KR20240003904A - Raw material split cvd mask assembly for thin film process - Google Patents
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Abstract
본 발명의 일실시예에 따르면, OLED 제조 공정에서 대면적 8세대 풀사이즈 유리기판에 사용할 CVD 마스크 조립체를 제작함에 있어서, 원자재를 복수개로 분할 접합하여 8세대 풀사이즈 유리기판의 면적에 대응하는 원장으로 생성하여 오픈 마스크 등의 패턴 시트로 제작한 후, 패턴 시트상 적어도 하나의 접합면의 상부에 CVD 박막 증착용 보조 마스크 시트 또는 복수의 가림막을 접합하여 8세대 풀사이즈 유리기판에도 적용 가능한 CVD 마스크 조립체를 생산 가능하도록 한다.According to an embodiment of the present invention, in manufacturing a CVD mask assembly to be used for a large-area 8th generation full-size glass substrate in the OLED manufacturing process, the raw materials are divided into a plurality of pieces and bonded to create a ledger corresponding to the area of the 8th generation full-size glass substrate. After creating a pattern sheet such as an open mask, an auxiliary mask sheet for CVD thin film deposition or a plurality of shields is bonded to the upper part of at least one bonding surface on the pattern sheet to create a CVD mask that can be applied to an 8th generation full-size glass substrate. Make the assembly producible.
Description
본 발명은 박막 공정용 마스크에 관한 것으로, 보다 상세하게는 OLED 제조 공정에서 대면적 8세대 풀사이즈 유리기판에 사용할 CVD 마스크 조립체를 제작함에 있어서, 원자재를 복수개로 분할 접합하여 8세대 풀사이즈 유리기판의 면적에 대응하는 원장으로 생성하여 오픈 마스크 등의 패턴 시트로 제작한 후, 패턴 시트상 적어도 하나의 접합면의 상부에 CVD 박막 증착용 보조 마스크 시트 또는 복수의 가림막을 접합하여 8세대 풀사이즈 유리기판에도 적용 가능한 CVD 마스크 조립체를 생산 가능하도록 하며, 또한 패턴 시트의 양측단에 패턴 시트와 유리기판을 정렬시키는 보조 얼라인 키의 생성을 위한 얼라인 시트를 추가함으로써 OLED 박막 증착 공정에서의 불량 발생을 낮출 수 있도록 하는 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a mask for thin film processing, and more specifically, in manufacturing a CVD mask assembly to be used for a large-area 8th generation full-size glass substrate in the OLED manufacturing process, the raw materials are divided into a plurality of pieces and bonded to form an 8th generation full-size glass substrate. After creating a ledger corresponding to the area of and manufacturing it into a pattern sheet such as an open mask, an auxiliary mask sheet for CVD thin film deposition or a plurality of shields is bonded to the upper part of at least one bonding surface on the pattern sheet to produce 8th generation full-size glass. It is possible to produce a CVD mask assembly that can be applied to a substrate, and an alignment sheet is added to both ends of the pattern sheet to create an auxiliary alignment key that aligns the pattern sheet and the glass substrate, thereby preventing defects in the OLED thin film deposition process. It relates to a raw material split CVD mask assembly and method for thin film processing that can reduce .
일반적으로, OLED 제조 공정에서는 오픈 마스크와 FMM 마스크 등을 이용하여 유리기판내 각 셀에 OLED 디스플레이 동작을 위한 각종 유기물을 증착시킨 이후에는 각 셀을 인캡슐레이션하고 커팅하여 하나의 OLED 디스플레이 소자로 활용될 수 있도록 하고 있다.Generally, in the OLED manufacturing process, various organic materials for OLED display operation are deposited on each cell in the glass substrate using an open mask and FMM mask, and then each cell is encapsulated and cut to be used as a single OLED display device. We are making it possible.
위와 같은 인캡?㎎뮌抉퓽? 재질은 금속, 유리, 필름 등이 사용될 수 있으며, 최근 들어서는 필름을 이용한 인캡슐레이션 방식이 크게 증가하고 있다.Encap like above? Materials such as metal, glass, and film can be used, and in recent years, encapsulation methods using films have increased significantly.
또한, 이러한 필름을 이용한 인캡슐레이션 공정에서는 CVD용 마스크를 유리기판 인캡슐레이션이 필요한 영역에 정렬시킨 후, 인캡슐레이션에 사용될 물질을 CVD를 통해 유리기판상 필름 형태로 증착시켜 인캡슐레이션을 형성하고 있으며, CVD를 위한 박막 증착과정에서는 유기물 증착시와 달리 증착물질이 가스 형태로 챔버의 상부에서 하부로 떨어져서 유리기판에 증착되는 방식이므로, 오픈 마스크 시트 또는 FMM 시트 등의 패턴 시트의 상부에 CVD 마스크가 접합되는 방식으로 CVD 마스크 조립체가 제작된다.In addition, in the encapsulation process using this film, the CVD mask is aligned to the area requiring encapsulation of the glass substrate, and then the material to be used for encapsulation is deposited in the form of a film on the glass substrate through CVD to form encapsulation. In the thin film deposition process for CVD, unlike organic material deposition, the deposition material falls from the top of the chamber to the bottom in the form of a gas and is deposited on the glass substrate, so CVD is applied to the top of a pattern sheet such as an open mask sheet or FMM sheet. The CVD mask assembly is manufactured by joining the masks.
한편, OLED 박막 증착 공정을 위한 오픈 마스크 또는 FMM 등을 생산하는데 사용되는 원자재로 인바는 제조상 한계로 인해 최대폭이 1020~1040mm 범위로 제한되어 있다. Meanwhile, Invar, a raw material used to produce open masks or FMMs for the OLED thin film deposition process, is limited to a maximum width of 1020 to 1040 mm due to manufacturing limitations.
그러나, 최근 들어 유리기판의 면적이 점차로 커지면서 현재는 8세대 풀사이즈까지 유리기판의 크기가 커짐에 따라 OLED 박막 공정용 오픈 마스크 등을 분할된 복수의 원자재를 접합하여 대면적 원장 마스크를 제작하는 방식이 제안되고 있으며, 이에 따라 CVD 마스크 또한 원자재 분할 방식으로 새로이 제작되는 대면적 오픈 마스크 등에 적용시키기 위한 새로운 구조로의 변형이 필요하다.However, as the area of the glass substrate has gradually increased in recent years, currently up to the 8th generation full size, a large-area raw mask is manufactured by joining a plurality of divided raw materials such as an open mask for the OLED thin film process. is being proposed, and accordingly, the CVD mask also needs to be modified into a new structure to be applied to large-area open masks that are newly manufactured by splitting raw materials.
