KR20230024642A - 스크류를 포함하는 스핀 척 및 이를 갖는 기판 처리 장치 - Google Patents

스크류를 포함하는 스핀 척 및 이를 갖는 기판 처리 장치 Download PDF

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Abstract

스핀 척은 하부 플레이트; 상기 하부 플레이트 상의 상부 플레이트; 상기 상부 플레이트로부터 상면보다 위로 돌출되는 척 핀, 상기 척 핀은 상기 상부 플레이트의 내부에 배치되는 연결부, 상기 상부 플레이트 상에 배치되는 지지부 및 상기 연결부와 지지부 사이의 돌기부를 포함하고; 및 상기 상부 플레이트의 내부에 배치되며, 상기 연결부를 상기 상부 플레이트에 고정하는 스크류를 포함한다. 상기 스크류는 상기 연결부를 관통하는 스크류 바디, 상기 스크류 바디의 단부에 배치되며 상기 척 핀의 측면에 접하는 스크류 헤드 및 상기 스크류 헤드를 덮는 스크류 캡을 포함한다.

Description

스크류를 포함하는 스핀 척 및 이를 갖는 기판 처리 장치{SPIN CHUNK HAVING SCREW AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME}
본 개시의 기술적 사상은 스크류를 포함하는 스핀 척 및 이를 갖는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
기판 처리 장치에서는 기판에 약액을 공급하여 기판을 처리하는 공정이 수행된다. 기판 처리 공정에서, 기판은 스핀 척 상에 배치되며, 스핀 척의 척 핀 및 지지핀이 기판을 지지한다.
본 개시의 기술적 사상의 실시 예들에 따른 과제는 스크류를 포함하는 스핀 척 및 이를 갖는 기판 처리 장치를 제공하는데 있다.
본 개시의 실시 예들에 따른 스핀 척은 하부 플레이트; 상기 하부 플레이트 상의 상부 플레이트; 상기 상부 플레이트로부터 상면보다 위로 돌출되는 척 핀, 상기 척 핀은 상기 상부 플레이트의 내부에 배치되는 연결부, 상기 상부 플레이트 상에 배치되는 지지부 및 상기 연결부와 지지부 사이의 돌기부를 포함하고; 상기 상부 플레이트의 내부에 배치되며, 상기 연결부를 상기 상부 플레이트에 고정하는 스크류를 포함할 수 있다. 상기 스크류는 상기 연결부를 관통하는 스크류 바디, 상기 스크류 바디의 단부에 배치되며 상기 척 핀의 측면에 접하는 스크류 헤드 및 상기 스크류 헤드를 덮는 스크류 캡을 포함할 수 있다.
본 개시의 실시 예들에 따른 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 스핀 척, 상기 스핀 척을 지지하는 척 지지부 및 상기 스핀 척을 회전시키는 구동부를 포함하는 기판 지지 장치; 상기 기판 지지 장치를 둘러싸는 처리 용기; 및 상기 기판상에 배치되는 노즐을 포함하는 약액 공급 유닛을 포함할 수 있다. 상기 스핀 척은 하부 플레이트; 상기 하부 플레이트 상의 상부 플레이트; 상기 상부 플레이트로부터 상면보다 위로 돌출되는 척 핀, 상기 척 핀은 상기 상부 플레이트의 내부에 배치되는 연결부, 상기 상부 플레이트 상에 배치되는 지지부 및 상기 연결부와 지지부 사이의 돌기부를 포함하고; 및 상기 상부 플레이트의 내부에 배치되며, 상기 연결부를 상기 상부 플레이트에 고정하는 스크류를 포함할 수 있다. 상기 스크류는 상기 연결부를 완전히 관통하는 스크류 바디, 상기 스크류 바디의 단부에 배치되며 상기 척 핀의 측면에 접하는 스크류 헤드 및 상기 스크류 헤드를 덮는 스크류 캡을 포함할 수 있다. 상기 노즐은 상기 척 핀에 세정액을 공급할 수 있다.
