KR20230147284A - Novel compound and organic light emitting device comprising the same - Google Patents

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KR20230147284A
KR20230147284A KR1020220046087A KR20220046087A KR20230147284A KR 20230147284 A KR20230147284 A KR 20230147284A KR 1020220046087 A KR1020220046087 A KR 1020220046087A KR 20220046087 A KR20220046087 A KR 20220046087A KR 20230147284 A KR20230147284 A KR 20230147284A
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phenylene
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임병윤
이재철
김용욱
김영광
김주환
박형일
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주식회사 엘지화학
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Abstract

본 발명은 신규한 화합물 및 이를 이용한 유기발광 소자를 제공한다. The present invention provides a novel compound and an organic light-emitting device using the same.

Description

신규한 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자{Novel compound and organic light emitting device comprising the same} Novel compound and organic light emitting device comprising the same}

본 발명은 신규한 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자에 관한 것이다. The present invention relates to novel compounds and organic light-emitting devices containing them.

일반적으로 유기 발광 현상이란 유기 물질을 이용하여 전기에너지를 빛에너지로 전환시켜주는 현상을 말한다. 유기 발광 현상을 이용하는 유기 발광 소자는 넓은 시야각, 우수한 콘트라스트, 빠른 응답 시간을 가지며, 휘도, 구동 전압 및 응답 속도 특성이 우수하여 많은 연구가 진행되고 있다. In general, organic luminescence refers to a phenomenon that converts electrical energy into light energy using organic materials. Organic light-emitting devices using the organic light-emitting phenomenon have a wide viewing angle, excellent contrast, fast response time, and excellent luminance, driving voltage, and response speed characteristics, so much research is being conducted.

유기 발광 소자는 일반적으로 양극과 음극 및 상기 양극과 음극 사이에 유기물층을 포함하는 구조를 가진다. 상기 유기물층은 유기 발광 소자의 효율과 안정성을 높이기 위하여 각기 다른 물질로 구성된 다층의 구조로 이루어진 경우가 많으며, 예컨대 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층 등으로 이루어질 수 있다. 이러한 유기 발광 소자의 구조에서 두 전극 사이에 전압을 걸어주게 되면 양극에서는 정공이, 음극에서는 전자가 유기물층에 주입되게 되고, 주입된 정공과 전자가 만났을 때 엑시톤(exciton)이 형성되며, 이 엑시톤이 다시 바닥상태로 떨어질 때 빛이 나게 된다. Organic light emitting devices generally have a structure including an anode, a cathode, and an organic material layer between the anode and the cathode. The organic material layer is often composed of a multi-layer structure made of different materials to increase the efficiency and stability of the organic light-emitting device, and may be composed of, for example, a hole injection layer, a hole transport layer, a light-emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. In the structure of this organic light-emitting device, when a voltage is applied between the two electrodes, holes are injected from the anode and electrons from the cathode into the organic material layer. When the injected holes and electrons meet, an exciton is formed, and this exciton is When it falls back to the ground state, it glows.

상기와 같은 유기 발광 소자에 사용되는 유기물에 대하여 새로운 재료의 개발이 지속적으로 요구되고 있다.The development of new materials for organic materials used in organic light-emitting devices as described above is continuously required.

한편, 최근에는 공정 비용 절감을 위하여 기존의 증착 공정 대신 용액 공정, 특히 잉크젯 공정을 이용한 유기 발광 소자가 개발되고 있다. 초창기에는 모든 유기 발광 소자 층을 용액 공정으로 코팅하여 유기 발광 소자를 개발하려 하였으나 현재 기술로는 한계가 있어, HIL, HTL, EML만을 용액 공정으로 진행하고 추후 공정은 기존의 증착 공정을 활용하는 하이브리드(hybrid) 공정이 연구 중이다. Meanwhile, recently, in order to reduce process costs, organic light-emitting devices have been developed using a solution process, especially an inkjet process, instead of the existing deposition process. In the beginning, attempts were made to develop organic light emitting devices by coating all organic light emitting device layers using a solution process, but there are limitations with the current technology, so only HIL, HTL, and EML were performed using a solution process, and future processes were hybrid processes using the existing deposition process. (hybrid) process is being studied.

이에 본 발명에서는 유기 발광 소자에 사용될 수 있으면서 동시에 용액 공정에 사용 가능한 신규한 유기 발광 소자의 소재를 제공한다.Accordingly, the present invention provides a novel organic light-emitting device material that can be used in an organic light-emitting device and at the same time can be used in a solution process.

한국특허 공개번호 제10-2000-0051826호Korean Patent Publication No. 10-2000-0051826

본 발명은 신규한 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자에 관한 것이다. The present invention relates to novel compounds and organic light-emitting devices containing them.

본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다: The present invention provides a compound represented by the following formula (1):

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

D는 중수소를 의미하고,D stands for deuterium,

L1 및 L2는 각각 독립적으로 단일 결합; 또는 비치환되거나 또는 중수소로 치환된 페닐렌이고,L 1 and L 2 are each independently a single bond; or unsubstituted or deuterium-substituted phenylene,

L3는 비치환되거나 또는 중수소로 치환된 페닐렌이고,L 3 is unsubstituted or deuterium-substituted phenylene,

a 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 7의 정수이고,a and d are each independently integers from 0 to 7,

b는 0 내지 8의 정수이고,b is an integer from 0 to 8,

c는 0 내지 6의 정수이다. c is an integer from 0 to 6.

또한, 본 발명은 제1 전극; 상기 제1 전극과 대향하여 구비된 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1층 이상은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는, 유기 발광 소자를 제공한다.In addition, the present invention includes a first electrode; a second electrode provided opposite to the first electrode; and an organic light-emitting device comprising at least one organic material layer provided between the first electrode and the second electrode, wherein at least one layer of the organic material layer includes a compound represented by Formula 1. .

상술한 화학식 1로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자의 유기물층의 재료로서 사용될 수 있으며, 또한 용액 공정에 사용이 가능하며, 유기 발광 소자에서 효율 및 수명 특성을 향상시킬 수 있다. The compound represented by the above-mentioned formula 1 can be used as a material for the organic layer of an organic light-emitting device, can also be used in a solution process, and can improve efficiency and lifespan characteristics of the organic light-emitting device.

도 1은 기판(1), 양극(2), 발광층(3), 음극(4)으로 이루어진 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다.
도 2는 기판 (1), 양극(2), 정공주입층(5), 정공수송층(6), 발광층(3), 전자주입 및 수송층(7) 및 음극(4)으로 이루어진 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다.
Figure 1 shows an example of an organic light emitting device consisting of a substrate 1, an anode 2, a light emitting layer 3, and a cathode 4.
Figure 2 is an example of an organic light emitting device consisting of a substrate (1), an anode (2), a hole injection layer (5), a hole transport layer (6), a light emitting layer (3), an electron injection and transport layer (7), and a cathode (4). It shows.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail to aid understanding.

(용어의 정의)(Definition of Terms)

본 명세서에서, 는 다른 치환기에 연결되는 결합을 의미하고, D는 중수소를 의미한다.In this specification, and means a bond connected to another substituent, and D means deuterium.

본 명세서에서 "치환 또는 비치환된" 이라는 용어는 중수소, 할로겐기, 시아노기, 니트로기, 히드록시기, 카보닐기, 에스테르기, 이미드기, 아미노기, 포스핀옥사이드기, 알콕시기, 아릴옥시기, 알킬티옥시기, 아릴티옥시기, 알킬술폭시기, 아릴술폭시기, 실릴기, 붕소기, 알킬기, 사이클로알킬기, 알케닐기, 아릴기, 아르알킬기, 아르알케닐기, 알킬아릴기, 알킬아민기, 아랄킬아민기, 헤테로아릴아민기, 아릴아민기, 아릴포스핀기, 또는 N, O 및 S 원자 중 1개 이상을 포함하는 헤테로아릴로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환되거나; 상기 예시된 치환기 중 2 이상의 치환기가 연결된 치환 또는 비치환된 것을 의미한다. 예컨대, "2 이상의 치환기가 연결된 치환기"는 비페닐기일 수 있다. 즉, 비페닐이기는 아릴기일 수도 있고, 2개의 페닐기가 연결된 치환기로 해석될 수도 있다. 일례로, "치환 또는 비치환된" 이라는 용어는 "비치환되거나, 또는 중수소, 할로겐, C1-10 알킬, C1-10 알콕시 및 C6-20 아릴로 구성되는 군으로부터 선택되는 1개 이상, 예를 들어 1개 내지 5개의 치환기로 치환된"이라는 의미로 이해될 수 있다. 또한, 본 명세서에서 "1개 이상의 치환기로 치환된"이라는 용어는, 예를 들어 "1개 내지 5개의 치환기로 치환된", 또는 "1개 또는 2개의 치환기로 치환된"이라는 의미로 이해될 수 있다.In this specification, the term "substituted or unsubstituted" refers to deuterium, halogen group, cyano group, nitro group, hydroxy group, carbonyl group, ester group, imide group, amino group, phosphine oxide group, alkoxy group, aryloxy group, alkyl group. Thioxy group, arylthioxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, silyl group, boron group, alkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, aryl group, aralkyl group, aralkenyl group, alkylaryl group, alkylamine group, aralkylamine substituted or unsubstituted with one or more substituents selected from the group consisting of a heteroarylamine group, an arylamine group, an arylphosphine group, or a heteroaryl containing one or more of N, O, and S atoms; It means that two or more of the substituents exemplified above are substituted or unsubstituted. For example, “a substituent group in which two or more substituents are connected” may be a biphenyl group. That is, the biphenyl group may be an aryl group, or it may be interpreted as a substituent in which two phenyl groups are connected. For example, the term "substituted or unsubstituted" means "unsubstituted or one or more selected from the group consisting of deuterium, halogen, C 1-10 alkyl, C 1-10 alkoxy, and C 6-20 aryl. , for example, may be understood as “substituted with 1 to 5 substituents.” In addition, the term “substituted with one or more substituents” as used herein will be understood to mean, for example, “substituted with 1 to 5 substituents,” or “substituted with 1 or 2 substituents.” You can.

본 명세서에서 카보닐기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 40인 것이 바람직하다. 구체적으로 하기와 같은 구조의 치환기가 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In this specification, the carbon number of the carbonyl group is not particularly limited, but is preferably 1 to 40 carbon atoms. Specifically, the substituent may have the structure shown below, but is not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 에스테르기는 에스테르기의 산소가 탄소수 1 내지 25의 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄 알킬기 또는 탄소수 6 내지 25의 아릴기로 치환될 수 있다. 구체적으로, 하기 구조식의 치환기가 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the present specification, the oxygen of the ester group may be substituted with a straight-chain, branched-chain, or ring-chain alkyl group having 1 to 25 carbon atoms or an aryl group having 6 to 25 carbon atoms. Specifically, it may be a substituent of the following structural formula, but is not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 이미드기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 25인 것이 바람직하다. 구체적으로 하기와 같은 구조의 치환기가 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In this specification, the carbon number of the imide group is not particularly limited, but is preferably 1 to 25 carbon atoms. Specifically, the substituent may have the structure shown below, but is not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 실릴기는 구체적으로 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, t-부틸디메틸실릴기, 비닐디메틸실릴기, 프로필디메틸실릴기, 트리페닐실릴기, 디페닐실릴기, 페닐실릴기 등이 있으나 이에 한정되지 않는다. In the present specification, the silyl group specifically includes trimethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, vinyldimethylsilyl group, propyldimethylsilyl group, triphenylsilyl group, diphenylsilyl group, phenylsilyl group, etc. However, it is not limited to this.

본 명세서에 있어서, 붕소기는 구체적으로 트리메틸붕소기, 트리에틸붕소기, t-부틸디메틸붕소기, 트리페닐붕소기, 페닐붕소기 등이 있으나 이에 한정되지 않는다.In the present specification, the boron group specifically includes trimethyl boron group, triethyl boron group, t-butyldimethyl boron group, triphenyl boron group, and phenyl boron group, but is not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 할로겐기의 예로는 플루오로, 클로로, 브로모, 또는 아이오도가 있다.In this specification, examples of halogen groups include fluoro, chloro, bromo, or iodo.

본 명세서에 있어서, 상기 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 40인 것이 바람직하다. 일 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 10이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 구체적인 예로는 메틸, 에틸, 프로필, n-프로필, 이소프로필, 부틸, n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, sec-부틸, 1-메틸-부틸, 1-에틸부틸, 펜틸, n-펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, tert-펜틸, 1-에틸-프로필, 1,1-디메틸프로필, 헥실, n-헥실, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 4-메틸-2-펜틸, 3,3-디메틸부틸, 2-에틸부틸, 헵틸, n-헵틸, 이소헥실, 1-메틸헥실, 2-메틸헥실, 3-메틸헥실, 4-메틸헥실, 5-메틸헥실, 사이클로펜틸메틸, 사이클로헥실메틸, 옥틸, n-옥틸, tert-옥틸, 1-메틸헵틸, 2-에틸헥실, 2,4,4-트리메틸-1-펜틸, 2,4,4-트리메틸-2-펜틸, 2-프로필펜틸, n-노닐, 2,2-디메틸헵틸 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the present specification, the alkyl group may be straight chain or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 1 to 40. According to one embodiment, the carbon number of the alkyl group is 1 to 20. According to another embodiment, the carbon number of the alkyl group is 1 to 10. According to another embodiment, specific examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, n-propyl, isopropyl, butyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, sec-butyl, 1-methyl-butyl, 1-ethylbutyl, pentyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, 1-ethyl-propyl, 1,1-dimethylpropyl, hexyl, n-hexyl, 1-methylpentyl, 2-methylpentyl, 4-methyl-2-pentyl, 3,3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl, heptyl, n-heptyl, isohexyl, 1-methylhexyl, 2-methylhexyl, 3-methylhexyl, 4-methylhexyl, 5 -methylhexyl, cyclopentylmethyl, cyclohexylmethyl, octyl, n-octyl, tert-octyl, 1-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 2,4,4-trimethyl-1-pentyl, 2,4,4- Trimethyl-2-pentyl, 2-propylpentyl, n-nonyl, 2,2-dimethylheptyl, etc., but are not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 상기 알케닐기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 2 내지 40인 것이 바람직하다. 일 실시상태에 따르면, 상기 알케닐기의 탄소수는 2 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알케닐기의 탄소수는 2 내지 10이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알케닐기의 탄소수는 2 내지 6이다. 구체적인 예로는 비닐, 1-프로페닐, 이소프로페닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 1-펜테닐, 2-펜테닐, 3-펜테닐, 3-메틸-1-부테닐, 1,3-부타디에닐, 알릴, 1-페닐비닐-1-일, 2-페닐비닐-1-일, 2,2-디페닐비닐-1-일, 2-페닐-2-(나프틸-1-일)비닐-1-일, 2,2-비스(디페닐-1-일)비닐-1-일, 스틸베닐기, 스티레닐기 등이 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.In the present specification, the alkenyl group may be straight chain or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 2 to 40. According to one embodiment, the alkenyl group has 2 to 20 carbon atoms. According to another embodiment, the alkenyl group has 2 to 10 carbon atoms. According to another embodiment, the alkenyl group has 2 to 6 carbon atoms. Specific examples include vinyl, 1-propenyl, isopropenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, 1-pentenyl, 2-pentenyl, 3-pentenyl, 3-methyl-1- Butenyl, 1,3-butadienyl, allyl, 1-phenylvinyl-1-yl, 2-phenylvinyl-1-yl, 2,2-diphenylvinyl-1-yl, 2-phenyl-2-( Naphthyl-1-yl) vinyl-1-yl, 2,2-bis (diphenyl-1-yl) vinyl-1-yl, stilbenyl group, styrenyl group, etc., but are not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 사이클로알킬기는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 3 내지 60인 것이 바람직하며, 일 실시상태에 따르면, 상기 사이클로알킬기의 탄소수는 3 내지 30이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 사이클로알킬기의 탄소수는 3 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 사이클로알킬기의 탄소수는 3 내지 6이다. 구체적으로 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 3-메틸사이클로펜틸, 2,3-디메틸사이클로펜틸, 사이클로헥실, 3-메틸사이클로헥실, 4-메틸사이클로헥실, 2,3-디메틸사이클로헥실, 3,4,5-트리메틸사이클로헥실, 4-tert-부틸사이클로헥실, 사이클로헵틸, 사이클로옥틸 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.In the present specification, the cycloalkyl group is not particularly limited, but preferably has 3 to 60 carbon atoms, and according to one embodiment, the cycloalkyl group has 3 to 30 carbon atoms. According to another embodiment, the carbon number of the cycloalkyl group is 3 to 20. According to another embodiment, the carbon number of the cycloalkyl group is 3 to 6. Specifically, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, 3-methylcyclopentyl, 2,3-dimethylcyclopentyl, cyclohexyl, 3-methylcyclohexyl, 4-methylcyclohexyl, 2,3-dimethylcyclohexyl, 3, Examples include, but are not limited to, 4,5-trimethylcyclohexyl, 4-tert-butylcyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl.