따라서, 본 발명의 목적은 OLED 제조 공정에서 대면적 8세대 풀사이즈 유리기판에 사용할 CVD 마스크 조립체를 제작함에 있어서, 원자재를 복수개로 분할 접합하여 8세대 풀사이즈 유리기판의 면적에 대응하는 원장으로 생성하여 오픈 마스크 등의 패턴 시트로 제작한 후, 패턴 시트상 적어도 하나의 접합면의 상부에 CVD 박막 증착용 보조 마스크 시트 또는 복수의 가림막을 접합하여 8세대 풀사이즈 유리기판에도 적용 가능한 CVD 마스크 조립체를 생산 가능하도록 하며, 또한 패턴 시트의 양측단에 패턴 시트와 유리기판을 정렬시키는 보조 얼라인 키의 생성을 위한 얼라인 시트를 추가함으로써 OLED 박막 증착 공정에서의 불량 발생을 낮출 수 있도록 하는 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체 및 방법을 제공하는 것이다.Therefore, the purpose of the present invention is to manufacture a CVD mask assembly to be used for a large-area 8th generation full-size glass substrate in the OLED manufacturing process, by dividing the raw materials into a plurality of pieces and joining them to create a ledger corresponding to the area of the 8th generation full-size glass substrate. After producing a pattern sheet such as an open mask, an auxiliary mask sheet for CVD thin film deposition or a plurality of shields is bonded to the upper part of at least one bonding surface on the pattern sheet to create a CVD mask assembly that can be applied to an 8th generation full-size glass substrate. For the thin film process that enables production and also reduces the occurrence of defects in the OLED thin film deposition process by adding an alignment sheet to create an auxiliary alignment key that aligns the pattern sheet and the glass substrate at both ends of the pattern sheet. To provide a raw material split CVD mask assembly and method.
본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있고, 본 발명의 실시예에 의해 보다 분명하게 이해될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허 청구 범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 알 수 있을 것이다. The objects of the present invention are not limited to the objects mentioned above, and other objects and advantages of the present invention that are not mentioned can be understood by the following description and will be more clearly understood by the examples of the present invention. Additionally, it will be readily apparent that the objects and advantages of the present invention can be realized by the means and combinations thereof indicated in the patent claims.
본 발명에 따른 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체는, 마스크 프레임과, 제1 폭과 제1 길이를 가지며 내부에 셀영역에 대응하는 복수의 제1 개구부를 포함하는 복수의 패턴 시트와, 상기 오픈 마스크 시트의 양측단에서 상기 오픈 마스크 시트와 연속되게 상기 마스크 프레임에 접합되는 복수의 얼라인 시트와, 상기 오픈 마스크 시트와 얼라인 시트의 상부에 접합되며, 제2 폭과 제2 길이를 가지는 복수의 원자재 분할 시트를 접합하여 상기 마스크 프레임에 적용되는 타겟 유리기판의 면적에 대응되는 원장으로 제작되며, 내부에 격자로 배열된 복수의 제2 개구부를 포함하는 보조 마스크 시트를 포함할 수 있다.The raw material split CVD mask assembly for thin film processing according to the present invention includes a mask frame, a plurality of pattern sheets having a first width and a first length and including a plurality of first openings corresponding to cell regions therein, and the open A plurality of alignment sheets that are continuously joined to the mask frame at both ends of the mask sheet and the open mask sheet, and a plurality of alignment sheets that are bonded to the top of the open mask sheet and the alignment sheet and have a second width and a second length. It is manufactured into a ledger corresponding to the area of the target glass substrate applied to the mask frame by bonding split sheets of raw materials, and may include an auxiliary mask sheet including a plurality of second openings arranged in a grid therein.
또한, 상기 패턴 시트의 제1 폭은, 적어도 하나의 셀영역이 형성 가능한 폭으로 형성되며, 상기 보조 마스크 시트는, 상기 패턴 시트의 제1 두께의 2배인 제2 두께로 형성되며, 하부면상 상기 패턴 시트가 접합되는 타겟?영역이 상기 제1 두께만큼 하프 식각되며, 상기 패턴 시트의 상부에서 상기 마스크 프레임에 접합되는 경우 상기 타겟 영역에 상기 패턴 시트가 삽입되어 상기 패턴 시트의 하부면이 평탄화될 수 있다.In addition, the first width of the pattern sheet is formed to be a width capable of forming at least one cell region, and the auxiliary mask sheet is formed to have a second thickness that is twice the first thickness of the pattern sheet, and the auxiliary mask sheet is formed with a second thickness that is twice the first thickness of the pattern sheet, The target area to which the pattern sheet is bonded is half-etched by the first thickness, and when the pattern sheet is bonded to the mask frame at the top, the pattern sheet is inserted into the target region to flatten the lower surface of the pattern sheet. You can.
또한, 상기 패턴 시트는, 오픈 마스크 시트 또는 FMM 시트일 수 있다.Additionally, the pattern sheet may be an open mask sheet or an FMM sheet.
또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체는, 마스크 프레임과, 제1 폭과 제1 길이를 가지는 복수의 원자재 분할 시트를 접합하여 상기 마스크 프레임에 적용되는 타겟 유리기판의 면적에 대응되는 원장으로 제작되며, 내부에 격자로 배열된 복수의 반개구부를 포함하는 오픈 마스크 시트와, 상기 오픈 마스크 시트의 양측단에서 상기 오픈 마스크 시트와 연속되게 상기 마스크 프레임에 접합되는 복수의 얼라인 시트와, 상기 반개구부가 오픈된 상태에서 상기 복수의 원자재 분할 시트간 제1 접합면과 상기 오픈 마스크 시트와 상기 얼라인 시트간 제2 접합면에 접합되는 제2 폭과 제2 길이를 가지는 복수의 가림막을 포함할 수 있다.In addition, the raw material split CVD mask assembly for thin film processing according to another embodiment of the present invention is a target glass substrate applied to the mask frame by bonding a mask frame and a plurality of raw material split sheets having a first width and a first length. An open mask sheet made of a raw material corresponding to the area of, and including a plurality of semi-openings arranged in a grid therein, and a plurality of open mask sheets continuously joined to the mask frame at both ends of the open mask sheet. A second width and a second length joined to a first bonding surface between the align sheet and the plurality of raw material split sheets and a second bonding surface between the open mask sheet and the align sheet in the state in which the half opening is open. It may include a plurality of screens having a.
