KR20230174283A - Curable compositions, prepregs, metal foil-clad laminates and printed wiring boards - Google Patents
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- -1 prepregs Substances 0.000 title claims abstract description 212
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 155
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 39
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 39
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 239
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 186
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 138
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 110
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 89
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 67
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 67
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 57
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 56
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 56
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 42
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 39
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 38
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 38
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 34
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 28
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 27
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 21
- 239000004643 cyanate ester Substances 0.000 claims description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 14
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 14
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 13
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 12
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 11
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 claims description 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001593 boehmite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 73
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 57
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 50
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 47
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 47
- 239000000047 product Substances 0.000 description 32
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 29
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 27
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 27
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 23
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 20
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 19
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 17
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 17
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 16
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical group C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 14
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 14
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 14
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 14
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 14
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 13
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 12
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 12
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 11
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 11
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 11
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 10
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 10
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical group C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 9
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 9
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 9
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 8
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N carbodiimide group Chemical group N=C=N VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 7
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 7
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 7
- QQOWHRYOXYEMTL-UHFFFAOYSA-N triazin-4-amine Chemical compound N=C1C=CN=NN1 QQOWHRYOXYEMTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WOCGGVRGNIEDSZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-3-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-2-prop-2-enylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C(CC=C)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C(CC=C)=C1 WOCGGVRGNIEDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 6
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 6
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 6
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 5
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 5
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 5
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 4
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 4
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 3
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 3
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPJGAEWUPXWFPL-UHFFFAOYSA-N 1-[3-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC(N2C(C=CC2=O)=O)=C1 IPJGAEWUPXWFPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUFZNDNBXKOZQV-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1h-pyrrolo[1,2-a]benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2N(CCC3)C3=NC2=C1 RUFZNDNBXKOZQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 2h-1,2-benzoxazine Chemical compound C1=CC=C2C=CNOC2=C1 CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUDSREQIJYWLRA-UHFFFAOYSA-N 4-[9-(4-hydroxy-3-methylphenyl)fluoren-9-yl]-2-methylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 NUDSREQIJYWLRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 2
- DDTBPAQBQHZRDW-UHFFFAOYSA-N cyclododecane Chemical compound C1CCCCCCCCCCC1 DDTBPAQBQHZRDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- LJJQENSFXLXPIV-UHFFFAOYSA-N fluorenylidene Chemical group C1=CC=C2[C]C3=CC=CC=C3C2=C1 LJJQENSFXLXPIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical group C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 2
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- DYHSDKLCOJIUFX-UHFFFAOYSA-N tert-butoxycarbonyl anhydride Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)OC(=O)OC(C)(C)C DYHSDKLCOJIUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- UFKLQICEQCIWNE-UHFFFAOYSA-N (3,5-dicyanatophenyl) cyanate Chemical compound N#COC1=CC(OC#N)=CC(OC#N)=C1 UFKLQICEQCIWNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDCUTCGACVVRIQ-UHFFFAOYSA-N (3,6-dicyanatonaphthalen-1-yl) cyanate Chemical compound N#COC1=CC(OC#N)=CC2=CC(OC#N)=CC=C21 YDCUTCGACVVRIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMDBGQBQDICTJC-UHFFFAOYSA-N (3-cyanatonaphthalen-1-yl) cyanate Chemical compound C1=CC=CC2=CC(OC#N)=CC(OC#N)=C21 UMDBGQBQDICTJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZZMAPJAKOSNG-UHFFFAOYSA-N (3-cyanatophenyl) cyanate Chemical compound N#COC1=CC=CC(OC#N)=C1 QQZZMAPJAKOSNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methanol Chemical compound CCC1(CO)COC1 UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUYRCFRAGLLTPO-UHFFFAOYSA-N (4-cyanatonaphthalen-1-yl) cyanate Chemical compound C1=CC=C2C(OC#N)=CC=C(OC#N)C2=C1 KUYRCFRAGLLTPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUGZCSAPOLLKNG-UHFFFAOYSA-N (4-cyanatophenyl) cyanate Chemical compound N#COC1=CC=C(OC#N)C=C1 GUGZCSAPOLLKNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQXJSKSVSXZXRU-UHFFFAOYSA-N (5-cyanatonaphthalen-2-yl) cyanate Chemical compound N#COC1=CC=CC2=CC(OC#N)=CC=C21 CQXJSKSVSXZXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUEBPOOTFCZRBC-UHFFFAOYSA-N (5-methyl-2-phenyl-1h-imidazol-4-yl)methanol Chemical compound OCC1=C(C)NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 RUEBPOOTFCZRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRMQZYWARKKEQH-UHFFFAOYSA-N (6-cyanatonaphthalen-2-yl) cyanate Chemical compound C1=C(OC#N)C=CC2=CC(OC#N)=CC=C21 IRMQZYWARKKEQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFIWROJVVHYHLQ-UHFFFAOYSA-N (7-cyanatonaphthalen-2-yl) cyanate Chemical compound C1=CC(OC#N)=CC2=CC(OC#N)=CC=C21 OFIWROJVVHYHLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJKWUUSAPDIPQQ-UHFFFAOYSA-N (8-cyanatonaphthalen-1-yl) cyanate Chemical compound C1=CC(OC#N)=C2C(OC#N)=CC=CC2=C1 ZJKWUUSAPDIPQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYSVBCSOQFXYHK-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibromo-2,2-bis(bromomethyl)propane Chemical compound BrCC(CBr)(CBr)CBr OYSVBCSOQFXYHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAZPKEBWNIUCKF-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[4-[2-[4-[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenoxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(=CC=2)N2C(C=CC2=O)=O)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O XAZPKEBWNIUCKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYSVFZBXZVPIFA-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-(4-ethenylphenyl)benzene Chemical group C1=CC(C=C)=CC=C1C1=CC=C(C=C)C=C1 IYSVFZBXZVPIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHVCCCZZVQMAMT-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxy-3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1N(O)C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 HHVCCCZZVQMAMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHYFCIYCSYEDCP-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethyloxetane Chemical compound CC1(C)CCO1 XHYFCIYCSYEDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-triphenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTJUELTVQKBEPR-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxetane Chemical compound ClCC1CCO1 MTJUELTVQKBEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZIIBDOXPQOKBP-UHFFFAOYSA-N 2-methyloxetane Chemical compound CC1CCO1 FZIIBDOXPQOKBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 2-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXURGFRDGROIKG-UHFFFAOYSA-N 3,3-bis(chloromethyl)oxetane Chemical compound ClCC1(CCl)COC1 CXURGFRDGROIKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVGLUKRYMXEQAH-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethyloxetane Chemical compound CC1(C)COC1 RVGLUKRYMXEQAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGDOLELXXPTPFX-UHFFFAOYSA-N 3,4-dihydro-2h-1,2-benzoxazine Chemical group C1=CC=C2ONCCC2=C1 BGDOLELXXPTPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIDDPPKZYZTEGS-UHFFFAOYSA-N 3-(2-ethyl-4-methylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical compound CCC1=NC(C)=CN1CCC#N UIDDPPKZYZTEGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVYPJEBKDLFIDL-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical compound N#CCCN1C=CN=C1C1=CC=CC=C1 BVYPJEBKDLFIDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRNCACXJEDBLDE-UHFFFAOYSA-N 3-(methoxymethyl)-3-methyloxetane Chemical compound COCC1(C)COC1 YRNCACXJEDBLDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOSSLXZUUKTULI-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(2,5-dioxopyrrol-3-yl)-4-methylphenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound CC1=CC=C(C=2C(NC(=O)C=2)=O)C=C1C1=CC(=O)NC1=O MOSSLXZUUKTULI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(COCC2(CC)COC2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJQHJNIGWOABDZ-UHFFFAOYSA-N 3-methyloxetane Chemical compound CC1COC1 VJQHJNIGWOABDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Dihydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 4,4'-thiodiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1SC1=CC=C(O)C=C1 VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenoxy)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC1=CC=C(O)C=C1 NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 201000009273 Endometriosis Diseases 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N Methyl-2-hydoxyisobutyric acid Chemical compound COC(=O)C(C)(C)O XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 241001529596 Pontinus kuhlii Species 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910005965 SO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNYVZKMCGVGTKN-UHFFFAOYSA-N [4-(4-cyanatophenoxy)phenyl] cyanate Chemical compound C1=CC(OC#N)=CC=C1OC1=CC=C(OC#N)C=C1 SNYVZKMCGVGTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEJGXMCFSSDPOA-UHFFFAOYSA-N [4-(4-cyanatophenyl)phenyl] cyanate Chemical group C1=CC(OC#N)=CC=C1C1=CC=C(OC#N)C=C1 HEJGXMCFSSDPOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNUHQZDDTLOZRY-UHFFFAOYSA-N [4-(4-cyanatophenyl)sulfanylphenyl] cyanate Chemical compound C1=CC(OC#N)=CC=C1SC1=CC=C(OC#N)C=C1 CNUHQZDDTLOZRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUPOATPDNYBPMR-UHFFFAOYSA-N [4-(4-cyanatophenyl)sulfonylphenyl] cyanate Chemical compound C=1C=C(OC#N)C=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=C(OC#N)C=C1 BUPOATPDNYBPMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUQQGGWZVKUCBD-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)-2-phenyl-1h-imidazol-5-yl]methanol Chemical compound N1C(CO)=C(CO)N=C1C1=CC=CC=C1 UUQQGGWZVKUCBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKUAGWJIYUEPHC-UHFFFAOYSA-N [4-[(4-cyanato-5,5-dimethylcyclohexa-1,3-dien-1-yl)methyl]-6,6-dimethylcyclohexa-1,3-dien-1-yl] cyanate Chemical compound CC1(CC(=CC=C1OC#N)CC=1CC(C(=CC=1)OC#N)(C)C)C VKUAGWJIYUEPHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUYQDAWLRQFANO-UHFFFAOYSA-N [4-[(4-cyanatophenyl)methyl]phenyl] cyanate Chemical compound C1=CC(OC#N)=CC=C1CC1=CC=C(OC#N)C=C1 AUYQDAWLRQFANO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHZMUXQJTGRNHT-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-cyanatophenyl)propan-2-yl]phenyl] cyanate Chemical compound C=1C=C(OC#N)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC#N)C=C1 AHZMUXQJTGRNHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004653 anthracenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical compound C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005130 benzoxazines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 150000001913 cyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001651 cyanato group Chemical group [*]OC#N 0.000 description 1
- 125000006841 cyclic skeleton Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004976 cyclobutylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004977 cycloheptylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005832 cyclohexylphenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1[*:2])C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004978 cyclooctylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004979 cyclopentylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004980 cyclopropylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- OCXGTPDKNBIOTF-UHFFFAOYSA-N dibromo(triphenyl)-$l^{5}-phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(Br)(C=1C=CC=CC=1)(Br)C1=CC=CC=C1 OCXGTPDKNBIOTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N dimethylmethane Natural products CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229960004337 hydroquinone Drugs 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 239000012784 inorganic fiber Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000654 isopropylidene group Chemical group C(C)(C)=* 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000010534 mechanism of action Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003327 methanetetrayl group Chemical group *C(*)(*)* 0.000 description 1
- 125000001800 methanetriyl group Chemical group C(*)(*)* 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108091063785 miR-3000 stem-loop Proteins 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000005078 molybdenum compound Substances 0.000 description 1
- 150000002752 molybdenum compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical group C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N phenylsilane Chemical compound [SiH3]C1=CC=CC=C1 PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 125000005548 pyrenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010421 standard material Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZGVDNRJCGPNDS-UHFFFAOYSA-N trinitromethane Chemical compound [O-][N+](=O)C([N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O LZGVDNRJCGPNDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N trizinc;diborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009941 weaving Methods 0.000 description 1
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- XAEWLETZEZXLHR-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(dioxo)molybdenum Chemical compound [Zn+2].[O-][Mo]([O-])(=O)=O XAEWLETZEZXLHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Zn+2].[O-][Sn]([O-])=O BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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Abstract
알케닐페놀과, 에폭시 변성 실리콘과, 그 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물과, 고리형 카르보디이미드 화합물을 함유하는, 경화성 조성물.A curable composition containing an alkenylphenol, an epoxy-modified silicone, an epoxy compound other than the epoxy-modified silicone, and a cyclic carbodiimide compound.
Description
본 발명은 경화성 조성물, 프리프레그, 금속박 피복 적층판 및 프린트 배선판에 관한 것이다.The present invention relates to curable compositions, prepregs, metal foil-clad laminates, and printed wiring boards.
최근, 전자 기기나 통신기, 퍼스널 컴퓨터 등에 널리 사용되고 있는 반도체 패키지의 고기능화, 소형화가 진행됨에 따라, 반도체 패키지용의 각 부품의 고집적화나 고밀도 실장화가 최근 점점 더 가속되고 있다. 이에 수반하여, 반도체 패키지용의 프린트 배선판에 요구되는 제특성은 점점 더 엄격한 것이 되고 있다. 이와 같은 프린트 배선판에 요구되는 특성으로는, 예를 들어, 저열팽창률, 내약품성, 필 강도 등을 들 수 있다.Recently, as semiconductor packages, which are widely used in electronic devices, communication devices, personal computers, etc., have become more functional and miniaturized, the integration and high-density mounting of each component for the semiconductor package have been accelerating in recent years. In line with this, the characteristics required for printed wiring boards for semiconductor packages are becoming increasingly stringent. Characteristics required for such a printed wiring board include, for example, low thermal expansion coefficient, chemical resistance, and peeling strength.
특허문헌 1 에는, 특정한 말레이미드 화합물과, 분자 구조 중에 에폭시기를 갖는 실리콘 화합물과, 페놀성 수산기를 갖는 화합물을 함유하는 열경화성 수지 조성물은, 내열성 및 저열팽창성이 우수하고, 금속박 피복 적층판 및 다층 프린트 배선판에 바람직하게 사용되는 것이 개시되어 있다.Patent Document 1 states that a thermosetting resin composition containing a specific maleimide compound, a silicone compound having an epoxy group in the molecular structure, and a compound having a phenolic hydroxyl group is excellent in heat resistance and low thermal expansion, and is used in metal foil-clad laminates and multilayer printed wiring boards. It is disclosed that it is preferably used.
특허문헌 2 에는, 폴리말레이미드와, 하기 식 (I) 로 나타내는 디글리시딜폴리실록산과, 하기 식 (II) 로 나타내는 디알릴비스페놀류의 부가 중합물과, 하기 식 (III) 으로 나타내는 알릴화 페놀 수지를 소정의 비율 및 조건으로 반응시켜 반도체 봉지용 (封止用) 수지를 얻는 제조 방법이 개시되어 있다. 이 문헌에 의하면, 상기의 제조 방법에 의해 얻어지는 반도체 봉지용 수지는, 폴리말레이미드와, 상기의 부가 중합물의 상용성이 양호한 것, 나아가서는 반도체 봉지용 수지를 사용한 조성물의 경화물 특성 (예를 들어, 높은 유리 전이 온도, 내습성 및 열시의 강도) 이 우수하고, 반도체 봉지용 수지 조성물로서 신뢰성이 높은 것임이 개시되어 있다. 이 문헌에는, 하기 식 (III) 중, b 성분은, 폴리말레이미드와의 수지 생성 반응에 있어서 말레이미드기와 반응하여, 폴리말레이미드와 폴리실록산의 상용성을 개선하는 중요한 성분인 것으로 개시되어 있다.Patent Document 2 discloses polymaleimide, an addition polymer of diglycidylpolysiloxane represented by the following formula (I), diallyl bisphenol represented by the following formula (II), and an allylated phenol represented by the following formula (III). A manufacturing method for obtaining a resin for semiconductor encapsulation by reacting a resin at a predetermined ratio and conditions is disclosed. According to this document, the resin for semiconductor encapsulation obtained by the above production method has good compatibility between polymaleimide and the above addition polymer, and further has the properties of a cured product of a composition using the resin for semiconductor encapsulation (e.g. For example, it is disclosed that it is excellent in high glass transition temperature, moisture resistance, and heat strength) and is highly reliable as a resin composition for semiconductor encapsulation. This document discloses that the b component in the following formula (III) is an important component that reacts with maleimide groups in the resin production reaction with polymaleimide and improves the compatibility between polymaleimide and polysiloxane.
[화학식 1][Formula 1]
(식 중, R1 은, 알킬렌기 또는 페닐렌기를 나타내고, R2 는, 각각 독립적으로, 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n 은 1 ∼ 100 의 정수를 나타낸다)(In the formula, R 1 represents an alkylene group or a phenylene group, R 2 each independently represents an alkyl group or a phenyl group, and n represents an integer of 1 to 100.)
[화학식 2][Formula 2]
(식 중, R4 는, 에테르 결합, 메틸렌기, 프로필리덴기, 또는 직접 결합 (단결합) 을 나타낸다)(In the formula, R 4 represents an ether bond, a methylene group, a propylidene group, or a direct bond (single bond))
[화학식 3][Formula 3]
(상기 식 중, a, b, 및 c 는, 각각 각 조성의 백분율을 나타내고, 0 < a, b, c < 100 또한 a + b + c = 100 이다)(In the above formula, a, b, and c each represent the percentage of each composition, and 0 < a, b, c < 100 and a + b + c = 100)
특허문헌 1 과 같이, 분자 구조 중에 에폭시기를 갖는 실리콘 화합물과, 말레이미드 화합물과 같은 열경화성 수지를 포함하는 수지 조성물은, 저열팽창성이 우수하다. 그러나, 본 발명자들은, 상기 수지 조성물에 있어서, 상기 실리콘 화합물과 열경화성 수지의 상용성이 충분하지 않은 것에서 기인하여 성형성에 문제가 있는 것을 알아내었다. 또한, 본 발명자들은, 상기 수지 조성물은, 내약품성 및 금속박 피복 적층판으로 할 때의 금속박 필 강도 (예를 들어, 동박 필 강도) 가 충분하지 않은 것을 알아내었다.As in Patent Document 1, a resin composition containing a silicone compound having an epoxy group in its molecular structure and a thermosetting resin such as a maleimide compound is excellent in low thermal expansion property. However, the present inventors found that the resin composition had a problem with moldability due to insufficient compatibility between the silicone compound and the thermosetting resin. Additionally, the present inventors found that the chemical resistance and metal foil peel strength (for example, copper foil peel strength) when used as a metal foil-clad laminate were not sufficient for the resin composition.
한편, 특허문헌 2 에 기재된 수지 조성물은, 반도체 봉지용에 사용되는 것으로서, 프린트 배선판의 특성으로서 요구되는 저열팽창성, 동박 필 강도 및 내약품성에 대해서는 검토되어 있지 않다.On the other hand, the resin composition described in Patent Document 2 is used for semiconductor encapsulation, and the low thermal expansion property, copper foil peel strength, and chemical resistance required as characteristics of a printed wiring board have not been examined.
본 발명은, 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것으로서, 우수한 저열팽창성, 동박 필 강도 및 내약품성을 갖는 경화성 조성물, 프리프레그, 금속박 피복 적층판 및 프린트 배선판을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention was made in view of the above problems, and its purpose is to provide a curable composition, prepreg, metal foil-clad laminate, and printed wiring board having excellent low thermal expansion properties, copper foil peel strength, and chemical resistance.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토를 거듭하였다. 그 결과, 알케닐페놀과, 에폭시 변성 실리콘과, 그 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물과, 고리형 카르보디이미드 화합물을 함유하는 경화성 조성물, 혹은 알케닐페놀에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘에서 유래하는 구성 단위와, 그 에폭시 변성 실리콘 이외의 에폭시 화합물에서 유래하는 구성 단위를 함유하는 중합체와, 고리형 카르보디이미드 화합물을 함유하는 경화성 조성물이면, 상기 과제를 해결할 수 있음을 알아내고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.The present inventors have conducted intensive studies to solve the above problems. As a result, a curable composition containing an alkenylphenol, an epoxy-modified silicone, an epoxy compound other than the epoxy-modified silicone, and a cyclic carbodiimide compound, or a structural unit derived from an alkenylphenol, and an epoxy-modified silicone It was found that the above-mentioned problems can be solved by a curable composition containing a structural unit derived from an epoxy compound other than the epoxy-modified silicone, a polymer containing a structural unit derived from an epoxy compound other than the epoxy-modified silicone, and a cyclic carbodiimide compound, and the present invention has reached completion.
즉, 본 발명은 다음과 같다.That is, the present invention is as follows.
[1][One]
알케닐페놀 (A) 와, 에폭시 변성 실리콘 (B) 와, 그 에폭시 변성 실리콘 (B) 이외의 에폭시 화합물 (C) 와, 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 를 함유하는, 경화성 조성물.A curable composition containing alkenylphenol (A), epoxy modified silicone (B), an epoxy compound (C) other than the epoxy modified silicone (B), and a cyclic carbodiimide compound (D).
[2][2]
상기 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 가, 하기 식 (D1) 로 나타내는 고리형 구조를 갖고,The cyclic carbodiimide compound (D) has a cyclic structure represented by the following formula (D1),
상기 고리형 구조를 형성하는 원자수가 8 ∼ 50 인, [1] 에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to [1], wherein the number of atoms forming the cyclic structure is 8 to 50.
[화학식 4][Formula 4]
(식 중, L 은, 지방족기, 지환족기, 방향족기 또는 이들을 조합한 기인 2 ∼ 4 가의 결합기이고, 상기 결합기는, 헤테로 원자 및/또는 치환기를 포함하고 있어도 된다)(In the formula, L is a divalent to tetravalent bonding group that is an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, or a combination thereof, and the bonding group may contain a heteroatom and/or a substituent)
[3][3]
상기 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 의 함유량이, 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 2.0 ∼ 15 질량부인, [1] 또는 [2] 에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to [1] or [2], wherein the content of the cyclic carbodiimide compound (D) is 2.0 to 15 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin solid content.
[4][4]
상기 알케닐페놀 (A) 의 1 분자당 평균 페놀기수가 1 이상 3 미만이고, 상기 에폭시 변성 실리콘 (B) 의 1 분자당 평균 에폭시기수가 1 이상 3 미만이고, 상기 에폭시 화합물 (C) 의 1 분자당 평균 에폭시기수가 1 이상 3 미만인, [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.The average number of phenol groups per molecule of the alkenylphenol (A) is 1 to 3, the average number of epoxy groups per molecule of the epoxy modified silicone (B) is 1 to 3, and one molecule of the epoxy compound (C) The curable composition according to any one of [1] to [3], wherein the average number of epoxy groups per group is 1 or more and less than 3.
[5][5]
상기 알케닐페놀 (A) 가, 디알릴비스페놀 및/또는 디프로페닐비스페놀을 함유하는, [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of [1] to [4], wherein the alkenylphenol (A) contains diallylbisphenol and/or dipropenylbisphenol.
[6][6]
상기 에폭시 변성 실리콘 (B) 가, 140 ∼ 250 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는, [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of [1] to [5], wherein the epoxy modified silicone (B) contains an epoxy modified silicone having an epoxy equivalent of 140 to 250 g/mol.
[7][7]
상기 에폭시 변성 실리콘 (B) 가, 하기 식 (B1) 로 나타내는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는, [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of [1] to [6], wherein the epoxy modified silicone (B) contains epoxy modified silicone represented by the following formula (B1).
[화학식 5][Formula 5]
(식 중, R1 은, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기, 아릴렌기 또는 아르알킬렌기를 나타내고, R2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n 은, 0 ∼ 100 의 정수를 나타낸다)(In the formula, R 1 each independently represents a single bond, an alkylene group, an arylene group or an aralkylene group, R 2 each independently represents an alkyl group or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is 0. represents an integer from ∼ 100)
[8][8]
상기 에폭시 화합물 (C) 가, 하기 식 (b2) 로 나타내는 화합물을 포함하는, [1] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of [1] to [7], wherein the epoxy compound (C) contains a compound represented by the following formula (b2).
[화학식 6][Formula 6]
(식 (b2) 중, Ra 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다)(In formula (b2), R a each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom.)
[9][9]
알케닐페놀 (A) 에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘 (B) 에서 유래하는 구성 단위와, 그 에폭시 변성 실리콘 (B) 이외의 에폭시 화합물 (C) 에서 유래하는 구성 단위를 함유하는 중합체 (E) 와, A polymer containing a structural unit derived from alkenylphenol (A), a structural unit derived from epoxy modified silicone (B), and a structural unit derived from an epoxy compound (C) other than the epoxy modified silicone (B) ( E) Wow,
고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 를 함유하는, 경화성 조성물.A curable composition containing a cyclic carbodiimide compound (D).
[10][10]
상기 중합체 (E) 의 중량 평균 분자량이, 3.0 × 103 ∼ 5.0 × 104 인, [9] 에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to [9], wherein the weight average molecular weight of the polymer (E) is 3.0 × 10 3 to 5.0 × 10 4 .
[11][11]
상기 중합체 (E) 의 함유량이, 수지 고형분 100 질량% 에 대하여, 5 ∼ 50 질량% 인, [9] 또는 [10] 에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to [9] or [10], wherein the content of the polymer (E) is 5 to 50% by mass based on 100% by mass of the resin solid content.
[12][12]
상기 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 가, 하기 식 (D1) 로 나타내는 고리형 구조를 갖고,The cyclic carbodiimide compound (D) has a cyclic structure represented by the following formula (D1),
상기 고리형 구조를 형성하는 원자수가 8 ∼ 50 인, [9] ∼ [11] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of [9] to [11], wherein the number of atoms forming the cyclic structure is 8 to 50.
[화학식 7][Formula 7]
(식 중, L 은, 지방족기, 지환족기, 방향족기 또는 이들을 조합한 기인 2 ∼ 4 가의 결합기이고, 상기 결합기는, 헤테로 원자 및/또는 치환기를 포함하고 있어도 된다)(In the formula, L is a divalent to tetravalent bonding group that is an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, or a combination thereof, and the bonding group may contain a heteroatom and/or a substituent)
[13][13]
상기 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 의 함유량이, 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 2.0 ∼ 15 질량부인, [9] ∼ [12] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of [9] to [12], wherein the content of the cyclic carbodiimide compound (D) is 2.0 to 15 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin solid content.
[14][14]
상기 알케닐페놀 (A) 의 1 분자당 평균 페놀기수가 1 이상 3 미만이고, 상기 에폭시 변성 실리콘 (B) 의 1 분자당 평균 에폭시기수가 1 이상 3 미만이고, 상기 에폭시 화합물 (C) 의 1 분자당 평균 에폭시기수가 1 이상 3 미만인, [9] ∼ [13] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.The average number of phenol groups per molecule of the alkenylphenol (A) is 1 to 3, the average number of epoxy groups per molecule of the epoxy modified silicone (B) is 1 to 3, and one molecule of the epoxy compound (C) The curable composition according to any one of [9] to [13], wherein the average number of epoxy groups per group is 1 or more and less than 3.
[15][15]
상기 알케닐페놀 (A) 가, 디알릴비스페놀 및/또는 디프로페닐비스페놀을 함유하는, [9] ∼ [14] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of [9] to [14], wherein the alkenylphenol (A) contains diallylbisphenol and/or dipropenylbisphenol.
[16][16]
상기 에폭시 변성 실리콘 (B) 가, 140 ∼ 250 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는, [9] ∼ [15] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of [9] to [15], wherein the epoxy modified silicone (B) contains an epoxy modified silicone having an epoxy equivalent of 140 to 250 g/mol.
[17][17]
상기 에폭시 변성 실리콘 (B) 가, 하기 식 (B1) 로 나타내는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는, [9] ∼ [16] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of [9] to [16], wherein the epoxy modified silicone (B) contains epoxy modified silicone represented by the following formula (B1).
[화학식 8][Formula 8]
(식 중, R1 은, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기, 아릴렌기 또는 아르알킬렌기를 나타내고, R2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n 은, 0 ∼ 100 의 정수를 나타낸다)(In the formula, R 1 each independently represents a single bond, an alkylene group, an arylene group or an aralkylene group, R 2 each independently represents an alkyl group or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is 0. represents an integer from ∼ 100)
[18][18]
상기 에폭시 화합물 (C) 가, 하기 식 (b2) 로 나타내는 화합물을 포함하는, [9] ∼ [17] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of [9] to [17], wherein the epoxy compound (C) contains a compound represented by the following formula (b2).
[화학식 9][Formula 9]
(식 (b2) 중, Ra 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다)(In formula (b2), R a each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom.)
[19][19]
알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B) 및 그 에폭시 변성 실리콘 (B) 이외의 에폭시 화합물 (C) 로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 추가로 함유하는, [9] ∼ [18] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.[9] to [18], which further contains at least one member selected from the group consisting of alkenylphenol (A), epoxy-modified silicone (B), and epoxy compounds (C) other than the epoxy-modified silicone (B). The curable composition according to any one of the above.
[20][20]
상기 에폭시 화합물 (C) 가, 나프탈렌크레졸노볼락형 에폭시 수지 및/또는 나프틸렌에테르형 에폭시 수지를 포함하는, [19] 에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to [19], wherein the epoxy compound (C) contains a naphthalenecresol novolak-type epoxy resin and/or a naphthylene ether-type epoxy resin.
[21][21]
말레이미드 화합물, 시안산에스테르 화합물, 상기 알케닐페놀 (A) 이외의 페놀 화합물 (F) 및 알케닐 치환 나드이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 화합물 (H) 를 추가로 함유하는, [1] ∼ [20] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.[ The curable composition according to any one of 1] to [20].
[22][22]
무기 충전재를 추가로 함유하고,additionally containing inorganic fillers,
상기 무기 충전재가, 실리카류, 베마이트 및 알루미나로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종류 이상을 포함하는, [1] ∼ [20] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of [1] to [20], wherein the inorganic filler contains at least one selected from the group consisting of silica, boehmite, and alumina.
[23][23]
기재와,With equipment,
그 기재에 함침 또는 도포된, [1] ∼ [22] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을 포함하는, 프리프레그.A prepreg comprising the curable composition according to any one of [1] to [22], impregnated or applied to the substrate.
[24][24]
[23] 에 기재된 프리프레그를 포함하는 적층체와,[23] A laminate containing the prepreg described in,
그 적층체의 편면 또는 양면에 배치된 금속박을 포함하는, 금속박 피복 적층판.A metal foil-clad laminate comprising metal foil disposed on one or both sides of the laminate.
[25][25]
[23] 에 기재된 프리프레그를 포함하는 절연층과,An insulating layer containing the prepreg described in [23],
그 절연층의 표면에 형성된 도체층을 포함하는, 프린트 배선판.A printed wiring board including a conductor layer formed on the surface of the insulating layer.
본 발명에 의하면, 우수한 저열팽창성, 동박 필 강도 및 내약품성을 갖는 경화성 조성물, 프리프레그, 금속박 피복 적층판 및 프린트 배선판을 제공 가능하다.According to the present invention, it is possible to provide a curable composition, prepreg, metal foil-clad laminate, and printed wiring board having excellent low thermal expansion properties, copper foil peel strength, and chemical resistance.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태 (이하 「본 실시형태」 라고 한다) 에 대하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니며, 그 요지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변형이 가능하다.Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “this embodiment”) will be described in detail, but the present invention is not limited to this, and various modifications are possible without departing from the gist. .
본 명세서에서 말하는 「수지 고형분」 이란, 특별한 기재가 없는 한, 본 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 용제 및 충전재를 제외한 성분을 말하고, 수지 고형분 100 질량부란, 경화성 조성물에 있어서의 용제 및 충전재를 제외한 성분의 합계가 100 질량부인 것을 말한다. 또한, 수지 고형분 100 질량% 란, 경화성 조성물에 있어서의 용제 및 충전재를 제외한 성분의 합계가 100 질량% 인 것을 말한다.As used herein, unless otherwise specified, “resin solid content” refers to components excluding solvents and fillers in the curable composition of the present embodiment, and 100 parts by mass of resin solid content refers to components excluding solvents and fillers in the curable composition. It means that the total of components is 100 parts by mass. In addition, the resin solid content of 100% by mass means that the total of the components in the curable composition excluding the solvent and filler is 100% by mass.
본 명세서에서 말하는 「상용성」이란, 이하를 말한다. 상세를 후술하는 제 1 실시형태의 조성물에 있어서는, 「우수한 상용성」이란, 알케닐페놀 (A) 와, 에폭시 변성 실리콘 (B) 와, 에폭시 화합물 (C) 와, 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 를 함유하는 혼합물 (예를 들어, 바니시) 에 있어서, 액상 분리가 발생하지 않는 것을 말한다. 또, 상세를 후술하는 제 2 실시형태의 조성물에 있어서, 「우수한 상용성」이란, 중합체 (E) 와 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 를 포함하는 혼합물 (예를 들면, 바니시) 에 있어서, 액상 분리가 발생하지 않는 것을 말한다. 본 실시형태의 경화성 조성물은, 상용성이 우수한 것에서 기인하여, 성형의 과정에 있어서의 액상 분리가 억제되어, 외관이 우수한 성형체를 얻을 수 있는 것 외에, 얻어진 성형체의 물성의 등방성도 우수한 경향이 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「본 실시형태의 경화성 조성물」이라고 칭할 때는, 특별한 언급이 없는 한, 「제 1 실시형태의 경화성 조성물」및 「제 2 실시형태의 경화성 조성물」의 쌍방을 포함하는 것으로 한다.“Compatibility” as used in this specification refers to the following. In the composition of the first embodiment, which will be described in detail later, “excellent compatibility” means alkenylphenol (A), epoxy modified silicone (B), epoxy compound (C), and cyclic carbodiimide compound ( D) In a mixture containing (e.g., varnish), liquid phase separation does not occur. In addition, in the composition of the second embodiment, which will be described in detail later, “excellent compatibility” refers to a mixture (for example, a varnish) containing a polymer (E) and a cyclic carbodiimide compound (D), This means that liquid phase separation does not occur. Because the curable composition of the present embodiment has excellent compatibility, liquid phase separation during the molding process is suppressed, and a molded body with excellent appearance can be obtained. In addition, the obtained molded body tends to have excellent isotropy in physical properties. . In addition, in this specification, when referring to “the curable composition of the present embodiment”, unless otherwise specified, both “the curable composition of the first embodiment” and “the curable composition of the second embodiment” are included. do.
