CN115697226A - 用于对皮肤组织进行非侵入性点阵处理的设备和方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于对患者的皮肤组织进行点阵处理的设备，包括：手持件，以及至少一个第一电极和至少一个第二电极，其布置在基板上以将射频能量施加于皮肤的至少一层，其中设备适于用第一脉冲和第一脉冲之后的第二脉冲将电能施加于皮肤组织，第一脉冲是低能量水平脉冲，并且第二脉冲是能量水平比低能量水平脉冲更高的高能量水平脉冲。

Description

用于对皮肤组织进行非侵入性点阵处理的设备和方法
技术领域
本发明涉及一种用于对皮肤组织进行点阵处理(fractional treatment)的设备和方法。
背景技术
美容医学领域中的术语点阵处理用于描述一种处理形式，该处理形式产生较小处理点的离散阵列，并在这些处理点周围留下健康且未被接触的组织部分。可以通过激光、射频、超声或其他方法产生处理点。在每个点处，在组织中产生微损伤/创伤。这些点处的损伤/创伤引发组织的自然愈合反应。处理点周围的完整健康组织是至关重要的基础，以提供愈合微创伤之所需。总体效果是皮肤再生。
发明内容
本发明的一个目的是涉及一种根据独立权利要求的设备和方法。具体地，一种用于对患者的皮肤组织进行点阵处理的设备；设备包括：手持件；至少一个第一电极和至少一个第二电极，至少一个第一电极和至少一个第二电极被布置在手持件的远端部分上；和能量源，其连接至至少一个第一电极和至少一个第二电极。其中，设备被配置为将电能施加于皮肤的至少一层，其中至少一个第一电极和至少一个第二电极共面且被布置在基板上。此外，其中，设备被配置为以至少一个初始脉冲和至少一个初始脉冲之后的处理脉冲将电能施加于皮肤组织，至少一个初始脉冲和处理脉冲是下列至少一种：
(i)低能量水平的至少一个初始脉冲，随后是高能量处理脉冲；
(ii)较短持续时间的至少一个初始脉冲，随后是较长持续时间的处理脉冲；或
(iii)较短持续时间的高能量的至少一个初始脉冲，随后是较长持续时间的低能量脉冲。
在另一个目的中，存在这样的设备，其中，至少一个第一电极和至少一个第二电极是下列至少一种：(i)与基板共面；(ii)与基板平齐；或(iii)在基板上方形成略微升高。对于设备，其中，至少一个第二电极包围至少一个第一电极，并且至少一个第二电极的一部分同心地环绕至少一个第一电极。此外，其中，至少一个第二电极是基本上覆盖基板的单个第二电极。
对于设备，其中，至少一个第一电极是多个第一电极，其被布置成下列排布中的至少一种：(i)一排；(ii)多排；(iii)特别是平行排布的多排；或(iv)特别是彼此离散地间隔开的多排。设备还包括：手持件内的真空室，真空室与设置在基板中的至少一个通孔或间隙流体连通，真空室被配置为朝向至少一个第一电极在皮肤组织的表面上提供负压力，并且朝向至少一个第二电极牵拉皮肤组织。至少一个第一电极和至少一个第二电极被放置在下列位置中的至少一个：(i)靠近皮肤组织；或(ii)与皮肤组织的表面接触。
在本发明的另一个目的中，对于设备，其中，至少一个第二电极被布置在基板上，并且至少一个第一电极包括销，销穿过基板中的孔口穿透基板。对于设备，其中，至少一个初始脉冲被配置为减小皮肤组织的最上一层或多层的阻抗。对于设备，其中，至少一个初始脉冲不被配置用于执行消融过程，并且不足以消融皮肤组织的最上层。对于设备，其中，处理脉冲被配置为在皮肤组织的真皮层或皮下组织层内执行热损伤而不进行消融。
