KR20230037868A - Substrate treating apparatus - Google Patents

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KR20230037868A KR1020210120949A KR20210120949A KR20230037868A KR 20230037868 A KR20230037868 A KR 20230037868A KR 1020210120949 A KR1020210120949 A KR 1020210120949A KR 20210120949 A KR20210120949 A KR 20210120949A KR 20230037868 A KR20230037868 A KR 20230037868A
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Abstract

The present invention relates to a substrate treating apparatus comprising: a substrate support device including a chuck base rotatably installed by a rotating shaft; a fluid supply unit supplying a processing liquid to the upper surface of the substrate; and a back nozzle assembly installed through a hollow portion formed in the center of the chuck base to spray the processing liquid on the lower surface of the substrate. The back nozzle assembly includes: a nozzle housing installed in the hollow portion of the chuck base and having an installation hole formed therethrough; a nozzle body disposed with an annular flow path and the inner peripheral surface of the nozzle housing between portions thereof; a hollow nozzle shaft installed below the nozzle body; a back nozzle penetrating through an upper portion of the nozzle body to protrude from the upper portion; and a purge unit including the annular flow path, a gas supply passage supplying purge gas to the annular flow path, and an exhaust passage exhausting the purge gas from the annular flow path. The annular flow path includes: a buffer portion receiving the purge gas from the gas supply passage; a first purge flow path extending from an upper portion of the buffer portion to an open upper portion between the nozzle body and the nozzle housing; and a second purge flow path extending from the upper portion of the buffer portion to a bearing between the rotating shaft and the nozzle shaft. Therefore, the substrate treating apparatus can very easily block the processing liquid, sprayed by the back nozzle, from flowing back into the flow path and prevent particles, generated from the bearing, from leaking into the first purge flow path through the buffer portion.

Description

기판 처리장치{SUBSTRATE TREATING APPARATUS}Substrate processing device {SUBSTRATE TREATING APPARATUS}

본 발명은 기판 처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 회전부와 비회전부 사이에 마그네틱 베어링이 설치되는 회전식 기판 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a rotary substrate processing apparatus in which a magnetic bearing is installed between a rotating part and a non-rotating part.

일반적으로, 반도체 디바이스는 기판상에 여러 가지 물질을 박막 형태로 증착하고 이를 패터닝하여 제조되며, 이를 위하여 증착 공정, 포토리소그래프 공정, 식각 공정, 세정 공정 및 건조 공정 등 여러 단계의 서로 다른 공정들이 요구된다.In general, semiconductor devices are manufactured by depositing various materials in the form of thin films on a substrate and patterning them, and for this, different processes such as a deposition process, a photolithography process, an etching process, a cleaning process, and a drying process are required. It is required.

이 중 세정 공정과 건조 공정은, 상기 기판 상에 존재하는 이물질이나 파티클 등을 제거한 후 건조하는 공정으로서, 기판을 스핀 헤드(척 베이스) 상에 지지한 상태에서 고속으로 회전시키면서 기판의 상면이나 하면에 처리액을 공급하여 이루어진다.Among them, the cleaning process and the drying process are processes of removing foreign substances or particles present on the substrate and then drying the upper or lower surface of the substrate while rotating the substrate at high speed while supporting it on a spin head (chuck base). It is made by supplying a treatment liquid to

이러한 회전식 기판 처리장치는, 기판의 하면에 처리액을 공급하기 위한 노즐이 설치되는 중앙의 비회전부와, 상기 기판을 지지하며 상기 비회전부를 감싼 상태에서 회전하여 기판이나 회전부의 상면에 잔류한 처리액이나 세정액을 외측으로 밀어내기 위한 회전부로 구성된다.Such a rotary substrate processing device includes a central non-rotating part in which a nozzle for supplying a treatment liquid is installed on the lower surface of the substrate, and a treatment remaining on the upper surface of the substrate or rotating part by rotating while supporting the substrate and covering the non-rotating part. It consists of a rotating part for pushing the liquid or cleaning liquid outward.

또한, 상기 회전부와 비회전부 사이로 처리액이 유입되는 것을 방지하고 외측으로 밀어내기 위해 N2 가스 등의 퍼지 가스를 분사하게 되며, 이를 위해 상기 회전부와 비회전부 사이에는 환형의 유로가 형성되어 있다.In addition, a purge gas such as N2 gas is injected to prevent the treatment liquid from flowing between the rotating part and the non-rotating part and to push it outward. To this end, an annular flow path is formed between the rotating part and the non-rotating part.

상기 회전부와 비회전부 사이에는 회전을 지지하기 위한 구름 베어링이 설치되는 것이 일반적이다.In general, a rolling bearing for supporting rotation is installed between the rotating part and the non-rotating part.

그러나, 하기 [특허문헌]에서 알 수 있는 바와 같이, 회전부와 비회전부 사이에 설치된 구름 베어링에서 발생하는 파티클이나 이물질이 회전부와 비회전부 사이의 통로를 통해 기판의 하면으로 배출되어 기판을 손상시킬 수 있으므로, 이를 방지하기 위한 퍼지 유로가 상기 환형의 유로에 포함될 수밖에 없었다.However, as can be seen in the following [Patent Document], particles or foreign substances generated from the rolling bearing installed between the rotating part and the non-rotating part are discharged to the lower surface of the substrate through the passage between the rotating part and the non-rotating part and may damage the substrate. Therefore, a purge flow path to prevent this has to be included in the annular flow path.

따라서, 상기 환형의 유로 구조가 복잡하여 제조가 어려운 단점이 있었으며 회전부의 회전시 베어링에서 발생하는 소음과 진동으로 인해 기판처리에 악영향을 미치는 경우가 있었다.Therefore, the structure of the annular flow path is complicated and difficult to manufacture, and noise and vibration generated from the bearing when the rotating part rotates may adversely affect substrate processing.

공개특허공보 제10-2011-0058560호 (2011.06.01)Patent Publication No. 10-2011-0058560 (2011.06.01)

본 발명은 전술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 회전부와 비회전부 사이에 마그네틱 베어링을 설치하여 파티클이 발생하는 것을 원천적으로 방지함으로써 퍼지 가스의 통로인 환형의 유로를 간단한 구조로 용이하게 제조할 수 있고 소음을 최소화할 수 있는 기판 처리장치를 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to fundamentally prevent the generation of particles by installing a magnetic bearing between a rotating part and a non-rotating part, thereby fundamentally preventing the generation of particles. It is to provide a substrate processing apparatus that can be easily manufactured with a simple structure and can minimize noise.

또한 본 발명의 목적은, 상기 마그네틱 베어링이 설치되는 비회전부인 노즐 샤프트의 기울기를 용이하게 조정할 수 있는 기판 처리장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of easily adjusting the inclination of a nozzle shaft, which is a non-rotating part in which the magnetic bearing is installed.