<제 1 실시형태><First embodiment>
[제 1 실시형태의 경화성 조성물][Curable composition of the first embodiment]
제 1 실시형태의 경화성 조성물은, 알케닐페놀 (A) 와, 에폭시 변성 실리콘 (B) 와, 그 에폭시 변성 실리콘 (B) 이외의 에폭시 화합물 (C) (이하, 간단히 「에폭시 화합물 (C)」라고도 한다) 와, 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 를 함유한다. 이들 성분을 포함하는 제 1 실시형태의 경화성 조성물은, 우수한 저열팽창성, 동박 필 강도 및 내약품성을 갖는다. 각 특성이 향상되는 요인은 다음과 같이 생각되지만, 요인은 이것에 한정되지 않는다. 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 는 높은 융점을 갖기 때문에, 예를 들어, 프리프레그 제조시의 온도 (약 140 ℃) 에 있어서는, 알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B), 에폭시 화합물 (C) 등의 각 열경화성 수지와의 반응성이 낮고, 이로써, 경화성 조성물의 유동 특성의 악화가 억제된다. 그리고, 보다 온도가 높은 프레스 성형시에 있어서, 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 가 용융되고, 알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B), 에폭시 화합물 (C) 등의 열경화성 수지와 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 가 반응함으로써, 가교 밀도가 보다 높은 구조체를 형성하기 때문에, 저열팽창성, 동박 필 강도 및 내약품성이 향상된다.The curable composition of the first embodiment includes alkenylphenol (A), epoxy modified silicone (B), and an epoxy compound (C) other than the epoxy modified silicone (B) (hereinafter simply referred to as “epoxy compound (C)”. (also called) and a cyclic carbodiimide compound (D). The curable composition of the first embodiment containing these components has excellent low thermal expansion properties, copper foil peel strength, and chemical resistance. The factors that improve each characteristic are thought to be as follows, but the factors are not limited to these. Since the cyclic carbodiimide compound (D) has a high melting point, for example, at the temperature (about 140°C) during prepreg production, alkenylphenol (A), epoxy modified silicone (B), and epoxy compound Reactivity with each thermosetting resin such as (C) is low, and thus, deterioration of the flow characteristics of the curable composition is suppressed. Then, during press molding at a higher temperature, the cyclic carbodiimide compound (D) is melted, and thermosetting resins such as alkenylphenol (A), epoxy modified silicone (B), and epoxy compound (C) and the cyclic carbodiimide compound (D) are melted. When the type carbodiimide compound (D) reacts, a structure with a higher crosslink density is formed, and thus low thermal expansion property, copper foil peel strength, and chemical resistance are improved.
[알케닐페놀 (A)][Alkenylphenol (A)]
알케닐페놀 (A) 는, 1 개 이상의 알케닐기가 페놀성 방향 고리에 직접 결합한 구조를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 본 실시형태의 경화성 조성물은, 알케닐페놀 (A) 를 함유함으로써, 우수한 상용성을 발현할 수 있고, 이로써, 내열성 및 저열팽창성의 밸런스가 향상된다.The alkenylphenol (A) is not particularly limited as long as it is a compound having a structure in which one or more alkenyl groups are directly bonded to a phenolic aromatic ring. The curable composition of the present embodiment can exhibit excellent compatibility by containing alkenylphenol (A), thereby improving the balance between heat resistance and low thermal expansion.
알케닐기로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 비닐기, 알릴기, 프로페닐기, 부테닐기, 헥세닐기 등의 탄소수 2 ∼ 30 의 알케닐기를 들 수 있다. 그 중에서도, 본 발명의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 알케닐기는, 알릴기 및/또는 프로페닐기인 것이 바람직하고, 알릴기인 것이 보다 바람직하다. 1 개의 페놀성 방향 고리에 직접 결합하고 있는 알케닐기의 수는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 1 ∼ 4 이다. 본 발명의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 1 개의 페놀성 방향 고리에 직접 결합하고 있는 알케닐기의 수는, 바람직하게는 1 ∼ 2 이고, 보다 바람직하게는 1 이다. 또한, 알케닐기의 페놀성 방향 고리에 대한 결합 위치도 특별히 한정되지 않지만, 오르토 위치 (2, 6 위치) 인 것이 바람직하다.The alkenyl group is not particularly limited, but examples include alkenyl groups having 2 to 30 carbon atoms, such as vinyl, allyl, propenyl, butenyl, and hexenyl. Among them, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present invention, the alkenyl group is preferably an allyl group and/or a propenyl group, and more preferably an allyl group. The number of alkenyl groups directly bonded to one phenolic aromatic ring is not particularly limited, and is, for example, 1 to 4. From the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present invention, the number of alkenyl groups directly bonded to one phenolic aromatic ring is preferably 1 to 2, and more preferably 1. Additionally, the bonding position of the alkenyl group to the phenolic aromatic ring is not particularly limited, but is preferably the ortho position (2, 6 positions).
페놀성 방향 고리는, 1 개 이상의 수산기가 방향 고리에 직접 결합한 것을 말하고, 페놀 고리나 나프톨 고리를 들 수 있다. 1 개의 페놀성 방향 고리에 직접 결합하고 있는 수산기의 수는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 1 ∼ 2 이고, 바람직하게는 1 이다.A phenolic aromatic ring refers to one in which one or more hydroxyl groups are directly bonded to an aromatic ring, and examples include a phenol ring and a naphthol ring. The number of hydroxyl groups directly bonded to one phenolic aromatic ring is not particularly limited, and is, for example, 1 to 2, and is preferably 1.
페놀성 방향 고리는, 알케닐기 이외의 치환기를 가지고 있어도 된다. 그러한 치환기로는, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬형 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 분기형 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 고리형 알킬기, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬형 알콕시기, 탄소수 3 ∼ 10 의 분기형 알콕시기, 탄소수 3 ∼ 10 의 고리형 알콕시기, 및 할로겐 원자를 들 수 있다. 페놀성 방향 고리가 알케닐기 이외의 치환기를 갖는 경우, 1 개의 페놀성 방향 고리에 직접 결합하고 있는 당해 치환기의 수는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 1 ∼ 2 이다. 또, 당해 치환기의 페놀성 방향 고리에 대한 결합 위치도 특별히 한정되지 않는다.The phenolic aromatic ring may have a substituent other than the alkenyl group. Such substituents include, for example, a linear alkyl group with 1 to 10 carbon atoms, a branched alkyl group with 3 to 10 carbon atoms, a cyclic alkyl group with 3 to 10 carbon atoms, a linear alkoxy group with 1 to 10 carbon atoms, and a C3 group. Examples include a branched alkoxy group having from 10 to 10 carbon atoms, a cyclic alkoxy group having from 3 to 10 carbon atoms, and a halogen atom. When the phenolic aromatic ring has a substituent other than an alkenyl group, the number of the substituents directly bonded to one phenolic aromatic ring is not particularly limited, and is, for example, 1 to 2. Additionally, the bonding position of the substituent to the phenolic aromatic ring is not particularly limited.
알케닐페놀 (A) 는, 1 개 이상의 알케닐기가 페놀성 방향 고리에 직접 결합한 구조를 1 개 또는 복수 가져도 된다. 본 발명의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 알케닐페놀 (A) 는, 1 개 이상의 알케닐기가 페놀성 방향 고리에 직접 결합한 구조를 1 개 또는 2 개 갖는 것이 바람직하고, 2 개 갖는 것이 바람직하다.The alkenylphenol (A) may have one or more structures in which one or more alkenyl groups are directly bonded to a phenolic aromatic ring. From the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present invention, the alkenylphenol (A) preferably has one or two structures in which one or more alkenyl groups are directly bonded to a phenolic aromatic ring, It is desirable to have two.
알케닐페놀 (A) 는, 예를 들어, 하기 식 (A1) 또는 하기 식 (A2) 로 나타내는 화합물이어도 된다.The alkenylphenol (A) may be, for example, a compound represented by the following formula (A1) or the following formula (A2).
[화학식 10][Formula 10]
(식 중, Rxa 는, 각각 독립적으로, 탄소수 2 ∼ 8 의 알케닐기를 나타내고, Rxb 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타내고, Rxc 는, 각각 독립적으로, 탄소수 4 ∼ 12 의 방향 고리를 나타내고, Rxc 는, 벤젠 고리와 축합 구조를 형성해도 되고, Rxc 는, 존재하고 있어도 되고, 존재하고 있지 않아도 되고, A 는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기, 탄소수 7 ∼ 16 의 아르알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴렌기, 플루오레닐리덴기, 술포닐기, 산소 원자, 황 원자 또는 직접 결합 (단결합) 을 나타내고, Rxc 가 존재하지 않는 경우에는, 1 개의 벤젠 고리에 Rxa 및/또는 Rxb 의 기를 2 개 이상 가져도 된다)(Wherein, Rxa each independently represents an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, Rxb each independently represents an alkyl group or hydrogen atom having 1 to 10 carbon atoms, and Rxc each independently represents an alkenyl group having 4 to 8 carbon atoms. Represents a 12-membered aromatic ring, Rxc may form a condensed structure with a benzene ring, Rxc may or may not be present, and A is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylene group having 7 to 16 carbon atoms. represents an aralkylene group, an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, a fluorenylidene group, a sulfonyl group, an oxygen atom, a sulfur atom, or a direct bond (single bond), and when Rxc does not exist, Rxa and /or you may have 2 or more Rxb groups)
[화학식 11][Formula 11]
(식 중, Rxd 는, 각각 독립적으로, 탄소수 2 ∼ 8 의 알케닐기를 나타내고, Rxe 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타내고, Rxf 는, 탄소수 4 ∼ 12 의 방향 고리를 나타내고, Rxf 는, 벤젠 고리와 축합 구조를 형성해도 되고, Rxf 는, 존재하고 있어도 되고, 존재하고 있지 않아도 되고, Rxf 가 존재하지 않는 경우에는, 1 개의 벤젠 고리에 Rxd 및/또는 Rxe 의 기를 2 개 이상 가져도 된다)(Wherein, Rxd each independently represents an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, Rxe each independently represents an alkyl group or a hydrogen atom having 1 to 10 carbon atoms, and Rxf is an aromatic ring having 4 to 12 carbon atoms. , Rxf may form a condensed structure with a benzene ring, Rxf may or may not exist, and if Rxf does not exist, the groups Rxd and/or Rxe may be attached to one benzene ring. You can have more than 2)
식 (A1) 및 식 (A2) 중, Rxa 및 Rxd 로서 나타내는 탄소수 2 ∼ 8 의 알케닐기로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 비닐기, 알릴기, 프로페닐기, 부테닐기, 헥세닐기 등을 들 수 있다.In formulas (A1) and (A2), the alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms represented by Rxa and Rxd is not particularly limited, and examples include vinyl group, allyl group, propenyl group, butenyl group, and hexenyl group. etc. can be mentioned.
식 (A1) 및 식 (A2) 중, Rxc 및 Rxf 로 나타내는 기가 벤젠 고리와 축합 구조를 형성하고 있는 경우로는, 예를 들어, 페놀성 방향 고리로서, 나프톨 고리를 포함하는 화합물을 들 수 있다. 또, 식 (A1) 및 식 (A2) 중, Rxc 및 Rxf 로 나타내는 기가 존재하지 않는 경우로는, 예를 들어, 페놀성 방향 고리로서, 페놀 고리를 포함하는 화합물을 들 수 있다.In Formula (A1) and Formula (A2), when the groups represented by Rxc and Rxf form a condensed structure with a benzene ring, for example, a compound containing a naphthol ring as a phenolic aromatic ring can be mentioned. . Moreover, in Formula (A1) and Formula (A2), examples of cases in which the groups represented by Rxc and Rxf do not exist include compounds containing a phenol ring as the phenolic aromatic ring.
식 (A1) 및 식 (A2) 중, Rxb 및 Rxe 로서 나타내는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기 등의 직사슬형 알킬기, 이소프로필기, 이소부틸기, tert-부틸기 등의 분기형 알킬기를 들 수 있다.In Formula (A1) and Formula (A2), the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by Rxb and Rxe is not particularly limited, and examples include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, etc. Examples include branched alkyl groups such as straight-chain alkyl groups, isopropyl groups, isobutyl groups, and tert-butyl groups.
식 (A1) 중, A 로서 나타내는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 프로필렌기를 들 수 있다. A 로서 나타내는 탄소수 7 ∼ 16 의 아르알킬렌기로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 식 : -CH2-Ar-CH2-, -CH2-CH2-Ar-CH2-CH2-, 또는 식 : -CH2-Ar-CH2-CH2- (식 중, Ar 은, 페닐렌기, 나프틸렌기, 또는 비페닐렌기를 나타낸다) 로 나타내는 기를 들 수 있다. A 로서 나타내는 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴렌기로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 페닐렌 고리를 들 수 있다.In formula (A1), the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms represented by A is not particularly limited, and examples include methylene group, ethylene group, trimethylene group, and propylene group. The aralkylene group having 7 to 16 carbon atoms represented by A is not particularly limited, but examples include formulas: -CH 2 -Ar-CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -Ar-CH 2 -CH 2 - , or a group represented by the formula: -CH 2 -Ar-CH 2 -CH 2 - (wherein Ar represents a phenylene group, a naphthylene group, or a biphenylene group). The arylene group having 6 to 10 carbon atoms represented by A is not particularly limited, and examples include a phenylene ring.
식 (A2) 로 나타내는 화합물은, 본 발명의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, Rxf 가 벤젠 고리인 것 (디하이드록시나프탈렌 골격을 포함하는 화합물) 이 바람직하다.The compound represented by formula (A2) is preferably one in which Rxf is a benzene ring (a compound containing a dihydroxynaphthalene skeleton) from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present invention.
알케닐페놀 (A) 는, 상용성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 비스페놀류의 2 개의 페놀성 방향 고리에 각각 1 개의 알케닐기가 결합한 알케닐비스페놀인 것이 바람직하다. 동일한 관점에서, 알케닐비스페놀은, 비스페놀류의 2 개의 페놀성 방향 고리에 각각 1 개의 알릴기가 결합한 디알릴비스페놀, 및/또는 비스페놀류의 2 개의 페놀성 방향 고리에 각각 1 개의 프로페닐기가 결합한 디프로페닐비스페놀인 것이 바람직하다.From the viewpoint of further improving compatibility, the alkenylphenol (A) is preferably an alkenylbisphenol in which one alkenyl group is bonded to two phenolic aromatic rings of bisphenol. From the same point of view, alkenylbisphenol is diallylbisphenol, in which one allyl group is bonded to each of two phenolic aromatic rings of bisphenols, and/or diphenyl bisphenol, in which one propenyl group is bonded to each of two phenolic aromatic rings of bisphenols. Lophenylbisphenol is preferred.
디알릴비스페놀로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, o,o'-디알릴비스페놀 A (다이와 화성 공업 주식회사 제품의 「DABPA」), o,o'-디알릴비스페놀 F, o,o'-디알릴비스페놀 S, o,o'-디알릴비스페놀플루오렌을 들 수 있다. 디프로페닐비스페놀로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, o,o'-디프로페닐비스페놀 A (군에이 화학 공업 주식회사의 「PBA01」), o,o'-디프로페닐비스페놀 F, o,o'-디프로페닐비스페놀 S, o,o'-디프로페닐비스페놀플루오렌을 들 수 있다.Diallylbisphenol is not particularly limited and includes, for example, o,o'-diallylbisphenol A ("DABPA" manufactured by Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.), o,o'-diallylbisphenol F, o,o' -Diallylbisphenol S, o,o'-diallylbisphenol fluorene can be mentioned. Dipropenylbisphenol is not particularly limited and includes, for example, o,o'-dipropenylbisphenol A ("PBA01" from Gunei Chemical Industry Co., Ltd.), o,o'-dipropenylbisphenol F, o ,o'-dipropenylbisphenol S, o,o'-dipropenylbisphenol fluorene.
알케닐페놀 (A) 의 1 분자당 평균 페놀기수는, 본 발명의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 1 이상 3 미만인 것이 바람직하고, 1.5 이상 2.5 이하인 것이 보다 바람직하다. 평균 페놀기수는, 이하의 식에 의해 산출된다.The average number of phenol groups per molecule of alkenylphenol (A) is preferably 1 to 3, more preferably 1.5 to 2.5, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present invention. The average number of phenol groups is calculated by the following formula.
식 중, Ai 는, 분자 중에 i 개의 페놀기를 갖는 알케닐페놀의 페놀기수를 나타내고, Xi 는, 분자 중에 i 개의 페놀기를 갖는 알케닐페놀의 알케닐페놀 전체에서 차지하는 비율을 나타내고, X1 + X2 + … Xn = 1 이다.In the formula, Ai represents the number of phenol groups of the alkenylphenol having i phenol groups in the molecule, Xi represents the proportion of alkenylphenol having i phenol groups in the molecule to all alkenylphenols, and 2 + … X n = 1.
[에폭시 변성 실리콘 (B)][Epoxy modified silicone (B)]
에폭시 변성 실리콘 (B) 는, 에폭시기 함유기에 의해 변성된 실리콘 화합물 또는 수지이면 특별히 한정되지 않는다. 본 실시형태의 경화성 조성물은, 에폭시 변성 실리콘 (B) 를 함유함으로써, 저열팽창성 및 내약품성이 우수하다.The epoxy-modified silicone (B) is not particularly limited as long as it is a silicone compound or resin modified with an epoxy group-containing group. The curable composition of the present embodiment is excellent in low thermal expansion and chemical resistance by containing epoxy-modified silicone (B).
실리콘 화합물 또는 수지는, 실록산 결합이 반복하여 형성된 폴리실록산 골격을 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 폴리실록산 골격은, 직사슬형의 골격이어도 되고, 고리형의 골격이어도 되고, 망목상의 골격이어도 된다. 이 중에서도, 본 발명의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 직사슬형의 골격인 것이 바람직하다.The silicone compound or resin is not particularly limited as long as it is a compound having a polysiloxane skeleton in which siloxane bonds are formed repeatedly. The polysiloxane skeleton may be a linear skeleton, a cyclic skeleton, or a mesh-like skeleton. Among these, a linear skeleton is preferable from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present invention.
에폭시기 함유기로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 하기 식 (a1) 로 나타내는 기를 들 수 있다.The epoxy group-containing group is not particularly limited, but examples include groups represented by the following formula (a1).
[화학식 12][Formula 12]
(식 중, R0 은, 알킬렌기 (예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬렌기) 를 나타내고, X 는, 하기 식 (a2) 로 나타내는 1 가의 기 또는 하기 식 (a3) 으로 나타내는 1 가의 기를 나타낸다)(In the formula, R 0 represents an alkylene group (for example, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, etc.), and (represents a monovalent group represented by the following formula (a3))
[화학식 13][Formula 13]
[화학식 14][Formula 14]
에폭시 변성 실리콘 (B) 는, 140 ∼ 250 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는 것이 바람직하다. 에폭시 변성 실리콘 (B) 는, 상기 범위 내에 있는 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘을 함유함으로써, 한층 더 우수한 상용성을 갖는 점에서, 저열팽창성 및 내약품성을 양호한 밸런스로 한층 더 향상시킬 수 있는 경향이 있다. 상기 에폭시 당량은, 동일한 관점에서, 145 ∼ 245 g/mol 인 것이 보다 바람직하고, 150 ∼ 240 g/mol 인 것이 더욱 바람직하다.The epoxy-modified silicone (B) preferably contains epoxy-modified silicone with an epoxy equivalent of 140 to 250 g/mol. The epoxy-modified silicone (B) contains an epoxy-modified silicone having an epoxy equivalent within the above range, so that it has further excellent compatibility and tends to be able to further improve low thermal expansion and chemical resistance with a good balance. there is. From the same viewpoint, the epoxy equivalent is more preferably 145 to 245 g/mol, and even more preferably 150 to 240 g/mol.
에폭시 변성 실리콘 (B) 는, 열경화성 수지와의 상용성이 보다 한층 더 우수하고, 저열팽창성 및 내약품성을 양호한 밸런스로 한층 더 향상시킬 수 있는 관점에서, 2 종 이상의 에폭시 변성 실리콘을 함유하는 것이 바람직하다. 이 경우, 2 종 이상의 에폭시 변성 실리콘은, 각각 상이한 에폭시 당량을 갖는 것이 바람직하고, 50 ∼ 350 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘 (이하, 「저당량 에폭시 변성 실리콘 (B1')」라고도 한다) 과, 400 ∼ 4000 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘 (이하, 「고당량 에폭시 변성 실리콘 (B2')」라고도 한다) 을 함유하는 것이 보다 바람직하고, 140 ∼ 250 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘 (저당량 에폭시 변성 실리콘 (B1'')) 과, 450 ∼ 3000 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘 (고당량 에폭시 변성 실리콘 (B2'')) 을 함유하는 것이 더욱 바람직하다.The epoxy-modified silicone (B) preferably contains two or more types of epoxy-modified silicone from the viewpoint of having even better compatibility with thermosetting resins and being able to further improve low thermal expansion and chemical resistance with a good balance. do. In this case, it is preferable that the two or more types of epoxy-modified silicone each have a different epoxy equivalent weight, and an epoxy-modified silicone having an epoxy equivalent weight of 50 to 350 g/mol (hereinafter also referred to as “low-equivalent epoxy-modified silicone (B1')”. It is more preferable to contain epoxy-modified silicone (hereinafter also referred to as “high-equivalent epoxy-modified silicone (B2')”) having an epoxy equivalent of 400 to 4000 g/mol, and 140 to 250 g/mol. Containing an epoxy modified silicone having an epoxy equivalent weight (low equivalent weight epoxy modified silicone (B1'')) and an epoxy modified silicone having an epoxy equivalent weight of 450 to 3000 g/mol (high equivalent weight epoxy modified silicone (B2'')). It is more desirable.
에폭시 변성 실리콘 (B) 가 2 종 이상의 에폭시 변성 실리콘을 함유하는 경우, 에폭시 변성 실리콘 (B) 의 평균 에폭시 당량은, 140 ∼ 3000 g/mol 인 것이 바람직하고, 250 ∼ 2000 g/mol 인 것이 보다 바람직하고, 300 ∼ 1000 g/mol 인 것이 더욱 바람직하다. 평균 에폭시 당량은, 이하의 식에 의해 산출된다.When the epoxy modified silicone (B) contains two or more types of epoxy modified silicone, the average epoxy equivalent weight of the epoxy modified silicone (B) is preferably 140 to 3000 g/mol, more preferably 250 to 2000 g/mol. It is preferable, and it is more preferable that it is 300 to 1000 g/mol. The average epoxy equivalent is calculated by the following formula.
(식 중, Ei 는, 2 종 이상의 에폭시 변성 실리콘 중 1 종의 에폭시 변성 실리콘의 에폭시 당량을 나타내고, Wi 는, 에폭시 변성 실리콘 (B) 중의 상기 에폭시 변성 실리콘의 비율을 나타내고, W1 + W2 + … Wn = 1 이다)(Wherein, Ei represents the epoxy equivalent of one type of epoxy-modified silicone among two or more types of epoxy-modified silicone, Wi represents the ratio of the epoxy-modified silicone in epoxy-modified silicone (B), W 1 + W 2 + … W n = 1)
에폭시 변성 실리콘 (B) 는, 한층 더 우수한 상용성을 갖고, 저열팽창성 및 내약품성을 양호한 밸런스로 한층 더 향상시킬 수 있는 관점에서, 하기 식 (B1) 로 나타내는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는 것이 바람직하다.The epoxy-modified silicone (B) preferably contains epoxy-modified silicone represented by the following formula (B1) from the viewpoint of having further excellent compatibility and being able to further improve low thermal expansion and chemical resistance with a good balance. .
[화학식 15][Formula 15]
(식 중, R1 은, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기, 아릴렌기 또는 아르알킬렌기를 나타내고, R2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n 은, 0 ∼ 100 의 정수를 나타낸다)(In the formula, R 1 each independently represents a single bond, an alkylene group, an arylene group or an aralkylene group, R 2 each independently represents an alkyl group or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is 0. represents an integer from ∼ 100)
식 (B1) 중, R1 로 나타내는 알킬렌기는, 직사슬형, 분기형 또는 고리형의 어느 것이어도 된다. 알킬렌기의 탄소수는, 바람직하게는 1 ∼ 12 이고, 보다 바람직하게는 1 ∼ 4 이다. 알킬렌기로는, 예를 들어 메틸렌기, 에틸렌기 또는 프로필렌기를 들 수 있다. 이들 중에서도, R1 은, 프로필렌기인 것이 바람직하다.In formula (B1), the alkylene group represented by R 1 may be linear, branched, or cyclic. The carbon number of the alkylene group is preferably 1 to 12, and more preferably 1 to 4. Examples of the alkylene group include methylene group, ethylene group, or propylene group. Among these, it is preferable that R 1 is a propylene group.
식 (B1) 중, R1 로 나타내는 아릴렌기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. 아릴렌기의 탄소수로는, 바람직하게는 6 ∼ 40 이며, 보다 바람직하게는 6 ∼ 20 이다. 아릴렌기로는, 예를 들어 페닐렌기, 시클로헥실페닐렌기, 하이드록시페닐렌기, 시아노페닐렌기, 니트로페닐렌기, 나프틸릴렌기, 비페닐렌기, 안트릴렌기, 피레닐렌기, 및 플루오레닐렌기 등을 들 수 있다. 이들 기에는, 에테르 결합, 케톤 결합, 혹은 에스테르 결합을 포함하고 있어도 된다.In formula (B1), the arylene group represented by R 1 may have a substituent. The number of carbon atoms of the arylene group is preferably 6 to 40, and more preferably 6 to 20. Arylene groups include, for example, phenylene group, cyclohexylphenylene group, hydroxyphenylene group, cyanophenylene group, nitrophenylene group, naphthylylene group, biphenylene group, anthrylene group, pyrenylene group, and fluorenyl. Rengi, etc. can be mentioned. These groups may contain an ether bond, a ketone bond, or an ester bond.
식 (B1) 중, R1 로 나타내는 아르알킬렌기의 탄소수는, 바람직하게는 7 ∼ 30 이고, 보다 바람직하게는 7 ∼ 13 이다. 아르알킬렌기로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 하기 식 (X-I) 로 나타내는 기를 들 수 있다.In formula (B1), the carbon number of the aralkylene group represented by R 1 is preferably 7 to 30, more preferably 7 to 13. The aralkylene group is not particularly limited, but examples include groups represented by the following formula (XI).
[화학식 16][Formula 16]
(식 (X-I) 중, * 은 결합손을 나타낸다)(In formula (X-I), * represents a bond)
식 (B1) 중, R1 로 나타내는 기는, 추가로 치환기를 가지고 있어도 되고, 치환기로는, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬형 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 분기형 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 고리형 알킬기, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬형 알콕시기, 탄소수 3 ∼ 10 의 분기형 알콕시기, 탄소수 3 ∼ 10 의 고리형 알콕시기를 들 수 있다. 이들 중에서도, R1 은, 프로필렌기인 것이 특히 바람직하다.In formula (B1), the group represented by R 1 may further have a substituent, and examples of the substituent include a straight-chain alkyl group with 1 to 10 carbon atoms, a branched alkyl group with 3 to 10 carbon atoms, and a C3 to 10 carbon alkyl group. Examples include a cyclic alkyl group of 10 carbon atoms, a straight-chain alkoxy group of 1 to 10 carbon atoms, a branched alkoxy group of 3 to 10 carbon atoms, and a cyclic alkoxy group of 3 to 10 carbon atoms. Among these, it is especially preferable that R 1 is a propylene group.
식 (B1) 중, R2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 페닐기를 나타낸다. 상기 알킬기 및 페닐기는, 치환기를 가져도 된다. 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기는, 직사슬형, 분기형 또는 고리형 중 어느 것이어도 된다. 알킬기로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 이소프로필기, 이소부틸기, 시클로헥실기를 들 수 있다. 이들 중에서도, R2 는, 메틸기 또는 페닐기인 것이 바람직하다.In formula (B1), R 2 each independently represents an alkyl group or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms. The alkyl group and phenyl group may have a substituent. The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic. The alkyl group is not particularly limited, and examples include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, isopropyl group, isobutyl group, and cyclohexyl group. Among these, R 2 is preferably a methyl group or a phenyl group.
식 (B1) 중, n 은 0 이상의 정수를 나타내고, 예를 들어, 1 ∼ 100 이다. 한층 더 우수한 상용성을 갖고, 저열팽창성 및 내약품성을 양호한 밸런스로 한층 더 향상시킬 수 있는 관점에서, n 은, 바람직하게는 50 이하이고, 보다 바람직하게는 30 이하이고, 더욱 바람직하게는 20 이하이다.In formula (B1), n represents an integer of 0 or more, for example, 1 to 100. From the viewpoint of having further excellent compatibility and being able to further improve low thermal expansion and chemical resistance with a good balance, n is preferably 50 or less, more preferably 30 or less, and even more preferably 20 or less. am.
에폭시 변성 실리콘 (B) 는, 열경화성 수지와의 상용성이 보다 한층 더 우수하고, 저열팽창성 및 내약품성을 양호한 밸런스로 한층 더 향상시키는 관점에서, 식 (B1) 로 나타내는 에폭시 변성 실리콘을 2 종류 이상 함유하는 것이 바람직하다. 이 경우, 2 종류 이상 함유하는 에폭시 변성 실리콘은, 각각 상이한 n 을 갖는 것이 바람직하고, 식 (B1) 에 있어서 n 이 1 ∼ 2 인 에폭시 변성 실리콘과, 식 (B1) 에 있어서 n 이 5 ∼ 20 인 에폭시 변성 실리콘을 함유하는 것이 보다 바람직하다.Epoxy-modified silicone (B) has further excellent compatibility with thermosetting resins, and from the viewpoint of further improving low thermal expansion and chemical resistance with a good balance, two or more types of epoxy-modified silicone represented by formula (B1) are used. It is desirable to contain it. In this case, it is preferable that two or more types of epoxy-modified silicones contained therein each have different n, and that n is 1 to 2 in the formula (B1) and epoxy-modified silicone in which n is 5 to 20 in the formula (B1). It is more preferable to contain phosphorus epoxy modified silicone.
에폭시 변성 실리콘 (B) 의 1 분자당 평균 에폭시기수는, 본 발명의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 1 이상 3 미만인 것이 바람직하고, 1.5 이상 2.5 이하인 것이 보다 바람직하다. 평균 에폭시기수는, 이하의 식에 의해 산출된다.The average number of epoxy groups per molecule of the epoxy-modified silicone (B) is preferably 1 to 3, and more preferably 1.5 to 2.5, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present invention. The average epoxy group number is calculated by the following formula.
(식 중, Bi 는, 분자 중에 i 개의 에폭시기를 갖는 에폭시 변성 실리콘의 에폭시기수를 나타내고, Yi 는, 분자 중에 i 개의 에폭시기를 갖는 에폭시 변성 실리콘의 에폭시 변성 실리콘 전체에서 차지하는 비율을 나타내고, Y1 + Y2 + … Yn = 1 이다)(In the formula, Bi represents the epoxy group number of the epoxy-modified silicone having i epoxy groups in the molecule, Yi represents the ratio of the epoxy-modified silicone having i epoxy groups in the molecule to the entire epoxy-modified silicon, and Y 1 + Y 2 + … Y n = 1)
에폭시 변성 실리콘 (B) 의 함유량은, 한층 더 우수한 저열팽창성 및 내약품성을 발현할 수 있는 관점에서, 에폭시 변성 실리콘 (B) 및 에폭시 화합물 (C) 의 합계 100 질량% 에 대하여, 5 ∼ 95 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 90 질량% 인 것이 보다 바람직하며, 40 ∼ 85 질량% 인 것이 더 바람직하고, 50 ∼ 80 질량% 인 것이 보다 더 바람직하다.The content of epoxy-modified silicone (B) is 5 to 95 mass% with respect to a total of 100 mass% of epoxy-modified silicone (B) and epoxy compound (C) from the viewpoint of being able to exhibit even more excellent low thermal expansion and chemical resistance. It is preferably %, more preferably 10 to 90 mass%, more preferably 40 to 85 mass%, and even more preferably 50 to 80 mass%.
