KR20230099131A - A Scrubber having an inclined chemical materials or substance support structure with excellent airflow and purification performance - Google Patents
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Abstract
실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버에 관한 것이다.
실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버는, 공기 유입구(Inlet)와 유출구(Outlet)을 구비하는 정화 캐니스터와, 상기 정화 캐니스터의 캐니스터 지지대 및 상기 정화 캐니스터에 장착된 복수의 롤러를 포함할 수 있다.
상기 정화 캐니스터는, 밀폐된 외부 하우징과, 상기 외부 하우징 내측에 배치된 공기가 통과하는 복수의 타공 격벽과, 상기 타공 격벽 내측에 배치되는 내부 유로, 및 상기 공기를 정화하는 케미컬이 배치되는 복수의 경사진 케미칼 지지 구조를 포함할 수 있다.It relates to a scrubber including an inclined chemical support structure according to an embodiment.
A scrubber having an inclined chemical support structure according to an embodiment includes a purification canister having an air inlet and an outlet, a canister support of the purification canister, and a plurality of rollers mounted on the purification canister. can do.
The purification canister includes a sealed outer housing, a plurality of perforated partition walls disposed inside the outer housing through which air passes, an internal flow path disposed inside the perforated partition walls, and a plurality of cells in which chemicals for purifying the air are disposed. It may include an inclined chemical support structure.
Description
실시예는 스크러버에 관한 것으로, 구체적으로 공기 흐름성과 정화 성능이 우수한 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버에 관한 것이다.The embodiment relates to a scrubber, and specifically relates to a scrubber including an inclined chemical support structure with excellent airflow and purification performance.
화학 공정이나 반도체나 디스플레이 제조 공정 등에서 배출되는 유해 가스는 유동성, 폭발성 및 부식성이 강하기 때문에 인체에 유해할 뿐만 아니라 그대로 대기 중으로 방출될 경우 환경 오염을 유발하는 원인이 되고 있다. Harmful gases emitted from chemical processes or semiconductor or display manufacturing processes have strong fluidity, explosiveness and corrosiveness, so they are not only harmful to the human body, but also cause environmental pollution when released into the atmosphere.
따라서, 이러한 유해 가스는 유해 성분의 함량을 허용 농도 이하로 낮추는 정화 처리 과정이 반드시 필요하며, 정화 처리 과정을 통해 독성 물질이 제거된 무해 가스만이 대기 중으로 배출되도록 법적으로 의무화되어 있다. Therefore, such harmful gases necessarily require a purification process to lower the content of harmful components below a permissible concentration, and only harmless gases from which toxic substances are removed through the purification process are legally obliged to be discharged into the atmosphere.
최근 도심형공장에 대한 대기오염 배출원에 대한 관리 규제가 대기환경보전법 등에 의해 강화되고 있으며, 공장 위치에 따라 악취방지법에 기반한 민원 발생이 있고, Ethanol, Propanol 등의 휘발성 유기화합물(volatile organic compounds: VOCs) 계열은 악취방지법 규제 물질이다.Recently, management regulations on air pollution emission sources for urban factories have been strengthened by the Clean Air Conservation Act, etc., and there are civil complaints based on the Odor Prevention Act depending on the location of the factory, and volatile organic compounds (VOCs) such as Ethanol and Propanol The series is a substance regulated by the Odor Prevention Act.
예를 들어, 연료전지(fuel cell battery) 생산 공정 중 멤브레인(membrane) 생산 공정에서 배출되는 VOCs의 처리 필요성 대두되고 있으며, VOCs 계열 규제물로 인해 대기환경규제지역으로 지정된 지역 안의 석유정제 및 석유화학제품 정제 제조시설이나 저장 및 출하시설, 저유소 등은 배출억제 및 방지시설을 설치해야 한다.For example, the need to treat VOCs emitted from the membrane production process during the fuel cell battery production process is emerging, and petroleum refining and petrochemicals within areas designated as air quality regulatory areas due to VOCs-related regulations Product refinement manufacturing facilities, storage and shipping facilities, oil storage facilities, etc. must install emission control and prevention facilities.
유해 가스를 처리하는 스크러버 장치에는 건식 스크러빙(dry scrubbing) 방식과 습식 스크러빙(wetting scrubbing) 방식이 있다. Scrubber devices for treating harmful gases include a dry scrubbing method and a wet scrubbing method.
종래 휘발성 유기화합물(VOCs) 계열 물질을 처리하는 시설에서는 분말 활성탄 또는 제올라이트, 실리카 등이 무기계 흡착제, 스틸렌(PS)-디비닐 등의 고분자 흡착제 등이 사용되고 있다.Conventionally, in a facility for treating volatile organic compounds (VOCs), inorganic adsorbents such as powdered activated carbon, zeolite, or silica, and polymer adsorbents such as styrene (PS)-divinyl are used.
종래 휘발성 유기화합물(VOCs) 처리장치에는 흡착 처리장치의 유출구(Outlet)로 나가는 공기의 오염도를 측정하여 오염도가 기준치 이상이 경우 흡착제의 흡착성능이 소진된 것으로 판단하여 정화공정을 중단하고 정화용 흡착제를 교체하고 있다.In the conventional volatile organic compound (VOCs) treatment device, the contamination level of the air going out of the outlet of the adsorption treatment device is measured. are replacing
그런데 종래기술에는 VOCs 흡착 처리장치의 유입구(In-let)로 들어간 정화대상 공기는 압력차에 의해 이동하며, 흡착 처리장치 내에 적재되어 있는 흡착제를 균일하게 통과하지 못하고 일부 영역의 흡착제만을 통과함에 따라 일부 통과된 영역에서의 흡착제 성능이 소진되어 정화공정이 자주 중단되고 흡착성능이 남아 있는 흡착제까지 교체하고 있는 실정이다.However, in the prior art, air to be purified, which has entered the in-let of the VOCs adsorption treatment device, moves due to a pressure difference, and does not uniformly pass through the adsorbent loaded in the adsorption treatment device, but only passes through the adsorbent in some areas. The adsorbent performance in the partially passed area is exhausted, so the purification process is often stopped, and even the adsorbent with remaining adsorption performance is replaced.
또한 종래기술에서는 VOCs 흡착 처리과정에서 정화 대상 공기에 포함된 수증기가 수분으로 응축되는 경우가 있고, 이러한 응축된 수분은 VOCs 흡착제의 흡착성능을 저하시키고 있으나 이에 대한 해결방안이 제시되지 못하는 실정이다.In addition, in the prior art, there are cases in which water vapor contained in the air to be purified is condensed into moisture during the VOCs adsorption process, and this condensed moisture deteriorates the adsorption performance of the VOCs adsorbent, but a solution to this problem has not been proposed.
실시예의 기술적 과제 중의 하나는, 정화 처리장치의 유입구(In-let)로 들어간 정화대상 공기가 정화 처리장치 내에 적재되어 있는 흡착제의 일부 영역의 흡착제만을 통과하는 문제를 해결하고자 함이다.One of the technical problems of the embodiment is to solve the problem that the air to be purified, which has entered the in-let of the purification treatment device, passes through only a part of the adsorbent of the adsorbent loaded in the purification treatment device.
또한 실시예의 기술적 과제 중의 하나는, 흡착 처리과정에서 정화 대상 공기에는 포함된 수증기가 수분으로 응축되어 흡착제의 흡착성능을 저하시키는 문제를 해결하고자 함이다.In addition, one of the technical problems of the embodiment is to solve the problem that the water vapor contained in the air to be purified is condensed into moisture during the adsorption treatment process, thereby reducing the adsorption performance of the adsorbent.
이건출원의 기술적 과제는 본 항목에 기재된 것에 한정되지 않으며, 이건출원 명세서로부터 파악되는 것을 포함한다.The technical challenges of this application are not limited to those described in this section, but include those identified from the specification of this application.
실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버는, 공기 유입구(Inlet)와 유출구(Outlet)을 구비하는 정화 캐니스터와, 상기 정화 캐니스터의 캐니스터 지지대 및 상기 정화 캐니스터에 장착된 복수의 롤러를 포함할 수 있다.A scrubber having an inclined chemical support structure according to an embodiment includes a purification canister having an air inlet and an outlet, a canister support of the purification canister, and a plurality of rollers mounted on the purification canister. can do.
상기 정화 캐니스터는, 밀폐된 외부 하우징과, 상기 외부 하우징 내측에 배치된 공기가 통과하는 복수의 타공 격벽과, 상기 타공 격벽 내측에 배치되는 내부 유로, 및 상기 공기를 정화하는 케미컬이 배치되는 복수의 경사진 케미칼 지지 구조를 포함할 수 있다.The purification canister includes a sealed outer housing, a plurality of perforated partition walls disposed inside the outer housing through which air passes, an internal flow path disposed inside the perforated partition walls, and a plurality of chemicals for purifying the air are disposed. It may include an inclined chemical support structure.
상기 경사진 케미칼 지지 구조, 지면에 수평한 제1 축을 기준으로 소정의 경사 지지면을 포함할 수 있다.The inclined chemical support structure may include a predetermined inclined support surface based on a first axis horizontal to the ground.
상기 경사진 케미칼 지지 구조는, 내부 유로와 인접한 영역의 내측 지지 구조 및 상기 타공 격벽 방향으로 소정의 제1 경사를 갖고 제2 방향으로 연장되는 상기 경사 지지면을 포함할 수 있다.The inclined chemical support structure may include an inner support structure adjacent to an internal flow path and the inclined support surface extending in a second direction having a predetermined first slope toward the perforated partition wall.
상기 내부 유로는, 상기 지면에 수직한 수직 유로와 상기 수직 유로로부터 경사지도록 연장되는 경사 유로를 포함할 수 있다.The inner passage may include a vertical passage perpendicular to the ground and an inclined passage extending to be inclined from the vertical passage.
정화대상 공기는 상기 경사진 케미칼 지지 구조의 경사 지지면에 의해 상기 경사 지지면에 수평한 플로우를 형성할 수 있다.The air to be purified may flow horizontally to the inclined support surface of the inclined chemical support structure.
상기 복수의 경사진 케미칼 지지 구조는, 상기 내부 유로가 중앙에 배치되며, 상기 타공 격벽을 높이 방향으로 복수의 구획으로 구분하도록 배치될 수 있다.The plurality of slanted chemical support structures may be disposed such that the internal flow path is disposed at a center and the perforated barrier rib is divided into a plurality of compartments in a height direction.
상기 타공 격벽은, 상기 내부 유로와 이격되며 상기 내부 유로를 감싸도록 배치되어 소정의 휘발성 유기화합물을 포함하는 공기를 정화하는 케미컬이 배치되는 제1 정화 공간을 형성하는 제1 타공 격벽을 포함할 수 있다.The perforated barrier rib may include a first perforated barrier rib spaced apart from the inner flow path and disposed to surround the inner flow path to form a first purification space in which a chemical for purifying air containing a predetermined volatile organic compound is disposed. there is.
