KR20230053771A - Tank for storing process liquid and substrate processing apparatus comprising the same - Google Patents

Tank for storing process liquid and substrate processing apparatus comprising the same Download PDF

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KR20230053771A
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박용석
박호윤
강진구
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주식회사 디엠에스
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Abstract

The present invention is to provide a processing liquid tank, and a substrate processing device including the same, which have a filter unit therein to simplify the structure of a supply pipe connecting a processing liquid tank and a chamber and to minimize the supply pipe and a pipe connection unit exposed to the outside, increases the reliability of a facility by ensuring excellent airtightness, and can easily perform safety management for water leakage. To this end, the processing liquid tank for storing processing liquid used for processing a substrate comprises: a tank body divided into upper and lower storage units with a first separator therebetween; and a filter unit installed inside the tank body, and filtering foreign substances contained in the processing liquid transferred from the upper to lower storage unit by a transfer pressure provided from the outside. The filter unit includes: a filter body installed in the first separator, wherein an upper inlet through which the processing liquid is introduced is disposed in the upper storage unit, and a lower discharge unit through which the filtered processing liquid is discharged is disposed in the lower storage unit; and a filter housing installed in the upper storage unit and provided to cover an upper part of the upper inlet, and introducing the processing liquid of the upper storage unit to the inside to allow the upper inlet to be submerged in the processing liquid.

Description

처리액 탱크 및 이를 포함하는 기판 처리장치{TANK FOR STORING PROCESS LIQUID AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS COMPRISING THE SAME}Treatment liquid tank and substrate treatment device including the same {TANK FOR STORING PROCESS LIQUID AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS COMPRISING THE SAME}

본 발명은 처리액 탱크 및 이를 포함하는 기판 처리장치에 관한 것으로, 상세하게는 내부에 필터를 구비하여, 처리액 탱크 및 챔버를 연결하는 공급배관의 구조를 단순화하면서 외부로 노출되는 공급배관 및 배관 연결부를 최소화하여, 우수한 기밀 확보에 따른 설비의 신뢰성을 높이고, 누수에 의한 안전 관리를 용이하게 수행할 수 있는 처리액 탱크 및 이를 포함하는 기판 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a treatment liquid tank and a substrate processing apparatus including the same, and more particularly, to a supply pipe and a pipe exposed to the outside while simplifying the structure of a supply pipe connecting a treatment liquid tank and a chamber by providing a filter therein. The present invention relates to a treatment liquid tank capable of minimizing connection parts, increasing reliability of equipment according to securing excellent confidentiality, and easily performing safety management due to leakage, and a substrate processing apparatus including the same.

반도체나 디스플레이 제조 공정과 같은 정밀 제조 분야에서는 순수(Deionized water: DI)나 초순수(Ultrapure water: UPW), 혹은 각종 화공약품 등의 처리액을 사용한다.In precision manufacturing fields such as semiconductor or display manufacturing processes, treatment liquids such as deionized water (DI), ultrapure water (UPW), or various chemicals are used.

도 1은 종래 기판 처리장치를 설명하기 위한 정면 예시도이고, 도 2는 종래 기판 처리장치를 설명하기 위한 측면 예시도이다.1 is an exemplary front view for explaining a conventional substrate processing apparatus, and FIG. 2 is an exemplary side view for explaining a conventional substrate processing apparatus.

도 1 및 도 2를 참조하면, 일반적으로 기판 처리장치는 기판(1)이 처리되는 챔버(10)와, 챔버(10)와 회수배관(30)으로 연결되어 챔버(10)에서 사용된 처리액을 회수하여 저장하는 처리액 탱크(20)와, 처리액 탱크(20)에 저장된 처리액을 가압하여 챔버(10)로 재공급하기 위한 처리액 공급부(40)를 포함하여 구성된다.Referring to FIGS. 1 and 2 , in general, a substrate processing apparatus includes a chamber 10 in which a substrate 1 is processed, and a processing liquid used in the chamber 10 connected to the chamber 10 and a recovery pipe 30. It is configured to include a treatment liquid tank 20 for recovering and storing the treatment liquid, and a treatment liquid supply unit 40 for pressurizing and re-supplying the treatment liquid stored in the treatment liquid tank 20 to the chamber 10 .

처리액 공급부(40)로는 처리액 탱크(20)와 챔버(10)의 내부에 설치되는 분사모듈(46)을 연결하는 공급배관(41)을 포함하는데, 이러한 공급배관(41)은 처리액 탱크(20) 및 챔버(10)의 내부에 배치되는 분사모듈(46)의 수량 및 위치에 따라 매우 복잡한 배관 구조를 가지게 된다. 그리고, 공급배관(41)에는 처리액을 압송하기 위한 펌프(42), 처리액의 유량을 조절하기 위한 유량조절부(45), 처리액 내 이물질을 필터링하기 위한 필터(44), 및 처리액의 온도나 누수 등을 감지하기 위한 센서 등의 각종 장비가 설치된다.The treatment liquid supply unit 40 includes a supply pipe 41 connecting the treatment liquid tank 20 and the injection module 46 installed inside the chamber 10, and the supply pipe 41 is a treatment liquid tank. (20) and the number and position of the injection module 46 disposed inside the chamber 10 has a very complicated piping structure. In addition, the supply pipe 41 includes a pump 42 for pressurizing the treatment liquid, a flow control unit 45 for adjusting the flow rate of the treatment liquid, a filter 44 for filtering foreign substances in the treatment liquid, and the treatment liquid. Various equipment such as sensors for detecting temperature or water leakage are installed.

이와 같이, 종래 기판 처리장치는 외부로 노출된 복잡한 구조의 공급배관(41)으로 인하여, 기판(1)이 처리되는 챔버(10)의 하부 공간을 과다하게 점유하게 되어, 전체 기판 처리장치의 크기가 커지는 문제가 있다. 또한, 공급배관(41)에 설치되는 많은 수량의 각종 장치로 인하여 많은 배관 연결부가 필요하게 되고, 이러한 배관 연결부 영역에서 발생될 수 있는 처리액의 누수에 의한 안전 관리에 많은 어려움이 발생된다.As such, the conventional substrate processing apparatus excessively occupies the lower space of the chamber 10 in which the substrate 1 is processed due to the complex structure of the supply pipe 41 exposed to the outside, and thus the size of the entire substrate processing apparatus There is a growing problem. In addition, many pipe connections are required due to a large number of various devices installed in the supply pipe 41, and many difficulties arise in safety management due to leakage of treatment liquid that may occur in the area of these pipe connections.

