KR20230125746A - Substrate holding apparatus, substrate processing system - Google Patents

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KR20230125746A
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히로후미 도나이
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

The present invention relates to a substrate holding apparatus and a substrate processing system. A substrate maintaining unit (2) includes a maintaining pin (15) including a head (31), a shaft (33), and a screw (43) for a head. The head (31) is arranged on the upper surface of a top cover (13A). The head (31) has a screw hole (31D) having the bottom on the lower surface of the head (31) facing the upper surface of the top cover (13A). The shaft (33) is arranged to be concentric with the screw hole (31D). The shaft (33) penetrates a plate-shaped member, and an upper end of the shaft (33) is in contact with the head (31). The shaft (33) has a first through hole (33A) vertically extended from the lower end to the upper end. The screw (43) for a head is inserted from the lower end of the shaft (33) into the first through hole (33A) of the shaft (33). Moreover, the screw (43) for a head fixes the head to the shaft as a front end is screwed into the screw hole (31D) of the head (31). According to the present invention, the substrate holding apparatus and the substrate processing system can solve a problem caused by a screw cover.

Description

기판 유지 장치 및 기판 처리 시스템{SUBSTRATE HOLDING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM}Substrate holding device and substrate processing system {SUBSTRATE HOLDING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM}

본 발명은, 기판을 유지하는 기판 유지 장치 및 이것을 구비한 기판 처리 시스템에 관한 것이다. 기판은, 예를 들어, 반도체 기판, FPD (Flat Panel Display) 용의 기판, 포토마스크용 유리 기판, 광 디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 세라믹 기판, 태양 전지용 기판 등을 들 수 있다. FPD 는, 예를 들어, 액정 표시 장치, 유기 EL (electroluminescence) 표시 장치 등을 들 수 있다.The present invention relates to a substrate holding device for holding a substrate and a substrate processing system including the same. Examples of the substrate include a semiconductor substrate, a substrate for a flat panel display (FPD), a glass substrate for a photomask, a substrate for an optical disk, a substrate for a magnetic disk, a ceramic substrate, and a substrate for a solar cell. As for FPD, a liquid crystal display device, an organic electroluminescence (EL) display device, etc. are mentioned, for example.

기판 처리 장치는, 기판을 대략 수평인 자세로 유지하고, 그 기판을 회전시키는 기판 유지부를 구비한다. 기판 유지부는, 원판상의 스핀 베이스와, 스핀 베이스의 둘레 가장자리부에 거의 등각도 간격으로 배치된 6 개의 유지 핀 (척 핀) 을 구비한다. 6 개의 유지 핀은, 3 개의 고정 유지 핀과 3 개의 가동 유지 핀으로 구성된다.A substrate processing apparatus includes a substrate holding unit that holds a substrate in a substantially horizontal position and rotates the substrate. The substrate holding portion includes a disk-shaped spin base and six holding pins (chuck pins) arranged at approximately equiangular intervals on the periphery of the spin base. The six retaining pins are composed of three fixed retaining pins and three movable retaining pins.

도 9 는, 종래의 가동 유지 핀 (103) 을 부분적으로 나타내는 종단면도이다. 가동 유지 핀 (103) 은, 스핀 베이스 (101) 의 톱 커버 (101A) 의 상면측에 배치된 헤드 (105) 와, 톱 커버 (101A) 를 관통함과 함께, 상단이 헤드 (105) 에 접하여 배치된 샤프트 (107) 를 구비한다.9 is a longitudinal sectional view partially showing a conventional movable holding pin 103. As shown in FIG. The movable holding pin 103 penetrates the head 105 disposed on the upper surface side of the top cover 101A of the spin base 101 and the top cover 101A, and the upper end is in contact with the head 105. It has a shaft 107 disposed thereon.

헤드 (105) 는, 헤드 본체 (111) 와, 나사 커버 (113) 를 구비한다. 헤드 본체 (111) 의 상면에는, 구멍부 (115) 가 형성되어 있다. 헤드 본체 (111) 는, 구멍부 (115) 에 배치되고, 또한 위에서 아래를 향하도록 체결된 나사 (117) 에 의해, 샤프트 (107) 에 고정된다. 또, 나사 (117) 가 구멍부 (115) 에 배치된 상태인 채에서는, 나사 (117) 가 처리액에 노출되어 버리므로, 구멍부 (115) 는 나사 커버 (113) 에 의해 막혀 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조).The head 105 includes a head body 111 and a screw cover 113 . A hole 115 is formed on the upper surface of the head body 111 . The head body 111 is fixed to the shaft 107 by a screw 117 disposed in the hole portion 115 and fastened from top to bottom. In addition, since the screw 117 is exposed to the treatment liquid while the screw 117 is placed in the hole 115, the hole 115 is blocked by the screw cover 113 (eg For example, see Patent Document 1).

일본 공개특허공보 2010-010627호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-010627

그러나, 종래예는 다음의 문제를 갖는다. 구체적으로 설명한다. 나사 (117) 가 배치되는 구멍부 (115) 는, 나사 커버 (113) 에 의해 막혀 있다. 그러나, 나사 커버 (113) 에 의해, 구멍부 (115) 를 완전히 밀폐하는 것은 어렵다. 그 때문에, 나사 커버 (113) 와 헤드 본체 (111) 의 간극을 통과하여, 처리액이 구멍부 (115) 에 침입할 가능성이 있다. 이로써, 나사 (117) 가 부식될 가능성이 있다. 또, 스핀 베이스 (101) 를 회전시켰을 때, 나사 커버 (113) 에서 기인한 기류의 흐트러짐이 발생할 가능성이 있다.However, the conventional example has the following problem. Explain in detail. The hole 115 where the screw 117 is disposed is blocked by a screw cover 113 . However, it is difficult to completely seal the hole portion 115 with the screw cover 113. Therefore, there is a possibility that the processing liquid penetrates into the hole portion 115 through the gap between the screw cover 113 and the head body 111 . Thereby, there is a possibility that the screw 117 is corroded. Also, when the spin base 101 is rotated, there is a possibility that the airflow caused by the screw cover 113 may be disturbed.

본 발명은 이와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 나사 커버에서 기인하는 문제를 해결할 수 있는 기판 유지 장치 및 기판 처리 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to provide a substrate holding device and a substrate processing system capable of solving the problems caused by the screw cover.

본 발명은, 이와 같은 목적을 달성하기 위해서, 다음과 같은 구성을 취한다. 즉, 본 발명에 관련된 기판 유지 장치는, 연직으로 연장되는 회전축 둘레로 회전하는 판상 부재와, 상기 회전축 둘레로 링상으로 상기 판상 부재에 세워 형성되고, 기판의 측면을 사이에 끼워 넣도록 상기 기판을 유지하는 적어도 3 개의 유지 핀을 구비하고, 상기 유지 핀은, 상기 판상 부재의 상면측에 배치된 헤드로서, 상기 판상 부재의 상면에 대향하는 상기 헤드의 하면에 바닥이 있는 나사공이 형성된 상기 헤드와, 상기 나사공과 동심 (同芯) 으로 배치되고 상기 판상 부재를 관통함과 함께, 상단이 상기 헤드에 접하는 샤프트로서, 하단으로부터 상기 상단까지 연직으로 연장되는 제 1 관통공을 갖는 상기 샤프트와, 상기 샤프트의 상기 제 1 관통공에 상기 샤프트의 상기 하단측으로부터 삽입되고, 선단이 상기 헤드의 상기 나사공에 나사 결합됨으로써 상기 헤드를 상기 샤프트에 고정시키는 헤드용 나사를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다.The present invention takes the following configuration in order to achieve such an object. That is, the substrate holding apparatus according to the present invention is formed of a plate-like member rotating around a vertically extending rotation axis, standing on the plate-like member in a ring shape around the rotation axis, and holding the substrate so as to sandwich the side surface of the substrate therebetween. and at least three retaining pins for retaining, wherein the retaining pins are heads disposed on an upper surface side of the plate-like member, and a bottomed screw hole is formed on a lower surface of the head opposite to the upper surface of the plate-like member; The shaft is disposed concentrically with the screw hole and penetrates the plate-like member, and has a first through hole extending vertically from the lower end to the upper end, the shaft having an upper end in contact with the head; It is characterized by having a head screw inserted into the first through hole of the shaft from the lower end side of the shaft and having a tip screwed into the screw hole of the head to fix the head to the shaft. .

본 발명에 관련된 기판 유지 장치에 의하면, 헤드용 나사는, 샤프트의 제 1 관통공에 샤프트의 하단측으로부터 삽입된다. 또, 헤드용 나사는, 헤드용 나사의 선단이 헤드의 바닥이 있는 나사공에 나사 결합됨으로써 헤드를 샤프트에 고정시킨다. 헤드측으로부터 샤프트에 대해 헤드용 나사를 체결하고 있지 않으므로, 헤드는 나사 커버를 구비할 필요가 없다. 그 때문에, 나사 커버에서 기인하는 문제를 해결할 수 있다.According to the substrate holding device according to the present invention, the head screw is inserted into the first through hole of the shaft from the lower end side of the shaft. Moreover, the head screw fixes the head to the shaft by screwing the tip of the head screw into the screw hole at the bottom of the head. Since the screw for the head is not fastened to the shaft from the head side, the head does not need to have a screw cover. Therefore, the problem caused by the screw cover can be solved.

또, 상기 서술한 기판 유지 장치에 있어서, 상기 유지 핀은, 적어도 1 개의 고정 유지 핀 및 적어도 1 개의 가동 유지 핀을 갖고, 상기 가동 유지 핀은, 상기 헤드, 상기 샤프트 및 상기 헤드용 나사를 구비하고, 상기 가동 유지 핀은, 상기 헤드, 상기 샤프트 및 상기 헤드용 나사가 연직축 둘레로 일체적으로 회전되도록 구성되어 있는 것이 바람직하다. 이로써, 연직축 둘레로 회전되는 가동 유지 핀에 있어서, 나사 커버에서 기인하는 문제를 해결할 수 있다.Further, in the substrate holding device described above, the holding pin has at least one fixed holding pin and at least one movable holding pin, and the movable holding pin includes the head, the shaft, and the head screw. And, the movable holding pin is preferably configured so that the head, the shaft, and the screw for the head integrally rotate around a vertical axis. Thus, in the movable retaining pin rotated around the vertical axis, the problem caused by the screw cover can be solved.

