KR20230069468A

KR20230069468A - 피부 미용 시스템 및 방법

Info

Publication number: KR20230069468A
Application number: KR1020210155530A
Authority: KR
Inventors: 원철희
Original assignee: (주)메디코슨
Priority date: 2021-11-12
Filing date: 2021-11-12
Publication date: 2023-05-19

Abstract

개시된 본 발명의 피부 미용 시스템은, 핸드피스 본체의 일단에 구비되는 고강도 집속 초음파(HIFU) 조사면이 구비되고, 핸드피스 본체 내에 고강도 집속 초음파를 발생시켜 조사면을 통하여 피부에 고강도 집속 초음파를 조사하는 고강도 집속 초음파 트랜스듀서를 포함하는 HIFU 유닛, 조사면을 중앙에 두고 바이폴라 전극이 배열되어 고주파(RF)를 발진하는 적어도 두 쌍 이상의 RF 유닛, 및 HIFU 유닛을 구동시켜 피부 심층에 열스팟(S)을 형성시킨 후, 복수의 RF 유닛 중 적어도 하나의 RF 유닛을 구동시켜 열스팟을 중심으로 일정 영역에 열 부위(R)를 형성시키는 제어부를 포함한다. 이로써, 피부 심층 시술 부위에 HIFU를 조사하면 60~70℃ 의 마찰열이 발생되는 열스팟(S)이 형성되는데 발생된 열에 의해 피부의 전류 저항이 감소되게 되어 후속적으로 구동되는 고주파 발진에 의한 전류가 전류 저항이 적은 즉, 전도도가 높은 열스팟(S) 측으로 유도되어 열스팟을 중심으로 일정 영역에 열 부위(R)를 형성시켜 고주파 시술 효과를 높일 수 있게 된다.

Description

피부 미용 시스템 및 방법 {SYSTEM AND METHOD FOR COSMETIC AND MEDICAL TREATMENT}

본 발명은 피부 미용 시스템 및 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 고강도 집속 초음파 및 고주파 방식을 겸용하며 피부 미용이나 치료 효과를 극대화시킬 수 있는 피부 미용 시스템 및 방법에 관한 것이다.

최근에 피부 미용에 대한 관심이 증가하면서 피부 미용이나 시술을 위한 다양한 장치나 방법이 제시되면서, 예를 들어 페이스 리프팅(face lifting), 스킨 타이트닝(skin tightening) 시술 등에 이용되고 있다.

여러 방법 중 시술 효과가 좋으면서 시술의 간편함으로 인해 비침습적 시술방식이 많이 이용되고 있으며, 특히 고주파(RF)를 이용하는 방식이나 고강도 집속 초음파(HIFU)를 이용하는 방식이 많이 이용되고 있다.

고주파(RF)를 이용한 방식은 피부에 고주파를 인가하여 피부 심부에 열을 발생시켜 시술하는 방식으로, 다른 주파수 전류와 다르게 감각신경을 자극하지 않아 피시술자가 불편함을 느끼지 않으면서 피부 조직 안의 특정 부위를 가열하는 방식이다.

고주파(RF)의 전기에너지가 피부 조직에 가해지면 전류의 방향이 바뀔 때마다 피부 조직을 구성하는 분자들이 진동하면서 서로 마찰되면서 생체열이 발생되는데, 피부의 재생, 리프팅 및 타이트닝 효과를 볼 수 있다.

한편, 고강도 집속 초음파(HIFU)를 이용한 방식은 고강도의 집속 초음파를 피부 심부의 한 곳에 모을 때 초점(스팟)에서 발생하는 고열을 이용해 조직을 태우게 되는데 이때 재생되면서 리프팅이나 타이트닝 효과를 볼 수 있다.

이러한 고강도 집속 초음파는 집중되는 스팟에서만 열이 발생되므로 다른 조직에 영향을 주지 않으면서 정밀하게 시술이 가능한 장점이 있다.

