KR20230107571A - Curable resin composition and dry film - Google Patents

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아키히코 마츠오
마사토시 구리타
츠요시 가네코
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다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 솔더 레지스트 잉크의 제조 과정에서 사용하는 배합통이나 기구에 부착해서 건조시킨 경우라도 세정 제거성이 우수한 경화성 수지 조성물의 제공.
[해결 수단] 본 발명에 의한 경화성 수지 조성물은, (A) 경화성 수지, (B) 필러, (C) 유기 용제를 함유하는 경화성 수지 조성물로서, 상기 경화성 수지 조성물을 사용하여 형성한 세로 20㎜×가로 20㎜×막 두께 7㎛의 완전 건조 도막의, 세정 용제인 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트에 대한 용해 개시 시간이, 상기 세정 용제에 대한 침지 개시부터 20초 이내인 것을 특징으로 한다.
[Problem] Provision of a curable resin composition excellent in cleaning removability even when attached to a mixing container or tool used in the manufacturing process of solder resist ink and dried.
[Solution] The curable resin composition according to the present invention is a curable resin composition containing (A) a curable resin, (B) a filler, and (C) an organic solvent, and has a length of 20 mm x formed using the curable resin composition. It is characterized in that a completely dry coating film measuring 20 mm in width x 7 μm in thickness begins to dissolve in propylene glycol monomethyl ether acetate as a cleaning solvent within 20 seconds from the start of immersion in the cleaning solvent.

Description

경화성 수지 조성물 및 드라이 필름Curable resin composition and dry film

본 발명은, 경화성 수지 조성물에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은, 세정 제거성이 우수한 경화성 수지 조성물에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 해당 경화성 수지 조성물을 사용한 드라이 필름에 관한 것이기도 하다.The present invention relates to a curable resin composition. More specifically, the present invention relates to a curable resin composition excellent in cleaning removability. Moreover, this invention relates also to the dry film using this curable resin composition.

일반적으로 솔더 레지스트 잉크는, 전자 기기의 프린트 배선판에 부품을 납땜할 때에 필요 이외의 부분에 대한 땜납 부착의 방지 및 회로의 보호를 목적으로 하는 절연성의 잉크이며, 액상형이나 드라이 필름형으로 사용된다. 솔더 레지스트 잉크로서 사용되는 경화성 수지 조성물은, 경화성 수지를 주원료로 하여 그 밖에 유기 용제, 필러 등으로 구성되어 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).In general, solder resist ink is an insulating ink for the purpose of preventing solder adhesion to parts other than necessary and protecting circuits when soldering components to printed wiring boards of electronic devices, and is used in liquid form or dry film form. A curable resin composition used as a solder resist ink is composed of a curable resin as a main raw material and an organic solvent, a filler, and the like (see Patent Document 1, for example).

그런데, 솔더 레지스트 잉크의 제조 과정에서는 가마통에서 배합을 행하고, 디졸버, 플라네터리 믹서, 버터플라이 믹서 등의 혼합 교반기에 의해 예비 분산을 행하고, 3축 롤 밀, 비즈 밀, 블렌더 등의 혼련기로 균일하게 분산된다. 이들 혼합 교반기나 혼련기를 사용하여 분체를 점도가 높은 액체에 균일하게 분산시키는 것은 중요한 과제이기 때문에, 다양한 기구가 개발되어 사용되고 있다(예를 들어, 특허문헌 2 참조).By the way, in the process of manufacturing solder resist ink, mixing is performed in a kiln, preliminary dispersion is performed by a mixing stirrer such as a dissolver, planetary mixer, and butterfly mixer, and kneading with a kneading machine such as a three-axis roll mill, a bead mill, and a blender evenly distributed Since it is an important task to uniformly disperse powder in a high-viscosity liquid using these mixing stirrers and kneaders, various mechanisms have been developed and used (see Patent Document 2, for example).

여기서, 솔더 레지스트 잉크는 화학 반응에 의해 패턴을 형성하기 때문에, 특성의 변화를 가져오는 화합물의 혼재를 방지하기 위해서는, 사용 기구의 세정은 중요해진다(예를 들어, 특허문헌 3 참조). 그러나, 경화 반응이 진행된 솔더 레지스트 잉크의 세정 제거는, 일반적인 도료 잉크보다도 곤란하다고 생각된다.Here, since the solder resist ink forms a pattern by a chemical reaction, it is important to clean the tools to be used in order to prevent the mixing of compounds that cause changes in properties (see Patent Document 3, for example). However, it is considered that cleaning and removal of the solder resist ink in which the curing reaction has progressed is more difficult than general paint ink.

일본 특허 공개 평1-141904호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 1-141904 일본 특허 공개 제2014-147883호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-147883 일본 특허 공표 제2012-522068호 공보Japanese Patent Publication No. 2012-522068

솔더 레지스트 잉크의 제조 과정에서 사용하는 배합통이나 기구는 반복 사용을 위해서는, 부착해서 건조시킨 솔더 레지스트 잉크의 세정 제거가 용이한 것이 바람직하다. 세정 제거에 시간이 걸리면, 솔더 레지스트 잉크의 제조 비용으로 되기 때문이다. 따라서, 본 발명의 목적은, 솔더 레지스트 잉크의 제조 과정에서 사용하는 배합통이나 기구에 부착해서 건조시킨 경우라도 세정 제거성이 우수한 경화성 수지 조성물을 제공하는 데 있다. 또한, 본 발명의 목적은, 해당 경화성 수지 조성물을 사용한 드라이 필름을 제공하는 데 있다.It is preferable that the mixing container or tool used in the manufacturing process of the solder resist ink is easy to clean and remove the attached and dried solder resist ink for repeated use. It is because it becomes the manufacturing cost of solder resist ink if cleaning removal takes time. Therefore, an object of the present invention is to provide a curable resin composition excellent in cleaning removability even when attached to a mixing container or tool used in the manufacturing process of solder resist ink and dried. Moreover, the objective of this invention is providing the dry film using this curable resin composition.

본 발명자들은, 예의 연구한 결과, 경화성 수지 조성물을 사용하여 형성한 세로 20㎜×가로 20㎜×막 두께 7㎛의 완전 건조 도막의, 특정의 세정 용제에 대한 용해 개시 시간을 조절함으로써, 솔더 레지스트 잉크의 제조 과정에서 사용하는 배합통이나 기구에 부착해서 건조시킨 경우라도 세정 제거성이 우수한 경화성 수지 조성물이 얻어진다는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result of intensive research, the inventors of the present invention have found that, by adjusting the dissolution start time of a completely dry coating film of 20 mm in length x 20 mm in width x 7 μm in thickness formed using a curable resin composition in a specific cleaning solvent, solder resist The inventors have found that a curable resin composition excellent in washing removability can be obtained even when attached to a mixing container or tool used in the ink manufacturing process and dried, thereby completing the present invention.

즉, 본 발명에 의한 경화성 수지 조성물은, (A) 경화성 수지, (B) 필러, 및 (C) 유기 용제를 함유하는 경화성 수지 조성물로서,That is, the curable resin composition according to the present invention is a curable resin composition containing (A) curable resin, (B) filler, and (C) organic solvent,

상기 경화성 수지 조성물을 사용하여 형성한 세로 20㎜×가로 20㎜×막 두께 7㎛의 완전 건조 도막의, 세정 용제인 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트에 대한 용해 개시 시간이, 상기 세정 용제에 대한 침지 개시부터 20초 이내인 것을 특징으로 한다.The dissolution start time of the completely dry coating film of 20 mm in length x 20 mm in width x 7 μm in thickness formed using the curable resin composition in propylene glycol monomethyl ether acetate as a cleaning solvent is the start of immersion in the cleaning solvent It is characterized in that within 20 seconds from.

본 발명의 양태에 있어서는, 상기 완전 건조 도막의 용해 완료 시간이, 상기 세정 용제에 대한 침지 개시부터 40초 이내인 것이 바람직하다.In the aspect of the present invention, it is preferable that the time to complete dissolution of the completely dry coating film is within 40 seconds from the start of immersion in the cleaning solvent.

본 발명의 양태에 있어서는, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 함유량이, 상기 경화성 수지 조성물 중에 있어서 20질량% 이상인 것이 바람직하다.In the aspect of this invention, it is preferable that content of propylene glycol monomethyl ether acetate is 20 mass % or more in the said curable resin composition.

본 발명의 양태에 있어서는, 상기 (B) 필러의 함유량이, 상기 경화성 수지 조성물 중에 있어서 45질량% 이하인 것이 바람직하다.In the aspect of this invention, it is preferable that content of the said (B) filler is 45 mass % or less in the said curable resin composition.

본 발명의 양태에 있어서는, 상기 (A) 경화성 수지가 카르복실기 함유 수지를 포함하는 것이 바람직하다.In the aspect of this invention, it is preferable that said (A) curable resin contains carboxyl group-containing resin.

본 발명의 양태에 있어서는, 상기 카르복실기 함유 수지의 중량 평균 분자량이 6000 이하인 것이 바람직하다.In the aspect of this invention, it is preferable that the weight average molecular weight of the said carboxyl group-containing resin is 6000 or less.

본 발명의 양태에 있어서는, 상기 경화성 수지가 2종류 이상인 카르복실기 함유 수지를 포함하는 것이 바람직하다.In the aspect of this invention, it is preferable that the said curable resin contains two or more types of carboxyl group-containing resin.

본 발명의 양태에 있어서는, 솔더 레지스트층의 형성에 사용되는 것이 바람직하다.In the aspect of the present invention, it is preferably used for formation of a solder resist layer.

본 발명의 양태에 있어서는, 층간 절연층의 형성에 사용되는 것이 바람직하다.In an aspect of the present invention, it is preferably used for forming an interlayer insulating layer.

본 발명의 다른 양태에 의한 드라이 필름은, 제1 필름과, 상기 제1 필름 상에 형성된 경화성 수지 조성물의 건조 도막으로 이루어지는 수지층을 구비하는 것이며,A dry film according to another aspect of the present invention includes a first film and a resin layer composed of a dry coating film of a curable resin composition formed on the first film,

상기 경화성 수지 조성물이, (A) 경화성 수지, (B) 필러, 및 (C) 유기 용제를 함유하고,The curable resin composition contains (A) a curable resin, (B) a filler, and (C) an organic solvent;

상기 드라이 필름으로부터 얻어진 세로 20㎜×가로 20㎜×막 두께 7㎛의 완전 건조 도막의, 세정 용제인 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트에 대한 용해 개시 시간이, 상기 세정 용제에 대한 침지 개시부터 20초 이내인 것을 특징으로 한다.The dissolution initiation time of the completely dry film of 20 mm in length x 20 mm in width x 7 μm in thickness obtained from the dry film in propylene glycol monomethyl ether acetate as a cleaning solvent is within 20 seconds from the start of immersion in the cleaning solvent It is characterized by being

본 발명에 따르면, 솔더 레지스트 잉크의 제조 과정에서 사용하는 배합통이나 기구에 부착해서 건조시킨 경우라도 세정 제거성이 우수한 경화성 수지 조성물을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 해당 경화성 수지 조성물을 사용한 드라이 필름을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even when it adheres to the mixing container or tool used in the manufacturing process of a solder resist ink, and it dries, it can provide the curable resin composition excellent in wash-removability. Moreover, according to this invention, the dry film using this curable resin composition can be provided.

도 1은 실시예에 있어서 완전 건조 도막의 용해 개시 시간 및 용해 완료 시간의 측정에 사용한 장치의 모식도이다.1 is a schematic diagram of an apparatus used for measuring the dissolution start time and dissolution completion time of a completely dry coating film in Examples.

[경화성 수지 조성물][Curable Resin Composition]

본 발명에 의한 경화성 수지 조성물은, (A) 경화성 수지, (B) 필러, 및 (C) 유기 용제를 함유하는 것이다. 본 발명에 의한 경화성 수지 조성물은, 하기의 물성을 충족하는 것이면 되며, 광중합 개시제, 착색제, 소포제, 레벨링제, 기타 성분 등을 더 함유해도 된다. 또한 상기 경화성 수지는, 열경화성 수지, 카르복실기 함유 수지 및 광중합성 모노머 중 어느 1종을 함유하고 있어도 되며, 복수종의 조합이어도 된다. 본 발명에 의한 경화성 수지 조성물은, 하기의 물성을 충족함으로써, 솔더 레지스트 잉크의 제조 과정에서 사용하는 배합통이나 기구에 부착해서 건조시킨 경우라도 세정 제거성이 우수한 것으로 된다. 이것은, 건조시킨 조성물(완전 건조 도막)의 세정 제거성(세정 용제에 대한 용해성)은, 주로 세정 용제에 대한 용해 개시 시간에 반영되기 때문이라고 추측된다.The curable resin composition according to the present invention contains (A) curable resin, (B) filler, and (C) organic solvent. The curable resin composition according to the present invention only needs to satisfy the following physical properties, and may further contain a photopolymerization initiator, a coloring agent, an antifoaming agent, a leveling agent, and other components. Moreover, the said curable resin may contain any 1 type of a thermosetting resin, a carboxyl group-containing resin, and a photopolymerizable monomer, or a combination of multiple types may be sufficient as it. The curable resin composition according to the present invention satisfies the following physical properties, so that it has excellent cleaning removability even when adhering to a blending cylinder or tool used in the manufacturing process of solder resist ink and drying. This is presumed to be because the cleaning removability (solubility in cleaning solvent) of the dried composition (completely dried coating film) is mainly reflected in the dissolution start time in cleaning solvent.

[물성][Properties]

본 발명의 경화성 수지 조성물은, 세로 20㎜×가로 20㎜×막 두께 7㎛의 완전 건조 도막의, 세정 용제인 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트에 대한 용해 개시 시간이, 세정 용제에 대한 침지 개시부터 20초 이내이며, 15초 이내인 것이 바람직하고, 10초 이내인 것이 보다 바람직하고, 9초 이내인 것이 더욱 바람직하며, 8초 이내인 것이 특히 바람직하다.In the curable resin composition of the present invention, a completely dry coating film measuring 20 mm in length x 20 mm in width x 7 µm in thickness has an onset time of dissolution in propylene glycol monomethyl ether acetate as a cleaning solvent, from the start of immersion in the cleaning solvent to 20 Within seconds, preferably within 15 seconds, more preferably within 10 seconds, even more preferably within 9 seconds, and particularly preferably within 8 seconds.

또한, 완전 건조 도막의 용해 완료 시간이, 세정 용제에 대한 침지 개시부터 40초 이내인 것이 바람직하고, 30초 이내인 것이 보다 바람직하고, 28초 이내인 것이 더욱 바람직하고, 26초 이내인 것이 특히 바람직하며, 25초 이내인 것이 가장 바람직하다.Further, the time to complete dissolution of the completely dry coating film is preferably within 40 seconds from the start of immersion in the cleaning solvent, more preferably within 30 seconds, further preferably within 28 seconds, and particularly within 26 seconds. Preferably, it is most preferably within 25 seconds.

본 발명에 있어서의 완전 건조 도막의 형성에 대하여, 완전 건조 도막 중의 함유 용제가 충분히 휘발되어 있는 것이 중요하다. 본 명세서에 있어서 완전 건조 도막 상태에 있다고 판단하는 기준은, 인쇄 등에 의해 형성된 직후의 막 두께 7㎛의 도막에 대하여, 80℃에서 3시간 가열하여 제조한 건조 상태의 조성물과, 상온(25℃) 하에서 방치한 조성물의 휘발률 차가, 10% 이내가 되었을 때로 한다. 휘발률 차를 구하는 방법으로서는, 전자 천칭을 사용하여 중량을 측정하고, 하기 수식 (1)에 의해 산출하였다. 즉, 상기 조건을 충족시키고 있는 것은 완전 건조 도막이 형성된 것이라고 판단한다.Regarding the formation of a completely dry coating film in the present invention, it is important that the contained solvent in the completely dry coating film is sufficiently volatilized. In this specification, the criterion for determining that the film is completely dry is a composition in a dry state prepared by heating at 80 ° C. for 3 hours, and room temperature (25 ° C.) It is assumed that the difference in volatilization rates between the compositions left under the condition is less than 10%. As a method for determining the difference in volatilization rate, the weight was measured using an electronic balance and calculated by the following formula (1). That is, it is determined that a completely dry coating film is formed when the above conditions are satisfied.

