KR20230133233A - 개선된 냉각을 갖는 rf 마이크로니들 시스템 - Google Patents

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KR20230133233A
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바톨로메즈 제임스
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주식회사 루트로닉
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Abstract

RF 마이크로니들 시스템은 마이크로니들 하우징의 둘레를 적어도 부분적으로 둘러싸는 냉각 덕트를 갖도록 구비된다. 상기 노즐에 의해 얼마만큼의 둘레가 둘러싸이느냐에 따라, 냉각 범위가 결정된다. 예를 들어, 노즐이 둘레 전부를 둘러싼다면, 360도의 냉각 범위가 제공된다. 게다가, 상기 노즐은, 마이크로니들들의 어레이를 냉각하기 위해, 상기 마이크로니들 하우징 내 적어도 하나의 슬롯으로 냉각 공기가 진행하도록 구성된다.

Description

개선된 냉각을 갖는 RF 마이크로니들 시스템{A RF Microneedle System with Enhanced Cooling}
본 출원은 프락셔널 손상을 위한 고주파(radiofrequency RF) 마이크로니들 시스템에 관한 것으로, 보다 구체적으로 개선된 냉각을 갖는 RF 마이크로니들 시스템에 관한 것이다.
새로운 콜라겐 성장을 증진하거나 흉터 및 변색(discoloration)을 제거하는 등의 다양한 피부 회춘 치료들이 개발되어 왔다. 예를 들어, 화학적 요법이 피부에 적용될 수 있다. 다른 접근 방식으로, 레이저가 치료되는 피부 표면 전체를 어블레이트(ablate)한다. 예를 들어, 스캔 또는 고르지 않은 색소 침착은 이러한 방식으로 어블레이트 될 수 있다. 화학적 요법이나 레이저는 치료되는 피부의 전체 상측 표면(표피)를 어블레이팅하기 때문에, 이러한 어블레이션 방식의 치료들은 박피술(dermal peel)로 분류될 수 있다. 상측 피부층의 손상은 하측 진피층이 보다 많은 콜라겐을 생성하고, 이로 인해 노화에 의해 야기되는 것과 같은 주름과 처짐(sagging)을 해결하는 유익한 타이트닝을 야기하는 것을 촉발할 수 있다. 그러나, 박피술의 미용적 장점은 감염의 위험, 증가된 회복 기간 및 흉터와 관련이 있다.
박피술의 이점을 제공하면서도 위험을 줄이기 위해, 프락셔널 피부 어블레이션(fractional dermal ablation)이 개발되었다. “프락셔널”이라는 명칭에 의해 암시되듯이, 프락셔널 피부 어블레이션은 치료 영역의 전체 표피를 어블레이션 하지 않는다. 예를 들어, 레이저는 스캐닝되면서 펄싱되며, 건강한 조직에 의해 분리된 어블레이션된 피부 기둥(ablated column of skin)을 형성한다. 각 어블레이션된 기둥 주변에 건강하고 손상되지 않은 피부의 존재는 치유 속도를 빠르게 하고 감염의 위험을 감소시킨다. 그러나, 각 어블레이션된 조직의 각 기둥에서 초래되는 진피의 손상은 콜라겐의 성장 및 재조직을 자극하고, 이는 유익한 피부의 회춘을 제공한다.
프락셔널 피부 치료가 피부를 회춘할 수는 있지만, 레이저의 사용은 아직까지 과색소 침착 또는 저색소 침착과 같은 원치 않는 부작용을 야기할 수 있다. 이처럼 레이저가 초래하는 위험없이 프락셔널 피부 어블레이션을 달성하기 위해, RF 마이크로니들 시스템이 개발되었다. RF 마이크로니들 시스템에서, 핸드피스는 피부를 관통하여 원하는 제어된 깊이의 진피층까지 연장되게 작동할 수 있는 마이크로니들들의 어레이를 포함한다. 타겟 조직까지 연장되는 마이크로니들들을 이용하여, 시스템의 RF 소스는 RF 에너지로 마이크로니들들을 여기시켜, 마이크로니들들로부터 RF 전류가 전도되게 한다. 타겟 조직은 이러한 전류에 옴 저항을 갖고 원하는 프락셔널 어블레이션 또는 손상을 달성할 수 있도록 전열 손상(electrothermal damage)을 야기한다.