에폭시 변성 실리콘 (B) 로는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조한 제조품을 사용해도 된다. 시판품으로는, 예를 들어, 신에츠 화학 공업 (주) 제품의 「X-22-163」, 「KF-105」를 들 수 있다.As the epoxy-modified silicone (B), a commercial product may be used, or a manufactured product manufactured by a known method may be used. Commercially available products include, for example, “X-22-163” and “KF-105” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
[에폭시 화합물 (C)][Epoxy compound (C)]
에폭시 화합물 (C) 는, 에폭시 변성 실리콘 (B) 이외의 에폭시 화합물이고, 보다 구체적으로는, 폴리실록산 골격을 갖지 않는 에폭시 화합물이다. 본 실시형태의 경화성 조성물은, 에폭시 화합물 (C) 를 함유함으로써, 보다 우수한 상용성, 내열성, 내약품성, 동박 필 강도 및 절연 신뢰성을 발현할 수 있다.The epoxy compound (C) is an epoxy compound other than epoxy modified silicone (B), and more specifically, it is an epoxy compound that does not have a polysiloxane skeleton. The curable composition of the present embodiment can exhibit better compatibility, heat resistance, chemical resistance, copper foil peel strength, and insulation reliability by containing the epoxy compound (C).
에폭시 화합물 (C) 로는, 에폭시 변성 실리콘 (B) 이외의 에폭시 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 본 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 에폭시 화합물 (C) 로는, 전형적으로는, 1 분자 중에 에폭시기를 2 개 갖는 2 관능 에폭시 화합물이나 1 분자 중에 에폭시기를 3 개 이상 갖는 다관능 에폭시 화합물을 사용할 수 있다. 에폭시 화합물 (C) 는, 한층 더 우수한 상용성, 내열성, 내약품성, 동박 필 강도 및 절연 신뢰성을 발현할 수 있는 관점에서, 2 관능 에폭시 화합물 및/또는 다관능 에폭시 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.The epoxy compound (C) is not particularly limited as long as it is an epoxy compound other than epoxy modified silicone (B). As the epoxy compound (C) in the curable composition of the present embodiment, typically a bifunctional epoxy compound having two epoxy groups in one molecule or a polyfunctional epoxy compound having three or more epoxy groups in one molecule can be used. . The epoxy compound (C) preferably contains a bifunctional epoxy compound and/or a polyfunctional epoxy compound from the viewpoint of being able to exhibit further excellent compatibility, heat resistance, chemical resistance, copper foil peeling strength, and insulation reliability.
본 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 에폭시 화합물 (C) 로는, 특별히 한정되지 않지만, 하기 식 (3a) 로 나타내는 화합물을 사용할 수 있다.The epoxy compound (C) in the curable composition of the present embodiment is not particularly limited, but a compound represented by the following formula (3a) can be used.
[화학식 17][Formula 17]
(식 (3a) 중, Ar3 은, 각각 독립적으로, 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리를 나타내고, Ar4 는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 비페닐 고리를 나타내고, R3a 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, k 는 1 ∼ 50 의 정수를 나타내고,(In formula (3a), Ar 3 each independently represents a benzene ring or a naphthalene ring, Ar 4 represents a benzene ring, a naphthalene ring or a biphenyl ring, and R 3a each independently represents a hydrogen atom or Represents a methyl group, k represents an integer from 1 to 50,
여기서, Ar3 에 있어서의 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리는, 추가로 하나 또는 복수의 치환기를 가져도 되고, 당해 치환기는, 도시하지 않는 글리시딜옥시기여도 되고, 그 밖의 치환기, 예를 들어 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 페닐기 등이어도 되고,Here, the benzene ring or naphthalene ring in Ar 3 may further have one or more substituents, and the substituent may be a glycidyloxy group not shown, or other substituents, for example, having 1 to 1 carbon atoms. 5 may be an alkyl group, phenyl group, etc.,
Ar4 에 있어서의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 비페닐 고리는, 추가로 하나 또는 복수의 치환기를 가져도 되고, 당해 치환기는, 글리시딜옥시기여도 되고, 그 밖의 치환기, 예를 들어 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 페닐기 등이어도 된다)The benzene ring, naphthalene ring, or biphenyl ring for Ar 4 may further have one or more substituents, and the substituent may be a glycidyloxy group, or other substituents, for example, having 1 to 5 carbon atoms. may be an alkyl group, phenyl group, etc.)
상기 식 (3a) 로 나타내는 화합물 중, 2 관능 에폭시 화합물로는, 예를 들어, 하기 식 (b1) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Among the compounds represented by the above formula (3a), examples of the bifunctional epoxy compound include those represented by the following formula (b1).
[화학식 18][Formula 18]
(식 (b1) 중, Ar3 은, 각각 독립적으로, 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리를 나타내고, Ar4 는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 비페닐 고리를 나타내고, R3a 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고,(In formula (b1), Ar 3 each independently represents a benzene ring or a naphthalene ring, Ar 4 represents a benzene ring, a naphthalene ring or a biphenyl ring, and R 3a each independently represents a hydrogen atom or Represents a methyl group,
여기서, Ar3 에 있어서의 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리는, 추가로 하나 또는 복수의 치환기를 가져도 되고, 당해 치환기는, 예를 들어 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기나 페닐기 등의 글리시딜옥시기 이외의 치환기여도 되고,Here, the benzene ring or naphthalene ring for Ar 3 may further have one or more substituents, and the substituents are, for example, substituted other than a glycidyloxy group such as an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a phenyl group. You can also contribute,
Ar4 에 있어서의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 비페닐 고리는, 추가로 하나 또는 복수의 치환기를 가져도 되고, 당해 치환기는, 예를 들어 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기나 페닐기 등의 글리시딜옥시기 이외의 치환기여도 된다)The benzene ring, naphthalene ring, or biphenyl ring for Ar 4 may further have one or more substituents, and the substituents include, for example, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a glycidyloxy group such as a phenyl group. may be a substitution contribution)
식 (3a) 로 나타내는 화합물은, 식 (3a) 에 있어서 Ar4 가 적어도 글리시딜옥시기로 치환된, 페놀류 노볼락형 에폭시 수지인 것이 바람직하다. 페놀류 노볼락형 에폭시 수지로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 하기 식 (3-1) 로 나타내는 구조를 갖는 화합물 (나프탈렌 골격을 갖는 나프탈렌 골격 함유 다관능 에폭시 수지) 이나, 나프탈렌크레졸노볼락형 에폭시 수지를 들 수 있다.The compound represented by formula (3a) is preferably a phenolic novolak-type epoxy resin in which Ar 4 in formula (3a) is at least substituted with a glycidyloxy group. The phenolic novolak-type epoxy resin is not particularly limited, but examples include compounds having a structure represented by the following formula (3-1) (naphthalene skeleton-containing polyfunctional epoxy resin) and naphthalenecresol novolak. A type epoxy resin is mentioned.
[화학식 19][Formula 19]
(식 중, Ar31 은, 각각 독립적으로, 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리를 나타내고, Ar41 은, 각각 독립적으로, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 비페닐 고리를 나타내고, R31a 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, p 는, 0 ∼ 2 의 정수이며, 바람직하게는 0 또는 1 을 나타내고, kz 는 1 ∼ 50 의 정수를 나타내며, 각 고리는, 글리시딜옥시기 이외의 치환기 (예를 들면, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 또는 페닐기) 를 가져도 되고, Ar31 및 Ar41 의 적어도 일방은 나프탈렌 고리를 나타낸다)(Wherein, Ar 31 each independently represents a benzene ring or a naphthalene ring, Ar 41 each independently represents a benzene ring, a naphthalene ring, or a biphenyl ring, and R 31a each independently represents a hydrogen atom. Or represents a methyl group, p is an integer from 0 to 2, preferably 0 or 1, kz represents an integer from 1 to 50, and each ring has a substituent other than a glycidyloxy group (for example, may have an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group or a phenyl group having 1 to 5 carbon atoms, and at least one of Ar 31 and Ar 41 represents a naphthalene ring)
식 (3-1) 로 나타내는 구조를 갖는 화합물로는, 식 (3-2) 로 나타내는 구조를 갖는 화합물을 들 수 있다.Examples of the compound having a structure represented by formula (3-1) include compounds having a structure represented by formula (3-2).
[화학식 20][Formula 20]
(식 중, R 은, 메틸기를 나타내고, kz 는, 상기 식 (3-1) 중의 kz 와 동일한 의미이다)(In the formula, R represents a methyl group, and kz has the same meaning as kz in the above formula (3-1))
나프탈렌크레졸노볼락형 에폭시 수지로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 하기 식 (NE) 로 나타내는 크레졸/나프톨노볼락형 에폭시 수지가 바람직하다. 또한, 하기 식 (NE) 로 나타내는 화합물은, 크레졸노볼락에폭시의 구성 단위와, 나프톨노볼락에폭시의 구성 단위의 랜덤 공중합체이고, 크레졸에폭시 및 나프톨에폭시 모두가 말단이 될 수 있다.The naphthalene cresol novolak type epoxy resin is not particularly limited, but for example, a cresol/naphthol novolak type epoxy resin represented by the following formula (NE) is preferable. In addition, the compound represented by the following formula (NE) is a random copolymer of a structural unit of cresol novolac epoxy and a structural unit of naphthol novolac epoxy, and both cresol epoxy and naphthol epoxy can be terminals.
[화학식 21][Formula 21]
상기 식 (NE) 에 있어서의 m 및 n 은, 각각 1 이상의 정수를 나타낸다. m 및 n 의 상한 및 그 비에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 저열팽창성의 관점에서, m : n (여기서, m + n = 100) 으로서 30 ∼ 50 : 70 ∼ 50 인 것이 바람직하고, 45 ∼ 55 : 55 ∼ 45 가 보다 바람직하다.In the above formula (NE), m and n each represent an integer of 1 or more. There is no particular limitation on the upper limit and ratio of m and n, but from the viewpoint of low thermal expansion, m:n (here, m + n = 100) is preferably 30 to 50:70 to 50, and 45 to 55: 55 to 45 is more preferable.
나프탈렌크레졸노볼락형 에폭시 수지로는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 시판품으로는, 예를 들어, 닛폰 화약 주식회사 제품의 「NC-7000」, 「NC-7300」, 「NC-7300L」이나, DIC 주식회사 제품의 「HP-9540」, 「HP-9500」등을 들 수 있고, 「HP-9540」이 특히 바람직하다.As the naphthalenecresol novolak-type epoxy resin, a commercial product may be used, or a product manufactured by a known method may be used. Commercially available products include, for example, "NC-7000", "NC-7300", and "NC-7300L" manufactured by Nippon Explosives Co., Ltd., and "HP-9540" and "HP-9500" manufactured by DIC Corporation. possible, and “HP-9540” is particularly preferable.
식 (3a) 로 나타내는 화합물은, 상기 서술한 페놀류 노볼락형 에폭시 수지에 해당하지 않는 화합물 (이하, 「아르알킬형 에폭시 수지」라고도 한다) 이어도 된다.The compound represented by formula (3a) may be a compound (hereinafter also referred to as “aralkyl type epoxy resin”) that does not correspond to the phenol novolac type epoxy resin described above.
아르알킬형 에폭시 수지로는, 식 (3a) 에 있어서 Ar3 이 나프탈렌 고리이고, Ar4 가 벤젠 고리인 화합물 (「나프톨아르알킬형 에폭시 수지」라고도 한다), 및 식 (3a) 에 있어서 Ar3 이 벤젠 고리이고, Ar4 가 비페닐 고리인 화합물 (비페닐아르알킬형 에폭시 수지」라고도 한다) 인 것이 바람직하고, 비페닐아르알킬형 에폭시 수지인 것이 보다 바람직하다.Examples of the aralkyl type epoxy resin include compounds in which Ar 3 is a naphthalene ring and Ar 4 is a benzene ring in formula (3a) (also referred to as “naphthol aralkyl type epoxy resin”), and Ar 3 in formula (3a) A compound in which Ar 4 is a benzene ring and Ar 4 is a biphenyl ring (also referred to as “biphenyl aralkyl type epoxy resin”) is preferable, and it is more preferable that it is a biphenyl aralkyl type epoxy resin.
나프톨아르알킬형 에폭시 수지로는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 시판품으로는, 예를 들어, DIC 주식회사 제품의 「HP-5000」, 「HP-9900」, 닛테츠 케미컬 & 머티리얼 주식회사 제품의 「ESN-375」, 「ESN-475」등을 들 수 있다.As the naphthol aralkyl type epoxy resin, a commercial product may be used, or a product manufactured by a known method may be used. Commercially available products include, for example, “HP-5000” and “HP-9900” manufactured by DIC Corporation, and “ESN-375” and “ESN-475” manufactured by Nittetsu Chemical & Materials Corporation.
비페닐아르알킬형 에폭시 수지는, 하기 식 (3b) 로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.The biphenyl aralkyl type epoxy resin is preferably a compound represented by the following formula (3b).
[화학식 22][Formula 22]
(식 중, ka 는, 1 이상의 정수를 나타내고, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 6 이 보다 바람직하다)(In the formula, ka represents an integer of 1 or more, preferably 1 to 20, more preferably 1 to 6)
상기 식 (3b) 로 나타내는 화합물 중, 2 관능 에폭시 화합물로는, 예를 들어, 식 (3b) 에 있어서 ka 가 1 인 화합물을 들 수 있다.Among the compounds represented by the formula (3b), examples of the bifunctional epoxy compound include compounds where ka is 1 in the formula (3b).
비페닐아르알킬형 에폭시 수지로는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 시판품으로는, 예를 들어, 닛폰 화약 주식회사 제품의 「NC-3000」, 「NC-3000L」, 「NC-3000FH」등을 들 수 있다.As the biphenyl aralkyl type epoxy resin, a commercial product may be used, or a product manufactured by a known method may be used. Commercially available products include, for example, "NC-3000", "NC-3000L", and "NC-3000FH" manufactured by Nippon Explosives Co., Ltd.
또한, 본 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 에폭시 화합물 (C) 로는, 나프탈렌형 에폭시 수지 (식 (3a) 로 나타내는 화합물에 해당하는 것을 제외한다) 를 사용하는 것이 바람직하다. 나프탈렌형 에폭시 수지로는, 내열성, 내약품성, 동박 필 강도 및 절연 신뢰성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 나프틸렌에테르형 에폭시 수지인 것이 바람직하다.Additionally, as the epoxy compound (C) in the curable composition of the present embodiment, it is preferable to use a naphthalene type epoxy resin (excluding those corresponding to the compound represented by formula (3a)). The naphthalene type epoxy resin is preferably a naphthylene ether type epoxy resin from the viewpoint of further improving heat resistance, chemical resistance, copper foil peel strength, and insulation reliability.
나프틸렌에테르형 에폭시 수지는, 내열성, 내약품성, 동박 필 강도 및 절연 신뢰성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 하기 식 (3-3) 으로 나타내는 2 관능 에폭시 화합물 또는 하기 식 (3-4) 로 나타내는 다관능 에폭시 화합물, 혹은 그들의 혼합물인 것이 바람직하다.From the viewpoint of further improving heat resistance, chemical resistance, copper foil peeling strength, and insulation reliability, the naphthylene ether type epoxy resin is a bifunctional epoxy compound represented by the following formula (3-3) or a bifunctional epoxy compound represented by the following formula (3-4) It is preferable that it is a multifunctional epoxy compound or a mixture thereof.
[화학식 23][Formula 23]
(식 중, R13 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기 (예를 들어, 메틸기 또는 에틸기), 또는 탄소수 2 ∼ 3 의 알케닐기 (예를 들어, 비닐기, 알릴기 또는 프로페닐기) 를 나타낸다)(In the formula, R 13 is each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group), or an alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms (for example, a vinyl group, an allyl group or represents a propenyl group)
[화학식 24][Formula 24]
(식 중, R14 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기 (예를 들어, 메틸기 또는 에틸기), 또는 탄소수 2 ∼ 3 의 알케닐기 (예를 들어, 비닐기, 알릴기 또는 프로페닐기) 를 나타낸다)(In the formula, R 14 is each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group), or an alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms (for example, a vinyl group, an allyl group or represents a propenyl group)
나프틸렌에테르형 에폭시 수지는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 나프틸렌에테르형 에폭시 수지의 시판품으로는, 예를 들어, DIC 주식회사 제품의 「HP-6000」, 「EXA-7300」, 「EXA-7310」, 「EXA-7311」, 「EXA-7311L」, 「EXA7311-G3」, 「EXA7311-G4」, 「EXA-7311G4S」, 「EXA-7311G5」등을 들 수 있고, 특히 HP-6000 이 바람직하다.As the naphthylene ether type epoxy resin, a commercial product may be used, or a product manufactured by a known method may be used. Commercially available products of naphthylene ether type epoxy resin include, for example, "HP-6000", "EXA-7300", "EXA-7310", "EXA-7311", "EXA-7311L", and "EXA-7311L" manufactured by DIC Corporation. Examples include "EXA7311-G3", "EXA7311-G4", "EXA-7311G4S", and "EXA-7311G5", and HP-6000 is particularly preferable.
나프탈렌형 에폭시 수지의 상기한 것 이외의 예로는, 이하에 한정되지 않지만, 하기 식 (b3) 으로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Examples of the naphthalene type epoxy resin other than those mentioned above include, but are not limited to, a compound represented by the following formula (b3).
[화학식 25][Formula 25]
(식 (b3) 중, R3b 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 (예를 들어, 메틸기 또는 에틸기), 아르알킬기, 벤질기, 나프틸기, 적어도 1 개의 글리시딜옥시기를 함유하는 나프틸기 또는 적어도 1 개의 글리시딜옥시기를 함유하는 나프틸메틸기를 나타내고, n 은, 0 이상의 정수 (예를 들어, 0 ∼ 2) 를 나타낸다)(In formula (b3), R 3b is each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group), an aralkyl group, a benzyl group, a naphthyl group, or at least one glycidyloxy group. represents a naphthyl group containing a group or a naphthylmethyl group containing at least one glycidyloxy group, and n represents an integer of 0 or more (for example, 0 to 2).
상기 식 (b3) 으로 나타내는 화합물의 시판품으로는, 예를 들어, DIC 주식회사 제품의 「HP-4032」(상기 식 (b3) 에 있어서 n = 0), 「HP-4710」(상기 식 (b3) 에 있어서, n = 0 이며, R3b 가 적어도 1 개의 글리시딜옥시기를 함유하는 나프틸메틸기) 등을 들 수 있다.Commercially available products of the compound represented by the above formula (b3) include, for example, “HP-4032” manufactured by DIC Corporation (n = 0 in the above formula (b3)) and “HP-4710” (the above formula (b3) where n = 0 and R 3b is a naphthylmethyl group containing at least one glycidyloxy group).
또한, 본 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 에폭시 화합물 (C) 로는, 비페닐형 에폭시 수지 (상기 서술한 에폭시 화합물 (C) 에 해당하는 것을 제외한다) 를 사용하는 것이 바람직하다.In addition, as the epoxy compound (C) in the curable composition of the present embodiment, it is preferable to use a biphenyl type epoxy resin (excluding those corresponding to the epoxy compound (C) described above).
비페닐형 에폭시 수지로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 하기 식 (b2) 로 나타내는 화합물 (화합물 (b2)) 을 들 수 있다.The biphenyl type epoxy resin is not particularly limited, but examples include a compound (compound (b2)) represented by the following formula (b2).
[화학식 26][Formula 26]
(식 (b2) 중, Ra 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다)(In formula (b2), Ra each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom.)
식 (b2) 중, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기는, 직사슬형, 분기형 또는 고리형 중 어느 것이어도 된다. 알킬기로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 이소프로필기, 이소부틸기 및 시클로헥실기를 들 수 있다.In formula (b2), the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic. The alkyl group is not particularly limited, but examples include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, isopropyl group, isobutyl group, and cyclohexyl group.
비페닐형 에폭시 수지가 화합물 (b2) 인 경우, 비페닐형 에폭시 수지는, 알킬기인 Ra 의 수가 상이한 화합물 (b2) 의 혼합물의 형태여도 된다. 구체적으로는, 알킬기인 Ra 의 수가 상이한 비페닐형 에폭시 수지의 혼합물인 것이 바람직하고, 알킬기인 Ra 의 수가 0 인 화합물 (b2) 와, 알킬기인 Ra 의 수가 4 인 화합물 (b2) 의 혼합물인 것이 보다 바람직하다.When the biphenyl type epoxy resin is compound (b2), the biphenyl type epoxy resin may be in the form of a mixture of compounds (b2) having different numbers of Ra, which is an alkyl group. Specifically, it is preferable that it is a mixture of biphenyl type epoxy resins with different numbers of Ra, which is an alkyl group, and is a mixture of compound (b2) where the number of Ra, which is an alkyl group, is 0, and compound (b2) where the number of Ra, which is an alkyl group, is 4. It is more desirable.
또한, 본 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 에폭시 화합물 (C) 로는, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지 (상기 서술한 에폭시 화합물 (C) 에 해당하는 것을 제외한다) 를 사용할 수 있다.In addition, as the epoxy compound (C) in the curable composition of the present embodiment, a dicyclopentadiene type epoxy resin (excluding those corresponding to the epoxy compound (C) described above) can be used.
디시클로펜타디엔형 에폭시 수지로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 하기 식 (3-5) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.The dicyclopentadiene type epoxy resin is not particularly limited, but examples include compounds represented by the following formula (3-5).
[화학식 27][Formula 27]
(식 중, R3c 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타내고, k2 는, 0 ∼ 10 의 정수를 나타낸다)(In the formula, R 3c each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and k2 represents an integer from 0 to 10.)
상기 식 (3-5) 로 나타내는 화합물은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 하기 식 (b4) 로 나타내는 화합물이어도 된다.The compound represented by the above formula (3-5) is not particularly limited, but may be, for example, a compound represented by the following formula (b4).
[화학식 28][Formula 28]
(식 (b4) 중, R3c 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 (예를 들어, 메틸기 또는 에틸기) 를 나타낸다)(In formula (b4), R 3c each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group).
디시클로펜타디엔형 에폭시 수지는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조한 제조품을 사용해도 된다. 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지의 시판품으로는, 다이닛폰 잉크 화학 공업 주식회사 제품의 「EPICRON HP-7200L」, 「EPICRON HP-7200」, 「EPICRON HP-7200H」, 「EPICRON HP-7000HH」 등을 들 수 있다.The dicyclopentadiene type epoxy resin may be a commercially available product or a manufactured product manufactured by a known method. Commercially available products of dicyclopentadiene type epoxy resin include “EPICRON HP-7200L,” “EPICRON HP-7200,” “EPICRON HP-7200H,” and “EPICRON HP-7000HH” manufactured by Dainippon Ink Chemical Industry Co., Ltd. You can.
이들 중에서도, 에폭시 화합물 (C) 는, 한층 더 우수한 내열성, 내약품성, 동박 필 강도 및 절연 신뢰성을 발현할 수 있는 관점에서, 식 (3a) 로 나타내는 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지 및 비페닐형 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상인 것이 바람직하고, 이 경우에 있어서, 식 (3a) 로 나타내는 에폭시 수지는 나프탈렌크레졸노볼락형 에폭시 수지를 포함하고, 나프탈렌형 에폭시 수지는 나프틸렌에테르형 에폭시 수지를 포함하는 것이 바람직하다.Among these, the epoxy compound (C) is an epoxy resin represented by formula (3a), a naphthalene-type epoxy resin, and a biphenyl-type epoxy from the viewpoint of being able to exhibit even more excellent heat resistance, chemical resistance, copper foil peeling strength, and insulation reliability. It is preferable that it is at least one selected from the group consisting of resins, and in this case, the epoxy resin represented by formula (3a) includes a naphthalene cresol novolak-type epoxy resin, and the naphthalene-type epoxy resin is a naphthylene ether-type epoxy resin. It is desirable to include.
에폭시 화합물 (C) 로는, 전술한 에폭시 화합물에 해당하지 않는, 다른 에폭시 수지를 포함하고 있어도 된다.The epoxy compound (C) may contain other epoxy resins that do not correspond to the above-mentioned epoxy compounds.
다른 에폭시 수지로는, 특별히 한정되지 않지만, 비스페놀형 에폭시 수지, 트리스페놀메탄형 에폭시 수지, 안트라센형 에폭시 수지, 글리시딜에스테르형 에폭시 수지, 폴리올형 에폭시 수지, 이소시아누레이트 고리 함유 에폭시 수지, 플루오렌형 에폭시 수지, 비스페놀 A 형 구조 단위와 탄화수소계 구조 단위로 이루어지는 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Other epoxy resins include, but are not particularly limited to, bisphenol-type epoxy resins, trisphenolmethane-type epoxy resins, anthracene-type epoxy resins, glycidyl ester-type epoxy resins, polyol-type epoxy resins, isocyanurate ring-containing epoxy resins, Examples include fluorene-type epoxy resins and epoxy resins composed of a bisphenol A-type structural unit and a hydrocarbon-based structural unit.
다른 에폭시 수지로는, 상기한 것 중에서도, 내약품성, 동박 필 강도 및 절연 신뢰성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 비스페놀형 에폭시 수지를 포함할 수 있고, 비스페놀형 에폭시 수지로는, 예를 들어 디알릴비스페놀형 에폭시 수지 (예를 들어, 디알릴비스페놀 A 형 에폭시 수지, 디알릴비스페놀 E 형 에폭시 수지, 디알릴비스페놀 F 형 에폭시 수지, 디알릴비스페놀 S 형 에폭시 수지 등) 등을 사용할 수 있다.Among the above, other epoxy resins may include bisphenol-type epoxy resins from the viewpoint of further improving chemical resistance, copper foil peel strength, and insulation reliability. Examples of the bisphenol-type epoxy resin include diallyl Bisphenol-type epoxy resins (for example, diallylbisphenol A-type epoxy resin, diallylbisphenol E-type epoxy resin, diallylbisphenol F-type epoxy resin, diallylbisphenol S-type epoxy resin, etc.) can be used.
에폭시 화합물 (C) 로는, 상기 서술한 에폭시 화합물 및 에폭시 수지 중, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다.As an epoxy compound (C), among the epoxy compounds and epoxy resins mentioned above, one type is used individually or in combination of two or more types.
에폭시 화합물 (C) 의 1 분자당 평균 에폭시기수는, 본 발명의 작용 효과를 보다 유효하고 또한 확실하게 발휘하는 관점에서, 1 이상 3 미만인 것이 바람직하고, 1.5 이상 2.5 이하인 것이 보다 바람직하다. 평균 에폭시기수는, 이하의 식에 의해 산출된다.The average number of epoxy groups per molecule of the epoxy compound (C) is preferably 1 to 3, and more preferably 1.5 to 2.5, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present invention. The average epoxy group number is calculated by the following formula.
(식 중, Ci 는, 분자 중에 i 개의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물의 에폭시기수를 나타내고, Zi 는, 분자 중에 i 개의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물의 에폭시 화합물 전체에서 차지하는 비율을 나타내고, Z1 + Z2 + … Zn = 1 이다)(In the formula, Ci represents the epoxy group number of the epoxy compound having i epoxy groups in the molecule, Zi represents the ratio of the epoxy compound having i epoxy groups in the molecule to the entire epoxy compound, Z 1 + Z 2 + …Z n = 1)
에폭시 화합물 (C) 의 함유량은, 한층 더 우수한 상용성, 내열성, 내약품성, 동박 필 강도 및 절연 신뢰성을 발현할 수 있는 관점에서, 에폭시 변성 실리콘 (B) 및 에폭시 화합물 (C) 의 합계량 100 질량% 에 대하여, 5 ∼ 95 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 90 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 15 ∼ 60 질량% 인 것이 더욱 바람직하고, 20 ∼ 50 질량% 인 것이 특히 바람직하다.The content of the epoxy compound (C) is 100 mass total of the epoxy modified silicone (B) and the epoxy compound (C) from the viewpoint of being able to exhibit further excellent compatibility, heat resistance, chemical resistance, copper foil peeling strength, and insulation reliability. With respect to %, it is preferably 5 to 95 mass%, more preferably 10 to 90 mass%, further preferably 15 to 60 mass%, and especially preferably 20 to 50 mass%.
[고리형 카르보디이미드 화합물 (D)][Cyclic carbodiimide compound (D)]
고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 는, 분자 내에 1 개 이상의 고리형 구조를 갖고, 1 개의 고리형 구조 중에 1 개의 카르보디이미드기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 본 실시형태의 경화성 조성물은, 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 를 함유함으로써, 유동성을 악화시키지 않고, 충분한 성형성을 유지하면서, 유리 전이 온도 (Tg) 가 높아지고, 내열성, 저열팽창성, 동박 필 강도 및 내약품성이 우수하다.The cyclic carbodiimide compound (D) is not particularly limited as long as it has one or more cyclic structures in the molecule and one carbodiimide group in each cyclic structure. By containing the cyclic carbodiimide compound (D), the curable composition of the present embodiment has a high glass transition temperature (Tg), heat resistance, low thermal expansion, and copper foil peel while maintaining sufficient moldability without deteriorating fluidity. Excellent strength and chemical resistance.
고리형 구조는, 카르보디이미드기 (-N=C=N-) 를 갖고, 그 제 1 질소 원자와 제 2 질소 원자가 결합기에 의해 결합되어 있다. 고리형 구조를 형성하는 원자수는, 8 ∼ 50 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 30 인 것이 보다 바람직하고, 10 ∼ 20 인 것이 더욱 바람직하다. 여기서, 고리형 구조를 형성하는 원자수는, 고리형 구조를 직접 구성하는 원자의 수를 의미한다. 예를 들어, 8 원 고리이면 고리형 구조를 형성하는 원자수는 8 이고, 50 원 고리이면 고리형 구조를 형성하는 원자수는 50 이다. 고리형 구조를 형성하는 원자수가 8 이상임으로써, 고리형 카르보디이미드 화합물의 안정성이 양호하고, 보관하기 쉽고, 사용하기 쉽다는 이점을 구비한다. 또, 고리형 구조를 형성하는 원자수가 50 을 초과하는 고리형 카르보디이미드 화합물의 합성은 곤란하다.The cyclic structure has a carbodiimide group (-N=C=N-), and the first nitrogen atom and the second nitrogen atom are bonded to each other by a linking group. The number of atoms forming the cyclic structure is preferably 8 to 50, more preferably 10 to 30, and still more preferably 10 to 20. Here, the number of atoms forming the cyclic structure means the number of atoms directly forming the cyclic structure. For example, if it is an 8-membered ring, the number of atoms forming a ring-like structure is 8, and if it is a 50-membered ring, the number of atoms forming a ring-like structure is 50. When the number of atoms forming the cyclic structure is 8 or more, the cyclic carbodiimide compound has the advantages of good stability, easy storage, and ease of use. Moreover, it is difficult to synthesize a cyclic carbodiimide compound in which the number of atoms forming a cyclic structure exceeds 50.
고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 는, 하기 식 (D1) 로 나타내는 고리형 구조를 포함하는 것이 바람직하다.The cyclic carbodiimide compound (D) preferably contains a cyclic structure represented by the following formula (D1).
[화학식 29][Formula 29]
(식 (D1) 중, L 은 지방족기, 지환족기, 방향족기 또는 이들을 조합한 기인 2 ∼ 4 가의 결합기이다. 결합기는, 헤테로 원자 및/또는 치환기를 포함하고 있어도 된다.)(In formula (D1), L is a divalent to tetravalent bonding group that is an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, or a combination thereof. The bonding group may contain a hetero atom and/or a substituent.)
헤테로 원자란, O, N, S 및 P 를 말한다. 결합기 중, 2 개의 값은, 고리형 구조를 형성하기 위해서 사용된다. L 이 3 가 또는 4 가의 결합기인 경우, L 은, 단결합, 이중 결합, 원자, 원자 또는 원자단을 개재하여, 폴리머 또는 다른 고리형 구조와 결합하고 있다.Heteroatom refers to O, N, S and P. Among the linking groups, two values are used to form a ring-like structure. When L is a trivalent or tetravalent bonding group, L is bonded to a polymer or other cyclic structure through a single bond, double bond, atom, atom, or atomic group.
(결합기 L)(combiner L)
결합기 L 은, 하기 식 (1-1), (1-2) 또는 (1-3) 으로 나타내는 2 ∼ 4 가의 결합기인 것이 바람직하다.The linking group L is preferably a divalent to tetravalent linking group represented by the following formula (1-1), (1-2) or (1-3).
[화학식 30][Formula 30]
식 (1-1) 중, Ar101 및 Ar102 는, 각각 독립적으로, 헤테로 원자 및 치환기를 포함하고 있어도 되는, 2 ∼ 4 가의 탄소수 5 ∼ 15 의 방향족 탄화수소기이다.In formula (1-1), Ar 101 and Ar 102 each independently represent a 2-4 valent aromatic hydrocarbon group having 5-15 carbon atoms which may contain a hetero atom and a substituent.
Ar101 및 Ar102 로 나타내는 방향족 탄화수소기로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 헤테로 원자를 함유하는 복소 고리 구조를 가져도 되는, 탄소수 5 ∼ 15 의 아릴렌기, 탄소수 5 ∼ 15 의 아렌트리일기, 탄소수 5 ∼ 15 의 아렌테트라일기를 들 수 있다. 여기서, 아릴렌기 (2 가) 로는, 페닐렌기, 나프탈렌디일기 등을 들 수 있다. 아렌트리일기 (3 가) 로는, 벤젠트리일기, 나프탈렌트리일기 등을 들 수 있다. 아렌테트라일기 (4 가) 로는, 벤젠테트라일기, 나프탈렌테트라일기 등을 들 수 있다. 이들 방향족 탄화수소기는 치환기를 가져도 된다. 치환기로는, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 15 의 아릴기, 할로겐 원자, 니트로기, 아미드기, 하이드록실기, 에스테르기, 에테르기, 알데히드기 등을 들 수 있다.The aromatic hydrocarbon group represented by Ar 101 and Ar 102 is not particularly limited, but includes, for example, an arylene group with 5 to 15 carbon atoms and an allentriyl group with 5 to 15 carbon atoms, which may have a heterocyclic ring structure containing a hetero atom. , an aretetrayl group having 5 to 15 carbon atoms. Here, examples of the arylene group (divalent) include phenylene group and naphthalenediyl group. Examples of the allentriyl group (3-valent) include benzene triyl group and naphthalene triyl group. Examples of the arenetetrayl group (tetravalent) include benzenetetrayl group and naphthalenetetrayl group. These aromatic hydrocarbon groups may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, an aldehyde group, etc.