设备被配置为执行对皮肤组织的非侵入性处理，非侵入性处理对皮肤的真皮层或皮下组织层中的细胞进行热处理，而不穿透或消融皮肤组织的表面。对于设备，其中，至少一个第一电极是二维扩展的，特别是直径在0.1mm和1mm之间、优选为约0.5mm的圆形区域。对于设备，其中，多个第一电极具有相同的极性，并且至少一个第二电极具有相反的极性。对于设备，其中，多排被布置在平坦基板上。对于设备，其中，多排被布置在辊表面上。
在另一个目的中，提供了一种对患者的皮肤组织特别是真皮层或皮下组织层中的细胞进行点阵处理的方法，方法包括：
使用处理设备的手持件接触皮肤组织的表面，手持件包括至少一个第一电极和至少一个第二电极；
向至少一个第一电极和至少一个第二电极提供射频(RF)能量；
通过手持件，将射频能量施加于皮肤组织，
其中射频能量的至少一个初始脉冲之后是射频能量的处理脉冲，并且其中至少一个初始脉冲(21)和处理脉冲(22)的组合包括下列至少一种：
(i)至少一个低能量总使用脉冲(low energy total usage pulse)，随后是至少一个高能量总使用脉冲(high total energy usage pulse)；
(ii)至少一个较短持续时间脉冲，随后是至少一个较长持续时间脉冲；或
(iii)高峰值能量脉冲，随后是低峰值能量脉冲。
在又一个目的中，存在一种方法，其中，初始脉冲被配置为减小皮肤组织的最上一层或多层的阻抗，并且处理脉冲被配置为在皮肤组织的真皮层或皮下组织层内执行热损伤。对于方法，其中，至少一个初始脉冲的长度在1ms至10ms之间；处理脉冲的长度在0.1s至10s之间。对于方法，其中，至少一个初始脉冲的长度为约5ms；并且处理脉冲的长度为约1s中的至少一个。
附图说明
所要求保护的设备和/或方法的一些实施方案将在下面仅作为示例并参考附图进行描述，其中：
图1示出了用于对皮肤组织进行点阵处理的设备；
图2示出了脉冲序列；
图3a示出了在当前公开技术的一些实施方案中的基板的实施方案；
图3b示出了在当前公开技术的一些实施方案中的基板的实施方案；
图3c示出了辊；
图4示出了包括基板的可拆卸头部构件；
图5a是图4的基板的详细视图；
图5b示出了在当前公开技术的一些实施方案中的基板的实施方案；
图6是图4的截面图；
图7示出了本发明的方法步骤。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述各种示例性实施方案，附图中示出了一些实施方案。
点阵处理通常可以是指消融性或非消融性的，尽管在一些再处理方案中可应用组合。离散的受损点可以是皮肤部分，其中能量源已经消融了组织、蒸发了组织或仅仅将组织加热了一定时间。单个电极或电极阵列可以发射射频能量。在双极形式的射频中，两个相邻电极以相反极性配对，以加热位于这对电极之间及下方的组织。通常，两个工作双极电极之间的射频电场的穿透深度约为电极之间距离的一半。
对于某些皮肤再生处理方案，靶向处理位于皮肤皮下组织、真皮或表皮层的组织。皮肤的顶层称为角质细胞层，其特征是缺少间质流体，并且这种干燥的细胞层对被配置为将能量传递到皮肤中的任何外部电极产生高电阻抗势垒。表皮的特征是由于存在间隙流体而具有低电阻抗。因此，皮肤的最外层角质层通常在处理前被穿透。
点阵射频设备的许多处理确实消融角质层，以便在工作电极和位于角质层下面的表皮上层之间建立导电的非消融耦合。然而，由这些非消融技术对角质层的保护层产生的损伤暴露了表皮，并且可能是污染和并发症的来源。
图1示出了本技术的一些实施方案中的用于皮肤组织16的点阵处理10的系统或设备。在一些实施方案中，点阵处理是非消融性的，但是仍然产生离散的热影响区阵列，以建立凝结区并引发再生效应。在一些实施方案中，当前公开的技术是点阵射频处理方案，其靶向角质层下面的真皮层，同时保持角质层完整。
