KR20230142993A - Apparatus and method for detecting gas - Google Patents

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Abstract

인 파이프 라인으로부터 유입되는 유해 가스를 처리하는 처리모듈로부터 가스가 배출되는 아웃 파이프 라인에 연결되며, 상기 아웃 파이프 라인으로부터 유해 가스가 처리되는지 여부를 모니터링하는 장치로서, 상기 아웃 파이프 라인에 연결되며, 상기 아웃 파이프 라인으로부터 가스가 유입되는 가스 입력 포트, 유입된 가스가 통과하는 내부 라인, 상기 아웃 파이프 라인에 연결되며, 유입된 가스가 상기 아웃 파이프 라인으로 배출되는 가스 출력 포트, 상기 내부 라인에 배치되며, 상기 내부 라인의 압력을 센싱하는 압력 센서, 상기 내부 라인에 배치되며, 상기 내부 라인의 가스 농도를 측정하는 가스 감지 센서, 상기 가스 입력 포트와 상기 가스 감지 센서 사이에 배치되는 제1 밸브, 상기 가스 감지 센서와 상기 가스 출력 포트 사이에 배치되는 제2 밸브, 및 상기 가스 감지 센서와 상기 제2 밸브 사이에 배치되는 펌프를 포함하는, 가스 감지 장치가 제공된다.A device connected to an out pipeline through which gas is discharged from a processing module that processes harmful gas flowing in from the in pipeline, and monitoring whether harmful gas is processed from the out pipeline, connected to the out pipeline, A gas input port through which gas flows from the out pipeline, an inner line through which the introduced gas passes, a gas output port connected to the out pipeline and through which the introduced gas is discharged to the out pipeline, disposed on the inner line A pressure sensor that senses the pressure of the internal line, a gas detection sensor disposed in the internal line and measuring the gas concentration of the internal line, a first valve disposed between the gas input port and the gas detection sensor, A gas detection device is provided, including a second valve disposed between the gas detection sensor and the gas output port, and a pump disposed between the gas detection sensor and the second valve.

Description

가스 감지 장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING GAS}Gas detection device and method {APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING GAS}

본 발명은 가스 감지 장치 및 방법에 관한 것으로, 특히 가스가 흐르는 구간의 가스 농도 및 가스 누출을 감지하는 가스 감지 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a gas detection device and method, and particularly to a gas detection device and method for detecting gas concentration and gas leakage in a gas flowing section.

반도체 제조공정에서 발생하는 각종 유해가스를 저감하는 스크러버 장비의 중요성이 커지고 있는 추세다. 스크러버는 반도체 생산장비 내부에서 발생하는 가스, 화합물 등을 정제하는 역할을 한다. The importance of scrubber equipment, which reduces various harmful gases generated in the semiconductor manufacturing process, is increasing. The scrubber serves to purify gases and compounds generated inside semiconductor production equipment.

반도체산업에서 사용되는 가스 스크러버(scrubber)는 반도체 제조공정중에 발생하는 각종 독성가스 및 산성가스, 가연성가스(SiH4, SiH6, DCS, As3, PH3), 환경유해가스(PFC계: SF6, NF3, F4, C2, C3 등)을 정제해 배출하는 장비로 세정방식에 따라 습식(wet), 건식(dry), 연소식(burn), 흡착식, 플라즈마법 등으로 분류된다.Gas scrubbers used in the semiconductor industry remove various toxic gases, acidic gases, combustible gases (SiH4, SiH6, DCS, As3, PH3), and environmentally harmful gases (PFC: SF6, NF3, F4) generated during the semiconductor manufacturing process. , C2, C3, etc.), and is classified into wet, dry, burn, adsorption, and plasma methods depending on the cleaning method.

반도체용 가스 스크러버의 세정방식은 크게 습식, 직접 연소식, 간접 연소식, 흡착식 등 4가지로 구분할 수 있다.The cleaning method of gas scrubbers for semiconductors can be broadly divided into four types: wet type, direct combustion type, indirect combustion type, and adsorption type.

장비에서 배출되는 부산물을 가장 먼저 제거하는 1차 스크러버와 정제 후 잔여 부산물을 최종적으로 처리하는 2차 스크러버로 구성된다. 세정방식에 따라서는 습식(wet), 건식(dry), 직접 연소식(burn-wet), 흡착식, 플라즈마식 등으로 분류된다.It consists of a primary scrubber that first removes by-products discharged from the equipment and a secondary scrubber that finally processes remaining by-products after purification. Depending on the cleaning method, it is classified into wet, dry, burn-wet, adsorption, and plasma methods.

스크러버에 의해 유해 가스가 처리되고, 유해 가스 처리 정도를 판단하기 위해 가스 감지 장치가 사용된다. Harmful gases are treated by a scrubber, and a gas detection device is used to determine the degree of harmful gas treatment.

종래의 가스 감지 장치의 센서는 고농도의 가스에 노출이 지속되어 고장이 발생하거나 정확성이 떨어지는 문제점이 있었다. Sensors in conventional gas detection devices have problems such as failure or reduced accuracy due to continued exposure to high concentrations of gas.

