KR20230012616A - 광학 활성 장치에 사용하기 위한 아자쿠마린 및 아자티오쿠마린 유도체 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 광활성 발색단을 포함하는 중합되는 화합물, 및 조성물과 안과용 장치에 특히 적합한 특수한 단량체 화합물을 포함하는 신규한 안과용 장치에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 안과용 장치 또는 상기 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 광학 특성을 변경하기 위한 공정에 관한 것이다.
Description
본 발명은 광활성 발색단을 포함하는 중합되는 화합물, 및 조성물과 안과용 장치에 특히 적합한 특수한 단량체 화합물을 포함하는 신규한 안과용 장치에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 안과용 장치 또는 상기 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 광학 특성을 변경하기 위한 공정에 관한 것이다.
백내장(cataract)은 정상적으로는 투명한 눈의 수정체가 혼탁(clouding)해져 시력을 상실하고 극단적으로는 실명에 이르게 하는 눈의 질환에 대한 일반적인 용어이다. 이는 1억 명이 넘는 사람들에게 영향을 주는 전세계적으로 실명의 주요 원인이다. 이의 주요 원인은 연령이며 인구의 평균 연령이 증가하고 있기 때문에 백내장의 수는 향후에 실질적으로 계속 증가할 것으로 예상된다.
백내장의 효과적인 치료는 각막 절개를 통해 눈의 본래 수정체를 제거하고, 종종 "안내 렌즈(intraocular lens)"로도 지칭되는 안과용 장치로 대체하는 외과적 개입을 통해서만 가능하다. 수술 준비 시 최신 기술의 수술 방법은 개개의 환자에게 가장 적합한 굴절력에 가깝도록 아이 맵핑(eye mapping)을 채택한다.
백내장 수술은 가장 널리 사용되고 가장 안전한 외과적 처치 중 하나임에도 불구하고, 특정한 수술 후 문제점이 없는 것은 아니다. 이식된 안내 렌즈(implanted intraocular lens, IOL)의 굴절력이 양호한 시력을 회복하기에는 불충분한 일이 빈번하게 일어난다. 이러한 문제는 안과용 장치가 최적의 광학 특성을 갖지 못하게 하는 불규칙한 상처 치유 및 위치결정 오류뿐만 아니라 수술의 결과로 눈의 기하학적 구조의 변화로 인해 발생할 수 있다. 결과적으로, 환자는 여전히 제대로 보기 위해 시력 교정 보조기구, 예컨대, 안경을 필요로 할 것이다. 일부 경우에는 생성된 이식된 안과용 장치의 굴절력이 필요한 굴절력과는 매우 크게 동떨어져 추가의 수술을 필요로 할 것이다. 특히 나이든 사람의 경우, 신체의 치유 능력이 나이가 증가함에 따라 감소하기 때문에 이는 바람직하지 않다. 게다가, 눈의 염증인 내안구염(endophthalmitis)이 발생할 위험이 있으며, 이는 심지어 완전한 시력 상실 또는 심각하게는 눈을 잃을 수도 있다.
따라서, 렌즈 이식 후 굴절력의 비침습적 조정을 허용하고 이에 의해 바람직하게는 수술 후 시력 보조기구에 대한 필요성을 추가로 감소시키도록 허용하는, 광학 활성 안과용 장치에, 특히 인공 안내 렌즈에 대한 필요성이 보건 분야에 존재한다.
이러한 의미에서 몇몇 개발이, 예를 들어, 국제 특허 공개 WO 2007/033831호, 국제 특허 공개 WO 2009/074520호, 미국 특허 제2010/0324165호, 국제 특허 공개 WO 2017/032442호, 국제 특허 공개 WO 2017/032443호, 국제 특허 공개 WO 2017/032444호, 국제 특허 공개 WO 2018/149850호, 국제 특허 공개 WO 2018/149852호, 국제 특허 공개 WO 2018/149853호, 국제 특허 공개 WO 2018/149855호, 국제 특허 공개 WO 2018/149856호 또는 국제 특허 공개 WO 2018/149857호에 의해 증명된 바와 같이 이미 이루어졌다.
문헌[M. Schraub et al, European Polymer Journal 51 (2014) 21-27]은 폴리메타크릴레이트를 함유하는 3-페닐-쿠마린의 광화학을 기재한다.
아자쿠마린의 합성은 문헌, 예컨대, 문헌[R. B. Moffett, J. Org. Chem. 1970, 35(11), 3596-3600], 문헌[D. Bonnetaud et al, J. Heterocycl. Chem. 1972, 9(1), 165-166D], 문헌[F. 
et al, J. Chem. Soc. Perkin Trans I, 1990, 2409-2415], 문헌[Billeret et al, J. Heterocycl. Chem 1993, 30(3), 671-674], 문헌[G. Brufola et al, Heterocycles, 1997, 45, 9, 1715-1721] 및 문헌[D. Wang et al, Org. Lett. 2017, 19, 984-987]뿐만 아니라 특허 문헌, 예컨대, CN106810559로부터 알려져 있다.
피라노피이돈의 합성은, 예컨대, 문헌[O.S. Wolfbeis, Monatshefte 
Chemie, 1982, 113, 365-370]으로부터 알려져 있다.
미국 특허 제4103256호는 아자쿠마린 화합물의 레이저 염료 용액을 포함하는 염료 레이저를 기재한다.
일본 특허 제8301849호, 일본 특허 제8337583호 및 미국 특허 제5,585,385호는 타키키닌 수용체 길항 작용을 갖는 헤테로사이클릭 화합물을 기재한다.
일본 특허 제2004203751호는 알츠하이머병 및 비만에 유용한 부신피질자극호르몬방출인자(CRF)(부신피질자극호르몬방출호르몬, CRH) 길항제로서 6,6-헤테로바이사이클릭 유도체를 기재한다.
중국 특허 제106810560호는 아자쿠마린 유도체의 합성 방법 및 항종양 약물에서 이의 적용을 기재한다.
중국 특허 제106810559호는 이중 결합 포함 기가 N-페닐-N 기를 통해 바이사이클에 부착되는 질소 포함 헤테로사이클릭 6-원 고리를 포함하는 섬유아세포 성장 인자 수용체의 선택적 억제제를 기재한다.
국제 특허 공개 WO2007136125호 및 국제 특허 공개 WO2007132948호는 세포외 기질 유전자 전사를 억제하기 위한 조성물을 기재한다.
국제 특허 공개 WO2007082178호는 프로스타글란딘 환원효소 억제제를 기재한다.
국제 특허 공개 WO2008094476호는 카나비노이드-1 수용체 조절제로서 치환된 피라노[2,3-B]피리딘 유도체를 기재한다.
국제 특허 공개 WO2010049269호, 국제 특허 공개 Wo2010049270호 및 국제 특허 공개 WO2011117195호는 치환된 피리딘 및 제초제로서 이들의 용도를 기재한다. 국제 특허 공개 WO2011057942호는 살충제 용도 및 농업용 목적 및 수의학 분야의 목적으로 치환된 피리딘을 기재한다. 국제 특허 공개 WO2012150550호는 살충 화합물로서 아미노 피라논을 기재한다.
국제 특허 공개 WO2018171688호는 비만 및 비만 관련 장애를 치료 및/또는 예방하기 위한 화합물을 기재한다.
국제 특허 공개 WO2000008026호는 살진균제의 융합된 이환식 헤테로사이클의 합성을 기재한다.
미국 특허 제20070053831호는, 생체 내 또는 시험관 내에서 뇌 조직과 특정 아자쿠마린 화합물을 접촉시키는 것을 포함하는, β-아밀로이드 플라크 및 신경섬유매듭(neurofibrillary tangle)과 같은 구조물을 표지하기 위한 방법을 기재한다.
국제 특허 공개 WO2009032754호는 질환 상태의 치료 또는 예방을 위한 CB2의 조절제로서 유용한 화합물 및 방법을 기재한다.
미국 특허 제20110021522호는 프로카스파아제 3, 6 및/또는 7의 활성제로서의 아자쿠마린 화합물 및 이의 관련 유도체 및 약제학적 조성물을 기재한다.
국제 특허 공개 WO2013130689호는 척수성 근위축증을 치료하기 위한 화합물을 기재한다.
국제 특허 공개 WO2016146583호는 KV1.3 억제제 및 관련 출발 물질의 합성을 기재한다.
그러나, 대안적인 또는 개선된 안과용 장치, 예컨대, 콘택트 렌즈 또는 최신 기술의 백내장 수술 방법에 의해 이식되는 렌즈를 제공할 필요성이 여전히 존재하고, 최신 기술의 백내장 수술 방법, 특히 최신 기술의 마이크로-절개(micro-incision) 백내장 수술 방법에 의해 이식된 안과용 장치, 예컨대, 안내 렌즈의 제조를 위한 특정한 화합물을 제공할 필요성이 여전히 존재한다.
결과적으로, 본 출원의 목적은 대안적인 또는 개선된 안과용 장치 및 이러한 안과용 장치를 제조하기 위한 적합한 화합물을 제공하는 것이다.
본 출원의 목적은 또한 바람직하게는 비침습적 기법에 의해 광학적 특성이 변경될 수 있는 화합물을 제공하는 것이다.
본 출원의 추가적인 목적은 바람직하게는 안과용 장치에 적합한 조합으로, 현재 알려진 화합물에 비해 이점을 갖는 화합물 또는 대안적인 화합물을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 안과용 장치의 제조에 사용되는 화학식 (I)의 단량체의 이점은 조성물 및/또는 중합체/공중합체에 이를 사용함으로써 낮은 융점을 통해 취급이 더 양호해진다는 것이다. 추가적인 이점은 본 발명에 따른 안과용 장치의 제조에 사용되는 액체 내지 낮은 융점의 화학식 (I)의 단량체는 열 활성화 중합을 위한 개시제의 선택에 있어서 더 유연할 수 있다는 것이다.
본 발명에 따른 화학식 (I)의 중합되는 단량체를 포함하는 중합체 또는 공중합체의 이점은 우수한 가요성과 낮은 유리 전이 온도이다. 본 발명에 따른 중합체 또는 공중합체는 바람직하게는 조사 후 유의한 편극률 변화 또는 굴절률 변화, 및 부분적으로 증가된 더 높은 시작 굴절률을 보인다. 광활성 발색단 1 mmol 당 굴절률 변화의 총 값은 종래 기술의 물질에 비해 훨씬 더 높다. 이는 본 발명에 따른 광학 장치의 편극률 또는 굴절률을 조정하는 데 있어서 더 높은 유연성을 가능하게 한다. 본 발명의 중합체 또는 공중합체의 이점에 기초하여, 상기 물질을 포함하는 안과용 장치는 종래 기술의 물질을 포함하는 안과용 장치에 비해 더 얇게 제조될 수 있다.
본 발명자는 상기 목적이 안과용 장치 및 본 발명의 화합물에 의해 개별적으로 또는 임의의 조합으로 달성될 수 있다는 것을 이제 발견하였다.
본 발명은 적어도 하나의 화학식 (I)의 중합되는 화합물을 포함하는 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품(precursor article)에 관한 것이며,
[화학식 (I)]
상기 식에서,
2가 기 
는 화학식 (B-1), 화학식 (B-2), 화학식 (B-3), 화학식 (B-4) 및 화학식 (B-5)의 군:
으로부터 선택되고,
별표 *는 화학식 (I)의 나머지 부부에 대한 연결을 나타내고;
Y1, Y2, Y3, Y4는 각각 서로 독립적으로 CR' 또는 N이고, 단, Y1, Y2, Y3 및 Y4 중 하나만이 N이고 나머지는 CR'이고;
Y5는 O, S 또는 NRB이고;
RB는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로부터 선택되고;
X는 O 또는 S이고;
Y0는 O 또는 S이고;
A1, A2, A3, A4는 각각 서로 독립적으로 N, CR'' 또는 C-Y-R2-R1이고, 단, m1이 1인 경우, A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 N이며 나머지는 CR''이고, m1이 0인 경우, A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 N이고 A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 C-Y-R2-R1이며 나머지는 각각 독립적으로 CR''이고; 또는
m1이 0인 경우, 인접한 A1-A2, A2-A3 또는 A3-A4는 각각 서로 독립적으로 -N(R2-R1)-C(=O)- 또는 -C(=O)-N(R2-R1)-이고, 나머지 A3, A4, A1 및 A2는 각각 서로 독립적으로 CR''이고;
Y는 서로 독립적으로 O, S, SO2 또는 결합이고;
m1은 0 또는 1이고;
n1은 4이고;
n2는 2이고;
R'은 각각의 경우에 독립적으로, H, F, SF5, CN, SO2CF3, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기, 3 내지 6개의 C 원자를 갖는 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 사이클로알킬기, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알콕시기 및 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 티오알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R''은 각각의 경우에 독립적으로, H, F, Cl, Br, CN, SO2CF3, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기, 3 내지 6개의 C 원자를 갖는 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 사이클로알킬기, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알콕시기 및 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되고 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 티오알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R1은 트라이알콕시실릴기 또는 다이알콕시알킬실릴기이며, 여기서 알킬 및/또는 알콕시기는 각각 독립적으로 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형이거나, 또는 화학식 (1), 화학식 (2) 또는 화학식 (3)의 실릴기 또는 화학식 (4)의 중합성 기:
여기서, 알킬은 각각의 경우에 서로 독립적으로 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 의미하고, 별표 "*"는 각각의 경우에 서로 독립적으로 링커(linker) -R2-, -R2-Y 또는 [Y-R2-]m1에 대한 연결을 나타내고;
X11은 O, S, O-SO2, SO2-O, C(=O), OC(=O), C(=O)O, S(C=O) 및 (C=O)S로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R5, R6, R7은 각각의 경우에 서로 독립적으로, H, F, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-플루오르화되거나 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기 및 6 내지 14개의 C 원자를 갖는 아릴로 이루어진 군으로부터 선택되고,
c는 0 또는 1이고;
-R2-는 -(C(R)2)o- 또는 -(C(R)2)p-X8-(C(R)2)q-(X9)s-(C(R)2)r-(X10)t-(C(R)2)u-이고;
R은 각각의 경우에 독립적으로 H, F, 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
o는 0 내지 20으로 이루어진 군으로부터 선택되고,
X8, X9, X10은 각각의 경우에 독립적으로 O, S, SO2 또는 NR0이고,
s, t는 0 또는 1이고,
p, q는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 10으로 이루어진 군으로부터 선택되고,
r 및 u는 각각의 경우에 독립적으로 0 내지 10으로 이루어진 군으로부터 선택되고, -(C(R)2)p-X8-(C(R)2)q-(X9)s-(C(R)2)r-(X10)t-(C(R)2)u-에 대한 원자들의 전체 수는 20개 이하이고,
R0는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R3는 H, F, Cl, Br, CN 또는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기이고;
R4는, m1이 0인 경우, R'이고,
R4는, m1이 1인 경우, R1이다.
본 발명은 또한 전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품을 형성하는 공정에 관한 것이며, 상기 공정은
- 전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 적어도 하나의 화학식 (I)의 화합물, 및/또는 후술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 화학식 (I)의 화합물로부터 유도되지만 중합을 위해 적어도 하나의 반응성기가 남은 올리고머 또는 중합체, 및 선택적으로 화학식 (I)의 화합물과 상이한 추가의 단량체 및/또는 가교결합제 및/또는 UV 흡수제 및/또는 라디칼 개시제를 포함하는 조성물을 제공하는 단계;
- 후속적으로 상기 조성물의 안과용 장치 또는 전구체 물품을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명은 또한 전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 광학 특성을 변경하는 공정에 관한 것이며, 상기 공정은
- 전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 공정으로 안과용 장치 또는 전구체 물품을 제공하는 단계, 및
- 후속적으로 상기 안과용 장치 또는 전구체 물품을 200 nm 이상 및 1500 nm 이하의 파장을 갖는 조사에 노출시키는 단계를 포함한다.
본 발명은 또한 전술되거나 바람직하게는 후술되는 광학 특성을 변경하는 상기 공정에 의해 얻을 수 있는 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 관한 것이다.
본 발명은 또한 전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 적어도 하나의 화학식 (I)의 중합되는 화합물을 포함하는 올리고머, 중합체 또는 공중합체에 관한 것이다.
본 발명은 또한 전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 적어도 하나의 화학식 (I)의 화합물, 및/또는 전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 화학식 (I)의 화합물로부터 유도되며 중합을 위해 남겨진 적어도 하나의 반응성기를 갖는 올리고머 또는 중합체, 및/또는 가교결합제 및/또는 UV 흡수제 및/또는 라디칼 개시제 및 선택적으로 화학식 (I)의 화합물과 상이한 추가의 단량체를 포함하는 중합을 위한 조성물에 관한 것이다.
본 발명은 또한 화학식 (I)의 화합물에 관한 것으로서,
[화학식 (I)]
상기 식에서,
2가 기 
는 화학식 (B-1), 화학식 (B-2), 화학식 (B-3), 화학식 (B-4) 또는 화학식 (B-5)의 군으로부터 선택되고,
별표 *는 화학식 (I)의 나머지 부분에 대한 연결을 나타내고;
Y1, Y2, Y3, Y4는 각각 서로 독립적으로 CR' 또는 N이되, 단, Y1, Y2, Y3 및 Y4 중 하나만이 N이며 나머지는 CR'이고;
Y5는 O, S 또는 NRB이고;
RB는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 또는 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로부터 선택되고;
A1, A2, A3, A4는 각각 서로 독립적으로 N, CR'' 또는 C-Y-R2-R1이되, 단, m1이 1인 경우에 A1, A2 및 A3 중 하나만이 N이며 나머지 및 A4는 CR''이고, m1이 0인 경우, A1, A2 및 A3 중 하나만이 N이고 A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 C-Y-R2-R1이며 나머지는 각각 독립적으로 CR''이거나;
m1이 0인 경우, 인접한 A1-A2, A2-A3 또는 A3-A4는 각각 서로 독립적으로 -N(R2-R1)-C(=O)- 또는 -C(=O)-N(R2-R1)-이며, 나머지 A3, A4, A1 및 A2는 각각 서로 독립적으로 CR''이고;
Y는 서로 독립적으로 O, S, SO2 또는 결합이고;
m1은 0 또는 1이고;
n1은 4이고;
n2는 2이고;
R'은 각각의 경우에 독립적으로 H, F, SF5, CN, SO2CF3, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기, 3 내지 6개의 C 원자를 갖는 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 사이클로알킬기, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알콕시기 및 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 티오알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R''은 각각의 경우에 독립적으로 H, F, Cl, Br, CN, SO2CF3, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기, 3 내지 6개의 C 원자를 갖는 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 사이클로알킬기, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알콕시기 및 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되고 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 티오알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R1은 트라이알콕시실릴기 또는 다이알콕시알킬실릴기이며, 알킬 및/또는 알콕시기는 각각 독립적으로 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형이거나, 또는 화학식 (1), 화학식 (2) 또는 화학식 (3)의 실릴기 또는 화학식 (4)의 중합성 기이고,
알킬은 각각의 경우에 서로 독립적으로 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 의미하고, 별표 "*"는 각각의 경우에 서로 독립적으로 링커(linker) -R2-, -R2-Y 또는 [Y-R2-]m1과의 연결을 나타내고;
X11은 O, S, O-SO2, SO2-O, C(=O), OC(=O), C(=O)O, S(C=O) 및 (C=O)S로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R5, R6, R7은 각각의 경우에 서로 독립적으로 H, F, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-플루오르화되거나 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기 및 6 내지 14개의 C 원자를 갖는 아릴로 이루어진 군으로부터 선택되고,
c는 0 또는 1이고;
-R2-는 -(C(R)2)o- 또는 -(C(R)2)p-X8-(C(R)2)q-(X9)s-(C(R)2)r-(X10)t-(C(R)2)u-이고;
R은 각각의 경우에 독립적으로 H, F, 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
o는 0 내지 20이고,
X8, X9, X10은 각각의 경우에 독립적으로 O, S, SO2 또는 NR0이고,
s, t는 0 또는 1이고,
p, q는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 10으로 이루어진 군으로부터 선택되고,
r, u는 각각의 경우에 독립적으로 0 내지 10으로 이루어진 군으로부터 선택되며, -(C(R)2)p-X8-(C(R)2)q-(X9)s-(C(R)2)r-(X10)t-(C(R)2)u-에 대한 전체 원자의 수는 20개 이하의 원자이고,
R0는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R3는 H, F, Cl, Br, CN 또는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기이고;
R4는, m1이 0인 경우에, R'이고,
R4는, m1이 1인 경우에, R1이고;
단, m1이 0인 경우에, Y는 O 또는 S이고, A2는 C-Y-R2-R1이고,
2가 기 
는 위치 3에 존재하고 화학식 (B-3) 및 화학식 (B-4)로부터 선택되며, 여기서 화학식 (B-3)의 Y4는 N이고, 화학식 (B-4)의 Y3는 N이고, c는 1이고;
단, m1이 1인 경우에, A2는 CR''이고, R''은 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알콕시기 및 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되고 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 티오알킬기이고,
2가 기 
는 위치 3에 존재하고 화학식 (B-3)으로부터 선택되며, 화학식 (B-3)의 Y2는 CR'이고 R'은 H이며, 화학식 (B-3)의 Y4는 N이고, Y는 결합, O 또는 S이고, c는 1이고;
단, m1이 1인 경우에, Y는 결합이고, c는 0이고, R3는 Cl이고,
2가 기 
는 위치 3에 존재하고, o는 5 내지 20이고;
단, m1이 0인 경우에, Y는 결합 또는 O이고, c는 0이며, R3는 Cl이고,
2가 기 
는 위치 3에 존재하고, o는 7 내지 20이고;
단, m1이 0인 경우, X는 O이고, Y0는 O이고, Y는 결합이고, c는 1이고, X11은 O, S, O-SO2, SO2-O, OC(=O), C(=O)O, S(C=O) 및 (C=O)S이고;
단, m1이 1인 경우에, X는 O이고, Y0는 O이고, o는 5 내지 20이고;
단, m1이 1인 경우에, c는 0이고, Y는 결합 또는 O이고,
2가 기 
는 위치 3에 존재하고, o는 11 내지 20이고;
단, m1이 1인 경우에, A1 또는 A3는 N이고, Y는 결합이고, c는 0이고,
2가 기 
는 위치 3에 존재하고, o는 7 내지 20이고,
단, m1이 0인 경우에, X는 O이고, Y0는 O이고, Y는 O 또는 S이고, c는 0이고, A2는 C-Y-R2-R1이고, A3는 Br이고, A1은 N이고,
2가 기 
는 위치 4에 존재하고 화학식 (B-1), 화학식 (B-3) 및 화학식 (B-4)로부터 선택되며, o는 2 내지 20이다.
전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 화학식 (I)의 화합물은 바람직하게는 눈-이식체(eye-implant) 또는 구체적으로 안내 렌즈와 같은 안과용 장치로 변형될 수 있는 블랭크(blank)와 같은 전구체 물품을 제조하기 위한 단량체로서 사용될 수 있거나, 바람직하게는 전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 안과용 장치의 제조에 사용될 수 있다.
화학식 (I)의 화합물 및 본 발명에 따른 임의의 단량체 단위를 포함하는 화학식 (I)의 화합물의 모든 바람직한 실시 형태는 모든 입체이성질체 또는 라세미 혼합물을 포함한다.
화학식 (I)의 화합물은 전술된 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 제조를 위한 종래 기술 물질에 비해 여러 이점을 제공한다. 게다가, 화학식 (I)의 화합물 또는 화학식 (I)의 중합되는 화합물을 포함하는 올리고머, 중합체 및 공중합체에서 중심 발색단의 남아있는 방향족 부분에 질소 원자를 첨가하는 것은 전술된 바와 같은 종래 기술 화합물에 비해 광학 특성에 유의한 영향을 미친다.
실온에서 접혀지는 중합체는 일반적으로 실온(대략 21℃)보다 낮은 유리 전이 온도(Tg)를 나타낸다. 중합체는 이 온도에서 예를 들어, 크리프(creep), 응력 또는 균열(fissure)을 유도하여 중합체에 물리적 손상을 야기하지 않고 용이하게 변형가능하다. 안내 렌즈의 중합체의 경우, 15℃이하의 Tg가 바람직하다.
안과용 장치의 제조, 바람직하게는 안내 렌즈의 제조에 사용되는 중합체는 바람직하게는 비교적 높은 굴절률을 가지며, 이는 안내 렌즈와 같은 안과용 장치를 더 얇게 제조하는 것을 가능하게 한다. 바람직하게는, 안과용 장치, 바람직하게는 안내 렌즈에 사용되는 중합체는 굴절률이 약 1.5 초과, 그리고 현재 가장 바람직하게는 약 1.55 초과일 것이다.
별표("*")가 본 발명의 설명에서 사용되는 경우, 구체적으로 정의되지 않을 때, 이는 인접한 단위 또는 기와의 연결을 나타내거나, 중합체의 경우에는 인접한 반복 단위 또는 임의의 다른 기와의 연결을 나타낸다.
1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기는 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 또는 10개의 C 원자를 갖는 알킬기, 예를 들어, 메틸, 에틸, 아이소-프로필, n-프로필, 아이소-부틸, n-부틸, tert-부틸, n-펜틸, 1-, 2- 또는 3-메틸부틸, 1,1-, 1,2- 또는 2,2-다이메틸프로필, 1-에틸프로필, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, 에틸헥실, n-노닐 또는 n-데실을 나타낸다. 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기는, 예컨대, n-운데실, n-도데실, n-트라이데실, n-테트라데실, n-펜타데실, n-헥사데실, n-헵타데실, n-옥타데실, n-노나데실 및 n-에이코실과 같은 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19 및 20개의 C 원자를 갖는 임의의 알킬기를 포함하고 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기에 대한 모든 예를 포함한다.
용어 부분적으로 할로겐화된 알킬기는, 알킬기의 적어도 하나의 H 원자가 F, Cl, Br 또는 I로 치환된 것을 나타낸다. 바람직하게는, 알킬기가 부분적으로 플루오르화되며, 이는 알킬기의 적어도 하나의 H 원자가 F로 치환된 것을 의미한다. 바람직한 부분적으로 할로겐화된 알킬기는 CH2CF3이다.
용어 완전히 할로겐화된 알킬기는 알킬기의 모든 H 원자가 F, Cl, Br 및/또는 I로 치환된 것을 나타낸다. 바람직하게는, 알킬기가 완전히 플루오르화되며, 이는 알킬기의 모든 H 원자가 F로 치환된 것을 의미한다. 바람직한 완전히 플루오르화된 알킬기는 트라이플루오로메틸 또는 펜타플루오로에틸이다.
용어 할로겐화된 또는 바람직하게는 플루오르화된은 할로겐화된 사이클로알킬기, 할로겐화된 알콕시기 또는 할로겐화된 티오알킬기와 같은 다른 기에 추가적으로 대응한다.
3 내지 6개의 C 원자를 갖는 사이클로알킬기는 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸 및 사이클로헥실을 포함하며, 이들은 앞에서 설명된 바와 같이 부분적으로 또는 완전히 할로겐화되거나 플루오르화될 수 있다. 바람직하게는, 사이클로알킬기는 사이클로프로필이다.
1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콕시기는 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19 또는 20개의 C 원자를 갖는 O-알킬기, 예를 들어, 메톡시, 에톡시, 아이소-프로폭시, n-프로폭시, 아이소-부톡시, n-부톡시, tert-부톡시, n-펜틸옥시, 1-, 2- 또는 3-메틸부틸옥시, 1,1-, 1,2- 또는 2,2-다이메틸프로폭시, 1-에틸프로폭시, n-헥실옥시, n-헵틸옥시, n-옥틸옥시, 에틸헥실옥시, n-노닐옥시, n-데실옥시, n-운데실옥시, n-도데실옥시, n-트라이데실옥시, n-테트라데실옥시, n-펜타데실옥시, n-헥사데실옥시, n-헵타데실옥시, n-옥타데실옥시, n-노나데실옥시 및 n-에이코실옥시를 나타내며, 이들은 부분적으로 또는 완전히 할로겐화될 수 있거나 바람직하게는 부분적으로 또는 완전히 플루오르화될 수 있다. 바람직한 완전히 플루오르화된 알콕시기는 트라이플루오로메톡시이다.
1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 티오알킬기는 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19 또는 20개의 C 원자를 갖는 S-알킬기, 예를 들어, 티오메틸, 1-티오에틸, 1-티오-아이소-프로필, 1-티오-n-프로필, 1-티오-아이소-부틸, 1-티오-n-부틸, 1-티오-tert-부틸, 1-티오-n-펜틸, 1-티오-1-, -2- 또는 -3-메틸부틸, 1-티오-1,1-, -1,2- 또는 -2,2-다이메틸프로필, 1-티오-1-에틸프로필, 1-티오-n-헥실, 1-티오-n-헵틸, 1-티오-n-옥틸, 1-티오-에틸헥실, 1-티오-n-노닐, 1-티오-n-데실, 1-티오-n-운데실, 1-티오-n-도데실, 1-티오-n-트라이데실, 1-티오-n-테트라데실, 1-티오-n-펜타데실, 1-티오-n-헥사데실, 1-티오-n-헵타데실, 1-티오-n-옥타데실, 1-티오-n-노나데실 및 1-티오-n-에이코실을 나타내며, 이들은 부분적으로 또는 완전히 할로겐화될 수 있거나 바람직하게는 부분적으로 또는 완전히 플루오르화될 수 있다. 바람직한 완전히 플루오르화된 티오에테르기는 트라이플루오로메틸 티오에테르이다.
바람직한 알킬 및 알콕시 라디칼은 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 또는 10개의 C 원자를 갖는다.
본 발명의 문맥에서 아릴기는 6 내지 40개의 고리 원자를 함유하고 본 발명의 문맥에서 헤테로아릴기는 적어도 하나의 헤테로원자를 포함하는 5 내지 40개의 고리 원자를 함유한다. 헤테로원자는 바람직하게는 N, O 및/또는 S로부터 선택된다. 아릴기 또는 헤테로아릴기는 본 명세서에서 단순 방향족 사이클, 즉, 페닐, 또는 단순 헤테로방향족 사이클, 예를 들어, 피리디닐, 피리미디닐, 티오페닐 등 또는 융합된(환상의) 아릴 또는 헤테로아릴기, 예를 들어, 나프틸, 안트라세닐, 페난트레닐, 퀴놀리닐 또는 아이소퀴놀리닐을 의미하는 것으로 이해된다.
아릴기 또는 헤테로아릴기는 바람직하게는 벤젠, 나프탈렌, 안트라센, 페난트렌, 피렌, 벤즈안트라센, 크리센, 페릴렌, 플루오란텐, 나프타센, 펜타센, 벤조피렌, 바이페닐, 바이페닐렌, 테르페닐, 트라이페닐렌, 플루오렌, 스피로바이플루오렌, 다이하이드로페난트렌, 다이하드로피렌, 테트라하이드로피렌, 시스- 또는 트랜스-인데노플루오렌, 시스- 또는 트랜스-인데노카르바졸, 시스- 또는 트랜스-인돌로카르바졸, 트룩센, 아이소트룩센, 스피로트룩센, 스피로아이소트룩센, 푸란, 벤조푸란, 아이소벤조푸란, 다이벤조푸란, 티오펜, 벤조티오펜, 아이소벤조티오펜, 다이벤조티오펜, 피롤, 인돌, 아이소인돌, 카르바졸, 피리딘, 퀴놀린, 아이소퀴놀린, 아크리딘, 페난트리딘, 벤조-5,6-퀴놀린, 벤조-6,7-퀴놀린, 벤조-7,8-퀴놀린, 페노티아진, 페녹사진, 피라졸, 인다졸, 이미다졸, 벤즈이미다졸, 나프티미다졸, 페난트리미다졸, 피리디미다졸, 피라진이미다졸, 퀴녹살린이미다졸, 옥사졸, 벤족사졸, 나프톡사졸, 안트록사졸, 페난트록사졸, 아이속사졸, 1,2-티아졸, 1,3-티아졸, 벤조티아졸, 피리다진, 헥사아자트라이페닐렌, 벤조피리다진, 피리미딘, 벤조피리미딘, 퀴녹사졸린, 1,5-다이아자안트라센, 2,7-다이아자피렌, 2,3-다이아자피렌, 1,6-다이아자피렌, 1,8-다이아자피렌, 4,5-다이아자피렌, 4,5,9,10-테트라아자페릴렌, 피라진, 페나진, 페녹사진, 페노티아진, 플루오루빈, 나프티리딘, 아자카르바졸, 벤조카르볼린, 페난트롤린, 1,2,3-트라이아졸, 1,2,4-트라이아졸, 벤조트라이아졸, 1,2,3-옥사다이아졸, 1,2,4-옥사다이아졸, 1,2,5-옥사다이아졸, 1,3,4-옥사다이아졸, 1,2,3-티아다이아졸, 1,2,4-티아다이아졸, 1,2,5-티아다이아졸, 1,3,4-티아다이아졸, 1,3,5-트라이아진, 1,2,4-트라이아진, 1,2,3-트라이아진, 테트라졸, 1,2,4,5-테트라진, 1,2,3,4-테트라진, 1,2,3,5-테트라진, 퓨린, 프테리딘, 인돌리진 및 벤조티아다이아졸로부터 유도된다.
