KR20230018733A - A process gas supply system comprising a check valve connected to a purge line on one side of the gas container to remove residual gas on the process line through direct injection - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 가스 용기의 일측에 퍼지 라인과 연결되는 공급라인 조절밸브를 구비하여 직분사를 통해 공정 라인상의 잔존가스를 제거하도록 구성된 공정 가스 공급 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 반도체 및 평판디스플레이 등 대량의 공정가스를 이용하는 제조공정에 사용되는 가스 용기의 밸브 일측에 퍼지 라인과 연결되는 체크 밸브로 이루어진 공급라인 조절밸브를 구비하여 가스 용기 측 밸브를 개방(open)시켰을 경우 퍼지 라인 측으로 공정가스가 이동하는 것을 차단하고, 밸브 잠금(close)시 퍼지 라인·공정 라인 및 CGA 라인을 연통시킴과 아울러 공정 라인상으로 질소가스의 직분사가 가능하도록 함으로써 공정 라인 상에 잔존하는 가스를 최대한 제거할 수 있도록 한 가스 용기의 일측에 퍼지 라인과 연결되는 공급라인 조절밸브를 구비하여 직분사를 통해 공정 라인상의 잔존가스를 제거하도록 구성된 공정 가스 공급 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a process gas supply system configured to remove residual gas on a process line through direct injection by including a supply line control valve connected to a purge line at one side of a gas container, and more particularly, to semiconductors and flat panel displays. A supply line control valve consisting of a check valve connected to a purge line is provided on one side of a valve of a gas container used in a manufacturing process using a large amount of process gas, such as a gas container, and when the valve on the gas container side is opened, the process gas flows toward the purge line. It is possible to remove gas remaining on the process line as much as possible by preventing The present invention relates to a process gas supply system configured to include a supply line control valve connected to a purge line at one side of a gas container so as to remove residual gas on a process line through direct injection.
일반적으로, 반도체 및 평판디스플레이 등을 제조하는 제조공정에는 대량의 공정가스가 사용되는 데, 이 공정가스는 가스 공급 캐비넷에 의해 공급되어 기판 상에 특정한 박막을 증착하거나 특정 박막을 제거하는 데 사용되고 있다.In general, a large amount of process gas is used in the manufacturing process of semiconductors and flat panel displays. This process gas is supplied by a gas supply cabinet and used to deposit or remove a specific thin film on a substrate. .
이러한 공정을 진행하다 보면, 공정 라인 상에 사용되지 못한 공정가스가 잔존되어 있을 수 있는 데, 이 경우, 배관이나 주변 장치가 부식될 우려가 있고 불순물이 공정 라인으로 흘러 들어가는 상황이 발생할 수 있다.During this process, unused process gas may remain on the process line. In this case, there is a risk of corrosion of pipes or peripheral devices, and a situation may occur where impurities flow into the process line.
따라서, 공정 라인상에 잔존하는 가스를 배출(vent)하기 위해, 캐리어 가스(carrier gas)로 활용되는 질소가스(N2)를 사용하여 퍼지 공정(purge)을 수행함으로써 공정 라인을 정화시키게 된다.Therefore, in order to vent the gas remaining on the process line, the process line is purified by performing a purge process using nitrogen gas (N 2 ) used as a carrier gas.
그러나, 종래의 선행 기술에 의하면, 공정 라인 상에 잔존하는 가스를 제거하기 위해 공정 라인을 역흐름하여 밸브를 채우고, 밸브 진공 제너레이터(valve vacuum generator)를 통해 음압을 형성하는 과정을 대략 50회 ~ 100회 정도 반복하는 과정을 수행하고 있는 바, 이러한 선행 기술에 의하면 공정 라인상의 잔존 가스를 최대한 배출시키지 못하는 문제점이 있었다.However, according to the conventional prior art, in order to remove the gas remaining on the process line, the process of filling the valve by reverse flow through the process line and forming a negative pressure through a valve vacuum generator is about 50 times to about 50 times. The process is repeated about 100 times, and according to this prior art, there was a problem in that the residual gas on the process line could not be discharged as much as possible.
