KR102662945B1 - Apparatus for diluting exhaust gas - Google Patents

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Abstract

본 발명은 배기가스 희석장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 배기가스 희석장치는 외부로부터 배기가스가 유입되며 1차 희석공기를 공급하여 1차 희석가스를 생성하는 제1희석부, 상기 제1희석부 전단에 형성되고 2차 희석공기를 공급하여 압력차로 후단의 1차 희석가스를 전단으로 이동시키고 2차 희석가스를 생성하는 이젝터부 및 상기 이젝터부 전단에 형성되고 상기 2차 희석가스에 3차 희석공기를 공급하여 3차 희석가스를 생성하는 제2희석부를 포함하는 것을 특징으로 한다. The present invention relates to an exhaust gas dilution device. The exhaust gas dilution device according to the present invention includes a first dilution unit in which exhaust gas flows in from the outside and supplies primary dilution air to generate primary dilution gas, the first dilution unit. An ejector unit formed at the front end of the unit and supplying secondary dilution air to move the primary dilution gas at the rear end to the front end due to a pressure difference and generating secondary dilution gas, and an ejector unit formed at the front end of the ejector unit and supplying secondary dilution gas to the secondary dilution gas. It is characterized by comprising a second dilution unit that supplies dilution air to generate a third dilution gas.

Description

배기가스 희석장치{APPARATUS FOR DILUTING EXHAUST GAS}Exhaust gas dilution device {APPARATUS FOR DILUTING EXHAUST GAS}

본 발명은 배기가스 희석장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 배기가스에 포함된 입자의 농도를 측정하기 위해 입자계수기의 측정범위에 맞게 고농도의 배기가스를 희석시켜 고농도의 배기가스에 대해서도 측정 정밀도를 높일 수 있도록 하는 배기가스 희석장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exhaust gas dilution device. More specifically, in order to measure the concentration of particles contained in exhaust gas, high-concentration exhaust gas is diluted to fit the measurement range of a particle counter to improve measurement accuracy even for high-concentration exhaust gas. It is about an exhaust gas dilution device that can increase emissions.

샘플링한 입자의 농도가 입자계수기의 측정범위를 넘어서는 경우에, 입자 희석장치는 입자계수기의 전단에 설치하여 샘플링한 입자를 일정한 희석비로 희석한 후에 입자계수기로 이송함으로써, 고농도의 샘플링 입자들까지도 측정할 수 있도록 하는 장치이다.In cases where the concentration of sampled particles exceeds the measurement range of the particle counter, a particle dilution device is installed at the front of the particle counter to dilute the sampled particles at a certain dilution ratio and then transfer them to the particle counter, measuring even high-concentration sampled particles. It is a device that allows you to do this.

고온, 고수분, 고농도 환경의 굴뚝 내부 환경에서 측정의 정확도를 높이기 위해서는 액적 발생을 최소화하며 희석이 이루어져야 한다. 나아가, 희석 장치의 구조에 따른 입자 손실의 발생을 최대한 억제하여 측정의 정확도를 높이는 것이 필요하다. In order to increase measurement accuracy in the chimney environment of high temperature, high moisture, and high concentration, dilution must be performed while minimizing the generation of droplets. Furthermore, it is necessary to increase the accuracy of measurement by suppressing particle loss according to the structure of the dilution device as much as possible.

또한, 굴뚝과 같은 산업 배출 시설에서 미세입자의 농도를 정확하게 측정하기 위해서는 굴뚝 내 배기가스의 흐름과 입자 샘플링 유속 조건을 같게 하는 등속 흡인 조건을 충족시키는 것이 매우 중요하다. 등속 흡인 조건을 만족하지 않게 된다면 샘플링을 더 많이 하게 되거나 더 적게 하게 되어 측정된 입자 농도가 왜곡되어 실제 굴뚝 내부의 입자 농도와 차이가 발생하기 때문이다. In addition, in order to accurately measure the concentration of fine particles in industrial emission facilities such as chimneys, it is very important to satisfy the constant velocity suction condition that makes the flow of exhaust gas in the chimney and the particle sampling flow rate conditions the same. If the constant velocity suction condition is not met, more or less sampling is required, which distorts the measured particle concentration and causes a difference from the actual particle concentration inside the chimney.

나아가, 산업현장의 굴뚝 내 배기가스의 유속은 상황에 따라서 가변적으로 변한다. 입자계수기는 희석된 희석가스의 입자 농도를 측정하고, 이를 기초로 측정 대상 입자의 농도를 환산하게 되는데, 배기가스의 속도에 따라서 희석장치에 유입되는 배기가스의 유량이 가변적으로 변함에 따라서 희석비가 바뀌게 되면 입자 농도의 측정값에 오차가 발생할 수 있다. Furthermore, the flow rate of exhaust gases in chimneys at industrial sites varies variably depending on the situation. The particle counter measures the particle concentration of the diluted dilution gas and converts the concentration of the particles to be measured based on this. As the flow rate of the exhaust gas flowing into the dilution device varies depending on the speed of the exhaust gas, the dilution ratio changes. If this changes, errors may occur in the measured value of particle concentration.

따라서, 고온 고습 고농도 조건의 굴뚝 내에서 정확한 입자 샘플링을 하기 위해서는 일정한 희석비를 유지하면서 등속 흡인이 가능하여야 하며 수분의 응축이 일어나지 않는 등의 복합적인 조건을 만족하여야 한다.Therefore, in order to accurately sample particles in a chimney under high-temperature, high-humidity, and high-concentration conditions, complex conditions such as constant velocity suction must be possible while maintaining a constant dilution ratio and no moisture condensation must be satisfied.

종래, 배기가스 희석장치는 굴뚝 내 배기가스의 농도에 따라서 희석공기 주입양을 바꾸는 방법으로 입자를 희석하여 굴뚝 내 입자의 농도를 측정해 왔다. 하지만, 고배율의 희석비 달성을 위해 농도에 따라서 희석 공기의 양을 증가시키는 방식은 필요한 공기 주입량이 급격히 증가하기 대문에 공기 주입을 위한 유량 공급장치의 용량과 크기가 커져야 한다. 일반적으로 굴뚝 미세먼지 측정을 위해 측정기가 설치되는 주변 환경은 높이가 높고 공간이 협소하기 때문에 측정 설비가 복잡하고 커지게 되면 실제 적용이 어려워지게 된다. 따라서, 간단하고 컴팩트한 구성이 요구된다. Conventionally, exhaust gas dilution devices have measured the concentration of particles in a chimney by diluting particles by changing the amount of diluted air injected depending on the concentration of exhaust gas in the chimney. However, in order to achieve a high dilution ratio, the method of increasing the amount of diluted air according to concentration rapidly increases the amount of air injection required, so the capacity and size of the flow supply device for air injection must be increased. In general, the surrounding environment where measuring instruments are installed to measure chimney fine dust is high and the space is narrow, so if the measuring equipment becomes complicated and large, practical application becomes difficult. Therefore, a simple and compact configuration is required.

대한민국 공개특허공보 제2013-0059592호(2013.06.07. 공개)Republic of Korea Patent Publication No. 2013-0059592 (published on June 7, 2013)

따라서, 본 발명의 목적은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 이젝터의 전방뿐만 아니라 후방에도 희석 공기를 공급하도록 하여 소용량의 유량 공급 장치를 이용하여 소량의 희석공기를 공급하여 고배율의 희석이 가능하도록 하는 배기가스 희석장치를 제공함에 있다.Therefore, the purpose of the present invention is to solve such conventional problems, and to supply dilution air not only to the front but also to the rear of the ejector, and to supply a small amount of dilution air using a small-capacity flow supply device to achieve high-magnification dilution. The purpose is to provide an exhaust gas dilution device that makes it possible.

본 발명이 해결하고자 하는 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems to be solved by the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description below.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 외부로부터 배기가스가 유입되며 1차 희석공기를 공급하여 1차 희석가스를 생성하는 제1희석부; 상기 제1희석부 전단에 형성되고 2차 희석공기를 공급하여 압력차로 후단의 1차 희석가스를 전단으로 이동시키고 2차 희석가스를 생성하는 이젝터부; 및 상기 이젝터부 전단에 형성되고 상기 2차 희석가스에 3차 희석공기를 공급하여 3차 희석가스를 생성하는 제2희석부를 포함하는 배기가스 희석장치에 의해 달성될 수 있다.The above object is, according to the present invention, a first dilution unit that receives exhaust gas from the outside and supplies first dilution air to generate a first dilution gas; an ejector unit formed at the front of the first dilution unit and supplying secondary dilution air to move the primary dilution gas at the rear end to the front end due to a pressure difference and generating a second dilution gas; And it can be achieved by an exhaust gas dilution device including a second dilution unit formed in front of the ejector unit and supplying tertiary dilution air to the secondary dilution gas to generate tertiary dilution gas.

여기서, 상기 제1희석부는 상기 배기가스가 유입되고 외주면에 복수의 통공이 관통 형성되는 제1유로부와, 상기 제1유로부와 이격하여 둘러싸도록 형성되고 전단부에 1차 희석공기가 공급되는 관이 연결되는 제2유로부와, 상기 제1유로부와 상기 제2유로부의 사이에 배치되는 가이드벽을 포함하고, 상기 관을 통해 유입된 상기 1차 희석공기는 상기 제2유로부와 상기 가이드벽 사이의 공간을 통해 후방으로 이동한 후 상기 제1유로부와 상기 가이드벽 사이의 공간을 통해 전방으로 이동하도록 하고, 상기 통공을 통해 상기 1차 희석가스는 상기 제1유로부 내부로 유입되어 상기 배기가스와 혼합할 수 있다. Here, the first dilution part is formed to surround a first flow path part through which the exhaust gas flows and a plurality of through holes are formed on the outer peripheral surface, and is spaced apart from the first flow part, and the first dilution air is supplied to the front end. It includes a second flow path to which a pipe is connected, and a guide wall disposed between the first flow path and the second flow path, and the primary dilution air flowing in through the pipe is connected to the second flow path and the second flow path. After moving backward through the space between the guide walls, it moves forward through the space between the first flow passage and the guide wall, and the first dilution gas flows into the first flow passage through the hole. It can be mixed with the exhaust gas.

여기서, 상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급될 수 있다. Here, the primary dilution air may be supplied at a temperature of 150°C to 250°C.

여기서, 상기 이젝터부는 상기 1차 희석가스가 유동하는 유로인 흡인유로 및 유입되는 2차 희석공기를 분기시켜 상기 흡인유로의 복수 지점에 공급시키는 유로인 희석공기 공급유로가 형성되고, 2차 희석공기의 공급에 따른 압력 차이로 상기 흡인유로를 통해 상기 제1희석부의 1차 희석가스를 유입시켜 상기 2차 희석가스를 생성하여 전방으로 토출시킬 수 있다. Here, the ejector unit is formed with a suction passage, which is a passage through which the first dilution gas flows, and a dilution air supply passage, which is a passage for branching the incoming secondary dilution air and supplying it to a plurality of points in the suction passage, and the second dilution air is formed. The primary dilution gas of the first dilution unit may be introduced through the suction flow path due to a pressure difference due to the supply of , thereby generating the secondary dilution gas and discharging it forward.

