KR20230055580A - Apparatus for diluting exhaust gas - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an apparatus for diluting exhaust gas, which enables high-ratio dilution by supplying a small amount of dilution air using a small-capacity flow supply device. The apparatus for diluting exhaust gas according to the present invention comprises a first dilution unit receiving exhaust gas introduced from the outside and supplying primary dilution air to produce primary diluted gas, an ejector unit formed at the front end of the first dilution unit and supplying secondary dilution air to move the primary diluted gas at the rear end to the front end by a pressure difference and produce secondary diluted gas, and a second dilution unit formed at the front end of the ejector unit and supplying tertiary dilution air to the secondary diluted gas to produce tertiary diluted gas.

Description

배기가스 희석장치{APPARATUS FOR DILUTING EXHAUST GAS}Exhaust gas dilution device {APPARATUS FOR DILUTING EXHAUST GAS}

본 발명은 배기가스 희석장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 배기가스에 포함된 입자의 농도를 측정하기 위해 입자계수기의 측정범위에 맞게 고농도의 배기가스를 희석시켜 고농도의 배기가스에 대해서도 측정 정밀도를 높일 수 있도록 하는 배기가스 희석장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exhaust gas dilution device, and more particularly, in order to measure the concentration of particles contained in exhaust gas, high concentration exhaust gas is diluted according to the measurement range of a particle counter, thereby improving measurement accuracy even for high concentration exhaust gas. It relates to an exhaust gas dilution device that can increase

샘플링한 입자의 농도가 입자계수기의 측정범위를 넘어서는 경우에, 입자 희석장치는 입자계수기의 전단에 설치하여 샘플링한 입자를 일정한 희석비로 희석한 후에 입자계수기로 이송함으로써, 고농도의 샘플링 입자들까지도 측정할 수 있도록 하는 장치이다.When the concentration of the sampled particles exceeds the measurement range of the particle counter, the particle dilution device is installed in front of the particle counter to dilute the sampled particles at a certain dilution ratio and transfer them to the particle counter to measure even high-concentration sampled particles. It is a device that allows you to

고온, 고수분, 고농도 환경의 굴뚝 내부 환경에서 측정의 정확도를 높이기 위해서는 액적 발생을 최소화하며 희석이 이루어져야 한다. 나아가, 희석 장치의 구조에 따른 입자 손실의 발생을 최대한 억제하여 측정의 정확도를 높이는 것이 필요하다. In order to increase the accuracy of measurement in a high-temperature, high-moisture, high-concentration environment inside the chimney, droplet generation must be minimized and dilution must be performed. Furthermore, it is necessary to increase the accuracy of the measurement by maximally suppressing the occurrence of particle loss due to the structure of the dilution device.

또한, 굴뚝과 같은 산업 배출 시설에서 미세입자의 농도를 정확하게 측정하기 위해서는 굴뚝 내 배기가스의 흐름과 입자 샘플링 유속 조건을 같게 하는 등속 흡인 조건을 충족시키는 것이 매우 중요하다. 등속 흡인 조건을 만족하지 않게 된다면 샘플링을 더 많이 하게 되거나 더 적게 하게 되어 측정된 입자 농도가 왜곡되어 실제 굴뚝 내부의 입자 농도와 차이가 발생하기 때문이다. In addition, in order to accurately measure the concentration of fine particles in an industrial discharge facility such as a chimney, it is very important to satisfy a constant velocity suction condition that makes the flow rate of the exhaust gas in the chimney equal to the particle sampling flow rate condition. This is because if the constant velocity suction condition is not satisfied, more or less sampling is performed, and the measured particle concentration is distorted, resulting in a difference from the actual particle concentration inside the chimney.

나아가, 산업현장의 굴뚝 내 배기가스의 유속은 상황에 따라서 가변적으로 변한다. 입자계수기는 희석된 희석가스의 입자 농도를 측정하고, 이를 기초로 측정 대상 입자의 농도를 환산하게 되는데, 배기가스의 속도에 따라서 희석장치에 유입되는 배기가스의 유량이 가변적으로 변함에 따라서 희석비가 바뀌게 되면 입자 농도의 측정값에 오차가 발생할 수 있다. Furthermore, the flow rate of the exhaust gas in the chimney of an industrial site is variably changed according to circumstances. The particle counter measures the particle concentration of the diluted dilution gas and converts the concentration of the particle to be measured based on this. If it is changed, an error may occur in the measured value of the particle concentration.

따라서, 고온 고습 고농도 조건의 굴뚝 내에서 정확한 입자 샘플링을 하기 위해서는 일정한 희석비를 유지하면서 등속 흡인이 가능하여야 하며 수분의 응축이 일어나지 않는 등의 복합적인 조건을 만족하여야 한다.Therefore, in order to perform accurate particle sampling in a chimney under conditions of high temperature, high humidity and high concentration, constant velocity suction must be possible while maintaining a constant dilution ratio, and complex conditions such as no condensation of moisture must be satisfied.

종래, 배기가스 희석장치는 굴뚝 내 배기가스의 농도에 따라서 희석공기 주입양을 바꾸는 방법으로 입자를 희석하여 굴뚝 내 입자의 농도를 측정해 왔다. 하지만, 고배율의 희석비 달성을 위해 농도에 따라서 희석 공기의 양을 증가시키는 방식은 필요한 공기 주입량이 급격히 증가하기 대문에 공기 주입을 위한 유량 공급장치의 용량과 크기가 커져야 한다. 일반적으로 굴뚝 미세먼지 측정을 위해 측정기가 설치되는 주변 환경은 높이가 높고 공간이 협소하기 때문에 측정 설비가 복잡하고 커지게 되면 실제 적용이 어려워지게 된다. 따라서, 간단하고 컴팩트한 구성이 요구된다. Conventionally, exhaust gas dilution devices have measured the concentration of particles in the chimney by diluting the particles by changing the injection amount of dilution air according to the concentration of the exhaust gas in the chimney. However, in the method of increasing the amount of dilution air according to the concentration to achieve a high dilution ratio, the required air injection amount rapidly increases, so the capacity and size of the flow rate supply device for air injection must be increased. In general, since the surrounding environment in which a measuring instrument is installed to measure chimney fine dust is high and the space is narrow, it becomes difficult to apply it in practice if the measuring facility becomes complicated and large. Therefore, a simple and compact configuration is required.

대한민국 공개특허공보 제2013-0059592호(2013.06.07. 공개)Republic of Korea Patent Publication No. 2013-0059592 (2013.06.07. Publication)

따라서, 본 발명의 목적은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 이젝터의 전방뿐만 아니라 후방에도 희석 공기를 공급하도록 하여 소용량의 유량 공급 장치를 이용하여 소량의 희석공기를 공급하여 고배율의 희석이 가능하도록 하는 배기가스 희석장치를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to solve such a conventional problem, and to supply dilution air to the rear as well as the front of the ejector, so that a small amount of dilution air is supplied using a small flow rate supply device to achieve high dilution. It is to provide an exhaust gas dilution device that makes it possible.

본 발명이 해결하고자 하는 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems to be solved by the present invention are not limited to the above-mentioned problems, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 외부로부터 배기가스가 유입되며 1차 희석공기를 공급하여 1차 희석가스를 생성하는 제1희석부; 상기 제1희석부 전단에 형성되고 2차 희석공기를 공급하여 압력차로 후단의 1차 희석가스를 전단으로 이동시키고 2차 희석가스를 생성하는 이젝터부; 및 상기 이젝터부 전단에 형성되고 상기 2차 희석가스에 3차 희석공기를 공급하여 3차 희석가스를 생성하는 제2희석부를 포함하는 배기가스 희석장치에 의해 달성될 수 있다.According to the present invention, the first dilution unit for generating the first dilution gas by supplying the first dilution air while the exhaust gas is introduced from the outside; an ejector unit formed at a front end of the first dilution unit and supplying secondary dilution air to move the primary dilution gas at the rear to the front stage by a pressure difference and generate secondary dilution gas; and a second dilution unit formed at a front end of the ejector unit and generating a tertiary dilution gas by supplying tertiary dilution air to the second dilution gas.

여기서, 상기 제1희석부는 상기 배기가스가 유입되고 외주면에 복수의 통공이 관통 형성되는 제1유로부와, 상기 제1유로부와 이격하여 둘러싸도록 형성되고 전단부에 1차 희석공기가 공급되는 관이 연결되는 제2유로부와, 상기 제1유로부와 상기 제2유로부의 사이에 배치되는 가이드벽을 포함하고, 상기 관을 통해 유입된 상기 1차 희석공기는 상기 제2유로부와 상기 가이드벽 사이의 공간을 통해 후방으로 이동한 후 상기 제1유로부와 상기 가이드벽 사이의 공간을 통해 전방으로 이동하도록 하고, 상기 통공을 통해 상기 1차 희석가스는 상기 제1유로부 내부로 유입되어 상기 배기가스와 혼합할 수 있다. Here, the first dilution unit is formed to surround a first flow path portion through which the exhaust gas flows and a plurality of through holes are formed through the outer circumferential surface, and is spaced apart from the first flow path portion and supplied to the front end of the first dilution air It includes a second flow path portion to which a pipe is connected, and a guide wall disposed between the first flow path portion and the second flow passage portion, and the primary dilution air introduced through the pipe flows through the second flow path portion and the second flow passage portion. After moving backward through the space between the guide walls, move forward through the space between the first flow path and the guide wall, and the primary dilution gas flows into the first flow path through the through hole. and can be mixed with the exhaust gas.

여기서, 상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급될 수 있다. Here, the primary dilution air may be supplied at a temperature of 150 °C to 250 °C.

여기서, 상기 이젝터부는 상기 1차 희석가스가 유동하는 유로인 흡인유로 및 유입되는 2차 희석공기를 분기시켜 상기 흡인유로의 복수 지점에 공급시키는 유로인 희석공기 공급유로가 형성되고, 2차 희석공기의 공급에 따른 압력 차이로 상기 흡인유로를 통해 상기 제1희석부의 1차 희석가스를 유입시켜 상기 2차 희석가스를 생성하여 전방으로 토출시킬 수 있다. Here, the ejector unit is formed with a suction flow path through which the first dilution gas flows and a dilution air supply flow path through which incoming secondary dilution air is branched and supplied to a plurality of points in the suction flow path. The first dilution gas of the first dilution part is introduced through the suction passage due to the pressure difference according to the supply of the second dilution gas, and the second dilution gas can be generated and discharged forward.

여기서, 상기 희석공기 공급유로는 외부로부터 상기 2차 희석공기가 유입되는 메인유로; 상기 메인유로로부터 분기하여 상기 흡인유로의 후단부에 상기 2차 희석공기를 공급하는 제1분기유로; 및 상기 메인유로로부터 분기하여 상기 흡인유로의 전단부에 상기 2차 희석공기를 공급하는 제2분기유로를 포함할 수 있다.Here, the dilution air supply passage includes a main passage into which the secondary dilution air is introduced from the outside; a first branch passage branching from the main passage to supply the secondary dilution air to a rear end of the suction passage; and a second branch passage branching from the main passage to supply the secondary dilution air to a front end of the suction passage.

