KR20200139632A - Curable resin composition, dry film, cured product and printed wiring board - Google Patents

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켄이치 시라카와
노부유키 야나기다
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다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤
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Abstract

It is an object of the present invention to provide a curable resin composition in which the variation in the film thickness of a coating film before and after drying is small even in the case of a thin film and which does not cause a copper show-through phenomenon, wherein the curable resin composition according to the present invention contains a curable resin and an extender pigment. The glossiness of the curable resin composition in a coating film having a film thickness of 12 μm after curing is in the range of 0.5 or more and 40.0 or less at 60°. When 0.3 g of the curable resin composition is mixed with 30 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, the average particle diameter (D_50), measured with Microtrac, is 0.1 μm or more and 1.0 μm or less. In addition, the specific surface area (CS) is 10.0 m^2/ml or more.

Description

경화성 수지 조성물, 드라이 필름, 경화물, 및 프린트 배선판 {CURABLE RESIN COMPOSITION, DRY FILM, CURED PRODUCT AND PRINTED WIRING BOARD}Curable resin composition, dry film, cured product, and printed wiring board {CURABLE RESIN COMPOSITION, DRY FILM, CURED PRODUCT AND PRINTED WIRING BOARD}

본 발명은 경화성 수지 조성물에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 경화성 수지 조성물을 사용한 드라이 필름, 경화물, 및 프린트 배선판에 관한 것이다.The present invention relates to a curable resin composition. Further, the present invention relates to a dry film, a cured product, and a printed wiring board using the curable resin composition.

현재, 대부분의 프린트 배선판의 솔더 레지스트에는 고정밀도, 고밀도화의 관점에서 액상 알칼리 현상형 솔더 레지스트 잉크가 사용되고 있고, 구체적으로는 상기 잉크를 인쇄, 건조한 후의 도막을 노광, 현상함으로써 화상 형성하고, 가열경화하여 얻어진다.Currently, most of the solder resists of printed wiring boards use liquid alkali-developed solder resist ink from the viewpoint of high precision and high density. Specifically, an image is formed by exposing and developing a coating film after printing and drying the ink, and heat curing. It is obtained by

그런데, 솔더 레지스트층을 조면화함으로써 땜납 흐름시의 내땜납부착성이나 배선 은폐성이 향상되는 것이 알려져 있다. 또한, 조면화된 솔더 레지스트층은 광택도가 적절히 억제되므로, 양호한 디자인성이 얻어진다. 예를 들어, 특허 문헌 1에는 감광성 수지 조성물 중에 광택 제거제를 첨가함으로써 솔더 레지스트층을 조면화에 의해 저광택화하는 것이 제안되어 있다.By the way, it is known that roughening of the solder resist layer improves solder adhesion resistance and wiring concealability during solder flow. Further, since the roughened solder resist layer has an appropriate glossiness, good design is obtained. For example, Patent Document 1 proposes that the solder resist layer is reduced in gloss by roughening by adding a gloss remover to the photosensitive resin composition.

또한, 최근에는 부품 실장시에서의 수율 개선의 관점에서 건조후나 경화후의 도막의 막두께는 박막화되고 있다(예를 들면, 특허 문헌 2). 최근에는 더욱 박막에 있어서 엄밀한 막두께 관리가 요구되게 되었다.In addition, in recent years, from the viewpoint of improving the yield at the time of component mounting, the film thickness of the coating film after drying or curing has become thinner (for example, Patent Document 2). In recent years, more rigorous film thickness management has been required for thin films.

일본 공개 특허 평9-157574호 공보Japanese Laid-Open Patent Publication No. Hei 9-157574 일본 공개 특허 제2004-264560호 공보Japanese Laid-Open Patent No. 2004-264560

일반적으로 부품 실장시의 휨 감소나 내열성 향상을 목적으로, 경화성 수지 조성물 중에 체질 안료나 수지가 포함된다. 그러나, 경화성 수지 조성물 중에는 다양한 요구 특성을 충족시키기 위해 체질 안료나 수지 이외에도 복수의 성분을 혼합하고 있으므로, 각 성분의 혼합 상태가 불충분한 경우에는 경화성 수지 조성물 중에서 농도 불균형이 일어나는 경우가 있었다. 그 때문에, 경화성 수지 조성물을 사용하여 기재 등에 도포한 건조전의 도막(이하, 건조전 도막이라고도 함)의 막두께가 편차, 특히 박막시에는 예를 들어, 그 아래의 기판의 금속(구리) 배선이 불균일해져 비쳐 보이는「구리 비침(銅見え)」에 의한 외관 불량이 문제였다. 또한, 경화후의 도막(이하, 경화 도막이라고도 함)이 저광택인 경우는, 경화후의 도막에서는 상기 외관 불량의 문제가 보다 현저했다. 이것은 도막이 저광택일수록, 콘트라스트가 되어 베이스(下地) 금속(구리) 배선의 광택이 보다 불균일해져 비쳐 보이기 쉬워지는 것으로 추측된다.In general, extender pigments and resins are contained in the curable resin composition for the purpose of reducing warpage during component mounting or improving heat resistance. However, in the curable resin composition, a plurality of components other than extender pigments and resins are mixed in order to satisfy various required characteristics, and therefore, when the mixing state of each component is insufficient, there is a case where a concentration unbalance occurs in the curable resin composition. Therefore, the film thickness of the pre-dry coating film (hereinafter also referred to as the pre-dry coating film) applied to the substrate using the curable resin composition varies. In particular, in the case of a thin film, for example, the metal (copper) wiring of the underlying substrate The problem was the appearance defect caused by "copper reflection" that became uneven and visible. In addition, when the cured coating film (hereinafter, also referred to as a cured coating film) was low gloss, the problem of the appearance defect was more remarkable in the cured coating film. This is presumed to be that the lower the gloss of the coating film is, the more the contrast becomes, and the gloss of the base metal (copper) wiring becomes more uneven, making it easier to see through.

건조전 도막의 막두께의 편차가 큰 경우, 건조후의 도막(이하, 건조 도막이라고도 함)이나 경화후 도막의 막두께도 편차가 커질 우려가 있으므로, 특히 고가의 기판을 사용할 때에는 건조전 도막의 막두께 편차의 크기로 NG 판정하여 편차 부분을 리페어하면 제조 공정이 번잡해져 생산성이 저하될 우려가 있었다. 이와 같이 건조후 도막의 막두께 편차가 작은 것에 추가로, 건조전 도막의 막두께 편차가 작은 것도 중요시되는 경우가 있었다.If the film thickness of the pre-drying film is large, the film thickness of the film after drying (hereinafter, also referred to as a dry film) or the film after curing may also increase. Therefore, especially when using an expensive substrate, the film of the pre-drying film When NG is determined based on the size of the thickness deviation and the deviation portion is repaired, the manufacturing process becomes complicated, and there is a concern that productivity may decrease. In addition to the small variation in the film thickness of the coating film after drying, in addition to the small variation in the film thickness of the coating film before drying, it is sometimes considered important.

따라서, 본 발명의 목적은 박막시에도 건조전 도막이나 건조 도막의 막두께의 편차가 작고, 구리 비침 현상이 발생하지 않는 경화성 수지 조성물을 제공하는 데에 있다. 또한, 본 발명의 목적은 상기 수지 조성물의 건조 도막으로 이루어진 수지층을 갖는 드라이 필름, 상기 수지 조성물 또는 상기 드라이 필름의 수지층의 경화물, 및 상기 경화물을 갖는 프린트 배선판을 제공하는 데에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a curable resin composition in which the variation in the film thickness of the pre-dry coating film or the dry coating film is small even in the case of a thin film, and does not cause a copper see-through phenomenon. It is also an object of the present invention to provide a dry film having a resin layer made of a dry coating film of the resin composition, a cured product of the resin composition or the resin layer of the dry film, and a printed wiring board having the cured product. .

본 발명자들은 예의 연구한 결과, 분체, 특히 체질 안료를 함유하는 경화성 수지 조성물에 있어서, 마이크로트랙을 이용하여 측정된 값을 조절하는, 구체적으로는 평균 입자경(D50)의 값 뿐만 아니라 비표면적(CS)도 조절함으로써, 분체에 의한 건조전이나 건조후의 도막 표면에 대한 영향이 적어지고, 그 결과 박막시에도 건조전이나 건조후의 도막의 막두께의 편차가 작고, 구리 비침 현상이 발생하지 않는 경화성 수지 조성물이 얻어지는 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result of intensive research, the inventors of the present invention found that in the curable resin composition containing powder, in particular, an extender pigment, specifically controlling the value measured using microtracks, not only the value of the average particle diameter (D 50 ), but also the specific surface area ( CS) is also adjusted so that the influence of the powder on the surface of the coating film before or after drying is less, and as a result, the variation in the film thickness of the coating film before or after drying is small even in the case of a thin film, and the curability does not cause copper penetration. It discovered that a resin composition was obtained, and came to complete this invention.

즉, 본 발명에 의한 경화성 수지 조성물은 경화성 수지 및 체질 안료를 함유하는 경화성 수지 조성물로서,That is, the curable resin composition according to the present invention is a curable resin composition containing a curable resin and an extender pigment,

상기 경화성 수지 조성물의 경화후 막두께 12㎛의 경화 도막에서의 60 °의 광택도가 0.5 이상 40.0 이하의 범위 내이고,The glossiness of 60° in the cured coating film having a film thickness of 12 μm after curing of the curable resin composition is in the range of 0.5 to 40.0,

상기 경화성 수지 조성물 0.3g을 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 30g과 혼합하고, 마이크로트랙을 사용하여 측정했을 때의 평균 입자경(D50)의 값이 0.1㎛ 이상 1.0㎛ 이하, 또한 비표면적(CS)이 10.0㎡/ml 이상인 것을 특징으로 한다.0.3 g of the curable resin composition was mixed with 30 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, and the value of the average particle diameter (D 50 ) when measured using Microtrac was 0.1 μm or more and 1.0 μm or less, and the specific surface area (CS) is It is characterized by more than 10.0㎡/ml.

본 발명의 실시 형태에서는 상기 경화성 수지 조성물의 건조후의 도막 두께의 요철의 평균 간격(Sm)이 0㎛ 초과 12.0㎛ 이하의 범위 내인 것이 바람직하다.In the embodiment of the present invention, it is preferable that the average spacing (Sm) of the unevenness of the coating film thickness after drying of the curable resin composition is in the range of more than 0 µm and not more than 12.0 µm.

본 발명의 실시 형태에서는 상기 경화성 수지 조성물의 건조후의 도막 두께의 최대 높이(Ry)가 0㎛ 초과 8.0㎛ 이하의 범위 내인 것이 바람직하다.In the embodiment of the present invention, it is preferable that the maximum height (Ry) of the coating film thickness after drying of the curable resin composition is in the range of more than 0 µm and not more than 8.0 µm.

본 발명의 실시 형태에서는 상기 체질 안료가 실리카 및 황산 바륨 중 적어도 어느 1 종인 것이 바람직하다.In the embodiment of the present invention, it is preferable that the extender pigment is at least one of silica and barium sulfate.

본 발명의 실시 형태에서는 상기 실리카가 흡유량 180 ~ 350 ml/100g의 비정질 실리카를 포함하는 것이 바람직하다.In an embodiment of the present invention, it is preferable that the silica contains amorphous silica having an oil absorption amount of 180 to 350 ml/100g.

본 발명의 실시 형태에서는 상기 경화성 수지가 카르복실기 함유 수지를 포함하는 것이 바람직하다.In the embodiment of the present invention, it is preferable that the curable resin contains a carboxyl group-containing resin.

본 발명의 실시 형태에서는 상기 경화성 수지가 2종류 이상의 카르복실기 함유 수지를 포함하는 것이 바람직하다.In the embodiment of the present invention, it is preferable that the curable resin contains two or more types of carboxyl group-containing resins.

본 발명의 실시 형태에서는 상기 2종류 이상의 카르복실기 함유 수지의 적어도 1종이 카르복실기 함유 공중합 수지를 포함하는 것이 바람직하다.In an embodiment of the present invention, it is preferable that at least one of the above two or more carboxyl group-containing resins contains a carboxyl group-containing copolymer resin.

본 발명의 다른 실시 형태에 의한 드라이 필름은 지지 필름과, 상기 지지 필름 상에 형성된 상기 경화성 수지 조성물의 건조 도막으로 이루어진 수지층을 구비하는 것을 특징으로 한다.A dry film according to another embodiment of the present invention is characterized by comprising a support film and a resin layer comprising a dry coating film of the curable resin composition formed on the support film.

본 발명의 다른 실시 형태에 의한 경화물은 상기 경화성 수지 조성물, 또는 상기 드라이 필름의 수지층을 경화시켜 얻어지는 것을 특징으로 한다.A cured product according to another embodiment of the present invention is characterized in that it is obtained by curing the curable resin composition or the resin layer of the dry film.

본 발명의 다른 실시 형태에 의한 프린트 배선판은 상기 경화물을 구비하는 것을 특징으로 한다.A printed wiring board according to another embodiment of the present invention includes the cured product.

본 발명에 의하면 박막시에도 건조전 도막이나 건조 도막의 막두께에 편차가 적고, 구리 비침 현상이 발생하지 않는 경화성 수지 조성물을 제공하는 데에 있다. 또한, 본 발명에 의하면, 상기 수지 조성물의 건조 도막으로 이루어진 수지층을 갖는 드라이 필름, 상기 수지 조성물 또는 상기 드라이 필름의 수지층의 경화물, 및 상기 경화물을 갖는 프린트 배선판을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is to provide a curable resin composition in which there is little variation in the film thickness of the pre-drying coating film or the dry coating film even in the case of a thin film and no copper penetration phenomenon occurs. Further, according to the present invention, it is possible to provide a dry film having a resin layer made of a dry coating film of the resin composition, a cured product of the resin layer of the resin composition or the dry film, and a printed wiring board having the cured product.

도 1은 실시예에서 건조 도막의 편차를 표면 거칠기 측정기의 단차 해석에 의해 측정했을 때의 설명도이다.Fig. 1 is an explanatory view when the deviation of a dry coating film is measured by step analysis of a surface roughness measuring instrument in Examples.

[경화성 수지 조성물][Curable resin composition]

본 발명에 의한 경화성 수지 조성물은 경화성 수지와, 체질 안료를 함유하는 것이다. 본 발명에 의한 경화성 수지 조성물은 하기의 물성을 충족하는 것이면 되고, 광중합 개시제, 증감제, 열경화 촉매, 착색제 등을 추가로 함유해도 된다. 또한 상기 경화성 수지는 열경화성 수지, 카르복실기 함유 수지 및 광중합성 모노머 중 어느 1종을 함유하고 있어도 되고, 복수종의 조합이어도 된다. 본 발명에 의한 경화성 수지 조성물은 하기의 물성을 충족함으로써, 도포시의 편차나 흐름(sagging)이 적고, 박막시에도 막두께의 편차가 작은 건조전이나 건조후의 도막을 얻을 수 있고, 경화후에는 구리 비침 현상이 발생하지 않는 경화후의 도막을 얻을 수 있다. 본 발명에서 박막이라는 것은 도막의 두께가 통상, 건조전에서 20㎛ 이하, 건조후나 경화후에서 12㎛ 이하의 경우를 가리킨다.The curable resin composition according to the present invention contains a curable resin and an extender pigment. The curable resin composition according to the present invention may further contain a photopolymerization initiator, a sensitizer, a thermosetting catalyst, a colorant, and the like, as long as it satisfies the following physical properties. Further, the curable resin may contain any one of a thermosetting resin, a carboxyl group-containing resin, and a photopolymerizable monomer, or may be a combination of plural types. The curable resin composition according to the present invention satisfies the following physical properties, so that it is possible to obtain a coating film before drying or after drying that has little variation or sagging at the time of application, and a small variation in film thickness even when it is a thin film. It is possible to obtain a cured coating film in which no copper see-through phenomenon occurs. In the present invention, a thin film refers to a case where the thickness of the coating film is usually 20 μm or less before drying and 12 μm or less after drying or after curing.

[물성][Properties]

본 발명의 경화성 수지 조성물은 경화후 막두께 12㎛인 경화 도막에서의 60°의 광택도가 0.5 이상 40.0 이하의 범위 내이고, 바람직하게는 0.8 이상 35.0 이하이며, 보다 바람직하게는 1.0 이상 20.0 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.0 이상 10.0 이하이며, 특히 바람직하게는 2.0 이상 6.0 이하이다.The curable resin composition of the present invention has a glossiness of 60° in a cured coating film having a film thickness of 12 μm after curing within a range of 0.5 to 40.0, preferably 0.8 to 35.0, more preferably 1.0 to 20.0 And more preferably 1.0 or more and 10.0 or less, and particularly preferably 2.0 or more and 6.0 or less.

또한, 광택도는 JIS Z 8741에 준거하여 측정할 수 있다. 광택도의 구체적인 측정 방법에 대하여 설명한다. 전제로서 굴절률이 1.067인 표면에서 입사 각도 60°의 경우에서의, 반사율 10%의 광의 강도를 광택도 100으로 하고, 또한 반사율 0%의 광의 강도를 0으로 가정한다. 이에 의해, 반사율 10%의 광의 강도의 100분의 1의 값이 광택도 1에 상당한다. 입사 각도 60°의 기하조건의 반사율계를 사용하여, 기재상에 설치된 경화 도막의 표면의 광의 강도를 측정한다. 그리고, 얻어진 광의 강도를, 상기한 반사율 10%의 광의 강도의 100분의 1의 값으로 나눔으로써, 광택도를 산출하는 것으로 한다. 간이적으로는 디지털 변각 광택도계(Micro-Tri-Gloss, BYK Gardener사 제조)를 이용하여, 기재 상에 설치된 경화 도막의 표면을 각 각도의 광택도를 측정할 수 있다. 또한, 「60° 광택도(Gs(60°))」라는 것은 측정 조건을 입사각 = 60 °, 수광각 = 60 °로 했을 때의 광택도의 값이다.In addition, glossiness can be measured according to JIS Z 8741. A specific measurement method of glossiness will be described. As a premise, in the case of an incidence angle of 60° on a surface having a refractive index of 1.067, an intensity of light having a reflectance of 10% is assumed to be 100, and an intensity of light having a reflectance of 0% is assumed to be 0. Accordingly, a value of 1/100 of the intensity of light having a reflectance of 10% corresponds to gloss 1. Using a reflectometer under geometric conditions with an incidence angle of 60°, the intensity of light on the surface of the cured coating film provided on the substrate is measured. Then, the glossiness is calculated by dividing the intensity of the obtained light by a value of 1/100 of the intensity of the light having a reflectance of 10% described above. Briefly, using a digital variable angle gloss meter (Micro-Tri-Gloss, manufactured by BYK Gardener), the glossiness of each angle can be measured on the surface of the cured coating film provided on the substrate. In addition, "60 degree glossiness (Gs (60 degree))" is the value of the glossiness when the measurement conditions were set as incident angle = 60 degree and light-receiving angle = 60 degree.

본 발명에서의 경화 도막이라는 것은 광경화 및 열경화 중 적어도 어느 한쪽을 실시함으로써, 경화성 수지 조성물이 경화된 도막을 말한다. 한편, 본 발명에서의 건조 도막이라는 것은 열 건조를 실시함으로써, 경화성 수지 조성물이 건조 된 도막을 말한다. 열 건조 방법으로서는 표면을 버프 롤 연마한 35㎛ 두께의 300㎜ × 150㎜ 동박 기판상에, 건조후 막두께가 12㎛가 되도록 스크린 인쇄로 인쇄하고, 열풍 순환식 건조로를 사용하여 열 건조한다. 스크린 인쇄를 실시할 때의 인쇄판으로서는 막두께 조정의 관점에서, 100 ~ 200 메시의 폴리에스테르판(바이어스 유)을 사용하는 것이 바람직하고, 150 ~ 180 메시의 폴리에스테르판(바이어스 유)을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 건조 조건으로서는 예를 들어, 60 ~ 100℃의 온도에서 15 ~ 90분간을 들 수 있다. 또한, 장치로는 야마토 가가쿠 가부시키가이샤 제조 DF610 등을 들 수 있다.The cured coating film in the present invention refers to a coating film in which the curable resin composition is cured by performing at least one of photocuring and thermal curing. On the other hand, the dry coating film in the present invention refers to a coating film in which the curable resin composition is dried by performing heat drying. As a thermal drying method, the surface is buff-rolled and then printed on a 35 μm-thick 300 mm×150 mm copper foil substrate so that the film thickness is 12 μm after drying, followed by thermal drying using a hot air circulation drying furnace. As a printing plate for screen printing, it is preferable to use a polyester plate of 100 to 200 mesh (with bias), and a polyester plate of 150 to 180 mesh (with bias) from the viewpoint of film thickness adjustment. It is more preferable. As a drying condition, 15 to 90 minutes are mentioned at a temperature of 60-100 degreeC, for example. In addition, DF610 manufactured by Yamato Chemical Co., Ltd. etc. is mentioned as an apparatus.

한편, 광경화 방법으로서는 상술한 바와 같이 형성한, 건조 도막을 활성 에너지선 조사, 구체적으로는 고압 수은 램프를 이용한 UV 컨베이어에 의해 광경화한다. 조사량으로서는 예를 들어 1,000 ~ 2,000mJ/㎠를 들 수 있다. 또한, 장치로서는 가부시키가이샤 오크 세이사쿠쇼 제조 QRM-2082 등을 들 수 있다.On the other hand, as a photocuring method, the dry coating film formed as described above is photocured with an active energy ray irradiation, specifically a UV conveyor using a high-pressure mercury lamp. As the irradiation amount, 1,000 to 2,000 mJ/cm 2 is mentioned, for example. Moreover, QRM-2082 manufactured by Oak Seisakusho Co., Ltd. is mentioned as an apparatus.

또한, 열경화 방법으로는 표면을 버프 롤 연마한 35㎛ 두께의 300㎜ × 150㎜ 동박 기판상에, 경화후 막두께가 12㎛가 되도록 스크린 인쇄로 인쇄하고, 열풍 순환식 건조로를 사용하여 열경화한다. 스크린 인쇄를 실시할 때의 인쇄판으로서는, 막두께 조정의 관점에서 100 ~ 200 메시의 폴리에스테르판(바이어스 유)을 사용하는 것이 바람직하고, 150 ~ 180 메시의 폴리에스테르판(바이어스 유)을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 열경화 조건으로는 예를 들어, 100 ~ 220℃의 온도에서 30 ~ 90 분간을 들 수 있다.In addition, as a thermal curing method, on a 35 μm thick 300 mm × 150 mm copper foil substrate with a buff roll polished surface, after curing, the film thickness is 12 μm by screen printing, followed by heat using a hot air circulation drying furnace. Hardens. As the printing plate for screen printing, it is preferable to use a polyester plate of 100 to 200 mesh (with bias) from the viewpoint of adjusting the film thickness, and a polyester plate of 150 to 180 mesh (with bias) is used. It is more preferable. Thermal curing conditions include, for example, 30 to 90 minutes at a temperature of 100 to 220 °C.

건조나 열경화시에 사용하는 건조 장치로는 야마토 가가쿠 가부시키가이샤 제조 DF610 등을 들 수 있다. 또한, 본 발명에서 광택도를 측정하는 경우, 현상 공정을 실시하지 않고 형성한 경화 도막을 사용하여 측정한다.As a drying apparatus used at the time of drying or heat curing, DF610 manufactured by Yamato Chemical Co., Ltd. etc. is mentioned. In addition, when measuring the glossiness in the present invention, it is measured using a cured coating film formed without performing a developing step.