여기서, 상기 희석공기 공급유로는 외부로부터 상기 2차 희석공기가 유입되는 메인유로; 상기 메인유로로부터 분기하여 상기 흡인유로의 후단부에 상기 2차 희석공기를 공급하는 제1분기유로; 및 상기 메인유로로부터 분기하여 상기 흡인유로의 전단부에 상기 2차 희석공기를 공급하는 제2분기유로를 포함할 수 있다.Here, the dilution air supply passage includes a main passage through which the secondary dilution air flows from the outside; a first branch flow path branching from the main flow path to supply the secondary dilution air to a rear end of the suction flow path; And it may include a second branch flow path branching from the main flow path to supply the secondary dilution air to the front end of the suction flow path.

여기서, 상기 제1분기유로의 단부는 상기 흡인유로 후단부 주위를 둘러싸도록 형성되어 상기 흡인유로의 후단부 전방을 향하여 상기 2차 희석공기를 토출시키고, 상기 제2분기유로의 단부는 상기 흡인유로의 전단부 주위를 둘러싸도록 형성되어 상기 흡인유로의 전단부 전방을 향하여 상기 2차 희석공기를 토출시킬 수 있다. Here, the end of the first branch passage is formed to surround the rear end of the suction passage to discharge the secondary dilution air toward the front of the rear end of the suction passage, and the end of the second branch passage is formed to surround the rear end of the suction passage. It is formed to surround the front end of the suction flow path and can discharge the secondary dilution air toward the front end of the suction flow path.

여기서, 상기 흡인유로는 상기 이젝터부의 후단부에 형성되며 전방을 향하여 관경이 점차적으로 줄어드는 제1흡인부, 상기 제1흡인부의 전단에 형성되며 관경이 일정한 제1가속부, 상기 제1가속부의 전단에 형성되며 상기 제1분기유로를 통해 유입되는 2차 희석공기와 상기 배기가스가 혼합되어 2-1차 희석가스를 생성하며 관경이 점차적으로 줄어드는 제2흡인부, 및 상기 제2흡인부의 전단에 형성되며 관경이 일정한 제2가속부, 상기 제2가속부의 전단에 형성되며 상기 제2분기유로를 통해 유입되는 2차 희석공기와 상기 2-1차 희석가스가 혼합되어 2-2차 희석가스를 생성하고 관경이 점차적으로 커지는 확산부를 포함할 수 있다. Here, the suction flow path is formed at the rear end of the ejector part and includes a first suction part whose tube diameter gradually decreases toward the front, a first accelerator part formed at the front end of the first suction part and whose tube diameter is constant, and a front end of the first acceleration part. A second suction part is formed in which the secondary dilution air flowing in through the first branch flow path and the exhaust gas are mixed to produce a second-first dilution gas, and the pipe diameter is gradually reduced, and at the front end of the second suction part. A second accelerating unit is formed and has a constant pipe diameter, and is formed at the front end of the second accelerating unit. The secondary dilution air flowing in through the second branch passage is mixed with the 2nd-1st dilution gas to create 2nd-2nd dilution gas. It may include a diffusion section where the pipe diameter gradually increases.

상기한 바와 같은 본 발명의 배기가스 희석장치에 따르면 저용량 또는 저압의 유량 공급 장치를 이용하여 고배율의 희석 공기를 생성시킬 수 있다는 장점이 있다. According to the exhaust gas dilution device of the present invention as described above, there is an advantage that diluted air can be generated at a high magnification rate using a low volume or low pressure flow supply device.

고온으로 공급되는 1차 희석공기의 유량이 작으므로 희석 공기를 가열시키기 위한 에너지양이 적게 소모된다는 장점도 있다. Since the flow rate of the primary dilution air supplied at high temperature is small, there is also the advantage that less energy is consumed to heat the dilution air.

또한, 제1유로부에 형성되는 통공에 의해 제1유로부의 중심 방향으로 희석공기가 유입되므로, 제1유로부의 내주면에 달라붙게 되는 배기가스의 입자 수가 감소될 수 있다. Additionally, since diluted air is introduced toward the center of the first flow passage portion through the through hole formed in the first passage portion, the number of exhaust gas particles adhering to the inner peripheral surface of the first passage portion can be reduced.

또한, 통공을 통해 희석공기가 제1유로부의 내측으로 유입될 때, 제1유로부의 내주면에 달라붙어 있는 배기가스 입자가 떨어져 나올 수 있다. 이에 따라, 배기가스가 희석가스로 되는 과정에서 입자의 손실이 발생하는 것이 효과적으로 개선될 수 있다.Additionally, when diluted air flows into the inside of the first flow passage through the hole, exhaust gas particles adhering to the inner peripheral surface of the first flow passage may fall off. Accordingly, the loss of particles during the process of converting exhaust gas into dilution gas can be effectively improved.

또한, 배기가스가 예열부에서 예열된 후 고온의 1차 희석공기와 혼합되어 고온희석되고, 이후, 상온의 2차 및 3차 희석공기와 혼합되어 상온희석됨으로써, 배기가스 내의 수분이 액적화되는 것이 방지될 수 있으며, 이를 통해, 입자의 측정 정확도가 향상될 수 있다.In addition, after the exhaust gas is preheated in the preheating unit, it is mixed with high temperature primary dilution air and diluted at high temperature, and then mixed with room temperature secondary and tertiary dilution air to dilute at room temperature, causing moisture in the exhaust gas to drop into droplets. This can be prevented, and through this, the measurement accuracy of particles can be improved.

또한, 2단의 이젝터를 사용함으로써 이젝터부의 입구 압력 변화에도 일정한 양의 배기가스를 흡입하여 희석비를 일정하게 유지시킬 수 있어 입자 측정의 정밀도를 높일 수 있다.In addition, by using a two-stage ejector, the dilution ratio can be maintained constant by inhaling a constant amount of exhaust gas even when the inlet pressure of the ejector part changes, thereby increasing the precision of particle measurement.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치를 나타낸 사시도이다.
도 2는 도 1의 이젝터부 및 어뎁터부를 확대하여 도시하는 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 배기가스 희석장치에서 희석 온도에 따른 효과를 설명하기 위한 그래프이다.
도 4는 도 1의 측정부를 나타낸 구성도이다.
도 5는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치를 나타낸 사시도이다.
Figure 1 is a perspective view showing an exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing the ejector portion and the adapter portion of FIG. 1.
Figure 3 is a graph to explain the effect of dilution temperature in the exhaust gas dilution device according to the present invention.
Figure 4 is a configuration diagram showing the measuring unit of Figure 1.
Figure 5 is a perspective view showing an exhaust gas dilution device according to another embodiment of the present invention.

실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details of the embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다 The advantages and features of the present invention and methods for achieving them will become clear by referring to the embodiments described in detail below along with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below and may be implemented in various different forms. The present embodiments are merely provided to ensure that the disclosure of the present invention is complete and to be understood by those skilled in the art in the technical field to which the present invention pertains. It is provided to fully inform those who have the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

이하, 본 발명의 실시예들에 의하여 배기가스 희석장치를 설명하기 위한 도면들을 참고하여 본 발명에 대해 설명하도록 한다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings for explaining an exhaust gas dilution device according to embodiments of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치를 나타낸 사시도이고, 도 2는 도 1의 이젝터부 및 어뎁터부를 확대하여 도시하는 단면도이고, 도 3은 본 발명에 따른 배기가스 희석장치에서 희석 온도에 따른 효과를 설명하기 위한 그래프이고, 도 4는 도 1의 측정부를 나타낸 구성도이다.Figure 1 is a perspective view showing an exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is an enlarged cross-sectional view showing the ejector portion and adapter portion of Figure 1, and Figure 3 is an exhaust gas dilution device according to the present invention. This is a graph to explain the effect depending on the dilution temperature, and Figure 4 is a configuration diagram showing the measuring unit of Figure 1.

본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치는 제1희석부(100), 이젝터부(200) 및 제2희석부(300)를 포함하여 구성될 수 있다. An exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention may be configured to include a first dilution unit 100, an ejector unit 200, and a second dilution unit 300.

이하의 설명에서는 설명의 편의상, 배기가스의 흐름 방향을 기준으로 전단/전단부/전방, 후단/후단부/후방으로 설명한다. 즉, 배기가스가 제1지점에서 제2지점으로 이동되는 경우, 제1지점을 후단/후단부/후방으로, 제2지점을 전단/전단부/전방으로 하여 설명한다.In the following description, for convenience of explanation, it is described as front/front/front and rear/rear/rear based on the flow direction of the exhaust gas. That is, when the exhaust gas moves from the first point to the second point, the first point is described as the rear/rear end/rear, and the second point is described as the front/front end/front.

제1희석부(100)는 배기가스(1)가 흡입되어 유동하는 유로인 제1유로부(110)가 중심축 방향으로 관통 형성될 수 있다. The first dilution part 100 may have a first flow path part 110, which is a flow path through which the exhaust gas 1 is sucked in, formed through the central axis direction.

본 발명에서 배기가스는 측정 대상의 한 예일 수 있으며, 측정 대상이 반드시 배기가스에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 측정 대상이 굴뚝의 연기인 경우, 굴뚝에는 연기의 일부가 흡수되는 유로가 마련될 수 있으며, 상기 유로를 통해 이동되는 연기는 제1희석부(100)로 공급될 수 있다.In the present invention, exhaust gas may be an example of a measurement target, and the measurement target is not necessarily limited to exhaust gas. For example, when the measurement target is smoke from a chimney, a passage through which part of the smoke is absorbed may be provided in the chimney, and the smoke moving through the passage may be supplied to the first dilution unit 100.

제1희석부(100)는 배기가스(1)가 유입되는 제1유로부(110)와, 공급되는 1차 희석공기(2)가 배기가스(1)와 혼합되도록 제1유로부(110) 내부로 안내하는 제2유로부(120)로 구성될 수 있다. 제1희석부(100)에서는 배기가스(1)와 1차 희석공기(2)가 혼합되어 1차 희석가스가 생성될 수 있다. 1차 희석공기(2)는 고온의 공기일 수 있으며, 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급될 수 있다.The first dilution unit 100 has a first flow path part 110 through which the exhaust gas 1 flows, and a first flow path part 110 so that the supplied primary dilution air 2 is mixed with the exhaust gas 1. It may be composed of a second flow path portion 120 that guides the inside. In the first dilution unit 100, the exhaust gas 1 and the primary dilution air 2 may be mixed to generate primary dilution gas. The primary dilution air (2) may be high temperature air and may be supplied at a temperature of 150°C to 250°C.

구체적으로, 제1희석부(100)는 이젝터부(200)의 후단에 결합될 수 있다. 이때, 제1유로부(110)는 후단 이젝터부(200)의 흡인유로(230)와 연결될 수 있다. Specifically, the first dilution unit 100 may be coupled to the rear end of the ejector unit 200. At this time, the first flow path 110 may be connected to the suction flow path 230 of the rear ejector part 200.

제1유로부(110)에는 복수의 통공(111)이 관통 형성될 수 있다.A plurality of through holes 111 may be formed through the first passage portion 110.

