critical 소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드
Publication of KR20240005052A publication Critical patent/KR20240005052A/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/04Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10Esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/14Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/26Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/32Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
    • C08F220/325Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals containing glycidyl radical, e.g. glycidyl (meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/12Powdering or granulating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/08Macromolecular additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J9/00Adhesives characterised by their physical nature or the effects produced, e.g. glue sticks
    • C09J9/02Electrically-conducting adhesives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2371/00Characterised by the use of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Derivatives of such polymers

Abstract

본 발명의 과제는, 단분산성과 고경도화를 양립시킨 중합체 입자, 및 그 제조 방법을 제공하는 것에 있다. 본 발명의 중합체 입자는, 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 중합시켜 이루어지고, 또한 상기 환상 에테르 구조 중의 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조를 가지는 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 것을 특징으로 한다.The object of the present invention is to provide polymer particles that achieve both monodisperse and high hardness, and a method for producing the same. The polymer particle of the present invention is made by polymerizing (meth)acrylic acid ester (A) having a cyclic ether structure, and further has a structure formed by ring-opening polymerization of cyclic ether moieties in the cyclic ether structure. It is characterized by including.

Description

중합체 입자 및 그 제조 방법Polymer particles and method for producing the same

본 발명은 중합체 입자 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to polymer particles and methods for producing the same.

반도체 소자나 배선판 등의 접속에 있어서, 대향하는 다수의 전극이나 배선간의 전기적 접속을 행하기 위해서, 이방성 도전 재료에 의한 접속 방식이 널리 사용되고 있다. 이방성 도전 재료는 도전성 입자를 바인더 수지(접착제)에 분산시킨 재료이며, 예를 들면 이방성 도전 페이스트(ACP), 이방성 도전 필름(ACF) 등을 들 수 있다.In connecting semiconductor elements, wiring boards, etc., a connection method using an anisotropic conductive material is widely used to electrically connect a plurality of opposing electrodes or wiring. An anisotropic conductive material is a material in which conductive particles are dispersed in a binder resin (adhesive), and examples include an anisotropic conductive paste (ACP) and an anisotropic conductive film (ACF).

이방 도전 접속에 사용되는 도전성 입자는, 코어가 되는 중합체 입자를 금속층으로 덮는 것에 의해 형성된다. 최근에는, 이방성 도전 재료의 성능을 높이기 위해서, 이방성 도전 재료에 포함되는 도전성 입자의 개발이 진행되고 있다. 도전성 입자의 압축 변형 특성은 코어가 되는 중합체 입자의 특성에 강하게 영향을 받기 때문에, 가압 접속시의 접속 신뢰성을 높이기 위해서 중합체 입자의 고경도화가 요구되고 있다. 또 이방성 도전 재료에 사용되는 중합체 입자는 접속 신뢰성의 관점에서 단분산성이 요구되고 있다.The conductive particles used for anisotropic conductive connection are formed by covering the polymer particles serving as the core with a metal layer. In recent years, in order to improve the performance of anisotropic conductive materials, development of conductive particles contained in anisotropic conductive materials is in progress. Since the compression deformation characteristics of the conductive particles are strongly influenced by the characteristics of the core polymer particles, increased hardness of the polymer particles is required to increase connection reliability during pressure connection. In addition, polymer particles used in anisotropic conductive materials are required to be monodisperse from the viewpoint of connection reliability.

특허문헌 1에는, 이중 결합 및 아미노기와 반응할 수 있는 관능기를 가지는 중합성 단량체를 래디컬 중합하여 모입자를 얻는 공정(a)과, 공정(a) 후, 모입자와 아미노기를 가지는 아미노 화합물을 접촉시켜, 관능기와 아미노기와의 반응에 의해 가교 폴리머를 추가로 가교하는 공정(b)을 거쳐 얻어지는 가교 폴리머 입자가 개시되어 있다. 특허문헌 1에 기재된 가교 폴리머 입자는 양호한 압축 특성을 가지는 것을 특징으로 하고 있다.Patent Document 1 includes a step (a) of obtaining a base particle by radically polymerizing a polymerizable monomer having a double bond and a functional group capable of reacting with an amino group, and, after step (a), contacting the base particle with an amino compound having an amino group. A cross-linked polymer particle obtained through a step (b) of further cross-linking the cross-linked polymer by reaction between a functional group and an amino group is disclosed. The crosslinked polymer particles described in Patent Document 1 are characterized by having good compression properties.

또 특허문헌 2에는, 글리시딜기를 가지는 유기 미립자에 2개 이상의 아미노기를 가지는 화합물을 흡수시키는 공정, 및 상기 글리시딜기와 상기 아미노기를 반응시키는 가교 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 가교 미립자의 제조 방법 및 그 제조 방법에 의해 제조되는 가교 입자가 개시되어 있다. 특허문헌 2에 기재된 가교 미립자는 단분산으로 내용제성 및 내열성이 우수한 것을 특징으로 하고 있다.In addition, Patent Document 2 discloses a method for producing crosslinked fine particles, comprising a step of absorbing a compound having two or more amino groups into organic fine particles having a glycidyl group, and a crosslinking step of reacting the glycidyl group with the amino group. and crosslinked particles produced by the production method are disclosed. The crosslinked fine particles described in Patent Document 2 are monodisperse and are characterized by excellent solvent resistance and heat resistance.

국제공개 제2011/158761호International Publication No. 2011/158761 일본 특개 2001-206954호 공보Japanese Patent Application Publication No. 2001-206954

상기한 특허문헌 1 및 특허문헌 2에서 제안되어 있는 중합체 입자는 단분산성과 고경도화의 양립이 불충분했다. 본 발명의 과제는, 단분산성과 고경도화를 양립시킨 중합체 입자, 및 그 제조 방법을 제공하는 것에 있다.The polymer particles proposed in Patent Document 1 and Patent Document 2 mentioned above had insufficient coexistence of monodispersity and high hardness. The object of the present invention is to provide polymer particles that achieve both monodisperse and high hardness, and a method for producing the same.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토했다. 그 결과, 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 중합체 입자에, 이미다졸계 화합물 또는/및 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물을 가하여 환상 에테르 부위를 개환 중합시킴으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다. 본 발명은 예를 들면 이하의 [1]~[8]에 관한 것이다.The present inventors have diligently studied to solve the above problems. As a result, the above problem can be solved by ring-opening polymerizing the cyclic ether site by adding an imidazole compound or/and an amino compound having a tertiary amino group to polymer particles containing a (meth)acrylic resin having a cyclic ether structure. By finding out this, we came to complete the present invention. The present invention relates to, for example, the following [1] to [8].

[1] 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 중합시켜 이루어지고, 또한 상기 환상 에테르 구조 중의 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조를 가지는 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 중합체 입자.[1] Polymer particles comprising a (meth)acrylic resin having a structure obtained by polymerizing (meth)acrylic acid ester (A) having a cyclic ether structure and ring-opening polymerization of cyclic ether moieties in the cyclic ether structure. .

[2] 상기 (메타)아크릴계 수지가, 상기 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A) 이외의 중합성 단량체(B)에 유래하는 구조를 추가로 포함하는 상기 [1]에 기재된 중합체 입자.[2] The polymer particle according to [1], wherein the (meth)acrylic resin further contains a structure derived from a polymerizable monomer (B) other than the (meth)acrylic acid ester (A) having the cyclic ether structure. .

[3] 상기 중합성 단량체(B)가, 1분자 중에 1~4개의 (메타)아크릴로일기를 가지는 단량체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물인 상기 [2]에 기재된 중합체 입자.[3] The polymer particle according to [2] above, wherein the polymerizable monomer (B) is at least one compound selected from the group consisting of monomers having 1 to 4 (meth)acryloyl groups in one molecule.

[4] 상기 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)가, 하기 식(1)으로 표시되는 화합물인 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 중합체 입자.[4] The polymer particle according to any one of [1] to [3], wherein the (meth)acrylic acid ester (A) having the cyclic ether structure is a compound represented by the following formula (1).

식(1) 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 수소 원자 또는 탄소수 1~10의 알킬기를 나타내고, x는 1~6의 정수를 나타내고, Y는 단결합 또는 -O-CH2-를 나타내고, z는 0~2의 정수를 나타낸다.]In formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, x represents an integer of 1 to 6, and Y represents a single bond or -O-CH. 2 represents -, and z represents an integer from 0 to 2.]

[5] 상기 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 중합시켜 이루어지고, 또한 상기 환상 에테르 구조의 일부가 개환한 부위에 이미다졸계 화합물을 부가시켜 이루어지는 구조를 가지는 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 상기 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 중합체 입자.[5] A (meth)acrylic acid having a structure obtained by polymerizing (meth)acrylic acid ester (A) having the cyclic ether structure and adding an imidazole compound to a ring-opened portion of the cyclic ether structure. The polymer particle according to any one of [1] to [4] above, comprising a resin.

[6] 상기 중합체 입자에 있어서, 10% K값이 3,000~7,000N/mm2인 상기 [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 중합체 입자.[6] The polymer particle according to any one of [1] to [5] above, wherein the polymer particle has a 10% K value of 3,000 to 7,000 N/mm 2 .

[7] 상기 [1] 내지 [6] 중 어느 하나에 기재된 중합체 입자의 제조 방법으로서,[7] A method for producing polymer particles according to any one of [1] to [6] above,

환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 포함하는 중합성 단량체 성분을 래디컬 중합시켜 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 모입자를 얻는 공정(1)과,A step (1) of radically polymerizing a polymerizable monomer component containing (meth)acrylic acid ester (A) having a cyclic ether structure to obtain a base particle containing a (meth)acrylic resin,

상기 모입자와 이미다졸계 화합물 또는/및 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물을 접촉시켜, 상기 환상 에테르 구조 중의 환상 에테르 부위끼리를 개환 중합시켜, 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조를 가지는 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 중합체 입자를 얻는 공정(2)과,The parent particle is brought into contact with an imidazole compound or/and an amino compound having a tertiary amino group, ring-opening polymerizes the cyclic ether moieties in the cyclic ether structure, and the cyclic ether moieties undergo ring-opening polymerization to form a (meta) compound having a structure formed by ring-opening polymerization. ) Process (2) of obtaining polymer particles containing an acrylic resin,

상기 중합체 입자를 분체화하는 공정(3)을 포함하는 중합체 입자의 제조 방법.A method for producing polymer particles, comprising the step (3) of powdering the polymer particles.

[8] 이방 도전성 접착제의 도전성 입자에 사용되는 상기 [1] 내지 [6] 중 어느 하나에 기재된 중합체 입자.[8] The polymer particles according to any one of [1] to [6] above, used as conductive particles of an anisotropic conductive adhesive.

본 발명에 의하면, 단분산성과 고경도화를 양립시킨 중합체 입자, 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, polymer particles that achieve both monodispersity and high hardness can be provided, and a method for producing the same.

이하, 본 발명의 중합체 입자 및 그 제조 방법에 대해 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the polymer particles of the present invention and their production method will be described in detail.

[중합체 입자][Polymer particles]

본 발명의 중합체 입자는 (메타)아크릴계 수지를 포함한다. (메타)아크릴계 수지는 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 중합시켜 이루어지고, 또한 상기 환상 에테르 구조 중의 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조를 가진다.The polymer particles of the present invention contain a (meth)acrylic resin. The (meth)acrylic resin is formed by polymerizing (meth)acrylic acid ester (A) having a cyclic ether structure, and has a structure formed by ring-opening polymerization of cyclic ether moieties in the cyclic ether structure.

또한 본 명세서에 있어서 (메타)아크릴은 아크릴 및 메타크릴의 총칭으로 사용하며, 아크릴이어도 메타크릴이어도 된다. (메타)아크릴레이트는 아크릴레이트 및 메타아크릴레이트의 총칭으로 사용하며, 아크릴레이트여도 메타크릴레이트여도 된다. (메타)아크릴로일은 아크릴로일 및 메타크릴로일의 총칭으로 사용하며, 아크릴로일이어도 메타크릴로일이어도 된다.Additionally, in this specification, (meth)acrylic is used as a general term for acrylic and methacrylic, and may be either acrylic or methacrylic. (Meth)acrylate is used as a general term for acrylate and methacrylate, and may be either acrylate or methacrylate. (Meth)acryloyl is used as a general term for acryloyl and methacryloyl, and may be either acryloyl or methacryloyl.

본 발명에 있어서 「(메타)아크릴계 수지」란 (메타)아크릴산 유래의 구성 단위, 아크릴산염 유래의 구성 단위, 아크릴산에스테르 유래의 구성 단위, 메타크릴산 유래의 구성 단위, 메타크릴산염 유래의 구성 단위 및 메타크릴산에스테르 유래의 구성 단위의 합계가, (메타)아크릴계 수지의 전체 구성 단위 100질량%에 대하여 50질량% 이상인 수지를 말한다.In the present invention, “(meth)acrylic resin” refers to a structural unit derived from (meth)acrylic acid, a structural unit derived from acrylate, a structural unit derived from acrylic acid ester, a structural unit derived from methacrylic acid, and a structural unit derived from methacrylate. and a resin in which the total of structural units derived from methacrylic acid ester is 50% by mass or more based on 100% by mass of all structural units of the (meth)acrylic resin.

본 발명의 중합체 입자는 상기 (메타)아크릴계 수지를 포함함으로써 단분산성과 고경도화의 양립이 가능하게 된다.By containing the above-mentioned (meth)acrylic resin, the polymer particles of the present invention can achieve both monodispersity and high hardness.

[중합체 입자의 제조 방법][Method for producing polymer particles]

본 발명의 중합체 입자의 제조 방법은The method for producing polymer particles of the present invention is

환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 포함하는 단량체 성분을 래디컬 중합시켜 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 모입자를 얻는 공정(1)과,A step (1) of radically polymerizing a monomer component containing (meth)acrylic acid ester (A) having a cyclic ether structure to obtain a base particle containing a (meth)acrylic resin,

상기 모입자와 이미다졸계 화합물 또는/및 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물을 접촉시켜, 상기 환상 에테르 구조 중의 환상 에테르 부위끼리를 개환 중합시켜, 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조를 가지는 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 중합체 입자를 얻는 공정(2)과,The parent particle is brought into contact with an imidazole compound or/and an amino compound having a tertiary amino group, ring-opening polymerizes the cyclic ether moieties in the cyclic ether structure, and the cyclic ether moieties undergo ring-opening polymerization to form a (meta) compound having a structure formed by ring-opening polymerization. ) Process (2) of obtaining polymer particles containing an acrylic resin,

상기 중합체 입자를 분체화하는 공정(3)을 포함한다.It includes a step (3) of powdering the polymer particles.

본 발명의 중합체 입자의 제조 방법은, 가교 전의 입자를 제작하는 공정으로부터 가교 반응을 거쳐 중합체 입자를 얻을 때까지를 원 포트로 합성 완료할 수 있기 때문에, 제조 작업의 간략화가 가능하게 된다.The method for producing polymer particles of the present invention can complete the synthesis in one pot from the step of producing particles before crosslinking to obtaining the polymer particles through the crosslinking reaction, making it possible to simplify the production work.

