KR20230020393A - Parts for electrical/electronic devices - Google Patents

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KR20230020393A
KR20230020393A KR1020227038953A KR20227038953A KR20230020393A KR 20230020393 A KR20230020393 A KR 20230020393A KR 1020227038953 A KR1020227038953 A KR 1020227038953A KR 20227038953 A KR20227038953 A KR 20227038953A KR 20230020393 A KR20230020393 A KR 20230020393A
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welding
weld
plate
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electrical
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KR1020227038953A
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신고 카와타
쇼이치 단조
슌타 아키야
šœ타 아키야
소키 쿠즈하라
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후루카와 덴키 고교 가부시키가이샤
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Abstract

구리계 재료로 이루어지는 복수의 판재가 용접에 의해 접합된 전기·전자기기용 부품이며, 용접부의 강도가 높은 전기·전자기기용 부품을 제공한다. 90질량% 이상의 Cu를 함유하는 복수의 판재로 구성되고, 상기 복수의 판재끼리를 서로 맞댄 상태 또는 포갠 상태에서 용접에 의해 선 형상 또는 점 형상으로 접합하여 일체화시키는 용접부를 가지며, 용접부는 판재 두께 전체에 걸쳐 연장되고, 접합된 상기 복수의 판재가 연장되는 방향으로 상기 용접부를 절단하였을 때의 단면에서, 상기 용접부는 상기 판재 두께의 반 치수에 해당하는 위치에서 측정하였을 때의 빅커스 경도가 60이상인 전기·전자기기용 부품이다.A component for electrical/electronic devices in which a plurality of plate materials made of copper-based materials are joined by welding, and a component for electrical/electronic devices having a high welded portion is provided. It is composed of a plurality of plate materials containing 90% by mass or more of Cu, and has a welding portion for joining and integrating the plurality of plate materials in a linear or dotted shape by welding in a state of facing each other or in a state of overlapping each other, and the welding portion has the entire thickness of the plate material. In a cross section when the welded part is cut in the direction in which the plurality of plate materials are extended and joined, the Vickers hardness of the welded part when measured at a position corresponding to half the thickness of the plate material is 60 or more. It is a component for electrical and electronic devices.

Figure P1020227038953
Figure P1020227038953

Description

전기·전자기기용 부품Parts for electrical/electronic devices

본 발명은 전기·전자기기용 부품에 관한 것이다.The present invention relates to parts for electrical/electronic devices.

최근, 전기·전자기기의 고기능화, 고성능화에 따라 발열량이 증가하는 경향이 있다. 또한, 전기·전자기기의 소형화가 진행됨으로써, 발열 밀도가 증가하기 때문에, 발생한 열을 냉각시키는 것이 중요해지고 있다. 발생한 열을 냉각시키기 위한 부재로서는 예를 들면, 면 형상의 히트 파이프인 베이퍼 챔버를 들 수 있다. 베이퍼 챔버의 소재로서는, 높은 열 전도율을 갖는 구리계 재료(순동, 구리 합금)를 사용하는 것이 바람직하다.BACKGROUND OF THE INVENTION [0002] In recent years, the amount of heat generated tends to increase with the high functionality and high performance of electrical and electronic devices. In addition, as the miniaturization of electric/electronic devices progresses, heat generation density increases, so cooling the generated heat is becoming important. As a member for cooling the generated heat, a vapor chamber which is a planar heat pipe is exemplified. As the material of the vapor chamber, it is preferable to use a copper-based material (pure copper, copper alloy) having high thermal conductivity.

여기서, 베이퍼 챔버는 여러 장의 판을 겹친 상태에서 외주부를 접합하여 형성한 내부 공간에 작동액을 넣고, 그 후, 감압 봉입함으로써 접합된 밀폐 구조를 갖는다. 이러한 접합 방법으로서는 예를 들면, 레이저 용접, 저항 용접, 확산 접합, TIG 용접을 들 수 있다.Here, the vapor chamber has an airtight structure in which a working liquid is put into an inner space formed by joining outer circumferential portions in a state where several sheets of plates are stacked, and then sealed under reduced pressure. Examples of such a bonding method include laser welding, resistance welding, diffusion bonding, and TIG welding.

이들 용접으로 접합되는 경우, 용접부는 고온으로 가열됨으로써 한번 용융시킨 후에 재응고시킴으로써 형성되기 때문에, 판재에 소둔을 한 경우와 마찬가지로 연질화되고, 판재 자체의 강도보다 연질화되어 강도가 낮아진다는 문제가 있다. 강도가 낮아지면, 변형되기 쉬워진다.In the case of joining by welding, since the welded part is formed by melting once by heating to a high temperature and then re-solidifying, it becomes softer as in the case of annealing the plate material, and there is a problem that the strength is lowered by being softer than the strength of the plate material itself. there is. When strength is low, it becomes easy to deform|transform.

이러한 문제에 대해서, 특허문헌 1에는 여러 부품을 확산 접합이나 경납땜으로 접합하여 베이퍼 챔버를 제조하는 방법에 있어서, 케이스의 소재로서 석출 경화형 구리 합금을 사용하여, 시효 처리해서 석출 경화시킴으로써, 케이스의 강도 등을 향상시키는 기술이 개시되어 있다.Regarding this problem, in Patent Document 1, in a method for manufacturing a vapor chamber by joining various parts by diffusion bonding or brazing, a precipitation hardening type copper alloy is used as a material for the case, and precipitation hardening is performed by aging treatment to make the case Techniques for improving strength and the like are disclosed.

그렇지만, 특허문헌 1의 기술에서는, 석출 경화형 구리 합금을 사용할 필요가 있어, 비석출형 구리 합금이나 순동에는 적용할 수 없다는 문제가 있다. 또한, 특허문헌 1의 기술에서는, 시효 처리를 실시할 필요가 있어, 공정수 증가에 따른 생산성 저하가 발생한다는 문제가 있다.However, in the technique of Patent Document 1, there is a problem that it is necessary to use a precipitation hardening type copper alloy and cannot be applied to a non-precipitation type copper alloy or pure copper. In addition, the technology of Patent Literature 1 requires aging treatment, and there is a problem that productivity decreases due to an increase in the number of steps.

이 때문에, 석출 경화형 구리 합금을 사용하여, 시효 처리해서 석출 경화시키는 방법 이외의 방법으로 용접부의 강도를 높이는 것이 바람직하다.For this reason, it is preferable to increase the strength of the welded part by a method other than the method of precipitation hardening by aging treatment using a precipitation hardening type copper alloy.

상술한 용접부의 강도가 낮아진다는 문제는 베이퍼 챔버에 한하지 않으며, 버스 바 등의 기타 전기·전자기기에서도 마찬가지로 존재한다.The above-mentioned problem of lowering the strength of the welded part is not limited to the vapor chamber, and also exists in other electric/electronic devices such as bus bars.

또한, 특허문헌 2에는 레이저를 특정 궤적으로 조사함으로써, 접합 강도를 향상시키는 기술이 개시되어 있으나, 특허문헌 2의 기술은 알루미늄과 구리의 접합에 관한 기술로서, 구리계 재료끼리의 접합에는 적용하기 어렵다. 자세하게 설명하면, 구리계 재료는 열 전도율이 높기 때문에 열이 달아나기 쉽고, 또, 레이저광이 반사되기 쉽기 때문에, 구리계 재료는 레이저 용접에 의한 접합을 하기 어려운 재료이다. 이 때문에, 특허문헌 2와 같이, 레이저광을 이용한 단순 용접으로는, 접합 강도가 낮아 충분히 접합할 수 없다.In addition, Patent Document 2 discloses a technique for improving bonding strength by irradiating a laser with a specific trajectory, but the technique of Patent Document 2 is a technique for bonding aluminum and copper, and is applicable to bonding between copper-based materials. difficult. More specifically, since copper-based materials have high thermal conductivity, heat escapes easily, and laser light is easily reflected, copper-based materials are materials that are difficult to join by laser welding. For this reason, as in Patent Document 2, by simple welding using a laser beam, bonding strength is low and cannot be sufficiently bonded.

국제 공개 제2017/164013호International Publication No. 2017/164013 일본 공개특허공보 특개 제2017-168340호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-168340

본 발명은 이상의 실정을 감안하여 이루어진 것으로서, 구리계 재료로 이루어지는 복수의 판재가 용접에 의해 접합된 전기·전자기기용 부품이며, 용접부의 강도가 높은 전기·전자기기용 부품을 제공하는 것을 과제로 한다.The present invention has been made in view of the above situation, and is a component for electrical/electronic devices in which a plurality of plate materials made of copper-based materials are joined by welding, and the strength of the welded portion is high. It is an object to provide a component for electrical/electronic devices.

또한, 본 발명은 베이퍼 챔버나 버스 바 등의 용접부를 갖는 전기·전자기기용 부품에 있어서, 용접된 판재의 경도 및 판재 전체 경도의 경사를 제어함으로써, 강성이 있고, 또, 용접부가 국소 변형되기 어려운 전기·전자기기용 부품을 제공하는 것을 과제로 한다.In addition, in the present invention, in parts for electric/electronic devices having welded parts such as vapor chambers and bus bars, by controlling the gradient of the hardness of the welded plate material and the overall hardness of the plate material, the welded part has rigidity and is difficult to locally deform. It aims to provide parts for electrical and electronic devices.

본 발명자들은 열심히 검토를 거듭한 결과, 90질량% 이상의 Cu를 함유하는 성분 조성의 판재를 사용하여, 레이저 용접 조건을 제어함으로써, 용접부의 빅커스 경도(HV)를 높일 수 있다는 것을 찾아냈으며, 또, 본 발명자들은 용접부로부터 비용접부에 적절한 경도 및 그 경도의 경사를 제어함으로써, 강성이 있고, 또, 용접부가 국소 변형되기 어려워지는 것을 찾아내서, 본 발명의 전기·전자기기용 부품을 완성하기에 이르렀다.As a result of repeated studies, the inventors of the present invention have found that the Vickers hardness (HV) of the welded part can be increased by using a sheet material having a component composition containing 90% by mass or more of Cu and controlling the laser welding conditions. , The inventors of the present invention have found that the welded portion has rigidity and is difficult to locally deform by controlling the appropriate hardness and the slope of the hardness from the welded portion to the non-welded portion, and has completed the electrical/electronic device parts of the present invention. .

즉, 본 발명의 요지 구성은 이하와 같다.That is, the gist of the present invention is as follows.

(1) 90질량% 이상의 Cu를 함유하는 복수의 판재로 구성되고, 상기 복수의 판재끼리를 서로 맞댄 상태 또는 포갠 상태에서 용접에 의해 선 형상 또는 점 형상으로 접합하여 일체화시키는 용접부를 가지며, 상기 용접부는 상기 판재의 두께 전체에 걸쳐 연장되고, 접합된 상기 복수의 판재가 연장되는 방향으로 상기 용접부를 절단하였을 때의 단면에서, 상기 용접부는 용접 자국의 폭인 용접 폭의 중앙에서 상기 판재 두께의 반 치수에 해당하는 위치에서 측정하였을 때의 빅커스 경도(HV1)가 60이상인 전기·전자기기용 부품.(1) It is composed of a plurality of plate materials containing 90% by mass or more of Cu, and has a welding portion for joining and integrating the plurality of plate materials in a linear or dotted shape by welding in a state in which the plurality of plate materials are butted against each other or in a stacked state, and the weld portion Extends over the entire thickness of the plate material, and in a cross section when the welded part is cut in the direction in which the plurality of joined plate materials extend, the welded part has half the thickness of the plate material at the center of the weld width, which is the width of the weld mark. Parts for electrical and electronic devices with a Vickers hardness (HV1) of 60 or more when measured at the location corresponding to

(2) 상기 단면에 있어서, 상기 용접부의 용접 폭과 상기 판재의 두께로 구획되는 직사각형 영역에서, SEM-EBSD법의 결정 방위 해석 데이터로부터 얻을 수 있는 GAM치를 측정하였을 때, 상기 GAM치가 0.5°이상 2.0°미만인 결정립은 측정 면적에 존재하는 모든 결정립에 대한 면적 비율이 25% 이상인, (1)에 기재된 전기·전자기기용 부품.(2) In the cross section, when a GAM value obtained from crystal orientation analysis data of the SEM-EBSD method is measured in a rectangular region partitioned by the weld width of the weld portion and the thickness of the plate material, the GAM value is 0.5° or more. The electrical/electronic device component according to (1), wherein the crystal grains having an area of less than 2.0 ° have an area ratio of 25% or more to all crystal grains present in the measurement area.

(3) 90질량% 이상의 Cu를 함유하는 복수의 판재로 구성되고,(3) composed of a plurality of plate materials containing 90% by mass or more of Cu;

상기 복수의 판재끼리를 서로 맞댄 상태 또는 포갠 상태에서 용접에 의해 선 형상 또는 점 형상으로 접합하여 일체화시키는 용접부를 가지며, 상기 용접부는 상기 판재의 두께 전체에 걸쳐 연장되고, 접합된 상기 복수의 판재가 연장되는 방향으로 상기 용접부를 절단하였을 때의 단면에서, 판재 표면의 용접 자국의 폭인 용접 폭의 중앙에서 상기 판재 두께의 반 치수에 해당하는 위치에서 측정하였을 때의 상기 용접부에서의 빅커스 경도를 HV1이라 하고,The plurality of plate materials are joined to each other in a state of facing each other or in a state of being overlapped, and has a welding portion for joining and integrating the plurality of plate materials in a linear or point shape by welding, the weld portion extending over the entire thickness of the plate material, and the joined plurality of plate materials In the cross section when the weld is cut in the extending direction, the Vickers hardness at the weld when measured at a position corresponding to half the thickness of the plate at the center of the weld width, which is the width of the weld mark on the surface of the plate, is HV1 say,

상기 용접부의 중심 위치로부터 용접 반폭의 1.5배에 해당하는 거리만큼, 용접 폭의 방향을 따라 이격된 위치에서 측정하였을 때의 상기 비용접부에서의 빅커스 경도를 HV2이라 할 때, 상기 비용접부에서의 빅커스 경도(HV2)가 75이상이고, 상기 비용접부에서의 빅커스 경도(HV2)와, 상기 용접부에서의 빅커스 경도(HV1)의 차이를, 빅커스 경도(HV1 및 HV2)를 측정한 위치간의 압흔 거리 X(㎛)로 나누었을 때의 경도 경사율((HV2-HV1)/X)이 0.2/㎛ 이하인, (1) 또는 (2)에 기재된 전기·전자기기용 부품.When the Vickers hardness at the non-welded portion measured at a location spaced apart along the direction of the weld width by a distance corresponding to 1.5 times the half-width of the weld from the center position of the weld portion is HV2, at the non-weld portion The position where the Vickers hardness (HV2) is 75 or more and the difference between the Vickers hardness (HV2) at the non-welded part and the Vickers hardness (HV1) at the welded part is measured and the Vickers hardness (HV1 and HV2) is measured The electrical/electronic device component according to (1) or (2), wherein the hardness gradient ((HV2-HV1)/X) when divided by the indentation distance X (μm) between the spaces is 0.2/μm or less.

(4) 상기 판재가 Ag, Fe, Ni, Co, Si, Cr, Sn, Zn, Mg 및 P으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 포함하는, (1)∼(3) 중 어느 하나에 기재된 전기·전자기기용 부품.(4) In any one of (1) to (3), wherein the plate material contains at least one element selected from the group consisting of Ag, Fe, Ni, Co, Si, Cr, Sn, Zn, Mg, and P. Components for electrical and electronic devices listed.

(5) 상기 판재가 99.96질량% 이상의 Cu 및 불가피 불순물인, (1)∼(3) 중 어느 하나에 기재된 전기·전자기기용 부품.(5) The electrical/electronic device component according to any one of (1) to (3), wherein the plate material is Cu of 99.96% by mass or more and unavoidable impurities.

(6) 상기 전기·전자기기용 부품이 베이퍼 챔버인, (1)∼(5) 중 어느 하나에 기재된 전기·전자기기용 부품.(6) The components for electrical/electronic devices according to any one of (1) to (5), wherein the components for electrical/electronic devices are vapor chambers.

(7) 상기 전기·전자기기용 부품이 버스 바인, (1)∼(5) 중 어느 하나에 기재된 전기·전자기기용 부품.(7) The component for electrical/electronic device according to any one of (1) to (5), wherein the component for electrical/electronic device is a bus bar.

본 발명에 따르면, 90질량% 이상의 Cu를 함유하는 구리계 재료로 이루어지는 복수의 판재가 용접에 의해 접합된 전기·전자기기용 부품이며, 용접부의 강도가 높은 전기·전자기기용 부품을 제공할 수 있다.According to the present invention, a plurality of plate materials made of a copper-based material containing 90% by mass or more of Cu are joined by welding, and the strength of the welded portion is high. Electrical and electronic device components can be provided.

또한, 본 발명에 따르면, 용접부에서 적절한 경도를 얻고, 또한, 용접부로부터 비용접부로의 사이에서 경도의 경사를 제어함으로써, 강성이 있고, 또, 용접부가 국소 변형되기 어려운 전기·전자기기용 부품을 제공할 수 있다.Further, according to the present invention, by obtaining appropriate hardness at the welded portion and controlling the inclination of the hardness between the welded portion and the non-welded portion, a component for electric/electronic devices having rigidity and being difficult to locally deform at the welded portion is provided. can do.

