KR102435831B1 - Apparatus for diluting exhaust gas - Google Patents

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Abstract

본 발명은 배기가스 희석장치에 관한 것으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치는 외부로부터 배기가스가 유입되며 관통홀이 형성된 헤드부, 상기 헤드부의 전단에 결합되며 1차 희석공기가 유입되어 이동되도록 안내하며 상기 관통홀과 연결되는 제1토출홀이 형성되는 이젝터부, 상기 관통홀을 통해 상기 제1토출홀에 삽입되고, 상기 제1토출홀을 통해 상기 1차 희석공기가 이동하여 상기 이젝터부 전단의 압력 강하로 상기 헤드부에 유입된 배기가스를 제2토출홀을 통해 상기 이젝터부의 전방으로 분출되도록 유도하는 노즐부, 상기 이젝터부의 전단에 결합되며 상기 배기가스와 상기 1차 희석공기가 혼합되어 배출되는 1차 희석가스에 2차 희석공기를 공급하여 2차 희석가스를 생성하는 희석부 및 상기 헤드부의 후단에 형성되고, 유입되는 상기 배기가스의 유속을 감속시켜 정체 공기를 형성하여 상기 헤드부에 유입시키는 정체공기 형성부를 포함하는 것을 특징으로 한다. The present invention relates to an exhaust gas dilution device, and the exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention includes a head in which exhaust gas is introduced from the outside, a through hole is formed, and is coupled to a front end of the head and provides primary dilution air. The ejector unit guides the inflow and movement and has a first discharge hole connected to the through hole, is inserted into the first discharge hole through the through hole, and the primary dilution air moves through the first discharge hole a nozzle unit for guiding the exhaust gas introduced into the head unit to be ejected toward the front of the ejector unit through a second discharge hole due to a pressure drop at the front end of the ejector unit, coupled to the front end of the ejector unit, the exhaust gas and the primary The dilution part is formed at the rear end of the dilution part and the head part for generating the secondary dilution gas by supplying secondary dilution air to the primary dilution gas mixed with the dilution air, and to reduce the flow rate of the inflowing exhaust gas to remove stagnant air. It is characterized in that it comprises a stagnant air forming portion to be formed and introduced to the head portion.

Description

배기가스 희석장치{APPARATUS FOR DILUTING EXHAUST GAS}Exhaust gas dilution device {APPARATUS FOR DILUTING EXHAUST GAS}

본 발명은 배기가스 희석장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 배기가스에 포함된 입자의 농도를 측정하기 위해 입자계수기의 측정범위에 맞게 고농도의 배기가스를 희석시켜 고농도의 배기가스에 대해서도 측정 정밀도를 높일 수 있는 배기가스 희석장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exhaust gas dilution device, and more particularly, to measure the concentration of particles contained in the exhaust gas, by diluting the high concentration exhaust gas according to the measurement range of the particle counter to increase the measurement precision even for the high concentration exhaust gas It relates to an exhaust gas dilution device that can be raised.

입자 희석장치는 샘플링한 입자의 농도가 입자계수기의 측정범위를 넘어서는 경우에, 입자계수기의 전단에 설치하여 샘플링한 입자를 일정한 희석비로 희석한 후에 입자계수기로 이송함으로써, 고농도의 샘플링 입자들까지도 측정할 수 있도록 하는 장치이다.When the concentration of sampled particles exceeds the measurement range of the particle counter, the particle dilution device is installed at the front of the particle counter to dilute the sampled particles at a constant dilution ratio and then transfers them to the particle counter to measure even high-concentration sampled particles. It is a device that allows you to

고온, 고수분, 고농도 환경의 굴뚝 내부 환경에서 측정의 정확도를 높이기 위해서는 액적 발생을 최소화하며 희석이 이루어져야 한다. 나아가, 희석 장치의 구조에 따른 입자 손실의 발생을 최대한 억제하여 측정의 정확도를 높이는 것이 필요하다. In order to increase the accuracy of measurement in the environment inside the chimney in a high temperature, high moisture, and high concentration environment, dilution should be performed while minimizing the generation of droplets. Furthermore, it is necessary to increase the accuracy of measurement by maximally suppressing the occurrence of particle loss according to the structure of the dilution device.

또한, 굴뚝과 같은 산업 배출 시설에서 미세입자의 농도를 정확하게 측정하기 위해서는 굴뚝 내 배기가스의 흐름과 입자 샘플링 유속 조건을 같게 하는 등속 흡인 조건을 충족시키는 것이 매우 중요하다. 등속 흡인 조건을 만족하지 않게 된다면 샘플링을 더 많이 하게 되거나 더 적게 하게 되어 측정된 입자 농도가 왜곡되어 실제 굴뚝 내부의 입자 농도와 차이가 발생하기 때문이다. In addition, in order to accurately measure the concentration of fine particles in an industrial emission facility such as a chimney, it is very important to satisfy a constant velocity suction condition that equals the particle sampling flow rate with the exhaust gas flow in the chimney. This is because, if the constant velocity suction condition is not satisfied, more or less sampling is performed, and the measured particle concentration is distorted, resulting in a difference from the actual particle concentration inside the chimney.

나아가, 산업현장의 굴뚝 내 배기가스의 유속은 상황에 따라서 가변적으로 변한다. 입자계수기는 희석된 희석가스의 입자 농도를 측정하고, 이를 기초로 측정 대상 입자의 농도를 환산하게 되는데, 배기가스의 속도에 따라서 희석장치에 유입되는 배기가스의 유량이 가변적으로 변함에 따라서 희석비가 바뀌게 되면 입자 농도의 측정값에 오차가 발생할 수 있다. Furthermore, the flow velocity of exhaust gas in the chimney of an industrial site is variably changed according to the situation. The particle counter measures the particle concentration of the diluted dilution gas and converts the concentration of the target particle based on this. If it is changed, an error may occur in the measured value of particle concentration.

따라서, 고온 고습 고농도 조건의 굴뚝 내에서 정확한 입자 샘플링을 하기 위해서는 일정한 희석비를 유지하면서 등속 흡인이 가능하여야 하며 수분의 응축이 일어나지 않는 등의 복합적인 조건을 만족하여야 한다. Therefore, in order to accurately sample particles in a chimney under high temperature, high humidity and high concentration conditions, constant velocity suction must be possible while maintaining a constant dilution ratio, and complex conditions such as no condensation of moisture must be satisfied.

대한민국 공개특허공보 제2013-0059592호(2013.06.07. 공개)Republic of Korea Patent Publication No. 2013-0059592 (published on June 7, 2013)

따라서, 본 발명의 목적은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 후단부에 배기가스의 유속을 감속시켜 정체 공기를 형성하는 정체공기 형성부를 구비하여 일정량의 배기가스가 등속 흡인되도록 하며, 희석을 위해 투입되는 희석공기 양의 변화없이 일정한 희석비를 유지하면서 입자 샘플링이 가능하므로, 입자 측정의 정밀도를 높일 수 있는 배기가스 희석장치를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to solve such a problem in the prior art, and a stagnant air forming unit for forming stagnant air by decelerating the flow rate of exhaust gas at the rear end is provided so that a certain amount of exhaust gas is sucked at a constant velocity, dilution It is to provide an exhaust gas dilution device capable of increasing the precision of particle measurement because particle sampling is possible while maintaining a constant dilution ratio without a change in the amount of dilution air input for the purpose.

본 발명이 해결하고자 하는 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems to be solved by the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 외부로부터 배기가스가 유입되며 관통홀이 형성된 헤드부; 상기 헤드부의 전단에 결합되며 1차 희석공기가 유입되어 이동되도록 안내하며 상기 관통홀과 연결되는 제1토출홀이 형성되는 이젝터부; 상기 관통홀을 통해 상기 제1토출홀에 삽입되고, 상기 제1토출홀을 통해 상기 1차 희석공기가 이동하여 상기 이젝터부 전단의 압력 강하로 상기 헤드부에 유입된 배기가스를 제2토출홀을 통해 상기 이젝터부의 전방으로 분출되도록 유도하는 노즐부; 상기 이젝터부의 전단에 결합되며 상기 배기가스와 상기 1차 희석공기가 혼합되어 배출되는 1차 희석가스에 2차 희석공기를 공급하여 2차 희석가스를 생성하는 희석부; 및 상기 헤드부의 후단에 형성되고, 유입되는 상기 배기가스의 유속을 감속시켜 정체 공기를 형성하여 상기 헤드부에 유입시키는 정체공기 형성부를 포함하는 배기가스 희석장치에 의해 달성될 수 있다. The above object, according to the present invention, the exhaust gas is introduced from the outside, the head portion is formed with a through hole; an ejector unit coupled to the front end of the head unit, guiding the primary dilution air to be introduced and moving, and having a first discharge hole connected to the through hole; It is inserted into the first discharge hole through the through hole, and the primary dilution air moves through the first discharge hole, and the exhaust gas introduced into the head unit due to a pressure drop at the front end of the ejector unit is discharged through the second discharge hole. a nozzle unit for guiding the ejector to be ejected in front of the ejector unit; a dilution unit coupled to the front end of the ejector unit and supplying secondary dilution air to the primary dilution gas discharged by mixing the exhaust gas and the primary dilution air to generate secondary dilution gas; and a stagnant air forming part which is formed at the rear end of the head part, forms stagnant air by decelerating the flow rate of the inflowing exhaust gas, and introduces the stagnant air into the head part.

여기서, 상기 정체공기 형성부는 상기 배기가스가 유입되는 유입홀이 형성되며 상기 배기가스가 유동하는 방향을 따라 반경이 점차적으로 커지는 디퓨져부를 포함할 수 있다. Here, the stagnant air forming unit may include a diffuser in which an inlet hole through which the exhaust gas is introduced is formed and a radius gradually increases along a direction in which the exhaust gas flows.

여기서, 상기 정체공기 형성부는 상기 디퓨져부를 통해 감속된 배기가스가 체류하며 유동 방향을 따라 배기가스를 유출시키는 유출홀이 형성된 공기 체류부; 및 상기 공기 체류부에 직교하는 방향으로 연장 형성되어 상기 헤드부를 향하여 상기 배기가스를 토출하는 샘플링 유출부를 더 포함할 수 있다. Herein, the stagnant air forming unit includes: an air retention unit having an outlet hole through which exhaust gas decelerated through the diffuser unit stays and discharges the exhaust gas along a flow direction; and a sampling outlet extending in a direction perpendicular to the air retention part to discharge the exhaust gas toward the head part.

