KR20230089326A - Thermal vacuum chamber with moisture trap device - Google Patents
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- B64G2007/005—Space simulation vacuum chambers
Abstract
일 실시예에 따른 열 진공 챔버는 챔버 몸체, 상기 챔버 몸체 내부에 배치되는 냉각기, 상기 챔버 몸체 외부에 배치되어 상기 챔버 몸체에 연결되는 펌프, 상기 챔버 몸체 내부에 적어도 일부가 배치되는 수분 트랩 장치 및 상기 펌프, 상기 냉각기 및 상기 수분 트랩 장치를 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 수분 트랩 장치는 냉매 공급부 및 상기 냉매 공급부에 연결되고 상기 챔버 몸체 내부에 배치되는 포집부를 포함할 수 있다.A thermal vacuum chamber according to an embodiment includes a chamber body, a cooler disposed inside the chamber body, a pump disposed outside the chamber body and connected to the chamber body, a moisture trap device at least partially disposed inside the chamber body, and A controller may include a control unit controlling the pump, the cooler, and the moisture trap device, and the moisture trap device may include a refrigerant supply unit and a collecting unit connected to the refrigerant supply unit and disposed inside the chamber body.
Description
이하의 다양한 실시예들은 열 진공 챔버에 관한 것이다.Various embodiments below relate to thermal vacuum chambers.
항공 우주 장비 부품들은 대기가 희박한 대기 상부 또는 우주 공간에서 사용되는 경우가 많다. 이에 따라 항공 우주 장비 부품들의 사용환경에서 사용됨에 따른 거동을 예측하기 위해 부품들을 첫 비행 전에 테스트해야 한다.Aerospace equipment components are often used in the upper atmosphere or outer space where the atmosphere is thin. Accordingly, in order to predict the behavior of aerospace equipment components as they are used in their use environment, the components must be tested before the first flight.
구체적으로, 위성체 시스템 레벨에서의 열 진공 시험은 15일 이상 수행되고 -185도 이하의 극 저온에 노출되어 위성의 성능이 검증된다.Specifically, the thermal vacuum test at the satellite system level is performed for more than 15 days, and the performance of the satellite is verified by exposure to extremely low temperatures of -185 degrees or less.
열 진공 챔버는 일반적으로 진공 용기, 진공 펌프, 열 제어 시스템 및 제어 시스템 등으로 구성된다. 열 진공 챔버의 진공 펌프는 종류에 따라 터보 분자 펌프, CRYO 펌프 등이 포함될 수 있다. 특히 CRYO 펌프는 열 진공 챔버 내에 존재하는 수분을 효과적으로 배기할 수 있다. 하지만 CRYO 펌프는 헬륨 냉동기를 사용하기 때문에 가격이 다른 펌프에 비하여 비싸다. A thermal vacuum chamber is generally composed of a vacuum vessel, a vacuum pump, a thermal control system and a control system, and the like. The vacuum pump of the thermal vacuum chamber may include a turbo molecular pump, a cryo pump, and the like depending on the type. In particular, the cryo pump can effectively exhaust moisture present in the thermal vacuum chamber. However, CRYO pumps are more expensive than other pumps because they use a helium chiller.
극 저온 상태를 유지하는 시험이 종료된 이후 열 진공 챔버 내의 온도는 다시 상온으로 복귀된다. 이 과정에서 냉각기(예 : 슈라우드)에 다량의 수분이 탈착되고, 챔버 내의 진공도는 요구조건을 벗어나게 된다. After the test for maintaining the cryogenic state is finished, the temperature in the thermal vacuum chamber returns to room temperature again. In this process, a large amount of moisture is desorbed from the cooler (eg, shroud), and the vacuum level in the chamber is out of the required condition.
전술한 배경기술은 발명자가 본 발명의 도출과정에서 보유하거나 습득한 것으로서, 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에 공개된 공지기술이라고 할 수는 없다.The above background art is possessed or acquired by the inventor in the process of deriving the present invention, and cannot necessarily be said to be known art disclosed to the general public prior to filing the present invention.
일 실시예에 따른 목적은 상온 복귀 과정에서 발생되는 수분을 제거할 수 있는 열 진공 챔버를 제공하는 것이다.An object according to an embodiment is to provide a thermal vacuum chamber capable of removing moisture generated in a room temperature return process.
일 실시예에 따른 목적은 경제적으로 수분을 제거할 수 있는 열 진공 챔버를 제공하는 것이다.An object according to one embodiment is to provide a thermal vacuum chamber capable of economically removing moisture.
일 실시예에 따른 목적은 시험 대상 부품이 시험 과정에서 수분에 의해 오염되지 않게 하는 열 진공 챔버를 제공하는 것이다.An object according to one embodiment is to provide a thermal vacuum chamber that prevents the part under test from being contaminated by moisture during the test process.
일 실시예에 따른 목적은 공간활용성이 뛰어난 열 진공 챔버를 제공하는 것이다.An object according to an embodiment is to provide a thermal vacuum chamber with excellent space utilization.
일 실시예에 따른 열 진공 챔버는 챔버 몸체, 상기 챔버 몸체 내부에 배치되는 냉각기, 상기 챔버 몸체 외부에 배치되어 상기 챔버 몸체에 연결되는 펌프, 상기 챔버 몸체 내부에 적어도 일부가 배치되는 수분 트랩 장치 및 상기 펌프, 상기 냉각기 및 상기 수분 트랩 장치를 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 수분 트랩 장치는 냉매 공급부 및 상기 냉매 공급부에 연결되고 상기 챔버 몸체 내부에 배치되는 포집부를 포함할 수 있다.A thermal vacuum chamber according to an embodiment includes a chamber body, a cooler disposed inside the chamber body, a pump disposed outside the chamber body and connected to the chamber body, a moisture trap device at least partially disposed inside the chamber body, and A controller may include a control unit controlling the pump, the cooler, and the moisture trap device, and the moisture trap device may include a refrigerant supply unit and a collecting unit connected to the refrigerant supply unit and disposed inside the chamber body.
상기 포집부는 상기 냉매 공급부에 직접 연결되어 내부에 냉매가 흐를 수 있는 파이프 및 상기 파이프가 일 표면에 배치되는 포집판을 포함할 수 있다.The collecting unit may include a pipe directly connected to the refrigerant supply unit through which the refrigerant flows, and a collecting plate disposed on one surface of the pipe.
상기 파이프는 상기 포집판의 상기 일 표면 상에서 지그 재그로 배치될 수 있다.The pipes may be arranged in a zigzag pattern on the one surface of the collecting plate.
상기 하나 이상의 포집부의 상기 파이프는 냉매가 상기 파이프로 유입될 수 있는 입구 및 냉매가 상기 파이프로부터 배출되는 출구를 포함할 수 있고, 상기 하나 이상의 포집부 중 일 포집부의 상기 파이프의 상기 입구는 상기 하나 이상의 포집부 중 타 포집부의 상기 파이프의 상기 출구와 연결됨으로써 상기 냉매 공급부에 연결될 수 있다.The pipe of the one or more collecting parts may include an inlet through which the refrigerant flows into the pipe and an outlet through which the refrigerant is discharged from the pipe, and the inlet of the pipe of one of the one or more collecting parts is the one of the collecting parts. Among the above collecting units, other collecting units may be connected to the refrigerant supply unit by being connected to the outlet of the pipe.
상기 파이프 및 상기 포집판은 구리로 구성될 수 있다.The pipe and the collecting plate may be made of copper.
상기 포집판의 일 표면에 허니컴 구조가 배치될 수 있다.A honeycomb structure may be disposed on one surface of the collecting plate.
상기 수분 트랩 장치는 상기 냉매 공급부로부터 상기 포집부로 공급되는 냉매의 공급량을 조절하는 밸브부를 더 포함할 수 있고, 상기 포집부는 상기 밸브부를 통하여 상기 냉매 공급부로 연결될 수 있다.The moisture trap device may further include a valve unit for controlling a supply amount of the refrigerant supplied from the refrigerant supply unit to the collecting unit, and the collecting unit may be connected to the refrigerant supply unit through the valve unit.
상기 냉매 공급부는, 제1 냉매를 공급하는 제1 냉매 공급부 및 제2 냉매를 공급하는 제2 냉매 공급부를 포함할 수 있다.The refrigerant supply unit may include a first refrigerant supply unit supplying a first refrigerant and a second refrigerant supply unit supplying a second refrigerant.
상기 수분 트랩 장치는, 상기 냉매 공급부로부터 상기 포집부로 공급되는 냉매의 공급량을 조절하는 밸브부를 더 포함하고, 상기 밸브부는, 상기 제1 냉매 공급부의 공급량을 조절하는 제1 밸브 및 상기 제2 냉매 공급부의 공급량을 조절하는 제2 밸브를 포함하고, 상기 포집부는 상기 제1 밸브를 통하여 상기 제1 냉매 공급부에 연결되고, 상기 제2 밸브를 통하여 상기 제2 냉매 공급부에 연결될 수 있다.The moisture trap device further includes a valve unit for adjusting the supply amount of the refrigerant supplied from the refrigerant supply unit to the collecting unit, wherein the valve unit includes a first valve for adjusting the supply amount of the first refrigerant supply unit and the second refrigerant supply unit. And a second valve for adjusting the supply amount of, the collecting unit may be connected to the first refrigerant supply through the first valve, connected to the second refrigerant supply through the second valve.
일 실시예에 따른 열 진공 챔버를 이용한 열 진공 시험 방법에 있어서, 상기 열 진공 챔버는 챔버 몸체, 상기 챔버 몸체 내부에 배치되는 냉각기, 상기 쳄버 몸체 외부에 배치되는 펌프, 상기 챔버 몸체 내부에 적어도 일부가 배치되는 수분 트랩 장치 및 제어부를 포함하고, 상기 방법은 상기 열 진공 챔버 내에서 실험에 요구되는 온도와 진공도가 준비되는 준비 단계, 상기 열 진공 챔버 내에서 객체를 대상으로 시험이 수행되는 수행 단계 및 상기 열 진공 챔버 내에서 실험 이전의 온도와 진공도로 복귀됨으로써 생기는 수분이 상기 수분 트랩 장치에 포집되는 복귀 단계를 포함할 수 있고, 상기 복귀 단계는, 상기 냉각기의 온도가 상승되면서 상기 챔버 몸체 내부의 온도 및 진공도가 일부 상승되는 제1 서브 단계 및 상기 수분 트랩 장치의 온도가 상승되면서 상기 챔버 몸체 내부의 온도 및 진공도가 일부 상승되는 제2 서브 단계 를 포함할 수 있다.In the thermal vacuum test method using a thermal vacuum chamber according to an embodiment, the thermal vacuum chamber includes a chamber body, a cooler disposed inside the chamber body, a pump disposed outside the chamber body, and at least a part inside the chamber body. A moisture trap device and a control unit are disposed, and the method includes a preparation step of preparing the temperature and vacuum degree required for the experiment in the thermal vacuum chamber, and a performing step of performing the test on an object in the thermal vacuum chamber. and a return step in which moisture generated by returning to a temperature and a degree of vacuum before the experiment in the thermal vacuum chamber is collected in the moisture trap device, and in the return step, while the temperature of the cooler rises, the inside of the chamber body It may include a first sub-step in which the temperature and degree of vacuum of the chamber are partially increased, and a second sub-step in which the temperature and degree of vacuum in the chamber body are partially increased while the temperature of the moisture trap device is increased.
상기 준비 단계에서는, 상기 냉각기를 이용하여 상기 챔버 몸체 내의 온도가 낮춰지고, 상기 펌프를 이용하여 상기 챔버 몸체 내에 존재하는 수분이 외부로 배출될 수 있다.In the preparation step, the temperature inside the chamber body may be lowered using the cooler, and moisture present in the chamber body may be discharged to the outside using the pump.
상기 수분 트랩 장치는, 냉매 공급부, 상기 냉매 공급부에 연결되고 상기 챔버 몸체 내부에 배치되는 포집부 및 상기 냉매 공급부로부터 상기 포집부로 공급되는 냉매의 공급량을 조절하는 밸브부를 포함할 수 있고, 상기 냉매 공급부는,The moisture trap device may include a refrigerant supply unit, a collecting unit connected to the refrigerant supply unit and disposed inside the chamber body, and a valve unit controlling a supply amount of the refrigerant supplied from the refrigerant supply unit to the collecting unit, wherein the refrigerant supply blowing,
제1 냉매를 공급하는 제1 냉매 공급부 및 제2 냉매를 공급하는 제2 냉매 공급부를 포함할 수 있고, 상기 밸브부는 상기 제1 냉매 공급부의 공급량을 조절하는 제1 밸브 및 상기 제2 냉매 공급부의 공급량을 조절하는 제2 밸브를 포함할 수 있고, 상기 포집부는 상기 제1 밸브를 통하여 상기 제1 냉매 공급부에 연결되고 상기 제2 밸브를 통하여 상기 제2 냉매 공급부에 연결되고, 상기 제1 서브 단계에서 상기 제어부의 제어를 통해 상기 제1 밸브가 조절되어 액화 냉매가 상기 포집부로 유입되고, 상기 제2 서브 단계에서 상기 제어부의 제어를 통해 상기 제2 밸브가 조절되어 기화 냉매가 상기 포집부로 유입될 수 있다.It may include a first refrigerant supply unit for supplying a first refrigerant and a second refrigerant supply unit for supplying a second refrigerant, wherein the valve unit includes a first valve for controlling a supply amount of the first refrigerant supply unit and the second refrigerant supply unit. It may include a second valve for adjusting the supply amount, the collecting unit is connected to the first refrigerant supply through the first valve and connected to the second refrigerant supply through the second valve, the first sub-step In the second sub-step, the first valve is controlled through the control of the control unit so that the liquefied refrigerant flows into the collecting part, and the second valve is controlled through the control of the control part in the second sub-step so that the vaporized refrigerant flows into the collecting part. can
일 실시예에 따른 열 진공 챔버는 상온 복귀 과정에서 발생되는 수분을 제거할 수 있다.The thermal vacuum chamber according to an embodiment may remove moisture generated in the process of returning to room temperature.