皮肤组织16包括外层角质层17，其具有比其下面的表皮、真皮或皮下组织18更高的阻抗。点阵射频设备旨在于表皮和/或真皮和/或皮下组织18中产生热影响区，因此，根据现有技术，通过消融破坏角质层17。如果这是在不插入针的情况下进行的，则过程被视为非侵入性的。
在一些实施方案中，本发明的设备包括发射射频能量的能量源15，射频能量被传送至手持件的远端，手持件的远端包括基板14，特别是被传送到至少一个第一电极12，或被传送到双极系统的至少一个第一电极12和至少一个第二电极13二者。在一些实施方案中，包括电极12和电极13的基板14被附接、布置或安装至手持件11。在一些实施方案中，第二电极(13)是单个第二电极，其基本上覆盖基板(14)但不覆盖第一电极。手持件11可以包括壳体。在一些实施方案中，手持件11包括主体11a和可拆卸头部11b，可拆卸头部11b包括基板14、电极12和电极13。在一些实施方案中，可拆卸头部11b还包括真空室。在一些实施方案中，手持件的可拆卸头部通过卡扣、闩锁连接、卡口配合或其任意组合连接至主体。在一些实施方案中，基板14对准患者待处理皮肤组织16的一部分。在皮肤16的表皮、真皮或皮下组织层18中产生损伤/创伤皮肤组织16的所需效果。
图2示出了可用于发射射频电能20的脉冲序列。在一些实施方案中，角质层17不被消融，以影响和损伤真皮或皮下组织中的处理区。在一些实施方案中，初始脉冲21之后是处理脉冲22。在一些实施方案中，初始脉冲21是低水平能量使用，其不足以消融角质层17，但是将改变角质层在脉冲期间的阻抗，并动态改变角质层17的阻抗使得其阻抗减小，从而允许处理脉冲22完成所需的热损伤。通过这种方式，可以避免角质层的消融或使角质层的消融最小化。处理脉冲22引起表皮、真皮或皮下组织层内的点阵热损伤，这被认为是皮肤恢复青春的驱动力。
在一些实施方案中，在初始脉冲期间，皮肤细胞受到冲击或通过非常温和地破坏细胞而受到干扰，从而使来自下面的层18中表皮的额外的细胞流体升高并润湿通常干燥的角质层17，从而减小其阻抗。由此，不需要消融角质层17。
设备11用初始脉冲21和随后的处理脉冲22将电能20施加于组织16。在一些实施方案中，初始脉冲21是低能量使用脉冲，处理脉冲22是高能量使用脉冲，即具有比初始脉冲21更高的总使用能量。在一些实施方案中，初始脉冲的持续时间比处理脉冲的持续时间更短，并且处理脉冲的持续时间比初始脉冲的持续时间更长。在一些实施方案中，初始脉冲是较高峰值能量，处理脉冲是较低峰值能量。在一些实施方案中，初始脉冲具有较短持续时间、低能量使用和较高峰值能量，处理脉冲具有高总能量使用、较长持续时间和较低峰值能量水平。在一些实施方案中，存在至少一个或多个初始脉冲以及至少一个或多个处理脉冲。在一些实施方案中，存在一系列3个初始脉冲，其具有较短持续时间、低能量使用和较高峰值能量，并且处理脉冲是一系列至少两个处理脉冲，其具有高总能量使用、较长持续时间和较低峰值能量水平。脉冲特性彼此比较，即，相比之下，初始脉冲的峰值能量水平更高，处理脉冲的峰值能量更低。
在一些实施方案中，初始脉冲21在1ms和10ms之间，处理脉冲22的长度在0.1s和10s持续时间之间。在一些实施方案中，初始脉冲可以是约5ms(+/-50％)，处理脉冲可以是约1s(+/-50％)持续时间。在一些实施方案中，初始脉冲21是一系列初始脉冲中的多于一个的脉冲。在一些实施方案中，初始脉冲是一系列三个第一脉冲。
图3a和图3b示出了基板14，其附接或安装在手持件11的远端上。在一些实施方案中，手持件包括主体11a和可拆卸头部11b，可拆卸头部11b还包括基板。在一些实施方案中，手持件的可拆卸头部通过卡扣、闩锁连接、卡口配合或其任意组合连接至主体。在图3a和图3b所示的一些实施方案中，基板具有非常短或浅的接触表面(即，第一电极12)，其被设计成不穿透或刺穿皮肤16。然而，它们在皮肤的皮下组织或真皮层17和18中实现了有效的处理。