도 1의 (a)는 본 발명의 일 실시형태가 되는 전기·전자기기용 부품을 구성하는 2장의 Cu 판재를 맞댄 상태에서 선 형상으로 레이저 용접하였을 때의 개략 사시도이고, (b)는 본 발명의 일 실시형태가 되는 전기·전자기기용 부품을 구성하는 2장의 Cu 판재를 포갠 상태에서 선 형상으로 레이저 용접하였을 때의 개략 사시도이다.
도 2는 맞댄 Cu 판재를 레이저 용접한 Cu 접합체(2장의 Cu 판재 접합체)의 레이저를 조사한 측의 표면 상태를 Z축 상으로부터 관찰하였을 때의 광학 현미경 사진이다.
도 3은 맞댄 Cu 판재를 레이저 용접한 Cu 접합체의 레이저를 조사한 측과는 반대 측의 표면 상태를 관찰하였을 때의 광학 현미경 사진이다.
도 4는 Cu 판재를 레이저 용접한 Cu 접합체의 단면 상태를 X축 상으로부터 관찰하였을 때의 광학 현미경 사진이다.
도 5의 (a)는 2장의 Cu 판재를 맞댄 상태에서 점 형상으로 레이저 용접하였을 때의 개략 사시도, (b)는 2장의 Cu 판재를 포갠 상태에서 점 형상으로 레이저 용접하였을 때의 개략 사시도이며, 모두 용접부를 Cu 접합체가 연장되는 방향으로 절단하였을 때의 단면이 보이는 상태로 도시한다.
도 6은 레이저 용접 장치의 개략 구성을 도시하는 도면이다.
도 7은 레이저 용접 장치의 레이저광의 스폿 지름을 도시하는 도면이다.
도 8의 (a)는 본 발명의 다른 실시형태가 되는 전기·전자기기용 부품을 구성하는 2장의 Cu 판재를 맞댄 상태에서 선 형상으로 접합하였을 때의 개략 사시도이고, (b)는 본 발명의 다른 실시형태가 되는 전기·전자기기용 부품을 구성하는 2장의 Cu 판재를 포갠 상태에서 선 형상으로 접합하였을 때의 개략 사시도이다.
도 9는 접합한 Cu 판재의 단면 상태를 관찰하였을 때의 광학 현미경 사진이다.
1 (a) is a schematic perspective view of laser welding in a line shape in a state where two sheets of Cu plate materials constituting a component for electric/electronic devices according to an embodiment of the present invention are butted to each other, and (b) is a schematic perspective view of the present invention. It is a schematic perspective view when laser welding is performed linearly in the state where the Cu plate material of 2 sheets which comprises the electrical/electronic device component used as one embodiment is piled up.
Fig. 2 is an optical microscope photograph when observing from the Z-axis the surface state of the laser-irradiated side of a Cu joined body (two Cu plate joined bodies) obtained by laser welding the butted Cu plate materials.
Fig. 3 is an optical micrograph when the surface state of the opposite side to the laser irradiated side of a Cu bonded body obtained by laser welding the facing Cu plate materials is observed.
Fig. 4 is an optical microscope photograph when a cross-sectional state of a Cu bonded body obtained by laser welding a Cu plate material is observed from the X-axis.
Figure 5 (a) is a schematic perspective view when two sheets of Cu plate materials are laser welded in a dot shape in a state of facing each other, (b) is a schematic perspective view when laser welding is performed in a dot shape in a state in which two sheets of Cu plate materials are overlapped, All welded parts are shown in a state in which the cross section when cut in the direction in which the Cu bonded body extends is visible.
6 is a diagram showing a schematic configuration of a laser welding device.
Fig. 7 is a diagram showing the spot diameter of the laser beam of the laser welding device.
Fig. 8 (a) is a schematic perspective view when two Cu plates constituting a component for electric/electronic devices according to another embodiment of the present invention are joined in a linear shape while facing each other, and (b) is a schematic perspective view of another embodiment of the present invention. It is a schematic perspective view at the time of joining in a linear shape in the state which the Cu board material of 2 sheets which comprises the component for electrical/electronic devices used as an embodiment was piled up.
Fig. 9 is an optical micrograph when the cross-sectional state of the joined Cu plate materials is observed.

이하에 본 발명의 실시형태를 설명한다. 이하의 설명은 본 발명에서 실시형태의 예이지, 특허 청구범위를 한정하는 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Embodiment of this invention is described below. The following description is an example of embodiment in the present invention, but does not limit the scope of the claims.

본 발명의 일 실시형태가 되는 전기·전자기기용 부품은 90질량% 이상의 Cu를 함유하는 복수의 판재로 구성되고, 복수의 판재끼리를 서로 맞댄 상태 또는 포갠 상태에서 용접에 의해 선 형상 또는 점 형상으로 접합하여 일체화시키는 용접부를 가지며, 용접부는 판재 두께 전체에 걸쳐 연장되고, 접합된 복수의 판재가 연장되는 방향으로 용접부를 절단하였을 때의 단면에서, 용접부는 판재 두께의 반 치수에 해당하는 위치에서 측정하였을 때의 빅커스 경도가 60이상이다.A component for electrical/electronic devices according to an embodiment of the present invention is composed of a plurality of plate materials containing 90% by mass or more of Cu, and the plurality of plate materials are welded to each other in a state in which they are buttted against each other or in a state in which they are stacked, so that they are formed in a linear or dotted shape by welding. It has a welded portion to be joined and integrated, and the welded portion extends throughout the entire thickness of the plate material, and in a cross section when the welded portion is cut in the direction in which the plurality of joined plate materials extend, the welded portion is measured at a position corresponding to half the thickness of the plate material. The Vickers hardness when done is 60 or more.

도 1의 (a)는 2장의 Cu 판재(1, 2)를 맞댄 상태로 선 형상으로 레이저 용접하여 Cu 접합체(10)(2장의 Cu 판재 접합체)를 형성하였을 때의 개략 사시도이고, 도 1의 (b)는 2장의 Cu 판재(1, 2)를 포갠 상태에서 선 형상으로 레이저 용접하여 Cu 접합체(10A)를 형성하였을 때의 개략 사시도이다. 도 1의 (a)에 도시하는 실시형태에서는, Cu 판재(1, 2)끼리를 맞댄 상태에서 선 형상으로 접합하여 일체화시키는 용접부(3)를 가지며, 그 부분을 레이저 용접으로 접합하였다. 또한, 도 1의 (b)에 도시하는 실시형태에서는, Cu 판재(1, 2)를 포갠 상태에서 일체화시키는 용접부(3A)를 가지며, 그 부분을 레이저 용접으로 접합하였다. 그리고, 용접부(3)는 판재(1, 2) 두께 전체에 걸쳐 연장되어 있다. 즉, 도 1의 (a) 및 도 1의 (b)에 있어서는, 용접부(3)는 레이저를 조사한 측의 표면부터 반대 측의 표면(이면)까지 녹아 들어가도록 용융하여 응고되며, 판재(1, 2)를 두께 방향으로 관통하도록 존재하고 있다. 또한, 여기서 말하는 「Cu 판재」란, 90질량% 이상의 Cu(구리)를 함유하는 판재를 의미한다.Fig. 1 (a) is a schematic perspective view when a Cu bonded body 10 (two sheets of Cu sheet joined body) is formed by laser welding in a line shape with two sheets of Cu plate materials 1 and 2 facing each other, (b) is a schematic perspective view when the Cu plate materials 1 and 2 of 2 sheets are laser welded in a linear shape in a stacked state to form the Cu bonded body 10A. In the embodiment shown in Fig. 1 (a), there is a welded portion 3 that joins the Cu plate materials 1 and 2 in a linear manner in a state of facing each other and integrates them, and the portion is joined by laser welding. Moreover, in embodiment shown in FIG.1(b), it has 3 A of welding parts which integrate the Cu plate materials 1 and 2 in the overlapping state, and the part was joined by laser welding. And, the welded portion 3 extends over the entire thickness of the plate materials 1 and 2 . That is, in Fig. 1 (a) and Fig. 1 (b), the welding portion 3 is melted and solidified so as to melt from the surface on the side irradiated with the laser to the surface (rear surface) on the opposite side, and the plate material 1, 2) in the thickness direction. In addition, a "Cu plate material" here means a plate material containing 90 mass % or more of Cu (copper).

여기서, 「90질량% 이상의 Cu를 함유하는 판재」는 Cu의 함유량이 90질량% 이상인 판재이면 되며, 순Cu여도, 어느 Cu 합금이어도 되며, 특별히 한정되지는 않는다.Here, the "plate material containing 90 mass % or more Cu" may be a plate material having a Cu content of 90 mass % or more, and may be pure Cu or any Cu alloy, and is not particularly limited.

판재가 Cu 합금인 경우에는, 판재는 합금 성분으로서 Ag, Fe, Ni, Co, Si, Cr, Sn, Zn, Mg, P으로부터 선택되는 1종에서 2종 이상의 원소를 포함하고, 잔부의 Cu가 90질량% 이상인 성분 조성을 갖는 것이 바람직하다. Cu 합금은 석출 경화형 Cu 합금이어도, 비석출 경화형 Cu 합금이어도 된다. 판재가 Cu 합금인 경우, 판재의 빅커스 경도(HV)는 첨가하는 합금 성분의 종류나 첨가량에 따라 서로 다르기 때문에, 특별히 한정은 하지 않지만, 예를 들면, 일반적으로는 75이상 240이하이다.When the plate material is a Cu alloy, the plate material contains one to two or more elements selected from Ag, Fe, Ni, Co, Si, Cr, Sn, Zn, Mg, and P as alloy components, and the remainder is Cu. It is preferable to have a component composition of 90% by mass or more. The Cu alloy may be a precipitation hardening type Cu alloy or a non-precipitation hardening type Cu alloy. When the plate material is a Cu alloy, the Vickers hardness (HV) of the plate material varies depending on the type and amount of the alloy component to be added, so it is not particularly limited, but is generally 75 or more and 240 or less.

또한, 판재가 순Cu인 경우에는, 판재는 Cu의 함유량이 99.96질량% 이상이며, 불가피 불순물로서의 Cd, Mg, Pb, Sn, Cr, Bi, Se 및 Te이 합계 5ppm 이하, 그리고, Ag 및 O의 합계가 400ppm 이하이다. 순Cu에서는, 열 전도성이 뛰어나기 때문에, 방열·냉각 부재로서 뛰어난 성능을 발휘할 수 있다. 또한, 이른바 순Cu는 전기 동, 무산소 구리(OFC), TPC 등을 예로 들 수 있다. 판재가 순Cu인 경우, 판재의 빅커스 경도는 특별히 한정은 하지 않지만, 예를 들면, 일반적으로는 65이상 120이하이다.In addition, when the plate material is pure Cu, the plate material has a Cu content of 99.96% by mass or more, and a total of 5 ppm or less of Cd, Mg, Pb, Sn, Cr, Bi, Se, and Te as unavoidable impurities, and Ag and O The sum of is less than 400 ppm. Since pure Cu has excellent thermal conductivity, it can exhibit excellent performance as a heat dissipation/cooling member. Further, so-called pure Cu includes electrolytic copper, oxygen-free copper (OFC), TPC, and the like. When the plate material is pure Cu, the Vickers hardness of the plate material is not particularly limited, but is generally 65 or more and 120 or less, for example.

또한, 본 발명에서 말하는 「판재」란, 소정의 형상, 예를 들면, 판, 조, 박, 봉, 평각선 등으로 가공된 것으로서, 소정의 두께를 갖는 형상인 것이며, 광의적으로는 조재를 포함하는 의미이다. 본 발명에 있어서, 판재의 두께(판 두께)는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직하게는 0.05∼1.0㎜, 더욱 바람직하게는 0.1∼0.8㎜이다. 또한, 접합하는 복수의 판재 형상이나 판재의 두께(판 두께)는 각각 같아도, 달라도 된다.In the present invention, "plate material" refers to a material processed into a predetermined shape, for example, a plate, strip, foil, bar, flat wire, etc., and has a predetermined thickness. meaning to include In the present invention, the thickness of the plate material (plate thickness) is not particularly limited, but is preferably 0.05 to 1.0 mm, more preferably 0.1 to 0.8 mm. In addition, the shapes of the plurality of plate materials to be joined and the thickness (plate thickness) of the plate materials may be the same or different.

도 2는 맞댄 2장의 Cu 판재(1, 2)를 레이저 용접한 Cu 접합체(10)의 레이저를 조사한 측의 표면 상태를 나타내는 사진이다. X축 방향이 레이저 소인(掃引) 방향, 즉, 용접 방향인 것을 도시하고 있다. 또한, 레이저광의 조사를 받아, Cu 판재의 압연 가공 자국이 소실되어 있는 부분이 있다는 것을 알 수 있다. 더욱이, Cu 판재(1, 2)가 용융하여, 재차 응고된 부분이 있는데, 이를 용접부(3)라 부른다.2 : is a photograph which shows the surface state of the laser-irradiated side of the Cu joined body 10 which laser-welded the Cu board|plate materials 1 and 2 of 2 sheets butt-to-match. It is shown that the X-axis direction is a laser sweeping direction, that is, a welding direction. In addition, it is understood that there is a portion where the traces of the rolling process of the Cu plate material are lost by irradiation with the laser beam. Furthermore, there is a portion where the Cu plates 1 and 2 are melted and solidified again, which is called a welded portion 3.

도 3은 맞댄 2장의 Cu 판재(1, 2)를 레이저 용접한 Cu 접합체(10)의 레이저를 조사한 측과는 반대 측의 표면 상태를 관찰하였을 때의 광학 현미경 사진이며, 도 2의 이면의 표면 상태를 관찰하였을 때의 광학 현미경 사진이다.Fig. 3 is an optical microscope photograph when observing the surface state of the opposite side to the laser irradiated side of the Cu bonded body 10 obtained by laser welding two Cu plates 1 and 2 facing each other, and the surface of the back side of Fig. 2 It is an optical microscope picture when the state was observed.

도 2 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 용접부(3)는 판재(1, 2)의 두께 전체에 걸쳐 연장되어 있기 때문에, 레이저 용접 자국은 Cu 접합체(10)의 레이저를 조사한 측의 표면(앞)과 레이저를 조사한 측과는 반대 측의 표면(뒤)에 나타난다. 그리고, 통상적으로는 도 2 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 레이저를 조사한 측 표면의 레이저 용접 자국의 폭은, 레이저를 조사한 측과는 반대 측 표면의 레이저 용접 자국보다 넓어진다. 이 레이저를 조사한 측 표면의 레이저 용접 자국의 폭을, 본 발명에서 용접 폭이라고 규정하고, 또, 점선 형상의 단면 관찰 위치에서 절단하여, 단면 조직의 관찰을 실시하였다.As shown in FIGS. 2 and 3, since the welded portion 3 extends over the entire thickness of the plate materials 1 and 2, the laser welding mark is the surface of the Cu bonded body 10 on the laser irradiated side (front ) and on the surface (back) on the opposite side to the side irradiated with the laser. And, normally, as shown in FIG. 2 and FIG. 3, the width of the laser welding scar on the surface on the laser irradiation side is wider than the laser welding scar on the surface on the opposite side to the laser irradiation side. The width of the laser welding mark on the side surface irradiated with this laser was defined as the welding width in the present invention, and was cut at the cross-sectional observation position in the shape of a dotted line to observe the cross-sectional structure.

도 4는 Cu 판재를 레이저 용접하여 Cu 접합체를 형성하였을 때의 단면 상태를 나타내는 광학 현미경 사진이다. 도 4에 도시하는 바와 같이, 레이저가 조사되어 용융하여, 재차 응고된 용접부의, 레이저가 조사된 측 표면의 폭이 용접 폭에 해당한다. 도 4에 도시하는 단면도로부터도 용접 폭을 인정할 수 있다.4 is an optical micrograph showing a cross-sectional state when a Cu bonded body is formed by laser welding a Cu plate material. As shown in FIG. 4 , the width of the laser-irradiated side surface of the welded portion melted by laser irradiation and solidified again corresponds to the welding width. The welding width can be recognized also from the sectional view shown in FIG.

본 발명에 있어서는, 접합된 2장의 판재가 연장되는 방향으로 용접부를 절단 하였을 때의 단면에서, 용접부는 판재 두께의 반 치수에 해당하는 위치에서 측정하였을 때의 빅커스 경도가 60이상이다. 또한, 본 명세서에 있어서, 빅커스 경도(HV)는 JIS Z2244(2009)에 규정된 방법에 준거하여 측정된다.In the present invention, the Vickers hardness when measured at a position corresponding to half the thickness of the plate in the cross section when the weld is cut in the direction in which the two joined plates are extended is 60 or more. In addition, in this specification, Vickers hardness (HV) is measured based on the method prescribed|regulated by JIS Z2244 (2009).

자세하게 설명하면, 도 1의 (a)와 같이, 2장의 Cu 판재(1, 2)를 서로 맞댄 상태에서 선 형상으로 접합하여 일체화시키는 용접부(3)를 갖는 경우에는, 용접 방향(레이저 소인 방향)을 X축 방향, 용접 방향에 대하여 수직인 방향(판재의 폭 방향)을 Y축 방향, 판재 법선 방향(판재의 두께 방향)을 Z축 방향이라 할 때, 접합된 2장의 판재(1, 2)가 연장되는 방향(L)은 판재를 맞댄 상태로 하기 위하여 접근시키는 방향, 즉, Y축 방향이다. 이러한 접합체(10)의 구성을 갖는 본 실시형태의 전기·전자기기용 부품의 경우, Y축 방향으로 Cu 접합체(10)를 절단하였을 때의 단면(A)에 존재하는 용접부(3)는 Cu 판재(1, 2) 두께(a)의 반 치수에 해당하는 위치(b)에서, 빅커스 경도가 60이상인 것이 필요하다.More specifically, as shown in Fig. 1 (a), in the case of having a welding portion 3 for joining and integrating two Cu plates 1 and 2 in a line shape while facing each other, the welding direction (laser sweeping direction) When the X-axis direction, the direction perpendicular to the welding direction (the width direction of the plate material) is the Y-axis direction, and the normal direction of the plate material (the thickness direction of the plate material) is the Z-axis direction, two joined plate materials (1, 2) The direction (L) in which is extended is the direction in which the plates are approached to face each other, that is, the Y-axis direction. In the case of the electrical/electronic device parts of the present embodiment having such a structure of the joined body 10, the weld portion 3 present in the cross section A when the Cu joined body 10 is cut in the Y-axis direction is a Cu plate material ( 1, 2) It is necessary that the Vickers hardness is 60 or more at the position (b) corresponding to the half dimension of the thickness (a).

