KR20230011137A - 리프트 어셈블리 및 그를 포함하는 반도체 소자의 제조 장치 - Google Patents

리프트 어셈블리 및 그를 포함하는 반도체 소자의 제조 장치 Download PDF

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KR20230011137A
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Abstract

본 발명은 리프트 어셈블리 및 그를 포함하는 반도체 소자의 제조 장치를 개시한다. 그의 어셈블리는 복수개의 리프트 핀들, 상기 복수개의 리프트 핀들을 지지하는 리프트 후프, 상기 리프트 후프의 일측 아래에 제공되는 캐리어 브라켓, 및 상기 캐리어 브라켓과 상기 리프트 후프 사이에 제공되어 상기 복수개의 리프트 핀들의 기울기를 조절하는 기울기 조절부를 포함한다.

Description

리프트 어셈블리 및 그를 포함하는 반도체 소자의 제조 장치 {lift assembly and manufacturing apparatus of semiconductor device including the same}
본 발명은 반도체 소자의 제조 장치에 관한 것으로, 상세하게는 기판을 승강 및 하강시키는 리프트 어셈블리 및 그를 포함하는 반도체 소자의 제조 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자의 제조 장치는 박막 증착 장치, 포토리소그래피 장치, 식각 장치, 및 세정 장치를 포함할 수 있다. 그 중에 박막 증착 장치 및 식각 장치는 진공 내의 플라즈마를 이용하여 기판 상에 박막을 증착하고 상기 기판 또는 상기 박막을 식각할 수 있다. 플라즈마는 공정 챔버 내에서 생성될 수 있다. 공정 챔버는 기판을 고정하는 척과 상기 척 상에 기판을 안착시키거나 이탈시키는 리프트 핀들을 포함할 수 있다.
본 발명이 이루고자 하는 과제는 기판의 후면 불량을 최소화할 수 있는 리프트 어셈블리 및 그를 포함하는 반도체 소자의 제조 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명은 리프트 어셈블리를 개시한다. 그의 어셈블리는 복수개의 리프트 핀들; 상기 복수개의 리프트 핀들을 지지하는 리프트 후프; 상기 리프트 후프의 일측 아래에 제공되는 캐리어 브라켓; 및 상기 캐리어 브라켓과 상기 리프트 후프 사이에 제공되어 상기 복수개의 리프트 핀들의 기울기를 조절하는 기울기 조절부를 포함한다. 여기서, 상기 기울기 조절부는: 상기 리프트 후프의 일측에 연결되는 플레이트; 및 상기 플레이트 및 상기 캐리어 브라켓 사이에 제공되고, 상기 플레이트의 모서리들과 상기 캐리어 브라켓의 모서리들 사이의 거리를 개별적으로 조절하여 상기 리프트 핀들의 기울기를 조절하는 높이 조절 스크류들을 포함한다.
본 발명의 일 예에 따른 반도체 소자의 제조 장치는, 기판을 탑재하는 캐리어를 수납하는 로드 포트; 상기 로드 포트에 인접하여 배치되고, 상기 캐리어 내의 상기 기판을 취출하는 제 1 반송 암을 갖는 EFEM; 상기 EFEM에 연결된 로드락 챔버; 상기 로드락 챔버에 연결되고, 상기 기판을 이송하는 제 2 반송 암을 갖는 트랜스퍼 챔버; 및 상기 트랜스퍼 챔버에 연결되고 상기 기판의 단위 공정을 수행하는 공정 챔버를 포함한다. 여기서, 상기 공정 챔버는: 챔버 하우징; 상기 챔버 하우징의 하부 내에 제공되는 정전 척; 및 상기 정전 척을 관통하여 상기 기판을 상기 정전 척 상에 제공하는 리프트 어셈블리를 포함할 수 있다. 상기 리프트 어셈블리는: 복수개의 리프트 핀들; 상기 복수개의 리프트 핀들을 지지하는 리프트 후프; 상기 리프트 후프의 일측 아래에 제공되는 캐리어 브라켓; 및 상기 캐리어 브라켓과 상기 리프트 후프 사이에 제공되어 상기 복수개의 리프트 핀들의 기울기를 조절하는 기울기 조절부를 포함할 수 있다. 상기 기울기 조절부는: 상기 리프트 후프의 일측에 연결되는 플레이트; 및 상기 플레이트 및 상기 캐리어 브라켓 사이에 제공되고, 상기 플레이트의 모서리들과 상기 캐리어 브라켓의 모서리들 사이의 거리를 개별적으로 조절하여 상기 리프트 핀들의 기울기를 조절하는 높이 조절 스크류들을 포함할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 실시에 따른 리프트 어셈블리 및 그를 포함하는 반도체 소자의 제조 장치는 상기 복수개의 리프트 핀들의 기울기를 조절하는 기울기 조절부를 이용하여 기판과 리프트 핀들의 충격 및 마찰을 감소시켜 상기 기판의 후면 불량을 최소화할 수 있다.