초기 개발시, 마이크로니들들은 절연되지 않았고, 따라서 피부 표면으로부터 마이크로니들 팁까지 모든 경로가 어블레이션되었다. 피부 표면(표피)이 과도한 열 손상을 입지 않으려면, 냉각된 금속 템플릿 또는 마이크로니들들이 연장되는 하우징과 같은 적극적인 냉각 방식이 요구되었다. 이러한 표피의 원치 않는 열적 손상을 해결하기 위해, RF 마이크로니들 시스템은, RF 에너지가 각 마이크로니들들의 전도성 팁에서 전달되도록 절연된 샤프트를 갖는 방식으로 개발되었다. 진피층에 삽입될 때 프락셔널 전열 손상은 마이크로니들 팁의 주변에 집중되기 때문에, 피부 표면의 적극적인 냉각의 필요성이 감소하였다.
절연된 마이크로니들 어레이들이 더 이상 표피를 가열하지 않는다고 하더라도, 마이크로니들들의 RF 여기는 마이크로니들들을 가열한다. 그러나, 냉각 금속 하우징과 같은 존재하는 냉각 기술은 마이크로니들 히팅을 해결하지 못한다. 따라서, 해당 기술 분야에서는 개선된 냉각을 갖는 RF 마이크로니들 시스템에 대한 요구가 있다.
본 발명은 개선된 냉각을 갖는 RF 마이크로니들 시스템을 제공하기 위함이다.
본 개시의 일 양상에 따르면, 핸드피스의 원위 단부에 마이크로니들 하우징을 포함하고 상기 마이크로니들 하우징은 마이크로니들들의 어레이를 수용하는 내부를 포함하는 핸드피스; 및 마이크로니들 하우징의 둘레를 적어도 부분적으로 둘러싸도록 구성되는 노즐을 포함하되, 마이크로니들 하우징의 원위부는 노즐로부터 원위측으로 연장되고 마이크로니들들의 어레이가 수용되는 내부에 개구되도록 구성된 적어도 하나의 슬롯을 포함하며, 노즐은 노즐의 근위 단부로부터 노즐의 원위 단부의 적어도 하나의 개구부까지 연장되는 루멘을 포함하는, RF 마이크로니들 시스템이 제공된다.
본 개시의 제2 양상에 따르면, 냉각 가스를 냉각 덕트의 원위 단부로 구동하고, 냉각 가스가 마이크로니들 하우징을 둘레를 따라 둘러싸는 노즐의 원위 단부로 배출되도록 원위의 냉각 덕트로부터 노즐의 루멘으로 냉각 가스를 구동하는 것을 포함하는 RF 마이크로니들 시스템의 냉각 방법이 제공된다.
본 개시의 제2 양상에 따르면, 원위부 및 근위부를 포함하는 마이크로니들 하우징; 및 마이크로니들 하우징의 근위부의 주변을 둘러싸도록 구성되는 노즐;을 포함하고, 마이크로니들 하우징의 원위부는 노즐의 원위 단부로부터 연장되고, 노즐은 노즐의 원위 단부에 둘레의 개구부를 포함하는, RF 마이크로니들 시스템이 제공된다.
본 발명은 개선된 냉각을 갖는 RF 마이크로니들 시스템을 제공할 수 있다. 이러한 특징들 그리고 다른 유리한 특징들은 다음의 상세한 설명을 통해 더 잘 이해될 수 있을 것이다.
도 1a는, 본 개시의 일 양상에 따른 360도의 냉각을 갖는 RF 마이크로니들 시스템의 종단면도이다.
도 1b는, 도 1a의 RF 마이크로니들 시스템의 사시도이다.
도 1c는, 도 1a의 RF 마이크로니들 시스템에서 핸드피스와 노즐의 원위 단부의 평면도이다.
도 2a는, 본 개시의 일 양상에 따른, 약 270도의 냉각을 갖는 RF 마이크로니들 시스템의 사시도이다.
도 2b는, 도 2a의 RF 마이크로니들 시스템으로부터 노즐을 분리한 근위 사시도이다.
도 2c는, 도 2a의 RF 마이크로니들 시스템으로부터 노즐을 분리한 원위 사시도이다.
도 3은, 본 개시의 일 양상에 따른, RF 마이크로니들 시스템을 이용하는 동안 예시적인 냉각 방법에 대한 순서도이다.
