KR20230147116A - 조직 성분 측정 장치, 조직 성분 측정 방법 및 웨어러블 기기 - Google Patents
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Abstract
떨림 영향을 억제하는 방법, 장치 및 웨어러블 기기를 제공한다. 상기 방법은, 적어도 하나의 소정의 파장의 입사광으로 측정 영역을 조사하고, 각 입사광은 입사위치로부터 입사한 후 측정 영역의 적어도 하나의 출사위치로부터 출사되어 적어도 한 가닥의 출사광을 형성하는 동작(S110), 및 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하여, 떨림 방지부와 연관 관계를 갖는 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 하는 동작(S120)을 포함한다.
Description
본 개시는 스펙트럼 측정 기술분야에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는, 떨림 영향을 억제하는 방법, 장치 및 웨어러블 기기에 관한 것이다.
인체의 체액에는 예를 들어, 혈당, 지방, 백혈구 등 다양한 조직 성분이 포함되어 있고, 각 조직 성분의 농도는 대응하는 농도 범위 내에 있어야만 인체의 건강을 보장할 수 있다. 하지만, 일부 개체의 경우, 조직 성분의 균형이 파괴되는 상태, 즉, 조직 성분의 농도가 정상적인 수치범위 내에 있지 않은 상태가 쉽게 발생하고, 이로 인해 질병을 초래하거나 건강 심지어 생명을 위협하게 되므로, 이러한 개체에 대해서는, 조직 성분에 대한 실시간적인 측정이 필요하다.
광학적 방법은 신속하고 비침습적이며 정보의 다차원화 등 특징을 갖고 있으므로, 종래기술에서는 통상적으로 광학적 방법을 사용하여 조직 성분을 측정하여 왔다. 광학적 방법에는, 그 측정 원리에 따라 주로 라만 분광법, 편광법, 광간섭성 단층촬영(Optical Coherence Tomography)법, 광음향 분광법, 중적외선 분광법 및 근적외선 분광법 등이 있다.
본 개시의 구상을 구현하는 과정에, 발명자는 종래기술에 적어도 하기의 문제점이 존재함을 발견하였다. 즉, 종래기술을 사용할 경우, 측정 정밀도가 높지 않다.
이를 감안하여, 본 개시의 실시예는 떨림 영향을 억제하는 방법, 장치 및 웨어러블 기기를 제공한다.
본 개시의 실시예의 일 측면에 의하면, 떨림 영향을 억제하는 방법으로서, 적어도 하나의 소정의 파장의 입사광으로 측정 영역을 조사하고, 각 상기 입사광은 입사위치로부터 입사한 후 상기 측정 영역의 적어도 하나의 출사위치로부터 출사되어 적어도 한 가닥의 출사광을 형성하는 동작, 및 떨림 방지부를 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하여, 상기 떨림 방지부와 연관 관계를 갖는 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 상기 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 하는 동작을 포함하는 떨림 영향을 억제하는 방법을 제공한다.
본 개시의 실시예의 다른 측면에 의하면, 떨림 영향을 억제하는 장치로서, 떨림 방지부를 포함하고, 상기 떨림 방지부는, 측정 영역에 대응하는 위치에 설치될 경우, 상기 떨림 방지부와 연관 관계를 갖는 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로로 하여금 상기 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 하고, 상기 출사광은, 적어도 하나의 소정의 파장의 입사광으로 측정 영역을 조사하여, 각 상기 출사광은 입사광이 입사위치로부터 입사한 후 상기 측정 영역의 출사위치로부터 출사되어 형성된 것인 떨림 영향을 억제하는 장치를 제공한다.
본 개시의 실시예의 또 다른 측면에 의하면, 웨어러블 기기로서, 상기와 같은 떨림 영향을 억제하는 장치를 포함하는 웨어러블 기기를 제공한다.
이하에서 첨부 도면을 참조하여 설명한 본 개시의 실시예를 통해, 본 개시의 상기 및 다른 목적, 특징 그리고 장점들은 보다 명확해질 것이다.
도1은 본 개시의 실시예에 따른 떨림 영향을 억제하는 방법의 흐름도를 개략적으로 나타낸다.
도2는 본 개시의 실시예에 따른 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하지 않은 상태에서 측정 헤드가 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도3은 본 개시의 실시예에 따른 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치한 상태에서 측정 헤드가 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도4는 본 개시의 실시예에 따른 떨림 방지부에 의해 측정 영역에서의 피부의 이동폭이 이동폭 임계치보다 작거나 같도록 한 경우, 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도5는 본 개시의 실시예에 따른 떨림 방지부가 피부 떨림 규칙과 일치하는 경우, 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도6은 본 개시의 실시예에 따른 떨림이 발생할 경우 비교적 작은 면적의 감광면을 사용하여 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도7은 본 개시의 실시예에 따른 떨림이 발생할 경우 비교적 큰 면적의 감광면을 사용하여 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도8은 본 개시의 실시예에 따른 차분 측정의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도9는 본 개시의 실시예에 따른 환형 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도10은 본 개시의 실시예에 따른 부채 고리형 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도11은 본 개시의 실시예에 따른 원형 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도12는 본 개시의 실시예에 따른 정방형 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도13은 본 개시의 실시예에 따른 떨림 영향을 억제하는 장치의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도14는 본 개시의 실시예에 따른 측정 헤드를 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치한 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도15는 본 개시의 실시예에 따른 고정 유닛을 통해 측정 헤드를 고정하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도16은 본 개시의 실시예에 따른 고정 유닛의 목표 영역에 광학 유리를 설치한 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도17은 본 개시의 실시예에 따른 고정 유닛의 목표 영역에 테두리를 설치한 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도18은 본 개시의 실시예에 따른 고정 유닛의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도19는 본 개시의 실시예에 따른 제1 결합구의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도20은 본 개시의 실시예에 따른 다른 제1 결합구의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도21은 본 개시의 실시예에 따른 서로 다른 감광면의 양극을 전기적으로 연결한 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도22는 본 개시의 실시예에 따른 장갑 형태의 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도23은 본 개시의 실시예에 따른 다른 장갑 형태의 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도24는 본 개시의 실시예에 따른 팔찌 형태의 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도25는 본 개시의 실시예에 따른 다른 팔찌 형태의 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도26은 본 개시의 실시예에 따른 팔 측정용 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도27은 본 개시의 실시예에 따른 측정 헤드에 제1 슬리브를 설치한 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도28은 본 개시의 실시예에 따른 제1 슬리브의 목표 영역의 외부에 제2 슬리브를 설치한 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도29는 본 개시의 실시예에 따른 굴절율 매칭물을 충전하지 않은 상태에서 감광면이 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도30은 본 개시의 실시예에 따른 굴절율 매칭물을 충전한 상태에서 감광면이 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도31은 본 개시의 실시예에 따른 굴절율 매칭물을 충전한 상태에서 감광면이 출사광을 수광하는 다른 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도32는 본 개시의 실시예에 따른 웨어러블 기기의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도33은 본 개시의 실시예에 따른 웨어러블 기기의 조립 과정의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도1은 본 개시의 실시예에 따른 떨림 영향을 억제하는 방법의 흐름도를 개략적으로 나타낸다.
도2는 본 개시의 실시예에 따른 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하지 않은 상태에서 측정 헤드가 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도3은 본 개시의 실시예에 따른 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치한 상태에서 측정 헤드가 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도4는 본 개시의 실시예에 따른 떨림 방지부에 의해 측정 영역에서의 피부의 이동폭이 이동폭 임계치보다 작거나 같도록 한 경우, 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도5는 본 개시의 실시예에 따른 떨림 방지부가 피부 떨림 규칙과 일치하는 경우, 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도6은 본 개시의 실시예에 따른 떨림이 발생할 경우 비교적 작은 면적의 감광면을 사용하여 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도7은 본 개시의 실시예에 따른 떨림이 발생할 경우 비교적 큰 면적의 감광면을 사용하여 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도8은 본 개시의 실시예에 따른 차분 측정의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도9는 본 개시의 실시예에 따른 환형 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도10은 본 개시의 실시예에 따른 부채 고리형 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도11은 본 개시의 실시예에 따른 원형 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도12는 본 개시의 실시예에 따른 정방형 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도13은 본 개시의 실시예에 따른 떨림 영향을 억제하는 장치의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도14는 본 개시의 실시예에 따른 측정 헤드를 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치한 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도15는 본 개시의 실시예에 따른 고정 유닛을 통해 측정 헤드를 고정하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도16은 본 개시의 실시예에 따른 고정 유닛의 목표 영역에 광학 유리를 설치한 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도17은 본 개시의 실시예에 따른 고정 유닛의 목표 영역에 테두리를 설치한 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도18은 본 개시의 실시예에 따른 고정 유닛의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도19는 본 개시의 실시예에 따른 제1 결합구의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도20은 본 개시의 실시예에 따른 다른 제1 결합구의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도21은 본 개시의 실시예에 따른 서로 다른 감광면의 양극을 전기적으로 연결한 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도22는 본 개시의 실시예에 따른 장갑 형태의 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도23은 본 개시의 실시예에 따른 다른 장갑 형태의 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도24는 본 개시의 실시예에 따른 팔찌 형태의 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도25는 본 개시의 실시예에 따른 다른 팔찌 형태의 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도26은 본 개시의 실시예에 따른 팔 측정용 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도27은 본 개시의 실시예에 따른 측정 헤드에 제1 슬리브를 설치한 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도28은 본 개시의 실시예에 따른 제1 슬리브의 목표 영역의 외부에 제2 슬리브를 설치한 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도29는 본 개시의 실시예에 따른 굴절율 매칭물을 충전하지 않은 상태에서 감광면이 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도30은 본 개시의 실시예에 따른 굴절율 매칭물을 충전한 상태에서 감광면이 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도31은 본 개시의 실시예에 따른 굴절율 매칭물을 충전한 상태에서 감광면이 출사광을 수광하는 다른 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도32는 본 개시의 실시예에 따른 웨어러블 기기의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도33은 본 개시의 실시예에 따른 웨어러블 기기의 조립 과정의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 개시의 실시예를 설명한다. 지적해두어야 할 것은, 이러한 설명은 단지 예시적인 것일 뿐, 본 개시의 범위를 한정하기 위한 것이 아니다. 이하의 상세한 설명에 있어서, 해석의 편리를 위해, 다수의 구체적인 세부요소들을 설명함으로써 본 개시의 실시예에 대해 전면적으로 이해할 수 있도록 한다. 하지만, 지적해두어야 할 것은, 하나 또는 복수의 실시예는 이러한 세부요소 없이도 실시가능하다. 또한, 이하의 설명에서는, 본 개시의 개념에 혼선을 주지 않기 위해 공지적인 구조나 기술에 대한 설명은 생략한다.
본 명세서에서 사용하는 용어는 단지 구체적인 실시예를 설명하기 위한 것으로서, 본 개시를 한정하기 위한 취지로 해석되어서는 아니된다. 본 명세서에서 사용하는 '포함', '구비' 등 용어는 언급된 특징, 단계, 동작 및/또는 부품의 존재를 의미하는데, 하나 또는 복수의 다른 특징, 단계, 동작 또는 부품의 존재 또는 추가를 배제하지는 않는다.
본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술적 및 과학적 용어 포함)는 별도로 정의되지 않는 한, 당업자가 통상적으로 이해하는 의미를 갖는다. 지적해두어야 할 것은, 본 명세서에서 사용되는 용어는 본 명세서의 문맥에 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하고, 이상적이거나 과도하게 사전상의 의미로 해석되어서는 아니된다.
'A, B 및 C중 적어도 하나'와 같은 표현을 사용할 경우, 일반적으로, 당업자가 통상적으로 이해하는 해당 표현의 의미로 해석되어야 한다(예를 들어, 'A, B 및 C중 적어도 하나를 구비한 시스템'은, A만 구비한 시스템, B만 구비한 시스템, C만 구비한 시스템, A 및 B를 구비한 시스템, A 및 C를 구비한 시스템, B 및 C를 구비한 시스템, 및/또는 A, B, C를 구비한 시스템이 포함하여야 하는데, 이에 한정되지는 않는다). 'A, B 또는 C중 적어도 하나'와 같은 표현을 사용할 경우, 일반적으로, 당업자가 통상적으로 이해하는 해당 표현의 의미로 해석되어야 한다(예를 들어, 'A, B 또는 C중 적어도 하나를 구비한 시스템'은, A만 구비한 시스템, B만 구비한 시스템, C만 구비한 시스템, A 및 B를 구비한 시스템, A 및 C를 구비한 시스템, B 및 C를 구비한 시스템, 및/또는 A, B, C를 구비한 시스템을 포함하여야 하는데, 이에 한정되지는 않는다).
광학적 방법에 기초한 생체 조직 성분 측정에 대한 연구는 현재까지 이미 근 오십년의 발전을 거쳤다. 수많은 과학연구기관과 기업들이 해당 분야에 극대한 관심을 투입하였음에도 불구하고, 측정하고자 하는 조직 성분 자체의 흡수가 비교적 약하고, 또한, 측정대상 자체의 측정하고자 하는 조직 성분 농도의 변화 범위도 통상적으로 크지 않으므로, 측정하고자 하는 조직 성분의 신호는 비교적으로 미약하고, 또한, 측정 조건의 변화 등 간섭으로 인해 미약한 측정하고자 하는 조직 성분의 신호가 쉽게 묻혀버리게 되는데, 지금까지 신뢰도가 높은 조직 성분 측정 솔루션이 제안되지 않은 것이 실정이다. 따라서, 생체 조직 성분 측정은 시급히 해결해야 할 세계적인 난제이다. 여기서, 조직 성분은 혈당, 지방 및 백혈구 등을 포함할 수 있다. 측정하고자 하는 조직 성분의 신호는 측정하고자 하는 조직 성분의 농도 변화에 따른 출력 광도 변화를 나타낸다. 측정 조건에는 제어 가능한 측정 조건과 제어가 가능하지 않는 측정 조건이 포함될 수 있다. 측정 조건은 빛의 전송 경로에 영향을 미치는 조건으로 이해할 수 있다.
본 개시의 구상을 구현하는 과정에, 발명자는 종래 기술을 사용할 경우, 다음과 같은 이유로 측정 정밀도가 높지 않다는 것을 발견하였다.
발명자는 측정 헤드를 혈관 근처에 설치하여 얻은 측정 결과를, 기타 조건을 변화시키지 않고 동일 측정 헤드를 혈관으로부터 멀리 떨어진 곳에 설치하여 얻은 측정 결과와 비교한 결과, 혈관으로부터 멀리 떨어진 곳에 설치하여 얻은 측정 결과가 혈관 근처에 설치하여 얻은 측정 결과보다 좋다는 것을 발견하였다. 여기서, 측정 결과는 측정 헤드에 의해 수광(受光)된 출사광의 광도 값의 상대적 변화량 또는 광도 값의 표준편차로 표시할 수 있는데, 광도 값의 상대적 변화량이 작을수록 측정 결과가 더 좋고, 광도 값의 표준편차가 작을수록 측정 결과가 더 좋다. 측정 결과가 서로 다른 원인에 대한 연구를 통해, 혈관과의 거리는 맥박 박동의 강약을 나타낼 수 있고, 맥박 박동은 피부 떨림을 일으키는 요인이므로, 측정 정밀도가 높지 않은 원인 중 하나가 맥박 박동에 있다는 것을 발견하였다.
발명자는, 피부 떨림에 대한 연구를 통해, 맥박 박동이 측정 결과에 영향을 줄 수 있는 실질적인 이유는, 맥박 박동으로 인한 피부 떨림이 조직 내에서의 빛의 전송 경로에 영향을 미치게 되므로, 측정 영역에서의 출사광의 광도 분포에 영향을 미치기 때문임을 발견하였다. 즉, 맥박 박동이 측정 결과에 주는 영향을 억제하기 어렵다면, 조직 내에서의 빛의 전송 경로의 일관성을 유지하기 어려워, 측정 영역에서의 출사광의 광도 분포에 영향을 주게 된다.
상기에 의하면, 맥박 박동으로 인한 피부 떨림이 측정 결과에 미치는 부정적인 영향을 최대한 억제하기 위해, 조직 내에서의 빛의 전송 경로를 최대한 제어해야 한다. 다시 말하면, 조직 내에서의 빛의 전송 경로의 변화를 최대한 감소시켜야 한다.
이러한 고안에 따라, 본 개시의 실시예는 다음과 같은 떨림 영향을 억제하는 방안을 제공한다. 즉, 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하여, 떨림 방지부와 연관 관계를 갖는 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 한다. 평균 광행로에 대해 다음과 같이 설명한다. 조직에서의 빛의 전송 경로는 광행로와 침투 깊이로 나타낼 수 있는데, 여기서, 광행로는 빛이 조직 내에서 전송되는 총 거리를 나타내고, 침투 깊이는 빛이 조직 내에서 도달할 수 있는 최대 종방향 거리를 나타낸다. 확정된 소스-헤드간 거리에 대해, 평균 광행로는 조직 내에서 빛의 광행로 평균값을 나타낸다. 소스-헤드간 거리라는 것은, 입사광의 중심과 측정 헤드의 중심 사이의 지름 방향에서의 거리를 나타낸다. 이하, 구체적인 실시예를 참조하여 설명하기로 한다.
도1은 본 개시의 실시예에 따른 떨림 영향을 억제하는 방법의 흐름도를 개략적으로 나타낸다.
도1에 도시된 바와 같이, 상기 방법은 동작S110 내지 동작S120을 포함한다.
