KR102551594B1 - Substrate treating apparatus including back nozzle skirt - Google Patents

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Abstract

본 발명은 본 발명의 백 노즐 스커트를 포함하는 기판 처리장치에 관한 것으로, 백 노즐 스커트에, 백 노즐이 상하방향으로 관통하는 노즐 지지공, 바닥면에서 백 노즐 어셈블리에 형성된 환형의 유로와 대향되게 형성되는 환형의 도입홈, 바닥면에서 상기 환형의 도입홈으로부터 백 노즐 스커트의 중앙을 향해 연장되는 연결홈, 바닥면에서 상기 연결홈에 연통되며 중앙 영역에 형성되는 임시 수용홈, 및 상기 임시 수용홈의 바닥에 위치하며 상기 백 노즐 스커트의 상면까지 관통되게 형성되는 분사공이 형성되는 것을 특징으로 하므로, 상기 환형의 유로로부터 배출되는 퍼지 가스가 상기 환형의 도입홈, 연결홈, 임시 수용홈 및 분사공을 통해 백 노즐 스커트의 상면 위에 분사되어 백 노즐 스커트의 상면에 잔류한 처리액 등을 확실하게 외측 회전부 측으로 밀어낼 수 있게 된다는 이점이 있다.The present invention relates to a substrate processing apparatus including the bag nozzle skirt of the present invention, wherein the bag nozzle skirt has nozzle support holes through which the bag nozzles pass in the vertical direction, and a bottom surface of the bag nozzle skirt to face an annular flow path formed in the bag nozzle assembly. An annular introduction groove is formed, a connection groove extending from the annular introduction groove toward the center of the bag nozzle skirt on the bottom surface, a temporary accommodation groove communicating with the connection groove on the bottom surface and formed in the central area, and the temporary accommodation Since a spray hole is formed at the bottom of the groove and penetrates to the upper surface of the bag nozzle skirt, the purge gas discharged from the annular flow path passes through the annular inlet groove, the connection groove, the temporary receiving groove, and the powder. There is an advantage in that the treatment liquid, which is sprayed on the upper surface of the bag nozzle skirt through the hole and remains on the upper surface of the bag nozzle skirt, can be reliably pushed toward the outer rotation unit.

Description

백 노즐 스커트를 포함하는 기판 처리장치{SUBSTRATE TREATING APPARATUS INCLUDING BACK NOZZLE SKIRT}Substrate treatment apparatus including a back nozzle skirt {SUBSTRATE TREATING APPARATUS INCLUDING BACK NOZZLE SKIRT}

본 발명은 백 노즐 스커트를 포함하는 기판 처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 백 노즐 스커트의 상면에 잔류하는 처리액을 제거하여 처리액에 의한 기판 손상을 방지하도록 하기 위한 백 노즐 스커트를 포함하는 기판 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus including a back nozzle skirt, and more particularly, to a substrate processing apparatus including a back nozzle skirt for removing a processing liquid remaining on an upper surface of the back nozzle skirt to prevent damage to a substrate by the processing liquid. It relates to a substrate processing apparatus.

일반적으로, 반도체 디바이스는 기판상에 여러 가지 물질을 박막 형태로 증착하고 이를 패터닝하여 제조되며, 이를 위하여 증착 공정, 포토리소그래프 공정, 식각 공정, 세정 공정 및 건조 공정 등 여러 단계의 서로 다른 공정들이 요구된다.In general, semiconductor devices are manufactured by depositing various materials in the form of thin films on a substrate and patterning them, and for this, different processes such as a deposition process, a photolithography process, an etching process, a cleaning process, and a drying process are required. It is required.

이 중 세정 공정과 건조 공정은, 상기 기판 상에 존재하는 이물질이나 파티클 등을 제거한 후 건조하는 공정으로서, 기판을 스핀 헤드(척 베이스) 상에 지지한 상태에서 고속으로 회전시키면서 기판의 상면이나 하면에 처리액이나 건조가스를 공급하는 것에 의해 이루어진다.Among them, the cleaning process and the drying process are processes of removing foreign substances or particles present on the substrate and then drying the upper or lower surface of the substrate while rotating the substrate at high speed while supporting it on a spin head (chuck base). It is made by supplying treatment liquid or dry gas to

한편, 기판의 하면에 처리액을 공급하기 위해서 상기 기판의 아래쪽 척 베이스에 백 노즐 어셈블리가 설치되며, 일반적으로 상기 백 노즐 어셈블리에는 상면에 잔류한 처리액이나 세정액이 회전부와 비회전부 사이로 유입되는 것을 방지하고 외측으로 밀어내기 위해 N2 가스 등의 퍼지 가스를 분사하기 위한 퍼지 유로가 형성되어 있다.On the other hand, in order to supply the processing liquid to the lower surface of the substrate, a bag nozzle assembly is installed on the chuck base below the substrate. Generally, the bag nozzle assembly prevents the processing liquid or cleaning liquid remaining on the upper surface from flowing between the rotating part and the non-rotating part. A purge passage for injecting a purge gas such as N2 gas is formed in order to prevent and push outward.

또한, 하기의 [특허문헌]에서 알 수 있는 바와 같이, 백 노즐 어셈블리를 구성하는 비회전부인 노즐 몸체의 상부에는 백 노즐 스커트가 설치되어 있어, 상기 노즐 스커트와 회전부인 노즐 하우징 사이에 상기 퍼지 유로로부터의 퍼지 가스를 수평으로 분사함으로써 상기 노즐 하우징의 상면에 잔류하는 처리액이나 세정액을 회전부쪽으로 효과적으로 밀어내어 노즐 하우징과 노즐 몸체 사이로 처리액이 유입되는 것을 방지하도록 구성되어 있다.In addition, as can be seen from the [Patent Document] below, a bag nozzle skirt is installed on the top of the nozzle body, which is a non-rotating part constituting the bag nozzle assembly, and the purge passage is between the nozzle skirt and the nozzle housing, which is a rotating part. By horizontally spraying the purge gas from the nozzle housing, the treatment liquid or cleaning liquid remaining on the upper surface of the nozzle housing is effectively pushed toward the rotating part to prevent the treatment liquid from flowing between the nozzle housing and the nozzle body.

상기 노즐 하우징 등에 잔류한 처리액을 제거하지 않으면, 건조 공정시에 상기 잔류한 처리액이 증발하면서 기판의 하면에 접촉하여 얼룩 등 손상을 일으킬 수 있다.If the treatment liquid remaining on the nozzle housing is not removed, the remaining treatment liquid may contact the lower surface of the substrate while evaporating during the drying process, causing damage such as stains.

더욱이, 잔류한 처리액에 버블이 형성되면서 건조공정시 터지게 되면 기판의 하면에 충격적인 접촉이 일어나 처리액에 민감한 기판의 하면이 손상될 수 있다.Moreover, when bubbles are formed in the remaining treatment liquid and burst during the drying process, impactive contact with the lower surface of the substrate may occur, resulting in damage to the lower surface of the substrate sensitive to the treatment liquid.