여기서, 상기 제1분기유로의 단부는 상기 흡인유로 후단부 주위를 둘러싸도록 형성되어 상기 흡인유로의 후단부 전방을 향하여 상기 2차 희석공기를 토출시키고, 상기 제2분기유로의 단부는 상기 흡인유로의 전단부 주위를 둘러싸도록 형성되어 상기 흡인유로의 전단부 전방을 향하여 상기 2차 희석공기를 토출시킬 수 있다. Here, the end of the first branch passage is formed to surround the rear end of the suction passage and discharges the secondary dilution air toward the front of the rear end of the suction passage, and the end of the second branch passage passes through the suction passage. It is formed so as to surround the front end of the suction flow passage toward the front end of the front end to discharge the secondary dilution air.

여기서, 상기 흡인유로는 상기 이젝터부의 후단부에 형성되며 전방을 향하여 관경이 점차적으로 줄어드는 제1흡인부, 상기 제1흡인부의 전단에 형성되며 관경이 일정한 제1가속부, 상기 제1가속부의 전단에 형성되며 상기 제1분기유로를 통해 유입되는 2차 희석공기와 상기 배기가스가 혼합되어 2-1차 희석가스를 생성하며 관경이 점차적으로 줄어드는 제2흡인부, 및 상기 제2흡인부의 전단에 형성되며 관경이 일정한 제2가속부, 상기 제2가속부의 전단에 형성되며 상기 제2분기유로를 통해 유입되는 2차 희석공기와 상기 2-1차 희석가스가 혼합되어 2-2차 희석가스를 생성하고 관경이 점차적으로 커지는 확산부를 포함할 수 있다. Here, the suction passage is formed at the rear end of the ejector unit and has a first suction part having a pipe diameter gradually decreasing toward the front, a first acceleration part formed at the front end of the first suction part and having a constant pipe diameter, and a front end of the first acceleration part. A second suction part formed in the second suction part, in which the secondary dilution air introduced through the first branch passage and the exhaust gas are mixed to generate the second-first dilution gas and the pipe diameter gradually decreases, and at the front end of the second suction part formed at the front end of the second accelerator and is formed at the front end of the second accelerator and the 2nd-1st dilution gas is mixed with the 2nd-1st dilution gas introduced through the 2nd branch passage to produce the 2nd-2nd dilution gas. It may include a diffusion part that is created and the tube diameter gradually increases.

상기한 바와 같은 본 발명의 배기가스 희석장치에 따르면 저용량 또는 저압의 유량 공급 장치를 이용하여 고배율의 희석 공기를 생성시킬 수 있다는 장점이 있다. According to the exhaust gas dilution device of the present invention as described above, there is an advantage in that high-magnification dilution air can be generated using a low-volume or low-pressure flow rate supply device.

고온으로 공급되는 1차 희석공기의 유량이 작으므로 희석 공기를 가열시키기 위한 에너지양이 적게 소모된다는 장점도 있다. Since the flow rate of the primary dilution air supplied at a high temperature is small, there is also an advantage in that less energy is consumed to heat the dilution air.

또한, 제1유로부에 형성되는 통공에 의해 제1유로부의 중심 방향으로 희석공기가 유입되므로, 제1유로부의 내주면에 달라붙게 되는 배기가스의 입자 수가 감소될 수 있다. In addition, since dilution air is introduced toward the center of the first flow passage through the through hole formed in the first flow passage, the number of exhaust gas particles adhering to the inner circumferential surface of the first passage may be reduced.

또한, 통공을 통해 희석공기가 제1유로부의 내측으로 유입될 때, 제1유로부의 내주면에 달라붙어 있는 배기가스 입자가 떨어져 나올 수 있다. 이에 따라, 배기가스가 희석가스로 되는 과정에서 입자의 손실이 발생하는 것이 효과적으로 개선될 수 있다.In addition, when the dilution air is introduced into the first flow passage through the through hole, exhaust gas particles adhering to the inner circumferential surface of the first flow passage may come off. Accordingly, the occurrence of particle loss in the process of turning the exhaust gas into the dilution gas can be effectively improved.

또한, 배기가스가 예열부에서 예열된 후 고온의 1차 희석공기와 혼합되어 고온희석되고, 이후, 상온의 2차 및 3차 희석공기와 혼합되어 상온희석됨으로써, 배기가스 내의 수분이 액적화되는 것이 방지될 수 있으며, 이를 통해, 입자의 측정 정확도가 향상될 수 있다.In addition, after the exhaust gas is preheated in the preheating unit, it is mixed with high-temperature primary dilution air to be diluted at high temperature, and then mixed with room temperature secondary and tertiary dilution air to be diluted at room temperature, so that moisture in the exhaust gas is converted into droplets. This can be prevented, and through this, the measurement accuracy of the particles can be improved.

또한, 2단의 이젝터를 사용함으로써 이젝터부의 입구 압력 변화에도 일정한 양의 배기가스를 흡입하여 희석비를 일정하게 유지시킬 수 있어 입자 측정의 정밀도를 높일 수 있다.In addition, by using a two-stage ejector, it is possible to maintain a constant dilution ratio by inhaling a constant amount of exhaust gas even when the inlet pressure of the ejector unit changes, so that the precision of particle measurement can be improved.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치를 나타낸 사시도이다.
도 2는 도 1의 이젝터부 및 어뎁터부를 확대하여 도시하는 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 배기가스 희석장치에서 희석 온도에 따른 효과를 설명하기 위한 그래프이다.
도 4는 도 1의 측정부를 나타낸 구성도이다.
도 5는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치를 나타낸 사시도이다.
1 is a perspective view showing an exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of an ejector unit and an adapter unit of FIG. 1 .
Figure 3 is a graph for explaining the effect of the dilution temperature in the exhaust gas dilution device according to the present invention.
Figure 4 is a configuration diagram showing the measuring unit of Figure 1;
5 is a perspective view showing an exhaust gas dilution device according to another embodiment of the present invention.

실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.The specific details of the embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다 Advantages and features of the present invention, and methods of achieving them, will become clear with reference to the detailed description of the following embodiments taken in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, and only these embodiments make the disclosure of the present invention complete, and common knowledge in the art to which the present invention belongs. It is provided to completely inform the person who has the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numbers designate like elements throughout the specification.

이하, 본 발명의 실시예들에 의하여 배기가스 희석장치를 설명하기 위한 도면들을 참고하여 본 발명에 대해 설명하도록 한다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to drawings for explaining an exhaust gas dilution device according to embodiments of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치를 나타낸 사시도이고, 도 2는 도 1의 이젝터부 및 어뎁터부를 확대하여 도시하는 단면도이고, 도 3은 본 발명에 따른 배기가스 희석장치에서 희석 온도에 따른 효과를 설명하기 위한 그래프이고, 도 4는 도 1의 측정부를 나타낸 구성도이다.1 is a perspective view showing an exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of an ejector unit and an adapter unit of FIG. 1, and FIG. 3 is an exhaust gas dilution device according to the present invention. It is a graph for explaining the effect according to the dilution temperature, and FIG. 4 is a configuration diagram showing the measuring unit of FIG.

본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치는 제1희석부(100), 이젝터부(200) 및 제2희석부(300)를 포함하여 구성될 수 있다. An exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention may include a first dilution unit 100 , an ejector unit 200 and a second dilution unit 300 .

이하의 설명에서는 설명의 편의상, 배기가스의 흐름 방향을 기준으로 전단/전단부/전방, 후단/후단부/후방으로 설명한다. 즉, 배기가스가 제1지점에서 제2지점으로 이동되는 경우, 제1지점을 후단/후단부/후방으로, 제2지점을 전단/전단부/전방으로 하여 설명한다.In the following description, for convenience of description, front end/front end/front and rear/rear end/rear are described based on the flow direction of exhaust gas. That is, when the exhaust gas is moved from the first point to the second point, the first point will be described as the rear/rear end/rear and the second point as the front/front/front.

제1희석부(100)는 배기가스(1)가 흡입되어 유동하는 유로인 제1유로부(110)가 중심축 방향으로 관통 형성될 수 있다. In the first dilution unit 100, the first flow path unit 110, which is a channel through which the exhaust gas 1 is sucked and flows, may be formed through the central axis.

본 발명에서 배기가스는 측정 대상의 한 예일 수 있으며, 측정 대상이 반드시 배기가스에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 측정 대상이 굴뚝의 연기인 경우, 굴뚝에는 연기의 일부가 흡수되는 유로가 마련될 수 있으며, 상기 유로를 통해 이동되는 연기는 제1희석부(100)로 공급될 수 있다.In the present invention, exhaust gas may be an example of a measurement target, and the measurement target is not necessarily limited to exhaust gas. For example, when the measurement target is smoke from a chimney, a passage through which some of the smoke is absorbed may be provided in the chimney, and the smoke moving through the passage may be supplied to the first dilution unit 100 .

제1희석부(100)는 배기가스(1)가 유입되는 제1유로부(110)와, 공급되는 1차 희석공기(2)가 배기가스(1)와 혼합되도록 제1유로부(110) 내부로 안내하는 제2유로부(120)로 구성될 수 있다. 제1희석부(100)에서는 배기가스(1)와 1차 희석공기(2)가 혼합되어 1차 희석가스가 생성될 수 있다. 1차 희석공기(2)는 고온의 공기일 수 있으며, 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급될 수 있다.The first dilution unit 100 includes a first flow path unit 110 into which the exhaust gas 1 flows, and a first flow path unit 110 so that the supplied primary dilution air 2 is mixed with the exhaust gas 1 It may be composed of a second flow path portion 120 that guides to the inside. In the first dilution unit 100, exhaust gas 1 and primary dilution air 2 may be mixed to generate primary dilution gas. The primary dilution air 2 may be high-temperature air and may be supplied at a temperature of 150° C. to 250° C.

구체적으로, 제1희석부(100)는 이젝터부(200)의 후단에 결합될 수 있다. 이때, 제1유로부(110)는 후단 이젝터부(200)의 흡인유로(230)와 연결될 수 있다. Specifically, the first dilution unit 100 may be coupled to the rear end of the ejector unit 200 . At this time, the first flow path unit 110 may be connected to the suction flow path 230 of the rear ejector unit 200 .

제1유로부(110)에는 복수의 통공(111)이 관통 형성될 수 있다.A plurality of through holes 111 may be formed through the first passage part 110 .

제2유로부(120)는 제1유로부(110)의 외측에서 제1유로부(110)를 일정거리 이격하며 둘러싸도록 형성될 수 있다. The second flow path part 120 may be formed to surround the first flow path part 110 at a predetermined distance from the outside of the first flow path part 110 .

제2유로부(120)의 외주면 전단부에는 1차 희석공기(2)가 유입되는 제1유입구(140)가 형성될 수 있다. 제1유입구(140)에는 외부의 유량 공급 장치로부터 1차 희석공기(2)를 안내하는 제1관(141)이 연결될 수 있다.A first inlet 140 through which the primary dilution air 2 flows may be formed at a front end of the outer circumferential surface of the second flow passage 120 . A first pipe 141 guiding the primary dilution air 2 from an external flow rate supply device may be connected to the first inlet 140 .

