KR20230113603A - 표면 처리 강판 - Google Patents
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Abstract
접촉 저항이 낮고, 또한 표면의 변색을 억제 가능한 표면 처리 강판을 제공한다. 본 개시의 표면 처리 강판은, 강판과 상기 강판의 표면에, Ni 및 Co를 함유하는 합금층을 구비하고, 합금층의 표면의, 촉침식 표면 조도 측정기를 사용하여 측정된, JIS B0601(2013)에서 정의되는, 상기 강판의 폭 방향의 기준 길이 5.0mm에서의 표면 조도 Ra1이 2.0㎛ 이하이고, 합금층의 표면의, 원자간력 현미경을 사용하여 측정된, 강판의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선의 산술 평균 높이인 Ra2가 20nm 이하이고, 또한 강판의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선 요소의 평균 길이인 RSm이 700nm 이상이다.
Description
본 개시는 표면 처리 강판에 관한 것이다.
일차 전지 및 이차 전지 등의 전지 용기용의 표면 처리 강판으로서, 니켈(Ni) 도금을 표면에 구비하는 표면 처리 강판이 사용되고 있다. 예를 들어, 일반적인 알칼리 전지는, 이하와 같이 제조된다. 먼저, 표면 처리 강판을 전지의 용기의 형상으로 딥 드로잉 프레스 가공하여 양극 캔을 제조한다. 다음으로, 양극 캔 내에, 도전막, 양극재, 세퍼레이터, 전해액, 음극재 및 집전체를 봉입한다. 이에 의해 알칼리 전지가 제조된다. 양극 캔은, 전지 용기로서 기능하고, 또한 집전체로서 기능한다. 다른 종류의 전지에 있어서도 마찬가지이다. 표면 처리 강판은, 전지의 용기로서 기능하고, 음극 또는 양극에 접속된 경우에는, 집전체로서도 기능한다.
한편, 전지는 그 용도에 따라, 요구되는 전류가 다르다. 대전류에 의한 방전(이하, 하이 레이트 특성이라고도 칭함)을 요구되는 전지에는, Ni에 더하여 코발트(Co)를 함유하는 합금층을 표면에 구비하는 표면 처리 강판이 사용된다. Ni와 비교하여 Co는 활성인 금속이며, Co의 산화 피막은 Ni의 부동태 피막만큼 강고하지 않다. 그 때문에, 합금층에 Co를 함유시킴으로써, 표면 처리 강판과 양극재 또는 음극재의 접촉 저항이 저하된다. 이에 의해, 표면 처리 강판의 집전체로서의 기능을 높일 수 있다. 그 결과, 전지의 하이 레이트 특성이 높아진다.
Ni 및 Co를 함유하는 합금층을 표면에 구비하고, 전지의 하이 레이트 특성을 개선 가능한, 전지용의 표면 처리 강판이 예를 들어, 국제 공개 제2019/159794호(특허문헌 1), 국제 공개 제2012/147843호(특허문헌 2), 국제 공개 제2019/083044호(특허문헌 3) 및 국제 공개 제2013/005774호(특허문헌 4)에 개시되어 있다.
국제 공개 제2019/159794호(특허문헌 1)에 개시되어 있는 전지 용기용 표면 처리 강판은, 모재 강판의 적어도 편면에, Ni-Co-Fe계의 확산 합금 도금층을 구비한다. 확산 합금 도금층은, 모재 강판 측으로부터 차례로 Ni-Fe 합금층 및 Ni-Co-Fe 합금층으로 이루어진다. 확산 합금 도금층은, Ni 부착량이, 3.0g/m2 이상 8.74g/m2 미만의 범위 내이며, Co 부착량이, 0.26g/m2 이상 1.6g/m2 이하의 범위 내이며, 또한 Ni 부착량과 Co 부착량의 합계가, 9.0g/m2 미만이다. 확산 합금 도금층의 표면을, X선 광전자 분광법으로 분석했을 때, 원자%로, Co: 19.5 내지 60％, Fe: 0.5 내지 30％, Co+Fe: 20 내지 70％이다. Ni-Fe 합금층의 두께는, 0.3 내지 1.3㎛의 범위 내이다. 이에 의해, 전지 특성 및 내누액성을 유지하면서, 가공성이 우수한 전지 용기용 표면 처리 강판이 얻어진다고 특허문헌 1에 기재되어 있다.
국제 공개 제2012/147843호(특허문헌 2)에 개시되어 있는 전지 용기용 표면 처리 강판은, 전지 용기 내면이 되는 면의 최표면에, 니켈-코발트 합금층이 형성되어 이루어지는 전지 용기용 표면 처리 강판이다. 특허문헌 2의 전지 용기용 표면 처리 강판은, 니켈-코발트 합금층의 표면에서의 오제 전자 분광 분석에 의한 Co/Ni값이 0.1 내지 1.5의 범위인 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 알칼리성 용액에 대한 내용해성이 우수하고, 또한 경시 후에 있어서도 종래와 동등 이상의 높은 전지 특성을 확보 가능한 전지 용기용 표면 처리 강판이 얻어진다고 특허문헌 2에 기재되어 있다.
국제 공개 제2019/083044호(특허문헌 3)에 개시되어 있는, 표면 처리 강판은, 강판과, 강판 상에 최표층으로서 형성된 니켈-코발트-철 확산층을 구비한다. 특허문헌 3의 표면 처리 강판은, 고주파 글로 방전 발광 분석법에 의해 니켈-코발트-철 확산층의 표면 측으로부터 깊이 방향을 향하여 연속적으로 Ni 강도, Co 강도 및 Fe 강도를 측정하고, Ni 강도, Co 강도 및 Fe 강도에 기초하여 Ni 함유 비율, Co 함유 비율 및 Fe 함유 비율을 구했을 때, 니켈-코발트-철 확산층 중에서의 Ni 강도가 최댓값에 대하여 0.5％가 되는 특정 깊이 위치 D에서의, Co 함유 비율 InCo_D가 5mass％ 이상, 또한 Fe 함유 비율 InFe_D가 11mass％ 이상이다. 이에 의해, 강 알칼리성의 전해액을 사용하는 전지의 전지 용기로서 사용한 경우에, 전지 특성이 우수하고, 경시 후에 있어서도 전지 특성의 저하를 억제할 수 있는 표면 처리 강판이 얻어진다고 특허문헌 3에 기재되어 있다.
국제 공개 제2013/005774호(특허문헌 4)에 개시되어 있는 전지 용기용 표면 처리 강판은, 전지 용기 내면이 되는 면의 최표면에, 니켈-코발트 합금층이 형성되어 이루어지는 전지 용기용 표면 처리 강판이며, 니켈-코발트 합금층의 CuKα를 선원으로 하는 X선 회절 측정에 의한, 회절각 2θ가 41° 이상, 43° 미만인 범위에 존재하는 피크의 강도 IA와, 회절각 2θ가 43° 이상, 45° 이하인 범위에 존재하는 피크의 강도 IB의 비율인 강도비 IA/IB가 0.01 내지 0.9의 범위에 있는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 도전막을 형성하지 않는 경우에도, 전지 특성을 양호한 것으로 하는 것이 가능한 전지 용기용 표면 처리 강판이 얻어진다고 특허문헌 4에 기재되어 있다.
그런데, 표면 처리 강판은, 제조된 후, 사용될 때까지의 동안 일정 기간 보존된다. 일정 기간 보존된 경우에도, 표면 처리 강판의 표면의 변색이 억제되는 것이 바람직하다.
표면 처리 강판을 장기간 보관한 경우에 있어서도 표면의 변색을 방지할 수 있고, 또한 전지 용기로서 사용한 경우에 전지 특성을 향상시킬 수 있는 표면 처리 금속판이 예를 들어, 국제 공개 제2018/181950호(특허문헌 5)에 개시되어 있다. 특허문헌 5에 개시된 표면 처리 금속판은, 금속판과, 금속판 상에 형성된 니켈-코발트 2원 합금층을 구비하는 표면 처리 금속판이며, 니켈-코발트 2원 합금층은, X선 광전자 분광 분석법에 의해 측정되는 산소 원자의 함유 비율이 5원자% 이상인 부분을 산화 피막으로 한 경우에 있어서의, 두께가 0.5 내지 30nm인 산화 피막을 표면에 구비하고, 승온, 온도 105℃, 및 상대 습도 100％ RH의 수증기 분위기에서 72시간 유지, 그리고, 강온을 행하는 프레셔 쿠커 시험을 실시한 경우에 있어서의 산화 피막의 두께 증가량이 28nm 이하이다.
한편, 상기 특허문헌 5와는 다른 방법에 의해서도, 표면 처리 강판의 표면의 변색을 억제할 수 있는 것이 바람직하다.
본 개시의 목적은, 접촉 저항이 낮고, 또한 표면의 변색을 억제 가능한 표면 처리 강판을 제공하는 것이다.
본 개시의 표면 처리 강판은,
강판과
상기 강판의 표면에, Ni 및 Co를 함유하는 합금층을 구비하고,
상기 합금층의 표면의, 촉침식 표면 조도 측정기를 사용하여 측정된, JIS B0601(2013)에서 정의되는, 상기 강판의 폭 방향의 기준 길이 5.0mm에서의 표면 조도 Ra1이 2.0㎛ 이하이고,
상기 합금층의 표면의, 원자간력 현미경을 사용하여 측정된, 상기 강판의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선의 산술 평균 높이인 Ra2가 20nm 이하이고, 또한 상기 강판의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선 요소의 평균 길이인 RSm이 700nm 이상이다.