Ar101 및 Ar102 로는, 페닐렌기, 나프탈렌디일기, 벤젠트리일기, 나프탈렌트리일기, 또는 벤젠테트라일기인 것이 바람직하고, 페닐렌기 또는 벤젠트리일기인 것이 보다 바람직하다.Ar 101 and Ar 102 are preferably phenylene group, naphthalenediyl group, benzenetriyl group, naphthalenetriyl group, or benzenetetrayl group, and more preferably phenylene group or benzenetriyl group.
식 (1-2) 중, R101 및 R102 는, 각각 독립적으로, 헤테로 원자 및/또는 치환기를 포함하고 있어도 되는, 2 ∼ 4 가의 탄소수 1 ∼ 20 의 지방족기 (지방족 탄화수소기), 2 ∼ 4 가의 탄소수 3 ∼ 20 의 지환족기 (지환식 탄화수소기) 및 이들의 조합, 혹은 이들 지방족기 및/또는 지환족기와 2 ∼ 4 가의 탄소수 5 ∼ 15 의 방향족기 (방향족 탄화수소기) 의 조합을 들 수 있다.In formula (1-2), R 101 and R 102 each independently represent a 2- to 4-valent aliphatic group (aliphatic hydrocarbon group) having 1 to 20 carbon atoms, which may contain a hetero atom and/or a substituent. Examples include tetravalent alicyclic groups (alicyclic hydrocarbon groups) having 3 to 20 carbon atoms and combinations thereof, or combinations of these aliphatic groups and/or alicyclic groups with 2 to 4 valent aromatic groups (aromatic hydrocarbon groups) having 5 to 15 carbon atoms. You can.
R101 및 R102 로 나타내는 지방족기로는 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬렌기, 탄소수 1 ∼ 20 의 알칸트리일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 알칸테트라일기 등을 들 수 있다. 알킬렌기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 펜틸렌기, 헥실렌기, 헵틸렌기, 옥틸렌기, 노닐렌기, 데실렌기, 도데실렌기, 헥사데실렌기 등을 들 수 있다. 알칸트리일기로는, 메탄트리일기, 에탄트리일기, 프로판트리일기, 부탄트리일기, 펜탄트리일기, 헥산트리일기, 헵탄트리일기, 옥탄트리일기, 노난트리일기, 데칸트리일기, 도데칸트리일기, 헥사데칸트리일기 등을 들 수 있다. 알칸테트라일기로는, 메탄테트라일기, 에탄테트라일기, 프로판테트라일기, 부탄테트라일기, 펜탄테트라일기, 헥산테트라일기, 헵탄테트라일기, 옥탄테트라일기, 노난테트라일기, 데칸테트라일기, 도데칸테트라일기, 헥사데칸테트라일기 등을 들 수 있다. 이들 지방족기는 치환기를 가져도 된다. 치환기로는, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 15 의 아릴기, 할로겐 원자, 니트로기, 아미드기, 하이드록실기, 에스테르기, 에테르기, 알데히드기 등을 들 수 있다.The aliphatic group represented by R 101 and R 102 is not particularly limited, and examples include an alkylene group with 1 to 20 carbon atoms, an alkanetriyl group with 1 to 20 carbon atoms, and an alkanetetrayl group with 1 to 20 carbon atoms. Examples of the alkylene group include methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group, pentylene group, hexylene group, heptylene group, octylene group, nonylene group, decylene group, dodecylene group, and hexadecylene group. . The alkane triyl group includes methane triyl group, ethane triyl group, propane triyl group, butane triyl group, pentane triyl group, hexane triyl group, heptane triyl group, octane triyl group, nonantriyl group, decane triyl group, and dodecane triyl group. , hexadecane triyl group, etc. Alkane tetrayl groups include methane tetrayl group, ethane tetrayl group, propane tetrayl group, butane tetrayl group, pentane tetrayl group, hexane tetrayl group, heptane tetrayl group, octane tetrayl group, nonanetetrayl group, decane tetrayl group, and dodecane tetrayl group. , hexadecane tetrayl group, etc. These aliphatic groups may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, an aldehyde group, etc.
지환족기로는, 탄소수 3 ∼ 20 의 시클로알킬렌기, 탄소수 3 ∼ 20 의 시클로알칸트리일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 시클로알칸테트라일기를 들 수 있다. 시클로알킬렌기로는, 시클로프로필렌기, 시클로부틸렌기, 시클로펜틸렌기, 시클로헥실렌기, 시클로헵틸렌기, 시클로옥틸렌기, 시클로노닐렌기, 시클로데실렌기, 시클로도데실렌기, 시클로헥사데실렌기 등을 들 수 있다. 시클로알칸트리일기로는, 시클로프로판트리일기, 시클로부탄트리일기, 시클로펜탄트리일기, 시클로헥산트리일기, 시클로헵탄트리일기, 시클로옥탄트리일기, 시클로노난트리일기, 시클로데칸트리일기, 시클로도데칸트리일기, 시클로헥사데칸트리일기 등을 들 수 있다. 시클로알칸테트라일기로는, 시클로프로판테트라일기, 시클로부탄테트라일기, 시클로펜탄테트라일기, 시클로헥산테트라일기, 시클로헵탄테트라일기, 시클로옥탄테트라일기, 시클로노난테트라일기, 시클로데칸테트라일기, 시클로도데칸테트라일기, 시클로헥사데칸테트라일기 등을 들 수 있다. 이들 지환족기는, 치환기를 가져도 된다. 치환기로는, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 15 의 아릴기, 할로겐 원자, 니트로기, 아미드기, 하이드록실기, 에스테르기, 에테르기, 알데히드기 등을 들 수 있다.Examples of the alicyclic group include a cycloalkylene group with 3 to 20 carbon atoms, a cycloalkanetriyl group with 3 to 20 carbon atoms, and a cycloalkanetetrayl group with 3 to 20 carbon atoms. Cycloalkylene groups include cyclopropylene group, cyclobutylene group, cyclopentylene group, cyclohexylene group, cycloheptylene group, cyclooctylene group, cyclononylene group, cyclodecylene group, cyclododecylene group, and cyclohexadecylene group. etc. can be mentioned. The cycloalkane triyl group includes cyclopropane triyl group, cyclobutane triyl group, cyclopentane triyl group, cyclohexane triyl group, cycloheptane triyl group, cyclooctane triyl group, cyclononane triyl group, cyclodecane triyl group, and cyclododecane. Triyl group, cyclohexadecane triyl group, etc. are mentioned. Cycloalkane tetrayl groups include cyclopropane tetrayl group, cyclobutane tetrayl group, cyclopentane tetrayl group, cyclohexane tetrayl group, cycloheptane tetrayl group, cyclooctane tetrayl group, cyclononanetetrayl group, cyclodecanetetrayl group, and cyclododecane. Tetrayl group, cyclohexadecanetetrayl group, etc. can be mentioned. These alicyclic groups may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, an aldehyde group, etc.
방향족기로는, 헤테로 원자를 함유하는 복소 고리 구조를 가져도 되는, 탄소수 5 ∼ 15 의 아릴렌기, 탄소수 5 ∼ 15 의 아렌트리일기, 탄소수 5 ∼ 15 의 아렌테트라일기를 들 수 있다. 아릴렌기로는, 페닐렌기, 나프탈렌디일기 등을 들 수 있다. 아렌트리일기 (3 가) 로는, 벤젠트리일기, 나프탈렌트리일기 등을 들 수 있다. 아렌테트라일기 (4 가) 로는, 벤젠테트라일기, 나프탈렌테트라일기 등을 들 수 있다. 이들 방향족기는, 치환기를 가져도 된다. 치환기로는, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 15 의 아릴기, 할로겐 원자, 니트로기, 아미드기, 하이드록실기, 에스테르기, 에테르기, 알데히드기 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic group include an arylene group with 5 to 15 carbon atoms, an allentriyl group with 5 to 15 carbon atoms, and an aretetriyl group with 5 to 15 carbon atoms, which may have a heterocyclic structure containing a heteroatom. Examples of the arylene group include phenylene group and naphthalenediyl group. Examples of the allentriyl group (3-valent) include benzene triyl group and naphthalene triyl group. Examples of the arenetetrayl group (tetravalent) include benzenetetrayl group and naphthalenetetrayl group. These aromatic groups may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, an aldehyde group, etc.
R101 및 R102 로는, 각각 독립적으로, 메틸렌기, 에틸렌기, 비닐리덴기, 페닐렌기 또는 에테르기인 것이 바람직하고, 메틸렌기, 페닐렌기 또는 에테르기인 것이 보다 바람직하다.R 101 and R 102 are each independently preferably a methylene group, an ethylene group, a vinylidene group, a phenylene group, or an ether group, and more preferably a methylene group, a phenylene group, or an ether group.
식 (1-1) 및 (1-2) 중, X1 및 X2 는, 각각 독립적으로, 헤테로 원자 및/또는 치환기를 포함하고 있어도 되는, 2 ∼ 4 가의 탄소수 1 ∼ 20 의 지방족기, 2 ∼ 4 가의 탄소수 3 ∼ 20 의 지환족기, 2 ∼ 4 가의 탄소수 5 ∼ 15 의 방향족기 또는 이들의 조합이다.In formulas (1-1) and (1-2), X 1 and It is a 4-valent alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, a 2-4 valent aromatic group having 5 to 15 carbon atoms, or a combination thereof.
X1 및 X2 에 있어서의 지방족기, 지환족기 및 방향족기의 예로는, 상기 R101 및 R102 에서 예시된 것과 동일한 것을 들 수 있다. X1 및 X2 는, 메틸렌기, 에틸렌기, 비닐리덴기 또는 에테르기인 것이 바람직하고, 메틸렌기 또는 에테르기가 보다 바람직하다.Examples of the aliphatic group, alicyclic group, and aromatic group for X 1 and X 2 include the same as those exemplified for R 101 and R 102 above. X 1 and
식 (1-1) 및 (1-2) 에 있어서, s 및 k 는, 각각 독립적으로 0 ∼ 10 인 것이 바람직하고, 0 ∼ 3 인 것이 보다 바람직하고, 0 ∼ 1 인 것이 더욱 바람직하다. s 및 k 가, 각각 10 을 초과하는 고리형 카르보디이미드 화합물의 합성은 곤란하고, 비용이 증대된다. 또한, s 또는 k 가 2 이상일 때, 반복 단위로서의 X1 또는 X2 는, 다른 X1 또는 X2 와 상이해도 된다.In formulas (1-1) and (1-2), s and k are each independently preferably 0 to 10, more preferably 0 to 3, and still more preferably 0 to 1. Synthesis of cyclic carbodiimide compounds in which s and k each exceed 10 is difficult and costs increase. Additionally, when s or k is 2 or more, X 1 or X 2 as a repeating unit may be different from other X 1 or X 2 .
식 (1-3) 중, X3 은, 헤테로 원자 및/또는 치환기를 포함하고 있어도 되는, 2 ∼ 4 가의 탄소수 1 ∼ 20 의 지방족기, 2 ∼ 4 가의 탄소수 3 ∼ 20 의 지환족기, 2 ∼ 4 가의 탄소수 5 ∼ 15 의 방향족기 또는 이들의 조합이다.In formula ( 1-3 ), It is a tetravalent aromatic group having 5 to 15 carbon atoms or a combination thereof.
X3 에 있어서의 지방족기, 지환족기 및 방향족기의 예로는, 상기 R101, R102, X1 및 X2 에서 예시된 것과 동일한 것을 들 수 있다. X3 으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 비닐리덴기, 또는 에테르기인 것이 바람직하고, 메틸렌기 또는 에테르기인 것이 보다 바람직하다.Examples of the aliphatic group, alicyclic group , and aromatic group for X 3 include the same groups as those exemplified for R 101 , R 102 , X 3 is preferably a methylene group, an ethylene group, a vinylidene group, or an ether group, and more preferably a methylene group or an ether group.
또한, Ar101, Ar102, R101, R102, X1, X2, X3 은, O 원자, N 원자, S 원자 및 P 원자에서 선택되는 헤테로 원자를 가지고 있어도 된다. 단, 헤테로 원자가 N 원자인 경우에는, 그 N 원자는 니트로기 및/또는 아미드기로서 존재한다.Additionally, Ar 101 , Ar 102 , R 101 , R 102 , X 1 , However, when the hetero atom is an N atom, the N atom exists as a nitro group and/or an amide group.
또한, L 이 2 가의 결합기일 때는, Ar101, Ar102, R101, R102, X1, X2 및 X3 의 전부는, 2 가의 기이다. L 이 3 가의 결합기일 때는, Ar101, Ar102, R101, R102, X1, X2 및 X3 중 1 개는, 3 가의 기이다. L 이 4 가의 결합기일 때는, Ar101, Ar102, R101, R102, X1, X2 및 X3 중 1 개는, 4 가의 기이거나, 또는 Ar101, Ar102, R101, R102, X1, X2 및 X3 중 2 개가 3 가의 기이다.Additionally, when L is a divalent linking group, all of Ar 101 , Ar 102 , R 101 , R 102 , X 1 , X 2 and X 3 are divalent groups. When L is a trivalent linking group, one of Ar 101 , Ar 102 , R 101 , R 102 , X 1 , X 2 and X 3 is a trivalent group. When L is a tetravalent linking group, one of Ar 101 , Ar 102 , R 101 , R 102 , X 1 , X 2 and X 3 is a tetravalent group, or Ar 101 , Ar 102 , R 101 and R 102 , two of X 1 , X 2 and X 3 are trivalent groups.
L 이 3 가 또는 4 가의 결합기로서, L 이 카르보디이미드기를 갖는 다른 고리형 구조와 결합하고 있는 양태로는, 식 (1) 로 나타내는 2 개 이상의 고리형 구조가, 스피로 고리 구조, 단결합, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 10 의 방향족 고리 구조, 탄소수 4 ∼ 12 의 시클로알칸 고리 구조 등에서 선택되는 탄소수 1 ∼ 15 (바람직하게는 1 ∼ 12) 의 공유 부분을 개재하여 결합하고 있는 양태를 들 수 있다. 이와 같은 양태의 구체예를 하기 식 (2), (4), (5) 에 나타낸다.In the form in which L is a trivalent or tetravalent linking group and is bonded to another cyclic structure having a carbodiimide group, two or more cyclic structures represented by formula (1) include a spiro ring structure, a single bond, bonded through a shared portion of 1 to 15 carbon atoms (preferably 1 to 12) selected from an alkylene group with 1 to 10 carbon atoms, an aromatic ring structure with 6 to 10 carbon atoms, and a cycloalkane ring structure with 4 to 12 carbon atoms. Aspects can be given. Specific examples of such aspects are shown in the following formulas (2), (4), and (5).
[화학식 31][Formula 31]
고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 는, 하기 식 (i) 로 나타내는 고리형 카르보디이미드 화합물이어도 된다. 또한, 하기 식 (i) 로 나타내는 고리형 카르보디이미드 화합물은, 분자 중에 2 개 이상의 카르보디이미드기를 가져도 되고, 1 개의 카르보디이미드기를 가져도 된다.The cyclic carbodiimide compound (D) may be a cyclic carbodiimide compound represented by the following formula (i). In addition, the cyclic carbodiimide compound represented by the following formula (i) may have two or more carbodiimide groups in the molecule, or may have one carbodiimide group.
[화학식 32][Formula 32]
(식 (i) 중, Xa 는, 하기 식 (i-1) ∼ (i-3) 으로 나타내는 2 가의 기 또는 하기 식 (i-4) 로 나타내는 4 가의 기이다. Xa 가 2 가일 때 q 는 0 이고, Xa 가 4 가일 때 q 는 1 이다. Ar201 ∼ Ar204 는 각각 독립적으로 방향족 탄화수소기이다. 이들 방향족 탄화수소기는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 또는 페닐기를 치환기로서 가져도 된다.)(In formula (i), Xa is a divalent group represented by the following formulas (i-1) to (i-3) or a tetravalent group represented by the following formula (i-4). When 0 , and when
[화학식 33][Formula 33]
(식 (i-1) 중, n 은 1 ∼ 6 의 정수이다)(In formula (i-1), n is an integer from 1 to 6)
[화학식 34][Formula 34]
(식 (i-2) 중, m 및 n 은, 각각 독립적으로 0 ∼ 3 의 정수이다)(In formula (i-2), m and n are each independently integers from 0 to 3.)
[화학식 35][Formula 35]
(식 (i-3) 중, R301 및 R302 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 페닐기를 나타낸다)(In formula (i-3), R 301 and R 302 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group.)
[화학식 36][Formula 36]
또, 상기 식 (i) 로 나타내는 고리형 카르보디이미드 화합물로는, 이하의 구조식을 갖는 화합물이 몇 가지 예시된다.In addition, examples of the cyclic carbodiimide compound represented by the formula (i) include several compounds having the following structural formulas.
[화학식 37][Formula 37]
고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 는, 유리 전이 온도 (Tg), 내약품성 및 내열성이 한층 더 우수한 관점에서, 1 분자 내에 2 개 이상의 카르보디이미드기를 함유하는 다가 고리형 카르보디이미드 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 는, 경화 성능이 한층 더 우수한 관점에서, 1 분자 내에 2 개 혹은 3 개의 카르보디이미드기를 함유하는 다가 고리형 카르보디이미드 화합물을 포함하는 것이 보다 바람직하다. 이들 다가 고리형 카르보디이미드 화합물은, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다.The cyclic carbodiimide compound (D) includes a polyvalent cyclic carbodiimide compound containing two or more carbodiimide groups in one molecule from the viewpoint of superior glass transition temperature (Tg), chemical resistance, and heat resistance. It is desirable to do so. The cyclic carbodiimide compound (D) more preferably contains a polyvalent cyclic carbodiimide compound containing two or three carbodiimide groups in one molecule from the viewpoint of further excellent curing performance. These polyvalent cyclic carbodiimide compounds are used individually or in combination of two or more types.
다가 고리형 카르보디이미드 화합물로는, 예를 들어, 상기 서술한 카르보디이미드 화합물 중, 1 분자 내에 2 개 이상의 카르보디이미드기를 함유하는 것을 들 수 있다. 이들 중에서도, 유리 전이 온도 (Tg), 내약품성 및 내열성이 한층 더 우수한 관점에서, 하기 식 (D2) 로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.Examples of the polycyclic carbodiimide compound include those containing two or more carbodiimide groups in one molecule among the carbodiimide compounds described above. Among these, a compound represented by the following formula (D2) is preferable from the viewpoint of further excellent glass transition temperature (Tg), chemical resistance, and heat resistance.
[화학식 38][Formula 38]
(식 (D2) 중, X 는, 하기 식 (3) 으로 나타내는 4 가의 기이고, Ar1 ∼ Ar4 는, 각각 독립적으로, 페닐렌기 (예를 들어, 오르토페닐렌기) 또는 나프탈렌-디일기 (예를 들어, 1,2-나프탈렌-디일기) 인 2 가의 연결기이고, 그 연결기는, 치환기를 가져도 된다. 치환기로는, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 15 의 아릴기, 할로겐 원자, 니트로기, 아미드기, 하이드록실기, 에스테르기, 에테르기, 알데히드기 등을 들 수 있다. 또, 이들 연결기는, 헤테로 원자를 포함하는 복소 고리 구조를 갖고 있어도 된다.)( In formula (D2) , For example, it is a divalent linking group (1,2-naphthalene-diyl group), and the linking group may have a substituent. The substituent includes an alkyl group with 1 to 20 carbon atoms, an aryl group with 6 to 15 carbon atoms, and a halogen atom. , nitro group, amide group, hydroxyl group, ester group, ether group, aldehyde group, etc. Additionally, these linking groups may have a heterocyclic structure containing a hetero atom.)
[화학식 39][Formula 39]
고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 는, 내열성이 한층 더 우수한 관점에서, 하기 식 (D3) 으로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.The cyclic carbodiimide compound (D) is preferably a compound represented by the following formula (D3) from the viewpoint of further excellent heat resistance.
[화학식 40][Formula 40]
이들 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 는, 공지된 방법 (예를 들어, 국제 공개 제 2010/071213호 팸플릿에 기재된 방법) 에 의해 제조할 수 있다.These cyclic carbodiimide compounds (D) can be produced by known methods (for example, the method described in the pamphlet of International Publication No. 2010/071213).
고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 의 함유량은, 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 1.0 ∼ 30 질량부인 것이 바람직하고, 2.0 ∼ 15 질량부인 것이 보다 바람직하고, 2.5 ∼ 12.0 질량부인 것이 더욱 바람직하다. 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 의 함유량이, 1.0 질량부 이상임으로써, 내열성, 저열팽창성, 동박 필 강도 및 내약품성이 한층 더 우수한 경향이 있고, 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 의 함유량이, 30 질량부 이하임으로써, 난연성이 한층 더 우수한 경향이 있다.The content of the cyclic carbodiimide compound (D) is preferably 1.0 to 30 parts by mass, more preferably 2.0 to 15 parts by mass, and even more preferably 2.5 to 12.0 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin solid content. When the content of the cyclic carbodiimide compound (D) is 1.0 parts by mass or more, heat resistance, low thermal expansion, copper foil peel strength, and chemical resistance tend to be further excellent, and the content of the cyclic carbodiimide compound (D) tends to be further excellent. When the amount is 30 parts by mass or less, flame retardancy tends to be further excellent.
[화합물 (H)][Compound (H)]
본 실시형태의 경화성 조성물은, 저열팽창성, 내약품성 및 동박 필 강도를 보다 한층 더 향상시키는 관점에서, 말레이미드 화합물, 시안산에스테르 화합물, 알케닐페놀 (A) 이외의 페놀 화합물 (F) 및 알케닐 치환 나드이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 화합물 (H) 를 추가로 함유하는 것이 바람직하다. 화합물 (H) 로는, 특별히 한정되지 않지만, 2 관능 이상인 것이 바람직하고, 3 관능 이상의 다관능이어도 된다.The curable composition of the present embodiment contains a maleimide compound, a cyanate ester compound, a phenolic compound (F) other than alkenylphenol (A), and Al from the viewpoint of further improving low thermal expansion properties, chemical resistance, and copper foil peeling strength. It is preferable to further contain at least one compound (H) selected from the group consisting of kenyl substituted nadimide compounds. The compound (H) is not particularly limited, but is preferably bifunctional or more, and may be trifunctional or more polyfunctional.
본 실시형태의 경화성 조성물 중의 화합물 (H) 의 함유량은, 수지 고형분 100 질량% 에 대하여, 바람직하게는 10 ∼ 80 질량% 인 것이 바람직하고, 20 ∼ 60 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 30 ∼ 50 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.The content of compound (H) in the curable composition of the present embodiment is preferably 10 to 80% by mass, more preferably 20 to 60% by mass, and 30 to 50% by mass, based on 100% by mass of the resin solid content. It is more preferable that it is mass%.
[말레이미드 화합물][Maleimide compound]
본 실시형태의 경화성 조성물은, 저열팽창성 및 내약품성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 말레이미드 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 말레이미드 화합물로는, 1 분자 중에 1 개 이상의 말레이미드기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 1 분자 중에 말레이미드기를 1 개 갖는 모노말레이미드 화합물 (예를 들어, N-페닐말레이미드, N-하이드록시페닐말레이미드 등), 1 분자 중에 말레이미드기를 2 개 이상 갖는 폴리말레이미드 화합물 (예를 들어, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스{4-(4-말레이미드페녹시)-페닐}프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 비스(3,5-디메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 비스(3,5-디에틸-4-말레이미드페닐)메탄), m-페닐렌비스말레이미드, 4-메틸-1,3-페닐렌비스말레이미드, 1,6'-비스말레이미드-(2,2,4-트리메틸)헥산, 하기 식 (H1a) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 하기 식 (H1b) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 이들의 말레이미드 화합물과 아민 화합물의 프레폴리머 등을 들 수 있다.The curable composition of the present embodiment preferably contains a maleimide compound from the viewpoint of further improving low thermal expansion properties and chemical resistance. The maleimide compound is not particularly limited as long as it is a compound having one or more maleimide groups in one molecule, for example, a monomaleimide compound having one maleimide group in one molecule (for example, N-phenylmaleimide , N-hydroxyphenylmaleimide, etc.), polymaleimide compounds having two or more maleimide groups in one molecule (e.g., bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis{4-(4) -maleimidephenoxy)-phenyl}propane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl)methane, bis(3,5-dimethyl-4-maleimidephenyl)methane, bis(3,5) -diethyl-4-maleimidephenyl)methane), m-phenylenebismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide, 1,6'-bismaleimide-(2,2,4 -trimethyl)hexane, maleimide compounds represented by the following formula (H1a), maleimide compounds represented by the following formula (H1b), prepolymers of these maleimide compounds and amine compounds, etc.
[화학식 41][Formula 41]
(식 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n1 은 1 이상의 정수를 나타낸다)(In the formula, R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 or more.)
n1 은, 1 이상이고, 바람직하게는 1 ∼ 100 이고, 보다 바람직하게는 1 ∼ 10 이다.n 1 is 1 or more, preferably 1 to 100, and more preferably 1 to 10.
이들 말레이미드 화합물은, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 저열팽창성 및 내약품성을 보다 한층 더 향상시킬 수 있는 관점에서, 말레이미드 화합물은, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스{4-(4-말레이미드페녹시)-페닐}프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 식 (H1a) 으로 나타내는 말레이미드 화합물 및 하기 식 (H1b) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 것이 바람직하다.These maleimide compounds are used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Among these, from the viewpoint of further improving low thermal expansion and chemical resistance, maleimide compounds include bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis{4-(4-maleimidephenoxy) -phenyl}propane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl)methane, at least one selected from the group consisting of a maleimide compound represented by the formula (H1a) and a maleimide compound represented by the following formula (H1b) It is preferable to include one type.
[화학식 42][Formula 42]
(식 (H1b) 중, R13 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 페닐기를 나타내고, n4 는 1 이상 10 이하의 정수를 나타낸다)(In formula (H1b), R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and n 4 represents an integer from 1 to 10.)
말레이미드 화합물은, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 말레이미드 화합물의 시판품으로는, 케이·아이 화성 주식회사 제품의 「BMI-70」, 「BMI-80」, 「BMI-1000P」, 다이와 화성 공업 주식회사 제품의 「BMI-3000」, 「BMI-4000」, 「BMI-5100」, 「BMI-7000」, 「BMI-2300」, 닛폰 화약 주식회사 제품의 「MIR-3000」 등을 들 수 있다.As the maleimide compound, a commercial item may be used, or a product manufactured by a known method may be used. Commercially available maleimide compounds include “BMI-70,” “BMI-80,” and “BMI-1000P” manufactured by K.I Chemical Co., Ltd., and “BMI-3000” and “BMI-4000” manufactured by Daiwa Chemical Industry Co., Ltd. , “BMI-5100”, “BMI-7000”, “BMI-2300”, “MIR-3000” manufactured by Nippon Explosives Co., Ltd., etc.
말레이미드 화합물의 함유량은, 저열팽창성 및 내약품성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 ∼ 50 질량부이고, 5 ∼ 40 질량부인 것이 보다 바람직하고, 10 ∼ 40 질량부인 것이 더욱 바람직하다.From the viewpoint of further improving low thermal expansion and chemical resistance, the content of the maleimide compound is preferably 1 to 50 parts by mass, more preferably 5 to 40 parts by mass, and 10 to 100 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin solid content. It is more preferable that it is 40 parts by mass.
[시안산에스테르 화합물][Cyanate ester compound]
본 실시형태의 경화성 조성물은, 저열팽창성 및 동박 필 강도를 한층 더 향상시키는 관점에서, 시안산에스테르 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 시안산에스테르 화합물로는, 1 분자 중에 2 개 이상의 시아나토기 (시안산에스테르기) 를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 하기 식 (H2a) 로 나타내는 화합물 등의 나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물, 식 (H2a) 로 나타내는 화합물을 제외한 하기 식 (H2b) 로 나타내는 화합물 등의 노볼락형 시안산에스테르 화합물, 비페닐아르알킬형 시안산에스테르 화합물, 디알릴비스페놀형 시안산에스테르 화합물, 비스(3,3-디메틸-4-시아나토페닐)메탄, 비스(4-시아나토페닐)메탄, 1,3-디시아나토벤젠, 1,4-디시아나토벤젠, 1,3,5-트리시아나토벤젠, 1,3-디시아나토나프탈렌, 1,4-디시아나토나프탈렌, 1,6-디시아나토나프탈렌, 1,8-디시아나토나프탈렌, 2,6-디시아나토나프탈렌, 2,7-디시아나토나프탈렌, 1,3,6-트리시아나토나프탈렌, 4,4'-디시아나토비페닐, 비스(4-시아나토페닐)에테르, 비스(4-시아나토페닐)티오에테르, 비스(4-시아나토페닐)술폰, 2,2-비스(4-시아나토페닐)프로판을 들 수 있다. 이들 시안산에스테르 화합물은, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 본 실시형태에 있어서는, 내열성, 저열팽창성 및 동박 필 강도의 관점에서, 시안산에스테르 화합물이, 나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물 및/또는 노볼락형 시안산에스테르 화합물 등의 다관능 시안산에스테르 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the curable composition of this embodiment contains a cyanate ester compound from a viewpoint of further improving low thermal expansion property and copper foil peeling strength. The cyanate ester compound is not particularly limited as long as it is a compound having two or more cyanato groups (cyanate ester groups) in one molecule. For example, naphthol aralkyl type cyanide such as the compound represented by the following formula (H2a) Acid ester compounds, novolak-type cyanate compounds such as compounds represented by the following formula (H2b) excluding the compounds represented by formula (H2a), biphenyl aralkyl-type cyanate ester compounds, diallyl bisphenol-type cyanate ester compounds, Bis(3,3-dimethyl-4-cyanatophenyl)methane, bis(4-cyanatophenyl)methane, 1,3-dicyanatobenzene, 1,4-dicyanatobenzene, 1,3,5- Tricyanatobenzene, 1,3-dicyanatonaphthalene, 1,4-dicyanatonaphthalene, 1,6-dicyanatonaphthalene, 1,8-dicyanatonaphthalene, 2,6-dicyanatonaphthalene, 2 ,7-dicyanatonaphthalene, 1,3,6-tricyanatonaphthalene, 4,4'-dicyanatobiphenyl, bis(4-cyanatophenyl)ether, bis(4-cyanatophenyl)thioether, bis (4-cyanatophenyl)sulfone and 2,2-bis(4-cyanatophenyl)propane. These cyanate ester compounds are used individually or in combination of two or more types. In this embodiment, from the viewpoint of heat resistance, low thermal expansion, and copper foil peel strength, the cyanate ester compound is a polyfunctional cyanate ester compound such as a naphthol aralkyl-type cyanate ester compound and/or a novolak-type cyanate ester compound. It is desirable to include.
[화학식 43][Formula 43]
(식 중, R6 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 메틸기를 나타내고, n2 는, 1 이상의 정수를 나타낸다)(In the formula, R 6 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 2 represents an integer of 1 or more.)
[화학식 44][Formula 44]
(식 중, Rya 는, 각각 독립적으로, 탄소수 2 ∼ 8 의 알케닐기 또는 수소 원자를 나타내고, Ryb 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타내고, Ryc 는, 각각 독립적으로, 탄소수 4 ∼ 12 의 방향 고리를 나타내고, Ryc 는, 벤젠 고리와 축합 구조를 형성해도 되고, Ryc 는, 존재하고 있어도 되고, 존재하고 있지 않아도 되고, A1a 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기, 탄소수 7 ∼ 16 의 아르알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴렌기, 플루오레닐리덴기, 술포닐기, 산소 원자, 황 원자, 또는 직접 결합 (단결합) 을 나타내고, Ryc 가 존재하지 않는 경우에는, 1 개의 벤젠 고리에 Rya 및/또는 Ryb 의 기를 2 개 이상 가져도 된다. n 은, 1 ∼ 20 의 정수를 나타낸다.)(Wherein, Rya each independently represents an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms or a hydrogen atom, Ryb each independently represents an alkyl group or a hydrogen atom having 1 to 10 carbon atoms, and Ryc each independently represents, Represents an aromatic ring having 4 to 12 carbon atoms, Ryc may form a condensed structure with a benzene ring, Ryc may or may not be present, and A 1a each independently represents a ring having 1 to 6 carbon atoms. Represents an alkylene group, an aralkylene group with 7 to 16 carbon atoms, an arylene group with 6 to 10 carbon atoms, a fluorenylidene group, a sulfonyl group, an oxygen atom, a sulfur atom, or a direct bond (single bond), and Ryc is not present. may have two or more groups of Rya and/or Ryb in one benzene ring. n represents an integer of 1 to 20.)
