KR20230045830A - Roasting apparatus - Google Patents
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- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 39
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 29
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims description 39
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 23
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 24
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 21
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 6
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 4
- 241000533293 Sesbania emerus Species 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 235000010627 Phaseolus vulgaris Nutrition 0.000 description 2
- 244000046052 Phaseolus vulgaris Species 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000796 flavoring agent Substances 0.000 description 1
- 235000019634 flavors Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000003334 potential effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
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-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
- A23N—MACHINES OR APPARATUS FOR TREATING HARVESTED FRUIT, VEGETABLES OR FLOWER BULBS IN BULK, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; PEELING VEGETABLES OR FRUIT IN BULK; APPARATUS FOR PREPARING ANIMAL FEEDING- STUFFS
- A23N12/00—Machines for cleaning, blanching, drying or roasting fruits or vegetables, e.g. coffee, cocoa, nuts
- A23N12/08—Machines for cleaning, blanching, drying or roasting fruits or vegetables, e.g. coffee, cocoa, nuts for drying or roasting
- A23N12/083—Machines for cleaning, blanching, drying or roasting fruits or vegetables, e.g. coffee, cocoa, nuts for drying or roasting with stirring, vibrating or grinding devices
-
- A—HUMAN NECESSITIES
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- A23F—COFFEE; TEA; THEIR SUBSTITUTES; MANUFACTURE, PREPARATION, OR INFUSION THEREOF
- A23F5/00—Coffee; Coffee substitutes; Preparations thereof
- A23F5/04—Methods of roasting coffee
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
- A23N—MACHINES OR APPARATUS FOR TREATING HARVESTED FRUIT, VEGETABLES OR FLOWER BULBS IN BULK, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; PEELING VEGETABLES OR FRUIT IN BULK; APPARATUS FOR PREPARING ANIMAL FEEDING- STUFFS
- A23N12/00—Machines for cleaning, blanching, drying or roasting fruits or vegetables, e.g. coffee, cocoa, nuts
- A23N12/08—Machines for cleaning, blanching, drying or roasting fruits or vegetables, e.g. coffee, cocoa, nuts for drying or roasting
- A23N12/12—Auxiliary devices for roasting machines
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
- A23N—MACHINES OR APPARATUS FOR TREATING HARVESTED FRUIT, VEGETABLES OR FLOWER BULBS IN BULK, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; PEELING VEGETABLES OR FRUIT IN BULK; APPARATUS FOR PREPARING ANIMAL FEEDING- STUFFS
- A23N12/00—Machines for cleaning, blanching, drying or roasting fruits or vegetables, e.g. coffee, cocoa, nuts
- A23N12/08—Machines for cleaning, blanching, drying or roasting fruits or vegetables, e.g. coffee, cocoa, nuts for drying or roasting
- A23N12/12—Auxiliary devices for roasting machines
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Abstract
Description
본 발명은 로스팅 장치에 관한 것으로, 보다 상세히 대상물이 로스팅 챔버에서 교반되며 로스팅 되는 로스팅 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a roasting apparatus, and more particularly, to a roasting apparatus in which an object is roasted while being stirred in a roasting chamber.
최근에 커피콩과 같은 곡물을 전문 커피숍이나 가정에서 손쉽게 자동으로 볶을 수 있는 곡물 로스터 또는 커피 로스터가 소개되고 있다.Recently, a grain roaster or coffee roaster capable of easily and automatically roasting grains such as coffee beans at a professional coffee shop or at home has been introduced.
이와 같은 커피 로스터는 온도센서와 마이크로컴퓨터를 이용하여 로스팅 운전모드를 세팅하면 자동으로 커피 콩을 볶아 준다.Such a coffee roaster automatically roasts coffee beans when a roasting operation mode is set using a temperature sensor and a microcomputer.
종래의 업소용 자동 커피 로스터는 주로 수평 회전 드럼식으로 드럼을 정역 회전시켜 원두가 골고루 잘 볶아 지도록 교반하는 방식이다(등록특허 제342091호, 등록특허 제369539호, 등록특허 제463341호, 등록특허 제804106호, 등록특허 제887985호, 등록특허 제963695호, 공개특허 제2009-30655호, 공개특허 제2010-38802호).Conventional automatic coffee roasters for businesses are mainly a horizontal rotating drum type, which rotates the drum forward and backward to stir the beans so that the beans are evenly roasted (Patent No. 342091, Patent No. 369539, Patent No. 463341, Patent No. 804106 No., Patent Registration No. 887985, Patent Registration No. 963695, Patent Publication No. 2009-30655, Patent Publication No. 2010-38802).
다만, 종래의 자동 커피 로스터의 경우, 수평 회전 드럼에 직접 가스 연소 등을 한 가지 열원 만을 이용하여 가열하는 방식을 제공하고 있어, 예열 시 시간이 많이 소요되며, 다양한 로스팅 환경에 대응하지 못하는 문제점이 있다. However, in the case of a conventional automatic coffee roaster, a method of heating a horizontal rotating drum using only one heat source, such as direct gas combustion, is provided. there is.
이에, 본 발명은, 로스팅 예열 동작 시간을 감소시켜, 보다 향상된 생산성이 향상된 로스팅 장치 및 이것의 제어 방법을 제공하고자 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a roasting apparatus with improved productivity and a control method thereof by reducing roasting preheating operation time.
또한, 본 발명은 대상물의 로스팅 진행 과정을 보다 효과적으로 측정하여, 사용자가 원하는 로스팅을 할 수 있는 로스팅 장치 및 이것의 제어 방법을 제공하고자 한다.In addition, the present invention is intended to provide a roasting apparatus and a control method for roasting desired by a user by more effectively measuring the roasting progress of an object.
본 발명의 실시예의 일 측면에 따른 로스팅 장치는, 대상물을 가열하는 로스팅 장치에 있어서, 내부에서 대상물이 교반되며 상하 방향으로 연장 형성되는 원통형의 로스팅 챔버와 상기 로스팅 챔버에 수용되는 상기 대상물을 교반하기 위하여 회전되는 회전 교반부를 포함하고, 상기 회전 교반부는 수직한 방향으로 형성되는 교반축을 중심으로 회전되는 로스팅 챔버부; 상기 로스팅 챔버부에 대하여 열을 공급하며, 상기 로스팅 챔버부에 열풍을 제공하여 상기 로스팅 챔버 내부에 대류열을 제공하는 제1 열원부를 포함하는 열원부; 및 상기 열원부에 의하여 가열되는 로스팅 챔버부의 내면 또는 상기 대상물의 표면에서 발산되는 적외선에 기초하여 상기 로스팅 챔버 또는 상기 대상물의 온도를 측정하는 복사온도 측정유닛;을 포함하고, 상기 복사온도 측정유닛에서 측정된 상기 로스팅 챔버 또는 상기 대상물의 측정 온도(Tmeasure)를, 상기 로스팅 챔버의 외부 온도(Toutside)에 기초하여 보정하여 상기 로스팅 챔버 또는 상기 대상물의 실질 온도를 연산한다.In the roasting apparatus according to an aspect of an embodiment of the present invention, in the roasting apparatus for heating an object, the object is stirred inside and the cylindrical roasting chamber extending in the vertical direction and stirring the object accommodated in the roasting chamber A roasting chamber portion rotating about a stirring shaft formed in a vertical direction; a heat source unit including a first heat source unit that supplies heat to the roasting chamber unit and provides hot air to the roasting chamber unit to provide convective heat to the inside of the roasting chamber; And a radiation temperature measuring unit for measuring the temperature of the roasting chamber or the object based on infrared rays emitted from the inner surface of the roasting chamber heated by the heat source or the surface of the object; including, in the radiation temperature measuring unit The measured temperature (T measure ) of the roasting chamber or the object is corrected based on the outside temperature (T outside ) of the roasting chamber to calculate the real temperature of the roasting chamber or the object.
또한, 상기 복사온도 측정유닛은, 상기 로스팅 챔버의 상측에 배치되는 상부유닛에 배치되어 상기 로스팅 챔버의 내부 공간 측을 향할 수 있다.In addition, the radiant temperature measurement unit may be disposed on an upper unit disposed above the roasting chamber and face toward an inner space of the roasting chamber.
또한, 상기 상부유닛에는 관통 형성되어 상기 로스팅 챔버와 연통되는 측정홀이 형성되며, 상기 복사온도 측정유닛은, 적외선에 기초하여 대상물의 온도를 측정하는 센싱부와, 상기 상부유닛의 상면에 배치되며 상기 로스팅 챔버와 연통되는 몸체측 관통홀이 형성되는 측정유닛 몸체와, 상기 측정유닛 몸체의 일측에 배치되며 상기 센싱부가 실장되는 기판과, 상기 센싱부의 전방에 배치되며 기설정된 파장 대역의 광이 통과되는 필터부를 포함하고, 상기 몸체측 관통홀은 상기 측정홀과 연통되고 상기 몸체측 관통홀에 상기 센싱부가 위치되며, 상기 필터부의 일면은 상기 센싱부와 마주보며, 이면은 상기 로스팅 챔버와 직접 마주보고, 상기 필터부는 온도에 따라 방사율이 달라질 수 있다.In addition, a measuring hole is formed through the upper unit and communicates with the roasting chamber, and the radiation temperature measuring unit includes a sensing unit for measuring the temperature of an object based on infrared rays and disposed on an upper surface of the upper unit, A measurement unit body having a body-side through-hole communicating with the roasting chamber, a substrate disposed on one side of the measurement unit body and mounting the sensing unit, and a substrate disposed in front of the sensing unit through which light of a predetermined wavelength band passes. A filter unit, wherein the body-side through-hole communicates with the measuring hole and the sensing unit is located in the body-side through-hole, one surface of the filter unit facing the sensing unit, and a rear surface directly facing the roasting chamber In addition, the emissivity of the filter unit may vary depending on the temperature.