여기서, 상기 정체공기 형성부와 상기 헤드부 사이에 형성되어 상기 배기가스를 예열하는 예열부를 더 포함할 수 있다. Here, it may further include a preheating unit formed between the stagnant air forming unit and the head unit to preheat the exhaust gas.

여기서, 상기 예열부는 상기 배기가스를 190℃ 내지 210℃의 온도로 예열하고, 상기 1차 희석가스가 고온희석 방법으로 생성되도록 상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급되고, 상기 2차 희석가스가 상온희석 방법으로 생성되도록 상기 2차 희석공기는 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급될 수 있다. Here, the preheating unit preheats the exhaust gas to a temperature of 190°C to 210°C, and the primary dilution air is supplied at a temperature of 150°C to 250°C so that the primary dilution gas is generated by a high-temperature dilution method, The secondary dilution air may be supplied at a temperature of 10° C. to 30° C. so that the secondary dilution gas is generated by the room temperature dilution method.

여기서, 상기 헤드부의 전방에 구비되고, 상기 외부에서 유입되는 배기가스에서 미리 설정된 크기 이하의 타깃입자군을 사이클론 분리하는 분리부를 더 포함할 수 있다. Here, it is provided in front of the head part, and may further include a separation unit for cyclone separation of a target particle group having a size less than or equal to a preset size from the exhaust gas flowing from the outside.

상기한 바와 같은 본 발명의 배기가스 희석장치에 따르면 제1토출홀을 통해 고속으로 이동하는 1차 희석공기에 의해 확산부에서 효과적인 감압이 이루어질 수 있고, 이로 인해 배기가스가 노즐부를 통해 원활하게 이동될 수 있기 때문에, 배기가스를 이동시키기 위한 압축공기가 불필요한 이점이 있다.According to the exhaust gas dilution apparatus of the present invention as described above, effective decompression can be achieved in the diffusion part by the primary dilution air moving at high speed through the first discharge hole, and thereby the exhaust gas moves smoothly through the nozzle part It has the advantage that compressed air is unnecessary for moving the exhaust gas.

또한, 제1유로부에 형성되는 통공에 의해 제1유로부의 중심 방향으로 2차 희석공기가 유입되므로, 제1유로부의 내주면에 달라붙게 되는 배기가스의 입자 수가 감소될 수 있다. In addition, since the secondary dilution air flows in the central direction of the first flow passage through the through hole formed in the first flow passage, the number of particles of exhaust gas adhering to the inner circumferential surface of the first flow passage may be reduced.

또한, 통공을 통해 2차 희석공기가 제1유로부의 내측으로 유입될 때, 제1유로부의 내주면에 달라붙어 있는 배기가스 입자가 떨어져 나올 수 있다. 이에 따라, 배기가스가 2차 희석가스로 되는 과정에서 입자의 손실이 발생하는 것이 효과적으로 개선될 수 있다.In addition, when the secondary dilution air is introduced into the first passage through the through hole, the exhaust gas particles adhering to the inner peripheral surface of the first passage may come off. Accordingly, the occurrence of particle loss in the process in which the exhaust gas becomes the secondary dilution gas can be effectively improved.

또한, 배기가스가 이젝터부에서 1차로 희석이 이루어지고, 희석부에서 2차로 희석이 이루어짐으로써, 희석율이 높아질 수 있다.In addition, since the exhaust gas is primarily diluted in the ejector unit and secondarily diluted in the dilution unit, the dilution rate may be increased.

또한, 배기가스가 예열부에서 예열된 후 고온의 1차 희석공기와 혼합되어 고온희석되고, 이후, 상온의 2차 희석공기와 혼합되어 상온희석됨으로써, 배기가스 내의 수분이 액적화되는 것이 방지될 수 있으며, 이를 통해, 입자의 측정 정확도가 향상될 수 있다.In addition, after the exhaust gas is preheated in the preheating unit, it is mixed with high-temperature primary dilution air and diluted at high temperature, and then mixed with room-temperature secondary dilution air and diluted at room temperature to prevent moisture in the exhaust gas from forming into droplets. and, through this, the measurement accuracy of the particles may be improved.

또한, 헤드부 및 예열부의 사이에 세척유체 공급부를 마련하고, 세척유체가 헤드부 방향 및 예열부 방향으로 동시에 공급되도록 하여 배기가스 희석장치의 내부를 효과적을 세척할 수 있다. 특히, 세척유체 공급부가 배기가스 희석장치에서 상대적으로 후단에 연결되도록 하여 공급되는 세척용 유체와 측정부 사이의 거리를 충분히 확보할 수 있으며, 이를 통해, 세척유체가 측정부로 유입되어 측정부의 교란이 발생될 수 있는 문제점이 예방될 수 있다.In addition, a cleaning fluid supply unit is provided between the head unit and the preheating unit, and the washing fluid is simultaneously supplied to the head unit and the preheating unit, so that the inside of the exhaust gas dilution device can be effectively cleaned. In particular, the cleaning fluid supply unit is connected to the rear end of the exhaust gas dilution device to ensure a sufficient distance between the supplied cleaning fluid and the measurement unit. Problems that may arise can be prevented.

또한, 후단부에 분리부가 구비되어 배기가스에서 특정 타깃입자군을 사이클론 분리하여 이동시킬 수 있기 때문에, 측정부에서는 타깃입자군을 대상으로 입자 정보를 산출할 수 있다.In addition, since a separation unit is provided at the rear end to separate a specific target particle group from the exhaust gas by cyclone and move it, the measurement unit can calculate particle information for the target particle group.

또한, 후단부에 배기가스의 유속을 감속시켜 일정한 속도로 배기가스를 유입시키는 정체공기 형성부가 형성되어 배기가스의 유속이 가변적인 상황에서 등속 흡인이 가능하여 측정 정밀도를 높일 수가 있다. In addition, the stagnant air forming part for introducing the exhaust gas at a constant speed by decelerating the flow rate of the exhaust gas is formed at the rear end, so that constant velocity suction is possible in a situation where the flow velocity of the exhaust gas is variable, thereby improving measurement accuracy.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치를 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치의 노즐부를 중심으로 나타낸 분해단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치의 노즐부를 나타낸 사시도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치에서 희석 온도에 따른 효과를 설명하기 위한 그래프이다.
도 6은 도 1의 세척유체 공급부를 나타낸 예시도이다.
도 7은 도 1의 측정부를 나타낸 구성도이다.
도 8은 분리부의 작동예를 나타낸 예시도이다.
도 9는 도 1의 정체공기 형성부의 예시도이다.
도 10은 정체공기 형성부에 유입되는 배기가스의 속도에 따른 감속 결과를 실험한 결과를 도시한다.
1 is a perspective view showing an exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of an exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention.
3 is an exploded cross-sectional view showing the nozzle part of the exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view illustrating a nozzle unit of an exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention.
5 is a graph for explaining the effect according to the dilution temperature in the exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention.
6 is an exemplary view illustrating the cleaning fluid supply unit of FIG. 1 .
FIG. 7 is a configuration diagram illustrating the measurement unit of FIG. 1 .
8 is an exemplary view showing an operation example of the separation unit.
9 is an exemplary view of the stagnant air forming unit of FIG. 1 .
10 shows the experimental results of the deceleration results according to the speed of the exhaust gas flowing into the stagnant air forming unit.

실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.The specific details of the embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다 Advantages and features of the present invention and methods of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, and only these embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention pertains It is provided to fully inform those who have the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

이하, 본 발명의 실시예들에 의하여 배기가스 희석장치를 설명하기 위한 도면들을 참고하여 본 발명에 대해 설명하도록 한다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings for explaining an exhaust gas dilution device according to embodiments of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치를 나타낸 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치의 단면도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치의 노즐부를 중심으로 나타낸 분해단면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치의 노즐부를 나타낸 사시도이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치는 헤드부(100), 이젝터부(200), 노즐부(300), 희석부(400) 및 정체공기 형성부(1000)를 포함할 수 있다. 또한, 세척유체 공급부(700), 예열부(600), 또는 분리부(900)를 더 포함할 수 있다. 1 is a perspective view showing an exhaust gas dilution apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of an exhaust gas dilution apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an exhaust gas dilution apparatus according to an embodiment of the present invention It is an exploded cross-sectional view showing the nozzle part of the exhaust gas dilution device as a center, and FIG. 4 is a perspective view showing the nozzle part of the exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention. The exhaust gas dilution apparatus according to an embodiment of the present invention may include a head unit 100 , an ejector unit 200 , a nozzle unit 300 , a dilution unit 400 , and a stagnant air forming unit 1000 . In addition, it may further include a cleaning fluid supply unit 700 , a preheating unit 600 , or a separation unit 900 .

이하의 설명에서는 설명의 편의상, 배기가스의 흐름 방향을 기준으로 전단/전단부/전방, 후단/후단부/후방으로 설명한다. 즉, 배기가스가 제1지점에서 제2지점으로 이동되는 경우, 제1지점을 후단/후단부/후방으로, 제2지점을 전단/전단부/전방으로 하여 설명한다.In the following description, for convenience of explanation, the front end/front end/front and the rear end/rear end/rear are described based on the flow direction of the exhaust gas. That is, when the exhaust gas is moved from the first point to the second point, the first point will be described as the rear end/rear end/rear, and the second point will be described as the front end/front end/front.

헤드부(100)는 배기가스(1)가 유입되는 공간부(111)와, 공간부(111)와 연결되며 전단에 중심축 방향으로 관통 형성되는 관통홀(112)이 형성될 수 있다. 그리고, 헤드부(100)의 전단부 외주면에는 원주방향을 따라 단차돌기(120)가 형성될 수 있다. 또한, 헤드부(100)의 후단에는 공간부(111)를 밀폐하는 커버(미도시)가 구비될 수 있으며, 배기가스는 상기 커버를 통해 공간부(111)로 유입될 수 있다.The head part 100 may include a space part 111 through which the exhaust gas 1 is introduced, and a through hole 112 connected to the space part 111 and penetratingly formed in the central axis direction at the front end thereof. In addition, the step protrusion 120 may be formed on the outer peripheral surface of the front end of the head part 100 in the circumferential direction. In addition, a cover (not shown) for sealing the space 111 may be provided at the rear end of the head part 100 , and exhaust gas may be introduced into the space part 111 through the cover.