또한, 본 발명에서의 경화 도막이 형성되었는지 여부의 확인 방법은 이하의 방법으로 확인할 수 있다. 즉, 25℃ 50% RH의 환경하에서 경화 도막의 표면에, 이소프로필알코올(IPA)을 포함시킨 웨이스트(Waste)를 얹고, 또한 그 위에 500g의 추를 얹어 1분간 정치한 후, 웨이스트를 떼어 내고, 웨이스트의 경화 도막과 접촉되어 있던 면에 수지층의 전부 또는 일부가 부착되어 있지 않은 상태를 「경화되어 있는 상태」인, 즉 경화 도막이 형성된 것으로 판단한다. 한편, 본 발명에서의 건조 도막이 형성되었는지 여부의 확인 방법은, 경화성 수지 조성물의 도포면을 손가락으로 만졌을 때 경화성 수지 조성물이 손가락에 부착되지 않는 상태를 「건조되어 있는 상태」인, 즉 건조 도막이 형성된 것으로 판단한다.In addition, the method of confirming whether the cured coating film is formed in the present invention can be confirmed by the following method. That is, a waste containing isopropyl alcohol (IPA) was placed on the surface of the cured coating film in an environment of 25°C and 50% RH, and a weight of 500 g was placed on it and allowed to stand for 1 minute, and then the waste was removed. , It is judged that the state in which all or part of the resin layer is not adhered to the surface in contact with the cured coating film of the waste is "cured state", that is, the cured coating film has been formed. On the other hand, the method of confirming whether a dry coating film has been formed in the present invention is a condition in which the curable resin composition does not adhere to the finger when the application surface of the curable resin composition is touched with a finger, that is, a dry coating film is formed. Judge.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 평균 입자경(D50)의 값이 0.1㎛ 이상 1.0㎛ 이하이며, 구리 비침 현상을 보다 억제하는 점에서, 바람직하게는 0.1㎛ 이상 0.8㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.1㎛ 이상 0.5㎛ 이하이다.The curable resin composition of the present invention has an average particle diameter (D 50 ) of 0.1 µm or more and 1.0 µm or less, and from the viewpoint of further suppressing the copper penetration phenomenon, preferably 0.1 µm or more and 0.8 µm or less, and more preferably 0.1 It is not less than µm and not more than 0.5 µm.

또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물은 비표면적(CS)이 10.0㎡/ml 이상이고, 보다 저광택이면서 박막시에도 건조전과 건조후의 도막의 막두께의 편차를 보다 작게 하고, 구리 비침 현상을 억제하는 점에서, 바람직하게는 11.5㎡/ml 이상 30.0㎡/ml 이하이며, 보다 바람직하게는 13.0㎡/ml 이상 25.0㎡/ml 이하이다.In addition, the curable resin composition of the present invention has a specific surface area (CS) of 10.0 m 2 /ml or more, has a lower gloss, and reduces the deviation of the film thickness of the coating film before and after drying even in the case of a thin film, and suppresses the copper penetration phenomenon. In this case, it is preferably 11.5 m 2 /ml or more and 30.0 m 2 /ml or less, and more preferably 13.0 m 2 /ml or more and 25.0 m 2 /ml or less.

경화성 수지 조성물로서의 평균 입자경(D50)의 값이 0.1㎛ 이상 1.0㎛ 이하이고, 비표면적(CS)이 10.0㎡/ml 이상이면, 박막시에도 건조전이나 건조후 도막의 막두께의 편차를 보다 작게 하여, 구리 비침 현상을 억제할 수 있다. 이러한 것은 반드시 명백한 것은 아니지만 이하와 같이 추측된다. 즉, 비표면적(CS)이 상기 범위 내에 있음으로써, 조성물 중에 포함되는 분체가 높은 분산 상태를 유지하고 있고, 그 결과 상기 조성물은 사용한 박막 형성시에서도 흐름(sagging)이 발생하지 않고, 또한 포함되는 분체에 의한 건조전이나 건조후의 도막 표면에 대한 영향이 적으며, 그 결과 저광택의 박막에서도 구리 비침 현상을 억제하는 것으로 생각된다. 그러나, 어디까지나 추측의 영역이고 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.If the value of the average particle diameter (D 50 ) as the curable resin composition is 0.1 µm or more and 1.0 µm or less, and the specific surface area (CS) is 10.0 ㎡/ml or more, the deviation of the film thickness of the coating film before or after drying even in the case of a thin film is observed. By making it small, the copper penetration phenomenon can be suppressed. This is not necessarily obvious, but it is estimated as follows. That is, since the specific surface area (CS) is within the above range, the powder contained in the composition maintains a high dispersion state, and as a result, the composition does not cause sagging even when forming a used thin film, and is included The powder has little influence on the surface of the coating film before or after drying, and as a result, it is thought that the copper seepage phenomenon is suppressed even in a low-gloss thin film. However, it is an area of speculation and is not necessarily limited thereto.

본 발명에서 경화성 수지 조성물로서의 평균 입자경(D50)은 조성물 중에 포함되는 체질 안료 등의 분체를 하나의 분체의 집단으로 가정하고, 그 입도 분포가 요구되고 있는 것으로 한다. 즉, 이렇게 가정한 하나의 분체 집단의 전(全)체적을 100%로 하여 누적 커브를 구했을 때, 상기 누적 커브가 50%가 되는 점의 입경을 50% 직경(㎛)으로 하고, 평균 입자경(D50)으로 하는 것으로 한다. 한편, 비표면적(CS)은 조성물 중의 입자 형상을 구형으로 가정한 경우의 단위 체적 당의 표면적이다. 상술한 평균 입자경(D50) 및 비표면적(CS)은 각각 이하의 측정에 의해 산출되는 것을 말한다. 또한, 본 발명의 비표면적(CS)(Calculated Specific Surfaces Area)(㎡/ml)은 BET식 또는 그 밖의 표면적 측정 장치에 의해 측정되는 비표면적(㎡/g)과는 의미가 다른 것이다. 우선, 이하의 사용 기기 및 비품류를 준비한다.In the present invention, the average particle diameter (D 50 ) as the curable resin composition assumes that the powders such as extender pigments contained in the composition are a group of powders, and the particle size distribution is required. That is, when the cumulative curve is obtained with the total volume of one powder group assumed as described above as 100%, the particle diameter at the point at which the cumulative curve becomes 50% is 50% diameter (㎛), and the average particle diameter ( D 50 ). On the other hand, the specific surface area (CS) is the surface area per unit volume when the particle shape in the composition is assumed to be spherical. The above-described average particle diameter (D 50 ) and specific surface area (CS) refer to those calculated by the following measurements, respectively. In addition, the specific surface area (CS) (m2/ml) of the present invention has a different meaning from the specific surface area (m2/g) measured by a BET type or other surface area measuring device. First, prepare the following equipment and equipment.

·입도 분포계: 닛키소 가부시키가이샤 제조 마이크로트랙 MT3300EXParticle size distribution meter: Nikkiso Corporation Microtrack MT3300EX

·순환 장치: 닛키소 가부시키가이샤 제조 ASVR・Circulation device: ASVR manufactured by Nikkiso Co., Ltd.

다음에, 이하의 수순으로 측정 조건을 입력한다. 마이크로트랙의 부속의 소프트웨어(「입도 분포 측정」)를 기동하고, SET UP의 화면으로부터 나아가, 측정 조건 설정의 옵션에서 시간 설정을 실시한다. Setzero 시간을 30sec., 측정을 30sec., 측정 횟수를 2회로 한다. 다음에 분석 조건을 입력한다. 분석 정보에서 입자 굴절률을 1.81(고정값: 전 무기물의 굴절률의 평균값), 입자의 특징에 있어서 투과성을 투과, 형상을 비구형으로 한다. 또한 용매 정보에서 PMA(프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트)를 선택하고, 용매 굴절률을 1.4로 한다. 다음에 스케일 설정을 입력한다. 입경 범위에서 최소 입경을 0.021㎛, 최대 입경을 704㎛로 한다. 다음에 샘플링 시스템을 입력한다. ASVR의 세정 횟수를 4회, 유속을 50%, 초음파 출력을 40W, 초음파 시간을 300sec.로 한다. 모든 측정 조건을 입력하면, 측정 조건의 설정에서 저장을 눌러 닫는다.Next, the measurement conditions are input in the following procedure. Start Microtrack's attached software ("Particle size distribution measurement"), proceed from the SET UP screen, and set the time with the option of setting the measurement conditions. Set zero time is 30sec., measurement is 30sec., and number of times is measured twice. Next, enter the analysis conditions. In the analysis information, the particle refractive index is 1.81 (fixed value: the average value of the refractive indices of all inorganic substances), the transmittance in the characteristics of the particles is transmitted, and the shape is made non-spherical. In addition, PMA (propylene glycol monomethyl ether acetate) is selected from the solvent information, and the solvent refractive index is set to 1.4. Next, enter the scale setting. In the particle diameter range, the minimum particle diameter is set to 0.021 μm and the maximum particle diameter is set to 704 μm. Next, input the sampling system. Set ASVR cleaning times 4 times, flow rate 50%, ultrasonic output 40W, ultrasonic time 300sec. When all measurement conditions are entered, click Save to close the setting of measurement conditions.

계속해서, 이하의 수순으로 샘플의 조정을 실시한다. 스크류병에 샘플(경화성 수지 조성물)을 0.3g 칭량하여 취하고, 스포이드를 이용하여 30g의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 조금씩 첨가하고, 스크류병의 진탕에 의해 샘플을 용해시켜 조정 샘플을 제작한다. 조정 샘플은 외부 분산이나 예비 분산을 실시하지 않는다. 다음에 조정 샘플의 측정을 실시한다. 마이크로트랙 부속의 소프트웨어의 입도 분포 측정을 클릭하여 샘플 로딩의 화면을 연다. 본체의 샘플 투입구에 스포이드를 이용하여 조정 샘플을 수 방울 적하한다. 상기 샘플 로딩의 화면에서 적색의 지시바가 표시되면, 적색부터 녹색의 범위 내에 들어갈 때까지, 상기 샘플 투입구에 조정 샘플을 적하한다. 상기 녹색의 범위 내에 들어가면, 측정 버튼을 눌러, 측정을 개시한다. 샘플의 조정부터 조정 샘플의 측정까지는 5분 이내에 실시한다. 측정 결과로서 표시된, 누적 평균 직경 50%의 값, 면적 평균 직경(MA)의 값을 각각 읽는다. 누적 평균 직경 50%의 값을 마이크로트랙으로 측정한 평균 입자경(D50)의 값으로 한다. 또한, CS = 6/MA를 산출한다. 산출된 CS의 값을 마이크로트랙으로 측정한 비표면적의 값으로 한다.Subsequently, the sample is adjusted in the following procedure. 0.3 g of a sample (curable resin composition) is weighed into a screw bottle, and 30 g of propylene glycol monomethyl ether acetate is added little by little using a dropper, and the sample is dissolved by shaking the screw bottle to prepare an adjusted sample. Adjustment samples do not undergo external dispersion or pre-dispersion. Next, the adjustment sample is measured. Click the particle size distribution measurement in the software supplied with MicroTrack to open the sample loading screen. Drop a few drops of the adjusted sample into the sample inlet of the main body using a dropper. When a red indicator bar is displayed on the sample loading screen, an adjusted sample is dropped into the sample inlet until it falls within the range of red to green. When it falls within the green range, the measurement button is pushed to start the measurement. From the adjustment of the sample to the measurement of the adjusted sample, it is carried out within 5 minutes. The values of the cumulative average diameter 50% and the area average diameter (MA), which are displayed as the measurement result, are read, respectively. The value of the cumulative average diameter of 50% is taken as the value of the average particle diameter (D 50 ) measured by microtrack. In addition, CS = 6/MA is calculated. The calculated value of CS is taken as the value of the specific surface area measured by microtrack.

또한, MA는 이하의 식에 의해 산출된다.In addition, MA is calculated by the following formula.

Figure pat00001
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(ai: 입자 1개 당의 표면적, di: 입자 1개당의 입자경, vi: 입자 1개 당의 체적)(a i : surface area per particle, d i : particle diameter per particle, v i : volume per particle)

경화성 수지 조성물로서의 평균 입자경(D50)의 값이 0.1㎛ 이상 1.0㎛ 이하로, 비표면적(CS)이 10.0㎡/ml 이상으로 하는 데에는, 공지 관용의 수법을 적용할 수 있지만, 예를 들어 조성물 중의 성분의 선정이나 그 배합량, 조성물 중의 분체나 수지 등의 분산 방법을 최적화하는 것 등을 들 수 있다.In order to make the value of the average particle diameter (D 50 ) as the curable resin composition be 0.1 μm or more and 1.0 μm or less, and the specific surface area (CS) is 10.0 m 2 /ml or more, a known and common method can be applied. For example, the composition And optimizing the selection of the components in the composition, the blending amount thereof, and the dispersion method of the powder or resin in the composition.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 건조후의 도막 두께의 요철의 평균 간격(Sm)이 바람직하게는 0㎛ 초과 12.0㎛ 이하의 범위 내이고, 보다 바람직하게는 1.0㎛ 이상 11.0㎛ 이하의 범위 내이며, 더욱 바람직하게는 2.0㎛ 이상 8.0㎛ 이하의 범위 내이다.In the curable resin composition of the present invention, the average spacing (Sm) of the irregularities of the coating film thickness after drying is preferably in the range of more than 0 µm and 12.0 µm or less, more preferably in the range of 1.0 µm or more and 11.0 µm or less, and further It is preferably in the range of 2.0 µm or more and 8.0 µm or less.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 건조후의 도막 두께의 최대 높이(Ry)가 바람직하게는 0㎛ 초과 8.0㎛ 이하의 범위 내이고, 보다 바람직하게는 0.1㎛ 이상 6.5㎛ 이하의 범위 내이며, 더욱 바람직하게는 0.2㎛ 이상 2.5㎛ 이하의 범위 내이다.In the curable resin composition of the present invention, the maximum height (Ry) of the thickness of the coating film after drying is preferably in the range of more than 0 µm and not more than 8.0 µm, more preferably in the range of 0.1 µm or more and 6.5 µm or less, and more preferably Is in the range of 0.2 µm or more and 2.5 µm or less.

경화성 수지 조성물의 건조후의 도막 두께의 요철의 평균 간격(Sm) 및 최대 높이(Ry)가 상기 수치 범위 내이면, 막두께의 편차가 보다 작아진다. 이것은 반드시 명확하지는 않지만 이하와 같이 생각된다. 즉, 상기 도막 두께의 요철의 평균 간격 및 최대 높이가 일정한 점에서 건조 도막의 표면 상태도 안정되어 있고, 그 결과, 경화 도막이 저광택이면서, 박막시에서도 편차가 작아지고, 또한 구리 비침 현상을 억제하는 것으로 생각된다. 또한, 본 발명에서의 상기 도막 두께의 요철의 평균 간격(Sm) 및 최대 높이(Ry)의 측정은 건조하고 나서 실온에서 30분 방치 한 후에 실시하는 것으로 한다.When the average interval (Sm) and the maximum height (Ry) of the irregularities of the coating film thickness after drying of the curable resin composition are within the above numerical range, the variation in film thickness becomes smaller. Although this is not necessarily clear, it is thought as follows. That is, the surface condition of the dry coating film is also stable in that the average interval and maximum height of the irregularities of the coating film thickness are constant, and as a result, the cured coating film is low-gloss, and the deviation is small even in the case of a thin film, and further suppresses the copper seepage phenomenon. I think it is. In the present invention, the average interval (Sm) and maximum height (Ry) of the irregularities of the coating film thickness are measured after drying, and then allowed to stand at room temperature for 30 minutes.

본 발명에서 상기한 「요철의 평균 간격(Sm)」 및 「최대 높이(Ry)」는 각각 JIS B0601-1994에 준거한 측정 장치에서 측정된 값을 의미한다. 이하, 구체적인 측정 방법에 대하여 설명해 둔다. 요철의 평균 간격(Sm)과 최대 높이(Ry)는 형상 측정 레이저 마이크로스코프(예를 들면, 가부시키가이샤 키엔스 제조 VK-X100)를 사용하여 측정할 수 있다. 형상 측정 레이저 마이크로스코프(동 VK-X100) 본체(제어부) 및, VK 관찰 어플리케이션(가부시키가이샤 키엔스 제조 VK-H1VX)를 기동시킨 후, x-y 스테이지 상에 측정하는 시료(기판 등에 형성된 건조 도막)을 얹는다. 현미경부(가부시키가이샤 키엔스 제조 VK-X110)의 렌즈 리볼버를 돌려 배율 10배의 대물 렌즈를 선택하고, VK 관찰 어플리케이션(동 VK-H1VX)의 화상 관찰 모드에서, 대략적으로 핀트, 밝기를 조절한다. x-y 스테이지를 조작하여 시료 표면의 측정하고 싶은 부분이, 화면의 중심에 오도록 조절한다. 배율 10배의 대물 렌즈를 배율 50배로 바꾸고, VK 관찰 어플리케이션(동 VK-H1VX)의 화상 관찰 모드의 오토 포커스 기능으로 시료의 표면에 핀트를 맞춘다. VK 관찰 어플리케이션(동 VK-H1VX)의 형상 측정 탭의 간단 모드를 선택하고 측정 개시 버튼을 눌러, 시료의 표면 형상을 측정하여 표면 화상 파일을 얻을 수 있다. VK 해석 어플리케이션(가부시키가이샤 키엔스 제조 VK-H1XA)을 기동하여, 얻어진 표면 화상 파일을 표시하게 한 후, 기울기 보정을 실시한다.In the present invention, the above-described "average spacing of irregularities (Sm)" and "maximum height (Ry)" mean values measured by a measuring device conforming to JIS B0601-1994, respectively. Hereinafter, a specific measurement method will be described. The average spacing (Sm) and the maximum height (Ry) of the irregularities can be measured using a shape measurement laser microscope (eg, VK-X100 manufactured by Keyence Corporation). After starting the shape measurement laser microscope (copper VK-X100) body (control unit) and the VK observation application (VK-H1VX manufactured by Keyence Corporation), a sample (dry coating formed on a substrate, etc.) to be measured on the xy stage Put it on. Turn the lens revolver of the microscope unit (VK-X110 manufactured by Keyence Corporation) to select an objective lens with a magnification of 10 times, and adjust the focus and brightness approximately in the image observation mode of the VK observation application (VK-H1VX). . Operate the x-y stage so that the part you want to measure on the sample surface is in the center of the screen. The objective lens with a magnification of 10 times is changed to a magnification of 50 times, and the autofocus function of the image observation mode of the VK observation application (VK-H1VX) focuses on the surface of the sample. By selecting the simple mode of the shape measurement tab of the VK observation application (VK-H1VX) and pressing the measurement start button, the surface shape of the sample can be measured and a surface image file can be obtained. After starting up the VK analysis application (VK-H1XA manufactured by Keyence Corporation) and displaying the obtained surface image file, tilt correction is performed.

또한, 시료의 표면 형상의 측정에서의 관찰 측정 범위(가로)는 270㎛로 한다. 선 거칠기 창을 표시하게 하고, 파라미터 설정 영역에서 JIS B0601-1994를 선택한 후, 측정 라인 버튼으로부터 수평선을 선택하고, 표면 화상 내의 임의의 장소에 수평선을 표시하게 하고 OK 버튼을 누름으로써, 요철 표면의 평균 간격(Sm)(㎛) 및 최대 높이(Ry)(㎛)의 수치를 얻는다. 또한 표면 화상 내의 다른 4개소에서 수평선을 표시하게 하고, 각각의 요철 표면의 평균 간격(Sm)(㎛) 및 최대 높이(Ry)(㎛)의 수치를 얻었다. 얻어진 5개 수치의 평균값을 산출하고, 시료 표면의 요철 표면의 평균 간격(Sm)값과 최대 높이(Ry)값으로 한다.In addition, the observation measurement range (horizontal) in the measurement of the surface shape of the sample is 270 µm. Display the line roughness window, select JIS B0601-1994 in the parameter setting area, select a horizontal line from the measurement line button, display a horizontal line in an arbitrary place in the surface image, and press the OK button to The values of the average spacing (Sm) (µm) and the maximum height (Ry) (µm) are obtained. Further, horizontal lines were displayed at four other locations in the surface image, and values of the average spacing (Sm) (µm) and maximum height (Ry) (µm) of the respective uneven surfaces were obtained. The average value of the obtained five numerical values is calculated, and the average interval (Sm) value of the uneven surface of the sample surface and the maximum height (Ry) value are used.

또한, 건조 도막의 Sm과 Ry는 일반적으로는 경화 피막의 표면에 비하여 기판 표면은 충분히 평활하므로, 기판의 종류에 따라 Sm 및 Ry의 값이 영향을 받는 일은 없다. 기판은 공지 관용의 것을 사용할 수 있지만, 유리 기판을 사용하는 것이 바람직하다.In addition, since Sm and Ry of the dry coating film are generally smoother than the surface of the cured film, the values of Sm and Ry are not affected by the type of the substrate. As the substrate, a known conventional one can be used, but it is preferable to use a glass substrate.

경화성 수지 조성물의 건조후 도막 두께를 상기한 특정 요철의 평균 간격(Sm) 및 최대 높이(Ry)의 범위 내로 하는 데에는 공지 관용의 수법을 적용할 수 있는데, 예를 들면 조성물 중의 유기 용제 등의 성분의 선정이나 그 배합량, 분산 방법을 최적화하는 것 또는 상술한 내용의 조합 등을 들 수 있다. 또한, 상기 경화성 수지 조성물의 도막 두께 12㎛의 경화 도막에서의 60°의 광택도를 특정의 범위 내로 하는 데에는, 동일하게 공지 관용의 수법을 적용할 수 있는데, 예를 들면 평균 입자경의 거친 체질 안료를 첨가하거나, 상용성이 좋지 않은 복수종의 수지를 혼합하거나 하는 것 등을 들 수 있다.A known conventional technique can be applied to make the coating film thickness after drying of the curable resin composition within the range of the average interval (Sm) and the maximum height (Ry) of the specific irregularities described above, for example, components such as organic solvents in the composition. And optimizing the selection, the blending amount, and dispersion method, or combinations of the above-described contents. In addition, to make the glossiness of 60° in the cured coating film having a coating film thickness of 12 µm of the curable resin composition within a specific range, similarly well-known and common techniques can be applied, for example, a coarse extender pigment having an average particle diameter. And mixing of a plurality of resins having poor compatibility or the like.

이하, 본 발명에 의한 경화성 수지 조성물을 구성하는 각 성분에 대해 설명한다.Hereinafter, each component constituting the curable resin composition according to the present invention will be described.

[경화성 수지][Curable resin]

경화성 수지로는 가열에 의해 열경화 반응에 기여하는 열경화성 수지, 광 조사에 의해 광경화 반응에 기여하는 광경화성 수지, 및 그 어떤 반응에도 기여하는 광경화성 열경화성 수지를 들 수 있다.Examples of the curable resin include a thermosetting resin that contributes to a thermosetting reaction by heating, a photocurable resin that contributes to a photocuring reaction by irradiation with light, and a photocurable thermosetting resin that contributes to any reaction.

여기에서, 경화성 수지로는 열경화성 수지 및 광경화성 수지를 함유하는 것이 바람직하고, 어느 경화성 수지를 함유하는 경우에도, 열경화성 수지로는 카르복실기 함유 수지 및 분자 중에 복수의 환상 에테르기 또는 환상 티오에테르기를 갖는 화합물을 함유하는 것이 보다 바람직하다. Here, the curable resin preferably contains a thermosetting resin and a photocurable resin, and even when any curable resin is contained, the thermosetting resin includes a carboxyl group-containing resin and a plurality of cyclic ether groups or cyclic thioether groups in the molecule. It is more preferable to contain the compound.

경화성 수지의 배합량은 경화성 수지 조성물 전량당 고형분 환산으로, 바람직하게는 20~80질량%이고, 보다 바람직하게는 25~75질량%이며, 더욱 바람직하게는 50~70질량%이다. 경화성 수지의 배합량이 상기 범위내임으로써, 보다 우수한 경화물을 얻을 수 있다. 이하, 각 경화성 수지에 대해서 설명한다.The blending amount of the curable resin is, in terms of solid content per total amount of the curable resin composition, preferably 20 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, and still more preferably 50 to 70% by mass. When the blending amount of the curable resin is within the above range, a more excellent cured product can be obtained. Hereinafter, each curable resin is demonstrated.

