KR20230039648A

KR20230039648A - 승객 운송 설비용의 핸드레일 처리 장치

Info

Publication number: KR20230039648A
Application number: KR1020237001291A
Authority: KR
Inventors: 볼프강 바우어; 미하엘 하이더; 볼프강 네슈메라크
Original assignee: 인벤티오 아게
Priority date: 2020-07-17
Filing date: 2021-06-17
Publication date: 2023-03-21
Also published as: TW202216217A; JP2023534479A; CA3186716A1; US20230312308A1; BR112023000681A2; WO2022012856A1; CN116209635A; EP4182255A1; AU2021308771A1; EP4182255B1

Abstract

본 발명은 하우징 (151) 및 회전 축선 (53) 을 중심으로 회전 가능하도록 하우징 (151) 에 배치된 원통형 베이스 본체 (155) 를 포함하는 핸드레일 처리 장치 (141) 에 관한 것이다. 클리닝 페이싱 (59) 이 베이스 본체의 실린더 외부 표면 (57) 상에 배치되고, 그 위에서 승객 운송 시스템 (1) 의 순환 핸드레일 (17) 이 먼지 및 세균 (61) 을 제거할 목적으로 안내될 수 있다. 적어도 하나의 방사선 소스 (43) 가 하우징 (151) 내부에 배치되며, 방사선 소스는 살균 전자기 방사선을 방출할 수 있으며, 방사선 소스 (43) 가 베이스 본체 (155) 와 정렬되어서, 방사선 소스 (43) 를 지나서 연속적으로 이동하는 클리닝 페이싱 (59) 이 베이스 본체 (155) 의 회전시에 방사선 소스 (43) 의 살균 전자기 방사선에 노출된다.

Description

승객 운송 설비용의 핸드레일 처리 장치

본 발명은 적어도 하나의 하우징, 회전하는 클리닝 페이싱 및 살균 전자기 방사선을 방출할 수 있는 방사선 소스를 포함하는 핸드레일 처리 장치, 및 적어도 하나의 핸드레일 처리 장치를 구비한 승객 운송 시스템 및 핸드레일 처리 장치를 제어하기 위한 방법에 관한 것이다.

에스컬레이터 또는 무빙 워크웨이로서 설계된 승객 운송 시스템은 사용자가 서 있을 수 있는 컨베이어 벨트와 동일한 속도로 움직이는 순환 핸드레일들을 일반적으로 갖는다. 이를 통해 사용자는 이동 중에 핸드레일들을 잡을 수 있다. 사용자가 잡을 수 있는 핸드레일의 영역을 리딩 런 (leading run) 이라고 하며, 리턴 런은 일반적으로 승객 운송 시스템의 사용자에게 숨겨지고 운송 방향에 대해 복귀된다.

사용자의 손이 핸드레일들의 표면에 닿으면, 박테리아, 포자, 바이러스가 핸드레일에 달라붙는다. 이렇게 퇴적된 병원균은 핸드레일에서 증식하여 다음 사용자에게 전파될 수 있다. 따라서 이러한 승객 운송 시스템의 핸드레일은 전염병이 전파될 수 있는 공공 장소에서의 비위생적인 장소를 나타낸다.

WO2019/164256A1 은 종래기술에 따른 핸드레일 처리 장치를 보여준다. 이 경우, 핸드레일은 방사선 소스에 의해 자외선으로 조사된다. 이 살균 전자기 방사선은 이들 세균의 데옥시리보핵산을 파괴하여, 본 핸드레일 처리 장치의 출구측으로부터 핸드레일 표면 상에서 미생물이 현저하게 감소되었음을 확인할 수 있다. 그러나, 손잡이에 달라붙은 먼지는 박테리아와 바이러스에 충분한 보호를 제공하여, 이들이 손상 없이 방사선 처리에서 살아남을 수 있다.

예를 들어, JP08188369A 는 더 철저한 살균을 허용하기 위해 핸드레일의 세척된 표면이 UV 램프의 방사선에 의해 살균될 수 있도록 살균 유체를 사용한 세척 시스템과 회전 브러시를 사용한 광범위한 사전 세척을 제공한다. 그러나, 이러한 핸드레일 처리 장치는 매우 고가이며, 특히 요구되는 유체 때문에 높은 작동 비용을 초래한다.

따라서 본 발명의 목적은 간단한 핸드레일 처리 장치에 의해 저렴하고 안전한 방식으로 핸드레일에 부착된 병원균을 무해하게 만드는 것이다.

이 목적은 적어도 하나의 하우징 및 회전 축선을 중심으로 회전 가능하도록 하우징에 배치된 원통형 베이스 본체를 포함하는 핸드레일 처리 장치에 의해 달성된다. 원통형 베이스 본체의 실린더 외부 표면 상에 클리닝 페이싱이 배치되고, 클리닝 페이싱 위에서는 먼지 입자를 제거할 목적으로 에스컬레이터 또는 무빙 워크웨이의 순환 핸드레일이 안내될 수 있다. 또한, 살균 전자기 방사선을 방출할 수 있는 적어도 하나의 방사선 소스가 하우징 내부에 배치된다. 방사선 소스는, 베이스 본체가 회전할 때에, 방사선 소스를 지나 연속적으로 이동하는 클리닝 페이싱이 이 방사선 소스의 살균 전자기 방사선에 노출되는 방식으로, 베이스 본체와 정렬된다.