또한, 도 1의 (b)와 같이, 2장의 Cu 판재(1, 2)를 서로 포갠 상태에서 선 형상으로 접합하여 일체화시키는 용접부(3A)를 갖는 경우에는, 접합된 2장의 판재(1, 2)가 연장되는 방향은 용접 방향에 대하여 수직인 방향, 즉, Y축 방향이다. 이러한 접합체(10A)의 구성을 갖는 본 실시형태의 전기·전자기기용 부품의 경우, Y축 방향으로 Cu 접합체(10A)를 절단하였을 때의, Cu 판재(1)의 단면(A1)에 존재하는 용접부의 Cu 판재(1) 두께(a1)의 반 치수에 해당하는 위치(b1)와, Cu 판재(2)의 단면(A2)에 존재하는 용접부의 Cu 판재(2) 두께(a2)의 반 치수에 해당하는 위치(b2)쌍방에서, 빅커스 경도가 60이상인 것이 필요하다.In addition, as shown in Fig. 1 (b), in the case where the two Cu plate materials 1 and 2 are overlapped with each other and have a welding portion 3A joining them in a linear shape to integrate them, the joined two plate materials 1 and 2 ) is a direction perpendicular to the welding direction, that is, the Y-axis direction. In the case of the electrical/electronic device components of the present embodiment having such a structure of the joined body 10A, the Cu joined body 10A is cut in the Y-axis direction, present in the end face A 1 of the Cu plate 1 The thickness (a 2) of the Cu plate (2) of the weld that exists at the position (b 1 ) corresponding to the half dimension of the thickness (a 1 ) of the Cu plate (1) of the weld and the cross section (A 2 ) of the Cu plate ( 2) ), it is necessary that the Vickers hardness is 60 or more at both positions (b 2 ) corresponding to the half dimension of.

용접으로 접합되는 경우, 용접부는 고온으로 가열됨으로써 한번 용융시킨 후에 재응고시킴으로써 형성되기 때문에, 종래의 접합 방법으로는, 판재를 소둔을 한 경우와 마찬가지로 연질화되고, 판재 자체의 강도보다 연질화되어 강도가 낮아진다는 문제가 있다. 강도가 낮아지면, 변형되기 쉬워진다.In the case of joining by welding, since the welded part is formed by melting once by heating to a high temperature and then re-solidifying, in the conventional joining method, the plate material is softened as in the case of annealing, and the plate material itself is softer than the strength of the plate material itself. There is a problem with lower strength. When strength is low, it becomes easy to deform|transform.

그렇지만, 후술하는 실시예에 나타내는 바와 같이, 90질량% 이상의 Cu를 함유하는 조성의 판재를 사용하여, 레이저 용접 조건을 제어함으로써, 용접부의 연질화에 의한 강도 저하를 억제할 수 있다. 또한, 레이저 용접 조건에 따라서는, 판재 자체의 강도보다 높게 할 수도 있다.However, as shown in examples described later, by using a sheet material having a composition containing 90% by mass or more of Cu and controlling the laser welding conditions, the reduction in strength due to softening of the weld zone can be suppressed. Further, depending on the laser welding conditions, the strength may be higher than that of the plate material itself.

이 때문에, 본 실시형태에서는, 용접부의 빅커스 경도를 60이상, 나아가서는 65이상으로 할 수 있다. 용접부의 빅커스 경도가 60이상으로 높기 때문에, 강도가 높고 내변형성이 뛰어난 전기·전자기기용 부품을 제공할 수 있다. 빅커스 경도와 강도는 비례 관계에 있기 때문에, 빅커스 경도가 높으면, 강도가 높아진다. 또한, 특허문헌 1과 같이 시효 처리를 실시할 경우, 경화형 구리 합금을 사용하지 않는 한, 용접부를 포함한 Cu 접합체 전체가 가열되어 연화하는 경향이 있기 때문에, 용접부의 빅커스 경도 60이상을 유지하기는 어렵다고 생각된다.For this reason, in this embodiment, the Vickers hardness of a welded part can be made into 60 or more, and also 65 or more. Since the Vickers hardness of the welded part is as high as 60 or more, parts for electric/electronic devices having high strength and excellent deformation resistance can be provided. Since the Vickers hardness and strength are in a proportional relationship, the higher the Vickers hardness, the higher the strength. In addition, when the aging treatment is performed as in Patent Document 1, unless a hardenable copper alloy is used, the entire Cu bonded body including the welded portion tends to be heated and softened, so it is difficult to maintain the Vickers hardness of 60 or more at the welded portion. I think it is difficult.

용접부의 빅커스 경도(HV)의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 순Cu의 경우, 예를 들면 90이하이고, 또, Cu 합금의 경우, 예를 들면 130이하이다.Although the upper limit of the Vickers hardness (HV) of a welded part is not specifically limited, In the case of pure Cu, it is, for example, 90 or less, and in the case of a Cu alloy, it is, for example, 130 or less.

상기에서는, 선 형상으로 레이저 용접하였을 때에 대해서 설명하였으나, 점 형상으로 레이저 용접한 경우를 도 5의 (a) 및 (b)에 도시한다. 도 5의 (a)는 2장의 Cu 판재(1, 2)를 맞댄 상태에서 점 형상으로 레이저 용접하여 Cu 접합체(10B)를 형성하였을 때의 개략 사시도이고, 도 5의 (b)는 2장의 Cu 판재(1, 2)를 포갠 상태에서 점 형상으로 레이저 용접하여 Cu 접합체(10C)를 형성하였을 때의 개략 사시도이다.In the above, the case of linear laser welding has been described, but the case of point laser welding is shown in FIGS. 5(a) and (b). Fig. 5 (a) is a schematic perspective view of a case in which a Cu bonded body 10B is formed by point-shaped laser welding in a state where two sheets of Cu plate materials 1 and 2 are buttted, and Fig. 5 (b) is a schematic perspective view of two sheets of Cu It is a schematic perspective view when the Cu bonded body 10C is formed by laser welding in a point shape in a state where the plate materials 1 and 2 are stacked.

도 5의 (a)에 도시하는 바와 같이, 서로 맞댄 상태에서 점 형상으로 접합하여 일체화시키는 용접부(3B)를 갖는 Cu 접합체(10B)의 구성을 갖는 본 실시형태의 전기·전자기기용 부품의 경우, 판재 표면에서 용접부(3B)의 중심(c)을 통하여, Cu 판재(1, 2)의 연장 방향(L)으로 접합체(10B)를 절단하였을 때의 단면(A)에 존재하는 용접부(3B)의 Cu 판재(1, 2) 두께(a)의 반 치수에 해당하는 위치(b)에서, 빅커스 경도가 60이상인 것이 필요하다.As shown in (a) of FIG. 5, in the case of components for electric/electronic devices of this embodiment having a configuration of a Cu bonded body 10B having a welding portion 3B joined in a dotted state in abutting state and integrated, Of the weld portion 3B present in the cross section A when the joined body 10B is cut in the extension direction L of the Cu plate materials 1 and 2 through the center c of the weld portion 3B on the plate material surface. At the position (b) corresponding to the half dimension of the thickness (a) of the Cu plate materials 1 and 2, it is necessary that the Vickers hardness is 60 or more.

또한, 도 5의 (b)에 도시하는 바와 같이, 서로 포갠 상태에서 점 형상으로 접합하여 일체화시키는 용접부(3B)를 갖는 Cu 접합체(10C)의 구성을 갖는 본 실시형태의 전기·전자기기용 부품의 경우에는, 판재 표면에서 용접부의 중심(c)을 통하여, 판재의 적층 방향으로 용접부를 절단하였을 때의, Cu 판재(1)의 단면(A1)에 존재하는 용접부의 Cu 판재(1) 두께(a1)의 반 치수에 해당하는 위치(b1)와, Cu 판재(2)의 단면(A2)에 존재하는 용접부의 Cu 판재(2) 두께(a2)의 반 치수에 해당하는 위치(b2)쌍방에서, 빅커스 경도가 60이상인 것이 필요하다.Further, as shown in FIG. 5(b), the electrical/electronic device components of the present embodiment having a configuration of a Cu bonded body 10C having a welded portion 3B joined in a point-like manner in a state of being overlapped and integrated. In this case, the thickness of the Cu plate 1 of the weld that exists in the cross section A 1 of the Cu plate 1 when the weld is cut in the stacking direction of the plate through the center (c) of the weld on the surface of the plate ( a 1 ) and a position corresponding to the half dimension of the thickness (a 2 ) of the Cu plate 2 of the welded portion (b 1 ) and the cross section (A 2 ) of the Cu plate 2 ( b 2 ) In both cases, it is necessary that the Vickers hardness is 60 or more.

또한, 본 명세서에 있어서, 선 형상으로 레이저 용접한 경우의 빅커스 경도(HV)는 용접 방향(X축 방향)으로 1㎜ 간격으로 절단한 5개의 단면 A(YZ면)에서 측정하여, 그들 측정 결과의 평균치로서 구한다.In addition, in this specification, the Vickers hardness (HV) in the case of linear laser welding is measured in five cross sections A (YZ plane) cut at 1 mm intervals in the welding direction (X-axis direction), and these measurements It is calculated as the average value of the results.

본 발명에 있어서는, 접합된 복수의 판재가 연장되는 방향으로 용접부를 절단하였을 때의 단면에 있어서, 용접부의 용접 폭과 판재의 두께로 구획되는 직사각형 영역에서, SEM-EBSD법의 결정 방위 해석 데이터로부터 얻을 수 있는 GAM치를 측정하였을 때, GAM치가 0.5°이상 2.0°미만인 결정립은 측정 면적에 존재하는 모든 결정립에 대한 면적 비율이 25% 이상인 것이 바람직하다.In the present invention, in a cross section when a weld is cut in the direction in which a plurality of joined plate materials extend, in a rectangular region partitioned by the welding width of the weld and the thickness of the plate, from the crystal orientation analysis data of the SEM-EBSD method. When the obtainable GAM value is measured, it is preferable that the area ratio of the crystal grains having a GAM value of 0.5° or more and less than 2.0° to all crystal grains present in the measurement area is 25% or more.

GAM(grain average misorientation)치는 SEM-EBSD법의 결정 방위 해석 데이터로부터 얻을 수 있는 값이며, 15°이상의 방위차를 갖는 대각도 립계로 구별되는 결정립 내에 있어서, 측정점간의 거리(이하, 스텝 사이즈라고도 함)를 0.1㎛로 측정하여 서로 이웃한 측정점마다의 방위차를 계산하여, 계산된 방위차를 동일 결정립 내에서 평균치로서 산출한 값이다.GAM (grain average misorientation) value is a value obtained from the crystal orientation analysis data of the SEM-EBSD method, and the distance between measurement points (hereinafter referred to as step size) ) is measured at 0.1 μm, the orientation difference is calculated for each measurement point adjacent to each other, and the calculated orientation difference is a value calculated as an average value within the same crystal grain.

GAM치가 작다는 것은 결정립 내의 평균 방위차가 작은, 변형이 매우 적은 균일한 결정립인, 연속적 방위 구배를 갖는, 등을 의미하며, 1개의 결정립 내의 변형이 작은 것을 나타낸다. 한편, GAM치가 크다는 것은 결정립 내의 평균 방위차가 큰 것을 의미하며, 1개의 결정립 내의 변형이 큰 것을 나타낸다. GAM치가 0.5°이상 2.0°미만인 결정립은 이들 사이의 특성을 갖는 결정립이며, 1개의 결정립 내의 변형이 어느 정도 큰 것을 나타낸다. 또한, 판재에 소둔을 실시한 경우, GAM치는 통상적으로는 0°이상 0.5°미만이 되며, 1개의 결정립 내의 국소적인 변형은 작아진다.A small GAM value means that the average orientation difference within a crystal grain is small, the crystal grain is uniform with very little strain, has a continuous orientation gradient, and the like, and indicates that the strain within one crystal grain is small. On the other hand, a large GAM value means a large average orientation difference within a crystal grain, and indicates a large strain within one crystal grain. Crystal grains with a GAM value of 0.5° or more and less than 2.0° are crystal grains having in-between characteristics, indicating that the strain within one crystal grain is somewhat large. Further, when the sheet material is annealed, the GAM value is usually 0° or more and less than 0.5°, and the local strain within one crystal grain becomes small.

이와 같이, 상기 GAM치가 0.5°이상 2.0°미만인 결정립의 면적 비율이 25% 이상이도록 하는, 즉, 1개의 결정립 내에 변형이 어느 정도 큰 결정립의 면적 비율이 25% 이상이면, 순Cu의 경우, 용접부의 빅커스 경도를 65이상으로 할 수 있다.As such, if the area ratio of crystal grains with the GAM value of 0.5 ° or more and less than 2.0 ° is 25% or more, that is, if the area ratio of crystal grains with a large deformation in one crystal grain is 25% or more, in the case of pure Cu, the welded part can have a Vickers hardness of 65 or more.

상기 GAM치는 0.5°이상 2.0°미만인 결정립의 면적 비율이 45% 이상인 것이 바람직하고, 65% 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 0.5°이상 2.0°미만인 결정립의 면적 비율의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 95% 이하이며, 바람직하게는 90% 이하이다.The GAM value is preferably 45% or more, more preferably 65% or more, in which the area ratio of crystal grains of 0.5° or more and less than 2.0° is. In addition, the upper limit of the area ratio of crystal grains of 0.5° or more and less than 2.0° is not particularly limited, but is, for example, 95% or less, preferably 90% or less.

GAM치는 고분해능 주사형 분석 전자현미경(일본 전자 주식회사 제조, JSM-7001FA)에 부속된 EBSD 검출기를 이용하여 연속해서 측정한 결정 방위 데이터로부터 해석 소프트웨어(TSL사 제조, OIM Analysis)를 이용하여 산출한 결정 방위 해석 데이터로부터 얻을 수 있다. 「EBSD」란, Electron BackScatter Diffraction의 약어로, 주사형 전자현미경(SEM) 내에서 시료인 구리 판재에 전자선을 조사하였을 때에 생기는 반사 전자 기쿠치선 회절을 이용한 결정 방위 해석 기술이다. 「OIM Analysis」란, EBSD에 의해 측정된 데이터의 해석 소프트웨어이다.The GAM value is a crystal calculated using analysis software (OIM Analysis, manufactured by TSL) from crystal orientation data continuously measured using an EBSD detector attached to a high-resolution scanning electron microscope (manufactured by Nippon Electronics Co., Ltd., JSM-7001FA). It can be obtained from orientation analysis data. "EBSD" is an abbreviation of Electron BackScatter Diffraction, and is a crystal orientation analysis technique using reflection electron Kikuchi line diffraction generated when an electron beam is irradiated to a copper sheet as a sample in a scanning electron microscope (SEM). "OIM"Analysis" is analysis software of the data measured by EBSD.

본 발명에 있어서, 측정 영역은 상기 단면 A, A1,A2의 표면에 대해서, 전해 연마로 경면 완성된 표면에 있어서, 용접부의 용접 폭과 판재의 두께로 구획되는 직사각형 영역 전체이다. 소정 범위 내의 GAM치의 결정립의 면적 비율은 0°이상 0.25°미만의 GAM치를 제1 구분이라 하고, 0.25°마다 15구분, 0°이상 3.75°미만까지의 GAM치를 측정 대상으로 하여, SEM-EBSD법으로 얻을 수 있는 SEM 화상 전체에서 차지하는 각 구분의 결정립의 면적 비율의 합계로부터 산출할 수 있다.In the present invention, the measurement area is the entire rectangular area defined by the welding width of the welded portion and the thickness of the sheet material on the surfaces mirror-finished by electropolishing with respect to the surfaces of the cross sections A, A 1 , and A 2 . The area ratio of crystal grains of GAM values within a predetermined range refers to GAM values of 0 ° or more and less than 0.25 ° as the first division, 15 divisions every 0.25 °, and GAM values of 0 ° or more and less than 3.75 ° as measurement targets, SEM-EBSD method It can be calculated from the sum of the area ratios of crystal grains in each division occupying the entire SEM image obtained by

이 전기·전자기기용 부품에 사용하는 Cu 판재는 90질량% 이상의 Cu를 함유하고, 다른 금속 원소를 포함한 Cu 합금, 또는 99.96질량% 이상의 Cu 및 불가피 불순물인 순Cu인 것이 바람직하다. 90질량% 이상의 Cu 판재를 사용함으로써 열 전도성을 구비할 수 있다. 본래, Cu는 높은 열 전도성을 구비하고 있지만, 첨가 원소가 많아지고, 또, 제2상이 나타남으로써 열 전도성이 저하된다. 따라서, 본 실시형태의 전기·전자기기용 부품에 사용하는 Cu 판재는 90질량% 이상의 Cu를 함유함으로써, 열 전도성 저하를 억제하여, 높은 강도를 구비할 수 있다.It is preferable that the Cu plate material used for this electrical/electronic device component is a Cu alloy containing 90% by mass or more of Cu and containing other metal elements, or 99.96% by mass or more of Cu and unavoidable impurity pure Cu. Thermal conductivity can be provided by using a Cu plate material of 90% by mass or more. Originally, Cu has high thermal conductivity, but when the number of added elements increases and a second phase appears, the thermal conductivity decreases. Therefore, by containing 90% by mass or more of Cu, the Cu plate material used for the electrical/electronic device components of the present embodiment can suppress a decrease in thermal conductivity and can be provided with high strength.

더욱이, 용접부를 횡단하는 방향으로, 일체화된 복수의 판재를 절단하였을 때의 단면에서 보아, 용접부와 용접부에 인접하여 위치하는 비용접부에 있어서, 용접부가 판재 표면의 용접 자국의 폭을 용접 폭으로 하여, 그 용접 폭의 중앙과, 비용접부가 용접부의 중심으로부터 용접 폭의 폭 방향을 따라 용접 폭의 1.5배 거리에서, 각각의 빅커스 경도(HV1 및 HV2)를 측정하였을 때의, 열 영향부에서의 빅커스 경도(HV2)가 75이상이고, 또, 열 영향부에서의 빅커스 경도(HV2)와, 용접부에서의 빅커스 경도(HV1)의 차이를, 빅커스 경도(HV1 및 HV2)를 측정한 위치간의 압흔 거리 X(㎛)로 나누었을 때의 수치(이하, 「경도 경사율」이라 하는 경우도 있음)((HV2-HV1)/X)가 0.2/㎛ 이하이다.Furthermore, in a cross-sectional view when a plurality of integrated plate materials are cut in a direction transverse to the weld part, in the weld part and the non-weld part located adjacent to the weld part, the weld part uses the width of the weld mark on the surface of the plate material as the welding width , in the heat affected zone when the respective Vickers hardnesses (HV1 and HV2) are measured at the center of the weld width and the non-welded portion at a distance of 1.5 times the weld width along the width direction of the weld from the center of the weld portion. has a Vickers hardness (HV2) of 75 or more, and the difference between the Vickers hardness (HV2) in the heat-affected zone and the Vickers hardness (HV1) in the weld zone is measured by measuring the Vickers hardness (HV1 and HV2). The value (hereinafter sometimes referred to as "hardness inclination rate") ((HV2-HV1)/X) when divided by the indentation distance X (μm) between positions is 0.2/μm or less.