동작S110에서는, 적어도 하나의 소정의 파장의 입사광으로 측정 영역을 조사하고, 각 입사광은 입사위치로부터 입사한 후 측정 영역의 적어도 하나의 출사위치로부터 출사되어 적어도 한 가닥의 출사광을 형성한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 부위별로 서로 다른 피부 특성을 갖고 있는데, 피부 특성은, 매끈한 정도, 모발 유무, 평탄 상태, 피부 두께 및 유연도 등을 포함할 수 있다. 따라서, 실제 상황에 따라, 예를 들어, 측정 헤드의 구조에 따라 적합한 측정 부위를 선택해야 한다. 측정 부위는 손가락, 손바닥, 팔, 이마 및 귓불 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 측정 영역은 측정 부위의 영역일 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 소정의 파장은 측정하고자 하는 조직 성분에 민감한 파장일 수 있다. 소정의 파장이 속하는 주파수대역은 자외선 대역, 가시광선 대역, 근적외선 대역, 중적외선 대역 또는 원적외선 대역을 포함할 수 있다. 예시적으로, 측정하고자 하는 조직 성분이 혈당인 경우, 이에 대응하여, 소정의 파장은 혈당에 민감한 파장일 수 있는데, 구체적으로는 1550nm 또는 1609nm일 수 있다. 입사광은 시준광 또는 비시준광일 수 있다. 입사광의 입사위치는 하나 또는 복수개일 수 있다.
동작S120에서는, 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하여, 떨림 방지부와 연관 관계를 갖는 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 맥박 박동으로 인한 피부 떨림이 측정 결과에 미치는 부정적인 영향을 최소화하여, 조직 내에서의 빛의 전송 경로의 변화를 최소화하기 위해, 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하여, 측정 영역에 적절한 측정 압력이 가해지도록 하고, 측정 영역에 적절한 측정 압력이 가해질 경우, 떨림 방지부와 연관 관계를 갖는 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로는 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지된다. 즉, 출사광의 평균 광행로는 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 변하지 않거나 거의 변하지 않는다. 여기서, 측정 영역에 가해지는 측정 압력은 측정 정밀도 한계에 따라 확정한 것이다. 측정 정밀도 한계라는 것은, 측정하고자 하는 조직 성분의 농도 변화로 인한 광 에너지 변화량이 목표 노이즈 레벨과 동일할 경우에 대응되는 측정하고자 하는 조직 성분의 농도 변화를 나타낸다. 소정의 광행로 범위는 소스-헤드간 거리 및 조직의 광학적 파라미터에 따라 확정할 수 있다. 조직의 광학적 파라미터는 흡수계수, 산란계수 및 이방성 인자를 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 방지부와 측정 헤드 사이에 연관 관계를 갖는다는 것은, 떨림 방지부가 측정 헤드 및/또는 고정 유닛을 포함할 수 있다는 의미로 이해할 수 있다. 여기서, 고정 유닛은 측정 헤드를 측정 영역에 대응되는 위치에 설치하기 위한 것이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 헤드의 위치에 따라, 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 적합한 위치에 설치하여, 측정 헤드에 의해 수집되는 출사광에 영향을 주지 않도록 해야 한다.
예시적으로, 도2는 본 개시의 실시예에 따른 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하지 않은 상태에서 측정 헤드가 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도3은 본 개시의 실시예에 따른 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치한 상태에서 측정 헤드가 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도2 및 도3에서 혈관 상태1은 혈관의 수축 상태를 나타낸다. 도2 및 도3에서는 떨림 방지부를 도시하지 않았다. 지적해두어야 할 것은, 실제로는, 피부가 떨리는 과정에 측정 헤드가 입사위치A로부터 입사하여 출사위치C에서 출사되는 출사광을 수광하도록 보장해야 한다.
도2 및 도3 으로부터 알 수 있는 바와 같이, 도2에서는 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하지 않았으므로, 피부가 떨리는 과정에 입사위치A로부터 입사되는 입사광의 출사위치는 출사위치C에서 출사위치B로 변경되어, 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로에 비교적 큰 변하가 발생하였다. 도3에서는 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하였으므로, 피부가 떨리는 과정에 입사위치A로부터 입사한 입사광의 출사위치를 여전히 출사위치B로 유지할 수 있어, 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 한다. 이로부터 알 수 있는 바와 같이, 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하는 방식을 통해, 피부가 떨리는 과정에 측정 헤드가 입사위치A로부터 입사하고 출사위치C에서 출사되는 출사광을 수광하도록 보장할 수 있다.
본 개시의 실시예에 따른 기술방안에 의하면, 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하여, 떨림 방지부와 연관 관계를 갖는 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 함으로써, 조직 내에서의 빛의 전송 경로의 변화를 최대한 감소시키고, 측정 정밀도를 향상시킬 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 영역에 가해지는 측정 압력은 측정 정밀도 한계에 따라 확정한 것이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 정밀도 한계라는 것은, 측정하고자 하는 조직 성분의 농도 변화로 인한 출력 광도 변화량이 목표 노이즈 레벨과 동일할 경우에 대응되는 측정하고자 하는 조직 성분의 농도 변화를 나타낸다. 측정 정밀도 한계는 평균 광행로의 함수이라고 이해할 수 있다. 측정 정밀도 한계는 하기와 같은 수식(1)을 통해 확정할 수 있다.
(1)
여기서, Clim는 측정 정밀도 한계를 나타내고, ε은 몰 흡광 계수를 나타내고, L는 목표 조직층에서의 측정하고자 하는 조직 성분의 평균 광행로를 나타내고, SNR는 목표 신호 대 잡음비를 나타낸다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 정밀도 한계, 목표 신호 대 잡음비 및 몰 흡광 계수를 확정한 후, 수식(1)에 따라 목표 조직층에서의 측정하고자 하는 조직 성분의 평균 광행로를 확정할 수 있고, 목표 조직층에서의 측정하고자 하는 조직 성분의 평균 광행로에 따라, 대응하는 측정 압력을 확정할 수 있다. 즉, 대응하는 측정 압력 하에, 목표 조직층에서의 측정하고자 하는 조직 성분의 평균 광행로가 수식(1)에 따라 확정된 평균 광행로이도록 한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 방지부는 측정 영역에서의 피부의 이동폭이 이동폭 임계치보다 작거나 같도록 한다. 또는, 상기 떨림 방지부의 이동 규칙이 측정 영역에서의 피부 떨림 규칙과 일치하도록 한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 하기 위해, 떨림 방지부의 질량을 비교적 크게 하여, 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치할 경우, 측정 영역에서의 피부 떨림을 억제하도록 할 수 있다. 즉, 측정 영역에서의 피부의 이동폭이 이동폭 임계치보다 작거나 같도록 할 수 있다. 상기와 같이 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 할 수 있는 이유는 다음과 같다. 즉, 떨림 방지부가 측정 영역에서의 피부 떨림을 억제할 수 있을 경우, 측정 영역에 대한 측정 헤드의 상대적 위치가 변하지 않거나 거의 변하지 않도록 보장할 수 있으므로, 측정 헤드는 고정된 출사위치에서 출사되는 출사광을 수광할 수 있게 된다. 또한, 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에, 측정 영역에서의 입사광의 입사위치의 상대적 위치가 변하지 않거나 거의 변하지 않도록 할 수 있으므로, 입사광의 입사위치와 출사광의 출사위치가 확정되었을 경우, 출사광의 평균 광행로가 변하지 않도록 최대한 보장할 수 있다.
떨림 방지부의 질량을 비교적 크게 함으로써 측정 영역에서의 피부 떨림을 억제하는 것 외에도, 떨림 방지부의 질량을 비교적 작게 함으로써, 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하였을 경우, 측정 영역에서의 피부 떨림과 동조하도록 할 수도 있다. 즉, 떨림 방지부의 이동 규칙이 측정 영역에서의 피부 떨림 규칙과 일치하도록 할 수 있다. 상기와 같이 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 할 수 있는 이유는 다음과 같다. 즉, 떨림 방지부가 측정 영역에서의 피부 떨림과 동조할 수 있다면, 측정 영역에 대한 측정 헤드의 상대적 위치가 변하지 않거나 거의 변하지 않도록 할 수 있으므로, 측정 헤드는 고정된 출사위치에서 출사되는 출사광을 수광할 수 있게 되기 때문이다. 여기서, 상기 고정된 출사위치는 측정 영역에 대한 상대적 위치가 변하지 않거나 거의 변하지 않는 출사위치를 의미한다. 또한, 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에, 측정 영역에서의 입사광의 입사위치의 상대적 위치가 변하지 않거나 거의 변하지 않도록 할 수 있으므로, 입사광의 입사위치와 출사광의 출사위치가 확정되었을 경우, 출사광의 평균 광행로가 변하지 않도록 최대한 보장할 수 있다.
예시적으로, 도4는 본 개시의 실시예에 따른 떨림 방지부에 의해 측정 영역에서의 피부의 이동폭이 이동폭 임계치보다 작거나 같도록 한 경우, 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 하는 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도4에서는 측정 헤드를 도시하지 않았고, 도4에서 측정 영역에서의 피부의 이동폭은 0에 가깝다.
도5는 본 개시의 실시예에 따른 떨림 방지부가 피부 떨림 규칙과 일치하는 경우, 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 하는 개략도를 개략적으로 나타낸다. 피부가 떨리는 과정에, 측정 헤드(도5에서는 도시하지 않음)는 입사광이 측정 영역의 입사위치A로부터 입사한 후 측정 영역의 출사위치B에서 출사되는 출사광을 안정적으로 수광할 수 있다. 피부의 이동폭은 ζ1로 표시되고, 측정 헤드의 이동폭은 ζ2로 표시되며, ζ1=ζ2이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 방지부의 이동 규칙이 측정 영역에서의 피부 떨림 규칙과 일치하도록, 떨림 방지부의 질량은 질량 임계치보다 작거나 같도록 한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 방지부의 이동 규칙이 측정 영역에서의 피부 떨림 규칙과 일치하도록 하기 위해, 떨림 방지부의 질량을 비교적 가볍게 함으로써, 측정 헤드와 측정 영역 사이의 상대적 위치가 변하지 않도록 보장할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 방지부의 재료는 유연성 재료이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 방지부가 측정 영역에서의 피부와 잘 접착되도록 하기 위해, 유연성 재료로 제조된 떨림 방지부를 사용할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 방지부는 측정 헤드 및/또는 고정 유닛을 포함한다.
떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하는 것은, 하기와 같은 동작들을 포함할 수 있다.
고정 유닛을 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하고, 측정 헤드를 고정 유닛에 설치하지 않는다. 또는, 고정 유닛을 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하고, 측정 헤드를 고정 유닛에 설치한다. 또는, 측정 헤드를 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 방지부는 측정 헤드 및/또는 고정 유닛을 포함할 수 있고, 고정 유닛은 측정 헤드를 고정하기 위한 것이고, 고정 유닛과 측정 헤드는 일체형이거나, 부분적으로 분리되거나 또는 완전 분리될 수 있다. 즉, 고정 유닛은 측정 헤드의 구성요소일 수도 있고, 측정 헤드와 서로 독립적인 2개의 부분일 수도 있고, 또한, 일부가 측정 헤드의 구성요소이고, 일부가 측정 헤드와 서로 독립적일 수도 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 고정 유닛을 통해 측정 헤드를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하거나, 또는, 측정 헤드를 측정 헤드에 대응하는 위치에 직접 설치할 수 있다. 또는, 고정 유닛을 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하고, 측정 헤드를 고정 유닛에 설치하지 않을 수도 있는데, 이 경우, 조직 성분을 측정함에 있어서, 측정 헤드가 측정 영역의 출사위치로부터 출사되는 출사광을 수광할 수 있도록, 측정 헤드 및/또는 고정 유닛의 위치를 조정하여, 측정 헤드가 측정 영역에 조준되도록 할 수 있다.
고정 유닛은 고정 베이스 및 제1 결합구를 포함할 수 있거나, 또는, 고정 유닛은 제2 결합구를 포함할 수 있다. 제1 결합구는 고정 베이스를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하기 위한 것이고, 고정 베이스는 측정 헤드를 설치하기 위한 것이다. 제2 결합구는 측정 헤드를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하기 위한 것이다.
고정 유닛이 고정 베이스 및 제1 결합구를 포함할 경우, 고정 베이스와 측정 헤드는 분리되어 있고, 제1 결합구는 고정 베이스와 일체형이거나 분리되어 있다. 고정 유닛이 제2 결합구를 포함할 경우, 제2 결합구는 측정 헤드와 일체형이거나 분리되어 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 고정 유닛은 고정 베이스 및 제1 결합구를 포함한다.
고정 유닛을 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하고, 측정 헤드를 고정 유닛에 설치하는 것은, 하기와 같은 동작들을 포함할 수 있다.
제1 결합구를 통해 고정 베이스를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치한다. 측정 헤드를 고정 베이스에 설치한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 헤드는 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설정되는 것이 아니라, 고정 베이스를 통해 측정 영역에 대응하는 위치에 설치된다.
조직 성분 측정 과정에, 측정 헤드가 고정 베이스를 통해 측정 영역에 대응하는 위치에 설치될 경우, 고정 베이스가 측정 영역으로부터 이탈하지 않고 비교적 오랜 시간동안 측정 영역에 설치될 수 있으므로, 측정할 때에는 측정 헤드를 고정 베이스에 설치하고, 측정하지 않을 때에는 고정 베이스에서 이탈시킬 수 있다. 또한, 고정 베이스는 측정 영역에 대응하는 위치에 설치되어 있으므로, 측정 헤드가 고정 베이스로부터 이탈된 후 다시 고정 베이스에 설치될 경우, 여전히 비교적 좋은 위치확정 정밀도를 유지할 수 있으며, 측정 헤드의 위치확정 난이도를 저하시킬 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 영역에서의 피부의 피부 상태는 제1 결합구를 통해 고정 베이스를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하는 과정에 제1 소정 조건을 만족한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 영역에서의 피부의 피부 상태는 측정 헤드를 고정 베이스에 설치하는 과정에 제2 소정 조건을 만족한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 고정 베이스를 고정하는 동작은 대응하는 위치의 피부의 피부 상태에 영향을 줄 수 있고, 나아가서 측정 영역의 위치확정 정밀도에 영향을 줄 수 있으므로, 측정 영역의 위치확정 정밀도를 향상시키기 위해, 제1 결합구가 고정 베이스를 고정하는 과정에 측정 영역에서의 피부의 피부 상태가 제1 소정 조건을 만족하도록 보장할 수 있다. 여기서, 제1 소정 조건이라는 것은, 제1 결합구가 고정 베이스를 고정하는 과정에 대응하는 위치에서의 피부의 피부 상태의 변화가 제1 소정 범위 내에 있음을 의미할 수 있다. 피부 상태의 변화는 피부 변형을 포함할 수 있다. 이에 대응하여, 제1 소정 범위는 제1 소정 변형 범위를 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 헤드를 고정하는 동작은 대응하는 위치의 피부의 피부 상태에 영향을 줄 수 있고, 나아가서 측정 영역의 위치확정 정밀도에 영향을 줄 수 있으므로, 측정 영역의 위치확정 정밀도를 향상시키기 위해, 고정 베이스가 측정 헤드를 고정하는 과정에 측정 영역에서의 피부의 피부 상태가 제2 소정 조건을 만족하도록 보장할 수 있다. 여기서, 제2 소정 조건이라는 것은, 고정 베이스가 측정 헤드를 고정하는 과정에 대응하는 위치에서의 피부의 피부 상태의 변화가 제2 소정 범위 내에 있음을 의미할 수 있다. 피부 상태의 변화는 피부 변형을 포함할 수 있다. 이에 대응하여 제2 소정 범위는 제2 소정 변형 범위를 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 헤드는 고정 베이스에서 이동이 발생되지 않는다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 헤드가 고정 베이스에 고정될 때, 고정이 확고하지 않아 측정 정밀도에 영향을 주는 문제점이 발생할 수도 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위해서는, 조직 성분 측정 과정에 측정 헤드로 하여금 고정 베이스에서 이동되지 않도록 최대한 보장할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 고정 유닛은 제2 결합구를 포함한다.
측정 헤드를 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하는 것은, 하기와 같은 동작들을 포함할 수 있다.
제2 결합구를 통해 측정 헤드를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 헤드를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하는 방식에 관해서는, 앞에서 설명한 고정 베이스를 통해 측정 헤드를 측정 영역에 대응되는 위치에 설치하는 방식 외에도, 측정 헤드를 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설정하는 방식을 사용할 수도 있다. 즉, 고정 베이스가 필요 없고 제2 결합구와 결합함으로써 구현할 수도 있다.
지적해두어야 할 것은, 상기의 고정 베이스가 필요 없다는 것은 다음과 같은 2 가지 이해를 포함할 수 있다. 첫째, 측정 헤드에는 측정 헤드와 일체형이고 독립적인 고정 베이스와 동일한 역할을 하는 구조가 설치되어 있다는 것이다. 둘째, 측정 헤드에 독립적인 고정 베이스와 동일한 역할을 하는 구조가 설치되어 있지 않는 것이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 영역에서의 피부의 피부 상태는, 제2 결합구를 통해 측정 헤드를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하는 과정에 제3 소정 조건을 만족한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 헤드를 고정하는 동작은 대응하는 위치의 피부의 피부 상태에 영향을 줄 수 있고, 나아가서 측정 영역의 위치확정 정밀도에 영향을 줄 수 있으므로, 측정 영역의 위치확정 정밀도를 향상시키기 위해, 제2 결합구가 측정 헤드를 고정하는 과정에 측정 영역에서의 피부의 피부 상태가 제3 소정 조건을 만족하도록 보장할 수 있다. 여기서, 제3 소정 조건이라는 것은, 제2 결합구가 측정 헤드를 고정하는 과정에 대응하는 위치에서의 피부의 피부 상태의 변화가 제3 소정 범위 내에 있음을 의미할 수 있다. 피부 상태의 변화는 피부 변형을 포함할 수 있다. 이에 대응하여, 제3 소정 범위는 제3 소정 변형 범위를 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 상기 방법은, 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치한 후, 하기와 같은 동작들을 더 포함할 수 있다.