사용되는 살균 전자기 방사선은 바람직하게는 200nm 내지 280nm, 특히 바람직하게는 250nm 내지 260nm 의 파장 범위를 갖고, 예를 들어 UV-C 튜브 또는 UV-C 발광 다이오드에 의해 생성될 수 있다. 클리닝 페이싱은 강모 페이싱, 탄성 재료로 만들어진 라멜라 페이싱 등일 수 있다.

클리닝 페이싱은 전자기 살균 방사선에 지속적으로 노출되기 때문에, 클리닝 페이싱에 부착된 박테리아 및 바이러스는 오염된 영역이 핸드레일과 다시 접촉하기 전에 죽는다. 즉, 클리닝 페이싱을 조사하면 살균되지 않은 클리닝 페이싱에 의해 예를 들어 핸드레일의 미세한 균열 및 오목한 부분에 이러한 세균이 혼입되는 것이 방지되고 에스컬레이터 또는 무빙 워크웨이 사용자에게 전파되는 것이 방지된다. 본 발명의 주제에 따른 살균된 회전 클리닝 페이싱으로 핸드레일을 기계적으로 세척함으로써, 핸드레일의 표면은 핸드레일에 부착되고 세균으로 오염된 먼지가 세척되므므로, 전체 세균 압력 (이 표면에 존재하는 세균의 양) 이 감소한다.

베이스 본체의 형상과 관련하여, "원통형" 은 세장형이고 회전 가능하게 장착된 본체를 의미한다. 이 본체는 바람직하게는 회전 대칭이 되도록 설계되어, 그 위로 안내되는 핸드레일에서 가능한한 적은 불균형 및 진동이 발생한다. 베이스 본체는 강 롤러와 같이 반드시 단단할 필요는 없지만, 하우징에서 용이하게 회전될 수 있다면, 섬유 강화 플라스틱 재료와 같은 보다 탄력적인 재료 또는 엘라스토머와 같은 유연한 재료로부터도 만들어질 수 있다. 논리적으로, 베이스 본체를 구성하고 베어링 포인트의 치수 강성 및 클리닝 페이싱의 영역의 더 높은 탄성 특성과 같은 유리한 특성을 제공하기 위해 상이한 재료들의 복합재도 가능하다.

핸드레일 처리 장치의 하우징에는 적어도 하나의 와이핑 요소가 있을 수 있으며, 이의 와이핑 에지는 클리닝 페이싱의 클리닝 팁들과 상호 작용한다. 이러한 클리닝 팁은 강모 페이싱의 경우에는 강모 팁, 라멜라 페이싱의 경우에는 라멜라 팁, 클리닝 페이싱으로서의 역할을 하는 폼 링과 같은 다른 재질의 경우에는 핸드레일과 접촉하는 다공성 표면이다. 이러한 방식으로, 핸드레일로부터 제거되고 아마도 클리닝 페이싱에 달라붙을 수 있는 먼지는 핸드레일로부터 연속적으로 제거되어, 이러한 방식으로 기계적으로 세척된 주로 클리닝 페이싱의 영역이 다시 핸드레일에 도달한다.

일 실시형태에서, 와이핑 요소는 가요성 재료로 만들어진 립 또는 라멜라를 가질 수 있다. 이 립 상에 와이핑 에지가 형성된다. 결과적으로, 립과 접촉하는 클리닝 팁은 더 낮은 기계적 힘에 노출되며 결과적으로 수명이 연장된다. 또한, 립을 지나서 스위핑하는 클리닝 팁은 진동을 발생시켜 먼지를 클리닝 페이싱으로부터 털어내도록 유도하지만 유연한 립으로 인해 진동은 오직 감쇠 방식으로 하우징에 전달된다. 이렇게 하면, 핸드레일 처리 장치에서 발생하는 소음을 작동 중에 상당히 줄일 수 있다.

대안적인 실시형태에서, 와이핑 요소는 와이핑 에지를 형성하는 강모 팁인 와이핑 브러시를 가질 수 있다. 와이핑 브러시의 유효 특성은 립을 갖는 와이핑 요소의 전술한 실시형태에서와 실질적으로 동일하다. 클리닝 페이싱의 설계 (강모 두께, 강모 밀도, 강모 또는 강모 다발의 배치, 라멜라의 형상 및 강성 등) 에 따라, 립이 있는 버전 또는 와이핑 브러시가 있는 버전이 클리닝 페이싱을 더 양호하게 청소하며, 선택은 바람직하게는 실험적 방식으로 이루어진다.

핸드레일 처리 장치의 일 실시형태에서, 원통형 베이스 본체는 그 위로 안내되는 핸드레일의 이동에 의해 구동될 수 있다. 그러나, 충분한 세척 효과를 얻기 위해서는, 핸드레일 표면과 클리닝 페이싱의 클리닝 팁 사이의 속도 차이가 필요하다. 이러한 속도 차이는 베이스 본체 또는 클리닝 페이싱의 회전 운동이 완전히 차단되지 않고서 지속적으로 제동된다는 점에서 달성될 수 있다. 와이핑 요소는 이러한 목적에 특히 적합하며, 이는 핸드레일이 움직일 때에 원통형 베이스 본체에 제동 효과가 발생하고 결과적으로 핸드레일 표면과 그에 접촉하는 클리닝 팁 사이에 속도 차이가 존재하는 방식으로 클리닝 페이싱의 클리닝 팁과 상호 작용한다.

