KR20240002672A - Photosensitive resin composition, flexographic printing original plate, flexographic printing plate, method for producing cured product, method for producing flexographic printing plate, and printing method - Google Patents
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Abstract
[과제] 우수한 내용제성과 유연성을 높은 레벨로 양립한 플렉소 인쇄판을 제조할 수 있는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
[해결수단] 파장 360 nm를 포함하는 광의 경화물이 하기 <조건 1> 및 <조건 2>를 만족하는 감광성 수지 조성물:
<조건 1>
23℃에 있어서, 측정 부분이 두께 1 mm, 세로 30 mm, 가로 3 mm인 덤벨형 시험편을, 500 mm/min의 속도로 인장 시험했을 때의 파단 신도가 250% 이상이다.
<조건 2>
N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 또는 γ-부티로락톤(GBL)에 24시간 침지시켰을 때의 질량 증가율이 25 질량% 이하이다.[Problem] To provide a photosensitive resin composition capable of producing a flexographic printing plate that has both excellent solvent resistance and flexibility at a high level.
[Solution] A photosensitive resin composition in which the cured product of light containing a wavelength of 360 nm satisfies the following <Condition 1> and <Condition 2>:
<Condition 1>
At 23°C, the elongation at break when a dumbbell-shaped test piece with a measuring portion of 1 mm in thickness, 30 mm in length, and 3 mm in width was tensile tested at a speed of 500 mm/min was 250% or more.
<Condition 2>
The mass increase rate when immersed in N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) or γ-butyrolactone (GBL) for 24 hours is 25% by mass or less.
Description
본 발명은 감광성 수지 조성물, 플렉소 인쇄 원판, 플렉소 인쇄판, 경화물의 제조 방법, 플렉소 인쇄판의 제조 방법, 및 인쇄 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive resin composition, a flexographic printing plate, a flexographic printing plate, a method for producing a cured product, a method for producing a flexographic printing plate, and a printing method.
감광성 수지 조성물을 이용한 플렉소 인쇄판을 활용한 플렉소 인쇄는, 요철이 있는 종이나 부직포, 평활성이 높은 플라스틱 필름에 대하여 우수한 인쇄 특성을 보이기 때문에, 마분지 인쇄나 식품포장용 인쇄 등, 각종 산업에서 널리 이용되고 있다(예컨대 특허문헌 1, 2 참조). Flexo printing using a flexo printing plate using a photosensitive resin composition exhibits excellent printing characteristics on uneven paper, non-woven fabric, and plastic films with high smoothness, so it is widely used in various industries such as cardboard printing and food packaging printing. (e.g., see Patent Documents 1 and 2).
또한, 플렉소 인쇄판은 고도의 유연성을 구비하기 때문에, 액정용 무알칼리 유리판이나, 반도체 웨이퍼 등의 표면에 상처가 나는 것이 허용할 수 없는 면에 대한 인쇄 용도로도 최근에는 전개되고 있다. In addition, since flexographic printing plates have a high degree of flexibility, they have recently been developed for printing on surfaces such as alkali-free glass plates for liquid crystals and semiconductor wafers where scratches cannot be tolerated.
특히 액정용 무알칼리 유리판에 대한 인쇄를 행하는 인쇄판, 구체적으로는 배향막 인쇄에 제공되는 플렉소 인쇄판에 있어서는, 대형화와 대형 사이즈 내에서의 판 두께 정밀도나 판 표면 패턴의 높은 정세성(精細性)이 요구되게 되고 있다. In particular, for printing plates for printing on alkali-free glass plates for liquid crystals, and specifically for flexographic printing plates used for alignment film printing, large-sized plates and high precision of plate thickness and plate surface patterns within large sizes are required. It is becoming true.
액정용 무알칼리 유리판에 형성되는 배향막은, 폴리이미드나 그 전구체인 폴리아미드산을 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)이나 γ-부티로락톤 등의 극성 용매로 용해한 배향막 바니시를, 플렉소 인쇄판을 이용하여 인쇄함으로써 얻어진다. The alignment film formed on the alkali-free glass plate for liquid crystals is made of an alignment film varnish in which polyimide or its precursor, polyamic acid, is dissolved in a polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) or γ-butyrolactone. It is obtained by printing using a flexo printing plate.
그러나, 상기 배향막 바니시를 형성하기 위해서 이용하는 상기 극성 용매는, 플렉소 인쇄판을 팽윤시키는 것으로, 높은 인쇄 품질(판 두께 정밀도나 판 표면 패턴의 높은 정세성)을 달성하기 위해서는, 플렉소 인쇄판을 형성하는 감광성 수지 조성물의 내용제성을 향상시킬 필요가 있다. However, the polar solvent used to form the alignment film varnish swells the flexographic printing plate, and in order to achieve high printing quality (plate thickness precision and high precision of the plate surface pattern), the photosensitive solvent used to form the flexographic printing plate is used. There is a need to improve the solvent resistance of the resin composition.
일반적으로 플렉소 인쇄판을 형성하는 감광성 수지 조성물은 가교성 고분자이므로, 종래부터 가교 밀도를 향상시킴으로써 감광성 수지 조성물의 내용제성을 향상시키고 있다. In general, the photosensitive resin composition forming the flexo printing plate is a crosslinkable polymer, and thus the solvent resistance of the photosensitive resin composition has been improved conventionally by improving the crosslinking density.
그러나, 감광성 수지 조성물의 가교 밀도를 향상시키면, 최종적으로 얻어지는 플렉소 인쇄판의 유연성이 손상되고, 플렉소 인쇄판의 내구성 지표인 신도(伸度)와 인성(靭性)이 저하하는 경향이 있다고 하는 문제점을 갖고 있다. 플렉소 인쇄판에 있어서는, 한 곳의 파손으로 플렉소 인쇄판이 전손(全損)되므로, 대형화한 플렉소 인쇄판에는 소형 플렉소 인쇄판 이상의 내구성이 필요하게 된다. However, when the crosslinking density of the photosensitive resin composition is improved, the flexibility of the final flexographic printing plate is impaired, and the elongation and toughness, which are durability indicators of the flexographic printing plate, tend to decrease. I have it. In the case of a flexographic printing plate, a single breakage causes total damage to the flexographic printing plate, so a larger flexographic printing plate requires durability greater than that of a small flexographic printing plate.
예컨대 특허문헌 3, 4에는, 내용제성을 향상시킨 플렉소 인쇄판에 관한 기술이 개시되어 있다. For example, Patent Documents 3 and 4 disclose technology related to a flexographic printing plate with improved solvent resistance.
그러나, 대형 플렉소 인쇄판에 요구되는 인쇄 품질, 예컨대 판 두께 정밀도나 판 표면 패턴의 높은 정밀성과 내용제성의 양립이 아직 불충분하여, 개선의 여지가 있다고 하는 문제점을 갖고 있다. However, there is a problem in that the printing quality required for large-sized flexographic printing plates, such as high precision in plate thickness and plate surface pattern, and solvent resistance are still insufficient, and there is room for improvement.
상술한 것과 같이, 종래에는 인쇄 품질의 향상을 위해서 감광성 수지 조성물의 가교 밀도를 향상시킴으로써 내용제성을 개선시키는 기술이 제안되어 있지만, 그로 인해 감광성 수지 조성물의 유연성을 잃게 되고, 플렉소 인쇄판의 내구성이 저하한다고 하는 문제점이 있었다. As described above, a technology for improving solvent resistance by improving the crosslinking density of the photosensitive resin composition has been proposed in the past to improve printing quality, but this results in the loss of flexibility of the photosensitive resin composition and the durability of the flexo printing plate. There was a problem of deterioration.
그래서, 본 발명에서는, 우수한 내용제성(저팽윤)과 유연성(신도, 인성)을 높은 레벨로 양립한 플렉소 인쇄판을 제조할 수 있는 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. Therefore, the purpose of the present invention is to provide a photosensitive resin composition that can produce a flexographic printing plate that has both excellent solvent resistance (low swelling) and flexibility (elongation, toughness) at a high level.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토를 거듭한 결과, 소정의 물성을 갖는 감광성 수지 조성물이 상술한 과제를 해결할 수 있다는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. As a result of repeated intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors found that a photosensitive resin composition having predetermined physical properties can solve the above-mentioned problems, and completed the present invention.
즉, 본 발명은 하기와 같다. That is, the present invention is as follows.
[1] [One]
파장 360 nm를 포함하는 광의 경화물이 하기 <조건 1> 및 <조건 2>를 만족하는 감광성 수지 조성물:A photosensitive resin composition in which the cured product of light containing a wavelength of 360 nm satisfies the following <Condition 1> and <Condition 2>:
<조건 1> <Condition 1>
23℃에 있어서, 측정 부분이 두께 1 mm, 세로 30 mm, 가로 3 mm인 덤벨형 시험편을, 500 mm/min의 속도로 인장 시험했을 때의 파단 신도가 250% 이상이다. At 23°C, the elongation at break when a dumbbell-shaped test piece with a measuring portion of 1 mm in thickness, 30 mm in length, and 3 mm in width was tensile tested at a speed of 500 mm/min was 250% or more.
<조건 2><Condition 2>
N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 또는 γ-부티로락톤에 24시간 침지시켰을 때의 질량 증가율이 25 질량% 이하이다. The mass increase rate when immersed in N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) or γ-butyrolactone for 24 hours is 25% by mass or less.
[2][2]
상기 감광성 수지 조성물이 폴리우레탄 프리폴리머를 함유하는 것인, 상기 [1]에 기재된 감광성 수지 조성물. The photosensitive resin composition according to [1], wherein the photosensitive resin composition contains a polyurethane prepolymer.
[3] [3]
상기 폴리우레탄 프리폴리머가 수소화 폴리부타디엔 구조를 갖고 있는 것인, 상기 [2]에 기재된 감광성 수지 조성물. The photosensitive resin composition according to [2], wherein the polyurethane prepolymer has a hydrogenated polybutadiene structure.
[4][4]
기재와, With equipment,
상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물The photosensitive resin composition according to any one of [1] to [3] above.
을 갖는 플렉소 인쇄 원판. A flexographic printing plate having a .
[5][5]
기재와, With equipment,
상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물의, 파장 360 nm를 포함하는 광의 경화물A cured product of the photosensitive resin composition according to any one of [1] to [3] above with light containing a wavelength of 360 nm.
을 갖고, 상기 경화물은, 상기 <조건 1>에 있어서의 파단 신도가 250% 이상이며, 또한 상기 <조건 2>에 있어서의 N-메틸-2-피롤리돈 또는 γ-부티로락톤에 24시간 침지시켰을 때의 질량 증가율이 25 질량% 이하인 플렉소 인쇄판. The cured product has an elongation at break of 250% or more under <Condition 1>, and 24% of N-methyl-2-pyrrolidone or γ-butyrolactone under <Condition 2>. A flexo printing plate with a mass increase rate of 25% by mass or less when immersed for a time.
[6] [6]
상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물에 파장 360 nm를 포함하는 광을 조사하는 공정을 갖는, 경화물의 제조 방법.A method for producing a cured product, comprising a step of irradiating light having a wavelength of 360 nm to the photosensitive resin composition according to any one of [1] to [3] above.
[7][7]
상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물을 기재에 적층시켜, 플렉소 인쇄 원판을 얻는 공정과, A step of laminating the photosensitive resin composition according to any one of [1] to [3] above on a substrate to obtain a flexographic printing plate,
상기 플렉소 인쇄 원판에, 파장 360 nm를 포함하는 광을 조사하여 상기 감광성 수지 조성물을 광경화시키는 공정과, A process of photocuring the photosensitive resin composition by irradiating light having a wavelength of 360 nm to the flexographic printing plate,
상기 광경화에 있어서의 미노광부를 제거하는 현상 공정Development process for removing unexposed areas in the photocuring
을 갖는, 플렉소 인쇄판의 제조 방법. Having a method for producing a flexo printing plate.
[8] [8]
상기 [7]에 기재된 플렉소 인쇄판의 제조 방법에 의해 플렉소 인쇄판을 제조하는 공정과, A process of manufacturing a flexographic printing plate by the method of manufacturing a flexographic printing plate described in [7] above,
상기 플렉소 인쇄판에 대하여 잉크를 부착시키는 잉크 부착 공정과, an ink attachment process of attaching ink to the flexo printing plate;
상기 잉크를 전사시키는 전사 공정Transfer process for transferring the ink
을 갖는 인쇄 방법.A printing method with .