또한, 상기 기판은 상기 로스팅 챔버의 외부 공간에 배치되며, 상기 외부 공간의 온도를 측정하기 위한 외부공간 온도측정유닛을 포함하고, 상기 실질 온도(Treal)는 상기 측정 온도(Tmeasure)에서 상기 외부 온도(Toutside)에 기초한 상기 필터부의 방사율 변화를 고려하여 연산될 수 있다.In addition, the substrate is disposed in an external space of the roasting chamber and includes an external space temperature measuring unit for measuring the temperature of the external space, and the real temperature T real is the measured temperature T measure It can be calculated considering the emissivity change of the filter unit based on the external temperature (T outside ).
또한, 상기 실질 온도(Treal)와 상기 측정 온도(Tmeasure)는 이하의 관계식을 만족할 수 있다.In addition, the real temperature (T real ) and the measured temperature (T measure ) may satisfy the following relational expression.
Treal,k은 대상물의 보정된 실질 온도(절대온도 기준)T real,k is the calibrated real temperature of the object (based on absolute temperature)
Tmeasure,k은 센싱부가 측정한 대상물의 측정 온도(절대온도 기준)T measure,k is the measured temperature of the object measured by the sensing unit (based on absolute temperature)
Toutside,c는 로스팅 챔버 외부온도(섭씨온도 기준), T outside,c is the outside temperature of the roasting chamber (based on Celsius),
Toutside,k는 로스팅 챔버 외부온도(절대온도 기준),T outside,k is the outside temperature of the roasting chamber (based on absolute temperature),
E0는 섭씨 0도 일때 필터부의 방사율(Emissivity),E 0 is the emissivity of the filter unit at 0 degrees Celsius,
e는 필터부의 절대온도 1도(또는 섭씨온도 1도) 당 방사율의 변화량임e is the change in emissivity per 1 degree of absolute temperature (or 1 degree Celsius) of the filter part
또한, 외형을 형성하는 케이싱을 더 포함하고, 상기 외부 공간은 상기 케이싱과 상기 로스팅 챔버 사이에 배치될 수 있다.In addition, it may further include a casing forming an outer shape, and the outer space may be disposed between the casing and the roasting chamber.
또한, 상기 제1 열원부는, 공기가 유동되는 유동관과, 상기 유동관의 일측에 배치되며 유동되는 공기가 가열되는 가열유닛을 포함하고, 상기 복사온도 측정유닛은, 상기 로스팅 챔버의 상측에 배치되는 상부유닛에 배치되어 상기 로스팅 챔버의 내부 공간 측을 향하고, 상기 상부유닛에는 관통 형성되어 상기 로스팅 챔버와 연통되는 측정홀이 형성되며, 상기 복사온도 측정유닛은, 적외선에 기초하여 대상물의 온도를 측정하는 센싱부와, 상기 상부유닛의 상면에 배치되며 상기 로스팅 챔버와 연통되는 몸체측 관통홀이 형성되는 측정유닛 몸체와, 상기 측정유닛 몸체의 일측에 배치되며 상기 센싱부가 실장되는 기판과, 상기 센싱부의 전방에 배치되며 기설정된 파장 대역의 광이 통과되는 필터부를 포함하고, 상기 몸체측 관통홀은 상기 측정홀과 연통되고 상기 몸체측 관통홀에 상기 센싱부가 위치되며, 상기 필터부의 일면은 상기 센싱부와 마주보며, 이면은 상기 로스팅 챔버와 직접 마주보고, 상기 측정유닛 몸체에는 몸체측 관통홀이 형성되는 방향과 교차되는 방향으로 벤틸레이션 홀이 형성되며, 상기 몸체측 관통홀과 상기 벤틸레이션 홀은 상호 교차되며, 일측은 상기 유동관과 연통되며 타측은 상기 벤틸레이션 홀과 연통되는 벤틸레이션부를 더 포함하고, 상기 벤틸레이션부를 통하여 상기 벤틸레이션 홀 측으로 유입되는 공기 유동은 상기 필터부의 이면 측으로 형성될 수 있다.In addition, the first heat source unit includes a flow pipe through which air flows, and a heating unit disposed on one side of the flow pipe to heat the flowing air, and the radiation temperature measuring unit includes an upper portion disposed above the roasting chamber. It is disposed in a unit and faces the inner space of the roasting chamber, and a measuring hole is formed through the upper unit to communicate with the roasting chamber, and the radiation temperature measuring unit measures the temperature of the object based on infrared rays A sensing unit, a measuring unit body disposed on an upper surface of the upper unit and having a body-side through hole communicating with the roasting chamber, a substrate disposed on one side of the measuring unit body and mounting the sensing unit, and the sensing unit A filter unit disposed on the front side and through which light of a predetermined wavelength band passes, wherein the body-side through-hole communicates with the measurement hole and the sensing unit is positioned in the body-side through-hole, and one surface of the filter unit is provided with the sensing unit. facing, the back side directly faces the roasting chamber, and a ventilation hole is formed in the body of the measuring unit in a direction crossing the direction in which the body-side through-hole is formed, and the body-side through-hole and the ventilation hole are They intersect with each other, and further include a ventilation unit, one side of which communicates with the flow pipe and the other side of which communicates with the ventilation hole. there is.
또한, 상기 벤틸레이션부는, 일측은 상기 유동관과 연통되는 파이프 유닛과, 일측은 상기 파이프 유닛의 타측과 연결되며 타측은 상기 벤틸레이션 홀에 접속되는 플러그 유닛을 포함하고, 상기 플러그 유닛은 절곡된 형상으로 형성되며, 상기 플러그 유닛의 타측에는 상기 벤틸레이션 홀에 삽입되는 플러그부가 형성될 수 있다.In addition, the ventilation unit includes a pipe unit having one side in communication with the flow pipe, and a plug unit having one side connected to the other side of the pipe unit and the other side connected to the ventilation hole, and the plug unit has a bent shape. , and a plug portion inserted into the ventilation hole may be formed on the other side of the plug unit.
또한, 상기 벤틸레이션 홀은, 상기 측정유닛 몸체의 일측 및 타측을 완전하게 관통하며, 상기 벤틸레이션 홀의 타측에는 외부에 대하여 상기 벤틸레이션홀을 차폐시키기 위한 차폐수단이 설치될 수 있다.In addition, the ventilation hole completely penetrates one side and the other side of the body of the measurement unit, and a shielding means for shielding the ventilation hole from the outside may be installed on the other side of the ventilation hole.
또한, 상기 상부유닛의 하면에는 상기 측정홀을 둘러싸며 하방을 향하여 돌출 형성되는 원통형상의 가이드부가 형성되며, 상기 가이드부는 상기 측정홀과 정렬될 수 있다.In addition, a cylindrical guide portion surrounding the measurement hole and protruding downward is formed on a lower surface of the upper unit, and the guide portion may be aligned with the measurement hole.
제안되는 실시예에 의하면, 로스팅 예열 동작 시간을 감소시켜, 보다 향상된 생산성이 향상된 로스팅 장치 및 이것의 제어 방법을 제공될 수 있다.According to the proposed embodiment, it is possible to provide a roasting apparatus with improved productivity and a control method thereof by reducing roasting preheating operation time.
또한, 대상물의 로스팅 진행 과정을 보다 효과적으로 측정하여, 사용자가 원하는 로스팅을 할 수 있다.In addition, by more effectively measuring the roasting progress of the object, the roasting desired by the user can be performed.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 로스팅 장치를 보여주는 도면이다.
도 2는, 도 1의 로스팅 장치의 내부 구성이 투영된 상태를 보여주는 도면이다.
도 3은 도 1의 로스팅 장치의 로스팅 챔버부의 구성을 보여주는 도면이다.
도 4는 도 3의 로스팅 챔버부를 상측에서 바라본 상태를 보여주는 도면이다.
도 5는 도 3의 로스팅 챔버부에서 제3 열원부가 제거된 상태를 보여주는 도면이다.
도 6는 도 3의 로스팅 챔버부의 상부유닛을 보여주는 도면이다.
도 7은 도 3의 로스팅 챔버부의 단면을 보여주는 도면이다.
도 8은 도 1의 로스팅 장치의 제1 온도 감지 유닛이 분해된 상태를 보여주는 도면이다.
도 9는 도 8의 제1 온도 감지 유닛의 단면을 보여주는 도면이다.
도 10은 도 1의 로스팅 장치의 제어방법을 보여주는 도면이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 로스팅 장치의 내부 구성을 보여주는 도면이다.
도 12는, 도 11의 복사온도 측정유닛의 단면을 보여주는 도면이다.
도 13은, 도 11의 복사온도 측정유닛의 구성을 보여주는 도면이다.1 is a view showing a roasting apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a view showing a projected state of the internal configuration of the roasting apparatus of FIG. 1 .
3 is a view showing the configuration of a roasting chamber of the roasting apparatus of FIG. 1;
4 is a view showing a state of the roasting chamber of FIG. 3 viewed from above.
5 is a view showing a state in which the third heat source unit is removed from the roasting chamber unit of FIG. 3 .
6 is a view showing an upper unit of the roasting chamber of FIG. 3;
7 is a view showing a cross section of the roasting chamber of FIG. 3 .
8 is a view showing a state in which the first temperature sensing unit of the roasting apparatus of FIG. 1 is disassembled.
FIG. 9 is a cross-sectional view of the first temperature sensing unit of FIG. 8 .
10 is a view showing a control method of the roasting apparatus of FIG. 1 .
11 is a view showing the internal configuration of a roasting apparatus according to another embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a cross-sectional view of the radiation temperature measuring unit of FIG. 11 .
13 is a diagram showing the configuration of the radiation temperature measuring unit of FIG. 11;
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention, and methods of achieving them, will become clear with reference to the detailed description of the following embodiments taken in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below and will be implemented in various forms different from each other, only these embodiments make the disclosure of the present invention complete, and common knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to completely inform the person who has the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.
비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.Although first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms, of course. These terms are only used to distinguish one component from another. Therefore, of course, the first component mentioned below may also be the second component within the technical spirit of the present invention.
명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Like reference numbers designate like elements throughout the specification.