대안적으로, 원통형 베이스 본체는 모터에 의해 구동될 수도 있다. 그 결과, 핸드레일이 움직일 때에 핸드레일 표면과 그에 접촉하는 클리닝 팁 사이에 속도 차이가 존재하도록 원통형 베이스 본체의 회전 속도를 핸드레일의 속도에 바람직하게 조절할 수 있다. 이 대안은 베이스 본체의 회전 속도가 그 위로 안내되는 핸드레일의 속도보다 훨씬 더 높을 수 있다는 이점이 있어, 먼지 입자에 작용하는 더 높은 원심력을 사용하여 클리닝 페이싱으로부터 먼지를 제거할 수 있다. 이동의 반대 방향도 이 대안적인 실시형태에서 가능하다.

본 발명의 다른 실시형태에서, 클리닝 페이싱은 회전 축선에 대해 직각으로 프로파일링될 수 있어서, 클리닝 페이싱의 트레드 윤곽은 그 위로 안내되거나 세척될 핸드레일의 외부 표면 윤곽에 대응한다. 그 결과, 통상 사용자의 손바닥이 닿는 넓은 메인 표면뿐만 아니라 통상 사용자의 손가락에 의해 파지되는 양 측표면들도 클리닝 페이싱에 닿아 그에 의해 닦여진다.

본 발명의 다른 실시형태에서, 원통형 베이스 본체는 컵 모양일 수 있고 그 실린더 재킷은 개구들을 가질 수 있다. 클리닝 페이싱은 실린더 재킷의 기존 또는 나머지 실린더 외부 표면에 배치된다. 컵형 베이스 본체의 내부는 또한 살균 전자기 방사선이 개구들을 통해 클리닝 페이싱으로 전달되는 방식으로 방사선 소스 또는 추가 방사선 소스에 의해 조사될 수 있다. 본 발명의 이러한 발전으로, 클리닝 페이싱에 살균 전자기 방사선이 도달하여 심층적으로 살균될 수 있다.

핸드레일 처리 장치의 추가 실시형태에서, 적어도 하나의 방사선 소스에 대한 먼지 방지장치가 하우징 내에 배치되어, 하우징에서 주위에 소용돌이치는 먼지가 방사선 소스에 직접 부착되지 않는다. 이러한 먼지 방지장치는 예를 들어 방사선 소스의 투명 커버 또는 먼지 입자를 방사선 소스로부터 멀리 유지하는 임의의 종류의 가이드 본체일 수 있다. 먼지 방지장치는 또한, 예를 들어 소용돌이치는 먼지 입자들이 하우징에 머물러서 수집되기 전에 먼지 입자들을 직접 흡입하여 원통형 베이스 본체와 방사선 소스의 영역으로부터 이들을 제거하는 진공 청소기와 유사한 흡입 장치일 수 있다.

핸드레일 처리 장치의 추가 실시형태에서, 적어도 하나의 방사선 소스를 위한 클리닝 장치가 하우징 내에 또한 배치될 수 있다. 방사선 소스를 향한 압축 공기 노즐, 전기기계적으로 또는 수동으로 작동할 수 있는 와이퍼 시스템 등과 같은 다양한 가능성이 있다.

핸드레일 처리 장치의 추가 실시형태에서, 핸드레일의 이동 방향과 관련하여, 클리닝 페이싱을 갖는 원통형 베이스 본체의 하류에 방사선 소스를 갖는 영역이 있을 수 있다. 살균 전자기 방사선에 의해, 핸드레일의 핸드레일 표면의 적어도 일부가 조사될 수 있다. 이러한 방식으로 처리된 핸드레일은 핸드레일 처리 장치에 세균이 거의 없도록 한다. 승객 운송 시스템에 대해 가능한 운송 방향 또는 이동 방향이 모두 제공되는 경우, 핸드레일 표면을 조사하기 위한 방사선 소스를 갖는 두 개의 영역이 있을 수 있으며, 이 경우 원통형 베이스 본체는 두 영역 사이에 배치된다. 예를 들어, 에너지를 절약하기 위해, 원통형 베이스 본체의 뒤에 배치된, 따라서 그 하류에 배치된 영역만이 살균 전자기 방사선을 방출하도록 이동 방향에 따라 두 영역이 제어될 수 있다.

클리닝 페이싱이 있는 회전하는 원통형 베이스 본체가 제거된 먼지 입자 주위를 돌 수 있기 때문에, 핸드레일 처리 장치는 바람직하게는 핸드레일이 입구 개구 및 출구 개구를 통해 통과하는 실질적으로 폐쇄된 하우징을 갖는다. 변경 시에 핸드레일을 보다 쉽게 수행할 수 있도록 하기 위해, 하우징은 바람직하게는 두 부분으로 설계되고, U자형 메인 하우징 부분 및 메인 하우징 부분의 개방측에 걸쳐 있는 커버를 포함한다.