[9][9]
액정 표시 소자의 제조에 사용하는 액정 배향막을 인쇄하는 방법인, 상기 [8]에 기재된 인쇄 방법. The printing method described in [8] above, which is a method of printing a liquid crystal alignment film used for manufacturing a liquid crystal display element.
[10] [10]
상기 잉크가 N-메틸-2-피롤리돈(NMP), N-에틸-2-피롤리돈, 1,2-디메틸-2-이미다졸리디논, γ-부티로락톤(GBL), γ-부티로락탐, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 젖산부틸, 아세트산부틸, 메틸메톡시프로피오네이트, 에틸에톡시프로피오네이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 이소아밀프로피오네이트, 이소아밀이소부틸레이트, 디이소펜틸에테르, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 시클로헥산, 1-옥탄올, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 및 테트라히드로푸란으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 용제를 포함하는 것인, 상기 [8] 또는 [9]에 기재된 인쇄 방법. The ink is N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N-ethyl-2-pyrrolidone, 1,2-dimethyl-2-imidazolidinone, γ-butyrolactone (GBL), γ- Butyrolactam, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, butyl lactate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxy Propionate, Diethylene glycol monomethyl ether, Diethylene glycol monoethyl ether, Diethylene glycol monomethyl ether acetate, Diethylene glycol monoethyl ether acetate, Isoamyl propionate, Isoamyl isobutylate, diisopentyl ether , ethylene carbonate, propylene carbonate, cyclohexane, 1-octanol, ethylene glycol monobutyl ether, and tetrahydrofuran. How to print.
본 발명에 의하면, 우수한 내용제성과 유연성을 높은 레벨로 양립한 플렉소 인쇄판을 제조할 수 있는 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있다. According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive resin composition capable of producing a flexographic printing plate that has both excellent solvent resistance and flexibility at a high level.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태(이하, 「본 실시형태」라고 한다.)에 관해서 상세히 설명한다. Hereinafter, the mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “this embodiment”) will be described in detail.
또한, 이하의 본 실시형태는 본 발명을 설명하기 위한 예시이며, 본 발명을 이하의 내용에 한정하는 취지가 아니다. 본 발명은 그 요지를 일탈하지 않는 범위에서 적절하게 변형하여 실시할 수 있다. In addition, the following embodiments are examples for explaining the present invention, and are not intended to limit the present invention to the following content. The present invention can be implemented with appropriate modifications without departing from its gist.
〔감광성 수지 조성물〕[Photosensitive resin composition]
본 실시형태의 감광성 수지 조성물은, The photosensitive resin composition of this embodiment is,
파장 360 nm를 포함하는 광의 경화물이 하기 <조건 1> 및 <조건 2>를 만족한다. A cured product of light containing a wavelength of 360 nm satisfies the following <Condition 1> and <Condition 2>.
<조건 1> <Condition 1>
23℃에 있어서, 측정 부분이 두께 1 mm, 세로 30 mm, 가로 3 mm인 덤벨형 시험편을, 500 mm/min의 속도로 인장 시험했을 때의 파단 신도가 250% 이상이다. At 23°C, the elongation at break when a dumbbell-shaped test piece with a measuring portion of 1 mm in thickness, 30 mm in length, and 3 mm in width was tensile tested at a speed of 500 mm/min was 250% or more.
<조건 2> <Condition 2>
N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 또는 γ-부티로락톤에 24시간 침지시켰을 때의 질량 증가율이 25 질량% 이하이다. The mass increase rate when immersed in N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) or γ-butyrolactone for 24 hours is 25% by mass or less.
상기 구성을 가짐으로써, 우수한 내용제성과 유연성을 높은 레벨로 양립한 플렉소 인쇄판을 제조할 수 있는 감광성 수지 조성물을 얻을 수 있다. By having the above structure, it is possible to obtain a photosensitive resin composition capable of producing a flexographic printing plate that has both excellent solvent resistance and flexibility at a high level.
(감광성 수지 조성물의 경화물의 파단 신도)(Elongation at break of cured product of photosensitive resin composition)
본 실시형태의 감광성 수지 조성물은, 광경화성을 갖는 수지 조성물이며, 파장 360 nm를 포함하는 광에 의한 경화물의, 상기 <조건 1>에 있어서의 파단 신도가 250% 이상이다. 바람직하게는 250% 이상 1000% 이하아고, 보다 바람직하게는 300% 이상 900% 이하이며, 더욱 바람직하게는 350% 이상 800% 이하이다. The photosensitive resin composition of the present embodiment is a resin composition having photocurability, and the breaking elongation in the above <Condition 1> of the cured product by light containing a wavelength of 360 nm is 250% or more. Preferably it is 250% or more and 1000% or less, more preferably 300% or more and 900% or less, and even more preferably 350% or more and 800% or less.
상기 <조건 1>에 있어서의 경화물의 파단 신도를 250% 이상으로 함으로써, 우수한 유연성을 얻을 수 있고, 플렉소 인쇄판 취급 시에, 구체적으로는 인쇄 시의 판 몸통에의 감기 공정, 착탈 공정, 인쇄 후 세정 공정에서 파손의 기계적인 외력에 대하여 충분한 내구성을 갖는 경향이 있다. 특히 본 실시형태의 감광성 수지 조성물의 경화물이 면적 0.5 m2 이상인 경우는, 핸들링상의 취급 용이성의 관점에서, 상기 파단 신도는 300% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 본 실시형태의 감광성 수지 조성물의 경화물이 대형인 면적 3 m2 이상인 경우는, 상기 파단 신도는 350% 이상인 것이 바람직하다. By setting the breaking elongation of the cured product under the above <Condition 1> to 250% or more, excellent flexibility can be obtained, and when handling flexographic printing plates, specifically, the winding process to the plate body during printing, the attaching and detaching process, and printing. It tends to have sufficient durability against mechanical external forces that cause damage during the post-cleaning process. In particular, when the cured product of the photosensitive resin composition of the present embodiment has an area of 0.5 m 2 or more, the breaking elongation is preferably 300% or more from the viewpoint of ease of handling. Moreover, when the cured product of the photosensitive resin composition of this embodiment is large and has an area of 3 m 2 or more, the breaking elongation is preferably 350% or more.
본 실시형태의 감광성 수지 조성물은, 일반적인 광경화 반응과 마찬가지로, 노광에 의해 광반응이 진행되기 때문에, 노광량을 조정함으로써 경화 반응을 제어할 수 있다. 상기 노광량을 조정함으로써 경화물의 파단 신도를 상기 수치 범위로 제어할 수 있다. 단, 인성에 관해서는 항상 50 kgf×mm 이상으로 유지할 필요성이 있다. As for the photosensitive resin composition of this embodiment, since a photoreaction progresses by exposure like a general photocuring reaction, the hardening reaction can be controlled by adjusting the exposure amount. By adjusting the exposure amount, the breaking elongation of the cured product can be controlled within the above numerical range. However, regarding toughness, it is necessary to always maintain it at 50 kgf×mm or more.
본 실시형태의 감광성 수지 조성물의 경화물의 파단 신도는 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다. The breaking elongation of the cured product of the photosensitive resin composition of this embodiment can be measured by the method described in the Examples described later.
파단 신도의 증가 수법으로서는, 수지의 화학 혹은 물리 가교점의 저밀도화가 유효하고, 본 실시형태의 감광성 수지 조성물에 이용하는 수지 조성이나 경화 방법을 조정함으로써 상기 수치 범위로 제어할 수 있다. As a method of increasing the breaking elongation, reducing the density of the chemical or physical crosslinking points of the resin is effective, and can be controlled to the above numerical range by adjusting the resin composition or curing method used in the photosensitive resin composition of this embodiment.
구체적으로는 감광성 수지 조성물의 수지 조성으로서, 온도 23℃에서 액상인 폴리머 성분, 라디칼 반응성의 기를 갖는 에틸렌성 모노머 성분, 에틸렌성 모노머의 반응을 시작하는 개시제 성분을 포함하는 것으로 하는 것이 바람직한 양태이다. 상기 온도 23℃에서 액상인 폴리머 성분으로서는 예컨대 23℃에서 액체인 폴리우레탄 프리폴리머를 이용할 수 있고, 개시제 성분으로서는 예컨대 광라디칼 중합개시제를 이용할 수 있다. 이때, 에틸렌성 모노머의 함유량을 폴리우레탄 프리폴리머 100 질량부에 대하여 40 질량부 이하 10 질량부 이상으로 하고, 에틸렌성 모노머 100 질량부에 대하여 라디칼 반응성 작용기를 2개 이상 갖는 에틸렌성 모노머를 0 질량부 이상 30 질량부 이하로 포함하는 것으로 하는 것이 바람직하다. 이 감광성 수지 조성물을 1 mm 두께로 성형하여, 360 nm를 포함하는 광으로 조사함으로써 조건 1을 만족하는 것으로 할 수 있다. 경화 방법으로서는 예컨대 조도가 0.5∼500 mW/cm2인 광으로 표리를 각각 0.05∼60분 노광함으로써 조건 1을 만족하는 것으로 할 수 있다. Specifically, the resin composition of the photosensitive resin composition is preferably one that contains a polymer component that is liquid at a temperature of 23°C, an ethylenic monomer component having a radically reactive group, and an initiator component that starts the reaction of the ethylenic monomer. As the polymer component that is liquid at the temperature of 23°C, for example, a polyurethane prepolymer that is liquid at 23°C can be used, and as the initiator component, a radical photopolymerization initiator can be used, for example. At this time, the content of the ethylenic monomer is set to 40 parts by mass or less and 10 parts by mass or more based on 100 parts by mass of the polyurethane prepolymer, and 0 parts by mass of the ethylenic monomer having two or more radical reactive functional groups per 100 parts by mass of the ethylenic monomer. It is preferable to contain it in an amount of 30 parts by mass or less. Condition 1 can be satisfied by molding this photosensitive resin composition to a thickness of 1 mm and irradiating it with light containing 360 nm. As a curing method, Condition 1 can be satisfied by, for example, exposing the front and back to light with an illuminance of 0.5 to 500 mW/cm 2 for 0.05 to 60 minutes each.
(감광성 수지 조성물의 경화물의 내용제성)(Solvent resistance of cured product of photosensitive resin composition)
본 실시형태의 감광성 수지 조성물은, 광경화성을 갖는 수지 조성물이며, 파장 360 nm를 포함하는 광의 경화물을, N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 또는 γ-부티로락톤에 24시간 침지시켰을 때의 질량 증가율이 25 질량% 이하이다. The photosensitive resin composition of the present embodiment is a resin composition having photocurability, and the cured product is immersed in N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) or γ-butyrolactone for 24 hours with light containing a wavelength of 360 nm. The mass increase rate when applied is 25% by mass or less.
구체적으로는, 파장 360 nm를 포함하는 광의 경화물을 1 cm×5 cm×1 mm 두께의 샘플편으로 잘라내고, 상기 샘플편을 N-메틸-2-피롤리돈(NMP: 후지필름와코쥰야쿠 제조 99.0+%(Capillary GC)) 또는 γ-부티로락톤(GBL: 도쿄가세이 제조> 99.0%(GC))에, 온도 23℃(습도 50%)에서 24시간 침지시켰을 때의 질량 증가율이 25 질량% 이하이다. Specifically, the cured product of light containing a wavelength of 360 nm was cut into sample pieces with a thickness of 1 cm The mass increase rate when immersed in Yaku 99.0+% (Capillary GC)) or γ-butyrolactone (GBL: Tokyo Kasei > 99.0% (GC)) at a temperature of 23°C (humidity 50%) for 24 hours is It is 25% by mass or less.
바람직하게는 1 질량% 이상 25 질량% 이하이고, 보다 바람직하게는 1 질량% 이상 20 질량% 이하이며, 더욱 바람직하게는 1 질량% 이상 15 질량% 이하이다. Preferably it is 1 mass% or more and 25 mass% or less, more preferably 1 mass% or more and 20 mass% or less, and even more preferably 1 mass% or more and 15 mass% or less.