본 개시의 표면 처리 강판은, 접촉 저항이 낮고, 또한 표면의 변색을 억제 가능하다.
도 1은 본 실시 형태의 표면 처리 강판의 일 예를 나타내는 단면도이다.
도 2는 도 1과는 상이한, 다른 실시 형태의 표면 처리 강판의 일 예를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 실시 형태의 표면 처리 강판을 사용한 알칼리 전지의 일 예의 단면도이다.
도 4는 시험 번호 2의 표면 처리 강판의 표면을 AFM에 의해 측정하여 얻어진 단면 곡선을 나타내는 그래프이다.
도 5는 시험 번호 11의 표면 처리 강판의 표면을 AFM에 의해 측정하여 얻어진 단면 곡선을 나타내는 그래프이다.
도 2는 도 1과는 상이한, 다른 실시 형태의 표면 처리 강판의 일 예를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 실시 형태의 표면 처리 강판을 사용한 알칼리 전지의 일 예의 단면도이다.
도 4는 시험 번호 2의 표면 처리 강판의 표면을 AFM에 의해 측정하여 얻어진 단면 곡선을 나타내는 그래프이다.
도 5는 시험 번호 11의 표면 처리 강판의 표면을 AFM에 의해 측정하여 얻어진 단면 곡선을 나타내는 그래프이다.
상술한 바와 같이, 전지 용기 용도로서 적합한 표면 처리 강판으로서 니켈(Ni) 및 코발트(Co)를 함유하는 합금층을 표면에 구비하는 표면 처리 강판이 제안되어 있다.
그러나, 본 발명자들의 검토의 결과, Co를 함유하는 합금층을 구비하는 표면 처리 강판은, 고온·다습의 조건 하에서 변색되는 것을 알 수 있었다. 본 발명자들은, 그 원인을 상세하게 조사하여, 이하의 지견을 얻었다.
표면 처리 강판은, 제조된 후, 코일상으로 권취되어 보관된다. 코일의 권취 시에 코일 내의 표면 처리 강판끼리의 간극에, 고온 또한 고습의 공기가 말려들면, 표면 처리 강판끼리의 간극 내에서, 결로수가 발생한다. 마찬가지로, 코일의 보관 시에 코일 내의 표면 처리 강판끼리의 간극에, 고온 또한 고습의 공기가 침입하면, 표면 처리 강판끼리의 간극 내에서, 결로수가 발생한다. 표면 처리 강판의 표면, 즉, 합금층 표면에 있어서, 결로수와 접촉하고 있는 부분의 산소 농도는 높아진다. 반대로, 합금층 표면에 있어서, 결로수와 접촉하고 있지 않은 부분의 산소 농도는 낮아진다. 합금층 표면의, 산소 농도가 높은 부분의 전위는 귀(貴)하게 된다. 반대로, 합금층 표면의, 산소 농도가 낮은 부분의 전위는 비(卑)하게 된다. 이에 의해, 산소 농담 전지가 형성된다. Co는, Ni와 비교하여 산화되기 쉽다. 그 때문에, 산소 농도가 낮은 부분(즉, 전위가 비하게 되는 부분)에서 Co가 산화된다. 산화 Co에 의해 합금층의 표면이 변색된다.
합금층의 표면의 변색은, Co의 산화라고 하는 화학 반응에 의한 것이다. 그 때문에, 합금층의 표면의 변색을 억제하고자 하는 경우, 화학적인 어프로치에 의해 합금층의 표면의 변색의 억제를 시도하는 것이 일반적이다. 예를 들어, 상술한 특허문헌 5에서는, 프레셔 쿠커 시험을 실시한 경우에 있어서의 두께의 증가량이 28nm 이하인 산화 피막을 표면에 형성함으로써, 표면 처리 강판의 표면의 변색을 방지하고 있다. 그 외에는, 합금층 내의 Ni와, 변색의 원인이 되는 Co의 비율이나, Ni 및 Co의 농도를 조정하는 것도 생각할 수 있다.
본 발명자들은, 코일상으로 권취된 표면 처리 강판에 있어서 변색이 생기기 쉬운 것, 및 표면 처리 강판의 표면에 있어서 변색 정도에 편차가 보이는 것을 알아냈다. 이에 따라, 본 발명자들은, 화학적인 어프로치가 아니라, 물리적인 어프로치에 의해서도 표면 처리 강판의 표면의 변색을 억제할 수 있다고 생각하였다. 구체적으로는, 본 발명자들은, 표면 처리 강판의 표면의 요철이 표면 처리 강판의 표면의 변색에 영향을 미친다고 생각하였다.
계속해서 본 발명자들은, 이하와 같이 추론하였다. 표면 처리 강판의 표면의 요철이 많으면, 코일 내의 표면 처리 강판끼리의 접점이 증가한다. 표면 처리 강판끼리의 접점의 근방은, 표면 처리 강판 간의 거리가 작다. 그 때문에, 표면 처리 강판끼리의 접점의 근방에 결로된 결로수는, 모세관 현상에 의해 응집된다. 따라서, 표면 처리 강판끼리의 접점의 수에 비례하여, 결로수가 응집되는 점이 많아진다. 결로수가 응집되는 점이 많으면, 산소 농담 전지가 형성되기 쉬워진다. 그 결과, Co가 산화되기 쉬워진다.
본 발명자들은, 표면 처리 강판의 표면 조도를 저감시키면, Co를 함유하는 표면 처리 강판이어도, 표면 처리 강판의 표면의 변색을 억제할 수 있다고 생각하였다. 구체적으로는, 표면 처리 강판의 표면 조도를 저감시키면, 표면 처리 강판의 표면의 요철이 감소한다. 요철이 적은 표면 처리 강판을 코일상으로 권취한 경우, 코일 내에 있어서 표면 처리 강판끼리의 접점의 수가 적어진다. 표면 처리 강판끼리의 접점의 수가 적으면, 표면 처리 강판끼리의 접점의 근방에 결로된 결로수가, 모세관 현상에 의해 응집되기 어려워진다. 그 결과, 표면 처리 강판의 표면의 변색을 억제할 수 있다. 이하, 표면의 변색을 억제할 수 있는 성능을, 내변색성이라고도 칭한다. 본 발명자들은, 표면 조도의 지표 중 하나인, 산술 표면 조도 Ra에 주목하여 검토를 행하였다.
표 1은, 후술하는 실시예의 결과의 일부 발췌이다. 표 1 중, Ra1(㎛)이라고 기재된 난에는, 합금층의 표면의, 강판의 폭 방향의 기준 길이 5.0mm에서의 산술 평균 조도(이하, 표면 조도 Ra1이라고도 칭함)를 나타낸다. 표면 조도 Ra1은, JIS B0601(2013)에서 정의되는, 산술 평균 조도이다. 표면 조도 Ra1은, 촉침식 표면 조도 측정기를 사용하여 측정하였다. 표 1의 색차(ΔE*)란, 고온 또한 고습의 조건에 노출되기 전후의 표면 처리 강판의 표면의 색조의 차이다. 색차(ΔE*)가 클수록, 고온 및 고습의 조건에 노출된 후에 표면 처리 강판이 변색된 정도가 컸다는 것을 나타낸다.
[표 1]
표 1을 참조하면, 시험 번호 11과 비교하여, 시험 번호 1은, Japanese Industrial Standards(JIS) B0601(2013) 및 JIS B0651(2001)에서 정해지는, 촉침식 표면 조도 측정기에 의해 측정된 표면 조도 Ra1이 작다. 그 때문에, 시험 번호 1의 색차(ΔE*)는 시험 번호 11의 색차(ΔE*)보다 작았다. 즉, 시험 번호 1의 표면 처리 강판은, 시험 번호 11의 표면 처리 강판보다 우수한 내변색성을 나타내었다. 그러나, 시험 번호 1과 마찬가지로 촉침식 표면 조도 측정기에 의해 측정된 표면 조도 Ra1이 작은 시험 번호 12의 표면 처리 강판의 색차(ΔE*)는 4.6이며, 내변색성이 우수하지 않았다.
표면 처리 강판의 표면의 물리적인 형상은, 내변색성에 영향을 미치고 있지 않을 가능성도 검토되었다. 그러나, 본 발명자들은, 더 미세한 표면의 요철도 저감시키면, 표면 처리 강판의 내변색성을 높일 수 있다고 생각하였다.
JIS B0651(2001)에서는, 촉침식 표면 조도 측정기가 이상적인 촉침의 형상은 구상 선단을 갖는 원추로 되어 있고, 촉침 선단의 반경은 최소 2㎛이다. 따라서, 촉침식 표면 조도 측정기로는, 촉침의 선단의 구상 부분의 반경(2㎛)보다 작은 홈을 검출할 수 없다. 그 때문에, 가령 촉침식 표면 조도 측정기로 측정된 표면 조도 Ra1이 작았다고 해도, 더 미세한 요철을 갖는 경우가 있다. 미세한 요철의 볼록 부분에서는, 모세관 현상에 의해 결로수가 응집된다. 응집된 결로수로 피복된 합금층의 표면에서는, 결로수의 주연부에 대하여, 결로수의 중앙부는 용존 산소 농도가 낮아진다. 그러면 산소 농담 전지가 형성된다. 이에 의해, 결로수의 주연부에서 환원 반응이 진행된다. 한편, 결로수의 중앙부에서 산화 반응이 진행된다. 그 결과, Co가 산화된다.