제2유로부(120)는 제1유로부(110)의 외측에서 제1유로부(110)를 일정거리 이격하며 둘러싸도록 형성될 수 있다. The second passage portion 120 may be formed on the outside of the first passage portion 110 to surround the first passage portion 110 at a certain distance apart.

제2유로부(120)의 외주면 전단부에는 1차 희석공기(2)가 유입되는 제1유입구(140)가 형성될 수 있다. 제1유입구(140)에는 외부의 유량 공급 장치로부터 1차 희석공기(2)를 안내하는 제1관(141)이 연결될 수 있다.A first inlet 140 through which the first diluted air 2 flows may be formed at the front end of the outer peripheral surface of the second flow path portion 120. A first pipe 141 that guides the first dilution air 2 from an external flow supply device may be connected to the first inlet 140.

그리고, 제1유로부(110) 및 제2유로부(120)의 사이에 가이드벽(130)이 구비될 수 있다. 또한, 가이드벽(130)은 후단부가 제2유로부(120)의 후단벽과 이격될 수 있다. 즉, 제1유입구(140)를 통해 유입되는 1차 희석공기(2)는 제2유로부(120) 및 가이드벽(130) 사이의 공간에서 후방 방향으로 이동되고, 가이드벽(130) 및 제2유로부(120)의 후단벽 사이의 공간을 통해 제1유로부(110) 및 가이드벽(130)의 사이의 공간으로 이동될 수 있다. 이를 통해, 제1유로부(110) 및 제2유로부(120)의 사이 공간은 대부분이 가이드벽(130)에 의해 구획될 수 있으며, 제1유입구(140)을 통해 유입되는 1차 희석공기(2)의 흐름 길이가 길어질 수 있다. 그리고, 1차 희석공기(2)는 제1유로부(110)에 형성된 통공(111)을 통해 제1유로부(110)의 내측으로 이동하여 배기가스(1)와 혼합되어 1차 희석가스를 생성하게 된다.Additionally, a guide wall 130 may be provided between the first flow path portion 110 and the second flow path portion 120. Additionally, the rear end of the guide wall 130 may be spaced apart from the rear end wall of the second flow path portion 120. That is, the first diluted air 2 flowing in through the first inlet 140 moves backward in the space between the second flow path portion 120 and the guide wall 130, and is connected to the guide wall 130 and the first diluted air 2. It can be moved to the space between the first flow path part 110 and the guide wall 130 through the space between the rear end walls of the second flow path part 120. Through this, most of the space between the first passage portion 110 and the second passage portion 120 can be partitioned by the guide wall 130, and the primary dilution air flowing in through the first inlet 140 The flow length in (2) can be longer. Then, the primary dilution air (2) moves to the inside of the first flow path part (110) through the through hole (111) formed in the first flow path part (110) and is mixed with the exhaust gas (1) to form the first dilution gas. will be created.

제1유로부(110)에는 복수의 통공(111)이 전체적으로 형성되기 때문에, 제1유로부(110)의 외주면 면적이 줄어들게 된다. 따라서, 배기가스(1) 입자 중에 제1유로부(110)의 내주면에 달라붙게 되는 입자의 수가 감소될 수 있어 배기가스(1) 입자 손실이 줄어들 수 있다.Since a plurality of through holes 111 are formed throughout the first passage portion 110, the area of the outer peripheral surface of the first passage portion 110 is reduced. Accordingly, the number of exhaust gas 1 particles that adhere to the inner peripheral surface of the first flow path portion 110 can be reduced, and thus the exhaust gas 1 particle loss can be reduced.

나아가, 통공(111)을 통해 제1유로부(110)의 중심방향으로 1차 희석공기(2)가 유입될 때, 제1유로부(110)의 내주면을 향하는 입자의 유동을 방해하며 제1유로부(110)의 내주면에 달라붙어 있는 배기가스(1) 입자가 떨어져 나오게 할 수 있다. 이에 따라, 제1유로부(110)에서 이동되는 배기가스(1) 중의 입자의 대부분이 1차 희석공기(2)와 혼합될 수 있으며, 배기가스(1)가 1차 희석가스로 되는 과정에서 입자의 손실이 발생하는 것도 효과적으로 감소될 수 있다.Furthermore, when the primary dilution air (2) flows in toward the center of the first passage portion 110 through the through hole 111, it impedes the flow of particles toward the inner peripheral surface of the first passage portion 110 and The exhaust gas 1 particles adhering to the inner peripheral surface of the flow path portion 110 can be removed. Accordingly, most of the particles in the exhaust gas 1 moving in the first flow passage 110 can be mixed with the primary dilution air 2, and in the process of the exhaust gas 1 becoming the primary dilution gas, The loss of particles can also be effectively reduced.

이젝터부(200)는 제1희석부(100) 전단에 결합되어 2차 희석공기(3)를 공급하여 2차 희석가스를 생성한다. 이젝터부(200)에 2차 희석공기(3)가 공급될 때 압력차로 후방의 1차 희석가스를 전방으로 이송시킬 수가 있다. The ejector unit 200 is coupled to the front end of the first dilution unit 100 and supplies secondary dilution air 3 to generate secondary dilution gas. When the secondary dilution air 3 is supplied to the ejector unit 200, the primary dilution gas from the rear can be transferred to the front due to the pressure difference.

이젝터부(200)에는 1차 희석가스가 흡인되어 유동하는 유로인 흡인유로(230)가 중심축 방향으로 관통 형성될 수 있다. 또한, 배기가스(1)의 등속흡인을 유도하기 위한 2차 희석공기(3)가 상기 흡인유로(230) 상에 공급되도록 하는 희석공기 공급유로(210, 211, 216)가 형성될 수 있다. A suction flow path 230, which is a flow path through which the primary dilution gas is sucked and flows, may be formed through the ejector unit 200 in the central axis direction. In addition, dilution air supply passages 210, 211, and 216 may be formed so that secondary dilution air 3 for inducing constant velocity suction of the exhaust gas 1 is supplied onto the suction passage 230.

도 2에 도시되어 있는 것과 같이 흡인유로(230)는 후방에서 전방으로 공간부(231), 제1흡인부(232), 제1가속부(233), 제2흡인부(234), 제2가속부(235), 및 확산부(236)로 구분 형성될 수 있다. As shown in FIG. 2, the suction passage 230 includes a space portion 231, a first suction portion 232, a first acceleration portion 233, a second suction portion 234, and a second suction portion 230 from rear to front. It may be formed separately into an acceleration unit 235 and a diffusion unit 236.

공간부(231)는 제1희석부(100)의 제1유로부(110)와 연결되고 관경이 일정하게 형성되며 1차 희석가스가 유입되는 초입부분이다. The space portion 231 is connected to the first flow path portion 110 of the first dilution portion 100, has a constant pipe diameter, and is an inlet portion through which the first dilution gas flows.

제1흡인부(232)는 공간부(231)의 전단에 형성될 수 있으며, 전방으로 갈수록 내경이 작아지도록 형성될 수 있다. The first suction portion 232 may be formed at the front end of the space portion 231, and may be formed to have an inner diameter that becomes smaller as it moves forward.

제1가속부(233)는 제1흡인부(232)의 전단에 형성되어 제1흡인부(232)와 연결되며, 동일한 내경으로 형성될 수 있다. 후술하는 제1분기유로의 단부(212)가 제1가속부(233)를 둘러싸도록 형성되어, 제1가속부(233) 전단의 제2흡인부(234)를 향하여 전방으로 2차 희석공기(3)를 토출시킬 수 있다. 2차 희석공기(3)는 작은 단면적의 제1분기유로의 단부(212)를 통과하면서 유속이 빨라지게 되는데, 2차 희석공기(3)가 제2흡인부(234)로 토출되면 제1가속부(233) 토출구의 압력이 낮아지게 된다. 그러면, 제2흡인부(234)와 공간부(231) 사이에 압력 차이가 발생하게 되고, 공간부(231)의 1차 희석가스는 제1흡인부(232) 및 제1가속부(233)를 통과하여 제2흡인부(234)로 흡인될 수 있다. 따라서, 제2흡인부(234)에서는 제1분기유로(211)를 통해 분기된 2차 희석공기(3)와 1차 희석가스가 혼합되어 2-1차 희석가스를 생성하게 된다. The first acceleration part 233 is formed at the front end of the first suction part 232 and is connected to the first suction part 232, and may be formed to have the same inner diameter. The end 212 of the first branch passage, which will be described later, is formed to surround the first accelerator 233, and the secondary dilution air ( 3) can be discharged. The flow speed of the secondary diluted air (3) increases as it passes through the end 212 of the first branch flow path with a small cross-sectional area. When the secondary diluted air (3) is discharged to the second suction part 234, the first acceleration occurs. The pressure at the outlet of unit 233 is lowered. Then, a pressure difference occurs between the second suction part 234 and the space part 231, and the first dilution gas in the space part 231 is supplied to the first suction part 232 and the first acceleration part 233. It may pass through and be sucked into the second suction part 234. Accordingly, in the second suction part 234, the secondary dilution air 3 branched through the first branch flow path 211 and the first dilution gas are mixed to generate the second and first dilution gases.

제2흡인부(234)는 제1가속부(233)의 전단에 형성되며, 전방으로 갈수록 내경이 작아지도록 형성될 수 있다. 전술한 바와 같이, 제2흡인부(234)의 후단에서는 제1분기유로(211)를 통해 2차 희석공기(3)가 유입될 수 있으며 유입되는 2차 희석공기(3)에 의한 압력차로 공간부(231)의 1차 희석가스가 제2흡인부(234)로 흡인되어 2차 희석공기(3)와 혼합될 수 있다. The second suction part 234 is formed at the front end of the first acceleration part 233, and may be formed to have an inner diameter that becomes smaller as it moves forward. As described above, at the rear end of the second suction unit 234, secondary dilution air (3) can be introduced through the first branch passage 211, and the pressure difference caused by the incoming secondary dilution air (3) creates a space. The primary dilution gas in the unit 231 may be sucked into the second suction unit 234 and mixed with the secondary dilution air (3).

제2가속부(235)는 제2흡인부(234)의 전단에 형성되어 제2흡인부(234)와 연결되며, 동일한 내경으로 형성될 수 있다. 후술하는 제2분기유로의 단부(217)가 제2가속부(235)를 둘러싸도록 형성되어, 제2가속부(235) 전단의 확산부(236)를 향하여 전방으로 분기된 2차 희석공기(3)를 토출시킬 수 있다. 2차 희석공기(3)는 작은 단면적의 제2분기유로의 단부(217)를 통과하면서 유속이 빨라지게 되는데, 2차 희석공기(3)가 제2가속부(235) 전방으로 토출되면 압력이 낮아지게 된다. 그러면, 제2가속부(235)의 전방과 제2흡인부(234) 사이에 압력 차이가 발생하게 되고, 제2흡인부(234)의 2-1차 희석가스는 제2가속부(235)를 통과하여 제2가속부(235) 전방의 확산부(236)로 이동하게 된다. 따라서, 확산부(236)에서는 2-1차 희석가스와 분기되어 공급되는 2차 희석공기(3)가 혼합되어 2-2차 희석가스를 생성하게 된다.The second acceleration part 235 is formed at the front end of the second suction part 234 and is connected to the second suction part 234, and may be formed to have the same inner diameter. The end 217 of the second branch flow path, which will be described later, is formed to surround the second accelerator 235, and the secondary dilution air branches forward toward the diffusion portion 236 at the front end of the second accelerator 235. 3) can be discharged. The flow speed of the secondary dilution air (3) increases as it passes through the end (217) of the second branch flow path with a small cross-sectional area. When the secondary dilution air (3) is discharged in front of the second accelerator (235), the pressure increases. It becomes lower. Then, a pressure difference occurs between the front of the second acceleration unit 235 and the second suction unit 234, and the 2nd-1st dilution gas of the second suction unit 234 is supplied to the second acceleration unit 235. It passes through and moves to the diffusion unit 236 in front of the second acceleration unit 235. Accordingly, in the diffusion unit 236, the 2nd-1st dilution gas and the branched 2nd dilution air 3 are mixed to generate the 2nd-2nd dilution gas.

