KR20230031360A - Manufacturing method of optically anisotropic layer - Google Patents

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KR20230031360A
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anisotropic layer
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유타 다카하시
신페이 요시다
게이스케 고다마
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후지필름 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있고, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층의 간편한 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법은, 중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물층을 형성하는 공정 1과, 조성물층에 가열 처리를 실시하여, 조성물층 중의 상기 액정 화합물을 배향시키는 공정 2와, 공정 2 이후, 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 조성물층에 대하여, 광조사를 50초간 이하, 또한, 300mJ/cm2 이하에서 행하는 공정 3과, 공정 3 이후, 조성물층에, 광조사 시보다 높은 온도에서 가열 처리를 실시하는 공정 4와, 공정 4 이후, 조성물층에 대하여 경화 처리를 실시하여, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층을 형성하는 공정 5를 갖는다.The present invention provides a simple method for producing an optically anisotropic layer in which the orientation state of the liquid crystal compound is fixed and a plurality of regions having different orientation states of the liquid crystal compound are formed along the thickness direction. The method for producing an optically anisotropic layer of the present invention includes step 1 of forming a composition layer containing a liquid crystal compound having a polymerizable group, and step 2 of subjecting the composition layer to heat treatment to orient the liquid crystal compound in the composition layer. , After Step 2, Step 3 in which the composition layer is irradiated with light for 50 seconds or less and at 300 mJ/cm 2 or less under the condition of an oxygen concentration of 1% by volume or more, and after Step 3, the composition layer is irradiated with light Step 4 of performing heat treatment at a higher temperature, and Step 5 of forming an optically anisotropic layer having a plurality of regions in which the alignment states of the liquid crystal compounds are different along the thickness direction by subjecting the composition layer to a curing treatment after Step 4 have

Description

광학 이방성층의 제조 방법Manufacturing method of optically anisotropic layer

본 발명은, 광학 이방성층의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing an optically anisotropic layer.

굴절률 이방성을 갖는 위상차층(광학 이방성층)은, 표시 장치의 반사 방지막, 및, 액정 표시 장치의 광학 보상 필름 등 다양한 용도에 적용되고 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION A retardation layer (optically anisotropic layer) having refractive index anisotropy is applied to various applications, such as an antireflection film for a display device and an optical compensation film for a liquid crystal display device.

광학 이방성층으로서는, 특허문헌 1에 기재되는 바와 같이 복수의 층으로 이루어지는 적층형의 광학 이방성층이 개시되어 있다.As the optically anisotropic layer, as described in Patent Literature 1, a laminated optically anisotropic layer composed of a plurality of layers is disclosed.

일본 특허공보 제5960743호Japanese Patent Publication No. 5960743

종래, 특허문헌 1에 기재되는 바와 같은 광학 이방성층을 제조할 때에는, 적층하는 광학 이방성층을 1층마다, 도포에 의하여 형성하기 때문에, 생산성이 낮아, 비용이 비싸진다는 과제가 있었다.Conventionally, when manufacturing an optically anisotropic layer as described in Patent Document 1, since the optically anisotropic layer to be laminated is formed by application for each layer, productivity is low and the cost is high.

또, 도포를 반복할 때에, 도포액의 뭉침이 발생하여, 원하는 광학 이방성층을 형성할 수 없는 경우도 있었다.In addition, when the coating is repeated, aggregation of the coating liquid occurs, and the desired optically anisotropic layer cannot be formed in some cases.

본 발명은, 상기 실정을 감안하여, 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있고, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층의 간편한 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.In view of the above situation, an object of the present invention is to provide a simple method for producing an optically anisotropic layer having a plurality of regions in which the orientation state of the liquid crystal compound is fixed and the orientation state of the liquid crystal compound is different along the thickness direction.

본 발명자들은, 종래 기술의 문제점에 대하여 예의 검토한 결과 이하의 구성에 의하여 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아냈다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors discovered that the said subject was solvable by the following structures as a result of earnestly examining the problem of the prior art.

(1) 중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물층을 형성하는 공정 1과,(1) Step 1 of forming a composition layer containing a liquid crystal compound having a polymerizable group;

조성물층에 가열 처리를 실시하여, 조성물층 중의 액정 화합물을 배향시키는 공정 2와,Step 2 of subjecting the composition layer to heat treatment to orient the liquid crystal compound in the composition layer;

공정 2 이후, 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 조성물층에 대하여, 광조사를 50초간 이하, 또한, 300mJ/cm2 이하에서 행하는 공정 3과,After Step 2, Step 3 of irradiating the composition layer with light for 50 seconds or less and at 300 mJ/cm 2 or less under conditions of an oxygen concentration of 1% by volume or more;

공정 3 이후, 조성물층에, 광조사 시보다 높은 온도에서 가열 처리를 실시하는 공정 4와,After step 3, step 4 of subjecting the composition layer to a heat treatment at a temperature higher than that at the time of light irradiation;

공정 4 이후, 조성물층에 대하여 경화 처리를 실시하여, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층을 형성하는 공정 5를 갖는, 광학 이방성층의 제조 방법.After step 4, the composition layer is subjected to a curing treatment to form an optically anisotropic layer having a plurality of regions in which the alignment states of liquid crystal compounds are different along the thickness direction. A method for producing an optically anisotropic layer.

(2) 조성물층이 광중합 개시제 및 광증감제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 감광 재료를 포함하고,(2) the composition layer contains a photosensitive material selected from the group consisting of a photopolymerization initiator and a photosensitizer;

공정 3에 있어서의 광조사의 파장에 있어서의 감광 재료의 몰 흡광 계수가 5000L/(mol·cm) 이하인, (1)에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.The method for producing an optically anisotropic layer according to (1), wherein the molar extinction coefficient of the photosensitive material at the wavelength of light irradiation in Step 3 is 5000 L/(mol·cm) or less.

(3) 조성물층이, 카이랄제를 포함하고,(3) the composition layer contains a chiral agent;

카이랄제가, 광조사에 의하여 나선 유기력이 변화하는 감광성 카이랄제를 포함하는, (1) 또는 (2)에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.The method for producing an optically anisotropic layer according to (1) or (2), wherein the chiral agent includes a photosensitive chiral agent whose helical induction force changes upon light irradiation.

(4) 액정 화합물의 전체 질량에 대한, 카이랄제의 합계 함유량이, 5.0질량% 이하인, (3)에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.(4) The method for producing an optically anisotropic layer according to (3), wherein the total content of chiral agents relative to the total mass of the liquid crystal compound is 5.0% by mass or less.

(5) 액정 화합물의 전체 질량에 대한, 카이랄제의 합계 함유량이, 5.0질량% 초과인, (3)에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.(5) The method for producing an optically anisotropic layer according to (3), wherein the total content of chiral agents with respect to the total mass of the liquid crystal compound is more than 5.0% by mass.

(6) 조성물층이, 광조사에 의하여 극성이 변화하는 감광성 화합물을 포함하는, (1) 또는 (2)에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.(6) The method for producing an optically anisotropic layer according to (1) or (2), wherein the composition layer contains a photosensitive compound whose polarity changes upon irradiation with light.

(7) 감광성 화합물이, 광조사에 의하여 친수화하는 감광성 화합물인, (6)에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.(7) The method for producing an optically anisotropic layer according to (6), wherein the photosensitive compound is a photosensitive compound that becomes hydrophilic upon irradiation with light.

(8) 공정 4에 있어서의 가열 처리의 온도가, 액정 화합물이 등방상이 되는 온도 이상인, (1) 또는 (2)에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.(8) The method for producing an optically anisotropic layer according to (1) or (2), wherein the temperature of the heat treatment in step 4 is equal to or higher than the temperature at which the liquid crystal compound becomes isotropic.

본 발명에 의하면, 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있고, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층의 간편한 제조 방법을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the orientation state of a liquid crystal compound is fixed and the simple manufacturing method of the optically anisotropic layer which has a plurality of regions with different orientation states of a liquid crystal compound along the thickness direction can be provided.

도 1은 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제1 실시형태의 공정 1A의 일례를 설명하기 위한 조성물층의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제1 실시형태의 공정 3A의 일례를 설명하기 위한 조성물층의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제1 실시형태의 공정 4A를 실시한 경우의 일례를 설명하기 위한 조성물층의 단면도이다.
도 4는 카이랄제 A 및 카이랄제 B의 각각에 대하여, 나선 유기력(HTP: Helical Twisting Power)(μm-1)×농도(질량%)와 광조사량(mJ/cm2)의 관계를 플롯한 그래프의 모식도이다.
도 5는 카이랄제 A 및 카이랄제 B를 병용한 계(系)에 있어서, 가중 평균 나선 유기력(μm-1)과 광조사량(mJ/cm2)의 관계를 플롯한 그래프의 모식도이다.
도 6은 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제1 실시형태의 공정 1A의 다른 예를 설명하기 위한 조성물층의 단면도이다.
도 7은 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제1 실시형태의 공정 4A를 실시한 경우의 다른 예를 설명하기 위한 조성물층의 단면도이다.
도 8은 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제2 실시형태의 공정 3B의 일례를 설명하기 위한 조성물층의 단면도이다.
도 9는 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제2 실시형태의 공정 4B의 일례를 설명하기 위한 조성물층의 단면도이다.
도 10은 카이랄제 A에 대하여, 나선 유기력(μm-1)과 광조사량(mJ/cm2)의 관계를 플롯한 그래프의 모식도이다.
도 11은 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제3 실시형태의 공정 3C의 일례를 설명하기 위한 조성물층의 단면도이다.
도 12는 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제3 실시형태의 공정 4C의 일례를 설명하기 위한 조성물층의 단면도이다.
도 13은 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제4 실시형태의 공정 3D의 일례를 설명하기 위한 조성물층의 단면도이다.
도 14는 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제4 실시형태의 공정 4D의 일례를 설명하기 위한 조성물층의 단면도이다.
도 15는 본 발명의 적층체의 일 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 16은 본 발명의 편광자 부착 광학 이방성층의 일 실시형태를 나타내는 단면도이다.
1 is a cross-sectional view of a composition layer for explaining an example of step 1A of a first embodiment of a method for producing an optically anisotropic layer of the present invention.
Fig. 2 is a cross-sectional view of a composition layer for explaining an example of step 3A of the first embodiment of the optically anisotropic layer manufacturing method of the present invention.
Fig. 3 is a cross-sectional view of a composition layer for explaining an example in the case where step 4A of the first embodiment of the method for producing an optically anisotropic layer of the present invention is performed.
Figure 4 shows the relationship between helical twisting power (HTP: Helical Twisting Power) (μm -1 ) × concentration (mass %) and light irradiation amount (mJ/cm 2 ) for each of chiral agent A and chiral agent B. It is a schematic diagram of the plotted graph.
5 is a schematic diagram of a graph plotting the relationship between the weighted average helix induction force (μm -1 ) and the amount of light irradiation (mJ/cm 2 ) in a system in which chiral agent A and chiral agent B are used together. .
Fig. 6 is a cross-sectional view of a composition layer for explaining another example of Step 1A of the first embodiment of the optically anisotropic layer manufacturing method of the present invention.
Fig. 7 is a cross-sectional view of a composition layer for explaining another example in the case where step 4A of the first embodiment of the method for producing an optically anisotropic layer of the present invention is performed.
Fig. 8 is a cross-sectional view of a composition layer for explaining an example of Step 3B of the second embodiment of the method for producing an optically anisotropic layer of the present invention.
Fig. 9 is a cross-sectional view of a composition layer for explaining an example of step 4B of the second embodiment of the optically anisotropic layer manufacturing method of the present invention.
10 is a schematic diagram of a graph plotting the relationship between the spiral induction force (μm -1 ) and the light irradiation amount (mJ/cm 2 ) for chiral agent A.
Fig. 11 is a cross-sectional view of a composition layer for explaining an example of Step 3C of the third embodiment of the method for producing an optically anisotropic layer of the present invention.
Fig. 12 is a cross-sectional view of a composition layer for explaining an example of Step 4C of the third embodiment of the method for producing an optically anisotropic layer of the present invention.
Fig. 13 is a cross-sectional view of a composition layer for explaining an example of step 3D of a fourth embodiment of the manufacturing method of an optically anisotropic layer of the present invention.
Fig. 14 is a cross-sectional view of a composition layer for explaining an example of step 4D of the fourth embodiment of the manufacturing method of an optically anisotropic layer of the present invention.
15 is a cross-sectional view showing one embodiment of the laminate of the present invention.
Fig. 16 is a cross-sectional view showing an embodiment of an optically anisotropic layer with a polarizer according to the present invention.

이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 명세서에 있어서 "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다. 먼저, 본 명세서에서 이용되는 용어에 대하여 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail. In addition, the numerical range expressed using "-" in this specification means the range which includes the numerical value described before and after "-" as a lower limit and an upper limit. First, terms used in this specification will be described.

지상축(遲相軸)은, 특별한 설명이 없으면, 550nm에 있어서의 정의이다.The slow axis is defined at 550 nm unless otherwise specified.

본 발명에 있어서, Re(λ) 및 Rth(λ)는 각각, 파장 λ에 있어서의 면내의 리타데이션 및 두께 방향의 리타데이션을 나타낸다. 특별한 기재가 없을 때는, 파장 λ는, 550nm로 한다.In the present invention, Re(λ) and Rth(λ) respectively represent in-plane retardation and thickness direction retardation at wavelength λ. When there is no special description, the wavelength λ is 550 nm.

본 발명에 있어서, Re(λ) 및 Rth(λ)는, AxoScan(Axometrics사제)에 있어서, 파장 λ로 측정한 값이다. AxoScan으로 평균 굴절률((nx+ny+nz)/3)과 막두께(d(μm))를 입력함으로써,In the present invention, Re(λ) and Rth(λ) are values measured with a wavelength λ in AxoScan (manufactured by Axometrics). By inputting the average refractive index ((nx + ny + nz) / 3) and the film thickness (d (μm)) with AxoScan,

지상축 방향(°)Slow axis direction (°)

Re(λ)=R0(λ)Re(λ)=R0(λ)

Rth(λ)=((nx+ny)/2-nz)×dRth(λ)=((nx+ny)/2-nz)×d

가 산출된다.is calculated

또한, R0(λ)은, AxoScan으로 산출되는 수치로서 표시되는 것이지만, Re(λ)를 의미하고 있다.Also, R0(λ) is expressed as a numerical value calculated by AxoScan, but means Re(λ).

본 명세서에 있어서, 굴절률 nx, ny, 및 nz는, 아베 굴절계(NAR-4T, 아타고(주)제)를 사용하고, 광원으로 나트륨 램프(λ=589nm)를 이용하여 측정한다. 또, 파장 의존성을 측정하는 경우는, 다파장 아베 굴절계 DR-M2(아타고(주)제)로, 간섭 필터와의 조합으로 측정할 수 있다.In this specification, the refractive indices nx, ny, and nz are measured using an Abbe refractometer (NAR-4T, manufactured by Atago Co., Ltd.) and using a sodium lamp (λ = 589 nm) as a light source. In the case of measuring the wavelength dependence, it can be measured with a multi-wavelength Abbe refractometer DR-M2 (manufactured by Atago Co., Ltd.) in combination with an interference filter.

또, 폴리머 핸드북(JOHN WILEY & SONS, INC), 및, 각종 광학 필름의 카탈로그의 값을 사용할 수 있다. 주된 광학 필름의 평균 굴절률의 값을 이하에 예시한다: 셀룰로스아실레이트(1.48), 사이클로올레핀 폴리머(1.52), 폴리카보네이트(1.59), 폴리메틸메타크릴레이트(1.49), 및, 폴리스타이렌(1.59).In addition, values from the polymer handbook (JOHN WILEY & SONS, INC) and catalogs of various optical films can be used. The values of the average refractive index of the main optical films are exemplified below: cellulose acylate (1.48), cycloolefin polymer (1.52), polycarbonate (1.59), polymethyl methacrylate (1.49), and polystyrene (1.59).

본 명세서 중에 있어서의 "광"이란, 활성광선 또는 방사선을 의미하고, 예를 들면, 수은등의 휘선 스펙트럼, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, 극자외선(EUV광: Extreme Ultraviolet), X선, 자외선, 및 전자선(EB: Electron Beam) 등을 의미한다. 그중에서도, 자외선이 바람직하다.The term “light” in the present specification means active light or radiation, and includes, for example, a bright line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays represented by an excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light: Extreme Ultraviolet), X-rays, ultraviolet rays, and electron beams (EB: Electron Beam). Among them, ultraviolet rays are preferable.

본 명세서에서는, "가시광"이란, 380~780nm의 광을 말한다. 또, 본 명세서에서는, 측정 파장에 대하여 특별히 부기(付記)가 없는 경우는, 측정 파장은 550nm이다.In this specification, "visible light" refers to light of 380 to 780 nm. In addition, in this specification, when there is no note in particular about the measurement wavelength, the measurement wavelength is 550 nm.

본 명세서에 있어서, 광학 이방성층 중에 있어서 액정 화합물이 비틀림 배향하고 있는 경우, 그 비틀림각은 0° 초과 360° 미만인 것이 바람직하다. 또한, 후술하는 콜레스테릭 액정상은, 액정 화합물이 나선상으로 배향한 주기 구조를 갖는 상(相)이며, 비틀림각은 360° 이상이다.In the present specification, when the liquid crystal compound is torsionally aligned in the optically anisotropic layer, the twist angle is preferably greater than 0° and less than 360°. In addition, the cholesteric liquid crystal phase described later is a phase having a periodic structure in which liquid crystal compounds are helically oriented, and has a twist angle of 360° or more.

본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 특징점으로서는, 소정의 공정을 실시하고 있는 점을 들 수 있다.As a characteristic point of the manufacturing method of the optically anisotropic layer of this invention, the point of carrying out a predetermined|prescribed process is mentioned.

이후 단락에서 상세하게 설명하는 바와 같이, 본 발명에 있어서는, 먼저, 조성물층 중의 액정 화합물을 배향시킨다. 형성되는 조성물층의 기판 측의 일부의 영역에 있어서는 산소 농도가 낮고, 기판 측과는 반대 측의 표면 측의 다른 영역에 있어서는 산소 농도가 높다. 그 때문에, 이와 같은 조성물층에 대하여, 소정의 조건에서 광조사를 행하면 산소 농도가 높은 영역에 있어서는, 액정 화합물의 중합이 진행되기 어려운 데 대하여, 산소 농도가 낮은 영역에 있어서는, 액정 화합물의 중합이 진행되기 쉽다. 액정 화합물의 중합이 진행되기 쉬운 영역에 있어서는, 액정 화합물의 배향 상태가 고정된다. 그리고, 광조사 후에 실시하는 가열 처리 시에, 액정 화합물의 중합이 진행된 영역에 있어서는 액정 화합물의 배향 상태는 변화하지 않지만, 액정 화합물의 중합이 진행되기 어려웠던 영역에 있어서는 액정 화합물의 배향 상태가 변화하여, 경화 처리 시에 변화한 배향 상태가 고정된다. 결과적으로, 고정된 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층이 제조된다.As described in detail in the following paragraphs, in the present invention, the liquid crystal compound in the composition layer is first aligned. The oxygen concentration is low in some regions on the substrate side of the composition layer to be formed, and the oxygen concentration is high in other regions on the surface side opposite to the substrate side. Therefore, when light irradiation is performed on such a composition layer under predetermined conditions, polymerization of the liquid crystal compound is difficult to proceed in an area where the oxygen concentration is high, whereas polymerization of the liquid crystal compound is difficult to proceed in an area where the oxygen concentration is low. easy to progress In a region where the polymerization of the liquid crystal compound tends to proceed, the alignment state of the liquid crystal compound is fixed. In the case of heat treatment performed after light irradiation, the alignment state of the liquid crystal compound does not change in the region where the polymerization of the liquid crystal compound has progressed, but the orientation state of the liquid crystal compound changes in the region where the polymerization of the liquid crystal compound has hardly progressed. , the orientation state changed during the curing treatment is fixed. As a result, an optically anisotropic layer having a plurality of regions in which the alignment states of the fixed liquid crystal compounds are different along the thickness direction is produced.

본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법은,The manufacturing method of the optically anisotropic layer of the present invention,

중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물층을 형성하는 공정 1과,Step 1 of forming a composition layer containing a liquid crystal compound having a polymerizable group;

조성물층에 가열 처리를 실시하여, 조성물층 중의 액정 화합물을 배향시키는 공정 2와,Step 2 of subjecting the composition layer to heat treatment to orient the liquid crystal compound in the composition layer;

공정 2 이후, 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 조성물층에 대하여, 광조사를 50초간 이하, 또한, 300mJ/cm2 이하에서 행하는 공정 3과,After Step 2, Step 3 of irradiating the composition layer with light for 50 seconds or less and at 300 mJ/cm 2 or less under conditions of an oxygen concentration of 1% by volume or more;

공정 3 이후, 조성물층에, 광조사 시보다 높은 온도에서 가열 처리를 실시하는 공정 4와,After step 3, step 4 of subjecting the composition layer to a heat treatment at a temperature higher than that at the time of light irradiation;

공정 4 이후, 조성물층에 대하여 경화 처리를 실시하여, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층을 형성하는 공정 5를 갖는다.Step 4 is followed by step 5 of performing a curing treatment on the composition layer to form an optically anisotropic layer having a plurality of regions in which the alignment states of the liquid crystal compounds are different along the thickness direction.

또한, 상기 공정 5를 실시함으로써, 액정 화합물의 배향 상태가 고정화된다.In addition, by carrying out the said process 5, the orientation state of a liquid crystal compound is fixed.

후술하는 바와 같이, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 갖는 양태로서는, 후술하는 바와 같이, 예를 들면, 복수의 영역의 콜레스테릭 액정상의 나선 피치가 서로 상이한 양태, 복수의 영역의 층 표면에 대한 액정 화합물의 배향 방향의 경사각이 상이한 양태, 및, 2개의 영역 중 일방의 영역이 액정 화합물이 등방상을 나타내는 상태를 고정하여 이루어지는 영역에서, 타방의 영역이 액정 화합물이 배향하고 있는 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역인 양태를 들 수 있다.As described later, as an aspect having regions in which the alignment states of the liquid crystal compounds are different, as described later, for example, an aspect in which the helical pitch of the cholesteric liquid crystal phase in a plurality of regions is different from each other, on the layer surface of a plurality of regions In an embodiment in which the angle of inclination of the orientation direction of the liquid crystal compound is different, and in a region formed by fixing a state in which the liquid crystal compound exhibits an isotropic phase in one of the two regions, the other region indicates an alignment state in which the liquid crystal compound is oriented. An aspect that is a region formed by fixation is exemplified.

이하에서는, 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 적합한 양태별로 상세하게 설명한다.Hereinafter, each suitable aspect of the manufacturing method of the optically anisotropic layer of the present invention will be described in detail.

<<제1 실시형태>><<First Embodiment>>

본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제1 실시형태는, 이하의 공정 1A~5A를 갖는다. 후술하는 바와 같이, 제1 실시형태에 있어서는, 두께 방향을 따라 뻗는 나선축을 따라 비틀림 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역을 갖는 광학 이방성층이 형성된다.1st Embodiment of the manufacturing method of the optically anisotropic layer of this invention has the following steps 1A-5A. As will be described later, in the first embodiment, an optically anisotropic layer having a region formed by fixing the alignment state of the liquid crystal compound twist-aligned along the helical axis extending along the thickness direction is formed.

공정 1A: 광조사에 의하여 나선 유기력이 변화하는 감광성 카이랄제를 적어도 포함하는 카이랄제, 및, 중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물층을 형성하는 공정Step 1A: Step of forming a composition layer containing a chiral agent at least containing a photosensitive chiral agent whose helix induction force is changed by light irradiation, and a liquid crystal compound having a polymerizable group.

공정 2A: 조성물층에 가열 처리를 실시하여, 조성물층 중의 액정 화합물을 배향시키는 공정Step 2A: Heating the composition layer to align the liquid crystal compound in the composition layer

공정 3A: 공정 2A 이후, 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 조성물층에 대하여, 광조사를 50초간 이하, 또한, 300mJ/cm2 이하에서 행하는 공정Step 3A: After step 2A, the composition layer is irradiated with light for 50 seconds or less and at 300 mJ/cm 2 or less under conditions of an oxygen concentration of 1% by volume or more.

공정 4A: 공정 3A 이후, 조성물층에, 광조사 시보다 높은 온도에서 가열 처리를 실시하는 공정Step 4A: After step 3A, the composition layer is subjected to heat treatment at a temperature higher than that during light irradiation

공정 5A: 공정 4A 이후, 조성물층에 대하여 경화 처리를 실시하여, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층을 형성하는 공정Step 5A: After step 4A, the composition layer is cured to form an optically anisotropic layer having a plurality of regions in which the alignment states of the liquid crystal compounds are different along the thickness direction.

후술하는 바와 같이, 제1 실시형태에 있어서, 상기 특성의 광학 이방성층을 제조하기 위해서는, 조성물층 중에 있어서의 카이랄제의 합계 함유량(모든 카이랄제의 총 함유량)은, 액정 화합물의 전체 질량에 대하여, 5.0질량% 이하인 것이 바람직하다.As will be described later, in the first embodiment, in order to manufacture an optically anisotropic layer having the above characteristics, the total content of chiral agents (total content of all chiral agents) in the composition layer is the total mass of the liquid crystal compound. , it is preferably 5.0% by mass or less.

이하, 상기 각 공정의 수순에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the procedure of each process is explained in detail.

<공정 1A><Process 1A>

공정 1A는, 광조사에 의하여 나선 유기력이 변화하는 감광성 카이랄제를 적어도 포함하는 카이랄제, 및, 중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물층을 형성하는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 후술하는 광조사 처리가 실시되는 조성물층이 형성된다.Step 1A is a step of forming a composition layer containing a chiral agent containing at least a photosensitive chiral agent whose helical organic force changes upon irradiation with light, and a liquid crystal compound having a polymerizable group. By carrying out this process, the composition layer to which the light irradiation process mentioned later is performed is formed.

이하에서는, 먼저, 본 공정에서 사용되는 재료에 대하여 상세하게 설명하고, 그 후, 공정의 수순에 대하여 상세하게 설명한다.Below, first, the material used in this process is demonstrated in detail, and then the procedure of a process is demonstrated in detail.

(카이랄제)(chiral agent)

공정 1A의 조성물층은, 광조사에 의하여 나선 유기력이 변화하는 감광성 카이랄제를 적어도 포함하는 카이랄제를 포함한다. 먼저, 광조사에 의하여 나선 유기력이 변화하는 감광성 카이랄제에 대하여 상세하게 설명한다.The composition layer of Step 1A contains a chiral agent including at least a photosensitive chiral agent whose spiral induction force changes upon light irradiation. First, a photosensitive chiral agent whose helix induction force is changed by light irradiation will be described in detail.

또한, 카이랄제의 나선 유기력(HTP)은, 하기 식 (A)로 나타나는 나선 배향 능력을 나타내는 팩터이다.In addition, the spiral induction force (HTP) of a chiral agent is a factor showing the spiral orientation ability represented by the following formula (A).

식 (A) HTP=1/(나선 피치의 길이(단위: μm)×액정 화합물에 대한 카이랄제의 농도(질량%))[μm-1]Equation (A) HTP = 1/(length of helical pitch (unit: μm) × concentration of chiral agent in liquid crystal compound (% by mass)) [μm -1 ]

나선 피치의 길이란, 콜레스테릭 액정상의 나선 구조의 피치 P(=나선의 주기)의 길이를 말하며, 액정 편람(마루젠 주식회사 출판)의 196페이지에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.The length of the helical pitch refers to the length of the pitch P (= helical period) of the helical structure of the cholesteric liquid crystal phase, and can be measured by the method described on page 196 of the Liquid Crystal Handbook (published by Maruzen Co., Ltd.).

광조사에 의하여 나선 유기력이 변화하는 감광성 카이랄제(이하, 간단히 "카이랄제 A"라고도 한다.)는, 액정성이어도 되고, 비액정성이어도 된다. 카이랄제 A는, 일반적으로 부제(不齊) 탄소 원자를 포함하는 경우가 많다. 또한, 카이랄제 A는, 부제 탄소 원자를 포함하지 않는 축성 부제 화합물 또는 면성 부제 화합물이어도 된다.The photosensitive chiral agent whose helix induction force changes with light irradiation (hereinafter, simply referred to as "chiral agent A") may be liquid crystalline or non-liquid crystalline. Chiral agent A generally contains an asymmetric carbon atom in many cases. In addition, the chiral agent A may be a condensed asymmetric compound or a planar asymmetric compound that does not contain an asymmetric carbon atom.

카이랄제 A는, 광조사에 의하여 나선 유기력이 증가하는 카이랄제여도 되고, 감소하는 카이랄제여도 된다. 그중에서도, 광조사에 의하여 나선 유기력이 감소하는 카이랄제인 것이 바람직하다.The chiral agent A may be a chiral agent whose helix induction force increases or decreases upon light irradiation. Among them, a chiral agent whose spiral induction force is reduced by light irradiation is preferable.

또한, 본 명세서에 있어서 "나선 유기력의 증가 및 감소"란, 카이랄제 A의 초기(광조사 전)의 나선 방향을 "양"이라고 했을 때의 증감을 나타낸다. 따라서, 광조사에 의하여 나선 유기력이 계속 감소하고, 0을 초과하여 나선 방향이 "음"이 된 경우(즉, 초기(광조사 전)의 나선 방향과는 반대의 나선 방향의 나선을 유기하는 경우)에도, "나선 유기력이 감소하는 카이랄제"에 해당한다.In the present specification, "increase and decrease in helix induction force" refers to an increase and decrease when the initial (before light irradiation) helix direction of chiral agent A is referred to as "positive". Therefore, when the spiral induction force continues to decrease due to light irradiation and the spiral direction becomes “negative” by exceeding 0 (ie, inducing a spiral in a spiral direction opposite to the initial spiral direction (before light irradiation)) case), it corresponds to "a chiral agent that reduces spiral organic force".

카이랄제 A로서는, 이른바 광반응형 카이랄제를 들 수 있다. 광반응형 카이랄제란, 카이랄 부위와 광조사에 의하여 구조 변화하는 광반응 부위를 갖고, 예를 들면, 조사량에 따라 액정 화합물의 비틀림력을 크게 변화시키는 화합물이다.Examples of the chiral agent A include so-called photoreactive chiral agents. A photoreactive chiral agent is a compound that has a chiral moiety and a photoreactive site whose structure is changed by light irradiation, and greatly changes the twisting force of a liquid crystal compound depending on the amount of irradiation, for example.

광조사에 의하여 구조 변화하는 광반응 부위의 예로서는, 포토크로믹 화합물(우치다 긴고, 이리에 마사히로, 가가쿠 고교, vol. 64, 640p, 1999, 우치다 긴고, 이리에 마사히로, 파인 케미컬, vol. 28(9), 15p, 1999) 등을 들 수 있다. 또, 상기 구조 변화란, 광반응 부위로의 광조사에 의하여 발생하는, 분해, 부가 반응, 이성화, 라세미화, [2+2] 광환화 및 이량화 반응 등을 의미하고, 상기 구조 변화는 불가역적이어도 된다. 또, 카이랄 부위로서는, 예를 들면, 노히라 히로유키, 화학 총설, No. 22 액정의 화학, 73p:1994에 기재된 부제 탄소 등이 상당한다.As an example of a photoreactive site whose structure is changed by light irradiation, a photochromic compound (Kingo Uchida, Masahiro Irie, Kagaku Kogyo, vol. 64, 640p, 1999, Kingo Uchida, Masahiro Irie, Fine Chemical, vol. 28 (9), 15p, 1999) and the like. In addition, the structural change means decomposition, addition reaction, isomerization, racemization, [2+2] photocyclization, dimerization reaction, etc., which occur due to light irradiation to the photoreactive site, and the structural change is impossible. It can be reversal. In addition, as a chiral site, for example, Hiroyuki Nohira, Chemical Review, No. Subtitles such as carbon described in 22 Chemistry of Liquid Crystals, 73p:1994 are significant.

카이랄제 A로서는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2001-159709호의 단락 0044~0047에 기재된 광반응형 카이랄제, 일본 공개특허공보 2002-179669호의 단락 0019~0043에 기재된 광학 활성 화합물, 일본 공개특허공보 2002-179633호의 단락 0020~0044에 기재된 광학 활성 화합물, 일본 공개특허공보 2002-179670호의 단락 0016~0040에 기재된 광학 활성 화합물, 일본 공개특허공보 2002-179668호의 단락 0017~0050에 기재된 광학 활성 화합물, 일본 공개특허공보 2002-180051호의 단락 0018~0044에 기재된 광학 활성 화합물, 일본 공개특허공보 2002-338575호의 단락 0016~0055에 기재된 광학 활성 아이소소바이드 유도체, 일본 공개특허공보 2002-080478호의 단락 0023~0032에 기재된 광반응형 광학 활성 화합물, 일본 공개특허공보 2002-080851호의 단락 0019~0029에 기재된 광반응형 카이랄제, 일본 공개특허공보 2002-179681호의 단락 0022~0049에 기재된 광학 활성 화합물, 일본 공개특허공보 2002-302487호의 단락 0015~0044에 기재된 광학 활성 화합물, 일본 공개특허공보 2002-338668호의 단락 0015~0050에 기재된 광학 활성 폴리에스터, 일본 공개특허공보 2003-055315호의 단락 0019~0041에 기재된 바이나프톨 유도체, 일본 공개특허공보 2003-073381호의 단락 0008~0043에 기재된 광학 활성 풀기드 화합물, 일본 공개특허공보 2003-306490호의 단락 0015~0057에 기재된 광학 활성 아이소소바이드 유도체, 일본 공개특허공보 2003-306491호의 단락 0015~0041에 기재된 광학 활성 아이소소바이드 유도체, 일본 공개특허공보 2003-313187호의 단락 0015~0049에 기재된 광학 활성 아이소소바이드 유도체, 일본 공개특허공보 2003-313188호의 단락 0015~0057에 기재된 광학 활성 아이소만나이드 유도체, 일본 공개특허공보 2003-313189호의 단락 0015~0049에 기재된 광학 활성 아이소소바이드 유도체, 일본 공개특허공보 2003-313292호의 단락 0015~0052에 기재된 광학 활성 폴리에스터/아마이드, WO2018/194157호의 단락 0012~0053에 기재된 광학 활성 화합물, 및, 일본 공개특허공보 2002-179682호의 단락 0020~0049에 기재된 광학 활성 화합물 등을 들 수 있다.As the chiral agent A, for example, the photoreactive chiral agent described in paragraphs 0044 to 0047 of Japanese Laid-open Patent Publication No. 2001-159709, the optically active compound described in paragraphs 0019 to 0043 of Japanese Patent Laid-Open No. 2002-179669, Japan An optically active compound described in paragraphs 0020 to 0044 of Japanese Patent Laid-Open No. 2002-179633, an optically active compound described in paragraphs 0016 to 0040 of Japanese Patent Laid-Open No. 2002-179670, and an optical active compound described in paragraphs 0017 to 0050 of Japanese Patent Laid-Open No. 2002-179668 Active compounds, optically active compounds described in paragraphs 0018 to 0044 of Japanese Laid-open Patent Publication No. 2002-180051, optically active isosorbide derivatives described in paragraphs 0016 to 0055 of Japanese Patent Laid-Open No. 2002-338575, The photoreactive optically active compound described in paragraphs 0023 to 0032, the photoreactive chiral agent described in paragraphs 0019 to 0029 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2002-080851, and the optical activity described in paragraphs 0022 to 0049 of Japanese Patent Laid-Open No. 2002-179681 Compound, an optically active compound described in paragraphs 0015 to 0044 of Japanese Laid-open Patent Publication No. 2002-302487, an optically active polyester described in paragraphs 0015 to 0050 of Japanese Patent Laid-Open No. 2002-338668, paragraphs 0019 to 0019 of Japanese Patent Laid-Open No. 2003-055315 The binaphthol derivative described in 0041, the optically active fulgide compound described in paragraphs 0008 to 0043 of Japanese Laid-open Patent Publication No. 2003-073381, the optically active isosorbide derivative described in paragraphs 0015 to 0057 of Japanese Patent Laid-Open No. 2003-306490, Japanese Kokai Publication An optically active isocarbide derivative described in paragraphs 0015 to 0041 of Japanese Patent Publication No. 2003-306491, an optically active isocarbide derivative described in paragraphs 0015 to 0049 of Japanese Patent Laid-Open No. 2003-313187, and a paragraph 0015 of Japanese Patent Laid-Open No. 2003-313188 to ~0057 The optically active isomannide derivatives described, the optically active isosorbide derivatives described in paragraphs 0015 to 0049 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2003-313189, the optically active polyesters/amides described in paragraphs 0015 to 0052 of Japanese Patent Laid-Open No. 2003-313292, The optically active compound described in Paragraph 0012 - 0053 of WO2018/194157, and the optically active compound described in Paragraph 0020 - 0049 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-179682, etc. are mentioned.

카이랄제 A로서는, 그중에서도, 광이성화 부위를 적어도 갖는 화합물이 바람직하고, 광이성화 부위는 광이성화 가능한 이중 결합을 갖는 것이 보다 바람직하다. 상기 광이성화 가능한 이중 결합을 갖는 광이성화 부위로서는, 광이성화가 일어나기 쉬우며, 또한, 광조사 전후의 나선 유기력차가 크다는 점에서, 신나모일 부위, 칼콘 부위, 아조벤젠 부위 또는 스틸벤 부위가 바람직하고, 또한 가시광의 흡수가 작다는 점에서, 신나모일 부위, 칼콘 부위 또는 스틸벤 부위가 보다 바람직하다. 또한, 광이성화 부위는, 상술한 광조사에 의하여 구조 변화하는 광반응 부위에 해당한다.Among them, as the chiral agent A, a compound having at least a photoisomerization site is preferred, and a photoisomerization site more preferably has a double bond capable of photoisomerization. As the photoisomerization moiety having a double bond capable of photoisomerization, a cinnamoyl moiety, a chalcone moiety, an azobenzene moiety, or a stilbene moiety is preferable in that photoisomerization is likely to occur and the helical organic force difference before and after light irradiation is large. In addition, cinnamoyl moiety, chalcone moiety or stilbene moiety is more preferable in terms of low absorption of visible light. In addition, a photoisomerization site|part corresponds to the photoreaction site|part whose structure changes by light irradiation mentioned above.

또, 카이랄제 A는, 초기(광조사 전)의 나선 유기력이 높고, 또한, 광조사에 의한 나선 유기력의 변화량이 보다 우수한 점에서, 트랜스형의 광이성화 가능한 이중 결합을 갖고 있는 것이 바람직하다.In addition, chiral agent A has a high helix induction force in the initial stage (before light irradiation) and a more excellent amount of change in helix induction force by light irradiation, and therefore has a trans-type photoisomerizable double bond. desirable.

또, 카이랄제 A는, 초기(광조사 전)의 나선 유기력이 낮고, 또한, 광조사에 의한 나선 유기력의 변화량이 보다 우수한 점에서, 시스형의 광이성화 가능한 이중 결합을 갖고 있는 것이 바람직하다.In addition, since the chiral agent A has a low helix induction force in the initial stage (before light irradiation) and a more excellent amount of change in helix induction force by light irradiation, it has a cis-type photoisomerizable double bond. desirable.

카이랄제 A는, 바이나프틸 부분 구조, 아이소소바이드 부분 구조(아이소소바이드에서 유래하는 부분 구조), 및, 아이소만나이드 부분 구조(아이소만나이드에서 유래하는 부분 구조)로부터 선택되는 어느 하나의 부분 구조를 갖고 있는 것이 바람직하다. 또한, 바이나프틸 부분 구조, 아이소소바이드 부분 구조, 및, 아이소만나이드 부분 구조란, 각각 이하의 구조를 의도한다.Chiral agent A is any one selected from a binaphthyl partial structure, an isocarbide partial structure (a partial structure derived from isocarbide), and an isomannide partial structure (a partial structure derived from isomannide). It is preferable to have a partial structure of In addition, with the binaphthyl partial structure, the isosorbide partial structure, and the isomannide partial structure, the following structures are respectively intended.

바이나프틸 부분 구조 중의 실선과 파선이 평행한 부분은, 일중 결합 또는 이중 결합을 나타낸다. 또한, 이하에 나타내는 구조에 있어서, *는, 결합 위치를 나타낸다.A portion in which the solid line and the broken line are parallel in the binaphthyl moiety structure indicates a single bond or a double bond. In the structures shown below, * indicates a bonding position.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

카이랄제 A는, 중합성기를 갖고 있어도 된다. 중합성기의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 부가 중합 반응이 가능한 관능기가 바람직하고, 중합성 에틸렌성 불포화기 또는 환중합성기가 보다 바람직하며, (메트)아크릴로일기, 바이닐기, 스타이릴기, 또는, 알릴기가 더 바람직하다.The chiral agent A may have a polymerizable group. The type of polymerizable group is not particularly limited, and a functional group capable of undergoing an addition polymerization reaction is preferred, and a polymerizable ethylenically unsaturated group or ring polymerizable group is more preferred, and a (meth)acryloyl group, vinyl group, styryl group, or allyl Giga is more preferable.

카이랄제 A로서는, 식 (C)로 나타나는 화합물이 바람직하다.As the chiral agent A, a compound represented by formula (C) is preferable.

식 (C) R-L-RFormula (C) R-L-R

R은, 각각 독립적으로, 신나모일 부위, 칼콘 부위, 아조벤젠 부위, 및, 스틸벤 부위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 부위를 갖는 기를 나타낸다.R each independently represents a group having at least one site selected from the group consisting of a cinnamoyl site, a chalcone site, an azobenzene site, and a stilbene site.

L은, 식 (D)로 나타나는 구조로부터 2개의 수소 원자를 제거하여 형성되는 2가의 연결기(상기 바이나프틸 부분 구조로부터 2개의 수소 원자를 제거하여 형성되는 2가의 연결기), 식 (E)로 나타나는 2가의 연결기(상기 아이소소바이드 부분 구조로 이루어지는 2가의 연결기), 또는, 식 (F)로 나타나는 2가의 연결기(상기 아이소만나이드 부분 구조로 이루어지는 2가의 연결기)를 나타낸다.L is a divalent linking group formed by removing two hydrogen atoms from the structure represented by formula (D) (a divalent linking group formed by removing two hydrogen atoms from the binaphthyl partial structure), formula (E) The divalent linking group shown (the divalent linking group consisting of the isocarbide partial structure), or the divalent linking group represented by Formula (F) (the divalent linking group consisting of the isomannide partial structure).

식 (E) 및 식 (F) 중, *는 결합 위치를 나타낸다.In formula (E) and formula (F), * represents a bonding position.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

공정 1A에 있어서는, 상술한 카이랄제 A가 적어도 이용된다. 공정 1A는, 카이랄제 A를 2종 이상 이용하는 양태여도 되고, 적어도 1종의 카이랄제 A와 적어도 1종의 광조사에 의하여 나선 유기력이 변화하지 않는 카이랄제(이하, 간단히 "카이랄제 B"라고도 한다.)를 이용하는 양태여도 된다.In Step 1A, at least the chiral agent A described above is used. Step 1A may be an embodiment in which two or more chiral agents A are used, and at least one chiral agent A and at least one chiral agent whose spiral induction force does not change by light irradiation (hereinafter referred to simply as “car It is also referred to as "Iral agent B") may be used.

카이랄제 B는, 액정성이어도 되고, 비액정성이어도 된다. 카이랄제 B는, 일반적으로 부제 탄소 원자를 포함하는 경우가 많다. 또한, 카이랄제 B는, 부제 탄소 원자를 포함하지 않는 축성 부제 화합물 또는 면성 부제 화합물이어도 된다.The chiral agent B may be liquid crystalline or non-liquid crystalline. Chiral agent B generally contains an asymmetric carbon atom in many cases. In addition, the chiral agent B may be a condensed asymmetric compound or a planar asymmetric compound that does not contain an asymmetric carbon atom.