측정 헤드에 의해 수집된 각 출사광에 대응하는 출력 광도를 취득한다. 적어도 하나의 소정의 파장에 대응하는 적어도 하나의 출력 광도에 따라, 측정하고자 하는 조직 성분의 농도를 확정한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치한 후, 측정 영역에서 생체 조직 성분 측정을 진행하여, 측정하고자 하는 조직 성분의 농도를 확정할 수 있다.
적어도 하나의 소정의 파장에 대응하는 적어도 하나의 출력 광도에 따라, 측정하고자 하는 조직 성분의 농도를 확정하는 동작은, 하기와 같은 동작들을 포함할 수 있다. 적어도 하나의 소정의 파장 중의 각 소정의 파장에 대해, 상기 소정의 파장에 대응하는 적어도 2개의 출력 광도로부터 제1 출력 광도와 제2 출력 광도를 확정하고, 소정의 파장에 대응하는 제1 출력 광도와 제2 출력 광도를 차분 처리하여 차분 신호를 얻고, 각 소정의 파장에 대응하는 차분 신호에 따라 측정하고자 하는 조직 성분의 농도를 확정한다.
소정의 파장에 대응하는 제1 출력 광도와 제2 출력 광도를 차분 처리하여 차분 신호를 얻는 동작은, 하기와 같은 동작들을 포함할 수 있다. 차분회로를 사용하여 소정의 파장에 대응하는 제1 출력 광도와 제2 출력 광도를 처리하여 차분 신호를 얻는다. 또는, 차분 알고리즘을 사용하여 소정의 파장에 대응하는 제1 출력 광도와 제2 출력 광도를 처리하여 차분 신호를 얻는다.
차분 알고리즘을 사용하여 소정의 파장에 대응하는 제1 출력 광도와 제2 출력 광도를 처리하여 차분 신호를 얻는 동작은, 하기와 같은 동작들을 포함할 수 있다. 소정의 파장에 대응하는 제1 출력 광도와 제2 출력 광도에 대해 직접 차분 연산함으로써, 차분 신호를 얻는다. 또는, 소정의 파장에 대응하는 제1 출력 광도와 제2 출력 광도를 대수 처리하여, 제1 대수 광도 및 제2 대수 광도를 얻고, 소정의 파장에 대응하는 제1 대수 광도와 제2 대수 광도에 대해 차분 연산함으로써, 차분 신호를 얻는다.
본 개시의 실시예에 의하면, 차분 처리를 통해 공통 모드 간섭정보를 효과적으로 약화시킬 수 있고, 나아가서, 측정 정밀도를 향상시킬 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 헤드에 의해 수집된 각 출사광에 대응하는 출력 광도를 취득하는 동작은, 하기와 같은 동작들을 포함할 수 있다.
측정 헤드에 의해 수집된 각 출사광에 대응하는 광도 값을 취득하여 T개의 출력 광도를 얻고, 측정 헤드에는 M개의 감광면이 설치되어 있고, 각 출력 광도는 하나 또는 복수의 감광면이 수집한 출사광의 광도 값에 따라 처리하여 얻은 것이고, 각 감광면은 감광면에 대응하는 소정의 떨림 방지 범위 내의 출사위치에서 출사되는 출사광의 광도 값을 수집할 수 있고, 1≤T≤M이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 맥박 박동으로 인한 피부 떨림이 측정 결과에 미치는 부정적인 영향을 최소화하기 위해, 발명자는 비교적 큰 면적을 갖는 감광면(즉, 대면적 감광면)으로 출사광의 광도 값을 수집하는 방안을 통해, 맥박 박동으로 인해 측정 결과에 미치는 부정적인 영향을 효과적으로 억제할 수 있다는 것을 발견하였다. 즉, 대면적 감광면은 맥박 박동으로 인한 부정적인 영향을 효과적으로 억제할 수 있다. '대면적 감광면'라는 것은, 감광면으로 하여금 소정의 떨림 방지 범위 내의 출사위치에서 출사되는 출사광의 광도 값을 수집할 수 있도록 하는 감광면의 면적이라고 이해할 수 있다. 대면적 감광면의 면적은 연속적이고, 단일 광섬유 수광 및 복수의 단일 광섬유를 결합하여 수광하는 것과 달리, 대면적 감광면은 감광성 재료로 제조된 것이다. 이하, 대면적 감광면으로 출사광의 출력 광도를 수집하는 방안을 통해, 맥박 박동으로 인한 피부 떨림이 측정 결과에 미치는 부정적인 영향을 효과적으로 억제할 수 있는 이유에 대해 구체적으로 설명한다.
대면적 감광면은 감광면 중 출사광을 안정적으로 수광할 수 있는 면적이 해당 감광면의 면적에서 차지하는 비율을 높일 수 있으므로, 출사광을 수광하는 안정성을 향상시킬 수 있고, 나아가서, 맥박 박동으로 인한 출사광의 광도 분포의 변화에 따른 부정적인 영향을 감소시켜, 측정 정밀도를 향상시킬 수 있다. 여기서, 안정성은 감광면에 의해 수광된 출사광의 광도 값의 상대적 변화량 또는 광도 값의 표준편차로 표시할 수 있고, 광도 값의 상대적 변화량이 작을수록 안정성이 더 높고, 광도 값의 표준편차가 작을수록 안정성이 더 높다.
예시적으로, 맥박 박동은 혈관 상태를 통해 반영할 수 있다. 도6은 본 개시의 실시예에 따른 떨림이 발생할 경우 비교적 작은 면적의 감광면을 사용하여 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도7은 본 개시의 실시예에 따른 떨림이 발생할 경우 비교적 큰 면적의 감광면을 사용하여 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도6 및 도7에서 발생하는 떨림은 동일하고, 도6의 감광면A의 면적은 도7의 감광면B의 면적보다 작다. 감광면A와 감광면B는 모두 정방형의 감광면이다. 도6 및 도7에서 혈관 상태1은 혈관의 수축 상태를 나타내고, 혈관 상태2는 혈관의 확장 상태를 나타내며, 피부 상태1은 혈관 상태1에 대응하는 피부 상태를 나타내고, 피부 상태2는 혈관 상태2에 대응하는 피부 상태를 나타낸다. 피부 상태1로부터 피부 상태2까지는 떨림을 나타낸다.
동일한 떨림이 발생되는 경우, 면적이 서로 다른 감광면을 사용하여 취득한 측정 결과를 비교하였다. 측정 결과는 감광면이 소정 시간대에 수광한 출사광의 광도 값의 상대적 변화량 또는 광도 값의 표준편차로 표시한다. 여기서, 광도 값의 상대적 변화량은 하기 방식을 통해 확정할 수 있다. 즉, 소정 시간대의 최대 광도 값과 최소 광도 값의 차이값을 계산하고, 소정 시간대의 출사값의 평균값을 계산하고, 차이값과 평균값의 비의 값을 계산하고, 해당 비의 값을 광도 값의 상대적 변화량으로 한다. 소정 시간대는 하나의 박동 주기일 수 있다.
측정 결과를 보면, 감광면이 수광한 출사광의 광도 값의 상대적 변화량을 사용하여 측정 결과를 표시하든, 감광면이 수광한 출사광의 광도 값의 표준편차를 사용하여 측정 결과를 표시하든, 감광면B를 사용하여 취득한 측정 결과는 모두 감광면A를 사용하여 취득한 측정 결과보다 좋다.
감광면B의 면적이 감광면A의 면적보다 크므로, 이는 대면적 감광면의 경우, 출사광을 수광하는 안정성을 향상시킬 수 있고, 나아가서 떨림으로 인한 출사광의 광도 분포의 변화에 따른 부정적인 영향을 감소시킬 수 있어, 측정 정밀도를 향상시킬 수 있다는 것을 설명할 수 있다.
또한, 출사광의 출력 광도가 비교적 미약하고, 측정하고자 하는 조직 성분의 농도 변화에 따른 출력 광도 변화도 비교적 약하며, 종래 기술에서 사용되는 출사광을 수광하는 방식으로 수광된 출사광의 효율도 비교적 낮으므로, 수광된 출력 광도의 신호 대 잡음비가 비교적 낮고, 이로 인해 측정 정밀도가 높지 않다. 본 개시의 실시예의 대면적 감광면은 출력 광도의 신호 대 잡음비를 향상시킬 수 있고, 나아가서 측정 정밀도를 향상시킬 수 있다. 이는 대면적 감광면이 넓은 범위에서의 출사광의 수광이 가능하고, 출사광의 수광 효율을 향상시킬 수 있기 때문이다. 이로써, 출력 광도의 신호 대 잡음비를 향상시킬 수 있고, 측정 정밀도를 향상시킬 수 있다.
지적해두어야 할 것은, 본 개시의 실시예에 따른 대면적 감광면은 측정 영역의 표면으로부터의 거리가 비교적 작은 경우, 즉, 측정 영역의 표면에 근접할 수 있는 경우에 출사광을 수광하는 비교적 높은 안정성과 효율을 실현할 수 있다. 이는 단일 광섬유을 사용하여 수광하거나 복수의 단일 광섬유을 결합하여 수광하는 방안을 통해 전혀 실현할 수 없다. 그 이유로는, 첫째, 광섬유의 개구수의 제약을 받기 때문이고, 둘째, 광섬유의 상태 변화의 제약을 받기 때문이다. 광섬유의 상태 변화는 환경의 영향을 쉽게 받으므로, 그 변화는 출사광을 수광하는 안정성에 큰 영향을 미친다.
측정 정밀도를 향상시키기 위해, 각 감광면이 해당 감광면에 대응하는 소정의 떨림 방지 범위 내의 출사위치에서 출사되는 출사광의 광도 값을 수집할 수 있도록 최대한 보장해야 하는데, 이는 감광면의 면적이 가급적 클 것을 요구한다. 각 감광면은 대응하는 소정의 떨림 방지 범위를 갖고 있고, 서로 다른 감광면의 소정의 떨림 방지 범위는 동일하거나 서로 다르다. 이하, 실시예를 통해 감광면의 면적이 클수록 맥박 박동으로 인한 피부 떨림을 억제하는 효과가 더 우수함을 설명한다. 감광면A의 면적이 감광면B의 면적보다 작고, 감광면A와 감광면B는 모두 정방형의 감광면이라고 한다.
감광면A와 감광면B를 각각 측정 영역의 동일한 위치에 설치하되, 해당 위치는 혈관에 가까운 위치이다. 다른 조건은 동일하도록 하여, 감광면A와 감광면B를 사용하여 취득한 측정 결과를 비교한다. 여기서, 측정 결과는 감광면이 하나의 박동 주기 내에 수광한 출사광의 광도 값의 상대적 변화량 또는 광도 값의 표준편차로 표시한다. 광도 값의 상대적 변화량의 계산방식은 앞에서 설명한 바와 같으며, 여기서는 설명을 생략한다. 감광면B에 의해 수광된 출사광의 광도 값의 상대적 변화량은 감광면A에 의해 수광된 출사광의 광도 값의 상대적 변화량보다 작고, 감광면B에 의해 수광된 출사광의 광도 값의 표준편차는 감광면A에 의해 수광된 출사광의 광도 값의 표준편차보다 작다는 것을 발견하였다. 이로부터 알 수 있는 바와 같이, 감광면이 수광한 출사광의 광도 값의 상대적 변화량을 사용하여 측정 결과를 표시하든, 감광면이 수광한 출사광의 광도 값의 표준편차를 사용하여 측정 결과를 표시하든, 감광면B를 사용하여 취득한 측정 결과는 모두 감광면A를 사용하여 취득한 측정 결과보다 좋다.
감광면B를 사용하여 취득한 측정 결과가 감광면A를 사용하여 취득한 측정 결과보다 좋고, 감광면B의 면적이 감광면A의 면적보다 크기 때문에, 이는 감광면의 면적이 클수록 맥박 박동으로 인한 피부 떨림을 억제하는 효과가 더 우수하다는 것을 설명한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 각 감광면은 환형 감광면 또는 비환형 감광면일 수 있고, 비환형 감광면은 부채 고리형 감광면, 원형 감광면, 부채형 감광면, 타원형 감광면 또는 다각형 감광면을 포함할 수 있다. 다각형 감광면은 정방형 감광면, 장방형 감광면 또는 삼각형 감광면을 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, M개의 감광면 중의 각 감광면은 단독으로 사용하거나, 부분적으로 결합하여 사용하거나 또는 전부 결합하여 사용할 수 있으며, 결합하여 사용한다는 것은 하나의 출력 광도를 출력하는 것을 의미한다. 본 개시의 실시예에서, 하나의 출력 광도를 출력하기 위한 감광면을 동일 종류의 감광면이라고 하고, 동일 종류의 감광면은 하나 또는 복수의 감광면을 포함할 수 있다. 여기서, 서로 다른 감광면을 결합하여 사용하는 조건은, 각 감광면에 의해 수광된 출사광의 평균 광행로가 평균 광행로 범위 내에 있는 것일 수 있다. 평균 광행로 범위는 제1 평균 광행로 임계치보다 크거나 같고 제2 평균 광행로 임계치보다 작거나 같은 범위일 수 있다. 제1 평균 광행로 임계치와 제2 평균 광행로 임계치는 광행로 평균값과 광행로 변화폭에 따라 확정한 것일 수 있다. 광행로 평균값은 동일 종류의 감광면의 각 감광위치에서 수광한 출사광의 평균 광행로에 따라 계산하여 얻은 평균값이다. 예시적으로, 광행로 평균값이 a이고, 광행로 변화폭이 ±30%인 경우, 제1 평균 광행로 임계치는 0.7a일 수 있고, 제2 평균 광행로 임계치는 1.3a일 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 동일 종류의 감광면은 환형 감광면 또는 비환형 감광면일 수 있다. 동일 종류의 감광면이 환형 감광면이라는 것은, 다음과 같은 경우를 포함할 수 있다. 즉, 동일 종류의 감광면이 하나의 감광면을 포함하는 경우, 동일 종류의 감광면은 독립적인 환형 감광면이다. 동일 종류의 감광면이 복수의 감광면을 포함하는 경우, 동일 종류의 감광면은 복수의 감광면의 조합에 의해 형성된 환형 감광면이다. 동일 종류의 감광면이 비환형 감광면이라는 것은, 다음과 같은 경우를 포함할 수 있다. 즉, 동일 종류의 감광면이 하나의 감광면을 포함하는 경우, 동일 종류의 감광면은 독립적인 비환형 감광면이다. 동일 종류의 감광면이 복수의 감광면을 포함하는 경우, 동일 종류의 감광면은 복수의 감광면의 조합에 의해 형성된 비환형 감광면이다.
소정의 파장에 대응하는 적어도 하나의 출력 광도를 취득한 후, 간섭 억제 방법을 사용하여 적어도 하나의 소정의 파장에 대응하는 적어도 하나의 출력 광도를 처리하여, 측정하고자 하는 조직 성분의 농도를 확정할 수 있다. 여기서, 간섭 억제 방법은 차분 측정 방법을 포함할 수 있다. 차분 측정 방법은 시간 차분 측정 방법, 위치 차분 측정 방법 또는 파장 차분 측정 방법을 포함할 수 있다. 또는, 비차분 측정 방법을 사용하여 적어도 하나의 출력 광도를 처리하여, 측정하고자 하는 조직 성분의 농도를 확정할 수도 있다. 각 출력 광도는 확산 산란 광도 또는 확산 투과 광도를 포함할 수 있다.
지적해두어야 할 것은, 떨림 방지부를 측정 영역에 설치하는 방식을 통해 조직 내에서의 빛의 전송 경로의 변화를 억제하는 효과가 좋지 않을 경우, 즉, 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 있지 않을 경우, 대면적 감광면을 사용함으로써 조직 내에서의 빛의 전송 경로의 변화를 효과적으로 제어할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 각 감광면이 수광된 출사광의 목표 조직층에서의 평균 광행로가 총 광행로에서 차지하는 비율은 비율 임계치보다 크거나 같고, 총 광행로는 출사광이 측정 영역 내에서 전송되는 총 거리이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정하고자 하는 대상의 조직 모델은 통상적으로 층모양 구조로서, 한 층 또는 복수 층으로 구분될 수 있다. 하지만, 서로 다른 조직층이 갖고 있는 측정하고자 하는 조직 성분의 정보가 서로 다르므로, 측정 정밀도를 향상시키기 위해, 출사광의 전송 경로로 하여금 주로 측정하고자 하는 조직 성분에 대한 정보가 비교적 풍부한 조직층을 통과하도록 해야 한다. 목표 조직층은 측정하고자 하는 조직 성분에 대한 정보가 비교적 풍부한 조직층이거나, 또는, 측정하고자 하는 조직 성분의 주요 공급원인 조직층일 수 있다. 이하, 측정하고자 하는 대상이 인체이고, 측정하고자 하는 조직 성분이 혈당인 경우를 예를 들어 설명하기로 한다.