[열경화성 수지][Thermosetting resin]

열경화성 수지로는 공지의 것을 모두 사용할 수 있다. 경화성 수지 조성물이 열경화성 수지를 포함함으로써, 경화 도막의 내열성을 향상시킬 수 있다. 열경화성 수지로서는 예를 들어, 멜라민 수지, 벤조구아나민 수지, 멜라민 유도체, 벤조구아나민 유도체 등의 아미노 수지, 이소시아네이트 화합물, 블록 이소시아네이트 화합물, 시클로카보네이트 화합물, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 에피설피드 수지, 비스말레이미드, 카르보디이미드 수지 등의 공지의 열경화성 수지를 사용할 수 있다. 특히 바람직한 것은, 분자 중에 복수의 환상 에테르기 또는 환상 티오에테르기(이하, 환상(티오)에테르기라고 간략화함)을 갖는 열경화성 수지이다. 열경화성 수지는 1종을 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Any known thermosetting resin can be used. When the curable resin composition contains a thermosetting resin, the heat resistance of the cured coating film can be improved. Examples of thermosetting resins include amino resins such as melamine resins, benzoguanamine resins, melamine derivatives, and benzoguanamine derivatives, isocyanate compounds, block isocyanate compounds, cyclocarbonate compounds, epoxy compounds, oxetane compounds, episulfide resins, Known thermosetting resins, such as bismaleimide and carbodiimide resin, can be used. Particularly preferred is a thermosetting resin having a plurality of cyclic ether groups or cyclic thioether groups (hereinafter, abbreviated as cyclic (thio) ether groups) in the molecule. Thermosetting resins may be used alone or in combination of two or more.

상기의 분자 중에 복수의 환상 (티오)에테르기를 갖는 열경화성 수지는 분자 중에 3, 4 또는 5 원고리의 환상 (티오)에테르기를 복수 갖는 화합물이고 예를 들어, 분자 내에 복수의 에폭시기를 갖는 화합물, 즉 다관능 에폭시 화합물, 분자 내에 복수의 옥세타닐기를 갖는 화합물, 즉 다관능 옥세탄 화합물, 분자 내에 복수의 티오에테르기를 갖는 화합물, 즉 에피설피드 수지 등을 들 수 있다.The thermosetting resin having a plurality of cyclic (thio) ether groups in the molecule is a compound having a plurality of cyclic (thio) ether groups of 3, 4 or 5 membered rings in the molecule, and for example, a compound having a plurality of epoxy groups in the molecule, that is, A polyfunctional epoxy compound, a compound having a plurality of oxetanyl groups in the molecule, that is, a polyfunctional oxetane compound, a compound having a plurality of thioether groups in the molecule, that is, an episulfide resin, may be mentioned.

이와 같은 에폭시 수지로는 예를 들면, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 수첨 비스페놀 A형 에폭시 수지, 브롬화 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A의 노볼락형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 트리페닐메탄형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Such epoxy resins include, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol. A novolak type epoxy resin, a novolac type epoxy resin of bisphenol A, a biphenyl type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin, a dicyclopentadiene type epoxy resin, a triphenylmethane type epoxy resin, and the like.

시판되는 에폭시 수지로서는 예를 들면, 미츠비시 케미카르 가부시키가이샤 제조의 jER 828, 806, 807, YX8000, YX8034, 834, 닛테츠 케미카르 & 마테리아르 가부시키가이샤 제조의 YD-128, YDF-170, ZX-1059, ST-3000, DIC 가부시키가이샤 제조의 EPICLON 830, 835, 840, 850, N-730A, N-695, 및 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤 제조의 RE-306 등을 들 수 있다.Commercially available epoxy resins include, for example, jER 828, 806, 807, YX8000, YX8034, 834 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, YD-128, YDF-170 manufactured by Nittetsu Chemical & Matterial Corporation, ZX-1059, ST-3000, EPICLON 830, 835, 840, 850, N-730A, N-695 manufactured by DIC Corporation, and RE-306 manufactured by Nippon Kayaku Corporation.

다관능 옥세탄 화합물로는 예를 들면, 비스[(3-메틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에테르, 비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에테르, 1,4-비스[(3-메틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, (3-메틸-3-옥세타닐)메틸아크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸아크릴레이트, (3-메틸-3-옥세타닐)메틸메타크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸메타크릴레이트나 그 올리고머 또는 공중합체 등의 다관능 옥세탄류 외에, 옥세탄알코올과 노볼락 수지, 폴리(p- 히드록시스티렌), 카르도형(cardo type) 비스페놀류, 캘릭스아렌(calixarene)류, 캘릭스레조르신아렌류, 또는 실세스퀴옥산 등의 수산기를 갖는 수지와의 에테르화물 등을 들 수 있다. 그 밖에, 옥세탄 고리를 갖는 불포화 모노머와 알킬(메트)아크릴레이트의 공중합체 등도 들 수 있다.Examples of the polyfunctional oxetane compound include bis[(3-methyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]ether, bis[(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]ether, 1,4 -Bis[(3-methyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]benzene, 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]benzene, (3-methyl-3-oxeta Nyl)methylacrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl)methylacrylate, (3-methyl-3-oxetanyl)methylmethacrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl)methylmethacrylate In addition to polyfunctional oxetanes such as acrylates or their oligomers or copolymers, oxetane alcohol and novolac resins, poly(p-hydroxystyrene), cardo type bisphenols, calixarenes , Calixresorcin arenes, or etherified products with a resin having a hydroxyl group such as silsesquioxane. In addition, a copolymer of an unsaturated monomer having an oxetane ring and an alkyl (meth)acrylate, etc. are also mentioned.

분자 중에 복수의 환상 티오에테르기를 갖는 화합물로는 비스페놀 A형 에피설피드 수지 등을 들 수 있다. 또한, 동일한 합성 방법을 사용하여, 노볼락형 에폭시 수지의 에폭시기의 산소 원자를 황 원자로 치환한 에피설피드 수지 등도 사용할 수 있다.Examples of the compound having a plurality of cyclic thioether groups in the molecule include bisphenol A episulfide resins. Further, an episulfide resin obtained by substituting a sulfur atom for an oxygen atom in the epoxy group of a novolak type epoxy resin can also be used using the same synthesis method.

멜라민 유도체, 벤조구아나민 유도체 등의 아미노 수지로는 메틸올멜라민 화합물, 메틸올벤조구아나민 화합물, 메틸올글리콜우릴 화합물 및 메틸올우레아 화합물 등을 들 수 있다.Examples of amino resins such as melamine derivatives and benzoguanamine derivatives include methylolmelamine compounds, methylolbenzoguanamine compounds, methylolglycoluril compounds, and methylolurea compounds.

이소시아네이트 화합물로는 폴리이소시아네이트 화합물을 배합할 수 있다. 폴리이소시아네이트 화합물로는 4,4’-디페닐메탄디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, o-자일릴렌디이소시아네이트, m-자일릴렌디이소시아네이트 및 2,4-톨릴렌다이머 등의 방향족 폴리이소시아네이트; 테트라메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 4,4-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트) 및 이소포론디이소시아네이트 등의 지방족 폴리이소시아네이트; 비시클로헵탄트리이소시아네이트 등의 지환식 폴리이소시아네이트; 및 앞에서 언급한 이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 뷰렛체 및 이소시아눌레이트체 등을 들 수 있다.As the isocyanate compound, a polyisocyanate compound can be blended. Polyisocyanate compounds include 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, o-xylylene diisocyanate, m- Aromatic polyisocyanates such as xylylene diisocyanate and 2,4-tolylene dimer; Aliphatic polyisocyanates such as tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, 4,4-methylenebis (cyclohexyl isocyanate) and isophorone diisocyanate; Alicyclic polyisocyanates such as bicycloheptane triisocyanate; And the adduct body, biuret body and isocyanurate body of the isocyanate compound mentioned above.

블록 이소시아네이트 화합물로는 이소시아네이트 화합물과 이소시아네이트 블록제의 부가 반응 생성물을 사용할 수 있다. 이소시아네이트 블록제와 반응할 수 있는 이소시아네이트 화합물로는 예를 들어, 상술한 폴리이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다. 이소시아네이트 블록제로는 예를 들어, 페놀계 블록제; 락탐계 블록제; 활성 메틸렌계 블록제; 알코올계 블록제; 옥심계 블록제; 머캅탄계 블록제; 산아미드계 블록제; 이미드계 블록제; 아민계 블록제; 이미다졸계 블록제; 이민계 블록제 등을 들 수 있다.As the blocked isocyanate compound, an addition reaction product of an isocyanate compound and an isocyanate blocking agent can be used. As an isocyanate compound which can react with an isocyanate blocking agent, the polyisocyanate compound etc. mentioned above are mentioned, for example. As an isocyanate blocking agent, For example, a phenol type blocking agent; Lactam-based blocking agents; Active methylene-based blocking agents; Alcohol-based blocking agents; Oxime block agents; Mercaptan-based blocking agents; Acid amide block agents; Imide-based blocking agents; Amine block agents; Imidazole-based blocking agents; And immigration block systems.

열경화성 수지의 배합량은 조성물 중에 후술하는 카르복실기 함유 수지를 포함하는 경우, 카르복실기 함유 수지에 함유되는 카르복실기 1㏖ 당에 대하여, 반응하는 열경화 성분의 관능기 수가 0.5 ~ 2.5㏖이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.8 ~ 2.0㏖이다.The blending amount of the thermosetting resin is preferably 0.5 to 2.5 mol, and more preferably, the number of functional groups of the thermosetting component to react with respect to 1 mol of carboxyl group contained in the carboxyl group-containing resin when the composition contains a carboxyl group-containing resin described later. It is 0.8 ~ 2.0㏖.

열경화성 성분으로는 조성물에 알칼리 현상성을 부여할 수 있는 점에서, 알칼리 가용성기를 갖는 알칼리 가용성 수지를 포함하는 것이 바람직하다. 알칼리 가용성 수지로서는 예를 들어, 페놀성 수산기를 2개 이상 갖는 화합물, 카르복실기 함유 수지, 페놀성 수산기 및 카르복실기를 갖는 화합물, 티올기를 2개 이상 갖는 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도, 베이스와의 밀착성이 향상되므로, 카르복실기 함유 수지 또는 페놀 수지이면 바람직하고, 특히 현상성이 우수하므로, 카르복실기 함유 수지인 것이 보다 바람직하다. 이하, 카르복실기 함유 수지에 대해 설명한다.As the thermosetting component, it is preferable to contain an alkali-soluble resin having an alkali-soluble group from the viewpoint of imparting alkali developability to the composition. Examples of the alkali-soluble resin include a compound having two or more phenolic hydroxyl groups, a carboxyl group-containing resin, a compound having a phenolic hydroxyl group and a carboxyl group, and a compound having two or more thiol groups. Among them, since the adhesion to the base is improved, a carboxyl group-containing resin or a phenol resin is preferable, and since developability is particularly excellent, a carboxyl group-containing resin is more preferable. Hereinafter, a carboxyl group-containing resin will be described.

[카르복실기 함유 수지][Carboxyl group-containing resin]

카르복실기 함유 수지로는 분자 중에 카르복실기를 갖고 있는 종래 공지의 각종 수지를 사용할 수 있다. 카르복실기 함유 수지는 분자 중에 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 것이어도 갖지 않는 것이어도 되지만, 특히 분자 중에 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 카르복실기 함유 감광성 수지가, 광경화성이나 내현상성의 측면에서 바람직하다. 이러한 경우는 광경화성 열경화성 수지에 해당한다. 또한, 본 발명의 광경화성 조성물이 카르복실기 함유 수지를 포함하는 경우, 알칼리 현상하는 용도뿐만 아니라, 알칼리 현상하지 않는 용도에 사용해도 된다. 에틸렌성 불포화 이중 결합은 아크릴산 또는 메타크릴산 또는 그 유도체 유래인 것이 바람직하다. 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖지 않는 카르복실기 함유 수지만을 사용하는 경우 조성물을 광경화성으로 하기 위해서는, 후술하는 분자 중에 복수의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물, 즉 광중합성 모노머를 병용할 필요가 있다. 카르복실기 함유 수지의 구체예로는 이하와 같은 화합물(올리고머 및 폴리머 중 어느 것이어도 됨)을 들 수 있다.As the carboxyl group-containing resin, various conventionally known resins having a carboxyl group in the molecule can be used. The carboxyl group-containing resin may or may not have an ethylenically unsaturated double bond in the molecule, but a carboxyl group-containing photosensitive resin having an ethylenically unsaturated double bond in the molecule is particularly preferable from the viewpoint of photocurability and development resistance. This case corresponds to a photocurable thermosetting resin. Further, when the photocurable composition of the present invention contains a carboxyl group-containing resin, it may be used not only for alkali development but also for non-alkali development. It is preferable that the ethylenically unsaturated double bond is derived from acrylic acid or methacrylic acid or a derivative thereof. In the case of using only a carboxyl group-containing resin having no ethylenically unsaturated double bond, in order to make the composition photocurable, it is necessary to use a compound having a plurality of ethylenically unsaturated groups, that is, a photopolymerizable monomer in the molecule described later. As a specific example of the carboxyl group-containing resin, the following compounds (all oligomers and polymers may be used) are mentioned.

(1) (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산과, 스티렌, α-메틸스티렌, 저급 알킬(메트)아크릴레이트, 이소부틸렌 등의 불포화기 함유 화합물과의 공중합에 의해 얻어지는 카르복실기 함유 수지(저급 알킬(메트)아크릴레이트로서 메틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다).(1) Carboxyl group-containing resin obtained by copolymerization of an unsaturated carboxylic acid such as (meth)acrylic acid with an unsaturated group-containing compound such as styrene, α-methylstyrene, lower alkyl (meth)acrylate, and isobutylene (lower alkyl Examples of the (meth)acrylate include methyl (meth)acrylate).

(2) 지방족 디이소시아네이트, 분기 지방족 디이소시아네이트, 지환식 디이소시아네이트, 방향족 디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트와, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산 등의 카르복실기 함유 디알코올 화합물 및 폴리카보네이트계 폴리올, 폴리에테르계 폴리올, 폴리에스테르계 폴리올, 폴리올레핀계 폴리올, 아크릴계 폴리올, 비스페놀 A계 알킬렌옥사이드 부가체 디올, 페놀성 히드록실기 및 알코올성 히드록실기를 갖는 화합물 등의 디올 화합물의 중부가 반응에 의한 카르복실기 함유 우레탄 수지.(2) Diisocyanates such as aliphatic diisocyanates, branched aliphatic diisocyanates, alicyclic diisocyanates, and aromatic diisocyanates, and carboxyl group-containing dialcohol compounds such as dimethylolpropionic acid and dimethylolbutanoic acid, and polycarbonate-based polyols and polyether-based polyols , Polyester-based polyol, polyolefin-based polyol, acrylic polyol, bisphenol A-based alkylene oxide adduct diol, carboxyl group-containing urethane resin by polyaddition reaction of a diol compound such as a compound having a phenolic hydroxyl group and an alcoholic hydroxyl group .

(3) 디이소시아네이트와, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 수첨 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 비자일레놀형 에폭시 수지, 비페놀형 에폭시 수지 등의 2관능 에폭시 수지의 (메트)아크릴레이트 또는 그 부분 산무수물 변성물, 카르복실기 함유 디알코올 화합물 및 디올 화합물의 중부가 반응에 의한 카르복실기 함유 감광성 우레탄 수지.(3) Diisocyanate and bifunctional epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, non-ylenol type epoxy resin, and nonphenol type epoxy resin. A photosensitive urethane resin containing a carboxyl group by a polyaddition reaction of a (meth)acrylate or a partially modified acid anhydride thereof, a carboxyl group-containing dialcohol compound, and a diol compound.

(4) 상기 (2) 또는 (3)의 수지의 합성 중에, 히드록시알킬(메트)아크릴레이트 등의 분자 내에 하나의 수산기와 하나 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물을 가하고, 말단 (메트)아크릴화한 카르복실기 함유 감광성 우레탄 수지.(4) During synthesis of the resin of (2) or (3) above, a compound having one hydroxyl group and one or more (meth)acryloyl groups is added in a molecule such as hydroxyalkyl (meth)acrylate, and the terminal (meth) ) Photosensitive urethane resin containing acrylated carboxyl groups.

(5) 상기 (2) 또는 (3)의 수지의 합성 중에, 이소포론디이소시아네이트와 펜타에리스리톨트리아크릴레이트의 등몰 반응물 등, 분자 내에 하나의 이소시아네이트기와 하나 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물을 가하여 말단 (메트)아크릴화된 카르복실기 함유 감광성 우레탄 수지.(5) During the synthesis of the resin of (2) or (3), a compound having one isocyanate group and one or more (meth)acryloyl groups in the molecule, such as an equimolar reaction product of isophorone diisocyanate and pentaerythritol triacrylate A photosensitive urethane resin containing a carboxyl group that was added to the terminal (meth)acrylated.

(6) 2관능 또는 그 이상의 다관능 (고형) 에폭시 수지에 (메트)아크릴산을 반응시키고, 측쇄에 존재하는 수산기에 2 염기산 무수물을 부가시킨 카르복실기 함유 감광성 수지.(6) A photosensitive resin containing a carboxyl group in which (meth)acrylic acid is reacted with a bifunctional or higher polyfunctional (solid) epoxy resin, and a dibasic anhydride is added to a hydroxyl group present in the side chain.

(7) 2관능(고형)에폭시 수지의 수산기를 추가로 에피클로로히드린으로 에폭시화한 다관능 에폭시 수지에 (메트)아크릴산을 반응시키고, 생성된 수산기에 2 염기산 무수물을 부가시킨 카르복실기 함유 감광성 수지.(7) Carboxyl group-containing photosensitivity obtained by reacting (meth)acrylic acid with a polyfunctional epoxy resin epoxidized with epichlorohydrin and adding a dibasic anhydride to the hydroxyl group of a bifunctional (solid) epoxy resin. Suzy.

(8) 2관능 옥세탄 수지에 아디프산, 프탈산, 헥사히드로프탈산 등의 디카르복실산을 반응시켜, 생성된 1급의 수산기에 무수 프탈산, 테트라히드로 무수 프탈산, 헥사히드로 무수 프탈산 등의 2염기산 무수물을 부가시킨 카르복실기 함유 폴리에스테르 수지.(8) Dicarboxylic acid such as adipic acid, phthalic acid, and hexahydrophthalic acid is reacted with a bifunctional oxetane resin, and two such as phthalic anhydride, tetrahydro phthalic anhydride, and hexahydro phthalic anhydride are reacted with the primary hydroxyl group produced. Carboxyl group-containing polyester resin to which basic acid anhydride was added.

(9) 1 분자 중에 복수의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물에, p-히드록시페네틸알코올 등의 1 분자 중에 적어도 1개의 알코올성 수산기와 1개의 페놀성 수산기를 갖는 화합물과, (메트)아크릴산 등의 불포화기 함유 모노카르복실산을 반응시키고, 얻어진 반응 생성물의 알코올성 수산기에 대하여, 무수 말레산, 테트라히드로 무수 프탈산, 무수 트리멜리트산, 무수 피로멜리트산, 아디프산 등의 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(9) Compounds having at least one alcoholic hydroxyl group and one phenolic hydroxyl group in one molecule, such as p-hydroxyphenethyl alcohol, in an epoxy compound having a plurality of epoxy groups in one molecule, and unsaturation such as (meth)acrylic acid Carboxyl group obtained by reacting a group-containing monocarboxylic acid and reacting polybasic acid anhydrides such as maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, and adipic acid with respect to the alcoholic hydroxyl group of the obtained reaction product. Containing photosensitive resin.

(10) 1 분자 중에 복수의 페놀성 수산기를 갖는 화합물과 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드 등의 알킬렌옥사이드를 반응시켜 얻어지는 반응 생성물에 불포화 기 함유 모노카르복실산을 반응시켜, 얻어지는 반응 생성물에 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(10) A monocarboxylic acid containing an unsaturated group is reacted with a reaction product obtained by reacting a compound having a plurality of phenolic hydroxyl groups in one molecule with an alkylene oxide such as ethylene oxide and propylene oxide, and polybasic acid anhydride is added to the reaction product. Carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reaction.

(11) 1 분자 중에 복수의 페놀성 수산기를 갖는 화합물과 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 환상 카보네이트 화합물을 반응시켜 얻어지는 반응 생성물에 불포화기 함유 모노카르복실산을 반응시켜, 얻어지는 반응 생성물에 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(11) A monocarboxylic acid containing an unsaturated group is reacted with a reaction product obtained by reacting a compound having a plurality of phenolic hydroxyl groups in one molecule with a cyclic carbonate compound such as ethylene carbonate and propylene carbonate, and polybasic acid anhydride is added to the reaction product obtained. Carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reaction.

(12) 상기 (1) ~ (11)의 수지에 추가로 1 분자 내에 하나의 에폭시기와 하나 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물을 부가하여 이루어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(12) Carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by adding a compound having one epoxy group and one or more (meth)acryloyl groups in one molecule to the resins (1) to (11).

이 중에서도 경화성 수지가 2종류 이상의 카르복실기 함유 수지를 포함하는 것이 바람직하다. 또한 상기 2종류 이상의 카르복실기 함유 수지 중 적어도 1종이 카르복실기 함유 공중합 수지인 것이, 보다 저광택화하면서 균일하게 분산되는 점에서 바람직하다. 이러한 것은 이하와 같이 추측된다. 즉, 카르복실기 함유 공중합 수지는 상용성이 좋지 않으므로, 상기 경화성 수지 조성물로 형성되는 도막 중에서, 다른 카르복실기 함유 수지 중에 분산된 해섬 구조를 취하고, 이들 굴절률의 차에 의해 입사된 광이 난반사하므로 우수한 저광택의 효과를 생성하는 것으로 생각된다. 한편, 카르복실기 함유 공중합 수지의 첨가의 경우는 체질 안료가 적은 배합이어도, 저광택화하면서 균일하게 분산시킬 수 있는 것으로부터, 구리 비침 현상도 보다 억제되는 것으로 생각된다.Among these, it is preferable that the curable resin contains two or more types of carboxyl group-containing resins. Further, it is preferable that at least one of the above two or more types of carboxyl group-containing resins is a carboxyl group-containing copolymer resin from the viewpoint of uniform dispersion while lowering the gloss. This is estimated as follows. In other words, since the carboxyl group-containing copolymer resin has poor compatibility, it takes a dissociated structure dispersed in other carboxyl group-containing resins among the coating film formed of the curable resin composition, and the incident light is diffusely reflected due to the difference in these refractive indices. It is thought to produce an effect. On the other hand, in the case of addition of the carboxyl group-containing copolymer resin, even if it is a blend with a small amount of extender pigments, it is considered that the copper impregnation phenomenon can be further suppressed because it can be uniformly dispersed while reducing gloss.

카르복실기 함유 공중합 수지로는 (1)의 수지나 (12) 중의 공중합 수지를 들 수 있다. (12)의 수지로는 (메트)아크릴산과 메틸(메트)아크릴레이트의 공중합에 의해 얻어진 카르복실기 함유 수지에 추가로 글리시딜메타크릴레이트 또는 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트 등 지환식 에폭시기를 갖는 (메트)아크릴레이트를 부가하여 이루어지는 카르복실기 함유 감광성 수지인 것이 바람직하다.As a carboxyl group-containing copolymer resin, the resin of (1) and the copolymer resin in (12) are mentioned. As the resin of (12), in addition to the carboxyl group-containing resin obtained by copolymerization of (meth)acrylic acid and methyl (meth)acrylate, glycidyl methacrylate or 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate, etc. It is preferably a carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by adding a (meth)acrylate having an alicyclic epoxy group.