본 개시의 실시 예들에 따르면 스핀 척은 스크류 캡을 갖는 스크류를 포함하므로 핀 홀 내부의 염 발생을 방지 및 감소시킬 수 있다.
도 1은 본 개시의 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 도시한다.
도 2는 도 1의 기판 지지 장치의 평면도이다.
도 3은 도 2의 기판 지지 장치의 선 I-I'을 따른 수직 단면도이다.
도 4는 일 실시 예에 따른 척 핀의 사시도이다.
도 5는 일 실시 예에 따른 기판 지지 장치의 일부에 대한 사시도이다.
도 1은 본 개시의 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 도시한다. 본 개시의 기판 처리 장치는 약액을 사용하여 기판을 세정하는 장치일 수 있다.
도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 처리 영역(20), 유지 보수 영역(30), 격벽(40), 배기구(50), 및 기류 공급 유닛(60)을 포함할 수 있다. 처리 영역(20)에서는 기판(W)을 식각하는 등의 처리가 진행될 수 있다. 유지 보수 영역(30)에서는 처리 영역(20)에서 발생한 가스등이 배기구(50)를 통해 배출될 수 있다. 격벽(40)은 처리 영역(20)과 유지 보수 영역(30)을 분리시킬 수 있다. 기류 공급 유닛(60)은 외기를 필터링하여 처리 영역(20) 내에 공급할 수 있다.
기판 처리 장치(10)는 처리 영역(20)에 내에 처리 용기(100), 기판 지지 장치(200), 액 공급 유닛(300) 및 승강 유닛(400)을 포함할 수 있다. 처리 용기(100)는 상부가 개방될 수 있으며 내부 회수통(110) 및 외부 회수통(120)을 포함할 수 있다. 내부 회수통(110) 및 외부 회수통(120)은 각각 수직 방향으로 연장되는 수직벽 및 상기 수직벽의 단부로부터 기판 처리 장치(200)를 향하여 비스듬하게 연장되는 경사벽을 포함할 수 있다. 내부 회수통(110)은 기판 지지 장치(200)을 둘러싸도록 둘레 방향으로 연장될 수 있으며, 외부 회수통(120)은 내부 회수통(110)을 둘러싸도록 둘레 방향으로 연장될 수 있다. 내부 회수통(110)의 상단은 기판 지지 장치(200)에 놓인 기판(W)보다 낮은 레벨에 위치할 수 있다. 외부 회수통(120)은 내부 회수통(110)보다 높게 설치될 수 있으며, 외부 회수통(120)의 상단은 기판 지지 장치(200)에 놓인 기판(W)보다 높은 레벨에 위치할 수 있다.
내부 회수통(110)의 안쪽에는 내부 유입구(112)가 배치될 수 있으며, 내부 회수통(110)과 외부 회수통(120) 사이의 공간에는 외부 유입구(122)가 배치될 수 있다. 내부 유입구(112) 및 외부 유입구(122)는 기판 처리 공정에 사용되는 약액을 회수하는 데 사용될 수 있다. 각각 내부 회수통(110) 및 외부 회수통(120)의 아래에는 회수 라인들(114, 124)이 배치될 수 있으며, 내부 유입구(112) 및 외부 유입구(122)는 각각 회수 라인(114) 및 회수 라인(124)과 연결될 수 있다. 회수 라인들(114, 124)에 유입된 약액은 재사용될 수 있다.
기판 지지 장치(200)는 처리 용기(100) 내부에 배치될 수 있으며, 기판(W)을 지지할 수 있다. 기판 지지 장치(200)는 척 지지부(210), 구동부(212) 및 스핀 척(220)을 포함할 수 있다.