또한, 기판 처리 공정 중 기판 상의 특정막을 에칭하는 에칭 공정에서는 흔히 에천트(Etchant)와 같은 강산성의 처리액을 사용하게 되는데, 이러한 강산성의 처리액은 누수나 비산 시 화재나 폭발에 매우 취약하기 때문에, 설비 및 유지관리에 있어 보다 높은 안전 규제가 요구된다.In addition, in the etching process of etching a specific film on the substrate during the substrate treatment process, a strong acidic treatment liquid such as an etchant is often used. However, higher safety regulations are required for equipment and maintenance.

대한민국 등록특허공보 제1403510호 (2014.06.09. 공고)Republic of Korea Patent Registration No. 1403510 (2014.06.09. Notice)

상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 과제는 내부에 필터를 구비하여, 처리액 탱크 및 챔버를 연결하는 공급배관의 구조를 단순화하고 외부로 노출되는 공급배관 및 배관 연결부를 최소화하며, 우수한 기밀 확보에 따른 설비의 신뢰성을 높이고, 누수에 의한 안전 관리를 용이하게 수행할 수 있는 처리액 탱크 및 이를 포함하는 기판 처리장치를 제공함에 있다.The object of the present invention for solving the above problems is to provide a filter inside, simplify the structure of the supply pipe connecting the treatment liquid tank and the chamber, minimize the supply pipe and pipe connection exposed to the outside, and secure excellent confidentiality. It is an object of the present invention to provide a treatment liquid tank and a substrate treatment apparatus including the treatment liquid tank capable of increasing the reliability of facilities according to and easily performing safety management due to leakage.

또한, 본 발명은 유량조절부를 포함한 공급배관의 일부를 챔버의 내부에 배치하여, 처리액 탱크 및 챔버를 연결하는 공급배관의 구조를 더욱 단순화하면서 외부로 노출되는 공급배관 및 배관 연결부를 최소화할 수 있는 기판 처리장치를 제공함에 있다.In addition, according to the present invention, a part of the supply pipe including the flow control unit is disposed inside the chamber, thereby further simplifying the structure of the supply pipe connecting the treatment liquid tank and the chamber, while minimizing the supply pipe and pipe connection parts exposed to the outside. It is to provide a substrate processing apparatus with.

상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 처리액 탱크는, 기판 처리에 사용된 처리액이 저장되는 처리액 탱크로서, 제1분리대를 사이에 두고 내부공간이 상측 저장부와 하측 저장부로 구획되는 탱크본체; 및 상기 탱크본체의 내부공간에 설치되며, 외부에서 제공되는 이송 압력에 의해 상기 상측 저장부에서 상기 하측 저장부로 이송되는 처리액에 포함된 이물질을 필터링하는 필터부;를 포함하며, 상기 필터부는, 상기 제1분리대에 설치되며, 처리액이 유입되는 상측 유입부는 상기 상측 저장부에 배치되고, 필터링된 처리액이 배출되는 하측 배출부는 상기 하측 저장부에 배치되는 필터본체; 및 상기 상측 저장부에 설치되며, 상기 상측 유입부의 상부를 덮도록 마련되며, 상기 상측 저장부의 처리액을 내부로 유입하여 상기 상측 유입부가 처리액에 잠기도록 하는 필터하우징;을 포함하는 것을 특징으로 한다.A treatment liquid tank according to an embodiment of the present invention for solving the above problems is a treatment liquid tank in which a treatment liquid used for substrate processing is stored, and has an upper storage unit and a lower storage unit with a first separator interposed therebetween. Tank body partitioned into parts; And a filter unit installed in the inner space of the tank body and filtering foreign substances included in the treatment liquid transferred from the upper storage unit to the lower storage unit by a transfer pressure provided from the outside, wherein the filter unit includes, a filter body installed in the first separator, an upper inlet through which the treatment liquid flows in is disposed in the upper storage unit, and a lower outlet through which the filtered treatment liquid is discharged is disposed in the lower storage unit; and a filter housing installed in the upper storage unit, provided to cover an upper portion of the upper inlet unit, and allowing the upper inlet unit to be submerged in the treatment liquid by introducing the treatment liquid of the upper storage unit into the inside. do.

본 발명의 실시예에 따른 처리액 탱크에 있어서, 상기 필터하우징은, 상기 상측 저장부의 처리액이 내부로 유입됨에 따라 내부에 채워진 공기가 외부로 배기되도록 하는 공기배기부를 구비할 수 있다.In the treatment liquid tank according to an embodiment of the present invention, the filter housing may include an air exhaust unit for exhausting air filled therein to the outside as the treatment liquid of the upper storage part flows into the inside.

본 발명의 실시예에 따른 처리액 탱크에 있어서, 상기 하측 저장부는, 상기 처리액 공급부에 연결되는 일측면에서 타측면을 향해 상부방향으로 경사진 바닥면을 구비할 수 있다.In the treatment liquid tank according to an embodiment of the present invention, the lower storage unit may have a bottom surface inclined upward from one side connected to the treatment liquid supply unit to the other side.

본 발명의 실시예에 따른 처리액 탱크에 있어서, 상기 필터부는, 복수개가 구비되되, 상기 하측 저장부의 일측면에서 타측면을 향해 설정된 간격으로 이격하여 배치될 수 있다.In the treatment liquid tank according to an embodiment of the present invention, a plurality of filter units may be provided, and may be spaced apart from one side of the lower storage unit toward the other side at a set interval.

본 발명의 실시예에 따른 처리액 탱크에 있어서, 상기 상측 저장부는, 상부에 상기 필터부의 유지보수를 위한 개폐 가능한 윈도우를 구비할 수 있다.In the treatment liquid tank according to an embodiment of the present invention, the upper storage unit may have an openable and openable window for maintenance of the filter unit at an upper portion.

