KR20230006282A - Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer including the same, color filter and electronic device - Google Patents

Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer including the same, color filter and electronic device Download PDF

Info

Publication number
KR20230006282A
KR20230006282A KR1020210087302A KR20210087302A KR20230006282A KR 20230006282 A KR20230006282 A KR 20230006282A KR 1020210087302 A KR1020210087302 A KR 1020210087302A KR 20210087302 A KR20210087302 A KR 20210087302A KR 20230006282 A KR20230006282 A KR 20230006282A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
photosensitive resin
substituted
resin composition
unsubstituted
Prior art date
Application number
KR1020210087302A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
정주호
김선대
신명엽
이진아
장춘근
정의수
Original Assignee
삼성에스디아이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성에스디아이 주식회사 filed Critical 삼성에스디아이 주식회사
Priority to KR1020210087302A priority Critical patent/KR20230006282A/en
Priority to JP2022103284A priority patent/JP7411733B2/en
Priority to TW111124542A priority patent/TW202302769A/en
Priority to CN202210755246.4A priority patent/CN115629522A/en
Publication of KR20230006282A publication Critical patent/KR20230006282A/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/0008Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0041Optical brightening agents, organic pigments
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/0091Complexes with metal-heteroatom-bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/29Compounds containing one or more carbon-to-nitrogen double bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/35Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having also oxygen in the ring
    • C08K5/353Five-membered rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/36Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/45Heterocyclic compounds having sulfur in the ring
    • C08K5/46Heterocyclic compounds having sulfur in the ring with oxygen or nitrogen in the ring
    • C08K5/47Thiazoles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • C08K9/10Encapsulated ingredients
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B47/00Porphines; Azaporphines
    • C09B47/04Phthalocyanines abbreviation: Pc
    • C09B47/06Preparation from carboxylic acids or derivatives thereof, e.g. anhydrides, amides, mononitriles, phthalimide, o-cyanobenzamide
    • C09B47/067Preparation from carboxylic acids or derivatives thereof, e.g. anhydrides, amides, mononitriles, phthalimide, o-cyanobenzamide from phthalodinitriles naphthalenedinitriles, aromatic dinitriles prepared in situ, hydrogenated phthalodinitrile
    • C09B47/0675Preparation from carboxylic acids or derivatives thereof, e.g. anhydrides, amides, mononitriles, phthalimide, o-cyanobenzamide from phthalodinitriles naphthalenedinitriles, aromatic dinitriles prepared in situ, hydrogenated phthalodinitrile having oxygen or sulfur linked directly to the skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B57/00Other synthetic dyes of known constitution
    • C09B57/007Squaraine dyes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B57/00Other synthetic dyes of known constitution
    • C09B57/02Coumarine dyes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0001Post-treatment of organic pigments or dyes
    • C09B67/0004Coated particulate pigments or dyes
    • C09B67/0008Coated particulate pigments or dyes with organic coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/23Photochromic filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

Provided is a photosensitive resin composition which contains a colorant. The colorant contains a dye represented by chemical formula 1, a dye having a core-shell structure, and a phthalocyanine dye. Also, provided are a photosensitive resin film manufactured utilizing the composition, a color filter comprising the photosensitive resin film, and an electronic device comprising the color filter. In the chemical formula 1, each substituent is as defined in the specification. While the color purity is increased, the durability can be secured.

Description

감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막, 컬러필터 및 전자소자{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAYER INCLUDING THE SAME, COLOR FILTER AND ELECTRONIC DEVICE}Photosensitive resin composition, photosensitive resin film using the same, color filter and electronic device

본 기재는 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막, 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 전자소자에 관한 것이다.The present disclosure relates to a photosensitive resin composition, a photosensitive resin film using the same, a color filter including the photosensitive resin film, and an electronic device including the color filter.

디스플레이 장치 중의 하나인 액정디스플레이 장치는 경량화, 박형화, 저가, 저소비 전력 구동화 및 우수한 집적회로와의 접합성 등의 장점을 가지고 있어, 노트북 컴퓨터, 모니터 및 TV 화상용으로 그 사용범위가 확대되고 있다.  이와 같은 액정디스플레이 장치는 블랙 매트릭스, 컬러필터 및 ITO 화소전극이 형성된 하부 기판과, 액정층, 박막트랜지스터, 축전캐패시터층으로 구성된 능동회로부와 ITO 화소전극이 형성된 상부 기판을 포함하여 구성된다. 컬러 필터는 화소 사이의 경계부를 차광하기 위해서 투명 기판 상에 정해진 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스층 및 각각의 화소를 형성하기 위해 복수의 색, 통상적으로, 적(R), 녹(G), 청(B)의 3원색을 정해진 순서로 배열한 화소부가 차례로 적층된 구조를 취하고 있다. A liquid crystal display device, which is one of display devices, has advantages such as light weight, thinness, low cost, low power consumption drive, and excellent bonding with integrated circuits, and its use range is expanding for notebook computers, monitors, and TV images. Such a liquid crystal display device includes a lower substrate on which a black matrix, a color filter, and an ITO pixel electrode are formed, an active circuit unit composed of a liquid crystal layer, a thin film transistor, and a storage capacitor layer, and an upper substrate on which an ITO pixel electrode is formed. The color filter is a black matrix layer formed in a predetermined pattern on a transparent substrate to block light at the boundary between pixels and a plurality of colors, typically red (R), green (G), and blue (B), to form each pixel. ) has a structure in which the pixel units in which the three primary colors are arranged in a predetermined order are sequentially stacked.