또한, 시간이 오래걸릴 뿐만 아니라 액화될 경우 공정 라인 상에 그대로 잔존하게 되는 문제점이 있었다.In addition, there was a problem that not only takes a long time, but also remains on the process line when liquefied.
따라서, 이러한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 반도체 및 평판디스플레이 등 대량의 공정가스를 이용하는 제조공정에 사용되는 가스 용기의 밸브 일측에 퍼지 라인과 연결되는 체크 밸브로 이루어진 공급라인 조절밸브를 구비하여 가스 용기 측 밸브를 개방(open)시켰을 경우 퍼지 라인 측으로 공정가스가 이동하는 것을 차단하고, 밸브 잠금(close)시 퍼지 라인·공정 라인 및 CGA 라인을 연통시킴과 아울러 공정 라인상으로 질소가스의 직분사가 가능하도록 함으로써 공정 라인 상에 잔존하는 가스를 최대한 제거할 수 있도록 한 가스 용기의 일측에 퍼지 라인과 연결되는 공급라인 조절밸브를 구비하여 직분사를 통해 공정 라인상의 잔존가스를 제거하도록 구성된 공정 가스 공급 시스템을 제공하는 데 있다.Therefore, an object of the present invention for solving these problems is to provide a supply line control valve consisting of a check valve connected to a purge line on one side of the valve of a gas container used in a manufacturing process using a large amount of process gas such as semiconductors and flat panel displays. When the valve on the gas container side is opened, the process gas is blocked from moving to the purge line side, and when the valve is closed, the purge line, process line, and CGA line are communicated, and nitrogen gas is passed through the process line. A supply line control valve connected to a purge line is provided on one side of a gas container so that the gas remaining on the process line can be removed as much as possible by enabling direct injection of the gas, so that the remaining gas on the process line is removed through direct injection. It is to provide a process gas supply system.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 가스 용기의 일측에 퍼지 라인과 연결되는 공급라인 조절밸브를 구비하여 직분사를 통해 공정 라인상의 잔존가스를 제거하도록 구성된 공정 가스 공급 시스템은, 일측에 실린더 가스 어댑터(CGA)가 연결되는 가스 용기; 상기 가스 용기의 실린더 가스 어댑터와 연결되며, 가스 용기 내의 공정가스가 유동되는 CGA 라인; 상기 CGA 라인과 연결되어 기 결정된 공정 라인으로 공정가스를 공급하는 공정 라인; 상기 CGA 라인과 공정 라인 상에 연결되며 질소가스(N2)를 통해 상기 CGA 라인과 공정 라인을 퍼지(purge)하는 퍼지 라인; 상기 CGA 라인 상에 구비되어 CGA 라인 및 공정 라인 상에 잔존하는 가스를 배출하는 진공 라인; 및 상기 가스 용기의 실린더 가스 어댑터의 일측에 위치하되, 퍼지 라인과 연결되는 공급라인 조절밸브; 를 포함하여 구성될 수 있다.In order to achieve the above object, a process gas supply system having a supply line control valve connected to a purge line at one side of a gas container according to the present invention to remove residual gas on a process line through direct injection includes a cylinder gas at one side a gas container to which an adapter (CGA) is connected; a CGA line connected to a cylinder gas adapter of the gas container and through which process gas in the gas container flows; a process line connected to the CGA line to supply a process gas to a predetermined process line; a purge line connected to the CGA line and the process line and purging the CGA line and the process line through nitrogen gas (N2); a vacuum line provided on the CGA line to discharge gas remaining on the CGA line and the process line; and a supply line control valve located on one side of the cylinder gas adapter of the gas container and connected to the purge line. It can be configured to include.
상기 공급라인 조절밸브는 퍼지 라인 상에 일체형, 또는 착탈 가능하게 구비되는 결합형 체크 밸브(check valve)로 마련되되, 상기 가스 용기의 밸브 잠금시에도 가스가 퍼지 라인측으로 이동하는 하는 것을 차단할 수 있게 된다.The supply line control valve is provided as an integrated or detachably combined check valve on the purge line, and can block gas from moving toward the purge line even when the valve of the gas container is closed. do.