<공정(1)><Process (1)>

(메타)아크릴계 수지를 포함하는 모입자는, 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 포함하는 중합성 단량체 성분을 공지의 방법에 의해 래디컬 중합시킴으로써 얻어진다.The mother particle containing a (meth)acrylic resin is obtained by radically polymerizing a polymerizable monomer component containing (meth)acrylic acid ester (A) having a cyclic ether structure by a known method.

≪환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)≫≪(Meth)acrylic acid ester (A) with cyclic ether structure≫

환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)(이하, 「(메타)아크릴산에스테르(A)」라고도 한다.)는 분자 중에 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르이면 특별히 한정되지 않고, 공지의 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르를 널리 사용할 수 있다.(Meth)acrylic acid ester (A) having a cyclic ether structure (hereinafter also referred to as “(meth)acrylic acid ester (A)”) is not particularly limited as long as it is a (meth)acrylic acid ester having a cyclic ether structure in the molecule, and is known. (meth)acrylic acid esters having a cyclic ether structure can be widely used.

환상 에테르 구조로서는 예를 들면 옥사시클로프로판(옥실란), 옥사시클로부탄(옥세탄), 옥사시클로펜탄(테트라히드로푸란), 옥사시클로헥산(테트라히드로피란), 1,4-디옥사시클로헥산(1,4-디옥산), 1,2-에폭시시클로헥산, 1,2-에폭시시클로펜탄, 1,4-에폭시시클로헥산, 1-메틸-1,2-에폭시시클로헥산, exo-2,3-에폭시노르보르난 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 반응성이 높고 촉매에 의해 용이하게 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하는 관점에서, 옥실란이 바람직하다.Examples of cyclic ether structures include oxacyclopropane (oxilane), oxacyclobutane (oxetane), oxacyclopentane (tetrahydrofuran), oxacyclohexane (tetrahydropyran), and 1,4-dioxacyclohexane (1). ,4-dioxane), 1,2-epoxycyclohexane, 1,2-epoxycyclopentane, 1,4-epoxycyclohexane, 1-methyl-1,2-epoxycyclohexane, exo-2,3-epoxy Norbornane, etc. can be mentioned. Among these, oxilane is preferable from the viewpoint of high reactivity and easy ring-opening polymerization of cyclic ether moieties using a catalyst.

(메타)아크릴산에스테르(A)는 (메타)아크릴산에스테르의 산소 원자에 환상 에테르 구조가 직접 또는 간접적으로 결합한 구조를 가지고, 예를 들면 하기 식(I)으로 표시되는 기가 에스테르의 산소 원자와 환상 에테르 구조 사이에 개재된다.(Meth)acrylic acid ester (A) has a structure in which a cyclic ether structure is directly or indirectly bonded to the oxygen atom of (meth)acrylic acid ester, for example, the oxygen atom of the ester represented by the following formula (I) and the cyclic ether Interposed between structures.

(식(I) 중, m은 1~7의 정수를 나타낸다.)(In formula (I), m represents an integer of 1 to 7.)

(메타)아크릴산에스테르(A)는 바람직하게는 하기 식(1)으로 표시되는 화합물이며, 보다 바람직하게는 하기 식(2)으로 표시되는 화합물이다.(Meth)acrylic acid ester (A) is preferably a compound represented by the following formula (1), and more preferably a compound represented by the following formula (2).

[식(1) 및 식(2) 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 수소 원자 또는 탄소수 1~10의 알킬기를 나타내고, x는 1~6의 정수를 나타내고, Y는 단결합 또는 -O-CH2-를 나타내고, z는 0~2의 정수를 나타낸다.][In formulas (1) and (2), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, x represents an integer of 1 to 6, and Y represents only represents a bond or -O-CH 2 -, and z represents an integer of 0 to 2.]

식(1) 및 식(2) 중, 중합체 입자의 가교 밀도를 올리면서 중합체 입자의 중합 안정성을 확보하는 관점에서, R2의 알킬기의 탄소수의 상한은 6인 것이 바람직하고, 3인 것이 보다 바람직하며, 2인 것이 더욱 바람직하고, R2로서는 수소 원자가 특히 바람직하고; x는 1~4인 것이 바람직하며; z는 0 또는 1인 것이 바람직하고, z는 0인 것이 보다 바람직하다.In formulas (1) and (2), from the viewpoint of ensuring polymerization stability of the polymer particles while increasing the crosslinking density of the polymer particles, the upper limit of the number of carbon atoms of the alkyl group of R 2 is preferably 6, and more preferably 3. and, more preferably, it is 2, and as R 2 , a hydrogen atom is particularly preferable; x is preferably 1 to 4; It is preferable that z is 0 or 1, and it is more preferable that z is 0.

식(2)으로 표시되는 화합물로서는, 예를 들면 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시부틸(메타)아크릴레이트, 글리시딜옥시(폴리)알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르를 들 수 있다.Examples of compounds represented by formula (2) include glycidyl (meth)acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth)acrylate, glycidyloxy (poly)alkylene glycol (meth)acrylate, Examples include methylglycidyl (meth)acrylate and 4-hydroxybutylacrylate glycidyl ether.

이들 중에서도 중합체 입자의 가교 밀도를 올리면서 중합체 입자의 중합 안정성을 확보하는 관점에서, 글리시딜(메타)아크릴레이트 및 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르가 바람직하다.Among these, glycidyl (meth)acrylate and 4-hydroxybutylacrylate glycidyl ether are preferred from the viewpoint of ensuring polymerization stability of the polymer particles while increasing the crosslinking density of the polymer particles.

이들 화합물은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.These compounds may be used individually, or two or more types may be used.

(메타)아크릴계 수지에 있어서의 (메타)아크릴산에스테르(A) 유래의 구성 단위의 함유량은, (메타)아크릴계 수지의 전체 구성 단위 100질량% 중에 대하여, 바람직하게는 5~90질량%이며, 보다 바람직하게는 10~80질량%, 더욱 바람직하게는 10~50질량%, 특히 바람직하게는 10~30질량%이다.The content of the structural unit derived from (meth)acrylic acid ester (A) in the (meth)acrylic resin is preferably 5 to 90% by mass, based on 100% by mass of all structural units of the (meth)acrylic resin. It is preferably 10 to 80 mass%, more preferably 10 to 50 mass%, and particularly preferably 10 to 30 mass%.

(메타)아크릴산에스테르(A) 유래의 구성 단위의 함유량이 상기 범위에 있으면, 중합체 입자의 중합 안정성과 촉매에 의한 환상 에테르 부위의 개환 중합을 양립시킬 수 있다.If the content of the structural unit derived from the (meth)acrylic acid ester (A) is within the above range, polymerization stability of the polymer particles and ring-opening polymerization of the cyclic ether moiety by the catalyst can be achieved at the same time.

(메타)아크릴산에스테르(A) 유래의 구성 단위의 함유량은, (메타)아크릴 수지를 제조할 때 사용하는 중합성 단량체 성분 중의 (메타)아크릴산에스테르(A)의 양으로부터 산출할 수 있다.The content of the structural unit derived from (meth)acrylic acid ester (A) can be calculated from the amount of (meth)acrylic acid ester (A) in the polymerizable monomer component used when producing the (meth)acrylic resin.

≪중합성 단량체(B)≫≪Polymerizable monomer (B)≫

본 발명의 중합체 입자는, 상기 (메타)아크릴계 수지가 상기 (메타)아크릴산에스테르(A) 이외의 중합성 단량체(B)에 유래하는 구조를 더욱 포함하는 것이 바람직하다. 중합성 단량체(B)를 포함함으로써, 얻어지는 중합체 입자의 단분산성 및 고경도화가 우수하다.In the polymer particles of the present invention, it is preferable that the (meth)acrylic resin further contains a structure derived from a polymerizable monomer (B) other than the (meth)acrylic acid ester (A). By including the polymerizable monomer (B), the resulting polymer particles are excellent in monodisperse and have high hardness.

공정(1)에 있어서, (메타)아크릴산에스테르(A)와 함께 중합성 단량체(B)를 래디컬 중합함으로써, 중합성 단량체(B)에 유래하는 구조를 더욱 포함하는 중합체 입자를 얻을 수 있다.In step (1), polymer particles further containing a structure derived from the polymerizable monomer (B) can be obtained by radically polymerizing the polymerizable monomer (B) together with the (meth)acrylic acid ester (A).

중합성 단량체(B)는 상기 (메타)아크릴산에스테르(A)와 공중합 가능하다면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 (메타)아크릴산계 단량체 등의 단관능성 단량체, 스티렌계 단량체, 관능기 함유 단량체, 공역 디엔계 단량체, 폴리우레탄 수지를 형성하는 모노머 및 폴리올 등을 들 수 있고, 바람직하게는 1분자 중에 1~4개의 관능기를 가지는 단량체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물이 바람직하고, 1분자 중에 1~4개의 (메타)아크릴로일기를 가지는 단량체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물인 것이 보다 바람직하다.The polymerizable monomer (B) is not particularly limited as long as it can be copolymerized with the (meth)acrylic acid ester (A), and examples include monofunctional monomers such as (meth)acrylic acid monomers, styrene monomers, functional group-containing monomers, and conjugated dienes. Systemic monomers, monomers forming polyurethane resins, polyols, etc. are included, and at least one compound selected from the group consisting of monomers having 1 to 4 functional groups per molecule is preferred. It is more preferable that it is at least 1 type of compound chosen from the group which consists of monomers which have 1-4 (meth)acryloyl groups.

(메타)아크릴산계 단량체로서는 예를 들면(메타)아크릴산알킬에스테르; (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산프로필, (메타)아크릴산부틸, (메타)아크릴산펜틸, (메타)아크릴산헥실, (메타)아크릴산-2-에틸헥실, (메타)아크릴산옥틸, (메타)아크릴산노닐, (메타)아크릴산데실 및 (메타)아크릴산도데실등,Examples of the (meth)acrylic acid-based monomer include (meth)acrylic acid alkyl ester; Methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid Octyl, nonyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate and dodecyl (meth)acrylate, etc.

(메타)아크릴산아릴에스테르; (메타)아크릴산페닐 및 (메타)아크릴산벤질 등,(meth)acrylic acid aryl ester; (meth)acrylic acid phenyl and (meth)acrylic acid benzyl, etc.

(메타)아크릴산알콕시알킬; (메타)아크릴산메톡시에틸, (메타)아크릴산에톡시에틸, (메타)아크릴산프로폭시에틸, (메타)아크릴산부톡시에틸 및 (메타)아크릴산에톡시프로필 등,(meth)alkoxyalkyl acrylate; (meth)acrylic acid methoxyethyl, (meth)acrylic acid ethoxyethyl, (meth)acrylic acid propoxyethyl, (meth)acrylic acid butoxyethyl and (meth)acrylic acid ethoxypropyl, etc.,

(메타)아크릴산 및 (메타)아크릴산 알칼리 금속염 등의 염;Salts such as (meth)acrylic acid and (meth)acrylic acid alkali metal salt;

지환식 알코올의 (메타)아크릴산에스테르; (메타)아크릴산시클로헥실; (메타)아크릴산이소보르닐 등을 들 수 있다.(meth)acrylic acid ester of alicyclic alcohol; (meth)cyclohexyl acrylate; (meth)acrylic acid isobornyl, etc. are mentioned.

스티렌계 단량체로서는 예를 들면 스티렌, 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 트리에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 헵틸스티렌 및 옥틸스티렌 등의 알킬스티렌, 플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 클로르메틸스티렌, 요오드화스티렌, 니트로스티렌, 아세틸스티렌, 메톡시스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등을 들 수 있다.Examples of styrene-based monomers include alkyl styrene such as styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, triethyl styrene, propyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, heptyl styrene, and octyl styrene, and fluoromethyl styrene. Styrene, chlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, chlormethylstyrene, iodinated styrene, nitrostyrene, acetylstyrene, methoxystyrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, etc. are mentioned.

관능기 함유 단량체로서는 예를 들면Examples of functional group-containing monomers include:

옥사졸린기 함유 중합성 화합물; 2-비닐-2-옥사졸린, 2-비닐-5-메틸-2-옥사졸린 및 2-이소프로페닐-2-옥사졸린 등,Polymerizable compounds containing oxazoline groups; 2-vinyl-2-oxazoline, 2-vinyl-5-methyl-2-oxazoline and 2-isopropenyl-2-oxazoline, etc.,

아지리딘기 함유 중합성 화합물; (메타)아크릴로일아지리딘, (메타)아크릴산-2-아지리디닐에틸 등,Polymerizable compounds containing an aziridine group; (meth)acryloyl aziridine, (meth)acrylic acid-2-aziridinyl ethyl, etc.,

에폭시기 함유 비닐 단량체; 알릴글리시딜에테르, (메타)아크릴산글리시딜에테르 및 (메타)아크릴산-2-에틸글리시딜에테르 등,Vinyl monomer containing an epoxy group; Allyl glycidyl ether, (meth)acrylic acid glycidyl ether, and (meth)acrylic acid-2-ethylglycidyl ether, etc.,

히드록실기 함유 비닐 화합물; (메타)아크릴산-2-히드록시에틸, (메타)아크릴산-2-히드록시프로필, (메타)아크릴산-2-히드록시부틸, (메타)아크릴산과 폴리프로필렌글리콜 또는 폴리에틸렌글리콜과의 모노에스테르 및 락톤류와 (메타)아크릴산-2-히드록시에틸과의 부가물 등,Vinyl compounds containing hydroxyl groups; (meth)acrylic acid-2-hydroxyethyl, (meth)acrylic acid-2-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid-2-hydroxybutyl, monoester and lactic acid between (meth)acrylic acid and polypropylene glycol or polyethylene glycol Adducts of tones with (meth)acrylic acid-2-hydroxyethyl, etc.

함불소 비닐 단량체; 불소 치환 (메타)아크릴산알킬에스테르 등,fluorinated vinyl monomer; Fluorine-substituted (meth)acrylic acid alkyl ester, etc.

카르복실기 함유 비닐 단량체; (메타)아크릴산, 이타콘산, 크로톤산, 말레인산 및 푸마르산과 같은 불포화 카르복실산, 이들의 염, 그리고 이들의 (부분)에스테르 화합물 및 산무수물 등,Carboxyl group-containing vinyl monomer; Unsaturated carboxylic acids such as (meth)acrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, and fumaric acid, their salts, and their (partial) ester compounds and acid anhydrides, etc.

반응성 할로겐 함유 비닐 단량체; (메타)아크릴산-2-클로로에틸, 2-클로르에틸비닐에테르, 모노클로로아세트산비닐 및 염화비닐리덴 등,reactive halogen-containing vinyl monomers; (meth)acrylic acid-2-chloroethyl, 2-chlorethyl vinyl ether, vinyl monochloroacetate and vinylidene chloride, etc.