Figure pct00001
Figure pct00001

세정 용제에 대한 완전 건조 도막의 용해 과정은, 평활적이었던 표면이 요철 형상이 되어, 완전히 도막이 용해되면 기재 표면이 드러난다. 본 발명에 있어서는, 가장 건조해서 세정시키기 어려운 도막 표면의 용해가 목적이기 때문에, 용해의 기준은 도막 표면의 상태로 판단한다.In the process of dissolving the completely dry coating film in the cleaning solvent, the smooth surface becomes uneven, and when the coating film is completely dissolved, the surface of the substrate is exposed. In the present invention, since the goal is to dissolve the surface of the coating film that is the most dry and difficult to clean, the criterion for dissolution is judged by the state of the surface of the coating film.

이하, 본 발명에 의한 경화성 수지 조성물을 구성하는 각 성분에 대하여 설명한다.Hereinafter, each component constituting the curable resin composition according to the present invention is described.

[(A) 경화성 수지][(A) curable resin]

경화성 수지로서는, 가열에 의해 열경화 반응에 기여하는 열경화성 수지, 광 조사에 의해 광경화 반응에 기여하는 광경화성 수지, 및 그 어느 반응에도 기여하는 광경화성 열경화성 수지를 들 수 있다. 경화성 수지 조성물은, 열경화성 수지 및 광경화성 수지 중 어느 한쪽만을 함유해도 되고, 양쪽을 함유해도 된다.Examples of the curable resin include a thermosetting resin that contributes to a thermosetting reaction by heating, a photocurable resin that contributes to a photocuring reaction by light irradiation, and a photocurable thermosetting resin that contributes to either reaction. The curable resin composition may contain only either one of the thermosetting resin and the photocurable resin, or may contain both.

경화성 수지의 함유량은, 경화성 수지 조성물 중에 있어서, 고형분 환산으로, 바람직하게는 20 내지 80질량%이고, 보다 바람직하게는 25 내지 75질량%이며, 더욱 바람직하게는 50 내지 70질량%이다. 경화성 수지의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 보다 우수한 경화물을 얻을 수 있다. 이하, 각 경화성 수지에 대하여 설명한다.The content of the curable resin is preferably 20 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, still more preferably 50 to 70% by mass in terms of solid content in the curable resin composition. When content of curable resin is in the said range, a more excellent hardened|cured material can be obtained. Hereinafter, each curable resin is demonstrated.

[열경화성 수지][Thermosetting resin]

열경화성 수지로서는, 공지된 것을 모두 사용할 수 있다. 경화성 수지 조성물이, 열경화성 수지를 포함함으로써, 경화 도막의 내열성을 향상시킬 수 있다. 열경화성 수지로서는, 예를 들어 에폭시 수지, 이소시아네이트 화합물, 블록 이소시아네이트 화합물, 아미노 수지, 다관능 옥세탄 화합물, 벤조옥사진 수지, 카보디이미드 수지, 시클로카보네이트 화합물, 에피술피드 수지 등의 공지 관용의 것을 들 수 있다. 이들 중에서도 바람직한 열경화성 수지는 에폭시 수지이다. 열경화성 수지는, 1종을 단독 또는 2종 이상을 조합해서 사용할 수 있다.As the thermosetting resin, any known resin can be used. When the curable resin composition contains a thermosetting resin, the heat resistance of the cured coating film can be improved. Examples of the thermosetting resin include known and commonly used resins such as epoxy resins, isocyanate compounds, blocked isocyanate compounds, amino resins, polyfunctional oxetane compounds, benzoxazine resins, carbodiimide resins, cyclocarbonate compounds, and episulfide resins. can be heard Among these, a preferable thermosetting resin is an epoxy resin. A thermosetting resin can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

에폭시 수지로서는, 예를 들어 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 수지, 브롬화 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 트리페닐메탄형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, hydrogenated bisphenol A type epoxy resins, brominated bisphenol A type epoxy resins, bisphenol S type epoxy resins, phenol novolak type epoxy resins, and cresol novolaks. type epoxy resins, bisphenol A novolac type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, dicyclopentadiene type epoxy resins, triphenylmethane type epoxy resins, and the like.

시판 중인 에폭시 수지로서는, 예를 들어 미츠비시 케미컬(주) 제조의 jER 828, 806, 807, YX8000, YX8034, 834, 닛테츠 케미컬&머티리얼(주) 제조의 YD-128, YDF-170, ZX-1059, ST-3000, DIC(주) 제조의 EPICLON 830, 835, 840, 850, N-730A, N-695, 및 닛폰 가야쿠(주) 제조의 RE-306 등을 들 수 있다.As commercially available epoxy resins, for example, jER 828, 806, 807, YX8000, YX8034, 834 manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., YD-128, YDF-170, ZX-1059 manufactured by Nittetsu Chemical & Materials Co., Ltd. , ST-3000, EPICLON 830, 835, 840, 850, N-730A, N-695 manufactured by DIC Corporation, and RE-306 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.

이소시아네이트 화합물로서는, 폴리이소시아네이트 화합물을 배합할 수 있다. 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, o-크실릴렌디이소시아네이트, m-크실릴렌디이소시아네이트 및 2,4-톨릴렌 다이머 등의 방향족 폴리이소시아네이트; 테트라메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 4,4-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트) 및 이소포론디이소시아네이트 등의 지방족 폴리이소시아네이트; 비시클로헵탄트리이소시아네이트 등의 지환식 폴리이소시아네이트; 그리고 앞에서 예를 든 이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 뷰렛체 및 이소시아누레이트체 등을 들 수 있다.As the isocyanate compound, a polyisocyanate compound can be blended. As the polyisocyanate compound, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, o-xylylene diisocyanate, m- aromatic polyisocyanates such as xylylene diisocyanate and 2,4-tolylene dimer; aliphatic polyisocyanates such as tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, 4,4-methylenebis(cyclohexyl isocyanate) and isophorone diisocyanate; alicyclic polyisocyanates such as bicycloheptane triisocyanate; And the adduct form of the isocyanate compound mentioned above, the biuret form, the isocyanurate form, etc. are mentioned.

블록 이소시아네이트 화합물로서는, 이소시아네이트 화합물과 이소시아네이트 블록제의 부가 반응 생성물을 사용할 수 있다. 이소시아네이트 블록제와 반응할 수 있는 이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들어 상술한 폴리이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다. 이소시아네이트 블록제로서는, 예를 들어 페놀계 블록제; 락탐계 블록제; 활성 메틸렌계 블록제; 알코올계 블록제; 옥심계 블록제; 메르캅탄계 블록제; 산아미드계 블록제; 이미드계 블록제; 아민계 블록제; 이미다졸계 블록제; 이민계 블록제 등을 들 수 있다.As a block isocyanate compound, the addition reaction product of an isocyanate compound and an isocyanate blocking agent can be used. As an isocyanate blocking agent and the isocyanate compound which can react, the polyisocyanate compound etc. mentioned above are mentioned, for example. As an isocyanate blocking agent, it is a phenol type blocking agent, for example; lactam-based blocking agents; active methylene-based blocking agents; alcohol-based blocking agents; oxime-based blocking agent; mercaptan-based blocking agent; acid amide blocking agents; imide-based blocking agents; amine-based blocking agent; imidazole-based blocking agents; Immigration block system etc. are mentioned.

아미노 수지로서는, 메틸올멜라민 화합물, 메틸올벤조구아나민 화합물, 메틸올글리콜우릴 화합물 및 메틸올 요소 화합물 등을 들 수 있다.As an amino resin, a methylol melamine compound, a methylol benzoguanamine compound, a methylol glycoluril compound, a methylol urea compound, etc. are mentioned.

다관능 옥세탄 화합물로서는, 예를 들어 비스[(3-메틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에테르, 비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에테르, 1,4-비스[(3-메틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, (3-메틸-3-옥세타닐)메틸아크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸아크릴레이트, (3-메틸-3-옥세타닐)메틸메타크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸메타크릴레이트나 그것들의 올리고머 또는 공중합체 등의 다관능 옥세탄류 외에, 옥세탄 알코올과 노볼락 수지, 폴리(p-히드록시스티렌), 카르도형 비스페놀류, 칼릭스아렌류, 칼릭스레조르신아렌류 또는 실세스퀴옥산 등의 수산기를 갖는 수지와의 에테르화물 등을 들 수 있다. 그 밖에, 옥세탄환을 갖는 불포화 모노머와 알킬(메타)아크릴레이트의 공중합체 등도 들 수 있다.Examples of the polyfunctional oxetane compound include bis[(3-methyl-3-oxetanylmethoxy)methyl] ether, bis[(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)methyl] ether, and 1,4- Bis[(3-methyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]benzene, 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]benzene, (3-methyl-3-oxetanyl ) methyl acrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl acrylate, (3-methyl-3-oxetanyl) methyl methacrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl methacrylate In addition to polyfunctional oxetanes such as latex and their oligomers or copolymers, oxetane alcohols, novolac resins, poly(p-hydroxystyrene), cardotype bisphenols, calixarenes, calixresorcinalenes Or the etherified thing with resin which has a hydroxyl group, such as silsesquioxane, etc. are mentioned. In addition, copolymers of an unsaturated monomer having an oxetane ring and an alkyl (meth)acrylate are also exemplified.

열경화성 수지의 함유량은, 조성물 중에 후술하는 카르복실기 함유 수지를 포함하는 경우, 카르복실기 함유 수지에 함유되는 카르복실기 1mol당에 대하여, 반응하는 열경화 성분의 관능기 수가 0.5 내지 2.5mol이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.8 내지 2.0mol이다.When the content of the thermosetting resin includes a carboxyl group-containing resin described later in the composition, the number of functional groups of the thermosetting component that reacts per 1 mol of the carboxyl group contained in the carboxyl group-containing resin is preferably 0.5 to 2.5 mol, more preferably. 0.8 to 2.0 mol.

열경화성 성분으로서는, 조성물에 알칼리 현상성을 부여할 수 있다는 점에 있어서, 알칼리 가용성기를 갖는 알칼리 가용성 수지를 포함하는 것이 바람직하다. 알칼리 가용성 수지로서는, 예를 들어 카르복실기 함유 수지, 페놀성 수산기를 2개 이상 갖는 화합물, 페놀성 수산기 및 카르복실기를 갖는 화합물, 티올기를 2개 이상 갖는 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도, 하지와의 밀착성이 향상되기 때문에, 카르복실기 함유 수지 또는 페놀 수지인 것이 바람직하고, 특히 현상성이 우수하기 때문에, 카르복실기 함유 수지인 것이 보다 바람직하다. 이하, 카르복실기 함유 수지에 대하여 설명한다.As the thermosetting component, it is preferable to include an alkali-soluble resin having an alkali-soluble group in view of imparting alkali developability to the composition. Examples of the alkali-soluble resin include carboxyl group-containing resin, a compound having two or more phenolic hydroxyl groups, a compound having a phenolic hydroxyl group and a carboxyl group, and a compound having two or more thiol groups. Among them, a carboxyl group-containing resin or a phenol resin is preferable because adhesion to the substrate is improved, and a carboxyl group-containing resin is more preferable because it is particularly excellent in developability. Hereinafter, carboxyl group-containing resin is demonstrated.

카르복실기 함유 수지로서는, 분자 중에 카르복실기를 갖고 있는 종래 공지된 각종 수지를 사용할 수 있다. 카르복실기 함유 수지는 분자 중에 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 것이어도 갖지 않는 것이어도 되지만, 특히, 분자 중에 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 카르복실기 함유 감광성 수지가, 광경화성이나 내현상성의 면에서 바람직하다. 이러한 경우는 광경화성 열경화성 수지에 해당한다. 또한, 본 발명의 경화성 조성물이 카르복실기 함유 수지를 포함하는 경우, 알칼리 현상하는 용도뿐만 아니라, 알칼리 현상하지 않는 용도로 사용해도 된다. 에틸렌성 불포화 이중 결합은, 아크릴산 혹은 메타크릴산 또는 그것들의 유도체 유래인 것이 바람직하다. 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖지 않는 카르복실기 함유 수지만을 사용하는 경우, 조성물을 광경화성으로 하기 위해서는, 후술하는 분자 중에 복수의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물, 즉 광중합성 모노머를 병용할 필요가 있다. 카르복실기 함유 수지의 구체예로서는, 이하와 같은 화합물(올리고머 및 폴리머 중 어느 것이어도 됨)을 들 수 있다.As the carboxyl group-containing resin, conventionally known various resins having a carboxyl group in the molecule can be used. The carboxyl group-containing resin may or may not have an ethylenically unsaturated double bond in the molecule. In particular, a carboxyl group-containing photosensitive resin having an ethylenically unsaturated double bond in the molecule is preferable from the viewpoint of photocurability and development resistance. In this case, it corresponds to a photocurable thermosetting resin. In addition, when the curable composition of the present invention contains a carboxyl group-containing resin, it may be used not only for alkali development but also for alkali non-development. The ethylenically unsaturated double bond is preferably derived from acrylic acid or methacrylic acid or derivatives thereof. In the case of using only a carboxyl group-containing resin having no ethylenically unsaturated double bond, in order to make the composition photocurable, it is necessary to use a compound having a plurality of ethylenically unsaturated groups in the molecule described later, that is, a photopolymerizable monomer. As a specific example of carboxyl group-containing resin, the following compounds (any of an oligomer and a polymer may be sufficient) are mentioned.

(1) (메타)아크릴산 등의 불포화 카르복실산과, 스티렌, α-메틸스티렌, 저급 알킬(메타)아크릴레이트, 이소부틸렌 등의 불포화기 함유 화합물의 공중합에 의해 얻어지는 카르복실기 함유 수지(저급 알킬(메타)아크릴레이트로서, 메틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있음).(1) Carboxyl group-containing resin (lower alkyl ( As the meth)acrylate, methyl (meth)acrylate and the like are exemplified).

(2) 지방족 디이소시아네이트, 분지 지방족 디이소시아네이트, 지환식 디이소시아네이트, 방향족 디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트와, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산 등의 카르복실기 함유 디알코올 화합물 및 폴리카보네이트계 폴리올, 폴리에테르계 폴리올, 폴리에스테르계 폴리올, 폴리올레핀계 폴리올, 아크릴계 폴리올, 비스페놀 A계 알킬렌옥사이드 부가체 디올, 페놀성 히드록실기 및 알코올성 히드록실기를 갖는 화합물 등의 디올 화합물의 중부가 반응에 의한 카르복실기 함유 우레탄 수지.(2) Diisocyanates such as aliphatic diisocyanates, branched aliphatic diisocyanates, alicyclic diisocyanates, and aromatic diisocyanates, carboxyl group-containing dialcohol compounds such as dimethylolpropionic acid and dimethylolbutanoic acid, and polycarbonate-based polyols and polyether-based polyols , Polyester-based polyol, polyolefin-based polyol, acrylic polyol, bisphenol A-based alkylene oxide adduct diol, carboxyl group-containing urethane resin by polyaddition reaction of diol compounds such as compounds having a phenolic hydroxyl group and an alcoholic hydroxyl group .