또한, 카르복실기 함유 공중합 수지와 조합의 수지로서는, 보다 저광택화하면서 균일하게 분산되는 점에서 바람직하다. 카르복실기 함유 공중합 수지 이외의 수지와의 조합이 바람직하다. 구체적으로는 (2) ~ (11)의 수지, (12)의 공중합 수지 이외의 수지를 들 수 있고, 그 중에서도 (6), (10), (11)의 수지, (12)의 공중합 수지 이외의 수지가 보다 바람직하다.Moreover, it is preferable as the resin to be combined with the carboxyl group-containing copolymer resin from the viewpoint of being uniformly dispersed while lowering the gloss. Combinations with resins other than the carboxyl group-containing copolymer resin are preferred. Specifically, resins other than the resins of (2) to (11) and the copolymerization resin of (12) are exemplified, and among them, other than the resin of (6), (10) and (11), and the copolymer resin of (12) The resin of is more preferable.

또한, 본 명세서에서 (메트)아크릴레이트라는 것은 아크릴레이트, 메타크릴레이트 및 이들의 혼합물을 총칭하는 용어로, 다른 유사한 표현에 대해서도 동일하다.In addition, in the present specification, (meth)acrylate is a generic term for acrylate, methacrylate, and mixtures thereof, and the same applies to other similar expressions.

본 발명에 사용할 수 있는 카르복실기 함유 수지는 상기 열거한 것에 한정되지 않는다. 또한, 상기 열거한 카르복실기 함유 수지는 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.The carboxyl group-containing resin that can be used in the present invention is not limited to those listed above. In addition, the carboxyl group-containing resins listed above may be used singly or in combination of multiple types.

본 발명에서 탄산 나트륨 수용액 등의 약 알칼리 현상액을 사용할 때의 현상성과 레지스트 패턴의 묘화성을 고려하면, 카르복실기 함유 수지의 산가는 30 ~ 150㎎KOH/g의 범위인 것이 바람직하고, 50~120㎎KOH/g의 범위인 것이 보다 바람직하다. 카르복실기 함유 수지의 산가는 높을수록 현상성은 향상되지만, 현상액에 의한 노광부의 용해가 진행되므로, 노광부와 미노광부의 구별없이 현상액으로 용해 박리되는 경우가 있다.In the present invention, when using a weakly alkaline developer such as an aqueous sodium carbonate solution, when considering the drawability of the resist pattern and the developability, the acid value of the carboxyl group-containing resin is preferably in the range of 30 to 150 mgKOH/g, and 50 to 120 mg. It is more preferable that it is a range of KOH/g. As the acid value of the carboxyl group-containing resin increases, the developability is improved, but since dissolution of the exposed portion by the developer proceeds, the exposed portion and the unexposed portion may be dissolved and peeled with a developer without distinction.

카르복실기 함유 수지의 중량 평균 분자량은 수지 골격에 따라 다르지만, 일반적으로 2,000 ~ 150,000의 범위이고, 5,000 ~ 100,000의 범위에 있는 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량이 2,000 이상의 카르복실기 함유 수지를 이용함으로써, 해상성이나 택프리 성능을 향상시킬 수 있다. 또한, 중량 평균 분자량이 150,000 이하의 카르복실기 함유 수지를 사용함으로써 현상성이나 저장 안정성을 향상시킬 수 있다. 중량 평균 분자량은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정할 수 있다.The weight average molecular weight of the carboxyl group-containing resin varies depending on the resin skeleton, but is generally in the range of 2,000 to 150,000, and preferably in the range of 5,000 to 100,000. By using a carboxyl group-containing resin having a weight average molecular weight of 2,000 or more, resolution and tack-free performance can be improved. Moreover, developability and storage stability can be improved by using a carboxyl group-containing resin having a weight average molecular weight of 150,000 or less. The weight average molecular weight can be measured by gel permeation chromatography (GPC).

카르복실기 함유 수지의 배합량은 경화성 수지 조성물 전량당 고형분 환산으로, 바람직하게는 20 ~ 80질량%이고, 보다 바람직하게는 20 ~ 75질량%이며, 더욱 바람직하게는 20 ~ 50질량%이다. 20질량% 이상으로 함으로써 경화 도막의 강도를 향상시킬 수 있다. 또한, 80질량% 이하로 함으로써 경화성 수지 조성물의 점도가 적당해져 가공성이 향상된다.The blending amount of the carboxyl group-containing resin is, in terms of solid content per total amount of the curable resin composition, preferably 20 to 80% by mass, more preferably 20 to 75% by mass, and still more preferably 20 to 50% by mass. By setting it as 20 mass% or more, the strength of a cured coating film can be improved. Moreover, by setting it as 80 mass% or less, the viscosity of a curable resin composition becomes suitable and workability improves.

또한 카르복실기 함유 수지 중에 카르복실기 함유 공중합 수지를 포함하는 경우, 카르복실기 함유 공중합 수지의 배합량은, 보다 저광택되면서 구리 비침 현상이 억제되는 점에서, 고형분 환산으로 카르복실기 함유 수지 100 질량부에 대하여 5 ~ 90질량%가 바람직하고, 10 ~ 70질량%가 보다 바람직하며, 15 ~ 50질량%가 보다 바람직하다.In addition, when the carboxyl group-containing resin contains a carboxyl group-containing copolymer resin, the blending amount of the carboxyl group-containing copolymer resin is 5 to 90% by mass based on 100 parts by mass of the carboxyl group-containing resin in terms of solid content in terms of lower gloss and suppression of copper seepage. Is preferable, 10 to 70 mass% is more preferable, and 15 to 50 mass% is more preferable.

[광경화성 수지][Photocurable resin]

광경화성 수지라는 것은 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물이고, 폴리머, 올리고머, 모노머 등을 들 수 있으며, 그들의 혼합물이어도 된다. 광경화성 수지를 포함함으로써, 경화막의 강도를 향상시킬 수 있다. 광경화성 수지는 1종을 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The photocurable resin is a compound having an ethylenically unsaturated group, and includes polymers, oligomers, and monomers, and a mixture thereof may be used. By including a photocurable resin, the strength of a cured film can be improved. Photocurable resins may be used alone or in combination of two or more.

에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물로는 공지 관용의 광중합성 올리고머, 광중합성 모노머 등을 이용할 수 있다. 이 중에서도 경화 도막의 가교성이나 경화성을 더욱 부여할 수 있는 점에서, 광중합성 모노머를 사용하는 것이 바람직하다.As the compound having an ethylenically unsaturated group, a known and commonly used photopolymerizable oligomer, photopolymerizable monomer, or the like can be used. Among these, it is preferable to use a photopolymerizable monomer from the viewpoint of further imparting crosslinkability and curability of the cured coating film.

광중합성 올리고머는 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 올리고머이다. 광중합성 올리고머로는 불포화 폴리에스테르계 올리고머, (메트)아크릴레이트계 올리고머 등을 들 수 있다. (메트)아크릴레이트계 올리고머로는 페놀노볼락에폭시(메트)아크릴레이트, 크레졸노볼락에폭시(메트)아크릴레이트, 비스페놀형 에폭시(메트)아크릴레이트 등의 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트, 에폭시우레탄(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 폴리에테르(메트)아크릴레이트, 폴리부타디엔 변성 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Photopolymerizable oligomers are oligomers having ethylenically unsaturated double bonds. Examples of the photopolymerizable oligomer include unsaturated polyester oligomers and (meth)acrylate oligomers. (Meth) acrylate oligomers include epoxy (meth) acrylates such as phenol novolac epoxy (meth) acrylate, cresol novolac epoxy (meth) acrylate, bisphenol-type epoxy (meth) acrylate, and urethane (meth) Acrylate, epoxy urethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, polybutadiene-modified (meth)acrylate, and the like.

광중합성 모노머는 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 모노머이다. 이러한 광중합성 모노머로는 예를 들어, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트 등의 알킬(메트)아크릴레이트류; 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메트)아크릴레이트류; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜 등의 알킬렌옥사이드 유도체의 모노 또는 디(메트)아크릴레이트류; 헥산디올, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 디트리메틸올프로판, 디펜타에리스리톨, 트리스히드록시에틸이소시아눌레이트 등의 다가 알코올 또는 이들의 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드 부가물의 다가(메트)아크릴레이트류; 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A의 폴리에톡시디(메트)아크릴레이트 등의 페놀류의 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드 부가물의 (메트)아크릴레이트류; 글리세린디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 트리글리시딜이소시아눌레이트 등의 글리시딜에테르의 (메트)아크릴레이트류; 및 멜라민(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 광중합성 모노머는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The photopolymerizable monomer is a monomer having an ethylenically unsaturated double bond. Examples of such photopolymerizable monomers include alkyl (meth)acrylates such as 2-ethylhexyl (meth)acrylate and cyclohexyl (meth)acrylate; Hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and 2-hydroxypropyl (meth)acrylate; Mono or di(meth)acrylates of alkylene oxide derivatives such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, and dipropylene glycol; Polyhydric alcohols such as hexanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, ditrimethylolpropane, dipentaerythritol, and trishydroxyethyl isocyanurate, or poly(meth)acrylates of ethylene oxide or propylene oxide adducts thereof; (Meth)acrylates of ethylene oxide or propylene oxide adducts of phenols such as phenoxyethyl (meth)acrylate and polyethoxydi (meth)acrylate of bisphenol A; (Meth)acrylates of glycidyl ether, such as glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, and triglycidyl isocyanurate; And melamine (meth)acrylate. The photopolymerizable monomer may be used singly or in combination of two or more.

광경화성 수지의 배합량은 경화성 수지 조성물 전량당 고형분 환산으로, 바람직하게는 3 ~ 20질량%이고, 보다 바람직하게는 5 ~ 15질량%이다. 광중합성 모노머의 배합량은 3질량% 이상인 경우, 광경화성이 양호하고, 활성 에너지선 조사 후의 알칼리 현상에서 패턴 형성이 용이하다. 한편, 20질량% 이하의 경우, 헐레이션(halation)이 생기기 어려워 양호한 해상성이 얻어지기 쉽다.The blending amount of the photocurable resin is, in terms of solid content per total amount of the curable resin composition, preferably 3 to 20% by mass, more preferably 5 to 15% by mass. When the blending amount of the photopolymerizable monomer is 3% by mass or more, the photocurability is good, and pattern formation is facilitated by alkali development after irradiation with active energy rays. On the other hand, in the case of 20% by mass or less, halation is difficult to occur, and good resolution is easily obtained.

[체질 안료][Extender Pigment]

본 발명의 체질 안료라는 것은 굴절률이 1.40 이상의 안료를 말하고 예를 들어, 비정질 실리카, 결정질 실리카, 용융 실리카, 구상 실리카 등의 실리카, 탤크, 베마이트, 하이드로탈사이트, 소석회, 수산화칼슘, 탄산 칼슘, 황산 칼슘, 탄산 칼륨, 탄산 마그네슘, 클레이, 운모분, 산화알루미늄, 수산화알루미늄, 황산 바륨, 황화구리, 알루미나, 산화아연, 철, 황화아연, 산화지르코늄, 산화크롬, 산화카드뮴, 황화카드뮴, 산화티탄, 산화구리 등을 들 수 있다. 이 중에서도 분산성의 관점에서 실리카, 황산 바륨이 바람직하다. 체질 안료는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 체질 안료를 함유시킴으로써 내열성을 향상시키거나, 도포시의 편차를 적게 할 수 있다. 또한, 보다 저광택화하는 관점에서는 SiO2와 Al2O3를 주성분으로 하는 규산 알루미늄 등을 사용해도 된다.The extender pigment of the present invention refers to a pigment having a refractive index of 1.40 or more and, for example, silica such as amorphous silica, crystalline silica, fused silica, and spherical silica, talc, boehmite, hydrotalcite, slaked lime, calcium hydroxide, calcium carbonate, sulfuric acid. Calcium, potassium carbonate, magnesium carbonate, clay, mica powder, aluminum oxide, aluminum hydroxide, barium sulfate, copper sulfide, alumina, zinc oxide, iron, zinc sulfide, zirconium oxide, chromium oxide, cadmium oxide, cadmium sulfide, titanium oxide, And copper oxide. Among these, silica and barium sulfate are preferable from the viewpoint of dispersibility. One type of extender pigment may be used alone, or two or more types of extender pigments may be used in combination. By containing an extender pigment, heat resistance can be improved, or variation at the time of application can be reduced. Further, from the viewpoint of lowering the gloss, aluminum silicate or the like containing SiO 2 and Al 2 O 3 as main components may be used.

체질 안료의 표면 처리의 유무는 특별히 한정되지 않지만, 분산성을 높이기위한 표면 처리가 되어 있어도 된다. 표면 처리가 되어 있는 체질 안료를 사용함으로써, 응집을 억제할 수 있다. 체질 안료의 표면 처리 방법은 특별히 한정되지 않고 공지 관용의 방법을 사용하면 되지만, 경화성 반응기를 갖는 표면 처리제, 예를 들어 경화성 반응기를 유기기로서 갖는 커플링제 등으로 무기의 체질 안료의 표면을 처리하는 것이 바람직하다.The presence or absence of the surface treatment of the extender pigment is not particularly limited, but a surface treatment for enhancing dispersibility may be performed. Aggregation can be suppressed by using a surface-treated extender pigment. The surface treatment method of the extender pigment is not particularly limited, and a known conventional method may be used, but the surface of the inorganic extender pigment is treated with a surface treatment agent having a curable reactive group, for example, a coupling agent having a curable reactive group as an organic group. It is desirable.

체질 안료의 평균 입자경은 10㎛ 이하의 것을 바람직하게 사용할 수 있지만, 분산성의 관점에서 후술하는 비정질 실리카를 제외하고, 보다 바람직하게는 0.1 ~ 2.0㎛이고, 더욱 바람직하게는 0.15 ~ 1.0㎛이며, 특히 바람직하게는 0.2 ~ 0.9㎛이다. 체질 안료의 평균 입자경이란 1차 입자의 입자경뿐만 아니라, 2차 입자(응집체)의 입자경도 포함한 평균 입자경(D50)이고, 레이저 회절법에 의해 측정된 D50의 값이다. 레이저 회절법에 의한 측정 장치로서는 닛키소 가부시키가이샤 제조의 Microtrac MT3300EXII를 들 수 있다. 또한, 최대 입자경(D100) 및 입자경(D10)에 대해서도 상기의 장치로 동일하게 측정할 수 있다. 또한, 상술한 체질 안료의 각 입자경의 값은 경화성 수지 조성물을 조정(예비 교반, 혼련)하기 전의 체질 안료를 상기와 같이 하여 측정한 값을 말하는 것으로 한다.The extender pigment may preferably have an average particle diameter of 10 µm or less, but more preferably 0.1 to 2.0 µm, more preferably 0.15 to 1.0 µm, in particular, except for amorphous silica described later from the viewpoint of dispersibility. It is preferably 0.2 to 0.9 μm. The average particle diameter of the extender pigment is an average particle diameter (D 50 ) including not only the particle diameter of the primary particles but also the particle diameter of the secondary particles (aggregates), and is a value of D 50 measured by a laser diffraction method. As a measuring device by laser diffraction method, Nikkiso Corporation Microtrac MT3300EXII is mentioned. Further, the maximum particle diameter (D 100 ) and the particle diameter (D 10 ) can be measured in the same manner with the above apparatus. In addition, the value of each particle diameter of the extender pigment mentioned above shall refer to the value measured in the above manner of the extender pigment before adjusting (pre-stirring, kneading) the curable resin composition.

체질 안료의 배합량은 경화성 수지 조성물 전량당 고형분 환산으로, 바람직하게는 20 ~ 80질량%이고, 보다 바람직하게는 25 ~ 75질량%이며, 더욱 바람직하게는 30 ~ 50질량%이다. 체질 안료의 배합량이 상기 범위 내인 점에서, 경화물을 고강도로 할 수 있다.The blending amount of the extender pigment, in terms of solid content per total amount of the curable resin composition, is preferably 20 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, and still more preferably 30 to 50% by mass. Since the blending amount of the extender pigment is within the above range, the cured product can be made high strength.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 경화 도막이 보다 저광택이 되는 점에서, 실리카는 흡유량 180 ~ 350ml/100g의 비정질 실리카를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 비정질 실리카를 사용함으로써, 경화 도막이 저광택이 되는 이유는 이하와 같이 추측된다. 즉, 흡유량이 소정의 범위 내에 있는 비정질 실리카는 다공질이고, 경화나 건조시에서의 유기 용제 등의 흡유에 의해, 비정질 실리카나 다른 체질 안료가 보다 조밀한 상태가 되는 결과, 형성된 경화 도막의 광택도가 보다 낮아지는 것으로 추측된다. 상기 흡유량은 200 ~ 300ml/100g인 것이 보다 바람직하다. 또한, 본 발명에서 흡유량은 「JIS K5101-13-1 : 2004 안료 시험 방법 - 제 13 부 : 흡유량 - 제 1 절 : 정제 아마인유법」에 준거하여 측정한 것을 말한다.The curable resin composition of the present invention preferably contains amorphous silica having an oil absorption amount of 180 to 350 ml/100 g from the point that the cured coating film becomes lower gloss. The reason why the cured coating film becomes low-gloss by using the amorphous silica is estimated as follows. That is, the amorphous silica in which the oil absorption amount is within a predetermined range is porous, and as a result of the amorphous silica or other extender pigments becoming more dense due to oil absorption of an organic solvent during curing or drying, the glossiness of the formed cured coating film Is estimated to be lower than. The oil absorption is more preferably 200 ~ 300ml / 100g. In addition, in the present invention, the oil absorption is measured in accordance with "JIS K5101-13-1: 2004 Pigment Test Method-Part 13: Oil Absorption-Section 1: Refined Linseed Oil Method".

상기 비정질 실리카는 공지 관용의 것을 사용할 수 있고, 합성이어도 천연이어도 된다. 또한, 표면 처리를 실시하고 있어도 실시하고 있지 않아도 된다. 표면 처리의 종류는 상기 체질 안료와 동일하다. 제품으로는 ACEMATT 82, ACEMATT 790, ACEMATT OK 412, ACEMATT OK 500(모두 에보닉 데구사(EVONIK DEGUSSA)사 제조) 등을 들 수 있다.As the amorphous silica, a conventionally known one can be used, and may be synthetic or natural. In addition, even if surface treatment is performed, it is not necessary to perform it. The type of surface treatment is the same as the extender pigment. Products include ACEMATT 82, ACEMATT 790, ACEMATT OK 412, and ACEMATT OK 500 (all manufactured by EVONIK DEGUSSA).

상기 비정질 실리카의 평균 입자경은 경화 도막이 보다 저광택이 되는 점에서 3 ~ 10㎛인 것을 바람직하게 사용할 수 있고, 4 ~ 8㎛인 것을 보다 바람직하게 사용할 수 있다. 또한,이 단락의 평균 입자경은 경화성 수지 조성물로서 혼련하기 전의 상태에서 측정한 것이다. 또한 평균 입자경의 측정 방법은 상기 체질 안료와 동일하다.The average particle diameter of the amorphous silica may preferably be 3 to 10 µm, and more preferably 4 to 8 µm, in that the cured coating film has a lower gloss. In addition, the average particle diameter in this section was measured as a curable resin composition in a state before kneading. In addition, the method of measuring the average particle diameter is the same as that of the extender pigment.

체질 안료 중에 상기 비정질 실리카를 포함하는 경우, 비정질 실리카의 배합량은 경화 도막을 보다 저광택으로 하면서 균일하게 분산되는 점에서, 고형분 환산으로 체질 안료 100질량부에 대해, 바람직하게는 5 ~ 90질량부이고, 보다 바람직하게는 10 ~ 70질량부이며, 더욱 바람직하게는 12 ~ 50질량부이다. 또한, 체질 안료 중에 상기 비정질 실리카와 다른 체질 안료를 포함하는 경우, 경화 도막을 보다 저광택으로 하면서 균일하게 분산되는 점에서, 황산 바륨이 바람직하다.When the amorphous silica is included in the extender pigment, the blending amount of the amorphous silica is uniformly dispersed while making the cured coating film more low gloss, and is preferably 5 to 90 parts by mass, based on 100 parts by mass of the extender pigment in terms of solid content. , More preferably, it is 10 to 70 parts by mass, and even more preferably 12 to 50 parts by mass. In addition, when the extender pigment contains an extender pigment different from the amorphous silica, barium sulfate is preferable from the viewpoint of uniform dispersion while making the cured coating film more low gloss.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 이하의 임의 성분을 포함해도 된다.The curable resin composition of the present invention may contain the following optional components.

[광중합 개시제][Photopolymerization initiator]

광중합 개시제는 카르복실기 함유 수지나 광중합성 모노머를 노광에 의해 반응시키기 위한 것이다. 광중합 개시제로는 공지의 것을 모두 사용할 수 있다. 광중합 개시제는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The photoinitiator is for reacting a carboxyl group-containing resin or a photopolymerizable monomer by exposure. Any known photopolymerization initiator can be used. A photoinitiator may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types.

광중합 개시제로는 구체적으로는 예를 들면, 비스-(2,6-디클로로벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-4-프로필페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디클로로벤조일) -1-나프틸포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등의 비스아실포스핀옥사이드류; 2,6-디메톡시벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,6-디클로로벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일페닐포스핀산 메틸에스테르, 2-메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 피발로일페닐포스핀산 이소프로필에스테르, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등의 모노아실포스핀옥사이드류; 페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀산 에틸, 1-히드록시-시클로헥실페닐케톤, 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-히드록시-1-{4-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]페닐}-2-메틸-프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 등의 히드록시아세토페논류; 벤조인, 벤질, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인 n-프로필에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인 n- 부틸에테르 등의 벤조인류; 벤조인알킬에테르류; 벤조페논, p-메틸벤조페논, 미힐러케톤, 메틸벤조페논, 4,4’-디클로로벤조페논, 4,4’-비스디에틸아미노벤조페논 등의 벤조페논류; 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-1-프로판온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1,2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸)-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부탄온, N,N-디메틸아미노아세토페논 등의 아세토페논류; 티옥산톤, 2-에틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디이소프로필티옥산톤 등의 티옥산톤류; 안트라퀴논, 클로로안트라퀴논, 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-tert-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논, 2-아밀안트라퀴논, 2-아미노안트라퀴논 등의 안트라퀴논류; 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈 등의 케탈류; 에틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 2-(디메틸아미노)에틸벤조에이트, p-디메틸 벤조산 에틸에스테르 등의 벤조산 에스테르류; 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)페닐]-, 2-(O-벤조일옥심), 에탄온, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심) 등의 옥심에스테르류; 비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)페닐)티타늄, 비스(시클로펜타디에닐)-비스[2,6-디플루오로-3-(2-(1-필-1-일)에틸)페닐]티타늄 등의 티타노센류; 페닐디설파이드 2-니트로플루오렌, 부티로인, 아니소인에틸에테르, 아조비스이소부티로니트릴, 테트라메틸티우람디설파이드 등을 들 수 있다.Specifically as a photoinitiator, for example, bis-(2,6-dichlorobenzoyl)phenylphosphine oxide, bis-(2,6-dichlorobenzoyl)-2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis-( 2,6-dichlorobenzoyl)-4-propylphenylphosphine oxide, bis-(2,6-dichlorobenzoyl)-1-naphthylphosphine oxide, bis-(2,6-dimethoxybenzoyl)phenylphosphine oxide , Bis-(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis-(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis-( Bisacylphosphine oxides such as 2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide; 2,6-dimethoxybenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,6-dichlorobenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphinic acid methyl ester, 2-methylbenzoyldiphenylphosphine oxide, blood Monoacylphosphine oxides such as isopropyl ester of valeoylphenylphosphinic acid and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; Ethyl phenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphinate, 1-hydroxy-cyclohexylphenylketone, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl -1-propan-1-one, 2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-propan-1-one And hydroxyacetophenones such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; Benzoins, such as benzoin, benzyl, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin n-propyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin n-butyl ether; Benzoin alkyl ethers; Benzophenones such as benzophenone, p-methylbenzophenone, Michler's ketone, methylbenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, and 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone; Acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl- 1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino-1-propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1,2- Acetophenones such as (dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl)-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]-1-butanone and N,N-dimethylaminoacetophenone; Thioxanthone, 2-ethyl thioxanthone, 2-isopropyl thioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, 2,4-di Thioxanthones such as isopropyl thioxanthone; Anthraquinones such as anthraquinone, chloroanthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2-amylanthraquinone, and 2-aminoanthraquinone; Ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; Benzoic acid esters such as ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 2-(dimethylamino)ethylbenzoate, and p-dimethyl benzoic acid ethyl ester; 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)phenyl]-, 2-(O-benzoyloxime), ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H- Oxime esters such as carbazol-3-yl]- and 1-(O-acetyloxime); Bis(η5-2,4-cyclopentadien-1-yl)-bis(2,6-difluoro-3-(1H-pyrrol-1-yl)phenyl)titanium, bis(cyclopentadienyl)- Titanocenes such as bis[2,6-difluoro-3-(2-(1-pil-1-yl)ethyl)phenyl]titanium; Phenyl disulfide 2-nitrofluorene, butyroin, anisoin ethyl ether, azobisisobutyronitrile, tetramethylthiuram disulfide, etc. are mentioned.

