KR20230146457A - 가공 장치 - Google Patents

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KR20230146457A
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사토시 야마나카
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가부시기가이샤 디스코
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Abstract

(과제) 가공실의 외부로의 가공수의 비산을 억제하는 것이 가능한 간편한 구조의 가공 장치를 제공한다.
(해결 수단) 가공 장치의 가공실 커버에, 제1 측판과 제1 측판에 형성되어 있는 제1 반송구의 사이로부터 제1 가공실의 외측을 향해 연장되는 제1 횡설부를 설치한다. 그 때문에, 이 가공 장치에 있어서는, 이 횡설부와 가공실에 있어서 피가공물을 가공할 때에 반송구에 위치되는 대좌와의 간극의 폭(가공실의 외측을 향하는 방향을 따른 길이)이 길어진다. 이 경우, 비산된 가공수가 당해 간극을 통과할 때에 대좌 또는 횡설부에 접촉하여, 간극에 머무를 개연성이 높아진다. 그 결과, 이 가공 장치에 있어서는, 이 간극에 수막을 형성하기 위한 물 공급 수단을 설치하는 경우와 비교하여, 간편한 구조에 의해 가공실의 외부로의 가공수의 비산을 억제하는 것이 가능해진다.

Description

가공 장치{PROCESSING APPARATUS}
본 발명은, 가공실에 있어서 피가공물을 가공하는 가공 장치에 관한 것이다.
IC(Integrated Circuit) 등의 디바이스의 칩은、 휴대전화 및 퍼스널 컴퓨터 등의 각종 전자 기기에 있어서 불가결한 구성 요소이다. 이러한 칩은, 예를 들어, 이하의 순서로 제조된다.
우선, 포토리소그래피 등을 실시하여 웨이퍼 등의 피가공물의 표면에 다수의 소자를 형성하는 것에 의해 복수의 디바이스를 형성한다. 계속해서, 피가공물의 이면 측을 연삭하여 피가공물을 박화한다. 계속해서, 복수의 디바이스의 경계를 따라 피가공물을 절삭하여 피가공물을 복수의 칩으로 분할한다.
피가공물을 연삭하는 연삭 장치 또는 절삭하는 절삭 장치 등의 가공 장치에 있어서는, 일반적으로, 피가공물이 척 테이블에 유지된 상태에서 피가공물이 가공된다. 또한, 피가공물이 가공되면 가공 부스러기가 발생한다. 그리고, 이 가공 부스러기가 피가공물에 부착되면, 이 피가공물로부터 제조되는 칩의 품질이 악화될 우려가 있다.
그 때문에, 가공 장치에 있어서는, 일반적으로, 피가공물을 유지하는 척 테이블을 가공실에 위치시키고, 또한, 가공 부스러기를 세정하기 위한 가공수가 공급된 상태에서 피가공물이 가공된다. 또한, 이 가공실은, 가공실 커버에 둘러싸인 공간이며, 이 가공실 커버는, 피가공물을 유지하는 척 테이블의 가공실로의 또는 가공실로부터의 반송을 가능하게 하기 위한 반송구가 형성되어 있는 측판을 갖는다.
다만, 가공실에 있어서의 피가공물의 가공은, 가공실이 밀폐된 상태에서 실시되는 것은 아니고, 예를 들어, 반송구가 개방된 상태에서 실시되는 경우가 있다. 그 때문에, 가공실에 있어서 피가공물이 가공되는 경우에는, 이 반송구 등을 통해 가공수가 비산할 우려가 있다. 이 점을 감안하여, 가공실에 있어서 피가공물을 가공할 때에 반송구를 씨일하는 씨일 기구가 설치된 가공 장치가 제안되어 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).
구체적으로는, 이 씨일 기구는, 가공실에 있어서 피가공물을 가공할 때에 반송구에 위치되는 대좌의 상면과, 이 상면과 대향하는 가공실 커버의 측벽의 하면의 간극에 물을 공급하는 물 공급 수단을 갖는다. 그리고, 이 가공 장치에 있어서는, 이 물 공급 수단으로부터 당해 간극에 물을 공급하여 수막을 형성하는 것에 의해 반송구가 씨일되어 있다.
특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2012-76171호
그러나, 물 공급 수단을 포함하는 씨일 기구를 가공 장치에 형성하는 경우에는, 가공 장치의 구조가 복잡화되고, 그 제조 비용이 증가한다. 이 점을 감안하여, 본 발명의 목적은, 가공실의 외부로의 가공수의 비산을 억제하는 것이 가능한 간편한 구조의 가공 장치를 제공하는 것이다.
본 발명에 의하면, 제1 가공실에 있어서 피가공물을 가공하는 가공 장치로서, 상기 피가공물을 유지하기 위한 척 테이블과, 상기 피가공물을 유지하는 상기 척 테이블의 상기 제1 가공실로의 또는 상기 제1 가공실로부터의 반송을 가능하게 하기 위한 제1 반송구가 형성되어 있는 제1 측판을 갖는 가공실 커버와, 상기 제1 가공실에 반송된 상기 피가공물을 제1 가공구에 의해 가공하기 위한 제1 가공 유닛과, 상기 제1 가공실에 있어서 상기 피가공물을 가공할 때에 상기 피가공물 또는 상기 제1 가공구 중 적어도 한쪽에 제1 가공수를 공급하기 위한 제1 가공수 공급 유닛과, 상기 제1 가공실에 있어서 상기 피가공물을 가공할 때에 상기 제1 반송구에 위치되는 대좌를 구비하고, 상기 가공실 커버에는, 상기 제1 측판과 상기 제1 반송구의 사이로부터 상기 제1 가공실의 외측을 향해 연장되는 제1 횡설부가 설치되어 있는, 가공 장치가 제공된다.
또한, 본 발명의 가공 장치는, 상기 제1 가공실에 부가하여 제2 가공실에 있어서 상기 피가공물을 가공하는 가공 장치로서, 상기 제2 가공실에 반송된 상기 피가공물을 제2 가공구에 의해 가공하기 위한 제2 가공 유닛과, 상기 제2 가공실에 있어서 상기 피가공물을 가공할 때에 상기 피가공물 또는 상기 제2 가공구 중 적어도 한쪽에 제2 가공수를 공급하기 위한 제2 가공수 공급 유닛을 더 구비하고, 상기 가공실 커버는, 상기 피가공물을 유지하는 상기 척 테이블의 상기 제1 가공실로부터 상기 제2 가공실로의 또는 상기 제2 가공실로부터 상기 제1 가공실로의 반송을 가능하게 하기 위한 제2 반송구가 형성되어 있는 제2 측판을 더 구비하고, 상기 대좌는, 상기 제2 가공실에 있어서 상기 피가공물을 가공할 때에 상기 제2 반송구에 위치되고, 상기 가공실 커버에는, 상기 제2 측판과 상기 제2 반송구의 사이로부터 상기 제1 가공실의 내측 및 상기 제2 가공실의 내측의 양쪽을 향해 연장되는 제2 횡설부가 설치되어 있는, 가공 장치인 것이 바람직하다.