전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 기판 처리장치는,In order to achieve the above object, the substrate processing apparatus according to the present invention,

기판의 하면에 처리액을 공급하기 위한 노즐이 설치되는 중앙의 비회전부; 및a central non-rotating part in which a nozzle for supplying a treatment liquid to a lower surface of the substrate is installed; and

상기 기판을 지지하며 상기 비회전부를 감싼 상태에서 회전축에 의해 회전하는 회전부;a rotating part supporting the substrate and rotating by a rotating shaft in a state surrounding the non-rotating part;

를 포함하되,Including,

상기 회전부와 비회전부 사이에는 마그네틱 베어링이 설치되며, 상기 마그네틱 베어링은 상기 회전부에 설치되는 제1 자석과 비회전부에 설치되는 제2 자석을 포함하는 것을 특징으로 한다.A magnetic bearing is installed between the rotating part and the non-rotating part, and the magnetic bearing includes a first magnet installed in the rotating part and a second magnet installed in the non-rotating part.

상기 제1 자석과 제2 자석은 각각 상기 회전축 방향으로 자화되는 것을 특징으로 한다.The first magnet and the second magnet are each magnetized in the direction of the rotation axis.

평면도에서 바라볼 때, 상기 제1 자석과 제2 자석은 반경방향으로 서로 척력이 작용하도록 배치되는 것을 특징으로 한다.When viewed from a plan view, the first magnet and the second magnet are characterized in that they are disposed so that a repulsive force acts on each other in a radial direction.

상기 회전부와 비회전부에는 상기 제1 자석과 제2 자석이 고정 설치되기 위한 제1 설치홈과 제2 설치홈이 각각 형성되는 것을 특징으로 한다.It is characterized in that a first installation groove and a second installation groove for fixing the first magnet and the second magnet are respectively formed in the rotating part and the non-rotating part.

상기 제1 자석과 제2 자석은 500 가우스 이상의 자속밀도를 가지는 네오디뮴으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The first magnet and the second magnet are characterized in that made of neodymium having a magnetic flux density of 500 Gauss or more.

상기 비회전부는,The non-rotating part,

백 노즐이 관통 지지되는 노즐 몸체;a nozzle body through which the bag nozzle is supported;

상기 노즐 몸체의 하부에 연결되며 상기 제2 자석이 외주면에 설치되는 노즐 샤프트; 및a nozzle shaft connected to a lower portion of the nozzle body and having the second magnet installed on an outer circumferential surface; and

상기 노즐 샤프트의 하단 둘레가 끼워지는 지지 브라켓;a support bracket into which the circumference of the lower end of the nozzle shaft is fitted;

을 포함하며,Including,

상기 회전부는,the rotating part,

기판이 설치되기 위한 척 베이스;A chuck base on which a substrate is installed;

상기 척 베이스의 하부에 배치되며 상기 제1 자석이 내주면에 설치되는 상기 회전축; 및the rotating shaft disposed under the chuck base and having the first magnet installed on an inner circumferential surface; and

상기 척 베이스에 고정되며, 환형의 유로를 사이에 두고 상기 노즐 몸체를 감싸도록 설치되는 노즐 하우징;a nozzle housing fixed to the chuck base and installed to surround the nozzle body with an annular flow path interposed therebetween;

를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.It is characterized in that it is configured to include.

또한, 상기 비회전부는,In addition, the non-rotating part,

백 노즐이 관통 지지되는 노즐 몸체;a nozzle body through which the bag nozzle is supported;

상기 노즐 몸체의 하부에 연결되며 상기 제2 자석이 외주면에 설치되는 노즐 샤프트; 및a nozzle shaft connected to a lower portion of the nozzle body and having the second magnet installed on an outer circumferential surface; and

상기 노즐 샤프트의 하단 둘레가 끼워지는 지지 브라켓;a support bracket into which the circumference of the lower end of the nozzle shaft is fitted;

을 포함하며,Including,

상기 노즐 샤프트에는, 상기 지지 브라켓에 면하는 부분에 걸림 구멍이 형성되어 있고, 상기 지지 브라켓에는 그 외주면으로부터 내주면을 지나 연장되어 상기 걸림 구멍에 진입하는 회전방지 록이 관통 설치되는 것을 특징으로 한다.In the nozzle shaft, a locking hole is formed at a portion facing the support bracket, and an anti-rotation lock extending from an outer circumferential surface through an inner circumferential surface and entering the locking hole is installed through the support bracket.

또한, 상기 비회전부는,In addition, the non-rotating part,

백 노즐이 관통 지지되는 노즐 몸체;a nozzle body through which the bag nozzle is supported;

상기 노즐 몸체의 하부에 연결되며 상기 제2 자석이 외주면에 설치되는 노즐 샤프트; 및a nozzle shaft connected to a lower portion of the nozzle body and having the second magnet installed on an outer circumferential surface; and

상기 노즐 샤프트의 하단 둘레가 끼워지는 지지 브라켓;a support bracket into which the circumference of the lower end of the nozzle shaft is fitted;

을 포함하며,Including,

상기 지지 브라켓에는, 그 외주면으로부터 내주면을 지나 단부가 상기 노즐 샤프트의 외면을 누르도록 연장되는 기울기 조정구가 설치되는 것을 특징으로 한다.It is characterized in that the support bracket is provided with a tilt adjuster extending from the outer circumferential surface to the inner circumferential surface so that an end thereof presses the outer surface of the nozzle shaft.

상기 기울기 조정구는 회전축 방향으로 2개 이상 설치되는 것을 특징으로 한다.The inclination adjuster is characterized in that two or more are installed in the direction of the rotation axis.

전술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명의 기판 처리장치에 따르면, 기판의 하면에 처리액을 공급하기 위한 노즐이 설치되는 중앙의 비회전부, 및 상기 기판을 지지하며 상기 비회전부를 감싼 상태에서 회전축에 의해 회전하는 회전부를 포함하되, 상기 회전부와 비회전부 사이에는 마그네틱 베어링이 설치되며, 상기 마그네틱 베어링은 상기 회전부에 설치되는 제1 자석과 비회전부에 설치되는 제2 자석을 포함하는 것을 특징으로 하므로 제1 자석과 제2 자석이 비접촉인 상태에서 축지지하게 되므로 파티클 등의 이물질 발생이 없고 소음발생이 없다는 장점이 있다.According to the substrate processing apparatus of the present invention having the configuration as described above, a central non-rotating part in which a nozzle for supplying a treatment liquid to the lower surface of the substrate is installed, and a rotating shaft in a state of supporting the substrate and covering the non-rotating part It includes a rotating part that rotates by, but a magnetic bearing is installed between the rotating part and the non-rotating part, and the magnetic bearing is characterized in that it includes a first magnet installed in the rotating part and a second magnet installed in the non-rotating part. Since the first magnet and the second magnet are axis-supported in a non-contact state, there is no generation of foreign substances such as particles and no noise.