중합성 기는 중합될 수 있거나 중합되어 올리고머 또는 중합체를 형성할 수 있는 기이다.
중합은 개별 단량체를 취하고 이들을 함께 사슬연결하여 더 긴 단위를 만드는 공정이다. 이러한 더 긴 단위를 중합체라고 부른다. 전술되고 바람직하게는 후술되는 바와 같은 화학식 (I)의 화합물은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 제조에 적합한 단량체이다.
본 발명의 요지 내에서, 일단 올리고머화되거나 중합된 중합성 기 R1은 화학식 (I)의 중합되는 화합물을 포함하는 올리고머, 중합체 또는 공중합체의 골격의 일부가 되거나 이를 형성한다. 적합한 중합성 기는
트라이알콕시실릴기 또는 다이알콕시알킬실릴기인 것으로 정의되고, 여기서, 알킬 및/또는 알콕시기는 각각 독립적으로 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형이거나, 또는 화학식 (1), 화학식 (2) 또는 화학식 (3)의 실릴기, 또는 화학식 (4)의 중합성 기이고,
알킬은 각각의 경우에 서로 독립적으로 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 의미하고, 별표 "*"는 각각의 경우에 서로 독립적으로 링커(linker) -R2-, -R2-Y 또는 [Y-R2-]m1과의 연결을 나타내고;
X11은 O, S, O-SO2, SO2-O, C(=O), OC(=O), C(=O)O, S(C=O) 및 (C=O)S로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R5, R6, R7은 각각의 경우에 서로 독립적으로 H, F, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-플루오르화되거나 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기 및 6 내지 14개의 C 원자를 갖는 아릴로 이루어진 군으로부터 선택되고,
c는 0 또는 1이다.
특히 바람직한 중합성 기는 후술된다. 특히 바람직한 중합된 기는 후술된다.
6 내지 14개의 C 원자를 갖는 아릴은 바람직하게는 페닐, 나프틸 또는 안트릴, 특히 바람직하게는 페닐로 이루어진 군으로부터 선택되는 아릴기이다.
하나의 바람직한 실시 형태에서, 전술된 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 제조를 위한, 또는 본 발명에 따른 올리고머, 중합체 또는 공중합체의 제조를 위한 단량체로서 또는 본 발명에 따른 화합물로서 작용하는 화학식 (I)의 화합물 광활성 고리 시스템에 -R2- 및 Y를 통해 부착된 중합성 기 R1을 포함한다. 이는, m1은 0인 화학식 (I)의 화합물의 경우이며, 이에 따라 화학식 (I')로 기술될 수 있다.
따라서, 본 발명은 추가적으로 적어도 하나의 화학식 (I')의 중합되는 화합물을 포함하는 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 관한 것이며,
[화학식 (I')]
상기 식에서, R1, -R2-, Y, R3, X, Y0, R', R'' 및
는 전술되거나 바람직하게는 전술되거나 후술되는 바와 같은 의미를 갖고,
A1, A2, A3, A4는 각각 서로 독립적으로 N, CR'' 또는 C-Y-R2-R1이되, 단, A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 N이고 A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 C-Y-R2-R1이며 나머지는 각각 독립적으로 CR''이거나;
인접한 A1-A2, A2-A3 또는 A3-A4는 각각 서로 독립적으로 -N(R2-R1)-C(=O)- 또는 -C(=O)-N(R2-R1)-이며 나머지 A3, A4, A1 및 A2는 각각 서로 독립적으로 CR''이고, R4는 R'이다.
따라서, 본 발명은 추가적으로 m1은 0인 화학식 (I)의 화합물에 관한 것으로, 이는 바람직하게는 화학식 (I')에 따라 기술될 수 있으며,
[화학식 (I')]
상기 식에서, R1, -R2-, Y, R3, X, Y0, R', R'' 및
는 전술되거나 바람직하게는 전술되거나 후술되는 바와 같은 의미를 갖고,
A1, A2, A3, A4는 각각 서로 독립적으로 N, CR'' 또는 C-Y-R2-R1이되, 단, A1, A2 및 A3 중 하나만이 N이고 A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 C-Y-R2-R1이며 나머지는 각각 독립적으로 CR''이거나;
인접한 A1-A2, A2-A3 또는 A3-A4는 각각 서로 독립적으로 -N(R2-R1)-C(=O)- 또는 -C(=O)-N(R2-R1)-이며 나머지 A3, A4, A1 및 A2는 각각 서로 독립적으로 CR''이고, R4는 R'이고,
단, Y는 O 또는 S인 경우에, A2는 C-Y-R2-R1이고,
2가 기 
는 위치 3에 존재하고 화학식 (B-3) 및 화학식 (B-4)로부터 선택되며, 여기서 화학식 (B-3)의 Y4는 N이고, 화학식 (B-4)의 Y3는 N이고, c는 1이고;
단, Y는 결합 또는 O인 경우에, c는 0이고, R3는 Cl이고,
2가 기 
는 위치 3에 존재하고, o는 7 내지 20이고;
단, X는 O인 경우에, Y0는 O이고, Y는 결합이고, c는 1이고, X11은 O, S, O-SO2, SO2-O, OC(=O), C(=O)O, S(C=O) 및 (C=O)S이고,
단, X는 O인 경우에, Y0는 O이고, Y는 O 또는 S이고, c는 0이고, A2는 C-Y-R2-R1이고, A3는 Br이고, A1은 N이고,
2가 기 
는 위치 4에 존재하고 화학식 (B-1), 화학식 (B-3) 및 화학식 (B-4)로부터 선택되며, o는 2 내지 20이다.
화학식 (I) 또는 화학식 (I')의 치환기 R1-R2-Y 또는 R1-R2-의 위치는 A1, A2, A3, A4, A1-A2, A2-A3 및 A3-A4의 위치를 통해 결정된다.
화학식 (I'-a)의 화합물에서, 치환기 A1은 광활성 발색단의 위치 8에 존재하는 C-Y-R2-R1이며, A2, A3 및 A4는 앞에서 화학식 (I) 또는 화학식 (I')의 화합물에 대해 기술된 바와 같은 의미를 갖는다. 화학식 (I'-a)의 화합물에서, A2는 바람직하게는 N이다.
화학식 (I'-b)의 화합물에서, 치환기 A2는 광활성 발색단의 위치 7에 존재하는 C-Y-R2-R1이며, A1, A3 및 A4는 앞에서 화학식 (I) 또는 화학식 (I')의 화합물에 대해 기술된 바와 같은 의미를 갖는다. 화학식 (I'-b)의 화합물에서, A1 또는 A3는 바람직하게는 N이다.
화학식 (I'-c)의 화합물에서, 치환기 A3는 광활성 발색단의 위치 6에 존재하는 C-Y-R2-R1이며, A1, A2 및 A4는 앞에서 화학식 (I) 또는 화학식 (I')의 화합물에 대해 기술된 바와 같은 의미를 갖는다. 화학식 (I'-c)의 화합물에서, A1 또는 A2는 바람직하게는 N이다.
화학식 (I'-d)의 화합물에서, 치환기 A4는 광활성 발색단의 위치 5에 존재하는 C-Y-R2-R1이며, A1, A2 및 A3는 앞에서 화학식 (I) 또는 화학식 (I')의 화합물에 대해 기술된 바와 같은 의미를 갖는다. 화학식 (I'-d)의 화합물에서, A1 또는 A2는 바람직하게는 N이다.
화학식 (I'-e)의 화합물에서, 치환기 A1-A2는 -N(R2-R1)-CO-이며, A3 및 A4는 앞에서 화학식 (I) 또는 화학식 (I')의 화합물에 대해 기술된 바와 같은 의미를 갖는다.
화학식 (I'-f)의 화합물에서, 치환기 A1-A2는 -CO-N(R2-R1)-이며, A3 및 A4는 앞에서 화학식 (I) 또는 화학식 (I')의 화합물에 대해 기술된 바와 같은 의미를 갖는다.
화학식 (I'-g)의 화합물에서, 치환기 A2-A3는 -N(R2-R1)-CO-이며, A1 및 A4는 앞에서 화학식 (I) 또는 화학식 (I')의 화합물에 대해 기술된 바와 같은 의미를 갖는다.
화학식 (I'-h)의 화합물에서, 치환기 A2-A3는 -CO-N(R2-R1)-이며, A1 및 A4는 앞에서 화학식 (I) 또는 화학식 (I')의 화합물에 대해 기술된 바와 같은 의미를 갖는다.
화학식 (I'-i)의 화합물에서, 치환기 A3-A4는 -N(R2-R1)-CO-이며, A1 및 A2는 앞에서 화학식 (I) 또는 화학식 (I')의 화합물에 대해 기술된 바와 같은 의미를 갖는다.
따라서, 본 발명은 추가적으로, m1은 0이고 바람직하게는 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h) 및 화학식 (I'-i)에 따라 기술될 수 있는 적어도 하나의 화학식 (I)의 중합되는 화합물을 포함하는, 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 관한 것이며,
[화학식 (I'-a)]
[화학식 (I'-b)]
[화학식 (I'-c)]
[화학식 (I'-d)]
[화학식 (I'-e)]
[화학식 (I'-f)]
[화학식 (I'-g)]
[화학식 (I'-h)]
[화학식 (I'-i)]
상기 식에서, R1, -R2-, X, Y0, Y, A1, A2, A3, A4, R3, R4 및
따라서 본 발명은 추가적으로, n은 1이고 m1은 0이며, 바람직하게는 전술된 바와 같이 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h) 및 화학식 (I'-i)에 따라 기술될 수 있는 화학식 (I)의 화합물에 관한 것이며, 여기서, R1, -R2-, X, Y0, Y, A1, A2, A3, A4, R3, R4 및
R1-R2-Y-C 또는 R1-R2-N의 바람직한 위치는, 예컨대, 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-g) 및 화학식 (I'-f)에 도식화된 광활성 발색단의 위치 8 및/또는 위치 7이다.
본 발명의 다른 바람직한 실시 형태에서, 전술된 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 제조를 위한 단량체로서 작용하는, 또는 본 발명에 따른 올리고머, 중합체 또는 공중합체의 제조를 위한, 또는 전술된 바와 같은 본 발명에 따른 화합물로서 화학식 (I)의 화합물은 광활성 발색단에 연결된 2가 기에 -R2- 및 Y를 통해 부착된 중합성 기 R1을 포함한다. 이는, m1은 1인 화학식 (I)의 화합물의 경우이며, 이에 따라 화학식 (I'')로 기술될 수 있다.
따라서 본 발명은 추가적으로 적어도 하나의 화학식 (I'')의 중합되는 화합물을 포함하는 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 관한 것이며,
[화학식 (I'')]
상기 식에서, R1, -R2-, Y, R3, X, Y0, R', R'' 및
는 전술되거나 바람직하게는 전술되거나 후술되는 바와 같은 의미를 갖고,
A1, A2, A3, A4는 각각 서로 독립적으로 N 또는 CR''이되, 단, A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 N이고 나머지는 CR''이다.
따라서 본 발명은 추가적으로, m1은 1이고 바람직하게는 화학식 (I'')에 따라 기술될 수 있는 화학식 (I)의 화합물에 관한 것이며,
[화학식 (I'')]
상기 식에서, R1, -R2-, Y, R3, X, Y0, R', R'' 및
는 전술되거나 바람직하게는 전술되거나 후술되는 바와 같은 의미를 갖고,
A1, A2, A3, A4는 각각 서로 독립적으로 N 또는 CR''이되, 단, A1, A2 및 A3 중 하나만이 N이고 나머지 및 Ar4는 CR''이고,
단, A2는 CR''인 경우에, R''은 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알콕시기 및 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되고 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 티오알킬기이고,
2가 기 
는 위치 3에 존재하고 화학식 (B-3)으로부터 선택되며, 화학식 (B-3)의 Y2는 CR'이고 R'은 H이며, 화학식 (B-3)의 Y4는 N이고, Y는 결합, O 또는 S이고, c는 1이고;
단, Y는 결합인 경우에, c는 0이며, R3는 Cl이고,
2가 기 
는 위치 3에 존재하고, o는 5 내지 20이고;
단, X는 O이고 Y0는 O인 경우에, o는 5 내지 20이고;
단, c는 0인 경우에, Y는 결합 또는 O이고,
2가 기 
는 위치 3에 존재하고, o는 11 내지 20이고,
단, A1 또는 A3는 N인 경우에, Y는 결합이고, c는 0이고,
2가 기 
는 위치 3에 존재하고, o는 7 내지 20이다.
전술된 바와 같이, 본 발명에 따른 안과용 장치, 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품, 화학식 (I), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 화합물 및 이로부터 유도된 임의의 올리고머, 중합체 또는 공중합체에서, 치환기 R''은 각각의 경우에 독립적으로 H, F, Cl, Br, CN, SO2CF3, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기, 3 내지 6개의 C 원자를 갖는 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 사이클로알킬기, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알콕시기 및 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되고 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 티오알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된다.
R''은 각각의 경우에 독립적으로 바람직하게는 H, F, Cl, Br, CN 또는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기이다. R''은 특히 바람직하게는 H이다.
전술된 바와 같이, 본 발명에 따른 안과용 장치, 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품, 화학식 (I), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g) 및 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 화합물 및 이로부터 유도된 임의의 올리고머, 중합체 또는 공중합체에서, 2가 기 
는 화학식 (B-1), 화학식 (B-2), 화학식 (B-3), 화학식 (B-4) 또는 화학식 (B-5)의 군으로부터 선택되고,
별표 *는 화학식 (I), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 나머지 부분에 대한 연결을 나타내고;
Y1, Y2, Y3, Y4는 각각 서로 독립적으로 CR' 또는 N이되, 단, Y1, Y2, Y3 및 Y4 중 하나만이 N이며 나머지는 CR'이고;
Y5는 O, S 또는 NRB이고;
RB는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 또는 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로부터 선택된다. RB는 바람직하게는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기이다.
상기 화학식 (B-5)의 기에서, Y5는 바람직하게는 O 또는 S이다.
본 발명의 일 실시 형태에서, 2가 기 
는 바람직하게는 화학식 (B-1) 내지 화학식 (B-4)의 기이다.
본 발명의 일 실시 형태에서, 2가 기 
는 바람직하게는 화학식 (B-1)의 기이다.
전술된 바와 같이, 본 발명에 따른 안과용 장치, 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품, 화학식 (I), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 화합물 및 이로부터 유래된 임의의 올리고머, 중합체 또는 공중합체에서 또는 기 (B-1) 내지 기 (B-5)에서, 치환기 R'은 각각의 경우에 독립적으로 H, F, SF5, CN, SO2CF3, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기, 3 내지 6개의 C 원자를 갖는 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 사이클로알킬기, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알콕시기 및 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 티오알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된다.
R'은 각각의 경우에 독립적으로 바람직하게는 H, F, SF5, CN, SO2CF3, 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기, 3 내지 6개의 C 원자를 갖는 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 사이클로알킬기, 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알콕시기 및 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 티오알킬기이다.
본 발명의 일 실시 형태에서, 바람직하게는 모든 R'은 H이다.
본 발명의 일 실시 형태에서, 바람직하게는 하나의 R'은 H와 상이하고 나머지 치환기 R'은 전술된 바와 같은 목록으로부터 선택된다.
본 발명의 일 실시 형태에서, 바람직하게는 2개의 R'은 H와 상이하고 나머지 치환기 R'은 전술된 바와 같은 목록으로부터 선택된다.
R'은 서로 독립적으로, 특히 바람직하게는 F, CN, SO2CF3, SF5, 메틸, 에틸, n-프로필, n-부틸, n-펜틸, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, 트라이플루오로메틸, 펜타플루오로에틸, 헵타플루오로프로필, 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 트라이플루오로메톡시, 펜타플루오로에톡시, 티오메틸 및 티오에틸로 이루어진 군으로부터 선택된다.
R'은 서로 독립적으로, 특히 바람직하게는 F, 에틸, n-펜틸, 트라이플루오로메틸, 메톡시 및 트라이플루오로메톡시로 이루어진 군으로부터 선택된다.
본 발명에 따른 화합물에 관하여, 기재된 특허권리포기서는 R'의 정의에 대하여 고려해야만 한다.
전술된 바와 같이, 본 발명에 따른 안과용 장치, 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품, 화학식 (I), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 화합물 및 이로부터 유래된 임의의 올리고머, 중합체 또는 공중합체에서, R3는 H, F, Cl, Br, CN 또는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기이다. 바람직하게는, R3는 H, F 또는 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기이다. 특히 바람직하게는, R3는 H이다.
전술된 바와 같이, 본 발명에 따른 안과용 장치, 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품, 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h) 또는 화학식 (I'-i)의 화합물 및 이로부터 유래된 임의의 올리고머, 중합체 또는 공중합체에서, R4는 R'이고 R'은 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 의미를 갖는다.
전술된 바와 같이, 본 발명에 따른 안과용 장치, 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품, 화학식 (I), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 화합물 및 이로부터 유래된 임의의 올리고머, 중합체 또는 공중합체에서, X는 O 또는 S, 바람직하게는 O이다.
전술된 바와 같이, 본 발명에 따른 안과용 장치, 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품, 화학식 (I), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 화합물 및 이로부터 유래된 임의의 올리고머, 중합체 또는 공중합체에서, Y0는 O 또는 S, 바람직하게는 O이다.
본 발명은 또한 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 적어도 하나의 화학식 (I), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 중합되는 화합물을 포함하는, 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 관한 것이며, 여기서 X는 O이고 Y0는 O이다.
본 발명의 이러한 실시 형태에서, m1은 0이고 R4는 R'인 경우, 기 (B-1)의 치환 패턴은 바람직하게는 (S-1) 내지 (S-12)로부터 선택되고,
여기서, R'은 서로 독립적으로 전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 의미를 갖는다. 바람직한 치환 패턴은 (S-1), (S-7), (S-10), (S-11) 및 (S-12)이다. 특히 바람직한 치환 패턴은 (S-7) 및/또는 (S-10) 및/또는 (S-12)이다. 매우 특히 바람직한 치환 패턴은 (S-7)이다. 매우 특히 바람직한 치환 패턴은 (S-10)이다. 매우 특히 바람직한 치환 패턴은 (S-12)이다.
전술된 바와 같이, 화학식 (I) 또는 화학식 (I'')에서 m1이 1인 경우, 치환기 R4는 R1에 상응하고, 화학식 (B-1) 내지 화학식 (B-5)의 2가 기에서 R'은 전술된 바와 같은 의미, 또는 전술된 바와 같은 바람직한 또는 특히 바람직한 의미를 갖는다.
R4는 R1이고 R1은 화학식 (B-1) 내지 화학식 (B-4)의 2가 기에 -R2-Y-를 통해 연결되는 이러한 실시 형태에서, 이러한 R1-R2-Y-기는 바람직하게는 화학식 (I) 또는 화학식 (I'')의 나머지에 연결되는 상기 2가 기의 결합에 대해 오르토, 메타 또는 파라 위치에 존재한다. R4는 R1이고 R1은 2가 기에 -R2-Y-를 통해 연결되는 이러한 실시 형태에서, 이러한 R1-R2-Y-기는 특히 바람직하게는 화학식 (I) 또는 화학식 (I'')의 나머지에 연결되는 화학식 (B-1), 화학식 (B-2) 또는 화학식 (B-4)의 상기 2가 기의 결합에 대해 오르토 또는 파라 위치에 존재한다. R4는 R1이고 R1은 2가 기에 -R2-Y-를 통해 연결되는 이러한 실시 형태에서, 이러한 R1-R2-Y-기는 매우 특히 바람직하게는 화학식 (I) 또는 화학식 (I'')의 나머지에 연결되는 화학식 (B-1) 또는 화학식 (B-2)의 상기 2가 기의 결합에 대해 파라 위치에 존재한다.
따라서, 본 발명은 더욱이 화학식 (I) 또는 화학식 (I'')의 중합되는 화합물을 포함하는 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 관한 것이며, R4는 R1이고 R'은 전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 의미를 갖고, R1은 2가 기에 -R2-Y-를 통해 연결되고, 이러한 R1-R2-Y-는 상기 화학식 (I) 또는 화학식 (I'')의 나머지 부분에 연결되는 화학식 (B-1), 화학식 (B-2) 및 화학식 (B-4)의 상기 2가 기의 결합에 대해 오르토 또는 파라 위치에 존재한다.
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 2가 기 
의 바람직한 위치는 광활성 발색단의 위치 3에 존재한다.
하기 화학식은 화학식 (I#)로 읽히는 화학식 (I)의 화합물에 대한 2가 기 
및 R3의 바람직한 위치를 요약하고,
[화학식 (I#)]
R1, -R2-, X, Y0, Y, R3, R4, m1, 
, A1, A2, A3 및 A4는 전술되거나 바람직하게는 전술되거나 후술되는 바와 같은 의미를 갖는다. 화학식 (I#)에 이러한 따른 화합물은 바람직하게는, 전술된 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 제조를 위한 또는 본 발명에 따른 올리고머, 중합체 또는 공중합체의 제조를 위한 화학식 (I)의 단량체로서 작용한다.
본 발명에 따르면, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 치환기를 갖는 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'')의 화합물은 전술되거나 바람직하게는 전술되거나 후술되는 바와 같은 중합성 기를 갖고 적어도 하나의 연결 요소 Y-R2 또는 -R2-를 갖는다.
본 발명에 따르면, Y는 각각의 경우에 독립적으로 O, S, O=S=O 또는 결합이다.
본 발명에 따르면, 연결 요소 -R2-는 -(C(R)2)o- 또는 -(C(R)2)p-X8-(C(R)2)q-(X9)s-(C(R)2)r-(X10)t-(C(R)2)u-로 이루어진 군으로부터 선택되고, R은 각각의 경우에 독립적으로 H, F, 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고, o는 1 내지 20으로 이루어진 군으로부터 선택되고, X8, X9 및 X10은 각각의 경우에 O, S, SO2 또는 NR0이고, s 및 t는 각각의 경우에 독립적으로 0 또는 1이고, p 및 q는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 10으로 이루어진 군으로부터 선택되고, r 및 u는 각각의 경우에 독립적으로 0 내지 10으로 이루어진 군으로부터 선택되고, 여기서, -(C(R)2)p-X8-(C(R)2)q-(X9)s-(C(R)2)r-(X10)t-(C(R)2)u-의 경우 전체 원자의 수는 20개 이하의 C 원자이다. NR0에서 R0는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된다. R0는 각각의 경우에 독립적으로 그리고 바람직하게는 메틸, 에틸 또는 트라이플루오로메틸이다. R0는 각각의 경우에 독립적으로 특히 바람직하게는 메틸이다.
본 발명에 따르면, R은 각각의 경우에 독립적으로 H, F, 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된다.
R은 특히 바람직하게는 각각의 경우에 독립적으로 H, F, 메틸 또는 에틸이다. R은 매우 특히 바람직하게는 H이다.
본 발명의 다른 바람직한 실시 형태에서, 전술된 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 제조를 위한, 또는 본 발명에 따른 올리고머, 중합체 또는 공중합체의 제조를 위한 단량체로서 작용하는 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'')의 화합물 내에서, 또는 본 발명에 따른 화합물 내에서, o는 바람직하게는 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13 및 14로 이루어진 군으로부터 선택된다. 바람직하게는, o는 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12 및 13으로 이루어진 군으로부터 선택된다. 특히 바람직하게는, o는 8, 9, 10, 11, 및 12로 이루어진 군으로부터 선택된다. 본 발명에 따른 화합물에 관하여, 기재된 특허권리포기서는 o의 정의에 대하여 고려해야만 한다.
본 발명의 다른 바람직한 실시 형태에서, 전술된 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 제조를 위한, 또는 본 발명에 따른 올리고머, 중합체 또는 공중합체의 제조를 위한 단량체로서 작용하는 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'')의 화합물 내에서, 또는 본 발명에 따른 화합물 내에서, s, t, X8, X9, X10, p, q, r 및 u는 하기의 바람직한 의미를 갖는다:
바람직하게는, s는 1이다. 바람직하게는, s는 0이다.
바람직하게는, t는 0 또는 1이다.
바람직하게는, s 및 t는 0이다.
바람직하게는, X8, X9 및 X10은 O, S 또는 SO2이다. 특히 바람직하게는, X8, X9 및 X10은 O이다. 특히 바람직하게는, X8, X9 및 X10은 S이다. 특히 바람직하게는, X8, X9 및 X10은 SO2이다.
바람직하게는, p 및 q는 각각 독립적으로 1, 3, 3, 4, 5 또는 6, 특히 바람직하게는 1 또는 2, 매우 특히 바람직하게는 2이다.
바람직하게는, r 및 u는 각각 독립적으로 0, 1, 2 또는 3, 특히 바람직하게는 0, 1 또는 2, 매우 특히 바람직하게는 0이다.
o는 0인 경우, -R2-는 결합이다.
본 발명에 따르면, -R2-에 대한 적합한 예는 -(CH2)-, -(CH2)2-, -(CH2)3-, -(CH2)4-, -(CH2)5-, -(CH2)6-, -(CH2)7-, -(CH2)8-, -(CH2)9-, -(CH2)10-, -(CH2)11-, -(CH2)12-, -(CH2)13-, -(CH2)14-, -(CH2)15-, -(CH2)16-, -(CH2)17-, -(CH2)18-, -(CH2)19-, -(CH2)20-, -(CHCH3)-, -(CHCH3)2-, -(CHCH3)3-, -(CHCH3)4-, -(CHCH3)5-, -(CHCH3)6-, -(CHCH3)7-, -(CHCH3)8-, -(CHCH3)9-, -(CHCH3)10-, -(CHCH3)11-, -(CHCH3)12-, -(CHCH3)13-, -(CHCH3)14-, -(CHCH3)15-, -(CHCH3)16-, -(CHCH3)17-, -(CHCH3)18-, -(CHCH3)19-, -(CHCH3)20-, -(C(CH3)2)-, -(C(CH3)2)2-, -(C(CH3)2)3-, -(C(CH3)2)4-, -(C(CH3)2)5-, -(C(CH3)2)6-, -(C(CH3)2)7-, -(C(CH3)2)8-, -(C(CH3)2)9-, -(C(CH3)2)10-, -(C(CH3)2)11-, -(C(CH3)2)12-, -(C(CH3)2)13-, -(C(CH3)2)14-, -(C(CH3)2)15-, -(C(CH3)2)16-, -(C(CH3)2)17-, -(C(CH3)2)18-, -(C(CH3)2)19-, -(C(CH3)2)20-, -(CHC2H5)-, -(CHC2H5)2-, -(CHC2H5)3-, -(CHC2H5)4-, -(CHC2H5)5-, -(CHC2H5)6-, -(CHC2H5)7-, -(CHC2H5)8-, -(CHC2H5)9-, -(CHC2H5)10-, -(CHC2H5)11-, -(CHC2H5)12-, -(CHC2H5)13-, -(CHC2H5)14-, -(CHC2H5)15-, -(CHC2H5)16-, -(CHC2H5)17-, -(CHC2H5)18-, -(CHC2H5)19-, -(CHC2H5)20-, -(CH2)-(CHCH3)-(CH2)-, -(CH2)-(CHCH3)-(CH2)2-, -(CH2)-(CHCH3)-(CH2)3-, -(CH2)-(CHCH3)-(CH2)11-, -(CH2)2-(CHCH3)-(CH2)-, -(CH2)3-(CHCH3)-(CH2)-, -(CH2)11-(CHCH3)-(CH2)-, -(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)3-O-(CH2)3-, -(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)3-O-(CH2)3-O-(CH2)3-, -(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)6-, -(CH2)6-O-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)8-, -(CH2)8-O-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)3-S-(CH2)3-, -(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)3-S-(CH2)3-S-(CH2)3-, -(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)6-, -(CH2)6-S-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)8-, -(CH2)8-S-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-, -(CH2)3-SO2-(CH2)3-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-, -(CH2)3-SO2-(CH2)3-SO2-(CH2)3-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)6-, -(CH2)6-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)8-, -(CH2)8-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-, -(CH2)-S-(CH2)2-O-(CH2)-, -(CH2)-SO2-(CH2)2-O-(CH2)-, -(CH2)-SO2-(CH2)2-S-(CH2)-, -(CH2)-O-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)-, -(CH2)-S-(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)-, -(CH2)-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)-, -(CH2)-S-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)-, -(CH2)-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)-, -(CH2)-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)-, -(CH2)2-(NCH3)-(CH2)2-, -(CH2)3-(NCH3)-(CH2)3-, -(CH2)2-(NCH3)-(CH2)2-(NCH3)-(CH2)2-, -(CH2)3-(NCH3)-(CH2)3-(NCH3)-(CH2)3-, -(CH2)2-(NCH3)-(CH2)2-(NCH3)-(CH2)6-, -(CH2)6-(NCH3)-(CH2)2-(NCH3)-(CH2)2-, -(CH2)2-(NCH3)-(CH2)2-(NCH3)-(CH2)8- 및 -(CH2)8-(NCH3)-(CH2)2-(NCH3)-(CH2)2-;
-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)-(CF2)-, -(CH2)-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)-(CF2)-(CH2)4-, -(CH2)-(CF2)-(CH2)5-, -(CH2)-(CF2)-(CH2)6-, -(CH2)-(CF2)-(CH2)7-, -(CH2)-(CF2)-(CH2)8-, -(CH2)-(CF2)-(CH2)9-, -(CH2)-(CF2)-(CH2)10-, -(CH2)2-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)3-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)4-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)5-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)6-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)7-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)8-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)9-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)10-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)3-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)4-(CF2)-(CH2)4-, -(CH2)5-(CF2)-(CH2)5-, -(CH2)2-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)2-(CF2)-(CH2)4-, -(CH2)2-(CF2)-(CH2)5-, -(CH2)2-(CF2)-(CH2)6-, -(CH2)2-(CF2)-(CH2)7-, -(CH2)2-(CF2)-(CH2)8-, -(CH2)2-(CF2)-(CH2)9-, -(CH2)3-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)3-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)3-(CF2)-(CH2)4-, -(CH2)3-(CF2)-(CH2)5-, -(CH2)3-(CF2)-(CH2)6-, -(CH2)3-(CF2)-(CH2)7-, -(CH2)3-(CF2)-(CH2)8-, -(CH2)4-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)4-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)4-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)4-(CF2)-(CH2)5-, -(CH2)4-(CF2)-(CH2)6-, -(CH2)4-(CF2)-(CH2)7-, -(CH2)5-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)5-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)5-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)5-(CF2)-(CH2)4-, -(CH2)5-(CF2)-(CH2)6-, -(CH2)6-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)6-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)6-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)6-(CF2)-(CH2)4-, -(CH2)6-(CF2)-(CH2)5-,
-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)-(CFH)-, -(CH2)-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)-(CFH)-(CH2)2-, -(CH2)-(CFH)-(CH2)3-, -(CH2)-(CFH)-(CH2)4-, -(CH2)-(CFH)-(CH2)5-, -(CH2)-(CFH)-(CH2)6-, -(CH2)-(CFH)-(CH2)7-, -(CH2)-(CFH)-(CH2)8-, -(CH2)-(CFH)-(CH2)9-, -(CH2)-(CFH)-(CH2)10-, -(CH2)2-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)3-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)4-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)5-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)6-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)7-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)8-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)9-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)10-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)2-(CFH)-(CH2)2-, -(CH2)3-(CFH)-(CH2)3-, -(CH2)4-(CFH)-(CH2)4-, -(CH2)5-(CFH)-(CH2)5-, -(CH2)2-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)2-(CFH)-(CH2)3-, -(CH2)2-(CFH)-(CH2)4-, -(CH2)2-(CFH)-(CH2)5-, -(CH2)2-(CFH)-(CH2)6-, -(CH2)2-(CFH)-(CH2)7-, -(CH2)2-(CFH)-(CH2)8-, -(CH2)2-(CFH)-(CH2)9-, -(CH2)3-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)3-(CFH)-(CH2)2-, -(CH2)3-(CFH)-(CH2)4-, -(CH2)3-(CFH)-(CH2)5-, -(CH2)3-(CFH)-(CH2)6-, -(CH2)3-(CFH)-(CH2)7-, -(CH2)3-(CFH)-(CH2)8-, -(CH2)4-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)4-(CFH)-(CH2)2-, -(CH2)4-(CFH)-(CH2)3-, -(CH2)4-(CFH)-(CH2)5-, -(CH2)4-(CFH)-(CH2)6-, -(CH2)4-(CFH)-(CH2)7-, -(CH2)5-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)5-(CFH)-(CH2)2-, -(CH2)5-(CFH)-(CH2)3-, -(CH2)5-(CFH)-(CH2)4-, -(CH2)5-(CFH)-(CH2)6-, -(CH2)6-(CFH)-(CH2)-, -(CH2)6-(CFH)-(CH2)2-, -(CH2)6-(CFH)-(CH2)3-, -(CH2)6-(CFH)-(CH2)4-, -(CH2)6-(CFH)-(CH2)5-,
-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)-(CF2)2-, -(CH2)-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)-(CF2)2-(CH2)4-, -(CH2)-(CF2)2-(CH2)5-, -(CH2)-(CF2)2-(CH2)6-, -(CH2)-(CF2)2-(CH2)7-, -(CH2)-(CF2)2-(CH2)8-, -(CH2)-(CF2)2-(CH2)9-, -(CH2)2-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)3-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)4-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)5-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)6-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)7-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)8-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)9-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)3-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)4-(CF2)2-(CH2)4-, -(CH2)5-(CF2)2-(CH2)5-, -(CH2)2-(CF2)2-(CH2)-,-(CH2)2-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)2-(CF2)2-(CH2)4-, -(CH2)2-(CF2)2-(CH2)5-, -(CH2)2-(CF2)2-(CH2)6-, -(CH2)2-(CF2)2-(CH2)7-, -(CH2)2-(CF2)2-(CH2)8-, -(CH2)3-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)3-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)3-(CF2)2-(CH2)4-, -(CH2)3-(CF2)2-(CH2)5-, -(CH2)3-(CF2)2-(CH2)6-, -(CH2)3-(CF2)2-(CH2)7-, -(CH2)4-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)4-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)4-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)4-(CF2)2-(CH2)5-, -(CH2)4-(CF2)2-(CH2)6-, -(CH2)5-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)5-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)5-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)5-(CF2)2-(CH2)4-, -(CH2)6-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)6-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)6-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)6-(CF2)2-(CH2)4-,
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-(CH2)-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)3-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)4-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)4-, -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)4-, -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)5-, -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)6-, -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)7-, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)3-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)4-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)5-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)6-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)7-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)4-, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)5-, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)6-, -(CH2)3-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)4-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)5-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)6-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)3-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)4-, -(CH2)4-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)3-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)5-, -(CH2)5-(CF2)-O-(CF2)2-O-(CF2)-(CH2)3-,
-(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)3-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)4-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)4-, -(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)4-, -(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)5-, -(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)6-, -(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)7-, -(CH2)2-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)3-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)4-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)5-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)6-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)7-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)2-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)4-, -(CH2)2-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)5-, -(CH2)2-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)6-, -(CH2)3-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)4-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)5-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)6-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)3-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)4-, -(CH2)4-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)3-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)5-, -(CH2)5-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)3-,
-(CH2)-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)3-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)4-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)4-, -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)4-, -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)5-, -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)6-, -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)7-, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)3-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)4-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)5-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)6-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)7-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)4-, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)5-, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)6-, -(CH2)3-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)4-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)5-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)6-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)2-, -(CH2)3-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)4-, -(CH2)4-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)3-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)5-, -(CH2)5-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)3-,
-(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)3-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)4-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)4-, -(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)4-, -(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)5-, -(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)6-, -(CH2)-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)7-, -(CH2)2-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)3-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)4-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)5-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)6-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)7-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)2-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)4-, -(CH2)2-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)5-, -(CH2)2-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)6-, -(CH2)3-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)4-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)5-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)6-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)2-, -(CH2)3-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)4-, -(CH2)4-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)3-, -(CH2)3-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)5-, -(CH2)5-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-O-(CF2)2-(CH2)3-이다.
-R2-에 대한 바람직한 예는 본 발명에 따른 -(CH2)5-, -(CH2)6-, -(CH2)7-, -(CH2)8-, -(CH2)9-, -(CH2)10-, -(CH2)11-, -(CH2)12-, -(CH2)13-, -(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)3-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)-(CF2)3-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)4-(CH2)2-, -(CH2)-[CH(CF3)]-(CH2)-, -(CH2)-[C(CH3)CF3]-(CH2)-, -(CH2)-[CH(CH2CF3)]-(CH2)-, -(CH2)-[C(CH3)(CH2CF3)]-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)2- 및 -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)-이다.
-R2-에 대한 특히 바람직한 예는 본 발명에 따른 -(CH2)5-, -(CH2)6-, -(CH2)7-, -(CH2)8-, -(CH2)9-, -(CH2)10-, -(CH2)11-, -(CH2)12-, -(CH2)13-, -(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2- 및 -(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-이다.
전술되거나 바람직하게는 전술되거나 후술되는 바와 같은 중합성 기를 갖는, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 치환기를 갖는 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'')의 화합물은, 적어도 하나의 연결 요소 Y-R2- 내에서 또는 N-R2-R1에서 치환기 -R2-가 -(C(R)2)o-에 해당하는 경우에 바람직하고, R 및 o는 기재되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 의미를 갖는다.
따라서, 전술되거나 바람직하게는 전술되거나 후술되는 바와 같은 중합성 기를 갖는, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 치환기를 갖는 전술된 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 제조를 위한 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'')의 단량체는 적어도 하나의 연결 요소 Y-R2- 내에서 또는 N-R2-R1내에서 치환기 -R2-가 -(C(R)2)o-에 해당하는 경우에 바람직하고, R 및 o는 기술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 의미를 갖는다. 이들 단량체를 사용하여 제조되는 이러한 안과용 장치 및 전구체 물품이 특히 바람직하다.
-R2-의 특히 바람직한 예는 본 발명에 따른 -(CH2)8-, -(CH2)9-, -(CH2)10-, -(CH2)11- 및 -(CH2)12-이다. 매우 특히 바람직하게는, -R2-는 본 발명에 따른 -(CH2)12-이다.
따라서, 본 발명은 또한 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'')의 중합되는 화합물을 포함하는 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 관한 것이며, 여기서 -R2-는 각각의 경우에 독립적으로 -(C(R)2)o-이고, R 및 o는 기술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 의미를 갖는다.
따라서, 본 발명은 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'')의 화합물에 관한 것이며, 여기서 -R2-는 각각의 경우에 독립적으로 -(C(R)2)o-이고, R 및 o는 기술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 의미를 갖고, 개시된 특허권리포기서가 고려된다.
화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'')의 치환기 Y-R2-는 O-R2-, -R2-로 이루어진 군으로부터 선택되고, 여기서 Y는 결합, SO2-R2- 및 S-R2-이고, -R2-는 전술되거나 바람직하게는 또는 특히 바람직하게는 전술되는 바와 같은 의미를 갖는다.
치환기 Y-R2-는 바람직하게는 O-R2- 및 -R2-로 이루어진 군으로부터 선택되고, 여기서 Y는 결합이고, -R2-는 전술되거나 바람직하게는 또는 특히 바람직하게는 전술되는 바와 같은 의미를 갖는다.
화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'')의 치환기 Y-R2-R1은 O-R2-R1, -R2-R1, SO2-R2-R1 및 S-R2-R1으로 이루어진 군으로부터 선택되거나 바람직하게는 O-R2-R1 및 -R2-R1으로 이루어진 군으로부터 선택되고, 여기서 -R2-는 전술되는 또는 바람직하게는 또는 특히 바람직하게는 전술되는 바와 같은 의미를 가지고, R1은 트라이메톡시실릴, 트라이에톡시실릴, 다이메톡시메틸실릴, 다이에톡시메틸실릴 또는 화학식 (4)에 따른 중합성 기이고,
[화학식 (4)]
상기 식에서,
X11은 O, S, O-SO2, SO2-O, C(=O), OC(=O), C(=O)O, S(C=O) 및 (C=O)S로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R5, R6, R7은 각각의 경우에 서로 독립적으로 H, F, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-플루오르화되거나 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기 또는 6 내지 14개의 C 원자를 갖는 아릴로 이루어진 군으로부터 선택되고,
c는 0 또는 1이다.
화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'')에서 치환기 N-R2-R1이 바람직하고, -R2-는 전술되는 바와 같은 또는 바람직하게는 하기의 의미를 갖고, R1은 트라이메톡시실릴, 트라이에톡시실릴, 다이메톡시메틸실릴, 다이에톡시메틸실릴 또는 화학식 (4)에 따른 중합성 기이고,
[화학식 (4)]
상기 식에서,
X11은 O, S, O-SO2, SO2-O, C(=O), OC(=O), C(=O)O, S(C=O) 및 (C=O)S로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R5, R6, R7은 각각의 경우에 서로 독립적으로 H, F, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-플루오르화되거나 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기 또는 6 내지 14개의 C 원자를 갖는 아릴로 이루어진 군으로부터 선택되고,
c는 0 또는 1이다.
본 발명의 다른 바람직한 실시 형태에서, 전술된 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 제조를 위한, 또는 본 발명에 따른 올리고머, 중합체 또는 공중합체의 제조를 위한 단량체로서 작용하는 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'')의 화합물 내에서, 또는 본 발명에 따른 화합물 내에서, c, X11, R5, R6 및 R7은 하기의 바람직한 의미를 갖는다:
바람직하게는, R6 및 R7은 H이다. 바람직하게는, c는 1이다.
바람직하게는, R5는 H, 메틸, 에틸 또는 페닐이다. 특히 바람직하게는, R5는 H 또는 메틸이다.
바람직하게는, X11은 C(=O), OC(=O) 또는 C(=O)O이다. 특히 바람직하게는, X11은 C(=O)O이다.
본 발명에 따른 중합성 기 R1으로서 화학식 (4)의 바람직한 알케닐 기는 따라서 화학식 (4-1), 화학식 (4-2), 화학식 (4-3), 화학식 (4-4), 화학식 (4-5), 화학식 (4-6), 화학식 (4-7), 화학식 (4-8), 화학식 (4-9), 화학식 (4-10), 화학식 (4-11) 및 화학식 (4-12)로 이루어진 군으로부터 선택된 임의의 하나의 화학식에 의해 나타낸다:
본 발명에 따른 중합성 기 R1으로서 화학식 (4)의 특히 바람직한 알케닐기는 전술된 바와 같은 화학식 (4-1), 화학식 (4-2), 화학식 (4-3), 화학식 (4-5), 화학식 (4-6), 화학식 (4-11) 및 화학식 (4-12)로 이루어진 군으로부터 선택된 임의의 하나의 화학식에 의해 나타낸다:
화학식 (4-1)에 의해 나타낸 알케닐기는 메타크릴레이트로 불린다. 화학식 (4-2)에 의해 나타낸 알케닐기는 아크릴레이트로 불린다.
바람직한 기 R1은 바람직하게는 연결 요소 -R2- 및/또는 연결 요소 Y-R2-의 바람직한 기와 결합된다. 유기 화학 분야의 당업자에게 알려진 바와 같이 2개의 O 원자 또는 1개의 O 원자 및 1개의 S 원자가 서로 직접 결합되는 경우 결합은 배제된다.
화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'') 내의 치환기 Y-R2-R1은 따라서 특히 바람직하게는
O-(CH2)5-R1, O-(CH2)6-R1, O-(CH2)7-R1, O-(CH2)8-R1, O-(CH2)9-R1, O-(CH2)10-R1, O-(CH2)11-R1, O-(CH2)12-R1, O-(CH2)13-R1, O-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, O-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, O-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, O-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, O-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, O-(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, O-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, O-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, O-(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, O-(CH2)3-(CF2)-(CH2)3-R1, O-(CH2)-(CF2)3-(CH2)-R1, O-(CH2)2-(CF2)4-(CH2)2-R1, O-(CH2)-[CH(CF3)]-(CH2)-R1, O-(CH2)-[C(CH3)CF3]-(CH2)-R1, O-(CH2)-[CH(CH2CF3)]-(CH2)-R1, O-(CH2)-[C(CH3)(CH2CF3)]-(CH2)-R1, O-(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)2-R1 및 O-(CH2)-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)-R1(여기서, R1은 화학식 (4-1), 화학식 (4-2), 화학식 (4-3), 화학식 (4-4), 화학식 (4-5), 화학식 (4-6), 화학식 (4-7), 화학식 (4-8), 화학식 (4-9), 화학식 (4-10), 화학식 (4-11), 또는 화학식 (4-12)의 알케닐로 이루어진 군으로부터 선택됨);
-(CH2)5-R1, -(CH2)6-R1, -(CH2)7-R1, -(CH2)8-R1, -(CH2)9-R1, -(CH2)10-R1, -(CH2)11-R1, -(CH2)12-R1, -(CH2)13-R1, -(CH2)2-S-(CH2)2-R1, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, -(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, -(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, -(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, -(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, -(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, -(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, -(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, -(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, -(CH2)3-(CF2)-(CH2)3-R1, -(CH2)-(CF2)3-(CH2)-R1, -(CH2)2-(CF2)4-(CH2)2-R1, -(CH2)-[CH(CF3)]-(CH2)-R1, -(CH2)-[C(CH3)CF3]-(CH2)-R1, -(CH2)-[CH(CH2CF3)]-(CH2)-R1, -(CH2)-[C(CH3)(CH2CF3)]-(CH2)-R1, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)2-R1 및 -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)-R1(여기서, Y는 결합이고, R1은 화학식 (4-1), 화학식 (4-2), 화학식 (4-3), 화학식 (4-4), 화학식 (4-5), 화학식 (4-6), 화학식 (4-7), 화학식 (4-8), 화학식 (4-9), 화학식 (4-10), 화학식 (4-11), 또는 화학식 (4-12)의 알케닐로 이루어진 군으로부터 선택됨);
S-(CH2)5-R1, S-(CH2)6-R1, S-(CH2)7-R1, S-(CH2)8-R1, S-(CH2)9-R1, S-(CH2)10-R1, S-(CH2)11-R1, S-(CH2)12-R1, S-(CH2)13-R1, S-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, S-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, S-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, S-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, S-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, S-(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, S-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, S-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, S-(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, S-(CH2)3-(CF2)-(CH2)3-R1, S-(CH2)-(CF2)3-(CH2)-R1, S-(CH2)2-(CF2)4-(CH2)2-R1, S-(CH2)-[CH(CF3)]-(CH2)-R1, S-(CH2)-[C(CH3)CF3]-(CH2)-R1, S-(CH2)-[CH(CH2CF3)]-(CH2)-R1, S-(CH2)-[C(CH3)(CH2CF3)]-(CH2)-R1, S-(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)2-R1 및 S-(CH2)-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)-R1(여기서, R1은 화학식 (4-1), 화학식 (4-2), 화학식 (4-3), 화학식 (4-4), 화학식 (4-5), 화학식 (4-6), 화학식 (4-7), 화학식 (4-8), 화학식 (4-9), 화학식 (4-10), 화학식 (4-11), 또는 화학식 (4-12)의 알케닐로 이루어진 군으로부터 선택됨);
SO2-(CH2)5-R1, SO2-(CH2)6-R1, SO2-(CH2)7-R1, SO2-(CH2)8-R1, SO2-(CH2)9-R1, SO2-(CH2)10-R1, SO2-(CH2)11-R1, SO2-(CH2)12-R1, SO2-(CH2)13-R1, SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)3-(CF2)-(CH2)3-R1, SO2-(CH2)-(CF2)3-(CH2)-R1, SO2-(CH2)2-(CF2)4-(CH2)2-R1, SO2-(CH2)-[CH(CF3)]-(CH2)-R1, SO2-(CH2)-[C(CH3)CF3]-(CH2)-R1, SO2-(CH2)-[CH(CH2CF3)]-(CH2)-R1, SO2-(CH2)-[C(CH3)(CH2CF3)]-(CH2)-R1, SO2-(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)2-R1 및 SO2-(CH2)-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)-R1(여기서, R1은 화학식 (4-1), 화학식 (4-2), 화학식 (4-3), 화학식 (4-4), 화학식 (4-5), 화학식 (4-6), 화학식 (4-7), 화학식 (4-8), 화학식 (4-9), 화학식 (4-10), 화학식 (4-11), 또는 화학식 (4-12)의 알케닐로 이루어진 군으로부터 선택됨)로 이루어진 군으로부터 선택된다.
화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'') 내의 치환기 N-R2-R1은 따라서 특히 바람직하게는
N-(CH2)5-R1, N-(CH2)6-R1, N-(CH2)7-R1, N-(CH2)8-R1, N-(CH2)9-R1, N-(CH2)10-R1, N-(CH2)11-R1, N-(CH2)12-R1, N-(CH2)13-R1, N-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, N-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, N-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, N-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, N-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, N-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, N-(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, N-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, N-(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, N-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, N-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, N-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-R1, N-(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, N-(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-R1, N-(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-R1, N-(CH2)3-(CF2)-(CH2)3-R1, N-(CH2)-(CF2)3-(CH2)-R1, N-(CH2)2-(CF2)4-(CH2)2-R1, N-(CH2)-[CH(CF3)]-(CH2)-R1, N-(CH2)-[C(CH3)CF3]-(CH2)-R1, N-(CH2)-[CH(CH2CF3)]-(CH2)-R1, N-(CH2)-[C(CH3)(CH2CF3)]-(CH2)-R1, N-(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)2-R1 및 N-(CH2)-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)-R1(여기서, R1은 화학식 (4-1), 화학식 (4-2), 화학식 (4-3), 화학식 (4-4), 화학식 (4-5), 화학식 (4-6), 화학식 (4-7), 화학식 (4-8), 화학식 (4-9), 화학식 (4-10), 화학식 (4-11), 또는 화학식 (4-12)의 알케닐로 이루어진 군으로부터 선택됨)로 이루어진 군으로부터 선택된다.
특히 바람직하게는, 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'')의 화합물은, 화학식 (4-1), 화학식 (4-2), 화학식 (4-5), 화학식 (4-6), 화학식 (4-11) 및 화학식 (4-12)에 의해 나타낸 중합성 기 R1을 포함한다.
매우 특히 바람직하게는, 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'')의 화합물은, 화학식 (4-1) 및 화학식 (4-2)에 의해 나타낸 메타크릴 또는 아크릴기인 중합성 기 R1을 포함한다.
따라서 본 발명은 또한, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및/또는 화학식 (I'')의 중합되는 화합물을 포함하는 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 관한 것이며, 여기서 R1은 각각의 경우에 독립적으로 아크릴 또는 메타크릴기이다.
따라서 본 발명은 또한, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및/또는 화학식 (I'')의 화합물에 관한 것이며, 여기서 R1은 각각의 경우에 독립적으로 아크릴 또는 메타크릴기이다.
화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및/또는 화학식 (I'')의 화합물/단량체의 예는 표 1에 도시된 바와 같은 하기 화합물 (A-001) 내지 화합물 (A-162)이다.
[표 1]
본 응용의 화합물의 일부는 당업자에게 잘 알려진 방법에 의해 합성될 수 있다. 그러나, 본 응용의 특정 전구체 물질의 경우, 신규한 제조 방법이 본 명세서에서 기술된다. 바람직하게는, 모든 합성은 건조된 용매를 사용하여 불활성 분위기 하에 수행된다.
예시적인 반응 순서는 화학식 (I#)의 화합물에 대하여 반응도식 1에 도시되고, 여기서 X는 O이고, Y0는 O이고, m1은 1이고, A1은 N이고, A2, A3 및 A4는 CR''이고, 모든 추가의 기호 및 표지는 전술된 바와 같은 의미이고, 중합성 기 R1은 반응도식 1에 도시된 바와 같다.
반응도식 1:
제1 반응 유형은 신남산 유도체의 형성이다.
제2 반응 유형은 피리딘 1-옥사이드의 산화적 형성이다.
제3 반응 유형은 염기 유도된 고리 폐쇄(ring-closure) 반응이다.
제4 반응 유형은 메톡시-탈보호 반응이다.
제5 반응 유형은 윌리암슨 에테르 합성 반응이다.
제6 반응 유형은 에스테르화 반응이다.
화합물 A-001의 대표적인 합성이 반응도식 1-1에 기술된다. 합성 순서의 일부는 문헌[D. Wang et al., Org. Lett. 2017, 19, 984-987]의 이전에 기술된 방법에 의해 A-001의 원하는 화학 구조에 맞게 조정된다.
반응도식 1-1:
대안적인 반응 순서는 화학식 (I#)의 화합물에 대하여 반응도식 2-1에 도시되며, 여기서, X는 O이고, Y0는 O이고, m1은 0이고, A3는 N이고, A1 및 A4는 CR''이고, 모든 추가의 기호 및 표지는 전술된 바와 같은 의미를 갖고, 중합성 기 R1은 반응도식 2-1에 도시된 바와 같다.
반응도식 2-1:
반응도식 2-1에 기술된 합성의 제1 단계는 당업계 및 따라서 본 발명의 다른 실시 형태에 알려져 있지 않다.
제2 반응 유형은 메톡시-탈보호 반응이다.
제3 반응 유형은 윌리암슨 에테르 합성 반응이다.
제4 반응 유형은 에스테르화 반응이다.
대안적인 반응 순서는 화학식 (I#)의 화합물에 대하여 반응도식 2-2에 추가로 도시되며, 여기서, X는 O이고, Y0는 O이고, m1은 1이고, A2는 N이고, A1, A3 및 A4는 CR''이고, 모든 추가의 기호 및 표지는 전술된 바와 같은 의미를 갖고, 중합성 기 R1은 반응도식 2-2에 도시된 바와 같다.
반응도식 2-2:
또, 제1 반응 유형은 추가로 하기에 상세히 기술된 바와 같은 본 발명의 공정에 따른 반응이다.
제2 반응 유형은 메톡시-탈보호 반응이다.
제3 반응 유형은 윌리암슨 에테르 합성 반응이다.
제4 반응 유형은 에스테르화 반응이다.
대안적인 반응 순서는 화학식 (I#)의 화합물에 대하여 반응도식 2-3에 추가로 도시되며, 여기서, X는 O이고, Y0는 O이고, m1은 0이고, A3는 N이고, A1 및 A4는 CR''이고, 모든 추가의 기호 및 표지는 전술된 바와 같은 의미를 갖는다.
반응도식 2-3:
제1 반응 유형은 추가로 하기에 기술된 바와 같은 본 발명의 공정에 따른 반응이다.
제2 반응 유형은 메톡시-탈보호 반응이다.
제3 반응 유형은 윌리암슨 에테르 합성 반응이다.
제4 반응 유형은 하이드로실릴화 반응이다.
따라서 본 발명은 또한 화학식 (syn-I-a), 화학식 (syn-I-b), 화학식 (syn-I-c), 화학식 (syn-I-d), 화학식 (syn-I-e), 화학식 (syn-I-f), 화학식 (syn-I-g), 화학식 (syn-I-h), 화학식 (syn-I-i), 화학식 (syn-I-j), 화학식 (syn-I-k), 화학식 (syn-I-L), 화학식 (syn-I-m), 화학식 (syn-I-n), 화학식 (syn-I-o), 화학식 (syn-I-p), 화학식 (syn-I-q), 화학식 (syn-I-r) 또는 화학식 (syn-I-s)의 화합물의 제조를 위한 공정에 관한 것으로,
상기 식에서, A1, A2, A3 및 A4는 각각 독립적으로 CR''이고, R3는 H이고 m1, Y, R2, R4 및 
및 R''은
화합물 (syn-I-a), 화합물 (syn-I-b), 화합물 (syn-I-c), 화합물 (syn-I-d), 화합물 (syn-I-e), 화합물 (syn-I-f), 화합물 (syn-I-g), 화합물 (syn-I-h), 화합물 (syn-I-i), 화합물 (syn-I-j), 화합물 (syn-I-k), 화합물 (syn-I-L), 화합물 (syn-I-m), 화합물 (syn-I-n), 화합물 (syn-I-o), 화합물 (syn-I-p), 화합물 (syn-I-q), 화합물 (syn-I-r) 또는 화합물 (syn-I-s)의 반응에 의해, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 의미를 갖고,
상기 식에서, A1, A2, A3 및 A4는 각각 독립적으로 CR''이고, R3는 H이고, R''은 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같이
화학식 (syn-2)의 화합물과 함께 정의되고,
[화학식 (syn-2)]
상기 식에서, m1, Y, R2, R4 및 
는,
완충 시스템의 존재하에, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 의미를 갖는다.
적합한 완충 시스템은 무수 아세트산과 리튬 메톡사이드, 무수 아세트산과 탄산칼륨, 무수 아세트산과 탄산 세슘, 무수 아세트산과 칼륨 tert-부톡사이드, 무수 아세트산과 트라이에틸아민, 무수 아세트산과 피리딘, 무수 아세트산과 아세트산칼륨이다.
바람직한 완충 시스템은 무수 아세트산과 아세트산칼륨이다.
화학식 (syn-I-a), 화학식 (syn-I-b), 화학식 (syn-I-c), 화학식 (syn-I-d), 화학식 (syn-I-e), 화학식 (syn-I-f), 화학식 (syn-I-g), 화학식 (syn-I-h), 화학식 (syn-I-i), 화학식 (syn-I-j), 화학식 (syn-I-k), 화학식 (syn-I-L), 화학식 (syn-I-m), 화학식 (syn-I-n), 화학식 (syn-I-o), 화학식 (syn-I-p), 화학식 (syn-I-q), 화학식 (syn-I-r), 화학식 (syn-1-s) 및 화학식 (syn-2)의 화합물은 상업적으로 구매가능하거나 알려진 합성 공정에 의해 이용가능하다.
반응은 개방 장치 및 폐쇄 장치 둘 모두에서 수행될 수 있다.
산소 함량이 최대 1000 ppm인 불활성 기체 분위기에서 출발 물질을 혼합하는 것이 바람직하다. 산소 함량이 500 ppm 미만인 경우 특히 바람직하고, 최대 100 ppm인 경우 매우 특히 바람직하다.
따라서, 본 발명은 더욱이 전술된 바와 같은 공정에 관한 것이며, 화학식 (syn-1-a) 내지 화학식 (syn-1-s) 및 화학식 (syn-2)의 화합물은 등몰량으로 사용된다.
따라서, 본 발명은 더욱이 전술된 바와 같은 공정에 관한 것이며, 완충 시스템 일부의 일부인, 즉, 아세트산칼륨은 출발 물질에 대해 0.17 내지 1.45 당량의 양으로 사용된다. 공정은 바람직하게는 아세트산칼륨을 0.38 내지 1.25 당량의 양으로 사용한다. 공정은 더 바람직하게는 아세트산칼륨을 0.45 내지 1.00 당량의 양으로 사용한다.
따라서, 본 발명은 더욱이 전술된 바와 같은 공정에 관한 것이며, 완충 시스템 일부의 일부, 즉, 무수 아세트산은 출발 물질에 대해 5.0 내지 50.0 당량의 양으로 사용된다. 공정은 바람직하게는 무수 아세트산을 10.0 내지 25.0 당량의 양으로 사용한다. 공정은 더 바람직하게는 무수 아세트산을 12.5 내지 20.0 당량의 양으로 사용한다.
본 발명에 따른 상기 공정은, 부산물 또는 반응 생성물로부터 전술된 바와 같이 화학식 I의 최종 생성물을 분리하기 위해 반응물질의 반응에 뒤이어 정제 단계가 이루어지는 경우 더욱 바람직하다.
적합한 정제 단계는 증류 또는 응축에 의한 용이하게 휘발성 성분의 분리, 유기 용매에 의한 추출, 또는 이러한 방법들의 조합을 포함한다. 각각의 알려진 분리 방법은 이러한 목적을 위해 사용되거나 조합될 수 있다.
따라서, 본 발명은 더욱이, 반응에 뒤이어 정제 단계를 수행하는 것을 특징으로 하는, 전술된 바와 같은 공정에 관한 것이다.
반응으로부터 획득된 반응 혼합물은 바람직하게는 실온으로 냉각되고, 물과 같은 양성자성 용매가 첨가된다. 획득된 고체는 바람직하게는 추가로 유기 용매로부터 재결정화된다.
재결정을 위한 적합한 용매는 알코올, 예컨대 메탄올, 에탄올, 프로판올, 에테르, 예컨대, 테트라하이드로프로판, 다이에틸 에테르, 메틸 t-부틸 에테르 또는 다이메톡시에탄, 또는 아세톤이다. 바람직하게는 2-프로판올이 사용된다.
전술된 바와 같은 본 발명에 따른 공정의 일 실시 형태에서, 반응은 유기 용매 없이(순수하게(neat)) 일어나고, 단지 전술된 바와 같이 완충 시스템에서 일어난다.
전술된, 이의 실시 형태에 기재된, 또는 바람한직한 것으로 기재된 바와 같은 본 발명에 따른 공정의 바람직한 일 실시 형태에서, 화합물 (syn-I-a), 화합물 (syn-I-b), 화합물 (syn-I-c), 화합물 (syn-I-d), 화합물 (syn-I-e), 화합물 (syn-I-f), 화합물 (syn-I-g), 화합물 (syn-I-h), 화합물 (syn-I-i), 화합물 (syn-I-j), 화합물 (syn-I-k), 화합물 (syn-I-L), 화합물 (syn-I-m), 화합물 (syn-I-n), 화합물 (syn-I-o), 화합물 (syn-I-p), 화합물 (syn-I-q), 화합물 (syn-I-r) 또는 화합물 (syn-I-s) 또는 화합물 (syn-2)의 반응은 50℃ 내지 160℃의 반응 온도에서 일어난다. 반응은 바람직하게는 60℃ 내지 140℃에서 일어난다.
본 발명에 따른 추가의 대표적인 공정은 하기 반응도식 2-4에 기술되며, 화학식 (syn-1-a)의 출발 물질은 그에 따라 화학식 (syn-1-c) 내지 화학식 (syn-1-s)의 임의의 물질로 대체될 수 있다.
반응도식 2-4:
본 발명에 따른 제조 공정의 이점은, 반응이 추가의 유기 용매를 필요로 하지 않고, 화학식 (syn-I-a), 화학식 (syn-I-b), 화학식 (syn-I-c), 화학식 (syn-I-d), 화학식 (syn-I-e), 화학식 (syn-I-f), 화학식 (syn-I-g), 화학식 (syn-I-h), 화학식 (syn-I-i), 화학식 (syn-I-j), 화학식 (syn-I-k), 화학식 (syn-I-L), 화학식 (syn-I-m), 화학식 (syn-I-n), 화학식 (syn-I-o), 화학식 (syn-I-p), 화학식 (syn-I-q), 화학식 (syn-I-r) 및 화학식 (syn-I-s)의 물질의 용해도가 유기 용매, 바람직하게는 전술된 바와 같은 유기 용매에서 크다는 것이다. 화학식 (syn-I-a), 화학식 (syn-I-b), 화학식 (syn-I-c), 화학식 (syn-I-d), 화학식 (syn-I-e), 화학식 (syn-I-f), 화학식 (syn-I-g), 화학식 (syn-I-h), 화학식 (syn-I-i), 화학식 (syn-I-j), 화학식 (syn-I-k), 화학식 (syn-I-L), 화학식 (syn-I-m), 화학식 (syn-I-n), 화학식 (syn-I-o), 화학식 (syn-I-p), 화학식 (syn-I-q), 화학식 (syn-I-r) 및 화학식 (syn-I-s)의 전구체 물질이 추가로 반응 혼합물로부터 용이하게 단리될 수 있다.
본 발명은 또한 화학식 (I), 화학식 (I') 또는 화학식 (I'')의 화합물의 합성 공정에 관한 것이며, X는 O이고, Y0는 O이고, 추가의 기호 및 표지는 전술된 바와 같은 또는 하기의 의미를 갖고, 단계 1에서 화학식 (syn-I-a), 화학식 (syn-I-b), 화학식 (syn-I-c), 화학식 (syn-I-d), 화학식 (syn-I-e), 화학식 (syn-I-f), 화학식 (syn-I-g), 화학식 (syn-I-h), 화학식 (syn-I-i), 화학식 (syn-I-j), 화학식 (syn-I-k), 화학식 (syn-I-L), 화학식 (syn-I-m), 화학식 (syn-I-n), 화학식 (syn-I-o), 화학식 (syn-I-p), 화학식 (syn-I-q), 화학식 (syn-I-r) 또는 화학식 (syn-I-s)의 물질이 제조되고,
여기서 A1, A2, A3 및 A4는 각각 독립적으로 CR''이고, R3는 H이고, m1, Y, R2, R4 및 
및 R''은,
화합물 (syn-I-a), 화합물 (syn-I-b), 화합물 (syn-I-c), 화합물 (syn-I-d), 화합물 (syn-I-e), 화합물 (syn-I-f), 화합물 (syn-I-g), 화합물 (syn-I-h), 화합물 (syn-I-i), 화합물 (syn-I-j), 화합물 (syn-I-k), 화합물 (syn-I-L), 화합물 (syn-I-m), 화합물 (syn-I-n), 화합물 (syn-I-o), 화합물 (syn-I-p), 화합물 (syn-I-q), 화합물 (syn-I-r) 또는 화합물 (syn-I-s)의 반응에 의해 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 의미를 갖고,
A1, A2, A3 및 A4는 각각 독립적으로 CR''이고, R3는 H이고, R''은 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같이
화학식 (syn-2)의 화합물과 함께 정의되고,
[화학식 (syn-2)]
m1, Y, R2, R4 및 
는
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 의미를 갖고, 기술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 완충 시스템의 존재 하에, 뒤이어 탈보호 반응, 윌리암슨 에테르 합성 반응 또는 티오에테르 합성 반응, 및 선택적으로 에스테르화 반응 또는 실릴화 반응을 수행한다.
화합물 A-097의 대표적인 합성이 반응도식 2-5에 기술된다. 전술된 바와 같이, 기술된 합성의 제1 단계는 본 발명에 따른 공정의 예이다.
반응도식 2-5:
제1 반응 유형은 전술된 바와 같은 본 발명의 공정이다.
제2 반응 유형은 메톡시-탈보호 반응이다.
제3 반응 유형은 윌리암슨 에테르 합성 반응이다.
제4 반응 유형은 에스테르화 반응이다.
전술된 바와 같이, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및 화학식 (I'')의 화합물/단량체는 중합성 기를 함유하고 올리고머화 또는 중합을 위한 단량체로서 미리 결정된다.
따라서 본 발명은 또한 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 적어도 하나의 중합되는 화합물을 포함하는 올리고머, 중합체 또는 공중합체에 관한 것이다.
용어 "중합체"는 일반적으로, 비교적 저분자량의 분자로부터 실제로 또는 개념적으로 유래된 다수의 반복 단위를 본질적으로 포함하는 구조의 비교적 고분자량의 분자를 의미한다(PAC, 1996, 68, 2291). 용어 "중합체"는, 명세서 내에서 달리 언급되지 않는다면, 단일 중합체 및 공중합체를 포함한다. 용어 "올리고머"는 일반적으로, 비교적 더 낮은 분자량의 분자로부터 실제로 또는 개념적으로 유래된 작은 복수의 단위를 본질적으로 포함하는 구조의, 비교적 중간의 분자량의 분자를 의미한다(PAC, 1996, 68, 2291). 본 발명에 따른 바람직한 의미에서, 중합체는 30개 이상의 반복 단위를 갖는 화합물을 의미하고, 올리고머는 1개 초과 및 30개 미만의 반복 단위를 갖는 화합물을 의미한다.
상기 및 하기의, 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 중합체, 올리고머, 화합물, 또는 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 화합물로부터 형성된 단량체 단위 또는 중합체를 나타내는 화학식에서, 별표("*")는 중합체 쇄 또는 올리고머 쇄의 인접한 반복 단위와의 또는 말단 단부 기와의 연결을 나타낸다.
적합한 말단 단부 기가 당업자에게 알려져 있고 사용된 중합 방법에 달려있다.
용어 "반복 단위" 및 "단량체 단위"는 규칙적인 거대분자, 규칙적인 올리고머 분자, 규칙적인 블록 또는 규칙적인 사슬을 구성하는 가장 작은 구성 단위의 반복인 구성 반복 단위(CRU)를 의미한다(문헌[PAC, 1996, 68, 2291]).
달리 언급되지 않는다면, 분자량은 수평균 분자량(Mn) 또는 중량 평균 분자량(MW)으로서 주어지며, 이는 테트라하이드로푸란, 트라이클로로메탄(TCM, 클로로폼), 클로로벤젠 또는 1,2,4-트라이클로로-벤젠과 같은 용리 용매 중 폴리스테렌 표준물질에 대한 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 결정된다. 달리 언급되지 않는다면, 테트라하이드로푸란이 용매로서 사용된다. 중합도(n)는 문헌[J. M. G. Cowie, Polymers: Chemistry & Physics of Modern Materials, Blackie, Glasgow, 1991]에 기재된 바와 같이, n = Mn/MU로 주어진 수평균 중합도를 의미하며, 상기 식에서, MU는 단일 반복 단위의 분자량이다.
본 발명에 따른 공중합체를 포함하는 중합체에서, 반복 단위의 총 수(n)는 바람직하게는 ≥ 30, 매우 바람직하게는 ≥ 100, 가장 바람직하게는 ≥ 200이고, 그리고 바람직하게는 5000 이하, 매우 바람직하게는 3000 이하, 가장 바람직하게는 2000 이하이며, 전술된 n의 상한 및 하한의 임의의 조합을 포함한다.
본 발명의 중합체는 단일 중합체, 통계 공중합체, 랜덤 공중합체, 교대 공중합체 및 블록 공중합체, 및 전술된 것들의 조합을 포함한다.
본 명세서의 설명 및 청구범위에 걸쳐, 단어 "포함한다" 및 "함유한다" 및 이 단어들의 변형, 예를 들어 "포함하는" 및 "포함하다"는 다른 구성 성분을 "포함하지만 이로 제한되지 않음"을 의미하고, 다른 구성 성분을 배제하는 것으로 의도되지 않는다(및 배제하지 않는다).
바람직하게는 중합성 기 R1은 위치규칙적(regioregular), 교대의, 위치불규칙적(regiorandom), 통계적, 블록 또는 랜덤 단일 중합체 또는 공중합체 골격을 형성하거나, 중합체 골격의 일부가 되며, R1은 기술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 의미를 갖는다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 이러한 올리고머, 중합체 또는 공중합체는 화학식 (I), 화학식 (I') 또는 화학식 (I'')에 기초한 구성 단위 M0를 포함하고,
[화학식 (I)]
[화학식 (I')]
[화학식 (I'')]
여기서 각각의 경우에 중합성 기 R1은 중합되고, 위치규칙적, 교대의, 위치불규칙적, 통계적, 블록 또는 랜덤 올리고머 또는 중합체 골격을 형성하거나, 공중합체 골격의 일부가 되고, 화학식 (I), 화학식 (I') 및 화학식 (I'')에서 사용된 모든 기호 및 표지는 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 의미를 갖는다.
본 발명은 더욱이, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화학식 (I), 화학식 (I') 또는 화학식 (I'')에 기초한 구성 단위 M0를 포함하는 올리고머, 중합체 또는 공중합체를 포함하는, 전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 관한 것이며, 여기서 각각의 경우에 R1은 중합되어, 위치규칙적, 교대의, 위치불규칙적, 통계적, 블록 또는 랜덤 올리고머 또는 중합체 골격을 형성하거나 공중합체 골격의 일부가 된다.
바람직하게는, 이러한 중합된 기 R1은 화학식 (1-p), 화학식 (2-p), 화학식 (3-p) 또는 화학식 (4-p)이며,
본 발명은 더욱이, 전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 관한 것이며, 상기 중합된 기 R1은 전술된 바와 같은 화학식 (1-p), 화학식 (2-p), 화학식 (3-p) 또는 화학식 (4-p)이다.
본 발명은 더욱이, 전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 올리고머, 중합체 또는 공중합체에 관한 것이며, 상기 중합된 기 R1은 전술된 바와 같은 화학식 (1-p), 화학식 (2-p), 화학식 (3-p) 또는 화학식 (4-p)이다.
특히 바람직하게는, 본 발명에 따른 이러한 올리고머, 중합체 또는 공중합체는 화학식 (M0-I'-a), 화학식 (M0-I'-b), 화학식 (M0-I'-c), 화학식 (M0-I'-d), 화학식 (M0-I'-e), 화학식 (M0-I'-f), 화학식 (M0-I'-g), 화학식 (M0-I'-h), 화학식 (M0-I'-i) 또는 화학식 (M0-I'')의 구성 단위 M0를 포함하고,
상기 식에서, R1, -R2-, X, Y0, Y, A1, A2, A3, A4, R3, R4, R5, R6, R7, X11, c 및
유기 화학 분야의 당업자에게 알려진 바와 같이 2개의 O 원자 또는 1개의 O 원자 및 1개의 S 원자가 서로 직접 연결되는 경우 결합은 배제된다.
본 발명은 더욱이, 전술되거나 바람직하게는 후술되는 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 관한 것이며, 구성 단위 M0는 전술된 바와 같은 화학식 (M0-I'-a), 화학식 (M0-I'-b), 화학식 (M0-I'-c), 화학식 (M0-I'-d), 화학식 (M0-I'-e), 화학식 (M0-I'-f), 화학식 (M0-I'-g), 화학식 (M0-I'-h), 화학식 (M0-I'-i) 또는 화학식 (M0-I'')이며, 별표 "*"는 각각의 경우에 중합체 쇄 또는 올리고머 쇄의 인접한 반복 단위와의 또는 말단 단부 기와의 연결을 나타낸다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 이러한 올리고머, 중합체 또는 공중합체는 전술된 바와 같은 구성 단위 (M0-I'-a), 구성 단위 (M0-I'-b), 구성 단위 (M0-I'-c), 구성 단위 (M0-I'-d), 구성 단위 (M0-I'-e), 구성 단위 (M0-I'-f), 구성 단위 (M0-I'-g), 구성 단위 (M0-I'-h), 구성 단위 (M0-I'-i) 또는 구성 단위 (M0-I'')를 포함하고,
-R2-는 -(CH2)5-, -(CH2)6-, -(CH2)7-, -(CH2)8-, -(CH2)9-, -(CH2)10-, -(CH2)11-, -(CH2)12-, -(CH2)13-, -(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-SO2-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-SO2-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)3-(CF2)-(CH2)3-, -(CH2)-(CF2)3-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)4-(CH2)2-, -(CH2)-[CH(CF3)]-(CH2)-, -(CH2)-[C(CH3)CF3]-(CH2)-, -(CH2)-[CH(CH2CF3)]-(CH2)-, -(CH2)-[C(CH3)(CH2CF3)]-(CH2)-, -(CH2)2-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)2- 및 -(CH2)-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-O-(CF2)-(CH2)-로부터 선택되거나, 바람직하게는 전술된 바와 같은 의미를 갖고;
Y는 O, S, SO2 또는 결합이거나, 바람직하게는 전술된 바와 같은 의미를 갖고;
R3는 H, F, 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 직쇄상 알킬기 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 직쇄상 알콕시기이거나, 바람직하게는 전술된 바와 같은 의미를 갖고;
X11은 O, S, O-SO2, SO2-O, C(=O), OC(=O), C(=O)O, S(C=O) 및 (C=O)S로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 바람직하게는 전술된 바와 같은 의미를 갖고;
R6 및 R7은 H이고;
R5는 H, 메틸, 에틸 또는 페닐이거나, 바람직하게는 전술된 바와 같은 의미를 갖고;
c는 1이고,
X, Y0, Y, A1, A2, A3, A4 및
바람직하게는, 이에 따른 이러한 올리고머, 중합체 또는 공중합체는 본 발명에 따른 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 포함된다.
특히 바람직하게는, 본 발명에 따른 이러한 올리고머, 중합체 또는 공중합체는 전술된 바와 같은 구성 단위 (M0-I'-a), 구성 단위 (M0-I'-b), 구성 단위 (M0-I'-c), 구성 단위 (M0-I'-d), 구성 단위 (M0-I'-e), 구성 단위 (M0-I'-f), 구성 단위 (M0-I'-g), 구성 단위 (M0-I'-h), 구성 단위 (M0-I'-i) 또는 구성 단위 (M0-I'')를 포함하고,
-R2-는 -(CH2)5-, -(CH2)6-, -(CH2)7-, -(CH2)8-, -(CH2)9-, -(CH2)10-, -(CH2)11-, -(CH2)12-, -(CH2)13-, -(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-O-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-S-(CH2)2-, -(CH2)2-SO2-(CH2)2-S-(CH2)2-SO2-(CH2)2-로부터 선택되거나 바람직하게는 전술된 바와 같은 의미를 갖고;
Y는 O, S, SO2, 또는 결합이거나 바람직하게는 전술된 바와 같은 의미를 갖고;
R3는 H, F, 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 직쇄상 알킬기 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 직쇄상 알콕시기이거나 바람직하게는 전술된 바와 같은 의미를 갖고;
X11은 O, S, O-SO2, SO2-O, C(=O), OC(=O), C(=O)O, S(C=O) 및 (C=O)S로 이루어진 군으로부터 선택되거나 바람직하게는 전술된 바와 같은 의미를 갖고,
R6 및 R7은 H이고;
R5는 H, 메틸, 에틸 또는 페닐이거나, 바람직하게는 전술된 바와 같은 의미를 갖고;
c는 1이고,
X, Y0, Y, A1, A2, A3, A4 및
특히 바람직하게는, 이러한 올리고머, 중합체 또는 공중합체는 본 발명에 따른 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 포함된다.
공중합체는, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i), 또는 화학식 (I'')의 하나 이상의 중합되는 화합물, 또는 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화학식 (M0-I'-a), 화학식 (M0-I'-b), 화학식 (M0-I'-c), 화학식 (M0-I'-d), 화학식 (M0-I'-e), 화학식 (M0-I'-f), 화학식 (M0-I'-g), 화학식 (M0-I'-h), 화학식 (M0-I'-i) 및/또는 화학식 (M0-I'')의 하나 이상의 구성 단위 M0, 또는 후술되는 바와 같은 하나 이상의 구성 단위 (M0-001) 내지 구성 단위 (M0-162)(이는 서로 동일하거나 상이할 수 있음) 및 하나 이상의 구성단위 M2(이는 서로 동일하거나 상이할 수 있음)를 포함하는 올리고머 또는 중합체일 수 있다. 상기 하나 이상의 구성 단위 M2는 구성 단위 M0와 화학적으로 상이하다. 바람직하게는, 상기 하나 이상의 구성 단위 M2는 스티렌, 에톡시에틸 메타크릴레이트(EOEMA), 메틸 메타크릴레이트(MMA), 메틸 아크릴레이트, n-알킬 아크릴레이트(2 내지 20개의 C 원자를 포함하는 n-알킬기), n-알킬 메타크릴레이트(2 내지 20개의 C 원자를 포함하는 n-알킬기), i-알킬 아크릴레이트(3 내지 20개의 C 원자를 포함하는 i-알킬기), i-알킬 메타크릴레이트(3 내지 20개의 C 원자를 포함하는 i-알킬기), 에톡시에톡시 에틸아크릴레이트(EEEA), 2-하이드록시에틸 메타크릴레이트(HEMA), 테트라하이드로푸릴 메타크릴레이트(THFMA), 글리시딜메타크릴레이트(GMA), 16-하이드록시헥사데실 아크릴레이트, 16-하이드록시헥사데실 메타크릴레이트, 18-하이드록시옥타데실 아크릴레이트, 18-하이드록시옥타데실 메타크릴레이트, 2-페녹시에틸 아크릴레이트(EGPEA), 헵타플루오로부틸 아크릴레이트, 헵타플루오로부틸 메타크릴레이트, 헥사플루오로부틸 아크릴레이트, 헥사플루오로부틸 메타크릴레이트, 헥사플루오로아이소프로필 아크릴레이트, 헥사플루오로아이소프로필 메타크릴레이트, 옥타플루오로펜틸 아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸 메타크릴레이트, 펜타플루오로프로필 아크릴레이트, 펜타플루오로프로필 메타크릴레이트, 테트라플루오로프로필 메타크릴레이트, 트라이플루오로에틸 아크릴레이트, 트라이플루오로에틸 메타크릴레이트, 피스페놀 A 다이아크릴레이트-1 EO/페놀(BPADA), 2-[3'-2'H-벤조트라이아졸- 2'-yl)-4'-하이드록시페닐]에틸 메타크릴레이트(BTPEM) 또는 에틸렌글리콜다이메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 단량체의 중합에 의해 유도된다.
따라서 본 발명은 또한, 화학식 (I), 화학식 (I') 또는 화학식 (I'')의 적어도 하나의 중합되는 화합물, 또는 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화학식 (M0-I'-a), 화학식 (M0-I'-b), 화학식 (M0-I'-c), 화학식 (M0-I'-d), 화학식 (M0-I'-e), 화학식 (M0-I'-f), 화학식 (M0-I'-g), 화학식 (M0-I'-h), 화학식 (M0-I'-i) 및/또는 화학식 (M0-I'')의 구성 단위 M0, 또는 후술되는 바와 같은 하나 이상의 구성 단위 (M0-001) 내지 구성 단위 (M0-162) 외에도, 스티렌, 에톡시에틸 메타크릴레이트(EOEMA), 메틸 메타크릴레이트(MMA), 메틸 아크릴레이트, n-알킬 아크릴레이트(2 내지 20개의 C 원자를 포함하는 n-알킬기), n-알킬 메타크릴레이트(2 내지 20개의 C 원자를 포함하는 n-알킬기), i-알킬 아크릴레이트(3 내지 20개의 C 원자를 포함하는 i-알킬기), i-알킬 메타크릴레이트 (3 내지 20개의 C 원자를 포함하는 i-알킬기), 에톡시에톡시 에틸아크릴레이트(EEEA), 2-하이드록시에틸 메타크릴레이트(HEMA), 테트라하이드로푸릴 메타크릴레이트(THFMA), 글리시딜메타크릴레이트(GMA), 16-하이드록시헥사데실 아크릴레이트, 16-하이드록시헥사데실 메타크릴레이트, 18-하이드록시옥타데실 아크릴레이트, 18-하이드록시옥타데실 메타크릴레이트, 2-페톡시에틸 아크릴레이트(EGPEA), 헵타플루오로부틸 아크릴레이트, 헵타플루오로부틸 메타크릴레이트, 헥사플루오로부틸 아크릴레이트, 헥사플루오로부틸 메타크릴레이트, 헥사플루오로아이소프로필 아크릴레이트, 헥사플루오로아이소프로필 메타크릴레이트, 옥타플루오로펜틸 아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸 메타크릴레이트, 펜타플루오로프로필 아크릴레이트, 펜타플루오로프로필 메타크릴레이트, 테트라플루오로프로필 메타크릴레이트, 트라이플루오로에틸 아크릴레이트, 트라이플루오로에틸 메타크릴레이트, 비스페놀 A 다이아크릴레이트-1 EO/페놀(BPADA), 2-[3'-2'H-벤조트라이아졸- 2'-일)-4'-하이드록시페닐]에틸 메타크릴레이트(BTPEM) 또는 에틸렌글리콜다이메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 추가의 중합된 단량체를 포함하는, 기술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 관한 것이다.
특히 바람직하게는, 적어도 하나의 추가의 중합된 단량체는 메틸 메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸 메타크릴레이트, 2-페녹시에틸 아크릴레이트, 에톡시에톡시 에틸아크릴레이트, 8-메틸노닐 메타크릴레이트, n-부틸 메타크릴레이트, 2-에틸 헥실메타크릴레이트 또는 이의 혼합물로부터 선택된다.
특히 바람직하게는, 이러한 공중합체는 본 발명에 따른 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 포함된다.
대안적으로 본 발명에 따른 올리고머 또는 중합체, 바람직하게는 중합체는 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화학식 (M0-I'-a), 화학식 (M0-I'-b), 화학식 (M0-I'-c), 화학식 (M0-I'-d), 화학식 (M0-I'-e), 화학식 (M0-I'-f), 화학식 (M0-I'-g), 화학식 (M0-I'-h), 화학식 (M0-I'-i) 또는 화학식 (M0-I''), 또는 후술되는 바와 같은 화학식 (M0-001) 내지 화학식 (M0-162)의 하나 이상의 구성 단위 M0를 포함하는 단일 중합체, 즉, 올리고머 또는 중합체, 바람직하게는 중합체이며, 상기 식에서 모든 구성 단위 M0는 동일하다.
화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및/또는 화학식 (I'')의 화합물에 기초한 예시적인 단일 중합성 화합물은 표 2에 나타낸 바와 같은 하기 화합물 (P-001) 내지 화합물 (P-162)이다.
[표 2]
문자 n은 앞에서 설명된 바와 같은 중합도를 제공한다.
화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 및/또는 화학식 (I'')의 화합물에 기초한 예시적인 구성 단위 M0, 또는 화학식 (M0-I'-a), 화학식 (M0-I'-b), 화학식 (M0-I'-c), 화학식 (M0-I'-d), 화학식 (M0-I'-e), 화학식 (M0-I'-f), 화학식 (M0-I'-g), 화학식 (M0-I'-h), 화학식 (M0-I'-i) 또는 화학식 (M0-I'')의 구성 단위 M0는 표 2-1에 나타낸 바와 같은 하기 화합물 (M0-001) 내지 화합물 (M0-162)이다.
[표 2-1]
바람직하게는, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 본 발명에 따른 공중합체는, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 치환기와 함께 몰 비 m1의 전술된 바와 같은 하나 이상의 구성 단위 M0 및 몰 비 m2의 하나 이상의 구성 단위 M2를 포함하고, m1 : m2의 비는 0.01 이상 100 이하이다.
특히 바람직하게는, 이러한 공중합체는 본 발명에 따른 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 포함된다.
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 본 발명에 따른 올리고머, 중합체 또는 공중합체, 바람직하게는 중합체 또는 중합체는 가교결합될 수 있다. 특히 바람직하게는, 이러한 중합체 또는 공중합체는 본 발명에 따른 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 포함된다.
본 발명의 올리고머 또는 중합체는 임의의 적합한 방법에 의해 만들어질 수 있다. 그러나, 본 발명의 올리고머, 중합체 및 공중합체는 라디칼 중합에 의해 만들어지는 것이 바람직하며, 라디칼 중합 반응은 적합한 라디칼 중합 개시제에 의해 시작된다. 본 발명의 목적의 경우, 라디칼 중합 개시제의 유형은 특별히 제한되지 않고, 임의의 적합한 라디칼 생성 화합물일 수 있다. 이러한 화합물은 당업자에게 잘 알려져 있다. 적합한 중합 개시제는 열개시제 또는 광개시제, 즉, 열 또는 적합한 파장의 광을 사용한 조사에 노출하여 라디칼을 생성하는 화합물로부터 선택될 수 있다. 적합한 열 중합 개시제의 예는 하나 이상의 퍼옥사이드기를 포함하는 화합물, 즉, 기 -O-O-를 포함하는 화합물, 및/또는 하나 이상의 아조기를 포함하는 화합물, 즉, 기 -N≡N-을 포함하는 화합물의 군으로부터 선택될 수 있다.
하나 이상의 퍼옥사이드기를 포함하는 적합한 중합 개시제는, 예를 들어, t-부틸(퍼옥시-2-에틸-헥사노에이트), 다이-(tert-부틸사이클로헥실)퍼옥시다이카르보네이트 및 벤조일퍼옥사이드로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
하나 이상의 아조기를 포함하는 적합한 중합 개시제는, 예를 들어, 1,1'-아조비스(사이클로헥산카르보니트릴) 및 2,2'아조비스(사이클로헥산카르보니트릴)(AIBN)로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
적합한 광개시제의 예는 다이메틸아미노벤조에이트/캄포르퀴논, 다이페닐(2,4,6-트라이메틸벤조일)포스핀 옥사이드(TPO) 또는 페닐비스(2,4,6-트라이메틸벤조일)포스핀 옥사이드(BAPO)이다.
광개시제가 중합 개시제로서 사용되는 경우, 상기 광개시제를 분해하기 위해 요구되는 파장은, 화합물의 광학 특성을 변경하기 위해 본 출원의 화합물을 조사하는데 필요한 파장과는 상이한 것이 바람직하다.
바람직하게는, 라디칼 개시제는 주 단량체의 0.0001 당량 이상 및 0.1 당량 이하의 양으로 사용된다. 이러한 라디칼 개시제는 열 개시제, 예컨대, 아조비스아이소부티로니트릴(AIBN), 또는 다이메틸아미노벤조에이트/캄포르퀴논, 다이페닐(2,4,6-트라이메틸벤조일)포스핀 옥사이드(TPO) 또는 페닐비스(2,4,6-트라이메틸벤조일)포스핀 옥사이드(BAPO) 같은 광화학 개시제일 수 있다.
본 발명은 또한 중합을 위한 조성물에 관한 것이다.
의도된 용도에 따라 기술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 이러한 조성물은 추가의 상이한 구성 성분을 포함할 수 있다. 이러한 추가의 구성 성분은, 예를 들어, UV 흡수제, 항산화제 및 가교제로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
가교제는 또한 가교결합제로도 지칭될 수 있다.
본 발명은 또한 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 적어도 하나의 화합물, 또는 기술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화합물 (A-001) 내지 화합물 (A-162), 및/또는 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같지만 중합을 위해 남겨진 적어도 하나의 반응성기를 갖는 올리고머 또는 중합체, 및/또는 가교결합제, 및/또는 UV 흡수제, 및/또는 라디칼 개시제, 및 선택적으로 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 화합물 또는 화합물 (A-001) 내지 화합물 (A-162)과는 상이한 추가의 단량체를 포함하는 중합을 위한 조성물에 관한 것이다.
화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 적어도 하나의 화합물, 또는 기술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화합물 (A-001) 내지 화합물 (A-162), 및 전술된 바와 같은 본 발명에 따른 올리고머 또는 중합체를 포함하는 조성물은 올리고머 또는 중합체가 단량체와 반응할 수 있는 남겨진 적어도 하나의 반응성기를 갖는다는 조건으로 블록 공중합체의 합성을 위해 주로 사용된다.
조성물은 상기의 필수적인 또는 선택적인 구성요소를 포함 또는 함유거나, 이들로 본질적으로 이루어진 또는 이루어질 수 있다. 조성물에 사용될 수 있는 모든 화합물 또는 구성 성분은 공지되어 상업적으로 구매가능하거나, 알려진 공정에 의해 또는 본 명세서에 기술된 바와 같이 합성될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물의 구성 성분은, 중합된 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 광활성 발색단의 적어도 2 wt% 내지 100 wt%, 바람직하게는 3 wt% 내지 70 wt%, 특히 바람직하게는 4 wt% 내지 51 wt%, 매우 특히 바람직하게는 5 wt% 내지 45 wt%가 본 발명에 따라 생성된 올리고머, 중합체 또는 공중합체에 포함되는 양으로 조합된다.
본 발명에 따른 조성물의 구성 성분은, 중합된 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 광활성 발색단의 적어도 2 wt% 내지 100 wt%, 바람직하게는 3 wt% 내지 70 wt%, 특히 바람직하게는 4 wt% 내지 51 wt%, 매우 특히 바람직하게는 5 wt% 내지 45 wt%가 본 발명에 따른 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 재료를 구축하는, 생성된 올리고머, 중합체 또는 공중합체에 포함되는 양으로 조합된다.
본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 UV 흡수제는 특별히 제한되지 않으며, 일반적으로 당업자에게 알려진 것들로부터 용이하게 선택될 수 있다. 일반적으로 적합한 UV 흡수제는 불포화된 화합물, 바람직하게는 올레핀기, 아릴기 및 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 화합물에 의해 특징지어지고; 이들 기는 임의의 조합으로 존재할 수 있다.
본 조성물에 사용하기 위한 적합한 UV-흡수제는, 예를 들어, 벤조트라이아졸, 벤조페논 및 트라이아진으로부터 선택된 기를 포함하는 것들로부터 선택될 수 있다. 적합한 UV-흡수제는, 예를 들어, 미국 특허 제5,290,892호; 제5,331,073호 및 제5,693,095호에 개시된다.
적합한 UV-흡수제는 2-(3-(t-부틸)-4-하이드록시-5-(5-메톡시-2-벤조트라이아졸릴)페녹시)에틸 메타크릴레이트, 3-(3-(t-부틸)-4-하이드록시-5-(5-메톡시-2-벤조트라이아졸릴)페녹시)프로필 메타크릴레이트, 3-(3-t-부틸-5-(5-클로로벤조트라이아졸-2-일)-4-하이드록시페닐)프로필 메타크릴레이트3-(3-(tert-부틸)-4-하이드록시-5-(5-메톡시-2H-벤조[d][1,2,3]트라이아졸-2-일)페녹시)프로필메타크릴레이트, 2-(2-하이드록시-5-비닐페닐)-2H-벤조트라이아졸, 알릴-2-하이드록시벤조페논, 2-알릴-6-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-p-크레졸, 4-메타크릴옥시-2-하이드록시벤조페논, 2-(2'-하이드록시-3'-메탈릴-5'-메틸페닐)벤조트라이아졸, 2-하이드록시-4-메타크릴로일옥시벤조페논, 4-아크릴로일에톡시-2-하이드록시벤조페논, 2-[3-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]에틸메타크릴레이트, 2-(2'-하이드록시-5'-메타크릴아미도페닐)-5-메톡시벤조트라이아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-메타크릴아미도페닐)-5-클로로벤조트라이아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-메타크릴옥시프로필페닐)벤조트라이아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-메타크릴로일프로필-3'-tert-부틸-페닐)-5-메톡시-2H-벤조트라이아졸, 2-(3-(tert-부틸)-4-하이드록시-5-(5-메톡시-2H-벤조[d][1,2,3]트라이아졸-2-일)페녹시)에틸메타크릴레이트, 2-[3'-tert-부틸-2'-하이드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로필)페닐]-5-클로르벤조트라이아졸, 2-{2'-하이드록시-3'-tert-부틸-5'-[3'-메타크릴로일옥시프로폭시]페닐}-5-메톡시-2H-벤조트라이아졸, 2-[3'tert-부틸-5'-(3''-다이메틸비닐실릴프로폭시)-2'-하이드록시페닐]-5-메톡시벤조트라이아졸, 2-(tert-부틸)-6-(5-클로로-2H-벤조[d][1,2,3]트라이아졸-2-일)-4-비닐페놀, 2-(2H-1,2,3-벤조트라이아졸-2-일)-4-메틸-6-(2-메틸프로프-2-에닐)페놀, 2-(3-아세틸-2-아미노페녹시)에틸 메타크릴레이트, 2-(4-벤조일-3-하이드록시페녹시)에틸 아크릴레이트 또는 이 화합물들의 조합이다.
바람직한 UV-흡수제는 기술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 단량체와 함께 중합될 수 있는 2-[3'-2'H-벤조트라이아졸- 2'-일)-4'-하이드록시페닐]에틸 메타크릴레이트(BTPEM), 2-(3-(t-부틸)-4-하이드록시-5-(5-메톡시-2-벤조트라이아졸릴)페녹시)에틸 메타크릴레이트, 3-(3-(t-부틸)-4-하이드록시-5-(5-메톡시-2-벤조트라이아졸릴)페녹시))프로필 메타크릴레이트, 3-(3-t-부틸-5-(5-클로로벤조트라이아졸-2-yl)-4-하이드록시페닐)프로필 메타크릴레이트의 군으로부터 선택된다.
적합한 가교제는 본 조성물 및 그와 함께 생성되는 안과용 장치 또는 전구체 물품에 탄성중합체 특성을 부여하기 위해 사용될 수 있다. 전형적으로 임의의 적합한 다이- 또는 트라이-작용기 단량체는 가교결합제로서 사용될 수 있다. 이러한 단량체는 일반적으로 당업자에게 잘 알려져 있고, 폴리(에틸렌 글리콜) 다이아크릴레이트, 폴리(에틸렌글리콜) 다이메타크릴레이트, 에틸렌글리콜다이메타크릴레이트(EGDMA), 에틸렌글리콜다이아크릴레이트, 1,3-프로판다이올다이아크릴레이트, 1,6-헥산다이올다이아크릴레이트, 1,8-옥탄다이올다이아크릴레이트, 1,11-운데칸다이올다이아크릴레이트, 1,12-도데실다이아크릴레이트, 1,15-펜타데칸다이올다이아크릴레이트, 1,16-헥사데칸다이올다이아크릴레이트, 1,18-옥타데칸다이올다이아크릴레이트, 1,3-프로판다이올다이메타크릴레이트, 1,6-헥산다이올다이메타크릴레이트, 1,8-옥탄다이올다이메타크릴레이트, 1,11-운데칸다이올다이메타크릴레이트, 1,12-도데실다이메타크릴레이트, 1,15-펜타데칸다이올다이메타크릴레이트, 1,16-헥사데칸다이올다이메타크릴레이트, 1,18-옥타데칸다이올다이메타크릴레이트의 군으로부터 선택될 수 있다.
바람직한 가교제는 하기 화합물의 군으로부터 선택될 수 있다
에틸렌 글리콜 다이메타크릴레이트(EGDMA)가 특히 바람직하다.
적합한 항산화제는 장애 페놀 모이어티를 보유한 페닐 아크릴레이트 유도체이다. 바람직한 항산화제는
화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 화합물, 또는 기술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 본 발명에 따른 화합물 (A-001) 내지 화합물 (A-162) 및 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화학식 (M0-I'-a), 화학식 (M0-I'-b), 화학식 (M0-I'-c), 화학식 (M0-I'-d), 화학식 (M0-I'-e), 화학식 (M0-I'-f), 화학식 (M0-I'-g), 화학식 (M0-I'-h), 화학식 (M0-I'-i) 또는 화학식 (M0-I'')의 하나 이상의 구성 단위 M0 또는 하나 이상의 구성 단위 (M0-001) 내지 구성 단위 (M0-162)를 포함하는 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 이의 올리고머, 중합체 또는 공중합체는 특히 광학 활성 장치, 예컨대, 전술된 바와 같은 안과용 장치에 사용하기에 매우 적합하다.
화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 화합물, 또는 기술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 본 발명에 따른 화합물 (A-001) 내지 화합물 (A-162) 및 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화학식 (M0-I'-a), 화학식 (M0-I'-b), 화학식 (M0-I'-c), 화학식 (M0-I'-d), 화학식 (M0-I'-e), 화학식 (M0-I'-f), 화학식 (M0-I'-g), 화학식 (M0-I'-h), 화학식 (M0-I'-i) 또는 화학식 (M0-I'')의 하나 이상의 구성 단위 M0 또는 하나 이상의 구성 단위 (M0-001) 내지 구성 단위 (M0-162)를 포함하는 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 이들의 올리고머, 중합체 또는 공중합체는 특히 2-광자 또는 다중 광자 흡수에 민감하다. 따라서 안과용 장치 및 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품은 2-광자 또는 다중 광자 흡수에 민감하다.
본 발명에 따른 안과용 장치, 바람직하게는 환자의 눈 내에 바람직하게 배열된 안내 렌즈의 2-광자 또는 다중-광자 조사를 위한 시스템은 제한되지 않는다. 몇몇 예가 하기에 기재된다.
따라서 본 발명은 또한 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 관한 것이며, 상기 전구체 물품은, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 화학식 (M0-I'-a), 화학식 (M0-I'-b), 화학식 (M0-I'-c), 화학식 (M0-I'-d), 화학식 (M0-I'-e), 화학식 (M0-I'-f), 화학식 M0-I'-g), 화학식 M0-I'-h), 화학식 (M0-I'-i) 또는 화학식 (M0-I'')의 하나 이상의 구성 단위 M0 또는 하나 이상의 구성 단위 (M0-001) 내지 구성 단위 (M0-162)를 포함하는 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 적어도 하나의 올리고머, 중합체 또는 공중합체를 포함하는 광학적으로 활성인 안과용 장치로 변형될 수 있는 블랭크이다.
바람직한 안과용 장치는 광학적으로 활성인 안과용 장치이다. 이러한 안과용 장치 또는 눈-이식체의 예는 렌즈, 인공각막이식, 및 각막 인레이 또는 링을 포함한다. 더 바람직하게는, 상기 안과용 장치 또는 눈-이식체는 렌즈 물품이다. 가장 바람직하게는, 이러한 안과용 장치는 렌즈이다. 렌즈의 유형은 제한되지 않고, 콘택트 렌즈 또는 안내 렌즈를 포함할 수 있다. 더 바람직하게는, 이러한 안과용 장치는, 예를 들어, 후안방 안내 렌즈 또는 전안방 안내 렌즈일 수 있는 안내 렌즈이다.
본 발명의 블랭크는 전술된 바와 같은 안과용 장치, 바람직하게는 안내 렌즈를 생성하는데 사용되는 제조 공정에서 단계로서 생산될 수 있다. 예를 들어, 제한 없이, 제조 공정은 중합체 합성, 중합체 시트 캐스팅, 블랭크 절단, 옵틱 래스(optic lathe) 절단, 옵틱 밀링(milling), 햅틱 밀링 또는 부착, 연마, 용매 추출, 멸균 및 포장의 단계를 포함할 수 있으며, 용어 중합체는 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같이 사용된다.
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 본 발명에 따른 본 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품은
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화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 적어도 하나의 화합물, 또는 본 명세서에 기술된 또는 바람직하게는 본 명세서에 기술된 바와 같은 화합물 (A-001) 내지 화합물 (A-162), 및/또는 본 명세서에 기술된 또는 바람직하게는 본 명세서에 기술된 바와 같지만 중합을 위해 남겨진 적어도 하나의 반응성기를 갖는 올리고머 또는 중합체, 및 선택적으로 본 명세서에 기술된 또는 바람직하게는 본 명세서에 기술된 바와 같은 화학식 (I), 화학식 (I#), 화학식 (I'), 화학식 (I'-a), 화학식 (I'-b), 화학식 (I'-c), 화학식 (I'-d), 화학식 (I'-e), 화학식 (I'-f), 화학식 (I'-g), 화학식 (I'-h), 화학식 (I'-i) 또는 화학식 (I'')의 화합물 또는 화합물 (A-001) 내지 화합물 (A-162)과는 상이한 추가의 단량체 및/또는 가교결합제 및/또는 UV 흡수제 및/또는 라디칼 개시제를 포함하는 조성물을 제공하는 단계; 및
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후속적으로 상기 조성물의 안과용 장치 또는 전구체 물품을 형성하는 단계를 포함하는 공정에 의해 형성될 수 있다.
본 발명에 따른 안내 렌즈는, 말리거나 접히도록 충분히 가요성이어서 결과적으로 렌즈가 눈 내에 삽입되기 위해 훨씬 작은 절개를 요구한다는 점에서 특히 유리한 특성을 나타내는 것으로 여겨진다. 이는 눈의 치료, 특히 눈이 치료되는 시간에 대하여 개선될 것으로 여겨진다.
안내 렌즈의 유형은 어떤 방식으로도 제한되지 않는다. 이는, 예를 들어, 가수정체(pseudo-phakic) 안내 렌즈 또는 유수정체(phakic) 안내 렌즈일 수 있다. 전자의 유형은, 보통 제거된 백내장 수정체를 대체하기 위해 눈의 본연의 수정체를 대체한다. 후자의 유형은 기존의 수정체를 보완하기 위해 사용되고, 영구적 교정 렌즈로서 기능하고, 이는 눈의 굴절 오차를 교정하기 위해 전안방 또는 후안방에 이식된다. 이는, 예를 들어, 하나 이상의 옵틱 구성 성분 및 하나 이상의 햅틱 구성 성분을 포함할 수 있으며, 하나 이상의 옵틱 구성 성분은 렌즈로서 역할을 하고, 하나 이상의 햅틱 구성 성분은 하나 이상의 옵틱 구성 성분에 부착되어 하나 이상의 옵틱 구성 성분을 눈에서 제자리에 유지시킨다. 본 안내 렌즈는 원-피스(one-piece) 설계 또는 다중-피스(multi-piece) 설계일 수 있으며, 이는 하나 이상의 옵틱 구성 성분 및 하나 이상의 햅틱 구성 성분이 단일 피스의 재료로 형성(원-피스 설계)되는지 또는 별개로 제조되어 이후 조합(다중-피스 설계)되는지의 여부에 달려있다. 본 안내 렌즈는 또한, 안내 렌즈가 예를 들어, 3 mm 이하의 길이만큼 가능한 한 작은 절개를 통해 눈에 맞춰지도록 충분히 작게, 예를 들어, 말리거나 접히는 것을 허용하는 그러한 방식으로 설계된다.
추가적으로, 본 발명에 따른 안내 렌즈는 눈 내에 렌즈의 이식 후 광학 특성, 특히 편극률 또는 굴절력의 비침습적 조정을 허용하여, 수술 후 시력 보조기구의 필요성을 감소시키거나 후속(follow-up) 수술을 감소시키거나 전적으로 피한다.
본 발명에 따른 안과용 장치, 예컨대, 안내 렌즈의 광학 특성, 특히 편극률 또는 굴절력의 변경을 위해, 이것은 200 nm 이상 및 1500 nm 이하의 파장을 갖는 조사에 노출된다. 상기 조사는 제한되지 않고 단일-광자 또는 2-광자 또는 다중-광자 공정에 기초한 것일 수 있다.
따라서, 본 발명은 또한 본 명세서에 정의된 또는 바람직하게는 정의된 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 광학 특성을 변경하는 공정에 관한 것이며, 상기 공정은
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본 명세서에 정의된 바와 같은 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품을 제공하는 단계; 및
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후속적으로 상기 안과용 장치 또는 상기 전구체 물품을 200 nm 이상 및 1500 nm 이하의 파장을 갖는 조사에 노출시키는 단계를 포함한다.
바람직하게는, 상기 조사는 파장이 250 nm 또는 300 nm 이상, 더 바람직하게는 350 nm 이상, 더욱 더 바람직하게는 400 nm 이상, 심지어 더욱 더 바람직하게는 450 nm 이상, 및 가장 바람직하게는 500 nm 이상이다. 바람직하게는, 상기 조사는 파장이 1400 nm 또는 1300 nm 또는 1200 nm 또는 1100 nm 또는 1000 nm 이하, 더 바람직하게는 950 nm 또는 900 nm 이하, 더욱 더 바람직하게는 850 nm 이하, 심지어 더욱 더 바람직하게는 800 nm 이하 및 가장 바람직하게는 750 nm 이하이다.
따라서, 본 발명은 또한 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 또는 하기와 같은 상기 조사 공정에 의해 획득가능한 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품에 관한 것이다.
대안적으로, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 상기 안과용 장치의 굴절률의 수정으로서 굴절력의 변경을 기술할 수 있다. 대안적으로, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 상기 안내 렌즈의 굴절률의 수정으로서 굴절력의 변경을 기술할 수 있다. 초점 체적 내로의 조사로 인해 그 결과 굴절 광학 구조체는 상기 안과용 장치의 대부분 또는 대안적으로 상기 안과용 장치의 비조사된 부분의 굴절률에 대한 굴절률의 변경에 의해 특징지어진다. 초점 체적 내로의 조사로 인해 그 결과 굴절 광학 구조체는 상기 안과용 장치 또는 안내 렌즈의 대부분 또는 대안적으로 상기 안과용 장치 또는 안내 렌즈의 비조사된 부분의 굴절률에 대한 굴절률의 변경에 의해 특징지어진다. 편극률 또는 굴절률의 변경은 달리 말하면 기술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 광학 안과용 장치에서, 바람직하게는 기술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 안내 렌즈에서 패턴화된 원하는 굴절 구조체를 형성하기 위해 사용될 수 있다.
따라서, 본 발명은 또한 상기 안과용 장치의 대부분 또는 대안적으로 상기 안과용 장치의 비조사된 부분의 굴절률에 대한 굴절률의 변경에 의해 특징지어진 굴절 광학 구조체를 갖는 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 그리고 하기와 같은 상기 조사 공정에 의해 획득가능한 안과용 장치에 관한 것이다.
안과용 장치, 바람직하게는 안내 렌즈 물품의 절제 또는 제거가 조사 영역에서 관찰되지 않는 방식으로, 굴절률의 변경은 보여주면서 산란 손실은 거의 또는 전혀 나타내지 않는 굴절 구조체를 제공하는 것이 바람직하다.
이러한 공정에서, 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 안과용 장치의 조사된 영역은 구형, 비구형, 원환형 또는 원통형 보정을 제공할 수 있는 2차원 또는 3차원의 면적 또는 체적으로 채워진 굴절 구조체의 형태를 취할 수 있다. 실제로, 임의의 광학 구조체는 물리적 방향 양쪽 모두에서 전력 보정을 생성하도록 형성될 수 있다. 게다가, 광학 구조체는 단일 렌즈 요소로서 작용하기 위해 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 안과용 장치에서 수직으로 적층되거나 별개의 평면에 기록될 수 있다.
따라서 본 발명은 또한, 본 발명에 따른 안과용 장치, 바람직하게는 환자의 눈 내에 바람직하게 배열된 안내 렌즈의 편극률 및/또는 굴절력을 국소적으로 조정하기 위한 방법에 관한 것이다. 본 방법은 특히 비파괴적인 방식으로 2-광자 또는 다중-광자 공정을 통한 편극률 조정에 의한 광학 프로파일의 제조에 관련된다. 상기 2-광자 또는 다중-광자 공정은 단일-광자 공정과 비교하여 상이한 광학 프로파일을 허용하고, 광학 프로파일을 포함한 본 발명에 따른 안과용 장치의 제조에 유리하게 사용될 수 있다.
상기 2-광자 또는 다중-광자 공정에 사용되는 시스템은 유리하게는 굴절 오차와 같은 시각적 결함을 제거하기 위해 안내 렌즈(IOL)의 광학 특성/프로파일의 수술후 및 비침습적 조정을 허용한다. 게다가, 본 발명에 따른 안과용 장치를 제조할 때, 시스템은 유리하게는, 특히 구형, 비구형, 원환형 또는 원통형 보정을 제공할 수 있는 굴절 구조체 및/또는 일단 안과용 장치의 제조가 완료되면 안과용 장치의 가요성을 유지할 수 있게 하기 위해 안과용 장치의 섬세한 제조를 허용한다. 안과용 장치의 편극률은, 상기 안과용 장치의 광학 특성/프로파일의 조정을 허용하거나 안과용 장치의 상이한 평면에서 광학 특성의 조정을 허용하는 2-광자 (또는 일반적으로 다중-광자) 공정에 기초하여 변경된다. 게다가, 2-광자 또는 다중-광자 공정에 기초한 편극률의 수정은 400 nm 내지 590 nm의 파장으로 처리될 때 안과용 장치의 가요성을 유지하는 것이 개선되도록 한다.
따라서, 본 발명은 또한 2-광자 또는 다중-광자 흡수 공정에 기초하여 본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 관한 것이며, 상기 공정은:
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 상기 안과용 장치를 제공하는 단계; 및
시스템을 사용하여 상기 안과용 장치의 조사를 통해 상기 안과용 장치의 편극률을 조정하는 단계를 포함하고,
상기 시스템은:
옵틱으로 초점이 맞춰지고 제1 파장 및/또는 제1 파장과 상이한 제2 파장의 조사 빔으로 상기 안과용 장치를 조사하는, 2-광자 또는 다중-광자의 하나 이상의 조사 공급원,
하나 이상의 조사 공급원에 결합되고 상기 안과용 장치를 가로질러 상기 조사 빔을 스캔하도록 구성되는 스캐너, 및
하나 이상의 조사 공급원 및 스캐너에 결합된 입력 유닛으로서, 입력 데이터에 기초하여 상기 안과용 장치를 가로질러 상기 조사 빔을 스캔함으로써 상기 안과용 장치를 처치하기 위한 데이터를 입력하도록 구성된 입력 유닛을 포함하고,
상기 안과용 장치의 상기 처치에 기초하여 상기 안과용 장치의 편극률을 국소적으로 감소시키기 위한 제1 파장은 600 nm 내지 800 nm이고, 상기 안과용 장치의 상기 처치에 기초하여 상기 안과용 장치의 편극률을 국소적으로 증가시키기 위한 제2 파장은 400 nm 내지 590 nm이며, 그 결과 상기 안과용 장치의 중합체성 광학 물질을 안과용 장치의 비-조사된 중합체성 광학 물질에 대하여 UV/Vis 스펙트럼에서 바람직하게는 유의한 차이를 갖도록 변화시킨다.
자외선-가시광선 분광법 또는 자외선-가시선 분광광도법(UV-Vis 또는 UV/Vis)은 당업자에게 알려져 있다. 이는 자외선 일부 및 인접한 전체 가시광선 스펙트럼 영역의 일부분의 흡수 분광법 또는 반사 분광법을 지칭한다. 적합한 UV/Vis 분광광도계는 상업적으로 구매가능하다. UV/Vis 분광광도계의 선택은 초기 안과용 장치의 UV/Vis 스펙트럼과 본 발명에 따라 제조된 상기 조사된 안과용 장치의 UV/Vis 스펙트럼의 비교에 중요하지 않다. 둘 모두의 측정이 비슷한 조건 하에서 이루어지는 한 당업자에게 알려진 대로 결과를 비교할 수 있다. 적합한 분광광도계는 퍼킨 엘머(Perkin Elmer)로부터의 UV/Vis 분광광도계 람다 900(Lambda 900)이다.
편극률은 본 명세서에서 특별히 정밀하게 국소적으로 변경될 수 있다.
본 발명은 더욱이, 환자의 눈 내의 안내 렌즈의 굴절력을 수정함에 의해 상기 환자의 시력을 교정하기 위한 방법에 관한 것으로서,
환자의 시력 교정의 정도를 확인하고 측정하는 단계;
환자의 시력을 교정하기 위해 상기 안내 렌즈 내로 기록되는 굴절 구조체의 유형 및 위치를 결정하는 단계; 및
후속적으로, 안내 렌즈의 편극률을 국소적으로 감소시키기 위해 600 nm 내지 800 nm의 파장을 갖는 2-광자 또는 다중-광자 조사에 상기 안내 렌즈를 노출시키는 단계, 또는
후속적으로, 안내 렌즈의 편극률을 국소적으로 증가시키기 위해 400 nm 내지 590 nm의 파장을 갖는 2-광자 또는 다중-광자 조사에 상기 안내 렌즈를 노출시키는 단계를 포함한다.
본 출원에서, 입력 데이터는, 본 발명에 따른 안과용 장치의 기록 공정 동안 안과적 요구를 제어 명령으로 변형시키는 것으로 정의되는 처치 계획(treatment plan)을 생성하기 위해 사용되는 모든 종류의 데이터이다. 기록 공정 동안, 광학 패턴은 상기 안과용 장치에 조사에 의해 기록된다.
용어 "제어 명령"은 전술된 바와 같이 기록 공정을 직접 제어하는 명령을 지칭한다. 제어 명령은 예컨대, 스캐너의 이동을 제어할 수 있다.
명세서 내에서 사용되는 용어 "스캐너"는 본 발명에 따른 입력 유닛의 일부가 아니다. 본 명세서에 기술된 바와 같이 스캐너"는 조사 빔의 이동을 제어하는 본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 사용되는 시스템의 구성 성분이다.
안과적 요구는 기술된 바와 같은 시스템을 통해 안과용 장치에서 생성되어야만 하는 원하는 광학 프로파일을 지칭한다.
광학 프로파일은 안과용 장치, 바람직하게는 안내 렌즈가 이식되기 전 또는 후에 환자의 검사 결과에 따라 외과의에 의해 정의되는 요구되는 변화로, 예를 들어, 그러나 제한 없이, 구면 전체 도수 변화, 원환체(toric) 프로파일, EDOF 프로파일 또는 2-, 3- 또는 다초점 프로파일이다. 대안적으로, 광학 프로파일은 안과용 장치의 광학 특성 조정이다.
광학 패턴은 안과용 장치의 모든 복셀에서 굴절률 변화를 야기하는 필요한 편극률 변화이다.
본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 사용되는 시스템의 일부로서 본 명세서에서 사용되는 바와 같은 용어 "옵틱(optic)"은 안과용 장치상의 조사 공급원(초점)의 공간적 분포를 제어하기 위해 필요한 모든 광학 장비를 포함한다. 초점의 임계 변수는 측방향 초점 크기(또는 빔 웨이스트(beam waist)) 및 초점 길이(또는 레일리 범위(Rayleigh range))를 포함한다. 옵틱은 빔 확장기, 구경 조리개, 셔터, 특히 현미경 대물렌즈 또는 단일 비구형 렌즈와 같은 초점 광학장치(focusing optic)와 같이 초점을 결정하는 광학 빔 경로에 따른 모든 요소를 포함한다.
다중-광자 여기(excitation)는 오직 초점 근처에서 그리고 바람직하게는 초단파 레이저 펄스의 이용에 의해 발생한다. 평균 전력은 전술된 바와 같은 입력 데이터의 일부인 임계치와 같은 샘플 손상 임계치에 의해 제한된다.
시스템 변수의 선택 및 최적화를 위한 기준:
하나의 궁극적인 목적은 환자의 시력을 개선하기 위해 의사가 처방한 바와 같은 이식 후 IOL의 국소적 굴절률 수정을 생성하는 것이다. 굴절률 수정의 수술의 경우 중요한 기준은 원하는 결과를 얻기 위해 요구되는 총 처치 시간이다. 이는 일반적으로 이러한 수술이 실행 가능한 것으로 인식되기 위해 몇 분을 초과하지 않아야 한다고 인식된다. 최신 기술의 국소화된 굴절률 수정이 가능한 시스템은 IOL 적용의 경우 실질적 처치 횟수를 얻기 위한 접근을 포함하지 않는다.
시스템 트레이드오프(tradeoff) 및 제한의 논의:
일반적으로 안과용 장치 또는 구체적으로 이식 후 IOL을 조정할 수 있는 실질적 고성능 시스템의 경우, 그의 하위 구성 요소는 시스템으로서 처리되어야만 하고, 따라서 하위 구성 요소 사이에 많은 상호 의존 트레이드오프가 존재하는 경우 공동으로 최적화되어야만 하는 것으로 인식된다 하위 구성요소는 조사 공급원, 옵틱, 스캐너 및 처치 계획을 포함한다.
임의의 시스템/매개변수 최적화의 핵심 요건은, 처치의 경우에 안과용 장치 재료에 대한, 또는 IOL인 안과용 장치의 처치의 경우에 눈의 구성 요소(예컨대, 망막)를 포함하는 눈 및 재료에 대한 안전 한계 내에서 유지하는 것이다. 이러한 요건은 전술된 바와 같은 입력 데이터에 대한 기반을 구축한다. 특히, 조사 공급원, 바람직하게는 펄스 레이저 공급원으로부터의 방사에 대한 2개의 주요 손상 기전은 하기로 구별될 수 있다: 단일-펄스 손상(절연 파괴 및 애벌란시 항복(avalanche breakdown)), 및 열 손상(렌즈 재료 및/또는 눈의 온도가 동일한 체적에 대한 반복된 펄스의 경우 후속적으로 가열됨). 예를 들어: 펄스 조사 공급원의 평균 전력은 가열 및 그에 따른 렌즈 재료 및/또는 눈의 잠재적인 손상에 관련이 있다. 따라서, 렌즈 재료 및/또는 눈의 과열 임계치 미만으로 조사 공급원의 평균 전력을 유지하는 반면에, 펄스 에너지 및 펄스 반복률은 역의 관계에 있고, 펄스 에너지 및 초 당 펄스 수의 곱(= 반복률의 역수)은 평균 전력과 동일하다.
평균 전력은 펄스 에너지에 초당 펄스 수를 곱한 것으로 정의되고 와트(W)로 특징지어진다.
조사는 선속 밀도(W/㎠)와 동일하다.
방사선 노출은 플루언스(fluence)(J/㎠)와 동일하다.
종합적인 하나의 목적은 이식 후 IOL 조정에 대한 처치 시간을 최소화하는 것이다. 이론적으로, 더 빈번한 펄스(= 더 높은 반복률)와 함께 점점 더 높은 펄스 에너지가 가해질 수 있지만, 평균 전력이 전형적으로 1 와트를 초과하면, 과열이 시작되어 IOL 재료 및 망막에 안전하지 못한 조건을 생성한다. 따라서, 수 분 내에 전체 IOL 체적의 처치를 완료하는 동시에 안전한 조작 한계를 유지하기 위해, 바람직한 방사선 노출을 정의할 수 있다. 바람직한 방사선 노출은 ≤ 5 kJ/㎠, 특히 바람직하게는 < 1 kJ/㎠ 및 매우 특히 바람직하게는 < 0.3 kJ/㎠이다. 이러한 기술된 방사선 노출은 추가로 후술되는 바와 같은 본 발명에 따른 공정 및 방법에 추가적으로 적용한다.
처치 계획이 너무 광범위하고 과열에 관한 레이저 안전성의 한계를 초과할 경우에, 처치에 의해 영향을 받는 안과용 장치 재료 및 조직 모두의 쿨다운(cool down)을 허용하도록 처치를 중단하는 것이 가능하다. 쿨-다운 후, 위치설정(locating) 시스템은 안과용 장치의 처치된 복셀을 광학 패턴과 비교할 수 있고 처치를 계속될 수 있다.
전술된 바와 같이 시스템을 통해 그리고 요건들로 상기 안과용 장치의 광학 특성/프로파일의 조정하는 공정은 전술된 바와 같은 처치 계획에 따라 행해질 것이다. 처치 계획에 따라, 예컨대, 원환체, 구면, 다초점 또는 EDOF(확장된 초점 심도(extended depth of focus))에 대한 프로파일이 본 발명에 따른 안과용 장치 내로 기록될 수 있다. 알고리즘은, 예컨대, 원환체, 구면, 다초점 또는 EDOF(확장된 초점 심도) 프로파일에 대한 프로파일을 기록하기 위해 사용될 수 있다.
입력 데이터와 함께 원하는 광학 프로파일의 정보를 조합하여, 전술된 바와 같은 시스템의 조사 공급원, 옵틱 및 스캐너에 대한 제어 명령 및 원하는 광학 패턴이 계산될 수 있다. 추가의 입력 데이터는 예를 들어, 상기 안과용 장치 재료의 복셀 당 소정의 굴절률 변화에 필요한 레이저-에너지와 같은 렌즈 데이터, 및 처치 계획 데이터의 일부인 환자의 눈에서 안과용 장치의 정확한 위치 및 배향과 같은 추가의 환자 데이터이다.
제어 명령은, 예컨대, IR-온도 측정에 의한 환자의 눈의 온도 데이터와 같은 공정 중 입력 데이터, 예를 들어, OCT(광 간섭 단층 촬영장치)에 의해 획득된 조사 빔, 안과용 장치 또는 눈의 공정 중 위치결정 데이터, 및/또는 샤임플러그(Scheimpflug) 이미지로부터 획득된 굴절 데이터에 의해 기록 공정 동안 업데이트되고 변경될 수 있다.
입력 데이터의 추가의 실시 형태에서, 입력 데이터는 상기 안과용 장치의, 바람직하게는 상기 안내 렌즈의 렌즈 데이터 및/또는 상기 안과용 장치의 상기 처치에 대한 처치 계획에 관련된 처치 계획 데이터를 포함한다. 예를 들어, 렌즈 데이터는 안과용 장치의 각각의 체적 또는 부분의 위치의 함수로서 안과용 장치의 편광도 및/또는 굴절률 중 하나 이상에 관한 데이터, 형상, 디옵터, 원통형 및 구형 및/또는 상기 치수에서의 개별 수차를 포함할 수 있다. 따라서, 편극률은 현재 편극률(또는 굴절률) 및 처치를 통해 획득된 편극률(또는 굴절률)에 따라 안과용 장치의 하나 이상의 평면에서 특정 위치 또는 체적에서 증가되거나 감소될 수 있다.
처치 계획 계산은, 일부 실시예에서, 하기를 포함하는 처치 계획 데이터 중 하나 이상을 야기하는 제어 명령을 생성할 수 있다: 안과용 장치를 가로지르는 제1 및/또는 제2 파장의 조사 빔의 상기 스캔을 위한 스캔 전략의 스캔 전략 제어 명령 데이터(예를 들어, 스캔 패턴 및/또는 스캔 순서 및/또는 스캔 속도 및/또는 스캔 패턴의 스캔 지속기간 및/또는 스캔 순서의 스캔 지속기간 및/또는 제1 및/또는 제2 파장의 조사 빔의 펄스의 펄스 지속기간 (예를 들어, 나노 초 또는 피코 초 또는 펨토 초 펄스) 및/또는 제1 및/또는 제2 파장의 조사 빔의 조사 빔 프로파일 및/또는 방사선(광자) 밀도 및/또는 방사선 세기 및/또는 방사 전력 및/또는 방사 파장), 상기 노출 동안 안과용 장치의 현재 및/또는 예상 온도의 온도 데이터와 같은 공정 중 입력 데이터, 상기 노출에 기초하여 획득된 안과용 장치의 굴절률/편극률, 특히 안과용 장치의 특정 위치/좌표에서 획득된 굴절률/편극률의 맵핑에 관하여 획득된 굴절률/편극률의 굴절률/편극률 데이터, 파열(rhexis)의 치수의 파열 치수 데이터, 및 환자의 눈의 형상 및/또는 치수에 관한 눈 데이터와 같은 입력 데이터, 눈에 대한 안과용 장치의 위치 및/또는 배향에 관한 위치결정 데이터, 및 환자 및/또는 환자의 특정한 눈의 식별에 관한 등록 데이터.
바람직하게는, 스캔 전략의 스캔 전략 제어 명령 데이터는 하기에 추가로 기술되는 바와 같은 스캔 패턴 및/또는 스캔 속도 및/또는 펄스의 펄스 지속기간 및/또는 방사선 세기이다.
조사 빔(들)의 변수는 이어서, 원하는 경우, 안과용 장치의 편광성/굴절률을 정밀하게(국소적으로) 변경하기 위해, 본 명세서에 정의된 바와 같은 렌즈 데이터 및/또는 처치 계획 데이터에 따라 조정될 수 있다.
바람직하게는, 조사 빔(들)의 변수는 전술된 또는 바람직하게는 본 명세서에 기술된 바와 같은 렌즈 데이터 및/또는 처치 계획 데이터에 따라 조정된다.
당업자는, 조사 빔의 피사계 심도(레일리 범위)가 안과용 장치 내로 기록되는 광학 구조체의 원하는 두께와 매칭될 때 최적의 조사 초점 조건이 이루어진다는 점에 관하여 잘 인식하고 있다.
당업자는, 조사 빔의 피사계 심도(레일리 범위)가 안과용 장치의 국소 두께에 맞게 매칭될 때 최적의 조사 초점 조건이 이루어진다는 점에 관하여 잘 인식하고 있다.
추가의 실시 형태에서, 렌즈 데이터는 상기 안과용 장치의 방사선 흡수 특성(예를 들어, 광의 파장에 따라 달라질 수 있는, 흡수 및/또는 광 감쇠 계수)에 관한 데이터를 포함하고, 여기서 시스템은 다중-광자 흡수 공정에 기초하여 편극률을 국소적으로 변경하기 위해 상기 안과용 장치에 대한 제1 파장 및/또는 제2 파장을 조정하도록 구성된다. 예를 들어, 안과용 장치에 사용되는 재료에 기초하여, 특정한 파장 또는 파장 범위는 안과용 장치의 편극률의 정밀한 국소 변경을 위한 입력일 수 있다.
본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 사용되는 시스템의 일부로서 하나 이상의 조사 공급원은 나노-초 펄스, 바람직하게는 피코-초 펄스 및 더 바람직하게는 펨토-초 펄스를 생성하는데 사용될 수 있는 하나 이상의 펄스 레이저를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 하나의 조사 공급원이 사용된다. 특히 바람직하게는, 하나 이상의 조사 공급원은 펨토-초 펄스를 생성하는데 사용되는 하나 이상의 펄스 레이저를 포함한다. 특히 바람직하게는, 펨토-초 펄스를 생성하는데 사용되는 하나의 펄스 레이저는 본 발명에 따른 시스템에 대하여 또는 본 발명에 따른 공정 및 방법에 대하여 조사로서 사용된다.
일 실시 형태에서, 하나 이상의 조사 공급원은 각각 제1 및 제2 파장을 갖는 레이저 빔을 방출하도록 조정가능한 레이저를 포함한다. 이는 특히 단일 레이저가 원하는 바와 같이 안과용 장치 또는 안내 렌즈의 편광성/굴절률을 (국소적으로) 증가시키거나 감소시키는데 사용될 수 있을 때 유리할 수 있다.
상이한 펄스 레이저 유형은 본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 사용되는 시스템 내의 상기 조사 공급원에 적합하다. ㎒ 레이저 뿐만 아니라 ㎑ 레이저가 적합하고 특별한 장점을 갖는다. ㎒ 레이저 시스템이, 예를 들어, 낮은 펄스 에너지에서 작동하는 동안, 초점이 맞춰진 레이저 스폿은 μm-크기(<1 μm 내지 수 μm)로 유지될 수 있고, 따라서, 예를 들어, 회절 구조체를 생성하기 위해 모든 3차원에서 정밀한 국소 굴절률 수정에 사용될 수 있다. 바람직한 ㎒-조사 공급원은 0.1 내지 10 nJ 범위의 펄스 에너지를 갖는 80 ㎒ 레이저이다.
반면에 ㎑-레이저는 전형적으로 0.1 내지 10 μJ의 더 높은 펄스 에너지에서 작동하고, 따라서, 렌즈 재료에 손상을 주지 않기 위해, 예를 들어, 10 내지 100 μm의 더 큰 스폿 크기를 필요로 한다. 그러나, 더 큰 레이저 스폿 크기는, 안과용 장치 재료의 두께와 동일하거나 심지어 초과할 수 있는 큰 피사계 심도(= 긴 레일리 범위)를 의미한다. 이러한 긴 레일리 범위의 경우, IOL에서 층층이 굴절률을 변경하는 것이 불가능할 수 있고, 그러나 단지 초점 주위의 선을 따라서만 균일하게 변경하는 것이 가능할 수 있다. 바람직한 ㎑-조사 공급원은 100 내지 500 ㎑의 반복률을 갖는 레이저이다.
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 조사 공급원의 평균 전력은 바람직하게는 300 내지 600 mW, 더 바람직하게는 400 내지 500 mW이다.
본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 사용되는 시스템의 일부로서 조사 공급원은 바람직하게는 대략 680-1080 nm 범위의 가변적인 파장을 제공할 수 있는, Ti:사파이어 레이저(예를 들어, Coherent의 Chameleon Ultra II, 미국 캘리포니아주 산타클라라 소재)와 같은 조정가능 레이저를 포함한다. 시스템은 또한 광 파라메트릭 발진기(예를 들어, Coherent의 주파수 배가 Chameleon Compact OPO-Vis, 미국 캘리포니아주 산타클라라 소재)를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 사용되는 시스템의 일부로서 조사 공급원은 특히 바람직하게는 광 파라메트릭 증폭기와 함께 펨토 초 펌프 레이저를 포함한다. 상기 펌프 레이저는 0.1 내지 700 ㎑의 반복률을 갖는 350 fs 미만의 펄스로 1030 nm에서 10 와트 초과의 평균 전력의 조사를 방출한다. 상기 펌프 레이저의 방사는 광 파라메트릭 증폭기에 관한 것이며, 펌프 레이저 출력은 주파수-배가되고, 선택적으로 혼합되어, 600 nm 내지 800 nm의 파장 범위에서 최종 조정가능한 출력을 야기한다. 바람직한 반복률은 50 내지 600 ㎑이다. 특히 바람직한 반복률은 100 내지 500 ㎑이다.
본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 사용되는 시스템의 일부로서 조사 공급원은 특히 바람직하게는 광 파라메트릭 증폭기와 함께, 1 내지 700 ㎑의 반복률에서 350 fs 미만의 조사 펄스를 방출하는 1030 nm에서 10 와트 초과의 평균 전력의 펨토-초 펌프 레이저를 포함한다. 상기 펌프 레이저의 방사는 하나 또는 다수의 2차-고조파 단계를 갖는 광 파라메트릭 증폭기에 관한 것이며, 400 nm 내지 590 nm의 파장 범위에서 최종 조정가능한 출력을 야기한다. 바람직한 반복률은 50 내지 600 ㎑이다. 특히 바람직한 반복률은 100 내지 500 ㎑이다.
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 레이저 유형은 수 밀리미터의 직경의 시준된 광학 빔을 생성하고, 이는 이어서 옵틱 및 스캐너에 관한 것이다. (빔 품질 인자 또는 빔 전파 인자를 통해 특징지어지는) 광학 빔 품질은 이상적으로 1.0 내지 1.5, 더 이상적으로 1.0 내지 1.3이다. DIN EN ISO 11146에 따라서, 광학 빔 품질은 M²의 크기로 주어진다
본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 사용되는 시스템 내의 조사 빔의 제1 파장은 IOL의 편극률(및 그에 따른 굴절률)을 (국소적으로) 감소시키기 위해 600 nm 내지 800 nm, 바람직하게는 650 nm 내지 750 nm, 더 바람직하게는 670 nm 내지 720 nm, 더 바람직하게는 680 내지 710이다.
본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 사용되는 시스템 내의 조사 빔의 제2 파장은 IOL의 편극률(및 그에 따른 굴절률)을 (국소적으로) 증가시키기 위해 400 nm 내지 590 nm, 바람직하게는 500 nm 내지 580 nm, 더 바람직하게는 530 nm 내지 570 nm이다.
본 명세서에서 편극률은 매우 정밀하게 국소적으로 변경될 수 있다.
본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 사용되는 시스템 내의 옵틱:
옵틱의 주 기능은, 조사 공급원으로부터 방출되고 스캐너에 의해 제어되는 조사 빔을 안과용 렌즈 상에 집중시키는 것이다. 전술된 바와 같은 주요 고려사항은, 일반적인 입력 데이터의 일부로서 전술된 바와 같은 재료 손상 및 레이저 안전 요건에 의해 주어진 한계를 유지하면서 처치 시간을 최소화하기 위한 스폿 크기 및 초점 심도이다. 옵틱의 가장 중요한 특성은 유효 초점 거리(EFL) 및 초점 광학장치의 진입 개구에서 조사 빔의 직경과 함께 개구수(numerical aperture, NA)에 의해 주어진다. 추가적으로, 본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 사용되는 시스템 내의 모든 광학 요소는, 광학 빔 품질을 실질적으로 저하시키지 않도록 회절- 또는 근거리 회절 한계(near-diffraction-limited) 특성에 대해 선택되어야만 한다.
스폿 크기가 얻을 수 있는 공간 분해능을 결정하기 때문에 상이한 안과적 요구는 상이한 스폿 크기를 요구할 것이다 . 이상적으로, 스폿 크기는, 재료 손상의 가능성을 또한 낮게 유지하면서 처치 시간을 최소화하기 위해 1 내지 100 μm, 더 이상적으로는 50 내지 100 μm이다.
본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 사용되는 시스템 내의 스캐너:
본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 사용되는 시스템 내에서 사용되는 스캐너는 갈바노-스캐너, 피에조 스캐너, 회전 스캐너 또는 음향 광학 변조기를 포함할 수 있거나, 이는 공간 광 변조기, 디지털 마이크로미러 장치 또는 SLA(stereolithography apparatus)와 같이 디지털 방식일 수 있다. 바람직하게는, 본 명세서에 따른 본 발명의 시스템의 일부로서 스캐너는 갈바노-스캐너, 피에조 스캐너, 회전 스캐너, 음향 광학 변조기, 공간 광 변조기, 디지털 마이크로미러 장치 또는 SLA로부터 선택된다. 바람직한 갈바노-스캐너는 단일 피봇-포인트-스캐너이다.
바람직하게는, 스캐너는 50 mm/s 초과의 스캔 속도로 작동하도록 구성된다. 이는 처치 시간을 짧게 유지하는 것을 허용할 수 있다. 일반적으로, 처치 시간은 수 분을 넘지 않아야 하며, 처치 세션 당 바람직하게는 10분 미만, 바람직하게는 5분 미만, 특히 바람직하게는 3분 미만이다.
처치 영역은 안과용 장치 체적 및 크기로 한정될 수 있다. 전형적으로, 상기 안과용 장치 또는 안내 렌즈의 옵틱은 직경이 5 mm 내지 7 mm이고 전형적으로 두께가 0.2 mm 내지 2.0 mm이다.
최적의 방사 노출은, 안과용 장치의 전체 체적을 처리하면서 전체 방사 노출은 낮게 그리고 처치 시간은 짧게 유지하기 위해 <1 kJ/㎠ 및 더 이상적으로는 <0.3 kJ/㎠ 이다.
특히 바람직하게는, 랜덤 스캔 패턴 또는 인터리빙 스캔 라인(interleaved scanning line)은 조사 빔의 조사 에너지를 퍼지게 하는데 사용된다.
스캔은 3가지 방식으로 수행될 수 있다. 바텀-업(bottom-up) 스캔에서, 레이저는 각각의 스폿 상에서 특정 체류 시간을 가지고 스폿으로부터 스폿으로 이동할 수 있다 ("바텀-업, 스폿 간"). 대안적으로, 바텀-업 스캔에서, 레이저는 서로 중첩하는 스폿 상에서 체류할 수 있다("바텀-업, 스폿 중첩"). 대안적으로, 레이저는 임의의 스폿 상에서 체류 없이 고정 속도로 이동할 수 있다("등속으로 지나감").
스캔 패턴의 일 실시 형태에서, IOL은 전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 조사 공급원이 동공을 관통하여 빛을 내면서 스캔된다. 스캔 시에 수정체낭(capsular bag)에 포함되어 있는 IOL은 종래의 수술 절차를 사용한 각막 내 절개를 통해 앞서 삽입된다. 이러한 실시 형태에서, IOL의 전체 체적은 스캔되고 스캔은 바텀-업 방식으로 수행되고(즉, 각막으로부터 멀리 떨어진 IOL의 일부가 먼저 스캔됨), 이러한 방식에서 광학 프로파일은 광 경로에서 굴절률의 불필요한 변경을 피하기 위해 생성된다.
전술된 바와 같이 스캔 프로그램을 선택할 때 핵심 고려사항은 안과용 장치 및/또는 환자의 눈의 국소적 가열을 최소화하는 것이고 따라서 다양한 변수가 스캔 프로그램에 사용된다. 파열 및 동공 크기와 같은 해부학적 특징 뿐만 아니라 개구수 및 레이저 펄스 특성과 같은 광학 특징을 고려하여, 레이저 프로그램이 특정 스캔 속도 및 순서로 생성된다. 렌즈 좌표와 눈 좌표 시스템 사이의 관련성이 이러한 실시예에서, 자동으로 고려된다.
스캔 프로그램 및/또는 처치 계획에 대한 변수는 바람직하게는 제1 및 제2 파장, 스캔 속도 및 순서, 눈에 대한 렌즈의 (예컨대, 데카르트 좌표계에서) 위치결정, 스캔 전략, 획득된 굴절률 변경(광학 패턴), 대물렌즈의 개구수, 파열, 동공 및/또는 렌즈의 광학 직경(일부 실예에서 대략 6 mm), 레이저 빔의 펄스 지속시간 (형태, 세기 및 x-y 위치결정), 레이저를 작동시킬 때 레이저 안전성, 및 렌즈 및 눈의 위치결정에 대한 중심화이다.
레이저에서 생성된 광자는, 본 발명에 따른 안과용 장치의 편극률을 조정하기 위한 공정에 사용되는 시스템의 일 실시 형태에서, 바람직하게는 미러(예컨대 옵틱 1로서)를 통해 예컨대, 후속 스캐너 및 초점 광학장치를 위한 빔을 준비하는 빔 확장기로 안내된다. 빔 확장기를 통과한 후, 광자는 스캐너(예컨대, 갈바노-스캐너 또는 피에조 스캐너 또는 회전 스캐너 또는 음향 광학 변조기 또는 디지털 방식으로는 공간 광 변조기 또는 디지털 마이크로미러 장치 또는 SLA)를 향해 지향된다.
스캐너를 통과한 후, 레이저 빔은 분할기 미러(divider mirror)와 같은 다른 옵틱을 통해 이동한다. 이러한 실시 형태에서, 분할기 미러는 빔을 안과용 장치 조사를 위한 주 이미징 빔 및 빔 특성을 모니터링하고 피드백으로 위치결정하기 위한 빔으로 분리한다. 분할기 미러 이후, 광학 빔은 이미징 그룹 또는 초점 광학장치에 의해 안과용 장치에 집중된다. 일 실시 형태에서, 이미징 그룹은 높은 개구수를 얻기 위한(μm-수준 공간 분해능을 위한) 현미경 대물렌즈 또는 μJ-수준의 더 높은 펄스 에너지를 허용하기 위한 낮은-NA 옵틱을 포함한다.
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 시스템은 추가로, 현미경 대물 렌즈에 의해 상기 조사 빔을 상기 안과용 장치로 집중시키기 위해 스캐너에 결합된 현미경 대물렌즈를 포함할 수 있으며, 현미경 대물렌즈의 개구수는 0.1 내지 0.8, 바람직하게는 0.2 내지 0.5, 및 더 바람직하게는 0.2 내지 0.4이다. 이러한 개구수를 갖는 현미경 대물렌즈를 제공하는 것은 특히 포커싱에 관한 높은 조사 빔 품질 및 안내 렌즈를 처리하기 위해 사용된 빔의 분해능 특성을 고려할 수 있다.
현미경 대물렌즈는 예컨대, 색수차(chromatic aberration)의 교정을 허용하는 전형적인 렌즈 구성을 포함한다. 현미경 대물렌즈는 바람직하게는 추가로 후술되는 바와 같이 고정된 위치에 환자의 눈을 유지하는 아이 인터페이스 시스템(eye interface system), 전형적으로 석션 시스템(suction system)에 연결된다.
전술된 바와 같은 시스템 내에서 사용되는 대물렌즈의 추가의 실시 형태에서, 대물렌즈는 조사 빔을 안과용 장치에 집중시키기 위한 Olympus LUCPLFLN 대물렌즈이다.
대안적인 초점 광학장치/이미징 그룹은, 유효 초점 거리가 바람직하게는 50 내지 150 mm이고 개구수가 바람직하게는 0.025 내지 0.1인 단일 비구형 렌즈로 구성된다.
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 시스템은 추가로 상기 환자의 상기 눈 내에 상기 조사 빔의 상기 초점의 위치를 결정하기 위한 위치결정 시스템을 포함할 수 있으며, 위치결정 시스템은 스캐너에 결합되고, 상기 안내 렌즈를 가로지르는 상기 조사 빔의 스캐너에 의한 스캔은 상기 눈 내에 상기 조사 빔의 상기 초점의 위치를 기반으로 한다.
위치설정 시스템은 광 간섭 단층촬영 시스템, 공초점 현미경 또는 샤임플러그 카메라(Scheimpflug camera)와 같은 위치설정 시스템을 포함할 수 있다. 위치설정 시스템은 스캐너에 직접적으로 또는 간접적으로 결합될 수 있다. 공초점 현미경이 사용되는 일부 실예에서, 공초점 현미경은 스캐너에 직접 결합될 수 있다.
전술된 바와 같은 위치설정 시스템은 눈 및 상기 안내 렌즈의 상관성에 따라 레이저 초점의 위치 결정을 위한 위치결정 시스템에 눈의 지형적 데이터를 제공하는데 사용된다.
공초점 현미경의 경우, 부분적으로 투명한 미러는 영상 촬영(video imaging)을 허용하는데 사용된다.
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 시스템은 바람직하게는 눈에 대한 상기 안내 렌즈의 위치 및/또는 배향 및 조사 빔의 배출구를 결정하기 위해 추가로 구성되고, 상기 안내 렌즈를 가로지르는 상기 조사 빔의 스캐너에 의한 스캔은 눈에 대한 상기 안내 렌즈의 위치 및/또는 배향을 기반으로 한다. 이는, 안내 렌즈의 위치가 눈에 대해 중심설정되지 않을 수 있기 때문에 조사 빔(들)으로 안내 렌즈를 처리할 때 오정렬을 고려할 수 있기 때문에 특히 유리할 수 있다.
IOL의 위치에 대하여, 적어도 2개의 좌표계가 눈의 좌표계 및 눈 내의 렌즈의 좌표계와 관련하여 고려될 수 있으며, 이 때 둘은 서로에 대해 중심설정되지 않을 수 있다.
IOL의 위치에 대하여, 적어도 2개의 좌표계가 눈의 x,y,z 좌표 및 눈 내의 렌즈의 x,y,z 좌표와 관련하여 고려될 수 있으며, 이 때 둘은 서로에 대해 중심설정되지 않을 수 있다.
일 실시 형태에서, 위치설정 시스템은 입력 데이터를 생성할 수 있다. 이러한 입력 데이터는, 예를 들어, 눈 내의 그리고 레이저 빔 배출구에 대한 렌즈 위치 및/또는 안과용 장치의 배향, 및/또는 눈 및/또는 안과용 장치의 광 출력 맵핑에 관한 데이터를 포함한다. 이러한 데이터는 광학 패턴 또는 처치의 지속을 계산하는데 사용된다.
추가적으로, 위치설정 시스템은 기록 공정 동안 입력 데이터를 생성하는 것이 가능하다. 이러한 공정 중 입력 데이터는 예를 들어, 눈 내의 그리고 레이저 빔 배출구에 대한 렌즈 위치 및/또는 안과용 장치의 배향, 및/또는 눈 및/또는 안과용 장치의 광 출력 맵핑에 관한 데이터를 포함한다. 이러한 데이터는 광학 패턴을 생성하는데 사용되는 제어 명령의 공정 중 수정에 사용된다.
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 시스템은 추가로 (i) 하나 이상의 조사 공급원 및 (ii) 스캐너 중 하나 또는 둘 모두에 결합된 온도 관리 유닛을 포함할 수 있으며, 온도 관리 유닛은 상기 조사 빔의 조사 빔 특성 및 상기 안과용 장치의 안과용 장치 특성에 기초하여 상기 스캔에 의한 상기 안과용 장치의 상기 처치 동안 상기 안과용 장치의 일부분의 온도를 결정하도록 구성되고, 시스템은 상기 온도 결정에 기초하여 (i) 하나 이상의 조사 공급원 및 (ii) 스캐너 중 하나 또는 둘 모두를 제어하도록 구성된다. 이는 눈 및/또는 안과용 장치가 조사 빔으로 처치하는 것에 기초하여 불리한 영향을 받지 않을 수 있음을 보장하는 것을 허용할 수 있다.
추가적으로, 온도 관리 유닛은 바람직하게는 상기 안과용 장치의 상기 처치 동안 상기 온도를 예측하도록 구성되고, 상기 입력 데이터는 예상 온도를 포함한다. 이는 눈 및/또는 안과용 장치가 조사 빔으로 처치하는 것에 기초하여 불리한 영향을 받지 않을 수 있음을 보장하는 예방 조치를 취하는 것을 허용할 수 있다.
대안적으로, 온도 관리 유닛은 눈의 온도를 로깅(logging)하고 눈의 실제 온도를 계산하기 위해 교정 데이터를 보유한 통용 데이터와 측정된 데이터의 상관관계를 보여주는 적외선 카메라이다.
다른 실시 형태에서, 굴절률의 온도 의존성은 온도를 제어하기 위해 사용된다. 이러한 예에서, 시스템은 굴절력 맵핑 디바이스를 포함한다. 측정된 굴절력 맵의 편차 및 기록 예상 굴절력 맵의 진전에 기초하여, 렌즈의 온도는 공정 중에 계산될 수 있다.
다른 실시 형태에서, 방출 스펙트럼의 온도 의존성은 온도 제어를 위해 사용된다. 이러한 예에서, 시스템은 UV-Vis 분광광도계를 포함한다. 측정된 방출 피크 파장 및/또는 피크 폭의 편차에 기초하여, 초점 스폿에서 온도는 공정 중에 계산될 수 있다.
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 시스템은 고정된 위치에 상기 환자의 상기 눈을 유지하도록 구성된 아이 인터페이스 시스템을 추가로 포함할 수 있다. 아이 인터페이스 시스템은 처치 동안 환자의 눈의 위치를 고정 시키기 위해 석션 시스템을 포함할 수 있다.
환자는 반듯하게 눕거나 직립 자세에서 시스템에 "도킹"될 수 있다.
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 시스템은 추가로 무선 또는 유선 수신기, 및/또는 (i) 제어 명령을 하나 이상의 조사 공급원으로 전송하는 것, (ii) 제어 명령을 스캐너로 전송하는 것, 및 (iii) 광학 패턴을 생성하는데 필요한 제어 명령 데이터를 스캐너에 입력하는 것 중 하나 이상을 위한 송수신기를 포함할 수 있다.
하나 이상의 조사 공급원 및/또는 스캐너는 따라서 원격으로 제어될 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 렌즈 데이터 및 처치 계획 데이터 중 하나 또는 둘 모두에 관한 데이터는 시스템 외부에 저장될 수 있고, 원하는 경우 시스템에 제공할 수 있다. 일부 실시예에서, 하나 이상의 조사 공급원 및/또는 스캐너에 제어 신호를 전송하는 경우 임의의 지연을 감소(또는 회피)하기 위해 적어도 하나 이상의 조사 공급원의 제어를 위한 및/또는 스캐너를 제어하기 위한 유선 수신기 또는 송수신기를 제공하는 것이 바람직할 수 있다.
다른 실시예에서, 수신기/송수신기는 처치 계획 데이터 및 렌즈 데이터를 광학 패턴을 계산하는 중앙 컴퓨팅 유닛에 전송하고, 입력 데이터로서 이것을 다시 시스템에 제공하는 수신기로 전송한다.
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 시스템은 추가로 안과용 장치의 상기 처치 동안 상기 안과용 장치의 굴절력을 국소적으로 측정하기 위한 장치를 포함할 수 있다. 조사 공급원(들), 스캐너 및 입력 데이터 중 하나 이상의 조정은 이로써 처치 공정 동안 이루어질 수 있다.
전술되거나 바람직하게는 전술되는 바와 같은 시스템은 추가로 안과용 장치의 상기 처치 동안 상기 안과용 장치의 굴절률을 국소적으로 측정하기 위해 굴절계를 포함할 수 있다. 조사 공급원(들), 스캐너 및 입력 데이터 중 하나 이상의 조정은 이로써 처치 공정 동안 이루어질 수 있다.
광자를 제공하는 시스템의 추가의 구성 성분은 선택적으로 모든 장비가 내부에 장착된 덮개, 시스템 및 모든 하위-시스템에 충분한 에너지를 공급하는 전력 유닛, 및 석션 시스템 및/또는 냉각기와 같은 하위-시스템이다.
상기 언급된 구성 성분에 더하여, 제어기, 펌웨어 및 그래픽 사용자 인터페이스(GUI) 뿐만 아니라 처치 알고리즘이 제공될 수 있다. 시스템에 연결하기 위해, 연결은 블루투스, Wi-Fi 또는 RS-232와 같은 다른 포트를 통해 확립될 수 있다.
본 발명은 또한 환자의 눈 내에 배열된 본 발명에 따른 안내 렌즈의 편극률을 국소적으로 조정하기 위한 방법에 관한 것이며, 여기서 처치 계획 데이터는 하기 중 하나 이상을 포함한다:
안내 렌즈를 가로지르는 상기 조사 빔의 상기 스캔을 위한 스캔 전략의 스캔 전략 제어 명령 데이터(예를 들어, 스캔 패턴 및/또는 스캔 순서 및/또는 스캔 속도 및/또는 스캔 패턴의 스캔 지속기간 및/또는 스캔 순서의 스캔 지속기간 및/또는 제1 및/또는 제2 파장의 조사 빔의 펄스의 펄스 지속기간 및/또는 상기 조사 빔의 조사 빔 프로파일 및/또는 방사선(광자) 밀도 및/또는 방사선 세기 및/또는 방사 전력 및/또는 방사 파장),
상기 노출 동안 안내 렌즈의 현재 및/또는 예상 온도의 온도 데이터,
상기 노출에 기초하여 획득된 안내 렌즈의 굴절률, 특히 안내 렌즈의 특정 위치/좌표로 획득된 굴절률의 맵핑에 관하여 획득된 굴절률의 굴절률 데이터,
파열의 치수의 파열 치수 데이터,
환자의 눈의 형상 및/또는 치수에 관한 눈 데이터,
눈에 대한 안내 렌즈의 위치 및/또는 배향에 관한 위치결정 데이터, 및
환자 및/또는 환자의 특정한 눈의 식별에 관한 등록 데이터.
본 발명은 또한 환자의 눈 내에 배열된 본 발명에 따른 안내 렌즈의 편극률을 국소적으로 조정하기 위한 방법에 관한 것이며, 여기서 상기 조사 빔에 상기 안내 렌즈의 노출은 안내 렌즈의 제2 체적의 노출 전에 안내 렌즈의 제1 체적의 노출을 포함하고, 제1 체적은 추가로 제2 체적보다 환자의 눈의 각막으로부터 더 멀리 떨어져있다.
상기 언급된 절에서, 방법의 초기 단계는 상기 안내 렌즈를 제공하는 것일 수 있다.
실시예에서, 상기 조사 빔에 상기 안내 렌즈의 노출은 안내 렌즈의 제2 체적 및/또는 평면 및/또는 위치를 노출시키기 전에 안내 렌즈의 제1 체적 및/또는 평면 및/또는 위치를 노출시키는 것을 포함하며, 여기서 제1 체적 및/또는 평면 및/또는 위치는 제2 체적 및/또는 평면 및/또는 위치보다 환자의 눈의 각막으로부터 더 멀리 떨어져 있고, 조사 순서에서 더 늦은 시점에 조사된 체적 및/또는 평면 및/또는 위치는 더 빠른 시점에서 조사된 체적 및/또는 평면 및/또는 위치보다 각막에 더 가까울 수 있다. 상기 체적은 이로써 안내 렌즈의 하나 이상의 평면에 관한 것일 수 있다.
본 발명은 더욱이 상기 환자의 눈 내의 본 발명에 따른 안내 렌즈의 굴절률을 수정함으로써 환자의 시력을 교정하기 위한 방법에 관한 것으로서,
환자의 시력 교정의 정도를 확인하고 측정하는 단계;
환자의 시력을 교정하기 위해 상기 안내 렌즈 내로 기록되는 굴절 구조체의 유형 및 위치를 결정하는 단계; 및
후속적으로, 안내 렌즈의 편극률을 국소적으로 감소시키기 위해 600 nm 내지 800 nm의 파장을 갖는 2-광자 또는 다중-광자 조사에 상기 안내 렌즈를 노출시키는 단계, 및/또는
후속적으로, 상기 조사에 상기 안내 렌즈를 노출시키기 위해 바람직하게는 전술된 바와 같은 시스템 및/또는 공정을 사용하여 안내 렌즈의 편극률을 국소적으로 증가시키기 위해 400 nm 내지 590 nm의 파장을 갖는 2-광자 또는 다중-광자 조사에 상기 안내 렌즈를 노출시키는 단계를 포함한다.
위에서 개요를 설명한 바와 같이, 편극률의 변경은 굴절률의 변경을 야기한다.
본 발명에 기술된 실시 형태의 변형은 본 발명의 범주에 포함된다는 것을 언급해야만 한다. 본 발명에 개시된 임의의 특징부는, 이것이 명확하게 배제되지 않는 한, 동일한 목적 또는 동등하거나 유사한 목적을 제공하는 대안적인 특징부와 교환될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 임의의 특징부는, 달리 언급되지 않는 한, 일반적인 계열의 예로서 또는 동등하거나 유사한 특징부로서 간주되어야만 한다.
본 발명의 모든 특징부는, 특정 특징부 및/또는 단계가 서로 배제되지 않는 한, 임의의 방식으로 서로 조합될 수 있다. 이는 특히 본 발명의 바람직한 특징부에 적용된다. 동등하게, 본질적이지 않은 조합의 특징부는 별개로(및 조합되지 않고) 사용될 수 있다.
또한, 많은 특징부 및 특히 본 발명의 바람직한 실시 형태들의 특징부는 그 자체로 독창적인 것이며 본 발명의 실시 형태의 단지 일부로서만 간주되지 않아야 한다는 것을 주목해야 한다. 이러한 특징부의 경우, 독립적인 보호가 임의의 현재 청구된 발명에 추가하여 또는 그에 대안으로서 요청될 수 있다.
본 발명과 함께 개시된 기술적 교시는 요약되고 다른 실시예와 함께 조합될 수 있다.
많은 다른 실질적인 대안이 당업자에게 일어날 수 있음은 의심의 여지가 없다. 본 발명은 기술된 실시 형태로 제한되지 않고, 당업자에게 명백하고 본 명세서에 첨부된 청구항의 범주 내에 놓인 수정을 포함한다는 것이 이해될 것이다.
실시예
하기의 실시예는 비제한적인 방식으로 본 화합물의 이점을 보여주기 위한 것이다.
달리 나타내지 않는다면, 모든 합성은 건조(무수)용매를 사용한 불활성 기체 하에 수행된다. 용매 및 시약은 상업적 공급처로부터 구매된다.
DCM은 다이클로로메탄을 나타내기 위해 사용된다. DMF는 다이메틸포름아미드를 나타내기 위해 사용된다. EE 또는 EtOAc는 에틸 아세테이트를 나타내기 위해 사용된다. THF는 테트라하이드로푸란을 나타내기 위해 사용된다. RT는 실온을 의미한다.
공중합체-특성은 단량체의 괴상 중합(bulk polymerization)에 의해 제조된 블랭크에 대해 조사될 수 있다. 공단량체, 가교제는 및 개시제는 따라서 상업적 공급처로부터 구매될 수 있다. 모든 화학물질은 가장 높은 순도로 구매가능하고, 받은 그대로 사용될 수 있다.
전구체 물질의 합성:
실시예 1:
4-메톡시페닐아세트산(30.000 mmol; 1.00 당량; 5.087 g)은 무수 아세트산(302.400 mmol; 10.08 당량; 30.872 g; 28.585 ml)으로 현탁된다. 이어서 피리딘-3-카르브알데하이드(30.00 mmol; 1.00 당량; 3.246 g; 2.847 ml) 및 트라이에틸아민(30.00 mmol; 1.00 당량; 3.036 g; 4.181 ml)이 첨가된다. 반응 혼합물은 120℃ 이하로 하룻밤 가열된다. 물이 110℃에 첨가되고, 실온으로 냉각하기 전에 혼합물은 30분 동안 교반된다. 휘발성물질은 진공 하에 제거된다. 조 혼합물은 용리제로서 다이클로르메탄/메탄올을 사용한 컬럼 크로마토그래피의해 정제된다. 3.3 g의 (E)-2-(4-메톡시-페닐)-3-피리딘-3-일-아크릴산은 베이지색 고체로서 단리된다(이론치의 45% 수율).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d6) δ 12.78 (br s, 1H), 8.39 (dd, J = 4.8, 1.6 ㎐, 1H), 8.32 (d, J = 2.2 ㎐, 1H), 7.72 (s, 1H), 7.35 (dt, J = 8.0, 1.8 ㎐, 1H), 7.23 (dd, J = 8.0, 4.8 ㎐, 1H), 7.09 (d, J = 8.7 ㎐, 2H), 6.94 (d, J = 8.8 ㎐, 2H), 3.78 (s, 3H).
유사하게, 다른 유도체가 동일한 방식으로 제조된다: R1은 반응물질을 의미하고, R2는 반응물질 2를 의미하고, [P]는 생성물을 의미한다.
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 12.65 (s, 1H), 8.01 (d, J = 2.4 ㎐, 1H), 7.73 (s, 1H), 7.44 - 7.34 (m, 3H), 7.22 - 7.15 (m, 2H), 7.11 (dd, J = 8.8, 2.5 ㎐, 1H), 6.61 (d, J = 8.7 ㎐, 1H), 3.80 (s, 3H).
실시예 2:
(E)-2-(4-메톡시-페닐)-3-피리딘-3-일-아크릴산(11.61 mmol; 1.00 당량; 2.964 g)은 건조 다이클로로메탄(952.125 mmol; 82.0 당량; 60.80 ml) 중에 현탁된다. 이어서, 현탁액은 얼음-조를 사용하여 냉각되고, 메타-클로로퍼옥시벤조산(13.93 mmol; 1.20 당량; 3.123 g)이 첨가된다. 반응 혼합물을 하룻밤 교반하면서 실온으로 가온한다. 현탁액은 여과되고, 수집된 고체를 다이에틸 에테르로 2회 세척하고 진공 하에 건조시킨다. 2.83 g의 (E)-2-(4-메톡시-페닐)-3-(1-옥시-피리딘-3-일)-아크릴산은 무색 고체로서 단리된다(이론치의 90% 수율).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d6) δ 12.96 (s, 1H), 8.05 (d, J = 7.0 ㎐, 1H), 7.92 (s, 1H), 7.60 (s, 1H), 7.25 (dd, J = 7.9, 6.6 ㎐, 1H), 7.11 (d, J = 8.7 ㎐, 2H), 7.02 - 6.85 (m, 3H), 3.78 (s, 3H).
유사하게, 다른 유도체가 동일한 방식으로 제조된다:
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 12.86 (s, 1H), 7.93 (d, J = 2.0 ㎐, 1H), 7.63 (s, 1H), 7.44 - 7.38 (m, 3H), 7.21 - 7.19 (m, 2H), 7.04 (d, J = 8.8 ㎐, 1H), 6.86 (dd, J = 8.8, 2.1 ㎐, 1H), 3.90 (s, 3H).
실시예 3:
(E)-2-(4-메톡시페닐)-3-(1-옥시-피리딘-3-일)-아크릴산 (9.37 mmol; 1.00 당량; 2.54 g)은 무수 아세트산(618.72 mmol; 66.00 당량; 63.164 g; 58.49 ml) 중에 현탁된다. 이어서 탄산나트륨(28.12 mmol; 3.00 당량; 3.89 g) 및 증류수(65.62 mmol; 7.00 당량; 1.182 g; 1.182 ml)가 첨가된다. 기체 발생이 가시적이며 반응 혼합물은 130℃에서 하룻밤 교반된다. 실온으로 냉각 동안 반응 혼합물이 고형화되고 증류수가 첨가된다. 현탁액은 여과되고 더 많은 물로 수차례 세척된다. 고형물을 진공 하에 건조시켰다. 2.1 g의 3-(4-메톡시-페닐)-피라노[2,3-b]피리딘-2-온은 회베이지 고체로서 단리된다(이론치의 89% 수율).
1 H NMR (500 ㎒, 클로로포름-d) δ 8.51 (dd, J = 4.8, 1.8 ㎐, 1H), 7.91 (dd, J = 7.6, 1.8 ㎐, 1H), 7.74 (s, 1H), 7.69 (d, J = 8.8 ㎐, 2H), 7.31 (dd, J = 7.5, 4.8 ㎐, 1H), 6.98 (d, J = 8.8 ㎐, 2H), 3.86 (s, 2H).
유사하게, 다른 유도체가 동일한 방식으로 제조된다:
실시예 4:
3-(4-메톡시-페닐)-피라노[2,3-b]피리딘-2-온(7.42 mmol; 1.00 당량; 1.88 g)은 50 ml의 건조 다이클로로메탄 중에 현탁되고 용액은 얼음-조를 사용하여 냉각된다. 이어서, 10 ml DCM 중에 용해된 보론트라이브로마이드(8.91 mmol; 1.20 당량; 2.23 g; 0.85 ml)가 적가된다. 용액을 하룻밤 동안 실온으로 가온하고 반응 혼합물을 물로 켄칭한다. 현탁액은 여과되고, 고체는 물로 수차례 세척된다. 조 고체는 아세톤 및 에탄올을 사용하여 재결정화된다. 1.2 g의 3-(4-하이드록시-페닐)-피라노[2,3-b]피리딘-2-온은 밝은 회색 고체로서 단리된다(이론치의 68% 수율).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 9.79 (s, 1H), 8.49 (dd, J = 4.8, 1.9 ㎐, 1H), 8.23 (dd, J = 7.6, 1.9 ㎐, 1H), 8.18 (s, 1H), 7.60 (d, J = 8.7 ㎐, 2H), 7.46 (dd, J = 7.6, 4.8 ㎐, 1H), 6.86 (d, J = 8.7 ㎐, 2H).
실시예 5:
3-(4-하이드록시-페닐)-피란[2,3-b]피리딘-2-온(1.2 g, 5.02 mmol, 1.00 당량)을 최소 2일 동안 아세톤(40 ml) 중에서 탄산칼륨(2.81 g, 20.07 mmol, 4.00 당량) 및 12-브로모-도데칸-1-올(1.43 g, 5.27 mmol, 1.05 mmol)로 환류시킨다. 현탁액을 여과하고, 여과액의 용매를 증발시킨다. 조 잔류물은 아세톤 및 n-부탄올로부터 재결정화되어 0.685 g의 3-[4-(12-하이드록시-도데실옥시)-페닐]-피란[2,3-b]피리딘-2-온을 산출한다(이론치의 32% 수율).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.50 (dd, J = 4.8, 1.8 ㎐, 1H), 8.24 (d, J = 6.1 ㎐, 2H), 7.70 (d, J = 8.8 ㎐, 2H), 7.48 (dd, J = 7.5, 4.8 ㎐, 1H), 7.03 (d, J = 8.8 ㎐, 2H), 4.30 (t, J = 5.1 ㎐, 1H), 4.02 (t, J = 6.5 ㎐, 2H), 3.36 (td, J = 6.5, 4.9 ㎐, 2H), 1.73 (p, J = 6.6 ㎐, 2H), 1.41 (dt, J = 12.1, 5.6 ㎐, 5H), 1.34-1.22 (m, 17H).
본 발명에 따른 화합물의 제조:
실시예 6.1:
3-[4-(12-하이드록시-도데실옥시)-페닐]-피란[2,3-b]피리딘-2-온(0.67 g, 1.58 mmol, 1.00 당량)이 건조 THF(60 ml) 중에 용해되고 트라이에틸아민(0.88 ml, 6.33 mmol, 4.00 당량)이 첨가된다. 이어서 아크릴로일 클로라이드(0.161 ml, 1.9 mmol, 1.20 당량)를 0℃에서 첨가하고 반응이 완료될 때까지 실온에서 교반한다. 반응물을 2-프로판올(0.25 ml)로 켄칭하고, 현탁액을 여과하고, 여과액의 용매를 제거한다. 조 생성물을 용리제로서 CHCl3/MeOH를 사용하여 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제한다. 합성은 0.375 g의 아크릴산 12-[4-(2-옥소-2H-피라노[2,3-b]피리딘-3-일)-페녹시]-도데실 에스테르를 산출한다(이론치의 49%).
1 H NMR (500 ㎒, 클로로포름-d) δ 8.50 (dd, J = 4.8, 1.8 ㎐, 1H), 7.91 (dd, J = 7.6, 1.8 ㎐, 1H), 7.73 (s, 1H), 7.68 (d, J = 8.8 ㎐, 2H), 7.30 (dd, J = 7.6, 4.8 ㎐, 1H), 6.97 (d, J = 8.8 ㎐, 2H), 6.39 (dd, J = 17.3, 1.4 ㎐, 1H), 6.12 (dd, J = 17.3, 10.4 ㎐, 1H), 5.81 (dd, J = 10.4, 1.4 ㎐, 1H), 4.15 (t, J = 6.8 ㎐, 2H), 4.01 (t, J = 6.6 ㎐, 2H), 1.80 (dt, J = 14.5, 6.6 ㎐, 2H), 1.67 (p, J = 6.8 ㎐, 2H), 1.46 (q, J = 7.5 ㎐, 2H), 1.39-1.25 (m, 17H).
m.p.(DSC): 109℃
흡수 최대 (UV-Vis): 347 nm
유사하게, 다른 유도체가 동일한 방식으로 제조된다:
화합물 6a:
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.61 (s, 1H), 8.24 (d, J = 0.7 ㎐, 1H), 7.70 - 7.67 (m, 2H), 7.48 - 7.44 (m, 2H), 7.43 - 7.40 (m, 1H), 6.83 (s, 1H), 6.30 (dd, J = 17.3, 1.6 ㎐, 1H), 6.16 (dd, J = 17.3, 10.3 ㎐, 1H), 5.92 (dd, J = 10.3, 1.6 ㎐, 1H), 4.34 (t, J = 6.6 ㎐, 2H), 4.08 (t, J = 6.7 ㎐, 2H), 1.73 (p, J = 6.8 ㎐, 2H), 1.59 (p, J = 6.7 ㎐, 2H), 1.40 (p, J = 6.9 ㎐, 2H), 1.35 - 1.21 (m, 16H).
m.p. (DSC): 88.2℃
흡수 최대 (UV-Vis): 328 nm
화합물 6b:
1 H NMR (500 ㎒, 클로로포름-d) δ 7.68 (s, 1H), 7.60 - 7.56 (m, 2H), 7.48 (s, 1H), 7.45 - 7.37 (m, 3H), 6.39 (dd, J = 17.3, 1.5 ㎐, 1H), 6.35 (s, 1H), 6.11 (dd, J = 17.3, 10.4 ㎐, 1H), 5.81 (dd, J = 10.4, 1.5 ㎐, 1H), 4.14 (t, J = 6.7 ㎐, 2H), 4.04 - 3.97 (m, 2H), 1.78 (p, J = 7.4 ㎐, 2H), 1.69 - 1.62 (m, 2H), 1.38-1.24 (m, 17H).
m.p. (DSC): 87.3℃
흡수 최대 (UV-Vis): 359 nm
실시예 6.2:
3-(3,5-다이플루오로페닐)-7-[(11-하이드록시운데실)옥시]-2H-피라노[2,3-b]피리딘-2-온(0.15 g, 0.348 mmol, 1.00 당량)은 DCM(10 ml) 및 트라이에틸아민(193 μL, 1.392 mmol, 4.00 당량) 중에 용해된다. 4-(다이메틸아미노)피리딘(9 mg, 0.07 mmol, 0.20 당량) 및 무수 메타크릴산(30 μL, 0.418 mmol, 1.20 당량)은 0℃에 첨가된다. 하루 동안 실온에서 교반된 후 추가로 무수 메타크릴산(66.2 μL, 0.189 mmol, 0.60 당량)이 첨가된다. 반응물은 반응이 완료될 때까지 추가로 하루 동안 교반된다. 반응 혼합물을 진공 하에 농축시키고, 용리제로서 사이클로헥산/클로로포름을 사용하여 컬럼 크로마토그래피를 수행하였다. 합성은 0.108 g의 11-{[3-(3,5-다이플루오로페닐)-2-옥소-2H-피라노[2,3-b]피리딘-7-일]옥시}운데실 2-메틸프로프-2-에노에이트를 산출하였다(0.21 mmol, 이론치의 66%).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.45 (s, 1H), 8.13 (d, J = 8.4 ㎐, 1H), 7.54 - 7.48 (m, 2H), 7.31 (tt, J = 9.3, 2.4 ㎐, 1H), 6.92 (d, J = 8.4 ㎐, 1H), 6.00 (d, J = 1.5 ㎐, 1H), 5.65 (t, J = 1.7 ㎐, 1H), 4.35 (t, J = 6.6 ㎐, 2H), 4.07 (t, J = 6.6 ㎐, 2H), 1.87 (s, 3H), 1.75 (p, J = 6.8 ㎐, 2H), 1.60 (p, J = 6.8 ㎐, 2H), 1.44 - 1.37 (m, 2H), 1.35-1.22 (m, 12H).
19 F NMR (470 ㎒, DMSO-d 6 ) δ -110.0.
m.p.(DSC): 102℃
흡수 최대 (UV-Vis): 347 nm
전구체 물질의 합성:
실시예 7:
2,4-다이메톡시피리딘(15.00 g; 103.48 mmol; 1.00 당량)이 건조 아세토니트릴(140.53 ml; 2.69 mol; 26.00 당량) 중에 용해되고 N-프로모석신이미드가 첨가된다(18.60 g; 103.48 mmol; 1.00 당량). 반응 혼합물을 반응이 완료될 때까지 하룻밤 환류시킨다. 용매가 감압 하에 제거되고 조 생성물은 용리제로서 헵탄/에틸 아세테이트를 사용하여 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제된다. 부산물로서 4.42 g의 3-브로모-2,4-다이메톡시피리딘(이론치의 20% 수율)과 함께 16.65 g의 5-브로모-2,4-다이메톡시피리딘이 단리된다(이론치의 74% 수율).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.15 (s, 1H), 6.53 (s, 1H), 3.89 (s, 4H), 3.83 (s, 3H).
유사하게, 다른 유도체가 동일한 방식으로 제조된다:
화합물 7a:
1 H NMR (500 ㎒, 클로로포름-d) δ 7.99 (dd, J = 5.7, 2.1 ㎐, 1H), 6.52 (dd, J = 5.8, 2.0 ㎐, 1H), 4.00 (d, J = 1.9 ㎐, 3H), 3.94 (d, J = 2.1 ㎐, 3H).
화합물 7c:
1 H NMR (500 ㎒, 클로로포름-d) δ 7.69 (dd, J = 2.4 ㎐), 6.73 (dd, J = 2.4 ㎐), 3.89 (s, 3H), 3.87 (s, 3H).
화합물 7d:
1 H NMR (500 ㎒, 클로로포름-d) δ 6.73 (s, 2H), 3.94 (s, 6H).
실시예 8:
헥산(10 ml, 20 mmol, 1.0 당량) 중 2M의 n-부틸리튬의 용액이 아르곤 하에 쉬링크(Schlenk) 플라스크에서 THF(5 ml, 10 mmol, 0.5 당량) 및 무수 THF(52 ml) 중의 아이소-프로필 마그네슘 클로라이드의 2M 용액의 냉각(0℃)되고 교반된 혼합물에 1분에 걸쳐 주사기로부터 첨가된다. 혼합물은 5분 동안 교반되어 -2 내지 0-℃로 냉각된 황색 용액을 제공한다. 15 ml의 무수 THF 중의 5-브로모-2,4-다이메톡시피리딘(4.361 g, 20 mmol, 1.0 당량)의 용액이 주사기로부터 첨가되고 생성된 용액은 -2 내지 0℃에서 45분 동안 교반된다. 이어서 N,N-다이메틸포름아미드(4.65 ml, 3.0 당량)가 첨가되고 혼합물은 0℃에서 30분 동안 계속 교반되고 이어서 실온에서 45 내지 60분 동안 교반된다. 포화 수성 NH4Cl이 첨가되고 수성 층이 분리되고 이어서 EtOAc로 추출된다. 조합된 유기층은 MgSO4로 건조되고, 여과되고, 진공 하에 농축되고, 메탄올 및 증류수의 혼합물을 사용하여 재결정에 의해 정제되어 황색 결정질 고체로서 2.57 g의 4,6-다이메톡시-피리딘-3-카르브알데하이드를 제공한다(이론치의 78% 수율).
1 H NMR (500 ㎒, 클로로포름-d) δ 10.23 (s, 1H), 8.54 (s, 1H), 6.22 (s, 1H), 4.00 (s, 3H), 3.93 (s, 3H).
유사하게, 다른 유도체가 동일한 방식으로 제조된다:
화합물 8b:
1 H NMR (500 ㎒, 클로로포름-d) δ 10.42 (s, 1H), 8.19 (d, J = 6.0 ㎐, 1H), 6.58 (d, J = 6.0 ㎐, 1H), 4.02 (s, 3H), 3.95 (s, 4H).
화합물 8c:
1 H NMR (500 ㎒, 클로로포름-d) δ 10.20 (s, 1H), 8.09 (d, J = 2.3 ㎐, 1H), 6.81 (d, J = 2.3 ㎐, 1H), 3.97 (s, 4H), 3.96 (s, 4H).
실시예 9:
무수 테트라하이드로푸란(143.62 ml; 50.00 당량) 중의 페나실트라이페닐포스포늄브로마이드(21.71 g; 42.35 mmol; 1.20 당량) 및 트라이에틸아민(5.91 ml; 42.35 mmol; 1.20 당량)의 용액에 4,6-다이메톡시피리딘-3-카르브알데하이드(5.90 g; 35.30 mmol; 1.00 당량)를 0℃에서 첨가하였다. 용액을 실온으로 서서히 가온시키고 이어서 완료될 때까지 환류시킨다. 포화 수성 NH4Cl이 첨가되고 수성 층이 분리되고 이어서 EtOAc로 추출된다. 조합된 유기층은 MgSO4로 건조되고, 여과되고, 진공 하에 농축되고, 헵탄/에틸 아세테이트를 사용하여 실리카 겔 상에서 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제되다. 7.2 g의 (E)-3-(4,6-다이메톡시피리딘-3-일)-1-페닐프로프-2-엔-1-온이 적색 고체로서 단리된다(이론치의 76% 수율).
1 H NMR (500 ㎒, 클로로포름-d) δ 8.29 (s, 1H), 8.02 - 7.99 (m, 2H), 7.85 (d, J = 15.8 ㎐, 1H), 7.69 (d, J = 15.8 ㎐, 1H), 7.60 - 7.55 (m, 1H), 7.50 (dd, J = 8.2, 6.8 ㎐, 2H), 6.26 (s, 1H), 3.97 (s, 3H), 3.95 (s, 3H).
유사하게, 다른 유도체가 동일한 방식으로 제조되고; R1 및 R2는 출발 물질이고; [P]는 반응의 생성물이다:
실시예 9a에서 [P]:
1 H NMR (500 ㎒, 클로로포름-d) δ 8.03 - 7.98 (m, 2H), 7.92 (d, J = 15.7 ㎐, 1H), 7.79 (d, J = 8.2 ㎐, 1H), 7.58 - 7.54 (m, 2H), 7.49 (dd, J = 8.3, 6.9 ㎐, 2H), 6.37 (d, J = 8.2 ㎐, 1H), 4.06 (s, 3H), 3.97 (s, 3H).
실시예 10:
(E)-3-(4,6-다이메톡시피리딘-3-일)-1-페닐프로프-2-엔-1-온(7.76 g; 28.82 mmol; 1.00 당량)은 메탄올(46.75 ml; 40.00 당량) 및 테트라하이드로푸란(46.69 ml; 20.00 당량) 중에 용해되고 0℃로 냉각된다. 메탄올 중에 용해된 수산화나트륨 펠릿(1.15 g; 28.82 mmol; 1.00 당량)이 첨가되고 뒤이어 과산화수소(11.67 ml; 115.26 mmol; 4.00 당량; 30wt.% 수용액)가 첨가된다. 0.5시간 후에 0.25 ml의 THF가 침전물을 용해시키기 위해 첨가된다. 반응 혼합물은 0℃에서 3시간 동안 교반되고, 이어서 실온에서 하룻밤 교반된다. 혼합물이 포화 NaHCO3 및 물로 희석된다. 수성 상이 tert-부틸 메틸에테르로 3회 추출된다. 유기 상이 포화 NaCl로 세척되고 MgSO4로 건조된다. 조 생성물이 뜨거운 THF 중에 용해되고 뒤이어 헵탄이 첨가되는 것을 통해 정제된다. 형성된 침전물은 여과되고 헵탄으로 세척되어 5.13 g의 5-(3-벤조일옥시란-2-일)-2,4-다이메톡시피리딘을 산출한다(이론치의 63% 수율).
1 H NMR (500 ㎒, 클로로포름-d) δ 8.07 - 8.03 (m, 2H), 7.99 (d, J = 0.7 ㎐, 1H), 7.65 - 7.60 (m, 1H), 7.53 - 7.48 (m, 2H), 6.22 (s, 1H), 4.30 (d, J = 2.0 ㎐, 1H), 4.22 (dd, J = 2.0, 0.7 ㎐, 1H), 3.94 (s, 3H), 3.84 (s, 3H).
실시예 11:
5-(3-벤조일옥시란-2-일)-2,4-다이메톡시피리딘(5.13 g; 17.98 mmol; 1.00 당량)을 플라스크에 넣고 에탄올(52.49 ml; 50.00 당량)(수산화나트륨으로 포화됨)을 첨가한다. 혼합물을 2시간 동안 환류시킨다. 이어서 용매가 감압 하에 제거되고 물이 잔류물에 첨가된다. 수성 상이 tert-부틸 메틸에테르로 추출된다. 이어서 수성 상이 pH 2까지 2M HCl로 산성화되고 뒤이어 포화 NaCl 용액으로 등량으로 희석된다. 그 후에 용액은 THF로 10회 추출된다. 조합된 유기층은 MgSO4로 건조되고, 여과되고, 진공 하에 농축되고, 용리제로서 다이클로로메탄/메탄올/AcOH를 사용하여 실리카 겔 상에서 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제된다. 3.9 g의 3-(4,6-다이메톡시피리딘-3-일)-2-하이드록시-2-페닐프로파노산이 단리된다(이론치의 72% 수율).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 12.13 (br s, 1H), 7.90 (s, 1H), 7.47 - 7.4fd5 (m, 2H), 7.29 (dd, J = 8.4, 6.7 ㎐, 2H), 7.25 - 7.22 (m, 1H), 6.57 (s, 1H), 5.88 (br s, 1H), 3.97 (s, 3H), 3.72 (s, 3H), 3.28 (dd, J = 14.5 ㎐, 2H).
실시예 12:
3-(4,6-다이메톡시피리딘-3-일)-2-하이드록시-2-페닐프로파노산(100.00 mg; 0.33 mmol; 1.00 당량)을 요오드화수소산(0.92 ml; 6.97 mmol; 21.14 당량; 57wt.%) 및 아세트산(4.56 ml; 79.79 mmol; 242.00 당량)의 혼합물 중에 1시간 동안 환류시키고 그 후에 얼음 상에 붓는다. 수성 상이 DCM으로 4회 추출되고 조합된 유기 상이 MgSO4로 건조된다. 조 생성물은 DCM/메탄올을 사용하여 실리카 겔 상에서 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제되어 17 mg의 7-하이드록시-3-페닐-2H-피라노[3,2-c]피리딘-2-온을 산출한다(이론치의 22% 수율).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.13 (s, 1H), 7.98 (s, 1H), 7.60 (dd, J = 7.3, 1.7 ㎐, 2H), 7.43 (dd, J = 8.3, 6.6 ㎐, 2H), 7.40 - 7.36 (m, 1H), 6.11 (s, 1H).
실시예 13:
2,6-다이메톡시피리딘-3-카르복스알데하이드(1.73 g; 10.35 mmol; 1.00 당량)를 아세트산칼륨(0.772 g; 7.87 mmol; 0.76 당량), 페닐아세트산(1.42 g; 10.35 mmol; 1.00 당량) 및 무수 아세트산(14.26 ml; 13.5 당량)과 함께 130℃에서 하룻밤 환류시킨다. 실온으로 냉각한 후, 물이 첨가되고 혼합물은 30분 동안 교반된다. 침전물은 여과되고 2-프로판올로부터 재결정화된다. 0.435 g의 7-메톡시-3-페닐-2H-피라노[2,3-b]피리딘-2-온이 단리된다(이론치의 19% 수율).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.27 (s, 1H), 8.15 (d, J = 8.4 ㎐, 1H), 7.73 - 7.68 (m, 2H), 7.49 - 7.44 (m, 2H), 7.43 - 7.38 (m, 1H), 6.92 (d, J = 8.3 ㎐, 1H), 3.96 (s, 3H).
유사하게, 다른 유도체가 동일한 방식으로 제조되고; R1 및 R2는 출발 물질이고; [P]는 반응의 생성물이다:
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d6) δ 8.54 (dd, J = 4.8, 1.8 ㎐, 1H), 8.31 (s, 1H), 8.27 (dd, J = 7.6, 1.9 ㎐, 1H), 7.77 - 7.66 (m, 2H), 7.55 - 7.40 (m, 4H).
1 H NMR (500 ㎒, 클로로포름-d) δ 8.41 (s, 1H), 7.79 (d, J = 0.8 ㎐, 1H), 7.71 - 7.61 (m, 2H), 7.47 - 7.38 (m, 3H), 6.65 (s, 1H), 4.03 (s, 3H).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.66 (s, 1H), 8.20 (s, 1H), 7.79 - 7.71 (m, 2H), 7.57 (d, J = 8.7 ㎐, 1H), 6.92 (s, 1H), 3.96 (s, 3H).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) 8.98 (s, 1H), 8.67 (d, J = 5.7 ㎐, 1H), 8.33 (s, 1H), 7.75 - 7.70 (m, 2H), 7.51 - 7.43 (m, 4H).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.13 - 8.10 (m, 1H), 7.97 (d, J = 5.8 ㎐, 1H), 7.52 (s, 1H), 7.19 (dd, J = 5.3, 1.9 ㎐, 3H), 6.98 - 6.96 (m, 2H), 6.63 (d, J = 5.9 ㎐, 1H), 3.56 (s, 5H), 3.51 (s, 5H).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.97 (s, 1H), 8.73 (d, J = 5.7 ㎐, 1H), 8.17 (s, 1H), 7.88 (dd, J = 8.0, 1.3 ㎐, 1H), 7.81 - 7.78 (m, 1H), 7.71 (tt, J = 7.7, 1.1 ㎐, 1H), 7.60 (d, J = 7.5 ㎐, 1H), 7.54 (d, J = 5.7 ㎐, 1H).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.97 (s, 1H), 8.66 (d, J = 5.7 ㎐, 1H), 8.30 (s, 1H), 7.64 (d, J = 8.2 ㎐, 2H), 7.47 (d, J = 5.7 ㎐, 1H), 7.30 (d, J = 7.9 ㎐, 2H), 2.36 (s, 3H).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.67 (s, 1H), 8.39 (s, 1H), 7.73 (d, J = 8.2 ㎐, 2H), 7.40 (d, J = 8.0 ㎐, 2H), 6.90 (s, 1H), 3.97 (s, 3H).
19 F NMR (470 ㎒, DMSO-d 6 ) δ -60.9.
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.41 (s, 1H), 7.95 (d, J = 8.1 ㎐, 1H), 7.84 (d, J = 8.3 ㎐, 1H), 7.78 (d, J = 8.0 ㎐, 2H), 7.39 (d, J = 7.9 ㎐, 2H), 3.95 (s, 3H).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.46 (s, 1H), 8.14 (d, J = 8.4 ㎐, 1H), 7.51 (d, 2H, J = 9.0 ㎐), 7.31 (tt, J = 9.3, 2.4 ㎐, 1H), 6.95 (d, J = 8.4 ㎐, 1H), 3.97 (s, 3H).
19 F NMR (470 ㎒, DMSO-d 6 ) δ -110.0.
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.43 (s, 1H), 8.17 (t, J = 1.7 ㎐, 1H), 8.15 (d, J = 8.4 ㎐, 1H), 8.10 - 8.06 (m, 1H), 7.89 (dt, J = 7.8, 1.3 ㎐, 1H), 7.69 (t, J = 7.9 ㎐, 1H), 6.95 (d, J = 8.4 ㎐, 1H), 3.97 (s, 3H).
실시예 14:
0.446 g(1.7 mmol)의 3-[4-브로모-2-(트라이플루오로메톡시)페닐]-7-메톡시-2H-피라노[3,2-c]피리딘-2-온), 0.152 g(1.29 mmol; 1.2 당량)의 n-펜틸보론산 및 0.524 g(2.27 mmol; 2.1 당량)의 트라이포타슘 포스페이트 트라이하이드레이트는 3 ml의 톨루엔 중에 용해되고 3회 탈기된다. 9.92 mg(0.043 mmol; 0.04 당량)의 팔라듐(II) 아세테이트 및 35.92 mg(0.086 mmol; 0.08 당량)의 2-다이사이클로헥실포스피노-2',6'-다이메톡시-1,1'-바이페닐이 첨가된다. 반응 혼합물이 후속적으로 보호 기체(protective-gas) 분위기 하에 2시간 동안 90℃에서 교반된다. 냉각된 용액이 2-메틸 테트라하이드로푸란 및 물로 희석되고 상이 분리된다. 수성 상이 2-메틸 테트라하이드로푸란으로 3회 추출되고 유기 상은 MgSO4로 건조되고 증발된다. 조 생성물은 실리카겔 상의 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제된다. 0.26 g의 7-메톡시-3-[4-펜틸-2-(트라이플루오로메톡시)페닐]-2H-피라노[3,2-c]피리딘-2-온이 단리된다(이론치의 60%).
1 H NMR (500 ㎒, 클로로포름-d) δ 8.38 (s, 1H), 7.71 (d, J = 0.8 ㎐, 1H), 7.38 (d, J = 7.7 ㎐, 1H), 7.19 - 7.16 (m, 2H), 6.66 (s, 1H), 4.03 (s, 3H), 2.69 - 2.64 (m, 2H), 1.65 (dq, J = 9.6, 7.3 ㎐, 2H), 1.35 (tt, J = 6.7, 2.4 ㎐, 4H), 0.92 - 0.90 (m, 3H).
유사하게, 다른 유도체가 동일한 방식으로 제조되고; R1 및 R2는 출발 물질이고; [P]는 반응의 생성물이다:
실시예 15:
4 ml의 무수 N,N-다이메틸포름아미드 중의 7-메톡시-3-페닐-2H-피라노[3,2-c]피리딘-2-온(0.5 g; 1.974 mmol)의 용액에 무수 리튬 클로라이드(0.418 g; 9.87 mmol; 5.0 당량) 및 para-톨루엔설폰산 모노하이드레이트(1.88 g; 9.87 mmol; 5.0 당량)를 첨가한다. 반응 혼합물은 180℃에서 2시간 동안 교반된다. 물이 실온에서 첨가되고, 침전물이 형성되고, 여과되고, 여과물은 다시 DCM으로 3회 추출된다. 조합된 유기 고체는 진공 하에 건조되어 0.376 g의 3-페닐-2H,6H,7H-피라노[3,2-c]피리딘-2,7-다이온을 산출한다(이론치의 80% 수율).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 12.34 (br s, 1H), 8.13 (s, 1H), 7.98 (s, 1H), 7.63 - 7.57 (m, 2H), 7.46 - 7.41 (m, 2H), 7.41 - 7.36 (m, 1H), 6.13 (s, 1H).
유사하게, 다른 유도체가 동일한 방식으로 제조된다:
화합물 15b:
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 12.40 (s, 1H), 8.16 (s, 1H), 7.85 (s, 1H), 7.41 (d, J = 7.8 ㎐, 1H), 7.30 (dd, J = 7.9, 1.6 ㎐, 1H), 7.25 (d, J = 2.2 ㎐, 1H), 6.16 (s, 1H), 2.66 (t, J = 7.7 ㎐, 2H), 1.60 (p, J = 7.5 ㎐, 2H), 1.30 (ddq, J = 16.4, 7.3, 4.5, 2.6 ㎐, 4H), 0.86 (t, J = 6.9 ㎐, 3H).
화합물 15c:
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 12.34 (br s, 1H), 8.40 (s, 1H), 8.04 (d, J = 8.4 ㎐, 1H), 7.52 - 7.47 (m, 2H), 7.29 (tt, J = 9.3, 2.4 ㎐, 1H), 6.70 (br s, 1H).
화합물 15d:
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 12.28 (br s, 1H), 8.38 (s, 1H), 8.15 (t, J = 1.7 ㎐, 2H), 8.08 - 8.03 (m, 1H), 7.86 (dt, J = 7.7, 1.4 ㎐, 1H), 7.68 (t, J = 7.8 ㎐, 1H) 6.71 (br s, 1H).
실시예 16:
3-페닐-2H,6H,7H-피라노[3,2-c]피리딘-2,7-다이온(2.0 g, 8.36 mmol, 1.00 당량)을 최소 2일 동안 N,N-다이메틸포름아미드(35 ml) 중의 탄산칼륨(4.67 g, 33.00 mmol, 4.00 당량) 및 12-브로모-도데칸-1-올(2.337 g, 8.79 mmol, 1.05 mmol)로 환류시킨다. 현탁액을 여과하고, 여과액의 용매를 증발시킨다. 조 잔류물은 용리제로서 DCM/메탄올 및/또는 헵탄/에틸 아세테이트를 사용하여 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제된다. 0.628 g의 7-[(12-하이드록시도데실)옥시]-3-페닐-2H-피라노[3,2-c]피리딘-2-온(이론치의 18% 수율)은 부산물로서 1.95 g의 6-(12-하이드록시도데실)-3-페닐-2H,6H,7H-피라노[3,2-c]피리딘-2,7-다이온(이론치의 55% 수율)과 함께 단리된다.
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.61 (s, 1H), 8.24 (s, 1H), 7.69 (d, J = 7.9 ㎐, 2H), 7.48 - 7.40 (m, 3H), 6.82 (s, 1H), 4.35 - 4.30 (m, 3H), 3.38 - 3.34 (m, 2H), 1.73 (p, J = 6.8 ㎐, 2H), 1.39 (dq, J = 12.5, 6.3, 5.0 ㎐, 4H), 1.34 - 1.21 (m, 14H).
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.44 (s, 1H), 7.91 (s, 1H), 7.61 - 7.59 (m, 2H), 7.46 - 7.43 (m, 2H), 7.40 - 7.37 (m, 1H), 6.21 (s, 1H), 4.31 (t, J = 5.1 ㎐, 1H), 3.97 (t, J = 7.3 ㎐, 2H), 3.38 - 3.34 (m, 2H), 1.67 (q, J = 7.1 ㎐, 2H), 1.38 (p, J = 6.8 ㎐, 2H), 1.25 (d, J = 21.5 ㎐, 16H).
유사하게, 다른 유도체가 동일한 방식으로 제조되고; R1 및 R2는 출발 물질이고; [P]는 반응의 생성물이다:
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6) δ 8.45 (s, 1H), 8.12 (d, J = 8.4 ㎐, 1H), 7.51 (dd, J = 9.0, 2.2 ㎐, 2H), 7.31 (tt, J = 9.3, 2.4 ㎐, 1H), 6.92 (d, J = 8.4 ㎐, 1H), 4.35 (t, J = 6.6 ㎐, 2H), 4.31 (t, J = 5.1 ㎐, 1H), 3.36 (td, J = 6.6, 5.2 ㎐, 2H), 1.75 (p, J = 6.8 ㎐, 2H), 1.39 (p, J = 7.2, 6.3 ㎐, 4H), 1.34 - 1.21 (m, 12H).
및
1 H NMR (500 ㎒, DMSO-d 6 ) δ 7.97 (s, 1H), 7.85 - 7.79 (m, 3H), 7.72 (d, J = 1.7 ㎐, 1H), 7.61 (t, J = 7.9 ㎐, 1H), 7.53 - 7.49 (m, 1H), 4.59 - 4.54 (m, 5H), 4.48 - 4.43 (m, 2H), 4.36 - 4.33 (m, 2H), 4.32 - 4.27 (m, 2H), 3.76 (t, J = 4.8 ㎐, 2H), 3.41 (dt, J = 10.5, 5.3 ㎐, 4H).
실시예 17:
$문헌[M. Schraub et al, European Polymer Journal 51 (2014) 21-27]에 기술된 바와 같은 참조 물질 Ref-[1]과 비교된 그리고 융점을 통한 본 발명에 따른 화합물/단량체의 특성화는 폴리메타크릴레이트를 함유하는 3-페닐-쿠마린의 광화학을 기술한다.
제조의 실시예:
실시예 18 - 괴상 공중합체를 생성하기 위한 일반 중합 절차
괴상 중합체 블랭크의 생성을 위해, 단량체가 진공 하에 그리고 하기 표 3에 나타낸 바와 같은 추가의 성분과 양으로 용융된다.
표 3에 나타낸 조성물은 교반하면서 아래의 모든 화합물을 함께 혼합는 것으로 하기에 기술된 바와 같이 동일한 방식으로 제형화된다. 필요한 경우, 교반을 위해 가열 중탕(heating bath)이 사용된다. 이러한 제형은 또한 표 5에서 비교된 공중합체의 기반이 된다.
[표 3]
전형적으로, 가교결합제로서 12-({2-옥소-3-페닐-2H-피라노[3,2-c]피리딘-7-일}옥시)도데실 프로프-2-에노에이트(A-097)(0.2 g, 0.42 mmol, 22.5 몰%), n-부틸 아크릴레이트(0.17 g, 1.31 mmol, 70.4 몰%) 및 에틸렌 글리콜 다이메타크릴레이트(0.02 g, 0.10 mmol, 5.4 몰%)(EGDMA)의 조성물은 온건한 열을 사용한 교반 하에 잘 혼합되고, 3회의 동결-펌핑-해동(freeze-pump-thaw) 사이클에 의해 탈기된다. 적절한 양(0.02 - 0.12 당량)의 라디칼 개시제(예컨대, 1,1'-(3,3,5-트라이메틸사이클로헥실리덴)비스[2-(1,1-다이메틸에틸)-퍼옥사이드[Luperox® 231] 또는 2-[(E)-2-(1-시아노-1-메틸에틸)다이아젠-1-일]-2-메틸프로판니트릴)가 첨가된다.
2개의 유리 플레이트가 폴리에티렌 시트로 코팅되고, 1 mm 두께의 셀이 실리콘 고무 개스킷(gasket)을 사용하여 폴리에틸렌 시트 사이에 생성된다. 유리 시트의 코팅된 면이 스프링 클립(spring clip)을 사용하여 개스킷과 폴리에틸렌 시트 사이에 배치된 주사기 바늘과 함께 고정된다. 이어서 빈 공간(cavity)이 기밀(gastight)의 주사기를 사용하여 바늘을 통해 상기 제형으로 또는 표 3에 추가로 나타낸 바와 같은 제형으로 충전된다. 일단 빈 공간이 충전되면 주사기 바늘은 제거되고, 주형을 밀봉하기 위해 최종 클립이 사용되고, 조립체는 오븐에 놓여진다. 중합 온도는 60℃ 내지 180℃이고, 개별 중합 조건은 제형 혼합물로부터 당업자가 추출할 수 있는 각각의 개시제에 대해 선택된다. 주형은 중합체 플레이트가 주형으로부터 제거되기 전에 실온으로 냉각되게 한다.
굴절률 변경은 340 내지 365 nm에서 조사에 의해 유도된다. 590 nm에서 블랭크의 굴절률(n)은 조사 전 및 조사 후에 Schmidt+Haensch Ar12에 의해 측정된다. 하기 표는 조사 후 굴절률 뿐만 아니라 굴절률 변화(최대 Δn)를 보여준다.
상 전이 온도는 밀폐된 알루미늄 팬에서 -100℃에서 200℃까지 20 K/분으로 2차 가열 실행으로 가열 동안 TA Instruments Q2000 시차 주사 열량계로 결정된다.
[표 4]
응용 실시예 18-5 내지 18-8의 결과는 조사 후 유의한 굴절률 변화를 보여준다.
게다가, 본 발명에 따른 광활성 발색단 내의 질소의 추가는 종래 기술 화합물에 비해 광학적 특성에 유의한 영향을 미친다. 종래 기술의 대표적인 단량체(Ref-[1], Ref-[2], Ref-[3] 및 Ref-[4]) 및 단량체 A-001, 단량체 A-097, 단량체 A-126 및 단량체 A-046의 단일중합체가 제조되고 이러한 효과를 설명하기 위해 비교된다.
Ref-[2]는 국제 특허 공개 WO2017032442호에 개시된 바와 같은 단량체(화합물 (M-1))이다.
Ref-[3]는 국제 특허 공개 WO2017032442호에 개시된 바와 같은 단량체(화합물 (M-42))이다.
Ref-[4]는 국제 특허 공개 WO2017032442호에 개시된 바와 같은 단량체(화합물 (M-53))이다.
이러한 효과 및 직접적인 비교는 표 5의 데이터로부터 볼 수 있고 도 1에 도식화된다.
[표 5]
a 는 제형 혼합물의 총량(그램 단위) 당 광활성 발색단(mmol 단위) 비율을 의미한다.
제형 혼합물의 총량(그램 단위) 당 광활성 발색단(mmol 단위) 비율은 하기와 같이 계산된다: 표 3에 따른 조성물은 기재된 바와 같이 다양한 구성 성분으로 이루어진다. 각각의 제형에서 모든 상기 구성 성분의 그램 단위 중량이 요약된다. 이어서, 각각의 제형에서 mmol 단위의 개별 광활성 발색단의 양(Ref-[1], Ref-[2], Ref-[3], Ref-[4], A-001, A-097, A-126 또는 A-046의 양)을 상기 개별 광활성 발색단을 포함하는 상기 제형에 대해 이전에 계산된 합으로 나눈다. 이러한 수학적 연산의 몫이 상기 언급된 제형 혼합물의 총량(그램 단위) 당 광활성 발색단(mmol 단위) 비율이다.
표 5에 기술된 바와 같은 화합물의 전술된 바와 같은 이점은 도 1에 도식화되고, 여기서 굴절률 변화 Δn은 제형의 총량(그램 단위) 당 광활성 발색단의 양(mmol)에 대하여 그래프화된다. 도 1은, 본 발명에 따른 실시예가 더 높은 굴절률 변화 및 부분적으로 증가된 더 높은 시작 굴절률을 나타내고, 광활성 발색단 mmol 당 굴절률 변화의 총 값은 사용된 기준 재료와 비교하여 훨씬 더 높다는 것을 보여준다.
Claims (19)
- 적어도 하나의 화학식 (I)의 중합되는 화합물을 포함하는 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품(precursor article).
[화학식 (I)]
상기 식에서,
2가 기는 화학식 (B-1), 화학식 (B-2), 화학식 (B-3), 화학식 (B-4) 및 화학식 (B-5)의 군:
,
,
,
,
으로부터 선택되고,
별표 *는 화학식 (I)의 나머지 부분에 대한 연결을 나타내고;
Y1, Y2, Y3, Y4는 각각 서로 독립적으로 CR' 또는 N이고, 단, Y1, Y2, Y3 및 Y4 중 하나만이 N이고 나머지는 CR'이고;
Y5는 O, S 또는 NRB이고;
RB는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로부터 선택되고;
X는 O 또는 S이고;
Y0는 O 또는 S이고;
A1, A2, A3, A4는 각각 서로 독립적으로 N, CR'' 또는 C-Y-R2-R1이고, 단, m1이 1인 경우, A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 N이고 나머지는 CR''이며, m1이 0인 경우, A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 N이고 A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 C-Y-R2-R1이며 나머지는 각각 독립적으로 CR''이고; 또는
m1이 0인 경우, 인접한 A1-A2, A2-A3 또는 A3-A4는 각각 서로 독립적으로 -N(R2-R1)-C(=O)- 또는 -C(=O)-N(R2-R1)-이고, 나머지 A3, A4, A1 및 A2는 각각 서로 독립적으로 CR''이고;
Y는 서로 독립적으로 O, S, SO2 또는 결합이고;
m1은 0 또는 1이고;
n1은 4이고;
n2는 2이고;
R'은 각각의 경우에 독립적으로, H, F, SF5, CN, SO2CF3, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기, 3 내지 6개의 C 원자를 갖는 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 사이클로알킬기, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알콕시기 및 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 티오알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R''은 각각의 경우에 독립적으로, H, F, Cl, Br, CN, SO2CF3, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기, 3 내지 6개의 C 원자를 갖는 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 사이클로알킬기, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알콕시기 및 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되고 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 티오알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R1은 트라이알콕시실릴기 또는 다이알콕시알킬실릴기이며, 여기서, 상기 알킬 및/또는 알콕시기는 각각 독립적으로 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형이거나, 또는 화학식 (1), 화학식 (2) 또는 화학식 (3)의 실릴기 또는 화학식 (4)의 중합성 기:
,
,
,
이고,
여기서, 알킬은 각각의 경우에 서로 독립적으로 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 의미하고, 별표 "*"는 각각의 경우에 서로 독립적으로 링커(linker) -R2-, -R2-Y 또는 [Y-R2-]m1에 대한 연결을 나타내고;
X11은 O, S, O-SO2, SO2-O, C(=O), OC(=O), C(=O)O, S(C=O) 및 (C=O)S로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R5, R6, R7은 각각의 경우에 서로 독립적으로, H, F, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-플루오르화되거나 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기 및 6 내지 14개의 C 원자를 갖는 아릴로 이루어진 군으로부터 선택되고,
c는 0 또는 1이고;
-R2-는 -(C(R)2)o- 또는 -(C(R)2)p-X8-(C(R)2)q-(X9)s-(C(R)2)r-(X10)t-(C(R)2)u-이고;
R은 각각의 경우에 독립적으로 H, F, 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
o는 0 내지 20으로 이루어진 군으로부터 선택되고,
X8, X9, X10은 각각의 경우에 독립적으로 O, S, SO2 또는 NR0이고,
s, t는 0 또는 1이고,
p, q는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 10으로 이루어진 군으로부터 선택되고,
r 및 u는 각각의 경우에 독립적으로 0 내지 10으로 이루어진 군으로부터 선택되고, -(C(R)2)p-X8-(C(R)2)q-(X9)s-(C(R)2)r-(X10)t-(C(R)2)u-에 대한 원자들의 전체 수는 20개 이하이고,
R0는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R3는 H, F, Cl, Br, CN 또는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기이고;
R4는, m1이 0인 경우, R'이고,
R4는, m1이 1인 경우, R1이다. - 제1항에 있어서, 화학식 (I)의 중합되는 화합물에서 m1은 0이고, 상기 화합물은 화학식 (I')인, 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품.
[화학식 (I')]
상기 식에서, R1, -R2-, Y, R3, X, Y0, R', R'' 및
는 제1항에서 정의한 바와 같고;
A1, A2, A3, A4는 각각 서로 독립적으로 N, CR'' 또는 C-Y-R2-R1이고, 단, A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 N이고 A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 C-Y-R2-R1이며 나머지는 각각 독립적으로 CR''이고, 또는
인접한 A1-A2, A2-A3 또는 A3-A4는 각각 서로 독립적으로 -N(R2-R1)-C(=O)- 또는 -C(=O)-N(R2-R1)-이고, 나머지 A3, A4, A1 및 A2는 각각 서로 독립적으로 CR''이고;
R4는 H 또는 R'이다. - 제1항에 있어서, 화학식 (I)의 중합되는 화합물에서 m1이 1이고, 상기 화합물은 화학식 (I'')인, 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품.
[화학식 (I'')]
상기 식에서, R1, -R2-, Y, R3, X, Y0, R', R'' 및
는 제1항에서 정의한 바와 같고;
A1, A2, A3, A4는 각각 서로 독립적으로, N 또는 CR''이고, 단, A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 N이고 나머지는 CR''이다. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 (I), 화학식 (I') 또는 화학식 (I'')에 기초한 구성 단위 M0를 포함하는 올리고머, 중합체 또는 공중합체를 포함하고, 상기 화학식 (I), 화학식 (I') 또는 화학식 (I'')에서, 각각의 경우의 R1이 중합되고, 따라서 R1이 위치규칙적(regioregular), 교대의, 위치불규칙적(regiorandom), 통계적, 블록 또는 랜덤 올리고머 또는 중합체 골격을 형성하거나 공중합체 골격의 일부가 되는, 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중합되는 기 R1은 화학식 (1-p), 화학식 (2-p), 화학식 (3-p) 또는 화학식 (4-p)인, 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품.
,
,
,
상기 식들에서, 화학식 (1-p) 내지 화학식 (4-p) 내의 별표 "*"는 중합체 쇄 또는 올리고머 쇄 내의 인접한 반복 단위에 대한 또는 말단 단부 기에 대한 연결을 나타내고, 화학식 (1-p) 내지 화학식 (4-p) 내의 별표 "**"는 화학식 (I), 화학식 (I') 또는 (I'')의 나머지 부분에 대한 연결을 나타내고, R5, R6, R7, X11 및 c는 제1항에 정의된 의미를 갖는다. - 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 구성 단위 M0는 화학식 (M0-I'-a), 화학식 (M0-I'-b), 화학식 (M0-I'-c), 화학식 (M0-I'-d), 화학식 (M0-I'-e), 화학식 (M0-I'-f), 화학식 (M0-I'-g), 화학식 (M0-I'-h), 화학식 (M0-I'-i) 또는 화학식 (M0-I'')인, 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품.
[화학식 (M0-I'-a)]
,
[화학식 (M0-I'-b)]
[화학식 (M0-I'-c)]
[화학식 (M0-I'-d)]
[화학식 (M0-I'-e)]
[화학식 (M0-I'-f)]
[화학식 (M0-I'-g)]
[화학식 (M0-I'-h)]
[화학식 (M0-I'-i)]
[화학식 (M0-I'')]
상기 식들에서, R1, -R2-, X, Y0, Y, A1, A2, A3, A4, R3, R4, R5, R6, R7, X11, c 및
는 제1항에 정의된 의미를 갖고, R4는 R'이고, 별표 "*"는 각각의 경우에 상기 중합체 쇄 또는 올리고머 쇄 내의 인접한 반복 단위에 대한 또는 말단 단부 기에 대한 연결을 나타낸다.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 (I), 화학식 (I') 또는 화학식 (I'')의 중합되는 화합물 적어도 하나 또는 화학식 (M0-I'-a), 화학식 (M0-I'-b), 화학식 (M0-I'-c), 화학식 (M0-I'-d), 화학식 (M0-I'-e), 화학식 (M0-I'-f), 화학식 (M0-I'-g), 화학식 (M0-I'-h), 화학식 (M0-I'-i) 또는 화학식 (M0-I'')의 구성 단위 M0 외에도, 스티렌, 에톡시에틸 메타크릴레이트(EOEMA), 메틸 메타크릴레이트(MMA), 메틸 아크릴레이트, n-알킬 아크릴레이트(2 내지 20개의 C 원자를 포함하는 n-알킬기), n-알킬 메타크릴레이트(2 내지 20개의 C 원자를 포함하는 n-알킬기), i-알킬 아크릴레이트(3 내지 20개의 C 원자를 포함하는 i-알킬기), i-알킬 메타크릴레이트 (3 내지 20개의 C 원자를 포함하는 i-알킬기), 에톡시에톡시 에틸아크릴레이트(EEEA), 2-하이드록시에틸 메타크릴레이트(HEMA), 테트라하이드로푸릴 메타크릴레이트(THFMA), 글리시딜메타크릴레이트(GMA), 16-하이드록시헥사데실 아크릴레이트, 16-하이드록시헥사데실 메타크릴레이트, 18-하이드록시옥타데실 아크릴레이트, 18-하이드록시옥타데실 메타크릴레이트, 2-페톡시에틸 아크릴레이트(EGPEA), 헵타플루오로부틸 아크릴레이트, 헵타플루오로부틸 메타크릴레이트, 헥사플루오로부틸 아크릴레이트, 헥사플루오로부틸 메타크릴레이트, 헥사플루오로아이소프로필 아크릴레이트, 헥사플루오로아이소프로필 메타크릴레이트, 옥타플루오로펜틸 아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸 메타크릴레이트, 펜타플루오로프로필 아크릴레이트, 펜타플루오로프로필 메타크릴레이트, 테트라플루오로프로필 메타크릴레이트, 트라이플루오로에틸 아크릴레이트, 트라이플루오로에틸 메타크릴레이트, 비스페놀 A 다이아크릴레이트-1 EO/페놀(BPADA), 2-[3'-2'H-벤조트라이아졸-2'-일)-4'-하이드록시페닐]에틸 메타크릴레이트(BTPEM) 및 에틸렌글리콜다이메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 추가의 중합되는 단량체를 포함하는, 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품.
- 제7항에 있어서, 상기 적어도 하나의 추가의 중합되는 단량체는 메틸 메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸 메타크릴레이트, 2-페녹시에틸 아크릴레이트, 에톡시에톡시 에틸아크릴레이트, 8-메틸노닐 메타크릴레이트, n-부틸 메타크릴레이트, 2-에틸 헥실메타크릴레이트 및 이들의 혼합물로부터 선택되는, 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, -R2-는 각각의 경우에 독립적으로 -(C(R)2)o-이고, R 및 o는 제1항에 정의한 바와 같은, 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, X는 O이고, Y0는 O인, 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 중합되는 R1은 각각의 경우에 독립적으로 아크릴 라디칼 또는 메타크릴 라디칼로부터 유도되는, 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품.
- 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전구체 물품은, 눈 이식체(eye implant), 바람직하게는 안내 렌즈로 변형될 수 있는 블랭크(blank)인, 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품.
- 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품을 형성하는 방법으로서,
- 제1항 내지 제3항, 제9항 및 제10항 중 어느 한 항에 기재된 화학식 (I), 화학식 (I') 또는 화학식 (I'')의 화합물 적어도 하나 및/또는 제4항 내지 제8항 및 제11항 중 어느 한 항에 기재된 바와 같지만 중합을 위해 남겨진 적어도 하나의 반응성기를 갖는 올리고머 또는 중합체, 및 선택적으로 화학식 (I), 화학식 (I') 또는 화학식 (I'')의 화합물들과는 상이한 추가의 단량체 및/또는 가교결합제 및/또는 UV 흡수제 및/또는 라디칼 개시제를 포함하는 조성물을 제공하는 단계 및
- 후속적으로 상기 조성물로부터 상기 안과용 장치 또는 전구체 물품을 형성하는 단계를 포함하는, 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품을 형성하는 방법. - 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 광학 특성을 변경하는 방법으로서,
- 제13항에 따른 안과용 장치 또는 전구체 물품을 제공하는 단계, 및
- 후속적으로 상기 안과용 장치 또는 상기 전구체 물품을 200 nm 이상 및 1500 nm 이하의 파장을 갖는 조사선(irradiation)에 노출시키는 단계를 포함하는, 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품의 광학 특성을 변경하는 방법. - 제14항에 기재된 방법에 의해 얻을 수 있는 안과용 장치 또는 안과용 장치를 제조하기 위한 전구체 물품.
- 제1항에 기재된 적어도 하나의 화학식 (I)의 중합되는 화합물을 포함하는 올리고머, 중합체 또는 공중합체.
- 제16항에 있어서, 상기 화학식 (I)의 중합되는 화합물 외에도, 스티렌, 에톡시에틸 메타크릴레이트(EOEMA), 메틸 메타크릴레이트(MMA), 메틸 아크릴레이트, n-알킬 아크릴레이트(2 내지 20개의 C 원자를 포함하는 n-알킬기), n-알킬 메타크릴레이트(2 내지 20개의 C 원자를 포함하는 n-알킬기), i-알킬 아크릴레이트(3 내지 20개의 C 원자를 포함하는 i-알킬기), i-알킬 메타크릴레이트 (3 내지 20개의 C 원자를 포함하는 i-알킬기), 에톡시에톡시 에틸아크릴레이트(EEEA), 2-하이드록시에틸 메타크릴레이트(HEMA), 테트라하이드로푸릴 메타크릴레이트(THFMA), 글리시딜메타크릴레이트(GMA), 16-하이드록시헥사데실 아크릴레이트, 16-하이드록시헥사데실 메타크릴레이트, 18-하이드록시옥타데실 아크릴레이트, 18-하이드록시옥타데실 메타크릴레이트, 2-페녹시에틸 아크릴레이트(EGPEA), 헵타플루오로부틸 아크릴레이트, 헵타플루오로부틸 메타크릴레이트, 헥사플루오로부틸 아크릴레이트, 헥사플루오로부틸 메타크릴레이트, 헥사플루오로아이소프로필 아크릴레이트, 헥사플루오로아이소프로필 메타크릴레이트, 옥타플루오로펜틸 아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸 메타크릴레이트, 펜타플루오로프로필 아크릴레이트, 펜타플루오로프로필 메타크릴레이트, 테트라플루오로프로필 메타크릴레이트, 트라이플루오로에틸 아크릴레이트, 트라이플루오로에틸 메타크릴레이트, 비스페놀 A 다이아크릴레이트-1 EO/페놀(BPADA), 2-[3'-2'H-벤조트라이아졸-2'-일)-4'-하이드록시페닐]에틸 메타크릴레이트(BTPEM) 및 에틸렌글리콜다이메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 추가의 중합되는 단량체를 포함하는, 중합체.
- 제1항 내지 제3항, 제9항 및 제10항 중 어느 한 항에 기재된 화학식 (I), 화학식 (I') 또는 화학식 (I'')의 화합물 적어도 하나 및/또는 중합을 위해 남겨진 적어도 하나의 반응성 기를 갖는 제16항 또는 제17항에 기재된 올리고머 또는 중합체 및/또는 가교결합제 및/또는 UV 흡수제 및/또는 라디칼 개시제, 및 선택적으로 화학식 (I), 화학식 (I') 또는 화학식 (I'')의 화합물들과는 상이한 추가의 단량체를 포함하는, 중합을 위한 조성물.
- 화학식 (I)의 화합물:
[화학식 (I)]
상기 식에서,
2가 기는 화학식 (B-1), 화학식 (B-2), 화학식 (B-3), 화학식 (B-4) 및 화학식 (B-5)의 군:
,
,
,
,
으로부터 선택되고,
별표 *는 화학식 (I)의 나머지 부분에 대한 연결을 나타내고;
Y1, Y2, Y3, Y4는 각각 서로 독립적으로 CR' 또는 N이고, 단, Y1, Y2, Y3 및 Y4 중 하나만이 N이고 나머지는 CR'이고;
Y5는 O, S 또는 NRB이고;
RB는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 1 내지 10개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로부터 선택되고;
A1, A2, A3, A4는 각각 서로 독립적으로 N, CR'' 또는 C-Y-R2-R1이고, 단, m1이 1인 경우, A1, A2 및 A3 중 하나만이 N이고 나머지 및 A4는 CR''이며, m1이 0인 경우, A1, A2 및 A3 중 하나만이 N이고 A1, A2, A3 및 A4 중 하나만이 C-Y-R2-R1이며 나머지는 각각 독립적으로 CR''이고; 또는
m1이 0인 경우, 인접한 A1-A2, A2-A3 또는 A3-A4는 각각 서로 독립적으로 -N(R2-R1)-C(=O)- 또는 -C(=O)-N(R2-R1)-이고, 나머지 A3, A4, A1 및 A2는 각각 서로 독립적으로 CR''이고;
Y는 서로 독립적으로 O, S, SO2 또는 결합이고;
m1은 0 또는 1이고;
n1은 4이고;
n2는 2이고;
R'은 각각의 경우에 독립적으로, H, F, SF5, CN, SO2CF3, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기, 3 내지 6개의 C 원자를 갖는 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 사이클로알킬기, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알콕시기 및 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 티오알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R''은 각각의 경우에 독립적으로, H, F, Cl, Br, CN, SO2CF3, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기, 3 내지 6개의 C 원자를 갖는 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 사이클로알킬기, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알콕시기 및 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되고 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 티오알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R1은 트라이알콕시실릴기 또는 다이알콕시알킬실릴기이며, 여기서, 상기 알킬 및/또는 알콕시기는 각각 독립적으로 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형이거나, 또는 화학식 (1), 화학식 (2) 또는 화학식 (3)의 실릴기 또는 화학식 (4)의 중합성 기:
,
,
,
이고,
여기서, 알킬은 각각의 경우에 서로 독립적으로 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 의미하고, 별표 "*"는 각각의 경우에 서로 독립적으로 링커(linker) -R2-, -R2-Y 또는 [Y-R2-]m1에 대한 연결을 나타내고;
X11은 O, S, O-SO2, SO2-O, C(=O), OC(=O), C(=O)O, S(C=O) 및 (C=O)S로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R5, R6, R7은 각각의 경우에 서로 독립적으로, H, F, 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-플루오르화되거나 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기 및 6 내지 14개의 C 원자를 갖는 아릴로 이루어진 군으로부터 선택되고,
c는 0 또는 1이고;
-R2-는 -(C(R)2)o- 또는 -(C(R)2)p-X8-(C(R)2)q-(X9)s-(C(R)2)r-(X10)t-(C(R)2)u-이고;
R은 각각의 경우에 독립적으로, H, F, 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
o는 0 내지 20이고,
X8, X9, X10은 각각의 경우에 독립적으로 O, S, SO2 또는 NR0이고,
s, t는 0 또는 1이고,
p, q는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 10으로 이루어진 군으로부터 선택되고,
r 및 u는 각각의 경우에 독립적으로 0 내지 10으로 이루어진 군으로부터 선택되고, -(C(R)2)p-X8-(C(R)2)q-(X9)s-(C(R)2)r-(X10)t-(C(R)2)u-에 대한 원자들의 전체 수는 20개 이하이고,
R0는 각각의 경우에 독립적으로 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기 및 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R3는 H, F, Cl, Br, CN 또는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알킬기이고;
R4는, m1이 0인 경우, R'이고;
R4는, m1이 1인 경우, R1이고;
단, m1이 0인 경우, Y는 O 또는 S이고, A2는 C-Y-R2-R1이고,
2가 기는 위치 3에 존재하고 화학식 (B-3) 및 화학식 (B-4)로부터 선택되며, 여기서 화학식 (B-3)의 Y4는 N이고, 화학식 (B-4)의 Y3는 N이고, c는 1이고;
단, m1이 1인 경우, A2는 CR''이고, R''은 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되거나 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 알콕시기 및 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형의 비-할로겐화되고 부분적으로 또는 완전히 할로겐화된 티오알킬기이고,
2가 기는 위치 3에 존재하고 화학식 (B-3)으로부터 선택되며, 화학식 (B-3)의 Y2는 CR'이고 R'은 H이고, 화학식 (B-3)의 Y4는 N이고, Y는 결합, O 또는 S이고, c는 1이고;
단, m1이 1인 경우, Y는 결합이고, c는 0이고, R3는 Cl이고,
2가 기는 위치 3에 존재하고, o는 5 내지 20이고;
단, m1이 0인 경우, Y는 결합 또는 O이고, c는 0이고, R3는 Cl이고,
2가 기는 위치 3에 존재하고, o는 7 내지 20이고;
단, m1이 0인 경우, X는 O이고, Y0는 O이고, Y는 결합이고, c는 1이고, X11은 O, S, O-SO2, SO2-O, OC(=O), C(=O)O, S(C=O) 및 (C=O)S이고;
단, m1이 1인 경우, X는 O이고, Y0는 O이고, o는 5 내지 20이고;
단, m1이 1인 경우, c는 0이고, Y는 결합 또는 O이고,
2가 기는 위치 3에 존재하고, o는 11 내지 20이고;
단, m1이 1인 경우, A1 또는 A3는 N이고, Y는 결합이고, c는 0이고,
2가 기는 위치 3에 존재하고, o는 7 내지 20이고,
단, m1이 0인 경우, X는 O이고, Y0는 O이고, Y는 O 또는 S이고, c는 0이고, A2는 C-Y-R2-R1이고, A3는 Br이고, A1은 N이고,
2가 기는 위치 4에 존재하고 화학식 (B-1), 화학식 (B-3) 및 화학식 (B-4)로부터 선택되고, o는 2 내지 20이다.
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