이에 따라, 가스 감지 센서의 수명을 연장하고 측정 정확성을 향상시킬 수 있는 기술이 요구된다.Accordingly, technology that can extend the lifespan of gas detection sensors and improve measurement accuracy is required.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 가스 감지 센서의 수명을 연장하고 측정 정확성을 향상시킬 수 있는 가스 감지 장치 및 방법을 제공하는 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is to provide a gas detection device and method that can extend the life of a gas detection sensor and improve measurement accuracy.

한 실시예에 따르면, 인 파이프 라인으로부터 유입되는 유해 가스를 처리하는 처리모듈로부터 가스가 배출되는 아웃 파이프 라인에 연결되며, 상기 아웃 파이프 라인으로부터 유해 가스가 처리되는지 여부를 모니터링하는 장치가 제공된다. 상기 가스 감지 장치는 상기 아웃 파이프 라인에 연결되며, 상기 아웃 파이프 라인으로부터 가스가 유입되는 가스 입력 포트, 유입된 가스가 통과하는 내부 라인, 상기 아웃 파이프 라인에 연결되며, 유입된 가스가 상기 아웃 파이프 라인으로 배출되는 가스 출력 포트, 상기 내부 라인에 배치되며, 상기 내부 라인의 압력을 센싱하는 압력 센서, 상기 내부 라인에 배치되며, 상기 내부 라인의 가스 농도를 측정하는 가스 감지 센서, 상기 가스 입력 포트와 상기 가스 감지 센서 사이에 배치되는 제1 밸브, 상기 가스 감지 센서와 상기 가스 출력 포트 사이에 배치되는 제2 밸브, 및 상기 가스 감지 센서와 상기 제2 밸브 사이에 배치되는 펌프를 포함한다.According to one embodiment, a device is provided that is connected to an out pipeline through which gas is discharged from a processing module that processes harmful gas flowing in from the in pipeline, and monitors whether harmful gas is treated from the out pipeline. The gas detection device is connected to the out pipeline, a gas input port through which gas flows from the out pipeline, an internal line through which the introduced gas passes, and connected to the out pipeline, and the introduced gas flows into the out pipe. A gas output port discharged to the line, a pressure sensor disposed in the internal line and sensing the pressure of the internal line, a gas detection sensor disposed in the internal line and measuring the gas concentration in the internal line, and the gas input port and a first valve disposed between the gas detection sensor, a second valve disposed between the gas detection sensor and the gas output port, and a pump disposed between the gas detection sensor and the second valve.

상기 가스 감지 장치는, 상기 내부 라인의 압력과 미리 설정된 기준 압력값과 비교하여 상기 가스 입력 포트 및 가스 출력 포트의 막힘 여부를 판단하고, 상기 가스 입력 포트 및 가스 출력 포트가 정상으로 판단되면 상기 아웃 파이프 라인으로부터 가스가 유입될 수 있도록 상기 제1 밸브를 개방하고 상기 펌프를 동작시키는 제어부를 더 포함할 수 있다.The gas detection device determines whether the gas input port and gas output port are blocked by comparing the pressure of the internal line with a preset reference pressure value, and when the gas input port and gas output port are determined to be normal, the gas output port is checked. It may further include a control unit that opens the first valve and operates the pump to allow gas to flow from the pipeline.

상기 제어부는, 상기 가스 감지 센서를 통해 측정되는 가스 농도가 미리 설정된 기준 가스 농도값에 도달하면, 상기 제1 밸브를 차단할 수 있다.The control unit may block the first valve when the gas concentration measured through the gas detection sensor reaches a preset reference gas concentration value.

한 실시예에 따르면, 가스 감지 장치의 가스 감지 방법이 제공된다. 상기 가스 감지 방법은 내부 라인의 압력과 미리 설정된 기준 압력값과 비교하여 가스 입력 포트 및 가스 출력 포트의 막힘 여부를 판단하는 단계, 상기 가스 입력 포트 및 가스 출력 포트가 정상으로 판단되면, 아웃 파이프 라인으로부터 가스가 유입될 수 있도록 제1 밸브를 개방하고 펌프를 동작시키는 단계, 그리고 가스 감지 센서를 통해 측정되는 가스 농도가 미리 설정된 기준 가스 농도값에 도달하면, 상기 제1 밸브를 차단하는 단계를 포함한다.According to one embodiment, a gas sensing method of a gas sensing device is provided. The gas detection method includes determining whether the gas input port and gas output port are blocked by comparing the pressure of the internal line with a preset reference pressure value. If the gas input port and gas output port are determined to be normal, the out pipeline Opening the first valve and operating the pump to allow gas to flow in from the gas, and blocking the first valve when the gas concentration measured through the gas detection sensor reaches a preset reference gas concentration value. do.

가스 감지 센서의 수명을 연장하고 측정 정확성을 향상시킬 수 있다.It can extend the life of gas detection sensors and improve measurement accuracy.

도 1은 한 실시예에 따른 가스 감지 시스템의 블록도이다.
도 2는 한 실시예에 따른 가스 감지 장치의 블록도이다.
도 3 내지 도 8은 한 실시예에 따른 가스 감지 장치의 동작 내용을 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 한 실시예에 따른 가스 감지 시스템의 블록도이다.
도 10은 한 실시예에 따른 가스 감지 방법의 흐름도이다.
1 is a block diagram of a gas detection system according to one embodiment.
Figure 2 is a block diagram of a gas detection device according to one embodiment.
3 to 8 are diagrams for explaining the operation of a gas detection device according to an embodiment.
Figure 9 is a block diagram of a gas detection system according to one embodiment.
10 is a flowchart of a gas detection method according to one embodiment.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Below, with reference to the attached drawings, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily implement the present invention. However, the present invention may be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. In order to clearly explain the present invention in the drawings, parts that are not related to the description are omitted, and similar parts are given similar reference numerals throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part “includes” a certain element, this means that it may further include other elements rather than excluding other elements, unless specifically stated to the contrary.