도 1은 본 발명의 개념에 따른 반도체 소자의 제조 장치의 일 예를 보여주는 평면도이다.
도 2는 도 1의 공정 챔버의 일 예를 보여주는 단면도이다.
도 3 및 도 4는 도 2의 리프트 어셈블리의 일 예를 보여주는 사시도 및 단면도이다.
도 5는 도 3 및 도 4의 기울기 조절부의 일 예를 보여주는 평면도이다.
도 6은 도 3의 리프트 핀의 일 예를 보여주는 단면도이다.
도 1은 본 발명의 개념에 따른 반도체 소자의 제조 장치(100)의 일 예를 보여준다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 반도체 소자의 제조 장치(100)는 로드 포트들(10), EFEM(Equipment Front-End Module, 20), 로드락 챔버들(30), 트랜스퍼 챔버(40), 및 공정 챔버들(50)을 포함할 수 있다.
로드 포트들(10)은 캐리어(12), 또는 풉(FOUP)을 수납할 수 있다. 캐리어(12)는 기판들(W)을 탑재할 수 있다. 반송 장치(ex, 호이스트 장치)는 캐리어(12)를 로드 포트들(10) 상에 제공할 수 있다. 기판들(W)의 제조 공정이 완료되면, 반송 장치는 캐리어(12)를 다른 위치로 반송할 수 있다. .
EFEM(20)은 로드 포트들(10)과 로드락 챔버들(30) 사이에 제공될 수 있다. EFEM(20)은 제 1 반송 암(22)을 가질 수 있다. 제 1 반송 암(22)은 캐리어(12) 내의 기판들(W)을 취출(unload)하여 로드락 챔버들(30) 내에 제공할 수 있다. 반대로, 제 1 반송 암(22)은 기판들(W)을 로드락 챔버들(30)에서 캐리어(12)로 제공할 수 있다. 제 1 반송 암(22)은 기판(W)을 EFEM(20) 내에서 일시적으로 저장시킬 수 있다.
로드락 챔버들(30)은 EFEM(20) 및 트랜스퍼 챔버(40) 사이에 제공될 수 있다. 로드락 챔버들(30)은 기판(W)의 외부 압력을 변화시킬 수 있다. 로드락 챔버들(30)은 기판(W)에 대해 대기압 및 진공 압력을 제공할 수 있다. 기판(W)이 EFEM(20)에서 로드락 챔버들(30)에 제공되면, 로드락 챔버(30)는 진공 압력으로 펌핑될 수 있다. 기판(W)이 트랜스퍼 챔버(40)에서 로드락 챔버들(30)에 제공되면, 로드락 챔버(30)는 퍼지 가스(ex, N2)에 의해 퍼징되어 대기압을 가질 수 있다.
트랜스퍼 챔버(40)는 로드락 챔버들(30)과 공정 챔버들(50) 사이에 제공될 수 있다. 트랜스퍼 챔버(40) 및 공정 챔버들(50)은 진공 압력을 가질 수 있다. 트랜스퍼 챔버(40)는 제 2 반송 암(42)을 포함할 수 있다. 제 2 반송 암(42)은 트랜스퍼 챔버(40)의 중심 내에 제공될 수 있다. 제 2 반송 암(42)은 기판(W)을 로드락 챔버들(30)과 공정 챔버들(50) 내에 제공할 수 있다. 반대로, 제 2 반송 암(42)은 기판(W)을 로드락 챔버들(30)과 공정 챔버들(50로부터 회수할 수 있다.