최근에는 이러한 RF를 이용하는 방식 및 고강도 집속 초음파를 이용하는 방식을 겸용하는 장치가 제시되고 있는데, 하나의 핸드피스로 RF를 이용하는 방식으로 시술 하거나 고강도 집속 초음파를 이용하는 방식으로 시술할 수 있다.

그러나, 이는 양 방식을 단순 조합하여 각각 개별적으로 작동하는 방식으로 하나의 핸드피스로 RF 방식 또는 고강도 집속 초음파(HIFU) 방식을 적용한다는 것으로, 양 방식을 병용하여 개선된 효과를 가지는 구성은 제시되고 있지 않다.

KR 10-2004-0047548 A "고주파 마사지기" KR 10-2056014 B1 "HIFU 스킨케어 디바이스용 카트리지"

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하여 도출된 것으로서, 고주파(RF) 방식 및 고강도 집속 초음파(HIFU) 방식을 조합하여 시술의 효과를 높이면서 시술후 별도의 장치없이 시술 결과를 판단할 수 있는 피부 미용 시스템 및 방법을 제공하는데 목적이 있다.

개시된 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 피부 미용 시스템은, 핸드피스 본체의 일단에 구비되는 고강도 집속 초음파(HIFU) 조사면이 구비되고, 상기 핸드피스 본체 내에 고강도 집속 초음파를 발생시켜 상가 조사면을 통하여 피부에 고강도 집속 초음파를 조사하는 고강도 집속 초음파 트랜스듀서를 포함하는 HIFU 유닛; 상기 조사면을 중앙에 두고 바이폴라 전극이 배열되어 고주파(RF)를 발진하는 적어도 두 쌍 이상의 RF 유닛; 및 상기 HIFU 유닛을 구동시켜 피부 심층에 열스팟(S)을 형성시킨 후, 상기 복수의 RF 유닛 중 적어도 하나의 RF 유닛을 구동시켜 상기 열스팟을 중심으로 일정 영역에 열 부위(R)를 형성시키는 제어부;를 포함한다.

이로써, 피부 심층 시술 부위에 HIFU를 조사하면 60~70℃ 의 마찰열이 발생되는 열스팟(S)이 형성되는데 발생된 열에 의해 피부의 전류 저항이 감소되게 되어 후속적으로 구동되는 고주파 발진에 의한 전류가 전류 저항이 적은 즉, 전도도가 높은 열스팟(S) 측으로 유도되어 열스팟을 중심으로 일정 영역에 열 부위(R)를 형성시켜 고주파 시술 효과를 높일 수 있게 된다.

즉, 원하는 시술 부위에 HIFU로 열을 가하고 고주파를 유도하여 보다 효과적이면서 신속하게 시술을 할 수 있으며, 시술 부위에 중복하여 열 손상을 의도적으로 하하여 피부 재생 보다 빨리 할 수 있게 하는 효과를 얻을 수 있다.

또한, 상기 제어부는, 상기 HIFU 유닛 구동후 RF 유닛을 구동 제어하여 시술이 진행된 후 상기 복수의 RF 유닛 중 하나의 RF 유닛을 구동시켜 전류값을 판단하여 상기 열 부위(R)의 저항값을 파악하여, 시술 상태를 판단하는 것이 바람직하다.

이로써, HIFU와 RF를 중복해서 보다 효과적이면서 빠르게 시술을 할 수 있으면서, 시술 후의 시술 부위의 저항값을 판단하여 시술 상태를 판단할 수 있어 시술에 대한 결과를 보다 정확하게 판단할 수 있다. 또한, 저항값을 판단하기 위한 별도의 전원 인가 장치를 구비하지 않고 기 장착된 RF 유닛으로 판단할 수 있는 효과를 가질 수 있다.

또한, 상기 핸드피스 본체의 가속도값을 검지하는 가속도센서;를 더 포함하며, 상기 제어부는, 상기 가속도센서에서 검지된 가속도값으로 상기 핸드피스 본체의 스캔 방향을 판단하고, 상기 복수의 RF 유닛 중 상기 판단된 스캔 방향의 연장선과 가까운 RF 유닛을 구동시키는 것이 바람직하다.