척 지지부(210)는 구동부(212)에 연결되며 내부에 회전축(미도시)을 포함할 수 있다. 척 지지부(210)는 수직 방향으로 연장될 수 있으며, 처리 영역(20) 내에서 스핀 척(220)의 하부에 배치될 수 있다. 구동부(212)는 유지 보수 영역(30)에 배치되어 상기 회전축을 통해 척 지지부(210)를 수평 방향으로 회전시킬 수 있다.
스핀 척(220)은 척 지지부(210) 상에 배치될 수 있다. 스핀 척(220)은 척 지지부(210)와 결합되어 회전축에 의해 수평 방향으로 회전할 수 있으며 실린더 형상일 수 있다. 스핀 척(220)은 그 상면에 지지 핀(SP) 및 척 핀(CP)을 포함할 수 있다.
지지 핀(SP)은 스핀 척(220) 상에 배치될 수 있으며, 스핀 척(220)으로부터 수직으로 돌출하여 기판(W)의 하면을 지지할 수 있다. 척 핀(CP)은 스핀 척(220) 상에 배치될 수 있으며, 스핀 척(220)의 가장자리에 배치될 수 있다. 척 핀(CP)은 기판(W)의 하면 및 측면을 지지할 수 있다.
액 공급 유닛(300)은 처리 영역(20) 내에 배치될 수 있으며, 노즐(310), 지지대(320), 지지축(330), 구동 부재(340) 및 액 공급 부재(350)를 포함할 수 있다. 노즐(310)은 기판(W) 상에 약액, 세정액 또는 건조 가스를 제공할 수 있다. 예를 들어, 약액은 황산, 질산, 암모니아, 불산 또는 이들과 탈이온수(deionized water; DIW)의 혼합액을 포함할 수 있다. 다만, 약액의 종류가 이에 한정되는 것은 아니며, 노즐(310)에 의해 제공되는 약액은 초임계 건조 공정을 수행하기 위해 기판을 웨팅(wetting)하는데 필요한 유기용액을 포함할 수 있다. 예를 들어, 약액은 이소프로필 알코올을 포함할 수 있다. 세정액은 스핀 척(220)을 세정하기 위해 사용될 수 있으며, 탈이온수를 포함할 수 있다. 건조 가스는 이소프로필 알코올과 질소 가스를 포함할 수 있다. 일 실시 예에서 노즐(310)은 기판(W) 상에 탈이온수를 포함하는 세정액을 제공할 수 있다. 지지대(320)는 지지축(330)으로부터 수평 방향으로 연장되어 노즐(310)을 지지할 수 있다. 지지축(330)은 구동 부재(340)에 의해 회전 및 승강 운동할 수 있다. 액 공급 부재(350)는 노즐(310)에 연결될 수 있으며, 노즐(310)에 처리액을 공급할 수 있다.
승강 유닛(400)은 브라켓(410), 이동축(420) 및 구동기(430)를 포함할 수 있다. 브라켓(410)은 처리 용기(100)의 외벽에 고정될 수 있으며, 이동축(420)에 연결될 수 있다. 이동축(420)은 구동기(430)에 의해 수직 방향으로 움직일 수 있다. 승강 유닛(400)은 처리 용기(100)를 수직 방향으로 이동시켜, 노즐(310)과 기판(W) 사이의 거리를 조절할 수 있다.
도 2는 도 1의 기판 지지 장치의 평면도이다. 도 3은 도 2의 기판 지지 장치의 선 I-I'을 따른 수직 단면도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 스핀 척(220)은 상부 플레이트(222), 하부 플레이트(224), 이동 로드(230) 및 스크류(240)를 포함할 수 있다. 평면도에서, 스핀 척(220)의 상부 플레이트(222) 상에 기판(W)이 배치될 수 있다. 지지 핀(SP) 및 척 핀(CP)은 상부 플레이트(222)의 가장자리를 따라 각각 일정한 간격으로 배치될 수 있다. 예를 들어, 지지 핀(SP)은 기판(W)의 가장자리를 따라 배치되어 기판(W)의 하면을 지지할 수 있다. 척 핀(SP)은 지지 핀(SP)과 교대로 배치될 수 있으며, 기판(W)의 가장자리를 따라 배치되어 기판(W)의 측면을 지지할 수 있다.
