KR20230018734A - 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 122
- 238000010926 purge Methods 0.000 title claims abstract description 60
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 164
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
- C23C16/4408—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber by purging residual gases from the reaction chamber or gas lines
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K15/00—Check valves
- F16K15/18—Check valves with actuating mechanism; Combined check valves and actuated valves
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
- F16K51/02—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C13/00—Details of vessels or of the filling or discharging of vessels
- F17C13/04—Arrangement or mounting of valves
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17D—PIPE-LINE SYSTEMS; PIPE-LINES
- F17D1/00—Pipe-line systems
- F17D1/02—Pipe-line systems for gases or vapours
- F17D1/04—Pipe-line systems for gases or vapours for distribution of gas
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2270/00—Applications
- F17C2270/05—Applications for industrial use
- F17C2270/0518—Semiconductors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Abstract
가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브가 개시된다.
이러한 본 발명은, 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브는, 일측에 실린더 가스 어댑터(CGA)가 연결되는 가스 용기; 상기 가스 용기의 실린더 가스 어댑터와 연결되며, 가스 용기 내의 공정가스가 유동되는 CGA 라인; 상기 CGA 라인과 연결되어 기 결정된 공정 라인으로 공정가스를 공급하는 공정 라인; 상기 CGA 라인과 공정 라인 상에 연결되며 질소가스(N2)를 통해 상기 CGA 라인과 공정 라인을 퍼지(purge)하는 퍼지 라인; 상기 CGA 라인 상에 구비되어 CGA 라인 및 공정 라인 상에 잔존하는 가스를 배출하는 진공 라인; 이 구비된 공정 가스 공급 가스 캐비닛의 실린더 밸브에 있어서, 상기 실린더 밸브는, 상기 가스 용기의 실린더 가스 어댑터의 일측에 위치하되, 퍼지 라인과 연결되도록 구성될 수 있다.
이러한 본 발명은, 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브는, 일측에 실린더 가스 어댑터(CGA)가 연결되는 가스 용기; 상기 가스 용기의 실린더 가스 어댑터와 연결되며, 가스 용기 내의 공정가스가 유동되는 CGA 라인; 상기 CGA 라인과 연결되어 기 결정된 공정 라인으로 공정가스를 공급하는 공정 라인; 상기 CGA 라인과 공정 라인 상에 연결되며 질소가스(N2)를 통해 상기 CGA 라인과 공정 라인을 퍼지(purge)하는 퍼지 라인; 상기 CGA 라인 상에 구비되어 CGA 라인 및 공정 라인 상에 잔존하는 가스를 배출하는 진공 라인; 이 구비된 공정 가스 공급 가스 캐비닛의 실린더 밸브에 있어서, 상기 실린더 밸브는, 상기 가스 용기의 실린더 가스 어댑터의 일측에 위치하되, 퍼지 라인과 연결되도록 구성될 수 있다.
Description
본 발명은 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 반도체 및 평판디스플레이 등 대량의 공정가스를 이용하는 제조공정에 사용되는 가스 용기의 밸브 일측에 퍼지 라인과 연결되는 체크 밸브로 이루어진 공급라인조절 실린더 밸브를 구비함으로써, 가스 용기 측 밸브 잠금(close)시 퍼지 라인·공정 라인 및 CGA 라인을 연통시켜 퍼지 라인측으로부터 직분사되는 질소가스(N2)에 의해 각 라인상에 잔존하는 가스를 제거할 수 있도록 한 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 및 평판디스플레이 등을 제조하는 제조공정에는 대량의 공정가스가 사용되는 데, 이 공정가스는 가스 공급 캐비넷에 의해 공급되어 기판 상에 특정한 박막을 증착하거나 특정 박막을 제거하는 데 사용되고 있다.
이러한 공정을 진행하다 보면, 공정 라인 상에 사용되지 못한 공정가스가 잔존되어 있을 수 있는 데, 이 경우, 배관이나 주변 장치가 부식될 우려가 있고 불순물이 공정 라인으로 흘러 들어가는 상황이 발생할 수 있다.
따라서, 공정 라인상에 잔존하는 가스를 배출(vent)하기 위해, 캐리어 가스(carrier gas)로 활용되는 질소가스(N2)를 사용하여 퍼지 공정(purge)을 수행함으로써 공정 라인을 정화시키게 된다.