본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하며, 당업자가 충분히 이해할 수 있듯이 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시 가능할 수도 있다.Each feature of the various embodiments of the present invention can be partially or entirely combined or combined with each other, and as those skilled in the art can fully understand, various interlocking and driving operations are possible, and each embodiment can be implemented independently of each other. It may be possible to implement together in an association relationship.
한편, 본 발명의 명세서에서 구체적으로 언급되지 않은 본 발명의 기술적 특징에 의해 기대될 수 있는 잠정적인 효과는 본 명세서에 기재된 것과 같이 취급되며, 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공된 것인바, 도면에 도시된 내용은 실제 발명의 구현모습에 비해 과장되어 표현될 수 있으며, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 구성의 상세한 설명은 생략하거나 간략하게 기재한다.On the other hand, the potential effects that can be expected by the technical features of the present invention that are not specifically mentioned in the specification of the present invention are treated as described in the present specification, and this embodiment is intended for those with average knowledge in the art. It is provided to more completely explain the present invention, the contents shown in the drawings may be exaggerated compared to the actual implementation of the invention, and the detailed description of the configuration that is determined to unnecessarily obscure the gist of the present invention omitted or briefly described.
이하에서는 첨부되는 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 로스팅 장치를 보여주는 도면이며, 도 2는, 도 1의 로스팅 장치의 내부 구성이 투영된 상태를 보여주는 도면이다. 도 3은 도 1의 로스팅 장치의 로스팅 챔버부의 구성을 보여주는 도면이며, 도 4는 도 3의 로스팅 챔버부를 상측에서 바라본 상태를 보여주는 도면이다. 그리고, 도 5는 도 3의 로스팅 챔버부에서 제3 열원부가 제거된 상태를 보여주는 도면이다. 도 6는 도 3의 로스팅 챔버부의 상부유닛을 보여주는 도면이며, 도 7은 도 3의 로스팅 챔버부의 단면을 보여주는 도면이다. 도 2에서는 로스팅 장치(1)의 외형을 형성하는 케이싱(190)이 설치된 상태에서, 케이싱(190)이 반투명하게 투사되어 로스팅 장치(1)의 내부 구성이 외부로 투영되는 상태를 나타낸다.1 is a view showing a roasting apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a view showing a state in which the internal configuration of the roasting apparatus of FIG. 1 is projected. 3 is a view showing the configuration of the roasting chamber of the roasting apparatus of FIG. 1, and FIG. 4 is a view showing a state of the roasting chamber of FIG. 3 viewed from above. And, FIG. 5 is a view showing a state in which the third heat source unit is removed from the roasting chamber unit of FIG. 3 . 6 is a view showing an upper unit of the roasting chamber part of FIG. 3, and FIG. 7 is a view showing a cross-section of the roasting chamber part of FIG. 2 shows a state in which the
도 1 내지 도 7을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 로스팅 장치(1)는, 커피 원두 등과 같은 대상물을 가열하여 대상물이 로스팅 되도록 하는 장치로서, 대상물이 수용되어 로스팅되는 로스팅 챔버부(100)와, 대상물의 로스팅 상황 등에 대한 정보를 표시하며 사용자로부터 조작신호를 입력받는 조작패널부(200)와, 로스팅 챔버부(100)에서 로스팅이 완료된 대상물이 저장되는 대상물 저장부(400)와, 로스팅 챔버부(100)에 대하여 열을 공급하는 열원부(310, 320, 330)를 포함하며, 로스팅 챔버부(100)는 금속재질로 형성되는 케이싱(190)에 의하여 둘러싸인다.1 to 7, the
보다 상세히, 로스팅 챔버부(100)은 내부 공간(121)에서 상기 대상물이 교반되며 상하 방향으로 연장 형성되는 원통형의 로스팅 챔버(120)와, 로스팅 챔버(120)에 수용되는 상기 대상물을 교반하기 위하여 회전되는 교반 날개 유닛(181)들을 포함하는 회전 교반부(180)와, 로스팅 챔버(120)의 상측에 배치되며 원형으로 형성되는 상부유닛(110)과, 로스팅 챔버(120)의 하측에 배치되며 원형으로 형성되는 하부유닛(130)과, 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)과 연통되며 선택적으로 개방되어 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)에서 로스팅이 완료된 대상물이 외부로 배출되도록 하는 배출 유닛(150)을 포함한다.In more detail, the
로스팅 챔버(120)는 수직한 방향으로 연장 형성되는 원통 형상으로 형성될 수 있으며, 로스팅 챔버(120)의 내면에는 상기 대상물의 교반이 보다 원활하게 수행되도록 하기 위한 고정 날개(122)가 형성될 수 있다. 고정 날개(122)는 로스팅 챔버(120)의 내면에서 돌출 형성되며, 고정 날개(122)의 돌출 높이는 로스팅 챔버(120)의 하부에서 상부 측으로 갈수록 커지는 형상으로 형성된다.The roasting
배출 유닛(150)은, 제어부(미도시)의 조작 신호에 의하여 개방 또는 폐쇄되는 도어부(미도시)와, 상기 제어부의 제어신호와 관계없이 긴급한 상황에 사용자가 상기 도어부를 강제 개방하기 위한 레버부(미도시)를 포함할 수 있다. 배출 유닛(150)은 대상물 저장부(400) 측으로 기울어지게 연장 형성되어, 배출 유닛(150)의 상기 도어부가 개방되는 경우, 로스팅된 상기 대상물들이 대상물 저장부(400) 측으로 공급되도록 할 수 있다.The
그리고, 회전 교반부(180)의 교반 날개 유닛(181)들은 수직한 방향으로 형성되는 교반축을 중심으로 회전된다. 따라서, 본 실시예에 따른 로스팅 챔버부(100)는 수직한 방향으로 연장 형성된 상태에서, 수직한 방향으로 형성되는 교반축을 중심으로 회전 교반부(180)의 교반 날개 유닛(181)들이 회전되어, 대상물을 교반함으로써, 대상물의 로스팅이 보다 효율적으로 수행되며 로스팅 장치(1)를 보다 효율적으로 배치시킬 수 있는 장점이 있다. Then, the
한편, 열원부(310, 320, 330)는, 로스팅 챔버(120)에 열풍(Hot air flow)을 제공하여, 로스팅 챔버(120) 내부에 대류열을 제공하는 제1 열원부(310)와, 로스팅 챔버(120)의 표면에 접촉되며 전도 방식으로 로스팅 챔버(120)에 전도열을 제공하는 제3 열원부(320)와, 로스팅 챔버(120) 내부에 복사열을 제공하는 제3 열원부(320)를 포함한다.On the other hand, the
제1 열원부(310)는, 공기가 유동되는 유동관(311)과, 유동관(311)의 일측에 배치되며 유동되는 공기가 가열되는 가열유닛(312)을 포함한다. 유동관(311)은 공기를 공급하기 위한 블로우 유닛(313)과 연결되어 공기가 공급되며, 가열유닛(312) 및 유동관(311)의 일측은 상부유닛(110)과 연결된다. 예시적으로 가열유닛(312)은 복수의 가열 소자들이 메쉬(Mesh) 또는 코일(Coil) 형태로 배치되며 상기 가열소자들을 공기가 통과하면서 가열된다.The first
제2 열원부(330)는, 로스팅 챔버(120)의 외주면과 접촉된 상태에서 상기 외주면을 둘러싸는 제2 열원부 몸체를 포함하고, 상기 제2 열원부 몸체는 세라믹 재질로 형성되는 밴드 히터(Band Heater)일 수 있다. The second
한편, 로스팅 챔버(120)에는, 외부와 연통되는 적어도 하나의 로스팅 챔버측 관통홀이 형성되며, 상기 제2 열원부 몸체에는 상기 로스팅 챔버측 관통홀에 대응되는 위치에 형성되는 제2 열원부 몸체측 관통홀이 형성된다.Meanwhile, in the
예시적으로 로스팅 장치(1)는 로스팅 과정에서 샘플을 채취할 수 있는 샘플 채취 유닛(161)과, 로스팅 챔버(120) 내에서의 로스팅 과정을 시각적으로 확인할 수 있는 윈도우 유닛(162)을 더 포함하며 샘플 채취 유닛(161) 및 윈도우 유닛(162)은 상기 로스팅 챔버측 관통홀 및 상기 제2 열원부 몸체측 관통홀에 설치된다. 한편, 로스팅 챔버(120)의 상측에는 로스팅 챔버(120)의 내부 공간과 연통되는 공기 배출구(163)가 형성되며, 공기 배출구(163) 측에는 제2 열원부(330)가 배치되지 않는 다. 즉 로스팅 챔버(120)의 외주면의 일부 높이까지만 제2 열원부(330)가 설치되며, 제2 열원부(330)가 설치된 높이까지가 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)에 수용되는 대상물의 수용 한계선으로 규정될 수 있다. Illustratively, the
로스팅 과정에서 대상물로부터 발생되는 분진(껍질 등)은 공기 배출구(163)를 통하여 집진유닛(600)으로 전달되며, 집진유닛(600)은, 공기는 외부로 배출되도록 하며 상기 분진은 내부의 분진 저장소(미도시)에 저장되도록 한다.Dust (shells, etc.) generated from the object during the roasting process is transferred to the