상기 가스 용기의 밸브 개방 시, 가스 용기에서 공급된 가스는 공정 라인으로 이동하며, 상기 가스 용기의 밸브 잠금 시, 공정 라인에 대한 가스 공급을 차단하고, 퍼지 라인과 공정 라인 및 CGA 라인을 연통시킬 수 있다.When the valve of the gas container is opened, the gas supplied from the gas container moves to the process line, and when the valve of the gas container is closed, the gas supply to the process line is cut off and the purge line and the process line and the CGA line are communicated. can
상기 공정가스의 공급이 완료된 후, 공정 라인상에 잔존하는 공정가스는 상기 체크 밸브에 의해 퍼지 라인측으로부터 직분사되는 질소가스(N2)에 의해 제거되되, 상호간 연결되는 공정 라인 및 배기 라인 상에서 가스의 흐름방향으로 이동하여 제거되도록 할 수 있다.After the supply of the process gas is completed, the process gas remaining on the process line is removed by nitrogen gas (N2) directly injected from the purge line side by the check valve, and the gas is removed from the process line and the exhaust line that are connected to each other. It can be removed by moving in the flow direction of
상기에서 설명한 본 발명의 가스 용기의 일측에 퍼지 라인과 연결되는 공급라인 조절밸브를 구비하여 직분사를 통해 공정 라인상의 잔존가스를 제거하도록 구성된 공정 가스 공급 시스템에 의하면, 반도체 및 평판디스플레이 등 대량의 공정가스를 이용하는 제조공정에 사용되는 가스 용기의 밸브 일측에 퍼지 라인과 연결되는 공급라인 조절밸브를 구비하여 가스 용기 측 밸브를 개방(open)시켰을 경우 퍼지 라인 측으로 흐를 수 있는 가스를 차단할 수 있게 된다.According to the process gas supply system configured to remove the remaining gas on the process line through direct injection by providing a supply line control valve connected to the purge line on one side of the gas container of the present invention described above, A supply line control valve connected to the purge line is provided on one side of the valve of the gas container used in the manufacturing process using process gas, so that when the valve on the gas container side is opened, gas that can flow to the purge line can be blocked. .
아울러, 본 발명에 의하면, 밸브 잠금(close)시 진공 라인을 연통시킴과 아울러 CGA 라인 및 공정 라인상으로 직분사가 가능하도록 함으로써 공정 라인 상에 잔존하는 가스를 최대한 제거할 수 있는 등 다양한 효과를 개선할 수 있게 된다.In addition, according to the present invention, the vacuum line is communicated when the valve is closed, and various effects are improved, such as maximally removing gas remaining on the process line by enabling direct injection onto the CGA line and the process line. You can do it.
도 1은 본 발명에 따른 공정 가스 공급 시스템 상에 구비된 가스 용기의 밸브가 개방된 상태를 도시한 구성도,
도 2는 본 발명에 따른 공정 가스 공급 시스템 상에 구비된 가스 용기의 밸브가 잠금된 상태를 도시한 구성도,
도 3은 본 발명에 따른 가스 용기 일측에 구비된 실린더 가스 어댑터의 일측에 체크밸브인 공급라인 조절밸브가 설치된 상태를 도시한 구성도이다.1 is a configuration diagram showing a state in which a valve of a gas container provided on a process gas supply system according to the present invention is opened;
2 is a configuration diagram showing a state in which a valve of a gas container provided on a process gas supply system according to the present invention is locked;
3 is a configuration diagram showing a state in which a supply line control valve, which is a check valve, is installed on one side of a cylinder gas adapter provided on one side of a gas container according to the present invention.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것을 달성하기 위한 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다.Advantages and features of the present invention, and a method for achieving them will become clear with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings.
그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below and may be implemented in various different forms, only the present embodiments make the disclosure of the present invention complete, and common knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to completely inform the person who has the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals designate like elements throughout the specification.