일 실시예에 따른 열 진공 챔버는 경제적으로 수분을 제거할 수 있다.A thermal vacuum chamber according to an embodiment can economically remove moisture.
일 실시예에 따른 열 진공 챔버는 시험 대상 부품이 시험 과정에서 수분에 의해 오염되지 않게 할 수 있다.The thermal vacuum chamber according to an embodiment may prevent the part under test from being contaminated by moisture during the test process.
일 실시예에 따른 열 진공 챔버는 공간활용성이 뛰어날 수 있다.A thermal vacuum chamber according to an embodiment may have excellent space utilization.
일 실시 예에 따른 열 진공 챔버의 효과는 이상에서 언급된 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Effects of the thermal vacuum chamber according to an embodiment are not limited to those mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description below.
도 1은 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버의 개략도이다.
도 2는 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버의 수분 트랩 장치의 개략도이다.
도 3은 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버의 수분 트랩 장치의 포집판에 배치될 수 있는 허니컴 구조의 일부분을 도시한다.
도 4는 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버의 허니컴 구조가 배치된 수분 트랩 장치를 도시한다.
도 5는 제2 실시예에 따른 열 진공 챔버의 개략도이다.
도 6은 제3 실시예에 따른 열 진공 챔버의 개략도이다.
도 7은 제3 실시예에 따른 열 진공 챔버의 수분 트랩 장치의 개략도이다.
도 8은 제4 실시예에 따른 열 진공 챔버의 수분 트랩 장치의 개략도이다.
도 9는 제어에 따른 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버의 진공도 및 온도에 대한 그래프이다.1 is a schematic diagram of a thermal vacuum chamber according to a first embodiment.
Fig. 2 is a schematic diagram of a moisture trap device in a thermal vacuum chamber according to the first embodiment.
Fig. 3 shows a part of a honeycomb structure that can be disposed on the collecting plate of the moisture trap device of the thermal vacuum chamber according to the first embodiment.
Fig. 4 shows a moisture trap device in which the honeycomb structure of the thermal vacuum chamber according to the first embodiment is disposed.
5 is a schematic diagram of a thermal vacuum chamber according to a second embodiment.
6 is a schematic diagram of a thermal vacuum chamber according to a third embodiment.
7 is a schematic diagram of a moisture trap device in a thermal vacuum chamber according to a third embodiment.
8 is a schematic diagram of a moisture trap device in a thermal vacuum chamber according to a fourth embodiment.
9 is a graph of the vacuum degree and temperature of the thermal vacuum chamber according to the first embodiment according to control.
이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 실시예들을 상세하게 설명한다. 그러나, 실시예들에는 다양한 변경이 가해질 수 있어서 특허출원의 권리범위가 이러한 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 실시예들에 대한 모든 변경, 균등물 내지 대체물이 권리 범위에 포함되는 것으로 이해되어야 한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, since various changes can be made to the embodiments, the scope of the patent application is not limited or limited by these embodiments. It should be understood that all changes, equivalents or substitutes to the embodiments are included within the scope of rights.
실시예에서 사용한 용어는 단지 설명을 목적으로 사용된 것으로, 한정하려는 의도로 해석되어서는 안 된다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Terms used in the examples are used only for the purpose of explanation and should not be construed as limiting. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, terms such as "include" or "have" are intended to designate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but one or more other features It should be understood that the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof is not precluded.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 실시예가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by a person of ordinary skill in the art to which the embodiment belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and unless explicitly defined in the present application, they should not be interpreted in an ideal or excessively formal meaning. don't
또한, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성 요소는 동일한 참조부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 실시예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 실시예의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.In addition, in the description with reference to the accompanying drawings, the same reference numerals are given to the same components regardless of reference numerals, and overlapping descriptions thereof will be omitted. In describing the embodiment, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the gist of the embodiment, the detailed description will be omitted.
또한, 실시예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In addition, in describing the components of the embodiment, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are only used to distinguish the component from other components, and the nature, order, or order of the corresponding component is not limited by the term. When an element is described as being “connected,” “coupled to,” or “connected” to another element, that element may be directly connected or connected to the other element, but there may be another element between the elements. It should be understood that may be "connected", "coupled" or "connected".
어느 하나의 실시예에 포함된 구성요소와, 공통적인 기능을 포함하는 구성요소는, 다른 실시예에서 동일한 명칭을 사용하여 설명하기로 한다. 반대되는 기재가 없는 이상, 어느 하나의 실시예에 기재한 설명은 다른 실시예에도 적용될 수 있으며, 중복되는 범위에서 구체적인 설명은 생략하기로 한다.Components included in one embodiment and components including common functions will be described using the same names in other embodiments. Unless stated to the contrary, descriptions described in one embodiment may be applied to other embodiments, and detailed descriptions will be omitted to the extent of overlap.
도 1은 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)의 개략도이다. 예를 들어, 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)는 챔버(10)의 전체적인 외형을 형성하는 챔버 몸체(11), 챔버 몸체(11) 내부에 배치되어 챔버(10)의 온도를 낮추는 냉각기(12), 챔버 몸체(11) 내의 수분을 외부로 배출시켜 제거하기 위한 펌프(14), 상기 챔버(10) 내에서 발생되는 수분을 포집할 수 있는 수분 트랩 장치(100) 및 이들을 제어하기 위한 제어부(13)를 포함할 수 있다.1 is a schematic diagram of a
챔버 몸체(11)의 형상 및 크기는 목적하는 시험 대상(미도시)의 크기 또는 형상에 따라 다양할 수 있다. 예를 들어, 챔버 몸체(11)는 육면체 형상일 수 있고, 내부가 빈 실린더 형태일 수 있다. 또한 챔버 몸체(11)는 소형 부품만을 테스트하기 위하여 크기가 상대적으로 작을 수 있고, 전체 인공 위성에 대하여 테스트하기 위해 그 크기가 상대적으로 클 수 있다.The shape and size of the
제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)의 냉각기(12)는 상술한 바와 같이 챔버(10) 내의 온도를 낮추는 역할을 한다. 이는 열 진공 챔버(10)를 통해 항공 우주 부품들을 테스트하기 위한 환경을 제공하기 위함이다. 예를 들어, 우주 환경과 유사한 환경을 제공하기 위하여 극저온(예 : 섭씨 -180 도) 및 진공 상태를 제공할 수 있다. 냉각기(12)는 이 중 온도 측면에서 우주와 비슷한 환경을 제공하기 위함이다.The cooler 12 of the
예를 들어, 냉각기(12)는 챔버 몸체(11) 내부에 위치할 수 있다. 또한 냉각기(12)는 챔버 몸체(11)의 크기에 따라 그 크기가 정해질 수 있다. 상대적으로 크기가 작은 챔버 몸체(11)에서 상대적으로 크기가 큰 냉각기(12)가 배치되는 경우에는 챔버 몸체(11) 내부의 공간을 활용하기 어려울 수 있고, 상대적으로 크기가 큰 챔버 몸체(11)에서 상대적으로 크기가 작은 냉각기(12)가 배치되는 경우에는 챔버 몸체(11) 내부의 온도를 빠르게 낮추기 어려울 수 있기 때문이다.For example, the cooler 12 may be located inside the
냉각기(12)의 형태는 예를 들어 챔버 몸체(11)의 형태와 유사할 수 있다. 예를 들어, 챔버 몸체(11)는 육면체일 수 있고, 냉각기(12)는 육면체 형상의 챔버 몸체(11)의 표면으로부터 간격을 두고 이격된 육면체 형상일 수 있다. 냉각기(12)는 이렇게 챔버 몸체(11)와 유사한 형태를 가지고 챔버 몸체(11) 내부 공간에 전체적으로 배치될 수 있기 때문에, 챔버 몸체(11) 내부의 온도를 국지적으로가 아닌 전체적으로 낮출 수 있다.The shape of the cooler 12 may be similar to that of the
한편, 냉각기(12)는 제어부(13)에 연결되어 제어될 수 있다.Meanwhile, the cooler 12 may be connected to and controlled by the
제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)의 펌프(14)는 챔버 몸체(11) 외부에 배치되어 챔버 몸체(11)에 연결될 수 있다. 예를 들어 펌프(14)는 복수개가 구비될 수 있다. 또한 펌프(14)는 일반적인 펌프(16) 외에 크라이오(CRYO) 펌프(15)를 포함할 수 있다. 크라이오 펌프(15)는 기체 내의 수분을 제거하는 역할을 한다. 이러한 펌프(14)를 통하여, 챔버 몸체(11) 내에 목적하는 진공도가 달성될 수 있다. The
제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)의 수분 트랩 장치(100)는 챔버 몸체(11) 내부에 적어도 일부가 배치될 수 있다. 예를 들어, 수분 트랩 장치(100)는 직접적으로 수분을 포집하는 부분인 포집부(130), 포집부(130)의 온도를 변화시키기 위해 냉매를 공급하는 냉매 공급부(110) 및 냉매 공급부(110)에서 포집부(130)로 공급되는 냉매의 양을 조절하기 위한 밸브부(120)를 포함할 수 있고, 이 중 포집부(130)는 챔버 몸체(11) 내부에 배치될 수 있고, 나머지는 챔버 몸체(11) 외부에 배치될 수 있다.At least a part of the
또한 예를 들어, 포집부(130)는 챔버 몸체(11) 내에서 냉각기(12)의 위치와 관계없이 독자적으로 배치될 수 있다. 도 1에서는 포집부(130)가 냉각기(12) 외부에 배치되는 것으로 도시되었지만, 이러한 위치는 절대적인 것이 아니다. 또한 냉각기(12)는 폐쇄 공간을 형성하지 않을 수 있기 때문에 챔버 몸체(11)의 공간이 냉각기(12) 내부 및 외부로 구분이 되지 않을 수 있다.Also, for example, the collecting
도 2는 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)의 수분 트랩 장치(100)의 개략도이다. 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)의 수분 트랩 장치(100)는 상술한 바와 같이, 냉매 공급부(110), 포집부(130), 밸브부(120)를 포함할 수 있다. 2 is a schematic diagram of a
열 진공 챔버(10)를 이용하여 극저온 시험이 수행된 뒤, 시험이 종료되면 냉각기(12)의 온도가 상승되면서 챔버 몸체(11) 내부의 온도는 상온으로 복귀된다. 이 때 펌프(14)에 의해 제거되지 않고 냉각기(12)에 흡착된 수분은 다시 수증기의 형태로 상전이 될 수 있다. 이로 인하여 챔버 몸체(11) 내부의 진공도는 원하지 않는 시기에 상승될 수 있고, 챔버 몸체(11) 내부의 진공도 요구 조건을 벗어나게 될 수 있다.After the cryogenic test is performed using the
크라이오 펌프(15)를 이용하여 수증기를 제거할 수 있지만, 이 제거 속도는 제한적이기 때문에, 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)는 수분 트랩 장치(100)를 이용하여 수증기를 일차적으로 포집할 수 있다. Water vapor can be removed using the
추가적인 크라이오 펌프(15)를 이용하는 경우에는 하나의 크라이오 펌프(15)를 이용하는 경우보다 챔버 몸체(11) 내부에 존재하는 수증기를 빠르게 제거할 수 있지만, 크라이오 펌프(15)는 크기가 크고 가격이 비싸기 때문에, 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)는 별도의 수분 트랩 장치(100)를 두어 일차적으로 수증기를 포집하여서 하나의 크라이오 펌프(15)만으로도 챔버 몸체(11) 내부의 진공도 상승 없이 수증기를 제거할 수 있게 한다. In the case of using an
냉매 공급부(110)는 수증기가 직접 포집되는 포집부(130)의 온도를 낮추기 위해서, 포집부(130)에 저온의 냉매를 공급할 수 있다. 예를 들어, 포집부(130)의 온도를 섭씨 -180 도까지 낮추기 위해 액체 질소를 포집부(130)에 공급할 수 있다. 냉매 공급부(110)에서 제공되는 냉매는 밸브부(120)를 지나서 포집부(130)의 입구(1311)를 통해 공급될 수 있다.The
제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)의 밸브부(120)는 제어부(13)에 의해 제어될 수 있다. 포집부(130)의 온도를 낮추어 수분을 포집하는 것은 실험 종료 후에 이루어지고, 이후 챔버 몸체(11) 내부의 온도가 상승함에 따라 포집부(130)의 온도도 다시 상승되어야 하므로, 포집부(130)의 온도는 식기에 따라 낮아지거나 높아지게 제어되어야 한다. 이는 제어부(13)에 의하여 포집부(130)에 공급되는 냉매의 양을 밸브부(120)를 이용하여 조절함으로써 이루어질 수 있다.The
제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)의 포집부(130)는 냉매 공급부(110)에 연결되어 내부로 냉매가 흐를 수 있는 파이프(131) 및 파이프(131)가 일 표면에 배치되는 포집판(132)을 포함할 수 있다.The collecting
포집판(132)은 챔버 몸체(11) 내부의 수분을 직접적으로 포집하는 부분일 수 있다. 포집판(132)의 표면적이 넓을수록 단위 시간당 포집할 수 있는 수분의 양이 많아지므로, 효과적으로 수분을 포집하기 위하여 포집판(132)의 면적은 다양하게 지정될 수 있다. 예를 들어, 수분이 포집될 수 있는 표면적을 넓히기 위해 후술할 것과 같이 포집판(132)에는 허니컴 구조(133)가 형성될 수 있다.The collecting
도 2에 도시된 바와 같이, 단일의 포집판(132)이 구비되는 경우에 수분은 포집판(132)의 일면과 반대편의 타면에 포집될 수 있다.As shown in FIG. 2 , when a
파이프(131)는 냉매가 유입되는 파이프 입구(1311), 포집판(132) 상에 형성되는 흐름부(1310) 및 흐름부(1310)를 지나서 포집판(132) 외부로 냉매를 배출시키는 파이프 출구(1312)를 포함할 수 있다.The
냉매가 직접 흐르는 통로가 되는 흐름부(1310)는 그 형태가 다양할 수 있다. 예를 들어, 흐름부는 일 직선으로 형성되어 포집판(132) 상에 배치될 수 있고, 도2에 도시된 것과 같이, 포집판(132)의 표면적 전체에 걸쳐서 온도를 낮추기 위해 흐름부(1310)는 포집판(132)의 일 표면 상에서 지그재그로 배치될 수 있다. 한편, 도시되지 않았지만 흐름부(1310)는 포집판(132)의 일 표면 상에서 삼각형과 같은 형상으로써 지그재그로 배치될 수 있다. The
한편, 도시되지는 않았지만 파이프 출구(1312)를 통해 외부로 배출되는 냉매는 다시 냉매 공급부(110)로 복귀될 수 있다.Meanwhile, although not shown, the refrigerant discharged to the outside through the
도 3은 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)의 수분 트랩 장치(100)의 포집판(132)에 배치될 수 있는 허니컴 구조(133)의 일부분을 도시하고, 도 4는 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)의 허니컴 구조(133)가 배치된 수분 트랩 장치(100)를 도시한다.3 shows a part of a
허니컴 구조(133)는 포집판(132) 상에, 예를 들면 용접에 의해 부착되어 열전도에 의해 포집판(132)과 함께 냉각될 수 있다. 허니컴 구조(133)로 인해 포집판(132)의 표면적이 넓어진 효과를 낼 수 있고, 단위 시간 당 더 많은 수분을 포집할 수 있게 된다. 허니컴 구조(133)는 포집판(132)의 일면 및/또는 타면에 배치될 수 있다. 허니컴 구조(133)의 높이, 육각형의 크기 및 두께 등은 원하는 표면적 및 스펙에 따라서 다양할 수 있다.The
상기 언급한, 포집판(132), 파이프(131) 및 허니컴 구조(133)는 적어도 일부분이 금속 재질로 구성될 수 있다. 예를 들어, 파이프(131) 내에 흐르는 냉매에 의하여 파이프(131)가 냉각되고 냉각된 파이프(131)로 인하여 파이프(131)가 부착된 포집판(132)이 냉각되고, 냉각된 포집판(132)으로 인하여 포집판(132)에 부착된 허니컴 구조(133)가 빠르게 냉각될 수 있도록 열전도성이 높은 금속 재질로 구성될 수 있다. 예를 들어, 열전도성과 가격을 고려하여 구리 재질로 구성될 수 있다.At least a portion of the above-mentioned
도 5는 제2 실시예에 따른 열 진공 챔버(20)의 개략도이다. 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(20)와 비교하면, 제2 실시예에 따른 열 진공 챔버(20)는 1개의 냉매 공급부가 아니라 2개의 냉매 공급부(예 : 제1 냉매 공급부(211) 및 제2 냉매 공급부(212))를 포함할 수 있고, 또한 하나의 밸브부가 아닌 2개의 밸브(예 : 제1 밸브(221) 및 제2 밸브(222))를 포함할 수 있다. 이외의 점에서는 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)와 제2 실시예에 따른 열 진공 챔버(20)의 내용은 동일하므로, 동일한 범위에서 설명을 생략한다.5 is a schematic diagram of a
제2 실시예에 따른 열 진공 챔버(20)의 제1 밸브(221)는 제1 냉매 공급부(211)로부터 포집부(230)에 제공되는 냉매의 공급량을 조절할 수 있고, 제2 밸브(222)는 제2 냉매 공급부(212)로부터 포집부(230)에 제공되는 냉매의 공급량을 조절할 수 있다. 한편, 제1 밸브(221) 및 제2 밸브(222)는 제어부(23)에 의하여 제어될 수 있다.The
제1 냉매 공급부(211)는 제1 냉매를 공급할 수 있고, 제2 냉매 공급부(212)는 제2 냉매를 공급할 수 있다. 제1 냉매와 제2 냉매는 서로 다른 물질일 수 있고, 서로 상(phase)만 다른 같은 물질일 수 있다. 제2 실시예에 따른 열 진공 챔버(20)는 제1 밸브(221) 및 제2 밸브(222)를 제어함으로써, 예를 들어 제1 냉매와 제2 냉매 중 더 온도가 낮은 냉매인 제1 냉매를 먼저 공급함으로써 빠르게 포집부(230)를 냉각시킬 수 있고, 이후에 제1 밸브(221)를 조절하여 제1 냉매의 공급량을 줄이거나 제1 냉매의 공급량을 줄이면서 동시에 온도가 더 높은 냉매인 제2 냉매를 함께 공급함으로써 포집부(230)의 온도를 점진적으로 증가시킬 수 있다.The first
예를 들어, 제1 냉매는 액체 질소로 구성될 수 있고, 제2 냉매는 기체 질소로 구성될 수 있다. 액체 질소는 기체 질소보다 상대적으로 온도가 낮기 때문에, 액체 질소를 포집부(230)에 공급함으로써 포집부(230)의 온도를 빠르게 낮출 수 있다. 이후에 액체 질소의 공급을 중단하거나, 액체 질소의 공급량을 줄이면서 기체 질소의 공급량을 늘이거나, 액체 질소의 공급을 중단하면서 기체 질소의 공급량을 늘이는 등의 다양한 방식으로 포집부(230)의 온도를 점진적으로 증가시킬 수 있다.For example, the first refrigerant may consist of liquid nitrogen and the second refrigerant may consist of gaseous nitrogen. Since liquid nitrogen has a relatively lower temperature than gaseous nitrogen, the temperature of the collecting
도 6은 제3 실시예에 따른 열 진공 챔버(30)의 개략도이고, 도 7은 제3 실시예에 따른 열 진공 챔버(30)의 수분 트랩 장치(300)의 개략도이다. 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)와 비교하면, 제3 실시예에 따른 열 진공 챔버(30)는 하나의 포집부가 아니라 복수개의 포집부인 제1 포집부(330) 및 제2 포집부(340)를 포함한다. 이외의 부분에서 제3 실시예에 따른 열 진공 챔버(30)는 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(10)와 동일한바, 동일한 범위에서 설명을 생략한다.6 is a schematic diagram of a
한편, 일 실시예에 따른 열 진공 챔버는 2개뿐만 아니라 3개 이상의 포집부를 포함할 수 있다. 제3 실시예에 따른 열 진공 챔버(30)는 2개의 포집부를 포함하는 것으로 도시되었지만, 일 실시예에 따른 열 진공 챔버는 이에 제한되지 않는다. 또한 일 실시예에 따른 열 진공 챔버는 복수 개의 포집부를 포함하고 복수 개의 냉매 공급부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 일 실시예에 따른 열 진공 챔버는 제2 실시예에 따른 열 진공 챔버(도 5의 20) 및 제3 실시예에 따른 열 진공 챔버(30)가 복합된 형태일 수 있다.Meanwhile, a thermal vacuum chamber according to an embodiment may include not only two but also three or more collecting units. Although the
다시 도7을 참조하면, 제3 실시예에 따른 열 진공 챔버(30)의 수분 트랩 장치(300)가 나타난다. 예를 들어, 제3 실시예에 따른 열 진공 챔버(30)의 수분 트랩 장치(300)는 병렬로 연결된 제1 포집부(330) 및 제2 포집부(340)를 포함할 수 있다. 제1 포집부는 냉매가 직접 흐르는 제1 파이프(331), 수분이 포집되는 제1 포집판(332)을 포함할 수 있다. 제2 포집부(340)도 냉매가 직접 흐르는 제2 파이프(341), 수분이 포집되는 제2 포집판(342)을 포함할 수 있다. 도시되지 않았지만, 제1 포집판(332) 및 제2 포집판(342)에는 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(도 1의 10)와 마찬가지로 허니컴 구조(예 : 도 4의 허니컴 구조(133))가 배치될 수 있다.Referring again to Fig. 7, a
제1 파이프(331)는 냉매가 유입되는 제1 파이프 입구(3311), 제1 포집판(332)에 배치되어 열 전도로써 제1 포집판(332)을 냉각시키는 제1 파이프 흐름부(3310) 및 제1 파이프 흐름부(3310)를 흐르고 난 냉매가 배출되는 제1 파이프 출구(3312)를 포함할 수 있다.The
제2 파이프(341)는 냉매가 유입되는 제2 파이프 입구(3411), 제2 포집판(342)에 배치되어 열 전도로써 제2 포집판(342)을 냉각시키는 제2 파이프 흐름부(3410) 및 제2 파이프 흐름부(3410)를 흐르고 난 냉매가 배출되는 제2 파이프 출구(3412)를 포함할 수 있다.The
도 8은 제4 실시예에 따른 열 진공 챔버의 수분 트랩 장치(400)의 개략도이다. 제3 실시예에 따른 열 진공 챔버(도 6의 30)와 제4 실시예에 따른 열 진공 챔버와 비교하면, 제4 실시예에 따른 열 진공 챔버의 수분 트랩 장치(400)의 제1 포집부(430) 및 제2 포집부(440)는 병렬이 아닌 직렬로 연결된다. 이외의 범위에서 제3 실시예에 따른 열 진공 챔버(도 6의 30)와 제4 실시예에 따른 열 진공 챔버의 내용은 동일하므로, 동일한 범위에서 설명을 생략한다.8 is a schematic diagram of a
제4 실시예에 따른 열 진공 챔버의 수분 트랩 장치(400)는 직렬로 연결된 제1 포집부(430) 및 제2 포집부(440)를 포함할 수 있다. 제1 포집부(430)는 냉매가 직접 흐르는 제1 파이프(431), 수분이 포집되는 제1 포집판(432)을 포함할 수 있다. 제2 포집부(440)도 냉매가 직접 흐르는 제2 파이프(441), 수분이 포집되는 제2 포집판(442)을 포함할 수 있다. 도시되지 않았지만, 제1 포집판(432) 및 제2 포집판(442)에는 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(도 1의 10)와 마찬가지로 허니컴 구조(예 : 도 4의 허니컴 구조(133) 가 배치될 수 있다.The
제1 파이프(431)는 냉매가 유입되는 제1 파이프 입구(4311), 제1 포집판(432)에 배치되어 열 전도로써 제1 포집판(432)을 냉각시키는 제1 파이프 흐름부(4310) 및 제1 파이프 흐름부(4310)를 흐르고 난 냉매가 배출되어 제2 파이프 입구(4411)로 연결되는 제1 파이프 출구(4312)를 포함할 수 있다.The
제2 파이프(441)는 제1 파이프(431)를 흐른 냉매가 유입되는 제2 파이프 입구(4411), 제2 포집판(442)에 배치되어 열 전도로써 제2 포집판(442)을 냉각시키는 제2 파이프 흐름부(4410) 및 제2 파이프 흐름부(4410)를 흐르고 난 냉매가 배출되는 제2 파이프 출구(4412)를 포함할 수 있다.The
도 9는 제어에 따른 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(도 1의 10)의 진공도 및 온도에 대한 그래프이다. 도 9에 도시된 그래프와 관련하여, 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(도 1의 10)를 이용하여 열 진공 시험 방법을 설명한다. 한편, 후술할 열 진공 시험 방법은 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(도 1의 10) 외의 일 실시예에 따른 열 진공 챔버 모두에 적용될 수 있다.9 is a graph of the vacuum degree and temperature of the thermal vacuum chamber (10 in FIG. 1) according to the first embodiment according to the control. Referring to the graph shown in FIG. 9 , a thermal vacuum test method will be described using the thermal vacuum chamber ( 10 in FIG. 1 ) according to the first embodiment. Meanwhile, a thermal vacuum test method to be described later may be applied to all thermal vacuum chambers according to one embodiment other than the thermal vacuum chamber ( 10 in FIG. 1 ) according to the first embodiment.
먼저 제1 실시예에 따른 열 진공 챔버(도 1의 10)의 냉각기(도 1의 12)를 이용하여 실험에서 요구되는 온도가 준비되고, 펌프(도 1의 14)를 이용하여 챔버 몸체(도 1의 11) 내의 수분을 제거함으로써 실험에서 요구되는 진공도가 준비된다.First, the temperature required for the experiment is prepared using the cooler (12 in FIG. 1) of the thermal vacuum chamber (10 in FIG. 1) according to the first embodiment, and the chamber body (FIG. 14) is used to The degree of vacuum required in the experiment is prepared by removing the water in 11) of 1).
이후에, 챔버 몸체(도 1의 11) 내부의 공간에서 항공 우주 부품들에 대하여 열 진공 시험이 수행된다. 예를 들어, 전술한 바와 같이 섭씨 -180 도 정도의 극저온 상태에서 수 일(예 : 15일) 동안 시험이 수행될 수 있다.Then, a thermal vacuum test is performed on the aerospace components in the space inside the chamber body ( 11 in FIG. 1 ). For example, as described above, the test may be performed for several days (eg, 15 days) at a cryogenic temperature of about -180 degrees Celsius.
시험이 모두 수행된 뒤, 챔버 몸체(도 1의 11) 내의 온도 및 진공도는 원래 상태로 복귀된다. 이 때 챔버 몸체 내부에서 생길 수 있는 수분은 수분 트랩 장치(도 1의 100)에 의해 포집된다.After all the tests have been performed, the temperature and vacuum level in the chamber body ( 11 in FIG. 1 ) are returned to their original states. At this time, moisture that may occur inside the chamber body is collected by a moisture trap device (100 in FIG. 1).
상기 언급한 원래 상태로 복귀되는 단계는 여러 세부 단계들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 챔버 몸체(도 1의 11) 내부의 상태가 복귀 될 때, 냉각기(도 1의 12)의 온도가 상승되면서 챔버 몸체(도 1의 11) 내부의 온도 및 진공도가 일부 상승되고 수분 트랩 장치(도 1의 100)가 냉각됨으로써 수분이 포집되는 단계(#1로 표시), 챔버 몸체(도 1의 11) 내부의 온도가 상승되면서 생성되는 수분이 수분 트랩 장치(도 1의 100)에 의해 포집된 이후 챔버 몸체(도 1의 11) 내부의 진공도가 일부 상승되는 단계(#2로 표시), 수분 트랩 장치(도 1의 100)의 온도가 상승되면서 챔버 몸체(도 1의 11) 내부의 온도 및 진공도가 상온 및 상압으로 복귀되는 단계(#3으로 표시)를 포함할 수 있다.The above-mentioned step of returning to the original state may include several detailed steps. For example, when the state inside the chamber body (11 in FIG. 1) is restored, the temperature of the cooler (12 in FIG. 1) rises, and the temperature and vacuum inside the chamber body (11 in FIG. 1) are partially increased, and moisture The trap device (100 in FIG. 1) is cooled to collect moisture (indicated by # 1), and the moisture generated as the temperature inside the chamber body (11 in FIG. 1) rises is reduced to the moisture trap device (100 in FIG. 1) After being collected by the step of partially increasing the degree of vacuum inside the chamber body (11 in FIG. 1) (indicated by # 2), as the temperature of the moisture trap device (100 in FIG. 1) rises, the chamber body (11 in FIG. 1) It may include a step (indicated by # 3) of returning the internal temperature and vacuum to room temperature and pressure.
한편, 수분 트랩 장치(도 1의 100)의 온도는 상기 언급한 것과 같이, 냉매 공급부의 공급량을 제어함으로써 또는 복수의 냉매 공급부가 구비되는 경우에는 각각의 공급량을 제어함으로써 조절될 수 있다.On the other hand, as mentioned above, the temperature of the moisture trap device (100 in FIG. 1) can be adjusted by controlling the supply amount of the refrigerant supply unit or by controlling each supply amount when a plurality of refrigerant supply units are provided.
이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기를 기초로 다양한 기술적 수정 및 변형을 적용할 수 있다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.As described above, although the embodiments have been described with limited drawings, those skilled in the art can apply various technical modifications and variations based on the above. For example, the described techniques may be performed in an order different from the method described, and/or components of the described system, structure, device, circuit, etc. may be combined or combined in a different form than the method described, or other components may be used. Or even if it is replaced or substituted by equivalents, appropriate results can be achieved.
그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 청구범위와 균등한 것들도 후술하는 청구범위의 범위에 속한다.Therefore, other implementations, other embodiments, and equivalents of the claims are within the scope of the following claims.
10 : 열 진공 챔버
11 : 챔버 몸체
12 : 냉각기
13 : 제어부
14 : 펌프
100 : 수분 트랩
110 : 냉매 공급부
120 : 밸브부
130 : 포집부
131 : 파이프
132 : 포집판10: thermal vacuum chamber
11: chamber body
12: Cooler
13: control unit
14: pump
100: moisture trap
110: refrigerant supply
120: valve part
130: collection unit
131: pipe
132: collection plate
Claims (12)
챔버 몸체;
상기 챔버 몸체 내부에 배치되는 냉각기;
상기 챔버 몸체 외부에 배치되어 상기 챔버 몸체에 연결되는 펌프;
상기 챔버 몸체 내부에 적어도 일부가 배치되는 수분 트랩 장치; 및
상기 펌프, 상기 냉각기 및 상기 수분 트랩 장치를 제어하는 제어부;
를 포함하고,
상기 수분 트랩 장치는,
냉매 공급부; 및
상기 냉매 공급부에 연결되고 상기 챔버 몸체 내부에 배치되는 포집부;
를 포함하는,
열 진공 챔버.
In the thermal vacuum chamber,
chamber body;
a cooler disposed inside the chamber body;
a pump disposed outside the chamber body and connected to the chamber body;
a moisture trap device at least partially disposed inside the chamber body; and
a control unit controlling the pump, the cooler, and the moisture trap device;
including,
The moisture trap device,
refrigerant supply; and
a collection unit connected to the refrigerant supply unit and disposed inside the chamber body;
including,
thermal vacuum chamber.
상기 포집부는,
상기 냉매 공급부에 직접 연결되어 내부에 냉매가 흐를 수 있는 파이프; 및
상기 파이프가 일 표면에 배치되는 포집판;
을 포함하는,
열 진공 챔버.
According to claim 1,
The collection unit,
A pipe directly connected to the refrigerant supply unit through which the refrigerant flows; and
a collecting plate on which the pipe is disposed on one surface;
including,
thermal vacuum chamber.
상기 파이프는 상기 포집판의 상기 일 표면 상에서 지그 재그로 배치되는,
열 진공 챔버.
According to claim 2,
The pipes are arranged in a zigzag pattern on the one surface of the collecting plate.
thermal vacuum chamber.
상기 하나 이상의 포집부의 상기 파이프는,
냉매가 상기 파이프로 유입될 수 있는 입구; 및
냉매가 상기 파이프로부터 배출되는 출구;
를 포함하고,
상기 하나 이상의 포집부 중 일 포집부의 상기 파이프의 상기 입구는,
상기 하나 이상의 포집부 중 타 포집부의 상기 파이프의 상기 출구와 연결됨으로써 상기 냉매 공급부에 연결되는,
열 진공 챔버.
According to claim 2,
The pipe of the one or more collecting parts,
an inlet through which refrigerant may flow into the pipe; and
an outlet through which the refrigerant is discharged from the pipe;
including,
The inlet of the pipe of one of the one or more collecting parts,
Connected to the refrigerant supply part by being connected to the outlet of the pipe of the other collecting part among the one or more collecting parts,
thermal vacuum chamber.