에스컬레이터 또는 무빙 워크웨이로서 설계된 승객 운송 시스템은 사용자가 이동하는 동안 잡을 수 있는 적어도 하나의 순환 핸드레일을 포함하는 적어도 하나의 난간을 갖는다. 일반적으로 승객 운송 시스템의 컨베이어 벨트의 양측에 연장되는 두 개의 난간이 있다. 본 발명에 따른 적어도 하나의 핸드레일 처리 장치는 바람직하게는 각각의 순환 핸드레일에 대해 제공된다.

대부분의 경우에, 난간은 핸드레일의 리턴 런이 승객 운송 시스템의 사용자로부터 가려지는 난간 베이스를 포함한다. 따라서 난간 베이스는 난간의 난간 베이스 내부에서 사용자의 시야로부터 숨겨진 핸드레일 처리 장치를 설치할 수 있는 가능성을 제공한다.

알려진 바와 같이, 무빙 워크웨이나 에스컬레이터로서 설계된 승객 운송 시스템은 핸드레일을 구동하기 위한 구동 모터 및 구동 모터를 제어하기 위한 구동 제어기를 갖는다. 전술한 핸드레일 처리 장치의 실시형태의 변형예의 적어도 하나의 방사선 소스는 구동 모터에 대한 구동 제어기로부터의 이동 방향 신호 및/또는 속도 신호의 함수로서 제어될 수 있다. 그 결과, 예를 들어 적어도 하나의 방사선 소스는 핸드레일이 움직일 때 살균 전자기 방사선만을 방출하는 것이 달성될 수 있다. 물론, 베이스 본체가 모터에 의해 구동되는 경우에 원통형 베이스 본체의 회전 속도 및/또는 회전 방향도 이러한 신호의 함수로서 제어될 수 있다.

본 발명의 실시형태들이 첨부된 도면을 참조하여 이하에서 설명될 것이며, 도면이나 설명은 본 발명을 제한하는 것으로 해석되지 않는다. 또한, 동일하거나 동일한 효과를 갖는 요소들에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용한다.

도 1 은 핸드레일 처리 장치를 갖는 에스컬레이터로서 설계된 승객 운송 시스템의 간략도이다.
도 2 는 도 1 의 승객 운송 시스템을 통한 A-A 선에 따른 단면도이다.
도 3 은 제 1 실시형태에서 도 1 및 도 2 에 도시된 핸드레일 처리 장치의 정면도이다.
도 4 는 도 3 에 도시된 핸드레일 처리 장치를 통한 B-B 선에 따른 단면도이다.
도 5 는 제 2 실시형태에서 도 1 및 도 2 에 도시된 핸드레일 처리 장치의 정면도이다.
도 6 은 도 5 에 도시된 핸드레일 처리 장치를 통한 C-C 선에 따른 단면도이다.

도 1 은 프레임워크로서 설계된 지지 구조물 (11) 을 갖는 승객 운송 시스템 (1) 의 간략도를 도시한다. 에스컬레이터로서 설계된 승객 운송 시스템 (1) 은 건물 (5) 의 하부 레벨 (E1) 과 상부 레벨 (E2) 을 연결한다. 승객 운송 시스템 (1) 은 액세스 영역 (3) 을 통해 사용자가 다시 출입할 수 있다. 순환 스텝 벨트 (9) 는 지지 구조물 (11) 에 설치되며, 이는 상부 레벨 (E2) 및 하부 레벨 (E1) 에서 편향되어 리딩 부분 및 리턴 부분을 갖는다. 더 나은 개요를 위해, 프레임, 가이드 레일 및 레일 블록의 세부 표시뿐만 아니라 리턴 부분의 세부 표시가 생략되었다.

승객 운송 시스템 (1) 은 또한 스텝 벨트 (9) 의 각 종방향 측면을 따라 연장되는 2개의 난간 (15) 을 가지며, 도 1 에서는 관찰 평면에서 전경에 배치된 난간 (15) 만을 볼 수 있다. 핸드레일 (17) 은 순환 방식으로 각 난간 (15) 에 배치되며, 이의 리턴 런은 난간 베이스 (13) 에서 안내된다. 이 난간 베이스 (13) 는 난간 (15) 을 지지 구조물 (11) 에 연결한다. 환언하면, 핸드레일 (17) 의 리턴 런은 승객 운송 시스템 (1) 의 사용자로부터 숨겨져 있고 난간 베이스 (13) 에서 안내된다.

스텝 벨트 (9) 및 핸드레일 (17) 은 승객 운송 시스템 (1) 의 구동 유닛 (7) 에 의해 구동될 수 있으며, 구동 유닛 (7) 은 구동 모터 (21) 를 갖는다. 핸드레일 (17) 및 스텝 벨트 (9) 의 이동 방향 및 그들의 속도는 예를 들어 주파수 변환기 (미도시) 를 통한 제어 신호에 의해 구동 모터 (21) 를 제어하는 제어기 (19) 에 의해 특정된다.

또한, 승객 운송 시스템 (1) 은 각각의 순환 핸드레일 (17) 에 대해 적어도 하나의 핸드레일 처리 장치 (41, 141) 를 갖는다. 이는 또한 난간 (15) 의 난간 베이스 (13) 에 설치되며, 따라서 승객 운송 시스템 (1) 의 사용자로부터 숨겨진다.