인체의 피부 조직 모델은 3층 모델이고, 바깥쪽으로부터 차례로 표피층, 진피층 및 피하지방층이다. 여기서, 표피층은 소량의 조직액을 포함하고, 혈장 및 임파액은 포함하지 않는다. 진피층은 대량의 조직액을 포함하고, 풍부한 모세혈관이 존재하므로 다량의 혈장과 소량의 임파액도 포함한다. 피하지방층은 소량의 세포액을 포함하고, 정맥과 동맥 등 혈관이 존재하므로 다량의 혈장과 소량의 임파액을 포함한다. 이로부터 알 수 있는 바와 같이, 서로 다른 조직층이 갖고 있는 측정하고자 하는 조직 성분의 정보는 서로 다르다.
표피층에는 소량의 조직액이 포함되어 있으므로, 표피층은 혈당 정보의 적합한 공급원은 아니다. 피하지방층은 다량의 혈장과 상대적으로 적은 조직액을 포함하고 있으나, 입사광의 침투 깊이의 제한으로 인해, 피하지방층도 혈당 정보의 적합한 공급원은 아니다. 진피층은 풍부한 모세혈관과 대량의 조직액을 포함하고, 입사광 또한 진피층까지 쉽게 도달할 수 있으므로, 진피층을 혈당 정보의 주요 공급원으로 삼을 수 있다. 이에 대응하여, 목표 조직층은 진피층일 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 광행로와 침투 깊이에 따라 각 조직층에서의 출사광의 평균 광행로를 확정할 수 있다. 평균 광행로는 소스-헤드간 거리와 조직의 광학적 파라미터의 함수로 볼 수 있는데, 조직의 광학적 파라미터는 흡수계수, 산란계수 및 이방성 인자를 포함할 수 있다. 평균 광행로에 영향을 주는 요소에는 흡수계수, 산란계수, 이방성 인자 및 소스-헤드간 거리가 포함된다.
출사광의 전송 경로가 주로 목표 조직층을 통과하는 출사광임을 최대한 보장하기 위해, 각 감광면이 수광한 출사광의 목표 조직층에서의 평균 광행로가 총 광행로에서 차지하는 비율은 비율 임계치보다 크거나 같아야 한다. 여기서, 총 광행로는 출사광이 측정 영역 내에서 전송되는 총 거리이다. 즉, 입사광이 측정 영역에 진입하고, 측정 영역 내에서 출사위치까지 전송될 때까지 지나야 할 경로의 총 거리이다. 여기서, 비율 임계치는 감광면의 중심과 입사광의 중심 사이의 소스-헤드간 거리 및 조직의 광학적 파라미터와 관련된다.
지적해두어야 할 것은, 본 개시의 실시예에서는 감광면이 수광한 출사광의 목표 조직층에서의 평균 광행로가 총 광행로에서 차지하는 비율에 대한 제한이 있으므로, 본 개시의 실시예에서 감광면의 면적은 너무 커서는 안되고, 면적 범위 내의 큰 면적이어야 한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 영역 내의 조직 구조 특징에 따라 동일 종류의 감광면의 총 면적을 확정한다. 여기서, 동일 종류의 감광면은 하나 또는 복수의 감광면을 포함하고, 동일 종류의 감광면은 하나의 출력 광도를 출력한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 동일 종류의 감광면의 총 면적은 측정 영역 내의 조직 구조 특징에 따라 확정될 수 있다. 여기서, 조직 구조 특징은 측정 영역이 갖는 구조 특징이라고 이해할 수 있다.
예시적으로, 예를 들어, 측정 영역이 3개의 혈관이 교차하는 영역일 경우, 동일 종류의 감광면을 3개의 혈관이 교차하는 영역에 설치하면, 동일 종류의 감광면의 총 면적은 3개의 혈관이 교차하는 영역의 면적의 제약을 받게 된다. 즉, 동일 종류의 감광면의 총 면적은 3개의 혈관이 교차하는 영역의 면적에 따라 확정하여야 한다.
또 예를 들면, 측정 영역이 손가락이 있는 영역일 경우, 동일 종류의 감광면을 손가락이 있는 영역에 설치하면, 동일 종류의 감광면의 총 면적은 손가락이 있는 영역의 면적의 제약을 받게 된다. 즉, 동일 종류의 감광면의 총 면적은 손가락이 있는 영역의 면적에 따라 확정하여야 한다.
지적해두어야 할 것은, 본 개시의 실시예에서 감광면의 면적은 조직 구조 특징에 따라 확정할 수 있으나, 통상적으로 조직 구조 특징에 따라 확정되는 면적은 너무 커서는 안되므로, 본 개시의 실시예에서 감광면의 면적은 너무 커서는 안되며, 면적 범위 내의 큰 면적이어야 한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 각 감광면의 면적과 감광면의 둘레의 비의 값은 비의 값 임계치보다 크거나 같다.
본 개시의 실시예에 의하면, 맥박 박동으로 인한 피부 떨림이 측정 영역에서의 출사광의 광도 분포에 주는 영향을 감소시키기 위해, 감광면의 면적과 감광면의 둘레의 비의 값을 최대한 크게 할 수 있다. 즉, 비의 값이 비의 값 임계치보다 크거나 같을 수 있다. 그 이유는 아래와 같다.
이하, 설명의 편리를 위해, 감광면을 가장자리 부분과 비가장자리 부분(또는, 내부 부분)의 2개의 부분으로 나눈다. 통상적으로 떨림은 주로 가장자리 부분에서 수집한 출사광에 영향을 주고, 비가장자리 부분이 받는 영향은 비교적 작다. 즉, 비가장자리 부분은 비교적 안정적으로 출사광을 수집할 수 있다. 다른 시각으로 본다면, 피부 떨림이 있을 경우, 측정 영역에서의 출사광의 광도 분포가 미세하게 변화하므로, 가장자리 부분에 의해 수광된 출사광의 광도 값은 출사광의 광도 분포의 변화에 따라 크게 변화하지만, 비가장자리 부분에 위치하는 출사광은 대부분 비교적 안정적으로 감광면에 의해 수집될 수 있으므로, 비가장자리 부분에 의해 수광된 출사광의 광도 값은 상대적으로 안정성을 유지할 수 있다. 따라서, 맥박 박동으로 인한 피부 떨림이 측정 결과에 미치는 부정적인 영향을 효과적으로 억제하기 위해, 비가장자리 부분에 대응하는 면적과 감광면의 면적의 비의 값을 최대한 크게 할 수 있는데, 비의 값이 클수록 부정적인 영향을 약화시키는 효과가 더 좋다. 여기서, 가장자리 부분은 감광면의 둘레로 표시할 수 있고, 비가장자리 부분은 감광면의 면적으로 표시할 수 있다. 따라서, 감광면의 면적과 감광면의 둘레의 비의 값을 최대한 크게 할 수 있다.
예시적으로, 감광면(1)은 원형 감광면이고, 감광면(2)는 정방형 감광면이다. 둘레가 같은 경우, 감광면(1)의 면적이 감광면(2)의 면적보다 크기 때문에, 감광면(1)의 면적과 둘레의 비의 값이 감광면(2)의 면적과 둘레의 비의 값보다 크고, 이로써, 감광면(1)의 부정적인 영향을 약화시키는 효과가 감광면(2)의 부정적인 영향을 약화시키는 효과보다 좋다.
지적해두어야 할 것은, 감광면의 면적과 감광면의 둘레의 비의 값이 비의 값 임계치보다 크거나 같다는 것은, 감광면의 면적이 면적 임계치보다 크거나 같다는 조건을 만족함을 의미한다. 이하, 이에 대해 설명하기로 한다. 대부분 형상의 감광면에 대해, 통상적으로 감광면의 면적과 감광면의 둘레의 비의 값이 비의 값 임계치보다 크거나 같으면, 실제로 감광면의 면적의 크기도 같이 제한된다. 이는 통상적으로 대부분 형상의 도형에 대해, 도형의 면적과 둘레의 비의 값은 면적의 크기와 양의 상관관계를 갖고 있기 때문이다. 즉, 도형의 면적과 둘레의 비의 값이 클수록 도형의 면적도 커진다.
예시적으로, 원형의 경우, 원형의 면적은 ðR2이고, 원형의 면적과 둘레의 비의 값은 R/2이며, 여기서, R은 반경을 나타낸다. 원형의 면적과 둘레의 비의 값은 단지 반경과 관련이 있고, 원형의 면적의 크기도 단지 반경과 관련되므로, 원형의 면적과 둘레의 비의 값은 면적의 크기와 양의 상관관계를 가지며, 원형의 면적과 둘레의 비의 값이 한정되면, 원형의 면적의 크기도 한정된다. 또한, 정방형의 경우, 정방형의 면적은 a2이고, 정방형의 면적과 둘레의 비의 값은 a/4이며, a는 변의 길이를 나타낸다. 정방형의 면적과 둘레의 비의 값은 단지 변의 길이와 관련이 있고, 정방형의 면적의 크기도 단지 변의 길이와 관련되므로, 정방형의 면적과 둘레의 비의 값은 면적의 크기와 양의 상관관계를 가지며, 정방형의 면적과 둘레의 비의 값이 한정되면, 정방형의 면적의 크기도 한정된다.
본 개시의 실시예에 의하면, 비의 값 임계치는 0.04mm보다 크거나 같다.
본 개시의 감광면의 면적은 상대적인 큰 면적이다. 즉, 감광면의 면적은 면적 범위 내의 큰 면적이다. 이하, 해당 경우에 대해 설명하기로 한다.
첫째, 감광면의 면적이 너무 작아서는 안된다. 본 개시의 실시예에서 대면적 감광면이라는 것은, 감광면이 소정의 떨림 방지 범위 내의 출사위치에서 출사되는 출사광의 광도 값을 수집할 수 있도록 하는 감광면의 면적을 의미하므로, 본 개시의 실시예에서 대면적 감광면의 대면적은 떨림을 방지하기 위한 대면적이다. 또한, 감광면의 면적과 감광면의 둘레의 비의 값으로, 감광면이 소정의 떨림 방지 범위 내의 출사위치에서 출사되는 출사광의 광도 값을 수집할 수 있도록 하는 감광면의 면적을 표시할 수 있다. 통상적인 경우, 감광면의 면적과 둘레의 비의 값은 감광면의 면적과 양의 상관관계를 가지므로, 감광면의 면적과 감광면의 둘레의 비의 값이 비의 값 임계치보다 크거나 같으면, 실제로 감광면의 면적의 크기도 한정하게 된다. 즉, 감광면의 면적과 둘레의 비의 값이 비의 값 임계치보다 크거나 같도록 함으로써, 감광면의 면적이 너무 작지 않도록 한정할 수 있다.
둘째, 감광면의 면적이 너무 커서는 안된다. 본 개시의 실시예에서, 감광면이 수광한 출사광의 목표 조직층에서의 평균 광행로가 총 광행로에서 차지하는 비율이 비율 임계치보다 크거나 같고, 감광면의 면적은 조직 구조 특징에 따라 확정한 것이다. 이는 감광면의 면적이 너무 커서는 안된다는 것을 의미한다.
이로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 개시의 실시예에서 감광면의 면적은 상대적인 대면적이다. 즉, 면적 범위 내의 큰 면적이다.
또한, 감광면의 면적이 비교적 크지만, 감광면의 둘레도 비교적 커서 감광면의 면적과 감광면의 둘레의 비의 값이 크지 않는 경우도 있다. 즉, 감광면의 면적과 감광면의 둘레의 비의 값이 비의 값 임계치보다 작으므로, 절대적인 대면적의 감광면임에도 불구하고 떨림을 방지하는 요구를 만족하기 어려울 수 있다. 또한, 감광면의 면적이 너무 작고, 감광면의 둘레가 비교적 커서, 감광면의 면적과 감광면의 둘레의 비의 값이 비의 값 임계치보다 작은 경우도 있다. 따라서, 감광면의 면적이 너무 작아도 떨림을 방지하는 요구를 만족하기 어렵다.
본 개시의 실시예에 의하면, 감광면은 측정 영역의 표면과 접촉하거나 접촉하지 않는다.
본 개시의 실시예에 의하면, 본 개시의 실시예에 의하면, 조직 성분 측정 형태에는 접촉식 측정과 비접촉식 측정이 있다. 여기서, 접촉식 측정은 간섭광이 감광면에 의해 수광되는 것을 피할 수 있으므로 측정 정밀도를 향상시킬 수 있다. 비접촉식 측정은 온도와 압력 등 간섭 요인이 측정 결과에 주는 영향을 피할 수 있으므로 측정 정밀도를 향상시킬 수 있다.
감광면이 측정 영역의 표면과 접촉되도록 설치할 경우, 조직 성분 측정의 형대가 접촉식 측정이라고 볼 수 있다. 감광면이 측정 영역의 표면과 접촉하지 않도록 설치할 경우, 조직 성분 측정의 형대가 비접촉식 측정이라고 볼 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 감광면에서 측정 영역의 표면까지의 거리는 거리 임계치보다 작거나 같고, 감광면이 출사광을 수광하는 효율은 효율 임계치보다 크거나 같다.
본 개시의 실시예에 의하면, 감광면은 대면적 감광성 재료로 제조된 것이고, 감광면에서의 각 감광위치는 연속적이므로, 넓은 범위에서의 출력 광도의 수광이 가능하고, 수광하는 효율을 향상시킬 수 있다. 이로부터, 측정 영역의 표면에 근접한 경우더라도, 즉, 감광면에서 측정 영역의 표면까지의 거리가 거리 임계치보다 작거나 같은 경우더라도, 수광하는 효율이 효율 임계치보다 크거나 같도록 할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 각 감광면은 환형 감광면 또는 비환형 감광면을 포함하고, 서로 다른 감광면의 형상은 동일하거나 서로 다르다.
본 개시의 실시예에 의하면, 각 감광면은 감광성 재료로 제조될 수 있다. 환형 감광면은 방위 확정이 필요없고, 비교적 작은 소스-헤드간 거리 범위 내에서 비교적 큰 면적의 설계가 가능하다. 지적해두어야 할 것은, 생체 조직 성분을 측정함에 있어서, 소스-헤드간 거리는 통상적으로 비교적 중요한 물리량이므로, 비교적 작은 소스-헤드간 거리 범위 내에서 비교적 큰 면적의 설계가 가능한 것은 매우 큰 의미가 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 일부 경우에 있어서, 비환형 감광면을 사용하면 하기와 같은 유익한 효과가 있다.
첫째, 측정 결과는 측정 영역의 영향을 받게 되는데, 통상적으로, 감광면을 측정에 유리한 측정 영역에 설치하는 경우와, 감광면을 측정에 대해 간섭이 있는 측정 영역에 설치하는 경우를 비교하면, 감광면을 측정에 유리한 측정 영역에 설치하는 경우에 더 좋은 측정 결과를 얻을 수 있으므로, 조직 구조 특징에 따라 감광면을 적합한 위치에 설치할 수 있다. 비환형 감광면의 경우, 예를 들어, 혈관이나 상처 부위와 같은 측정에 대해 간섭이 있는 측정 영역을 쉽게 피할 수 있으므로, 비환형 감광면을 사용하면 비교적 좋은 효과를 얻을 수 있다.
둘째, 조직의 불균일성으로 인해 동일한 입사광의 조직 내에서의 전송 경로가 다를 수 있고, 또한, 서로 다른 출사위치의 출사광에 대응하는 평균 광행로가 다를 수 있다. 측정하고자 하는 조직 성분이 혈당인 경우를 예로 들면, 통상적으로 진피층이 혈당 신호의 주요 공급원이므로, 출사광은 주로 진피층에서 전송된 후 얻은 출사광이여야 하고, 이에 대응하여, 출사광에 대응하는 평균 광행로에 대해 일정한 요구가 있다.
평균 광행로에 대한 요구에 따라 이에 대응하는 크기의 환형 감광면을 설계하였다고 가정하면, 해당 환형 감광면의 서로 다른 감광위치에서 수광한 출사광에 대응하는 평균 광행로는 거의 비슷하고, 또한 주로 진피층을 통과하는 출사광이며, 평균 광행로는 평균 광행로 범위C 내에 있다고 볼 수 있다. 이 경우, 피부 조직이 균일하다면, 상기 결론은 실제 상황에 부합된다. 하지만, 통상적으로 피부 조직은 균일하지 않으므로, 동일 환형 감광면의 서로 다른 감광위치에서 수광한 출사광에 대응하는 평균 광행로의 차이는 비교적 크다. 예를 들어, 환형 감광면의 일부 감광위치에서 수광한 출사광에 대응하는 평균 광행로는 거의 비슷하고, 모두 평균 광행로 범위C 내에 있으나, 해당 환형 감광면의 다른 일부의 감광위치에서 수광한 출사광에 대응하는 평균 광행로는 이와 차이가 비교적 크고, 평균 광행로 범위C 내에 있지 않는다. 출사광의 평균 광행로가 평균 광행로 범위C 내에 있다는 것은 출사광이 주로 진피층을 통과하는 출사광임을 의미하고, 평균 광행로 범위C 내에 있지 않는 출사광은 주로 진피층을 통과하는 출사광이 아닐 수 있다. 또한, 환형 감광면은 하나의 출력 광도를 출력하므로, 피부 조직이 균일하지 않을 경우, 환형 감광면을 사용하여 취득한 출력 광도의 신호 품질이 높지 않고, 측정 정밀도에 영향을 줄 수 있다.
이에 비해, 비환형 감광면의 경우, 실제 상황에 따라 설치할 수 있다. 상술한 실예를 예로 들면, 평균 광행로 범위C 내에 있지 않는 평균 광행로가 평균 광행로 범위D 내에 있다고 가정하면, 2개의 비환형 감광면을 사용할 수 있는데, 그 중 하나의 비환형 감광면은 출사광의 평균 광행로가 평균 광행로 범위C 내에 있는 출사광의 출력 광도값를 수광하고, 다른 하나의 비환형 감광면은 출사광의 평균 광행로가 평균 광행로 범위D 내에 있는 출사광의 출력 광도값을 수광하며, 2개의 비환형 감광면의 출력 광도는 실제 상황에 부합되므로, 측정 정밀도를 보장하는데 유리하다.