그러나, 종래의 선행 기술에 의하면, 공정 라인 상에 잔존하는 가스를 제거하기 위해 공정 라인을 역흐름하여 밸브를 채우고 밸브 제너레이터를 통해 음압을 형성하는 과정을 대략 50회 ~ 100회 정도 반복하는 과정을 수행하고 있는 바, 이러한 선행 기술에 의하면 공정 라인상의 잔존 가스를 최대한 배출시키지 못하는 문제점이 있었다.
또한, 시간이 오래걸릴 뿐만 아니라 액화될 경우 공정 라인 상에 그대로 잔존하게 되는 문제점이 있었다.
따라서, 이러한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 반도체 및 평판디스플레이 등 대량의 공정가스를 이용하는 제조공정에 사용되는 가스 용기의 밸브 일측에 퍼지 라인과 연결되는 체크 밸브로 이루어진 공급라인조절 실린더 밸브를 구비함으로써, 가스 용기 측 밸브 잠금(close)시 퍼지 라인·공정 라인 및 CGA 라인을 연통시켜 퍼지 라인측으로부터 직분사되는 질소가스(N2)에 의해 각 라인상에 잔존하는 가스를 제거할 수 있도록 한 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브를 제공하는 데 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브는, 일측에 실린더 가스 어댑터(CGA)가 연결되는 가스 용기; 상기 가스 용기의 실린더 가스 어댑터와 연결되며, 가스 용기 내의 공정가스가 유동되는 CGA 라인; 상기 CGA 라인과 연결되어 기 결정된 공정 라인으로 공정가스를 공급하는 공정 라인; 상기 CGA 라인과 공정 라인 상에 연결되며, 질소가스(N2)를 통해 상기 CGA 라인과 공정 라인상에 잔존하는 공정가스를 퍼지(purge)하는 퍼지 라인; 상기 CGA 라인 상에 구비되어 CGA 라인 및 공정 라인 상에 잔존하는 가스를 배출하는 진공 라인; 상기 CGA 라인 상에 구비되어 CGA 라인 및 공정 라인상에 잔존하는 가스를 배출하는 배기 라인이 구비된 공정 가스 공급 가스 캐비닛의 공급라인조절 실린더 밸브에 있어서, 상기 공급라인조절 실린더 밸브는, 상기 가스 용기의 실린더 가스 어댑터의 일측에 위치하되, 퍼지 라인과 연결될 수 있다.
상기 공급라인조절 실린더 밸브는 퍼지 라인 상에 착탈 가능하게 구비되는 결합형 체크 밸브(check valve)로 마련됨이 바람직하다.
상기 공급라인조절 실린더 밸브는, 상기 실린더 가스 어댑터의 반대측에 위치하는 실린더 밸브 몸체; 상기 실린더 밸브 몸체의 내측에 위치하여 탄성작용하는 탄성체; 상기 탄성체의 일측에 마련되며, 상기 탄성체의 탄성작용에 의해 일정범위에서 이동가능하게 장착되는 가이드; 상기 실린더 밸브 몸체 내에서 가이드의 이동에 의해 가이드와 밀접되거나 일정 거리로 이격되는 리테이너; 를 포함하되, 상기 리테이너는, 상기 가스 용기의 밸브 개방시 가이드와 밀접되어 가스 용기측으로부터 퍼지 라인측으로의 가스 이동을 차단하거나, 또는 상기 가스 용기의 밸브 잠금시 가이드와 이격되어 퍼지 라인측으로부터 공급되는 질소가스(N2)를 퍼지 라인과 공정 라인 및 CGA 라인측으로 직분사되게 하는 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결됨이 바람직하다.
상기 공정가스의 공급이 완료된 후, 공정 라인상에 잔존하는 공정가스는 상기 공급라인조절 실린더 밸브에 의해 퍼지 라인측으로부터 직분사되는 질소가스(N2)에 의해 제거되되, 배기 라인으로 배출되게 할 수 있다.
상기에서 설명한 본 발명의 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브에 의하면, 반도체 및 평판디스플레이 등 대량의 공정가스를 이용하는 제조공정에 사용되는 가스 용기의 밸브 일측에 퍼지 라인과 연결되는 공급라인조절 실린더 밸브를 구비하여 가스 용기 측 밸브를 개방(open)시켰을 경우 퍼지 라인 측으로 흐를 수 있는 가스를 차단할 수 있게 된다.
또한, 본 발명에 의하면, 밸브 잠금(close)시 퍼지 라인·공정 라인 및 CGA 라인을 연통시켜 CGA 라인 및 공정 라인상으로 직분사가 가능하도록 함으로써 공정 라인 상에 잔존하는 가스를 최대한 제거할 수 있는 등 다양한 효과를 개선할 수 있게 된다.