도 3을 더 참조하면, 상부 플레이트(222)는 하부 플레이트(224) 상에 배치될 수 있으며, 제1 에지부(222a), 제2 에지부(222b) 및 수직부(222c)를 포함할 수 있다. 제1 에지부(222a) 및 제2 에지부(222b)는 스핀 척(220)의 가장자리에 대응하는 부분이며, 제1 에지부(222a)는 제2 에지부(222b) 상에 배치될 수 있다. 제1 에지부(222a)는 그 내부에 척 핀(CP)의 일부분이 수용되는 핀 홀(H1)을 포함할 수 있다. 핀 홀(H1)은 척 핀(CP)의 측면을 노출시키며 둘레 방향으로 연장되는 원기둥 형상의 공간일 수 있다. 핀 홀(H1)은 상부 플레이트(222)의 상면으로부터 수직 아래로 연장될 수 있으며, 핀 홀(H1)의 수평 폭은 척 핀(CP)의 수평 폭보다 클 수 있다. 척 핀(CP)은 상부 플레이트(222)로부터 위로 돌출될 수 있으며, 핀 홀(H1)의 내부에서 스크류(240)와 연결될 수 있다.
도 4는 일 실시 예에 따른 척 핀의 사시도이다.
도 4를 참조하면, 척 핀(CP)은 지지부(C1), 연결부(C2), 돌기부(C3) 및 헤드부(C4)를 포함할 수 있다. 지지부(C1)는 연결부(C2) 상에 위치할 수 있으며, 상부 플레이트(222)의 상면보다 위로 돌출되는 부분일 수 있다. 지지부(C1)는 원통형 구조물 및 상기 원통형 구조물 상에 배치되며 위로 갈수록 폭이 작아지는 원뿔대 구조물을 포함할 수 있다. 연결부(C2)는 핀 홀(H1)의 내부에 배치되는 부분일 수 있으며, 수평 방향으로 연장되는 스크류 홀(CH)을 포함할 수 있다. 도 3에 도시된 바와 같이, 스크류(240)는 연결부(C2)의 스크류 홀(CH)을 관통할 수 있다.
돌기부(C3)는 지지부(C1)와 연결부(C2) 사이에 위치할 수 있다. 돌기부(C3)는 척 핀(CP)의 측면으로부터 수평 방향으로 연장될 수 있으며, 링 형상을 가질 수 있다. 돌기부(C3)의 수평 폭은 연결부(C2) 및 핀 홀(H1)의 수평 폭보다 클 수 있다. 돌기부(C3)는 지지부(C1)가 핀 홀(H1)의 내부로 떨어지지 않도록 척 핀(CP)을 지지할 수 있다. 예를 들어, 돌기부(C3)의 하면은 상부 플레이트(222)의 상면과 접할 수 있다.
헤드부(C4)는 척 핀(CP)의 상단부에 대응할 수 있으며, 지지부(C1) 상에 위치할 수 있다. 헤드부(C4)는 상기 원뿔대 구조물 상에 위치하며 위로 갈수록 폭이 증가할 수 있다. 지지부(C1)는 기판(W)을 지지할 수 있으며, 기판(W)의 측면은 지지부(C1)와 헤드부(C4) 사이의 부분과 접촉할 수 있다.
다시 도 3을 참조하면, 제1 에지부(222a)는 제1 에지부(222a)와 제2 에지부(222b) 사이에는 형성되는 핀 개구부(H2)를 포함할 수 있다. 핀 개구부(H2)는 제1 에지부(222a)의 측면으로부터 수평 방향으로 연장될 수 있으며, 척 핀(CP)의 측면 및 스크류(240)를 노출시킬 수 있다. 핀 개구부(H2)는 핀 홀(H1)과 연통할 수 있다.