이로써, 핸드피스 본체가 스캐닝되면서 열 스팟(S)이 스캔 방향의 연장선과 일치되게 형성되는데 열 스팟(S)과 가까운 RF 유닛의 전극이 구동됨으로써 가까운 전극을 통하여 전류가 가해짐으로써 시술 효과를 증가시킬 뿐만 아니라 시술자가 보이지 않는 전극의 방향이나 배열을 신경쓰지 않고 스캐닝만 하면 되므로 사용자 편의성을 높일 수 있다.

한편, 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 피부 미용 방법은, 핸드피스 본체가 스캐닝되면서 HIFU 유닛이 구동되어 고강도 집속 초음파(HIFU)가 조사되어 피부 심층에 열스팟(S)을 형성하는 단계; 및 상기 HIFU가 조사되는 면을 중심으로 배열되는 바이폴라 전극이 구비되는 적어도 두 쌍 이상의 RF 유닛 중 어느 하나가 구동되어 고주파(RF)가 발진되어 상기 열스팟을 중심으로 열 부위(R)를 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 HIFU 조사 단계 및 고주파(RF) 발진 단계를 상기 핸드피스 본체가 스캐닝되면서 반복된다.

또한, 상기 열스팟(S)을 형성시키고 열 부위(R)를 형성시켜 시술이 진행된 후, 상기 복수의 RF 유닛 중 어느 하나의 RF 유닛이 구동되어 전류값을 판단하는 단계; 상기 전류값을 판단하는 단계에서 판단된 전류값으로 시술된 열 부위(S)의 저항값을 판단하는 단계; 및 상기 판단된 저항값을 이용하여 시술 부위의 시술 상태를 판단하는 단계:를 포함하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 핸드피스 본체의 가속도값을 판단하는 단계; 상기 판단된 가속도값을 이용하여 상기 핸드피스 본체의 스캔 방향을 판단하는 단계; 상기 복수의 RF 유닛 중 상기 판단된 스캔 방향의 연장선과 가까운 RF 유닛을 구동시키는 것이 바람직하다.

본 발명에 의한 피부 미용 시스템 및 방법에 의하면, 피부 심층 시술 부위에 HIFU를 조사하면 60~70℃ 의 마찰열이 발생되는 열스팟(S)이 형성되는데 발생된 열에 의해 피부의 전류 저항이 감소되게 되어 후속적으로 구동되는 고주파 발진에 의한 전류가 전류 저항이 적은 즉, 전도도가 높은 열스팟(S) 측으로 유도되어 열스팟을 중심으로 일정 영역에 열 부위(R)를 형성시켜 고주파 시술 효과를 높일 수 있게 된다.

또한, HIFU와 RF를 중복해서 보다 효과적이면서 빠르게 시술을 할 수 있으면서, 시술 후의 시술 부위의 저항값을 판단하여 시술 상태를 판단할 수 있어 시술에 대한 결과를 보다 정확하게 판단할 수 있다. 또한, 저항값을 판단하기 위한 별도의 전원 인가 장치를 구비하지 않고 기 장착된 RF 유닛으로 판단할 수 있는 효과를 가질 수 있다.

또한, 핸드피스 본체가 스캐닝되면서 열 스팟(S)이 스캔 방향의 연장선과 일치되게 형성되는데 열 스팟(S)과 가까운 RF 유닛의 전극이 구동됨으로써 가까운 전극을 통하여 전류가 가해짐으로써 시술 효과를 증가시킬 뿐만 아니라 시술자가 보이지 않는 전극의 방향이나 배열을 신경쓰지 않고 스캐닝만 하면 되므로 사용자 편의성을 높일 수 있다.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 피부 미용 시스템을 나타낸 도면,
도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 피부 미용 시스템의 개념을 나타낸 도면,
도 4는 도 2에 도시도니 피부 미용 시스템의 HIFU 유닛 및 RF 유닛의 배열 상태를 설명하기 위한 도면,
도 5a 및 도 5b는 도 2에 도시된 피부 미용 시스템의 시술을 설명하기 위한 도면,
도 6a 내지 도 6b는 도 2에 도시된 피부 미용 시스템의 작동을 설명하기 위한 도면,
도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 피부 미용 방법을 설명하는 흐름도이다.