(3) 디이소시아네이트와, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 비크실레놀형 에폭시 수지, 비페놀형 에폭시 수지 등의 2관능 에폭시 수지의 (메타)아크릴레이트 혹은 그의 부분 산 무수물 변성물, 카르복실기 함유 디알코올 화합물 및 디올 화합물의 중부가 반응에 의한 카르복실기 함유 감광성 우레탄 수지.(3) Bifunctional epoxy resins such as diisocyanate, bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bixylenol type epoxy resin, and biphenol type epoxy resin A carboxyl group-containing photosensitive urethane resin by a polyaddition reaction of a (meth)acrylate or a partial acid anhydride modified product thereof, a carboxyl group-containing dialcohol compound, and a diol compound.

(4) 상기 (2) 또는 (3)의 수지의 합성 중에, 히드록시알킬(메타)아크릴레이트 등의 분자 내에 1개의 수산기와 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 첨가하고, 말단 (메타)아크릴화한 카르복실기 함유 감광성 우레탄 수지.(4) During the synthesis of the resin of (2) or (3) above, a compound having one hydroxyl group and one or more (meth)acryloyl groups in the molecule such as hydroxyalkyl (meth)acrylate is added, and the terminal (meth)acrylic carboxyl group-containing photosensitive urethane resin.

(5) 상기 (2) 또는 (3)의 수지의 합성 중에, 이소포론디이소시아네이트와 펜타에리트리톨트리아크릴레이트의 등몰 반응물 등, 분자 내에 1개의 이소시아네이트기와 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 첨가하고, 말단 (메타)아크릴화한 카르복실기 함유 감광성 우레탄 수지.(5) During the synthesis of the resin of (2) or (3) above, an equimolar reaction product of isophorone diisocyanate and pentaerythritol triacrylate, etc., having one isocyanate group and one or more (meth)acryloyl groups in the molecule, A carboxyl group-containing photosensitive urethane resin obtained by adding a compound and carrying out terminal (meth)acrylation.

(6) 2관능 또는 그 이상의 다관능(고형) 에폭시 수지에 (메타)아크릴산을 반응시켜서, 측쇄에 존재하는 수산기에 2염기 산 무수물을 부가시킨 카르복실기 함유 감광성 수지.(6) A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting (meth)acrylic acid with a bifunctional or more polyfunctional (solid) epoxy resin to add a dibasic acid anhydride to a hydroxyl group present in the side chain.

(7) 2관능(고형) 에폭시 수지의 수산기를 에피클로로히드린으로 에폭시화한 다관능 에폭시 수지에 (메타)아크릴산을 추가로 반응시켜서, 발생한 수산기에 2염기 산 무수물을 부가시킨 카르복실기 함유 감광성 수지.(7) Carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by further reacting (meth)acrylic acid with a multifunctional epoxy resin obtained by epoxidizing the hydroxyl group of a bifunctional (solid) epoxy resin with epichlorohydrin and adding a dibasic acid anhydride to the generated hydroxyl group. .

(8) 2관능 옥세탄 수지에 아디프산, 프탈산, 헥사히드로프탈산 등의 디카르복실산을 반응시켜서, 발생한 1급의 수산기에 무수프탈산, 테트라히드로무수프탈산, 헥사히드로무수프탈산 등의 2염기 산 무수물을 부가시킨 카르복실기 함유 폴리에스테르 수지.(8) Dibasic bases such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and the like to primary hydroxyl groups generated by reacting dicarboxylic acids such as adipic acid, phthalic acid, and hexahydrophthalic acid with bifunctional oxetane resins. A polyester resin containing a carboxyl group to which an acid anhydride was added.

(9) 1분자 중에 복수의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물에, p-히드록시페네틸알코올 등의 1분자 중에 적어도 1개의 알코올성 수산기와 1개의 페놀성 수산기를 갖는 화합물과, (메타)아크릴산 등의 불포화기 함유 모노카르복실산을 반응시켜서, 얻어진 반응 생성물의 알코올성 수산기에 대하여, 무수 말레산, 테트라히드로무수프탈산, 무수 트리멜리트산, 무수 피로멜리트산, 아디프산 등의 다염기산 무수물을 반응시켜서 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(9) An epoxy compound having a plurality of epoxy groups in one molecule, a compound having at least one alcoholic hydroxyl group and one phenolic hydroxyl group in one molecule, such as p-hydroxyphenethyl alcohol, and unsaturated compounds such as (meth)acrylic acid A carboxyl group obtained by reacting a group-containing monocarboxylic acid with polybasic acid anhydrides such as maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, and adipic acid with respect to the alcoholic hydroxyl group of the obtained reaction product. Contains photosensitive resin.

(10) 1분자 중에 복수의 페놀성 수산기를 갖는 화합물과 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드 등의 알킬렌옥사이드를 반응시켜서 얻어지는 반응 생성물에 불포화기 함유 모노카르복실산을 반응시키고, 얻어지는 반응 생성물에 다염기산 무수물을 반응시켜서 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(10) A monocarboxylic acid containing an unsaturated group is reacted with a reaction product obtained by reacting a compound having a plurality of phenolic hydroxyl groups in one molecule with an alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide, and a polybasic acid anhydride is added to the reaction product obtained Carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by making it react.

(11) 1분자 중에 복수의 페놀성 수산기를 갖는 화합물과 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 환상 카보네이트 화합물을 반응시켜서 얻어지는 반응 생성물에 불포화기 함유 모노카르복실산을 반응시키고, 얻어지는 반응 생성물에 다염기산 무수물을 반응시켜서 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(11) A monocarboxylic acid containing an unsaturated group is reacted with a reaction product obtained by reacting a compound having a plurality of phenolic hydroxyl groups in one molecule with a cyclic carbonate compound such as ethylene carbonate or propylene carbonate, and a polybasic acid anhydride is added to the reaction product obtained Carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by making it react.

(12) 상기 (1) 내지 (11)의 수지에 추가로 1분자 내에 1개의 에폭시기와 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 부가하여 이루어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(12) A carboxyl group-containing photosensitive resin formed by adding a compound having one epoxy group and one or more (meth)acryloyl groups in one molecule to the resins (1) to (11) above.

카르복실기 함유 수지로서는, 카르복실기 함유 공중합 수지를 사용해도 된다. 카르복실기 함유 공중합 수지로서는, (1)의 수지나 (12) 중의 공중합 수지를 들 수 있다. (12)의 수지로서는, 예를 들어 (메타)아크릴산과 메틸(메타)아크릴레이트의 공중합에 의해 얻어진 카르복실기 함유 수지에 추가로 글리시딜메타크릴레이트 또는 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트 등 지환식 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 부가하여 이루어지는 카르복실기 함유 감광성 수지를 들 수 있다.As carboxyl group-containing resin, you may use carboxyl group-containing copolymer resin. As a carboxyl group-containing copolymer resin, the resin of (1) and the copolymer resin in (12) are mentioned. As the resin of (12), for example, in addition to the carboxyl group-containing resin obtained by copolymerization of (meth)acrylic acid and methyl (meth)acrylate, glycidyl methacrylate or 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) Carboxyl group-containing photosensitive resin formed by adding (meth)acrylate having an alicyclic epoxy group, such as an acrylate, is mentioned.

또한, 본 명세서에 있어서, (메타)아크릴레이트란, 아크릴레이트, 메타크릴레이트 및 그것들의 혼합물을 총칭하는 용어이며, 다른 유사한 표현에 대해서도 마찬가지이다.In addition, in this specification, (meth)acrylate is a term which collectively names acrylate, methacrylate, and mixtures thereof, and the same applies to other similar expressions.

본 발명에 사용할 수 있는 카르복실기 함유 수지는, 상기 열거한 것으로 한정되지는 않는다. 또한, 상기 열거한 카르복실기 함유 수지는 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.The carboxyl group-containing resin that can be used in the present invention is not limited to those listed above. In addition, the carboxyl group-containing resin enumerated above may be used individually by 1 type, and may mix and use multiple types.

본 발명에 있어서, 탄산나트륨 수용액 등의 약알칼리 현상액을 사용할 때의 현상성과 레지스트 패턴의 묘화성을 고려하면, 카르복실기 함유 수지의 산가는 30 내지 150㎎KOH/g의 범위인 것이 바람직하고, 50 내지 120㎎KOH/g의 범위인 것이 보다 바람직하다. 카르복실기 함유 수지의 산가는 높을수록 현상성은 향상되기는 하지만, 현상액에 의한 노광부의 용해가 진행되기 때문에, 노광부와 미노광부의 구별 없이 현상액으로 용해 박리하는 경우가 있다.In the present invention, considering the developability when using a weak alkali developer such as sodium carbonate aqueous solution and the drawing ability of the resist pattern, the acid value of the carboxyl group-containing resin is preferably in the range of 30 to 150 mgKOH/g, and 50 to 120 It is more preferable that it is the range of mgKOH/g. The higher the acid value of the carboxyl group-containing resin, the better the developability, but since the dissolution of the exposed portion by the developing solution proceeds, the exposed portion and the unexposed portion may be dissolved and peeled off with the developer without distinction.

카르복실기 함유 수지의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 6,000 이하이며, 또한, 바람직하게는 2,000 이상이다. 중량 평균 분자량이 6,000 이하인 카르복실기 함유 수지를 사용함으로써, 완전 건조 도막의 용해 용제에 대한 용해성을 향상시켜서, 세정 제거성을 개선시킬 수 있다. 또한, 중량 평균 분자량이 2,000 이상인 카르복실기 함유 수지를 사용함으로써, 해상성이나 지촉 건조 성능을 향상시킬 수 있다. 중량 평균 분자량은, 겔 침투 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정할 수 있다.The weight average molecular weight of the carboxyl group-containing resin is preferably 6,000 or less, and preferably 2,000 or more. By using a carboxyl group-containing resin having a weight average molecular weight of 6,000 or less, the solubility of the completely dried coating film in a dissolving solvent can be improved, and the washing removability can be improved. In addition, resolution and touch-drying performance can be improved by using a carboxyl group-containing resin having a weight average molecular weight of 2,000 or more. A weight average molecular weight can be measured by gel permeation chromatography (GPC).

카르복실기 함유 수지의 함유량은, 경화성 수지 조성물 중에 있어서, 고형분 환산으로, 바람직하게는 20 내지 80질량%이고, 보다 바람직하게는 20 내지 75질량%이며, 더욱 바람직하게는 20 내지 50질량%이다. 20질량% 이상으로 함으로써 경화 도막의 강도를 향상시킬 수 있다. 또한 80질량% 이하로 함으로써 경화성 수지 조성물의 점성이 적당하게 되어 가공성이 향상된다.The content of the carboxyl group-containing resin is preferably 20 to 80% by mass, more preferably 20 to 75% by mass, still more preferably 20 to 50% by mass in terms of solid content in the curable resin composition. The intensity|strength of a cured coating film can be improved by setting it as 20 mass % or more. Moreover, by setting it as 80 mass % or less, the viscosity of curable resin composition becomes suitable and processability improves.

[광경화성 수지][Photocurable Resin]

광경화성 수지란, 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물이며, 폴리머, 올리고머, 모노머 등을 들 수 있으며, 그것들의 혼합물이어도 된다. 광경화성 수지를 포함함으로써, 경화막의 강도를 향상시킬 수 있다. 광경화성 수지는, 1종을 단독 또는 2종 이상을 조합해서 사용할 수 있다.The photocurable resin is a compound having an ethylenically unsaturated group, and includes polymers, oligomers, monomers, and the like, and a mixture thereof may be used. By including a photocurable resin, the strength of a cured film can be improved. Photocurable resin can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물로서는, 공지 관용의 광중합성 올리고머, 광중합성 모노머 등을 사용할 수 있다. 이 중에서도, 경화 도막의 가교성이나 경화성을 보다 부여할 수 있다는 점에 있어서, 광중합성 모노머를 사용하는 것이 바람직하다.As the compound having an ethylenically unsaturated group, known and usual photopolymerizable oligomers, photopolymerizable monomers and the like can be used. Among these, it is preferable to use a photopolymerizable monomer from the viewpoint of providing more crosslinkability and curability of the cured coating film.

광중합성 올리고머는, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 올리고머이다. 광중합성 올리고머로서는, 불포화 폴리에스테르계 올리고머, (메타)아크릴레이트계 올리고머 등을 들 수 있다. (메타)아크릴레이트계 올리고머로서는, 페놀노볼락 에폭시(메타)아크릴레이트, 크레졸노볼락 에폭시(메타)아크릴레이트, 비스페놀형 에폭시(메타)아크릴레이트 등의 에폭시(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트, 에폭시우레탄(메타)아크릴레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 폴리에테르(메타)아크릴레이트, 폴리부타디엔 변성(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The photopolymerizable oligomer is an oligomer having an ethylenically unsaturated double bond. Examples of photopolymerizable oligomers include unsaturated polyester oligomers and (meth)acrylate oligomers. As the (meth)acrylate-based oligomer, epoxy (meth)acrylates such as phenol novolac epoxy (meth)acrylate, cresol novolac epoxy (meth)acrylate, and bisphenol type epoxy (meth)acrylate, and urethane (meth) Acrylate, epoxyurethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, polybutadiene modified (meth)acrylate, etc. are mentioned.

광중합성 모노머는, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 모노머이다. 이와 같은 광중합성 모노머로서는, 예를 들어 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트 등의 알킬(메타)아크릴레이트류; 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트류; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜 등의 알킬렌옥사이드 유도체의 모노 또는 디(메타)아크릴레이트류; 헥산디올, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디트리메틸올프로판, 디펜타에리트리톨, 트리스히드록시에틸이소시아누레이트 등의 다가 알코올 또는 이들의 에틸렌옥사이드 혹은 프로필렌옥사이드 부가물의 다가 (메타)아크릴레이트류; 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 폴리에톡시 디(메타)아크릴레이트 등의 페놀류의 에틸렌옥사이드 혹은 프로필렌옥사이드 부가물의 (메타)아크릴레이트류; 글리세린디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 트리글리시딜이소시아누레이트 등의 글리시딜에테르의 (메타)아크릴레이트류; 및 멜라민(메타)아크릴레이트를 들 수 있다. 광중합성 모노머는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The photopolymerizable monomer is a monomer having an ethylenically unsaturated double bond. Examples of such a photopolymerizable monomer include alkyl (meth)acrylates such as 2-ethylhexyl (meth)acrylate and cyclohexyl (meth)acrylate; Hydroxyalkyl (meth)acrylates, such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and 2-hydroxypropyl (meth)acrylate; mono- or di(meth)acrylates of alkylene oxide derivatives such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol and dipropylene glycol; Polyhydric alcohols such as hexanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, ditrimethylolpropane, dipentaerythritol, and trishydroxyethyl isocyanurate, or polyhydric (meth)acrylates of ethylene oxide or propylene oxide adducts thereof ; (meth)acrylates of ethylene oxide or propylene oxide adducts of phenols, such as phenoxyethyl (meth)acrylate and polyethoxy di(meth)acrylate of bisphenol A; (meth)acrylates of glycidyl ethers such as glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, and triglycidyl isocyanurate; and melamine (meth)acrylate. A photopolymerizable monomer may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

광경화성 수지의 함유량은, 경화성 수지 조성물 중에 있어서, 고형분 환산으로, 바람직하게는 3 내지 20질량%이며, 보다 바람직하게는 5 내지 15질량%이다. 광중합성 모노머의 함유량은, 3질량% 이상의 경우, 광경화성이 양호하고, 활성 에너지선 조사 후의 알칼리 현상에 있어서, 패턴 형성을 하기 쉽다. 한편, 20질량% 이하의 경우, 할레이션이 발생하기 어려워 양호한 해상성이 얻어지기 쉽다.The content of the photocurable resin is preferably 3 to 20% by mass, more preferably 5 to 15% by mass in terms of solid content in the curable resin composition. When the content of the photopolymerizable monomer is 3% by mass or more, photocurability is good, and pattern formation is easy in alkali development after active energy ray irradiation. On the other hand, in the case of 20% by mass or less, halation is less likely to occur and good resolution is easily obtained.