이에 따라 본 발명자들은, 촉침식 표면 조도 측정기로는 측정할 수 없는, 보다 미세한 표면 조도에 대하여 검토를 행하였다. 그 결과, 본 발명자들은, 촉침식 표면 조도 측정기에 의해 측정된 Ra1에 더하여, 원자간력 현미경(AFM)에 의해 측정된 표면 조도 Ra2를 작게 하고, 또한 AFM에 의해 측정된 기준 길이에서의 조도 곡선 요소의 평균 길이인 RSm을 크게 하면, 표면 처리 강판의 내변색성을 억제할 수 있음을 알아냈다. 미세한 표면 조도 Ra2를 작게 함으로써, 미세한 볼록 부분이 감소한다. 이에 의해, 결로수가 응집되는 스폿이 감소한다. 바꾸어 말하면, 산소 농담 전지가 형성되어 Co 산화가 촉진되는 스폿이 감소한다. 그 결과, Co의 산화를 억제할 수 있다. 또한, 기준 길이에서의 조도 곡선 요소의 평균 길이인 RSm이 크다는 것은, 요철의 수가 적은 것을 의미한다. 즉, RSm을 크게 하면, 미세한 볼록 부분이 감소한다. 이에 의해, 결로수가 응집되는 스폿이 감소한다. 바꾸어 말하면, 산소 농담 전지가 형성되어 Co 산화가 촉진되는 스폿이 감소한다. 그 결과, Co의 산화를 억제할 수 있다.
표 2는, 후술하는 실시예의 결과의 일부 발췌이다. 표 2는, 표 1의 결과에 추가로, Ra2(nm) 및 RSm(nm)을 추가 기재한 표이다. 표 2 중, Ra2(nm)라고 기재된 난에는, 합금층의 표면의, AFM을 사용하여 측정된, 강판의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선의 산술 평균 높이(nm)(이하, 표면 조도 Ra2라고도 칭함)를 나타낸다. 표 2 중, RSm(nm)이라고 기재된 난에는, 합금층의 표면의, AFM을 사용하여 측정된, 강판의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선 요소의 평균 길이(nm)(이하, 조도의 평균 길이 RSm이라고도 칭함)를 나타낸다.
[표 2]
표 2를 참조하면, 시험 번호 11 및 시험 번호 12와 비교하여, 시험 번호 1은, 원자간력 현미경(AFM)에 의해 측정된 표면 조도 Ra2가 작고, 조도의 평균 길이 RSm이 크다. 그 때문에, 시험 번호 1의 색차(ΔE*)는 시험 번호 11 및 시험 번호 12의 색차(ΔE*)보다 작았다. 즉, 시험 번호 1의 표면 처리 강판은, 시험 번호 11 및 시험 번호 12의 표면 처리 강판보다 우수한 내변색성을 나타내었다.
상술한 지견은, 추론을 포함하지만, 본 개시의 청구항 1의 구성을 갖는 표면 처리 강판이면, 접촉 저항이 낮고, 또한 표면의 변색을 억제 가능하다는 것이, 실시예에 있어서 나타나 있다.
본 실시 형태의 표면 처리 강판은, 상기 지견에 기초하여 완성한 것이며, 다음의 구성을 갖는다.
[1]
강판과
상기 강판의 표면에, Ni 및 Co를 함유하는 합금층을 구비하고,
상기 합금층의 표면의, 촉침식 표면 조도 측정기를 사용하여 측정된, JIS B0601(2013)에서 정의되는, 상기 강판의 폭 방향의 기준 길이 5.0mm에서의 표면 조도 Ra1이 2.0㎛ 이하이고,
상기 합금층의 표면의, 원자간력 현미경을 사용하여 측정된, 상기 강판의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선의 산술 평균 높이인 Ra2가 20nm 이하이고, 또한 상기 강판의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선 요소의 평균 길이인 RSm이 700nm 이상인, 표면 처리 강판.
[2]
[1]에 기재된 표면 처리 강판이며,
상기 강판의 편면당, 상기 합금층 중의 Ni 함유량이 1.34 내지 5.36g/m2이고, 상기 합금층 중의 Co 함유량이 0.45 내지 1.34g/m2인, 표면 처리 강판.
[3]
[1]에 기재된 표면 처리 강판이며,
상기 강판의 편면당, 상기 합금층 중의 Ni 함유량이 5.36 내지 35.6g/m2이고, 상기 합금층 중의 Co 함유량이 0.45 내지 1.34g/m2인, 표면 처리 강판.
이하, 본 실시 형태의 표면 처리 강판에 대하여 상세하게 설명한다.
[표면 처리 강판]
본 실시 형태의 표면 처리 강판은, 강판과, 강판 표면에, Ni 및 Co를 함유하는 합금층을 구비한다. 도 1은 본 실시 형태의 표면 처리 강판의 일 예를 나타내는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)은 강판(2)과, 합금층(3)을 구비한다. 합금층(3)은 강판(2)의 표면에 배치된다. 도 1에서는, 합금층(3)은 강판(2)의 양면에 배치되어 있다. 그러나, 합금층(3)의 배치는, 도 1에 한정되지는 않는다. 합금층(3)은 도 2에 나타내는 바와 같이, 강판(2)의 편면에만 배치되어도 된다.
본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)은 일차 전지 및 이차 전지 등의 전지 용도로서 사용 가능하다. 일차 전지란 예를 들어, 알칼리 전지 및 망간 전지이다. 이차 전지란 예를 들어, 리튬 이온 전지이다. 도 3은 본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)을 사용한 알칼리 전지의 일 예의 단면도이다. 도 3을 참조하면, 표면 처리 강판(1)은 전지의 용기의 형상으로 가공되어 있다. 표면 처리 강판(1)으로 형성된 용기 내에는, 양극인 이산화망간(10), 음극인 아연(11), 세퍼레이터(12), 집전체(13)가 봉입되어 있다. 양극(10) 및 음극(11)은 전해액에 침윤되어 있다. 표면 처리 강판(1)으로 형성된 용기의 외측은, 절연체(14)가 피복한다. 도 3의 알칼리 전지의 상부의 볼록부는, 양극 단자(15)이다. 전지 용기로서 사용된 경우, 표면 처리 강판(1)은 전지의 용기 및 집전체로서 기능한다. 합금층(3)을 강판(2)의 편면에만 배치하는 경우에는, 전지 용기의 내측에 합금층(3)이 배치되는 것이 바람직하다.
[바람직한 표면 처리 강판의 두께]
본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)의 두께는 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 0.05 내지 1.5mm이다. 알칼리 전지 등의 전지 용도에서는 예를 들어, 0.1 내지 1.0mm이다. 표면 처리 강판(1)의 두께는 잘 알려진 방법으로 측정할 수 있다. 표면 처리 강판(1)의 두께는 예를 들어, 표면 처리 강판(1)을 두께 방향으로 절단하여, 단면의 광학 현미경 관찰에 의해 측정해도 되고, 잘 알려진 막 두께 측정기에 의해 측정해도 된다.
[합금층]
합금층(3)은 Ni 및 Co를 함유한다. 합금층(3)은 또한, 철(Fe)을 함유해도 된다. 합금층(3)은, 예를 들어 다음의 제조 방법으로 제조할 수 있다. 먼저, 강판(2)을 준비한다. 다음으로, 강판(2)의 표면에 Ni 도금층을 형성하고, Ni 도금층 상에 Co 도금층을 형성한다. 마지막으로, Ni 도금층 및 Co 도금층을 구비하는 강판(2)을 합금화 열처리한다. 합금화 열처리에 의해, Ni 도금층의 Ni와 Co 도금층의 Co가 서로 확산되어, 합금층(3)이 형성된다. 이때, 강판(2)에 포함되는 철(Fe)이 합금층(3) 내에 확산되는 경우가 있다. 따라서, 합금층(3)은 Ni 및 Co에 더하여 Fe를 함유해도 된다. Ni, Co 및 Fe는 각각, 합금층(3)의 두께 방향에 있어서, 부분적으로 존재해도 되고, 전체에 걸쳐 존재해도 된다. 즉, 본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)에 있어서, 합금층(3)의 두께 방향의 전역에 걸쳐, Ni, Co 및 Fe의 모두가 항상 함유되어 있지 않아도 된다.
[합금층의 표면 조도 Ra1]
합금층(3)의 표면의, 촉침식 표면 조도 측정기를 사용하여 측정된, JIS B0601(2013)에서 정의되는, 강판(2)의 폭 방향의 기준 길이 5.0mm에서의 표면 조도 Ra1은 2.0㎛ 이하이다. 여기서, 강판(2)의 폭 방향이란, 강판(2)의 압연 방향 및 강판의 두께 방향의 양쪽에 수직인 방향이다. 합금층(3)의 표면 조도 Ra1이 2.0㎛ 이하이면, 코일상으로 권취된 표면 처리 강판(1)끼리의 접점이 감소한다. 그 때문에, 고온·고습의 환경 하여도, 코일상으로 권취된 표면 처리 강판(1)끼리의 간극 중에서, 결로수가 모세관 현상에 의해 응집되는 점이 감소하여, 산소 농담 전지의 형성 개소가 감소한다. 따라서, 표면 처리 강판(1)의 내변색성이 높아진다.