상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리장치는, 기판이 처리되는 챔버; 상기 챔버에서 기판 처리에 사용된 처리액이 저장되는 상술한 구성의 처리액 탱크; 및 상기 처리액 탱크에 저장된 처리액을 가압하여 상기 챔버로 공급하는 처리액 공급부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention for solving the above problems includes a chamber in which a substrate is processed; a treatment liquid tank of the above configuration in which a treatment liquid used for substrate processing in the chamber is stored; and a treatment liquid supply unit pressurizing the treatment liquid stored in the treatment liquid tank and supplying the treatment liquid to the chamber.

본 발명의 실시예에 따른 기판 처리장치에 있어서, 상기 챔버는, 제2분리대를 사이에 두고 내부공간이 기판 처리부와 배관 설치부로 구획될 수 있다.In the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, the inner space of the chamber may be partitioned into a substrate processing unit and a pipe installation unit with the second separator interposed therebetween.

본 발명의 실시예에 따른 기판 처리장치에 있어서, 상기 처리액 공급부는, 상기 처리액 탱크 및 상기 챔버를 연결하는 공급배관과, 상기 공급배관에 설치되며, 상기 처리액 탱크에 저장된 처리액을 가압하여 상기 챔버로 이송하는 펌프와, 상기 공급배관에 연결된 채 상기 기판 처리부에 배치되며, 상기 기판 처리부의 기판을 향해 처리액을 분사하는 분사모듈과, 상기 공급배관에 설치되며, 상기 분사모듈로 향하는 처리액의 유량을 조절하기 위한 유량조절부를 포함할 수 있고, 이때, 상기 유량조절부를 포함한 상기 공급배관의 적어도 일부는 상기 배관 설치부에 배치될 수 있다.In the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, the treatment liquid supply unit is installed in a supply pipe connecting the treatment liquid tank and the chamber, and the supply pipe, and pressurizes the treatment liquid stored in the treatment liquid tank. a pump for transferring the pump to the chamber, a spraying module disposed in the substrate processing unit while being connected to the supply pipe, and spraying a processing liquid toward the substrate of the substrate processing unit, and a spraying module installed in the supply pipe and directed toward the spraying module. It may include a flow control unit for adjusting the flow rate of the treatment liquid, and at least a portion of the supply pipe including the flow control unit may be disposed in the pipe installation unit.

본 발명에 따르면, 잔존하거나 누수되어 비산되는 처리액에 의해 화재나 폭발에 취약한 필터부를 처리액 탱크의 내부에 배치함으로써, 설비의 안전성을 높일 수 있고, 외부로 노출되는 공급배관 및 배관 연결부를 최소화하여 우수한 기밀 확보에 따른 설비의 신뢰성을 높일 수 있으며, 누수에 의한 안전 관리를 용이하게 수행할 수 있다.According to the present invention, by arranging a filter unit vulnerable to fire or explosion due to remaining or leaking treatment liquid inside the treatment liquid tank, it is possible to increase the safety of the facility and minimize the supply pipe and pipe connection exposed to the outside. By doing so, it is possible to increase the reliability of the facility according to securing excellent confidentiality, and it is possible to easily perform safety management by leakage.

본 발명에 따르면, 유량조절부을 포함한 공급배관의 적어도 일부를 챔버의 내부에 배치함으로써, 외부로 노출되는 공급배관 및 배관 연결부를 더욱 줄여서 우수한 기밀 확보에 따른 설비의 신뢰성을 더욱 높일 수 있고, 누수에 의한 안전 관리를 보다 용이하게 수행할 수 있다.According to the present invention, by arranging at least a portion of the supply pipe including the flow control unit inside the chamber, it is possible to further increase the reliability of the facility by securing excellent airtightness by further reducing the supply pipe and the pipe connection portion exposed to the outside, and to prevent leakage. safety management can be performed more easily.

본 발명에 따르면, 누수에 취약한 공급배관 및 공급모듈의 일부를 처리액 탱크 또는 챔버의 내부에 배치함으로써, 만약 처리액이 누수되거나 비산되면, 처리액 탱크 또는 챔버이 외부 유출을 차단하는 2차 보호 기능을 수행할 수 있으므로, 설비의 안전성을 더욱 높일 수 있다.According to the present invention, by arranging a part of the supply pipe and supply module vulnerable to leakage inside the treatment liquid tank or chamber, if the treatment liquid leaks or scatters, the treatment liquid tank or chamber has a secondary protection function to block external leakage. Since it can perform, the safety of the facility can be further increased.

본 발명에 따르면, 공급배관 및 공급모듈의 일부를 처리액 탱크 또는 챔버의 내부에 배치함으로써, 처리액 공급부의 구조를 단순화하여 처리액 공급부를 포함한 기판 처리장치의 점유 공간을 크게 줄일 수 있다.According to the present invention, by arranging a part of the supply pipe and the supply module inside the treatment liquid tank or chamber, the structure of the treatment liquid supply unit can be simplified and the space occupied by the substrate processing apparatus including the treatment liquid supply unit can be greatly reduced.

본 발명에 따르면, 펌프의 선단인 처리액 탱크의 내부에 필터부을 배치함으로써, 공급배관 및 펌프로 유입되는 이물질을 줄여 설비의 신뢰성을 더욱 높일 수 있다.According to the present invention, by disposing the filter unit inside the treatment liquid tank, which is the front end of the pump, it is possible to further increase the reliability of the facility by reducing foreign substances flowing into the supply pipe and the pump.

본 발명에 따르면, 처리액 탱크의 내부에 배치되는 필터하우징을 포함함으로써, 처리액 탱크 내부의 수위 변동과 무관하게 필터부의 적정 필터링이 보장될 수 있다.According to the present invention, by including the filter housing disposed inside the treatment liquid tank, appropriate filtering of the filter unit can be ensured regardless of fluctuations in the water level inside the treatment liquid tank.

도 1은 종래 기판 처리장치를 설명하기 위한 정면 예시도이다.
도 2는 종래 기판 처리장치를 설명하기 위한 측면 예시도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리장치를 설명하기 위한 정면 예시도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리장치를 설명하기 위한 측면 예시도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 처리액 탱크를 설명하기 위한 정면 예시도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 필터부를 설명하기 위한 예시도이다.1 is an exemplary front view for explaining a conventional substrate processing apparatus.
2 is an exemplary side view for explaining a conventional substrate processing apparatus.
3 is an exemplary front view for explaining a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is an exemplary side view for explaining a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is an exemplary front view for explaining a treatment liquid tank according to an embodiment of the present invention.
6 is an exemplary view for explaining a filter unit according to an embodiment of the present invention.