시안산에스테르 화합물은, 이들 중에서도, 내열성, 저열팽창성 및 동박 필 강도를 한층 더 향상시키는 관점에서, 식 (H2a) 및/또는 식 (H2b) 로 나타내는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.Among these, the cyanate ester compound preferably contains a compound represented by formula (H2a) and/or formula (H2b) from the viewpoint of further improving heat resistance, low thermal expansion, and copper foil peeling strength.
식 (H2a) 중, n2 는, 1 이상의 정수를 나타내고, 1 ∼ 20 의 정수인 것이 바람직하고, 1 ∼ 10 의 정수인 것이 보다 바람직하다.In the formula (H2a), n 2 represents an integer of 1 or more, is preferably an integer of 1 to 20, and is more preferably an integer of 1 to 10.
식 (H2b) 중, Rya 로서 나타내는 탄소수 2 ∼ 8 의 알케닐기로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 비닐기, 알릴기, 프로페닐기, 부테닐기, 헥세닐기 등을 들 수 있다.In formula (H2b), the alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms represented by Rya is not particularly limited, and examples include vinyl group, allyl group, propenyl group, butenyl group, and hexenyl group.
식 (H2b) 중, Ryb 로서 나타내는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기 등의 직사슬형 알킬기 ; 이소프로필기, 이소부틸기, tert-부틸기 등의 분기형 알킬기를 들 수 있다.In formula (H2b), the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by Ryb is not particularly limited, and examples include linear alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, and hexyl groups; Branched alkyl groups such as isopropyl group, isobutyl group, and tert-butyl group can be mentioned.
식 (H2b) 중, A1a 로서 나타내는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기로는, 특별히 제한되지 않지만, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 프로필렌기를 들 수 있다. 또한, 식 (H2b) 중, A1a 로서 나타내는 탄소수 7 ∼ 16 의 아르알킬렌기로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 식 : -CH2-Ar-CH2-, -CH2-CH2-Ar-CH2-CH2-, 또는 식 : -CH2-Ar-CH2-CH2- (식 중, Ar 은, 페닐렌기, 나프틸렌기, 또는 비페닐렌기를 나타낸다) 로 나타내는 기를 들 수 있다. 또한, A1a 로서 나타내는 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴렌기로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 페닐렌 고리를 들 수 있다.In formula (H2b), the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms represented by A 1a is not particularly limited, and includes methylene group, ethylene group, trimethylene group, and propylene group. In addition, in the formula (H2b), the aralkylene group having 7 to 16 carbon atoms represented by A 1a is not particularly limited, but examples include the formula: -CH 2 -Ar-CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -Ar-CH 2 -CH 2 -, or the formula: -CH 2 -Ar-CH 2 -CH 2 - (wherein Ar represents a phenylene group, naphthylene group, or biphenylene group). You can. In addition, the arylene group having 6 to 10 carbon atoms represented by A 1a is not particularly limited, and examples include a phenylene ring.
식 (H2b) 중, n 은, 1 ∼ 20 의 정수를 나타내고, 1 ∼ 15 의 정수인 것이 바람직하고, 1 ∼ 10 의 정수인 것이 보다 바람직하다.In the formula (H2b), n represents an integer of 1 to 20, is preferably an integer of 1 to 15, and is more preferably an integer of 1 to 10.
식 (H2b) 로 나타내는 화합물은, 하기 식 (H2c) 로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.The compound represented by formula (H2b) is preferably a compound represented by the following formula (H2c).
[화학식 45][Formula 45]
(식 중, Rx 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R 은, 각각 독립적으로, 탄소수 2 ∼ 8 의 알케닐기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는 수소 원자를 나타내고, n 은, 1 ∼ 10 의 정수를 나타낸다)(Wherein, Rx each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, R each independently represents an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a hydrogen atom, and n is 1. represents an integer from ∼ 10)
이들 시안산에스테르 화합물은, 공지된 방법에 준하여 제조해도 된다. 구체적인 제조 방법으로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2017-195334호 (특히 단락 0052 ∼ 0057) 등에 기재된 방법을 들 수 있다.These cyanate ester compounds may be produced according to known methods. Specific manufacturing methods include, for example, the methods described in Japanese Patent Application Publication No. 2017-195334 (particularly paragraphs 0052 to 0057).
시안산에스테르 화합물의 함유량은, 저열팽창성 및 동박 필 강도를 한층 더 향상시키는 관점에서, 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 3 ∼ 70 질량부인 것이 바람직하고, 5 ∼ 60 질량부인 것이 보다 바람직하고, 10 ∼ 40 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The content of the cyanate ester compound is preferably 3 to 70 parts by mass, and more preferably 5 to 60 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin solid content from the viewpoint of further improving low thermal expansion properties and copper foil peeling strength. And, it is more preferable that it is 10 to 40 parts by mass.
(알케닐페놀 (A) 이외의 페놀 화합물 (F))(Phenol compounds (F) other than alkenylphenol (A))
본 실시형태의 경화성 조성물은, 한층 더 우수한 내약품성을 발현할 수 있는 관점에서, 알케닐페놀 (A) 이외의 페놀 화합물 (F) 를 포함하는 것이 바람직하다. 페놀 화합물 (F) 로는, 특별히 한정되지 않지만, 비스페놀형 페놀 수지 (예를 들어, 비스페놀 A 형 수지, 비스페놀 E 형 수지, 비스페놀 F 형 수지, 비스페놀 S 형 수지 등), 페놀류 노볼락 수지 (예를 들어, 페놀노볼락 수지, 나프톨노볼락 수지, 크레졸노볼락 수지, 후술하는 아미노트리아진노볼락 수지 등), 글리시딜에스테르형 페놀 수지, 나프탈렌형 페놀 수지, 안트라센형 페놀 수지, 디시클로펜타디엔형 페놀 수지, 비페닐형 페놀 수지, 지환식 페놀 수지, 폴리올형 페놀 수지, 아르알킬형 페놀 수지, 페놀 변성 방향족 탄화수소 포름알데히드 수지, 플루오렌형 페놀 수지 등을 들 수 있다. 이들 페놀 화합물은, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다.The curable composition of the present embodiment preferably contains a phenol compound (F) other than alkenylphenol (A) from the viewpoint of being able to exhibit even more excellent chemical resistance. The phenol compound (F) is not particularly limited, but includes bisphenol-type phenol resins (e.g., bisphenol A-type resin, bisphenol E-type resin, bisphenol F-type resin, bisphenol S-type resin, etc.), phenolic novolac resins (e.g. For example, phenol novolak resin, naphthol novolak resin, cresol novolak resin, aminotriazine novolak resin described later, etc.), glycidyl ester type phenol resin, naphthalene type phenol resin, anthracene type phenol resin, dicyclopentadiene type. Phenol resin, biphenyl type phenol resin, alicyclic phenol resin, polyol type phenol resin, aralkyl type phenol resin, phenol-modified aromatic hydrocarbon formaldehyde resin, fluorene type phenol resin, etc. are mentioned. These phenol compounds are used individually or in combination of two or more types.
이들 중에서도, 페놀 화합물 (F) 는, 한층 더 우수한 상용성 및 내약품성을 발현할 수 있는 관점에서, 1 분자 중에 페놀성 수산기를 2 개 갖는 2 관능 페놀 화합물 또는 아미노트리아진노볼락 수지를 포함하는 것이 바람직하다.Among these, the phenol compound (F) contains a bifunctional phenol compound or aminotriazine novolac resin having two phenolic hydroxyl groups in one molecule from the viewpoint of exhibiting even better compatibility and chemical resistance. desirable.
2 관능 페놀 화합물로는, 특별히 한정되지 않지만, 비스페놀, 비스크레졸, 플루오렌 골격을 갖는 비스페놀류 (예를 들어, 플루오렌 골격을 갖는 비스페놀, 플루오렌 골격을 갖는 비스크레졸 등), 비페놀 (예를 들어, p,p'-비페놀 등), 디하이드록시디페닐에테르 (예를 들어, 4,4'-디하이드록시디페닐에테르 등), 디하이드록시디페닐케톤 (예를 들어, 4,4'-디하이드록시디페닐케톤 등), 디하이드록시디페닐술파이드 (예를 들어, 4,4'-디하이드록시디페닐술파이드 등), 디하이드록시아렌 (예를 들어, 하이드로퀴논 등) 을 들 수 있다. 이들 2 관능 페놀 화합물은, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도 2 관능 페놀 화합물은, 한층 더 우수한 내약품성을 발현할 수 있는 관점에서, 비스페놀, 비스크레졸 및 플루오렌 골격을 갖는 비스페놀류로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 것이 바람직하다. 상기와 동일한 관점에서, 플루오렌 골격을 갖는 비스페놀류로는, 비스크레졸플루오렌이 바람직하다.The difunctional phenol compound is not particularly limited, but includes bisphenol, biscresol, bisphenols with a fluorene skeleton (e.g., bisphenol with a fluorene skeleton, biscresol with a fluorene skeleton, etc.), biphenol (e.g. For example, p,p'-biphenol, etc.), dihydroxydiphenyl ether (for example, 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, etc.), dihydroxydiphenyl ketone (for example, 4 , 4'-dihydroxydiphenyl ketone, etc.), dihydroxydiphenyl sulfide (e.g., 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, etc.), dihydroxyarene (e.g., hydro quinone, etc.). These bifunctional phenol compounds are used individually or in combination of two or more types. Among these, the bifunctional phenol compound preferably contains at least one selected from the group consisting of bisphenol, biscresol, and bisphenols having a fluorene skeleton from the viewpoint of exhibiting even more excellent chemical resistance. From the same viewpoint as above, bisphenol having a fluorene skeleton is preferably biscresol fluorene.
아르알킬형 페놀 수지로는, 예를 들어, 하기 식 (c2) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Examples of the aralkyl type phenol resin include a compound represented by the following formula (c2).
[화학식 46][Formula 46]
(식 중, Ar1 은, 각각 독립적으로, 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리를 나타내고, Ar2 는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 또는 비페닐 고리를 나타내고, R2a 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, m 은, 1 ∼ 50 의 정수를 나타내고, 각 고리는, 수산기 이외의 치환기 (예를 들어, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기 등) 를 가져도 된다)(Wherein, Ar 1 each independently represents a benzene ring or a naphthalene ring, Ar 2 represents a benzene ring, a naphthalene ring, or a biphenyl ring, and R 2a each independently represents a hydrogen atom or a methyl group. represents an integer of 1 to 50, and each ring may have a substituent other than a hydroxyl group (for example, an alkyl group or phenyl group having 1 to 5 carbon atoms, etc.)
식 (c2) 로 나타내는 화합물은, 동박 필 강도를 한층 더 향상시키는 관점에서, 식 (c2) 중, Ar1 이 나프탈렌 고리이고, Ar2 가 벤젠 고리인 화합물 (이하, 「나프톨아르알킬형 페놀 수지」 라고도 한다), 및 식 (c2) 중, Ar1 이 벤젠 고리이고, Ar2 가 비페닐 고리인 화합물 (이하, 「비페닐아르알킬형 페놀 수지」 라고도 한다) 인 것이 바람직하다.The compound represented by formula (c2) is a compound (hereinafter referred to as “naphthol aralkyl type phenol resin”) wherein Ar 1 is a naphthalene ring and Ar 2 is a benzene ring in formula (c2) from the viewpoint of further improving the copper foil peeling strength. "), and in formula (c2), a compound in which Ar 1 is a benzene ring and Ar 2 is a biphenyl ring (hereinafter also referred to as “biphenyl aralkyl type phenol resin”) is preferable.
나프톨아르알킬형 페놀 수지는, 하기 식 (8) 로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.The naphthol aralkyl type phenol resin is preferably a compound represented by the following formula (8).
[화학식 47][Formula 47]
(식 중, R7 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n3 은 1 이상의 정수를 나타낸다)(In the formula, R 7 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 3 represents an integer of 1 or more.)
식 (8) 중, n3 은 1 이상의 정수를 나타내고, 1 ∼ 10 의 정수인 것이 바람직하고, 1 ∼ 6 의 정수인 것이 보다 바람직하다.In Formula (8), n 3 represents an integer of 1 or more, is preferably an integer of 1 to 10, and is more preferably an integer of 1 to 6.
비페닐아르알킬형 페놀 수지는, 하기 식 (2c) 로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.The biphenyl aralkyl type phenol resin is preferably a compound represented by the following formula (2c).
[화학식 48][Formula 48]
(식 중, R2b 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기 (바람직하게는 수소 원자) 를 나타내고, m1 은, 1 ∼ 20 의 정수 (바람직하게는 1 ∼ 6 의 정수) 를 나타낸다)(In the formula, R 2b each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group (preferably a hydrogen atom), and m1 is an integer of 1 to 20 (preferably an integer of 1 to 6). ) indicates)
페놀 화합물 A' 는, 저열팽창성 및 내약품성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 상기 식 (8) 로 나타내는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The phenol compound A' preferably contains a compound represented by the above formula (8) from the viewpoint of further improving low thermal expansion and chemical resistance.
아르알킬형 페놀 수지는, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 의해 제조된 제품을 사용해도 된다. 아르알킬형 페놀 수지의 시판품으로는, 닛폰 화약 주식회사 제품의 「KAYAHARD GPH-65」, 「KAYAHARD GPH-78」, 「KAYAHARD GPH-103」 (비페닐아르알킬형 페놀 수지), 신닛테츠 화학 주식회사 제품의 「SN-495」 (나프톨아르알킬형 페놀 수지) 를 들 수 있다.The aralkyl type phenol resin may be a commercial product or a product manufactured by a known method. Commercially available aralkyl-type phenol resins include “KAYAHARD GPH-65,” “KAYAHARD GPH-78,” and “KAYAHARD GPH-103” (biphenyl aralkyl-type phenol resin) manufactured by Nippon Kaypowder Co., Ltd. and Nippon Chemical Co., Ltd. "SN-495" (naphthol aralkyl type phenol resin).
본 실시형태의 경화성 조성물은, 전술한 바와 같이, 페놀 화합물 (F) 로서 아미노트리아진노볼락 수지를 포함해도 된다. 아미노트리아진노볼락 수지를 포함하는 경우, 알케닐페놀 (A) 와, 에폭시 변성 실리콘 (B) 와, 에폭시 변성 실리콘 (B) 이외의 에폭시 화합물 (C) 가 반응함으로써 생성된 말단 수산기나 에폭시기와, 아미노트리아진노볼락 수지가 추가로 반응하여, 수산기나 아미노기 등의 말단 관능기를 증가시키는 경향이 있다. 이로써, 열경화성 수지와의 반응성이 높은 말단 관능기가 다수 존재하게 되기 때문에, 상용성 및 가교 밀도가 향상되고, 동박 필 강도를 향상시킬 수 있는 경향이 있다.As described above, the curable composition of the present embodiment may contain aminotriazine novolak resin as the phenol compound (F). When an aminotriazine novolak resin is included, a terminal hydroxyl group or an epoxy group produced by the reaction of alkenylphenol (A), epoxy modified silicone (B), and an epoxy compound (C) other than epoxy modified silicone (B), The aminotriazine novolac resin tends to react further to increase terminal functional groups such as hydroxyl groups and amino groups. As a result, since many terminal functional groups with high reactivity with the thermosetting resin are present, compatibility and crosslinking density are improved, and the copper foil peeling strength tends to be improved.
아미노트리아진노볼락 수지로는, 특별히 한정되지 않지만, 동박 필 강도 향상의 관점에서, 분자 내의 1 개의 트리아진 골격에 대하여 2 ∼ 20 개의 페놀 수산기를 갖는 노볼락 수지인 것이 바람직하고, 분자 내의 1 개의 트리아진 골격에 대하여 2 ∼ 15 개의 페놀 수산기를 갖는 노볼락 수지인 것이 보다 바람직하고, 분자 내의 1 개의 트리아진 골격에 대하여 2 ∼ 10 개의 페놀 수산기를 갖는 노볼락 수지인 것이 더욱 바람직하다.The aminotriazine novolak resin is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the copper foil peeling strength, it is preferably a novolac resin having 2 to 20 phenol hydroxyl groups per triazine skeleton in the molecule, and one triazine skeleton in the molecule. It is more preferable to be a novolak resin having 2 to 15 phenol hydroxyl groups relative to the triazine skeleton, and even more preferably to be a novolac resin having 2 to 10 phenol hydroxyl groups relative to one triazine skeleton in the molecule.
본 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 알케닐페놀 (A) 의 함유량은, 한층 더 우수한 상용성, 내열성 및 저열팽창성을 발현할 수 있는 관점에서, 알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B), 에폭시 화합물 (C) 및 페놀 화합물 (F) 의 총량 100 질량부에 대하여, 1 ∼ 50 질량부인 것이 바람직하고, 3 ∼ 30 질량부인 것이 보다 바람직하고, 5 ∼ 20 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The content of alkenylphenol (A) in the curable composition of the present embodiment is alkenylphenol (A) and epoxy-modified silicone (B) from the viewpoint of exhibiting even better compatibility, heat resistance, and low thermal expansion properties. , it is preferably 1 to 50 parts by mass, more preferably 3 to 30 parts by mass, and still more preferably 5 to 20 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the total amount of the epoxy compound (C) and the phenol compound (F).
본 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 에폭시 변성 실리콘 (B) 의 함유량은, 한층 더 우수한 저열팽창성 및 내약품성을 양호한 밸런스로 발현할 수 있는 관점에서, 알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B), 에폭시 화합물 (C) 및 페놀 화합물 (F) 의 총량 100 질량부에 대하여, 5 ∼ 70 질량부인 것이 바람직하고, 10 ∼ 60 질량부인 것이 보다 바람직하고, 20 ∼ 55 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The content of epoxy-modified silicone (B) in the curable composition of the present embodiment is alkenylphenol (A) and epoxy-modified silicone (B) from the viewpoint of being able to express further excellent low thermal expansion and chemical resistance in a good balance. ), the total amount of the epoxy compound (C) and the phenol compound (F) is preferably 5 to 70 parts by mass, more preferably 10 to 60 parts by mass, and even more preferably 20 to 55 parts by mass.
본 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 에폭시 화합물 (C) 의 함유량은, 한층 더 우수한 상용성, 내열성, 내약품성, 동박 필 강도 및 절연 신뢰성을 발현할 수 있는 관점에서, 알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B), 에폭시 화합물 (C) 및 페놀 화합물 (F) 의 총량 100 질량부에 대하여, 5 ∼ 50 질량부인 것이 바람직하고, 10 ∼ 30 질량부인 것이 보다 바람직하고, 15 ∼ 25 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The content of the epoxy compound (C) in the curable composition of the present embodiment is alkenylphenol (A), from the viewpoint of being able to exhibit further excellent compatibility, heat resistance, chemical resistance, copper foil peel strength, and insulation reliability. It is preferably 5 to 50 parts by mass, more preferably 10 to 30 parts by mass, and 15 to 25 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of epoxy modified silicone (B), epoxy compound (C), and phenol compound (F). It is more desirable.
본 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 페놀 화합물 (F) 의 함유량은, 한층 더 우수한 내약품성을 발현할 수 있는 관점에서, 알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B), 에폭시 화합물 (C) 및 페놀 화합물 (F) 의 총량 100 질량부에 대하여, 5 ∼ 30 질량부인 것이 바람직하고, 10 ∼ 25 질량부인 것이 보다 바람직하고, 15 ∼ 20 질량부인 것이 더욱 바람직하다.The content of the phenol compound (F) in the curable composition of the present embodiment is alkenylphenol (A), epoxy modified silicone (B), and epoxy compound (C) from the viewpoint of being able to exhibit even more excellent chemical resistance. and the total amount of the phenol compound (F) is preferably 5 to 30 parts by mass, more preferably 10 to 25 parts by mass, and even more preferably 15 to 20 parts by mass.
또한, 경화성 조성물이, 페놀 화합물 (F) 를 함유하지 않는 경우, 상기 서술한 알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B) 및 에폭시 화합물 (C) 의 각 함유량은, 알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B) 및 에폭시 화합물 (C) 의 총량 100 질량부에 대한 함유량을 나타낸다.In addition, when the curable composition does not contain the phenol compound (F), the respective contents of the alkenylphenol (A), epoxy modified silicone (B), and epoxy compound (C) described above are the alkenylphenol (A) , represents the content with respect to the total amount of 100 parts by mass of epoxy modified silicone (B) and epoxy compound (C).
(알케닐 치환 나드이미드 화합물)(Alkenyl substituted nadimide compound)
본 실시형태의 경화성 조성물은, 내열성을 보다 한층 더 향상시키는 관점에서, 알케닐 치환 나드이미드 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 알케닐 치환 나드이미드 화합물은, 1 분자 중에 1 개 이상의 알케닐 치환 나드이미드기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 하기 식 (H4a) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.The curable composition of the present embodiment preferably contains an alkenyl substituted nadimide compound from the viewpoint of further improving heat resistance. The alkenyl substituted nadimide compound is not particularly limited as long as it is a compound having one or more alkenyl substituted nadimide groups in one molecule, but examples include compounds represented by the following formula (H4a).
[화학식 49][Formula 49]
(식 중, R1 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 (예를 들어, 메틸기 또는 에틸기) 를 나타내고, R2 는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기, 페닐렌기, 비페닐렌기, 나프틸렌기, 또는 하기 식 (3) 혹은 하기 식 (4) 로 나타내는 기를 나타낸다)(In the formula, R 1 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group), and R 2 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, a phenylene group, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Represents a phenylene group, a naphthylene group, or a group represented by the following formula (3) or the following formula (4))
[화학식 50][Formula 50]
(식 (3) 중, R3 은, 메틸렌기, 이소프로필리덴기, CO, O, S 또는 SO2 를 나타낸다)(In formula (3), R 3 represents a methylene group, an isopropylidene group, CO, O, S, or SO 2 )
[화학식 51][Formula 51]
(식 (4) 중, R4 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 탄소수 5 ∼ 8 의 시클로알킬렌기를 나타낸다)(In formula (4), R 4 each independently represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a cycloalkylene group having 5 to 8 carbon atoms.)
식 (H4a) 로 나타내는 알케닐 치환 나드이미드 화합물은, 시판품을 사용해도 되고, 공지된 방법에 준하여 제조된 제품을 사용해도 된다. 시판품으로는, 마루젠 석유 화학 주식회사 제품의「BANI-M」, 및「BANI-X」를 들 수 있다.The alkenyl substituted nadimide compound represented by formula (H4a) may be a commercial product or a product manufactured according to a known method. Commercially available products include “BANI-M” and “BANI-X” manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.
알케닐 치환 나드이미드 화합물의 함유량은, 내열성을 보다 한층 더 향상시키는 관점에서, 수지 고형분 100 질량부에 대하여 바람직하게는 1 ∼ 40 질량부이고, 5 ∼ 35 질량부인 것이 보다 바람직하고, 10 ∼ 30 질량부인 것이 더욱 바람직하다.From the viewpoint of further improving heat resistance, the content of the alkenyl substituted nadimide compound is preferably 1 to 40 parts by mass, more preferably 5 to 35 parts by mass, and more preferably 10 to 30 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin solid content. It is more preferable that it is part by mass.
<제 2 실시형태><Second Embodiment>
[제 2 실시형태의 경화성 조성물][Curable composition of the second embodiment]
제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 알케닐페놀 (A) 에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘 (B) 에서 유래하는 구성 단위와, 그 에폭시 변성 실리콘 (B) 이외의 에폭시 화합물 (C) 에서 유래하는 구성 단위를 함유하는 중합체 (E) 와, 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 를 포함한다. 알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B), 에폭시 화합물 (C) 및 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 로는, 상기 제 1 실시형태에서 설명한 바와 같다. 본 명세서에 있어서, 제 1 실시형태의 경화성 조성물은, 중합체 (E) 를 포함하지 않는 경화성 조성물이며, 제 2 실시형태의 경화성 조성물과는 구별된다.The curable composition of the second embodiment includes a structural unit derived from alkenylphenol (A), a structural unit derived from epoxy modified silicone (B), and an epoxy compound (C) other than the epoxy modified silicone (B). It includes a polymer (E) containing the structural unit derived from the polymer and a cyclic carbodiimide compound (D). The alkenylphenol (A), epoxy-modified silicone (B), epoxy compound (C), and cyclic carbodiimide compound (D) are the same as described in the first embodiment above. In this specification, the curable composition of the first embodiment is a curable composition that does not contain the polymer (E), and is distinguished from the curable composition of the second embodiment.
제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 중합체 (E) 와 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 에 더하여, 필요에 따라서, 상기 서술한, 말레이미드 화합물, 시안산에스테르 화합물, 상기 알케닐페놀 (A) 이외의 페놀 화합물 (F) 및 알케닐 치환 나드이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 화합물 (H) 를 추가로 함유해도 된다. 화합물 (H) 는, 중합체 (E) 의 중합 후에 잔존한 미반응 성분이어도 되고, 합성한 중합체 (E) 에 대하여, 다시 첨가한 성분이어도 된다.The curable composition of the second embodiment contains, in addition to the polymer (E) and the cyclic carbodiimide compound (D), optionally the maleimide compound, cyanate ester compound, and alkenylphenol (A) described above. You may further contain at least one compound (H) selected from the group consisting of other phenol compounds (F) and alkenyl substituted nadiimide compounds. Compound (H) may be an unreacted component remaining after polymerization of polymer (E), or may be a component added again to the synthesized polymer (E).
또한, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 중합체 (E) 에 더하여, 알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B) 및 에폭시 화합물 (C) 로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 추가로 함유해도 된다. 이 경우, 제 2 실시형태의 경화성 조성물에 포함되는 알케닐페놀 A, 에폭시 변성 실리콘 (B) 또는 에폭시 화합물 (C) 는, 중합체 (E) 의 중합 후에 잔존한 미반응 성분이어도 되고, 합성한 중합체 (E) 에 대하여, 다시 첨가한 성분이어도 된다.In addition to the polymer (E), the curable composition of the second embodiment further contains at least one selected from the group consisting of alkenylphenol (A), epoxy modified silicone (B), and epoxy compound (C). You can do it. In this case, alkenylphenol A, epoxy modified silicone (B), or epoxy compound (C) contained in the curable composition of the second embodiment may be unreacted components remaining after polymerization of polymer (E), or may be a synthesized polymer. For (E), the component may be added again.
제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 우수한 저열팽창성, 동박 필 강도 및 내약품성을 갖는다. 각 특성이 향상되는 요인은, 제 1 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 작용 기전과 동일하게, 경화성 조성물이 놓여진 온도에 의한, 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 와 중합체 (E) 및 임의로 첨가된 화합물 (H) 등의 열경화성 수지의 반응성의 제어에 의해, 상용성 및 가교 반응 속도가 적절하게 제어되고, 저열팽창성, 동박 필 강도 및 내약품성이 향상된 것으로 추측된다. 이에 더하여, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 중합체 (E) 를 포함함으로써, 한층 더 우수한 상용성을 갖고, 보다 우수한 저열팽창성, 동박 필 강도 및 내약품성을 발현할 수 있어, 절연 신뢰성도 우수하다. 중합체 (E) 는, 실리콘계 화합물과의 상용성이 부족한 열경화성 수지와 혼합했을 경우에 있어서도, 충분한 상용성을 발휘할 수 있다. 이로써, 중합체 (E) 와 열경화성 수지를 포함하는 경화성 조성물은, 균일한 바니시나 경화물을 부여할 수 있다. 당해 경화성 조성물을 사용하여 얻어지는 프리프레그 등의 경화물은, 각 성분이 균일하게 상용한 것이고, 성분의 불균일에 의한 물성의 편차가 더욱 억제된 것이 된다.The curable composition of the second embodiment has excellent low thermal expansion properties, copper foil peel strength, and chemical resistance. The factor for improving each characteristic is the same as the mechanism of action in the curable composition of the first embodiment, depending on the temperature at which the curable composition is placed, the cyclic carbodiimide compound (D), the polymer (E), and optionally added It is assumed that by controlling the reactivity of the thermosetting resin such as compound (H), the compatibility and crosslinking reaction rate are appropriately controlled, and the low thermal expansion property, copper foil peel strength, and chemical resistance are improved. In addition, by containing the polymer (E), the curable composition of the second embodiment has further excellent compatibility, can exhibit better low thermal expansion, copper foil peel strength, and chemical resistance, and is also excellent in insulation reliability. . Polymer (E) can exhibit sufficient compatibility even when mixed with a thermosetting resin that lacks compatibility with a silicone-based compound. As a result, the curable composition containing the polymer (E) and the thermosetting resin can provide a uniform varnish or cured product. In a cured product such as prepreg obtained using the curable composition, each component is uniformly compatible, and the variation in physical properties due to component heterogeneity is further suppressed.
[중합체 (E)][Polymer (E)]
중합체 (E) 는, 알케닐페놀 (A) 에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘 (B) 에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 화합물 (C) 에서 유래하는 구성 단위를 함유하고, 필요에 따라, 말레이미드 화합물, 시안산에스테르 화합물, 알케닐페놀 A 이외의 페놀 화합물 (F) 및 알케닐 치환 나드이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 화합물 (H) 에서 유래하는 구성 단위를 추가로 함유해도 된다. 중합체 (E) 가 화합물 (H) 에서 유래하는 구성 단위를 갖는 경우, 화합물 (H) 로는 2 관능의 화합물인 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「알케닐페놀 (A) 에서 유래하는 구성 단위」, 「에폭시 변성 실리콘 (B) 에서 유래하는 구성 단위」 「에폭시 화합물 (C) 에서 유래하는 구성 단위」및 「화합물 (H) 에서 유래하는 구성 단위」란, 중합체 (E) 중에 알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B), 에폭시 화합물 (C) 및 화합물 (H) 의 각 성분을 중합시킨 구성 단위를 포함하는 것에 더하여, 동일한 구성 단위를 부여할 수 있는 반응 등으로 형성한 구성 단위를 포함하는 것으로 한다. 이하, 각 구성 단위를 각각 구성 단위 (A), (B), (C), (H) 라고도 한다.The polymer (E) contains structural units derived from alkenylphenol (A), structural units derived from epoxy modified silicone (B), and structural units derived from epoxy compound (C), and optionally, It may further contain structural units derived from one or more compounds (H) selected from the group consisting of maleimide compounds, cyanate ester compounds, phenol compounds (F) other than alkenylphenol A, and alkenyl substituted nadimide compounds. do. When the polymer (E) has a structural unit derived from the compound (H), the compound (H) is preferably a bifunctional compound. In addition, in this specification, “structural unit derived from alkenylphenol (A)”, “structural unit derived from epoxy modified silicone (B)”, “structural unit derived from epoxy compound (C)”, and “compound ( The term “structural unit derived from H)” refers to a structural unit obtained by polymerizing each component of alkenylphenol (A), epoxy modified silicone (B), epoxy compound (C), and compound (H) in polymer (E). In addition, it shall include structural units formed through reactions that can give the same structural units. Hereinafter, each structural unit is also referred to as structural unit (A), (B), (C), and (H), respectively.
중합체 (E) 의 중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피에 있어서의 폴리스티렌 환산으로, 3.0 × 103 ∼ 5.0 × 104 인 것이 바람직하고, 3.0 × 103 ∼ 2.0 × 104 인 것이 보다 바람직하다. 중량 평균 분자량이 3.0 × 103 이상임으로써, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 한층 더 우수한 저열팽창성, 동박 필 강도 및 내약품성을 발현할 수 있는 경향이 있다. 중량 평균 분자량이 5.0 × 104 이하임으로써, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 한층 더 우수한 상용성을 발현할 수 있는 경향이 있다.The weight average molecular weight of the polymer (E) is preferably 3.0 × 10 3 to 5.0 × 10 4 , and more preferably 3.0 × 10 3 to 2.0 × 10 4 in terms of polystyrene in gel permeation chromatography. . When the weight average molecular weight is 3.0 × 10 3 or more, the curable composition of the second embodiment tends to be able to exhibit further excellent low thermal expansion properties, copper foil peel strength, and chemical resistance. When the weight average molecular weight is 5.0 × 10 4 or less, the curable composition of the second embodiment tends to exhibit even more excellent compatibility.
중합체 (E) 중의 구성 단위 (A) 의 함유량은, 중합체 (E) 의 총 질량에 대하여, 5 ∼ 50 질량% 인 것이 바람직하다. 구성 단위 (A) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 한층 더 우수한 상용성을 발현할 수 있고, 내열성 및 저열팽창성의 밸런스가 향상되는 경향이 있다. 동일한 관점에서, 구성 단위 (A) 의 함유량은, 10 ∼ 45 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 15 ∼ 40 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.The content of the structural unit (A) in the polymer (E) is preferably 5 to 50% by mass with respect to the total mass of the polymer (E). When the content of the structural unit (A) is within the above range, the curable composition of the second embodiment can exhibit further excellent compatibility, and the balance between heat resistance and low thermal expansion tends to improve. From the same viewpoint, the content of the structural unit (A) is more preferably 10 to 45 mass%, and even more preferably 15 to 40 mass%.
중합체 (E) 중의 구성 단위 (B) 의 함유량은, 중합체 (E) 의 총 질량에 대하여, 20 ∼ 60 질량% 인 것이 바람직하다. 구성 단위 (B) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 한층 더 우수한 저열팽창성 및 내약품성을 양호한 밸런스로 발현할 수 있는 경향이 있다. 동일한 관점에서, 구성 단위 (B) 의 함유량은, 25 ∼ 55 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 30 ∼ 50 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.The content of the structural unit (B) in the polymer (E) is preferably 20 to 60% by mass with respect to the total mass of the polymer (E). When the content of the structural unit (B) is within the above range, the curable composition of the second embodiment tends to be able to exhibit further excellent low thermal expansion properties and chemical resistance in a good balance. From the same viewpoint, the content of the structural unit (B) is more preferably 25 to 55% by mass, and even more preferably 30 to 50% by mass.