합금층(3)의 표면 조도 Ra1의 상한은 바람직하게는 1.9㎛이고, 보다 바람직하게는 1.8㎛이고, 더욱 바람직하게는 1.5㎛이고, 더욱 바람직하게는 1.3㎛이고, 더욱 바람직하게는 1.0㎛이다. 합금층(3)의 표면 조도 Ra1의 하한은 특별히 한정되지는 않지만, 합금층(3)의 표면 조도 Ra1을 극단적으로 저감시키면 비용이 증대한다. 그 때문에, 합금층(3)의 표면 조도 Ra1의 하한은 바람직하게는 0.1㎛이고, 보다 바람직하게는 0.2㎛이고, 더욱 바람직하게는 0.5㎛이고, 보다 바람직하게는 0.8㎛이다.
[합금층의 표면 조도 Ra1의 측정 방법]
합금층(3)의 표면 조도 Ra1은 다음 방법으로 측정한다. 먼저, 합금층(3)을 구비하는 표면 처리 강판(1)을 준비한다. 측정에는, JIS B0651(2001)에서 정의되는 촉침식 표면 조도 측정기를 사용한다. JIS B0601(2013)에 기초하여, 강판(2)의 폭 방향의 기준 길이 5.0mm에서의, 합금층(3) 표면의 산술 평균 조도 Ra를 측정한다. 강판(2)의 폭 방향이란, 강판(2)의 압연 방향 및 강판(2)의 두께 방향의 양쪽에 수직인 방향이다. 얻어진 결과를 합금층(3)의 표면 조도 Ra1로 한다.
[합금층의 표면 조도 Ra2]
합금층(3)의 표면의, 원자간력 현미경(AFM)을 사용하여 측정된, 강판(2)의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선의 산술 평균 높이인 Ra2는 20nm 이하이다. 여기서, 강판(2)의 폭 방향이란, 강판(2)의 압연 방향 및 강판의 두께 방향의 양쪽에 수직인 방향이다. 합금층(3)의 표면 조도 Ra2가 20nm 이하이면, 미세한 볼록 부분이 감소한다. 이에 의해, 결로수가 응집되는 스폿이 감소한다. 바꾸어 말하면, 산소 농담 전지가 형성되어 Co 산화가 촉진되는 스폿이 감소한다. 그 결과, 표면 처리 강판(1)의 내변색성이 높아진다.
합금층(3)의 표면 조도 Ra2의 상한은 바람직하게는 19nm이고, 보다 바람직하게는 18nm이고, 더욱 바람직하게는 17nm이고, 더욱 바람직하게는 16nm이고, 더욱 바람직하게는 15nm이다. 합금층의 표면 조도 Ra2의 하한은 특별히 한정되지는 않지만, 합금층(3)의 표면 조도 Ra2를 극단적으로 저감시키면 비용이 증대한다. 그 때문에, 합금층(3)의 표면 조도 Ra2의 하한은 바람직하게는 1nm이고, 보다 바람직하게는 2nm이고, 더욱 바람직하게는 3nm이고, 더욱 바람직하게는 4nm이고, 더욱 바람직하게는 5nm이고, 더욱 바람직하게는 10nm이다.
［합금층의 조도의 평균 길이 RSm］
합금층(3)의 표면의, 원자간력 현미경(AFM)을 사용하여 측정된, 강판(2)의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선 요소의 평균 길이인 RSm(이하, 합금층(3)의 조도의 평균 길이 RSm이라고도 칭함)은 700nm 이상이다. 여기서, 강판(2)의 폭 방향이란, 강판(2)의 압연 방향 및 강판의 두께 방향의 양쪽에 수직인 방향이다. 합금층(3)의 조도의 평균 길이 RSm이 700nm 이상이면, 미세한 볼록 부분이 감소한다. 이에 의해, 결로수가 응집되는 스폿이 감소한다. 바꾸어 말하면, 산소 농담 전지가 형성되어 Co 산화가 촉진되는 스폿이 감소한다. 그 결과, 표면 처리 강판(1)의 내변색성이 높아진다.
합금층(3)의 조도의 평균 길이 RSm의 하한은 바람직하게는 720nm이고, 보다 바람직하게는 750nm이고, 더욱 바람직하게는 780nm이고, 더욱 바람직하게는 800nm이고, 더욱 바람직하게는 850nm이고, 더욱 바람직하게는 900nm이고, 더욱 바람직하게는 950nm이고, 더욱 바람직하게는 1000nm이다. 합금층(3)의 조도의 평균 길이 RSm의 상한은 특별히 한정되지는 않지만, 합금층(3)의 조도의 평균 길이 RSm을 극단적으로 크게 하면 비용이 증대한다. 그 때문에, 합금층(3)의 조도의 평균 길이 RSm의 상한은 바람직하게는 5000nm이고, 보다 바람직하게는 4000nm이고, 더욱 바람직하게는 3000nm이고, 더욱 바람직하게는 2000nm이고, 더욱 바람직하게는 1500nm이다.
[합금층의 표면 조도 Ra2 및 합금층의 조도의 평균 길이 RSm의 측정 방법]
합금층(3)의 표면 조도 Ra2 및 합금층(3)의 조도의 평균 길이 RSm은 다음 방법으로 측정한다. 합금층(3)을 구비하는 표면 처리 강판(1)을 준비한다. 측정에는, 원자간력 현미경(AFM)을 사용한다. 측정 조건은 대기 중, 스캔 사이즈: 세로 2㎛ 및 가로 2㎛, 다이내믹 모드 AFM으로 설정한다. 강판(2)의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의, 조도 곡선의 산술 평균 높이를 구한다. 강판(2)의 폭 방향이란, 강판(2)의 압연 방향 및 강판(2)의 두께 방향의 양쪽에 수직인 방향이다. 이에 따라, 조도 곡선의 산술 평균 높이는, JIS B0601(2013)에 정의되는, 조도 곡선의 산술 평균 높이를 구하는 방법과 동일한 방법으로 구한다. 얻어진 결과를, 합금층의 표면 조도 Ra2로 한다. 또한, 상기 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선 요소의 평균 길이를 구한다. 조도 곡선 요소의 평균 길이는, JIS B0601(2013)에 정의되는, 조도 곡선 요소의 평균 길이를 구하는 방법과 동일한 방법으로 구한다. 얻어진 결과를 합금층의 조도의 평균 길이 RSm으로 한다.
[합금층의 두께]
합금층(3)의 두께는 특별히 한정되지는 않는다. 합금층(3)의 두께의 하한은 예를 들어 100nm이다. 합금층(3)의 두께의 상한은 예를 들어 1000nm이다. 여기서, 합금층(3)의 두께란, 표면 처리 강판(1)을 두께 방향으로 절단하여, 단면을 주사형 전자 현미경에 의해 관찰하여, 눈으로 보아 측정한 두께를 말한다.
이하, 합금층(3)의 표면까지 Fe가 확산되어 있는 경우를 전확산이라고도 칭한다. 또한, 합금층(3)의 표면까지 Fe가 확산되어 있지 않은 경우를 부분 확산이라고도 칭한다. 본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)의 합금층(3)은 전확산이어도 되고, 부분 확산이어도 된다.
[합금층 중의 바람직한 Ni 함유량 및 바람직한 Co 함유량]
바람직하게는, 강판(2)의 편면당 합금층(3) 중의 Ni 함유량 및 Co 함유량은 다음과 같다.
합금층(3) 중의 Ni 함유량: 1.34 내지 35.6g/m2
합금층(3) 중의 Ni 함유량이 1.34g/m2 이상이면, 표면 처리 강판(1)의 방청성을 보다 확실하게 담보할 수 있다. 한편, 합금층(3) 중의 Ni 함유량이 35.6g/m2을 초과해도, 표면 처리 강판(1)의 방청성은 충분히 담보할 수 있기 때문에 그 이상의 함유량은 필요성이 낮다. 합금층(3) 중의 Ni 함유량이 35.6g/m2 이하이면, 제조 비용을 억제할 수 있다. 따라서, 합금층(3) 중의 Ni 함유량은 1.34 내지 35.6g/m2인 것이 바람직하다. 합금층(3) 중의 Ni 함유량의 보다 바람직한 하한은 2.01g/m2이고, 더욱 바람직하게는 2.75g/m2이다. 합금층(3) 중의 Ni 함유량의 보다 바람직한 상한은 31.8g/m2이고, 더욱 바람직하게는 28.9g/m2이다.
합금층(3) 중의 Co 함유량: 0.45 내지 1.34g/m2
합금층(3) 중의 Co 함유량이 0.45g/m2 이상이면, 표면 처리 강판(1)의 접촉 저항을 보다 안정적으로 낮게 할 수 있다. 한편, 합금층(3) 중의 Co 함유량이 1.34g/m2을 초과해도, 합금층(3)의 낮은 접촉 저항은 충분히 확보할 수 있다. 합금층(3) 중의 Co 함유량이 1.34g/m2 이하이면, 제조 비용을 억제할 수 있다. 따라서, 합금층(3) 중의 Co 함유량은 0.45 내지 1.34g/m2인 것이 바람직하다. 합금층(3) 중의 Co 함유량의 보다 바람직한 하한은 0.52g/m2이고, 더욱 바람직하게는 0.65g/m2이다. 합금층(3) 중의 Co 함유량의 보다 바람직한 상한은 1.23g/m2이고, 더욱 바람직하게는 1.10g/m2이다.