본 발명의 실시 예에서 사용되는 용어는 본 발명에서의 기능을 고려하면서 가능한 현재 널리 사용되는 일반적인 용어들을 선택하였으나, 이는 당 분야에 종사하는 기술자의 의도 또는 판례, 새로운 기술의 출현 등에 따라 달라질 수 있다. 또한, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있으며, 이 경우 해당되는 실시 예들의 설명 부분에서 상세히 그 의미를 기재할 것이다. 따라서 본 실시 예들에서 사용되는 용어는 단순한 용어의 명칭이 아닌, 그 용어가 가지는 의미와 본 실시 예들의 전반에 걸친 내용을 토대로 정의되어야 한다. The terms used in the embodiments of the present invention are general terms that are currently widely used as much as possible while considering the function in the present invention, but this may vary depending on the intention or precedent of a person working in the art, the emergence of new technology, etc. . In addition, in certain cases, there are terms arbitrarily selected by the applicant, and in this case, the meaning will be described in detail in the description of the relevant embodiments. Therefore, the terms used in the present embodiments should not be defined simply as the names of the terms, but should be defined based on the meaning of the term and the overall content of the present embodiments.

본 발명의 실시 예에서, 제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다. In embodiments of the present invention, terms including ordinal numbers, such as first, second, etc., may be used to describe various components, but the components are not limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, a first component may be named a second component, and similarly, the second component may also be named a first component without departing from the scope of the present invention. The term and/or includes any of a plurality of related stated items or a combination of a plurality of related stated items.

또한, 본 발명의 실시 예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. Additionally, in embodiments of the present invention, singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise.

또한, 본 발명의 실시 예에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In addition, in the embodiments of the present invention, terms such as "comprise" or "have" are intended to designate the presence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but It should be understood that it does not exclude in advance the presence or addition of other features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

또한, 본 발명의 실시 예에서, '모듈' 혹은 '부'는 적어도 하나의 기능이나 동작을 수행하며, 하드웨어 또는 소프트웨어로 구현되거나 하드웨어와 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있다. 또한, 복수의'모듈' 혹은 복수의'부'는 특정한 하드웨어로 구현될 필요가 있는 '모듈' 혹은 '부'를 제외하고는 적어도 하나의 모듈로 일체화되어 적어도 하나의 프로세서로 구현될 수 있다.Additionally, in an embodiment of the present invention, a 'module' or 'unit' performs at least one function or operation and may be implemented as hardware or software, or as a combination of hardware and software. Additionally, a plurality of 'modules' or a plurality of 'units' may be integrated into at least one module and implemented with at least one processor, except for 'modules' or 'units' that need to be implemented with specific hardware.

도 1은 한 실시예에 따른 가스 감지 시스템의 블록도이다. 도 2는 한 실시예에 따른 가스 감지 장치의 블록도이다. 도 3 내지 도 8은 한 실시예에 따른 가스 감지 장치의 동작 내용을 설명하기 위한 도면이다. 도 9는 한 실시예에 따른 가스 감지 시스템의 블록도이다. 1 is a block diagram of a gas detection system according to one embodiment. Figure 2 is a block diagram of a gas detection device according to one embodiment. 3 to 8 are diagrams for explaining the operation of a gas detection device according to an embodiment. Figure 9 is a block diagram of a gas detection system according to one embodiment.

도 1을 참조하면, 한 실시예에 따른 가스 감지 시스템은 반도체 공정 캐비닛(10), 인 파이프 라인(1), 아웃 파이프 라인(2), 처리모듈(100), 가스 감지 장치(200)를 포함한다. Referring to FIG. 1, a gas detection system according to one embodiment includes a semiconductor process cabinet 10, an in-pipe line 1, an out-pipe line 2, a processing module 100, and a gas detection device 200. do.

반도체 공정 캐비닛(10)은 한 실시예로서, 반도체 제조 공정에 사용되는 독성, 인화성 등의 유해 가스를 처리하는 스크러버 설비일 수 있다. As an example, the semiconductor process cabinet 10 may be a scrubber facility that processes harmful gases, such as toxic or flammable, used in the semiconductor manufacturing process.

인 파이프 라인(1)은 한 실시예로서, 처리모듈(100)에 가스가 유입되는 금속 파이프 라인(pipeline)일 수 있다.As an example, the phosphorus pipeline 1 may be a metal pipeline through which gas flows into the processing module 100.

아웃 파이프 라인(2)은 한 실시예로서, 처리모듈(100)로부터 가스가 배출되는 금속 파이프 라인일 수 있다. As an example, the out pipeline 2 may be a metal pipeline through which gas is discharged from the processing module 100.

처리모듈(100)은 한 실시예로서, 인 파이프 라인(1)으로부터 유입되는 유해 가스를 처리하는 스크러버(scrubber)일 수 있다. As an example, the processing module 100 may be a scrubber that processes harmful gas flowing from the phosphorus pipeline 1.