제3 열원부(320)는, 복사열을 발산하는 램프유닛(321)을 포함하고, 상부유닛(110)에 설치되어 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)로 복사열을 제공할 수 있다. 예시적으로 램프유닛(321)은 할로겐 램프일 수 있다.The third
한편, 상부유닛(110)은 원형으로 형성되는 상부유닛 몸체(111)를 포함하고, 상부유닛 몸체(111)에는 제1 열원부(310)의 가열유닛(312)이 고정되며 가열된 공기가 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)으로 유동되도록 하는 제1 열원 배치홀(113)과, 제3 열원부(320)의 램프유닛(321)이 고정되어 램프유닛(321)에서 발산되는 상기 복사열이 상기 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)으로 전달되도록 하는 제3 열원 배치홀(114)과, 로스팅 장치(1)의 호퍼 유닛(170)과 연결되어 대상물이 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)으로 투입되도록 하는 대상물 공급홀(112)이 형성된다. 또한, 상부유닛(110)의 하측에는 제1 열원부(310)로부터 공급되는 열풍을 가이드하기 위한 하방으로 갈수록 직경이 증가되는 디퓨저부(118)가 형성된다. 디퓨저부(118)는 상부유닛(110)의 하면에서 로스팅 챔버(120)의 하측에 배치되는 회전 교반부(180)측까지 연장 형성되며, 회전 교반부(180)의 교반 날개 유닛(181)에는 디퓨저부(118)와의 간섭을 회피하기 위한 함몰홈(미도시)이 형성될 수 있다.On the other hand, the
이때, 제3 열원부(320)의 램프 유닛(331) 및 제3 열원 배치홀(114)은 한 쌍으로 마련되고, 한 쌍의 제3 열원 배치홀(114) 사이에 제1 열원 배치홀(113)이 배치된다. 그리고, 상부유닛 몸체(111)의 중앙에 배치되는 제1 열원 배치홀(113)은 원형으로 형성되며, 제3 열원 배치홀(114)은 직사각형 형상으로 형성된다. 한편, 본 실시예에 따른 상부유닛 몸체(111)에는 제3 열원 배치홀(114)을 둘러싸며, 하방을 향하여 연장 형성되는 제3 열원 가이드부(119)가 형성되며, 제3 열원 가이드부(119)의 단면은 제3 열원 배치홀(114)에 대응되는 직사각형 형상으로 형성된다. 제3 열원 가이드부(119)에 의하여, 로스팅 챔버(120)의 로스팅 과정에서 상기 대상물에서 발생되는 분진이 제3 열원(320)의 램프유닛(321)의 표면을 오염시키는 것을 방지할 수 있다.At this time, the
한편, 본 실시예에 따른 로스팅 장치(1)는, 로스팅 챔버(120)에 공급되는 열원부(310, 320, 330)들의 열원 공급 온도를 측정하기 위한 측정유닛(510, 520, 530, 540)들을 더 포함한다.On the other hand, the
복사온도 측정유닛(510)은, 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)에 수용되는 대상물의 복사 온도를 측정하며, 로스팅 챔버(120)의 상측에 배치되는 상부유닛(110)에 배치되어 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121) 측을 향한다 이때, 상부유닛 몸체(111)에는 상하방향으로 관통되는 측정홀(115)이 형성된다. 측정홀(115)은 상부유닛 몸체(111)의 중심에서 편심된 위치에 위치된다. 본 실시예에 따른 복사온도측정유닛(510)은 로스팅 과정에서 대상물의 온도 변화를 대상물의 표면에서 발산되는 적외선을 감지한다. 따라서 로스팅 챔버(120) 내부의 온도 변화만을 감지하는 기존의 로스팅 장치에 비하여, 본 발명의 실시예에 따른 로스팅 장치(1)는 대상물의 온도를 정확하게 감지하고 사용자가 의도하는 로스팅을 정확하게 수행할 수 있는 장점이 있다. 상기 대상물이 로스팅 챔버(120)의 내부에 투입되기 전에 로스팅 챔버(120)를 예열하는 예열 동작을 수행하는 과정에서, 복사온도 측정유닛(510)은 로스팅 챔버(120)의 바닥면을 형성하는 하부 유닛(130)의 표면 온도를 감지할 수 있다.The radiation
한편, 본 실시예에 따른 복사온도 측정유닛(510)의 설치 위치에 대하여 이하와 같이 다수의 실험을 진행하였으며, 본 실시예에서는 복사온도 측정유닛(510)의 최적의 설치위치인 상부유닛(110) 측에서 하방을 바라보는 방향, 즉 상부유닛(110) 측에서 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)을 향하는 방향을 바라보도록 설치하였다.On the other hand, a number of experiments were conducted as follows with respect to the installation position of the radiation
(대상물)measurement accuracy
(quid pro quo)
(챔버)measurement accuracy
(chamber)
이하에서는 본 실시예에 따른 복사온도 측정 유닛(510)을 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the radiation
도 8은 도 1의 로스팅 장치의 제1 온도 감지 유닛이 분해된 상태를 보여주는 도면이며, 도 9는 도 8의 제1 온도 감지 유닛의 단면을 보여주는 도면이다.FIG. 8 is a view showing a disassembled state of the first temperature sensing unit of the roasting apparatus of FIG. 1 , and FIG. 9 is a cross-sectional view of the first temperature sensing unit of FIG. 8 .
도 8 및 도 9를 참조하면, 복사온도 측정유닛(510)은, 온도를 측정하기 위한 센싱부(511)와, 센싱부(511)의 전방에 배치되며 기설정된 파장 대역의 광이 통과되는 필터부(514)와, 로스팅 부(100)의 상부유닛 몸체(111)에 고정되며 내부에 제1 관통홀(519)이 형성되는 제1 브래킷(513)과, 일측이 제1 브래킷(513)에 접촉되어 고정되며 센싱부(511)가 끼워지고 제1 관통홀(519)과 정렬되는 제2 관통홀(526)이 형성되는 제2 브래킷(521)과, 센싱부(511)가 실장되며 제2 브래킷(521)의 타측에 고정되는 기판(512)을 포함한다.Referring to FIGS. 8 and 9 , the radiation
이때, 센싱부(511), 제1 관통홀(519), 제2 관통홀(526) 및 필터부(514)는 상부유닛(110)의 측정홀(115)과 정렬되며, 제1 브래킷(513)과 제2 브래킷(521) 사이에는 필터부(514)가 설치된다.At this time, the
센싱부(511)는 대상물로부터 방사되는 적외선을 센싱하며, 원통형상으로 형성되며, 측정홀(115)의 관통 방향과 동일한 방향으로 연장 형성된다. 센싱부(511)는 예시적으로 IR 센서 일 수 있다.The
필터부(514)는, 예시적으로 유리, 실리콘 등과 같이 투명하며, 열에 대한 변형이 적은 재질로 형성될 수 있으며, 로스팅 챔버(120)에서 센싱부(511) 측으로 전달되는 광 중, 적외선 대역만을 통과시킨다.The
한편, 제1 브래킷(513)은, 제1 브래킷(513)의 외형을 형성하며 중앙에 제1 관통홀(519)이 배치되는 제1 브래킷 몸체(515)와, 제1 브래킷 몸체(515)의 일측에서 상방을 향하여 돌출 형성되는 한 쌍의 돌출부(518)를 포함하고, 돌출부(518) 사이에는 함몰공간(517)이 되며, 제1 브래킷 몸체(515)의 하측에는 상부유닛 몸체(111)에 체결되는 제1 체결부재(630)가 관통되는 한 쌍의 제1 브래킷 고정부(516)가 돌출 형성된다.Meanwhile, the
제2 브래킷(521)은, 제2 브래킷(521)의 외형을 형성하는 제2 브래킷 몸체(522)와, 제2 브래킷 몸체(522)의 일측에 형성되며 제1 브래킷(513)의 함몰공간에 끼워지는 삽입부(523)와, 제2 브래킷(521)의 상면에 배치되며 기판(512)이 안착되는 기판 안착면(524)과, 기판 안착면(524)의 테두리에 상방을 향하여 돌출 형성되어 기판(512)의 일측 및 타측이 걸리는 한 쌍의 기판고정돌기(525)를 포함한다.The
필터부(514)는 함몰공간(517)에 배치되는 제1 관통홀(519)에 정렬된 상태에서, 제1 브래킷(513)의 함몰공간(517)과 제2 브래킷(521)의 삽입부(523) 사이에 밀착되며, 제1 브래킷(513) 및 제2 브래킷(521)은 제1 브래킷(513)의 함몰공간(517)에 제2 브래킷(521)의 삽입부(523)가 삽입된 상태에서 제1 브래킷(513)의 돌출부(518)와 제2 브래킷(521)의 삽입부(523)을 일체로 관통하는 제2 체결부재(620)에 의하여 상호 고정될 수 있다. 즉, 필터부(514)가 제1 관통홀(519)을 밀폐한 상태에서, 필터부(514)를 사이에 두고 제1 브래킷(513) 및 제2 브래킷(521)이 상호 간에 견고하게 고정됨으로써, 로스팅 챔버(120)의 측정홀(115)과 연통되는 제1 관통홀(519)을 통하여 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)의 이물질이 복사온도 측정유닛(510) 측 및 바깥쪽으로 침입하는 것을 방지할 수 있다. 한편, 필터부(514)와 제1 브래킷(513) 사이 및 필터부(514)와 제2 브래킷(521) 사이 중 적어도 하나에는 고무 또는 실리콘 재질 탄성부재(미도시)가 배치되어, 사이 공간을 견고하게 실링하며, 필터부(514)의 파손을 억제할 수 있다.The
한편, 센싱부(511)는, 제2 브래킷(521)의 제2 관통홀(526)에 끼워지며, 기판(512)이 안착면(524)에 안착된 상태에서, 제3 체결부재(610)가 기판(512)을 관통하여 제2 브래킷(521)의 체결홀(527)에 고정되어, 기판(512)과 제2 브래킷(521)의 고정을 견고하게 수행할 수 있다.On the other hand, the
기판(512)은 판상형으로 형성되는 PCB일 수 있으며, 기판(512)에는 기판(512)이 설치된 위치, 즉 로스팅 챔버(120)에 인접한 로스팅 챔버(120)의 외부 온도를 측정할 수 있는 로스팅챔버 외부온도 측정소자(미도시)가 구비된다. 즉, 본 실시예에 따른 복사온도 측정유닛(510)은, 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)의 복사온도 및 로스팅 챔버(120)의 외부 공간의 온도를 측정할 수 있다. The
그리고, 상부유닛(110)의 하면에는 측정홀(115)을 둘러싸며 하방을 향하여 돌출 형성되는 원통형상의 가이드부(116)가 형성되며, 가이드부(116)는 측정홀(115)과 정렬된다. 즉, 측정홀(115)을 둘러싸는 가이드부(116)가 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121) 측으로 돌출 형성됨에 따라 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)에서, 로스팅 과정에서 발생되는 분진 등이 측정홀(115) 측으로 유입되어 필터부(514)의 표면을 오염시키는 것을 억제할 수 있다. 센싱부(511)는 가이드부(116)에 둘러싸인 측정홀(115)을 통하여 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)에 대하여 측정을 위한 광을 조사하거나 상기 대상물로부터 발산되는 광을 수광할 수 있다. In addition, a