그리고, 제1유로부(110) 및 제2유로부(120)의 사이에 가이드벽(130)이 구비될 수 있다. 또한, 가이드벽(130)은 후단부가 제2유로부(120)의 후단벽과 이격될 수 있다. 즉, 제1유입구(140)를 통해 유입되는 1차 희석공기(2)는 제2유로부(120) 및 가이드벽(130) 사이의 공간에서 후방 방향으로 이동되고, 가이드벽(130) 및 제2유로부(120)의 후단벽 사이의 공간을 통해 제1유로부(110) 및 가이드벽(130)의 사이의 공간으로 이동될 수 있다. 이를 통해, 제1유로부(110) 및 제2유로부(120)의 사이 공간은 대부분이 가이드벽(130)에 의해 구획될 수 있으며, 제1유입구(140)을 통해 유입되는 1차 희석공기(2)의 흐름 길이가 길어질 수 있다. 그리고, 1차 희석공기(2)는 제1유로부(110)에 형성된 통공(111)을 통해 제1유로부(110)의 내측으로 이동하여 배기가스(1)와 혼합되어 1차 희석가스를 생성하게 된다.Also, a guide wall 130 may be provided between the first flow path portion 110 and the second flow path portion 120 . In addition, the rear end of the guide wall 130 may be spaced apart from the rear end wall of the second passage part 120 . That is, the primary dilution air 2 introduced through the first inlet 140 moves backward in the space between the second flow passage 120 and the guide wall 130, and the guide wall 130 and It can be moved to the space between the first flow path part 110 and the guide wall 130 through the space between the rear end walls of the second flow path part 120 . Through this, most of the space between the first flow path part 110 and the second flow path part 120 can be partitioned by the guide wall 130, and the primary dilution air introduced through the first inlet port 140 The flow length of (2) can be long. Then, the primary dilution air 2 moves to the inside of the first flow path unit 110 through the through hole 111 formed in the first flow path unit 110 and is mixed with the exhaust gas 1 to obtain the primary dilution gas. will create

제1유로부(110)에는 복수의 통공(111)이 전체적으로 형성되기 때문에, 제1유로부(110)의 외주면 면적이 줄어들게 된다. 따라서, 배기가스(1) 입자 중에 제1유로부(110)의 내주면에 달라붙게 되는 입자의 수가 감소될 수 있어 배기가스(1) 입자 손실이 줄어들 수 있다.Since the plurality of through holes 111 are formed as a whole in the first flow path portion 110, the area of the outer circumferential surface of the first flow path portion 110 is reduced. Therefore, the number of particles of the exhaust gas 1 sticking to the inner circumferential surface of the first passage portion 110 can be reduced, and thus the loss of the exhaust gas 1 particles can be reduced.

나아가, 통공(111)을 통해 제1유로부(110)의 중심방향으로 1차 희석공기(2)가 유입될 때, 제1유로부(110)의 내주면을 향하는 입자의 유동을 방해하며 제1유로부(110)의 내주면에 달라붙어 있는 배기가스(1) 입자가 떨어져 나오게 할 수 있다. 이에 따라, 제1유로부(110)에서 이동되는 배기가스(1) 중의 입자의 대부분이 1차 희석공기(2)와 혼합될 수 있으며, 배기가스(1)가 1차 희석가스로 되는 과정에서 입자의 손실이 발생하는 것도 효과적으로 감소될 수 있다.Furthermore, when the primary dilution air 2 is introduced toward the center of the first flow path unit 110 through the through hole 111, the flow of particles toward the inner circumferential surface of the first flow path unit 110 is hindered and the first dilution air 2 is introduced. Particles of the exhaust gas 1 adhering to the inner circumferential surface of the passage portion 110 can be released. Accordingly, most of the particles in the exhaust gas 1 moving in the first flow passage 110 can be mixed with the primary dilution air 2, and in the process of the exhaust gas 1 becoming the primary dilution gas. The occurrence of loss of particles can also be effectively reduced.

이젝터부(200)는 제1희석부(100) 전단에 결합되어 2차 희석공기(3)를 공급하여 2차 희석가스를 생성한다. 이젝터부(200)에 2차 희석공기(3)가 공급될 때 압력차로 후방의 1차 희석가스를 전방으로 이송시킬 수가 있다. The ejector unit 200 is coupled to the front end of the first dilution unit 100 to supply secondary dilution air 3 to generate secondary dilution gas. When the secondary dilution air 3 is supplied to the ejector unit 200, the rear primary dilution gas can be transported forward due to a pressure difference.

이젝터부(200)에는 1차 희석가스가 흡인되어 유동하는 유로인 흡인유로(230)가 중심축 방향으로 관통 형성될 수 있다. 또한, 배기가스(1)의 등속흡인을 유도하기 위한 2차 희석공기(3)가 상기 흡인유로(230) 상에 공급되도록 하는 희석공기 공급유로(210, 211, 216)가 형성될 수 있다. A suction passage 230, which is a passage through which the primary dilution gas is sucked and flows, may be formed through the ejector unit 200 in the direction of the central axis. In addition, dilution air supply passages 210 , 211 , and 216 may be formed to supply secondary dilution air 3 for inducing uniform velocity suction of the exhaust gas 1 onto the suction passage 230 .

도 2에 도시되어 있는 것과 같이 흡인유로(230)는 후방에서 전방으로 공간부(231), 제1흡인부(232), 제1가속부(233), 제2흡인부(234), 제2가속부(235), 및 확산부(236)로 구분 형성될 수 있다. As shown in FIG. 2, the suction passage 230 includes a space part 231, a first suction part 232, a first acceleration part 233, a second suction part 234, and a second suction part 234 from the rear to the front. It may be divided into an acceleration unit 235 and a diffusion unit 236 .

공간부(231)는 제1희석부(100)의 제1유로부(110)와 연결되고 관경이 일정하게 형성되며 1차 희석가스가 유입되는 초입부분이다. The space part 231 is connected to the first passage part 110 of the first dilution part 100, has a constant pipe diameter, and is an inlet part through which the first dilution gas flows.

제1흡인부(232)는 공간부(231)의 전단에 형성될 수 있으며, 전방으로 갈수록 내경이 작아지도록 형성될 수 있다. The first suction portion 232 may be formed at the front end of the space portion 231 and may have an inner diameter that becomes smaller toward the front.

제1가속부(233)는 제1흡인부(232)의 전단에 형성되어 제1흡인부(232)와 연결되며, 동일한 내경으로 형성될 수 있다. 후술하는 제1분기유로의 단부(212)가 제1가속부(233)를 둘러싸도록 형성되어, 제1가속부(233) 전단의 제2흡인부(234)를 향하여 전방으로 2차 희석공기(3)를 토출시킬 수 있다. 2차 희석공기(3)는 작은 단면적의 제1분기유로의 단부(212)를 통과하면서 유속이 빨라지게 되는데, 2차 희석공기(3)가 제2흡인부(234)로 토출되면 제1가속부(233) 토출구의 압력이 낮아지게 된다. 그러면, 제2흡인부(234)와 공간부(231) 사이에 압력 차이가 발생하게 되고, 공간부(231)의 1차 희석가스는 제1흡인부(232) 및 제1가속부(233)를 통과하여 제2흡인부(234)로 흡인될 수 있다. 따라서, 제2흡인부(234)에서는 제1분기유로(211)를 통해 분기된 2차 희석공기(3)와 1차 희석가스가 혼합되어 2-1차 희석가스를 생성하게 된다. The first accelerating part 233 is formed at the front end of the first suction part 232 and is connected to the first suction part 232, and may have the same inner diameter. The end 212 of the first branch flow passage, which will be described later, is formed to surround the first accelerator 233, and the secondary dilution air ( 3) can be discharged. The flow rate of the secondary dilution air 3 increases while passing through the end 212 of the first branch passage having a small cross-sectional area. When the secondary dilution air 3 is discharged to the second suction part 234, the first acceleration occurs. The pressure of the outlet of the unit 233 is lowered. Then, a pressure difference is generated between the second suction part 234 and the space part 231, and the primary dilution gas in the space part 231 is supplied to the first suction part 232 and the first accelerator part 233. It can be sucked into the second suction part 234 by passing through. Therefore, in the second suction unit 234, the secondary dilution air 3 branched through the first branch flow path 211 and the primary dilution gas are mixed to generate 2-1 primary dilution gas.

제2흡인부(234)는 제1가속부(233)의 전단에 형성되며, 전방으로 갈수록 내경이 작아지도록 형성될 수 있다. 전술한 바와 같이, 제2흡인부(234)의 후단에서는 제1분기유로(211)를 통해 2차 희석공기(3)가 유입될 수 있으며 유입되는 2차 희석공기(3)에 의한 압력차로 공간부(231)의 1차 희석가스가 제2흡인부(234)로 흡인되어 2차 희석공기(3)와 혼합될 수 있다. The second suction part 234 is formed at the front end of the first accelerating part 233 and may have an inner diameter that decreases toward the front. As described above, at the rear end of the second suction part 234, the secondary dilution air 3 can be introduced through the first branch passage 211, and the pressure difference caused by the inflow secondary dilution air 3 creates a space The primary dilution gas of the unit 231 may be sucked into the second suction unit 234 and mixed with the secondary dilution air 3 .

제2가속부(235)는 제2흡인부(234)의 전단에 형성되어 제2흡인부(234)와 연결되며, 동일한 내경으로 형성될 수 있다. 후술하는 제2분기유로의 단부(217)가 제2가속부(235)를 둘러싸도록 형성되어, 제2가속부(235) 전단의 확산부(236)를 향하여 전방으로 분기된 2차 희석공기(3)를 토출시킬 수 있다. 2차 희석공기(3)는 작은 단면적의 제2분기유로의 단부(217)를 통과하면서 유속이 빨라지게 되는데, 2차 희석공기(3)가 제2가속부(235) 전방으로 토출되면 압력이 낮아지게 된다. 그러면, 제2가속부(235)의 전방과 제2흡인부(234) 사이에 압력 차이가 발생하게 되고, 제2흡인부(234)의 2-1차 희석가스는 제2가속부(235)를 통과하여 제2가속부(235) 전방의 확산부(236)로 이동하게 된다. 따라서, 확산부(236)에서는 2-1차 희석가스와 분기되어 공급되는 2차 희석공기(3)가 혼합되어 2-2차 희석가스를 생성하게 된다.The second acceleration part 235 is formed at the front end of the second suction part 234 and is connected to the second suction part 234, and may have the same inner diameter. An end portion 217 of the second branch flow path described later is formed to surround the second accelerator part 235, and the secondary dilution air branched forward toward the diffusion part 236 at the front end of the second accelerator part 235 ( 3) can be discharged. The flow rate of the secondary dilution air 3 increases as it passes through the end 217 of the second branch passage having a small cross-sectional area. When the secondary dilution air 3 is discharged forward of the second accelerator 235, the pressure it gets lower Then, a pressure difference is generated between the front of the second acceleration unit 235 and the second suction unit 234, and the second-first dilution gas of the second suction unit 234 flows through the second acceleration unit 235. It passes through and moves to the diffusion part 236 in front of the second acceleration part 235. Therefore, in the diffusion unit 236, the 2nd-1st dilution gas is mixed with the 2nd-1st dilution gas and the 2nd-2nd dilution air 3 supplied by branching to generate the 2nd-2nd dilution gas.