상기 타공 격벽은, 상기 제1 타공 격벽 외측에 이격되어 배치되는 제2 타공 격벽과, 상기 제2 타공 격벽의 외측에 이격되며 상기 외부 하우징 내측에 배치되는 제3 타공 격벽을 포함할 수 있다.The perforated partition wall may include a second perforated partition wall spaced apart from and disposed outside the first perforated partition wall, and a third perforated partition wall spaced apart from the outside of the second perforated partition wall and disposed inside the outer housing.
상기 내부 유로는, 유입구(Inlet)로 유입된 공기가 통과하며 상측으로 순차적으로 연결되어 배치된 제1 내부 유로, 제2 내부 유로 및 제3 내부 유로를 포함하며, 상기 제1 내부 유로의 직경은 상기 제2, 제3 내부 유로들 각각의 직경에 비해 클 수 있다.The inner flow passage includes a first inner flow passage, a second inner flow passage, and a third inner flow passage sequentially connected upward through which air introduced into the inlet passes, and the diameter of the first inner flow passage is It may be larger than the diameter of each of the second and third inner passages.
상기 복수의 경사진 케미칼 지지 구조는, 상기 제1 내부 유로가 중앙에 배치되며, 소정의 제1 케미컬이 배치되며 상기 제1 타공 격벽과 제1 정화 공간을 형성하는 제1 케미칼 지지 구조와, 상기 제2 내부 유로가 중앙에 배치되며, 소정의 제2 케미컬이 배치되며 상기 제2 타공 격벽과 제2 정화 공간을 형성하는 제2 케미칼 지지 구조 및 상기 제3 내부 유로가 중앙에 배치되며, 제3 케미컬이 배치되며 상기 제3 타공 격벽과 제3 정화 공간을 형성하는 제3 케미칼 지지 구조를 포함할 수 있다.The plurality of inclined chemical support structures include a first chemical support structure in which the first internal flow path is disposed in the center, a predetermined first chemical is disposed, and the first perforated partition wall and the first purification space are formed; A second internal flow path is disposed at the center, a predetermined second chemical is disposed, and a second chemical support structure forming a second purification space with the second perforated partition wall and the third internal flow path are disposed at the center, and the third internal flow path is disposed at the center. It may include a third chemical support structure in which a chemical is disposed and which forms the third perforated barrier rib and a third purification space.
실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버에 의하면, 정화 처리장치의 유입구(In-let)로 들어간 정화대상 공기가 정화 처리장치 내에 적재되어 있는 흡착제를 균일하게 통과하여 정화 성능을 현저히 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.According to the scrubber including the inclined chemical support structure according to the embodiment, the purification target air entering the in-let of the purification treatment device uniformly passes through the adsorbent loaded in the purification treatment device, significantly improving purification performance. There are technical effects that can be made.
예를 들어, 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버에 의하면, 실시예의 경사진 케미칼 지지 구조(240)는 공기 흐름 가이드 및 케미칼 지지 구조의 복합적 기능을 함으로써 정화 처리장치의 유입구(In-let)로 들어간 정화대상 공기가 정화 처리장치 내에 적재되어 있는 흡착제를 균일하게 통과하여 정화 성능을 현저히 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.For example, according to the scrubber including the inclined chemical support structure according to the embodiment, the inclined
또한 실시예에 의하면, 흡착 처리과정에서 정화 대상 공기에 포함된 수증기가 수분으로 응축되더라도 흡착제의 흡착성능을 저하시키는 문제를 해결할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, according to the embodiment, there is a technical effect that can solve the problem of deteriorating the adsorption performance of the adsorbent even if the water vapor contained in the air to be purified is condensed into moisture during the adsorption treatment process.
예를 들어, 실시예의 경사진 케미칼 지지 구조(240)는 공기 흐름 가이드 및 케미칼 지지 구조의 복합적 기능을 함으로써 흡착 처리과정에서 정화 대상 공기에 포함된 수증기가 수분으로 응축되더라도 흡착제의 흡착성능을 저하시키는 문제를 해결할 수 있는 기술적 효과가 있다.For example, the inclined
이건출원의 기술적 효과는 본 항목에 기재된 것에 한정되지 않으며, 이건출원 명세서로부터 파악되는 것을 포함한다.The technical effect of this application is not limited to what is described in this section, but includes what is grasped from the specification of this application.
도 1은 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)의 사시도.
도 2는 도 1에 도시된 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)의 A1-A2 선을 따른 수평 단면도.
도 3은 도 1에 도시된 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)의 A3-A4 선을 따른 수직 단면도.
도 4는 도 3에 도시된 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)의 단면도의 제1 영역(C1) 상세도.
도 5는 도 4에 도시된 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)의 단면도의 제1 영역(C1) 플로우 상세도.
도 6은 도 3에 도시된 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)의 단면도에서 플로우 상세도.1 is a perspective view of a
FIG. 2 is a horizontal cross-sectional view along line A1-A2 of the
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view along line A3-A4 of the
FIG. 4 is a detailed view of a first region C1 of a cross-sectional view of the
FIG. 5 is a detailed flow view of a first region C1 of a cross-sectional view of a
FIG. 6 is a flow detail in cross-sectional view of a
이하에서는 도면을 참조하여 상기 과제를 해결하기 위한 실시예에 따른 발명을 보다 상세하게 설명한다. Hereinafter, the invention according to an embodiment for solving the above problems will be described in more detail with reference to the drawings.
이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 단순히 본 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되는 것으로서, 그 자체로 특별히 중요한 의미 또는 역할을 부여하는 것은 아니다. 따라서, 상기 "모듈" 및 "부"는 서로 혼용되어 사용될 수도 있다.The suffixes "module" and "unit" for the components used in the following description are simply given in consideration of ease of writing this specification, and do not themselves give a particularly important meaning or role. Accordingly, the “module” and “unit” may be used interchangeably.
제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Terms including ordinal numbers, such as first and second, may be used to describe various components, but the components are not limited by the terms. These terms are only used for the purpose of distinguishing one component from another.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise.
본 출원에서, "포함한다", "가지다" 또는 “구비한다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In this application, terms such as "include", "have" or "include" are intended to designate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but one or other features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof, or any combination thereof, is not precluded from being excluded in advance.
(실시예)(Example)
도 1은 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)의 사시도이다.1 is a perspective view of a
도 1을 참조하면, 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)는 정화 캐니스터(200), 증발 구조물(201)(도 3 참조) 및 복수의 롤러(120)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1 , a
예를 들어, 상기 스크러버(1000)는, 공기 유입구(Inlet)와 유출구(Outlet)을 구비하는 정화 캐니스터(200)와, 상기 정화 캐니스터(200) 내에 배치된 증발 구조물(201)과, 상기 정화 캐니스터(200)에 장착된 복수의 롤러(120)를 포함할 수 있다.For example, the
다음으로 도 2는 도 1에 도시된 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)의 A1-A2 선을 따른 수평 단면도이다(XY 평면 기준).Next, FIG. 2 is a horizontal cross-sectional view along the line A1-A2 of the
도 2를 참조하면, 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)의 정화 캐니스터(200)는, 밀폐된 외부 하우징(220), 복수의 타공 격벽(210), 내부 유로(230), 복수의 경사진 케미칼 지지 구조(240)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2 , the
예를 들어, 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)의 정화 캐니스터(200)는, 밀폐된 외부 하우징(220)과, 상기 외부 하우징(220) 내측에 배치된 공기가 통과하는 복수의 타공 격벽(210)과, 상기 타공 격벽(210) 내측에 배치되는 내부 유로(230), 및 상기 공기를 정화하는 케미컬이 배치되는 복수의 경사진 케미칼 지지 구조(240)를 포함할 수 있다.For example, the
예를 들어, 상기 정화 캐니스터(200)에서 복수의 경사진 케미칼 지지 구조(240)는, 상기 내부 유로(230)가 중앙에 배치되며, 상기 타공 격벽(210)을 높이 방향으로 복수의 구획으로 구분하도록 배치될 수 있다.For example, in the plurality of slanted
상기 복수의 경사진 케미칼 지지 구조(240) 상에는 소정의 휘발성 유기화합물(VOCs)을 포함하는 공기를 정화하는 흡착제 등의 케미컬(미도시)이 배치될 수 있다.Chemicals (not shown) such as adsorbents that purify air containing predetermined volatile organic compounds (VOCs) may be disposed on the plurality of inclined
상기 케미컬은 고체상 흡수제, 흡착제를 의미할 수 있고, 폴리머 겔 형태의 반액체 상태 또는 액체상태, 허니컴 형태의 구조물이 될 수 있으나 그 형태와 성분을 한정 하지는 않는다.The chemical may refer to a solid absorbent or adsorbent, and may be a polymer gel-type semi-liquid or liquid-type structure, or a honeycomb-type structure, but the form and components thereof are not limited.
상기 타공 격벽(210)은 제1 타공 격벽(211), 제2 타공 격벽(212), 제3 타공 격벽(213)을 포함할 수 있으며, 공기가 통과할 수 있는 메쉬 망 형태일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The
예를 들어, 상기 타공 격벽(210)은 상기 내부 유로(230)와 이격되며 상기 내부 유로(230)를 감싸도록 배치되어 소정의 휘발성 유기화합물(VOCs)을 포함하는 공기를 정화하는 흡착제 등의 케미컬(미도시)이 배치되는 정화 공간(200R)을 형성하는 제1 타공 격벽(211)을 포함할 수 있다.For example, the
또한 상기 타공 격벽(210)은 상기 제1 타공 격벽(211) 외측에 이격되어 배치되는 제2 타공 격벽(212)과, 상기 제2 타공 격벽(212)의 외측에 이격되며 상기 외부 하우징(220) 내측에 배치되는 제3 타공 격벽(213)을 포함할 수 있다.In addition, the
공이 유입구(Inlet)으로 유입된 VOCs을 포함하는 공기는 흡착제 등의 케미컬, 제1, 제2, 제3 타공 격벽들(211, 212, 213)을 통과하면서 정화된 후 유출구(Outlet)를 통해 외부로 배출될 수 있다.The air containing VOCs introduced into the ball inlet is purified while passing chemicals such as an adsorbent, the first, second, and third
다음으로 도 3은 도 1에 도시된 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)의 A3-A4 선을 따른 수직 단면도이다(XY 평면 기준).Next, FIG. 3 is a vertical cross-sectional view along the line A3-A4 of the
도 3을 참조하면, 실시예에 따른 스크러버(1000)의 정화 캐니스터(200)는 앞서 기술한 바와 같이, 밀페된 외부 하우징(220)과, 상기 외부 하우징(220) 내측에 배치된 복수의 타공 격벽(210)과, 상기 타공 격벽(210) 내측에 배치되는 내부 유로(230)와, 상기 내부 유로(230)가 중앙에 배치되며, 상기 타공 격벽(210)을 높이 방향으로 복수의 구획으로 구분하도록 배치되는 복수의 경사진 케미칼 지지 구조(240)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3, the
실시예의 기술적 과제 중의 하나는, 정화 처리장치의 유입구(In-let)로 들어간 정화대상 공기가 정화 처리장치 내에 적재되어 있는 흡착제의 일부 영역의 흡착제만을 통과하는 문제를 해결하고자 함이다.One of the technical problems of the embodiment is to solve the problem that the air to be purified, which has entered the in-let of the purification treatment device, passes through only a part of the adsorbent of the adsorbent loaded in the purification treatment device.
또한 실시예의 기술적 과제 중의 하나는, 흡착 처리과정에서 정화 대상 공기에는 포함된 수증기가 수분으로 응축되어 흡착제의 흡착성능을 저하시키는 문제를 해결하고자 함이다.In addition, one of the technical problems of the embodiment is to solve the problem that the water vapor contained in the air to be purified is condensed into moisture during the adsorption treatment process, thereby reducing the adsorption performance of the adsorbent.
실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버에 의하면, 실시예에서의 경사진 케미칼 지지 구조(240)는 공기 흐름 가이드 및 케미칼 지지 구조의 복합적 기능을 함으로써 정화 처리장치의 유입구(In-let)로 들어간 정화대상 공기가 정화 처리장치 내에 적재되어 있는 흡착제를 균일하게 통과하여 정화 성능을 현저히 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.According to the scrubber including the inclined chemical support structure according to the embodiment, the inclined
또한 실시예에 의하면, 경사진 케미칼 지지 구조(240)는 공기 흐름 가이드 및 케미칼 지지 구조의 복합적 기능을 함으로써 흡착 처리과정에서 정화 대상 공기에 포함된 수증기가 수분으로 응축되더라도 흡착제의 흡착성능을 저하시키는 문제를 해결할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, according to the embodiment, the inclined
구체적으로 도 3을 참조하면, 실시예의 정화 캐니스터(200)는, 정화 대상인 공기가 통과하는 통로이며, 복수의 내부 유로(230)를 포함할 수 있다.Specifically, referring to FIG. 3 , the
예를 들어, 상기 내부 유로(230)는 유입구(Inlet)로 유입된 공기가 통과하며 상측으로 순차적으로 연결되어 배치된 제1 내부 유로(231), 제2 내부 유로(232) 및 제3 내부 유로(233)를 포함할 수 있다.For example, the
상기 제1 내부 유로(231)의 직경은 상기 제2, 제3 내부 유로들(232, 233)의 직경에 비해 클 수 있으며, 이에 따라 공기의 차압을 적절히 제어하여 유입된 공기들이 각각의 정화 공간들(200R)과 이후 내부 유로들로 적절히 흐를 수 있다.The diameter of the first
다음으로 실시예의 정화 캐니스터(200)는, 상기 내부 유로(230)가 중앙에 배치되며, 상기 타공 격벽(210)을 높이 방향으로 복수의 구획으로 구분하도록 배치되는 복수의 경사진 케미칼 지지 구조(240)를 포함할 수 있다.Next, in the
상기 케미칼 지지 구조(240)는 내부 유로(230)가 중앙에 배치되는 제1, 제2, 제3 케미칼 지지 구조들(241, 242, 243)을 포함할 수 있으며, 상기 제1, 제2, 제3 케미칼 지지 구조들(241, 242, 243)은 상기 제1 타공 격벽(211)과 함께 정화 공간(200R)을 형성할 수 있다.The
예를 들어, 실시예에서 케미칼 지지 구조(240)는 상기 제1 내부 유로(231)가 중앙에 배치되며, 휘발성 유기화합물(VOCs)을 포함하는 공기를 정화하는 케미컬이 배치되며 상기 제1 타공 격벽(211)과 제1 정화 공간(200R1)을 형성하는 제1 케미칼 지지 구조(241)를 포함할 수 있다.For example, in the
또한 상기 케미칼 지지 구조(240)는, 상기 제2 내부 유로(232)가 중앙에 배치되며, 휘발성 유기화합물(VOCs)을 포함하는 공기를 정화하는 케미컬이 배치되며 상기 제2 타공 격벽(212)과 제2 정화 공간(200R2)을 형성하는 제2 케미칼 지지 구조(242)를 포함할 수 있다.In addition, in the
또한 상기 케미칼 지지 구조(240)는, 상기 제3 내부 유로(233)가 중앙에 배치되며, 휘발성 유기화합물(VOCs)을 포함하는 공기를 정화하는 케미컬이 배치되며 상기 제3 타공 격벽(213)과 제3 정화 공간(200R3)을 형성하는 제3 케미칼 지지 구조(243)를 포함할 수 있다.In addition, in the
상기 각각의 케미탈 지지 구조(240) 상측에는 소정의 손 잡이가 구비되어 상기 케미칼 지지 구조(240)의 탈착에 기여할 수 있다.A predetermined handle is provided on the upper side of each
또한 실시예의 경사진 케미칼 지지 구조(240)는 공기 흐름 가이드 및 케미칼 지지 구조의 복합적 기능을 함으로써 정화 처리장치의 유입구(In-let)로 들어간 정화대상 공기가 정화 처리장치 내에 적재되어 있는 흡착제를 균일하게 통과하여 정화 성능을 현저히 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the slanted
또한 실시예의 경사진 케미칼 지지 구조(240)는 공기 흐름 가이드 및 케미칼 지지 구조의 복합적 기능을 함으로써 흡착 처리과정에서 정화 대상 공기에 포함된 수증기가 수분으로 응축되더라도 흡착제의 흡착성능을 저하시키는 문제를 해결할 수 있고, 상기 증발 구조물(201)이 정화 대상 공기에 흐름 영역에 배치됨으로써 비표면적을 늘려주는 증발 구조물(201)에 의해 응측된 가스의 증발에 기여할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the inclined
이하 도 4 내지 도 6을 기초로 이건출원 발명의 기술적 효과를 보다 상세히 기술하기로 한다.Hereinafter, based on FIGS. 4 to 6, the technical effects of the invention of this application will be described in more detail.
도 4는 도 3에 도시된 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)의 단면도의 제1 영역(C1) 상세도이다.FIG. 4 is a detailed view of a first region C1 of a cross-sectional view of the
실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조(240)는 지면(XY 평면)에 수평한 제1 축(Y1)을 기준으로 소정의 경사 지지면(241s)을 포함할 수 있다.The inclined
예를 들어, 실시예의 제1 경사진 케미칼 지지 구조(241)는, 제1 내부 유로(231)와 인접한 영역의 제1 내측 지지 구조(241a)와 상기 제1 타공 격벽(211) 방향으로 소정의 제1 경사(Θ)을 갖고 제2 방향(S1)으로 연장되는 경사 지지면(241s)을 포함할 수 있다.For example, in the first inclined
상기 제1 경사진 케미칼 지지 구조(241)의 제1 경사(Θ) 각도는 2 ~45 ˚ 일 수 있으나 이에 한정되지 않으며, 바람직하게 5~20 ˚일 수 있다. The first inclination (Θ) angle of the first inclined
상기 제1 내부 유로(231)는, 지면(XY 평면)에 수직한 제1 수직 유로(231a)와 상기 제1 수직 유로(231a)로부터 경사지며 연장되는 제1 경사 유로(241S)를 포함할 수 있다.The first
상기 제1 내부 유로(231)는 이와 같이 깔때기 구조를 포함할 수 있고, 이를 통해 차압이 덜 걸리는 구조를 구현할 수 있는 기술적 효과가 있다.The first
다음으로 도 5는 도 4에 도시된 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)의 단면도의 제1 영역(C1) 플로우 상세도이다.Next, FIG. 5 is a detailed flow view of the first area C1 of the cross-sectional view of the
실시예에 의하면 유입구로 유입된 공기는 제1 수직 유로(231a)에서 제1 플로우(F1)를 형성할 수 있으며, 제1 내부 유로(231) 상측 방향으로 제2 플로우(F2)와 제1 경사 유로(231s) 방향으로 제3 플로우(F3)를 형성할 수 있다.According to the embodiment, the air introduced into the inlet may form a first flow F1 in the first
실시예에 의하면, 제1 경사진 케미칼 지지 구조(241)에 의해 정화대상 공기는 상기 제1 경사진 케미칼 지지 구조(241)의 제1 경사 지지면(241s)에 의해 상기 제1 경사 지지면(241s)에 수평한 제4 플로우(F4)를 형성할 수 있다. 또한 제1 내측 공간(200R1) 방향으로 제5 플로우(F5)를 형성할 수 있다.According to the embodiment, the air to be purified by the first inclined
실시예에 의하면, 경사진 케미칼 지지 구조(240)에 의해 정화대상 공기는 제1 경사진 케미칼 지지 구조(241)의 제1 경사 지지면(241s)에 의해 제1 경사 지지면(241s)에 수평한 제4 플로우(F4)를 형성할 수 있다. 이에 따라 공기의 흐름을 약제층 전체를 거치도록 하여 약제의 성능을 충분히 발현하여 정화 성능의 최대화할 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다. According to the embodiment, air to be purified by the inclined
이에 따라 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버에 의하면, 정화 처리장치의 유입구(In-let)로 들어간 정화대상 공기가 정화 처리장치 내에 적재되어 있는 흡착제를 균일하게 통과하여 정화 성능을 현저히 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.Accordingly, according to the scrubber including the inclined chemical support structure according to the embodiment, the air to be purified, which has entered the in-let of the purification treatment device, uniformly passes through the adsorbent loaded in the purification treatment device to improve purification performance. There are technical effects that can be significantly improved.
또한 실시예에 의하면 정화 대상 공기에 포함된 수증기가 수분으로 응축되더라도 응측된 수분은 제1 경사진 케미칼 지지 구조(241)의 제1 경사 지지면(241s)에 의해 하측으로 이동하여 케미컬인 약제층과의 접촉이 방지될 수 있으며, 제1 경사 지지면(241s)에 흐르는 수분은 이를 수평방향으로 통과하는 공기에 의해 자동 증발될 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다.In addition, according to the embodiment, even if the water vapor contained in the air to be purified is condensed into water, the condensed water is moved downward by the first
이에 따라 실시예에 의하면, 흡착 처리과정에서 정화 대상 공기에 포함된 수증기가 수분으로 응축되더라도 흡착제의 흡착성능을 저하시키는 문제를 해결할 수 있는 기술적 효과가 있다.Accordingly, according to the embodiment, there is a technical effect that can solve the problem of deteriorating the adsorption performance of the adsorbent even if the water vapor contained in the air to be purified is condensed into moisture during the adsorption treatment process.
다음으로 도 6은 도 3에 도시된 실시예에 따른 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버(1000)의 단면도에서 플로우 상세도이다.Next, FIG. 6 is a flow detail view in a cross-sectional view of the
실시예에 의하면 유입구(Inlet)로 유입된 공기는 제1 내부 유로(231)의 제1 경사 유로(231s) 방향으로 제3 플로우(F3)를 형성할 수 있고, 제1 경사진 케미칼 지지 구조(241)의 제1 경사 지지면(241s)에 의해 제1 경사 지지면(241s)에 수평한 제4 플로우(F4)를 형성할 수 있다. According to the embodiment, the air introduced into the inlet may form a third flow F3 in the direction of the first
또한 실시예에 의하면 제2 내부 유로(232)의 제2 경사 유로 방향으로 제3 플로우(F3)를 형성할 수 있고, 제2 경사진 케미칼 지지 구조(242)의 제2 경사 지지면에 의해 제2 경사 지지면에 수평한 제4 플로우(F4)를 형성할 수 있다. In addition, according to the embodiment, the third flow F3 may be formed in the direction of the second inclined passage of the second
또한 실시예에 의하면 제3 내부 유로(233)의 제3 경사 유로 방향으로 제3 플로우(F3)를 형성할 수 있고, 제3 경사진 케미칼 지지 구조(243)의 제3 경사 지지면에 의해 제3 경사 지지면에 수평한 제4 플로우(F4)를 형성할 수 있다. In addition, according to the embodiment, the third flow F3 may be formed in the direction of the third inclined passage of the third
이에 따라 실시예에 의하면, 정화대상 공기는 경사진 케미칼 지지 구조의 경사 지지면에 수평한 제4 플로우를 형성할 수 있고, 이에 따라 공기의 흐름을 약제층 전체를 거치도록 하여 약제의 성능을 충분히 발현하여 정화 성능의 최대화할 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다. Accordingly, according to the embodiment, the air to be purified can form a horizontal fourth flow on the inclined support surface of the inclined chemical support structure, and accordingly, the air flow passes through the entire drug layer to sufficiently improve the performance of the drug. There are special technical effects that can be manifested to maximize purification performance.
또한 실시예에 의하면 정화 대상 공기에 포함된 수증기가 수분으로 응축되더라도 응측된 수분은 경사진 케미칼 지지 구조의 경사 지지면에 의해 하측으로 이동하여 케미컬인 약제층과의 접촉이 방지될 수 있으며, 경사 지지면에 흐르는 수분은 이를 수평방향으로 통과하는 공기에 의해 자동 증발될 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다.In addition, according to the embodiment, even if the water vapor contained in the air to be purified is condensed into moisture, the condensed moisture moves downward by the inclined support surface of the inclined chemical support structure, and contact with the chemical drug layer can be prevented. Moisture flowing on the support surface has a special technical effect that can be automatically evaporated by the air passing through it in the horizontal direction.
이에 따라 실시예에 의하면, 흡착 처리과정에서 정화 대상 공기에 포함된 수증기가 수분으로 응축되더라도 흡착제의 흡착성능을 저하시키는 문제를 해결할 수 있는 기술적 효과가 있다.Accordingly, according to the embodiment, there is a technical effect that can solve the problem of deteriorating the adsorption performance of the adsorbent even if the water vapor contained in the air to be purified is condensed into moisture during the adsorption treatment process.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다.The above description is merely an example of the technical idea of the present invention, and various modifications and variations can be made to those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention.
따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments.
본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The protection scope of the present invention should be construed according to the claims below, and all technical ideas within the equivalent range should be construed as being included in the scope of the present invention.
Claims (10)
상기 정화 캐니스터의 캐니스터 지지대; 및
상기 정화 캐니스터에 장착된 복수의 롤러;를 포함하며,
상기 정화 캐니스터는,
밀폐된 외부 하우징과,
상기 외부 하우징 내측에 배치된 공기가 통과하는 복수의 타공 격벽과,
상기 타공 격벽 내측에 배치되는 내부 유로,
상기 공기를 정화하는 케미컬이 배치되는 복수의 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는, 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버.A purification canister having an air inlet and an outlet;
a canister support of the purifying canister; and
A plurality of rollers mounted on the purification canister; includes,
The purification canister,
a sealed outer housing;
A plurality of perforated bulkheads through which air is disposed inside the outer housing;
An internal flow path disposed inside the perforated partition wall;
A scrubber comprising an inclined chemical support structure comprising a plurality of inclined chemical support structures in which the chemical for purifying the air is disposed.
상기 경사진 케미칼 지지 구조,
지면에 수평한 제1 축을 기준으로 소정의 경사 지지면을 포함하는, 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버.According to claim 1,
The inclined chemical support structure,
A scrubber comprising an inclined chemical support structure comprising a predetermined inclined support surface based on a first axis horizontal to the ground.
상기 경사진 케미칼 지지 구조는,
내부 유로와 인접한 영역의 내측 지지 구조; 및
상기 타공 격벽 방향으로 소정의 제1 경사를 갖고 제2 방향으로 연장되는 상기 경사 지지면;을 포함하는, 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버.According to claim 2,
The inclined chemical support structure,
an inner support structure in an area adjacent to the inner passage; and
A scrubber comprising an inclined chemical support structure comprising: the inclined support surface having a predetermined first slope in the direction of the perforated partition wall and extending in a second direction.