α-아미노아세토페논계 광중합 개시제의 시판품으로는 IGM Resins사 제조의 Omnirad 907, 369, 369E, 379 등을 들 수 있다. 또한, 아실포스핀옥사이드계 광중합 개시제의 시판품으로는 IGM Resins사 제조의 Omnirad TPO, 819 등을 들 수 있다. 옥심에스테르계 광중합 개시제의 시판품으로는 BASF 쟈판 가부시키가이샤 제조의 Irgacure OXE01, OXE02, 가부시키가이샤 ADEKA 제조 N-1919, 아데카 아크루즈 NCI-831, NCI-831E, 창저우 치앙리 디엔쯔 신차이리아오사 제조(changzou tronly new electronic materials co,ltd) TR-PBG-304 등을 들 수 있다.Commercially available products of α-aminoacetophenone-based photoinitiators include Omnirad 907, 369, 369E, 379 manufactured by IGM Resins. Further, as a commercial item of the acylphosphine oxide-based photopolymerization initiator, Omnirad TPO, 819 manufactured by IGM Resins, and the like can be mentioned. Commercially available products of oxime ester photopolymerization initiators include Irgacure OXE01, OXE02 manufactured by BASF Japan Co., Ltd., N-1919 manufactured by ADEKA Co., Ltd., Adeka Acruze NCI-831, NCI-831E, and Dientz New Chiria by Changzhou Qianli And TR-PBG-304 manufactured by Changzou tronly new electronic materials co, ltd.

그 밖에 일본 공개 특허 제2004-359639호 공보, 일본 공개 특허 제2005-097141호 공보, 일본 공개 특허 제2005-220097호 공보, 일본 공개 특허 제2006-160634호 공보, 일본 공개 특허 제2008-094770호 공보, 일본 공표 특허 제2008-509967호 공보, 일본 공표 특허 제2009-040762호 공보, 일본 공개 특허 제2011-80036호 공보에 기재된 카르바졸옥심에테르 화합물 등을 들 수 있다.Other Japanese Published Patent No. 2004-359639, Japanese Published Patent No. 2005-097141, Japanese Published Patent No. 2005-220097, Japanese Published Patent No. 2006-160634, Japanese Published Patent No. 2008-094770 The carbazole oxime ether compounds described in Japanese Unexamined Publication No. 2008-509967, Japanese Unexamined Patent No. 2009-040762, and Japanese Unexamined Patent No. 2011-80036 may be mentioned.

광중합 개시제의 배합량은 경화성 수지 조성물 전량당 고형분 환산으로, 바람직하게는 0.1 ~ 10질량%이고, 보다 바람직하게는 1 ~ 5질량%이다. 광중합 개시제의 배합량은 0.1질량% 이상인 경우, 경화성 수지 조성물의 광경화성이 양호해지고, 내약품성 등의 도막 특성도 양호해진다. 한편, 10질량% 이하의 경우, 레지스트막(경화도막) 표면에서의 광흡수가 양호해져, 심부 경화성이 저하되기 어렵다.The blending amount of the photoinitiator is in terms of solid content per total amount of the curable resin composition, preferably 0.1 to 10% by mass, and more preferably 1 to 5% by mass. When the blending amount of the photopolymerization initiator is 0.1% by mass or more, the photocurability of the curable resin composition becomes good, and the coating film properties such as chemical resistance are also good. On the other hand, in the case of 10% by mass or less, light absorption on the surface of the resist film (cured coating film) becomes good, and the deep curing property is hardly lowered.

상기한 광중합 개시제와 병용하여 광 개시 조제 또는 증감제를 사용해도 된다. 광 개시 조제 또는 증감제로는 벤조인 화합물, 안트라퀴논 화합물, 티옥산톤 화합물, 케탈 화합물, 벤조페논 화합물, 3급 아민 화합물, 및 잔톤 화합물 등을 들 수 있다. 특히 2,4-디메틸티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤 등의 티옥산톤 화합물을 이용하는 것이 바람직하다. 티옥산톤 화합물이 포함됨으로써 심부 경화성을 향상시킬 수 있다. 이들 화합물은 광중합 개시제로서 사용할 수 있는 경우도 있지만, 광중합 개시제와 병용하여 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 광 개시 조제 또는 증감제는 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.You may use a photoinitiation aid or a sensitizer in combination with the above photoinitiator. Examples of the photo-initiating aid or sensitizer include a benzoin compound, an anthraquinone compound, a thioxanthone compound, a ketal compound, a benzophenone compound, a tertiary amine compound, and a xanthone compound. In particular, thioxanthone compounds such as 2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, 2-isopropyl thioxanthone, and 4-isopropyl thioxanthone are used. It is desirable. By including the thioxanthone compound, it is possible to improve the deep curing properties. Although these compounds can be used as a photoinitiator in some cases, it is preferable to use it in combination with a photoinitiator. Moreover, a photoinitiation aid or a sensitizer may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

또한, 이들 광중합 개시제, 광 개시 조제, 및 증감제는 특정의 파장을 흡수하므로, 경우에 따라서는 감도가 낮아져, 자외선 흡수제로서 기능하는 경우가 있다. 그러나, 이들은 수지 조성물의 감도 향상만의 목적으로 사용되는 것은 아니다. 필요에 따라 특정 파장의 광을 흡수하게 하여 표면의 광 반응성을 높이고, 레지스트 패턴의 라인 형상 및 개구를 수직, 테이퍼 형상, 역테이퍼 형상으로 변화시키고, 또한 라인폭이나 개구직경의 정밀도를 향상시킬 수 있다.In addition, since these photoinitiators, photoinitiation aids, and sensitizers absorb specific wavelengths, the sensitivity is lowered in some cases, and thus functions as an ultraviolet absorber in some cases. However, these are not used only for the purpose of improving the sensitivity of the resin composition. If necessary, it is possible to increase the photoreactivity of the surface by absorbing light of a specific wavelength, change the line shape and opening of the resist pattern into vertical, tapered, and reverse tapered shapes, and improve the accuracy of the line width and opening diameter. have.

[열경화 촉매][Thermal curing catalyst]

본 발명의 경화성 수지 조성물에는 열경화 촉매를 배합할 수 있다. 열경화 촉매로는 예를 들어, 이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2- 페닐이미다졸, 4-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸 유도체; 디시안디아미드, 벤질디메틸아민, 4-(디메틸아미노)-N, N-디메틸벤질아민, 4-메톡시-N, N-디메틸벤질아민, 4-메틸-N, N-디메틸벤질아민 등의 아민 화합물, 아디프산 디히드라지드, 세바스산 디히드라지드 등의 히드라진 화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 시코쿠 가세이 고교 가부시키가이샤 제조의 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, 2P4BHZ, 2P4MHZ(모두 이미다졸계 화합물의 상품명), 산아프로 가부시키가이샤 제조의 U-CAT 3513N(디메틸아민계 화합물의 상품명), DBU, DBN, U-CAT SA 102(모두 이환식 아미딘 화합물 및 그 염) 등을 들 수 있다. 특히, 이들에 한정되는 것은 아니고, 에폭시 수지나 옥세탄 화합물의 열경화 촉매, 또는 에폭시기 및 옥세타닐기 중 적어도 어느 1종과 카르복실기의 반응을 촉진하는 것이면 되고, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용해도 상관없다.A thermosetting catalyst can be blended into the curable resin composition of the present invention. As a thermosetting catalyst, for example, imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 4-phenylimidazole , Imidazole derivatives such as 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole and 1-(2-cyanoethyl)-2-ethyl-4-methylimidazole; Amines such as dicyandiamide, benzyldimethylamine, 4-(dimethylamino)-N, N-dimethylbenzylamine, 4-methoxy-N, N-dimethylbenzylamine, 4-methyl-N, and N-dimethylbenzylamine Hydrazine compounds such as compounds, adipic acid dihydrazide, and sebacic acid dihydrazide; And phosphorus compounds such as triphenylphosphine. In addition, commercially available ones include, for example, 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, 2P4BHZ, 2P4MHZ (all brand names of imidazole-based compounds) manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., and U manufactured by San Apro Co., Ltd. -CAT 3513N (trade name of a dimethylamine compound), DBU, DBN, and U-CAT SA 102 (both bicyclic amidine compounds and salts thereof), and the like. In particular, it is not limited thereto, and any one that promotes the reaction of at least one of an epoxy group and oxetanyl group and a carboxyl group, or a thermosetting catalyst of an epoxy resin or an oxetane compound, or a mixture of two or more It doesn't matter if you use it.

또한, 구아나민, 아세토구아나민, 벤조구아나민, 멜라민, 2,4-디아미노-6-메타크릴로일옥시에틸-S-트리아진, 2-비닐-2,4-디아미노-S-트리아진, 2-비닐-4,6-디아미노-S-트리아진·이소시아눌산 부가물, 2,4-디아미노-6-메타크릴로일옥시에틸-S-트리아진·이소시아눌산 부가물 등의 S-트리아진 유도체를 사용할 수도 있고, 바람직하게는 이들 밀착성 부여제로서도 기능하는 화합물을 열경화 촉매와 병용한다. 열경화 촉매는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.In addition, guanamine, acetoguanamine, benzoguanamine, melamine, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine, 2-vinyl-2,4-diamino-S-tri Azine, 2-vinyl-4,6-diamino-S-triazine/isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine/isocyanuric acid adduct S-triazine derivatives such as may be used, and preferably, a compound that functions also as an adhesive imparting agent is used in combination with a thermosetting catalyst. The thermosetting catalyst may be used singly or in combination of two or more.

열경화 촉매의 배합량은 경화성 수지 조성물 전량당 고형분 환산으로, 바람직하게는 0.1 ~ 5 질량부이고, 보다 바람직하게는 1 ~ 3 질량부이다.The blending amount of the thermosetting catalyst is, in terms of solid content per total amount of the curable resin composition, preferably 0.1 to 5 parts by mass, more preferably 1 to 3 parts by mass.

[착색제][coloring agent]

본 발명의 경화성 수지 조성물에는 착색제를 배합할 수 있다. 착색제로는 특별히 한정되지 않고 적, 청, 녹, 황 등의 공지의 착색제를 사용할 수 있고, 안료, 염료, 색소 중 어느 것이어도 되지만, 환경 부하의 저감이나 인체에 대한 영향이 적은 관점에서 할로겐을 함유하지 않는 착색제인 것이 바람직하다.A colorant can be blended into the curable resin composition of the present invention. The colorant is not particularly limited, and known colorants such as red, blue, green, and sulfur may be used, and any of pigments, dyes, and pigments may be used. However, from the viewpoint of reducing the environmental load and having little influence on the human body, halogen It is preferably a colorant that does not contain.

적색 착색제로는 모노 아조계, 디스아조계, 아조레이크계, 벤즈이미다졸론계, 페릴렌계, 디케토피롤로피롤계(diketo-pyrrolo-pyrrole), 축합 아조계, 안트라퀴논계, 퀴나클리돈계 등이 있고, 구체적으로는 이하와 같은 컬러-인덱스(C.I.; 더 소사이어티 오브 다이어즈 앤드 컬러리스츠(The Society of Dyersand Colourists) 발행) 번호가 부여되어 있는 것을 들 수 있다.Red colorants include mono-azo, disazo, azo lake, benzimidazolone, perylene, diketo-pyrrolo-pyrrole, condensed azo, anthraquinone, quinaclidone, etc. In particular, the following color-index (CI; issued by The Society of Dyersand Colourists) numbers are given.

모노 아조계 적색 착색제로는 Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 112, 114, 146, 147, 151, 170, 184, 187, 188, 193, 210, 245, 253, 258, 266, 267, 268, 269 등을 들 수 있다. 또한, 디스아조계 적색 착색제로는 Pigment Red 37, 38, 41 등을 들 수 있다. 또한, 모노 아조레이크계 적색 착색제로는 Pigment Red 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 52:2, 53:1, 53:2, 57:1, 58:4, 63:1, 63:2, 64:1, 68 등을 들 수 있다. 또한, 벤즈이미다졸론계 적색 착색제로는 Pigment Red 171, 175, 176, 185, 208 등을 들 수 있다. 또한, 페릴렌계 적색 착색제로는 Solvent Red 135, 179, Pigment Red 123, 149, 166, 178, 179, 190, 194, 224 등을 들 수 있다. 또한, 디케토피롤로피롤계 적색 착색제로서는 Pigment Red 254, 255, 264, 270, 272 등을 들 수 있다. 또한, 축합 아조계 적색 착색제로는 Pigment Red 220, 144, 166, 214, 220, 221, 242 등을 들 수 있다. 또한, 안트라퀴논계 적색 착색제로는 Pigment Red 168, 177, 216, Solvent Red 52, 149, 150, 207 등을 들 수 있다. 또한, 퀴나크리돈계 적색 착색제로는 Pigment Red 122, 202, 206, 207, 209 등을 들 수 있다.Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 112, 114, 146 , 147, 151, 170, 184, 187, 188, 193, 210, 245, 253, 258, 266, 267, 268, 269, and the like. In addition, Pigment Red 37, 38, 41, etc. are mentioned as a disazo-based red colorant. In addition, as a mono azo lake-based red colorant, Pigment Red 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 52:2, 53: 1, 53:2, 57:1, 58:4, 63:1, 63:2, 64:1, 68, and the like. Further, as the benzimidazolone-based red colorant, Pigment Red 171, 175, 176, 185, 208, and the like may be mentioned. Further, examples of the perylene-based red colorants include Solvent Red 135, 179, Pigment Red 123, 149, 166, 178, 179, 190, 194, 224, and the like. Moreover, Pigment Red 254, 255, 264, 270, 272, etc. are mentioned as a diketopyrrolopyrrole type red colorant. In addition, Pigment Red 220, 144, 166, 214, 220, 221, 242, etc. are mentioned as a condensed azo-based red colorant. In addition, Pigment Red 168, 177, 216, Solvent Red 52, 149, 150, 207, etc. are mentioned as an anthraquinone-based red colorant. Moreover, Pigment Red 122, 202, 206, 207, 209, etc. are mentioned as a quinacridone type red colorant.

청색 착색제로는 프탈로시아닌계, 안트라퀴논계가 있고, 안료계는 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있으며, 예를 들어 Pigment Blue 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 60. 염료계로는 Solvent Blue 35, 63, 67, 68, 70, 83, 87, 94, 97, 122, 136 등을 사용할 수 있다. 상기 이외에도 금속 치환 또는 무치환의 프탈로시아닌 화합물도 사용할 수 있다.Examples of blue colorants include phthalocyanine-based and anthraquinone-based compounds, and pigment-based compounds classified as pigments. For example, Pigment Blue 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 60. As the dye system, Solvent Blue 35, 63, 67, 68, 70, 83, 87, 94, 97, 122, 136, etc. may be used. In addition to the above, a metal substituted or unsubstituted phthalocyanine compound can also be used.

황색 착색제로는 모노 아조계, 디스 아조계, 축합 아조계, 벤즈이미다졸론계, 이소인돌리논계, 안트라퀴논계 등을 들 수 있고, 예를 들어 안트라퀴논계 황색 착색제로는 Solvent Yellow 163, Pigment Yellow 24, 108, 193, 147, 199, 202 등을 들 수 있다. 이소인돌리논계 황색 착색제로는 Pigment Yellow 110, 109, 139, 179, 185 등을 들 수 있다. 축합 아조계 황색 착색제로는 Pigment Yellow 93, 94, 95, 128, 155, 166, 180 등을 들 수 있다. 벤즈이미다졸론계 황색 착색제로는 Pigment Yellow 120, 151, 154, 156, 175, 181 등을 들 수 있다. 또한, 모노 아조계 황색 착색제로는 Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 61, 62, 62:1, 65, 73, 74, 75, 97, 100, 104, 105, 111, 116, 167, 168, 169, 182, 183 등을 들 수 있다. 또한, 디스아조계 황색 착색제로는 Pigment Yellow 12, 13, 14, 16, 17, 55, 63, 81, 83, 87, 126, 127, 152, 170, 172, 174, 176, 188, 198 등을 들 수 있다.Examples of the yellow colorant include mono-azo-based, disazo-based, condensed azo-based, benzimidazolone-based, isoindolinone-based, and anthraquinone-based, for example, Solvent Yellow 163, as an anthraquinone-based yellow colorant, Pigment Yellow 24, 108, 193, 147, 199, 202, etc. are mentioned. Pigment Yellow 110, 109, 139, 179, 185, etc. are mentioned as an isoindolinone type yellow colorant. Pigment Yellow 93, 94, 95, 128, 155, 166, 180, etc. are mentioned as a condensed azo yellow colorant. Pigment Yellow 120, 151, 154, 156, 175, 181, etc. are mentioned as a benzimidazolone yellow colorant. In addition, as a mono azo yellow colorant, Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 61, 62, 62: 1, 65, 73, 74, 75, 97, 100, 104 , 105, 111, 116, 167, 168, 169, 182, 183, etc. are mentioned. In addition, Pigment Yellow 12, 13, 14, 16, 17, 55, 63, 81, 83, 87, 126, 127, 152, 170, 172, 174, 176, 188, 198, etc. Can be lifted.

그 밖에, 보라, 오렌지, 갈색, 흑 등의 착색제를 가해도 된다. 구체적으로는, Pigment Black 1, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 18, 20, 25, 26, 28, 29, 30, 31, 32, Pigment Violet 19, 23, 29, 32, 36, 38, 42, Solvent Violet 13, 36, C. I. Pigment Orange 1, 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 61, 63, 64, 71, 73, PigmentBrown 23, 25, 카본 블랙 등을 들 수 있다.In addition, colorants such as purple, orange, brown, and black may be added. Specifically, Pigment Black 1, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 18, 20, 25, 26, 28, 29, 30, 31, 32, Pigment Violet 19, 23, 29, 32, 36, 38, 42, Solvent Violet 13, 36, CI Pigment Orange 1, 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 61, 63 , 64, 71, 73, PigmentBrown 23, 25, carbon black, and the like.

착색제의 배합량은 경화성 수지 조성물 전량당 고형분 환산으로, 바람직하게는 0.1 ~ 2.0 질량%이고, 보다 바람직하게는 0.3 ~ 1.5질량%이다.The blending amount of the colorant is, in terms of solid content per total amount of the curable resin composition, preferably 0.1 to 2.0 mass%, and more preferably 0.3 to 1.5 mass%.

[유기 용제][Organic solvents]

본 발명의 경화성 수지 조성물에는 조성물의 조제나, 기판이나 필름에 도포 할 때의 점도 조정 등의 목적으로 유기 용제를 함유시킬 수 있다. 유기 용제로는 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 톨루엔, 자일렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 카르비톨, 메틸카르비톨, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 락트산 부틸, 셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 탄산 프로필렌 등의 에스테르류; 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소류; 석유 에테르, 석유 나프타, 솔벤트 나프타 등의 석유계 용제 등, 공지 관용의 유기 용제를 사용할 수 있다. 이 중에서도 본 발명에서의 경화성 수지 조성물이 비정질 실리카와 같은 다공질의 것을 사용한 경우, 경화나 건조시에 실리카 표면에 흡유하기 쉬운 결과, 형성된 경화 도막의 광택도가 보다 낮아지는 점에서, 에스테르류가 바람직하고, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트가 보다 바람직하다. 이들 유기 용제는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The curable resin composition of the present invention can contain an organic solvent for the purpose of preparing the composition or adjusting the viscosity when applied to a substrate or film. Examples of the organic solvent include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene; Cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, methylcarbitol, butylcarbitol, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether Glycol ethers such as acetate and tripropylene glycol monomethyl ether; Ethyl acetate, butyl acetate, butyl lactate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, propylene carbonate, etc. Esters of; Aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; Known and common organic solvents, such as petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, and solvent naphtha, can be used. Among these, when the curable resin composition in the present invention uses a porous one such as amorphous silica, esters are preferable from the viewpoint of lowering the glossiness of the formed cured coating film as a result of easy absorption on the silica surface during curing or drying. And diethylene glycol monoethyl ether acetate is more preferable. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

유기 용제의 배합량은 특별히 한정되지 않고, 경화성 수지 조성물을 조제하기 쉽도록 목적의 점도에 따라 적절하게 설정할 수 있다.The blending amount of the organic solvent is not particularly limited, and can be appropriately set according to the intended viscosity so that the curable resin composition can be easily prepared.

[기타 첨가 성분][Other additive ingredients]

본 발명의 경화성 수지 조성물에는 필요에 따라 추가로, 광 개시 조제, 시아네이트 화합물, 엘라스토머, 머캅토 화합물, 우레탄화 촉매, 칙소화제, 밀착 촉진제, 블록 공중합체, 연쇄 이동제, 중합 금지제, 동해(銅害) 방지제, 산화 방지제, 방청제, 미분 실리카, 유기 벤토나이트, 몬모릴로나이트 등의 증점제, 실리콘계, 불소계, 고분자계 등의 소포제 및 레벨링제의 적어도 어느 1종, 이미다졸계, 티아졸계, 트리아 졸계 등의 실란 커플링제, 포스핀산염, 인산 에스테르 유도체, 포스파젠 화합물 등의 인 화합물 등의 난연제 등의 성분을 배합할 수 있다. 이들은 전자 재료의 분야에서 공지된 것을 사용할 수 있다.In addition to the curable resin composition of the present invention, if necessary, a photo-initiation aid, a cyanate compound, an elastomer, a mercapto compound, a urethanization catalyst, a thixotropic agent, an adhesion promoter, a block copolymer, a chain transfer agent, a polymerization inhibitor, and a freezing agent (銅害) At least one kind of anti-foaming agent, anti-oxidant, rust inhibitor, thickener such as finely divided silica, organic bentonite, montmorillonite, silicone-based, fluorine-based, polymer-based, and leveling agent, imidazole-based, thiazole-based and triazole-based Components such as flame retardants such as phosphorus compounds such as silane coupling agents, phosphinates, phosphoric acid ester derivatives, and phosphazene compounds may be blended. Those known in the field of electronic materials can be used.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 드라이 필름화하여 사용해도 된다.The curable resin composition of the present invention may be used after forming a dry film.

[조제 방법][How to prepare]

본 발명의 경화성 수지 조성물의 조제에는 각 성분을 칭량, 배합한 후, 교반기에서 예비 교반한다. 이어서, 혼련기에서 각 성분을 분산시키고 혼련을 실시함으로써 조제할 수 있다.In the preparation of the curable resin composition of the present invention, each component is weighed and blended, followed by preliminary stirring with a stirrer. Subsequently, it can be prepared by dispersing each component in a kneader and kneading.

상기의 혼련기로서는 예를 들어 비즈밀, 볼밀, 샌드밀, 3본롤 밀, 2본롤 밀 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 보다 저광택이면서, 건조전이나 건조후의 도막의 막두께의 편차를 보다 작게 하고, 구리 비침 현상을 억제하는 점에서, 비즈밀을 사용하는 것이 바람직하다. 비즈밀의 비즈의 종류나 입경 등의 분산 조건은 목적으로 하는 점도에 따라서 적절히 설정할 수 있지만, 비즈의 종류로서는 예를 들어, 지르코니아 비즈, 알루미나 비즈 등을 들 수 있다. 비즈의 입경으로는 예를 들어, φ0.015 ~ 2.0㎜의 범위를 들 수 있다. 이 중에서도 φ0.3 ~ 1.5㎜의 범위가 보다 바람직하다. 비즈의 충전율은 50 ~ 95%이고, 로터의 회전수는 800 ~ 1300rpm인 것이 바람직하다. 또한, 목적으로 하는 점도로는 분산성 향상이나 경화 도막이 보다 저광택이 되는 점에서 비즈 밀 투입시의 조성물 점도가 200dPa·s 이하인 것이 바람직하다. 한편, 하한으로는 50dPa·s 이상이 바람직하다. 본 발명의 점도는 JIS Z 8803:2011의 10 원추 - 평판형 회전 점도계에 의한 점도 측정 방법에 준하여 50℃, 100rpm, 30초로 하고, 콘·로터(cone rotor)로 하여 3 °×R9.7을 이용한 콘플레이트형 점도계(TVE-33H, 도키산교사 제조)에서 측정한 값이다.Examples of the kneading machine include a bead mill, a ball mill, a sand mill, a three roll mill, and a two roll mill. Among these, it is preferable to use a bead mill from the viewpoint of having a lower gloss, further reducing the variation in the film thickness of the coating film before or after drying, and suppressing the copper seepage phenomenon. Dispersion conditions, such as the kind and particle diameter of beads of the bead mill, can be appropriately set according to the target viscosity, but examples of the kinds of beads include zirconia beads and alumina beads. The particle diameter of the beads is, for example, in the range of φ0.015 to 2.0 mm. Among these, the range of φ0.3 to 1.5 mm is more preferable. The filling rate of the beads is 50 to 95%, and the rotational speed of the rotor is preferably 800 to 1300 rpm. In addition, the viscosity of the composition at the time of adding a bead mill is preferably 200 dPa·s or less from the viewpoint of improving dispersibility and lowering the gloss of the cured coating film as the target viscosity. On the other hand, 50 dPa·s or more is preferable as the lower limit. The viscosity of the present invention is 50° C., 100 rpm, 30 seconds, according to the method of measuring viscosity using a 10-conical-plate rotary viscometer of JIS Z 8803:2011, and 3°×R9.7 as a cone rotor. It is a value measured by the used cone plate type viscometer (TVE-33H, manufactured by Tokisankyo Corporation).

한편, 3본롤 밀의 각 롤의 회전비 등의 분산 조건도, 목적으로 하는 점도에 따라 적절히 설정할 수 있다.On the other hand, dispersion conditions, such as the rotation ratio of each roll of the three-roll mill, can also be appropriately set according to the target viscosity.

또한, 분산성을 보다 향상시키기 위해, 우선은 원료를 비즈 밀이나 3본롤 밀 등의 혼련기를 이용하여 슬러리화한 것을 칭량, 배합한 후, 교반기에서 예비 교반해도 된다. 원료를 슬러리화할 때에는 실란 커플링제 등의 윤활 분산제도 칭량, 배합하고 나서 비즈 밀 등에 의해 혼련하는 것이 바람직하다. 이어서, 상기 예시에 있는 바와 같은 혼련기에서 슬러리화한 것을 포함하는 각 성분을 분산시키고, 비즈밀 등에 의해 혼련을 실시함으로써 조제해도 된다.Further, in order to further improve the dispersibility, the raw material may be weighed and blended into a slurry using a kneader such as a bead mill or a three-roll mill, and then pre-stirred with a stirrer. When the raw material is slurried, it is preferable to weigh and mix a lubricant dispersant such as a silane coupling agent, and then knead it by a bead mill or the like. Subsequently, it may be prepared by dispersing each component including those obtained by slurrying in a kneader as described above, and kneading with a bead mill or the like.

[용도][Usage]

본 발명에 의한 경화성 수지 조성물은 솔더 레지스트나 커버레이, 층간 절연 층 등의 프린트 배선판의 영구 피막으로서의 패턴층을 형성하기 위해 유용하고, 특히 솔더 레지스트의 형성에 유용하다. 또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물은 박막으로도 막 강도가 우수한 경화물을 형성할 수 있는 점에서, 박막화가 요구되는 프린트 배선판, 예를 들어 패키지 기판(반도체 패키지에 사용되는 프린트 배선판)에서의 패턴층의 형성에도 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물으로부터 얻어지는 경화물은, 굴곡성이 우수한 점에서 플렉시블 프린트 배선판에 바람직하게 사용할 수 있다.The curable resin composition according to the present invention is useful for forming a pattern layer as a permanent film of a printed wiring board such as a solder resist, a coverlay, and an interlayer insulating layer, and is particularly useful for forming a solder resist. In addition, since the curable resin composition of the present invention can form a cured product having excellent film strength even with a thin film, a pattern on a printed wiring board that is required to be thinned, for example, a package substrate (printed wiring board used in a semiconductor package) It can also be preferably used for layer formation. In addition, the cured product obtained from the curable resin composition of the present invention can be preferably used for a flexible printed wiring board because of its excellent flexibility.

또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물은 경화 도막의 패턴층을 형성하는 용도뿐만 아니라 패턴층을 형성하지 않는 용도, 예를 들어 몰드 용도(밀봉 용도)에 사용할 수 있다.In addition, the curable resin composition of the present invention can be used not only for forming the pattern layer of the cured coating film, but also for not forming the pattern layer, for example, for mold applications (sealing applications).

[드라이 필름][Dry film]

본 발명의 경화성 수지 조성물은 지지(캐리어) 필름과, 상기 지지 필름 상에 형성된 상기 경화성 수지 조성물의 건조 도막으로 이루어진 수지층을 구비한 드라이 필름의 형태로 할 수도 있다. 드라이 필름화시에는 본 발명의 경화성 수지 조성물을 상기 유기 용제로 희석하여 적절한 점도로 조정하고 콤마 코터, 블레이드 코터, 립 코터, 로드 코터, 스퀴즈 코터, 리버스 코터, 트랜스퍼 롤 코터, 그라비아 코터, 스프레이 코터 등으로 캐리어 필름 상에 균일한 두께로 도포하고, 통상 50 ~ 130 ℃의 온도에서 1 ~ 30 분간 건조하여 막을 얻을 수 있다. 도포막 두께에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 일반적으로 건조후 막두께로 1 ~ 150㎛, 바람직하게는 5 ~ 60㎛의 범위에서 적절히 선택된다. 본 발명의 경화성 수지 조성물을 이용함으로써, 건조전에 도막의 편차를 작게 할 수 있으므로, 건조 도막으로 이루어진 수지층이 박막이어도 편차를 작게 할 수 있다. 예를 들어, 12㎛ 이하의 박막의 수지층을 구비하는 드라이 필름의 형태로 할 수도 있다.The curable resin composition of the present invention may be in the form of a dry film including a support (carrier) film and a resin layer comprising a dry coating film of the curable resin composition formed on the support film. In dry film formation, the curable resin composition of the present invention is diluted with the organic solvent and adjusted to an appropriate viscosity, and comma coater, blade coater, lip coater, rod coater, squeeze coater, reverse coater, transfer roll coater, gravure coater, spray coater The film can be obtained by coating it with a uniform thickness on the carrier film by using the same, and drying for 1 to 30 minutes at a temperature of usually 50 to 130°C. There is no particular limitation on the thickness of the coating film, but in general, the thickness after drying is appropriately selected in the range of 1 to 150 µm, preferably 5 to 60 µm. By using the curable resin composition of the present invention, it is possible to reduce the variation of the coating film before drying, so that even if the resin layer made of the dry coating is a thin film, the variation can be reduced. For example, it may be in the form of a dry film including a thin resin layer of 12 μm or less.

지지 필름으로는 공지의 것이면 특별히 제한없이 사용할 수 있고 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아미드이미드 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리스티렌 필름 등의 열가소성 수지로 이루어진 필름을 바람직하게 사용할 수 있다. 이 중에서도 내열성, 기계적 강도, 취급성 등의 관점에서 폴리에스테르 필름이 바람직하다. 또한, 이러한 필름의 적층체를 지지 필름으로서 사용할 수도 있다.Any known support film can be used without particular limitation. For example, a thermoplastic resin such as a polyester film such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, a polyimide film, a polyamideimide film, a polypropylene film, or a polystyrene film. The formed film can be preferably used. Among these, polyester films are preferred from the viewpoints of heat resistance, mechanical strength, and handling properties. Further, a laminate of such a film can also be used as a supporting film.

또한, 상기한 바와 같은 열가소성 수지 필름은 기계적 강도 향상의 관점에서 1축 방향 또는 2축 방향으로 연신된 필름인 것이 바람직하다.In addition, the thermoplastic resin film as described above is preferably a film stretched in a uniaxial or biaxial direction from the viewpoint of improving mechanical strength.

지지 필름의 두께는 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들어 10㎛ ~ 150㎛로 할 수 있다.The thickness of the supporting film is not particularly limited, but may be, for example, 10 μm to 150 μm.

지지 필름 상에 본 발명의 경화성 수지 조성물의 건조 도막으로 이루어진 수지층을 형성한 후, 또한 수지층의 표면에 먼지가 부착되는 것을 방지하는 등의 목적으로, 수지층의 표면에 박리 가능한 보호(커버) 필름을 적층하는 것이 바람직하다. 박리 가능한 보호 필름으로는 예를 들어, 폴리에틸렌 필름, 폴리테트라플루오로에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 표면 처리한 종이 등을 사용할 수 있고, 보호 필름을 박리할 때 수지층과 지지 필름의 접착력보다 수지층과 보호 필름의 접착력이 보다 작은 것이면 된다.After forming a resin layer consisting of a dry coating film of the curable resin composition of the present invention on the support film, for the purpose of preventing dust from adhering to the surface of the resin layer, etc., peelable protection (cover ) It is preferable to laminate the film. As a peelable protective film, for example, a polyethylene film, a polytetrafluoroethylene film, a polypropylene film, a surface-treated paper, etc. can be used. When peeling the protective film, the resin layer is more adherent than the resin layer and the support film. It is sufficient if the adhesive strength of the protective film is smaller.

보호 필름의 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 10㎛ ~ 150㎛로 할 수 있다.The thickness of the protective film is not particularly limited, but may be, for example, 10 μm to 150 μm.

드라이 필름을 사용하여 프린트 배선판 상에 경화 도막을 제작하는 데에는 드라이 필름으로부터 보호 필름을 박리하고, 드라이 필름의 노출된 수지층을 회로 형성된 기재에 겹치고, 라미네이터 등을 이용하여 첩합하여, 회로 형성된 기재 상에 수지층을 형성한다. 이어서, 형성된 수지층에 대하여 노광, 현상, 가열경화하면 경화 도막을 형성할 수 있다. 보호 필름은 노광전 또는 노광후 중 어느 때에 박리하면 된다.To prepare a cured coating film on a printed wiring board using a dry film, the protective film is peeled off from the dry film, the exposed resin layer of the dry film is overlaid on a circuit-formed substrate, and then pasted using a laminator, etc., on the circuit-formed substrate. To form a resin layer. Subsequently, a cured coating film can be formed by exposing, developing, and heat-curing the formed resin layer. The protective film may be peeled off either before exposure or after exposure.

[경화물][Hardened cargo]

본 발명의 경화물은 상기 본 발명의 경화성 수지 조성물, 또는 상기 본 발명의 드라이 필름의 수지층을 경화하여 얻어지는 것이다. 본 발명의 경화물은 프린트 배선판이나 전자 부품 등에 바람직하게 사용할 수 있다. 본 발명의 경화물은 굴곡성이 우수한 것이므로, 특히 플렉시블 프린트 배선판에 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 경화물은 적외선 차폐성 및 경시 안정성도 우수하다.The cured product of the present invention is obtained by curing the curable resin composition of the present invention or the resin layer of the dry film of the present invention. The cured product of the present invention can be preferably used for a printed wiring board or an electronic component. Since the cured product of the present invention is excellent in flexibility, it can be particularly preferably used for a flexible printed wiring board. In addition, the cured product of the present invention is excellent in infrared shielding properties and stability over time.

[프린트 배선판][Printed wiring board]

본 발명의 프린트 배선판은 본 발명의 경화성 수지 조성물 또는 드라이 필름의 수지층으로부터 얻어지는 경화물을 갖는 것이다. 본 발명의 프린트 배선판의 제조 방법으로는 예를 들어, 본 발명의 경화성 수지 조성물을, 상기 유기 용제를 사용하여 도포 방법에 적합한 점도로 조정하고, 기재상에 딥 코팅법, 플로우 코팅법, 롤 코팅법, 바 코팅법, 스크린 인쇄법, 커튼 코팅법 등의 방법에 의해 도포한 후, 60 ~ 100 ℃의 온도에서 15 ~ 90분간, 조성물 중에 포함되는 유기 용제를 휘발 건조(가건조)시킴으로써 택프리의 수지층을 형성한다. 또한, 드라이 필름의 경우, 라미네이터 등에 의해 수지층이 기재와 접촉하도록 기재상에 첩합한 후, 캐리어 필름을 떼어 냄으로써, 기재상에 수지층을 형성한다.The printed wiring board of the present invention has a cured product obtained from the curable resin composition of the present invention or a resin layer of a dry film. As a method of manufacturing a printed wiring board of the present invention, for example, the curable resin composition of the present invention is adjusted to a viscosity suitable for a coating method using the organic solvent, and a dip coating method, flow coating method, roll coating method on a substrate After applying by a method such as a method, bar coating method, screen printing method, curtain coating method, etc., the organic solvent contained in the composition is volatilized and dried (temporarily dried) for 15 to 90 minutes at a temperature of 60 to 100°C. To form a resin layer. Further, in the case of a dry film, a resin layer is formed on the substrate by attaching the resin layer to the substrate by a laminator or the like so as to contact the substrate, and then removing the carrier film.

상기 기재로는 미리 구리 등에 의해 회로 형성된 프린트 배선판이나 플렉시블 프린트 배선판 외에, 종이 페놀, 종이 에폭시, 유리포 에폭시, 유리 폴리이미드, 유리포/부직포 에폭시, 유리포/종이 에폭시, 합성 섬유 에폭시, 불소 수지·폴리에틸렌·폴리페닐렌에테르, 폴리페닐렌옥사이드·시아네이트 등을 이용한 고주파 회로용 동장 적층판 등의 재질을 사용한 것으로, 모든 그레이드(FR-4 등)의 동장 적층판, 그 밖에 금속 기판, 폴리이미드 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 필름, 유리 기판, 세라믹 기판, 웨이퍼판 등을 들 수 있다.As the substrate, in addition to a printed wiring board or a flexible printed wiring board previously formed with copper or the like, paper phenol, paper epoxy, glass cloth epoxy, glass polyimide, glass cloth/nonwoven cloth epoxy, glass cloth/paper epoxy, synthetic fiber epoxy, fluororesin Copper-clad laminates for high frequency circuits made of polyethylene/polyphenylene ether, polyphenylene oxide, cyanate, etc. are used, and copper-clad laminates of all grades (FR-4, etc.), other metal substrates, polyimide films , Polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate (PEN) film, glass substrate, ceramic substrate, wafer plate, and the like.

드라이 필름의 기재상으로의 첩합은 진공 라미네이터 등을 사용하여 가압 및 가열하에서 실시하는 것이 바람직하다. 이와 같은 진공 라미네이터를 사용함으로써, 회로 형성된 기판을 사용한 경우에, 회로 기판 표면에 요철이 있어도, 드라이 필름이 회로 기판에 밀착되므로, 기포의 혼입이 없고, 또한 기판 표면의 오목부의 구멍 메움성도 향상된다. 가압 조건은 0.1 ~ 2.0㎫ 정도인 것이 바람직하고, 또한 가열 조건은 40 ~ 120 ℃인 것이 바람직하다.The bonding of the dry film onto the substrate is preferably performed under pressure and heating using a vacuum laminator or the like. By using such a vacuum laminator, when a circuit-formed substrate is used, even if there are irregularities on the surface of the circuit board, since the dry film adheres to the circuit board, there is no mixing of air bubbles, and the hole filling property of the concave portion of the substrate surface is also improved. . The pressurizing condition is preferably about 0.1 to 2.0 MPa, and the heating condition is preferably 40 to 120°C.

본 발명의 경화성 수지 조성물을 기재상에 도포한 후에 실시하는 휘발 건조는 열풍 순환식 건조로, IR로, 핫플레이트, 컨벡션 오븐 등(증기에 의한 공기 가열 방식의 열원을 구비한 것을 사용하여 건조기 내의 열풍을 향류 접촉하게 하는 방법 및 노즐로부터 지지체에 분사하는 방식)을 이용하여 실시할 수 있다. 장치로서는 열풍 순환 건조로로서 야마토 가가쿠 가부시키가이샤 제조 DF610 등을 들 수 있다.Volatilization drying performed after applying the curable resin composition of the present invention on a substrate is a hot air circulation type drying furnace, an IR furnace, a hot plate, a convection oven, etc. (with a heat source of an air heating method using steam, It can be carried out using a method of making hot air in countercurrent contact and a method of spraying the support body from a nozzle). Examples of the apparatus include DF610 manufactured by Yamato Chemical Co., Ltd. as a hot air circulation drying furnace.

기재상에 수지층을 형성한 후, 소정의 패턴을 형성한 포토 마스크를 통하여 선택적으로 활성 에너지선에 의해 노광하고, 미노광부를 희알칼리 수용액(예를 들어, 0.3 ~ 3.0질량% 탄산 소다 수용액)에 의해 현상하여 경화물의 패턴을 형성한다. 드라이 필름의 경우에는 노광 후, 드라이 필름으로부터 지지 필름을 박리하여 현상을 실시함으로써, 기재상에 패터닝된 경화물을 형성한다. 또한, 특성을 손상시키지 않는 범위이면, 노광전에 드라이 필름으로부터 지지 필름을 박리하고, 노출된 수지층을 노광 및 현상해도 된다.After the resin layer is formed on the substrate, it is selectively exposed with an active energy ray through a photomask having a predetermined pattern, and the unexposed part is a dilute alkali aqueous solution (for example, an aqueous solution of 0.3 to 3.0% by mass of soda carbonate). By developing to form a pattern of the cured product. In the case of a dry film, after exposure, the support film is peeled from the dry film and developed to form a patterned cured product on the substrate. Further, as long as the properties are not impaired, the supporting film may be peeled from the dry film before exposure, and the exposed resin layer may be exposed and developed.

상기 활성 에너지선 조사에 사용되는 노광기로는 고압 수은등 램프, 초고압 수은등 램프, 메탈할라이드 램프, 수은 쇼트아크 램프 등을 탑재하고, 350 ~ 450㎚의 범위에서 자외선을 조사하는 장치이면 되고, 또한 직접 묘화 장치(예를 들어, 컴퓨터로부터의 CAD 데이터에 의해 직접 레이저로 화상을 그리는 레이저 다이렉트 이미징 장치)도 사용할 수 있다. 직묘기(直描機)의 램프 광원 또는 레이저 광원으로서는 최대 파장이 350 ~ 450㎚의 범위에 있는 것이면 된다. 화상 형성을 위한 노광량은 막두께 등에 따라 다르지만, 일반적으로는 10 ~ 1,000mJ/㎠, 바람직하게는 20 ~ 800mJ/㎠의 범위내로 할 수 있다. 장치로는 메탈할라이드 램프 탑재의 노광 장치로서, 가부시키가이샤 오크 세이사쿠쇼 제조 HMW-680-GW20 등을 들 수 있다.As the exposure machine used for the active energy ray irradiation, a high-pressure mercury lamp lamp, an ultra-high pressure mercury lamp lamp, a metal halide lamp, a mercury short arc lamp, etc. may be mounted, and an apparatus that irradiates ultraviolet rays in the range of 350 to 450 nm may be used, and direct drawing An apparatus (for example, a laser direct imaging device that draws an image with a laser directly from CAD data from a computer) can also be used. As for the lamp light source or the laser light source of a handwriting machine, what is necessary is just to have a maximum wavelength in the range of 350-450 nm. The exposure amount for image formation varies depending on the film thickness and the like, but can generally be in the range of 10 to 1,000 mJ/cm 2, preferably 20 to 800 mJ/cm 2. As an apparatus, as an exposure apparatus equipped with a metal halide lamp, HMW-680-GW20 etc. manufactured by Oak Seisakusho Co., Ltd. are mentioned.

상기 현상 방법으로는 딥핑법, 샤워법, 스프레이법, 브러시법 등에 따를 수 있고, 현상액으로는 수산화칼륨, 수산화나트륨, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 인산 나트륨, 규산 나트륨, 암모니아, 아민류 등의 알칼리 수용액을 사용할 수 있다.The developing method may be a dipping method, a shower method, a spray method, a brush method, etc., and as a developer, an alkaline aqueous solution such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium phosphate, sodium silicate, ammonia, amines, etc. Can be used.

또한, 경화물에 활성 에너지선을 조사한 후에 가열경화(예를 들어, 100 ~ 220℃의 온도에서 30 ~ 90분간), 또는 가열경화후에 활성 에너지선을 조사(예를 들어, 1,000 ~ 2,000mJ/㎠), 또는 가열경화만으로 최종 마무리 경화(본경화)시킴으로써 밀착성, 경도 등의 제특성이 우수한 경화 도막을 형성한다. 장치로는 고압 수은 램프를 사용한 UV 컨베이어로서 가부시키가이샤 오크 세이사쿠쇼 제조 QRM-2082 등을 들 수 있다.In addition, after irradiating the cured product with active energy rays, heat curing (for example, 30 to 90 minutes at a temperature of 100 to 220°C), or irradiating active energy rays after heat curing (for example, 1,000 to 2,000 mJ/ Cm2), or final curing (main curing) only by heat curing to form a cured coating film having excellent properties such as adhesion and hardness. Examples of the device include a UV conveyor using a high-pressure mercury lamp, such as QRM-2082 manufactured by Oak Seisakusho Co., Ltd.

상기 내용은 광경화형 열경화형의 수지 조성물에 의한 경화 도막의 형성 방법인데, 광경화만이나 열경화만인 경우에는 이하와 같이 제조할 수 있다.The above is a method of forming a cured coating film using a photocurable thermosetting resin composition, and in the case of only photocuring or thermosetting, it can be prepared as follows.

광경화만인 경우, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 기재상에 패턴 인쇄 등으로 도포한 후에 활성 에너지선(예를 들어, 1,000 ~ 2,000mJ/㎠)을 조사하여 경화시킴으로써 경화 도막을 형성한다.In the case of photocuring alone, a cured coating film is formed by applying the curable resin composition of the present invention on a substrate by pattern printing or the like and then curing by irradiating with active energy rays (eg, 1,000 to 2,000 mJ/cm 2 ).

한편, 열경화만의 경우, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 기재상에 패턴 인쇄 등으로 도포한 후에 가열경화(예를 들어, 100 ~ 220℃의 온도에서 30 ~ 90분간)시킴으로써 경화 도막을 형성한다.On the other hand, in the case of only thermal curing, the curable resin composition of the present invention is applied on a substrate by pattern printing, etc., and then heat cured (for example, 30 to 90 minutes at a temperature of 100 to 220°C) to form a cured coating film. .

[실시예][Example]

이하, 본 발명을, 실시예를 이용하여 보다 상세하게 설명하지만, 본 발명은하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하에서 「부」 및 「%」라고 기재된 것은, 특별히 언급하지 않는 한 모두 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail using examples, but the present invention is not limited to the following examples. In addition, what is described as "parts" and "%" below are all based on mass unless otherwise noted.