전술한 바와 같이 이젝터부(200)에는 희석공기 공급유로(210, 211, 216)가 형성될 수 있다. 희석공기 공급유로(210, 211, 216)는 대체로 반경 방향으로 관통 형성되며 흡인유로(230) 상에 2차 희석공기(3)를 분기하여 공급한다 As described above, dilution air supply passages 210 , 211 , and 216 may be formed in the ejector unit 200 . The dilution air supply passages 210, 211, and 216 are formed to penetrate in a radial direction, and branch and supply the secondary dilution air 3 onto the suction passage 230.

희석공기 공급유로(210, 211, 216)에는 외부로부터 2차 희석공기(3)의 유입을 안내하는 제2관(221)이 결합될 수 있다.A second pipe 221 guiding the inflow of secondary dilution air 3 from the outside may be coupled to the dilution air supply passages 210 , 211 , and 216 .

본 발명에서 희석공기 공급유로는 메인유로(210), 제1분기유로(211) 및 제2분기유로(216)를 포함하여 구성될 수 있다. 메인유로(210)는 제2관(221)이 결합하여 외부로부터 2차 희석공기(3)를 유입시킨다. In the present invention, the dilution air supply passage may include a main passage 210, a first branch passage 211, and a second branch passage 216. In the main flow path 210, the second pipe 221 is coupled to introduce the secondary dilution air 3 from the outside.

제1분기유로(211)와 제2분기유로(216)는 메인유로(210)로부터 분기하여 흡인유로(230)에 2차 희석공기(3)를 공급한다. 분기된 제1분기유로의 단부(212)는 제1가속부(233)를 둘러싸도록 형성되어 제1가속부(233) 전단의 제2흡인부(234)를 향하여 분기된 2차 희석공기(3)를 분출시키도록 한다. 또한, 분기된 제2분기유로의 단부(217)는 제2가속부(235)를 둘러싸도록 형성되어 제2가속부(235) 전단의 확산부(236)를 향하여 분기된 2차 희석공기(3)를 분출시키도록 한다.The first branch passage 211 and the second branch passage 216 branch from the main passage 210 to supply secondary dilution air 3 to the suction passage 230 . The end portion 212 of the branched first branch passage is formed to surround the first accelerator part 233, and the secondary dilution air 3 branched toward the second suction part 234 at the front end of the first accelerator part 233. ) to eject. In addition, the end portion 217 of the branched second branch flow path is formed to surround the second accelerator part 235, and the secondary dilution air 3 branched toward the diffusion part 236 at the front end of the second accelerator part 235. ) to eject.

이와 같이 본 발명에서는 이젝터부(200) 내에서 2단으로 분기되어 2차 희석공기(3)가 흡인유로(230) 상으로 토출되며 이젝터부(200) 후방에 위치하는 1차 희석가스를 흡인시킬 수가 있다. As described above, in the present invention, the ejector unit 200 is branched into two stages so that the secondary dilution air 3 is discharged onto the suction passage 230 and sucks the primary dilution gas located at the rear of the ejector unit 200. there is a number

이때, 도 2에 도시되어 있는 것과 같이 이젝터부(200) 후단의 Qs 부분의 압력이 증가하면 메인유로(210)를 통하여 일정 유량이 유입되는 QE.total에 대하여 분기하는 QE.1의 유량이 감소하게 되고 상대적으로 QE.2의 유량은 증가하게 된다. At this time, as shown in FIG. 2, when the pressure of the Q s portion at the rear end of the ejector unit 200 increases, Q E.1 branching with respect to Q E. The flow rate decreases and the flow rate of Q E.2 increases relatively.

반대로, 이젝터부(200) 후단의 Qs 부분의 압력이 감소하게 되면 메인유로(210)를 통하여 일정 유량이 유입되는 QE.total에 대하여 분기하는 QE.1의 유량이 증가하게 되고 상대적으로 QE.2의 유량은 감소하게 된다.Conversely, when the pressure of the Q s portion at the rear end of the ejector unit 200 decreases, the flow rate of branching Q E.1 increases relative to Q E.total in which a constant flow rate flows through the main flow path 210 The flow rate of Q E.2 will decrease.

이와 같이, 이젝터부(200) 후단의 압력이 달라지더라도 분기되는 제1분기유로(211)와 제2분기유로(216)를 통해 배기가스 유입유로(230) 상에 유입되는 2차 희석공기(3)의 유량이 각각 달라지게 되어, 흡인되는 Qs의 유량은 일정하게 유지될 수가 있다. 따라서, 본 발명에서는 이젝터부(200) 후단의 1차 희석가스의 압력이 달라지더라도 흡인되는 Qs의 양이 일정하기 때문에 희석비를 일정하게 유지시킬 수가 있다. As such, even if the pressure at the rear end of the ejector unit 200 is changed, the secondary dilution air flowing into the exhaust gas inflow passage 230 through the branched first branch passage 211 and the second branch passage 216 ( The flow rate of 3) is different, so the flow rate of Q s to be sucked can be kept constant. Therefore, in the present invention, even if the pressure of the primary dilution gas at the rear end of the ejector unit 200 changes, the amount of Qs sucked in is constant, so the dilution ratio can be kept constant.

본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치는 제1어댑터부(500) 및 제2어댑터부(550)를 더 포함할 수 있다.An exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention may further include a first adapter unit 500 and a second adapter unit 550.

제1어댑터부(500)는 이젝터부(200)의 전단에 결합될 수 있다.The first adapter unit 500 may be coupled to the front end of the ejector unit 200 .

도 2에 도시되어 있는 것과 같이, 제1어댑터부(500)에는 연장확산부(501)가 축방향으로 관통 형성될 수 있다. 연장확산부(501)는 전방 방향으로 갈수록 내경이 커지도록 형성될 수 있으며, 이젝터부(200)의 확산부(236)와 연속되도록 형성될 수 있다.As shown in FIG. 2 , the extension diffusion part 501 may be formed through the first adapter part 500 in the axial direction. The extension and diffusion part 501 may have an inner diameter that increases as it goes forward, and may be formed continuously with the diffusion part 236 of the ejector unit 200 .

제2어댑터부(550)는 제1어댑터부(500)의 전단에 결합될 수 있다. The second adapter unit 550 may be coupled to the front end of the first adapter unit 500 .

제2어댑터부(550)는 축방향으로 관통 형성되는 유로홀(551)이 형성될 수 있으며, 유로홀(551)은 제1어댑터부(500)의 연장확산부(501)와 연결될 수 있다.The second adapter unit 550 may have a passage hole 551 formed therethrough in an axial direction, and the passage hole 551 may be connected to the extension/diffusion part 501 of the first adapter unit 500 .

희석공기 공급유로(210, 211, 216)를 통해 이젝터부(200)에 유입되는 2차 희석공기(3)와 흡인유로(230)를 통해 흡인되는 1차 희석가스는 혼합되어 2차 희석가스를 생성하게 되고, 생성된 2차 희석가스는 연장확산부(501) 및 유로홀(551)을 통해 이동될 수 있다. The secondary dilution air 3 introduced into the ejector unit 200 through the dilution air supply passages 210, 211, and 216 and the primary dilution gas sucked through the suction passage 230 are mixed to form a secondary dilution gas. generated, and the generated secondary dilution gas may move through the extension diffusion part 501 and the passage hole 551.

제2희석부(300)는 제1어댑터부(500) 및 제2어댑터부(550)를 통해 2차 희석가스가 유입되는 제1유로부(310)와, 공급되는 3차 희석공기(4)를 2차 희석가스와 혼합되도록 제1유로부(310)로 안내하는 제2유로부(320)로 구성될 수 있다. 제2희석부(300)에서는 2차 희석가스와 3차 희석공기(4)가 혼합되어 3차 희석가스가 생성될 수 있다.The second dilution unit 300 includes a first flow path unit 310 into which the secondary dilution gas flows through the first adapter unit 500 and the second adapter unit 550, and the supplied tertiary dilution air 4 It may be composed of a second flow path portion 320 for guiding to the first flow path portion 310 to be mixed with the secondary dilution gas. In the second dilution unit 300 , the tertiary dilution gas may be generated by mixing the tertiary dilution gas and the tertiary dilution air 4 .

구체적으로, 제2희석부(300)는 제1어댑터부(500) 및 제2어댑터부(550)의 전단에 결합될 수 있다. 제1유로부(310)는 제2어댑터부(550)의 유로홀(551)에 연속되도록 형성될 수 있으며, 확산부(236)에서 혼합되어 생성되는 2차 희석가스는 제1유로부(310)로 이동될 수 있다.Specifically, the second dilution unit 300 may be coupled to front ends of the first adapter unit 500 and the second adapter unit 550 . The first flow path unit 310 may be formed to be continuous with the flow path hole 551 of the second adapter unit 550, and the secondary dilution gas generated by being mixed in the diffusion unit 236 is generated through the first flow path unit 310. ) can be moved.

제1유로부(310)에는 복수의 통공(311)이 관통 형성될 수 있다.A plurality of through holes 311 may be formed through the first passage part 310 .

제2유로부(320)는 제1유로부(310)의 외측에서 제1유로부(310)를 일정거리 이격하며 둘러싸도록 형성될 수 있다. 제2유로부(320)의 후단부는 제1어댑터부(500)에 결합될 수 있다.The second flow path part 320 may be formed to surround the first flow path part 310 at a predetermined distance from the outside of the first flow path part 310 . The rear end of the second flow path part 320 may be coupled to the first adapter part 500 .

제2유로부(320)의 외주면 전단부에는 3차 희석공기(4)가 유입되는 제2유입구(340)가 형성될 수 있다. 제2유입구(340)에는 외부로부터 3차 희석공기(4)를 안내하는 제3관(341)이 연결될 수 있다.A second inlet 340 through which the tertiary dilution air 4 flows may be formed at a front end of the outer circumferential surface of the second flow passage 320 . A third pipe 341 guiding the tertiary dilution air 4 from the outside may be connected to the second inlet 340 .