본 개시의 실시예들 및 그들의 장점은 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 하나 이상의 도면에서 유사한 도면 부호는 유사한 구성요소를 나타내는데 사용된 된 것으로 이해되어야 한다.
냉각 덕트가 마이크로니들 핸드피스에 부착되는 RF 마이크로니들 시스템이 개시된다. 핸드피스는 마이크로니들들의 어레이를 포함하는 마이크로니들 하우징을 포함한다. 냉각 가스 공급부(예 : 냉각 공기 공급부)는 냉각 덕트를 통해 마이크로니들 하우징의 베이스부(base portion)를 적어도 부분적으로 둘러싸는 노즐에 냉각된 가스를 공급한다. 마이크로니들 하우징의 원위부는 베이스부로부터 어레이의 각 마이크로니들을 위한 천공 또는 홀(hole)을 포함하는 템플레이트까지 연장된다. 기본(비작동) 상태에서, 마이크로니들들의 어레이는 하우징 내에 수용된다. 반대로, 각 마이크로니들은 동작 상태에서 템플레이트에서 그들의 대응되는 홀(hole)로부터 원위로 연장된다.
하우징의 원위부는, 원위부의 근위 단부로부터 템플레이트까지 연장될 수 있는 적어도 하나의 슬롯 또는 천공을 포함한다. 상기 슬롯은 마이크로니들 핸드피스에 대해 길이 방향으로 이어진다. 상기 슬롯은, 비 동작 상태에서 마이크로니들들의 어레이를 수용하는 하우징 내부와 연통한다. 따라서, 노즐로부터의 냉각된 가스(예를 들어, 냉각된 공기)는 마이크로니들들을 냉각하기 위해 적어도 부분적으로 적어도 하나의 슬롯을 통해 하우징 내부로 진행한다. 이는 템플레이트를 냉각하는 전통적인 방식에 비해 상당히 유리하다. 마이크로니들들이 작동할 때 템플레이트의 각각의 홀을 통해 통과하더라도, 템플레이트와 마이크로니들들 사이에 직접적인 접촉이 없다. 따라서, 전통적인 템플레이트 냉각은 마이크로니들들을 직접적으로 냉각하지 않는다. 이는, 치료 중 마이크로니들들이 RF 여기(excitation)로부터 가열되는 점에서 문제가 있다. 반면, 여기서 개시되는 냉각 덕트 노즐은 표피를 냉각하기 위해 냉각 가스를 마이크로니들 하우징의 원위부로부터 길이 방향으로 제공할 뿐 아니라, 마이크로니들들을 냉각하기 위해 마이크로니들 하우징으로 제공한다. 이러한 방법에서, RF 마이크로니들 치료 중 불편함을 감소시키도록 피부가 냉각될 수 있고 동시에 마이크로니들들의 어레이가 냉각된다.
이러한 개선된 냉각을 갖는 RF 마이크로니들 시스템(100) 예시는 도 1a에서 종단면도로, 도 1b에서 사시도로, 도 1c에서 단부의 평면도로 도시된다. 핸드피스(105)는 핸드피스(105)의 원위 단부(distal end)dp 있는 마이크로니들 하우징(110)까지 길이 방향을 따라 연장된다. 또한, 냉각 가스 소스(125)로부터 냉각 가스(예를 들어, 공기 또는 질소)를 제공받는 루멘(120)을 갖는 냉각 덕트(115) 또한 핸드피스와 길이 방향으로 연장된다. 다음 논의에서는 냉각 가스는 일반성을 잃지 않고 냉각된 공기라고 가정할 것이다. 냉각 덕트(115)는 마이크로니들 하우징(110)의 둘레를 둘러싸는 칼라(collar) 또는 노즐(130)의 방사상 연장부에 (예를 들어, 자기적 결합을 통해) 결합되어, 마이크로니들 하우징(110)의 원위부(135)는 노즐(130)의 원위 단부로부터 원위 방향으로 돌출된다. 노즐(130)은 냉각된 공기가 배출될 수 있도록 노즐의 원위 단부에 위치하는 개구부(180)로 연장되는 루멘(145)을 포함한다. 노즐(130)은 노즐(130)의 근위 단부로부터 개구부(180)로 원위 방향으로 연장됨에 따라 좁아진다. 따라서, 냉각된 공기는 원위부(135)의 외측 표면을 따라 길이 방향으로 진행할 뿐 아니라, 핸드피스(105)의 길이 방향 중심축을 향해 방사상으로도 진행한다. 개구부(180) 방향으로 배출됨에 따라 냉각된 공기의 이러한 방사상 성분은 냉각된 공기가 원위부(135) 상에 길이 방향으로 형성된 슬롯들(145)으로 향하는데 도움을 준다. 슬롯들(145)은 마이크로니들들(165)의 어레이를 수용하는 원위부(135)의 내측에 개방된다.