또한, 상기 가림막은, 상기 제1 접합면과 상기 제2 접합면에 배치되어 각 접합면 사이의 공간으로 CVD 용 가스가 통과하는 것을 방지시킬 수 있다.In addition, the shield may be disposed on the first bonding surface and the second bonding surface to prevent CVD gas from passing through the space between each bonding surface.
또한, 상기 오픈 마스크 시트는, 상기 분할 원장 마스크 시트상 셀영역에 격자로 배열되는 복수의 반개구부와, 제3 폭을 가지고, 상기 분할 원장 마스크 시트상 상기 반개구부의 상측과 하측에 수평한 방향으로 형성되는 복수의 제1 살대와, 제4 폭을 가지고, 상기 분할 원장 마스크 시트상 상기 반개구부의 좌측과 우측에 수직한 방향으로 형성되어 상기 제1 살대와 직교하도록 형성되는 복수의 제2 살대와, 상기 제2 살대의 외측에 연결되어 각각의 제2 살대에 동일한 인장력이 작용하도록 하는 가드 스트립을 포함할 수 있다.In addition, the open mask sheet has a plurality of half-openings arranged in a grid in the cell area on the divided raw mask sheet, and a third width, and a direction horizontal to the upper and lower sides of the half-openings on the divided raw mask sheet. a plurality of first ribs formed of, and a plurality of second ribs having a fourth width and formed in a direction perpendicular to the left and right sides of the half-opening portion on the divided raw mask sheet and formed to be perpendicular to the first ribs. And, it may include a guard strip connected to the outside of the second abutment so that the same tensile force is applied to each of the second abutments.
또한, 상기 얼라인 시트는, 자성 물질로 형성될 수 있다.Additionally, the align sheet may be formed of a magnetic material.
또한, 상기 얼라인 시트는, 비자성 물질로 형성되어, 유리 기판의 상부에 배치된 자성체에 의한 자력에 의해 상기 오픈 마스크 시트가 상기 유리 기판에 접촉되는 과정에서 상기 자력에 의해 상기 보조 얼라인 키가 틀어지는 것을 방지시킬 수 있다.In addition, the align sheet is formed of a non-magnetic material, and the auxiliary align key is activated by the magnetic force in the process of contacting the open mask sheet with the glass substrate by the magnetic force generated by the magnetic material disposed on the upper part of the glass substrate. It can prevent it from becoming distorted.
또한, 상기 보조 얼라인 키는, 상기 얼라인 시트가 상기 오픈 마스크 시트의 양측단에 접합된 이후, 상기 유리 기판에 형성된 기준 얼라인 키와 정렬되는 상기 얼라인 시트상 대응되는 타겟 위치에 형성될 수 있다.In addition, the auxiliary align key may be formed at a corresponding target position on the align sheet aligned with the reference align key formed on the glass substrate after the align sheet is bonded to both ends of the open mask sheet. You can.
또한, 상기 보조 얼라인 키는, 상기 얼라인 시트상 상기 타겟 위치를 레이저로 관통시켜 생성할 수 있다.Additionally, the auxiliary align key can be created by penetrating the target position on the align sheet with a laser.
또한, 상기 가림막은, 상기 제2 폭이 50~100mm로 형성되고, 상기 제2 길이가 2200~2500mm로 형성될 수 있다.In addition, the screen may be formed to have a second width of 50 to 100 mm and a second length of 2200 to 2500 mm.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체 제조 방법은, 시트의 원자재를 재단하여 제1 폭과 제1 길이를 가지는 복수의 원자재 분할 시트를 제작하는 단계와, 상기 복수의 원자재 분할 시트를 접합하여 마스크 프레임에 적용되는 타겟 유리기판의 면적에 대응되는 오픈 마스크 시트를 제작하는 단계와, 상기 오픈 마스크 시트의 셀영역내 격자로 배열되는 복수의 반개구부를 형성시키는 단계와, 상기 반개구부가 형성된 오픈 마스크 시트를 상기 마스크 프레임에 접합시킨 후, 반개구부를 오픈시키는 단계와, 상기 타겟 유리기판과 상기 오픈 마스크 시트의 정렬을 위한 보조 얼라인키가 형성된 복수의 얼라인 시트를 상기 오픈 마스크 시트의 양측단에 접합시키는 단계와, 제2폭과 제2 길이를 가지는 복수의 가림막을 제작하는 단계와, 상기 가림막을 상기 복수의 원자재 분할 시트간 제1 접합면과 상기 오픈 마스크 시트와 상기 얼라인 시트간 제2 접합면에 접합시키는 단계를 포함할 수 있다.In addition, the method of manufacturing a raw material split CVD mask assembly for thin film processing according to an embodiment of the present invention includes cutting the raw material of the sheet to produce a plurality of raw material split sheets having a first width and a first length, and the plurality of split sheets. Fabricating an open mask sheet corresponding to the area of the target glass substrate applied to the mask frame by bonding raw material split sheets, forming a plurality of half-openings arranged in a grid within the cell area of the open mask sheet; bonding the open mask sheet on which the half-opening is formed to the mask frame, and then opening the half-opening, and applying a plurality of aligning sheets with auxiliary aligning keys for aligning the target glass substrate and the open mask sheet. Bonding both ends of an open mask sheet, manufacturing a plurality of shields having a second width and a second length, and combining the shield with a first bonding surface between the plurality of raw material split sheets and the open mask sheet. It may include bonding the align sheets to a second bonding surface.
본 발명의 일실시예에 따르면, OLED 제조 공정에서 대면적 8세대 풀사이즈 유리기판에 사용할 CVD 마스크 조립체를 제작함에 있어서, 원자재를 복수개로 분할 접합하여 8세대 풀사이즈 유리기판의 면적에 대응하는 원장으로 생성하여 오픈 마스크 등의 패턴 시트로 제작한 후, 패턴 시트상 적어도 하나의 접합면의 상부에 CVD 박막 증착용 보조 마스크 시트 또는 복수의 가림막을 접합하여 8세대 풀사이즈 유리기판에도 적용 가능한 CVD 마스크 조립체를 생산 가능하도록 한다.According to an embodiment of the present invention, in manufacturing a CVD mask assembly to be used for a large-area 8th generation full-size glass substrate in the OLED manufacturing process, the raw materials are divided into a plurality of pieces and bonded to create a ledger corresponding to the area of the 8th generation full-size glass substrate. After creating a pattern sheet such as an open mask, an auxiliary mask sheet for CVD thin film deposition or a plurality of shields is bonded to the upper part of at least one bonding surface on the pattern sheet to create a CVD mask that can be applied to an 8th generation full-size glass substrate. Make the assembly producible.