이하 상술한 해결하고자 하는 과제가 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명된다. 본 실시예들을 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용될 수 있으며 이에 따른 부가적인 설명은 생략될 수 있다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention in which the above-described problem to be solved can be realized in detail will be described with reference to the accompanying drawings. In describing the present embodiments, the same name and the same reference numeral may be used for the same configuration, and additional description accordingly may be omitted.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리장치를 설명하기 위한 정면 예시도이고, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리장치를 설명하기 위한 측면 예시도이며, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 처리액 탱크를 설명하기 위한 정면 예시도이고, 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 필터부를 설명하기 위한 예시도이다.Figure 3 is a front view for explaining a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a side view for explaining a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is an exemplary view of the present invention It is an exemplary front view for explaining a treatment liquid tank according to an embodiment, and FIG. 6 is an exemplary view for explaining a filter unit according to an embodiment of the present invention.

도 3 내지 도 6을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리장치는 챔버(100), 처리액 탱크(200) 및 처리액 공급부(400)를 포함할 수 있다.3 to 6 , a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention may include a chamber 100, a processing liquid tank 200, and a processing liquid supply unit 400.

본 실시예에 따른 챔버(100)는 내부공간이 제2분리대(110)를 사이에 두고 기판 처리부(113) 및 배관 설치부(115)로 구획될 수 있다.The interior space of the chamber 100 according to the present embodiment may be partitioned into a substrate processing unit 113 and a pipe installation unit 115 with the second separator 110 interposed therebetween.

기판 처리부(113)는 기판(1)이 처리되는 공간을 제공하며, 기판(1)을 이송하기 위한 이송부(5)가 내부에 배치될 수 있다.The substrate processing unit 113 provides a space where the substrate 1 is processed, and a transfer unit 5 for transferring the substrate 1 may be disposed therein.

또한, 기판 처리부(113)는 기판(1)의 상측에 처리액 공급부(400)의 분사모듈(460)이 배치될 수 있다. 따라서, 분사모듈(460)을 통하여 기판(1)의 상측에 처리액이 분사되면서 기판(1)이 처리될 수 있다.Also, in the substrate processing unit 113 , the injection module 460 of the processing liquid supply unit 400 may be disposed above the substrate 1 . Accordingly, the substrate 1 may be processed while the treatment liquid is sprayed onto the upper side of the substrate 1 through the spray module 460 .

또한, 기판 처리부(113)의 하단부는 회수배관(300)을 매개로 처리액 탱크(200)와 연결될 수 있다. 따라서, 기판(1) 처리에 사용된 처리액은 기판 처리부(113)의 하단부에서 모여 회수배관(300)으로 배출된 후 처리액 탱크(200)에 저장될 수 있다.In addition, the lower end of the substrate processing unit 113 may be connected to the treatment liquid tank 200 through the recovery pipe 300 . Accordingly, the treatment liquid used to process the substrate 1 may be collected at the lower end of the substrate treatment unit 113 and discharged to the recovery pipe 300 and then stored in the treatment liquid tank 200 .

배관 설치부(115)는 처리액 공급부(400)의 유량조절부(450)를 포함한 공급배관(410)의 일부를 수용하는 공간을 제공할 수 있다. 이에 대해서는 처리액 공급부(400)를 설명할 때 보충 설명한다.The pipe installation unit 115 may provide a space for accommodating a part of the supply pipe 410 including the flow control unit 450 of the treatment liquid supply unit 400 . This will be supplementarily described when the processing liquid supply unit 400 is described.

본 실시예에 따른 처리액 탱크(200)는 챔버(100)에서 기판(1) 처리에 사용된 처리액이 저장되는 것으로, 탱크본체(210) 및 필터부(230)를 포함할 수 있다.The treatment liquid tank 200 according to the present embodiment stores the treatment liquid used for processing the substrate 1 in the chamber 100 and may include a tank body 210 and a filter unit 230 .

탱크본체(210)는 제1분리대(211)를 사이에 두고 상측 저장부(213) 및 하측 저장부(215)로 내부공간이 구획될 수 있다.The inner space of the tank body 210 may be divided into an upper storage unit 213 and a lower storage unit 215 with the first separator 211 interposed therebetween.

상측 저장부(213)는 제1분리대(211)의 상측에 배치될 수 있으며, 회수배관(300)과 연결되어 챔버(100)에서 배출되는 처리액이 내부에 저장될 수 있다.The upper storage unit 213 may be disposed above the first separator 211 and connected to the recovery pipe 300 to store the treatment liquid discharged from the chamber 100 therein.

또한, 상측 저장부(213)는 내부에 배치된 필터부(230)를 모니터링하기 위한 윈도우(270)가 상단부에 구비될 수 있다. 윈도우(270)는 필터부(230)의 유지 보수를 위해 개폐 가능한 구조를 가질 수도 있다.In addition, the upper storage unit 213 may have a window 270 at an upper end for monitoring the filter unit 230 disposed therein. The window 270 may have a structure capable of being opened and closed for maintenance of the filter unit 230 .

하측 저장부(215)는 제1분리대(211)의 하측에 배치될 수 있으며, 필터부(230)를 통과한 이물질이 걸려진 처리액이 유입될 수 있다.The lower storage unit 215 may be disposed below the first separator 211 , and the treatment liquid passing through the filter unit 230 and having foreign substances caught therein may be introduced.

또한, 하측 저장부(215)는 일측면(215a)에 처리액 배출구가 형성될 수 있으며, 처리액 배출구는 처리액 공급부(400)의 공급배관(410)에 연결될 수 있다.In addition, the lower storage unit 215 may have a treatment liquid outlet formed on one side surface 215a, and the treatment liquid outlet may be connected to the supply pipe 410 of the treatment liquid supply unit 400.

또한, 하측 저장부(215)는 처리액 공급부(400)의 공급배관(410)에 연결되는 일측면(215a)에서 타측면(215b)을 향해 상부방향으로 경사진 바닥면(215c)을 구비할 수 있다. 경사진 바닥면(215c)은 필터부(230)를 통과한 처리액이 바닥면(215c)에 잔존하지 않게 하고, 처리액 공급부(400)의 공급배관(410)에 연결되는 일측면(215a)으로 유동하는 처리액의 자연스러운 유동을 안내할 수 있다.In addition, the lower storage unit 215 may have a bottom surface 215c inclined upward from one side surface 215a connected to the supply pipe 410 of the treatment liquid supply unit 400 toward the other side surface 215b. can The inclined bottom surface 215c prevents the treatment liquid that has passed through the filter unit 230 from remaining on the bottom surface 215c and has one side surface 215a connected to the supply pipe 410 of the treatment liquid supply unit 400. It can guide the natural flow of the treatment liquid flowing into the

상측 저장부(213) 및 하측 저장부(215)는 제1분리대(211)에 설치되는 필터부(230)를 통하여 서로 연통될 수 있다.The upper storage unit 213 and the lower storage unit 215 may communicate with each other through the filter unit 230 installed in the first separator 211 .

필터부(230)는 탱크본체(210)의 내부공간에 설치되며, 외부에서 제공되는 펌프(420)의 이송 압력에 의해 상측 저장부(213)에서 하측 저장부(215)로 이송되는 처리액에 포함된 이물질을 필터링할 수 있다.The filter unit 230 is installed in the inner space of the tank body 210, and the treatment liquid transferred from the upper storage unit 213 to the lower storage unit 215 by the transfer pressure of the pump 420 provided from the outside It is possible to filter out foreign substances contained in it.

실시예에 따른 필터부(230)는 필터본체(240) 및 필터하우징(250)을 포함할 수 있다.The filter unit 230 according to the embodiment may include a filter body 240 and a filter housing 250 .

필터본체(240)는 제1분리대(211)에 설치될 수 있고, 처리액이 유입되는 상측 유입부(241)는 상측 저장부(213)에 배치되고, 필터링된 처리액이 배출되는 하측 배출부(242)는 하측 저장부(215)에 배치될 수 있다.The filter body 240 may be installed in the first separator 211, the upper inlet 241 through which the treatment liquid flows in is disposed in the upper storage unit 213, and the lower outlet through which the filtered treatment liquid is discharged. 242 may be disposed in the lower storage unit 215 .

펌프(420)의 이송 압력에 의해 하측 저장부(215)에 부압이 발생되면, 상측 저장부(213)의 처리액은 필터본체(240)를 통과하면서 하측 저장부(215)로 이송될 수 있고, 필터본체(240)는 처리액 내에 포함된 이물질을 걸려낼 수 있다. 필터본체(240)의 소재 및 필터링 구조에 대해서는 특별히 한정하지 않는다.When negative pressure is generated in the lower reservoir 215 by the transfer pressure of the pump 420, the treatment liquid in the upper reservoir 213 can be transferred to the lower reservoir 215 while passing through the filter body 240. , The filter body 240 can filter out foreign substances included in the treatment liquid. The material and filtering structure of the filter body 240 are not particularly limited.

필터하우징(250)은 상측 저장부(213)에 설치될 수 있고, 상측 유입부(241)의 표면에서 이격된 채 상측 유입부(241)의 상부를 덮도록 마련될 수 있다. 또한, 필터하우징(250)의 하단부는 제1분리대(211)로부터 상측으로 이격하여 배치될 수 있다. 따라서, 필터하우징(250)의 내면과 필터본체(240)의 상측 유입부(241)의 표면 사이에는 상측 저장부(213)와 연통되는 유로(251)가 형성될 수 있다.The filter housing 250 may be installed in the upper storage part 213 and may be provided to cover the upper part of the upper inlet part 241 while being spaced apart from the surface of the upper inlet part 241 . In addition, the lower end of the filter housing 250 may be disposed upwardly apart from the first separator 211 . Accordingly, a flow path 251 communicating with the upper storage unit 213 may be formed between the inner surface of the filter housing 250 and the surface of the upper inlet 241 of the filter body 240 .

필터하우징(250)은 필터본체(240)의 표면과의 사이에 유로(251)를 형성하므로, 펌프(420)의 이송 압력에 의해 하측 저장부(215)에 부압이 발생되면, 상측 저장부(213)에 저장된 처리액이 수위(h)와 무관하게 유로(251)에 채워지기 때문에, 필터본체(240)의 상측 유입부(241)는 모두 잠긴 상태를 유지할 수 있다. 즉, 필터본체(240)의 상측 유입부(241)의 전체 표면에 대해 처리액이 균일하게 유입될 수 있고, 이에 따라 필터본체(240)의 필터링 효율을 높일 수 있다.Since the filter housing 250 forms the flow path 251 between the surface of the filter main body 240 and the negative pressure is generated in the lower storage unit 215 by the transfer pressure of the pump 420, the upper storage unit ( Since the treatment liquid stored in 213 is filled in the passage 251 regardless of the water level h, all of the upper inlet 241 of the filter main body 240 can be kept locked. That is, the treatment liquid may be uniformly introduced to the entire surface of the upper inlet 241 of the filter body 240, and thus the filtering efficiency of the filter body 240 may be increased.

또한, 필터하우징(250)은 공기배기부(255)를 더 포함할 수 있다.In addition, the filter housing 250 may further include an air exhaust unit 255 .

공기배기부(255)는 필터하우징(250)의 상단부에 구비될 수 있으며, 압력밸브가 사용될 수 있다. 따라서, 유로(251)에 처리액이 채워지면서 유로(251)에 잔존하는 공기는 압축되면서 공기배기부(255)를 개방하고 필터하우징(250)의 외부로 배기될 수 있다.The air exhaust unit 255 may be provided at an upper end of the filter housing 250, and a pressure valve may be used. Accordingly, while the flow path 251 is filled with the treatment liquid, the air remaining in the flow path 251 is compressed, and the air exhaust unit 255 is opened and exhausted to the outside of the filter housing 250 .

한편, 필터부(230)는 복수개가 구비될 수 있다.Meanwhile, a plurality of filter units 230 may be provided.

복수개의 필터부(230)는 처리액 공급부(400)에 연결되는 하측 저장부(215)의 일측면(215a)에서 타측면(215b)을 향해 설정된 간격으로 이격하여 배치될 수 있다.The plurality of filter units 230 may be spaced apart from one side surface 215a of the lower storage unit 215 connected to the treatment liquid supply unit 400 toward the other side surface 215b at set intervals.