(선 형상의 용접)(linear welding)

도 8의 (a)(도 8의 설명에만 번호를 붙였음)에 도시하는 바와 같이, 2장의 Cu 판재(101, 102)를 맞댄 상태로 하여 배치하는 Cu 부재(10D)이다. 그 맞댄 상태의 중심에 레이저광을 조사하여 소인함으로써, 2장의 Cu 판재(101, 102)를 선 형상으로 용접하여, 용접부(12)의 중심(121)에 맞대어져서 접합한다. 여기에서는, 레이저광을 소인함으로써, 선 형상의 접합부를 형성한다. 강한 레이저광이 조사된 부분은 용융한 액체 형상의 Cu가 형성된다. 그 후, 레이저광이 통과한 후에는, Cu는 높은 열 전도율 때문에, 액체형 Cu가 급속히 냉각되어 고체형 Cu로 변한다. 이것이 연속적으로 진행되면, 파상 비드를 갖는 용접부(12)가 형성된다. 일단 용융하여 응고되어 있기 때문에, 분명히 Cu 판재(101, 102)의 모재(11)와는 다른 상태로 되어 있다. 더욱이, 그 용접부(12)의 주위에는, 열의 영향을 받아, Cu 판재(101, 102)의 모재(11) 표면과 다른 상태의 열 영향을 받은 부분(13)이 형성된다. 이 열 영향을 받은 부분(13)은 열의 영향을 받아 Cu 판재(101, 102)의 모재(11) 특성도 변질되었다. 열 영향을 받은 부분(13)에 대한 열은 레이저광의 조사에 따른 열과, 용접부(12)로부터 발한 열 양방이 있다. 도 8의 (b)에 도시하는 바와 같이, 2장의 Cu 판재(101, 102)를 포갠 상태로 하여 레이저광을 조사해서 소인함으로써, Cu 판재 표면을 선 형상으로 용접한 Cu 부재(10D)이다. 충분한 접합 강도를 얻기 위하여, 포개어진 Cu 판재(101, 102)가 용접으로 접합된 Y축 방향의 폭이 표면의 용접 폭의 1/2 이상이 되도록 용접한다.As shown in Fig. 8 (a) (numbers are assigned only to the description of Fig. 8), it is Cu member 10D which arranges two Cu plate materials 101 and 102 in a state of facing each other. By irradiating and sweeping the center of the abutted state with a laser beam, the two Cu plate materials 101 and 102 are welded in a linear shape, and abutted to the center 121 of the welded portion 12 to join. Here, a linear junction is formed by sweeping a laser beam. In the portion irradiated with strong laser light, molten liquid Cu is formed. Then, after the laser light passes through, because Cu has high thermal conductivity, liquid Cu is rapidly cooled and changed to solid Cu. If this proceeds continuously, a welded portion 12 having a corrugated bead is formed. Since it once melted and solidified, it is obviously in a different state from the base material 11 of the Cu plate materials 101 and 102. Further, around the welded portion 12, a heat-affected portion 13 in a different state from the surface of the base material 11 of the Cu plate materials 101 and 102 is formed under the influence of heat. This heat-affected portion 13 was affected by heat, and the properties of the base material 11 of the Cu plate materials 101 and 102 were also altered. Heat to the heat-affected portion 13 includes both heat due to laser light irradiation and heat emitted from the welded portion 12 . As shown in Fig. 8(b), it is a Cu member 10D in which the Cu plate material surface is linearly welded by irradiating and sweeping a laser beam in a state where two sheets of Cu plate materials 101 and 102 are stacked. In order to obtain sufficient joint strength, the overlapping Cu plate materials 101 and 102 are welded so that the width in the Y-axis direction joined by welding is 1/2 or more of the welding width of the surface.

(점 형상의 용접)(point shape welding)

2장의 Cu 판재를 맞댄 상태의 중심을, 레이저광을 소인하지 않고 조사하여 접합함으로써, 점 형상의 접합부를 형성할 수 있다. 레이저광의 형상은 원형 형상, 타원 형상, 통형 형상, 직사각형 형상 중 어느 것이어도 된다. 또한, 점 형상이란, 파선 형상이어도, 서로 별개로 용접부가 존재하는 상태이면 된다. 점 형상의 용접에는, 맞댄 경우의 접합에서는, Cu 판재를 판 두께 방향으로 관통시켜도, 도중에 금속 Cu의 용융을 중지시키는 것이어도 된다. 또한, 2장의 Cu 판재를 포갠 상태에서, 레이저광을 조사하여 점 형상으로 접합하는 것이어도 된다. 이 경우에도, 충분한 접합 강도를 얻기 위하여, 포개어진 Cu 판재가 용접으로 접합된 Y축 방향의 폭이 표면의 용접 폭의 1/2 이상이 되도록 용접한다.A point-like junction can be formed by irradiating and joining the center of two sheets of Cu plate materials facing each other without sweeping the laser beam. Any of a circular shape, an elliptical shape, a cylindrical shape, and a rectangular shape may be sufficient as the shape of a laser beam. In addition, even if it is a dotted line shape, it should just be a state in which a welding part exists separately from each other. In the point-like welding, in the joint in the case of butt-to-butting, even if the Cu plate material is penetrated in the plate thickness direction, melting of the metal Cu may be stopped in the middle. Moreover, in the state where two sheets of Cu plate materials are stacked, a laser beam may be irradiated to join them in a dotted fashion. Also in this case, in order to obtain sufficient joint strength, the overlapping Cu plate materials are welded so that the width in the Y-axis direction joined by welding is 1/2 or more of the welding width of the surface.

(Cu 부재의 표면 상태)(Surface condition of Cu member)

도 2는 맞댄 Cu 판재를 레이저 용접하여 접합한 Cu 부재의 표면 상태를 나타내는 사진으로, X축 방향이 레이저 소인 방향인 것을 도시하고 있다. 또한, 레이저광의 조사를 받아, Cu 판재의 압연 가공 자국이 소멸된 부분이 있다는 것을 알 수 있다. 더욱이, Cu 판재가 용융하여, 재차 응고된 부분이 있어 용접부인 것을 분명하게 간파할 수 있다. 도면 중에 보이는 레이저 용접 자국의 용접부 폭을 본 발명에서 용접 폭이라 규정하고, 또, 점선 형상의 단면 관찰 위치에서 절단하여, 단면 조직의 관찰을 실시하였다.Fig. 2 is a photograph showing the surface state of a Cu member joined by laser welding of butted Cu plate materials, showing that the X-axis direction is the laser sweeping direction. In addition, it is understood that there is a portion where the traces of the rolling process of the Cu plate material have disappeared by irradiation with the laser beam. Moreover, since there is a part where the Cu plate material has melted and solidified again, it can be clearly seen that it is a welded part. The width of the welded part of the laser welding mark seen in the drawing is defined as the welding width in the present invention, and also cut at the cross-sectional observation position in the shape of a dotted line, and the cross-sectional structure was observed.

(선 형상 접합의 빅커스 경도의 측정 위치)(Measurement position of Vickers hardness of linear joint)

도 9는 Cu 판재를 레이저 용접하여 접합한 Cu 부재의 단면 상태를 나타내는 광학 현미경 사진이다. 도 9에 도시하는 바와 같이, 레이저광을 조사하여 용융한 후에 응고시킴으로써 접합한 용접 부분을 용접 폭으로 표시하였다. 도 9로부터의 단면도에서 보더라도, 레이저광을 조사한 측의 Cu 판재 표면의 용접 자국의 폭을 분명하게 인지할 수 있다. 용접부의 중심으로부터, 용접 폭의 반 길이(용접 반폭)의 1.5배 거리만큼 용접 폭의 방향을 따라 나아간 지점을 비용접부라 부르며, 이 2점에서 판 두께 방향으로, 도 9 중의 화살표로 가리키고 있는 바와 같이, 그 용접 폭의 중앙에서 판 두께 방향의 깊이는 판 두께의 1/2 위치에서 각각 용접부와 비용접부의 빅커스 경도(HV1, HV2)를 측정한다.9 is an optical micrograph showing a cross-sectional state of a Cu member joined by laser welding Cu plate materials. As shown in Fig. 9, the welded portion joined by irradiation of a laser beam to melt and then to solidify is indicated by a welding width. Even when viewed from the cross-sectional view from FIG. 9, the width of the weld mark on the surface of the Cu plate material on the side irradiated with the laser beam can be clearly recognized. A point extending along the direction of the weld width by a distance of 1.5 times the half length of the weld width (half weld width) from the center of the weld is called a non-weld portion, and as indicated by the arrow in FIG. Likewise, the depth in the plate thickness direction at the center of the weld width is measured by the Vickers hardness (HV1, HV2) of the welded and non-welded portions, respectively, at 1/2 of the plate thickness.

(빅커스 경도)(Vickers Hardness)

빅커스 경도란 「JIS Z 2244」에서 규격화된 측정 방법이다. 빅커스 경도(HV)는 다이아몬드로 이루어진 강체(압자)를 피시험물에 대해서 밀어넣고, 그 때 생기는 패인 곳(압흔)의 면적의 대소로 딱딱한지 부드러운지를 수치로 나타낸 것이다. 압자는 피라미드를 뒤집은 듯한 사각 추 형상을 갖고 있기 때문에, 압흔은 이상적으로는 정사각형이다. 시험력은 가변이며, JIS 규격에서는 10gf∼100kgf까지 규정되어 있다.Vickers hardness is a measurement method standardized by "JIS  Z 2244". Vickers hardness (HV) is a numerical value indicating whether a rigid body (indenter) made of diamond is pushed against a test object, and whether it is hard or soft by the size of the area of the indentation (indentation) formed at that time. Since the indenter has the shape of a square pyramid like an inverted pyramid, the indentation is ideally square. The test force is variable, and is specified from 10 gf to 100 kgf in the JIS standard.

(경도의 경사율)(Inclination rate of hardness)

비용접부의 측정은 도 8의 (a)에서 도시하는 맞댄 경우에는, 용접부의 중심으로부터 레이저광이 진행하는 방향으로 직각의 양측 지점을 측정하여, 그 평균치를 측정한 비용접부의 빅커스 경도(HV2)라 한다. 또한, 도 8의 (b)에서 도시하는 포갠 경우에는, 용접부의 중심으로부터 레이저광이 진행하는 방향으로 직각으로, 가까운 단부와 반대 측 지점을 측정하여, 비용접부의 빅커스 경도(HV2)라 한다.The measurement of the non-welded part is measured at both sides of the point perpendicular to the direction in which the laser beam travels from the center of the welded part in the case of butting as shown in FIG. ) is called In addition, in the case of overlapping as shown in Fig. 8(b), the near end and the point on the opposite side are measured at right angles in the direction in which the laser beam travels from the center of the welded portion, and the Vickers hardness (HV2) of the non-welded portion is taken. .

이 때의 Cu 판재는, 용접부의 중심과 비용접부의 2점에서 빅커스 경도(HV1, HV2)를 측정한다. 그것을, 비용접부에서의 빅커스 경도(HV2)와, 용접부 중심에서의 빅커스 경도(HV1)의 차이를, 빅커스 경도(HV1 및 HV2)를 측정한 위치간의 압흔 거리(X㎛)로 나누었을 때의 수치((HV2-HV1)/X)를 경도 경사율로 한다.The Cu plate material at this time is measured for Vickers hardness (HV1, HV2) at two points: the center of the welded portion and the non-welded portion. The difference between the Vickers hardness (HV2) at the non-welded part and the Vickers hardness (HV1) at the center of the welded part was divided by the indentation distance (X㎛) between the positions where the Vickers hardness (HV1 and HV2) were measured. The numerical value ((HV2-HV1)/X) at the time is used as the hardness inclination rate.

(점 형상 접합의 빅커스 경도의 측정 위치)(Measurement position of Vickers hardness of point joint)

점 형상의 용접에서는, 용접 폭은 점 형상의 용접부에서 가장 폭이 넓은 부분을 용접 폭으로 하고, 그 부분의 단면을 측정하는 면으로 한다. 따라서, 비용접부는 점 형상의 용접부에 인접하고 있어, 용접부 중심으로부터 용접 폭의 폭 방향을 따라 용접 반폭의 1.5배 거리 부분을 말한다.In spot welding, the welding width is the widest part in the spot welding part, and the cross section of the part is measured. Therefore, the non-welded portion is adjacent to the point-shaped welded portion, and refers to a portion at a distance of 1.5 times the half-width of the weld along the width direction of the weld width from the center of the welded portion.

따라서, 점 형상의 가장 폭이 넓은 부분의 중심점과, 그곳으로부터 일정 거리 떨어진 비용접부의 점에서 경도를 측정한다. 이로써, 빅커스 경도(HV1, HV2)를 측정하여, 경도 경사율을 구할 수 있다.Therefore, the hardness is measured at the center point of the widest part of the dot shape and at the point of the non-welded part spaced a certain distance therefrom. By this, the Vickers hardness (HV1, HV2) can be measured and the hardness inclination rate can be obtained.

(경도의 분포)(distribution of hardness)

경도는 Cu 판재의 특히 표면에 변형이나 손상을 주려 할 때의, 물체가 변형되기 어려운 것, 물체가 손상되기 어려운 것을 나타낸다. 특히, 2장의 Cu 판재를 용접하여 접합한 접합체에서는, 경도에 분포가 있으면, 크랙이 들어가는 등 하여 갈라지기 쉬워진다. 이는 경도가 높은 경질 부분과, 경도가 낮은 연질 부분이 혼재하는 판재에 응력이 걸리면, 변형 응력이 집중되기 때문에, 경도가 낮은 부분이 용이하게 변형되어 크랙이 발생하는 경우가 있다. 그 때문에, 레이저 용접 처리의 급열·급냉에 의해 열의 영향을 받은 부분과, 용융·응고된 용접부에서 열의 영향에 큰 차이가 있는 Cu 판재에서는, 응력에 대해서 변형이 용이해져, 크랙이 용이하게 들어가는 경향이 있다. 그 때문에, 전기·전자기기용 부품 제조 시에 경도 경사율이 크면, 크랙이 들어가 파손되는 경우가 있다.Hardness indicates that an object is difficult to deform and that an object is difficult to be damaged when deformation or damage is applied to the surface of the Cu plate material in particular. Particularly, in a joined body in which two Cu plate materials are joined by welding, if there is a distribution in hardness, it becomes easy to crack or the like. This is because when stress is applied to a plate material in which a hard portion with high hardness and a soft portion with low hardness are mixed, the deformation stress is concentrated, so the portion with low hardness is easily deformed and cracks may occur. Therefore, in the case of a Cu plate material in which there is a large difference in the effect of heat between the portion affected by heat due to rapid heating and cooling in the laser welding process and the welded portion that is melted and solidified, deformation with respect to stress becomes easy and cracks tend to easily enter. there is Therefore, when the hardness inclination rate is large at the time of manufacturing components for electric/electronic devices, cracks may enter and breakage may occur.

따라서, Cu 판재의 모재, 비용접부, 용접부에 있어서의 경도 변화를 나타내는 경도 경사율이 작은 것이 바람직하다. 경도 경사율이 클수록, Cu 판재의 모재, 비용접부, 용접부 사이에서의 경도차가 커지는 것이며, 응력이 집중된 부분을 형성함으로써 약해져, 크랙이 들어가기 쉬워진다. 따라서, 용접부에서의 빅커스 경도(HV1)와, 용접부에 인접하여 위치하는 비용접부에서의 빅커스 경도(HV2)의 차이를, 빅커스 경도(HV1 및 HV2)를 측정한 위치간의 압흔 거리 X(㎛)로 나누었을 때의 수치인 경도 경사율((HV2-HV1)/X)을 0.2/㎛ 이하로 하고, 보다 바람직하게는 0.15/㎛ 이하로 한다.Therefore, it is preferable that the hardness inclination rate representing the change in hardness in the base material, the non-welded portion, and the welded portion of the Cu plate is small. The larger the hardness inclination rate, the larger the difference in hardness between the base material of the Cu plate, the non-welded portion, and the welded portion, and is weakened by forming a stress-concentrated portion, making cracks easier to enter. Therefore, the difference between the Vickers hardness (HV1) at the welded portion and the Vickers hardness (HV2) at the non-welded portion located adjacent to the welded portion, the indentation distance X ( The hardness inclination rate ((HV2-HV1)/X), which is a numerical value when divided by μm), is set to 0.2/μm or less, more preferably 0.15/μm or less.

더욱이, 전기·전자기기용 부품으로서 실용하기 위해서는 용이하게 변형되는 것은 실용상 문제가 있고, Cu 판재의 모재 자신의 경도에 의한 강성이 필요하며, 그 때문에 본 발명에서는, 용접부 이외의 Cu 판재 부분, 특히 용접부에 인접하여 위치하는 비용접부에서의 빅커스 경도(HV2)를 75이상으로 하는 것이 바람직하다.Furthermore, in order to be used as a component for electrical/electronic devices, it is a practical problem that it is easily deformed, and rigidity due to the hardness of the base material itself of the Cu plate material is required. It is preferable to set the Vickers hardness (HV2) at the non-welded part located adjacent to the welded part to 75 or more.

(Cu 합금의 판재)(Plate of Cu alloy)

Cu의 함유량이 90질량% 이상인 판재이면 되며, 순Cu여도, 어느 Cu 합금이어도 되며, 특별히 한정되지는 않는다.It may be a plate material having a Cu content of 90% by mass or more, and may be pure Cu or any Cu alloy, and is not particularly limited.