본 발명에서 배기가스는 측정 대상의 한 예일 수 있으며, 측정 대상이 반드시 배기가스에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 측정 대상이 굴뚝의 연기인 경우, 굴뚝에는 연기의 일부가 흡수되는 유로가 마련될 수 있으며, 상기 유로를 통해 이동되는 연기는 상기 커버를 통해 헤드부(100)의 공간부(111)로 공급될 수 있다.In the present invention, exhaust gas may be an example of a measurement target, and the measurement target is not necessarily limited to exhaust gas. For example, when the measurement target is smoke from a chimney, a flow path through which a portion of the smoke is absorbed may be provided in the chimney, and the smoke moving through the flow path may pass through the space portion 111 of the head unit 100 through the cover. ) can be supplied.

이젝터부(200)는 헤드부(100)의 전단에 결합될 수 있다. 이젝터부(200)의 후단에는 제1단차홈(230)이 형성될 수 있고, 제1단차홈(230)에는 헤드부(100)의 단차돌기(120)가 삽입될 수 있다. 이를 통해, 헤드부(100) 및 이젝터부(200)는 서로 동일한 중심축을 가지도록 결합될 수 있다.The ejector unit 200 may be coupled to the front end of the head unit 100 . A first stepped groove 230 may be formed at the rear end of the ejector unit 200 , and the stepped protrusion 120 of the head unit 100 may be inserted into the first stepped groove 230 . Through this, the head part 100 and the ejector part 200 may be coupled to have the same central axis.

이젝터부(200)는 헤드부(100)의 관통홀(112)과 연결되도록 중심축 방향으로 관통 형성되는 제1토출홀(210)이 형성될 수 있다. 이때, 제1토출홀(210)은 1차 희석공기(2)가 유입되는 제1유입구(220)와 연결될 수 있다. The ejector unit 200 may have a first discharge hole 210 that is formed through the central axis to be connected to the through hole 112 of the head unit 100 . In this case, the first discharge hole 210 may be connected to the first inlet 220 through which the primary dilution air 2 is introduced.

제1토출홀(210)은 후단에서 전단으로 흡인부(211), 가속부(212) 및 확산부(213)로 구분 형성될 수 있다.The first discharge hole 210 may be dividedly formed from a rear end to a front end into a suction unit 211 , an accelerator unit 212 , and a diffusion unit 213 .

도 3에 도시되어 있는 것과 같이 흡인부(211)는 이젝터부(200)의 후단에 형성될 수 있으며, 전방으로 갈수록 내경이 작아지도록 형성될 수 있다. 가속부(212)는 흡인부(211)의 전단에 형성되어 흡인부(211)와 연결되며, 동일한 내경으로 형성될 수 있다. 확산부(213)는 가속부(212)의 전단에 형성되어 가속부(212)와 연결되며, 확산부(213)는 전방으로 갈수록 내경이 커지도록 형성될 수 있다.As shown in FIG. 3 , the suction unit 211 may be formed at the rear end of the ejector unit 200 , and may be formed to have a smaller inner diameter toward the front. The acceleration unit 212 is formed at the front end of the suction unit 211 to be connected to the suction unit 211 and may have the same inner diameter. The diffusion unit 213 is formed at the front end of the accelerator unit 212 and is connected to the accelerator unit 212 , and the diffusion unit 213 may be formed to have an inner diameter increasing toward the front.

또한, 이젝터부(200)에는 제1유입구(220)가 형성될 수 있다. 제1유입구(220)는 반경 방향으로 관통 형성되어 흡인부(211)와 연결될 수 있다. 제1유입구(220)는 외부에서 공급되는 1차 희석공기(2)를 흡인부(211)로 안내하여, 1차 희석공기(2)는 가속부(212), 확산부(213)를 거쳐 이젝터부(200) 전단으로 유출될 수 있다. 제1유입구(220)에는 외부로부터 1차 희석공기(2)의 유입을 안내하는 제1관(221)이 결합될 수 있다.In addition, a first inlet 220 may be formed in the ejector unit 200 . The first inlet 220 may be formed through the radial direction to be connected to the suction unit 211 . The first inlet 220 guides the primary dilution air 2 supplied from the outside to the suction unit 211 , and the primary dilution air 2 passes through the accelerator unit 212 and the diffusion unit 213 to the ejector. It may flow out to the front end of the unit 200 . A first pipe 221 guiding the inflow of the primary dilution air 2 from the outside may be coupled to the first inlet 220 .

1차 희석공기(2)는 고온의 공기일 수 있으며, 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급될 수 있다.The primary dilution air 2 may be high-temperature air, and may be supplied at a temperature of 150°C to 250°C.

노즐부(300)는 관통홀(112)을 통해 제1토출홀(210)에 삽입되고, 1차 희석공기(2)가 제1토출홀(210)을 통해 이동됨에 따라 공간부(111)에 유입된 배기가스(1)가 빨려 들어가 분출되도록 중심축 방향으로 관통 형성되는 제2토출홀(340)이 형성될 수 있다.The nozzle unit 300 is inserted into the first discharge hole 210 through the through hole 112 , and as the primary dilution air 2 moves through the first discharge hole 210 , it enters the space 111 . A second discharge hole 340 penetratingly formed in the central axis direction may be formed so that the introduced exhaust gas 1 is sucked in and discharged.

노즐부(300)는 플랜지부(310), 연결부(320) 및 노즐팁부(330)로 구성될 수 있다. The nozzle part 300 may include a flange part 310 , a connection part 320 , and a nozzle tip part 330 .

플랜지부(310)는 반경 방향으로 플랜지 형태로 돌출되어 공간부(111)의 내측면에 결합될 수 있다. 플랜지부(310)는 볼트와 같은 체결부재에 의해 헤드부(100)에 탈부착 가능하게 결합될 수 있다.The flange portion 310 may be coupled to the inner surface of the space portion 111 by protruding in the form of a flange in the radial direction. The flange part 310 may be detachably coupled to the head part 100 by a fastening member such as a bolt.

연결부(320)는 플랜지부(310)와 연결되어 전방으로 연장 형성될 수 있다. 연결부(320)는 헤드부(100)의 관통홀(112)을 관통하여 헤드부(100)의 전방으로 연장되어 흡인부(211)의 내측에 전단부가 위치할 수 있다. 연결부(320)는 전방 방향으로 갈수록 지름이 작아지도록 형성될 수 있다. 연결부(320)의 외주면과 흡인부(211) 사이는 이격 공간을 형성하여 1차 희석공기(2)가 투입되는 공간을 형성할 수 있다.The connection part 320 may be connected to the flange part 310 to extend forward. The connection part 320 penetrates the through hole 112 of the head part 100 and extends forward of the head part 100 so that the front end may be located inside the suction part 211 . The connecting portion 320 may be formed to have a smaller diameter toward the front. A space may be formed between the outer peripheral surface of the connection part 320 and the suction part 211 to form a space into which the primary dilution air 2 is introduced.

노즐팁부(330)는 연결부(320)의 전단에 형성되어 가속부(212)에 삽입될 수 있다. 노즐팁부(330)는 가속부(212)의 내경 보다는 더 작은 크기의 외경을 가질 수 있다.The nozzle tip part 330 may be formed at the front end of the connection part 320 and inserted into the acceleration part 212 . The nozzle tip portion 330 may have an outer diameter smaller than the inner diameter of the acceleration portion 212 .

그리고, 노즐부(300)는 중심축 방향으로 관통하는 제2토출홀(340)이 형성될 수 있다. 연결부(320)에 대응하는 위치의 제2토출홀(340)은 전방으로 갈수록 내경이 작아지도록 형성될 수 있으며, 노즐팁부(330)에 대응하는 위치의 제2토출홀(340)은 동일한 내경으로 형성될 수 있다.In addition, the nozzle unit 300 may have a second discharge hole 340 penetrating in the central axis direction. The second discharge hole 340 at a position corresponding to the connection part 320 may be formed to have a smaller inner diameter toward the front, and the second discharge hole 340 at a position corresponding to the nozzle tip 330 has the same inner diameter. can be formed.

또한, 노즐팁부(330)의 외경이 가속부(212)의 내경보다 작으므로, 노즐팁부(330)의 외경과 가속부(212)의 내경 사이 공간인 제1토출유로(331)를 가질 수 있다. 따라서, 제1토출유로(331)에 의해 흡인부(211)에 유입된 1차 희석공기(2)가 확산부(213)로 이동될 수 있다.In addition, since the outer diameter of the nozzle tip part 330 is smaller than the inner diameter of the acceleration part 212 , it may have a first discharge passage 331 which is a space between the outer diameter of the nozzle tip part 330 and the inner diameter of the acceleration part 212 . . Accordingly, the primary dilution air 2 introduced into the suction unit 211 through the first discharge passage 331 may be moved to the diffusion unit 213 .

1차 희석공기(2)는 작은 단면적의 제1토출유로(331)를 통과하면서 유속이 빨라지게 되는데, 1차 희석공기(2)가 확산부(213)로 배출되면 압력이 낮아지게 된다. 그러면, 확산부(213)와 공간부(111) 사이에 압력 차이가 발생하게 되고, 공간부(111)의 배기가스는 제2토출홀(340)을 통해 확산부(213)로 이동하게 된다. As the primary dilution air 2 passes through the first discharge passage 331 having a small cross-sectional area, the flow rate increases. When the primary dilution air 2 is discharged to the diffusion unit 213 , the pressure decreases. Then, a pressure difference is generated between the diffusion part 213 and the space part 111 , and the exhaust gas of the space part 111 moves to the diffusion part 213 through the second discharge hole 340 .

제1토출유로(331)의 단면 크기는 조정될 수 있으며, 이를 통해, 1차 희석공기(2)의 유량 및 압력은 제어가 가능하다.The cross-sectional size of the first discharge passage 331 can be adjusted, and thus, the flow rate and pressure of the primary dilution air 2 can be controlled.