[전확산의 경우의 합금층 중의 바람직한 Ni 함유량 및 바람직한 Co 함유량]
전확산의 경우, 바람직하게는 강판(2)의 편면당 합금층 중의 바람직한 Ni 함유량 및 바람직한 Co 함유량은 다음과 같다.
전확산의 경우의 합금층(3) 중의 Ni 함유량: 1.34 내지 5.36g/m2
합금층(3) 중의 Ni 함유량이 1.34g/m2 이상이면, 표면 처리 강판(1)의 방청성을 보다 확실하게 담보할 수 있다. 한편, 합금층(3) 중의 Ni 함유량이 5.36g/m2 이하이면, 합금층(3)의 표면까지 Fe가 확산되기 쉽다. 따라서, 전확산의 경우, 합금층(3) 중의 Ni 함유량은 1.34 내지 5.36g/m2인 것이 바람직하다. 전확산의 경우, 합금층(3) 중의 Ni 함유량의 보다 바람직한 하한은 1.78g/m2이고, 더욱 바람직하게는 2.10g/m2이다. 전확산의 경우, 합금층(3) 중의 Ni 함유량의 보다 바람직한 상한은 5.10g/m2이고, 더욱 바람직하게는 4.85g/m2이다.
전확산의 경우의 합금층(3) 중의 Co 함유량: 0.45 내지 1.34g/m2
합금층(3) 중의 Co 함유량이 0.45g/m2 이상이면, 표면 처리 강판(1)의 접촉 저항을 보다 안정적으로 낮게 할 수 있다. 한편, 합금층(3) 중의 Co 함유량이 1.34g/m2을 초과해도, 합금층(3)의 낮은 접촉 저항은 충분히 확보할 수 있다. 합금층(3) 중의 Co 함유량이 1.34g/m2 이하이면, 제조 비용을 억제할 수 있다. 따라서, 전확산의 경우, 합금층(3) 중의 Co 함유량은 0.45 내지 1.34g/m2인 것이 바람직하다. 전확산의 경우, 합금층(3) 중의 Co 함유량의 보다 바람직한 하한은 0.55g/m2이고, 더욱 바람직하게는 0.65g/m2이다. 전확산의 경우, 합금층(3) 중의 Co 함유량의 보다 바람직한 상한은 1.22g/m2이고, 더욱 바람직하게는 1.10g/m2이다.
[부분 확산의 경우의 합금층 중의 바람직한 Ni 함유량 및 바람직한 Co 함유량]
부분 확산의 경우, 바람직하게는 강판(2)의 편면당 합금층 중의 바람직한 Ni 함유량 및 바람직한 Co 함유량은 다음과 같다.
부분 확산의 경우의 합금층(3) 중의 Ni 함유량: 5.36 내지 35.6g/m2
합금층(3) 중의 Ni 함유량이 5.36g/m2 이상이면, 합금층(3)의 표면까지 Fe가 확산되기 어렵다. 한편, 합금층(3) 중의 Ni 함유량이 35.6g/m2을 초과해도, 표면 처리 강판(1)의 방청성은 충분히 담보할 수 있기 때문에 그 이상의 함유량은 필요성이 낮다. 합금층(3) 중의 Ni 함유량이 35.6g/m2 이하이면, 제조 비용을 억제할 수 있다. 따라서, 부분 확산의 경우, 합금층(3) 중의 Ni 함유량은 5.36 내지 35.6g/m2인 것이 바람직하다. 부분 확산의 경우, 합금층(3) 중의 Ni 함유량의 보다 바람직한 하한은 5.70g/m2이고, 더욱 바람직하게는 6.00g/m2이다. 부분 확산의 경우, 합금층(3) 중의 Ni 함유량의 보다 바람직한 상한은 32.5g/m2이고, 더욱 바람직하게는 28.9g/m2이다.
부분 확산의 경우의 합금층(3) 중의 Co 함유량: 0.45 내지 1.34g/m2
합금층(3) 중의 Co 함유량이 0.45g/m2 이상이면, 표면 처리 강판(1)의 접촉 저항을 보다 안정적으로 낮게 할 수 있다. 한편, 합금층(3) 중의 Co 함유량이 1.34g/m2를 초과해도, 합금층(3)의 낮은 접촉 저항은 충분히 확보할 수 있다. 합금층(3) 중의 Co 함유량이 1.34g/m2 이하이면, 제조 비용을 억제할 수 있다. 따라서, 부분 확산의 경우, 합금층(3) 중의 Co 함유량은 0.45 내지 1.34g/m2인 것이 바람직하다. 부분 확산의 경우, 합금층(3) 중의 Co 함유량의 보다 바람직한 하한은 0.55g/m2이고, 더욱 바람직하게는 0.65g/m2이다. 부분 확산의 경우, 합금층(3) 중의 Co 함유량의 보다 바람직한 상한은 1.22g/m2이고, 더욱 바람직하게는 1.10g/m2이다.
본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)의 합금층(3)의 화학 조성은, Co, Ni, Fe 및 불순물로 이루어지는 화학 조성이어도 된다. 불순물이란 예를 들어, 탄소(C), 산소(O), 알루미늄(Al), 실리콘(Si), 인(P), 망간(Mn), 구리(Cu) 및 황(S)으로 이루어지는 군에서 선택되는 1원소 이상이다.
[합금층 중의 Ni 함유량 및 Co 함유량의 측정 방법]
합금층(3) 중의 바람직한 Ni 함유량 및 바람직한 Co 함유량은 다음 방법으로 측정한다. 합금층(3)을 구비하는 표면 처리 강판(1)을 준비한다. 표면 처리 강판(1)을 두께 방향으로 절단하여, 단면을 주사형 전자 현미경에 의해 관찰하여, 합금층(3)의 두께를 측정한다. 다음으로, 표면 처리 강판(1)의 표면으로부터, 소정 면적을 갖는 샘플을 채취한다. 샘플의 두께는, 먼저 구한 합금층(3)의 두께와 동일한 두께로 한다. 얻어진 샘플을, 25℃의 농염산:농질산=1:1의 혼산으로 용해시킨다. 용해 처리의 시간은, 먼저 구한 합금층(3)의 두께 및 샘플의 크기에 따라 설정한다. 얻어진 용해액에 대하여, 고주파 유도 결합 플라스마(ICP) 발광 분광 분석법에 의해 분석을 한다. 얻어진 결과 및 샘플의 면적으로부터, 합금층(3) 중의 Ni 함유량(g/m2) 및 Co 함유량(g/m2)을 구한다.
[임피던스]
본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)의 임피던스 값(Ω)은 바람직하게는 50(Ω) 이하이다. 여기서, 임피던스 값(Ω)이란, 표면 처리 강판(1)을, 60℃의 35％ KOH 수용액 중에 0.3V vs. Hg/HgO에서 10일간 정전위 유지한 후 측정된, 주파수 0.1Hz 시의 임피던스 값(Ω)을 말한다. 임피던스 값(Ω)의 상한은 보다 바람직하게는 45이고, 더욱 바람직하게는 40이고, 더욱 바람직하게는 30이고, 더욱 바람직하게는 20이고, 더욱 바람직하게는 10이고, 더욱 바람직하게는 5이다. 임피던스 값(Ω)의 하한은 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 1이다.
[색차]
본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)의 (ΔE*)는 바람직하게는 4.5 이하이다. 여기서, 색차(ΔE*)란, 표면 처리 강판(1)을 온도: 40℃, 습도: 90％ rh에서 10일간 유지하기 전후의 L*a*b*값으로부터 구한 색차(ΔE*)를 말한다. 색차(ΔE*)의 상한은 보다 바람직하게는 4.3이고, 보다 바람직하게는 4.0이고, 더욱 바람직하게는 3.8이고, 더욱 바람직하게는 3.5이고, 더욱 바람직하게는 3.3이고, 더욱 바람직하게는 3.0이고, 더욱 바람직하게는 2.7이고, 더욱 바람직하게는 2.5이고, 더욱 바람직하게는 2.3이고, 더욱 바람직하게는 2.1이고, 더욱 바람직하게는 2.0이고, 더욱 바람직하게는 1.9이고, 더욱 바람직하게는 1.6이다. 색차(ΔE*)의 하한은 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 0이다.
[강판]
강판(2)의 화학 조성은 특별히 한정되지는 않는다. 강판(2)은 예를 들어, 탄소(C)를 0.25질량％ 이하 함유하는 저탄소강, C를 0.01질량％ 미만 함유하는 극저탄소강, 및 극저탄소강에 Ti 및 Nb를 함유시켜 얻어지는 비시효성 극저탄소강으로 이루어지는 군에서 선택되어도 된다. 저탄소강의 냉연 강판이 예를 들어, JIS G3141(2017)의, SPCC, SPCD, SPCE, SPCF 및 SPCG으로서 규정되어 있다. 강판(2)은 이들 냉연 강판이어도 된다. 또한, 강판(2)은 알루미늄 킬드강이어도 된다.