그리고, 제2희석부(300)는 가이드벽(330)이 형성될 수 있다. 가이드벽(330)은 제1유로부(310) 및 제2유로부(320)의 사이에 구비될 수 있다. 또한, 가이드벽(330)은 후단부가 제1어댑터부(500)의 전단부와 이격될 수 있다. 제2유입구(340)를 통해 유입되는 3차 희석공기(4)는 제2유로부(320) 및 가이드벽(330)의 사이의 공간에서 후방 방향으로 이동되고, 가이드벽(330) 및 제1어댑터부(500)의 사이의 공간을 통해 제1유로부(310) 및 가이드벽(330)의 사이의 공간으로 이동될 수 있다. 이를 통해, 제1유로부(310) 및 제2유로부(320)의 사이 공간은 대부분이 가이드벽(330)에 의해 구획될 수 있으며, 제2유입구(340)을 통해 유입되는 3차 희석공기(4)의 흐름 길이가 길어질 수 있다. 그리고, 3차 희석공기(4)는 제1유로부(310)에 형성된 통공(311)을 통해 제1유로부(310)의 내측으로 이동하여 2차 희석가스와 혼합되어 3차 희석가스를 생성하게 된다.Also, the guide wall 330 may be formed in the second dilution unit 300 . The guide wall 330 may be provided between the first flow path part 310 and the second flow path part 320 . Also, the rear end of the guide wall 330 may be spaced apart from the front end of the first adapter unit 500 . The tertiary dilution air 4 introduced through the second inlet 340 moves backward in the space between the second flow passage 320 and the guide wall 330, and the guide wall 330 and the first It can be moved to the space between the first flow path part 310 and the guide wall 330 through the space between the adapter parts 500 . Through this, most of the space between the first flow path part 310 and the second flow path part 320 can be partitioned by the guide wall 330, and the tertiary dilution air introduced through the second inlet 340 The flow length of (4) can be long. Then, the tertiary dilution air 4 moves to the inside of the first flow path 310 through the through hole 311 formed in the first flow path 310 and is mixed with the secondary dilution gas to generate a tertiary dilution gas. will do

제2희석부(300)의 전체적인 구성은 전술한 제1희석부(100)의 구성과 동일할 수 있다. The overall configuration of the second dilution unit 300 may be the same as that of the first dilution unit 100 described above.

본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치는 확산튜브부(570), 마개부(580) 및 배출관(590)을 포함할 수 있다.An exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention may include a diffusion tube part 570, a stopper part 580, and a discharge pipe 590.

확산튜브부(570)는 제2희석부(300)의 전단에 결합될 수 있다.The diffusion tube unit 570 may be coupled to the front end of the second dilution unit 300 .

확산튜브부(570)는 축 방향으로 관통 형성되는 추가확산부(571)가 형성될 수 있다. 추가확산부(571)는 전방 방향으로 갈수록 내경이 커지도록 형성될 수 있으며, 제2희석부(300)에서 생성되는 3차 희석가스는 추가확산부(571)로 이동될 수 있다.The diffusion tube unit 570 may be formed with an additional diffusion unit 571 penetrating in the axial direction. The additional diffusion unit 571 may have an inner diameter that increases in a forward direction, and the tertiary dilution gas generated in the second dilution unit 300 may be moved to the additional diffusion unit 571 .

마개부(580)는 확산튜브부(570)의 전단부에 결합되어 확산튜브부(570)의 전단부를 밀폐시킬 수 있다.The stopper 580 may be coupled to the front end of the diffusion tube 570 to seal the front end of the diffusion tube 570 .

배출관(590)은 마개부(580)에 복수 개로 결합될 수 있다. 마개부(580)에는 배출관(590)이 결합되도록 연결홀(581)이 관통 형성될 수 있으며, 추가확산부(571)의 3차 희석가스는 연결홀(581)을 통해 배출관(590)으로 이동될 수 있다. 배출관(590) 중 적어도 어느 하나에는 입자계수기(미도시)가 연결될 수 있으며, 3차 희석가스는 배출관(590)을 통해 입자계수기로 이동될 수 있다.A plurality of discharge pipes 590 may be coupled to the stopper 580 . A connection hole 581 may be formed through the stopper 580 so that the discharge pipe 590 is coupled thereto, and the tertiary dilution gas of the additional diffusion part 571 moves to the discharge pipe 590 through the connection hole 581. It can be. A particle counter (not shown) may be connected to at least one of the discharge pipes 590, and the tertiary dilution gas may be moved to the particle counter through the discharge pipe 590.

본 실시예에 따르면, 유입되는 배기가스(1)가 제1희석부(100)에서 1차 희석공기(2)와 혼합되어 1차로 희석이 이루어지고, 이젝터부(200)에서 2차 희석공기(3)와 혼합되어 2차로 희석이 이루어지고, 제2희석부(300)에서 3차 희석공기(4)와 혼합되어 3차로 희석이 이루어짐으로써, 희석율이 높아질 수 있다.According to the present embodiment, the inflowing exhaust gas 1 is mixed with the primary dilution air 2 in the first dilution unit 100 to perform primary dilution, and in the ejector unit 200, the secondary dilution air ( 3), the second dilution is performed, and the third dilution is performed by mixing with the tertiary dilution air 4 in the second dilution unit 300, thereby increasing the dilution rate.

전술한 바와 같이, 제1희석부(100)로 공급되는 1차 희석공기(2)는 150℃ 내지 250℃의 고온의 공기일 수 있다. 따라서, 제1희석부(100)를 통해 생성되는 1차 희석가스는 고온희석 방법으로 생성될 수 있다. 그리고, 이젝터부(200) 및 제2희석부(300)로 공급되는 2차 희석공기(3)와 3차 희석공기(4)는 상온의 공기일 수 있으며, 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급될 수 있다. 따라서, 이젝터부(200) 및 제2희석부(300)에서 생성되는 2차 및 3차 희석가스는 상온희석 방법으로 생성될 수 있다.As described above, the primary dilution air 2 supplied to the first dilution unit 100 may be high temperature air of 150°C to 250°C. Therefore, the first dilution gas generated through the first dilution unit 100 may be generated by a high-temperature dilution method. In addition, the secondary dilution air 3 and the tertiary dilution air 4 supplied to the ejector unit 200 and the second dilution unit 300 may be air at room temperature and supplied at a temperature of 10° C. to 30° C. It can be. Accordingly, the second and third dilution gases generated by the ejector unit 200 and the second dilution unit 300 may be generated by a room temperature dilution method.

도 3는 본 발명에 따른 배기가스 희석장치에서 희석 온도에 따른 효과를 설명하기 위한 그래프이다.Figure 3 is a graph for explaining the effect of the dilution temperature in the exhaust gas dilution device according to the present invention.

도 3을 참조하면, 제1희석부(100)로 유입되는 배기가스(1)는 고온의 상태(P0)인데, 만일, 고온 상태의 배기가스(1)와 혼합되는 1차 희석공기(2)가 상온의 공기인 경우, 즉, 고온의 배기가스(1)가 상온희석되는 경우 배기가스(1) 내의 수분이 모두 액적으로 변환될 수 있다. 이에 따라, 제1희석부(100)에서 생성되는 제1상태(P1)의 1차 희석가스는 다량의 액적을 포함할 수 있다. 그리고, 다량의 액적을 포함하는 1차 희석가스가 이젝터부(200) 및 제2희석부(300)에서 상온의 희석공기와 혼합되어 제2상태(P2)의 희석가스로 생성되는 경우, 2차 희석가스에는 다량의 액적이 계속 포함되게 된다. 이러한 액적은 입자계수기(미도시)에서의 측정 시에 입자로 취급될 수 있기 때문에, 측정 정확도가 저하되는 원인이 될 수 있다.Referring to FIG. 3, the exhaust gas 1 flowing into the first dilution unit 100 is in a high temperature state P0, and if the primary dilution air 2 mixed with the high temperature exhaust gas 1 When is air at room temperature, that is, when the high-temperature exhaust gas 1 is diluted at room temperature, all moisture in the exhaust gas 1 may be converted into droplets. Accordingly, the primary dilution gas in the first state P1 generated in the first dilution unit 100 may include a large amount of liquid droplets. In addition, when the primary dilution gas containing a large amount of liquid droplets is mixed with dilution air at room temperature in the ejector unit 200 and the second dilution unit 300 to generate the dilution gas in the second state (P2), the secondary dilution gas is generated. A large amount of liquid droplets are continuously included in the diluent gas. Since these droplets can be treated as particles during measurement in a particle counter (not shown), they can cause a decrease in measurement accuracy.

그러나, 본 발명에 따르면, 고온의 상태(P0)의 배기가스(1)가 고온의 1차 희석공기(2)와 혼합됨으로써, 즉, 고온의 배기가스(1)가 고온희석됨으로써 제1 희석부에서 생성되는 1차 희석가스는 제3상태(P3)가 될 수 있으며, 배기가스(1) 내의 수분이 액적화되는 것이 방지될 수 있다. 그리고, 이젝터부(200) 및 제2희석부(300)에서 상온의 희석공기(3)와 혼합되어 제2상태(P2)의 2차 및 3차 희석가스로 형성됨으로 희석가스에는 액적이 포함되지 않거나, 액적의 함유량이 최소화될 수 있으며, 이를 통해, 입자의 측정 정확도는 향상될 수 있다.However, according to the present invention, the exhaust gas 1 in the high-temperature state P0 is mixed with the high-temperature primary dilution air 2, that is, the high-temperature exhaust gas 1 is diluted at a high temperature in the first dilution unit. The primary dilution gas generated in may be in the third state (P3), and water in the exhaust gas 1 may be prevented from being converted into droplets. In addition, the ejector unit 200 and the second dilution unit 300 are mixed with the room temperature dilution air 3 to form secondary and tertiary dilution gases in the second state P2, so that the dilution gas does not contain droplets. Alternatively, the content of droplets may be minimized, and through this, measurement accuracy of particles may be improved.

도시되지 않은 예열부는 제1희석부(100)의 후단부에 구비될 수 있으며, 제1희석부(100)로 유입되는 배기가스(1)를 예열(Pre-heating)시킬 수 있다. 예열부는 배기가스(1)를 190℃ 내지 210℃의 온도로 예열시킬 수 있다. 배기가스(1)가 예열되어 제1희석부(100)로 이동하면 전술한 1차 희석공기(2)와 혼합되어 더욱 효과적으로 고온희석될 수 있다.A preheating unit (not shown) may be provided at a rear end of the first dilution unit 100 and may pre-heat exhaust gas 1 flowing into the first dilution unit 100 . The preheating unit may preheat the exhaust gas 1 to a temperature of 190°C to 210°C. When the exhaust gas 1 is preheated and moved to the first dilution unit 100, it is mixed with the above-described primary dilution air 2 and can be diluted at a high temperature more effectively.

본 발명에서와 같이 이젝터 전방에 제1희석부(100)를 구비함에 따라서 희석공기의 양을 최소화하며 고비율의 희석공기를 생성할 수 있다. As in the present invention, since the first dilution unit 100 is provided in front of the ejector, it is possible to minimize the amount of dilution air and generate a high ratio of dilution air.

도 1에서 제1희석부(100)의 구성이 빠지고 이젝터부(200)와 제2희석부(300)로만 구성되는 희석장치(case 1)와 도 1에서와 같이 이젝터부(200)의 후방에 제1희석부(100)를 구비하며 제1희석부(100), 이젝터부(200) 및 제2희석부(300)로 희석장치가 구성되는 경우(case 2)에 있어서 희석공기의 유량 및 희석비에 관한 관계를 비교 설명하기로 한다. In FIG. 1, the configuration of the first dilution unit 100 is omitted, and the dilution device (case 1) composed of only the ejector unit 200 and the second dilution unit 300 and the rear of the ejector unit 200 as shown in FIG. Flow rate and dilution of dilution air in the case where the dilution device is provided with the first dilution unit 100 and is composed of the first dilution unit 100, the ejector unit 200, and the second dilution unit 300 (case 2) A comparative description of the relationship with respect to rain will be given.