가스 감지 장치(200)는 한 실시예로서, 아웃 파이프 라인(2)에 연결되며, 아웃 파이프 라인(2)으로부터 유해 가스가 처리되는지 여부를 모니터링할 수 있다. 구체적으로, 가스 감지 장치(200)는 가스 감지 센서를 통해 측정되는 가스 농도와 미리 설정된 기준 가스 농도값과 비교한 결과에 기반하여, 처리모듈(100)을 통해 유해 가스가 처리되고 있는 지 여부를 모니터링할 수 있다.As an example, the gas detection device 200 is connected to the out pipeline 2 and can monitor whether harmful gas is processed from the out pipeline 2. Specifically, the gas detection device 200 determines whether harmful gas is being processed through the processing module 100 based on the result of comparing the gas concentration measured through the gas detection sensor with a preset reference gas concentration value. It can be monitored.

도 2 및 도 3을 참조하면, 한 실시예에 따른 가스 감지 장치(200)는 가스 입력 포트(211), 내부 라인(212), 가스 출력 포트(213), 압력 센서(214), 가스 감지 센서(215), 제1 밸브(216), 제2 밸브(217), 펌프(218), 제어부(219), 퍼지 포트(220), 제3 밸브(221), 케이스(222), 디스플레이부(223), 캐비닛 입력 포트(224), 제4 밸브(225), 캐비닛 출력 포트(226), 제5 밸브(227), 온습도 센서(228), 스피커부(229), 통신부(230)를 포함할 수 있다. 2 and 3, the gas detection device 200 according to one embodiment includes a gas input port 211, an internal line 212, a gas output port 213, a pressure sensor 214, and a gas detection sensor. (215), first valve 216, second valve 217, pump 218, control unit 219, purge port 220, third valve 221, case 222, display unit 223 ), cabinet input port 224, fourth valve 225, cabinet output port 226, fifth valve 227, temperature and humidity sensor 228, speaker unit 229, and communication unit 230. there is.

가스 입력 포트(211)는 한 실시예로서, 연결 호스 또는 금속 파이프 라인을 통해 아웃 파이프 라인(2)에 연결되며, 아웃 파이프 라인(2)으로부터 가스가 유입되는 포트일 수 있다. As an example, the gas input port 211 is connected to the out pipe line 2 through a connecting hose or metal pipe line, and may be a port through which gas flows in from the out pipe line 2.

내부 라인(212)은 한 실시예로서, 가스 입력 포트(211)로 유입된 가스가 통과하는 호스(hose) 라인 또는 튜브관일 수 있다. As an example, the internal line 212 may be a hose line or tube through which the gas flowing into the gas input port 211 passes.

내부 라인(212)은 한 실시예로서, 제1 내부 라인(212a), 제2 내부 라인(212b), 제3 내부 라인(212c)을 포함할 수 있다. As an example, the internal line 212 may include a first internal line 212a, a second internal line 212b, and a third internal line 212c.

제1 내부 라인(212a)은 한 실시예로서, 제1 밸브(216) 및 제2 밸브(217) 개방시(제3 밸브(221), 제4 밸브(225), 제5 밸브(227)는 차단시) 가스 입력 포트(211)로 유입된 가스가 가스 출력 포트(213)로 배출되는 라인일 수 있다.The first internal line 212a is an example, and when the first valve 216 and the second valve 217 are opened (the third valve 221, the fourth valve 225, and the fifth valve 227 are When blocked), the gas flowing into the gas input port 211 may be a line through which the gas is discharged to the gas output port 213.

제2 내부 라인(212b)은 한 실시예로서, 제1 내부 라인(212a)에서 분기되는 라인일 수 있다. 제3 밸브(221) 개방시(제1 밸브(216), 제2 밸브(217), 제4 밸브(225), 제5 밸브(227)는 차단시) 퍼지 포트(220)로 유입된 퍼징 가스가 제2 내부 라인(212b)에서 제1 내부 라인(212a)으로 유입될 수 있다. As an example, the second internal line 212b may be a line branching from the first internal line 212a. When the third valve 221 is opened (when the first valve 216, second valve 217, fourth valve 225, and fifth valve 227 are closed), purging gas flows into the purge port 220. may flow from the second internal line 212b to the first internal line 212a.

제3 내부 라인(212c)은 한 실시예로서, 제1 내부 라인(212a)에서 분기되는 라인일 수 있다. 제4 밸브(225) 및 제5 밸브(227) 개방시(제1 밸브(216), 제2 밸브(217), 제3 밸브(221)는 차단시) 캐비닛 입력 포트(224)로 유입된 외부 공기(반도체 공정 캐비닛(10) 내부 공기)가 제3 내부 라인(212c)에서 제1 내부 라인(212a)으로 통과하여 캐비닛 출력 포트(226)로 배출될 수 있다. As an example, the third internal line 212c may be a line branching from the first internal line 212a. When the fourth valve 225 and the fifth valve 227 are open (when the first valve 216, second valve 217, and third valve 221 are closed), the outside flows into the cabinet input port 224. Air (air inside the semiconductor process cabinet 10) may pass from the third internal line 212c to the first internal line 212a and be discharged to the cabinet output port 226.