상기 내부 유로는,
상기 지면에 수직한 수직 유로와 상기 수직 유로로부터 경사지도록 연장되는 경사 유로를 포함하는, 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버.According to claim 3,
The inner flow path,
A scrubber comprising an inclined chemical support structure comprising a vertical passage perpendicular to the ground and an inclined passage extending obliquely from the vertical passage.
정화대상 공기는 상기 경사진 케미칼 지지 구조의 경사 지지면에 의해 상기 경사 지지면에 수평한 플로우를 형성하는, 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버.According to claim 4,
The scrubber comprising an inclined chemical support structure, wherein the air to be purified forms a horizontal flow on the inclined support surface by the inclined support surface of the inclined chemical support structure.
상기 복수의 경사진 케미칼 지지 구조는,
상기 내부 유로가 중앙에 배치되며, 상기 타공 격벽을 높이 방향으로 복수의 구획으로 구분하도록 배치되는, 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버.According to any one of claims 1 to 5,
The plurality of inclined chemical support structures,
A scrubber comprising an inclined chemical support structure in which the internal flow path is disposed in the center and disposed to divide the perforated partition wall into a plurality of compartments in a height direction.
상기 타공 격벽은,
상기 내부 유로와 이격되며 상기 내부 유로를 감싸도록 배치되어 소정의 휘발성 유기화합물을 포함하는 공기를 정화하는 케미컬이 배치되는 제1 정화 공간을 형성하는 제1 타공 격벽을 포함하는, 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버.According to claim 6,
The perforated partition wall,
A slanted chemical support structure comprising a first perforated partition wall spaced apart from the inner flow path and disposed to surround the inner flow path to form a first purification space in which a chemical for purifying air containing a predetermined volatile organic compound is disposed. A scrubber comprising a.
상기 타공 격벽은,
상기 제1 타공 격벽 외측에 이격되어 배치되는 제2 타공 격벽과,
상기 제2 타공 격벽의 외측에 이격되며 상기 외부 하우징 내측에 배치되는 제3 타공 격벽을 포함하는, 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버.According to claim 7,
The perforated partition wall,
A second perforated partition wall spaced apart and disposed outside the first perforated partition wall;
A scrubber comprising an inclined chemical support structure including a third perforated partition wall spaced apart from the outside of the second perforated partition wall and disposed inside the outer housing.
상기 내부 유로는,
유입구(Inlet)로 유입된 공기가 통과하며 상측으로 순차적으로 연결되어 배치된 제1 내부 유로, 제2 내부 유로 및 제3 내부 유로를 포함하며,
상기 제1 내부 유로의 직경은 상기 제2, 제3 내부 유로들 각각의 직경에 비해 큰, 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버.According to claim 8,
The inner flow path,
It includes a first inner flow path, a second inner flow path, and a third inner flow path sequentially connected and arranged upward through which the air introduced into the inlet passes,
The scrubber comprising an inclined chemical support structure in which the diameter of the first inner passage is larger than the diameter of each of the second and third inner passages.
상기 복수의 경사진 케미칼 지지 구조는,
상기 제1 내부 유로가 중앙에 배치되며, 소정의 제1 케미컬이 배치되며 상기 제1 타공 격벽과 제1 정화 공간을 형성하는 제1 케미칼 지지 구조;
상기 제2 내부 유로가 중앙에 배치되며, 소정의 제2 케미컬이 배치되며 상기 제2 타공 격벽과 제2 정화 공간을 형성하는 제2 케미칼 지지 구조; 및
상기 제3 내부 유로가 중앙에 배치되며, 제3 케미컬이 배치되며 상기 제3 타공 격벽과 제3 정화 공간을 형성하는 제3 케미칼 지지 구조;를 포함하는, 경사진 케미칼 지지 구조를 포함하는 스크러버.According to claim 9,
The plurality of inclined chemical support structures,
a first chemical support structure in which the first internal flow path is disposed at a center, a predetermined first chemical is disposed, and forms a first purification space with the first perforated partition wall;
a second chemical support structure in which the second internal passage is disposed at a center, a predetermined second chemical is disposed, and forms a second purification space with the second perforated partition wall; and
A scrubber comprising an inclined chemical support structure including a third chemical support structure in which the third internal flow path is disposed in the center, a third chemical is disposed, and the third perforated partition wall and a third purification space are formed.
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| KR1020210188237A KR20230099131A (en) | 2021-12-27 | 2021-12-27 | A Scrubber having an inclined chemical materials or substance support structure with excellent airflow and purification performance |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210188237A KR20230099131A (en) | 2021-12-27 | 2021-12-27 | A Scrubber having an inclined chemical materials or substance support structure with excellent airflow and purification performance |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230099131A true KR20230099131A (en) | 2023-07-04 |
Family
ID=87156197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020210188237A KR20230099131A (en) | 2021-12-27 | 2021-12-27 | A Scrubber having an inclined chemical materials or substance support structure with excellent airflow and purification performance |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20230099131A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102657014B1 (en) * | 2024-01-23 | 2024-04-12 | 주식회사 디노테크이엔씨 | Adsorption dryer that improves the efficiency of adsorbent use |
-
2021
- 2021-12-27 KR KR1020210188237A patent/KR20230099131A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR102657014B1 (en) * | 2024-01-23 | 2024-04-12 | 주식회사 디노테크이엔씨 | Adsorption dryer that improves the efficiency of adsorbent use |
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|---|---|---|---|
| E902 | Notification of reason for refusal |