경화물에 있어서 상기 질량 증가율이 1 질량% 이상이면, 플렉소 인쇄판의 표면과 배향막 바니시의 습윤성은 필요충분하게 되어 얼룩 없이 인쇄가 가능하게 되는 경향이 있다. If the mass increase rate of the cured product is 1% by mass or more, the wettability of the surface of the flexographic printing plate and the alignment film varnish becomes necessary and sufficient, and printing without stains tends to be possible.
또한, 상기 질량 증가율을 25 질량% 이하로 함으로써, 우수한 내용제성을 발휘할 수 있고, 실제의 배향막 인쇄 시에 있어서의 플렉소 인쇄판 표면에 형성한 패턴의 변형을 억제할 수 있고, 고정세화를 달성할 수 있는 경향이 있다. In addition, by setting the mass increase rate to 25% by mass or less, excellent solvent resistance can be exhibited, deformation of the pattern formed on the surface of the flexographic printing plate during actual alignment film printing can be suppressed, and high definition can be achieved. There is a tendency to
또한, 특히 플렉소 인쇄판의 면적이 0.5 m2 이상인 경우는, 상기 질량 증가율을 15 질량% 이하, 특히 플렉소 인쇄판의 면적이 대형인 3 m2 이상인 경우는, 상기 질량 증가율을 10 질량% 이하로 함으로써, 플렉소 인쇄판의 대형화에 따른 면내 두께 얼룩을 억제할 수 있다. In addition, especially when the area of the flexographic printing plate is 0.5 m 2 or more, the mass increase rate is set to 15 mass% or less, and especially when the area of the flexographic printing plate is large 3 m 2 or more, the mass increase rate is set to 10 mass% or less. By doing so, in-plane thickness unevenness due to the enlargement of the flexo printing plate can be suppressed.
본 실시형태의 감광성 수지 조성물의 경화물의 질량 증가율은, 경화물을 형성할 때의 노광량을 조정함으로써 상기 수치 범위로 제어할 수 있다. The mass increase rate of the cured product of the photosensitive resin composition of this embodiment can be controlled within the above numerical range by adjusting the exposure amount when forming the cured product.
본 실시형태의 감광성 수지 조성물의 경화물의 질량 증가율은, 후술하는 실시예에 기재하는 방법에 의해 측정할 수 있다. The mass increase rate of the cured product of the photosensitive resin composition of this embodiment can be measured by the method described in the Examples described later.
질량 증가율은, 수지의 화학 혹은 물리 가교점의 고밀도화를 행함으로써 작게 할 수 있으며, 이로써 내용제성의 향상은 도모된다. 이들은 수지 조성이나 경화 방법에 의해 조정함으로써 제어할 수 있다. The mass increase rate can be reduced by densifying the chemical or physical crosslinking points of the resin, thereby improving solvent resistance. These can be controlled by adjusting the resin composition or curing method.
구체적으로는, 감광성 수지 조성물의 수지 조성으로서 소수성의 단위 구조를 가진 폴리머 성분, 에틸렌성 모노머 성분, 에틸렌성 모노머의 반응을 시작하는 개시제 성분을 포함하는 것으로 하는 것이 바람직한 양태이다. 소수성의 단위 구조로서는 예컨대 수소 첨가한 폴리부타디엔을 갖는 폴리우레탄 프리폴리머를 이용할 수 있고, 상기 에틸렌성 모노머 성분으로서는, 예컨대 라디칼 반응성 작용기를 2개 이상 갖고 있는 것; 혹은 소수성이 높고, 에틸렌성 모노머가 단독 중합한 고분자량체의 유리 전이 온도가 50℃ 이상이 되는, 포화 환상 화합물로서, 라디칼 반응성 작용기를 하나만 갖는 에틸렌성 모노머를 이용할 수 있고, 또한 감광성 수지 조성물은 광라디칼 중합개시제를 함유하는 것이 바람직하다. 이 감광성 수지 조성물을 1 mm 두께로 성형하고, 360 nm를 포함하는 광으로 조사함으로써, 조건 2를 만족하는 것으로 할 수 있다. 경화 방법으로서는, 예컨대 조도가 0.5부터 500 mW/cm2인 광으로 표리를 각각 0.05부터 60분 노광함으로써 조건 2를 만족하는 것으로 할 수 있다. Specifically, it is a preferred embodiment that the resin composition of the photosensitive resin composition includes a polymer component with a hydrophobic unit structure, an ethylenic monomer component, and an initiator component that starts the reaction of the ethylenic monomer. As the hydrophobic unit structure, for example, a polyurethane prepolymer containing hydrogenated polybutadiene can be used, and as the ethylenic monomer component, for example, those having two or more radical reactive functional groups; Alternatively, an ethylenic monomer having only one radical reactive functional group can be used as a saturated cyclic compound that has high hydrophobicity and the glass transition temperature of the high molecular weight homopolymerized ethylenic monomer is 50° C. or higher, and the photosensitive resin composition can be used as a light-sensitive resin composition. It is preferable to contain a radical polymerization initiator. Condition 2 can be satisfied by molding this photosensitive resin composition to a thickness of 1 mm and irradiating it with light containing 360 nm. As a curing method, Condition 2 can be satisfied by, for example, exposing the front and back to light with an illuminance of 0.5 to 500 mW/cm 2 for 60 minutes from 0.05, respectively.
(감광성 수지 조성물의 경화물의 인성)(Toughness of cured product of photosensitive resin composition)
본 실시형태의 감광성 수지 조성물은, 파장 360 nm를 포함하는 광에 의한 경화물의 인성이 50 kgf×mm 이상 300 kgf×mm 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 80 kgf×mm 이상 250 kgf×mm 이하이며, 더욱 바람직하게는 100 kgf×mm 이상 220 kgf×mm 이하이다. The photosensitive resin composition of the present embodiment preferably has a toughness of 50 kgf x mm or more and 300 kgf x mm or less when exposed to light having a wavelength of 360 nm. More preferably, it is 80 kgf×mm or more and 250 kgf×mm or less, and even more preferably, it is 100 kgf×mm or more and 220 kgf×mm or less.
경화물의 인성을 50 kgf×mm 이상으로 함으로써, 유연성을 얻을 수 있어, 본 실시형태의 감광성 수지 조성물을 이용한 플렉소 인쇄판에 의한 인쇄 시에, 피인쇄물의 요철에 추종할 수 있게 되는 경도로 되어, 인쇄물의 불량 발생을 억제할 수 있게 할 수 있다. 또한, 인쇄 시의 판 몸통에의 감기 공정에서, 파손을 방지할 수 있고, 양호한 작업 효율을 실현할 수 있다. By setting the toughness of the cured product to 50 kgf It is possible to suppress the occurrence of defective printed matter. Additionally, damage can be prevented in the winding process to the plate body during printing, and good work efficiency can be realized.
또한, 경화물의 인성을 50 kgf×mm 이상으로 함으로써, 높은 내결손성을 얻을 수 있어, 본 실시형태의 감광성 수지 조성물을 이용한 플렉소 인쇄판에 의한 인쇄 시, 핸들링 시에, 물리적인 충격이나 과도한 힘으로 인한 판의 파손을 방지할 수 있고, 양호한 상태를 장기간 유지할 수 있다. In addition, by setting the toughness of the cured product to 50 kgf Damage to the plate can be prevented and its good condition can be maintained for a long time.
한편, 과도한 인성은 판 컷트 등의 제판 작업에 있어서 핸들링성 악화가 일어날 수 있기 때문에, 300 kgf×mm 이하로 하는 것이 바람직하고, 이들을 만족함으로써 제판 작업성과 상술한 각종 물성의 밸런스를 유지할 수 있다. On the other hand, since excessive toughness may cause deterioration of handling properties in plate making operations such as plate cutting, it is desirable to set it to 300 kgf × mm or less, and by satisfying these values, plate making workability and the balance of various physical properties described above can be maintained.
본 실시형태의 감광성 수지 조성물은 광경화에 있어서의 노광량을 조정함으로써 경화물의 인성을 제어할 수 있다. 또한, 감광성 수지 조성물의 조성을 조정함으로써 경화물의 인성을 상술한 수치 범위로 제어할 수 있다. The photosensitive resin composition of this embodiment can control the toughness of the cured product by adjusting the exposure amount in photocuring. Additionally, by adjusting the composition of the photosensitive resin composition, the toughness of the cured product can be controlled within the above-mentioned numerical range.
구체적으로는, 감광성 수지 조성물의 수지 조성으로서 온도 23℃에서 액상인 폴리머 성분, 에틸렌성 모노머 성분, 에틸렌성 모노머의 반응을 시작하는 개시제 성분을 포함하는 것으로 하는 것이 바람직한 양태이다. 온도 23℃에서 액상인 폴리머 성분으로서는 예컨대 23℃에서 액체인 폴리우레탄 프리폴리머를 이용할 수 있고, 개시제 성분으로서는 예컨대 광라디칼 중합개시제를 이용할 수 있다. 이때 에틸렌성 모노머의 함유량을 폴리우레탄 프리폴리머 100 질량부에 대하여 40 질량부 이하 10 질량부 이상으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 에틸렌성 모노머는, 상기 에틸렌성 모노머의 단독 중합물의 유리 전이 온도가 50℃ 이상 발현되는 모노머이며, 또한 작용기로서 포화 환상 구조와 하나의 라디칼 반응성 작용기를 갖는 에틸렌성 모노머를 포함하는 것이 바람직하다. 더구나, 감광성 수지 조성물은 광라디칼 중합개시제를 함유하는 것이 바람직하다. 이 감광성 수지 조성물을 1 mm 두께로 성형하여, 360 nm를 포함하는 광으로 조사함으로써, 상술한 인성 조건을 만족하는 것으로 할 수 있다. 경화 방법으로서는, 예컨대 조도가 0.5부터 500 mW/cm2인 광으로 표리를 각각 0.05부터 60분 노광함으로써 상술한 인성을 만족하는 것으로 할 수 있다. Specifically, it is a preferred embodiment that the resin composition of the photosensitive resin composition contains a polymer component that is liquid at a temperature of 23°C, an ethylenic monomer component, and an initiator component that starts the reaction of the ethylenic monomer. As a polymer component that is liquid at a temperature of 23°C, for example, a polyurethane prepolymer that is liquid at 23°C can be used, and as an initiator component, a radical photopolymerization initiator can be used, for example. At this time, the content of the ethylenic monomer is preferably 40 parts by mass or less and 10 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polyurethane prepolymer. In addition, the ethylenic monomer is a monomer in which the glass transition temperature of the homopolymer of the ethylenic monomer is 50° C. or higher, and preferably contains an ethylenic monomer having a saturated cyclic structure and one radical reactive functional group as a functional group. . Furthermore, the photosensitive resin composition preferably contains a radical photopolymerization initiator. By molding this photosensitive resin composition to a thickness of 1 mm and irradiating it with light containing 360 nm, the toughness conditions described above can be satisfied. As a curing method, for example, the toughness described above can be satisfied by exposing the front and back to light with an illuminance of 0.5 to 500 mW/cm 2 for 60 minutes from 0.05, respectively.
본 실시형태의 감광성 수지 조성물의 경화물의 인성은 후술하는 실시예에 기재하는 방법에 의해 측정할 수 있다. The toughness of the cured product of the photosensitive resin composition of this embodiment can be measured by the method described in the Examples described later.
(감광성 수지 조성물의 구성 재료)(Constitutive materials of photosensitive resin composition)
본 실시형태의 감광성 수지 조성물은, 폴리우레탄 프리폴리머, 에틸렌성 모노머, 광중합 개시제를 함유하고 있는 것이 바람직하다. It is preferable that the photosensitive resin composition of this embodiment contains a polyurethane prepolymer, an ethylenic monomer, and a photopolymerization initiator.