[(B) 필러][(B) Filler]

필러로서는, 공지된 것을 모두 사용할 수 있다. 필러로서는, 예를 들어 비정질 실리카, 결정질 실리카, 용융 실리카, 구상 실리카 등의 실리카, 탈크, 베마이트, 하이드로탈사이트, 소석회, 수산화칼슘, 탄산칼슘, 황산칼슘, 탄산칼륨, 탄산마그네슘, 클레이, 운모분, 산화 알루미늄, 수산화알루미늄, 황산바륨, 황화구리, 알루미나, 산화아연, 철, 황화아연, 산화지르코늄, 산화크롬, 산화카드뮴, 황화카드뮴, 산화구리 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 분산성의 관점에서, 실리카, 황산바륨이 바람직하다. 필러는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 필러를 함유시킴으로써, 내열성을 향상시키거나, 도포 시의 변동을 적게 하거나 할 수 있다. 또한, 보다 저광택화한다는 관점에서는, SiO2와 Al2O3을 주성분으로 하는 규산알루미늄 등을 사용해도 된다.As a filler, all known fillers can be used. Examples of the filler include silica such as amorphous silica, crystalline silica, fused silica, and spherical silica, talc, boehmite, hydrotalcite, slaked lime, calcium hydroxide, calcium carbonate, calcium sulfate, potassium carbonate, magnesium carbonate, clay, and mica powder. , aluminum oxide, aluminum hydroxide, barium sulfate, copper sulfide, alumina, zinc oxide, iron, zinc sulfide, zirconium oxide, chromium oxide, cadmium oxide, cadmium sulfide, and copper oxide. Among these, from a dispersible viewpoint, silica and barium sulfate are preferable. A filler may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. By containing a filler, heat resistance can be improved or fluctuations at the time of application|coating can be reduced. In addition, from the viewpoint of lowering gloss, aluminum silicate containing SiO 2 and Al 2 O 3 as main components may be used.

필러의 표면 처리의 유무는 특별히 한정되지는 않지만, 분산성을 높이기 위한 표면 처리가 되어 있어도 된다. 표면 처리가 되어 있는 필러를 사용함으로써, 응집을 억제할 수 있다. 필러의 표면 처리 방법은 특별히 한정되지는 않고, 공지 관용의 방법을 이용하면 되지만, 경화성 반응기를 갖는 표면 처리제, 예를 들어 경화성 반응기를 유기기로서 갖는 커플링제 등으로 무기의 필러 표면을 처리하는 것이 바람직하다.The presence or absence of surface treatment of the filler is not particularly limited, but it may be surface treated to enhance dispersibility. Aggregation can be suppressed by using the surface-treated filler. The surface treatment method of the filler is not particularly limited, and a known and usual method may be used, but it is preferable to treat the surface of the inorganic filler with a surface treatment agent having a curable reactive group, for example, a coupling agent having a curable reactive group as an organic group. desirable.

필러의 평균 입자경은, 10㎛ 이하의 것을 바람직하게 사용할 수 있지만, 분산성의 관점에서, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5.0㎛이며, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 3.0㎛이다. 필러의 평균 입자경이란, 1차 입자의 입자경뿐만 아니라, 2차 입자(응집체)의 입자경도 포함한 평균 입자경(D50)이며, 레이저 회절법에 의해 측정된 D50의 값이다. 레이저 회절법에 의한 측정 장치로서는, 마이크로트랙·벨(주) 제조의 Microtrac MT3300EXII를 들 수 있다. 또한, 전술한 필러의 각 입자경의 값은, 경화성 수지 조성물을 조정(예비 교반, 혼련)하기 전의 필러를 상기와 같이 하여 측정한 값을 말하는 것으로 한다.The average particle diameter of the filler can preferably be used in a filler of 10 μm or less, but from the viewpoint of dispersibility, it is more preferably 0.1 to 5.0 μm, still more preferably 0.2 to 3.0 μm. The average particle diameter of a filler is an average particle diameter (D 50 ) including not only the particle diameter of primary particles but also the particle diameter of secondary particles (aggregates), and is a value of D 50 measured by a laser diffraction method. As a measuring device by the laser diffraction method, Microtrac MT3300EXII manufactured by Microtrac Bell Co., Ltd. is exemplified. In addition, the value of each particle diameter of the above-mentioned filler shall mean the value measured by carrying out the above-mentioned filler before adjusting (preliminary stirring, kneading|mixing) curable resin composition.

필러는, 사용 양태에 의해, 분체 또는 고체 상태에서 다른 성분과 배합해도 되며, 용제나 분산제와 혼합해서 슬러리로 한 후에 다른 성분과 배합해도 된다. 또한, 후술하는 필러의 함유량에 있어서는, 분체 또는 고체 상태에서의 값을 말하는 것으로 한다.Depending on the mode of use, the filler may be blended with other components in a powdery or solid state, or may be blended with other components after mixing with a solvent or dispersant to form a slurry. In addition, in content of a filler mentioned later, it shall mean the value in a powdery or solid state.

필러의 함유량은, 경화성 수지 조성물 중에 있어서, 바람직하게는 45질량% 이하이고, 보다 바람직하게는 40질량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 35질량% 이하이며, 또한, 바람직하게는 5질량% 이상이고, 보다 바람직하게는 10질량% 이상이며, 더욱 바람직하게는 20질량% 이상이다. 필러의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 경화물을 고강도로 하면서, 완전 건조 도막의 세정 제거성을 개선시킬 수 있다.The content of the filler in the curable resin composition is preferably 45% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, still more preferably 35% by mass or less, and more preferably 5% by mass or more. , More preferably, it is 10 mass % or more, More preferably, it is 20 mass % or more. When the content of the filler is within the above range, the washing removability of the completely dry coating film can be improved while the cured product has high strength.

[(C) 유기 용제][(C) organic solvent]

본 발명의 경화성 수지 조성물에는, 조성물의 조제나, 기판이나 필름에 도포할 때의 점도 조정 등의 목적으로, 유기 용제를 함유시킬 수 있다. 유기 용제로서는, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 카르비톨, 메틸카르비톨, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 락트산부틸, 셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 탄산프로필렌 등의 에스테르류; 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소류; 석유 에테르, 석유 나프타, 솔벤트 나프타 등의 석유계 용제 등, 공지 관용의 유기 용제를 사용할 수 있다. 이 중에서도, 본 발명에 있어서의 경화성 수지 조성물이 비정질 실리카와 같은 다공질의 것을 사용한 경우, 경화나 건조 시에 실리카 표면에 흡유하기 쉬운 결과, 형성된 경화 도막의 광택도가 보다 낮아진다는 점에서, 에스테르류가 바람직하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트가 보다 바람직하다. 이들 유기 용제는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The curable resin composition of the present invention may contain an organic solvent for the purpose of preparing the composition or adjusting the viscosity when applied to a substrate or film. As an organic solvent, Ketones, such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; Aromatic hydrocarbons, such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene; Cellosolve, Methyl Cellosolve, Butyl Cellosolve, Carbitol, Methyl Carbitol, Butyl Carbitol, Propylene Glycol Monomethyl Ether, Dipropylene Glycol Monomethyl Ether, Dipropylene Glycol Diethyl Ether, Tripropylene Glycol Monomethyl Ether glycol ethers such as; Ethyl acetate, butyl acetate, butyl lactate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol esters such as monomethyl ether acetate and propylene carbonate; aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; A well-known and common organic solvent, such as petroleum solvents, such as petroleum ether, petroleum naphtha, and solvent naphtha, can be used. Among these, when the curable resin composition in the present invention uses a porous material such as amorphous silica, it is easy to absorb oil on the surface of the silica during curing or drying, and as a result, the glossiness of the formed cured coating film is lowered. is preferred, and propylene glycol monomethyl ether acetate is more preferred. These organic solvents may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

유기 용제의 함유량은, 특별히 한정되지는 않고, 경화성 수지 조성물을 조제하기 용이하도록 목적의 점도에 따라서 적절히 설정할 수 있다.The content of the organic solvent is not particularly limited, and can be appropriately set according to the target viscosity so as to facilitate preparation of the curable resin composition.

본 발명에 있어서는, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 함유량은, 상기 경화성 수지 조성물 중에 있어서, 바람직하게는 20질량% 이상이고, 보다 바람직하게는 25질량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 30질량% 이상이며, 또한, 바람직하게는 50질량% 이하이고, 보다 바람직하게는 45질량% 이하이며, 더욱 바람직하게는 40질량% 이하이다. 본 발명에 있어서, 경화성 수지 조성물 중의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 함유량이란, (C) 유기 용제로서 배합한 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 양뿐만 아니라, 다른 성분(상기 (A) 경화성 수지 및 (B) 필러 등)의 조제에 사용한 액체 성분 중의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 양도 포함한 값이다. 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 완전 건조 도막의 세정 제거성을 향상시킬 수 있다.In the present invention, the content of propylene glycol monomethyl ether acetate is preferably 20% by mass or more, more preferably 25% by mass or more, still more preferably 30% by mass or more, in the curable resin composition. Further, preferably it is 50% by mass or less, more preferably 45% by mass or less, still more preferably 40% by mass or less. In the present invention, the content of propylene glycol monomethyl ether acetate in the curable resin composition is not only the amount of propylene glycol monomethyl ether acetate blended as an organic solvent (C), but also other components (above (A) curable resin and (B) ) It is a value including the amount of propylene glycol monomethyl ether acetate in liquid components used for preparation of fillers, etc.). When the content of propylene glycol monomethyl ether acetate is within the above range, the washing removability of the completely dried coating film can be improved.

본 발명의 경화성 수지 조성물은, 이하의 임의 성분을 더 포함해도 된다.The curable resin composition of the present invention may further contain the following optional components.

[광중합 개시제][Photoinitiator]

광중합 개시제는, 카르복실기 함유 수지나 광중합성 모노머를 노광에 의해 반응시키기 위한 것이다. 광중합 개시제로서는, 공지된 것을 모두 사용할 수 있다. 광중합 개시제는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합해서 사용해도 된다.A photoinitiator is for reacting carboxyl group-containing resin or a photopolymerizable monomer by exposure. As the photopolymerization initiator, all known ones can be used. A photoinitiator may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

광중합 개시제로서는, 구체적으로는 예를 들어, 비스-(2,6-디클로로벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-4-프로필페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-1-나프틸포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등의 비스아실포스핀옥사이드류; 2,6-디메톡시벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,6-디클로로벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일페닐포스핀산메틸에스테르, 2-메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 피발로일페닐포스핀산이소프로필에스테르, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등의 모노아실포스핀옥사이드류; 페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀산에틸, 1-히드록시-시클로헥실페닐케톤, 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-히드록시-1-{4-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]페닐}-2-메틸-프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 등의 히드록시아세토페논류; 벤조인, 벤질, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인n-프로필에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인n-부틸에테르 등의 벤조인류; 벤조인알킬에테르류; 벤조페논, p-메틸벤조페논, 미힐러케톤, 메틸벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논 등의 벤조페논류; 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1,2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸)-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논, N,N-디메틸아미노아세토페논 등의 아세토페논류; 안트라퀴논, 클로로안트라퀴논, 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-tert-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논, 2-아밀안트라퀴논, 2-아미노안트라퀴논 등의 안트라퀴논류; 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈 등의 케탈류; 에틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 2-(디메틸아미노)에틸벤조에이트, p-디메틸벤조산에틸에스테르 등의 벤조산에스테르류; 1,2-옥탄디온,1-[4-(페닐티오)페닐]-,2-(O-벤조일옥심)], 에타논,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심) 등의 옥심에스테르류; 비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)페닐)티타늄, 비스(시클로펜타디에닐)-비스[2,6-디플루오로-3-(2-(1-필-1-일)에틸)페닐]티타늄 등의 티타노센류; 페닐디술피드2-니트로플루오렌, 부틸로인, 아니소인에틸에테르, 아조비스이소부티로니트릴, 테트라메틸티우람디술피드 등을 들 수 있다.Specific examples of the photopolymerization initiator include bis-(2,6-dichlorobenzoyl)phenylphosphine oxide, bis-(2,6-dichlorobenzoyl)-2,5-dimethylphenylphosphine oxide, and bis-( 2,6-dichlorobenzoyl)-4-propylphenylphosphine oxide, bis-(2,6-dichlorobenzoyl)-1-naphthylphosphine oxide, bis-(2,6-dimethoxybenzoyl)phenylphosphine oxide , bis-(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis-(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis-( bisacylphosphine oxides such as 2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide; 2,6-dimethoxybenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,6-dichlorobenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphine acid methyl ester, 2-methylbenzoyldiphenylphosphine oxide, p monoacylphosphine oxides such as valoylphenylphosphinic acid isopropyl ester and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; Phenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) ethyl phosphinate, 1-hydroxy-cyclohexylphenyl ketone, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl -1-propan-1-one, 2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-propan-1-one hydroxyacetophenones such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; benzoins such as benzoin, benzyl, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin n-propyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin n-butyl ether; benzoin alkyl ethers; benzophenones such as benzophenone, p-methylbenzophenone, Michler's ketone, methylbenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, and 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone; Acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl- 1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1,2- acetophenones such as (dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl)-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]-1-butanone and N,N-dimethylaminoacetophenone; anthraquinones such as anthraquinone, chloroanthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2-amylanthraquinone, and 2-aminoanthraquinone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; benzoic acid esters such as ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 2-(dimethylamino)ethylbenzoate, and p-dimethylbenzoic acid ethyl ester; 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)phenyl]-,2-(O-benzoyloxime)], ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H Oxime esters, such as -carbazol-3-yl]-,1-(O-acetyl oxime); Bis(η5-2,4-cyclopentadien-1-yl)-bis(2,6-difluoro-3-(1H-pyrrol-1-yl)phenyl)titanium, bis(cyclopentadienyl)- titanocenes such as bis[2,6-difluoro-3-(2-(1-phyll-1-yl)ethyl)phenyl]titanium; Phenyl disulfide 2-nitrofluorene, butyloin, anisoin ethyl ether, azobisisobutyronitrile, tetramethylthiuram disulfide, etc. are mentioned.

알킬페논계 광중합 개시제의 시판품으로서는, IGM Resins사 제조의 Omnirad 907, 369, 369E, 379 등을 들 수 있다. 또한, 아실포스핀옥사이드계 광중합 개시제의 시판품으로서는, IGM Resins사 제조의 Omnirad 819 등을 들 수 있다. 옥심에스테르계 광중합 개시제의 시판품으로서는, BASF 재팬(주) 제조의 Irgacure OXE01, OXE02, (주)ADEKA 제조 N-1919, 아데카 아클즈 NCI-831, NCI-831E, Changzhou Tronly New Electronic Materials사 제조 TR-PBG-304 등을 들 수 있다.Commercially available products of the alkylphenone-based photopolymerization initiator include Omnirad 907, 369, 369E, and 379 manufactured by IGM Resins. Moreover, as a commercial item of an acylphosphine oxide type photoinitiator, Omnirad 819 by IGM Resins, etc. are mentioned. Commercially available products of the oxime ester photopolymerization initiator include Irgacure OXE01 and OXE02 manufactured by BASF Japan Co., Ltd., N-1919 manufactured by ADEKA Co., Ltd., Adeka Akles NCI-831 and NCI-831E, and TR manufactured by Changzhou Tronly New Electronic Materials. -PBG-304 etc. are mentioned.