한편, 종래기술에 따라 상기 백 노즐 스커트에 의해 노즐 하우징 상면에 잔류한 처리액이 퍼지될 수 있으나, 상기 백 노즐 스커트의 상면에 잔류한 처리액은 제거되지 않아 여전히 기판을 손상시키는 요인이 되었다.On the other hand, according to the prior art, the treatment liquid remaining on the upper surface of the nozzle housing can be purged by the bag nozzle skirt, but the treatment liquid remaining on the upper surface of the back nozzle skirt is not removed, which still causes damage to the substrate.

공개특허공보 제10-2011-0058560호 (2011.06.01)Patent Publication No. 10-2011-0058560 (2011.06.01)

본 발명은 전술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 백 노즐 스커트의 상면에 퍼지 가스가 분사될 수 있어 잔류한 처리액을 용이하게 제거할 수 있으므로 이로 인한 기판 손상이 없는 백 노즐 스커트를 포함하는 기판 처리장치를 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to easily remove the remaining treatment liquid by spraying a purge gas on the upper surface of the bag nozzle skirt, thereby damaging the substrate. It is to provide a substrate processing apparatus including a back nozzle skirt without teeth.

전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 백 노즐 스커트를 포함하는 기판 처리장치는,In order to achieve the above object, a substrate processing apparatus including a back nozzle skirt according to the present invention,

회전축에 의해 회전 가능하게 설치되는 척 베이스를 포함하는 기판 지지장치;A substrate support device including a chuck base rotatably installed by a rotating shaft;

상기 기판의 상면에 처리액을 공급하는 유체 공급 유닛;a fluid supply unit supplying a treatment liquid to the upper surface of the substrate;

상기 척 베이스의 중앙에 형성된 중공부를 통해 설치되어 기판의 하면에 처리액을 분사하기 위한 백 노즐 어셈블리; 및a bag nozzle assembly installed through a hollow formed in the center of the chuck base to spray a processing liquid to a lower surface of the substrate; and

상기 백 노즐 어셈블리의 상부에 설치되되 가장자리 부분에서 바닥면이 상기 백 노즐 어셈블리와 이격되게 배치되는 백 노즐 스커트;a bag nozzle skirt installed on the upper part of the bag nozzle assembly and having a bottom surface spaced apart from the bag nozzle assembly at an edge portion;

를 포함하며,Including,

상기 백 노즐 스커트에는,In the back nozzle skirt,

백 노즐이 상하방향으로 관통하는 노즐 지지공;a nozzle support hole through which the bag nozzle vertically passes;

바닥면에서 상기 백 노즐 어셈블리에 형성된 환형의 유로의 상단과 대향되게 형성되는 환형의 도입홈;an annular introduction groove formed on a bottom surface to face an upper end of the annular passage formed in the bag nozzle assembly;

바닥면에서 상기 환형의 도입홈으로부터 백 노즐 스커트의 중앙을 향해 연장되는 연결홈;a connection groove extending from the annular introduction groove toward the center of the bag nozzle skirt on the bottom surface;

바닥면에서 상기 연결홈에 연통되며 중앙 영역에 형성되는 임시 수용홈; 및a temporary receiving groove communicating with the connecting groove on a bottom surface and formed in a central region; and

상기 임시 수용홈의 바닥에 위치하며 상기 백 노즐 스커트의 상면까지 관통되게 형성되는 분사공;a spray hole located at the bottom of the temporary receiving groove and penetrating to an upper surface of the bag nozzle skirt;

이 형성되는 것을 특징으로 한다.It is characterized by the formation of

평면도에서 바라볼 때, 상기 분사공은 상기 회전축의 회전방향을 따라 형성되는 복수개로 구성되는 것을 특징으로 한다.When viewed from a plan view, the injection hole is characterized in that it consists of a plurality formed along the rotational direction of the rotation shaft.

측단면에서 바라볼 때, 상기 분사공의 출구는 상기 회전축에 대하여 경사지게 형성되는 것을 특징으로 한다.When viewed from a side cross-section, the outlet of the injection hole is characterized in that it is formed inclined with respect to the rotation axis.

상기 분사공은 입구로부터 상기 회전축과 나란한 방향으로 연장되다 출구까지 경사지게 형성되는 것을 특징으로 한다.The injection hole is characterized in that it is formed obliquely extending from the inlet in a direction parallel to the rotating shaft to the outlet.

저면도에서 바라볼 때, 상기 백 노즐 스커트는 원형의 외곽 형상을 가지며, 상기 환형의 도입홈은 원형으로 구성되고, 상기 연결홈은 상기 환형의 도입홈으로부터 백 노즐 스커트의 중앙을 향해 방사상으로 형성되는 것을 특징으로 한다.When viewed from a bottom view, the bag nozzle skirt has a circular outer shape, the annular introduction groove is formed in a circular shape, and the connection groove is radially formed from the annular introduction groove toward the center of the bag nozzle skirt. characterized by being

저면도에서 바라볼 때, 상기 연결홈은 원주방향을 따라 형성되는 복수개로 구성되는 것을 특징으로 한다.When viewed from a bottom view, the connecting groove is characterized in that it consists of a plurality of formed along the circumferential direction.

저면도에서 바라볼 때, 상기 백 노즐 스커트의 중앙에는 노즐 지지공이 형성되며, 상기 분사공은 상기 노즐 지지공의 둘레에 형성되는 것을 특징으로 한다.When viewed from a bottom view, a nozzle support hole is formed at the center of the bag nozzle skirt, and the injection hole is formed around the nozzle support hole.

평면도에서 바라볼 때, 중앙으로부터 중앙의 노즐 지지공을 제외한 다른 노즐 지지공의 중심까지의 길이는 중앙 영역으로부터 분사공의 중심까지의 길이보다 길게 형성되는 것을 특징으로 한다.When viewed from a plan view, the length from the center to the center of the nozzle support hole other than the central nozzle support hole is longer than the length from the center area to the center of the injection hole.

상기 백 노즐 스커트와 백 노즐 어셈블리는 체결수단에 의해 결합되는 것을 특징으로 한다.The bag nozzle skirt and the bag nozzle assembly are coupled by a fastening means.