본 발명의 가공 장치에 있어서는, 제1 측판과 제1 측판에 형성되어 있는 제1 반송구의 사이로부터 제1 가공실의 외측을 향해 연장되는 제1 횡설부가 가공실 커버에 설치되어 있다. 그 때문에, 이 가공 장치에 있어서는, 이 횡설부와 가공실에 있어서 피가공물을 가공할 때에 반송구에 위치되는 대좌와의 간극의 폭(가공실의 외측을 향하는 방향을 따른 길이)이 길어진다.
이 경우, 비산된 가공수가 상기 간극을 통과할 때에 대좌 또는 횡설부에 접촉하여, 간극에 머무를 개연성이 높아진다. 그 결과, 이 가공 장치에 있어서는, 이 간극에 수막을 형성하기 위한 물 공급 수단을 형성하는 경우와 비교하여, 간편한 구조에 의해 가공실의 외부로의 가공수의 비산을 억제하는 것이 가능해진다.
도 1은, 가공실에 있어서 피가공물을 가공하는 가공 장치의 일례를 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 2는, 피가공물의 일례를 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 3은, 가공실 커버 등을 모식적으로 도시하는 상면도이다.
도 4(A)는, 도 3에 도시하는 A1A2선에 있어서의 가공실 커버 등의 구조를 모식적으로 도시하는 일부 단면 측면도이고, 도 4(B)는, 도 3에 도시하는 B1B2선에 있어서의 가공실 커버 등의 구조를 모식적으로 도시하는 일부 단면 측면도이다.
도 5는, 가공실에 있어서 피가공물을 가공하는 가공 장치의 다른 예를 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 6은, 피가공물을 포함하는 프레임 유닛의 일례를 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 7은, 카세트 테이블에 재치된 카세트, 반송 유닛, 척 테이블, 절삭 유닛 및 세정 유닛을 모식적으로 도시하는 상면도이다.
도 8은, 도 7에 도시되는 C1C2선에 있어서의 절삭실 커버 등의 구조를 모식적으로 도시하는 일부 단면 측면도이다.
첨부 도면을 참조하여, 본 발명의 실시형태에 대해 설명한다. 도 1은, 가공실에 있어서 피가공물을 가공하는 가공 장치의 일례를 모식적으로 도시하는 사시도이다. 구체적으로는, 이 가공 장치에 있어서는, 피가공물을 거친 연삭실에 있어서 거친 연삭하고, 거친 연삭된 피가공물을 마무리 연삭실에서 마무리 연삭하며, 또한, 마무리 연삭된 피가공물을 연마실에 있어서 연마하는 것이 가능하다.
또한, 도 1에 도시되는 X축 방향(전후 방향) 및 Y축 방향(좌우 방향)은, 수평면 상에 있어서 서로 직교하는 방향이며, 또한, Z축 방향(상하 방향)은, X축 방향 및 Y축 방향에 직교하는 방향(연직 방향)이다.
도 1에 도시되는 가공 장치(2)는, 각 구조를 지지하는 베이스(4)를 갖는다. 이 베이스(4)의 전단부의 상면에는 개구(4a)가 형성되어 있고, 이 개구(4a)의 내측에는, 판형의 피가공물을 반송하기 위한 반송 유닛(6)이 설치되어 있다.
도 2는, 반송 유닛(6)에 의해 반송되는 피가공물의 일례를 모식적으로 도시하는 사시도이다. 도 2에 도시되는 피가공물(11)은, 예를 들어, 원형의 표면(11a) 및 이면(11b)을 가지며, 실리콘(Si) 등의 반도체 재료로 이루어지는 웨이퍼이다. 이 피가공물(11)은, 격자형으로 설정되는 복수의 분할 예정 라인(13)에 의해 복수의 영역으로 구획되어 있고, 각 영역에는 IC 등의 디바이스(15)가 형성되어 있다.
또한, 피가공물(11)의 표면(11a)에는, 피가공물(11)의 직경과 대략 같은 직경을 갖는 필름 형상의 테이프가 부착되어도 좋다. 이 테이프는, 예를 들어, 수지로 이루어지고, 피가공물(11)의 이면(11b) 측을 연삭할 때에 표면(11a) 측에 가해지는 충격을 완화하여 디바이스(15)를 보호한다.
또한, 피가공물(11)의 재질, 형상, 구조 및 크기 등에 제한은 없다. 예를 들어, 피가공물(11)은, 다른 반도체 재료, 세라믹스, 수지 또는 금속으로 이루어지는 기판이어도 된다. 마찬가지로, 디바이스(15)의 종류, 수량, 형상, 구조, 크기 및 배치 등에도 제한은 없다. 또한, 피가공물(11)에는, 디바이스(15)가 형성되어 있지 않아도 좋다.
또한, 도 1에 도시되는 바와 같이, 개구(4a)의 전방에는, 한 쌍의 카세트 테이블(8a, 8b)이 설치되어 있다. 이 한 쌍의 카세트 테이블(8a, 8b)의 각각에는, 복수의 피가공물(11)을 수용할 수 있는 카세트(10a, 10b)가 재치된다. 또한, 개구(4a)의 경사 후방에는, 피가공물(11)의 위치를 조정하기 위한 위치 조정 기구(12)가 설치되어 있다.
이 위치 조정 기구(12)는, 예를 들어, 피가공물(11)의 중앙 영역을 지지 가능한 테이블(12a)과, 이 테이블(12a)을 둘러싸도록 테이블(12a)의 둘레 방향을 따라 대략 등간격으로 설치되고, 또한, 이 테이블(12a)과의 간격을 조정 가능한 복수의 핀(12b)을 갖는다. 예를 들어, 반송 유닛(6)에 의해 피가공물(11)이 테이블(12a)에 재치되면, 복수의 핀(12b)을 피가공물(11)에 접촉시키도록 복수의 핀(12b)이 테이블(12a)에 접근한다. 이에 의해, 피가공물(11)의 중심이 테이블(12a)의 중심에 맞춰진다.
또한, 위치 조정 기구(12)의 근방에는, 피가공물(11)을 유지한 상태로 선회할 수 있는 반입 유닛(14)이 설치되어 있다. 이 반입 유닛(14)은, 피가공물(11)의 상면 측을 흡인할 수 있는 흡인 패드를 가지고, 위치 조정 기구(12)에 있어서 위치가 조정된 피가공물(11)을 후방으로 반송한다. 그리고, 반입 유닛(14)의 후방에는, 원반 형상의 턴 테이블(16)이 설치되어 있다.
이 턴 테이블(16)의 상면에는, 가공 시에 피가공물(11)을 흡인하여 유지하기 위한 4개의 척 테이블(18)이 턴 테이블(16)의 둘레 방향을 따라 대략 등간격으로 설치되어 있다. 또한, 턴 테이블(16)의 상면에는, 4개의 척 테이블(18)을 구획하는 십자형의 대좌(20)가 설치되어 있다. 이 대좌(20)의 상면은, 4개의 척 테이블(18)의 상면보다 위에 위치한다.
또한, 턴 테이블(16)은, 모터 등의 회전 구동원(도시하지 않음)에 연결되어 있고, 이 회전 구동원이 동작하면, 턴 테이블(16)의 중심을 통과하고, 또한, Z축 방향에 평행한 직선을 회전축으로 하여, 턴 테이블(16), 4개의 척 테이블(18) 및 대좌(20)가 도 1에 도시되는 화살표를 따라 회전한다.