아래 표에서와 같이 이젝터부(200)에서 샘플링되는 유량을 2.4lpm으로 고정시킬 때, 필요한 이젝터부(200)에 유입되는 2차 희석공기(3)의 유량은 case 1과 case 2 모두 30lpm이다. 이때, case 1에서는 제1희석부(100)가 없기 때문에 이젝터부(200)에 유입되는 배기가스(1)의 유량은 2.4lpm이어야 한다. 하지만, case 2에서 이젝터부(200)에 유입되기 전 제1희석부(100)에서 1차 희석공기(2)가 유입되므로, 예를 들어 1차 희석공기(2)의 유량을 2.1lpm으로 설정하면 굴뚝으로부터 샘플링되는 유량은 0.3lpm이 필요하게 된다. 이때, 희석비 200의 희석가스를 최종적으로 생성하기 위해서 제2희석부(300)에서 공급되는 3차 희석공기(4)의 유량은 case 1에서 450lpm case 2에서는 28lpm이 요구된다. As shown in the table below, when the flow rate sampled by the ejector unit 200 is fixed at 2.4 lpm, the required flow rate of the secondary dilution air 3 flowing into the ejector unit 200 is 30 lpm in both case 1 and case 2. At this time, since there is no first dilution unit 100 in Case 1, the flow rate of the exhaust gas 1 flowing into the ejector unit 200 should be 2.4 lpm. However, in case 2, since the primary dilution air 2 flows in from the first dilution unit 100 before flowing into the ejector unit 200, for example, the flow rate of the primary dilution air 2 is set to 2.1 lpm. 0.3 lpm is required for the flow rate sampled from the chimney. At this time, in order to finally generate a dilution gas having a dilution ratio of 200, the flow rate of the tertiary dilution air 4 supplied from the second dilution unit 300 is 450 lpm in case 1 and 28 lpm in case 2.

따라서, case 1의 경우에는 희석비 200의 희석가스를 생성하기 위해 이젝터부(200) 전방의 제2희석부(300)에 공급되는 3차 희석공기(4)의 유량이 450lpm인데 반하여 본 발명에 따른 case 2의 경우에는 28lpm만 유입시키면 같은 희석비의 희석가스를 생성시킬 수가 있다. 따라서, case 1과 비교하여 제2희석부(300)에 저용량의 유량 공급 장치를 이용하여 고배율의 희석가스를 생성시킬 수 있다. 물론, 제1희석부(100)에도 공급되는 유량이 적기 때문에 저용량의 유량 공급 장치를 통해 희석공기가 공급될 수 있다. Therefore, in the case of case 1, the flow rate of the tertiary dilution air 4 supplied to the second dilution unit 300 in front of the ejector unit 200 to generate a dilution gas with a dilution ratio of 200 is 450 lpm, whereas in the present invention In the case of case 2, dilution gas of the same dilution ratio can be generated by introducing only 28 lpm. Therefore, compared to case 1, a high-magnification dilution gas can be generated by using a low-capacity flow rate supply device to the second dilution unit 300 . Of course, since the flow rate supplied to the first dilution unit 100 is small, the dilution air can be supplied through the low-capacity flow rate supply device.

또한, 도 3을 참조로 설명한 고온희석을 위해서 case 1에서는 이젝터부(200)에 공급되는 2차 희석공기(3)를 고온으로 공급해야 하나, 본 발명에 따른 case 2에서는 제1희석부(100)에 공급되는 1차 희석공기(2)를 고온으로 공급하여 수분의 응축을 막을 수 있다. 고온으로 유입되는 희석가스의 양이 case 1과 비교하여 case 2가 작기 때문에 희석공기를 가열시키는데 필요한 에너지양을 최소화할 수 있다. In addition, for the high-temperature dilution described with reference to FIG. 3, in case 1, the secondary dilution air 3 supplied to the ejector unit 200 should be supplied at a high temperature, but in case 2 according to the present invention, the first dilution unit 100 ), it is possible to prevent condensation of moisture by supplying the primary dilution air (2) at a high temperature. Since the amount of dilution gas introduced at high temperature is smaller in case 2 compared to case 1, the amount of energy required to heat the dilution air can be minimized.

이때, 제1희석부(100)에 공급되는 1차 희석공기(2) 및 이젝터부(200)에 공급되는 2차 희석공기(3)는 고압의 공기를 생성하는 컴프레셔를 이용하여 공급하게 되고, 제2희석부(300)에 공급되는 3차 희석공기(4)는 블로워를 통해 공급될 수 있다. At this time, the primary dilution air 2 supplied to the first dilution unit 100 and the secondary dilution air 3 supplied to the ejector unit 200 are supplied using a compressor that generates high-pressure air, The tertiary dilution air 4 supplied to the second dilution unit 300 may be supplied through a blower.

도 1에서 제1희석부가 없는 경우(case 1)When there is no first dilution part in FIG. 1 (case 1) 도 1(제1 희석부 포함)(case 2)Figure 1 (including the first dilution part) (case 2) 이젝터부에서 샘플링되는 유량Flow rate sampled from the ejector unit 2.42.4 굴뚝으로부터 샘플링되는 유량Flow rate sampled from chimney 2.42.4 0.30.3 1차 희석공기(제1희석부) 유량1st dilution air (1st dilution part) flow rate 00 2.12.1 2차 희석공기(이젝터부) 유량2nd dilution air (ejector part) flow rate 3030 3030 3차 희석공기(제2희석부) 유량3rd dilution air (2nd dilution part) flow rate 450450 2828 희석비dilution ratio (0+30+450)/2.4=200(0+30+450)/2.4=200 (2.1+30+28)/0.3=200.3(2.1+30+28)/0.3=200.3

본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치는 제2희석부(300)의 전단에 결합되고, 3차 희석가스의 입자정보를 측정하는 측정부(800)를 포함할 수 있다.An exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention may include a measurement unit 800 coupled to the front end of the second dilution unit 300 and measuring particle information of the tertiary dilution gas.

도 4에 도시되어 있는 것과 같이 측정부(800)는 분사부(810), 광원(820), 수광부(830) 그리고 산출부(840)를 포함하여 구성될 수 있다.As shown in FIG. 4 , the measuring unit 800 may include a dispensing unit 810 , a light source 820 , a light receiving unit 830 and a calculation unit 840 .

3차 희석가스는 배출관(590)과 연결되는 흐름유로(591)를 통해 분사부(810)로 이동될 수 있다. 그러면 분사부(810)는 3차 희석가스에 포함된 입자(P)를 하나씩 순차 분사할 수 있다.The tertiary dilution gas may be moved to the injection unit 810 through the flow passage 591 connected to the discharge pipe 590 . Then, the injection unit 810 may sequentially inject the particles P included in the tertiary dilution gas one by one.

광원(820)은 분사부(810)에서 분사되는 입자(P)의 분사경로에 교차하는 방향으로 광(821)을 조사할 수 있다. 입자(P)의 분사경로에 교차하는 광(821)이 분사경로 상의 입자(P)에 부딪히게 되면 산란이 발생할 수 있다.The light source 820 may irradiate light 821 in a direction crossing the spray path of the particles P sprayed from the ejection unit 810 . Scattering may occur when the light 821 crossing the ejection path of the particle P collides with the particle P on the ejection path.

수광부(830)는 분사경로의 일측에 구비되고, 광원(820)에서 조사된 후 분사부(810)에서 분사되는 입자(P)에 의해 산란되는 광(822)을 수광할 수 있다. 분사부(810)에서 분사되는 입자(P)의 크기가 크면 산란되는 광(822)이 많아지고, 반대로, 입자(P)의 크기가 작으면 산란되는 광(822)은 적어질 수 있다.The light receiving unit 830 is provided on one side of the spraying path and may receive light 822 scattered by particles P sprayed from the spraying unit 810 after being irradiated by the light source 820 . If the size of the particles P ejected from the ejection unit 810 is large, the scattered light 822 may increase. Conversely, if the size of the particle P is small, the scattered light 822 may decrease.

산출부(840)는 수광부(830)에서 생성하는 광 정보를 기초로, 2차 희석가스에 포함된 입자의 크기 정보를 산출할 수 있다. 입자의 크기 정보는 미리 설정된 측정시간 동안 획득되는 입자를 대상으로 산출될 수 있다. The calculator 840 may calculate size information of particles included in the secondary dilution gas based on light information generated by the light receiver 830 . Particle size information may be calculated for particles obtained during a preset measurement time.

산출부(840)가 산출하는 입자의 크기 정보는, 예를 들면, 입자의 크기가 10㎛ 이하로 보통 미세먼지로 칭해지는 PM10(Particulate Matter with a diameter less than 10㎛)의 농도, 또는 입자의 크기가 2.5㎛ 이하로 보통 초미세먼지로 칭해지는 PM2.5의 농도로 산출될 수 있다.The particle size information calculated by the calculation unit 840 is, for example, the concentration of PM10 (Particulate Matter with a diameter less than 10 μm), which is commonly referred to as fine dust with a particle size of 10 μm or less, or the particle size It can be calculated as the concentration of PM2.5, which is usually referred to as ultrafine dust with a size of 2.5 μm or less.

측정부(800)는 전술한 구성에 한정되지 않고, 입자의 농도를 측정하는 공지된 다른 구성으로 형성될 수도 있다. The measurement unit 800 is not limited to the above-described configuration, and may be formed with other known configurations for measuring the concentration of particles.

도 5는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치를 나타낸 사시도이다.5 is a perspective view showing an exhaust gas dilution device according to another embodiment of the present invention.

도 5의 배기가스 희석장치는 도 1 내지 도 4를 참조로 설명한 배기가스 희석장치와 비교하여 이젝터부(900)의 구성만 다르고 나머지 구성은 동일하다. 즉, 본 실시예에서도 제1희석부(100), 이젝터부(900), 및 제2희석부(300)로 3차로 나뉘어 희석공기가 공급될 수 있다. 이하의 설명에서는 전술한 실시예와 차이점인 이젝터부(900)의 구성을 중심으로 설명하기로 한다. The exhaust gas dilution device of FIG. 5 is different from the exhaust gas dilution device described with reference to FIGS. 1 to 4 except for the configuration of the ejector unit 900, and the rest of the configuration is the same. That is, in this embodiment, dilution air may be supplied in three parts to the first dilution unit 100, the ejector unit 900, and the second dilution unit 300. In the following description, the configuration of the ejector unit 900, which is different from the above-described embodiment, will be mainly described.

본 실시예에 따른 이젝터부(900)는 헤드부(910), 공기주입부(920), 및 노즐부(930)를 포함하여 구성될 수 있다. The ejector unit 900 according to the present embodiment may include a head unit 910, an air injection unit 920, and a nozzle unit 930.