전술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명의 백 노즐 스커트를 포함하는 기판 처리장치에 따르면, 백 노즐 스커트에, 백 노즐이 상하방향으로 관통하는 노즐 지지공, 바닥면에서 백 노즐 어셈블리에 형성된 환형의 유로의 상단과 대향되게 형성되는 환형의 도입홈, 바닥면에서 상기 환형의 도입홈으로부터 백 노즐 스커트의 중앙을 향해 연장되는 연결홈, 바닥면에서 상기 연결홈에 연통되며 중앙 영역에 형성되는 임시 수용홈, 및 상기 임시 수용홈의 바닥에 위치하며 상기 백 노즐 스커트의 상면까지 관통되게 형성되는 분사공이 형성되는 것을 특징으로 하므로, 상기 환형의 유로로부터 배출되는 퍼지 가스가 상기 환형의 도입홈, 연결홈, 임시 수용홈 및 분사공을 통해 백 노즐 스커트의 상면 위에 분사되어 백 노즐 스커트의 상면에 잔류한 처리액 등을 확실하게 외측 회전부 측으로 밀어낼 수 있게 된다는 이점이 있다.According to the substrate processing apparatus including the bag nozzle skirt of the present invention having the configuration as described above, the bag nozzle skirt has a nozzle support hole through which the bag nozzle vertically penetrates, and an annular flow path formed on the bottom surface of the bag nozzle assembly. An annular introduction groove formed opposite to the upper end of the annular introduction groove, a connection groove extending from the annular introduction groove toward the center of the bag nozzle skirt on the bottom surface, and a temporary accommodation groove communicating with the connection groove on the bottom surface and formed in the central area. , and a spray hole positioned at the bottom of the temporary receiving groove and penetrating up to the top surface of the bag nozzle skirt, so that the purge gas discharged from the annular flow path passes through the annular inlet groove, the connection groove, There is an advantage in that the treatment liquid remaining on the upper surface of the bag nozzle skirt after being sprayed on the upper surface of the bag nozzle skirt through the temporary receiving groove and the spray hole can be reliably pushed toward the outer rotation unit.

또한 본 발명에 따르면, 평면도에서 바라볼 때, 상기 분사공은 상기 회전축의 회전방향을 따라 형성되는 복수개로 구성되는 것을 특징으로 하므로, 상기 백 노즐 스커트의 둘레방향을 따라 균일하게 퍼지 가스를 공급함으로써 백 노즐 스커트 상면의 처리액 제거가 한층 신속하게 이루어질 수 있게 된다.In addition, according to the present invention, when viewed from a plan view, since the injection hole is characterized in that it is composed of a plurality formed along the rotational direction of the rotation shaft, the purge gas is uniformly supplied along the circumferential direction of the bag nozzle skirt. Removal of the treatment liquid from the upper surface of the back nozzle skirt can be performed more rapidly.

또한 본 발명에 따르면, 측단면에서 바라볼 때, 상기 분사공의 출구는 상기 회전축에 대하여 경사지게 형성되어 있어 상기 백 노즐 스커트 상면에 대한 퍼지 가스의 접근이 한층 용이하게 되므로 처리액의 제거 또한 확실하고 신속하게 이루어진다는 이점이 있다.In addition, according to the present invention, when viewed from a side cross-section, the outlet of the injection hole is formed inclined with respect to the rotation shaft, so that the purge gas can more easily access the upper surface of the bag nozzle skirt, so that the treatment liquid can be removed reliably. It has the advantage of being quick.

또한 본 발명에 따르면, 상기 분사공은 입구로부터 상기 회전축과 나란한 방향으로 연장되다 출구까지 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하므로 백 노즐 스커트의 제조가 한층 용이하게 된다.In addition, according to the present invention, since the injection hole extends in a direction parallel to the rotating shaft from the inlet and is inclined to the outlet, manufacturing of the bag nozzle skirt is further facilitated.

또한 본 발명에 따르면, 저면도에서 바라볼 때, 상기 백 노즐 스커트는 원형의 외곽 형상을 가지며, 상기 환형의 도입홈은 원형으로 구성되고, 상기 연결홈은 상기 환형의 도입홈으로부터 백 노즐 스커트의 중앙을 향해 방사상으로 형성되므로, 퍼지 가스의 이동 경로를 최소화할 수 있어 환형의 도입홈으로부터 퍼지 가스를 신속하게 분사공을 통해 분사하는 것이 가능하게 된다.In addition, according to the present invention, when viewed from a bottom view, the bag nozzle skirt has a circular outer shape, the annular introduction groove has a circular shape, and the connection groove extends from the annular introduction groove to the bag nozzle skirt. Since it is radially formed toward the center, the moving path of the purge gas can be minimized, and it is possible to quickly inject the purge gas through the injection hole from the annular inlet groove.

또한 본 발명에 따르면, 상기 백 노즐 스커트의 중앙에는 노즐 지지공이 형성되며, 상기 분사공은 상기 노즐 지지공의 둘레에 형성되므로, 백 노즐 스커트에 백 노즐, 체결수단 및 기판 감지 센서 등의 설치구조가 콤팩트하게 되어 그 크기를 크게 줄일 수 있게 된다.In addition, according to the present invention, since the nozzle support hole is formed in the center of the bag nozzle skirt and the injection hole is formed around the nozzle support hole, the bag nozzle skirt, fastening means, substrate detection sensor, etc. are installed in the back nozzle skirt. becomes compact, and its size can be greatly reduced.

도 1은 본 발명에 따른 기판 처리장치를 개략적으로 나타내는 측단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 기판 지지장치와 백 노즐 어셈블리 및 백 노즐 스커트의 결합구조를 나타내는 상면 사시도이다.
도 3은 본 발명에 따른 기판 지지장치와 백 노즐 어셈블리 및 백 노즐 스커트의 결합구조를 나타내는 측단면도이다.
도 4는 도 3에서 백 노즐 어셈블리 및 백 노즐 스커트를 나타내는 확대 측단면도이다.
도 5는 본 발명에 따른 백 노즐 스커트의 구성을 나타내는 상면 사시도이다.
도 6은 본 발명에 따른 백 노즐 스커트의 구성을 나타내는 저면 사시도이다.
도 7은 본 발명에 따른 백 노즐 스커트의 구성을 나타내는 평면도이다.
도 8은 본 발명에 따른 백 노즐 스커트의 구성을 나타내는 저면도이다.
도 9는 본 발명에 따른 백 노즐 스커트의 구성을 나타내는 종단면도이다.1 is a side cross-sectional view schematically showing a substrate processing apparatus according to the present invention.
2 is a top perspective view showing a coupling structure of a substrate support device, a bag nozzle assembly, and a bag nozzle skirt according to the present invention.
3 is a cross-sectional side view showing a coupling structure of a substrate support device, a bag nozzle assembly, and a bag nozzle skirt according to the present invention.
FIG. 4 is an enlarged side cross-sectional view illustrating the bag nozzle assembly and the bag nozzle skirt in FIG. 3 .
5 is a top perspective view showing the configuration of a bag nozzle skirt according to the present invention.
6 is a bottom perspective view showing the configuration of a bag nozzle skirt according to the present invention.
7 is a plan view showing the configuration of a back nozzle skirt according to the present invention.
8 is a bottom view showing the configuration of a back nozzle skirt according to the present invention.
9 is a longitudinal sectional view showing the configuration of a back nozzle skirt according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1과 도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 처리장치(1000)는, 유체 공급 유닛(10), 바울(bowl) 조립체(20), 승강 유닛(30), 그리고 기판 지지장치(S)를 가진다.As shown in FIGS. 1 and 2, the substrate processing apparatus 1000 according to the present invention includes a fluid supply unit 10, a bowl assembly 20, a lifting unit 30, and a substrate support device ( S) has

상기 유체 공급 유닛(10)은 기판 처리를 위한 처리액이나 처리 가스를 기판(W)으로 공급한다.The fluid supply unit 10 supplies a processing liquid or a processing gas for substrate processing to the substrate W.