도 1은 본 발명에 따른 공정 가스 공급 시스템을 개략적으로 도시한 구성도,
도 2는 본 발명에 따른 가스 용기 일측에 구비된 실린더 가스 어댑터의 일측에 체크밸브인 공급라인조절 실린더 밸브가 설치된 상태를 도시한 구성도,
도 3은 본 발명에 따른 가스 용기의 밸브가 개방된 상태에서의 공정 가스가 이동하는 상태를 도시한 사용상태도,
도 4는 본 발명에 따른 가스 용기의 밸브가 잠금된 상태에서의 공정 가스가 이동하는 상태를 도시한 사용상태도,
도 5는 본 발명에 따른 가스 용기의 밸브가 개방된 상태에서의 공급라인조절 실린더 밸브가 잠금된 상태를 도시한 사용상태도,
도 6은 본 발명에 따른 가스 용기의 밸브가 잠금된 상태에서의 공급라인조절 실린더 밸브가 개방된 상태를 도시한 사용상태도이다.
도 2는 본 발명에 따른 가스 용기 일측에 구비된 실린더 가스 어댑터의 일측에 체크밸브인 공급라인조절 실린더 밸브가 설치된 상태를 도시한 구성도,
도 3은 본 발명에 따른 가스 용기의 밸브가 개방된 상태에서의 공정 가스가 이동하는 상태를 도시한 사용상태도,
도 4는 본 발명에 따른 가스 용기의 밸브가 잠금된 상태에서의 공정 가스가 이동하는 상태를 도시한 사용상태도,
도 5는 본 발명에 따른 가스 용기의 밸브가 개방된 상태에서의 공급라인조절 실린더 밸브가 잠금된 상태를 도시한 사용상태도,
도 6은 본 발명에 따른 가스 용기의 밸브가 잠금된 상태에서의 공급라인조절 실린더 밸브가 개방된 상태를 도시한 사용상태도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것을 달성하기 위한 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다.
그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
따라서, 몇몇 실시 예에서, 잘 알려진 공정단계들, 잘 알려진 구조 및 잘 알려진 기술들은 본 발명이 모호하게 해석되는 것을 피하기 위하여 구체적으로 설명되지 않는다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며, 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않은 한 복수형도 포함한다.
명세서에서 사용되는 포함한다(comprises) 및/또는 포함하는(comprising)은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자 이외의 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는 의미로 사용한다.
그리고, "및/또는"은 언급된 아이템의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.
또한, 본 명세서에서 기술하는 실시 예들은 본 발명의 이상적인 예시도인 단면도 및/또는 개략도들을 참고하여 설명될 것이다.
따라서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정형태로 제한되는 것이 아니라 제조공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다.
그리고, 본 발명에 도시된 각 도면에 있어서 각 구성요소들은 설명의 편의를 고려하여 다소 확대 또는 축소되어 도시된 것일 수 있다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명에 따른 공정 가스 공급 시스템을 개략적으로 도시한 구성도이며, 도 2는 본 발명에 따른 가스 용기 일측에 구비된 실린더 가스 어댑터의 일측에 체크밸브인 공급라인조절 실린더 밸브가 설치된 상태를 도시한 구성도이고, 도 3은 본 발명에 따른 가스 용기의 밸브가 개방된 상태에서의 공정 가스가 이동하는 상태를 도시한 사용상태도이며, 도 4는 본 발명에 따른 가스 용기의 밸브가 잠금된 상태에서의 공정 가스가 이동하는 상태를 도시한 사용상태도이고, 도 5는 본 발명에 따른 가스 용기의 밸브가 개방된 상태에서의 공급라인조절 실린더 밸브가 잠금된 상태를 도시한 사용상태도이며, 도 6은 본 발명에 따른 가스 용기의 밸브가 잠금된 상태에서의 공급라인조절 실린더 밸브가 개방된 상태를 도시한 사용상태도이다.
본 발명에 따른 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브(100)에 의하면, 공정 가스가 수납된 가스 용기(110)와, 가스 용기(110)의 실린더 가스 어댑터(112)와 연결되는 CGA 라인(120)과, CGA 라인(120)과 연결되어 공정 라인으로 공정 가스를 공급하는 공정 라인(130)과, 질소가스(N2)를 통해 상기 CGA 라인(120)과 공정 라인(130)을 퍼지(purge)하는 퍼지 라인(140)과, 가스 용기(110)의 실린더 가스 어댑터(112)의 일측에 위치하여 퍼지 라인(140)과 연결되는 공급라인조절 실린더 밸브(150)를 포함하여 구성될 수 있다.