카이랄제 B는 중합성기를 갖고 있어도 된다. 중합성기의 종류로서는, 카이랄제 A가 갖고 있어도 되는 중합성기를 들 수 있다.The chiral agent B may have a polymerizable group. As a kind of polymerizable group, the polymerizable group which chiral agent A may have is mentioned.

카이랄제 B로서는, 공지의 카이랄제를 사용할 수 있다.As the chiral agent B, a known chiral agent can be used.

카이랄제 B는, 상술한 카이랄제 A와 역방향의 나선을 유기하는 카이랄제인 것이 바람직하다. 즉, 예를 들면, 카이랄제 A에 의하여 유기하는 나선이 우방향인 경우에는, 카이랄제 B에 의하여 유기하는 나선은 좌방향이 된다.The chiral agent B is preferably a chiral agent that induces a helix in the opposite direction to the chiral agent A described above. That is, for example, when the helix induced by the chiral agent A is in the right direction, the helix induced by the chiral agent B is in the left direction.

카이랄제 A 및 카이랄제 B의 몰 흡광 계수는 특별히 제한되지 않지만, 후술하는 공정 3A에서 조사되는 광의 파장(예를 들면, 365nm)에 있어서의 몰 흡광 계수는 100~100,000L/(mol·cm)가 바람직하고, 500~50,000L/(mol·cm)가 보다 바람직하다.Although the molar extinction coefficients of chiral agent A and chiral agent B are not particularly limited, the molar extinction coefficient at the wavelength of light (e.g., 365 nm) irradiated in step 3A described later is 100 to 100,000 L/(mol. cm) is preferred, and 500 to 50,000 L/(mol cm) is more preferred.

조성물층 중의 카이랄제 A 및 카이랄제 B의 각 함유량은, 형성하고자 하는 광학 이방성층의 특성(예를 들면, 리타데이션이나 파장 분산)에 따라 적절히 설정될 수 있다. 또한, 광학 이방성층 중의 액정 화합물의 비틀림각은 카이랄제 A 및 카이랄제 B의 종류 및 그 첨가 농도에 크게 의존하기 때문에, 이들을 조절함으로써 액정 화합물의 배향 상태를 제어할 수 있다.The respective contents of chiral agent A and chiral agent B in the composition layer can be appropriately set depending on the characteristics (for example, retardation and wavelength dispersion) of the optically anisotropic layer to be formed. In addition, since the twist angle of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer largely depends on the types and concentrations of chiral agent A and chiral agent B, the alignment state of the liquid crystal compound can be controlled by adjusting them.

제1 실시형태에 있어서, 조성물층 중에 있어서의 카이랄제의 합계 함유량(모든 카이랄제의 총 함유량)은 특별히 제한되지 않지만, 액정 화합물의 배향 상태를 제어하기 쉬운 점에서, 액정 화합물의 전체 질량에 대하여, 5.0질량% 이하가 바람직하고, 4.0질량% 이하가 보다 바람직하며, 2.0질량% 이하가 더 바람직하다. 하한은 특별히 제한되지 않지만, 0.01질량% 이상이 바람직하고, 0.02질량% 이상이 보다 바람직하며, 0.05질량%가 더 바람직하다.In the first embodiment, the total amount of chiral agents (total content of all chiral agents) in the composition layer is not particularly limited, but the total mass of the liquid crystal compound is easy to control in terms of the alignment state of the liquid crystal compound. With respect to , 5.0 mass% or less is preferable, 4.0 mass% or less is more preferable, and 2.0 mass% or less is still more preferable. The lower limit is not particularly limited, but is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.02% by mass or more, and still more preferably 0.05% by mass.

카이랄제 중에 있어서의 카이랄제 A의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 액정 화합물의 배향 상태를 제어하기 쉬운 점에서, 카이랄제의 전체 질량에 대하여, 5~95질량%가 바람직하고, 10~90질량%가 보다 바람직하다.The content of the chiral agent A in the chiral agent is not particularly limited, but is preferably 5 to 95% by mass, relative to the total mass of the chiral agent, from the viewpoint of easy control of the alignment state of the liquid crystal compound. 90 mass % is more preferable.

(액정 화합물)(liquid crystal compound)

공정 1A의 조성물층은, 중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함한다.The composition layer of Step 1A contains a liquid crystal compound having a polymerizable group.

액정 화합물의 종류에 대해서는, 특별히 제한되지 않는다. 일반적으로, 액정 화합물은 그 형상으로부터, 봉상 타입(봉상 액정 화합물)과 원반상 타입(디스코틱 액정 화합물)으로 분류할 수 있다. 또한, 액정 화합물은, 저분자 타입과 고분자 타입으로 분류할 수 있다. 고분자란 일반적으로 중합도가 100 이상인 것을 가리킨다(고분자 물리·상전이 다이내믹스, 도이 마사오 저, 2페이지, 이와나미 쇼텐, 1992). 본 발명에서는, 어느 액정 화합물을 이용할 수도 있지만, 봉상 액정 화합물 또는 디스코틱 액정 화합물을 이용하는 것이 바람직하고, 봉상 액정 화합물을 이용하는 것이 보다 바람직하다. 2종 이상의 봉상 액정 화합물, 2종 이상의 디스코틱 액정 화합물, 또는, 봉상 액정 화합물과 디스코틱 액정 화합물의 혼합물을 이용해도 된다.The type of liquid crystal compound is not particularly limited. In general, liquid crystal compounds can be classified into rod-shaped liquid crystal compounds (rod-shaped liquid crystal compounds) and disk-shaped liquid crystal compounds (discotic liquid crystal compounds) from their shapes. In addition, liquid crystal compounds can be classified into low molecular type and high molecular type. Polymers generally refer to those having a polymerization degree of 100 or higher (Polymer Physics/Phase Transition Dynamics, Masao Doi, page 2, Iwanami Shoten, 1992). Although any liquid crystal compound may be used in the present invention, it is preferable to use a rod-like liquid crystal compound or a discotic liquid crystal compound, and it is more preferable to use a rod-like liquid crystal compound. Two or more types of rod-like liquid crystal compounds, two or more types of discotic liquid crystal compounds, or a mixture of rod-like liquid crystal compounds and discotic liquid crystal compounds may be used.

또한, 봉상 액정 화합물로서는, 예를 들면, 일본 공표특허공보 평11-513019호의 청구항 1이나 일본 공개특허공보 2005-289980호의 단락 0026~0098에 기재된 것을 바람직하게 이용할 수 있다.Moreover, as a rod-shaped liquid crystal compound, what is described in Claim 1 of Unexamined-Japanese-Patent No. 11-513019, and Paragraph 0026 - 0098 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-289980 can be used suitably, for example.

디스코틱 액정 화합물로서는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2007-108732호의 단락 0020~0067이나 일본 공개특허공보 2010-244038호의 단락 0013~0108에 기재된 것을 바람직하게 이용할 수 있다.As a discotic liquid crystal compound, Paragraph 0020 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-108732 - 0067 and Paragraph 0013 - 0108 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-244038 can be used suitably, for example.

액정 화합물이 갖는 중합성기의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 부가 중합 반응이 가능한 관능기가 바람직하고, 중합성 에틸렌성 불포화기 또는 환중합성기가 보다 바람직하며, (메트)아크릴로일기, 바이닐기, 스타이릴기, 또는, 알릴기가 더 바람직하다.The type of polymerizable group of the liquid crystal compound is not particularly limited, and a functional group capable of addition polymerization is preferable, and a polymerizable ethylenically unsaturated group or ring polymerizable group is more preferable, and (meth)acryloyl group, vinyl group, and styryl group. , or an allyl group is more preferred.

또한, 본 발명에서 제조되는 광학 이방성층은, 중합성기를 갖는 액정 화합물(중합성기를 갖는 봉상 액정 화합물 또는 디스코틱 액정 화합물)이 중합 등에 의하여 고정되어 형성된 층이고, 층이 된 후에는 더이상 액정성을 나타낼 필요는 없다.In addition, the optically anisotropic layer produced in the present invention is a layer formed by fixing a liquid crystal compound having a polymerizable group (a rod-like liquid crystal compound or discotic liquid crystal compound having a polymerizable group) by polymerization or the like, and is no longer liquid crystalline after becoming a layer. need not indicate

조성물층 중에 있어서의 액정 화합물의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 액정 화합물의 배향 상태를 제어하기 쉬운 점에서, 조성물층의 전체 질량에 대하여, 60질량% 이상이 바람직하고, 70질량% 이상이 보다 바람직하다. 상한은 특별이 제한되지 않지만, 99질량% 이하가 바람직하고, 97질량% 이하가 보다 바람직하다.The content of the liquid crystal compound in the composition layer is not particularly limited, but is preferably 60% by mass or more, and more preferably 70% by mass or more with respect to the total mass of the composition layer, from the viewpoint of easy control of the alignment state of the liquid crystal compound. do. The upper limit is not particularly limited, but is preferably 99% by mass or less, and more preferably 97% by mass or less.

(그 외의 성분)(other ingredients)

조성물층은, 상기 카이랄제 및 액정 화합물 이외의 다른 성분을 포함하고 있어도 된다.The composition layer may contain components other than the chiral agent and the liquid crystal compound.

예를 들면, 조성물층은, 중합 개시제를 포함하고 있어도 된다. 조성물층이 중합 개시제를 포함하는 경우, 보다 효율적으로 중합성기를 갖는 액정 화합물의 중합이 진행된다.For example, the composition layer may contain a polymerization initiator. When the composition layer contains a polymerization initiator, polymerization of the liquid crystal compound having a polymerizable group proceeds more efficiently.

중합 개시제로서는 공지의 중합 개시제를 들 수 있고, 광중합 개시제, 및, 열중합 개시제를 들 수 있으며, 광중합 개시제가 바람직하다. 특히, 후술하는 공정 5A에 있어서 조사되는 광에 감광하는 중합 개시제가 바람직하다.Examples of the polymerization initiator include known polymerization initiators, including photopolymerization initiators and thermal polymerization initiators, with photopolymerization initiators being preferred. In particular, a polymerization initiator that is sensitive to light irradiated in step 5A described later is preferable.

중합 개시제는, 공정 3A에 있어서 조사되는 광의 파장 중 최대가 되는 몰 흡광 계수가, 공정 5A에 있어서 조사되는 광의 파장 중 최대가 되는 몰 흡광 계수에 대하여, 0.1배 이하인 것이 바람직하다.The polymerization initiator preferably has a maximum molar extinction coefficient among the wavelengths of light irradiated in step 3A and is 0.1 times or less of the maximum molar extinction coefficient among wavelengths of light irradiated in step 5A.

또, 중합 개시제의 공정 3A에 있어서의 광조사의 파장에 있어서의 몰 흡광 계수는, 소정의 광학 이방성층이 형성되기 쉬운 점에서, 5000L/(mol·cm) 이하가 바람직하고, 4000L/(mol·cm) 이하가 보다 바람직하며, 3000L/(mol·cm) 이하가 더 바람직하다. 하한은 특별히 제한되지 않고, 0L/(mol·cm)가 바람직하지만, 30L/(mol·cm) 이상인 경우가 많다.In addition, the molar extinction coefficient of the polymerization initiator at the wavelength of light irradiation in step 3A is preferably 5000 L/(mol cm) or less, and 4000 L/(mol cm) or less is more preferable, and 3000 L/(mol cm) or less is more preferable. The lower limit is not particularly limited, and is preferably 0 L/(mol·cm), but is often 30 L/(mol·cm) or more.

조성물층 중에 있어서의 중합 개시제의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 조성물층의 전체 질량에 대하여, 0.01~20질량%가 바람직하고, 0.5~10질량%가 보다 바람직하다.The content of the polymerization initiator in the composition layer is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, based on the total mass of the composition layer.

조성물층은, 광증감제를 포함하고 있어도 된다.The composition layer may contain a photosensitizer.

광증감제의 종류는 특별히 제한되지 않고, 공지의 광증감제를 들 수 있다.The kind of photosensitizer is not particularly limited, and known photosensitizers are exemplified.

또한, 광증감제의 공정 3A에 있어서의 광조사의 파장에 있어서의 몰 흡광 계수는, 소정의 광학 이방성층이 형성되기 쉬운 점에서, 5000L/(mol·cm) 이하가 바람직하고, 4800L/(mol·cm) 이하가 보다 바람직하며, 4500L/(mol·cm) 이하가 더 바람직하다. 하한은 특별히 제한되지 않고, 0L/(mol·cm)가 바람직하지만, 30L/(mol·cm) 이상인 경우가 많다.In addition, the molar extinction coefficient at the wavelength of light irradiation in step 3A of the photosensitizer is preferably 5000 L/(mol cm) or less, and 4800 L/( mol cm) or less is more preferable, and 4500 L/(mol cm) or less is still more preferable. The lower limit is not particularly limited, and is preferably 0 L/(mol·cm), but is often 30 L/(mol·cm) or more.

조성물층 중에 있어서의 광증감제의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 조성물층의 전체 질량에 대하여, 0.01~20질량%가 바람직하고, 0.5~10질량%가 보다 바람직하다.The content of the photosensitizer in the composition layer is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 20% by mass, and more preferably 0.5 to 10% by mass, based on the total mass of the composition layer.

조성물층은, 중합성기를 갖는 액정 화합물과는 상이한 중합성 모노머를 포함하고 있어도 된다. 중합성 모노머로서는, 라디칼 중합성 화합물, 및, 양이온 중합성 화합물을 들 수 있고, 다관능성 라디칼 중합성 모노머가 바람직하다. 중합성 모노머로서는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2002-296423호 중의 단락 0018~0020에 기재된 중합성 모노머를 들 수 있다.The composition layer may contain a polymerizable monomer different from the liquid crystal compound having a polymerizable group. Examples of the polymerizable monomer include radically polymerizable compounds and cationically polymerizable compounds, and polyfunctional radically polymerizable monomers are preferred. As a polymerizable monomer, Paragraph 0018 in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-296423 - the polymerizable monomer of 0020 are mentioned, for example.

조성물층 중의 중합성 모노머의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 액정 화합물 전체 질량에 대하여, 1~50질량%가 바람직하고, 5~30질량%가 보다 바람직하다.The content of the polymerizable monomer in the composition layer is not particularly limited, but is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, based on the total mass of the liquid crystal compound.

조성물층은, 계면활성제를 포함하고 있어도 된다. 계면활성제로서는, 종래 공지의 화합물을 들 수 있지만, 불소계 화합물이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2001-330725호 중의 단락 0028~0056에 기재된 화합물, 및, 일본 특허출원 2003-295212호 중의 단락 0069~0126에 기재된 화합물을 들 수 있다.The composition layer may contain a surfactant. Examples of the surfactant include conventionally known compounds, but fluorine-based compounds are preferable. Specifically, the compound described in Paragraph 0028 in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-330725 - 0056, and the compound described in Paragraph 0069 - 0126 in Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-295212 are mentioned, for example.

조성물층은, 폴리머를 포함하고 있어도 된다. 폴리머로서는, 셀룰로스에스터를 들 수 있다. 셀룰로스에스터로서는, 일본 공개특허공보 2000-155216호 중의 단락 0178에 기재된 것을 들 수 있다.The composition layer may contain a polymer. Cellulose ester is mentioned as a polymer. As a cellulose ester, what was described in Paragraph 0178 in Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-155216 is mentioned.

조성물층 중의 폴리머의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 액정 화합물 전체 질량에 대하여, 0.1~10질량%가 바람직하고, 0.1~8질량%가 보다 바람직하다.The content of the polymer in the composition layer is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 8% by mass, based on the total mass of the liquid crystal compound.

조성물층은, 상기 이외에도, 액정 화합물을 수평 배향 상태 또는 수직 배향 상태로 하기 위하여, 수평 배향 또는 수직 배향을 촉진하는 첨가제(배향 제어제)를 포함하고 있어도 된다.In addition to the above, the composition layer may contain an additive (alignment control agent) that promotes horizontal alignment or vertical alignment in order to bring the liquid crystal compound into a horizontal alignment state or a vertical alignment state.

(기판)(Board)

후술하는 바와 같이, 조성물층을 형성할 때에는, 기판 상에 조성물층을 형성하는 것이 바람직하다.As will be described later, when forming the composition layer, it is preferable to form the composition layer on the substrate.

기판은, 조성물층을 지지하는 판이다.The substrate is a plate supporting the composition layer.

기판으로서는, 투명 기판이 바람직하다. 또한, 투명 기판이란, 가시광의 투과율이 60% 이상인 기판을 의도하고, 그 투과율은 80% 이상이 바람직하며, 90% 이상이 보다 바람직하다.As the substrate, a transparent substrate is preferable. In addition, with a transparent substrate, a substrate with visible light transmittance of 60% or more is intended, and the transmittance thereof is preferably 80% or more, more preferably 90% or more.

기판의 파장 550nm에 있어서의 두께 방향의 리타데이션값(Rth(550))은 특별히 제한되지 않지만, -110~110nm가 바람직하고, -80~80nm가 보다 바람직하다.The retardation value (Rth (550)) in the thickness direction of the substrate at a wavelength of 550 nm is not particularly limited, but is preferably -110 to 110 nm, and more preferably -80 to 80 nm.

기판의 파장 550nm에 있어서의 면내의 리타데이션값(Re(550))은 특별히 제한되지 않지만, 0~50nm가 바람직하고, 0~30nm가 보다 바람직하며, 0~10nm가 더 바람직하다.The in-plane retardation value (Re(550)) of the substrate at a wavelength of 550 nm is not particularly limited, but is preferably 0 to 50 nm, more preferably 0 to 30 nm, and still more preferably 0 to 10 nm.

기판을 형성하는 재료로서는, 광학 성능 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차폐성, 및, 등방성 등이 우수한 폴리머가 바람직하다.As the material for forming the substrate, a polymer having excellent optical performance, transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property, and isotropy is preferable.

기판으로서 이용할 수 있는 폴리머 필름으로서는, 예를 들면, 셀룰로스아실레이트 필름(예를 들면, 셀룰로스트라이아세테이트 필름(굴절률 1.48), 셀룰로스다이아세테이트 필름, 셀룰로스아세테이트뷰틸레이트 필름, 셀룰로스아세테이트프로피오네이트 필름), 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스터 필름, 폴리에터설폰 필름, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 폴리아크릴 필름, 폴리유레테인 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리설폰 필름, 폴리에터 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리에터케톤 필름, (메트)아크릴나이트릴 필름, 및, 지환식 구조를 갖는 폴리머의 필름(노보넨계 수지(아톤: 상품명, JSR사제, 비정질 폴리올레핀(제오넥스: 상품명, 닛폰 제온사제)))을 들 수 있다.As a polymer film that can be used as a substrate, for example, a cellulose acylate film (for example, a cellulose triacetate film (refractive index 1.48), a cellulose diacetate film, a cellulose acetate butylate film, a cellulose acetate propionate film), Polyolefin films such as polyethylene and polypropylene, polyester films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethersulfone films, polyacrylic films such as polymethyl methacrylate, polyurethane films, polycarbonate films, A sulfone film, a polyether film, a polymethylpentene film, a polyether ketone film, a (meth)acrylonitrile film, and a polymer film having an alicyclic structure (norbornene resin (Atone: trade name, manufactured by JSR Corporation, amorphous) polyolefin (Zeonex: trade name, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.)).

그중에서도, 폴리머 필름의 재료로서는, 트라이아세틸셀룰로스, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 또는, 지환식 구조를 갖는 폴리머가 바람직하고, 트라이아세틸셀룰로스가 보다 바람직하다.Among them, as the material of the polymer film, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, or a polymer having an alicyclic structure is preferable, and triacetyl cellulose is more preferable.

기판에는, 다양한 첨가제(예를 들면, 광학적 이방성 조정제, 파장 분산 조정제, 미립자, 가소제, 자외선 방지제, 열화 방지제, 박리제, 등)가 포함되어 있어도 된다.The substrate may contain various additives (eg, optical anisotropy regulator, wavelength dispersion regulator, fine particles, plasticizer, ultraviolet inhibitor, deterioration inhibitor, release agent, etc.).

기판의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 10~200μm가 바람직하고, 10~100μm가 보다 바람직하며, 20~90μm가 더 바람직하다. 또, 기판은 복수 매의 적층으로 이루어져 있어도 된다. 기판은 그 위에 마련되는 층과의 접착을 개선하기 위하여, 기판의 표면에 표면 처리(예를 들면, 글로 방전 처리, 코로나 방전 처리, 자외선(UV) 처리, 화염 처리)를 실시해도 된다.The thickness of the substrate is not particularly limited, but is preferably 10 to 200 μm, more preferably 10 to 100 μm, and still more preferably 20 to 90 μm. In addition, the substrate may consist of a plurality of laminated sheets. The substrate may be subjected to surface treatment (eg, glow discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet (UV) treatment, flame treatment) on the surface of the substrate in order to improve adhesion with the layer provided thereon.

또, 기판 위에, 접착층(언더코팅층)을 마련해도 된다.Moreover, you may provide an adhesive layer (undercoat layer) on a board|substrate.

또, 기판에는, 반송 공정에서의 슬라이딩성을 부여하거나, 권취한 후의 이면과 표면의 첩부를 방지하거나 하기 위하여, 평균 입경이 10~100nm 정도의 무기 입자를 고형분 질량비로 5~40질량% 혼합한 폴리머층을 기판의 편측에 배치해도 된다.In addition, in order to impart sliding properties in the conveyance step to the substrate or to prevent adhesion of the back surface and the surface after winding, inorganic particles having an average particle diameter of about 10 to 100 nm are mixed at a solid content mass ratio of 5 to 40% by mass A polymer layer may be disposed on one side of the substrate.

기판은, 이른바 가지지체여도 된다. 즉, 본 발명의 제조 방법을 실시한 후, 기판을 광학 이방성층으로부터 박리해도 된다.The substrate may be a so-called temporary support body. That is, after carrying out the production method of the present invention, the substrate may be separated from the optically anisotropic layer.

또, 기판의 표면에 직접 러빙 처리를 실시해도 된다. 즉, 러빙 처리가 실시된 기판을 이용해도 된다. 러빙 처리의 방향은 특별히 제한되지 않고, 액정 화합물을 배향시키고 싶은 방향에 따라, 적절히, 최적인 방향이 선택된다.Moreover, you may perform a rubbing process directly on the surface of a board|substrate. That is, you may use the board|substrate on which the rubbing process was performed. The direction of the rubbing treatment is not particularly limited, and an optimal direction is appropriately selected according to the direction in which the liquid crystal compound is to be oriented.

러빙 처리는, LCD(liquid crystal display)의 액정 배향 처리 공정으로서 널리 채용되고 있는 처리 방법을 적용할 수 있다. 즉, 기판의 표면을, 종이, 거즈, 펠트, 고무, 나일론 섬유, 또는, 폴리에스터 섬유 등을 이용하여 일정 방향으로 문지름으로써, 배향을 얻는 방법을 이용할 수 있다.For the rubbing treatment, a treatment method widely employed as a liquid crystal alignment treatment step of a liquid crystal display (LCD) can be applied. That is, a method of obtaining orientation can be used by rubbing the surface of the substrate in a certain direction using paper, gauze, felt, rubber, nylon fiber, polyester fiber, or the like.

기판 상에는, 배향막이 배치되어 있어도 된다.An alignment film may be disposed on the substrate.

배향막은, 유기 화합물(바람직하게는 폴리머)의 러빙 처리, 무기 화합물의 사방(斜方) 증착, 마이크로 그루브를 갖는 층의 형성, 또는, 랭뮤어·블로젯법(LB막)에 의한 유기 화합물(예, ω-트라이코산산, 다이옥타데실메틸암모늄 클로라이드, 스테아릴산 메틸)의 누적과 같은 수단으로 형성할 수 있다.The alignment film is a rubbing treatment of an organic compound (preferably a polymer), oblique deposition of an inorganic compound, formation of a layer having microgrooves, or an organic compound (eg, LB film) by the Langmuir-Blodgett method. , ω-tricosanoic acid, dioctadecylmethylammonium chloride, methyl stearylate).

또한, 전장(電場)의 부여, 자장의 부여, 또는, 광조사(바람직하게는 편광)에 의하여, 배향 기능이 발생하는 배향막도 알려져 있다.Also known is an alignment film in which an alignment function is generated by application of an electric field, application of a magnetic field, or light irradiation (preferably polarized light).

배향막은, 폴리머의 러빙 처리에 의하여 형성하는 것이 바람직하다.The alignment film is preferably formed by a polymer rubbing treatment.

배향막에 포함되는 폴리머로서는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 평8-338913호 중의 단락 0022에 기재된 메타크릴레이트계 공중합체, 스타이렌계 공중합체, 폴리올레핀, 폴리바이닐알코올 및 변성 폴리바이닐알코올, 폴리(N-메틸올아크릴아마이드), 폴리에스터, 폴리이미드, 아세트산 바이닐 공중합체, 카복시메틸셀룰로스, 및, 폴리카보네이트를 들 수 있다. 또, 실레인 커플링제를 폴리머로서 이용할 수도 있다.As the polymer contained in the alignment film, for example, a methacrylate-based copolymer, a styrene-based copolymer, polyolefin, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, poly( N-methylolacrylamide), polyester, polyimide, vinyl acetate copolymer, carboxymethylcellulose, and polycarbonate. Moreover, a silane coupling agent can also be used as a polymer.

그중에서도, 수용성 폴리머(예, 폴리(N-메틸올아크릴아마이드), 카복시메틸셀룰로스, 젤라틴, 폴리바이닐알코올, 변성 폴리바이닐알코올)가 바람직하고, 젤라틴, 폴리바이닐알코올 또는 변성 폴리바이닐알코올이 보다 바람직하며, 폴리바이닐알코올 또는 변성 폴리바이닐알코올이 더 바람직하다.Among them, water-soluble polymers (e.g., poly(N-methylolacrylamide), carboxymethylcellulose, gelatin, polyvinyl alcohol, and denatured polyvinyl alcohol) are preferred, and gelatin, polyvinyl alcohol, and denatured polyvinyl alcohol are more preferred. , polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol is more preferable.

상술한 바와 같이, 배향막은, 배향막 형성 재료인 상기 폴리머 및 임의의 첨가제(예를 들면, 가교제)를 포함하는 용액을 기판 상에 도포한 후, 가열 건조하여(가교시켜), 러빙 처리함으로써 형성할 수 있다.As described above, the alignment layer may be formed by coating a solution containing the above polymer as an alignment layer forming material and optional additives (eg, a crosslinking agent) on a substrate, followed by heat drying (crosslinking) and rubbing. can

(공정 1A의 수순)(Procedure of step 1A)

공정 1A에서는, 상술한 성분을 포함하는 조성물층을 형성하지만, 그 수순은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 상술한 카이랄제 및 중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물을 기판 상에 도포하여, 필요에 따라 건조 처리를 실시하는 방법(이하, 간단히 "도포 방법"이라고도 한다.), 및, 별도 조성물층을 형성하여 기판 상에 전사하는 방법을 들 수 있다. 그중에서도, 생산성의 점에서는, 도포 방법이 바람직하다.In Step 1A, a composition layer containing the components described above is formed, but the procedure is not particularly limited. For example, a method of applying a composition containing the above-described chiral agent and a liquid crystal compound having a polymerizable group onto a substrate and, if necessary, drying it (hereinafter, simply referred to as "coating method"), and , a method of forming a separate composition layer and transferring it onto a substrate. Among them, the application method is preferable from the viewpoint of productivity.

이하, 도포 방법에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the application method is explained in detail.

도포 방법으로 사용되는 조성물에는, 상술한 카이랄제, 중합성기를 갖는 액정 화합물, 및, 그 외 필요에 따라 이용되는 다른 성분(예를 들면, 중합 개시제, 중합성 모노머, 계면활성제, 및, 폴리머 등)이 포함된다.In the composition used in the application method, the above-mentioned chiral agent, liquid crystal compound having a polymerizable group, and other components used as necessary (eg, polymerization initiator, polymerizable monomer, surfactant, and polymer) etc.) are included.

조성물 중의 각 성분의 함유량은, 상술한 조성물층 중의 각 성분의 함유량이 되도록 조정되는 것이 바람직하다.The content of each component in the composition is preferably adjusted so as to be the content of each component in the composition layer described above.

도포 방법은 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 와이어 바 코팅법, 압출 코팅법, 다이렉트 그라비어 코팅법, 리버스 그라비어 코팅법, 및, 다이코팅법을 들 수 있다.The application method is not particularly limited, and examples thereof include a wire bar coating method, an extrusion coating method, a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, and a die coating method.

또한, 필요에 따라, 조성물의 도포 후에, 기판 상에 도포된 도막을 건조하는 처리를 실시해도 된다. 건조 처리를 실시함으로써, 도막으로부터 용매를 제거할 수 있다.Further, if necessary, a treatment of drying the coating film applied on the substrate may be performed after application of the composition. By performing the drying treatment, the solvent can be removed from the coating film.

도막의 막두께는 특별히 제한되지 않지만, 0.1~20μm가 바람직하고, 0.2~15μm가 보다 바람직하며, 0.5~10μm가 더 바람직하다.The film thickness of the coating film is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 0.2 to 15 μm, and still more preferably 0.5 to 10 μm.

<공정 2A><Process 2A>

공정 2A는, 조성물층에 가열 처리를 실시하여, 조성물층 중의 액정 화합물을 배향시키는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 조성물층 중의 액정 화합물이 소정의 배향 상태로 된다.Step 2A is a step of subjecting the composition layer to heat treatment to orient the liquid crystal compound in the composition layer. By performing this step, the liquid crystal compound in the composition layer is brought into a predetermined alignment state.

가열 처리의 조건으로서는, 사용되는 액정 화합물에 따라 최적인 조건이 선택된다.As conditions for heat treatment, optimum conditions are selected depending on the liquid crystal compound used.

그중에서도, 가열 온도로서는, 25~250℃의 경우가 많고, 40~150℃의 경우가 보다 많으며, 50~130℃의 경우가 더 많다.Among them, the heating temperature is often 25 to 250°C, more often 40 to 150°C, and more often 50 to 130°C.

가열 시간으로서는, 0.1~60분간의 경우가 많고, 0.2~5분간의 경우가 보다 많다.As heating time, it is 0.1 to 60 minutes in many cases, and 0.2 to 5 minutes in many cases.

공정 2A에 의하여 얻어지는 액정 화합물의 배향 상태는, 상술한 카이랄제의 나선 유기력에 따라 바뀐다.The alignment state of the liquid crystal compound obtained in step 2A changes according to the spiral induction force of the chiral agent described above.

예를 들면, 후술하는 바와 같이, 두께 방향을 따라 뻗는 나선축을 따라 비틀림 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 제1 영역과, 호모지니어스 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 제2 영역을, 두께 방향을 따라 갖는 광학 이방성층을 형성하기 위해서는, 공정 1A에 의하여 형성되는 조성물층 중의 카이랄제의 가중 평균 나선 유기력의 절댓값은, 0.0~1.9μm-1인 것이 바람직하고, 0.0~1.5μm-1인 것이 보다 바람직하며, 0.0~1.0μm-1인 것이 더 바람직하고, 0.0~0.5μm-1인 것이 특히 바람직하며, 0.0~0.02μm-1인 것이 보다 특히 바람직하고, 제로가 가장 바람직하다.For example, as will be described later, a first region formed by fixing the orientation state of the liquid crystal compound twisted along a helical axis extending along the thickness direction, and a second region obtained by fixing the orientation state of the liquid crystal compound homogeneously aligned In order to form an optically anisotropic layer having , in the thickness direction, the absolute value of the weighted average helical induction force of the chiral agent in the composition layer formed by step 1A is preferably 0.0 to 1.9 μm -1 , and is 0.0 to 1.9 μm -1 . It is more preferably 1.5 μm -1 , more preferably 0.0 to 1.0 μm -1 , particularly preferably 0.0 to 0.5 μm -1 , more particularly preferably 0.0 to 0.02 μm -1 , and zero is the most desirable.

조성물층 중의 카이랄제의 가중 평균 나선 유기력의 절댓값이 상기 범위인 경우, 공정 2A를 실시하면, 조성물 중의 액정 화합물은, 호모지니어스 배향하고 있거나, 조성물층 중의 액정 화합물이 두께 방향을 따라 뻗는 나선축을 따라 비틀림 배향하고 있다.When the absolute value of the weighted average helical organic force of the chiral agent in the composition layer is within the above range, when step 2A is performed, the liquid crystal compound in the composition is homogeneously oriented, or the liquid crystal compound in the composition layer is a spiral extending along the thickness direction. It is torsionally oriented along the axis.

또한, 카이랄제의 가중 평균 나선 유기력이란, 조성물 중에 2종 이상의 카이랄제가 포함되는 경우에, 조성물층 중에 포함되는 각 카이랄제의 나선 유기력과 각 카이랄제의 조성물층 중에 있어서의 농도(질량%)의 곱을 조성물층 중에 있어서의 카이랄제의 합계 농도(질량%)로 나눈 값의 합곗값을 나타낸다. 예를 들면, 2종류의 카이랄제(카이랄제 X 및 카이랄제 Y)를 병용한 경우, 하기 식 (B)에 의하여 나타난다.In addition, the weighted average spiral organic force of a chiral agent is, when two or more kinds of chiral agents are contained in the composition, the spiral organic force of each chiral agent contained in the composition layer and each chiral agent in the composition layer. It represents the sum of the values obtained by dividing the product of the concentrations (% by mass) by the total concentration (% by mass) of the chiral agent in the composition layer. For example, when two types of chiral agents (chiral agent X and chiral agent Y) are used together, it is represented by the following formula (B).

식 (B) 가중 평균 나선 유기력(μm-1)=(카이랄제 X의 나선 유기력(μm-1)×조성물층 중에 있어서의 카이랄제 X의 농도(질량%)+카이랄제 Y의 나선 유기력(μm-1)×조성물층 중에 있어서의 카이랄제 Y의 농도(질량%))/(조성물층 중에 있어서의 카이랄제 X의 농도(질량%)+조성물층 중에 있어서의 카이랄제 Y의 농도(질량%))Formula (B) weighted average helix induction force (μm -1 ) = (helix induction force of chiral agent X (μm -1 ) × concentration of chiral agent X in the composition layer (% by mass) + chiral agent Y of the spiral induction force (μm -1 ) × concentration of chiral agent Y in the composition layer (mass %) / (concentration of chiral agent X in the composition layer (mass %) + Ka in the composition layer Concentration of Yralze Y (% by mass))

단, 상기 식 (B)에 있어서, 카이랄제의 나선 방향이 우측 권취인 경우, 그 나선 유기력은 양의 값으로 한다. 또, 카이랄제의 나선 방향이 좌측 권취인 경우, 그 나선 유기력은 음의 값으로 한다. 즉, 예를 들면, 나선 유기력이 10μm-1의 카이랄제인 경우, 상기 카이랄제에 의하여 유기되는 나선의 나선 방향이 우측 권취일 때는, 나선 유기력을 10μm-1로서 나타낸다. 한편, 상기 카이랄제에 의하여 유기되는 나선의 나선 방향이 좌측 권취일 때는, 나선 유기력을 -10μm-1로서 나타낸다.However, in the above formula (B), when the spiral direction of the chiral agent is rightward winding, the spiral induction force is taken as a positive value. In the case where the spiral direction of the chiral agent is leftward winding, the spiral induction force is taken as a negative value. That is, for example, in the case of a chiral agent having a helix induction force of 10 μm -1 , and when the helix direction of the helix induced by the chiral agent is rightward winding, the helix induction force is expressed as 10 μm -1 . On the other hand, when the helix direction of the helix induced by the chiral agent is leftward winding, the helix induction force is expressed as -10 μm -1 .

공정 1A에 의하여 형성되는 조성물층 중의 카이랄제의 가중 평균 나선 유기력의 절댓값이 0인 경우에는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 기판(10) 상에, 액정 화합물(LC)이 호모지니어스 배향한 조성물층(12)이 형성된다. 또한, 도 1은, 기판(10)과 조성물층(12)의 단면의 개략도이다. 또한, 도 1에 나타내는 조성물층(12)에는 카이랄제 A와 카이랄제 B가 동일 농도로 존재하고 있고, 카이랄제 A에 의하여 유기되는 나선 방향이 좌측 권취이며, 카이랄제 B에 의하여 유기되는 나선 방향이 우측 권취인 것으로 한다. 또, 카이랄제 A의 나선 유기력의 절댓값과, 카이랄제 B의 나선 유기력의 절댓값은 동일한 것으로 한다.When the absolute value of the weighted average spiral organic force of the chiral agent in the composition layer formed by step 1A is 0, as shown in FIG. 1, the liquid crystal compound (LC) is homogeneously aligned on the substrate 10 A composition layer 12 is formed. 1 is a schematic diagram of a cross section of the substrate 10 and the composition layer 12 . In addition, in the composition layer 12 shown in FIG. 1, chiral agent A and chiral agent B exist at the same concentration, and the spiral direction induced by chiral agent A is left-handed, and by chiral agent B It is assumed that the spiral direction to be induced is right winding. In addition, the absolute value of the spiral induction force of the chiral agent A and the absolute value of the spiral induction force of the chiral agent B are assumed to be the same.

본 명세서에 있어서, 호모지니어스 배향이란, 액정 화합물의 분자축(예를 들면, 봉상 액정 화합물의 경우에는 장축이 해당)이 조성물층 표면에 대하여 수평으로, 또한, 동일 방위로 배열되어 있는 상태(광학적 일축성)를 말한다.In the present specification, homogeneous alignment means a state in which the molecular axes of the liquid crystal compound (for example, the long axis in the case of a rod-like liquid crystal compound) are aligned horizontally and in the same direction with respect to the surface of the composition layer (optical uniaxial).

여기에서, 수평이란, 엄밀하게 수평인 것을 요구하는 것이 아니라, 조성물층 내의 액정 화합물의 평균 분자축이 조성물층의 표면과 이루는 경사각이 20도 미만인 배향을 의미하는 것으로 한다.Here, horizontal is not strictly required to be horizontal, but means an orientation in which the average molecular axis of the liquid crystal compound in the composition layer and the surface of the composition layer have an inclination angle of less than 20 degrees.

또, 동일 방위란, 엄밀하게 동일 방위인 것을 요구하는 것이 아니라, 면내의 임의의 20개소의 위치에서 지상축의 방위를 측정했을 때, 20개소에서의 지상축의 방위 중의 지상축 방위의 최대차(20개의 지상축 방위 중, 차가 최대가 되는 2개의 지상축 방위의 차)가 10° 미만인 것을 의미하는 것으로 한다.In addition, the same orientation does not strictly require that they be the same orientation, but when the slow axis orientations are measured at 20 arbitrary positions in the plane, the maximum difference (20 It is assumed that the difference between the two slow axis orientations of which the difference is the largest among the slow axis orientations of the dog) is less than 10°.

또한, 도 1에 있어서는 액정 화합물(LC)이 호모지니어스 배향한 양태에 대하여 설명했지만, 액정 화합물이 소정의 배향 상태로 되어 있으면 이 양태에는 제한되지 않고, 예를 들면, 이후 단락에서 상세하게 설명하는 바와 같이, 조성물층의 두께 방향을 따라 뻗는 나선축을 따라 액정 화합물이 비틀림 배향한 양태여도 된다.In addition, in FIG. 1, the embodiment in which the liquid crystal compound (LC) is homogeneously aligned has been described, but as long as the liquid crystal compound is in a predetermined alignment state, it is not limited to this embodiment, and for example, described in detail in the following paragraphs. As such, the aspect in which the liquid crystal compound is torsionally aligned along the helical axis extending along the thickness direction of the composition layer may be used.

<공정 3A><Process 3A>

공정 3A는, 공정 2A 이후, 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 조성물층에 대하여, 광조사를 50초간 이하, 또한, 300mJ/cm2 이하에서 행하는 공정이다. 이하에서는, 도면을 이용하여 본 공정의 기구를 설명한다. 또한, 이하에서는 도 1에 나타낸 조성물층(12)에 대하여 공정 3A를 실시한 예를 대표예로서 설명한다.Step 3A is a step in which, after step 2A, the composition layer is irradiated with light for 50 seconds or less and at 300 mJ/cm 2 or less under conditions of an oxygen concentration of 1% by volume or more. Below, the mechanism of this process is demonstrated using drawing. In the following, an example in which step 3A is performed on the composition layer 12 shown in FIG. 1 will be described as a representative example.

도 2에 나타내는 바와 같이, 공정 3A에서는 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 기판(10)의 조성물층(12) 측과는 반대 측의 방향(도 2 중의 흰색 화살표의 방향)으로부터 광조사를 행한다. 또한, 도 2에서는 광조사는 기판(10) 측으로부터 실시되고 있지만, 조성물층(12) 측으로부터 실시되어도 된다.As shown in FIG. 2, in step 3A, light is irradiated from the direction opposite to the composition layer 12 side of the substrate 10 (direction of the white arrow in FIG. 2) under the condition of an oxygen concentration of 1% by volume or more. . 2, light irradiation is performed from the substrate 10 side, but may be performed from the composition layer 12 side.

그때, 조성물층(12)의 기판(10) 측의 하측 영역(12A)과, 기판(10) 측과는 반대 측의 상측 영역(12B)을 비교하면, 상측 영역(12B)의 표면 쪽이 공기 측에 있기 때문에, 상측 영역(12B) 중의 산소 농도가 높고, 하측 영역(12A) 중의 산소 농도는 낮다. 그 때문에, 조성물층(12)에 대하여 광조사가 이루어지면, 하측 영역(12A)에 있어서는 액정 화합물의 중합이 진행되기 쉽고, 액정 화합물의 배향 상태가 고정된다. 또한, 하측 영역(12A)에 있어서도 카이랄제 A가 존재하고 있고, 카이랄제 A도 감광하여, 나선 유기력이 변화한다. 그러나, 하측 영역(12A)에서는 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있기 때문에, 후술하는, 광조사된 조성물층에 대하여 가열 처리를 실시하는 공정 4A를 실시해도, 액정 화합물의 배향 상태의 변화는 발생하지 않는다.At that time, comparing the lower region 12A on the substrate 10 side of the composition layer 12 with the upper region 12B on the opposite side to the substrate 10 side, the surface of the upper region 12B is air. side, the oxygen concentration in the upper region 12B is high, and the oxygen concentration in the lower region 12A is low. Therefore, when the composition layer 12 is irradiated with light, polymerization of the liquid crystal compound tends to proceed in the lower region 12A, and the alignment state of the liquid crystal compound is fixed. In addition, chiral agent A is also present in the lower region 12A, and chiral agent A is also photosensitized, and the spiral induction force is changed. However, since the alignment state of the liquid crystal compound is fixed in the lower region 12A, even if step 4A of heating the light-irradiated composition layer to be described later is performed, the alignment state of the liquid crystal compound does not change. don't

또, 상측 영역(12B)에 있어서는 산소 농도가 높기 때문에, 광조사가 이루어져도, 액정 화합물의 중합이 산소에 의하여 저해되어, 중합이 진행되기 어렵다. 그리고, 상측 영역(12B)에 있어서도 카이랄제 A가 존재하고 있기 때문에, 카이랄제 A가 감광하여, 나선 유기력이 변화한다. 그 때문에, 후술하는 공정 4A를 실시하면, 변화한 나선 유기력을 따라 액정 화합물의 배향 상태가 변화한다.In addition, since the oxygen concentration is high in the upper region 12B, even if light is irradiated, polymerization of the liquid crystal compound is inhibited by oxygen and the polymerization does not proceed easily. And, since the chiral agent A is also present in the upper region 12B, the chiral agent A is photosensitized and the spiral induction force is changed. Therefore, when step 4A described later is performed, the alignment state of the liquid crystal compound changes according to the changed spiral induction force.

즉, 공정 3A를 실시함으로써, 조성물층의 기판 측의 영역(하측 영역)에 있어서는 액정 화합물의 배향 상태의 고정화가 진행되기 쉽다. 또, 조성물층의 기판 측과 반대 측의 영역(상측 영역)에 있어서는, 액정 화합물의 배향 상태의 고정화는 진행되기 어렵고, 또한, 감광한 카이랄제 A에 따라 나선 유기력이 변화한 상태로 된다.That is, by performing step 3A, fixation of the alignment state of the liquid crystal compound tends to proceed in the region (lower region) of the composition layer on the substrate side. In addition, in the region (upper region) on the opposite side of the substrate side of the composition layer, it is difficult to fix the alignment state of the liquid crystal compound, and the spiral induction force is changed depending on the photosensitized chiral agent A. .

공정 3A는, 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서 실시된다. 그중에서도, 광학 이방성층 중에 있어서 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역이 형성되기 쉬운 점에서, 산소 농도는 2체적% 이상이 바람직하고, 5체적% 이상이 보다 바람직하다. 상한은 특별히 제한되지 않지만, 100체적%를 들 수 있다.Step 3A is performed under conditions of an oxygen concentration of 1% by volume or more. Among them, the oxygen concentration is preferably 2% by volume or more, and more preferably 5% by volume or more, because regions in which the orientation states of the liquid crystal compounds are different are easily formed in the optically anisotropic layer. Although the upper limit is not particularly limited, 100% by volume is exemplified.

공정 3A에 있어서의 광조사의 시간은, 50초간 이하이며, 소정의 광학 이방성층이 형성되기 쉬운 점 및 생산성의 점에서, 30초간 이하가 바람직하고, 10초간 이하가 보다 바람직하다. 하한은 특별히 제한되지 않지만, 액정 화합물의 경화의 점에서, 0.1초간 이상이 바람직하고, 0.2초간 이상이 보다 바람직하다.The light irradiation time in step 3A is 50 seconds or less, preferably 30 seconds or less, and more preferably 10 seconds or less from the viewpoint of easy formation of a predetermined optically anisotropic layer and productivity. The lower limit is not particularly limited, but is preferably 0.1 second or longer, and more preferably 0.2 second or longer, from the viewpoint of curing the liquid crystal compound.

공정 3A에 있어서의 광조사의 조사량은, 300mJ/cm2 이하이며, 소정의 광학 이방성층이 형성되기 쉬운 점 및 생산성의 점에서, 250mJ/cm2 이하가 바람직하고, 200mJ/cm2 이하가 보다 바람직하다. 하한은 특별히 제한되지 않지만, 액정 화합물의 경화의 점에서, 1mJ/cm2 이상이 바람직하고, 5mJ/cm2 이상이 보다 바람직하다.The irradiation amount of the light irradiation in step 3A is 300 mJ/cm 2 or less, preferably 250 mJ/cm 2 or less, and more preferably 200 mJ/cm 2 or less from the viewpoint of easy formation of a predetermined optically anisotropic layer and productivity. desirable. The lower limit is not particularly limited, but is preferably 1 mJ/cm 2 or more, and more preferably 5 mJ/cm 2 or more, from the viewpoint of curing the liquid crystal compound.

광조사의 시간 및 조사량이 상기 요건을 충족시키지 않는 경우, 소정의 광학 이방성층을 형성할 수 없다.If the time and amount of light irradiation do not satisfy the above requirements, the predetermined optically anisotropic layer cannot be formed.

또한, 제1 실시형태에 있어서의 공정 3A에서의 광조사는, 15~70℃(바람직하게는, 25~50℃)에서 실시되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that light irradiation in step 3A in the first embodiment is performed at 15 to 70°C (preferably 25 to 50°C).

광조사에 사용되는 광은, 카이랄제 A가 감광하는 광이면 된다. 즉, 광조사에 사용되는 광은, 카이랄제 A의 나선 유기력을 변화시키는 활성광선 또는 방사선이면 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 수은등의 휘선 스펙트럼, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, 극자외선, X선, 자외선, 및, 전자선을 들 수 있다. 그중에서도, 자외선이 바람직하다.The light used for light irradiation may be any light to which the chiral agent A is sensitive. That is, the light used for light irradiation is not particularly limited as long as it is active light or radiation that changes the helical organic force of chiral agent A, and examples include bright line spectrum of mercury lamps, deep ultraviolet rays represented by excimer lasers, and extreme ultraviolet rays. , X-rays, ultraviolet rays, and electron beams. Among them, ultraviolet rays are preferable.

<공정 4A><Process 4A>

공정 4A는, 공정 3A 이후, 조성물층에, 광조사 시보다 높은 온도에서 가열 처리를 실시하는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 광조사가 실시된 조성물층 중의 카이랄제 A의 나선 유기력이 변화한 영역에 있어서, 액정 화합물의 배향 상태가 변화한다. 보다 구체적으로는, 본 공정은, 공정 3A 후의 조성물층에 대하여, 조사 시보다 높은 온도에서 가열 처리를 실시하여, 공정 3A에서 고정되어 있지 않은 조성물층 중의 액정 화합물을 배향시키는 공정이다.Step 4A is a step of subjecting the composition layer to a heat treatment after step 3A at a temperature higher than that at the time of light irradiation. By carrying out this step, the alignment state of the liquid crystal compound changes in the region where the spiral induction force of the chiral agent A in the composition layer to which light irradiation has been applied has changed. More specifically, this step is a step of aligning the liquid crystal compound in the composition layer that is not fixed in step 3A by subjecting the composition layer after step 3A to heat treatment at a temperature higher than that during irradiation.

이하에서는, 도면을 이용하여 본 공정의 기구를 설명한다.Below, the mechanism of this process is demonstrated using drawing.

상술한 바와 같이, 도 1에 나타낸 조성물층(12)에 대하여 공정 3A를 실시하면, 하측 영역(12A)에 있어서는 액정 화합물의 배향 상태가 고정되는 데 대하여, 상측 영역(12B)에서는 액정 화합물의 중합은 진행되기 어렵고, 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있지 않다. 또, 상측 영역(12B)에 있어서는 카이랄제 A의 나선 유기력이 변화하고 있다. 이와 같은 카이랄제 A의 나선 유기력의 변화가 발생하면, 광조사 전의 상태와 비교하면, 상측 영역(12B)에 있어서 액정 화합물을 비트는 힘이 변화하고 있다. 이 점을 보다 상세하게 설명한다.As described above, when step 3A is performed on the composition layer 12 shown in FIG. 1, the alignment state of the liquid crystal compound is fixed in the lower region 12A, while the liquid crystal compound is polymerized in the upper region 12B. is difficult to progress, and the alignment state of the liquid crystal compound is not fixed. Also, in the upper region 12B, the spiral induction force of the chiral agent A is changing. When such a change in the spiral induction force of the chiral agent A occurs, the force to twist the liquid crystal compound in the upper region 12B is changed compared to the state before light irradiation. This point will be explained in more detail.

상술한 바와 같이, 도 1에 나타내는 조성물층(12)에는 카이랄제 A와 카이랄제 B가 동일 농도로 존재하고 있고, 카이랄제 A에 의하여 유기되는 나선 방향이 좌측 권취이며, 카이랄제 B에 의하여 유기되는 나선 방향이 우측 권취이다. 또, 카이랄제 A의 나선 유기력의 절댓값과, 카이랄제 B의 나선 유기력의 절댓값은 동일하다. 따라서, 광조사를 행하기 전의 조성물층 중의 카이랄제의 가중 평균 나선 유기력은 0이다.As described above, chiral agent A and chiral agent B exist at the same concentration in the composition layer 12 shown in FIG. The helix direction induced by B is right winding. In addition, the absolute value of the spiral pulling force of the chiral agent A and the absolute value of the spiral pulling force of the chiral agent B are the same. Therefore, the weighted average spiral induction force of the chiral agent in the composition layer before light irradiation is zero.

상기의 양태를 도 4에 나타낸다. 도 4에 있어서는, 세로축이 "카이랄제의 나선 유기력(μm-1)×카이랄제의 농도(질량%)"를 나타내고, 그 값이 제로로부터 멀어질수록, 나선 유기력이 커진다. 먼저, 광조사를 행하기 전의 조성물층 중의 카이랄제 A와 카이랄제 B의 관계는, 광조사량이 0인 시점에 해당하고, "카이랄제 A의 나선 유기력(μm-1)×카이랄제 A의 농도(질량%)"의 절댓값과, "카이랄제 B의 나선 유기력(μm-1)×카이랄제 B의 농도(질량%)"의 절댓값이 동일한 상태에 해당한다. 즉, 좌측 권취를 유기하는 카이랄제 A와 우측 권취를 유기하는 카이랄제 B의 양자의 나선 유기력은 상쇄되고 있다.The above aspect is shown in FIG. 4 . In Fig. 4, the vertical axis represents "the spiral induction force of the chiral agent (μm -1 ) x the concentration (mass %) of the chiral agent", and the farther the value is from zero, the greater the spiral induction force. First, the relationship between chiral agent A and chiral agent B in the composition layer before irradiation with light corresponds to the time when the amount of light irradiation is 0, and “helix induction force of chiral agent A (μm -1 ) × ka The absolute value of "concentration of chiral agent A (mass %)" and the absolute value of "helical induction force of chiral agent B (μm -1 ) × concentration of chiral agent B (mass %)" correspond to the same state. That is, the spiral induction forces of both the chiral agent A, which induces left winding, and the chiral agent B, which induces right winding, are offset.

이와 같은 상태의 상측 영역(12B)에 있어서 광조사가 행해지고, 도 4에 나타내는 바와 같이, 광조사량에 따라 카이랄제 A의 나선 유기력이 감소하는 경우, 도 5에 나타내는 바와 같이, 상측 영역(12B)에 있어서의 카이랄제의 가중 평균 나선 유기력은 커져, 우측 권취의 나선 유기력이 강해진다. 즉, 액정 화합물의 나선을 유기하는 나선 유기력은, 조사량이 클수록, 카이랄제 B가 유기하는 나선의 방향(+)으로 나선 유기력이 커진다.When light irradiation is performed in the upper region 12B in such a state, and as shown in FIG. 4, the spiral induction force of the chiral agent A decreases with the amount of light irradiation, as shown in FIG. 5, the upper region ( In 12B), the weighted average helix induction force of the chiral agent increases, and the helix induction force of the right-side winding becomes stronger. That is, as for the helix induction force of the liquid crystal compound, the larger the irradiation amount, the greater the helix induction force in the direction (+) of the helix induction of the chiral agent B.

그 때문에, 이와 같은 가중 평균 나선 유기력의 변화가 발생하고 있는 공정 3A 후의 조성물층(12)에 대하여, 가열 처리를 실시하여 액정 화합물의 재배향을 촉구하면, 도 3에 나타내는 바와 같이, 상측 영역(12B)에 있어서는, 조성물층(12)의 두께 방향을 따라 뻗는 나선축을 따라 액정 화합물(LC)이 비틀림 배향한다.Therefore, when heat treatment is performed on the composition layer 12 after step 3A in which such a change in the weighted average spiral organic force occurs to promote reorientation of the liquid crystal compound, as shown in FIG. 3, the upper region In (12B), the liquid crystal compound (LC) is torsionally aligned along a helical axis extending along the thickness direction of the composition layer 12.

한편, 상술한 바와 같이, 조성물층(12)의 하측 영역(12A)에 있어서는 공정 3A 시에 액정 화합물의 중합이 진행되어 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있기 때문에, 액정 화합물의 재배향은 진행되지 않는다.On the other hand, as described above, in the lower region 12A of the composition layer 12, since the polymerization of the liquid crystal compound proceeds during step 3A and the alignment state of the liquid crystal compound is fixed, the liquid crystal compound is not rearranged. don't

상기와 같이, 공정 4A를 실시함으로써, 조성물층의 두께 방향을 따라, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역이 복수 형성된다.As described above, by performing step 4A, a plurality of regions having different alignment states of the liquid crystal compound are formed along the thickness direction of the composition layer.

또한, 상기 도 4 및 5에 있어서는, 카이랄제 A로서 광조사에 의하여 나선 유기력이 감소하는 카이랄제를 이용한 양태에 대하여 설명했지만, 이 양태에는 제한되지 않는다. 예를 들면, 카이랄제 A로서 광조사에 의하여 나선 유기력이 증가하는 카이랄제를 이용해도 된다. 그 경우, 광조사에 의하여 카이랄제 A의 유기하는 나선 유기력이 커져, 카이랄제 A의 유기하는 선회 방향으로 액정 화합물이 비틀림 배향하게 된다.In addition, in the above FIGS. 4 and 5, an embodiment using a chiral agent A, in which the spiral induction force is reduced by light irradiation, has been described, but this embodiment is not limited. For example, as the chiral agent A, a chiral agent whose helix induction force increases upon irradiation with light may be used. In that case, the helical induction force of the chiral agent A increases due to light irradiation, and the liquid crystal compound is torsionally oriented in the direction of rotation in which the chiral agent A is induced.

또, 상기 도 4 및 5에 있어서는, 카이랄제 A와 카이랄제 B를 병용하는 양태에 대하여 설명했지만, 이 양태에는 제한되지 않는다. 예를 들면, 2종의 카이랄제 A를 이용하는 양태여도 된다. 구체적으로는, 좌측 권취를 유기하는 카이랄제 A1과, 우측 권취를 유기하는 카이랄제 A2를 병용하는 양태여도 된다. 카이랄제 A1 및 A2는, 각각 독립적으로, 나선 유기력이 증가하는 카이랄제여도 되고, 나선 유기력이 감소하는 카이랄제여도 된다. 예를 들면, 좌측 권취를 유기하는 카이랄제이고, 광조사에 의하여 나선 유기력이 증가하는 카이랄제와, 우측 권취를 유기하는 카이랄제이며, 광조사에 의하여 나선 유기력이 감소하는 카이랄제를 병용해도 된다.In addition, in the above FIGS. 4 and 5, an embodiment in which chiral agent A and chiral agent B are used together has been described, but this embodiment is not limited. For example, an aspect using two types of chiral agent A may be used. Specifically, an aspect in which chiral agent A1, which induces left-side winding, and chiral agent A2, which induces right-side winding, are used together. Chiral agents A1 and A2 may each independently be a chiral agent increasing the helix induction force or a chiral agent in which the helix induction force decreases. For example, a chiral agent that induces left-side winding and whose spiral-induced force increases by light irradiation, and a chiral agent that induces right-side winding and whose spiral-induced force decreases by light irradiation It is also possible to use rales in combination.

가열 처리는, 광조사 시보다 높은 온도에서 실시한다.Heat treatment is performed at a temperature higher than that at the time of light irradiation.

가열 처리의 온도와, 광조사 시의 온도의 차는, 5℃ 이상이 바람직하고, 10~110℃가 보다 바람직하며, 20~110℃가 보다 바람직하다.The difference between the temperature of the heat treatment and the temperature during light irradiation is preferably 5°C or higher, more preferably 10 to 110°C, more preferably 20 to 110°C.

가열 처리의 온도는, 광조사 시의 온도보다 높으며, 조성물층 중의 고정되어 있지 않은 액정 화합물을 배향시키는 온도인 것이 바람직하고, 보다 구체적으로는, 35~250℃의 경우가 많으며, 50~150℃의 경우가 보다 많고, 50℃ 초과 150℃ 이하의 경우가 더 많으며, 60~130℃의 경우가 특히 많다.The temperature of the heat treatment is higher than the temperature at the time of light irradiation, and is preferably a temperature at which the non-fixed liquid crystal compound in the composition layer is oriented, and more specifically, it is often 35 to 250 ° C., and 50 to 150 ° C. There are more cases of , more cases of more than 50 ℃ and less than 150 ℃, and especially many cases of 60 ~ 130 ℃.

가열 시간으로서는, 0.01~60분간의 경우가 많고, 0.03~5분간의 경우가 보다 많다.As heating time, it is 0.01 to 60 minutes in many cases, and 0.03 to 5 minutes in many cases.

또, 광조사 후의 조성물층 중의 카이랄제의 가중 평균 나선 유기력의 절댓값은 특별히 제한되지 않지만, 광조사 후의 조성물층 중의 카이랄제의 가중 평균 나선 유기력과 광조사 전의 가중 평균 나선 유기력의 차의 절댓값이, 0.05μm-1 이상이 바람직하고, 0.05~10.0μm-1이 보다 바람직하며, 0.1~10.0μm-1이 더 바람직하다.In addition, the absolute value of the weighted average spiral organic force of the chiral agent in the composition layer after light irradiation is not particularly limited, but the weighted average spiral organic force of the chiral agent in the composition layer after light irradiation and the weighted average spiral organic force before light irradiation The absolute value of the difference is preferably 0.05 µm -1 or more, more preferably 0.05 to 10.0 µm -1 , and still more preferably 0.1 to 10.0 µm -1 .

<공정 5A><Process 5A>

공정 5A는, 공정 4A 이후, 조성물층에 대하여 경화 처리를 실시하여, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층을 형성하는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 조성물층 중의 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어, 결과적으로 소정의 광학 이방성층이 형성된다. 또한, 예를 들면, 상술한 도 3에 나타내는 조성물층(12)에 대하여 경화 처리가 실시된 경우에는, 두께 방향을 따라 뻗는 나선축을 따라 비틀림 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 제1 영역과, 호모지니어스 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 제2 영역을, 두께 방향을 따라 갖는 광학 이방성층이 형성된다.Step 5A is a step of forming an optically anisotropic layer having a plurality of regions having different orientation states of liquid crystal compounds along the thickness direction by subjecting the composition layer to a curing treatment after step 4A. By carrying out this process, the alignment state of the liquid crystal compound in the composition layer is fixed, and as a result, a predetermined optically anisotropic layer is formed. Further, for example, when the curing treatment is performed on the composition layer 12 shown in FIG. 3 described above, the first region obtained by fixing the alignment state of the liquid crystal compound twisted along the helical axis extending along the thickness direction An optically anisotropic layer having, along the thickness direction, a second region formed by fixing the alignment state of the liquid crystal compound subjected to homogeneous alignment is formed.

경화 처리의 방법은 특별히 제한되지 않고, 광경화 처리 및 열경화 처리를 들 수 있다. 그중에서도, 광조사 처리가 바람직하고, 자외선 조사 처리가 보다 바람직하다.The method of curing treatment is not particularly limited, and photocuring treatment and thermal curing treatment are exemplified. Among them, light irradiation treatment is preferred, and ultraviolet irradiation treatment is more preferred.

자외선 조사에는, 자외선 램프 등의 광원이 이용된다.For ultraviolet irradiation, a light source such as an ultraviolet lamp is used.

광(예를 들면, 자외선)의 조사량은 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로는, 100~800mJ/cm2 정도가 바람직하다.The irradiation amount of light (eg, ultraviolet rays) is not particularly limited, but is generally preferably about 100 to 800 mJ/cm 2 .

광조사 시의 분위기는 특별히 제한되지 않고, 광조사는 공기하에서 실시되어도 되며, 광조사는 불활성 분위기하에서 실시되어도 된다. 특히, 광조사는, 산소 농도 1체적% 미만으로 실시되는 것이 바람직하다.The atmosphere at the time of light irradiation is not particularly limited, and light irradiation may be performed under air or light irradiation may be performed under an inert atmosphere. In particular, light irradiation is preferably performed at an oxygen concentration of less than 1% by volume.

경화 처리로서 광경화 처리를 실시한 경우, 광경화 시의 온도 조건은 특별히 제한되지 않고, 공정 4A에서의 액정 화합물의 배향 상태가 유지되는 온도이면 되며, 공정 4A의 가열 처리의 온도와 광경화 처리 시의 온도의 차는, 100℃ 이내가 바람직하고, 80℃ 이내가 보다 바람직하다.When photocuring is performed as the curing treatment, the temperature conditions at the time of photocuring are not particularly limited, as long as the temperature at which the alignment state of the liquid crystal compound in step 4A is maintained, and the temperature of heat treatment in step 4A and photocuring The difference in temperature is preferably within 100°C and more preferably within 80°C.

또한, 공정 4A의 가열 처리의 온도와 광경화 처리 시의 온도는 동일하거나, 또는, 광경화 처리 시의 온도의 쪽이 보다 낮은 온도인 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the temperature at the time of the heat treatment of step 4A and the temperature at the time of photocuring treatment are the same, or the temperature at the time of photocuring treatment is a lower temperature.

경화 처리를 실시하여 얻어지는 광학 이방성층에서는, 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있다.In the optically anisotropic layer obtained by performing the curing treatment, the alignment state of the liquid crystal compound is fixed.

또한, 본 명세서에 있어서, "고정한" 상태는, 액정 화합물의 배향이 유지된 상태가 가장 전형적, 또한, 바람직한 양태이다. 그것에만은 제한되지 않으며, 구체적으로는, 통상 0~50℃, 보다 가혹한 조건하에서는 -30~70℃의 온도 범위에 있어서, 층에 유동성이 없고, 또, 외장 혹은 외력에 의하여 배향 형태에 변화를 발생시키지 않으며, 고정된 배향 형태를 안정되게 계속 유지할 수 있는 상태인 것이 보다 바람직하다.In addition, in this specification, the "fixed" state is the most typical and preferred embodiment in which the alignment of the liquid crystal compound is maintained. It is not limited to that only, and specifically, in the temperature range of usually 0 to 50 ° C., and -30 to 70 ° C. under more severe conditions, the layer has no fluidity, and the orientation form does not change due to exterior or external force. It is more preferable that it does not generate|occur|produce, and it is a state which can continue to stably maintain a fixed orientation form.

또한, 광학 이방성층에 있어서는, 최종적으로 층 중의 조성물이 더이상 액정성을 나타낼 필요는 없다.Further, in the optically anisotropic layer, the final composition in the layer need not exhibit liquid crystallinity anymore.

광학 이방성층의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 0.05~10μm가 바람직하고, 0.1~8.0μm가 보다 바람직하며, 0.2~6.0μm가 더 바람직하다.The thickness of the optically anisotropic layer is not particularly limited, but is preferably 0.05 to 10 μm, more preferably 0.1 to 8.0 μm, and still more preferably 0.2 to 6.0 μm.

상술한 도 3에 나타내는 양태에 있어서는, 두께 방향을 따라 뻗는 나선축을 따라 우측 회전으로 비틀림 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 제1 영역과, 호모지니어스 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 제2 영역을, 두께 방향을 따라 갖는 광학 이방성층이 제작되지만, 본 발명은 상기 양태에 제한되지 않는다.In the embodiment shown in FIG. 3 described above, the first region formed by fixing the alignment state of the liquid crystal compound twisted and aligned rightward along the helical axis extending along the thickness direction, and the orientation state of the liquid crystal compound homogeneously aligned is fixed, An optically anisotropic layer having a second region formed along the thickness direction is fabricated, but the present invention is not limited to the above aspect.

예를 들면, 액정 화합물의 비틀림 배향은, 좌측 비틀림이어도 된다. 즉, 액정 화합물의 비틀림 배향의 방향은 좌측 비틀림(반시계 방향의 비틀림)이어도 되고, 우측 비틀림(시계 방향의 비틀림)이어도 된다.For example, the twist orientation of the liquid crystal compound may be left twisted. That is, the direction of twist alignment of the liquid crystal compound may be either left twist (counterclockwise twist) or right twist (clockwise twist).

또, 상기 제2 영역에 있어서의 액정 화합물의 배향 상태로서는, 호모지니어스 배향 이외의 배향이어도 되고, 액정 화합물이 봉상 액정 화합물인 경우, 그 배향 상태로서는, 예를 들면, 네마틱 배향(네마틱상을 형성하고 있는 상태), 스멕틱 배향(스멕틱상을 형성하고 있는 상태), 콜레스테릭 배향(콜레스테릭상을 형성하고 있는 상태), 및, 하이브리드 배향을 들 수 있다. 액정 화합물이 디스코틱 액정 화합물인 경우, 그 배향 상태로서는, 네마틱 배향, 칼럼너 배향(칼럼너상을 형성하고 있는 상태), 및, 콜레스테릭 배향을 들 수 있다.Further, as the orientation state of the liquid crystal compound in the second region, an orientation other than homogeneous orientation may be used. When the liquid crystal compound is a rod-like liquid crystal compound, the orientation state is, for example, nematic orientation (nematic phase state), smectic orientation (state in which smectic phase is formed), cholesteric orientation (state in which cholesteric phase is formed), and hybrid orientation. When the liquid crystal compound is a discotic liquid crystal compound, examples of the alignment state include nematic alignment, columnar alignment (a state in which a columnar phase is formed), and cholesteric alignment.

또한, 액정 화합물의 배향 상태의 특정 방법으로서는, 공지의 방법을 들 수 있다. 예를 들면, 광학 이방성층의 단면을 편광 현미경으로 관찰하여, 액정 화합물의 배향 상태를 특정하는 방법을 들 수 있다.Moreover, a well-known method is mentioned as a method of specifying the orientation state of a liquid crystal compound. For example, a method of specifying the alignment state of the liquid crystal compound by observing the cross section of the optically anisotropic layer with a polarization microscope is exemplified.

또, 도 3에 나타내는 양태에 있어서는, 광학 이방성층은 2개의 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 갖고 있었지만, 본 발명은 상기 양태에 제한되지 않고, 광학 이방성층은, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 3개 이상 갖고 있어도 된다.In the embodiment shown in Fig. 3, the optically anisotropic layer has a region in which the two liquid crystal compounds are in different alignment states. You may have three or more areas.

광학 이방성층이 2개의 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 갖는 경우, 2개의 영역 중의 두께가 얇은 영역의 두께에 대한, 2개 영역 중의 두께가 두꺼운 영역의 두께의 비는 특별히 제한되지 않지만, 1 초과 9 이하가 바람직하고, 1 초과 4 이하가 보다 바람직하다.When the optically anisotropic layer has a region in which the two liquid crystal compounds are in different alignment states, the ratio of the thickness of the thicker region of the two regions to the thickness of the thinner region of the two regions is not particularly limited, but 1 More than 9 or less is preferable, and more than 1 and 4 or less are more preferable.

또한, 2개의 영역의 두께가 동일한 경우는, 상기 비는 1이 된다.In addition, when the thicknesses of the two regions are the same, the ratio is 1.

또, 제1 실시형태에 있어서의 광학 이방성층은, 두께 방향을 따라 뻗는 나선축을 따라 비틀림 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 제1 영역과, 두께 방향을 따라 뻗는 나선축을 따라 제1 영역과는 상이한 비틀림 각도로, 비틀림 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 제2 영역을, 두께 방향을 따라 갖는 광학 이방성층이어도 된다.In addition, the optically anisotropic layer in the first embodiment includes a first region formed by fixing the alignment state of the liquid crystal compound twist-aligned along a helical axis extending along the thickness direction, and a first region along the helical axis extending along the thickness direction. It may be an optical anisotropic layer having a second region along the thickness direction formed by fixing the alignment state of the twisted liquid crystal compound at a twist angle different from .

상기와 같은, 액정 화합물의 비틀림각의 각도가 상이한 영역을 형성하는 방법으로서는, 예를 들면, 상술한 공정 1A에 의하여 형성되는 조성물층 중의 카이랄제의 가중 평균 나선 유기력의 절댓값을 크게(예를 들면, 0μm-1 초과) 하는 방법을 들 수 있다. 공정 1A에 의하여 형성되는 조성물층 중의 카이랄제의 가중 평균 나선 유기력의 절댓값이 큰 경우, 먼저, 도 6에 나타내는 바와 같이, 공정 2가 실시된 조성물층(120) 중에 있어서, 두께 방향을 따라 뻗는 나선축을 따라 액정 화합물이 비틀림 배향하고 있다. 이와 같은 조성물층에 대하여, 상술한 공정을 실시하면, 산소 농도가 낮은 조성물층 중의 영역(도 7 중의 하측 영역(120A))에 있어서는 액정 화합물의 비틀림 배향이 그대로 고정되는 데 대하여, 산소 농도가 높은 조성물층 중의 영역(도 7 중의 상측 영역(120B))에 있어서 나선 유기력이 변화하여, 공정 5A를 실시한 후에, 결과적으로, 액정 화합물의 비틀림각의 각도가 상이한 영역을 형성할 수 있다.As a method for forming a region having different twist angles of liquid crystal compounds as described above, for example, the absolute value of the weighted average spiral induction force of the chiral agent in the composition layer formed by the above-described step 1A is increased (e.g., For example, a method of exceeding 0 μm -1 ) may be mentioned. When the absolute value of the weighted average spiral induction force of the chiral agent in the composition layer formed by step 1A is large, first, as shown in FIG. 6, in the composition layer 120 subjected to step 2, along the thickness direction The liquid crystal compound is torsionally aligned along the extending helical axis. When the above-described process is performed on such a composition layer, the torsion orientation of the liquid crystal compound is fixed as it is in the region (lower region 120A in FIG. In the region in the composition layer (upper region 120B in FIG. 7 ), the spiral inducing force changes, and as a result, regions having different twist angles of the liquid crystal compound can be formed after Step 5A is performed.

제1 실시형태에 있어서의 광학 이방성층 중의 광학 특성은 특별히 제한되지 않고, 용도에 따라 최적인 값이 선택된다. 이하, 일례로서, 상술한 수순에 의하여 제작되는, 두께 방향을 따라 뻗는 나선축을 따라 비틀림 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 제1 영역과, 호모지니어스 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 제2 영역을, 두께 방향을 따라 갖는 광학 이방성층의 경우에 대하여 상세하게 설명한다.The optical properties in the optically anisotropic layer in the first embodiment are not particularly limited, and an optimum value is selected depending on the application. Hereinafter, as an example, the first region formed by fixing the alignment state of the liquid crystal compound twist-aligned along the helical axis extending along the thickness direction and the orientation state of the liquid crystal compound homogeneously aligned is fixed, The case of the optically anisotropic layer having the second region formed along the thickness direction will be described in detail.

상기 광학 이방성층의 제1 영역의 두께를 d1, 파장 550nm에서 측정한 제1 영역의 굴절률 이방성을 Δn1로 한 경우, 광학 이방성층을 원편광판에 적합하게 적용할 수 있는 점에서, 제1 영역은 이하의 식 (1A-1)을 충족시키는 것이 바람직하다.When the thickness of the first region of the optically anisotropic layer is d1 and the refractive index anisotropy of the first region measured at a wavelength of 550 nm is Δn1, the optically anisotropic layer can be suitably applied to the circular polarizing plate, the first region It is preferable to satisfy the following formula (1A-1).

식 (1A-1) 100nm≤Δn1d1≤240nmEquation (1A-1) 100nm≤Δn1d1≤240nm

그중에서도, 식 (1A-2)를 충족시키는 것이 보다 바람직하며, 식 (1A-3)을 충족시키는 것이 더 바람직하다.Among them, it is more preferable to satisfy the formula (1A-2), and even more preferable to satisfy the formula (1A-3).

식 (1A-2) 120nm≤Δn1d1≤220nmEquation (1A-2) 120nm≤Δn1d1≤220nm

식 (1A-3) 140nm≤Δn1d1≤200nmEquation (1A-3) 140nm≤Δn1d1≤200nm

제1 영역에 있어서의 액정 화합물의 비틀림각의 절댓값은 특별히 제한되지 않지만, 광학 이방성층을 원편광판에 적합하게 적용할 수 있는 점에서, 50~110°가 바람직하고, 60~100°가 보다 바람직하다.The absolute value of the twist angle of the liquid crystal compound in the first region is not particularly limited, but is preferably 50 to 110°, and more preferably 60 to 100°, from the viewpoint that the optically anisotropic layer can be suitably applied to a circular polarizing plate. do.

또한, 먼저, 액정 화합물이 비틀림 배향한다란, 제1 영역의 두께 방향을 축으로 하여, 제1 영역의 일방의 표면(도 3 중의 기판(10) 측의 표면)부터 타방의 표면(도 3 중의 기판(10) 측과는 반대 측의 표면)까지의 액정 화합물이 비틀리는 것을 의도한다. 따라서, 상기 비틀림각은, 제1 영역의 일방의 표면에 있어서의 액정 화합물의 분자축(봉상 액정 화합물의 경우에는 장축)과, 제1 영역의 타방의 표면에 있어서의 액정 화합물의 분자축이 이루는 각도를 의미한다.In addition, first, torsionally align the liquid crystal compound, with the thickness direction of the first region as an axis, from one surface of the first region (surface on the substrate 10 side in FIG. 3) to the other surface (in FIG. 3). It is intended that the liquid crystal compound up to the surface on the opposite side to the substrate 10 side is twisted. Therefore, the twist angle is defined by the molecular axis of the liquid crystal compound on one surface of the first region (long axis in the case of a rod-shaped liquid crystal compound) and the molecular axis of the liquid crystal compound on the other surface of the first region. means angle.

비틀림각의 측정 방법은, Axometrics사의 Axoscan을 이용하고 동사의 장치 해석 소프트웨어를 이용하여 측정한다.The method of measuring the twist angle is measured using Axometrics' Axoscan and using the company's device analysis software.

또, 상기 광학 이방성층의 제2 영역의 두께를 d2, 파장 550nm에서 측정한 제2 영역의 굴절률 이방성을 Δn2로 한 경우, 광학 이방성층을 원편광판에 적합하게 적용할 수 있는 점에서, 제2 영역은 이하의 식 (2A-1)을 충족시키는 것이 바람직하다.In addition, when the thickness of the second region of the optically anisotropic layer is d2 and the refractive index anisotropy of the second region measured at a wavelength of 550 nm is Δn2, the optically anisotropic layer can be suitably applied to the circular polarizing plate. The region preferably satisfies the following formula (2A-1).

식 (2A-1) 100nm≤Δn2d2≤240nmEquation (2A-1) 100nm≤Δn2d2≤240nm

그중에서도, 식 (2A-2)를 충족시키는 것이 보다 바람직하며, 식 (2A-3)을 충족시키는 것이 더 바람직하다.Among them, it is more preferable to satisfy the expression (2A-2), and even more preferable to satisfy the expression (2A-3).

식 (2A-2) 120nm≤Δn2d2≤220nmEquation (2A-2) 120nm≤Δn2d2≤220nm

식 (2A-3) 140nm≤Δn2d2≤200nmEquation (2A-3) 140nm≤Δn2d2≤200nm

제2 영역은, 호모지니어스 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역이다. 호모지니어스 배향의 정의는, 상술한 바와 같다.The second region is a region obtained by fixing the alignment state of the homogeneously aligned liquid crystal compound. The definition of homogeneous orientation is as described above.

또한, Δn1d1과 Δn2d2의 차는 특별히 제한되지 않지만, 광학 이방성층을 원편광판에 적합하게 적용할 수 있는 점에서, -50~50nm가 바람직하고, -30~30nm가 보다 바람직하다.Further, the difference between Δn1d1 and Δn2d2 is not particularly limited, but is preferably -50 to 50 nm, and more preferably -30 to 30 nm from the viewpoint that the optically anisotropic layer can be suitably applied to a circular polarizing plate.

또, 제1 실시형태에 있어서의 광학 이방성층 중에 두께 방향을 따라 뻗는 나선축을 따라 비틀림 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역이 2개 포함되고, 일방의 영역을 영역 A 및 타방의 영역을 영역 B로 하는 경우, 영역 A의 두께를 dA, 파장 550nm에서 측정한 영역 A의 굴절률 이방성층을 ΔA로 한 경우, 영역 A는, 광학 이방성층을 원편광판에 적합하게 적용할 수 있는 점에서, 이하의 식 (3A-1)을 충족시키는 것이 바람직하다.Further, in the optically anisotropic layer in the first embodiment, two regions formed by fixing the alignment state of liquid crystal compounds twisted and aligned along a helical axis extending along the thickness direction are included, and one region is region A and the other region When is region B, the thickness of region A is dA, and the refractive index anisotropy layer in region A measured at a wavelength of 550 nm is ΔA, region A is from the point that the optically anisotropic layer can be suitably applied to the circular polarizing plate. , it is preferable to satisfy the following formula (3A-1).

식 (3A-1) 205nm≤ΔnAdA≤345nmEquation (3A-1) 205nm≤ΔnAdA≤345nm

그중에서도, 식 (3A-2)를 충족시키는 것이 보다 바람직하며, 식 (3A-3)을 충족시키는 것이 더 바람직하다.Among them, it is more preferable to satisfy the formula (3A-2), and even more preferable to satisfy the formula (3A-3).

식 (3A-2) 225nm≤ΔnAdA≤325nmEquation (3A-2) 225nm≤ΔnAdA≤325nm

식 (3A-3) 245nm≤ΔnAdA≤305nmEquation (3A-3) 245nm≤ΔnAdA≤305nm

영역 A에 있어서의 액정 화합물의 비틀림각의 절댓값은 특별히 제한되지 않지만, 광학 이방성층을 원편광판에 적합하게 적용할 수 있는 점에서, 0° 초과 60° 이하가 바람직하고, 10~50°가 보다 바람직하다.The absolute value of the twist angle of the liquid crystal compound in the region A is not particularly limited, but is preferably greater than 0° and less than or equal to 60°, and more preferably 10 to 50°, from the viewpoint of suitably applying the optically anisotropic layer to a circular polarizing plate. desirable.

영역 B의 두께를 d2, 파장 550nm에서 측정한 영역 B의 굴절률 이방성을 ΔnB로 한 경우, 광학 이방성층을 원편광판에 적합하게 적용할 수 있는 점에서, 영역 B는 이하의 식 (4A-1)을 충족시키는 것이 바람직하다.When the refractive index anisotropy of region B measured at the thickness of region B at d2 and a wavelength of 550 nm is ΔnB, the optically anisotropic layer can be suitably applied to the circular polarizing plate. It is desirable to satisfy

식 (4A-1) 70nm≤ΔnBdB≤210nmEquation (4A-1) 70nm≤ΔnBdB≤210nm

그중에서도, 식 (4A-2)를 충족시키는 것이 보다 바람직하며, 식 (4A-3)을 충족시키는 것이 더 바람직하다.Among them, it is more preferable to satisfy the formula (4A-2), and even more preferable to satisfy the formula (4A-3).

식 (4A-2) 90nm≤ΔnBdB≤190nmEquation (4A-2) 90nm≤ΔnBdB≤190nm

식 (4A-3) 110nm≤ΔnBdB≤170nmEquation (4A-3) 110nm≤ΔnBdB≤170nm

영역 B에 있어서의 액정 화합물의 비틀림각의 절댓값은 특별히 제한되지 않지만, 광학 이방성층을 원편광판에 적합하게 적용할 수 있는 점에서, 50~110°가 바람직하고, 60~100°가 보다 바람직하다.The absolute value of the twist angle of the liquid crystal compound in the region B is not particularly limited, but is preferably 50 to 110°, more preferably 60 to 100°, from the viewpoint that the optically anisotropic layer can be suitably applied to a circular polarizing plate. .

또, 상기 양태와 같이, 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제1 실시형태로 형성되는 광학 이방성층이 두께 방향을 따라 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 2개 갖는 경우(이하, 2개의 영역을 영역 X 및 영역 Y라고 한다.), 영역 X의 영역 Y측의 표면에서의 지상축과, 영역 Y의 영역 X측의 표면에서의 지상축은 평행이 되는 경우가 많다.In addition, as in the above aspect, when the optically anisotropic layer formed by the first embodiment of the method for producing an optically anisotropic layer of the present invention has two regions in which the orientation state of the liquid crystal compound is different along the thickness direction (hereinafter, two The regions are referred to as region X and region Y.), the slow axis of the surface of the region X on the region Y side and the slow axis of the surface of the region Y on the region X side are often parallel.

제1 실시형태에 있어서의 광학 이방성층 중의 광학 특성에 관해서는 상술한 양태에 제한되지 않고, 예를 들면, 광학 이방성층이 두께 방향을 따라 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 2개 갖는 경우, 2개의 영역이 각각 일본 특허공보 제5960743호에 기재된 제1 광학 이방성층 및 제2 광학 이방성층의 광학 특성(액정 화합물의 비틀림각, Δnd, ReB, 지상축의 관계)을 충족시키는 것이 바람직하다.The optical properties in the optically anisotropic layer in the first embodiment are not limited to the above-described aspects, and for example, when the optically anisotropic layer has two regions in which the alignment states of the liquid crystal compounds are different along the thickness direction, It is preferable that the two regions satisfy the optical characteristics (torsion angle of the liquid crystal compound, Δnd, ReB, and slow axis relationship) of the first optically anisotropic layer and the second optically anisotropic layer, respectively, described in Japanese Patent Publication No. 5960743.

또, 다른 양태로서, 광학 이방성층이 두께 방향으로 2개의 영역을 갖는 경우, 2개의 영역이 일본 특허공보 제5753922호에 기재된 제1 광학 이방성층 및 제2 광학 이방성층의 광학 특성(액정 화합물의 비틀림각, Δn1d1, Δn2d2, 지상축의 관계)을 충족시키는 것이 바람직하다.As another aspect, when the optically anisotropic layer has two regions in the thickness direction, the two regions are the optical properties of the first optically anisotropic layer and the second optically anisotropic layer described in Japanese Patent Publication No. 5753922 (liquid crystal compound It is preferable to satisfy the twist angle, Δn1d1, Δn2d2, relationship of the slow axis).

제1 실시형태에 있어서의 광학 이방성층은, 역파장 분산성을 나타내는 것이 바람직하다.The optically anisotropic layer in the first embodiment preferably exhibits reverse wavelength dispersion.

즉, 광학 이방성층의 파장 450nm에서 측정한 면내 리타데이션인 Re(450)과, 광학 이방성층의 파장 550nm에서 측정한 면내 리타데이션인 Re(550)과, 광학 이방성층의 파장 650nm에서 측정한 면내 리타데이션인 Re(650)은, Re(450)≤Re(550)≤Re(650)의 관계에 있는 것이 바람직하다.That is, the in-plane retardation Re (450) measured at a wavelength of 450 nm of the optical anisotropic layer, the in-plane retardation Re (550) measured at a wavelength of 550 nm of the optical anisotropic layer, and the in-plane retardation measured at a wavelength of 650 nm of the optical anisotropic layer Re (650), which is retardation, preferably has a relationship of Re (450) ≤ Re (550) ≤ Re (650).

제1 실시형태에 있어서의 광학 이방성층의 광학 특성은 특별히 제한되지 않지만, λ/4판으로서 기능하는 것이 바람직하다.The optical properties of the optically anisotropic layer in the first embodiment are not particularly limited, but it is preferable to function as a λ/4 plate.

λ/4판은, 소정의 특정 파장의 직선 편광을 원편광으로(또는, 원편광을 직선 편광으로) 변환하는 기능을 갖는 판이며, 특정 파장 λnm에 있어서의 면내 리타데이션 Re(λ)가 Re(λ)=λ/4를 충족시키는 판(광학 이방성층)을 말한다.The λ/4 plate is a plate having a function of converting linearly polarized light of a predetermined specific wavelength into circularly polarized light (or circularly polarized light into linearly polarized light), and the in-plane retardation Re(λ) at a specific wavelength λnm is Re It refers to a plate (optically anisotropic layer) that satisfies (λ)=λ/4.

이 식은, 가시광역의 어느 하나의 파장(예를 들면, 550nm)에 있어서 달성되어 있으면 되지만, 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션 Re(550)이, 110nm≤Re(550)≤180nm의 관계를 충족시키는 것이 바람직하다.This formula only needs to be achieved at any wavelength in the visible light range (eg 550 nm), but the in-plane retardation Re(550) at a wavelength of 550 nm satisfies the relationship of 110 nm ≤ Re (550) ≤ 180 nm It is desirable to do

<<제2 실시형태>><<Second Embodiment>>

본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제2 실시형태는, 이하의 공정 1B~5B를 갖는다. 후술하는 바와 같이, 제2 실시형태에 있어서는, 콜레스테릭 액정상을 고정하여 이루어지는 영역을 갖는 광학 이방성층이 형성된다.2nd Embodiment of the manufacturing method of the optically anisotropic layer of this invention has the following steps 1B-5B. As will be described later, in the second embodiment, an optically anisotropic layer having a region formed by fixing a cholesteric liquid crystal phase is formed.