상기 바울 조립체(20)는 공정에 사용된 약액 및 공정시 발생됨 흄(fume)이 외부로 튀거나 유출되는 것을 방지하도록 수용하는 구성요소로서 복수의 바울이 적층식으로 구성되어 기판에 대하여 상대적인 높이에 따라 다른 약액 및 흄이 구별되어 유입되도록 하는 것이 바람직하다.The bowl assembly 20 is a component for accommodating chemicals used in the process and fume generated during the process from splashing or leaking to the outside. It is preferable to separate and introduce different chemical liquids and fumes according to the

상기 승강 유닛(30)은 기판 지지장치(S) 또는 바울 조립체(20)를 상하로 승강시키며, 바울 조립체(20) 내에서 바울 조립체(20)와 기판 지지장치(S) 사이의 상대 높이를 변화시킨다. The lifting unit 30 moves the substrate support device S or the bowl assembly 20 up and down, and changes the relative height between the bowl assembly 20 and the board support device S in the bowl assembly 20. let it

그리고, 도 1 내지 도 3에 도시한 바와 같이, 상기 기판 지지장치(S)는 공정 진행시 기판(W)을 지지한 상태에서 회전시키는 장치로서, 기판(W)의 하부에서 기판(W)과 대향 배치되며 회전축(800)에 의해 회전 가능하게 배치되는 척 베이스(100), 상기 척 베이스(100)의 상부에 배치되며 상기 기판(W)을 지지하는 척핀(200)을 포함한다.And, as shown in FIGS. 1 to 3, the substrate support device S is a device that rotates the substrate W while supporting the substrate W during the process. It includes a chuck base 100 disposed opposite to each other and rotatably disposed by a rotation shaft 800, and a chuck pin 200 disposed on the chuck base 100 and supporting the substrate W.

도 4에 도시한 바와 같이, 상기 척 베이스(100)의 중앙에 형성된 중공부(170)에는 백 노즐 어셈블리(300)가 제공되며, 상기 백 노즐 어셈블리(300)는 백 노즐(330a,330b,330c)을 통해 기판(W)의 하면으로 처리액을 분사한다.As shown in FIG. 4 , the bag nozzle assembly 300 is provided in the hollow part 170 formed in the center of the chuck base 100, and the bag nozzle assembly 300 includes bag nozzles 330a, 330b, and 330c. ) through which the treatment liquid is sprayed to the lower surface of the substrate W.

상기 백 노즐 어셈블리(300)는 척 베이스(100)에 형성된 중공부(170)와 회전축(800)의 중공 부분(810) 내에 설치되는 것으로, 노즐 몸체(310), 노즐 샤프트(320), 백 노즐(330a,330b,330c), 노즐 하우징(340), 그리고 퍼지 유닛(P)을 포함한다.The bag nozzle assembly 300 is installed in the hollow part 810 of the hollow part 170 formed in the chuck base 100 and the rotary shaft 800, and includes the nozzle body 310, the nozzle shaft 320, and the bag nozzle. (330a, 330b, 330c), a nozzle housing 340, and a purge unit (P).

상기 백 노즐 어셈블리(300)의 노즐 하우징(340)은 회전축(800)에 연결되어 모터(500)가 회전함에 따라 회전이 가능한 반면, 노즐 몸체(310)와 노즐 샤프트(320)는 회전하지 않고 그 자리에 유지된다.The nozzle housing 340 of the bag nozzle assembly 300 is connected to the rotating shaft 800 and can rotate as the motor 500 rotates, while the nozzle body 310 and the nozzle shaft 320 do not rotate. stay in place

상기 노즐 하우징(340)은 상기 척 베이스(100)의 중앙에 형성된 중공부(170)에 설치되며 중앙에 설치공(345)이 관통 형성된다.The nozzle housing 340 is installed in the hollow part 170 formed in the center of the chuck base 100, and an installation hole 345 is formed therethrough.

상기 노즐 몸체(310)는 노즐 하우징(340)의 설치공(345)을 관통하여 설치되며 그 상부에는 설치벽(318)이 배치되고 하부에는 개방된 중공홈(311)이 형성된다.The nozzle body 310 is installed through the installation hole 345 of the nozzle housing 340, and an installation wall 318 is disposed on the upper portion thereof and an open hollow groove 311 is formed on the lower portion.

상기 노즐 하우징(340)은 상기 퍼지 유닛(P)을 사이에 두고 노즐 몸체(310)를 둘러싼 상태로 척 베이스(100)에 결합된다.The nozzle housing 340 is coupled to the chuck base 100 while surrounding the nozzle body 310 with the purge unit P therebetween.

상기 노즐 몸체(310)의 상부 설치벽(318)에는 복수의 백 노즐(330a,330b,330c)이 설치되기 위한 복수의 삽입공(319)이 형성된다.A plurality of insertion holes 319 for installing a plurality of bag nozzles 330a, 330b, and 330c are formed in the upper installation wall 318 of the nozzle body 310.

그리고, 상기 노즐 몸체(310)의 하단에는 역시 상하부가 개방되어 설치 중공(321)이 형성된 노즐 샤프트(320)가 결합된다(도 4 참조).Also, a nozzle shaft 320 having an installation hollow 321 formed therein is coupled to the lower end of the nozzle body 310 (refer to FIG. 4).

상기 노즐 샤프트(320)의 설치 중공(321) 부분은 노즐 몸체(310)의 중공홈(311)과 연통한다.The installation hollow 321 portion of the nozzle shaft 320 communicates with the hollow groove 311 of the nozzle body 310.

상기 노즐 샤프트(320)는 회전축(800)의 중공 부분(810)에 삽입되며, 상기 노즐 샤프트(320)와 회전축(800)의 사이에는 베어링(B)이 개재된다.The nozzle shaft 320 is inserted into the hollow portion 810 of the rotating shaft 800, and a bearing B is interposed between the nozzle shaft 320 and the rotating shaft 800.

상기 베어링(B)의 외륜은 상기 회전축(800)의 내주면에 삽입 고정되고, 노즐 샤프트(320)의 외주면은 베어링(B)의 내륜에 삽입 고정된다.The outer ring of the bearing (B) is inserted into and fixed to the inner circumferential surface of the rotating shaft 800, and the outer circumferential surface of the nozzle shaft 320 is inserted into and fixed to the inner ring of the bearing (B).

상기 회전축(800)은 모터(500)에 의해 회전될 수 있으나 상기 노즐 샤프트(320)는 베어링(B)의 내륜에 삽입 고정되어 회전하지 않는다.The rotating shaft 800 can be rotated by the motor 500, but the nozzle shaft 320 is inserted into the inner ring of the bearing B and fixed so that it does not rotate.

상기 베어링(B)은 볼 베어링 외에 마그네틱 베어링 등이 채택될 수 있다.The bearing B may be a magnetic bearing in addition to a ball bearing.