전술한 바와 같이 이젝터부(200)에는 희석공기 공급유로(210, 211, 216)가 형성될 수 있다. 희석공기 공급유로(210, 211, 216)는 대체로 반경 방향으로 관통 형성되며 흡인유로(230) 상에 2차 희석공기(3)를 분기하여 공급한다 As described above, dilution air supply passages 210, 211, and 216 may be formed in the ejector unit 200. The dilution air supply passages (210, 211, 216) are generally formed through the radial direction and branch and supply the secondary dilution air (3) onto the suction passage (230).

희석공기 공급유로(210, 211, 216)에는 외부로부터 2차 희석공기(3)의 유입을 안내하는 제2관(221)이 결합될 수 있다.A second pipe 221 that guides the inflow of secondary dilution air 3 from the outside may be coupled to the dilution air supply passages 210, 211, and 216.

본 발명에서 희석공기 공급유로는 메인유로(210), 제1분기유로(211) 및 제2분기유로(216)를 포함하여 구성될 수 있다. 메인유로(210)는 제2관(221)이 결합하여 외부로부터 2차 희석공기(3)를 유입시킨다. In the present invention, the diluted air supply passage may include a main passage 210, a first branch passage 211, and a second branch passage 216. The main flow path 210 is coupled with the second pipe 221 to introduce secondary dilution air 3 from the outside.

제1분기유로(211)와 제2분기유로(216)는 메인유로(210)로부터 분기하여 흡인유로(230)에 2차 희석공기(3)를 공급한다. 분기된 제1분기유로의 단부(212)는 제1가속부(233)를 둘러싸도록 형성되어 제1가속부(233) 전단의 제2흡인부(234)를 향하여 분기된 2차 희석공기(3)를 분출시키도록 한다. 또한, 분기된 제2분기유로의 단부(217)는 제2가속부(235)를 둘러싸도록 형성되어 제2가속부(235) 전단의 확산부(236)를 향하여 분기된 2차 희석공기(3)를 분출시키도록 한다.The first branch flow path 211 and the second branch flow path 216 branch from the main flow path 210 and supply secondary dilution air 3 to the suction flow path 230. The end 212 of the branched first branch flow path is formed to surround the first accelerator 233 and is branched toward the second suction part 234 at the front of the first accelerator 233. The secondary dilution air 3 ) to erupt. In addition, the end 217 of the branched second branch flow path is formed to surround the second accelerator 235, and the secondary dilution air 3 is branched toward the diffusion portion 236 at the front end of the second accelerator 235. ) to erupt.

이와 같이 본 발명에서는 이젝터부(200) 내에서 2단으로 분기되어 2차 희석공기(3)가 흡인유로(230) 상으로 토출되며 이젝터부(200) 후방에 위치하는 1차 희석가스를 흡인시킬 수가 있다. In this way, in the present invention, the ejector unit 200 is divided into two stages and the secondary dilution air (3) is discharged onto the suction passage 230 and the primary dilution gas located behind the ejector unit 200 is sucked. There is a number.

이때, 도 2에 도시되어 있는 것과 같이 이젝터부(200) 후단의 Qs 부분의 압력이 증가하면 메인유로(210)를 통하여 일정 유량이 유입되는 QE.total에 대하여 분기하는 QE.1의 유량이 감소하게 되고 상대적으로 QE.2의 유량은 증가하게 된다. At this time, as shown in FIG. 2, when the pressure of the Q s portion at the rear end of the ejector unit 200 increases, the Q E.1 branching with respect to Q E.total , which has a constant flow rate flowing in through the main passage 210, The flow rate decreases and the flow rate of Q E.2 increases relatively.

반대로, 이젝터부(200) 후단의 Qs 부분의 압력이 감소하게 되면 메인유로(210)를 통하여 일정 유량이 유입되는 QE.total에 대하여 분기하는 QE.1의 유량이 증가하게 되고 상대적으로 QE.2의 유량은 감소하게 된다.On the contrary, when the pressure of the Q s portion at the rear of the ejector unit 200 decreases, the flow rate of Q E.1 branching to Q E.total , which has a constant flow rate flowing in through the main flow path 210, increases and is relatively The flow rate of Q E.2 decreases.

이와 같이, 이젝터부(200) 후단의 압력이 달라지더라도 분기되는 제1분기유로(211)와 제2분기유로(216)를 통해 배기가스 유입유로(230) 상에 유입되는 2차 희석공기(3)의 유량이 각각 달라지게 되어, 흡인되는 Qs의 유량은 일정하게 유지될 수가 있다. 따라서, 본 발명에서는 이젝터부(200) 후단의 1차 희석가스의 압력이 달라지더라도 흡인되는 Qs의 양이 일정하기 때문에 희석비를 일정하게 유지시킬 수가 있다. In this way, even if the pressure at the rear end of the ejector unit 200 changes, the secondary diluted air flowing into the exhaust gas inflow passage 230 through the branched first branch passage 211 and the second branch passage 216 ( Since the flow rate of 3) is different, the flow rate of Q s to be sucked can be kept constant. Therefore, in the present invention, even if the pressure of the primary dilution gas at the rear end of the ejector unit 200 changes, the amount of Qs sucked is constant, so the dilution ratio can be maintained constant.

본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치는 제1어댑터부(500) 및 제2어댑터부(550)를 더 포함할 수 있다.The exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention may further include a first adapter unit 500 and a second adapter unit 550.

제1어댑터부(500)는 이젝터부(200)의 전단에 결합될 수 있다.The first adapter unit 500 may be coupled to the front end of the ejector unit 200.

도 2에 도시되어 있는 것과 같이, 제1어댑터부(500)에는 연장확산부(501)가 축방향으로 관통 형성될 수 있다. 연장확산부(501)는 전방 방향으로 갈수록 내경이 커지도록 형성될 수 있으며, 이젝터부(200)의 확산부(236)와 연속되도록 형성될 수 있다.As shown in FIG. 2, an extension diffusion part 501 may be formed to penetrate the first adapter part 500 in the axial direction. The extended diffusion portion 501 may be formed to have an inner diameter that increases in the forward direction and may be formed to be continuous with the diffusion portion 236 of the ejector unit 200.

제2어댑터부(550)는 제1어댑터부(500)의 전단에 결합될 수 있다. The second adapter part 550 may be coupled to the front end of the first adapter part 500.

제2어댑터부(550)는 축방향으로 관통 형성되는 유로홀(551)이 형성될 수 있으며, 유로홀(551)은 제1어댑터부(500)의 연장확산부(501)와 연결될 수 있다.The second adapter unit 550 may be formed with a passage hole 551 penetrating in the axial direction, and the passage hole 551 may be connected to the extension diffusion portion 501 of the first adapter unit 500.

희석공기 공급유로(210, 211, 216)를 통해 이젝터부(200)에 유입되는 2차 희석공기(3)와 흡인유로(230)를 통해 흡인되는 1차 희석가스는 혼합되어 2차 희석가스를 생성하게 되고, 생성된 2차 희석가스는 연장확산부(501) 및 유로홀(551)을 통해 이동될 수 있다. The secondary dilution air (3) flowing into the ejector unit 200 through the dilution air supply passages (210, 211, 216) and the primary dilution gas sucked through the suction passage (230) are mixed to form the secondary dilution gas. is generated, and the generated secondary dilution gas can be moved through the extension diffusion unit 501 and the flow path hole 551.

제2희석부(300)는 제1어댑터부(500) 및 제2어댑터부(550)를 통해 2차 희석가스가 유입되는 제1유로부(310)와, 공급되는 3차 희석공기(4)를 2차 희석가스와 혼합되도록 제1유로부(310)로 안내하는 제2유로부(320)로 구성될 수 있다. 제2희석부(300)에서는 2차 희석가스와 3차 희석공기(4)가 혼합되어 3차 희석가스가 생성될 수 있다.The second dilution unit 300 has a first flow path unit 310 through which the secondary dilution gas flows through the first adapter unit 500 and the second adapter unit 550, and a third dilution air supply (4). It may be composed of a second flow path unit 320 that guides the gas to the first flow path part 310 to be mixed with the secondary dilution gas. In the second dilution unit 300, the secondary dilution gas and the tertiary dilution air 4 may be mixed to generate tertiary dilution gas.

구체적으로, 제2희석부(300)는 제1어댑터부(500) 및 제2어댑터부(550)의 전단에 결합될 수 있다. 제1유로부(310)는 제2어댑터부(550)의 유로홀(551)에 연속되도록 형성될 수 있으며, 확산부(236)에서 혼합되어 생성되는 2차 희석가스는 제1유로부(310)로 이동될 수 있다.Specifically, the second dilution unit 300 may be coupled to the front end of the first adapter unit 500 and the second adapter unit 550. The first passage portion 310 may be formed to be continuous with the passage hole 551 of the second adapter portion 550, and the secondary dilution gas mixed and generated in the diffusion portion 236 is formed in the first passage portion 310. ) can be moved to .

제1유로부(310)에는 복수의 통공(311)이 관통 형성될 수 있다.A plurality of through holes 311 may be formed through the first passage portion 310.

제2유로부(320)는 제1유로부(310)의 외측에서 제1유로부(310)를 일정거리 이격하며 둘러싸도록 형성될 수 있다. 제2유로부(320)의 후단부는 제1어댑터부(500)에 결합될 수 있다.The second passage portion 320 may be formed on the outside of the first passage portion 310 to surround the first passage portion 310 at a certain distance apart. The rear end of the second flow path portion 320 may be coupled to the first adapter portion 500.

제2유로부(320)의 외주면 전단부에는 3차 희석공기(4)가 유입되는 제2유입구(340)가 형성될 수 있다. 제2유입구(340)에는 외부로부터 3차 희석공기(4)를 안내하는 제3관(341)이 연결될 수 있다.A second inlet 340 through which the tertiary dilution air 4 flows may be formed at the front end of the outer peripheral surface of the second flow path portion 320. A third pipe 341 that guides the third dilution air 4 from the outside may be connected to the second inlet 340.