또한, 베이스(4)의 상면에는, 턴 테이블(16), 4개의 척 테이블(18) 및 대좌(20)를 둘러싸도록 가공실 커버(도 1에 있어서는 도시하지 않음)(22)가 설치되어 있다. 도 3은, 가공실 커버(22) 등을 모식적으로 도시하는 상면도이다. 또한, 도 4(A)는, 도 3에 도시하는 A1A2선에 있어서의 가공실 커버(22) 등의 구조를 모식적으로 도시하는 일부 단면 측면도이고, 도 4(B)는, 도 3에 도시하는 B1B2선에 있어서의 가공실 커버(22) 등의 구조를 모식적으로 도시하는 일부 단면 측면도이다.
4개의 척 테이블(18)의 각각은, 세라믹스 등으로 이루어지는 원판 형상의 프레임체(18a)를 갖는다. 이 프레임체(18a)는, 원판 형상의 바닥벽과, 이 바닥벽의 외주 영역으로부터 세워 설치하는 원통 형상의 측벽을 갖는다. 즉, 프레임체(18a)의 상면 측에는, 바닥벽 및 측벽에 의해서 획정되는 원판 형상의 오목부가 형성되어 있다. 또한, 프레임체(18a)의 바닥벽에는, 오목부의 바닥면에 있어서 개구되는 유로(도시하지 않음)가 형성되어 있고, 이 유로는 이젝터 등의 흡인원(도시하지 않음)과 연통한다.
또한, 프레임체(18a)의 상면 측에 형성되어 있는 오목부에는, 이 오목부의 직경과 대략 동일한 직경을 갖는 원판 형상의 포러스판(18b)이 고정되어 있다. 이 포러스판(18b)은, 예를 들어, 다공질 세라믹스로 이루어진다. 또한, 포러스판(18b)의 상면 및 프레임체(18a)의 측벽의 상면은, 원추의 측면에 대응하는 형상(중심이 외주보다 돌출되는 형상)을 갖는다.
그리고, 프레임체(18a)의 바닥벽에 형성되어 있는 유로에 연통하는 흡인원을 동작시키면, 포러스판(18b)의 상면 근방의 공간에 흡인력이 작용한다. 그 때문에, 포러스판(18b)의 상면 및 프레임체(18a)의 측벽의 상면은, 척 테이블(18)의 유지면으로서 기능한다. 예를 들어, 피가공물(11)이 척 테이블(18)의 유지면에 재치된 상태에서 흡인원을 동작시키면, 피가공물(11)이 척 테이블(18)에 유지된다.
가공실 커버(22)는, 상면에서 볼 때, 진원으로부터 4반원을 절결한 것과 같은 형상의 천장판(24)을 갖는다. 이 천장판(24)에는, 후술하는 거친 연삭용의 연삭 휠(54a)과 중첩되며, 또한, 그것보다 직경이 큰 관통 구멍(24a)과, 후술하는 마무리 연삭용의 연삭 휠(54b)과 중첩되며, 또한, 그것보다 직경이 큰 관통 구멍(24b)과, 후술하는 연마 패드(88)와 중첩되며, 또한, 그것보다 직경이 큰 관통 구멍(24c)이 형성되어 있다.
또한, 가공 장치(2)에 있어서는, 천장판(24) 중 3 개의 관통 구멍(24a, 24b, 24c) 중 어느 하나가 형성되어 있는 4반원의 영역의 하방에 가공실이 설치되어 있다. 구체적으로는, 천장판(24) 중 관통 구멍(24a)이 형성되어 있는 4반원의 영역의 하방에 거친 연삭실이 설치된다. 또한, 천장판(24) 중 관통 구멍(24b)이 형성되어 있는 4반원의 영역의 하방에 마무리 연삭실이 설치된다. 또한, 천장판(24) 중 관통 구멍(24c)이 형성되어 있는 4반원의 영역의 하방에 연마실이 설치된다.
또한, 가공 장치(2)에 있어서는, 천장판(24)과 중첩되지 않고 노출된 4반원의 영역에 척 테이블(18)이 위치된 상태에서, 척 테이블(18)로의 피가공물(11)의 반입 및 척 테이블(18)로부터의 피가공물(11)의 반출이 행해진다. 이하에서는, 이 4반원의 영역을 반입 반출 영역이라고도 한다.
천장판(24)의 원호형의 외주단부의 하부에는, 상면에서 볼 때 원호형으로 연장되는 측판(26a)이 설치되어 있다. 이 측판(26a)의 하단부는, 베이스(4)의 상면에 고정되어 있다. 또한, 측판(26a)의 상단부는, 천장판(24)의 외주단 중 상면에서 볼 때 원호형으로 연장되는 부분의 하측에 고정되어 있다. 또한, 측판(26a)의 일단부 및 타단부에는, 한 쌍의 측판(26b, 26c)의 일단부가 각각 연결되어 있다.
측판(26b)은, 거친 연삭실과 반입 반출 영역의 사이에 위치한다. 또한, 측판(26c)은, 연마실과 반입 반출 영역의 사이에 위치한다. 또한, 한 쌍의 측판(26b, 26c)의 각각은, 상면에서 보았을 때, 측판(26a)의 일단부 또는 타단부로부터 천장판(24)의 중심을 향해 직선적으로 연장된다. 즉, 한 쌍의 측판(26b, 26c)은, 상면에서 볼 때, 서로 직교하도록 연장된다.
또한, 한 쌍의 측판(26b, 26c)의 각각의 하부에는, 도 3에 도시되는 화살표를 따라 턴 테이블(16)을 회전시켰을 때의 4개의 척 테이블(18) 및 대좌(20)의 이동을 저해하지 않도록 반송구(28a, 28b)가 형성되어 있다. 그리고 한 쌍의 측판(26b, 26c)의 각각의 반송구(28a, 28b)보다 외측에 위치하는 영역의 하단부는 베이스(4)의 상면에 고정되어 있다.
또한, 한 쌍의 측판(26b, 26c)의 각각의 상단부는, 천장판(24)의 외주연 중 상면에서 볼 때 직선형으로 연장되는 부분의 하측에 고정되어 있다. 또한, 측판(26b)의 반송구(28a)와 중첩되는 영역의 하단부 및 반송구(28a)보다도 외측에 위치하는 영역의 내단부에는, 거친 연삭실의 외측을 향해 연장되는 횡설부(30a)가 설치되어 있다.
마찬가지로, 측판(26c)의 반송구(28b)와 중첩되는 영역의 하단부 및 반송구(28b)보다도 외측에 위치하는 영역의 내단부에는, 연마실의 외측을 향해 연장되는 횡설부(30b)가 설치되어 있다. 바꾸어 말하면, 가공실 커버(22)에는, 측판(26b, 26c)과 반송구(28a, 28b)의 사이로부터 거친 연삭실 및 연마실의 외측을 향해 연장되는 횡설부(30a, 30b)가 설치되어 있다.