아미드기 함유 비닐 단량체; (메타)아크릴아미드, N-메틸올(메타)아크릴아미드, N-메톡시에틸(메타)아크릴아미드 및 N-부톡시메틸(메타)아크릴아미드 등,Vinyl monomer containing amide group; (meth)acrylamide, N-methylol (meth)acrylamide, N-methoxyethyl (meth)acrylamide and N-butoxymethyl (meth)acrylamide, etc.,

유기 규소기 함유 비닐 화합물 단량체; 비닐트리메톡시실란, 3-메타크릴록시프로필트리메톡시실란, 알릴트리메톡시실란, 트리메톡시실릴프로필알릴아민 및 2-메톡시에톡시트리메톡시실란 등,Vinyl compound monomer containing an organosilicon group; Vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, trimethoxysilylpropylallylamine and 2-methoxyethoxytrimethoxysilane, etc.,

그 밖에 매크로 모노머류; 상기 단량체의 공중합물 말단에 래디컬 중합성 비닐기를 가지는 물질(예를 들면; 불소계 매크로 모노머, 실리콘 함유 매크로 모노머, 우레탄계 매크로 모노머),Other macro monomers; A material having a radically polymerizable vinyl group at the end of a copolymer of the above monomers (e.g., a fluorine-based macromonomer, a silicon-containing macromonomer, a urethane-based macromonomer),

아크릴로니트릴; 아세트산비닐;을 들 수 있다.acrylonitrile; Vinyl acetate; can be mentioned.

공역 디엔계 단량체로서는 부타디엔, 이소프렌 및 클로로프렌 등을 들 수 있다.Conjugated diene monomers include butadiene, isoprene, and chloroprene.

폴리우레탄 수지를 형성하는 모노머로서는, 글리콜을 주성분으로 하는 폴리올과 디이소시아네이트 원료 등을 사용할 수 있고, 예를 들면 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트나 p-페닐렌디이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트류, 지방족 디이소시아네이트류, 2관능 말단 이소시아네이트우레탄 프리폴리머 등을 들 수 있다.As the monomer forming the polyurethane resin, polyols containing glycol as a main component and diisocyanate raw materials can be used, for example, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, etc. aromatic diisocyanates, aliphatic diisocyanates, and bifunctional terminal isocyanate urethane prepolymers.

폴리올로서는 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜 등의 디올 화합물이나 폴리에테르글리콜류 등을 들 수 있다.Examples of polyols include diol compounds such as ethylene glycol and diethylene glycol, and polyether glycols.

상기 중합성 단량체는 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.The polymerizable monomers may be used individually or in combination of two or more.

(메타)아크릴계 수지가 중합성 단량체(B) 유래의 구성 단위를 함유하는 경우, 얻어지는 중합체 입자의 중합 안정성과 경도를 조정하는 관점에서, 중합성 단량체(B) 유래의 구성 단위의 함유량은 (메타)아크릴계 수지의 전체 구성 단위 100질량%에 대하여 바람직하게는 15~90질량%이다.When the (meth)acrylic resin contains a structural unit derived from the polymerizable monomer (B), from the viewpoint of adjusting the polymerization stability and hardness of the resulting polymer particles, the content of the structural unit derived from the polymerizable monomer (B) is (meth) ) Preferably it is 15 to 90% by mass based on 100% by mass of the total structural units of the acrylic resin.

중합성 단량체(B) 유래의 구성 단위의 함유량은, (메타)아크릴 수지를 제조할 때 사용하는 단량체 성분 중의 중합성 단량체(B)의 양으로부터 산출할 수 있다.The content of the structural unit derived from the polymerizable monomer (B) can be calculated from the amount of the polymerizable monomer (B) in the monomer component used when producing the (meth)acrylic resin.

얻어지는 중합체 입자의 경도를 조정하는 관점에서, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서, 중합성 단량체(B)로서 다관능성 단량체를 사용해도 된다.From the viewpoint of adjusting the hardness of the resulting polymer particles, a polyfunctional monomer may be used as the polymerizable monomer (B) within a range that does not impair the effect of the present invention.

다관능성 단량체로서는 예를 들면Examples of polyfunctional monomers include:

이관능성 단량체; 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리옥시에틸렌디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 디비닐벤젠 등,bifunctional monomer; Ethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, polyoxyethylene di(meth)acrylate, Neo Pentyl glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, divinylbenzene etc,

삼관능성 단량체; 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 에톡시화트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭시화트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리스(2-(메타)아크릴록시에틸이소시아누레이트) 등,trifunctional monomer; Trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate, Propoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tris(2-(meth)acryloxyethyl isocyanurate), etc.,

사관능 이상의 단량체; 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 에톡시화펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 프로폭시화펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 에톡시화디펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 프로폭시화디펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 에톡시화디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트 및 에톡시화디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트 등의 테트라(메타)아크릴레이트 화합물,Monomers with tetrafunctional or higher function; Pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ethoxylated pentaerythritol tetra(meth)acrylate, propoxylated pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, ethoxylated dipenta Erythritol tetra(meth)acrylate, propoxylated dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, ethoxylated ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate and ethoxylated ditrimethyl. Tetra(meth)acrylate compounds such as all-propane tetra(meth)acrylate,

헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 디이소시아네이트메틸시클로헥산, 이소포론디이소시아네이트 및 메틸렌비스(4-시클로헥실이소시아네이트)와 같은 디이소시아네이트의 사이에 지방족을 가지는 디이소시아네이트 화합물, 또는 디이소시아네이트메틸벤젠 또는 4,4,-디페닐메탄디이소시아네이트와 같은 방향족기를 가지는 디이소시아네이트 화합물과, 글리시돌디(메타)아크릴레이트와의 부가 반응에 의해 얻어지는 어덕트,Diisocyanate compounds having aliphatics among diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, diisocyanatemethylcyclohexane, isophorone diisocyanate, and methylenebis(4-cyclohexylisocyanate), or diisocyanatemethylbenzene or an adduct obtained by addition reaction between a diisocyanate compound having an aromatic group such as 4,4,-diphenylmethane diisocyanate and glycidol di(meth)acrylate,

디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, etc. can be mentioned.

≪래디컬 중합≫≪Radical polymerization≫

(메타)아크릴계 수지를 포함하는 모입자는, 상기 (메타)아크릴산에스테르(A), 및 필요에 따라 중합성 단량체(B)를 공지의 방법에 의해 래디컬 중합시킴으로써 얻어진다.The parent particle containing a (meth)acrylic resin is obtained by radically polymerizing the above-mentioned (meth)acrylic acid ester (A) and, if necessary, a polymerizable monomer (B) by a known method.

이 방법으로서는, 예를 들면 래디컬 중합개시제의 존재하에서 유화 또는 현탁 중합하는 방법, 또는 비가교의 종입자를 사용하여 래디컬 중합개시제와 함께 단량체를 팽윤시켜 중합하는 방법(소위, 시드 중합법), 소프 프리 유화 중합법 등의 수성 매체 중에서의 중합 방법을 들 수 있다. 이들 중합 방법 중에서도 수μm의 입자 직경으로 또한 입자 직경이 가지런한 모입자가 얻어지는 점에서, 시드 중합법을 사용하는 것이 바람직하다.This method includes, for example, a method of emulsification or suspension polymerization in the presence of a radical polymerization initiator, or a method of polymerizing the monomer by swelling it with a radical polymerization initiator using non-crosslinked seed particles (so-called seed polymerization method), soap-free Polymerization methods in an aqueous medium such as emulsion polymerization method can be mentioned. Among these polymerization methods, it is preferable to use the seed polymerization method since it is possible to obtain mother particles with a particle diameter of several μm and an even particle diameter.

(래디컬 중합개시제)(Radical polymerization initiator)

상기 중합에 사용할 수 있는 래디컬 중합개시제로서는, 과황산칼륨, 과황산암모늄 등의 과황산염; 과산화벤조일, 과산화라우릴 등의 과산화물; 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조 화합물을 들 수 있다. 중합개시제는 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 중합개시제의 사용량은 모노머 성분 100질량부에 대하여 0.1~10질량부가 바람직하다.As radical polymerization initiators that can be used in the above polymerization, persulfates such as potassium persulfate and ammonium persulfate; Peroxides such as benzoyl peroxide and lauryl peroxide; Azo compounds such as azobisisobutyronitrile can be mentioned. The polymerization initiator may be used individually, or two or more types may be used in combination. The amount of polymerization initiator used is preferably 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the monomer component.

(유화제)(emulsifier)

상기 중합에 사용할 수 있는 유화제로서는, 예를 들면 도데실술폰산나트륨 등의 알킬술폰산염; 도데실벤젠술폰산나트륨 등의 알킬벤젠술폰산염; 2-술포테트라데칸산1-메틸에스테르나트륨 등의 알파술폰 지방산 에스테르염; 폴리에틸렌글리콜노닐페닐에테르 등의 폴리에틸렌글리콜알킬아릴에테르; 폴리옥시에틸렌라우릴에테르 등의 폴리옥시에틸렌알킬에테르; 폴리옥시에틸렌 다환 페닐에테르, 알릴에테르 및 그들의 황산에스테르의 염을 들 수 있다. 이들 중에서도 알킬벤젠술폰산염이 바람직하다. 유화제는 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 유화제의 사용량은 모노머 성분 100질량부에 대하여 0.01~20질량부가 바람직하다.Emulsifiers that can be used in the above polymerization include, for example, alkyl sulfonates such as sodium dodecyl sulfonate; Alkylbenzenesulfonate salts such as sodium dodecylbenzenesulfonate; alpha-sulfone fatty acid ester salts such as sodium 2-sulfotetradecanoic acid 1-methyl ester; Polyethylene glycol alkylaryl ethers such as polyethylene glycol nonylphenyl ether; Polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether; Examples include salts of polyoxyethylene polycyclic phenyl ether, allyl ether, and their sulfuric acid esters. Among these, alkylbenzene sulfonate is preferable. Emulsifiers may be used individually, or two or more types may be used in combination. The amount of emulsifier used is preferably 0.01 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the monomer component.

(분산안정제)(Dispersion stabilizer)

상기 중합에 사용할 수 있는 분산안정제로서는, 예를 들면 부분 비누화된 폴리비닐알코올; 완전 비누화된 폴리비닐알코올; 폴리아크릴산, 그 공중합체 및 이들의 중화물; 폴리메타크릴산, 그 공중합체 및 이들의 중화물; 카르복시메틸셀룰로오스, 히드록시프로필메틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스류; 폴리비닐피롤리돈을 들 수 있다. 분산안정제는 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 분산안정제의 사용량은 모노머 성분 100질량부에 대하여 0.1~10질량부가 바람직하다.Dispersion stabilizers that can be used in the above polymerization include, for example, partially saponified polyvinyl alcohol; Fully saponified polyvinyl alcohol; polyacrylic acid, its copolymers and their neutralized products; polymethacrylic acid, its copolymers and their neutralized products; Cellulose such as carboxymethylcellulose and hydroxypropylmethylcellulose; Examples include polyvinylpyrrolidone. The dispersion stabilizer may be used individually, or two or more types may be used in combination. The amount of the dispersion stabilizer used is preferably 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the monomer component.

상기 중합에 사용할 수 있는 수성 매체로서는 물, 물과 친수성 유기 용매와의 혼합물을 들 수 있다.Aqueous media that can be used for the above polymerization include water and a mixture of water and a hydrophilic organic solvent.

물로서는 예를 들면 정제수(예:이온교환수, 증류수), 지하수, 수도수를 들 수 있다.Examples of water include purified water (e.g., ion exchange water, distilled water), ground water, and tap water.

친수성 유기 용매로서는 예를 들면 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등의 저급 알코올; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜 등의 다가 알코올; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등의 셀로솔브류: 아세톤 등의 케톤류; 테트라히드로푸란 등의 에테르류; 포름산메틸 등의 에스테르류를 들 수 있다.Examples of hydrophilic organic solvents include lower alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol; polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, diethylene glycol, and triethylene glycol; Cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; Ketones such as acetone; ethers such as tetrahydrofuran; Ester, such as methyl formate, can be mentioned.

친수성 유기 용매는 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 친수성 유기 용매의 첨가량은 물 100질량부에 대하여 통상적으로 10질량부 이하이다. 본 명세서에 있어서, 특별히 언급하지 않는 한 「수성 매체」란 상기한 매체를 가리킨다.The hydrophilic organic solvent may be used individually, or two or more types may be used together. The amount of hydrophilic organic solvent added is usually 10 parts by mass or less per 100 parts by mass of water. In this specification, unless otherwise specified, “aqueous medium” refers to the above-mentioned medium.

상기한 중합 방법에 있어서, 중합 온도는 통상적으로 40~100℃, 바람직하게는 55~85℃이며, 중합 시간은 통상적으로 1~24시간, 바람직하게는 1~10시간이다. 시드 중합의 경우에는, 각 단계에 있어서 상기 중합 조건을 채용할 수 있다.In the above polymerization method, the polymerization temperature is usually 40 to 100°C, preferably 55 to 85°C, and the polymerization time is usually 1 to 24 hours, preferably 1 to 10 hours. In the case of seed polymerization, the above polymerization conditions can be adopted in each step.

시드 중합이란 중합을 행할 때 시드(씨앗)를 사용하는 중합법이다. 시드 중합으로서는 유화 중합의 일종인 시드 유화 중합으로서 행해지는 것이 바람직하다. 시드 유화 중합에서는, 통상적인 유화 중합에 있어서의 계 내에서의 핵 형성의 단계를 시드(씨앗)에 의해 치환할 수 있다. 입자 직경을 가지런히 한 시드(씨앗)를 사용하고, 또 중합 전에 충분히 시드를 모노머로 팽윤시킴으로써, 입자 직경이 크고 또한 입자 직경이 가지런한 수지 입자를 얻을 수 있다.Seed polymerization is a polymerization method that uses seeds when performing polymerization. The seed polymerization is preferably carried out as seed emulsion polymerization, which is a type of emulsion polymerization. In seed emulsion polymerization, the step of nucleation within the system in normal emulsion polymerization can be replaced by a seed. By using seeds with uniform particle diameters and sufficiently swelling the seeds with monomer before polymerization, resin particles with large particle diameters and uniform particle diameters can be obtained.

시드 중합에 의해 (메타)아크릴계 수지를 얻는 경우에는, 상기 (메타)아크릴산에스테르(A) 및 필요에 따라 중합성 단량체(B), 다른 단량체 성분을 시드(씨앗) 존재하에서 공중합한다.When obtaining a (meth)acrylic resin by seed polymerization, the above-mentioned (meth)acrylic acid ester (A) and, if necessary, a polymerizable monomer (B) and other monomer components are copolymerized in the presence of seeds.

시드로서는 단분산 입자를 사용하는 것이, (메타)아크릴계 수지의 입자 직경을 균일하게 하는 관점에서 바람직하다. 시드로서는, 상기 모노머 성분으로서 예시한 (메타)아크릴산알킬에스테르의 중합체, 예를 들면 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)나 폴리메틸아크릴레이트의 입자를 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use monodisperse particles as seeds from the viewpoint of uniformizing the particle diameter of the (meth)acrylic resin. As the seed, it is preferable to use particles of a polymer of the alkyl (meth)acrylate exemplified as the monomer component above, for example, polymethyl methacrylate (PMMA) or polymethyl acrylate.