전기·전자기기용 부품으로서 사용하는 Cu 판재가 Cu 합금인 경우에는, 합금 성분으로서 Ag, Fe, Ni, Co, Si, Cr, Sn, Zn, Mg, P으로부터 선택되는 1종에서 2종 이상의 원소를 포함하고, 잔부의 Cu가 90질량% 이상인 성분 조성을 갖는 것이 바람직하다. Cu 합금은 석출 경화형 Cu 합금이어도, 비석출 경화형 Cu 합금이어도 된다. 판재가 Cu 합금인 경우, 비용접부에서의 빅커스 경도(HV2)가 75∼240의 범위에 있다.When the Cu plate material used as a component for electric/electronic devices is a Cu alloy, one to two or more elements selected from Ag, Fe, Ni, Co, Si, Cr, Sn, Zn, Mg, and P are used as alloy components. Including, it is preferable to have a component composition in which Cu of the remainder is 90% by mass or more. The Cu alloy may be a precipitation hardening type Cu alloy or a non-precipitation hardening type Cu alloy. When the plate material is a Cu alloy, the Vickers hardness (HV2) at the non-welded portion is in the range of 75 to 240.

Cu 판재로서는 Cu 합금을 사용함으로써, 경도 경사율을 0.2/㎛ 이하로 하여 크랙 발생을 억제한다. 더욱이, 경도 경사율 뿐만 아니라, Cu 판재의 모재, 비용접부, 용접부 모두 딱딱한 것이 바람직하며, 특히, 비용접부에서의 빅커스 경도(HV2)가 75∼240의 범위인 것이 바람직하다. Cu 합금 판재는 비용접부에서의 빅커스 경도(HV2)가 75미만에서는, 가공 시에 변형되기 쉬워진다. 비용접부에서의 빅커스 경도(HV2)가 240을 넘으면, 용접부의 변형이나 경계에서의 비용접부와 모재, 용접부와의 경계에서 크랙이 들어가기 쉬워진다.By using a Cu alloy as the Cu plate material, the hardness inclination rate is 0.2/μm or less, and generation of cracks is suppressed. Furthermore, it is preferable that not only the hardness inclination rate, but also the base material of the Cu plate, the non-welded portion, and the welded portion are all hard, and in particular, it is preferable that the Vickers hardness (HV2) at the non-welded portion is in the range of 75 to 240. If the Vickers hardness (HV2) at the non-welded portion of the Cu alloy sheet material is less than 75, it becomes easy to deform during processing. If the Vickers hardness (HV2) at the non-welded part exceeds 240, cracks tend to enter at the boundary between the non-welded part, the base material, and the welded part at the boundary or deformation of the welded part.

(순Cu의 판재)(Plate of pure Cu)

또한, 전기·전자기기용 부품으로서 사용하는 Cu 판재가 99.96질량% 이상의 Cu 및 불가피 불순물을 포함한 순Cu인 경우에는, 비용접부에서의 빅커스 경도(HV2)가 75∼120의 범위인 것이 바람직하다. Cu 판재의 모재, 용접부, 비용접부의 경도의 경사가 작은 것이 바람직하며, 순Cu 판재를 사용함으로써, 경도 경사율을 0.1/㎛ 이하로 할 수 있어, 용접부의 국소 변형이 되기 어려워진다. 특히, 순Cu 판재에서, 비용접부에서의 빅커스 경도(HV2)가 75미만에서는, 가공 시에 변형되기 쉬워진다. 비용접부에서의 빅커스 경도(HV2)가 120을 넘으면, 용접부의 변형이나 비용접부와 모재 및 용접부와 비용접부의 경계에서 크랙이 들어가기 쉬워진다. In addition, when the Cu plate material used as a component for electrical/electronic devices is pure Cu containing 99.96% by mass or more of Cu and unavoidable impurities, the Vickers hardness (HV2) at the non-welded portion is preferably in the range of 75 to 120. It is preferable that the gradient of the hardness of the base material, the welded portion, and the non-welded portion of the Cu sheet material is small. By using a pure Cu sheet material, the hardness gradient rate can be set to 0.1/μm or less, and local deformation of the welded portion becomes difficult. In particular, in a pure Cu plate material, if the Vickers hardness (HV2) at the non-welded part is less than 75, it becomes easy to deform during processing. When the Vickers hardness (HV2) at the non-welded portion exceeds 120, deformation of the welded portion or cracks tend to enter at the boundary between the non-welded portion and the base material and the welded portion and the non-welded portion.

다음으로, 본 발명의 전기·전자기기용 부품을 구성하는 판재의 적합한 성분 조성의 한정 이유에 대해서 이하에서 설명한다.Next, the reasons for limiting the suitable component composition of the plate material constituting the electrical/electronic device components of the present invention will be described below.

본 발명의 전기·전자기기용 부품을 구성하는 판재는 90질량% 이상의 Cu를 함유하는 판재이면 되며, Cu 합금이어도, 순Cu여도, 어느 것이어도 된다.The plate material constituting the parts for electric/electronic devices of the present invention may be a plate material containing 90% by mass or more of Cu, and may be a Cu alloy or pure Cu.

우선, 판재가 Cu 합금인 경우의 성분 조성을 설명한다.First, the component composition in case the plate material is a Cu alloy is explained.

(1) 판재가 Cu 합금인 경우(1) When the plate is a Cu alloy

판재는 Ag, Fe, Ni, Co, Si, Cr, Sn, Zn, Mg 및 P으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 포함하는 것이 바람직하다.The plate material preferably contains at least one element selected from the group consisting of Ag, Fe, Ni, Co, Si, Cr, Sn, Zn, Mg, and P.

(Ag: 0.05∼5.00질량%)(Ag: 0.05 to 5.00% by mass)

Ag(은)은 전기적 특성을 해치지 않고 기계적 특성을 향상시키는 작용을 갖는 성분으로서, 이러한 작용을 발휘시킬 경우에는, Ag 함유량을 0.05질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 또한, Ag 함유량의 상한에 대해서는 특별히 마련할 필요는 없으나, Ag은 고가이기 때문에, 재료 비용 관점에서, Ag 함유량의 상한을 5.0질량%로 하는 것이 바람직하다.Ag (silver) is a component having an effect of improving mechanical properties without impairing electrical properties, and when exhibiting such an effect, the Ag content is preferably 0.05% by mass or more. In addition, although there is no need to set an upper limit for the Ag content, since Ag is expensive, it is preferable to set the upper limit for the Ag content at 5.0% by mass from the viewpoint of material cost.

(Fe: 0.05∼0.50질량%)(Fe: 0.05 to 0.50% by mass)

Fe(철)은 기계적 특성을 향상시키는 작용을 갖는 성분이다. 이러한 작용을 발휘시킬 경우에는, Fe 함유량을 0.05질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 그렇지만, Fe을 0.50질량%보다 많이 함유시켜도, 그 이상의 향상 효과를 기대할 수 없으며, 나아가 내식성 저하의 염려가 생긴다. 이 때문에, Fe 함유량은 0.05∼0.50질량%로 하는 것이 바람직하다.Fe (iron) is a component having an effect of improving mechanical properties. When exhibiting such an action, it is preferable to make Fe content into 0.05 mass % or more. However, even if Fe is contained in a greater amount than 0.50% by mass, no further improvement effect can be expected, and furthermore, there is a risk of deterioration in corrosion resistance. For this reason, it is preferable to make Fe content into 0.05-0.50 mass %.

(Ni: 0.05∼5.00질량%)(Ni: 0.05 to 5.00% by mass)

Ni(니켈)은 Cu의 모상(매트릭스) 중에, 단체 또는 Si와의 화합물로 이루어지는 제2상 입자의 석출물로서, 예를 들면, 50∼500㎚ 정도의 크기로 미세 석출되며, 이 석출물이 전위 이동을 억제함으로써 석출 경화시키고, 나아가, 립 성장이 억제되어, 결정립의 미세화에 의해 재료 강도를 상승시키는 작용을 갖는 성분이다. 이러한 작용을 발휘시킬 경우에는, Ni 함유량을 0.05질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 한편, Ni 함유량이 5.00질량%를 넘으면, 도전율이나 열 전도율 저하가 현저해지기 때문에, Ni 함유량의 상한은 5.00질량%로 하는 것이 바람직하다.Ni (nickel) is a precipitate of second-phase particles composed of a single substance or a compound with Si in the parent phase (matrix) of Cu, and is finely precipitated, for example, with a size of about 50 to 500 nm, and this precipitate prevents dislocation movement. It is a component having an effect of suppressing precipitation hardening, suppressing grain growth, and increasing material strength by refining crystal grains. When exhibiting such an action, it is preferable to make Ni content into 0.05 mass % or more. On the other hand, when the Ni content exceeds 5.00% by mass, the electrical conductivity and thermal conductivity decrease significantly, so the upper limit of the Ni content is preferably 5.00% by mass.

(Co: 0.05∼2.00질량%)(Co: 0.05 to 2.00% by mass)

Co(코발트)는 Cu의 모상(매트릭스) 중에, 단체 또는 Si와의 화합물로 이루어지는 제2상 입자의 석출물로서, 예를 들면, 50∼500㎚ 정도의 크기로 미세 석출되며, 이 석출물이 전위 이동을 억제함으로써 석출 경화시키고, 나아가, 립 성장이 억제되어, 결정립의 미세화에 의해 재료 강도를 상승시키는 작용을 갖는 성분이다. 이러한 작용을 발휘시킬 경우에는, Co 함유량을 0.05질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 한편, Co 함유량이 2.00질량%를 넘으면, 도전율이나 열 전도율 저하가 현저해지기 때문에, Co 함유량의 상한은 2.00질량% 이하로 하는 것이 바람직하다.Co (cobalt) is a precipitate of second-phase particles composed of a single substance or a compound with Si in the parent phase (matrix) of Cu, and is finely precipitated, for example, with a size of about 50 to 500 nm, and this precipitate prevents dislocation movement. It is a component having an effect of suppressing precipitation hardening, suppressing grain growth, and increasing material strength by refining crystal grains. When exhibiting such an action, it is preferable to make Co content into 0.05 mass % or more. On the other hand, when the Co content exceeds 2.00% by mass, the electrical conductivity and thermal conductivity decrease significantly, so the upper limit of the Co content is preferably 2.00% by mass or less.

(Si: 0.05∼1.10질량%)(Si: 0.05 to 1.10% by mass)

Si(규소)는 Cu의 모상(매트릭스) 중에, Ni이나 Co 등과 함께 화합물로 이루어지는 제2상 입자의 석출물로서 미세 석출되며, 이 석출물이 전위 이동을 억제함으로써 석출 경화시키고, 나아가, 립 성장이 억제되어, 결정립의 미세화에 의해 재료 강도를 상승시키는 작용을 갖는 중요한 성분이다. 이러한 작용을 발휘시킬 경우에는, Si 함유량을 0.05질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 한편, Si 함유량이 1.10질량%를 넘으면, 도전율이나 열 전도율 저하가 현저해지기 때문에, Si 함유량의 상한은 1.10질량%로 하는 것이 바람직하다.Si (silicon) is finely precipitated as a precipitate of second-phase particles made of a compound together with Ni or Co in the parent phase (matrix) of Cu, and this precipitate suppresses dislocation movement to cause precipitation hardening, and further suppresses grain growth It is an important component that has the effect of increasing material strength by refining crystal grains. When exhibiting such an action, it is preferable to make Si content into 0.05 mass % or more. On the other hand, when the Si content exceeds 1.10% by mass, the electrical conductivity and thermal conductivity decrease significantly, so the upper limit of the Si content is preferably 1.10% by mass.

(Cr: 0.05∼0.50질량%)(Cr: 0.05 to 0.50% by mass)

Cr(크롬)은 Cu의 모상(매트릭스) 중에, 화합물이나 단체로서 예를 들면, 10∼500㎚ 정도 크기의 석출물 형태로 미세 석출되며, 이 석출물이 전위 이동을 억제함으로써 석출 경화시키고, 나아가, 립 성장이 억제되어, 결정립의 미세화에 의해 재료 강도를 상승시키는 작용을 갖는 성분이다. 이 작용을 발휘시킬 경우에는, Cr함유량을 0.05질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 또한, Cr 함유량이 0.50질량%를 넘으면, 도전율 및 열 전도율 저하가 현저해지기 때문에, Cr 함유량은 0.05∼0.50질량%로 하는 것이 바람직하다.Cr (chrome) is finely precipitated in the form of a precipitate having a size of about 10 to 500 nm, for example, as a compound or single substance in the parent phase (matrix) of Cu, and the precipitate suppresses dislocation movement to cause precipitation hardening, furthermore, It is a component having an effect of suppressing growth and increasing material strength by miniaturizing crystal grains. When exhibiting this effect|action, it is preferable to make Cr content into 0.05 mass % or more. In addition, when the Cr content exceeds 0.50% by mass, the electrical conductivity and thermal conductivity decrease significantly, so the Cr content is preferably 0.05 to 0.50% by mass.

(Sn: 0.05∼9.50질량%)(Sn: 0.05 to 9.50% by mass)

Sn(주석)은 Cu의 모상(매트릭스) 중에 고용되어, Cu 합금의 강도 향상에 기여하는 성분이며, Sn 함유량은 0.05질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 한편, Sn 함유량이 9.50질량%를 넘으면, 취화(脆化)가 발생하기 쉬워진다. 이 때문에, Sn 함유량은 0.05∼9.50질량%로 하는 것이 바람직하다. 또한, Sn의 함유는 도전율 및 열 전도율을 저하시키는 경향이 있기 때문에, 도전율 및 열 전도율 저하를 억제시킬 경우에는, Sn 함유량을 0.05∼0.50질량%로 하는 것이 보다 바람직하다.Sn (tin) is a component that is dissolved in the parent phase (matrix) of Cu and contributes to the strength improvement of the Cu alloy, and the Sn content is preferably 0.05% by mass or more. On the other hand, when the Sn content exceeds 9.50% by mass, embrittlement tends to occur. For this reason, it is preferable to make Sn content into 0.05-9.50 mass %. Moreover, since containing of Sn tends to reduce electrical conductivity and thermal conductivity, it is more preferable to make Sn content into 0.05-0.50 mass % when suppressing electrical conductivity and thermal conductivity decline.

(Zn: 0.05∼0.50질량%)(Zn: 0.05 to 0.50% by mass)

Zn(아연)은 Sn 도금이나 땜납 도금의 밀착성이나 마이그레이션 특성을 개선하는 작용을 갖는 성분이다. 이러한 작용을 발휘시킬 경우에는, Zn 함유량을 0.05질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 한편, Zn 함유량이 0.50질량%를 넘으면, 용접 시에 아연의 증기량이 증가하여, 용접부에 결함이 생길 우려가 있다. 이 때문에, Zn 함유량은 0.05∼0.50질량%로 하는 것이 바람직하다.Zn (zinc) is a component having an effect of improving the adhesion and migration characteristics of Sn plating or solder plating. When exhibiting such an effect, it is preferable to make Zn content into 0.05 mass % or more. On the other hand, when the Zn content exceeds 0.50% by mass, the amount of zinc vapor increases during welding, which may cause defects in the welded portion. For this reason, it is preferable to make Zn content into 0.05-0.50 mass %.

(Mg: 0.01∼0.50질량%)(Mg: 0.01 to 0.50% by mass)

Mg(마그네슘)은 기계적 특성을 향상시키는 작용을 갖는 성분이다. 이러한 작용을 발휘시킬 경우에는, Mg 함유량을 0.01질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 한편, Mg 함유량이 0.50질량%를 넘으면, 도전율이나 열 전도율이 저하되는 경향이 있다. 이 때문에, Mg 함유량은 0.01∼0.50질량%로 하는 것이 바람직하다.Mg (magnesium) is a component having an action to improve mechanical properties. When exhibiting such an action, it is preferable to make Mg content into 0.01 mass % or more. On the other hand, when the Mg content exceeds 0.50% by mass, the electrical conductivity and thermal conductivity tend to decrease. For this reason, it is preferable to make Mg content into 0.01-0.50 mass %.

(P: 0.01∼0.50질량%)(P: 0.01 to 0.50% by mass)

P(인)은 Cu 합금의 탈산재로서 기여할 뿐만 아니라, Fe이나 Ni 등과 화합물로서 20∼500㎚ 정도 크기의 석출물 형태로 미세 석출되며, 이 석출물이 전위 이동을 억제함으로써 석출 경화시키고, 나아가, 립 성장이 억제되어, 결정립의 미세화에 의해 재료 강도를 상승시킬 수 있다. 이러한 작용을 발휘시키기 위해서는, P 함유량을 0.01질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 한편, P 함유량이 0.50질량%를 넘으면, 용접 후의 응고부에서 균열이 생기기 쉬워지는 경향이 있다. 이 때문에, P 함유량은 0.01∼0.50질량%로 한다.P (phosphorus) not only contributes as a deoxidizer for Cu alloys, but also finely precipitates in the form of precipitates with a size of about 20 to 500 nm as a compound with Fe or Ni, etc., and these precipitates suppress dislocation movement to cause precipitation hardening, furthermore, Growth is suppressed, and material strength can be increased by refinement of crystal grains. In order to exert such an action, it is preferable to make the P content 0.01 mass % or more. On the other hand, when the P content exceeds 0.50% by mass, cracks tend to easily occur in the solidified portion after welding. For this reason, P content is made into 0.01-0.50 mass %.

(2) 판재가 도전성이나 방열성이 뛰어난 순Cu인 경우(2) When the plate is made of pure Cu with excellent conductivity and heat dissipation

판재는 99.96% 이상의 Cu 및 불가피 불순물로서, 예를 들면, Cd, Mg, Pb, Sn, Cr, Bi, Se, Te이 합계 5ppm 이하, 그리고 Ag, O가 각각 400ppm 이하인 성분 조성을 갖는 순Cu인 것이 바람직하다.The plate material is pure Cu having a composition of 99.96% or more Cu and unavoidable impurities, for example, a total of 5 ppm or less of Cd, Mg, Pb, Sn, Cr, Bi, Se, and Te, and 400 ppm or less of Ag and O, respectively. desirable.