그리고, 제2희석부(300)는 가이드벽(330)이 형성될 수 있다. 가이드벽(330)은 제1유로부(310) 및 제2유로부(320)의 사이에 구비될 수 있다. 또한, 가이드벽(330)은 후단부가 제1어댑터부(500)의 전단부와 이격될 수 있다. 제2유입구(340)를 통해 유입되는 3차 희석공기(4)는 제2유로부(320) 및 가이드벽(330)의 사이의 공간에서 후방 방향으로 이동되고, 가이드벽(330) 및 제1어댑터부(500)의 사이의 공간을 통해 제1유로부(310) 및 가이드벽(330)의 사이의 공간으로 이동될 수 있다. 이를 통해, 제1유로부(310) 및 제2유로부(320)의 사이 공간은 대부분이 가이드벽(330)에 의해 구획될 수 있으며, 제2유입구(340)을 통해 유입되는 3차 희석공기(4)의 흐름 길이가 길어질 수 있다. 그리고, 3차 희석공기(4)는 제1유로부(310)에 형성된 통공(311)을 통해 제1유로부(310)의 내측으로 이동하여 2차 희석가스와 혼합되어 3차 희석가스를 생성하게 된다.In addition, the second dilution unit 300 may be formed with a guide wall 330. The guide wall 330 may be provided between the first flow path portion 310 and the second flow path portion 320. Additionally, the rear end of the guide wall 330 may be spaced apart from the front end of the first adapter unit 500. The tertiary diluted air (4) flowing in through the second inlet (340) moves backward in the space between the second flow path portion (320) and the guide wall (330), and flows through the guide wall (330) and the first It can be moved to the space between the first passage part 310 and the guide wall 330 through the space between the adapter parts 500. Through this, most of the space between the first passage portion 310 and the second passage portion 320 can be partitioned by the guide wall 330, and the third diluted air flowing in through the second inlet 340 The flow length in (4) can be longer. Then, the tertiary dilution air 4 moves to the inside of the first flow path 310 through the through hole 311 formed in the first flow path 310 and is mixed with the second dilution gas to generate the 3rd dilution gas. I do it.

제2희석부(300)의 전체적인 구성은 전술한 제1희석부(100)의 구성과 동일할 수 있다. The overall configuration of the second diluting unit 300 may be the same as that of the first diluting unit 100 described above.

본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치는 확산튜브부(570), 마개부(580) 및 배출관(590)을 포함할 수 있다.The exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention may include a diffusion tube portion 570, a stopper portion 580, and a discharge pipe 590.

확산튜브부(570)는 제2희석부(300)의 전단에 결합될 수 있다.The diffusion tube unit 570 may be coupled to the front end of the second dilution unit 300.

확산튜브부(570)는 축 방향으로 관통 형성되는 추가확산부(571)가 형성될 수 있다. 추가확산부(571)는 전방 방향으로 갈수록 내경이 커지도록 형성될 수 있으며, 제2희석부(300)에서 생성되는 3차 희석가스는 추가확산부(571)로 이동될 수 있다.The diffusion tube part 570 may have an additional diffusion part 571 formed through it in the axial direction. The additional diffusion unit 571 may be formed to have an inner diameter that increases in the forward direction, and the tertiary dilution gas generated in the second dilution unit 300 may be moved to the additional diffusion unit 571.

마개부(580)는 확산튜브부(570)의 전단부에 결합되어 확산튜브부(570)의 전단부를 밀폐시킬 수 있다.The stopper portion 580 may be coupled to the front end of the diffusion tube portion 570 to seal the front end of the diffusion tube portion 570.

배출관(590)은 마개부(580)에 복수 개로 결합될 수 있다. 마개부(580)에는 배출관(590)이 결합되도록 연결홀(581)이 관통 형성될 수 있으며, 추가확산부(571)의 3차 희석가스는 연결홀(581)을 통해 배출관(590)으로 이동될 수 있다. 배출관(590) 중 적어도 어느 하나에는 입자계수기(미도시)가 연결될 수 있으며, 3차 희석가스는 배출관(590)을 통해 입자계수기로 이동될 수 있다.A plurality of discharge pipes 590 may be coupled to the stopper 580. A connection hole 581 may be formed through the stopper 580 to allow the discharge pipe 590 to be coupled thereto, and the tertiary dilution gas of the additional diffusion unit 571 moves to the discharge pipe 590 through the connection hole 581. It can be. A particle counter (not shown) may be connected to at least one of the discharge pipes 590, and the tertiary dilution gas may be moved to the particle counter through the discharge pipe 590.

본 실시예에 따르면, 유입되는 배기가스(1)가 제1희석부(100)에서 1차 희석공기(2)와 혼합되어 1차로 희석이 이루어지고, 이젝터부(200)에서 2차 희석공기(3)와 혼합되어 2차로 희석이 이루어지고, 제2희석부(300)에서 3차 희석공기(4)와 혼합되어 3차로 희석이 이루어짐으로써, 희석율이 높아질 수 있다.According to this embodiment, the incoming exhaust gas (1) is mixed with the primary dilution air (2) in the first dilution unit (100) to achieve primary dilution, and in the ejector unit (200) the secondary dilution air ( 3), a second dilution is achieved, and a third dilution is achieved by mixing with the third dilution air 4 in the second dilution unit 300, so that the dilution rate can be increased.

전술한 바와 같이, 제1희석부(100)로 공급되는 1차 희석공기(2)는 150℃ 내지 250℃의 고온의 공기일 수 있다. 따라서, 제1희석부(100)를 통해 생성되는 1차 희석가스는 고온희석 방법으로 생성될 수 있다. 그리고, 이젝터부(200) 및 제2희석부(300)로 공급되는 2차 희석공기(3)와 3차 희석공기(4)는 상온의 공기일 수 있으며, 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급될 수 있다. 따라서, 이젝터부(200) 및 제2희석부(300)에서 생성되는 2차 및 3차 희석가스는 상온희석 방법으로 생성될 수 있다.As described above, the primary dilution air 2 supplied to the first dilution unit 100 may be high temperature air of 150°C to 250°C. Accordingly, the first dilution gas generated through the first dilution unit 100 may be generated using a high-temperature dilution method. In addition, the secondary dilution air (3) and tertiary dilution air (4) supplied to the ejector unit 200 and the second dilution unit 300 may be air at room temperature and are supplied at a temperature of 10°C to 30°C. It can be. Accordingly, the secondary and tertiary dilution gases generated in the ejector unit 200 and the second dilution unit 300 may be generated by a room temperature dilution method.

도 3는 본 발명에 따른 배기가스 희석장치에서 희석 온도에 따른 효과를 설명하기 위한 그래프이다.Figure 3 is a graph to explain the effect of dilution temperature in the exhaust gas dilution device according to the present invention.

도 3을 참조하면, 제1희석부(100)로 유입되는 배기가스(1)는 고온의 상태(P0)인데, 만일, 고온 상태의 배기가스(1)와 혼합되는 1차 희석공기(2)가 상온의 공기인 경우, 즉, 고온의 배기가스(1)가 상온희석되는 경우 배기가스(1) 내의 수분이 모두 액적으로 변환될 수 있다. 이에 따라, 제1희석부(100)에서 생성되는 제1상태(P1)의 1차 희석가스는 다량의 액적을 포함할 수 있다. 그리고, 다량의 액적을 포함하는 1차 희석가스가 이젝터부(200) 및 제2희석부(300)에서 상온의 희석공기와 혼합되어 제2상태(P2)의 희석가스로 생성되는 경우, 2차 희석가스에는 다량의 액적이 계속 포함되게 된다. 이러한 액적은 입자계수기(미도시)에서의 측정 시에 입자로 취급될 수 있기 때문에, 측정 정확도가 저하되는 원인이 될 수 있다.Referring to FIG. 3, the exhaust gas 1 flowing into the first dilution unit 100 is at a high temperature (P0). If the first dilution air 2 mixed with the high temperature exhaust gas 1 is When air is at room temperature, that is, when the high temperature exhaust gas 1 is diluted to room temperature, all of the moisture in the exhaust gas 1 may be converted into droplets. Accordingly, the primary dilution gas in the first state (P1) generated in the first dilution unit 100 may include a large amount of liquid droplets. In addition, when the first dilution gas containing a large amount of liquid droplets is mixed with dilution air at room temperature in the ejector unit 200 and the second dilution unit 300 to generate dilution gas in the second state (P2), the second dilution gas is generated in the second state (P2). The diluted gas continues to contain a large amount of liquid droplets. Since these droplets may be treated as particles when measured by a particle counter (not shown), they may cause a decrease in measurement accuracy.

그러나, 본 발명에 따르면, 고온의 상태(P0)의 배기가스(1)가 고온의 1차 희석공기(2)와 혼합됨으로써, 즉, 고온의 배기가스(1)가 고온희석됨으로써 제1 희석부에서 생성되는 1차 희석가스는 제3상태(P3)가 될 수 있으며, 배기가스(1) 내의 수분이 액적화되는 것이 방지될 수 있다. 그리고, 이젝터부(200) 및 제2희석부(300)에서 상온의 희석공기(3)와 혼합되어 제2상태(P2)의 2차 및 3차 희석가스로 형성됨으로 희석가스에는 액적이 포함되지 않거나, 액적의 함유량이 최소화될 수 있으며, 이를 통해, 입자의 측정 정확도는 향상될 수 있다.However, according to the present invention, the exhaust gas 1 at a high temperature (P0) is mixed with the high temperature primary dilution air 2, that is, the high temperature exhaust gas 1 is diluted at a high temperature, thereby forming the first dilution unit. The first dilution gas generated can be in the third state (P3), and moisture in the exhaust gas 1 can be prevented from forming into droplets. In addition, it is mixed with room temperature dilution air 3 in the ejector unit 200 and the second dilution unit 300 to form secondary and tertiary dilution gases in the second state (P2), so the dilution gas does not contain droplets. Alternatively, the content of droplets can be minimized, and through this, the measurement accuracy of particles can be improved.

도시되지 않은 예열부는 제1희석부(100)의 후단부에 구비될 수 있으며, 제1희석부(100)로 유입되는 배기가스(1)를 예열(Pre-heating)시킬 수 있다. 예열부는 배기가스(1)를 190℃ 내지 210℃의 온도로 예열시킬 수 있다. 배기가스(1)가 예열되어 제1희석부(100)로 이동하면 전술한 1차 희석공기(2)와 혼합되어 더욱 효과적으로 고온희석될 수 있다.A preheating unit, not shown, may be provided at the rear end of the first dilution unit 100 and may preheat the exhaust gas 1 flowing into the first dilution unit 100. The preheating unit may preheat the exhaust gas 1 to a temperature of 190°C to 210°C. When the exhaust gas 1 is preheated and moves to the first dilution unit 100, it is mixed with the above-described first dilution air 2 and can be diluted at a more effective high temperature.

본 발명에서와 같이 이젝터 전방에 제1희석부(100)를 구비함에 따라서 희석공기의 양을 최소화하며 고비율의 희석공기를 생성할 수 있다. As in the present invention, by providing the first dilution unit 100 in front of the ejector, the amount of dilution air can be minimized and a high ratio of dilution air can be generated.