가스 용기(110)는 반도체 또는 평판디스플레이 제조 공정에 사용되는 공정 가스가 저장되는 용기로, 가스 용기(110)의 일측에는 실린더 가스 어댑터(112)(cylinder gas adaptor)가 연결된다.
여기서, 공정 가스는 기상 또는 액상일 수 있으며, 액상으로 마련하는 경우 가스 캐비닛(미도시)의 일측에 구비된 히팅유닛(미도시)을 가열하여 기화시킬 수 있게 된다.
CGA 라인(120)은 실린더 가스 어댑터(112)와 연결되는 라인으로, 가스 용기(110) 내의 공정 가스가 유동하는 라인이며, 공정 라인(130)은 CGA 라인(120)과 연결되며 공정 가스를 미리 결정된 공정을 공급하는 기능을 수행한다.
이러한, CGA 라인(120)에는 공정 가스를 필터링하는 필터가 개재될 수 있다.
공정 라인(130)은 CGA 라인(130)과 연결되는 라인으로서, 공정가스를 미리 결정된 공정으로 공급한다.
즉, CGA 라인(130)을 따라 흐르는 공정가스는 주변 밸브들의 동작에 기초하여 공정 라인(130)을 통해 제조공정으로 향한다.
상기의 구성을 갖는 가스 용기(110), CGA 라인(120) 및 공정 라인(130) 등은 필요에 따라 2개 이상으로 마련될 수 있다.
그리고, 퍼지 라인(140)은 CGA 라인(120)과 공정 라인(130) 상에 연결되되, 본 발명의 중요한 기술적 특징인 가스 용기(110)의 실린더 가스 어댑터(112)의 일측에 위치하며, 퍼지 라인(140)과 연결되는 공급라인조절 실린더 밸브(150)와 연결되는 구성으로 이루어진다.
퍼지 라인(140)은 CGA 라인(120)과 공정 라인(130)에 상호간 연결되고, 질소가스(N2)를 이용하여 CGA 라인(120)과 공정 라인(130) 내에 잔존하는 가스를 제거하는 라인을 의미한다.
참고로, 앞서 기술한 것처럼 퍼지(purge)는 CGA 라인(120)과 공정 라인(130) 상에 잔존 가능한 공정가스를 배출(vent, 배기)시켜 CGA 라인(120)과 공정 라인(130)을 정화시키는 것을 의미한다.
상기 공급라인조절 실린더 밸브(150)는 상기 가스 용기(110)의 실린더 가스 어댑터(112)의 일측에 위치하되, 퍼지 라인(140) 상에 착탈 가능하게 구비되는 결합형 체크 밸브(check valve)로 마련되도록 함이 바람직하다.
이와 같이, 체크 밸브로 이루어진 공급라인조절 실린더 밸브(150)는 가스 용기(110)의 밸브 개방시 공정 가스가 퍼지 라인(140)측으로 이동하는 것을 차단하는 기능을 수행한다.
이러한 공급라인조절 실린더 밸브(150)는, 가스 용기(110)의 밸브(111)를 개방할 경우 가스 용기(110)에서 공급되는 공정 가스는 공정 라인(130)으로 이동하도록 한다.
또한, 가스 용기(110)의 밸브(111)를 잠글 경우 공정 라인(130)에 대한 가스 공급을 차단하고, 퍼지 라인(140)과 공정 라인(130) 및 CGA 라인(120)을 연통시키는 기능을 수행한다.
상기 공급라인조절 실린더 밸브(150)는 다양한 구성으로 이루어질 수 있으며, 본 발명의 명세서에 기재되는 구성에 제한되지 않고 다양한 구성으로 마련될 수 있음을 밝혀둔다.
예를 들어, 공급라인조절 실린더 밸브(150)는 실린더 밸브 몸체(151)와, 실린더 밸브 몸체(151)의 내측에 위치하여 탄성작용하는 탄성체(152)와, 탄성체(152)의 탄성작용에 의해 이동하는 가이드(153)와, 가이드(153)의 이동에 의해 가이드(153)와 밀접되거나 일정 거리로 이격되는 리테이너(154)를 포함하여 구성될 수 있다.