또한 본 발명에 따르면, 상기 제1 자석과 제2 자석은 각각 상기 회전축 방향으로 자화되도록 구성함으로써 회전축 방향으로 자석의 크기를 키울 수 있고 반경방향으로는 다른 주변구조물을 위한 공간이 마련되므로 한층 콤팩트한 구성이 가능하게 된다.In addition, according to the present invention, the first magnet and the second magnet are configured to be magnetized in the direction of the rotation axis, so that the size of the magnet can be increased in the direction of the rotation axis, and space is provided for other peripheral structures in the radial direction, making it more compact. configuration is possible.

또한 본 발명에 따르면, 마그네틱 베어링을 구성하는 제1 자석과 제2 자석이 서로 척력이 작용하는 경우 제1 자석과 제2 자석 사이의 자세를 더 안정적으로 가져갈 수 있게 된다.In addition, according to the present invention, when the first magnet and the second magnet constituting the magnetic bearing have a repulsive force acting on each other, the posture between the first magnet and the second magnet can be taken more stably.

또한 본 발명에 따르면, 상기 회전부와 비회전부에는 상기 제1 자석과 제2 자석이 고정 설치되기 위한 제1 설치홈과 제2 설치홈이 각각 형성되어 있어 상기 제1 자석과 제2 자석의 견고한 결합이 가능하게 된다.In addition, according to the present invention, a first installation groove and a second installation groove for fixing the first magnet and the second magnet are formed in the rotating part and the non-rotating part, respectively, so that the first magnet and the second magnet are firmly coupled. this becomes possible

또한 본 발명에 따르면, 상기 비회전부는, 백 노즐이 관통 지지되는 노즐 몸체, 상기 노즐 몸체의 하부에 연결되며 상기 제2 자석이 외주면에 설치되는 노즐 샤프트, 및 상기 노즐 샤프트의 하단 둘레가 끼워지는 지지 브라켓을 포함하며, 상기 회전부는, 기판이 설치되기 위한 척 베이스, 상기 척 베이스의 하부에 배치되며 상기 제1 자석이 내주면에 설치되는 상기 회전축, 및 상기 척 베이스에 고정되며, 환형의 유로를 사이에 두고 상기 노즐 몸체를 감싸도록 설치되는 노즐 하우징를 포함하여 구성되므로, 한층 효과적으로 자석들을 설치하는 것이 가능하게 된다.In addition, according to the present invention, the non-rotating part includes a nozzle body through which a bag nozzle is supported, a nozzle shaft connected to a lower portion of the nozzle body and having the second magnet installed on an outer circumferential surface, and a lower circumference of the nozzle shaft being fitted. It includes a support bracket, and the rotating part is fixed to a chuck base on which a substrate is installed, the rotary shaft disposed below the chuck base and having the first magnet installed on an inner circumferential surface, and the chuck base, and comprises an annular flow path. Since it is configured to include a nozzle housing installed to enclose the nozzle body with the nozzle body interposed therebetween, it is possible to more effectively install the magnets.

또한 본 발명에 따르면, 상기 노즐 샤프트에는, 상기 지지 브라켓에 면하는 부분에 걸림 구멍이 형성되어 있고, 상기 지지 브라켓에는 그 외주면으로부터 내주면을 지나 연장되어 상기 걸림 구멍에 진입하는 회전방지 록이 관통 설치되어 있어 간단한 구조에 으해 노즐 샤프트의 임의적 회전을 차단할 수 있다.In addition, according to the present invention, in the nozzle shaft, a locking hole is formed at a portion facing the support bracket, and an anti-rotation lock extending from the outer circumferential surface through the inner circumferential surface and entering the locking hole is installed through the support bracket. It is possible to block arbitrary rotation of the nozzle shaft with a simple structure.

또한 본 발명에 따르면, 상기 지지 브라켓에는, 그 외주면으로부터 내주면을 지나 단부가 상기 노즐 샤프트의 외면을 누르도록 연장되는 기울기 조정구가 설치되므로, 노즐 샤프트의 상부는 마그네틱 베어링에 의해 지지되도록 하고, 하부는 상기 기울기 조정구에 의해 지지되도록 하여 원하는 기울기로 정확하고 견고하게 지지되도록 할 수 있다는 장점이 있다.In addition, according to the present invention, since the support bracket is provided with a tilt adjustment tool extending from the outer circumferential surface to the inner circumferential surface so that the end presses the outer surface of the nozzle shaft, the upper part of the nozzle shaft is supported by a magnetic bearing, and the lower part is supported by a magnetic bearing. There is an advantage in that it can be accurately and firmly supported with a desired inclination by being supported by the inclination adjusting sphere.

도 1은 본 발명에 따른 기판 처리장치를 개략적으로 나타내는 종단면도이다.
도 2는 도 1에서 기판 지지장치와 백 노즐 어셈블리의 결합구조를 나타내는 종단면도이다.
도 3은 도 2에서 백 노즐 어셈블리와 마그네틱 베어링의 결합구조를 나타내는 확대 종단면도이다.
도 4는 도 3에서 마그네틱 베어링의 설치구조를 나타내는 확대된 상면 단면 사시도이다.
도 5는 본 발명에 따른 마그네틱 베어링의 배치구조를 나타내는 사시도이다.
도 6은 본 발명에 따른 노즐 샤프트의 하부 지지구조를 나타내는 종단면도이다.1 is a longitudinal cross-sectional view schematically showing a substrate processing apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is a longitudinal cross-sectional view showing a coupling structure of a substrate support device and a bag nozzle assembly in FIG. 1;
FIG. 3 is an enlarged longitudinal cross-sectional view illustrating a coupling structure between a bag nozzle assembly and a magnetic bearing in FIG. 2 .
4 is an enlarged top cross-sectional perspective view showing the installation structure of the magnetic bearing in FIG. 3;
5 is a perspective view showing a disposition structure of a magnetic bearing according to the present invention.
6 is a longitudinal cross-sectional view showing a lower support structure of the nozzle shaft according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 처리장치(1000)는, 유체 공급 유닛(10), 바울(bowl) 조립체(20), 승강 유닛(30), 그리고 기판 지지장치(S)를 가진다.As shown in FIG. 1, the substrate processing apparatus 1000 according to the present invention includes a fluid supply unit 10, a bowl assembly 20, a lifting unit 30, and a substrate support device S have

상기 유체 공급 유닛(10)은 기판 처리를 위한 처리액이나 처리 가스를 기판(W)으로 공급한다.The fluid supply unit 10 supplies a processing liquid or a processing gas for substrate processing to the substrate W.