가스 출력 포트(213)는 한 실시예로서, 연결 호스 또는 금속 파이프 라인을 통해 아웃 파이프 라인(2)에 연결되며, 유입된 가스가 아웃 파이프 라인(2)으로 배출되는 포트일 수 있다.As an example, the gas output port 213 is connected to the out pipe line 2 through a connecting hose or metal pipe line, and may be a port through which the introduced gas is discharged to the out pipe line 2.

압력 센서(214)는 한 실시예로서, 내부 라인(212)에 배치되며, 내부 라인(212)의 압력을 센싱할 수 있다. 압력 센싱값을 통해 가스 입력 포트(211) 및 가스 출력 포트(213)가 막혀 있는지 여부를 판단할 수 있다.In one embodiment, the pressure sensor 214 is disposed in the internal line 212 and can sense the pressure of the internal line 212. It can be determined whether the gas input port 211 and the gas output port 213 are blocked through the pressure sensing value.

가스 감지 센서(215)는 한 실시예로서, 내부 라인(212)에 배치되며, 내부 라인의 가스 농도를 측정할 수 있다.In one embodiment, the gas detection sensor 215 is disposed in the internal line 212 and can measure the gas concentration in the internal line.

제1 밸브(216)는 한 실시예로서, 가스 입력 포트(211)와 가스 감지 센서(215) 사이에 배치될 수 있다.As an example, the first valve 216 may be disposed between the gas input port 211 and the gas detection sensor 215.

제2 밸브(217)는 가스 감지 센서(215)와 가스 출력 포트(213) 사이에 배치될 수 있다.The second valve 217 may be disposed between the gas detection sensor 215 and the gas output port 213.

펌프(218)는 한 실시예로서, 가스 감지 센서(215)와 제2 밸브(217) 사이에 배치되는 에어 펌프일 수 있다.As an example, the pump 218 may be an air pump disposed between the gas detection sensor 215 and the second valve 217.

도 4를 참조하면, 제어부(219)는 한 실시예로서, 압력 센서(214)를 통해 측정되는 내부 라인(212)의 압력과 미리 설정된 기준 압력값과 비교하여 가스 입력 포트(211) 및 가스 출력 포트(213)의 막힘 여부를 판단할 수 있다. 파우더에 의해 가스 입력 포트(211) 및 가스 출력 포트(213)의 막힘이 발생하는 경우 압력값이 상승하게 되므로, 제어부(219)는 내부 라인(212)의 압력이 미리 설정된 기준 압력값보다 큰 경우, 가스 입력 포트(211) 및 가스 출력 포트(213)의 막힘으로 판단할 수 있다.Referring to FIG. 4, the control unit 219, as an example, compares the pressure of the internal line 212 measured through the pressure sensor 214 with a preset reference pressure value and controls the gas input port 211 and the gas output. It can be determined whether the port 213 is blocked. When the gas input port 211 and the gas output port 213 are blocked by powder, the pressure value increases, so the control unit 219 controls the internal line 212 when the pressure is greater than the preset reference pressure value. , it can be determined that the gas input port 211 and the gas output port 213 are blocked.

제어부(219)는 한 실시예로서, 가스 입력 포트(211) 및 가스 출력 포트(213)가 정상으로 판단되면(막힘이 없는 것으로 판단되면), 아웃 파이프 라인(2)으로부터 가스가 유입될 수 있도록 제1 밸브(216)를 개방하고 펌프(218)를 동작시킬 수 있다.As an example, the control unit 219 is configured to allow gas to flow from the out pipe line 2 when the gas input port 211 and the gas output port 213 are determined to be normal (if it is determined that there is no blockage). The first valve 216 may be opened and the pump 218 may be operated.

도 5를 참조하면, 제어부(219)는 한 실시예로서, 가스 감지 센서(215)를 통해 측정되는 가스 농도가 미리 설정된 기준 가스 농도값에 도달하거나 또는 미리 설정된 기준 시간이 경과하면, 제1 밸브(216)를 차단할 수 있다. 이를 통해, 고농도의 가스 노출로 인한 센서의 고장을 방지할 수 있다.Referring to FIG. 5, the control unit 219, as an example, operates the first valve when the gas concentration measured through the gas detection sensor 215 reaches a preset reference gas concentration value or a preset reference time elapses. (216) can be blocked. Through this, sensor failure due to exposure to high concentrations of gas can be prevented.

퍼지 포트(220)는 한 실시예로서, 퍼징(purging) 가스(예, 질소(N2) 가스)가 유입될 수 있다. As an example, the purge port 220 may allow purging gas (eg, nitrogen (N2) gas) to flow into the purge port 220.

제3 밸브(221)는 한 실시예로서, 내부 라인(212)에 배치될 수 있다.The third valve 221 may be disposed in the internal line 212 as an example.

도 6을 참조하면, 제어부(219)는 한 실시예로서, 제1 밸브(216)를 차단한 후, 퍼징 가스가 유입될 수 있도록 제3 밸브(221)를 개방할 수 있다. 이를 통해, 오염된 가스 감지 센서(215)를 세정(cleaning)함으로써, 가스 감지 센서(215)의 수명을 연장할 수 있다.Referring to FIG. 6 , in one embodiment, the control unit 219 may block the first valve 216 and then open the third valve 221 to allow purging gas to flow in. Through this, the lifespan of the gas detection sensor 215 can be extended by cleaning the contaminated gas detection sensor 215.