도 2 는 A-A 선을 따라 도 1 에 따른 승객 운송 시스템 (1) 을 통한 단면을 도시한다. 이 단면에서, 스텝 벨트 (9) 의 리딩 부분과 리턴 부분을 모두 볼 수 있다. 스텝 벨트 (9) 는 지지 구조물 (11) 내에서 가이드 레일 (23) 상에 안내된다. 스텝 벨트 (9) 의 리딩 부분의 좌우측에는 난간 (15) 과 난간 베이스 (13) 가 배치되며, 승객 운송 시스템 (1) 이 의도한 대로 설치되는 때에 상부에 배치된다. 클램핑 장치들 (29) 은 개별 난간 패널들 (33) 을 위한 클램핑 리셉터클로서의 역할을 하는 클래딩 패널들 (25, 27) 에 의해 가려지는, 난간 베이스 (13) 내에 제공된다. 이 경우, 난간 패널 (33) 은 클램핑 장치들 (29) 중 적어도 하나에서 그 하단부에서 고정 방식으로 클램핑된다. 클램핑 장치들 (29) 은 지지 구조물 (11) 상의 난간 베이스 (13) 내에서 승객 운송 시스템 (1) 의 종방향 연장부를 따라 배치된다. 핸드레일 처리 장치 (41, 141) 는 난간 (15) 상에 순환 방식으로 배치된 각각의 핸드레일 (17) 에 대해 클램핑 장치 (29) 아래에 제공된다.

핸드레일 (17) 의 리턴 런이 또한 난간 베이스 (13) 에서 안내되기 때문에, 난간 베이스 (13) 에 핸드레일 처리 장치 (41, 141) 를 배치하는 것, 이 경우에는, 설계에 따라, 핸드레일 처리 장치 (41, 141) 를 통해 리턴 런을 안내하는 것이 유리하다. 이는 승객 운송 시스템 (1) 의 사용자가 핸드레일 처리 장치 (41, 141) 와 접촉할 수 없도록 보장할 수 있다.

도 3 은 도 1 및 도 2 에 도시된 핸드레일 처리 장치 (41) 의 제 1 실시형태를 정면도로 도시한다. 도 4 는 도 3 에 도시된 핸드레일 처리 장치 (41) 를 통한 B-B선에 따른 단면을 도시한다. 이하에서는, 도 3 과 도 4 를 함께 설명한다.

이 실시형태는 하우징 (51) 및 회전 축선 (53) 을 중심으로 회전 가능하도록 하우징 (51) 에 배치된 원통형 베이스 본체 (55) 를 포함한다. 베이스 본체 (55) 의 실린더 외부 표면 (57) 상에 클리닝 페이싱 (59) 이 배치되며, 이 클리닝 페이싱 (59) 위에서 핸드레일 (17) 이 안내될 수 있어서 먼지 입자 (61) 가 핸드레일 표면 (18) 으로부터 제거될 수 있다. 핸드레일 (17) 의 움직임은 클리닝 페이싱 (59) 과 핸드레일 표면 (18) 사이의 마찰의 결과로 원통형 베이스 본체 (55) 를 구동한다.

또한, 살균 전자기 방사선을 방출할 수 있는 두 개의 방사선 소스 (43) 가 하우징 (51) 내부에 배치된다. 이를 위해, 바람직하게는 예를 들어 200 nm 내지 280 nm 파장 범위의 자외선, 소위 UV-C 광을 방출할 수 있는 형광 튜브 또는 발광 다이오드가 사용되지만, 살균 방사선을 방출할 수 있는 다른 방사선 소스 (43) 도 가능하다. 논리적으로, 충분한 조사를 위해, 도시된 UV-C 형광 튜브들 중 하나에서와 같이 동일한 폭의 하우징 (51) 에 대한 살균 효과를 얻기 위해 중첩되는 라이트 콘을 갖는 UV-C LEDs 의 열 (row) 이 필요하다.

2개의 방사선 소스 (43) 는, 방사선 소스들 (43) 을 지나서 연속적으로 이동하는 클리닝 페이싱 (59) 이 베이스 본체 (55) 의 회전시에 방사선 소스 (43) 의 살균 전자기 방사선에 노출되는 방식으로 베이스 본체 (55) 와 정렬된다. 이는 클리닝 페이싱 (59) 과 클리닝 페이싱 (59) 에 의해 핸드레일로부터 제거된 먼지를 살균하여, 핸드레일 (17) 이 클리닝 페이싱 (59) 의 살균된 영역을 통해 지속적으로 세척되고 박테리아 및 바이러스가 클리닝 페이싱 (59) 을 회전시킴으로써 핸드레일 표면 (18) 에 재감염되지 않도록 한다.

또한, 3개의 와이핑 요소들 (63, 65) 이 하우징 (51) 에 배치되고, 이들의 와이핑 에지들 (67) 은 클리닝 페이싱 (59) 의 클리닝 팁들 (69) 과 상호작용한다. 결과적으로, 예를 들어, 클리닝 페이싱 (59) 의 강모들 또는 라멜라는 먼지 (61) 가 그 사이의 틈에서 더 잘 빠져나올 수 있는 한편으로 전자기 방사선이 강모들 또는 라멜라 사이에 더 깊이 침투할 수 있도록 국부적으로 멀리 퍼진다. 또한, 와이핑 요소들 (63, 65) 은 원통형 베이스 본체 (55) 의 회전 속도를 제동하여, 핸드레일 표면 (18) 과 클리닝 팁들 (69) 사이에 속도 차이가 발생한다. 이 사실은 핸드레일 (17) 의 핸드레일 속도와 원통형 베이스 본체 (55) 의 회전 속도에 대해 동일하지 않은 길이의 화살표 (71, 72) 로 도 4 에서 상징적으로 도시되어 있다.