셋째, 맥박파에 기초한 시간 차분 측정 방법을 사용하여 생체 조직 성분 측정을 진행할 경우, 수축기 광도와 확장기 광도의 차이가 최대한 커지도록 맥박 신호를 충분히 사용해야 한다. 상기와 같은 경우, 환형 감광면의 대부분이 혈관 위에 위치하지 않으므로, 맥박 신호의 수집 효과에 영향을 미치게 된다. 따라서 수축기 광도와 확장기 광도의 차이 정도를 감소시킨다. 이로부터 알 수 있는 바와 같이, 환형 감광면을 사용하여 얻은 수축기 광도와 확장기 광도의 차이 정도는 비환형 감광면을 사용하여 얻은 수축기 광도와 확장기 광도의 차이 정도보다 작다.
넷째, 조직의 불균일성 및 생리적 배경 변화가 출사광에 주는 영향으로 인해, 입사광의 중심으로부터 동일한 소스-헤드간 거리에 있는 서로 다른 감광면이 수광한 출사광의 평균 광행로에 차이가 있을 수 있으므로, 입사광의 중심으로부터 동일한 소스-헤드간 거리에 있는 서로 다른 감광면이 수집한 출력 광도에 대해 차분 연산을 실행하여, 조직 성분을 측정할 수 있다. 이는 상기 비환형 감광면으로 구현할 수 있다. 즉, 동일한 소스-헤드간 거리에 대해, 입사광의 중심을 중심으로 적어도 두 개의 비환형 감광면을 이산적으로 설치하여, 2개의 출력 광도를 출력할 수 있다.
다섯째, 제조 공정의 난이도가 비교적 작고, 제조 원가도 비교적 저렴하다.
이하, 도8을 참조하여 제4 측면에 대해 설명하기로 한다. 도8은 본 개시의 실시예에 따른 차분 측정의 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도8에 도시된 바와 같이, 도8에서는 4개의 부채 고리형 감광면, 즉, 부채 고리형 감광면(1), 부채 고리형 감광면(2), 부채 고리형 감광면(3) 및 부채 고리형 감광면(4)을 포함하고, 4개의 부채 고리형 감광면은 각각 단독으로 사용되며, 각 부채 고리형 감광면은 대응하는 하나의 출력 광도를 갖고 있다. 4개의 부채 고리형 감광면의 중심에서 입사광의 중심까지의 거리는 동일하다. 즉, 동일한 소스-헤드간 거리를 갖는다. 조직의 불균일성으로 인해 부채 고리형 감광면(1)과 부채 고리형 감광면(2)에서 수광한 출사광에 대응하는 평균 광행로가 다르므로, 부채 고리형 감광면(1)가 수집한 출력 광도와 부채 고리형 감광면(2)가 수집한 출력 광도에 따라 차분 연산하여 차분 측정을 실현할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 비환형 감광면은 부채 고리형 감광면, 원형 감광면, 부채형 감광면, 타원형 감광면 또는 다각형 감광면을 포함한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 다각형 감광면은 정방형 감광면, 장방형 감광면 또는 삼각형 감광면을 포함한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 실제 상황에 따라 중심각을 설계하여 대응하는 부채 고리형 감광면을 얻을 수 있다. 예를 들어, 중심각이 90°인 부채 고리형 감광면, 중심각이 180°인 부채 고리형 감광면, 중심각이 45°인 부채 고리형 감광면을 얻을 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 도9는 본 개시의 실시예에 따른 환형 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도10은 본 개시의 실시예에 따른 부채 고리형 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도11은 본 개시의 실시예에 따른 원형 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도12는 본 개시의 실시예에 따른 정방형 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
본 개시의 실시예에 의하면, 각 출력 광도는 하나 또는 복수의 감광면이 수집한 출사광의 광도 값에 따라 처리하여 얻은 것이고, 하기와 같은 동작들을 포함할 수 있다.
하나 또는 복수의 감광면을 조합하여 사용함으로써, 하나의 출력 광도를 출력한다. 하나 또는 복수의 감광면 중의 각 감광면을 단독으로 사용할 경우, 각 감광면이 수집한 출사광의 광도 값을 계산하여 하나의 출력 광도를 얻는다.
본 개시의 실시예에 의하면, 하나의 출력 광도를 출력하기 위한 감광면을 동일 종류의 감광면이라고 하고, 동일 종류의 감광면은 하나 또는 복수의 감광면을 포함할 수 있다. 여기서, 서로 다른 감광면을 조합하여 사용하는 조건은, 각 감광면에 의해 수광된 출사광의 평균 광행로가 평균 광행로 범위 내에 있는 것 일 수 있다. 평균 광행로 범위는 제1 평균 광행로 임계치보다 크거나 같고 제2 평균 광행로 임계치보다 작거나 같은 범위일 수 있다. 제1 평균 광행로 임계치와 제2 평균 광행로 임계치는 광행로 평균값과 광행로 변화폭에 따라 확정한 것일 수 있다. 광행로 평균값은 동일 종류의 감광면의 각 감광위치에서 수광한 출사광의 평균 광행로에 따라 계산하여 얻은 평균값이다.
감광면은 통상적으로 해당 감광면에 대응하는 증폭회로와 조합하여 사용됨으로써 하나의 광도 값을 출력한다. 동일 종류의 감광면이 보다 정확한 출력 광도를 출력할 수 있도록 하기 위해, 동일 종류의 감광면 중의 각 감광면의 광 응답율과 해당 감광면과 조합하여 사용하는 증폭회로의 증폭율의 적은 소정 값이어야 하고, 각 감광면의 광 응답율과 해당 감광면과 조합하여 사용하는 증폭회로의 증폭율이 동일한 소정값이도록 보장하는 경우, 동일 종류의 감광면에서 하나의 출력 광도를 출력할 수 있다. 감광면의 광 응답율과 해당 감광면과 조합하여 사용하는 증폭회로의 증폭율의 적이 동일한 소정값이 아닐 경우가 존재할 경우, 일정한 방법을 통해 적이 소정값이 되도록 해야 한다.
하드웨어 또는 소프트웨어 방식으로 동일 종류의 감광면에서 하나의 출력 광도를 출력하도록 할 수 있다.
방식1은 하드웨어 방식이다. 동일 종류의 감광면 중의 서로 다른 감광면의 음극을 서로 전기적으로 연결하고, 양극도 서로 전기적으로 연결할 수 있다. 즉, 서로 다른 감광면 사이에서 공음공양의 전기적 연결을 실현한다. 이 경우, 서로 다른 감광면을 병렬로 연결함으로써, 하나 또는 복수의 감광면을 조합하여 사용하는 것에 해당도고, 이로써 하나의 출력 광도를 출력하도록 한다. 지적해두어야 할 것은, 비교적 정확한 출력 광도를 얻기 위해, 서로 다른 감광면의 광 응답율이 일치하도록 최대한 보장해야 한다.
방식2는 소프트웨어 방식이다. 동일 종류의 감광면 중의 서로 다른 감광면의 음극은 서로 연결되지 않고, 양극도 서로 연결되지 않는다. 즉, 각 감광면은 단독으로 사용되어 하나의 광도 값을 출력한다. 각 감광면에 대응하는 광도 값을 얻은 후, 일정한 알고리즘을 사용하여 동일 종류의 감광면 중의 각 감광면의 광도 값을 가중 합산함으로써 하나의 출력 광도를 얻을 수 있다.
선택적으로, 동일 종류의 감광면에 대응하는 출력 광도는 하기 수식(2) 및 수식(3)을 통해 확정할 수 있다.
(2)
(3)
여기서, I는 동일 종류의 감광면에 대응하는 출력 광도를 나타내고, I i 는 감광면i에 대응하는 광도 값을 나타내고, i∈{1, 2, ......, N-1.M]이며, N은 동일 종류의 감광면에 포함되는 감광면의 수를 나타내고, 1≤N≤M이며, M는 감광면의 총 수량을 나타내고, α i 는 감광면i에 대응하는 가중계수를 나타내고, H는 소정값을 나타내고, β i 는 감광면i에 대응하는 광 응답율을 나타내고, γ i 는 감광면i와 조합하여 사용하는 증폭회로의 증폭율을 나타낸다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 영역에 조사되는 입사광의 광점의 광도 분포는 균일하다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정하고자 하는 대상이 보다 완화된 조건에서 조직 성분 측정을 진행함으로써 측정 정밀도를 보다 잘 보장할 수 있도록 하기 위해, 측정 영역에 조사되는 입사광의 광점의 광도 분포가 균일하도록 보장하는 방식으로 실현할 수 있다. 또한, 측정 영역에 조사되는 입사광의 광점의 광도 분포가 균일할수록, 제어 가능한 측정 조건의 재현성에 대한 요구가 낮아지고, 차분 측정 방법을 사용하여 제어가 가능하지 않는 측정 조건이 측정 결과에 주는 영향을 억제하는 효과가 더 우수하며, 따라서, 측정 정밀도를 보다 잘 보장할 수 있다. 또한, 측정 영역에서의 입사광의 광점의 광도 분포를 균일하게 하는 조치는 입사광의 광 에너지를 어느 정도 감쇄시키게 되는데, 조직 성분 측정함에 있어서는 입사광의 광 에너지가 너무 작으면 안되므로, 측정 영역에서의 입사광의 광점의 광도 분포가 균일하도록 최대한 보장함과 동시에 입사광의 광 에너지 감쇠를 가급적 작도록 보장하여야 한다. 또한, 입사광이 광섬유 전송 방식으로 구현된 것이면, 측정 영역에서의 입사광의 광점의 분포가 균일하도록 하여, 광섬유의 떨림이 측정 결과에 미치는 부정적인 영향도 감소시킬 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 영역에 조사되는 입사광의 광점의 면적은 광점 면적 임계치보다 크거나 같다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정하고자 하는 대상이 보다 완화된 조건에서 조직 성분 측정을 진행함으로써 측정 정밀도를 보다 잘 보장할 수 있도록 하기 위해, 측정 영역에 조사되는 입사광의 광점 면적이 광점 면적 임계치보다 크거나 같도록 하는 방식으로 실현할 수 있다. 또한, 일정한 범위 내에서, 측정 영역에 조사되는 입사광의 광점의 면적이 클수록, 제어 가능한 측정 조건의 재현성에 대한 요구가 낮아지고, 차분 측정 방법을 사용하여 제어가 가능하지 않는 측정 조건이 측정 결과에 주는 영향을 억제하는 효과가 더 우수하며, 따라서, 측정 정밀도를 보다 잘 보장할 수 있다. 여기서, 광점 면적 임계치는 실제 상황에 따라 설정할 수 있으며, 여기서는 구체적으로 한정하지 않는다. 또한, 입사광이 광섬유 전송 방식으로 구현된 것이면, 측정 영역에 조사되는 입사광의 광점의 면적이 광점 면적 임계치보다 크거나 같도록 하여, 광섬유 떨림이 측정 결과에 미치는 부정적인 영향도 감소시킬 수 있다.
도13은 본 개시의 실시예에 따른 떨림 영향을 억제하는 장치의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도13에 도시된 바와 같이, 떨림 영향을 억제하는 장치(1300)는 떨림 방지부(1310)를 포함하고, 떨림 방지부(1310)는, 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하여, 떨림 방지부(1310)와 연관 관계를 갖는 측정 헤드(1320)에서 수광한 출사광의 평균 광행로가 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 하며, 출사광은 적어도 하나의 소정의 파장의 입사광으로 측정 영역을 조사하고, 각 출사광은 입사광이 입사위치로부터 입사한 후 측정 영역의 출사위치로부터 출사되어 형성된 것이다.
본 개시의 실시예에 따른 기술방안에 의하면, 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하여, 떨림 방지부와 연관 관계를 갖는 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 함으로써, 조직 내에서의 빛의 전송 경로의 변화를 최대한 감소시키고, 측정 정밀도를 향상시킬 수 있도록 한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 영역에 가해지는 측정 압력은 측정 정밀도 한계에 따라 확정한 것이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 방지부(1310)는 측정 영역에서의 피부의 이동폭이 이동폭 임계치보다 작거나 같도록 한다. 또는, 떨림 방지부(1310)의 이동 규칙이 측정 영역에서의 피부 떨림 규칙과 일치하도록 한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 방지부(1310)의 이동 규칙이 측정 영역에서의 피부 떨림 규칙과 일치하도록, 떨림 방지부(1310)의 질량은 질량 임계치보다 작거나 같다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 방지부(1310)의 재료는 유연성 재료이다.
도14 내지 도15에 도시된 바와 같이, 본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 방지부(1310)는 측정 헤드(1320) 및/또는 고정 유닛(1330)을 포함한다.
고정 유닛(1330)을 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하고, 측정 헤드(1320)를 고정 유닛에 설치하지 않는다. 또는, 고정 유닛(1330)을 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하고, 측정 헤드(1320)를 고정 유닛(1330)에 설치한다. 또는, 측정 헤드(1320)를 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 도14는 본 개시의 실시예에 따른 측정 헤드를 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치한 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도14에서, 측정 헤드(1320)와 측정 영역 사이에는 단열부가 더 설치되어 있는데, 피부를 환기시키고, 피부의 땀으로 인해 측정 결과에 미치는 영향을 감소시키기 위해, 단열부에는 무늬가 형성되어 있다. 도15는 본 개시의 실시예에 따른 고정 유닛을 통해 측정 헤드를 고정하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
본 개시의 실시예에 의하면, 고정 유닛(1330)의 목표 영역의 전부 또는 일부는 측정 영역과 접촉한다. 여기서, 고정 유닛(1330)의 목표 영역은 고정 유닛(1330)에서 측정 헤드(1320)에 대응하는 영역이다.
도16 내지 도17에 도시된 바와 같이, 본 개시의 실시예에 의하면, 고정 유닛(1330)의 목표 영역에는 광학 유리(1340)가 설치되어 있다. 또는, 고정 유닛(1330)의 목표 영역에 테두리(1350)를 설치하여 고정 유닛(1330)의 목표 영역의 부분이 측정 영역과 접촉하도록 한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 도16은 본 개시의 실시예에 따른 고정 유닛의 목표 영역에 광학 유리를 설치한 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도17은 본 개시의 실시예에 따른 고정 유닛의 목표 영역에 테두리를 설치한 개략도를 개략적으로 나타낸다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 헤드(1320)의 목표 표면의 전부 또는 일부는 측정 영역과 접촉한다. 여기서, 측정 헤드(1320)의 목표 표면은 측정 영역에 근접한 표면이다.
도18에 도시된 바와 같이, 본 개시의 실시예에 의하면, 고정 유닛(1330)은 고정 베이스(1331) 및 제1 결합구(1332)를 포함한다. 제1 결합구(1332)는 고정 베이스(1331)를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하기 위한 것이다다. 고정 베이스(1331)는 측정 헤드(1320)를 고정하기 위한 것이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제1 결합구(1332)의 경도는 제1 경도와 제2 경도를 포함한다. 제1 경도는 제2 경도보다 작고, 제1 경도는 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)를 고정하는 과정에 해당되는 경도이고, 제2 경도는 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)를 고정한 후에 해당되는 경도이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)에 대해 고정 역할을 발휘하도록 하기 위해, 제1 결합구(1332)는 비교적 견고해야 한다. 또한, 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)를 고정함으로 인한 영향을 최대한 감소시키기 위해, 제1 결합구(1332)는 일정한 유연성을 가져야 한다. 상기로부터 알 수 있는 바와 같이, 제1 결합구(1332)의 경도에 대해서는 일정한 요구가 있다.
상기의 문제점을 해결하기 위해, 제1 결합구(1332)의 경도를 변화시키는 방식을 사용할 수 있다. 즉, 제1 결합구(1332)의 경도는 제1 경도와 제2 경도를 포함한다. 여기서, 제1 경도는 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)를 고정하는 과정에 해당되는 경도이고, 제2 경도는 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)를 고정한 후에 해당되는 경도이며, 제1 경도는 제2 경도보다 작다. 이로써, 제1 결합구(1332)가 고정의 역할을 발휘하도록 보장함과 동시에, 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)를 고정함으로 인한 영향을 최대한 감소시킬 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제1 결합구(1332)는 제1 벨크로 또는 제1 고무줄을 포함한다.
예시적으로, 도19는 본 개시의 실시예에 따른 제1 결합구의 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도19에서 제1 결합구(1332)는 제1 벨크로이다. 제1 벨크로의 고리면의 재질이 매우 유연하므로, 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)를 고정할 때의 영향을 감소시킬 수 있고, 이때, 제1 결합구(1332)의 경도는 제1 경도이다. 또한, 제1 결합구(1332)로 하여금 고정 역할을 발휘하도록 하기 위해, 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)를 고정한 후, 갈고리면을 고리면에 부착함으로써 제1 결합구(1332)의 경도를 증가시킬 수 있는데, 이때, 제1 결합구(1332)의 경도는 제2 경도이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)를 고정하는 과정에 해당되는 경도가 제1 경도이고, 이는 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)를 고정할 때의 영향을 감소시킬 수 있으므로, 측정 영역에서의 피부의 피부 상태로 하여금 제1 결합구(1332)를 통해 고정 베이스(1331)를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하는 과정에 제1 소정 조건을 만족하도록 최대한 보장할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제1 결합구(1332)의 경도는 제1 경도 임계치보다 크거나 같고, 제2 경도 임계치보다 작거나 같다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제1 결합구(1332)의 경도 요구를 만족시키기 위해서는, 앞에서 설명한 방식 외에도, 경도가 제1 경도 임계치보다 크거나 같고 제2 경도 임계치보다 작거나 같은 재질로 제1 결합구(1332)를 제작하는 방식을 사용할 수 있는데, 이 경우에도, 마찬가지로 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)에 대해 고정 역할을 발휘하도록 할 수 있고, 또한, 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)를 고정할 때의 영향을 최대한 감소시킬 수 있다. 지적해두어야 할 것은, 제1 경도 임계치와 제2 경도 임계치는 실제 상황에 따라 설정할 수 있고, 여기서는 구체적으로 한정하지 않는다.