이상의 본 발명의 목적들, 다른 목적들, 특징들 및 이점들은 첨부된 도면과 관련된 이하의 바람직한 실시예들을 통해서 쉽게 이해될 수 있을 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해 질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.

본 명세서에서, 어떤 구성요소가 다른 구성요소 상에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 구성요소 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제3의 구성요소가 개재될 수도 있다는 것을 의미한다. 또한, 도면들에 있어서, 구성요소들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것일 수 있다.

본 명세서에서 제1, 제2 등의 용어가 구성요소들을 기술하기 위해 사용된 경우, 이들 구성요소들이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안된다. 이들 용어들은 단지 어느 구성요소를 다른 구성요소와 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다. 여기에 설명되고 예시되는 실시예들은 그것의 상보적인 실시예들도 포함한다.

또한, 제1 엘리먼트(또는 구성요소)가 제2 엘리먼트(또는 구성요소) 상(ON)에서 동작 또는 실행된다고 언급될 때, 제1 엘리먼트(또는 구성요소)는 제2 엘리먼트(또는 구성요소)가 동작 또는 실행되는 환경에서 동작 또는 실행되거나 또는 제2 엘리먼트(또는 구성요소)가 직접 또는 간접적으로 상호 작용을 통해서 동작 또는 실행되는 것으로 이해되어야 할 것이다.

어떤 엘리먼트, 구성요소, 장치 또는 시스템이 프로그램 또는 소프트웨어로 이루어진 구성요소를 포함한다고 언급되는 경우, 명시적인 언급이 없더라도 그 엘리먼트, 구성요소, 장치 또는 시스템은 그 프로그램 또는 소프트웨어가 실행 또는 동작하는데 필요한 하드웨어(예를 들면, 메모리, CPU 등)나 다른 프로그램 또는 소프트웨어(예를 들면, 운영체제나 하드웨어를 구동하는데 필요한 드라이버 등)를 포함하는 것으로 이해되어야 할 것이다.

또한, 어떤 엘리먼트(또는 구성요소)가 구현됨에 있어서 특별한 언급이 없다면, 그 엘리먼트(또는 구성요소)는 소프트웨어, 하드웨어, 또는 소프트웨어 및 하드웨어 어떤 형태로도 구현될 수 있는 것으로 이해되어야 할 것이다.

또한, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소는 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 피부 미용 시스템을 나타낸 도면, 도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 피부 미용 시스템의 개념을 나타낸 도면, 및 도 4는 도 2에 도시된 피부 미용 시스템의 HIFU 유닛 및 RF 유닛의 배열 상태를 설명하기 위한 도면이다.

이하, 도 1 내지 도 4을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 피부 미용 시스템(100)을 설명한다.

본 발명의 바람직한 실시예에 의한 피부 미용 시스템(100)은 HIFU 유닛(130), RF 유닛(140) 및 제어부(110)를 포함한다.

HIFU 유닛(130)은, 핸프피스 본체(H)의 일단에 고강도 집속 초음파(HIFU) 조사면(131)이 구비되고, 핸드피스 본체(H) 내에 고강도 집속 초음파를 발생시켜 조사면(131)을 통해 피부에 고강도 집속 초음파를 조사하는 고강도 집속 초음파 트랜스듀서(133)를 포함한다.

이러한 고강도 집속 초음파는 피부 심층부 조직에 조사시켜 열적 병변을 형성하여 페이스 리프팅 또는 스킨 타이트닝과 같은 시술에 사용되며, 피하 지방층에 조사되어 지방 조직을 태우거나 녹여 분해시켜 비만 치료 시술에도 사용될 수 있다. 시술의 목적에 따라 초음파의 포커싱(초점) 깊이를 상이하게 설정할 수 있다.