제2 에지부(222b)는 그 내부에 척 핀(CP)의 하면을 노출시키는 하부 개구부(H3)를 포함할 수 있다. 하부 개구부(H3)는 핀 홀(H1)과 수직방향으로 정렬되는 원기둥 형상의 공간일 수 있다. 하부 개구부(H3)의 수평 폭은 척 핀(CP)의 수평 폭보다 클 수 있으며, 핀 홀(H1) 및 핀 개구부(H2)와 연통할 수 있다.
상부 플레이트(222)의 수직부(222c)는 상부 플레이트(222)의 상면으로부터 수직 아래 방향으로 연장될 수 있으며, 하부 플레이트(224)와 접할 수 있다. 예를 들어, 핀 홀(H1)은 제1 에지부(222a)와 수직부(222c) 사이에 위치할 수 있으며, 하부 개구부(H3)는 제2 에지부(222b)와 수직부(222c) 사이에 위치할 수 있다.
하부 플레이트(224)는 수평 방향으로 연장되는 판 형상의 구조물일 수 있다. 상술한 바와 같이, 하부 플레이트(224)는 상부 플레이트(222)의 수직부(222c)와 접할 수 있다. 예를 들어, 하부 플레이트(224) 상면의 일부 및 측면인 수직부(222c)와 접할 수 있다.
이동 로드(230)는 상부 플레이트(222)를 관통하여 핀 홀(H1) 내부의 척 핀(CP)과 접할 수 있다. 예를 들어, 이동 로드(230)는 수평 방향으로 연장되여 상부 플레이트(222)의 수직부(222c)를 관통할 수 있다. 이동 로드(230)는 척 핀과 접하는 단부에 수평 방향으로 연장되는 로드 홀(232)을 포함할 수 있다. 로드 홀(232)은 척 핀(CP)의 스크류 홀(CH)과 수평 방향으로 정렬될 수 있다.
스크류(240)는 스크류 바디(242), 스크류 헤드(244) 및 스크류 캡(246)을 포함할 수 있다. 스크류(240)는 척 핀(CP)을 이동 로드(230)에 결합시킬 수 있다. 예를 들어, 스크류(240)의 스크류 바디(242)는 로드 홀(232) 및 스크류 홀(CH)을 관통하여 수평 방향으로 연장될 수 있으며, 스크류 헤드(244)는 스크류 바디(242)의 단부에 연결되며, 척 핀(CP)의 측면에 배치될 수 있다. 즉, 스크류 헤드(244)는 척 핀(CP)을 사이에 두고 이동 로드(230)의 반대편에 위치할 수 있다. 스크류 바디(242)는 척 핀(CP)과 이동 로드(230)의 위치를 정렬시키는데 사용될 수 있으며, 스크류 헤드(244)에 의해 척 핀(CP)은 이동 로드(230)에 고정 결합될 수 있다. 스크류 캡(246)은 스크류 헤드(244)를 감쌀 수 있으며, 척 핀(CP)의 측면과 접할 수 있다. 스크류 캡(246)은 기판 처리 공정 시 스크류(240)가 부식되는 것을 방지할 수 있다. 일 실시 예에서, 핀 개구부(H2)가 핀 홀(H1) 및 하부 개구부(H3)와 연통할 수 있도록 스크류 캡(246)의 크기는 핀 개구부(H2)의 크기보다 작을 수 있다. 도 3에는 스크류 캡(246)이 핀 개구부(H2) 내에 위치하는 것으로 도시되어 있으나, 이에 제한되지 않는다. 일부 실시 예들에서, 스크류 캡(246)은 상부 플레이트(222)의 외부로 돌출될 수 있다. 또한, 일 실시 예에서, 스크류 헤드(244)와 척 핀(CP) 사이에 베어링이 배치될 수 있다.
도 5는 일 실시 예에 따른 기판 지지 장치의 일부에 대한 사시도이다.
도 5를 참조하면, 상부 플레이트(222)의 측면에 핀 개구부(H2)가 형성되고, 상부 플레이트(222)의 가장자리에 배치된 척 핀(CP)이 도시되어 있다. 상술한 바와 같이, 척 핀(CP)은 스크류(240)에 고정 결합될 수 있으며, 스크류(240)의 부식을 방지하기 위한 스크류 캡(246)이 핀 개구부(H2)에 배치될 수 있다.
기판 처리 공정 시, 기판(W)에 제공되는 약액은 핀 홀(H1)을 통해 스핀 척(220)의 하부로 배출될 수 있다. 그러나, 스크류(240)가 악액에 의해 부식되거나 염이 발생하는 경우 핀 홀(H1)을 막아 약액이 충분하게 배출되지 않을 수 있으며, 척 핀(CP)이 기울어지는 문제가 발생할 수 있다. 그러나, 도 3 및 도 5에 도시된 바와 같이, 본 개시의 스핀 척(220)의 스크류(240)는 스크류 캡(246)을 포함하므로 염 발생을 방지 및 감소시킬 수 있다. 따라서, 후속되는 초임계 건조 공정 시 기판(W)상에 형성된 유막이 깨지는 것을 방지할 수 있다.
다시 도 3을 참조하면, 일 실시 예에서, 액 공급 유닛(300)의 노즐(310)은 스핀 척(220) 상에 배치될 수 있으며, 척 핀(CP)에 세정액(312)을 공급할 수 있다. 세정액(312)은 예를 들어, 탈이온수일 수 있다. 척 핀(CP)에 공급된 세정액(312)은 핀 홀(H1)을 통해 핀 개구부(H2) 및 하부 개구부(H3)로 배출될 수 있다. 따라서, 척 핀(CP)을 따라 핀 홀(H1)로 흘러들어간 약액이 핀 홀(H1)에서 제거될 수 있으며, 핀 홀(H1) 내부 및 스크류(240)에 염 발생을 방지 및 감소시킬 수 있다.
일 실시 예에서, 액 공급 유닛(300)은 복수의 노즐(310)을 포함할 수 있으며, 복수의 노즐(310)은 각각 약액, 세정액(312) 또는 건조 가스를 공급할 수 있다. 또한, 복수의 척 핀(CP)에 대응하여 상기 복수의 척 핀(CP)에 세정액(312)을 공급하는 노즐(310)이 복수 개가 배치될 수 있다. 또는, 세정액(312)을 공급하는 노즐(310)은 스핀 척(220)의 가장자리를 따라 이동하며 척 핀들(CP)에 세정액(312)을 공급할 수 있다.
이상, 첨부된 도면을 참조하여 본 개시에 따른 실시 예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 이상에서 기술한 실시 예는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해하여야 한다.