도 7을 참조하면, 제어부(219)는 한 실시예로서, 가스 감지 센서(215) 세정 후, 가스 감지 센서(215)를 통해 측정되는 가스 농도가 미리 설정된 기준 가스 농도값 보다 낮으면 잔류 가스가 없는 것으로 판단하고, 제3 밸브(221)를 차단할 수 있다.Referring to FIG. 7, the control unit 219 is an example, and after cleaning the gas detection sensor 215, if the gas concentration measured through the gas detection sensor 215 is lower than a preset reference gas concentration value, the remaining gas is It is determined that there is none, and the third valve 221 can be blocked.

케이스(222)는 한 실시예로서, 내부에 가스 입력 포트(211), 내부 라인(212), 가스 출력 포트(213), 압력 센서(214), 가스 감지 센서(215), 제1 밸브(216), 제2 밸브(217), 펌프(218), 제어부(219), 퍼지 포트(220), 제3 밸브(221), 케이스(222), 디스플레이부(223), 캐비닛 입력 포트(224), 제4 밸브(225), 캐비닛 출력 포트(226), 제5 밸브(227), 온습도 센서(228), 스피커부(229), 통신부(230)를 포함하는 금속 하우징일 수 있다. Case 222 is an embodiment, and has a gas input port 211, an internal line 212, a gas output port 213, a pressure sensor 214, a gas detection sensor 215, and a first valve 216. ), second valve 217, pump 218, control unit 219, purge port 220, third valve 221, case 222, display unit 223, cabinet input port 224, It may be a metal housing including a fourth valve 225, a cabinet output port 226, a fifth valve 227, a temperature and humidity sensor 228, a speaker unit 229, and a communication unit 230.

디스플레이부(223)는 한 실시예로서, 케이스(222)의 일면에 배치되며, 화면 상에 압력 센싱값, 가스 농도, 가스 누출 여부를 출력할 수 있다. 디스플레이부(223)는 한 실시예로서, 7세그먼트 표시 장치, 액정 디스플레이(liquid crystal display, LCD), 박막 트랜지스터 액정 디스플레이(thin film transistor-liquid crystal display), 유기 발광 다이오드(organic light-emitting diode, OLED) 중 어느 하나일 수 있다.As an example, the display unit 223 is disposed on one side of the case 222 and can output pressure sensing values, gas concentration, and gas leakage information on the screen. The display unit 223 is an example of a 7-segment display device, a liquid crystal display (LCD), a thin film transistor-liquid crystal display, and an organic light-emitting diode. OLED).

캐비닛 입력 포트(224)는 한 실시예로서, 외부 공기(반도체 공정 캐비닛(10) 내부 공기)가 유입되는 포트일 수 있다.As an example, the cabinet input port 224 may be a port through which external air (air inside the semiconductor process cabinet 10) flows.

제4 밸브(225)는 한 실시예로서, 캐비닛 입력 포트(224)와 가스 감지 센서(215) 사이에 배치될 수 있다.As an example, the fourth valve 225 may be disposed between the cabinet input port 224 and the gas detection sensor 215.

캐비닛 출력 포트(226)는 한 실시예로서, 외부 공기(반도체 공정 캐비닛(10) 내부 공기)가 배출되는 포트일 수 있다. As an example, the cabinet output port 226 may be a port through which external air (air inside the semiconductor process cabinet 10) is discharged.

제5 밸브(227)는 한 실시예로서, 펌프(218)와 캐비닛 출력 포트(226) 사이에 배치될 수 있다. In one embodiment, the fifth valve 227 may be disposed between the pump 218 and the cabinet output port 226.

온습도 센서(228)는 한 실시예로서, 케이스(222)의 일면에 배치되며, 온도 및 습도를 센싱할 수 있다.As an example, the temperature and humidity sensor 228 is disposed on one side of the case 222 and can sense temperature and humidity.

도 8을 참조하면, 제어부(219)는 한 실시예로서, 온습도 센서(228)를 통해 측정되는 온도가 미리 설정된 기준 온도보다 높거나 또는 습도가 미리 설정된 기준 습도보다 높으면, 외부 공기가 유입될 수 있도록 제4 밸브(225)를 개방하고 펌프를 동작시킬 수 있다. 외부 공기 순환을 통해 가스 감지 센서(215)의 최적의 상태를 유지함으로써, 측정 정확도를 향상시킬 수 있고, 센서 수명을 연장할 수 있다.Referring to FIG. 8, the control unit 219, as an example, may allow external air to flow in when the temperature measured through the temperature and humidity sensor 228 is higher than the preset reference temperature or the humidity is higher than the preset reference humidity. The fourth valve 225 can be opened and the pump can be operated. By maintaining the optimal state of the gas detection sensor 215 through external air circulation, measurement accuracy can be improved and sensor lifespan can be extended.

제어부(219)는 한 실시예로서, 제1 밸브(216), 제2 밸브(217), 및 제3 밸브(221)를 차단하고 제4 밸브(225) 및 제5 밸브(227) 개방하여 외부 공기(반도체 공정 캐비닛(10) 내부 공기)의 가스 농도를 모니터링할 수 있고, 외부 공기(반도체 공정 캐비닛(10) 내부 공기)의 가스 누출 여부를 판단할 수 있다. In one embodiment, the control unit 219 blocks the first valve 216, the second valve 217, and the third valve 221 and opens the fourth valve 225 and the fifth valve 227 to the outside. The gas concentration in the air (air inside the semiconductor process cabinet 10) can be monitored, and gas leakage in external air (air inside the semiconductor process cabinet 10) can be determined.

스피커부(229)는 한 실시예로서, 케이스(222) 내부에 포함되며, 경보음을 출력할 수 있다.As an example, the speaker unit 229 is included inside the case 222 and can output an alarm sound.

통신부(230)는 한 실시예로서, 케이스 내부에 포함되며, 유무선 네트워크를 이용하여 사용자 단말(300)과 데이터를 송수신하는 통신 모듈을 포함할 수 있다. As an example, the communication unit 230 is included inside a case and may include a communication module that transmits and receives data to and from the user terminal 300 using a wired or wireless network.

제어부(219)는 한 실시예로서, 가스 감지 센서(215)를 통해 측정되는 가스 농도가 미리 설정된 기준 가스 농도값에 도달하면, 스피커부(229)를 통해 경보음을 출력하며, 통신부(230)를 통해 사용자 단말(300)에게 알림 메시지를 송신할 수 있다.As an example, the control unit 219 outputs an alarm sound through the speaker unit 229 when the gas concentration measured through the gas detection sensor 215 reaches a preset reference gas concentration value, and the communication unit 230 A notification message can be transmitted to the user terminal 300 through .

사용자 단말(300)은 한 실시예로서, 이동 통신 단말기, 데스크톱 컴퓨터, 노트북 컴퓨터, 워크스테이션, 팜톱(palmtop) 컴퓨터, 개인 휴대 정보 단말기(Personal Digital Assistant, PDA), 웹 패드 등과 같이 메모리 수단을 구비하고 마이크로 프로세서를 탑재하여 연산 능력을 갖춘 디지털 기기일 수 있다.In one embodiment, the user terminal 300 is equipped with a memory means, such as a mobile communication terminal, a desktop computer, a laptop computer, a workstation, a palmtop computer, a personal digital assistant (PDA), a web pad, etc. It may be a digital device equipped with a microprocessor and equipped with computing power.

도 9를 참조하면, 한 실시예에 따른 가스 감지 시스템은 반도체 공정 캐비닛(10), 인 파이프 라인(1), 아웃 파이프 라인(2), 처리모듈(100), 제1 가스 감지 장치(200), 사용자 단말(300)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 9, the gas detection system according to one embodiment includes a semiconductor process cabinet 10, an in-pipe line 1, an out-pipe line 2, a processing module 100, and a first gas detection device 200. , may include a user terminal 300.

제1 가스 감지 장치(200)는 한 실시예로서, 인 파이프 라인(1) 및 아웃 파이프 라인(2)에 연결될 수 있고, 인 파이프 라인(1)으로부터 유입되는 가스 농도와 아웃 파이프 라인(2)으로부터 유입되는 가스 농도를 비교하여 유해 가스에 대한 처리 효율을 산출할 수 있다.As an example, the first gas detection device 200 may be connected to the in pipeline (1) and the out pipeline (2), and may measure the gas concentration flowing from the in pipeline (1) and the out pipeline (2). The treatment efficiency for harmful gases can be calculated by comparing the gas concentration flowing in from the system.

도 10은 한 실시예에 따른 가스 감지 방법의 흐름도이다.10 is a flowchart of a gas detection method according to one embodiment.

도 10을 참조하면, 한 실시예에 따른 가스 감지 방법은 내부 라인(212)의 압력과 미리 설정된 기준 압력값과 비교하여 가스 입력 포트(211) 및 가스 출력 포트(213)의 막힘 여부를 판단하는 단계(S100), 가스 입력 포트(211) 및 가스 출력 포트(213)가 정상으로 판단되면, 아웃 파이프 라인(2)으로부터 가스가 유입될 수 있도록 제1 밸브(216)를 개방하고 펌프(218)를 동작시키는 단계(S200), 가스 감지 센서(215)를 통해 측정되는 가스 농도가 미리 설정된 기준 가스 농도값에 도달하면, 제1 밸브(216)를 차단하는 단계(S300), 제1 밸브(216)를 차단한 후, 퍼징 가스가 유입될 수 있도록 제3 밸브(221)를 개방하는 단계(S400), 가스 감지 센서(215)를 통해 측정되는 가스 농도가 미리 설정된 기준 가스 농도값 보다 낮으면 잔류 가스가 없는 것으로 판단하고, 제3 밸브(221)를 차단하는 단계(S500)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 10, the gas detection method according to one embodiment determines whether the gas input port 211 and the gas output port 213 are blocked by comparing the pressure of the internal line 212 with a preset reference pressure value. In step S100, if the gas input port 211 and the gas output port 213 are determined to be normal, the first valve 216 is opened to allow gas to flow from the out pipe line 2 and the pump 218 is opened. A step of operating (S200), when the gas concentration measured through the gas detection sensor 215 reaches a preset reference gas concentration value, a step of blocking the first valve 216 (S300), the first valve 216 ) and then opening the third valve 221 to allow purging gas to flow in (S400). If the gas concentration measured through the gas detection sensor 215 is lower than the preset reference gas concentration value, the remaining It may include determining that there is no gas and blocking the third valve 221 (S500).