<폴리우레탄 프리폴리머> <Polyurethane prepolymer>
상기 폴리우레탄 프리폴리머는, 소수성을 갖고 있는 것이 바람직하고, 구체적으로는 카르보닐기, 에테르기와 같은 극성기를 갖지 않는 탄화수소만으로 구성된 반복 구조인 것이 바람직하며, 예컨대 폴리올레핀 구조나 수소화 폴리부타디엔 구조를 갖고 있는 것이 바람직하다. 구체적으로 상기 폴리우레탄 프리폴리머는, 상기 구조를 가진 양말단 수산기 화합물을, 디이소시아네이트에 의해 우레탄 결합으로 쇄 연장하여 얻어지는 프리폴리머 전구체의 말단에 중합할 수 있는 에틸렌성 이중 결합을 적어도 1개 도입하여 얻어지는 폴리우레탄 프리폴리머인 것이 바람직하다. The polyurethane prepolymer preferably has hydrophobicity, and specifically, preferably has a repeating structure composed only of hydrocarbons without polar groups such as carbonyl groups and ether groups, and for example, it preferably has a polyolefin structure or a hydrogenated polybutadiene structure. . Specifically, the polyurethane prepolymer is a poly that is obtained by introducing at least one polymerizable ethylenic double bond at the end of a prepolymer precursor obtained by chain extending a hydroxyl compound at both ends having the above structure into a urethane bond with diisocyanate. It is preferable that it is a urethane prepolymer.
또한, 극성 작용기를 단위 구조에 가진 폴리우레탄 프리폴리머나 SBS 등의 엘라스토머는, 감광성 수지 조성물의 경화물에 대하여 파단 신도나 인성과 같은 기계적 물성을 부여한다는 관점에서는 문제가 없지만, 이들은 극성이 높기 때문에, 감광성 수지 조성물의 경화물에 대하여 내용제성을 부여한다는 관점에서는 바람직하지 못하다고 하는 측면이 있다. 따라서, 상기 폴리우레탄 프리폴리머로서는 폴리올레핀 구조나 수소화 폴리부타디엔과 같은 소수성의 단위 구조를 갖는 것이 바람직하다. In addition, elastomers such as polyurethane prepolymer and SBS, which have polar functional groups in the unit structure, do not have a problem in terms of imparting mechanical properties such as elongation at break or toughness to the cured product of the photosensitive resin composition, but because they are highly polar, There is an aspect that is said to be undesirable from the viewpoint of providing solvent resistance to the cured product of the photosensitive resin composition. Therefore, the polyurethane prepolymer preferably has a hydrophobic unit structure such as a polyolefin structure or hydrogenated polybutadiene.
상기 폴리우레탄 프리폴리머는 공지된 방법으로 합성할 수 있다. The polyurethane prepolymer can be synthesized by known methods.
예컨대 상술한 수소화 폴리부타디엔 화합물을 디이소시아네이트에 의해 우레탄 결합으로 쇄 연장하여 얻어지는 프리폴리머 전구체의 말단에 중합할 수 있는 에틸렌성 이중 결합을 적어도 도입하는 반응은, 제3급 아민이나 주석 화합물 등의 우레탄화 촉매의 존재 하 또는 부재 하에서 행하게 할 수 있다. 또한, 이때의 반응 온도는 40∼100℃가 바람직하다. For example, the reaction of introducing at least a polymerizable ethylenic double bond at the terminal of the prepolymer precursor obtained by chain extending the above-mentioned hydrogenated polybutadiene compound with a urethane bond using diisocyanate is urethanization of tertiary amines, tin compounds, etc. It can be carried out in the presence or absence of a catalyst. Additionally, the reaction temperature at this time is preferably 40 to 100°C.
상기 디이소시아네이트로서는 지방족, 지환족 및 방향족 디이소시아네이트가 이용된다. 이하에 한정되지 않지만, 예컨대 헥사메틸렌디이소시아네이트(HMDI), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트(TMDI), 2,6- 및/또는 2,4-톨릴렌디이소시아네이트(2,6- 및/또는 2,4-TDI), 파라페닐렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트(MDI), 수소화 2,6- 및/또는 2,4-TDI, 수소화 MDI, 디시클로헥실디메틸메탄디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등을 들 수 있다. As the diisocyanate, aliphatic, alicyclic, and aromatic diisocyanate are used. Although not limited to the following, for example, hexamethylene diisocyanate (HMDI), trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), 2,6- and/or 2,4-tolylene diisocyanate (2,6- and/or 2,4- TDI), paraphenylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate (MDI), hydrogenated 2,6- and/or 2,4-TDI, hydrogenated MDI, dicyclohexyldimethylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, etc. there is.
상기 폴리우레탄 프리폴리머를 얻기 위해서, 프리폴리머 전구체의 말단에 적어도 1개의 에틸렌성 이중 결합을 도입하는 방법은, 특별히 한정되지 않고, 공지된 방법을 이용할 수 있다. 예컨대 폴리머 전구체의 말단 수산기에 미리 디이소시아네이트를 반응시켜 말단에 이소시아네이트기를 도입하고, 이어서 에틸렌성 이중 결합과 히드록시기 등의 활성 수소를 갖는 작용기를 갖는 화합물과 반응시키는 방법이나, 말단 수산기와 에틸렌성 이중 결합을 갖는 카르복실산과 에스테르화시키는 방법을 들 수 있다. In order to obtain the polyurethane prepolymer, the method of introducing at least one ethylenic double bond into the terminal of the prepolymer precursor is not particularly limited, and a known method can be used. For example, a method of reacting diisocyanate with the terminal hydroxyl group of a polymer precursor in advance to introduce an isocyanate group at the terminal, and then reacting with a compound having a functional group having an active hydrogen such as an ethylenic double bond and a hydroxy group, or a method of reacting the terminal hydroxyl group with an ethylenic double bond. A method of esterifying with a carboxylic acid having .
에틸렌성 이중 결합의 도입에 이용되는, 에틸렌성 이중 결합과 히드록실기 등의 활성 수소를 갖는 작용기를 갖는 화합물로서는, 이하에 한정되지 않지만, 예컨대 히드록시알킬(메트)아크릴레이트, 폴리옥시알킬렌글리콜모노(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Compounds having an ethylenic double bond and a functional group having an active hydrogen such as a hydroxyl group used to introduce an ethylenic double bond are not limited to the following, but examples include hydroxyalkyl (meth)acrylate and polyoxyalkylene. Glycol mono(meth)acrylate, etc. can be mentioned.
히드록시알킬(메트)아크릴레이트로서는, 이하에 한정되지 않지만, 예컨대 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 히드록시프로필(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. The hydroxyalkyl (meth)acrylate is not limited to the following, but examples include hydroxyethyl (meth)acrylate and hydroxypropyl (meth)acrylate.
폴리옥시알킬렌글리콜모노(메트)아크릴레이트로서는, 이하에 한정되지 않지만, 예컨대 폴리에틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트(Mn=300∼1,000), 폴리프로필렌글리콜모노(메트)아크릴레이트(Mn=300∼1,000), 글리콜산과 글리시딜(메트)아크릴레이트와의 1:1 부가 반응 생성물, 글리세린산과 글리시딜(메트)아크릴레이트와의 1:1 부가 반응 생성물, 글리세린디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Polyoxyalkylene glycol mono(meth)acrylate is not limited to the following, but examples include polyethylene glycol mono(meth)acrylate (Mn=300 to 1,000) and polypropylene glycol mono(meth)acrylate (Mn=300 to 1,000). 1,000), 1:1 addition reaction product between glycolic acid and glycidyl (meth)acrylate, 1:1 addition reaction product between glyceric acid and glycidyl (meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, etc. I can hear it.
감광성 수지 조성물 중의 폴리우레탄 프리폴리머의 함유량은, 플렉소 인쇄판의 높은 내용제성 및 높은 유연성의 관점에서, 감광성 수지 조성물 전체 100 질량부에 대하여 40∼95 질량부가 바람직하고, 65∼85 질량부가 보다 바람직하다. The content of polyurethane prepolymer in the photosensitive resin composition is preferably 40 to 95 parts by mass, more preferably 65 to 85 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the total photosensitive resin composition, from the viewpoint of high solvent resistance and high flexibility of the flexographic printing plate. .
40 질량부 이상임으로써, 폴리우레탄 프리폴리머에 의해 발현되는 높은 내용제성 및 유연성을 충분히 발현할 수 있고, 95 질량부 이하로 함으로써, 점도의 증가를 억제할 수 있어, 양호한 작업성을 얻을 수 있다. When the amount is 40 parts by mass or more, the high solvent resistance and flexibility exhibited by the polyurethane prepolymer can be sufficiently exhibited, and when the amount is 95 parts by mass or less, an increase in viscosity can be suppressed and good workability can be obtained.
<에틸렌성 모노머> <Ethylenic monomer>
상기 에틸렌성 모노머에는 공지된 것을 사용할 수 있고, 이하에 한정되지 않지만, 예컨대 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트나 스테아릴(메트)아크릴레이트 등의 알킬(메트)아크릴레이트; 히드록시에틸(메트)아크릴레이트나 히드록시프로필(메트)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메트)아크릴레이트; 폴리에틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트(Mn=300∼1,000)나 폴리프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트(Mn=300∼1,000) 등의 폴리옥시알킬렌글리콜모노(메트)아크릴레이트; 카프로락톤(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 이소보로닐(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴아미드, N- 치환 또는 N,N'- 치환 (메트)아크릴아미드, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트; 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트(Mn=300∼1,000)나 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트(Mn=300∼1,000) 등의 폴리옥시알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트; 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Known ethylenic monomers can be used, and are not limited to the following, but examples include alkyl (meth) such as 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and stearyl (meth) acrylate. acrylate; Hydroxyalkyl (meth)acrylates such as hydroxyethyl (meth)acrylate and hydroxypropyl (meth)acrylate; Polyoxyalkylene glycol mono(meth)acrylates such as polyethylene glycol mono(meth)acrylate (Mn=300 to 1,000) and polypropylene glycol (meth)acrylate (Mn=300 to 1,000); Caprolactone (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, isoboronyl (meth)acrylate, (meth)acrylamide, N-substituted or N,N' - Alkylene glycol di(meth)acrylates such as substituted (meth)acrylamide and tetraethylene glycol di(meth)acrylate; Polyoxyalkylene glycol di(meth)acrylates such as polyethylene glycol di(meth)acrylate (Mn=300 to 1,000) and polypropylene glycol di(meth)acrylate (Mn=300 to 1,000); Trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, etc. are mentioned.
이들 에틸렌성 모노머는, 목적에 따라서 1종을 단독으로 사용하여도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 좋다. These ethylenic monomers may be used individually, or in combination of two or more, depending on the purpose.
에틸렌성 모노머의 첨가량은, 상기 폴리우레탄 프리폴리머 100 질량부에 대하여 5 질량부 이상 200 질량부 이하가 바람직하다. 에틸렌성 모노머의 첨가량이 상기 폴리우레탄 프리폴리머 100 질량부에 대하여 5 질량부 이상임으로써, 감광성 수지 조성물의 점도를 적절한 것으로 할 수 있고, 얻어지는 플렉소 인쇄판의 기계적 물성의 밸런스가 양호한 것으로 된다. 또한, 에틸렌성 모노머의 첨가량이 상기 폴리우레탄 프리폴리머 100 질량부에 대하여 200 질량부 이하임으로써, 광경화 시의 경화 수축이 지나치게 커지는 것을 방지할 수 있으며, 목적으로 하는 플렉소 인쇄판의 두께 정밀도가 양호한 것으로 되고, 또한 충분한 기계적 물성을 갖는 플렉소 인쇄판을 얻을 수 있다.The amount of ethylenic monomer added is preferably 5 parts by mass or more and 200 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polyurethane prepolymer. When the addition amount of the ethylenic monomer is 5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polyurethane prepolymer, the viscosity of the photosensitive resin composition can be made appropriate, and the mechanical properties of the resulting flexographic printing plate are well balanced. In addition, by adding the ethylenic monomer in an amount of 200 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polyurethane prepolymer, it is possible to prevent excessive curing shrinkage during photocuring, and the thickness accuracy of the target flexographic printing plate is good. It is possible to obtain a flexo printing plate with sufficient mechanical properties.