이상의 설명과 같이, 본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)은 강판(2)과, 강판(2)의 표면에, Ni 및 Co를 함유하는 합금층(3)을 구비한다. 합금층(3)의 표면의, 촉침식 표면 조도 측정기를 사용하여 측정된, JIS B0601(2013)에서 정의되는, 강판(2)의 폭 방향의 기준 길이 5.0mm에서의 표면 조도 Ra1은 2.0㎛ 이하이고, 합금층(3)의 표면의, 원자간력 현미경을 사용하여 측정된, 강판(2)의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선의 산술 평균 높이인 Ra2가 20nm 이하이고, 또한 강판(2)의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선 요소의 평균 길이인 RSm이 700nm 이상이다. 그 때문에, 본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)은 접촉 저항이 낮고, 또한 표면의 변색을 억제 가능하다.
[제조 방법]
상술한 본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)의 제조 방법을 설명한다. 이후에 설명하는 표면 처리 강판(1)의 제조 방법은, 본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)의 제조 방법의 일 예이다. 따라서, 상술한 구성을 갖는 표면 처리 강판(1)은, 이후에 설명하는 제조 방법 이외의 다른 제조 방법에 의해 제조되어도 된다. 그러나, 이후에 설명하는 제조 방법은, 본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)의 제조 방법의 바람직한 일 예이다.
본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)의 제조 방법은, 강판(2)을 준비하는 공정(강판 준비 공정)과, 강판(2)의 표면에 Ni 도금층을 형성하는 공정(Ni 도금 공정)과, Ni 도금층 상에 Co 도금층을 형성하는 공정(Co 도금 공정)과, Ni 도금층 및 Co 도금층을 구비하는 강판(2)을 합금화 열처리하는 공정(합금화 열처리 공정)과, 합금화 열처리된 강판(2)에 대하여 조질 압연을 실시하는 공정(조질 압연 공정)을 포함한다. 이하, 각 공정에 대하여 설명한다.
[강판 준비 공정]
강판 준비 공정에서는, 상술한 강판(2)을 준비한다. 강판(2)은, 제3자로부터 공급받아도 되고, 제조해도 된다. 강판(2)을 제조하는 경우 예를 들어, 다음의 방법에 의해 제조한다. 상술한 화학 조성을 갖는 용강을 제조한다. 제조된 용강을 사용하여, 주편을 제조한다. 제조된 주편에 대하여, 열간 압연, 산세 및 냉간 압연을 실시한다. 냉간 압연 후에 어닐링 및 조질 압연을 실시해도 된다. 이상의 공정에 의해, 강판(2)을 제조할 수 있다. 강판(2)의 두께는 특별히 한정되지는 않고, 표면 처리 강판(1)의 용도에 따라 선택된다. 강판(2)의 두께는 예를 들어, 0.05 내지 1.5mm이다. 알칼리 전지 등의 전지 용도에서는 예를 들어, 0.1 내지 1.0mm이다.
[Ni 도금 공정]
Ni 도금 공정에서는, 강판(2)의 표면에 Ni 및 불순물로 이루어지는 Ni 도금층을 형성한다. 구체적으로는, 강판(2)을 Ni 도금욕에 접촉시켜, 전해 도금 또는 무전해 도금을 실시한다. 강판(2)을 Ni 도금욕에 침지시켜, 전해 도금을 실시해도 된다. Ni 도금욕은 잘 알려진 Ni 도금욕을 사용할 수 있다. Ni 도금욕은 예를 들어, 와트욕, 술팜산욕, 우드욕, 붕불화물욕, 염화물욕 및 시트르산욕으로 이루어지는 군에서 선택된다. Ni 도금욕은, Ni 이온을 함유한다. Ni 이온의 함유량은 예를 들어 50 내지 500g/L이다. Ni 이온은, 황산니켈, 황산니켈암모늄, 염화니켈, 술팜산니켈 및 금속 니켈로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상으로서 Ni 도금욕에 첨가되어도 된다. Ni 도금욕은, Ni 이온 외에, 다른 성분을 함유해도 된다. 다른 성분이란 예를 들어, 붕산, 염산, 황산아연, 티오시안산나트륨, 시트르산, 광택제, pH 조정제 및 계면 활성제로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상이다. 다른 성분은, Ni 도금욕의 종류에 따라 적절히 설정된다.
Ni 도금욕 온도, Ni 도금욕의 pH, Ni 도금 처리 시간 등의 도금 조건은 적절히 설정할 수 있다. 예를 들어, Ni 도금욕 온도: 25 내지 70℃, 및 Ni 도금욕의 pH: 1 내지 5로 도금을 실시해도 된다. 전해 도금의 경우에는, 전류 밀도: 1 내지 50A/dm2, Ni 도금 처리 시간: 1 내지 300초로 도금을 실시해도 된다. 전류 밀도를 1A/dm2 이상으로 함으로써, 바람직한 Ni 부착량을 얻기 쉽다. 전류 밀도를 50A/dm2 이하로 함으로써, 도금 표면 버닝 등을 방지할 수 있다.
Ni 도금층 형성 공정에서는 예를 들어, 황산니켈(II) 6수화물: 250 내지 380g/L, 염화니켈(II) 6수화물: 0.40 내지 80g/L, 및 붕산: 20 내지 55g/L을 함유하는 와트욕을 사용해도 된다. 이 와트욕을 사용하여, Ni 도금욕의 pH: 3.5 내지 4.5, Ni 도금욕 온도: 45 내지 55℃, 전류 밀도: 1 내지 40A/dm2, 및 Ni 도금 처리 시간: 1 내지 100초로 전해 도금을 실시해도 된다. 이에 의해, 강판(2)의 표면에, Ni 및 불순물로 이루어지는 Ni 도금층을 형성할 수 있다.
Ni 도금층의 Ni 부착량은, 상기의 합금층(3) 중의 Ni 함유량과 동일하다. 즉, 강판(2)의 편면당 Ni 부착량이 1.34 내지 35.6g/m2이 되도록 도금 조건을 조정하는 것이 바람직하다. 합금층(3)이 전확산인 경우에는, Ni 부착량은 1.34 내지 5.36g/m2인 것이 바람직하다. 합금층(3)이 부분 확산인 경우에는, Ni 부착량은 5.36 내지 35.6g/m2인 것이 바람직하다.
[Co 도금 공정]
Co 도금 공정에서는, Ni 도금층 상에 Co 및 불순물로 이루어지는 Co 도금층을 형성한다. 구체적으로는, 강판(2) 표면의 Ni 도금층을 Co 도금욕에 접촉시켜, 전해 도금을 실시한다. Ni 도금층을 구비하는 강판(2)을 Co 도금욕에 침지시켜, 전해 도금을 실시해도 된다. Co 도금욕은 시판중인 Co 도금욕을 사용할 수 있다. Co 도금욕은, Co 이온을 함유한다. Co 이온의 함유량은 예를 들어, 30 내지 500g/L이다. Co 이온은, 황산코발트 및 염화코발트로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상으로서 Co 도금욕에 첨가되어도 된다. Co 도금욕은, Co 이온 외에, 다른 성분을 함유해도 된다. 다른 성분이란 예를 들어, 포름산, 붕산, 염산, 황산아연, 티오시안산나트륨, 시트르산, 광택제, pH 조정제 및 계면 활성제로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상이다. 다른 성분은, Co 도금욕의 종류에 따라 적절히 설정된다.
Co 도금욕 온도, Co 도금욕의 pH, Co 도금 처리 시간 등의 도금 조건은 적절히 설정할 수 있다. 예를 들어, Co 도금욕 온도: 25 내지 70℃, 및 Co 도금욕의 pH: 1 내지 5로 도금을 실시해도 된다. 전해 도금의 경우에는, 전류 밀도: 1 내지 50A/dm2, Co 도금 처리 시간: 1 내지 50초로 도금을 실시해도 된다.
Co 도금층 형성 공정에서는 예를 들어, 황산 코발트(II) 7수화물: 240 내지 330g/L, 붕산: 20 내지 55g/L 및 포름산: 15 내지 30g/L, 황산: 0.5 내지 3g/L을 함유하는 Co 도금욕을 사용해도 된다. 이 Co 도금욕을 사용하고, Co 도금욕의 pH: 1.0 내지 3.0, Co 도금욕 온도: 50 내지 60℃, 및 전류 밀도 1 내지 40A/dm2, Co 도금 처리 시간: 1 내지 30초로 전해 도금을 실시해도 된다. 이에 의해, Ni 도금층 상에 Co 및 불순물로 이루어지는 Co 도금층을 형성할 수 있다.
Co 도금층의 Co 부착량은, 상기의 합금층(3) 중의 Co 함유량과 동일하다. 즉, 강판(2)의 편면당 Co 부착량이 0.45 내지 1.34g/m2이 되도록 도금 조건을 조정하는 것이 바람직하다.