구성 단위 (B) 는, 50 ∼ 350 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘 (저당량 에폭시 변성 실리콘 (B1')) 과, 400 ∼ 4000 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘 (고당량 에폭시 변성 실리콘 (B2')) 에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 저당량 에폭시 변성 실리콘 (B1'), 고당량 에폭시 변성 실리콘 (B2') 는, 각각 140 ∼ 250 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘 (저당량 에폭시 변성 실리콘 (B1'')), 450 ∼ 3000 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘 (고당량 에폭시 변성 실리콘 (B2'')) 인 것이 보다 바람직하다.The structural unit (B) is an epoxy-modified silicone (low-equivalent epoxy-modified silicone (B1')) having an epoxy equivalent of 50 to 350 g/mol, and an epoxy-modified silicone (high-equivalent epoxy-modified silicone (B1')) having an epoxy equivalent of 400 to 4000 g/mol. It is preferred that it contains a structural unit derived from equivalent epoxy-modified silicone (B2')). Low-equivalent epoxy-modified silicone (B1'), high-equivalent epoxy-modified silicone (B2') are epoxy-modified silicones (low-equivalent epoxy-modified silicone (B1'')), each having an epoxy equivalent weight of 140 to 250 g/mol, 450 g/mol. More preferably, it is an epoxy-modified silicone (high-equivalent epoxy-modified silicone (B2'')) having an epoxy equivalent weight of ∼3000 g/mol.
중합체 (E) 중의 저당량 에폭시 변성 실리콘 (B1') 에서 유래하는 구성 단위 (B) 1 의 함유량은, 중합체 (E) 의 총 질량에 대하여, 5 ∼ 25 질량% 인 것이 바람직하고, 7.5 ∼ 20 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 10 ∼ 17 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.The content of structural unit (B) 1 derived from low-equivalent epoxy-modified silicone (B1') in the polymer (E) is preferably 5 to 25% by mass, and 7.5 to 20%, based on the total mass of the polymer (E). It is more preferable that it is mass %, and it is still more preferable that it is 10-17 mass %.
중합체 (E) 중의 고당량 에폭시 변성 실리콘 (B2') 에서 유래하는 구성 단위 (B) 2 의 함유량은, 중합체 (E) 의 총 질량에 대하여, 15 ∼ 55 질량% 인 것이 바람직하고, 20 ∼ 52.5 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 25 ∼ 50 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.The content of the structural unit (B) 2 derived from the high-equivalent epoxy-modified silicone (B2') in the polymer (E) is preferably 15 to 55% by mass, and 20 to 52.5%, based on the total mass of the polymer (E). It is more preferable that it is mass %, and it is still more preferable that it is 25-50 mass %.
구성 단위 (B) 1 의 함유량에 대한 구성 단위 (B) 2 의 함유량의 질량비는, 1.5 ∼ 4 인 것이 바람직하고, 1.5 ∼ 3.5 인 것이 보다 바람직하고, 1.9 ∼ 3.3 인 것이 더욱 바람직하다. 구성 단위 (B) 1 및 구성 단위 (B) 2 의 함유량이 상기 관계를 가짐으로써, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 동박 필 강도 및 내약품성이 보다 향상되는 경향이 있다.The mass ratio of the content of structural unit (B) 2 to the content of structural unit (B) 1 is preferably 1.5 to 4, more preferably 1.5 to 3.5, and still more preferably 1.9 to 3.3. When the content of structural unit (B) 1 and structural unit (B) 2 has the above relationship, the copper foil peeling strength and chemical resistance of the curable composition of the second embodiment tend to improve more.
중합체 (E) 중의 구성 단위 (C) 로는, 상기 식 (b1) 로 나타내는 화합물, 상기 식 (b2) 로 나타내는 화합물, 상기 식 (b3) 으로 나타내는 화합물 및 상기 식 (b4) 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종에서 유래하는 단위인 것이 바람직하다.The structural unit (C) in the polymer (E) is a group consisting of a compound represented by the formula (b1), a compound represented by the formula (b2), a compound represented by the formula (b3), and a compound represented by the formula (b4). It is preferable that the unit is derived from at least one type selected from.
중합체 (E) 중의 구성 단위 (C) 의 함유량은, 중합체 (E) 의 총 질량에 대하여, 5 ∼ 40 질량% 인 것이 바람직하다. 구성 단위 (C) 의 함유량이 상기 범위 내이면, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 한층 더 우수한 상용성을 갖고, 한층 더 우수한 내열성, 내약품성, 동박 필 강도 및 절연 신뢰성을 발현할 수 있는 경향이 있다. 동일한 관점에서, 구성 단위 (C) 의 함유량은, 10 ∼ 30 질량% 인 것이 바람직하고, 15 ∼ 25 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.The content of the structural unit (C) in the polymer (E) is preferably 5 to 40% by mass with respect to the total mass of the polymer (E). When the content of the structural unit (C) is within the above range, the curable composition of the second embodiment has further excellent compatibility and tends to exhibit further excellent heat resistance, chemical resistance, copper foil peel strength, and insulation reliability. There is. From the same viewpoint, the content of the structural unit (C) is preferably 10 to 30 mass%, and more preferably 15 to 25 mass%.
또, 구성 단위 (C) 의 함유량은, 구성 단위 (B) 및 구성 단위 (C) 의 총 질량에 대하여, 5 ∼ 95 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 90 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 15 ∼ 60 질량% 인 것이 더욱 바람직하고, 20 ∼ 50 질량% 인 것이 특히 바람직하다. 구성 단위 (B) 및 구성 단위 (C) 의 함유량이 상기 관계를 가짐으로써, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 한층 더 우수한 상용성을 갖고, 내열성, 내약품성, 동박 필 강도 및 절연 신뢰성이 보다 향상되는 경향이 있다.Moreover, the content of structural unit (C) is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 10 to 90% by mass, based on the total mass of structural unit (B) and structural unit (C), and is more preferably 15% by mass. It is more preferable that it is -60 mass%, and it is especially preferable that it is 20-50 mass%. When the contents of the structural unit (B) and the structural unit (C) have the above relationship, the curable composition of the second embodiment has further excellent compatibility and has better heat resistance, chemical resistance, copper foil peel strength, and insulation reliability. tends to improve.
중합체 (E) 가 화합물 (H) 에서 유래하는 구성 단위를 갖는 경우, 중합체 (E) 중의 구성 단위 (H) 의 함유량은, 중합체 (E) 의 총 질량에 대하여, 3 ∼ 40 질량% 인 것이 바람직하다. 구성 단위 (H) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 한층 더 우수한 저열팽창성, 내약품성 및 동박 필 강도를 발현할 수 있는 경향이 있다. 동일한 관점에서, 구성 단위 (H) 의 함유량은, 5 ∼ 35 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 30 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.When the polymer (E) has a structural unit derived from the compound (H), the content of the structural unit (H) in the polymer (E) is preferably 3 to 40% by mass based on the total mass of the polymer (E). do. When the content of the structural unit (H) is within the above range, the curable composition of the second embodiment tends to be able to exhibit further excellent low thermal expansion properties, chemical resistance, and copper foil peeling strength. From the same viewpoint, the content of the structural unit (H) is preferably 5 to 35 mass%, and more preferably 10 to 30 mass%.
중합체 (E) 가 알케닐페놀 (A) 이외의 페놀 화합물 (F) 에서 유래하는 구성 단위 (이하, 「구성 단위 (F)」라고도 한다) 를 갖는 경우, 중합체 (E) 중의 구성 단위 (F) 의 함유량은, 중합체 (E) 의 총 질량에 대하여, 5 ∼ 30 질량% 인 것이 바람직하다. 구성 단위 (F) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 한층 더 우수한 내약품성을 발현할 수 있는 경향이 있다. 동일한 관점에서, 구성 단위 (F) 의 함유량은, 10 ∼ 27.5 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 25 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.When the polymer (E) has a structural unit (hereinafter also referred to as “structural unit (F)”) derived from a phenol compound (F) other than alkenylphenol (A), the structural unit (F) in the polymer (E) The content is preferably 5 to 30 mass% based on the total mass of the polymer (E). When the content of the structural unit (F) is within the above range, the curable composition of the second embodiment tends to be able to exhibit even more excellent chemical resistance. From the same viewpoint, the content of the structural unit (F) is preferably 10 to 27.5 mass%, and more preferably 10 to 25 mass%.
중합체 (E) 의 알케닐기 당량은, 300 ∼ 1500 g/mol 인 것이 바람직하다. 알케닐기 당량이 300 g/mol 이상임으로써, 제 2 실시형태의 경화성 조성물의 경화물은, 탄성률이 한층 더 저하되는 경향이 있고, 그 결과, 경화물을 사용하여 얻어지는 기판 등의 열팽창률을 한층 더 저하시킬 수 있는 경향이 있다. 알케닐기 당량이 1500 g/mol 이하임으로써, 제 2 실시형태의 경화성 조성물의 상용성, 내열성, 내약품성, 저열팽창성, 동박 필 강도 및 절연 신뢰성이 한층 더 향상되는 경향이 있다. 동일한 관점에서, 알케닐기 당량은, 350 ∼ 1200 g/mol 인 것이 바람직하고, 400 ∼ 1000 g/mol 인 것이 더욱 바람직하다.The alkenyl group equivalent of polymer (E) is preferably 300 to 1500 g/mol. When the alkenyl group equivalent is 300 g/mol or more, the cured product of the curable composition of the second embodiment tends to have a further decrease in elastic modulus, and as a result, the coefficient of thermal expansion of a substrate or the like obtained using the cured product is further reduced. It has a tendency to deteriorate. When the alkenyl group equivalent is 1500 g/mol or less, the compatibility, heat resistance, chemical resistance, low thermal expansion, copper foil peel strength, and insulation reliability of the curable composition of the second embodiment tend to be further improved. From the same viewpoint, the alkenyl group equivalent weight is preferably 350 to 1,200 g/mol, and more preferably 400 to 1,000 g/mol.
제 2 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 중합체 (E) 의 함유량은, 수지 고형분 100 질량% 에 대하여, 5 ∼ 50 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 45 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 10 ∼ 40 질량% 인 것이 더욱 바람직하다. 함유량이 상기 범위 내이면, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 한층 더 우수한 상용성을 갖고, 저열팽창성 동박 필 강도 및 내약품성을 양호한 밸런스로 한층 더 발현할 수 있는 경향이 있다.The content of polymer (E) in the curable composition of the second embodiment is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 45% by mass, based on 100% by mass of the resin solid content. It is more preferable that it is mass%. When the content is within the above range, the curable composition of the second embodiment has further excellent compatibility and tends to be able to further express the low thermal expansion copper foil peel strength and chemical resistance with a good balance.
중합체 (E) 는, 예를 들어, 알케닐페놀 (A) 와, 에폭시 변성 실리콘 (B) 와, 에폭시 화합물 (C) 와, 필요에 따라 화합물 (H) 를, 중합 촉매 (G) 의 존재 하에서 반응시키는 공정에 의해 얻어진다. 당해 반응은, 유기 용매의 존재 하에서 실시해도 된다. 보다 구체적으로는, 상기 공정에 있어서, 에폭시 변성 실리콘 (B) 및 에폭시 화합물 (C) 가 갖는 에폭시기와 알케닐페놀 (A) 가 갖는 수산기의 부가 반응과, 얻어진 부가 반응물이 갖는 수산기와 에폭시 변성 실리콘 (B) 및 에폭시 화합물 (C) 가 갖는 에폭시기의 부가 반응 등이 진행됨으로써, 중합체 (E) 를 얻을 수 있다.The polymer (E) is, for example, alkenylphenol (A), epoxy modified silicone (B), epoxy compound (C), and, if necessary, compound (H) in the presence of a polymerization catalyst (G). It is obtained through a reaction process. The reaction may be carried out in the presence of an organic solvent. More specifically, in the above step, an addition reaction between the epoxy group of the epoxy modified silicone (B) and the epoxy compound (C) and the hydroxyl group of the alkenylphenol (A), and the hydroxyl group of the resulting addition reaction product and the epoxy modified silicone As the addition reaction of the epoxy groups of (B) and the epoxy compound (C) proceeds, polymer (E) can be obtained.
중합 촉매 (G) 로는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 이미다졸 촉매 및 인계 촉매를 들 수 있다. 이들 촉매는 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 이미다졸 촉매가 바람직하다.The polymerization catalyst (G) is not particularly limited, and examples include imidazole catalysts and phosphorus-based catalysts. These catalysts are used individually or in combination of two or more types. Among these, imidazole catalysts are preferable.
이미다졸 촉매로는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐-4,5-디하이드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-하이드록시메틸이미다졸, 2,3-디하이드로-1H-피롤로[1,2-a]벤조이미다졸 (시코쿠 화성 공업 주식회사 제품의 「TBZ」), 2,4,5-트리페닐이미다졸 (도쿄 화성 공업 주식회사 제품의 「TPIZ」) 등의 이미다졸류를 들 수 있다. 이 중에서도, 에폭시 성분의 단독 중합을 방지하는 관점에서, 2,3-디하이드로-1H-피롤로[1,2-a]벤조이미다졸 및/또는 2,4,5-트리페닐이미다졸이 바람직하다.The imidazole catalyst is not particularly limited and includes, for example, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, and 1-cyanoethyl-2-phenyl. Midazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2 -Phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo[1,2-a]benzoimidazole (“TBZ” manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.), 2 and imidazoles such as 4,5-triphenylimidazole (“TPIZ” manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.). Among these, from the viewpoint of preventing homopolymerization of the epoxy component, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo[1,2-a]benzimidazole and/or 2,4,5-triphenylimidazole are used. desirable.
중합 촉매 (G) (바람직하게는 이미다졸 촉매) 의 사용량은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B), 에폭시 화합물 (C) 및 화합물 (H) 의 총량 100 질량부에 대하여, 0.1 ∼ 10 질량부이다. 중합체 (E) 의 중량 평균 분자량을 크게 하는 관점에서, 중합 촉매 (G) 의 사용량은, 0.5 질량부 이상인 것이 바람직하고, 4.0 질량부 이하인 것이 보다 바람직하다.The amount of the polymerization catalyst (G) (preferably an imidazole catalyst) to be used is not particularly limited and includes, for example, alkenylphenol (A), epoxy modified silicone (B), epoxy compound (C), and compound (H). It is 0.1 to 10 parts by mass with respect to the total amount of 100 parts by mass. From the viewpoint of increasing the weight average molecular weight of the polymer (E), the amount of the polymerization catalyst (G) used is preferably 0.5 parts by mass or more, and more preferably 4.0 parts by mass or less.
유기 용매로는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 극성 용제 또는 무극성 용제를 사용할 수 있다. 극성 용제로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 ; 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 셀로솔브계 용매 ; 락트산에틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산이소아밀, 락트산에틸, 메톡시프로피온산메틸, 하이드록시이소부티르산메틸 등의 에스테르계 용매 ; 디메틸아세트아미드, 디메틸포름아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있다. 무극성 용제로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소 등을 들 수 있다. 이들 용매는, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다.The organic solvent is not particularly limited, and for example, a polar solvent or a non-polar solvent can be used. The polar solvent is not particularly limited, and examples include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; Cellosolve-based solvents such as propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate; Ester solvents such as ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, isoamyl acetate, ethyl lactate, methyl methoxypropionate, and methyl hydroxyisobutyrate; Amides such as dimethylacetamide and dimethylformamide can be mentioned. The nonpolar solvent is not particularly limited, and examples include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. These solvents are used individually or in combination of two or more types.
유기 용매의 사용량은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B), 에폭시 화합물 (C) 및 화합물 (H) 의 총량 100 질량부에 대하여, 50 ∼ 150 질량부이다.The amount of the organic solvent used is not particularly limited, and is, for example, 50 to 150 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of alkenylphenol (A), epoxy modified silicone (B), epoxy compound (C), and compound (H). It is the mass part.
반응 온도는, 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 100 ∼ 170 ℃ 여도 된다. 반응 시간도 또한 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 3 ∼ 8 시간이어도 된다.The reaction temperature is not particularly limited and may be, for example, 100 to 170°C. The reaction time is also not particularly limited and may be, for example, 3 to 8 hours.
본 공정에 있어서의 반응 종료 후, 관용의 방법으로 반응 혼합물로부터 중합체 (E) 를 분리 정제해도 된다.After completion of the reaction in this step, the polymer (E) may be separated and purified from the reaction mixture by a usual method.
상기 서술한 바와 같이, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 중합체 (E) 에 더하여, 필요에 따라, 화합물 (H) 를 추가로 함유해도 된다. 중합체 (E) 에 더하여, 화합물 (H) 를 추가로 함유함으로써, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 내열성, 저열팽창성, 내약품성 및 동박 필 강도가 보다 한층 더 향상되는 경향이 있다.As described above, the curable composition of the second embodiment may further contain a compound (H) as needed in addition to the polymer (E). By further containing the compound (H) in addition to the polymer (E), the curable composition of the second embodiment tends to further improve heat resistance, low thermal expansion, chemical resistance, and copper foil peel strength.
제 2 실시형태의 경화성 조성물이 중합체 (E) 및 화합물 (H) 를 포함하는 경우, 제 2 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 중합체 (E) 의 함유량은, 중합체 (E) 및 화합물 (H) 의 합계 100 질량% 에 대하여, 5 ∼ 60 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 55 질량% 인 것이 보다 바람직하며, 20 ∼ 50 질량% 인 것이 더욱 바람직하다. 함유량이 상기 범위 내이면, 경화성 조성물은 한층 더 우수한 상용성을 갖고, 내열성, 저열팽창성, 내약품성 및 동박 필 강도를 양호한 밸런스로 발현할 수 있는 경향이 있다.When the curable composition of the second embodiment contains the polymer (E) and the compound (H), the content of the polymer (E) in the curable composition of the second embodiment is that of the polymer (E) and the compound (H). It is preferably 5 to 60 mass%, more preferably 10 to 55 mass%, and even more preferably 20 to 50 mass%, based on a total of 100 mass%. When the content is within the above range, the curable composition has further excellent compatibility and tends to be able to exhibit heat resistance, low thermal expansion, chemical resistance, and copper foil peel strength in a good balance.
제 2 실시형태의 경화성 조성물이 중합체 (E) 및 화합물 (H) 를 포함하는 경우, 제 2 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 화합물 (H) 의 함유량은, 중합체 (E) 및 화합물 (H) 의 합계 100 질량% 에 대하여, 바람직하게는 20 ∼ 80 질량% 인 것이 바람직하고, 35 ∼ 75 질량% 인 것이 보다 바람직하며, 45 ∼ 65 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.When the curable composition of the second embodiment contains the polymer (E) and the compound (H), the content of the compound (H) in the curable composition of the second embodiment is that of the polymer (E) and the compound (H). With respect to a total of 100 mass%, it is preferably 20 to 80 mass%, more preferably 35 to 75 mass%, and even more preferably 45 to 65 mass%.
또한, 제 2 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 의 함유량은, 제 1 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 함유량과 동일하다. 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 의 함유량이, 상기 서술한 범위임으로써, 내열성, 저열팽창성, 동박 필 강도 및 내약품성이 한층 더 우수한 경향이 있다.In addition, the content of the cyclic carbodiimide compound (D) in the curable composition of the second embodiment is the same as the content in the curable composition of the first embodiment. When the content of the cyclic carbodiimide compound (D) is within the range described above, heat resistance, low thermal expansion, copper foil peel strength, and chemical resistance tend to be further excellent.
본 실시형태의 경화성 조성물은, 본 실시형태의 경화성 조성물에 있어서의 효과를 저해하지 않는 한, 그 밖의 수지를 추가로 함유해도 된다. 그 밖의 수지로는, 예를 들어, 옥세탄 수지, 벤조옥사진 화합물, 및 중합 가능한 불포화기를 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 이들 수지는, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다.The curable composition of the present embodiment may further contain other resins, as long as the effects of the curable composition of the present embodiment are not impaired. Other resins include, for example, oxetane resins, benzoxazine compounds, and compounds having a polymerizable unsaturated group. These resins are used individually or in combination of two or more types.
옥세탄 수지로는, 예를 들어, 옥세탄, 2-메틸옥세탄, 2,2-디메틸옥세탄, 3-메틸옥세탄, 3,3-디메틸옥세탄 등의 알킬옥세탄, 3-메틸-3-메톡시메틸옥세탄, 3,3'-디(트리플루오로메틸)퍼플루옥세탄, 2-클로로메틸옥세탄, 3,3-비스(클로로메틸)옥세탄, 비페닐형 옥세탄, 토아 합성 주식회사 제품의 「OXT-101」, 「OXT-121」 등을 들 수 있다.Oxetane resins include, for example, alkyloxetane such as oxetane, 2-methyloxetane, 2,2-dimethyloxetane, 3-methyloxetane, and 3,3-dimethyloxetane, and 3-methyl- 3-methoxymethyloxetane, 3,3'-di(trifluoromethyl)perfluoxetane, 2-chloromethyloxetane, 3,3-bis(chloromethyl)oxetane, biphenyl type oxetane, Toa Examples include “OXT-101” and “OXT-121” manufactured by Synthesis Co., Ltd.
본 명세서에서 말하는 「벤조옥사진 화합물」이란, 1 분자 중에 2 개 이상의 디하이드로벤조옥사진 고리를 갖는 화합물을 말한다. 벤조옥사진 화합물로는, 코니시 화학 주식회사 제품의 「비스페놀 F 형 벤조옥사진 BF-BXZ」, 「비스페놀 S 형 벤조옥사진 BS-BXZ」 등을 들 수 있다.The term “benzoxazine compound” as used herein refers to a compound having two or more dihydrobenzoxazine rings in one molecule. Examples of the benzoxazine compound include "Bisphenol F-type benzoxazine BF-BXZ" and "Bisphenol S-type benzoxazine BS-BXZ" manufactured by Konishi Chemical Co., Ltd.
중합 가능한 불포화기를 갖는 화합물로는, 예를 들어, 에틸렌, 프로필렌, 스티렌, 디비닐벤젠, 디비닐비페닐 등의 비닐 화합물 ; 메틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 1 가 또는 다가 알코올의 (메트)아크릴레이트류 ; 비스페놀 A 형 에폭시(메트)아크릴레이트, 비스페놀 F 형 에폭시(메트)아크릴레이트 등의 에폭시(메트)아크릴레이트류 ; 벤조시클로부텐 수지 등을 들 수 있다.Examples of the compound having a polymerizable unsaturated group include vinyl compounds such as ethylene, propylene, styrene, divinylbenzene, and divinylbiphenyl; Methyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate, trimethyl (meth)acrylates of monohydric or polyhydric alcohols, such as allpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate; Epoxy (meth)acrylates such as bisphenol A-type epoxy (meth)acrylate and bisphenol F-type epoxy (meth)acrylate; Benzocyclobutene resin, etc. can be mentioned.
[무기 충전재][Inorganic filler]
본 실시형태의 경화성 조성물은, 저열팽창성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 무기 충전재를 추가로 함유하는 것이 바람직하다. 무기 충전재로는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 실리카류, 규소 화합물 (예를 들어, 화이트 카본 등), 금속 산화물 (예를 들어, 알루미나, 티탄 화이트, 산화아연, 산화마그네슘, 산화지르코늄 등), 금속 질화물 (예를 들어, 질화붕소, 응집 질화붕소, 질화규소, 질화알루미늄 등), 금속 황산화물 (예를 들어, 황산바륨 등), 금속 수산화물 (예를 들어, 수산화알루미늄, 수산화알루미늄 가열 처리품 (예를 들어, 수산화알루미늄을 가열 처리하여 결정수의 일부를 줄인 것), 베마이트, 수산화마그네슘 등), 몰리브덴 화합물 (예를 들어, 산화몰리브덴, 몰리브덴산아연 등), 아연 화합물 (예를 들어, 붕산아연, 주석산아연 등), 클레이, 카올린, 탤크, 소성 클레이, 소성 카올린, 소성 탤크, 마이카, E-유리, A-유리, NE-유리, C-유리, L-유리, D-유리, S-유리, M-유리 G20, 유리 단섬유 (E 유리, T 유리, D 유리, S 유리, Q 유리 등의 유리 미분말류를 포함한다), 중공 유리, 구상 유리 등을 들 수 있다. 이들 무기 충전재는, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 무기 충전재는, 저열팽창성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 실리카류, 금속 수산화물 및 금속 산화물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 바람직하고, 실리카류, 베마이트 및 알루미나로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종 이상을 포함하는 것이 보다 바람직하고, 실리카류인 것이 더욱 바람직하다.The curable composition of the present embodiment preferably further contains an inorganic filler from the viewpoint of further improving low thermal expansion properties. Inorganic fillers are not particularly limited and include, for example, silica, silicon compounds (e.g., white carbon, etc.), metal oxides (e.g., alumina, titanium white, zinc oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, etc.) ), metal nitrides (e.g. boron nitride, agglomerated boron nitride, silicon nitride, aluminum nitride, etc.), metal sulfates (e.g. barium sulfate, etc.), metal hydroxides (e.g. aluminum hydroxide, aluminum hydroxide heat treatment) products (for example, aluminum hydroxide is heated to reduce some of the water of crystallization), boehmite, magnesium hydroxide, etc.), molybdenum compounds (for example, molybdenum oxide, zinc molybdate, etc.), zinc compounds (for example, For example, zinc borate, zinc stannate, etc.), clay, kaolin, talc, calcined clay, calcined kaolin, calcined talc, mica, E-glass, A-glass, NE-glass, C-glass, L-glass, D-glass. , S-glass, M-glass G20, short glass fibers (including glass fine powders such as E glass, T glass, D glass, S glass, Q glass, etc.), hollow glass, spherical glass, etc. These inorganic fillers are used individually or in combination of two or more types. Among these, the inorganic filler is preferably at least one selected from the group consisting of silicas, metal hydroxides and metal oxides from the viewpoint of further improving low thermal expansion properties, and is selected from the group consisting of silicas, boehmite and alumina. It is more preferable that it contains at least one type, and it is even more preferable that it is silica.
실리카류로는, 예를 들어, 천연 실리카, 용융 실리카, 합성 실리카, 아에로질, 중공 실리카 등을 들 수 있다. 이들 실리카류는 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 분산성의 관점에서, 용융 실리카인 것이 바람직하고, 충전성 및 유동성의 관점에서, 상이한 입도를 갖는 2 종류 이상의 용융 실리카인 것이 보다 바람직하다.Examples of silica include natural silica, fused silica, synthetic silica, aerosil, and hollow silica. These silicas are used individually or in combination of two or more types. Among these, fused silica is preferable from the viewpoint of dispersibility, and two or more types of fused silica having different particle sizes are more preferable from the viewpoint of fillability and fluidity.
무기 충전재의 함유량은, 저열팽창성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 50 ∼ 1000 질량부인 것이 바람직하고, 70 ∼ 500 질량부인 것이 보다 바람직하고, 100 ∼ 300 질량부인 것이 더욱 바람직하다.From the viewpoint of further improving the low thermal expansion property, the content of the inorganic filler is preferably 50 to 1,000 parts by mass, more preferably 70 to 500 parts by mass, and even more preferably 100 to 300 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin solid content. desirable.
[실란 커플링제][Silane coupling agent]
본 실시형태의 경화성 조성물은, 실란 커플링제를 추가로 함유해도 된다. 본 실시형태의 경화성 조성물은, 실란 커플링제를 함유함으로써, 무기 충전재의 분산성이 한층 더 향상되거나, 본 실시형태의 경화성 조성물의 성분과 후술하는 기재의 접착 강도가 한층 더 향상되거나 할 수 있는 경향이 있다.The curable composition of this embodiment may further contain a silane coupling agent. The curable composition of the present embodiment tends to further improve the dispersibility of the inorganic filler by containing a silane coupling agent, or further improve the adhesive strength between the components of the curable composition of the present embodiment and the substrate described later. There is.
실란 커플링제로는 특별히 한정되지 않고, 일반적으로 무기물의 표면 처리에 사용되는 실란 커플링제를 들 수 있고, 아미노실란계 화합물 (예를 들어, γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란 등), 에폭시실란계 화합물 (예를 들어, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 등), 아크릴실란계 화합물 (예를 들어, γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란 등), 카티오닉 실란계 화합물 (예를 들어, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란염산염 등), 스티릴실란계 화합물, 페닐실란계 화합물 등을 들 수 있다. 실란 커플링제는, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 실란 커플링제는, 에폭시실란계 화합물인 것이 바람직하다. 에폭시실란계 화합물로는, 예를 들어, 신에츠 화학 공업 주식회사 제품의 「KBM-403」, 「KBM-303」, 「KBM-402」, 「KBE-403」 등을 들 수 있다.The silane coupling agent is not particularly limited and includes silane coupling agents generally used for surface treatment of inorganic materials, and aminosilane-based compounds (e.g., γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β-( aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, etc.), epoxysilane-based compounds (e.g., γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, etc.), acrylic silane-based compounds (e.g., γ-acryloxy propyltrimethoxysilane, etc.), cationic silane compounds (e.g., N-β-(N-vinylbenzylaminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, etc.), styrylsilane compounds, phenyl Silane-based compounds, etc. can be mentioned. Silane coupling agents are used individually or in combination of two or more types. Among these, it is preferable that the silane coupling agent is an epoxysilane-based compound. Examples of the epoxysilane-based compound include “KBM-403,” “KBM-303,” “KBM-402,” and “KBE-403” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
실란 커플링제의 함유량은, 특별히 한정되지 않지만, 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 0.1 ∼ 5.0 질량부여도 된다.The content of the silane coupling agent is not particularly limited, but may be 0.1 to 5.0 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin solid content.
[습윤 분산제][Wetting and dispersing agent]
본 실시형태의 경화성 조성물은, 습윤 분산제를 추가로 함유해도 된다. 경화성 조성물은, 습윤 분산제를 함유함으로써, 충전재의 분산성이 한층 더 향상되는 경향이 있다.The curable composition of this embodiment may further contain a wetting and dispersing agent. The curable composition tends to further improve the dispersibility of the filler by containing a wetting dispersant.
습윤 분산제로는, 충전재를 분산시키기 위해 사용되는 공지된 분산제 (분산 안정제) 이면 되고, 예를 들어, 빅케미·재팬 (주) 제조의 DISPER BYK-110, 111, 118, 180, 161, BYK-W996, W9010, W903 등을 들 수 있다.The wet dispersant may be any known dispersant (dispersion stabilizer) used to disperse the filler, for example, DISPER BYK-110, 111, 118, 180, 161, BYK- manufactured by Big Chemi Japan Co., Ltd. Examples include W996, W9010, and W903.
습윤 분산제의 함유량은, 특별히 한정되지 않지만, 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 0.5 질량부 이상 5.0 질량부 이하인 것이 바람직하다.The content of the wetting and dispersing agent is not particularly limited, but is preferably 0.5 parts by mass or more and 5.0 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin solid content.
[용제][solvent]
본 실시형태의 경화성 조성물은, 용제를 추가로 함유해도 된다. 본 실시형태의 경화성 조성물은, 용제를 포함함으로써, 경화성 조성물의 조제시에 있어서의 점도가 낮아지고, 핸들링성 (취급성) 이 한층 더 향상되거나, 기재에 대한 함침성이 한층 더 향상되거나 하는 경향이 있다.The curable composition of this embodiment may further contain a solvent. By containing a solvent, the curable composition of the present embodiment tends to lower the viscosity at the time of preparation of the curable composition, further improve handling properties, and further improve impregnation into the substrate. There is.
용제로는, 경화성 조성물 중의 각 성분의 일부 또는 전부를 용해 가능하면, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 케톤류 (아세톤, 메틸에틸케톤 등), 방향족 탄화수소류 (예를 들어, 톨루엔, 자일렌 등), 아미드류 (예를 들어, 디메틸포름알데히드 등), 프로필렌글리콜모노메틸에테르 및 그 아세테이트 등을 들 수 있다. 이들 용제는, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다.The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve part or all of the components in the curable composition, but examples include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, etc.), aromatic hydrocarbons (e.g. toluene, xylene, etc.) ), amides (for example, dimethyl formaldehyde, etc.), propylene glycol monomethyl ether and its acetate, etc. These solvents are used individually or in combination of two or more types.
본 실시형태의 경화성 조성물의 제조 방법으로는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 각 성분을 일괄적으로 또는 축차적으로 용제에 배합하고, 교반하는 방법을 들 수 있다. 이 때, 각 성분을 균일하게 용해 또는 분산시키기 위해, 교반, 혼합, 혼련 처리 등의 공지된 처리가 사용된다.The method for producing the curable composition of the present embodiment is not particularly limited and includes, for example, a method of mixing each component in a solvent all at once or sequentially and stirring them. At this time, known processes such as stirring, mixing, and kneading are used to uniformly dissolve or disperse each component.
[용도][Usage]
본 실시형태의 경화성 조성물은, 상기한 바와 같이, 우수한 저열팽창성, 동박 필 강도 및 내약품성을 발현할 수 있다. 이 때문에, 본 실시형태의 경화성 조성물은, 프리프레그, 금속박 피복 적층판 및 프린트 배선판에 바람직하게 사용된다. 본 실시형태의 경화성 조성물은, 경화시킴으로써 상기 서술한 용도에 적용할 수 있다. 즉, 본 실시형태의 경화물은, 본 실시형태의 경화성 조성물을 경화시켜 이루어진다.As described above, the curable composition of the present embodiment can exhibit excellent low thermal expansion properties, copper foil peel strength, and chemical resistance. For this reason, the curable composition of this embodiment is preferably used for prepreg, metal foil-clad laminate, and printed wiring board. The curable composition of the present embodiment can be applied to the above-described uses by curing it. That is, the cured product of the present embodiment is obtained by curing the curable composition of the present embodiment.
또한, 특히 상기한 용도에 있어서, 제 2 실시형태의 경화성 조성물은, 중합체 (E) 및 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 에 더하여, 적어도 에폭시 화합물 (C) (중합체 (E) 중의 구성 단위 (C) 와는 별도로 존재하는 에폭시 화합물 (C) 를 포함하는 것이 바람직하다.Moreover, especially in the above-mentioned use, the curable composition of the second embodiment contains, in addition to the polymer (E) and the cyclic carbodiimide compound (D), at least an epoxy compound (C) (a structural unit in the polymer (E) ( It is preferred to include an epoxy compound (C) that exists separately from C).
이 경우에 있어서, 중합체 (E) 는, 에폭시 화합물 (C) 에서 유래하는 단위로서, 전술한 2 관능 에폭시 화합물에서 유래하는 단위를 갖는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 전술한 비페닐형 에폭시 수지에서 유래하는 단위를 갖고, 더욱 바람직하게는 상기 식 (b2) 로 나타내는 화합물 (화합물 (b2)) 에서 유래하는 단위를 갖고, 한층 더 바람직하게는 Ra 의 수가 0 인 화합물 (b2) 와, 알킬기인 Ra 의 수가 4 인 화합물 (b2) (시판품으로는, 예를 들어, 미츠비시 케미컬 (주) 제조의 상품명 「YL-6121H」등) 에서 유래하는 단위를 갖는다.In this case, the polymer (E) preferably has a unit derived from the above-mentioned bifunctional epoxy compound as the unit derived from the epoxy compound (C), and more preferably from the above-described biphenyl type epoxy resin. Compound (b2), which has a unit derived from a compound, more preferably a compound represented by the above formula (b2) (compound (b2)), and even more preferably where the number of R a is 0, and which is an alkyl group. It has a unit derived from compound (b2) in which the number of R a is 4 (commercially available products include, for example, product name "YL-6121H" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
또, 중합체 (E) 중의 구성 단위 (C) 와는 별도로 존재하는 에폭시 화합물 (C) 로는, 전술한 나프틸렌에테르형 에폭시 수지 (시판품으로는, 예를 들어, DIC 주식회사 제품의 「HP-6000」등) 및/또는 나프탈렌크레졸노볼락형 에폭시 수지 (시판품으로는, 예를 들어, DIC 주식회사 제품의 「HP-9540」등) 를 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the epoxy compound (C) that exists separately from the structural unit (C) in the polymer (E) includes the above-mentioned naphthylene ether type epoxy resin (commercially available products include, for example, “HP-6000” manufactured by DIC Corporation). ) and/or a naphthalenecresol novolac type epoxy resin (commercially available products include, for example, “HP-9540” manufactured by DIC Corporation).
[프리프레그][Prepreg]
본 실시형태의 프리프레그는, 기재와, 그 기재에 함침 또는 도포된 본 실시형태의 경화성 조성물을 포함한다. 프리프레그는, 상기 서술한 바와 같이, 공지된 방법에 의해 얻어지는 프리프레그여도 되고, 구체적으로는, 본 실시형태의 경화성 조성물을 기재에 함침 또는 도포시킨 후, 100 ∼ 200 ℃ 의 조건에서 가열 건조시키는 것에 의해 반경화 (B 스테이지화) 시킴으로써 얻어진다.The prepreg of this embodiment includes a base material and the curable composition of this embodiment impregnated or applied to the base material. As described above, the prepreg may be a prepreg obtained by a known method. Specifically, the curable composition of the present embodiment is impregnated or applied to a substrate, and then heated and dried under conditions of 100 to 200°C. It is obtained by semi-hardening (B staging).
본 실시형태의 프리프레그는, 반경화 상태의 프리프레그를 180 ∼ 230 ℃ 의 가열 온도 및 60 ∼ 180 분의 가열 시간의 조건에서 열경화시켜 얻어지는 경화물의 형태도 포함한다.The prepreg of this embodiment also includes the form of a cured product obtained by heat curing a prepreg in a semi-cured state under the conditions of a heating temperature of 180 to 230 ° C. and a heating time of 60 to 180 minutes.
프리프레그에 있어서의 경화성 조성물의 함유량은, 프리프레그의 총량에 대하여, 프리프레그의 고형분 환산으로, 바람직하게는 30 ∼ 90 체적% 이고, 보다 바람직하게는 35 ∼ 85 체적% 이고, 더욱 바람직하게는 40 ∼ 80 체적% 이다. 경화성 조성물의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 성형성이 보다 향상되는 경향이 있다. 또한, 여기서 말하는 경화성 조성물의 함유량 계산에는, 본 실시형태의 경화성 조성물의 경화물도 포함한다. 또한, 여기서 말하는 프리프레그의 고형분은, 프리프레그 중에서 용제를 제거한 성분을 말하고, 예를 들어, 충전재는, 프리프레그의 고형분에 포함된다.The content of the curable composition in the prepreg is preferably 30 to 90 volume%, more preferably 35 to 85 volume%, in terms of solid content of the prepreg, relative to the total amount of prepreg, and even more preferably It is 40 to 80 volume%. When the content of the curable composition is within the above range, moldability tends to be further improved. In addition, the content calculation of the curable composition referred to herein also includes the cured product of the curable composition of the present embodiment. In addition, the solid content of the prepreg referred to here refers to the component from which the solvent has been removed from the prepreg, and for example, the filler is included in the solid content of the prepreg.
기재로는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 각종 프린트 배선판의 재료에 사용되고 있는 공지된 기재를 들 수 있다. 기재의 구체예로는, 유리 기재, 유리 이외의 무기 기재 (예를 들어, 쿼츠 등의 유리 이외의 무기 섬유로 구성된 무기 기재), 유기 기재 (예를 들어, 전방향족 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리파라페닐렌벤즈옥사졸, 폴리이미드 등의 유기 섬유로 구성된 유기 기재) 등을 들 수 있다. 이들의 기재는, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 이들 중에서도, 가열 치수 안정성이 한층 더 우수한 관점에서, 유리 기재가 바람직하다.The base material is not particularly limited, and examples include known base materials used for materials of various printed wiring boards. Specific examples of the substrate include glass substrates, inorganic substrates other than glass (e.g., inorganic substrates made of inorganic fibers other than glass, such as quartz), and organic substrates (e.g., wholly aromatic polyamide, polyester, poly and organic substrates composed of organic fibers such as paraphenylenebenzoxazole and polyimide. These base materials are used individually or in combination of two or more types. Among these, a glass substrate is preferable from the viewpoint of further excellent heating dimensional stability.
유리 기재를 구성하는 섬유로는, 예를 들어, E 유리, D 유리, S 유리, T 유리, Q 유리, L 유리, NE 유리, HME 유리 등의 섬유를 들 수 있다. 이들 중에서도, 유리 기재를 구성하는 섬유는, 강도와 저흡수성이 한층 더 우수한 관점에서, E 유리, D 유리, S 유리, T 유리, Q 유리, L 유리, NE 유리, 및 HME 유리로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 섬유인 것이 바람직하다.Examples of the fibers constituting the glass substrate include fibers such as E glass, D glass, S glass, T glass, Q glass, L glass, NE glass, and HME glass. Among these, the fibers constituting the glass substrate are selected from the group consisting of E glass, D glass, S glass, T glass, Q glass, L glass, NE glass, and HME glass from the viewpoint of superior strength and low water absorption. It is preferable that at least one type of fiber is selected.
기재의 형태로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 직포, 부직포, 로빙, 촙드 스트랜드 매트, 서페이싱 매트 등의 형태를 들 수 있다. 직포의 직조법으로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 평직, 사자직, 능직 등이 알려져 있고, 이들 공지된 것으로부터 목적으로 하는 용도나 성능에 따라 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또, 이들을 개섬 (開纖) 처리한 것이나 실란 커플링제 등으로 표면 처리한 유리 직포가 바람직하게 사용된다. 기재의 두께나 질량은, 특별히 한정되지 않지만, 통상은 0.01 ∼ 0.1 mm 정도의 것이 바람직하게 사용된다.The form of the base material is not particularly limited, but examples include woven fabric, non-woven fabric, roving, chopped strand mat, and surfacing mat. The weaving method of the woven fabric is not particularly limited, but for example, plain weave, twill weave, and twill weave are known, and these known weaves can be appropriately selected and used depending on the intended use or performance. In addition, glass woven fabrics that have been opened or surface-treated with a silane coupling agent or the like are preferably used. The thickness or mass of the base material is not particularly limited, but is usually preferably around 0.01 to 0.1 mm.
[금속박 피복 적층판][Metal foil clad laminate]
본 실시형태의 금속박 피복 적층판은, 본 실시형태의 프리프레그를 포함하는 적층체와, 상기 적층체의 편면 또는 양면에 배치된 금속박을 포함한다. 상기 적층체는 1 개의 프리프레그로 형성되어 있어도 되고, 복수의 프리프레그로 형성되어 있어도 된다. 또한, 상기 적층체는 본 실시형태의 프리프레그 이외에 레진 시트를 포함하고 있어도 된다.The metal foil-clad laminate of the present embodiment includes a laminate containing the prepreg of the present embodiment, and metal foil disposed on one side or both surfaces of the laminate. The above-mentioned laminate may be formed of one prepreg or may be formed of a plurality of prepregs. Moreover, the said laminated body may contain a resin sheet other than the prepreg of this embodiment.
금속박 (도체층) 으로는, 각종 프린트 배선판 재료에 사용되는 금속박이면 되고, 예를 들어, 구리, 알루미늄 등의 금속박을 들 수 있고, 구리의 금속박으로는, 압연 동박, 전해 동박 등의 동박을 들 수 있다. 도체층의 두께는, 예를 들어, 1 ∼ 70 ㎛ 이고, 바람직하게는 1.5 ∼ 35 ㎛ 이다.The metal foil (conductor layer) may be any metal foil used in various printed wiring board materials, and examples include metal foils such as copper and aluminum. Examples of the copper foil include copper foils such as rolled copper foil and electrolytic copper foil. You can. The thickness of the conductor layer is, for example, 1 to 70 μm, and is preferably 1.5 to 35 μm.
금속박 피복 적층판의 성형 방법 및 그 성형 조건은, 특별히 한정되지 않고, 일반적인 프린트 배선판용 적층판 및 다층판의 수법 및 조건을 적용할 수 있다. 예를 들어, 적층판 (상기 서술한 적층체) 또는 금속박 피복 적층판의 성형시에는 다단 프레스기, 다단 진공 프레스기, 연속 성형기, 오토클레이브 성형기 등을 사용할 수 있다. 또, 적층판 (상기 서술한 적층체) 또는 금속박 피복 적층판의 성형 (적층 성형) 에 있어서, 온도는 100 ∼ 300 ℃, 압력은 면압 2 ∼ 100 ㎏f/cm2, 가열 시간은 0.05 ∼ 5 시간의 범위가 일반적이다. 또한 필요에 따라서, 150 ∼ 300 ℃ 의 온도에서 후경화를 실시할 수도 있다. 특히 다단 프레스기를 사용한 경우에는, 프리프레그의 경화를 충분히 촉진시키는 관점에서, 온도 200 ℃ ∼ 250 ℃, 압력 10 ∼ 40 kgf/cm2, 가열 시간 80 분 ∼ 130 분이 바람직하고, 온도 215 ℃ ∼ 235 ℃, 압력 25 ∼ 35 kgf/cm2, 가열 시간 90 분 ∼ 120 분이 보다 바람직하다. 또, 상기 서술한 프리프레그와, 별도 제작한 내층용의 배선판을 조합하여 적층 성형함으로써 다층판으로 하는 것도 가능하다.The forming method and conditions for forming the metal foil-clad laminate are not particularly limited, and general methods and conditions for laminates and multilayer boards for printed wiring boards can be applied. For example, when forming a laminated board (the above-described laminated body) or a metal foil-clad laminated board, a multi-stage press machine, a multi-stage vacuum press machine, a continuous molding machine, an autoclave molding machine, etc. can be used. In addition, in the molding (lamination molding) of a laminate (the above-mentioned laminate) or a metal foil-clad laminate, the temperature is 100 to 300° C., the pressure is 2 to 100 kgf/cm 2 , and the heating time is 0.05 to 5 hours. The range is general. Additionally, if necessary, post-curing may be performed at a temperature of 150 to 300°C. Especially when a multi-stage press machine is used, from the viewpoint of sufficiently promoting curing of the prepreg, a temperature of 200°C to 250°C, a pressure of 10 to 40 kgf/cm 2 , and a heating time of 80 to 130 minutes are preferable, and a temperature of 215°C to 235°C is preferable. C, a pressure of 25 to 35 kgf/cm 2 , and a heating time of 90 to 120 minutes are more preferable. In addition, it is also possible to form a multilayer board by combining the above-mentioned prepreg and a separately manufactured wiring board for the inner layer and lamination molding.
[프린트 배선판][Printed wiring board]
본 실시형태의 프린트 배선판은, 본 실시형태의 프리프레그를 포함하는 절연층과, 상기 절연층의 표면에 형성된 도체층을 포함한다. 여기서, 절연층은, 본 실시형태의 프리프레그가 경화된 경화물이어도 된다. 본 실시형태의 프린트 배선판은, 예를 들어, 본 실시형태의 금속박 피복 적층판의 금속박을 소정의 배선 패턴으로 에칭하여 도체층으로 함으로써 형성할 수 있다.The printed wiring board of this embodiment includes an insulating layer containing the prepreg of this embodiment, and a conductor layer formed on the surface of the insulating layer. Here, the insulating layer may be a cured product obtained by curing the prepreg of the present embodiment. The printed wiring board of this embodiment can be formed, for example, by etching the metal foil of the metal foil-clad laminate of this embodiment into a predetermined wiring pattern to form a conductor layer.
본 실시형태의 프린트 배선판은, 구체적으로는, 예를 들어 이하의 방법에 의해 제조할 수 있다. 먼저, 본 실시형태의 금속박 피복 적층판을 준비한다. 금속박 피복 적층판의 금속박을 소정의 배선 패턴으로 에칭하여 도체층 (내층 회로) 을 갖는 내층 기판을 제조한다. 다음으로, 내층 기판의 도체층 (내장 회로) 표면에, 소정수의 절연층과, 외층 회로용의 금속박을 이 순서로 적층하고, 가열 가압하여 일체 성형 (적층 성형) 함으로써, 적층체를 얻는다. 또한, 적층 성형의 방법 및 그 성형 조건은, 상기의 적층판 및 금속박 피복 적층판에 있어서의 적층 성형의 방법 및 그 성형 조건과 동일하다. 다음으로, 적층체에 스루홀, 비어홀용의 천공 가공을 실시하고, 이로써 형성된 구멍의 벽면에 도체층 (내장 회로) 과, 외층 회로용의 금속박을 도통시키기 위한 도금 금속 피막을 형성한다. 다음으로, 외층 회로용의 금속박을 소정의 배선 패턴으로 에칭하여 도체층 (외층 회로) 을 갖는 외층 기판을 제조한다. 이와 같이 하여 프린트 배선판이 제조된다.The printed wiring board of this embodiment can be specifically manufactured, for example, by the following method. First, the metal foil-clad laminate of this embodiment is prepared. The metal foil of the metal foil-clad laminate is etched into a predetermined wiring pattern to produce an inner layer substrate having a conductor layer (inner layer circuit). Next, a predetermined number of insulating layers and a metal foil for the outer layer circuit are laminated on the surface of the conductor layer (built-in circuit) of the inner layer substrate in this order, heated and pressed, and integrally molded (lamination molding) to obtain a laminate. In addition, the method of lamination molding and its molding conditions are the same as the method and molding conditions of lamination molding for the above-described laminated board and metal foil-clad laminated board. Next, the laminate is subjected to perforation processing for through holes and via holes, and a plating metal film is formed on the walls of the holes thus formed to connect the conductor layer (built-in circuit) and the metal foil for the outer layer circuit. Next, the metal foil for the outer layer circuit is etched into a predetermined wiring pattern to manufacture an outer layer substrate having a conductor layer (outer layer circuit). In this way, a printed wiring board is manufactured.
또, 금속박 피복 적층판을 사용하지 않는 경우에는, 상기 절연층에, 회로가 되는 도체층을 형성하여 프린트 배선판을 제조해도 된다. 이 때, 도체층의 형성에 무전해 도금의 수법을 사용할 수도 있다.In addition, when a metal foil-clad laminate is not used, a printed wiring board may be manufactured by forming a conductor layer that becomes a circuit on the insulating layer. At this time, electroless plating may be used to form the conductor layer.
실시예Example
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.
(제조예 1) 고리형 카르보디이미드 화합물의 합성(Preparation Example 1) Synthesis of cyclic carbodiimide compound
o-니트로페놀 (0.11 mol), 펜타에리트리틸테트라브로마이드 (0.025 mol), 탄산칼륨 (0.33 mol), 및 N,N-디메틸포름아미드 (DMF) 200 ml 를, 교반 장치 및 가열 장치를 설치한 반응 장치에, N2 분위기 하에서 주입하고, 130 ℃ 에서 12 시간 반응시켰다. 그 후, DMF 를 감압에 의해 제거하고, 얻어진 고형물을 디클로로메탄 200 ml 에 용해시키고, 물 100 ml 로 3 회, 분액 조작을 실시하였다. 유기층을 황산나트륨 5 g 으로 탈수하고, 디클로로메탄을 감압에 의해 제거하여, 중간 생성물 (니트로체) 을 얻었다.200 ml of o-nitrophenol (0.11 mol), pentaerythrityltetrabromide (0.025 mol), potassium carbonate (0.33 mol), and N,N-dimethylformamide (DMF) were mixed with a stirring device and a heating device. It was injected into the reaction apparatus under N 2 atmosphere and reacted at 130°C for 12 hours. After that, DMF was removed under reduced pressure, the obtained solid was dissolved in 200 ml of dichloromethane, and the liquid separation operation was performed three times with 100 ml of water. The organic layer was dehydrated with 5 g of sodium sulfate, and dichloromethane was removed under reduced pressure to obtain an intermediate product (nitroform).
다음으로, 얻어진 중간 생성물 (니트로체, 0.1 mol), 5 % 팔라듐 카본 (Pd/C) (2 g) 및 에탄올/디클로로메탄 (70/30) 400 ml 를, 교반 장치를 설치한 반응 장치에 주입하고, 수소 치환을 5 회 실시하고, 25 ℃ 에서 수소를 항상 공급한 상태에서 반응시켜, 수소의 감소가 없어진 시점에서 반응을 종료하였다. Pd/C 를 회수하고, 혼합 용매를 제거하여, 중간 생성물 (아민체) 을 얻었다.Next, the obtained intermediate product (nitrobody, 0.1 mol), 5% palladium carbon (Pd/C) (2 g), and 400 ml of ethanol/dichloromethane (70/30) were injected into a reaction device equipped with a stirring device. Then, hydrogen substitution was performed five times, and the reaction was carried out at 25°C with hydrogen always supplied, and the reaction was terminated when the reduction in hydrogen ceased. Pd/C was recovered, the mixed solvent was removed, and an intermediate product (amine body) was obtained.
다음으로, 교반 장치, 가열 장치, 및 적하 로트를 설치한 반응 장치에, N2 분위기 하, 트리페닐포스핀디브로마이드 (0.11 mol) 와 1,2-디클로로에탄 150 ml 를 주입하여 교반하였다. 거기에, 중간 생성물 (아민체, 0.025 mol) 과 트리에틸아민 (0.25 mol) 을 1,2-디클로로에탄 50 ml 에 용해시킨 용액을 25 ℃ 에서 서서히 적하하였다. 적하 종료 후, 70 ℃ 에서 5 시간 반응시켰다. 그 후, 반응 용액을 여과하고, 여과액을 물 100 ml 로 5 회, 분액 조작을 실시하였다. 유기층을 황산나트륨 5 g 으로 탈수하고, 1,2-디클로로에탄을 감압에 의해 제거하여, 중간 생성물 (트리페닐포스핀체) 을 얻었다.Next, triphenylphosphine dibromide (0.11 mol) and 150 ml of 1,2-dichloroethane were injected into a reaction device equipped with a stirring device, a heating device, and a dropping funnel under an N 2 atmosphere, and stirred. Thereto, a solution of the intermediate product (amine form, 0.025 mol) and triethylamine (0.25 mol) dissolved in 50 ml of 1,2-dichloroethane was slowly added dropwise at 25°C. After completion of dropwise addition, reaction was performed at 70°C for 5 hours. After that, the reaction solution was filtered, and the filtrate was subjected to liquid separation with 100 ml of water 5 times. The organic layer was dehydrated with 5 g of sodium sulfate, and 1,2-dichloroethane was removed under reduced pressure to obtain an intermediate product (triphenylphosphine body).
다음으로, 교반 장치 및 적하 로트를 설치한 반응 장치에, N2 분위기 하, 디-tert-부틸디카보네이트 (0.11 mol), N,N-디메틸-4-아미노피리딘 (0.055 mol) 및 디클로로메탄 150 ml 를 주입하여, 교반하였다. 거기에, 25 ℃에서 중간 생성물 (0.025 mol) 을 용해시킨 디클로로메탄 100 ml 를 천천히 적하시켰다. 적하 후, 12 시간 반응시켰다. 그 후, 디클로로메탄을 제거하고, 얻어진 고형물을 정제함으로써, 고리형 카르보디이미드 화합물을 얻었다.Next, in a reaction apparatus equipped with a stirring device and a dropping funnel, di-tert-butyldicarbonate (0.11 mol), N,N-dimethyl-4-aminopyridine (0.055 mol), and dichloromethane 150% were added in a N 2 atmosphere. ml was injected and stirred. There, 100 ml of dichloromethane in which the intermediate product (0.025 mol) was dissolved was slowly added dropwise at 25°C. After dropwise addition, it was allowed to react for 12 hours. Afterwards, dichloromethane was removed and the obtained solid was purified to obtain a cyclic carbodiimide compound.
(실시예 1)(Example 1)
온도계와 딤로스를 장착한 3 구 플라스크에, 디알릴비스페놀 A (DABPA, 다이와 화성 공업 (주)) 5.0 질량부, 비스크레졸플루오렌 (BCF, 오사카 가스 화학 (주)) 5.4 질량부, 에폭시 변성 실리콘 (B) 1 (X-22-163, 신에츠 화학 공업 (주), 관능기 당량 200 g/mol) 3.7 질량부, 에폭시 변성 실리콘 (B) 2 (KF-105, 신에츠 화학 공업 (주), 관능기 당량 490 g/mol) 11.0 질량부, 비페닐형 에폭시 수지 (C) 1 (YL-6121H, 미츠비시 케미컬 (주)) 4.9 질량부, 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 (DOWANOLPMA, 다우·케미컬 닛폰 (주)) 30 질량부를 첨가하고, 오일 배스에서 120 ℃ 까지 가열 교반하였다. 원료가 용매에 용해된 것을 확인 후, 이미다졸 촉매 g1 (TBZ, 시코쿠 화성 공업 (주)) 0.3 질량부를 첨가하고 140 ℃ 까지 승온시킨 후, 5 시간 교반하여, 냉각 후 페녹시 폴리머 용액 (고형분 50 질량%) 을 얻었다 (폴리머 생성 공정).In a three-necked flask equipped with a thermometer and Dimroth, 5.0 parts by mass of diallylbisphenol A (DABPA, Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.), 5.4 parts by mass of biscresol fluorene (BCF, Osaka Gas Chemical Co., Ltd.), and epoxy-modified Silicone (B) 1 (X-22-163, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., functional group equivalent 200 g/mol) 3.7 parts by mass, epoxy modified silicone (B) 2 (KF-105, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., functional group Equivalent weight 490 g/mol) 11.0 parts by mass, biphenyl type epoxy resin (C) 1 (YL-6121H, Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) 4.9 parts by mass, propylene glycol monomethyl ether acetate as solvent (DOWANOLPMA, Dow Chemical Nippon) Note)) 30 parts by mass were added, heated and stirred in an oil bath to 120°C. After confirming that the raw material was dissolved in the solvent, 0.3 parts by mass of imidazole catalyst g1 (TBZ, Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.) was added, the temperature was raised to 140 ° C., stirred for 5 hours, and after cooling, the phenoxy polymer solution (solid content 50 mass%) was obtained (polymer production process).
또한, 디알릴비스페놀 A 는, 「알케닐페놀 (A)」 에 상당하고, 에폭시 변성 실리콘 (B) 1 및 에폭시 변성 실리콘 (B) 2 는, 「에폭시 변성 실리콘 (B)」 에 상당하고, 비페닐형 에폭시 수지 (C) 1 은, 「에폭시 화합물 (C)」에 상당한다. 또, 페녹시 폴리머 용액에는, 알케닐페놀 (A) 에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘 (B) 에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 화합물 (C) 에서 유래하는 구성 단위를 함유하는 중합체 (E) 가 포함되어 있었다. 이하, 중합체 (E) 를 페녹시 폴리머라고도 한다.In addition, diallylbisphenol A corresponds to “alkenylphenol (A)”, epoxy-modified silicone (B) 1 and epoxy-modified silicone (B) 2 correspond to “epoxy-modified silicone (B)”, and Phenyl type epoxy resin (C) 1 corresponds to “epoxy compound (C)”. In addition, the phenoxy polymer solution contains a polymer (E) containing structural units derived from alkenylphenol (A), structural units derived from epoxy modified silicone (B), and structural units derived from epoxy compound (C). ) was included. Hereinafter, polymer (E) is also called phenoxy polymer.
중합체 (E) 에 대한 에폭시 변성 실리콘 (B) 에서 유래하는 구성 단위의 함유량은 48.8 질량% 였다.The content of the structural unit derived from epoxy-modified silicone (B) in the polymer (E) was 48.8 mass%.
에폭시 변성 실리콘 (B) 에서 유래하는 구성 단위 및 에폭시 화합물 (C) 에서 유래하는 구성 단위의 총량에 대한 에폭시 화합물 (C) 에서 유래하는 구성 단위의 함유량은 25 질량% 였다.The content of the structural units derived from the epoxy compound (C) relative to the total amount of the structural units derived from the epoxy modified silicone (B) and the structural units derived from the epoxy compound (C) was 25% by mass.
중량 평균 분자량 Mw 의 측정 :Measurement of weight average molecular weight Mw:
상기와 같이 하여 얻어진 페녹시 폴리머의 중량 평균 분자량 Mw 를, 이하와 같이 하여 측정하였다. 페녹시 폴리머 용액 0.5 g 을 2 g 의 THF 에 용해시킨 용액 20 μL 를 고속 액체 크로마토그래피 (시마즈 제작소 제조, 펌프 : LC-20AD) 에 주입하여 분석하였다. 칼럼은, 쇼와 전공 제조 Shodex GPC KF-804 (길이 30 ㎝ × 내경 8 mm), Shodex GPC KF-803 (길이 30 ㎝ × 내경 8 mm), Shodex GPC KF-802 (길이 30 ㎝ × 내경 8 mm), Shodex GPC KF-801 (길이 30 ㎝ × 내경 8 mm) 의 합계 4 개 사용하고, 이동상으로서 THF (용매) 를 사용하여, 유속을 1 mL/min 으로 하고, 검출기는 RID-10A 를 사용하였다. 중량 평균 분자량 Mw 는, GPC 법에 의해 표준 폴리스티렌을 표준 물질로서 구하였다. 상기와 같이 하여 측정된 페녹시 폴리머의 중량 평균 분자량 Mw 는, 12,000 이었다.The weight average molecular weight Mw of the phenoxy polymer obtained as described above was measured as follows. 20 μL of 0.5 g of the phenoxy polymer solution dissolved in 2 g of THF was injected into high-performance liquid chromatography (manufactured by Shimadzu Corporation, pump: LC-20AD) and analyzed. The columns are Shodex GPC KF-804 (length 30 cm ), a total of 4 Shodex GPC KF-801 (length 30 cm . The weight average molecular weight Mw was determined using standard polystyrene as a standard material by GPC method. The weight average molecular weight Mw of the phenoxy polymer measured as described above was 12,000.
이 페녹시 폴리머 용액 30 질량부 (고형분 환산) 에, 노볼락형 시안산에스테르 화합물 (PT-30, 론더 (주)) 14 질량부, 노볼락형 말레이미드 화합물 (BMI-2300, 다이와 화성 공업 (주)) 17 질량부, 비스말레이미드 화합물 (BMI-80, 케이 아이 화성 (주)) 6 질량부, 나프탈렌크레졸노볼락형 에폭시 화합물 (HP-9540, DIC (주)) 28 질량부, 제조예 1 에서 얻어진 고리형 카르보디이미드 화합물 5 질량부, 구상 실리카 (SC-2050MB, 아드마텍스 (주)) 140 질량부, 습윤 분산제 (DISPERBYK-161, 빅케미·재팬 (주)) 1 질량부, 실란 커플링제 (KMB-403, 신에츠 화학 공업 (주)) 5 질량부를 혼합하여 바니시를 얻었다. 이 바니시를 S 유리 직포 (두께 100 ㎛) 에 함침 도공하고, 165 ℃ 에서 5 분간 가열 건조시켜, 수지 조성물 고형분 (충전재를 포함한다) 의 함유량 47.4 질량% 의 프리프레그를 얻었다 (프리프레그 제조 공정).30 parts by mass of this phenoxy polymer solution (solid content conversion), 14 parts by mass of a novolak-type cyanate ester compound (PT-30, Ronder Co., Ltd.), and a novolak-type maleimide compound (BMI-2300, Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.) Note)) 17 parts by mass, bismaleimide compound (BMI-80, K.I Chemical Co., Ltd.) 6 parts by mass, naphthalenecresol novolac type epoxy compound (HP-9540, DIC Co., Ltd.) 28 parts by mass, preparation example 5 parts by mass of the cyclic carbodiimide compound obtained in 1, 140 parts by mass of spherical silica (SC-2050MB, Admatex Co., Ltd.), 1 part by mass of wetting and dispersing agent (DISPERBYK-161, Big Chemi Japan Co., Ltd.), A varnish was obtained by mixing 5 parts by mass of a silane coupling agent (KMB-403, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). This varnish was impregnated and coated on S glass woven fabric (thickness 100 μm), heated and dried at 165°C for 5 minutes, and a prepreg with a resin composition solid content (including filler) of 47.4% by mass was obtained (prepreg manufacturing process) .
(실시예 2)(Example 2)
프리프레그 제조 공정에 있어서, 노볼락형 시안산에스테르 화합물 (PT-30, 론더 (주)) 14 질량부를 13 질량부로, 노볼락형 말레이미드 화합물 (BMI-2300, 다이와 화성 공업 (주)) 17 질량부를 16 질량부로, 비스 말레이미드 화합물 (BMI-80, 케이 아이 화성 (주)) 6 질량부를 5 질량부로, 나프탈렌크레졸노볼락형 에폭시 화합물 (HP-9540, DIC (주)) 28 질량부를 26 질량부로, 제조예 1 에서 얻어진 고리형 카르보디이미드 화합물 5 질량부를 10 질량부로, 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 조작에 의해 수지 조성물 고형분 (충전재를 포함한다) 의 함유량 47.4 질량% 의 프리프레그를 얻었다.In the prepreg manufacturing process, 14 parts by mass of a novolak-type cyanate ester compound (PT-30, Ronder Co., Ltd.) is replaced by 13 parts by mass, and 17 parts by mass of a novolac-type maleimide compound (BMI-2300, Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.) 16 parts by mass, bismaleimide compound (BMI-80, K.I Chemical Co., Ltd.) 6 parts by mass, 5 parts by mass, naphthalenecresol novolac type epoxy compound (HP-9540, DIC Co., Ltd.) 28 parts by mass, 26 parts by mass. A prep with a resin composition solid content (including filler) of 47.4% by mass was prepared in the same manner as in Example 1, except that 5 parts by mass of the cyclic carbodiimide compound obtained in Production Example 1 was changed to 10 parts by mass. Got the leg.