시드 중합은 복수회 반복해도 되고, 통상적으로는 시드 중합을 1~15회, 바람직하게는 1~10회 행함으로써, (메타)아크릴계 수지 입자를 얻는다. 또한 시드 중합을 반복하여 행하는 경우에는, 1회째의 시드 중합에 의해 얻어진 수지 입자를, 2회째의 시드 중합에 사용하는 시드(씨앗)로 하고, 마찬가지로 n-1회째의 시드 중합에 의해 얻어진 수지 입자를, n회째의 시드 중합에 사용하는 시드(씨앗)로 한다. 또한 상기 서술한 시드의 예시는, 시드 중합을 복수회 행하는 경우에는, 1회째의 시드 중합에 사용하는 시드의 예시이다.The seed polymerization may be repeated multiple times, and (meth)acrylic resin particles are usually obtained by performing the seed polymerization 1 to 15 times, preferably 1 to 10 times. In addition, when performing seed polymerization repeatedly, the resin particles obtained by the first seed polymerization are used as seeds (seeds) to be used in the second seed polymerization, and similarly, the resin particles obtained by the n-1 seed polymerization are used as seeds. Let be the seed (seed) used for the nth seed polymerization. Additionally, the examples of seeds described above are examples of seeds used for the first seed polymerization when seed polymerization is performed multiple times.

1회째의 시드 중합, 즉 최초의 시드 중합에 사용하는 시드의 평균 입자 직경으로서는, (메타)아크릴계 수지의 평균 입자 직경으로서 어느 정도의 사이즈를 기대하는지, 또 시드 중합을 반복하는 횟수에 따라서도 상이하지만, 통상적으로는 평균 입자 직경이 0.1~3.0μm, 바람직하게는 0.1~2.0μm인 시드가 사용된다.The average particle diameter of the seed used for the first seed polymerization, that is, the first seed polymerization, varies depending on what size is expected as the average particle diameter of the (meth)acrylic resin and the number of times the seed polymerization is repeated. However, seeds with an average particle diameter of 0.1 to 3.0 μm, preferably 0.1 to 2.0 μm, are used.

시드로서는 모노머 성분 100질량부에 대하여 통상적으로는 1~50질량부, 바람직하게는 1~30질량부 사용한다. 또한 시드 중합을 복수회 행하는 경우에는, 각각의 시드 중합에 있어서, 모노머 성분 100질량부에 대하여, 시드를 통상적으로는 1~50질량부, 바람직하게는 1~30질량부 사용한다.The seed is usually used in an amount of 1 to 50 parts by mass, preferably 1 to 30 parts by mass, per 100 parts by mass of the monomer component. In addition, when seed polymerization is performed multiple times, in each seed polymerization, 1 to 50 parts by mass, preferably 1 to 30 parts by mass, of seeds are used per 100 parts by mass of the monomer component.

또 시드의 CV값으로서는 단분산성이 높은 10% 이하가 바람직하고 2~8%가 보다 바람직하다. 또한 CV값(Coefficient of Variation)은 입자의 입자 직경 분포의 지표이며, 변동 계수라고도 불리는 값이며, 하기 식(II)으로 구할 수 있다.Also, the CV value of the seed is preferably 10% or less, which has high monodispersity, and 2 to 8% is more preferable. Additionally, the CV value (Coefficient of Variation) is an index of the particle diameter distribution of particles, and is also called the coefficient of variation, and can be obtained by the following equation (II).

CV값[%]=(σ/D)×100···(II)CV value [%]=(σ/D)×100···(II)

[식(II)에 있어서, σ는 표준 편차, D는 평균 입자 직경이다.][In formula (II), σ is the standard deviation and D is the average particle diameter.]

단량체 성분에 있어서의 각 단량체의 사용량은, (메타)아크릴산에스테르(A), 중합성 단량체(B)의 합계를 100질량부로 하면, 바람직하게는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 5~90질량부, 중합성 단량체(B)를 10~95질량부, 보다 바람직하게는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 10~80질량부, 중합성 단량체(B)를 20~90질량부, 더욱 바람직하게는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 10~50질량부, 중합성 단량체(B)를 50~90질량부, 특히 바람직하게는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 10~30질량부, 중합성 단량체(B)를 70~90질량부이다. 또한 시드 중합과 같이 다단계의 반응에 의해 (메타)아크릴계 수지를 얻은 경우에는, 각 단계에서 사용한 모든 단량체 성분의 합계를 100질량부로 했을 때의, 각 단량체의 사용량이 상기 범위가 되면 된다.The amount of each monomer used in the monomer component is preferably 5 to 90 parts by mass of (meth)acrylic acid ester (A), assuming the total of (meth)acrylic acid ester (A) and polymerizable monomer (B) is 100 parts by mass. 10 to 95 parts by mass of the polymerizable monomer (B), more preferably 10 to 80 parts by mass of the (meth)acrylic acid ester (A), and 20 to 90 parts by mass of the polymerizable monomer (B), more preferably 10 to 50 parts by mass of (meth)acrylic acid ester (A), 50 to 90 parts by mass of polymerizable monomer (B), particularly preferably 10 to 30 parts by mass of (meth)acrylic acid ester (A), polymerizable The monomer (B) is 70 to 90 parts by mass. Additionally, when a (meth)acrylic resin is obtained through a multi-step reaction such as seed polymerization, the amount of each monomer used may be within the above range when the total of all monomer components used in each step is 100 parts by mass.

공정(1)에서는, 마지막에 필요하면, 뷰흐너 깔때기 등을 사용하여 이온교환수로 (메타)아크릴계 수지를 세정·탈수할 수 있다.In step (1), if necessary, the (meth)acrylic resin can be washed and dehydrated with ion-exchanged water using a Buchner funnel or the like.

<공정(2)><Process (2)>

공정(2)에서는, 상기 공정(1) 이후, 상기 모입자와 이미다졸계 화합물 또는/및 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물을 접촉시켜, 상기 환상 에테르 구조 중의 환상 에테르 부위끼리를 개환 중합시켜, 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조를 가지는 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 중합체 입자를 얻는다.In step (2), after step (1), the parent particle is brought into contact with an imidazole-based compound or/and an amino compound having a tertiary amino group to ring-open polymerize the cyclic ether moieties in the cyclic ether structure to form a cyclic ether. Polymer particles containing a (meth)acrylic resin having a structure formed by ring-opening polymerization of ether moieties are obtained.

(메타)아크릴계 수지에 있어서의 환상 에테르 구조 중의 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조는, 상기 환상 에테르 구조 중 1종의 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합해도 되고 2종 이상의 상이한 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합해도 된다.The structure formed by ring-opening polymerization of cyclic ether moieties in the cyclic ether structure of the (meth)acrylic resin may be ring-opening polymerization of one type of cyclic ether moiety in the cyclic ether structure, or two or more different cyclic ether moieties may be ring-opening-polymerized with each other. Ring-opening polymerization may be performed.

환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조로서는, 예를 들면 이하의 식(3)으로 표시되는 반복 단위를 들 수 있다.Examples of the structure formed by ring-opening polymerization of cyclic ether moieties include a repeating unit represented by the following formula (3).

[식(3)에 있어서, P1은 (메타)아크릴산에스테르(A) 유래의 구성 단위를 포함하는 중합체쇄를 나타낸다.][In formula (3), P 1 represents a polymer chain containing structural units derived from (meth)acrylic acid ester (A).]

예를 들면 중합성 단량체로서 글리시딜메타크릴레이트를 사용한 경우, 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조로서는 하기 식(4)으로 표시되는 구조가 된다. 이 경우, 글리시딜메타크릴레이트 중합체의 환상 에테르 부위끼리, 즉 에폭시기끼리가 개환 중합한다. 따라서, 얻어지는 중합체 입자는 공정(1)에 있어서 글리시딜메타크릴레이트 중합체쇄의 반복 구조를 가지고, 또한 공정(2)에 있어서 글리시딜메타크릴레이트의 에폭시기끼리가 개환 중합하여 이루어지는 반복 구조를 가진다.For example, when glycidyl methacrylate is used as the polymerizable monomer, the structure formed by ring-opening polymerization of cyclic ether moieties is a structure represented by the following formula (4). In this case, the cyclic ether portions of the glycidyl methacrylate polymer, that is, the epoxy groups undergo ring-opening polymerization. Therefore, the obtained polymer particles have a repeating structure of the glycidyl methacrylate polymer chain in step (1), and also have a repeating structure formed by ring-opening polymerization of the epoxy groups of glycidyl methacrylate with each other in step (2). have

(메타)아크릴계 수지에 있어서의 환상 에테르 구조 중의 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조 단위의 함유량은, (메타)아크릴계 수지의 전체 구성 단위 100질량% 중에 대하여, 바람직하게는 5~90질량%이며, 보다 바람직하게는 10~80질량%, 더욱 바람직하게는 10~50질량%, 특히 바람직하게는 10~30질량%이다.The content of the structural unit formed by ring-opening polymerization of cyclic ether moieties in the cyclic ether structure in the (meth)acrylic resin is preferably 5 to 90% by mass based on 100% by mass of all structural units of the (meth)acrylic resin. , more preferably 10 to 80 mass%, further preferably 10 to 50 mass%, particularly preferably 10 to 30 mass%.

환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조체의 함유량이 상기 범위에 있으면, 고경도화와 단분산성이 우수한 중합체 입자를 얻을 수 있다.If the content of the structure formed by ring-opening polymerization of cyclic ether moieties is within the above range, polymer particles with high hardness and excellent monodispersity can be obtained.

≪이미다졸계 화합물≫≪Imidazole-based compounds≫

본 발명의 중합체 입자는 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 중합시켜 이루어지고, 또한 상기 환상 에테르 구조의 일부에 이미다졸계 화합물을 부가시켜 환상 에테르 부위가 개환한 구조를 가지는 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 것이 바람직하다.The polymer particles of the present invention are formed by polymerizing (meth)acrylic acid ester (A) having a cyclic ether structure, and have a structure in which the cyclic ether portion is ring-opened by adding an imidazole-based compound to a part of the cyclic ether structure. It is preferable that it contains a meth)acrylic resin.

이미다졸계 화합물로서는 하기 식(5)에 표시되는 1위에 활성 수소를 가지는 이미다졸계 화합물, 또는 하기 식(6)에 표시되는 1위에 활성 수소를 가지지 않는 이미다졸계 화합물을 들 수 있다.Examples of the imidazole-based compound include an imidazole-based compound having an active hydrogen at the first position shown in the following formula (5), or an imidazole-based compound having no active hydrogen at the first position shown in the following formula (6).

[식(5) 및 식(6) 중, R3 및 R6은 유기기를 나타내고, R4 및 R5는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수가 1~20인 알킬기를 나타낸다.][In formulas (5) and (6), R 3 and R 6 represent an organic group, and R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.]

식(5)에 표시되는 1위에 활성 수소를 가지는 이미다졸계 화합물로서는, 예를 들면 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐-1H-이미다졸, 2-메틸이미다졸, 4-메틸-1H-이미다졸-5-카르복실산에틸, 2-이소프로필이미다졸, 1H-이미다졸-4,5-디카르복실산, 벤조이미다졸, 2-페닐-5-벤조이미다졸술폰산, 2-히드록시벤조이미다졸, 4-메틸이미다졸, 5,6-디메틸벤조이미다졸을 들 수 있다.Examples of imidazole-based compounds having active hydrogen at position 1 shown in formula (5) include 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-1H-imidazole, 2-methylimidazole, 4 -Methyl-1H-imidazole-5-carboxylic acid ethyl, 2-isopropylimidazole, 1H-imidazole-4,5-dicarboxylic acid, benzoimidazole, 2-phenyl-5-benzimidazole Examples include sulfonic acid, 2-hydroxybenzimidazole, 4-methylimidazole, and 5,6-dimethylbenzimidazole.

식(6)에 표시되는 1위에 활성 수소를 가지지 않는 이미다졸계 화합물로서는, 예를 들면 2,4-디아미노-6-[2-(2-메틸-1-이미다졸릴)에틸]-1,3,5-트리아진, 1-이소부틸-2-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸륨·트리멜리테이트, 1,2-디메틸이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸, 2-페닐-1-벤질-1H-이미다졸을 들 수 있다.Examples of the imidazole-based compound that does not have an active hydrogen at position 1 shown in formula (6) include 2,4-diamino-6-[2-(2-methyl-1-imidazolyl)ethyl]-1 ,3,5-triazine, 1-isobutyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium·trimellitate, 1,2-dimethylimidazole, 1-benzyl -2-methylimidazole and 2-phenyl-1-benzyl-1H-imidazole.

상기 이미다졸계 화합물 중에서도 반응성 및 수용성의 관점에서, 2-에틸-4-메틸이미다졸이 바람직하다.Among the above imidazole compounds, 2-ethyl-4-methylimidazole is preferable from the viewpoint of reactivity and water solubility.

상기 이미다졸계 화합물은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.The said imidazole-based compound may be used individually, or 2 or more types may be used.

공정(2)에 있어서의 이미다졸계 화합물의 첨가량은, 모입자의 고형분 100질량부에 대하여 0.01~5.0질량부, 바람직하게는 0.05~3.0질량부, 보다 바람직하게는 0.1~2.0질량부이다.The amount of imidazole compound added in step (2) is 0.01 to 5.0 parts by mass, preferably 0.05 to 3.0 parts by mass, more preferably 0.1 to 2.0 parts by mass, based on 100 parts by mass of solid content of the mother particle.

이미다졸계 화합물의 분자량은, 바람직하게는 50~1,000, 보다 바람직하게는 50~500, 더욱 바람직하게는 50~300이다.The molecular weight of the imidazole-based compound is preferably 50 to 1,000, more preferably 50 to 500, and still more preferably 50 to 300.

공정(2)에 있어서, 1위에 활성 수소를 가지는 이미다졸계 화합물을 사용하면, 이미다졸계 화합물의 활성 수소에 의해, 이미다졸계 화합물과 (메타)아크릴계 수지의 일부의 측쇄의 환상 에테르가 반응하여, 환상 에테르 구조의 일부가 개환한 부위에 이미다졸계 화합물을 부가할 수 있다.In step (2), when an imidazole-based compound having an active hydrogen is used at the first position, the imidazole-based compound and the cyclic ether of a part of the side chain of the (meth)acrylic resin react with the active hydrogen of the imidazole-based compound. Thus, an imidazole-based compound can be added to the site where part of the cyclic ether structure is ring-opened.

상기 환상 에테르 구조의 일부에 이미다졸계 화합물을 부가시켜 환상 에테르 부위가 개환한 구조로서는, 예를 들면 1위에 활성 수소를 가지는 이미다졸계 화합물이 (메타)아크릴계 수지의 일부의 측쇄의 환상 에테르와 반응하여, 에테르환이 개환하고 이미다졸계 화합물이 부가된 하기 식(7)으로 표시되는 구조를 들 수 있다.As a structure in which an imidazole-based compound is added to a part of the above-mentioned cyclic ether structure and the cyclic ether site is ring-opened, for example, an imidazole-based compound having an active hydrogen at the first position is combined with a cyclic ether of a part of the side chain of a (meth)acrylic resin. Through reaction, the ether ring is ring-opened and an imidazole-based compound is added to form a structure represented by the following formula (7).

[식(7) 중, R3은 유기기를 나타내고, R4 및 R5는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수가 1~20인 알킬기를 나타내고, P2는 (메타)아크릴계 수지의 주쇄를 나타내고, w는 1~6의 정수를 나타낸다.][In formula (7), R 3 represents an organic group, R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, P 2 represents the main chain of a (meth)acrylic resin, and w represents an integer from 1 to 6.]

상기 환상 에테르 구조의 일부에 이미다졸계 화합물을 부가시켜 환상 에테르 부위가 개환한 구조는, 상기 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조를 가지는 (메타)아크릴계 수지를 구성하는 (메타)아크릴계 중합체와 동일한 분자 중에 있어도 되고, 상기 (메타)아크릴계 중합체와는 별개의 (메타)아크릴계 중합체의 분자 중에 있어도 된다.The structure in which the cyclic ether moiety is ring-opened by adding an imidazole-based compound to a part of the cyclic ether structure is a (meth)acrylic polymer constituting a (meth)acrylic resin having a structure formed by ring-opening polymerization of the cyclic ether moieties with each other. It may be in the same molecule, or it may be in a molecule of a (meth)acrylic polymer separate from the above-mentioned (meth)acrylic polymer.

본 발명의 중합체 입자가, 상기 환상 에테르 구조의 일부에 이미다졸계 화합물을 부가시켜 환상 에테르 부위가 개환한 구조를 가지는 경우, 환상 에테르 부위끼리의 개환 중합에 있어서 반응하는 환상 에테르 부위의 양과의 밸런스의 관점에서, 이미다졸계 화합물을 부가시켜 환상 에테르 부위가 개환한 구조 단위의 함유량은, 중합체 입자의 전체 구성 단위 100질량%에 대하여, 바람직하게는 5~90질량%이며, 보다 바람직하게는 10~80질량%, 더욱 바람직하게는 10~50질량%, 특히 바람직하게는 10~30질량%이다.When the polymer particle of the present invention has a structure in which the cyclic ether moiety is ring-opened by adding an imidazole-based compound to a part of the cyclic ether structure, the balance with the amount of cyclic ether moiety reacting during ring-opening polymerization between cyclic ether moieties From the viewpoint, the content of the structural unit in which the cyclic ether moiety is ring-opened by adding an imidazole-based compound is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 10% by mass, based on 100% by mass of the total structural units of the polymer particle. ~80% by mass, more preferably 10-50% by mass, particularly preferably 10-30% by mass.

≪3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물≫≪Amino compounds having a tertiary amino group≫

3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물로서는, 예를 들면 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 트리옥틸아민, N-메틸모르폴린, N-에틸모르폴린, N,N-디메틸에탄올아민, N,N-디에틸에탄올아민, N,N-디부틸에탄올아민, N-메틸디에탄올아민, N-n-부틸디에탄올아민, N-t-부틸디에탄올아민, N,N-디에틸이소프로판올아민, 1-메틸이미다졸, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데카-7-엔, 폴리에틸렌이민을 들 수 있다.Examples of amino compounds having a tertiary amino group include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, trioctylamine, N-methylmorpholine, N-ethylmorpholine, N,N-dimethylethanolamine, N,N -Diethylethanolamine, N,N-dibutylethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-n-butyldiethanolamine, N-t-butyldiethanolamine, N,N-diethylisopropanolamine, 1-methylimida Sol, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undeca-7-ene, and polyethyleneimine are included.

이들 중에서도 환상 에테르 부위끼리를 개환 중합시켜, 단분산성과 고경도화가 양립된 중합체 입자를 얻을 수 있는 관점에서, 화합물의 분자 내에 1급 및/또는 2급 아미노기를 가지지 않는, 3급 아미노기만을 가지는 아미노 화합물이 바람직하다.Among these, from the viewpoint of obtaining polymer particles that are both monodisperse and highly hardened by ring-opening polymerization of cyclic ether moieties, amino compounds having only tertiary amino groups but not primary and/or secondary amino groups in the molecule of the compound are used. Compounds are preferred.

3급 아미노기를 가지는 화합물은, 1급 또는 2급 아미노기를 가지는 화합물과 달리, 중합 촉매로서 반응을 진행시킨다. 1급 또는 2급 아미노기를 가지는 아미노 화합물과 환상 에테르기와의 반응 후에 생성되는 3급 아민은 그 입체 장해로부터 촉매 기능은 가지기 어렵지만, 3급 아미노기를 가지는 화합물은 강염기성이기 때문에 촉매 기능을 가지고, 환상 에테르 부위끼리를 개환 중합시킬 수 있다.Compounds having a tertiary amino group, unlike compounds having a primary or secondary amino group, advance the reaction as a polymerization catalyst. The tertiary amine produced after the reaction between an amino compound having a primary or secondary amino group and a cyclic ether group is unlikely to have a catalytic function due to steric hindrance, but the compound having a tertiary amino group is strongly basic, so it has a catalytic function and can be used as a cyclic ether. The sites can be ring-opened polymerized.

공정(2)에 있어서의 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물의 첨가량은, 모입자의 고형분 100질량부에 대하여 0.01~5.0질량부, 바람직하게는 0.05~3.0질량부, 보다 바람직하게는 0.1~2.0질량부이다.The addition amount of the amino compound having a tertiary amino group in step (2) is 0.01 to 5.0 parts by mass, preferably 0.05 to 3.0 parts by mass, more preferably 0.1 to 2.0 parts by mass, based on 100 parts by mass of solid content of the mother particle. It is wealth.

3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물의 평균 분자량은, 바람직하게는 50~2,000, 보다 바람직하게는 50~500, 더욱 바람직하게는 50~200이다.The average molecular weight of the amino compound having a tertiary amino group is preferably 50 to 2,000, more preferably 50 to 500, and still more preferably 50 to 200.

공정(2)에 있어서, 이미다졸계 화합물 또는 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물을 각각 1종 이상 사용할 수 있고, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서 상기 이미다졸계 화합물과 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물을 병용해도 된다. 그 중에서도 중합체 입자를 보다 고경도화할 수 있는 점에서, 이미다졸계 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하다.In step (2), one or more types of imidazole-based compounds or amino compounds having a tertiary amino group can be used, and the imidazole-based compound and the amino compound having a tertiary amino group can be used as long as the effect of the present invention is not impaired. You can use it together. Among these, it is more preferable to use an imidazole-based compound because the polymer particles can be further increased in hardness.

≪그 밖의 성분≫≪Other ingredients≫

공정(2)에서는, 상기 이미다졸계 화합물 또는 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물과 함께, 필요에 따라 그 밖의 성분을 사용해도 된다. 그 밖의 성분으로서는, 예를 들면 1급 아미노기를 가지는 아미노 화합물 및/또는 2급 아미노기를 가지는 아미노 화합물을 들 수 있다.In step (2), other components may be used as needed along with the imidazole-based compound or the amino compound having a tertiary amino group. Other components include, for example, amino compounds having a primary amino group and/or amino compounds having a secondary amino group.

1급 아미노기를 가지는 아미노 화합물로서는, 예를 들면As an amino compound having a primary amino group, for example

알킬디아민;alkyldiamine;

멘센디아민, 이소포론디아민, 크실렌디아민, 디에틸렌트리아민(2급 아민 포함), 트리메틸렌테트라민(2급 아민 포함), 테트라에틸렌펜타민(2급 아민 포함), 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 디에틸아미노프로필아민, 4,4'-메틸렌비스(2-메틸시클로헥산아민) 등의 지환식 아민;Mensenediamine, isophoronediamine, xylenediamine, diethylenetriamine (including secondary amines), trimethylenetetramine (including secondary amines), tetraethylenepentamine (including secondary amines), 1,3-bis (amino Alicyclic amines such as methyl)cyclohexane, diethylaminopropylamine, and 4,4'-methylenebis(2-methylcyclohexanamine);

m-페닐렌디아민, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠 등의 방향족 아민을 들 수 있다.and aromatic amines such as m-phenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl ether, and 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene. .

2급 아미노기를 가지는 아미노 화합물로서는, 예를 들면Examples of amino compounds having a secondary amino group include:

메틸시클로헥실아민, 디에틸렌트리아민(1급 아민 포함), 트리메틸테트라민(1급 아민 포함), 테트라에틸렌펜타민(1급 아민 포함);Methylcyclohexylamine, diethylenetriamine (including primary amines), trimethyltetramine (including primary amines), tetraethylenepentamine (including primary amines);

4,4'-메틸렌아닐린 등의 방향족 아민을 들 수 있다.Aromatic amines such as 4,4'-methyleneaniline can be mentioned.

1급 아미노기 및/또는 2급 아미노기를 가지는 화합물을 사용하는 경우, 1급 아미노기 및/또는 2급 아미노기를 가지는 화합물의 첨가량은, 모입자의 고형분 100질량부에 대하여 바람직하게는 0.7질량부 이하이다.When using a compound having a primary amino group and/or a secondary amino group, the amount of the compound having a primary amino group and/or a secondary amino group is preferably 0.7 parts by mass or less per 100 parts by mass of the solid content of the parent particle. .

사용량이 상기 수치 이하이면, 이미다졸계 화합물 또는 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물의 촉매 작용을 해치지 않고 (메타)아크릴산에스테르(A)의 환상 에테르 부위끼리를 개환 중합시킬 수 있다.If the amount used is below the above value, ring-opening polymerization can be carried out between the cyclic ether moieties of (meth)acrylic acid ester (A) without impairing the catalytic action of the imidazole-based compound or the amino compound having a tertiary amino group.

사용량이 상기 범위를 넘으면, 중합체 입자의 표면에 존재하는 환상 에테르 부위와 1급 아미노기 및/또는 2급 아미노기의 부가 반응이 일어나, 일부의 환상 에테르가 반응하지 않고 경화가 완료된다는 문제가 생긴다.If the amount used exceeds the above range, an addition reaction between the cyclic ether moiety present on the surface of the polymer particles and the primary amino group and/or secondary amino group occurs, resulting in the problem that curing is completed without some of the cyclic ether reacting.

공정(2)에 있어서, 1위에 활성 수소를 가지는 이미다졸계 화합물을 사용하는 경우, 환상 에테르 구조의 일부가 개환한 부위에 이미다졸계 화합물이 부가된 후에, 이미다졸계 화합물이 촉매가 되어 모입자의 환상 에테르 부위끼리의 개환 중합을 촉진시킨다고 생각된다.In step (2), when an imidazole-based compound having active hydrogen is used at the first position, after the imidazole-based compound is added to the site where part of the cyclic ether structure is ring-opened, the imidazole-based compound becomes a catalyst and It is thought that it promotes ring-opening polymerization between the cyclic ether portions of the particles.

한편, 공정(2)에 있어서, 1위에 활성 수소를 가지지 않는 이미다졸계 화합물 또는 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물을 사용하는 경우, 이미다졸계 화합물 또는 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물은, 환상 에테르 구조의 일부에 부가되지 않고 촉매로서 모입자의 환상 에테르 부위끼리의 개환 중합을 촉진시킨다고 생각된다.On the other hand, in step (2), when an imidazole-based compound or an amino compound having a tertiary amino group that does not have an active hydrogen is used in the first position, the imidazole-based compound or an amino compound having a tertiary amino group has a cyclic ether structure. It is thought that it promotes ring-opening polymerization between the cyclic ether portions of the parent particle as a catalyst without being added to a portion of the .

이러한 개환 중합에 있어서, 이미다졸계 화합물 또는 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물은, 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)에 대하여, 몰비(이미다졸 또는 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물/환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A))가 0.001~0.4인 것이 바람직하고, 0.002~0.2가 보다 바람직하다. 상기 이미다졸계 화합물 및 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물은 환상 에테르 부위끼리를 개환 중합시키는 촉매로서 작용하기 때문에, 몰비가 상기한 범위 내에 있으면 충분히 아니온 중합 반응이 진행된다. 개환 중합은 예를 들면 100~200℃에서 0.5~2시간에 걸쳐 행할 수 있다.In this ring-opening polymerization, the imidazole-based compound or the amino compound having a tertiary amino group is mixed with the (meth)acrylic acid ester (A) having a cyclic ether structure at a molar ratio (imidazole or amino compound having a tertiary amino group/cyclic The (meth)acrylic acid ester (A)) having an ether structure is preferably 0.001 to 0.4, and more preferably 0.002 to 0.2. Since the imidazole-based compound and the amino compound having a tertiary amino group act as a catalyst for ring-opening polymerization of cyclic ether moieties, if the molar ratio is within the above range, the anion polymerization reaction sufficiently proceeds. Ring-opening polymerization can be performed, for example, at 100 to 200°C for 0.5 to 2 hours.

<공정(3)><Process (3)>

공정(3)에서는 공정(2)에서 얻어진 중합체 입자를 분체화한다.In step (3), the polymer particles obtained in step (2) are powdered.

중합체 입자를 분산 매체로부터 분리하는 방법으로서는, 특별히 제한은 없고, 여과, 원심분리 등 공지의 방법을 이용할 수 있다. 이어서, 동결건조법, 스프레이 드라이법 등 통상적으로 채용되고 있는 방법을 이용함으로써 분리된 중합체 입자를 건조시키고, 분체화할 수 있다.The method for separating the polymer particles from the dispersion medium is not particularly limited, and known methods such as filtration and centrifugation can be used. Next, the separated polymer particles can be dried and powdered by using commonly used methods such as freeze-drying and spray drying.

중합체 입자의 경도를 고려하여, 입자의 변형이 없는 조건으로 건조시키는 것이 바람직하다.Considering the hardness of the polymer particles, it is preferable to dry them under conditions without deformation of the particles.

건조시킨 중합체 입자는 유발, 제트밀 등으로 분쇄하는 것이 바람직하다.It is preferable to grind the dried polymer particles using a mortar, jet mill, etc.

[중합체 입자의 물성][Physical properties of polymer particles]

본 발명의 중합체 입자는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 평균 입자 직경이 바람직하게는 2~20μm, 보다 바람직하게는 2~5μm이다. 평균 입자 직경이 상기 범위를 밑돌면, 중합체 입자가 응집하기 쉬워질 가능성이 있다. 또한 본 명세서에 있어서, 중합체 입자의 CV값이나 10% K값의 산출에 사용하는 평균 입자 직경을 포함하는 모든 「평균 입자 직경」은, 실시예에 기재된 측정 방법에 의해 구할 수 있다.The polymer particles of the present invention are not particularly limited, but the average particle diameter is preferably 2 to 20 μm, more preferably 2 to 5 μm. If the average particle diameter is below the above range, there is a possibility that the polymer particles become prone to agglomeration. In addition, in this specification, all "average particle diameters" including the average particle diameter used to calculate the CV value or 10% K value of the polymer particle can be determined by the measurement method described in the Examples.

중합체 입자의 CV값은 바람직하게는 15% 이하, 보다 바람직하게는 7% 이하이다. CV값이 상기 범위를 넘으면, 중합체 입자의 각종 용도에 있어서의 특성이 저하되는 경향이 있다. 예를 들면 중합체 입자가 이방 도전성 접착제를 구성하는 도전성 입자에 사용되었을 때 접속 신뢰성이 저하되거나 하는 경향이 있다. 또한 입자 직경의 CV값은 상기 서술한 시드의 CV값의 기재와 마찬가지의 방법에 의해 구할 수 있다.The CV value of the polymer particles is preferably 15% or less, more preferably 7% or less. When the CV value exceeds the above range, the properties of the polymer particles in various uses tend to deteriorate. For example, when polymer particles are used as conductive particles constituting an anisotropic conductive adhesive, connection reliability tends to decrease. Additionally, the CV value of the particle diameter can be obtained by the same method as the description of the CV value of the seed described above.

본 발명의 중합체 입자는, 하기 식으로 구해지는 10% K값이 3,000~7,000N/mm2인 것이 바람직하고, 3,300~6,000N/mm2인 것이 보다 바람직하다.The polymer particles of the present invention preferably have a 10% K value of 3,000 to 7,000 N/mm 2 and more preferably 3,300 to 6,000 N/mm 2 as determined by the formula below.

10% K값(N/mm2)=(3/√2)·F·S-3/2·R-1/2 10% K value (N/mm 2 )=(3/√2)·F·S -3/2 ·R -1/2

[F, S는 각각 중합체 입자의 10% 압축 변형에 있어서의 하중값(N), 압축 변위(mm)이며, R은 중합체 입자의 반경(mm)이며, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정한 중합체 입자의 평균 입자 직경의 반수이다.][F and S are the load value (N) and compressive displacement (mm) at 10% compressive deformation of the polymer particle, respectively, and R is the radius of the polymer particle (mm), and the polymer measured by the method described in the Examples It is half the average particle diameter of the particle.]

중합체 입자의 10% K값이 지나치게 작으면, 이방성 도전 재료로서 사용했을 때, 도전성 입자 주위의 바인더(접착제)를 충분히 배제할 수 없는(펴서 넓힐 수 없는) 것이나, 전극으로의 파고들어가는 상태가 약하여 접점의 탈락이 생기는 것에 의해, 낮은 접속 저항값을 얻을 수 없는 일이 있다. 한편, 중합체 입자의 10% K값이 지나치게 크면, 전자 전도에 관여하는 진짜 접촉 면적은 늘어나 저항값이 내려가지만, 접속 부위가 파손되어버려, 전기적으로 양호한 접촉 상태를 확보할 수 없는 일이 있다.If the 10% K value of the polymer particles is too small, when used as an anisotropic conductive material, the binder (adhesive) around the conductive particles cannot be sufficiently removed (cannot be spread out) or the penetration into the electrode is weak. Due to the contact falling off, a low connection resistance value may not be obtained. On the other hand, if the 10% K value of the polymer particles is too large, the actual contact area involved in electronic conduction increases and the resistance value decreases, but the connection portion may be damaged and a good electrical contact state may not be secured.

10% K값은 입자 직경이 10% 변형했을 때의 압축 하중으로부터 산출한 값이며, 구체의 경도를 보편적 또한 정량적으로 나타내는 것이다. 10% K값의 구체적인 계측 방법에 대해서는, 후술하는 실시예에 기재하고 있다.The 10% K value is a value calculated from the compressive load when the particle diameter is deformed by 10%, and represents the hardness of the sphere universally and quantitatively. The specific measurement method of the 10% K value is described in the Examples described later.

본 발명의 중합체 입자는 입자를 압축했을 때 최대 하중에 이르기 전에 입자가 깨지는, 소위 파괴점을 가지는 것인 것이 바람직하다.The polymer particles of the present invention preferably have a so-called breaking point where the particles break before reaching the maximum load when compressed.

파괴점을 가지는 중합체 입자를 얻는 방법으로서는, 중합체 입자를 구성하는 중합체로서 다관능성 단량체를 포함함으로써, 얻어지는 중합체에 있어서 삼차원의 그물눈 구조를 형성시키는 방법을 들 수 있다. 또 중합체로서 단관능 단량체만으로 구성된 경우라도, 후첨가 촉매로서 3급 아미노기를 가지는 화합물 또는 이미다졸계 화합물을 접촉시킴으로써 미가교 중합체의 에폭시기끼리의 개환 중합을 진행시키는 방법을 들 수 있다.A method of obtaining polymer particles having a breaking point includes a method of forming a three-dimensional network structure in the obtained polymer by including a polyfunctional monomer as a polymer constituting the polymer particle. Also, even in the case where the polymer is composed only of monofunctional monomers, a method of advancing ring-opening polymerization of the epoxy groups of the uncrosslinked polymer by contacting the polymer with a compound having a tertiary amino group or an imidazole-based compound as a post-addition catalyst can be used.

[중합체 입자의 용도][Use of polymer particles]

본 발명의 중합체 입자의 용도는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 이방 도전성 접착제용의 도전성 입자 등의 전기·전자 재료 분야를 비롯하여, 각종 스페이서, 수지 필름의 미끄럼 특성의 개질제, 레올로지 제어용 첨가제, 숏블라스트제, 연마제, 크로마토그래피용 담체 등에 사용된다. 본 발명의 중합체 입자는 본 발명의 효과가 발휘되는 등의 점에서, 이방 도전성 접착제에 사용되는 도전성 입자의 코어가 되는 중합체 입자에 적용하는 것이 바람직하다.The uses of the polymer particles of the present invention are not particularly limited, but for example, include the field of electrical and electronic materials such as conductive particles for anisotropic conductive adhesives, various spacers, modifiers for the sliding properties of resin films, additives for rheology control, and shot applications. It is used in blasting agents, abrasives, and carriers for chromatography. It is preferable to apply the polymer particles of the present invention to polymer particles that become the core of the conductive particles used in an anisotropic conductive adhesive from the viewpoint of exhibiting the effects of the present invention.

<이방 도전성 접착제><Anisotropic conductive adhesive>

이방 도전성 접착제에 본 발명의 중합체 입자를 사용하는 경우, 중합체 입자의 표면에 도전성 금속층을 설치함으로써 도전성 입자가 얻어진다. 중합체 입자의 표면에 금속층을 형성하는 방법으로서는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 무전해 도금에 의한 방법, 금속 미분을 단독 또는 바인더에 혼합하여 얻어지는 페이스트를 코팅하는 방법, 진공 증착, 이온 플레이팅, 이온 스퍼터링 등의 물리적 증착 방법 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는 예를 들면 일본 특개 2000-319309호 공보에 기재된 방법을 들 수 있다.When using the polymer particles of the present invention for an anisotropic conductive adhesive, conductive particles are obtained by providing a conductive metal layer on the surface of the polymer particles. The method for forming the metal layer on the surface of the polymer particles is not particularly limited, and examples include electroless plating, coating with a paste obtained by mixing metal fine powder alone or with a binder, vacuum deposition, ion plating, and ion plating. Physical vapor deposition methods such as sputtering, etc. can be mentioned. More specifically, examples include the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-319309.

이방 도전성 접착제는 상기 도전성 입자 및 바인더 수지를 포함하고 있으면 되고, 다른 성분에 대해서는 특별히 한정되지 않으며, 종래부터 이방 도전성 접착제에 포함되는 성분을 특별히 제한없이 사용할 수 있다.The anisotropic conductive adhesive just needs to contain the above-described conductive particles and binder resin, and there are no particular restrictions on other components, and components conventionally included in anisotropic conductive adhesives can be used without particular restrictions.

바인더 수지로서는 절연성의 수지이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 아크릴 수지, 에틸렌-아세트산비닐 수지, 스티렌-부타디엔 블록 공중합체 등의 열가소성 수지, 글리시딜기를 가지는 모노머나 올리고머 및 이소시아네이트 등의 경화제와의 반응에 의해 경화하는 경화성 수지 조성물, 광이나 열에 의해 경화하는 경화성 수지 조성물 등을 들 수 있다.The binder resin is not particularly limited as long as it is an insulating resin, and examples include thermoplastic resins such as acrylic resins, ethylene-vinyl acetate resins, and styrene-butadiene block copolymers, monomers and oligomers having a glycidyl group, and curing agents such as isocyanates. A curable resin composition that hardens by reaction, a curable resin composition that hardens by light or heat, and the like can be mentioned.

또 접착제 제조 방법에 의해, 이방 도전성 접착제를 필름상 또는 페이스트상으로 할 수 있고, 그 형태에 따라 분산 방법을 적절하게 변경할 수 있다. 필름상의 이방 도전성 접착제(이방성 도전 필름)는 도전성 입자를 수지 성분에 분산시킨 혼합물을 필름상으로 성형하여 얻어지고, 이방성 도전 페이스트는 이방성 도전 필름과 마찬가지로 하여 얻어진 혼합물에 대해 용매를 사용하여 점도 등을 조정하여 얻어진다.Additionally, depending on the adhesive manufacturing method, the anisotropic conductive adhesive can be formed into a film or paste form, and the dispersion method can be appropriately changed depending on the form. Film-shaped anisotropic conductive adhesive (anisotropic conductive film) is obtained by molding a mixture of conductive particles dispersed in a resin component into a film, and the anisotropic conductive paste is obtained by adjusting the viscosity, etc. of the mixture obtained in the same manner as the anisotropic conductive film using a solvent. It is obtained by adjusting.

본 발명의 중합체 입자를 이방 도전성 접착제에 사용하는 경우, 이방 도전성 접착제 100질량부당 중합체 입자를 바람직하게는 5~60질량부, 보다 바람직하게는 10~50질량부 포함한다. 도전성 입자의 함유량이 지나치게 적으면, 충분한 전기적 도통이 얻어지기 어려운 경우가 있고, 한편, 도전성 입자의 함유량이 지나치게 많으면, 도전성 입자끼리가 접촉되어버려, 이방성 도전 재료로서의 기능이 발휘되기 어려운 경우가 있다.When the polymer particles of the present invention are used in an anisotropic conductive adhesive, the amount of polymer particles per 100 parts by mass of the anisotropic conductive adhesive is preferably 5 to 60 parts by mass, more preferably 10 to 50 parts by mass. If the content of the conductive particles is too small, sufficient electrical conduction may be difficult to obtain. On the other hand, if the content of the conductive particles is too large, the conductive particles may come into contact with each other, making it difficult to function as an anisotropic conductive material. .

이방성 도전성 접착제는 예를 들면 적어도 도전성 입자와 접착제를 혼합 또는 혼련함으로써 얻을 수 있는데, 통상적으로는 도전성 입자와, 접착제와, 경화제와, 유기 용제를 혼합 또는 혼련함으로써 얻을 수 있다.An anisotropic conductive adhesive can be obtained, for example, by mixing or kneading at least conductive particles and an adhesive. Usually, it can be obtained by mixing or kneading conductive particles, an adhesive, a curing agent, and an organic solvent.

(실시예)(Example)

이하, 본 발명을 실시예에 기초하여 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 한정되지 않는다. 이하의 실시예 등의 기재에 있어서, 특별히 언급하지 않는 한, 「부」는 「질량부」를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples. In descriptions such as the examples below, unless otherwise specified, “part” refers to “part by mass.”

[평균 입자 직경][Average particle diameter]

실시예 및 비교예에서 얻어진 중합체 입자의 평균 입자 직경은, 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치 FPIA-3000S(스펙트리스(주)제)를 사용하고, 유효 해석수:30,000개인 경우의 입자 직경의 평균값(체적 기준으로 한 경우의 누계 50% 입자 직경)을 측정하여, 평균 입자 직경으로 했다.The average particle diameter of the polymer particles obtained in the examples and comparative examples was the average particle diameter when the laser diffraction type particle size distribution measuring device FPIA-3000S (manufactured by Spectris Co., Ltd.) was used and the number of effective analyzes was 30,000 ( The cumulative 50% particle diameter when based on volume) was measured and used as the average particle diameter.

[CV값][CV value]

실시예 및 비교예에서 얻어진 중합체 입자의 CV값은 하식으로부터 구했다.The CV values of the polymer particles obtained in Examples and Comparative Examples were determined from the following formula.

CV값(%)=입도 분포의 표준 편차/평균 입자 직경×100CV value (%) = standard deviation of particle size distribution / average particle diameter × 100

[10% K값][10% K value]

실시예 및 비교예에서 얻어진 중합체 입자의 10% K값은 초미소 압입 경도 시험기 ENT-NEXUS((주)엘리오닉스제)를 사용하여, 25℃에서 시험기의 선단에 50μmφ 플랫 압자를 장착하고, 장치에 부속되어 있는 현미경을 사용하여 직경 3.0μm의 중합체 입자를 1개 선택하고, 최대 하중 50mN, 하중 속도 1.33mN/초의 조건으로 중합체 입자를 압축하여, 입자 직경이 10% 변형했을 때의 압축 하중 F(N)을 측정하고, 하식으로부터 구했다.The 10% K value of the polymer particles obtained in Examples and Comparative Examples was measured using an ultra-micro indentation hardness tester ENT-NEXUS (manufactured by Elionix Co., Ltd.) at 25°C by attaching a 50 μm ϕ flat indenter to the tip of the tester. Using the attached microscope, select one polymer particle with a diameter of 3.0 μm, compress the polymer particle under the conditions of a maximum load of 50 mN and a load speed of 1.33 mN/sec, and the compressive load F when the particle diameter is deformed by 10% (N) was measured and obtained from the formula.

10% K값(N/mm2)=(3/√2)·F·S-3/2·R-1/2 10% K value (N/mm 2 )=(3/√2)·F·S -3/2 ·R -1/2

[F, S는 각각 중합체 입자의 10% 압축 변형에 있어서의 하중값(N), 압축 변위(mm)이며, R은 중합체 입자의 반경(mm)이며, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정한 중합체 입자의 평균 입자 직경의 반수이다.][F and S are the load value (N) and compressive displacement (mm) at 10% compressive deformation of the polymer particle, respectively, and R is the radius of the polymer particle (mm), and the polymer measured by the method described in the Examples It is half the average particle diameter of the particle.]

[파괴점][Breaking point]

상기 10% K값의 측정과 마찬가지의 시험기를 사용하고, 입자를 압축하여 최대 하중에 이르기 전에 입자가 깨진 것을 파괴점이 「있음」으로 했다. 파괴점은 중합체 입자를 구성하는 미가교 중합체가 3급 아민 또는 이미다졸계 후첨가 촉매에 의해 에폭시기끼리의 개환 중합이 진행되어 중합체끼리가 가교되어 있는 지표로 했다. 또한 표 1 및 표 2에 있어서의 파괴점의 란의 표기 「없음」이란 해당하는 데이터가 없는 것을 의미한다.Using the same testing machine as the measurement of the above 10% K value, the particles were compressed, and if the particles broke before reaching the maximum load, the breaking point was considered “present.” The breaking point was taken as an indicator that the uncrosslinked polymers constituting the polymer particles were crosslinked by ring-opening polymerization between epoxy groups by a tertiary amine or imidazole-based post-addition catalyst. In addition, the notation “none” in the column of the breaking point in Tables 1 and 2 means that there is no corresponding data.

[IR(910cm[IR(910cm) -1-One )])]

적외 흡수 분광법(IR)에 의해 910cm-1 부근의 피크를 관찰하고, 피크의 소실에 의해 중합체 입자의 모든 에폭시기가 아미노 화합물의 부가 반응 또는 에폭시기끼리의 개환 중합에 의해 반응한 것을 확인했다. 또한 표 1 및 표 2에 있어서의 IR(910cm-1)의 란의 부호 「-」란 해당하는 데이터가 없는 것을 의미하고, 「남음」이란 피크가 남아있는 것, 즉 중합체 입자를 구성하는 중합체의 일부의 에폭시기가 아민 화합물에 의한 부가 반응이 진행되지 않거나, 또는 개환 중합하지 않고 에폭시기로서 존재하는 것을 의미한다.A peak around 910 cm -1 was observed using infrared absorption spectroscopy (IR), and the disappearance of the peak confirmed that all epoxy groups in the polymer particles had reacted through addition reaction with an amino compound or ring-opening polymerization between epoxy groups. In addition, the symbol "-" in the IR (910 cm -1 ) column in Tables 1 and 2 means that there is no corresponding data, and "remaining" means that the peak remains, that is, the number of polymers constituting the polymer particles. This means that some epoxy groups exist as epoxy groups without undergoing addition reaction with an amine compound or without ring-opening polymerization.

각 평가 결과를 표 1 및 표 2에 나타낸다.Each evaluation result is shown in Table 1 and Table 2.

[실시예 1][Example 1]

<공정(1)><Process (1)>

(1단계째의 중합:단분산 입자의 제조)(1st stage polymerization: production of monodisperse particles)

온도계와 질소 도입관을 장착한 용량 1리터의 4구 플라스크에, 메틸메타크릴레이트(이하 「MMA」라고도 한다) 100부 및 이온교환수 300부를 투입하여 혼합 교반하고, 추가로 질소 기류하에서 교반을 행하면서 80℃로 승온시켜, 혼합액을 얻었다. 가온된 상기 혼합액 중에 과황산칼륨 0.5부를 가하고, 80℃로 유지하면서 6시간 반응시켜, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 수지 입자의 분산액(A1)을 얻었다.100 parts of methyl methacrylate (hereinafter also referred to as “MMA”) and 300 parts of ion-exchanged water were added to a four-neck flask with a capacity of 1 liter equipped with a thermometer and a nitrogen inlet tube, mixed and stirred, and further stirred under a nitrogen stream. While doing so, the temperature was raised to 80°C to obtain a mixed solution. 0.5 part of potassium persulfate was added to the heated mixture, and the mixture was reacted for 6 hours while maintaining the temperature at 80°C to obtain a dispersion of polymethyl methacrylate (PMMA) resin particles (A1).

분산액(A1)으로부터 분리·건조시켜 얻어진 PMMA 수지 입자는 평균 입자 직경 0.4μm, CV값 3.5%인, 진구상의 단분산 입자였다. 분산액(A1) 중의 고형분 농도는 24질량%였다.The PMMA resin particles obtained by separating and drying from the dispersion (A1) were spherical monodisperse particles with an average particle diameter of 0.4 μm and a CV value of 3.5%. The solid content concentration in the dispersion (A1) was 24% by mass.

(2단계째의 중합:시드 중합)(2nd stage polymerization: seed polymerization)

용량 1리터의 플라스크에, 100부의 메틸메타크릴레이트, 개시제로서 1.0부의 과산화벤조일을 투입하고 용해시켜 용액을 얻었다. 상기 용액에 0.5부의 도데실벤젠술폰산나트륨, 300부의 이온교환수를 투입하고, 호모믹서로 유화시켜, 유화액을 얻었다.In a flask with a capacity of 1 liter, 100 parts of methyl methacrylate and 1.0 parts of benzoyl peroxide as an initiator were added and dissolved to obtain a solution. 0.5 part of sodium dodecylbenzenesulfonate and 300 parts of ion-exchanged water were added to the solution and emulsified using a homomixer to obtain an emulsion.

이어서, 상기 유화액에 상기 PMMA 수지 입자의 분산액(A1)을 PMMA 수지 입자분이 6.4부가 되도록 첨가했다.Next, the PMMA resin particle dispersion (A1) was added to the emulsion so that the PMMA resin particle content was 6.4 parts.

이 혼합물을 50℃에서 1시간 팽윤시킨 후, 부분 비누화 폴리비닐알코올을 용해시킨 물(분산안정제와 물의 합계 40부)을 첨가하고, 73℃에서 1.5시간, 이어서 90℃에서 1.5시간 반응시킨 후 냉각시킴으로써, 평균 입자 직경 1.0μm, CV값 3.5%의 단분산 시드 입자의 분산액(A2)을 얻었다.After swelling this mixture for 1 hour at 50°C, water in which partially saponified polyvinyl alcohol was dissolved (40 parts in total of dispersion stabilizer and water) was added, reacted at 73°C for 1.5 hours, then reacted at 90°C for 1.5 hours, then cooled. By doing this, a dispersion (A2) of monodisperse seed particles with an average particle diameter of 1.0 μm and a CV value of 3.5% was obtained.

(3단계째의 중합:(메타)아크릴계 수지 입자의 제조)(3rd step polymerization: production of (meth)acrylic resin particles)

용량 1리터의 플라스크에, 66.3부의 메틸메타크릴레이트, 30부의 글리시딜메타크릴레이트(GMA), 개시제로서 1.0부의 과산화벤조일을 투입하고 용해시켜 용액을 얻었다. 상기 용액에 0.5부의 도데실벤젠술폰산나트륨, 200부의 이온교환수를 투입하고, 호모믹서로 유화시켜, 유화액을 얻었다.In a flask with a capacity of 1 liter, 66.3 parts of methyl methacrylate, 30 parts of glycidyl methacrylate (GMA), and 1.0 part of benzoyl peroxide as an initiator were added and dissolved to obtain a solution. 0.5 part of sodium dodecylbenzenesulfonate and 200 parts of ion-exchanged water were added to the solution and emulsified using a homomixer to obtain an emulsion.

이어서, 상기 유화액에 상기 단분산 시드 입자의 분산액(A2)을 시드 입자분이 3.7부가 되도록 첨가했다.Next, the dispersion liquid (A2) of the monodisperse seed particles was added to the emulsion so that the seed particle content was 3.7 parts.

이 혼합물을 50℃에서 1시간 팽윤시킨 후, 부분 비누화 폴리비닐알코올을 용해시킨 물(분산안정제와 물의 합계 40부)을 첨가하고, 73℃에서 1.5시간, 90℃에서 1.5시간 반응시킨 후 냉각시킴으로써, 평균 입자 직경 2.8μm, CV값 5.2%의 (메타)아크릴계 수지 입자의 분산액(A3)을 얻었다.After swelling this mixture for 1 hour at 50°C, water in which partially saponified polyvinyl alcohol was dissolved (40 parts in total of dispersion stabilizer and water) was added, reacted at 73°C for 1.5 hours and 90°C for 1.5 hours, and then cooled. , a dispersion of (meth)acrylic resin particles (A3) with an average particle diameter of 2.8 μm and a CV value of 5.2% was obtained.

<공정(2)><Process (2)>

(이미다졸계 화합물의 접촉 및 환상 에테르 부위끼리의 개환 중합)(Contact of imidazole-based compounds and ring-opening polymerization between cyclic ether moieties)

상기에서 얻어진 분산액(A3)에, 입자 고형분 100질량부에 대하여 에폭시 중합 촉매가 되는 2-에틸-4-메틸이미다졸(이하 「2E4MZ」라고도 한다)을 1부 첨가하여 모입자에 이미다졸계 화합물을 접촉시켰다. 그 후, 180℃에서 1시간 가열함으로써, 상기 (메타)아크릴 수지 입자의 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합한 구조를 가지는 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 분산액(A4)을 얻었다.To the dispersion (A3) obtained above, 1 part of 2-ethyl-4-methylimidazole (hereinafter also referred to as “2E4MZ”), which serves as an epoxy polymerization catalyst, is added to the parent particle based on 100 parts by mass of the particle solid content to form an imidazole-based The compound was brought into contact. Thereafter, by heating at 180°C for 1 hour, a dispersion (A4) containing a (meth)acrylic resin having a structure in which the cyclic ether portions of the (meth)acrylic resin particles were ring-opened polymerized with each other was obtained.

<공정(3)><Process (3)>

(분체화)(powderization)

상기 분산액(A4)을 동결 건조에 의해 분체화하고, 이어서, 분체를 추가로 유발과 제트밀로 분쇄하여, 상기 단분산 시드 입자의 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합한 구조를 가지는 (메타)아크릴계 수지 입자를 포함하는 중합체 입자를 얻었다.The dispersion (A4) is powdered by freeze-drying, and the powder is further pulverized with a mortar and a jet mill to produce (meth)acrylic resin particles having a structure in which the cyclic ether portions of the monodisperse seed particles are ring-opened polymerized with each other. Polymer particles containing were obtained.

[실시예 2~16, 비교예 1~13][Examples 2 to 16, Comparative Examples 1 to 13]

사용한 각 성분의 종류와 그 사용량을 표 1 및 표 2에 기재한 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 중합체 입자를 얻었다.Polymer particles were obtained in the same manner as in Example 1, except that the types and amounts of each component used were changed as shown in Tables 1 and 2.

[비교예 14][Comparative Example 14]

아민계 경화제로서 사용한 n-부틸아민의 비점이 약75℃이기 때문에, 상기 <공정(2)>에 있어서, 2-에틸-4-메틸이미다졸 대신에 n-부틸아민을 사용함과 아울러, 가열 온도를 60℃로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 중합체 입자를 얻었다.Since the boiling point of n-butylamine used as the amine-based curing agent is about 75°C, in the above <Step (2)>, n-butylamine is used instead of 2-ethyl-4-methylimidazole and heated. Polymer particles were obtained in the same manner as in Example 1, except that the temperature was set to 60°C.

표 1 및 표 2 중의 각 성분의 기호의 의미는 이하와 같다.The meaning of the symbol for each component in Tables 1 and 2 is as follows.

(시드)(seed)

·PMMA:폴리메틸메타크릴레이트·PMMA: Polymethyl methacrylate

(래디컬 중합성 단량체)(radical polymerizable monomer)

〔(메타)아크릴산에스테르(A)〕[(meth)acrylic acid ester (A)]

·GMA:글리시딜메타크릴레이트(라이트아크릴레이트G, 교에이샤카가쿠(주)제)・GMA: Glycidyl methacrylate (Light Acrylate G, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)

·4HBAGE:4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르(미츠비시케미컬(주)제)4HBAGE: 4-Hydroxybutyl acrylate glycidyl ether (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.)

〔단관능성 단량체〕[Monofunctional monomer]

·MMA:메틸메타크릴레이트MMA: Methyl methacrylate

·MAA:메타크릴산・MAA: Methacrylic acid

〔이관능성 단량체〕[Bifunctional monomer]

·EGDMA:에틸렌글리콜디메타크릴레이트EGDMA: Ethylene glycol dimethacrylate

〔삼관능성 단량체〕[Trifunctional monomer]

·TMPTA:트리메틸올프로판트리아크릴레이트(비스코트 #295, 오사카유키카가쿠코교(주)제)・TMPTA: Trimethylolpropane triacrylate (Viscote #295, manufactured by Osaka Yuki Chemical Co., Ltd.)

〔사관능성 단량체〕[Tetrafunctional monomer]

·PETA:펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(M-305, 도아고세이(주)제)PETA: Pentaerythritol tetraacrylate (M-305, Toagosei Co., Ltd.)

(환상 에테르 개환 중합용 후첨가 촉매)(Post-addition catalyst for cyclic ether ring-opening polymerization)

·DBU:1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데카-7-엔(산아프로(주)제, 분자량=152.24)·DBU: 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undeca-7-ene (manufactured by San-Apro Co., Ltd., molecular weight = 152.24)

·SP-003:폴리에틸렌이민(1-3급 혼재 아민(아민비 1급:45%SP-003: Polyethyleneimine (1-3 mixed amines (amine ratio 1: 45%)

2급:35% 3급:20%), 에포민 SP-003, (주)닛폰쇼쿠바이제, 수 평균 분자량=300)Grade 2: 35% Grade 3: 20%), Eformin SP-003, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., number average molecular weight = 300)

·2PZ-PW:2-페닐-1H-이미다졸(큐어졸 2PZ-PW, 시코쿠카세이코교(주)제, 분자량=144.17)2PZ-PW: 2-phenyl-1H-imidazole (Curesol 2PZ-PW, manufactured by Shikoku Chemical Seiko Co., Ltd., molecular weight = 144.17)

·2MZA-PW:2,4-디아미노-6-[2-(2-메틸-1-이미다졸릴)에틸]-1,3,5-트리아진(큐어졸 2MZA-PW, 시코쿠카세이코교(주)제, 분자량=219.25)2MZA-PW: 2,4-diamino-6-[2-(2-methyl-1-imidazolyl)ethyl]-1,3,5-triazine (Curesol 2MZA-PW, Shikoku Chemical Seiko Co., Ltd. Co., Ltd., molecular weight = 219.25)

·jER 큐어 IBMI12:1-이소부틸-2-메틸이미다졸(jER 큐어 IBMI12, 미츠비시케미컬(주)제, 분자량=138.21)・jER Cure IBMI12:1-isobutyl-2-methylimidazole (jER Cure IBMI12, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, molecular weight = 138.21)

·2E4MZ:2-에틸-4-메틸이미다졸(분자량=110.16)2E4MZ: 2-ethyl-4-methylimidazole (molecular weight = 110.16)

(아민계 경화제)(Amine-based hardener)

·jER 큐어 113:4,4'-메틸렌비스(2-메틸시클로헥산아민)(jER 큐어 113, 미츠비시케미컬(주)제)jER Cure 113:4,4'-methylenebis(2-methylcyclohexanamine) (jER Cure 113, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)

·닛산아민 M-14:1-아미노-3-운데카녹시-프로판(닛산아민 M-14, 니치유(주)제)·Nissanamine M-14:1-amino-3-undecanoxy-propane (Nissanamine M-14, manufactured by Nichiyu Co., Ltd.)

·부틸아민:n-부틸아민·Butylamine: n-butylamine

표 1 및 표 2 중의 「중합 입자의 가교 종류」의 란에 있어서 「미가교」란 (메타)아크릴산에스테르(A)를 포함하는 단관능 단량체만으로 구성되어 있는 중합체 입자를 의미하고, 「가교」란 (메타)아크릴산에스테르(A)를 포함하는 단관능 단량체, 및 중합성 단량체(B)로서 다관능 단량체를 포함하는 중합성 단량체로 구성되어 있는 중합체 입자를 의미한다.In the column of “Crosslinked types of polymer particles” in Tables 1 and 2, “uncrosslinked” means polymer particles composed only of monofunctional monomers containing (meth)acrylic acid ester (A), and “crosslinked” means It means polymer particles composed of a monofunctional monomer containing (meth)acrylic acid ester (A), and a polymerizable monomer containing a polyfunctional monomer as a polymerizable monomer (B).

표 1 중의 「환상 에테르 개환 중합용 후첨가 촉매」의 란에 있어서, 「H」란 이미다졸계 화합물 중의 활성 수소를 의미한다. 「H×0」의 경우, 이미다졸계 화합물 중에 활성 수소가 없는 것을 의미하고, 「H×1」의 경우, 이미다졸계 화합물 중에 활성 수소가 1개 존재하는 것을 의미한다.In the column “Post-addition catalyst for cyclic ether ring-opening polymerization” in Table 1, “H” means active hydrogen in the imidazole-based compound. In the case of "H x 0", it means that there is no active hydrogen in the imidazole-based compound, and in the case of "H

표 1 및 표 2 중의 「환상 에테르 개환 중합용 후첨가 촉매」와 「아민계 경화제」의 란에 있어서, 「NH2」란 실시예 및 비교예에서 사용한 이미다졸계 화합물 또는 아민계 경화제 중의 1급 아미노기를 의미한다. 예를 들면 「NH2×1」의 경우, 이미다졸계 화합물 또는 아민계 경화제 중에 1급 아미노기가 1개 존재하는 것을 의미한다.In the columns of “Post-addition catalyst for cyclic ether ring-opening polymerization” and “Amine-based curing agent” in Table 1 and Table 2, “NH 2 ” refers to a primary imidazole-based compound or amine-based curing agent used in Examples and Comparative Examples. It means amino group. For example, in the case of “NH 2 × 1”, it means that one primary amino group is present in the imidazole-based compound or amine-based curing agent.

표 1에 나타내는 바와 같이, 각 실시예에 있어서의 중합체 입자는 경도가 높고, 단분산성이 우수했다.As shown in Table 1, the polymer particles in each example had high hardness and excellent monodispersity.

실시예 11에 있어서, 파괴점이 「없음」인 이유로서는, 1~3급 아미노기가 혼재하는 아미노 화합물인 후첨가 촉매를 사용함으로써, 에폭시기에 대한 반응성이 높은 1급 및 2급 아미노기에 의한 에폭시기로의 부가 반응이 중합체 입자 표면 근방에서만 진행됨으로써, 입자 내부의 미가교 중합체는 에폭시기끼리의 개환 중합이 진행되지 않고 미가교 중합체인채로 남았기 때문이라고 생각된다.In Example 11, the reason for the breaking point being “none” is that by using a post-addition catalyst that is an amino compound containing a mixture of primary to tertiary amino groups, primary and secondary amino groups with high reactivity to epoxy groups are used to form epoxy groups. It is thought that this is because the addition reaction proceeds only near the surface of the polymer particle, and the uncrosslinked polymer inside the particle remains as an uncrosslinked polymer without ring-opening polymerization between epoxy groups.

비교예 9~11에 있어서, 파괴점이 「있음」인 이유로서는, 이관능 이상의 단량체를 다량으로 사용함으로써 3차원의 그물눈 구조를 가지는 네트워크 폴리머를 구성하고 있기 때문이라고 생각된다.In Comparative Examples 9 to 11, it is thought that the reason why the breaking point is “present” is because a network polymer having a three-dimensional network structure is formed by using a large amount of monomers having more than one function.

비교예 12에 있어서, IR(910cm-1)이 「남음」인 이유로서는, 1급 아민에 의한 에폭시기로의 부가 반응이 우선적으로 진행되지만, 1급 아미노기를 가지는 아미노 화합물이 부가됨으로써 생성된 3급 아민은 입체 장해로부터 촉매 반응을 가지기 어려워 일부의 에폭시기가 반응하지 않고 잔존하고 있기 때문이라고 생각된다. 또 비교예 12의 1급 아미노기를 가지는 아미노 화합물의 첨가량은, GMA의 에폭시기에 대하여 0.04당량으로, 통상적으로 아민계 경화제를 사용하여 에폭시기와 부가 반응시키는 경우의 첨가량(예를 들면 모입자 중의 환상 에테르 구조와 아민계 경화제의 몰비는 통상적으로 0.5~5정도이다)과 비교하여 적은 점에서, 일부의 미반응의 에폭시기가 잔존하고 있다고 생각된다. 또한 상기한 이유와 같이, 비교예 12의 중합체 입자는 GMA 중의 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조를 가지지 않는 점에서, 10% K값이 낮다고 생각된다.In Comparative Example 12, the reason why IR (910 cm -1 ) is "remaining" is that the addition reaction of the primary amine to the epoxy group proceeds preferentially, but the tertiary amine produced by addition of the amino compound having a primary amino group It is thought that this is because amines have difficulty in carrying out catalytic reactions due to steric hindrance, and some epoxy groups remain without reacting. In addition, the amount of the amino compound having a primary amino group added in Comparative Example 12 was 0.04 equivalent to the epoxy group of GMA, which is the amount added when addition reaction with the epoxy group is usually performed using an amine-based curing agent (for example, the cyclic ether in the base particle) Since the molar ratio between the structure and the amine-based hardener is usually about 0.5 to 5), it is thought that some unreacted epoxy groups remain. Also, for the above-mentioned reasons, the polymer particle of Comparative Example 12 is thought to have a low 10% K value because it does not have a structure formed by ring-opening polymerization of ether moieties in GMA.

비교예 13에서 사용한 아민계 경화제인 닛산아민 M-14는 1급 아미노기를 가지는 화합물이다. 비교예 14에서 사용한 아민계 경화제의 n-부틸아민은 저분자량의 1급 아미노기를 가지는 화합물이다. 비교예 13 및 14에 있어서도 비교예 12와 마찬가지로, 1급 아미노기를 가지는 화합물이 부가됨으로써 생성된 3급 아민은 에폭시기끼리의 개환 중합을 진행시키는 촉매 기능을 가지지 않기 때문에, 중합체 입자의 고경도화에 기여하지 않았다고 생각된다.Nissanamine M-14, the amine-based curing agent used in Comparative Example 13, is a compound having a primary amino group. The n-butylamine of the amine-based curing agent used in Comparative Example 14 is a compound having a low molecular weight primary amino group. In Comparative Examples 13 and 14, as in Comparative Example 12, the tertiary amine produced by adding a compound having a primary amino group does not have a catalytic function to advance ring-opening polymerization between epoxy groups, and thus contributes to increasing the hardness of the polymer particles. I don't think I did it.

Claims (8)

환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 중합시켜 이루어지고, 또한 상기 환상 에테르 구조 중의 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조를 가지는 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 중합체 입자.A polymer particle comprising a (meth)acrylic resin that is formed by polymerizing (meth)acrylic acid ester (A) having a cyclic ether structure and has a structure formed by ring-opening polymerization of cyclic ether moieties in the cyclic ether structure. 제1항에 있어서, 상기 (메타)아크릴계 수지가, 상기 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A) 이외의 중합성 단량체(B)에 유래하는 구조를 추가로 포함하는 중합체 입자.The polymer particle according to claim 1, wherein the (meth)acrylic resin further contains a structure derived from a polymerizable monomer (B) other than the (meth)acrylic acid ester (A) having the cyclic ether structure. 제2항에 있어서, 상기 중합성 단량체(B)가, 1분자 중에 1~4개의 (메타)아크릴로일기를 가지는 단량체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물인 중합체 입자.The polymer particle according to claim 2, wherein the polymerizable monomer (B) is at least one compound selected from the group consisting of monomers having 1 to 4 (meth)acryloyl groups in one molecule. 제1항에 있어서, 상기 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)가, 하기 식(1)으로 표시되는 화합물인 중합체 입자.

[식(1) 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 수소 원자 또는 탄소수 1~10의 알킬기를 나타내고, x는 1~6의 정수를 나타내고, Y는 단결합 또는 -O-CH2-를 나타내고, z는 0~2의 정수를 나타낸다.]
The polymer particle according to claim 1, wherein the (meth)acrylic acid ester (A) having the cyclic ether structure is a compound represented by the following formula (1).

[In formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, x represents an integer of 1 to 6, and Y represents a single bond or -O- CH 2 - represents, and z represents an integer from 0 to 2.]
제1항에 있어서, 상기 환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 중합시켜 이루어지고, 또한 상기 환상 에테르 구조의 일부가 개환한 부위에 이미다졸계 화합물을 부가시켜 이루어지는 구조를 가지는 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 중합체 입자.The method of claim 1, which is formed by polymerizing (meth)acrylic acid ester (A) having the cyclic ether structure, and has a structure formed by adding an imidazole-based compound to a portion of the cyclic ether structure that is ring-opened. (meth)Polymer particles containing an acrylic resin. 제1항에 있어서, 상기 중합체 입자에 있어서, 10% K값이 3,000~7,000N/mm2인 중합체 입자.The polymer particle according to claim 1, wherein the polymer particle has a 10% K value of 3,000 to 7,000 N/mm 2 . 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 중합체 입자의 제조 방법으로서,
환상 에테르 구조를 가지는 (메타)아크릴산에스테르(A)를 포함하는 중합성 단량체 성분을 래디컬 중합시켜 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 모입자를 얻는 공정(1)과,
상기 모입자와 이미다졸계 화합물 또는/및 3급 아미노기를 가지는 아미노 화합물을 접촉시켜, 상기 환상 에테르 구조 중의 환상 에테르 부위끼리를 개환 중합시켜, 환상 에테르 부위끼리가 개환 중합하여 이루어지는 구조를 가지는 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 중합체 입자를 얻는 공정(2)과,
상기 중합체 입자를 분체화하는 공정(3)을 포함하는 중합체 입자의 제조 방법.
A method for producing the polymer particles of any one of claims 1 to 6, comprising:
A step (1) of radically polymerizing a polymerizable monomer component containing (meth)acrylic acid ester (A) having a cyclic ether structure to obtain a base particle containing a (meth)acrylic resin,
The parent particle is brought into contact with an imidazole compound or/and an amino compound having a tertiary amino group, ring-opening polymerizes the cyclic ether moieties in the cyclic ether structure, and the cyclic ether moieties undergo ring-opening polymerization to form a (meta) compound having a structure formed by ring-opening polymerization. ) Process (2) of obtaining polymer particles containing an acrylic resin,
A method for producing polymer particles, comprising the step (3) of powdering the polymer particles.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 이방 도전성 접착제의 도전성 입자에 사용되는 중합체 입자.The polymer particles according to any one of claims 1 to 6, which are used as conductive particles of an anisotropic conductive adhesive.
KR1020237042174A 2021-06-10 2022-05-25 Polymer particles and method for producing the same KR20240005052A (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021097045 2021-06-10
JPJP-P-2021-097045 2021-06-10
PCT/JP2022/021463 WO2022259872A1 (en) 2021-06-10 2022-05-25 Polymer particles and method for producing same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20240005052A true KR20240005052A (en) 2024-01-11

Family

ID=84425967

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020237042174A KR20240005052A (en) 2021-06-10 2022-05-25 Polymer particles and method for producing the same

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPWO2022259872A1 (en)
KR (1) KR20240005052A (en)
CN (1) CN117425685A (en)
TW (1) TW202313733A (en)
WO (1) WO2022259872A1 (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001206954A (en) 2000-01-26 2001-07-31 Sekisui Chem Co Ltd Method for producing fine particle having crosslinkage and fine particle having crosslinkage
WO2011158761A1 (en) 2010-06-17 2011-12-22 日立化成工業株式会社 Cross-linked polymer particles, production method and electrically conductive particles thereof

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4107732B2 (en) * 1998-10-20 2008-06-25 松下電器産業株式会社 Method for producing organic porous body
EP3296325A4 (en) * 2015-05-08 2018-12-19 Nisshinbo Holdings Inc. Elliptical, needle-shaped, or rod-shaped crosslinked polymer particles, and use thereof
JP2017039091A (en) * 2015-08-20 2017-02-23 東京応化工業株式会社 Filtration material, filtration filter, and filtration method
JP2018015713A (en) * 2016-07-28 2018-02-01 国立研究開発法人産業技術総合研究所 Catalyst-supporting particle for coupling reaction and method for producing the same
JP6813317B2 (en) * 2016-09-20 2021-01-13 積水化学工業株式会社 How to reinforce or repair fiber reinforced plastic prepregs and objects
CN108329411B (en) * 2018-04-27 2019-11-22 南京大学 A kind of composite function resin and preparation method and application

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001206954A (en) 2000-01-26 2001-07-31 Sekisui Chem Co Ltd Method for producing fine particle having crosslinkage and fine particle having crosslinkage
WO2011158761A1 (en) 2010-06-17 2011-12-22 日立化成工業株式会社 Cross-linked polymer particles, production method and electrically conductive particles thereof

Also Published As

Publication number Publication date
WO2022259872A1 (en) 2022-12-15
CN117425685A (en) 2024-01-19
JPWO2022259872A1 (en) 2022-12-15
TW202313733A (en) 2023-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8173048B2 (en) Composition for circuit connection film and circuit connection film using the same
CN109949968B (en) Circuit connecting material, connecting body, and method for manufacturing connecting body
US8728352B2 (en) Electrical connection material and a solar cell including the same
US11236228B2 (en) Epoxy resin composition
EP2341510A1 (en) Blockcopolymer solid electrolyte, ion-conductive membrane and process for producing the blockcopolymer
CN107428913A (en) Improve the hardening resin composition containing polymer particles that cementability is peeled off in impact resistance
US7645830B2 (en) Polymer, crosslinked polymer, composition for solid polymer electrolyte, solid polymer electrolyte, and adhesive composition
JP6722976B2 (en) Crosslinked polyrotaxane polymer and aqueous dispersion thereof
US10947337B2 (en) Toughened epoxy resin composition
US20130075142A1 (en) Adhesive composition, use thereof, connection structure for circuit members, and method for producing same
US8841385B2 (en) Polymer particles having polymer brush and method of preparing the same
KR20120088796A (en) Thermopolymerization initiator system and adhesive composition
KR101381118B1 (en) A composition for use of an anisotropic conductive film and anisotropic conductive film using the same
CN106317358A (en) Method for preparing monodisperse crosslinked polymer microsphere with high yield
JP2020012092A (en) Macromonomer copolymer and epoxy resin composition including the same
CN112771095B (en) Curable epoxy resin composition and laminate using same
KR20170139505A (en) Adhesive composition and connection structure
US10808062B2 (en) Polyol composition and thermosetting resin
TWI491698B (en) Composition for anisotropic conductive adhesive film, anisotropic conductive adhesive film and semiconductor device
KR20240005052A (en) Polymer particles and method for producing the same
KR101687441B1 (en) Composition of acrylic graft copolymer and epoxy resin composition comprising thereof
TWI555810B (en) Anisotropic conductive film and semiconductor device
JP6084145B2 (en) Anisotropic conductive adhesive composition and anisotropic conductive adhesive film using the same
CN102965060A (en) Water-based polyurethane adhesive
KR20240029034A (en) Adhesive film for circuit connection, circuit connection structure, and method of manufacturing the same