헤드부(910)는 제1희석부(100)의 1차 희석가스가 유입되는 공간부(911)와, 공간부(911)와 연결되며 전단에 중심축 방향으로 관통 형성되는 관통홀(912)이 형성될 수 있다. The head part 910 includes a space part 911 into which the first dilution gas of the first dilution part 100 flows, and a through hole 912 connected to the space part 911 and formed at the front end in the central axis direction. can be formed.

공기주입부(920)는 헤드부(910)의 전단에 결합될 수 있다. 헤드부(910) 및 공기주입부(920)는 서로 동일한 중심축을 가지도록 결합될 수 있다.The air injection unit 920 may be coupled to the front end of the head unit 910 . The head part 910 and the air injection part 920 may be coupled to have the same central axis.

공기주입부(920)는 헤드부(910)의 관통홀(912)과 연결되도록 중심축 방향으로 관통 형성되는 제1토출홀(925)이 형성될 수 있다. 이때, 제1토출홀(925)은 2차 희석공기(3)가 유입되는 제2유입구(922)와 연결될 수 있다. The air injection unit 920 may have a first discharge hole 925 penetrating in the central axis direction so as to be connected to the through hole 912 of the head unit 910 . In this case, the first discharge hole 925 may be connected to the second inlet 922 through which the secondary dilution air 3 flows.

제1토출홀(925)은 후단에서 전단으로 흡인부(926), 가속부(927) 및 확산부(928)로 구분 형성될 수 있다.The first discharge hole 925 may be divided into a suction part 926, an acceleration part 927, and a diffusion part 928 from the rear end to the front end.

흡인부(926)는 공기주입부(920)의 후단부에 형성될 수 있으며, 전방으로 갈수록 내경이 작아지도록 형성될 수 있다. 가속부(927)는 흡인부(926)의 전단에 형성되어 흡인부(926)와 연결되며, 동일한 내경으로 형성될 수 있다. 확산부(928)는 가속부(927)의 전단에 형성되어 가속부(927)와 연결되며, 확산부(928)는 전방으로 갈수록 내경이 커지도록 형성될 수 있다.The suction part 926 may be formed at the rear end of the air injection part 920, and may have an inner diameter smaller toward the front. The acceleration part 927 is formed at the front end of the suction part 926 and is connected to the suction part 926, and may be formed with the same inner diameter. The diffusion part 928 is formed at the front end of the accelerating part 927 and is connected to the accelerating part 927, and the diffusion part 928 may be formed such that an inner diameter increases toward the front.

또한, 공기주입부(920)에는 제2유입구(922)가 형성될 수 있다. 제2유입구(922)는 반경 방향으로 관통 형성되어 흡인부(926)와 연결될 수 있다. 제2유입구(922)는 외부에서 공급되는 2차 희석공기(3)를 흡인부(926)로 안내하여, 2차 희석공기(3)는 가속부(927), 확산부(928)를 거쳐 공기주입부(920) 전단으로 유출될 수 있다. 제2유입구(922)에는 외부로부터 2차 희석공기(3)의 유입을 안내하는 제2관(921)이 결합될 수 있다.In addition, a second inlet 922 may be formed in the air injection unit 920 . The second inlet 922 may be formed to penetrate in the radial direction and be connected to the suction part 926 . The second inlet 922 guides the secondary dilution air 3 supplied from the outside to the suction unit 926, and the secondary dilution air 3 passes through the accelerator unit 927 and the diffusion unit 928 to It may flow out to the front end of the injection unit 920 . A second pipe 921 for guiding the inflow of the secondary dilution air 3 from the outside may be coupled to the second inlet 922 .

2차 희석공기(3)는 상온의 공기일 수 있으며, 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급될 수 있다.The secondary dilution air 3 may be room temperature air, and may be supplied at a temperature of 10 °C to 30 °C.

노즐부(930)는 관통홀(912)을 통해 제1토출홀(925)에 삽입되고, 2차 희석공기(3)가 제1토출홀(925)을 통해 이동됨에 따라 공간부(911)에 유입된 1차 희석가스가 빨려 들어가 분출되도록 중심축 방향으로 관통 형성되는 제2토출홀(934)이 형성될 수 있다.The nozzle unit 930 is inserted into the first discharge hole 925 through the through hole 912, and the secondary dilution air 3 moves through the first discharge hole 925 to the space portion 911. A second discharge hole 934 penetrating in a central axis direction may be formed so that the introduced primary dilution gas is sucked in and discharged.

노즐부(930)는 플랜지부(931), 연결부(932) 및 노즐팁부(933)로 구성될 수 있다. The nozzle unit 930 may include a flange unit 931 , a connection unit 932 and a nozzle tip unit 933 .

플랜지부(931)는 반경 방향으로 플랜지 형태로 돌출되어 공간부(911)의 내측면에 결합될 수 있다. 플랜지부(931)는 볼트와 같은 체결부재에 의해 헤드부(910)에 탈부착 가능하게 결합될 수 있다.The flange portion 931 may protrude in a radial direction in a flange shape and be coupled to an inner surface of the space portion 911 . The flange portion 931 may be detachably coupled to the head portion 910 by a fastening member such as a bolt.

연결부(932)는 플랜지부(931)와 연결되어 전방으로 연장 형성될 수 있다. 연결부(932)는 헤드부(910)의 관통홀(912)을 관통하여 헤드부(910)의 전방으로 연장되어 흡인부(926)의 내측에 전단부가 위치할 수 있다. 연결부(932)는 전방 방향으로 갈수록 지름이 작아지도록 형성될 수 있다. 연결부(932)의 외주면과 흡인부(926) 사이는 이격 공간을 형성하여 2차 희석공기(3)가 투입되는 공간을 형성할 수 있다.The connecting portion 932 may be connected to the flange portion 931 and extend forward. The connecting portion 932 penetrates the through hole 912 of the head portion 910 and extends forward of the head portion 910 so that the front end portion may be positioned inside the suction portion 926 . The connecting portion 932 may be formed to have a smaller diameter in a forward direction. A separation space may be formed between the outer circumferential surface of the connection part 932 and the suction part 926 to form a space into which the secondary dilution air 3 is injected.

노즐팁부(933)는 연결부(932)의 전단에 형성되어 가속부(927)에 삽입될 수 있다. 노즐팁부(933)는 가속부(927)의 내경 보다는 더 작은 크기의 외경을 가질 수 있다.The nozzle tip part 933 may be formed at the front end of the connection part 932 and inserted into the accelerator part 927 . The nozzle tip 933 may have an outer diameter smaller than the inner diameter of the accelerator 927 .

그리고, 노즐부(930)는 중심축 방향으로 관통하는 제2토출홀(934)이 형성될 수 있다. 연결부(932)에 대응하는 위치의 제2토출홀(934)은 전방으로 갈수록 내경이 작아지도록 형성될 수 있으며, 노즐팁부(933)에 대응하는 위치의 제2토출홀(934)은 동일한 내경으로 형성될 수 있다.In addition, the second discharge hole 934 penetrating the nozzle unit 930 in the direction of the central axis may be formed. The second discharge hole 934 at a position corresponding to the connecting portion 932 may have an inner diameter that decreases toward the front, and the second discharge hole 934 at a position corresponding to the nozzle tip 933 has the same inner diameter. can be formed

또한, 노즐팁부(933)의 외경이 가속부(927)의 내경보다 작으므로, 노즐팁부(933)의 외경과 가속부(927)의 내경 사이 공간인 제1토출유로(951)를 가질 수 있다. 따라서, 제1토출유로(951)에 의해 흡인부(926)에 유입된 2차 희석공기(3)가 확산부(928)로 이동될 수 있다.In addition, since the outer diameter of the nozzle tip 933 is smaller than the inner diameter of the accelerator 927, the first discharge passage 951 may be provided as a space between the outer diameter of the nozzle tip 933 and the inner diameter of the accelerator 927. . Accordingly, the secondary dilution air 3 introduced into the suction unit 926 through the first discharge passage 951 may be moved to the diffusion unit 928 .

2차 희석공기(3)는 작은 단면적의 제1토출유로(951)를 통과하면서 유속이 빨라지게 되는데, 2차 희석공기(3)가 확산부(928)로 배출되면 압력이 낮아지게 된다. 그러면, 확산부(928)와 공간부(911) 사이에 압력 차이가 발생하게 되고, 공간부(911)의 1차 희석가스는 제2토출홀(934)을 통해 확산부(928)로 이동하게 된다. The flow rate of the secondary dilution air 3 increases while passing through the first discharge passage 951 having a small cross-sectional area. When the secondary dilution air 3 is discharged to the diffusion part 928, the pressure decreases. Then, a pressure difference is generated between the diffusion part 928 and the space part 911, and the primary dilution gas in the space part 911 moves to the diffusion part 928 through the second discharge hole 934. do.

제1토출유로(951)의 단면 크기는 조정될 수 있으며, 이를 통해, 2차 희석공기(3)의 유량 및 압력은 제어가 가능하다.The cross-sectional size of the first discharge passage 951 can be adjusted, and through this, the flow rate and pressure of the secondary dilution air 3 can be controlled.

만일, 노즐팁부(933)의 중심축이 가속부(927)의 중심축과 일치되지 않으면, 노즐팁부(933)와 가속부(927) 사이의 틈새 단면적이 위치에 따라 달라져 여기를 통과하는 2차 희석공기(3)의 유량도 달라지게 되고, 확산부(928) 후단에서 효과적인 감압이 이루어지지 못할 수 있다. 그러면 제2토출홀(934)을 통해 1차 희석가스의 이동도 안정적으로 이루어지지 못할 수 있다.If the central axis of the nozzle tip part 933 does not match the central axis of the accelerator part 927, the cross-sectional area of the gap between the nozzle tip part 933 and the accelerator part 927 varies depending on the position, and the secondary The flow rate of the dilution air 3 also varies, and effective pressure reduction may not be achieved at the rear end of the diffusion unit 928. Then, the first dilution gas may not stably move through the second discharge hole 934 .

그러나, 본 발명에서는 노즐팁부(933)는 가속부(927)와 동일한 중심축 상에 위치될 수 있다. 따라서, 노즐팁부(933)와 가속부(927) 사이의 어느 위치에서도 2차 희석공기(3)의 유량이 동일하게 되고, 확산부(928)에서 효과적인 감압이 이루어져서 제2토출홀(934)을 통해 1차 희석가스는 안정적으로 이동될 수 있다. 그리고, 확산부(928)에서 이루어지는 효과적인 감압으로 인해 1차 희석가스의 이동이 원활하게 이루어질 수 있다.However, in the present invention, the nozzle tip 933 may be located on the same central axis as the accelerator 927 . Therefore, at any position between the nozzle tip part 933 and the accelerator part 927, the flow rate of the secondary dilution air 3 becomes the same, and effective pressure reduction is made in the diffusion part 928 to open the second discharge hole 934. Through this, the first dilution gas can be stably moved. In addition, the primary dilution gas can be smoothly moved due to effective pressure reduction in the diffusion unit 928 .