(카르복실기 함유 수지의 수지 바니시 1의 합성)(Synthesis of resin varnish 1 of carboxyl group-containing resin)

온도계, 질소 도입 장치 겸 알킬렌옥사이드 도입 장치 및 교반 장치를 구비한 오토 클레이브에, 노볼락형 크레졸 수지(아이카 고교 가부시키가이샤 제조, 상품명 「쇼노르 CRG951」, OH당량: 119.4) 119.4g, 수산화칼륨 1.19g 및 톨루엔 119.4g을 넣고, 교반하면서 계내를 질소 치환하고, 가열 승온했다. 다음에, 프로필렌옥사이드 63.8g을 서서히 적하하고, 125 ~ 132℃, 0 ~ 4.8kg/㎠에서 16시간 반응시켰다. 그 후, 실온까지 냉각하고, 이 반응 용액에 89% 인산 1.56g을 첨가 혼합하여 수산화칼륨을 중화하고, 고형분 62.1%, 수산기가가 182.2g/eq.인 노볼락형 크레졸 수지의 프로필렌옥사이드 반응 용액을 얻었다. 이것은 페놀성 수산기 1당량당 알킬렌옥사이드가 평균 1.08몰 부가되어 있는 것이었다. 이어서, 얻어진 노볼락형 크레졸 수지의 알킬렌옥사이드 반응 용액 293.0g, 아크릴산 43.2g, 메탄설폰산 11.53g, 메틸하이드로퀴논 0.18g 및 톨루엔 252.9g을 교반기, 온도계 및 공기 블로잉 관을 구비한 반응기에 넣고, 공기를 10ml/분의 속도로 불어 넣고 교반하면서, 110℃에서 12시간 반응시켰다. 반응에 의해 생성된 물은 톨루엔과의 공비 혼합물로서 12.6g의 물이 유출(留出)되었다. 그 후, 실온까지 냉각하여, 얻어진 반응 용액을 15% 수산화나트륨 수용액 35.35g으로 중화하고, 이어서 수세했다. 그 후, 증발기에서 톨루엔을 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 118.1g으로 치환하면서 유거하고, 노볼락형 아크릴레이트 수지 용액을 얻었다. 다음에, 얻어진 노볼락형 아크릴레이트 수지 용액 332.5g 및 트리페닐포스핀 1.22g을 교반기, 온도계 및 공기 블로잉 관을 구비한 반응기에 넣고, 공기를 10ml/분의 속도로 불어 넣고 교반하면서, 테트라히드로 프탈산 무수물 60.8g을 서서히 가하고, 95 ~ 101℃에서 6시간 반응시켰다. 이와 같이 하여, 고형분산가 88㎎KOH/g, 고형분 71%, 중량 평균 분자량 2,000의 카르복실기 함유 수지의 수지 바니시 1을 얻었다.In an autoclave equipped with a thermometer, a nitrogen introducing device and an alkylene oxide introducing device and a stirring device, a novolac cresol resin (manufactured by Aika Kogyo Co., Ltd., brand name ``Shonor CRG951'', OH equivalent: 119.4) 119.4 g, hydroxide 1.19 g of potassium and 119.4 g of toluene were put, and the inside of the system was replaced with nitrogen while stirring, and the temperature was raised by heating. Next, 63.8 g of propylene oxide was gradually added dropwise and reacted at 125 to 132°C and 0 to 4.8 kg/cm 2 for 16 hours. After that, it was cooled to room temperature, and 1.56 g of 89% phosphoric acid was added and mixed to the reaction solution to neutralize potassium hydroxide, and a propylene oxide reaction solution of a novolac-type cresol resin having a solid content of 62.1% and a hydroxyl value of 182.2 g/eq. Got it. This was an average of 1.08 mol of alkylene oxide added per equivalent of phenolic hydroxyl group. Then, 293.0 g of the alkylene oxide reaction solution of the obtained novolak-type cresol resin, 43.2 g of acrylic acid, 11.53 g of methanesulfonic acid, 0.18 g of methylhydroquinone and 252.9 g of toluene were put into a reactor equipped with a stirrer, a thermometer and an air blowing tube. , Air was blown at a rate of 10 ml/min and reacted at 110° C. for 12 hours while stirring. The water produced by the reaction was an azeotropic mixture with toluene, and 12.6 g of water flowed out. Then, it cooled to room temperature, and the obtained reaction solution was neutralized with 35.35 g of 15% sodium hydroxide aqueous solution, and then washed with water. Thereafter, toluene was distilled off while substituting 118.1 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate in an evaporator to obtain a novolac-type acrylate resin solution. Next, 332.5 g of the obtained novolak-type acrylate resin solution and 1.22 g of triphenylphosphine were put into a reactor equipped with a stirrer, thermometer and air blowing tube, and air was blown at a rate of 10 ml/min, while stirring, 60.8 g of phthalic anhydride was gradually added and reacted at 95 to 101°C for 6 hours. Thus, resin varnish 1 of a carboxyl group-containing resin having a solid dispersion value of 88 mgKOH/g, a solid content of 71%, and a weight average molecular weight of 2,000 was obtained.

(카르복실기 함유 수지의 수지 바니시 2의 합성)(Synthesis of resin varnish 2 of carboxyl group-containing resin)

오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지(DIC 가부시키가이샤 제조, EPICLON N-695, 에폭시 당량: 214, 평균 관능기수 7.6) 220g을 교반기 및 환류 냉각기가 부착 된 4구 플라스크에 넣고, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 214g을 가하고, 가열 용해했다. 다음에, 중합 금지제로서 하이드로퀴논 0.1g과, 반응 촉매로서 디메틸벤질아민 2.0g을 가하였다. 이 혼합물을 95 ~ 105℃로 가열하고 아크릴산 72g을 서서히 적하하여 16시간 반응시켰다. 이 반응 생성물을 80 ~ 90℃까지 냉각하고, 테트라히드로프탈산 무수물 106g을 가하여, 8시간 반응시키고 냉각한 후 취출했다. 이와 같이 하여 얻어진 카르복실기 함유 수지의 수지 바니시 2는 고형분 65%, 고형물의 산가 100㎎KOH/g, 중량 평균 분자량 Mw 약 3,500이었다.Put 220 g of ortho cresol novolak type epoxy resin (manufactured by DIC Corporation, EPICLON N-695, epoxy equivalent: 214, average number of functional groups 7.6) into a 4-neck flask equipped with a stirrer and reflux cooler, and diethylene glycol monoethyl ether 214 g of acetate was added and heated and dissolved. Next, 0.1 g of hydroquinone as a polymerization inhibitor and 2.0 g of dimethylbenzylamine were added as a reaction catalyst. The mixture was heated to 95 to 105°C, and 72 g of acrylic acid was gradually added dropwise to react for 16 hours. The reaction product was cooled to 80 to 90°C, 106 g of tetrahydrophthalic anhydride was added, reacted for 8 hours, cooled, and then taken out. Resin varnish 2 of the carboxyl group-containing resin thus obtained had a solid content of 65%, an acid value of a solid of 100 mgKOH/g, and a weight average molecular weight Mw of about 3,500.

(카르복실기 함유 수지의 수지 바니시 3의 합성)(Synthesis of resin varnish 3 of carboxyl group-containing resin)

디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 650 질량부에 오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지(DIC 가부시키가이샤 제조, EPICLON N-695, 연화점 95 ℃, 에폭시 당량 214, 평균 관능기수 7.6) 1070g, 아크릴산 360g, 및 히드로퀴논 1.5g을 넣고, 100 ℃로 가열 교반하여 균일 용해시켰다. 이어서, 트리페닐포스핀 4.3 질량부를 넣고, 110℃로 가열하여 2시간 반응시킨 후, 추가로 트리페닐포스핀 1.6 질량부를 추가하여 120℃로 승온하고 추가로 12시간 반응을 실시했다. 얻어진 반응액에 방향족계 탄화수소(가부시키가이샤 스탄다도 세키유 오사카 하츠바이쇼 제조, 티소르 150) 525g, 테트라히드로 무수 프탈산 608g(4.0 몰)을 넣고, 110℃에서 4시간 반응을 실시했다. 또한, 얻어진 반응액에 글리시딜메타크릴레이트 142.0g을 넣고, 115℃에서 4시간 반응을 실시하였다. 이와 같이 하여 고형분산가 77㎎KOH/g, 고형분 65%인 카르복실기 함유 수지의 수지 바니시 3을 얻었다.Diethylene glycol monoethyl ether acetate 650 parts by mass of ortho cresol novolak type epoxy resin (manufactured by DIC Corporation, EPICLON N-695, softening point 95°C, epoxy equivalent 214, average number of functional groups 7.6) 1070 g, acrylic acid 360 g, and hydroquinone 1.5 g was put, and heated and stirred at 100°C to dissolve uniformly. Subsequently, 4.3 parts by mass of triphenylphosphine was added, heated to 110°C and reacted for 2 hours, then 1.6 parts by mass of triphenylphosphine was further added, the temperature was raised to 120°C, and further reaction was performed for 12 hours. To the obtained reaction solution, 525 g of an aromatic hydrocarbon (manufactured by Standado Sekiyu Osaka Hatsubaisho Co., Ltd., Tisor 150) and 608 g (4.0 mol) of tetrahydrophthalic anhydride were added and reacted at 110° C. for 4 hours. Further, 142.0 g of glycidyl methacrylate was added to the obtained reaction solution, and the reaction was carried out at 115°C for 4 hours. Thus, resin varnish 3 of a carboxyl group-containing resin having a solid dispersion of 77 mgKOH/g and a solid content of 65% was obtained.

(카르복실기 함유 수지의 수지 바니시 4의 합성)(Synthesis of resin varnish 4 of carboxyl group-containing resin)

온도계, 교반기, 적하 깔대기 및 환류 냉각기를 구비한 플라스크에, 용매로서의 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 325.0질량부를 110℃까지 가열하고, 메타크릴산 174.0질량부, ε-카프로락톤 변성 메타크릴산(평균 분자량 314) 174.0질량부, 메타크릴산 메틸 77.0질량부, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 222.0질량부 및 중합 촉매로서의 t-부틸퍼옥시 2-에틸헥사노에이트(니치유(주) 제조, 퍼부틸O) 12.0질량부의 혼합물을, 3시간에 걸쳐 적하하고, 110℃에서 3시간 교반하고 중합 촉매를 실활시켜 수지 용액을 얻었다. 이 수지 용액을 냉각 후, (주)다이세르 제조 사이크로마 M100(3,4-에폭시시클로헥실메틸메트아크릴레이트)를 289.0질량부, 트리페닐포스핀 3.0질량부 및 하이드로퀴논모노메틸에테르 1.3 질량부를 가하고, 100℃로 승온하고 교반함으로써 에폭시기의 개환 부가 반응을 실시하여, 카르복실기 함유 수지 바니시 4를 얻었다. 이와 같이 하여 얻어진 카르복실기 함유 수지 바니시 4는 불휘발분 45.5질량%, 고형물의 산가가 79.8㎎KOH/g이었다.In a flask equipped with a thermometer, stirrer, dropping funnel, and reflux condenser, 325.0 parts by mass of dipropylene glycol monomethyl ether as a solvent is heated to 110° C., and 174.0 parts by mass of methacrylic acid, ε-caprolactone-modified methacrylic acid (average molecular weight 314) 174.0 parts by mass, 77.0 parts by mass of methyl methacrylate, 222.0 parts by mass of dipropylene glycol monomethyl ether, and t-butylperoxy 2-ethylhexanoate as a polymerization catalyst (manufactured by Nichiyu Corporation, Perbutyl O) A 12.0 mass part mixture was dripped over 3 hours, stirred at 110 degreeC for 3 hours, the polymerization catalyst was deactivated, and a resin solution was obtained. After cooling this resin solution, 289.0 parts by mass of Cychroma M100 (3,4-epoxycyclohexylmethylmethacrylate) manufactured by DICER, 3.0 parts by mass of triphenylphosphine, and 1.3 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether It added, heated up to 100 degreeC, and the ring-opening addition reaction of an epoxy group was performed by stirring, and the carboxyl group-containing resin varnish 4 was obtained. The carboxyl group-containing resin varnish 4 thus obtained had a nonvolatile content of 45.5 mass% and a solid acid value of 79.8 mgKOH/g.

(실시예 1 ~ 실시예 4, 비교예 1 ~ 비교예 3)(Example 1 to Example 4, Comparative Example 1 to Comparative Example 3)

(경화성 수지 조성물의 조제)(Preparation of curable resin composition)

각 조성물에 대해서 하기 표 1 중에 나타내는 배합에 따라서 각 성분을 배합하고, 또한 필요에 따라서 유기 용제(디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트)를 배합하고, 교반기로 예비 혼합하였다. 이어서, 처방예 1 ~ 처방예 4의 조성물은 모두 비즈 밀에 의해 70℃ 이하에서 분산시키고, 혼련하여 조정했다. 한편, 처방예 5 ~ 처방예 7의 조성물은 모두 롤 밀에 의해 70℃ 이하에서 분산시키고 혼련하여 조정했다. 또한, 처방예 1 및 처방예 5의 조성물의 각 성분은 동일하지만 분산 방법이 다르고, 처방예 2 및 처방예 6의 조성물의 각 성분은 동일하지만, 분산 방법이 다르고, 처방예 3, 처방예 4 및 처방예 7의 조성물의 각 성분은 동일하지만, 분산 방법이 다르다.With respect to each composition, each component was blended according to the blending shown in Table 1 below, and an organic solvent (diethylene glycol monoethyl ether acetate) was blended as needed, and premixed with a stirrer. Subsequently, all of the compositions of Formulation Examples 1 to 4 were dispersed at 70°C or less by a bead mill, kneaded and adjusted. On the other hand, all of the compositions of Formulation Examples 5 to 7 were prepared by dispersing and kneading at 70°C or less by a roll mill. In addition, although the components of the compositions of Formulation Example 1 and Formulation Example 5 are the same, the dispersion method is different, and the components of the compositions of Formulation Example 2 and Formulation Example 6 are the same, but the dispersion method is different, and Formulation Examples 3 and 4 And the components of the composition of Formulation Example 7 are the same, but the dispersion method is different.

상기의 비즈 밀에 의한 분산은 다음의 조건에서 실시하였다. 유기 용제(디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트)에 의해 점도를 100dPa·s로 조정한 처방예 1 ~ 처방예 3 및 처방예 5 ~ 처방예 7의 각 조성물을 입경 φ1.0㎜의 지르코니아 비즈, 처방예 4의 조성물을 입경 φ0.65㎜의 지르코니아 비즈에 의한 가로형 습식 분쇄기(뷰러사 제조)를 각각 이용하여, 표 2에 기재하는 평균 입자경(D50)이 되도록 분산 처리를 실시하였다. 지르코니아 비즈의 충전율은 85%이고, 로터의 회전수는 1000rpm이었다. 또한, 점도는 JIS Z 8803 : 2011의 10 원추 - 평판형 회전 점도계에 의한 점도 측정 방법에 준하여, 50℃, 100rpm, 30초로 하고, 콘·로터로서 3°× R9.7을 이용한 콘플레이트형 점도계(TVEE-33H 도키산교사 제조)로 측정했다.The dispersion by the bead mill was carried out under the following conditions. Each composition of Formulation Examples 1 to 3 and 5 to 7 in which the viscosity was adjusted to 100 dPa·s with an organic solvent (diethylene glycol monoethyl ether acetate) was prepared as zirconia beads having a particle diameter of φ 1.0 mm. The composition of Example 4 was subjected to dispersion treatment so that the average particle diameter (D 50 ) shown in Table 2 could be obtained by using a horizontal wet grinder (manufactured by Burr Co., Ltd.) using zirconia beads having a particle diameter of 0.65 mm. The filling rate of the zirconia beads was 85%, and the rotation speed of the rotor was 1000 rpm. In addition, the viscosity is 50°C, 100 rpm, 30 seconds, according to the method of measuring viscosity using a 10-conical-plate rotational viscometer of JIS Z 8803:2011, and a cone plate viscometer using 3°×R9.7 as a cone rotor. It measured with (TVEE-33H Tokisankyo Corporation make).

또한, 상기의 롤 밀에 의한 분산에 대해서는 각 조성물을, 가부시키가이샤 이노우에 세이사쿠쇼 제조 3본롤 밀을 사용하여, 표 2에 기재하는 평균 입자경(D50)이 되도록 분산 처리를 실시하였다.In addition, for dispersion by the roll mill described above, each composition was subjected to dispersion treatment so that the average particle diameter (D 50 ) shown in Table 2 was obtained using a 3-roll mill manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd.

Figure pat00002
Figure pat00002

표 1 중의 배합량은 질량부를 나타낸다.The blending amount in Table 1 represents parts by mass.

표 1 중의 각 성분의 상세한 내용은 이하와 같다.Details of each component in Table 1 are as follows.

※ 1: 상기에서 합성한 카르복실기 함유 수지 바니시 1, 배합량은 고형분 환산의 값※ 1: The carboxyl group-containing resin varnish synthesized above 1, the blending amount is the value in terms of solid content

※ 2: 상기에서 합성한 카르복실기 함유 수지 바니시 2, 배합량은 고형분 환산의 값※ 2: The carboxyl group-containing resin varnish 2 synthesized above, the blending amount is the value in terms of solid content

※ 3: 상기에서 합성한 카르복실기 함유 수지 바니시 3, 배합량은 고형분 환산의 값※ 3: The carboxyl group-containing resin varnish 3 synthesized above, the blending amount is the value in terms of solid content

※ 4: 상기에서 합성한 카르복실기 함유 수지 바니시 4, 배합량은 고형분 환산의 값※ 4: The carboxyl group-containing resin varnish synthesized above 4, the blending amount is the value in terms of solid content

※ 5: 광중합성 모노머(디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(DPHA, 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤 제조))※ 5: Photopolymerizable monomer (dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.))

※ 6: 2-[4-(메틸티오)벤조일]-2-(4-모르폴리닐)프로판(IGM Resins 가부시키가이샤 제조, Omnirad 907)※ 6: 2-[4-(methylthio)benzoyl]-2-(4-morpholinyl)propane (manufactured by IGM Resins, Omnirad 907)

※ 7: 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심)(BASF 쟈판 가부시키가이샤, Irgacure OXE02)※ 7: Ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-, 1-(O-acetyloxime) (BASF Japan Co., Ltd., Irgacure OXE02 )

※ 8: 비스-(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드(IGM Resins 가부시키가이샤 제조, Omnirad 819)※ 8: Bis-(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide (manufactured by IGM Resins, Omnirad 819)

※ 9: 2,4-디에틸티옥산톤(닛폰 가야쿠 가부시키가이샤 제조, KAYACURE DETX-S)※ 9: 2,4-diethyl thioxanthone (KAYACURE DETX-S, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

※ 10: 청색 착색제(C.I.Pigment Blue 15:3)※ 10: Blue colorant (C.I.Pigment Blue 15:3)

※ 11: 황색 착색제(C.I.Pigment Yellow 147)※ 11: Yellow colorant (C.I.Pigment Yellow 147)

※ 12: 적색 착색제(Paliogen Red K3580, BASF 쟈판 가부시키가이샤 제조)※ 12: Red colorant (Paliogen Red K3580, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.)

※ 13: 비스페놀 A형 에폭시 수지(DIC 가부기키가이샤 제조, EPICLON 840-S)※ 13: Bisphenol A type epoxy resin (DIC Corporation, EPICLON 840-S)

※ 14: 페놀노볼락형 에폭시 수지(DIC 가부시키가이샤 제조, EPICLON N-770)※ 14: Phenol novolak type epoxy resin (manufactured by DIC Corporation, EPICLON N-770)

※ 15: 비페닐형 에폭시 수지(미츠비시 케미카르 가부시키가이샤 제조, YX-4000)※ 15: Biphenyl type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, YX-4000)

※ 16: 1,3,5-트리스(2,3-에폭시프로필)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H, 3H, 5H)-트리온(고융점 타입, 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 제조, TEPIC-HP)※ 16: 1,3,5-tris(2,3-epoxypropyl)-1,3,5-triazine-2,4,6(1H, 3H, 5H)-trion (high melting point type, Nissan Kaga Co., Ltd., TEPIC-HP)

※ 17: 멜라민※ 17: Melamine

※ 18: 황산 바륨(평균 입자경 0.3㎛(경화성 수지 조성물로서 혼련하기 전의 상태에서 측정한 것)(사카이 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, B-34)※ 18: Barium sulfate (average particle diameter 0.3 µm (measured in the state before kneading as a curable resin composition) (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., B-34)

※ 19: 비정질 실리카(평균 입자경 6.3㎛(경화성 수지 조성물로서 혼련하기 전의 상태에서 측정한 것), 흡유량: 260ml/100g)(에보닉·데구사·재팬 주식회사 제조, ACE MATT OK 500)※ 19: Amorphous silica (average particle diameter of 6.3 μm (measured in the state before kneading as a curable resin composition), oil absorption: 260 ml/100 g) (manufactured by Evonik Degusa Japan, ACE MATT OK 500)

(평균 입자경(D50) 및 비표면적(CS)의 측정)(Measurement of average particle diameter (D 50 ) and specific surface area (CS))

각 실시예 및 각 비교예의 각 경화성 수지 조성물에 대하여, 이하와 같이 평균 입자경(D50)(㎛) 및 비표면적(CS)(㎡/ml)을 측정하였다.About each curable resin composition of each Example and each comparative example, the average particle diameter (D 50 ) (micrometer) and specific surface area (CS) (m2/ml) were measured as follows.

우선, 이하의 사용 기기 및 비품류를 준비한다.First, prepare the following equipment and equipment.

·입도 분포계: 닛키소 가부시키가이샤 제조 마이크로트랙 MT3300EXParticle size distribution meter: Nikkiso Corporation Microtrack MT3300EX

·순환 장치: 닛키소 가부시키가이샤 제조 ASVR・Circulation device: ASVR manufactured by Nikkiso Co., Ltd.

다음에, 이하의 수순으로 측정 조건을 입력한다. 마이크로트랙 부속의 소프트웨어(「입도 분포 측정」)을 기동하고, SET UP 화면으로부터 진행하여, 측정 조건 설정의 옵션으로부터 시간 설정을 실시한다. Setzero 시간을 30sec., 측정을 30sec., 측정 횟수를 2회로 한다. 다음에 분석 조건을 입력한다. 분석 정보에서 입자 굴절률을 1.81(고정값: 전(全)무기물의 굴절률의 평균값), 입자의 특징에서 투과성을 투과, 형상을 비구형으로 한다. 또한, 용매 정보에서 PMA(프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트)를 선택하고, 용매 굴절률을 1.4로 한다. 다음에, 스케일 설정을 입력한다. 입경 범위에서 최소 입경을 0.021㎛, 최대 입경을 704㎛로 한다. 다음에 샘플링 시스템을 입력한다. ASVR의 세정 횟수를 4회, 유속을 50%, 초음파 출력을 40W, 초음파 시간을 300sec.로 한다. 모든 측정 조건을 입력하면, 측정 조건의 설정에서 저장을 누르고 닫는다.Next, the measurement conditions are input in the following procedure. Start up the software ("Particle size distribution measurement") attached to Microtrack, proceed from the SET UP screen, and set the time from the option of setting the measurement conditions. Set zero time is 30sec., measurement is 30sec., and number of times is measured twice. Next, enter the analysis conditions. In the analysis information, the particle refractive index is 1.81 (fixed value: the average value of the refractive index of all inorganic substances), the transmittance is transmitted through the characteristics of the particles, and the shape is made non-spherical. In addition, PMA (propylene glycol monomethyl ether acetate) is selected from the solvent information, and the solvent refractive index is set to 1.4. Next, input the scale setting. In the particle diameter range, the minimum particle diameter is set to 0.021 μm and the maximum particle diameter is set to 704 μm. Next, input the sampling system. Set ASVR cleaning times 4 times, flow rate 50%, ultrasonic output 40W, ultrasonic time 300sec. When all measurement conditions are entered, click Save to close the setting of measurement conditions.