도 1에서 제1희석부(100)의 구성이 빠지고 이젝터부(200)와 제2희석부(300)로만 구성되는 희석장치(case 1)와 도 1에서와 같이 이젝터부(200)의 후방에 제1희석부(100)를 구비하며 제1희석부(100), 이젝터부(200) 및 제2희석부(300)로 희석장치가 구성되는 경우(case 2)에 있어서 희석공기의 유량 및 희석비에 관한 관계를 비교 설명하기로 한다. In FIG. 1, the configuration of the first dilution unit 100 is omitted and a dilution device (case 1) consisting of only the ejector unit 200 and the second dilution unit 300 is installed at the rear of the ejector unit 200 as shown in FIG. In the case where the first dilution unit 100 is provided and the dilution device is composed of the first dilution unit 100, the ejector unit 200, and the second dilution unit 300 (case 2), the flow rate and dilution of the dilution air We will compare and explain the relationship between rain.

아래 표에서와 같이 이젝터부(200)에서 샘플링되는 유량을 2.4lpm으로 고정시킬 때, 필요한 이젝터부(200)에 유입되는 2차 희석공기(3)의 유량은 case 1과 case 2 모두 30lpm이다. 이때, case 1에서는 제1희석부(100)가 없기 때문에 이젝터부(200)에 유입되는 배기가스(1)의 유량은 2.4lpm이어야 한다. 하지만, case 2에서 이젝터부(200)에 유입되기 전 제1희석부(100)에서 1차 희석공기(2)가 유입되므로, 예를 들어 1차 희석공기(2)의 유량을 2.1lpm으로 설정하면 굴뚝으로부터 샘플링되는 유량은 0.3lpm이 필요하게 된다. 이때, 희석비 200의 희석가스를 최종적으로 생성하기 위해서 제2희석부(300)에서 공급되는 3차 희석공기(4)의 유량은 case 1에서 450lpm case 2에서는 28lpm이 요구된다. As shown in the table below, when the flow rate sampled from the ejector unit 200 is fixed at 2.4 lpm, the required flow rate of the secondary dilution air 3 flowing into the ejector unit 200 is 30 lpm for both case 1 and case 2. At this time, in case 1, since there is no first dilution unit 100, the flow rate of the exhaust gas 1 flowing into the ejector unit 200 must be 2.4 lpm. However, in case 2, the first dilution air (2) flows in from the first dilution unit (100) before flowing into the ejector unit (200), so, for example, the flow rate of the first dilution air (2) is set to 2.1 lpm. Then, the flow rate sampled from the chimney is required to be 0.3 lpm. At this time, in order to finally produce a dilution gas with a dilution ratio of 200, the flow rate of the third dilution air (4) supplied from the second dilution unit (300) is required to be 450 lpm in case 1 and 28 lpm in case 2.

따라서, case 1의 경우에는 희석비 200의 희석가스를 생성하기 위해 이젝터부(200) 전방의 제2희석부(300)에 공급되는 3차 희석공기(4)의 유량이 450lpm인데 반하여 본 발명에 따른 case 2의 경우에는 28lpm만 유입시키면 같은 희석비의 희석가스를 생성시킬 수가 있다. 따라서, case 1과 비교하여 제2희석부(300)에 저용량의 유량 공급 장치를 이용하여 고배율의 희석가스를 생성시킬 수 있다. 물론, 제1희석부(100)에도 공급되는 유량이 적기 때문에 저용량의 유량 공급 장치를 통해 희석공기가 공급될 수 있다. Therefore, in case 1, the flow rate of the tertiary dilution air 4 supplied to the second dilution unit 300 in front of the ejector unit 200 to generate a dilution gas with a dilution ratio of 200 is 450 lpm, whereas in the present invention, In case 2, dilution gas of the same dilution ratio can be generated by injecting only 28 lpm. Therefore, compared to case 1, dilution gas at a high magnification can be generated in the second dilution unit 300 by using a low-capacity flow rate supply device. Of course, since the flow rate supplied to the first dilution unit 100 is small, dilution air can be supplied through a low-capacity flow supply device.

또한, 도 3을 참조로 설명한 고온희석을 위해서 case 1에서는 이젝터부(200)에 공급되는 2차 희석공기(3)를 고온으로 공급해야 하나, 본 발명에 따른 case 2에서는 제1희석부(100)에 공급되는 1차 희석공기(2)를 고온으로 공급하여 수분의 응축을 막을 수 있다. 고온으로 유입되는 희석가스의 양이 case 1과 비교하여 case 2가 작기 때문에 희석공기를 가열시키는데 필요한 에너지양을 최소화할 수 있다. In addition, for the high temperature dilution described with reference to FIG. 3, in case 1, the secondary dilution air 3 supplied to the ejector unit 200 must be supplied at a high temperature, but in case 2 according to the present invention, the first dilution unit 100 Condensation of moisture can be prevented by supplying the primary dilution air (2) supplied to ) at high temperature. Because the amount of dilution gas flowing in at high temperature is smaller in case 2 compared to case 1, the amount of energy required to heat the dilution air can be minimized.

이때, 제1희석부(100)에 공급되는 1차 희석공기(2) 및 이젝터부(200)에 공급되는 2차 희석공기(3)는 고압의 공기를 생성하는 컴프레셔를 이용하여 공급하게 되고, 제2희석부(300)에 공급되는 3차 희석공기(4)는 블로워를 통해 공급될 수 있다. At this time, the primary dilution air (2) supplied to the first dilution unit 100 and the secondary dilution air (3) supplied to the ejector unit 200 are supplied using a compressor that generates high-pressure air, The third dilution air (4) supplied to the second dilution unit (300) may be supplied through a blower.

도 1에서 제1희석부가 없는 경우(case 1)In Figure 1, when there is no first dilution unit (case 1) 도 1(제1 희석부 포함)(case 2)Figure 1 (including first dilution part) (case 2) 이젝터부에서 샘플링되는 유량Flow rate sampled from the ejector section 2.42.4 굴뚝으로부터 샘플링되는 유량Flow sampled from chimney 2.42.4 0.30.3 1차 희석공기(제1희석부) 유량First dilution air (first dilution section) flow rate 00 2.12.1 2차 희석공기(이젝터부) 유량Secondary dilution air (ejector part) flow rate 3030 3030 3차 희석공기(제2희석부) 유량Third dilution air (second dilution section) flow rate 450450 2828 희석비dilution ratio (0+30+450)/2.4=200(0+30+450)/2.4=200 (2.1+30+28)/0.3=200.3(2.1+30+28)/0.3=200.3

본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치는 제2희석부(300)의 전단에 결합되고, 3차 희석가스의 입자정보를 측정하는 측정부(800)를 포함할 수 있다.The exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention is coupled to the front end of the second dilution unit 300 and may include a measuring unit 800 that measures particle information of the tertiary dilution gas.

도 4에 도시되어 있는 것과 같이 측정부(800)는 분사부(810), 광원(820), 수광부(830) 그리고 산출부(840)를 포함하여 구성될 수 있다.As shown in FIG. 4, the measurement unit 800 may include an injection unit 810, a light source 820, a light reception unit 830, and a calculation unit 840.

3차 희석가스는 배출관(590)과 연결되는 흐름유로(591)를 통해 분사부(810)로 이동될 수 있다. 그러면 분사부(810)는 3차 희석가스에 포함된 입자(P)를 하나씩 순차 분사할 수 있다.The tertiary dilution gas may be moved to the injection unit 810 through the flow passage 591 connected to the discharge pipe 590. Then, the injection unit 810 can sequentially spray the particles P included in the third dilution gas one by one.

광원(820)은 분사부(810)에서 분사되는 입자(P)의 분사경로에 교차하는 방향으로 광(821)을 조사할 수 있다. 입자(P)의 분사경로에 교차하는 광(821)이 분사경로 상의 입자(P)에 부딪히게 되면 산란이 발생할 수 있다.The light source 820 may radiate light 821 in a direction that intersects the injection path of the particles P ejected from the injection unit 810. Scattering may occur when light 821 that crosses the injection path of the particles (P) hits the particles (P) on the injection path.

수광부(830)는 분사경로의 일측에 구비되고, 광원(820)에서 조사된 후 분사부(810)에서 분사되는 입자(P)에 의해 산란되는 광(822)을 수광할 수 있다. 분사부(810)에서 분사되는 입자(P)의 크기가 크면 산란되는 광(822)이 많아지고, 반대로, 입자(P)의 크기가 작으면 산란되는 광(822)은 적어질 수 있다.The light receiving unit 830 is provided on one side of the injection path and can receive the light 822 scattered by the particles P emitted from the injection unit 810 after being irradiated from the light source 820. If the size of the particle P sprayed from the spray unit 810 is large, the scattered light 822 may increase. Conversely, if the size of the particle P is small, the scattered light 822 may decrease.

산출부(840)는 수광부(830)에서 생성하는 광 정보를 기초로, 2차 희석가스에 포함된 입자의 크기 정보를 산출할 수 있다. 입자의 크기 정보는 미리 설정된 측정시간 동안 획득되는 입자를 대상으로 산출될 수 있다. The calculation unit 840 may calculate size information of particles included in the secondary dilution gas based on the light information generated by the light receiving unit 830. Particle size information can be calculated for particles acquired during a preset measurement time.

산출부(840)가 산출하는 입자의 크기 정보는, 예를 들면, 입자의 크기가 10㎛ 이하로 보통 미세먼지로 칭해지는 PM10(Particulate Matter with a diameter less than 10㎛)의 농도, 또는 입자의 크기가 2.5㎛ 이하로 보통 초미세먼지로 칭해지는 PM2.5의 농도로 산출될 수 있다.The particle size information calculated by the calculation unit 840 is, for example, the concentration of PM10 (Particulate Matter with a diameter less than 10㎛), which is commonly referred to as fine dust because the particle size is 10㎛ or less, or the concentration of particles. It can be calculated as the concentration of PM2.5, which is commonly referred to as ultrafine dust with a size of 2.5㎛ or less.

측정부(800)는 전술한 구성에 한정되지 않고, 입자의 농도를 측정하는 공지된 다른 구성으로 형성될 수도 있다. The measuring unit 800 is not limited to the above-described configuration, and may be formed with other known configurations that measure the concentration of particles.

도 5는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치를 나타낸 사시도이다.Figure 5 is a perspective view showing an exhaust gas dilution device according to another embodiment of the present invention.

도 5의 배기가스 희석장치는 도 1 내지 도 4를 참조로 설명한 배기가스 희석장치와 비교하여 이젝터부(900)의 구성만 다르고 나머지 구성은 동일하다. 즉, 본 실시예에서도 제1희석부(100), 이젝터부(900), 및 제2희석부(300)로 3차로 나뉘어 희석공기가 공급될 수 있다. 이하의 설명에서는 전술한 실시예와 차이점인 이젝터부(900)의 구성을 중심으로 설명하기로 한다. The exhaust gas dilution device of FIG. 5 differs only in the configuration of the ejector unit 900 compared to the exhaust gas dilution device described with reference to FIGS. 1 to 4, and the remaining configurations are the same. That is, in this embodiment as well, the dilution air can be supplied in three stages: the first dilution unit 100, the ejector unit 900, and the second dilution unit 300. The following description will focus on the configuration of the ejector unit 900, which is different from the above-described embodiment.