노즐(130)을 빠져나감에 따라 냉각된 공기의 이러한 방사상 방사상 성분은, 일부의 냉각 공기가 마이크로니들들(165)을 냉각시킬 수 있도록 슬롯들(145)을 통해 내부(160)로 향하게 된다. 핸드피스(150)는, 마이크로니들들이 마이크로니들 하우징(110)의 내부(160)에 수용되어 있는 후퇴된(retracted) 또는 비-동작 위치로부터, 마이크로니들들(164)이 피부를 관통할 수 있도록, 마이크로니들들(165)이 원위부(135)의 원위 단부에 위치하는 원위로 향하는 템플레이트(170)로부터 연장되는, 연장된 또는 작동된 위치까지 마이크로니들들을 동작시키는 액추에이터(미도시)를 포함한다. 템플레이트(170)는 마이크로니들들(165)이 작동될 때, 마이크로니들(165)이 템플레이트(170) 내의 상응하는 홀(175)을 통해 연장될 수 있도록, 템플레이트(170)는 천공 또는 홀들(175)의 어레이를 포함한다. 여기에서 “마이크로니들”이라는 용어는 실제 니들의 직경에 제한없이 사용되는 것을 유의하기 바란다. 일반적으로, “마이크로니들”은 작동 위치에서 쉽게 피부를 관통할 수 있도록 상대적으로 얇은 니들을 의미한다. 그러나, 마이크로니들의 길이나 두께는 용도에 따라 달라질 수 있다.
마이크로니들들(165)의 냉각에 더해, 개구부(180)는 마이크로니들 하우징(110) 원위부(135)의 주변을 둘러싸고 있음을 유의해야 한다. 따라서, 개구부(180) 빠져나가는 냉각된 공기의 길이방향 성분으로부터 템플레이트(170)를 향하는 환자의 피부에 360도 냉각이 제공된다. 그 결과 360도 냉각은 환자의 편안함을 유리하게 향상시킨다. 냉각 덕트(115) 핸드피스(150)를 고정하는 클립부(150)를 통해 핸드피스(105)에 부착될 수 있다. 노즐(130)은, 여기서 더 논의되는 것처럼, 냉각 덕트(105)의 원위부(155)에 자기적으로 결합될 수 있다.
마이크로니들들(165)은 일부 실시예에서 절연될 수 있다. 마이크로니들들(165)을 여기시키기 위한 RF 소스(미도시)의 에너지는 프락셔널 손상의 타입을 결정한다. 예를 들어, RF 여기에 의해 프락셔널 손상되는 조직이 100℃ 또는 이상으로 가열되면, 그 결과 발생하는 프락셔널 손상은 일반적으로 어블레이션(being ablative)으로 표시된다. 만약, RF 여기에 의해 프락셔널 손상되는 조직이 100℃ 또는 이상으로 가열되지 않으면, 그 결과 발생하는 프락셔널 손상은 논-어블레이션(being non-ablative)으로 표시된다. 논-어블레이션 프락셔널 손상은 다양한 형태가 존재한다. 예를 들어, 프락셔널 손상되는 조직이 70℃ 초과하고 100℃ 미만으로 가열되면, 프락셔널 손상은 일반적으로 프락셔널 코아귤레이션(coagulation) 또는 조직 괴사(necrosis)로 표시된다. 대신 RF 여기가 조직을 70℃ 보다 낮지만 40℃ 이상으로 부분적으로 가열하는 경우, 프락셔널 손상은 주로 비-즉각파괴적인(non-immediately destructive) 조직 가열로 표시된다.