다시, 도 3 내지 도 7을 참조하면, 본 실시예에 따른 로스팅 장치(1)의 측정유닛(510, 530, 540, 550)는, 제1 열원부(310)에 의하여 로스팅 챔버(120)에 공급되는 열풍의 유동 경로 상에 배치되어 상기 열풍의 대류온도를 측정하기 위한 대류온도 측정유닛(530)와, 전도온도 측정프로브(541)가 제2 열원부(330)와 로스팅 챔버(120)의 외주면 사이에 배치되어 제2 열원부(330)의 전도 온도를 측정하는 전도온도 측정유닛(540)와, 로스팅 챔버(120)의 하부 측에 설치되며 로스팅 과정 중에서 상기 대상물과 직접 접촉되어 상기 대상물의 온도를 측정하는 접촉온도 측정유닛(550)를 더 포함한다.3 to 7 again, the measuring
이때, 대류온도 측정유닛(530)의 대류온도 측정프로브(531)는 로스팅 챔버(120)의 측면 및 디퓨저부(118)을 관통하며, 대류온도 측정프로브(531)의 팁 부분은 가열유닛(312)의 하류 측에 위치되어 가열유닛(312)을 통과한 상기 열풍의 온도를 측정할 수 있다.At this time, the convection
그리고, 전도온도 측정유닛(530)의 전도온도 측정프로브(541)는 제2 열원부(330)와 로스팅 챔버(120) 사이에 배치된 상태에서 제2 열원부 몸체(331)의 내면과 로스팅 챔버(120)의 상기 외주면에 동시에 접촉된다. 이때, 전도온도 측정유닛(540)의 전도온도 측정프로브(541)는, 상기 로스팅 챔버측 관통홀 및 상기 제2 열원부 몸체측 관통홀과 가장 이격된 위치에 배치된다. 즉, 상기 로스팅 챔버측 관통홀 및 상기 제2 열원부 몸체측 관통홀은 외부와 연통되며, 해당 위치에는 제2 열원부(330)의 가열소자가 배치되지 않기 때문에 상대적으로 측정온도가 높게 형성되는 상기 로스팅 챔버측 관통홀 및 상기 제2 열원부 몸체측 관통홀과 가장 이격된 위치에 전도온도 측정유닛(540)의 전도온도 측정프로브(541)가 배치되어 가장 높은 온도를 기준으로 전도온도를 측정한다.In addition, the conduction
이하에서는 본 실시예에 따른 로스팅 장치의 제어 방법, 특히 예열 동작에 대한 제어방법을 상세하게 설명한다.Hereinafter, a method of controlling the roasting apparatus according to the present embodiment, particularly a method of controlling a preheating operation, will be described in detail.
도 10은 도 1의 로스팅 장치의 제어방법을 보여주는 도면이다.10 is a view showing a control method of the roasting apparatus of FIG. 1 .
도 10을 참조하면, 본 실시예에 따른 로스팅 장치(1)에 대상물을 투입하여 로스팅 하기 전에 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)의 온도를 원하는 수준의 예열온도로 상승시키는 예열 동작이 수행된다. 본 실시예에 따른 로스팅 장치(1)는 3가지 열원을 복합적으로 사용하여, 상기 예열 동작을 수행함으로써, 보다 신속하게 원하는 예열온도로 내부 공간(121)의 온도를 상승시킬 수 있는 장점이 있다. 또한 본 실시예에 따른 로스팅 장치(1)는 상기 예열 동작이 종료된 이후, 사용자의 취향에 따라 3가지 열원을 서로 다르게 제어하여, 사용자가 원하는 풍미의 로스팅이 이루어질 수 있도록 한다.Referring to FIG. 10, a preheating operation of raising the temperature of the
먼저, 제1 열원부가 로스팅 챔버의 내부 공간에 열풍을 제공하는 제1 열원 예열 동작 단계(S110)가 수행된다.First, a first heat source preheating operation step S110 is performed in which the first heat source provides hot air to the inner space of the roasting chamber.
그 다음, 제1 열원 예열 동작 단계(S110)에서, 측정된 제1 예열 온도(T1)가 제1 기준 온도 이상(Tref1)인 경우(S120), 제1 열원부(310)가, 제1 예열 온도(T1)가 제1 기준 온도(Tref1)로 유지되도록 대류열을 제공하는 제1 열원 온도 유지 동작 단계(S130)가 수행된다. 이때, 본 실시예에 따른 제1 예열 온도(T1)는 대류온도 측정유닛(530)이 측정하는 열풍의 대류온도일 수 있으며, 제1 열원 온도 유지 동작 단계(S130)에서는 제1 열원 예열 동작 단계(S110)보다 낮은 수준의 전력이 제1 열원부(310)에 공급된다.Then, in the first heat source preheating operation step (S110), when the measured first preheating temperature (T 1 ) is equal to or greater than the first reference temperature (T ref1 ) (S120), the first
그리고, 측정된 제1 예열 온도(T1)가 제1 기준 온도(Tref1) 보다 작은 경우(S120), 제1 열원 예열 동작 단계(S110)가 반복 수행된다.Then, when the measured first preheating temperature T 1 is smaller than the first reference temperature T ref1 ( S120 ), the first heat source preheating operation step S110 is repeatedly performed.
그 다음, 제2 열원부(330)가 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)에 전도열을 제공하는 제2 열원 예열 동작 단계(S130)가 수행된다.Then, a second heat source preheating operation step ( S130 ) is performed in which the second
제2 열원 예열 동작 단계(S130)에서, 측정된 제2 예열 온도(T2)가 제2 기준 온도(Tref2) 이상인 경우(S150), 제2 열원부(330)가, 제2 예열 온도(T2)가 제2 기준 온도(Tref2)로 유지되도록, 전도열을 제공하는 제2 열원 온도 유지 동작 단계(S160)가 수행된다(S160). 이때, 본 실시예에 따른 제2 예열 온도(T2)는 전도온도 측정유닛(540)이 측정하는 제2 열원부(330)의 전도 온도일 수 있으며, 제2 열원 온도 유지 동작 단계(S160)에서는 제2 열원 예열 동작 단계(S140)보다 낮은 수준의 전력이 제2 열원부(330)에 공급된다.In the second heat source preheating operation step (S130), when the measured second preheating temperature (T 2 ) is greater than or equal to the second reference temperature (T ref2 ) (S150), the second
그리고, 측정된 제2 예열 온도(T2)가 제2 기준 온도(Tref2) 보다 작은 경우(S150), 제2 열원 예열 동작 단계(S140)가 반복 수행된다.Then, when the measured second preheating temperature (T 2 ) is smaller than the second reference temperature (T ref2 ) (S150), the second heat source preheating operation step (S140) is repeatedly performed.
그 다음, 제3 열원부(320)가 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)에 복사열을 제공하는 제3 열원 예열 동작 단계(S170)가 수행된다.Then, a third heat source preheating operation step S170 in which the third
제3 열원 예열 동작 단계(S170)에서, 측정된 제3 예열 온도(T3)가 제3 기준 온도 이상(Tref3)인 경우(S190), 제3 열원부(320)가, 제3 예열 온도(T3)가 제3 기준 온도(Tref3)로 유지되도록 복사열을 제공하는 제3 열원 온도 유지 동작 단계(S190)가 수행된다. 이때, 본 실시예에 따른 제3 예열 온도(T3)는 복사온도 측정유닛(510)이 측정하는 로스팅 챔버(120)의 내보 공간(121)의 복사 온도일 수 있으며, 제3 열원 온도 유지 동작 단계(S190)에서는 제3 열원 예열 동작 단계(S170)보다 낮은 수준의 전력이 제3 열원부(320)에 공급된다.In the third heat source preheating operation step (S170), when the measured third preheating temperature (T 3 ) is greater than or equal to the third reference temperature (T ref3 ) (S190), the third
그리고, 측정된 제3 예열 온도(T3)가 제3 기준 온도(Tref3) 보다 작은 경우(S180), 제3 열원 예열 동작 단계(S170)가 반복 수행된다.And, when the measured third preheating temperature (T 3 ) is smaller than the third reference temperature (T ref3 ) (S180), the third heat source preheating operation step (S170) is repeatedly performed.
그 다음, 로스팅 챔버(120)의 외부의 측정 온도인 제4 예열 온도(T4)가 제4 기준 온도(Tref4)로 상승된 경우(S200), 예열 동작을 종료한다. Next, when the fourth preheating temperature T 4 , which is the measured temperature outside the roasting
그리고, 측정된 제4 예열 온도(T4)가 제4 기준 온도(Tref4) 보다 작은 경우(S200), 제3 열원 온도 유지 동작(S190)가 반복 수행된다. 이때, 제1 열원 온도 유지 동작 단계(S130) 및 제2 열원 온도 유지 동작 단계(S160)도 계속 수행된다.Then, when the measured fourth preheating temperature (T 4 ) is smaller than the fourth reference temperature (T ref4 ) (S200), the third heat source temperature maintaining operation (S190) is repeatedly performed. At this time, the operation of maintaining the temperature of the first heat source (S130) and the operation of maintaining the temperature of the second heat source (S160) are continuously performed.