또한, 천장판(24)의 중심과 중첩되는 한 쌍의 측판(26b, 26c)의 각각의 타단부에는, 한 쌍의 측판(26d, 26e)의 각각의 일단부가 연결되어 있다. 측판(26d)은, 거친 연삭실과 마무리 연삭실의 사이에 위치한다. 또한, 측판(26e)은, 마무리 연삭실과 연마실의 사이에 위치한다.
또한, 측판(26d)은, 측판(26b)과 직교하도록, 즉, 측판(26c)과 평행이 되도록 한 쌍의 측판(26b, 26c)의 각각의 타단부로부터 측판(26a)까지 연장된다. 또한, 측판(26e)은, 측판(26b)과 평행하게 되도록, 즉, 측판(26c, 26d)과 직교하도록 한 쌍의 측판(26b, 26c)의 각각의 타단부로부터 측판(26a)까지 연장된다.
또한, 한 쌍의 측판(26d, 26e)의 각각의 하부에는, 도 3에 도시되는 화살표를 따라 턴 테이블(16)을 회전시켰을 때의 4개의 척 테이블(18) 및 대좌(20)의 이동을 저해하지 않도록 반송구(28c, 28d)가 형성되어 있다. 그리고 한 쌍의 측판(26d, 26e)의 각각의 반송구(28c, 28d)보다 외측에 위치하는 영역의 하단부는, 베이스(4)의 상면에 고정되어 있다.
또한, 한 쌍의 측판(26d, 26e)의 각각의 상단부는, 천장판(24)의 하부에 고정되어 있다. 또한, 측판(26d)의 반송구(28c)와 중첩되는 영역의 하단부 및 반송구(28c)보다 외측에 위치하는 영역의 내단부에는, 거친 연삭실의 내측 및 마무리 연삭실의 내측의 양쪽을 향해 연장되는 횡설부(30c)가 설치되어 있다.
마찬가지로, 측판(26e)의 반송구(28d)와 중첩되는 영역의 하단부 및 반송구(28b)보다 외측에 위치하는 영역의 내단부에는, 마무리 연삭실의 내측 및 연마실의 내측의 양쪽을 향해 연장되는 횡설부(30d)가 설치되어 있다. 바꾸어 말하면, 가공실 커버(22)에는, 측판(26d, 26e)과 반송구(28c, 28d)의 사이로부터 인접하는 한 쌍의 가공실(거친 연삭실 및 마무리 연삭실 또는 마무리 연삭실 및 연마실)의 각각의 내측을 향해 연장되는 횡설부(30c, 30d)가 설치되어 있다.
그리고, 피가공물(11)의 거친 연삭, 마무리 연삭 및 연마는, 대좌(20)와 4개의 횡설부(30a, 30b, 30c, 30d)의 각각이 대향한 상태에서 행해진다. 즉, 피가공물(11)의 거친 연삭, 마무리 연삭 및 연마가 행해질 때에는, 4개의 반송구(28a, 28b, 28c, 28d)에 대좌(20)가 위치된다.
다시 도 1을 참조하여, 가공 장치(2)의 나머지의 구성 요소에 대해서 설명한다. 거친 연삭실 및 마무리 연삭실의 각각의 후방에는, 지지 구조(32)가 형성되어 있다. 이 지지 구조(32)의 전방면에는, Z축 이동 기구(34)가 설치되어 있다. 그리고, Z축 이동 기구(34)는, 지지 구조(32)의 전방면에 고정되고, 또한, Z축 방향을 따라 연장되는 한 쌍의 가이드 레일(36)을 갖는다.
한 쌍의 가이드 레일(36)의 전방면 측에는, 한 쌍의 가이드 레일(36)을 따라 슬라이드 가능한 양태로 이동 플레이트(38)가 연결되어 있다. 또한, 한 쌍의 가이드 레일(36)의 사이에는, Z축 방향을 따라서 연장되는 나사축(40)이 배치되어 있다. 이 나사축(40)의 상단부에는, 나사축(40)을 회전시키기 위한 모터(42)가 연결되어 있다.
그리고, 나사축(40)의 나선 형상의 홈이 형성된 표면에는, 회전하는 나사축(40)의 표면을 구르는 다수의 볼을 수용하는 너트(도시하지 않음)가 설치되어, 볼 나사가 구성되어 있다. 즉, 나사축(40)이 회전하면, 다수의 볼이 너트 내를 순환하여, 너트가 Z축 방향을 따라 이동한다.
또한, 이 너트는, 이동 플레이트(38)의 후면(이면) 측에 고정되어 있다. 그로 인해, 모터(42)로 나사축(40)을 회전시키면, 너트와 함께 이동 플레이트(38)가 Z축 방향을 따라서 이동한다. 또한, 이동 플레이트(38)의 표면(전방면)에는, 고정구(44)가 설치되어 있다.
고정구(44)는, 피가공물(11)을 연삭하기 위한 연삭 유닛(가공 유닛)(46)을 지지한다. 이 연삭 유닛(46)은, 고정구(44)에 고정되는 스핀들 하우징(48)을 구비한다. 그리고, 스핀들 하우징(48)에는, Z축 방향을 따라 연장되는 스핀들(50)이 회전 가능한 양태로 수용되어 있다.
스핀들(50)의 상단부에는, 모터 등의 회전 구동원(도시하지 않음)이 연결되어 있고, 스핀들(50)은, 이 회전 구동원의 동력에 의해 회전한다. 또한, 스핀들(50)의 하단부는 스핀들 하우징(48)의 하면으로부터 노출되고, 이 하단부에는 원반 형상의 마운트(52)가 고정되어 있다.
그리고, 거친 연삭실 측의 연삭 유닛(46)의 마운트(52)의 하면에는, 거친 연삭용의 연삭 휠(가공구)(54a)이 장착된다. 이 거친 연삭용 연삭 휠(54a)은, 마운트(52)와 대략 동일 직경의 휠 베이스를 갖는다. 그리고, 이 휠 베이스는, 예를 들면, 스테인리스강 또는 알루미늄 등의 금속 재료로 이루어진다.
또한, 이 휠 베이스의 하면에는, 거친 연삭에 적합한 지립을 포함하는 복수의 연삭 지석이 고정되어 있다. 복수의 연삭 지석의 각각의 하면(연삭면)은, Z축 방향에 대략 수직인 면이며, 거친 연삭실에 배치된 척 테이블(18)에 흡인 유지된 피가공물(11)을 거친 연삭한다.
마찬가지로, 마무리 연삭실 측의 연삭 유닛(46)의 마운트(52)의 하면에는, 마무리 연삭용의 연삭 휠(가공구)(54b)이 장착된다. 이 마무리 연삭용 연삭 휠(54b)은, 마운트(52)와 대략 동일 직경의 휠 베이스를 구비한다. 그리고, 이 휠 베이스는, 예를 들면, 스테인리스강 또는 알루미늄 등의 금속 재료로 이루어진다.
또한, 이 휠 베이스의 하면에는, 마무리 연삭에 적합한 지립을 포함하는 복수의 연삭 지석이 고정되어 있다. 복수의 연삭 지석의 각각의 하면(연삭면)은, Z축 방향에 대략 수직인 면이며, 마무리 연삭실에 배치된 척 테이블(18)에 흡인 유지된 피가공물(11)을 마무리 연삭한다. 또한, 이 마무리 연삭용의 연삭 지석에 포함되는 지립의 입경은, 일반적으로, 거친 연삭용의 연삭 지석에 포함되는 지립의 입경보다 작다.