공정 챔버들(50) 및 로드락 챔버들(30)은 트랜스퍼 챔버(40)의 둘레에 클러스터 타입(cluster type)으로 연결될 수 있다. 공정 챔버들(50)은 기판(W)의 단위 공정(ex, 박막 증착 공정, 또는 식각 공정)을 수행할 수 있다.
도 2는 도 1의 공정 챔버(50)의 일 예를 보여준다.
도 2를 참조하면, 공정 챔버(50)는 박막 증착 챔버 또는 식각 챔버일 수 있다. 일 예로, 공정 챔버(50)는 챔버 하우징(52), 정전 척(54), 및 리프트 어셈블리(56)를 포함할 수 있다.
챔버 하우징(52)은 기판(W)에 대해 외부로부터 밀폐된 공간을 제공할 수 있다. 챔버 하우징(52)은 슬릿 밸브(51)를 가질 수 있다. 슬릿 밸브(51)는 챔버 하우징(52)의 측벽에 제공될 수 있다. 슬릿 밸브(51)가 오픈되면, 제 2 반송 암(42)은 슬릿 밸브(51)를 통해 기판(W)을 챔버 하우징(52) 내에 제공하거나 트랜스퍼 챔버(40) 내에 회수할 수 있다. 제 2 반송 암(42)이 챔버 하우징(52) 내에서 배출되면, 슬릿 밸브(51)는 닫힐(closed) 수 있다.
정전 척(54)은 챔버 하우징(52)의 하부 내에 제공될 수 있다. 정전 척(54)은 기판(W)을 수납할 수 있다. 정전 척(54)은 기판(W)을 정전기력 및/또는 존슨-라벡 힘으로 고정할 수 있다. 전 척(54)은 기판(W)의 외주면을 둘러싸는 에지 링(미도시)을 가질 수 있다.
도시되지는 않았지만, 고주파 파워 공급부가 상기 정전 척(54)에 고주파 파워를 공급할 수 있다. 정전 척(54)은 고주파 파워를 이용하여 기판(W) 상에 플라즈마를 유도할 수 있다. 또한, 가스 공급부가 챔버 하우징(52) 상부의 샤워헤드에 연결될 수 있다. 가스 공급부는 공정 가스를 기판(W) 상에 제공할 수 있다. 공정 가스는 기판(W) 상에 박막을 증착하거나, 상기 기판(W) 또는 상기 박막을 식각할 수 있다.
리프트 어셈블리(56)는 정전 척(54)을 관통하여 제공될 수 있다. 제 2 반송 암(42)이 기판(W)을 정전 척(54) 상에 제공하면, 리프트 어셈블리(56)는 기판(W)의 가장자리를 지지할 수 있다. 제 2 반송 암(42)이 트랜스퍼 챔버(40)로 복귀하면, 리프트 어셈블리(56)는 기판(W)을 하강시켜 정전 척(54) 상에 안착시킬 수 있다. 기판(W)의 단위 공정이 완료되면, 리프트 어셈블리(56)는 기판(W)을 상승시켜 정전 척(54)으로부터 분리할 수 있다. 제 2 반송 암(42)은 기판(W)을 공정 챔버(50)에서 트랜스퍼 챔버(40)로 이동시킬 수 있다.
도 3 및 도 4는 도 2의 리프트 어셈블리(56)의 일 예를 보여준다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 리프트 어셈블리(56)는 승강부(562), 캐리어 브라켓(564), 기울기 조절부(566), 벨로우즈 튜브(568), 커플링 지지부(570), 리프트 후프(572), 및 리프트 핀들(574)을 포함할 수 있다.
승강부(562)는 캐리어 브라켓(564)의 아래에 제공될 수 있다. 승강부(562)는 캐리어 브라켓(564)을 승강 및/또는 하강시킬 수 있다. 예를 들어, 승강부(562)는 전동기 및 실린더를 포함할 수 있으며, 본 발명은 이에 한정되지 않는다.
캐리어 브라켓(564)은 승강부(562) 상에 제공될 수 있다. 캐리어 브라켓(564)은 기울기 조절부(566), 벨로우즈 튜브(568), 리프트 후프(572), 및 리프트 핀들(574)을 지지할 수 있다. 캐리어 브라켓(564)은 ㄱ자, Γ자, L자 또는 T자 모양을 가질 수 있다. 캐리어 브라켓(564)의 상부는 평평하고, 그의 하부는 상부보다 좁을 수 있다. 캐리어 브라켓(564)은 평면적 관점에서 정사각형 또는 직사각형의 모양을 가질 수 있다.