본 실시예에서도 제1어댑터부(500) 및 제2어댑터부(550)를 더 포함할 수 있다.In this embodiment, a first adapter unit 500 and a second adapter unit 550 may be further included.

제1어댑터부(500)는 공기주입부(920)의 전단에 결합될 수 있다.The first adapter unit 500 may be coupled to the front end of the air injection unit 920 .

제1어댑터부(500)에는 연장확산부(501)가 축방향으로 관통 형성될 수 있다. 연장확산부(501)는 전방 방향으로 갈수록 내경이 커지도록 형성될 수 있으며, 공기주입부(920)의 확산부(928)와 연속되도록 형성될 수 있다.The extension and diffusion part 501 may be formed through the first adapter part 500 in the axial direction. The extension and diffusion part 501 may have an inner diameter that increases in the forward direction, and may be formed continuously with the diffusion part 928 of the air injection part 920 .

제2어댑터부(550)는 제1어댑터부(500)의 전단에 결합될 수 있다. The second adapter unit 550 may be coupled to the front end of the first adapter unit 500 .

제2어댑터부(550)는 축방향으로 관통 형성되는 유로홀(551)이 형성될 수 있으며, 유로홀(551)은 제1어댑터부(500)의 연장확산부(501)와 연결될 수 있다.The second adapter unit 550 may have a passage hole 551 formed therethrough in an axial direction, and the passage hole 551 may be connected to the extension/diffusion part 501 of the first adapter unit 500 .

본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.The scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, but may be implemented in various forms of embodiments within the scope of the appended claims. Anyone with ordinary knowledge in the art to which the invention pertains without departing from the subject matter of the invention claimed in the claims is considered to be within the scope of the claims of the present invention to various extents that can be modified.

100: 제1희석부 110: 제1유로부
111: 통공 120: 제2유로부
130: 가이드벽 140: 제1유입구
141: 제1관 200: 이젝터부
210: 메인유로 211: 제1분기유로
216: 제2분기유로 221: 제2관
230: 흡인유로 231: 공간부
232: 제1흡인부 233: 제1가속부
234: 제2흡인부 235: 제2가속부
236: 확산부 300: 제2희석부
310: 제1유로부 311: 통공
320: 제2유로부 330: 가이드벽
340: 제2유입구 500: 제1어댑터부
501: 연장확산부 550: 제2어댑터부
551: 유로홀 570: 확산튜브부
571: 추가확산부 580: 마개부
581: 연결홀 590: 배출관
591: 흐름유로 800: 측정부
810: 분사부 820: 광원
830: 수광부 840: 산출부
900: 이젝터부 910: 헤드부
911: 공간부 912: 관통홀
920: 공기주입부 921: 제2관
922: 제2유입구 925: 제1토출홀
926: 흡인부 927: 가속부
928: 확산부 930: 노즐부
931: 플랜지부 932: 연결부
933: 노즐팁부 934: 제2토출홀
951: 제1토출유로
1: 배기가스
2: 1차 희석공기
3: 2차 희석공기
4: 3차 희석공기
100: first dilution unit 110: first flow path unit
111: through hole 120: second passage part
130: guide wall 140: first inlet
141: tube 1 200: ejector unit
210: Main Euro 211: First Quarter Euro
216: 2nd branch flow 221: 2nd pipe
230: suction flow path 231: space
232: first suction unit 233: first acceleration unit
234: second suction unit 235: second acceleration unit
236: diffusion unit 300: second dilution unit
310: first passage part 311: through hole
320: second passage part 330: guide wall
340: second inlet 500: first adapter unit
501: extension and diffusion unit 550: second adapter unit
551: Euro hole 570: Diffusion tube part
571: additional diffusion unit 580: stopper unit
581: connection hole 590: discharge pipe
591: flow path 800: measuring unit
810: injection unit 820: light source
830: light receiving unit 840: outputting unit
900: ejector unit 910: head unit
911: space part 912: through hole
920: air inlet 921: pipe 2
922: second inlet 925: first discharge hole
926: suction part 927: acceleration part
928: diffusion part 930: nozzle part
931: flange portion 932: connection portion
933: nozzle tip part 934: second discharge hole
951: first discharge passage
1: Exhaust gas
2: 1st dilution air
3: 2nd dilution air
4: 3rd dilution air

Claims (7)

외부로부터 배기가스가 유입되며 1차 희석공기를 공급하여 1차 희석가스를 생성하는 제1희석부;
상기 제1희석부 전단에 형성되고 2차 희석공기를 공급하여 압력차로 후단의 1차 희석가스를 전단으로 이동시키고 2차 희석가스를 생성하는 이젝터부; 및
상기 이젝터부 전단에 형성되고 상기 2차 희석가스에 3차 희석공기를 공급하여 3차 희석가스를 생성하는 제2희석부를 포함하는 배기가스 희석장치.
a first dilution unit generating a first dilution gas by supplying a first dilution air to which exhaust gas is introduced from the outside;
an ejector unit formed at a front end of the first dilution unit and supplying secondary dilution air to move the primary dilution gas at the rear to the front stage by a pressure difference and generate secondary dilution gas; and
and a second dilution unit formed at a front end of the ejector unit and generating a tertiary dilution gas by supplying tertiary dilution air to the second dilution gas.
제1항에 있어서,
상기 제1희석부는
상기 배기가스가 유입되고 외주면에 복수의 통공이 관통 형성되는 제1유로부와, 상기 제1유로부와 이격하여 둘러싸도록 형성되고 전단부에 1차 희석공기가 공급되는 관이 연결되는 제2유로부와, 상기 제1유로부와 상기 제2유로부의 사이에 배치되는 가이드벽을 포함하고, 상기 관을 통해 유입된 상기 1차 희석공기는 상기 제2유로부와 상기 가이드벽 사이의 공간을 통해 후방으로 이동한 후 상기 제1유로부와 상기 가이드벽 사이의 공간을 통해 전방으로 이동하도록 하고, 상기 통공을 통해 상기 1차 희석가스는 상기 제1유로부 내부로 유입되어 상기 배기가스와 혼합하는 배기가스 희석장치.
According to claim 1,
The first dilution part
A first flow passage through which the exhaust gas flows and having a plurality of through holes formed through the outer circumferential surface, and a second flow passage formed to be spaced apart from and surrounding the first flow passage and connected to a pipe supplying primary dilution air to the front end. and a guide wall disposed between the first flow passage portion and the second flow passage portion, wherein the primary dilution air introduced through the pipe passes through a space between the second flow passage portion and the guide wall. After moving backward, move forward through a space between the first flow path portion and the guide wall, and through the through hole, the primary dilution gas flows into the first flow path portion and mixes with the exhaust gas. Exhaust gas dilution device.
제1항에 있어서,
상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급되는 배기가스 희석장치.
According to claim 1,
The exhaust gas dilution device in which the primary dilution air is supplied at a temperature of 150 ° C to 250 ° C.
제1항에 있어서,
상기 이젝터부는
상기 1차 희석가스가 유동하는 유로인 흡인유로 및 유입되는 2차 희석공기를 분기시켜 상기 흡인유로의 복수 지점에 공급시키는 유로인 희석공기 공급유로가 형성되고, 2차 희석공기의 공급에 따른 압력 차이로 상기 흡인유로를 통해 상기 제1희석부의 1차 희석가스를 유입시켜 상기 2차 희석가스를 생성하여 전방으로 토출시키는 배기가스 희석장치.
According to claim 1,
The ejector part
A suction flow path, which is a flow path through which the first dilution gas flows, and a dilution air supply flow path, which is a flow path for branching and supplying incoming secondary dilution air to a plurality of points in the suction flow path, are formed, and the pressure according to the supply of the second dilution air is formed. Differentially, the exhaust gas dilution device for generating the secondary dilution gas by introducing the first dilution gas of the first dilution unit through the suction passage and discharging it forward.
제 4 항에 있어서,
상기 희석공기 공급유로는
외부로부터 상기 2차 희석공기가 유입되는 메인유로;
상기 메인유로로부터 분기하여 상기 흡인유로의 후단부에 상기 2차 희석공기를 공급하는 제1분기유로; 및
상기 메인유로로부터 분기하여 상기 흡인유로의 전단부에 상기 2차 희석공기를 공급하는 제2분기유로를 포함하는 배기가스 희석장치.
According to claim 4,
The dilution air supply path is
a main flow path into which the secondary dilution air is introduced from the outside;
a first branch passage branching from the main passage to supply the secondary dilution air to a rear end of the suction passage; and
and a second branch flow path branching from the main flow path to supply the secondary dilution air to a front end of the suction flow path.
제 5 항에 있어서,
상기 제1분기유로의 단부는 상기 흡인유로 후단부 주위를 둘러싸도록 형성되어 상기 흡인유로의 후단부 전방을 향하여 상기 2차 희석공기를 토출시키고,
상기 제2분기유로의 단부는 상기 흡인유로의 전단부 주위를 둘러싸도록 형성되어 상기 흡인유로의 전단부 전방을 향하여 상기 2차 희석공기를 토출시키는 배기가스 희석장치.
According to claim 5,
The end of the first branch passage is formed to surround the rear end of the suction passage and discharges the secondary dilution air toward the front of the rear end of the suction passage;
An exhaust gas dilution device in which an end of the second branch passage is formed to surround the front end of the suction passage and discharges the secondary dilution air toward the front end of the suction passage.
제 5 항에 있어서,
상기 흡인유로는 상기 이젝터부의 후단부에 형성되며 전방을 향하여 관경이 점차적으로 줄어드는 제1흡인부, 상기 제1흡인부의 전단에 형성되며 관경이 일정한 제1가속부, 상기 제1가속부의 전단에 형성되며 상기 제1분기유로를 통해 유입되는 2차 희석공기와 상기 배기가스가 혼합되어 2-1차 희석가스를 생성하며 관경이 점차적으로 줄어드는 제2흡인부, 및 상기 제2흡인부의 전단에 형성되며 관경이 일정한 제2가속부, 상기 제2가속부의 전단에 형성되며 상기 제2분기유로를 통해 유입되는 2차 희석공기와 상기 2-1차 희석가스가 혼합되어 2-2차 희석가스를 생성하고 관경이 점차적으로 커지는 확산부를 포함하는 배기가스 희석장치.
According to claim 5,
The suction passage is formed at the rear end of the ejector unit and formed at a first suction part having a pipe diameter gradually decreasing toward the front, a first acceleration part formed at a front end of the first suction part and having a constant pipe diameter, and a front end of the first acceleration part. The secondary dilution air introduced through the first branch flow path and the exhaust gas are mixed to generate the 2nd-1st dilution gas, and a second suction part having a gradually reduced pipe diameter is formed at the front end of the second suction part. A second accelerator having a constant pipe diameter, formed at the front end of the second accelerator, and mixing the secondary dilution air introduced through the second branch flow path with the secondary dilution gas to generate a secondary dilution gas; Exhaust gas dilution device including a diffusion part in which the tube diameter gradually increases.
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