단계 S100 내지 단계 S500은 위에서 설명한 가스 감지 장치(200)의 동작 내용과 동일하므로, 상세한 설명은 생략한다.Since steps S100 to S500 are the same as the operation contents of the gas detection device 200 described above, detailed descriptions are omitted.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements made by those skilled in the art using the basic concept of the present invention defined in the following claims are also possible. It falls within the scope of rights.

본 실시 예와 관련된 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 상기된 기재의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 개시 방법들은 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 특허청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.Those skilled in the art related to this embodiment will understand that the above-described base material can be implemented in a modified form without departing from the essential characteristics. Therefore, disclosure methods should be considered from an explanatory rather than a restrictive perspective. The scope of the present invention is indicated in the claims rather than the foregoing description, and all differences within the equivalent scope should be construed as being included in the present invention.

Claims (4)

인 파이프 라인으로부터 유입되는 유해 가스를 처리하는 처리모듈로부터 가스가 배출되는 아웃 파이프 라인에 연결되며, 상기 아웃 파이프 라인으로부터 유해 가스가 처리되는지 여부를 모니터링하는 장치로서,
상기 아웃 파이프 라인에 연결되며, 상기 아웃 파이프 라인으로부터 가스가 유입되는 가스 입력 포트,
유입된 가스가 통과하는 내부 라인,
상기 아웃 파이프 라인에 연결되며, 유입된 가스가 상기 아웃 파이프 라인으로 배출되는 가스 출력 포트,
상기 내부 라인에 배치되며, 상기 내부 라인의 압력을 센싱하는 압력 센서,
상기 내부 라인에 배치되며, 상기 내부 라인의 가스 농도를 측정하는 가스 감지 센서,
상기 가스 입력 포트와 상기 가스 감지 센서 사이에 배치되는 제1 밸브,
상기 가스 감지 센서와 상기 가스 출력 포트 사이에 배치되는 제2 밸브, 및
상기 가스 감지 센서와 상기 제2 밸브 사이에 배치되는 펌프를 포함하는, 가스 감지 장치.
A device connected to an out pipeline through which gas is discharged from a processing module that processes harmful gas flowing in from the in pipeline, and monitoring whether harmful gas is processed from the out pipeline,
A gas input port connected to the out pipeline and through which gas flows in from the out pipeline,
Internal line through which the incoming gas passes,
A gas output port connected to the out pipe line and discharging the introduced gas into the out pipe line,
A pressure sensor disposed in the internal line and sensing the pressure of the internal line,
A gas detection sensor disposed in the internal line and measuring the gas concentration in the internal line,
A first valve disposed between the gas input port and the gas detection sensor,
a second valve disposed between the gas detection sensor and the gas output port, and
A gas detection device comprising a pump disposed between the gas detection sensor and the second valve.
제2항에서,
상기 가스 감지 장치는,
상기 내부 라인의 압력과 미리 설정된 기준 압력값과 비교하여 상기 가스 입력 포트 및 가스 출력 포트의 막힘 여부를 판단하고, 상기 가스 입력 포트 및 가스 출력 포트가 정상으로 판단되면 상기 아웃 파이프 라인으로부터 가스가 유입될 수 있도록 상기 제1 밸브를 개방하고 상기 펌프를 동작시키는 제어부를 더 포함하는, 가스 감지 장치.
In paragraph 2,
The gas detection device,
The pressure of the internal line is compared with a preset reference pressure value to determine whether the gas input port and gas output port are blocked, and if the gas input port and gas output port are determined to be normal, gas flows in from the out pipeline. A gas sensing device further comprising a control unit that opens the first valve and operates the pump so that the gas detection device can operate.
제3항에서,
상기 제어부는,
상기 가스 감지 센서를 통해 측정되는 가스 농도가 미리 설정된 기준 가스 농도값에 도달하면, 상기 제1 밸브를 차단하는, 가스 감지 장치.
In paragraph 3,
The control unit,
A gas detection device that blocks the first valve when the gas concentration measured through the gas detection sensor reaches a preset reference gas concentration value.
가스 감지 장치의 가스 감지 방법으로서,
내부 라인의 압력과 미리 설정된 기준 압력값과 비교하여 가스 입력 포트 및 가스 출력 포트의 막힘 여부를 판단하는 단계,
상기 가스 입력 포트 및 가스 출력 포트가 정상으로 판단되면, 아웃 파이프 라인으로부터 가스가 유입될 수 있도록 제1 밸브를 개방하고 펌프를 동작시키는 단계, 그리고
가스 감지 센서를 통해 측정되는 가스 농도가 미리 설정된 기준 가스 농도값에 도달하면, 상기 제1 밸브를 차단하는 단계
를 포함하는 가스 감지 방법.
A gas detection method of a gas detection device, comprising:
Comparing the pressure of the internal line with a preset reference pressure value to determine whether the gas input port and gas output port are blocked;
If the gas input port and the gas output port are determined to be normal, opening the first valve and operating the pump to allow gas to flow from the out pipe line, and
When the gas concentration measured through the gas detection sensor reaches a preset reference gas concentration value, blocking the first valve
A gas detection method comprising:
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