본 실시 형태에서는, 합금화 열처리 공정 및 조질 압연 공정의 조건을 조정함으로써, 합금층(3)의 표면 조도 Ra1, 합금층(3)의 표면 조도 Ra2 및 합금층(3)의 조도의 평균 길이 RSm을 적절한 범위로 조정한다. 바꾸어 말하면, 적절한 조건에서 합금화 열처리 및 조질 압연을 행함으로써, 합금층(3)의 표면의, 촉침식 표면 조도 측정기를 사용하여 측정된, JIS B0601(2013)에서 정의되는, 기준 길이를 5.0mm로 한 경우의 표면 조도 Ra1을 2.0㎛ 이하로 할 수 있다. 적절한 조건에서 합금화 열처리 및 조질 압연을 행함으로써 또한, 합금층(3)의 표면의, AFM을 사용하여 측정된, 강판(2)의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의, 조도 곡선의 산술 평균 높이인 Ra2를 20nm 이하로, 또한 조도 곡선 요소의 평균 길이인 RSm을 700nm 이상으로 할 수 있다. 이에 의해, 합금층(3)의 변색을 억제할 수 있다.
[합금화 열처리 공정]
합금화 열처리 공정에서는, Ni 도금층 및 Co 도금층을 구비하는 강판(2)을 합금화 열처리한다. 합금화 열처리에 의해, Ni 도금층의 Ni, Co 도금층의 Co 및 강판(2)에 포함되는 Fe가 서로 확산되어, 합금층(3)이 형성된다. 합금화 열처리로는 잘 알려진 가열로를 사용할 수 있다. 합금화 열처리는 예를 들어, 연속적으로 강판(2)을 가열로에 공급하여 실시해도 된다. 합금화 열처리 시의 분위기 가스는 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 N2+2 내지 4％ H2이다.
처리 온도: 715 내지 850℃
합금화 열처리 시의 처리 온도가 715℃ 미만이면, Ni 및 Co의 상호 확산이 불충분해진다. 이 경우, 합금층(3)의 밀착성이 저하된다. 한편, 합금화 열처리 시의 처리 온도가 850℃ 초과이면, 강판(2)의 경도가 저하된다. 따라서, 합금화 열처리 시의 처리 온도는 715 내지 850℃이다.
합금화 열처리 시간: 10 내지 45초
합금화 열처리 시간이 10초 미만이면, Ni 및 Co의 상호 확산이 불충분해진다. 이 경우, 합금층(3)의 밀착성이 저하된다. 한편, 합금화 열처리 시간이 45초 초과이면, 강판(2)의 경도가 저하된다. 따라서, 합금화 열처리 시간은 10 내지 45초이다. 여기서, 합금화 열처리 시간이란, 상기 합금화 열처리 시의 처리 온도에서의 강판(2)의 유지 시간이다.
합금화 열처리에 의해 합금층(3)이 형성된 표면 처리 강판(1)을 냉각한다. 냉각은 잘 알려진 방법에 의해 실시한다. 냉각은 예를 들어, 가스 냉각이다. 가스 냉각에 의해, 합금화 열처리 온도로부터 100℃ 정도까지 냉각해도 된다.
[조질 압연 공정]
조질 압연 공정에서는, 상기의 조건에서 합금화 열처리를 실시한 것을 전제로 하여, 강판(2)에 대하여 이하의 조건에서 조질 압연을 실시한다. 이에 의해, 합금층(3)의 표면 조도 Ra1, 합금층(3)의 표면 조도 Ra2 및 합금층(3)의 조도의 평균 길이 RSm을 적절한 범위로 조정할 수 있다.
압하율: 0.5 내지 10.0％
압하율이 0.5％ 미만인 경우, 압연이 불충분하여, 합금층(3)의 표면 조도 Ra1이 너무 커진다. 한편, 압하율이 10.0％ 초과인 경우, 제품으로서 요구되는 판 두께를 확보할 수 없게 되고, 또한 제조 효율이 저하된다. 따라서, 압하율은 0.5 내지 10.0％이다. 여기서, 압하율이란 강판(2)이 압연롤에 들어가기 전의 입구 판 두께 h1과, 강판(2)이 압연롤에서 나온 후의 출구 판 두께 h2를 이하의 식에 대입하여 얻어지는 수치이다.
압하율(％)=(h1-h2)/h1×100
장력: 3.5kgf/mm2 이상
상술한 합금화 열처리 조건에서 합금화 열처리를 실시하고, 압하율 0.5 내지 10.0％로 압연하는 것을 전제로 하여, 장력을 3.5kgf/mm2 이상으로 한다. 이에 의해, 합금층(3)의 표면 형상의 교정력을 높인다. 그 결과, AFM에 의해 측정되는 합금층(3)의 표면 조도 Ra2를 20nm 이하로 할 수 있고, 합금층(3)의 조도의 평균 길이 RSm을 700nm 이상으로 할 수 있다. 바꾸어 말하면, 가령 장력을 3.5kgf/mm2 이상으로 해도, 압하율이 0.5 내지 10.0％의 범위 외이면, 합금층(3)의 표면 조도 Ra2를 20nm 이하, 및 합금층(3)의 조도의 평균 길이 RSm을 700nm 이상으로 할 수 없다. 또한, 압하율이 0.5 내지 10.0％여도, 장력이 3.5kgf/mm2 미만이면, 합금층(3)의 표면 조도 Ra2를 20nm 이하, 및 합금층(3)의 조도의 평균 길이 RSm을 700nm 이상으로 할 수 없다. 따라서, 장력은 3.5kgf/mm2 이상이다. 장력의 상한은 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 4.5kgf/mm2이다. 여기서, 장력이란, 조질 압연 시에, 압연 대상인 합금층(3)을 구비하는 강판(2)에 부하되는, 압연 방향의 장력을 말한다.
이상의 제조 공정에 의해, 본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)을 제조할 수 있다. 또한, 본 실시 형태의 표면 처리 강판(1)의 제조 방법은, 상술한 공정에 더하여 기타의 공정을 포함해도 된다.
[기타의 공정]
기타의 공정이란 예를 들어, 전처리 공정이다. Ni 도금 공정 전에 전처리 공정을 실시해도 된다.
[전처리 공정]
Ni 도금 공정 전에 전처리 공정을 실시해도 된다. 전처리 공정에서는, 준비된 강판(2)의 표면에 대하여, 산세 및/또는 알칼리 탈지를 실시하여, 강판(2)의 표면의 산화 피막 및 불순물을 제거한다. 이에 의해, Ni 도금층의 밀착성이 높아진다. 또한, Ni 도금층의 도금 석출 불량을 저감시킬 수 있다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 실시 형태의 표면 처리 강판의 효과를 더욱 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에서의 조건은, 본 실시 형태의 표면 처리 강판의 실시 가능성 및 효과를 확인하기 위해 채용한 하나의 조건 예이다. 따라서, 본 실시 형태의 표면 처리 강판은 이 하나의 조건 예에 한정되지는 않는다.
[강판 준비 공정]
두께 0.30mm의 알루미늄 킬드강의 강판을 준비하였다. 강판은 C: 0.0090％, Si: 0.006％, Mn: 0.12％, P: 0.012％, S: 0.0088％, sol.Al: 0.047％, N: 0.0025％ 및 잔부는 Fe 및 불순물로 이루어지는 화학 조성을 가졌다. 강판에 대하여, 알칼리 탈지 및 산세의 전처리를 실시하였다.
[Ni 도금 공정]
전처리를 실시한 강판의 표면에, Ni 도금층을 형성하였다. Ni 도금층은, 강판의 양면에 형성하였다. 얻어진 Ni 도금층은, Ni 및 불순물로 이루어지는 도금층이었다. 각 시험 번호의 Ni 도금 조건을, 다음에 나타낸다.
[표 3]
[Co 도금 공정]
Ni 도금층 상에 Co 도금층을 형성하였다. Co 도금층은, 강판의 양면에 형성하였다. 얻어진 Co 도금층은, Co 및 불순물로 이루어지는 도금층이었다. 각 시험 번호의 Co 도금 조건을 다음에 나타낸다. 또한, 시험 번호 10에서는, Co 도금층을 형성하지 않았다.
[표 4]
[합금화 열처리 공정]
Ni 도금층 및 Co 도금층, 또는 Ni 도금층을 구비하는 강판에 대하여 N2+2％ H2 분위기에서 연속 합금화 열처리를 실시하였다. 각 시험 번호의 합금화 열처리의 열처리 온도 및 합금화 처리 시간을, 표 5에 나타낸다. 합금화 열처리한 강판을 100℃까지 N2 가스 냉각하였다.
[조질 압연 공정]
합금화 열처리 및 냉각 후의 강판에 대하여 조질 압연을 실시하였다. 조질 압연의 압하율 및 장력은 표 5에 나타내는 바와 같았다. 이상의 공정에 의해, 각 시험 번호의 표면 처리 강판을 제조하였다.
[합금층 중의 Ni 함유량 및 Co 함유량의 측정 시험]
각 시험 번호의 표면 처리 강판의 합금층 중의 Ni 함유량 및 Co 함유량을 다음의 방법으로 측정하였다. 각 시험 번호의 표면 처리 강판을 두께 방향으로 절단하여, 단면을 주사형 전자 현미경에 의해 10000배로 관찰하여, 합금층의 두께를 측정하였다. 다음으로, 표면 처리 강판의 표면으로부터, 직경 40mm의 원반상의 샘플을 채취하였다. 샘플의 직경은, 합금층의 두께 방향에 수직이었다. 샘플의 두께는, 먼저 측정한 합금층의 두께와 동일했다. 얻어진 샘플을, 25℃의 농염산:농질산=1:1의 혼산으로 용해시켰다. 용해 처리의 시간은, 합금층의 두께 및 샘플의 크기에 따라 설정하였다. 얻어진 용해액에 대하여, 고주파 유도 결합 플라스마(ICP) 발광 분광 분석법(가부시키가이샤 히타치 하이테크제, 모델 번호 SPS-3500)에 의해 분석을 행하였다. 얻어진 결과 및 샘플의 면적으로부터, 합금층 중의 Ni 함유량(g/m2) 및 Co 함유량(g/m2)을 구하였다. 결과를 표 5의 「Ni 함유량(g/m2)」의 난, 및 「Co 함유량(g/m2)」의 난에 나타낸다.