기울기 조절부(566)는 캐리어 브라켓(564) 상에 제공될 수 있다. 기울기 조절부(566)는 벨로우즈 튜브(568) 및 커플링 지지부(570) 아래에 제공될 수 있다. 기울기 조절부(566)는 벨로우즈 튜브(568), 리프트 후프(572) 및 리프트 핀들(574)을 제 2 반송 암(42)을 따라 기울일 수 있다. 제 2 반송 암(42)이 제 1 기울기(θ1)를 갖도록 기울어지면, 기울기 조절부(566)는 벨로우즈 튜브(568), 리프트 후프(572) 및 리프트 핀들(574)을 제 2 기울기(θ2)를 갖도록 기울어질 수 있다. 제 2 기울기(θ2)는 제 1 기울기(θ1)와 동일할 수 있다. 기울기 조절부(566)는 기판(W)의 후면과 리프트 핀들(574)의 접촉 면적을 증가시키고, 충격 량을 감소시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 리프트 어셈블리(56)는 기울기 조절부(566)를 이용하여 기판(W)의 후면 불량을 감소 및/또는 최소화할 수 있다.
벨로우즈 튜브(568)는 기울기 조절부(566) 상에 제공될 수 있다. 벨로우즈 튜브(568)는 리프트 후프(572)의 일부 및 커플링 지지부(570)를 둘러쌀 수 있다. 벨로우즈 튜브(568)는 챔버 하우징(52)의 포트에 결합하여 상기 챔버 하우징(52) 내의 진공 압력을 유지시킬 수 있다.
커플링 지지부(570)는 벨로우즈 튜브(568) 내에 제공될 수 있다. 커플링 지지부(570)는 기울기 조절부(566) 및 리프트 후프(572) 사이에 제공될 수 있다. 커플링 지지부(570)는 리프트 후프(572)의 일측을 기울기 조절부(566)에 연결시킬 수 있다.
리프트 후프(572)는 커플링 지지부(570) 상에 제공될 수 있다. 리프트 후프(572)는 말굽 또는 링의 모양을 가질 수 있다. 리프트 후프(572)는 리프트 핀들(574)을 지지할 수 있다. 리프트 후프(572)는 제 2 반송 암(42)과 평행할 수 있다.
리프트 핀들(574)은 리프트 후프(572) 상에 제공될 수 있다. 리프트 핀들(574)은 정전 척(54)을 관통할 수 있다. 리프트 핀들(574)은 세라믹(Al2O3)를 포함할 수 있다. 제 2 반송 암(42)이 기판(W)을 정전 척(54) 상에 제공하면, 리프트 핀들(574)은 기판(W)의 하부 면을 지지할 수 있다. 다음, 리프트 핀들(574)은 하강하여 기판(W)을 정전 척(54) 상에 안착시킬 수 있다. 기판(W)의 제조 공정이 완료되면, 리프트 핀들(574)은 기판(W)을 상승시켜 상기 기판(W)을 정전 척(54)으로부터 분리할 수 있다. 제 2 반송 암(42)은 기판(W)을 공정 챔버(50)의 외부로 배출시킬 수 있다. 리프트 핀들(574)은 리프트 후프(572) 및 제 2 반송 암(42)에 수직할 수 있다. 제 2 반송 암(42)이 제 1 기울기(θ1)를 가지면, 리프트 핀들(574)은 제 1 기울기(θ1)와 동일한 제 2 기울기(θ2)를 가질 수 있다. 제 2 기울기(θ2)는 수직면을 기준으로 리프트 핀들(574)의 기울어진 각도 이거나, 수평면을 기준으로 리프트 후프(572)의 기울어진 각도일 수 있다.
도 5는 도 3 및 도 4의 기울기 조절부(566)의 일 예를 보여준다.
도 3 내지 도 5를 참조하면, 기울기 조절부(566)는 플레이트(563), 높이 조절 스크류들(565), 클램핑 스크류들(567), 록킹 셋 스크류들(569), 및 스프링(561)을 포함할 수 있다.