원위부(135)의 전체 둘레를 둘러싸는 대신, 마이크로니들 RF 시스템(200)의 대안적인 노즐(230)은 대신에 도 2a에 도시된 것처럼 원위부(135) 둘레의 부분을 둘러쌀 수 있다. 시스템(200)의 핸드피스(105)는 시스템(100)에 대해 논의된 바와 같이 배치된다. 따라서, 원위부(135)는 노즐(230)의 원위 단부로부터 원위 방방향으로 연장되고, 슬롯들(145)을 포함한다. 노즐(230)은 원위 단부에 구비되고 또한 모따기면(chamfer) 또는 경사진 엣지(210)를 따라 복수의 개구부(205)를 포함한다. 원위부(230)에 대해 노즐의 부분적인 둘레의 범위는 약 270도 이지만, 대안적인 실시예에 있어 이보다 보다 크게 또는 작게 부분적인 원주 범위가 사용될 수 있다고 이해되어야 할 것이다.
노즐(130)을 다시 참조하면, 개구부(180)는 원위부(135)의 전체 둘레를 둘러싸는 것과 관련하여 연속적(continuous)인 것에 유의해야 한다. 반면, 노즐(230)의 개구부들(205)은 원위부(135)의 약 270도의 부분적 둘레(circumference)에 걸쳐 별개로(discrete) 이격되어 있다. 대신에 노즐(130)이 냉각된 가스를 배출시키기 위한 별개의 개구부를 갖을 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 마찬가지로, 노즐(230)은 대신 그 냉각된 가스를 배출하기 위한 연속적인 개구부를 갖을 수도 있다.
노즐(230)은 도 2b 및 도 2c에 분리되어 도시된다. 노즐(230)의 근위 단부(220)는 냉각 덕트(미도시)의 원위 단부에 자기 결합되기 위한 자성체(215)를 포함할 수 있다. 근위 단부(220)로부터, 루멘(225)은 노즐(230)의 원위 단부 뿐 아니라 경사면 엣지(235)에 배치된 개구부들(205)까지 연장된다.
이제 도 3의 순서도와 관련하여 RF 마이크로니들 시스템의 냉각 방법의 예가 논의될 것이다. 상기 방법은 냉각 덕트의 원위 단부로 냉각 가스를 구동하는 동작(300)을 포함한다. 냉각 덕트(115)로 냉각된 공기를 구동하는 것은 동작(300)의 일 예이다. 또한, 상기 방법은, 냉각 가스가 마이크로니들 하우징을 둘레를 따라 둘러싸고 있는 노즐의 원위 단부로 빠져나가게 할 수 있도록, 상기 냉각된 가스를 원위의 냉각 덕트로부터 노즐의 루멘으로 구동하는 동작(305)을 포함한다. 노즐(130)에서 둘레의 개구부(180)로 냉각된 공기를 배출하는 것은 동작(305)의 일 예이다.
이 기술 분야의 당업자는 본 개시의 범위를 벗어나지 않고 본 개시의 장치의 재료, 장치, 구성 및 사용 방법에 대해 많은 수정, 치환 및 변형이 이루어질 수 있음을 이제 인식할 것이며, 당면한 특정 용도에 따라 달라질 수 있을 것이다. 이러한 점에 비추어, 본 개시의 범위는 본 명세서에 예시되고 설명된 특정 실시예의 범위로 한정되어서는 안 되며, 이는 단지 그 일부 실시예에 불과하고, 오히려 여기에 첨부된 청구범위 및 그 기능적 균등물의 범위로 충분히 고려되어야 한다.

Claims (19)

  1. 원위 단부(distal end)에 마이크로니들 하우징을 포함하고, 상기 마이크로니들 하우징은 마이크로니들들의 어레이를 수용하는 내부를 포함하는 핸드피스;
    상기 마이크로니들 하우징의 둘레를 적어도 부분적으로 둘러싸도록 구성되는 노즐;을 포함하고,
    상기 마이크로니들 하우징의 원위부(distal portion)는 상기 노즐로부터 말단으로(distally) 연장되고, 상기 마이크로니들들의 어레이를 수용하는 상기 내부에 오픈되게 구성되는 적어도 하나의 슬롯을 포함하고,
    상기 노즐은 상기 노즐의 근위 단부(proximal end)로부터 상기 노즐의 원위 단부에 있는 적어도 하나의 개구부로 연장되는 루멘(lumen)을 포함하는, RF 마이크로니들 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 노즐의 근위 단부에 부착되는 냉각 덕트를 더 포함하고, 상기 냉각 덕트는 상기 냉각 덕트의 근위 단부로부터 상기 쿨링 덕트의 원위 단부까지 연장되는 루멘(lumen)을 포함하는, RF 마이크로니들 시스템
  3. 제2항에 있어서,
    냉각 가스를 상기 냉각 덕트의 루멘으로 구동하도록 구성되는 냉각 가스 소스를 더 포함하는, RF 마이크로니들 시스템.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 냉각 가스 소스는 상기 냉각 덕트의 루멘으로 냉각된 공기를 구동하도록 구성되는 냉각 공기 소스(cool air source)인, RF 마이크로니들 시스템.