따라서, 몇몇 실시 예에서, 잘 알려진 공정단계들, 잘 알려진 구조 및 잘 알려진 기술들은 본 발명이 모호하게 해석되는 것을 피하기 위하여 구체적으로 설명되지 않는다.Thus, in some embodiments, well-known process steps, well-known structures and well-known techniques have not been described in detail in order to avoid obscuring the interpretation of the present invention.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며, 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않은 한 복수형도 포함한다.Terms used in this specification are for describing embodiments, and are not intended to limit the present invention. In this specification, singular forms also include plural forms unless specifically stated otherwise in a phrase.
명세서에서 사용되는 포함한다(comprises) 및/또는 포함하는(comprising)은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자 이외의 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는 의미로 사용한다.As used herein, "comprises" and/or "comprising" refers to the presence or addition of one or more other elements, steps, operations and/or elements other than the mentioned elements, steps, operations and/or elements. It is used in the sense of not being excluded.
그리고, "및/또는"은 언급된 아이템의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.And "and/or" includes each and every combination of one or more of the recited items.
또한, 본 명세서에서 기술하는 실시 예들은 본 발명의 이상적인 예시도인 단면도 및/또는 개략도들을 참고하여 설명될 것이다.In addition, the embodiments described in this specification will be described with reference to cross-sectional views and/or schematic views, which are ideal exemplary views of the present invention.
따라서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정형태로 제한되는 것이 아니라 제조공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다.Therefore, the embodiments of the present invention are not limited to the specific form shown, but also include changes in the form produced according to the manufacturing process.
그리고, 본 발명에 도시된 각 도면에 있어서 각 구성요소들은 설명의 편의를 고려하여 다소 확대 또는 축소되어 도시된 것일 수 있다.In addition, in each drawing shown in the present invention, each component may be shown somewhat enlarged or reduced in consideration of convenience of description.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명에 따른 공정 가스 공급 시스템 상에 구비된 가스 용기의 밸브가 개방된 상태를 도시한 구성도이며, 도 2는 본 발명에 따른 공정 가스 공급 시스템 상에 구비된 가스 용기의 밸브가 잠금된 상태를 도시한 구성도이고, 도 3은 본 발명에 따른 가스 용기 일측에 구비된 실린더 가스 어댑터의 일측에 체크밸브인 공급라인 조절밸브가 설치된 상태를 도시한 구성도이다.1 is a configuration diagram showing a state in which a valve of a gas container provided on a process gas supply system according to the present invention is opened, and FIG. 2 is a configuration diagram showing a valve of a gas container provided on a process gas supply system according to the present invention 3 is a configuration diagram showing a state in which a supply line control valve, which is a check valve, is installed on one side of a cylinder gas adapter provided on one side of a gas container according to the present invention.
본 발명에 따른 가스 용기의 일측에 퍼지 라인과 연결되는 공급라인 조절밸브를 구비하여 직분사를 통해 공정 라인상의 잔존가스를 제거하도록 구성된 공정 가스 공급 시스템(100)에 의하면, 공정 가스가 수납된 가스 용기(110)와, 가스 용기(110)의 실린더 가스 어댑터(112)와 연결되는 CGA 라인(120)과, CGA 라인(120)과 연결되어 공정 라인으로 공정 가스를 공급하는 공정 라인(130)과, 질소가스(N2)를 통해 상기 CGA 라인(120)과 공정 라인(130)을 퍼지(purge)하는 퍼지 라인(140)과, 가스 용기(110)의 실린더 가스 어댑터(112)의 일측에 위치하여 퍼지 라인(140)과 연결되는 공급라인 조절밸브(150)와, 공정 라인(130)과 연결되어 공정 라인(130) 상에 잔존하는 가스를 배출하는 기능을 수행하는 진공 라인(160)과, 진공 라인(160)과 연동가능하게 구비되어 공정 라인(130)상에 잔존하는 가스를 배기시키는 배기 라인(170)을 포함하여 구성될 수 있다.According to the process
가스 용기(110)는 반도체 또는 평판디스플레이 제조 공정에 사용되는 공정 가스가 저장되는 용기로, 가스 용기(110)의 일측에는 실린더 가스 어댑터(112)(cylinder gas adaptor)가 연결된다.The
여기서, 공정 가스는 기상 또는 액상일 수 있으며, 액상으로 마련하는 경우 가스 캐비닛(미도시)의 일측에 구비된 히팅유닛(미도시)을 가열하여 기화시킬 수 있게 된다.Here, the process gas may be a gaseous phase or a liquid phase, and when provided in a liquid phase, it can be vaporized by heating a heating unit (not shown) provided on one side of a gas cabinet (not shown).