하측 저장부(215)는 일측면(215a)에서 타측면(215b)으로 가면서 상부방향으로 경사진 바닥면(215c)을 가지므로, 일측면(215a)에서 타측면(215b)으로 가면서 단면적이 점차 축소되는 구조를 가질 수 있다.Since the lower storage part 215 has a bottom surface 215c inclined upward from one side 215a to the other side 215b, the cross-sectional area gradually increases from one side 215a to the other side 215b. It can have a collapsed structure.

만약, 하측 저장부(215)의 바닥면이 수평 상태를 유지하여 처리액 공급부(400)에 연결되는 일측면(215a)에서 타측면(215b)으로 가면서 동일한 면적의 단면적을 가지면, 일측면(215a)에서 상대적으로 가까운 필터부(230)에는 펌프(420)의 이송 압력이 상대적으로 높게 작용하고, 일측면(215a)에서 상대적으로 먼 필터부(230)에는 펌프(420)의 이송 압력이 상대적으로 낮게 작용할 수 있다.If the bottom surface of the lower storage unit 215 maintains a horizontal state and has the same cross-sectional area from one side surface 215a connected to the treatment liquid supply unit 400 to the other side surface 215b, one side surface 215a The transfer pressure of the pump 420 is relatively high in the filter unit 230 relatively close to ), and the transfer pressure of the pump 420 is relatively high in the filter unit 230 relatively far from one side 215a. may work low.

하지만, 필터부(230)가 이격하여 배치되는 방향을 따라 하측 저장부(215)의 바닥면(215c)이 경사지게 배치되어 하측 저장부(215)의 일측면(215a)에서 타측면(215b)으로 가면서 단면적이 점차 축소되는 구조를 가지게 되면, 복수개의 필터부(230)에 대해 펌프(420)의 이송 압력이 균일하게 작용할 수 있게 된다. 따라서, 모든 필터부(230)에서 균일한 용량의 필터링이 수행될 수 있고 전체 필터링 효율이 증대될 수 있다.However, the bottom surface 215c of the lower storage unit 215 is inclined along the direction in which the filter units 230 are spaced apart from each other, so that the lower storage unit 215 extends from one side surface 215a to the other side surface 215b. When a structure in which the cross-sectional area is gradually reduced is provided, the transfer pressure of the pump 420 can act uniformly on the plurality of filter units 230 . Accordingly, uniform capacitance filtering can be performed in all filter units 230 and overall filtering efficiency can be increased.

처리액 공급부(400)는 처리액 탱크(200)에 저장된 처리액을 가압하여 챔버(100)로 공급하는 것으로, 공급배관(410), 펌프(420), 분사모듈(460) 및 유량조절부(450)를 포함할 수 있다.The treatment liquid supply unit 400 pressurizes the treatment liquid stored in the treatment liquid tank 200 and supplies it to the chamber 100, and includes a supply pipe 410, a pump 420, a spray module 460, and a flow control unit ( 450) may be included.

공급배관(410)은 처리액 탱크(200) 및 챔버(100)를 연결하도록 설치될 수 있다.The supply pipe 410 may be installed to connect the treatment liquid tank 200 and the chamber 100 .

실시예에 따른 공급배관(410)은 1개 처리액 탱크(200) 및 2개의 챔버(100)를 연결하기 위해 분기관 형태를 취하고 있다. 이러한 공급배관(410)은 처리액 탱크(200) 및 챔버(100)의 수량에 따라 크기 및 수량이 다양하게 설계 변경될 수 있음은 물론이다.The supply pipe 410 according to the embodiment takes the form of a branch pipe to connect one treatment liquid tank 200 and two chambers 100 . It goes without saying that the size and quantity of the supply pipe 410 may be variously designed according to the quantity of the treatment liquid tank 200 and the chamber 100 .

펌프(420)는 공급배관(410)에 설치될 수 있고, 처리액 탱크(200)에 저장된 처리액을 가압하여 챔버(100)로 이송할 수 있다. 즉, 펌프(420)는 처리액 탱크(200)의 상측 저장부(213)에 채워진 처리액이 필터부(230)를 통과하여 하측 저장부(215)로 유동할 수 있는 이송 압력을 제공할 수 있고, 분사모듈(460)에서 기판(1)에 분사되는 처리액의 분사 압력을 제공할 수 있다.The pump 420 may be installed in the supply pipe 410 and pressurize the treatment liquid stored in the treatment liquid tank 200 to transfer it to the chamber 100 . That is, the pump 420 may provide transfer pressure through which the treatment liquid filled in the upper storage unit 213 of the treatment liquid tank 200 passes through the filter unit 230 and flows to the lower storage unit 215. In addition, the spray module 460 may provide spray pressure of the treatment liquid sprayed onto the substrate 1 .

분사모듈(460)은 공급배관(410)에 연결된 채 기판 처리부(113)에 배치될 수 있고, 기판 처리부(113)의 내부의 기판(1)을 향하여 처리액을 분사할 수 있다. 이러한 분사모듈(460)은 공급배관(410)에 연결되는 파이프와 파이프의 길이방향을 따라 배치되는 복수개의 노즐을 포함할 수 있다.The injection module 460 may be disposed in the substrate processing unit 113 while being connected to the supply pipe 410 and may spray the treatment liquid toward the substrate 1 inside the substrate processing unit 113 . The injection module 460 may include a pipe connected to the supply pipe 410 and a plurality of nozzles disposed along the longitudinal direction of the pipe.

또한, 실시예에 따르면, 기판(1)의 크기 및 이송방향 등을 고려하여 기판(1) 전체적으로 효과적인 분사가 이루어지도록 기판 처리부(113) 마다 서로 평행하게 배치되는 3개의 분사모듈(460)을 구비하고 있다.In addition, according to the embodiment, each substrate processing unit 113 is provided with three spraying modules 460 disposed in parallel with each other so that effective spraying is performed on the entire substrate 1 in consideration of the size and transfer direction of the substrate 1 are doing

유량조절부(450)는 분사모듈(460)의 선단인 공급배관(410) 상에 설치될 수 있고, 분사모듈(460)로 향하는 처리액의 유량을 조절할 수 있다.The flow control unit 450 may be installed on the supply pipe 410, which is the front end of the spray module 460, and may adjust the flow rate of the processing liquid toward the spray module 460.