  5. 제2항에 있어서, 상기 적어도 하나의 슬롯은 복수의 슬롯을 포함하는 RF 마이크로니들 시스템.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 노즐은 상기 마이크로니들 하우징의 둘레를 전체적으로 둘러싸도록 구성되는 RF 마이크로니들 시스템.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 노즐의 상기 개구부는 상기 마이크로니들 하우징의 둘레에 대해 연속적인 RF 마이크로니들 시스템.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 노즐의 루멘은 상기 핸드피스의 중심 길이 방향축을 향하여 테이퍼지도록 구성되는 RF 마이크로니들 시스템.
  9. 제2항에 있어서,
    상기 노즐의 개구부는 상기 노즐의 원위 단부에 대해 이격된 복수의 개구부들을 포함하는 RF 마이크로니들 시스템.
  10. 제2항에 있어서,
    상기 냉각 덕트는 상기 핸드피스를 고정하도록 구성되는 클립부(clip portion)를 포함하는 RF 마이크로니들 시스템.
  11. 냉각 덕트의 원위 단부로 냉각 가스를 구동하고,
    마이크로니들 하우징을 둘레를 따라 둘러싸는 노즐의 원위 단부로 배출시키도록, 상기 냉각 가스를 상기 원위의 냉각 덕트로부터 상기 노즐의 루멘으로 구동하는; RF 마이크로니들 시스템의 동작 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 냉각 가스를 상기 노즐의 루멘으로 구동하는 것은, 상기 마이크로니들 하우징 내의 마이크로니들들의 어레이를 냉각하도록, 상기 냉각 가스를 상기 마이크로니들 하우징의 적어도 하나의 슬롯으로도 들어가도록 야기하는, RF 마이크로니들 시스템의 동작 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 냉각 가스를 상기 노즐의 루멘으로 구동하는 것은, 냉각된 공기를 상기 노즐의 루멘으로 구동하는 것을 포함하는 RF 마이크로니들 시스템의 동작 방법.
  14. 원위부(distal portion)와 근위부(proximal portion)를 포함하는 마이크로니들 하우징; 및
    상기 마이크로니들 하우징의 근위부의 둘레를 둘러싸도록 구성되는 노즐;을 포함하며,
    상기 마이크로니들 하우징의 상기 원위부는 상기 노즐의 원위 단부로부터 연장되고, 상기 노즐은 상기 노즐의 원위 단부에 둘레의 개구부를 포함하는, RF 마이크로니들 시스템.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 마이크로니들 하우징의 상기 원위부는, 상기 마이크로ㅓ니들 하우징의 원위부의 외측으로부터 상기 마이크로니들 하우징의 내측으로 연장되는 적어도 하나의 슬롯을 포함하는 RF 마이크로니들 시스템.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 노즐의 루멘에 연결되는 냉각 덕트; 및
    냉각 가스를 상기 냉각 덕트를 통해 상기 노즐의 루멘으로 구동시켜, 상기 냉각 가스가 상기 둘레의 개구부로 배출되게 하는 냉각 가스 소스;를 더 포함하는 RF 마이크로니들 시스템.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 냉각 가스 소스는, 상기 냉각 덕트의 루멘으로 냉각 공기를 구동하도록 구성되는 냉각 공기 소스인 RF 마이크로니들 시스템.
  18. 제15항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 스롯은 복수의 슬롯들을 포함하는 RF 마이크로니들 시스템.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 복수의 슬롯들은 4개의 슬롯들로 구성되는 RF 마이크로니들 시스템.
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