도20에 도시된 바와 같이, 본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 영향을 억제하는 장치(1300)는 제1 자성부(1360)를 더 포함하고, 제1 결합구(1332)의 전부 또는 일부가 금속 힌지이고, 제1 자성부(1360)는 제1 결합구(1332)와 결합하여 고정 베이스(1331)를 고정한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제1 결합구(1332)의 경도 요구를 만족시키기 위해서는, 앞에서 설명한 방식 외에도, 제1 결합구(1332)의 전부 또는 일부가 금속 힌지인 방식을 사용할 수 있는데, 이 경우에도, 마찬가지로 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)에 대해 고정 역할을 발휘하도록 할 수 있고, 또한, 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)를 고정할 때의 영향을 최대한 감소시킬 수 있다.
고정 역할을 실현하는 방식은 다음과 같다. 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)에 대한 고정을 완료한 후, 제1 자성부(1360)를 제1 결합구(1332)에 흡착시켜, 제1 자성부(1360)가 제1 결합구(1332)와 결합하여 고정 베이스(1331)를 고정하도록 할 수 있다. 이로써 고정 역할을 실현할 수 있다. 이에 대해서는, 도20을 참조할 수 있다. 도20은 본 개시의 실시예에 따른 다른 제1 결합구의 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도면에서 제1 결합구(1332)의 전부가 금속 힌지이다. 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)에 대한 고정을 완료한 후, 제1 자성부(1360)를 제1 결합구(1332)에 흡착시킬 수 있다. 제1 자성부(1360)는 소형 전자석일 수 있다.
또한, 금속 힌지는 강자성 금속이고, 금속은 쉽게 흡열하므로, 금속 힌지가 피부와 직접 접촉하면 피부 온도에 비교적 큰 영향을 미치게 되므로, 금속의 흡열로 인해 피부 온도에 주는 영향을 방지하기 위해, 금속 힌지 아래에 단열재를 배치하는 방식을 사용할 수 있다. 선택적으로, 단열재는 면 플란넬일 수 있다.
상기 방식이 가능한 이유는, 금속 힌지는 유연성이 우수하므로, 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)를 고정할 때의 영향을 감소시킬 수 있기 때문이다. 또한, 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)에 대한 고정을 완료한 후, 제1 결합구(1332)에는 제1 자성부(1360)가 흡착되어 있으므로, 양자의 결합으로 인해 제1 결합구(1332)가 비교적 견고해졌으므로, 고정 역할을 발휘할 수 있다.
지적해두어야 할 것은, 제1 결합구(1332)의 전부 또는 일부가 금속 힌지이고, 금속 힌지은 유연성이 우수하므로, 제1 결합구(1332)가 고정 베이스(1331)를 고정할 때의 영향을 감소시킬 수 있으므로, 측정 영역에서의 피부의 피부 상태로 하여금 제1 결합구(1332)를 통해 고정 베이스(1331)를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하는 과정에 제1 소정 조건을 만족하도록 최대한 보장할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제1 결합구(1332)의 표면에는 홀이 설치되어 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 헤드(1320)는 다음의 방식 중 적어도 하나의 방식을 통해 고정 베이스(1331)에 고정된다. 즉, 테이프를 통해 측정 헤드(1320)를 고정 베이스(1331)에 고정할 수 있다. 체결구를 통해 측정 헤드(1320)를 고정 베이스(1331)에 고정할 수 있다. 자기력을 통해 측정 헤드(1320)를 고정 베이스(1331)에 고정할 수 있다. 측정 헤드(1320)와 고정 베이스(1331) 사이의 마찰계수는 마찰계수 임계치보다 크거나 같을 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 헤드(1320)를 고정 베이스(1331)에 고정하고, 측정 헤드(1320)가 고정 베이스(1331)에서 이동되지 않도록 하기 위해, 하기의 방식 중 적어도 하나의 방식을 사용할 수 있다.
방식1의 경우, 테이프를 통해 측정 헤드(1320)를 고정 베이스(1331)에 고정할 수 있다. 방식2의 경우, 체결구를 통해 측정 헤드(1320)를 고정 베이스(1331)에 고정할 수 있다. 방식3의 경우, 자기력을 통해 측정 헤드(1320)를 고정 베이스(1331)에 고정할 수 있다. 방식4의 경우, 측정 헤드(1320)와 고정 베이스(1331) 사이의 마찰계수는 마찰계수 임계치보다 크거나 같을 수 있다. 선택적으로, 고정 베이스(1331)의 재질로서는 고무, 알루미늄 또는 플라스틱을 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 고정 유닛(1330)은 제2 결합구를 포함한다. 제2 결합구는 측정 헤드를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하기 위한 것이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제2 결합구의 경도는 제3 경도와 제4 경도를 포함하고, 제3 경도는 제4 경도보다 작으며, 제3 경도는 제2 결합구가 측정 헤드(1320)를 고정하는 과정에 해당되는 경도이고, 제4 경도는 제2 결합구가 측정 헤드(1320)를 고정한 후에 해당되는 경도이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제2 결합구는 제2 벨크로 또는 제2 고무줄을 포함한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제2 결합구의 경도는 제3 경도 임계치보다 크거나 같고, 제4 경도 임계치보다 작거나 같다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 영향을 억제하는 장치(1300)는 제2 자성부를 더 포함하고, 제2 결합구의 전부 또는 일부는 금속 힌지이고, 제2 자성부는 제2 결합구와 결합하여 측정 헤드(1320)를 고정한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제2 결합구의 표면에는 홀이 설치되어 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제2 결합구에 대한 설명은 제1 결합구(1332)에 대한 앞의 설명을 참조할 수 있고, 여기서는 설명을 생략한다. 차이점은, 제2 결합구가 측정 헤드(1320)를 고정하기 위한 것이라는 점에 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 영향을 억제하는 장치(1300)는 취득모듈 및 처리모듈을 더 포함한다. 취득모듈은 측정 헤드에 의해 수집된 각 출사광에 대응하는 출력 광도를 취득한다. 처리모듈은 적어도 하나의 소정의 파장에 대응하는 적어도 하나의 출력 광도에 따라, 측정하고자 하는 조직 성분의 농도를 확정한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 헤드(1320)에는 M개의 감광면이 설치되어 있다. 취득모듈은 취득 유닛을 포함한다. 취득 유닛은 측정 헤드에 의해 수집된 각 출사광에 대응하는 광도 값을 취득하여 T개의 출력 광도를 얻는다. 여기서, 각 출력 광도는 하나 또는 복수의 감광면이 수집한 출사광의 광도 값에 따라 처리하여 얻은 것이고, 각 감광면은 감광면에 대응하는 소정의 떨림 방지 범위 내의 출사위치에서 출사되는 출사광의 광도 값을 수집할 수 있고, 1≤T≤M이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 각 감광면이 수광한 출사광의 목표 조직층에서의 평균 광행로가 총 광행로에서 차지하는 비율은 비율 임계치보다 크거나 같다. 여기서, 총 광행로는 출사광이 측정 영역 내에서 전송되는 총 거리이다.
본 개시의 실시예에 의하면, 동일 종류의 감광면의 총 면적은 측정 영역 내의 조직 구조 특징에 따라 확정한 것이다. 여기서, 동일 종류의 감광면은 하나 또는 복수의 감광면을 포함하고, 동일 종류의 감광면은 하나의 출력 광도를 출력한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 각 감광면의 면적과 감광면의 둘레의 비의 값은 비의 값 임계치보다 크거나 같다.
본 개시의 실시예에 의하면, 비의 값 임계치는 0.04mm보다 크거나 같다.
본 개시의 실시예에 의하면, 감광면은 측정 영역의 표면과 접촉하거나 접촉하지 않는다.
본 개시의 실시예에 의하면, 감광면에서 측정 영역의 표면까지의 거리는 거리 임계치보다 작거나 같고, 감광면이 출사광을 수광하는 효율은 효율 임계치보다 크거나 같다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 영향을 억제하는 장치(1300)는 단열부를 더 포함하고, 단열부는 측정 헤드와 측정 영역의 표면 사이에 설치되고, 단열부의 열전도율은 공기 열전도율 범위 내에 있다. 단열부는, 떨림 영향을 억제하는 장치를 측정 영역에 착용하여 비접촉식 측정을 실현한다. 또한, 단열부의 열전도율이 공기 열전도율 범위 내에 있으므로, 떨림 영향을 억제하는 장치를 착용하였을 때 측정 영역과의 열전도를 통해 열평형 상태에 도달하는데 소요되는 시간을 감소시킬 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 단열부의 열전도율이 공기 열전도율 범위 내에 있도록 보장할 경우, 단열부의 재료는 실리카겔 및 폴리염화비닐 등을 포함할 수 있다. 또한, 단열부의 위치를 결정함에 있어서, 단열부가 빛의 수광에 부정적인 영향을 주지 않도록 최대한 보장해야 한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 각 감광면은 환형 감광면 또는 비환형 감광면을 포함하고, 서로 다른 감광면의 형상은 동일하거나 서로 다르다.
본 개시의 실시예에 의하면, 비환형 감광면은 부채 고리형 감광면, 원형 감광면, 부채형 감광면, 타원형 감광면 또는 다각형 감광면을 포함한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 다각형 감광면은 정방형 감광면, 장방형 감광면 또는 삼각형 감광면을 포함한다.
본 개시의 실시예에 의하면, M개의 감광면 중 서로 다른 감광면의 양극은 서로 전기적으로 연결되지 않거나, 일부 감광면의 양극이 전기적으로 연결되거나 또는 전부의 감광면의 양극이 전기적으로 연결된다.
본 개시의 실시예에 의하면, M개의 감광면 중의 각 감광면은 단독으로 사용할 수 있고, 이 경우, M개의 감광면 중 서로 다른 감광면의 양극은 전기적으로 연결되지 않는다.
M개의 감광면 중의 일부 감광면을 조합하여 사용할 수 있는데, 이 경우, 조합하여 사용되는 서로 다른 감광면의 양극은 전기적으로 연결된다.
M개의 감광면 중의 전부의 감광면을 조합하여 사용할 수 있는데, 이 경우, 조합하여 사용되는 서로 다른 감광면의 양극은 전기적으로 연결된다.
본 개시의 실시예에 의하면, 도21은 본 개시의 실시예에 따른 서로 다른 감광면의 양극을 전기적으로 연결한 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도21에 도시된 바와 같이, 전부의 감광면의 양극을 전기적으로 연결하였다.
본 개시의 실시예에 의하면, 동일 감광면의 서로 다른 부분은 동일한 평면에 있거나 서로 다른 평면에 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 감광면은 평면 감광면 또는 입체 감광면일 수 있다. 여기서, 감광면의 서로 다른 부분이 모두 동일한 평면에 있다면, 감광면은 평면 감광면이다. 감광면의 서로 다른 부분이 서로 다른 평면에 있다면, 감광면은 입체 감광면이다. 구체적으로 평면 감광면을 사용할 지 아니면 입체 감광면을 사용할 지는, 실제 상황에 따라 설정할 수 있고, 여기서는 구체적으로 한정하지 않는다.
선택적으로, 접촉식 측정에 있어서, 측정 정밀도를 향상시키기 위해, 감광면의 목표 표면과 측정 영역의 피부 표면 사이에 가능한 양호한 밀접상태를 유지하도록 해야 한다. 여기서, 감광면의 목표 표면은 측정 영역에 근접한 표면을 의미한다. 측정 영역의 피부 표면의 평탄도가 높지 않을 수 있으므로, 평면 감광면을 사용할 경우, 감광면의 목표 표면과 측정 영역의 피부 표면 사이에 양호한 밀접상태를 실현하기 어려울 수 있다. 이에 비해, 입체 감광면은 서로 다른 부분이 서로 다른 평면에 위치한 감광면이므로, 입체 감광면을 사용할 수 있고, 또한 측정 영역의 조직 구조 특징에 따라 구체적인 입체 감광면의 형태를 설정할 수 있다.
도22는 본 개시의 실시예에 따른 장갑 형태의 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도23은 본 개시의 실시예에 따른 다른 장갑 형태의 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도24는 본 개시의 실시예에 따른 팔찌 형태의 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도25는 본 개시의 실시예에 따른 다른 팔찌 형태의 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도26은 본 개시의 실시예에 따른 팔 측정용 입체 감광면의 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도26에서, 팔의 조직 구조 특징에 따라 감광면의 서로 다른 부분으로부터 소정 평면까지의 거리를 설정할 수 있다. 도26에서 h1과 h2는 감광면의 서로 다른 부분으로부터 소정 평면까지의 거리를 나타낸다.
본 개시의 실시예에 의하면, 복수의 감광면을 포함하믄 감광면 세트는 동일한 평면에 있거나 서로 다른 평면에 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 감광면 세트에 포함된 각 감광면은 평면 감광면 또는 입체 감광면일 수 있다. 감광면 세트에 복수의 평면 감광면이 포함되는 경우, 복수의 평면 감광면 중의 일부 평면 감광면 또는 전부의 평면 감광면을 서로 다른 평면에 설치하는 방식으로, 감광면 세트로 하여금 입체 감광면의 형태를 구현하도록 할 수 있다.
도27에 도시된 바와 같이, 본 개시의 실시예에 의하면, 측정 헤드(1320)(도27에는 도시되지 않음)에는 제1 슬리브(1370)가 설치되어 있다. 제1 슬리브(1370)의 제1 단면은 측정 헤드(1320)의 목표 표면을 초과한다. 여기서, 제1 단면은 측정 영역에 근접한 단면을 의미하고, 측정 헤드(1320)의 목표 표면은 측정 영역에 근접한 표면을 의미한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 간섭광을 차단하기 위해, 측정 헤드(1320)에 제1 슬리브(1370)를 설치하여 제1 슬리브(1370)의 측정 영역에 근접한 단면이 측정 헤드(1320)의 목표 표면을 초과하도록 할 수 있다. 간섭광은 표면 반사광 및/또는 회절광을 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제1 슬리브(1370)의 제1 단면에 대향하는 제2 단면 및/또는 내부의 영역에는 산란체가 배치된다. 여기서, 내부의 영역은 내부의 일부 영역 또는 내부의 전부 영역을 포함한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 영역에 조사되는 입사광의 광점의 광도 분포가 균일하도록 하기 위해, 제1 슬리브(1370)의 대응하는 부분에 산란체를 배치하는 방식을 사용할 수 있다. 산란체는 황산지, 실리콘 또는 목표 혼합물을 포함할 수 있고, 여기서, 목표 혼합물은 폴리디메틸실록산 및 이산화티타늄 입자의 혼합물을 포함할 수 있다.
도28에 도시된 바와 같이, 본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 영향을 억제하는 장치(1300)는 제1 슬리브(1370)의 목표 영역의 외부에 설치되는 제2 슬리브(1380)를 더 포함한다. 여기서, 제1 슬리브(1370)의 목표 영역은 제1 슬리브(1370)가 측정 헤드(1320)의 목표 표면을 초과하는 일부 영역 또는 전부 영역을 의미한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 영역에 조사되는 입사광의 광점을 가능한 크게 하기 위해, 제1 슬리브(1370)의 목표 영역의 외부에 제2 슬리브(1380)를 설치하는 방식을 사용할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제2 슬리브(1380)에는 산란체가 배치되어 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제2 슬리브(1380)가 설치되어 있는 경우, 측정 영역에 조사되는 입사광의 광점의 광도 분포가 균일하도록 하기 위해, 제2 슬리브(1380)의 대응하는 부분에 산란체를 배치하는 방식을 사용할 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제1 슬리브(1370)의 내경은 내경 임계치보다 크거나 같다.
본 개시의 실시예에 의하면, 제1 슬리브(1370)의 제1 단면의 개구부는 제1 슬리브(1370)의 제2 단면의 개구부보다 크거나 같다.
본 개시의 실시예에 의하면, 측정 영역에 조사되는 입사광의 광점을 가능한 크게 하기 위해, 제1 슬리브(1370)의 내경이 내경 임계치보다 크거나 같도록 하는 방식 및/또는 제1 슬리브(1370)의 제1 단면의 개구부가 제1 슬리브(1370)의 제2 단면의 개구부보다 크거나 같도록 하는 방식을 사용할 수 있다. 즉, 측정 영역에 근접한 제1 슬리브(1370)의 단면의 개구부가 측정 영역에서 멀리 떨어진 제1 슬리브(1370)의 단면의 개구부보다 크거나 같도록 할 수 있다.
도30 내지 도31에 도시된 바와 같이, 본 개시의 실시예에 의하면, 감광면과 측정 영역 사이에는 굴절율 매칭물이 충전(充塡)되어 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 피부 떨림으로 인해 측정 영역의 표면이 불안정해질 수 있고, 나아가서 출사광의 출사각도를 변화시킬 수 있으므로, 피부 떨림으로 인한 부정적인 영향을 최대한 억제하기 위해, 감광면과 측정 영역 사이에 굴절율 매칭물을 충전하여, 감광면이 출사광을 수광하는 안정성과 효율을 향상시킬 수 있다.