그 밖에, 일본 특허 공개 제2004-359639호 공보, 일본 특허 공개 제2005-097141호 공보, 일본 특허 공개 제2005-220097호 공보, 일본 특허 공개 제2006-160634호 공보, 일본 특허 공개 제2008-094770호 공보, 일본 특허 공표 제2008-509967호 공보, 일본 특허 공표 제2009-040762호 공보, 일본 특허 공개 제2011-80036호 공보에 기재된 카르바졸옥심에스테르 화합물 등을 들 수 있다.In addition, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-359639, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-097141, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-220097, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-160634, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-094770 No., Japanese Patent Publication No. 2008-509967, Japanese Patent Publication No. 2009-040762, and carbazole oxime ester compounds described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-80036, etc. are mentioned.

광중합 개시제의 함유량은, 경화성 수지 조성물 중에 있어서, 고형분 환산으로, 바람직하게는 0.1 내지 10질량%이며, 보다 바람직하게는 1 내지 5질량%이다. 광중합 개시제의 함유량은, 0.1질량% 이상의 경우, 경화성 수지 조성물의 광경화성이 양호해지고, 내약품성 등의 도막 특성도 양호해진다. 한편, 10질량% 이하의 경우, 레지스트막(경화 도막) 표면에서의 광흡수가 양호해져서, 심부 경화성이 저하되기 어렵다.The content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 1 to 5% by mass in terms of solid content in the curable resin composition. When content of a photoinitiator is 0.1 mass % or more, the photocurability of curable resin composition becomes favorable, and coating film characteristics, such as chemical resistance, also become favorable. On the other hand, in the case of 10% by mass or less, the light absorption on the surface of the resist film (cured coating film) becomes good, and the deep curability is less likely to decrease.

상기한 광중합 개시제와 병용하여, 광개시 보조제 또는 증감제를 사용해도 된다. 광개시 보조제 또는 증감제로서는, 벤조인 화합물, 안트라퀴논 화합물, 티오크산톤 화합물, 케탈 화합물, 벤조페논 화합물, 3급 아민 화합물 및 크산톤 화합물 등을 들 수 있다. 특히, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 4-이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 티오크산톤 화합물이 포함됨으로써, 심부 경화성을 향상시킬 수 있다. 이들 화합물은, 광중합 개시제로서 사용할 수 있는 경우도 있지만, 광중합 개시제와 병용하여 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 광개시 보조제 또는 증감제는 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.In combination with the photopolymerization initiator described above, a photoinitiation aid or a sensitizer may be used. Examples of photoinitiation aids or sensitizers include benzoin compounds, anthraquinone compounds, thioxanthone compounds, ketal compounds, benzophenone compounds, tertiary amine compounds, and xanthone compounds. In particular, thioxanthone compounds such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, and 4-isopropylthioxanthone It is preferable to use By containing the thioxanthone compound, deep curability can be improved. Although these compounds can be used as a photoinitiator in some cases, it is preferable to use them in combination with a photopolymerization initiator. In addition, a photoinitiation adjuvant or a sensitizer may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

또한, 이들 광중합 개시제, 광개시 보조제 및 증감제는, 특정의 파장을 흡수하기 때문에, 경우에 따라서는 감도가 낮아져서, 자외선 흡수제로서 기능하는 경우가 있다. 그러나, 이들은 수지 조성물의 감도를 향상시키는 것만의 목적으로 사용되는 것은 아니다. 필요에 따라 특정의 파장의 광을 흡수시키고, 표면의 광반응성을 높여, 레지스트 패턴의 라인 형상 및 개구를 수직, 테이퍼상, 역테이퍼상으로 변화시킴과 함께, 라인 폭이나 개구 직경의 정밀도를 향상시킬 수 있다.In addition, since these photoinitiators, photoinitiation adjuvants, and sensitizers absorb a specific wavelength, their sensitivity is lowered in some cases and may function as ultraviolet absorbers. However, these are not used only for the purpose of improving the sensitivity of the resin composition. Absorbs light of a specific wavelength as needed, enhances the photoreactivity of the surface, changes the line shape and aperture of the resist pattern to vertical, tapered, or reverse-tapered, and improves the accuracy of line width and aperture diameter can make it

[착색제][coloring agent]

본 발명의 경화성 수지 조성물에는, 착색제를 배합할 수 있다. 착색제로서는, 특별히 한정되지는 않고 적, 청, 녹, 황 등의 공지된 착색제를 사용할 수 있고, 안료, 염료, 색소 중 어느 것이어도 되지만, 환경 부하의 저감이나 인체에 대한 영향이 적다는 관점에서 할로겐을 함유하지 않는 착색제인 것이 바람직하다.A colorant can be blended with the curable resin composition of the present invention. The colorant is not particularly limited, and known colorants such as red, blue, green, and yellow can be used, and any of pigments, dyes, and pigments may be used. From the viewpoint of reducing environmental load and having little effect on the human body, It is preferable that it is a colorant which does not contain a halogen.

적색 착색제로서는 모노아조계, 디스아조계, 아조레이크계, 벤즈이미다졸론계, 페릴렌계, 디케토피롤로피롤계, 축합 아조계, 안트라퀴논계, 퀴나크리돈계 등이 있고, 구체적으로는 이하와 같은 컬러-인덱스(C.I.; 더 소사이어티 오브 다이어즈 앤드 컬러리스츠(The Society of Dyersand Colourists) 발행) 번호가 부여되어 있는 것을 들 수 있다.Examples of the red colorant include monoazo, disazo, azolake, benzimidazolone, perylene, diketopyrrolopyrrole, condensed azo, anthraquinone, and quinacridone. and those assigned the same color-index (C.I.; published by The Society of Dyersand Colourists) number.

모노아조계 적색 착색제로서는, Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 112, 114, 146, 147, 151, 170, 184, 187, 188, 193, 210, 245, 253, 258, 266, 267, 268, 269 등을 들 수 있다. 또한, 디스아조계 적색 착색제로서는, Pigment Red 37, 38, 41 등을 들 수 있다. 또한, 모노아조 레이크계 적색 착색제로서는, Pigment Red 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 52:2, 53:1, 53:2, 57:1, 58:4, 63:1, 63:2, 64:1, 68 등을 들 수 있다. 또한, 벤즈이미다졸론계 적색 착색제로서는, Pigment Red 171, 175, 176, 185, 208 등을 들 수 있다. 또한, 페릴렌계 적색 착색제로서는, Solvent Red 135, 179, Pigment Red 123, 149, 166, 178, 179, 190, 194, 224 등을 들 수 있다. 또한, 디케토피롤로피롤계 적색 착색제로서는, Pigment Red 254, 255, 264, 270, 272 등을 들 수 있다. 또한, 축합 아조계 적색 착색제로서는, Pigment Red 220, 144, 166, 214, 220, 221, 242 등을 들 수 있다. 또한, 안트라퀴논계 적색 착색제로서는, Pigment Red 168, 177, 216, Solvent Red 149, 150, 52, 207 등을 들 수 있다. 또한, 퀴나크리돈계 적색 착색제로서는, Pigment Red 122, 202, 206, 207, 209 등을 들 수 있다.As the monoazo red colorant, Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 112, 114, 146 , 147, 151, 170, 184, 187, 188, 193, 210, 245, 253, 258, 266, 267, 268, 269 and the like. Moreover, Pigment Red 37, 38, 41 etc. are mentioned as a disazo type red coloring agent. In addition, as a monoazo lake-based red colorant, Pigment Red 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 52:2, 53: 1, 53:2, 57:1, 58:4, 63:1, 63:2, 64:1, 68 and the like. Moreover, Pigment Red 171, 175, 176, 185, 208 etc. are mentioned as a benzimidazolone system red coloring agent. Moreover, Solvent Red 135, 179, Pigment Red 123, 149, 166, 178, 179, 190, 194, 224 etc. are mentioned as a perylene red colorant. Moreover, Pigment Red 254, 255, 264, 270, 272 etc. are mentioned as a diketopyrrolopyrrole type red coloring agent. Moreover, Pigment Red 220, 144, 166, 214, 220, 221, 242 etc. are mentioned as a condensed azo red colorant. Moreover, Pigment Red 168, 177, 216, Solvent Red 149, 150, 52, 207 etc. are mentioned as anthraquinone system red colorant. Moreover, Pigment Red 122, 202, 206, 207, 209 etc. are mentioned as a quinacridone system red colorant.

청색 착색제로서는 프탈로시아닌계, 안트라퀴논계가 있고, 안료계는 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있으며, 예를 들어 Pigment Blue 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 60. 염료계로서는, Solvent Blue 35, 63, 68, 70, 83, 87, 94, 97, 122, 136, 67, 70 등을 사용할 수 있다. 상기 이외에도, 금속 치환 혹은 비치환된 프탈로시아닌 화합물도 사용할 수 있다.Examples of blue colorants include phthalocyanine-based and anthraquinone-based, and pigment-based compounds classified as pigments. For example, Pigment Blue 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15 :4, 15:6, 16, 60. As the dye system, Solvent Blue 35, 63, 68, 70, 83, 87, 94, 97, 122, 136, 67, 70 or the like can be used. In addition to the above, metal-substituted or unsubstituted phthalocyanine compounds can also be used.

황색 착색제로서는 모노아조계, 디스아조계, 축합 아조계, 벤즈이미다졸론계, 이소인돌리논계, 안트라퀴논계 등을 들 수 있으며, 예를 들어 안트라퀴논계 황색 착색제로서는, Solvent Yellow 163, Pigment Yellow 24, 108, 193, 147, 199, 202 등을 들 수 있다. 이소인돌리논계 황색 착색제로서는, Pigment Yellow 110, 109, 139, 179, 185 등을 들 수 있다. 축합 아조계 황색 착색제로서는, Pigment Yellow 93, 94, 95, 128, 155, 166, 180 등을 들 수 있다. 벤즈이미다졸론계 황색 착색제로서는, Pigment Yellow 120, 151, 154, 156, 175, 181 등을 들 수 있다. 또한, 모노아조계 황색 착색제로서는, Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 61, 62, 62:1, 65, 73, 74, 75, 97, 100, 104, 105, 111, 116, 167, 168, 169, 182, 183 등을 들 수 있다. 또한, 디스아조계 황색 착색제로서는, Pigment Yellow 12, 13, 14, 16, 17, 55, 63, 81, 83, 87, 126, 127, 152, 170, 172, 174, 176, 188, 198 등을 들 수 있다.Examples of the yellow colorant include monoazo, disazo, condensed azo, benzimidazolone, isoindolinone, and anthraquinone. Examples of the anthraquinone yellow colorant include Solvent Yellow 163, Pigment Yellow 24, 108, 193, 147, 199, 202, etc. are mentioned. Pigment Yellow 110, 109, 139, 179, 185 etc. are mentioned as an isoindolinone system yellow colorant. Pigment Yellow 93, 94, 95, 128, 155, 166, 180 etc. are mentioned as a condensed azo yellow colorant. Pigment Yellow 120, 151, 154, 156, 175, 181 etc. are mentioned as a benzimidazolone system yellow colorant. Further, as the monoazo yellow colorant, Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 61, 62, 62:1, 65, 73, 74, 75, 97, 100, 104 , 105, 111, 116, 167, 168, 169, 182, 183 and the like. Further, as the disazo yellow colorant, Pigment Yellow 12, 13, 14, 16, 17, 55, 63, 81, 83, 87, 126, 127, 152, 170, 172, 174, 176, 188, 198, etc. can be heard

그 밖에, 보라색, 오렌지색, 갈색, 흑색, 백색 등의 착색제를 첨가하여도 된다. 구체적으로는, Pigment Black 1, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 18, 20, 25, 26, 28, 29, 30, 31, 32, Pigment Violet 19, 23, 29, 32, 36, 38, 42, Solvent Violet 13, 36, C. I. Pigment Orange 1, 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 61, 63, 64, 71, 73, Pigment Brown 23, 25, 카본 블랙, 산화티타늄 등을 들 수 있다.In addition, a colorant such as purple, orange, brown, black, or white may be added. Specifically, Pigment Black 1, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 18, 20, 25, 26, 28, 29, 30, 31, 32, Pigment Violet 19, 23, 29, 32, 36, 38, 42, Solvent Violet 13, 36, C. I. Pigment Orange 1, 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 61, 63 , 64, 71, 73, Pigment Brown 23, 25, carbon black, titanium oxide and the like.

착색제의 함유량은, 경화성 수지 조성물 중에 있어서, 고형분 환산으로, 바람직하게는 0.1 내지 2.0질량%이며, 보다 바람직하게는 0.3 내지 1.5질량%이다.The content of the coloring agent is preferably 0.1 to 2.0% by mass, more preferably 0.3 to 1.5% by mass in terms of solid content in the curable resin composition.

[그 밖의 첨가 성분][Other Added Ingredients]

본 발명의 경화성 수지 조성물에는, 필요에 따라서, 광개시 보조제, 열경화 촉매, 시아네이트 화합물, 엘라스토머, 메르캅토 화합물, 우레탄화 촉매, 틱소트로픽화제, 밀착 촉진제, 블록 공중합체, 연쇄 이동제, 중합 금지제, 동해(銅害) 방지제, 산화 방지제, 방청제, 미분 실리카, 유기 벤토나이트, 몬모릴로나이트 등의 증점제, 실리콘계, 불소계, 고분자계 등의 소포제 및 레벨링제 중 적어도 어느 1종, 이미다졸계, 티아졸계, 트리아졸계 등의 실란 커플링제, 포스핀산염, 인산 에스테르 유도체, 포스파젠 화합물 등의 인 화합물 등의 난연제 등의 성분을 추가로 배합할 수 있다. 이들은, 전자 재료의 분야에 있어서 공지된 것을 사용할 수 있다.In the curable resin composition of the present invention, if necessary, a photoinitiation aid, a thermosetting catalyst, a cyanate compound, an elastomer, a mercapto compound, a urethanization catalyst, a thixotropic agent, an adhesion accelerator, a block copolymer, a chain transfer agent, and a polymerization inhibitor at least one of antifoaming agents and leveling agents, such as anti-freeze agents, antioxidants, rust inhibitors, thickeners such as finely divided silica, organic bentonite and montmorillonite, silicone-based, fluorine-based and polymer-based, imidazole-based, thiazole-based, Components such as silane coupling agents such as triazoles, flame retardants such as phosphinic acid salts, phosphoric acid ester derivatives, and phosphorus compounds such as phosphazene compounds may be further blended. Those known in the field of electronic materials can be used.

[조제 방법][Preparation method]

본 발명의 경화성 수지 조성물의 조제에는, 각 성분을 칭량, 배합한 후, 교반기로 예비 교반한다. 계속해서, 필요에 따라 혼련기로 각 성분을 분산시키고, 혼련을 행함으로써 조제할 수 있다.In preparation of the curable resin composition of the present invention, after weighing and blending each component, it is preliminarily stirred with a stirrer. Then, it can prepare by dispersing each component with a kneading machine as needed and kneading.