와이핑 요소 (65) 는 가요성 재료로 만들어진 립을 가질 수 있고, 와이핑 에지 (67) 는 립에 형성된다. 그러나, 와이핑 요소 (63) 는 또한 와이핑 브러시일 수 있으며, 그 강모 팁들은 와이핑 에지 (67) 를 형성한다. 원칙적으로, 핸드레일 처리 장치 (41) 의 모든 와이핑 요소들 (63, 65) 은 동일한 디자인을 가질 수 있다. 도 4 에서 명확하게 알 수 있는 바와 같이, 와이핑 요소 (63, 65) 의 두 설계 변형예들의 조합이 동일한 장치에서 또한 사용될 수 있다.

하우징 (51) 에 수집된 먼지 입자 (61) 를 제거할 수 있도록, 먼지 제거 장치 (75) 가 제공될 수 있다. 본 실시형태에서, 이는 서비스 직원이 때때로 비울 수 있는 간단한 서랍 (drawer) 이다. 물론, 연속적으로 또는 주기적으로 먼지 (61) 를 자동으로 흡입할 수 있도록 먼지 제거 장치 (75) 로서 흡입 장치용 연결부가 하우징 (55) 상에 존재할 수도 있다.

도 5 는 제 2 실시형태로서 도 1 및 도 2 에 도시된 핸드레일 처리 장치 (141) 의 정면도이다. 도 6 은 도 5 에 도시된 핸드레일 처리 장치 (141) 를 통한 C-C선에 따른 단면을 도시한다. 이하에서는, 도 5 와 도 6 을 함께 설명한다.

제 2 실시형태는, 제 1 실시형태와 마찬가지로, 하우징 (151) 및 회전 축선 (53) 을 중심으로 회전 가능하도록 내부에 배치된 원통형 베이스 본체 (155) 와 같은 동일한 효과를 갖는 복수의 구성요소들을 갖는다. 와이핑 요소 (65) 및 UV-C 광과 같은 살균 전자기 방사를 위한 방사선 소스 (43) 가 또한 하우징 (151) 에 배치된다.

제 1 실시형태와의 실질적인 차이점 중 하나는 원통형 베이스 본체 (155) 가 모터 (177) 에 의해 구동될 수 있다는 점이다. 이 경우, 핸드레일의 이동시에 핸드레일 (17) 의 표면 (18) 과 그에 접촉하는 클리닝 팁 (69) 사이에 속도 차이가 있도록 원통형 베이스 본체 (155) 의 회전 속도는 바람직하게는 핸드레일 (17) 의 속도에 대해 조정된다. 필요에 따라, 핸드레일 표면 (18) 에 대향하는 베이스 본체 (155) 의 회전 방향이 실선 또는 파선으로 표시된 화살표 (71, 72, 73, 74) 로 표시된 바와 같이 또한 선택될 수 있다.

또 다른 차이점은, 원통형 베이스 본체 (155) 가 컵 모양이고 그 실린더 재킷 (181) 이 개구들 (183) 을 갖는다는 점이다. 본 실시형태에서 강모들인 클리닝 페이싱 (59) 은 본 실린더 재킷 (181) 의 실린더 외부 표면 (57) 에 배치된다. 컵형 베이스 본체 (155) 의 내부 (185) 는 살균 전자기 방사선이 개구들 (183) 을 통해 클리닝 페이싱 (59) 에 도달하는 방식으로 그 안에 배치된 방사선 소스 (43) 에 의해 조사된다.

하우징 (151) 에는 방사선 소스 (43) 의 먼지 방지장치 (187) 가 배치되어, 먼지 (61) 가 중력으로 인해 방사선 소스 (43) 의 상부에 쌓이지 않는다. 이는 또한 방사선 소스 (43) 를 향하는 반사 표면 (189) 을 구비할 수 있어서, 반사 표면 (189) 에 충돌하는 방사선이 베이스 본체 (155) 의 내부 (185) 의 다른 영역들로 반사된다.

도 5 에 도시된 바와 같이, 클리닝 장치 (191) 는 방사선 소스들 (43) 중 적어도 하나에 대해 존재할 수도 있다. 이는, 예를 들어, 작동 링키지 (195) 에 의해 방사선 소스 (43) 위에서 이동할 수 있는 브러시 링 (193) 으로서 설계된다. 클리닝 장치 (191) 및/또는 먼지 방지장치 (187) 는 바람직하게는 방사선 소스들 (43) 각각에 대해 하우징 (151) 에 배치된다.

도 6 에서 알 수 있는 바와 같이, 핸드레일 처리 장치 (141) 의 제 2 실시형태는 클리닝 페이싱 (59) 을 갖는 원통형 베이스 본체 (155) 의 하류에 위치하는 방사선 소스들 (43) 을 갖는 영역 (197, 199) 을 갖는다. 이 하류 영역 (197, 199) 은, 핸드레일 (17) 의 이동 방향으로 조정되며, 즉 방사선 소스 (43) 로부터의 살균 전자기 방사선이 클리닝 페이싱 (59) 에 의해 세척된 핸드레일 (17) 을 조사하도록 배치된다. 승객 운송 시스템 (1) 이 쌍방의 운반 방향으로 작동될 수 있는 경우, 이러한 하류 영역 (197, 199) 은 또한 파선으로 표시된 바와 같이 베이스 본체 (155) 의 양측에 존재할 수 있다. 예를 들어, 방사선 소스 (43) 는 승객 운송 시스템 (1) 의 운반 방향에 따라 제어될 수 있다.