(실시예 3)(Example 3)
폴리머 생성 공정에 있어서, 디알릴비스페놀 A (DABPA, 다이와 화성 공업 (주)) 5.0 질량부를 5.1 질량부로, 비스크레졸플루오렌 (BCF, 오사카 가스 화학 (주)) 5.4 질량부를 5.6 질량부로, 에폭시 변성 실리콘 (B) 1 (X-22-163, 신에츠 화학 공업 (주), 관능기 당량 200 g/mol) 3.7 질량부를 4.2 질량부로, 에폭시 변성 실리콘 (B) 2 (KF-105, 신에츠 화학 공업 (주), 관능기 당량 490 g/mol) 11.0 질량부를 8.5 질량부로, 비페닐형 에폭시 수지 (C) 1 (YL-6121H, 미츠비시 케미컬 (주)) 4.9 질량부를 5.6 질량부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 조작에 의해 페녹시 폴리머 용액 (고형분 50 질량%) 을 얻었다 (폴리머 생성 공정).In the polymer production process, 5.0 parts by mass of diallylbisphenol A (DABPA, Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.) was modified to 5.1 parts by mass, and 5.4 parts by mass of bisresol fluorene (BCF, Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) was modified to 5.6 parts by mass. Silicone (B) 1 (X-22-163, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., functional group equivalent 200 g/mol) 3.7 parts by mass to 4.2 parts by mass, epoxy-modified silicone (B) 2 (KF-105, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ), functional group equivalent weight 490 g/mol), Example 1, except that 11.0 parts by mass were changed to 8.5 parts by mass, and 4.9 parts by mass of biphenyl type epoxy resin (C) 1 (YL-6121H, Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) was changed to 5.6 parts by mass. A phenoxy polymer solution (solid content: 50% by mass) was obtained through the same operation as above (polymer production step).
이 페녹시 폴리머 용액을 오일 배스에서 100 ℃ 까지 가열한 후, 아미노트리아진노볼락 (LA-3018) 1.0 질량부를 첨가하여, 2 시간 교반하고, 냉각 후, 변성 페녹시 폴리머 용액 (고형분 50 질량%) 을 얻었다 (폴리머 변성 공정). 또한, 변성 페녹시 중합체 용액에는, 알케닐페놀 (A) 에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 변성 실리콘 (B) 에서 유래하는 구성 단위와, 에폭시 화합물 (C) 에서 유래하는 구성 단위와, 아미노트리아진노볼락에서 유래하는 구성 단위를 함유하는 중합체 (E) 가 포함되어 있었다. 상기와 동일하게 하여 측정된 변성 페녹시 폴리머의 중량 평균 분자량 Mw 는, 12,000 이었다. 폴리머 변성 공정은 폴리머 생성 공정과 연속하여 실시할 수도 있다.After heating this phenoxy polymer solution to 100°C in an oil bath, 1.0 parts by mass of aminotriazine novolak (LA-3018) was added, stirred for 2 hours, and after cooling, a modified phenoxy polymer solution (solid content: 50 mass%). was obtained (polymer modification process). In addition, the modified phenoxy polymer solution contains a structural unit derived from alkenylphenol (A), a structural unit derived from epoxy modified silicone (B), a structural unit derived from an epoxy compound (C), and aminotriazinno. A polymer (E) containing structural units derived from rockfish was contained. The weight average molecular weight Mw of the modified phenoxy polymer measured in the same manner as above was 12,000. The polymer modification process may be performed continuously with the polymer production process.
이 변성 페녹시 폴리머 용액 30 질량부 (고형분 환산) 에, 노볼락형 말레이미드 화합물 (BMI-2300, 다이와 화성 공업 (주)) 8 질량부, 비스말레이미드 화합물 (BMI-80, 케이 아이 화성 (주)) 8 질량부, 나프틸렌에테르형 에폭시 화합물 (HP-6000, DIC (주)) 25 질량부, 나프톨아르알킬형 페놀 화합물 (SN495V, 닛테츠 케미컬 (주)) 24 질량부, 제조예 1 에서 얻어진 고리형 카르보디이미드 화합물 5 질량부, 구상 실리카 (SC-2050MB, 아드마텍스 (주)) 200 질량부, 습윤 분산제 (DISPERBYK-161, 빅케미·재팬 (주)) 1 질량부, 실란 커플링제 (KMB-403, 신에츠 화학 공업 (주)) 5 질량부를 혼합하여 바니시를 얻었다. 이 바니시를 S 유리 직포 (두께 100 ㎛) 에 함침 도공하고, 150 ℃ 에서 3 분간 가열 건조시켜, 수지 조성물 고형분 (충전재를 포함한다) 의 함유량 48.8 질량% 의 프리프레그를 얻었다 (프리프레그 제조 공정).30 parts by mass of this modified phenoxy polymer solution (solid content conversion), 8 parts by mass of a novolak-type maleimide compound (BMI-2300, Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.), and a bismaleimide compound (BMI-80, K.I Chemical Co., Ltd.) Note)) 8 parts by mass, naphthylene ether type epoxy compound (HP-6000, DIC Co., Ltd.) 25 parts by mass, naphthol aralkyl type phenol compound (SN495V, Nittetsu Chemical Co., Ltd.) 24 parts by mass, Preparation Example 1 5 parts by mass of the cyclic carbodiimide compound obtained from , 200 parts by mass of spherical silica (SC-2050MB, Admatex Co., Ltd.), 1 part by mass of silane, wetting and dispersing agent (DISPERBYK-161, Big Chemi Japan Co., Ltd.) A varnish was obtained by mixing 5 parts by mass of a coupling agent (KMB-403, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). This varnish was impregnated and coated on S glass woven fabric (thickness 100 μm), heated and dried at 150°C for 3 minutes, and a prepreg with a resin composition solid content (including filler) of 48.8% by mass was obtained (prepreg manufacturing process) .
(실시예 4)(Example 4)
실시예 3 과 동일하게 하여 얻어진 변성 페녹시 폴리머 용액 30 질량부 (고형분 환산) 에, 노볼락형 말레이미드 화합물 (BMI-2300, 다이와 화성 공업 (주)) 7.5 질량부, 비스말레이미드 화합물 (BMI-80, 케이 아이 화성 (주)) 7.5 질량부, 나프틸렌에테르형 에폭시 화합물 (HP-6000, DIC (주)) 23 질량부, 나프톨아르알킬형 페놀 화합물 (SN495V, 닛테츠 케미컬 (주)) 22 질량부, 제조예 1 에서 얻어진 고리형 카르보디이미드 화합물 10 질량부, 구상 실리카 (SC-2050MB, 아드마텍스 (주)) 200 질량부, 습윤 분산제 (DISPERBYK-161, 빅케미·재팬 (주)) 1 질량부, 실란 커플링제 (KMB-403, 신에츠 화학 공업 (주)) 5 질량부를 혼합하여 바니시를 얻었다. 이 바니시를 S 유리 직포 (두께 100 ㎛) 에 함침 도공하고, 140 ℃ 에서 3 분간 가열 건조시켜, 수지 조성물 고형분 (충전재를 포함한다) 의 함유량 48.8 질량% 의 프리프레그를 얻었다 (프리프레그 제조 공정).To 30 parts by mass (solid content conversion) of the modified phenoxy polymer solution obtained in the same manner as in Example 3, 7.5 parts by mass of a novolak-type maleimide compound (BMI-2300, Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.), and a bismaleimide compound (BMI) -80, K.I Chemical Co., Ltd.) 7.5 parts by mass, naphthylene ether type epoxy compound (HP-6000, DIC Co., Ltd.) 23 parts by mass, naphthol aralkyl type phenolic compound (SN495V, Nittetsu Chemical Co., Ltd.) 22 parts by mass, 10 parts by mass of the cyclic carbodiimide compound obtained in Production Example 1, spherical silica (SC-2050MB, Admatex Co., Ltd.) 200 parts by mass, wetting and dispersing agent (DISPERBYK-161, Big Chemi Japan Co., Ltd. )) 1 part by mass and 5 parts by mass of a silane coupling agent (KMB-403, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) were mixed to obtain a varnish. This varnish was impregnated and coated on S glass woven fabric (thickness 100 μm), heated and dried at 140°C for 3 minutes, and a prepreg with a resin composition solid content (including filler) of 48.8% by mass was obtained (prepreg manufacturing process) .
(비교예 1)(Comparative Example 1)
실시예 1 과 동일하게 하여 얻어진 페녹시 폴리머 용액 30 질량부 (고형분 환산) 에, 노볼락형 시안산에스테르 화합물 (PT-30, 론더 (주)) 15 질량부, 노볼락형 말레이미드 화합물 (BMI-2300, 다이와 화성 공업 (주)) 18 질량부, 비스말레이미드 화합물 (BMI-80, 케이 아이 화성 (주)) 6 질량부, 나프탈렌크레졸노볼락형 에폭시 화합물 (HP-9540, DIC (주)) 30 질량부, 구상 실리카 (SC-2050MB, 아드마텍스 (주)) 140 질량부, 습윤 분산제 (DISPERBYK-161, 빅케미·재팬 (주)) 1 질량부, 실란 커플링제 (KMB-403, 신에츠 화학 공업 (주)) 5 질량부를 혼합하여 바니시를 얻었다. 이 바니시를 S 유리 직포 (두께 100 ㎛) 에 함침 도공하고, 165 ℃ 에서 5 분간 가열 건조시켜, 수지 조성물 고형분 (충전재를 포함한다) 의 함유량 47.4 질량% 의 프리프레그를 얻었다 (프리프레그 제조 공정).30 parts by mass (in terms of solid content) of the phenoxy polymer solution obtained in the same manner as in Example 1, 15 parts by mass of a novolak-type cyanate ester compound (PT-30, Ronder Co., Ltd.), and a novolak-type maleimide compound (BMI) -2300, Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.) 18 parts by mass, bismaleimide compound (BMI-80, K.I Chemical Co., Ltd.) 6 parts by mass, naphthalenecresol novolac type epoxy compound (HP-9540, DIC Co., Ltd.) ) 30 parts by mass, spherical silica (SC-2050MB, Admatex Co., Ltd.) 140 parts by mass, wetting and dispersing agent (DISPERBYK-161, Big Chemi Japan Co., Ltd.) 1 part by mass, silane coupling agent (KMB-403, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was mixed with 5 parts by mass to obtain a varnish. This varnish was impregnated and coated on S glass woven fabric (thickness 100 μm), heated and dried at 165°C for 5 minutes, and a prepreg with a resin composition solid content (including filler) of 47.4% by mass was obtained (prepreg manufacturing process) .
(비교예 2)(Comparative Example 2)
실시예 3 과 동일하게 하여 얻어진 변성 페녹시 폴리머 용액 30 질량부 (고형분 환산) 에, 노볼락형 말레이미드 화합물 (BMI-2300, 다이와 화성 공업 (주)) 9 질량부, 비스말레이미드 화합물 (BMI-80, 케이 아이 화성 (주)) 9 질량부, 나프틸렌에테르형 에폭시 화합물 (HP-6000, DIC (주)) 27 질량부, 나프톨아르알킬형 페놀 화합물 (SN495V, 닛테츠 케미컬 (주)) 25 질량부, 구상 실리카 (SC-2050MB, 아드마텍스 (주)) 200 질량부, 습윤 분산제 (DISPERBYK-161, 빅케미·재팬 (주)) 1 질량부, 실란 커플링제 (KMB-403, 신에츠 화학 공업 (주)) 5 질량부를 혼합하여 바니시를 얻었다. 이 바니시를 S 유리 직포 (두께 100 ㎛) 에 함침 도공하고, 140 ℃ 에서 3 분간 가열 건조시켜, 수지 조성물 고형분 (충전재를 포함한다) 의 함유량 48.8 질량% 의 프리프레그를 얻었다 (프리프레그 제조 공정).30 parts by mass (in terms of solid content) of the modified phenoxy polymer solution obtained in the same manner as in Example 3, 9 parts by mass of a novolak-type maleimide compound (BMI-2300, Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.), and a bismaleimide compound (BMI) -80, K.I Chemical Co., Ltd.) 9 parts by mass, naphthylene ether type epoxy compound (HP-6000, DIC Co., Ltd.) 27 parts by mass, naphthol aralkyl type phenol compound (SN495V, Nittetsu Chemical Co., Ltd.) 25 parts by mass, spherical silica (SC-2050MB, Admatex Co., Ltd.) 200 parts by mass, wetting and dispersing agent (DISPERBYK-161, Big Chemi Japan Co., Ltd.) 1 part by mass, silane coupling agent (KMB-403, Shinetsu Chemical Industry Co., Ltd.) was mixed with 5 parts by mass to obtain a varnish. This varnish was impregnated and coated on S glass woven fabric (thickness 100 μm), heated and dried at 140°C for 3 minutes, and a prepreg with a resin composition solid content (including filler) of 48.8% by mass was obtained (prepreg manufacturing process) .
(비교예 3)(Comparative Example 3)
노볼락형 말레이미드 화합물 (BMI-2300, 다이와 화성 공업 (주)) 22.5 질량부, 나프틸렌에테르형 에폭시 화합물 (HP-6000, DIC (주)) 35.1 질량부, 나프톨아르알킬형 페놀 화합물 (SN495V, 닛테츠 케미컬 (주)) 33.5 질량부, 제조예 1 에서 얻어진 고리형 카르보디이미드 화합물 9.1 질량부, 구상 실리카 (SC-2050MB, 아드마텍스 (주)) 200 질량부, 습윤 분산제 (DISPERBYK-161, 빅케미·재팬 (주)) 1 질량부, 실란 커플링제 (KMB-403, 신에츠 화학 공업 (주)) 5 질량부를 혼합하여 바니시를 얻었다. 이 바니시를 S 유리 직포 (두께 100 ㎛) 에 함침 도공하고, 140 ℃ 에서 3 분간 가열 건조시켜, 수지 조성물 고형분 (충전재를 포함한다) 의 함유량 48.8 질량% 의 프리프레그를 얻었다 (프리프레그 제조 공정).Novolak-type maleimide compound (BMI-2300, Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.) 22.5 parts by mass, naphthylene ether-type epoxy compound (HP-6000, DIC Co., Ltd.) 35.1 parts by mass, naphthol aralkyl-type phenolic compound (SN495V) , Nittetsu Chemical Co., Ltd.) 33.5 parts by mass, 9.1 parts by mass of the cyclic carbodiimide compound obtained in Production Example 1, 200 parts by mass of spherical silica (SC-2050MB, Admatex Co., Ltd.), wetting and dispersing agent (DISPERBYK- A varnish was obtained by mixing 1 part by mass of No. 161 (Big Chemi Japan Co., Ltd.) and 5 parts by mass of a silane coupling agent (KMB-403, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). This varnish was impregnated and coated on S glass woven fabric (thickness 100 μm), heated and dried at 140°C for 3 minutes, and a prepreg with a resin composition solid content (including filler) of 48.8% by mass was obtained (prepreg manufacturing process) .
(비교예 4)(Comparative Example 4)
노볼락형 말레이미드 화합물 (BMI-2300, 다이와 화성 공업 (주)) 24.6 질량부, 나프틸렌에테르형 에폭시 화합물 (HP-6000, DIC (주)) 38.6 질량부, 나프톨아르알킬형 페놀 화합물 (SN495V, 닛테츠 케미컬 (주)) 36.8 질량부, 구상 실리카 (SC-2050MB, 아드마텍스 (주)) 200 질량부, 습윤 분산제 (DISPERBYK-161, 빅케미·재팬 (주)) 1 질량부, 실란 커플링제 (KMB-403, 신에츠 화학 공업 (주)) 5 질량부를 혼합하여 바니시를 얻었다. 이 바니시를 S 유리 직포 (두께 100 ㎛) 에 함침 도공하고, 140 ℃ 에서 3 분간 가열 건조시켜, 수지 조성물 고형분 (충전재를 포함한다) 의 함유량 48.8 질량% 의 프리프레그를 얻었다 (프리프레그 제조 공정).Novolak-type maleimide compound (BMI-2300, Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.) 24.6 parts by mass, naphthylene ether-type epoxy compound (HP-6000, DIC Co., Ltd.) 38.6 parts by mass, naphthol aralkyl-type phenolic compound (SN495V) , Nittetsu Chemical Co., Ltd.) 36.8 parts by mass, spherical silica (SC-2050MB, Admatex Co., Ltd.) 200 parts by mass, wetting and dispersing agent (DISPERBYK-161, Big Chemi Japan Co., Ltd.) 1 part by mass, silane A varnish was obtained by mixing 5 parts by mass of a coupling agent (KMB-403, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). This varnish was impregnated and coated on S glass woven fabric (thickness 100 μm), heated and dried at 140°C for 3 minutes, and a prepreg with a resin composition solid content (including filler) of 48.8% by mass was obtained (prepreg manufacturing process) .
[금속박 피복 적층판의 제작][Production of metal foil-clad laminate]
각 실시예 1 ∼ 4 및 비교예 1 ∼ 4 에서 얻어진 프리프레그를 2 장 겹치고, 또한 12 ㎛ 의 두께를 갖는 전해 동박 (3EC-VLP, 미츠이 금속 광업 (주) 제조) 을 상하에 배치하고, 압력 30 ㎏f/㎠, 온도 230 ℃ 에서 100 분간의 적층 성형을 실시하여, 금속박 피복 적층판으로서, 0.2 mm 의 두께를 갖는 절연층을 포함하는 동박 피복 적층판을 얻었다. 얻어진 동박 피복 적층판의 특성을 이하에 나타내는 방법으로 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Two prepregs obtained in each of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 were overlapped, and an electrolytic copper foil (3EC-VLP, manufactured by Mitsui Metal Mining Co., Ltd.) having a thickness of 12 μm was placed above and below, and pressure was applied. Lamination molding was performed at 30 kgf/cm2 and a temperature of 230°C for 100 minutes to obtain a copper foil-clad laminate containing an insulating layer with a thickness of 0.2 mm as a metal foil-clad laminate. The properties of the obtained copper foil-clad laminate were evaluated by the method shown below. The results are shown in Table 1.
[Tg (유리 전이 온도)][Tg (glass transition temperature)]
상기 방법으로 얻어진 금속박 피복 적층판 (20 mm × 5 mm × 0.2 mm) 의 양면의 동박을 에칭에 의해 제거한 후에, JISC6481 에 준거하여, 동적 점탄성 측정 장치 (TA 인스트루먼트 제조) 로, 유리 전이 온도 (Tg), (단위 : ℃) 를 측정하였다.After removing the copper foil on both sides of the metal foil-clad laminate (20 mm × 5 mm × 0.2 mm) obtained by the above method by etching, the glass transition temperature (Tg) was measured with a dynamic viscoelasticity measuring device (manufactured by TA Instruments) in accordance with JISC6481. , (unit: ℃) was measured.
[CTE (선열팽창 계수)][CTE (Coefficient of Linear Thermal Expansion)]
금속박 피복 적층판의 절연층에 대하여 유리 클로스의 세로 방향의 선열팽창 계수를 측정하였다. 구체적으로는, 상기 방법으로 얻어진 동박 피복 적층판 (10 mm × 6 mm × 0.2 mm) 의 양면의 동박을 에칭에 의해 제거한 후에, 220 ℃ 의 항온조에서 2 시간 가열하여, 성형에 의한 응력을 제거하였다. 그 후, 열팽창률 측정 장치 (린세이스 제조 수평 딜라토미터) 를 이용하여 40 ℃ 에서 320 ℃ 까지 매분 10 ℃ 로 승온시켜, 60 ℃ 내지 260 ℃ 에 있어서의 선열팽창 계수 (CTE) (단위 : ppm/℃) 를 측정하였다.The coefficient of linear thermal expansion in the longitudinal direction of the glass cloth was measured for the insulating layer of the metal foil-clad laminate. Specifically, the copper foil on both sides of the copper foil-clad laminate (10 mm x 6 mm x 0.2 mm) obtained by the above method was removed by etching, and then heated in a constant temperature bath at 220°C for 2 hours to remove stress caused by molding. Thereafter, using a thermal expansion coefficient measuring device (horizontal dilatometer manufactured by Linseis), the temperature was raised from 40°C to 320°C at 10°C per minute, and the coefficient of linear thermal expansion (CTE) at 60°C to 260°C (unit: ppm/℃) was measured.
[동박 필 강도 (동박 밀착성)][Copper foil peel strength (copper foil adhesion)]
상기 방법으로 얻어진 동박 피복 적층판 (10 mm × 150 mm × 0.2 mm) 을 사용하여, JIS C6481 에 준하여, 동박 필 강도 (동박 밀착성), (단위 : kN/m) 를 측정하였다.Using the copper foil-clad laminate (10 mm × 150 mm × 0.2 mm) obtained by the above method, the copper foil peel strength (copper foil adhesion) (unit: kN/m) was measured according to JIS C6481.
[내디스미어성][endometriosis]
상기 방법으로 얻어진 동박 피복 적층판 (50 mm × 50 mm × 0.2 mm) 의 양면의 동박을 에칭에 의해 제거한 후, 팽윤액인 아토텍 재팬 (주) 의 스웰링 딥 시큐리간트 P 에 80 ℃ 에서 10 분간 침지시키고, 다음으로 조화액 (粗化液) 인 아토텍 재팬 (주) 의 콘센트레이트 컴팩트 CP 에 80 ℃ 에서 5 분간 침지시키며, 마지막에 중화액인 아토텍 재팬 (주) 의 리덕션 컨디셔너 시큐리간트 P500 에 45 ℃ 에서 10 분간 침지시켰다. 이 처리를 반복하여 3 회 실시하였다. 처리 전후의 동박 피복 적층판의 질량을 측정하고, 처리 전의 시료 질량을 기준으로 한 질량 감소량 (단위 : 질량%) 을 구하였다. 질량 감소량의 절대값이 작을수록, 내디스미어성이 우수한 것을 나타낸다.After removing the copper foil on both sides of the copper foil-clad laminate (50 mm Next, it is immersed in Concentrate Compact CP of Atotech Japan Co., Ltd., which is a conditioning liquid, at 80°C for 5 minutes, and finally, it is immersed in a reduction conditioner Securigant P500 of Atotech Japan Co., Ltd., which is a neutralizing liquid. It was immersed at 45°C for 10 minutes. This treatment was repeated three times. The mass of the copper foil-clad laminate before and after treatment was measured, and the mass reduction (unit: mass%) based on the sample mass before treatment was determined. The smaller the absolute value of the mass reduction amount, the better the desmear resistance.
본 출원은, 2021년 8월 5일에 일본국 특허청에 출원된 일본 특허출원 (일본 특허출원 2021-128756) 에 기초하는 것이고, 그 내용은 여기에 참조로서 도입된다.This application is based on a Japanese patent application (Japanese patent application 2021-128756) filed with the Japan Patent Office on August 5, 2021, the contents of which are incorporated herein by reference.
Claims (25)
상기 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 가, 하기 식 (D1) 로 나타내는 고리형 구조를 갖고,
상기 고리형 구조를 형성하는 원자수가 8 ∼ 50 인, 경화성 조성물.
(식 중, L 은, 지방족기, 지환족기, 방향족기 또는 이들을 조합한 기인 2 ∼ 4 가의 결합기이고, 상기 결합기는, 헤테로 원자 및/또는 치환기를 포함하고 있어도 된다)According to claim 1,
The cyclic carbodiimide compound (D) has a cyclic structure represented by the following formula (D1),
A curable composition wherein the number of atoms forming the cyclic structure is 8 to 50.
(In the formula, L is a divalent to tetravalent bonding group that is an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, or a combination thereof, and the bonding group may contain a heteroatom and/or a substituent)
상기 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 의 함유량이, 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 2.0 ∼ 15 질량부인, 경화성 조성물.The method of claim 1 or 2,
A curable composition wherein the content of the cyclic carbodiimide compound (D) is 2.0 to 15 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin solid content.
상기 알케닐페놀 (A) 의 1 분자당 평균 페놀기수가 1 이상 3 미만이고, 상기 에폭시 변성 실리콘 (B) 의 1 분자당 평균 에폭시기수가 1 이상 3 미만이고, 상기 에폭시 화합물 (C) 의 1 분자당 평균 에폭시기수가 1 이상 3 미만인, 경화성 조성물.The method of claim 1 or 2,
The average number of phenol groups per molecule of the alkenylphenol (A) is 1 to 3, the average number of epoxy groups per molecule of the epoxy modified silicone (B) is 1 to 3, and one molecule of the epoxy compound (C) A curable composition having an average epoxy group number of 1 or more and less than 3.
상기 알케닐페놀 (A) 가, 디알릴비스페놀 및/또는 디프로페닐비스페놀을 함유하는, 경화성 조성물.The method of claim 1 or 2,
A curable composition wherein the alkenylphenol (A) contains diallylbisphenol and/or dipropenylbisphenol.
상기 에폭시 변성 실리콘 (B) 가, 140 ∼ 250 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는, 경화성 조성물.The method of claim 1 or 2,
A curable composition in which the epoxy-modified silicone (B) contains epoxy-modified silicone having an epoxy equivalent of 140 to 250 g/mol.
상기 에폭시 변성 실리콘 (B) 가, 하기 식 (B1) 로 나타내는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는, 경화성 조성물.
(식 중, R1 은, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기, 아릴렌기 또는 아르알킬렌기를 나타내고, R2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n 은, 0 ∼ 100 의 정수를 나타낸다)The method of claim 1 or 2,
A curable composition in which the epoxy-modified silicone (B) contains epoxy-modified silicone represented by the following formula (B1).
(In the formula, R 1 each independently represents a single bond, an alkylene group, an arylene group or an aralkylene group, R 2 each independently represents an alkyl group or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is 0. represents an integer from ∼ 100)
상기 에폭시 화합물 (C) 가, 하기 식 (b2) 로 나타내는 화합물을 포함하는, 경화성 조성물.
(식 (b2) 중, Ra 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다)The method of claim 1 or 2,
A curable composition in which the epoxy compound (C) contains a compound represented by the following formula (b2).
(In formula (b2), R a each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom.)
고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 를 함유하는, 경화성 조성물.A polymer containing a structural unit derived from alkenylphenol (A), a structural unit derived from epoxy modified silicone (B), and a structural unit derived from an epoxy compound (C) other than the epoxy modified silicone (B) ( E) Wow,
A curable composition containing a cyclic carbodiimide compound (D).
상기 중합체 (E) 의 중량 평균 분자량이, 3.0 × 103 ∼ 5.0 × 104 인, 경화성 조성물.According to clause 9,
A curable composition in which the weight average molecular weight of the polymer (E) is 3.0 × 10 3 to 5.0 × 10 4 .
상기 중합체 (E) 의 함유량이, 수지 고형분 100 질량% 에 대하여, 5 ∼ 50 질량% 인, 경화성 조성물.According to claim 9 or 10,
A curable composition wherein the content of the polymer (E) is 5 to 50% by mass based on 100% by mass of the resin solid content.
상기 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 가, 하기 식 (D1) 로 나타내는 고리형 구조를 갖고,
상기 고리형 구조를 형성하는 원자수가 8 ∼ 50 인, 경화성 조성물.
(식 중, L 은, 지방족기, 지환족기, 방향족기 또는 이들을 조합한 기인 2 ∼ 4 가의 결합기이고, 상기 결합기는, 헤테로 원자 및/또는 치환기를 포함하고 있어도 된다)According to claim 9 or 10,
The cyclic carbodiimide compound (D) has a cyclic structure represented by the following formula (D1),
A curable composition wherein the number of atoms forming the cyclic structure is 8 to 50.
(In the formula, L is a divalent to tetravalent bonding group that is an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, or a combination thereof, and the bonding group may contain a hetero atom and/or a substituent)
상기 고리형 카르보디이미드 화합물 (D) 의 함유량이, 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 2.0 ∼ 15 질량부인, 경화성 조성물.According to claim 9 or 10,
A curable composition wherein the content of the cyclic carbodiimide compound (D) is 2.0 to 15 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin solid content.
상기 알케닐페놀 (A) 의 1 분자당 평균 페놀기수가 1 이상 3 미만이고, 상기 에폭시 변성 실리콘 (B) 의 1 분자당 평균 에폭시기수가 1 이상 3 미만이고, 상기 에폭시 화합물 (C) 의 1 분자당 평균 에폭시기수가 1 이상 3 미만인, 경화성 조성물.According to claim 9 or 10,
The average number of phenol groups per molecule of the alkenylphenol (A) is 1 to 3, the average number of epoxy groups per molecule of the epoxy modified silicone (B) is 1 to 3, and one molecule of the epoxy compound (C) A curable composition having an average epoxy group number of 1 or more and less than 3.
상기 알케닐페놀 (A) 가, 디알릴비스페놀 및/또는 디프로페닐비스페놀을 함유하는, 경화성 조성물.According to claim 9 or 10,
A curable composition wherein the alkenylphenol (A) contains diallylbisphenol and/or dipropenylbisphenol.
상기 에폭시 변성 실리콘 (B) 가, 140 ∼ 250 g/mol 의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는, 경화성 조성물.According to claim 9 or 10,
A curable composition in which the epoxy-modified silicone (B) contains epoxy-modified silicone having an epoxy equivalent of 140 to 250 g/mol.
상기 에폭시 변성 실리콘 (B) 가, 하기 식 (B1) 로 나타내는 에폭시 변성 실리콘을 함유하는, 경화성 조성물.
(식 중, R1 은, 각각 독립적으로, 단결합, 알킬렌기, 아릴렌기 또는 아르알킬렌기를 나타내고, R2 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n 은, 0 ∼ 100 의 정수를 나타낸다)According to claim 9 or 10,
A curable composition in which the epoxy-modified silicone (B) contains epoxy-modified silicone represented by the following formula (B1).
(In the formula, R 1 each independently represents a single bond, an alkylene group, an arylene group or an aralkylene group, R 2 each independently represents an alkyl group or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is 0. represents an integer from ∼ 100)
상기 에폭시 화합물 (C) 가, 하기 식 (b2) 로 나타내는 화합물을 포함하는, 경화성 조성물.
(식 (b2) 중, Ra 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다)According to claim 9 or 10,
A curable composition in which the epoxy compound (C) contains a compound represented by the following formula (b2).
(In formula (b2), R a each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom.)
알케닐페놀 (A), 에폭시 변성 실리콘 (B) 및 그 에폭시 변성 실리콘 (B) 이외의 에폭시 화합물 (C) 로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 추가로 함유하는, 경화성 조성물.According to claim 9 or 10,
A curable composition further containing at least one member selected from the group consisting of alkenylphenol (A), epoxy-modified silicone (B), and epoxy compounds (C) other than the epoxy-modified silicone (B).
상기 에폭시 화합물 (C) 가, 나프탈렌크레졸노볼락형 에폭시 수지 및/또는 나프틸렌에테르형 에폭시 수지를 포함하는, 경화성 조성물.According to claim 19,
A curable composition in which the epoxy compound (C) contains a naphthalenecresol novolak-type epoxy resin and/or a naphthylene ether-type epoxy resin.
말레이미드 화합물, 시안산에스테르 화합물, 상기 알케닐페놀 (A) 이외의 페놀 화합물 (F) 및 알케닐 치환 나드이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 화합물 (H) 를 추가로 함유하는, 경화성 조성물.The method of claim 1 or 9,
A curable compound further containing at least one compound (H) selected from the group consisting of a maleimide compound, a cyanate ester compound, a phenol compound (F) other than the alkenylphenol (A), and an alkenyl substituted nadimide compound. Composition.
무기 충전재를 추가로 함유하고,
상기 무기 충전재가, 실리카류, 베마이트 및 알루미나로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종류 이상을 포함하는, 경화성 조성물.The method of claim 1 or 9,
additionally containing inorganic fillers,
A curable composition wherein the inorganic filler includes one or more types selected from the group consisting of silica, boehmite, and alumina.
그 기재에 함침 또는 도포된, 제 1 항 또는 제 9 항에 기재된 경화성 조성물을 포함하는, 프리프레그.With equipment,
A prepreg comprising the curable composition according to claim 1 or 9 impregnated or applied to the substrate.
그 적층체의 편면 또는 양면에 배치된 금속박을 포함하는, 금속박 피복 적층판.A laminate comprising the prepreg according to claim 23,
A metal foil-clad laminate comprising metal foil disposed on one or both sides of the laminate.
그 절연층의 표면에 형성된 도체층을 포함하는, 프린트 배선판.
An insulating layer comprising the prepreg according to claim 23,
A printed wiring board including a conductor layer formed on the surface of the insulating layer.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2021-128756 | 2021-08-05 | ||
JP2021128756 | 2021-08-05 | ||
PCT/JP2022/029884 WO2023013717A1 (en) | 2021-08-05 | 2022-08-04 | Curable composition, prepreg, metal foil-clad laminate and printed wiring board |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20230174283A true KR20230174283A (en) | 2023-12-27 |
KR102674714B1 KR102674714B1 (en) | 2024-06-13 |
Family
ID=85155983
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020237042953A KR102674714B1 (en) | 2021-08-05 | 2022-08-04 | Curable compositions, prepregs, metal foil-clad laminates and printed wiring boards |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7449498B2 (en) |
KR (1) | KR102674714B1 (en) |
CN (1) | CN117836369A (en) |
TW (1) | TW202313832A (en) |
WO (1) | WO2023013717A1 (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 2022-08-04 JP JP2022572722A patent/JP7449498B2/en active Active
- 2022-08-04 KR KR1020237042953A patent/KR102674714B1/en active IP Right Grant
- 2022-08-04 WO PCT/JP2022/029884 patent/WO2023013717A1/en active Application Filing
- 2022-08-04 CN CN202280054399.4A patent/CN117836369A/en active Pending
- 2022-08-05 TW TW111129445A patent/TW202313832A/en unknown
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- 2023-10-27 JP JP2023184356A patent/JP2024024631A/en not_active Withdrawn
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Title |
---|
일본 공개특허공보 평4-4213호 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2023013717A1 (en) | 2023-02-09 |
JPWO2023013717A1 (en) | 2023-02-09 |
KR102674714B1 (en) | 2024-06-13 |
JP2024024631A (en) | 2024-02-22 |
CN117836369A (en) | 2024-04-05 |
TW202313832A (en) | 2023-04-01 |
JP7449498B2 (en) | 2024-03-14 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A302 | Request for accelerated examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |