KR20230081640A

KR20230081640A - Linear gauge

Info

Publication number: KR20230081640A
Application number: KR1020220156735A
Authority: KR
Inventors: 다이 사이토
Original assignee: 가부시기가이샤 디스코
Priority date: 2021-11-30
Filing date: 2022-11-21
Publication date: 2023-06-07
Also published as: CN116197820A; JP2023080735A; TW202323758A

Abstract

(과제) 리니어 게이지의 케이싱의 프로브 출입구에 연삭 폐액이 진입하는 것을 방지한다.
(해결 수단) 테이블 (93) 의 유지면 (930) 에 유지된 피측정물 상면에 선단을 접촉시켜 상면 높이를 측정하기 위해서 사용되고, 유지면 (930) 에 대해 수직으로 연장되는 프로브 (2) 와, 프로브 (2) 를 유지면 (930) 에 수직 방향으로 자유롭게 이동할 수 있도록 지지하는 지지면 (30) 을 갖고, 프로브 (2) 를 출입시키는 출입구 (36) 를 갖는 케이싱 (3) 과, 프로브 (2) 측면과 지지면 (30) 사이에 에어를 분출하는 분출부 (32) 와, 케이싱 (3) 의 상부에 형성되고 지지면 (30) 과 프로브 (2) 의 측면 사이의 에어를 배기하는 배기로 (33) 와, 케이싱 (3) 의 하측에 배치 형성되고 프로브 (2) 의 측면을 둘러싸는 환상의 물 시일부 (5) 를 구비하고, 물 시일부 (5) 는, 프로브 (2) 의 측면을 둘러싸서 물이 고이는 환상의 물 저장부 (50) 와, 물 저장부 (50) 하단으로부터 물을 배수하는 배수구 (52) 를 구비하고, 물 시일부 (5) 에 의해 외부로부터의 유체의 출입구 (36) 로의 진입을 저지하는, 리니어 게이지 (1).(Problem) Prevent grinding waste liquid from entering the probe entrance of the linear gauge casing.
(Solution) A probe 2 extending perpendicularly to the holding surface 930 and used to measure the height of the upper surface of the measured object by contacting the tip to the upper surface of the measured object held on the holding surface 930 of the table 93; , a casing 3 having a support surface 30 supporting the probe 2 so as to be freely movable in the vertical direction to the holding surface 930, and having an entrance 36 through which the probe 2 enters and exits; 2) A blowing part 32 for ejecting air between the side surface and the support surface 30, and an exhaust formed on the upper part of the casing 3 and exhausting air between the support surface 30 and the side surface of the probe 2 Furnace 33 and an annular water seal portion 5 disposed below the casing 3 and surrounding the side surface of the probe 2, the water seal portion 5 of the probe 2 It is provided with an annular water storage unit (50) in which water accumulates surrounding the side surface, and a drain port (52) for draining water from the lower end of the water storage unit (50), and the water seal unit (5) blocks the flow of fluid from the outside. A linear gauge (1), which blocks entry into the entrance (36).

Description

Linear Gauge {LINEAR GAUGE}

본 발명은 피측정물의 상면 높이를 측정하는 리니어 게이지에 관한 것이다.The present invention relates to a linear gauge for measuring the height of an upper surface of an object to be measured.

특허문헌 1 에 개시되어 있는 바와 같이, 연삭 장치는, 유지면이 유지한 웨이퍼를 연삭 지석으로 두께를 인식하면서 소정의 두께가 될 때까지 연삭하고 있다. 그 두께는, 유지면의 높이와, 유지면이 유지한 웨이퍼의 상면 높이의 차로서 산출하고 있다. 유지면 높이는, 유지면에 선단을 접촉시킨 프로브의 높이로 측정하고, 웨이퍼의 상면 높이는, 유지면이 유지한 웨이퍼의 상면에 선단을 접촉시킨 프로브의 높이로 측정하고 있다.As disclosed in Patent Literature 1, the grinding device grinds the wafer held by the holding surface until it reaches a predetermined thickness while recognizing the thickness with a grinding wheel. The thickness is calculated as a difference between the height of the holding surface and the height of the upper surface of the wafer held by the holding surface. The height of the holding surface is measured by the height of the probe whose tip is brought into contact with the holding surface, and the height of the top surface of the wafer is measured by the height of the probe whose tip is brought into contact with the top surface of the wafer held by the holding surface.

이와 같은 높이 측정기는, 유지면에 수직 방향으로 연장되는 프로브를, 연장 방향으로 직동 이동시키고 있고, 특허문헌 2 에 개시되어 있는 바와 같이, 프로브를 자유롭게 직동할 수 있도록 비접촉으로 지지하는 간극을 형성하는 케이싱과, 케이싱으로부터 돌출된 프로브의 측면을 덮도록 수막을 형성하는 수막 형성부를 구비하고, 연삭 부스러기가 프로브에 부착되는 것을 방지하고 있다.In such a height measuring device, a probe extending in a direction perpendicular to a holding surface is linearly moved in the extending direction, and as disclosed in Patent Literature 2, a gap is formed to support the probe in a non-contact manner so that the probe can be freely linearly moved. A casing and a water film forming unit for forming a water film so as to cover the side surfaces of the probe protruding from the casing are provided, and grinding debris is prevented from adhering to the probe.

일본 공개특허공보 2008-073785호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-073785 일본 공개특허공보 2020-118503호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2020-118503

그러나, 가공 조건에 따라서는, 회전하는 연삭 지석의 원심력이 부여되어 연삭 부스러기를 포함한 연삭 폐액이, 수막을 파괴하고, 프로브와 케이싱으로부터 프로브를 출입시키는 출입구로부터 간극에 진입하여, 프로브의 직동 동작을 방해하여 정상적인 높이를 측정할 수 없게 된다는 문제가 있다. 또, 연삭 폐액이 그 간극에 진입한 상태에서 장치를 정지시키면, 연삭 부스러기가 건조되고 프로브가 고착되어 프로브를 동작시킬 수 없게 된다는 문제가 있다.However, depending on the processing conditions, the centrifugal force of the rotating grinding wheel is applied, and the grinding waste liquid containing the grinding swarf breaks the water film and enters the gap between the probe and the entrance through which the probe is moved in and out of the casing, thereby preventing the linear motion of the probe. There is a problem that the normal height cannot be measured due to interference. Another problem is that if the apparatus is stopped in a state where the grinding waste liquid has entered the gap, the grinding swarf is dried and the probe is stuck, making it impossible to operate the probe.

따라서, 리니어 게이지에 있어서는, 케이싱으로부터 프로브를 출입시키는 출입구와의 간극에 연삭 폐액이 진입해 버리는 것을 저지하여, 피측정물의 정확한 높이를 측정한다는 과제가 있다.Therefore, in the linear gauge, there is a problem of preventing the grinding waste liquid from entering the gap between the entrance and exit through which the probe is taken in and out of the casing, and measuring the height of the object to be measured accurately.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명은, 척 테이블의 유지면에 유지된 피측정물의 상면에 선단을 접촉시켜, 피측정물의 상면 높이를 측정하는 리니어 게이지로서, 그 유지면에 대해 수직 방향으로 연장되는 프로브와, 그 프로브를 그 유지면에 수직 방향으로 자유롭게 이동할 수 있도록 지지하는 지지면을 가짐과 함께 그 프로브를 출입시키는 출입구를 갖는 케이싱과, 그 프로브의 측면과 그 지지면 사이에 에어를 분출하는 분출부와, 그 케이싱의 상부에 형성되고 그 지지면과 그 프로브의 측면 사이에 연통하여 그 분출부로부터 분출된 그 에어를 배기하는 배기로와, 그 케이싱의 하측에 배치 형성되고 그 프로브의 측면을 둘러싸는 환상의 물 시일부를 구비하고, 그 물 시일부는, 그 프로브의 측면을 둘러싸서 물이 고이는 환상의 물 저장부와, 그 물 저장부의 하단으로부터 그 물을 배수하는 배수구를 구비하고, 그 물 시일부에 의해, 외부로부터의 유체의 그 출입구로의 진입을 저지하는, 리니어 게이지이다.The present invention for solving the above problems is a linear gauge that measures the height of the upper surface of the measured object by bringing its tip into contact with the upper surface of the measured object held on the holding surface of the chuck table, which extends in a vertical direction with respect to the holding surface A casing having a probe, a support surface supporting the probe so that it can move freely in a direction perpendicular to the holding surface, and an entrance through which the probe is taken in and out, and blowing air between the side surface of the probe and the support surface. A jetting part, formed on the upper part of the casing, communicating between the support surface and the side surface of the probe, and an exhaust passage for exhausting the air ejected from the blowing part, disposed below the casing, and on the side surface of the probe. an annular water seal part surrounding the probe, the water seal part having an annular water storage part in which water accumulates surrounding the side surface of the probe and a drain hole for draining the water from the lower end of the water storage part; It is a linear gauge that blocks entry of fluid from the outside into the entrance and exit by the water seal portion.

본 발명에 관련된 리니어 게이지에 있어서, 상기 배수구는, 환상으로 형성되고, 그 배수구로부터 배수된 물을, 상기 프로브의 배수구로부터 하방으로 돌출된 부분의 측면 전체면을 덮도록 그 프로브의 선단에 유하시키면 바람직하다.In the linear gauge according to the present invention, the drain hole is formed in an annular shape, and when the water drained from the drain hole flows down the tip of the probe so as to cover the entire side surface of the portion protruding downward from the drain hole of the probe. desirable.

본 발명에 관련된 리니어 게이지는, 물 시일부가, 프로브의 측면을 둘러싸서 물이 고이는 환상의 물 저장부와, 물 저장부의 하단으로부터 물을 배수하는 링상의 배수구를 구비하고 있음으로써, 회전하는 연삭 지석의 원심력이 부여된 연삭 부스러기를 포함하는 연삭 폐액이, 케이싱에 프로브의 출입구로부터 진입하는 것을 방지할 수 있어, 그 출입구와 프로브의 간극에 있어서 건조된 연삭 부스러기가 프로브에 고착되는 일이 없다. 또, 프로브의 연직 방향에 있어서의 직동의 저항이 되지 않게 배수구를 형성하고, 물 저장부의 수압을 조정함으로써, 종래와 같은 프로브를 따르게 하는 에어막은 불필요해지고, 에어막에 의해 연삭 부스러기가 건조되어 프로브에 연삭 부스러기를 고착시켜 버리는 사태를 발생시키지 않는다.In the linear gauge according to the present invention, the water seal part has an annular water storage part in which water accumulates surrounding the side surface of the probe, and a ring-shaped drainage port through which water is drained from the lower end of the water storage part, so that the grinding wheel rotates. It is possible to prevent grinding waste liquid containing grinding waste to which centrifugal force is applied from entering the casing from the entrance and exit of the probe, so that dried grinding debris does not adhere to the probe in the gap between the entrance and exit and the probe. In addition, by forming a drainage port so that the probe does not have direct resistance in the vertical direction and adjusting the water pressure in the water reservoir, a conventional air film for carrying the probe is unnecessary, and the air film dries the grinding swarf to the probe. It does not cause a situation in which grinding swarf sticks to the surface.

도 1 은, 리니어 게이지의 일례를 나타내는 사시도이다.
도 2 는, 리니어 게이지의 일례를 나타내는 단면도이다.1 is a perspective view showing an example of a linear gauge.
Fig. 2 is a cross-sectional view showing an example of a linear gauge.

도 1 은 본 발명에 관련된 리니어 게이지 (1) 의 일례를 나타내는 전체 사시도이고, 도 2 는 리니어 게이지 (1) 의 단면도이다. 리니어 게이지 (1) 가 배치 형성되는 가공 장치는, 직동하는 척 테이블에 의해 연삭 지석을 구비하는 연삭 유닛에 대해 피측정물 (90) (도 2 참조) 을 위치하게 하는 것이 가능한 연삭 유닛이 1 축의 연삭 장치, 조 (粗) 연삭 유닛과 마무리 연삭 유닛을 구비하고, 회전하는 턴테이블로 피측정물 (90) 을 조연삭 유닛 또는 마무리 연삭 유닛의 하방에 위치하게 하는 것이 가능한 2 축의 연삭 장치, 연마 패드에 의해 피측정물 (90) 에 연마 가공을 실시하는 연마 장치, 또는 선회하는 절삭 바이트로 피측정물 (90) 을 평탄화하는 바이트 절삭 장치 등에 배치 형성된다.Fig. 1 is an overall perspective view showing an example of a linear gauge 1 related to the present invention, and Fig. 2 is a sectional view of the linear gauge 1. The processing apparatus in which the linear gauge 1 is arranged is a grinding unit capable of positioning a measurement object 90 (see Fig. 2) with respect to a grinding unit equipped with a grinding grindstone by means of a chuck table that operates linearly. A grinding device, a two-axis grinding device including a rough grinding unit and a finish grinding unit, and capable of positioning the measured object 90 below the rough grinding unit or the finish grinding unit with a rotating turntable, and a polishing pad As a result, the object to be measured 90 is disposed in a polishing device that polishes the object 90, or a cutting device that flattens the object to be measured 90 with a cutting bit that rotates.

도 2 에 나타내는 피측정물 (90) 은, 예를 들어, 실리콘 모재 등으로 이루어지는 원형의 반도체 웨이퍼이다. 또한, 피측정물 (90) 은 실리콘 이외에 갈륨비소, 사파이어, 질화갈륨, 세라믹스, 수지, 또는 실리콘 카바이드 등으로 구성되어 있어도 되고, 직사각형의 패키지 기판 등이어도 된다. 피측정물 (90) 의 상면 (900) 이, 도시되지 않은 연삭 지석 등에 의해 가공되는 피가공면이고, 또, 리니어 게이지 (1) 에 의해 높이가 측정되는 피측정면이 된다.An object to be measured 90 shown in FIG. 2 is, for example, a circular semiconductor wafer made of a silicon base material or the like. In addition, the object to be measured 90 may be made of gallium arsenide, sapphire, gallium nitride, ceramics, resin, silicon carbide or the like other than silicon, or may be a rectangular package substrate or the like. An upper surface 900 of the object to be measured 90 is a surface to be machined by a grinding stone or the like (not shown), and also serves as a surface to be measured whose height is measured by the linear gauge 1 .

도 2 에 나타내는 바와 같이, 피측정물 (90) 은 척 테이블 (93) 에 흡인 유지된 상태로 되어 있다. 평면에서 보았을 때 예를 들어 원형의 척 테이블 (93) 은, 그 일부를 도시하고 있고, 예를 들어, 포러스 부재 등으로 이루어지고 피측정물 (90) 을 흡인 유지하는 대략 평탄한 유지면 (930) 을 구비하고 있고, 유지면 (930) 은 도시되지 않은 진공 발생 장치 등의 흡인원에 연통하고 있다.As shown in FIG. 2 , the object to be measured 90 is suction-held by the chuck table 93 . In plan view, for example, a circular chuck table 93 shows a part thereof, and a substantially flat holding surface 930 made of, for example, a porous member and holding the object to be measured 90 by suction. , and the holding surface 930 communicates with a suction source such as a vacuum generator (not shown).

도 1, 도 2 에 나타내는 직동식의 리니어 게이지 (1) 는, 척 테이블 (93) 의 유지면 (930) 에 유지된 피측정물 (90) 의 상면 (900) 에 프로브 (2) 의 선단 (20) (하단) 을 접촉시켜, 피측정물 (90) 의 상면 높이를 측정한다. 또한, 리니어 게이지 (1) 에 의한 높이 측정 대상이 되는 피측정면은, 유지면 (930) 이어도 된다.The linear gauge 1 of the direct acting type shown in FIGS. 1 and 2 has the tip of the probe 2 ( 20) (lower end) is brought into contact to measure the height of the upper surface of the object to be measured 90. In addition, the surface to be measured as an object of height measurement by the linear gauge 1 may be the holding surface 930 .

도 2 에 나타내는 리니어 게이지 (1) 는, 유지면 (930) 에 대해 수직 방향 (Z 축 방향) 으로 연장되는 프로브 (2) 와, 프로브 (2) 를 유지면 (930) 에 수직 방향으로 자유롭게 이동할 수 있도록 지지하는 지지면 (30) 을 가짐과 함께 프로브 (2) 를 출입시키는 출입구 (36) 를 갖는 케이싱 (3) 과, 프로브 (2) 의 측면과 지지면 (30) 사이에 에어를 분출하는 분출부 (32) 와, 케이싱 (3) 의 상부에 형성되고 지지면 (30) 과 프로브 (2) 의 측면 사이에 연통하여 분출부 (32) 로부터 분출한 에어를 배기하는 배기로 (33) 와, 케이싱 (3) 의 하측에 배치 형성되고 프로브 (2) 의 측면을 둘러싸는 환상의 물 시일부 (5) 를 구비하고 있다.The linear gauge 1 shown in FIG. 2 includes a probe 2 extending in a vertical direction (Z-axis direction) with respect to a holding surface 930, and a probe 2 that freely moves in a direction perpendicular to the holding surface 930. A casing 3 having a support surface 30 supporting the probe 2 and an entrance 36 through which the probe 2 enters and exits, and blowing air between the side surface of the probe 2 and the support surface 30 An exhaust passage 33 formed on the upper part of the ejection part 32 and the casing 3 and communicating between the support surface 30 and the side surface of the probe 2 to exhaust the air ejected from the ejection part 32; , and an annular water seal portion 5 arranged on the lower side of the casing 3 and surrounding the side surface of the probe 2.

도 1, 도 2 에 나타내는 프로브 (2) 는, 예를 들어, 본 실시형태에 있어서는 외형이 원주상으로 형성되고 있고, 그 선단 (20) 이 반구상으로 둥글게 되어 있다. 프로브 (2) 의 상단측은, 예를 들어, 평판상의 연결판 (62) 의 하면측에 고정 너트에 의해 연결되어 있다. 그리고, 프로브 (2) 의 중상부의 측면은, 도 2 에 나타내는 케이싱 (3) 에 형성된 분출부 (32) 로부터 분출한 에어에 의해 둘러싸여 비접촉으로 지지된다.The probe 2 shown in FIGS. 1 and 2 has, for example, a cylindrical shape in the present embodiment, and its tip 20 is rounded in a hemispherical shape. The upper end side of the probe 2 is connected to the lower surface side of the flat connecting plate 62 with a fixing nut, for example. And, the side surface of the middle upper part of probe 2 is surrounded by the air blown out from the blowout part 32 formed in the casing 3 shown in FIG. 2, and is supported in a non-contact manner.

프로브 (2) 는, 예를 들어, 피스톤 실린더 (64) 에 의해 연결판 (62) 을 통하여 상승할 수 있고, 또한 자중으로 하강 가능하게 되어 있다. 피스톤 실린더 (64) 는, 내부에 피스톤 (640) 을 구비하고 기단측 (-Z 방향측) 에 바닥이 있는 실린더 케이스 (641) 와, 실린더 케이스 (641) 에 삽입되고 하단이 피스톤 (640) 에 장착된 로드 (642) 와, 실린더 케이스 (641) 의 내부에 에어를 유입하기 위한 제 1 에어 유입구 (643), 및 제 2 에어 유입구 (644) 를 적어도 구비하고 있다. 로드 (642) 의 상단측은, 연결판 (62) 의 하면에 접촉 가능하게 되어 있고, 실린더 케이스 (641) 의 기단측은, 케이싱 (3) 등을 그 내부에 수용하는 하우징 (12) 의 바닥판 (121) 의 상면에 고정되어 있다. 또한, 도 1 에 있어서는, 하우징 (12) 의 바닥판 (121) 만을 도시하고 있다.The probe 2 can ascend through the linking plate 62 by means of the piston cylinder 64, for example, and can descend with its own weight. The piston cylinder 64 has a cylinder case 641 having a piston 640 inside and having a bottom on the proximal end side (-Z direction side), inserted into the cylinder case 641, and having a lower end attached to the piston 640. At least a rod 642 attached thereto, a first air inlet 643 for introducing air into the cylinder case 641, and a second air inlet 644. The upper end side of the rod 642 can come into contact with the lower surface of the connecting plate 62, and the proximal end side of the cylinder case 641 is the bottom plate of the housing 12 accommodating the casing 3 etc. therein ( 121) is fixed to the upper surface. In addition, in FIG. 1, only the bottom plate 121 of the housing 12 is shown.

도 2 에 나타내는 바와 같이 제 1 에어 유입구 (643), 제 2 에어 유입구 (644) 에는, 각각 에어 공급관 (645), 에어 공급관 (646) 이 연통되어 있고, 에어 공급관 (645), 에어 공급관 (646) 은 솔레노이드 밸브 (647) 를 통하여 컴프레서 등으로 이루어지는 에어 공급원 (648) 에 연통되어 있다.As shown in FIG. 2 , an air supply pipe 645 and an air supply pipe 646 communicate with the first air inlet 643 and the second air inlet 644, respectively, and the air supply pipe 645 and the air supply pipe 646 ) communicates with an air supply source 648 composed of a compressor or the like via a solenoid valve 647.

도 2 에 나타내는 피스톤 실린더 (64) 에 의해, 피측정물 (90) 의 상면 (900) 으로부터 프로브 (2) 를 상승시켜 이간시키는 경우에는, 솔레노이드 밸브 (647) 가 에어 공급원 (648) 과 에어 공급관 (646) 을 연통시킨 상태에서, 에어 공급원 (648) 이 제 2 에어 유입구 (644) 로부터 실린더 케이스 (641) 내에 에어를 공급함으로써, 피스톤 (640) 을 상승시킨다. 그리고, 연결판 (62) 의 하면에 로드 (642) 를 접촉시키고 더욱 연결판 (62) 을 상승시킴으로써, 연결판 (62) 에 연결된 프로브 (2) 를 상승시킨다.When the probe 2 is raised and separated from the upper surface 900 of the object to be measured 90 by the piston cylinder 64 shown in FIG. 2 , the solenoid valve 647 connects the air supply source 648 and the air supply pipe With the 646 communicated, the air supply source 648 supplies air from the second air inlet 644 into the cylinder case 641 to raise the piston 640 . Then, the probe 2 connected to the connecting plate 62 is raised by bringing the rod 642 into contact with the lower surface of the connecting plate 62 and further raising the connecting plate 62 .

한편, 도 2 에 나타내는 피스톤 실린더 (64) 에 의해 프로브 (2) 를 피측정물 (90) 의 상면 (900) 에 접근시키기 위해서 하강시킬 때에는, 솔레노이드 밸브 (647) 가 에어 공급원 (648) 과 에어 공급관 (645) 을 연통시킨 상태에서, 에어 공급원 (648) 이 제 1 에어 유입구 (643) 로부터 실린더 케이스 (641) 내에 에어를 공급하고, 또, 제 2 에어 유입구 (644) 로부터 에어를 유출시킴으로써, 규제된 속도로 로드 (642) 를 하강시킴으로써, 프로브 (2) 의 자중에 의해 프로브 (2) 가 하강하는 속도를 제한하여, 피측정물 (90) 에 힘차게 하강한 프로브 (2) 가 접촉하여 상면 (900) 을 손상시켜 버리는 것을 방지한다.On the other hand, when the probe 2 is lowered by the piston cylinder 64 shown in FIG. 2 to bring it closer to the upper surface 900 of the measured object 90, the solenoid valve 647 connects the air supply source 648 and the air With the supply pipe 645 communicated, the air supply source 648 supplies air into the cylinder case 641 from the first air inlet 643, and air is discharged from the second air inlet 644, thereby By lowering the rod 642 at a regulated speed, the speed at which the probe 2 descends is limited by the weight of the probe 2, so that the probe 2, which has descended vigorously on the object to be measured 90, contacts the upper surface 900 is prevented from being damaged and discarded.

케이싱 (3) 은, 하우징 (12) 의 바닥판 (121) 의 상면에 고정되어 있고, 프로브 (2) 의 형상에 대응하여 프로브 (2) 를 상하동 가능하게 수용하기 위한 원주상의 세로 구멍이 Z 축 방향으로 관통 형성되어 있다. 그 세로 구멍의 직경은, 프로브 (2) 의 직경보다 약간 크게 설정되어 있다. 그리고, 프로브 (2) 가 삽입 통과된 상태의 그 세로 구멍의 상단이, 케이싱 (3) 의 상부에 형성되어 지지면 (30) 과 프로브 (2) 의 측면 사이에 연통하여 분출부 (32) 로부터 프로브 (2) 의 측면을 향하여 분출한 에어를 배기하는 배기로 (33) 가 된다.The casing 3 is fixed to the upper surface of the bottom plate 121 of the housing 12, and a circumferential longitudinal hole for accommodating the probe 2 vertically is Z corresponding to the shape of the probe 2. It is formed through through in the axial direction. The diameter of the vertical hole is set slightly larger than the diameter of the probe 2. Then, the upper end of the vertical hole in the state where the probe 2 is inserted is formed on the upper part of the casing 3 and communicates between the support surface 30 and the side surface of the probe 2, and from the ejection part 32 It becomes an exhaust path 33 for exhausting the air ejected toward the side of the probe 2.

도 2 에 나타내는 케이싱 (3) 의 바닥부에 형성된 출입구 (36) 및 출입구 (36) 와 연통하는 바닥판 (121) 의 출입구 (123) 에서는, 프로브 (2) 의 주로 하부가 하방으로 돌출되어 있다. 케이싱 (3) 은, 프로브 (2) 의 중상부의 측면으로부터 작은 간극을 형성하여 이간되어 그 측면을 둘러싸는 지지면 (30) 을 구비하고 있고, 지지면 (30) 에 복수의 분출구로 이루어지는 분출부 (32) 가 형성되어 있다. 또, 케이싱 (3) 의 외측면에는 에어 공급원 (648) 에 배관 (356) 을 통하여 연통하는 에어 공급구 (35) 가 형성되고 있고, 에어 공급구 (35) 와 분출부 (32) 의 각 분출구가 케이싱 (3) 내부에 형성된 내부 유로 (323) 에 의해 연통되어 있다.In the entrance 36 formed at the bottom of the casing 3 shown in FIG. 2 and the entrance 123 of the bottom plate 121 communicating with the entrance 36, the main lower part of the probe 2 protrudes downward. . The casing 3 is provided with a support surface 30 spaced from the side surface of the upper middle portion of the probe 2 by forming a small gap therebetween and surrounding the side surface, and a jetting portion composed of a plurality of jet ports on the support surface 30. (32) is formed. In addition, an air supply port 35 communicating with the air supply source 648 via a pipe 356 is formed on the outer surface of the casing 3, and each air outlet of the air supply port 35 and the blower portion 32 is formed. are communicated by an internal flow path 323 formed inside the casing 3.

예를 들어, 도 1, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 리니어 게이지 (1) 는, 원주상의 프로브 (2) 가 Z 축을 축으로 하여 회전해 버리는 것을 규제하는 회전 규제부 (17) 를 구비하고 있다. 회전 규제부 (17) 는, 예를 들어, 프로브 (2) 가 연결된 연결판 (62) 의 하면에 접속되고 프로브 (2) 의 연장 방향 (Z 축 방향) 으로 연장되는 상하동 자석 (170) 과, 예를 들어 케이싱 (3) 의 측면에 장착되고 프로브 (2) 의 축 방향 (+Z 방향) 으로 연장되고 상하동 자석 (170) 을 간극을 형성하여 사이에 두도록 하여 배치 형성된 2 개의 고정 자석 (173) 및 고정 자석 (174) 을 구비하고, 2 개의 고정 자석 (173) 및 고정 자석 (174) 과 상하동 자석 (170) 사이에는, 프로브 (2) 의 승강 방향 (Z 축 방향) 에 직교하는 방향에 있어서 반발하는 힘이 작용하고 있다. 즉, 고정 자석 (173) 및 고정 자석 (174) 이 갖는 자계에 반발하는 방향으로 상하동 자석 (170) 의 자계를 방향 부여하고 있다.For example, as shown in FIGS. 1 and 2 , the linear gauge 1 is provided with a rotation control portion 17 that regulates rotation of the cylindrical probe 2 about the Z-axis as an axis. . The rotation control unit 17 includes, for example, a vertically moving magnet 170 connected to the lower surface of the connecting plate 62 to which the probe 2 is connected and extending in the extending direction of the probe 2 (Z-axis direction); For example, two fixed magnets 173 mounted on the side of the casing 3 and extending in the axial direction (+Z direction) of the probe 2 and arranged by placing the vertically moving magnet 170 with a gap therebetween and a fixed magnet 174, and between the two fixed magnets 173 and the fixed magnet 174 and the vertical moving magnet 170, in a direction orthogonal to the elevation direction (Z-axis direction) of the probe 2. A repulsive force is at work. That is, the magnetic field of the vertically moving magnet 170 is directed in a direction that opposes the magnetic field of the stationary magnet 173 and the stationary magnet 174.

이 반발하는 힘에 의해, 고정 자석 (173) 및 고정 자석 (174) 과 상하동 자석 (170) 의 수평 방향의 거리가 일정하게 유지되어, 상하동 자석 (170) 의 방향이 바뀌어 버리는 일이 없다. 따라서, 방향이 불변인 상하동 자석 (170) 이 연결판 (62) 을 통하여 프로브 (2) 에 연결되어 있기 때문에, 프로브 (2) 가 원주상으로 형성되어 있어도, 프로브 (2) 의 회전 방향의 움직임을 규제할 수 있다. 또한, 도 2 에 있어서는, 설명을 알기 쉽게 하기 위해서, 2 개의 고정 자석 (173) 및 고정 자석 (174) 을 케이싱 (3) 으로부터 떼어서 나타내고 있다.Due to this repulsive force, the distance in the horizontal direction between the stationary magnets 173 and 174 and the vertical movement magnet 170 is kept constant, and the direction of the vertical movement magnet 170 does not change. Therefore, since the vertically moving magnet 170 whose direction is invariable is connected to the probe 2 via the connection plate 62, even if the probe 2 is formed in a circumferential shape, the movement of the probe 2 in the rotational direction can regulate. 2 shows two fixed magnets 173 and 174 separated from the casing 3 for easy explanation.

또한, 고정 자석 (173) 및 고정 자석 (174) 은, 하우징 (12) 의 바닥판 (121) 에서 Z 축 방향으로 세워 형성하고 있어도 된다.In addition, the stationary magnet 173 and the stationary magnet 174 may be formed standing upright in the Z-axis direction on the bottom plate 121 of the housing 12 .

또한, 리니어 게이지 (1) 는, 회전 규제부 (17) 를 구비하지 않아도 된다. 이 경우에는, 예를 들어 프로브 (2) 의 케이싱 (3) 에 삽입 통과되는 중상부의 형상은, 원주상에 한정되지 않고, 회전하지 않는 형상, 즉 원주가 아닌 형상이어도 된다. 따라서, 다각주여도 되고, 타원주여도 된다. 또, 일면만이 평평한 면으로 형성되고, 다른 면이 곡면으로 형성된 주상이어도 된다. 이것에 대응하여, 케이싱 (3) 의 세로 구멍도, 프로브 (2) 와 동일 형상으로 형성되어 있으면 된다.In addition, the linear gauge 1 does not need to include the rotation regulating portion 17 . In this case, for example, the shape of the middle upper portion inserted through the casing 3 of the probe 2 is not limited to a circumferential shape, and may be a non-rotating shape, that is, a shape other than a circumferential shape. Therefore, it may be a polygonal column or an elliptical column. Further, it may be a columnar shape in which only one surface is formed as a flat surface and the other surface is formed as a curved surface. Corresponding to this, the vertical hole of the casing 3 should just be formed in the same shape as the probe 2.

도 1, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 연결판 (62) 의 하면의 한 모서리에는, 스케일 (63) 이 배치 형성되어 있다. 스케일 (63) 은, 연결판 (62) 의 하면에 그 상단이 고정되어 있고 프로브 (2) 의 연장 방향 (Z 축 방향) 과 평행하게 -Z 방향을 향하여 연장된다. 그리고, 스케일 (63) 의 눈금에 대향하도록, 스케일 (63) 의 눈금을 판독하는 판독부 (635) 가 하우징 (12) 내에 배치 형성되어 있다. 예를 들어, 판독부 (635) 는, 스케일 (63) 의 눈금의 반사광을 판독하는 광학식의 것이고, 판독부 (635) 의 판독값에 의해, 프로브 (2) 의 높이를 인식할 수 있다.As shown in FIGS. 1 and 2 , a scale 63 is disposed at one corner of the lower surface of the connecting plate 62 . The scale 63 has its upper end fixed to the lower surface of the connecting plate 62 and extends in the -Z direction parallel to the extending direction of the probe 2 (Z-axis direction). Then, a reading unit 635 for reading the graduations of the scale 63 is arranged in the housing 12 so as to face the graduations of the scale 63 . For example, the reading unit 635 is an optical type that reads the reflected light of the scale 63, and can recognize the height of the probe 2 based on the read value of the reading unit 635.

도 2 에 나타내는 하우징 (12) 은, 본 실시형태에 있어서는, 수평면 (X 축 Y 축 평면) 에 평행한 바닥판 (121) 과, 바닥판 (121) 의 상방을 덮는 커버 (122) (도 1 에는 도시 생략) 를 구비하고 있고, 커버 (122) 내에 케이싱 (3), 피스톤 실린더 (64), 및 스케일 (63) 등이 수용되어 있고, 연삭시에 발생하는 연삭 부스러기를 포함한 연삭수 분무가 이들 구성 요소에 부착되어 버리는 일이 없게 되어 있다.In the present embodiment, the housing 12 shown in FIG. 2 includes a bottom plate 121 parallel to a horizontal plane (X-axis and Y-axis planes) and a cover 122 covering the top of the bottom plate 121 (FIG. 1 (not shown) is provided, the casing 3, the piston cylinder 64, the scale 63, etc. are accommodated in the cover 122, and the grinding water spray including the grinding debris generated during grinding is It is designed not to be attached to the component.

도 2 에 나타내는 바와 같이, 케이싱 (3) 의 하방에서 커버 (122) 의 바닥판 (121) 의 하면에는, 물 시일부 (5) 가 배치 형성되어 있다. 물 시일부 (5) 는, 프로브 (2) 의 측면을 둘러싸서 물이 고이는 평면에서 보았을 때 환상의 물 저장부 (50) 와, 물 저장부 (50) 의 하단으로부터 물을 배수하는 배수구 (52) 를 구비하고 있다.As shown in FIG. 2, below the casing 3, the water seal part 5 is arrange|positioned on the lower surface of the bottom plate 121 of the cover 122. As shown in FIG. The water seal part 5 surrounds the side surface of the probe 2 and includes an annular water storage part 50 when viewed from a plane in which water accumulates, and a drain hole 52 for draining water from the lower end of the water storage part 50. ) is provided.

물 저장부 (50) 는, 대략 원통상의 원통 부재이고, 그 상면이 바닥판 (121) 의 하면에 도시되지 않은 볼트 등에 의해 고정되어 있다. 물 저장부 (50) 의 중앙을 두께 방향으로 관통하는 원형의 관통공의 상단측은, 케이싱 (3) 의 출입구 (36) 및 바닥판 (121) 의 출입구 (123) 와 중심을 합치시키고 있고, 예를 들어, 케이싱 (3) 의 출입구 (36) 및 바닥판 (121) 의 출입구 (123) 와 대략 동 직경으로 되어 있다.The water reservoir 50 is a substantially cylindrical member, and the upper surface thereof is fixed to the lower surface of the bottom plate 121 by bolts or the like not shown. The upper end side of the circular through hole penetrating the center of the water reservoir 50 in the thickness direction coincides with the center of the entrance 36 of the casing 3 and the entrance 123 of the bottom plate 121. For example, the entrance 36 of the casing 3 and the entrance 123 of the bottom plate 121 have approximately the same diameter.

물 저장부 (50) 의 중앙을 두께 방향으로 관통하는 관통공의 Z 축 방향에 있어서의 중간 부위는 확경되어 있고, 그 확경된 부위는 물이 고이는 물 저장부실 (500) 로 되어 있다. 그리고, 물 저장부실 (500) 에는, 물 저장부 (50) 의 외측면을 관통하는 물 공급구 (501) 가 연통되어 있다. 물 공급구 (501) 에는, 도시되지 않은 수지 튜브나 이음새 등을 통하여, 펌프 등으로 구성되고 물 (예를 들어, 순수) 을 송출 가능한 물 공급원 (509) 이 연통되어 있다.The middle part in the Z-axis direction of the through-hole penetrating the center of the water reservoir 50 in the thickness direction is enlarged, and the enlarged portion becomes the water storage chamber 500 in which water accumulates. A water supply port 501 penetrating the outer surface of the water storage unit 50 communicates with the water storage unit chamber 500 . A water supply source 509 composed of a pump or the like and capable of supplying water (for example, pure water) is communicated with the water supply port 501 through a resin tube, joint, etc. (not shown).

본 실시형태에 있어서는, 물 저장부 (50) 에 형성된 관통공의 하단인 배수구 (52) 는, 프로브 (2) 가 삽입 통과된 상태에 있어서 평면에서 보았을 때 환상으로 형성되고, 물 저장부실 (500) 에 연통하고, 물 저장부실 (500) 보다 축경되어 있다. 그리고, 배수구 (52) 로부터 배수된 물은, 프로브 (2) 의 배수구 (52) 로부터 하방으로 돌출된 부분의 측면 전체면을 덮도록 프로브 (2) 의 선단 (20) 을 향하여 유하한다.In the present embodiment, the drain hole 52, which is the lower end of the through hole formed in the water storage section 50, is formed in an annular shape when viewed from a plan view in a state where the probe 2 is inserted, and the water storage section 500 ), and has a reduced diameter than the water storage chamber 500. Then, the water drained from the drain port 52 flows toward the tip 20 of the probe 2 so as to cover the entire surface of the side surface of the portion protruding downward from the drain port 52 of the probe 2.

이하에, 도 1, 도 2 를 사용하여 설명해 온 리니어 게이지 (1) 를 사용하여, 도 2 에 나타내는 척 테이블 (93) 에 흡인 유지되고, 예를 들어 척 테이블 (93) 과 함께 Z 축을 축으로 하여 회전하고 있고, 또한, 도시되지 않은 연삭 지석에 의해 연삭수가 공급되면서 연삭되어 있는 상태의 피측정물 (90) 의 상면 (900) 의 높이를 측정하는 경우에 대해 설명한다.Using the linear gauge 1 explained below with reference to FIGS. 1 and 2 , it is suction-held by the chuck table 93 shown in FIG. 2 , for example, together with the chuck table 93 on the Z axis A case of measuring the height of the upper surface 900 of the measured object 90 in a state of being rotated and being ground while grinding water is supplied by a grinding wheel (not shown) will be described.

도 2 에 나타내는 피스톤 실린더 (64) 가, 프로브 (2) 를 피측정물 (90) 의 상면 (900) 에 접근하는 -Z 방향으로 하강시킨다. 구체적으로는, 솔레노이드 밸브 (647) 의 공급 포트가 에어 공급관 (645) 에 연통한 상태에서, 에어 공급원 (648) 이 제 1 에어 유입구 (643) 로부터 실린더 케이스 (641) 내에 에어를 공급함으로써, 제 2 에어 유입구 (644) 로부터 배기되는 에어가 소정의 유량으로 대기로 배기되고, 규제된 속도로 실린더 케이스 (641) 의 내부에 있어서 피스톤 (640) 을 하강시킨다. 이로써, 프로브 (2) 의 자중에 의해 하강하고자 하는 프로브 (2) 의 하강 속도를 규제된 속도로 제한하여, 프로브 (2) 의 선단 (20) 이 피측정물 (90) 에 접촉할 때의 충격을 작게 한다.The piston cylinder 64 shown in FIG. 2 lowers the probe 2 in the -Z direction approaching the upper surface 900 of the measurement target 90 . Specifically, in a state where the supply port of the solenoid valve 647 communicates with the air supply pipe 645, the air supply source 648 supplies air from the first air inlet 643 into the cylinder case 641, 2 Air exhausted from the air inlet 644 is exhausted to the atmosphere at a predetermined flow rate, and the piston 640 is lowered inside the cylinder case 641 at a regulated speed. In this way, by limiting the descending speed of the probe 2 to be descended by the weight of the probe 2 to the regulated speed, the shock when the tip 20 of the probe 2 contacts the object to be measured 90 make it smaller

이 때, 에어 공급원 (648) 으로부터 케이싱 (3) 내에 에어를 공급하고, 분출부 (32) 로부터 프로브 (2) 의 측면을 향하여 에어를 분사시키고, 케이싱 (3) 으로 프로브 (2) 를 비접촉으로 지지한다. 또, 회전 규제부 (17) 에 의해, 프로브 (2) 의 회전이 규제된다. 피측정물 (90) 의 상면 (900) 의 높이 측정 중은, 후술하는 물 시일부 (5) 의 물 저장부실 (500) 에 물이 고여 있기 때문에, 분출부 (32) 로부터 프로브 (2) 의 측면과 케이싱 (3) 의 지지면 (30) 사이에 공급된 에어는, 케이싱 (3) 내를 상승해 가고, 배기로 (33) 로부터 케이싱 (3) 밖의 커버 (122) 내로 배기된다. 그리고, 커버 (122) 내에 배출된 에어는, 커버 (122) 의 상판에 형성된 배기구 (124) 로부터 대기로 배기된다. 또한, 배기구 (124) 에 스로틀 밸브 (125) 를 배치하고, 스로틀 밸브 (125) 로 밀폐된 커버 (122) 내의 에어를 배기구 (124) 로부터 배기하는 배기량을 조정하도록 해도 된다. 이 스로틀 밸브 (125) 의 조정에 의해, 프로브 (2) 를 피측정물 (90) 에 가압하는 힘의 크기를 조정하도록 해도 된다.At this time, air is supplied into the casing 3 from the air supply source 648, and the air is blown toward the side of the probe 2 from the ejection portion 32, and the probe 2 is moved through the casing 3 in a non-contact manner. support Further, the rotation of the probe 2 is regulated by the rotation regulating portion 17 . During the measurement of the height of the upper surface 900 of the object to be measured 90, since water is accumulated in the water storage chamber 500 of the water seal part 5 described later, the ejection part 32 of the probe 2 Air supplied between the side surface and the support surface 30 of the casing 3 rises inside the casing 3 and is exhausted from the exhaust passage 33 to the inside of the cover 122 outside the casing 3 . Then, the air discharged inside the cover 122 is exhausted to the atmosphere through the exhaust port 124 formed on the upper plate of the cover 122 . Alternatively, a throttle valve 125 may be disposed at the exhaust port 124 to adjust the amount of exhaust air in the cover 122 sealed with the throttle valve 125 is exhausted from the exhaust port 124 . By adjusting the throttle valve 125, the magnitude of the force pressing the probe 2 against the measurement target object 90 may be adjusted.

프로브 (2) 의 하강에 의해 피측정물 (90) 의 상면 (900) 에 선단 (20) 이 접촉하면, 스케일 (63) 의 눈금을 판독부 (635) 가 판독한다. 프로브 (2) 가 피측정물 (90) 의 연삭에 의해 감소되는 두께의 변화, 바꾸어 말하면 피측정물 (90) 의 상면 (900) 의 변위에 따라 자중에 의해 하강하기 때문에, 판독부 (635) 가 변화하는 눈금을 순차 판독해 감으로써, 리니어 게이지 (1) 에 의해 피측정물 (90) 의 상면 (900) 이 내려가는 높이를 순차 측정해 갈 수 있다.When the tip 20 contacts the upper surface 900 of the object to be measured 90 as the probe 2 descends, the reading unit 635 reads the scale of the scale 63. Since the probe 2 is lowered by its own weight according to the change in the thickness of the object to be measured 90 reduced by grinding, in other words, the displacement of the upper surface 900 of the object to be measured 90, the reading unit 635 By sequentially reading the scales at which , the linear gauge 1 can sequentially measure the height at which the upper surface 900 of the object to be measured 90 descends.

또, 도 2 에 나타내는 물 공급원 (509) 으로부터 물 (L1) 이 송출되고, 그 물 (L1) 은, 물 공급구 (501) 를 지나, 물 저장부 (50) 내의 물 저장부실 (500) 내에 일시적으로 고인다. 물 저장부실 (500) 내에 물 (L1) 이 소정량 고이고, 이 고인 물 (L1) 이 물 시일을 형성한다. 도시되지 않은 연삭 지석과 피측정물 (90) 의 접촉 부위에는 도시되지 않은 노즐이나 연삭 유닛 내부를 통과하여 연삭수가 공급되어 있고, 연삭 부스러기를 포함하여 상면 (900) 상에서 튀는 연삭 폐액 (L2) 이 발생한다. 또, 회전하는 연삭 지석과 척 테이블 (93) 에 의해 흡인 유지되어 회전하는 피측정물 (90) 에 의해, 안개상의 연삭수 분무가 발생한다. 이 안개상으로 된 액체에는, 매우 미세한 연삭 부스러기가 포함되어 있는 경우도 있다. 그리고, 물 저장부실 (500) 내에 형성된 물 시일에 의해, 이들 연삭 폐액 (L2) 이나 연삭수 분무가, 배수구 (52) 로부터 바닥판 (121) 의 출입구 (123) 및 케이싱 (3) 의 출입구 (36) 에 진입해 버리는 것을 방지할 수 있다.Further, water L1 is sent out from the water supply source 509 shown in FIG. 2 , and the water L1 passes through the water supply port 501 and into the water storage section 500 in the water storage unit 50. Suffer temporarily. A predetermined amount of water L1 is accumulated in the water storage chamber 500, and the accumulated water L1 forms a water seal. Grinding water is supplied to the contact portion of the grinding stone and the object to be measured 90 (not shown) by passing through a nozzle (not shown) or the inside of the grinding unit, and grinding waste liquid (L2) splashing on the upper surface (900) including grinding debris is Occurs. In addition, mist-like grinding water spray is generated by the object to be measured 90 that rotates while being suction-held by the rotating grinding wheel and the chuck table 93 . This misty liquid may contain very fine grinding debris. And, by the water seal formed in the water storage chamber 500, these grinding waste liquid L2 and grinding water spray pass from the drainage port 52 to the entrance 123 of the bottom plate 121 and the entrance and exit of the casing 3 ( 36) can be prevented.

물 저장부실 (500) 내의 수압이 상승하여, 배수구 (52) 로부터 물 (L1) 이 하방을 향하여 배수되어 간다. 또한, 물 공급원 (509) 으로부터 물 (L1) 이 단위 시간당 소정량 계속 공급됨으로써, 물 (L1) 은 물 저장부실 (500) 내에 항상 고여, 물 시일의 형성이 계속된다.The water pressure in the water storage chamber 500 rises, and the water L1 drains downward through the drain port 52 . In addition, by continuously supplying a predetermined amount of water L1 per unit time from the water supply source 509, the water L1 always accumulates in the water storage chamber 500, and the formation of a water seal continues.