在一些实施方案中，电极12相对于第二电极13用电能充电，第二电极13由覆盖基板14并且包围电极12阵列的金属层形成。在一些实施方案中，所有的第一电极具有相同的极性，而第二电极13具有不同的极性。在一些实施方案中，金属层是金层。在一些实施方案中，第二电极13与第一电极12极性相反。在一些实施方案中，基板是正方形，每侧的测量值在约10mm与18mm之间。
在一些实施方案中，金属层13不是全表面覆盖层，而是包括多个圆形孔口/孔/绝缘间隙31的金属层或基板。在一些实施方案中，孔口31为任意形状。在一些实施方案中，第一电极与第二电极隔离。每个电极12可以位于一个圆形孔口/孔/绝缘间隙31的中心。由于圆孔31直径大于电极12直径，圆孔31在孔中心的电极12和周围的金属层31之间提供了环形间隙，这样就提供了绝缘区。在一些实施方案中，圆孔的直径在约1mm至2mm之间。
在一些实施方案中，当通过形成电能源的功率单元15向第一电极和第二电极提供射频(RF)能量时，提供热处理。在一些实施方案中，第一电极连接至射频能量源的第一极，而形成第二电极13的金属层连接至射频能量源的第二极。在一些实施方案中，施加在皮肤组织上的射频能量导致皮肤温度升高，这不仅是能量强度的函数，而且是施加的射频能量的脉冲宽度的函数。
在一些实施方案中，多个第一电极12可以被布置成至少一排32。在一些实施方案中，多个第一电极被布置成多排。在一些实施方案中，多排32被布置成彼此平行和/或离散地间隔开。
在一些实施方案中，图3a示出了返回板，即第二电极13在销/第一电极12之间延伸，特别是第二电极13的指状物位于销排32之间。在一些实施方案中，基板14的大部分(即超过50％、70％、80％或90％)表面被第二电极13覆盖。在一些实施方案中，第二电极13具有零高度(电极的导电层除外)，并且相对于基板14是平坦且共面的。在一些实施方案中，第一电极12是平坦且共面的，或仅略微升高至基板14之上。在一些实施方案中，第一电极12的升高小于两个相邻第一电极12之间距离的30％、20％、10％、5％和1％。
在一些实施方案中，如图3b所示，第二电极13包围至少一个第一电极12，特别是第二电极13的一部分同心地环绕第一电极12。在一些实施方案，由于这种几何布局，第一电极12中的一个与第二电极的最接近区域之间的距离总是相同的，并且由间隙31的尺寸限定。
如上，射频电场的穿透深度是间隙31的尺寸的函数。在图3b所示的示例中，所有间隙31具有相同的尺寸，因此射频电场的穿透深度在穿过和跨越整个基板14上即对于每个电极12是相同的。然而，在一些实施方案中，不同的电极12可以与电极13具有不同的间隙，因此可以实现不同的穿透深度。例如，第一子组电极12可以具有第一间隙31，第二子组电极12可以具有不同的间隙31。第一子组可以例如是第一排32，第二子组可以例如是第二排32。
在一些实施方案中，基板14的角或边缘处的定向标记33有助于确保基板14正确定向地装配在手持件11上。
在一些实施方案中，通过增大电极12的直径来减小器件中的通量。在一些实施方案中，第一电极12的直径为约0.5mm。由于尖端的面积较大，场线在较大的区域之间传播，从而减小了通量。
在一些实施方案中，第一电极12具有二维扩展，特别是直径在0.1mm与1mm之间的圆形区域。在一些实施方案中，是二维扩展的，具有直径为约0.5mm的圆形区域。
在所公开的技术的一些实施方案中，图3c示出了具有圆柱形表面而不是如图3a、3b的平面平坦表面的辊34。在一些实施方案中，辊被配置为类似基板14。在一些实施方案中，辊34具有轴线35，其可附接至手持件并且由手持件支撑。围绕轴线35旋转的能力使得处理期间在患者的皮肤16表面上滚动。