또, 상기 서술한 기판 유지 장치에 있어서, 상기 가동 유지 핀의 상기 연직축 둘레의 회전 위치를 검출하는 회전 위치 검출 센서 유닛으로서, 피검출 부재, 및 상기 피검출 부재를 검출하는 센서를 갖는 상기 회전 위치 검출 센서 유닛을 추가로 구비하고, 상기 가동 유지 핀은, 상기 샤프트의 상기 하단측에 배치됨과 함께 상기 제 1 관통공과 동심의 제 2 관통공이 형성된 제 1 통상부를 갖는 장착 부재와, 상기 샤프트의 상기 하단측에 상기 제 1 통상부의 상기 제 2 관통공에 삽입하여 배치되고, 상기 제 1 관통공과 동심의 제 3 관통공이 형성된 제 2 통상부를 갖고, 또한, 상기 제 2 통상부의 상단측에 나사부가 형성된 관상 나사를 구비하고, 상기 장착 부재는, 상기 제 1 통상부로부터 수평 방향으로 연장되고, 또한, 상기 피검출 부재 및 상기 센서의 일방을 유지하는 아암을 갖고, 상기 샤프트는, 상기 제 1 관통공의 하단측에 암나사부가 형성되어 있고, 상기 관상 나사는, 상기 제 1 통상부의 상기 제 2 관통공에 삽입되고, 상기 제 2 통상부의 상단측의 나사부가 상기 샤프트의 상기 암나사부에 나사 결합됨으로써, 상기 장착 부재를 상기 샤프트에 고정시키고, 상기 헤드용 나사는, 상기 제 1 관통공, 상기 제 2 관통공 및 상기 제 3 관통공에 상기 관상 나사측으로부터 삽입되고, 상기 헤드용 나사의 상기 선단이 상기 헤드의 상기 나사공에 나사 결합됨으로써 상기 헤드를 상기 샤프트에 고정시키고, 상기 가동 유지 핀은, 상기 헤드, 상기 샤프트, 상기 장착 부재, 상기 관상 나사 및 상기 헤드용 나사가 상기 연직축 둘레로 일체적으로 회전되도록 구성되어 있는 것이 바람직하다.Further, in the substrate holding device described above, a rotational position detection sensor unit for detecting a rotational position of the movable holding pin around the vertical axis includes a member to be detected and a sensor for detecting the member to be detected. A detection sensor unit is further provided, and the movable holding pin includes a mounting member having a first cylindrical portion disposed on the lower end side of the shaft and having a second through hole concentric with the first through hole; It has a second cylindrical portion inserted into the second through hole of the first cylindrical portion at the lower end side and formed with a third through hole concentric with the first through hole, and a threaded portion is formed at the upper end of the second cylindrical portion. a tubular screw, wherein the mounting member extends in a horizontal direction from the first cylindrical portion and has an arm holding one of the member to be detected and the sensor; A female screw part is formed on the lower end side, the tubular screw is inserted into the second through hole of the first cylindrical part, and the screw part on the upper end side of the second cylindrical part is screwed into the female screw part of the shaft, A mounting member is fixed to the shaft, the head screw is inserted into the first through hole, the second through hole, and the third through hole from the tubular screw side, and the tip of the head screw is inserted into the first through hole, the second through hole, and the third through hole. The head is fixed to the shaft by being screwed into the screw hole of the head, and the movable retaining pin is configured so that the head, the shaft, the mounting member, the tubular screw, and the screw for the head are integrated around the vertical axis. It is preferable to be configured to rotate.

장착 부재의 아암에 유지된 피검출 부재 및 센서의 일방의 위치를 샤프트에 대해 조정한 후, 장착 부재는, 관상 나사로 고정된다. 또, 기판의 재치 (載置) 높이 위치를 조정한 후, 헤드는, 헤드용 나사로 고정된다. 즉, 그 2 개의 조정은, 개개의 나사가 사용된다. 그 때문에, 2 개의 조정을 용이하게 실시할 수 있다.After adjusting the positions of one of the sensor and the member to be detected held by the arm of the mounting member with respect to the shaft, the mounting member is fixed with a tubular screw. Moreover, after adjusting the mounting height position of the board|substrate, the head is fixed with the head screw. That is, for the two adjustments, individual screws are used. Therefore, the two adjustments can be easily performed.

또, 상기 서술한 기판 유지 장치에 있어서, 상기 피검출 부재의 일례는, 자석이다. 또, 상기 센서의 일례는, 상기 자석의 자기를 검출하는 자기 센서이다.In addition, in the substrate holding device described above, an example of the member to be detected is a magnet. Also, an example of the sensor is a magnetic sensor that detects the magnetism of the magnet.

또, 본 발명에 관련된 기판 처리 시스템은, 상기 서술한 기판 유지 장치와, 상기 기판 유지 장치에 유지된 상기 기판에 처리액을 토출하는 노즐을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다.Further, a substrate processing system according to the present invention is characterized in that it includes the substrate holding device described above and a nozzle for discharging a processing liquid to the substrate held in the substrate holding device.

본 발명에 관련된 기판 유지 장치 및 기판 처리 시스템에 의하면, 나사 커버에서 기인하는 문제를 해결할 수 있다.According to the substrate holding device and the substrate processing system according to the present invention, the problem caused by the screw cover can be solved.

도 1 은, 실시예에 관련된 기판 처리 장치의 개략 구성도이다.
도 2 는, 스핀 척 (스핀 베이스 및 6 개의 유지 핀) 을 위에서 본 평면도이다.
도 3 은, 가동 유지 핀의 구성을 나타내는 종단면도이다.
도 4 는, 톱 커버 및 가동 유지 핀을 아래에서 본 하면도이다.
도 5 는, 회전 위치 센서 유닛을 설명하기 위한 개략 구성도이다.
도 6(a) 는, 샤프트의 하단측에 장착 부재를 배치시킨 모습을 나타내는 종단면도이고, (b) 는, 관상 나사로 장착 부재를 샤프트에 고정시키는 동작을 설명하기 위한 종단면도이고, (c) 는, 헤드용 나사로 헤드를 샤프트에 고정시키는 동작을 설명하기 위한 종단면도이다.
도 7 은, 변형예에 관련된 가동 유지 핀의 구성을 나타내는 종단면도이다.
도 8 은, 변형예에 관련된 고정 유지 핀의 구성을 나타내는 종단면도이다.
도 9 는, 종래의 가동 유지 핀을 부분적으로 나타내는 종단면도이다.1 is a schematic configuration diagram of a substrate processing apparatus according to an embodiment.
Fig. 2 is a top plan view of a spin chuck (spin base and six retaining pins).
Fig. 3 is a longitudinal sectional view showing the configuration of a movable holding pin.
Fig. 4 is a bottom view of a top cover and a movable retaining pin viewed from below.
5 is a schematic configuration diagram for explaining a rotational position sensor unit.
Fig. 6 (a) is a longitudinal sectional view showing a state in which a mounting member is disposed on the lower end side of the shaft, (b) is a longitudinal sectional view for explaining an operation of fixing the mounting member to the shaft with a tubular screw, (c) is a longitudinal cross-sectional view for explaining the operation of fixing the head to the shaft with the head screw.
Fig. 7 is a longitudinal sectional view showing the configuration of a movable holding pin according to a modified example.
Fig. 8 is a longitudinal sectional view showing the configuration of a retaining pin according to a modified example.
Fig. 9 is a longitudinal sectional view partially showing a conventional movable holding pin.

실시예Example

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다. 도 1 은, 실시예에 관련된 기판 처리 장치 (1) 의 개략 구성도이다. 도 2 는, 스핀 척 (7) (스핀 베이스 (13) 및 6 개의 유지 핀 (15)) 을 위에서 본 평면도이다. 또한, 기판 처리 장치 (1) 는, 본 발명의 기판 처리 시스템에 상당한다. 또, 기판 유지부 (2) 는, 본 발명의 기판 유지 장치에 상당한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a schematic configuration diagram of a substrate processing apparatus 1 according to an embodiment. Fig. 2 is a plan view of the spin chuck 7 (spin base 13 and six retaining pins 15) viewed from above. In addition, the substrate processing apparatus 1 corresponds to the substrate processing system of the present invention. Further, the substrate holding unit 2 corresponds to the substrate holding device of the present invention.

(1) 기판 처리 장치 (1) 의 구성(1) Configuration of substrate processing apparatus 1

도 1, 도 2 를 참조한다. 기판 처리 장치 (1) 는, 기판 (W) 을 대략 수평인 자세로 유지 (파지) 하는 기판 유지부 (2) 와, 기판 유지부 (2) 에 유지된 기판 (W) 에 처리액을 토출하는 노즐 (3) 을 구비한다. 노즐 (3) 에는, 배관 (5) 이 접속된다. 배관 (5) 의 기단 (基端) 은, 처리액 공급원 (6) 에 접속된다. 처리액은, 배관 (5) 을 통하여 처리액 공급원 (6) 으로부터 노즐 (3) 에 보내진다. 개폐 밸브 (V1) 는, 배관 (5) 에 형성된다. 개폐 밸브 (V1) 는, 노즐 (3) 로부터 처리액을 토출시키고, 또, 처리액의 토출을 정지시키도록 구성된다.See FIGS. 1 and 2 . The substrate processing apparatus 1 includes a substrate holding portion 2 that holds (holds) a substrate W in a substantially horizontal position and discharges a processing liquid to the substrate W held by the substrate holding portion 2. Equipped with a nozzle (3). A pipe 5 is connected to the nozzle 3 . The proximal end of the pipe 5 is connected to the processing liquid supply source 6 . The treatment liquid is sent from the treatment liquid supply source 6 to the nozzle 3 through the pipe 5 . The on-off valve V1 is provided in the pipe 5. The on-off valve V1 is configured to discharge the treatment liquid from the nozzle 3 and to stop the discharge of the treatment liquid.

처리액으로서 예를 들어, 포토레지스트액, 현상액, 순수, 에칭액, 또는 세정액이 사용된다. 순수로서 예를 들어, 탈이온수 (DIW) 가 사용된다. 에칭액으로서 예를 들어, 불산 (HF), 불산과 질산 (HNO3) 의 혼합액, 불산과 과산화수소수 (H2O2) 의 혼합액, 또는 TMAH (수산화테트라메틸암모늄 : Tetramethylammonium hydroxide) 가 사용된다. 또, 세정액으로서 예를 들어, SC1, SC2 또는 SPM 이 사용된다. SC1 은, 암모니아와 과산화수소수와 물의 혼합액이다. SC2 는, 염산 (HCl) 과 과산화수소와 물의 혼합액이다. SPM 은, 황산 (H2SO4) 과 과산화수소수의 혼합액이다.As the treatment liquid, for example, photoresist liquid, developer, pure water, etching liquid, or cleaning liquid is used. As pure water, for example, deionized water (DIW) is used. As the etchant, for example, hydrofluoric acid (HF), a mixture of hydrofluoric acid and nitric acid (HNO 3 ), a mixture of hydrofluoric acid and hydrogen peroxide (H 2 O 2 ), or TMAH (Tetramethylammonium hydroxide) is used. Further, as the washing liquid, for example, SC1, SC2 or SPM is used. SC1 is a liquid mixture of ammonia, hydrogen peroxide solution, and water. SC2 is a liquid mixture of hydrochloric acid (HCl), hydrogen peroxide, and water. SPM is a liquid mixture of sulfuric acid (H 2 SO 4 ) and hydrogen peroxide.