RF 유닛(140)은 수분 및 전도성이 있는 물질인 유전체에 고주파 전류가 흐르면 유전체에 열이 발생하는 것을 이용하는 것으로, 피부 심층 조직은 그 자체가 큰 내부전도율을 가지고 있어서 피부 조직이 유전체의 역할을 하도록 하여 시술이 된다.

이러한 RF 유닛(140)은 조사면(131)을 중심으로 하여 한 쌍의 전극(140-1)(140-2)이 대향되게 배열되어 고주파(RF)를 발진시키는 것으로서, 한 쌍의 전극 중 하나가 +극이 되고 다른 하나가 -극으로 페어링되어 한 쌍으로 구동되면서 고주파 전류가 흐르게 된다.

제어부(110)는, HIFU 유닛(130) 및 RF 유닛(140)을 구동 제어하는 것으로서, HIFU 유닛(130)을 구동시켜 피부 심층에 열스팟(S)을 형성시키고 RF 유닛(140)을 구동시켜 고주파를 발진시켜 열스팟(S)을 중심으로 일정 영역에 열 부위(R)를 형성시킨다.

도 5a에 도시된 바와 같이, 피부 심층 조직은 열이 발생되면 전도도가 높아 지는데 HIFU 유닛(130)에 의하여 고강도 집속 초음파가 조사되면 특정 스팟(S) 부위에 열이 발생되는데 이러한 열에 의하여 피부 조직의 전도도가 높아진다.

이때, RF 유닛(140)에 의하여 고주파가 발진되면 전류가 전도도가 높은 부위로 유도되어 흐르게 되면서 HIFU로 포커싱 맞춰진 의도된 심층 부위에 타켓팅되어 열 부위(S)에 열이 발생되어 고주파 치료가 진행된다.

따라서, HIFU 조사로 열변형된 상태에서 RF 고주파가 유도되어 의도하지 않은 영역에는 영향을 주지 않으면서 의도하였던 열 스팟(S) 및 열부위(R)를 타겟팅하여 시술할 수 있을 뿐만 아니라 해당 의도된 영역(S)(R)에 열적 병변을 2차적으로 가할 수 있어 페이스 리프팅이나 스킨 타이트닝 효과를 극대화할 수 있다.

이러한 상태에서 도 5b에 도시된 바와 같이, 시술자가 핸드피스 본체(H)를 피부에 접촉시킨 상태에서 스캐닝하면서 시술이 이루어지게 된다. 여기서, 열 스팟(S)이 원형으로 도시하고 설명하였으나 이와 달리 직방형으로 될 수도 있고 열 스팟(S)의 모양은 다양하게 형성될 수 있다.

한편, 본 발명의 바람직한 실시예에 의하면 제어부(110)는 위에서 설명한 바와 같이 HIFU 유닛(130)을 구동후 RF 유닛(140)을 구동제어하여 시술을 진행한 후, RF 유닛(140)을 구동시켜 미리 지정된 특정 주파수의 전류(미소 전류)가 인가될 수 있게 전극(140-1)(140-2)의 전위를 제어하여 인가하면 전류값을 판단할 수 있고 이로부터 열 부위(R)의 저항값을 판단하여 시술 상태를 판단할 수 있다.

피부 심층 조직은 HIFU 및 RF에 의해 열적 병변이 일어나면서 페이스 리프팅 및 스킨 타이트닝이 진행된 후 상태가 되는데, 그 전 상태에서 피부 조직의 저항값과 시술 후의 저항값이 달라지는데 이러한 저항값을 판단하여 시술 상태를 판단할 수 있다.

이러한 구성에 의해, 별도의 전류를 공급하는 수단을 구비하지 않고도 RF 시술을 위한 RF 유닛(140)을 이용하여 상태 확인을 위한 미소 전류를 흘려보내서 저항값을 판단할 수 있어서 장치의 구조를 단순화할 수 있을 뿐만 아니라 시술 상태까지도 쉽게 판단할 수 있다.