상기 바울 조립체(20)는 공정에 사용된 약액 및 공정시 발생됨 흄(fume)이 외부로 튀거나 유출되는 것을 방지하도록 수용하는 구성요소로서 복수의 바울이 적층식으로 구성되어 기판에 대하여 상대적인 높이에 따라 다른 약액 및 흄이 구별되어 유입되도록 하는 것이 바람직하다.The bowl assembly 20 is a component for accommodating chemicals used in the process and fume generated during the process from splashing or leaking to the outside. It is preferable to separate and introduce different chemical liquids and fumes according to the

상기 승강 유닛(30)은 기판 지지장치(S) 또는 바울 조립체(20)를 상하로 승강시키며, 바울 조립체(20) 내에서 바울 조립체(20)와 기판 지지장치(S) 사이의 상대 높이를 변화시킨다. The lifting unit 30 moves the substrate support device S or the bowl assembly 20 up and down, and changes the relative height between the bowl assembly 20 and the board support device S in the bowl assembly 20. let it

그리고, 도 1과 도 2에 도시한 바와 같이, 상기 기판 지지장치(S)는 공정 진행시 기판(W)을 지지한 상태에서 회전시키는 장치로서, 기판(W)의 하부에서 기판(W)과 대향 배치되며 회전축(800)에 의해 회전 가능하게 배치되는 척 베이스(100), 상기 척 베이스(100)의 상부에 배치되며 상기 기판(W)을 지지하는 척핀(200)을 포함한다.And, as shown in FIGS. 1 and 2, the substrate support device S is a device that rotates the substrate W while supporting the substrate W during the process. It includes a chuck base 100 disposed opposite to each other and rotatably disposed by a rotation shaft 800, and a chuck pin 200 disposed on the chuck base 100 and supporting the substrate W.

도 3에 도시한 바와 같이, 상기 척 베이스(100)의 중앙에 형성된 중공부(170)에는 백 노즐 어셈블리(300)가 제공되며, 상기 백 노즐 어셈블리(300)는 백 노즐(330a,330b,330c)을 통해 기판(W)의 하면으로 처리액을 분사한다.As shown in FIG. 3, the bag nozzle assembly 300 is provided in the hollow part 170 formed in the center of the chuck base 100, and the bag nozzle assembly 300 includes bag nozzles 330a, 330b, and 330c. ) through which the treatment liquid is sprayed to the lower surface of the substrate W.

상기 백 노즐 어셈블리(300)는 척 베이스(100)에 형성된 중공부(170)와 회전축(800)의 중공 부분(810) 내에 설치되는 것으로, 백 노즐(330a,330b,330c)이 관통 지지되는 노즐 몸체(310), 상기 노즐 몸체(310)의 하부에 연결되는 노즐 샤프트(320), 백 노즐(330a,330b,330c), 노즐 하우징(340), 그리고 퍼지 유닛(P)을 포함한다.The bag nozzle assembly 300 is installed in the hollow portion 810 of the hollow portion 170 formed in the chuck base 100 and the rotational shaft 800, and is supported through the bag nozzles 330a, 330b, and 330c. It includes a body 310, a nozzle shaft 320 connected to a lower portion of the nozzle body 310, bag nozzles 330a, 330b, and 330c, a nozzle housing 340, and a purge unit P.

상기 백 노즐 어셈블리(300)의 노즐 하우징(340)은 회전축(800)에 연결되어 모터(500)가 회전함에 따라 회전이 가능한 반면, 노즐 몸체(310)와 노즐 샤프트(320)는 회전하지 않고 그 자리에 유지된다.The nozzle housing 340 of the bag nozzle assembly 300 is connected to the rotating shaft 800 and can rotate as the motor 500 rotates, while the nozzle body 310 and the nozzle shaft 320 do not rotate. stay in place

상기 노즐 하우징(340)은 상기 척 베이스(100)의 중앙에 형성된 중공부(170)에 설치되며 중앙에 설치공(345)이 관통 형성된다.The nozzle housing 340 is installed in the hollow part 170 formed in the center of the chuck base 100, and an installation hole 345 is formed therethrough.

상기 노즐 몸체(310)는 노즐 하우징(340)의 설치공(345)을 관통하여 설치되며 그 상부에는 설치벽(318)이 배치되고 하부에는 개방된 중공홈(311)이 형성된다.The nozzle body 310 is installed through the installation hole 345 of the nozzle housing 340, and an installation wall 318 is disposed on the upper portion thereof and an open hollow groove 311 is formed on the lower portion.

즉, 상기 노즐 하우징(340)은 상기 퍼지 유닛(P)을 사이에 두고 노즐 몸체(310)를 둘러싼 상태로 척 베이스(100)에 결합된다.That is, the nozzle housing 340 is coupled to the chuck base 100 while surrounding the nozzle body 310 with the purge unit P interposed therebetween.

상기 노즐 몸체(310)의 상부 설치벽(318)에는 복수의 백 노즐(330a,330b,330c)이 설치되기 위한 복수의 삽입공(319)이 형성된다.A plurality of insertion holes 319 for installing a plurality of bag nozzles 330a, 330b, and 330c are formed in the upper installation wall 318 of the nozzle body 310.

그리고, 상기 노즐 몸체(310)의 하단에는 역시 상하부가 개방되어 설치 중공(321)이 형성된 노즐 샤프트(320)가 결합된다(도 5 참조).In addition, the nozzle shaft 320 is coupled to the lower end of the nozzle body 310, the upper and lower portions of which are also open, and the installation hollow 321 is formed (see FIG. 5).

상기 노즐 샤프트(320)의 설치 중공(321) 부분은 노즐 몸체(310)의 중공홈(311)과 연통한다.The installation hollow 321 portion of the nozzle shaft 320 communicates with the hollow groove 311 of the nozzle body 310.

결국, 상기와 같은 결합 관계에 의해, 척 베이스(100), 회전축(800), 및 노즐 하우징(340)은 모터(500, 도 2 참조)의 구동에 의해 회전되는 회전부를 구성하며, 노즐 몸체(310), 노즐 샤프트(320), 그리고 백 노즐(330a,330b,330c)은 회전되지 않는 비회전부를 구성한다.After all, by the coupling relationship as described above, the chuck base 100, the rotating shaft 800, and the nozzle housing 340 constitute a rotating part rotated by the driving of the motor 500 (see FIG. 2), and the nozzle body ( 310), the nozzle shaft 320, and the bag nozzles 330a, 330b, and 330c constitute a non-rotating part that does not rotate.