여기서, 실린더 밸브 몸체(151)는 실린더 가스 어댑터(112)의 반대측에 위치하도록 구성되며, 도시하지는 않았으나, 사용자가 손으로 잡아 회전시켜 개폐하는 핸들에 의해 개폐가 가능하게 구비될 수 있다.
상기 탄성체(152)는 실린더 밸브 몸체(151)의 내측에 위치하여 탄성작용하는 것으로, 탄성작용에 의해 가이드(153)를 실린더 밸브 몸체(151) 내에서 일정 범위로 이동가능하게 하는 기능을 수행한다.
또한, 가이드(153)는 탄성체(152)의 일측에 마련되는 것으로, 탄성체(152)의 탄성작용에 의해 일정범위에서 이동가능하게 장착되는 구성을 갖는다.
가이드(153)의 내측에 관통형성된 관통구(156)는 퍼지 공정(140)측에서 이동하는 질소가스(N2)의 유로를 형성한다.
아울러, 리테이너(154)는 실린더 밸브 몸체(151) 내에서 가이드(153)의 이동에 의해 가이드(153)와 밀접되거나 일정 거리로 이격되도록 구성된다.
여기서, 가이드(153)와 리테이너(154) 사이에는 기밀성을 위해 밀폐부재(155)를 더 구비할 수 있다.
더욱 상세하게 살펴보면, 탄성체(152)는 코일 스프링으로 마련되는 것이 바람직하며, 가스 용기(110)의 밸브(111)를 개방할 경우, 인장 작용에 의해 실린더 밸브 몸체(151) 내에서 가이드(153)를 외측으로 밀어(도면 '도 5'에서 우측방향 참조)주어 리테이너(154)와 밀접된 상태를 이루게 되어 공정 가스가 퍼지 라인(140)측으로 이동하는 것을 차단하게 된다.
또한, 이 탄성체(152)는 가스 용기(110)의 밸브를 잠글 경우, 수축 작용에 의해 실린더 밸브 몸체(151) 내에서 가이드(153)를 내측으로 이동하게 함으로써(도면 '도 5'에서 좌측방향 참조) 리테이너(154)와 간격을 두게 되어 퍼지 라인(140)측으로부터 직분사되는 질소가스(N2)를 측으로 이동시킬 수 있게 된다.
상기의 구성에 의해, 가스 용기(110)의 밸브 개방시 가이드(153)와 밀접되어 가스 용기(110)측으로부터 퍼지 라인(140)측으로의 가스 이동을 차단하거나, 또는 상기 가스 용기(110)의 밸브 잠금시 가이드(153)와 이격되어 퍼지 라인(140)측으로부터 공급되는 질소가스(N2)를 퍼지 라인(140)과 공정 라인(130) 및 CGA 라인(120)측으로 직분사되도록 할 수 있다.
상기의 구성을 갖는 본 발명에 의하면, 상기 공정가스의 공급이 완료된 후, 공정 라인(130)상에 잔존하는 공정가스는 공급라인조절 실린더 밸브(150)에 의해 퍼지 라인(140)측으로부터 직분사되는 질소가스(N2)에 의해 제거될 수 있다.
한편, CGA 라인(120), 공정 라인(130) 및 퍼지 라인(140) 상에는 다양한 종류의 자동 밸브(AV1, ...), 커넥터, 체크밸브(CV1,CV2, ...), 압력계(PT1, PT2, ...), 필터(LF), 공정 라인(130) 상에 구비되어 각각 정량의 가스를 분배 공급하기 위한 레귤레이터(REG) 등이 부속되는데, 이들에 대해서는 도면부호 표시 및 설명을 생략한다.
배기 라인(170)은 CGA 라인(120) 상에 구비되어 CGA 라인(120) 및 공정 라인(130)상에 잔존하는 가스를 배출하는 기능을 수행한다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 권리 범위는 이같은 특정 실시예에만 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상을 이해하는 통상의 기술자에게 자명한 범위 내에서, 구성요소의 부가, 변경, 삭제, 추가 등에 의해서 다른 실시예를 제안할 수 있을 것이나, 이 또한 본 발명의 특허청구범위내에 기재된 범주내에 속하는 것으로 해석하여야 할 것이다.
100 : 공정 가스 공급 시스템,
110 : 가스 용기,
112 : 실린더 가스 어댑터,
120 : CGA 라인,
130 : 공정 라인,
140 : 퍼지 라인,
150 : 공급라인조절 실린더 밸브(체크 밸브),
151 : 실린더 밸브 몸체,
152 : 탄성체,
153 : 가이드,
154 : 리테이너.
110 : 가스 용기,
112 : 실린더 가스 어댑터,
120 : CGA 라인,
130 : 공정 라인,
140 : 퍼지 라인,
150 : 공급라인조절 실린더 밸브(체크 밸브),
151 : 실린더 밸브 몸체,
152 : 탄성체,
153 : 가이드,
154 : 리테이너.
Claims (4)
- 일측에 실린더 가스 어댑터(CGA)(112)가 연결되는 가스 용기(110); 상기 가스 용기(110)의 실린더 가스 어댑터(112)와 연결되며, 가스 용기 내의 공정가스가 유동되는 CGA 라인(120); 상기 CGA 라인(120)과 연결되어 기 결정된 공정 라인으로 공정가스를 공급하는 공정 라인(130); 상기 CGA 라인(120)과 공정 라인(130) 상에 연결되며 질소가스(N2)를 통해 상기 CGA 라인(120)과 공정 라인(130)을 퍼지(purge)하는 퍼지 라인(140); 상기 CGA 라인(120) 상에 구비되어 CGA 라인(120) 및 공정 라인 상에 잔존하는 가스를 배출하는 진공 라인(160); 상기 CGA 라인(120) 상에 구비되어 CGA 라인(120) 및 공정 라인(130)상에 잔존하는 가스를 배출하는 배기 라인(170)이 구비된 공정 가스 공급 가스 캐비닛의 공급라인조절 실린더 밸브에 있어서,
상기 공급라인조절 실린더 밸브(150)는,
상기 가스 용기(110)의 실린더 가스 어댑터(112)의 일측에 위치하되, 퍼지 라인(140)과 연결되는 것을 특징으로 하는 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브.
- 청구항 1에 있어서,
상기 공급라인조절 실린더 밸브(150)는 퍼지 라인(140) 상에 착탈 가능하게 구비되는 결합형 체크 밸브(check valve)로 마련되는 것을 특징으로 하는 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브.
- 청구항 1에 있어서,
상기 공급라인조절 실린더 밸브(150)는,
상기 실린더 가스 어댑터(112)의 반대측에 위치하는 실린더 밸브 몸체(151);
상기 실린더 밸브 몸체(151)의 내측에 위치하여 탄성작용하는 탄성체(152);
상기 탄성체(152)의 일측에 마련되며, 상기 탄성체(152)의 탄성작용에 의해 일정범위에서 이동가능하게 장착되는 가이드(153);
상기 실린더 밸브 몸체(151) 내에서 가이드(153)의 이동에 의해 가이드(153)와 밀접되거나 일정 거리로 이격되는 리테이너(154);
를 포함하되,
상기 리테이너(154)는,
상기 가스 용기(110)의 밸브 개방시 가이드(153)와 밀접되어 가스 용기(110)측으로부터 퍼지 라인(140)측으로의 가스 이동을 차단하거나, 또는 상기 가스 용기(110)의 밸브 잠금시 가이드(153)와 이격되어 퍼지 라인(140)측으로부터 공급되는 질소가스(N2)를 퍼지 라인(140)과 공정 라인(130) 및 CGA 라인(120)측으로 직분사되게 하는 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브.
- 청구항 2에 있어서,
상기 공정가스의 공급이 완료된 후,
공정 라인(130)상에 잔존하는 공정가스는 상기 공급라인조절 실린더 밸브(150)에 의해 퍼지 라인(140)측으로부터 직분사되는 질소가스(N2)에 의해 제거되되,
공정 라인(130)상에 잔존하는 공정가스는 배기 라인(170)을 통해 외부로 배출될 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210100605A KR20230018734A (ko) | 2021-07-30 | 2021-07-30 | 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020210100605A KR20230018734A (ko) | 2021-07-30 | 2021-07-30 | 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브 |
Publications (1)
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KR20230018734A true KR20230018734A (ko) | 2023-02-07 |
Family
ID=85253277
Family Applications (1)
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KR1020210100605A KR20230018734A (ko) | 2021-07-30 | 2021-07-30 | 가스 용기의 일측에 위치하는 퍼지 라인과 연결되어 공정 가스의 공급 라인을 조절하는 공급라인조절 실린더 밸브 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR20230018734A (ko) |
-
2021
- 2021-07-30 KR KR1020210100605A patent/KR20230018734A/ko not_active Application Discontinuation
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