10 : 기판 처리 장치 20 : 처리 영역
30 : 유지 보수 영역 40 : 격벽
50 : 배기구 60 : 기류 공급 유닛
100 : 처리 용기 200 : 기판 지지 장치
210 : 척 지지부 212 : 구동부
220 : 스핀 척 222 : 상부 플레이트
224 : 하부 플레이트 SP : 지지 핀
CP : 척 핀 H1 : 핀 홀
H2 : 핀 개구부 H3 : 하부 개구부
230 : 이동 로드 240 : 스크류
242 : 스크류 바디 244 : 스크류 헤드
246 : 스크류 캡 W : 기판
300 : 액 공급 유닛 310 : 노즐
400 : 승강 유닛

Claims (10)

  1. 하부 플레이트;
    상기 하부 플레이트 상의 상부 플레이트;
    상기 상부 플레이트로부터 상면보다 위로 돌출되는 척 핀, 상기 척 핀은 상기 상부 플레이트의 내부에 배치되는 연결부, 상기 상부 플레이트 상에 배치되는 지지부 및 상기 연결부와 지지부 사이의 돌기부를 포함하고; 및
    상기 상부 플레이트의 내부에 배치되며, 상기 연결부를 상기 상부 플레이트에 고정하는 스크류를 포함하며,
    상기 스크류는 상기 연결부를 관통하는 스크류 바디, 상기 스크류 바디의 단부에 배치되며 상기 척 핀의 측면에 접하는 스크류 헤드 및 상기 스크류 헤드를 덮는 스크류 캡을 포함하는 스핀 척.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 상부 플레이트는 제1 에지부 및 상기 제2 에지부 하부의 제2 에지부를 포함하는 스핀 척.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 상부 플레이트는 상기 상부 플레이트의 상면으로부터 수직 아래로 연장되는 수직부를 포함하며, 상기 스크류와 결합되는 로드 홀을 포함하며 상기 수직부를 관통하는 이동 로드를 더 포함하는 스핀 척.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 제1 에지부는 내부에 상기 연결부를 수용하며, 수직 방향으로 연장되는 핀 홀, 및
    상기 제1 에지부와 상기 제2 에지부 사이에 형성되며 수평 방향으로 연장되는 핀 개구부를 포함하며, 상기 제2 에지부는 내부에 상기 연결부의 하면을 노출시키는 하부 개구부를 포함하는 스핀 척.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 핀 홀, 상기 핀 개구부 및 상기 하부 개구부는 서로 연통하는 스핀 척.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 스크류 캡은 상기 핀 개구부 내에 배치되는 스핀 척.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 연결부는 수평 방향으로 연장되는 스크류 홀을 포함하며,
    상기 스크류 바디는 상기 스크류 홀을 완전히 관통하는 스핀 척.
  8. 기판을 지지하는 스핀 척, 상기 스핀 척을 지지하는 척 지지부 및 상기 스핀 척을 회전 시키는 구동부를 포함하는 기판 지지 장치;
    상기 기판 지지 장치를 둘러싸는 처리 용기; 및
    상기 기판 상에 배치되는 노즐을 포함하는 약액 공급 유닛을 포함하며,
    상기 스핀 척은:
    하부 플레이트;
    상기 하부 플레이트 상의 상부 플레이트;
    상기 상부 플레이트로부터 상면보다 위로 돌출되는 척 핀, 상기 척 핀은 상기 상부 플레이트의 내부에 배치되는 연결부, 상기 상부 플레이트 상에 배치되는 지지부 및 상기 연결부와 지지부 사이의 돌기부를 포함하고; 및
    상기 상부 플레이트의 내부에 배치되며, 상기 연결부를 상기 상부 플레이트에 고정하는 스크류를 포함하며,
    상기 스크류는 상기 연결부를 완전히 관통하는 스크류 바디, 상기 스크류 바디의 단부에 배치되며 상기 척 핀의 측면에 접하는 스크류 헤드 및 상기 스크류 헤드를 덮는 스크류 캡을 포함하며
    상기 노즐은 상기 척 핀에 세정액을 공급하는 기판 처리 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 상부 플레이트는 제1 에지부 및 상기 제2 에지부 하부의 제2 에지부를 포함하고,
    상기 제1 에지부는 내부에 상기 연결부를 수용하며, 수직 방향으로 연장되는 핀 홀, 및
    상기 제1 에지부와 상기 제2 에지부 사이에 형성되며 수평 방향으로 연장되는 핀 개구부를 포함하며,
    상기 제2 에지부는 내부에 상기 연결부의 하면을 노출시키는 하부 개구부를 포함하는 기판 처리 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 세정액은 상기 핀 홀을 통해 상기 핀 개구부 및 상기 하부 개구부로 배출되는 기판 처리 장치.
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