결국, 상기와 같은 결합 관계에 의해, 척 베이스(100), 회전축(800), 및 노즐 하우징(340)은 모터(500, 도 2 참조)의 구동에 의해 회전되는 회전부를 구성하며, 노즐 몸체(310), 노즐 샤프트(320), 그리고 백 노즐(330a,330b,330c)은 회전되지 않는 비회전부를 구성한다.After all, by the coupling relationship as described above, the chuck base 100, the rotating shaft 800, and the nozzle housing 340 constitute a rotating part rotated by the driving of the motor 500 (see FIG. 2), and the nozzle body ( 310), the nozzle shaft 320, and the bag nozzles 330a, 330b, and 330c constitute a non-rotating part that does not rotate.

약액(처리액)을 분사하는 백 노즐(330a,330b,330c)은 노즐 몸체(310)의 중공홈(311)과 노즐 샤프트(320)의 설치 중공(321)까지 연장될 수 있으며, 상기 백 노즐(330a,330b,330c)의 상단은 노즐 몸체(310)의 상부로 돌출되도록 설치될 수 있다.The bag nozzles 330a, 330b, and 330c spraying the chemical solution (treatment solution) may extend to the hollow groove 311 of the nozzle body 310 and the installation hollow 321 of the nozzle shaft 320, and the bag nozzle Upper ends of (330a, 330b, 330c) may be installed to protrude upward from the nozzle body 310.

한편 도 4에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 퍼지 유닛(P)은 환형의 유로(350), 가스 공급통로(360), 그리고 배기통로(370)를 포함한다.Meanwhile, as shown in FIG. 4, according to the present invention, the purge unit P includes an annular flow path 350, a gas supply passage 360, and an exhaust passage 370.

환형의 유로(350)는 비회전부에 속하는 노즐 몸체(310)와 회전부에 속하는 노즐 하우징(340)의 사이에 형성된 유격 공간이다.The annular flow path 350 is a clearance space formed between the nozzle body 310 belonging to the non-rotating part and the nozzle housing 340 belonging to the rotating part.

그리고, 가스 공급통로(360)는 유로(350)에 질소(N2)와 같은 퍼지 가스를 공급한다.Also, the gas supply passage 360 supplies a purge gas such as nitrogen (N2) to the flow path 350 .

퍼지 가스 중 일부는 유로(350)를 통해 백 노즐 스커트(700)와 노즐 몸체(110) 사이에 형성된 통로를 지나 기판(W)의 아래쪽으로 분사되어, 백 노즐(330a,330b,330c)에 의해 분사된 약액이 유로(350)에 다시 유입되는 것을 막고 기판(W) 하면에 분사되어 떨어지는 처리액을 외측으로 몰아낸다.Some of the purge gas passes through the passage formed between the bag nozzle skirt 700 and the nozzle body 110 through the flow path 350 and is injected downward of the substrate W, and is blown by the bag nozzles 330a, 330b, and 330c. The sprayed chemical liquid is prevented from re-introducing into the flow path 350 and the treatment liquid sprayed and dropped on the lower surface of the substrate W is driven outward.

그리고, 퍼지 가스 중 일부는 베어링(B)에 의해 발생되는 파티클이 포함된 기류가 유로(350)를 통해 기판의 하면으로 분사되는 것을 막는다.In addition, some of the purge gas prevents the air flow containing particles generated by the bearing B from being injected to the lower surface of the substrate through the flow path 350 .

상기 배기통로(370)는 파티클 기류의 흐름을 저지하는 퍼지 가스와 흐름이 저지된 파티클 기류를 아래쪽으로 배기한다.The exhaust passage 370 exhausts the flow-blocking purge gas and the flow-blocked particle airflow downward.

도시된 바와 같이, 상기 배기통로(370)는 회전축(800)의 내면과 노즐 샤프트(320)의 외면 사이에 형성될 수 있다.As shown, the exhaust passage 370 may be formed between an inner surface of the rotating shaft 800 and an outer surface of the nozzle shaft 320 .

상기 환형의 유로(350)는 버퍼부(351), 제1 퍼지 유로(352), 및 제2 퍼지 유로(353)를 포함할 수 있다.The annular flow path 350 may include a buffer part 351 , a first purge flow path 352 , and a second purge flow path 353 .

상기 버퍼부(351)는 링 형상을 가지며 노즐 몸체(310)와 노즐 하우징(340) 사이에 형성된다.The buffer part 351 has a ring shape and is formed between the nozzle body 310 and the nozzle housing 340 .

상기 버퍼부(351)에는 가스 공급통로(360)가 공급하는 퍼지 가스가 충전된다.The buffer unit 351 is filled with purge gas supplied from the gas supply passage 360 .

상기 버퍼부(351)에 퍼지 가스가 충전됨에 따라 버퍼부(351)의 내부 압력은 커지게 된다.As the purge gas is filled in the buffer part 351, the internal pressure of the buffer part 351 increases.

상기 제1 퍼지 유로(352)는 버퍼부(351)에 충전된 퍼지 가스가 기판(W)의 하면으로 분사되기 위한 유동 경로를 제공한다.The first purge passage 352 provides a flow path through which the purge gas filled in the buffer part 351 is injected to the lower surface of the substrate W.

상기 제1 퍼지 유로(352)는 전체적으로 링 형상을 가지며, 버퍼부(351)의 상부로부터 노즐 몸체(310)와 노즐 하우징(340) 사이의 개방된 상단까지 연장된다.The first purge passage 352 has a ring shape as a whole and extends from the top of the buffer part 351 to an open top between the nozzle body 310 and the nozzle housing 340 .

상기 제2 퍼지 유로(353)는 전체적으로 링 형상을 가지며 상기 회전축(800)과 노즐 샤프트(320) 사이의 베어링(B)까지 연장된다.The second purge passage 353 has a ring shape as a whole and extends to the bearing B between the rotary shaft 800 and the nozzle shaft 320 .

구체적으로, 상기 제2 퍼지 유로(353)는 상기 버퍼부(351)의 상부로부터 돌출되며 일차로 절곡된 후 아래쪽으로 연장되어 상기 베어링(B)까지 이어지는 구성으로 되어 있다.Specifically, the second purge passage 353 protrudes from the upper portion of the buffer part 351, is first bent, and then extends downward to extend to the bearing B.

이러한 구성에 따라, 상기 베어링(B)에서 발생한 파티클이 상기 제2 퍼지 유로(353)을 통해 상승하는 것이 용이하지 않으며 상기 버퍼부(351)에서 공급되는 퍼지 가스 등에 의한 압력에 의해 파티클이 상승하여 노즐 몸체(310) 위로 유출되는 것이 거의 불가능하므로 기판(W)이 파티클에 의해 손상되는 것을 확실히 차단할 수 있다.According to this configuration, it is not easy for the particles generated in the bearing B to rise through the second purge passage 353, and the particles rise due to the pressure of the purge gas supplied from the buffer unit 351. Since it is almost impossible to leak onto the nozzle body 310, the substrate W can be prevented from being damaged by particles.