만일, 노즐팁부(330)의 중심축이 가속부(212)의 중심축과 일치되지 않으면, 노즐팁부(330)와 가속부(212) 사이의 틈새 단면적이 위치에 따라 달라져 여기를 통과하는 1차 희석공기(2)의 유량도 달라지게 되고, 확산부(213) 후단에서 효과적인 감압이 이루어지지 못할 수 있다. 그러면 제2토출홀(340)을 통해 배기가스의 이동도 안정적으로 이루어지지 못할 수 있다.If the central axis of the nozzle tip part 330 does not coincide with the central axis of the acceleration part 212 , the cross-sectional area of the gap between the nozzle tip part 330 and the acceleration part 212 varies depending on the location and the primary passing here The flow rate of the dilution air 2 also varies, and effective decompression may not be achieved at the rear end of the diffusion unit 213 . Then, the movement of the exhaust gas through the second discharge hole 340 may not be performed stably.

그러나, 본 발명에서는 노즐팁부(330)는 가속부(212)와 동일한 중심축 상에 위치될 수 있다. 따라서, 노즐팁부(330)와 가속부(212) 사이의 어느 위치에서도 1차 희석공기(2)의 유량이 동일하게 되고, 확산부(213)에서 효과적인 감압이 이루어져서 제2토출홀(340)을 통해 배기가스는 안정적으로 이동될 수 있다. 그리고, 확산부(213)에서 이루어지는 효과적인 감압으로 인해 배기가스의 이동이 원활하게 이루어질 수 있기 때문에, 배기가스를 이동시키기 위한 압축공기가 불필요한 이점이 있다.However, in the present invention, the nozzle tip portion 330 may be located on the same central axis as the acceleration portion (212). Therefore, the flow rate of the primary dilution air 2 becomes the same at any position between the nozzle tip part 330 and the accelerator part 212 , and effective pressure reduction is achieved in the diffusion part 213 to close the second discharge hole 340 . Through the exhaust gas can be moved stably. Further, since the movement of the exhaust gas can be made smoothly due to the effective decompression performed in the diffusion unit 213 , there is an advantage that compressed air for moving the exhaust gas is unnecessary.

본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치는 제1어댑터부(500) 및 제2어댑터부(550)를 더 포함할 수 있다.The exhaust gas dilution apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a first adapter unit 500 and a second adapter unit 550 .

제1어댑터부(500)는 이젝터부(200)의 전단에 결합될 수 있다.The first adapter unit 500 may be coupled to the front end of the ejector unit 200 .

도 3에 도시되어 있는 것과 같이, 제1어댑터부(500)에는 연장확산부(501)가 축방향으로 관통 형성될 수 있다. 연장확산부(501)는 전방 방향으로 갈수록 내경이 커지도록 형성될 수 있으며, 이젝터부(200)의 확산부(213)와 연속되도록 형성될 수 있다.As shown in FIG. 3 , the first adapter part 500 may have an extended diffusion part 501 penetrated in the axial direction. The extended diffusion part 501 may be formed to have an inner diameter that increases in the forward direction, and may be formed to be continuous with the diffusion part 213 of the ejector part 200 .

제1어댑터부(500)는 전단부 외주면 둘레를 따라 제2단차홈(502)이 형성될 수 있다. The first adapter unit 500 may have a second step groove 502 formed along the outer peripheral surface of the front end portion.

제2어댑터부(550)는 제1어댑터부(500)의 전단에 결합될 수 있다. The second adapter unit 550 may be coupled to the front end of the first adapter unit 500 .

제2어댑터부(550)는 축방향으로 관통 형성되는 유로홀(551)이 형성될 수 있으며, 유로홀(551)은 제1어댑터부(500)의 연장확산부(501)와 연결될 수 있다.The second adapter unit 550 may have a flow path hole 551 penetrating in the axial direction, and the flow path hole 551 may be connected to the extended diffusion unit 501 of the first adapter unit 500 .

제1유입구(220)를 통해 유입되는 1차 희석공기(2)와 제2토출홀(340)을 통해 공급되는 배기가스는 확산부(213)에서 혼합되어 1차 희석가스를 생성하게 되고, 생성된 1차 희석가스는 연장확산부(501) 및 유로홀(551)을 통해 이동될 수 있다. The primary dilution air 2 introduced through the first inlet 220 and the exhaust gas supplied through the second discharge hole 340 are mixed in the diffusion unit 213 to generate the primary dilution gas, The first dilution gas may be moved through the extended diffusion unit 501 and the flow path hole 551 .

제2어댑터부(550)는 전단부 외주면 둘레를 따라 제3단차홈(552)이 형성될 수 있다.The second adapter part 550 may have a third stepped groove 552 formed along the outer peripheral surface of the front end.

희석부(400)는 제1어댑터부(500) 및 제2어댑터부(550)를 통해 1차 희석가스가 유입되는 제1유로부(410)와, 공급되는 2차 희석공기(3)를 1차 희석가스와 혼합되도록 제1유로부(410)로 안내하는 제2유로부(420)로 구성될 수 있다. 희석부(400)에서는 1차 희석가스와 2차 희석공기(3)가 혼합되어 2차 희석가스가 생성될 수 있다.The dilution unit 400 is configured to connect the first flow path unit 410 through which the primary dilution gas flows through the first adapter unit 500 and the second adapter unit 550 and the supplied secondary dilution air 3 to 1 . It may be composed of a second flow path part 420 guiding to the first flow path part 410 to be mixed with the secondary dilution gas. In the dilution unit 400 , the primary dilution gas and the secondary dilution air 3 may be mixed to generate the secondary dilution gas.

구체적으로, 희석부(400)는 제1어댑터부(500) 및 제2어댑터부(550)의 전단에 결합될 수 있다. 제1유로부(410)는 후단부가 제2어댑터부(550)의 제3단차홈(552)에 결합될 수 있다. 제1유로부(410)는 제2어댑터부(550)의 유로홀(551)에 연속되도록 형성될 수 있으며, 확산부(213)에서 생성되는 1차 희석가스는 제1유로부(410)로 이동될 수 있다.Specifically, the dilution unit 400 may be coupled to the front end of the first adapter unit 500 and the second adapter unit 550 . The rear end of the first flow path part 410 may be coupled to the third stepped groove 552 of the second adapter part 550 . The first flow path part 410 may be formed to be continuous with the flow path hole 551 of the second adapter part 550 , and the primary dilution gas generated in the diffusion part 213 flows to the first flow path part 410 . can be moved

제1유로부(410)에는 복수의 통공(411)이 관통 형성될 수 있다.A plurality of through holes 411 may be formed through the first flow path portion 410 .

제2유로부(420)는 제1유로부(410)의 외측에서 제1유로부(410)를 일정거리 이격하며 둘러싸도록 형성될 수 있다. 제2유로부(420)의 후단부는 제1어댑터부(500)의 제2단차홈(502)에 결합될 수 있다.The second flow path part 420 may be formed to surround the first flow path part 410 at a predetermined distance from the outside of the first flow path part 410 . The rear end of the second flow passage 420 may be coupled to the second stepped groove 502 of the first adapter 500 .

제2유로부(420)의 외주면 전단부에는 2차 희석공기(3)가 유입되는 제2유입구(440)가 형성될 수 있다. 제2유입구(440)에는 외부로부터 2차 희석공기(3)를 안내하는 제2관(441)이 연결될 수 있다.A second inlet 440 through which the secondary dilution air 3 is introduced may be formed at the front end of the outer peripheral surface of the second flow passage 420 . A second pipe 441 for guiding the secondary dilution air 3 from the outside may be connected to the second inlet 440 .

그리고, 희석부(400)는 가이드벽(430)이 형성될 수 있다. 가이드벽(430)은 제1유로부(410) 및 제2유로부(420)의 사이에 구비될 수 있다. 또한, 가이드벽(430)은 후단부가 제1어댑터부(500)의 전단부와 이격될 수 있다. 이를 통해, 제1유로부(410) 및 제2유로부(420)의 사이 공간은 대부분이 가이드벽(430)에 의해 구획될 수 있으며, 제2유입구(440)을 통해 유입되는 2차 희석공기(3)의 흐름 길이가 길어질 수 있다. 즉, 제2유입구(440)를 통해 유입되는 2차 희석공기(3)는 제2유로부(420) 및 가이드벽(430)의 사이의 공간에서 후방 방향으로 이동되고, 가이드벽(430) 및 제1어댑터부(500)의 사이의 공간을 통해 제1유로부(410) 및 가이드벽(430)의 사이의 공간으로 이동될 수 있다. 그리고, 2차 희석공기(3)는 제1유로부(410)에 형성된 통공(411)을 통해 제1유로부(410)의 내측으로 이동하여 1차 희석가스와 혼합되어 2차 희석가스를 생성하게 된다.In addition, the dilution part 400 may have a guide wall 430 formed therein. The guide wall 430 may be provided between the first flow path part 410 and the second flow path part 420 . Also, the rear end of the guide wall 430 may be spaced apart from the front end of the first adapter unit 500 . Through this, most of the space between the first flow path part 410 and the second flow path part 420 may be partitioned by the guide wall 430 , and the secondary dilution air introduced through the second inlet 440 . The flow length of (3) can be increased. That is, the secondary dilution air 3 introduced through the second inlet 440 is moved in the rear direction in the space between the second flow path 420 and the guide wall 430, and the guide wall 430 and It may move to the space between the first flow path part 410 and the guide wall 430 through the space between the first adapter parts 500 . Then, the secondary dilution air 3 moves to the inside of the first flow path part 410 through the through hole 411 formed in the first flow path part 410 and is mixed with the primary dilution gas to generate the secondary dilution gas. will do

제1유로부(410)에는 복수의 통공(411)이 전체적으로 형성되기 때문에, 제1유로부(410)의 외주면 면적이 줄어들게 된다. 따라서, 1차 희석가스의 배기가스 입자 중에 제1유로부(410)의 내주면에 달라붙게 되는 입자의 수가 감소될 수 있어 배기가스 입자 손실이 줄어들 수 있다.Since the plurality of through-holes 411 are formed in the first flow path part 410 as a whole, the area of the outer peripheral surface of the first flow path part 410 is reduced. Accordingly, the number of particles adhering to the inner circumferential surface of the first flow path part 410 among the exhaust gas particles of the primary dilution gas may be reduced, thereby reducing exhaust gas particle loss.