즉, 본 실시예에 따른 제1 예열 온도(T1), 제2 예열 온도(T2), 제3 예열 온도(T3) 및 제4 예열 온도(T4)의 측정위치는 서로 다르게 형성되며, 제1 예열 온도(T1), 제2 예열 온도(T2) 및 제3 예열 온도(T3)는 제1 열원부(310), 제2 열원부(330) 및 제3 열원부(320)로부터 전달되는 열의 대류온도, 전도온도 및 복사온도이며, 제4 예열 온도(T4)는 로스팅 챔버(120)에 인접된 외부 공간의 온도로서 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)의 온도를 추정할 수 있는 온도이다.That is, the measurement positions of the first preheating temperature (T 1 ), the second preheating temperature (T 2 ), the third preheating temperature (T 3 ) and the fourth preheating temperature (T 4 ) according to the present embodiment are formed differently from each other. , the first preheating temperature (T 1 ), the second preheating temperature (T 2 ) and the third preheating temperature (T 3 ) are the first
제안되는 실시예에 의하면, 로스팅 예열 동작 시간을 감소시켜, 보다 향상된 생산성이 향상된 로스팅 장치 및 이것의 제어 방법을 제공될 수 있다.According to the proposed embodiment, it is possible to provide a roasting apparatus with improved productivity and a control method thereof by reducing roasting preheating operation time.
또한, 대상물의 로스팅 진행 과정을 보다 효과적으로 측정하여, 사용자가 원하는 로스팅을 할 수 있다.In addition, by more effectively measuring the roasting progress of the object, the roasting desired by the user can be performed.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 로스팅 장치의 내부 구성을 보여주는 도면이다. 그리고, 도 12는, 도 11의 복사온도 측정유닛의 단면을 보여주는 도면이며, 도 13은, 도 11의 복사온도 측정유닛의 구성을 보여주는 도면이다.11 is a view showing the internal configuration of a roasting apparatus according to another embodiment of the present invention. Further, FIG. 12 is a view showing a cross section of the radiation temperature measuring unit of FIG. 11, and FIG. 13 is a view showing the configuration of the radiation temperature measuring unit of FIG.
본 실시예는 복사온도 측정유닛의 구성 및 복사온도 측정 결과를 보정하는 구서에 있어서 차이가 있을 뿐, 다른 구성에 있어서는, 도 1 내지 도 10에서 도시된 로스팅 장치의 구성과 실질적으로 동일하므로, 이하에서는 본 실시예의 특징적인 부분을 중심으로 설명한다.This embodiment has only a difference in the configuration of the radiation temperature measuring unit and the method for correcting the radiation temperature measurement result, but in other configurations, since it is substantially the same as the configuration of the roasting apparatus shown in FIGS. 1 to 10, the following In , the characteristic parts of this embodiment are mainly described.
도 11 내지 도 13을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 로스팅 장치(1)는, 내부에서 대상물이 교반되며 상하 방향으로 연장 형성되는 원통형의 로스팅 챔버(120)와 로스팅 챔버(120)에 수용되는 상기 대상물을 교반하기 위하여 회전되는 회전 교반부(180)를 포함하고, 회전 교반부(180)는 수직한 방향으로 형성되는 교반축을 중심으로 회전되는 로스팅 챔버부(100)와, 로스팅 챔버부(100)에 대하여 열을 공급하며, 로스팅 챔버부(100)에 열풍을 제공하여 로스팅 챔버 내부에 대류열을 제공하는 제1 열원부(310)를 포함하는 열원부를 포함한다. 그리고, 로스팅 장치(1)는, 상기 열원부에 의하여 가열되는 로스팅 챔버(120)의 내면 또는 상기 대상물의 표면에서 발산되는 적외선에 기초하여 로스팅 챔버(120) 또는 상기 대상물의 온도를 측정하는 복사온도 측정유닛(560)을 포함한다. 복사온도 측정유닛(560)은, 로스팅 챔버(120)의 상측에 배치되는 상부유닛(110)에 배치되어 로스팅 챔버(120)의 내부 공간 측을 향한다. 상부유닛(110)에는 관통 형성되어 로스팅 챔버(120)와 연통되는 측정홀(115)이 형성된다.11 to 13, the
그리고, 상부유닛(110)의 하면에는 측정홀(115)을 둘러싸며 하방을 향하여 돌출 형성되는 원통형상의 가이드부(116)가 형성되며, 가이드부(116)는 측정홀(115)과 정렬된다. 즉, 측정홀(115)을 둘러싸는 가이드부(116)가 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121) 측으로 돌출 형성됨에 따라 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)에서, 로스팅 과정에서 발생되는 분진 등이 측정홀(115) 측으로 유입되어 필터부(514)의 표면을 오염시키는 것을 억제할 수 있다. 센싱부(511)는 가이드부(116)에 둘러싸인 측정홀(115)을 통하여 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121)에 대하여 측정을 위한 광을 조사하거나 상기 대상물로부터 발산되는 광을 수광할 수 있다.In addition, a
제1 열원부(310)는 공기가 유동되는 유동관(311)과, 유동관(311)의 일측에 배치되며 유동되는 공기가 가열되는 가열유닛(312)(도 5 및 도 7 참조)을 포함한다. 유동관(311)은 공기를 공급하기 위한 블로우 유닛(313)과 연결되어 공기가 공급되며, 가열유닛(312) 및 유동관(311)의 일측은 상부유닛(110)과 연결된다. 예시적으로 가열유닛(312)은 복수의 가열 소자들이 메쉬(Mesh) 또는 코일(Coil) 형태로 배치되며 상기 가열소자들을 공기가 통과하면서 가열된다. The first
복사온도 측정유닛(560)은, 적외선에 기초하여 대상물의 온도를 측정하는 센싱부(561)와, 상부유닛(110)의 상면에 배치되며 로스팅 챔버(120)와 연통되는 몸체측 관통홀(566)이 형성되는 측정유닛 몸체(565)와, 측정유닛 몸체(565)의 일측에 배치되며 센싱부(561)가 실장되는 기판(562)과, 센싱부(561)의 전방에 배치되며 기설정된 파장 대역의 광이 통과되는 필터부(564)를 포함한다. 센싱부(561)는 예시적으로 기둥 형상, 보다 상세히 원통 형상으로 형성될 수 있다. The radiation
기판(562)은 로스팅 챔버(120)의 외부 공간에 배치되며, 상기 외부 공간의 온도를 측정하기 위한 외부공간 온도측정유닛(미도시)을 포함한다. 상기 외부 공간은 케이싱(190)(도 1참조)과 상기 로스팅 챔버(120) 사이에 배치된다. 기판(562)의 상면에는 온도 측정 데이터를 전달하기 위한 접속단자(568)가 형성되며, 기판(562)은 기판(562) 및 와셔부재(582)를 관통하는 제1 체결부재(581)에 의하여 측정유닛 몸체(565)에 고정된다.The
측정유닛 몸체(565)는 예시적을 단일의 몸체로 형성될 수 있으며, 측정유닛 몸체(565)에는 상면을 통하여 하면으로 관통되는 체결홀이 형성된다. 그리고, 상기 체결홀에 삽입되는 제2 체결부재(583)에 의하여, 측정유닛 몸체(565)는 상부유닛(110)의 상면에 고정된다.The measuring
몸체측 관통홀(566)은 상부 유닛(110)의 측정홀(115)과 연통되고 몸체측 관통홀(566)에는 센싱부(561) 및 필터부(564)가 위치된다. 이때, 필터부(564)의 일면은 센싱부(561)와 마주보며, 이면은 로스팅 챔버(120)와 직접 마주본다.The body-side through-
측정유닛 몸체(565)에는 몸체측 관통홀(566)이 형성되는 방향과 교차되는 방향으로 벤틸레이션 홀(567)이 형성되며, 몸체측 관통홀(566)과 벤틸레이션 홀(567)은 상호 교차된다. 이때, 필터부(564)는 벤틸레이션 홀(567)을 사이에 두고 로스팅 챔버(120)와 이격된다.A
본 발명의 실시예에 따른 로스팅 장치(1)는, 일측은 유동관(311)과 연통되며 타측은 벤틸레이션 홀(567)과 연통되는 벤틸레이션부(570)를 더 포함한다. 벤틸레이션부(570)를 통하여 벤틸레이션 홀(567) 측으로 유입되는 공기 유동은 필터부(564)의 이면(로스팅 챔버(120)와 마주보는 면) 측으로 형성된다.The
즉, 가이드부(116)에 의하여 로스팅 과정에서 발생되는 분진 등이 측정홀(116) 측으로 유입되는 것이 억제되며, 측정홀(116) 측으로 분진이 유입되는 경우에는 벤틸레이션부(570)로부터 필터부(564)의 이면 측으로 유동되는 공기의 흐름에 의하여 상기 분진이 제거됨으로써, 필터부(564)가 오염되는 것이 최소화될 수 있다. 또한, 벤틸레이션부(570)로부터 측정홀(116) 측으로 생성되는 공기 유동은 상기 가이드부(116)를 통하여 로스팅 챔버(120)의 내부 공간(121) 측으로 형성됨으로써, 가이드부(116)를 통하여 측정홀(116) 측으로 분진이 유입되는 것이 최소화될 수 있다.That is, dust generated during the roasting process is prevented from flowing into the
또한, 기류를 필터부(564) 측으로부터 가이드부(116)의 외부로 형성하는 벤틸레이션부(570)에 의하여, 가이드부(116)의 외부에서 가이드부(116)의 내부로 음압이 형성되는 것을 억제함으로써, 로스팅 과정에서 발생되는 분진이 필터부(564) 측으로 유입되는 것을 억제할 수 있다.In addition, negative pressure is formed from the outside of the
한편, 벤틸레이션부(570)는, 일측은 유동관(311)과 연통되는 파이프 유닛(575)과, 일측은 파이프 유닛(575)의 타측과 연결되며 타측은 벤틸레이션 홀(567)에 접속되는 플러그 유닛(571)을 포함한다.On the other hand, the
플러그 유닛(571)은 절곡된 형상으로 형성되며, 플러그 유닛(571)의 타측에는 벤틸레이션 홀에 삽입되는 플러그부(573)가 형성된다.The
벤틸레이션 홀(567)은, 측정유닛 몸체(565)의 일측 및 타측을 완전하게 관통하며, 벤틸레이션 홀(567)의 타측에는 외부에 대하여 벤틸레이션홀(567)을 차폐시키기 위한 차폐수단(584)이 설치된다. 벤틸레이션 홀(567)이 완전하게 관통 형성됨에 따라, 복사온도 측정유닛(560)에 대한 청소 등 유지보수가 용이하게 수행될 수 있다.The
한편, 복사온도 측정유닛(560)의 필터부(564)는 온도에 따라 열복사시 한 물체의 표면에서 에너지 방출량인 방사율(Emissivity)이 다르게 형성된다. 즉, 필터부(564)의 온도 조건에 따라 로스팅 챔버(120) 또는 상기 대상물로부터 발산되는 광의 에너지량이 달라질 수 있어, 필터부(564)를 거쳐 적외선을 수광하는 센싱부(561)의 측정 온도(Tmeasure)를 보정할 필요가 있다.Meanwhile, the
따라서, 본 실시예에 따른 로스팅 장치(1)는, 복사온도 측정유닛(560)에서 측정된 로스팅 챔버 (120) 또는 상기 대상물의 측정 온도(Tmeasure)를, 로스팅 챔버(120)의 외부 온도(Toutside)에 기초하여 보정하여 상기 로스팅 챔버 또는 상기 대상물의 실질 온도(Treal)를 연산한다. 로스팅 장치(1)는 열원부(510, 520, 530, 540)을 제어하고, 온도 측정유닛으로부터 데이터를 전달받아 실질 온도(Treal)를 연산하는 제어부(미도시)를 더 포함할 수 있다.Therefore, in the
이때, 실질 온도(Treal)는 상기 측정 온도(Tmeasure)에서 상기 외부 온도(Toutside)에 기초한 상기 필터부의 방사율 변화를 고려하여 연산된다.At this time, the real temperature (T real ) is calculated in consideration of the emissivity change of the filter part based on the external temperature (T outside ) at the measured temperature (T measure ).