더욱이 상기 버퍼부(351)의 내부 압력에 의해 상기 제2 퍼지 유로(353)를 통한 파티클의 상승 유동이 더욱 효과적으로 차단된다.Moreover, the upward flow of particles through the second purge passage 353 is more effectively blocked by the internal pressure of the buffer part 351 .

본 발명에 있어서, 상기 퍼지 유닛(P)을 구성하는 환형의 유로(350), 가스 공급통로(360), 그리고 배기통로(370)는 전술한 구조 외의 다양한 구성으로 이루어질 수 있다.In the present invention, the annular flow passage 350, the gas supply passage 360, and the exhaust passage 370 constituting the purge unit P may have various configurations other than those described above.

한편, 도 4에 도시한 바와 같이, 약액(처리액)을 분사하는 백 노즐(330a,330b,330c)은 세정을 위한 케미컬 약액을 공급하기 위한 세정용 백 노즐(330a), 린스(헹굼)를 위해 초순수(DIW) 등의 린스액을 분사하기 위한 린스용 백 노즐(330b), 및 이소프로필 알코올(IPA) 가스를 공급하기 위한 건조용 백 노즐(330c)을 포함할 수 있다.On the other hand, as shown in FIG. 4, the bag nozzles 330a, 330b, and 330c for spraying chemical liquids (treatment liquids) include the cleaning bag nozzles 330a for supplying chemical liquids for cleaning and rinsing. It may include a rinsing bag nozzle 330b for spraying a rinsing liquid such as ultrapure water (DIW) and a drying bag nozzle 330c for supplying isopropyl alcohol (IPA) gas.

또한, 상기 복수의 백 노즐(330a,330b,330c)은 노즐 몸체(310)와 노즐 샤프트(320)를 상하로 관통하여 중공홈(311)과 설치 중공(321)을 각각 지나 연장되도록 구성되며, 상기 백 노즐(330a,330b,330c)의 상단은 노즐 몸체(310)의 상부에 설치된 노즐 스커트(700)를 상하로 관통하여 설치된다.In addition, the plurality of bag nozzles 330a, 330b, and 330c pass through the nozzle body 310 and the nozzle shaft 320 vertically and extend past the hollow groove 311 and the installation hollow 321, respectively, Upper ends of the bag nozzles 330a, 330b, and 330c pass through the nozzle skirt 700 installed on the upper part of the nozzle body 310 vertically.

상기 노즐 스커트(700)는 상기 노즐 몸체(310)의 상부에 설치되되, 상기 상기 제1 퍼지 유로(352)로부터 배출되는 퍼지 가스가 수평으로 안내되도록 가장자리 부분에서 바닥면이 노즐 몸체(310)의 상면과 이격되어 틈(777)이 형성되어 있다.The nozzle skirt 700 is installed on the upper part of the nozzle body 310, and the bottom surface of the nozzle body 310 is provided at the edge so that the purge gas discharged from the first purge passage 352 is guided horizontally. A gap 777 is formed spaced apart from the upper surface.

상기 노즐 스커트(700)는 백 노즐(330a,330b,330c)을 상부에서 지지하도록 하는 것과 함께 회전부의 상면에 잔류하는 처리액이나 세정액이 회전부와 비회전부 사이에 유입되는 것을 방지하고 외측으로 밀어내어 제거함으로써, 처리액 등이 노즐 하우징(340) 등에 잔류하는 경우 건조과정에서 증발하면서 기판(W)의 하면에 얼룩 등 손상을 야기하는 것을 방지할 수 있다.The nozzle skirt 700 supports the back nozzles 330a, 330b, and 330c from the top, prevents the treatment liquid or cleaning liquid remaining on the upper surface of the rotating part from flowing between the rotating part and the non-rotating part, and pushes it outward. By removing, when the treatment liquid or the like remains on the nozzle housing 340 or the like, it is possible to prevent damage such as stains on the lower surface of the substrate W while evaporating during the drying process.

도 5 내지 도 9에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 상기 백 노즐 스커트(700)에는, 백 노즐(330a,330b,330c)이 상하방향으로 관통하는 노즐 지지공(710a,710b,710c), 바닥면에서 상기 백 노즐 어셈블리(300)에 형성된 환형의 유로(350)의 상단과 대향되게 형성되는 환형의 도입홈(720), 바닥면에서 상기 환형의 도입홈(720)으로부터 백 노즐 스커트(700)의 중앙을 향해 연장되는 연결홈(730), 바닥면에서 상기 연결홈(730)에 연통되며 중앙 영역에 형성되는 임시 수용홈(740), 및 상기 임시 수용홈(740)의 바닥에 위치하며 상기 백 노즐 스커트(700)의 상면까지 관통되게 형성되는 분사공(750)이 형성된다.5 to 9, according to the present invention, the bag nozzle skirt 700 includes nozzle support holes 710a, 710b, and 710c through which the bag nozzles 330a, 330b, and 330c vertically pass through. , an annular introduction groove 720 formed to face the upper end of the annular passage 350 formed in the bag nozzle assembly 300 on the bottom surface, and a bag nozzle skirt from the annular introduction groove 720 on the bottom surface ( 700), a connection groove 730 extending toward the center, a temporary accommodation groove 740 communicating with the connection groove 730 on the bottom surface and formed in the central region, and located at the bottom of the temporary accommodation groove 740. and a spray hole 750 penetrating the upper surface of the bag nozzle skirt 700 is formed.

이러한 구성에 따라, 상기 환형의 유로(350)로부터 배출되는 퍼지 가스가 상기 환형의 도입홈(720), 연결홈(730), 임시 수용홈(740) 및 분사공(750)을 통해 백 노즐 스커트(700)의 상면 위에 분사되어 백 노즐 스커트(700)의 상면에 잔류한 처리액 등을 확실하게 외측으로 밀어낼 수 있게 된다.According to this configuration, the purge gas discharged from the annular passage 350 passes through the annular inlet groove 720, connection groove 730, temporary receiving groove 740 and spray hole 750, and then the back nozzle skirt. The treatment liquid remaining on the upper surface of the back nozzle skirt 700 by being sprayed on the upper surface of the back nozzle skirt 700 can be surely pushed outward.

또한, 평면도에서 바라볼 때, 상기 분사공(750)을 상기 회전축(800)의 회전방향을 따라 이격되게 형성되는 복수개로 구성하여 상기 백 노즐 스커트(700)의 둘레방향을 따라 균일하게 퍼지 가스를 공급함으로써 백 노즐 스커트(700) 상면의 처리액 제거가 한층 신속하게 이루어질 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In addition, when viewed from a plan view, a plurality of spray holes 750 spaced apart along the rotational direction of the rotating shaft 800 uniformly distributes purge gas along the circumferential direction of the bag nozzle skirt 700. It is preferable to make the removal of the treatment liquid from the upper surface of the back nozzle skirt 700 more rapid by supplying the water.