한편, 본 발명의 바람직한 실시예에 의하면 한 쌍의 전극이 페어링되어 고주파가 발진되는데, 적어도 페어링되는 전극 쌍(140-1)(140-2)이 두개로 세팅될 수 있다. 그러나, 페어링되는 전극 쌍은 세개 이상이 구비될 수 있는 것은 당연하다. 이하에서는 RF 유닛(140)을 설명하면서 이를 전극으로 대체하여 설명하고 혼용해서 사용될 수 있다.

또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 의하면 가속도센서(180)가 구비되어 핸드피스 본체(H)의 스캐닝 방향을 판단할 수 있다. 본 발명에서 도시하고 설명하면서 가속도센서(180)를 예시로 하였으나 이와 다른 센서에 의해 핸드피스 본체(H)의 스캐닝 방향을 판단할 수 있는 것이라면 어떠한 것이라도 무방하다.

시술자는 핸드피스 본체(H)를 잡고 도 5b에 도시된 바와 같이 피시술자의 피부에 접촉시킨 후 슬립 이동시키면서 즉 스캐닝하면서 시술작업이 이루어지게 되는데, RF 유닛(140)의 경우 페어링된 전극 쌍이 구동되어 전류를 인가하여 열적 병변을 일으켜 시술이 진행되는데 의도된 영역으로 최대한 전류를 유도시켜 시술의 효과를 극대화하기 위해서는 페어링된 전극쌍이 스캐닝 방향의 연장선과 가까워야 한다.

그러나, 이러한 방향을 맞추기 위해 시술자가 피시술자의 피부에 접한 핸드피스 본체(H)의 조사면(131)을 항상 확인하여야 하는 것이 번거롭고 불편하였는데, 가속도센서(180)에 의해 핸드피스 본체(H)의 스캐닝 방향이 판단되고, 제어부(110)는 판단된 스캐닝 방향의 연장선과 가까운 전극쌍을 구동시켜 전류의 흐름이 불필요한 피부 조직을 통과하지 않고 최대한 의도된 영역에 가까운 피부 조직을 통하여 흐르도록 할 수 있다.

이러한 구성에 의해 시술자의 편의성을 높일 뿐만 아니라 의도된 영역으로만 전류가 흐르게 되어 의도되지 않은 피부에 열적 손상을 최소화하고 의도된 영역으로만 전류를 유도시켜 시술 효과를 극대화할 수 있다.

즉, 1차적으로 HIFU에 의해 포커싱된 의도된 영역(열 스팟(S))(열 부위(R))로 고주파 전류를 유도하고, 2차적으로 전극 쌍의 구동을 최대한 스캐닝 방향 연장선과 가깝게 하여 전류를 유도하여 의도된 타케팅된 피부 조직을 효과적으로 시술할 수 있다.

도 6a에 도시된 바와 같이 스캐닝 방향의 연장선이 화살표 A인 경우에는 그에 가까운 전극쌍(140-2)이 페어링되어 구동되고 도 6b에 도시된 바와 같이 스캐닝 방향의 연장선이 화살표 B인 경우에는 그에 가까운 전극쌍(140-1)이 페어링되어 구동된다.

한편, 전극쌍이 세개 이상 구비될 수 있으며 그러한 경우에도 스캐닝 방향의 연장선과 가까운 전극쌍이 페어링 구동되게 제어하여 시술 효과를 높일 수 있다.

이러한 스캐닝 방향과 가까운 페어링된 전극을 구동을 제어하는 작동은, 시술을 위한 RF 모듈(140) 작동 뿐만 아니라 시술 상태를 파악하기 위해 미소 전류를 인가하는 모드의 RF 모듈(140) 작동에도 해당된다.