클리닝 페이싱 (59) 을 환경적 영향으로부터 보호하기 위해, 그리고 필요하다면, 안전상의 이유로 하류 영역 (197, 199) 의 방사선 소스 (43) 를 덮기 위해, 하우징 (151) 은 두 부분으로 설계될 수 있고, 개방측을 갖는 메인 하우징 부분 (149) 및 메인 하우징 부분 (149) 의 개방측에 걸쳐 있는 커버 (147) 를 가질 수 있다.

전술한 핸드레일 처리 장치 (41, 141) 의 2개의 실시형태에서, 클리닝 페이싱 (59) 은 또한 클리닝 페이싱 (49) 의 트레드 윤곽이 안내될 핸드레일 (17) 의 외부 표면 윤곽에 대응하도록 회전 축선 (53) 에 대해 직교하여 프로파일링된다. 그 결과, 핸드레일 (17) 의 측면 플랭크들 (16) 이 또한 세척 및 살균될 수 있다.

도 1 내지 도 6 은 서로 수직으로 이격된 플로어들 (E1, E2) 을 연결하도록 의도된 에스컬레이터로서 설계된 승객 운송 시스템 (1) 에 기초하여 본 발명의 상이한 양태들을 도시하지만, 전술한 핸드레일 처리 장치 (41, 141) 는 비스듬히 배치된 무빙 워크웨이나 수평으로 배치된 무빙 워크웨이에도 적용된다. 또한, 하류 영역들 (197, 199) 은 각각 복수의 방사선 소스 (43) 를 가질 수 있고 상이한 평면들에 배치될 수 있으므로, 승객 운송 시스템의 사용자가 만질 수 있는 전체 핸드레일 표면 (18) 이 방사선 소스에 의해 직접 조사될 수 있다. 또한, 모터 (177) 대신에, 핸드레일 (17) 의 움직임을 검출하고 스텝-다운 또는 스텝-업 기어를 통해 베이스 본체 (155) 를 구동할 수 있는 마찰 휠을 사용하는 것이 또한 가능하다.

마지막으로, "포함하는", "갖는" 등과 같은 용어는 다른 요소들 또는 단계들을 배제하지 않으며 단수 표현과 같은 용어는 복수를 배제하지 않는다는 점에 유의해야 한다. 또한, 전술한 실시형태들 중 하나를 참조하여 설명된 특징들 또는 단계들은 또한 전술한 다른 실시형태들의 다른 특징들 또는 단계들과 조합하여 사용될 수 있음을 유의해야 한다. 청구범위의 참조 기호는 제한적인 것으로서 간주되지 않는다.