감광성 수지 조성물의 제판 장치에 있어서의 작업성 및 기계적 물성의 밸런스라는 관점에서, 에틸렌성 모노머의 첨가량은 상기 폴리우레탄 프리폴리머 100 질량부에 대하여, 15 질량부 이상 100 질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30 질량부 이상 70 질량부 이하이다. From the viewpoint of the balance of workability and mechanical properties in a plate making device of the photosensitive resin composition, it is more preferable that the amount of ethylene monomer added is 15 parts by mass or more and 100 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polyurethane prepolymer. Preferably it is 30 parts by mass or more and 70 parts by mass or less.
상기 에틸렌성 모노머 중, 최저라도 1 종류는, 소수성이 높고, 그의 에틸렌성 모노머 단독 중합물의 유리 전이 온도가 50 이상인 에틸렌성 모노머를 첨가하는 것이 바람직하다. 이러한 에틸렌성 모노머로서는, 예컨대 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보로닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 1-에틸시클로헥실(메트)아크릴레이트, 1-아다만틸(메트)아크릴레이트, 2-메틸아다만틸(메트)아크릴레이트, 2-이소프로필-2-(메트)아크릴로일옥시아다만탄, 메타크릴산2-시클로헥실프로판-2-일 등의 포화 환상 화합물을 들 수 있다. 이들은 특히 플렉소 인쇄판의 내용제성 향상이나 유연성 부여에 효과가 있기 때문에 바람직하고, 상기 에틸렌성 모노머를 적어도 1 종류 포함하는 것이 바람직하다. 이들 에틸렌성 모노머의 첨가량은, 상기 폴리우레탄 프리폴리머 100 질량부에 대하여 5 질량부 이상 80 질량부 이하가 바람직하고, 10 질량부 이상 50 질량부 이하가 보다 바람직하다. Among the above ethylene monomers, it is preferable to add at least one ethylenic monomer that has high hydrophobicity and whose glass transition temperature of the ethylenic monomer homopolymer is 50 or higher. Examples of such ethylenic monomers include cyclohexyl (meth)acrylate, isoboronyl (meth)acrylate, dicyclofentanyl (meth)acrylate, 1-ethylcyclohexyl (meth)acrylate, and 1-adamantyl. Saturated (meth)acrylate, 2-methyladamantyl (meth)acrylate, 2-isopropyl-2-(meth)acryloyloxyadamantane, 2-cyclohexylpropan-2-yl methacrylate, etc. and cyclic compounds. These are particularly preferable because they are effective in improving the solvent resistance and providing flexibility of the flexographic printing plate, and it is preferable that they contain at least one type of the above-mentioned ethylenic monomer. The addition amount of these ethylenic monomers is preferably 5 parts by mass or more and 80 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the polyurethane prepolymer.
<광중합 개시제> <Photopolymerization initiator>
상기 광중합 개시제에는 공지된 것을 사용할 수 있고, 이하에 한정되지 않지만, 예컨대 벤조인, 벤조인에틸에테르, 벤조인-n-프로필에테르, 벤조인-이소프로필에테르, 벤질디메틸케탈 등의 벤조인(디)알킬에테르류; 벤질, 디아세틸, 디페닐술피드, 디메틸아세토페논 등을 들 수 있다. The photopolymerization initiator may be any known photopolymerization initiator, and is not limited to the following. For example, benzoin (dimethyl ether) such as benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin-n-propyl ether, benzoin-isopropyl ether, and benzyl dimethyl ketal. ) Alkyl ethers; Benzyl, diacetyl, diphenyl sulfide, dimethylacetophenone, etc. are mentioned.
이들 광중합성 개시제의 배합량은, 상기 폴리우레탄 프리폴리머와 상기 에틸렌성 모노머의 총량 100 질량부에 대하여, 0.01 질량부 이상 10 질량부 이하가 바람직하다. The mixing amount of these photopolymerizable initiators is preferably 0.01 parts by mass or more and 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polyurethane prepolymer and the ethylenic monomer.
<그 밖의 재료> <Other materials>
본 실시형태의 감광성 수지 조성물은, 목적에 따라서, 상기 폴리우레탄 프리폴리머, 에틸렌성 모노머, 광중합 개시제 외에, 예컨대 열중합금지제, 자외선흡수제, 광안정제, 염안료, 윤활제, 산화방지제, 무기충전제, 계면활성제, 가소제, 프로세스 오일, 유동 파라핀, 액상 고무 등을 첨가할 수 있다. Depending on the purpose, the photosensitive resin composition of the present embodiment may contain, in addition to the polyurethane prepolymer, ethylenic monomer, and photopolymerization initiator, for example, a thermal polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a dye pigment, a lubricant, an antioxidant, an inorganic filler, and a surfactant. , plasticizers, process oil, liquid paraffin, liquid rubber, etc. can be added.
〔플렉소 인쇄 원판〕〔Flexo printing original plate〕
본 실시형태의 플렉소 인쇄 원판은, 기재와 본 실시형태의 감광성 수지 조성물을 갖는다. The flexographic printing original plate of this embodiment has a base material and the photosensitive resin composition of this embodiment.
본 실시형태의 플렉소 인쇄 원판은, 기재 상에 본 실시형태의 감광성 수지 조성물의 층을 적층함으로써 제조할 수 있다. The flexo printing original plate of this embodiment can be manufactured by laminating a layer of the photosensitive resin composition of this embodiment on a substrate.
본 실시형태의 플렉소 인쇄 원판에 의하면, 우수한 내용제성과 유연성을 높은 레벨로 양립한 플렉소 인쇄판을 제조할 수 있다. According to the flexographic printing plate of this embodiment, a flexographic printing plate that has both excellent solvent resistance and flexibility at a high level can be manufactured.
〔플렉소 인쇄판〕[Flexo printing plate]
본 실시형태의 플렉소 인쇄판은, 기재와 본 실시형태의 감광성 수지 조성물의, 파장 360 nm를 포함하는 광의 경화물을 갖고, 이것에는 경화 후에 레이저 등에 의해 추가로 가공한 것도 포함된다. 상기 경화물은, 상기 <조건 1>에 있어서의 파단 신도가 250% 이상이며, 또한 상기 <조건 2>에 있어서의 N-메틸-2-피롤리돈 또는 γ-부티로락톤에 24시간 침지시켰을 때의 질량 증가율이 25 질량% 이하이다. The flexographic printing plate of this embodiment has a base material and a cured product of the photosensitive resin composition of this embodiment with light containing a wavelength of 360 nm, and this includes one that is further processed with a laser or the like after curing. The cured product has a breaking elongation of 250% or more under <Condition 1>, and is immersed in N-methyl-2-pyrrolidone or γ-butyrolactone for 24 hours under <Condition 2>. The mass increase rate is 25% by mass or less.
본 실시형태의 플렉소 인쇄판에 의하면, 우수한 내용제성과 유연성을 높은 레벨로 양립할 수 있다. According to the flexographic printing plate of this embodiment, excellent solvent resistance and flexibility can be achieved at a high level.
〔경화물의 제조 방법〕[Method for producing hardened product]
본 실시형태의 경화물의 제조 방법은, 상술한 본 실시형태의 감광성 수지 조성물에, 파장 360 nm를 포함하는 광을 조사하는 공정을 갖는다. The method for producing a cured product of the present embodiment includes a step of irradiating light containing a wavelength of 360 nm to the photosensitive resin composition of the present embodiment described above.
본 실시형태의 경화물의 제조 방법에서는, 경화 후 미경화 수지를 제거하는 미경화 수지 회수 공정, 세정 공정, 후노광 공정을 추가로 실시할 수 있다. In the method for producing the cured product of the present embodiment, an uncured resin recovery process for removing the uncured resin after curing, a washing process, and a post-exposure process can be additionally performed.
조사광인 파장 360 nm를 포함하는 광의 광원에는 형광등이나 LED광을 사용할 수 있다. A fluorescent lamp or LED light can be used as a light source of light containing a wavelength of 360 nm, which is the irradiated light.
조사 시간에 관해서는, 원하는 두께를 낼 수 있는 노광량 이상을 조사하여 경화시킬 수 있는 시간을 선택한다. 조사 환경은 큰 제약 없이 경화할 수 있다. Regarding the irradiation time, select a time that allows curing by irradiating an exposure amount that is more than the exposure amount that can produce the desired thickness. The irradiation environment can be cured without major restrictions.
〔플렉소 인쇄판의 제조 방법〕[Manufacturing method of flexo printing plate]
본 실시형태의 플렉소 인쇄판의 제조 방법은, 본 실시형태의 감광성 수지 조성물을 기재에 적층시켜, 플렉소 인쇄 원판을 얻는 공정과, The manufacturing method of the flexographic printing plate of this embodiment includes the steps of laminating the photosensitive resin composition of this embodiment on a substrate to obtain a flexographic printing original plate,
상기 플렉소 인쇄 원판에, 파장 360 nm를 포함하는 광을 조사하여 상기 감광성 수지 조성물을 광경화시키는 공정과, A process of photocuring the photosensitive resin composition by irradiating light having a wavelength of 360 nm to the flexographic printing plate,
상기 광경화에 있어서의 미노광부를 제거하는 현상 공정을 갖는다.There is a development process for removing unexposed areas in the photocuring.
구체적으로는, 유리판 위에 네거티브 필름을 놓고서 그 위를 얇은 보호 필름으로 커버하고, 그 위에 본 실시형태의 감광성 수지 조성물을 적층한다. 지지체가 되는 베이스 필름(기재)를 맞붙인 상태에서, 상기 감광성 수지 조성물층의 두께가 미리 설정된 일정치가 되도록 베이스 필름 위에 유리판을 댄다. 이어서, 상부 활성광선원에 의해 단시간의 백 노광을 행하여, 지지체 전면에 균일한 얇은 수지층, 즉 백 노광층을 형성한다. 이어서, 하부 활성광선원에 의해 파장 360 nm를 포함하는 광을 조사하여 화상 형성 노광을 행하여, 릴리프를 형성한다. 그리고, 미경화에 있어서의 미노광부의 감광성 수지 조성물을 세정 제거하는 현상 공정을 실시한다. 이어서, 얻어진 판 전체를 수중 혹은 공기중에서 추가로 활성광선을 조사(후노광)하여 경화를 보다 완전한 것으로 하고, 그 후, 건조 처리를 실시하여 플렉소 인쇄판을 얻는다. Specifically, a negative film is placed on a glass plate, the top is covered with a thin protective film, and the photosensitive resin composition of this embodiment is laminated thereon. With the base film (substrate) serving as a support attached, a glass plate is placed on the base film so that the thickness of the photosensitive resin composition layer becomes a preset constant value. Next, a short-time back exposure is performed using the upper actinic light source to form a uniform thin resin layer, that is, a back exposure layer, on the entire surface of the support. Next, image formation exposure is performed by irradiating light with a wavelength of 360 nm from a lower actinic light source to form a relief. Then, a development step of washing and removing the photosensitive resin composition of the unexposed portion in the uncured process is performed. Next, the entire plate obtained is further irradiated with actinic light in water or air (post-exposure) to ensure more complete curing, and then drying is performed to obtain a flexographic printing plate.
상기 플렉소 인쇄판의 제조 공정에서 노광에 이용되는 활성광선원으로서는, 예컨대 고압수은등, 초고압수은등, 자외선형광등, 카본아크등, 크세논램프 등을 들 수 있다. 또한, 릴리프 상(像)을 형성하기 위해서 이용되는 투명 화상 담체에는 은염 상(像)에 의한 사진 제판용 네거티브 또는 포지티브 필름이 주로 이용된다. Examples of active light sources used for exposure in the manufacturing process of the flexographic printing plate include high-pressure mercury lamps, ultra-high pressure mercury lamps, ultraviolet fluorescent lamps, carbon arc lamps, and xenon lamps. Additionally, the transparent image carrier used to form a relief image is mainly a negative or positive film for photoengraving using a silver salt image.
미경화 수지의 세정액에는 예컨대 물, 알칼리 수용액, 계면활성제 수용액, 용제 등이 이용된다. For example, water, aqueous alkaline solution, aqueous surfactant solution, solvent, etc. are used as cleaning liquids for uncured resin.
본 실시형태의 감광성 수지 조성물은 플렉소 인쇄판이나 스탬프판 등의 제판에도 사용할 수 있다. The photosensitive resin composition of this embodiment can also be used for plate making such as flexographic printing plates and stamp plates.