또한, 가공 장치(2)에는, 거친 연삭실에 있어서 피가공물(11)을 거친 연삭할 때에 피가공물(11) 또는 연삭 휠(54a) 중 적어도 한쪽에 가공수를 공급하기 위한 제1 가공수 공급 유닛(도시하지 않음)과, 마무리 연삭실에 있어서 피가공물(11)을 마무리 연삭할 때에 피가공물(11) 또는 연삭 휠(54b) 중 적어도 한쪽에 가공수를 공급하기 위한 제2 가공수 공급 유닛(도시하지 않음)이 설치되어 있다.
제1 가공수 공급 유닛 및 제2 가공수 공급 유닛의 각각은, 예를 들어, 피가공물(11)의 연삭 지석과 접촉하는 영역(가공점)에 가공수를 공급하기 위한 노즐(도시하지 않음)을 갖는다. 또는, 제1 가공수 공급 유닛 및 제2 가공수 공급 유닛의 각각은, 이 노즐 대신에 또는 노즐에 부가하여, 연삭 휠(54a, 54b)에 형성되어 있는 수로를 통해 가공점에 가공수를 공급하여도 좋다.
또한, 연마실의 측방에는, 지지 구조(56)가 설치되어 있다. 이 지지 구조(56)의 턴 테이블(16) 측의 측면에는, X축 이동 기구(58)가 설치되어 있다. 그리고, X축 이동 기구(58)는, 지지 구조(56)의 턴 테이블(16) 측의 측면에 고정되고, 또한, X축 방향을 따라 연장되는 한 쌍의 가이드 레일(60)을 갖는다.
한 쌍의 가이드 레일(60)의 턴 테이블(16) 측에는, 한 쌍의 가이드 레일(60)을 따라 슬라이드 가능한 양태로 이동 플레이트(62)가 연결되어 있다. 또한, 한 쌍의 가이드 레일(60)의 사이에는, X축 방향을 따라서 연장되는 나사축(64)이 배치되어 있다. 이 나사축(64)의 전단부에는, 나사축(64)을 회전시키기 위한 모터(66)가 연결되어 있다.
그리고, 나사축(64)의 나선 형상의 홈이 형성된 표면에는, 회전하는 나사축(64)의 표면을 구르는 다수의 볼을 수용하는 너트(도시하지 않음)가 설치되어, 볼 나사가 구성되어 있다. 즉, 나사축(64)이 회전하면, 다수의 볼이 너트 내를 순환하여, 너트가 X축 방향을 따라 이동한다.
또한, 이 너트는, 이동 플레이트(62)의 지지 구조(56)와 대향하는 면(이면) 측에 고정되어 있다. 이로 인하여, 모터(66)로 나사축(64)을 회전시키면, 너트와 함께 이동 플레이트(62)가 X축 방향을 따라 이동한다. 또한, 이동 플레이트(62)의 턴 테이블(16) 측의 면(표면)에는, Z축 이동 기구(68)가 설치되어 있다.
이 Z축 이동 기구(68)는, 이동 플레이트(62)의 표면에 고정되고, 또한, Z축 방향을 따라 연장되는 한 쌍의 가이드 레일(70)을 갖는다. 한 쌍의 가이드 레일(70)의 턴 테이블(16) 측에는, 한 쌍의 가이드 레일(70)을 따라 슬라이드 가능한 양태로 이동 플레이트(72)가 연결되어 있다.
또한, 한 쌍의 가이드 레일(70)의 사이에는, Z축 방향을 따라 연장되는 나사축(74)이 배치되어 있다. 이 나사축(74)의 상단부에는, 나사축(74)을 회전시키기 위한 모터(76)가 연결되어 있다. 그리고, 나사축(74)의 나선 형상의 홈이 형성된 표면에는, 회전하는 나사축(74)의 표면을 구르는 다수의 볼을 수용하는 너트(도시하지 않음)가 설치되어, 볼 나사가 구성되어 있다.
즉, 나사축(74)이 회전하면, 다수의 볼이 너트 내를 순환하여, 너트가 Z축 방향을 따라 이동한다. 또한, 이 너트는, 이동 플레이트(72)의 이동 플레이트(62)와 대향하는 면(이면) 측에 고정되어 있다. 이로 인하여, 모터(76)로 나사축(74)을 회전시키면, 너트와 함께 이동 플레이트(72)가 Z축 방향을 따라 이동한다.
이동 플레이트(72)의 턴 테이블(16) 측의 면(표면)에는, 고정구(78)가 설치되어 있다. 이 고정구(78)는, 피가공물(11)을 연마하기 위한 연마 유닛(가공 유닛)(80)을 지지한다. 그리고, 연마 유닛(80)은, 고정구(78)에 고정되는 스핀들 하우징(82)을 갖는다.
이 스핀들 하우징(82)에는, Z축 방향을 따라 연장되는 스핀들(84)이 회전 가능한 양태로 수용되어 있다. 그리고, 스핀들(84)의 상단부에는, 모터 등의 회전 구동원(도시하지 않음)이 연결되어 있고, 스핀들(84)은, 이 회전 구동원의 동력에 의해 회전한다.
또한, 스핀들(84)의 하단부는, 스핀들 하우징(82)의 하면으로부터 노출되고, 이 하단부에는, 원반 형상의 마운트(86)가 고정되어 있다. 이 마운트(86)의 하면에는, 원반 형상의 연마 패드(가공구)(88)가 장착되어 있다. 이 연마 패드(88)는, 예를 들어, 척 테이블(18)에 흡인 유지되는 피가공물(11)보다 긴 직경을 갖는다.
또한, 연마 패드(88)의 원형의 하면(연마면)은, Z축 방향에 대략 수직인 면이며, 연마실에 배치된 척 테이블(18)에 흡인 유지된 피가공물(11)을 습식으로 연마한다. 이 연마 패드(88)는, 예를 들어, 폴리에스테르제의 부직포에 평균 입경이 20㎛ 이하의 지립이 분산된 우레탄 용액을 함침시킨 후, 건조시키는 것에 의해 제조된다.
연마 패드(88)의 내부에 분산되는 지립은, 탄화규소, cBN, 다이아몬드 또는 금속 산화물 미립자 등의 재료로 이루어진다. 또한, 이 금속 산화물 미립자로는, 실리카, 세리아, 지르코니아 또는 알루미나 등으로 이루어지는 미립자를 들 수 있다. 또한, 이 연마 패드(88)는, 유연하여, 피가공물(11)을 연마할 때에 가해지는 하중에 따라 약간 휘어진다.
또한, 가공 장치(2)에는, 연마실에 있어서 피가공물(11)을 연마할 때에 피가공물(11) 또는 연마 패드(88) 중 적어도 한쪽에 가공수를 공급하기 위한 제3 가공수 공급 유닛(도시하지 않음)이 설치되어 있다.