본 실시예에 따른 이젝터부(900)는 헤드부(910), 공기주입부(920), 및 노즐부(930)를 포함하여 구성될 수 있다. The ejector unit 900 according to this embodiment may be configured to include a head unit 910, an air injection unit 920, and a nozzle unit 930.

헤드부(910)는 제1희석부(100)의 1차 희석가스가 유입되는 공간부(911)와, 공간부(911)와 연결되며 전단에 중심축 방향으로 관통 형성되는 관통홀(912)이 형성될 수 있다. The head part 910 has a space part 911 through which the primary dilution gas of the first dilution part 100 flows, and a through hole 912 that is connected to the space part 911 and is formed at the front end in the direction of the central axis. This can be formed.

공기주입부(920)는 헤드부(910)의 전단에 결합될 수 있다. 헤드부(910) 및 공기주입부(920)는 서로 동일한 중심축을 가지도록 결합될 수 있다.The air injection unit 920 may be coupled to the front end of the head unit 910. The head portion 910 and the air injection portion 920 may be coupled to each other to have the same central axis.

공기주입부(920)는 헤드부(910)의 관통홀(912)과 연결되도록 중심축 방향으로 관통 형성되는 제1토출홀(925)이 형성될 수 있다. 이때, 제1토출홀(925)은 2차 희석공기(3)가 유입되는 제2유입구(922)와 연결될 수 있다. The air injection unit 920 may be formed with a first discharge hole 925 penetrating in the central axis direction to be connected to the through hole 912 of the head unit 910. At this time, the first discharge hole 925 may be connected to the second inlet 922 through which the secondary dilution air 3 flows.

제1토출홀(925)은 후단에서 전단으로 흡인부(926), 가속부(927) 및 확산부(928)로 구분 형성될 수 있다.The first discharge hole 925 may be divided into a suction part 926, an acceleration part 927, and a diffusion part 928 from the rear end to the front end.

흡인부(926)는 공기주입부(920)의 후단부에 형성될 수 있으며, 전방으로 갈수록 내경이 작아지도록 형성될 수 있다. 가속부(927)는 흡인부(926)의 전단에 형성되어 흡인부(926)와 연결되며, 동일한 내경으로 형성될 수 있다. 확산부(928)는 가속부(927)의 전단에 형성되어 가속부(927)와 연결되며, 확산부(928)는 전방으로 갈수록 내경이 커지도록 형성될 수 있다.The suction portion 926 may be formed at the rear end of the air injection portion 920, and may be formed to have an inner diameter that becomes smaller as it moves forward. The acceleration unit 927 is formed at the front end of the suction unit 926 and is connected to the suction unit 926, and may be formed to have the same inner diameter. The diffusion portion 928 is formed at the front end of the acceleration portion 927 and is connected to the acceleration portion 927. The diffusion portion 928 may be formed to have an inner diameter that increases toward the front.

또한, 공기주입부(920)에는 제2유입구(922)가 형성될 수 있다. 제2유입구(922)는 반경 방향으로 관통 형성되어 흡인부(926)와 연결될 수 있다. 제2유입구(922)는 외부에서 공급되는 2차 희석공기(3)를 흡인부(926)로 안내하여, 2차 희석공기(3)는 가속부(927), 확산부(928)를 거쳐 공기주입부(920) 전단으로 유출될 수 있다. 제2유입구(922)에는 외부로부터 2차 희석공기(3)의 유입을 안내하는 제2관(921)이 결합될 수 있다.Additionally, a second inlet 922 may be formed in the air injection unit 920. The second inlet 922 may be formed through a radial direction and connected to the suction portion 926. The second inlet 922 guides the secondary diluted air 3 supplied from the outside to the suction unit 926, and the secondary diluted air 3 passes through the acceleration unit 927 and the diffusion unit 928 into the air. It may leak out to the front of the injection unit 920. A second pipe 921 that guides the inflow of secondary dilution air 3 from the outside may be coupled to the second inlet 922.

2차 희석공기(3)는 상온의 공기일 수 있으며, 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급될 수 있다.The secondary dilution air (3) may be room temperature air and may be supplied at a temperature of 10°C to 30°C.

노즐부(930)는 관통홀(912)을 통해 제1토출홀(925)에 삽입되고, 2차 희석공기(3)가 제1토출홀(925)을 통해 이동됨에 따라 공간부(911)에 유입된 1차 희석가스가 빨려 들어가 분출되도록 중심축 방향으로 관통 형성되는 제2토출홀(934)이 형성될 수 있다.The nozzle unit 930 is inserted into the first discharge hole 925 through the through hole 912, and as the secondary dilution air 3 moves through the first discharge hole 925, it is inserted into the space 911. A second discharge hole 934 may be formed penetrating in the direction of the central axis so that the introduced primary dilution gas is sucked in and ejected.

노즐부(930)는 플랜지부(931), 연결부(932) 및 노즐팁부(933)로 구성될 수 있다. The nozzle portion 930 may be composed of a flange portion 931, a connection portion 932, and a nozzle tip portion 933.

플랜지부(931)는 반경 방향으로 플랜지 형태로 돌출되어 공간부(911)의 내측면에 결합될 수 있다. 플랜지부(931)는 볼트와 같은 체결부재에 의해 헤드부(910)에 탈부착 가능하게 결합될 수 있다.The flange portion 931 may protrude in a flange shape in the radial direction and be coupled to the inner surface of the space portion 911. The flange portion 931 may be detachably coupled to the head portion 910 using a fastening member such as a bolt.

연결부(932)는 플랜지부(931)와 연결되어 전방으로 연장 형성될 수 있다. 연결부(932)는 헤드부(910)의 관통홀(912)을 관통하여 헤드부(910)의 전방으로 연장되어 흡인부(926)의 내측에 전단부가 위치할 수 있다. 연결부(932)는 전방 방향으로 갈수록 지름이 작아지도록 형성될 수 있다. 연결부(932)의 외주면과 흡인부(926) 사이는 이격 공간을 형성하여 2차 희석공기(3)가 투입되는 공간을 형성할 수 있다.The connection portion 932 may be connected to the flange portion 931 and extend forward. The connection portion 932 extends forward of the head portion 910 through the through hole 912 of the head portion 910, so that the front end portion may be located inside the suction portion 926. The connection portion 932 may be formed to have a smaller diameter as it moves forward. A separation space may be formed between the outer peripheral surface of the connection portion 932 and the suction portion 926 to form a space into which the secondary dilution air 3 is introduced.

노즐팁부(933)는 연결부(932)의 전단에 형성되어 가속부(927)에 삽입될 수 있다. 노즐팁부(933)는 가속부(927)의 내경 보다는 더 작은 크기의 외경을 가질 수 있다.The nozzle tip portion 933 may be formed at the front end of the connection portion 932 and inserted into the acceleration portion 927. The nozzle tip portion 933 may have an outer diameter smaller than the inner diameter of the acceleration portion 927.

그리고, 노즐부(930)는 중심축 방향으로 관통하는 제2토출홀(934)이 형성될 수 있다. 연결부(932)에 대응하는 위치의 제2토출홀(934)은 전방으로 갈수록 내경이 작아지도록 형성될 수 있으며, 노즐팁부(933)에 대응하는 위치의 제2토출홀(934)은 동일한 내경으로 형성될 수 있다.In addition, the nozzle unit 930 may be formed with a second discharge hole 934 penetrating in the central axis direction. The second discharge hole 934 at a position corresponding to the connection portion 932 may be formed to have an inner diameter that becomes smaller as it moves forward, and the second discharge hole 934 at a position corresponding to the nozzle tip portion 933 has the same inner diameter. can be formed.

또한, 노즐팁부(933)의 외경이 가속부(927)의 내경보다 작으므로, 노즐팁부(933)의 외경과 가속부(927)의 내경 사이 공간인 제1토출유로(951)를 가질 수 있다. 따라서, 제1토출유로(951)에 의해 흡인부(926)에 유입된 2차 희석공기(3)가 확산부(928)로 이동될 수 있다.In addition, since the outer diameter of the nozzle tip portion 933 is smaller than the inner diameter of the accelerating portion 927, it can have a first discharge passage 951 that is a space between the outer diameter of the nozzle tip portion 933 and the inner diameter of the accelerating portion 927. . Accordingly, the secondary diluted air 3 introduced into the suction unit 926 through the first discharge passage 951 can be moved to the diffusion unit 928.

2차 희석공기(3)는 작은 단면적의 제1토출유로(951)를 통과하면서 유속이 빨라지게 되는데, 2차 희석공기(3)가 확산부(928)로 배출되면 압력이 낮아지게 된다. 그러면, 확산부(928)와 공간부(911) 사이에 압력 차이가 발생하게 되고, 공간부(911)의 1차 희석가스는 제2토출홀(934)을 통해 확산부(928)로 이동하게 된다. The flow speed of the secondary diluted air (3) increases as it passes through the first discharge passage (951) with a small cross-sectional area, and when the secondary diluted air (3) is discharged to the diffusion unit (928), the pressure decreases. Then, a pressure difference occurs between the diffusion part 928 and the space part 911, and the first dilution gas in the space part 911 moves to the diffusion part 928 through the second discharge hole 934. do.

제1토출유로(951)의 단면 크기는 조정될 수 있으며, 이를 통해, 2차 희석공기(3)의 유량 및 압력은 제어가 가능하다.The cross-sectional size of the first discharge passage 951 can be adjusted, and through this, the flow rate and pressure of the secondary dilution air 3 can be controlled.

만일, 노즐팁부(933)의 중심축이 가속부(927)의 중심축과 일치되지 않으면, 노즐팁부(933)와 가속부(927) 사이의 틈새 단면적이 위치에 따라 달라져 여기를 통과하는 2차 희석공기(3)의 유량도 달라지게 되고, 확산부(928) 후단에서 효과적인 감압이 이루어지지 못할 수 있다. 그러면 제2토출홀(934)을 통해 1차 희석가스의 이동도 안정적으로 이루어지지 못할 수 있다.If the central axis of the nozzle tip portion 933 does not coincide with the central axis of the acceleration portion 927, the cross-sectional area of the gap between the nozzle tip portion 933 and the accelerating portion 927 varies depending on the location, and the secondary passing through it changes depending on the location. The flow rate of the dilution air (3) also changes, and effective pressure reduction may not be achieved at the rear end of the diffusion unit (928). Then, the movement of the first dilution gas through the second discharge hole 934 may not be stable.

그러나, 본 발명에서는 노즐팁부(933)는 가속부(927)와 동일한 중심축 상에 위치될 수 있다. 따라서, 노즐팁부(933)와 가속부(927) 사이의 어느 위치에서도 2차 희석공기(3)의 유량이 동일하게 되고, 확산부(928)에서 효과적인 감압이 이루어져서 제2토출홀(934)을 통해 1차 희석가스는 안정적으로 이동될 수 있다. 그리고, 확산부(928)에서 이루어지는 효과적인 감압으로 인해 1차 희석가스의 이동이 원활하게 이루어질 수 있다.However, in the present invention, the nozzle tip portion 933 may be located on the same central axis as the acceleration portion 927. Therefore, the flow rate of the secondary dilution air (3) becomes the same at any position between the nozzle tip part (933) and the acceleration part (927), and effective pressure reduction is achieved in the diffusion part (928), thereby opening the second discharge hole (934). Through this, the primary dilution gas can be moved stably. Additionally, the primary dilution gas can move smoothly due to the effective pressure reduction achieved in the diffusion unit 928.