공정 1B: 광조사에 의하여 나선 유기력이 변화하는 감광성 카이랄제를 적어도 포함하는 카이랄제, 및, 중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물층을 형성하는 공정Step 1B: Step of forming a composition layer containing a chiral agent containing at least a photosensitive chiral agent whose helix organic force changes upon irradiation with light, and a liquid crystal compound having a polymerizable group.

공정 2B: 조성물층에 가열 처리를 실시하여, 조성물층 중의 액정 화합물을 배향시켜, 콜레스테릭 액정상을 형성하는 공정Step 2B: Heating the composition layer to align the liquid crystal compound in the composition layer to form a cholesteric liquid crystal phase

공정 3B: 공정 2B 이후, 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 조성물층에 대하여, 광조사를 50초간 이하, 또한, 300mJ/cm2 이하에서 행하는 공정Step 3B: After Step 2B, the composition layer is irradiated with light for 50 seconds or less under conditions of an oxygen concentration of 1% by volume or more, and at 300 mJ/cm 2 or less.

공정 4B: 공정 3B 이후, 조성물층에, 광조사 시보다 높은 온도에서 가열 처리를 실시하는 공정Step 4B: After step 3B, the composition layer is subjected to heat treatment at a temperature higher than that during light irradiation

공정 5B: 공정 4B 이후, 조성물층에 대하여 경화 처리를 실시하여, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층을 형성하는 공정Step 5B: After step 4B, the composition layer is cured to form an optically anisotropic layer having a plurality of regions in which the alignment states of the liquid crystal compounds are different along the thickness direction.

후술하는 바와 같이, 제2 실시형태에 있어서, 상기 특성의 광학 이방성층을 제조하기 위해서는, 조성물층 중에 있어서의 카이랄제의 합계 함유량(모든 카이랄제의 총 함유량)은, 액정 화합물의 전체 질량에 대하여, 5.0질량% 초과인 것이 바람직하다.As will be described later, in the second embodiment, in order to manufacture an optically anisotropic layer having the above characteristics, the total content of chiral agents (total content of all chiral agents) in the composition layer is the total mass of the liquid crystal compound. With respect to , it is preferably more than 5.0% by mass.

제1 실시형태와, 제2 실시형태의 차이는, 주로, 카이랄제의 함유량의 점을 들 수 있다.The difference between the first embodiment and the second embodiment is mainly in the content of the chiral agent.

이하, 상기 각 공정의 수순에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the procedure of each process is explained in detail.

<공정 1B><Process 1B>

공정 1B는, 광조사에 의하여 나선 유기력이 변화하는 감광성 카이랄제를 적어도 포함하는 카이랄제, 및, 중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물층을 형성하는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 후술하는 광조사 처리가 실시되는 조성물층이 형성된다.Step 1B is a step of forming a composition layer containing a chiral agent containing at least a photosensitive chiral agent whose helical organic force changes upon irradiation with light, and a liquid crystal compound having a polymerizable group. By carrying out this process, the composition layer to which the light irradiation process mentioned later is performed is formed.

조성물층에 포함되는 카이랄제(카이랄제 A 및 카이랄제 B) 및 액정 화합물은, 공정 1A에서 설명한 바와 같다.The chiral agents (chiral agent A and chiral agent B) and the liquid crystal compound contained in the composition layer are as described in Step 1A.

또, 조성물층에는, 상술한 공정 1A에서 설명한 바와 같이, 카이랄제 및 액정 화합물 이외의 다른 성분을 포함하고 있어도 된다.In addition, the composition layer may contain components other than the chiral agent and the liquid crystal compound as described in Step 1A above.

공정 1B에 있어서, 후술하는 공정 2B에 있어서 콜레스테릭 액정상이 형성되도록, 조성물층 중에 카이랄제가 포함된다.In Step 1B, a chiral agent is contained in the composition layer so that a cholesteric liquid crystal phase is formed in Step 2B described later.

제2 실시형태에 있어서, 조성물층 중에 있어서의 카이랄제의 합계 함유량(모든 카이랄제의 총 함유량)은 특별히 제한되지 않지만, 액정 화합물의 배향 상태를 제어하기 쉬운 점에서, 액정 화합물의 전체 질량에 대하여, 5.0질량% 초과가 바람직하고, 5.5질량% 이상이 보다 바람직하며, 6.0질량% 이상이 더 바람직하다. 상한은 특별히 제한되지 않지만, 25질량% 이하가 바람직하고, 20질량% 이하가 보다 바람직하며, 15질량% 이하가 더 바람직하다.In the second embodiment, the total amount of chiral agents (total content of all chiral agents) in the composition layer is not particularly limited, but the total mass of the liquid crystal compound is easy to control in terms of the alignment state of the liquid crystal compound. With respect to , it is preferably more than 5.0 mass%, more preferably 5.5 mass% or more, and still more preferably 6.0 mass% or more. The upper limit is not particularly limited, but is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and still more preferably 15% by mass or less.

카이랄제 중에 있어서의 카이랄제 A의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 액정 화합물의 배향 상태를 제어하기 쉬운 점에서, 카이랄제의 전체 질량에 대하여, 5~95질량%가 바람직하고, 10~90질량%가 보다 바람직하다.The content of the chiral agent A in the chiral agent is not particularly limited, but is preferably 5 to 95% by mass, relative to the total mass of the chiral agent, from the viewpoint of easy control of the alignment state of the liquid crystal compound. 90 mass % is more preferable.

공정 1B에 의하여 형성되는 조성물층 중의 카이랄제의 나선 유기력의 절댓값은, 10μm-1 이상이 바람직하고, 15μm-1 이상이 보다 바람직하며, 20μm-1 이상이 더 바람직하다. 상한은 특별히 제한되지 않지만, 250μm-1 이하인 경우가 많고, 200μm-1 이하인 경우가 많다.The absolute value of the spiral induction force of the chiral agent in the composition layer formed in step 1B is preferably 10 μm -1 or more, more preferably 15 μm -1 or more, and still more preferably 20 μm -1 or more. The upper limit is not particularly limited, but is often 250 µm -1 or less, and is often 200 µm -1 or less.

또, 조성물 중에 2종 이상의 카이랄제가 포함되는 경우, 공정 1B에 의하여 형성되는 조성물층 중의 카이랄제의 가중 평균 나선 유기력의 절댓값은, 상기 범위 내인 것이 바람직하다.In the case where two or more chiral agents are included in the composition, the absolute value of the weighted average spiral induction force of the chiral agents in the composition layer formed in step 1B is preferably within the above range.

조성물층 중의 카이랄제의 나선 유기력 또는 나선 유기력의 절댓값이 상기 범위인 경우, 공정 2B에 의하여, 조성물 중의 액정 화합물이 콜레스테릭 배향하고 있다.When the spiral induction force or the absolute value of the spiral induction force of the chiral agent in the composition layer is within the above range, the liquid crystal compound in the composition is in cholesteric orientation by step 2B.

가중 평균 나선 유기력의 정의는, 상술한 바와 같다.The definition of the weighted average spiral organic force is as described above.

공정 1B에 있어서의 조성물층의 형성 방법은, 상술한 공정 1A에 있어서의 조성물층의 형성 방법과 동일한 형성 방법을 들 수 있다.The method for forming the composition layer in Step 1B may be the same as the method for forming the composition layer in Step 1A described above.

<공정 2B><Process 2B>

공정 2B는, 조성물층에 가열 처리를 실시하여, 조성물층 중의 액정 화합물을 배향시켜, 콜레스테릭 액정상을 형성하는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 조성물층 중의 액정 화합물이 소정의 배향 상태로 된다.Step 2B is a step of heating the composition layer to align the liquid crystal compound in the composition layer to form a cholesteric liquid crystal phase. By performing this step, the liquid crystal compound in the composition layer is brought into a predetermined alignment state.

가열 처리의 조건으로서는, 사용되는 액정 화합물에 따라 최적인 조건이 선택된다.As conditions for heat treatment, optimum conditions are selected depending on the liquid crystal compound used.

그중에서도, 가열 온도로서는, 25~250℃의 경우가 많고, 40~150℃의 경우가 보다 많으며, 50~130℃의 경우가 더 많다.Among them, the heating temperature is often 25 to 250°C, more often 40 to 150°C, and more often 50 to 130°C.

가열 시간으로서는, 0.1~60분간의 경우가 많고, 0.2~5분간의 경우가 보다 많다.As heating time, it is 0.1 to 60 minutes in many cases, and 0.2 to 5 minutes in many cases.

<공정 3B><Process 3B>

공정 3B는, 공정 2B 이후, 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 조성물층에 대하여, 광조사를 50초간 이하, 또한, 300mJ/cm2 이하에서 행하는 공정이다. 이하에서는, 도면을 이용하여 본 공정의 기구를 설명한다. 또한, 도 8에 나타내는 양태는, 액정 화합물은 콜레스테릭 액정상을 형성하고 있는 양태에 해당한다.Step 3B is a step in which, after step 2B, the composition layer is irradiated with light for 50 seconds or less and at 300 mJ/cm 2 or less under conditions of an oxygen concentration of 1% by volume or more. Below, the mechanism of this process is demonstrated using drawing. In addition, the aspect shown in FIG. 8 corresponds to the aspect in which the liquid crystal compound forms a cholesteric liquid crystal phase.

도 8에 나타내는 바와 같이, 공정 3B에서는 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 기판(10)의 조성물층(220) 측과는 반대 측의 방향(도 8 중의 흰색 화살표의 방향)으로부터 광조사를 행한다. 또한, 도 8에서는 광조사는 기판(10) 측으로부터 실시되고 있지만, 조성물층(220) 측으로부터 실시되어도 된다.As shown in Fig. 8, in step 3B, light is irradiated from the direction opposite to the composition layer 220 side of the substrate 10 (in the direction of the white arrow in Fig. 8) under the condition of an oxygen concentration of 1% by volume or more. . In Fig. 8, light irradiation is performed from the substrate 10 side, but it may be performed from the composition layer 220 side.

그때, 조성물층(220)의 기판(10) 측의 하측 영역(220A)과, 기판(10) 측과는 반대 측의 상측 영역(220B)을 비교하면, 상측 영역(220B)의 표면 쪽이 공기 측에 있기 때문에, 상측 영역(220B) 중의 산소 농도가 높고, 하측 영역(220A) 중의 산소 농도는 낮다. 그 때문에, 조성물층(220)에 대하여 광조사가 이루어지면, 하측 영역(220A)에 있어서는 액정 화합물의 중합이 진행되기 쉽고, 액정 화합물의 배향 상태가 고정된다. 또한, 하측 영역(220A)에 있어서도 카이랄제 A가 존재하고 있고, 카이랄제 A도 감광하여, 나선 유기력이 변화한다. 그러나, 하측 영역(220A)에서는 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있기 때문에, 후술하는, 광조사된 조성물층에 대하여 가열 처리를 실시하는 공정 4B를 실시해도, 액정 화합물의 배향 상태의 변화는 발생하지 않는다.At that time, comparing the lower region 220A on the substrate 10 side of the composition layer 220 with the upper region 220B on the opposite side to the substrate 10 side, the surface of the upper region 220B is air. side, the oxygen concentration in the upper region 220B is high, and the oxygen concentration in the lower region 220A is low. Therefore, when the composition layer 220 is irradiated with light, polymerization of the liquid crystal compound easily proceeds in the lower region 220A, and the alignment state of the liquid crystal compound is fixed. In addition, chiral agent A is also present in the lower region 220A, and chiral agent A is also photosensitized, and the spiral induction force is changed. However, since the alignment state of the liquid crystal compound is fixed in the lower region 220A, even if step 4B of heat-treating the light-irradiated composition layer to be described later is performed, the alignment state of the liquid crystal compound does not change. don't

또, 상측 영역(220B)에 있어서는 산소 농도가 높기 때문에, 광조사가 이루어져도, 액정 화합물의 중합이 산소에 의하여 저해되어, 중합이 진행되기 어렵다. 그리고, 상측 영역(220B)에 있어서도 카이랄제 A가 존재하고 있기 때문에, 카이랄제 A가 감광하여, 나선 유기력이 변화한다. 그 때문에, 후술하는 공정 4B를 실시하면, 변화한 나선 유기력을 따라 액정 화합물의 배향 상태가 변화한다.In addition, since the oxygen concentration is high in the upper region 220B, even if light is irradiated, polymerization of the liquid crystal compound is inhibited by oxygen and the polymerization does not proceed easily. And, since the chiral agent A is also present in the upper region 220B, the chiral agent A is photosensitized and the spiral induction force is changed. Therefore, when step 4B described later is performed, the alignment state of the liquid crystal compound changes according to the changed spiral induction force.

즉, 공정 3B를 실시함으로써, 조성물층의 기판 측의 영역(하측 영역)에 있어서는 액정 화합물의 배향 상태의 고정화가 진행되기 쉽다. 또, 조성물층의 기판 측과 반대 측의 영역(상측 영역)에 있어서는, 액정 화합물의 배향 상태의 고정화는 진행되기 어렵고, 또한, 감광한 카이랄제 A에 따라 나선 유기력이 변화한 상태로 된다.That is, by performing step 3B, fixation of the alignment state of the liquid crystal compound tends to proceed in the region (lower region) of the composition layer on the substrate side. In addition, in the region (upper region) on the opposite side of the substrate side of the composition layer, it is difficult to fix the alignment state of the liquid crystal compound, and the spiral induction force is changed depending on the photosensitized chiral agent A. .

공정 3B에 있어서의 광조사의 각종 조건(산소 농도, 조사 시간, 조사량 등)은, 상술한 공정 3A에 있어서의 광조사의 각종 조건과 동일하다.Various conditions (oxygen concentration, irradiation time, irradiation amount, etc.) of light irradiation in Step 3B are the same as the various conditions of light irradiation in Step 3A described above.

<공정 4B><Process 4B>

공정 4B는, 공정 3B 이후, 조성물층에, 광조사 시보다 높은 온도에서 가열 처리를 실시하는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 광조사가 실시된 조성물층 중의 카이랄제 A의 나선 유기력이 변화한 영역에 있어서, 액정 화합물의 배향 상태가 변화한다. 보다 구체적으로는, 본 공정은, 공정 3B 후의 조성물층에 대하여, 조사 시보다 높은 온도에서 가열 처리를 실시하여, 공정 3B에서 고정되어 있지 않은 조성물층 중의 액정 화합물을 배향시키는 공정이다.Step 4B is a step of subjecting the composition layer to a heat treatment after step 3B at a temperature higher than that at the time of light irradiation. By carrying out this step, the alignment state of the liquid crystal compound changes in the region where the spiral induction force of the chiral agent A in the composition layer to which light irradiation has been applied has changed. More specifically, this step is a step of aligning the liquid crystal compound in the composition layer not fixed in step 3B by subjecting the composition layer after step 3B to heat treatment at a temperature higher than that during irradiation.

이하에서는, 도면을 이용하여 본 공정의 기구를 설명한다.Below, the mechanism of this process is demonstrated using drawing.

상술한 바와 같이, 도 8에 나타낸 조성물층(220)에 대하여 공정 3B를 실시하면, 하측 영역(220A)에 있어서는 액정 화합물의 배향 상태가 고정되는 데 대하여, 상측 영역(220B)에서는 액정 화합물의 중합은 진행되기 어렵고, 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있지 않다. 또, 상측 영역(220B)에 있어서는 카이랄제 A의 나선 유기력이 변화하고 있다. 이와 같은 카이랄제 A의 나선 유기력의 변화가 발생하면, 광조사 전의 상태와 비교하면, 상측 영역(220B)에 있어서 액정 화합물을 비트는 힘이 변화하고 있다. 이 점을 보다 상세하게 설명한다.As described above, when step 3B is performed on the composition layer 220 shown in FIG. 8, the alignment state of the liquid crystal compound is fixed in the lower region 220A, while the liquid crystal compound is polymerized in the upper region 220B. is difficult to progress, and the alignment state of the liquid crystal compound is not fixed. Also, in the upper region 220B, the spiral induction force of the chiral agent A is changing. When such a change in the spiral induction force of the chiral agent A occurs, the force to twist the liquid crystal compound in the upper region 220B is changed compared to the state before light irradiation. This point will be explained in more detail.

또한, 이하의 설명에 있어서는, 조성물층(220)에, 유기되는 나선 방향이 좌측 권취이며, 광조사에 의하여 나선 유기력이 감소하는 카이랄제 A가 포함되는 경우에 대하여 상세하게 설명한다.In the following description, a case where the composition layer 220 includes a chiral agent A whose helical direction is leftward winding and whose helical pulling force is reduced by light irradiation will be described in detail.

이와 같은 상태의 상측 영역(220B)에 있어서 광조사가 행해지고, 도 10에 나타내는 바와 같이, 광조사량에 따라 카이랄제 A의 나선 유기력이 감소하는 경우, 상측 영역(220B)에 있어서의 카이랄제의 나선 유기력은 작어진다.When light irradiation is performed in the upper region 220B in such a state, and the spiral induction force of the chiral agent A decreases with the amount of light irradiation as shown in FIG. 10, the chiral agent A in the upper region 220B The fourth spiral organic force becomes smaller.

그 때문에, 이와 같은 나선 유기력의 변화가 발생하고 있는 공정 3B 후의 조성물층(220)에 대하여, 가열 처리를 실시하여 액정 화합물의 재배향을 촉구하면, 도 9에 나타내는 바와 같이, 상측 영역(220B)에 있어서는, 콜레스테릭 액정층의 나선 피치가 커진다.Therefore, when heat treatment is performed on the composition layer 220 after step 3B in which such a change in spiral induction force occurs to promote reorientation of the liquid crystal compound, as shown in FIG. 9 , an upper region 220B ), the helical pitch of the cholesteric liquid crystal layer increases.

한편, 상술한 바와 같이, 조성물층(220)의 하측 영역(220A)에 있어서는 공정 3B 시에 액정 화합물의 중합이 진행되어 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있기 때문에, 액정 화합물의 재배향은 진행되지 않는다.On the other hand, as described above, in the lower region 220A of the composition layer 220, the polymerization of the liquid crystal compound proceeds during step 3B and the alignment state of the liquid crystal compound is fixed, so the liquid crystal compound is not rearranged. don't

상기와 같이, 공정 4B를 실시함으로써, 조성물층의 두께 방향을 따라, 나선 피치가 상이한 콜레스테릭 액정상이 복수 형성된다.As described above, by performing step 4B, a plurality of cholesteric liquid crystal phases having different helical pitches are formed along the thickness direction of the composition layer.

또한, 상기 도 8 및 9에 있어서는, 카이랄제 A로서 광조사에 의하여 나선 유기력이 감소하는 카이랄제를 이용한 양태에 대하여 설명했지만, 이 양태에는 제한되지 않는다. 예를 들면, 카이랄제 A로서 광조사에 의하여 나선 유기력이 증가하는 카이랄제를 이용해도 된다.In addition, in the above FIGS. 8 and 9, an embodiment using a chiral agent A, in which the spiral induction force is reduced by light irradiation, has been described, but this embodiment is not limited. For example, as the chiral agent A, a chiral agent whose helix induction force increases upon irradiation with light may be used.

또한, 상기 도 8 및 9에 있어서는, 카이랄제 A로서 유기되는 나선 방향이 좌측 권취인 카이랄제를 이용한 양태에 대하여 설명했지만, 이 양태에는 제한되지 않는다. 예를 들면, 카이랄제 A로서 유기되는 나선 방향이 우측 권취인 카이랄제를 이용해도 된다.In addition, in the above FIGS. 8 and 9, an embodiment using a chiral agent in which the helical direction induced as the chiral agent A is leftward winding has been described, but this embodiment is not limited thereto. For example, as the chiral agent A, a chiral agent having a right-hand winding direction may be used.

또, 상기 도 8 및 9에 있어서는, 1종의 카이랄제 A만을 사용하는 양태에 대하여 설명했지만, 이 양태에는 제한되지 않는다. 예를 들면, 2종의 카이랄제 A를 이용하는 양태여도 되고, 카이랄제 A와 카이랄제 B를 병용하는 양태여도 된다.In addition, in the above FIGS. 8 and 9, an embodiment in which only one type of chiral agent A is used has been described, but this embodiment is not limited. For example, an aspect using two kinds of chiral agent A may be used, or an aspect using chiral agent A and chiral agent B may be used together.

가열 처리는, 광조사 시보다 높은 온도에서 실시한다.Heat treatment is performed at a temperature higher than that at the time of light irradiation.

가열 처리의 온도와, 광조사 시의 온도의 차는, 5℃ 이상이 바람직하고, 10~110℃가 보다 바람직하며, 20~110℃가 보다 바람직하다.The difference between the temperature of the heat treatment and the temperature during light irradiation is preferably 5°C or higher, more preferably 10 to 110°C, more preferably 20 to 110°C.

가열 처리의 온도는, 광조사 시의 온도보다 높으며, 조성물층 중의 고정되어 있지 않은 액정 화합물을 배향시키는 온도인 것이 바람직하고, 보다 구체적으로는, 40~250℃의 경우가 많으며, 50~150℃의 경우가 보다 많고, 50℃ 초과 150℃ 이하의 경우가 더 많으며, 60~130℃의 경우가 특히 많다.The temperature of the heat treatment is higher than the temperature at the time of light irradiation, and is preferably a temperature at which the non-fixed liquid crystal compound in the composition layer is aligned, and more specifically, it is often 40 to 250 ° C., and 50 to 150 ° C. There are more cases of , more cases of more than 50 ℃ and less than 150 ℃, and especially many cases of 60 ~ 130 ℃.

가열 시간으로서는, 0.01~60분간의 경우가 많고, 0.03~5분간의 경우가 보다 많다.As heating time, it is 0.01 to 60 minutes in many cases, and 0.03 to 5 minutes in many cases.

또, 광조사 후의 조성물층 중의 카이랄제의 나선 유기력의 절댓값은 특별히 제한되지 않지만, 광조사 후의 조성물층 중의 카이랄제의 나선 유기력과 광조사 전의 나선 유기력의 차의 절댓값이, 0.05μm-1 이상이 바람직하고, 0.05~10.0μm-1이 보다 바람직하며, 0.1~10.0μm-1이 더 바람직하다.In addition, the absolute value of the spiral induction force of the chiral agent in the composition layer after light irradiation is not particularly limited, but the absolute value of the difference between the spiral induction force of the chiral agent in the composition layer after light irradiation and the spiral induction force before light irradiation is 0.05 μm -1 or more is preferable, 0.05 to 10.0 μm -1 is more preferable, and 0.1 to 10.0 μm -1 is still more preferable.

또한, 조성물 중에 2종 이상의 카이랄제가 포함되는 경우, 광조사 후의 조성물층 중의 카이랄제의 가중 평균 나선 유기력과 광조사 전의 가중 평균 나선 유기력의 차의 절댓값이, 0.05μm-1 이상이 바람직하고, 0.05~10.0μm-1이 보다 바람직하며, 0.1~10.0μm-1이 더 바람직하다.Further, when two or more chiral agents are included in the composition, the absolute value of the difference between the weighted average spiral induction force of the chiral agents in the composition layer after light irradiation and the weighted average spiral induction force before light irradiation is 0.05 μm -1 or more. It is preferable, 0.05 to 10.0 μm -1 is more preferable, and 0.1 to 10.0 μm -1 is still more preferable.

<공정 5B><Process 5B>

공정 5B는, 공정 4B 이후, 조성물층에 대하여 경화 처리를 실시하여, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층을 형성하는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 조성물층 중의 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어, 결과적으로 소정의 광학 이방성층이 형성된다. 또한, 본 공정을 실시함으로써, 콜레스테릭 액정상을 고정하여 이루어지는 광학 이방성층으로서, 두께 방향을 따라, 콜레스테릭 액정상의 나선 피치가 상이한 복수의 영역을 갖는 광학 이방성층이 형성된다. 형성되는 각 영역 중에 있어서의 나선 피치의 길이는, 일정한 경우가 많다. 즉, 본 공정을 실시함으로써, 콜레스테릭 액정상을 고정하여 이루어지는 광학 이방성층으로서, 두께 방향을 따라, 콜레스테릭 액정상의 나선 피치가 상이한 복수의 영역을 갖고, 각 영역에 있어서의 나선 피치가 일정한 광학 이방성층을 형성할 수 있다.Step 5B is a step of performing a curing treatment on the composition layer after step 4B to form an optically anisotropic layer having a plurality of regions in which the alignment states of the liquid crystal compounds are different along the thickness direction. By carrying out this process, the alignment state of the liquid crystal compound in the composition layer is fixed, and as a result, a predetermined optically anisotropic layer is formed. Further, by carrying out this step, an optically anisotropic layer formed by fixing the cholesteric liquid crystal phase is formed, which has a plurality of regions with different helical pitches of the cholesteric liquid crystal phase along the thickness direction. In many cases, the length of the helical pitch in each formed region is constant. That is, by performing this step, the optically anisotropic layer formed by fixing the cholesteric liquid crystal phase has a plurality of regions having different helical pitches of the cholesteric liquid crystal phase along the thickness direction, and the helical pitch in each region is A certain optically anisotropic layer can be formed.

공정 5B에서의 경화 처리의 방법으로서는, 공정 5A에서의 경화 처리의 방법을 들 수 있다.As a method of hardening treatment in step 5B, the method of hardening treatment in step 5A can be mentioned.

광학 이방성층의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 0.05~10μm가 바람직하고, 0.1~8.0μm가 보다 바람직하며, 0.2~6.0μm가 더 바람직하다.The thickness of the optically anisotropic layer is not particularly limited, but is preferably 0.05 to 10 μm, more preferably 0.1 to 8.0 μm, and still more preferably 0.2 to 6.0 μm.

상기 방법에 의하여 형성되는, 콜레스테릭 액정상을 고정하여 이루어지는 광학 이방성층으로서, 두께 방향을 따라, 콜레스테릭 액정상의 나선 피치가 상이한 복수의 영역을 갖는 광학 이방성층에 있어서, 각 영역의 콜레스테릭 액정상 유래의 선택 반사 중심 파장은 상이하다. 예를 들면, 광학 이방성층은, 두께 방향을 따라, 청색광을 반사하는 콜레스테릭 액정상이 고정되어 이루어지는 영역과, 녹색광을 반사하는 콜레스테릭 액정상이 고정되어 이루어지는 영역을 갖는 광학 이방성층이어도 되고, 두께 방향을 따라, 녹색광을 반사하는 콜레스테릭 액정상이 고정되어 이루어지는 영역과, 적색광을 반사하는 콜레스테릭 액정상이 고정되어 이루어지는 영역을 갖는 광학 이방성층이어도 된다.An optically anisotropic layer obtained by fixing a cholesteric liquid crystal phase formed by the above method, wherein the optically anisotropic layer has a plurality of regions having different helical pitches of the cholesteric liquid crystal phase along the thickness direction, The selective reflection center wavelengths derived from the steric liquid crystal phase are different. For example, the optically anisotropic layer may be an optically anisotropic layer having, along the thickness direction, a region in which a cholesteric liquid crystal phase that reflects blue light is fixed and a region in which a cholesteric liquid crystal phase that reflects green light is fixed, It may be an optically anisotropic layer having, along the thickness direction, a region in which a cholesteric liquid crystal phase that reflects green light is fixed and a region in which a cholesteric liquid crystal phase that reflects red light is fixed.

또한, 본 명세서에 있어서, 선택 반사 중심 파장이란, 대상이 되는 것(부재)에 있어서의 투과율의 극솟값을 Tmin(%)으로 한 경우, 하기의 식으로 나타나는 반값 투과율: T1/2(%)를 나타내는 2개의 파장의 평균값을 말한다.In addition, in this specification, the selective reflection central wavelength is the half value transmittance expressed by the following formula when the minimum value of the transmittance in the object (member) is T min (%): T 1/2 (% ) is the average value of the two wavelengths.

반값 투과율을 구하는 식: T1/2=100-(100-Tmin)÷2Equation for half value transmittance: T 1/2 =100-(100-T min )÷2

또 가시광 중, 420nm 이상 500nm 미만의 파장역의 광은 청색광(B광)이고, 500nm 이상 600nm 미만의 파장역의 광은 녹색광(G광)이며, 600nm 이상 700nm 미만의 파장역의 광은 적색광(R광)이다.Among visible light, light in a wavelength range of 420 nm to less than 500 nm is blue light (B light), light in a wavelength range of 500 nm to less than 600 nm is green light (G light), and light in a wavelength range of 600 nm to less than 700 nm is red light ( R light).

또, 도 9에 나타내는 양태에 있어서는, 광학 이방성층은 2개의 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 갖고 있었지만, 본 발명은 상기 양태에 제한되지 않고, 광학 이방성층은, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 3개 이상 갖고 있어도 된다. 상기와 같이, 액정 화합물 배향 상태가 상이한 영역을 3개 이상 갖는 광학 이방성층은, 예를 들면, 공정 3B의 조건을 변경하여 복수 회 실시함으로써, 형성할 수 있다.In the embodiment shown in FIG. 9 , the optically anisotropic layer has a region in which the two liquid crystal compounds are in different alignment states. You may have three or more areas. As described above, the optically anisotropic layer having three or more regions in which the alignment states of the liquid crystal compounds are different can be formed by, for example, changing the conditions of step 3B and performing the step 3B a plurality of times.

상기와 같은 광학 이방성층으로서는, 예를 들면, 두께 방향을 따라, 청색광을 반사하는 콜레스테릭 액정상이 고정되어 이루어지는 영역과, 녹색광을 반사하는 콜레스테릭 액정상이 고정되어 이루어지는 영역과, 적색광을 반사하는 콜레스테릭 액정상이 고정되어 이루어지는 영역을 갖는 광학 이방성층을 들 수 있다.As the above optically anisotropic layer, for example, along the thickness direction, a region in which a cholesteric liquid crystal phase that reflects blue light is fixed, a region in which a cholesteric liquid crystal phase that reflects green light is fixed, and a region in which a cholesteric liquid crystal phase that reflects green light is fixed, and which reflects red light and an optically anisotropic layer having a region in which a cholesteric liquid crystal phase is fixed.

<<제3 실시형태>><<Third Embodiment>>

본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제3 실시형태는, 이하의 공정 1C~5C를 갖는다. 후술하는 바와 같이, 제3 실시형태에 있어서는, 액정 화합물의 배향 방향이 층 표면에 대하여 경사 또는 수직으로 배향하고 있는 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역을 갖는 광학 이방성층이 형성된다.3rd Embodiment of the manufacturing method of the optically anisotropic layer of this invention has the following steps 1C-5C. As will be described later, in the third embodiment, an optically anisotropic layer having a region in which the orientation of the liquid crystal compound is aligned in an oblique or perpendicular direction with respect to the surface of the layer is fixed.

공정 1C: 광조사에 의하여 극성이 변화하는 감광성 화합물, 및, 중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물층을 형성하는 공정Step 1C: Step of forming a composition layer containing a photosensitive compound whose polarity is changed by light irradiation and a liquid crystal compound having a polymerizable group

공정 2C: 조성물층에 가열 처리를 실시하여, 조성물층 중의 액정 화합물을 배향시키는 공정Step 2C: Step of subjecting the composition layer to heat treatment to align the liquid crystal compound in the composition layer

공정 3C: 공정 2C 이후, 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 조성물층에 대하여, 광조사를 50초간 이하, 또한, 300mJ/cm2 이하에서 행하는 공정Step 3C: After Step 2C, the composition layer is irradiated with light for 50 seconds or less and at 300 mJ/cm 2 or less under the conditions of an oxygen concentration of 1% by volume or more.

공정 4C: 공정 3C 이후, 조성물층에, 광조사 시보다 높은 온도에서 가열 처리를 실시하는 공정Step 4C: After Step 3C, a step of subjecting the composition layer to a heat treatment at a temperature higher than that at the time of light irradiation

공정 5C: 공정 4C 이후, 조성물층에 대하여 경화 처리를 실시하여, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층을 형성하는 공정Step 5C: After step 4C, the composition layer is cured to form an optically anisotropic layer having a plurality of regions in which the alignment states of the liquid crystal compounds are different along the thickness direction.

제3 실시형태에 있어서는, 후술하는 바와 같이, 광조사에 의하여 극성이 변화하는 감광성 화합물이 사용되고 있다.In the third embodiment, as will be described later, a photosensitive compound whose polarity changes upon light irradiation is used.

이하, 상기 각 공정의 수순에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the procedure of each process is explained in detail.

<공정 1C><Process 1C>

공정 1C는, 광조사에 의하여 극성이 변화하는 감광성 화합물, 및, 중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물층을 형성하는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 후술하는 광조사 처리가 실시되는 조성물층이 형성된다.Step 1C is a step of forming a composition layer containing a photosensitive compound whose polarity is changed by light irradiation and a liquid crystal compound having a polymerizable group. By carrying out this process, the composition layer to which the light irradiation process mentioned later is performed is formed.

조성물층에 포함되는 액정 화합물은, 공정 1A에서 설명한 바와 같다.The liquid crystal compound contained in the composition layer is as described in Step 1A.

또, 조성물층에는, 상술한 공정 1A에서 설명한 바와 같이, 그 외의 성분을 포함하고 있어도 된다.In addition, the composition layer may contain other components as described in step 1A described above.

(광조사에 의하여 극성이 변화하는 감광성 화합물)(Photosensitive compound whose polarity changes by light irradiation)

공정 1C의 조성물층은, 광조사에 의하여 극성이 변화하는 감광성 화합물(이하, "특정 감광성 화합물"이라고도 한다.)을 포함한다.The composition layer of Step 1C contains a photosensitive compound (hereinafter also referred to as "specific photosensitive compound") whose polarity is changed by light irradiation.

광조사에 의하여 극성이 변화하는 감광성 화합물이란, 광조사의 전후로 극성이 변화하는 화합물이다. 후술하는 바와 같이, 이와 같은 특정 감광성 화합물을 포함하는 조성물층에 대하여 공정 1C의 광조사를 행하면, 조성물층 중의 공기 측의 영역에 있어서 특정 화합물의 극성이 변화하고, 공정 4C를 실시하면 그 극성의 변화에 따라, 액정 화합물의 배향 방향이 층 표면에 대하여 경사 또는 수직이 된다.A photosensitive compound whose polarity changes upon light irradiation is a compound whose polarity changes before and after light irradiation. As will be described later, when the light irradiation in Step 1C is performed on the composition layer containing such a specific photosensitive compound, the polarity of the specific compound is changed in the area on the air side in the composition layer, and when Step 4C is performed, the polarity According to the change, the alignment direction of the liquid crystal compound becomes inclined or perpendicular to the surface of the layer.

특정 감광성 화합물의 극성의 변화는, 친수화하는 변화여도 되고, 소수화하는 변화여도 된다. 그중에서도, 액정 화합물의 배향 방향이 층 표면에 대하여 경사 또는 수직으로 배향하고 있는 액정 화합물의 배향 상태를 용이하게 형성할 수 있는 점에서는, 친수화하는 변화가 바람직하다.The change in the polarity of a specific photosensitive compound may be a change that makes it hydrophilic or a change that makes it hydrophobic. Among them, a hydrophilic change is preferable from the viewpoint that the alignment state of the liquid crystal compound in which the orientation direction of the liquid crystal compound is oriented obliquely or vertically with respect to the surface of the layer can be easily formed.

광조사에 의하여 친수화하는 특정 감광성 화합물로서는, 광조사에 의하여 친수성기를 발생하는 기를 갖는 화합물이 바람직하다. 친수성기의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 양이온성기, 음이온성기, 및, 비이온성기 중 어느 것이어도 되고, 보다 구체적으로는, 카복실산기, 설폰산기, 포스폰산기, 아미노기, 암모늄기, 아마이드기, 싸이올기, 및, 하이드록시기를 들 수 있다.As the specific photosensitive compound that becomes hydrophilic by light irradiation, a compound having a group that generates a hydrophilic group by light irradiation is preferable. The type of hydrophilic group is not particularly limited, and may be any of a cationic group, an anionic group, and a nonionic group, more specifically, a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, an amino group, an ammonium group, an amide group, and a thiol group. , and, a hydroxyl group may be mentioned.

특정 감광성 화합물은, 불소 원자 또는 규소 원자를 갖는 것이 바람직하다. 특정 감광성 화합물이 상기 원자를 갖는 경우, 조성물층의 표면 부근에 특정 감광성 화합물이 편재하기 쉬워져, 원하는 광학 이방성층이 형성되기 쉬워진다.It is preferable that a specific photosensitive compound has a fluorine atom or a silicon atom. When the specific photosensitive compound has the above atoms, the specific photosensitive compound tends to be unevenly distributed near the surface of the composition layer, and a desired optically anisotropic layer is easily formed.

특정 감광성 화합물로서는, 식 (X)로 나타나는 화합물이 바람직하다.As a specific photosensitive compound, the compound represented by Formula (X) is preferable.

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

상기 식 (X) 중,In the above formula (X),

T는, n+m가의 방향족 탄화 수소기를 나타내고,T represents an n+m valent aromatic hydrocarbon group,

Sp는, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며,Sp represents a single bond or a divalent linking group;

Hb는, 탄소수가 4~30인 불소 치환 알킬기를 나타내고,Hb represents a fluorine-substituted alkyl group having 4 to 30 carbon atoms;

m은, 1~4의 정수를 나타내며,m represents an integer of 1 to 4,

n은, 1~4의 정수를 나타내고,n represents an integer of 1 to 4;

A는, 하기 식 (Y)로 나타나는 기를 나타내며,A represents a group represented by the following formula (Y),

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

상기 식 (Y) 중,In the above formula (Y),

R1~R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 치환기를 나타내고,R 1 to R 5 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent;

*는, 결합 부위를 나타낸다.* indicates a binding site.

또한, 상기 식 (X) 중, 상기 Sp, 상기 Hb, 또는 상기 A가 각각 복수 개 존재하는 경우, 복수 개 존재하는 Sp끼리, 복수 개 존재하는 Hb끼리, 또는 복수 개 존재하는 A끼리는, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.In addition, in the above formula (X), when the Sp, the Hb, or the A are present in a plurality, respectively, the plurality of Sp, the plurality of Hb, or the plurality of A are the same. It can be done or it can be different.

상기 식 (X) 중, T는, n+m가의 방향족 탄화 수소기를 나타낸다.In the formula (X), T represents an n+m valent aromatic hydrocarbon group.

상기 방향족 탄화 수소기는, 방향족 탄화 수소환으로부터 수소 원자를 n+m개 제거한 기이면 특별히 제한되지 않지만, 탄소수가 6~22인 것이 바람직하고, 6~14인 것이 보다 바람직하며, 6~10인 것이 더 바람직하다. 방향족 탄화 수소기는, 벤젠환인 것이 특히 바람직하다.The aromatic hydrocarbon group is not particularly limited as long as it is a group obtained by removing n+m hydrogen atoms from the aromatic hydrocarbon ring, but preferably has 6 to 22 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms, and preferably 6 to 10 carbon atoms. more preferable The aromatic hydrocarbon group is particularly preferably a benzene ring.

또한, 상기 방향족 탄화 수소기는, -Sp-Hb로 나타나는 기, 및, -C(=O)O-A로 나타나는 기 이외에 치환기를 더 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 예를 들면, 알킬기(예를 들면, 탄소수 1~8의 알킬기), 알콕시기(예를 들면, 탄소수 1~8의 알콕시기), 할로젠 원자(예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 및, 아이오딘 원자), 사이아노기, 및, 아실옥시기(예를 들면, 아세톡시기)를 들 수 있다.In addition, the aromatic hydrocarbon group may further have a substituent other than the group represented by -Sp-Hb and the group represented by -C(=O)O-A. As a substituent, an alkyl group (for example, a C1-C8 alkyl group), an alkoxy group (for example, a C1-C8 alkoxy group), a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom) , a bromine atom, and an iodine atom), a cyano group, and an acyloxy group (eg, acetoxy group).

상기 식 (X) 중, Sp는, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, 2가의 연결기인 것이 바람직하다.In the formula (X), Sp represents a single bond or a divalent linking group, and is preferably a divalent linking group.

상기 2가의 연결기로서는, 특별히 제한되지 않지만, 직쇄 혹은 분기의 알킬렌기(바람직하게는 탄소수 1~20, 보다 바람직하게는 탄소수 1~10, 더 바람직하게는 탄소수 1~6), 직쇄 혹은 분기의 알켄일렌기(바람직하게는 탄소수 2~20, 보다 바람직하게는 탄소수 2~10, 더 바람직하게는 탄소수 2~6), 직쇄 혹은 분기의 알카인일렌기(바람직하게는 탄소수 2~20, 보다 바람직하게는 탄소수 2~10, 더 바람직하게는 탄소수 2~6), 또는, 이들에 있어서 1개 또는 2개 이상의 -CH2-가 하기에 나타내는 "2가의 유기기"로 치환된 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 연결기인 것이 바람직하다.The divalent linking group is not particularly limited, but is a straight-chain or branched alkylene group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms), a straight-chain or branched alkylene group. A kenylene group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms, still more preferably 2 to 6 carbon atoms), a straight-chain or branched alkynylene group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably is selected from the group consisting of 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms), or groups in which one or two or more -CH 2 - are substituted with "divalent organic groups" shown below It is preferable that it is a linking group.

상기 2가의 연결기로서는, 그중에서도, 용해성을 보다 향상시키는 점에서, 1개 또는 2개 이상의 -CH2-가 하기에 나타내는 "2가의 유기기"로 치환된 탄소수 1~10의 알킬렌기가 바람직하다.Among these divalent linking groups, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms in which one or two or more -CH 2 - groups are substituted with "divalent organic groups" shown below is preferable from the viewpoint of further improving solubility.

(2가의 유기기)(divalent organic group)

상기 2가의 유기기로서는, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -OC(=O)-, -C(=O)S-, -SC(=O)-, -NR6C(=O)-, 또는, -C(=O)NR6-을 들 수 있다. 상기 중에서도, 친수화가 보다 진행되는 점에서, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -OC(=O)-, -C(=O)S-, 또는 SC(=O)-가 보다 바람직하며, -O-, -C(=O)-, -C(=O)O-, 또는 OC(=O)-가 더 바람직하고, -O-, -C(=O)O-, 또는 OC(=O)-가 특히 바람직하다.As said divalent organic group, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -OC(=O)-, -C(=O)S-, - SC(=O)-, -NR 6 C(=O)-, or -C(=O)NR 6 -. Among the above, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -OC(=O)-, -C(=O) More preferably S-, or SC(=O)-, more preferably -O-, -C(=O)-, -C(=O)O-, or OC(=O)-, and -O -, -C(=O)O-, or OC(=O)- is particularly preferred.

또, 상기 R6은, 수소 원자, 또는 탄소수가 1~6인 알킬기를 나타낸다.Moreover, said R <6> represents a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group.

또한, 상기 2가의 연결기 중에, 상기 2가의 유기기가 포함되는 경우, 상기 2가의 유기기끼리가 인접하지 않는 것이 바람직하다.Moreover, when the said divalent organic group is contained in the said divalent linking group, it is preferable that the said divalent organic group is not adjacent to each other.

상기 식 (X) 중, Hb는, 탄소수가 4~30인 불소 치환 알킬기를 나타낸다.In the formula (X), Hb represents a fluorine-substituted alkyl group having 4 to 30 carbon atoms.

Hb는, 탄소수 4~20인 것이 바람직하고, 탄소수 4~10인 것이 보다 바람직하다. 여기에서, 불소 치환 알킬기는, 수소 원자가 모두 불소 원자로 치환된 퍼플루오로알킬기여도 되고, 수소 원자의 일부가 불소 원자로 치환되어 있는 플루오로알킬기여도 된다. 또, 불소 치환 알킬기는, 쇄상, 분기상 및 환상 중 어느 것이어도 되지만, 쇄상 또는 분기상이 바람직하고, 쇄상이 보다 바람직하다.Hb preferably has 4 to 20 carbon atoms, more preferably 4 to 10 carbon atoms. Here, the fluorine-substituted alkyl group may be a perfluoroalkyl group in which all hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms, or a fluoroalkyl group in which some of the hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms. Further, the fluorine-substituted alkyl group may be chain, branched or cyclic, preferably chain or branched, and more preferably chain.

불소 치환 알킬기로서는, 그중에서도, 퍼플루오로알킬기인 구조가 바람직하다.As a fluorine-substituted alkyl group, the structure which is a perfluoroalkyl group is preferable especially.

상기 식 (X)에 있어서, -Sp-Hb로 나타나는 기의 적합 양태를 이하에 예시한다.Preferable aspects of the group represented by -Sp-Hb in the formula (X) are exemplified below.

또한, 이하의 예시에 있어서, *는 T와의 연결 위치를 나타낸다.Also, in the following examples, * indicates a connection position with T.

(CpF2p+1)-(CH2)q-O-(CH2)r-O-*(C p F 2p+1 )-(CH 2 ) q -O-(CH 2 ) r -O-*

(CpF2p+1)-(CH2)q-C(=O)O-(CH2)r-C(=O)O-*(C p F 2p+1 )-(CH 2 ) q -C(=O)O-(CH 2 ) r -C(=O)O-*

(CpF2p+1)-(CH2)q-OC(=O)-(CH2)r-C(=O)O-*(C p F 2p+1 )-(CH 2 ) q -OC(=O)-(CH 2 ) r -C(=O)O-*

(CpF2p+1)-(CH2)q-OC(=O)-(CH2)r-OC(=O)-*(C p F 2p+1 )-(CH 2 ) q -OC(=0)-(CH 2 ) r -OC(=0)-*

상기의 -Sp-Hb로 나타나는 기에 있어서, p는 4~30인 것이 바람직하고, 4~20인 것이 보다 바람직하며, 4~10인 것이 더 바람직하다. q는 0~6인 것이 바람직하고, 0~4인 것이 보다 바람직하며, 0~3인 것이 더 바람직하다. r은 1~6인 것이 바람직하고, 1~4인 것이 보다 바람직하며, 1~3인 것이 더 바람직하다.In the group represented by the above -Sp-Hb, p is preferably 4 to 30, more preferably 4 to 20, still more preferably 4 to 10. q is preferably 0 to 6, more preferably 0 to 4, still more preferably 0 to 3. r is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4, still more preferably 1 to 3.

또, 퍼플루오로기 이외의 부분의 탄소수의 합계는 10 이하가 바람직하다.In addition, the total number of carbon atoms in parts other than the perfluoro group is preferably 10 or less.

상기 식 (X) 중, n 및 m은, 각각 독립적으로, 1~4의 정수를 나타낸다.In said Formula (X), n and m respectively independently represent the integer of 1-4.

친수화가 보다 진행되는 점에서, n은, 2 이상인 것이 바람직하다. m은, 1~3인 것이 바람직하고, 2인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that n is 2 or more from the point which hydrophilization progresses more. As for m, it is preferable that it is 1-3, and it is more preferable that it is 2.

상기 식 (X) 중, A는, 상기 식 (Y)로 나타나는 기를 나타낸다.In the formula (X), A represents a group represented by the formula (Y).

이하, 식 (Y)에 대하여 설명한다.Hereinafter, formula (Y) is demonstrated.

상기 식 (Y) 중, R1~R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 치환기를 나타낸다. R1~R5가 나타내는 1가의 치환기는 특별히 제한되지 않는다.In the formula (Y), R 1 to R 5 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. The monovalent substituent represented by R 1 to R 5 is not particularly limited.

R1~R4가 나타내는 1가의 치환기로서는, 예를 들면, 할로젠 원자(예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 및, 아이오딘 원자), 수산기, 사이아노기, 치환 또는 무치환의 아미노기(-N(RA)2로 나타나며, 2개의 RA는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 1가의 유기기(1가의 유기기로서는, 예를 들면, 탄소수 1~5의 알킬기)를 나타낸다.), 탄소수 1~8의 알콕시기(예를 들면, 메톡시기 및 에톡시기), 탄소수 2~8의 아마이드기(예를 들면, -N(RB)C(=O)RC(RB는 수소 원자 또는 1가의 유기기(1가의 유기기로서는, 예를 들면, 탄소수 1~5의 알킬기)를 나타내고, RC는 1가의 유기기(1가의 유기기로서는, 예를 들면, 탄소수 1~5의 알킬기)를 나타낸다.), 또는, -C(=O)N(RD)2(2개의 RD는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 1가의 유기기(예를 들면, 탄소수 1~5의 알킬기)를 나타낸다.)), 탄소수 2~8의 알콕시카보닐기(예를 들면, -C(=O)OCH3), 탄소수 2~8의 아실옥시기(예를 들면, -OC(=O)CH3), 및, -SpA-HbA를 들 수 있다.As a monovalent substituent represented by R 1 to R 4 , for example, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom), a hydroxyl group, a cyano group, substituted or non-substituted Represented by a substituted amino group (-N(R A ) 2 , the two R A 's each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group (as the monovalent organic group, for example, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms). ), an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms (eg, a methoxy group and an ethoxy group), an amide group having 2 to 8 carbon atoms (eg, -N(R B )C(=O) RC (R B is Represents a hydrogen atom or a monovalent organic group (as a monovalent organic group, for example, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), and R C is a monovalent organic group (as a monovalent organic group, for example, 1 to 5 carbon atoms) of), or -C(=O)N(R D ) 2 (two R Ds are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group (eg, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms) )), an alkoxycarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms (eg, -C(=O)OCH 3 ), an acyloxy group having 2 to 8 carbon atoms (eg, -OC(=O)CH 3 ), and -Sp A -Hb A.

상기 SpA, 및 상기 HbA는, 상기 식 (X)의 Sp 및 Hb와 각각 동일한 의미이며, 그 바람직한 양태도 동일하다. 또한, 식 (Y)에 있어서, R1~R4 중 복수 개가 -SpA-HbA를 나타내는 경우, 복수 개 존재하는 SpA끼리 및 복수 개 존재하는 HbA끼리는, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.The above Sp A and the above Hb A have the same meaning as Sp and Hb in the above formula (X), respectively, and the preferred embodiments thereof are also the same. Further, in formula (Y), when a plurality of R 1 to R 4 represent -Sp A -Hb A , the plurality of Sp A 's and the plurality of Hb A 's may be the same or different, respectively. .

그중에서도, 상기 R1~R4로서는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자, 수산기, 사이아노기, 알콕시기, -NH2, -NH(CH3), -N(CH3)2, -C(=O)OCH3, -OC(=O)CH3, -NHC(=O)CH3, -N(CH3)C(=O)CH3, 또는, -SpA-HbA가 바람직하다.Among these, R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, an alkoxy group, -NH 2 , -NH(CH 3 ), -N(CH 3 ) 2 , - C(=O)OCH 3 , -OC(=O)CH 3 , -NHC(=O)CH 3 , -N(CH 3 )C(=O)CH 3 , or -Sp A -Hb A is preferred. do.

특히, 노광에 의한 식 (X)로 나타나는 화합물의 분해 속도를 보다 빠르게 하여 친수화가 보다 진행되는, 및/또는, 배향성을 보다 높이는 점에서, 상기 R1~R4는, 각각 독립적으로, -OCH3 또는 SpA-HbA가 보다 바람직하다. -OCH3인 경우에는, 그 구조 중에 에터 산소를 포함하기(특히, 식 (Y) 중의 벤젠환에 결합하는 위치가 에터 산소이기) 때문에, 노광에 의한 식 (X)로 나타나는 화합물의 분해 속도가 보다 빨라져, 친수화가 보다 진행되는 경향이 있다. 한편, -SpA-HbA인 경우에는, HbA의 존재에 의하여 배향성이 보다 높아지는 경향이 있다. 또한, SpA가 그 구조 중에 에터 산소를 포함하는 경우(특히, SpA 중의 HbA와 결합하는 측과는 반대 측의 말단(바꾸어 말하면 식 (Y)의 벤젠환과 연결하는 측의 말단)에 에터 산소가 포함되는 경우)는, 상기 -OCH3과 동일하게, 분해 속도가 빨라지는 효과가 얻어진다.In particular, from the viewpoint of accelerating the decomposition rate of the compound represented by formula (X) by exposure to more rapid progress of hydrophilicity and/or higher orientation, said R 1 to R 4 are each independently —OCH 3 or Sp A -Hb A is more preferable. In the case of -OCH 3 , since the structure contains ether oxygen (particularly, the position bonding to the benzene ring in formula (Y) is ether oxygen), the decomposition rate of the compound represented by formula (X) by exposure to light is It becomes faster and there is a tendency for hydrophilization to proceed more. On the other hand, in the case of -Sp A -Hb A , the orientation tends to be higher due to the presence of Hb A. In addition, when Sp A contains ether oxygen in its structure (in particular, the end of Sp A on the side opposite to the side bonded to Hb A (in other words, the end of the side bonded to the benzene ring of formula (Y)) ether. When oxygen is included), the effect of increasing the decomposition rate is obtained, similarly to the above -OCH 3 .

또한, 노광에 의한 식 (X)로 나타나는 화합물의 분해 속도를 보다 한층 빠르게 하여 친수화가 보다 진행되는 점에서는, 상기 R1~R4 중 적어도 2개가, 각각 독립적으로, -OCH3 또는 SpB-HbB인 것이 바람직하고, R2 및 R3이, 각각 독립적으로, -OCH3 또는 SpB-HbB인 것이 보다 바람직하다.In addition, in that the decomposition rate of the compound represented by formula (X) by exposure is further accelerated and hydrophilization further progresses, at least two of the above R 1 to R 4 are each independently -OCH 3 or Sp B - It is preferably Hb B , and more preferably R 2 and R 3 are each independently -OCH 3 or Sp B -Hb B.

여기에서, SpB는, -CH2-가 -O-로 치환된 탄소수 1~10의 알킬렌기를 나타낸다. 그중에서도, 상술한 바와 같이, SpB 중의 HbB와 결합하는 측과는 반대 측의 말단(바꾸어 말하면 식 (Y)의 벤젠환과 연결하는 측의 말단)에 에터 산소가 포함되는 경우에는, 분해 속도가 빨라지는 효과가 보다 현저하게 얻어져, 친수화가 보다 진행된다. 또한, 상기 알킬렌기 중의 -CH2-가 복수의 -O-로 치환되는 경우, -O-끼리는 인접하지 않는 것이 바람직하다. 상기 알킬렌기는, 탄소수 1~7인 것이 보다 바람직하며, 탄소수 1~6인 것이 더 바람직하고, 탄소수 1~4인 것이 특히 바람직하다. 또, 알킬렌기는, 직쇄 및 분기 중 어느 것이어도 되지만, 직쇄인 것이 바람직하다.Here, Sp B represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms in which -CH 2 - is substituted with -O-. Among them, as described above, when ether oxygen is contained in the end of Sp B on the side opposite to the side bonded to Hb B (in other words, the end on the side connected to the benzene ring of formula (Y)), the decomposition rate is increased. The effect of accelerating is obtained more remarkably, and hydrophilization further advances. Moreover, when -CH2- in the said alkylene group is substituted by several -O-, it is preferable that -O- is not adjacent. The alkylene group preferably has 1 to 7 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 4 carbon atoms. Further, the alkylene group may be either straight-chain or branched, but is preferably straight-chain.

상기 HbB는, 탄소수가 4~30인 불소 치환 알킬기를 나타낸다. 상기 HbB의 적합 양태에 대해서는, 상술한 식 (X)의 Hb와 동일하다.Said Hb B represents a C4-C30 fluorine-substituted alkyl group. About the suitable aspect of the said Hb B , it is the same as that of Hb of Formula (X) mentioned above.

또한, 식 (Y)에 있어서, R1~R4 중 복수 개가 -SpB-HbB를 나타내는 경우, 복수 개 존재하는 SpB끼리 및 복수 개 존재하는 HbB끼리는, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.Further, in formula (Y), when a plurality of R 1 to R 4 represent -Sp B -Hb B , the plurality of Sp Bs and the plurality of Hb Bs may be the same or different, respectively. .

그중에서도, 노광에 의한 식 (X)로 나타나는 화합물의 분해 속도를 보다 빠르게 하여 친수화가 보다 진행되며, 또한, 배향성을 보다 높이는 점에서, 상기 R1~R4 중 적어도 2개가 -SpB-HbB인 것이 바람직하고, R2 및 R3 모두가 -SpB-HbB인 것이 보다 바람직하다. 특히, 상기 -SpB-HbB로서는, 하기 식 (Z)로 나타나는 구조가 바람직하다.Among them, at least two of the above-mentioned R 1 to R 4 are -Sp B -Hb B from the viewpoint that the decomposition rate of the compound represented by formula (X) by exposure is accelerated, the hydrophilization further proceeds, and the orientation is further improved. is preferable, and it is more preferable that both R 2 and R 3 are -Sp B -Hb B. In particular, as the above -SpB -HbB , a structure represented by the following formula (Z) is preferable.

식 (Z) (CpF2p+1)-(CH2)q-O-(CH2)r-O-*Formula (Z) (C p F 2p+1 )-(CH 2 ) q -O-(CH 2 ) r -O-*

식 (Z) 중, p는 4~30인 것이 바람직하고, 4~20인 것이 보다 바람직하며, 4~10인 것이 더 바람직하다. q는 0~5인 것이 바람직하고, 0~4인 것이 보다 바람직하며, 0~3인 것이 더 바람직하다. r은 1~5인 것이 바람직하고, 1~4인 것이 보다 바람직하며, 1~3인 것이 더 바람직하다.In formula (Z), p is preferably 4 to 30, more preferably 4 to 20, still more preferably 4 to 10. q is preferably 0 to 5, more preferably 0 to 4, still more preferably 0 to 3. r is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4, still more preferably 1 to 3.

상기 식 (Y)에 있어서, R5는, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 방향족기인 것이 바람직하다.In the formula (Y), R 5 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or an aromatic group.

방향족기로서는, 특별히 제한되지 않지만, 탄소수 6~14인 것이 바람직하고, 6~10인 것이 보다 바람직하며, 페닐기인 것이 더 바람직하다.The aromatic group is not particularly limited, but is preferably 6 to 14 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms, and still more preferably a phenyl group.

상기 R5는, 그중에서도, 노광에 의한 식 (X)로 나타나는 화합물의 분해 속도를 보다 빠르게 하여 친수화가 보다 진행되는 점에서, 메틸기, 에틸기, 또는 방향족기가 바람직하고, 에틸기 또는 방향족기가 보다 바람직하며, 방향족기가 더 바람직하다.R 5 , among others, is preferably a methyl group, an ethyl group, or an aromatic group, and more preferably an ethyl group or an aromatic group, from the viewpoint of accelerating the decomposition rate of the compound represented by formula (X) by exposure to light to further promote hydrophilicity; Aromatic groups are more preferred.

또, 상기 식 (Y)에 있어서, *는, 상기 식 (X) 중의 C(=O)O-와의 결합 부위를 나타낸다.In the above formula (Y), * represents a bonding site with C(=O)O- in the above formula (X).

상기 식 (X)로 나타나는 화합물은, 분자 구조가 대칭성을 갖는 것이어도 되고, 대칭성을 갖지 않는 것이어도 된다. 또한, 여기에서 말하는 대칭성이란, 점대칭, 선대칭, 및, 회전 대칭 중 어느 하나에 해당하는 것을 의미하고, 비대칭이란 점대칭, 선대칭, 및, 회전 대칭 중 어느 것에도 해당하지 않는 것을 의미한다.The compound represented by the formula (X) may have a symmetrical molecular structure or may not have symmetrical properties. Symmetry as used herein means that it corresponds to any one of point symmetry, line symmetry, and rotational symmetry, and asymmetry means that it does not correspond to any of point symmetry, line symmetry, and rotational symmetry.

또, 상기 식 (X)로 나타나는 화합물에 있어서, 상기 Sp, 상기 Hb, 또는 상기 A가 각각 복수 개 존재하는 경우, 복수 개 존재하는 Sp끼리, 복수 개 존재하는 Hb끼리, 또는 복수 개 존재하는 A끼리는, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.Further, in the compound represented by the formula (X), when a plurality of Sp, Hb, or A are present, a plurality of Sp, a plurality of Hb, or a plurality of A are present. Each other may be the same or different.

조성물층 중의 특정 감광성 화합물의 함유량은, 형성하고자 하는 광학 이방성층의 특성(예를 들면, 리타데이션이나 파장 분산)에 따라 적절히 설정될 수 있다.The content of the specific photosensitive compound in the composition layer can be appropriately set according to the characteristics (for example, retardation or wavelength dispersion) of the optically anisotropic layer to be formed.

그중에서도, 소정의 구조의 광학 이방성층이 보다 형성되기 쉬운 점에서, 특정 감광성 화합물의 함유량은, 액정 화합물의 전체 질량에 대하여, 0.01~10질량%가 바람직하고, 0.05~5질량%가 보다 바람직하다.Among them, the content of the specific photosensitive compound is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 0.05 to 5% by mass, based on the total mass of the liquid crystal compound, from the viewpoint that an optically anisotropic layer having a predetermined structure is more easily formed. .

공정 1A에서는, 상술한 성분을 포함하는 조성물층을 형성하지만, 그 수순은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 상술한 특정 감광성 화합물 및 중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물을 기판 상에 도포하여, 필요에 따라 건조 처리를 실시하는 방법(이하, 간단히 "도포 방법"이라고도 한다.), 및, 별도 조성물층을 형성하여 기판 상에 전사하는 방법을 들 수 있다. 그중에서도, 생산성의 점에서는, 도포 방법이 바람직하다.In Step 1A, a composition layer containing the components described above is formed, but the procedure is not particularly limited. For example, a method in which a composition containing the above-described specific photosensitive compound and a liquid crystal compound having a polymerizable group is applied onto a substrate and, if necessary, dried (hereinafter, simply referred to as "application method"), and , a method of forming a separate composition layer and transferring it onto a substrate. Among them, the coating method is preferable from the viewpoint of productivity.

이하, 도포 방법에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the application method is explained in detail.

도포 방법으로 사용되는 조성물에는, 상술한 특정 감광성 화합물, 중합성기를 갖는 액정 화합물, 및, 그 외 필요에 따라 이용되는 다른 성분(예를 들면, 중합 개시제, 중합성 모노머, 계면활성제, 및, 폴리머 등)이 포함된다.In the composition used in the application method, the above-described specific photosensitive compound, liquid crystal compound having a polymerizable group, and other components used as necessary (eg, polymerization initiator, polymerizable monomer, surfactant, and polymer) etc.) are included.

조성물 중의 각 성분의 함유량은, 상술한 조성물층 중의 각 성분의 함유량이 되도록 조정되는 것이 바람직하다.The content of each component in the composition is preferably adjusted so as to be the content of each component in the composition layer described above.

도포 방법은 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 와이어 바 코팅법, 압출 코팅법, 다이렉트 그라비어 코팅법, 리버스 그라비어 코팅법, 및, 다이코팅법을 들 수 있다.The application method is not particularly limited, and examples thereof include a wire bar coating method, an extrusion coating method, a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, and a die coating method.

또한, 필요에 따라, 조성물의 도포 후에, 기판 상에 도포된 도막을 건조하는 처리를 실시해도 된다. 건조 처리를 실시함으로써, 도막으로부터 용매를 제거할 수 있다.Further, if necessary, a treatment of drying the coating film applied on the substrate may be performed after application of the composition. By performing the drying treatment, the solvent can be removed from the coating film.

도막의 막두께는 특별히 제한되지 않지만, 0.1~20μm가 바람직하고, 0.2~15μm가 보다 바람직하며, 0.5~10μm가 더 바람직하다.The film thickness of the coating film is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 0.2 to 15 μm, and still more preferably 0.5 to 10 μm.

<공정 2C><Process 2C>

공정 2C는, 조성물층에 가열 처리를 실시하여, 조성물층 중의 액정 화합물을 배향시키는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 조성물층 중의 액정 화합물이 소정의 배향 상태로 된다. 또한, 후술하는 도 11에 나타내는 바와 같이, 예를 들면, 공정 2C를 실시함으로써, 조성물 중에 있어서 액정 화합물은 호모지니어스 배향한다.Step 2C is a step of subjecting the composition layer to heat treatment to orient the liquid crystal compound in the composition layer. By performing this step, the liquid crystal compound in the composition layer is brought into a predetermined alignment state. In addition, as shown in FIG. 11 described later, the liquid crystal compound is homogeneously aligned in the composition by, for example, Step 2C.

가열 처리의 조건으로서는, 사용되는 액정 화합물에 따라 최적인 조건이 선택된다.As conditions for heat treatment, optimum conditions are selected depending on the liquid crystal compound used.

그중에서도, 가열 온도로서는, 25~250℃의 경우가 많고, 40~150℃의 경우가 보다 많으며, 50~130℃의 경우가 더 많다.Among them, the heating temperature is often 25 to 250°C, more often 40 to 150°C, and more often 50 to 130°C.

가열 시간으로서는, 0.1~60분간의 경우가 많고, 0.2~5분간의 경우가 보다 많다.As heating time, it is 0.1 to 60 minutes in many cases, and 0.2 to 5 minutes in many cases.

<공정 3C><Process 3C>

공정 3C는, 공정 2C 이후, 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 조성물층에 대하여, 광조사를 50초간 이하, 또한, 300mJ/cm2 이하에서 행하는 공정이다. 이하에서는, 도면을 이용하여 본 공정의 기구를 설명한다. 또한, 이하에서는, 조성물층에, 광조사에 의하여 친수화하는 화합물이 포함되는 경우를 일례로서 설명한다. 도 11 중, 조성물층에 있어서, 액정 화합물(LC)은 호모지니어스 배향하고 있다.Step 3C is a step of irradiating the composition layer with light for 50 seconds or less and at 300 mJ/cm 2 or less under conditions of an oxygen concentration of 1 vol% or more after step 2C. Below, the mechanism of this process is demonstrated using drawing. In addition, below, the case where the composition layer contains the compound which becomes hydrophilic by light irradiation is demonstrated as an example. In FIG. 11 , in the composition layer, the liquid crystal compound (LC) is oriented homogeneously.

도 11에 나타내는 바와 같이, 공정 3C에서는 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 기판(10)의 조성물층(320) 측과는 반대 측의 방향(도 11 중의 흰색 화살표의 방향)으로부터 광조사를 행한다. 또한, 도 11에서는 광조사는 기판(10) 측으로부터 실시되고 있지만, 조성물층(320) 측으로부터 실시되어도 된다.As shown in Fig. 11, in Step 3C, light is irradiated from the direction opposite to the composition layer 320 side of the substrate 10 (direction of the white arrow in Fig. 11) under the condition of an oxygen concentration of 1% by volume or more. . In Fig. 11, light irradiation is performed from the substrate 10 side, but it may be performed from the composition layer 320 side.

그때, 조성물층(320)의 기판(10) 측의 하측 영역(320A)과, 기판(10) 측과는 반대 측의 상측 영역(320B)을 비교하면, 상측 영역(320B)의 표면 쪽이 공기 측에 있기 때문에, 상측 영역(320B) 중의 산소 농도가 높고, 하측 영역(320A) 중의 산소 농도는 낮다. 그 때문에, 조성물층(320)에 대하여 광조사가 이루어지면, 하측 영역(320A)에 있어서는 액정 화합물의 중합이 진행되기 쉽고, 액정 화합물의 배향 상태가 고정된다. 또한, 하측 영역(320A)에 있어서도 특정 감광성 화합물이 존재하고 있으며, 특정 감광성 화합물도 감광하여, 친수화가 진행된다. 그러나, 하측 영역(320A)에서는 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있기 때문에, 후술하는, 광조사된 조성물층에 대하여 가열 처리를 실시하는 공정 4C를 실시해도, 액정 화합물의 배향 상태의 변화는 발생하지 않는다.At that time, comparing the lower region 320A on the substrate 10 side of the composition layer 320 with the upper region 320B on the opposite side to the substrate 10 side, the surface of the upper region 320B is air. side, the oxygen concentration in the upper region 320B is high, and the oxygen concentration in the lower region 320A is low. Therefore, when the composition layer 320 is irradiated with light, polymerization of the liquid crystal compound tends to proceed in the lower region 320A, and the alignment state of the liquid crystal compound is fixed. Also in the lower region 320A, a specific photosensitive compound is present, and the specific photosensitive compound is also photosensitized and hydrophilization proceeds. However, since the alignment state of the liquid crystal compound is fixed in the lower region 320A, even if step 4C of heating the light-irradiated composition layer to be described later is performed, the alignment state of the liquid crystal compound does not change. don't

또, 상측 영역(320B)에 있어서는 산소 농도가 높기 때문에, 광조사가 이루어져도, 액정 화합물의 중합이 산소에 의하여 저해되어, 중합이 진행되기 어렵다. 그리고, 상측 영역(320B)에 있어서도 특정 감광성 화합물이 존재하고 있기 때문에, 특정 감광성 화합물이 감광하여, 친수화가 진행된다. 그 때문에, 후술하는 공정 4C를 실시하면, 변화한 극성의 영향을 받아, 액정 화합물의 배향 상태가 변화한다.In addition, since the oxygen concentration is high in the upper region 320B, polymerization of the liquid crystal compound is inhibited by oxygen even when light is irradiated, and thus polymerization does not proceed easily. And since the specific photosensitive compound exists also in the upper area|region 320B, the specific photosensitive compound is photosensitive and hydrophilization progresses. Therefore, when Step 4C described later is performed, the alignment state of the liquid crystal compound changes under the influence of the changed polarity.

즉, 공정 3C를 실시함으로써, 조성물층의 기판 측의 영역(하측 영역)에 있어서는 액정 화합물의 배향 상태의 고정화가 진행되기 쉽다. 또, 조성물층의 기판 측과 반대 측의 영역(상측 영역)에 있어서는, 액정 화합물의 배향 상태의 고정화는 진행되기 어렵고, 또한, 감광한 특정 감광성 화합물에 따라 극성이 변화한 상태로 된다.That is, by performing step 3C, fixation of the alignment state of the liquid crystal compound tends to proceed in the region (lower region) of the composition layer on the substrate side. In addition, in the region (upper region) of the composition layer on the opposite side of the substrate side, the alignment state of the liquid crystal compound is difficult to be fixed, and the polarity is changed depending on the specific photosensitive compound that is exposed to light.

공정 3C에 있어서의 광조사의 각종 조건(산소 농도, 조사 시간, 조사량 등)은, 상술한 공정 3A에 있어서의 광조사의 각종 조건과 동일하다.Various conditions (oxygen concentration, irradiation time, irradiation amount, etc.) of light irradiation in Step 3C are the same as the various conditions of light irradiation in Step 3A described above.

<공정 4C><Process 4C>

공정 4C는, 공정 3C 이후, 조성물층에, 광조사 시보다 높은 온도에서 가열 처리를 실시하는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 광조사가 실시된 조성물층 중의 특정 감광성 화합물에 의하여 극성이 변화한 영역에 있어서, 액정 화합물의 배향 상태가 변화한다. 보다 구체적으로는, 본 공정은, 공정 3C 후의 조성물층에 대하여, 조사 시보다 높은 온도에서 가열 처리를 실시하여, 공정 3C에서 고정되어 있지 않은 조성물층 중의 액정 화합물을 배향시키는 공정이다.Step 4C is a step of subjecting the composition layer to a heat treatment after Step 3C at a temperature higher than that at the time of light irradiation. By carrying out this process, the orientation state of the liquid crystal compound changes in the area|region where the polarity changed by the specific photosensitive compound in the composition layer to which light irradiation was performed. More specifically, this step is a step of aligning the liquid crystal compound in the composition layer that is not fixed in step 3C by subjecting the composition layer after step 3C to heat treatment at a temperature higher than that during irradiation.

이하에서는, 도면을 이용하여 본 공정의 기구를 설명한다.Below, the mechanism of this process is demonstrated using drawing.

상술한 바와 같이, 도 11에 나타낸 조성물층(320)에 대하여 공정 3C를 실시하면, 하측 영역(320A)에 있어서는 액정 화합물의 배향 상태가 고정되는 데 대하여, 상측 영역(320B)에서는 액정 화합물의 중합은 진행되기 어렵고, 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있지 않다. 또, 상측 영역(320B)에 있어서는 특정 감광성 화합물이 감광하여, 친수화하고 있다. 이와 같은 극성의 변화가 발생하면, 광조사 전의 상태와 비교하면, 상측 영역(320B)에 있어서 액정 화합물의 배향 방향이 영향을 받는다. 이 점을 보다 상세하게 설명한다. 또한, 상술한 바와 같이, 이하에서는, 조성물층에, 광조사에 의하여 친수화하는 특정 감광성 화합물이 포함되는 경우를 일례로서 설명한다.As described above, when step 3C is performed on the composition layer 320 shown in FIG. 11, the alignment state of the liquid crystal compound is fixed in the lower region 320A, while the liquid crystal compound is polymerized in the upper region 320B. is difficult to progress, and the alignment state of the liquid crystal compound is not fixed. Further, in the upper region 320B, a specific photosensitive compound is photosensitized and becomes hydrophilic. When such a polarity change occurs, the alignment direction of the liquid crystal compound in the upper region 320B is affected compared to the state before light irradiation. This point will be explained in more detail. In addition, as described above, a case in which the composition layer contains a specific photosensitive compound that becomes hydrophilic by light irradiation will be described below as an example.

조성물층에 광조사에 의하여 친수화하는 특정 감광성 화합물이 포함되는 경우에는, 도 12에 나타내는 바와 같이, 공정 4C를 실시하면, 상측 영역(320B)에 있어서 액정 화합물이 수직 배향(호메오트로픽 배향)한다. 특히, 특정 감광성 화합물이 조성물층의 표면 부근에 존재하는 경우에는, 액정 화합물이 수직 배향하기 쉬워진다.When the composition layer contains a specific photosensitive compound that becomes hydrophilic by light irradiation, as shown in FIG. 12 , when step 4C is performed, the liquid crystal compound is vertically aligned (homeotropic alignment) in the upper region 320B. do. In particular, when a specific photosensitive compound exists near the surface of the composition layer, the liquid crystal compound tends to vertically align.

한편, 상술한 바와 같이, 조성물층(320)의 하측 영역(320A)에 있어서는 공정 3C 시에 액정 화합물의 중합이 진행되어 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있기 때문에, 액정 화합물의 재배향은 진행되지 않는다.On the other hand, as described above, in the lower region 320A of the composition layer 320, the polymerization of the liquid crystal compound proceeds during step 3C and the alignment state of the liquid crystal compound is fixed, so the liquid crystal compound is not rearranged. don't

상기와 같이, 공정 4C를 실시함으로써, 배향 방향이 층 표면에 대하여 경사 또는 수직으로 배향하고 있는 액정 화합물을 포함하는 영역이 형성된다.As described above, by carrying out Step 4C, a region containing a liquid crystal compound whose alignment direction is oriented obliquely or perpendicularly to the surface of the layer is formed.

또한, 상기 도 11에 있어서는, 액정 화합물이 수직 배향하고 있는 양태에 대하여 설명했지만, 이 양태에는 제한되지 않는다. 예를 들면, 액정 화합물이 경사 배향하고 있는 양태여도 된다.In addition, in the said FIG. 11, although the aspect in which the liquid crystal compound is vertically aligned was demonstrated, it is not limited to this aspect. For example, the aspect in which the liquid crystal compound is aligning obliquely may be sufficient.

가열 처리는, 광조사 시보다 높은 온도에서 실시한다.Heat treatment is performed at a temperature higher than that at the time of light irradiation.

가열 처리의 온도와, 광조사 시의 온도의 차는, 5℃ 이상이 바람직하고, 10~110℃가 보다 바람직하며, 20~110℃가 보다 바람직하다.The difference between the temperature of the heat treatment and the temperature during light irradiation is preferably 5°C or higher, more preferably 10 to 110°C, more preferably 20 to 110°C.

가열 처리의 온도는, 광조사 시의 온도보다 높으며, 조성물층 중의 고정되어 있지 않은 액정 화합물을 배향시키는 온도인 것이 바람직하고, 보다 구체적으로는, 40~250℃의 경우가 많으며, 50~150℃의 경우가 보다 많고, 50℃ 초과 150℃ 이하의 경우가 더 많으며, 60~130℃의 경우가 특히 많다.The temperature of the heat treatment is higher than the temperature at the time of light irradiation, and is preferably a temperature at which the non-fixed liquid crystal compound in the composition layer is aligned, and more specifically, it is often 40 to 250 ° C., and 50 to 150 ° C. There are more cases of , more cases of more than 50 ℃ and less than 150 ℃, and especially many cases of 60 ~ 130 ℃.

가열 시간으로서는, 0.01~60분간의 경우가 많고, 0.03~5분간의 경우가 보다 많다.As heating time, it is 0.01 to 60 minutes in many cases, and 0.03 to 5 minutes in many cases.

<공정 5C><Process 5C>

공정 5C는, 공정 4C 이후, 조성물층에 대하여 경화 처리를 실시하여, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층을 형성하는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 조성물층 중의 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어, 결과적으로 소정의 광학 이방성층이 형성된다. 또한, 본 공정을 실시함으로써, 두께 방향을 따라, 층 표면에 대한 액정 화합물의 배향 방향의 경사각이 상이한 영역을 복수 갖는 광학 이방성층이 형성된다. 특히, 본 공정을 실시함으로써, 두께 방향을 따라, 수직 배향(호메오트로픽 배향) 또는 경사 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역과, 수평 배향(호모지니어스 배향)한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역을 갖는 광학 이방성층을 형성할 수 있다.Step 5C is a step of forming an optically anisotropic layer having a plurality of regions having different orientation states of liquid crystal compounds along the thickness direction by subjecting the composition layer to a curing treatment after step 4C. By carrying out this process, the alignment state of the liquid crystal compound in the composition layer is fixed, and as a result, a predetermined optically anisotropic layer is formed. Furthermore, by performing this step, an optically anisotropic layer having a plurality of regions having different inclination angles of the orientation direction of the liquid crystal compound with respect to the layer surface along the thickness direction is formed. In particular, by carrying out this step, along the thickness direction, a region obtained by fixing the alignment state of the liquid crystal compound vertically aligned (homeotropic alignment) or tilted alignment, and the alignment state of the liquid crystal compound horizontally aligned (homogeneous alignment) An optically anisotropic layer having a region formed by fixing can be formed.

공정 5C에서의 경화 처리의 방법으로서는, 공정 5A에서의 경화 처리의 방법을 들 수 있다.As a method of hardening treatment in step 5C, the method of hardening treatment in step 5A can be mentioned.

광학 이방성층의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 0.05~10μm가 바람직하고, 0.1~8.0μm가 보다 바람직하며, 0.2~6.0μm가 더 바람직하다.The thickness of the optically anisotropic layer is not particularly limited, but is preferably 0.05 to 10 μm, more preferably 0.1 to 8.0 μm, and still more preferably 0.2 to 6.0 μm.

제3 실시형태에 있어서의 광학 이방성층 중의 광학 특성은 특별히 제한되지 않고, 용도에 따라 최적인 값이 선택된다. 이하, 일례로서, 상술한 수순에 의하여 제작되는, 호메오트로픽 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 제1 영역과, 호모지니어스 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 제2 영역을, 두께 방향을 따라 갖는 광학 이방성층의 경우에 대하여 상세하게 설명한다.The optical properties in the optically anisotropic layer in the third embodiment are not particularly limited, and optimum values are selected depending on the application. Hereinafter, as an example, a first region formed by fixing the orientation state of the homeotropically aligned liquid crystal compound produced by the above-described procedure, and a second region obtained by fixing the orientation state of the homogeneously aligned liquid crystal compound, The case of the optically anisotropic layer along the thickness direction will be described in detail.

상기 광학 이방성층의 제1 영역의 두께를 d1, 파장 550nm에서 측정한 제1 영역의 면내의 굴절률 이방성을 Δn1로 한 경우, 광학 이방성층을 원편광판에 적합하게 적용할 수 있는 점 및 액정 표시 장치의 광학 보상판으로서 적용했을 때에 경사 방향의 광누출을 저감시킬 수 있는 점에서, 제1 영역은 이하의 식 (1C-1)을 충족시키는 것이 바람직하다.When the thickness of the first region of the optically anisotropic layer is Δn1 and the in-plane refractive index anisotropy of the first region measured at d1 and a wavelength of 550 nm, the optically anisotropic layer can be suitably applied to a circular polarizing plate and a liquid crystal display device It is preferable that the first region satisfies the following formula (1C-1) from the viewpoint of being able to reduce light leakage in the oblique direction when applied as an optical compensating plate of .

식 (1C-1) 0nm≤Δn1d1≤30nmEquation (1C-1) 0nm≤Δn1d1≤30nm

그중에서도, 식 (1C-2)를 충족시키는 것이 보다 바람직하다.Among them, it is more preferable to satisfy the formula (1C-2).

식 (1C-2) 0nm≤Δn1d1≤20nmEquation (1C-2) 0nm≤Δn1d1≤20nm

광학 이방성층의 제1 영역의 파장 550nm에 있어서의 두께 방향의 리타데이션은 -150~-20nm가 바람직하고, -120~-20nm가 보다 바람직하다.The retardation in the thickness direction at a wavelength of 550 nm in the first region of the optically anisotropic layer is preferably -150 to -20 nm, and more preferably -120 to -20 nm.

또, 상기 광학 이방성층의 제2 영역의 두께를 d2, 파장 550nm에서 측정한 제2 영역의 면내의 굴절률 이방성을 Δn2로 한 경우, 광학 이방성층을 원편광판에 적합하게 적용할 수 있는 점이나 액정 표시 장치의 광학 보상판에 적합하게 적용할 수 있는 점에서, 제2 영역은 이하의 식 (2C-1)을 충족시키는 것이 바람직하다. 즉, 제2 영역의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션은, 100~180nm인 것이 바람직하다.In addition, when the thickness of the second region of the optically anisotropic layer is d2 and the in-plane refractive index anisotropy of the second region measured at a wavelength of 550 nm is Δn2, the optically anisotropic layer can be suitably applied to a circular polarizing plate or a liquid crystal From the viewpoint of being suitably applicable to an optical compensating plate of a display device, the second region preferably satisfies the following expression (2C-1). That is, the in-plane retardation in the second region at a wavelength of 550 nm is preferably 100 to 180 nm.

식 (2C-1) 100nm≤Δn2d2≤180nmEquation (2C-1) 100nm≤Δn2d2≤180nm

그중에서도, 식 (2C-2)를 충족시키는 것이 보다 바람직하다.Among them, it is more preferable to satisfy the formula (2C-2).

식 (2C-2) 110nm≤Δn2d2≤170nmEquation (2C-2) 110nm≤Δn2d2≤170nm

또한, 굴절률 이방성 Δn2란, 제1 영역의 굴절률 이방성을 의미한다.Further, the refractive index anisotropy Δn2 means the refractive index anisotropy of the first region.

제3 실시형태에 있어서의 광학 이방성층은, 역파장 분산성을 나타내는 것이 바람직하다.The optically anisotropic layer in the third embodiment preferably exhibits reverse wavelength dispersion.

즉, 광학 이방성층의 파장 450nm에서 측정한 면내 리타데이션인 Re(450)과, 광학 이방성층의 파장 550nm에서 측정한 면내 리타데이션인 Re(550)과, 광학 이방성층의 파장 650nm에서 측정한 면내 리타데이션인 Re(650)은, Re(450)≤Re(550)≤Re(650)의 관계에 있는 것이 바람직하다.That is, the in-plane retardation Re (450) measured at a wavelength of 450 nm of the optical anisotropic layer, the in-plane retardation Re (550) measured at a wavelength of 550 nm of the optical anisotropic layer, and the in-plane retardation measured at a wavelength of 650 nm of the optical anisotropic layer Re (650), which is retardation, preferably has a relationship of Re (450) ≤ Re (550) ≤ Re (650).

제3 실시형태에 있어서의 광학 이방성층의 광학 특성은 특별히 제한되지 않지만, λ/4판으로서 기능하는 것이나 액정 표시 장치의 광학 보상판으로서 기능하는 것이 바람직하다.The optical properties of the optically anisotropic layer in the third embodiment are not particularly limited, but it is preferable to function as a λ/4 plate or as an optical compensation plate of a liquid crystal display device.

λ/4판은, 소정의 특정 파장의 직선 편광을 원편광으로(또는, 원편광을 직선 편광으로) 변환하는 기능을 갖는 판이며, 특정 파장 λnm에 있어서의 면내 리타데이션 Re(λ)가 Re(λ)=λ/4를 충족시키는 판(광학 이방성층)을 말한다.The λ/4 plate is a plate having a function of converting linearly polarized light of a predetermined specific wavelength into circularly polarized light (or circularly polarized light into linearly polarized light), and the in-plane retardation Re(λ) at a specific wavelength λnm is Re It refers to a plate (optically anisotropic layer) that satisfies (λ)=λ/4.

이 식은, 가시광역의 어느 하나의 파장(예를 들면, 550nm)에 있어서 달성되어 있으면 되지만, 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션 Re(550)이, 100nm≤Re(550)≤180nm의 관계를 충족시키는 것이 바람직하다.This formula only needs to be achieved at any wavelength in the visible light range (eg, 550 nm), but the in-plane retardation Re(550) at a wavelength of 550 nm satisfies the relationship of 100 nm ≤ Re (550) ≤ 180 nm It is desirable to do

<<제4 실시형태>><<Fourth Embodiment>>

본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법의 제4 실시형태는, 이하의 공정 1D~5D를 갖는다. 후술하는 바와 같이, 제4 실시형태에 있어서는, 액정 화합물이 배향하고 있는 배향 상태(예를 들면, 수평 배향 상태)를 고정하여 이루어지는 영역과, 액정 화합물이 배향하고 있지 않은 상태(액정 화합물의 등방상)를 고정하여 이루어지는 영역을, 두께 방향을 따라, 갖는 광학 이방성층이 형성된다.The fourth embodiment of the optically anisotropic layer manufacturing method of the present invention includes the following steps 1D to 5D. As will be described later, in the fourth embodiment, a region obtained by fixing an alignment state in which the liquid crystal compound is aligned (for example, a horizontal alignment state), and a state in which the liquid crystal compound is not aligned (isotropic phase of the liquid crystal compound) ) is formed along the thickness direction.

공정 1D: 중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물층을 형성하는 공정Step 1D: Forming a composition layer containing a liquid crystal compound having a polymerizable group

공정 2D: 조성물층에 가열 처리를 실시하여, 조성물층 중의 액정 화합물을 배향시키는 공정Step 2D: Step of subjecting the composition layer to heat treatment to align the liquid crystal compound in the composition layer

공정 3D: 공정 2D 이후, 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 조성물층에 대하여, 광조사를 50초간 이하, 또한, 300mJ/cm2 이하에서 행하는 공정Step 3D: After step 2D, the composition layer is irradiated with light for 50 seconds or less under conditions of an oxygen concentration of 1% by volume or more, and further, a step of performing light irradiation at 300 mJ/cm 2 or less.

공정 4D: 공정 3D 이후, 조성물층에, 광조사 시보다 높고, 또한, 액정 화합물이 등방상이 되는 온도 이상으로 가열 처리를 실시하는 공정Step 4D: After Step 3D, the composition layer is subjected to heat treatment at a temperature higher than that at the time of light irradiation and higher than that at which the liquid crystal compound becomes isotropic.

공정 5D: 공정 4D 이후, 조성물층에 대하여 경화 처리를 실시하여, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층을 형성하는 공정Step 5D: After step 4D, the composition layer is cured to form an optically anisotropic layer having a plurality of regions in which the alignment states of the liquid crystal compounds are different along the thickness direction.

이하, 상기 각 공정의 수순에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the procedure of each process is explained in detail.

<공정 1D><Process 1D>

공정 1D는, 중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물층을 형성하는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 후술하는 광조사 처리가 실시되는 조성물층이 형성된다.Step 1D is a step of forming a composition layer containing a liquid crystal compound having a polymerizable group. By carrying out this process, the composition layer to which the light irradiation process mentioned later is performed is formed.

조성물층에 포함되는 액정 화합물은, 공정 1A에서 설명한 바와 같다.The liquid crystal compound contained in the composition layer is as described in Step 1A.

또, 조성물층에는, 상술한 공정 1A에서 설명한 바와 같이, 액정 화합물 이외의 다른 성분을 포함하고 있어도 된다.In addition, the composition layer may contain components other than the liquid crystal compound as described in step 1A described above.

공정 1A에서는, 상술한 성분을 포함하는 조성물층을 형성하지만, 그 수순은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 상술한 중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물을 기판 상에 도포하여, 필요에 따라 건조 처리를 실시하는 방법(이하, 간단히 "도포 방법"이라고도 한다.), 및, 별도 조성물층을 형성하여 기판 상에 전사하는 방법을 들 수 있다. 그중에서도, 생산성의 점에서는, 도포 방법이 바람직하다.In Step 1A, a composition layer containing the components described above is formed, but the procedure is not particularly limited. For example, a method of applying a composition containing a liquid crystal compound having a polymerizable group as described above on a substrate and, if necessary, performing a drying treatment (hereinafter, simply referred to as a "coating method"), and a separate composition layer. A method of forming and transferring onto a substrate may be mentioned. Among them, the application method is preferable from the viewpoint of productivity.

이하, 도포 방법에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the application method is explained in detail.

도포 방법으로 사용되는 조성물에는, 상술한, 중합성기를 갖는 액정 화합물, 및, 그 외 필요에 따라 이용되는 다른 성분(예를 들면, 중합 개시제, 중합성 모노머, 계면활성제, 및, 폴리머 등)이 포함된다.The composition used in the application method includes the above-described liquid crystal compound having a polymerizable group and other components (eg, polymerization initiator, polymerizable monomer, surfactant, and polymer) used as necessary. included

조성물 중의 각 성분의 함유량은, 상술한 조성물층 중의 각 성분의 함유량이 되도록 조정되는 것이 바람직하다.The content of each component in the composition is preferably adjusted so as to be the content of each component in the composition layer described above.

도포 방법은 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 와이어 바 코팅법, 압출 코팅법, 다이렉트 그라비어 코팅법, 리버스 그라비어 코팅법, 및, 다이코팅법을 들 수 있다.The application method is not particularly limited, and examples thereof include a wire bar coating method, an extrusion coating method, a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, and a die coating method.

또한, 필요에 따라, 조성물의 도포 후에, 기판 상에 도포된 도막을 건조하는 처리를 실시해도 된다. 건조 처리를 실시함으로써, 도막으로부터 용매를 제거할 수 있다.Further, if necessary, a treatment of drying the coating film applied on the substrate may be performed after application of the composition. By performing the drying treatment, the solvent can be removed from the coating film.

도막의 막두께는 특별히 제한되지 않지만, 0.1~20μm가 바람직하고, 0.2~15μm가 보다 바람직하며, 0.5~10μm가 더 바람직하다.The film thickness of the coating film is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 0.2 to 15 μm, and still more preferably 0.5 to 10 μm.

<공정 2D><Process 2D>

공정 2D는, 조성물층에 가열 처리를 실시하여, 조성물층 중의 액정 화합물을 배향시키는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 조성물층 중의 액정 화합물이 소정의 배향 상태로 된다. 또한, 후술하는 도 13에 나타내는 바와 같이, 예를 들면, 공정 2D를 실시함으로써, 조성물 중에 있어서 액정 화합물은 호모지니어스 배향한다.Step 2D is a step of subjecting the composition layer to heat treatment to align the liquid crystal compound in the composition layer. By performing this step, the liquid crystal compound in the composition layer is brought into a predetermined alignment state. In addition, as shown in FIG. 13 described later, the liquid crystal compound is homogeneously aligned in the composition by, for example, Step 2D.

가열 처리의 조건으로서는, 사용되는 액정 화합물에 따라 최적인 조건이 선택된다.As conditions for heat treatment, optimum conditions are selected depending on the liquid crystal compound used.

그중에서도, 가열 온도로서는, 25~250℃의 경우가 많고, 40~150℃의 경우가 보다 많으며, 50~130℃의 경우가 더 많다.Among them, the heating temperature is often 25 to 250°C, more often 40 to 150°C, and more often 50 to 130°C.

가열 시간으로서는, 0.1~60분간의 경우가 많고, 0.2~5분간의 경우가 보다 많다.As heating time, it is 0.1 to 60 minutes in many cases, and 0.2 to 5 minutes in many cases.

<공정 3D><Process 3D>

공정 3D는, 공정 2D 이후, 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 조성물층에 대하여, 광조사를 50초간 이하, 또한, 300mJ/cm2 이하에서 행하는 공정이다. 이하에서는, 도면을 이용하여 본 공정의 기구를 설명한다. 도 13 중, 조성물층에 있어서, 액정 화합물(LC)은 호모지니어스 배향하고 있다.Step 3D is a step in which, after step 2D, the composition layer is irradiated with light for 50 seconds or less and at 300 mJ/cm 2 or less under conditions of an oxygen concentration of 1% by volume or more. Below, the mechanism of this process is demonstrated using drawing. In FIG. 13 , in the composition layer, the liquid crystal compound (LC) is oriented homogeneously.

도 13에 나타내는 바와 같이, 공정 3D에서는 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 기판(10)의 조성물층(420) 측과는 반대 측의 방향(도 13 중의 흰색 화살표의 방향)으로부터 광조사를 행한다. 또한, 도 13에서는 광조사는 기판(10) 측으로부터 실시되고 있지만, 조성물층(420) 측으로부터 실시되어도 된다.As shown in FIG. 13, in step 3D, light is irradiated from the direction opposite to the composition layer 420 side of the substrate 10 (the direction of the white arrow in FIG. 13) under the condition of an oxygen concentration of 1% by volume or more. . In Fig. 13, light irradiation is performed from the substrate 10 side, but it may be performed from the composition layer 420 side.

그때, 조성물층(420)의 기판(10) 측의 하측 영역(420A)과, 기판(10) 측과는 반대 측의 상측 영역(420B)을 비교하면, 상측 영역(420B)의 표면 쪽이 공기 측에 있기 때문에, 상측 영역(420B) 중의 산소 농도가 높고, 하측 영역(420A) 중의 산소 농도는 낮다. 그 때문에, 조성물층(420)에 대하여 광조사가 이루어지면, 하측 영역(420A)에 있어서는 액정 화합물의 중합이 진행되기 쉽고, 액정 화합물의 배향 상태가 고정된다. 그 때문에, 후술하는, 광조사된 조성물층에 대하여 가열 처리를 실시하는 공정 4D를 실시해도, 액정 화합물의 배향 상태의 변화는 발생하지 않는다.At that time, comparing the lower region 420A on the substrate 10 side of the composition layer 420 with the upper region 420B on the opposite side to the substrate 10 side, the surface of the upper region 420B is air. side, the oxygen concentration in the upper region 420B is high, and the oxygen concentration in the lower region 420A is low. Therefore, when the composition layer 420 is irradiated with light, polymerization of the liquid crystal compound easily proceeds in the lower region 420A, and the alignment state of the liquid crystal compound is fixed. Therefore, even if step 4D of heat-treating the light-irradiated composition layer, which will be described later, is performed, the alignment state of the liquid crystal compound does not change.

또, 상측 영역(420B)에 있어서는 산소 농도가 높기 때문에, 광조사가 이루어져도, 액정 화합물의 중합이 산소에 의하여 저해되어, 중합이 진행되기 어렵다. 그 때문에, 후술하는 공정 4D를 실시하면, 액정 화합물의 배향 상태가 변화한다.In addition, since the oxygen concentration is high in the upper region 420B, polymerization of the liquid crystal compound is inhibited by oxygen even when light is irradiated, and thus polymerization does not proceed easily. Therefore, when Step 4D described later is performed, the alignment state of the liquid crystal compound changes.

즉, 공정 3D를 실시함으로써, 조성물층의 기판 측의 영역(하측 영역)에 있어서는 액정 화합물의 배향 상태의 고정화가 진행되기 쉽다. 또, 조성물층의 기판 측과 반대 측의 영역(상측 영역)에 있어서는, 액정 화합물의 배향 상태의 고정화는 진행되기 어려워, 후술하는 공정 4D에 의하여 액정 화합물의 배향 상태가 변화한 상태로 된다.That is, by performing step 3D, fixation of the alignment state of the liquid crystal compound tends to proceed in the region (lower region) on the substrate side of the composition layer. In addition, in the region (upper region) of the composition layer opposite to the substrate side, it is difficult to fix the orientation state of the liquid crystal compound, and the orientation state of the liquid crystal compound is changed by Step 4D described later.

공정 3D에 있어서의 광조사의 각종 조건(산소 농도, 조사 시간, 조사량 등)은, 상술한 공정 3A에 있어서의 광조사의 각종 조건과 동일하다.Various conditions (oxygen concentration, irradiation time, irradiation amount, etc.) of light irradiation in Step 3D are the same as the various conditions of light irradiation in Step 3A described above.

<공정 4D><Process 4D>

공정 4D는, 공정 3D 이후, 조성물층에, 광조사 시보다 높고, 또한, 액정 화합물이 등방상이 되는 온도 이상으로 가열 처리를 실시하는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 조성물층 중의 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있지 않은 상측 영역에 있어서, 액정 화합물이 등방상을 나타낸다.Step 4D is a step of heating the composition layer after step 3D at a temperature higher than that at the time of light irradiation and higher than that at which the liquid crystal compound becomes isotropic. By carrying out this process, in the upper area|region where the orientation state of the liquid crystal compound in a composition layer is not fixed, the liquid crystal compound shows an isotropic phase.

이하에서는, 도면을 이용하여 본 공정의 기구를 설명한다.Below, the mechanism of this process is demonstrated using drawing.

상술한 바와 같이, 도 13에 나타낸 조성물층(420)에 대하여 공정 3D를 실시하면, 하측 영역(420A)에 있어서는 액정 화합물의 배향 상태가 고정되는 데 대하여, 상측 영역(420B)에서는 액정 화합물의 중합은 진행되기 어렵고, 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있지 않다.As described above, when the step 3D is performed on the composition layer 420 shown in FIG. 13, the alignment state of the liquid crystal compound is fixed in the lower region 420A, while the liquid crystal compound is polymerized in the upper region 420B. is difficult to progress, and the alignment state of the liquid crystal compound is not fixed.

그 때문에, 공정 4D를 실시하면, 도 14에 나타내는 바와 같이, 상측 영역(420B)에 있어서는 액정 화합물의 중합이 진행되고 있지 않기 때문에, 액정 화합물의 배향 상태가 붕괴되어, 등방상이 된다.Therefore, when step 4D is performed, as shown in FIG. 14 , since the polymerization of the liquid crystal compound does not proceed in the upper region 420B, the alignment state of the liquid crystal compound is collapsed, resulting in an isotropic phase.

한편, 상술한 바와 같이, 조성물층(420)의 하측 영역(420A)에 있어서는 공정 3D 시에 액정 화합물의 중합이 진행되어 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어 있기 때문에, 액정 화합물의 재배향은 진행되지 않는다.On the other hand, as described above, in the lower region 420A of the composition layer 420, the polymerization of the liquid crystal compound proceeds during the step 3D and the orientation state of the liquid crystal compound is fixed, so the liquid crystal compound is not rearranged. don't

상기와 같이, 공정 4D를 실시함으로써, 두께 방향을 따라, 액정 화합물의 배향 상태(예를 들면, 수평 배향 상태)를 고정하여 이루어지는 영역과, 액정 화합물이 배향하고 있지 않은 상태(액정 화합물의 등방상)를 고정하여 이루어지는 영역을 갖는 광학 이방성층이 형성된다.As described above, by performing step 4D, a region formed by fixing the alignment state (for example, horizontal alignment state) of the liquid crystal compound along the thickness direction, and a state in which the liquid crystal compound is not aligned (isotropic phase of the liquid crystal compound) ) is formed to form an optically anisotropic layer having a region formed by fixing.

가열 처리는, 광조사 시의 온도보다 높고, 또한, 액정 화합물이 등방상이 되는 온도 이상에서 실시한다.The heat treatment is performed at a temperature higher than the temperature at the time of light irradiation and higher than the temperature at which the liquid crystal compound becomes an isotropic phase.

가열 처리의 온도와, 광조사 시의 온도의 차는, 5℃ 이상이 바람직하고, 10~110℃가 보다 바람직하며, 20~110℃가 보다 바람직하다.The difference between the temperature of the heat treatment and the temperature during light irradiation is preferably 5°C or higher, more preferably 10 to 110°C, more preferably 20 to 110°C.

가열 처리의 온도는, 광조사 시의 온도보다 높으며, 조성물층 중의 고정되어 있지 않은 액정 화합물을 등방상으로 하는 온도인 것이 바람직하고, 보다 구체적으로는, 40~250℃의 경우가 많으며, 50~150℃의 경우가 보다 많고, 50℃ 초과 150℃ 이하의 경우가 더 많으며, 60~130℃의 경우가 특히 많다.The temperature of the heat treatment is higher than the temperature at the time of light irradiation, and is preferably a temperature at which the non-fixed liquid crystal compound in the composition layer is in an isotropic phase, more specifically, it is often 40 to 250 ° C., and 50 to 250 ° C. There are more cases of 150 ° C, more cases of more than 50 ° C and less than 150 ° C, and especially many cases of 60 ~ 130 ° C.

가열 시간으로서는, 0.01~60분간의 경우가 많고, 0.03~5분간의 경우가 보다 많다.As heating time, it is 0.01 to 60 minutes in many cases, and 0.03 to 5 minutes in many cases.

<공정 5D><Process 5D>

공정 5D는, 공정 4D 이후, 조성물층에 대하여 경화 처리를 실시하여, 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층을 형성하는 공정이다. 본 공정을 실시함으로써, 조성물층 중의 액정 화합물의 배향 상태가 고정되어, 결과적으로 소정의 광학 이방성층이 형성된다.Step 5D is a step of performing a curing treatment on the composition layer after step 4D to form an optically anisotropic layer having a plurality of regions in which the alignment states of the liquid crystal compounds are different along the thickness direction. By carrying out this process, the alignment state of the liquid crystal compound in the composition layer is fixed, and as a result, a predetermined optically anisotropic layer is formed.

공정 5D에서의 경화 처리의 방법으로서는, 공정 5A에서의 경화 처리의 방법을 들 수 있다.As a method of hardening treatment in step 5D, the method of hardening treatment in step 5A can be mentioned.

광학 이방성층의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 0.05~10μm가 바람직하고, 0.1~8.0μm가 보다 바람직하며, 0.2~6.0μm가 더 바람직하다.The thickness of the optically anisotropic layer is not particularly limited, but is preferably 0.05 to 10 μm, more preferably 0.1 to 8.0 μm, and still more preferably 0.2 to 6.0 μm.

또한, 상기 도 13 및 14에 있어서는, 두께 방향을 따라, 수평 배향하고 있는 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역과, 액정 화합물이 등방상을 나타내는 상태를 고정하여 이루어지는 영역을 갖는 광학 이방성층의 양태에 대하여 설명했지만, 액정 화합물이 등방상을 나타내는 상태를 고정하여 이루어지는 영역이 포함되어 있으면, 이 양태에는 제한되지 않는다.13 and 14, an optically anisotropic layer having a region formed by fixing the alignment state of the horizontally aligned liquid crystal compound and a region formed by fixing the state in which the liquid crystal compound exhibits an isotropic phase along the thickness direction. Although the embodiment has been described, it is not limited to this embodiment as long as a region formed by fixing the state in which the liquid crystal compound exhibits an isotropic phase is included.

예를 들면, 액정 화합물의 배향 상태로서는, 액정 화합물이 봉상 액정 화합물인 경우, 그 배향 상태로서는, 예를 들면, 네마틱 배향(네마틱상을 형성하고 있는 상태), 스멕틱 배향(스멕틱상을 형성하고 있는 상태), 콜레스테릭 배향(콜레스테릭상을 형성하고 있는 상태), 및, 하이브리드 배향을 들 수 있다. 액정 화합물이 디스코틱 액정 화합물인 경우, 그 배향 상태로서는, 네마틱 배향, 칼럼너 배향(칼럼너상을 형성하고 있는 상태), 및, 콜레스테릭 배향을 들 수 있다.For example, as the orientation state of the liquid crystal compound, when the liquid crystal compound is a rod-shaped liquid crystal compound, the orientation state is, for example, nematic orientation (state in which a nematic phase is formed), smectic orientation (formation of a smectic phase), state), cholesteric orientation (state in which cholesteric phase is formed), and hybrid orientation. When the liquid crystal compound is a discotic liquid crystal compound, examples of the alignment state include nematic alignment, columnar alignment (a state in which a columnar phase is formed), and cholesteric alignment.

보다 구체적으로는, 두께 방향을 따라, 수직 배향하고 있는 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역과, 액정 화합물이 등방상을 나타내는 상태를 고정하여 이루어지는 영역을 갖는 광학 이방성층을 형성해도 된다. 또, 두께 방향을 따라, 액정 화합물을 이용하여 형성된 콜레스테릭 액정상을 고정하여 이루어지는 영역과, 액정 화합물이 등방상을 나타내는 상태를 고정하여 이루어지는 영역을 갖는 광학 이방성층을 형성해도 된다.More specifically, an optically anisotropic layer having a region formed by fixing the alignment state of vertically aligned liquid crystal compounds and a region obtained by fixing the state in which the liquid crystal compound exhibits an isotropic phase may be formed along the thickness direction. Further, along the thickness direction, an optically anisotropic layer having a region formed by fixing a cholesteric liquid crystal phase formed using a liquid crystal compound and a region formed by fixing a state in which the liquid crystal compound exhibits an isotropic phase may be formed.

제4 실시형태에 있어서의 광학 이방성층의 광학 특성은 특별히 제한되지 않지만, λ/4판으로서 기능하는 것이 바람직하다.The optical properties of the optically anisotropic layer in the fourth embodiment are not particularly limited, but it is preferable to function as a λ/4 plate.

λ/4판은, 소정의 특정 파장의 직선 편광을 원편광으로(또는, 원편광을 직선 편광으로) 변환하는 기능을 갖는 판이며, 특정 파장 λnm에 있어서의 면내 리타데이션 Re(λ)가 Re(λ)=λ/4를 충족시키는 판(광학 이방성층)을 말한다.The λ/4 plate is a plate having a function of converting linearly polarized light of a predetermined specific wavelength into circularly polarized light (or circularly polarized light into linearly polarized light), and the in-plane retardation Re(λ) at a specific wavelength λnm is Re It refers to a plate (optically anisotropic layer) that satisfies (λ)=λ/4.

이 식은, 가시광역의 어느 하나의 파장(예를 들면, 550nm)에 있어서 달성되어 있으면 되지만, 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션 Re(550)이, 110nm≤Re(550)≤180nm의 관계를 충족시키는 것이 바람직하다.This formula only needs to be achieved at any wavelength in the visible light range (eg 550 nm), but the in-plane retardation Re(550) at a wavelength of 550 nm satisfies the relationship of 110 nm ≤ Re (550) ≤ 180 nm It is desirable to do

<<용도>><<Use>>

광학 이방성층은 다양한 부재와 조합할 수 있다.The optically anisotropic layer can be combined with various members.

예를 들면, 상기 광학 이방성층은, 다른 광학 이방성층과 조합해도 된다. 즉, 도 15에 나타내는 바와 같이, 기판(10)과, 상술한 제조 방법에 의하여 제조되는 광학 이방성층(20)과, 다른 광학 이방성층(22)을 포함하는 적층체(24)를 제작해도 된다. 또한, 도 15에 기재된 적층체(24)는 기판(10)을 포함하고 있지만, 적층체 중에 기판은 포함되어 있지 않아도 된다.For example, the optically anisotropic layer may be combined with another optically anisotropic layer. That is, as shown in FIG. 15 , a laminate 24 including a substrate 10, an optically anisotropic layer 20 manufactured by the above-described manufacturing method, and another optically anisotropic layer 22 may be produced. . In addition, although the laminate 24 described in FIG. 15 includes the substrate 10, the substrate does not have to be included in the laminate.

다른 광학 이방성층은 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, A 플레이트(포지티브 A 플레이트 및 네거티브 A 플레이트) 및 C 플레이트(포지티브 C 플레이트 및 네거티브 C 플레이트)를 들 수 있다. 그중에서도, 후술하는 다양한 용도(예를 들면, 원편광판)에 적용하기 쉬운 점에서, C 플레이트가 바람직하다.The other optically anisotropic layer is not particularly limited, and examples thereof include an A plate (positive A plate and negative A plate) and a C plate (positive C plate and negative C plate). Among them, the C plate is preferable because it is easy to apply to various uses (for example, a circular polarizing plate) described later.

C 플레이트의 파장 550nm에 있어서의 두께 방향의 리타데이션의 절댓값의 범위는 특별히 제한되지 않지만, 5~300nm가 바람직하고, 10~200nm가 보다 바람직하다.The range of the absolute value of the retardation in the thickness direction at a wavelength of 550 nm of the C plate is not particularly limited, but is preferably 5 to 300 nm and more preferably 10 to 200 nm.

또한, 본 명세서에 있어서, A 플레이트 및 C 플레이트는 이하와 같이 정의된다.In addition, in this specification, A plate and C plate are defined as follows.

A 플레이트는, 포지티브 A 플레이트(양의 A 플레이트)와 네거티브 A 플레이트(음의 A 플레이트)의 2종이 있으며, 필름면 내의 지상축 방향(면내에서의 굴절률이 최대가 되는 방향)의 굴절률을 nx, 면내의 지상축과 면내에서 직교하는 방향의 굴절률을 ny, 두께 방향의 굴절률을 nz로 했을 때, 포지티브 A 플레이트는 식 (A1)의 관계를 충족시키는 것이며, 네거티브 A 플레이트는 식 (A2)의 관계를 충족시키는 것이다. 또한, 포지티브 A 플레이트는 Rth가 양의 값을 나타내고, 네거티브 A 플레이트는 Rth가 음의 값을 나타낸다.There are two types of A plate, a positive A plate (positive A plate) and a negative A plate (negative A plate), and the refractive index in the slow axis direction within the film plane (the direction in which the refractive index within the plane becomes the maximum) is nx, When the refractive index in the direction perpendicular to the in-plane slow axis and the in-plane direction is ny and the refractive index in the thickness direction is nz, the positive A plate satisfies the relationship of equation (A1), and the negative A plate has the relationship of equation (A2) is to satisfy In addition, the positive A plate shows a positive Rth value, and the negative A plate shows a negative Rth value.

식 (A1) nx>ny≒nzEquation (A1) nx>ny≒nz

식 (A2) ny<nx≒nzEquation (A2) ny<nx≒nz

또한, 상기 "≒"이란, 양자가 완전하게 동일한 경우뿐만 아니라, 양자가 실질적으로 동일한 경우도 포함한다. "실질적으로 동일"이란, 예를 들면, (ny-nz)×d(단, d는 필름의 두께이다)가, -10~10nm, 바람직하게는 -5~5nm인 경우도 "ny≒nz"에 포함되고, (nx-nz)×d가, -10~10nm, 바람직하게는 -5~5nm인 경우도 "nx≒nz"에 포함된다.In addition, the said "≒" includes not only the case where both are completely the same, but also the case where both are substantially the same. “Substantially the same” means “ny≒nz” also when (ny-nz)×d (where d is the thickness of the film) is -10 to 10 nm, preferably -5 to 5 nm, for example. , and the case where (nx-nz)×d is -10 to 10 nm, preferably -5 to 5 nm, is also included in "nx ≈ nz".

C 플레이트는, 포지티브 C 플레이트(양의 C 플레이트)와 네거티브 C 플레이트(음의 C 플레이트)의 2종이 있고, 포지티브 C 플레이트는 식 (C1)의 관계를 충족시키는 것이며, 네거티브 C 플레이트는 식 (C2)의 관계를 충족시키는 것이다. 또한, 포지티브 C 플레이트는 Rth가 음의 값을 나타내고, 네거티브 C 플레이트는 Rth가 양의 값을 나타낸다.There are two types of C plate, positive C plate (positive C plate) and negative C plate (negative C plate), the positive C plate satisfies the relationship of formula (C1), and the negative C plate is the formula (C2 ) to satisfy the relationship. In addition, the positive C plate shows a negative Rth value, and the negative C plate shows a positive Rth value.

식 (C1) nz>nx≒nyEquation (C1) nz>nx≒ny

식 (C2) nz<nx≒nyEquation (C2) nz<nx≒ny

또한, 상기 "≒"이란, 양자가 완전하게 동일한 경우뿐만 아니라, 양자가 실질적으로 동일한 경우도 포함한다. "실질적으로 동일"이란, 예를 들면, (nx-ny)×d(단, d는 필름의 두께이다)가, 0~10nm, 바람직하게는 0~5nm인 경우도 "nx≒ny"에 포함된다.In addition, the said "≒" includes not only the case where both are completely the same, but also the case where both are substantially the same. “Substantially the same” means, for example, that “nx≒ny” includes the case where (nx−ny)×d (where d is the film thickness) is 0 to 10 nm, preferably 0 to 5 nm. do.

상기 적층체의 제조 방법은 특별히 제한되지 않고, 공지의 방법을 들 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 제조 방법에 의하여 얻어지는 광학 이방성층과, 다른 광학 이방성층(예를 들면, C 플레이트)을 적층하여, 적층체를 얻는 방법을 들 수 있다. 상기 적층의 방법으로서는, 별도 제작한 다른 광학 이방성층을 본 발명의 제조 방법에 의하여 얻어지는 광학 이방성층 상에 첩합해도 되고, 본 발명의 제조 방법에 의하여 얻어지는 광학 이방성층 상에 다른 광학 이방성층을 형성하기 위한 조성물을 도포하여 다른 광학 이방성층을 형성해도 된다.The manufacturing method of the laminate is not particularly limited, and a known method may be used. For example, a method of obtaining a laminate by laminating an optically anisotropic layer obtained by the production method of the present invention and another optically anisotropic layer (for example, C plate) is exemplified. As the lamination method, another optically anisotropic layer produced separately may be bonded onto the optically anisotropic layer obtained by the production method of the present invention, and another optically anisotropic layer is formed on the optically anisotropic layer obtained by the production method of the present invention A composition for the above may be applied to form another optically anisotropic layer.

또, 본 발명의 제조 방법에서 얻어지는 광학 이방성층은, 편광자와 조합해도 된다. 즉, 도 16에 나타내는 바와 같이, 기판(10)과, 상술한 제조 방법에 의하여 제조되는 광학 이방성층(20)과, 편광자(26)를 포함하는 편광자 부착 광학 이방성층(28)을 제작해도 된다. 도 16에 있어서는, 기판(10) 상에 편광자(26)가 배치되지만, 이 양태에는 제한되지 않고, 광학 이방성층(20) 상에 편광자(26)가 배치되어 있어도 된다.Moreover, you may combine the optically anisotropic layer obtained by the manufacturing method of this invention with a polarizer. That is, as shown in FIG. 16 , the optically anisotropic layer 28 with a polarizer including the substrate 10, the optically anisotropic layer 20 manufactured by the above-described manufacturing method, and the polarizer 26 may be produced. . In FIG. 16 , the polarizer 26 is disposed on the substrate 10, but this aspect is not limited, and the polarizer 26 may be disposed on the optically anisotropic layer 20.

또, 도 16에 기재된 편광자 부착 광학 이방성층(28)은 기판(10)을 포함하고 있지만, 편광자 부착 광학 이방성층 중에 기판은 포함되어 있지 않아도 된다.Moreover, although the optically anisotropic layer 28 with a polarizer described in FIG. 16 contains the board|substrate 10, the board|substrate does not need to be contained in the optically anisotropic layer with a polarizer.

광학 이방성층과 편광자를 적층할 때의 위치 관계는 특별히 제한되지 않지만, 광학 이방성층이, 두께 방향을 따라 뻗는 나선축을 따라 비틀림 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 제1 영역과, 호모지니어스 배향한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 제2 영역을, 두께 방향을 따라 갖는 경우, 제2 영역의 면내 지상축과 편광자의 흡수축이 이루는 각도의 절댓값은, 광학 이방성층을 원편광판 등에 적합하게 적용할 수 있는 점에서, 5~25°가 바람직하고, 10~20°가 보다 바람직하다.The positional relationship at the time of laminating the optically anisotropic layer and the polarizer is not particularly limited, but the optically anisotropic layer fixes the alignment state of the liquid crystal compound torsionally aligned along the helical axis extending along the thickness direction. When the second region formed by fixing the alignment state of the aligned liquid crystal compound is provided along the thickness direction, the absolute value of the angle between the in-plane slow axis of the second region and the absorption axis of the polarizer is such that the optically anisotropic layer is suitable for a circular polarizing plate or the like. In view of the fact that it can be applied, it is preferably 5 to 25 °, and more preferably 10 to 20 °.

또, 상기 제2 영역의 면내 지상축과 편광자의 흡수축이 이루는 각도가 음일 때에는, 제1 영역에서의 액정 화합물의 비틀림 각도도 음인 것이 바람직하고, 상기 제2 영역의 면내 지상축과 편광자의 흡수축이 이루는 각도가 양일 때에는, 제1 영역에서의 액정 화합물의 비틀림 각도도 양인 것이 바람직하다.In addition, when the angle between the in-plane slow axis of the second region and the absorption axis of the polarizer is negative, it is preferable that the twist angle of the liquid crystal compound in the first region is also negative, and the absorption of the polarizer and the in-plane slow axis of the second region is negative. When the angle formed by the axis is positive, it is preferable that the twist angle of the liquid crystal compound in the first region is also positive.

또한, 상기 면내 지상축과 편광자가 이루는 각도가 음인 경우란, 편광자 측으로부터 시인했을 때에, 편광자의 흡수축을 기준으로 하여 면내 지상축의 회전 각도가 시계 방향인 경우를 의미하고, 상기 면내 지상축과 편광자가 이루는 각도가 양인 경우란, 편광자 측으로부터 시인했을 때에, 편광자의 흡수축을 기준으로 하여 면내 지상축의 회전 각도가 반시계 방향인 경우를 의미한다.In addition, the case where the angle formed by the in-plane slow axis and the polarizer is negative means the case where the rotation angle of the in-plane slow axis with respect to the absorption axis of the polarizer is clockwise when viewed from the polarizer side, and the in-plane slow axis and the polarizer The case where the angle formed by is positive means the case where the rotation angle of the in-plane slow axis is counterclockwise with respect to the absorption axis of the polarizer when viewed from the polarizer side.

또, 액정 화합물의 비틀림 각도에 관해서는, 표면 측(앞측)에 있는 액정 화합물의 배향 방향을 기준으로, 안측의 액정 화합물의 배향 방향이 시계 방향(우측 회전)일 때를 음, 반시계 방향(좌측 회전)일 때를 양으로서 나타낸다.In addition, with respect to the twist angle of the liquid crystal compound, when the orientation direction of the liquid crystal compound on the inner side is clockwise (right rotation) with respect to the orientation direction of the liquid crystal compound on the surface side (front side) as a reference, counterclockwise ( Left rotation) is expressed as a quantity.

편광자는, 자연광을 특정 직선 편광으로 변환하는 기능을 갖는 부재이면 되고, 예를 들면, 흡수형 편광자를 들 수 있다.The polarizer may be a member having a function of converting natural light into specific linearly polarized light, and examples thereof include an absorption type polarizer.

편광자의 종류는 특별히 제한은 없고, 통상 이용되고 있는 편광자를 이용할 수 있으며, 예를 들면, 아이오딘계 편광자, 이색성 염료를 이용한 염료계 편광자, 및, 폴리엔계 편광자를 들 수 있다. 아이오딘계 편광자 및 염료계 편광자는, 일반적으로, 폴리바이닐알코올에 아이오딘 또는 이색성 염료를 흡착시켜, 연신함으로써 제작된다.The type of polarizer is not particularly limited, and a commonly used polarizer can be used, and examples thereof include an iodine-based polarizer, a dye-based polarizer using a dichroic dye, and a polyene-based polarizer. An iodine-type polarizer and a dye-type polarizer are generally produced by adsorbing iodine or a dichroic dye to polyvinyl alcohol and extending it.

또한, 편광자의 편면 또는 양면에는, 보호막이 배치되어 있어도 된다.Moreover, a protective film may be arrange|positioned on the single side|surface or both surfaces of a polarizer.

상기 편광자 부착 광학 이방성층의 제조 방법은 특별히 제한되지 않고, 공지의 방법을 들 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 제조 방법에 의하여 얻어지는 광학 이방성층과, 편광자를 적층하여, 편광자 부착 광학 이방성층을 얻는 방법을 들 수 있다.The manufacturing method of the said optically anisotropic layer with a polarizer is not specifically limited, A well-known method is mentioned. For example, the method of laminating|stacking the optically anisotropic layer obtained by the manufacturing method of this invention, and a polarizer, and obtaining the optically anisotropic layer with a polarizer is mentioned.

또한, 상기에서는 광학 이방성층과 편광자를 적층하는 양태에 대하여 설명했지만, 본 발명에 있어서는, 상술한 적층체와 편광자를 적층하여, 편광자 부착 적층체를 제조해도 된다.In addition, although the aspect of laminating|stacking an optically anisotropic layer and a polarizer was demonstrated above, in this invention, you may manufacture a laminated body with a polarizer by laminating the above-mentioned laminated body and a polarizer.

광학 이방성층은 다양한 용도에 적용할 수 있다. 예를 들면, 광학 이방성층은 원편광판에 적합하게 적용할 수 있고, 상기 편광자 부착 광학 이방성층을 원편광판으로서 이용할 수도 있다.The optically anisotropic layer can be applied to various uses. For example, the optically anisotropic layer can be suitably applied to a circular polarizing plate, and the optically anisotropic layer with a polarizer can also be used as a circular polarizing plate.

상기 구성을 갖는 원편광판은, 액정 표시 장치(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD), 및, 음극관 표시 장치(CRT)와 같은 화상 표시 장치의 반사 방지 용도에 적합하게 이용되어, 표시광의 콘트라스트비를 향상시킬 수 있다.A circularly polarizing plate having the above configuration is suitable for antireflection applications in image display devices such as liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs), electroluminescence displays (ELDs), and cathode tube displays (CRTs). Thus, the contrast ratio of display light can be improved.

예를 들면, 유기 EL 표시 장치의 광취출면 측에 본 발명의 원편광판을 이용한 양태를 들 수 있다. 이 경우, 외광은 편광막에 의하여 직선 편광이 되고, 다음에 광학 이방성층을 통과함으로써, 원편광이 된다. 이것이 금속 전극에서 반사되었을 때에 원편광 상태가 반전하고, 다시 광학 이방성층을 통과했을 때에, 입사 시부터 90° 기울어진 직선 편광이 되며, 편광막에 도달하여 흡수된다. 결과적으로, 외광의 영향을 억제할 수 있다.For example, an aspect in which the circular polarizing plate of the present invention is used on the light extraction surface side of an organic EL display device is exemplified. In this case, external light becomes linearly polarized light by the polarizing film and then becomes circularly polarized light by passing through the optically anisotropic layer. When this is reflected from the metal electrode, the circularly polarized light state is reversed, and when it passes through the optically anisotropic layer again, it becomes linearly polarized light tilted by 90° from the time of incidence, and reaches the polarizing film and is absorbed. As a result, the influence of external light can be suppressed.

그중에서도, 상술한 편광자 부착 광학 이방성층 또는 편광자 부착 적층체는, 유기 EL 표시 장치에 적용되는 것이 바람직하다. 즉, 편광자 부착 광학 이방성층 또는 편광자 부착 적층체는, 유기 EL 표시 장치의 유기 EL 패널 상에 배치되어, 반사 방지 용도에 적용되는 것이 바람직하다.Especially, it is preferable that the optically anisotropic layer with a polarizer or the laminated body with a polarizer mentioned above is applied to an organic electroluminescent display device. That is, it is preferable that the optically anisotropic layer with a polarizer or the laminated body with a polarizer is disposed on an organic EL panel of an organic EL display device and applied to antireflection applications.

유기 EL 패널은, 양극, 음극의 한 쌍의 전극 간에 발광층 혹은 발광층을 포함하는 복수의 유기 화합물 박막을 형성한 부재이며, 발광층 외에 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 주입층, 전자 수송층, 및, 보호층 등을 가져도 되고, 또 이들 각층(各層)은 각각 다른 기능을 구비한 것이어도 된다. 각층의 형성에는 각각 다양한 재료를 이용할 수 있다.An organic EL panel is a member in which a light emitting layer or a plurality of organic compound thin films including a light emitting layer are formed between a pair of electrodes of an anode and a cathode, and in addition to the light emitting layer, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, an electron transport layer, and a protective layer It may have layers or the like, and each layer may have a different function. Various materials can be used for the formation of each layer.

광학 이방성층은 액정 표시 장치의 광학 보상판에도 적합하게 적용할 수 있으며, 상기 편광자 부착 광학 이방성층을 액정 표시 장치의 광학 보상판으로서 이용할 수도 있다.The optically anisotropic layer can also be suitably applied to an optical compensation plate of a liquid crystal display device, and the optically anisotropic layer with a polarizer can also be used as an optical compensation plate of a liquid crystal display device.

액정 표시 장치에 이용되는 액정 셀은, VA(Vertical Alignment) 모드, OCB(Optically Compensated Bend) 모드, IPS(In-Plane-Switching) 모드, FFS(Fringe-Field-Switching) 모드, 또는, TN(Twisted Nematic) 모드가 바람직하지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.The liquid crystal cell used in the liquid crystal display device is VA (Vertical Alignment) mode, OCB (Optically Compensated Bend) mode, IPS (In-Plane-Switching) mode, FFS (Fringe-Field-Switching) mode, or TN (Twisted Nematic) mode is preferred, but not limited thereto.

상기 편광자 부착 광학 이방층을 IPS 모드 또는 FFS 모드의 액정 표시 장치의 광학 보상판으로서 이용하는 경우는, 광학 이방성층이 도 12에 나타내는 양태와 같이, 호모지니어스 배향(수평 배향)한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역과 호메오트로픽 배향(수직 배향)한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역을 갖는 것이 바람직하다. 이 경우, 호모지니어스 배향(수평 배향)한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역의 면내 지상축과, 편광자의 흡수축이 이루는 각이 직교 또는 평행인 것이 바람직하고, 구체적으로는, 호모지니어스 배향(수평 배향)한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역의 면내 지상축과, 편광자의 흡수축이 이루는 각이 0~5° 또는 85~95°인 것이 보다 바람직하다.When the optically anisotropic layer with a polarizer is used as an optical compensating plate of an IPS mode or FFS mode liquid crystal display device, the optically anisotropic layer is homogeneously aligned (horizontal alignment) as shown in FIG. 12. Alignment state of the liquid crystal compound It is preferable to have a region formed by fixing and a region formed by fixing the alignment state of the homeotropically aligned (vertical alignment) liquid crystal compound. In this case, it is preferable that the angle formed by the in-plane slow axis of the region formed by fixing the alignment state of the liquid crystal compound subjected to homogeneous alignment (horizontal alignment) and the absorption axis of the polarizer is orthogonal or parallel. Specifically, homogeneous alignment (Horizontal alignment) It is more preferable that the angle formed by the in-plane slow axis of the region formed by fixing the alignment state of the liquid crystal compound and the absorption axis of the polarizer is 0 to 5° or 85 to 95°.

여기에서, 호모지니어스 배향(수평 배향)한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역의 "면내 지상축"은, 호모지니어스 배향(수평 배향)한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역의 면내에 있어서 굴절률이 최대가 되는 방향을 의미하고, 편광자의 "흡수축"은, 흡광도가 가장 높은 방향을 의미한다.Here, the "in-plane slow axis" of the region formed by fixing the alignment state of the homogeneous (horizontal alignment) liquid crystal compound is in the plane of the region formed by fixing the alignment state of the homogeneous (horizontal alignment) liquid crystal compound. means the direction in which the refractive index is greatest, and the "absorption axis" of the polarizer means the direction in which the absorbance is highest.

또, 상기 편광자 부착 광학 이방층을 IPS 모드 또는 FFS 모드의 액정 표시 장치의 광학 보상판으로서 이용하는 경우는, 편광자, 호메오트로픽 배향(수직 배향)한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역, 호모지니어스 배향(수평 배향)한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역, 및, 액정 셀의 순서로 배치되거나, 또는, 편광자, 호모지니어스 배향(수평 배향)한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역, 호메오트로픽 배향(수직 배향)한 액정 화합물의 배향 상태를 고정하여 이루어지는 영역, 및, 액정 셀의 순서로 배치되는 것이 바람직하다.In addition, when the optically anisotropic layer with a polarizer is used as an optical compensation plate of an IPS mode or FFS mode liquid crystal display device, a polarizer, a region formed by fixing the alignment state of a homeotropically aligned (vertical alignment) liquid crystal compound, a homo A region formed by fixing the alignment state of liquid crystal compounds subjected to genius alignment (horizontal alignment), and a region formed by fixing the alignment state of liquid crystal compounds arranged in the order of liquid crystal cells or polarizers and homogeneous alignment (horizontal alignment) , a region formed by fixing the alignment state of the homeotropically aligned (vertical alignment) liquid crystal compound, and a liquid crystal cell are preferably arranged in this order.

실시예Example

이하에 실시예와 비교예를 들어 본 발명의 특징을 더 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 및, 처리 수순 등은, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한 적절히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예에 의하여 제한적으로 해석되어야 하는 것은 아니다.The features of the present invention will be described in more detail below with reference to Examples and Comparative Examples. Materials, amount of use, ratio, process content, process procedure, etc. shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below.

<실시예 1><Example 1>

(셀룰로스아실레이트 필름(기판)의 제작)(Production of cellulose acylate film (substrate))

하기 조성물을 믹싱 탱크에 투입하고, 교반하여, 추가로 90℃에서 10분간 가열했다. 그 후, 얻어진 조성물을, 평균 구멍 직경 34μm의 여과지 및 평균 구멍 직경 10μm의 소결 금속 필터로 여과하여, 도프를 조제했다. 도프의 고형분 농도는 23.5질량%이며, 가소제의 첨가량은 셀룰로스아실레이트에 대한 비율이며, 도프의 용제는 염화 메틸렌/메탄올/뷰탄올=81/18/1(질량비)이다.The following composition was put into a mixing tank, stirred, and further heated at 90°C for 10 minutes. Then, the obtained composition was filtered with a filter paper having an average pore diameter of 34 µm and a sintered metal filter having an average pore diameter of 10 µm to prepare dope. The solid content concentration of dope is 23.5 mass %, the addition amount of a plasticizer is a ratio with respect to cellulose acylate, and the solvent of dope is methylene chloride / methanol / butanol = 81/18/1 (mass ratio).

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셀룰로스아실레이트 도프Cellulose acylate dope

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셀룰로스아실레이트(아세틸 치환도 2.86, 점도 평균 중합도 310)100질량부Cellulose acylate (acetyl substitution degree 2.86, viscosity average degree of polymerization 310) 100 parts by mass

당에스터 화합물 1(화학식 (S4)에 나타낸다) 6.0질량부Sugar ester compound 1 (shown in formula (S4)) 6.0 parts by mass

당에스터 화합물 2(화학식 (S5)에 나타낸다) 2.0질량부Sugar ester compound 2 (shown in formula (S5)) 2.0 parts by mass

실리카 입자 분산액(AEROSIL R972, 닛폰 에어로질(주)제) 0.1질량부Silica particle dispersion (AEROSIL R972, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.1 parts by mass

용제(염화 메틸렌/메탄올/뷰탄올)Solvent (methylene chloride/methanol/butanol)

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[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

상기에서 제작한 도프를, 드럼 제막기를 이용하여 유연했다. 0℃로 냉각된 금속 지지체 상에 접하도록 도프를 다이로부터 유연하고, 그 후, 얻어진 웨브(필름)를 박리했다. 또한, 드럼은 SUS제였다.The dope prepared above was cast using a drum film forming machine. Dope was cast from a die so as to come into contact with the metal support cooled to 0°C, and then the obtained web (film) was peeled off. Moreover, the drum was made from SUS.

유연되어 얻어진 웨브(필름)를, 드럼으로부터 박리 후, 필름 반송 시에 30~40℃에서, 클립으로 웨브의 양단을 클립하여 반송하는 텐터 장치를 이용하여 텐터 장치 내에서 20분간 건조했다. 계속해서, 웨브를 롤 반송하면서 존 가열에 의하여 후건조했다. 얻어진 웨브에 널링을 실시한 후, 권취했다.The web (film) obtained by casting was peeled off from the drum and dried for 20 minutes in a tenter apparatus at 30 to 40° C. during film conveyance using a tenter apparatus that clips both ends of the web with a clip and conveys it. Then, it post-dried by zone heating, carrying out roll conveyance of a web. After knurling was performed on the obtained web, it was wound up.

얻어진 셀룰로스아실레이트 필름의 막두께는 40μm이며, 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션 Re(550)은 1nm, 파장 550nm에 있어서의 두께 방향의 리타데이션 Rth(550)은 26nm였다.The film thickness of the obtained cellulose acylate film was 40 micrometers, and the in-plane retardation Re (550) in wavelength 550 nm was 1 nm and the thickness direction retardation Rth (550) in wavelength 550 nm was 26 nm.

(광학 이방성층의 형성)(Formation of optically anisotropic layer)

상기에서 제작한 셀룰로스아실레이트 필름에 연속적으로 러빙 처리를 실시했다. 이때, 장척상의 필름의 길이 방향과 반송 방향은 평행하고, 필름의 길이 방향(반송 방향)과 러빙 롤러의 회전축이 이루는 각도는 80°로 했다. 필름의 길이 방향(반송 방향)을 90°로 하고, 필름 측으로부터 관찰하여 필름 폭방향을 기준(0°)으로 시계 방향을 양의 값으로 나타내면, 러빙 롤러의 회전축은 10°에 있다. 바꾸어 말하면, 러빙 롤러의 회전축의 위치는, 필름의 길이 방향을 기준으로, 반시계 방향으로 80° 회전시킨 위치이다.The rubbing process was continuously performed on the cellulose acylate film produced above. At this time, the longitudinal direction of the elongated film and the conveying direction were parallel, and the angle formed by the longitudinal direction (conveying direction) of the film and the rotational axis of the rubbing roller was set to 80°. When the longitudinal direction (conveyance direction) of the film is set to 90° and the clockwise direction is indicated as a positive value with respect to the film width direction (0°) as observed from the film side, the rotation axis of the rubbing roller is at 10°. In other words, the position of the rotating shaft of the rubbing roller is a position rotated by 80 degrees counterclockwise with respect to the longitudinal direction of the film.

상기 러빙 처리한 장척상의 셀룰로스아실레이트 필름을 기판으로 하고, 다이 도포기를 이용하여, 하기의 조성의 봉상 액정 화합물을 포함하는 광학 이방성층 형성용 조성물 (1)을 도포하여, 조성물층을 형성했다(공정 1A에 해당). 또한, 공정 1A에 있어서의 조성물층 중의 카이랄제의 가중 평균 나선 유기력의 절댓값은, 0.0μm-1이었다.Using the rubbed long cellulose acylate film as a substrate, a composition for forming an optically anisotropic layer (1) containing a rod-shaped liquid crystal compound having the following composition was applied using a die coater to form a composition layer ( Corresponds to process 1A). In addition, the absolute value of the weighted average spiral induction force of the chiral agent in the composition layer in Step 1A was 0.0 μm -1 .

다음으로, 얻어진 조성물층을 80℃에서 60초간 가열했다(공정 2A에 해당). 이 가열에 의하여 조성물층의 봉상 액정 화합물이 소정의 방향으로 배향했다.Next, the obtained composition layer was heated at 80°C for 60 seconds (corresponding to Step 2A). By this heating, the rod-shaped liquid crystal compound in the composition layer was oriented in a predetermined direction.

그 후, 산소를 포함하는 공기(산소 농도: 약 20체적%)하, 40℃에서, 365nm LED 램프(아크로에지(주)제)를 사용하여 자외선을 조성물층에 5초간 조사했다(조사량: 13mJ/cm2)(공정 3A에 해당).Thereafter, ultraviolet rays were irradiated to the composition layer for 5 seconds at 40° C. under oxygen-containing air (oxygen concentration: about 20% by volume) using a 365 nm LED lamp (manufactured by Acro Edge Co., Ltd.) (irradiation amount: 13 mJ). /cm 2 ) (corresponds to process 3A).

계속해서, 얻어진 조성물층을 80℃에서 10초간 가열했다(공정 4A에 해당).Subsequently, the obtained composition layer was heated at 80°C for 10 seconds (corresponding to Step 4A).

그 후, 질소 퍼지를 행하고, 산소 농도 100체적ppm으로 하여, 80℃에서, 메탈할라이드 램프(아이 그래픽스(주)제)를 사용하여 자외선을 조성물층에 조사하며(조사량: 500mJ/cm2), 액정 화합물의 배향 상태를 고정한 광학 이방성층을 형성했다(공정 5A에 해당). 이와 같이 하여 광학 필름 (F-1)을 제작했다.Thereafter, nitrogen purging was performed, and the composition layer was irradiated with ultraviolet rays using a metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) at 80° C. at an oxygen concentration of 100 ppm by volume (irradiation amount: 500 mJ/cm 2 ), An optically anisotropic layer in which the alignment state of the liquid crystal compound was fixed was formed (corresponding to step 5A). In this way, an optical film (F-1) was produced.

또한, 광학 이방성층 형성용 조성물 (1) 중에 있어서의 좌측 비틀림 카이랄제 (L1)의 365nm에 있어서의 몰 흡광 계수는 40L/(mol·cm)이며, 이 카이랄제의 HTP는, 365nm의 광을 조사(13mJ/cm2)해도, 조사 전과 비교하여, 변화가 없었다.The molar extinction coefficient at 365 nm of the left-twisting chiral agent (L1) in the composition for forming an optically anisotropic layer (1) is 40 L/(mol cm), and the HTP of this chiral agent is 365 nm. Even when light was irradiated (13 mJ/cm 2 ), there was no change compared to before irradiation.

우측 비틀림 카이랄제 (R1)의 365nm에 있어서의 몰 흡광 계수는 38,450L/(mol·cm)이며, 이 카이랄제의 HTP는, 365nm의 광을 조사(13mJ/cm2)하면, 조사 전과 비교하여, 35μm-1 감소했다.The molar extinction coefficient at 365 nm of the right-twisting chiral agent (R1) is 38,450 L/(mol cm), and the HTP of this chiral agent is, when irradiated with light of 365 nm (13 mJ/cm 2 ), the same as before irradiation. In comparison, it decreased by 35 μm -1 .

광중합 개시제(Irgacure819)의 365nm에 있어서의 몰 흡광 계수는 860L/(mol·cm)였다.The molar extinction coefficient at 365 nm of the photopolymerization initiator (Irgacure819) was 860 L/(mol cm).

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광학 이방성층 형성용 조성물 (1)Composition for Forming an Optically Anisotropic Layer (1)

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하기의 봉상 액정 화합물 (A) 80질량부The following rod-shaped liquid crystal compound (A) 80 parts by mass

하기의 봉상 액정 화합물 (B) 10질량부The following rod-shaped liquid crystal compound (B) 10 parts by mass

하기의 중합성 화합물 (C) 10질량부The following polymerizable compound (C) 10 parts by mass

에틸렌옥사이드 변성 트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트Ethylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate

(V#360, 오사카 유키 가가쿠(주)제) 4질량부(V#360, manufactured by Osaka Yuki Kagaku Co., Ltd.) 4 parts by mass

광중합 개시제(IRGACURE819, BASF사제) 3질량부Photopolymerization initiator (IRGACURE819, manufactured by BASF) 3 parts by mass

하기의 좌측 비틀림 카이랄제 (L1) 0.43질량부Left torsion chiralizer (L1) below 0.43 parts by mass

하기의 우측 비틀림 카이랄제 (R1) 0.38질량부The right torsion chiralizer (R1) below 0.38 parts by mass

하기의 폴리머 (A) 0.08질량부The following polymer (A) 0.08 parts by mass

하기의 폴리머 (B) 0.50질량부Polymer (B) below 0.50 parts by mass

메틸아이소뷰틸케톤 116질량부Methyl Isobutyl Ketone 116 mass parts

프로피온산 에틸 40질량부ethyl propionate 40 parts by mass

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봉상 액정 화합물 (A)(이하, 화합물의 혼합물)Rod-shaped liquid crystal compound (A) (hereinafter, a mixture of compounds)

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

봉상 액정 화합물 (B)rod-shaped liquid crystal compound (B)

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

중합성 화합물 (C)Polymerizable compound (C)

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

좌측 비틀림 카이랄제 (L1)Left torsion chiralizer (L1)

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

우측 비틀림 카이랄제 (R1)Right torsion chiralizer (R1)

[화학식 11][Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

폴리머 (A)(식 중, 각 반복 단위에 기재된 수치는, 전체 반복 단위에 대한 각 반복의 함유량(질량%)을 나타낸다.)Polymer (A) (In the formula, the numerical value described in each repeating unit represents the content (mass%) of each repeating unit with respect to all repeating units.)

[화학식 12][Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

폴리머 (B)(식 중, 각 반복 단위에 기재된 수치는, 전체 반복 단위에 대한 각 반복의 함유량(질량%)을 나타낸다.)Polymer (B) (In the formula, the numerical value described in each repeating unit represents the content (mass%) of each repeating unit with respect to all repeating units.)

[화학식 13][Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

상기에서 제작한 광학 필름 (F-1)을 러빙 방향과 평행하게 절삭하고, 편광 현미경으로 광학 이방성층을 단면 방향으로부터 관찰했다. 광학 이방성층의 두께는 2.7μm이고, 광학 이방성층의 기판 측의 두께 (d2) 1.3μm의 영역(제2 영역)은 비틀림각이 없는 호모지니어스 배향이며, 광학 이방성층의 공기 측(기판과 반대 측)의 두께 (d1) 1.4μm의 영역(제1 영역)은 액정 화합물이 비틀림 배향하고 있었다.The optical film (F-1) produced above was cut parallel to the rubbing direction, and the optically anisotropic layer was observed from the cross-sectional direction with a polarizing microscope. The thickness of the optically anisotropic layer is 2.7 μm, and the region (second region) having a thickness (d2) of 1.3 μm on the substrate side of the optically anisotropic layer is a homogeneous orientation without a torsion angle, and the air side of the optically anisotropic layer (opposite to the substrate) In the region (first region) having a thickness (d1) of 1.4 μm of the side), the liquid crystal compound was torsionally oriented.

또한, Axometrics사의 Axoscan, 및, 동사의 해석 소프트웨어(Multi-Layer Analysis)를 이용하여, 광학 필름 (F-1)의 광학 특성을 구했다. 제2 영역의 파장 550nm에 있어서의 Δn2와 두께 d2의 곱(Δn2d1)은 173nm, 액정 화합물의 비틀림각은 0°이며, 필름의 길이 방향에 대한 액정 화합물의 배향축 각도는, 기판에 접하는 측이 -10°, 제1 영역에 접하는 측이 -10°였다.In addition, the optical properties of the optical film (F-1) were obtained using Axometrics' Axoscan and the company's analysis software (Multi-Layer Analysis). The product (Δn2d1) of Δn2 and the thickness d2 at a wavelength of 550 nm in the second region is 173 nm, the twist angle of the liquid crystal compound is 0°, and the angle of the orientation axis of the liquid crystal compound with respect to the longitudinal direction of the film is that the side in contact with the substrate is -10°, the side contacting the first region was -10°.

또, 제1 영역의 파장 550nm에 있어서의 Δn1과 두께 d1의 곱(Δn1d1)은 184nm, 액정 화합물의 비틀림 각도는 75°이며, 필름의 길이 방향에 대한 액정 화합물의 배향축 각도는, 제2 영역에 접하는 측이 -10°, 공기 측이 -85°였다.In addition, the product (Δn1d1) of Δn1 and the thickness d1 at a wavelength of 550 nm in the first region is 184 nm, the twist angle of the liquid crystal compound is 75°, and the orientation axis angle of the liquid crystal compound with respect to the longitudinal direction of the film is The side in contact with was -10°, and the air side was -85°.

또한, 광학 이방성층에 포함되는 액정 화합물의 배향축 각도는, 필름의 길이 방향을 기준의 0°로 하여, 광학 이방성층의 표면 측으로부터 필름을 관찰하고, 시계 방향(우측 회전)일 때를 음, 반시계 방향(좌측 회전)일 때를 양으로서 나타내고 있다.In addition, the orientation axis angle of the liquid crystal compound included in the optically anisotropic layer is negative when the film is observed from the surface side of the optically anisotropic layer with the longitudinal direction of the film as 0° as a reference, and clockwise (clockwise rotation) , the counterclockwise direction (left rotation) is expressed as a quantity.

또, 여기에서 액정 화합물의 비틀림 구조는, 광학 이방성층의 표면 측으로부터 기판을 관찰하고, 표면 측(앞측)에 있는 액정 화합물의 배향 방향을 기준으로, 기판 측(안측)의 액정 화합물의 배향 방향이 시계 방향(우측 회전)일 때를 음, 반시계 방향(좌측 회전)일 때를 양으로서 나타내고 있다.In addition, the torsion structure of the liquid crystal compound here is determined by observing the substrate from the surface side of the optically anisotropic layer, and using the orientation direction of the liquid crystal compound on the surface side (front side) as a reference, the orientation direction of the liquid crystal compound on the substrate side (back side). Clockwise (right rotation) is negative, and counterclockwise (left rotation) is positive.

(편광자의 제작)(Production of polarizer)

두께 80μm의 폴리바이닐알코올(PVA) 필름을, 아이오딘 농도 0.05질량%의 아이오딘 수용액 중에 30℃에서 60초간 침지하여 염색했다. 다음으로, 얻어진 필름을 붕산 농도 4질량% 농도의 붕산 수용액 중에 60초간 침지하고 있는 동안에 원래의 길이의 5배로 세로 연신한 후, 50℃에서 4분간 건조시켜, 두께 20μm의 편광자를 얻었다.A polyvinyl alcohol (PVA) film having a thickness of 80 μm was immersed in an iodine aqueous solution having an iodine concentration of 0.05% by mass at 30° C. for 60 seconds and dyed. Next, while the obtained film was immersed in a boric acid solution having a boric acid concentration of 4% by mass for 60 seconds, it was longitudinally stretched to 5 times the original length, and then dried at 50°C for 4 minutes to obtain a polarizer having a thickness of 20 μm.

(편광자 보호 필름의 제작)(Production of polarizer protective film)

시판 중인 셀룰로스아실레이트계 필름의 후지택 TG40UL(후지필름(주)제)을 준비하고, 1.5몰/리터로 55℃의 수산화 나트륨 수용액 중에 침지한 후, 물로 충분히 수산화 나트륨을 세정했다. 그 후, 0.005몰/리터로 35℃의 희황산 수용액에 얻어진 필름을 1분간 침지한 후, 물에 침지하여 희황산 수용액을 충분히 세정했다. 마지막으로, 얻어진 필름을 120℃에서 충분히 건조시켜, 표면을 비누화 처리한 편광자 보호 필름을 제작했다.A commercially available cellulose acylate film, FUJITAC TG40UL (manufactured by Fujifilm Co., Ltd.) was prepared, immersed in a 55°C sodium hydroxide aqueous solution at 1.5 mol/liter, and then the sodium hydroxide was thoroughly washed with water. Thereafter, the resulting film was immersed in a 35°C dilute sulfuric acid aqueous solution at 0.005 mol/liter for 1 minute, and then immersed in water to sufficiently wash the diluted sulfuric acid aqueous solution. Finally, the obtained film was sufficiently dried at 120°C, and a polarizer protective film having the surface subjected to saponification treatment was produced.

(원편광판의 제작)(Manufacture of circular polarizing plate)

상술한 편광자 보호 필름의 제작과 동일하게, 상기에서 제작한 광학 필름 (F-1)을 비누화 처리하고, 광학 필름 (F-1)에 포함되는 기판면에, 상술한 편광자 및 상술한 편광자 보호 필름을 폴리바이닐알코올계 접착제를 이용하여 연속적으로 첩합하여, 장척상의 원편광판 (P-1)을 제작했다. 즉, 원편광판 (P-1)은, 편광자 보호 필름, 편광자, 기판, 및, 광학 이방성층을 이 순서로 갖고 있었다.In the same way as in the production of the polarizer protective film described above, the optical film (F-1) prepared above is subjected to saponification, and the above-described polarizer and the above-described polarizer protective film are applied to the substrate surface included in the optical film (F-1). were bonded together continuously using a polyvinyl alcohol-based adhesive to produce a long circular polarizing plate (P-1). That is, the circular polarizing plate (P-1) had a polarizer protective film, a polarizer, a substrate, and an optically anisotropic layer in this order.

또한, 편광자의 흡수축은 원편광판의 길이 방향과 일치하고 있고, 편광자의 흡수축에 대한 제2 영역의 면내 지상축의 회전 각도는 10°이며, 편광자의 흡수축에 대한 제1 영역의 제2 영역 측과는 반대 측의 표면의 면내 지상축의 회전 각도는 85°였다.In addition, the absorption axis of the polarizer coincides with the longitudinal direction of the circular polarizing plate, the rotation angle of the in-plane slow axis of the second region with respect to the absorption axis of the polarizer is 10°, and the second region side of the first region with respect to the absorption axis of the polarizer The rotation angle of the in-plane slow axis of the surface on the opposite side was 85°.

또한, 상기 면내 지상축의 회전 각도는, 편광자 측으로부터 광학 이방성층을 관찰하고, 원편광판의 길이 방향을 기준의 0°로 하여, 반시계 방향으로 양, 시계 방향으로 음의 각돗값으로 나타내고 있다.In addition, the rotation angle of the in-plane slow axis is expressed as a positive angular value in the counterclockwise direction and a negative angle value in the clockwise direction, by observing the optically anisotropic layer from the polarizer side and taking the longitudinal direction of the circular polarizing plate as 0 ° as a reference.

<실시예 2><Example 2>

(알칼리 비누화 처리)(alkaline saponification treatment)

상술한 셀룰로스아실레이트 필름을, 온도 60℃의 유전식 가열 롤을 통과시켜, 필름 표면 온도를 40℃로 승온한 후에, 필름의 밴드면에 하기에 나타내는 조성의 알칼리 용액을, 바 코터를 이용하여 도포량 14ml/m2로 도포하고, 110℃로 가열한 (주)노리타케 컴퍼니 리미티드제의 스팀식 원적외 히터 하에, 10초간 반송했다. 계속해서, 동일한 바 코터를 이용하여, 순수를 3ml/m2 도포했다. 이어서, 파운틴 코터에 의한 수세와 에어 나이프에 의한 탈수를 3회 반복한 후에, 70℃의 건조 존에 10초간 반송하여 건조하고, 알칼리 비누화 처리한 셀룰로스아실레이트 필름을 제작했다.After passing the above-described cellulose acylate film through a dielectric heating roll at a temperature of 60 ° C. to raise the film surface temperature to 40 ° C., an alkali solution of the composition shown below is applied to the band surface of the film using a bar coater in an applied amount. It was applied at 14 ml/m 2 and conveyed for 10 seconds under a steam type far-infrared heater made by Noritake Co., Ltd. heated to 110°C. Subsequently, 3 ml/m 2 of pure water was applied using the same bar coater. Subsequently, after repeating water washing with a fountain coater and dehydration with an air knife three times, it was conveyed to a drying zone at 70°C for 10 seconds, dried, and an alkali saponified cellulose acylate film was produced.

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알칼리 용액alkaline solution

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수산화 칼륨 4.7질량부potassium hydroxide 4.7 parts by mass

물 15.8질량부water 15.8 parts by mass

아이소프로판올 63.7질량부isopropanol 63.7 mass parts

계면활성제: C14H29O(CH2CH2O)20H 1.0질량부Surfactant: C 14 H 29 O (CH 2 CH 2 O) 20 H 1.0 parts by mass

프로필렌글라이콜 14.8질량부propylene glycol 14.8 parts by mass

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(배향막의 형성)(Formation of Alignment Film)

셀룰로스아실레이트 필름의 알칼리 비누화 처리를 행한 면에, 하기 조성의 배향막 도포액을 #14의 와이어 바로 연속적으로 도포했다. 60℃의 온풍으로 60초간, 추가로 100℃의 온풍으로 120초간 건조했다.An alignment film coating solution having the following composition was continuously applied to the surface of the cellulose acylate film subjected to the alkali saponification treatment with a #14 wire bar. It dried for 60 seconds with warm air of 60°C and further for 120 seconds with warm air of 100°C.

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배향막 도포액Alignment film coating solution

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하기에 나타내는 변성 폴리바이닐알코올 28질량부Modified polyvinyl alcohol shown below 28 mass parts

시트르산 에스터(AS3, 산쿄 가가쿠(주)제) 1.2질량부Citric acid ester (AS3, manufactured by Sankyo Chemical Co., Ltd.) 1.2 parts by mass

광중합 개시제(Irgacure2959, BASF사제) 0.84질량부Photopolymerization initiator (Irgacure2959, manufactured by BASF) 0.84 parts by mass

글루타르알데하이드 2.8질량부glutaraldehyde 2.8 parts by mass

물 699질량부water 699 mass parts

메탄올 226질량부methanol 226 mass parts

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(변성 폴리바이닐알코올)(denatured polyvinyl alcohol)

[화학식 14][Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

(광학 이방성층의 형성)(Formation of optically anisotropic layer)

상기에서 제작한 배향막에 연속적으로 러빙 처리를 실시했다. 이때, 장척상의 필름의 길이 방향과 반송 방향은 평행하고, 필름의 길이 방향(반송 방향)과 러빙 롤러의 회전축이 이루는 각도는 45°로 했다. 필름의 길이 방향(반송 방향)을 90°로 하고, 필름 측으로부터 관찰하여 필름 폭방향을 기준(0°)으로 시계 방향을 양의 값으로 나타내면, 러빙 롤러의 회전축은 135°에 있다. 바꾸어 말하면, 러빙 롤러의 회전축의 위치는, 필름의 길이 방향을 기준으로, 반시계 방향으로45° 회전시킨 위치이다.Rubbing treatment was continuously performed on the alignment film prepared above. At this time, the longitudinal direction of the elongated film and the conveying direction were parallel, and the angle formed by the longitudinal direction (conveying direction) of the film and the rotational axis of the rubbing roller was set to 45°. When the longitudinal direction (conveyance direction) of the film is set to 90° and the clockwise direction is indicated as a positive value with respect to the film width direction (0°) as observed from the film side, the rotation axis of the rubbing roller is at 135°. In other words, the position of the rotating shaft of the rubbing roller is a position rotated by 45 degrees counterclockwise with respect to the longitudinal direction of the film.

상기 러빙 처리한 배향막 부착 셀룰로스아실레이트 필름을 기판으로 하고, 다이 도포기를 이용하여, 하기의 조성의 봉상 액정 화합물을 포함하는 광학 이방성층 형성용 조성물 (2)를 도포하여, 조성물층을 형성했다(공정 1C에 해당).Using the rubbed cellulose acylate film with an alignment film as a substrate, a composition for forming an optically anisotropic layer (2) containing a rod-shaped liquid crystal compound having the following composition was applied using a die coater to form a composition layer ( Corresponds to process 1C).

다음으로, 얻어진 조성물층을 120℃에서 80초간 가열했다(공정 2C에 해당). 이 가열에 의하여 조성물층의 봉상 액정 화합물이 소정의 방향으로 배향했다.Next, the obtained composition layer was heated at 120°C for 80 seconds (corresponding to step 2C). By this heating, the rod-shaped liquid crystal compound in the composition layer was oriented in a predetermined direction.

그 후, 산소를 포함하는 공기(산소 농도: 약 20체적%)하, 40℃에서, 365nm LED 램프(아크로에지(주)제)를 사용하여 자외선을 조성물층에 5초간 조사했다(조사량: 30mJ/cm2)(공정 3C에 해당).Thereafter, the composition layer was irradiated with ultraviolet rays for 5 seconds at 40° C. under oxygen-containing air (oxygen concentration: about 20% by volume) using a 365 nm LED lamp (manufactured by Acro Edge Co., Ltd.) (irradiation amount: 30 mJ). /cm 2 ) (corresponds to process 3C).

계속해서, 얻어진 조성물층을 90℃에서 10초간 가열했다(공정 4C에 해당).Subsequently, the obtained composition layer was heated at 90°C for 10 seconds (corresponding to Step 4C).

그 후, 질소 퍼지를 행하고, 산소 농도 100체적ppm으로 하여, 55℃에서, 메탈할라이드 램프(아이 그래픽스(주)제)를 사용하여 자외선을 조성물층에 조사하며(조사량: 500mJ/cm2), 액정 화합물의 배향 상태를 고정한 광학 이방성층을 형성했다(공정 5C에 해당). 이와 같이 하여 광학 필름 (F-2)를 제작했다.Thereafter, nitrogen purging was performed, and the composition layer was irradiated with ultraviolet rays using a metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) at 55° C. at an oxygen concentration of 100 volume ppm (irradiation amount: 500 mJ/cm 2 ), An optically anisotropic layer in which the alignment state of the liquid crystal compound was fixed was formed (corresponding to Step 5C). In this way, an optical film (F-2) was produced.

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광학 이방성층 형성용 조성물 (2)Composition for Forming an Optically Anisotropic Layer (2)

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상기의 봉상 액정 화합물 (A) 20질량부The above rod-like liquid crystal compound (A) 20 mass parts

하기의 봉상 액정 화합물 (D) 40질량부The following rod-shaped liquid crystal compound (D) 40 parts by mass

하기의 봉상 액정 화합물 (E) 40질량부The following rod-shaped liquid crystal compound (E) 40 parts by mass

에틸렌옥사이드 변성 트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트Ethylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate

(V#360, 오사카 유키 가가쿠(주)제) 4질량부(V#360, manufactured by Osaka Yuki Kagaku Co., Ltd.) 4 parts by mass

광중합 개시제(IRGACURE819, BASF사제) 3질량부Photopolymerization initiator (IRGACURE819, manufactured by BASF) 3 parts by mass

상기의 폴리머 (A) 0.08질량부Polymer (A) above 0.08 parts by mass

하기의 감광성 화합물 (A) 0.4질량부The following photosensitive compound (A) 0.4 parts by mass

하기의 이온성 화합물 (A) 3.0질량부The following ionic compound (A) 3.0 parts by mass

메틸에틸케톤 156질량부methyl ethyl ketone 156 mass parts

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봉상 액정 화합물 (D)rod-shaped liquid crystal compound (D)

[화학식 15][Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

봉상 액정 화합물 (E)Rod-shaped liquid crystal compound (E)

[화학식 16][Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

감광성 화합물 (A)photosensitive compound (A)

[화학식 17][Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

이온성 화합물 (A)Ionic compounds (A)

[화학식 18][Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

또한, 광학 이방성층 형성용 조성물 (2) 중에 있어서의 감광성 화합물 (A)는, 365nm의 광을 조사(30mJ/cm2)하면, 친수성의 카복실기를 갖는 분해물 (A)를 발생했다.Further, when the photosensitive compound (A) in the composition for forming an optically anisotropic layer (2) was irradiated with light of 365 nm (30 mJ/cm 2 ), a hydrophilic carboxyl group-containing decomposition product (A) was generated.

분해물 (A)Degradate (A)

[화학식 19][Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

상기에서 제작한 광학 필름 (F-2)를 러빙 방향과 평행하게 절삭하고, 편광 현미경으로 광학 이방성층을 단면 방향으로부터 관찰했다. 광학 이방성층의 두께는 4.3μm이고, 광학 이방성층의 기판 측의 두께 3.0μm의 영역(제2 영역)은 호모지니어스 배향이며, 광학 이방성층의 공기 측(기판과 반대 측)의 두께 1.3μm의 영역(제1 영역)은 액정 화합물이 호메오트로픽 배향하고 있었다.The optical film (F-2) produced above was cut parallel to the rubbing direction, and the optically anisotropic layer was observed from the cross-sectional direction with a polarizing microscope. The thickness of the optically anisotropic layer is 4.3 μm, the 3.0 μm-thick region (second region) on the substrate side of the optical anisotropic layer is homogeneous, and the 1.3 μm-thick region on the air side (opposite to the substrate) of the optical anisotropic layer is In the region (first region), the liquid crystal compound was homeotropically aligned.

또한, Axometrics사의 Axoscan, 및, 동사의 해석 소프트웨어(Multi-Layer Analysis)를 이용하여, 광학 필름 (F-2)의 광학 특성을 구했다. 제2 영역의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션(Δn2d2)은 140nm이며, 필름의 길이 방향에 대한 면내 지상축의 각도는 -45°였다. 또, 제1 영역의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션(Δn1d1)은 0nm, 제1 영역의 파장 550nm에 있어서의 두께 방향의 리타데이션은 -60nm였다.In addition, the optical properties of the optical film (F-2) were obtained using Axometrics' Axoscan and the company's analysis software (Multi-Layer Analysis). The in-plane retardation (Δn2d2) at a wavelength of 550 nm in the second region was 140 nm, and the angle of the in-plane slow axis with respect to the longitudinal direction of the film was -45°. In addition, the in-plane retardation (Δn1d1) in the first region at a wavelength of 550 nm was 0 nm, and the retardation in the thickness direction at a wavelength of 550 nm in the first region was -60 nm.

또한, 면내 지상축의 각도는, 필름의 길이 방향을 기준의 0°로 하여, 광학 이방성층의 표면 측으로부터 기판을 관찰하고, 시계 방향(우측 회전)일 때를 음, 반시계 방향(좌측 회전)일 때를 양으로서 나타내고 있다.In addition, the angle of the in-plane slow axis is negative when observing the substrate from the surface side of the optically anisotropic layer with the longitudinal direction of the film as 0 ° as a reference, clockwise (clockwise rotation), counterclockwise (left rotation) Time is expressed as a quantity.

(원편광판의 제작)(Manufacture of circular polarizing plate)

실시예 1과 동일하게, 상기에서 제작한 광학 필름 (F-2)를 비누화 처리하고, 광학 필름 (F-2)에 포함되는 기판면에, 상술한 편광자 및 상술한 편광자 보호 필름을 폴리바이닐알코올계 접착제를 이용하여 연속적으로 첩합하여, 장척상의 원편광판 (P-2)를 제작했다. 즉, 원편광판 (P-2)는, 편광자 보호 필름, 편광자, 기판, 및, 광학 이방성층을 이 순서로 갖고 있었다.In the same manner as in Example 1, the optical film (F-2) prepared above was subjected to saponification, and the above-described polarizer and the above-described polarizer protective film were coated with polyvinyl alcohol on the substrate surface included in the optical film (F-2). It was bonded together continuously using the system adhesive, and the circular polarizing plate (P-2) of the shape of a long picture was produced. That is, the circular polarizing plate (P-2) had a polarizer protective film, a polarizer, a substrate, and an optically anisotropic layer in this order.

또한, 편광자의 흡수축은 원편광판의 길이 방향과 일치하고 있으며, 편광자의 흡수축에 대한 제2 영역의 면내 지상축의 회전 각도는 45°였다.Further, the absorption axis of the polarizer coincided with the longitudinal direction of the circular polarizing plate, and the rotation angle of the in-plane slow axis of the second region with respect to the absorption axis of the polarizer was 45°.

또한, 상기 면내 지상축의 회전 각도는, 편광자 측으로부터 광학 이방성층을 관찰하고, 원편광판의 길이 방향을 기준의 0°로 하여, 반시계 방향으로 양, 시계 방향으로 음의 각돗값으로 나타내고 있다.In addition, the rotation angle of the in-plane slow axis is expressed as a positive angular value in the counterclockwise direction and a negative angle value in the clockwise direction, by observing the optically anisotropic layer from the polarizer side and taking the longitudinal direction of the circular polarizing plate as 0 ° as a reference.

<실시예 3><Example 3>

(광학 이방성층의 형성)(Formation of optically anisotropic layer)

실시예 1에서 제작한 셀룰로스아실레이트 필름에, 연속적으로 러빙 처리를 실시했다. 이때, 장척상의 필름의 길이 방향과 반송 방향은 평행하고, 필름의 길이 방향(반송 방향)과 러빙 롤러의 회전축이 이루는 각도는 45°였다. 또한, 필름의 길이 방향(반송 방향)을 90°로 하고, 셀룰로스아실레이트 필름 측으로부터 관찰하여 셀룰로스아실레이트 필름의 폭방향을 기준(0°)으로 반시계 방향을 양의 값으로 나타내면, 러빙 롤러의 회전축은 135°였다. 바꾸어 말하면, 러빙 롤러의 회전축의 위치는, 셀룰로스아실레이트 필름의 길이 방향을 기준으로, 시계 방향으로 45° 회전시킨 위치였다.The rubbing process was continuously performed on the cellulose acylate film produced in Example 1. At this time, the longitudinal direction of the elongated film and the conveyance direction were parallel, and the angle formed by the longitudinal direction (conveyance direction) of the film and the rotation axis of the rubbing roller was 45°. In addition, when the longitudinal direction (conveyance direction) of the film is set to 90 ° and observed from the cellulose acylate film side, and the counterclockwise direction relative to the width direction (0 °) of the cellulose acylate film is indicated as a positive value, the rubbing roller The axis of rotation was 135°. In other words, the position of the rotating shaft of the rubbing roller was a position rotated clockwise by 45° on the basis of the longitudinal direction of the cellulose acylate film.

상기 러빙 처리한 셀룰로스아실레이트 필름을 기판으로 하고, 다이 도포기를 이용하여, 하기의 조성의 봉상 액정 화합물을 포함하는 광학 이방성층 형성용 조성물 (3)을 도포하여, 조성물층을 형성했다(공정 1D에 해당).Using the rubbed cellulose acylate film as a substrate, a composition layer for forming an optically anisotropic layer (3) containing a rod-shaped liquid crystal compound having the following composition was applied using a die coater to form a composition layer (step 1D corresponds to).

다음으로, 얻어진 조성물층을 80℃에서 60초간 가열했다(공정 2D에 해당). 이 가열에 의하여 조성물층의 봉상 액정 화합물이 소정의 방향으로 배향했다.Next, the obtained composition layer was heated at 80°C for 60 seconds (corresponding to step 2D). By this heating, the rod-shaped liquid crystal compound in the composition layer was oriented in a predetermined direction.

그 후, 산소를 포함하는 공기(산소 농도: 약 20체적%)하, 40℃에서, 365nm LED 램프(아크로에지(주)제)를 사용하여 자외선을 조성물층에 5초간 조사했다(조사량: 50mJ/cm2)(공정 3D에 해당).Thereafter, ultraviolet rays were irradiated to the composition layer for 5 seconds at 40° C. under oxygen-containing air (oxygen concentration: about 20% by volume) using a 365 nm LED lamp (manufactured by Acro Edge Co., Ltd.) (irradiation amount: 50 mJ). /cm 2 ) (for Process 3D).

계속해서, 얻어진 조성물층을 120℃에서 10초간 가열했다(공정 4D에 해당). 또한, 광학 이방성층 형성용 조성물 (3) 중의 봉상 액정 화합물의 등방상으로의 상전이 온도는, 110℃였다.Subsequently, the obtained composition layer was heated at 120°C for 10 seconds (corresponding to Step 4D). In addition, the phase transition temperature of the rod-shaped liquid crystal compound in the composition for forming an optically anisotropic layer (3) to the isotropic phase was 110°C.

그 후, 질소 퍼지를 행하고, 산소 농도 100체적ppm으로 하여, 120℃에서, 메탈할라이드 램프(아이 그래픽스(주)제)를 사용하여 자외선을 조성물층에 조사하며(조사량: 500mJ/cm2), 액정 화합물의 배향 상태를 고정한 광학 이방성층을 형성했다(공정 5D에 해당). 이와 같이 하여 광학 필름 (F-3)을 제작했다.Thereafter, nitrogen purging was performed, and the composition layer was irradiated with ultraviolet rays using a metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) at 120° C. at an oxygen concentration of 100 volume ppm (irradiation amount: 500 mJ/cm 2 ), An optically anisotropic layer in which the alignment state of the liquid crystal compound was fixed was formed (corresponding to step 5D). In this way, an optical film (F-3) was produced.

또한, 광중합 개시제(Irgacure907)의 365nm에 있어서의 몰 흡광 계수는 140L/(mol·cm)였다.In addition, the molar extinction coefficient at 365 nm of the photoinitiator (Irgacure907) was 140 L/(mol·cm).

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광학 이방성층 형성용 조성물 (3)Composition for Forming an Optically Anisotropic Layer (3)

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상기의 봉상 액정 화합물 (A) 80질량부The above rod-like liquid crystal compound (A) 80 parts by mass

상기의 봉상 액정 화합물 (B) 10질량부The above rod-like liquid crystal compound (B) 10 parts by mass

상기의 중합성 화합물 (C) 10질량부The above polymerizable compound (C) 10 parts by mass

에틸렌옥사이드 변성 트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트Ethylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate

(V#360, 오사카 유키 가가쿠(주)제) 4질량부(V#360, manufactured by Osaka Yuki Kagaku Co., Ltd.) 4 parts by mass

광중합 개시제(Irgacure907, BASF사제) 3질량부Photopolymerization initiator (Irgacure907, manufactured by BASF) 3 parts by mass

상기의 폴리머 (A) 0.08질량부Polymer (A) above 0.08 parts by mass

상기의 폴리머 (B) 0.50질량부Polymer (B) above 0.50 parts by mass

메틸아이소뷰틸케톤 116질량부Methyl Isobutyl Ketone 116 mass parts

프로피온산 에틸 40질량부ethyl propionate 40 parts by mass

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상기에서 제작한 광학 필름 (F-3)을 러빙 방향과 평행하게 절삭하고, 편광 현미경으로 광학 이방성층을 단면 방향으로부터 관찰했다. 광학 이방성층의 두께는 2.7μm이고, 광학 이방성층의 기판 측의 두께 1.1μm의 영역(제2 영역)은 호모지니어스 배향이며, 광학 이방성층의 공기 측(기판과 반대 측)의 두께 1.6μm의 영역(제1 영역)은 액정 화합물이 등방 상태(아이소트로픽상)였다.The optical film (F-3) produced above was cut parallel to the rubbing direction, and the optically anisotropic layer was observed from the cross-sectional direction with a polarizing microscope. The thickness of the optically anisotropic layer is 2.7 μm, the 1.1 μm-thick region (second region) on the substrate side of the optical anisotropic layer is homogeneous, and the 1.6 μm-thick region on the air side (opposite to the substrate) of the optical anisotropic layer is In the region (first region), the liquid crystal compound was in an isotropic state (isotropic phase).

또한, Axometrics사의 Axoscan, 및, 동사의 해석 소프트웨어(Multi-Layer Analysis)를 이용하여, 광학 필름 (F-3)의 광학 특성을 구했다. 제2 영역의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션(Δn2d2)은 140nm이며, 면내 지상축은 -45°였다. 또, 제1 영역의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션(Δn1d1)은 0nm, 두께 방향의 리타데이션은 0nm였다.In addition, the optical properties of the optical film (F-3) were obtained using Axoscan from Axometrics and the company's analysis software (Multi-Layer Analysis). The in-plane retardation (Δn2d2) at a wavelength of 550 nm in the second region was 140 nm, and the in-plane slow axis was -45°. In addition, the in-plane retardation (Δn1d1) in the first region at a wavelength of 550 nm was 0 nm, and the retardation in the thickness direction was 0 nm.

또한, 면내 지상축의 각도는, 필름의 길이 방향을 기준의 0°로 하여, 광학 이방성층의 표면 측으로부터 기판을 관찰하고, 시계 방향(우측 회전)일 때를 음, 반시계 방향(좌측 회전)일 때를 양으로서 나타내고 있다.In addition, the angle of the in-plane slow axis is negative when observing the substrate from the surface side of the optically anisotropic layer with the longitudinal direction of the film as 0 ° as a reference, clockwise (clockwise rotation), counterclockwise (left rotation) Time is expressed as a quantity.

(원편광판의 제작)(Manufacture of circular polarizing plate)

실시예 1과 동일하게, 상기에서 제작한 광학 필름 (F-3)을 비누화 처리하고, 광학 필름 (F-3)에 포함되는 기판면에, 상술한 편광자 및 상술한 편광자 보호 필름을 폴리바이닐알코올계 접착제를 이용하여 연속적으로 첩합하여, 장척상의 원편광판 (P-3)을 제작했다. 즉, 원편광판 (P-3)은, 편광자 보호 필름, 편광자, 기판, 및, 광학 이방성층을 이 순서로 갖고 있었다.In the same manner as in Example 1, the optical film (F-3) produced above was subjected to saponification, and the above-described polarizer and the above-described polarizer protective film were coated with polyvinyl alcohol on the substrate surface included in the optical film (F-3). It was bonded together continuously using the system adhesive, and the circular polarizing plate (P-3) of the shape of a long picture was produced. That is, the circular polarizing plate (P-3) had a polarizer protective film, a polarizer, a substrate, and an optically anisotropic layer in this order.

또한, 편광자의 흡수축은 원편광판의 길이 방향과 일치하고 있으며, 편광자의 흡수축에 대한 제2 영역의 면내 지상축의 회전 각도는 45°였다.Further, the absorption axis of the polarizer coincided with the longitudinal direction of the circular polarizing plate, and the rotation angle of the in-plane slow axis of the second region with respect to the absorption axis of the polarizer was 45°.

또한, 상기 면내 지상축의 회전 각도는, 편광자 측으로부터 광학 이방성층을 관찰하고, 원편광판의 길이 방향을 기준의 0°로 하여, 반시계 방향으로 양, 시계 방향으로 음의 각돗값으로 나타내고 있다.In addition, the rotation angle of the in-plane slow axis is expressed as a positive angular value in the counterclockwise direction and a negative angle value in the clockwise direction, by observing the optically anisotropic layer from the polarizer side and taking the longitudinal direction of the circular polarizing plate as 0 ° as a reference.

<실시예 4><Example 4>

(광학 이방성층의 형성)(Formation of optically anisotropic layer)

실시예 1에서 제작한 셀룰로스아실레이트 필름에, 연속적으로 러빙 처리를 실시했다. 이때, 장척상의 필름의 길이 방향과 반송 방향은 평행하고, 필름의 길이 방향(반송 방향)과 러빙 롤러의 회전축이 이루는 각도는 90°였다.The rubbing process was continuously performed on the cellulose acylate film produced in Example 1. At this time, the longitudinal direction of the elongated film and the conveying direction were parallel, and the angle formed by the longitudinal direction (conveying direction) of the film and the rotating shaft of the rubbing roller was 90°.

상기 러빙 처리한 셀룰로스아실레이트 필름을 기판으로 하고, 다이 도포기를 이용하여, 하기의 조성의 봉상 액정 화합물을 포함하는 광학 이방성층 형성용 조성물 (4)를 도포하여, 조성물층을 형성했다(공정 1B에 해당). 또한, 공정 1B에 있어서의 조성물층 중의 카이랄제의 가중 평균 나선 유기력의 절댓값은, 31μm-1이었다.Using the rubbed cellulose acylate film as a substrate, a composition layer for forming an optically anisotropic layer (4) containing a rod-shaped liquid crystal compound having the following composition was applied using a die coater to form a composition layer (step 1B). corresponds to). In addition, the absolute value of the weighted average spiral induction force of the chiral agent in the composition layer in Step 1B was 31 μm -1 .

다음으로, 얻어진 조성물층을 100℃에서 80초간 가열했다(공정 2B에 해당). 이 가열에 의하여 조성물층의 봉상 액정 화합물이 소정의 방향으로 배향했다.Next, the obtained composition layer was heated at 100°C for 80 seconds (corresponding to Step 2B). By this heating, the rod-shaped liquid crystal compound in the composition layer was oriented in a predetermined direction.

그 후, 산소를 포함하는 공기(산소 농도: 약 20체적%)하, 40℃에서, 365nm LED 램프(아크로에지(주)제)를 사용하여 자외선을 조성물층에 10초간 조사했다(조사량: 100mJ/cm2)(공정 3B에 해당).Thereafter, ultraviolet rays were irradiated to the composition layer for 10 seconds at 40° C. under oxygen-containing air (oxygen concentration: about 20% by volume) using a 365 nm LED lamp (manufactured by Acroedge Co., Ltd.) (irradiation amount: 100 mJ). /cm 2 ) (corresponds to process 3B).

계속해서, 얻어진 조성물층을 90℃에서 10초간 가열했다(공정 4B에 해당).Subsequently, the obtained composition layer was heated at 90°C for 10 seconds (corresponding to step 4B).

그 후, 질소 퍼지를 행하고, 산소 농도 100체적ppm으로 하여, 55℃에서, 메탈할라이드 램프(아이 그래픽스(주)제)를 사용하여 자외선을 조성물층에 조사하며(조사량: 500mJ/cm2), 액정 화합물의 배향 상태를 고정한 광학 이방성층을 형성했다(공정 5B에 해당). 이와 같이 하여 광학 필름 (F-4)를 제작했다.Thereafter, nitrogen purging was performed, and the composition layer was irradiated with ultraviolet rays using a metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) at 55° C. at an oxygen concentration of 100 volume ppm (irradiation amount: 500 mJ/cm 2 ), An optically anisotropic layer in which the alignment state of the liquid crystal compound was fixed was formed (corresponding to Step 5B). In this way, an optical film (F-4) was produced.

또한, 증감제(카야큐어 DETX)의 365nm에 있어서의 몰 흡광 계수는 4200L/(mol·cm)였다.In addition, the molar extinction coefficient at 365 nm of the sensitizer (Kayacure DETX) was 4200 L/(mol cm).

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광학 이방성층 형성용 조성물 (4)Composition for Forming an Optically Anisotropic Layer (4)

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상기의 봉상 액정 화합물 (A) 80질량부The above rod-like liquid crystal compound (A) 80 parts by mass

상기의 봉상 액정 화합물 (B) 10질량부The above rod-like liquid crystal compound (B) 10 parts by mass

상기의 봉상 액정 화합물 (C) 10질량부The above rod-like liquid crystal compound (C) 10 parts by mass

에틸렌옥사이드 변성 트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트Ethylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate

(V#360, 오사카 유키 가가쿠(주)제) 4질량부(V#360, manufactured by Osaka Yuki Kagaku Co., Ltd.) 4 parts by mass

광중합 개시제(Irgacure907, BASF사제) 3질량부Photopolymerization initiator (Irgacure907, manufactured by BASF) 3 parts by mass

증감제(카야큐어 DETX, 닛폰 가야쿠(주)제) 1질량부Sensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1 part by mass

상기의 우측 비틀림 카이랄제 (R1) 11질량부The above right-twist chiral agent (R1) 11 mass parts

상기의 폴리머 (A) 0.08질량부Polymer (A) above 0.08 parts by mass

상기의 폴리머 (B) 0.5질량부Polymer (B) above 0.5 parts by mass

메틸아이소뷰틸케톤 117질량부Methyl Isobutyl Ketone 117 mass parts

프로피온산 에틸 39질량부ethyl propionate 39 mass parts

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상기에서 제작한 광학 필름 (F-4)를 러빙 방향과 평행하게 절삭하고, SEM으로 광학 이방성층을 단면 방향으로부터 관찰했다. 광학 이방성층의 두께는 3.6μm이며, 광학 이방성층의 기판 측의 두께 1.8μm의 영역(제2 영역)과, 광학 이방성층의 공기 측(기판과 반대 측)의 두께 1.8μm의 영역(제1 영역)을 갖고 있으며, 제2 영역과 제1 영역은 각각 나선 피치가 상이한 콜레스테릭 배향이었다.The optical film (F-4) produced above was cut parallel to the rubbing direction, and the optically anisotropic layer was observed from the cross-sectional direction by SEM. The thickness of the optically anisotropic layer is 3.6 μm, and a region (second region) on the substrate side of the optically anisotropic layer having a thickness of 1.8 μm and a region (second region) having a thickness of 1.8 μm on the air side (opposite to the substrate) of the optically anisotropic layer (first region). region), and the second region and the first region each had a cholesteric orientation with different helical pitches.

또한, 적분 반사율계를 이용하여, 광학 필름 (F-4)의 분광 반사 특성을 구했다. 제2 영역에서 유래하는 450nm를 중심으로 한 반사 대역과, 제1 영역에서 유래하는 650nm를 중심으로 한 반사 대역을 갖는 2대역 콜레스테릭 액정 필름인 것을 확인할 수 있었다.Further, the spectral reflection characteristics of the optical film (F-4) were determined using an integrated reflectance meter. It was confirmed that the film was a two-band cholesteric liquid crystal film having a reflection band centered at 450 nm derived from the second region and a reflection band centered at 650 nm derived from the first region.

<비교예 1><Comparative Example 1>

상술한 실시예 1에 있어서, 365nm LED 램프에 의한 조사를, 산소를 포함하는 공기(산소 농도: 약 20체적%)하에서 실시하는 대신에, 질소 퍼지하(산소 농도 100체적ppm)에서 행한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 수순에 따라, 광학 필름 (F-1)의 제작 방법과 동일하게 하여, 광학 필름 (C-1)을 제작했다. 즉, 비교예 1에 있어서는, 공정 3A를 실시하지 않았다.In Example 1 described above, except that the irradiation with the 365 nm LED lamp was conducted under a nitrogen purge (oxygen concentration: 100 ppm by volume) instead of under oxygen-containing air (oxygen concentration: about 20 vol%). , According to the same procedure as in Example 1, the optical film (C-1) was produced in the same manner as in the production method of the optical film (F-1). That is, in Comparative Example 1, Step 3A was not performed.

또한, 상기 실시예 1과 동일한 수순에 따라, 광학 이방성층의 단면을 관찰한 결과, 얻어진 광학 이방성층의 두께 방향 전역에 걸쳐 호모지니어스 배향이 형성되어 있고, 본 발명의 원하는 효과가 얻어지지 않았다.In addition, as a result of observing the cross section of the optically anisotropic layer in the same procedure as in Example 1, homogeneous orientation was formed over the entire thickness direction of the obtained optically anisotropic layer, and the desired effect of the present invention was not obtained.

<비교예 2><Comparative Example 2>

상술한 실시예 1에 있어서, 40℃에서, 365nm LED 램프에 의한 조사를 행한 후, 80℃로 가열하지 않고, 40℃에서, 메탈할라이드 램프를 사용하여 자외선 조사를 행한 것 이외에는, 광학 필름 (F-1)의 제작 방법과 동일하게 하여, 광학 필름 (C-2)를 제작했다. 즉, 비교예 2에 있어서는, 공정 4A를 실시하지 않았다.In the above-described Example 1, after irradiation with a 365 nm LED lamp at 40 ° C., the optical film (F Optical film (C-2) was produced in the same manner as in the production method of -1). That is, in Comparative Example 2, Step 4A was not performed.

또한, 상기 실시예 1과 동일한 수순에 따라, 광학 이방성층의 단면을 관찰한 결과, 얻어진 광학 이방성층의 두께 방향 전역에 걸쳐 호모지니어스 배향이 형성되어 있고, 본 발명의 원하는 효과가 얻어지지 않았다.In addition, as a result of observing the cross section of the optically anisotropic layer in the same procedure as in Example 1, homogeneous orientation was formed over the entire thickness direction of the obtained optically anisotropic layer, and the desired effect of the present invention was not obtained.

<비교예 3><Comparative Example 3>

상술한 실시예 1에 있어서, 공정 3A에 있어서의 조사 조건을, 365nm LED 램프에 의한 조사를 100초간(조사량: 13mJ/cm2)으로 변경한 것 이외에는, 광학 필름 (F-1)의 제작 방법과 동일하게 하여, 광학 필름 (C-3)을 제작했다. 즉, 비교예 3에 있어서는, 실시예 1과 비교하여, 조사량은 동일하지만, 조사 시간을 길게 했다.In the above-described Example 1, the manufacturing method of the optical film (F-1) except that the irradiation conditions in step 3A were changed to irradiation with a 365 nm LED lamp for 100 seconds (irradiation amount: 13 mJ/cm 2 ). In the same manner as above, an optical film (C-3) was produced. That is, in Comparative Example 3, compared with Example 1, the irradiation amount was the same, but the irradiation time was lengthened.

또한, 상기 실시예 1과 동일한 수순에 따라, 광학 이방성층의 단면을 관찰한 결과, 얻어진 광학 이방성층의 두께 방향 전역에 걸쳐 비틀림 배향이 형성되어 있고, 본 발명의 원하는 효과가 얻어지지 않았다.In addition, as a result of observing the cross section of the optically anisotropic layer in the same procedure as in Example 1, torsion orientation was formed over the entire thickness direction of the optically anisotropic layer obtained, and the desired effect of the present invention was not obtained.

제작한 광학 이방성층의 파장 λ에 있어서의 면내 리타데이션 Re(λ)를 Axometrics사제 Axoscan으로 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.The in-plane retardation Re(λ) at the wavelength λ of the optically anisotropic layer thus produced was measured by Axoscan manufactured by Axometrics. The results are shown in Table 1.

<유기 EL 표시 장치의 제작 및 표시 성능의 평가><Production of organic EL display device and evaluation of display performance>

(표시 장치로의 실장)(Mounting to display device)

유기 EL 패널 탑재의 SAMSUNG사제 GALAXY S4를 분해하여, 원편광판을 박리하고, 거기에 상기의 실시예에서 제작한 원편광판 (P-1)~(P-3)을, 편광자 보호 필름이 외측에 배치되도록, 표시 장치에 첩합했다.GALAXY S4 manufactured by SAMSUNG equipped with an organic EL panel is disassembled, the circular polarizing plate is peeled off, and the circular polarizing plates (P-1) to (P-3) produced in the above examples are placed outside the polarizer protective film. It was bonded to the display device as much as possible.

(표시 성능의 평가)(Evaluation of display performance)

(정면 방향)(Front direction)

제작한 유기 EL 표시 장치에 흑색 표시를 하고, 밝은 빛 아래에 있어서 정면 방향으로부터 관찰하여, 색감 변화를 하기의 기준으로 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Black display was applied to the produced organic EL display device, and it was observed from the front direction under bright light, and color change was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.

4: 색감 변화가 전혀 시인되지 않는다. (허용)4: Color change is not recognized at all. (permit)

3: 색감 변화가 약간 시인되지만, 약간. (허용)3: Color change is slightly recognized, but slightly. (permit)

2: 색감 변화가 시인되지만, 반사광은 작아, 사용상 문제는 없다. (허용)2: A color change is recognized, but the reflected light is small, and there is no problem in use. (permit)

1: 색감 변화가 시인되고, 반사광도 커서, 허용할 수 없다.1: Color change is recognized, and reflected light is large, which is not acceptable.

(경사 방향)(oblique direction)

제작한 유기 EL 표시 장치에 흑색 표시를 하고, 밝은 빛 아래에 있어서, 극각 45°로부터 형광등을 비춰, 전방위로부터 반사광을 관찰했다. 색감 변화의 방위각 의존성을 하기의 기준으로 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Black display was applied to the produced organic EL display device, and a fluorescent lamp was illuminated from a polar angle of 45° under bright light, and reflected light was observed from all directions. The azimuth dependence of color change was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.

4: 색조차가 전혀 시인되지 않는다. (허용)4: Color tone difference is not visually recognized at all. (permit)

3: 색조차가 시인되지만, 매우 약간. (허용)3: Color tone difference is recognized, but very slightly. (permit)

2: 색조차가 시인되지만, 반사광은 작아, 사용상 문제는 없다. (허용)2: Although color tone difference is visually recognized, reflected light is small and there is no problem in use. (permit)

1: 색조차가 시인되고, 반사광도 커서, 허용할 수 없다.1: A difference in color tone is visually recognized, and the reflected light is also large, which is not acceptable.

표 1 중, "면내 리타데이션"은, 광학 이방성층의 각 파장에 있어서의 면내 리타데이션을 나타낸다.In Table 1, "in-plane retardation" shows the in-plane retardation in each wavelength of an optically anisotropic layer.

[표 1][Table 1]

Figure pct00020
Figure pct00020

상기 표 1에 나타내는 바와 같이, 각 실시예 중의 광학 이방성층의 위상차는 역파장 분산성을 나타내고, 이 광학 이방성층을 유기 EL 표시 장치에 사용하면, 색감 변화와 반사가 억제되는 것이 확인되었다.As shown in Table 1, it was confirmed that the retardation of the optically anisotropic layer in each example exhibited reverse wavelength dispersion, and color change and reflection were suppressed when this optically anisotropic layer was used in an organic EL display device.

<액정 표시 장치의 제작 및 표시 성능의 평가><Production of liquid crystal display device and evaluation of display performance>

(원편광판의 제작)(Manufacture of circular polarizing plate)

상기에서 제작한 광학 필름 (F-1)을 비누화 처리하고, 광학 필름 (F-1)에 포함되는 기판면에, 상술한 편광자 및 상술한 편광자 보호 필름을 폴리바이닐알코올계 접착제를 이용하여 첩합하여, 원편광판 (P-4)를 제작했다. 이때, 편광자의 흡수축과 광학 필름 (F-1)의 길이 방향이 이루는 각도가 90°가 되도록 첩합했다. 즉, 편광자의 흡수축에 대한 제2 영역의 면내 지상축의 회전 각도는 100°이며, 편광자의 흡수축에 대한 제1 영역의 제2 영역 측과는 반대 측의 표면의 면내 지상축의 회전 각도는 175°였다.The optical film (F-1) prepared above is subjected to saponification, and the above-described polarizer and the above-described polarizer protective film are bonded to the substrate surface included in the optical film (F-1) using a polyvinyl alcohol-based adhesive, , and produced a circularly polarizing plate (P-4). At this time, it bonded so that the angle which the absorption axis of a polarizer and the longitudinal direction of an optical film (F-1) make might become 90 degrees. That is, the rotation angle of the in-plane slow axis of the second region with respect to the absorption axis of the polarizer is 100°, and the rotation angle of the in-plane slow axis of the surface opposite to the second region side of the first region with respect to the absorption axis of the polarizer is 175 degrees. was °

또한, 상기 면내 지상축의 회전 각도는, 편광자 측으로부터 광학 이방성층을 관찰하고, 편광자의 흡수축 방향을 기준의 0°로 하여, 반시계 방향으로 양, 시계 방향으로 음의 각돗값으로 나타내고 있다.In addition, the rotation angle of the in-plane slow axis is expressed as a positive angle in the counterclockwise direction and a negative angle value in the clockwise direction by observing the optically anisotropic layer from the side of the polarizer and taking the direction of the absorption axis of the polarizer as 0 ° as a reference.

(액정 표시 장치 1의 제작)(Production of liquid crystal display device 1)

이하와 같이 하여, VA 모드의 반투과형 액정 표시 장치 1을 제작했다. 액정 셀의 배향막은 폴리이미드를 사용하여, 투과부의 셀 갭은 4.0μm, 반사부의 셀 갭은 2.0μm로 했다. 이 공격부(空隔部)에, 유전율 이방성이 음인 네마틱 액정을 주입했다. 이 액정 셀의 상하 기판에 전압을 인가하지 않을 때는, 네마틱 액정은 수직으로 배향하고 있었다. 또, 전압을 인가했을 때는, 방위가 180° 상이한 2방향으로 네마틱 액정이 경사지도록 셀 기판에 돌기를 형성했다. 이 액정 셀에 전압을 인가하여, 백색 표시할 때의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션은, 투과부가 280nm, 반사부가 140nm이며, 무인가로 흑색 표시할 때의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션은, 투과부가 0nm, 반사부가 0nm였다.In the following manner, transflective liquid crystal display device 1 in VA mode was produced. The orientation film of the liquid crystal cell used polyimide, and the cell gap of the transmissive part was 4.0 µm, and the cell gap of the reflective part was 2.0 µm. A nematic liquid crystal having a negative dielectric anisotropy was injected into the attack portion. When no voltage was applied to the upper and lower substrates of this liquid crystal cell, the nematic liquid crystals were vertically aligned. In addition, when a voltage was applied, protrusions were formed on the cell substrate so that the nematic liquid crystals were inclined in two directions, the directions of which differed by 180 degrees. In-plane retardation at a wavelength of 550 nm when a voltage is applied to this liquid crystal cell for white display, the transmission portion is 280 nm and the reflection portion is 140 nm, and the in-plane retardation at a wavelength of 550 nm when displaying black without application is, The transmission portion was 0 nm, and the reflection portion was 0 nm.

이 상하 기판과 그 기판 사이에 협지된 액정층으로 이루어지는 액정 셀에, 상기 제작한 원편광판 (P-1) 및 원편광판 (P-4)를 첩합하여, 반투과형 액정 표시 장치 1을 제작했다. 이때, 관찰자 측으로부터, 원편광판 (P-1), 액정 셀, 원편광판 (P-4), 및 백라이트를, 이 순서로 배치했다. 또, 원편광판 (P-1)은, 관찰자 측으로부터, 편광자 및 광학 필름 (F-1)이 이 순서가 되고, 원편광판 (P-4)는, 관찰자 측으로부터, 광학 필름 (F-1) 및 편광자가, 이 순서가 되도록 하여, 원편광판 (P-1) 및 원편광판 (P-4)에 포함되는 각각의 편광자의 흡수축이 이루는 각도는 90°가 되도록 배치했다. 또, 상하 기판에 협지된 네마틱 액정이 경사졌을 때, 그 네마틱 액정의 장축을 그 셀 기판에 투영한 방향(면내 지상축)의 회전 각도는 45°였다.A transflective type liquid crystal display device 1 was produced by attaching the circular polarizing plate (P-1) and the circular polarizing plate (P-4) prepared above to a liquid crystal cell composed of the upper and lower substrates and a liquid crystal layer sandwiched between the substrates. At this time, the circular polarizing plate (P-1), the liquid crystal cell, the circular polarizing plate (P-4), and the backlight were arranged in this order from the side of the observer. In the circular polarizing plate (P-1), the polarizer and the optical film (F-1) are in this order from the observer side, and the circular polarizing plate (P-4) is the optical film (F-1) from the observer side. And the polarizers were arranged in this order so that the angle formed by the absorption axis of each polarizer included in the circular polarizing plate (P-1) and the circular polarizing plate (P-4) was 90°. Further, when the nematic liquid crystal held by the upper and lower substrates was tilted, the rotation angle of the long axis of the nematic liquid crystal in the direction (in-plane slow axis) projected onto the cell substrate was 45°.

또한, 상기 투영한 방향(면내 지상축)의 회전 각도는, 원편광판 (P-1) 측으로부터 액정 셀을 관찰하여, 편광자의 흡수축 방향을 기준의 0°로 하고, 반시계 방향으로 양, 시계 방향으로 음의 각돗값을 갖고 나타내고 있다.In addition, the angle of rotation of the projected direction (in-plane slow axis) is positive in the counterclockwise direction by observing the liquid crystal cell from the side of the circular polarizing plate (P-1) and setting the direction of the absorption axis of the polarizer as 0 ° as a reference. It is indicated with a negative angle value in a clockwise direction.

(원편광판의 제작)(Manufacture of circular polarizing plate)

일본 특허공보 6770649의 실시예 1, 또는 실시예 25에 기재된 방법과 동일하게 하여, 셀룰로스아실레이트 필름 상에 배향막을 형성하고, 또한 그 위에, 디스코틱 액정 화합물로 이루어지는 광학 이방성층 H, 또는 봉상 액정 화합물로 이루어지는 광학 이방성층 Q를 제작했다. 이때, 하기의 리타데이션과 지상축 각도가 되도록, 도포층의 두께와 러빙 각도를 조정했다. 광학 이방성층 H의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션은, 280nm이며, 광학 이방성층 Q의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션은, 120nm였다.In the same manner as in Example 1 or Example 25 of Japanese Patent Publication No. 6770649, an alignment film was formed on the cellulose acylate film, and further, an optically anisotropic layer H made of a discotic liquid crystal compound or a rod-shaped liquid crystal was formed thereon. An optically anisotropic layer Q made of the compound was produced. At this time, the thickness of the coating layer and the rubbing angle were adjusted so as to become the following retardation and slow axis angle. The in-plane retardation of the optically anisotropic layer H at a wavelength of 550 nm was 280 nm, and the in-plane retardation of the optically anisotropic layer Q at a wavelength of 550 nm was 120 nm.

계속해서, 광학 이방성층 Q, 광학 이방성층 H, 상술한 편광자 및 상술한 편광자 보호 필름이, 이 순서가 되도록 점착제를 이용하여 첩합하여, 원편광판 (P-5)를 제작했다. 이때, 셀룰로스아실레이트 필름과 배향막은, 광학 이방성층 H 및 광학 이방성층 Q로부터 박리되어, 원편광판에는 포함되지 않도록 했다. 또, 편광자의 흡수축에 대한 광학 이방성층 H의 면내 지상축의 회전 각도는 -75°이며, 편광자의 흡수축에 대한 광학 이방성층 Q의 면내 지상축의 회전 각도는 -15°가 되도록 첩합했다.Then, the optically anisotropic layer Q, the optically anisotropic layer H, the above-mentioned polarizer, and the above-mentioned polarizer protective film were bonded together using an adhesive so as to be in this order, and a circular polarizing plate (P-5) was produced. At this time, the cellulose acylate film and the alignment film were separated from the optically anisotropic layer H and the optically anisotropic layer Q, so that they were not included in the circular polarizing plate. In addition, the rotation angle of the in-plane slow axis of the optical anisotropic layer H with respect to the absorption axis of the polarizer is -75 °, and the rotation angle of the in-plane slow axis of the optically anisotropic layer Q with respect to the absorption axis of the polarizer is -15 °.

또한, 상기 면내 지상축의 회전 각도는, 편광자 측으로부터 광학 이방성층을 관찰하고, 편광자의 흡수축 방향을 기준의 0°로 하여, 반시계 방향으로 양, 시계 방향으로 음의 각돗값으로 나타내고 있다.In addition, the rotation angle of the in-plane slow axis is expressed as a positive angle in the counterclockwise direction and a negative angle value in the clockwise direction by observing the optically anisotropic layer from the side of the polarizer and taking the direction of the absorption axis of the polarizer as 0 ° as a reference.

(액정 표시 장치 2의 제작)(Production of liquid crystal display device 2)

이하와 같이 하여, ECB 모드의 반투과형 액정 표시 장치 2를 제작했다. 액정 셀의 배향막은 폴리이미드로, 러빙 방향은 상하가 평행이 되도록 했다. 투과부의 셀 갭은 4.0μm, 반사부의 셀 갭은 2.0μm이며, 이 공격부에, 유전율 이방성이 양인 네마틱 액정을 주입했다. 이 액정 셀에 전압 인가했을 때의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션은, 백색 표시 시의 투과부가 280nm, 백색 표시 시의 반사부가 140nm, 흑색 표시 시의 투과부가 40nm, 흑색 표시 시의 반사부가 20nm였다. 또, 전압 인가에 의하여 상하 기판에 협지된 네마틱 액정이 경사졌을 때, 그 네마틱 액정의 장축을 그 셀 기판에 투영한 방향(면내 지상축)은 상기 러빙 방향과 일치하고 있었다.In the following manner, transflective liquid crystal display device 2 in ECB mode was produced. The orientation film of the liquid crystal cell was made of polyimide, and the rubbing direction was made to be parallel up and down. The cell gap of the transmissive portion was 4.0 μm, and the cell gap of the reflective portion was 2.0 μm. A nematic liquid crystal having a positive dielectric anisotropy was injected into the attack portion. The in-plane retardation at a wavelength of 550 nm when a voltage is applied to this liquid crystal cell is: 280 nm for the transmittance during white display, 140 nm for the reflector for white display, 40 nm for the transmittance for black display, and 20 nm for the reflector for black display. was Also, when the nematic liquid crystal held by the upper and lower substrates was tilted by voltage application, the direction in which the long axis of the nematic liquid crystal was projected onto the cell substrate (in-plane slow axis) coincided with the rubbing direction.

이 상하 기판과 그 기판 사이에 협지된 액정층으로 이루어지는 액정 셀에, 상기 제작한 원편광판 (P-1) 및 원편광판 (P-5)를 첩합하여, 반투과형 액정 표시 장치 2를 제작했다. 이때, 관찰자 측으로부터, 원편광판 (P-5), 액정 셀, 원편광판 (P-1), 및 백라이트를, 이 순서로 배치했다. 또, 원편광판 (P-5)는, 관찰자 측으로부터, 편광자, 광학 이방성층 H 및 광학 이방성층 Q가 이 순서가 되고, 원편광판 (P-1)은, 관찰자 측으로부터, 광학 필름 (F-1) 및 편광자가, 이 순서가 되도록 배치했다. 또, 원편광판 (P-5) 및 원편광판 (P-1)에 포함되는 각각의 편광자의 흡수축이 이루는 각도는 90°가 되도록 하고, 액정 셀의 배향막에 실시한 러빙 방향과 원편광판 (P-5)에 포함되는 광학 이방성층 Q의 면내 지상축 방향이 이루는 각도는 0°가 되도록 배치했다.A transflective liquid crystal display device 2 was produced by attaching the circular polarizing plate (P-1) and the circular polarizing plate (P-5) prepared above to a liquid crystal cell composed of the upper and lower substrates and a liquid crystal layer sandwiched between the substrates. At this time, a circular polarizing plate (P-5), a liquid crystal cell, a circular polarizing plate (P-1), and a backlight were disposed in this order from the side of the observer. Further, in the circular polarizing plate (P-5), the polarizer, the optically anisotropic layer H, and the optically anisotropic layer Q are in this order from the side of the observer, and the circular polarizing plate (P-1) is, from the side of the observer, the optical film (F- 1) and the polarizer were arranged in this order. In addition, the angle formed by the absorption axis of each polarizer included in the circular polarizing plate (P-5) and the circular polarizing plate (P-1) is 90 °, and the rubbing direction applied to the alignment film of the liquid crystal cell and the circular polarizing plate (P-1) The angle formed by the in-plane slow axis direction of the optically anisotropic layer Q included in 5) was arranged to be 0°.

(표시 성능의 평가)(Evaluation of display performance)

상기 제작한 VA 모드의 반투과형 액정 표시 장치 1과 ECB 모드의 액정 표시 장치 2의 투과부 및 반사부에 대하여, 인가 전압을 조정하여, 흑색 표시와 백색 표시의 시인성을 육안으로 평가했다. 어느 표시 장치에 있어서도, 양호한 백/흑 콘트라스트를 나타내고, 본 실시예의 광학 이방성층을 액정 표시 장치에 적합하게 이용할 수 있는 것을 확인했다.Applied voltages were adjusted for the transmissive portion and the reflecting portion of the VA mode transflective liquid crystal display device 1 and the ECB mode liquid crystal display device 2 prepared above, and black display and white display visibility were visually evaluated. In any display device, it was confirmed that good white/black contrast was exhibited, and the optically anisotropic layer of this example could be suitably used for a liquid crystal display device.

<실시예 5><Example 5>

(광학 이방성층의 형성)(Formation of optically anisotropic layer)

실시예 2에서 제작한 배향막에 연속적으로 러빙 처리를 실시했다. 이때, 장척상의 필름의 길이 방향과 반송 방향은 평행하고, 필름의 길이 방향(반송 방향)과 러빙 롤러의 회전축이 이루는 각도는 90°로 했다.Rubbing treatment was continuously performed on the alignment film prepared in Example 2. At this time, the longitudinal direction of the elongated film and the conveyance direction were parallel, and the angle formed by the longitudinal direction (conveyance direction) of the film and the rotational axis of the rubbing roller was set to 90°.

상기 러빙 처리한 배향막 부착 셀룰로스아실레이트 필름을 기판으로 하고, 다이 도포기를 이용하여, 하기의 조성의 봉상 액정 화합물을 포함하는 광학 이방성층 형성용 조성물 (5)를 도포하여, 조성물층을 형성했다(공정 1C에 해당).Using the rubbed cellulose acylate film with an alignment film as a substrate, a composition for forming an optically anisotropic layer (5) containing a rod-shaped liquid crystal compound having the following composition was applied using a die coater to form a composition layer ( Corresponds to process 1C).

다음으로, 얻어진 조성물층을 120℃에서 80초간 가열했다(공정 2C에 해당). 이 가열에 의하여 조성물층의 봉상 액정 화합물이 소정의 방향으로 배향했다.Next, the obtained composition layer was heated at 120°C for 80 seconds (corresponding to Step 2C). By this heating, the rod-shaped liquid crystal compound in the composition layer was oriented in a predetermined direction.

그 후, 산소를 포함하는 공기(산소 농도: 약 20체적%)하, 40℃에서, 365nm LED 램프(아크로에지(주)제)를 사용하여 자외선을 조성물층에 5초간 조사했다(조사량: 30mJ/cm2)(공정 3C에 해당).Thereafter, the composition layer was irradiated with ultraviolet rays for 5 seconds at 40° C. under oxygen-containing air (oxygen concentration: about 20% by volume) using a 365 nm LED lamp (manufactured by Acro Edge Co., Ltd.) (irradiation amount: 30 mJ). /cm 2 ) (corresponds to process 3C).

계속해서, 얻어진 조성물층을 90℃에서 10초간 가열했다(공정 4C에 해당).Subsequently, the obtained composition layer was heated at 90°C for 10 seconds (corresponding to Step 4C).

그 후, 질소 퍼지를 행하고, 산소 농도 100체적ppm으로 하여, 55℃에서, 메탈할라이드 램프(아이 그래픽스(주)제)를 사용하여 자외선을 조성물층에 조사하며(조사량: 500mJ/cm2), 액정 화합물의 배향 상태를 고정한 광학 이방성층을 형성했다(공정 5C에 해당). 이와 같이 하여 광학 필름 (F-5)를 제작했다.Thereafter, nitrogen purging was performed, and the composition layer was irradiated with ultraviolet rays using a metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) at 55° C. at an oxygen concentration of 100 volume ppm (irradiation amount: 500 mJ/cm 2 ), An optically anisotropic layer in which the alignment state of the liquid crystal compound was fixed was formed (corresponding to Step 5C). In this way, an optical film (F-5) was produced.

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광학 이방성층 형성용 조성물 (5)Composition for Forming an Optically Anisotropic Layer (5)

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하기의 봉상 액정 화합물 (F) 42질량부The following rod-shaped liquid crystal compound (F) 42 mass parts

하기의 봉상 액정 화합물 (G) 42질량부The following rod-shaped liquid crystal compound (G) 42 mass parts

하기의 봉상 액정 화합물 (H) 12질량부The following rod-shaped liquid crystal compound (H) 12 mass parts

하기의 봉상 액정 화합물 (I) 4질량부The following rod-shaped liquid crystal compound (I) 4 parts by mass

NK 에스터 A-200(신나카무라 가가쿠사제) 1질량부NK Ester A-200 (manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) 1 part by mass

하이솔브 MTEM(도호 가가쿠 고교사제) 2질량부HiSolve MTEM (Toho Kagaku High School) 2 parts by mass

광중합 개시제(IRGACURE819, BASF사제) 3질량부Photopolymerization initiator (IRGACURE819, manufactured by BASF) 3 parts by mass

상기의 폴리머 (A) 0.08질량부Polymer (A) above 0.08 parts by mass

상기의 감광성 화합물 (A) 0.4질량부The above photosensitive compound (A) 0.4 parts by mass

상기의 이온성 화합물 (A) 3.0질량부The above ionic compound (A) 3.0 parts by mass

메틸에틸케톤 156질량부methyl ethyl ketone 156 mass parts

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봉상 액정 화합물 (F)Rod-shaped liquid crystal compound (F)

[화학식 20][Formula 20]

Figure pct00021
Figure pct00021

봉상 액정 화합물 (G)Rod-shaped liquid crystal compound (G)

[화학식 21][Formula 21]

Figure pct00022
Figure pct00022

봉상 액정 화합물 (H)Rod-shaped liquid crystal compound (H)

[화학식 22][Formula 22]

Figure pct00023
Figure pct00023

봉상 액정 화합물 (I)rod-shaped liquid crystal compound (I)

[화학식 23][Formula 23]

Figure pct00024
Figure pct00024

상기에서 제작한 광학 필름 (F-5)를 러빙 방향과 평행하게 절삭하고, 편광 현미경으로 광학 이방성층을 단면 방향으로부터 관찰했다. 광학 이방성층의 두께는 4.3μm이고, 광학 이방성층의 기판 측의 두께 2.4μm의 영역(제2 영역)은 호모지니어스 배향이며, 광학 이방성층의 공기 측(기판과 반대 측)의 두께 1.9μm의 영역(제1 영역)은 액정 화합물이 호메오트로픽 배향하고 있었다.The optical film (F-5) produced above was cut parallel to the rubbing direction, and the optically anisotropic layer was observed from the cross-sectional direction with a polarizing microscope. The thickness of the optical anisotropic layer is 4.3 μm, the region (second region) with a thickness of 2.4 μm on the substrate side of the optical anisotropic layer is homogeneous orientation, and the thickness of 1.9 μm on the air side (opposite to the substrate) of the optical anisotropic layer is In the region (first region), the liquid crystal compound was homeotropically aligned.

또한, Axometrics사의 Axoscan, 및, 동사의 해석 소프트웨어(Multi-Layer Analysis)를 이용하여, 광학 필름 (F-5)의 광학 특성을 구했다. 제2 영역의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션(Δn2d2)은 130nm이며, 필름의 길이 방향에 대한 면내 지상축의 각도는 0°였다. 또, 제1 영역의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션(Δn1d1)은 0nm, 제1 영역의 파장 550nm에 있어서의 두께 방향의 리타데이션은 -100nm였다.Further, the optical properties of the optical film (F-5) were obtained using Axometrics' Axoscan and the company's analysis software (Multi-Layer Analysis). The in-plane retardation (Δn2d2) at a wavelength of 550 nm in the second region was 130 nm, and the angle of the in-plane slow axis with respect to the longitudinal direction of the film was 0°. In addition, the in-plane retardation (Δn1d1) in the first region at a wavelength of 550 nm was 0 nm, and the retardation in the thickness direction at a wavelength of 550 nm in the first region was -100 nm.

또한, 면내 지상축의 각도는, 필름의 길이 방향을 기준의 0°로 한다.In addition, the angle of the in-plane slow axis is 0° relative to the longitudinal direction of the film.

(액정 표시 장치의 광학 보상판의 제작)(Manufacture of optical compensation plate of liquid crystal display device)

상기에서 제작한 광학 필름 (F-5)를 비누화 처리하고, 광학 필름 (F-5)에 포함되는 광학 이방성층면에, 상술한 편광자 및 상술한 편광자 보호 필름을 폴리바이닐알코올계 접착제를 이용하여 연속적으로 첩합하여, 장척상의 편광판 (P-6)을 제작했다. 즉, 편광판 (P-6)은, 편광자 보호 필름, 편광자, 광학 이방성층, 및, 기판을 이 순서로 갖고 있었다.The optical film (F-5) produced above is saponified, and the above-described polarizer and the above-described polarizer protective film are continuously applied to the surface of the optically anisotropic layer included in the optical film (F-5) using a polyvinyl alcohol-based adhesive. , and a long polarizing plate (P-6) was produced. That is, the polarizing plate (P-6) had a polarizer protective film, a polarizer, an optically anisotropic layer, and a substrate in this order.

또한, 편광자의 흡수축은 편광판의 길이 방향과 일치하고 있으며, 편광자의 흡수축에 대한 제2 영역의 면내 지상축의 회전 각도는 0°였다.In addition, the absorption axis of the polarizer coincided with the longitudinal direction of the polarizer, and the rotation angle of the in-plane slow axis of the second region with respect to the absorption axis of the polarizer was 0°.

또한, 상기 면내 지상축의 회전 각도는, 편광자 측으로부터 광학 이방성층을 관찰하여, 편광판의 길이 방향을 기준의 0°로 한다.In addition, the angle of rotation of the in-plane slow axis is determined by observing the optically anisotropic layer from the polarizer side, and taking the longitudinal direction of the polarizing plate as 0° as a reference.

(액정 표시 장치 3의 제작)(Production of liquid crystal display device 3)

시판 중인 액정 표시 장치(iPad(등록 상표), Apple사제)(FFS 모드의 액정 셀을 포함하는 액정 표시 장치)로부터의 표면 측의 편광판을 박리하여, 상기 제작한 편광판 (P-6)을, 광학 필름 측이 액정 셀 측에 배치되도록, 또한, 편광자의 흡수축이 백라이트측의 편광판 중의 편광자의 흡수축과 직교하도록, 20μm의 아크릴계 점착제로 첩합하여, 액정 표시 장치 3을 제작했다.A commercially available liquid crystal display device (iPad (registered trademark), manufactured by Apple) (a liquid crystal display device including a liquid crystal cell in FFS mode) is peeled off on the surface side, and the prepared polarizing plate (P-6) is optically removed. Liquid crystal display device 3 was produced by bonding with a 20 μm acrylic adhesive so that the film side was disposed on the liquid crystal cell side and the absorption axis of the polarizer was orthogonal to the absorption axis of the polarizer in the polarizing plate on the backlight side.

(표시 성능의 평가)(Evaluation of display performance)

상기 제작한 액정 표시 장치 3에 대하여, 인가 전압을 조정하여, 흑색 표시와 백색 표시의 경사 방향의 시인성을 육안으로 평가했다. 액정 표시 장치 3은 양호한 백/흑 콘트라스트를 나타내고, 본 실시예의 광학 이방성층이 액정 표시 장치의 광학 보상판에 적합하게 이용할 수 있는 것을 확인했다.Regarding the produced liquid crystal display device 3, the visibility in the oblique direction of black display and white display was visually evaluated by adjusting the applied voltage. Liquid crystal display device 3 exhibited good white/black contrast, and it was confirmed that the optically anisotropic layer of this example can be suitably used for an optical compensation plate of a liquid crystal display device.

10 기판
12, 120, 220, 320, 420 조성물층
12A, 120A, 220A, 320A, 420A 하측 영역
12B, 120B, 220B, 320B, 420B 상측 영역
20 광학 이방성층
22 다른 광학 이방성층
24 적층체
26 편광자
28 편광자 부착 광학 이방성층
10 substrate
12, 120, 220, 320, 420 composition layer
12A, 120A, 220A, 320A, 420A lower region
12B, 120B, 220B, 320B, 420B upper region
20 optically anisotropic layer
22 different optically anisotropic layers
24 laminate
26 polarizer
28 Optically anisotropic layer with polarizer

Claims (8)

중합성기를 갖는 액정 화합물을 포함하는 조성물층을 형성하는 공정 1과,
상기 조성물층에 가열 처리를 실시하여, 상기 조성물층 중의 상기 액정 화합물을 배향시키는 공정 2와,
상기 공정 2 이후, 산소 농도 1체적% 이상의 조건하에서, 상기 조성물층에 대하여, 광조사를 50초간 이하, 또한, 300mJ/cm2 이하에서 행하는 공정 3과,
상기 공정 3 이후, 상기 조성물층에, 상기 광조사 시보다 높은 온도에서 가열 처리를 실시하는 공정 4와,
상기 공정 4 이후, 상기 조성물층에 대하여 경화 처리를 실시하고, 상기 액정 화합물의 배향 상태가 상이한 영역을 두께 방향을 따라 복수 갖는 광학 이방성층을 형성하는 공정 5를 갖는, 광학 이방성층의 제조 방법.
Step 1 of forming a composition layer containing a liquid crystal compound having a polymerizable group;
Step 2 of subjecting the composition layer to heat treatment to orient the liquid crystal compound in the composition layer;
After Step 2, Step 3 of irradiating the composition layer with light for 50 seconds or less and at 300 mJ/cm 2 or less under conditions of an oxygen concentration of 1% by volume or more;
Step 4 of subjecting the composition layer to heat treatment at a temperature higher than that at the time of light irradiation after Step 3;
After the step 4, the composition layer is cured, and an optically anisotropic layer having a plurality of regions having different orientation states of the liquid crystal compound along the thickness direction is formed.
청구항 1에 있어서,
상기 조성물층이 광중합 개시제 및 광증감제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 감광 재료를 포함하고,
상기 공정 3에 있어서의 광조사의 파장에 있어서의 상기 감광 재료의 몰 흡광 계수가 5000L/(mol·cm) 이하인, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method of claim 1,
The composition layer comprises a photosensitive material selected from the group consisting of a photopolymerization initiator and a photosensitizer,
The method for producing an optically anisotropic layer, wherein the molar extinction coefficient of the photosensitive material at the wavelength of light irradiation in step 3 is 5000 L/(mol cm) or less.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 조성물층이, 카이랄제를 포함하고,
상기 카이랄제가, 광조사에 의하여 나선 유기력이 변화하는 감광성 카이랄제를 포함하는, 광학 이방성층의 제조 방법.
According to claim 1 or claim 2,
The composition layer contains a chiral agent,
The method for producing an optically anisotropic layer, wherein the chiral agent includes a photosensitive chiral agent whose helical organic force changes upon light irradiation.
청구항 3에 있어서,
상기 액정 화합물의 전체 질량에 대한, 상기 카이랄제의 합계 함유량이, 5.0질량% 이하인, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method of claim 3,
The manufacturing method of the optically anisotropic layer, wherein the total content of the chiral agents relative to the total mass of the liquid crystal compound is 5.0% by mass or less.
청구항 3에 있어서,
상기 액정 화합물의 전체 질량에 대한, 상기 카이랄제의 합계 함유량이, 5.0질량% 초과인, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method of claim 3,
The manufacturing method of the optically anisotropic layer, wherein the total content of the chiral agents with respect to the total mass of the liquid crystal compound is more than 5.0% by mass.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 조성물층이, 광조사에 의하여 극성이 변화하는 감광성 화합물을 포함하는, 광학 이방성층의 제조 방법.
According to claim 1 or claim 2,
The method for producing an optically anisotropic layer, wherein the composition layer comprises a photosensitive compound whose polarity changes upon irradiation with light.
청구항 6에 있어서,
상기 감광성 화합물이, 광조사에 의하여 친수화하는 감광성 화합물인, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method of claim 6,
The method for producing an optically anisotropic layer, wherein the photosensitive compound is a photosensitive compound that becomes hydrophilic by light irradiation.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 공정 4에 있어서의 상기 가열 처리의 온도가, 상기 액정 화합물이 등방상이 되는 온도 이상인, 광학 이방성층의 제조 방법.
According to claim 1 or claim 2,
The manufacturing method of the optically anisotropic layer, wherein the temperature of the heat treatment in step 4 is equal to or higher than the temperature at which the liquid crystal compound becomes isotropic.
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