제3 가공수 공급 유닛은, 예를 들어, 피가공물(11)의 연마 패드(88)와 접촉하는 영역(가공점)에 가공수를 공급하기 위한 노즐(도시하지 않음)을 갖는다. 또는, 제3 가공수 공급 유닛은, 이 노즐 대신에 또는 노즐에 부가하여, 연마 패드(88)에 형성된 수로를 통해 가공점에 가공수를 공급하여도 좋다.
또한, 반입 유닛(14)의 측방에는, 반입 반출 영역에 위치된 척 테이블(18)에 재치된 피가공물(11)을 유지하여 선회할 수 있는 반출 유닛(90)이 설치되어 있다. 이 반출 유닛(90)은, 예를 들어, 연마실에 있어서 연마된 피가공물(11)을 유지하여 선회시키는 것에 의해 피가공물(11)을 전방으로 반송한다.
또한, 반출 유닛(90)의 전방, 또한, 개구(4a)의 후방 측에는, 반출 유닛(90)에 의해 반출된 피가공물(11)을 세정할 수 있도록 구성된 세정 유닛(92)이 배치되어 있다. 그리고, 세정 유닛(92)으로 세정된 피가공물(11)은, 반송 유닛(6)에 의해 반송되어, 예를 들어, 카세트(10b)에 수용된다.
상술한 가공 장치(2)에 있어서는, 측판(26b, 26c)과 측판(26b, 26c)에 형성되어 있는 반송구(28a, 28b)의 사이로부터 가공실(거친 연삭실 또는 연마실)의 외측을 향해 연장되는 횡설부(30a, 30b)가 가공실 커버(22)에 설치되어 있다. 그리고, 가공 장치(2)에 있어서는, 대좌(20)와 횡설부(30a, 30b)가 대향한 상태에서, 피가공물(11)의 가공(거친 연삭 또는 연마)이 행해진다.
그 때문에, 가공 장치(2)에 있어서는, 대좌(20)와 횡설부(30a, 30b)의 간극의 폭(가공실의 외측을 향하는 방향을 따른 길이)이 길어진다. 이 경우, 비산된 가공수가 상기 간극을 통과할 때에 대좌(20) 또는 횡설부(30a, 30b)에 접촉하여, 간극에 머무를 개연성이 높아진다.
그 결과, 가공 장치(2)에 있어서는, 이 간극에 수막을 형성하기 위한 물 공급 수단을 형성하는 경우와 비교하여, 간편한 구조에 의해 가공실의 외부로의 가공수의 비산을 억제하는 것이 가능해진다. 또한, 가공 장치(2)에 있어서는, 당해 간극에 머무는 가공수에 의해 수막이 형성되는 경우가 있다. 이 경우에는, 가공실의 외부로의 가공수의 비산을 더욱 억제할 수 있다.
또한, 상술한 가공 장치(2)에 있어서는, 가공실 커버(22)의 반송구(28c, 28d)가 형성되어 있는 측판(26d, 26e)의 반송구(28c, 28d) 측의 단부에도 횡설부(30c, 30d)가 설치되어 있다. 이 횡설부(30c, 30d)는, 인접하는 한 쌍의 가공실(거친 연삭실 및 마무리 연삭실 또는 마무리 연삭실 및 연마실)의 각각의 내측을 향해 연장된다.
그리고, 가공 장치(2)에 있어서는, 대좌(20)와 횡설부(30c, 30d)가 대향한 상태에서, 피가공물(11)의 가공(거친 연삭, 마무리 연삭 또는 연마)이 행해진다. 그 때문에, 가공 장치(2)에 있어서는, 상술한 바와 같이, 가공실(예를 들어, 거친 연삭실)로부터 인접하는 다른 가공실(예를 들어, 마무리 연삭실)로의 가공수의 비산을 억제하는 것이 가능해진다.
도 5는, 가공실에 있어서 피가공물을 가공하는 가공 장치의 다른 예를 모식적으로 도시하는 사시도이다. 구체적으로는, 이 가공 장치는, 피가공물을 절삭실에 있어서 절삭하는 것이 가능한 절삭 장치이다.
또한, 도 5에 도시하는 U축 방향(전후 방향, 가공 이송 방향) 및 V축 방향(좌우 방향, 인덱싱 이송 방향)은, 수평면 상에 있어서 서로 직교하는 방향이고, 또한, W축 방향(상하 방향)은, U축 방향 및 V축 방향에 수직인 방향(연직 방향, 절입 이송 방향)이다.
도 5에 도시되는 절삭 장치(94)는, 각 구성 요소가 탑재되는 베이스(96)를 구비한다. 또한, 베이스(96)의 모서리부에는, 카세트 테이블(98)이 설치되어 있다. 이 카세트 테이블(98)의 상면에는, 피가공물(11)을 포함하는 프레임 유닛을 수용 가능한 카세트(100)가 재치된다.
도 6은, 피가공물(11)을 포함하는 프레임 유닛의 일례를 모식적으로 도시하는 사시도이다. 도 6에 도시하는 프레임 유닛(17)은, 도 2에 도시하는 피가공물(11)을 갖는다. 또한, 피가공물(11)의 이면(11b)에는, 피가공물(11)보다 직경이 긴 원판 형상의 지지 부재(19)의 중앙 영역이 부착되어 있다.
이 지지 부재(19)는, 예를 들어, 가요성을 갖는 필름 형상의 기재층과, 기재층의 일면(피가공물(11) 측의 면)에 형성된 점착층(풀층)을 갖는다. 구체적으로는, 이 기재층은, 폴리올레핀(PO), 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리염화비닐(PVC) 또는 폴리스티렌(PS) 등으로 이루어진다. 또한, 이 점착층은, 자외선 경화형의 실리콘 고무, 아크릴계 재료 또는 에폭시계 재료 등으로 이루어진다.
또한, 지지 부재(19)의 외주 영역에는, 피가공물(11)보다 직경이 긴 원형의 개구(21a)가 형성되어 있는 환형의 프레임(21)이 부착되어 있다. 이 프레임(21)은, 예를 들어, 알루미늄 또는 스테인리스강 등의 금속 재료로 이루어진다.
또한, 도 5에 도시되는 카세트 테이블(98)은, W축 방향 이동 기구(도시하지 않음)에 연결되어 있다. 이 W축 방향 이동 기구는, 프레임 유닛(17)이 적절히 반입 반출되도록 카세트 테이블(98)에 재치된 카세트(100)의 높이를 조정한다.
또한, 베이스(96)의 상방에는, 반송 유닛(도 5에 있어서는 도시하지 않음)(102)과, 척 테이블(104)과, 슬라이드 커버(106)와, 대좌(108)와, 한 쌍의 절삭 유닛(가공 유닛)(110)과, 스피너 테이블(도 5에 있어서는 도시하지 않음)(112)과, 세정 유닛(도 5에 있어서는 도시하지 않음)(114)이 설치되어 있다. 또한, 베이스(96)의 상방에는, 척 테이블(104), 슬라이드 커버(106), 대좌(108) 및 한 쌍의 절삭 유닛(110)을 둘러싸도록 절삭실 커버(가공실 커버)(도 5에서는 도시하지 않음)(116)가 설치되어 있다.