상기 파이프 및 상기 포집판은 구리로 구성되는,
열 진공 챔버.
According to claim 2,
The pipe and the collecting plate are made of copper,
thermal vacuum chamber.
상기 포집판의 일 표면에 허니컴 구조가 배치되는,
열 진공 챔버.
According to claim 2,
A honeycomb structure is disposed on one surface of the collecting plate,
thermal vacuum chamber.
상기 수분 트랩 장치는,
상기 냉매 공급부로부터 상기 포집부로 공급되는 냉매의 공급량을 조절하는 밸브부;
를 더 포함하고,
상기 포집부는 상기 밸브부를 통하여 상기 냉매 공급부로 연결되는,
열 진공 챔버.
According to claim 6,
The moisture trap device,
a valve unit controlling a supply amount of the refrigerant supplied from the refrigerant supply unit to the collecting unit;
Including more,
The collecting unit is connected to the refrigerant supply unit through the valve unit,
thermal vacuum chamber.
상기 냉매 공급부는,
제1 냉매를 공급하는 제1 냉매 공급부; 및
제2 냉매를 공급하는 제2 냉매 공급부;
를 포함하는,
열 진공 챔버.
According to claim 1,
The refrigerant supply unit,
a first refrigerant supply unit supplying a first refrigerant; and
a second refrigerant supply unit supplying a second refrigerant;
including,
thermal vacuum chamber.
상기 수분 트랩 장치는,
상기 냉매 공급부로부터 상기 포집부로 공급되는 냉매의 공급량을 조절하는 밸브부;
를 더 포함하고,
상기 밸브부는,
상기 제1 냉매 공급부의 공급량을 조절하는 제1 밸브; 및
상기 제2 냉매 공급부의 공급량을 조절하는 제2 밸브;
를 포함하고,
상기 포집부는 상기 제1 밸브를 통하여 상기 제1 냉매 공급부에 연결되고, 상기 제2 밸브를 통하여 상기 제2 냉매 공급부에 연결되는,
열 진공 챔버.
According to claim 8,
The moisture trap device,
a valve unit controlling a supply amount of the refrigerant supplied from the refrigerant supply unit to the collecting unit;
Including more,
The valve part,
a first valve controlling a supply amount of the first refrigerant supply unit; and
a second valve controlling a supply amount of the second refrigerant supply unit;
including,
The collecting unit is connected to the first refrigerant supply through the first valve and connected to the second refrigerant supply through the second valve,
thermal vacuum chamber.
상기 열 진공 챔버 내에서 실험에 요구되는 온도와 진공도가 준비되는, 준비 단계;
상기 열 진공 챔버 내에서 객체를 대상으로 시험이 수행되는, 수행 단계; 및
상기 열 진공 챔버 내에서 실험 이전의 온도와 진공도로 복귀됨으로써 생기는 수분이 상기 수분 트랩 장치에 포집되는, 복귀 단계;
를 포함하고,
상기 복귀 단계는,
상기 냉각기의 온도가 상승되면서 상기 챔버 몸체 내부의 온도 및 진공도가 일부 상승되는 제1 서브 단계; 및
상기 수분 트랩 장치의 온도가 상승되면서 상기 챔버 몸체 내부의 온도 및 진공도가 일부 상승되는 제2 서브 단계;
를 포함하는,
열 진공 시험 방법.
In a thermal vacuum test method using a thermal vacuum chamber including a chamber body, a cooler disposed inside the chamber body, a pump disposed outside the chamber body, a moisture trap device at least partially disposed inside the chamber body, and a control unit ,
a preparation step in which temperature and vacuum required for the experiment are prepared in the thermal vacuum chamber;
a performing step in which a test is performed on an object in the thermal vacuum chamber; and
a return step in which moisture generated by returning to a temperature and vacuum level before the experiment in the thermal vacuum chamber is collected in the moisture trap device;
including,
The return step is
a first sub-step of partially increasing the temperature and the degree of vacuum inside the chamber body as the temperature of the cooler rises; and
a second sub-step of partially increasing the temperature and the degree of vacuum inside the chamber body as the temperature of the moisture trap device increases;
including,
Thermal vacuum test method.
상기 준비 단계에서는,
상기 냉각기를 이용하여 상기 챔버 몸체 내의 온도가 낮춰지고,
상기 펌프를 이용하여 상기 챔버 몸체 내에 존재하는 수분이 외부로 배출되는,
열 진공 시험 방법.
According to claim 10,
In the preparation step,
The temperature in the chamber body is lowered using the cooler,
The water present in the chamber body is discharged to the outside using the pump,
Thermal vacuum test method.
상기 수분 트랩 장치는,
냉매 공급부;
상기 냉매 공급부에 연결되고 상기 챔버 몸체 내부에 배치되는 포집부; 및
상기 냉매 공급부로부터 상기 포집부로 공급되는 냉매의 공급량을 조절하는 밸브부;
를 포함하고,
상기 냉매 공급부는,
제1 냉매를 공급하는 제1 냉매 공급부; 및
제2 냉매를 공급하는 제2 냉매 공급부;
를 포함하고,
상기 밸브부는,
상기 제1 냉매 공급부의 공급량을 조절하는 제1 밸브; 및
상기 제2 냉매 공급부의 공급량을 조절하는 제2 밸브;
를 포함하고,
상기 포집부는 상기 제1 밸브를 통하여 상기 제1 냉매 공급부에 연결되고, 상기 제2 밸브를 통하여 상기 제2 냉매 공급부에 연결되고,
상기 제1 서브 단계에서 상기 제어부의 제어를 통해 상기 제1 밸브가 조절되어 액화 냉매가 상기 포집부로 유입되고,
상기 제2 서브 단계에서 상기 제어부의 제어를 통해 상기 제2 밸브가 조절되어 기화 냉매가 상기 포집부로 유입되는,
열 진공 시험 방법.According to claim 11,
The moisture trap device,
refrigerant supply;
a collection unit connected to the refrigerant supply unit and disposed inside the chamber body; and
a valve unit controlling a supply amount of the refrigerant supplied from the refrigerant supply unit to the collecting unit;
including,
The refrigerant supply unit,
a first refrigerant supply unit supplying a first refrigerant; and
a second refrigerant supply unit supplying a second refrigerant;
including,
The valve part,
a first valve controlling a supply amount of the first refrigerant supply unit; and
a second valve controlling a supply amount of the second refrigerant supply unit;
including,
The collecting unit is connected to the first refrigerant supply through the first valve and connected to the second refrigerant supply through the second valve,
In the first sub-step, the first valve is controlled through the control of the control unit so that the liquefied refrigerant flows into the collecting unit,
In the second sub-step, the second valve is adjusted through the control of the control unit so that the vaporized refrigerant flows into the collecting unit.
Thermal vacuum test method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210177862A KR20230089326A (en) | 2021-12-13 | 2021-12-13 | Thermal vacuum chamber with moisture trap device |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal |