KR20230014434A - cleaning device for cleaning display substrates - Google Patents

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KR20230014434A KR1020210095763A KR20210095763A KR20230014434A KR 20230014434 A KR20230014434 A KR 20230014434A KR 1020210095763 A KR1020210095763 A KR 1020210095763A KR 20210095763 A KR20210095763 A KR 20210095763A KR 20230014434 A KR20230014434 A KR 20230014434A
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Abstract

The present invention relates to a cleaning device for cleaning a display substrate. The cleaning device for cleaning a display substrate, which can facilitate removal of impurities, comprises: a cleaning solution storage unit which stores a cleaning solution through a pool; a gas mixture unit which mixes the cleaning solution introduced from the cleaning solution storage unit with gas through a venturi mixer; a cleaning solution pumping unit which pumps the cleaning solution mixed with the gas introduced from the gas mixture unit through a pump at a pre-set pressure; a bubble generation unit which generates nano bubbles into the cleaning solution mixed with the gas introduced from the cleaning solution pumping unit through a bubble generator; a cleaning solution filtering unit which removes foreign substances by filtering the cleaning solution with the generated nano bubbles introduced from the bubble generation unit through at least one filter; and a cleaning solution spraying unit which sprinkles the cleaning solution with the generated nano bubbles introduced from the cleaning solution filtering unit onto a surface of the display substrate through each of a plurality of nozzles disposed in a nozzle head unit.

Description

디스플레이 기판 세정용 세정장치{cleaning device for cleaning display substrates}Cleaning device for cleaning display substrates}

본 발명은 세정장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 나노버블이 함유된 세정액의 분사가 이루어짐으로써 나노버블의 세정 효과에 의해 디스플레이 기판의 세정이 원활할 수 있도록 할 뿐만 아니라 노즐 헤드 유닛에 배치되는 노즐 간의 간격이 최소화됨으로써 노즐과 디스플레이 기판 사이의 간격이 최소화되어 이전에 비해 압력이 낮은 중압의 세정액 분사를 통해서도 디스플레이 기판의 세정이 원활할 수 있도록 하는 디스플레이 기판 세정용 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning device, and more particularly, to a nozzle disposed in a nozzle head unit as well as enabling smooth cleaning of a display substrate by the cleaning effect of nanobubbles by spraying a cleaning solution containing nanobubbles. The present invention relates to a cleaning device for cleaning a display substrate, in which the distance between a nozzle and a display substrate is minimized by minimizing the distance between a nozzle and a display substrate so that the display substrate can be smoothly cleaned even through spraying of a medium-pressure cleaning solution having a lower pressure than before.

일련의 공정에 의해 제조되는 디스플레이 기판의 표면에는 이물질 및 파티클이 잔존할 수 있으므로 이에 의해 품질 저하가 발생할 수 있다.Since foreign substances and particles may remain on the surface of the display substrate manufactured through a series of processes, quality degradation may occur.

이러한 이유로 해당 분야에서는 제조 완료된 디스플레이 기판을 대한민국 공개특허공보 제10-2013-0132057호 등에 개시된 바와 같은 각종의 '세정장치'를 통해 세정하여 표면에 잔존하는 이물질 및 파티클을 제거하고 있다.For this reason, in the field, foreign substances and particles remaining on the surface are removed by cleaning the manufactured display substrate through various 'cleaning devices' as disclosed in Korean Patent Publication No. 10-2013-0132057 and the like.

이때, 세정장치는 노즐 헤드 유닛을 포함하는바, 노즐 헤드 유닛에 의한 고압의 세정액 분사를 통해 디스플레이 기판 표면을 세정할 수 있으므로 이에 의해 디스플레이 기판 표면에 잔존하는 이물질 및 파티클을 제거가 이루어질 수 있다.At this time, since the cleaning device includes a nozzle head unit, the surface of the display substrate can be cleaned through high-pressure cleaning liquid injection by the nozzle head unit, thereby removing foreign substances and particles remaining on the surface of the display substrate.

그러나 종래 디스플레이 기판 세정장치는 단순히 세정액을 고압 분사하는 것이었던바, 박테리아 등의 미생물을 포함하는 유기성 파티클의 완전 제거가 쉽지 않아 유기성 파티클 잔존으로 인하여 디스플레이 기판의 품질이 저하되는 문제가 있었다.However, since conventional display substrate cleaning devices simply spray cleaning liquid at high pressure, it is not easy to completely remove organic particles including microorganisms such as bacteria, and thus the quality of the display substrate deteriorates due to the remaining organic particles.

또한, 종래 디스플레이 기판 세정장치는 세정액을 분사하는 노즐 헤드 유닛은 노즐 사이 간격이 상당(예컨대 80mm)함에 따라 노즐과 디스플레이 기판 사이 간격이 상당(예컨대 55mm)할 수밖에 없었던바, 세정액의 분사압을 상대적으로 높은 수준(예컨대 100kg/㎠)으로 유지해야만 디스플레이 기판의 세정이 원활할 수 있었으므로 자칫 고압의 세정액 분사에 의해 디스플레이 기판의 유기막 패턴 등이 손상되는 문제가 있었고, 노즐 간의 분사 중첩부분의 분사각이 일정하게 유지되지 못하여 기판에 줄무늬성 얼룩이 발생하는 불량으로 이어지는 문제가 있었다.In addition, in the conventional display substrate cleaning apparatus, the nozzle head unit spraying the cleaning liquid has a considerable distance between the nozzles (eg, 80 mm), so that the distance between the nozzle and the display substrate must be considerable (eg, 55 mm), so that the spray pressure of the cleaning liquid is relatively Since the cleaning of the display substrate could be smooth only when maintained at a high level (eg, 100 kg / cm 2), there was a problem that the organic film pattern of the display substrate was damaged due to the spraying of the high-pressure cleaning solution, and the division of the spray overlapping part between the nozzles There was a problem leading to defects in which stripe-like stains were generated on the board because the squares could not be kept constant.

상기의 이유로 해당 분야에서는 제조 완료된 디스플레이 기판에 잔존하는 유기성 파티클 등의 세정이 원활할 수 있도록 할 뿐만 아니라 노즐 헤드 유닛의 노즐과 디스플레이 기판 사이의 간격이 최소화되어 이전에 비해 압력이 낮은 중압의 세정액 분사를 통해서도 디스플레이 기판의 세정이 원활할 수 있도록 하는 디스플레이 기판 세정용 세정장치의 개발을 시도하고 있으나, 현재까지는 만족할만한 결과를 얻지 못하고 있는 실정이다.For the above reasons, in this field, not only can the organic particles remaining on the manufactured display substrate be cleaned smoothly, but also the distance between the nozzle of the nozzle head unit and the display substrate is minimized, so that the medium-pressure cleaning solution is sprayed at a lower pressure than before. Attempts are made to develop a cleaning device for cleaning a display substrate through which the cleaning of the display substrate can be smoothly performed, but satisfactory results have not been obtained so far.

대한민국 공개특허공보 제10-2013-0132057호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2013-0132057

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해소하기 위하여 제안된 것으로, 나노버블이 함유된 세정액의 분사가 이루어짐으로써 나노버블의 세정 효과에 의해 디스플레이 기판의 세정이 원활할 수 있도록 할 뿐만 아니라 노즐 헤드 유닛에 배치되는 노즐 간의 간격이 최소화됨으로써 노즐과 디스플레이 기판 사이의 간격이 최소화되어 이전에 비해 압력이 낮은 중압의 세정액 분사를 통해서도 디스플레이 기판의 세정이 원활할 수 있도록 하는 디스플레이 기판 세정용 세정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been proposed to solve the problems of the prior art as described above, and by spraying a cleaning solution containing nanobubbles, not only can the cleaning of the display substrate be smoothly performed by the cleaning effect of the nanobubbles, but also the nozzle head The distance between the nozzles disposed in the unit is minimized, thereby minimizing the distance between the nozzle and the display substrate, thereby providing a cleaning device for cleaning the display substrate so that the display substrate can be cleaned smoothly even through spraying a medium-pressure cleaning solution with a lower pressure than before. But it has a purpose.

또한, 본 발명은, 나노버블이 함유된 세정액을 분사하되, 특히 평균 입자경 1㎛ 이하의 나노버블이 함유된 세정액을 분사함으로써 디스플레이 기판의 고해상도로 인하여 10㎛ 이하의 간격으로 형성되는 패턴 사이에 잔존하는 파티클의 제거가 원활할 수 있도록 하는 디스플레이 기판 세정용 세정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.In addition, the present invention sprays a cleaning solution containing nanobubbles, and in particular sprays a cleaning solution containing nanobubbles having an average particle diameter of 1 μm or less, thereby remaining between patterns formed at intervals of 10 μm or less due to the high resolution of the display substrate. An object of the present invention is to provide a cleaning device for cleaning a display substrate that enables smooth removal of particles.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,In order to achieve the above object, the present invention,

저장조를 통해 세정액을 저장하는 세정액 저장부; 벤츄리믹서를 통해 상기 세정액 저장부로부터 유입되는 상기 세정액에 가스를 혼합하는 가스 혼합부; 펌프를 통해 상기 가스 혼합부로부터 유입되는 가스가 혼합된 상기 세정액을 사전 설정된 압력으로 펌핑하는 세정액 펌핑부; 버블생성기를 통해 상기 세정액 펌핑부로부터 유입되는 가스가 혼합된 상기 세정액에 나노버블을 생성하는 버블 생성부; 적어도 하나의 필터를 통해 상기 버블 생성부로부터 유입되는 가스가 혼합된 상기 세정액을 필터링하여 이물질을 제거하는 세정액 필터링부; 및 노즐 헤드 유닛에 배치된 복수 개의 노즐 각각을 통해 상기 세정액 필터링부로부터 유입되는 나노버블이 생성된 상기 세정액을 디스플레이 기판 표면으로 분사하는 세정액 분사부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판 세정용 세정장치를 제안한다.Washing liquid storage unit for storing the cleaning liquid through the storage tank; a gas mixing unit mixing a gas with the cleaning liquid introduced from the cleaning liquid storage unit through a venturi mixer; a washing liquid pumping unit for pumping the washing liquid mixed with the gas introduced from the gas mixing unit through a pump to a preset pressure; a bubble generating unit generating nanobubbles in the cleaning liquid mixed with the gas introduced from the cleaning liquid pumping unit through a bubble generator; a washing liquid filtering unit filtering the washing liquid mixed with the gas introduced from the bubble generating unit through at least one filter to remove foreign substances; and a cleaning liquid spraying unit configured to spray the cleaning liquid, in which nano bubbles are generated, flowing from the cleaning liquid filtering unit through each of a plurality of nozzles disposed in the nozzle head unit onto the surface of the display substrate. suggest a device.

상기 벤츄리믹서는. 길이 방향 일단 및 타단에 각각 연결되는 배관에 비해 작은 직경의 유로를 형성하는 관체; 상기 관체에 결합되어 상기 유로 내측으로 유입된 선단의 분출구를 통해 가스저장조로부터 공급되는 가스를 분출하는 가스분출부재; 및 상기 관체 일부의 외면과 상기 가스분출부재 일부의 외면을 감싸 상기 관체 상에 상기 가스분출부재를 고정하는 고정부재;를 포함한다.The venturi mixer. A tube body forming a flow path of a smaller diameter than the pipe connected to one end and the other end in the longitudinal direction, respectively; a gas ejection member that is coupled to the tubular body and ejects gas supplied from the gas storage tank through an ejection port at a tip of the passage introduced into the passage; and a fixing member for fixing the gas ejection member on the pipe body by covering an outer surface of a part of the tubular body and an outer surface of a part of the gas ejection member.

상기 펌프는 가스가 혼합된 상기 세정액을 사전 설정된 압력으로 펌핑하되, 15kg/㎠~35kg/㎠의 압력으로 펌핑할 수 있다.The pump pumps the cleaning liquid mixed with gas at a preset pressure, but may pump at a pressure of 15 kg/cm 2 to 35 kg/cm 2 .

상기 버블생성기는, 가스가 혼합된 상기 세정액이 통과하는 유로가 형성된 몸체; 및 상기 몸체의 상기 유로 상에 배치되어 가스가 혼합된 상기 세정액 유입 방향으로부터 유출 방향으로 향하며 점차로 직경이 좁아지는 미세유로를 형성하는 미세유로형성부재;를 포함한다.The bubble generator may include a body formed with a flow path through which the washing liquid mixed with gas passes; and a micro-channel forming member disposed on the flow path of the body to form a micro-channel having a diameter gradually narrowing from an inflow direction to an outflow direction of the mixed cleaning liquid.

상기 미세유로는 가스가 혼합된 상기 세정액이 상기 몸체의 내벽면에 충돌하도록 가스가 혼합된 상기 세정액 유입 방향으로부터 유출 방향으로 향하며 점차로 상기 몸체 내벽면에 인접하게 형성될 수 있다.The microchannel may be formed gradually adjacent to the inner wall surface of the body in a direction from an inflow direction of the gas-mixed washing liquid to an outflow direction so that the gas-mixed washing liquid collides with the inner wall surface of the body.

상기 노즐 헤드 유닛은, 내측의 수용공간을 통해 외부로 노출되는 일 면의 유입구로부터 유입되는 나노버블이 생성된 상기 세정액을 수용하는 커버블럭; 및 상기 커버블럭 하부에 결합되어 상기 수용공간의 개방을 차단하는 것으로서, 상기 수용공간을 마주하는 일 면을 관통하는 분사구와 함께 일체로 형성되어 일정한 간격으로 나열되는 복수 개의 노즐 각각을 통해 그 하부에 배치되는 디스플레이 기판 표면으로 나노버블이 생성된 상기 세정액을 일정한 각도로 분사하는 노즐블럭;을 포함한다.The nozzle head unit may include a cover block for accommodating the cleaning liquid in which nano bubbles are generated, introduced from an inlet on one surface exposed to the outside through an inner accommodating space; And coupled to the lower part of the cover block to block the opening of the accommodating space, through each of a plurality of nozzles formed integrally with a spray hole penetrating one surface facing the accommodating space and arranged at regular intervals to the lower portion thereof. and a nozzle block spraying the nanobubble-generated cleaning liquid at a predetermined angle to the surface of the display substrate on which it is placed.

상기 노즐은, 어느 하나의 중심으로부터 다른 하나의 중심에 이르는 간격이 7-9mm이고, 그 선단으로부터 상기 디스플레이 기판에 이르는 간격이 8-10mm임에 따라 어느 하나를 통해 일정한 각도로 분사되는 나노버블이 생성된 상기 세정액이 이에 인접하는 다른 하나 및 다른 하나에 인접하는 또 다른 하나를 통해 일정한 각도로 분사되는 나노버블이 생성된 상기 세정액과 중첩된다.As the nozzle has a distance of 7-9 mm from one center to the other center and a distance of 8-10 mm from the tip to the display substrate, the nanobubbles sprayed at a constant angle through any one of the nozzles Nanobubbles in which the generated washing liquid is sprayed at a certain angle through one adjacent to the other and another adjacent to the other are overlapped with the generated washing liquid.

상기 노즐블럭은 상기 디스플레이 기판을 마주하는 일 면에 상기 노즐을 사이에 두고 길이 방향으로 이어지게 형성되는 돌출턱을 포함한다.The nozzle block includes a protruding jaw formed on one surface facing the display substrate and extending in a longitudinal direction with the nozzle interposed therebetween.

본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치는, 가스 혼합부 및 버블 생성부를 포함하는바, 가스 혼합부에 의해 세정액에 가스가 혼합되고, 버블 생성부에 의해 세정액에 나노버블이 생성되는바, 세정액 분사부의 노즐 헤드 유닛에 배치되는 각 노즐을 통해 디스플레이 기판 표면으로 나노버블이 생성된 세정액의 분사가 이루어질 수 있으므로 세정액 자체의 세정 효과 및 나노버블의 세정 효과로 인하여 디스플레이 기판 표면으로 유기성 파티클 등의 불순물 제거가 원활할 수 있다.The cleaning apparatus for cleaning a display substrate according to the present invention includes a gas mixing unit and a bubble generating unit, in which gas is mixed with the cleaning liquid by the gas mixing unit and nanobubbles are generated in the cleaning liquid by the bubble generating unit. Since the cleaning solution in which nanobubbles are generated can be sprayed to the surface of the display substrate through each nozzle disposed in the nozzle head unit of the spraying unit, impurities such as organic particles are removed from the surface of the display substrate due to the cleaning effect of the cleaning solution itself and the cleaning effect of the nanobubbles. Removal can be smooth.

또한, 본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치는, 세정액 분사부의 노즐 헤드 유닛에 마련되는 노즐이 노즐블럭에 일체로 형성되는바, 노즐의 별도 결합으로 인한 공구 삽입 공간 확보가 불필요하므로 노즐 간의 간격이 최소화될 수 있어 이에 의해 노즐과 디스플레이 기판 사이 간격 또한 최소화될 수 있으므로 이전에 비해 압력이 낮은 중압의 세정액 분사를 통해서도 디스플레이 기판의 세정이 원활할 수 있다.In addition, in the cleaning apparatus for cleaning the display substrate according to the present invention, since the nozzles provided in the nozzle head unit of the cleaning solution injection unit are integrally formed with the nozzle block, it is unnecessary to secure a tool insertion space due to separate coupling of the nozzles, so that the interval between the nozzles is unnecessary. Since the distance between the nozzle and the display substrate can also be minimized, the cleaning of the display substrate can be smoothly performed even through the spraying of the cleaning liquid at a lower pressure than before.

또한, 본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치는, 세정액 분사부의 노즐 헤드 유닛에 마련되는 노즐이 노즐블럭에 일체로 형성되는바, 각 노즐과 디스플레이 기판 사이 간격이 균일할 수 있으므로 세정액 분사를 통한 디스플레이 기판의 세정이 더욱 원활할 수 있다.In addition, in the cleaning apparatus for cleaning the display substrate according to the present invention, the nozzles provided in the nozzle head unit of the cleaning liquid injection unit are integrally formed in the nozzle block, so that the interval between each nozzle and the display substrate can be uniform, so that the cleaning liquid spraying Cleaning of the display substrate may be smoother.

도 1은 본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치의 구조를 설명하기 위한 전체 개략도이다.
도 2는 본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치에서 가스 혼합부의 벤츄리믹서 구조를 설명하기 위한 단면도이다.
도 3은 본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치에서 버블 생성부의 버블생성기 구조를 설명하기 위한 단면도이다.
도 4는 본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치에서 버블 생성부의 버블생성기 구조를 설명하기 위한 다른 방향 단면도이다.
도 5는 본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치에서 세정액 분사부의 노즐 헤드 유닛 외형을 보인 사시도이다.
도 6은 본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치에서 세정액 분사부의 노즐 헤드 유닛 외형을 보인 다른 방향 사시도이다.
도 7은 본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치에서 세정액 분사부의 노즐 헤드 유닛 내부 구조를 보인 단면도이다.
도 8은 본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치의 노즐 헤드 유닛에서의 세정액 분사를 통한 디스플레이 기판 세정을 보인 예시도이다.
도 9는 본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치의 노즐 헤드 유닛에서 돌출턱에 의한 노즐 보호를 보인 예시도이다.
도 10은 본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치의 노즐 헤드 유닛에서 거름부재를 통한 이물질 거름을 보인 예시도이다.1 is an overall schematic diagram for explaining the structure of a cleaning apparatus for cleaning a display substrate according to the present invention.
2 is a cross-sectional view for explaining the structure of a venturi mixer of a gas mixing unit in a cleaning apparatus for cleaning a display substrate according to the present invention.
3 is a cross-sectional view for explaining the structure of a bubble generator of a bubble generator in a cleaning apparatus for cleaning a display substrate according to the present invention.
4 is a cross-sectional view in another direction for explaining the structure of the bubble generator of the bubble generator in the cleaning apparatus for cleaning the display substrate according to the present invention.
5 is a perspective view showing an external appearance of a nozzle head unit of a cleaning solution spraying unit in a cleaning apparatus for cleaning a display substrate according to the present invention.
6 is a perspective view showing an external appearance of a nozzle head unit of a cleaning liquid injection unit in a cleaning apparatus for cleaning a display substrate according to the present invention.
7 is a cross-sectional view showing the internal structure of the nozzle head unit of the cleaning liquid injection unit in the cleaning apparatus for cleaning the display substrate according to the present invention.
8 is an exemplary diagram showing cleaning of a display substrate through spraying of a cleaning liquid from a nozzle head unit of a cleaning apparatus for cleaning a display substrate according to the present invention.
9 is an exemplary view showing nozzle protection by protruding jaws in a nozzle head unit of a cleaning device for cleaning a display substrate according to the present invention.
10 is an exemplary diagram showing the filtering of foreign substances through a filtering member in the nozzle head unit of the cleaning device for cleaning the display substrate according to the present invention.

이하, 첨부 도면에 의거 본 발명에 대하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on the accompanying drawings.

도 1에 도시된 바와 같이 본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치(A)는, 세정액 저장부(100); 가스 혼합부(200); 세정액 펌핑부(300); 버블 생성부(500); 세정액 필터링부(400); 및 세정액 분사부(600);를 포함한다.As shown in FIG. 1, a cleaning apparatus (A) for cleaning a display substrate according to the present invention includes a cleaning liquid storage unit 100; a gas mixing unit 200; Washing liquid pumping unit 300; a bubble generating unit 500; a washing liquid filtering unit 400; and a washing liquid injection unit 600.

본 발명의 세정액 저장부(100)는 저장조(110)를 통해 세정액(W)을 저장한다.The cleaning liquid storage unit 100 of the present invention stores the cleaning liquid W through the storage tank 110 .

이때, 저장조(110)는 유입구(도면부호 미표시) 및 유출구(도면부호 미표시)를 포함함으로써 유입구를 통해 외부로부터 내부로 세정액(W)의 유입이 이루어질 수 있고, 유출구를 통해 네부로부터 외부로 세정액(W)의 유출이 이루어질 수 있다.At this time, the storage tank 110 includes an inlet (reference numerals not shown) and an outlet (reference numerals not shown), so that the washing liquid W can be introduced from the outside to the inside through the inlet, and the washing liquid (W) from the four parts to the outside through the outlet ( An outflow of W) can be made.

그리고 유출구에 연결되는 배관(도면부호 미표시) 상에는 밸브(120)가 마련됨으로써 밸브(120) 개폐에 의해 세정액(W)의 유출이 단속될 수 있다.In addition, since a valve 120 is provided on a pipe (not shown) connected to the outlet, the outflow of the washing liquid W can be controlled by opening and closing the valve 120 .

한편, 저장조(110)에 저장되는 세정액(W)은, 초순수(DIW : De-Ionized Water)임으로써 자체에 의해 세정력이 발휘될 수 있다.On the other hand, since the cleaning liquid W stored in the storage tank 110 is ultrapure water (DIW: De-Ionized Water), cleaning power can be exerted by itself.

본 발명의 가스 혼합부(200)는 벤츄리믹서(210)를 통해 세정액 저장부(100)로부터 유입되는 세정액(W)에 가스를 혼합한다.The gas mixing unit 200 of the present invention mixes the gas with the cleaning liquid W introduced from the cleaning liquid storage unit 100 through the venturi mixer 210 .

이때, 벤츄리믹서(210)는. 길이 방향 일단 및 타단에 각각 연결되는 배관에 비해 작은 직경의 유로(211a)를 형성하는 관체(211); 관체(211)에 결합되어 유로(211a) 내측으로 유입된 선단의 분출구(212a)를 통해 가스저장조(214)로부터 공급되는 가스를 분출하는 가스분출부재(212); 및 관체(211) 일부의 외면과 가스분출부재(212) 일부의 외면을 감싸 관체(211) 상에 가스분출부재(212)를 고정하는 고정부재(213);를 포함함으로써 가스분출부재(212)의 분출구(212a)를 통해 분출되는 가스가 관체(211)의 유로(211a)를 따라 유동하는 세정액(W)에 미침에 따라 가스와 세정액(W)의 혼합이 이루어질 수 있다.At this time, the venturi mixer 210. A pipe body 211 forming a flow path 211a having a smaller diameter than the pipe connected to one end and the other end in the longitudinal direction, respectively; a gas ejection member 212 coupled to the tube body 211 and ejecting gas supplied from the gas storage tank 214 through the ejection port 212a at the tip of the flow passage 211a; And a fixing member 213 for fixing the gas ejection member 212 on the pipe body 211 by covering the outer surface of a part of the tube body 211 and the outer surface of a part of the gas ejection member 212; the gas ejection member 212 by including As the gas ejected through the outlet 212a of the pipe body 211 reaches the washing liquid W flowing along the flow path 211a of the pipe body 211, the gas and the washing liquid W may be mixed.

여기서, 분출구(212a)는 관체(211)의 유로(211a)와 평행하게 형성됨으로써 유로(211a) 내에서 가스 흐름이 세정액(W)의 흐름과 동일한 방향으로 진행될 수 있다.Here, the outlet 212a is formed parallel to the passage 211a of the pipe body 211, so that the flow of gas can proceed in the same direction as the flow of the cleaning liquid W in the passage 211a.

한편, 가스저장조(214)로부터 공급되는 기체는 이산화탄소(CO2)일 수 있다.Meanwhile, the gas supplied from the gas storage tank 214 may be carbon dioxide (CO2).

그리고 가스저장조(214)와 가스분출부재(212) 사이에는 배관이 연결됨으로써 배관에 의해 가스의 공급이 이루어질 수 있다.In addition, since a pipe is connected between the gas storage tank 214 and the gas ejection member 212, gas can be supplied through the pipe.

그리고 가스저장조(214)와 가스분출부재(212) 사이의 배관 상에는 밸브(214a)가 마련됨으로써 밸브(214a) 개폐에 의해 가스 공급이 단속될 수 있다.In addition, since a valve 214a is provided on a pipe between the gas storage tank 214 and the gas ejection member 212, gas supply can be interrupted by opening and closing the valve 214a.

본 발명의 세정액 펌핑부(300)는 펌프(310)를 통해 가스 혼합부(200)로부터 유입되는 가스가 혼합된 세정액(W)을 사전 설정된 압력으로 펌핑한다.The washing liquid pumping unit 300 of the present invention pumps the washing liquid W, in which gases are mixed, introduced from the gas mixing unit 200 through the pump 310 at a preset pressure.

이때, 펌프(310)는, 가스가 혼합된 세정액(W)을 사전 설정된 압력으로 펌핑하되, 15kg/㎠~35kg/㎠의 압력으로 펌핑함으로써 이후 구간의 세정액 분사부(600)에서 나노버블이 생성된 세정액(W)이 15kg/㎠~35kg/㎠의 압력으로 디스플레이 기판(10) 표면에 분사될 수 있다.At this time, the pump 310 pumps the cleaning liquid W mixed with gas at a preset pressure, but pumps at a pressure of 15 kg/cm 2 to 35 kg/cm 2 to generate nanobubbles in the cleaning liquid injection unit 600 in the next section. The cleaning liquid (W) may be sprayed on the surface of the display substrate 10 at a pressure of 15 kg/cm 2 to 35 kg/cm 2 .

한편, 펌프(310)는 세정액(W)을 사전 설정된 압력으로 펌핑할 수 있는 것이라면 통상의 어떠한 구조 및 방식의 것이어도 무방한바, 펌프(310)에 관한 상세한 설명은 생략한다.Meanwhile, as long as the pump 310 can pump the cleaning liquid W at a preset pressure, it may have any conventional structure and method, and thus a detailed description of the pump 310 will be omitted.

본 발명의 버블 생성부(500)는 버블생성기(510)를 통해 세정액 펌핑부(300)로부터 유입되는 가스가 혼합된 세정액(W)에 나노버블을 생성한다.The bubble generating unit 500 of the present invention generates nanobubbles in the cleaning liquid W mixed with gas introduced from the cleaning liquid pumping unit 300 through the bubble generator 510 .

이때, 버블생성기(510)는, 가스가 혼합된 세정액(W)이 통과하는 유로(511a)가 형성된 몸체(511); 및 몸체(511)의 유로(511a) 상에 배치되어 가스가 혼합된 세정액(W) 유입 방향으로부터 유출 방향으로 향하며 점차로 직경이 좁아지는 미세유로(512a)를 형성하는 미세유로형성부재(512);를 포함함으로써 몸체(511)로 유입된 가스가 혼합된 세정액(W)이 미세유로형성부재(512)를 통과하며 몸체(511) 내벽면에 충돌할 때의 전단 저항 발생에 의해 유속의 변화가 이루어짐에 따라 가스가 혼합된 세정액(W)에 포함된 기포가 미세화될 수 있어 이에 의해 나노버블이 형성될 수 있다. At this time, the bubble generator 510 includes a body 511 having a flow path 511a through which the cleaning liquid W in which the gas is mixed passes; and a micro-channel forming member 512 disposed on the flow path 511a of the body 511 to form a micro-channel 512a having a diameter gradually narrowing from an inflow direction to an outflow direction of the gas-mixed cleaning liquid W; By including the shear resistance generated when the washing liquid (W) mixed with the gas flowing into the body 511 passes through the micro-channel forming member 512 and collides with the inner wall surface of the body 511, so that the flow rate is changed. According to this, bubbles included in the cleaning liquid W in which the gas is mixed can be made fine, thereby forming nanobubbles.

여기서, 미세유로(211a)는 가스가 혼합된 세정액(W)의 유입 방향으로부터 유출 방향으로 향하며 점차로 몸체(511) 내벽면에 인접하게 형성됨으로써 가스가 혼합된 세정액(W)이 몸체(511)의 내벽면에 자연스럽게 충돌할 수 있다.Here, the microchannel 211a is directed from the inflow direction to the outflow direction of the gas-mixed cleaning liquid W and is gradually formed adjacent to the inner wall surface of the body 511 so that the gas-mixed cleaning liquid W flows through the body 511. It can naturally collide with the inner wall surface.

그리고 미세유로형성부재(512) 외체(512b)와 내체(512c)로 이루어지되, 외체(512b)의 내면에는 요철구간(512d)이 형성됨으로써 요철구간(512d)에 세정액(W)이 접촉함에 따라 마찰 및 충돌이 보다 연속적으로 일어날 수 있다.In addition, the micro-channel forming member 512 is composed of an outer body 512b and an inner body 512c, and an uneven section 512d is formed on the inner surface of the outer body 512b so that the cleaning solution W contacts the uneven section 512d. Friction and collision can occur more continuously.

버블생성기(510)에 의해 생성되는 나노버블은 평균 입자경이 0.165㎛임으로써 이후 구간의 세정액 분사부(600)를 통해 나노버블이 생성된 세정액(W)이 분사될 때 나노버블 파열에 의한 충격파 발생 등으로 살균 및 세정력 향상이 이루어질 수 있다.Since the nanobubbles generated by the bubble generator 510 have an average particle diameter of 0.165 μm, shock waves are generated by nanobubble rupture when the nanobubble-generated cleaning solution W is sprayed through the cleaning solution ejection unit 600 in the next section. Sterilization and cleaning power can be improved by the like.

본 발명의 세정액 필터링부(400)는 적어도 하나의 필터(410)를 통해 버블 생성부(500)로부터 유입되는 나노버블이 생성된 세정액(W)을 필터링하여 이물질을 제거한다.The cleaning liquid filtering unit 400 of the present invention filters the cleaning liquid W in which nano bubbles are generated flowing from the bubble generating unit 500 through at least one filter 410 to remove foreign substances.

이때, 필터(410)는 나노버블이 생성된 세정액(W)에 포함된 이물질의 제거가 원활히 이루어질 수 있도록 하는 것이라면 통상의 어떠한 종류의 것이어도 무방한바, 필터(410)에 관한 상세한 설명은 생략한다.At this time, the filter 410 may be any type of conventional filter 410 as long as it facilitates the removal of foreign substances included in the cleaning liquid W in which nanobubbles are generated, and thus a detailed description of the filter 410 will be omitted. .

본 발명의 세정액 분사부(600)는 노즐 헤드 유닛(610)에 배치된 복수 개의 노즐(612a) 각각을 통해 세정액 필터링부(400)로부터 유입되는 나노버블이 생성된 세정액(W)을 디스플레이 기판(10) 표면으로 분사한다.The cleaning liquid spraying unit 600 of the present invention sprays the cleaning liquid W, in which nano bubbles are generated, flowing from the cleaning liquid filtering unit 400 through each of the plurality of nozzles 612a disposed on the nozzle head unit 610 to the display substrate ( 10) Spray to the surface.

이때, 노즐 헤드 유닛(610)은, 도 5 내지 도 7에 도시된 바와 같이 내측의 수용공간(611b)을 통해 외부로 노출되는 일 면의 유입구(611a)로부터 유입되는 나노버블이 생성된 세정액(W)을 수용하는 커버블럭(611); 및 커버블럭(611) 하부에 결합되어 수용공간(611b)의 개방을 차단하는 것으로서, 수용공간(611b)을 마주하는 일 면을 관통하는 분사구(612b)와 함께 일체로 형성되어 일정한 간격으로 나열되는 복수 개의 노즐(612a) 각각을 통해 그 하부에 배치되는 디스플레이 기판(10) 표면으로 나노버블이 생성된 세정액(W)을 일정한 각도로 분사하는 노즐블럭(612);을 포함함으로써 커버블록의 수용공간(611b) 내에 수용되는 나노버블이 생성된 세정액(W)이 노즐블럭(612)의 노즐(612a)에 형성된 분사구(612b)를 통해 디스플레이 기판(10) 표면으로 분사됨에 따라 디스플레이 기판(10)의 세정이 이루어질 수 있다.At this time, the nozzle head unit 610, as shown in FIGS. 5 to 7, is a cleaning liquid in which nanobubbles are generated ( a cover block 611 accommodating W); And coupled to the lower part of the cover block 611 to block the opening of the accommodating space 611b, formed integrally with the nozzle 612b passing through one surface facing the accommodating space 611b and arranged at regular intervals A nozzle block 612 spraying the cleaning liquid W, in which nano bubbles are generated, at a predetermined angle to the surface of the display substrate 10 disposed below the nozzle block 612 through each of the plurality of nozzles 612a; As the nanobubble-generated cleaning solution (W) accommodated in (611b) is sprayed to the surface of the display substrate 10 through the spray hole (612b) formed in the nozzle (612a) of the nozzle block (612), the display substrate (10) cleaning may take place.

이때 커버블럭(611)의 유입구(611a)는 복수 개로 마련됨으로써 각각을 통해 나노버블이 생성된 세정액(W)의 유입이 이루어질 수 있다.At this time, since the inlets 611a of the cover block 611 are provided in plural, the cleaning solution W in which nanobubbles are generated can be introduced through each of the inlets 611a.

그리고 커버블럭(611)의 가장자리에는 일정한 간격으로 볼트삽입구(611c)가 형성됨으로써 볼트삽입구(611c)에 의해 커버블럭(611) 가장자리를 따라 볼트(도면부호 미표시) 삽입이 이루어질 수 있다.In addition, since bolt insertion holes 611c are formed at regular intervals at the edge of the cover block 611, bolts (not shown) can be inserted along the edge of the cover block 611 by the bolt insertion holes 611c.

그리고 노즐블럭(612)의 노즐(612a)은, 어느 하나의 중심으로부터 다른 하나의 중심에 이르는 간격(D1)이 7-9mm이고, 그 선단으로부터 디스플레이 기판(10)에 이르는 간격이 8-10mm임에 따라 어느 하나를 통해 일정한 각도로 분사되는 나노버블이 생성된 세정액(W)이 이에 인접하는 다른 하나 및 다른 하나에 인접하는 또 다른 하나를 통해 일정한 각도로 분사되는 나노버블이 생성된 세정액(W)과 중첩될 수 있어 나노버블이 생성된 세정액(W) 분사를 통한 세정이 디스플레이 기판(10) 전 구간에서 빠짐없이 이루어질 수 있다.And the nozzle 612a of the nozzle block 612 has a distance D1 from one center to the other center of 7-9 mm, and a distance from the tip to the display substrate 10 of 8-10 mm. According to the cleaning liquid (W) generating nanobubbles sprayed at a constant angle through one of them, the cleaning liquid (W) generating nanobubbles sprayed at a constant angle through the other adjacent one and another adjacent one adjacent thereto. ), so that cleaning through spraying of the cleaning solution W in which nanobubbles are generated can be performed in all sections of the display substrate 10 without omission.

그리고 노즐(612a)은 선단에 일정한 깊이 및 각도로 형성되는 'V'홈(612c)을 포함함으로써 분사구(612b)를 통해 분사되는 나노버블이 생성된 세정액(W)이 'V'홈(612c)과 접촉함에 따라 일정한 각도로 분사될 수 있다.In addition, the nozzle 612a includes a 'V' groove 612c formed at a certain depth and angle at the tip, so that the nanobubble-generated cleaning liquid W sprayed through the spray hole 612b is formed in the 'V' groove 612c. As it comes in contact with, it can be sprayed at a certain angle.

그리고 노즐블럭(612)은 디스플레이 기판(10)을 마주하는 일 면에 노즐(612a)을 사이에 두고 길이 방향으로 이어지게 형성되는 돌출턱(612d)을 포함함으로써 돌출턱(612d)에 의해 노즐(612a)의 보호가 이루어질 수 있다.In addition, the nozzle block 612 includes a protruding protrusion 612d formed to be connected in the longitudinal direction with the nozzle 612a interposed therebetween on one surface facing the display substrate 10, so that the nozzle 612a is provided by the protruding protrusion 612d. ) can be protected.

이때, 돌출턱(612d)의 돌출 높이(H1)는 노즐블럭(612) 일 면으로부터 돌출되는 노즐(612a)의 돌출 높이(H2)에 비해 더 높게 형성됨으로써 특히 노즐블럭(612)이 낙하하거나 할 때 노즐(612a) 선단에 비해 돌출턱(612d) 선단이 먼저 바닥에 접촉하게 되므로 돌출턱(612d)에 의한 노즐(612a)의 보호가 안정적으로 이루어질 수 있다.At this time, the protruding height H1 of the protruding jaw 612d is formed higher than the protruding height H2 of the nozzle 612a protruding from one surface of the nozzle block 612, so that the nozzle block 612 may fall or fall. Since the front end of the protruding jaw 612d comes into contact with the floor first compared to the front end of the nozzle 612a, the nozzle 612a can be stably protected by the protruding jaw 612d.

그리고 노즐블럭(612)의 가장자리에는 일정한 간격으로 볼트체결구(612e)가 형성됨으로써 커버블럭(611)의 볼트삽입구(611c)를 통해 삽입되는 볼트(도면부호 미표시) 각각의 선단이 볼트체결구(612e)에 체결됨에 따라 커버블럭(611)과 노즐블럭(612)의 결합이 이루어질 수 있다.In addition, bolt fastening holes 612e are formed at regular intervals at the edge of the nozzle block 612, so that the tip of each bolt (not shown) inserted through the bolt insertion hole 611c of the cover block 611 is a bolt fastening hole ( As it is fastened to 612e), the cover block 611 and the nozzle block 612 can be coupled.

또한, 추가적으로 노즐 헤드 유닛(610)은, 씰링부재(613); 및 거름부재(614);를 더 포함한다.In addition, the nozzle head unit 610 additionally includes a sealing member 613; And a manure member 614; further includes.

본 발명의 씰링부재(613)는 커버블럭(611)과 노즐블럭(612) 간의 접촉 부위에 배치되어 나노버블이 생성된 세정액(W)의 누출을 방지한다.The sealing member 613 of the present invention is disposed at a contact area between the cover block 611 and the nozzle block 612 to prevent leakage of the cleaning solution W in which nano bubbles are generated.

따라서 씰링부재(613)에 의한 나노버블이 생성된 세정액(W)의 누출 방지에 의해 나노버블이 생성된 세정액(W)의 불필요한 소모가 방지될 수 있을 뿐만 아니라 나노버블이 생성된 세정액(W)의 누출로 인한 주변 오염 등이 방지될 수 있다.Therefore, unnecessary consumption of the nanobubble-generated cleaning liquid (W) can be prevented by preventing leakage of the nanobubble-generated cleaning liquid (W) by the sealing member 613, and the nano-bubble-generated cleaning liquid (W) Contamination of the surroundings due to leakage of the can be prevented.

이와 같은 씰링부재(613)는 커버블럭(611)과 노즐블럭(612) 간의 결합 부위를 통한 나노버블이 생성된 세정액(W)의 누출을 방지할 수 있는 것이라면 통상의 어떠한 종류의 것이어도 무방하며, 그 일례로는 고무링일 수 있다.The sealing member 613 may be any type of conventional sealing member 613 as long as it can prevent leakage of the cleaning solution W in which nano bubbles are generated through the joint between the cover block 611 and the nozzle block 612. , An example thereof may be a rubber ring.

이때, 씰링부재(613)는 커버블럭(611)과 노즐블럭(612) 간의 접촉 부위를 따라 형성되는 홈(도면부호 미표시) 내에 삽입 설치됨으로써 커버블럭(611) 및 노즐블럭(612) 상에서의 의도하지 않은 이탈이 방지될 수 있다.At this time, the sealing member 613 is inserted into a groove (reference numeral not shown) formed along the contact area between the cover block 611 and the nozzle block 612, so that the intention on the cover block 611 and the nozzle block 612 Undesirable departures can be prevented.

그리고 거름부재(614)는 커버블럭(611) 및 노즐블럭(612) 중의 어느 하나에 배치되어 나노버블이 생성된 세정액(W)에 포함된 이물질을 거른다.In addition, the filtering member 614 is disposed on any one of the cover block 611 and the nozzle block 612 to filter foreign substances included in the cleaning solution W in which nano bubbles are generated.

따라서 거름부재(614)에 의한 이물질 거름에 의해 이물질 유입으로 인한 노즐(612a)의 분사구(612b) 막힘이 방지될 수 있다.Therefore, clogging of the injection port 612b of the nozzle 612a due to the inflow of foreign substances by filtering foreign substances by the filtering member 614 can be prevented.

이와 같은 거름부재(614)는 노즐(612a)로의 나노버블이 생성된 세정액(W) 유입 이전 나노버블이 생성된 세정액(W)에 포함된 이물질을 거를 수 있는 것이라면 통상의 어떠한 종류의 것이어도 무방하며, 그 일례로는 미세 그물눈이 분포하는 망체일 수 있다.Such a filtering member 614 may be any kind of conventional filtering material that can filter foreign substances included in the cleaning liquid W in which nano bubbles are generated prior to inflow of the cleaning liquid W in which nano bubbles are generated into the nozzle 612a. It is free, and one example thereof may be a network in which fine meshes are distributed.

본 발명에 의한 디스플레이 기판 세정용 세정장치(A) 통한 디스플레이 기판(10) 세정에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.The detailed description of the cleaning of the display substrate 10 through the cleaning device A for cleaning the display substrate according to the present invention is as follows.

본 발명에서 디스플레이 기판(10) 세정에 필요한 세정액(W)은 세정액 저장부(100)의 저장조(110)에 저장된다.In the present invention, the cleaning liquid (W) required for cleaning the display substrate 10 is stored in the storage tank 110 of the cleaning liquid storage unit 100 .

이때, 저장조(110)는 유출구를 포함하는바, 유출구를 통해 세정액(W)의 유출이 이루어질 수 있다.At this time, since the storage tank 110 includes an outlet, the cleaning liquid W may flow through the outlet.

그리고 세정액 저장부(100)로부터 유출되는 세정액(W)은 가스 혼합부(200)에서 벤츄리믹서(210)에 의해 가스와 혼합된다.In addition, the cleaning liquid W flowing out from the cleaning liquid storage unit 100 is mixed with gas in the gas mixing unit 200 by the venturi mixer 210 .

이때, 벤츄리믹서(210)는, 도 2에 도시된 바와 같이 길이 방향 일단 및 타단에 각각 연결되는 배관에 비해 작은 직경의 유로(211a)를 형성하는 관체(211); 관체(211)에 결합되어 유로(211a) 내측으로 유입된 선단의 분출구(212a)를 통해 가스저장조(214)로부터 공급되는 가스를 분출하는 가스분출부재(212); 및 관체(211) 일부의 외면과 가스분출부재(212) 일부의 외면을 감싸 관체(211) 상에 가스분출부재(212)를 고정하는 고정부재(213);를 포함하는바, 가스분출부재(212)의 분출구(212a)를 통해 분출되는 가스가 관체(211)의 유로(211a)를 따라 유동하는 세정액(W)에 미침에 따라 가스와 세정액(W)의 혼합이 이루어질 수 있다.At this time, the venturi mixer 210, as shown in Figure 2, a pipe body 211 forming a flow path (211a) of a smaller diameter than the pipes connected to one end and the other end in the longitudinal direction, respectively; a gas ejection member 212 coupled to the tube body 211 and ejecting gas supplied from the gas storage tank 214 through the ejection port 212a at the tip of the flow passage 211a; And a fixing member 213 for fixing the gas ejection member 212 on the pipe body 211 by wrapping a part of the outer surface of the pipe body 211 and a part of the outer surface of the gas ejection member 212; a gas ejection member ( As the gas ejected through the outlet 212a of 212 reaches the washing liquid W flowing along the flow path 211a of the tube body 211, the gas and the washing liquid W may be mixed.

그리고 가스 혼합부(200)에서 가스와 혼합된 세정액(W)은 세정액 펌핑부(300)에서 펌프(310)에 의해 펌핑된다.The cleaning liquid W mixed with the gas in the gas mixing unit 200 is pumped by the pump 310 in the cleaning liquid pumping unit 300 .

이때, 세정액 펌핑부(300)의 펌프(310)는, 가스가 혼합된 세정액(W)을 사전 설정된 압력으로 펌핑하되, 15kg/㎠~35kg/㎠의 압력으로 펌핑함으로써 차후 세정액 분사부(600)에서 나노버블이 생성된 세정액(W)이 15kg/㎠~35kg/㎠의 압력으로 디스플레이 기판(10) 표면에 분사될 수 있다.At this time, the pump 310 of the washing liquid pumping unit 300 pumps the washing liquid W mixed with gas at a preset pressure, but pumps it at a pressure of 15 kg/cm 2 to 35 kg/cm 2 so that the washing liquid injection unit 600 The cleaning solution (W) in which nano bubbles are generated may be sprayed onto the surface of the display substrate 10 at a pressure of 15 kg/cm 2 to 35 kg/cm 2 .

그리고 세정액 펌핑부(300)에서 펌핑된 가스가 혼합된 세정액(W)은 버블 생성부(500)에서 버블생성기(510)에 의해 나노버블이 생성된다.In addition, the cleaning liquid W mixed with the gas pumped by the cleaning liquid pumping unit 300 generates nanobubbles by the bubble generator 510 in the bubble generating unit 500 .

이때, 버블생성기(510)는, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이 가스가 혼합된 세정액(W)이 통과하는 유로(511a)가 형성된 몸체(511); 및 몸체(511)의 유로(511a) 상에 배치되어 가스가 혼합된 세정액(W) 유입 방향으로부터 유출 방향으로 향하며 점차로 직경이 좁아지는 미세유로(512a)를 형성하는 미세유로형성부재(512);를 포함하는바, 몸체(511)로 유입된 가스가 혼합된 세정액(W)이 미세유로형성부재(512)를 통과하며 몸체(511) 내벽면에 충돌할 때의 전단 저항 발생에 의해 유속의 변화가 이루어짐에 따라 세가스가 혼합된 정액(W)에 포함된 기포가 미세화될 수 있어 이에 의해 나노버블이 형성될 수 있다.At this time, the bubble generator 510, as shown in Figs. 3 and 4, a body 511 formed with a flow path 511a through which the washing liquid (W) mixed with gas passes; and a micro-channel forming member 512 disposed on the flow path 511a of the body 511 to form a micro-channel 512a having a diameter gradually narrowing from an inflow direction to an outflow direction of the gas-mixed cleaning liquid W; Including, the change in flow rate due to the shear resistance generated when the washing liquid W introduced into the body 511 and mixed with the gas passes through the micro-channel forming member 512 and collides with the inner wall surface of the body 511. As this is done, bubbles contained in the semen W mixed with Segas can be refined, thereby forming nanobubbles.

그리고 버블 생성부(500)에서 나노버블이 생성된 세정액(W)은 세정액 필터링부(400)에서 필터(410)에 의해 이물질이 필터링된다.In addition, foreign substances are filtered out of the washing liquid W in which nano bubbles are generated in the bubble generating unit 500 by the filter 410 in the cleaning liquid filtering unit 400 .

그리고 세정액 필터링부(400) 이물질이 제거된 나노버블이 생성된 세정액(W)은 세정액 분사부(600)에서 노즐 헤드 유닛(610)에 의해 분사된다.In addition, the cleaning liquid W generated with nanobubbles from which foreign substances are removed from the cleaning liquid filtering unit 400 is sprayed from the cleaning liquid spraying unit 600 by the nozzle head unit 610 .

이때, 노즐 헤드 유닛(610)의 커버블럭(611)은, 일 면에 유입구(611a)가 형성되고, 내측에 유입구(611a)와 연통하는 수용공간(611b)이 형성되는바, 유입구(611a)를 통해 유입되는 나노버블이 생성된 세정액(W)이 수용공간(611b)에 수용될 수 있다.At this time, the cover block 611 of the nozzle head unit 610 has an inlet 611a formed on one surface, and an accommodation space 611b communicating with the inlet 611a is formed on the inside, so that the inlet 611a The cleaning solution W, in which nanobubbles are generated, flowing through may be accommodated in the accommodating space 611b.

그리고 본 발명의 노즐 헤드 유닛(610)에서 커버블럭(611) 하부에는 노즐(612a)이 일정한 간격으로 나열된 노즐블럭(612)이 결합되는바, 수용공간(611b)에 수용된 나노버블이 생성된 세정액(W)이 각 노즐(612a)을 통해 분사될 수 있다.In addition, in the nozzle head unit 610 of the present invention, a nozzle block 612 in which nozzles 612a are arranged at regular intervals is coupled to the lower part of the cover block 611, and the washing liquid containing nano bubbles contained in the accommodation space 611b is generated. (W) may be injected through each nozzle 612a.

한편, 노즐블럭(612) 하부에는 세정 대상 디스플레이 기판(10)이 배치되는바, 도 8에 도시된 바와 같이 노즐블럭(612)의 각 노즐(612a)을 통해 분사되는 나노버블이 생성된 세정액(W)이 디스플레이 기판(10)의 표면에 미치게 되므로 세정액(W) 자체의 세정 효과 및 나노버블이 갖는 세정 효과에 의해 디스플레이 기판(10) 표면의 세정이 원활하게 이루어질 수 있다.On the other hand, the display substrate 10 to be cleaned is disposed under the nozzle block 612, and as shown in FIG. Since W) reaches the surface of the display substrate 10, the surface of the display substrate 10 can be smoothly cleaned by the cleaning effect of the cleaning solution W itself and the cleaning effect of the nanobubbles.

즉, 나노버블은 붕괴, 다시 말해 파열 과정에서 독성이 없고 인체에 무해하며 강력한 산화력(오존 대비 약 2,000배), 살균력 및 소독력을 갖는 라디칼을 자연적으로 생성할 수 있으므로 이에 의해 세정력 및 살균력이 향상될 수 있어 디스플레이 기판(10) 표면의 세정이 원활하게 이루어질 수 있다.In other words, nanobubbles can naturally generate radicals that are nontoxic, harmless to the human body, and have strong oxidizing power (about 2,000 times that of ozone), sterilization and disinfection power in the process of collapse, that is, rupture, thereby improving cleaning and sterilizing power. Therefore, the surface of the display substrate 10 can be smoothly cleaned.

이때, 노즐 헤드 유닛(610)의 노즐(612a)은 노즐블럭(612)의 일 면에 분사구(612b)와 함께 일체로 형성되어 노즐블럭(612)에 노즐(612a)의 별도 결합이 불필요한바, 노즐(612a) 사이에 노즐(612a) 결합을 위한 공구 삽입 공간 확보가 불필요하여 노즐(612a) 사이 간격(D1)이 7-9mm일 수 있고, 이에 의해 노즐(612a) 선단으로부터 디스플레이 기판(10)에 이르는 간격(D2)이 8-10mm일 수 있어 어느 하나 노즐(612a)을 통해 일정한 각도로 분사되는 나노버블이 생성된 세정액(W)이 이에 인접하는 다른 하나 노즐(612a) 및 다른 하나 노즐(612a)에 인접하는 또 다른 하나 노즐(612a)을 통해 일정한 각도로 분사되는 나노버블이 생성된 세정액(W)과 중첩되므로 기존의 고압(100kg/㎠) 대비 30-40kg/㎠의 이전에 비해 압력이 낮은 중압의 세정액(W) 분사를 통해서도 디스플레이 기판(10)의 세정이 원활하게 이루어질 수 있다.At this time, the nozzle 612a of the nozzle head unit 610 is integrally formed with the nozzle 612b on one surface of the nozzle block 612, so that the nozzle 612a is not separately coupled to the nozzle block 612. Since it is not necessary to secure a tool insertion space for coupling the nozzles 612a between the nozzles 612a, the distance D1 between the nozzles 612a may be 7-9 mm, whereby the display substrate 10 is formed from the front end of the nozzle 612a. The interval D2 reaching may be 8-10 mm, so that the nanobubble-generated cleaning liquid W sprayed at a certain angle through one nozzle 612a is adjacent to the other nozzle 612a and the other nozzle ( 612a), the nanobubbles injected at a certain angle through another nozzle 612a adjacent to the nozzle 612a overlap with the generated cleaning liquid W, so that the pressure is 30-40kg/cm2 compared to the previous high pressure (100kg/cm2). The cleaning of the display substrate 10 can be performed smoothly even through the injection of the cleaning liquid W at a low and medium pressure.

여기서, 노즐(612a)로부터 분사되는 나노버블이 생성된 세정액(W)은 노즐(612a) 선단으로부터 디스플레이 기판(10)에 이르는 간격(D2)이 8-10mm임에 따라 분사 상태에서 미세 입자화 되기 이전 물막 상태를 유지하므로 물막 상태의 나노버블이 생성된 세정액(W) 분사에 의한 세정력 향상에 의해 디스플레이 기판(10)의 표면에 잔존하는 이물질 및 파티클의 제거가 원활할 수 있어 디스플레이 기판(10)의 세정이 더욱 원활하게 이루어질 수 있다.Here, the cleaning liquid W sprayed from the nozzle 612a and generated with nanobubbles becomes fine particles in the sprayed state according to the distance D2 from the front end of the nozzle 612a to the display substrate 10 of 8-10 mm. Since the previous water film state is maintained, the removal of foreign substances and particles remaining on the surface of the display substrate 10 can be smoothly performed by improving the cleaning power by spraying the cleaning solution (W) in which nano bubbles in the water film state are generated. cleaning can be performed more smoothly.

다만, 노즐(612a)의 분사구(612b)가 막히게 되면 해당 노즐(612a)을 통한 나노버블이 생성된 세정액(W)의 분사가 이루어질 수 없게 되므로 디스플레이 기판(10) 세정이 불량해질 수 있다.However, if the spray hole 612b of the nozzle 612a is clogged, spraying of the cleaning liquid W generated with nano bubbles through the nozzle 612a cannot be performed, and thus cleaning of the display substrate 10 may deteriorate.

그러나 본 발명의 노즐 헤드 유닛(610)은, 커버블럭(611) 및 노즐블럭(612) 중의 어느 하나에 배치되어 나노버블이 생성된 세정액(W)에 포함된 이물질을 거르는 거름부재(614)를 더 포함하는바, 도 10에 도시된 바와 같이 나노버블이 생성된 세정액(W)에 이물질이 포함될지라도 이는 거름부재(614)에 의해 걸러지게 되어 분사구(612b)로의 이물질 유입이 방지될 수 있으므로 이물질 유입으로 인한 분사구(612b) 막힘이 방지될 수 있어 나노버블이 생성된 세정액(W) 분사를 통한 디스플레이 기판(10)의 세정이 원활할 수 있다.However, the nozzle head unit 610 of the present invention includes a filtering member 614 disposed on any one of the cover block 611 and the nozzle block 612 to filter foreign substances included in the cleaning liquid W in which nano bubbles are generated. Further, as shown in FIG. 10, even if foreign substances are included in the cleaning liquid W in which nano bubbles are generated, they are filtered out by the filtering member 614, so that foreign substances can be prevented from entering the injection hole 612b. Clogging of the injection hole 612b due to the inflow can be prevented, so that the cleaning of the display substrate 10 can be smoothly performed through spraying of the cleaning solution W in which nano bubbles are generated.

또한, 외부로부터의 충격 등이 노즐(612a)에 미치게 되면 노즐(612a)이 손상될 수 있으므로 이에 의해 디스플레이 기판(10) 세정이 불량해질 수 있다.In addition, when an external impact or the like affects the nozzle 612a, the nozzle 612a may be damaged, and thus the cleaning of the display substrate 10 may be poor.

그러나 본 발명의 노즐 헤드 유닛(610)에서 노즐블럭(612)은 디스플레이 기판(10)을 마주하는 일 면에 노즐(612a)을 사이에 두고 길이 방향으로 이어지게 형성되는 돌출턱(612d)을 포함하는바, 돌출턱(612d)에 의해 노즐(612a)의 보호가 이루어질 수 있으므로 외부로부터 가해지는 충격 등으로 인한 노즐(612a)의 손상이 방지될 수 있어 디스플레이 기판(10)의 세정이 원활할 수 있다.However, in the nozzle head unit 610 of the present invention, the nozzle block 612 includes a protruding jaw 612d formed to extend in the longitudinal direction with the nozzle 612a interposed therebetween on one surface facing the display substrate 10. Since the nozzle 612a can be protected by the bar, the protruding jaw 612d, damage to the nozzle 612a due to impact applied from the outside can be prevented, so that the display substrate 10 can be cleaned smoothly. .

이때, 도 9에 도시된 바와 같이 돌출턱(612d)의 돌출 높이(H1)는 노즐블럭(612) 일 면으로부터 돌출되는 노즐(612a)의 돌출 높이(H2)에 비해 더 높게 형성되는바, 특히 노즐블럭(612)이 낙하하거나 할 때 노즐(612a) 선단에 비해 돌출턱(612d) 선단이 먼저 바닥에 접촉하게 되므로 돌출턱(612d)에 의한 노즐(612a)의 보호가 안정적으로 이루어질 수 있다.At this time, as shown in FIG. 9, the protruding height H1 of the protruding jaw 612d is higher than the protruding height H2 of the nozzle 612a protruding from one side of the nozzle block 612, particularly When the nozzle block 612 falls, since the tip of the protruding jaw 612d comes into contact with the floor first compared to the tip of the nozzle 612a, the nozzle 612a can be stably protected by the protruding jaw 612d.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하므로 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 변경 가능하며, 그와 같은 변경은 이하 청구범위 기재에 의하여 정의되는 본 발명의 보호범위 내에 있게 된다.Since the present invention as described above is not limited to the above-described embodiments, it can be modified within the scope not departing from the gist of the present invention claimed in the claims, and such changes are defined by the description of the claims below. fall within the protection scope of the invention.