(전기·전자기기용 부품의 제조 방법)(Method of manufacturing parts for electrical/electronic devices)

본 발명의 일 실시형태인 전기·전자기기용 부품의 제조 방법은 90질량% 이상의 Cu를 함유하는 복수의 판재끼리를 서로 맞댄 상태 또는 포갠 상태로 세팅한 후에, 접합하는 개소를 400∼500㎚ 파장을 갖는 제1 레이저광을 100∼500㎛의 스폿 지름으로 조사하고, 또한, 800∼1200㎚ 파장을 갖는 제2 레이저광을 10∼300㎛의 스폿 지름으로 조사함과 동시에, 용융부에 산소가 1∼50ppm 포함되는 불활성 가스를 10∼50L/min의 유량으로 분사하면서 용접함으로써, 복수의 판재끼리를 선 형상으로 접합하여 일체화시키는 용접 공정을 포함한다.In one embodiment of the present invention, a method for manufacturing components for electric/electronic devices sets a plurality of plate materials containing 90% by mass or more of Cu in a state in which they face each other or in a state in which they are overlapped. A first laser light having a spot diameter of 100 to 500 μm is irradiated, and a second laser light having a wavelength of 800 to 1200 nm is irradiated with a spot diameter of 10 to 300 μm. A welding step of joining and integrating a plurality of plate materials in a linear shape by welding while spraying an inert gas contained in to 50 ppm at a flow rate of 10 to 50 L/min is included.

이러한 용접 공정에 따르면, 종래에는 곤란하였던 Cu 판재끼리의 용접을 용이하게 만든 뒤에, 용접부의 빅커스 경도를 60이상으로 할 수 있어, 강도가 높은 용접부를 얻을 수 있다.According to such a welding process, after making it easy to weld Cu plate materials, which was previously difficult, the Vickers hardness of the welded part can be set to 60 or more, and a welded part with high strength can be obtained.

더욱이, 400∼500㎚ 파장을 갖는 제1 레이저광을 100∼500㎛의 스폿 지름으로 조사하고, 또한, 800∼1200㎚ 파장을 갖는 제2 레이저광을 10∼300㎛의 스폿 지름으로 조사할 때의 조사 시간을 0.1∼10msec/스폿(선 형상의 경우에는, 1스폿 지름에 해당하는 거리를 소인하는 속도, 점 형상의 경우에는, 1스폿당의 조사 시간)으로 함으로써, 경도의 구배를 제어하였다.Furthermore, when the first laser light having a wavelength of 400 to 500 nm is irradiated with a spot diameter of 100 to 500 μm, and the second laser light having a wavelength of 800 to 1200 nm is irradiated with a spot diameter of 10 to 300 μm. The gradient of the hardness was controlled by setting the irradiation time of 0.1 to 10 msec/spot (speed for sweeping a distance corresponding to one spot diameter in the case of a line shape, irradiation time per spot in the case of a point shape).

(레이저 용접법)(laser welding method)

레이저 용접법은 지향성이나 집중성이 좋은 파장의 빛을 렌즈로 모아, 극히 높은 에너지 밀도의 레이저광을 열원으로 하는 용접 방법이다. 레이저광의 출력을 조정함으로써, 깊이에 비하여 폭이 좁은 용입 용접도 가능하다. 또한, 레이저광은 아크 용접의 아크에 비하여 극히 작게 좁혀갈 수 있다. 집광 렌즈에 의해 고밀도화된 에너지로, 레이저 용접 장치는 국소 용접이나 융점이 다른 재료의 접합이 가능하다. 용접에 의한 열 영향이 적고, 용접의 모양은 가늘며, 가공 반력도 발생하지 않기 때문에, 미세한 용접에도 적합하다.The laser welding method is a welding method in which light of a wavelength with good directivity or concentration is collected by a lens and a laser beam of extremely high energy density is used as a heat source. By adjusting the output of the laser beam, penetration welding with a narrow width compared to the depth is also possible. In addition, the laser beam can be constricted extremely small compared to the arc of arc welding. With the high-density energy of the condensing lens, the laser welding device is capable of local welding and bonding of materials with different melting points. Since the heat effect by welding is small, the shape of the weld is thin, and no machining reaction force is generated, it is also suitable for fine welding.

(레이저 용접 장치)(laser welding device)

도 6은 레이저 용접 장치의 개략 구성의 일례를 도시하는 도면이다. 레이저 용접 장치(20)는 레이저 제어부(21), 발진기(221, 222), 레이저 헤드(29), 가공대(24) 및 가스 공급 노즐(30)을 구비하고 있다. 가공대(24) 상에 피가공재인 Cu 판재(111, 112)를 맞댄 상태 또는 포갠 상태로 하여 배치한다. 레이저 제어부(21)는 레이저광을 발진하는 레이저 발진기(221, 222), 도시하지 않은 스캐너, 레이저 헤드(29), 가공대 등의 제어를 실시한다. 제어부(21)는 예를 들면, 도시하지 않은 X축 모터 및 Y축 모터의 회전을 제어함으로써, 피가공재인 Cu 판재(111, 112)의 진로 방향을 제어한다. 또한, 제어부(21)는 레이저광(231, 232)을 이동시켜서 제어하는 것이어도 된다. 이는 피가공재의 크기에 따라 적절히 선택할 수 있다. 제어부(21)는 발진기(221, 222)로부터 발진되는 복수의 제1 및 제2 레이저광(231, 232)을 발진한다. 발진된 제1 및 제2 레이저광(231, 232)은 유리 섬유(25)를 통해, 레이저 헤드(29) 내 각각의 제1 및 제2 집광 렌즈(261, 262)에 의해 평행한 빛으로 모아진다. 이 제1 및 제2 레이저광(231, 232)을 제1 및 제2 미러(271, 272)로 가공대 방향으로 변경하고, 이 제1 및 제2 레이저광(231, 232)을 집속 렌즈(28)를 통해 Cu 판재(111, 112)가 접합해야 할 위치에 수렴시켜 조사함으로써, 용접을 실시한다. 이 때, 가스 공급 노즐(30)로부터, 레이저광에 의한 가열에 의해 생기는 산화를 방지하기 위하여, 불활성 가스를 공급한다. 불활성 가스는 아르곤, 헬륨, 질소 등으로부터 적절히 선택할 수 있다.6 is a diagram showing an example of a schematic configuration of a laser welding device. The laser welding device 20 includes a laser control unit 21, oscillators 221 and 222, a laser head 29, a processing table 24, and a gas supply nozzle 30. On the work table 24, the Cu plates 111 and 112, which are workpieces, are disposed in a state of facing each other or overlapped. The laser controller 21 controls the laser oscillators 221 and 222 that oscillate laser light, a scanner (not shown), a laser head 29, a processing table, and the like. The controller 21 controls the direction of travel of the Cu plates 111 and 112 as workpieces by controlling rotation of, for example, an X-axis motor and a Y-axis motor (not shown). Moreover, the control part 21 may control by moving the laser beams 231 and 232. This can be appropriately selected according to the size of the workpiece. The controller 21 oscillates a plurality of first and second laser lights 231 and 232 oscillated from the oscillators 221 and 222 . The oscillated first and second laser beams 231 and 232 are collected into parallel lights by the respective first and second condensing lenses 261 and 262 in the laser head 29 through the glass fiber 25. lose The first and second laser beams 231 and 232 are changed in the direction of the processing table by the first and second mirrors 271 and 272, and the first and second laser beams 231 and 232 are directed through a focusing lens ( 28), the Cu plate materials 111 and 112 are converged to the position to be joined and irradiated to perform welding. At this time, an inert gas is supplied from the gas supply nozzle 30 to prevent oxidation caused by heating by the laser beam. The inert gas can be appropriately selected from argon, helium, nitrogen and the like.

레이저는 용접용 레이저로서 공지의 것 중에서 적절히 선택할 수 있다. 레이저의 일례로서, CO2레이저, Nd:YAG 레이저, 반도체 레이저, 파이버 레이저 등을 들 수 있다. 출력이나 레이저광의 집광성 등의 점에서, 파이버 레이저를 이용하는 것이 바람직하다. 레이저 용접 장치의 기타 구성은 종래 공지의 모든 구성으로부터 선택할 수 있다.The laser can be appropriately selected from those known as lasers for welding. As an example of a laser, a CO2 laser, a Nd:YAG laser, a semiconductor laser, a fiber laser, etc. are mentioned. It is preferable to use a fiber laser from points, such as output and the condensing property of a laser beam. Other configurations of the laser welding device can be selected from all conventionally known configurations.

(레이저 용접)(laser welding)

도 7은 레이저 용접 장치의 레이저광의 스폿 지름의 일례를 도시하는 도면이다. 도 7에 도시하는 바와 같이, 400∼500㎚ 파장을 갖는 제1 레이저광(231)을 100∼500㎛의 스폿 지름으로 조사한다. 그리고, 800∼1200㎚ 파장을 갖는 제2 레이저광(232)을 10∼300㎛의 스폿 지름으로 조사한다. 도 7에 있어서는, 제1 레이저광(231)과 제2 레이저광(232)이 판재 표면에서 겹치도록 조사한 예를 도시하고 있다. 특정 파장 및 스폿 지름의 복수의 레이저광을 동시에 조사함으로써, 종래에는 곤란하였던 Cu 판재를 용이하게 용접하는 것이 가능해졌다. 게다가, 용융부에 산소가 1∼50ppm 포함되는 불활성 가스를 10∼50L/min로 분사하면서 용접함으로써, 빅커스 경도가 60이상인 용접부를 얻을 수 있다.7 is a diagram showing an example of a spot diameter of a laser beam of a laser welding device. As shown in FIG. 7, the first laser light 231 having a wavelength of 400 to 500 nm is irradiated with a spot diameter of 100 to 500 μm. Then, the second laser light 232 having a wavelength of 800 to 1200 nm is irradiated with a spot diameter of 10 to 300 μm. 7 shows an example in which the first laser beam 231 and the second laser beam 232 are irradiated so as to overlap on the surface of the plate material. By simultaneously irradiating a plurality of laser beams of a specific wavelength and spot diameter, it became possible to easily weld a Cu plate material, which was previously difficult. Furthermore, by welding while spraying an inert gas containing 1 to 50 ppm of oxygen into the molten zone at 10 to 50 L/min, a welded part having a Vickers hardness of 60 or more can be obtained.

용융부에 공급하는 불활성 가스는 산소를 10∼50ppm 포함한다. 불활성 가스로서는, 질소 가스나 아르곤 가스 등을 들 수 있다. 이러한 산소를 10∼50ppm 포함한 불활성 가스를 10∼50L/min의 유량으로 분사하면서 레이저 용접함으로써, 용융부를 불활성 가스로 덮은 뒤에, 적당한 산소를 용융부의 내부로 보낼 수 있으며, 이로써 미세한 산화물을 생성시켜 용접부의 경도를 상승시키며, 또한, 급냉됨으로써, 결정립 내에 적당한 변형이 도입된다고 추측된다. 불활성 가스의 산소 함유량이 10ppm보다 적으면, 충분한 산소를 공급할 수 없기 때문에, 경도가 낮아지는 경우가 있다. 한편, 50ppm을 넘으면, 내부 산화가 과잉이 되어 취화가 발생하는 경우가 있다. 또한, 산소를 10∼50ppm 포함한 불가성 가스의 유량이 10L/min 미만에서는, 충분한 쉴드 효과를 얻지 못하고 산화가 과잉 진행하는 가운데, 용융부의 냉각 속도가 저하되기 때문에, 결정 내부에 충분한 변형을 얻을 수 없다. 또한, 유량이 50L/min를 초과하면, 용융부에 다량의 가스를 내뿜음으로써 용융 푸울의 형상이 불안정해져, 응고 불량을 일으키는 경우가 있다.The inert gas supplied to the melting section contains 10 to 50 ppm of oxygen. As an inert gas, nitrogen gas, argon gas, etc. are mentioned. By laser welding while spraying an inert gas containing 10 to 50 ppm of such oxygen at a flow rate of 10 to 50 L/min, after covering the molten part with the inert gas, appropriate oxygen can be sent into the molten part, thereby generating fine oxides and welding It is presumed that an appropriate strain is introduced into the crystal grains by increasing the hardness of and also by quenching. When the oxygen content of the inert gas is less than 10 ppm, since sufficient oxygen cannot be supplied, the hardness may be lowered. On the other hand, when it exceeds 50 ppm, internal oxidation becomes excessive and embrittlement may arise. In addition, if the flow rate of the insoluble gas containing 10 to 50 ppm of oxygen is less than 10 L/min, sufficient shielding effect cannot be obtained and the cooling rate of the molten zone decreases while oxidation proceeds excessively, so that sufficient strain cannot be obtained inside the crystal. does not exist. In addition, when the flow rate exceeds 50 L/min, the shape of the molten pool becomes unstable due to blowing a large amount of gas into the melting section, which may cause solidification failure.

더욱이, 400∼500㎚ 파장을 갖는 제1 레이저광(231)을 100∼500㎛의 스폿 지름으로 조사하고, 800∼1200㎚ 파장을 갖는 제2 레이저광(232)을 10∼300㎛의 스폿 지름으로 조사할 때의 조사 시간을 0.1∼10 msec/스폿으로 한다(선 형상의 경우에는, 1스폿 지름에 해당하는 거리를 소인하는 속도, 점 형상의 경우에는 1스폿당의 조사 시간). 0.1msec보다 짧은 경우에는, 접합하기 어려워짐과 더불어, 경도의 경사가 급준해지기 쉽다. 한편, 10msec를 초과하면, 용접부로부터 금속이 녹아내려 결손되어버리거나, 연화되어 강도가 부족하거나 할 우려가 있다.Furthermore, the first laser light 231 having a wavelength of 400 to 500 nm is irradiated with a spot diameter of 100 to 500 μm, and the second laser light 232 having a wavelength of 800 to 1200 nm is irradiated with a spot diameter of 10 to 300 μm. The irradiation time when irradiating with is 0.1 to 10 msec/spot (in the case of a line shape, the speed of sweeping a distance corresponding to one spot diameter, in the case of a point shape, the irradiation time per spot). When it is shorter than 0.1 msec, bonding becomes difficult and the gradient of hardness tends to become steep. On the other hand, if it exceeds 10 msec, there is a possibility that the metal melts from the welded part and is damaged, or the strength is insufficient due to softening.

본 발명의 전기·전자기기용 부품은 복수의 판재를 서로 맞대거나 또는 포갠 상태로 세팅한 후에, 복수의 판재끼리의 접합 개소에 제1 및 제2 레이저광(231, 232)으로 조사하여, 복수의 판재끼리를 선 형상 또는 점 형상으로 접합하여 일체화시킨다. Cu 판재 표면만 효율적으로 침투하는 제1 레이저광(231)을 제2 레이저광(232)보다 넓은 범위에서 Cu 판재를 가열하고, 가열함과 거의 동시에, Cu 판재에 깊이 침투하는 제2 레이저광(232)을 조사함으로써, 블로우 홀이나 내부 결함 등의 불량이 거의 생기지 않는 용접 가공을 실시할 수 있다.In the electrical/electronic device component of the present invention, after setting a plurality of plate materials in a state of facing each other or overlapping each other, irradiating the junction between the plurality of plate materials with first and second laser beams 231 and 232 to obtain a plurality of The plate materials are joined together in a linear or dotted shape to integrate them. The first laser light 231, which penetrates only the surface of the Cu plate material efficiently, heats the Cu plate material in a wider range than the second laser light 232, and almost simultaneously with the heating, the second laser light penetrates deeply into the Cu plate material ( 232), it is possible to perform welding processing in which defects such as blowholes and internal defects hardly occur.

제1 및 제2 레이저광(231, 232)의 파장 및 스폿 지름의 범위 밖이면, 표면 품질이 저하되거나, 용접을 할 수 없거나 하기 때문에 부적당하다. 또한, 제1 레이저광(231)에 의한 가열을 제어하면, 제2 레이저광(232)으로 판재를 용융, 응고시킬 때의 냉각 속도에 영향을 주며, 열심히 검토한 결과, 0.1∼10msec/스폿 이하로 함으로써, Cu 판재의 모재, 비용접부, 용접부에 있어서의 경도 변화를 억제하고, 나아가, Cu 판재의 비용접부, 용접부의 경도의 경사를 낮게 억제할 수 있다는 것을 알 수 있었다.Outside the range of the wavelength and spot diameter of the first and second laser beams 231 and 232, the surface quality deteriorates or welding cannot be performed, so it is not suitable. In addition, controlling the heating by the first laser beam 231 affects the cooling rate at the time of melting and solidifying the plate material by the second laser beam 232, and as a result of rigorous study, it is 0.1 to 10 msec/spot or less. By doing this, it was found that the hardness change in the base material, the non-welded portion, and the welded portion of the Cu plate material can be suppressed, and furthermore, the inclination of the hardness of the non-welded portion and the welded portion of the Cu plate material can be suppressed low.

(용접의 효과)(Effect of welding)

이와 같이, 소정의 성분 조성을 갖는 Cu 판재의 모재, 비용접부, 용접부를 제어함으로써, 경도가 있고 강성이 있고, 또, 용접부의 국소 변형이 생기기 어려운 전기·전자기기용 부품을 얻을 수 있다.In this way, by controlling the base material, the non-welded portion, and the welded portion of the Cu sheet material having a predetermined component composition, electrical/electronic device components having hardness and rigidity and hardly causing local deformation of the welded portion can be obtained.

(전기·전자기기에 대한 적용)(Applicable to electrical and electronic devices)

본 발명의 전기·전자기기용 부품은 반도체 장치, LSI, 혹은 이것들을 이용한 많은 전자기기에서 사용하는 것을 생각할 수 있으며, 나아가, 예를 들면, 특히 소형화, 고집적화의 필요가 있는 가정용 게임기, 의료 기기, 워크 스테이션, 서버, 퍼스널 컴퓨터, 카 내비게이션, 휴대 전화, 로봇의 커넥터, 배터리 단자, 잭, 릴레이, 스위치, 오토 포커스 카메라 모듈, 리드 프레임 등의 전기·전자기기에 대한 이용이 가능하다.Components for electrical/electronic devices of the present invention can be used in semiconductor devices, LSIs, or many electronic devices using these, and further, for example, home game machines, medical devices, and workpieces that require miniaturization and high integration in particular. Stations, servers, personal computers, car navigation systems, mobile phones, robot connectors, battery terminals, jacks, relays, switches, autofocus camera modules, lead frames, and other electrical and electronic devices can be used.