在一些实施方案中，图4示出了设备10还包括与真空端口39流体连通的真空室，真空端口39用于将真空室连接至真空源(例如，位于手持件11内部或外部的泵)。在一些实施方案中，真空室还与布置在基板14中的通孔31流体连通，用于在皮肤组织的表面上施加吸引力，以当第一电极和第二电极放置在皮肤组织的表面附近或与皮肤组织的表面接触时，朝向第一电极12和第二电极13牵拉皮肤组织。在一些实施方案中，电极12、13、基板14和真空室36布置在手持件11的可拆卸头部构件中，手持件11的可拆卸头部可以通过卡口配合38连接。在一些实施方案中，真空室位于手持件的壳体内，并且由前侧的基板、后侧的背板和手持件的头部的壳体沿径向限定。背板可以与基板至少近似平行地对准。在一些实施方案中，基板和背板中的至少一个是印刷电路板或包括印刷电路板。
图5a示出了图4的基板的一些实施方案的详细视图。图5b示出了基板的一些实施方案的视图，其包括通孔37，通孔37不具有电极并且与位于基板14后面的真空室36流体连通。在一些实施方案中，绝缘间隙31不设计为基板14中的通孔，而仅设计为基板14的未被形成第二电极13的导电层覆盖的区域。
图6示出了图4的横截面图。在一些实施方案中，可拆卸头部包括真空室36，真空室36与绝缘间隙31流体连通，绝缘间隙31设置为基板14中的通孔。在一些实施方案中，布置在穿透绝缘间隙31的梳状结构上的销12的阵列提供了第一电极12。从截面图中可以看出，在一些实施方案中，第二电极13形成为在基板14上的涂层。在一些实施方案中，第一电极12和第二电极13被布置成共面的。在一些实施方案中，销12不从绝缘间隙31和第二电极13突出。在一些实施方案中，销从绝缘间隙31突出小于两个相邻第一电极12之间距离的30％、20％、10％、5％或1％。
图5示出了在当前公开的方法的一些示例中的包括方法步骤的流程图。
在步骤41中，点阵处理40包括用手持件11的远端接触皮肤16的表面，并使电极12、13抵靠皮肤表面定位。
在步骤42中，在本发明的一些实施方案中，施加射频电能20的至少一个初始脉冲21。在一些实施方案中，至少一个初始脉冲选自下列之一：总使用能量比处理脉冲低、持续时间比处理脉冲更短、峰值功率比处理脉冲更高，或其任意组合。
在步骤43中，施加具有射频电能20的至少一个处理脉冲22，导致真皮或皮下组织的热损伤。在一些实施方案中，至少一个处理脉冲选自下列之一：总使用能量比初始脉冲高、持续时间比初始脉冲更短、峰值功率比初始脉冲更低，或其任意组合。
在一些实施方案中，上述公开的设备和方法用于治疗患者的干眼症。眼睛干燥的一个原因是睑炎，一种眼睑边缘的慢性炎症。已经表明，加热睑板腺的区域具有持久的效果，并且成功地消除了细菌和皮肤螨虫。射频能量源可用于产生热量，以便加热睑板腺的区域。在一些实施方案中，当用于治疗干眼症时，设备包括头部构件(未示出)，头部具有柔性远端部分，用于适应眼球的曲率。在一些实施方案中，使用柔性印刷电路板，柔性印刷电路板被配置为在与眼睑接触时弯曲并与眼睑的形状一致。
除非另有明确说明，术语“一种实施方案”、“实施方案”、“多个实施方案”、“该实施方案”、“所述多个实施方案”、“一个或多个实施方案”、“一些实施方案”和“一个实施方案”是指“本发明的一个或多个(但并非全部)实施方案”。
除非另外明确说明，术语“一种”、“一个”和“该”是指“一个或多个”。
具有几个彼此通信的部件的实施方案的描述并不意味着所有这些部件都是必需的。相反，描述了各种可选的部件以说明本发明的各种可能的实施方案。
当本文描述单个装置或制品时，显而易见的是，可以使用多于一个的装置/制品(无论它们是否协作)而代替单个装置/制品。类似地，本文描述了多于一个的装置或制品(无论它们是否协作)，显而易见的是，可以使用单个装置/制品而代替多于一个的装置或制品，或可以使用不同数量的装置/制品而代替所示数量的装置或程序。可替代地，装置的功能和/或特征可以由一个或多个未明确描述为具有此类功能/特征的其他装置来实现。因此，本发明的其他实施方案不需要包括装置本身。
图5所示的操作表示以一定顺序发生的某些事件。在替代实施方案中，某些操作可以以不同的顺序执行、修改或移除。此外，可以将步骤添加到上述逻辑中，并且仍然符合所述的实施方案。此外，本文所述的操作可以按顺序地发生，或可以并行地处理某些操作。此外，可以由单个处理单元或由分布式处理单元执行操作。
说明书中使用的语言主要是出于可读性和指令目的而选择的，并且可能没有被选择来描绘或限制本发明的主题。因此，本发明的范围不限于本详细描述，而是由在此基础上对申请提出的任何权利要求来限定。因此，本发明的实施方案的公开旨在说明而非限制本发明的范围，本发明的范围在所附权利要求中阐述。
虽然本文已经公开了各个方面和实施方案，但是对于本领域的技术人员来说，其他方面和实施方案将是显而易见的。本文公开的各个方面和实施方案是出于说明的目的，而非旨在进行限制，其真实范围和精神由所附权利要求书指示。

Claims (19)

1.一种用于对患者的皮肤组织(16)进行点阵处理的设备(10)，所述设备包括：
手持件(11)；
至少一个第一电极(12)和至少一个第二电极(13)，所述至少一个第一电极(12)和所述至少一个第二电极(13)被布置在所述手持件(11)的远端部分上；和
能量源(15)，其连接至所述至少一个第一电极(12)和所述至少一个第二电极(13)，
其中所述设备(10)被配置为将电能施加于皮肤(16)的至少一层，其中所述至少一个第一电极(12)和所述至少一个第二电极(13)共面并且被布置在基板(14)上，并且
其中所述设备(10)被配置为以至少一个初始脉冲(21)和所述至少一个初始脉冲(21)之后的处理脉冲(22)将电能(20)施加于所述皮肤组织(16)，所述至少一个初始脉冲(21)和所述处理脉冲的组合包括下列至少一种：
(i)至少一个低能量总使用脉冲，随后是至少一个高能量总使用脉冲；
(ii)至少一个较短持续时间脉冲，随后是至少一个较长持续时间脉冲；或
(iii)高峰值能量脉冲，随后是低峰值能量脉冲。
2.根据权利要求1所述的设备(10)，其中所述至少一个第一电极(12)和所述至少一个第二电极(13)是下列至少一种：
(i)与所述基板(14)共面；
(ii)与所述基板(14)平齐；或
(iii)在所述基板(14)上方形成略微升高。
3.根据权利要求1或2所述的设备(10)，其中所述至少一个第二电极(13)包围所述至少一个第一电极(12)，并且所述至少一个第二电极(13)的一部分同心地环绕所述至少一个第一电极(12)。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的设备(10)，其中所述至少一个第二电极(13)是基本上覆盖所述基板(14)的单个第二电极。
5.根据前述权利要求中任一项所述的设备(10)，其中所述至少一个第一电极(13)是多个第一电极，所述多个第一电极布置成下列排布中的至少一种：
(i)一排(32)；
(ii)多排；
(iii)特别是平行排布的多排；或
(iv)特别是彼此离散地间隔开的多排。
6.根据前述权利要求中任一项所述的设备(10)，其中所述设备还包括：
所述手持件内的真空室(36)，所述真空室(36)与设置在所述基板(14)中的至少一个通孔或间隙(31，37)流体连通，当所述至少一个第一电极(12)和所述至少一个第二电极(13)被放置在下列位置中的至少一个时，所述真空室(36)配置为朝向所述至少一个第一电极(12)在所述皮肤组织的表面上提供负压力，并且朝向所述至少一个第二电极(13)牵拉所述皮肤组织：
(i)靠近所述皮肤组织；或
(ii)与所述皮肤组织的表面接触。
7.根据前述权利要求中任一项所述的设备(10)，其中所述至少一个第二电极(13)被布置在所述基板(14)上，并且所述至少一个第一电极(12)包括销，所述销穿过所述基板(14)中的孔口(31)穿透所述基板(14)。
8.根据前述权利要求中任一项所述的设备(10)，其中所述至少一个初始脉冲(21)被配置为减小所述皮肤组织(16)的最上一层或多层的阻抗。
9.根据前述权利要求中任一项所述的设备(10)，其中所述至少一个初始脉冲(21)不被配置用于执行消融过程，并且不足以消融所述皮肤组织(16)的最上层。
10.根据前述权利要求中任一项所述的设备(10)，其中所述处理脉冲(22)被配置为在所述皮肤组织(16)的真皮层或皮下组织层(18)内执行热损伤而不进行消融。
11.根据前述权利要求中的一项所述的设备(10)，其中所述设备被配置为执行对所述皮肤组织(16)的非侵入性处理，所述非侵入性处理对所述皮肤的真皮层或皮下组织层(18)中的细胞进行热处理，而不穿透或消融所述皮肤组织(16)的表面。
12.根据前述权利要求中任一项所述的设备(10)，其中所述至少一个第一电极(12)是二维扩展的，特别是直径在0.1mm与1mm之间、优选为约0.5mm的圆形区域。
13.根据权利要求5至12中任一项所述的设备(10)，其中所述多个第一电极(12)具有相同的极性，并且所述至少一个第二电极(13)具有相反的极性。
14.根据权利要求5至13中任一项所述的设备(10)，其中所述多排(32)被布置在平坦基板(14)上。
15.根据权利要求5至13中任一项所述的设备(10)，其中所述多排(32)布置在辊(34)表面上。
16.一种用于对患者的皮肤组织(16)特别是真皮层或皮下组织层(18)中的细胞进行点阵处理的方法(40)，其中所述方法包括：
使用处理设备(10)的手持件(11)接触(41)所述皮肤组织(16)的表面，所述手持件(11)包括至少一个第一电极(12)和至少一个第二电极(13)；
向所述至少一个第一电极(12)和所述至少一个第二电极(13)供应(42、43)射频能量(20)；
通过所述手持件，将所述射频能量施加于所述皮肤组织(16)，其中射频能量的至少一个初始脉冲(21)之后是射频能量的处理脉冲(22)，并且
其中所述至少一个初始脉冲(21)和所述处理脉冲(22)的组合包括下列至少一种：
(i)至少一个低能量总使用脉冲，随后是至少一个高能量总使用脉冲；
(ii)至少一个较短持续时间脉冲，随后是至少一个较长持续时间脉冲；或
(iii)高峰值能量脉冲，随后是低峰值能量脉冲。
17.根据权利要求16所述的方法(40)，其中所述初始脉冲(21)被配置为减小所述皮肤组织(16)的最上一层或多层的阻抗，并且所述处理脉冲(22)被配置为在所述皮肤组织(16)的真皮层或皮下组织层(18)内执行热损伤。
18.根据权利要求16或17所述的方法，其中所述至少一个初始脉冲(21)的长度在1ms与10ms之间，并且所述处理脉冲(22)的长度在0.1s与10s之间。
19.根据权利要求16或17所述的方法，其中所述至少一个初始脉冲(21)的长度为约5ms，并且所述处理脉冲(22)的长度为约1s中的至少一个。
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