Claims

핸드레일 처리 장치 (41, 141) 로서,
적어도 하나의 하우징 (51, 151) 및 상기 하우징 (51, 151) 내에 회전 축선 (53) 을 중심으로 회전가능하게 배치된 원통형 베이스 본체 (55, 155) 를 포함하고, 상기 원통형 베이스 본체의 실린더 외부 표면 (57) 상에 클리닝 페이싱 (cleaning facing: 59) 이 배치되고, 상기 클리닝 페이싱 (59) 위에서, 에스컬레이터 또는 무빙 워크웨이로서 설계된 승객 운송 시스템 (1) 의 순환 핸드레일 (17) 이 먼지 및 세균 (61) 을 제거할 목적으로 안내될 수 있고,
상기 하우징 (51, 151) 내부에는 살균 전자기 방사선을 방출할 수 있는 적어도 하나의 방사선 소스 (43) 가 배치되고, 상기 방사선 소스 (43) 를 지나서 연속적으로 이동하는 상기 클리닝 페이싱 (59) 이 상기 베이스 본체 (55, 155) 의 회전시에 상기 방사선 소스 (43) 의 살균 전자기 방사선에 노출되도록 상기 방사선 소스 (43) 가 상기 베이스 본체 (55, 155) 와 정렬되는, 핸드레일 처리 장치 (41, 141).
제 1 항에 있어서,
상기 하우징 (51, 151) 내에 적어도 하나의 와이핑 요소 (63, 65) 가 있고, 상기 와이핑 요소의 와이핑 에지 (67) 가 상기 클리닝 페이싱 (59) 의 클리닝 팁들 (69) 과 상호작용하는, 핸드레일 처리 장치 (41, 141).
제 2 항에 있어서,
상기 와이핑 요소 (65) 가 가요성 재료로 이루어진 립을 갖고, 상기 립 상에 상기 와이핑 에지 (67) 가 형성되는, 핸드레일 처리 장치 (41, 141).
제 2 항에 있어서,
상기 와이핑 요소 (63) 가 와이핑 브러시를 갖고, 상기 와이핑 브러시의 강모 팁들이 상기 와이핑 에지 (67) 를 형성하는, 핸드레일 처리 장치 (41, 141).
제 2 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 원통형 베이스 본체 (55, 155) 는 그 위에서 안내되는 상기 핸드레일 (17) 의 이동에 의해 구동되고, 상기 와이핑 요소 (63, 65) 는, 상기 핸드레일 (17) 의 이동시에, 상기 원통형 베이스 본체 (55, 155) 상에서 제동 효과가 발생하고 그 결과로서 상기 핸드레일 (17) 의 핸드레일 표면 (18) 과 상기 핸드레일 표면에 접촉하는 상기 클리닝 팁들 (69) 사이에 속도 차이가 존재하도록, 상기 클리닝 페이싱 (59) 의 상기 클리닝 팁들 (69) 과 상호작용하는, 핸드레일 처리 장치 (41, 141).
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 원통형 베이스 본체 (55, 155) 는 모터 (177) 에 의해 구동될 수 있고, 상기 원통형 베이스 본체 (55) 의 회전 속도는, 상기 핸드레일 (17) 의 이동시에 상기 핸드레일 (17) 의 핸드레일 표면 (18) 과 상기 핸드레일 표면에 접촉하는 상기 클리닝 팁들 (69) 사이에 속도 차이가 존재하도록, 상기 핸드레일 (17) 의 속도에 대해 조정되는, 핸드레일 처리 장치 (41, 141).
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 클리닝 페이싱 (59) 은, 상기 클리닝 페이싱 (59) 의 트레드 윤곽 (tread contour) 이 안내될 상기 핸드레일 (17) 의 외부 표면 윤곽에 대응하도록, 상기 회전 축선 (53) 에 대해 직각으로 프로파일링되는, 핸드레일 처리 장치 (41, 141).
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 원통형 베이스 본체 (55, 155) 는 컵 형상이고 상기 원통형 베이스 본체의 실린더 재킷 (181) 은 개구들 (183) 을 갖고, 상기 실린더 재킷 (181) 의 기존 실린더 외부 표면 (57) 상에 상기 클리닝 페이싱 (59) 이 배치되고, 컵 형상의 상기 원통형 베이스 본체 (55, 155) 의 내부 (185) 는, 살균 전자기 방사선이 상기 개구들 (183) 을 통해 상기 클리닝 페이싱 (59) 으로 통과되도록, 상기 방사선 소스 (43) 또는 또 다른 방사선 소스 (43) 에 의해 조사될 수 있는, 핸드레일 처리 장치 (41, 141).
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 방사선 소스 (43) 를 위해 상기 하우징 (51, 151) 내에 먼지 방지장치 (187) 가 배치되는, 핸드레일 처리 장치 (41, 141).
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 방사선 소스 (43) 를 위해 상기 하우징 (51, 151) 내에 클리닝 장치 (191) 가 배치되는, 핸드레일 처리 장치 (41, 141).
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 핸드레일 (17) 의 이동 방향을 기준으로, 클리닝 페이싱 (59) 을 갖는 상기 원통형 베이스 본체 (55, 155) 의 하류에 방사선 소스들 (43) 을 갖는 영역이 존재하고, 상기 핸드레일 (17) 의 핸드레일 표면 (18) 의 적어도 일부가 상기 방사선 소스들의 살균 전자기 복사에 의해 조사될 수 있는, 핸드레일 처리 장치 (41, 141).
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 하우징 (51, 151) 은 두 부분으로 설계되고, 개방측을 갖는 메인 하우징 부분 (149) 및 상기 메인 하우징 부분 (149) 의 상기 개방측을 덮는 커버 (147) 를 갖는, 핸드레일 처리 장치 (41, 141).
적어도 하나의 순환 핸드레일 (17) 을 포함하는 적어도 하나의 난간 (15) 을 포함하는, 에스컬레이터 또는 무빙 워크웨이로서 설계된 승객 운송 시스템 (1) 으로서,
상기 승객 운송 시스템 (1) 은 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 따른 각 순환 핸드레일 (17) 용의 적어도 하나의 핸드레일 처리 장치 (41, 141) 를 갖는, 승객 운송 시스템 (1).
제 13 항에 있어서,
상기 난간 (15) 은 상기 핸드레일 (17) 의 리턴 런 (return run) 이 상기 승객 운송 시스템 (1) 의 사용자로부터 숨겨지도록 안내되는 난간 베이스 (13) 를 포함하고, 상기 핸드레일 처리 장치 (41, 141) 는 상기 난간 (15) 의 상기 난간 베이스 (13) 에 설치되는, 승객 운송 시스템 (1).
제 13 항 또는 제 14 항에 따른 승객 운송 시스템 (1) 에서의 핸드레일 처리 장치 (41, 141) 의 제어 방법으로서,
상기 승객 운송 시스템 (1) 은 상기 핸드레일 (17) 을 구동시키기 위한 구동 모터 (21) 및 상기 구동 모터 (21) 를 제어하기 위한 구동 제어기 (19) 를 갖고, 상기 핸드레일 처리 장치 (41, 141) 의 적어도 하나의 방사선 소스 (43) 는 상기 구동 모터 (21) 에 대한 상기 구동 제어기 (19) 로부터의 이동 방향 신호 및/또는 속도 신호의 함수로서 제어되는, 승객 운송 시스템 (1) 에서의 핸드레일 처리 장치 (41, 141) 의 제어 방법.