상기 혼련기로서는, 예를 들어 비즈 밀, 볼 밀, 샌드밀, 3축 롤 밀, 2축 롤 밀 등을 들 수 있다. 비즈 밀의 비즈 종류나 입경 등의 분산 조건은, 목적으로 하는 점도에 따라서 적절히 설정할 수 있지만, 비즈의 종류로서는, 예를 들어 지르코니아 비즈, 알루미나 비즈 등을 들 수 있다. 비즈의 입경으로서는, 예를 들어 φ0.015 내지 2.0㎜의 범위를 들 수 있다. 이 중에서도 φ0.3 내지 1.5㎜의 범위가 보다 바람직하다. 비즈의 충전율은 50 내지 95%이며, 로터의 회전수는 800 내지 1300rpm인 것이 바람직하다. 또한, 목적으로 하는 점도로서는, 분산성 향상이나 경화 도막이 보다 저광택이 된다는 점에서 비즈 밀 투입 시의 조성물 점도가 200dPa·s 이하인 것이 바람직하다. 한편, 하한으로서는 50dPa·s 이상이 바람직하다. 본 발명에 있어서의 점도는, JIS Z 8803: 2011의 10원뿔-평판형 회전 점도계에 의한 점도 측정 방법에 준하여, 50℃, 100rpm, 30초로 하고, 콘·로터로서 3°×R9.7을 사용한 콘플레이트형 점도계(TVE-33H, 도키 산교(주) 제조)로 측정한 값이다.As said kneading machine, a bead mill, a ball mill, a sand mill, a 3-axis roll mill, a 2-axis roll mill etc. are mentioned, for example. Dispersion conditions such as the type of beads and particle size of the bead mill can be appropriately set according to the target viscosity, but examples of the type of beads include zirconia beads and alumina beads. As a particle diameter of a bead, the range of (phi) 0.015-2.0 mm is mentioned, for example. Among these, the range of (phi) 0.3 - 1.5 mm is more preferable. The filling rate of the beads is 50 to 95%, and it is preferable that the number of revolutions of the rotor is 800 to 1300 rpm. Moreover, as a target viscosity, it is preferable that the viscosity of the composition at the time of injection|throwing-in of a bead mill is 200 dPa*s or less from the viewpoint of improving dispersibility and making a cured coating film more low gloss. On the other hand, as a lower limit, 50 dPa·s or more is preferable. The viscosity in the present invention is 50 ° C., 100 rpm, 30 seconds in accordance with the viscosity measurement method by a 10-cone-plate rotational viscometer of JIS Z 8803: 2011, using 3 ° × R9.7 as a cone rotor. It is a value measured with a cone plate type viscometer (TVE-33H, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.).

한편, 3축 롤 밀의 각 롤의 회전비 등의 분산 조건도, 목적으로 하는 점도에 따라서 적절히 설정할 수 있다.On the other hand, dispersion conditions, such as the rotation ratio of each roll of a 3-axis roll mill, can also be appropriately set according to the target viscosity.

또한, 분산성을 보다 향상시키기 위해서, 우선은 원료를 비즈 밀이나 3축 롤 밀 등의 혼련기를 사용하여 슬러리화한 것을 칭량, 배합한 후, 교반기로 예비 교반 해도 된다. 원료를 슬러리화할 때는, 실란 커플링제 등의 습윤 분산제도 칭량, 배합하고 나서 비즈 밀 등에 의해 혼련하는 것이 바람직하다. 계속해서, 상기 예시에 있는 바와 같은 혼련기로 슬러리화한 것을 포함하는 각 성분을 분산시켜서, 비즈 밀 등에 의해 혼련을 행함으로써 조제해도 된다.Further, in order to further improve the dispersibility, first, after weighing and blending the slurry of the raw materials using a kneading machine such as a bead mill or a three-roll mill, you may pre-stir with a stirrer. When forming a slurry of raw materials, it is preferable to knead by a bead mill or the like after weighing and blending a wet dispersant such as a silane coupling agent. Then, you may prepare by dispersing each component containing what was slurried with the kneading machine as in the said illustration, and kneading by a bead mill etc.

[용도][Usage]

본 발명에 의한 경화성 수지 조성물은, 솔더 레지스트층이나 커버레이, 층간 절연층 등의 프린트 배선판의 영구 피막으로서의 패턴층을 형성하는 데 유용하고, 특히 솔더 레지스트층의 형성에 유용하다. 또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물은, 박막이어도 막 강도가 우수한 경화물을 형성할 수 있다는 점에서, 박막화가 요구되는 프린트 배선판, 예를 들어 패키지 기판(반도체 패키지에 사용되는 프린트 배선판)에 있어서의 패턴층의 형성에도 적합하게 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물로 얻어지는 경화물은, 굴곡성이 우수하다는 점에서, 플렉시블 프린트 배선판에 적합하게 사용할 수 있다.The curable resin composition according to the present invention is useful for forming a pattern layer as a permanent film of a printed wiring board, such as a solder resist layer, a cover lay, or an interlayer insulating layer, and is particularly useful for forming a solder resist layer. In addition, since the curable resin composition of the present invention can form a cured product having excellent film strength even if it is a thin film, it is suitable for use in printed wiring boards requiring thinning, such as package substrates (printed wiring boards used for semiconductor packages). It can be used suitably also for formation of a pattern layer. Moreover, the hardened|cured material obtained from the curable resin composition of this invention can be used suitably for a flexible printed wiring board at the point which is excellent in flexibility.

또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물은, 경화 도막의 패턴층을 형성하는 용도뿐만 아니라, 패턴층을 형성하지 않는 용도, 예를 들어 몰드 용도(봉지 용도)로 사용할 수 있다.In addition, the curable resin composition of the present invention can be used not only for forming a pattern layer of a cured coating film, but also for a use without forming a pattern layer, for example, a mold application (sealing application).

[드라이 필름][Dry Film]

본 발명의 경화성 수지 조성물은, 제1 필름과, 이 제1 필름 상에 형성된 상기 경화성 수지 조성물의 건조 도막으로 이루어지는 수지층을 구비한 드라이 필름의 형태로 할 수도 있다. 본 발명의 드라이 필름으로부터 얻어진 세로 20㎜×가로 20㎜×막 두께 7㎛의 완전 건조 도막은, 상기 [경화성 수지 조성물]의 [물성]에서 기재한 내용과 마찬가지의 물성을 충족시키는 것을 특징으로 한다.Curable resin composition of this invention can also be made into the form of the dry film provided with the 1st film and the resin layer which consists of a dry coating film of the said curable resin composition formed on this 1st film. The completely dry coating film of 20 mm in length x 20 mm in width x 7 μm in thickness obtained from the dry film of the present invention is characterized by satisfying the same physical properties as those described in [Physical properties] of the [curable resin composition] above. .

본 발명에 있어서의 제1 필름이란, 기판 등의 기재 상에 드라이 필름 상에 형성된 상기 경화성 수지층을 포함하는 수지층 측이 접하도록 가열 등에 의해 라미네이트하여 일체 성형할 때에는 적어도 수지층에 접착하고 있는 것을 말한다. 드라이 필름화 시에는, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 상기 유기 용제로 희석해서 적절한 점도로 조정하고, 콤마 코터, 블레이드 코터, 립 코터, 로드 코터, 스퀴즈 코터, 리버스 코터, 트랜스퍼 롤 코터, 그라비아 코터, 스프레이 코터 등으로 제1 필름 상에 균일한 두께로 도포하고, 통상, 50 내지 130℃의 온도에서 1 내지 30분간 건조시켜서 막을 얻을 수 있다. 도포 막 두께에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 일반적으로, 건조 후의 막 두께로, 1 내지 150㎛, 바람직하게는 5 내지 60㎛의 범위에서 적절히 선택된다.The first film in the present invention is laminated by heating or the like so that the resin layer side comprising the curable resin layer formed on a dry film on a base material such as a substrate is in contact with each other and when integrally molded, at least adhered to the resin layer. say that In the case of dry film formation, the curable resin composition of the present invention is diluted with the above organic solvent to adjust to an appropriate viscosity, and a comma coater, blade coater, lip coater, rod coater, squeeze coater, reverse coater, transfer roll coater, gravure coater, A film can be obtained by applying a uniform thickness on the first film with a spray coater or the like and drying at a temperature of 50 to 130° C. for 1 to 30 minutes. The coating film thickness is not particularly limited, but is generally appropriately selected from the range of 1 to 150 µm, preferably 5 to 60 µm, as the film thickness after drying.

제1 필름으로서는, 공지된 것이면 특별히 제한없이 사용할 수 있으며, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아미드이미드 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리스티렌 필름 등의 열가소성 수지를 포함하는 필름을 적합하게 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 내열성, 기계적 강도, 취급성 등의 관점에서, 폴리에스테르 필름이 바람직하다. 또한, 이들 필름의 적층체를 제1 필름으로서 사용할 수도 있다.As the first film, any known film may be used without particular limitation, and examples thereof include polyester films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, thermoplastic resins such as polyimide films, polyamideimide films, polypropylene films, and polystyrene films. A film containing may be suitably used. Among these, from viewpoints of heat resistance, mechanical strength, handleability, etc., a polyester film is preferable. Moreover, a laminated body of these films can also be used as a 1st film.

또한, 상기한 바와 같은 열가소성 수지 필름은, 기계적 강도 향상의 관점에서, 1축 방향 또는 2축 방향으로 연신된 필름인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the above thermoplastic resin film is a film stretched in the uniaxial direction or biaxial direction from a viewpoint of improving mechanical strength.

제1 필름의 두께는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들어 10㎛ 내지 150㎛로 할 수 있다.The thickness of the first film is not particularly limited, but may be, for example, 10 μm to 150 μm.

제1 필름 상에 본 발명의 경화성 수지 조성물의 수지층을 형성한 후, 또한, 수지층의 표면에 티끌이 부착되는 것을 방지하는 등의 목적으로, 수지층의 표면에 박리 가능한 제2 필름을 적층하는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서의 제2 필름이란, 기판 등의 기재 상에 드라이 필름 상에 형성된 상기 경화성 수지층을 포함하는 수지층 측이 접하도록 가열 등에 의해 라미네이트하여 일체 성형할 때, 라미네이트 전에 경화성 수지층으로부터 박리한 것을 말한다. 박리 가능한 제2 필름으로서는, 예를 들어 폴리에틸렌 필름, 폴리테트라플루오로에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 표면 처리한 종이 등을 사용할 수 있고, 제2 필름을 박리할 때에 수지층과 제1 필름의 접착력보다도 수지층과 제2 필름의 접착력이 보다 작은 것이면 된다.After the resin layer of the curable resin composition of the present invention is formed on the first film, a second peelable film is laminated on the surface of the resin layer for the purpose of preventing dust from adhering to the surface of the resin layer. It is desirable to do The second film in the present invention refers to the curable resin layer formed on a dry film on a base material such as a substrate when laminated by heating or the like so that the resin layer side is in contact with each other and molded integrally, from the curable resin layer before lamination. it says peeled As the second film that can be peeled, for example, a polyethylene film, a polytetrafluoroethylene film, a polypropylene film, surface-treated paper, etc. can be used. What is necessary is just to have the adhesive force of a resin layer and a 2nd film smaller.

제2 필름의 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 10㎛ 내지 150㎛로 할 수 있다. Although the thickness of the 2nd film is not specifically limited, For example, it can be 10 micrometers - 150 micrometers.

실시예Example

이하, 본 발명을, 실시예를 사용하여 보다 상세히 설명하지만, 본 발명은 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하에 있어서 「부」 및 「%」라고 하는 것은, 특별히 정함이 없는 한 모두 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail using examples, but the present invention is not limited to the following examples. In addition, "part" and "%" below are all based on mass unless otherwise specified.

(경화성 수지 용액 A-1의 합성(카르복실기 함유))(Synthesis of Curable Resin Solution A-1 (Containing Carboxyl Group))

온도계, 질소 도입 장치 겸 알킬렌옥사이드 도입 장치 및 교반 장치를 구비한 오토클레이브에, 노볼락형 크레졸 수지(아이카 고교(주) 제조, 상품명 「쇼놀 CRG951」, OH 당량: 119.4) 119.4g, 수산화칼륨 1.19g 및 톨루엔 119.4g을 투입하고, 교반하면서 계내를 질소 치환하고, 가열 승온하였다. 이어서, 프로필렌옥사이드 63.8g을 조금씩 적하하고, 125 내지 132℃, 0 내지 4.8㎏/㎠로 16시간 반응시켰다. 그 후, 실온까지 냉각하고, 이 반응 용액에 89% 인산 1.56g을 첨가 혼합하여 수산화칼륨을 중화하고, 불휘발분 62.1%, 수산기가가 182.2g/eq.인 노볼락형 크레졸 수지의 프로필렌옥사이드 반응 용액을 얻었다. 이것은, 페놀성 수산기 1 당량당 알킬렌옥사이드가 평균 1.08몰 부가한 것이었다.In an autoclave equipped with a thermometer, a nitrogen introduction device, an alkylene oxide introduction device, and a stirring device, 119.4 g of novolak type cresol resin (manufactured by Aika Kogyo Co., Ltd., trade name "Shonol CRG951", OH equivalent: 119.4), potassium hydroxide 1.19 g and 119.4 g of toluene were introduced, the inside of the system was substituted with nitrogen while stirring, and the temperature was raised with heating. Then, 63.8 g of propylene oxide was added dropwise and reacted at 125 to 132°C and 0 to 4.8 kg/cm 2 for 16 hours. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature, and 1.56 g of 89% phosphoric acid was added to and mixed with the reaction solution to neutralize potassium hydroxide. got a solution. This was an average of 1.08 moles of alkylene oxide added per 1 equivalent of phenolic hydroxyl group.

이어서, 얻어진 노볼락형 크레졸 수지의 알킬렌옥사이드 반응 용액 293.0g, 아크릴산 43.2g, 메탄술폰산 11.53g, 메틸하이드로퀴논 0.18g 및 톨루엔 252.9g을, 교반기, 온도계 및 공기 취입관을 구비한 반응기에 투입하고, 공기를 10ml/분의 속도로 취입하고, 교반하면서, 110℃에서 12시간 반응시켰다. 반응에 의해 생성된 물은, 톨루엔과의 공비 혼합물로서, 12.6g의 물이 유출되었다. 그 후, 실온까지 냉각시키고, 얻어진 반응 용액을 15% 수산화나트륨 수용액 35.35g으로 중화하고, 이어서 수세하였다. 그 후, 증발기로 톨루엔을 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하, 「PMA」라고 함) 118.1g으로 치환하면서 증류 제거하고, 노볼락형 아크릴레이트 수지 용액을 얻었다. 이어서, 얻어진 노볼락형 아크릴레이트 수지 용액 332.5g 및 트리페닐포스핀 1.22g을, 교반기, 온도계 및 공기 취입관을 구비한 반응기에 투입하고, 공기를 10ml/분의 속도로 취입하고, 교반하면서, 테트라히드로프탈산 무수물 60.8g을 조금씩 첨가하고, 95 내지 101℃에서 6시간 반응시켜서, 경화성 수지 용액 A-1을 얻었다. 얻어진 경화성 수지 용액 A-1의 고형분은 65%, 고형물의 산가 88㎎KOH/g, 중량 평균 분자량은 약 2,500(폴리스티렌 환산)이었다.Subsequently, 293.0 g of the obtained alkylene oxide reaction solution of the novolak-type cresol resin, 43.2 g of acrylic acid, 11.53 g of methanesulfonic acid, 0.18 g of methylhydroquinone, and 252.9 g of toluene were introduced into a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, and an air blowing pipe. Then, air was blown in at a rate of 10 ml/min and reacted at 110°C for 12 hours while stirring. The water produced by the reaction was an azeotropic mixture with toluene, and 12.6 g of water flowed out. Then, it cooled to room temperature, and neutralized the obtained reaction solution with 35.35 g of 15% sodium hydroxide aqueous solution, and then washed with water. Thereafter, toluene was distilled off while substituting 118.1 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as “PMA”) with an evaporator to obtain a novolak-type acrylate resin solution. Then, 332.5 g of the obtained novolak-type acrylate resin solution and 1.22 g of triphenylphosphine were put into a reactor equipped with a stirrer, a thermometer and an air blowing tube, air was blown in at a rate of 10 ml/min, and stirring, 60.8 g of tetrahydrophthalic anhydride was added little by little, and it was made to react at 95-101 degreeC for 6 hours, and curable resin solution A-1 was obtained. The solid content of obtained curable resin solution A-1 was 65%, the acid value of 88 mgKOH/g of a solid, and the weight average molecular weight were about 2,500 (polystyrene conversion).