나아가, 통공(411)을 통해 제1유로부(410)의 중심방향으로 2차 희석공기(3)가 유입될 때, 제 1 유로부(410)의 내주면을 향하는 입자의 유동을 방해하며 제1유로부(410)의 내주면에 달라붙어 있는 배기가스 입자가 떨어져 나오게 할 수 있다. 이에 따라, 제1유로부(410)에서 이동되는 배기가스 중의 입자의 대부분이 2차 희석공기(3)와 혼합될 수 있으며, 배기가스가 2차 희석가스로 되는 과정에서 입자의 손실이 발생하는 것도 효과적으로 감소될 수 있다.Furthermore, when the secondary dilution air 3 is introduced into the center direction of the first flow path part 410 through the through hole 411 , the flow of particles toward the inner circumferential surface of the first flow path part 410 is prevented and the first Exhaust gas particles adhering to the inner circumferential surface of the flow passage 410 may come off. Accordingly, most of the particles in the exhaust gas moving in the first flow passage 410 may be mixed with the secondary dilution air 3, and particle loss occurs in the process in which the exhaust gas becomes the secondary dilution gas. can also be effectively reduced.

본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치는 확산튜브부(570), 마개부(580) 및 배출관(590)을 포함할 수 있다.The exhaust gas dilution apparatus according to an embodiment of the present invention may include a diffusion tube portion 570 , a stopper portion 580 , and an exhaust pipe 590 .

확산튜브부(570)는 희석부(400)의 전단에 결합될 수 있다.The diffusion tube unit 570 may be coupled to the front end of the dilution unit 400 .

확산튜브부(570)는 후단부에 원주 방향을 따라 결합홈(572)이 형성되어 가이드벽(430)의 전단부가 삽입되어 결합될 수 있다. 그리고, 확산튜브부(570)의 후단부는 제2유로부(420)의 내측에 삽입되어 결합될 수 있다.A coupling groove 572 is formed at the rear end of the diffusion tube portion 570 in the circumferential direction, so that the front end of the guide wall 430 is inserted and coupled thereto. In addition, the rear end of the diffusion tube portion 570 may be inserted into the inner side of the second flow passage portion 420 to be coupled.

확산튜브부(570)는 축 방향으로 관통 형성되는 추가확산부(571)가 형성될 수 있다. 추가확산부(571)는 전방 방향으로 갈수록 내경이 커지도록 형성될 수 있으며, 희석부(400)에서 생성되는 2차 희석가스는 추가확산부(571)로 이동될 수 있다.The diffusion tube portion 570 may be formed with an additional diffusion portion 571 that is formed penetrating in the axial direction. The additional diffusion unit 571 may be formed to have an inner diameter that increases in the forward direction, and the secondary dilution gas generated in the dilution unit 400 may be moved to the additional diffusion unit 571 .

마개부(580)는 확산튜브부(570)의 전단부에 결합되어 확산튜브부(570)의 전단부를 밀폐시킬 수 있다.The stopper 580 may be coupled to the front end of the diffusion tube portion 570 to seal the front end of the diffusion tube portion 570 .

배출관(590)은 마개부(580)에 복수 개로 결합될 수 있다. 마개부(580)에는 배출관(590)이 결합되도록 연결홀(581)이 관통 형성될 수 있으며, 추가확산부(571)의 2차 희석가스는 연결홀(581)을 통해 배출관(590)으로 이동될 수 있다. 배출관(590) 중 적어도 어느 하나에는 입자계수기(미도시)가 연결될 수 있으며, 2차 희석가스는 배출관(590)을 통해 입자계수기로 이동될 수 있다.A plurality of discharge pipes 590 may be coupled to the stopper 580 . A connection hole 581 may be formed through the stopper 580 to be coupled to the discharge pipe 590 , and the secondary dilution gas of the additional diffusion unit 571 moves to the discharge pipe 590 through the connection hole 581 . can be A particle counter (not shown) may be connected to at least one of the discharge pipes 590 , and the secondary dilution gas may be moved to the particle counter through the discharge pipe 590 .

본 실시예에 따르면, 유입되는 배기가스(1)가 이젝터부(200)에서 1차 희석공기(2)와 혼합되어 1차로 희석이 이루어지고, 희석부(400)에서 2차 희석공기(3)와 혼합되어 2차로 희석이 이루어짐으로써, 희석율이 높아질 수 있다.According to the present embodiment, the inflow exhaust gas (1) is mixed with the primary dilution air (2) in the ejector unit (200) to perform primary dilution, and in the dilution unit (400), secondary dilution air (3) By mixing with the secondary dilution is made, the dilution rate can be increased.

전술한 바와 같이, 이젝터부(200)로 공급되는 1차 희석공기(2)는 150℃ 내지 250℃의 고온의 공기일 수 있다. 따라서, 이젝터부(200)를 통해 생성되는 1차 희석가스는 고온희석 방법으로 생성될 수 있다. 그리고, 희석부(400)로 공급되는 2차 희석공기(3)는 상온의 공기일 수 있으며, 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급될 수 있다. 따라서, 희석부(400)에서 생성되는 2차 희석가스는 상온희석 방법으로 생성될 수 있다.As described above, the primary dilution air 2 supplied to the ejector unit 200 may be high temperature air of 150°C to 250°C. Accordingly, the primary dilution gas generated through the ejector unit 200 may be generated by a high-temperature dilution method. In addition, the secondary dilution air 3 supplied to the dilution unit 400 may be air at room temperature, and may be supplied at a temperature of 10°C to 30°C. Accordingly, the secondary dilution gas generated by the dilution unit 400 may be generated by a room temperature dilution method.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 배기가스 희석장치에서 희석 온도에 따른 효과를 설명하기 위한 그래프이다.5 is a graph for explaining the effect according to the dilution temperature in the exhaust gas dilution device according to an embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 노즐부(300)에서 배출되는 배기가스는 고온의 상태(P0)인데, 만일, 고온 상태의 배기가스와 혼합되는 1차 희석공기가 상온의 공기인 경우, 즉, 고온의 배기가스가 상온희석되는 경우 배기가스 내의 수분이 모두 액적으로 변환될 수 있다. 이에 따라, 확산부(213)에서 생성되는 제1상태(P1)의 1차 희석가스는 다량의 액적을 포함할 수 있다. 그리고, 다량의 액적을 포함하는 1차 희석가스가 희석부(400)에서 상온의 2차 희석공기와 혼합되어 제2상태(P2)의 2차 희석가스로 생성되는 경우, 2차 희석가스에는 다량의 액적이 계속 포함되게 된다. 이러한 액적은 입자계수기(미도시)에서의 측정 시에 입자로 취급될 수 있기 때문에, 측정 정확도가 저하되는 원인이 될 수 있다.Referring to FIG. 5 , the exhaust gas discharged from the nozzle unit 300 is in a high temperature state P0. If the primary dilution air mixed with the high temperature exhaust gas is room temperature air, that is, the high temperature When the exhaust gas is diluted at room temperature, all moisture in the exhaust gas may be converted into droplets. Accordingly, the primary dilution gas of the first state P1 generated in the diffusion unit 213 may include a large amount of droplets. In addition, when the primary dilution gas containing a large amount of droplets is mixed with the secondary dilution air at room temperature in the dilution unit 400 and generated as the secondary dilution gas of the second state P2, the secondary dilution gas contains a large amount of droplets will continue to be included. Since these droplets may be treated as particles during measurement by a particle counter (not shown), measurement accuracy may be deteriorated.

그러나, 본 발명에 따르면, 고온의 상태(P0)의 배기가스가 고온의 1차 희석공기(2)와 혼합됨으로써, 즉, 고온의 배기가스가 고온희석됨으로써 확산부(213)에서 생성되는 1차 희석가스는 제3상태(P3)가 될 수 있으며, 배기가스 내의 수분이 액적화되는 것이 방지될 수 있다. 그리고, 희석부(400)에서 상온의 2차 희석공기(3)와 혼합되어 제2상태(P2)의 2차 희석가스로 형성됨으로 2차 희석가스에는 액적이 포함되지 않거나, 액적의 함유량이 최소화될 수 있으며, 이를 통해, 입자의 측정 정확도는 향상될 수 있다.However, according to the present invention, the primary generated in the diffusion unit 213 by mixing the exhaust gas in the high-temperature state P0 with the high-temperature primary dilution air 2, that is, by diluting the high-temperature exhaust gas at a high temperature. The dilution gas may be in the third state P3, and moisture in the exhaust gas may be prevented from forming droplets. In addition, since the secondary dilution gas is mixed with the secondary dilution air 3 at room temperature in the dilution unit 400 to form the secondary dilution gas in the second state P2, the secondary dilution gas does not contain droplets or the content of the droplets is minimized. and, through this, the measurement accuracy of particles can be improved.

예열부(600)는 헤드부(100)의 후단에 구비될 수 있으며, 헤드부(100)로 유입되는 배기가스(1)를 예열(Pre-heating)시킬 수 있다. 예열부(600)는 배기가스(1)를 190℃ 내지 210℃의 온도로 예열시킬 수 있다. 배기가스(1)가 예열되어 이젝터부(200)로 이동하면 전술한 1차 희석공기(2)와 혼합되어 더욱 효과적으로 고온희석될 수 있다.The preheating unit 600 may be provided at the rear end of the head unit 100 , and may pre-heat the exhaust gas 1 flowing into the head unit 100 . The preheating unit 600 may preheat the exhaust gas 1 to a temperature of 190°C to 210°C. When the exhaust gas 1 is preheated and moved to the ejector unit 200, it can be mixed with the above-described primary dilution air 2 and diluted at a high temperature more effectively.

도 6은 도 1의 세척유체 공급부를 나타낸 예시도이다.6 is an exemplary view illustrating the cleaning fluid supply unit of FIG. 1 .

도 6에 도시되어 있는 것과 같이, 세척유체 공급부(700)는 압축부(710), 건조부(720), 필터부(730) 및 이음유로부(740)를 포함하여 구성될 수 있다.As shown in FIG. 6 , the cleaning fluid supply unit 700 may include a compression unit 710 , a drying unit 720 , a filter unit 730 , and a joint passage unit 740 .