10 : 디스플레이 기판 100 : 세정액 저장부
110 : 저장조 120 : 밸브
200 : 가스 혼합부 210 : 벤츄리믹서
211 : 관체 211a : 유로
212 : 가스분출부재 212a : 분출구
213 : 고정부재 214 : 가스저장조
214a : 밸브 300 : 세정액 펌핑부
310 : 펌프 400 : 세정액 필터링부
410 : 필터 500 : 버블 생성부
510 : 버블생성기 511 : 몸체
511a : 유로 512 : 미세유로형성부재
512 : 미세유로 512b : 외체
512c : 내체 512d : 요철구간
600 : 세정액 분사부 610 : 노즐 헤드 유닛
611 : 커버블럭 611a : 유입구
611b : 수용공간 611c : 볼틋삽입구
612 : 노즐블럭 612a : 노즐
612b : 분사구 612c : 'V'홈
612d : 돌출턱 612e : 볼트체결구
613 : 씰링부재 614 : 거름부재
A : 세정장치
D1 : 노즐 어느 하나의 중심으로부터 다른 하나의 중심에 이르는 간격
D2 : 노즐 선단으로부터 디스플레이 기판에 이르는 간격
H1 : 돌출턱의 돌출 높이
H2 : 노즐의 돌출 높이
W : 세정액10: display substrate 100: cleaning liquid storage unit
110: reservoir 120: valve
200: gas mixing unit 210: venturi mixer
211: pipe body 211a: euro
212: gas ejection member 212a: ejection port
213: fixing member 214: gas storage tank
214a: valve 300: washing liquid pumping unit
310: pump 400: washing liquid filtering unit
410: filter 500: bubble generating unit
510: bubble generator 511: body
511a: flow path 512: fine flow path forming member
512: micro flow path 512b: external body
512c: inner body 512d: uneven section
600: cleaning liquid injection unit 610: nozzle head unit
611: cover block 611a: inlet
611b: accommodation space 611c: ball tho insertion hole
612: nozzle block 612a: nozzle
612b: nozzle 612c: 'V' groove
612d: protruding jaw 612e: bolt fastener
613: sealing member 614: manure member
A: cleaning device
D1: Distance from the center of one nozzle to the center of the other
D2: Distance from the tip of the nozzle to the display substrate
H1: Protruding height of protruding jaw
H2: Nozzle projection height
W: washing liquid

Claims (8)

저장조를 통해 세정액을 저장하는 세정액 저장부;
벤츄리믹서를 통해 상기 세정액 저장부로부터 유입되는 상기 세정액에 가스를 혼합하는 가스 혼합부;
펌프를 통해 상기 가스 혼합부로부터 유입되는 가스가 혼합된 상기 세정액을 사전 설정된 압력으로 펌핑하는 세정액 펌핑부;
버블생성기를 통해 상기 세정액 펌핑부로부터 유입되는 가스가 혼합된 상기 세정액에 나노버블을 생성하는 버블 생성부;
적어도 하나의 필터를 통해 상기 버블 생성부로부터 유입되는 나노버블이 생성된 상기 세정액을 필터링하여 이물질을 제거하는 세정액 필터링부; 및
노즐 헤드 유닛에 배치된 복수 개의 노즐 각각을 통해 상기 세정액 필터링부로부터 유입되는 나노버블이 생성된 상기 세정액을 디스플레이 기판 표면으로 분사하는 세정액 분사부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판 세정용 세정장치.Washing liquid storage unit for storing the cleaning liquid through the storage tank;
a gas mixing unit mixing a gas with the cleaning liquid introduced from the cleaning liquid storage unit through a venturi mixer;
a washing liquid pumping unit for pumping the washing liquid mixed with the gas introduced from the gas mixing unit through a pump to a preset pressure;
a bubble generating unit generating nanobubbles in the cleaning liquid mixed with the gas introduced from the cleaning liquid pumping unit through a bubble generator;
a washing liquid filtering unit filtering the washing liquid in which nano bubbles are generated flowing from the bubble generating unit through at least one filter to remove foreign substances; and
A cleaning device for cleaning a display substrate comprising a; cleaning liquid spraying unit for spraying the cleaning liquid, in which nano bubbles are generated, flowing from the cleaning liquid filtering unit through each of a plurality of nozzles disposed in the nozzle head unit to the surface of the display substrate; . 제1항에 있어서,
상기 벤츄리믹서는. 길이 방향 일단 및 타단에 각각 연결되는 배관에 비해 작은 직경의 유로를 형성하는 관체; 상기 관체에 결합되어 상기 유로 내측으로 유입된 선단의 분출구를 통해 가스저장조로부터 공급되는 가스를 분출하는 가스분출부재; 및 상기 관체 일부의 외면과 상기 가스분출부재 일부의 외면을 감싸 상기 관체 상에 상기 가스분출부재를 고정하는 고정부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판 세정용 세정장치.According to claim 1,
The venturi mixer. A tube body forming a flow path of a smaller diameter than the pipe connected to one end and the other end in the longitudinal direction, respectively; a gas ejection member that is coupled to the tubular body and ejects gas supplied from the gas storage tank through an ejection port at a tip of the passage introduced into the passage; and a fixing member for fixing the gas ejection member on the tubular body by covering outer surfaces of a portion of the tubular body and a portion of the gas ejection member. 제1항에 있어서,
상기 펌프는 가스가 혼합된 상기 세정액을 사전 설정된 압력으로 펌핑하되, 15kg/㎠~35kg/㎠의 압력으로 펌핑하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판 세정용 세정장치.According to claim 1,
The pump is a cleaning device for cleaning a display substrate, characterized in that pumping the cleaning liquid mixed with gas at a preset pressure, but pumping at a pressure of 15 kg / cm 2 ~ 35 kg / cm 2. 제1항에 있어서,
상기 버블생성기는, 가스가 혼합된 상기 세정액이 통과하는 유로가 형성된 몸체; 및 상기 몸체의 상기 유로 상에 배치되어 가스가 혼합된 상기 세정액 유입 방향으로부터 유출 방향으로 향하며 점차로 직경이 좁아지는 미세유로를 형성하는 미세유로형성부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판 세정용 세정장치.According to claim 1,
The bubble generator may include a body formed with a flow path through which the washing liquid mixed with gas passes; and a micro-channel forming member disposed on the flow path of the body to form a micro-channel having a diameter gradually narrowing from an inflow direction to an outflow direction of the cleaning solution in which the gas is mixed. Device. 제4항에 있어서,
상기 미세유로는 가스가 혼합된 상기 세정액이 상기 몸체의 내벽면에 충돌하도록 가스가 혼합된 상기 세정액 유입 방향으로부터 유출 방향으로 향하며 점차로 상기 몸체 내벽면에 인접하게 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판 세정용 세정장치.According to claim 4,
The microchannel is for cleaning a display substrate, characterized in that the microchannel is formed gradually adjacent to the inner wall surface of the body from the inflow direction of the gas-mixed cleaning liquid to the outflow direction so that the cleaning liquid mixed with gas collides with the inner wall surface of the body. cleaning device. 제1항에 있어서,
상기 노즐 헤드 유닛은, 내측의 수용공간을 통해 외부로 노출되는 일 면의 유입구로부터 유입되는 나노버블이 생성된 상기 세정액을 수용하는 커버블럭; 및 상기 커버블럭 하부에 결합되어 상기 수용공간의 개방을 차단하는 것으로서, 상기 수용공간을 마주하는 일 면을 관통하는 분사구와 함께 일체로 형성되어 일정한 간격으로 나열되는 복수 개의 노즐 각각을 통해 그 하부에 배치되는 디스플레이 기판 표면으로 나노버블이 생성된 상기 세정액을 일정한 각도로 분사하는 노즐블럭;을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판 세정용 세정장치.According to claim 1,
The nozzle head unit may include a cover block for accommodating the cleaning liquid in which nano bubbles are generated, introduced from an inlet on one surface exposed to the outside through an inner accommodating space; And coupled to the lower part of the cover block to block the opening of the accommodating space, through each of a plurality of nozzles formed integrally with a spray hole penetrating one surface facing the accommodating space and arranged at regular intervals to the lower portion thereof. A cleaning apparatus for cleaning a display substrate, comprising: a nozzle block for spraying the cleaning liquid in which nano bubbles are generated at a predetermined angle to the surface of the display substrate on which it is placed. 제6항에 있어서,
상기 노즐은, 어느 하나의 중심으로부터 다른 하나의 중심에 이르는 간격이 7-9mm이고, 그 선단으로부터 상기 디스플레이 기판에 이르는 간격이 8-10mm임에 따라 어느 하나를 통해 일정한 각도로 분사되는 나노버블이 생성된 상기 세정액이 이에 인접하는 다른 하나 및 다른 하나에 인접하는 또 다른 하나를 통해 일정한 각도로 분사되는 나노버블이 생성된 상기 세정액과 중첩되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판 세정용 세정장치.According to claim 6,
As the nozzle has a distance of 7-9 mm from one center to the other center and a distance of 8-10 mm from the tip to the display substrate, the nanobubbles sprayed at a constant angle through any one of the nozzles A cleaning device for cleaning a display substrate, characterized in that the nanobubbles sprayed at a certain angle through another one adjacent to the generated cleaning liquid and another adjacent to the other one overlap with the generated cleaning liquid. 제6항에 있어서,
상기 노즐블럭은 상기 디스플레이 기판을 마주하는 일 면에 상기 노즐을 사이에 두고 길이 방향으로 이어지게 형성되는 돌출턱을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판 세정용 세정장치.According to claim 6,
The nozzle block is a cleaning device for cleaning a display substrate, characterized in that it comprises a protruding jaw formed on one surface facing the display substrate in a longitudinal direction with the nozzle therebetween.
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