플렉소 인쇄판이나 스탬프판 등의 인쇄에 이용되는 피인쇄물로서는, 유리판 외에, 웨이퍼; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리아세트산비닐, 폴리우레탄, 폴리젖산, 테플론, ABS 수지·AS 수지·아크릴 수지, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴·폴리이미드, 폴리아세탈, 폴리카보네이트, 변성 폴리페닐에테르, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 환상 폴리올레핀, 폴리페닐렌설파이드, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 액정 폴리머, 폴리에테르에테르케톤, 메타크릴 수지, 폴리에테르, 폴리페닐렌설파이드, 폴리아릴레이트를 1종 이상 포함하는 수지, 강철, 스테인리스, 알루미늄, 마그네슘, 티탄, 구리, 납, 아연, 니켈, 크롬, 텅스텐, 금, 은, 백금 및 이들을 2종 이상 포함하는 합금을 이용할 수 있다. Printed materials used in printing such as flexographic printing plates and stamp plates include, in addition to glass plates, wafers; Polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl acetate, polyurethane, polylactic acid, Teflon, ABS resin, AS resin, acrylic resin, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyimide, polyacetal, polycarbonate, modified polyphenyl ether. , polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, cyclic polyolefin, polyphenylene sulfide, polytetrafluoroethylene, polysulfone, polyethersulfone, liquid crystal polymer, polyetheretherketone, methacrylic resin, polyether, polyphenylene. Resins containing one or more types of sulfide and polyarylate, steel, stainless steel, aluminum, magnesium, titanium, copper, lead, zinc, nickel, chromium, tungsten, gold, silver, platinum, and alloys containing two or more types thereof can be used. You can.
〔인쇄 방법〕〔Printing method〕
본 실시형태의 인쇄 방법은, 상술한 플렉소 인쇄판의 제조 방법에 의해 플렉소 인쇄판을 제조하는 공정과, 상기 플렉소 인쇄판의 볼록부에 대하여 잉크를 부착시키는 잉크 부착 공정과, 상기 잉크를 전사시키는 전사 공정을 갖는다. The printing method of this embodiment includes a process of manufacturing a flexographic printing plate by the above-described method of manufacturing a flexographic printing plate, an ink adhesion process of attaching ink to a convex part of the flexographic printing plate, and transferring the ink. It has a transfer process.
본 실시형태의 인쇄 방법은, 예컨대 액정 표시 소자의 제조에 사용하는 액정배향막을 기판 상에 인쇄하는 방법으로서 적합하다. The printing method of this embodiment is suitable as a method of printing, for example, a liquid crystal alignment film used in the manufacture of a liquid crystal display element on a substrate.
본 실시형태의 인쇄 방법에 있어서 이용하는 잉크는, 용제로서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP), N-에틸-2-피롤리돈, 1,2-디메틸-2-이미다졸리디논, γ-부티로락톤(GBL), γ-부티로락탐, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 고극성 용제가 이용되고 있고, 기타, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 젖산부틸, 아세트산부틸, 메틸메톡시프로피오네이트, 에틸에톡시프로피오네이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 이소아밀프로피오네이트, 이소아밀이소부틸레이트, 디이소펜틸에테르, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 시클로헥산, 1-옥탄올, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 및 테트라히드로푸란 등의 1종 이상을 포함하는 용제를 들 수 있다. The ink used in the printing method of this embodiment includes N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N-ethyl-2-pyrrolidone, 1,2-dimethyl-2-imidazolidinone, and Highly polar solvents such as γ-butyrolactone (GBL), γ-butyrolactam, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and other solvents such as 4-hydroxy-4-methyl -2-pentanone, butyl lactate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxy propionate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene Glycol monoethyl ether acetate, isoamyl propionate, isoamyl isobutylate, diisopentyl ether, ethylene carbonate, propylene carbonate, cyclohexane, 1-octanol, ethylene glycol monobutyl ether, and tetrahydrofuran. Solvents containing the above can be mentioned.
본 실시형태의 인쇄 방법에 의하면, 본 실시형태의 플렉소 인쇄판이 유연성 및 내용제성이 우수하기 때문에, 고품질로 장시간의 인쇄를 달성할 수 있다. According to the printing method of this embodiment, since the flexographic printing plate of this embodiment is excellent in flexibility and solvent resistance, high quality and long-term printing can be achieved.
실시예Example
이하, 구체적인 실시예 및 비교예를 들어 본 실시형태를 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예 및 비교예에 의해 하등 한정되지 않는다. Hereinafter, the present embodiment will be described in detail with reference to specific examples and comparative examples, but the present invention is not limited in any way by the following examples and comparative examples.
〔실시예 1∼7, 비교예 1∼2의 감광성 수지 조성물을 구성하는 엘라스토머종인 폴리우레탄 수지(PU-1)의 제조예 1〕[Manufacture example 1 of polyurethane resin (PU-1), which is an elastomer species constituting the photosensitive resin composition of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 2]
말단수산기형의 수소화 폴리부타디엔 300 g과 톨릴렌디이소시아네이트 20.7 g을 40℃에서 30분 교반 혼합하고, 이어서 80℃에서 5시간 반응시킨 후, 2-히드록시프로필메타크릴레이트 11 g, 히드로퀴논 0.3 g, 및 디부틸주석디라우레이트 0.6 g의 혼합액을 가하고, 80℃에서 반응시키고, 적외 흡수 스펙트럼 차트에 있어서, NCO기 특성 흡수가 소실된 시점에서 반응을 멈춰, 폴리우레탄 프리폴리머를 얻었다. 300 g of terminal hydroxyl group hydrogenated polybutadiene and 20.7 g of tolylene diisocyanate were stirred and mixed at 40°C for 30 minutes, then reacted at 80°C for 5 hours, then 11 g of 2-hydroxypropyl methacrylate, 0.3 g of hydroquinone, and 0.6 g of dibutyltin dilaurate were added and reacted at 80°C. The reaction was stopped when the NCO group characteristic absorption disappeared in the infrared absorption spectrum chart, and a polyurethane prepolymer was obtained.
〔실시예 8, 9, 11의 감광성 수지 조성물을 구성하는 엘라스토머종인 폴리우레탄수지(PU-2)의 제조예 2〕[Manufacture example 2 of polyurethane resin (PU-2), which is an elastomer species constituting the photosensitive resin compositions of Examples 8, 9, and 11]
말단수산기형의 폴리올레핀 300 g과 톨릴렌디이소시아네이트 20.7 g을 40℃에서 30분 교반 혼합하고, 이어서 80℃에서 5시간 반응시킨 후, 2-히드록시프로필메타크릴레이트 11 g, 히드로퀴논 0.3 g 및 디부틸주석디라우레이트 0.6 g의 혼합액을 가하고, 80℃에서 반응시키고, 적외 흡수 스펙트럼 차트에 있어서, NCO기 특성 흡수가 소실된 시점에서 반응을 멈춰, 폴리우레탄 프리폴리머를 얻었다. 300 g of terminal hydroxyl polyolefin and 20.7 g of tolylene diisocyanate were stirred and mixed at 40°C for 30 minutes, then reacted at 80°C for 5 hours, then 11 g of 2-hydroxypropyl methacrylate, 0.3 g of hydroquinone, and dibutyl A mixed solution of 0.6 g of tin dilaurate was added and reacted at 80°C. The reaction was stopped when the NCO group characteristic absorption disappeared in the infrared absorption spectrum chart, and a polyurethane prepolymer was obtained.
〔실시예 1∼11〕, 〔비교예 1∼6〕[Examples 1 to 11], [Comparative Examples 1 to 6]
실시예 1∼11 및 비교예 1∼2에서 사용한 화합물의 약호 및 감광성 수지 조성물의 재료 조성을 하기 표 1에 기재했다. The abbreviations of the compounds used in Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 2 and the material composition of the photosensitive resin composition are shown in Table 1 below.
상기 제조예 1에서 제조한 폴리우레탄 프리폴리머, 표 1에 기재하는 에틸렌성 모노머, 광중합 개시제, 중합금지제를 첨가하여, 실시예 1∼11, 비교예 1∼2의 감광성 수지 조성물을 제조했다. The photosensitive resin compositions of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 2 were prepared by adding the polyurethane prepolymer prepared in Production Example 1, the ethylenic monomer, photopolymerization initiator, and polymerization inhibitor shown in Table 1.
표 1에 기재하는 화합물의 약호에 관해서 이하에 설명한다. The abbreviations of the compounds shown in Table 1 are explained below.
PU-1: 제조예 1에서 제조한 프리폴리머: 엘라스토머 PU-1: Prepolymer prepared in Preparation Example 1: Elastomer
PU-2: 제조예 2에서 제조한 프리폴리머: 엘라스토머 PU-2: Prepolymer prepared in Preparation Example 2: Elastomer
SLMA: 라우릴메타크릴레이트: 에틸렌성 모노머 SLMA: Lauryl methacrylate: Ethylenic monomer
HP: 2-히드록시프로필메타크릴레이트: 에틸렌성 모노머 HP: 2-hydroxypropyl methacrylate: ethylenic monomer
AP-400: 폴리옥시프로필렌모노아크릴레이트: 에틸렌성 모노머 AP-400: Polyoxypropylene monoacrylate: Ethylenic monomer
KH: 메타크릴산2-히드록시에틸: 에틸렌성 모노머 KH: 2-hydroxyethyl methacrylate: ethylenic monomer
GMGA: 글리세린모노메타크릴레이트: 에틸렌성 모노머 GMGA: Glycerin monomethacrylate: Ethylenic monomer
CH: 시클로헥실메타크릴레이트: 에틸렌성 모노머 CH: Cyclohexyl methacrylate: Ethylenic monomer
IBX: 이소보르닐메타크릴레이트: 에틸렌성 모노머IBX: Isobornyl methacrylate: Ethylenic monomer
IBX-A: 이소보르닐아크릴레이트: 에틸렌성 모노머 IBX-A: Isobornyl acrylate: Ethylenic monomer
MADMA: 메타크릴산2-메틸아다만탄-2-일 MADMA: 2-methyladamantane-2-yl methacrylate
FA-512M: 디시클로펜테닐옥시에틸메타크릴레이트FA-512M: Dicyclopentenyloxyethyl methacrylate
HOP(N): 2-히드록시프로필메타크릴레이트: 에틸렌성 모노머HOP(N): 2-hydroxypropyl methacrylate: ethylenic monomer
513AS: 디시클로펜타닐아크릴레이트: 에틸렌성 모노머 513AS: Dicyclopentanyl acrylate: ethylenic monomer
TMPT: 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트: 에틸렌성 모노머TMPT: Trimethylolpropane trimethacrylate: Ethylenic monomer
6EO: 트리메틸올프로판 EO6 몰 변성 트리아크릴레이트: 에틸렌성 모노머 6EO: Trimethylolpropane EO6 mol modified triacrylate: ethylenic monomer
A-DPH: 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트: 에틸렌성 모노머 A-DPH: Dipentaerythritol hexaacrylate: Ethylenic monomer
Z4: 2-(1-메틸에톡시)-1,2-디페닐에타논, 벤조인이소프로필에테르: 광중합 개시제 Z4: 2-(1-methylethoxy)-1,2-diphenylethanone, benzoin isopropyl ether: photopolymerization initiator
Z7: 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논: 광중합 개시제 Z7: 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone: photopolymerization initiator
Z8: 벤조페논: 광중합 개시제 Z8: Benzophenone: Photopolymerization initiator
I13: 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀: 중합금지제 I13: 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol: polymerization inhibitor
I14: 3,9-비스-{1,1-디메틸-2-[3-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피에놀옥시]에틸}-2,4,8,10-테트라옥사스피로(5,5)운데칸: 중합금지제I14: 3,9-bis-{1,1-dimethyl-2-[3-(3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propienoloxy]ethyl}-2,4,8, 10-Tetraoxaspiro(5,5)undecane: Polymerization inhibitor
비교예 3에서는, 아사히가세이(주)사 제조 상품명 「K-11」을 감광성 수지 조성물로서 이용했다. In Comparative Example 3, Asahi Kasei Co., Ltd. brand name "K-11" was used as the photosensitive resin composition.
또한, 표 2∼표 3에서의 「폴리우레탄 수지」는, 제조예 1의 폴리우레탄 수지(폴리우레탄 프리폴리머)는 아니고, 일반적인 폴리머 분류인 폴리우레탄 수지인 것을 의미한다. In addition, “polyurethane resin” in Tables 2 to 3 means not the polyurethane resin (polyurethane prepolymer) of Production Example 1, but a polyurethane resin, which is a general polymer classification.
비교예 4에서는, 아사히가세이(주)사 제조의 상품명 「KS-80」을 감광성 수지 조성물로서 이용했다. In Comparative Example 4, the brand name "KS-80" manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd. was used as the photosensitive resin composition.
또한, 표 2∼표 3에서의 「폴리우레탄 수지」는, 제조예 1의 폴리우레탄 수지(폴리우레탄 프리폴리머)는 아니고, 일반적인 폴리머 분류인 폴리우레탄 수지인 것을 의미한다. In addition, “polyurethane resin” in Tables 2 to 3 means not the polyurethane resin (polyurethane prepolymer) of Production Example 1, but a polyurethane resin, which is a general polymer classification.
비교예 5에서는, 아사히가세이(주)사 제조의 상품명 「SH」를 감광성 수지 조성물로서 이용했다. In Comparative Example 5, the brand name "SH" manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd. was used as the photosensitive resin composition.
상기 「SH」에 사용된 바인더 폴리머는, 표 3에 나타내는 것과 같이 엘라스토머종이 SBS 수지이다. As shown in Table 3, the binder polymer used in the above “SH” is an elastomer SBS resin.
비교예 6에서는, 아사히가세이(주)사 제조 상품명 「F-900」을 감광성 수지 조성물로서 이용했다. In Comparative Example 6, Asahi Kasei Co., Ltd. brand name “F-900” was used as the photosensitive resin composition.
또한, 표 2∼표 3에서의 「폴리우레탄 수지」는, 제조예 1의 폴리우레탄 수지(폴리우레탄 프리폴리머)는 아니고, 일반적인 폴리머 분류인 폴리우레탄 수지인 것을 의미한다. In addition, “polyurethane resin” in Tables 2 to 3 means not the polyurethane resin (polyurethane prepolymer) of Production Example 1, but a polyurethane resin, which is a general polymer classification.
상기 「F-900」에 사용된 바인더 폴리머는, 표 3에 나타내는 것과 같이 엘라스토머종이 폴리우레탄 수지이다. The binder polymer used in the above “F-900” is an elastomer polyurethane resin, as shown in Table 3.
실시예 1∼11 및 비교예 1∼6의 감광성 수지 조성물의 엘라스토머종, 그리고 그 단위 구조를 하기 표 2∼표 3에 나타낸다. The elastomer species of the photosensitive resin compositions of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 6 and their unit structures are shown in Tables 2 and 3 below.
또한, 엘라스토머종에 있어서, 폴리우레탄 수지인 경우를 「○」, SBS 수지인 경우를 「×」로 기재했다. In addition, in the elastomer species, the case of polyurethane resin was written as “○”, and the case of SBS resin was written as “×”.
또한, 엘라스토머종의 단위 구조에 관해서, 부타디엔인 경우를 「○」, 에스테르나 에테르를 가진 단위 구조, 스티렌을 가진 단위 구조인 경우를 「×」로 기재했다. In addition, regarding the unit structure of the elastomer species, the case of butadiene was described as "○", and the case of the unit structure containing ester or ether or styrene was described as "×".
〔특성의 측정 방법, 평가 방법〕〔Measurement method and evaluation method of characteristics〕
((1) 팽윤율(질량 증가율)의 측정 방법)((1) Method of measuring swelling rate (mass increase rate))
실시예 1∼11, 비교예 1∼6의 감광성 수지 조성물을, 얇은 보호 필름을 씌운 두께 4 mm의 투명 수지판 2장 사이에, 두께가 1 mm가 되도록 스페이서를 물려 끼우고, 투명 수지판 상의 조도가 2.0 mW/cm2인 광원 강도로, 표리를 조사 램프를 이용하여 노광을 실시하여, 두께 1 mm의 샘플판을 제작했다. The photosensitive resin compositions of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 6 were sandwiched between two transparent resin plates with a thickness of 4 mm covered with a thin protective film, with a spacer having a thickness of 1 mm, and placed on the transparent resin plate. With a light source intensity of 2.0 mW/cm 2 , the front and back were exposed using an irradiation lamp to produce a sample plate with a thickness of 1 mm.
이 샘플판을 1 cm×5 cm의 샘플편으로 잘라내어, N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 또는 γ-부티로락톤(GBL)에 24시간 침지시켰다. This sample plate was cut into 1 cm x 5 cm sample pieces and immersed in N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) or γ-butyrolactone (GBL) for 24 hours.
침지 전과 침지 후의 각각의 샘플편의 질량을 측정하여, 질량 증가율(팽윤율(질량%))을 산출했다. The mass of each sample piece before and after immersion was measured, and the mass increase rate (swelling rate (% by mass)) was calculated.
팽윤율을 하기 기준에 의해 평가했다. The swelling rate was evaluated according to the following criteria.
○: 25 질량% 이하. ○: 25% by mass or less.
×: 25 질량%를 넘었다. ×: exceeded 25% by mass.
((2) 파단 신도, 인성의 측정 방법)((2) Measurement method of breaking elongation and toughness)
상기 팽윤율의 측정 방법과 같은 방법으로 두께 1 mm의 샘플판을 제작했다. A sample plate with a thickness of 1 mm was produced in the same manner as the swelling ratio measurement method.
샘플판을 이용하여 측정 부분이 세로 30 mm×가로 3 mm인 덤벨형 샘플을 제작하여, 인장 신도 측정용 시험편으로 했다. Using a sample plate, a dumbbell-shaped sample with a measurement portion of 30 mm in height and 3 mm in width was produced and used as a test piece for measuring tensile elongation.
인장 신도는 인장 시험기(AUTOGRAPH AG-AGS-X형: 시마즈세이사쿠쇼 제조)를 이용하여, 23℃에 있어서 상기 시험편을 500 mm/min의 인장 스피드로 파괴될 때까지 잡아당겨, 파단 신도(%), 인성(kgf×mm)을 얻고, 하기의 기준에 의해 평가했다. The tensile elongation was measured by pulling the test piece at a tensile speed of 500 mm/min at 23°C until it was broken using a tensile tester (AUTOGRAPH AG-AGS-X type: manufactured by Shimadzu Seisakusho) and measuring the elongation at break (%). ), toughness (kgf × mm) was obtained, and evaluated according to the following standards.
<파단 신도> <Fadan believer>
○: 250% 이상. ○: 250% or more.
×: 250% 미만. ×: Less than 250%.
<인성> <Toughness>
○: 50 kgf×mm 이상○: 50 kgf×mm or more
×: 50 kgf×mm 미만×: Less than 50 kgf×mm
((3) 팽윤 전후의 500 ㎛ 독립 선폭의 변화율 측정 방법)((3) Method of measuring change rate of 500 ㎛ independent line width before and after swelling)
500 ㎛의 독립선을 형성하는 네거티브 필름을 이용하여, 하기에 나타내는 것과 같은, 성형·노광 공정, 현상 공정, 후노광 공정, 건조 공정을 순차 거침으로써, 실시예 1∼11, 비교예 1∼6의 감광성 수지 조성물을 이용한 플렉소 인쇄판을 제작했다. Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 6 were obtained by sequentially going through a molding/exposure process, a developing process, a post-exposure process, and a drying process as shown below using a negative film forming a 500 ㎛ independent line. A flexo printing plate using a photosensitive resin composition was produced.
<1: 성형·노광 공정> <1: Molding/exposure process>
ALF-213E형 제판기(아사히가세이(주) 제조)를 이용하여, 두께 2.84 mm, R.D=1.5 mm가 되는 마스크 노광량, 릴리프 노광량으로 경화를 행하여, 500 ㎛의 독립선을 가진 플렉소 인쇄판을 얻었다. Using an ALF-213E type plate making machine (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), curing was performed using a mask exposure amount and a relief exposure amount to achieve a thickness of 2.84 mm and R.D = 1.5 mm, to create a flexographic printing plate with independent lines of 500 ㎛. got it
<2: 현상 공정> <2: Development process>
미경화의 감광성 수지 조성물을 통상의 방법에 의해 회수한 후에, AL-400W형 현상기(드럼 회전 스프레이식, 아사히가세이(주) 제조, 드럼 회전수: 20 회전/분, 스프레이압: 0.15 Pa)에 감광성 수지 조성물을 유화(乳化)할 수 있는 APR(등록상표) 세정제 타입 W-6(아사히가세이(주) 제조): 4.5 질량%와, 소포제 SH-4(실리콘 혼화물, 아사히가세이(주) 제조): 0.18 질량%를 포함하는 수용액을 현상액으로서 조합하여, 액온 40℃, 현상 시간 20분간의 조건으로 현상을 행했다. After recovering the uncured photosensitive resin composition by a conventional method, an AL-400W type developer (drum rotation spray type, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., drum rotation speed: 20 rotations/min, spray pressure: 0.15 Pa) APR (registered trademark) detergent type W-6 (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), which can emulsify the photosensitive resin composition: 4.5% by mass, and defoamer SH-4 (silicone mixture, Asahi Kasei Co., Ltd.) Note) Manufacture: An aqueous solution containing 0.18% by mass was prepared as a developing solution, and development was performed under the conditions of a liquid temperature of 40°C and a development time of 20 minutes.
현상 후, 수돗물로 현상액에 의한 거품이 떨어질 정도로 세정했다. After development, it was washed with tap water to the point where bubbles from the developer were removed.
<3: 후노광 공정> <3: Post-exposure process>
자외선형광등, 살균등 양쪽 모두를 장비한 AL-200UP형 후노광기(아사히가세이(주) 제조)를 이용하여, 수중 노광 방식에 의해 노광을 실시했다. 각각의 광원으로부터 조사되는 노광량이, 감광성 수지 조성물의 경화물의 표면에서 자외선형광등: 960 mJ/cm2, 살균등: 1920 mJ/cm2가 되는 노광 시간으로 노광을 실시했다. Exposure was performed using an underwater exposure method using an AL-200UP type post-exposure machine (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) equipped with both an ultraviolet fluorescent lamp and a sterilizing lamp. Exposure was performed at an exposure time such that the exposure amount irradiated from each light source was 960 mJ/cm 2 for ultraviolet fluorescent lamp and 1920 mJ/cm 2 for sterilizing lamp on the surface of the cured photosensitive resin composition.
<4: 건조 공정> <4: Drying process>
ALF-DRYER(아사히가세이(주) 제조)를 이용하여, 후노광 후의 경화물의 판을, 그 표면의 수분이 없어질 때까지 약 30분간 이상 건조하여, 플렉소 인쇄판을 얻었다. Using ALF-DRYER (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), the post-exposed cured plate was dried for about 30 minutes or more until moisture on the surface disappeared, thereby obtaining a flexographic printing plate.
<5: 500 ㎛의 독립 선폭의 변화율 측정> <5: Measurement of change rate of independent line width of 500 ㎛>
제판한 500 ㎛ 독립선을 상기 ((1) 팽윤율의 측정 방법)과 동일한 조건으로 침지했다. The plated 500 µm independent line was immersed under the same conditions as above ((1) Method for measuring swelling ratio).
그 후, 샘플을 잘라내어, 침지 전후에 있어서의 선폭 변화율을 산출했다.After that, the sample was cut out, and the rate of change in line width before and after immersion was calculated.
팽윤 전후 500 ㎛ 폭의 변화율의 값에 관해서는, 20% 이상 변화하면 인쇄 시의 패턴 굶어짐, 변형 등, 인쇄 품질에 악영향을 미치므로, 20% 미만인 것이 실용상 바람직하다고 하여, 하기의 기준에 의해 평가했다. Regarding the value of the change rate of the 500 ㎛ width before and after swelling, if it changes by more than 20%, it will adversely affect the printing quality, such as pattern starvation and deformation during printing. Therefore, it is said that it is practically preferable to be less than 20%, and the following criteria are used. evaluated by
○: 변화율이 20% 미만○: Change rate is less than 20%
×: 변화율이 20% 이상×: Change rate is 20% or more
((4) 경도(쇼어 A 경도) 측정 방법)((4) Hardness (Shore A hardness) measurement method)
상술한 ((3) 팽윤 전후의 500 ㎛의 독립 선폭의 변화율 측정 방법)과 같은 방법으로, 솔리드면을 갖는 플렉소 인쇄판(두께: 2.84 mm)을 제작했다. A flexographic printing plate (thickness: 2.84 mm) having a solid surface was produced in the same manner as described above ((3) Method of measuring change rate of 500 μm independent line width before and after swelling).
제작한 플렉소 인쇄판을, 온도 23℃, 상대습도 50%의 항온항습실 내에 하루 방치한 후, JIS 정압 하중기 GS-710(가부시키가이샤테크록사 제조, 듀로메타 GS-719GASTM: D2240A, JIS: K6253A, ISO: 7619A)을 이용하여, 쇼어 A 경도를 측정했다. 솔리드면에의 하중(질량 1 kg) 15초 후의 값을 쇼어 A 경도로 했다. After leaving the manufactured flexo printing plate in a constant temperature and humidity room with a temperature of 23°C and a relative humidity of 50% for one day, it was loaded with a JIS constant pressure loader GS-710 (manufactured by Techrock Co., Ltd., durometer GS-719GASTM: D2240A, JIS: K6253A). , ISO: 7619A), Shore A hardness was measured. The value 15 seconds after the load (mass 1 kg) on the solid surface was taken as Shore A hardness.
플렉소 인쇄판이 지나치게 딱딱하면, 균일한 솔리드 표면을 갖는 인쇄물을 얻을 수 없게 되므로, 플렉소 인쇄판의 쇼어 A 경도는 50° 이하인 것이 실용상 바람직하다고 하여, 하기의 기준에 의해 평가했다.If the flexographic printing plate is too hard, it becomes impossible to obtain printed matter with a uniform solid surface. Therefore, it is said that it is practically desirable for the Shore A hardness of the flexographic printing plate to be 50° or less, and it was evaluated according to the following criteria.
<평가 기준> <Evaluation criteria>
○: 50° 이하 ○: 50° or less
×: 50° 초과×: greater than 50°
((5) 내노치균열성의 측정 방법)((5) Method of measuring notch crack resistance)
상기 ((3) 팽윤 전후의 500 ㎛의 독립 선폭의 변화율 측정 방법)과 같은 방법으로, 솔리드면을 갖는 플렉소 인쇄판(두께: 2.84 mm)을 제작했다. A flexographic printing plate (thickness: 2.84 mm) having a solid surface was produced in the same manner as above ((3) Method of measuring change rate of independent line width of 500 μm before and after swelling).
솔리드면 영역으로부터 폭 2 cm, 길이 5 cm의 단책형 샘플판 3개를 잘라내고, 길이 방향 중앙 부분에 커터로 깊이 1.0 mm의 절근(노치)을 넣어, 샘플판으로 했다. Three strip-shaped sample plates with a width of 2 cm and a length of 5 cm were cut from the solid surface area, and a cut root (notch) with a depth of 1.0 mm was inserted in the central part of the longitudinal direction with a cutter to prepare the sample plates.
샘플판을, 온도 23℃, 상대습도 50%의 항온항습실 내에 하루 방치하고, 같은 실 안에서 이하의 조작으로 측정을 실시했다. The sample plate was left in a constant temperature and humidity room with a temperature of 23°C and a relative humidity of 50% for one day, and measurements were performed in the same room using the following operations.
샘플판의 길이 방향 양끝을, 상기 절근(노치)이 외측이 되도록 약간 만곡시켜 가볍게 한쪽 손의 손가락으로 쥐고, 그런 다음, 샘플판의 절근(노치)의 이면 측에 위치하는 지지체가 절근(노치) 바로 아래에서 꺾여 구부러지도록 또 한쪽 손의 손가락을 그 지지체에 대어, 샘플판을 신속하게 꺾어 구부려 지지체끼리 밀착된 형상을 유지하도록 샘플판을 지지했다. 샘플판을 꺾어 구부린 순간부터 절근(노치)으로부터 생긴 균열이 지지체에 도달하기까지의 시간을 초 단위로 측정했다. Both ends of the sample plate in the longitudinal direction are slightly curved so that the notch is on the outside and lightly held with the fingers of one hand, and then the support located on the back side of the notch of the sample plate is placed on the notch. The finger of the other hand was placed on the support so that it could be bent directly below, and the sample plate was quickly bent to support it so that the supports maintained a close contact with each other. The time from the moment the sample plate was bent until the crack formed from the notch reached the support was measured in seconds.
플렉소 인쇄판은 판 몸통에 부착할 때나 곤포할 때 등 만곡시키는 기회가 있다. 그 때에 미소한 흠이 들어가 있으면, 플렉소 인쇄판에 균열이 들어가 수지가 완전히 갈라질 우려가 있다. 이것을 막기 위해서, 내노치균열성은 5초 이상인 것이 실용상 바람직한 것으로 하여, 하기의 기준에 의해 평가했다. Flexo printing plates have opportunities to bend, such as when attaching to the plate body or packaging. If there is a small flaw at that time, there is a risk that the flexographic printing plate will crack and the resin will be completely split. In order to prevent this, notch cracking resistance was evaluated according to the following criteria, considering that it is practically desirable to have 5 seconds or more.
<평가 기준> <Evaluation criteria>
○: 5초 이상○: 5 seconds or more
×: 5초 미만×: Less than 5 seconds
((6) 인쇄 품질 평가)((6) Print quality evaluation)
((3) 팽윤 전후의 500 ㎛의 독립 선폭의 변화율 측정 방법)과 같은 방법으로 500 ㎛의 독립선을 갖는 플렉소 인쇄판을 제작하고, 이 플렉소 인쇄판을 이용하여 인쇄를 실시하여, 인쇄 품질을 평가했다. A flexographic printing plate having an independent line of 500 μm was produced in the same manner as ((3) Method of measuring the change rate of the independent line width of 500 μm before and after swelling), and printing was performed using this flexographic printing plate to determine the print quality. evaluated.
인쇄기는 「FlexPress16S」(독일, Fischer & Krecke사 제조, 상표)를 이용했다. The printing press used was “FlexPress16S” (trademark, manufactured by Fischer & Krecke, Germany).
잉크는 배향막 「SE-130」(닛산가가쿠(주) 제조)을 이용했다. The ink used was an orientation film “SE-130” (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.).
피인쇄체로서 두께 45 ㎛의 유백(乳白) 폴리에틸렌 필름을 이용했다. A milky white polyethylene film with a thickness of 45 μm was used as the printed material.
아닐록스 롤의 선수는 900(lpi), 아닐록스 롤의 셀 용적은 4 cc로 했다. The number of anilox rolls was set to 900 (lpi), and the cell volume of the anilox rolls was set to 4 cc.
인쇄 속도는 200 m/분으로 했다. The printing speed was 200 m/min.
플렉소 인쇄판을 NMP에 대하여 미침지인 상태와, 플렉소 인쇄판을 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)에 24시간 침지한 상태에서, 각각 인쇄 평가를 실시하여, 각 상태의 500 ㎛ 독립선 인쇄물을 얻었다. Printing evaluation was performed with the flexographic printing plate not immersed in NMP and the flexographic printing plate immersed in N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) for 24 hours, and a 500 ㎛ independent line in each state was performed. Got a printout.
초기와 침지 후의 플렉소 인쇄판을 이용하여 인쇄한 인쇄물의 선폭을 현미경에 의해 측장(測長)하여 변화율을 산출했다. The line width of the printed matter printed using the flexo printing plate initially and after immersion was measured under a microscope, and the rate of change was calculated.
플렉소 인쇄판을 이용하여 액정 표시 장치의 배향막 인쇄를 행한 경우에, 상기 배향막의 인쇄 품질이 균일하지 않게 되면, 액정 표시 장치의 불량으로 이어지므로, 플렉소 인쇄판을 팽윤한 전후에 있어서의 인쇄물의 500 ㎛ 폭 변화율의 값은, ±30% 이내인 것이 실용상 바람직한 것으로 하여, 하기와 같은 식으로 평가했다. When printing an alignment layer for a liquid crystal display device using a flexographic printing plate, if the printing quality of the alignment layer is not uniform, it will lead to defects in the liquid crystal display device, so the printed matter before and after swelling the flexographic printing plate needs to be 500% larger. The value of the ㎛ width change rate was evaluated in the following manner, assuming that it is practically desirable to be within ±30%.
○: ± 30% 이내○: Within ±30%
×: ± 30%를 넘었다. ×: Exceeded ±30%.
상기에 기재한 측정 결과 및 평가 결과를 표 2∼표 5에 나타낸다. The measurement results and evaluation results described above are shown in Tables 2 to 5.
실시예 1∼11은 높은 유연성을 보인 플렉소 인쇄판을 얻었다. Examples 1 to 11 obtained flexo printing plates showing high flexibility.
실시예 1∼11은 우수한 내용제성을 얻었다.Examples 1 to 11 obtained excellent solvent resistance.
본 발명의 감광성 수지 조성물은 플렉소 인쇄판 제조 분야에서 산업상의 이용 가능성을 갖고 있다. The photosensitive resin composition of the present invention has industrial applicability in the field of flexo printing plate manufacturing.
Claims (10)
<조건 1>
23℃에 있어서, 측정 부분이 두께 1 mm, 세로 30 mm, 가로 3 mm인 덤벨형 시험편을, 500 mm/min의 속도로 인장 시험했을 때의 파단 신도가 250% 이상이다.
<조건 2>
N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 또는 γ-부티로락톤에 24시간 침지시켰을 때의 질량 증가율이 25 질량% 이하이다. A photosensitive resin composition in which the cured product of light containing a wavelength of 360 nm satisfies the following <Condition 1> and <Condition 2>:
<Condition 1>
At 23°C, the elongation at break when a dumbbell-shaped test piece with a measuring portion of 1 mm in thickness, 30 mm in length, and 3 mm in width was tensile tested at a speed of 500 mm/min was 250% or more.
<Condition 2>
The mass increase rate when immersed in N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) or γ-butyrolactone for 24 hours is 25% by mass or less.
제1항에 기재된 감광성 수지 조성물
을 갖는 플렉소 인쇄 원판. With equipment,
Photosensitive resin composition according to claim 1
A flexographic printing plate having a .
제1항에 기재된 감광성 수지 조성물의, 파장 360 nm를 포함하는 광의 경화물
을 갖고, 상기 경화물은, 상기 <조건 1>에 있어서의 파단 신도가 250% 이상이며, 또한 상기 <조건 2>에 있어서의 N-메틸-2-피롤리돈 또는 γ-부티로락톤에 24시간 침지시켰을 때의 질량 증가율이 25 질량% 이하인 플렉소 인쇄판. With equipment,
A cured product of the photosensitive resin composition according to claim 1 with light containing a wavelength of 360 nm.
The cured product has an elongation at break of 250% or more under <Condition 1>, and 24% of N-methyl-2-pyrrolidone or γ-butyrolactone under <Condition 2>. A flexo printing plate with a mass increase rate of 25% by mass or less when immersed for a time.
상기 플렉소 인쇄 원판에, 파장 360 nm를 포함하는 광을 조사하여 상기 감광성 수지 조성물을 광경화시키는 공정과,
상기 광경화에 있어서의 미노광부를 제거하는 현상 공정
을 갖는, 플렉소 인쇄판의 제조 방법. A step of laminating the photosensitive resin composition according to claim 1 on a substrate to obtain a flexographic printing plate;
A process of photocuring the photosensitive resin composition by irradiating light having a wavelength of 360 nm to the flexographic printing plate,
Development process for removing unexposed areas in the photocuring
Having a method for producing a flexo printing plate.
상기 플렉소 인쇄판에 대하여 잉크를 부착시키는 잉크 부착 공정과,
상기 잉크를 전사시키는 전사 공정
을 갖는 인쇄 방법. A process for manufacturing a flexographic printing plate by the method for manufacturing a flexographic printing plate according to claim 7,
an ink attachment process of attaching ink to the flexo printing plate;
Transfer process for transferring the ink
A printing method with .
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