(경화성 수지 용액 A-2의 합성)(Synthesis of Curable Resin Solution A-2)

냉각관, 교반기를 구비한 플라스크에, 비스페놀 A 456부, 물 228부, 37% 포르말린 649부를 투입하고, 40℃ 이하의 온도를 유지하고, 25% 수산화나트륨 수용액 228부를 첨가하고, 첨가 종료 후 50℃에서 10시간 반응하였다. 반응 종료 후 40℃까지 냉각시키고, 40℃ 이하를 유지하면서 37.5% 인산수 용액으로 pH4까지 중화하였다. 그 후 정치하고 수층을 분리하였다. 분리 후 메틸이소부틸케톤 300부를 첨가하고 균일하게 용해한 후, 증류수 500부로 3회 세정하고, 50℃ 이하의 온도에서 감압하, 물, 용매 등을 제거하였다. 얻어진 폴리메틸올 화합물을 메탄올 550부로 용해하고, 폴리메틸올 화합물의 메탄올 용액 1230부를 얻었다. 얻어진 폴리메틸올 화합물의 메탄올 용액의 일부를 진공 건조기 중 실온에서 건조시킨바, 고형분이 55.2%였다.In a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 456 parts of bisphenol A, 228 parts of water, and 649 parts of 37% formalin were added, the temperature was maintained at 40 ° C. or less, 228 parts of 25% sodium hydroxide aqueous solution was added, and after the addition was completed, 50 It reacted for 10 hours at ℃. After completion of the reaction, the mixture was cooled to 40° C., and neutralized to pH 4 with a 37.5% phosphoric acid solution while maintaining the temperature below 40° C. After that, it was allowed to stand and the water layer was separated. After separation, 300 parts of methyl isobutyl ketone was added and dissolved uniformly, and then washed three times with 500 parts of distilled water, and water and solvent were removed under reduced pressure at a temperature of 50°C or lower. The obtained polymethylol compound was dissolved in 550 parts of methanol to obtain 1230 parts of a methanol solution of the polymethylol compound. When a part of the obtained methanol solution of the polymethylol compound was dried at room temperature in a vacuum dryer, the solid content was 55.2%.

얻어진 폴리메틸올 화합물의 메탄올 용액 500부, 2,6-크실레놀 440부를 투입하고, 50℃에서 균일하게 용해하였다. 균일하게 용해한 후 50℃ 이하의 온도에서 감압하, 메탄올을 제거하였다. 그 후 옥살산 8부를 첨가하고, 100℃에서 10시간 반응하였다. 반응 종료 후 180℃, 50㎜Hg의 감압 하에서 유출분을 제거하고, 노볼락 수지 A 550부를 얻었다. 또한, 온도계, 질소 도입 장치 겸 알킬렌옥사이드 도입 장치 및 교반 장치를 구비한 오토클레이브에, 상기 노볼락 수지 A 130부, 50% 수산화나트륨 수용액 2.6부, 톨루엔/메틸이소부틸케톤(질량비=2/1) 100부를 투입하고, 교반하면서 계내를 질소 치환하고, 다음으로 가열 승온하고, 150℃, 8㎏/㎠로 에틸렌옥사이드 45부를 조금씩 도입해서 반응시켰다. 반응은 게이지압 0.0㎏/㎠가 될 때까지 약 4시간을 계속한 후, 실온까지 냉각하였다. 이 반응 용액에 3.3부에 36% 염산수 용액을 첨가 혼합하고, 수산화나트륨을 중화하였다. 이 중화 반응 생성물을 톨루엔으로 희석하고, 3회 수세하고, 증발기로 탈용제하여, 수산기가가 175g/eq.인 노볼락 수지 A의 에틸렌옥사이드 부가물을 얻었다. 이것은, 페놀성 수산기 1당량당 에틸렌옥사이드가 평균 1몰 부가한 것이었다. 이와 같이 얻어진 노볼락 수지 A의 에틸렌옥사이드 부가물 175부, 메타크릴산 75부, p-톨루엔술폰산 3.0부, 하이드로퀴논모노메틸에테르 0.1부, 톨루엔 130부를 교반기, 온도계, 공기 취입관을 구비한 반응기에 투입하고, 공기를 취입하면서 교반하고, 115℃로 승온하고, 반응에 의해 생성된 물을 톨루엔과 공비 혼합물로서 증류 제거하면서, 추가로 4시간 반응시킨 후, 실온까지 냉각하였다. 얻어진 반응 용액을 5% NaCl 수용액을 사용하여 수세하고, 감압 증류 제거로 톨루엔을 제거한 후, PMA를 첨가하고, 경화성 수지 용액 A-2을 얻었다. 얻어진 경화성 수지 용액 A-2의 고형분은 70%, 중량 평균 분자량은 약 5,500(폴리스티렌 환산)이었다.500 parts of the methanol solution of the obtained polymethylol compound and 440 parts of 2,6-xylenol were added, and uniformly dissolved at 50°C. After uniformly dissolving, methanol was removed under reduced pressure at a temperature of 50°C or lower. After that, 8 parts of oxalic acid were added and reacted at 100°C for 10 hours. After completion of the reaction, distillate was removed at 180°C under reduced pressure of 50 mmHg to obtain 550 parts of novolak resin A. In addition, in an autoclave equipped with a thermometer, a nitrogen introduction device and an alkylene oxide introduction device, and a stirring device, 130 parts of the novolak resin A, 2.6 parts of a 50% sodium hydroxide aqueous solution, toluene / methyl isobutyl ketone (mass ratio = 2/ 1) 100 parts were charged, the inside of the system was purged with nitrogen while stirring, then the temperature was raised by heating, and 45 parts of ethylene oxide was introduced little by little at 150°C and 8 kg/cm 2 to react. The reaction was continued for about 4 hours until the gauge pressure reached 0.0 kg/cm 2 , then cooled to room temperature. 3.3 parts of 36% aqueous hydrochloric acid solution was added and mixed to this reaction solution, and sodium hydroxide was neutralized. This neutralization reaction product was diluted with toluene, washed with water three times, and solvent removed with an evaporator to obtain an ethylene oxide adduct of novolac resin A having a hydroxyl value of 175 g/eq. This was obtained by adding an average of 1 mol of ethylene oxide per 1 equivalent of phenolic hydroxyl group. 175 parts of ethylene oxide adduct of novolac resin A thus obtained, 75 parts of methacrylic acid, 3.0 parts of p-toluenesulfonic acid, 0.1 part of hydroquinone monomethyl ether, 130 parts of toluene A reactor equipped with a stirrer, a thermometer, and an air blowing tube , stirred while blowing in air, heated to 115°C, and reacted for another 4 hours while distilling off water generated by the reaction as an azeotropic mixture with toluene, and then cooled to room temperature. After washing the obtained reaction solution with water using 5% NaCl aqueous solution and removing toluene by distillation under reduced pressure, PMA was added to obtain curable resin solution A-2. Solid content of obtained curable resin solution A-2 was 70%, and the weight average molecular weight was about 5,500 (polystyrene conversion).

(경화성 수지 용액 A-3의 합성(카르복실기 함유))(Synthesis of curable resin solution A-3 (containing carboxyl group))

교반기 및 환류 냉각기가 부착된 4구 플라스크에, 크레졸노볼락형 에폭시 수지(DIC(주) 제조, EPICLON N-695, 에폭시 당량: 220) 220g을 넣고, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트(카르비톨아세테이트) 214g을 첨가하여, 가열 용해하였다. 다음으로, 중합 금지제로서 하이드로퀴논 0.1g과, 반응 촉매로서 디메틸벤질아민 2.0 g을 첨가하였다. 이 혼합물을 95 내지 105℃로 가열하고, 아크릴산 72g을 조금씩 적하하고, 16시간 반응시켰다. 이 반응 생성물을 80 내지 90℃까지 냉각하고, 테트라히드로프탈산 무수물 106g을 첨가하여, 8시간 반응시키고, 냉각 후, 취출하였다. 이와 같이 하여 얻어진 경화성 수지 용액 A-3의 수지 용액을 얻었다. 얻어진 경화성 수지 용액 A-3의 고형분은 65%, 고형분의 산가는 100㎎KOH/g, 중량 평균 분자량은 약 8,000(폴리스티렌 환산)이었다.In a four-necked flask equipped with a stirrer and a reflux condenser, 220 g of cresol novolak type epoxy resin (manufactured by DIC Co., Ltd., EPICLON N-695, epoxy equivalent: 220) was put, and diethylene glycol monoethyl ether acetate (carbitol acetate ) was added and dissolved by heating. Next, 0.1 g of hydroquinone as a polymerization inhibitor and 2.0 g of dimethylbenzylamine as a reaction catalyst were added. This mixture was heated to 95-105 degreeC, 72 g of acrylic acid was dripped little by little, and it was made to react for 16 hours. The reaction product was cooled to 80 to 90°C, 106 g of tetrahydrophthalic anhydride was added, and the mixture was reacted for 8 hours and taken out after cooling. The resin solution of curable resin solution A-3 obtained in this way was obtained. As for the solid content of obtained curable resin solution A-3, 65% and the acid value of solid content were 100 mgKOH/g and the weight average molecular weight were about 8,000 (polystyrene conversion).

(경화성 수지 용액 A-4의 합성(카르복실기 함유))(Synthesis of curable resin solution A-4 (containing carboxyl group))

온도계, 교반기, 적하 깔때기 및 환류 냉각기를 구비한 플라스크에, 용매로서의 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 325.0질량부를 110℃까지 가열하고, 메타크릴산 174.0질량부, ε-카프로락톤 변성 메타크릴산(평균 분자량 314) 174.0질량부, 메타크릴산메틸 77.0질량부, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르(DPM) 222.0질량부, 및 중합 촉매로서의 t-부틸퍼옥시2-에틸헥사노에이트(니치유(주) 제조, 퍼부틸 O) 12.0질량부의 혼합물을, 3시간에 걸쳐 적하하고, 추가로 110℃에서 3시간 교반하고, 중합 촉매를 실활시켜서, 수지 용액을 얻었다. 이 수지 용액을 냉각 후, 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트((주)다이셀 제조, 사이클로머 M100) 289.0질량부, 트리페닐포스핀 3.0질량부 및 하이드로퀴논모노메틸에테르 1.3질량부를 첨가하여, 100℃로 승온하고, 교반함으로써 에폭시기의 개환 부가 반응을 행하여, 경화성 수지 용액 A-4을 얻었다. 얻어진 경화성 수지 용액 A-4의 고형분은 46질량%, 고형분의 산가는 79.8㎎KOH/g, 중량 평균 분자량은 약 18,000(폴리스티렌 환산)이었다.In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, 325.0 parts by mass of dipropylene glycol monomethyl ether as a solvent was heated to 110° C., and 174.0 parts by mass of methacrylic acid and ε-caprolactone modified methacrylic acid (average molecular weight) were added. 314) 174.0 parts by mass, 77.0 parts by mass of methyl methacrylate, 222.0 parts by mass of dipropylene glycol monomethyl ether (DPM), and t-butylperoxy 2-ethylhexanoate as a polymerization catalyst (manufactured by Nichiyu Co., Ltd., A mixture of 12.0 parts by mass of perbutyl O) was added dropwise over 3 hours, and further stirred at 110°C for 3 hours to deactivate the polymerization catalyst to obtain a resin solution. After cooling this resin solution, 289.0 parts by mass of 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (manufactured by Daicel Co., Ltd., Cyclomer M100), 3.0 parts by mass of triphenylphosphine, and 1.3 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether Addition, the temperature was raised to 100 ° C., and ring-opening addition reaction of the epoxy group was performed by stirring, and curable resin solution A-4 was obtained. As for the solid content of obtained curable resin solution A-4, 79.8 mgKOH/g and the weight average molecular weight of 46 mass % and the acid value of solid content were about 18,000 (polystyrene conversion).

(표면 처리가 없는 실리카 슬러리의 조제)(Preparation of silica slurry without surface treatment)

구상 실리카((주)애드마테크 제조) 700g, 용제로서 PMA 300g, 비즈 밀로 0.7㎛의 지르코니아 비즈를 사용하여 분산 처리를 행하였다. 이것을 3회 반복해서 3㎛ 필터로 여과하고, 평균 입경이 0.7㎛가 되는 실리카 슬러리를 조제하였다. 얻어진 실리카 슬러리의 고형분은 70질량%였다.Dispersion treatment was performed using 700 g of spherical silica (made by Admatech Co., Ltd.), 300 g of PMA as a solvent, and 0.7 µm zirconia beads in a bead mill. This was repeated three times and filtered with a 3 µm filter to prepare a silica slurry having an average particle diameter of 0.7 µm. Solid content of the obtained silica slurry was 70 mass %.

(표면 처리가 있는 실리카 슬러리의 조제)(Preparation of silica slurry with surface treatment)

상기에서 얻어진 평균 입경 0.7㎛의 실리카 슬러리(PMA 중, 고형분 70질량%))를 사용하고, 실리카에 대하여 4질량%의 메타크릴실란(신에츠 가가쿠 고교(주) 제조, KBM-503)을 첨가하여, 비즈 밀로 10분 처리하고, 메타크릴실란으로 표면 처리한 실리카 슬러리를 얻었다. 얻어진 실리카 슬러리의 고형분은 70질량%였다.Using the silica slurry (in PMA, solid content: 70% by mass) having an average particle diameter of 0.7 μm obtained above, 4% by mass of methacrylsilane (KBM-503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) was added to the silica , and treated with a bead mill for 10 minutes to obtain a silica slurry surface-treated with methacrylsilane. Solid content of the obtained silica slurry was 70 mass %.

(황산바륨 슬러리의 조제)(Preparation of barium sulfate slurry)

평균 입경 0.3㎛의 황산바륨(사카이 가가쿠 고교(주) 제조 B-30) 700g과, 용제로서 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트(카르비톨아세테이트) 295g, 습윤 분산제 5g을 혼합 교반하고, 비즈 밀로 0.7㎛의 지르코니아 비즈를 사용하여 분산 처리를 행하였다. 이것을 3회 반복해서 3㎛의 필터로 여과하고, 평균 입경 0.3㎛가 되는 황산바륨 슬러리를 조제하였다. 얻어진 황산바륨 슬러리의 고형분은 70질량%였다.700 g of barium sulfate (B-30 manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) with an average particle diameter of 0.3 μm, 295 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate (carbitol acetate) as a solvent, and 5 g of a wet dispersing agent were mixed and stirred, and 0.7 Dispersion treatment was performed using μm zirconia beads. This was repeated three times and filtered through a 3 µm filter to prepare a barium sulfate slurry having an average particle diameter of 0.3 µm. Solid content of the obtained barium sulfate slurry was 70 mass %.

[실시예 1 내지 6, 비교예 1 내지 3][Examples 1 to 6, Comparative Examples 1 to 3]

(경화성 수지 조성물의 조제)(Preparation of Curable Resin Composition)

하기의 표 1 중에 나타내는 배합에 따라 각 성분을 배합하고, 교반기로 분산시켜서, 각각 경화성 수지 조성물을 조제하였다. 표 중의 배합량은, 질량부를 나타낸다. 조정한 경화성 수지 조성물을 사용하여 하기와 같이 평가를 행하였다.Each component was mix|blended according to the formulation shown in following Table 1, and it disperse|distributed with the stirrer, and curable resin composition was prepared, respectively. The compounding quantity in a table|surface shows a mass part. Evaluation was performed as follows using the adjusted curable resin composition.