유량조절부(450)로는 수동밸브, 유량계 및 압력계 등이 사용될 수 있다. 즉, 작업자는 수동밸브를 조절하면서 유량계 및 압력계에서 표시되는 처리액의 유량 및 압력을 실시간으로 확인하면서 처리액의 유량을 미세 조절할 수 있다.A manual valve, a flow meter and a pressure gauge may be used as the flow control unit 450 . That is, the operator can finely adjust the flow rate of the treatment liquid while checking the flow rate and pressure of the treatment liquid displayed in the flow meter and the pressure gauge in real time while adjusting the manual valve.

또한, 처리액 공급부(400)는 펌프(420)를 기준으로 선단 및 후단에 배치되는 유량조절밸브(431,432)를 더 포함할 수도 있다.In addition, the treatment liquid supply unit 400 may further include flow control valves 431 and 432 disposed at front and rear ends of the pump 420 .

한편, 본 발명의 실시예에 따르면, 유량조절부(450)를 포함한 공급배관(410)의 적어도 일부가 챔버(100) 내부에 배치될 수 있다.Meanwhile, according to an embodiment of the present invention, at least a part of the supply pipe 410 including the flow control unit 450 may be disposed inside the chamber 100 .

즉, 기판 처리부(113)에 배치된 분사모듈(460)에 연결되는 유량조절부(450)를 포함한 공급배관(410)의 적어도 일부분이 배관 설치부(115)의 내부에 배치될 수 있다.That is, at least a portion of the supply pipe 410 including the flow control unit 450 connected to the injection module 460 disposed in the substrate processing unit 113 may be disposed inside the pipe installation unit 115 .

또한, 공급배관(410) 상에 결합되는 유량조절부(450)는 배관 설치부(115)의 내부에 배치되되, 작업자의 원활한 조작을 위해 유량조절부(450)의 일부분은 배관 설치부(115)의 외부로 노출될 수 있다. 즉, 수동밸브의 레버, 유량계 및 압력계의 표시창은 배관 설치부(115)의 외부로 노출될 수 있다.In addition, the flow control unit 450 coupled to the supply pipe 410 is disposed inside the pipe installation unit 115, and a part of the flow control unit 450 is disposed inside the pipe installation unit 115 for smooth operation of the operator. ) can be exposed to the outside. That is, the display windows of the lever of the manual valve, the flow meter, and the pressure gauge may be exposed to the outside of the pipe installation unit 115 .

이상에서와 같이 본 발명은 잔존하거나 누수되어 비산되는 처리액에 의해 화재나 폭발에 취약한 필터부(230)를 처리액 탱크(200)의 내부에 배치함으로써, 외부로 노출되는 공급배관(410) 및 배관 연결부를 최소화하여 우수한 기밀 확보에 따른 설비의 신뢰성을 높일 수 있으며, 누수에 의한 안전 관리를 용이하게 수행할 수 있다.As described above, the present invention arranges the filter unit 230, which is vulnerable to fire or explosion due to remaining or leaking and scattering treatment liquid inside the treatment liquid tank 200, so that the supply pipe 410 exposed to the outside and By minimizing the pipe connection, it is possible to increase the reliability of the facility by securing excellent airtightness, and it is possible to easily perform safety management by leakage.

또한, 본 발명은 유량조절부(450)를 포함한 공급배관(410)의 적어도 일부를 챔버(100)의 내부에 배치함으로써, 외부로 노출되는 공급배관(410) 및 배관 연결부를 더욱 줄여 우수한 기밀 확보에 따른 설비의 신뢰성을 더욱 높일 수 있고, 누수에 의한 안전 관리를 더욱 용이하게 수행할 수 있다.In addition, the present invention secures excellent airtightness by further reducing the supply pipe 410 and pipe connections exposed to the outside by arranging at least a portion of the supply pipe 410 including the flow control unit 450 inside the chamber 100. It is possible to further increase the reliability of the facility according to the above, and to perform safety management by leakage more easily.

또한, 본 발명은 누수에 취약한 공급배관(410) 및 공급모듈의 일부를 처리액 탱크(200) 또는 챔버(100)의 내부에 배치함으로써, 만약 처리액이 누수되거나 비산되면, 처리액 탱크(200) 또는 챔버(100)가 외부 유출을 차단하는 2차 보호 기능을 수행할 수 있으므로, 설비의 안전성을 더욱 높일 수 있다.In addition, the present invention arranges a portion of the supply pipe 410 and the supply module, which are vulnerable to leakage, inside the treatment liquid tank 200 or the chamber 100, so that if the treatment liquid leaks or scatters, the treatment liquid tank 200 ) or the chamber 100 can perform a secondary protection function of blocking external leakage, thereby further enhancing the safety of the facility.

또한, 본 발명은 공급배관(410) 및 공급모듈의 일부를 처리액 탱크(200) 또는 챔버(100)의 내부에 배치함으로써, 처리액 공급부(400)의 구조를 단순화하여 처리액 공급부(400) 뿐만 아니라 전체 기판 처리장치의 설치 점유 공간을 크게 줄일 수 있다.In addition, the present invention simplifies the structure of the treatment liquid supply unit 400 by arranging a portion of the supply pipe 410 and the supply module inside the treatment liquid tank 200 or the chamber 100, thereby providing a treatment liquid supply unit 400 In addition, the installation space occupied by the entire substrate processing apparatus can be greatly reduced.

또한, 본 발명은 펌프(420)의 선단인 처리액 탱크(200)의 내부에 필터부(230)를 배치함으로써, 공급배관(410) 및 펌프(420)로 유입되는 이물질을 줄여 설비의 신뢰성을 더욱 높일 수 있다.In addition, in the present invention, by disposing the filter unit 230 inside the treatment liquid tank 200, which is the front end of the pump 420, foreign substances flowing into the supply pipe 410 and the pump 420 are reduced, thereby improving the reliability of the facility. can be raised further.

또한, 본 발명은 처리액 탱크(200)의 내부에 배치되는 필터하우징(250)을 포함함으로써, 처리액 탱크(200) 내부의 수위 변동과 무관하게 필터부(230)의 적정 필터링이 보장될 수 있다.In addition, since the present invention includes the filter housing 250 disposed inside the treatment liquid tank 200, appropriate filtering of the filter unit 230 can be guaranteed regardless of the water level fluctuation in the treatment liquid tank 200. there is.