프로브 (2) 를 둘러싸는 환상의 배수구 (52) 로부터 배수된 물 (L1) 이, 프로브 (2) 의 배수구 (52) 로부터 하방으로 돌출된 부분의 측면 전체면을 덮는 수막이 되면서 선단 (20) 을 향하여 유하한다. 그 수막에 의해 프로브 (2) 에 연삭 부스러기가 부착되지 않게 보호가 이루어진다. 즉, 연삭 부스러기를 포함하는 연삭 분무가 배수구 (52) 로부터 하방으로 돌출된 프로브 (2) 의 주위에 흩날리고 있어도, 프로브 (2) 의 측면에 부착되어 건조되어 연삭 부스러기가 고착되는 것이 방지된다. 그 수막의 두께 등은, 물 공급원 (509) 으로부터 물 저장부 (50) 에 공급하는 물의 양을 조정함으로써 조정 가능하게 되어 있다.The water L1 drained from the annular drainage port 52 surrounding the probe 2 becomes a water film covering the entire side surface of the portion protruding downward from the drainage port 52 of the probe 2, and the distal end 20 flow towards The water film protects the probe 2 from adhering to grinding debris. That is, even if the abrasive spray containing grinding swarf is scattered around the probe 2 protruding downward from the drain hole 52, it is prevented from adhering to the side surface of the probe 2, drying, and adhering of the grinding swarf. The thickness of the water film and the like can be adjusted by adjusting the amount of water supplied from the water supply source 509 to the water storage unit 50 .

상기와 같이, 본 발명에 관련된 리니어 게이지 (1) 는, 물 시일부 (5) 가, 프로브 (2) 의 측면을 둘러싸서 물 (L1) 이 고이는 환상의 물 저장부 (50) 와, 물 저장부 (50) 의 하단으로부터 물 (L1) 을 배수하는 배수구 (52) 를 구비하고 있음으로써, 도시되지 않은 회전하는 연삭 지석의 원심력이 부여된 연삭 부스러기를 포함하는 연삭 폐액이 케이싱 (3) 내에 프로브 (2) 의 출입구 (36) 로부터 진입하는 것을 방지 가능해져, 출입구 (36) 와 프로브 (2) 의 간극에 있어서 건조된 연삭 부스러기가 프로브 (2) 에 고착되는 일이 없다. 또, 프로브 (2) 의 연직 방향 (Z 축 방향) 에 있어서의 직동의 저항이 되지 않게 배수구 (52) 를 형성하고, 물 저장부 (50) 의 수압을 조정함으로써 프로브 (2) 의 배수구 (52) 로부터 하방으로 돌출된 부분의 측면 전체면을 덮는 수막을 형성하여, 종래와 같은 프로브 (2) 를 따르게 하는 에어막은 불필요해지고, 에어막에 의해 연삭 부스러기가 건조되어 프로브 (2) 에 연삭 부스러기를 고착시켜 버린다는 사태를 발생시키지 않는다.As described above, the linear gauge 1 related to the present invention includes a water seal part 5 surrounding the side surface of the probe 2 and an annular water storage part 50 in which water L1 accumulates, and water storage. By providing a drainage port 52 for draining the water L1 from the lower end of the section 50, the grinding waste liquid containing grinding swarf to which the centrifugal force of a rotating grinding wheel (not shown) is applied is transferred to the probe in the casing 3. Entry from the entrance 36 of (2) can be prevented, and dried grinding shavings do not adhere to the probe 2 in the gap between the entrance 36 and the probe 2. In addition, the drain port 52 is formed so that the probe 2 does not have direct resistance in the vertical direction (Z-axis direction), and the water pressure of the water reservoir 50 is adjusted to reduce the drain port 52 of the probe 2. ) to form a water film covering the entire side surface of the part protruding downward, so that a conventional air film that follows the probe 2 is unnecessary, and the air film dries the grinding debris to remove the grinding debris from the probe 2. It does not cause a situation of sticking.

본 발명에 관련된 리니어 게이지 (1) 는 상기 실시형태에 한정되지 않고, 그 기술적 사상의 범위 내에 있어서 여러 가지 상이한 형태로 실시되어도 되는 것은 말할 필요도 없다. 또, 리니어 게이지 (1) 를 사용하여 피측정물 (90) 의 상면 (900) 의 높이를 측정하는 공정에 대해서도, 본 발명의 효과를 발휘할 수 있는 범위 내에서 적절히 변경 가능하다.It goes without saying that the linear gauge 1 related to the present invention is not limited to the above embodiment, and may be implemented in various different forms within the scope of the technical idea. Also, the step of measuring the height of the upper surface 900 of the object to be measured 90 using the linear gauge 1 can be appropriately changed within the range in which the effects of the present invention can be exhibited.

1 : 리니어 게이지
12 : 하우징
121 : 바닥판
122 : 커버
123 : 바닥판의 출입구
124 : 배기구
125 : 스로틀 밸브
17 : 회전 규제부
170 : 상하동 자석
173, 174 : 고정 자석
2 : 프로브
20 : 프로브의 선단
3 : 케이싱
30 : 지지면
32 : 분출부
33 : 배기로
35 : 에어 공급구
356 : 배관
36 : 케이싱의 출입구
5 : 물 시일부
50 : 물 저장부
500 : 물 저장부실
501 : 물 공급구
509 : 물 공급원
52 : 배수구
62 : 연결판
63 : 스케일
635 : 판독부
64 : 피스톤 실린더
640 : 피스톤
641 : 실린더 케이스
642 : 로드
643 : 제 1 에어 유입구
644 : 제 2 에어 유입구
645, 646 : 에어 공급관
647 : 솔레노이드 밸브
648 : 에어 공급원
90 : 피측정물
900 : 피측정물의 상면
93 : 척 테이블
930 : 유지면1 : Linear Gauge
12: housing
121: bottom plate
122: cover
123: entrance of the bottom plate
124: exhaust port
125: throttle valve
17: rotation regulating unit
170: up and down magnet
173, 174: fixed magnet
2 : Probe
20: the tip of the probe
3 : Casing
30: support surface
32: ejection part
33: exhaust path
35: air supply port
356: piping
36: entrance of casing
5: water seal part
50: water storage unit
500: Poor water storage
501: water supply port
509: water source
52: drain
62: connecting plate
63: Scale
635: reading unit
64: piston cylinder
640: piston
641: cylinder case
642: load
643: first air inlet
644: second air inlet
645, 646: air supply pipe
647: solenoid valve
648: air supply source
90: object to be measured
900: upper surface of the object to be measured
93: chuck table
930: maintenance surface

Claims

A linear gauge that measures the height of the upper surface of the object to be measured by bringing its tip into contact with the upper surface of the object to be measured held on the holding surface of the chuck table,
A casing having a probe extending in a vertical direction with respect to the holding surface, a supporting surface for supporting the probe so as to move freely in a direction perpendicular to the holding surface, and an entrance through which the probe is taken in and out, and a side surface of the probe and a blowing part for ejecting air between the supporting surface, an exhaust passage formed on the upper part of the casing and communicating between the supporting surface and the side surface of the probe to exhaust the air ejected from the blowing part, and the casing It is disposed on the lower side of the probe and has an annular water seal part surrounding the side of the probe,
The water seal part has an annular water storage part surrounding the side surface of the probe and storing water, and a drain hole for draining the water from the lower end of the water storage part,
A linear gauge that blocks entry of fluid from the outside into the inlet by the water seal portion.

According to claim 1,
The linear gauge according to claim 1 , wherein the drain hole is formed in an annular shape and causes water drained from the drain hole to flow down the front end of the probe so as to cover the entire side surface of a portion of the probe protruding downward from the drain hole.