기판 유지부 (2) 는, 스핀 척 (7), 회전 샤프트 (9), 및 회전 구동부 (11) 를 구비한다. 스핀 척 (7) 은, 기판 (W) 을 유지한다. 스핀 척 (7) 은, 원판상의 스핀 베이스 (13) 와, 6 개의 유지 핀 (15) 을 구비한다. 도 1, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 회전축 (AX1) 은, 스핀 베이스 (13) (즉 톱 커버 (13A)) 의 중심을 통과한다. 회전 샤프트 (9) 의 선단은 스핀 베이스 (13) 에 연결된다. 회전 샤프트 (9) 의 기단은, 회전 구동부 (11) 의 회전 출력축 (도시하지 않음) 에 접속된다. 회전 구동부 (11) 는, 회전 샤프트 (9) 를 통하여 스핀 베이스 (13) 를 회전축 (AX1) 둘레로 회전시킨다. 회전 구동부 (11) 는, 예를 들어 전동 모터를 구비한다.The substrate holder 2 includes a spin chuck 7 , a rotation shaft 9 , and a rotation drive unit 11 . The spin chuck 7 holds the substrate W. The spin chuck 7 includes a disk-shaped spin base 13 and six retaining pins 15 . As shown in FIGS. 1 and 2 , rotation axis AX1 passes through the center of spin base 13 (ie, top cover 13A). The tip of the rotating shaft 9 is connected to the spin base 13. The base end of the rotation shaft 9 is connected to a rotation output shaft (not shown) of the rotation drive unit 11 . The rotation drive unit 11 rotates the spin base 13 around the rotation axis AX1 via the rotation shaft 9 . The rotation drive unit 11 includes, for example, an electric motor.

기판 유지부 (2) 는, 기체 토출구 (17), 기체 공급관 (19), 기체 배관 (21), 기체 공급원 (23) 및 개폐 밸브 (V2) 를 구비한다. 기체 토출구 (17) 는, 회전축 (AX1) 둘레의 거의 1 주 (周) 하는 링상의 슬릿을 갖고, 회전축 (AX1) 으로부터 수평의 거의 전체 방향으로 기체를 토출한다. 기체 공급관 (19) 은, 기체 토출구 (17) 에 기체를 보낸다. 기체 공급관 (19) 은, 회전축 (AX1) 을 따라 회전 샤프트 (9) 및 회전 구동부 (11) 를 관통하도록 형성된다.The substrate holder 2 includes a gas discharge port 17, a gas supply pipe 19, a gas pipe 21, a gas supply source 23, and an on/off valve V2. The gas discharge port 17 has a ring-shaped slit that goes approximately one circumference around the rotating shaft AX1, and discharges gas from the rotating shaft AX1 in almost all horizontal directions. The gas supply pipe 19 sends gas to the gas outlet 17 . The gas supply pipe 19 is formed so as to penetrate the rotation shaft 9 and the rotation drive unit 11 along the rotation axis AX1.

기체 배관 (21) 은, 기체 공급원 (23) 으로부터 기체 공급관 (19) 에 기체(예를 들어 질소 등의 불활성 가스) 를 보낸다. 기체 배관 (21) 에는, 개폐 밸브 (V2) 가 형성된다. 개폐 밸브 (V2) 는, 기체의 공급 및 그 정지를 실시한다. 기체 토출구 (17) 는, 기판 (W) 과 스핀 베이스 (13) 의 간극에 있어서, 기판 (W) 의 중심측으로부터 기판 (W) 의 외측 가장자리로 기체가 흐르도록, 기체를 토출한다.The gas pipe 21 sends gas (for example, an inert gas such as nitrogen) from the gas supply source 23 to the gas supply pipe 19 . An on-off valve V2 is provided in the gas pipe 21 . The on-off valve V2 supplies gas and stops it. The gas discharge port 17 discharges gas so that the gas flows from the center side of the substrate W to the outer edge of the substrate W in the gap between the substrate W and the spin base 13 .

스핀 베이스 (13) 는, 내부에 공간을 구비한다. 스핀 베이스 (13) 는, 톱 커버 (13A) 와 언더 커버 (보텀 커버) (13B) 를 구비한다. 언더 커버 (13B) 는, 톱 커버 (13A) 로부터 분리할 수 있다. 또한, 톱 커버 (13A) 는, 본 발명의 판상 부재에 상당한다.The spin base 13 has a space inside. The spin base 13 includes a top cover 13A and an under cover (bottom cover) 13B. The under cover 13B can be separated from the top cover 13A. In addition, the top cover 13A corresponds to the plate-like member of the present invention.

도 2 에 나타내는 바와 같이, 6 개의 유지 핀 (15) 은, 회전축 (AX1) 둘레로 링상으로 스핀 베이스 (13) 의 톱 커버 (13A) 에 세워 형성된다. 6 개의 유지 핀 (15) 은, 거의 등각도 간격으로 배치된다. 6 개의 유지 핀 (15) 은, 3 개의 가동 유지 핀 (25A, 25B, 25C) 과 3 개의 고정 유지 핀 (27) 으로 구성된다. 또한, 3 개의 가동 유지 핀 (25A, 25B, 25C) 을 구별하지 않을 때에는, 「가동 유지 핀 (25)」 이라고 부른다. 또, 기판 유지부 (2) 는, 적어도 3 개의 유지 핀 (15) 을 구비하고 있으면 된다. 적어도 3 개의 유지 핀 (15) 은, 적어도 1 개의 고정 유지 핀 (27) 및 적어도 1 개의 가동 유지 핀 (25) 을 갖는다.As shown in Fig. 2, the six retaining pins 15 are formed upright on the top cover 13A of the spin base 13 in a ring shape around the rotating shaft AX1. The six retaining pins 15 are arranged at approximately equiangular intervals. The six retaining pins 15 are composed of three movable retaining pins 25A, 25B, and 25C and three fixed retaining pins 27. In addition, when the three movable holding pins 25A, 25B, and 25C are not distinguished, they are called "moving holding pins 25". Moreover, the substrate holding part 2 should just be provided with at least 3 holding pins 15. The at least three holding pins 15 have at least one fixed holding pin 27 and at least one movable holding pin 25 .

각 가동 유지 핀 (25) 은, 그 내부를 통과하는 연직축 (AX2) 둘레로 회전하는 것이 가능하다. 각 고정 유지 핀 (27) 은, 가동 유지 핀 (25) 과 같이, 회전 가능하게 구성되어 있지 않다. 6 개의 유지 핀 (15) (3 개의 가동 유지 핀 (25) 및 3 개의 고정 유지 핀 (27)) 은, 기판 (W) 의 측면을 사이에 끼워 넣도록 기판 (W) 을 유지한다.Each movable holding pin 25 is capable of rotating around a vertical axis AX2 passing therethrough. Each stationary retaining pin 27 is not rotatably configured like the movable retaining pin 25 . The six retaining pins 15 (three movable retaining pins 25 and three fixed retaining pins 27) hold the substrate W so as to sandwich the side surfaces of the substrate W therebetween.

도 3 은, 가동 유지 핀 (25) 의 구성을 나타내는 종단면도이다. 3 개의 가동 유지 핀 (25) 은 각각, 헤드 (31), 샤프트 (33), 2 개의 베어링 (35, 36), 고정 부재 (38), 장착 부재 (40), 관상 나사 (41) 및 헤드용 나사 (43) 를 구비한다.3 is a longitudinal sectional view showing the structure of the movable holding pin 25. As shown in FIG. The three movable retaining pins 25 are respectively for the head 31, the shaft 33, the two bearings 35 and 36, the fixing member 38, the mounting member 40, the tubular screw 41 and the head. Equipped with screws (43).

헤드 (31) 는, 톱 커버 (13A) 의 상면 (13U) 측에 배치된다. 헤드 (31) 는, 헤드 본체 (31A), 맞닿음부 (31B), 대경공 (31C), 나사공 (31D) 및 암나사부 (31E) 를 구비한다. 헤드 본체 (31A) 는, 기판 (W) 의 외측 가장자리가 재치되는 부분이다. 맞닿음부 (31B) 는, 연직축 (AX2) 에 대해 편심되면서, 헤드 본체 (31A) 상에 형성된다. 맞닿음부 (31B) 는, 기판 (W) 의 측면에 접촉하는 부분이다.The head 31 is disposed on the upper surface 13U side of the top cover 13A. The head 31 includes a head body 31A, an abutting portion 31B, a large-diameter hole 31C, a screw hole 31D, and a female screw portion 31E. The head body 31A is a portion where the outer edge of the substrate W is placed. The abutting portion 31B is formed on the head body 31A while being eccentric with respect to the vertical axis AX2. The contact portion 31B is a portion that contacts the side surface of the substrate W.

대경공 (31C) 은, 헤드 본체 (31A) 의 하면에 형성된다. 대경공 (31C) 에는, 샤프트 (33) 및 헤드용 나사 (43) 의 각각의 선단부가 삽입된다. 또한, 대경공 (31C) 은, 연직축 (AX2) 둘레의 소정의 회전 위치에서 샤프트 (33) 가 삽입되도록 구성되어 있다. 그 때문에, 헤드 (31) 가 샤프트 (33) 에 대해 연직축 (AX2) 둘레로 회전할 수 없게 구성된다.The large diameter hole 31C is formed on the lower surface of the head body 31A. Into the large-diameter hole 31C, the shaft 33 and the tip of each of the head screws 43 are inserted. Further, the large-diameter hole 31C is configured so that the shaft 33 is inserted at a predetermined rotational position around the vertical axis AX2. For that reason, the head 31 is configured to be unable to rotate about the vertical axis AX2 with respect to the shaft 33 .

나사공 (31D) 은, 대경공 (31C) 의 안쪽에 형성되고, 대경공 (31C) 보다 소경이다. 즉, 나사공 (31D) 은, 대경공 (31C) 을 통하여 헤드 본체 (31A) (헤드 (31)) 의 하면에 형성된다. 나사공 (31D) 은, 헤드 본체 (31A) 의 상면까지 관통하지 않고, 바닥면 (또는 천장면) 을 갖는다. 나사공 (31D) 은, 헤드용 나사 (43) 의 선단부가 삽입된다. 나사공 (31D) 의 연직 방향의 중심축은, 연직축 (AX2) 과 일치한다. 나사공 (31D) 의 내주면에는, 암나사부 (나사 홈) (31E) 가 형성된다.The screw hole 31D is formed inside the large-diameter hole 31C, and has a smaller diameter than the large-diameter hole 31C. That is, the screw hole 31D is formed on the lower surface of the head main body 31A (head 31) via the large diameter hole 31C. The screw hole 31D does not penetrate to the upper surface of the head body 31A, but has a bottom surface (or a top surface). The tip of the head screw 43 is inserted into the screw hole 31D. The center axis of the vertical direction of the screw hole 31D coincides with the vertical axis AX2. A female screw portion (screw groove) 31E is formed on the inner circumferential surface of the screw hole 31D.

베어링 (35) 은, 톱 커버 (13A) 의 하면 (13D) 에 형성된 유지공부 (45) 에 유지된다. 샤프트 (33) 는, 베어링 (35) 에 통과된다. 샤프트 (33) 는, 나사공 (31D) 과 동심 (동심 (同心)) 으로 배치된다. 샤프트 (33) 는, 톱 커버 (13A) 를 관통한다. 샤프트 (33) 의 상단은, 헤드 (31) 에 접한다. 샤프트 (33) 는, 헤드용 나사 (43) 를 통과하기 위해서, 샤프트 (33) 의 상단으로부터 하단까지 연직으로 연장되는 제 1 관통공 (33A) 을 갖는다. 또, 샤프트 (33) 는, 가동 유지 핀 (25) 을 연직축 (AX2) 둘레로 회전시키기 위해서, 수평 방향으로 직선 상으로 연장되는 레버 부재 (33B) 를 갖는다. 샤프트 (33) 는, 제 1 관통공 (33A) 의 하단측에 암나사부 (33C) 가 형성된다. 즉, 샤프트 (33) 의 하단부의 제 1 관통공 (33A) 의 내주면에는, 나사 홈이 형성된다.The bearing 35 is held by a holding part 45 formed on the lower surface 13D of the top cover 13A. The shaft 33 is passed through the bearing 35 . The shaft 33 is disposed concentrically (concentrically) with the threaded hole 31D. The shaft 33 penetrates the top cover 13A. The upper end of the shaft 33 is in contact with the head 31 . The shaft 33 has a first through hole 33A extending vertically from the upper end of the shaft 33 to the lower end in order to pass the head screw 43 . Further, the shaft 33 has a lever member 33B extending linearly in the horizontal direction in order to rotate the movable holding pin 25 around the vertical axis AX2. The shaft 33 has a female threaded portion 33C formed on the lower end side of the first through hole 33A. That is, a screw groove is formed on the inner circumferential surface of the first through hole 33A at the lower end of the shaft 33.

고정 부재 (38) 는, 베어링 (36) 을 갖는다. 고정 부재 (38) 는, 베어링 (36) 을 통하여 샤프트 (33) 의 하단측을 유지함과 함께, 톱 커버 (13A) 에 장착된다. 고정 부재 (38) 는, 아치상의 부재이다. 고정 부재 (38) 의 중앙에는, 헤드용 나사 (43) 를 통과하기 위한 개구부가 형성된다. 고정 부재 (38) 는, 예를 들어 2 개의 나사 (38A) 로 톱 커버 (13A) 에 장착된다.The fixing member 38 has a bearing 36 . The fixing member 38 is attached to the top cover 13A while holding the lower end side of the shaft 33 via the bearing 36. The fixing member 38 is an arcuate member. At the center of the fixing member 38, an opening for passing the head screw 43 is formed. The fixing member 38 is attached to the top cover 13A with, for example, two screws 38A.

도 3, 도 4 를 참조한다. 도 4 는, 톱 커버 (13A) 및 가동 유지 핀 (25) 을 아래에서 본 하면도이다. 장착 부재 (40) 는, 제 1 통상부 (40A) 와 2 개의 아암 (40B, 40C) 을 구비한다. 제 1 통상부 (40A) 는, 샤프트 (33) 의 하단측에 배치된다. 제 1 통상부 (40A) 는, 아래에서 위를 향할수록 가늘어지도록 계단상으로 형성된다. 제 1 통상부 (40A) 에는, 제 1 관통공 (33A) 과 동심의 제 2 관통공 (40D) 이 형성된다. 제 2 관통공 (40D) 은, 연직 방향으로 연장된다.See FIGS. 3 and 4 . Fig. 4 is a bottom view of the top cover 13A and the movable holding pin 25 viewed from below. The mounting member 40 includes a first cylindrical portion 40A and two arms 40B and 40C. The first cylindrical portion 40A is disposed on the lower end side of the shaft 33 . The first cylindrical portion 40A is formed stepwise so as to become thinner from bottom to top. A second through hole 40D concentric with the first through hole 33A is formed in the first cylindrical portion 40A. The second through hole 40D extends in the vertical direction.

2 개의 아암 (40B, 40C) 은, 제 1 통상부 (40A) 로부터 수평 방향으로 직선상으로 연장된다. 2 개의 아암 (40B, 40C) 은, 도 4 에 있어서, L 자상 또는 부메랑상으로 형성된다. 아암 (40B) 의 선단부에는, 후술하는 검출용 자석 (63) 이 형성된다. 즉, 아암 (40B) 은, 검출용 자석 (63) 을 유지한다.The two arms 40B and 40C extend linearly in the horizontal direction from the first cylindrical portion 40A. In FIG. 4, two arms 40B and 40C are formed in L shape or boomerang shape. A magnet 63 for detection described later is provided at the distal end of the arm 40B. That is, the arm 40B holds the magnet 63 for detection.

도 3 을 참조한다. 관상 나사 (41) 는, 장착 부재 (40) 를 샤프트 (33) 에 고정시키는 것이다. 관상 나사 (41) 는, 샤프트 (33) 의 하단측에 제 1 통상부 (40A) 의 제 2 관통공 (40D) 에 삽입하여 배치된다. 즉, 관상 나사 (41) 는, 장착 부재 (40) 의 제 1 통상부 (40A) 를 통하여 샤프트 (33) 의 하단측에 배치된다. 관상 나사 (41) 는, 계단상으로 형성된다. 관상 나사 (41) 는, 제 2 통상부 (41A) 를 갖는다. 제 2 통상부 (41A) 에는, 제 1 관통공 (33A) 과 동심의 제 3 관통공 (41B) 이 형성된다. 제 3 관통공 (41B) 은, 연직 방향으로 연장된다. 제 2 통상부 (41A) 의 상단측에는 수나사부 (나사부) (41C) 가 형성된다. 즉, 제 2 통상부 (41A) 의 상단부의 외주면에는, 나사 홈이 형성된다. 수나사부 (41C) 는, 샤프트 (33) 의 암나사부 (33C) 와 맞물리도록 구성된다. 관상 나사 (41) 는, 제 1 통상부 (40A) 의 하단측으로부터 제 1 통상부 (40A) 의 제 2 관통공 (40D) 에 삽입된다. 또, 관상 나사 (41) 는, 제 2 통상부 (41A) 의 상단측의 수나사부 (41C) 를 샤프트 (33) 의 암나사부 (33C) 에 나사 결합함으로써, 장착 부재 (40) 를 샤프트 (33) 에 고정시킨다.See FIG. 3 . The tubular screw 41 fixes the mounting member 40 to the shaft 33 . The tubular screw 41 is disposed on the lower end side of the shaft 33 by being inserted into the second through hole 40D of the first cylindrical portion 40A. That is, the tubular screw 41 is disposed on the lower end side of the shaft 33 via the first cylindrical portion 40A of the mounting member 40 . The tubular screw 41 is formed stepwise. The tubular screw 41 has a second cylindrical portion 41A. A third through hole 41B concentric with the first through hole 33A is formed in the second cylindrical portion 41A. The third through hole 41B extends in the vertical direction. A male threaded portion (threaded portion) 41C is formed on the upper end side of the second cylindrical portion 41A. That is, a screw groove is formed on the outer circumferential surface of the upper end of the second cylindrical portion 41A. The male threaded portion 41C is configured to engage with the female threaded portion 33C of the shaft 33. The tubular screw 41 is inserted into the second through hole 40D of the first cylindrical portion 40A from the lower end side of the first cylindrical portion 40A. In addition, the tubular screw 41 screws the male screw part 41C on the upper end side of the second cylindrical part 41A to the female screw part 33C of the shaft 33, thereby fixing the mounting member 40 to the shaft 33. fixed on

헤드용 나사 (43) 는, 연직 방향으로 연장된다. 헤드용 나사 (43) 의 상단부 (선단부) 의 외주면에는, 수나사 (나사 홈) (43A) 가 형성된다. 수나사부 (43A) 는, 헤드 (31) 의 나사공 (31D) 의 암나사부 (31E) 와 맞물리도록 구성된다. 헤드용 나사 (43) 는, 제 1 관통공 (33A), 제 2 관통공 (40D) 및 제 3 관통공 (41B) 에 관상 나사 (41) 측으로부터 삽입된다. 그리고, 헤드용 나사 (43) 는, 그 선단의 수나사부 (43A) 가 헤드 (31) 의 나사공 (31D) 의 암나사부 (31E) 에 나사 결합된다. 이로써, 헤드용 나사 (43) 는, 헤드 (31) 를 샤프트 (33) 에 고정시킨다. 또한, 부호 47 은 좌금 (座金) 이다. 또, 헤드 (31) 와 톱 베이스 (13A) 는, 도시되지 않은 시일 부재에 의해 밀폐된다.The screw 43 for heads extends in the vertical direction. A male screw (screw groove) 43A is formed on the outer circumferential surface of the upper end (tip end) of the head screw 43 . The male screw portion 43A is configured to engage with the female screw portion 31E of the screw hole 31D of the head 31 . The head screw 43 is inserted into the first through hole 33A, the second through hole 40D, and the third through hole 41B from the tubular screw 41 side. And, as for the head screw 43, the male screw part 43A of the tip is screwed into the female screw part 31E of the screw hole 31D of the head 31. Thereby, the head screw 43 fixes the head 31 to the shaft 33. Also, the code 47 is left money (座金). In addition, the head 31 and the top base 13A are sealed by a seal member not shown.

이와 같은 가동 유지 핀 (25) 은, 헤드 (31), 샤프트 (33) (레버 부재 (33B) 를 포함한다), 장착 부재 (40), 관상 나사 (41) 및 헤드용 나사 (43) 등이 연직축 (AX2) 둘레로 일체적으로 회전되도록 구성된다.Such a movable holding pin 25 includes a head 31, a shaft 33 (including a lever member 33B), a mounting member 40, a tubular screw 41, a head screw 43, and the like. It is configured to integrally rotate around the vertical axis AX2.

또한, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 3 개의 고정 유지 핀 (27) 은 각각, 헤드 (31) 를 구비한다. 각 고정 유지 핀 (27) 의 헤드 (31) 는, 기판 (W) 의 외측 가장자리가 재치되는 헤드 본체 (31A) 와, 이 헤드 본체 (31A) 상에 형성된 맞닿음부 (31B) 를 구비한다.Moreover, as shown in FIG. 1, each of the three fixed holding pins 27 is equipped with the head 31. As shown in FIG. The head 31 of each fixed holding pin 27 has a head body 31A on which the outer edge of the substrate W is mounted, and an abutting portion 31B formed on the head body 31A.

다음으로, 도 1 에 나타내는 핀 회전 기구 (51) 에 대해 설명한다. 기판 유지부 (2) 는, 3 개의 가동 유지 핀 (25) 을 각각의 연직축 (AX2) 둘레로 회전시키는 핀 회전 기구 (51) 를 구비한다. 핀 회전 기구 (51) 는, 구동부 (53) 와 변환부 (55) 를 구비한다.Next, the pin rotation mechanism 51 shown in FIG. 1 will be described. The substrate holder 2 includes a pin rotation mechanism 51 that rotates the three movable holding pins 25 around each vertical axis AX2. The pin rotation mechanism 51 includes a drive unit 53 and a conversion unit 55 .

구동부 (53) 는, 스핀 베이스 (13) 로부터 이간된 위치, 예를 들어, 스핀 베이스 (13) 의 하방에 배치된다. 구동부 (53) 는, 예를 들어 제 1 자석과, 그 제 1 자석을 승강시키는 리니어 액추에이터를 구비하고 있다. 리니어 액추에이터는, 예를 들어 에어 실린더, 전동 모터 또는 전자 솔레노이드를 구비한다.The drive unit 53 is disposed at a position spaced apart from the spin base 13, eg, below the spin base 13. The driving unit 53 includes, for example, a first magnet and a linear actuator that moves the first magnet up and down. Linear actuators include, for example, air cylinders, electric motors or electronic solenoids.

또, 변환부 (55) 는, 구동부 (53) 에 의한 승강 동작을 각 샤프트 (33) 의 레버 부재 (33B) 의 연직축 (AX2) 둘레의 회전 동작으로 변환하도록 구성된다. 변환부 (55) 는, 3 개의 레버 부재 (33B) 를 각각 가이드하는 3 개의 가이드 부재와, 3 개의 가이드 부재를 승강 가능하게 지지하는 승강 부재를 구비한다. 승강 부재는, 제 2 자석을 구비한다.Moreover, the converting part 55 is comprised so that the raising/lowering operation|movement by the drive part 53 may be converted into the rotational motion of the lever member 33B of each shaft 33 about the vertical axis AX2. The conversion unit 55 includes three guide members each guiding the three lever members 33B, and a lifting member supporting the three guide members so as to be able to move up and down. The elevating member includes a second magnet.

구동부 (53) 가 제 1 자석을 상승시키면, 제 1 자석과 제 2 자석의 반발력에 의해 제 2 자석이 승강 부재와 함께 상승한다. 승강 부재가 3 개의 가이드 부재와 함께 상승하면, 각 가이드부는, 상승 동작을 각 레버 부재 (33B) 의 순방향의 회전 동작으로 변환한다. 이 상태에서, 구동부 (53) 가 제 1 자석을 하강시키면, 자중 또는 스프링의 탄성력에 의해 제 2 자석이 승강 부재와 함께 하강한다. 승강 부재가 3 개의 가이드 부재와 함께 하강하면, 각 가이드부는, 하강 동작을 각 레버 부재 (33B) 의 역방향의 회전 동작으로 변환한다.When the drive unit 53 lifts the first magnet, the second magnet is lifted together with the elevating member due to the repulsive force between the first magnet and the second magnet. When the elevating member ascends together with the three guide members, each guide portion converts the ascending motion into a rotational motion of each lever member 33B in the forward direction. In this state, when the drive unit 53 moves the first magnet down, the second magnet moves down together with the elevating member due to its own weight or the elastic force of the spring. When the elevating member descends together with the three guide members, each guide portion converts the descending motion into a rotational motion of each lever member 33B in the reverse direction.

다음으로, 도 4, 도 5 를 참조하면서, 회전 위치 검출 센서 유닛 (61) 에 대해 설명한다. 스핀 척 (7) (기판 유지부 (2)) 은, 가동 유지 핀 (25) 의 연직축 (AX2) 둘레의 회전 위치를 검출하는 회전 위치 검출 센서 유닛 (61) 을 구비한다. 또한, 회전 위치 검출 센서 유닛 (61) 은, 이하, 「센서 유닛 (61)」 이라고 부른다.Next, the rotational position detection sensor unit 61 will be described with reference to FIGS. 4 and 5 . The spin chuck 7 (substrate holder 2) includes a rotational position detection sensor unit 61 that detects the rotational position of the movable holding pin 25 around the vertical axis AX2. In addition, the rotational position detection sensor unit 61 is hereinafter referred to as "sensor unit 61".

센서 유닛 (61) 은, 3 개의 가동 유지 핀 (25) 의 각각에 형성된다. 즉, 스핀 척 (7) 은, 3 개의 센서 유닛 (61) 을 구비한다. 3 개의 센서 유닛 (61) 은 각각, 검출용 자석 (63), 및 검출용 자석 (63) 의 자기를 검출하는 3 개의 자기 센서 (65, 66, 67) 를 구비한다. 상기 서술한 바와 같이, 아암 (40B) 의 선단부에는, 검출용 자석 (63) 이 형성된다.The sensor unit 61 is formed on each of the three movable holding pins 25 . That is, the spin chuck 7 includes three sensor units 61 . The three sensor units 61 each have a magnet 63 for detection and three magnetic sensors 65, 66 and 67 that detect the magnetism of the magnet 63 for detection. As described above, the magnet 63 for detection is provided at the front end of the arm 40B.

3 개의 자기 센서 (65 ∼ 67) 는 각각, 홀 소자 또는 MR 소자를 구비한다. 3 개의 자기 센서 (65 ∼ 67) 는 각각, 톱 커버 (13A) 의 하면 (13D) 에 형성된다. 또, 3 개의 자기 센서 (65 ∼ 67) 는, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 검출용 자석 (63) 의 이동 경로 (RT) 상에 배치된다. 3 개의 자기 센서 (65 ∼ 67) 의 각각의 위치는, 적절히 설정된다.The three magnetic sensors 65 to 67 each have a Hall element or MR element. The three magnetic sensors 65 to 67 are respectively formed on the lower surface 13D of the top cover 13A. Moreover, as shown in FIG. 4, the three magnetic sensors 65-67 are arrange|positioned on the movement path RT of the magnet 63 for a detection. The respective positions of the three magnetic sensors 65 to 67 are appropriately set.

도 5 를 참조한다. 예를 들어, 검출용 자석 (63) 이 자기 센서 (67) 와 대향하는 위치에 있는 것으로 한다. 이 경우, 자기 센서 (67) 는, 검출용 자석 (63) 의 자기를 검출한다. 이로써, 기판 처리 장치 (1) 의 후술하는 제어부 (70) 는, 가동 유지 핀 (25A) 이 「폐쇄 상태」 의 위치에 있다고 판정한다. 또한, 검출용 자석 (63) 과 대향하지 않는 2 개의 자기 센서 (65, 66) 는, 검출용 자석 (63) 의 자기를 검출하지 않는다.See FIG. 5 . For example, it is assumed that the magnet 63 for a detection exists in the position facing the magnetic sensor 67. In this case, the magnetic sensor 67 detects the magnetism of the magnet 63 for detection. With this, the control unit 70 described below of the substrate processing apparatus 1 determines that the movable holding pin 25A is in the position of "closed state". In addition, the two magnetic sensors 65 and 66 that do not face the magnet 63 for detection do not detect the magnetism of the magnet 63 for detection.

그 후, 가동 유지 핀 (25A) 이 연직축 (AX2) 둘레로 회전되고, 검출용 자석 (63) 이 자기 센서 (65) 와 대향하는 위치에 이동된 것으로 한다. 이 경우, 자기 센서 (65) 는, 검출용 자석 (63) 의 자기를 검출한다. 이로써, 제어부 (70) 는, 가동 유지 핀 (25A) 이 「개방 상태」 의 위치에 있다고 판정한다. 그 후, 가동 유지 핀 (25A) 이 연직축 (AX2) 둘레로 회전되고, 검출용 자석 (63) 이 중간의 자기 센서 (66) 와 대향하는 위치에 이동된 것으로 한다 (도 4, 도 5 에 나타내는 상태). 이 경우, 자기 센서 (66) 는, 검출용 자석 (63) 의 자기를 검출한다. 이로써, 제어부 (70) 는, 가동 유지 핀 (25A) 이 「맞닿음부 (31B) 가 기판 (W) 의 측면에 접촉하고 있는 상태」, 즉 기판 유지부 (2) 가 기판 (W) 을 유지한 상태의 위치에 있다고 판정한다. 또한, 다른 2 개의 가동 유지 핀 (25B, 25C) 의 경우도 동일하다.After that, it is assumed that the movable holding pin 25A is rotated around the vertical axis AX2 and the detection magnet 63 is moved to a position facing the magnetic sensor 65 . In this case, the magnetic sensor 65 detects the magnetism of the magnet 63 for detection. Thereby, the control part 70 determines that movable holding pin 25A is in the position of "open state." After that, it is assumed that the movable holding pin 25A is rotated around the vertical axis AX2, and the detection magnet 63 is moved to a position facing the middle magnetic sensor 66 (shown in FIGS. 4 and 5 ). situation). In this case, the magnetic sensor 66 detects the magnetism of the magnet 63 for detection. As a result, the controller 70 determines that the movable holding pin 25A is "a state in which the abutting portion 31B is in contact with the side surface of the substrate W", that is, the substrate holding portion 2 holds the substrate W. It is determined that it is in a position of a state. In addition, the case of the other two movable holding pins 25B and 25C is also the same.

도 1 로 되돌아간다. 기판 처리 장치 (1) 는, 제어부 (70) 와 기억부 (도시하지 않음) 를 구비하고 있다. 제어부 (70) 는, 기판 처리 장치 (1) 의 각 구성을 제어한다. 제어부 (70) 는, 예를 들어 중앙 연산 처리 장치 (CPU) 등의 1 개 또는 복수의 프로세서를 구비한다. 기억부는, 예를 들어, ROM (Read-Only Memory), RAM (Random-Access Memory), 및 하드 디스크의 적어도 1 개를 구비하고 있다. 기억부는, 기판 처리 장치 (1) 의 각 구성을 제어하기 위해서 필요한 컴퓨터 프로그램을 기억한다. 또한, 제어부 (70) 는, 기판 유지부 (2) 가 가지고 있어도 된다. 이 경우, 기판 유지부 (2) 의 제어부 (70) 는, 기판 유지부 (2) 의 각 구성을 제어한다.Back to Figure 1. The substrate processing apparatus 1 includes a control unit 70 and a storage unit (not shown). The control unit 70 controls each configuration of the substrate processing apparatus 1 . The control unit 70 includes one or a plurality of processors such as, for example, a central processing unit (CPU). The storage unit includes, for example, at least one of a ROM (Read-Only Memory), a RAM (Random-Access Memory), and a hard disk. The storage unit stores computer programs necessary for controlling each configuration of the substrate processing apparatus 1 . Also, the control unit 70 may be included in the substrate holding unit 2 . In this case, the control unit 70 of the substrate holding unit 2 controls each configuration of the substrate holding unit 2 .

(2) 기판 처리 장치 (1) 의 동작(2) Operation of the substrate processing apparatus 1

다음으로, 기판 처리 장치 (1) 의 동작에 대해 설명한다. 기판 유지부 (2) 가 기판 (W) 을 유지하고 있지 않은 경우, 3 개의 가동 유지 핀 (25) 은, 통상, 폐쇄 상태 (전체 폐쇄 상태) 로 되어 있다. 그 때문에, 기판 유지부 (2) 에 기판 (W) 을 받아들일때, 3 개의 가동 유지 핀 (25) 을 개방 상태로 할 필요가 있다.Next, the operation of the substrate processing apparatus 1 will be described. When the substrate holder 2 does not hold the substrate W, the three movable holding pins 25 are normally closed (total closed state). Therefore, when accepting the substrate W into the substrate holder 2, it is necessary to open the three movable holding pins 25.