상술한 바와 같이 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면, 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변경시킬 수 있다.As described above, the preferred embodiments of the present invention have been described with reference to the drawings, but those skilled in the art can make various modifications to the present invention within the scope not departing from the spirit and scope of the present invention described in the claims below. may be modified or changed.

100: 챔버
200: 처리액 탱크
210: 탱크본체
211: 제1분리대
213: 상측 저장부
215: 하측 저장부
230: 필터부
240: 필터본체
250: 필터하우징
300: 처리액 공급부100: chamber
200: treatment liquid tank
210: tank body
211: 1st separator
213: upper storage unit
215: lower storage unit
230: filter unit
240: filter body
250: filter housing
300: treatment liquid supply unit

Claims (8)

기판 처리에 사용된 처리액이 저장되는 처리액 탱크로서,
제1분리대를 사이에 두고 내부공간이 상측 저장부와 하측 저장부로 구획되는 탱크본체; 및
상기 탱크본체의 내부공간에 설치되며, 외부에서 제공되는 이송 압력에 의해 상기 상측 저장부에서 상기 하측 저장부로 이송되는 처리액에 포함된 이물질을 필터링하는 필터부;를 포함하며,
상기 필터부는,
상기 제1분리대에 설치되며, 처리액이 유입되는 상측 유입부는 상기 상측 저장부에 배치되고, 필터링된 처리액이 배출되는 하측 배출부는 상기 하측 저장부에 배치되는 필터본체; 및
상기 상측 저장부에 설치되며, 상기 상측 유입부의 상부를 덮도록 마련되며, 상기 상측 저장부의 처리액을 내부로 유입하여 상기 상측 유입부가 처리액에 잠기도록 하는 필터하우징;을 포함하는 것을 특징으로 하는 처리액 탱크.A processing liquid tank in which a processing liquid used for substrate processing is stored,
a tank body in which an internal space is partitioned into an upper storage part and a lower storage part with the first separator interposed therebetween; and
A filter unit installed in the inner space of the tank body and filtering foreign substances included in the treatment liquid transferred from the upper storage unit to the lower storage unit by a transfer pressure provided from the outside,
The filter part,
a filter body installed in the first separator, an upper inlet through which the treatment liquid flows in is disposed in the upper storage unit, and a lower outlet through which the filtered treatment liquid is discharged is disposed in the lower storage unit; and
A filter housing installed in the upper storage unit, provided to cover the upper portion of the upper inlet unit, and allowing the upper inlet unit to be submerged in the treatment liquid by introducing the treatment liquid of the upper storage unit into the inside. treatment liquid tank. 제1항에 있어서,
상기 필터하우징은,
상기 상측 저장부의 처리액이 내부로 유입됨에 따라 내부에 채워진 공기가 외부로 배기되도록 하는 공기배기부를 구비하는 것을 특징으로 하는 처리액 탱크.According to claim 1,
The filter housing,
and an air exhaust unit configured to exhaust air filled therein as the treatment liquid of the upper storage unit flows into the inside. 제1항에 있어서,
상기 하측 저장부는,
상기 처리액 공급부에 연결되는 일측면에서 타측면을 향해 상부방향으로 경사진 바닥면을 구비하는 것을 특징으로 하는 처리액 탱크.According to claim 1,
The lower storage part,
The treatment liquid tank characterized in that it has a bottom surface inclined upward toward the other side from one side connected to the treatment liquid supply unit. 제3항에 있어서,
상기 필터부는,
복수개가 구비되되, 상기 하측 저장부의 일측면에서 타측면을 향해 설정된 간격으로 이격하여 배치되는 것을 특징으로 하는 처리액 탱크.According to claim 3,
The filter part,
A plurality of treatment liquid tanks are provided, characterized in that they are spaced apart from one side of the lower storage unit toward the other side at a set interval. 제1항에 있어서,
상기 상측 저장부는,
상부에 상기 필터부의 유지보수를 위한 개폐 가능한 윈도우를 구비하는 것을 특징으로 하는 처리액 탱크.According to claim 1,
The upper storage unit,
A treatment liquid tank comprising an openable and openable window for maintenance of the filter unit at an upper portion thereof. 기판이 처리되는 챔버;
상기 챔버에서 기판 처리에 사용된 처리액이 저장되는 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 처리액 탱크; 및
상기 처리액 탱크에 저장된 처리액을 가압하여 상기 챔버로 공급하는 처리액 공급부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.a chamber in which a substrate is processed;
a processing liquid tank according to any one of claims 1 to 5, in which the processing liquid used for substrate processing in the chamber is stored; and
and a processing liquid supply unit pressurizing the processing liquid stored in the processing liquid tank and supplying the processing liquid to the chamber. 제6항에 있어서,
상기 챔버는,
제2분리대를 사이에 두고 내부공간이 기판 처리부와 배관 설치부로 구획되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.According to claim 6,
the chamber,
A substrate processing apparatus characterized in that the inner space is partitioned into a substrate processing unit and a pipe installation unit with a second separator interposed therebetween. 제7항에 있어서,
상기 처리액 공급부는,
상기 처리액 탱크 및 상기 챔버를 연결하는 공급배관과,
상기 공급배관에 설치되며, 상기 처리액 탱크에 저장된 처리액을 가압하여 상기 챔버로 이송하는 펌프와,
상기 공급배관에 연결된 채 상기 기판 처리부에 배치되며, 상기 기판 처리부의 기판을 향해 처리액을 분사하는 분사모듈과,
상기 공급배관에 설치되며, 상기 분사모듈로 향하는 처리액의 유량을 조절하기 위한 유량조절부를 포함하고,
상기 유량조절부를 포함한 상기 공급배관의 적어도 일부는 상기 배관 설치부에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.According to claim 7,
The treatment liquid supply unit,
A supply pipe connecting the treatment liquid tank and the chamber;
a pump installed in the supply pipe and pressurizing the treatment liquid stored in the treatment liquid tank and transporting it to the chamber;
a spraying module disposed in the substrate processing unit while being connected to the supply pipe and injecting a processing liquid toward a substrate of the substrate processing unit;
It is installed in the supply pipe and includes a flow control unit for adjusting the flow rate of the treatment liquid toward the injection module,
At least a portion of the supply pipe including the flow control unit is disposed in the pipe installation unit.
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