또한, 측단면에서 바라볼 때, 상기 분사공(750)의 출구(751)는 상기 회전축(800)에 대하여 경사지게 형성되어 상기 백 노즐 스커트(700) 상면에 대한 퍼지 가스의 접근이 한층 용이하도록 하는 것이 바람직하다.In addition, when viewed from the side cross-section, the outlet 751 of the injection hole 750 is inclined with respect to the rotation shaft 800 so that the purge gas can more easily access the upper surface of the bag nozzle skirt 700. it is desirable

이에 따라, 상기 분사공(750)의 수직 단면형상이 상기 백 노즐 스커트(700)를 평면도에서 바라보게 되면 상기 분사공(750)의 출구는 타원 형상을 이루게 된다.Accordingly, when the vertical cross-sectional shape of the injection hole 750 looks at the bag nozzle skirt 700 from a plan view, the outlet of the injection hole 750 forms an elliptical shape.

특히, 상기 분사공(750)은 입구(752)로부터 상기 회전축(800)과 나란한 방향으로 연장되다 출구(751)까지 경사지게 형성되어 제조를 한층 용이하게 할 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In particular, it is preferable that the injection hole 750 extends in a direction parallel to the rotating shaft 800 from the inlet 752 and is inclined to the outlet 751 so as to further facilitate manufacturing.

또한, 저면도에서 바라볼 때, 상기 백 노즐 스커트(700)는 원형의 외곽 형상을 가지며, 상기 환형의 도입홈(720)은 원형으로 구성되고, 상기 연결홈(730)은 상기 환형의 도입홈(720)으로부터 백 노즐 스커트(700)의 중앙을 향해 방사상으로 형성되어 퍼지 가스의 이동 경로를 최소화함으로써 환형의 도입홈(720)으로부터 퍼지 가스를 신속하게 분사공(750)을 통해 분사하는 것이 바람직하다.Also, when viewed from a bottom view, the bag nozzle skirt 700 has a circular outer shape, the annular introduction groove 720 has a circular shape, and the connection groove 730 has the annular introduction groove. It is preferable to quickly inject the purge gas from the annular introduction groove 720 through the injection hole 750 by minimizing the moving path of the purge gas by being radially formed from the 720 toward the center of the bag nozzle skirt 700. do.

또한 이 경우, 저면도에서 바라볼 때, 상기 연결홈(730)은 원주방향을 따라 형성되는 복수개로 구성되어 한층 균일하고 신속하게 분사할 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In addition, in this case, when viewed from the bottom view, it is preferable that the connection groove 730 is composed of a plurality of pieces formed along the circumferential direction so as to enable more uniform and rapid spraying.

한편, 저면도에서 바라볼 때, 상기 백 노즐 스커트(700)의 중앙에는 노즐 지지공(710c)이 형성되며, 상기 분사공(750)은 상기 중앙의 노즐 지지공(710c)의 둘레에 형성되어 퍼지 가스의 균일한 분사가 이루어지도록 할 수 있다.Meanwhile, when viewed from a bottom view, a nozzle support hole 710c is formed at the center of the bag nozzle skirt 700, and the injection hole 750 is formed around the center nozzle support hole 710c. Uniform injection of the purge gas may be achieved.

이때, 상기 복수의 분사공(750)의 출구(751) 중심은 각각 백 노즐 스커트(700)의 중앙에 대하여 하나의 동심원 상에 배치되는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the centers of the outlets 751 of the plurality of injection holes 750 are disposed on one concentric circle with respect to the center of the bag nozzle skirt 700 .

특히, 상기 백 노즐 스커트(700)의 원형의 외곽 형상, 원형의 환형 도입홈(720) 및 복수의 분사공(750)이 배열된 원형은 동심원으로 이루어지는 것이 바람직하다.In particular, it is preferable that the circular outer shape of the bag nozzle skirt 700, the circular annular introduction groove 720, and the circular shape in which the plurality of spray holes 750 are arranged are concentric circles.

또한, 평면도에서 바라볼 때, 중앙으로부터 중앙의 노즐 지지공(710c)을 제외한 다른 노즐 지지공(710a,710b)의 중심까지의 길이는 중앙으로부터 분사공(750)의 중심까지의 길이보다 길게 형성되어 백 노즐 스커트(700)에 백 노즐(330a,330b,330c), 기판 감지 센서(780), 및 후술하는 체결수단(760) 등의 설치구조가 콤팩트하게 되어 그 크기를 크게 줄일 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In addition, when viewed from a plan view, the length from the center to the center of the nozzle support holes 710a and 710b other than the central nozzle support hole 710c is longer than the length from the center to the center of the injection hole 750. Therefore, the installation structure of the bag nozzles 330a, 330b, and 330c, the substrate detection sensor 780, and the fastening means 760 to be described later on the bag nozzle skirt 700 is compact, so that the size can be greatly reduced. desirable.

한편, 상기 백 노즐 스커트(700)에는 상기 기판 감지 센서(780)가 관통 설치되기 위한 센서 지지공(790)이 형성될 수 있으며, 백 노즐 스커트(700)의 중앙으로부터 센서 지지공(790)의 중심까지의 길이는 중앙으로부터 분사공(750)의 중심까지의 길이보다 길게 형성되는 것이 바람직하다.Meanwhile, a sensor support hole 790 through which the substrate detection sensor 780 is installed may be formed in the back nozzle skirt 700, and the sensor support hole 790 is formed from the center of the back nozzle skirt 700. The length to the center is preferably longer than the length from the center to the center of the injection hole 750 .

상기 백 노즐 스커트(700)와 백 노즐 어셈블리(300)의 노즐 몸체(310)는 접시머리 볼트와 같은 체결수단(760)에 의해 결합될 수 있으며, 이 경우 상기 백 노즐 스커ㅌ트(700)에는 상기 체결수단(760)이 관통하는 체결공(770)이 형성된다.The bag nozzle skirt 700 and the nozzle body 310 of the bag nozzle assembly 300 may be coupled by a fastening means 760 such as a flat head bolt. In this case, the bag nozzle skirt 700 A fastening hole 770 through which the fastening means 760 passes is formed.

본 발명의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허청구범위 내에서 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.The embodiments of the present invention are merely illustrative, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible within the scope of the claims below.