따라서, 실질 온도(Treal)와 상기 측정 온도(Tmeasure)는 이하의 관계식을 만족한다.Therefore, the real temperature (T real ) and the measured temperature (T measure ) satisfy the following relational expression.
Treal,k은 대상물의 보정된 실질 온도(절대온도 기준)T real,k is the calibrated real temperature of the object (based on absolute temperature)
Tmeasure,k은 센싱부가 측정한 대상물의 측정 온도(절대온도 기준)T measure,k is the measured temperature of the object measured by the sensing unit (based on absolute temperature)
Toutside,c는 로스팅 챔버 외부온도(섭씨온도 기준), T outside,c is the outside temperature of the roasting chamber (based on Celsius),
Toutside,k는 로스팅 챔버 외부온도(절대온도 기준),T outside,k is the outside temperature of the roasting chamber (based on absolute temperature),
E0는 섭씨 0도 일때 필터부의 방사율(Emissivity),E 0 is the emissivity of the filter unit at 0 degrees Celsius,
e는 필터부의 절대온도 1도(또는 섭씨온도 1도) 당 방사율의 변화량임e is the change in emissivity per 1 degree of absolute temperature (or 1 degree Celsius) of the filter part
즉, 본 발명의 실시예에 따른 로스팅 장치(1)는, 로스팅 챔버(120) 또는 상기 대상물의 표면에서 발산되는 적외선을 측정하여, 로스팅 챔버(120) 또는 상기 대상물의 온도를 측정함으로써, 보다 정확하고 빠른 온도 측정이 가능한 장점이 있다.That is, the
또한, 온도 조건에 따라, 필터부의 방사율 변화가 발생되는 경우, 이를 보정함으로써, 보다 정확한 온도 측정이 가능한 이점이 있다.In addition, when a change in the emissivity of the filter unit occurs according to temperature conditions, there is an advantage in that more accurate temperature measurement is possible by correcting this change.
이상에서 설명된 시스템 또는 장치는 하드웨어 구성요소, 소프트웨어 구성요소, 및/또는 하드웨어 구성요소 및 소프트웨어 구성요소의 조합으로 구현될 수 있다. 예를 들어, 실시예들에서 설명된 시스템, 장치 및 구성요소는, 예를 들어, 프로세서, 콘트롤러, ALU(arithmetic logic unit), 디지털 신호 프로세서(digital signalprocessor), 마이크로컴퓨터, FPA(field programmable array), PLU(programmable logic unit), 마이크로프로세서, 또는 명령(instruction)을 실행하고 응답할 수 있는 다른 어떠한 장치와 같이, 하나 이상의 범용 컴퓨터 또는 특수 목적 컴퓨터를 이용하여 구현될 수 있다. 관리 장치는 운영 체제(OS) 및 상기 운영 체제 상에서 수행되는 하나 이상의 소프트웨어 애플리케이션을 수행할 수 있다. 또한, 관리 장치는 소프트웨어의 실행에 응답하여, 데이터를 접근, 저장, 조작, 관리 및 생성할 수도 있다. 이해의 편의를 위하여, 관리 장치는 하나가 사용되는 것으로 설명된 경우도 있지만, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는, 관리 장치가 복수 개의 관리요소(processing element) 및/또는 복수 유형의 관리 요소를 포함할 수 있음을 알 수 있다. 예를 들어, 관리장치는 복수 개의 프로세서 또는 하나의 프로세서 및 하나의 콘트롤러를 포함할 수 있다. 또한, 병렬 프로세서(parallel processor)와 같은, 다른 관리 구성(processing configuration)도 가능하다.The system or apparatus described above may be implemented as hardware components, software components, and/or a combination of hardware components and software components. For example, systems, devices and components described in the embodiments may include, for example, a processor, a controller, an arithmetic logic unit (ALU), a digital signal processor, a microcomputer, a field programmable array (FPA) , a programmable logic unit (PLU), microprocessor, or any other device capable of executing and responding to instructions. The management device may run an operating system (OS) and one or more software applications running on the operating system. In addition, the management device may access, store, manipulate, manage, and create data in response to execution of the software. For convenience of understanding, there are cases in which one management device is used, but those skilled in the art will understand that the management device includes a plurality of processing elements and/or a plurality of types of management elements. It can be seen that it can include. For example, the management device may include a plurality of processors or one processor and one controller. Also, other processing configurations are possible, such as parallel processors.
소프트웨어는 컴퓨터 프로그램(computer program), 코드(code), 명령(instruction), 또는 이들 중 하나 이상의 조합을 포함할 수 있으며, 원하는 대로 동작하도록 관리 장치를 구성하거나 독립적으로 또는 결합적으로 (collectively) 관리 장치를 명령할 수 있다. 소프트웨어 및/또는 데이터는, 관리 장치에 의하여 해석되거나 관리 장치에 명령 또는 데이터를 제공하기 위하여, 어떤 유형의 기계, 구성요소(component), 물리적 장치, 가상 장치(virtual equipment), 컴퓨터 저장 매체 또는 장치, 또는 전송되는 신호 파(signal wave)에 영구적으로, 또는 일시적으로 구체화(embody)될 수 있다. 소프트웨어는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템 상에 분산되어서, 분산된 방법으로 저장되거나 실행될 수도 있다. 소프트웨어 및 데이터는 하나 이상의 컴퓨터 판독 가능 기록 매체에 저장될 수 있다.The software may include a computer program, code, instructions, or a combination of one or more of the foregoing, which configures the management device to operate as desired or manages it independently or collectively. You can command the device. Software and/or data may be any tangible machine, component, physical device, virtual equipment, computer storage medium or device for interpretation by, or to provide instructions or data to, a management device. , or may be permanently or temporarily embodied in a transmitted signal wave. Software may be distributed on networked computer systems and stored or executed in a distributed manner. Software and data may be stored on one or more computer readable media.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited thereto, and it is possible to make various modifications and practice within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings, and this is also the present invention. It is natural to fall within the scope of
Claims (10)
내부에서 대상물이 교반되며 상하 방향으로 연장 형성되는 원통형의 로스팅 챔버와 상기 로스팅 챔버에 수용되는 상기 대상물을 교반하기 위하여 회전되는 회전 교반부를 포함하고, 상기 회전 교반부는 수직한 방향으로 형성되는 교반축을 중심으로 회전되는 로스팅 챔버부;
상기 로스팅 챔버부에 대하여 열을 공급하며, 상기 로스팅 챔버부에 열풍을 제공하여 상기 로스팅 챔버 내부에 대류열을 제공하는 제1 열원부를 포함하는 열원부; 및
상기 열원부에 의하여 가열되는 로스팅 챔버부의 내면 또는 상기 대상물의 표면에서 발산되는 적외선에 기초하여 상기 로스팅 챔버 또는 상기 대상물의 온도를 측정하는 복사온도 측정유닛;을 포함하고,
상기 복사온도 측정유닛에서 측정된 상기 로스팅 챔버 또는 상기 대상물의 측정 온도(Tmeasure)를, 상기 로스팅 챔버의 외부 온도(Toutside)에 기초하여 보정하여 상기 로스팅 챔버 또는 상기 대상물의 실질 온도를 연산하는 것을 특징으로 하는 로스팅 장치.
In the roasting device for heating the object,
It includes a cylindrical roasting chamber in which an object is stirred and extends in a vertical direction, and a rotational stirring unit rotated to stir the object accommodated in the roasting chamber, wherein the rotational stirring unit is centered on a stirring shaft formed in a vertical direction. Roasting chamber portion rotated to;
a heat source unit including a first heat source unit that supplies heat to the roasting chamber unit and provides hot air to the roasting chamber unit to provide convective heat to the inside of the roasting chamber; and
A radiation temperature measuring unit for measuring the temperature of the roasting chamber or the object based on infrared rays emitted from the inner surface of the roasting chamber heated by the heat source or the surface of the object; includes,
Calculating the real temperature of the roasting chamber or the object by correcting the measured temperature (T measure ) of the roasting chamber or the object measured by the radiation temperature measuring unit based on the external temperature (T outside ) of the roasting chamber Roasting device, characterized in that.