컬러 필터를 구현하는 방법 중의 하나인 안료 분산법은 흑색 매트릭스가 제공된 투명한 기질 위에 착색제를 함유하는 광중합성 조성물을 코팅하고, 형성하고자 하는 형태의 패턴을 노광한 후, 비노광 부위를 용매로 제거하여 열경화시키는 일련의 과정을 반복함으로써 착색박막이 형성되는 방법이다.  안료 분산법에 따른 컬러필터 제조에 사용되는 착색 감광성 수지 조성물은 일반적으로 알칼리 가용성 수지, 광중합성 단량체, 광중합 개시제, 에폭시 수지, 용매, 기타 첨가제 등으로 이루어진다. 상기 안료 분산법은 휴대폰, 노트북, 모니터, TV 등의 LCD를 제조하는 데 활발하게 응용되고 있다. 그러나, 근래에는 여러 가지 장점을 가지는 안료 분산법을 이용한 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 있어서도 우수한 패턴 특성뿐만 아니라 더욱 향상된 성능이 요구되고 있다. 특히 높은 색재현율과 함께 고휘도 및 고명암비의 특성이 시급히 요구되고 있는 실정이다.In the pigment dispersion method, which is one of the methods for realizing a color filter, a photopolymerizable composition containing a colorant is coated on a transparent substrate provided with a black matrix, a pattern to be formed is exposed, and then the unexposed area is removed with a solvent. This is a method in which a colored thin film is formed by repeating a series of thermal curing processes. The colored photosensitive resin composition used in the manufacture of color filters according to the pigment dispersion method is generally composed of an alkali-soluble resin, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, an epoxy resin, a solvent, and other additives. The pigment dispersion method is actively applied to manufacturing LCDs such as mobile phones, laptop computers, monitors, and TVs. However, in recent years, even in the photosensitive resin composition for a color filter using a pigment dispersion method having various advantages, not only excellent pattern characteristics but also further improved performance is required. In particular, characteristics of high luminance and high contrast ratio along with high color gamut are urgently required.

이미지 센서는 휴대전화 카메라나 DSC(digital still camera)등에서 영상을 생성해 내는 영상 촬상 소자 부품을 일컫는 것으로, 그 제작 공정과 응용 방식에 따라 크게 고체 촬상 소자(charge coupled device, CCD) 이미지 센서와 상보성 금속 산화물 반도체(complementary metal oxide semiconductor, CMOS) 이미지 센서로 분류할 수 있다. 고체 촬상 소자 또는 상보성 금속 산화물 반도체에 이용되는 컬러 촬상 소자는 수광 소자상에 적색(red), 녹색(green), 청색(blue)의 덧셈 혼합 원색의 필터 세그먼트(filter segment)를 구비하는 컬러 필터(color filter)를 각각 설치하고 색 분해하는 것이 일반적이다. 최근 이러한 컬러 촬상 소자에 장착되는 컬러 필터의 패턴 크기는 2㎛ 이하 크기로 기존 LCD용 컬러 필터 패턴의 1/100 내지 1/200 배이다. 이에 따라 해상도의 증가 및 잔사의 감소가 소자의 성능을 좌우하는 중요한 항목이다.An image sensor refers to a part of an imaging device that generates an image from a mobile phone camera or a digital still camera (DSC), and is largely complementary to a charge coupled device (CCD) image sensor depending on its manufacturing process and application method. It can be classified as a complementary metal oxide semiconductor (CMOS) image sensor. A color image sensor used for a solid-state image sensor or a complementary metal oxide semiconductor includes a color filter having filter segments of additive and mixed primary colors of red, green, and blue on a light-receiving element ( It is common to install each color filter and perform color separation. Recently, the pattern size of a color filter mounted on such a color imaging device is 2 μm or less, which is 1/100 to 1/200 times that of a color filter pattern for an existing LCD. Accordingly, an increase in resolution and a decrease in residue are important items that determine the performance of a device.

안료형 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터에서는 안료 입자 크기에서 비롯되는 휘도와 명암비의 한계가 존재한다. 또한 이미지 센서용 컬러 촬상 소자의 경우에는 미세한 패턴 형성을 위해 더 작은 분산입도가 요구된다. 이러한 요구에 부응하고자, 안료 대신 입자를 이루지 않는 염료를 도입하여 염료에 적합한 감광성 수지 조성물을 제조하여 휘도와 명암비가 개선된 컬러필터를 구현하려는 시도가 있다. 그러나 염료의 경우 안료 대비 내광 및 내열 등의 내구성의 열세로 인하여 휘도의 저하가 우려된다.In a color filter made of a pigment-type photosensitive resin composition, there are limitations in luminance and contrast ratio due to the size of pigment particles. In addition, in the case of a color imaging device for an image sensor, a smaller dispersion particle size is required to form a fine pattern. In order to meet these demands, there is an attempt to implement a color filter with improved luminance and contrast ratio by preparing a photosensitive resin composition suitable for the dye by introducing a dye that does not form particles instead of a pigment. However, in the case of dyes, there is a concern about a decrease in luminance due to poor durability such as light resistance and heat resistance compared to pigments.