그 때문에, 핀 회전 기구 (51) 는, 3 개의 가동 유지 핀 (25) 을 각각의 연직축 (AX2) 둘레로 회전시킨다. 예를 들어, 도 2 에 있어서, 가동 유지 핀 (25A) 의 맞닿음부 (31B) 가 연직축 (AX2) 을 중심으로 반시계 방향으로 호상으로 회전한다. 다른 2 개의 가동 유지 핀 (25B, 25C) 의 2 개의 맞닿음부 (31B) 도 동일하다. 이로써, 3 개의 맞닿음부 (31B) 는, 회전축 (AX1) 으로부터 멀어지도록, 수평 방향으로 넓어진다. 그 때문에, 3 개의 가동 유지 핀 (25) 은, 개방 상태 (전체 개방 상태) 가 된다.Therefore, the pin rotation mechanism 51 rotates the three movable holding pins 25 around each vertical axis AX2. For example, in Fig. 2, the abutting portion 31B of the movable holding pin 25A rotates in an arc shape in a counterclockwise direction centering on the vertical axis AX2. The two abutting parts 31B of the other two movable holding pins 25B and 25C are also the same. Thereby, the three abutting portions 31B spread in the horizontal direction so as to be away from the rotating shaft AX1. Therefore, the three movable holding pins 25 are in an open state (total open state).

도시되지 않은 기판 반송 로봇은, 6 개의 유지 핀 (15) 의 6 개의 맞닿음부 (31B) 사이의 6 개의 헤드 본체 (31A) 상에 기판 (W) 을 반송한다.A substrate transfer robot (not shown) transfers the substrate W on the six head bodies 31A between the six abutting portions 31B of the six holding pins 15 .

기판 (W) 이 반송된 후, 핀 회전 기구 (51) 는, 3 개의 가동 유지 핀 (25) 을 각각의 연직축 (AX2) 둘레로 역회전시킨다. 예를 들어, 도 2 에 있어서, 가동 유지 핀 (25A) 의 맞닿음부 (31B) 가 연직축 (AX2) 을 중심으로 시계 방향으로 호상으로 회전한다. 다른 2 개의 가동 유지 핀 (25B, 25C) 의 2 개의 맞닿음부 (31B) 도 동일하다. 이로써, 3 개의 가동 유지 핀 (25) 의 3 개의 맞닿음부 (31B) 는, 기판 (W) 의 측면에 눌러 대어진다. 그 때문에, 기판 유지부 (2) 는, 3 개의 가동 유지 핀 (25) 및 3 개의 고정 유지 핀 (27) 의 6 개의 맞닿음부 (31B) 에서 기판 (W) 의 측면을 사이에 끼워 넣도록 기판 (W) 을 유지한다. 이 때, 센서 유닛 (61) 의 검출용 자석 (63) 은, 자기 센서 (66) 와 대향하여 위치한다.After the substrate W is conveyed, the pin rotation mechanism 51 reversely rotates the three movable holding pins 25 around each vertical axis AX2. For example, in Fig. 2, the abutting portion 31B of the movable holding pin 25A rotates in an arc shape in a clockwise direction centering on the vertical axis AX2. The two abutting parts 31B of the other two movable holding pins 25B and 25C are also the same. Thus, the three abutting portions 31B of the three movable holding pins 25 are pressed against the side surface of the substrate W. Therefore, the substrate holding portion 2 sandwiches the side surface of the substrate W at the six abutting portions 31B of the three movable holding pins 25 and the three fixed holding pins 27. The substrate W is held. At this time, the detection magnet 63 of the sensor unit 61 is positioned facing the magnetic sensor 66 .

기판 (W) 이 유지된 후, 개폐 밸브 (V2) 를 개방 상태로 한다. 이로써, 기체 토출구 (17) 는, 기판 (W) 과 스핀 베이스 (13) 의 간극에 있어서, 기판 (W) 의 중심측으로부터 기판 (W) 의 외측 가장자리로 기체가 흐르도록, 기체를 토출한다. 그 후, 개폐 밸브 (V1) 를 작동시킨다. 이로써, 기판 유지부 (2) 에 유지된 기판 (W) 에 노즐 (3) 로부터 미리 설정된 양의 처리액이 토출된다. 회전 구동부 (11) 는, 임의의 타이밍에 기판 (W) 이 유지된 스핀 척 (7) 을 회전축 (AX1) 둘레로 회전시킨다. 기판 (W) 이 회전됨으로써, 기판 (W) 상에 토출된 처리액이 기판 (W) 상에 퍼진다.After the substrate W is held, the on-off valve V2 is opened. In this way, the gas discharge port 17 discharges the gas so that the gas flows from the center side of the substrate W to the outer edge of the substrate W in the gap between the substrate W and the spin base 13 . After that, the on-off valve V1 is operated. Thereby, a predetermined amount of processing liquid is discharged from the nozzle 3 to the substrate W held in the substrate holding part 2 . The rotation drive unit 11 rotates the spin chuck 7 holding the substrate W around the rotation axis AX1 at an arbitrary timing. As the substrate W is rotated, the processing liquid discharged onto the substrate W spreads over the substrate W.

기판 (W) 에 소정의 처리를 실시한 후, 회전 구동부 (11) 는, 스핀 척 (7) 의 회전을 정지시킨다. 또, 개폐 밸브 (V2) 를 폐쇄 상태로 한다. 이로써, 기체 토출구 (17) 로부터의 기체의 토출을 정지시킨다. 그 후, 핀 회전 기구 (51) 는, 3 개의 가동 유지 핀 (25) 을 각각의 연직축 (AX2) 둘레로 회전시킨다. 이로써, 3 개의 가동 유지 핀 (25) 을 개방 상태 (전체 개방 상태) 로 한다. 그 후, 도시되지 않은 기판 반송 로봇은, 6 개의 유지 핀 (15) 의 6 개의 헤드 본체 (31A) 상에 재치된 기판 (W) 을 수취하고, 그 기판 (W) 을 다음의 목적지에 반송한다.After subjecting the substrate W to a predetermined process, the rotation driving unit 11 stops rotation of the spin chuck 7 . Moreover, the on-off valve V2 is made into a closed state. In this way, gas discharge from the gas discharge port 17 is stopped. After that, the pin rotation mechanism 51 rotates the three movable holding pins 25 around each vertical axis AX2. In this way, the three movable holding pins 25 are brought into an open state (total open state). Thereafter, the substrate transfer robot (not shown) receives the substrate W placed on the six head bodies 31A of the six holding pins 15, and transports the substrate W to the next destination. .

(3) 가동 유지 핀 (25) 의 조립 방법(3) How to assemble the movable retaining pin 25

다음으로, 도 6(a) ∼ 도 6(c) 를 참조하면서, 가동 유지 핀 (25) 의 조립 방법 중, 특히, 관상 나사 (41) 및 헤드용 나사 (43) 의 체결 방법에 대해 설명한다.Next, with reference to FIGS. 6(a) to 6(c) , among the assembling methods of the movable retaining pin 25, in particular, the fastening method of the tubular screw 41 and the head screw 43 will be described. .

도 6(a) 를 참조한다. 샤프트 (33) 의 하단측에 장착 부재 (40) 의 제 1 통상부 (40A) 를 배치한다. 도 6(b) 를 참조한다. 그 후, 제 1 통상부 (40A) 의 제 2 관통공 (40D) 에 제 2 통상부 (41A) 를 삽입하면서, 제 2 통상부 (41A) 를 샤프트 (33) 의 하단측에 배치한다. 또, 관상 나사 (41) 의 수나사부 (41C) 를 샤프트 (33) 의 암나사부 (33C) 에 느슨하게 나사 체결한다. 또한, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 제 2 통상부 (41A) 에는, 관상 나사 (41) 의 수나사부 (41C) 를 체결하기 위해, 4 개의 홈부 (41D) 가 형성되어 있다.See Fig. 6(a). The first cylindrical portion 40A of the mounting member 40 is disposed on the lower end side of the shaft 33. See Fig. 6(b). Thereafter, the second cylindrical portion 41A is disposed on the lower end side of the shaft 33 while the second cylindrical portion 41A is inserted into the second through hole 40D of the first cylindrical portion 40A. Also, the male threaded portion 41C of the tubular screw 41 is loosely screwed into the female threaded portion 33C of the shaft 33. Moreover, as shown in FIG. 4, in order to fasten 41 C of male screw parts of the tubular screw 41, in 41 A of 2nd cylindrical parts, 4 groove parts 41D are formed.

그 후, 장착 부재 (40) 의 아암 (40B) 의 위치를 미조정함으로써, 그 아암 (40B) 에 형성된 검출용 자석 (63) 의 위치를 조정한다. 그 후, 관상 나사 (41) 의 수나사부 (41C) 를 소정의 토크로 단단히 조인다. 이로써, 샤프트 (33) 에 대한 검출용 자석 (63) 의 위치가 고정된다.After that, by fine-adjusting the position of the arm 40B of the mounting member 40, the position of the detection magnet 63 formed on the arm 40B is adjusted. After that, the male screw portion 41C of the tubular screw 41 is tightened with a predetermined torque. Thereby, the position of the detection magnet 63 relative to the shaft 33 is fixed.

도 6(c) 를 참조한다. 그 후, 헤드용 나사 (43) 는, 제 1 관통공 (33A), 제 2 관통공 (40D) 및 제 3 관통공 (41B) 에 관상 나사 (41) 측으로부터 삽입된다. 또, 헤드 (31) 의 대경공 (31C) 에 샤프트 (33) 를 삽입할 때, 예를 들어, 헤드 (31) 와 샤프트 (33) 의 상단 사이에, 기판 (W) 의 재치 높이 위치를 조정하기 위한 심 (스페이서) (72) 을 배치한다. 또한, 심 (72) 이 배치되는 위치는, 헤드 (31) 와 샤프트 (33) 의 상단 사이 이외의 위치여도 된다. 그 후, 헤드용 나사 (43) 의 선단부의 수나사부 (43A) 를 헤드 (31) 의 나사공 (31D) 의 암나사부 (31E) 에 소정의 토크로 체결한다. 또한, 도 3, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 헤드용 나사 (43) 에는, 헤드용 나사 (43) 를 체결하기 위해 홈부 (43B) 가 형성되어 있다.See Fig. 6(c). Then, the head screw 43 is inserted into the first through hole 33A, the second through hole 40D, and the third through hole 41B from the tubular screw 41 side. In addition, when inserting the shaft 33 into the large-diameter hole 31C of the head 31, for example, between the upper end of the head 31 and the shaft 33, the mounting height position of the substrate W is adjusted. A shim (spacer) 72 for this is disposed. In addition, a position other than between the head 31 and the upper end of the shaft 33 may be sufficient as the position where the shim 72 is arrange|positioned. After that, the male screw part 43A of the distal end of the head screw 43 is fastened to the female screw part 31E of the screw hole 31D of the head 31 with a predetermined torque. Moreover, as shown in FIG. 3 and FIG. 4, the groove part 43B is formed in the screw 43 for heads, in order to fasten the screw 43 for heads.