상기 복사온도 측정유닛은, 상기 로스팅 챔버의 상측에 배치되는 상부유닛에 배치되어 상기 로스팅 챔버의 내부 공간 측을 향하는 것을 특징으로 하는 로스팅 장치.
According to claim 1,
The radiant temperature measuring unit is disposed on an upper unit disposed above the roasting chamber and faces toward the inner space of the roasting chamber.
상기 상부유닛에는 관통 형성되어 상기 로스팅 챔버와 연통되는 측정홀이 형성되며,
상기 복사온도 측정유닛은, 적외선에 기초하여 대상물의 온도를 측정하는 센싱부와, 상기 상부유닛의 상면에 배치되며 상기 로스팅 챔버와 연통되는 몸체측 관통홀이 형성되는 측정유닛 몸체와, 상기 측정유닛 몸체의 일측에 배치되며 상기 센싱부가 실장되는 기판과, 상기 센싱부의 전방에 배치되며 기설정된 파장 대역의 광이 통과되는 필터부를 포함하고,
상기 몸체측 관통홀은 상기 측정홀과 연통되고 상기 몸체측 관통홀에 상기 센싱부가 위치되며,
상기 필터부의 일면은 상기 센싱부와 마주보며, 이면은 상기 로스팅 챔버와 직접 마주보고,
상기 필터부는 온도에 따라 방사율이 달라지는 로스팅 장치.
According to claim 2,
A measurement hole formed through the upper unit and communicating with the roasting chamber is formed,
The radiation temperature measuring unit includes a sensing unit for measuring the temperature of an object based on infrared rays, a measuring unit body disposed on an upper surface of the upper unit and having a body-side through hole communicating with the roasting chamber, the measuring unit A substrate disposed on one side of the body and on which the sensing unit is mounted, and a filter unit disposed in front of the sensing unit and through which light of a predetermined wavelength band passes,
The body-side through-hole communicates with the measurement hole and the sensing unit is positioned in the body-side through-hole,
One side of the filter unit faces the sensing unit, and the back side directly faces the roasting chamber,
The roasting apparatus in which the emissivity of the filter unit varies depending on the temperature.
상기 기판은 상기 로스팅 챔버의 외부 공간에 배치되며, 상기 외부 공간의 온도를 측정하기 위한 외부공간 온도측정유닛을 포함하고,
상기 실질 온도(Treal)는 상기 측정 온도(Tmeasure)에서 상기 외부 온도(Toutside)에 기초한 상기 필터부의 방사율 변화를 고려하여 연산되는 것을 특징으로 하는 로스팅 장치.
According to claim 3,
The substrate is disposed in an external space of the roasting chamber and includes an external space temperature measuring unit for measuring the temperature of the external space,
The real temperature (T real ) is calculated in consideration of a change in emissivity of the filter unit based on the outside temperature (T outside ) in the measured temperature (T measure ).
상기 실질 온도(Treal)와 상기 측정 온도(Tmeasure)는 이하의 관계식을 만족하는 것을 특징으로 하는 로스팅 장치.
Treal,k은 대상물의 보정된 실질 온도(절대온도 기준)
Tmeasure,l은 센싱부가 측정한 대상물의 측정 온도(절대온도 기준)
Toutside,c는 로스팅 챔버 외부온도(섭씨온도 기준),
Toutside,k는 로스팅 챔버 외부온도(절대온도 기준),
E0는 섭씨 0도 일때 필터부의 방사율(Emissivity),
e는 필터부의 절대온도 1도(또는 섭씨온도 1도) 당 방사율의 변화량임According to claim 4,
The roasting apparatus, characterized in that the real temperature (T real ) and the measured temperature (T measure ) satisfy the following relational expression.
T real,k is the calibrated real temperature of the object (based on absolute temperature)
T measure,l is the measured temperature of the object measured by the sensing unit (based on absolute temperature)
T outside,c is the outside temperature of the roasting chamber (based on Celsius),
T outside,k is the outside temperature of the roasting chamber (based on absolute temperature),
E 0 is the emissivity of the filter unit at 0 degrees Celsius,
e is the change in emissivity per 1 degree of absolute temperature (or 1 degree Celsius) of the filter part
외형을 형성하는 케이싱을 더 포함하고,
상기 외부 공간은 상기 케이싱과 상기 로스팅 챔버 사이에 배치되는 로스팅 장치.
According to claim 4,
Further comprising a casing forming an outer shape,
The outer space is a roasting apparatus disposed between the casing and the roasting chamber.
상기 제1 열원부는, 공기가 유동되는 유동관과, 상기 유동관의 일측에 배치되며 유동되는 공기가 가열되는 가열유닛을 포함하고,
상기 복사온도 측정유닛은, 상기 로스팅 챔버의 상측에 배치되는 상부유닛에 배치되어 상기 로스팅 챔버의 내부 공간 측을 향하고,
상기 상부유닛에는 관통 형성되어 상기 로스팅 챔버와 연통되는 측정홀이 형성되며,
상기 복사온도 측정유닛은, 적외선에 기초하여 대상물의 온도를 측정하는 센싱부와, 상기 상부유닛의 상면에 배치되며 상기 로스팅 챔버와 연통되는 몸체측 관통홀이 형성되는 측정유닛 몸체와, 상기 측정유닛 몸체의 일측에 배치되며 상기 센싱부가 실장되는 기판과, 상기 센싱부의 전방에 배치되며 기설정된 파장 대역의 광이 통과되는 필터부를 포함하고,
상기 몸체측 관통홀은 상기 측정홀과 연통되고 상기 몸체측 관통홀에 상기 센싱부가 위치되며,
상기 필터부의 일면은 상기 센싱부와 마주보며, 이면은 상기 로스팅 챔버와 직접 마주보고,
상기 측정유닛 몸체에는 몸체측 관통홀이 형성되는 방향과 교차되는 방향으로 벤틸레이션 홀이 형성되며, 상기 몸체측 관통홀과 상기 벤틸레이션 홀은 상호 교차되며,
일측은 상기 유동관과 연통되며 타측은 상기 벤틸레이션 홀과 연통되는 벤틸레이션부를 더 포함하고,
상기 벤틸레이션부를 통하여 상기 벤틸레이션 홀 측으로 유입되는 공기 유동은 상기 필터부의 이면 측으로 형성되는 것을 특징으로 하는 로스팅 장치.
According to claim 1,
The first heat source unit includes a flow pipe through which air flows, and a heating unit disposed on one side of the flow pipe and heating the flowing air,
The radiation temperature measuring unit is disposed on an upper unit disposed above the roasting chamber and faces toward the inner space of the roasting chamber,
A measurement hole formed through the upper unit and communicating with the roasting chamber is formed,
The radiation temperature measuring unit includes a sensing unit for measuring the temperature of an object based on infrared rays, a measuring unit body disposed on an upper surface of the upper unit and having a body-side through hole communicating with the roasting chamber, the measuring unit A substrate disposed on one side of the body and on which the sensing unit is mounted, and a filter unit disposed in front of the sensing unit and through which light of a predetermined wavelength band passes,
The body-side through-hole communicates with the measuring hole and the sensing unit is positioned in the body-side through-hole,
One side of the filter unit faces the sensing unit, and the back side directly faces the roasting chamber,
Ventilation holes are formed in the body of the measurement unit in a direction crossing the direction in which the body-side through-holes are formed, and the body-side through-holes and the ventilation holes cross each other,
One side further includes a ventilation part communicating with the flow pipe and the other side communicating with the ventilation hole,
Roasting apparatus, characterized in that the air flow flowing into the ventilation hole side through the ventilation unit is formed toward the back side of the filter unit.
상기 벤틸레이션부는,
일측은 상기 유동관과 연통되는 파이프 유닛과, 일측은 상기 파이프 유닛의 타측과 연결되며 타측은 상기 벤틸레이션 홀에 접속되는 플러그 유닛을 포함하고,
상기 플러그 유닛은 절곡된 형상으로 형성되며,
상기 플러그 유닛의 타측에는 상기 벤틸레이션 홀에 삽입되는 플러그부가 형성되는 것을 특징으로 하는 로스팅 장치.
According to claim 7,
The ventilation part,
One side includes a pipe unit communicating with the flow pipe, one side connected to the other side of the pipe unit, and the other side including a plug unit connected to the ventilation hole,
The plug unit is formed in a bent shape,
Roasting apparatus, characterized in that the plug portion inserted into the ventilation hole is formed on the other side of the plug unit.
상기 벤틸레이션 홀은, 상기 측정유닛 몸체의 일측 및 타측을 완전하게 관통하며,
상기 벤틸레이션 홀의 타측에는 외부에 대하여 상기 벤틸레이션홀을 차폐시키기 위한 차폐수단이 설치되는 로스팅 장치.
According to claim 7,
The ventilation hole completely penetrates one side and the other side of the measuring unit body,
Roasting apparatus in which a shielding means for shielding the ventilation hole from the outside is installed on the other side of the ventilation hole.
상기 상부유닛의 하면에는 상기 측정홀을 둘러싸며 하방을 향하여 돌출 형성되는 원통형상의 가이드부가 형성되며,
상기 가이드부는 상기 측정홀과 정렬되는 것을 특징으로 하는 로스팅 장치.
According to claim 7,
A cylindrical guide part is formed on the lower surface of the upper unit to surround the measuring hole and protrude downward,
The roasting device, characterized in that the guide portion is aligned with the measuring hole.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210128603A KR20230045830A (en) | 2021-09-29 | 2021-09-29 | Roasting apparatus |
EP22192534.0A EP4159051A3 (en) | 2021-09-29 | 2022-08-29 | Roasting apparatus and controlling method thereof |
US17/931,673 US20230101715A1 (en) | 2021-09-29 | 2022-09-13 | Roasting apparatus and controlling method thereof. |
CN202211162759.0A CN115868649A (en) | 2021-09-29 | 2022-09-23 | Baking device and control method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210128603A KR20230045830A (en) | 2021-09-29 | 2021-09-29 | Roasting apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR20230045830A true KR20230045830A (en) | 2023-04-05 |
Family
ID=85884284
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
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