도 2 내지 도 4에 도시한 바와 같이, 상기 노즐 샤프트(320)는 회전축(800)의 중공 부분(810)에 삽입되며, 비회전부인 상기 노즐 샤프트(320)와 회전부인 회전축(800)의 사이에는 마그네틱 베어링(B)이 개재된다.2 to 4, the nozzle shaft 320 is inserted into the hollow portion 810 of the rotating shaft 800, and is between the nozzle shaft 320, which is a non-rotating part, and the rotating shaft 800, which is a rotating part. A magnetic bearing (B) is interposed therebetween.

이 경우, 상기 마그네틱 베어링(B)은 상기 회전축(800)에 고정 설치되는 제1 자석(B1)과 노즐 샤프트(320)에 고정 설치되는 제2 자석(B2)을 포함하며, 링 형상을 가진다.In this case, the magnetic bearing (B) includes a first magnet (B1) fixed to the rotation shaft 800 and a second magnet (B2) fixed to the nozzle shaft 320, and has a ring shape.

도 5에 도시한 바와 같이, 마그네틱 베어링(B)이 설치된 상태에서 링 형태의 상기 제1 자석(B1)과 제2 자석(B2)은 서로 척력이 작용하므로 밀어내는 상태를 유지할 뿐 접촉하지 않게 된다.As shown in FIG. 5, in the state where the magnetic bearing (B) is installed, the ring-shaped first magnet (B1) and the second magnet (B2) act on each other with a repulsive force, so they maintain a pushing state but do not contact each other. .

상기 제1 자석(B1)과 제2 자석(B2)은 서로 인력이 작용하도록 구성할 수도 있으나 서로 끌어잡아당기려는 성질에 의해 회전부의 자세가 불안정해질 수 있다.The first magnet (B1) and the second magnet (B2) may be configured to act on each other, but the posture of the rotating part may be unstable due to the property of attracting each other.

따라서, 회전부의 회전중에 접촉으로 인한 파티클의 발생을 차단할 수 있으며, 상기 파티클을 제거하기 위한 설계상의 고려가 없어도 되므로 종래 구름 베어링이 설치되었을 경우와 비교하여 후술하는 환형의 유로(350) 구조가 대폭 간단해지고 제조가 용이한 장점이 있다.Therefore, it is possible to block the generation of particles due to contact during rotation of the rotating part, and since there is no need to consider design for removing the particles, the structure of the annular flow path 350 described later is significantly reduced compared to the case where a conventional rolling bearing is installed. It has the advantage of being simple and easy to manufacture.

제1 자석(B1)과 제2 자석(B2)은 각각 상기 회전축(800) 방향을 따라 자화되도록 함으로써 단지 상기 축방향을 따라 길이를 연장시켜서 자력의 크기를 증대시키는 것이 가능하므로 반경방향의 구조가 한층 콤팩해진다는 장점이 있다.Since the first magnet (B1) and the second magnet (B2) are each magnetized along the direction of the rotation axis 800, it is possible to increase the magnitude of the magnetic force by extending the length along the axial direction, so that the radial structure is It has the advantage of being more compact.

또한, 상기 회전축(800)의 내주면과 노즐 샤프트(320)의 외주면에는 상기 제1 자석(B1)과 제2 자석(B2)이 고정 설치되기 위한 제1 설치홈(850)과 제2 설치홈(325)이 각각 형성되어 플랜지와 같은 별도의 구조물이나 접착제에 의해 견고하게 고정되도록 하는 것이 바람직하다.In addition, the first installation groove 850 and the second installation groove (850) for fixing the first magnet (B1) and the second magnet (B2) to the inner circumferential surface of the rotating shaft 800 and the outer circumferential surface of the nozzle shaft 320 ( 325) is preferably formed so that it is firmly fixed by a separate structure such as a flange or an adhesive.

상기 제1 자석(B1)과 제2 자석(B2)은 500 가우스 이상의 자속밀도를 가지는 네오디뮴으로 이루어져 자속밀도의 선택과 제조를 용이하게 하는 것이 바람직하다.Preferably, the first magnet B1 and the second magnet B2 are made of neodymium having a magnetic flux density of 500 gauss or more to facilitate selection and manufacture of magnetic flux densities.

도 6에 도시한 바와 같이, 베이스부(700)에 고정 설치되는 지지 브라켓(380)에는 상기 노즐 샤프트(320)의 하단 둘레가 끼워져서 노즐 샤프트(320)의 하부를 지지한다.As shown in FIG. 6 , the lower circumference of the nozzle shaft 320 is fitted into the support bracket 380 fixed to the base 700 to support the lower portion of the nozzle shaft 320 .

이 경우, 상기 노즐 샤프트(320)에는, 상기 지지 브라켓(380)에 면하는 부분에 걸림 구멍(322)이 형성되어 있고, 상기 지지 브라켓(380)에는 그 외주면으로부터 내주면을 지나 연장되어 상기 걸림 구멍(322)에 진입함으로써 상기 노즐 샤프트(320)가 임의로 회전하는 것을 방지하기 위한 회전방지 록(381)이 관통 설치되는 것이 바람직하다.In this case, a locking hole 322 is formed in a portion of the nozzle shaft 320 facing the support bracket 380, and the support bracket 380 extends from the outer circumferential surface to the inner circumferential surface and extends through the locking hole. An anti-rotation lock 381 for preventing the nozzle shaft 320 from arbitrarily rotating by entering the 322 is preferably installed through.

또한, 상기 지지 브라켓(380)에는, 그 외주면으로부터 내주면을 지나 단부가 상기 노즐 샤프트(320)의 외면을 누르도록 연장되는 기울기 조정구(382)가 설치되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that a tilt adjustment member 382 is installed on the support bracket 380 so that an end thereof presses the outer surface of the nozzle shaft 320 from the outer circumferential surface to the inner circumferential surface.

상기 기울기 조정구(382)는 드라이버나 스패너 등에 의해 회전하는 볼트 등일 수 있으며 평면도에서 바라볼 때 노즐 샤프트(320)의 중심에 대하여 방사상으로 연장되는 것이 좋다.The tilt adjuster 382 may be a bolt or the like rotated by a screwdriver or spanner, and preferably extends radially with respect to the center of the nozzle shaft 320 when viewed from a plan view.

이러한 구성에 따라, 노즐 샤프트(320)의 상부는 마그네틱 베어링(B)에 의해 수평 지지되도록 하고, 하부는 상기 기울기 조정구(382)에 의해 수평 지지되도록 하여 원하는 기울기로 정확하고 견고하게 지지되도록 할 수 있다는 장점이 있다.According to this configuration, the upper part of the nozzle shaft 320 is horizontally supported by the magnetic bearing (B), and the lower part is horizontally supported by the inclination adjuster 382, so that it can be accurately and firmly supported at a desired inclination. There is an advantage to being

특히, 상기 기울기 조정구(382)는 회전축(800) 방향으로 2개 이상 이격되게 설치되도록 하여 흔들림 없이 한층 안정적인 지지가 가능하도록 하는 것이 바람직하다.In particular, it is preferable to install two or more of the inclination adjusters 382 apart from each other in the direction of the rotation shaft 800 so as to enable more stable support without shaking.

이 경우, 상기 기울기 조정구(382)는 상기 회전축(800) 방향을 따라 상기 회전방지 록(381)을 사이에 두고 각각 배치될 수 있다.In this case, the tilt adjusters 382 may be respectively disposed with the anti-rotation lock 381 interposed therebetween along the direction of the rotation shaft 800 .

또한, 평면도에서 바라볼 때, 상기 기울기 조정구(382)는 상기 노즐 샤프트(320)를 중심으로 상기 회전방지 록(381)의 반대쪽에서 배치될 수 있다.Also, when viewed from a plan view, the tilt adjuster 382 may be disposed on the opposite side of the anti-rotation lock 381 with the nozzle shaft 320 as the center.

상기 지지 브라켓(380)의 바닥에는 상기 백 노즐(330a,330b,330c)과 연결되는 튜브(미도시)가 통과하도록 가이드공(383)이 형성되어 있으며, 상기 가이드공(382)의 둘레의 바닥에 상기 노즐 샤프트(320)가 적재되는(얹어지는) 구성으로 되어 있다.A guide hole 383 is formed at the bottom of the support bracket 380 so that a tube (not shown) connected to the bag nozzles 330a, 330b, and 330c passes therethrough, and the bottom around the guide hole 382. It has a configuration in which the nozzle shaft 320 is loaded (mounted).

즉, 약액(처리액)을 분사하는 백 노즐(330a,330b,330c)은 노즐 몸체(310)의 중공홈(311)과 노즐 샤프트(320)의 설치 중공(321)까지 연장되어 튜브를 통해 상기 가이드공(383)을 통과할 수 있으며, 상기 백 노즐(330a,330b,330c)의 상단은 노즐 몸체(310)의 상부로 돌출되도록 설치될 수 있다.That is, the bag nozzles 330a, 330b, and 330c for spraying the chemical liquid (treatment liquid) extend to the hollow groove 311 of the nozzle body 310 and the installation hollow 321 of the nozzle shaft 320, through the tube. It can pass through the guide hole 383, and the upper ends of the bag nozzles 330a, 330b, and 330c can be installed to protrude upward from the nozzle body 310.

한편 도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 퍼지 유닛(P)은 환형의 유로(350), 가스 공급통로(360), 그리고 배기통로(370)를 포함할 수 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 3 , according to the present invention, the purge unit P may include an annular flow path 350 , a gas supply passage 360 , and an exhaust passage 370 .

환형의 유로(350)는 비회전부에 속하는 노즐 몸체(310)와 회전부에 속하는 노즐 하우징(340)의 사이에 형성된 유격 공간이다.The annular flow path 350 is a clearance space formed between the nozzle body 310 belonging to the non-rotating part and the nozzle housing 340 belonging to the rotating part.

그리고, 가스 공급통로(360)는 유로(350)에 질소(N2)와 같은 퍼지 가스를 공급한다.Also, the gas supply passage 360 supplies a purge gas such as nitrogen (N2) to the flow path 350 .

퍼지 가스 중 일부는 유로(350)를 통해 기판의 아래쪽으로 분사되어, 백 노즐(330a,330b,330c)에 의해 분사된 약액이 유로(350)에 다시 유입되는 것을 막고 기판(W) 하면에 분사되어 떨어지는 처리액을 외측으로 몰아낸다.Some of the purge gas is injected to the lower side of the substrate through the passage 350 to prevent the chemical solution injected by the bag nozzles 330a, 330b, and 330c from re-introducing into the passage 350 and sprayed on the lower surface of the substrate W. and the falling processing liquid is driven outward.

그리고, 퍼지 가스 중 일부는 환형의 유로(350)에 공급되어 발생되는 이물질이 유로(350)를 통해 기판의 하면으로 분사되는 것을 막는다.In addition, some of the purge gas is supplied to the annular flow path 350 to prevent foreign substances generated from being sprayed to the lower surface of the substrate through the flow path 350 .

상기 배기통로(370)는 퍼지 가스와 이물질이 포함된 기류를 아래쪽으로 배기한다.The exhaust passage 370 exhausts purge gas and airflow containing foreign substances downward.

도시된 바와 같이, 상기 배기통로(370)는 회전축(800)의 내면과 노즐 샤프트(320)의 외면 사이에 형성될 수 있다.As shown, the exhaust passage 370 may be formed between an inner surface of the rotating shaft 800 and an outer surface of the nozzle shaft 320 .

상기 환형의 유로(350)는 버퍼부(351), 제1 퍼지 유로(352), 및 제2 퍼지 유로(353)를 포함할 수 있으며, 이러한 구성은 본 발명의 일 예로서 다른 다양한 형태가 가능함을 밝힌다.The annular flow path 350 may include a buffer unit 351, a first purge flow path 352, and a second purge flow path 353, and this configuration is an example of the present invention and can take various other forms. reveal

상기 버퍼부(351)는 링 형상을 가지며, 노즐 몸체(310)와 노즐 하우징(340) 사이에 형성된다.The buffer part 351 has a ring shape and is formed between the nozzle body 310 and the nozzle housing 340 .

상기 버퍼부(351)에는 가스 공급통로(360)가 공급하는 퍼지 가스가 충전된다.The buffer part 351 is filled with purge gas supplied from the gas supply passage 360 .

상기 버퍼부(351)에 퍼지 가스가 충전됨에 따라 버퍼부(351)의 내부 압력은 커지게 된다.As the purge gas is filled in the buffer part 351, the internal pressure of the buffer part 351 increases.

상기 제1 퍼지 유로(352)는 버퍼부(351)에 충전된 퍼지 가스가 기판(W)의 하면으로 분사되기 위한 유동 경로를 제공한다.The first purge passage 352 provides a flow path through which the purge gas filled in the buffer part 351 is injected to the lower surface of the substrate W.

상기 제1 퍼지 유로(352)는 전체적으로 링 형상을 가지며, 버퍼부(351)의 상부로부터 노즐 몸체(310)와 노즐 하우징(340) 사이의 개방된 상부까지 연장된다.The first purge passage 352 has a ring shape as a whole and extends from the top of the buffer part 351 to an open top between the nozzle body 310 and the nozzle housing 340 .