(베이퍼 챔버)(vapor chamber)

본 발명의 일 실시형태의 전기·전자기기용 부품은 뛰어난 열 전도성을 갖는 순Cu나 Cu 합금으로 이루어지며, 또한, 강도가 높고 내변형성이 뛰어나기 때문에, 히트 파이프나 베이퍼 챔버에 적용하는 것이 바람직하다.Components for electrical/electronic devices according to an embodiment of the present invention are made of pure Cu or Cu alloys having excellent thermal conductivity, and are also highly strong and excellent in deformation resistance, so they are preferably applied to heat pipes or vapor chambers. .

본 발명의 다른 실시형태의 전기·전자기기용 부품은 강성이 높고, 특히, 크랙 발생이 적은 특성을 갖고 있기 때문에, 히트 파이프, 베이퍼 챔버에 적용하는 것이 바람직하다. 특히, 베이퍼 챔버 제품의 구조재로서 크랙이 발생하기 어렵기 때문에, 크랙에서 유래하는 사용 시의 리크나 부식이 개선되기 때문에, 열 전도성 저하를 억제하여, 베이퍼 챔버 제품의 열화 억제, 장기 수명화에 공헌할 수 있다.Electrical/electronic device components according to another embodiment of the present invention have high rigidity and, in particular, low cracking characteristics, and therefore are preferably applied to heat pipes and vapor chambers. In particular, since cracks are less likely to occur as a structural material for vapor chamber products, leakage and corrosion during use resulting from cracks are improved, thereby suppressing a decrease in thermal conductivity, contributing to suppression of deterioration and longevity of vapor chamber products. can do.

(버스 바)(bus bar)

본 발명의 일 실시형태의 전기·전자기기용 부품은 뛰어난 열 전도성을 갖는 순Cu나 Cu 합금으로 이루어지며, 또한, 강도가 높고 내변형성이 뛰어나기 때문에, 버스 바로서 적합하다. 버스 바는 전기적으로 접속하는 전기 경로, 또, 방열을 위한 수송 경로로서도 적용할 수 있으며, 특히, 발열 부분으로부터 버스 바를 이어서 방열 부분 또는 외부까지 경로를 마련함으로써 냉각 장치로서도 적용 가능하다.Components for electric/electronic devices according to one embodiment of the present invention are made of pure Cu or a Cu alloy having excellent thermal conductivity, and have high strength and excellent deformation resistance, so they are suitable as bus bars. The bus bar can be applied as an electrical path for electrical connection and also as a transport path for heat dissipation. In particular, it can be applied as a cooling device by providing a path from a heating part to a heat dissipating part or to the outside following the bus bar.

또한, 본 발명의 다른 실시형태의 전기·전자기기용 부품으로 형성한 버스 바는 국소 변형이 뛰어난 특성을 갖고 있기 때문에, 전기적으로 접속하는 전기 경로, 또, 방열을 위한 수송 경로로서도 적용할 수 있다. 특히, 발열 부분으로부터 버스 바를 이어서 방열 부분 또는 외부까지 경로를 마련함으로써 냉각 장치로서도 적용 가능하다.In addition, since the bus bar formed from the electrical/electronic device components of another embodiment of the present invention has excellent local deformation characteristics, it can be applied as an electrical path for electrical connection and a transport path for heat dissipation. In particular, it is applicable also as a cooling device by providing a path from the heat generating part to the heat radiating part or the outside following the bus bar.

[실시예][Example]

본 발명의 실시예에 대해서 이하에 설명한다. 본 발명은 각종 양태가 가능하며, 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Examples of the present invention will be described below. Various aspects of the present invention are possible, and are not limited to the following examples.

(실시예 1∼6 및 비교예 1∼9) 순Cu로 이루어지는 2장의 동일 판재 접합(Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 9) Joining two identical plate materials made of pure Cu

실시예 1∼5 및 비교예 1∼9에서는, 표 1에 기재된 성분 조성을 갖는 순Cu로 이루어지는 판재를 두께 0.15㎜, 폭 20㎜, 길이 1000㎜로 2장 잘라냈다. 잘라낸 2장의 판재에 대해서, 길이 방향으로 연장되는 단면끼리를 서로 접근시키는 방향으로 이동시켜, 도 1의 (a)에 도시하는 바와 같은 맞댄 상태로 배치하였다. 그리고, 파장이 400∼500㎚ 및 스폿 지름(이하, 「빔 지름」이라 기재하는 경우가 있음)이 100∼500㎛인 제1 레이저광과, 파장이 800∼1200㎚ 및 스폿 지름이 10∼300㎛인 제2 레이저광을, 도 8에 도시하는 바와 같은 스폿 지름의 위치 관계를 유지하면서, 레이저 용접하였다. 레이저 조건을 표 1에 나타낸다. 레이저 용접은 용융부에, 표 1에 기재하는 산소를 포함한 불활성 가스를 공급하면서 실시하였다. 불활성 가스로서, 타이요 닛산 제조 G1 그레이드의 질소 가스와 산소 가스의 혼합 가스를 사용하였다.In Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 9, two plates were cut out to have a thickness of 0.15 mm, a width of 20 mm and a length of 1000 mm and made of pure Cu having the component composition shown in Table 1. With respect to the two sheet materials cut out, the end faces extending in the longitudinal direction were moved in a direction to bring them closer to each other, and they were placed in a facing state as shown in Fig. 1(a). Then, a first laser light having a wavelength of 400 to 500 nm and a spot diameter (hereinafter sometimes referred to as “beam diameter”) of 100 to 500 μm, and a wavelength of 800 to 1200 nm and a spot diameter of 10 to 300 μm Laser welding was performed with the second laser beam having a diameter of .mu.m while maintaining the positional relationship of the spot diameter as shown in FIG. 8 . Table 1 shows the laser conditions. Laser welding was performed while supplying an inert gas containing oxygen described in Table 1 to the fusion zone. As the inert gas, a mixed gas of nitrogen gas and oxygen gas of G1 grade manufactured by Taiyo Nissan was used.

또한, 실시예 6에서는, 맞대어 배치하는 것 대신, 도 1의 (b)에 도시하는 포갠 배치로 하여, 실시예 1과 같은 조건으로 레이저 용접을 실시하였다.Further, in Example 6, laser welding was performed under the same conditions as in Example 1 as a stacked arrangement shown in Fig. 1(b) instead of facing each other.

그 후, 용접부에 대해서, 빅커스 경도와, GAM치를 하기 방법으로 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 표 1 중에서는, 빅커스 경도(Hv1)가 60이상, 그리고, GAM치가 0.5°이상 2.0°미만인 결정립의 측정 면적에 존재하는 모든 결정립에 대한 면적 비율이 25% 이상인 경우를, 내변형성 특성이 우수하다고 하여 「◎」로 기재하고, 빅커스 경도(Hv1)가 60이상, 그리고, GAM치가 0.5°이상 2.0°미만인 결정립은 측정 면적에 존재하는 모든 결정립에 대한 면적 비율이 25% 미만인 경우를, 내변형 특성이 양호하다고 하여 「○」으로 기재하고, 그리고, 빅커스 경도(Hv1)가 60미만인 경우를, 내변형 특성이 나쁘다고 하여 「×」로 기재하였다.Then, the Vickers hardness and GAM value of the welded part were measured by the following method. The results are shown in Table 1. Further, in Table 1, when the Vickers hardness (Hv1) is 60 or more and the GAM value is 0.5° or more and less than 2.0°, the area ratio of all crystal grains present in the measurement area of crystal grains is 25% or more, the deformation resistance characteristics The case where the area ratio of all crystal grains present in the measured area is less than 25% is described as "◎" for being excellent, and the Vickers hardness (Hv1) is 60 or more, and the GAM value is 0.5° or more and less than 2.0°. , The deformation resistance was described as "○" as being good, and the case where the Vickers hardness (Hv1) was less than 60 was described as "x" as the deformation resistance was poor.

또한, 용접부의 국소적 변형 특성도 함께 평가하였다. 비용접부의 경도와 용접부의 경도 및 그 압흔 거리로부터 얻을 수 있는 경도 경사율이 0.2/㎛ 이하인 경우에는, 용접부와 비용접부의 작은 경사재가 되기 때문에, 국소 변형되기 어려워져, 내국소 변형 특성이 양호하다고 하여 「○」로 평가하였다. 한편, 0.2/㎛ 초과인 경우에는 국소 변형되기 쉽다고 하여, 「△」로 하였다.In addition, the local deformation characteristics of the weld zone were also evaluated. When the hardness of the non-welded part, the hardness of the welded part, and the hardness inclination rate obtained from the indentation distance thereof are 0.2/μm or less, the welded part and the non-welded part become small inclined materials, so that local deformation is difficult and the local deformation resistance is good. It was evaluated as "○". On the other hand, when it was more than 0.2/μm, it was said that it was likely to be locally deformed, and it was set as “Δ”.

[빅커스 경도][Vickers Hardness]

빅커스 경도(HV)는 JIS Z2244(2009)에 규정된 방법에 준거하여 측정하였다. 이 때의 하중(시험력)은 20∼100gf 사이부터, 압흔의 대각선 길이가 0.03㎜를 넘지 않는 범위에서 선택하여 시험하였다. 또한, 압자의 압하 시간(밀어넣는 시간)은 15sec이다.Vickers hardness (HV) was measured based on the method specified in JIS Z2244 (2009). The load (test force) at this time was selected from the range of 20 to 100 gf and the diagonal length of the indentation did not exceed 0.03 mm, and the test was conducted. In addition, the pressing down time (pushing time) of the indenter is 15 sec.

판재를 맞댄 실시예 1∼5, 비교예 1∼9에서는, 도 1의 (a)에 도시하는 바와 같이, 용접 방향을 X축 방향, 용접 방향에 대해서 수직인 방향을 Y축 방향, 판재 법선 방향을 Z축 방향으로 하였을 때, 이 Y축 방향으로 용접부를 절단하였을 때의 단면(A)에 존재하는 용접부의 판재 두께(a)의 반 치수에 해당하는 위치(b)에서, 빅커스 경도(Hv1)를 측정하였다. 용접 방향(X축 방향)으로 1㎜ 간격으로 절단한 5개의 단면(A)(YZ면)에서 측정하여, 그들 측정 결과의 평균치로서 구하였다.In Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 9 in which the plates are butted together, as shown in Fig. 1 (a), the welding direction is the X-axis direction, the direction perpendicular to the welding direction is the Y-axis direction, and the sheet material normal direction At a position (b) corresponding to the half dimension of the plate thickness (a) of the welded portion existing in the cross section (A) when the welded portion is cut in the Y-axis direction when in the Z-axis direction, the Vickers hardness (Hv1 ) was measured. Measurements were made on five cross sections (A) (YZ plane) cut at 1 mm intervals in the welding direction (X-axis direction), and the average value of these measurement results was obtained.

또한, 판재를 포갠 실시예 6에서는, 도 1의 (b)에 도시하는 바와 같이, Y축 방향으로 용접부를 절단하였을 때의 단면(A1)에 존재하는 용접부의 판재(1) 두께(a1)의 반 치수에 해당하는 위치(b1),그리고, Y축 방향으로 용접부를 절단하였을 때의 단면(A2)에 존재하는 용접부의 판재(2) 두께(a2)의 반 치수에 해당하는 위치(b2)에서 빅커스 경도(Hv1)를 측정하였다. 용접 방향(X축 방향)으로 1㎜ 간격으로 절단한 각각 5개의 단면(A1,A2)(YZ면)에서 측정하여, 그들 측정 결과의 평균치로서 구하였다.Further, in Example 6 in which the plate materials are stacked, as shown in FIG . ) corresponding to the half dimension of the position (b 1 ), and, when the weld is cut in the Y-axis direction, the cross section (A 2 ) corresponding to the half dimension of the thickness (a 2) of the plate ( 2 ) of the weld Vickers hardness (Hv1) was measured at position (b 2 ). Measurements were made on five cross sections (A 1 , A 2 ) (YZ plane) each cut at 1 mm intervals in the welding direction (X-axis direction), and the average of the measurement results was obtained.

[GAM치][GAM value]

GAM치는 고분해능 주사형 분석 전자현미경(일본 전자 주식회사 제조, JSM-7001FA)에 부속된 EBSD 검출기를 이용하여 연속해서 측정한 결정 방위 데이터로부터 해석 소프트웨어(TSL사 제조, OIM Analysis)를 이용하여 산출한 결정 방위 해석 데이터로부터 얻었다. 측정은 스텝 사이즈 0.1㎛로 실시하였다. 측정 영역은 상기 단면(A, A1,A2)의 표면에 대해서, 전해 연마로 경면 완성된 표면에 있어서, 용접부의 용접 폭과 판재의 두께로 구획되는 직사각형 영역 전체이다.The GAM value is a crystal calculated using analysis software (OIM Analysis, manufactured by TSL) from crystal orientation data continuously measured using an EBSD detector attached to a high-resolution scanning electron microscope (manufactured by Nippon Electronics Co., Ltd., JSM-7001FA). Obtained from orientation analysis data. The measurement was performed with a step size of 0.1 µm. The measurement area is the entire rectangular area defined by the welding width of the welded portion and the thickness of the sheet material on the surfaces of the cross sections A, A 1 , and A 2 mirror-finished by electrolytic polishing.

소정 범위 내의 GAM치의 결정립의 면적 비율은 0°이상 0.25°미만의 GAM치를 제1 구분으로 하고, 0.25°마다 15구분, 0°이상 3.75°미만까지의 GAM치를 측정 대상으로 하여, SEM-EBSD법으로 얻을 수 있는 SEM 화상 전체에서 차지하는 각 구분의 결정립의 면적 비율의 합계로부터 산출하였다.The area ratio of crystal grains of GAM values within a predetermined range is determined by the SEM-EBSD method, with GAM values of 0 ° or more and less than 0.25 ° as the first division, 15 divisions every 0.25 °, and GAM values of 0 ° or more and less than 3.75 ° as measurement targets. It was calculated from the sum of the area ratios of crystal grains in each division occupying the entire SEM image obtained by

또한, 실시예 6에 있어서는, 2장의 판재 각각에 대해서 측정된, GAM치의 결정립의 면적 비율의 평균치를 구하여, 이 평균치를 표 1에 기재하였다.Further, in Example 6, the average value of the crystal grain area ratio of the GAM values measured for each of the two sheet materials was obtained, and the average value is shown in Table 1.

Figure pct00001
Figure pct00001

실시예 1∼6에 의하면, 순Cu로 이루어지는 2장의 동일 판재 접합에 있어서, 400∼500㎚ 파장을 갖는 제1 레이저광을 100∼500㎛의 스폿 지름으로 조사하고, 또한, 800∼1200㎚ 파장을 갖는 제2 레이저광을 10∼300㎛의 스폿 지름으로 조사함과 동시에, 용융부에 산소가 1∼50ppm 포함되는 불활성 가스를 10∼50L/min의 유량으로 분사하면서, 0.1∼3msec/스폿으로 용접함으로써, 용접부의 빅커스 경도(Hv1)를 60이상으로 할 수 있다는 것을 알 수 있다. 그 중에서도, GAM치의 결정립의 면적 비율이 25% 이상인 실시예 1∼3, 5 및 6은 빅커스 경도(Hv1)가 65이상으로, 특히 높았다. 더욱이, 조사 시간이 2msec 이상인 경우에는, 경사가 작아지는 것을 알 수 있다.According to Examples 1 to 6, in bonding two identical plate materials made of pure Cu, a first laser light having a wavelength of 400 to 500 nm was irradiated with a spot diameter of 100 to 500 μm, and a wavelength of 800 to 1200 nm was applied. While irradiating the second laser beam with a spot diameter of 10 to 300 μm and spraying an inert gas containing 1 to 50 ppm of oxygen into the melting part at a flow rate of 10 to 50 L/min, 0.1 to 3 msec/spot It turns out that the Vickers hardness (Hv1) of a welded part can be made into 60 or more by welding. Among them, Examples 1 to 3, 5 and 6 in which the area ratio of crystal grains of the GAM value was 25% or more had a Vickers hardness (Hv1) of 65 or more, which was particularly high. Moreover, it can be seen that the slope becomes smaller when the irradiation time is 2 msec or longer.

한편, 불활성 가스의 산소 함유량이 10ppm보다 적은 비교예 1은 빅커스 경도가 낮았다. 또한, 불활성 가스의 산소 함유량이 50ppm보다 많은 비교예 2나, 불활성 가스의 유량이 10L/min보다 적은 비교예 3은 내부 산화가 과잉이 되어 취화가 발생하여 손상이 컸다. 불활성 가스의 유량이 50L/min보다 많은 비교예 4는 응고 불량을 일으켜, 용접부의 두께가 크게 감소하였다. 레이저 조건이 400∼500㎚ 파장을 갖는 제1 레이저광을 100∼500㎛의 스폿 지름으로 조사 및 800∼1200㎚ 파장을 갖는 제2 레이저광을 10∼300㎛의 스폿 지름으로 조사가 아닌 비교예 5∼9는, 순Cu로 이루어지는 판재끼리를 접합할 수 없었다.On the other hand, Comparative Example 1 in which the oxygen content of the inert gas was less than 10 ppm had low Vickers hardness. Further, in Comparative Example 2 in which the oxygen content of the inert gas was greater than 50 ppm and in Comparative Example 3 in which the flow rate of the inert gas was less than 10 L/min, internal oxidation was excessive, resulting in embrittlement and great damage. In Comparative Example 4, where the flow rate of the inert gas was greater than 50 L/min, solidification defects were caused, and the thickness of the welded portion was greatly reduced. A comparative example in which laser conditions are not irradiation of a first laser light having a wavelength of 400 to 500 nm with a spot diameter of 100 to 500 μm and irradiation of a second laser light having a wavelength of 800 to 1200 nm with a spot diameter of 10 to 300 μm. In Nos. 5 to 9, the plate materials made of pure Cu could not be joined to each other.

(실시예 7∼26 및 비교예 10∼12) Cu 합금으로 이루어지는 2장의 동일 판재 접합(Examples 7 to 26 and Comparative Examples 10 to 12) Joining two identical plate materials made of Cu alloy

실시예 7∼26 및 비교예 10∼12에서는, 표 2에 기재한 성분 조성을 갖는 Cu 합금으로 이루어지는 2장의 판재를 사용하고, 표 2에 기재한 용접 조건으로 용접한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.In Examples 7 to 26 and Comparative Examples 10 to 12, the same as in Example 1 except that two sheets of sheet materials made of a Cu alloy having the component composition shown in Table 2 were used and welded under the welding conditions shown in Table 2. made it The results are shown in Table 2.