또, 기판 (W) 의 재치 높이 위치의 재조정이 필요한 경우에는, 헤드용 나사 (43) 를 풀어, 헤드 (31) 를 샤프트 (33) 로부터 떼어낸다. 그 후, 샤프트 (33) 의 상단에 배치된 심 (72) 을 상이한 높이의 심으로 교환하고, 다시, 헤드용 나사 (43) 를 체결함으로써, 헤드 (31) 를 샤프트 (33) 에 고정시킨다. 예를 들어 가동 유지 핀 (25A) 이 다른 5 개의 유지 핀 (15) 과 기판 (W) 의 재치 높이가 상이한 경우, 기판 (W) 의 회전시에 기판 (W) 이 물결치는 현상이 발생한다. 그러나, 기판 (W) 의 재치 높이의 조정에 의해, 그 현상을 방지할 수 있다.In addition, when readjustment of the mounting height position of the board|substrate W is required, the head screw 43 is loosened and the head 31 is removed from the shaft 33. After that, the shim 72 disposed on the upper end of the shaft 33 is replaced with a shim of a different height, and again, the head 31 is fixed to the shaft 33 by fastening the screw 43 for the head. For example, when the movable holding pin 25A has a different mounting height of the substrate W from the other five holding pins 15, a phenomenon in which the substrate W is wavy during rotation of the substrate W occurs. However, this phenomenon can be prevented by adjusting the placement height of the substrate W.

또, 본 실시예는 다음의 효과를 갖는다. 장착 부재 (40) 의 아암 (40B) 에 유지된 검출용 자석 (63) 의 위치를 샤프트 (33) 에 대해 조정한 후, 장착 부재 (40) 는, 관상 나사 (41) 로 고정된다. 또, 기판 (W) 의 재치 높이 위치를 조정한 후, 헤드 (31) 는, 헤드용 나사 (43) 로 고정된다. 즉, 그 2 개의 조정은, 개개의 나사 (41, 43) 가 사용된다. 그 때문에, 2 개의 조정을 용이하게 실시할 수 있다.In addition, this embodiment has the following effects. After adjusting the position of the detection magnet 63 held by the arm 40B of the mounting member 40 with respect to the shaft 33, the mounting member 40 is fixed with the tubular screw 41. Moreover, after adjusting the mounting height position of the board|substrate W, the head 31 is fixed with the screw 43 for heads. That is, for the two adjustments, individual screws 41 and 43 are used. Therefore, the two adjustments can be easily performed.

본 실시예에 의하면, 헤드용 나사 (43) 는, 샤프트 (33) 의 제 1 관통공 (33A) 에 샤프트 (33) 의 하단측으로부터 삽입된다. 또, 헤드용 나사 (43) 는, 헤드용 나사 (43) 의 선단이 헤드 (31) 의 바닥이 있는 나사공 (31D) 에 나사 결합됨으로써 헤드 (31) 를 샤프트 (33) 에 고정시킨다. 헤드 (31) 측으로부터 샤프트 (33) 에 대해 헤드용 나사 (43) 를 체결하고 있지 않기 때문에, 헤드 (31) 는 나사 커버 (113) (도 9 참조) 를 구비할 필요가 없다. 그 때문에, 나사 커버 (113) 에서 기인하는 문제를 해결할 수 있다.According to this embodiment, the head screw 43 is inserted into the first through hole 33A of the shaft 33 from the lower end side of the shaft 33 . Moreover, the head screw 43 fixes the head 31 to the shaft 33 by screwing the tip of the head screw 43 into the bottom screw hole 31D of the head 31 . Since the head screw 43 is not fastened to the shaft 33 from the head 31 side, the head 31 does not need to include a screw cover 113 (see Fig. 9). Therefore, the problem caused by the screw cover 113 can be solved.

구체적으로는, 헤드 (31) 는 나사 커버 (113) 를 구비하고 있지 않기 때문에, 나사 커버 (113) 와 헤드 본체 (111) 의 간극을 통과하여 침입한 처리액에 의해, 헤드 (31) 를 샤프트 (33) 에 고정시키는 헤드용 나사 (43) 를 부식시키는 것을 방지한다. 또, 나사 커버 (113) 와 헤드 본체 (111) 의 단차에 처리액의 액적이 남으면, 나중에 반송된 기판 (W) 에 남은 액적이 묻어 버리는 경우도 방지할 수 있다. 또, 나사 커버 (113) 에서 기인한 기류의 흐트러짐을 방지할 수 있다. 예를 들어, 기체 토출구 (17) 로부터 토출된 기체가 기판 (W) 의 외측 가장자리 부근에서 기류가 흐트러지지 않으므로, 처리액의 미스트가 기판 (W) 의 하면으로 돌아들어가 부착되는 것을 방지할 수 있다.Specifically, since the head 31 is not provided with the screw cover 113, the head 31 is moved to the shaft by the treatment liquid penetrating through the gap between the screw cover 113 and the head main body 111. Corrosion of the screw 43 for the head fixed to (33) is prevented. In addition, if a liquid droplet of the processing liquid remains in the step between the screw cover 113 and the head body 111, it is also possible to prevent the remaining liquid droplet from smearing on the substrate W transported later. In addition, disturbance of the airflow caused by the screw cover 113 can be prevented. For example, since the gas discharged from the gas discharge port 17 does not disturb the air flow near the outer edge of the substrate W, it is possible to prevent the mist of the treatment liquid from returning to and adhering to the lower surface of the substrate W. .

본 발명은 상기 실시형태에 한정되지 않고, 하기와 같이 변형 실시할 수 있다.The present invention is not limited to the above embodiment, and can be modified as follows.

(1) 상기 서술한 실시예에서는, 관상 나사 (41) 로 장착 부재 (40) 를 샤프트 (33) 에 고정시키고 있었다. 이 점에서, 필요에 따라, 가동 유지 핀 (25) 은, 관상 나사 (41) 를 구비지 않아도 된다 (도 7 참조). 이 경우, 헤드용 나사 (43) 로 헤드 (31) 와 장착 부재 (40) 를 고정시킬 필요가 있다. 그 때문에, 샤프트 (33) 에 대한 검출용 자석 (63) 의 위치의 조정과, 기판 (W) 의 재치 높이 위치의 조정을 동시에 실시해야 한다. 그 때문에, 2 개의 조정이 어려운 경우가 있다.(1) In the embodiment described above, the mounting member 40 is fixed to the shaft 33 with the tubular screw 41 . In this respect, the movable holding pin 25 does not need to have the tubular screw 41 as needed (refer to FIG. 7). In this case, it is necessary to fix the head 31 and the mounting member 40 with the head screw 43. Therefore, the adjustment of the position of the detection magnet 63 with respect to the shaft 33 and the adjustment of the mounting height position of the board|substrate W must be performed simultaneously. Therefore, there are cases where it is difficult to adjust the two.

(2) 상기 서술한 실시예에서는, 가동 유지 핀 (25) 의 헤드 (31) 는, 샤프트 (33) 의 제 1 관통공 (33A) 에 샤프트 (33) 의 하단측으로부터 삽입된 헤드용 나사 (43) 에 의해 고정되었다 (도 3 참조). 또한, 고정 유지 핀 (27) 도 동일하게 구성되어도 된다 (도 8 참조).(2) In the above-described embodiment, the head 31 of the movable retaining pin 25 is a head screw inserted into the first through hole 33A of the shaft 33 from the lower end side of the shaft 33 ( 43) was fixed by (see Fig. 3). Moreover, the holding pin 27 may also be comprised similarly (refer FIG. 8).

고정 유지 핀 (27) 은, 헤드 (31), 샤프트 (81) 및 헤드용 나사 (43) 를 구비한다. 헤드 (31) 는, 톱 커버 (13A) 의 상면 (13U) 측에 배치된다. 샤프트 (81) 는, 나사공 (31D) 과 동심으로 배치되고 톱 커버 (13A) 를 관통한다. 샤프트 (81) 의 상단은, 헤드 (31) 의 헤드 본체 (31A) 에 접한다. 또, 샤프트 (81) 는, 하단으로부터 상단까지 연직으로 연장되는 제 1 관통공 (81A) 을 갖는다.The fixed holding pin 27 is provided with the head 31, the shaft 81, and the screw 43 for heads. The head 31 is disposed on the upper surface 13U side of the top cover 13A. The shaft 81 is disposed concentrically with the screw hole 31D and penetrates the top cover 13A. The upper end of the shaft 81 is in contact with the head main body 31A of the head 31 . In addition, the shaft 81 has a first through hole 81A extending vertically from the lower end to the upper end.

헤드용 나사 (43) 는, 샤프트 (81) 의 제 1 관통공 (81A) 에 샤프트 (81) 의 하단측으로부터 삽입된다. 또, 헤드용 나사 (43) 는, 헤드용 나사 (43) 의 선단의 수나사부 (43A) 가 헤드 (31) 의 나사공 (31D) 의 암나사부 (31E) 에 나사 결합됨으로써, 헤드 (31) 를 샤프트 (81) 에 고정시킨다. 또한, 샤프트 (81) 는, 헤드용 나사 (43) 둘레로 회전하지 않게 구성되어 있다.The head screw 43 is inserted into the first through hole 81A of the shaft 81 from the lower end side of the shaft 81 . In addition, the head screw 43 is screwed into the female screw portion 31E of the screw hole 31D of the head 31 by screwing the male screw portion 43A at the tip of the head screw 43 to the head 31. is fixed to the shaft (81). Further, the shaft 81 is configured not to rotate around the head screw 43 .

(3) 상기 서술한 실시예 및 각 변형예에서는, 센서 유닛 (61) 은, 3 개의 자기 센서 (65 ∼ 67) 를 구비하고 있었다. 이 점에서, 자기 센서의 개수는, 3 개에 한정되지 않는다. 즉, 센서 유닛 (61) 은, 적어도 1 개의 자기 센서를 구비하고 있으면 된다.(3) In the above-described embodiment and each modified example, the sensor unit 61 is provided with three magnetic sensors 65 to 67. In this regard, the number of magnetic sensors is not limited to three. That is, the sensor unit 61 should just be provided with at least one magnetic sensor.