상기 제2 퍼지 유로(353)는 전체적으로 링 형상을 가지며 상기 회전축(800)과 노즐 샤프트(320) 사이의 마그네틱 베어링(B)까지 연장된다.The second purge passage 353 has a ring shape as a whole and extends to the magnetic bearing B between the rotary shaft 800 and the nozzle shaft 320 .

구체적으로, 상기 제2 퍼지 유로(353)는 상기 버퍼부(351)의 상부로부터 돌출되며 일차로 절곡된 후 아래쪽으로 연장되어 상기 베어링(B)까지 이어지는 구성으로 되어 있다.Specifically, the second purge passage 353 protrudes from the upper portion of the buffer part 351, is first bent, and then extends downward to extend to the bearing B.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따르면, 상기 버퍼부(351)의 상단으로부터 상기 제2 퍼지 유로(353)의 길이(L2)는 상기 버퍼부(351)의 상단으로부터 상기 제1 퍼지 유로(352)의 길이(L1)보다 매우 길게 형성되어 있다.As shown in FIG. 4 , according to the present invention, the length L2 of the second purge passage 353 from the top of the buffer part 351 is the first purge passage from the top of the buffer part 351 It is formed much longer than the length (L1) of (352).

바람직하게는 L2는 L1보다 4배~10배의 범위에서 설정할 수 있다.Preferably, L2 can be set in the range of 4 to 10 times greater than L1.

이러한 구성에 따라, 상기 제2 퍼지 유로(353)나 그 아래쪽에서 발생한 이물질이 상기 제2 퍼지 유로(353)을 통해 상승하는 것이 용이하지 않으며 상기 버퍼부(351)에서 공급되는 퍼지 가스 등에 의한 압력에 의해 이물질이 상승하여 노즐 몸체(310) 위로 유출되는 것이 거의 불가능하므로 기판(W)이 이물질 등에 의해 손상되는 것을 확실히 차단할 수 있다.According to this configuration, it is not easy for the foreign matter generated in the second purge passage 353 or below it to rise through the second purge passage 353, and the pressure due to the purge gas supplied from the buffer part 351 As a result, it is almost impossible for foreign substances to rise and flow out onto the nozzle body 310, so that the substrate W can be prevented from being damaged by foreign substances.

더욱이 상기 버퍼부(351)의 내부 압력에 의해 상기 제2 퍼지 유로(353)를 통한 이물질의 상승 유동이 더욱 효과적으로 차단된다.Furthermore, the upward flow of foreign matter through the second purge passage 353 is more effectively blocked by the internal pressure of the buffer part 351 .

한편, 도 3에 도시한 바와 같이, 약액(처리액)을 분사하는 백 노즐(330a,330b,330c)은 세정을 위한 케미컬 약액을 공급하기 위한 세정용 백 노즐(330a), 린스(헹굼)를 위해 초순수(DIW) 등의 린스액을 분사하기 위한 린스용 백 노즐(330b), 및 이소프로필 알코올(IPA) 가스를 공급하기 위한 건조용 백 노즐(330c)을 포함할 수 있다.On the other hand, as shown in FIG. 3, the bag nozzles 330a, 330b, and 330c for spraying chemical liquids (treatment liquids) include the cleaning bag nozzles 330a for supplying chemical liquids for cleaning and rinsing. It may include a rinsing bag nozzle 330b for spraying a rinsing liquid such as ultrapure water (DIW) and a drying bag nozzle 330c for supplying isopropyl alcohol (IPA) gas.

또한, 상기 복수의 백 노즐(330a,330b,330c)은 노즐 몸체(310)와 노즐 샤프트(320)를 상하로 관통하여 중공홈(311)과 설치 중공(321)을 각각 지나 연장되도록 구성되며, 상기 백 노즐(330a,330b,330c)의 상단은 노즐 몸체(310)의 상부에 설치된 노즐 스커트(390)를 상하로 관통하여 설치된다.In addition, the plurality of bag nozzles 330a, 330b, and 330c pass through the nozzle body 310 and the nozzle shaft 320 vertically and extend past the hollow groove 311 and the installation hollow 321, respectively, Upper ends of the bag nozzles 330a, 330b, and 330c pass through the nozzle skirt 390 installed on the upper part of the nozzle body 310 vertically.

상기 노즐 스커트(390)는 상기 노즐 몸체(310)의 상부에 설치되되, 상기 상기 제1 퍼지 유로(352)로부터 배출되는 퍼지 가스가 수평으로 안내되도록 가장자리 부분에서 노즐 하우징(340)의 상면과 이격되어 있다.The nozzle skirt 390 is installed on the upper part of the nozzle body 310 and is spaced apart from the upper surface of the nozzle housing 340 at an edge so that the purge gas discharged from the first purge passage 352 is horizontally guided. has been

상기 노즐 스커트(390)는 백 노즐(330a,330b,330c)을 상부에서 지지하도록 하는 것과 함께 회전부의 상면에 잔류하는 처리액이나 세정액이 회전부와 비회전부 사이에 유입되는 것을 방지하고 외측으로 밀어내어 제거하는 역할을 수행한다.The nozzle skirt 390 supports the bag nozzles 330a, 330b, and 330c from the top, prevents the treatment liquid or cleaning liquid remaining on the upper surface of the rotating part from flowing between the rotating part and the non-rotating part, and pushes it outward. play a role in removing

처리액 등이 노즐 하우징(340)에 잔류하게 되면 건조과정에서 증발하면서 기판(W)의 하면에 얼룩 등 손상을 야기할 수 있다.If the treatment liquid or the like remains in the nozzle housing 340, it may cause damage such as stains on the lower surface of the substrate W while evaporating during the drying process.

본 발명의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허청구범위 내에서 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.The embodiments of the present invention are merely illustrative, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible within the scope of the claims below.