Figure pct00002
Figure pct00002

표 1 중의 배합량은, 질량부를 나타낸다.The compounding quantity in Table 1 shows parts by mass.

표 1 중의 각 성분의 상세는, 이하와 같다.Details of each component in Table 1 are as follows.

※1: 상기에서 합성한 경화성 수지 용액 A-1(카르복실기 함유)※1: Curable resin solution A-1 synthesized above (containing carboxyl group)

※2: 상기에서 합성한 경화성 수지 용액 A-2※2: Curable resin solution A-2 synthesized above

※3: 상기에서 합성한 경화성 수지 용액 A-3(카르복실기 함유)※3: Curable resin solution A-3 synthesized above (containing carboxyl group)

※4: 상기에서 합성한 경화성 수지 용액 A-4(카르복실기 함유)※4: Curable resin solution A-4 synthesized above (containing carboxyl group)

※5: 에폭시 수지(DIC(주) 제조, HP-7200L)의 카르비톨아세테이트 커트품※5: Carbitol acetate cut product of epoxy resin (manufactured by DIC Co., Ltd., HP-7200L)

※6: 상기에서 합성한 표면 처리가 없는 실리카 슬러리※6: Silica slurry without surface treatment synthesized above

※7: 상기에서 합성한 표면 처리가 있는 실리카 슬러리※7: Silica slurry with surface treatment synthesized above

※8: 상기에서 합성한 황산바륨 슬러리※8: The barium sulfate slurry synthesized above

※9: PMA※9: PMA

※10: 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온(IGM Resins사 제조, Omnirad 907)※10: 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one (manufactured by IGM Resins, Omnirad 907)

※11: 흑색 착색제(미츠비시 케미컬(주) 제조, MA-100)※11: Black colorant (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., MA-100)

※12: 백색 착색제(이시하라 산교(주) 제조, 타이 베이크 CR-58)※12: White colorant (Thai Bake CR-58, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.)

※13: 아크릴레이트계 레벨링제(빅 케미·재팬사 제조, BYK-350)*13: Acrylate-based leveling agent (BYK-350, manufactured by Big Chemie Japan)

※14: 아크릴레이트계 레벨링제(빅 케미·재팬사 제조, BYK-361N)*14: Acrylate-based leveling agent (BYK-361N, manufactured by Big Chemie Japan)

※15: 중합 금지제(가와사키 가세이 고교(주) 제조, QS-30)※15: Polymerization inhibitor (QS-30, manufactured by Kawasaki Kasei Kogyo Co., Ltd.)

또한, ※16의 「경화성 수지 조성물 중의 PMA의 함유량」은, 상기 (C) 유기 용제로서 배합한 PMA의 양뿐만 아니라, 상기 (A) 경화성 수지 및 (B) 필러(슬러리)의 조제에 사용한 액체 성분 중의 PMA의 양도 포함한 값이다.In addition, "content of PMA in curable resin composition" of ※ 16 is not only the amount of PMA blended as the above (C) organic solvent, but also the liquid used for preparing the above (A) curable resin and (B) filler (slurry) It is a value including the amount of PMA in the component.

<완전 건조 도막의 제조(실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 3)><Preparation of completely dry coating film (Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3)>

실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 3의 경화성 수지 조성물을, 기재가 되는 동판 상에 스크린 인쇄에 의해 도포하고, 상온(25℃)에서 4개월 방치하여 건조시켜서, 세로 20㎜×가로 20㎜×막 두께 7㎛의 도막을 제조하였다. 얻어진 도막은, 상기 수식 (1)로 산출된 휘발률 차가 10% 이내였기 때문에, 완전 건조 도막이 형성된 것이라고 판단하였다. 또한, 완전 건조 도막의 막 두께에 대해서는, 레이저 마이크로스코프((주)키엔스 제조, VR-3200)를 사용하여 계측하였다.The curable resin compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 were applied by screen printing on a copper plate serving as a base material, left at room temperature (25°C) for 4 months, and dried to obtain a size of 20 mm in length x 20 mm in width. A coating film having a film thickness of 7 µm was prepared. Since the obtained coating film was within 10% of the volatilization rate calculated by the said formula (1), it was judged that a completely dry coating film was formed. In addition, the film thickness of the completely dry coating film was measured using a laser microscope (VR-3200 manufactured by Keyence Corporation).

<완전 건조 도막의 작성(실시예 7)><Preparation of completely dry coating film (Example 7)>

실시예 6의 경화성 수지 조성물을, 애플리케이터를 사용하여, 제1 필름인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 상에 도포하고, 80℃에서 10분 건조시켜서, 경화성 수지 조성물의 건조 도막을 포함하는 수지층을 구비하는 드라이 필름을 얻었다. 그 후, 기재가 되는 동판 상에 진공 라미네이터를 사용하여 라미네이트를 행하고, 제1 필름을 박리 후, 상온(25℃)에서 4개월 방치하여 건조시키고, 세로 20㎜×가로 20㎜×막 두께 7㎛의 도막을 제조하였다. 얻어진 도막은, 상기 수식 (1)로 산출한 휘발률 차가 10% 이내였기 때문에, 완전 건조 도막이 형성된 것이라고 판단하였다. 또한, 완전 건조 도막의 막 두께에 대해서는, 레이저 마이크로스코프((주)키엔스 제조, VR-3200)를 사용하여 계측하였다.The curable resin composition of Example 6 was applied onto the polyethylene terephthalate film as the first film using an applicator, dried at 80° C. for 10 minutes, and dry provided with a resin layer containing a dry coating film of the curable resin composition. got the film After that, lamination was performed on a copper plate serving as a base material using a vacuum laminator, and after peeling off the first film, it was left to dry for 4 months at room temperature (25°C) to have a length of 20 mm × width of 20 mm × film thickness of 7 μm. A coating film was prepared. Since the obtained coating film was within 10% of the volatilization rate difference calculated by the said Formula (1), it was judged that a completely dry coating film was formed. In addition, the film thickness of the completely dry coating film was measured using a laser microscope (VR-3200 manufactured by Keyence Corporation).

(용해 개시 시간 및 용해 완료 시간)(dissolution start time and dissolution completion time)

완전 건조 도막의 용해 개시 시간 및 용해 완료 시간의 측정에는, 도 1에 도시한 장치를 사용하였다. 구체적으로는, 100ml 비이커(2)에 세정 용제(5)인 PMA를 70ml와 교반자(6)를 넣고, 25℃로 설정한 워터 배스 내에 설치하였다. 교반기(7)(애즈원(주) 제조, M-3, 500rpm)를 사용하여, 세정 용제를 교반시킴으로써 세정 용제의 온도를 안정화시켰다. 계속해서, 상기에서 제조한 완전 건조 도막(3)이 도포된 동판(1)의 침지 깊이가 세정 용제의 수면으로부터 깊이 20㎜가 되도록 배치하고, 세정 용제의 수면에 대하여 수직으로 침지시켰다. 레이저 수평기((주)TJM 디자인 제조, ZEROS-KJC)를 사용하고, 침지시킨 동판 상의 완전 건조 도막에 대하여 레이저(가시광 반도체 레이저, 파장 635㎚, 라인 폭 2㎜, 광출력 2.5㎽ 이하)의 라인을 수평으로 입사하여, 세정 용제의 흐름 방향에 있어서, 완전 건조 도막의 일부를 조사하였다. 완전 건조 도막이 용해되어 발생한 하지의 동판 위로의 휘선이 레이저광(4)의 전 조사 부분(2㎜×20㎜) 중 2㎜×1㎜의 영역에서 확인되었을 때를, 용해 개시 시간으로 하였다. 한편, 완전 건조 도막이 용해되어 발생한 하지의 동판 위로의 휘선이 레이저광의 전 조사 부분(2㎜×20㎜) 중 2㎜×19㎜의 영역에서 확인되었을 때를, 용해 완료 시간으로 하였다. 또한, 상기 휘선은 레이저광의 전 조사 부분의 어느 개소에서 확인된 것이어도 된다. 용해 시간의 계측 한도는 120초까지로 하였다. 따라서, 120초 경과해도 용해 개시나 완료도 되지 않은 경우에는, 표 2에서 각각 ×로 나타내었다.The apparatus shown in Fig. 1 was used to measure the dissolution start time and dissolution completion time of the completely dry coating film. Specifically, 70 ml of PMA as a cleaning solvent (5) and a stirrer (6) were placed in a 100 ml beaker (2) and placed in a water bath set at 25°C. The temperature of the cleaning solvent was stabilized by stirring the cleaning solvent using an agitator 7 (manufactured by As One Co., Ltd., M-3, 500 rpm). Subsequently, the copper plate 1 coated with the completely dry coating film 3 prepared above was arranged so that the depth of immersion was 20 mm from the surface of the cleaning solvent, and was immersed perpendicularly to the surface of the cleaning solvent. Using a laser level (manufactured by TJM Design Co., Ltd., ZEROS-KJC), a line of laser (visible light semiconductor laser, wavelength 635 nm, line width 2 mm, light output 2.5 mW or less) was applied to the completely dry coating film on the immersed copper plate. was incident horizontally, and a part of the completely dried coating film was examined in the flow direction of the cleaning solvent. Dissolution start time was when the bright line on the copper plate of the base generated by dissolution of the completely dry coating film was confirmed in an area of 2 mm x 1 mm in the entire irradiation area (2 mm x 20 mm) of the laser beam 4. On the other hand, when the bright line on the copper plate of the base generated by dissolution of the completely dry coating film was confirmed in a region of 2 mm × 19 mm in the area of 2 mm × 20 mm before irradiation of the laser beam, the dissolution completion time was taken. In addition, the bright line may be confirmed at any location in the entire irradiation portion of the laser beam. The measurement limit of the dissolution time was up to 120 seconds. Therefore, when dissolution was not started or completed even after 120 seconds had elapsed, it was indicated by x in Table 2, respectively.

(세정 제거성의 확인)(Confirmation of cleaning removability)

상기에서 제조한 완전 건조 도막이 도포된 동판의 완전 건조 도막의 표면을 세정 용제로서 PMA를 스며들게 한 클린 웨스로 닦고, 눈으로 보아 이하의 기준에 따라서 평가하였다.The surface of the completely dry coating film of the copper plate coated with the completely dry coating film prepared above was wiped with a clean wash impregnated with PMA as a cleaning solvent, and visually evaluated according to the following criteria.

○: 동판으로부터 완전 건조 도막을 완전히 제거할 수 있었다.○: The completely dry coating film could be completely removed from the copper plate.

△: 동판으로부터 완전 건조 도막의 일부를 제거할 수 있었다.(triangle|delta): A part of the completely dry coating film was able to be removed from the copper plate.

×: 동판으로부터 완전 건조 도막을 제거할 수 없었다.x: The completely dry coating film could not be removed from the copper plate.

Figure pct00003
Figure pct00003

표 2로부터 명백한 바와 같이, 실시예 1 내지 6의 경화성 수지 조성물 및 실시예 7의 드라이 필름은, 완전 건조 도막의 세정 제거성이 우수함을 알 수 있다. 한편, 비교예 1 내지 3의 완전 건조 도막에 대해서는, 세정 용제인 PMA에 대한 침지 개시부터 120초를 경과하여도 용해 개시도 완료되지 않아, 세정 제거성이 떨어져 있음을 알 수 있다.As is apparent from Table 2, it is understood that the curable resin compositions of Examples 1 to 6 and the dry film of Example 7 are excellent in wash removability of completely dry coating films. On the other hand, the completely dry coating films of Comparative Examples 1 to 3 did not complete dissolution even after 120 seconds from the start of immersion in PMA as a cleaning solvent, indicating poor cleaning removability.

1: 동판
2: 100ml 비이커
3: 완전 건조 도막
4: 레이저광
5: 세정 용제
6: 교반자
7: 교반기
1: copper plate
2: 100ml beaker
3: completely dry coating
4: laser light
5: cleaning solvent
6: Agitator
7: Agitator

Claims (9)

(A) 경화성 수지, (B) 필러, 및 (C) 유기 용제를 함유하는 경화성 수지 조성물로서,
상기 경화성 수지 조성물을 사용하여 형성한 세로 20㎜×가로 20㎜×막 두께 7㎛의 완전 건조 도막의, 세정 용제인 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트에 대한 용해 개시 시간이, 상기 세정 용제에 대한 침지 개시부터 20초 이내인 것을 특징으로 하는, 경화성 수지 조성물.
A curable resin composition containing (A) a curable resin, (B) a filler, and (C) an organic solvent,
The dissolution start time of the completely dry coating film of 20 mm in length x 20 mm in width x 7 μm in thickness formed using the curable resin composition in propylene glycol monomethyl ether acetate as a cleaning solvent is the start of immersion in the cleaning solvent Characterized in that within 20 seconds from, curable resin composition.
제1항에 있어서,
상기 완전 건조 도막의 용해 완료 시간이, 상기 세정 용제에 대한 침지 개시부터 40초 이내인, 경화성 수지 조성물.
According to claim 1,
The curable resin composition, wherein the time to complete dissolution of the completely dry coating film is within 40 seconds from the start of immersion in the cleaning solvent.
제1항 또는 제2항에 있어서,
프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 함유량이, 상기 경화성 수지 조성물 중에 있어서 20질량% 이상인, 경화성 수지 조성물.
According to claim 1 or 2,
Curable resin composition whose content of propylene glycol monomethyl ether acetate is 20 mass % or more in the said curable resin composition.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (B) 필러의 함유량이, 상기 경화성 수지 조성물 중에 있어서 45질량% 이하인, 경화성 수지 조성물.
According to any one of claims 1 to 3,
Curable resin composition in which content of the said (B) filler is 45 mass % or less in the said curable resin composition.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (A) 경화성 수지가 카르복실기 함유 수지를 포함하는, 경화성 수지 조성물.
According to any one of claims 1 to 4,
Curable resin composition in which said (A) curable resin contains carboxyl group-containing resin.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 카르복실기 함유 수지의 중량 평균 분자량이 6000 이하인, 경화성 수지 조성물.
According to any one of claims 1 to 5,
Curable resin composition whose weight average molecular weight of the said carboxyl group-containing resin is 6000 or less.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
솔더 레지스트층의 형성에 사용되는, 경화성 수지 조성물.
According to any one of claims 1 to 6,
Curable resin composition used for formation of a solder resist layer.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
층간 절연층의 형성에 사용되는, 경화성 수지 조성물.
According to any one of claims 1 to 6,
A curable resin composition used for forming an interlayer insulating layer.
제1 필름과, 상기 제1 필름 상에 형성된 경화성 수지 조성물의 건조 도막으로 이루어지는 수지층을 구비하는, 드라이 필름으로서,
상기 경화성 수지 조성물이, (A) 경화성 수지, (B) 필러, 및 (C) 유기 용제를 함유하고,
상기 드라이 필름으로부터 얻어진 세로 20㎜×가로 20㎜×막 두께 7㎛의 완전 건조 도막의, 세정 용제인 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트에 대한 용해 개시 시간이, 상기 세정 용제에 대한 침지 개시부터 20초 이내인 것을 특징으로 하는, 드라이 필름.
A dry film comprising a first film and a resin layer comprising a dry coating film of a curable resin composition formed on the first film,
The curable resin composition contains (A) a curable resin, (B) a filler, and (C) an organic solvent;
The dissolution initiation time of the completely dry film of 20 mm in length x 20 mm in width x 7 μm in thickness obtained from the dry film in propylene glycol monomethyl ether acetate as a cleaning solvent is within 20 seconds from the start of immersion in the cleaning solvent Characterized in that, a dry film.
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