플레이트(563)는 캐리어 브라켓(564)의 평탄면 상에 제공될 수 있다. 플레이트(563)는 캐리어 브라켓(564)의 평탄면과 동일한 모양을 가질 수 있다. 플레이트(563)는 평면적 관점에서 정사각형 또는 직사각형의 모양을 가질 수 있다. 플레이트(563)는 제 2 반송 암(42)과 평행할 수 있다. 제 2 반송 암(42)이 제 1 기울기(θ1)를 가지면, 플레이트(563)는 제 1 기울기(θ1)와 동일한 제 2 기울기(θ2)를 가질 수 있다.
높이 조절 스크류들(565)은 캐리어 브라켓(564) 및 플레이트(563)의 제 1 대각선 방향(602)으로 마주보는 모서리들(corners)에 제공될 수 있다. 높이 조절 스크류들(565)은 캐리어 브라켓(564)과 플레이트(563) 사이의 거리를 조절할 수 있다. 또한, 높이 조절 스크류들(565)은 캐리어 브라켓(564)에 대한 플레이트(563)의 제 1 대각선 방향(602)의 제 2 기울기(θ2)를 조절할 수 있다.
클램핑 스크류들(567)은 캐리어 브라켓(564) 및 플레이트(563)의 제 2 대각선 방향(604)으로 마주보는 모서리들에 제공될 수 있다. 클램핑 스크류들(567)은 캐리어 브라켓(564)을 관통하여 플레이트(563)의 하부 면에 접촉될 수 있다. 클램핑 스크류들(567)은 플레이트(563)를 제 2 대각선 방향(604)으로 캐리어 브라켓(564)의 상부에 고정시킬 수 있다. 또한, 클램핑 스크류들(567)은 플레이트(563)의 제 2 기울기(θ2)를 제 2 대각선 방향(604)으로 조절할 수 있다.
록킹 셋 스크류들(569)은 캐리어 브라켓(564)의 상부에 제공될 수 있다. 록킹 셋 스크류들(569)은 캐리어 브라켓(564)의 상부 측벽에 체결되어 높이 조절 스크류들(565)을 고정시킬 수 있다.
스프링(561)은 클램핑 스크류들(567)의 외주면 상에 제공될 수 있다. 스프링(561)은 스프링(561)은 클램핑 스크류들(567)의 헤드와 캐리어 브라켓(564) 사이에 제공될 수 있다. 스프링(561)은 클램핑 스크류들(567)을 캐리어 브라켓(564)에 고정(clamp)시킬 수 있다. 이와 달리, 스프링(561)은 상기 클램핑 스크류들(567)의 풀림 회전을 최소화하거나 방지할 수 있다.
도시되지는 않았지만, 높이 조절 스크류들(565) 및 클램핑 스크류들(567)은 높이 조절 모터들에 연결될 수 있다. 높이 조절 모터들은 제 2 반송 암(42)의 제 1 기울기(θ1)에 근거하여 플레이트(563) 및 리프트 핀들(574)의 제 2 기울기(θ2)를 제 1 기울기(θ1)와 동일하게 조절할 수 있다.
도 6은 도 3의 리프트 핀(574)의 일 예를 보여준다.
도 6을 참조하면, 리프트 핀(574)은 탄성 부재(576) 및 스크래치 방지 층(578)을 가질 수 있다.
탄성 부재(576)는 리프트 핀(574)의 팁 상에 제공될 수 있다. 탄성 부재(576)는 플라스틱 캡핑을 포함할 수 있다. 이와 달리, 탄성 부재(576)는 고무 또는 스프링을 포함할 수 있으며, 본 발명은 이에 한정되지 않는다.
스크래치 방지 층(578)은 탄성 부재(576) 상에 제공될 수 있다. 스크래치 방지 층(578)은 기판(W)의 하부 면의 스크래치를 최소화 또는 방지할 수 있다. 예를 들어, 스크래치 방지 층(578)은 탄화물, 질화물, 산화물, 또는 나노 복합 화합물을 포함할 수 있다.