10... 유체 공급 유닛
20... 바울 조립체
30... 승강 유닛
100... 척 베이스
170... 중공부
200... 척핀
300... 백 노즐 어셈블리
310... 노즐 몸체
311... 중공홈
318... 설치벽
319... 삽입공
320... 노즐 샤프트
321... 설치 중공
322... 걸림 구멍
330a,330b,330c... 백 노즐
340... 노즐 하우징
345... 설치공
350... 환형의 유로
351... 버퍼부
352... 제1 퍼지 유로
353... 제2 퍼지 유로
360... 가스 공급통로
370... 배기통로
380... 지지 브라켓
381... 회전방지 록
382... 기울기 조정구
390... 노즐 스커트
500... 모터
800... 회전축
810... 회전축의 중공 부분
1000... 기판 처리장치
B... 마그네틱 베어링
B1... 제1 자석
B2... 제2 자석
P... 퍼지 유닛
S... 기판 지지장치
W... 기판10... fluid supply unit
20... baul assembly
30... elevating unit
100... chuck base
170... hollow part
200... chuck pin
300... bag nozzle assembly
310... nozzle body
311... hollow groove
318... mounting wall
319... insert hole
320... nozzle shaft
321... installation hollow
322... hanging hole
330a, 330b, 330c... bag nozzle
340... nozzle housing
345... Installer
350... annular euro
351... buffer unit
352... first purge flow path
353... second purge flow
360 ... gas supply passage
370... Exhaust passage
380... support bracket
381... anti-rotation lock
382... Tilting ball
390... nozzle skirt
500... motor
800... axis of rotation
810... hollow part of the rotary shaft
1000... substrate processing device
B... magnetic bearing
B1... 1st magnet
B2... second magnet
P... purge unit
S... board support
W... Substrate

Claims (9)

기판의 하면에 처리액을 공급하기 위한 노즐이 설치되는 중앙의 비회전부; 및
상기 기판을 지지하며 상기 비회전부를 감싼 상태에서 회전축에 의해 회전하는 회전부;
를 포함하되,
상기 회전부와 비회전부 사이에는 마그네틱 베어링이 설치되며, 상기 마그네틱 베어링은 상기 회전부에 설치되는 제1 자석과 비회전부에 설치되는 제2 자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.a central non-rotating part in which a nozzle for supplying a treatment liquid to a lower surface of the substrate is installed; and
a rotating part supporting the substrate and rotating by a rotating shaft in a state surrounding the non-rotating part;
Including,
A magnetic bearing is installed between the rotating part and the non-rotating part, and the magnetic bearing includes a first magnet installed in the rotating part and a second magnet installed in the non-rotating part. 제1항에 있어서,
상기 제1 자석과 제2 자석은 각각 상기 회전축 방향으로 자화되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.According to claim 1,
The substrate processing apparatus, characterized in that the first magnet and the second magnet are each magnetized in the direction of the rotation axis. 제1항에 있어서,
평면도에서 바라볼 때, 상기 제1 자석과 제2 자석은 반경방향으로 서로 척력이 작용하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.According to claim 1,
When viewed from a plan view, the first magnet and the second magnet are disposed so that a repulsive force acts on each other in a radial direction. 제1항에 있어서,
상기 회전부와 비회전부에는 상기 제1 자석과 제2 자석이 고정 설치되기 위한 제1 설치홈과 제2 설치홈이 각각 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.According to claim 1,
A substrate processing apparatus, characterized in that a first installation groove and a second installation groove for fixing and installing the first magnet and the second magnet are respectively formed in the rotating part and the non-rotating part. 제1항에 있어서,
상기 제1 자석과 제2 자석은 500 가우스 이상의 자속밀도를 가지는 네오디뮴으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.According to claim 1,
The first magnet and the second magnet are substrate processing apparatus, characterized in that made of neodymium having a magnetic flux density of 500 Gauss or more. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 비회전부는,
백 노즐이 관통 지지되는 노즐 몸체;
상기 노즐 몸체의 하부에 연결되며 상기 제2 자석이 외주면에 설치되는 노즐 샤프트; 및
상기 노즐 샤프트의 하단 둘레가 끼워지는 지지 브라켓;
을 포함하며,
상기 회전부는,
기판이 설치되기 위한 척 베이스;
상기 척 베이스의 하부에 배치되며 상기 제1 자석이 내주면에 설치되는 상기 회전축; 및
상기 척 베이스에 고정되며, 환형의 유로를 사이에 두고 상기 노즐 몸체를 감싸도록 설치되는 노즐 하우징;
를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.According to any one of claims 1 to 5,
The non-rotating part,
a nozzle body through which the bag nozzle is supported;
a nozzle shaft connected to a lower portion of the nozzle body and having the second magnet installed on an outer circumferential surface; and
a support bracket into which the circumference of the lower end of the nozzle shaft is fitted;
Including,
the rotating part,
A chuck base on which a substrate is installed;
the rotating shaft disposed under the chuck base and having the first magnet installed on an inner circumferential surface; and
a nozzle housing fixed to the chuck base and installed to surround the nozzle body with an annular flow path interposed therebetween;
A substrate processing apparatus comprising a. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 비회전부는,
백 노즐이 관통 지지되는 노즐 몸체;
상기 노즐 몸체의 하부에 연결되며 상기 제2 자석이 외주면에 설치되는 노즐 샤프트; 및
상기 노즐 샤프트의 하단 둘레가 끼워지는 지지 브라켓;
을 포함하며,
상기 노즐 샤프트에는, 상기 지지 브라켓에 면하는 부분에 걸림 구멍이 형성되어 있고, 상기 지지 브라켓에는 그 외주면으로부터 내주면을 지나 연장되어 상기 걸림 구멍에 진입하는 회전방지 록이 관통 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.According to any one of claims 1 to 5,
The non-rotating part,
a nozzle body through which the bag nozzle is supported;
a nozzle shaft connected to a lower portion of the nozzle body and having the second magnet installed on an outer circumferential surface; and
a support bracket into which the circumference of the lower end of the nozzle shaft is fitted;
Including,
In the nozzle shaft, a locking hole is formed at a portion facing the support bracket, and an anti-rotation lock extending from an outer circumferential surface to an inner circumferential surface and entering the locking hole is installed through the support bracket. processing device. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 비회전부는,
백 노즐이 관통 지지되는 노즐 몸체;
상기 노즐 몸체의 하부에 연결되며 상기 제2 자석이 외주면에 설치되는 노즐 샤프트; 및
상기 노즐 샤프트의 하단 둘레가 끼워지는 지지 브라켓;
을 포함하며,
상기 지지 브라켓에는, 그 외주면으로부터 내주면을 지나 단부가 상기 노즐 샤프트의 외면을 누르도록 연장되는 기울기 조정구가 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.According to any one of claims 1 to 5,
The non-rotating part,
a nozzle body through which the bag nozzle is supported;
a nozzle shaft connected to a lower portion of the nozzle body and having the second magnet installed on an outer circumferential surface; and
a support bracket into which the circumference of the lower end of the nozzle shaft is fitted;
Including,
The support bracket is provided with an inclination adjusting tool extending from an outer circumferential surface to an inner circumferential surface so that an end thereof presses the outer surface of the nozzle shaft. 제8항에 있어서,
상기 기울기 조정구는 회전축 방향으로 2개 이상 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.According to claim 8,
The substrate processing apparatus, characterized in that two or more inclination adjusting spheres are installed in the direction of the rotation axis.
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