도 7은, 카세트 테이블(98)에 재치된 카세트(100), 반송 유닛(102), 척 테이블(104), 슬라이드 커버(106), 대좌(108), 한 쌍의 절삭 유닛(110), 스피너 테이블(112) 및 세정 유닛(114)을 모식적으로 도시하는 상면도이다. 또한, 도 8은, 도 7에 도시되는 C1C2선에 있어서의 절삭실 커버(116) 등의 구조를 모식적으로 도시하는 일부 단면 측면도이다.
반송 유닛(102)은, V축 방향 이동 기구(도시하지 않음) 및 W축 방향 이동 기구(도시하지 않음)에 연결되어 있다. V축 방향 이동 기구는, 스피너 테이블(112)의 상방의 영역으로부터 카세트 테이블(98)에 재치된 카세트(100)의 근방의 영역까지 반송 유닛(102)을 이동시킨다.
또한, W축 방향 이동 기구는, 프레임 유닛(17)이, 예를 들어, 스피너 테이블(112)에 적절하게 반입되고, 또는, 스피너 테이블(112)로부터 적절하게 반출되도록 반송 유닛(102)의 높이를 조정한다. 또한, 반송 유닛(102)은, 프레임(21)을 잡기 위한 파지부(도시하지 않음)와, 프레임(21)의 상면 측을 흡인하기 위한 흡인 패드를 가진다.
척 테이블(104)은, U축 방향 이동 기구(도시하지 않음) 및 회전 구동원(도시하지 않음)에 연결되어 있다. U축 방향 이동 기구는, 절삭실 커버(116)에 의해 둘러싸인 절삭실로부터 카세트 테이블(98)과 스피너 테이블(112)의 사이의 영역까지 척 테이블(104)을 이동시킨다.
또한, 이하에서는, 카세트 테이블(98)과 스피너 테이블(112)의 사이의 영역을 반입 반출 영역이라고도 한다. 또한, 회전 구동원은, 척 테이블(104)의 상면의 중심을 통과하고, 또한, W축 방향을 따른 직선을 회전축으로 하여 척 테이블(104)을 회전시킨다.
또한, 척 테이블(104)은, 세라믹스 등으로 이루어지는 원판 형상의 프레임체(104a)를 갖는다. 이 프레임체(104a)는, 원판 형상의 바닥벽과, 이 바닥벽의 외주 영역으로부터 세워 설치하는 원통 형상의 측벽을 갖는다. 즉, 프레임체(104a)의 상면 측에는, 바닥벽 및 측벽에 의해서 획정되는 원판 형상의 오목부가 형성되어 있다.
또한, 프레임체(104a)의 바닥벽에는 오목부의 바닥면에 있어서 개구되는 유로(도시하지 않음)가 형성되어 있고, 이 유로는 이젝터 등의 흡인원(도시하지 않음)과 연통한다. 또한, 프레임체(104a)의 상면 측에 형성되어 있는 오목부에는, 이 오목부의 직경과 대략 동일한 직경을 갖는 원판 형상의 포러스판(104b)이 고정되어 있다. 이 포러스판(104b)은, 예를 들면, 다공질 세라믹스로 이루어진다.
그리고, 프레임체(104a)의 바닥벽에 형성되어 있는 유로에 연통하는 흡인원을 동작시키면, 포러스판(104b)의 상면 근방의 공간에 흡인력이 작용한다. 그 때문에, 포러스판(104b)의 상면 및 프레임체(104a)의 측벽의 상면은, 척 테이블(104)의 유지면으로서 기능한다. 예를 들어, 프레임 유닛(17)이 척 테이블(104)의 유지면에 재치된 상태에서 흡인원을 동작시키면, 지지 부재(19)를 통해 피가공물(11)이 척 테이블(104)에 유지된다.
또한, 프레임체(104a)의 주위에는, 프레임체(104a)의 둘레 방향을 따라 대략 등간격으로 4개의 클램프(104c)가 설치되어 있다. 4개의 클램프(104c)의 각각은, 척 테이블(104)이 피가공물(11)을 유지할 때에 척 테이블(104)의 유지면보다 낮은 위치에 있어서 프레임(21)을 유지한다.
슬라이드 커버(106)는, 척 테이블(104)의 주위에 설치되어 있고, 척 테이블(104)과 함께 U축 방향을 따라 이동한다. 대좌(108)는, 척 테이블(104)의 후방에 위치하고, 또한, 슬라이드 커버(106)의 상면에 고정되어 있다. 또한, 대좌(108)는, V축 방향을 따라 연장되고, 그 상면이 척 테이블(104)의 상면보다 위에 위치한다.
한 쌍의 절삭 유닛(110)의 각각은, V축 방향 이동 기구(도시하지 않음) 및 W축 방향 이동 기구(도시하지 않음)에 연결되어 있다. V축 방향 이동 기구는, 절삭실의 내측에 있어서 절삭 유닛(110)을 V축 방향을 따라서 이동시킨다. 또한, W축 방향 이동 기구는, 절삭실의 내측에서 절삭 유닛(110)을 W축 방향을 따라서 이동시킨다.
또한, 한 쌍의 절삭 유닛(110)의 각각은, V축 방향을 따라 연장되는 스핀들을 갖는다. 이 스핀들의 선단부에는, 절삭 블레이드(가공구)가 장착되어 있다. 또한, 스핀들의 기단부는, 모터 등의 회전 구동원(도시하지 않음)에 연결되어 있다. 그리고, 이 회전 구동원을 동작시키면, V축 방향을 따른 직선을 회전축으로 하여 스핀들과 함께 절삭 블레이드가 회전한다.
또한, 한 쌍의 절삭 유닛(110)의 각각의 근방에는, 절삭실에서 피가공물(11)을 절삭할 때에 피가공물(11) 또는 절삭 블레이드 중 적어도 한쪽에 가공수를 공급하기 위한 가공수 공급 유닛(도시하지 않음)이 설치되어 있다. 이 가공수 공급 유닛은, 예를 들어, 피가공물(11)의 절삭 블레이드와 접촉하는 영역(가공점)에 가공수를 공급하기 위한 노즐(도시하지 않음)을 갖는다.
스피너 테이블(112)은, 회전 구동원(도시하지 않음)에 연결되어 있다. 이 회전 구동원은, 스피너 테이블(112)의 상면의 중심을 통과하고, 또한, W축 방향을 따른 직선을 회전축으로 하여 스피너 테이블(112)을 회전시킨다. 또한, 스피너 테이블(112)은, 척 테이블(104)과 동일한 구조를 갖기 때문에, 그 상세한 설명은 생략한다.
세정 유닛(114)은, W축 방향을 따라 연장되는 파이프 형상의 축부를 갖는다. 이 축부의 하단부에는, 축부를 회전시키기 위한 모터 등의 회전 구동원이 연결되어 있다. 또한, 축부의 상단부에는, 아암부가 접속되어 있다.
이 아암부는, 축부의 상단부로부터 스피너 테이블(112)의 상면의 중심까지의 거리에 상당하는 길이로 W축 방향에 직교하는 방향으로 연장되는 파이프형의 부재이다. 또한, 아암부의 선단부에는, 하방을 향해 세정수를 방출하도록 세정 노즐이 설치되어 있다.