예시적으로, 맥박 박동은 혈관 상태를 통해 반영될 수 있다. 도29는 본 개시의 실시예에 따른 굴절율 매칭물을 충전하지 않은 상태에서 감광면이 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도29에서 혈관 상태1은 혈관의 수축 상태를 나타내고, 혈관 상태2는 혈관의 확장 상태를 나타내며, 피부 상태1은 혈관 상태1에 대응하는 피부 상태를 나타내고, 피부 상태2는 혈관 상태2에 대응하는 피부 상태를 나타낸다. 도29로부터 알 수 있는 바와 같이, 피부 떨림은 측정 영역의 피부 표면을 불안정하게 하여, 출사광의 출사 각도를 변화시킬 수 있다.
도30은 본 개시의 실시예에 따른 굴절율 매칭물을 충전한 상태에서 감광면이 출사광을 수광하는 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도31은 본 개시의 실시예에 따른 굴절율 매칭물을 충전한 상태에서 감광면이 출사광을 수광하는 다른 개략도를 개략적으로 나타낸다.
도30 및 도31로부터 알 수 있는 바와 같이, 감광면과 측정 영역 사이에 굴절율 매칭물을 충전함으로써, 감광면이 출사광을 수광하는 안정성과 효율을 향상시킬 수 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 영향을 억제하는 장치(1300)는 보호부를 더 포함한다. 보호부는 감광면의 목표 표면에 설치되어, 감광면을 보호한다. 여기서, 감광면의 목표 표면은 측정 영역에 근접한 표면을 나타낸다.
본 개시의 실시예에 의하면, 감광면을 보호하기 위해, 감광면의 목표 표면에 보호부를 더 설치할 수 있다. 보호부를 제조하는 재료는 투명하고 유연한 재료일 수 있다. 보호부는 증투막 또는 광학 유리를 포함할 수 있다. 보호부와 감광면의 목표 표면 사이의 거리는 보호부의 재료에 따라 확정할 수 있다.
예시적으로, 보호부가 증투막인 경우, 증투막과 감광면의 목표 표면 사이의 거리는 0일 수 있다. 또한, 보호부가 광학 유리인 경우, 광학 유리와 감광면의 목표 표면 사이의 거리는 거리 임계치보다 크거나 같다. 거리 임계치는 실제 상황에 따라 설정할 수 있다.
본 개시의 실시예에 따른 모듈, 유닛 중 임의의 북수개, 또는 이중 임의의 북수개의 적어도 일부 기능은 하나의 모듈로 구현될 수 있다. 본 개시의 실시예에 따른 모듈, 유닛 중 임의의 하나 또는 복수개는 복수의 모듈로 분할되어 구현될 수 있다. 본 개시의 실시예에 따른 모듈, 유닛 중 임의의 하나 또는 복수개는 적어도 부분적으로 예를 들어 FPGA(Field Programmable Gate Array), PLA(Programmable Logic Array), SOC(System On Chip), SOS(System On Substrate), SOP(System On Package), ASIC(Application Specific Integrated Circuit)와 같은 하드웨어 회로를 통해 구현되거나, 또는 회로를 집적시키거나 패키징시키는 기타 합리적인 형태의 하드웨어 또는 펌웨어를 통해 구현되거나, 또는 소프트웨어, 하드에어 및 펌웨어의 3가지 구현형태 중 임의의 하나 또는 하나 이상의 조합을 통해 구현될 수 있다. 또는, 본 개시의 실시예에 따른 모듈, 유닛 중 하나 또는 복수개는 적어도 부분적으로 컴퓨터 프로그램 모듈로 구현될 수 있고, 해당 컴퓨터 프로그램 모듈이 실행될 경우, 대응되는 기능을 실행할 수 있다.
예를 들어, 취득모듈 및 처리모듈 중 임의의 복수개는 하나의 모듈/유닛으로 병합하여 구현할 수 있고, 또는, 이중 임의의 하나의 모듈/유닛은 복수의 모듈/유닛으로 분할될 수 있다. 또는, 이들 모듈/유닛 중 하나 또는 복수의 모듈/유닛의 적어도 일부 기능은 다른 모듈/유닛의 적어도 일부 기능과 결합하여, 하나의 모듈/유닛으로 구현할 수 있다. 본 개시의 실시예에 의하면, 취득모듈 및 처리모듈 중 적어도 하나는, 적어도 부분적으로 예를 들어 FPGA(Field Programmable Gate Array), PLA(Programmable Logic Array), SOC(System On Chip), SOS(System On Substrate), SOP(System On Package), ASIC(Application Specific Integrated Circuit)와 같은 하드웨어 회로를 통해 구현되거나, 또는 회로를 집적시키거나 패키징시키는 기타 합리적인 형태 등 하드웨어 또는 펌웨어를 통해 구현되거나, 또는 소프트웨어, 하드에어 및 펌웨어의 3가지 구현형태 중 임의의 하나 또는 하나 이상의 조합을 통해 구현될 수 있다. 또는, 취득모듈 및 처리모듈 중 적어도 하나는 적어도 부분적으로 컴퓨터 프로그램 모듈로 구현될 수 있고, 해당 컴퓨터 프로그램 모듈이 실행될 경우, 대응되는 기능을 실행할 수 있다.
지적해두어야 할 것은, 본 개시의 실시예의 떨림 영향을 억제하는 장치 부분은 본 개시의 실시예의 떨림 영향을 억제하는 방법 부분과 서로 대응되며, 떨림 영향을 억제하는 장치 부분에 대한 설명은 구체적으로 떨림 영향을 억제하는 방법 부분에 대한 설명을 참조할 수 있으므로, 여기서는 설명을 생략한다.
도32는 본 개시의 실시예에 따른 웨어러블 기기의 개략도를 개략적으로 나타낸다. 도32에 도시된 웨어러블 기기(3200)는 단지 하나의 예시일 뿐, 본 개시의 실시예의 기능 및 사용 범위는 결코 이에 한정되지 않는다.
도32에 도시된 바와 같이, 웨어러블 기기(3200)는 떨림 영향을 억제하는 장치(1300)를 포함한다.
본 개시의 실시예에 따른 기술방안에 의하면, 떨림 방지부를 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하여, 떨림 방지부와 연관 관계를 갖는 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 함으로써, 조직 내에서의 빛의 전송 경로의 변화를 최대한 감소시키고, 측정 정밀도를 향상시킬 수 있도록 한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 방지부의 질량이 비교적 가벼울 경우, 떨림 방지부의 질량이 비교적 가벼우므로, 웨어러블 기기의 질량도 가볍게 되고, 이로써, 웨어러블 기기는 측정 영역의 피부와 양호하게 밀접할 수 있고, 웨어러블 기기의 이동 규칙이 측정 영역에서의 피부 떨림 규칙과 일치하도록 할 수 있다.
도33에 도시된 바와 같이, 본 개시의 실시예에 의하면, 웨어러블 기기(3200)는 버클부(3210) 및 본체(3220)를 더 포함한다. 버클부(3210) 및 본체(3220)는 결합하여 조직 성분을 측정하는 장치(1300)를 고정한다.
본 개시의 실시예에 의하면, 도33은 본 개시의 실시예에 따른 웨어러블 기기의 조립 과정의 개략도를 개략적으로 나타낸다.
본 개시의 실시예에 의하면, 떨림 영향을 억제하는 장치에 대한 구체적인 설명은 앞에서 설명한 대응하는 부분의 설명을 참조할 수 있으므로, 여기서는 설명을 생략한다. 또한, 떨림 영향을 억제하는 장치는 프로세서를 포함하고, 프로세서는 ROM(Read-Only Memory)에 저장된 프로그램 또는 저장부로부터 RAM(Random Access Memory)에 로드된 프로그램에 따라 각종 적당한 동작 및 처리를 실행할 수 있다. 프로세서는 예를 들어, 범용 마이크로 프로세서(예를 들어, CPU), 명령 집합 프로세서 및/또는 관련 칩셋 및/또는 전용 마이크로 프로세서(예를 들어, ASIC(Application Specific Integrated Circuit)) 등을 포함할 수 있다. 프로세서는 버퍼링 용도로 쓰이는 보드 탑재 메모리를 포함할 수도 있다. 프로세서는 본 개시의 실시예에 따른 방법의 흐름의 서로 다른 동작을 실행하기 위한 단일 처리 유닛 또는 복수의 처리 유닛을 포함할 수 있다.
RAM에는, 떨림 영향을 억제하는 장치의 조작에 필요한 각종 프로그램 및 데이터가 저장되어 있다. 프로세서, ROM 및 RAM은 버스 라인을 통해 서로 연결된다. 프로세서는 ROM 및/또는 RAM에 저장된 프로그램을 실행함으로써, 본 개시의 실시예에 따른 방법의 흐름의 각 동작을 실행한다. 지적해두어야 할 것은, 상기 프로그램은 ROM 및 RAM을 제외한 하나 또는 복수의 메모리에 저장될 수도 있다. 프로세서는 상기 하나 또는 복수의 메모리에 저장되어 있는 프로그램을 실행함으로써, 본 개시의 실시예에 따른 방법의 흐름의 각 동작을 실행할 수도 있다.
본 개시의 실시예에 의하면, 웨어러블 기기는 입력/출력(I/O) 인터페이스를 더 포함할 수 있고, 입력/출력(I/O) 인터페이스도 버스 라인에 연결된다. 웨어러블 기기는, I/O 인터페이스에 연결되는 키보드, 마우스 등을 포함하는 입력부, 음극선관(CRT), LCD(Liquid Crystal Display) 등 및 스피커 등을 포함하는 출력부, 하드 디스크 등을 포함하는 저장부, 및 LAN 카드, 모뎀 등과 같은 네트워크 인터페이스 카드를 포함하는 통신부 중의 하나 또는 복수개를 포함할 수 있다. 통신부는 인터넷과 같은 네트워크를 통해 통신 처리를 실행한다. 수요에 따라, 드라이버도 I/O 인터페이스에 연결된다. 수요에 따라, 디스크, 광 디스크, 자기 광 디스크, 반도체 메모리 등과 같은 탈착가능 매체를 드라이버에 장착함으로써, 이들로부터 판독된 컴퓨터 프로그램을 수요에 따라 저장부에 설치할 수 있도록 한다.
본 개시는 컴퓨터 판독가능 저장매체를 더 제공한다. 상기 컴퓨터 판독가능 저장매체는 상기 실시예에서 설명한 장비/장치/시스템에 포함될 수도 있고, 상기 장비/장치/시스템에 조립되지 않고 단독으로 존재할 수도 있다. 상기 컴퓨터 판독가능 저장매체에는 하나 또는 복수의 프로그램이 탑재되고, 상기 하나 또는 복수의 프로그램이 실행될 경우, 본 개시의 실시예에 따른 방법을 구현한다.
본 개시의 실시예에 따르면, 컴퓨터 판독가능 저장 매체는 컴퓨터 판독가능 비휘발성 저장 매체일 수 있다. 예를 들어, 휴대용 컴퓨터 디스크, 하드 디스크, RAM(Random Access Memory), ROM(Read Only Memory), EPROM(Erasable Programmable Read Only Memory), 또는 플래시 메모리, 휴대용 CD-ROM(Computer Disc Read-Only Memory), 광학적 저장 디바이스, 자기적 저장 디바이스, 또는 이들의 임의의 적합한 조합을 포함할 수 있는데, 이에 한정되지는 않는다. 본 개시의 실시예에 의하면, 컴퓨터 판독가능 저장 매체는 프로그램을 포함 또는 저장하는 임의의 실체적인 매체일 수 있는데, 상기 프로그램은 명령 실행 시스템, 장치 또는 디바이스에 의해 사용되거나 이들과 결합하여 사용할 수 있다.
예를 들어, 본 개시의 실시예에 따르면, 컴퓨터 판독가능 저장매체는 앞에서 설명한 ROM 및/또는 RAM 및/또는 ROM과 RAM을 제외한 하나 또는 복수의 메모리를 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예는 컴퓨터 프로그램을 포함하는 컴퓨터 프로그램 제품을 더 포함하고, 상기 컴퓨터 프로그램은 본 개시의 실시예에 의해 제공하는 방법을 실행하기 위한 프로그램 코드를 포함한다.
상기 컴퓨터 프로그램이 프로세서에 의해 실행될 경우, 본 개시의 실시예의 시스템/장치에서 한정한 상기 기능들을 실행한다. 본 개시의 실시예에 의하면, 앞에서 설명한 시스템, 장치, 모듈, 유닛 등은 컴퓨터 프로그램 모듈을 통해 구현될 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 컴퓨터 프로그램은 광학적 저장 디바이스, 자기적 저장 디바이스 등 실체적인 저장매체에 의존할 수 있다. 다른 실시예에 의하면, 상기 컴퓨터 프로그램은 네트워크 매체에서 신호의 형태로 전송, 배포될 수 있고, 통신부분을 통해 다운로드하여 설치하거나, 및/또는 탈착가능 매체로부터 설치할 수 있다. 컴퓨터 프로그램에 포함한 프로그램 코드는 무선, 유선 등, 또는 이들의 임의의 적합한 조합을 포함하는 임의의 적합한 네트워크 매체를 통해 전송할 수 있는데, 이에 한정되지는 않는다.
본 개시의 실시예에 의하면, 하나 또는 복수의 프로그래밍 언어의 임의의 조합을 통해 본 개시의 실시예에 의해 제공되는 컴퓨터 프로그램을 실행하기 위한 프로그램 코드를 프로그래밍할 수 있고, 구체적으로는, 하이 레벨 프로시저 및/또는 객체 지향 프로그래밍 언어, 및/또는 어셈블러/기계 언어를 사용하여 이러한 컴퓨터 프로그램을 실시할 수 있다. 프로그래밍 언어는 Java, C++, python, 'c'언어 또는 유사한 프로그래밍 언어를 포함할 수 있는데, 이에 한정되지는 않는다. 프로그램 코드는 전부 사용자 컴퓨팅장비에 의해 실행되거나, 부분적으로 사용자 컴퓨팅장비에 의해 실행될 수 있으며, 또는 부분적으로 원격 컴퓨팅장비에 의해 실행되거나, 또는 전부 원격 컴퓨팅장비 또는 서버에 의해 실행될 수 있다. 원격 컴퓨팅장비에 의해 실행될 경우, 원격 컴퓨팅장비는 LAN(Local Area Network) 또는 WAN(Wide Area Networks)을 포함하는 임의의 형태의 네트워크를 통해 사용자 컴퓨팅장비에 연결되거나 또는 외부 컴퓨팅장비(예를 들어, 인터넷 서비스 제공업체를 통해 인터넷으로 연결)에 연결될 수 있다.
첨부 도면의 흐름도 및 블록도는, 본 개시의 각종 실시예에 따른 시스템, 방법 및 컴퓨터 프로그램 제품의 실현가능한 체계구조, 기능 및 동작을 도시하고 있다. 이런 관점에서, 흐름도 또는 블록도의 각 블록은 하나의 모듈, 프로그램 세그먼트, 또는 코드의 일부를 의미할 수 있고, 상기 모듈, 프로그램 세그먼트 또는 코드의 일부는 하나 또는 복수의 소정의 논리적 기능을 실현하기 위한 실행가능 명령을 포함한다. 지적해두어야 할 것은, 일부 대체가능한 실시예에 의하면, 블록에 표기된 기능은 첨부 도면에 표기된 순서와 다른 순서로 실행될 수도 있다. 예를 들어, 순차적으로 표시된 두 개의 블록은 실제로는 병행적으로 실행될 수도 있고, 반대되는 순서로 실행될 수도 있는데, 이는 관련되는 기능에 따라 결정된다. 또한, 지적해두어야 할 것은, 블록도 또는 흐름도 중의 각 블록 및 블록도 또는 흐름도 중의 블록의 조합은, 소정의 기능 또는 동작을 실행하는 전문적인 하드웨어에 기반한 시스템을 통해 구현하거나, 또는 전용 하드웨어와 컴퓨터 명령의 조합을 통해 구현할 수 있다. 당업자라면, 본 개시에 명확히 개시되어 있지 않더라도, 본 개시의 각 실시예 및/또는 청구항에 기재된 특징을 다양하게 조합 및/또는 결합할 수 있음을 이해할수 있을 것이다. 특히, 본 개시의 취지 및 시사를 벗어나지 않는 범위내에서 본 개시의 각 실시예 및/또는 청구항에 기재된 특징을 다양하게 조합 및/또는 결합할 수 있다. 이러한 조합 및/또는 결합은 모두 본 개시의 범위에 속한다.
이상에서는 본 개시의 실시예에 대해 설명하였다. 하지만, 이러한 실시예는 단지 설명을 위한 것일 뿐, 결코 본 개시의 범위를 한정하기 위한 것이 아니다. 비록 이상에서는 각 실시예를 별도로 설명하였으나, 이는 결코 각 실시예 중의 조치를 서로 결합하여 사용할수 없음을 의미하지는 않는다. 본 개시의 범위는 첨부된 청구의 범위 및 그 등가물에 의해 한정된다. 당업자라면, 본 개시의 범위를 벗어나지 않고, 다양하게 치환 및 변경을 실시할 수 있고, 이러한 치환 및 변경 또한 본 개시의 범위에 포함되어야 한다.