본 명세서에 있어서, 아릴기는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 6 내지 60인 것이 바람직하며, 방향족성(aromaticity)을 갖는 단환식 아릴기 또는 다환식 아릴기일 수 있다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 30이다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 20이다. 상기 아릴기가 단환식 아릴기로는 페닐기, 비페닐이기, 터페닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 다환식 아릴기로는 나프틸기, 안트라세닐기, 페난쓰레닐기, 트리페닐레닐기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 크라이세닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the present specification, the aryl group is not particularly limited, but preferably has 6 to 60 carbon atoms, and may be a monocyclic aryl group or a polycyclic aryl group with aromaticity. According to one embodiment, the aryl group has 6 to 30 carbon atoms. According to one embodiment, the aryl group has 6 to 20 carbon atoms. The aryl group may be a monocyclic aryl group, such as a phenyl group, a biphenyl group, or a terphenyl group, but is not limited thereto. The polycyclic aryl group may be a naphthyl group, anthracenyl group, phenanthrenyl group, triphenylenyl group, pyrenyl group, perylenyl group, chrysenyl group, etc., but is not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 헤테로아릴은 이종 원소로 O, N, Si 및 S 중 1개 이상을 포함하는 헤테로아릴로서, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 2 내지 60인 것이 바람직하다. 헤테로아릴의 예로는 티오펜기, 퓨란기, 피롤기, 이미다졸기, 티아졸기, 옥사졸기, 옥사디아졸기, 트리아졸기, 피리딜기, 비피리딜기, 피리미딜기, 트리아진기, 아크리딜기, 피리다진기, 피라지닐기, 퀴놀리닐기, 퀴나졸린기, 퀴녹살리닐기, 프탈라지닐기, 피리도 피리미디닐기, 피리도 피라지닐기, 피라지노 피라지닐기, 이소퀴놀린기, 인돌기, 카바졸기, 벤조옥사졸기, 벤조이미다졸기, 벤조티아졸기, 벤조카바졸기, 벤조티오펜기, 디벤조티오펜기, 벤조퓨라닐기, 페난쓰롤린기(phenanthroline), 이소옥사졸릴기, 티아디아졸릴기, 페노티아지닐기 및 디벤조퓨라닐기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the present specification, heteroaryl is a heteroaryl containing one or more of O, N, Si, and S as a heteroelement, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 2 to 60 carbon atoms. Examples of heteroaryl include thiophene group, furan group, pyrrole group, imidazole group, thiazole group, oxazole group, oxadiazole group, triazole group, pyridyl group, bipyridyl group, pyrimidyl group, triazine group, acridyl group, Pyridazine group, pyrazinyl group, quinolinyl group, quinazoline group, quinoxalinyl group, phthalazinyl group, pyrido pyrimidinyl group, pyrido pyrazinyl group, pyrazino pyrazinyl group, isoquinoline group, indole group, Carbazole group, benzooxazole group, benzoimidazole group, benzothiazole group, benzocarbazole group, benzothiophene group, dibenzothiophene group, benzofuranyl group, phenanthroline group, isoxazolyl group, thiadiazolyl group group, phenothiazinyl group, and dibenzofuranyl group, but are not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 아르알킬기, 아르알케닐기, 알킬아릴기, 아릴아민기, 아릴실릴기 중의 아릴기는 전술한 아릴기의 예시와 같다. 본 명세서에 있어서, 아르알킬기, 알킬아릴기, 알킬아민기 중 알킬기는 전술한 알킬기의 예시와 같다. 본 명세서에 있어서, 헤테로아릴아민 중 헤테로아릴은 전술한 헤테로아릴에 관한 설명이 적용될 수 있다. 본 명세서에 있어서, 아르알케닐기 중 알케닐기는 전술한 알케닐기의 예시와 같다. 본 명세서에 있어서, 아릴렌은 2가기인 것을 제외하고는 전술한 아릴기에 관한 설명이 적용될 수 있다. 본 명세서에 있어서, 헤테로아릴렌은 2가기인 것을 제외하고는 전술한 헤테로아릴에 관한 설명이 적용될 수 있다. 본 명세서에 있어서, 탄화수소 고리는 1가기가 아니고, 2개의 치환기가 결합하여 형성한 것을 제외하고는 전술한 아릴기 또는 사이클로알킬기에 관한 설명이 적용될 수 있다. 본 명세서에 있어서, 헤테로고리는 1가기가 아니고, 2개의 치환기가 결합하여 형성한 것을 제외하고는 전술한 헤테로아릴에 관한 설명이 적용될 수 있다.In this specification, the aryl group among the aralkyl group, aralkenyl group, alkylaryl group, arylamine group, and arylsilyl group is the same as the example of the aryl group described above. In this specification, the aralkyl group, alkylaryl group, and alkylamine group are the same as the examples of the alkyl group described above. In the present specification, the description regarding heteroaryl described above may be applied to heteroaryl among heteroarylamines. In this specification, the alkenyl group among the aralkenyl groups is the same as the example of the alkenyl group described above. In the present specification, the description of the aryl group described above can be applied, except that arylene is a divalent group. In the present specification, the description of heteroaryl described above can be applied, except that heteroarylene is a divalent group. In the present specification, the description of the aryl group or cycloalkyl group described above can be applied, except that the hydrocarbon ring is not monovalent and is formed by combining two substituents. In the present specification, the description of heteroaryl described above can be applied, except that the heterocycle is not monovalent and is formed by combining two substituents.

본 명세서 있어서, 용어 "중수소화된 또는 중수소로 치환된"이란, 각 화학식에서 적어도 하나의 이용가능한 수소가 중수소로 치환된 것을 의미한다. 구체적으로, 각 화학식 또는 치환기의 정의에서 중수소로 치환된다는 것은, 분자 내 수소가 결합될 수 있는 위치 중 적어도 하나 이상이 중수소로 치환되는 것을 의미한다.As used herein, the term “deuterated or substituted with deuterium” means that at least one available hydrogen in each chemical formula is replaced with deuterium. Specifically, substitution with deuterium in each chemical formula or definition of a substituent means that at least one of the positions in the molecule where hydrogen can be bonded is substituted with deuterium.

또한, 본 명세서에 있어서, 용어 "중수소 치환율"이란, 각 화학식에 존재할 수 있는 수소의 총 개수 대비 치환된 중수소의 개수의 백분율을 의미한다.Additionally, as used herein, the term “deuterium substitution rate” refers to the percentage of the number of substituted deuteriums compared to the total number of hydrogens that may exist in each chemical formula.

(화합물)(compound)

본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다. The present invention provides a compound represented by Formula 1 above.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 안트라센의 9번 위치에 1-나프틸기가 치환되고, 10번 위치에 (나프틸렌)-(페닐렌)-(나프틸) 치환기가 치환된 구조를 갖는 화합물로, 상기 나프틸렌 링커는 "2,8-나프틸렌"인 것을 그 특징으로 한다. 다시 말하여, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 5개의 모이어티인 (1-나프틸)-(안트라센)-(2,8-나프틸렌)-(페닐렌)-(나프틸)가 연결된 구조를 필수적으로 포함하되, 선택적으로, (1-나프틸)-(안트라센) 사이 및/또는 (안트라센)-(2,8-나프틸렌) 사이에 페닐렌 링커를 더 포함한다.The compound represented by Formula 1 is a compound having a structure in which the 9th position of anthracene is substituted with a 1-naphthyl group and the 10th position is substituted with a (naphthylene)-(phenylene)-(naphthyl) substituent, The naphthylene linker is characterized as “2,8-naphthylene”. In other words, the compound represented by Formula 1 has a structure in which five moieties (1-naphthyl)-(anthracene)-(2,8-naphthylene)-(phenylene)-(naphthyl) are connected. Essentially, but optionally, further comprising a phenylene linker between (1-naphthyl)-(anthracene) and/or between (anthracene)-(2,8-naphthylene).

한편, 분자 내 1 개의 안트라센 모이어티와 페닐렌 및 나프탈렌 중에서 선택되는 3개 이하의 모이어티로 이루어진 화합물 즉, 4 개 이하의 모이어티가 연결된 구조를 갖는 화합물은 분자량이 낮아 분자의 conformation을 고려하지 않더라도 용액 공정에서 사용되는 용매에 대해 우수한 용해도를 나타낼 수 있다. 그러나, 적어도 5 개의 모이어티를 갖는 화합물, 일 예로 (나프틸)-(안트라센)-(나프틸렌)-(페닐렌)-(나프틸)과 같이 분자 내 5 개의 모이어티를 갖는 화합물이 liner form만을 갖는 경우에는, 증가된 분자량으로 인해 용액 공정에서 사용되는 용매에 용해되지 않는 문제가 발생하게 된다. 따라서, 적어도 5 개의 모이어티를 갖는 화합물은 용해도 향상 측면에서 분자의 conformation을 고려하여, 분자 내 twist form이 유도될 수 있는 구조를 가져야 한다.On the other hand, compounds consisting of one anthracene moiety and three or fewer moieties selected from phenylene and naphthalene in the molecule, that is, compounds having a structure with four or fewer moieties connected, have a low molecular weight and do not consider the conformation of the molecule. Even so, it can exhibit excellent solubility in the solvent used in the solution process. However, compounds with at least 5 moieties, for example, (naphthyl)-(anthracene)-(naphthylene)-(phenylene)-(naphthyl), have 5 moieties in the molecule in liner form. In the case of having only, the problem of not dissolving in the solvent used in the solution process occurs due to the increased molecular weight. Therefore, a compound with at least 5 moieties must have a structure that can induce a twist form within the molecule, considering the conformation of the molecule in terms of improving solubility.

이에, 본 발명자들은 분자 오비탈 관점에서, (나프틸)-(안트라센)-(나프틸렌)-(페닐렌)-(나프틸)과 같이 적어도 5 개의 모이어티를 갖는 화합물의 경우 "나프틸렌" 링커의 2 개의 시그마 결합 오비탈이 60 도를 이루게 되면 분자 내 twist form이 효과적으로 유도될 수 있음을 확인하여, 본 발명을 완성하였다. Accordingly, from a molecular orbital perspective, the present inventors used a "naphthylene" linker for compounds having at least 5 moieties, such as (naphthyl)-(anthracene)-(naphthylene)-(phenylene)-(naphthyl). The present invention was completed by confirming that the twist form within the molecule can be effectively induced when the two sigma bonding orbitals are at an angle of 60 degrees.

또한, 적어도 5 개의 모이어티를 갖는 화합물이 용매에 대한 용해도뿐 아니라 구조적인 안정성을 나타내기 위해서는 "나프틸렌" 링커의 2 번 위치에 안트라센 모이어티가 결합되고, 8 번 위치에 페닐렌 모이어티가 결합되는 구조를 가져야 한다. 그 이유는 하기와 같은 화합물 X의 경우 "나프틸렌" 링커의 2 개의 시그마 결합 오비탈이 60 도를 이루기는 하나, 모이어티 간 거리가 너무 가까워 steric hindrance가 유발될 수 있어, 화합물의 물질 안정성이 좋지 않을 수 있기 때문이다.In addition, in order for a compound with at least 5 moieties to exhibit not only solubility in solvents but also structural stability, an anthracene moiety is bound to the 2nd position of the “naphthylene” linker, and a phenylene moiety is bound to the 8th position. It must have a cohesive structure. The reason is that in the case of compound Because it may not be possible.

Figure pat00007
Figure pat00007

따라서, "나프틸렌" 링커의 2 번 위치에 안트라센 모이어티가 결합되고, 8 번 위치에 페닐렌 모이어티가 결합된 구조를 갖는, 다시 말하여 (나프틸)-(안트라센)과 (페닐렌)-(나프틸) 치환기 사이에 "2,8-나프틸렌" 링커를 포함하는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은, 분자 내 twist form이 효과적으로 유도되어 liner form만을 나타내는 화합물과는 달리 용액 공정에서 사용되는 용매에 대해 높은 용해도를 나타낼 뿐만 아니라, 구조적 안정성 또한 우수하여 유기 발광 소자의 효율 및 수명 특성 또한 향상시킬 수 있다.Therefore, the "naphthylene" linker has a structure in which an anthracene moiety is bonded to the 2-position and a phenylene moiety is bonded to the 8-position, that is, (naphthyl)-(anthracene) and (phenylene) The compound represented by Chemical Formula 1, which contains a "2,8-naphthylene" linker between -(naphthyl) substituents, effectively induces a twist form within the molecule and, unlike compounds that only show a liner form, is used in the solution process. Not only does it exhibit high solubility in solvents, but it also has excellent structural stability, which can improve the efficiency and lifespan characteristics of organic light-emitting devices.

나아가, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 분자 내에 적어도 하나의 중수소를 포함하는 경우, C-D 결합의 결합 에너지(bond energy)가 C-H 결합의 결합 에너지보다 크기 때문에, 중수소로 치환되지 않은 화합물에 비하여, 분자 내 더 강한 결합 에너지를 갖게 되고, 이에 따라 물질 안정성이 높아질 수 있다. 따라서, 적어도 하나의 중수소를 포함하는 화학식 1로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자의 효율 및 안정성을 더욱 향상시킬 수 있다.Furthermore, when the compound represented by Formula 1 contains at least one deuterium in the molecule, the bond energy of the C-D bond is greater than the bond energy of the C-H bond, so compared to the compound not substituted with deuterium, the molecule It has stronger binding energy, which can increase material stability. Therefore, the compound represented by Formula 1 containing at least one deuterium can further improve the efficiency and stability of the organic light-emitting device.

일 구현예에서, L1 및 L2는 모두 단일 결합일 수 있다.In one embodiment, both L 1 and L 2 can be a single bond.

다른 구현예에서, L1은 단일 결합이고, L2는 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,2-페닐렌; 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,3-페닐렌; 또는 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,4-페닐렌이거나; 또는In other embodiments, L 1 is a single bond and L 2 is 1,2-phenylene, unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuteriums; 1,3-phenylene unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuteriums; or 1,4-phenylene, which is unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuterium atoms; or

L1은 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,2-페닐렌; 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,3-페닐렌; 또는 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,4-페닐렌이고, L2는 단일 결합일 수 있다.L 1 is 1,2-phenylene that is unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuterium atoms; 1,3-phenylene unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuteriums; or 1,4-phenylene that is unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuteriums, and L 2 may be a single bond.

또 다른 구현예에서, L1 및 L2는 각각 독립적으로 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,2-페닐렌; 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,3-페닐렌; 또는 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,4-페닐렌일 수 있다.In another embodiment, L 1 and L 2 are each independently 1,2-phenylene, unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuteriums; 1,3-phenylene unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuteriums; Alternatively, it may be unsubstituted or 1,4-phenylene substituted with 1 to 4 deuteriums.

또한, L1 및 L2는 서로 동일할 수 있다.Additionally, L 1 and L 2 may be the same as each other.

다르게는, L1 및 L2는 상이할 수 있다.Alternatively, L 1 and L 2 may be different.

또한, L3는 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,2-페닐렌; 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,3-페닐렌; 또는 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,4-페닐렌일 수 있다.Additionally, L 3 is 1,2-phenylene that is unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuterium atoms; 1,3-phenylene unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuteriums; Alternatively, it may be unsubstituted or 1,4-phenylene substituted with 1 to 4 deuteriums.

일 구현예에서, L3는 1,2-페닐렌, 1,3-페닐렌, 또는 1,4-페닐렌일 수 있다.In one embodiment, L 3 can be 1,2-phenylene, 1,3-phenylene, or 1,4-phenylene.

다른 구현예에서, L3는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,2-페닐렌; 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,3-페닐렌; 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,4-페닐렌일 수 있다.In another embodiment, L 3 is 1,2-phenylene substituted with 1 to 4 deuterium atoms; 1,3-phenylene substituted with 1 to 4 deuterium atoms; Alternatively, it may be 1,4-phenylene substituted with 1 to 4 deuterium atoms.

또한, 중수소의 개수를 의미하는 a는 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 또는 7이고, b는 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8이고, c는 0, 1, 2, 3, 4, 5, 또는 6이고, d는 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 또는 7이다.In addition, a, which means the number of deuterium, is 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, or 7, and b is 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, or 8, c is 0, 1, 2, 3, 4, 5, or 6, and d is 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, or 7.

일 구현예에서, a+b+c+d는 0이거나; 또는 22 내지 28의 정수일 수 있다.In one implementation, a+b+c+d is 0; Or it may be an integer from 22 to 28.

또한, 상기 화합물은 중수소를 포함하지 않거나, 또는 1개 이상의 중수소를 포함할 수 있다.Additionally, the compound may not contain deuterium or may contain one or more deuterium.

일 예로, 상기 화합물이 중수소를 포함하는 경우, 화합물의 중수소 치환율은 50% 내지 100%일 수 있다. 구체적으로는, 상기 화합물의 중수소 치환율은 60% 이상, 70% 이상, 80% 이상, 85% 이상, 87% 이상, 88% 이상, 또는 90% 이상이면서, 100% 이하일 수 있다. 이러한 화합물의 중수소 치환율은 화학식 내 존재할 수 있는 수소의 총 개수 대비 치환된 중수소의 개수로 계산되며, 이때 치환된 중수소의 개수는 MALDI-TOF MS(Matrix-Assisted Laser Desorption/Ionization Time-of-Flight Mass Spectrometer) 분석을 통해 구해질 수 있다.For example, when the compound contains deuterium, the deuterium substitution rate of the compound may be 50% to 100%. Specifically, the deuterium substitution rate of the compound may be 60% or more, 70% or more, 80% or more, 85% or more, 87% or more, 88% or more, or 90% or more, but may be 100% or less. The deuterium substitution rate of these compounds is calculated as the number of substituted deuteriums compared to the total number of hydrogens that may exist in the chemical formula. In this case, the number of substituted deuteriums is calculated by MALDI-TOF MS (Matrix-Assisted Laser Desorption/Ionization Time-of-Flight Mass It can be obtained through spectrometer analysis.

바람직하게는, 상기 화합물의 중수소 치환율은 0% 이거나 또는 80% 이상일 수 있다.Preferably, the deuterium substitution rate of the compound may be 0% or 80% or more.

또한, 상기 화합물은 하기 화학식 1-1 또는 1-2로 표시될 수 있다:Additionally, the compound may be represented by the following formula 1-1 or 1-2:

[화학식 1-1] [Formula 1-1]

Figure pat00008
Figure pat00008

[화학식 1-2][Formula 1-2]

Figure pat00009
Figure pat00009

상기 화학식 1-1 및 1-2에서,In Formulas 1-1 and 1-2,

a, b, c 및 d는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같고,a, b, c and d are as defined in Formula 1 above,

e, f 및 g는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이고,e, f and g are each independently integers from 0 to 4,

n1 및 n2는 각각 독립적으로 0 또는 1이다.n1 and n2 are each independently 0 or 1.