압축부(710)는 세척용 유체(PA)를 압축 분사시킬 수 있다. 세척용 유체(PA)로는 상온의 공기가 사용될 수 있으나 반드시 이에 한정되는 것을 아니다.The compression unit 710 may compress and spray the cleaning fluid PA. Room temperature air may be used as the cleaning fluid PA, but is not limited thereto.

건조부(720)는 압축부(710)의 전단에 구비될 수 있으며, 세척용 유체(PA)를 건조시킬 수 있다.The drying unit 720 may be provided at the front end of the compression unit 710 and may dry the cleaning fluid PA.

필터부(730)는 건조부(720)의 전단에 구비될 수 있으며, 세척용 유체(PA)에 포함된 이물질을 제거할 수 있다. 이에 따라, 필터부(730)에서 배출되는 세척용 유체(PA)는 수분 및 이물질을 함유하지 않을 상태가 될 수 있다.The filter unit 730 may be provided at the front end of the drying unit 720 , and may remove foreign substances included in the cleaning fluid PA. Accordingly, the cleaning fluid PA discharged from the filter unit 730 may be in a state not to contain moisture and foreign substances.

이음유로부(740)는 헤드부(100) 및 예열부(600)의 사이에 구비될 수 있다. 이음유로부(740)는 필터부(730)를 통해 이동하는 세척용 유체(PA)의 일부를 헤드부(100)로 안내하고 세척용 유체(PA)의 나머지를 예열부(600)로 안내할 수 있다. 이를 위해, 이음유로부(740)는 내측에 이음유로부(740)의 반경 방향으로 연장 형성되고 필터부(730)와 연결되어 필터부(730)로부터 이동하는 세척용 유체(PA)가 유입되는 유입유로(741)와, 상기 유입유로(741)와 연결되고 상기 헤드부(100) 방향으로 연장되는 제1안내유로(742)와, 상기 유입유로(741)와 연결되고 상기 예열부(600) 방향으로 연장되는 제2안내유로(743)가 형성될 수 있다. 제1안내유로(742) 및 제2안내유로(743)는 유입유로(741)를 기준으로 서로 대칭되도록 형성될 수 있으며, 동일한 지름을 가지도록 형성될 수 있다. 유입유로(741)로 유입되는 세척용 유체(PA)는 제1안내유로(742) 및 제2안내유로(743)로 각각 동일한 유량이 공급될 수 있다. 이음유로부(740)는 유입유로(741)로 유입되는 세척용 유체(PA)가 양분되어 제1안내유로(742) 및 제2안내유로(743)로 각각 동일한 유량으로 공급될 수 있도록 가름돌기(744)가 형성될 수 있다. 가름돌기(744)는 제1안내유로(742)와 제2안내유로(743)로 양분되는 지점에 유입유로(741)에 대향되도록 정중앙에 돌출 형성되어 유입유로(741)를 양분할 수 있다.The joint passage part 740 may be provided between the head part 100 and the preheating part 600 . The joint passage part 740 guides a part of the cleaning fluid PA moving through the filter part 730 to the head part 100 and guides the rest of the cleaning fluid PA to the preheating part 600 . can To this end, the joint passage part 740 is formed to extend in the radial direction of the joint passage part 740 on the inside and is connected to the filter part 730 so that the cleaning fluid PA moving from the filter part 730 is introduced. The inflow passage 741, the first guide passage 742 connected to the inflow passage 741 and extending in the direction of the head 100, and the inflow passage 741 connected to the preheating unit 600 A second guide passage 743 extending in the direction may be formed. The first guide passage 742 and the second guide passage 743 may be formed to be symmetrical to each other with respect to the inflow passage 741 and may be formed to have the same diameter. The same flow rate of the washing fluid PA flowing into the inflow passage 741 may be supplied to the first guide passage 742 and the second guide passage 743 , respectively. The joint passage 740 is a splitter so that the cleaning fluid PA flowing into the inflow passage 741 is bisected and supplied to the first guide passage 742 and the second guide passage 743 at the same flow rate, respectively. 744 may be formed. The separator 744 may be formed to protrude at the center so as to face the inflow passage 741 at a point where it is divided into the first guide passage 742 and the second guide passage 743 to divide the inflow passage 741 in two.

제1안내유로(742)로 이동하는 세척용 유체(PA)는 헤드부(100), 이젝터부(200), 희석부(400), 확산튜브부(570) 및 배출관(590)를 통해 이동하면서 각 부분의 내부를 세척할 수 있다.The cleaning fluid PA moving to the first guide flow path 742 moves through the head part 100 , the ejector part 200 , the dilution part 400 , the diffusion tube part 570 , and the discharge pipe 590 . The inside of each part can be cleaned.

그리고, 제2안내유로(743)로 이동하는 세척용 유체(PA)는 예열부(600)를 통해 이동하면서 예열부(600)의 내부를 세척할 수 있다.In addition, the cleaning fluid PA moving to the second guide passage 743 may wash the inside of the preheating unit 600 while moving through the preheating unit 600 .

도 7은 도 1의 측정부를 나타낸 구성도이다.FIG. 7 is a configuration diagram illustrating the measurement unit of FIG. 1 .

도 1, 도 2 및 도 7에 도시되어 있는 것과 같이, 배기가스 희석장치는 희석부(400)의 전단에 결합되고, 2차 희석가스의 입자정보를 측정하는 측정부(800)를 포함할 수 있다.1, 2 and 7, the exhaust gas dilution device may include a measuring unit 800 that is coupled to the front end of the dilution unit 400 and measures particle information of the secondary dilution gas. have.

측정부(800)는 분사부(810), 광원(820), 수광부(830) 그리고 산출부(840)를 포함하여 구성될 수 있다.The measuring unit 800 may include an injector 810 , a light source 820 , a light receiving unit 830 , and a calculator 840 .

2차 희석가스는 배출관(590)과 연결되는 흐름유로(591)를 통해 분사부(810)로 이동될 수 있다. 그러면 분사부(810)는 2차 희석가스에 포함된 입자(P)를 하나씩 순차 분사할 수 있다.The secondary dilution gas may be moved to the injection unit 810 through a flow passage 591 connected to the discharge pipe 590 . Then, the injector 810 may sequentially inject the particles P included in the secondary dilution gas one by one.

광원(820)은 분사부(810)에서 분사되는 입자(P)의 분사경로에 교차하는 방향으로 광(821)을 조사할 수 있다. 입자(P)의 분사경로에 교차하는 광(821)이 분사경로 상의 입자(P)에 부딪히게 되면 산란이 발생할 수 있다.The light source 820 may irradiate the light 821 in a direction crossing the injection path of the particles P injected from the injection unit 810 . When the light 821 crossing the injection path of the particle P collides with the particle P on the injection path, scattering may occur.

수광부(830)는 분사경로의 일측에 구비되고, 광원(820)에서 조사된 후 분사부(810)에서 분사되는 입자(P)에 의해 산란되는 광(822)을 수광할 수 있다. 분사부(810)에서 분사되는 입자(P)의 크기가 크면 산란되는 광(822)이 많아지고, 반대로, 입자(P)의 크기가 작으면 산란되는 광(822)은 적어질 수 있다.The light receiving unit 830 may be provided on one side of the injection path, and may receive the light 822 scattered by the particles P emitted from the injection unit 810 after being irradiated from the light source 820 . When the size of the particles P injected from the injection unit 810 is large, the scattered light 822 may increase, and, conversely, if the size of the particles P is small, the scattered light 822 may decrease.

산출부(840)는 수광부(830)에서 생성하는 광 정보를 기초로, 2차 희석가스에 포함된 입자의 크기 정보를 산출할 수 있다. 입자의 크기 정보는 미리 설정된 측정시간 동안 획득되는 입자를 대상으로 산출될 수 있다. The calculator 840 may calculate size information of particles included in the secondary dilution gas based on the light information generated by the light receiver 830 . The particle size information may be calculated for particles acquired during a preset measurement time.

산출부(840)가 산출하는 입자의 크기 정보는, 예를 들면, 입자의 크기가 10㎛ 이하로 보통 미세먼지로 칭해지는 PM10(Particulate Matter with a diameter less than 10㎛)의 농도, 또는 입자의 크기가 2.5㎛ 이하로 보통 초미세먼지로 칭해지는 PM2.5의 농도로 산출될 수 있다.The particle size information calculated by the calculator 840 may include, for example, the concentration of PM10 (Particulate Matter with a diameter less than 10 μm), which is usually referred to as fine dust with a particle size of 10 μm or less, or the particle size. It can be calculated as the concentration of PM2.5, which is usually referred to as ultrafine dust with a size of 2.5 μm or less.

측정부(800)는 전술한 구성에 한정되지 않고, 입자의 농도를 측정하는 공지된 다른 구성으로 형성될 수도 있다. The measuring unit 800 is not limited to the above-described configuration, and may be formed in other known configurations for measuring the concentration of particles.

세척유체 공급부(700)가 배기가스 희석장치의 전단으로 위치될수록 공급되는 세척용 유체와 측정부(800) 사이의 거리가 가까워지게 된다. 그러면, 세척용 유체에 의해 배기가스 희석장치 내부의 이물질이 측정부(800)로 이동하게 되어 측정부(800)의 교란이 발생할 수 있고, 이를 통해 측정 정확도가 저하될 수 있다. 그러나, 본 발명에서는, 세척유체 공급부(700)가 배기가스 희석장치에서 상대적으로 후방부에 연결되도록 하여 공급되는 세척용 유체와 측정부(800) 사이의 거리를 충분히 확보할 수 있으며, 이를 통해, 전술한 문제점이 발생되지 않도록 할 수 있다.As the cleaning fluid supply unit 700 is positioned at the front end of the exhaust gas dilution device, the distance between the supplied cleaning fluid and the measurement unit 800 becomes closer. Then, foreign substances inside the exhaust gas dilution device may be moved to the measurement unit 800 by the cleaning fluid, which may cause disturbance of the measurement unit 800 , thereby reducing measurement accuracy. However, in the present invention, the cleaning fluid supply unit 700 is connected to the relatively rear part of the exhaust gas dilution device to ensure a sufficient distance between the supplied cleaning fluid and the measurement unit 800, and through this, It is possible to prevent the above-mentioned problems from occurring.

도 8은 도 1의 분리부의 작동예를 나타낸 예시도이다.8 is an exemplary view illustrating an operation example of the separation unit of FIG. 1 .

본 발명의 배기가스 희석장치는 분리부(900)를 더 포함할 수 있다. 도 8의 분리부(900)는 도 1에는 도시되어 있지 않는데, 예를 들어 예열부(600)의 후단부에 배치될 수 있다. 분리부(900)는 외부에서 유입되는 배기가스(1)에서 미리 설정된 크기 이하의 타깃입자군을 사이클론 분리하여 예열부(600)로 안내할 수 있다. 따라서, 측정부(800)에서는 타깃입자군을 대상으로 입자 정보를 산출할 수 있다.The exhaust gas dilution device of the present invention may further include a separation unit 900 . The separation unit 900 of FIG. 8 is not shown in FIG. 1 , but may be disposed, for example, at the rear end of the preheating unit 600 . The separation unit 900 may cyclone-separate a target particle group having a size smaller than a preset size from the exhaust gas 1 introduced from the outside and guide it to the preheating unit 600 . Accordingly, the measurement unit 800 may calculate particle information for the target particle group.

분리부(900)는 원통부(910), 입구관(920), 본체(930), 집진부(940) 및 출구관(950)을 포함하여 구성될 수 있다. The separation unit 900 may include a cylindrical portion 910 , an inlet pipe 920 , a main body 930 , a dust collecting unit 940 , and an outlet pipe 950 .

입구관(920)은 원통부(910)에 접선 방향으로 구비될 수 있으며, 입구관(920)으로는 배기가스(1)가 유입될 수 있다.The inlet pipe 920 may be provided in a tangential direction to the cylindrical portion 910 , and the exhaust gas 1 may be introduced into the inlet pipe 920 .

본체(930)는 원통부(910)와 연결되고 원뿔 형상으로 형성될 수 있으며, 집진부(940)는 본체(930)의 뾰족한 일단부에 마련되고, 출구관(950)은 원통부(910)의 내측 중앙에 본체(930)의 중심축 방향으로 구비될 수 있다.The main body 930 is connected to the cylindrical portion 910 and may be formed in a conical shape, the dust collecting portion 940 is provided at a pointed end of the main body 930 , and the outlet pipe 950 is the cylindrical portion 910 . It may be provided in the central axis direction of the main body 930 at the inner center.

배기가스(1)는 입구관(920)에서 원통부(910)의 접선 방향으로 유입되어 내부 벽면을 따라 선회 흐름이 되어 나선상으로 원통부(910) 및 본체(930)로 이동될 수 있다. 이 동안 원통부(910)에서 집진부(940) 방향으로의 제1기류(C1) 속의 타겟입자군 이외의 입자군(크기가 커서 무거운 입자군)은 원심력을 받아 본체(930)의 내측면에 침착되고, 제1기류(C1)의 흐름력에 의해 집진부(940)에 포집될 수 있다. 반면, 본체(930)의 뾰족한 일단부에서 기류는 그 방향을 역전시켜 제1기류(C1)와 반대방향의 선회 흐름의 제2기류(C2)가 되고, 제2기류(C2) 속의 타겟입자군은 제1기류(C1)의 중심부를 지나 출구관(950)으로 이동되어 배출될 수 있다.The exhaust gas 1 is introduced from the inlet pipe 920 in the tangential direction of the cylindrical portion 910 and becomes a swirling flow along the inner wall surface to be spirally moved to the cylindrical portion 910 and the main body 930 . During this time, a group of particles other than the target particle group (a large and heavy particle group) in the first airflow C1 in the direction from the cylindrical part 910 to the dust collecting part 940 receives centrifugal force and is deposited on the inner surface of the body 930 . and may be collected in the dust collecting unit 940 by the flow force of the first air flow C1. On the other hand, at the pointed end of the main body 930, the airflow reverses its direction and becomes the second airflow C2 of the swirling flow in the opposite direction to the first airflow C1, and the target particle group in the second airflow C2. is moved to the outlet pipe 950 through the center of the first airflow C1 and may be discharged.

출구관(950)은 예열부(600)와 연결될 수 있으며, 이에 따라, 타겟입자군은 예열부(600)로 유입될 수 있다. 분리부(900)는 전술한 구성에 한정되는 것은 아니며, 다양한 형태의 사이클론이 사용될 수 있다.The outlet pipe 950 may be connected to the preheating unit 600 , and accordingly, the target particle group may be introduced into the preheating unit 600 . The separation unit 900 is not limited to the above-described configuration, and various types of cyclones may be used.

도 9는 도 1의 정체공기 형성부의 예시도이고, 도 10은 정체공기 형성부에 유입되는 배기가스의 속도에 따른 감속 결과를 실험한 결과를 도시한다. 9 is an exemplary view of the stagnant air forming unit of FIG. 1 , and FIG. 10 shows the experimental results of deceleration according to the speed of the exhaust gas flowing into the stagnant air forming unit.

도시되어 있는 것과 같이, 헤드부(100)의 후단부, 보다 정확하게는 예열부(600)의 후단부에는 정체공기 형성부(1000)가 형성될 수 있다. As shown, the stagnant air forming unit 1000 may be formed at the rear end of the head unit 100 , more precisely, at the rear end of the preheating unit 600 .

정체공기 형성부(1000)는 수십 내지 수백 m/s의 다양한 유속으로 유입되는 배기가스(1)를 수 m/s 이하의 속도로 감속시켜 정체 공기를 형성한다. 배기가스 희석장치에 유입되는 배기가스(1)의 속도는 일정하지 않고 바뀔 수가 있다. 특히, 산업현장의 굴뚝 내 배기가스의 유속은 상황에 따라서 가변적으로 변할 수가 있다. 배기가스 희석장치에 유입되는 배기가스(1)의 속도에 따라 유량이 달라질 수가 있는데, 희석비를 일정하게 유지하기 위해 투입되는 희석공기의 양을 다르게 제어하는 것을 고려할 수 있으나 해당 속도에 대응하는 희석공기의 양을 즉각적으로 공급하는 것은 쉽지 않다. 특히, 본 발명에서와 같이 다단의 방법으로 1차 희석공기(2)와 2차 희석공기(3)로 나뉘어 희석공기가 공급되는 경우 희석비를 일정하게 유지하도록 공급되는 희석공기의 양을 제어하는 것이 더욱 쉽지 않을 수 있다. The stagnant air forming unit 1000 forms stagnant air by decelerating the exhaust gas 1 flowing in at various flow rates of several tens to hundreds of m/s to a speed of several m/s or less. The velocity of the exhaust gas 1 flowing into the exhaust gas dilution device is not constant and may be changed. In particular, the flow rate of exhaust gas in the chimney of an industrial site may be variably changed according to circumstances. The flow rate may vary depending on the speed of the exhaust gas 1 flowing into the exhaust gas dilution device. In order to keep the dilution ratio constant, it may be considered to control the amount of dilution air differently, but dilution corresponding to the speed It is not easy to supply the amount of air immediately. In particular, when the dilution air is supplied by dividing the primary dilution air (2) and the secondary dilution air (3) in a multi-stage method as in the present invention, the amount of supplied dilution air is controlled to maintain a constant dilution ratio. It may not be easier.

이에, 본 발명에서는 투입되는 희석공기의 양을 일정하게 유지하고, 배기가스 희석장치에 공급되는 배기가스의 속도(유량)도 일정하게 유지하도록 하여 희석비를 일정하게 유지할 수 있도록 한다. Accordingly, in the present invention, the dilution ratio can be kept constant by maintaining a constant amount of dilution air and also maintaining a constant speed (flow rate) of exhaust gas supplied to the exhaust gas dilution device.

정체공기 형성부(1000)는 유입되는 공기의 속도가 바뀌더라도 그 속도를 급격하게 감속시켜 정체 공기를 형성하여 유입되는 공기의 속도에 상관없이 일정량의 공기가 헤드부(100)를 통해 유입될 수 있도록 한다. The stagnant air forming unit 1000 rapidly decelerates the speed even if the speed of the incoming air is changed to form stagnant air so that a certain amount of air can be introduced through the head unit 100 regardless of the speed of the incoming air. let it be

정체공기 형성부(1000)는 디퓨져부(1010), 공기 체류부(1020) 및 샘플링 유출부(1040)를 포함하여 구성될 수 있다. The stagnant air forming unit 1000 may include a diffuser unit 1010 , an air retention unit 1020 , and a sampling outlet 1040 .

디퓨져부(1010)는 배기가스가 유입되는 유입홀(1015)이 형성되며, 유입홀(1015)로부터 배기가스가 유동하는 방향을 따라 유로의 반경이 점차적으로 커지게 형성될 수 있다. 따라서, 유입홀(1015)을 통해 유입된 배기가스는 압력의 감소와 함께 유속이 현저하게 감소하게 되는데, 디퓨져부(1010)의 길이 또는 유로의 기울기에 따라서 디퓨져부(1010)를 통한 감속의 크기를 다르게 제어할 수 있다. In the diffuser unit 1010 , an inlet hole 1015 through which exhaust gas is introduced is formed, and a radius of a flow path may be formed to gradually increase from the inlet hole 1015 in a direction in which the exhaust gas flows. Accordingly, the flow rate of the exhaust gas introduced through the inlet hole 1015 is remarkably reduced with a decrease in pressure. The magnitude of the deceleration through the diffuser unit 1010 depends on the length of the diffuser unit 1010 or the slope of the flow path. can be controlled differently.

공기 체류부(1020)는 디퓨져부(1010)의 전단에 형성되어 디퓨져부(1010)에 의해 감속된 배기가스가 체류하는 공간이다. 공기 체류부(1020)의 전단면에는 유출공(1025)이 형성되어 공기 체뷰류 내부에서 감속되어 체류하는 배기가스가 유동 방향을 따라 유출될 수 있다. 공기 체류부(1020)의 상단부에는 직교하는 방향으로 연장 형성되는 샘플링 유출부(1040)가 형성될 수 있다. The air retention unit 1020 is formed at the front end of the diffuser unit 1010 and is a space in which the exhaust gas decelerated by the diffuser unit 1010 resides. An outlet hole 1025 is formed in the front end surface of the air retention unit 1020 so that the exhaust gas, which is decelerated and stayed in the air sieve flow, may flow out along the flow direction. A sampling outlet 1040 extending in an orthogonal direction may be formed at an upper end of the air retention unit 1020 .