Figure pct00002
Figure pct00002

실시예 7∼26에 의하면, Cu 합금으로 이루어지는 2장의 동일 판재 접합에 있어서, 400∼500㎚ 파장을 갖는 제1 레이저광을 100∼500㎛의 스폿 지름으로 조사하고, 또한, 800∼1200㎚ 파장을 갖는 제2 레이저광을 10∼300㎛의 스폿 지름으로 조사함과 동시에, 용융부에 산소가 1∼50ppm 포함되는 불활성 가스를 10∼50L/min의 유량으로 분사하면서 0.2∼10msec/스폿으로 용접함으로써, 용접부의 빅커스 경도(Hv1)를 60이상으로 할 수 있다는 것을 알 수 있다. 그 중에서도, GAM치의 결정립의 면적 비율이 25% 이상인 실시예 7, 8, 10, 12, 14, 15, 16, 18, 20, 22, 24, 26은 판재에 대한 용접부의 빅커스 경도의 비(용접부의 빅커스 경도/판재의 빅커스 경도)를 0.5이상으로 할 수 있으며, 용접부의 빅커스 경도 저하를 특히 억제할 수 있었다.According to Examples 7 to 26, in joining two identical plate materials made of Cu alloy, the first laser light having a wavelength of 400 to 500 nm was irradiated with a spot diameter of 100 to 500 μm, and a wavelength of 800 to 1200 nm was applied. While irradiating the second laser beam with a spot diameter of 10 to 300 μm and spraying an inert gas containing 1 to 50 ppm of oxygen into the melting part at a flow rate of 10 to 50 L/min, welding is performed at 0.2 to 10 msec/spot. By doing so, it can be seen that the Vickers hardness (Hv1) of the welded part can be set to 60 or more. Among them, Examples 7, 8, 10, 12, 14, 15, 16, 18, 20, 22, 24, and 26 in which the area ratio of crystal grains of the GAM value is 25% or more are the ratio of the Vickers hardness of the welded part to the plate material ( The Vickers hardness of the welded portion/the Vickers hardness of the sheet material) could be set to 0.5 or more, and the decrease in Vickers hardness of the welded portion could be particularly suppressed.

비교예 10은 산소량이 적기 때문에, 용접부의 강도를 높일 수 없었고, 비교예 11에서는 조사 시간이 짧기 때문에, 용접이 이루어지지 않았다. 더욱이, 비교예 12에서는 조사 시간이 길기 때문에, 용접부가 녹아내려, 감육함으로써 깨끗한 단면을 얻지 못하였다.In Comparative Example 10, since the amount of oxygen was small, the strength of the welded portion could not be increased, and in Comparative Example 11, welding was not performed because the irradiation time was short. Moreover, in Comparative Example 12, since the irradiation time was long, the weld was melted and thinned, so that a clean cross section could not be obtained.

(실시예 27∼28) 순Cu로 이루어져 성분 조성이 다른 2장의 판재 접합(Examples 27 to 28) Bonding two sheet materials made of pure Cu and having different component compositions

실시예 27에서는, 표 3에 기재된 성분 조성을 갖는 Cu 합금으로 이루어지는 판재를 사용하고, 표 3에 기재한 용접 조건으로 용접한 것 외에는, 실시예 1(맞댐)과 동일하게 하였다.In Example 27, it was carried out in the same manner as in Example 1 (butting) except that a sheet material made of a Cu alloy having the component composition shown in Table 3 was used and welded under the welding conditions described in Table 3.

실시예 28에서는, 표 3에 기재한 성분 조성을 갖는 Cu 합금으로 이루어지는 판재를 사용하고, 표 3에 기재한 용접 조건으로 용접한 것 외에는, 실시예 6(포갬)과 동일하게 하였다. 또한, 표 3의 상단에 기재한 판재가 레이저 조사 측이 되도록 포갰다.In Example 28, it was carried out in the same way as in Example 6 (overlapping) except that a sheet material made of a Cu alloy having the component composition described in Table 3 was used and welded under the welding conditions described in Table 3. In addition, the plate materials described at the upper end of Table 3 were stacked so that they were on the laser irradiation side.

결과를 표 3에 나타낸다.The results are shown in Table 3.

Figure pct00003
Figure pct00003

실시예 27∼28에 의하면, 순Cu로 이루어지고 성분 조성이 다른 2장의 판재 접합에 있어서, 400∼500㎚ 파장을 갖는 제1 레이저광을 100∼500㎛의 스폿 지름으로 조사하고, 또한, 800∼1200㎚ 파장을 갖는 제2 레이저광을 10∼300㎛의 스폿 지름으로 조사함과 동시에, 용융부에 산소가 1∼50ppm 포함되는 불활성 가스를 10∼50L/min의 유량으로 분사하면서 1msec/스폿의 조사 시간으로 용접함으로써, 용접부의 빅커스 경도(Hv1)를 60이상으로 할 수 있다는 것을 알 수 있다.According to Examples 27 to 28, in bonding two sheet materials made of pure Cu and having different component compositions, a first laser beam having a wavelength of 400 to 500 nm was irradiated with a spot diameter of 100 to 500 μm, and further, 800 While irradiating the second laser light having a wavelength of ~1200 nm with a spot diameter of 10 to 300 μm, while spraying an inert gas containing 1 to 50 ppm of oxygen into the melting part at a flow rate of 10 to 50 L/min, 1 msec/spot It can be seen that the Vickers hardness (Hv1) of the welded portion can be set to 60 or more by welding with an irradiation time of .

(실시예 29∼31) Cu 합금으로 이루어지고 성분 조성이 다른 2장의 판재 접합(Examples 29 to 31) Joining two sheet materials made of Cu alloy and having different component compositions

실시예 29∼31에서는, 표 4에 기재한 성분 조성을 갖는 Cu 합금으로 이루어지는 판재를 사용하고, 표 4에 기재한 용접 조건으로 용접한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하였다. 결과를 표 4에 나타낸다.In Examples 29 to 31, it was carried out in the same manner as in Example 1 except that a sheet material made of a Cu alloy having the component composition described in Table 4 was used and welded under the welding conditions described in Table 4. The results are shown in Table 4.

Figure pct00004
Figure pct00004

실시예 29∼31에 의하면, Cu 합금으로 이루어지고 성분 조성이 다른 2장의 판재 접합에 있어서, 400∼500㎚ 파장을 갖는 제1 레이저광을 100∼500㎛의 스폿 지름으로 조사하고, 또한, 800∼1200㎚ 파장을 갖는 제2 레이저광을 10∼300㎛의 스폿 지름으로 조사함과 동시에, 용융부에 산소가 1∼50ppm 포함되는 불활성 가스를 10∼50L/min의 유량으로 분사하면서 1msec/스폿의 조사 시간으로 용접함으로써, 용접부의 빅커스 경도(Hv1)를 60이상으로 할 수 있다는 것을 알 수 있다.According to Examples 29 to 31, in bonding two sheet materials made of Cu alloy and having different component compositions, a first laser light having a wavelength of 400 to 500 nm was irradiated with a spot diameter of 100 to 500 μm, and further, 800 While irradiating the second laser light having a wavelength of ~1200 nm with a spot diameter of 10 to 300 μm, while spraying an inert gas containing 1 to 50 ppm of oxygen into the melting part at a flow rate of 10 to 50 L/min, 1 msec/spot It can be seen that the Vickers hardness (Hv1) of the welded portion can be set to 60 or more by welding with an irradiation time of .

(실시예 32∼33) 순Cu로 이루어지는 판재와 Cu 합금으로 이루어지는 판재의 접합(Examples 32 to 33) Bonding of plate materials made of pure Cu and plate materials made of Cu alloy

실시예 32에서는, 표 5에 기재한 성분 조성을 갖는 순Cu로 이루어지는 판재와 Cu 합금으로 이루어지는 판재를 사용하고, 표 5에 기재한 용접 조건으로 용접한 것 외에는, 실시예 1(맞댐)과 동일하게 하였다.In Example 32, the same as in Example 1 (butting) except that a sheet material made of pure Cu and a sheet material made of a Cu alloy having the component composition shown in Table 5 were used and welded under the welding conditions shown in Table 5. did

실시예 33에서는, 표 5에 기재한 성분 조성을 갖는 순Cu로 이루어지는 판재와 Cu 합금으로 이루어지는 판재를 사용하고, 표 5에 기재한 용접 조건으로 용접한 것 외에는, 실시예 6(포갬)과 동일하게 하였다. 또한, 표 5의 상단에 기재한 제1 판재가 레이저 조사 측이 되도록 포갰다.In Example 33, the same as in Example 6 (overlapping) except that a sheet material made of pure Cu and a sheet material made of a Cu alloy having the component composition shown in Table 5 were used and welded under the welding conditions shown in Table 5. did In addition, the first plate material described at the upper end of Table 5 was overlapped so as to be on the laser irradiation side.

결과를 표 5에 나타낸다.The results are shown in Table 5.

Figure pct00005
Figure pct00005

실시예 32∼33에 의하면, 순Cu로 이루어지는 판재와 Cu 합금으로 이루어지는 판재의 접합에 있어서, 400∼500㎚ 파장을 갖는 제1 레이저광을 100∼500㎛의 스폿 지름으로 조사하고, 또한, 800∼1200㎚ 파장을 갖는 제2 레이저광을 10∼300㎛의 스폿 지름으로 조사함과 동시에, 용융부에 산소가 1∼50ppm 포함되는 불활성 가스를 10∼50L/min의 유량으로 분사하면서 1msec/스폿의 조사 시간으로 용접함으로써, 용접부의 빅커스 경도(Hv1)를 60이상으로 할 수 있다는 것을 알 수 있다.According to Examples 32 to 33, in the bonding of the plate material made of pure Cu and the plate material made of Cu alloy, the first laser light having a wavelength of 400 to 500 nm was irradiated with a spot diameter of 100 to 500 μm, and further, 800 While irradiating the second laser light having a wavelength of ~1200 nm with a spot diameter of 10 to 300 μm, while spraying an inert gas containing 1 to 50 ppm of oxygen into the melting part at a flow rate of 10 to 50 L/min, 1 msec/spot It can be seen that the Vickers hardness (Hv1) of the welded portion can be set to 60 or more by welding with an irradiation time of .

이상, 이들 실시예·비교예에 의해 GAM치가 0.5°이상 2.0°미만의 면적 비율을 높임으로써, 용접부의 경도를 60이상으로 제어할 수 있고, 아울러, 용접부와 비용접부의 경도 경사율이 0.2/㎛ 이하이면, 보다 변형에 대해서 강해지기 때문에, 실용상 문제가 없다는 것을 알 수 있다. 따라서, 본 발명에 의해, 베이퍼 챔버나 버스 바 등의 용접부를 갖는 전기·전자기기용 부품에 있어서, 용접부·비용접부의 경도를 제어함으로써, 강성이 있고, 또, 용접부에서의 국소 변형에 강한 전기·전자기기용 부품을 얻을 수 있다는 것을 알 수 있다.As described above, by increasing the area ratio of the GAM value of 0.5° or more and less than 2.0° according to these Examples and Comparative Examples, the hardness of the welded portion can be controlled to 60 or more, and the hardness inclination rate of the welded portion and the non-welded portion is 0.2/ If it is less than μm, it is more resistant to deformation, so it can be seen that there is no problem in practical use. Therefore, according to the present invention, in parts for electric/electronic devices having welded portions such as vapor chambers and bus bars, by controlling the hardness of the welded portion and non-welded portion, there is rigidity and resistance to local deformation at the welded portion. It can be seen that parts for electronic devices can be obtained.

1, 2 판재
3, 3A, 3B, 3C 용접부
10, 10A, 10B, 10C 접합체
10D Cu 부재
101, 102 Cu 판재
20 레이저 용접 장치
21 레이저 제어부
24 가공대
25 유리 섬유
26 집광 렌즈
28 집속 렌즈
29 레이저 헤드
30 가스 공급 노즐
221, 222 레이저 발진기
231 제1 레이저광
232 제2 레이저광
261 제1 집광 렌즈
262 제2 집광 렌즈
271 제1 미러
272 제2 미러
1, 2 plate
3, 3A, 3B, 3C welds
10, 10A, 10B, 10C junction
10D Cu member
101, 102 Cu plate
20 laser welding device
21 Laser Control
24 processing table
25 fiberglass
26 condensing lens
28 focusing lens
29 laser head
30 gas supply nozzle
221, 222 laser oscillator
231 first laser light
232 second laser light
261 first condensing lens
262 second condensing lens
271 first mirror
272 second mirror

Claims (7)

90질량% 이상의 Cu를 함유하는 복수의 판재로 구성되고,
상기 복수의 판재끼리를 서로 맞댄 상태 또는 포갠 상태에서 용접에 의해 선 형상 또는 점 형상으로 접합하여 일체화시키는 용접부를 가지며,
상기 용접부는 상기 판재의 두께 전체에 걸쳐 연장되고,
접합된 상기 복수의 판재가 연장되는 방향으로 상기 용접부를 절단하였을 때의 단면에서,
상기 용접부는 용접 자국의 폭인 용접 폭의 중앙에서 상기 판재 두께의 반 치수에 해당하는 위치에서 측정하였을 때의 빅커스 경도(HV1)가 60이상인,
전기·전자기기용 부품.
It is composed of a plurality of plate materials containing 90% by mass or more of Cu,
Has a welding portion for joining and integrating the plurality of plate materials in a linear or dotted shape by welding in a state of facing each other or overlapping each other,
The weld extends over the entire thickness of the plate material,
In the cross section when the welded portion is cut in the direction in which the plurality of plate materials joined are extended,
The weld has a Vickers hardness (HV1) of 60 or more when measured at a position corresponding to half the thickness of the plate at the center of the weld width, which is the width of the weld mark.
Parts for electrical and electronic devices.
제1항에 있어서,
상기 단면에 있어서, 상기 용접부의 용접 폭과 상기 판재의 두께로 구획되는 직사각형 영역에서, SEM-EBSD법의 결정 방위 해석 데이터로부터 얻을 수 있는 GAM치를 측정하였을 때, 상기 GAM치가 0.5°이상 2.0°미만인 결정립은 측정 면적에 존재하는 모든 결정립에 대한 면적 비율이 25% 이상인,
전기·전자기기용 부품.
According to claim 1,
In the cross section, when a GAM value obtained from crystal orientation analysis data of the SEM-EBSD method is measured in a rectangular region partitioned by the welding width of the welded portion and the thickness of the plate material, the GAM value is 0.5° or more and less than 2.0°. The crystal grains have an area ratio of 25% or more for all crystal grains present in the measured area,
Parts for electrical and electronic devices.
제1항 또는 제2항에 있어서,
90질량% 이상의 Cu를 함유하는 복수의 판재로 구성되고,
상기 복수의 판재끼리를 서로 맞댄 상태 또는 포갠 상태에서 용접에 의해 선 형상 또는 점 형상으로 접합하여 일체화시키는 용접부를 가지며,
상기 용접부는 상기 판재의 두께 전체에 걸쳐 연장되고,
접합된 상기 복수의 판재가 연장되는 방향으로 상기 용접부를 절단하였을 때의 단면에서,
판재 표면의 용접 자국의 폭인 용접 폭의 중앙에서 상기 판재 두께의 반 치수에 해당하는 위치에서 측정하였을 때의 상기 용접부에서의 빅커스 경도를 HV1이라 하고,
상기 용접부의 중심 위치로부터 용접 반폭의 1.5배에 해당하는 거리만큼, 용접 폭의 방향을 따라 이격된 위치에서 측정하였을 때의 상기 비용접부에서의 빅커스 경도를 HV2라 할 때,
상기 비용접부에서의 빅커스 경도(HV2)가 75이상이고,
상기 비용접부에서의 빅커스 경도(HV2)와, 상기 용접부에서의 빅커스 경도(HV1)의 차이를, 빅커스 경도(HV1 및 HV2)를 측정한 위치간의 압흔 거리 X(㎛)로 나누었을 때의 경도 경사율((HV2-HV1)/X)이 0.2/㎛ 이하인,
전기·전자기기용 부품.
According to claim 1 or 2,
It is composed of a plurality of plate materials containing 90% by mass or more of Cu,
Has a welding portion for joining and integrating the plurality of plate materials in a linear or dotted shape by welding in a state of facing each other or overlapping each other,
The weld extends over the entire thickness of the plate material,
In the cross section when the welded portion is cut in the direction in which the plurality of plate materials joined are extended,
The Vickers hardness at the weld when measured at a position corresponding to half the thickness of the plate at the center of the weld width, which is the width of the weld mark on the surface of the plate, is HV1,
When the Vickers hardness at the non-welded portion when measured at a location spaced apart along the direction of the weld width by a distance corresponding to 1.5 times the half-width of the weld from the center of the weld portion is HV2,
The Vickers hardness (HV2) at the non-welded part is 75 or more,
When the difference between the Vickers hardness (HV2) at the non-welded portion and the Vickers hardness (HV1) at the welded portion is divided by the indentation distance X (μm) between the positions where the Vickers hardness (HV1 and HV2) are measured The hardness gradient ((HV2-HV1) / X) of is 0.2 / μm or less,
Parts for electrical and electronic devices.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 판재가 Ag, Fe, Ni, Co, Si, Cr, Sn, Zn, Mg 및 P으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 포함하는,
전기·전자기기용 부품.
According to any one of claims 1 to 3,
The plate material contains one or more elements selected from the group consisting of Ag, Fe, Ni, Co, Si, Cr, Sn, Zn, Mg and P,
Parts for electrical and electronic devices.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 판재가 99.96질량% 이상의 Cu 및 불가피 불순물인,
전기·전자기기용 부품.
According to any one of claims 1 to 3,
The plate material is 99.96 mass% or more of Cu and unavoidable impurities,
Parts for electrical and electronic devices.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전기·전자기기용 부품이 베이퍼 챔버인,
전기·전자기기용 부품.
According to any one of claims 1 to 5,
The electric/electronic device component is a vapor chamber,
Parts for electrical and electronic devices.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전기·전자기기용 부품이 버스 바인,
전기·전자기기용 부품.
According to any one of claims 1 to 5,
The electric/electronic device component is a bus bar,
Parts for electrical and electronic devices.
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