또한, 축부는, 세정수 공급원에 연통되어 있다. 그 때문에, 예를 들어, 노즐을 스피너 테이블(112)의 상방에 위치시키도록 축부를 회전시킨 후에, 세정수 공급원으로부터 축부 및 아암부에 세정수가 공급되면, 세정 노즐로부터 스피너 테이블(112)의 상면에 세정수가 공급된다.
절삭실 커버(116)는, 절삭실과 반입 반출 영역의 사이에 위치하는 측판(116a)을 갖는다. 이 측판(116a)의 하부에는, 척 테이블(104), 슬라이드 커버(106) 및 대좌(108)의 U축 방향을 따른 이동을 저해하지 않도록 반송구(118)가 형성되어 있다.
또한, 측판(116a)의 하단부에는, 절삭실의 외측을 향해 연장되는 횡설부(116b)가 설치되어 있다. 바꾸어 말하면, 절삭실 커버(116)에는, 측판(116a)과 반송구(118)의 사이로부터 절삭실의 외측을 향해 연장되는 횡설부(116b)가 설치되어 있다.
상술한 절삭 장치(94)에 있어서는, 측판(116a)과 반송구(118)의 사이로부터 절삭실의 외측을 향해 연장되는 횡설부(116b)가 절삭실 커버(116)에 설치되어 있다. 그리고, 절삭 장치(94)에 있어서는, 대좌(108)의 상면과 횡설부(116b)의 하면이 대향한 상태로, 피가공물(11)의 절삭이 행해진다.
그 때문에, 절삭 장치(94)에 있어서는, 대좌(108)와 횡설부(116b)의 간극의 폭(절삭실의 외측을 향하는 방향을 따른 길이)이 길어진다. 이 경우, 비산된 가공수가 당해 간극을 통과할 때에 대좌(108) 또는 횡설부(116b)에 접촉하여, 간극에 머무를 개연성이 높아진다.
그 결과, 절삭 장치(94)에 있어서는, 이 간극에 수막을 형성하기 위한 물 공급 수단을 형성하는 경우와 비교하여, 간편한 구조에 의해 절삭실의 외부로의 가공수의 비산을 억제하는 것이 가능해진다. 또한, 절삭 장치(94)에 있어서는, 당해 간극에 머무르는 가공수에 의해 수막이 형성되는 경우가 있다. 이 경우에는, 가공실의 외부로의 가공수의 비산을 더욱 억제할 수 있다.
그 밖에, 상술한 실시 형태에 관한 구조 및 방법 등은, 본 발명의 목적의 범위를 일탈하지 않는 한에 있어서 적절히 변경하여 실시할 수 있다.
2: 가공 장치
4: 베이스(4a: 개구)
6: 반송 유닛
8a, 8b: 카세트 테이블
10a, 10b: 카세트
11: 피가공물(11a: 표면, 11b: 이면)
12: 위치 조정 기구(12a: 테이블, 12b: 핀)
13: 분할 예정 라인
14: 반입 유닛
15: 디바이스
16: 턴 테이블
17: 프레임 유닛
18: 척 테이블(18a: 프레임체, 18b: 포러스판)
19: 지지 부재
20: 대좌
21: 프레임(21a: 개구)
22: 가공실 커버
24: 천장판(24a, 24b, 24c: 관통 구멍)
26a, 26b, 26c, 26d, 26e: 측판
28a, 28b, 28c, 28d, 28e: 반송구
30a, 30b, 30c, 30d: 횡설부
32: 지지 구조
34: Z축 이동 기구
36: 가이드 레일
38: 이동 플레이트
40: 나사 축
42: 모터
44: 고정구
46: 연삭 유닛(가공 유닛)
48: 스핀들 하우징
50: 스핀들
52: 마운트
54a, 54b: 연삭 휠(가공구)
56: 지지 구조
58: X축 이동 기구
60: 가이드 레일
62: 이동 플레이드
64: 나사 축
66: 모터
68: Z축 이동 기구
70: 가이드 레일
72: 이동 플레이트
74: 나사 축
76: 모터
78: 고정구
80: 연마 유닛(가공 유닛)
82: 스핀들 하우징
84: 스핀들
86: 마운트
88: 연마 패드(가공구)
90: 반출 유닛
92: 세정 유닛
94: 절삭 장치(가공 장치)
96: 베이스
98: 카세트 테이블
100: 카세트
102: 반송 유닛(102a: 흡인 패드)
104: 척 테이블
(104a: 프레임체, 104b: 포러스판, 104c: 클램프)
106: 슬라이드 커버
108: 대좌
110: 절삭 유닛(가공 유닛)
112: 스피너 테이블
114: 세정 유닛
116: 절삭실 커버(가공실 커버)(116a: 측판, 116b: 횡설부)
118: 반송구

Claims (2)

  1. 제1 가공실에 있어서 피가공물을 가공하는 가공 장치로서,
    상기 피가공물을 유지하기 위한 척 테이블과,
    상기 피가공물을 유지하는 상기 척 테이블의 상기 제1 가공실로의 또는 상기 제1 가공실로부터의 반송을 가능하게 하기 위한 제1 반송구가 형성되어 있는 제1 측판을 갖는 가공실 커버와,
    상기 제1 가공실에 반송된 상기 피가공물을 제1 가공구에 의해 가공하기 위한 제1 가공 유닛과,
    상기 제1 가공실에 있어서 상기 피가공물을 가공할 때에 상기 피가공물 또는 상기 제1 가공구 중 적어도 한쪽에 제1 가공수를 공급하기 위한 제1 가공수 공급 유닛과,
    상기 제1 가공실에 있어서 상기 피가공물을 가공할 때에 상기 제1 반송구에 위치되는 대좌를 구비하고,
    상기 가공실 커버에는, 상기 제1 측판과 상기 제1 반송구의 사이로부터 상기 제1 가공실의 외측을 향해 연장되는 제1 횡설부가 설치되어 있는, 가공 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 가공실에 부가하여 제2 가공실에 있어서 상기 피가공물을 가공하는 가공 장치로서,
    상기 제2 가공실에 반송된 상기 피가공물을 제2 가공구에 의해 가공하기 위한 제2 가공 유닛과,
    상기 제2 가공실에 있어서 상기 피가공물을 가공할 때에 상기 피가공물 또는 상기 제2 가공구 중 적어도 한쪽에 제2 가공수를 공급하기 위한 제2 가공수 공급 유닛을 더 구비하고,
    상기 가공실 커버는, 상기 피가공물을 유지하는 상기 척 테이블의 상기 제1 가공실로부터 상기 제2 가공실로의 또는 상기 제2 가공실로부터 상기 제1 가공실로의 반송을 가능하게 하기 위한 제2 반송구가 형성되어 있는 제2 측판을 더 구비하고,
    상기 대좌는, 상기 제2 가공실에 있어서 상기 피가공물을 가공할 때에 상기 제2 반송구에 위치되고,
    상기 가공실 커버에는, 상기 제2 측판과 상기 제2 반송구의 사이로부터 상기 제1 가공실의 내측 및 상기 제2 가공실의 내측의 양쪽을 향해 연장되는 제2 횡설부가 설치되어 있는, 가공 장치.
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