(4) 상기 서술한 실시예 및 각 변형예에서는, 장착 부재 (40) 의 아암 (40B) 는, 검출용 자석 (63) 을 유지하고, 예를 들어 자기 센서 (65) 는 톱 커버 (13A) 의 하면 (13D) 에 형성되었다. 이 점은, 반대여도 된다. 즉, 장착 부재 (40) 의 아암 (40B) 이 자기 센서 (65) 를 유지하고, 1 이상의 검출용 자석 (63) 이 톱 커버 (13A) 의 하면 (13D) 에 형성되어도 된다.(4) In the above-described embodiment and each modified example, the arm 40B of the mounting member 40 holds the magnet 63 for detection, and the magnetic sensor 65, for example, top cover 13A was formed on the lower surface (13D) of This point may be reversed. That is, the arm 40B of the mounting member 40 may hold the magnetic sensor 65, and one or more detection magnets 63 may be formed on the lower surface 13D of the top cover 13A.

(5) 상기 서술한 실시예 및 각 변형예에서는, 센서 유닛 (61) 은, 검출용 자석 (63) (피검출 부재) 과 자기 센서 (65) 를 구비하고 있었다. 이 점에서, 센서 유닛 (61) 은, 투광 소자와 수광 소자를 구비하고 있어도 된다. 예를 들어, 수광 소자 (센서) 는, 톱 커버 (13A) 의 하면 (13D) 에 형성되고, 아암 (40B) 에 유지된 투광 소자 (피검출 부재) 로부터 발해진 광을 검출하도록 구성되어도 된다. 또, 센서 유닛 (61) 은, 투광 소자 및 수광 소자를 갖는 광전 센서와, 반사판 또는 차광판을 구비하고 있어도 된다.(5) In the above-described embodiment and each modified example, the sensor unit 61 was provided with a magnet 63 for detection (member to be detected) and a magnetic sensor 65. In this regard, the sensor unit 61 may include a light projecting element and a light receiving element. For example, the light-receiving element (sensor) may be configured to detect light emitted from a light-transmitting element (member to be detected) formed on the lower surface 13D of the top cover 13A and held by the arm 40B. In addition, the sensor unit 61 may be equipped with a photoelectric sensor having a light projecting element and a light receiving element, and a reflecting plate or a light shielding plate.

(6) 상기 서술한 실시예 및 각 변형예에서는, 도 1 에 나타내는 기판 유지부 (2) 에 있어서, 아래에서부터 차례로, 회전 구동부 (11), 회전 샤프트 (9), 스핀 베이스 (13) 및 6 개의 유지 핀 (15) 이 배치되었다. 이 점은, 도 1 에 나타내는 기판 유지부 (2) 의 상하를 반대로 한 구성이어도 된다. 즉, 아래에서부터 차례로, 6 개의 유지 핀 (15), 스핀 베이스 (13), 회전 샤프트 (9) 및 회전 구동부 (11) 가 배치되어도 된다.(6) In the above-described embodiment and each modified example, in the substrate holding part 2 shown in Fig. 1, in order from the bottom, the rotary drive part 11, the rotary shaft 9, the spin base 13 and Two retaining pins 15 were placed. In this regard, the structure in which the upside down of the substrate holding part 2 shown in FIG. 1 was reversed may be sufficient. That is, six retaining pins 15, a spin base 13, a rotation shaft 9, and a rotation drive unit 11 may be arranged sequentially from the bottom.

1 : 기판 처리 장치
2 : 기판 유지부
3 : 노즐
13 : 스핀 베이스
13A : 톱 커버
15 : 유지 핀
25 (25A, 25B, 25C) : 가동 유지 핀
27 : 고정 유지 핀
31 : 헤드
31A : 헤드 본체
31D : 나사공
33, 81 : 샤프트
33A, 81A : 제 1 관통공
33C : 암나사부
40 : 장착 부재
40A : 제 1 통상부
40B : 아암
40D : 제 2 관통공
41 : 관상 나사
41A : 제 2 통상부
41B : 제 3 관통공
43 : 헤드용 나사
61 : 회전 위치 센서 유닛 (센서 유닛)
63 : 검출용 자석
65, 66, 67 : 자기 센서
70 : 제어부
AX1 : 회전축
AX2 : 연직축1: substrate processing device
2: board holding part
3 : Nozzle
13 : Spin Base
13A: Top cover
15: retaining pin
25 (25A, 25B, 25C): moving holding pin
27: fixed retaining pin
31: head
31A: head body
31D: screw hole
33, 81: shaft
33A, 81A: first through hole
33C: female screw part
40: mounting member
40A: 1st ordinary part
40B: arm
40D: 2nd through hole
41: tubular screw
41A: second ordinary part
41B: third through hole
43: head screw
61: rotational position sensor unit (sensor unit)
63: magnet for detection
65, 66, 67: magnetic sensor
70: control unit
AX1: axis of rotation
AX2: vertical axis

Claims (5)

연직으로 연장되는 회전축 둘레로 회전하는 판상 부재와,
상기 회전축 둘레로 링상으로 상기 판상 부재에 세워 형성되고, 기판의 측면을 사이에 끼워 넣도록 상기 기판을 유지하는 적어도 3 개의 유지 핀을 구비하고,
상기 유지 핀은, 상기 판상 부재의 상면측에 배치된 헤드로서, 상기 판상 부재의 상면에 대향하는 상기 헤드의 하면에 바닥이 있는 나사공이 형성된 상기 헤드와,
상기 나사공과 동심으로 배치되고 상기 판상 부재를 관통함과 함께, 상단이 상기 헤드에 접하는 샤프트로서, 하단으로부터 상기 상단까지 연직으로 연장되는 제 1 관통공을 갖는 상기 샤프트와,
상기 샤프트의 상기 제 1 관통공에 상기 샤프트의 상기 하단측으로부터 삽입되고, 선단이 상기 헤드의 상기 나사공에 나사 결합됨으로써 상기 헤드를 상기 샤프트에 고정시키는 헤드용 나사를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 기판 유지 장치.A plate-like member rotating around a rotation axis extending vertically;
at least three retaining pins formed standing on the plate-like member in a ring shape around the rotating shaft and holding the substrate so as to sandwich the side surface of the substrate;
The holding pin is a head disposed on the upper surface side of the plate-like member, and a bottomed screw hole is formed on the lower surface of the head opposite to the upper surface of the plate-like member;
a shaft disposed concentrically with the screw hole, passing through the plate-like member, and having a first through hole extending vertically from the lower end to the upper end;
A head screw inserted into the first through hole of the shaft from the lower end side of the shaft and having a tip screwed into the screw hole of the head to fix the head to the shaft. Substrate holding device. 제 1 항에 있어서,
상기 유지 핀은, 적어도 1 개의 고정 유지 핀 및 적어도 1 개의 가동 유지 핀을 갖고,
상기 가동 유지 핀은, 상기 헤드, 상기 샤프트 및 상기 헤드용 나사를 구비하고,
상기 가동 유지 핀은, 상기 헤드, 상기 샤프트 및 상기 헤드용 나사가 연직축 둘레로 일체적으로 회전되도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 유지 장치.According to claim 1,
The holding pin has at least one fixed holding pin and at least one movable holding pin,
The movable holding pin includes the head, the shaft, and a screw for the head,
The movable holding pin is configured so that the head, the shaft, and the screw for the head integrally rotate around a vertical axis. 제 2 항에 있어서,
상기 가동 유지 핀의 상기 연직축 둘레의 회전 위치를 검출하는 회전 위치 검출 센서 유닛으로서, 피검출 부재, 및 상기 피검출 부재를 검출하는 센서를 갖는 상기 회전 위치 검출 센서 유닛을 추가로 구비하고,
상기 가동 유지 핀은, 상기 샤프트의 상기 하단측에 배치됨과 함께 상기 제 1 관통공과 동심의 제 2 관통공이 형성된 제 1 통상부를 갖는 장착 부재와.
상기 샤프트의 상기 하단측에 상기 제 1 통상부의 상기 제 2 관통공에 삽입하여 배치되고, 상기 제 1 관통공과 동심의 제 3 관통공이 형성된 제 2 통상부를 갖고, 또한, 상기 제 2 통상부의 상단측에 나사부가 형성된 관상 나사를 구비하고,
상기 장착 부재는, 상기 제 1 통상부로부터 수평 방향으로 연장되고, 또한, 상기 피검출 부재 및 상기 센서의 일방을 유지하는 아암을 갖고,
상기 샤프트는, 상기 제 1 관통공의 하단측에 암나사부가 형성되어 있고,
상기 관상 나사는, 상기 제 1 통상부의 상기 제 2 관통공에 삽입되고, 상기 제 2 통상부의 상단측의 나사부가 상기 샤프트의 상기 암나사부에 나사 결합됨으로써 상기 장착 부재를 상기 샤프트에 고정시키고,
상기 헤드용 나사는, 상기 제 1 관통공, 상기 제 2 관통공 및 상기 제 3 관통공에 상기 관상 나사측으로부터 삽입되고, 상기 헤드용 나사의 상기 선단이 상기 헤드의 상기 나사공에 나사 결합됨으로써 상기 헤드를 상기 샤프트에 고정시키고,
상기 가동 유지 핀은, 상기 헤드, 상기 샤프트, 상기 장착 부재, 상기 관상 나사 및 상기 헤드용 나사가 상기 연직축 둘레로 일체적으로 회전되도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 유지 장치.According to claim 2,
A rotational position detection sensor unit for detecting a rotational position of the movable holding pin around the vertical axis, further comprising a rotational position detection sensor unit having a member to be detected and a sensor for detecting the member to be detected,
The movable holding pin is disposed on the lower end side of the shaft and has a first cylindrical portion in which a second through hole concentric with the first through hole is formed.
A second cylindrical portion disposed on the lower end side of the shaft by being inserted into the second through hole of the first cylindrical portion, and having a third through hole concentric with the first through hole, and further formed on the upper end side of the second cylindrical portion. A tubular screw having a screw portion formed thereon,
the mounting member has an arm extending in a horizontal direction from the first cylindrical portion and holding one of the member to be detected and the sensor;
The shaft has a female screw portion formed on the lower end side of the first through hole,
The tubular screw is inserted into the second through hole of the first cylindrical portion, and a threaded portion at an upper end of the second cylindrical portion is screwed into the female threaded portion of the shaft to fix the mounting member to the shaft,
The head screw is inserted into the first through hole, the second through hole, and the third through hole from the tubular screw side, and the tip of the head screw is screwed into the screw hole of the head. fixing the head to the shaft;
The movable holding pin is configured so that the head, the shaft, the mounting member, the tubular screw, and the screw for the head integrally rotate around the vertical axis. 제 3 항에 있어서,
상기 피검출 부재는, 자석이고,
상기 센서는, 상기 자석의 자기를 검출하는 자기 센서인 것을 특징으로 하는 기판 유지 장치.According to claim 3,
The member to be detected is a magnet,
The substrate holding device according to claim 1, wherein the sensor is a magnetic sensor that detects the magnetism of the magnet. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 기판 유지 장치와,
상기 기판 유지 장치에 유지된 상기 기판에 처리액을 토출하는 노즐을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.The substrate holding device according to any one of claims 1 to 4;
and a nozzle for discharging a processing liquid to the substrate held in the substrate holding device.
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