상기 화학식 1-1 및 1-2에서, e, f 및 g 또한 중수소의 개수를 의미하는 것으로 각각 독립적으로 0, 1, 2, 3, 또는 4이다.In Formulas 1-1 and 1-2, e, f, and g also refer to the number of deuterium and are each independently 0, 1, 2, 3, or 4.

구체적으로는, 상기 화학식 1-1 및 1-2에서,Specifically, in Formulas 1-1 and 1-2,

n1 및 n2가 모두 0인 경우, a+b+c+d+g는 0이거나; 또는 1 내지 32의 정수이고,If n1 and n2 are both 0, then a+b+c+d+g is 0; or an integer from 1 to 32,

n1이 1이고, n2가 0인 경우, a+b+c+d+e+g는 0이거나; 또는 1 내지 36의 정수이고,If n1 is 1 and n2 is 0, then a+b+c+d+e+g is 0; or an integer from 1 to 36,

n1이 0이고, n2가 1인 경우, a+b+c+d+f+g는 0이거나; 또는 1 내지 36의 정수이고If n1 is 0 and n2 is 1, then a+b+c+d+f+g is 0; or an integer from 1 to 36

n1 및 n2가 모두 1인 경우, a+b+c+d+e+f+g는 0이거나; 또는 1 내지 40의 정수이다.If n1 and n2 are both 1, then a+b+c+d+e+f+g is 0; Or it is an integer from 1 to 40.

바람직하게는, 상기 화학식 1-1 및 1-2에서,Preferably, in Formulas 1-1 and 1-2,

n1 및 n2가 모두 0인 경우, a+b+c+d+g는 0이거나; 또는 28 내지 32의 정수이고,If n1 and n2 are both 0, then a+b+c+d+g is 0; or an integer from 28 to 32,

n1가 1이고, n2가 0인 경우, a+b+c+d+e+g는 0이거나; 또는 32 내지 36의 정수이고,If n1 is 1 and n2 is 0, then a+b+c+d+e+g is 0; or an integer from 32 to 36,

n1가 0이고, n2가 1인 경우, a+b+c+d+f+g는 0이거나; 또는 32 내지 36의 정수이고If n1 is 0 and n2 is 1, then a+b+c+d+f+g is 0; or an integer from 32 to 36

n1 및 n2가 모두 1인 경우, a+b+c+d+e+f+g는 0이거나; 또는 36 내지 40의 정수이다.If n1 and n2 are both 1, then a+b+c+d+e+f+g is 0; or an integer of 36 to 40.

한편, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 대표적인 예는 하기 화학식으로 표시되는 화합물로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나이다:Meanwhile, a representative example of the compound represented by Formula 1 is any one selected from the group consisting of compounds represented by the following formula:

Figure pat00010
Figure pat00010

Figure pat00011
Figure pat00011

Figure pat00012
Figure pat00012

Figure pat00013
Figure pat00013

Figure pat00014
Figure pat00014

Figure pat00015
Figure pat00015

상기 화합물 2, 4, 6, 8, 10 및 12에서, a+b+c+d+g는 1 내지 32의 정수이고,In compounds 2, 4, 6, 8, 10 and 12, a+b+c+d+g is an integer from 1 to 32,

상기 화합물 14, 16, 18, 20, 22 및 24에서, a+b+c+d+e+g는 1 내지 36의 정수이고,In compounds 14, 16, 18, 20, 22 and 24, a+b+c+d+e+g is an integer from 1 to 36,

상기 화합물 26, 28, 30, 32, 34 및 36에서, a+b+c+d+f+g는 1 내지 36의 정수이고,In compounds 26, 28, 30, 32, 34 and 36, a+b+c+d+f+g is an integer from 1 to 36,

상기 화합물 38, 40, 42, 44, 46 및 48에서, a+b+c+d+e+f+g는 1 내지 40의 정수이다.In compounds 38, 40, 42, 44, 46 and 48, a+b+c+d+e+f+g is an integer from 1 to 40.

바람직하게는, Preferably,

상기 화합물 2, 4, 6, 8, 10 및 12에서, a+b+c+d+g는 28 내지 32의 정수이고,In compounds 2, 4, 6, 8, 10 and 12, a+b+c+d+g is an integer from 28 to 32,

상기 화합물 14, 16, 18, 20, 22 및 24에서, a+b+c+d+e+g는 32 내지 36의 정수이고,In compounds 14, 16, 18, 20, 22 and 24, a+b+c+d+e+g is an integer from 32 to 36,

상기 화합물 26, 28, 30, 32, 34 및 36에서, a+b+c+d+f+g는 32 내지 36의 정수이고,In compounds 26, 28, 30, 32, 34 and 36, a+b+c+d+f+g is an integer from 32 to 36,

상기 화합물 38, 40, 42, 44, 46 및 48에서, a+b+c+d+e+f+g는 36 내지 40의 정수이다.In compounds 38, 40, 42, 44, 46 and 48, a+b+c+d+e+f+g is an integer from 36 to 40.

한편, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 중 화학식 1-1로 표시되는 화합물은 a 내지 g가 모두 0인 경우 하기 반응식 1과 같은 제조 방법으로 제조할 수 있다. Meanwhile, among the compounds represented by Chemical Formula 1, the compound represented by Chemical Formula 1-1 can be prepared by the production method shown in Scheme 1 below when a to g are all 0.

[반응식 1] [Scheme 1]

Figure pat00016
Figure pat00016

상기 반응식 1에서, 각 치환기에 대한 정의는 앞서 설명한 바와 같고, BPin은 boronic pinacol ester기를 의미한다.In Scheme 1, the definition of each substituent is as described above, and BPin refers to a boronic pinacol ester group.

구체적으로, 상기 화학식 1-1로 표시되는 화합물은 단계 a 내지 단계 c를 통해 제조될 수 있다. 먼저, 상기 단계 a는 화합물 A-1 및 A-2의 스즈키 커플링 반응을 통해 중간체 화합물 1-3을 제조하는 단계이다. 다음으로, 상기 단계 b는 Tf2O(Trifluoromethanesulfonic anhydride)를 사용하여, 화합물 A-3에 스즈키 커플링 반응을 위한 반응기인 -OTf(-O3SCF3)기가 도입된 화합물 A-4를 제조하는 단계이다. 다음으로, 상기 단계 c는 화합물 A-4 및 A-5의 스즈키 커플링 반응을 통해 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제조하는 단계이다. 이 때, 상기 단계 a 및 c에서 스즈키 커플링 반응은 각각 팔라듐 촉매와 염기의 존재 하에 수행하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 스즈키 커플링 반응을 위한 상기 반응기는 적절히 변경될 수 있다.Specifically, the compound represented by Formula 1-1 may be prepared through steps a to c. First, step a is a step of preparing intermediate compound 1-3 through Suzuki coupling reaction of compounds A-1 and A-2. Next, in step b, Tf 2 O (Trifluoromethanesulfonic anhydride) is used to prepare compound A-4, in which -OTf (-O 3 SCF 3 ) group, which is a reactive group for Suzuki coupling reaction, is introduced into compound A-3. It's a step. Next, step c is a step of preparing the compound represented by Formula 1 through the Suzuki coupling reaction of compounds A-4 and A-5. At this time, the Suzuki coupling reaction in steps a and c is preferably performed in the presence of a palladium catalyst and a base, respectively. Additionally, the reactor for the Suzuki coupling reaction may be modified appropriately.

또한, 적어도 하나의 중수소를 갖는 화학식 1-1로 표시되는 화합물은 하기 반응식 2와 같은 제조 방법으로 제조할 수 있다. Additionally, the compound represented by Chemical Formula 1-1 having at least one deuterium can be prepared by the production method shown in Scheme 2 below.

[반응식 2] [Scheme 2]

Figure pat00017
Figure pat00017

상기 반응식 2에서, 각 치환기에 대한 정의는 앞서 설명한 바와 같다. In Scheme 2, the definition of each substituent is the same as previously described.

구체적으로, 적어도 하나의 중수소를 갖는 화학식 1-1로 표시되는 화합물은 중수소로 치환되지 않은 화학식 1-1로 표시되는 화합물을 중수소화하여 제조될 수 있다. 이 때, 중수소 치환 반응은 중수소로 치환되지 않은 화학식 1-1로 표시되는 화합물을 벤젠-D6(C6D6) 용액과 같은 중수소화된 용매에 투입한 후 TfOH(trifluoromethanesulfonic acid)와 반응시켜 수행될 수 있다. Specifically, a compound represented by Formula 1-1 having at least one deuterium can be prepared by deuterating a compound represented by Formula 1-1 that is not substituted with deuterium. At this time, the deuterium substitution reaction is performed by adding the compound represented by Formula 1-1, which is not substituted with deuterium, into a deuterated solvent such as benzene-D 6 (C 6 D 6 ) solution and then reacting with TfOH (trifluoromethanesulfonic acid). It can be done.

한편, 상기 화학식 1-2로 표시되는 화합물은 상기 반응식 1 및 2에서 반응 물질을 적절히 변경하여 제조될 수 있고, 이들의 제조 방법은 후술할 제조예에서 보다 구체화될 수 있다.Meanwhile, compounds represented by Formula 1-2 can be prepared by appropriately changing the reaction materials in Schemes 1 and 2, and their preparation methods can be more detailed in the preparation examples to be described later.

한편. 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 용액 공정에 사용되는 유기 용매, 예를 들어 사이클로헥사논과 같은 유기 용매에 대한 용해도가 높아, 높은 끓는점의 용매를 사용하는 잉크젯 도포법 등의 대면적 용액 공정에 사용이 적합하다.Meanwhile. The compound represented by Formula 1 has high solubility in organic solvents used in solution processes, such as cyclohexanone, and can be used in large-area solution processes such as inkjet coating using solvents with high boiling points. Suitable.

본 발명에 따른 화합물을 포함하는 유기물층은 진공 증착법, 용액 공정 등과 같은 다양한 방법을 이용하여 형성할 수 있으며, 용액 공정에 대해서는 이하 상세히 설명한다. The organic layer containing the compound according to the present invention can be formed using various methods such as vacuum deposition and solution process, and the solution process will be described in detail below.

(코팅 조성물)(Coating composition)

한편, 본 발명에 따른 화합물은 용액 공정으로 유기 발광 소자의 유기물 층, 특히 발광층을 형성할 수 있다. 구체적으로, 상기 화합물은 발광층의 호스트 재료로 사용될 수 있다. 이를 위하여, 본 발명은 상술한 본 발명에 따른 화합물 및 용매를 포함하는 코팅 조성물을 제공한다. Meanwhile, the compound according to the present invention can form an organic layer, especially a light-emitting layer, of an organic light-emitting device through a solution process. Specifically, the compound can be used as a host material for the light-emitting layer. For this purpose, the present invention provides a coating composition comprising the compound and solvent according to the present invention described above.

상기 용매는 본 발명에 따른 화합물을 용해 또는 분산시킬 수 있는 용매이면 특별히 제한되지 않으며, 일례로 클로로포름, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에탄, 클로로벤젠, o-디클로로벤젠 등의 염소계 용매; 테트라하이드로퓨란, 디옥산 등의 에테르계 용매; 톨루엔, 크실렌, 트리메틸벤젠, 메시틸렌, 1-메틸나프탈렌, 2-메틸나프탈렌 등의 방향족 탄화수소계 용매; 시클로헥산, 메틸시클로헥산, n-펜탄, n-헥산, n-헵탄, n-옥탄, n-노난, n-데칸 등의 지방족 탄화수소계 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤계 용매; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에스테르계 용매; 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디메톡시에탄, 프로필렌글리콜, 디에톡시메탄, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 글리세린, 1,2-헥산디올 등의 다가 알코올 및 그의 유도체; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 시클로헥산올 등의 알코올계 용매; 디메틸술폭사이드 등의 술폭사이드계 용매; 및 N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 용매; 부틸벤조에이트, 메틸-2-메톡시벤조에이트, 에틸벤조에이트 등의 벤조에이트계 용매; 디메틸 프탈레이트, 디에틸 프탈레이트, 디페닐 프탈레이트 등의 프탈레이트 계 용매; 테트랄린; 3-페녹시톨루엔 등의 용매를 들 수 있다. 또한, 상술한 용매를 1종 단독으로 사용하거나 2종 이상의 용매를 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는 상기 용매로 사이클로헥사논를 사용할 수 있다. The solvent is not particularly limited as long as it is capable of dissolving or dispersing the compound according to the present invention, and examples include chloroform, methylene chloride, 1,2-dichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, chlorobenzene, o -Chlorine-based solvents such as dichlorobenzene; Ether-based solvents such as tetrahydrofuran and dioxane; Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, trimethylbenzene, mesitylene, 1-methylnaphthalene, and 2-methylnaphthalene; Aliphatic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, methylcyclohexane, n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, and n-decane; Ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; Ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, and ethyl cellosolve acetate; Polyhydric acids such as ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, dimethoxyethane, propylene glycol, diethoxymethane, triethylene glycol monoethyl ether, glycerin, 1,2-hexanediol, etc. alcohol and its derivatives; Alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, and cyclohexanol; Sulfoxide-based solvents such as dimethyl sulfoxide; and amide-based solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N,N-dimethylformamide; Benzoate-based solvents such as butyl benzoate, methyl-2-methoxybenzoate, and ethyl benzoate; Phthalate-based solvents such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, and diphenyl phthalate; tetralin; Solvents such as 3-phenoxytoluene can be mentioned. In addition, the above-mentioned solvents may be used individually or two or more types of solvents may be mixed. Preferably, cyclohexanone can be used as the solvent.

또한, 상기 코팅 조성물은 도펀트 재료로 사용되는 화합물을 더 포함할 수 있고, 상기 도펀트 재료에 사용되는 화합물에 대한 설명은 후술한다.Additionally, the coating composition may further include a compound used as a dopant material, and a description of the compound used as the dopant material will be provided later.

또한, 상기 코팅 조성물의 점도는 1 cP 이상이 바람직하다. 또한, 상기 코팅 조성물의 코팅 용이성을 감안하여, 상기 코팅 조성물의 점도는 10 cP 이하가 바람직하다. 또한, 상기 코팅 조성물 내 본 발명에 따른 화합물의 농도는 0.1 wt/v% 이상이 바람직하다. 또한, 상기 코팅 조성물이 최적으로 코팅될 수 있도록, 상기 코팅 조성물 내 본 발명에 따른 화합물의 농도는 20 wt/v%이하가 바람직하다. Additionally, the viscosity of the coating composition is preferably 1 cP or more. In addition, considering the ease of coating of the coating composition, the viscosity of the coating composition is preferably 10 cP or less. In addition, the concentration of the compound according to the present invention in the coating composition is preferably 0.1 wt/v% or more. In addition, so that the coating composition can be optimally coated, the concentration of the compound according to the present invention in the coating composition is preferably 20 wt/v% or less.

또한, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 상온/상압에서의 용해도(wt%)는 용매 사이클로헥사논을 기준으로 0.1 wt% 이상, 보다 구체적으로는 0.1 wt% 내지 5 wt%일 수 있다. 이에 따라, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 용매를 포함하는 코팅 조성물은 용액 공정에 사용될 수 있다.In addition, the solubility (wt%) of the compound represented by Formula 1 at room temperature/normal pressure may be 0.1 wt% or more, more specifically 0.1 wt% to 5 wt%, based on the solvent cyclohexanone. Accordingly, a coating composition containing the compound represented by Formula 1 and a solvent can be used in a solution process.

또한, 본 발명은 상술한 코팅 조성물을 사용하여 발광층을 형성하는 방법을 제공한다. 구체적으로, 양극 상에, 또는 양극 상에 형성된 정공 수송층 상에 상술한 본 발명에 따른 발광층을 용액 공정으로 코팅하는 단계; 및 상기 코팅된 코팅 조성물을 열처리하는 단계를 포함한다. Additionally, the present invention provides a method of forming a light-emitting layer using the above-described coating composition. Specifically, coating the above-described light-emitting layer according to the present invention on the anode or on the hole transport layer formed on the anode by a solution process; and heat treating the coated coating composition.

상기 용액 공정은 상술한 본 발명에 따른 코팅 조성물을 사용하는 것으로, 스핀 코팅, 딥코팅, 닥터 블레이딩, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 스프레이법, 롤 코팅 등을 의미하지만, 이들만으로 한정되는 것은 아니다.The solution process uses the coating composition according to the present invention described above, and includes spin coating, dip coating, doctor blading, inkjet printing, screen printing, spraying, roll coating, etc., but is not limited to these.

상기 열처리 단계에서 열처리 온도는 150 내지 230℃가 바람직하다. 또한, 상기 열처리 시간은 1분 내지 3시간이고, 보다 바람직하게는 10분 내지 1시간이다. 또한, 상기 열처리는 아르곤, 질소 등의 불활성 기체 분위기에서 수행하는 것이 바람직하다. In the heat treatment step, the heat treatment temperature is preferably 150 to 230°C. Additionally, the heat treatment time is 1 minute to 3 hours, and more preferably 10 minutes to 1 hour. Additionally, the heat treatment is preferably performed in an inert gas atmosphere such as argon or nitrogen.

(유기 발광 소자)(Organic light emitting device)

한편, 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 유기 발광 소자를 제공한다. 일례로, 본 발명은 제1 전극; 상기 제1 전극과 대향하여 구비된 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1층 이상은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는, 유기 발광 소자를 제공한다. Meanwhile, the present invention provides an organic light-emitting device containing the compound represented by Formula 1 above. For example, the present invention includes a first electrode; a second electrode provided opposite to the first electrode; and an organic light-emitting device comprising at least one organic material layer provided between the first electrode and the second electrode, wherein at least one layer of the organic material layer includes a compound represented by Formula 1. .