한편, 본 발명의 바람직한 실시예에 의하면 타이머(170) 및 디스플레이(160)를 포함하며, 타이머(170)는 기 설정된 루틴대로 HIFU 유닛(130) 및 RF 유닛(140)의 작동시간을 카운팅할 수 있으며, 시술 후 시술 상태를 파악하기 위하여 RF 유닛(140)을 다시 작동하는 시간을 카운팅할 수 있다.

디스플레이(160)는 이러한 타이머(170)에 의한 시간 카운팅을 보여줄 수 있으며, 제어부(110)에 의해 판단된 시술 상태를 포함하는 시술 정보를 표시할 수 있다. 이러한 디스플레이(160)는 시각적 및 청각적 정보를 표시할 수 있다.

한편, 전원부(150)는 외부 전원 공급받는 것일 수 있으며 휴대성을 높이기 위하여 배터리 형태로 구비될 수 있다. 이러한 전원부(150)는 상기한 HIFU 유닛(130), RF 유닛(140), 디스플레이(160), 타이머(170) 및 가속도 센서(180)를 구동할 수 있는 전력을 제공한다.

한편, 도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 피부 미용 방법을 나타낸 도면이다.

이하, 도 7을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 피부 미용 방법을 설명하면, 먼저 핸드피스 본체(H)가 스캐닝되면서 HIFU 유닛(130)이 구동되어 고강도 집속 초음파가 조사되어 피부 심층에 열스팟(S)을 형성하는 단계(S110), HIFU가 조사되는 면(131)을 중심으로 배열되는 한 쌍의 전극(140-1)(140-2)이 구비되는 적어도 두 쌍의 RF 유닛(140) 중 어느 하나가 구동되어 고주파가 발진되어 열스팟(S)을 중심으로 열 부위(R)를 형성하는 단계(S120), 핸드피스 본체(H)의 스캐닝 방향을 판단하는 단계(S130), 판단된 스캐닝 방향의 연장선과 가까운 전극 쌍에 해당되는 RF 유닛(140)을 구동하는 단계(S140) 및 시술 종료 여부를 판단하는 단계(S150)를 포함한다.

단계 S150에서 시술종료가 아닌 경우 위 단계 S110 부터 다시 진행되며 시술이 종료된 것으로 판단되는 경우, 스캐닝 되면서 시술된 부위를 스캐닝하면서 RF가 발진되는 단계(S160)를 포함한다. 이때, 단계 S160은 타이머(170)에 의해 시간차를 두고 진행될 수 있다. 시술 종료후의 RF 발진은 미소 전류가 인가되게 전극의 전위값이 제어된다.

이후, 제어부(110)에서 단계 S160에서 전류값을 검지하여 해당 시술 부위의 저항값을 판단하고(S170), 단계 S170에서 판단된 저항값으로 피부 시술 상태를 판단한다(S180). 이때 판단된 시술 상태에 대한 정보는 디스플레이(160)를 통하여 표시될 수 있다.

이와 같이 구성되는 본 발명에 의하여 HIFU에 의한 1차 열적 병변 및 RF에 의한 2차 열적 병변을 일으켜 시술 효과를 극대화할 수 있을 뿐만 아니라, HIFU에 의하여 1차적으로 열을 발생시켜 고주파 전류의 흐름을 타겟팅된 영역으로 유도하는 것에 더 나아가 스캐닝 방향의 연장선과 가까운 전극 쌍을 구동시켜 전류를 인가함으로써 다른 피부에 영향을 최소화하여 의도된 타겟팅된 영역으로의 시술 효과를 극대화시킬 수 있다.