CGA 라인(120)은 실린더 가스 어댑터(112)와 연결되는 라인으로, 가스 용기(110) 내의 공정 가스가 유동하는 라인이며, 공정 라인(130)은 CGA 라인(120)과 연결되며 공정 가스를 미리 결정된 공정을 공급하는 기능을 수행한다.The CGA
이러한, CGA 라인(120)에는 공정 가스를 필터링하는 필터가 개재될 수 있다.A filter for filtering process gas may be interposed in the
공정 라인(130)은 CGA 라인(130)과 연결되는 라인으로서, 공정가스를 미리 결정된 공정으로 공급한다. The
즉, CGA 라인(130)을 따라 흐르는 공정가스는 주변 밸브들의 동작에 기초하여 공정 라인(130)을 통해 제조공정으로 향한다.That is, the process gas flowing along the CGA
그리고, 퍼지 라인(140)은 CGA 라인(120)과 공정 라인(130) 상에 연결되되, 본 발명의 중요한 기술적 특징인 가스 용기(110)의 실린더 가스 어댑터(112)의 일측에 위치하며, 퍼지 라인(140)과 연결되는 공급라인 조절밸브(150)와 연결되는 구성으로 이루어진다.In addition, the
퍼지 라인(140)은 CGA 라인(120)과 공정 라인(130)에 상호간 연결되고, 질소가스(N2)를 이용하여 CGA 라인(120)과 공정 라인(130) 내에 잔존하는 가스를 제거하는 라인을 의미한다.The
참고로, 앞서 기술한 것처럼 퍼지는 CGA 라인(120)과 공정 라인(130) 상에 잔존 가능한 공정가스를 배출(vent, 배기)시켜 CGA 라인(120)과 공정 라인(130)을 정화시키는 것을 의미한다. For reference, as described above, it means to purify the
이처럼, CGA 라인(120)과 공정 라인(130)이 정화되어야만 잔존 가스로 인해 배관이나 주변 장치가 부식되는 현상을 줄일 수 있으며, 가스 용기(110) 교체를 위하여 가스 용기(110)로부터 CGA 라인(120)을 분리할 때 일어날 수 있는 작업자의 안전 사고도 방지할 수 있게 된다.As such, only when the
한편, CGA 라인(120), 공정 라인(130) 및 퍼지 라인(140) 상에는 다양한 종류의 자동 밸브(AV1, ...), 커넥터, 체크밸브(CV1,CV2, ...), 압력계(PT1, PT2, ...), 필터(LF), 공정 라인(130) 상에 구비되어 각각 정량의 가스를 분배 공급하기 위한 레귤레이터(REG) 등이 부속되는데, 이들에 대해서는 도면부호 표시 및 설명을 생략한다.On the other hand, on the
상기의 구성을 갖는 가스 용기(110), CGA 라인(120) 및 공정 라인(130) 등은 필요에 따라 2개 이상으로 마련될 수 있다.Two or more of the
상기 공급라인 조절밸브(150)는 퍼지 라인(140) 상에 착탈 가능하게 구비되는 결합형 체크 밸브(check valve)로 마련되도록 함이 바람직하다.It is preferable that the supply
이와 같이, 체크 밸브로 이루어진 공급라인 조절밸브(150)는 가스 용기(110)의 밸브 잠금시에도 가스가 퍼지 라인(140)측으로 이동하는 하는 것을 차단하는 기능을 수행한다.As such, the supply
또한, 체크 밸브로 이루어진 공급라인 조절밸브(150)는 가스 용기(110)의 밸브(111) 개방 시, 가스 용기(110)에서 공급된 가스는 공정 라인(130)으로 이동하며, 가스 용기(110)의 밸브(111) 잠금 시, 공정 라인(130)에 대한 가스 공급을 차단하고, 퍼지 라인(140)과 공정 라인(130) 및 CGA 라인(120)을 연통시키는 기능을 수행한다.In addition, when the
상기와 같은 본 발명에 의하면, 공정가스의 공급이 완료된 후, CGA 라인(120) 및 공정 라인(130)상에 잔존하는 공정가스는 체크 밸브로 이루어진 공급라인 조절밸브(150)에 의해 퍼지 라인(140)측으로부터 직분사되는 질소가스(N2)에 의해 제거되는 특징을 갖는다.According to the present invention as described above, after the supply of the process gas is completed, the process gas remaining on the
즉, 도 2에 도시된 바와 같이, 퍼지 라인(140)측으로부터 공급되는 질소가스(N2)는 상호간 연결되는 CGA 라인(120) 및 공정 라인(130) 상에서 직분사되어 가스의 흐름방향으로 이동하여 CGA 라인(120) 및 공정 라인(130)상에 잔존하는 공정 가스를 제거하게 된다(도 2의 1점 쇄선 참조).That is, as shown in FIG. 2, nitrogen gas (N2) supplied from the side of the
한편, 진공 라인(160)은 상기 공정 라인(130)과 연결되어 상기 공정 라인(130) 상에 잔존하는 가스를 배출하는 기능을 수행하며, 배기 라인(170)은 진공 라인(160)과 연동가능하게 구비되어 공정 라인(130)상에 잔존하는 가스를 배기시키는 기능을 수행한다.Meanwhile, the
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 권리 범위는 이같은 특정 실시예에만 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상을 이해하는 통상의 기술자에게 자명한 범위 내에서, 구성요소의 부가, 변경, 삭제, 추가 등에 의해서 다른 실시예를 제안할 수 있을 것이나, 이 또한 본 발명의 특허청구범위내에 기재된 범주내에 속하는 것으로 해석하여야 할 것이다.In the above, preferred embodiments of the present invention have been described by way of example, but the scope of the present invention is not limited only to such specific embodiments, and within the scope obvious to those skilled in the art who understand the spirit of the present invention, the components Other embodiments may be proposed by addition, change, deletion, addition, etc. of, but this should also be construed as belonging to the scope described in the claims of the present invention.
100 : 공정 가스 공급 시스템,
110 : 가스 용기,
112 : 실린더 가스 어댑터,
120 : CGA 라인,
130 : 공정 라인,
140 : 퍼지 라인,
150 : 공급라인 조절밸브(체크 밸브),
160 : 진공 라인,
170 : 배기 라인.100: process gas supply system,
110: gas container,
112: cylinder gas adapter,
120: CGA line,
130: process line,
140: purge line,
150: supply line control valve (check valve),
160: vacuum line,
170: exhaust line.
Claims (4)
상기 가스 용기(110)의 실린더 가스 어댑터(112)와 연결되며, 가스 용기 내의 공정가스가 유동되는 CGA 라인(120);
상기 CGA 라인(120)과 연결되어 기 결정된 공정 라인으로 공정가스를 공급하는 공정 라인(130);
상기 CGA 라인(120)과 공정 라인(130) 상에 연결되며 질소가스(N2)를 통해 상기 CGA 라인(120)과 공정 라인(130)을 퍼지(purge)하는 퍼지 라인(140);;
상기 가스 용기(110)의 실린더 가스 어댑터(112)의 일측에 위치하되, 퍼지 라인(140)과 연결되는 공급라인 조절밸브(150);
상기 공정 라인(130)과 연결되어 상기 공정 라인(130) 상에 잔존하는 가스를 배출하는 진공 라인(160);
상기 진공 라인(160)과 연동가능하게 구비되며, 공정 라인(130)상에 잔존하는 가스를 배출하는 배기 라인(170);
을 포함하는 가스 용기의 일측에 퍼지 라인과 연결되는 공급라인 조절밸브를 구비하여 직분사를 통해 공정 라인상의 잔존가스를 제거하도록 구성된 공정 가스 공급 시스템.