샘플링 유출부(1040)는 공기 체류부(1020)의 일측에서 수직으로 형성될 수 있다. 전술한 바와 같이 디퓨져부(1010)에 의해 감속되어 공기 체류부(1020)에 정체하는 공기는 유출공(1025)을 통해 유출되는데, 공기 체류부(1020)에 체류하는 배기가스의 일부는 공기 체류부(1020)에 수직으로 연장 형성되는 샘플링 유출부(1040)를 통해 일정한 속도로 토출될 수가 있다. The sampling outlet 1040 may be formed vertically at one side of the air retention unit 1020 . As described above, the air decelerated by the diffuser unit 1010 and stagnated in the air retention unit 1020 flows out through the outlet hole 1025 , and a part of the exhaust gas remaining in the air retention unit 1020 is air-retained. It may be discharged at a constant speed through the sampling outlet 1040 extending vertically from the unit 1020 .

따라서, 본 발명에서는 정체공기 형성부(1000)에 의해 유입되는 배기가스의 속도와 상관 없이 일정한 양의 배기가스를 배기가스 희석장치 내부에 공급시킬 수가 있어서, 다양한 유속 조건에서 일정한 희석비를 유지하며 입자를 샘플링할 수가 있다. Therefore, in the present invention, it is possible to supply a certain amount of exhaust gas to the inside of the exhaust gas dilution device regardless of the speed of the exhaust gas introduced by the stagnant air forming unit 1000, so that a constant dilution ratio is maintained under various flow rate conditions. Particles can be sampled.

도 10에서는 본 발명에 따른 정체공기 형성부(1000)에 유입홀(1015)을 통해 서로 다른 속도의 유체를 공급시킬 때 샘플링 유출부(1040)를 통해 토출되는 유체의 속도를 실험한 결과를 보여주는데, 유입홀(1015)을 통해 유입되는 유체의 속도와 상관없이 유체의 속도가 감속되어 샘플링 유출부(1040)를 통해 일정한 속도로 유체가 토출됨을 확인할 수가 있다. 10 shows the results of testing the speed of the fluid discharged through the sampling outlet 1040 when the fluids having different speeds are supplied through the inlet hole 1015 to the stagnant air forming unit 1000 according to the present invention. , it can be confirmed that the fluid is discharged at a constant speed through the sampling outlet 1040 because the speed of the fluid is reduced regardless of the speed of the fluid introduced through the inlet hole 1015 .

본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.The scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, but may be implemented in various forms within the scope of the appended claims. Without departing from the gist of the present invention claimed in the claims, it is considered to be within the scope of the claims of the present invention to the extent that various modifications can be made by anyone skilled in the art to which the invention pertains.

1: 배기가스 2: 1차 희석공기
3: 2차 희석공기 100: 헤드부
111: 공간부 112: 관통홀
120: 단차돌기 200: 이젝터부
210: 제1토출홀 211: 흡인부
212: 가속부 213: 확산부
220: 제1유입구 221: 제1관
230: 제1단차홈 300: 노즐부
310: 플랜지부 320: 연결부
330: 노즐팁부 331: 제1토출유로
340: 제2토출홀 400: 희석부
410: 제1유로부 411: 통공
420: 제2유로부 430: 가이드벽
440: 제2유입구 441 제2관
500: 제1어댑터부 501: 연장확산부
502: 제2단차홈 550: 제2어댑터부
551: 유로홀 552: 제3단차홈
570: 확산튜브부 571: 추가확산부
572: 결합홈 580: 마개부
581: 연결홀 590: 배출관
591: 흐름유로 600: 예열부
700: 세척유체 공급부 710: 압축부
720: 건조부 730: 필터부
740: 이음유로부 741 유입유로
742: 제1안내유로 743: 제2안내유로
744: 가름돌기 800: 측정부
810: 분사부 820: 광원
830: 수광부 840: 산출부
900: 분리부 910: 원통부
920: 입구관 930: 본체
940: 집진부 950: 출구관
1000: 정체공기 형성부 1010: 디퓨져부
1015: 유입홀 1020: 공기 체류부
1025: 유출홀 1040: 샘플링 유출부
1: Exhaust gas 2: Primary dilution air
3: secondary dilution air 100: head part
111: space portion 112: through hole
120: step protrusion 200: ejector part
210: first discharge hole 211: suction unit
212: acceleration unit 213: diffusion unit
220: first inlet 221: first pipe
230: first step groove 300: nozzle unit
310: flange portion 320: connection portion
330: nozzle tip portion 331: first discharge passage
340: second discharge hole 400: dilution part
410: first euro section 411: through air
420: second flow passage 430: guide wall
440: 2nd inlet 441 Building 2
500: first adapter unit 501: extended diffusion unit
502: second step groove 550: second adapter part
551: euro hole 552: third step groove
570: diffusion tube unit 571: additional diffusion unit
572: coupling groove 580: stopper
581: connection hole 590: discharge pipe
591: flow passage 600: preheating unit
700: cleaning fluid supply unit 710: compression unit
720: drying unit 730: filter unit
740: joint passage 741 inflow passage
742: first guide passage 743: second guide passage
744: callus 800: measuring part
810: injection unit 820: light source
830: light receiving unit 840: output unit
900: separation part 910: cylindrical part
920: entrance tube 930: body
940: dust collection unit 950: exit pipe
1000: stagnant air forming unit 1010: diffuser unit
1015: inlet hole 1020: air retention unit
1025: outlet hole 1040: sampling outlet

Claims (6)

외부로부터 배기가스가 유입되며 관통홀이 형성된 헤드부;
상기 헤드부의 전단에 결합되며 1차 희석공기가 유입되어 이동되도록 안내하며 상기 관통홀과 연결되는 제1토출홀이 형성되는 이젝터부;
상기 관통홀을 통해 상기 제1토출홀에 삽입되고, 상기 제1토출홀을 통해 상기 1차 희석공기가 이동하여 상기 이젝터부 전단의 압력 강하로 상기 헤드부에 유입된 배기가스를 제2토출홀을 통해 상기 이젝터부의 전방으로 분출되도록 유도하는 노즐부;
상기 이젝터부의 전단에 결합되며 상기 배기가스와 상기 1차 희석공기가 혼합되어 배출되는 1차 희석가스에 2차 희석공기를 공급하여 2차 희석가스를 생성하는 희석부; 및
상기 헤드부의 후단에 형성되고, 상기 배기가스의 유동방향으로 유입되는 상기 배기가스의 유속을 감속시켜 정체 공기를 형성하여 감속된 정체 공기를 상기 헤드부에 유입시키는 정체공기 형성부를 포함하는 배기가스 희석장치.
a head in which exhaust gas is introduced from the outside and a through hole is formed;
an ejector unit coupled to the front end of the head unit, guiding the primary dilution air to be introduced and moving, and having a first discharge hole connected to the through hole;
It is inserted into the first discharge hole through the through hole, and the primary dilution air moves through the first discharge hole, and the exhaust gas introduced into the head unit due to a pressure drop at the front end of the ejector unit is discharged through the second discharge hole. a nozzle unit for guiding the ejector to be ejected toward the front of the ejector unit;
a dilution unit coupled to the front end of the ejector unit and supplying secondary dilution air to the primary dilution gas that is discharged by mixing the exhaust gas and the primary dilution air to generate secondary dilution gas; and
Exhaust gas dilution including a stagnant air forming part formed at the rear end of the head part and reducing the flow rate of the exhaust gas flowing in the flow direction of the exhaust gas to form stagnant air and introducing the decelerated stagnant air into the head part Device.
제 1 항에 있어서,
상기 정체공기 형성부는
상기 배기가스가 유입되는 유입홀이 형성되며 상기 배기가스가 유동하는 방향을 따라 반경이 점차적으로 커지는 디퓨져부를 포함하는 배기가스 희석장치.
The method of claim 1,
The stagnant air forming unit
and a diffuser part having an inlet hole through which the exhaust gas is introduced and having a radius gradually increasing in a direction in which the exhaust gas flows.
제 2 항에 있어서,
상기 정체공기 형성부는
상기 디퓨져부를 통해 감속된 배기가스가 체류하며 유동 방향을 따라 배기가스를 유출시키는 유출홀이 형성된 공기 체류부; 및
상기 공기 체류부에 직교하는 방향으로 연장 형성되어 상기 헤드부를 향하여 상기 배기가스를 토출하는 샘플링 유출부를 더 포함하는 배기가스 희석장치.
3. The method of claim 2,
The stagnant air forming unit
an air retention part in which the exhaust gas decelerated through the diffuser part stays, and an outlet hole for discharging the exhaust gas along the flow direction is formed; and
The exhaust gas dilution apparatus further comprising a sampling outlet extending in a direction perpendicular to the air retention part and discharging the exhaust gas toward the head part.
제 1 항에 있어서,
상기 정체공기 형성부와 상기 헤드부 사이에 형성되어 상기 배기가스를 예열하는 예열부를 더 포함하는 배기가스 희석장치.
The method of claim 1,
The exhaust gas dilution device further comprising a preheating unit formed between the stagnant air forming unit and the head unit to preheat the exhaust gas.
제 4 항에 있어서,
상기 예열부는 상기 배기가스를 190℃ 내지 210℃의 온도로 예열하고, 상기
1차 희석가스가 고온희석 방법으로 생성되도록 상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급되고, 상기 2차 희석가스가 상온희석 방법으로 생성되도록 상기 2차 희석공기는 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급되는 배기가스 희석장치.
5. The method of claim 4,
The preheating unit preheats the exhaust gas to a temperature of 190°C to 210°C, and
The primary dilution air is supplied at a temperature of 150° C. to 250° C. so that the primary dilution gas is generated by the high-temperature dilution method, and the secondary dilution air is 10° C. to 30° C. so that the second dilution gas is generated by the room temperature dilution method. Exhaust gas dilution device supplied at a temperature of ℃.
제 1 항에 있어서,
상기 헤드부의 전방에 구비되고, 상기 외부에서 유입되는 배기가스에서 미리 설정된 크기 이하의 타깃입자군을 사이클론 분리하는 분리부를 더 포함하는 배기가스 희석장치.
The method of claim 1,
Exhaust gas dilution device provided in front of the head, further comprising a separation unit for cyclone separation of a target particle group having a size less than or equal to a preset size from the exhaust gas flowing from the outside.
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