이상, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들에는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

Claims (10)

  1. 복수개의 리프트 핀들;
    상기 복수개의 리프트 핀들을 지지하는 리프트 후프;
    상기 리프트 후프의 일측 아래에 제공되는 캐리어 브라켓; 및
    상기 캐리어 브라켓과 상기 리프트 후프 사이에 제공되어 상기 복수개의 리프트 핀들의 기울기를 조절하는 기울기 조절부를 포함하되,
    상기 기울기 조절부는:
    상기 리프트 후프의 일측에 연결되는 플레이트; 및
    상기 플레이트 및 상기 캐리어 브라켓 사이에 제공되고, 상기 플레이트의 모서리들과 상기 캐리어 브라켓의 모서리들 사이의 거리를 개별적으로 조절하여 상기 리프트 핀들의 기울기를 조절하는 높이 조절 스크류들을 포함하는 리프트 어셈블리.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 플레이트는 사각형의 모양을 갖고,
    상기 높이 조절 스크류들은 상기 사각형의 상기 모서리들에 제 1 대각선 방향으로 제공되고, 상기 플레이트와 상기 캐리어 브라켓 사이의 거리를 조절하는 리프트 어셈블리.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 기울기 조절부는:
    상기 사각형의 상기 모서리들에 제 2 대각선 방향으로 제공되고, 상기 플레이트를 상기 캐리어 브라켓에 고정하는 클램핑 스크류들; 및
    상기 클램핑 스크류들의 외주면 상에 제공되고, 상기 클램핑 스크류들을 상기 캐리어 브라켓에 고정하는 스프링을 더 포함하는 리프트 어셈블리.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 기울기 조절부는:
    상기 높이 조절 스크류들에 인접하는 상기 캐리어 브라켓의 측벽에 제공되고, 상기 높이 조절 스크류들을 상기 캐리어 브라켓에 고정하는 록킹 셋 스크류들을 더 포함하는 리프트 어셈블리.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 리프트 핀들의 각각은 그의 팁에 제공되는 탄성 부재를 갖는 리프트 어셈블리.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 리프트 핀들의 각각은 상기 탄성 부재 상에 제공되는 스크래치 방지 층을 더 갖는 리프트 어셈블리.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 리프트 후프를 상기 기울기 조절부의 상기 플레이트에 연결하는 커플링 지지부; 및
    상기 커플링 지지부를 둘러싸는 벨로우즈 튜브를 더 포함하는 리프트 어셈블리.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 캐리어 브라켓 아래에 제공되어 상기 캐리어 브라켓을 승강 및 하강시키는 승강부를 더 포함하는 리프트 어셈블리.
  9. 기판을 탑재하는 캐리어를 수납하는 로드 포트;
    상기 로드 포트에 인접하여 배치되고, 상기 캐리어 내의 상기 기판을 취출하는 제 1 반송 암을 갖는 EFEM;
    상기 EFEM에 연결된 로드락 챔버;
    상기 로드락 챔버에 연결되고, 상기 기판을 이송하는 제 2 반송 암을 갖는 트랜스퍼 챔버; 및
    상기 트랜스퍼 챔버에 연결되고 상기 기판의 단위 공정을 수행하는 공정 챔버를 포함하되,
    상기 공정 챔버는:
    챔버 하우징;
    상기 챔버 하우징의 하부 내에 제공되는 정전 척; 및
    상기 정전 척을 관통하여 상기 기판을 상기 정전 척 상에 제공하는 리프트 어셈블리를 포함하되,
    상기 리프트 어셈블리는:
    복수개의 리프트 핀들;
    상기 복수개의 리프트 핀들을 지지하는 리프트 후프;
    상기 리프트 후프의 일측 아래에 제공되는 캐리어 브라켓; 및
    상기 캐리어 브라켓과 상기 리프트 후프 사이에 제공되어 상기 복수개의 리프트 핀들의 기울기를 조절하는 기울기 조절부를 포함하되,
    상기 기울기 조절부는:
    상기 리프트 후프의 일측에 연결되는 플레이트; 및
    상기 플레이트 및 상기 캐리어 브라켓 사이에 제공되고, 상기 플레이트의 모서리들과 상기 캐리어 브라켓의 모서리들 사이의 거리를 개별적으로 조절하여 상기 리프트 핀들의 기울기를 조절하는 높이 조절 스크류들을 포함하는 반도체 소자의 제조 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 반송 암이 제 1 기울기를 가질 때, 상기 플레이트 및 상기 리프트 후프는 상기 제 1 기울기와 동일한 제 2 기울기를 갖는 상기 반도체 소자의 제조 장치.

    .
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