A gas container 110 to which a cylinder gas adapter (CGA) 112 is connected to one side;
a CGA line 120 connected to the cylinder gas adapter 112 of the gas container 110 and through which process gas in the gas container flows;
a process line 130 connected to the CGA line 120 to supply a process gas to a predetermined process line;
A purge line 140 connected to the CGA line 120 and the process line 130 and purging the CGA line 120 and the process line 130 with nitrogen gas (N2);
A supply line control valve 150 located on one side of the cylinder gas adapter 112 of the gas container 110 and connected to the purge line 140;
a vacuum line 160 connected to the process line 130 to discharge gas remaining on the process line 130;
an exhaust line 170 provided to be interlocked with the vacuum line 160 and discharging gas remaining on the process line 130;
A process gas supply system configured to remove residual gas on a process line through direct injection by including a supply line control valve connected to a purge line at one side of a gas container including a gas container.
상기 공급라인 조절밸브(150)는 퍼지 라인(140) 상에 착탈 가능하게 구비되는 결합형 체크 밸브(check valve)로 마련되되,
상기 가스 용기(110)의 밸브 잠금시에도 가스가 퍼지 라인(140)측으로 이동하는 하는 것을 차단하는 것을 특징으로 하는 가스 용기의 일측에 퍼지 라인과 연결되는 공급라인 조절밸브를 구비하여 직분사를 통해 공정 라인상의 잔존가스를 제거하도록 구성된 공정 가스 공급 시스템.
The method of claim 1,
The supply line control valve 150 is provided as a combined check valve detachably provided on the purge line 140,
A supply line control valve connected to the purge line is provided on one side of the gas container, characterized in that to block the gas from moving to the purge line 140 even when the valve of the gas container 110 is closed through direct injection. A process gas supply system configured to remove residual gas on a process line.
상기 가스 용기(110)의 밸브 개방 시, 가스 용기(110)에서 공급된 가스는 공정 라인(130)으로 이동하며,
상기 가스 용기(110)의 밸브 잠금 시, 공정 라인(130)에 대한 가스 공급을 차단하고, 퍼지 라인(140)과 공정 라인(130) 및 CGA 라인(120)을 연통시키는 것을 특징으로 하는 가스 용기의 일측에 퍼지 라인과 연결되는 공급라인 조절밸브를 구비하여 직분사를 통해 공정 라인상의 잔존가스를 제거하도록 구성된 공정 가스 공급 시스템.
The method of claim 2,
When the valve of the gas container 110 is opened, the gas supplied from the gas container 110 moves to the process line 130,
When the valve of the gas container 110 is closed, the gas supply to the process line 130 is cut off, and the purge line 140 and the process line 130 and the CGA line 120 are in communication with each other. A process gas supply system having a supply line control valve connected to a purge line at one side of the process gas supply system configured to remove residual gas on the process line through direct injection.
상기 공정가스의 공급이 완료된 후, 공정 라인(130)상에 잔존하는 공정가스는 상기 체크 밸브에 의해 퍼지 라인(140)측으로부터 직분사되는 질소가스(N2)에 의해 제거되되,
상호간 연결되는 공정 라인(130) 및 CGA 라인(120) 상에서 가스의 흐름방향으로 이동하여 제거되도록 하는 것을 특징으로 하는 가스 용기의 일측에 퍼지 라인과 연결되는 공급라인 조절밸브를 구비하여 직분사를 통해 공정 라인상의 잔존가스를 제거하도록 구성된 공정 가스 공급 시스템.
According to claim 2 or claim 3,
After the supply of the process gas is completed, the process gas remaining on the process line 130 is removed by nitrogen gas (N2) directly injected from the purge line 140 side by the check valve,
A supply line control valve connected to the purge line is provided on one side of the gas container, characterized in that it is removed by moving in the flow direction of the gas on the process line 130 and the CGA line 120 connected to each other through direct injection. A process gas supply system configured to remove residual gas on a process line.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210100604A KR20230018733A (en) | 2021-07-30 | 2021-07-30 | A process gas supply system comprising a check valve connected to a purge line on one side of the gas container to remove residual gas on the process line through direct injection |
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- 2021-07-30 KR KR1020210100604A patent/KR20230018733A/en not_active Application Discontinuation
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