Claims (72)
- 적어도 하나의 소정의 파장의 입사광으로 측정 영역을 조사하고, 각 상기 입사광은 입사위치로부터 입사한 후 상기 측정 영역의 적어도 하나의 출사위치로부터 출사되어 적어도 한 가닥의 출사광을 형성하는 동작, 및
떨림 방지부를 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하여, 상기 떨림 방지부와 연관 관계를 갖는 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로가 상기 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 하는 동작을 포함하는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 측정 영역에 가해지는 측정 압력은 측정 정밀도 한계에 따라 확정한 것인
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 떨림 방지부는 상기 측정 영역에서의 피부의 이동폭이 이동폭 임계치보다 작거나 같도록 하거나, 또는, 상기 떨림 방지부의 이동 규칙이 상기 측정 영역에서의 피부 떨림 규칙과 일치하도록 하는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제3항에 있어서,
상기 떨림 방지부의 이동 규칙이 상기 측정 영역에서의 피부 떨림 규칙과 일치하도록, 상기 떨림 방지부의 질량은 질량 임계치보다 작거나 같은
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제4항에 있어서,
상기 떨림 방지부의 재료는 유연성 재료인
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 떨림 방지부는 상기 측정 헤드 및/또는 고정 유닛을 포함하고,
상기 떨림 방지부를 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하는 동작은,
상기 고정 유닛을 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하고, 상기 측정 헤드를 상기 고정 유닛에 설치하지 않는 동작, 또는,
상기 고정 유닛을 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하고, 상기 측정 헤드를 상기 고정 유닛에 설치하는 동작, 또는,
상기 측정 헤드를 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하는 동작을 포함하는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제6항에 있어서,
상기 고정 유닛은 고정 베이스 및 제1 결합구를 포함하고,
상기 고정 유닛을 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하고, 상기 측정 헤드를 상기 고정 유닛에 설치하는 동작은,
상기 제1 결합구를 통해 상기 고정 베이스를 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하는 동작, 및
상기 측정 헤드를 상기 고정 베이스에 설치하는 동작을 포함하는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제7항에 있어서,
상기 측정 영역에서의 피부의 피부 상태는, 상기 제1 결합구를 통해 상기 고정 베이스를 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하는 과정에 제1 소정 조건을 만족하는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제7항에 있어서,
상기 측정 영역에서의 피부의 피부 상태는, 상기 측정 헤드를 상기 고정 베이스에 설치하는 과정에 제2 소정 조건을 만족하는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제7항에 있어서,
상기 측정 헤드는 상기 고정 베이스에서 이동이 발생되지 않는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제6항에 있어서,
상기 고정 유닛은 제2 결합구를 포함하고,
상기 측정 헤드를 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하는 동작은,
상기 제2 결합구를 통해 상기 측정 헤드를 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하는 동작을 포함하는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제11항에 있어서,
상기 측정 영역에서의 피부의 피부 상태는, 상기 제2 결합구를 통해 상기 측정 헤드를 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하는 과정에 제3 소정 조건을 만족하는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 떨림 방지부를 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 설치한 후,
상기 측정 헤드에 의해 수집된 각 상기 출사광에 대응하는 출력 광도를 취득하는 동작, 및
상기 적어도 하나의 소정의 파장에 대응하는 적어도 하나의 출력 광도에 따라, 측정하고자 하는 조직 성분의 농도를 확정하는 동작을 더 포함하는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제13항에 있어서,
상기 측정 헤드에는 M개의 감광면이 설치되어 있고,
상기 측정 헤드에 의해 수집된 각 상기 출사광에 대응하는 출력 광도를 취득하는 동작은,
상기 M개의 감광면에 의해 수집된 각 상기 출사광에 대응하는 광도 값을 취득하여 T개의 출력 광도를 얻는 동작을 포함하고,
각 상기 출력 광도는 하나 또는 복수의 상기 감광면이 수집한 출사광의 광도 값에 따라 처리하여 얻은 것이고, 각 상기 감광면은 상기 감광면에 대응하는 소정의 떨림 방지 범위 내의 출사위치에서 출사되는 출사광의 광도 값을 수집할 수 있고, 1≤T≤M인
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제14항에 있어서,
각 상기 감광면이 수광한 출사광의 목표 조직층에서의 평균 광행로가 총 광행로에서 차지하는 비율은 비율 임계치보다 크거나 같고, 상기 총 광행로는 상기 출사광이 상기 측정 영역 내에서 전송된 총 거리인
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제14항에 있어서,
상기 측정 영역 내의 조직 구조 특징에 따라 동일 종류의 감광면의 총 면적을 확정하는 동작을 더 포함하고,
상기 동일 종류의 감광면은 하나 또는 복수의 상기 감광면을 포함하고, 상기 동일 종류의 감광면은 하나의 상기 출력 광도를 출력하는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제14항에 있어서,
각 상기 감광면의 면적과 상기 감광면의 둘레의 비의 값은 비의 값 임계치보다 크거나 같은
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제17항에 있어서,
상기 비의 값 임계치는 0.04mm보다 크거나 같은
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제14항에 있어서,
상기 감광면은 상기 측정 영역의 표면과 접촉하거나 접촉하지 않는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제19항에 있어서,
상기 감광면으로부터 상기 측정 영역의 표면까지의 거리는 거리 임계치보다 작거나 같고, 상기 감광면이 출사광을 수광하는 효율은 효율 임계치보다 크거나 같은
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제14항에 있어서,
각 상기 감광면은 환형 감광면 또는 비환형 감광면을 포함하고, 서로 다른 상기 감광면의 형상은 동일하거나 서로 다른
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제21항에 있어서,
상기 비환형 감광면은 부채 고리형 감광면, 원형 감광면, 부채형 감광면, 타원형 감광면 또는 다각형 감광면을 포함하는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제22항에 있어서,
상기 다각형 감광면은 정방형 감광면, 장방형 감광면 또는 삼각형 감광면을 포함하는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제14항에 있어서,
하나 또는 복수의 상기 감광면이 수집한 출사광의 광도 값에 따라 처리하여 각 상기 출력 광도를 얻는 동작은,
상기 하나 또는 복수의 감광면을 조합하여 사용함으로써, 하나의 상기 출력 광도를 출력하는 동작, 또는,
상기 하나 또는 복수의 감광면 중의 각 감광면이 단독으로 사용되는 경우, 각 상기 감광면이 수집한 출사광의 광도 값을 계산하여 하나의 상기 출력 광도를 얻는 동작을 포함하는
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 측정 영역에 조사되는 상기 입사광의 광점의 광도 분포가 균일한
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 측정 영역에 조사되는 상기 입사광의 광점 면적은 광점 면적 임계치보다 크거나 같은
떨림 영향을 억제하는 방법.
- 떨림 방지부를 포함하고,
상기 떨림 방지부는, 측정 영역에 대응하는 위치에 설치될 경우, 상기 떨림 방지부와 연관 관계를 갖는 측정 헤드가 수광한 출사광의 평균 광행로로 하여금 상기 측정 영역에서의 피부가 떨리는 과정에 소정의 광행로 범위 내에 유지되도록 하고,
상기 출사광은, 적어도 하나의 소정의 파장의 입사광으로 측정 영역을 조사하여, 각 상기 출사광은 입사광이 입사위치로부터 입사한 후 상기 측정 영역의 출사위치로부터 출사되어 형성된 것인
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제27항에 있어서,
상기 측정 영역에 가해지는 측정 압력은 측정 정밀도 한계에 따라 확정한 것인
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제27항 또는 제28항에 있어서,
상기 떨림 방지부는 상기 측정 영역에서의 피부의 이동폭이 이동폭 임계치보다 작거나 같도록 하거나, 또는, 상기 떨림 방지부의 이동 규칙이 상기 측정 영역에서의 피부 떨림 규칙과 일치하도록 하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제29항에 있어서,
상기 떨림 방지부의 이동 규칙이 상기 측정 영역에서의 피부 떨림 규칙과 일치하도록, 상기 떨림 방지부의 질량은 질량 임계치보다 작거나 같은
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제30항에 있어서,
상기 떨림 방지부의 재료는 유연성 재료인
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제27항에 있어서,
상기 떨림 방지부는 상기 측정 헤드 및/또는 고정 유닛을 포함하고,
상기 고정 유닛설치를 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하고, 상기 측정 헤드를 상기 고정 유닛에 설치하지 않거나, 또는,
상기 고정 유닛을 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하고, 상기 측정 헤드를 상기 고정 유닛에 설치하거나, 또는,
상기 측정 헤드를 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 직접 설치하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제32항에 있어서,
상기 고정 유닛에서 상기 측정 헤드에 대응하는 영역인 목표 영역의 전부 또는 일부는 상기 측정 영역과 접촉하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제33항에 있어서,
상기 고정 유닛의 목표 영역에 광학 유리를 설치하거나, 또는,
상기 고정 유닛의 목표 영역의 부분이 상기 측정 영역과 접촉하도록, 상기 고정 유닛의 목표 영역에 테두리를 설치하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제32항에 있어서,
상기 측정 헤드에서 상기 측정 영역에 근접한 표면인 목표 표면의 전부 또는 일부는 상기 측정 영역과 접촉하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제32항에 있어서,
상기 고정 유닛은,
상기 측정 헤드를 고정하기 위한 고정 베이스, 및
상기 고정 베이스를 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하기 위한 제1 결합구를 포함하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제36항에 있어서,
상기 제1 결합구의 경도는 제1 경도 및 제2 경도를 포함하고,
상기 제1 경도는 상기 제2 경도보다 작고,
상기 제1 경도는 상기 제1 결합구가 상기 고정 베이스를 고정하는 과정에 해당되는 경도이고, 상기 제2 경도는 상기 제1 결합구가 상기 고정 베이스를 고정한 후에 해당되는 경도인
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제37항에 있어서,
상기 제1 결합구는 제1 벨크로 또는 제1 고무줄을 포함하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제37항에 있어서,
상기 제1 결합구의 경도는 제1 경도 임계치보다 크거나 같고, 제2 경도 임계치보다 작거나 같은
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제37항에 있어서,
제1 자성부를 더 포함하고,
상기 제1 결합구의 전부 또는 일부는 금속 힌지이고, 상기 제1 자성부는 상기 제1 결합구와 결합하여 상기 고정 베이스를 고정하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제36항에 있어서,
상기 제1 결합구의 표면에는 홀이 설치되어 있는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제36항에 있어서,
상기 측정 헤드는,
테이프를 통해 상기 측정 헤드를 상기 고정 베이스에 고정하는 방식,
체결구를 통해 상기 측정 헤드를 상기 고정 베이스에 고정하는 방식,
자기력을 통해 상기 측정 헤드를 상기 고정 베이스에 고정하는 방식, 및
상기 측정 헤드와 상기 고정 베이스 사이의 마찰계수가 마찰계수 임계치보다 크도록 하는 방식중 적어도 하나의 방식을 통해 상기 고정 베이스에 고정되는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제32항에 있어서,
상기 고정 유닛은 상기 측정 헤드를 상기 측정 영역에 대응하는 위치에 설치하기 위한 제2 결합구를 포함하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제43항에 있어서,
상기 제2 결합구의 경도는 제3 경도 및 제4 경도를 포함하고,
상기 제3 경도는 상기 제4 경도보다 작고,
상기 제3 경도는 상기 제2 결합구가 상기 측정 헤드를 고정하는 과정에 해당되는 경도이고, 상기 제4 경도는 상기 제2 결합구가 상기 측정 헤드를 고정한 후에 해당되는 경도인
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제44항에 있어서,
상기 제2 결합구는 제2 벨크로 또는 제2 고무줄을 포함하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제44항에 있어서,
상기 제2 결합구의 경도는 제3 경도 임계치보다 크거나 같고, 제4 경도 임계치보다 작거나 같은
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제43항에 있어서,
제2 자성부를 더 포함하고,
상기 제2 결합구의 전부 또는 일부는 금속 힌지이고, 상기 제2 자성부는 상기 제2 결합구와 결합하여 상기 측정 헤드를 고정하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제43항에 있어서,
상기 제2 결합구의 표면에는 홀이 설치되어 있는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제40항에 있어서,
상기 측정 헤드에 의해 수집된 각 상기 출사광에 대응하는 출력 광도를 취득하기 위한 취득모듈, 및
상기 적어도 하나의 소정의 파장에 대응하는 적어도 하나의 출력 광도에 따라, 측정하고자 하는 조직 성분의 농도를 확정하기 위한 처리모듈을 더 포함하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제27항에 있어서,
상기 측정 헤드에는 M개의 감광면이 설치되어 있고,
상기 취득모듈은 상기 M개의 감광면에 의해 수집된 각 상기 출사광에 대응하는 광도 값을 취득하여, T개의 출력 광도를 얻기 위한 취득 유닛을 포함하고,
각 상기 출력 광도는 하나 또는 복수의 상기 감광면이 수집한 출사광의 광도 값에 따라 처리하여 얻은 것이고, 각 상기 감광면은 상기 감광면에 대응하는 소정의 떨림 방지 범위 내의 출사위치에서 출사되는 출사광의 광도 값을 수집할 수 있고, 1≤T≤M인
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제50항에 있어서,
각 상기 감광면이 수광한 출사광의 목표 조직층에서의 평균 광행로가 총 광행로에서 차지하는 비율은 비율 임계치보다 크거나 같고, 상기 총 광행로는 상기 출사광이 상기 측정 영역 내에서 전송된 총 거리인
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제50항에 있어서,
동일 종류의 감광면의 총 면적은 상기 측정 영역 내의 조직 구조 특징에 따라 확정한 것이고, 상기 동일 종류의 감광면은 하나 또는 복수의 상기 감광면을 포함하고, 상기 동일 종류의 감광면은 하나의 상기 출력 광도를 출력하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제50항에 있어서,
각 상기 감광면의 면적과 상기 감광면의 둘레의 비의 값은 비의 값 임계치보다 크거나 같은
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제53항에 있어서,
상기 비의 값 임계치는 0.04mm보다 크거나 같은
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제50항에 있어서,
상기 감광면은 상기 측정 영역의 표면과 접촉하거나 접촉하지 않는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제55항에 있어서,
상기 감광면으로부터 상기 측정 영역의 표면까지의 거리는 거리 임계치보다 작거나 같고, 상기 감광면이 출사광을 수광하는 효율은 효율 임계치보다 크거나 같은
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제55항에 있어서,
상기 측정 헤드와 상기 측정 영역의 표면 사이에 설치되고, 열전도율이 공기 열전도율 범위 내에 있는 단열부를 더 포함하고,
상기 단열부는, 상기 떨림 영향을 억제하는 장치를 상기 측정 영역에 착용하여 비접촉식 측정을 구현하기 위한 것이고, 상기 단열부의 열전도율이 공기 열전도율 범위 내에 있게 함으로써, 상기 떨림 영향을 억제하는 장치를 착용시 상기 측정 영역과의 열전도가 열평형 상태에 도달하는데 소요되는 시간을 감소시키도록 하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제50항에 있어서,
각 상기 감광면은 환형 감광면 또는 비환형 감광면을 포함하고, 서로 다른 상기 감광면의 형상은 동일하거나 서로 다른
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제58항에 있어서,
상기 비환형 감광면은 부채 고리형 감광면, 원형 감광면, 부채형 감광면, 타원형 감광면 또는 다각형 감광면을 포함하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제59항에 있어서,
상기 다각형 감광면은 정방형 감광면, 장방형 감광면 또는 삼각형 감광면을 포함하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제50항에 있어서,
상기 M개의 감광면 중 서로 다른 감광면의 양극은 서로 전기적으로 연결되지 않거나, 일부 감광면의 양극이 전기적으로 연결되거나 또는 전부의 감광면의 양극이 전기적으로 연결되는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제50항에 있어서,
동일 감광면의 서로 다른 부분은 동일한 평면에 있거나 서로 다른 평면에 있는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제50항에 있어서,
복수의 감광면을 포함하는 감광면 세트는 동일한 평면에 있거나 서로 다른 평면에 있는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제27항에 있어서,
상기 측정 헤드에는 제1 슬리브가 설치되어 있고,
상기 제1 슬리브의 상기 측정 영역에 근접한 단면인 제1 단면은 상기 측정 헤드의 상기 측정 영역에 근접한 표면인 목표 표면을 초과하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제64항에 있어서,
상기 제1 슬리브의 제1단면에 대향하는 제2 단면 및/또는 내부의 영역에는 산란체가 배치되고, 상기 내부의 영역은 상기 내부의 일부 영역 또는 상기 내부의 전부 영역을 포함하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제64항 또는 제65항에 있어서,
상기 제1 슬리브의 목표 영역의 외부에 설치되는 제2 슬리브를 더 포함하고, 상기 제1 슬리브의 목표 영역은 상기 제1 슬리브가 상기 측정 헤드의 목표 표면을 초과하는 일부 영역 또는 전부 영역인
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제66항에 있어서,
상기 제2 슬리브에는 상기 산란체가 배치되어 있는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제64항에 있어서,
상기 제1 슬리브의 내경은 내경 임계치보다 크거나 같은
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제64항에 있어서,
상기 제1 슬리브의 제1 단면의 개구부는 상기 제1 슬리브의 제2 단면의 개구부보다 크거나 같은
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제50항에 있어서,
상기 감광면과 상기 측정 영역 사이에는 굴절율 매칭물이 충전되어 있는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제50항에 있어서,
상기 감광면의 상기 측정 영역에 근접한 표면인 목표 표면에 설치되어, 상기 감광면을 보호하기 위한 보호부를 더 포함하는
떨림 영향을 억제하는 장치.
- 제27항 내지 제71항 중 어느 한 항에 따른 떨림 영향을 억제하는 장치를 포함하는
웨어러블 기기.
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