[표 5]
[촉침식 표면 조도 측정기에 의한 표면 조도 측정 시험]
각 시험 번호의 표면 처리 강판의 합금층의 표면 조도를, 촉침식 표면 조도 측정기를 사용하여 측정하였다. 측정에는, JIS B0651(2001)에서 정의되는 촉침식 표면 조도 측정기(가부시키가이샤 고사카 겐큐조제, 모델 번호 DR-100X63)를 사용하였다. JIS B0601(2013)에 기초하여, 강판의 폭 방향으로, 기준 길이를 5.0mm로 하여 표면 처리 강판(1)의 합금층의 표면 조도 Ra를 측정하였다. 강판의 폭 방향이란, 강판의 압연 방향 및 강판의 두께 방향의 양쪽에 수직인 방향이다. 얻어진 결과를 합금층의 표면 조도 Ra1(㎛)로 하였다. 결과를 표 5에 나타낸다.
[원자간력 현미경(AFM)에 의한 표면 조도 및 평균 길이 측정 시험]
각 시험 번호의 표면 처리 강판의 합금층의 표면 조도를, 원자간력 현미경(AFM)을 사용하여 측정하였다. 측정에는, 원자간력 현미경(가부시키가이샤 히타치 하이테크 사이언스제, 모델 번호: AFM5500M)을 사용하였다. 측정 조건은 대기 중, 스캔 사이즈: 세로 2㎛ 및 가로 2㎛, 다이내믹 모드 AFM으로 설정하였다. 강판의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선의 산술 평균 높이를 구하였다. 강판의 폭 방향은, 강판의 압연 방향 및 강판의 두께 방향의 양쪽에 수직인 방향이다. 얻어진 결과를, 합금층의 표면 조도 Ra2(nm)로 하였다. 또한, 상기 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선 요소의 평균 길이를 구하였다. 얻어진 결과를 합금층의 조도의 평균 길이 RSm(nm)로 하였다. 결과를 표 5에 나타낸다. 여기서, 조도 곡선의 산술 평균 높이는, JIS B0601(2013)에 정의되는, 조도 곡선의 산술 평균 높이를 구하는 방법과 동일한 방법으로 구하였다. 조도 곡선 요소의 평균 길이는, JIS B0601(2013)에 정의되는, 조도 곡선 요소의 평균 길이를 구하는 방법과 동일한 방법으로 구하였다. 시험 번호 2의 표면 처리 강판의 표면을 AFM에 의해 측정하여 얻어진 단면 곡선을 도 4에 나타낸다. 시험 번호 11의 표면 처리 강판의 표면을 AFM에 의해 측정하여 얻어진 단면 곡선을 도 5에 나타낸다.
[임피던스 측정 시험]
각 시험 번호의 표면 처리 강판에 대하여, 표면의 임피던스 값을 측정하였다. 구체적으로는, 각 시험 번호의 표면 처리 강판을, 60℃의 35％ KOH 수용액 중에 0.3V vs. Hg/HgO에서 10일간 정전위 유지하였다. 0.3V vs. Hg/HgO는, 망간 전지의 양극에서의 이산화망간의 전위이다. 정전위 유지 후의 표면 처리 강판에 대하여, 주파수 0.1Hz 시의 임피던스 값을 측정하였다. 측정에는, 호토쿠 덴코 가부시키가이샤제의 HZ-7000을 사용하였다. 표 5에 결과를 나타낸다.
[색차 측정 시험]
각 시험 번호의 표면 처리 강판을 항온 항습 시험기(도쿄 리카 기카이 가부시키가이샤제, 모델 번호 KCL-2000A) 내에 넣고, 온도: 40℃, 습도: 90％ rh에서 10일간 유지하였다. 항온 항습 유지하기 전후의 표면 처리 강판의 L*a*b*값을 측정하였다. 측정에는, 분광 측색계(코니카 미놀타 가부시키가이샤제, 모델 번호 CM-2600D)를 사용하였다. 측정 조건은, 샘플 사이즈: 50mm×100mm, 측정 직경: φ6mm, 반사, 정반사 광처리: SCE였다. 항온 항습 유지하기 전후의 L*a*b*값으로부터, 색차(ΔE*)를 구하였다. 결과를 표 5에 나타낸다.
[평가 결과]
표 5 및 도 4를 참조하면, 시험 번호 1 내지 시험 번호 9의 표면 처리 강판은, 강판 표면에, Ni 및 Co 함유하는 합금층을 구비하고, 합금층의 표면의, 촉침식 표면 조도 측정기를 사용하여 측정된, JIS B0601(2013)에서 정의되는, 기준 길이를 5.0mm로 한 경우의 표면 조도 Ra1이 2.0㎛ 이하였다. 시험 번호 1 내지 시험 번호 9의 표면 처리 강판은 또한, 합금층의 표면의, 원자간력 현미경을 사용하여 측정된, 강판의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선의 산술 평균 높이인 Ra2가 20nm 이하이고, 또한 강판의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선 요소의 평균 길이인 RSm이 700nm 이상이었다. 그 결과, 시험 번호 1 내지 시험 번호 9의 표면 처리 강판의 임피던스 값(Ω)은 50 이하이고, 또한 항온 항습 조건에 노출되는 전후의 색차(ΔE*)가 4.5 이하였다. 시험 번호 1 내지 시험 번호 9의 표면 처리 강판은, 접촉 저항이 낮고, 또한 표면의 변색을 억제 가능하였다.
한편, 시험 번호 10의 표면 처리 강판은, 강판 표면에, Ni 및 Co를 함유하는 합금층을 구비하지 않고, 그 대신에, Ni 및 불순물로 이루어지는 합금층을 구비하였다. 그 결과, 시험 번호 10의 표면 처리 강판의 임피던스 값은 356Ω이며, 접촉 저항이 높았다.
시험 번호 11의 표면 처리 강판은, 강판 표면에, Ni 및 Co를 함유하는 합금층을 구비하기는 했지만, 합금층의 표면 조도 Ra1이 4.5㎛이고, 합금층의 표면 조도 Ra2가 26nm이고, 또한 합금층의 조도의 평균 길이 RSm이 646nm였다. 그 결과, 시험 번호 11의 표면 처리 강판의 색차는 5.1이며, 내변색성이 낮았다.
시험 번호 12의 표면 처리 강판은, 강판 표면에, Ni 및 Co를 함유하는 합금층을 구비하고, 또한 합금층의 표면 조도 Ra1이 2.0㎛ 이하이기는 했지만, 합금층의 표면 조도 Ra2가 25nm이고, 또한 합금층의 조도의 평균 길이 RSm이 557nm였다. 그 결과, 시험 번호 12의 표면 처리 강판의 색차는 4.6이며, 내변색성이 낮았다.
이상, 본 개시의 실시 형태를 설명하였다. 그러나, 상술한 실시 형태는 본 개시를 실시하기 위한 예시에 지나지 않는다. 따라서, 본 개시는 상술한 실시 형태에 한정되지는 않고, 그 취지를 일탈하지 않는 범위 내에서 상술한 실시 형태를 적절히 변경하여 실시할 수 있다.
1: 표면 처리 강판
2: 강판
3: 합금층
10: 양극(이산화망간)
11: 음극(아연)
12: 세퍼레이터
13: 집전체
14: 절연체
15: 양극 단자
2: 강판
3: 합금층
10: 양극(이산화망간)
11: 음극(아연)
12: 세퍼레이터
13: 집전체
14: 절연체
15: 양극 단자
Claims (3)
- 강판과
상기 강판의 표면에, Ni 및 Co를 함유하는 합금층을 구비하고,
상기 합금층의 표면의, 촉침식 표면 조도 측정기를 사용하여 측정된, JIS B0601(2013)에서 정의되는, 상기 강판의 폭 방향의 기준 길이 5.0mm에서의 표면 조도 Ra1이 2.0㎛ 이하이고,
상기 합금층의 표면의, 원자간력 현미경을 사용하여 측정된, 상기 강판의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선의 산술 평균 높이인 Ra2가 20nm 이하이고, 또한 상기 강판의 폭 방향의 기준 길이 10㎛에서의 조도 곡선 요소의 평균 길이인 RSm이 700nm 이상인, 표면 처리 강판. - 제1항에 있어서,
상기 강판의 편면당, 상기 합금층 중의 Ni 함유량이 1.34 내지 5.36g/m2이고, 상기 합금층 중의 Co 함유량이 0.45 내지 1.34g/m2인, 표면 처리 강판. - 제1항에 있어서,
상기 강판의 편면당, 상기 합금층 중의 Ni 함유량이 5.36 내지 35.6g/m2이고, 상기 합금층 중의 Co 함유량이 0.45 내지 1.34g/m2인, 표면 처리 강판.
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