또한 패턴 시트의 양측단에 패턴 시트와 유리기판을 정렬시키는 보조 얼라인 키의 생성을 위한 얼라인 시트를 추가함으로써 OLED 박막 증착 공정에서의 불량 발생을 낮출 수 있다.Additionally, by adding an alignment sheet to both ends of the pattern sheet to create an auxiliary alignment key that aligns the pattern sheet and the glass substrate, the occurrence of defects in the OLED thin film deposition process can be reduced.
상술한 효과와 더불어 본 발명의 구체적인 효과는 이하 발명을 실시하기 위한 구체적인 사항을 설명하면서 함께 기술한다. In addition to the above-described effects, specific effects of the present invention are described below while explaining specific details for carrying out the invention.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 원자재 분할 CVD 마스크 조립체 구조를 보여주는 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 CVD용 보조 마스크 시트의 평면도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 원자재 분할 CVD 마스크 조립체의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 원자재 분할 CVD 마스크 조립체의 평면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따라 원자재 분할 CVD 마스크 조립체에서 원자재 분할 시트와 얼라인 시트를 마스크 프레임에 안착시킨 사시도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따라 원자재 분할 CVD 마스크 조립체에서 각 접합면에 가림막을 접합시킨 사시도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 원자재 분할 CVD 마스크 조립체의 평면도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 원자재 분할 CVD 마스크 조립체의 단면도이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 원자재 분할 오픈 마스크 시트의 반개구부의 구조 예시도이다.Figure 1 is a perspective view showing the structure of a raw material split CVD mask assembly according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a plan view of an auxiliary mask sheet for CVD according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a cross-sectional view of a raw material split CVD mask assembly according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a plan view of a raw material split CVD mask assembly according to an embodiment of the present invention.
Figure 5 is a perspective view of a raw material split sheet and an alignment sheet seated on a mask frame in a raw material split CVD mask assembly according to another embodiment of the present invention.
Figure 6 is a perspective view of a shield bonded to each bonding surface in a raw material split CVD mask assembly according to another embodiment of the present invention.
Figure 7 is a plan view of a raw material split CVD mask assembly according to another embodiment of the present invention.
Figure 8 is a cross-sectional view of a raw material split CVD mask assembly according to another embodiment of the present invention.
Figure 9 is an exemplary structure of a half-opening portion of a raw material split open mask sheet according to another embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 동작 원리를 상세히 설명한다. 하기에서 본 발명을 설명함에 있어서 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.Hereinafter, the operating principle of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings. In the following description of the present invention, if a detailed description of a known function or configuration is judged to unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted. The terms described below are defined in consideration of the functions in the present invention, and may vary depending on the intention or custom of the user or operator. Therefore, the definition should be made based on the contents throughout this specification.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 원자재 분할 CVD 마스크 조립체 구조를 보여주는 사시도이다.Figure 1 is a perspective view showing the structure of a raw material split CVD mask assembly according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 CVD용 보조 마스크 시트의 평면도이다.Figure 2 is a plan view of an auxiliary mask sheet for CVD according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 원자재 분할 CVD 마스크 조립체의 단면도이다.Figure 3 is a cross-sectional view of a raw material split CVD mask assembly according to an embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 원자재 분할 CVD 마스크 조립체의 평면도이다.Figure 4 is a plan view of a raw material split CVD mask assembly according to an embodiment of the present invention.
먼저, OLED 박막 공정용 마스크의 원자재로 사용되는 인바(Invar 36)의 경우 원장으로 제작할 수 있는 최대폭이 1020 ~ 1040mm으로써 8세대 풀사이즈(2500×2800mm)에 사용할 수 있는 오픈 마스크 등을 인바를 사용하여 원장으로 제조할 수 있는 방법이 없었음은 전술한 바와 같다.First, in the case of Invar 36, which is used as a raw material for masks for the OLED thin film process, the maximum width that can be manufactured as a raw material is 1020 ~ 1040mm, so Invar is used for open masks that can be used in the 8th generation full size (2500 × 2800mm). As mentioned above, there was no way to manufacture it as a ledger.
이에 따라, 본 발명에서는 예를 들어 원자재인 인바를 재단하여 8세대 풀사이즈 유리기판에 대응되는 오픈 마스크 시트를 제작하되, 각 원자재 분할 시트에 배열되는 셀의 크기와 개수에 따라 원자재 분할 시트의 폭을 가변하여 제작함으로써 다양한 종류의 셀이 배치되는 유리기판에 사용할 수 있도록 한다. Accordingly, in the present invention, for example, an open mask sheet corresponding to an 8th generation full-size glass substrate is manufactured by cutting Invar, which is a raw material, and the width of the raw material split sheet is adjusted according to the size and number of cells arranged on each raw material split sheet. By manufacturing it in a variable manner, it can be used on glass substrates on which various types of cells are placed.
즉, 예를 들어 테블릿 크기인 14인치 셀이 1개가 배치되도록 하는 경우에는 도 1에서 보여지는 바와 같이 내부에 셀영역에 대응하는 제1 개구부(335)가 형성된 6개의 원자재 분할 시트를 패턴 시트(320)로서 접합하여 8세대 풀사이즈 유리기판용 오픈 마스크 시트(325)로 제작할 수 있다.That is, for example, in the case where one tablet-sized 14-inch cell is arranged, as shown in FIG. 1, six raw material split sheets with a first opening 335 corresponding to the cell area formed inside are pattern sheets. By bonding as (320), it can be produced as an open mask sheet (325) for an 8th generation full-size glass substrate.
이때, CVD 마스크 조립체의 제작에 있어서는 위와 같이 패턴 시트(320)와 얼라인 시트를 마스크 프레임(310)에 먼저 순차적으로 접합한 후, CVD용 보조 마스크 시트를 패턴 시트간 접합면인 제1 접합면과 패턴 시트와 얼라인 시트의 접합면인 제2 접합면을 가리도록 마스크 프레임에 접합시켜 도 4에서 보여지는 바와 같은 CVD 마스크 조립체를 완성시키게 된다.At this time, in the production of the CVD mask assembly, the pattern sheet 320 and the alignment sheet are first sequentially bonded to the mask frame 310 as above, and then the auxiliary mask sheet for CVD is bonded to the first bonding surface, which is the bonding surface between the pattern sheets. The CVD mask assembly as shown in FIG. 4 is completed by bonding it to the mask frame to cover the second bonding surface, which is the bonding surface of the pattern sheet and the alignment sheet.