10... 유체 공급 유닛
20... 바울 조립체
30... 승강 유닛
100... 척 베이스
170... 중공부
200... 척핀
300... 백 노즐 어셈블리
310... 노즐 몸체
311... 중공홈
318... 설치벽
319... 삽입공
320... 노즐 샤프트
321... 설치 중공
330a,330b,330c... 백 노즐
340... 노즐 하우징
345... 설치공
350... 환형의 유로
351... 버퍼부
352... 제1 퍼지 유로
353... 제2 퍼지 유로
360... 가스 공급통로
370... 배기통로
700... 노즐 스커트
710a,710b,710c... 노즐 지지공
720... 환형의 도입홈
730... 연결홈
740... 임시 수용홈
750... 분사공
751... 분사공의 출구
752... 분사공의 입구
760... 체결수단
780... 기판 감지 센서
790... 센서 지지공
500... 모터
800... 회전축
810... 회전축의 중공 부분
1000... 기판 처리장치
B... 베어링
P... 퍼지 유닛
S... 기판 지지장치
W... 기판10... fluid supply unit
20... baul assembly
30... elevating unit
100... chuck base
170... hollow part
200... chuck pin
300... bag nozzle assembly
310... nozzle body
311... hollow groove
318... mounting wall
319... insert hole
320... nozzle shaft
321... installation hollow
330a, 330b, 330c... bag nozzle
340... nozzle housing
345... Installer
350... annular euro
351... buffer unit
352... first purge flow path
353... second purge flow
360 ... gas supply passage
370... Exhaust passage
700... nozzle skirt
710a, 710b, 710c... nozzle support hole
720... annular inlet
730... connecting groove
740... Temporary accommodation home
750... blower
751... outlet of blast hole
752... mouth of blast hole
760... fastening means
780... board detection sensor
790... sensor support hole
500... motor
800... axis of rotation
810... hollow part of the rotary shaft
1000... substrate processing device
B... bearing
P... purge unit
S... board support
W... Substrate

Claims (9)

회전축에 의해 회전 가능하게 설치되는 척 베이스를 포함하는 기판 지지장치;
상기 기판의 상면에 처리액을 공급하는 유체 공급 유닛;
상기 척 베이스의 중앙에 형성된 중공부를 통해 설치되어 기판의 하면에 처리액을 분사하기 위한 것으로, 백 노즐, 상기 백 노즐이 설치되는 노즐 몸체, 평면도에서 바라볼 때 상기 노즐 몸체의 외측에 설치되는 노즐 하우징, 및 상기 노즐 몸체와 노즐 하우징 사이에 형성되며 상단이 개방된 환형의 유로를 포함하는 백 노즐 어셈블리; 및
상기 백 노즐 어셈블리의 상부에 설치되되 가장자리 부분에서 바닥면이 상기 백 노즐 어셈블리와 이격되게 배치되는 백 노즐 스커트;
를 포함하며,
상기 백 노즐 스커트에는,
상기 백 노즐이 상하방향으로 관통하는 노즐 지지공;
바닥면에서 상기 백 노즐 어셈블리에 형성된 환형의 유로의 상단과 대향되게 형성되는 환형의 도입홈;
바닥면에서 상기 환형의 도입홈으로부터 백 노즐 스커트의 중앙을 향해 연장되는 연결홈;
바닥면에서 상기 연결홈에 연통되며 중앙 영역에 형성되는 임시 수용홈; 및
상기 임시 수용홈의 바닥에 위치하며 상기 백 노즐 스커트의 상면까지 관통되게 형성되는 분사공;
이 형성되며,
평면도에서 바라볼 때, 상기 분사공은 상기 회전축의 회전방향을 따라 복수개가 이격되게 형성되는 것을 특징으로 하는 백 노즐 스커트를 포함하는 기판 처리장치.A substrate support device including a chuck base rotatably installed by a rotating shaft;
a fluid supply unit supplying a treatment liquid to the upper surface of the substrate;
It is installed through the hollow formed in the center of the chuck base to spray the treatment liquid on the lower surface of the substrate, and includes a bag nozzle, a nozzle body in which the bag nozzle is installed, and a nozzle installed outside the nozzle body when viewed from a plan view. a bag nozzle assembly including a housing and an annular flow path formed between the nozzle body and the nozzle housing and having an open top; and
a bag nozzle skirt installed on the upper part of the bag nozzle assembly and having a bottom surface spaced apart from the bag nozzle assembly at an edge portion;
Including,
In the back nozzle skirt,
a nozzle support hole through which the bag nozzle vertically passes;
an annular introduction groove formed on a bottom surface to face an upper end of the annular passage formed in the bag nozzle assembly;
a connection groove extending from the annular introduction groove toward the center of the bag nozzle skirt on the bottom surface;
a temporary receiving groove communicating with the connecting groove on a bottom surface and formed in a central region; and
a spray hole located at the bottom of the temporary receiving groove and penetrating to the upper surface of the bag nozzle skirt;
is formed,
When viewed from a plan view, the substrate processing apparatus including a bag nozzle skirt, characterized in that a plurality of spray holes are formed spaced apart from each other along the rotational direction of the rotation shaft. 삭제delete 제1항에 있어서,
측단면에서 바라볼 때, 상기 분사공의 출구는 상기 회전축에 대하여 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 백 노즐 스커트를 포함하는 기판 처리장치.According to claim 1,
When viewed from a side cross-section, the outlet of the injection hole is formed inclined with respect to the rotation shaft. 제3항에 있어서,
상기 분사공은 입구로부터 상기 회전축과 나란한 방향으로 연장되다 출구까지 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 백 노즐 스커트를 포함하는 기판 처리장치.According to claim 3,
The spray hole extends in a direction parallel to the rotating shaft from the inlet and is inclined to the outlet. 제1항 또는 제3항 또는 제4항에 있어서,
저면도에서 바라볼 때, 상기 백 노즐 스커트는 원형의 외곽 형상을 가지며, 상기 환형의 도입홈은 원형으로 구성되고, 상기 연결홈은 상기 환형의 도입홈으로부터 백 노즐 스커트의 중앙을 향해 방사상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 백 노즐 스커트를 포함하는 기판 처리장치.According to claim 1 or 3 or 4,
When viewed from a bottom view, the bag nozzle skirt has a circular outer shape, the annular introduction groove is formed in a circular shape, and the connection groove is radially formed from the annular introduction groove toward the center of the bag nozzle skirt. A substrate processing apparatus comprising a back nozzle skirt, characterized in that. 제5항에 있어서,
저면도에서 바라볼 때, 상기 연결홈은 원주방향을 따라 형성되는 복수개로 구성되는 것을 특징으로 하는 백 노즐 스커트를 포함하는 기판 처리장치.According to claim 5,
When viewed from a bottom view, the substrate processing apparatus including a bag nozzle skirt, characterized in that the connecting groove is composed of a plurality formed along the circumferential direction. 제6항에 있어서,
저면도에서 바라볼 때, 상기 백 노즐 스커트의 중앙에는 노즐 지지공이 형성되며, 상기 분사공은 상기 노즐 지지공의 둘레에 형성되는 것을 특징으로 하는 백 노즐 스커트를 포함하는 기판 처리장치.According to claim 6,
When viewed from a bottom view, a nozzle support hole is formed at the center of the back nozzle skirt, and the injection hole is formed around the nozzle support hole. 제6항에 있어서,
평면도에서 바라볼 때, 중앙으로부터 중앙의 노즐 지지공을 제외한 다른 노즐 지지공의 중심까지의 길이는 중앙 영역으로부터 분사공의 중심까지의 길이보다 길게 형성되는 것을 특징으로 하는 백 노즐 스커트를 포함하는 기판 처리장치.According to claim 6,
When viewed from a plan view, a substrate including a back nozzle skirt characterized in that the length from the center to the center of other nozzle support holes other than the central nozzle support hole is formed longer than the length from the center area to the center of the injection hole. processing device. 삭제delete
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