100 : 피부 미용 시스템 110 : 제어부
130 : HIFU 유닛 131 : HIFU 조사면
133 : HIFU 트랜스듀서 140 : RF 유닛
140-1 : 제1 RF 유닛 140-2 : 제2 RF 유닛
150 : 전원부 170 : 타이머
180 : 가속도센서

Claims

핸드피스 본체의 일단에 구비되는 고강도 집속 초음파(HIFU) 조사면이 구비되고, 상기 핸드피스 본체 내에 고강도 집속 초음파를 발생시켜 상기 조사면을 통하여 피부에 고강도 집속 초음파를 조사하는 고강도 집속 초음파 트랜스듀서를 포함하는 HIFU 유닛;
상기 조사면을 중앙에 두고 한 쌍으로 전극이 배열되어 고주파(RF)를 발진하는 적어도 두 쌍 이상의 RF 유닛; 및
상기 HIFU 유닛을 구동시켜 피부 심층에 열스팟(S)을 형성시킨 후, 상기 복수의 RF 유닛 중 적어도 하나의 RF 유닛을 구동시켜 상기 열스팟을 중심으로 일정 영역에 열 부위(R)를 형성시키는 제어부;를 포함하는 피부 미용 시스템.
제1항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 HIFU 유닛 구동후 RF 유닛을 구동 제어하여 시술이 진행된 후 상기 복수의 RF 유닛 중 하나의 RF 유닛을 구동시켜 전류값을 판단하여 상기 열 부위(R)의 저항값을 파악하여, 시술 상태를 판단하는 것을 특징으로 하는 피부 미용 시스템.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 핸드피스 본체의 가속도값을 검지하는 가속도센서;를 더 포함하며,
상기 제어부는, 상기 가속도센서에서 검지된 가속도값으로 상기 핸드피스 본체의 스캔 방향을 판단하고, 상기 복수의 RF 유닛 중 상기 판단된 스캔 방향의 연장선과 가까운 RF 유닛을 구동시키는 것을 특징으로 하는 피부 미용 시스템.
제3항에 있어서,
시술 시간, 상기 HIFU 유닛 및 RF 유닛의 작동 시간을 포함하는 시간 정보를 카운팅 하는 타이머; 및
상기 시간 정보를 포함하는 시술 정보를 표시하는 디스플레이부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 피부 미용 시스템.
제4항에 있어서, 상기 제어부는,
시술이 끝난 후, 기설정된 시간이 상기 타이머에 의해 체크되면 상기 시술 상태를 파악하기 위해 상기 핸드피스를 시술 부위에 다시 스캐닝하도록 상기 디스플레이를 통해 시각적 및/또는 청각적 신호를 표시하는 것을 특징으로 하는 피부 미용 시스템.
핸드피스 본체가 스캐닝되면서 HIFU 유닛이 구동되어 고강도 집속 초음파(HIFU)가 조사되어 피부 심층에 열스팟(S)을 형성하는 단계; 및
상기 HIFU가 조사되는 면을 중심으로 배열되는 한 쌍의 전극이 구비되는 적어도 두 쌍 이상의 RF 유닛 중 어느 하나가 구동되어 고주파(RF)가 발진되어 상기 열스팟을 중심으로 열 부위(R)를 형성하는 단계;를 포함하며,
상기 HIFU 조사 단계 및 고주파(RF) 발진 단계를 상기 핸드피스 본체가 스캐닝되면서 반복되는 것을 특징으로 하는 피부 미용 방법.
제6항에 있어서,
상기 열스팟(S)을 형성시키고 열 부위(R)를 형성시켜 시술이 진행된 후, 상기 복수의 RF 유닛 중 어느 하나의 RF 유닛이 구동되어 전류값을 판단하는 단계;
상기 전류값을 판단하는 단계에서 판단된 전류값으로 시술된 열 부위(S)의 저항값을 판단하는 단계; 및
상기 판단된 저항값을 이용하여 시술 부위의 시술 상태를 판단하는 단계:를 포함하는 피부 미용 방법.
제6 또는 제7항에 있어서,
상기 핸드피스 본체의 가속도값을 판단하는 단계;
상기 판단된 가속도값을 이용하여 상기 핸드피스 본체의 스캔 방향을 판단하는 단계;
상기 복수의 RF 유닛 중 상기 판단된 스캔 방향의 연장선과 가까운 RF 유닛을 구동시키는 것을 특징으로 하는 피부 미용 방법.