본 발명의 유기 발광 소자의 유기물층은 단층 구조로 이루어질 수도 있으나, 2층 이상의 유기물층이 적층된 다층 구조로 이루어질 수 있다. 예컨대, 본 발명의 유기 발광 소자는 유기물층으로서 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층 등을 포함하는 구조를 가질 수 있다. 그러나 유기 발광 소자의 구조는 이에 한정되지 않고 더 적은 수의 유기층을 포함할 수 있다.The organic material layer of the organic light emitting device of the present invention may have a single-layer structure, or may have a multi-layer structure in which two or more organic material layers are stacked. For example, the organic light emitting device of the present invention may have a structure including a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, etc. as an organic material layer. However, the structure of the organic light emitting device is not limited to this and may include fewer organic layers.

일 구현예에서, 상기 유기물층은 발광층을 포함할 수 있고, 이때 상기 화합물을 포함하는 유기물층은 발광층일 수 있다.In one embodiment, the organic material layer may include a light-emitting layer, and in this case, the organic material layer including the compound may be a light-emitting layer.

다른 구현예에서, 상기 유기물층은 정공주입층, 정공수송층, 발광층 및 전자주입 및 수송층을 포함할 수 있고, 이때 상기 화합물을 포함하는 유기물층은 발광층일 수 있다.In another embodiment, the organic material layer may include a hole injection layer, a hole transport layer, a light-emitting layer, and an electron injection and transport layer, and in this case, the organic material layer containing the compound may be a light-emitting layer.

또 다른 구현예에서, 상기 유기물층은 정공주입층, 정공수송층, 전자억제층, 발광층 및 전자주입 및 수송층을 포함할 수 있고, 이때 상기 화합물을 포함하는 유기물층은 발광층일 수 있다.In another embodiment, the organic material layer may include a hole injection layer, a hole transport layer, an electron suppression layer, a light-emitting layer, and an electron injection and transport layer, and in this case, the organic material layer containing the compound may be a light-emitting layer.

또 다른 구현예에서, 상기 유기물층은 정공주입층, 정공수송층, 전자억제층, 발광층, 전자저지층 및 전자주입 및 수송층을 포함할 수 있고, 이때 상기 화합물을 포함하는 유기물층은 발광층일 수 있다.In another embodiment, the organic material layer may include a hole injection layer, a hole transport layer, an electron suppression layer, a light emitting layer, an electron blocking layer, and an electron injection and transport layer, and in this case, the organic material layer containing the compound may be a light emitting layer.

본 발명의 유기 발광 소자의 유기물 층은 단층 구조로 이루어질 수도 있으나, 2층 이상의 유기물층이 적층된 다층 구조로 이루어질 수 있다. 예컨대, 본 발명의 유기 발광 소자는 유기물 층으로서 발광층 이외에, 상기 제1전극과 상기 발광층 사이의 정공주입층 및 정공수송층, 및 상기 발광층과 상기 제2전극 사이의 전자수송층 및 전자주입층을 더 포함하는 구조를 가질 수 있다. 그러나 유기 발광 소자의 구조는 이에 한정되지 않고 더 적은 수 또는 더 많은 수의 유기층을 포함할 수 있다.The organic material layer of the organic light emitting device of the present invention may have a single-layer structure, or may have a multi-layer structure in which two or more organic material layers are stacked. For example, the organic light-emitting device of the present invention is an organic material layer that, in addition to the light-emitting layer, further includes a hole injection layer and a hole transport layer between the first electrode and the light-emitting layer, and an electron transport layer and an electron injection layer between the light-emitting layer and the second electrode. It can have a structure that does. However, the structure of the organic light emitting device is not limited to this and may include fewer or more organic layers.

또한, 본 발명에 따른 유기 발광 소자는, 제1 전극이 양극이고, 제2 전극이 음극인, 기판 상에 양극, 1층 이상의 유기물층 및 음극이 순차적으로 적층된 구조(normal type)의 유기 발광 소자일 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 유기 발광 소자는 제1 전극이 음극이고, 제2 전극이 양극인, 기판 상에 음극, 1층 이상의 유기물층 및 양극이 순차적으로 적층된 역방향 구조(inverted type)의 유기 발광 소자일 수 있다. 예컨대, 본 발명의 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 구조는 도 1 및 2에 예시되어 있다.In addition, the organic light-emitting device according to the present invention is a normal type organic light-emitting device in which an anode, one or more organic material layers, and a cathode are sequentially stacked on a substrate in which the first electrode is an anode and the second electrode is a cathode. It can be. In addition, the organic light emitting device according to the present invention is an inverted type organic light emitting device in which a cathode, one or more organic material layers, and an anode are sequentially stacked on a substrate where the first electrode is a cathode and the second electrode is an anode. It can be. For example, the structure of an organic light emitting device according to an embodiment of the present invention is illustrated in FIGS. 1 and 2.

도 1은 기판(1), 양극(2), 발광층(3), 음극(4)으로 이루어진 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다. 이와 같은 구조에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 발광층에 포함될 수 있다. Figure 1 shows an example of an organic light emitting device consisting of a substrate 1, an anode 2, a light emitting layer 3, and a cathode 4. In this structure, the compound represented by Formula 1 may be included in the light-emitting layer.

도 2는 기판 (1), 양극(2), 정공주입층(5), 정공수송층(6), 발광층(3), 전자주입 및 수송층(7) 및 음극(4)으로 이루어진 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다. 이와 같은 구조에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 발광층에 포함될 수 있다.Figure 2 is an example of an organic light emitting device consisting of a substrate (1), an anode (2), a hole injection layer (5), a hole transport layer (6), a light emitting layer (3), an electron injection and transport layer (7), and a cathode (4). It shows. In this structure, the compound represented by Formula 1 may be included in the light-emitting layer.

본 발명에 따른 유기 발광 소자는, 상기 발광층이 본 발명에 따른 화합물을 포함하고, 상술한 방법과 같이 제조되는 것을 제외하고는 당 기술분야에 알려져 있는 재료와 방법으로 제조할 수 있다.The organic light emitting device according to the present invention can be manufactured using materials and methods known in the art, except that the light emitting layer contains the compound according to the present invention and is manufactured according to the method described above.

예컨대, 본 발명에 따른 유기 발광 소자는 기판 상에 양극, 유기물층 및 음극을 순차적으로 적층시켜 제조할 수 있다. 이때, 스퍼터링법(sputtering)이나 전자빔 증발법(e-beam evaporation)과 같은 PVD(physical Vapor Deposition) 방법을 이용하여, 기판 상에 금속 또는 전도성을 가지는 금속 산화물 또는 이들의 합금을 증착시켜 양극을 형성하고, 그 위에 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층 및 전자 수송층을 포함하는 유기물 층을 형성한 후, 그 위에 음극으로 사용할 수 있는 물질을 증착시켜 제조할 수 있다. For example, the organic light emitting device according to the present invention can be manufactured by sequentially stacking an anode, an organic material layer, and a cathode on a substrate. At this time, an anode is formed by depositing a metal or a conductive metal oxide or an alloy thereof on the substrate using a PVD (physical vapor deposition) method such as sputtering or e-beam evaporation. It can be manufactured by forming an organic material layer including a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer thereon, and then depositing a material that can be used as a cathode thereon.

이와 같은 방법 외에도, 기판 상에 음극 물질로부터 유기물층, 양극 물질을 차례로 증착시켜 유기 발광 소자를 제조할 수 있다(WO 2003/012890). 다만, 제조 방법이 이에 한정되는 것은 아니다. In addition to this method, an organic light-emitting device can be manufactured by sequentially depositing a cathode material, an organic layer, and an anode material on a substrate (WO 2003/012890). However, the manufacturing method is not limited to this.

일례로, 상기 제1 전극은 양극이고, 상기 제2 전극은 음극이거나, 또는 상기 제1 전극은 음극이고, 상기 제2 전극은 양극이다.In one example, the first electrode is an anode and the second electrode is a cathode, or the first electrode is a cathode and the second electrode is an anode.

상기 양극 물질로는 통상 유기물층으로 정공 주입이 원활할 수 있도록 일함수가 큰 물질이 바람직하다. 상기 양극 물질의 구체적인 예로는 바나듐, 크롬, 구리, 아연, 금과 같은 금속 또는 이들의 합금; 아연 산화물, 인듐 산화물, 인듐주석 산화물(ITO), 인듐아연 산화물(IZO)과 같은 금속 산화물; ZnO:Al 또는 SnO2:Sb와 같은 금속과 산화물의 조합; 폴리(3-메틸티오펜), 폴리[3,4-(에틸렌-1,2-디옥시)티오펜](PEDOT), 폴리피롤 및 폴리아닐린과 같은 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. The anode material is generally preferably a material with a large work function to facilitate hole injection into the organic layer. Specific examples of the anode material include metals such as vanadium, chromium, copper, zinc, and gold, or alloys thereof; metal oxides such as zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), and indium zinc oxide (IZO); Combinations of metals and oxides such as ZnO:Al or SnO 2 :Sb; Conductive polymers such as poly(3-methylthiophene), poly[3,4-(ethylene-1,2-dioxy)thiophene](PEDOT), polypyrrole, and polyaniline are included, but are not limited to these.

상기 음극 물질로는 통상 유기물층으로 전자 주입이 용이하도록 일함수가 작은 물질인 것이 바람직하다. 상기 음극 물질의 구체적인 예로는 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 칼륨, 티타늄, 인듐, 이트륨, 리튬, 가돌리늄, 알루미늄, 은, 주석 및 납과 같은 금속 또는 이들의 합금; LiF/Al 또는 LiO2/Al과 같은 다층 구조 물질 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. The cathode material is generally preferably a material with a small work function to facilitate electron injection into the organic layer. Specific examples of the negative electrode material include metals such as magnesium, calcium, sodium, potassium, titanium, indium, yttrium, lithium, gadolinium, aluminum, silver, tin and lead, or alloys thereof; There are multi-layer structure materials such as LiF/Al or LiO 2 /Al, but they are not limited to these.

상기 정공주입층은 전극으로부터 정공을 주입하는 층으로, 정공 주입 물질로는 정공을 수송하는 능력을 가져 양극에서의 정공 주입효과, 발광층 또는 발광재료에 대하여 우수한 정공 주입 효과를 갖고, 발광층에서 생성된 여기자의 전자주입층 또는 전자주입재료에의 이동을 방지하며, 또한, 박막 형성 능력이 우수한 화합물이 바람직하다. 정공 주입 물질의 HOMO(highest occupied molecular orbital)가 양극 물질의 일함수와 주변 유기물층의 HOMO 사이인 것이 바람직하다. 정공 주입 물질의 구체적인 예로는 금속 포피린(porphyrin), 올리고티오펜, 아릴아민 계열의 유기물, 헥사니트릴헥사아자트리페닐렌 계열의 유기물, 퀴나크리돈(quinacridone)계열의 유기물, 페릴렌(perylene) 계열의 유기물, 안트라퀴논 및 폴리아닐린과 폴리티오펜 계열의 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. The hole injection layer is a layer that injects holes from an electrode. The hole injection material has the ability to transport holes, has an excellent hole injection effect at the anode, a light-emitting layer or a light-emitting material, and has an excellent hole injection effect on the light-emitting layer or light-emitting material. A compound that prevents movement of excitons to the electron injection layer or electron injection material and has excellent thin film forming ability is preferred. It is preferable that the highest occupied molecular orbital (HOMO) of the hole injection material is between the work function of the anode material and the HOMO of the surrounding organic material layer. Specific examples of hole injection materials include metal porphyrin, oligothiophene, arylamine-based organic substances, hexanitrilehexaazatriphenylene-based organic substances, quinacridone-based organic substances, and perylene-based organic substances. organic substances, anthraquinone, polyaniline, and polythiophene series conductive polymers, etc., but are not limited to these.

상기 정공수송층은 정공주입층으로부터 정공을 수취하여 발광층까지 정공을 수송하는 층으로, 정공 수송 물질로는 양극이나 정공 주입층으로부터 정공을 수송받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로 정공에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 상기 정공 수송 물질로 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 사용하거나, 또는 아릴아민 계열의 유기물, 전도성 고분자, 및 공액 부분과 비공액 부분이 함께 있는 블록 공중합체 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The hole transport layer is a layer that receives holes from the hole injection layer and transports holes to the light-emitting layer. The hole transport material is a material that can receive holes from the anode or hole injection layer and transfer them to the light-emitting layer, and has high mobility for holes. The material is suitable. As the hole transport material, a compound represented by Formula 1 may be used, or an arylamine-based organic material, a conductive polymer, and a block copolymer having both a conjugated and non-conjugated portion may be used, but is not limited thereto. .

한편, 상기 유기 발광 소자에는 상기 정공수송층과 발광층 사이에 전자 억제층이 구비되어 있을 수 있다. 상기 전자억제층은 상기 정공수송층 상에 형성되어, 바람직하게는 발광층에 접하여 구비되어, 정공이동도를 조절하고, 전자의 과다한 이동을 방지하여 정공-전자간 결합 확률을 높여줌으로써 유기 발광 소자의 효율을 개선하는 역할을 하는 층을 의미한다. 상기 전자억제층은 전자저지물질을 포함하고, 이러한 전자저지물질의 예로 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 사용하거나, 또는 아릴아민 계열의 유기물 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Meanwhile, the organic light emitting device may include an electron suppression layer between the hole transport layer and the light emitting layer. The electron blocking layer is formed on the hole transport layer, preferably in contact with the light emitting layer, to control hole mobility and prevent excessive movement of electrons to increase the probability of hole-electron coupling, thereby increasing the efficiency of the organic light emitting device. This refers to the layer that plays a role in improving. The electron blocking layer includes an electron blocking material, and examples of the electron blocking material include the compound represented by Chemical Formula 1, or an arylamine-based organic material, but are not limited thereto.

상기 발광층은 호스트 재료 및 도펀트 재료를 포함할 수 있다. 호스트 재료로는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 사용될 수 있다. 또한, 상기 호스트 재료로 상기 화학식 1로 표시되는 화합물과 함께 축합 방향족환 유도체 또는 헤테로환 함유 화합물 등이 사용될 수 있다. 구체적으로 축합 방향족환 유도체로는 안트라센 유도체, 피렌 유도체, 나프탈렌 유도체, 펜타센 유도체, 페난트렌 화합물, 플루오란텐 화합물 등이 있고, 헤테로환 함유 화합물로는 카바졸 유도체, 디벤조퓨란 유도체, 래더형 퓨란 화합물, 피리미딘 유도체 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The light emitting layer may include a host material and a dopant material. As a host material, a compound represented by Formula 1 above may be used. Additionally, as the host material, a condensed aromatic ring derivative or a heterocyclic ring-containing compound may be used along with the compound represented by Formula 1. Specifically, condensed aromatic ring derivatives include anthracene derivatives, pyrene derivatives, naphthalene derivatives, pentacene derivatives, phenanthrene compounds, and fluoranthene compounds, and heterocycle-containing compounds include carbazole derivatives, dibenzofuran derivatives, and ladder-type compounds. These include, but are not limited to, furan compounds and pyrimidine derivatives.

또한, 도펀트 재료로는 방향족 아민 유도체, 스트릴아민 화합물, 붕소 착체, 플루오란텐 화합물, 금속 착체 등이 있다. 구체적으로 방향족 아민 유도체로는 치환 또는 비치환된 아릴아미노기를 갖는 축합 방향족환 유도체로서, 아릴아미노기를 갖는 피렌, 안트라센, 크리센, 페리플란텐 등이 있으며, 스티릴아민 화합물로는 치환 또는 비치환된 아릴아민에 적어도 1개의 아릴비닐기가 치환되어 있는 화합물로, 아릴기, 실릴기, 알킬기, 사이클로알킬기 및 아릴아미노기로 이루어진 군에서 1 또는 2 이상 선택되는 치환기가 치환 또는 비치환된다. 구체적으로 스티릴아민, 스티릴디아민, 스티릴트리아민, 스티릴테트라아민 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 금속 착체로는 이리듐 착체, 백금 착체 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Additionally, dopant materials include aromatic amine derivatives, strylamine compounds, boron complexes, fluoranthene compounds, and metal complexes. Specifically, aromatic amine derivatives include condensed aromatic ring derivatives having a substituted or unsubstituted arylamino group, such as pyrene, anthracene, chrysene, and periplanthene, and styrylamine compounds include substituted or unsubstituted arylamino groups. It is a compound in which at least one arylvinyl group is substituted on the arylamine, and is substituted or unsubstituted with one or two or more substituents selected from the group consisting of aryl group, silyl group, alkyl group, cycloalkyl group, and arylamino group. Specifically, styrylamine, styryldiamine, styryltriamine, styryltetraamine, etc. are included, but are not limited thereto. Additionally, metal complexes include, but are not limited to, iridium complexes and platinum complexes.

한편, 상기 유기 발광 소자에는 상기 발광층과 전자 수송층 사이에 정공저지층이 구비되어 있을 수 있다. 상기 정공저지층은 발광층 상에 형성되어, 바람직하게는 발광층에 접하여 구비되어, 전자이동도를 조절하고 정공의 과다한 이동을 방지하여 정공-전자간 결합 확률을 높여줌으로써 유기 발광 소자의 효율을 개선하는 역할을 하는 층을 의미한다. 상기 정공저지층은 정공저지물질을 포함하고, 이러한 정공저지물질의 예로 트리아진을 포함한 아진류유도체; 트리아졸 유도체; 옥사디아졸 유도체; 페난트롤린 유도체; 포스핀옥사이드 유도체 등의 전자흡인기가 도입된 화합물을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Meanwhile, the organic light emitting device may include a hole blocking layer between the light emitting layer and the electron transport layer. The hole blocking layer is formed on the light-emitting layer, preferably in contact with the light-emitting layer, to improve the efficiency of the organic light-emitting device by controlling electron mobility and preventing excessive movement of holes to increase the probability of hole-electron coupling. It refers to the layer that plays a role. The hole blocking layer includes a hole blocking material. Examples of the hole blocking material include azine derivatives including triazine; triazole derivatives; Oxadiazole derivatives; phenanthroline derivatives; Compounds into which electron-withdrawing groups are introduced, such as phosphine oxide derivatives, may be used, but are not limited thereto.

상기 전자 주입 및 수송층은 전극으로부터 전자를 주입하고, 수취된 전자를 발광층까지 수송하는 전자수송층 및 전자주입층의 역할을 동시에 수행하는 층으로, 상기 발광층 또는 상기 정공저지층 상에 형성된다. 이러한 전자 주입 및 수송물질로는 음극으로부터 전자를 잘 주입 받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로서, 전자에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 전자 주입 및 수송물질의 예로는 8-히드록시퀴놀린의 Al 착물; Alq3를 포함한 착물; 유기 라디칼 화합물; 히드록시플라본-금속 착물; 트리아진 유도체 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 또는 플루오레논, 안트라퀴노다이메탄, 다이페노퀴논, 티오피란 다이옥사이드, 옥사졸, 옥사다이아졸, 트리아졸, 이미다졸, 페릴렌테트라카복실산, 프레오레닐리덴 메탄, 안트론 등과 그들의 유도체, 금속 착체 화합물, 또는 질소 함유 5원환 유도체 등과 함께 사용할 수도 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The electron injection and transport layer is a layer that simultaneously performs the roles of an electron transport layer and an electron injection layer, injecting electrons from an electrode and transporting the received electrons to the light-emitting layer, and is formed on the light-emitting layer or the hole blocking layer. As such an electron injection and transport material, a material that can easily inject electrons from the cathode and transfer them to the light emitting layer, and a material with high mobility for electrons, is suitable. Specific examples of electron injection and transport materials include Al complex of 8-hydroxyquinoline; Complex containing Alq 3 ; organic radical compounds; hydroxyflavone-metal complex; Triazine derivatives, etc., but are not limited to these. or fluorenone, anthraquinodimethane, diphenoquinone, thiopyran dioxide, oxazole, oxadiazole, triazole, imidazole, perylenetetracarboxylic acid, preorenylidene methane, anthrone, etc. and their derivatives, metal complex compounds. , or a nitrogen-containing 5-membered ring derivative, etc., but is not limited thereto.

상기 전자 주입 및 수송층은 전자주입층 및 전자수송층과 같은 별개의 층으로도 형성될 수 있다. 이와 같은 경우, 전자 수송층은 상기 발광층 또는 상기 정공저지층 상에 형성되고, 상기 전자 수송층에 포함되는 전자 수송 물질로는 상술한 전자 주입 및 수송 물질이 사용될 수 있다. 또한, 전자 주입층은 상기 전자 수송층 상에 형성되고, 상기 전자 주입층에 포함되는 전자 주입 물질로는 LiF, NaCl, CsF, Li2O, BaO, 플루오레논, 안트라퀴노다이메탄, 다이페노퀴논, 티오피란 다이옥사이드, 옥사졸, 옥사다이아졸, 트리아졸, 이미다졸, 페릴렌테트라카복실산, 플루오레닐리덴 메탄, 안트론 등과 그들의 유도체, 금속 착체 화합물 및 질소 함유 5원환 유도체 등이 사용될 수 있다.The electron injection and transport layer may also be formed as separate layers such as an electron injection layer and an electron transport layer. In this case, the electron transport layer is formed on the light emitting layer or the hole blocking layer, and the electron injection and transport material described above may be used as the electron transport material included in the electron transport layer. In addition, an electron injection layer is formed on the electron transport layer, and electron injection materials included in the electron injection layer include LiF, NaCl, CsF, Li 2 O, BaO, fluorenone, anthraquinodimethane, diphenoquinone, Thiopyran dioxide, oxazole, oxadiazole, triazole, imidazole, perylenetetracarboxylic acid, fluorenylidene methane, anthrone and their derivatives, metal complex compounds and nitrogen-containing five-membered ring derivatives can be used.

상기 금속 착체 화합물로서는 8-하이드록시퀴놀리나토 리튬, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)아연, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)구리, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)망간, 트리스(8-하이드록시퀴놀리나토)알루미늄, 트리스(2-메틸-8-하이드록시퀴놀리나토)알루미늄, 트리스(8-하이드록시퀴놀리나토)갈륨, 비스(10-하이드록시벤조[h]퀴놀리나토)베릴륨, 비스(10-하이드록시벤조[h]퀴놀리나토)아연, 비스(2-메틸-8-하이드록시퀴놀리나토)클로로갈륨, 비스(2-메틸-8-하이드록시퀴놀리나토)(o-크레졸라토)갈륨, 비스(2-메틸-8-하이드록시퀴놀리나토)(1-나프톨라토)알루미늄, 비스(2-메틸-8-하이드록시퀴놀리나토)(2-나프톨라토)갈륨 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Examples of the metal complex compounds include 8-hydroxyquinolinato lithium, bis(8-hydroxyquinolinato)zinc, bis(8-hydroxyquinolinato)copper, bis(8-hydroxyquinolinato)manganese, Tris(8-hydroxyquinolinato)aluminum, Tris(2-methyl-8-hydroxyquinolinato)aluminum, Tris(8-hydroxyquinolinato)gallium, bis(10-hydroxybenzo[h] quinolinato)beryllium, bis(10-hydroxybenzo[h]quinolinato)zinc, bis(2-methyl-8-hydroxyquinolinato)chlorogallium, bis(2-methyl-8-hydroxyquinolinato) Nolinato) (o-cresolato) gallium, bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinato) (1-naphtolato) aluminum, bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinato) (2- Naphtolato) gallium, etc., but is not limited thereto.

상술한 재료 외에도, 상기 발광층, 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 및 전자 주입층에는 퀀텀닷 등의 무기 화합물 또는 고분자 화합물을 추가로 포함할 수 있다.In addition to the materials described above, the light emitting layer, hole injection layer, hole transport layer, electron transport layer, and electron injection layer may further include inorganic compounds or polymer compounds such as quantum dots.

상기 퀀텀닷은 예를 들어, 콜로이드 퀀텀닷, 합금 퀀텀닷, 코어셸 퀀텀닷, 또는 코어 퀀텀닷일 수 있다. 제2족 및 제16족에 속하는 원소, 제13족 및 제15족에 속하는 원소, 제13족 및 제17족에 속하는 원소, 제11족 및 제17족에 속하는 원소, 또는 제14족 및 제15족에 속하는 원소를 포함하는 퀀텀닷일 수 있으며, 카드뮴(Cd), 셀레늄(Se), 아연(Zn), 황(S), 인(P), 인듐(In), 텔루륨(Te), 납(Pb), 갈륨(Ga), 비소(As) 등의 원소를 포함하는 퀀텀닷이 사용될 수 있다.The quantum dots may be, for example, colloidal quantum dots, alloy quantum dots, core-shell quantum dots, or core quantum dots. elements belonging to groups 2 and 16, elements belonging to groups 13 and 15, elements belonging to groups 13 and 17, elements belonging to groups 11 and 17, or elements belonging to groups 14 and 17. It may be a quantum dot containing elements belonging to group 15, including cadmium (Cd), selenium (Se), zinc (Zn), sulfur (S), phosphorus (P), indium (In), tellurium (Te), and lead. Quantum dots containing elements such as (Pb), gallium (Ga), and arsenic (As) may be used.

본 발명에 따른 유기 발광 소자는 배면 발광(bottom emission) 소자, 전면 발광(top emission) 소자, 또는 양면 발광 소자일 수 있으며, 특히 상대적으로 높은 발광 효율이 요구되는 배면 발광 소자일 수 있다.The organic light-emitting device according to the present invention may be a bottom-emitting device, a top-emitting device, or a double-sided light-emitting device. In particular, it may be a bottom-emitting device that requires relatively high luminous efficiency.

또한, 본 발명에 따른 화합물은 유기 발광 소자 외에도 유기 태양 전지 또는 유기 트랜지스터에 포함될 수 있다.Additionally, the compound according to the present invention may be included in an organic solar cell or an organic transistor in addition to an organic light-emitting device.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자의 제조는 이하 실시예에서 구체적으로 설명한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들에 의하여 한정되는 것은 아니다.The preparation of the compound represented by Formula 1 and an organic light-emitting device containing the same will be described in detail in the following Examples. However, the following examples are for illustrating the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.

제조예 1: 화합물 1의 제조Preparation Example 1: Preparation of Compound 1

Figure pat00018
Figure pat00018

화합물 1-a(1.0 eq.) 및 화합물 1-b(1.1 eq.)를 둥근 바닥 플라스크에 넣고 THF에 용해시켰다. 물에 용해된 Cs2CO3(5.0 eq.)를 주입한다. Bath 온도 80℃ 하에서 Pd(PPh3)4(10 mol%)를 적가하고 3일 동안 교반하였다. 반응 후, 반응물을 상온에서 식히고 EtOAc에 충분히 묽힌 뒤, EtOAc/brine로 수세하여 유기층을 분리하였다. MgSO4로 물을 제거하고 Celite-Florisil-Silica pad에 통과시켰다. 통과된 용액을 감압 하에 농축시킨 뒤, Column Chromatography 정제하여 화합물 1-c(73% 수율)를 제조하였다.Compound 1-a (1.0 eq.) and Compound 1-b (1.1 eq.) were placed in a round bottom flask and dissolved in THF. Inject Cs 2 CO 3 (5.0 eq.) dissolved in water. Pd(PPh 3 ) 4 (10 mol%) was added dropwise at a bath temperature of 80°C and stirred for 3 days. After reaction, the reactant was cooled at room temperature, diluted sufficiently with EtOAc, washed with water with EtOAc/brine, and the organic layer was separated. Water was removed with MgSO 4 and passed through a Celite-Florisil-Silica pad. The passed solution was concentrated under reduced pressure and purified by column chromatography to prepare compound 1-c (73% yield).

화합물 1-c(1.0 eq.)를 둥근 바닥 플라스크에 넣고 무수 CH2Cl2에 용해하였다. 이후, pyridine(2.0 eq.)을 상온에서 적가한 뒤, bath 온도를 0℃로 낮춰 10분 동안 교반하였다. 이후, 무수 CH2Cl2에 용해한 Tf2O(1.2 eq.)를 dropping funnel을 이용하여 천천히 혼합물에 적가하고, bath 온도를 서서히 0℃에서 상온으로 올려준 뒤, 하룻밤 동안 교반하였다. 반응 후, 반응물을 CH2Cl2에 충분히 묽힌 뒤, CH2Cl2/brine로 수세하여 유기층을 분리하였다. MgSO4로 물을 제거하고 Celite-Florisil-Silica pad에 통과시켰다. 통과된 용액을 감압 하에 농축시킨 뒤, Column Chromatography 정제하여 화합물 1-d(99% 수율)를 제조하였다.Compound 1-c (1.0 eq.) was placed in a round bottom flask and dissolved in anhydrous CH 2 Cl 2 . Afterwards, pyridine (2.0 eq.) was added dropwise at room temperature, and the bath temperature was lowered to 0°C and stirred for 10 minutes. Afterwards, Tf 2 O (1.2 eq.) dissolved in anhydrous CH 2 Cl 2 was slowly added dropwise to the mixture using a dropping funnel, the bath temperature was gradually raised from 0°C to room temperature, and the mixture was stirred overnight. After the reaction, the reactant was sufficiently diluted in CH 2 Cl 2 and washed with CH 2 Cl 2 /brine to separate the organic layer. Water was removed with MgSO 4 and passed through a Celite-Florisil-Silica pad. The passed solution was concentrated under reduced pressure and purified by column chromatography to prepare compound 1-d (99% yield).

화합물 1-d(1.0 eq.) 및 화합물 1-e(1.1 eq.)를 둥근 바닥 플라스크에 넣고 THF에 용해시켰다. 물에 용해된 Na2CO3(3.0 eq.)를 주입한다. Bath 온도 80℃ 하에서 Pd(PPh3)4(10 mol%)를 적가하고 하룻밤 동안 교반하였다. 반응 후, 반응물을 상온에서 식히고 EtOAc에 충분히 묽힌 뒤, EtOAc/brine로 수세하여 유기층을 분리하였다. MgSO4로 물을 제거하고 Celite-Florisil-Silica pad에 통과시켰다. 통과된 용액을 감압 하에 농축시킨 뒤, Column Chromatography 정제하여 화합물 1(83% 수율)를 제조하였다.Compound 1-d (1.0 eq.) and Compound 1-e (1.1 eq.) were placed in a round bottom flask and dissolved in THF. Inject Na 2 CO 3 (3.0 eq.) dissolved in water. Pd(PPh 3 ) 4 (10 mol%) was added dropwise at a bath temperature of 80°C and stirred overnight. After reaction, the reactant was cooled at room temperature, diluted sufficiently with EtOAc, washed with water with EtOAc/brine, and the organic layer was separated. Water was removed with MgSO 4 and passed through a Celite-Florisil-Silica pad. The passed solution was concentrated under reduced pressure and purified by column chromatography to prepare Compound 1 (83% yield).

m/z [M+H]+ 633.3m/z [M+H] + 633.3

제조예 2: 화합물 2의 제조Preparation Example 2: Preparation of Compound 2

Figure pat00019
Figure pat00019

질소 분위기 하에 화합물 1(1.0 eq.)를 둥근 바닥 플라스크에 넣고 benzene-D6 (150 eq.)에 용해시켰다. TfOH(2.0 eq.)를 반응물에 천천히 적가하고, 25℃ 하에서 2시간 동안 교반하였다. 반응물에 D2O를 적가하여 반응을 종결시키고, potassium phosphate tribasic(30 wt% in aqueous solution, 2.4 eq.)를 적가하여 수층의 pH를 9-10으로 맞추었다. CH2Cl2/DI water로 수세하여 유기층을 분리하였다. MgSO4로 물을 제거하고 Celite-Florisil-Silica pad에 통과시켰다. 통과된 용액을 감압 하에 농축시킨 뒤, Column Chromatography 정제하여 화합물 1(a+b+c+d+g=28-32, 87% 수율)을 제조하였다.Compound 1 (1.0 eq.) was placed in a round bottom flask under a nitrogen atmosphere and dissolved in benzene-D 6 (150 eq.). TfOH (2.0 eq.) was slowly added dropwise to the reaction and stirred at 25°C for 2 hours. D 2 O was added dropwise to the reactant to terminate the reaction, and potassium phosphate tribasic (30 wt% in aqueous solution, 2.4 eq.) was added dropwise to adjust the pH of the aqueous layer to 9-10. The organic layer was separated by washing with CH 2 Cl 2 /DI water. Water was removed with MgSO 4 and passed through a Celite-Florisil-Silica pad. The passed solution was concentrated under reduced pressure and purified by column chromatography to prepare Compound 1 (a+b+c+d+g=28-32, 87% yield).

m/z [M+H]+ 665.3m/z [M+H] + 665.3

제조예 3: 화합물 3의 제조Preparation Example 3: Preparation of Compound 3

Figure pat00020
Figure pat00020

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 3-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 1와 동일하게 화합물 3을 제조하였다.Compound 3 was synthesized in the same manner as Compound 1, except that Compound 3-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 633.3m/z [M+H] + 633.3

제조예 4: 화합물 4의 제조Preparation Example 4: Preparation of Compound 4

Figure pat00021
Figure pat00021

합성은 화합물 1 대신 화합물 3을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 4(a+b+c+d+g=28-32)을 제조하였다.Compound 4 (a+b+c+d+g=28-32) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 3 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 665.3m/z [M+H] + 665.3

제조예 5: 화합물 5의 제조Preparation Example 5: Preparation of Compound 5

Figure pat00022
Figure pat00022

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 5-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 1와 동일하게 화합물 5을 제조하였다.Compound 5 was synthesized in the same manner as Compound 1, except that Compound 5-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 633.3m/z [M+H] + 633.3

제조예 6: 화합물 6의 제조Preparation Example 6: Preparation of Compound 6

Figure pat00023
Figure pat00023

합성은 화합물 1 대신 화합물 5을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 6(a+b+c+d+g=28-32)을 제조하였다.Compound 6 (a+b+c+d+g=28-32) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 5 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 665.3m/z [M+H] + 665.3

제조예 7: 화합물 7의 제조Preparation Example 7: Preparation of Compound 7

Figure pat00024
Figure pat00024

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 7-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 1와 동일하게 화합물 7을 제조하였다.Compound 7 was synthesized in the same manner as Compound 1, except that Compound 7-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 633.3m/z [M+H] + 633.3

제조예 8: 화합물 8의 제조Preparation Example 8: Preparation of Compound 8

Figure pat00025
Figure pat00025

합성은 화합물 1 대신 화합물 7을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 8(a+b+c+d+g=28-32)을 제조하였다.Compound 8 (a+b+c+d+g=28-32) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 7 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 665.3m/z [M+H] + 665.3

제조예 9: 화합물 9의 제조Preparation Example 9: Preparation of Compound 9

Figure pat00026
Figure pat00026

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 9-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 1와 동일하게 화합물 9을 제조하였다.Compound 9 was prepared in the same manner as Compound 1, except that Compound 9-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 633.3m/z [M+H] + 633.3

제조예 10: 화합물 10의 제조Preparation Example 10: Preparation of Compound 10

Figure pat00027
Figure pat00027

합성은 화합물 1 대신 화합물 9을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 10(a+b+c+d+g=28-32)을 제조하였다.Compound 10 (a+b+c+d+g=28-32) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 9 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 665.3m/z [M+H] + 665.3

제조예 11: 화합물 11의 제조Preparation Example 11: Preparation of Compound 11

Figure pat00028
Figure pat00028

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 11-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 1와 동일하게 화합물 11을 제조하였다.Compound 11 was synthesized in the same manner as Compound 1, except that Compound 11-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 633.3m/z [M+H] + 633.3

제조예 12: 화합물 12의 제조Preparation Example 12: Preparation of Compound 12

Figure pat00029
Figure pat00029

합성은 화합물 1 대신 화합물 7을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 8(a+b+c+d+g=28-32)을 제조하였다.Compound 8 (a+b+c+d+g=28-32) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 7 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 665.3m/z [M+H] + 665.3

제조예 13: 화합물 13의 제조Preparation Example 13: Preparation of Compound 13

Figure pat00030
Figure pat00030

합성은 화합물 1-b 대신 화합물 13-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 1와 동일하게 화합물 13을 제조하였다.Compound 13 was synthesized in the same manner as Compound 1, except that Compound 13-a was used instead of Compound 1-b.

m/z [M+H]+ 709.3m/z [M+H] + 709.3

제조예Manufacturing example 14: 화합물 14의 제조 14: Preparation of compound 14

Figure pat00031
Figure pat00031

합성은 화합물 1 대신 화합물 13을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 14(a+b+c+d+e+g=32-36)을 제조하였다.Compound 14 (a+b+c+d+e+g=32-36) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 13 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 745.3m/z [M+H] + 745.3

제조예 15: 화합물 15의 제조Preparation Example 15: Preparation of Compound 15

Figure pat00032
Figure pat00032

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 3-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 13와 동일하게 화합물 15을 제조하였다.Compound 15 was synthesized in the same manner as Compound 13, except that Compound 3-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 709.3m/z [M+H] + 709.3

제조예 16: 화합물 16의 제조Preparation Example 16: Preparation of Compound 16

Figure pat00033
Figure pat00033

합성은 화합물 1 대신 화합물 15을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 16(a+b+c+d+e+g=32-36)을 제조하였다.Compound 16 (a+b+c+d+e+g=32-36) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 15 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 745.3m/z [M+H] + 745.3

제조예 17: 화합물 17의 제조Preparation Example 17: Preparation of Compound 17

Figure pat00034
Figure pat00034

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 5-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 13와 동일하게 화합물 17을 제조하였다.Compound 17 was synthesized in the same manner as Compound 13, except that Compound 5-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 709.3m/z [M+H] + 709.3

제조예 18: 화합물 18의 제조Preparation Example 18: Preparation of Compound 18

Figure pat00035
Figure pat00035

합성은 화합물 1 대신 화합물 17을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 18(a+b+c+d+e+g=32-36)을 제조하였다.Compound 18 (a+b+c+d+e+g=32-36) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 17 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 745.3m/z [M+H] + 745.3

제조예 19: 화합물 19의 제조Preparation Example 19: Preparation of Compound 19

Figure pat00036
Figure pat00036

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 7-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 13와 동일하게 화합물 19을 제조하였다.Compound 19 was synthesized in the same manner as Compound 13, except that Compound 7-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 709.3m/z [M+H] + 709.3

제조예 20: 화합물 20의 제조Preparation Example 20: Preparation of Compound 20

Figure pat00037
Figure pat00037

합성은 화합물 1 대신 화합물 19을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 20(a+b+c+d+e+g=32-36)을 제조하였다.Compound 20 (a+b+c+d+e+g=32-36) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 19 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 745.3m/z [M+H] + 745.3

제조예 21: 화합물 21의 제조Preparation Example 21: Preparation of Compound 21

Figure pat00038
Figure pat00038

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 9-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 13와 동일하게 화합물 21을 제조하였다.Compound 21 was synthesized in the same manner as Compound 13, except that Compound 9-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 709.3m/z [M+H] + 709.3

제조예 22: 화합물 22의 제조Preparation Example 22: Preparation of Compound 22

Figure pat00039
Figure pat00039

합성은 화합물 1 대신 화합물 21을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 22(a+b+c+d+e+g=32-36)을 제조하였다.Compound 22 (a+b+c+d+e+g=32-36) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 21 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 745.3m/z [M+H] + 745.3

제조예 23: 화합물 23의 제조Preparation Example 23: Preparation of Compound 23

Figure pat00040
Figure pat00040

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 11-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 13와 동일하게 화합물 23을 제조하였다.Compound 23 was synthesized in the same manner as Compound 13, except that Compound 11-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 709.3m/z [M+H] + 709.3

제조예 24: 화합물 24의 제조Preparation Example 24: Preparation of Compound 24

Figure pat00041
Figure pat00041

합성은 화합물 1 대신 화합물 23을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 24(a+b+c+d+e+g=32-36)을 제조하였다.Compound 24 (a+b+c+d+e+g=32-36) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 23 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 745.3m/z [M+H] + 745.3

제조예 25: 화합물 25의 제조Preparation Example 25: Preparation of Compound 25

Figure pat00042
Figure pat00042

합성은 화합물 1-b 대신 화합물 25-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 1와 동일하게 화합물 25을 제조하였다.Compound 25 was synthesized in the same manner as Compound 1, except that Compound 25-a was used instead of Compound 1-b.

m/z [M+H]+ 709.3m/z [M+H] + 709.3

제조예 26: 화합물 26의 제조Preparation Example 26: Preparation of Compound 26

Figure pat00043
Figure pat00043

합성은 화합물 1 대신 화합물 25을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 26(a+b+c+d+f+g=32-36)을 제조하였다.Compound 26 (a+b+c+d+f+g=32-36) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 25 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 745.3m/z [M+H] + 745.3

제조예 27: 화합물 27의 제조Preparation Example 27: Preparation of Compound 27

Figure pat00044
Figure pat00044

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 3-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 25와 동일하게 화합물 27을 제조하였다.Compound 27 was synthesized in the same manner as Compound 25 except that Compound 3-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 709.3m/z [M+H] + 709.3

제조예 28: 화합물 28의 제조Preparation Example 28: Preparation of Compound 28

Figure pat00045
Figure pat00045

합성은 화합물 1 대신 화합물 27을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 28(a+b+c+d+f+g=32-36)을 제조하였다.Compound 28 (a+b+c+d+f+g=32-36) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 27 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 745.3m/z [M+H] + 745.3

제조예 29: 화합물 29의 제조Preparation Example 29: Preparation of Compound 29

Figure pat00046
Figure pat00046

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 5-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 25와 동일하게 화합물 29을 제조하였다.Compound 29 was synthesized in the same manner as Compound 25, except that Compound 5-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 709.3m/z [M+H] + 709.3

제조예 30: 화합물 30의 제조Preparation Example 30: Preparation of Compound 30

Figure pat00047
Figure pat00047

합성은 화합물 1 대신 화합물 29을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 30(a+b+c+d+f+g=32-36)을 제조하였다.Compound 30 (a+b+c+d+f+g=32-36) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 29 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 745.3m/z [M+H] + 745.3

제조예 31: 화합물 31의 제조Preparation Example 31: Preparation of Compound 31

Figure pat00048
Figure pat00048

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 7-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 25와 동일하게 화합물 31을 제조하였다.Compound 31 was synthesized in the same manner as compound 25 except that compound 7-a was used instead of compound 1-e.

m/z [M+H]+ 709.3m/z [M+H] + 709.3

제조예 32: 화합물 32의 제조Preparation Example 32: Preparation of Compound 32

Figure pat00049
Figure pat00049

합성은 화합물 1 대신 화합물 31을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 32(a+b+c+d+f+g=32-36)를 제조하였다.Compound 32 (a+b+c+d+f+g=32-36) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 31 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 745.3m/z [M+H] + 745.3

제조예 33: 화합물 33의 제조Preparation Example 33: Preparation of compound 33

Figure pat00050
Figure pat00050

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 9-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 25와 동일하게 화합물 33을 제조하였다.Compound 33 was synthesized in the same manner as compound 25, except that compound 9-a was used instead of compound 1-e.

m/z [M+H]+ 709.3m/z [M+H] + 709.3

제조예 34: 화합물 34의 제조Preparation Example 34: Preparation of Compound 34

Figure pat00051
Figure pat00051

합성은 화합물 1 대신 화합물 33을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 34(a+b+c+d+f+g=32-36)를 제조하였다.Compound 34 (a+b+c+d+f+g=32-36) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 33 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 745.3m/z [M+H] + 745.3

제조예 35: 화합물 35의 제조Preparation Example 35: Preparation of Compound 35

Figure pat00052
Figure pat00052

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 11-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 25와 동일하게 화합물 35을 제조하였다.Compound 35 was synthesized in the same manner as Compound 25 except that Compound 11-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 709.3m/z [M+H] + 709.3

제조예 36: 화합물 36의 제조Preparation Example 36: Preparation of Compound 36

Figure pat00053
Figure pat00053

합성은 화합물 1 대신 화합물 35를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 36(a+b+c+d+f+g=32-36)을 제조하였다.Compound 36 (a+b+c+d+f+g=32-36) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 35 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 745.3m/z [M+H] + 745.3

제조예 37: 화합물 37의 제조Preparation Example 37: Preparation of compound 37

Figure pat00054
Figure pat00054

합성은 화합물 1-b 대신 화합물 37-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 1와 동일하게 화합물 37을 제조하였다.Compound 37 was synthesized in the same manner as Compound 1, except that Compound 37-a was used instead of Compound 1-b.

m/z [M+H]+ 785.4m/z [M+H] + 785.4

제조예 38: 화합물 38의 제조Preparation Example 38: Preparation of compound 38

Figure pat00055
Figure pat00055

합성은 화합물 1 대신 화합물 37을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 38(a+b+c+d+e+f+g=36-40)을 제조하였다.Compound 38 (a+b+c+d+e+f+g=36-40) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 37 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 825.3m/z [M+H] + 825.3

제조예 39: 화합물 39의 제조Preparation Example 39: Preparation of Compound 39

Figure pat00056
Figure pat00056

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 3-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 37와 동일하게 화합물 39를 제조하였다.Compound 39 was synthesized in the same manner as Compound 37, except that Compound 3-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 785.4m/z [M+H] + 785.4

제조예 40: 화합물 40의 제조Preparation Example 40: Preparation of Compound 40

Figure pat00057
Figure pat00057

합성은 화합물 1 대신 화합물 39를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 40(a+b+c+d+e+f+g=36-40)을 제조하였다.Compound 40 (a+b+c+d+e+f+g=36-40) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 39 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 825.3m/z [M+H] + 825.3

제조예 41: 화합물 41의 제조Preparation Example 41: Preparation of Compound 41

Figure pat00058
Figure pat00058

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 5-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 37와 동일하게 화합물 41을 제조하였다.Compound 41 was synthesized in the same manner as Compound 37, except that Compound 5-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 785.4m/z [M+H] + 785.4

제조예 42: 화합물 42의 제조Preparation Example 42: Preparation of Compound 42

Figure pat00059
Figure pat00059

합성은 화합물 1 대신 화합물 41을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 42(a+b+c+d+e+f+g=36-40)를 제조하였다.Compound 42 (a+b+c+d+e+f+g=36-40) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 41 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 825.3m/z [M+H] + 825.3

제조예 43: 화합물 43의 제조Preparation Example 43: Preparation of Compound 43

Figure pat00060
Figure pat00060

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 7-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 37와 동일하게 화합물 43을 제조하였다.Compound 43 was synthesized in the same manner as Compound 37, except that Compound 7-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 785.4m/z [M+H] + 785.4

제조예 44: 화합물 44의 제조Preparation Example 44: Preparation of Compound 44

Figure pat00061
Figure pat00061

합성은 화합물 1 대신 화합물 43을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 44(a+b+c+d+e+f+g=36-40)를 제조하였다.Compound 44 (a+b+c+d+e+f+g=36-40) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 43 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 825.3m/z [M+H] + 825.3

제조예 45: 화합물 45의 제조Preparation Example 45: Preparation of Compound 45

Figure pat00062
Figure pat00062

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 9-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 37와 동일하게 화합물 45를 제조하였다.Compound 45 was synthesized in the same manner as Compound 37, except that Compound 9-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 785.4m/z [M+H] + 785.4

제조예 46: 화합물 46의 제조Preparation Example 46: Preparation of Compound 46

Figure pat00063
Figure pat00063

합성은 화합물 1 대신 화합물 45를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 46(a+b+c+d+e+f+g=36-40)을 제조하였다.Compound 46 (a+b+c+d+e+f+g=36-40) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 45 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 825.3m/z [M+H] + 825.3

제조예 47: 화합물 47의 제조Preparation Example 47: Preparation of compound 47

Figure pat00064
Figure pat00064

합성은 화합물 1-e 대신 화합물 11-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 37와 동일하게 화합물 47을 제조하였다.Compound 47 was synthesized in the same manner as Compound 37, except that Compound 11-a was used instead of Compound 1-e.

m/z [M+H]+ 785.4m/z [M+H] + 785.4

제조예 48: 화합물 48의 제조Preparation Example 48: Preparation of compound 48

Figure pat00065
Figure pat00065

합성은 화합물 1 대신 화합물 47을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 48(a+b+c+d+e+f+g=36-40)을 제조하였다.Compound 48 (a+b+c+d+e+f+g=36-40) was synthesized in the same manner as compound 2 except that compound 47 was used instead of compound 1.

m/z [M+H]+ 825.3m/z [M+H] + 825.3

비교제조예 1: 비교 화합물 A의 제조Comparative Preparation Example 1: Preparation of Comparative Compound A

Figure pat00066
Figure pat00066

화합물 A-a(1.0 eq.) 및 화합물 1-b(1.1 eq.)를 둥근 바닥 플라스크에 넣고 THF에 용해시켰다. 물에 용해된 Cs2CO3(5.0 eq.)를 주입한다. Bath 온도 80℃ 하에서 Pd(PPh3)4(10 mol%)를 적가하고 3일 동안 교반하였다. 반응 후, 반응물을 상온에서 식히고 EtOAc에 충분히 묽힌 뒤, EtOAc/brine로 수세하여 유기층을 분리하였다. MgSO4로 물을 제거하고 Celite-Florisil-Silica pad에 통과시켰다. 통과된 용액을 감압 하에 농축시킨 뒤, Column Chromatography 정제하여 화합물 A-b(71% 수율)를 제조하였다.Compound Aa (1.0 eq.) and compound 1-b (1.1 eq.) were placed in a round bottom flask and dissolved in THF. Inject Cs 2 CO 3 (5.0 eq.) dissolved in water. Pd(PPh 3 ) 4 (10 mol%) was added dropwise at a bath temperature of 80°C and stirred for 3 days. After reaction, the reactant was cooled at room temperature, diluted sufficiently with EtOAc, washed with water with EtOAc/brine, and the organic layer was separated. Water was removed with MgSO 4 and passed through a Celite-Florisil-Silica pad. The passed solution was concentrated under reduced pressure and purified by column chromatography to prepare compound Ab (71% yield).

화합물 A-b(1.0 eq.)를 둥근 바닥 플라스크에 넣고 무수 CH2Cl2에 용해하였다. 이후, pyridine(2.0 eq.)을 상온에서 적가한 뒤, bath 온도를 0℃로 낮춰 10분 동안 교반하였다. 이후, 무수 CH2Cl2에 용해한 Tf2O(1.2 eq.)를 dropping funnel을 이용하여 천천히 혼합물에 적가하고, bath 온도를 서서히 0℃에서 상온으로 올려준 뒤, 하룻밤 동안 교반하였다. 반응 후, 반응물을 CH2Cl2에 충분히 묽힌 뒤, CH2Cl2/brine로 수세하여 유기층을 분리하였다. MgSO4로 물을 제거하고 Celite-Florisil-Silica pad에 통과시켰다. 통과된 용액을 감압 하에 농축시킨 뒤, Column Chromatography 정제하여 화합물 A-c(99% 수율)를 제조하였다.Compound Ab (1.0 eq.) was placed in a round bottom flask and dissolved in anhydrous CH 2 Cl 2 . Afterwards, pyridine (2.0 eq.) was added dropwise at room temperature, and the bath temperature was lowered to 0°C and stirred for 10 minutes. Afterwards, Tf 2 O (1.2 eq.) dissolved in anhydrous CH 2 Cl 2 was slowly added dropwise to the mixture using a dropping funnel, the bath temperature was gradually raised from 0°C to room temperature, and the mixture was stirred overnight. After the reaction, the reactant was sufficiently diluted in CH 2 Cl 2 and washed with CH 2 Cl 2 /brine to separate the organic layer. Water was removed with MgSO 4 and passed through a Celite-Florisil-Silica pad. The passed solution was concentrated under reduced pressure and purified by column chromatography to prepare compound Ac (99% yield).

화합물 A-c(1.0 eq.) 및 화합물 A-d(1.1 eq.)를 둥근 바닥 플라스크에 넣고 THF에 용해시켰다. 물에 용해된 Na2CO3(3.0 eq.)를 주입한다. Bath 온도 80℃ 하에서 Pd(PPh3)4(10 mol%)를 적가하고 하룻밤 동안 교반하였다. 반응 후, 반응물을 상온에서 식히고 EtOAc에 충분히 묽힌 뒤, EtOAc/brine로 수세하여 유기층을 분리하였다. MgSO4로 물을 제거하고 Celite-Florisil-Silica pad에 통과시켰다. 통과된 용액을 감압 하에 농축시킨 뒤, Column Chromatography 정제하여 화합물 A(92% 수율)를 제조하였다.Compound Ac (1.0 eq.) and compound Ad (1.1 eq.) were placed in a round bottom flask and dissolved in THF. Inject Na 2 CO 3 (3.0 eq.) dissolved in water. Pd(PPh 3 ) 4 (10 mol%) was added dropwise at a bath temperature of 80°C and stirred overnight. After reaction, the reactant was cooled at room temperature, diluted sufficiently with EtOAc, washed with water with EtOAc/brine, and the organic layer was separated. Water was removed with MgSO 4 and passed through a Celite-Florisil-Silica pad. The passed solution was concentrated under reduced pressure and purified by column chromatography to prepare Compound A (92% yield).

m/z [M+H]+ 507.2m/z [M+H] + 507.2

비교제조예 2: 비교 화합물 B의 제조Comparative Preparation Example 2: Preparation of Comparative Compound B

Figure pat00067
Figure pat00067

합성은 화합물 1 대신 화합물 A을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 B(h+i+j+k=22-26)을 제조하였다.Compound B (h+i+j+k=22-26) was synthesized in the same manner as Compound 2 except that Compound A was used instead of Compound 1.

m/z [M+H]+ 533.2m/z [M+H] + 533.2

비교제조예 3: 비교 화합물 C의 제조Comparative Preparation Example 3: Preparation of Comparative Compound C

Figure pat00068
Figure pat00068

화합물 C-a(1.0 eq.) 및 화합물 1-b(1.1 eq.)를 둥근 바닥 플라스크에 넣고 THF에 용해시켰다. 물에 용해된 Cs2CO3(5.0 eq.)를 주입한다. Bath 온도 80℃ 하에서 Pd(PPh3)4(10 mol%)를 적가하고 3일 동안 교반하였다. 반응 후, 반응물을 상온에서 식히고 EtOAc에 충분히 묽힌 뒤, EtOAc/brine로 수세하여 유기층을 분리하였다. MgSO4로 물을 제거하고 Celite-Florisil-Silica pad에 통과시켰다. 통과된 용액을 감압 하에 농축시킨 뒤, Column Chromatography 정제하여 화합물 C(85% 수율)를 제조하였다.Compound Ca (1.0 eq.) and compound 1-b (1.1 eq.) were placed in a round bottom flask and dissolved in THF. Inject Cs 2 CO 3 (5.0 eq.) dissolved in water. Pd(PPh 3 ) 4 (10 mol%) was added dropwise at a bath temperature of 80°C and stirred for 3 days. After reaction, the reactant was cooled at room temperature, diluted sufficiently with EtOAc, washed with water with EtOAc/brine, and the organic layer was separated. Water was removed with MgSO 4 and passed through a Celite-Florisil-Silica pad. The passed solution was concentrated under reduced pressure and purified by column chromatography to prepare Compound C (85% yield).

m/z [M+H]+ 633.3m/z [M+H] + 633.3

비교제조예 4: 비교 화합물 D의 제조Comparative Preparation Example 4: Preparation of Comparative Compound D

Figure pat00069
Figure pat00069

질소 분위기 하에 화합물 1(1.0 eq.)를 둥근 바닥 플라스크에 넣고 benzene-D6 (150 eq.)적가하고 80℃ 하에 용해시켰다. TfOH(20.0 eq.)를 반응물에 천천히 적가하고, 80℃ 하에서 2시간 동안 교반하였다. 반응물을 상온 하에 충분히 식힌 후, 반응물에 D2O를 적가하여 반응을 종결시킨다. Potassium phosphate tribasic(30 wt% in aqueous solution, 2.4 eq.)를 적가하여 수층의 pH를 9-10으로 맞추고, CH2Cl2/DI water로 수세하여 유기층을 분리하였다. MgSO4로 물을 제거하고 Celite-Florisil-Silica pad에 통과시켰다. 통과된 용액을 감압 하에 농축시킨 뒤, Column Chromatography 정제하여 화합물 D(h+i+j+k+l=28-32)를 제조하였다.Under a nitrogen atmosphere, compound 1 (1.0 eq.) was placed in a round bottom flask, benzene-D 6 (150 eq.) was added dropwise, and dissolved at 80°C. TfOH (20.0 eq.) was slowly added dropwise to the reaction and stirred at 80°C for 2 hours. After the reactant is sufficiently cooled to room temperature, D 2 O is added dropwise to the reactant to terminate the reaction. Potassium phosphate tribasic (30 wt% in aqueous solution, 2.4 eq.) was added dropwise to adjust the pH of the aqueous layer to 9-10, and the organic layer was separated by washing with CH 2 Cl 2 /DI water. Water was removed with MgSO 4 and passed through a Celite-Florisil-Silica pad. The passed solution was concentrated under reduced pressure and purified by column chromatography to prepare compound D (h+i+j+k+l=28-32).

m/z [M+H]+ 665.3m/z [M+H] + 665.3

비교제조예 5: 비교 화합물 E의 제조Comparative Preparation Example 5: Preparation of Comparative Compound E

Figure pat00070
Figure pat00070

합성은 화합물 A-a 대신 화합물 E-a를, 화합물 A-d 대신 E-d를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 A와 동일하게 화합물 E을 제조하였다.Compound E was prepared in the same manner as Compound A, except that Compound E-a was used instead of Compound A-a, and E-d was used instead of Compound A-d.

m/z [M+H]+ 557.2m/z [M+H] + 557.2

비교제조예 6: 비교 화합물 F의 제조Comparative Preparation Example 6: Preparation of Comparative Compound F

Figure pat00071
Figure pat00071

합성은 화합물 1 대신 화합물 E을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 2와 동일하게 화합물 F(h+i+j+k=24-28)을 제조하였다.Compound F (h+i+j+k=24-28) was synthesized in the same manner as Compound 2 except that Compound E was used instead of Compound 1.

m/z [M+H]+ 585.4m/z [M+H] + 585.4

비교제조예 7: 비교 화합물 G의 제조Comparative Preparation Example 7: Preparation of Comparative Compound G

Figure pat00072
Figure pat00072

합성은 화합물 E-d 대신 화합물 3-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 E와 동일하게 화합물 G를 제조하였다.Compound G was prepared in the same manner as Compound E except that Compound 3-a was used instead of Compound E-d.

m/z [M+H]+ 633.4m/z [M+H] + 633.4

비교제조예 8: 비교 화합물 H의 제조Comparative Preparation Example 8: Preparation of Comparative Compound H

Figure pat00073
Figure pat00073

합성은 화합물 C 대신 화합물 G을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 D와 동일하게 H(h+i+j+k+l=28-32)을 제조하였다.H(h+i+j+k+l=28-32) was synthesized in the same manner as Compound D except that Compound G was used instead of Compound C.

m/z [M+H]+ 665.4m/z [M+H] + 665.4

비교제조예 9: 비교 화합물 I의 제조Comparative Preparation Example 9: Preparation of Comparative Compound I

Figure pat00074
Figure pat00074

합성은 화합물 E-a 대신 화합물 I-a를, 화합물 E-d 대신 3-a를 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 E와 동일하게 화합물 I을 제조하였다.Compound I was prepared in the same manner as Compound E except that Compound I-a was used instead of Compound E-a and 3-a was used instead of Compound E-d.

m/z [M+H]+ 633.3m/z [M+H] + 633.3

비교제조예 10: 비교 화합물 J의 제조Comparative Preparation Example 10: Preparation of Comparative Compound J

Figure pat00075
Figure pat00075

합성은 화합물 C 대신 화합물 I을 사용한 것을 제외하고는 상기 화합물 D와 동일하게 화합물 J(h+i+j+k+l=28-32)을 제조하였다.Compound J (h+i+j+k+l=28-32) was synthesized in the same manner as Compound D except that Compound I was used instead of Compound C.

m/z [M+H]+ 665.4m/z [M+H] + 665.4

실험예 1: 중수소 치환율 확인Experimental Example 1: Confirmation of deuterium substitution rate

상기 제조예 1 내지 48 중 중수소가 치환된 화합물에 대하여, 화합물 내 치환된 중수소의 개수를 MALDI-TOF MS(Matrix-Assisted Laser Desorption/ Ionization Time-of-Flight Mass Spectrometer) 분석을 통해 구한 후, 화학식 내 존재할 수 있는 수소의 총 개수 대비 치환된 중수소의 개수의 백분율로 중수소 치환율을 계산하였으며, 이를 하기 표 1에 나타내었다. For the compounds in which deuterium was substituted in Preparation Examples 1 to 48, the number of substituted deuteriums in the compounds was determined through MALDI-TOF MS (Matrix-Assisted Laser Desorption/Ionization Time-of-Flight Mass Spectrometer) analysis, and the chemical formula The deuterium substitution rate was calculated as a percentage of the number of substituted deuteriums compared to the total number of hydrogens that could be present, and this is shown in Table 1 below.

화합물compound 중수소
치환수
heavy hydrogen
Number of substitutions
중수소
치환율 (%)
heavy hydrogen
Substitution rate (%)
화합물compound 중수소
치환수
heavy hydrogen
Number of substitutions
중수소
치환율 (%)
heavy hydrogen
Substitution rate (%)
화합물 2compound 2 28-3228-32 87.5-10087.5-100 화합물 26Compound 26 32-3632-36 88.9-10088.9-100 화합물 4Compound 4 28-3228-32 87.5-10087.5-100 화합물 28Compound 28 32-3632-36 88.9-10088.9-100 화합물 6Compound 6 28-3228-32 87.5-10087.5-100 화합물 30Compound 30 32-3632-36 88.9-10088.9-100 화합물 8Compound 8 28-3228-32 87.5-10087.5-100 화합물 32Compound 32 32-3632-36 88.9-10088.9-100 화합물 10Compound 10 28-3228-32 87.5-10087.5-100 화합물 34Compound 34 32-3632-36 88.9-10088.9-100 화합물 12Compound 12 28-3228-32 87.5-10087.5-100 화합물 36Compound 36 32-3632-36 88.9-10088.9-100 화합물 14Compound 14 32-3632-36 88.9-10088.9-100 화합물 38Compound 38 36-4036-40 90-10090-100 화합물 16Compound 16 32-3632-36 88.9-10088.9-100 화합물 40Compound 40 36-4036-40 90-10090-100 화합물 18Compound 18 32-3632-36 88.9-10088.9-100 화합물 42Compound 42 36-4036-40 90-10090-100 화합물 20Compound 20 32-3632-36 88.9-10088.9-100 화합물 44Compound 44 36-4036-40 90-10090-100 화합물 22Compound 22 32-3632-36 88.9-10088.9-100 화합물 46Compound 46 36-4036-40 90-10090-100 화합물 24Compound 24 32-3632-36 88.9-10088.9-100 화합물 48Compound 48 36-4036-40 90-10090-100

실험예Experiment example 2: 용해도 측정 2: Solubility measurement

상기 제조예에서 제조한 화합물 1 및 48 및 화합물 A 및 J를 각각 25℃에서 사이클로헥사논에 1.3 wt% 농도로 용해가 가능한지 여부를 확인하였고, 그 결과를 표 2에 나타내었다. 이 때, "O" 표시는 화합물이 사이클로헥사논에 용이하게 용해되었음을 의미하고, "△" 표시는 80℃의 사이클로헥사논에 화합물이 용해되었음을 의미하고, "X" 표시는 화합물이 사이클로헥사논에 용해되지 않음을 의미한다.It was confirmed whether Compounds 1 and 48 and Compounds A and J prepared in the above Preparation Example could each be dissolved in cyclohexanone at a concentration of 1.3 wt% at 25°C, and the results are shown in Table 2. At this time, the “O” mark means that the compound is easily dissolved in cyclohexanone, the “△” mark means that the compound is dissolved in cyclohexanone at 80°C, and the “X” mark means that the compound is dissolved in cyclohexanone. This means that it does not dissolve in

화합물compound 용해도 (1.3 wt%)Solubility (1.3 wt%) 화합물compound 용해도 (1.3 wt%)Solubility (1.3 wt%) 화합물 1Compound 1 OO 화합물 30Compound 30 OO 화합물 2compound 2 OO 화합물 31Compound 31 OO 화합물 3Compound 3 OO 화합물 32Compound 32 OO 화합물 4Compound 4 OO 화합물 33Compound 33 OO 화합물 5Compound 5 OO 화합물 34Compound 34 OO 화합물 6Compound 6 OO 화합물 35Compound 35 OO 화합물 7Compound 7 OO 화합물 36Compound 36 OO 화합물 8Compound 8 OO 화합물 37Compound 37 OO 화합물 9Compound 9 OO 화합물 38Compound 38 OO 화합물 10Compound 10 OO 화합물 39Compound 39 OO 화합물 11Compound 11 OO 화합물 40Compound 40 OO 화합물 12Compound 12 OO 화합물 41Compound 41 OO 화합물 13Compound 13 OO 화합물 42Compound 42 OO 화합물 14Compound 14 OO 화합물 43Compound 43 OO 화합물 15Compound 15 OO 화합물 44Compound 44 OO 화합물 16Compound 16 OO 화합물 45Compound 45 OO 화합물 17Compound 17 OO 화합물 46Compound 46 OO 화합물 18Compound 18 OO 화합물 47Compound 47 OO 화합물 19Compound 19 OO 화합물 48Compound 48 OO 화합물 20Compound 20 OO 화합물 ACompound A OO 화합물 21Compound 21 OO 화합물 BCompound B OO 화합물 22Compound 22 OO 화합물 CCompound C XX 화합물 23Compound 23 OO 화합물 DCompound D XX 화합물 24Compound 24 OO 화합물 ECompound E OO 화합물 25Compound 25 OO 화합물 FCompound F OO 화합물 26Compound 26 OO 화합물 GCompound G 화합물 27Compound 27 OO 화합물 HCompound H 화합물 28Compound 28 OO 화합물 ICompound I XX 화합물 29Compound 29 OO 화합물 JCompound J XX

상기 표 2에서 확인할 수 있는 바와 같이, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물들은 모두 사이클로헥사논에 1.3 wt% 농도로 용해가 가능하였지만, 비교화합물 C, D, I 및 J는 고온에서도 용해가 불가능하여, 유기 발광 소자 유기층을 용액 공정으로 제조 시 유기층을 이루는 화합물로 사용할 수 없음을 알 수 있다. As can be seen in Table 2, all of the compounds represented by Formula 1 were soluble in cyclohexanone at a concentration of 1.3 wt%, but comparative compounds C, D, I and J were not soluble even at high temperatures. It can be seen that when the organic layer of an organic light emitting device is manufactured through a solution process, it cannot be used as a compound forming the organic layer.

이는 (나프틸)-(안트라센)-(페닐렌)-(나프틸렌)-(나프틸) 또는 (나프틸)-(안트라센)-(나프틸렌)-(페닐렌)-(나프틸)의 5 개의 모이어티를 갖는 비교화합물 C, D, I 및 J는 "나프틸렌" 링커의 2 개의 시그마 결합 오비탈이 60 도가 아닌 180 도를 이루어 분자 내 twist form이 효과적으로 유도되지 못하고 linear form만 유도되기 때문인 것으로 판단된다. 또한, (나프틸)-(안트라센)-(나프틸렌)-(페닐렌)-(나프틸)의 5 개의 모이어티를 갖는 비교화합물 G 및 H는 "나프틸렌" 링커의 2 개의 시그마 결합 오비탈이 120 도의 각도를 이루어 비교화합물 C, D, I 및 J 대비해서는 분자 내 twist form이 유도되기는 하나, 용해도를 증가시키기에 충분한 정도로 twist form이 유도되지는 않음을 알 수 있다. This is 5 of (naphthyl)-(anthracene)-(phenylene)-(naphthylene)-(naphthyl) or (naphthyl)-(anthracene)-(naphthylene)-(phenylene)-(naphthyl) This is because the two sigma bonding orbitals of the "naphthylene" linker in the comparative compounds C, D, I, and J, which have two moieties, are angled at 180 degrees instead of 60 degrees, so that the twist form within the molecule is not effectively induced and only the linear form is induced. It is judged. In addition, comparative compounds G and H, which have five moieties of (naphthyl)-(anthracene)-(naphthylene)-(phenylene)-(naphthyl), have two sigma bonding orbitals of the “naphthylene” linker. Compared to comparative compounds C, D, I, and J, the twist form is induced within the molecule at an angle of 120 degrees, but it can be seen that the twist form is not induced to a sufficient extent to increase solubility.

따라서, 상기 용해도 측정을 통하여 일정 분자량 이상의 화합물의 경우 용해도를 증가시키기 위해서는 동일한 모이어티 구조를 갖는다고 하더라도 분자 내에 linear form이 아닌 twist form이 효과적으로 유도되어야 함이 확인된다.Therefore, through the above solubility measurement, it is confirmed that in order to increase the solubility of compounds over a certain molecular weight, a twist form, rather than a linear form, must be effectively induced within the molecule, even if it has the same moiety structure.

실시예 1Example 1

ITO(indium tin oxide)가 500 Å의 두께로 박막 코팅된 유리 기판을 세제를 녹인 증류수에 넣고 초음파로 세척하였다. 이때, 세제로는 피셔사(Fischer Co.) 제품을 사용하였으며, 증류수로는 밀리포어사(Millipore Co.) 제품의 필터(Filter)로 2차로 걸러진 증류수를 사용하였다. ITO를 30 분간 세척한 후, 증류수로 2 회 반복하여 초음파 세척을 10 분간 진행하였다. 증류수 세척이 끝난 후, 이소프로필, 아세톤의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시킨 후, 상기 기판을 5 분 간 세정한 후 글로브박스로 기판을 수송시켰다.A glass substrate coated with a thin film of ITO (indium tin oxide) to a thickness of 500 Å was placed in distilled water with a detergent dissolved in it and washed ultrasonically. At this time, a detergent from Fischer Co. was used, and distilled water filtered secondarily using a filter from Millipore Co. was used as distilled water. After washing the ITO for 30 minutes, ultrasonic cleaning was repeated twice with distilled water for 10 minutes. After washing with distilled water, ultrasonic cleaning was performed using isopropyl and acetone solvents and drying, the substrate was washed for 5 minutes and then transported to a glove box.

Figure pat00076
Figure pat00076

상기 ITO 투명 전극 위에, 상기 화합물 O 및 화합물 P(2:8의 중량비)를 20 wt/v%로 사이클로헥사논에 녹인 코팅 조성물을 스핀 코팅(4000 rpm)하고 200 ℃에서 30 분 동안 열처리(경화)하여 400 Å 두께로 정공주입층을 형성하였다. On the ITO transparent electrode, a coating composition containing Compound O and Compound P (weight ratio of 2:8) dissolved in cyclohexanone at 20 wt/v% was spin coated (4000 rpm) and heat treated (cured) at 200° C. for 30 minutes. ) to form a hole injection layer with a thickness of 400 Å.

Figure pat00077
Figure pat00077

상기 정공주입층 위에 상기 화합물 Q(Mn: 27,900; Mw: 35,600; Agilent 1200 series를 이용하여 PC 스텐다드(Standard)를 이용한 GPC로 측정)를 6 wt/v%로 톨루엔에 녹인 코팅 조성물을 스핀 코팅(4000 rpm)하고 200 ℃에서 30 분 동안 열처리하여 200 Å 두께의 정공수송층을 형성하였다. A coating composition containing 6 wt/v% of the compound Q (Mn: 27,900; Mw: 35,600; measured by GPC using PC Standard using Agilent 1200 series) dissolved in toluene was spin coated on the hole injection layer ( 4000 rpm) and heat treatment at 200°C for 30 minutes to form a hole transport layer with a thickness of 200 Å.

Figure pat00078
Figure pat00078

상기 정공수송층 위에 발광층 호스트로 앞서 제조예 1에서 제조한 화합물 1과 발광층 도펀트로 상기 화합물 R(98:2의 중량비)을 1.3 wt/v%로 사이클로헥사논에 녹인 코팅 조성물을 스핀 코팅(4000 rpm)하고 180℃에서 30 분 동안 열처리하여 400 Å 두께로 발광층을 형성하였다. On the hole transport layer, a coating composition containing Compound 1 prepared in Preparation Example 1 as a light-emitting layer host and Compound R (98:2 weight ratio) as a light-emitting layer dopant dissolved in cyclohexanone at 1.3 wt/v% was spin-coated (4000 rpm). ) and heat treated at 180°C for 30 minutes to form a light emitting layer with a thickness of 400 Å.

Figure pat00079
Figure pat00079

진공 증착기로 이송한 후, 상기 발광층 위에 상기 화합물 S를 350 Å 두께로 진공 증착하여 전자 주입 및 수송층을 형성하였다. 상기 전자 주입 및 수송층 위에 순차적으로 10 Å 두께로 LiF와 1000 Å 두께로 알루미늄을 증착하여 캐소드를 형성하였다. After being transferred to a vacuum evaporator, the compound S was vacuum deposited to a thickness of 350 Å on the light emitting layer to form an electron injection and transport layer. A cathode was formed by sequentially depositing LiF to a thickness of 10 Å and aluminum to a thickness of 1000 Å on the electron injection and transport layer.

상기의 과정에서 유기물의 증착 속도는 0.4 내지 0.7 Å/sec를 유지하였고, LiF는 0.3 Å/sec, 알루미늄은 2 Å/sec의 증착 속도를 유지하였으며, 증착 시 진공도는 2*10-7 내지 5*10-8 torr를 유지하였다.In the above process, the deposition rate of organic materials was maintained at 0.4 to 0.7 Å/sec, LiF was maintained at 0.3 Å/sec, and aluminum was maintained at 2 Å/sec, and the vacuum degree during deposition was 2*10 -7 to 5. *10 -8 torr was maintained.

실시예 2 내지 실시예 48Examples 2 to 48

발광층의 호스트로 화합물 1 대신 하기 표 3에 기재된 화합물을 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 유기 발광 소자를 제조하였다. An organic light-emitting device was manufactured in the same manner as Example 1, except that the compounds listed in Table 3 below were used instead of Compound 1 as the host of the light-emitting layer.

비교예Comparative example 1 내지 1 to 비교예Comparative example 6 6

발광층의 호스트로 화합물 1 대신 하기 표 3에 기재된 화합물을 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 유기 발광 소자를 제조하였다.An organic light-emitting device was manufactured in the same manner as Example 1, except that the compounds listed in Table 3 below were used instead of Compound 1 as the host of the light-emitting layer.

실험예 3: 유기 발광 소자의 특성 평가Experimental Example 3: Evaluation of characteristics of organic light-emitting device

상기 실시예 및 비교예에서 제조한 유기 발광 소자에 전류를 인가하였을 때, 10 mA/cm2의 전류 밀도에서의 구동 전압, 외부 양자 효율(external quantum efficiency, EQE) 및 수명을 측정한 결과를 하기 표 3에 나타내었다. 이때, 외부양자효율(EQE)은 "(방출된 광자 수)/(주입된 전하운반체 수)*100"으로 구하였고, T90는 휘도가 초기 휘도(200 nit)에서 90 %로 감소하는데 소요되는 시간을 의미한다.When current is applied to the organic light emitting device manufactured in the examples and comparative examples, the driving voltage, external quantum efficiency (EQE), and lifespan at a current density of 10 mA/cm 2 are measured. The results are as follows. It is shown in Table 3. At this time, the external quantum efficiency (EQE) was calculated as "(number of photons emitted)/(number of injected charge carriers)*100", and T90 is the time required for the luminance to decrease from the initial luminance (200 nit) to 90%. means.

구분division 발광층
호스트
luminescent layer
host
구동전압
(V @10mA/cm2)
driving voltage
(V @10mA/cm 2 )
EQE
(% @10mA/cm2)
EQE
(%@10mA/ cm2 )
수명(hr)
(T90 @500 nit)
Lifespan (hr)
(T90 @500 nits)
실시예 1Example 1 화합물 1Compound 1 6.56.5 5.575.57 634634 실시예 2Example 2 화합물 2compound 2 6.76.7 5.595.59 744744 실시예 3Example 3 화합물 3Compound 3 6.56.5 5.565.56 648648 실시예 4Example 4 화합물 4Compound 4 6.76.7 5.585.58 754754 실시예 5Example 5 화합물 5Compound 5 6.56.5 5.515.51 642642 실시예 6Example 6 화합물 6Compound 6 6.26.2 5.575.57 734734 실시예 7Example 7 화합물 7Compound 7 6.06.0 5.645.64 676676 실시예 8Example 8 화합물 8Compound 8 6.96.9 5.695.69 754754 실시예 9Example 9 화합물 9Compound 9 6.36.3 5.355.35 657657 실시예 10Example 10 화합물 10Compound 10 6.56.5 5.405.40 798798 실시예 11Example 11 화합물 11Compound 11 6.26.2 5.955.95 674674 실시예 12Example 12 화합물 12Compound 12 6.46.4 6.006.00 746746 실시예 13Example 13 화합물 13Compound 13 6.86.8 5.475.47 679679 실시예 14Example 14 화합물 14Compound 14 6.56.5 5.525.52 768768 실시예 15Example 15 화합물 15Compound 15 6.36.3 5.855.85 654654 실시예 16Example 16 화합물 16Compound 16 6.56.5 5.925.92 735735 실시예 17Example 17 화합물 17Compound 17 6.26.2 5.585.58 652652 실시예 18Example 18 화합물 18Compound 18 6.96.9 5.605.60 699699 실시예 19Example 19 화합물 19Compound 19 7.07.0 5.495.49 625625 실시예 20Example 20 화합물 20Compound 20 6.86.8 5.555.55 726726 실시예 21Example 21 화합물 21Compound 21 6.36.3 5.565.56 668668 실시예 22Example 22 화합물 22Compound 22 6.56.5 5.585.58 702702 실시예 23Example 23 화합물 23Compound 23 6.26.2 5.475.47 639639 실시예 24Example 24 화합물 24Compound 24 6.96.9 5.495.49 754754 실시예 25Example 25 화합물 25Compound 25 7.27.2 5.365.36 698698 실시예 26Example 26 화합물 26Compound 26 7.07.0 5.625.62 712712 실시예 27Example 27 화합물 27Compound 27 6.36.3 5.855.85 657657 실시예 28Example 28 화합물 28Compound 28 6.56.5 5.875.87 758758 실시예 29Example 29 화합물 29Compound 29 6.36.3 5.565.56 658658 실시예 30Example 30 화합물 30Compound 30 6.56.5 5.575.57 757757 실시예 31Example 31 화합물 31Compound 31 6.26.2 5.625.62 668668 실시예 32Example 32 화합물 32Compound 32 6.56.5 5.685.68 726726 실시예 33Example 33 화합물 33Compound 33 6.36.3 5.545.54 700700 실시예 34Example 34 화합물 34Compound 34 6.96.9 5.595.59 728728 실시예 35Example 35 화합물 35Compound 35 6.96.9 5.625.62 702702 실시예 36Example 36 화합물 36Compound 36 6.86.8 5.725.72 768768 실시예 37Example 37 화합물 37Compound 37 6.76.7 5.445.44 659659 실시예 38Example 38 화합물 38Compound 38 6.36.3 5.485.48 751751 실시예 39Example 39 화합물 39Compound 39 6.56.5 5.455.45 665665 실시예 40Example 40 화합물 40Compound 40 7.07.0 5.595.59 779779 실시예 41Example 41 화합물 41Compound 41 6.86.8 5.595.59 668668 실시예 42Example 42 화합물 42Compound 42 6.26.2 5.525.52 721721 실시예 43Example 43 화합물 43Compound 43 6.36.3 5.685.68 654654 실시예 44Example 44 화합물 44Compound 44 6.56.5 5.705.70 725725 실시예 45Example 45 화합물 45Compound 45 7.07.0 5.355.35 678678 실시예 46Example 46 화합물 46Compound 46 6.96.9 5.485.48 754754 실시예 47Example 47 화합물 47Compound 47 6.56.5 5.465.46 687687 실시예 48Example 48 화합물 48Compound 48 6.86.8 5.525.52 702702 비교예 1Comparative Example 1 화합물 ACompound A 6.86.8 4.024.02 325325 비교예 2Comparative Example 2 화합물 BCompound B 6.76.7 4.214.21 422422 비교예 3Comparative Example 3 화합물 ECompound E 6.66.6 3.853.85 308308 비교예 4Comparative Example 4 화합물 FCompound F 6.56.5 4.114.11 359359 비교예 5Comparative Example 5 화합물 GCompound G 6.26.2 3.243.24 143143 비교예 6Comparative Example 6 화합물 HCompound H 6.76.7 3.473.47 205205

상기 표 3에 나타난 바와 같이, 본 발명의 화합물을 발광층에 호스트로 포함하는 유기 발광 소자는, 비교예의 소자 대비 동등 수준의 전압을 나타내면서 향상된 효율 및 수명을 나타냄이 확인된다. As shown in Table 3, it is confirmed that the organic light-emitting device containing the compound of the present invention as a host in the light-emitting layer shows improved efficiency and lifespan while exhibiting an equivalent level of voltage compared to the device of the comparative example.

구체적으로, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 발광층의 호스트로 사용한 실시예의 유기 발광 소자는, 비교 화합물 A, B, F, F, G 및 H를 각각 발광층의 호스트로 사용한 비교예 1 내지 6의 유기 발광 소자에 비하여, 효율 및 수명이 현저히 향상되었다. 이는, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 갖는 구조적인 특성으로 인하여 물질 안정성이 향상되었기 때문인 것으로 판단된다.Specifically, the organic light-emitting device of the example using the compound represented by Formula 1 as the host of the light-emitting layer is the organic light-emitting device of Comparative Examples 1 to 6 using the comparative compounds A, B, F, F, G, and H, respectively, as the host of the light-emitting layer. Compared to light emitting devices, efficiency and lifespan have been significantly improved. This is believed to be due to improved material stability due to the structural characteristics of the compound represented by Formula 1.

따라서, 유기 발광 소자의 호스트 물질로 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 채용하는 경우, 유기 발광 소자의 외부 양자 효율 및 수명 특성을 동시에 개선시킬 수 있음을 알 수 있다.Therefore, it can be seen that when the compound represented by Formula 1 is used as the host material of the organic light-emitting device, the external quantum efficiency and lifespan characteristics of the organic light-emitting device can be improved simultaneously.

1: 기판 2: 양극
3: 발광층 4: 음극
5: 정공주입층 6: 정공수송층
7: 전자주입 및 수송층
1: Substrate 2: Anode
3: light emitting layer 4: cathode
5: hole injection layer 6: hole transport layer
7: Electron injection and transport layer

Claims (13)

하기 화학식 1로 표시되는 화합물:
[화학식 1]
Figure pat00080

상기 화학식 1에서,
D는 중수소를 의미하고,
L1 및 L2는 각각 독립적으로 단일 결합; 또는 비치환되거나 또는 중수소로 치환된 페닐렌이고,
L3는 비치환되거나 또는 중수소로 치환된 페닐렌이고,
a 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 7의 정수이고,
b는 0 내지 8의 정수이고,
c는 0 내지 6의 정수이다.
Compound represented by Formula 1:
[Formula 1]
Figure pat00080

In Formula 1,
D stands for deuterium,
L 1 and L 2 are each independently a single bond; or unsubstituted or deuterium-substituted phenylene,
L 3 is unsubstituted or deuterium-substituted phenylene,
a and d are each independently integers from 0 to 7,
b is an integer from 0 to 8,
c is an integer from 0 to 6.
제1항에 있어서,
L1 및 L2는 모두 단일 결합인,
화합물.
According to paragraph 1,
L 1 and L 2 are both single bonds,
compound.
제1항에 있어서,
L1은 단일 결합이고, L2는 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,2-페닐렌; 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,3-페닐렌; 또는 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,4-페닐렌이거나; 또는
L1은 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,2-페닐렌; 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,3-페닐렌; 또는 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,4-페닐렌이고, L2는 단일 결합인,
화합물.
According to paragraph 1,
L 1 is a single bond, L 2 is 1,2-phenylene unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuteriums; 1,3-phenylene unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuteriums; or 1,4-phenylene, which is unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuterium atoms; or
L 1 is 1,2-phenylene that is unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuterium atoms; 1,3-phenylene unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuteriums; or 1,4-phenylene that is unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuteriums, and L 2 is a single bond,
compound.
제1항에 있어서,
L1 및 L2는 각각 독립적으로 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,2-페닐렌; 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,3-페닐렌; 또는 비치환되거나, 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,4-페닐렌인,
화합물.
According to paragraph 1,
L 1 and L 2 are each independently 1,2-phenylene that is unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuterium atoms; 1,3-phenylene unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuteriums; or 1,4-phenylene, which is unsubstituted or substituted with 1 to 4 deuteriums,
compound.
제1항에 있어서,
L1 및 L2는 서로 동일한,
화합물.
According to paragraph 1,
L 1 and L 2 are the same as each other,
compound.
제1항에 있어서,
L3는 1,2-페닐렌, 1,3-페닐렌, 또는 1,4-페닐렌인,
화합물.
According to paragraph 1,
L 3 is 1,2-phenylene, 1,3-phenylene, or 1,4-phenylene,
compound.
제1항에 있어서,
L3는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,2-페닐렌; 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,3-페닐렌; 또는 1개 내지 4개의 중수소로 치환된 1,4-페닐렌인,
화합물.
According to paragraph 1,
L 3 is 1,2-phenylene substituted with 1 to 4 deuterium atoms; 1,3-phenylene substituted with 1 to 4 deuterium atoms; or 1,4-phenylene substituted with 1 to 4 deuterium atoms,
compound.
제1항에 있어서,
a+b+c+d는 0이거나; 또는 22 내지 28의 정수인,
화합물.
According to paragraph 1,
a+b+c+d is 0; or an integer from 22 to 28,
compound.
제1항에 있어서,
상기 화합물은 하기 화학식 1-1 또는 1-2로 표시되는,
화합물:
[화학식 1-1]
Figure pat00081

[화학식 1-2]
Figure pat00082

상기 화학식 1-1 및 1-2에서,
a, b, c 및 d는 제1항에서 정의한 바와 같고,
e, f 및 g는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이고,
n1 및 n2는 각각 독립적으로 0 또는 1이다.
According to paragraph 1,
The compound is represented by the following formula 1-1 or 1-2,
compound:
[Formula 1-1]
Figure pat00081

[Formula 1-2]
Figure pat00082

In Formulas 1-1 and 1-2,
a, b, c and d are as defined in paragraph 1,
e, f and g are each independently integers from 0 to 4,
n1 and n2 are each independently 0 or 1.
제1항에 있어서,
상기 화합물의 중수소 치환율은 0% 이거나 또는 80% 이상인,
화합물.
According to paragraph 1,
The deuterium substitution rate of the compound is 0% or 80% or more,
compound.
제1항에 있어서,
상기 화합물은 하기 화학식으로 표시되는 화합물로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나인,
화합물:

Figure pat00083

Figure pat00084

Figure pat00085

Figure pat00086

Figure pat00087

Figure pat00088

상기 화합물 2, 4, 6, 8, 10 및 12에서, a+b+c+d+g는 1 내지 32의 정수이고,
상기 화합물 14, 16, 18, 20, 22 및 24에서, a+b+c+d+e+g는 1 내지 36의 정수이고,
상기 화합물 26, 28, 30, 32, 34 및 36에서, a+b+c+d+f+g는 1 내지 36의 정수이고,
상기 화합물 38, 40, 42, 44, 46 및 48에서, a+b+c+d+e+f+g는 1 내지 40의 정수이다.
According to paragraph 1,
The compound is any one selected from the group consisting of compounds represented by the following formula,
compound:

Figure pat00083

Figure pat00084

Figure pat00085

Figure pat00086

Figure pat00087

Figure pat00088

In compounds 2, 4, 6, 8, 10 and 12, a+b+c+d+g is an integer from 1 to 32,
In compounds 14, 16, 18, 20, 22 and 24, a+b+c+d+e+g is an integer from 1 to 36,
In compounds 26, 28, 30, 32, 34 and 36, a+b+c+d+f+g is an integer from 1 to 36,
In compounds 38, 40, 42, 44, 46 and 48, a+b+c+d+e+f+g is an integer from 1 to 40.
제1 전극; 상기 제1 전극과 대향하여 구비된 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1층 이상은 제1항 내지 제11항 중 어느 하나의 항에 따른 화합물을 포함하는 것인, 유기 발광 소자.
first electrode; a second electrode provided opposite to the first electrode; And an organic light-emitting device comprising at least one organic material layer provided between the first electrode and the second electrode, wherein at least one layer of the organic material layer includes the compound according to any one of claims 1 to 11. An organic light-emitting device.
제12항에 있어서,
상기 화합물을 포함하는 유기물층은 발광층인,
유기 발광 소자.

According to clause 12,
The organic material layer containing the compound is a light emitting layer,
Organic light emitting device.

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