이러한 CVD용 보조 마스크 시트는 제2 폭과 제2 길이를 가지는 복수의 원자재 분할 시트를 접합하여 상기 마스크 프레임에 적용되는 타겟 유리기판의 면적에 대응되는 원장으로 제작되며, 내부에 격자로 배열된 복수의 제2 개구부(353)를 포함할 수 있다.This auxiliary mask sheet for CVD is manufactured into a ledger corresponding to the area of the target glass substrate applied to the mask frame by joining a plurality of raw material split sheets having a second width and a second length, and a plurality of sheets arranged in a lattice inside. may include a second opening 353.
또한, 이때, CVD용 보조 마스크 시트를 패턴 시트에 접합시킴에 있어서, Also, at this time, when bonding the auxiliary mask sheet for CVD to the pattern sheet,
도 4의 (a)에서 보여지는 바와 같이 CVD용 보조 마스크 시트(350)의 하부에 패턴 시트(320)가 일정 간격으로 이격되어 접합된 형태로 접합시킬 수 있고, 도 4의 (b)에서 보여지는 바와 같이 CVD용 보조 마스크 시트(350)상 패턴 시트(320)가 삽입될 타겟 영역(357)을 하프 식각하여 패턴 시트가 보조 마스크 시트상 하프 식각된 타겟 영역에 삽입되어 접합된 형태로 접합시킬 수 도 있다.As shown in (a) of Figure 4, the pattern sheet 320 can be bonded to the lower part of the auxiliary mask sheet 350 for CVD at regular intervals, as shown in (b) of Figure 4. As shown, the target area 357 on the auxiliary mask sheet 350 for CVD where the pattern sheet 320 will be inserted is half-etched, so that the pattern sheet is inserted into the half-etched target area on the auxiliary mask sheet and bonded in a bonded form. It is also possible.
위와 같이 패턴 시트를 CVD용 보조 마스크 시트의 하프 식각된 공간에 삽입시키는 방식으로 CVD용 보조 마스크 시트와 패턴 시트를 접합시키는 경우, CVD용 보조 마스크 시트에 대해서 도 3에서 보여지는 바와 같이 패턴 시트가 삽입될 타겟 영역을 사전에 하프 식각시키게 된다.When bonding the CVD auxiliary mask sheet and the pattern sheet by inserting the pattern sheet into the half-etched space of the CVD auxiliary mask sheet as described above, the pattern sheet is The target area to be inserted is half-etched in advance.
이러한 경우, CVD용 보조 마스크 시트(350)는 패턴 시트의 제1 두께의 2배인 제2 두께로 형성될 수 있고, 하부면상 상기 패턴 시트가 접합되는 타겟 영역(357)이 제1 두께만큼 하프 식각될 수 있다. 이에 따라, CVD용 보조 마스크 시트가 패턴 시트의 상부에서 마스크 프레임에 접합되는 경우 타겟 영역에 패턴 시트가 삽입되어 패턴 시트의 하부면이 평탄화될 수 있다.In this case, the auxiliary mask sheet 350 for CVD may be formed to have a second thickness that is twice the first thickness of the pattern sheet, and the target area 357 on the lower surface to which the pattern sheet is bonded may be half-etched as much as the first thickness. It can be. Accordingly, when the auxiliary mask sheet for CVD is bonded to the mask frame on top of the pattern sheet, the pattern sheet is inserted into the target area and the lower surface of the pattern sheet can be flattened.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따라 원자재 분할 CVD 마스크 조립체에서 원자재 분할 시트와 얼라인 시트를 마스크 프레임에 안착시킨 사시도이다.Figure 5 is a perspective view of a raw material split sheet and an alignment sheet seated on a mask frame in a raw material split CVD mask assembly according to another embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따라 원자재 분할 CVD 마스크 조립체에서 각 접합면에 가림막을 접합시킨 사시도이다.Figure 6 is a perspective view of a shield bonded to each bonding surface in a raw material split CVD mask assembly according to another embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 원자재 분할 CVD 마스크 조립체의 평면도이다.Figure 7 is a plan view of a raw material split CVD mask assembly according to another embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 원자재 분할 CVD 마스크 조립체의 단면도이다.Figure 8 is a cross-sectional view of a raw material split CVD mask assembly according to another embodiment of the present invention.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 원자재 분할 오픈 마스크 시트의 반개구부의 구조 예시도이다.Figure 9 is an exemplary structure of a half-opening portion of a raw material split open mask sheet according to another embodiment of the present invention.
먼저, 도 5에서 보여지는 바와 같이 오픈 마스크 시트(135)와 얼라인 시트(150)를 마스크 프레임(140)에 접합시킨다. First, as shown in FIG. 5, the
이때, 이러한 오픈 마스크 시트(135)는 패턴 시트로서 제1 폭과 제1 길이를 가지는 복수의 원자재 분할 시트(123)를 접합하여 상기 마스크 프레임(140)에 적용되는 타겟 유리기판의 면적에 대응되는 원장으로 제작될 수 있으며, 내부의 셀영역에 격자로 배열된 복수의 반개구부(817)를 포함할 수 있다. 또한, 얼라인 시트는 오픈 마스크 시트의 양측단에서 마스크 프레임에 접합되어, 오픈 마스크 시트와 마스크 프레임의 빈공간으로 유기물 등이 불필요하게 증착되는 현상을 방지시키며, 이러한 얼라인 시트(150)는 인바 등의 자성물질로 형성될 수도 있고, SUS 304 등의 비자성물질로 형성될 수도 있다.At this time, the
이어, 도 6에 보여지는 바와 같이 오픈 마스크 시트의 반개구부(817)를 오픈시킨 상태에서 복수의 원자재 분할 시트간 제1 접합면(127)과 상기 오픈 마스크 시트와 상기 얼라인 시트간 제2 접합면(129)에 복수의 가림막을 접합시켜 도 7에서와 같은 원자재 분할 CVD 마스크 조립체를 완성시킨다.Next, as shown in FIG. 6, in a state in which the half-opening
이때, 가림막(190)은 예를 들어 제2 폭과 제2 길이로 제작될 수 있으며, 특히 예를 들어 8세대 풀사이즈용 CVD 마스크 조립체에서 사용되는 가림막의 경우 폭은 50 ~ 100mm로 제작되고, 길이는 2500mm로 제작될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.At this time, the screen 190 may be manufactured with, for example, a second width and a second length. In particular, for example, in the case of the screen used in the 8th generation full-size CVD mask assembly, the screen is manufactured to have a width of 50 to 100 mm, The length can be manufactured to 2500mm, but is not limited to this.
이러한 가림막은 복수개의 원자재 분할 시트간 제1 접합면과 원자재 분할 시트와 얼라인 시트가 제1 접합면을 커버하여 각 접합면에 생길 수 있는 공간으로 CVD 공정에서 사용되는 가스가 통과하지 못하도록 하여 불량 발생을 방지시킬 수 있도록 한다.This screen covers the first joint surface between the plurality of raw material split sheets and the first joint surface between the raw material split sheet and the alignment sheet, preventing the gas used in the CVD process from passing through the space that may be created on each joint surface, causing defects. to prevent its occurrence.
이때, 본 발명의 반개구부(817)는 도 9에서 보여지는 바와 같이 가변형 원자재 분할 오픈 마스크(135)상 사전 식각을 통해 개구 영역(823) 중 테두리 영역(824)만을 시트의 두께인 제1 두께보다 얇은 제2 두께가 되도록 식각한 상태를 의미할 수 있다.At this time, as shown in FIG. 9, the half-opening
이러한 제2 두께는 펨토초 레이저 식각 등을 통해 한번에 절단 가능한 두께로 미리 계산되어 설정될 수 있으며, 또는 예를 들어 원자재 분할 시트(123)의 제1 두께의 1/4 ~ 1/3 두께로 설정될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. This second thickness may be pre-calculated and set to a thickness that can be cut at once through femtosecond laser etching, etc., or, for example, may be set to a thickness of 1/4 to 1/3 of the first thickness of the raw
본 발명에서는 오픈 마스크 시트상 각 셀에 해당하는 개구 영역을 완전히 오픈시키지 않고, 이러한 반개구 상태로 형성시킨 상태에서 오픈 마스크 시트(135)를 인장시켜 마스크 프레임(140)에 접합시킨 후, 추후 레이저 식각 등을 통해 개구시키게 된다. 이때, 오픈 마스크 시트의 셀영역을 반개구 상태에서 인장함에 따라 개구 영역을 완전히 오픈시킨 후 인장시키는 것과 비교하여 오픈 마스크 시트의 전체 영역에 보다 균일한 인장력이 인가될 수 있어 오픈 마스크 시트가 최적 조건으로 인장된 가변형 원자재 분할 오픈 마스크 조립체를 생성할 수 있는 것이다.In the present invention, the opening area corresponding to each cell on the open mask sheet is not completely opened, but the
또한, 오픈 마스크 시트(135)는 수평방향으로 형성된 제1 살대(322)와 수직방향으로 형성된 제2 살대(324)로 이루어지는 격자 내부에 반개구부(817)가 배열되는 형태를 가질 수 있다.Additionally, the
반개구부(817)는 테두리 영역(824)만 사전 식각을 통해 미리 식각된 것으로, 마스크 조립체 생성후에는 완전히 오픈되어 아무것도 없는 개방된 공간이 된다. 위와 같은 사전 식각은 습식 식각 방식으로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 각각의 반개구부(817)에 의해 한정되는 영역은 유리 기판 상에서 각각의 셀인 하나의 디스플레이 영역을 정의할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The half-opening
제1 살대(322)는 제3 폭을 가지고, 오픈 마스크 시트(135)상 반개구부(817)의 상측과 하측에 수평한 방향으로 복수개가 형성될 수 있다.The first rib 322 has a third width, and a plurality of first ribs 322 may be formed in a horizontal direction above and below the half-opening
제2 살대(324)는 제4 폭을 가지고, 오픈 마스크 시트(135)상 반개구부(817)의 좌측과 우측에 수직한 방향으로 형성되어 제1 살대와 직교하도록 복수개가 형성될 수 있다.The second ribs 324 may have a fourth width, be formed in a direction perpendicular to the left and right sides of the half-opening
가드 스트립(377)은 상기 제2 살대의 외측에 연결되어 각각의 제2 살대에 동일한 인장력이 작용하도록 한다.The guard strip 377 is connected to the outside of the second abutment so that the same tensile force is applied to each of the second abutments.
얼라인 시트(150)에는 유리 기판과 분할 원장 마스크 시트의 정렬을 위한 보조 얼라인 키가 형성될 수 있다. 또한, 얼라인 시트는 인바 등의 자성물질로 형성될 수도 있으며, 서스(SUS : Steel Use Stainless : 스테인리스 스틸) 등의 비자성 물질로 형성될 수도 있다.An auxiliary align key may be formed on the align sheet 150 to align the glass substrate and the split ledger mask sheet. Additionally, the align sheet may be formed of a magnetic material such as Invar, or may be formed of a non-magnetic material such as SUS (Steel Use Stainless).
이때, 얼라인 시트가 서스 등의 비자성 물질로 형성되는 경우, 유리 기판의 상부에 배치된 자성체에 의한 자력에 의해 상기 분할 원장 마스크 시트가 상기 유리 기판에 접촉되는 과정에서 자력에 의해 얼라인 시트가 영향을 받지 않음으로써 보조 얼라인 키가 틀어지는 것을 방지시킬 수 있다.At this time, when the align sheet is formed of a non-magnetic material such as a sus, the split ledger mask sheet is brought into contact with the glass substrate due to the magnetic force generated by the magnetic material disposed on the upper part of the glass substrate, and the align sheet is generated by magnetic force. By not being affected, the auxiliary alignment key can be prevented from being twisted.
또한, 위와 같은 보조 얼라인 키는 얼라인 시트가 상기 분할 원장 오픈 마스크 시트의 양끝단에 상기 오픈 마스크 시트와 연속되게 접합된 이후, 상기 유리 기판에 형성된 기준 얼라인 키와 정렬되는 얼라인 시트상 대응되는 타겟 위치에 형성될 수 있으며, 이러한 보조 얼라인 키는 얼라인 시트상 타겟 위치를 레이저로 관통시켜 생성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In addition, the above auxiliary align key is formed on an align sheet that is aligned with the reference align key formed on the glass substrate after the align sheet is continuously bonded to the open mask sheet at both ends of the split ledger open mask sheet. It can be formed at a corresponding target position, and this auxiliary alignment key can be created by penetrating the target position on the alignment sheet with a laser, but is not limited to this.
상술한 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따르면, OLED 제조 공정에서 대면적 8세대 풀사이즈 유리기판에 사용할 CVD 마스크 조립체를 제작함에 있어서, 원자재를 복수개로 분할 접합하여 8세대 풀사이즈 유리기판의 면적에 대응하는 원장으로 생성하여 오픈 마스크 등의 패턴 시트로 제작한 후, 패턴 시트상 적어도 하나의 접합면의 상부에 CVD 박막 증착용 보조 마스크 시트 또는 복수의 가림막을 접합하여 8세대 풀사이즈 유리기판에도 적용 가능한 CVD 마스크 조립체를 생산 가능하도록 한다.As described above, according to an embodiment of the present invention, in manufacturing a CVD mask assembly to be used for a large-area 8th generation full-size glass substrate in the OLED manufacturing process, the raw materials are divided into a plurality of pieces and bonded to form an 8th generation full-size glass substrate. After creating a ledger corresponding to the area and manufacturing it into a pattern sheet such as an open mask, an auxiliary mask sheet for CVD thin film deposition or a plurality of shields is bonded to the upper part of at least one bonding surface on the pattern sheet to create an 8th generation full-size glass substrate. It is possible to produce a CVD mask assembly that can also be applied.
이상과 같이 본 발명에 대해서 예시한 도면을 참조로 하여 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시 예와 도면에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 통상의 기술자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있음은 자명하다. 아울러 앞서 본 발명의 실시 예를 설명하면서 본 발명의 구성에 따른 작용 효과를 명시적으로 기재하여 설명하지 않았을 지라도, 해당 구성에 의해 예측 가능한 효과 또한 인정되어야 함은 당연하다.As described above, the present invention has been described with reference to the illustrative drawings, but the present invention is not limited to the embodiments and drawings disclosed herein, and various modifications may be made by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention. It is obvious that transformation can occur. In addition, although the operational effects according to the configuration of the present invention were not explicitly described and explained while explaining the embodiments of the present invention above, it is natural that the predictable effects due to the configuration should also be recognized.
350 : CVD용 보조 마스크 시트 320 : 패턴시트
335 : 제1 개구부 353 : 제2 개구부
310 : 마스크 프레임 325 : 오픈 마스크 시트
357 : 타겟 영역 322 : 제1 살대
324 : 제2 살대 350: Auxiliary mask sheet for CVD 320: Pattern sheet
335: first opening 353: second opening
310: Mask frame 325: Open mask sheet
357: Target area 322: 1st rib
324: 2nd rib
Claims (12)
마스크 프레임과,
제1 폭과 제1 길이를 가지며 내부에 셀영역에 대응하는 복수의 제1 개구부를 포함하는 복수의 패턴 시트와,
상기 오픈 마스크 시트의 양측단에서 상기 오픈 마스크 시트와 연속되게 상기 마스크 프레임에 접합되는 복수의 얼라인 시트와,
상기 오픈 마스크 시트와 얼라인 시트의 상부에 접합되며, 제2 폭과 제2 길이를 가지는 복수의 원자재 분할 시트를 접합하여 상기 마스크 프레임에 적용되는 타겟 유리기판의 면적에 대응되는 원장으로 제작되며, 내부에 격자로 배열된 복수의 제2 개구부를 포함하는 보조 마스크 시트를
포함하는 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체.A raw material split CVD mask assembly for thin film processing, comprising:
mask frame,
A plurality of pattern sheets having a first width and a first length and including a plurality of first openings corresponding to cell areas therein,
A plurality of alignment sheets joined to the mask frame at both ends of the open mask sheet in a continuous manner with the open mask sheet,
It is bonded to the upper part of the open mask sheet and the alignment sheet, and is manufactured into a ledger corresponding to the area of the target glass substrate applied to the mask frame by bonding a plurality of raw material split sheets having a second width and a second length, An auxiliary mask sheet including a plurality of second openings arranged in a grid therein
A raw material split CVD mask assembly for thin film processing comprising:
상기 패턴 시트의 제1 폭은,
적어도 하나의 셀영역이 형성 가능한 폭으로 형성되며,
상기 보조 마스크 시트는,
상기 패턴 시트의 제1 두께의 2배인 제2 두께로 형성되며,
하부면상 상기 패턴 시트가 접합되는 타겟?영역이 상기 제1 두께만큼 하프 식각되며, 상기 패턴 시트의 상부에서 상기 마스크 프레임에 접합되는 경우 상기 타겟 영역에 상기 패턴 시트가 삽입되어 상기 패턴 시트의 하부면이 평탄화되는 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체.According to claim 1,
The first width of the pattern sheet is,
At least one cell area is formed with a width that can be formed,
The auxiliary mask sheet is,
It is formed with a second thickness that is twice the first thickness of the pattern sheet,
The target area on the lower surface to which the pattern sheet is bonded is half-etched by the first thickness, and when the pattern sheet is bonded to the mask frame at the top, the pattern sheet is inserted into the target area and the lower surface of the pattern sheet is This planarized raw material split CVD mask assembly for thin film processing.
상기 패턴 시트는,
오픈 마스크 시트 또는 FMM 시트인 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체.According to claim 2,
The pattern sheet is,
Raw material split CVD mask assembly for thin film processing, either open mask sheets or FMM sheets.
마스크 프레임과,
제1 폭과 제1 길이를 가지는 복수의 원자재 분할 시트를 접합하여 상기 마스크 프레임에 적용되는 타겟 유리기판의 면적에 대응되는 원장으로 제작되며, 내부에 격자로 배열된 복수의 반개구부를 포함하는 오픈 마스크 시트와,
상기 오픈 마스크 시트의 양측단에서 상기 오픈 마스크 시트와 연속되게 상기 마스크 프레임에 접합되는 복수의 얼라인 시트와,
상기 반개구부가 오픈된 상태에서 상기 복수의 원자재 분할 시트간 제1 접합면과 상기 오픈 마스크 시트와 상기 얼라인 시트간 제2 접합면에 접합되는 제2 폭과 제2 길이를 가지는 복수의 가림막을
포함하는 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체.A raw material split CVD mask assembly for thin film processing, comprising:
mask frame,
It is manufactured into a ledger corresponding to the area of the target glass substrate applied to the mask frame by bonding a plurality of raw material split sheets having a first width and a first length, and is an open panel including a plurality of semi-openings arranged in a grid therein. mask sheet,
A plurality of alignment sheets joined to the mask frame at both ends of the open mask sheet in a continuous manner with the open mask sheet,
A plurality of shields having a second width and a second length joined to a first bonding surface between the plurality of raw material dividing sheets and a second bonding surface between the open mask sheet and the aligning sheet in the state in which the half opening is open.
A raw material split CVD mask assembly for thin film processing comprising:
상기 가림막은,
상기 제1 접합면과 상기 제2 접합면에 배치되어 각 접합면 사이의 공간으로 CVD 용 가스가 통과하는 것을 방지시키는 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체.According to claim 4,
The screen is,
A raw material split CVD mask assembly for thin film processing that is disposed on the first bonding surface and the second bonding surface to prevent CVD gas from passing through the space between each bonding surface.
상기 오픈 마스크 시트는,
상기 분할 원장 마스크 시트상 셀영역에 격자로 배열되는 복수의 반개구부와,
제3 폭을 가지고, 상기 분할 원장 마스크 시트상 상기 반개구부의 상측과 하측에 수평한 방향으로 형성되는 복수의 제1 살대와,
제4 폭을 가지고, 상기 분할 원장 마스크 시트상 상기 반개구부의 좌측과 우측에 수직한 방향으로 형성되어 상기 제1 살대와 직교하도록 형성되는 복수의 제2 살대와,
상기 제2 살대의 외측에 연결되어 각각의 제2 살대에 동일한 인장력이 작용하도록 하는 가드 스트립을 포함하는 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체.According to claim 4,
The open mask sheet,
a plurality of half-openings arranged in a grid in a cell area on the divided ledger mask sheet;
a plurality of first strips having a third width and formed in a horizontal direction above and below the half-opening portion on the divided raw mask sheet;
a plurality of second strips having a fourth width and formed in a direction perpendicular to the left and right sides of the half-opening portion on the divided raw mask sheet and formed to be perpendicular to the first strip;
A raw material split CVD mask assembly for a thin film process including a guard strip connected to the outside of the second abutment so that the same tensile force is applied to each of the second abutments.
상기 얼라인 시트는,
자성 물질로 형성되는 박박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체.According to claim 4,
The alignment sheet is,
Raw material split CVD mask assembly for thin film processing formed from magnetic materials.
상기 얼라인 시트는,
비자성 물질로 형성되어, 유리 기판의 상부에 배치된 자성체에 의한 자력에 의해 상기 오픈 마스크 시트가 상기 유리 기판에 접촉되는 과정에서 상기 자력에 의해 상기 보조 얼라인 키가 틀어지는 것을 방지시키는 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체.According to claim 4,
The alignment sheet is,
It is made of a non-magnetic material and is used for thin film processing to prevent the auxiliary aligner key from being twisted by the magnetic force generated by the magnetic material disposed on the upper part of the glass substrate when the open mask sheet is brought into contact with the glass substrate. Raw material split CVD mask assembly.
상기 보조 얼라인 키는,
상기 얼라인 시트가 상기 오픈 마스크 시트의 양측단에 접합된 이후, 상기 유리 기판에 형성된 기준 얼라인 키와 정렬되는 상기 얼라인 시트상 대응되는 타겟 위치에 형성되는 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체.According to claim 8,
The auxiliary align key is,
After the align sheet is bonded to both ends of the open mask sheet, a raw material split CVD mask assembly for thin film processing is formed at a corresponding target position on the align sheet that is aligned with a reference align key formed on the glass substrate.
상기 보조 얼라인 키는,
상기 얼라인 시트상 상기 타겟 위치를 레이저로 관통시켜 생성하는 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체.According to clause 9,
The auxiliary align key is,
A raw material split CVD mask assembly for thin film processing that is created by penetrating the target position on the align sheet with a laser.
상기 가림막은,
상기 제2 폭이 50~100mm로 형성되고, 상기 제2 길이가 2200~2500mm로 형성되는 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체.According to claim 4,
The screen is,
A raw material split CVD mask assembly for thin film processing, wherein the second width is formed to be 50 to 100 mm and the second length is formed to be 2200 to 2500 mm.
시트의 원자재를 재단하여 제1 폭과 제1 길이를 가지는 복수의 원자재 분할 시트를 제작하는 단계와,
상기 복수의 원자재 분할 시트를 접합하여 마스크 프레임에 적용되는 타겟 유리기판의 면적에 대응되는 오픈 마스크 시트를 제작하는 단계와,
상기 오픈 마스크 시트의 셀영역내 격자로 배열되는 복수의 반개구부를 형성시키는 단계와,
상기 반개구부가 형성된 오픈 마스크 시트를 상기 마스크 프레임에 접합시킨 후, 반개구부를 오픈시키는 단계와,
상기 타겟 유리기판과 상기 오픈 마스크 시트의 정렬을 위한 보조 얼라인키가 형성된 복수의 얼라인 시트를 상기 오픈 마스크 시트의 양측단에 접합시키는 단계와,
제2폭과 제2 길이를 가지는 복수의 가림막을 제작하는 단계와,
상기 가림막을 상기 복수의 원자재 분할 시트간 제1 접합면과 상기 오픈 마스크 시트와 상기 얼라인 시트간 제2 접합면에 접합시키는 단계를
포함하는 박막 공정용 원자재 분할 CVD 마스크 조립체 제조방법.A method of manufacturing a raw material split CVD mask assembly for thin film processing, comprising:
Cutting the raw materials of the sheet to produce a plurality of raw material split sheets having a first width and a first length;
bonding the plurality of raw material split sheets to produce an open mask sheet corresponding to the area of the target glass substrate applied to the mask frame;
forming a plurality of half-openings arranged in a grid within a cell area of the open mask sheet;
bonding the open mask sheet on which the half-opening is formed to the mask frame and then opening the half-opening;
Bonding a plurality of alignment sheets with auxiliary alignment keys for aligning the target glass substrate and the open mask sheet to both ends of the open mask sheet;
A step of manufacturing a plurality of screens having a second width and a second length;
Bonding the screen to a first bonding surface between the plurality of raw material split sheets and a second bonding surface between the open mask sheet and the alignment sheet.
A method of manufacturing a CVD mask assembly comprising split raw materials for a thin film process.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020220081757A KR20240003904A (en) | 2022-07-04 | 2022-07-04 | Raw material split cvd mask assembly for thin film process |
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| KR1020220081757A KR20240003904A (en) | 2022-07-04 | 2022-07-04 | Raw material split cvd mask assembly for thin film process |
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| KR20240003904A true KR20240003904A (en) | 2024-01-11 |
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ID=89533744
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Citations (1)
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|---|---|---|---|---|
| KR20150071321A (en) | 2013-12-18 | 2015-06-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | Open mask assembly |
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2022
- 2022-07-04 KR KR1020220081757A patent/KR20240003904A/en not_active Application Discontinuation
Patent Citations (1)
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