본 실시예에서도 제1어댑터부(500) 및 제2어댑터부(550)를 더 포함할 수 있다.This embodiment may also further include a first adapter unit 500 and a second adapter unit 550.

제1어댑터부(500)는 공기주입부(920)의 전단에 결합될 수 있다.The first adapter unit 500 may be coupled to the front end of the air injection unit 920.

제1어댑터부(500)에는 연장확산부(501)가 축방향으로 관통 형성될 수 있다. 연장확산부(501)는 전방 방향으로 갈수록 내경이 커지도록 형성될 수 있으며, 공기주입부(920)의 확산부(928)와 연속되도록 형성될 수 있다.An extension diffusion part 501 may be formed through the first adapter part 500 in the axial direction. The extended diffusion portion 501 may be formed to have an inner diameter that increases toward the front, and may be formed to be continuous with the diffusion portion 928 of the air injection portion 920.

제2어댑터부(550)는 제1어댑터부(500)의 전단에 결합될 수 있다. The second adapter part 550 may be coupled to the front end of the first adapter part 500.

제2어댑터부(550)는 축방향으로 관통 형성되는 유로홀(551)이 형성될 수 있으며, 유로홀(551)은 제1어댑터부(500)의 연장확산부(501)와 연결될 수 있다.The second adapter unit 550 may be formed with a passage hole 551 penetrating in the axial direction, and the passage hole 551 may be connected to the extension and diffusion portion 501 of the first adapter unit 500.

본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.The scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, but may be implemented in various forms of embodiments within the scope of the appended claims. It is considered to be within the scope of the claims of the present invention to the extent that anyone skilled in the art can make modifications without departing from the gist of the invention as claimed in the claims.

100: 제1희석부 110: 제1유로부
111: 통공 120: 제2유로부
130: 가이드벽 140: 제1유입구
141: 제1관 200: 이젝터부
210: 메인유로 211: 제1분기유로
216: 제2분기유로 221: 제2관
230: 흡인유로 231: 공간부
232: 제1흡인부 233: 제1가속부
234: 제2흡인부 235: 제2가속부
236: 확산부 300: 제2희석부
310: 제1유로부 311: 통공
320: 제2유로부 330: 가이드벽
340: 제2유입구 500: 제1어댑터부
501: 연장확산부 550: 제2어댑터부
551: 유로홀 570: 확산튜브부
571: 추가확산부 580: 마개부
581: 연결홀 590: 배출관
591: 흐름유로 800: 측정부
810: 분사부 820: 광원
830: 수광부 840: 산출부
900: 이젝터부 910: 헤드부
911: 공간부 912: 관통홀
920: 공기주입부 921: 제2관
922: 제2유입구 925: 제1토출홀
926: 흡인부 927: 가속부
928: 확산부 930: 노즐부
931: 플랜지부 932: 연결부
933: 노즐팁부 934: 제2토출홀
951: 제1토출유로
1: 배기가스
2: 1차 희석공기
3: 2차 희석공기
4: 3차 희석공기
100: first dilution part 110: first euro part
111: Common 120: Second Euro Department
130: Guide wall 140: First inlet
141: Building 1 200: Ejector unit
210: Main Euro 211: First Quarter Euro
216: Second Quarter Euro 221: Part 2
230: suction passage 231: space part
232: first suction part 233: first acceleration part
234: second suction part 235: second acceleration part
236: diffusion section 300: second dilution section
310: First Euro Department 311: Common Gong
320: Second flow path 330: Guide wall
340: second inlet 500: first adapter part
501: Extension diffusion part 550: Second adapter part
551: Euro hole 570: Diffusion tube part
571: Additional diffusion part 580: Stopper part
581: Connection hole 590: Discharge pipe
591: flow path 800: measuring unit
810: injection unit 820: light source
830: light receiving unit 840: calculating unit
900: Ejector part 910: Head part
911: space 912: through hole
920: Air injection unit 921: Pipe 2
922: second inlet 925: first discharge hole
926: Suction unit 927: Acceleration unit
928: diffusion part 930: nozzle part
931: Flange portion 932: Connection portion
933: Nozzle tip portion 934: Second discharge hole
951: First discharge passage
1: exhaust gas
2: Primary dilution air
3: Secondary dilution air
4: Third dilution air

Claims (7)

외부로부터 배기가스가 유입되며 1차 희석공기를 공급하여 1차 희석가스를 생성하는 제1희석부;
상기 제1희석부 전단에 형성되고 2차 희석공기를 일정량으로 공급하여 압력차로 후단의 1차 희석가스를 전단으로 이동시키고 2차 희석가스를 생성하는 이젝터부; 및
상기 이젝터부 전단에 형성되고 상기 2차 희석가스에 3차 희석공기를 공급하여 3차 희석가스를 생성하는 제2희석부를 포함하고,
상기 이젝터부는
상기 1차 희석가스가 유동하는 유로인 흡인유로 및 유입되는 2차 희석공기를 분기시켜 상기 흡인유로의 복수 지점에 공급시키는 유로인 희석공기 공급유로가 형성되고, 2차 희석공기의 공급에 따른 압력 차이로 상기 흡인유로를 통해 상기 제1희석부의 1차 희석가스를 유입시켜 상기 2차 희석가스를 생성하여 전방으로 토출시키는 배기가스 희석장치.
A first dilution unit where exhaust gas flows in from the outside and supplies primary dilution air to generate primary dilution gas;
an ejector unit formed at the front of the first dilution unit and supplying a certain amount of secondary dilution air to move the primary dilution gas at the rear end to the front end due to a pressure difference and generating a second dilution gas; and
It includes a second dilution unit formed in front of the ejector unit and supplying tertiary dilution air to the secondary dilution gas to generate tertiary dilution gas,
The ejector part
A suction flow path, which is a flow path through which the first dilution gas flows, and a dilution air supply flow path, which is a flow path for branching the incoming secondary dilution air and supplying it to a plurality of points in the suction flow path, are formed, and the pressure according to the supply of the second dilution air is formed. An exhaust gas dilution device that introduces the primary dilution gas of the first dilution unit through the suction passage to generate the secondary dilution gas and discharges it forward.
제1항에 있어서,
상기 제1희석부는
상기 배기가스가 유입되고 외주면에 복수의 통공이 관통 형성되는 제1유로부와, 상기 제1유로부와 이격하여 둘러싸도록 형성되고 전단부에 1차 희석공기가 공급되는 관이 연결되는 제2유로부와, 상기 제1유로부와 상기 제2유로부의 사이에 배치되는 가이드벽을 포함하고, 상기 관을 통해 유입된 상기 1차 희석공기는 상기 제2유로부와 상기 가이드벽 사이의 공간을 통해 후방으로 이동한 후 상기 제1유로부와 상기 가이드벽 사이의 공간을 통해 전방으로 이동하도록 하고, 상기 통공을 통해 상기 1차 희석가스는 상기 제1유로부 내부로 유입되어 상기 배기가스와 혼합하는 배기가스 희석장치.
According to paragraph 1,
The first dilution section
A first flow path through which the exhaust gas flows and a plurality of through holes formed on the outer circumferential surface, and a second flow path formed to surround and spaced apart from the first flow path and connected to a pipe through which primary dilution air is supplied to the front end. and a guide wall disposed between the first flow path part and the second flow path part, and the first dilution air introduced through the pipe passes through the space between the second flow path part and the guide wall. After moving backward, it moves forward through the space between the first flow passage part and the guide wall, and the first dilution gas flows into the first flow passage part through the hole and mixes with the exhaust gas. Exhaust gas dilution device.
제1항에 있어서,
상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급되는 배기가스 희석장치.
According to paragraph 1,
An exhaust gas dilution device in which the first dilution air is supplied at a temperature of 150°C to 250°C.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 희석공기 공급유로는
외부로부터 상기 2차 희석공기가 유입되는 메인유로;
상기 메인유로로부터 분기하여 상기 흡인유로의 후단부에 상기 2차 희석공기를 공급하는 제1분기유로; 및
상기 메인유로로부터 분기하여 상기 흡인유로의 전단부에 상기 2차 희석공기를 공급하는 제2분기유로를 포함하는 배기가스 희석장치.
According to claim 1,
The diluted air supply flow path is
a main flow path through which the secondary diluted air flows from the outside;
a first branch flow path branching from the main flow path to supply the secondary dilution air to a rear end of the suction flow path; and
An exhaust gas dilution device comprising a second branch flow path branching from the main flow path to supply the secondary dilution air to a front end of the suction flow path.
제 5 항에 있어서,
상기 제1분기유로의 단부는 상기 흡인유로 후단부 주위를 둘러싸도록 형성되어 상기 흡인유로의 후단부 전방을 향하여 상기 2차 희석공기를 토출시키고,
상기 제2분기유로의 단부는 상기 흡인유로의 전단부 주위를 둘러싸도록 형성되어 상기 흡인유로의 전단부 전방을 향하여 상기 2차 희석공기를 토출시키는 배기가스 희석장치.
According to claim 5,
The end of the first branch passage is formed to surround the rear end of the suction passage and discharges the secondary dilution air toward the front of the rear end of the suction passage,
An exhaust gas dilution device wherein the end of the second branch passage is formed to surround the front end of the suction passage and discharges the secondary dilution air toward the front end of the suction passage.
제 5 항에 있어서,
상기 흡인유로는 상기 이젝터부의 후단부에 형성되며 전방을 향하여 관경이 점차적으로 줄어드는 제1흡인부, 상기 제1흡인부의 전단에 형성되며 관경이 일정한 제1가속부, 상기 제1가속부의 전단에 형성되며 상기 제1분기유로를 통해 유입되는 2차 희석공기와 상기 배기가스가 혼합되어 2-1차 희석가스를 생성하며 관경이 점차적으로 줄어드는 제2흡인부, 및 상기 제2흡인부의 전단에 형성되며 관경이 일정한 제2가속부, 상기 제2가속부의 전단에 형성되며 상기 제2분기유로를 통해 유입되는 2차 희석공기와 상기 2-1차 희석가스가 혼합되어 2-2차 희석가스를 생성하고 관경이 점차적으로 커지는 확산부를 포함하는 배기가스 희석장치.
According to claim 5,
The suction flow path is formed at the rear end of the ejector unit and has a pipe diameter that gradually decreases toward the front. The secondary dilution air flowing in through the first branch flow path is mixed with the exhaust gas to produce a secondary-primary dilution gas, which is formed in a second suction part whose pipe diameter gradually decreases and at the front of the second suction part. A second accelerator having a constant pipe diameter is formed at the front end of the second accelerator, and the secondary dilution air flowing through the second branch flow path is mixed with the 2nd-1st dilution gas to produce a 2nd-2nd dilution gas. An exhaust gas dilution device that includes a diffusion section whose pipe diameter gradually increases.
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