이어서, 이하의 수순으로 샘플의 조정을 실시한다. 스크류병에 샘플(경화성 수지 조성물)을 0.3g 칭량하여 취하고, 스포이드를 이용하여 30g의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 조금씩 첨가하고 스크류병의 진탕에 의해 샘플을 용해시켜 조정 샘플을 제작한다. 조정 샘플은 외부 분산이나 예비 분산을 실시하지 않는다. 다음에 조정 샘플의 측정을 실시한다. 마이크로트랙 부속의 소프트웨어의 입도 분포 측정을 클릭하여 샘플 로딩의 화면을 연다. 본체의 샘플 투입구에 스포이드를 사용하여 조정 샘플을 수 방울 적하한다. 상기 샘플 로딩의 화면에서 적색의 지시바가 표시되면, 적색으로부터 녹색의 범위 내에 들어갈 때까지, 상기 샘플 투입구에 조정 샘플을 적하한다. 상기 녹색의 범위 내에 들어가면, 측정 버튼을 눌러 측정을 개시한다. 샘플의 조정부터 조정 샘플의 측정까지는 5분 이내에 실시한다. 측정 결과로서 표시된, 누적 평균 직경 50%의 값, 면적 평균 직경(MA)의 값을 각각 읽는다. 누적 평균 직경 50%의 값을 마이크로트랙에서 측정한 평균 입자경(D50)의 값으로 한다. 또한, CS=6/MA를 산출한다. 산출된 CS의 값을 마이크로트랙에서 측정한 비표면적의 값으로 한다.Next, the sample is adjusted in the following procedure. 0.3 g of a sample (curable resin composition) is weighed into a screw bottle, and 30 g of propylene glycol monomethyl ether acetate is added little by little using a dropper, and the sample is dissolved by shaking the screw bottle to prepare an adjustment sample. Adjustment samples do not undergo external dispersion or pre-dispersion. Next, the adjustment sample is measured. Click the particle size distribution measurement in the software supplied with MicroTrack to open the sample loading screen. A few drops of the adjusted sample are added dropwise to the sample inlet of the main body using a dropper. When a red indicator bar is displayed on the sample loading screen, an adjusted sample is dropped into the sample inlet until it falls within the range from red to green. Once within the green range, the measurement button is pressed to start measurement. From the adjustment of the sample to the measurement of the adjusted sample, it is carried out within 5 minutes. The values of the cumulative average diameter 50% and the area average diameter (MA), which are displayed as the measurement result, are read, respectively. The value of the cumulative average diameter of 50% is taken as the value of the average particle diameter (D 50 ) measured by the microtrack. In addition, CS=6/MA is calculated. The calculated CS value is taken as the value of the specific surface area measured by Microtrack.

(요철의 평균 간격(Sm) (㎛) 및 최대 높이(Ry)(㎛)의 측정)(Measurement of average spacing of irregularities (Sm) (㎛) and maximum height (Ry) (㎛))

각 실시예 및 각 비교예의 각 경화성 수지 조성물을 청정한 유리 기판(76㎜ × 26㎜ × 1.1㎜t) 표면상에 건조후 12㎛가 되도록 180 메시의 폴리에스테르판(바이어스 유)를 사용하여 스크린 인쇄로 베타 인쇄하고, 90℃ 15분 건조하여, 건조 도막을 형성했다. 얻어진 「건조후의 도막」(이하, 시료)에 대해서, 형상 측정 레이저 마이크로스코프(가부시키가이샤 키엔스 제조 VK-X100)를 이용하여, 이하와 같이, 요철의 평균 간격(Sm)(㎛) 및 최대 높이(Ry)(㎛)를 각각 JIS B0601-1994에 준거하여 측정했다. 또한, 측정은 90℃ 15분 건조하고 나서 실온에서 30분 방치한 후에 실시하였다.Screen printing of each curable resin composition of each example and each comparative example on the surface of a clean glass substrate (76 mm × 26 mm × 1.1 mmt) using a 180 mesh polyester plate (with bias) so that it becomes 12 μm after drying It printed with solid, and dried for 15 minutes at 90 degreeC, and formed a dry coating film. For the obtained "dry coating film" (hereinafter, a sample), using a shape-measurement laser microscope (VK-X100 manufactured by Keyence Corporation), the average interval (Sm) (µm) of the irregularities and the maximum height are as follows. (Ry) (µm) was measured in accordance with JIS B0601-1994, respectively. In addition, the measurement was carried out after drying at 90°C for 15 minutes and then leaving to stand at room temperature for 30 minutes.

형상 측정 레이저 마이크로스코프(동 VK-X100) 본체(제어부) 및, VK 관찰 어플리케이션(가부시키가이샤 키엔스 제조 VK-H1VX)을 기동시킨 후, x-y 스테이지 상에 측정하는 상기 시료를 올렸다. 현미경부(가부시키가이샤 키엔스 제조 VK-X110)의 렌즈 리볼버를 돌려 배율 10배의 대물 렌즈를 선택하고, VK 관찰 어플리케이션(동 VK-H1VX)의 화상 관찰 모드에서, 대략적으로 핀트, 밝기를 조절했다. x-y 스테이지를 조작하여 시료 표면의 측정하고 싶은 부분이, 화면의 중심에 오도록 조절했다. 배율 10배의 대물 렌즈를 배율 50배로 바꾸고, VK 관찰 어플리케이션(동 VK-H1VX)의 화상 관찰 모드의 오토 포커스 기능으로, 시료 표면에 핀트를 맞췄다. VK 관찰 어플리케이션(동 VK-H1VX)의 형상 측정 탭의 간단 모드를 선택하고 측정 개시 버튼을 눌러 시료의 표면 형상의 측정을 실시하여, 표면 화상 파일을 얻었다. VK 해석 어플리케이션(가부시키가이샤 키엔스제 VK-H1XA)을 기동하여, 얻어진 표면 화상 파일을 표시하게 한 후, 기울기 보정을 실시하였다.After starting the shape measurement laser microscope (copper VK-X100) body (control unit) and the VK observation application (VK-H1VX manufactured by Keyence Corporation), the sample to be measured was placed on the x-y stage. By rotating the lens revolver of the microscope unit (VK-X110 manufactured by Keyence Corporation), an objective lens with a magnification of 10 times was selected, and in the image observation mode of the VK observation application (VK-H1VX), the focus and brightness were approximately adjusted. . The x-y stage was operated to adjust the part of the sample surface to be measured so that it was in the center of the screen. The objective lens with a magnification of 10 times was changed to a magnification of 50 times, and the object was focused on the surface of the sample with the autofocus function of the image observation mode of the VK observation application (VK-H1VX). The simple mode of the shape measurement tab of the VK observation application (VK-H1VX) was selected, the measurement start button was pressed, the surface shape of the sample was measured, and a surface image file was obtained. After the VK analysis application (VK-H1XA manufactured by Keyence Corporation) was started and the obtained surface image file was displayed, tilt correction was performed.

또한, 시료의 표면 형상의 측정에서의 관찰 측정 범위(가로)는 270㎛로 했다. 선 거칠기 창을 표시시키고, 파라미터 설정 영역에서 JIS B0601-1994를 선택한 후, 측정 라인 버튼으로부터 수평선을 선택하고, 표면 화상 내의 임의의 장소에 수평선을 표시하게 하고, OK 버튼을 누름으로써, 요철 표면의 평균 간격(Sm)(㎛) 및 최대 높이(Ry)(㎛)의 수치를 얻었다. 또한 표면 화상 내의 다른 4개소에서 수평선을 표시하게 하고, 각각의 요철 표면의 평균 간격(Sm)(㎛) 및 최대 높이(Ry)(㎛)의 수치를 얻었다. 얻어진 5 개의 수치의 평균값을 산출하고, 시료 표면의 요철 표면의 평균 간격(Sm)값과 최대 높이(Ry)값으로 하였다. 측정 결과를 표 2에 나타내었다.In addition, the observation measurement range (horizontal) in the measurement of the surface shape of the sample was set to 270 µm. Display the line roughness window, select JIS B0601-1994 in the parameter setting area, select a horizontal line from the measurement line button, display a horizontal line in an arbitrary place in the surface image, and press the OK button to The values of the average spacing (Sm) (µm) and the maximum height (Ry) (µm) were obtained. Further, horizontal lines were displayed at four other locations in the surface image, and values of the average spacing (Sm) (µm) and maximum height (Ry) (µm) of the respective uneven surfaces were obtained. The average value of the obtained five numerical values was calculated, and it was set as the average spacing (Sm) value and the maximum height (Ry) value of the uneven surface of the sample surface. Table 2 shows the measurement results.

(광택도의 측정)(Measurement of glossiness)

표면을 버프 롤(BUFF ROLL) 연마한 35㎛ 두께의 300㎜ × 150㎜ 동박 기판 상에 경화후 막 두께가 12㎛가 되도록 스크린 인쇄로 베타 인쇄하고, 열풍 순환식 건조로(야마토 가가쿠 가부시키가이샤 제조 DF610)를 이용하여 150℃에서 60분간 경화하고, 동박 기판 상에 경화 도막을 형성하고, 옐로우 램프 아래, 실온에서 30분 방냉, 방치하여 평가 기판을 제작했다.After curing on a 35 μm-thick 300 mm × 150 mm copper foil substrate with a buff roll polished surface, solid-state printing is performed by screen printing so that the film thickness becomes 12 μm, and hot air circulation drying furnace (Yamato Chemical Co., Ltd.) It cured at 150° C. for 60 minutes using DF610 manufactured by Geisha, and a cured coating film was formed on the copper foil substrate, and allowed to stand for 30 minutes at room temperature under a yellow lamp to prepare an evaluation substrate.

동박 기판상에 형성된 경화 도막은 모두, 25℃ 50%RH의 환경하에서, 경화 도막의 표면에 이소프로필 알코올(IPA)을 함유시킨 웨이스트를 얹고, 또한 그 위에 500g의 추를 얹어, 1분간 정치한 후에 웨이스트를 떼어내고, 웨이스트의 경화 도막과 접촉하고 있던 면에 수지층의 전부 또는 일부가 부착되어 있지 않은 상태인 것을 확인했다. 또한, 광택도의 측정은 노광후 현상 공정을 실시하지 않고, 열경화하여 형성한 경화 도막을 이용하여 측정하는 것으로 한다.All of the cured coating films formed on the copper foil substrate were placed on a waste containing isopropyl alcohol (IPA) on the surface of the cured coating film under an environment of 25°C and 50% RH, and a weight of 500 g was placed thereon and allowed to stand for 1 minute. Later, the waste was removed, and it was confirmed that all or part of the resin layer was not adhered to the surface of the waste that was in contact with the cured coating film. In addition, the glossiness is measured using a cured coating film formed by heat curing without performing a development step after exposure.

그 후, 디지털 변각 광택도계(Micro-Tri-Gloss, BYK Gardener사 제조)를 이용하여 각 경화 도막 표면의 Gs(60 °)를 측정했다. 측정 결과는 하기의 표 2에 나타내었다.Thereafter, Gs (60°) of the surface of each cured coating film was measured using a digital variable angle gloss meter (Micro-Tri-Gloss, manufactured by BYK Gardener). The measurement results are shown in Table 2 below.

(박막시의 건조전 도막의 편차)(Difference of coating film before drying when thin film)

박막시의 건조전 도막의 편차를 간이적으로 확인하는 방법으로서, 경화성 수지 조성물 중의 분체의 편차를 확인하는 방법을 채용하고, 경화성 수지 조성물에 대해서 분산도를 측정했다.As a method of simply checking the deviation of the coating film before drying during the thin film, a method of checking the deviation of the powder in the curable resin composition was adopted, and the degree of dispersion was measured for the curable resin composition.

구체적으로는 각 실시예 및 비교예의 경화성 수지 조성물에 대하여, JIS K5101-5-2: 2004 및 JIS K5600-2-5: 1999에 준거하여 폭 90㎜, 길이 240㎜, 최대 깊이 25㎛의 입도 게이지(가부시키가이샤 다이이치 소쿠한 세이사쿠쇼 제조)를 이용함으로써 분산도를 측정하고 이하의 평가 기준에 기초하여 평가했다. 또한, 분산도는 상기 게이지에서 현저한 반점이 나타나기 시작하는 점을 관찰한다. 특히 상기 게이지의 홈을 따라 3㎜의 폭에 5 ~ 10개의 입자를 포함하는 점을 관찰하고, 이러한 점을 분산도로 한다. 상기 현저한 반점이 나타나기 시작하는 점의 앞에, 띄엄띄엄 나타나는 반점은 무시한다. 3회 측정의 평균값을 산출한다. 평가 결과를 표 2에 나타내었다.Specifically, for the curable resin composition of each Example and Comparative Example, according to JIS K5101-5-2: 2004 and JIS K5600-2-5: 1999, a particle size gauge having a width of 90 mm, a length of 240 mm, and a maximum depth of 25 μm. By using (manufactured by Daiichi Sokuhan Seisakusho Co., Ltd.), the degree of dispersion was measured and evaluated based on the following evaluation criteria. In addition, the degree of dispersion observes that noticeable spots begin to appear on the gauge. In particular, it was observed that 5 to 10 particles were included in a width of 3 mm along the groove of the gauge, and this point was referred to as a dispersion degree. In front of the point at which the prominent spot starts to appear, the spot that appears sparsely is ignored. Calculate the average value of the three measurements. Table 2 shows the evaluation results.

○: 분산도(3회 측정의 평균값)가 20㎛ 이하였다.(Circle): The dispersion degree (average value of three measurements) was 20 micrometers or less.

×: 분산도(3회 측정의 평균값)가 20㎛ 초과였다.×: The degree of dispersion (average value of three measurements) was more than 20 μm.

(박막시의 건조 도막의 편차)(Variation of dry coating film when thin film)

박막시의 건조 도막의 편차를 간이적으로 확인하는 방법으로서, 인쇄성 시험을 실시했다. 구체적으로는 베타의 유리 기판상에, 건조후 막두께가 12㎛가 되도록 180메시의 폴리에스테르판(바이어스 유)을 이용하여 스크린 인쇄로 베타 인쇄하고, 열풍순환식 건조로(야마토 가가쿠 가부시키가이샤 제조 DF610)를 이용하여 90℃에서 15분간 건조하고, 옐로우 램프의 아래, 실온에서 30분 방냉, 방치한 후에 실시하였다. 또한, 방치한 후는 도포면을 손가락으로 만졌을 때 어떤 것도 경화성 수지 조성물이 손가락에 부착되지 않는 상태인 것을 확인했다. 방치한 후, 표면 거칠기 측정기(가부시키가이샤 코사카 겐큐쇼: 서프코더 SE600)를 이용하여, 건조 도막과 미도포부의 단차(P)를 랜덤으로 4개소 측정하고, 3점 지정형에 의한 단차 해석을 실시했다. 상세한 내용은 도 1에 도시한 건조 도막의 단면을 참조하면서 설명한다. 3점 지정형에 의한 단차 해석에서는 기판(1)상의 건조 도막(2)의 표면의 기준점(3)을 2점 입력하고, 기판(1)의 미도포부(4)의 평가점(5)을 1점 입력하여, 기준선(6)을 구한다. 이어서, 기준선(6)과 평가점(5)의 단차(P)를 측정한다. 측정한 각 단차(P)에 의해 막두께, 상기 막두께의 표준 편차를 각각 산출하고, 이하의 평가 기준에 기초하여 평가했다. 또한, 측정 조건으로서 측정 배율은 2,000배, 이송 속도는 0.5㎜/s, 트레이스 길이는 6.0㎜로 했다. 평가 결과를 표 2에 나타내었다.A printability test was performed as a method of simply checking the variation of the dry coating film upon thin film. Specifically, on a beta glass substrate, beta printing is performed by screen printing using a 180 mesh polyester plate (bias oil) so that the film thickness after drying becomes 12 μm, and a hot air circulation drying furnace (Yamato Chemical Co., Ltd.) DF610 manufactured by Geisha) was used to dry at 90°C for 15 minutes, and then cooled and allowed to stand for 30 minutes at room temperature under a yellow lamp. Further, after leaving to stand, it was confirmed that the curable resin composition did not adhere to the finger when the coated surface was touched with a finger. After leaving to stand, using a surface roughness measuring machine (Kosaka Genkyusho Co., Ltd.: Surfcoder SE600), the dry coating and the uncoated portion were measured in 4 places at random, and the step difference analysis by a 3-point designation type was performed. Carried out. Details will be described with reference to the cross section of the dried coating film shown in FIG. 1. In the step analysis by the 3-point designation type, two reference points 3 of the surface of the dry coating film 2 on the substrate 1 are input, and the evaluation point 5 of the uncoated portion 4 of the substrate 1 is 1 By inputting a point, the reference line 6 is obtained. Next, the step P between the reference line 6 and the evaluation point 5 is measured. The film thickness and the standard deviation of the film thickness were respectively calculated from the measured steps P, and evaluated based on the following evaluation criteria. In addition, as the measurement conditions, the measurement magnification was 2,000 times, the feed rate was 0.5 mm/s, and the trace length was 6.0 mm. Table 2 shows the evaluation results.

○: 표준 편차가 1.0㎛ 이내였다.(Circle): The standard deviation was within 1.0 micrometer.

×: 표준 편차가 1.0㎛ 초과였다.X: The standard deviation was more than 1.0 µm.

(구리 비침 현상의 확인)(Confirmation of copper reflection phenomenon)

표면을 버프 롤 연마한 35㎛ 두께의 300㎜ × 150㎜ 동박 기판 상에, 경화후 막두께가 12㎛가 되도록 180 메시의 폴리에스테르판(바이어스 유)를 이용하여 스크린 인쇄로 베타 인쇄하고, 열풍 순환식 건조로(야마토 가가쿠 가부시키가이샤 DF610)를 이용하여 150℃에서 60분간 경화하고, 옐로우 램프하, 실온에서 30분 방냉, 방치하여 평가 기판을 제작하였다. 제작한 평가 기판은 모두 25℃ 50% RH의 환경하에서 경화 도막의 표면에, 이소프로필알코올(IPA)을 포함시킨 웨이스트를 얹고, 또한 그 위에 500g의 추를 얹어 1분간 정치한 후에 웨이스트를 떼어내고, 웨이스트의 경화 도막과 접촉되어 있던 면에 수지층의 전부 또는 일부가 부착되어 있지 않은 상태인 것을 확인했다.On a 35 μm-thick 300 mm × 150 mm copper foil substrate with surface buff roll polished, a 180-mesh polyester plate (with bias) so that the film thickness after curing becomes 12 μm is used for beta printing by screen printing and hot air. It was cured at 150°C for 60 minutes using a circulation drying furnace (DF610, Yamato Chemical Co., Ltd.), cooled and left to stand at room temperature for 30 minutes under a yellow lamp to prepare an evaluation substrate. All of the produced evaluation substrates were placed on the surface of the cured coating film in an environment of 25°C and 50% RH, and a waste containing isopropyl alcohol (IPA) was placed on it, and a weight of 500 g was placed thereon and allowed to stand for 1 minute, and then the waste was removed. , It was confirmed that all or part of the resin layer was not adhered to the surface in contact with the cured coating film of the waste.

그 후, 70㎜ × 70㎜의 범위 내에서 베이스의 구리가 보이고 있는 부분을 광학 현미경(50배)에 의해 확인했다. 평가 결과를 표 2에 나타내었다.After that, the part in which the copper of the base was visible within the range of 70 mm x 70 mm was confirmed with an optical microscope (x 50). Table 2 shows the evaluation results.

◎: 구리가 보이고 있는 부분이 전혀 확인되지 않았다.(Double-circle): The part in which copper was seen was not confirmed at all.

○: 구리가 보이고 있는 부분이 약간 확인되었지만, 문제없는 수준이었다.(Circle): The part where copper was seen was confirmed slightly, but it was a level without a problem.

×: 구리가 보이고 있는 부분이 많이 확인되었다.X: A lot of parts where copper was seen were confirmed.

Figure pat00003
Figure pat00003

표 2에서 밝혀진 바와 같이, 실시예의 경화성 수지 조성물은 박막시의 건조전 도막이나 건조 도막의 편차가 작고, 구리 비침 현상이 발생하지 않는 것을 알 수 있다.As found in Table 2, it can be seen that the curable resin composition of the example has a small variation in the pre-drying coating film or the dry coating film in the case of a thin film, and does not cause copper penetration.

1: 기판 2: 건조 도막
3: 기준점 4: 미도포부
5: 평가점 6: 기준선
P: 단차 X: 표면 거칠기 측정기에서의 측정 방향
1: substrate 2: dry coating
3: Reference point 4: Unapplied part
5: Score 6: Baseline
P: Step X: Measurement direction in a surface roughness measuring instrument

Claims (13)

경화성 수지 및 체질 안료를 함유하는 경화성 수지 조성물로서,
상기 경화성 수지 조성물의 경화후 막두께 12㎛의 경화 도막에 있어서의 60°의 광택도가 0.5 이상 40.0 이하의 범위 내이고,
상기 경화성 수지 조성물 0.3g을 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 30g과 혼합하고, 마이크로 트랙을 사용하여 측정했을 때의 평균 입자경(D50)이 0.1㎛ 이상 1.0㎛ 이하, 또한 비표면적(CS)이 10.0㎡/ml 이상인, 경화성 수지 조성물.
As a curable resin composition containing a curable resin and an extender pigment,
The glossiness of 60° in the cured coating film having a film thickness of 12 μm after curing of the curable resin composition is in the range of 0.5 to 40.0,
0.3 g of the curable resin composition is mixed with 30 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, and the average particle diameter (D 50 ) as measured using a microtrack is 0.1 μm or more and 1.0 μm or less, and the specific surface area (CS) is 10.0 m 2 /ml or more, curable resin composition.
제 1 항에 있어서,
상기 경화성 수지 조성물의 건조후 도막 두께의 요철의 평균 간격(Sm)이 0㎛ 초과 12.0㎛ 이하의 범위 내인, 경화성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The curable resin composition, wherein the average spacing (Sm) of the irregularities of the coating film thickness after drying of the curable resin composition is in a range of more than 0 µm and not more than 12.0 µm.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 경화성 수지 조성물의 건조후의 도막 두께의 최대 높이(Ry)가 0㎛ 초과 8.0㎛ 이하의 범위 내인, 경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
The curable resin composition, wherein the maximum height (Ry) of the coating film thickness after drying of the curable resin composition is in a range of more than 0 µm and not more than 8.0 µm.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 체질 안료가 실리카 및 황산 바륨 중 적어도 어느 1종인, 경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
The curable resin composition, wherein the extender pigment is at least any one of silica and barium sulfate.
제 4 항에 있어서,
상기 체질 안료가 추가로 흡유량 180 ~ 350 ml/100g의 비정질 실리카를 포함하는, 경화성 수지 조성물.
The method of claim 4,
The extender pigment further comprises an oil absorption amount of 180 ~ 350 ml / 100g amorphous silica, curable resin composition.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 경화성 수지가 카르복실기 함유 수지를 포함하는, 경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
The curable resin composition, wherein the curable resin contains a carboxyl group-containing resin.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 경화성 수지가 2종류 이상의 카르복실기 함유 수지를 포함하는, 경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
The curable resin composition, wherein the curable resin contains two or more carboxyl group-containing resins.
제 7 항에 있어서,
상기 2종류 이상의 카르복실기 함유 수지 중 적어도 1종이 카르복실기 함유 공중합 수지인, 경화성 수지 조성물.
The method of claim 7,
At least one of the two or more types of carboxyl group-containing resins is a carboxyl group-containing copolymer resin.
지지 필름과, 상기 지지 필름 상에 형성된 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 경화성 수지 조성물의 건조 도막으로 이루어진 수지층을 구비하는, 드라이 필름.A dry film comprising a support film and a resin layer comprising a dry coating film of the curable resin composition according to claim 1 or 2 formed on the support film. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 경화성 수지 조성물을 경화시켜 얻어지는, 경화물.A cured product obtained by curing the curable resin composition according to claim 1 or 2. 제 10 항에 기재된 경화물을 구비하는, 프린트 배선판.A printed wiring board comprising the cured product according to claim 10. 제 9 항에 기재된 드라이 필름의 수지층을 경화시켜 얻어지는, 경화물.A cured product obtained by curing the resin layer of the dry film according to claim 9. 제 12 항에 기재된 경화물을 구비하는, 프린트 배선판.A printed wiring board comprising the cured product according to claim 12.
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