일 구현예는 착색제의 함량을 최소화하여 색순도를 높이면서, 동시에 내구성의 확보도 가능한 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.One embodiment is to provide a photosensitive resin composition capable of securing durability while increasing color purity by minimizing the content of a colorant.

다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공하기 위한 것이다. Another embodiment is to provide a photosensitive resin film prepared using the photosensitive resin composition.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a color filter including the photosensitive resin film.

또 다른 일 구현예는 상기 컬러필터를 포함하는 전자소자를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide an electronic device including the color filter.

일 구현예는 착색제를 포함하는 감광성 수지 조성물로서,One embodiment is a photosensitive resin composition containing a colorant,

상기 착색제는 하기 화학식 1로 표시되는 염료, 코어-쉘 구조의 염료 및 프탈로시아닌계 염료를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.The colorant provides a photosensitive resin composition including a dye represented by Formula 1 below, a dye having a core-shell structure, and a phthalocyanine-based dye.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

X는 산소 원자 또는 황 원자이고,X is an oxygen atom or a sulfur atom,

L1은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 1 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group;

R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이다.R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group.

상기 L1은 하기 화학식 L-1로 표시될 수 있다.The L 1 may be represented by Formula L-1 below.

[화학식 L-1][Formula L-1]

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식 L-1에서,In the above formula L-1,

R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 할로겐기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group unsubstituted or substituted with a halogen group.

상기 화학식 1로 표시되는 염료는 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-3 중 어느 하나로 표시될 수 있다.The dye represented by Chemical Formula 1 may be represented by any one of Chemical Formulas 1-1 to 1-3.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure pat00003
Figure pat00003

[화학식 1-2][Formula 1-2]

Figure pat00004
Figure pat00004

[화학식 1-3][Formula 1-3]

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 화학식 1로 표시되는 염료는 상기 코어-쉘 구조의 염료보다 많은 함량으로 포함되고, 상기 화학식 1로 표시되는 염료는 상기 프탈로시아닌계 염료보다 많은 함량으로 포함될 수 있다.The dye represented by Chemical Formula 1 may be included in an amount greater than that of the core-shell structured dye, and the dye represented by Chemical Formula 1 may be contained in an amount greater than that of the phthalocyanine-based dye.

상기 프탈로시아닌계 염료는 상기 코어-쉘 구조의 염료보다 많은 함량으로 포함될 수 있다.The phthalocyanine-based dye may be included in an amount greater than that of the core-shell dye.

상기 화학식 1로 표시되는 염료는 상기 코어-쉘 구조의 염료의 함량 및 프탈로시아닌계 염료의 함량보다 많은 함량으로 포함될 수 있다.The dye represented by Chemical Formula 1 may be included in an amount greater than the content of the core-shell structured dye and the content of the phthalocyanine-based dye.

상기 코어-쉘 구조의 염료는 하기 화학식 2로 표시되는 코어 및 하기 화학식 3으로 표시되는 쉘로 구성될 수 있다.The dye of the core-shell structure may be composed of a core represented by Chemical Formula 2 and a shell represented by Chemical Formula 3 below.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00006
Figure pat00006

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

R7 내지 R10은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 7 to R 10 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group;

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00007
Figure pat00007

상기 화학식 3에서,In Formula 3,

R11은 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 *-C(=O)OR16(R16은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기)이고,R 11 is a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, or *-C(=O)OR 16 (R 16 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group);

R12 내지 R15는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 12 to R 15 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group;

m은 1 내지 10의 정수이고,m is an integer from 1 to 10;

n은 0 내지 3의 정수이고,n is an integer from 0 to 3;

L2 및 L3은 각각 독립적으로 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다.L 2 and L 3 are each independently a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group.

상기 화학식 2로 표시되는 코어의 길이는 1nm 내지 3nm일 수 있다.The length of the core represented by Chemical Formula 2 may be 1 nm to 3 nm.

상기 화학식 2로 표시되는 코어는 530nm 내지 680nm의 파장에서 최대 흡수 피크를 가질 수 있다.The core represented by Chemical Formula 2 may have a maximum absorption peak at a wavelength of 530 nm to 680 nm.

상기 화학식 2로 표시되는 코어는 하기 화학식 2-1 내지 화학식 2-6 중 어느 하나로 표시될 수 있다.The core represented by Chemical Formula 2 may be represented by any one of Chemical Formulas 2-1 to 2-6.

[화학식 2-1][Formula 2-1]

Figure pat00008
Figure pat00008

[화학식 2-2][Formula 2-2]

Figure pat00009
Figure pat00009

[화학식 2-3][Formula 2-3]

Figure pat00010
Figure pat00010

[화학식 2-4][Formula 2-4]

Figure pat00011
Figure pat00011

[화학식 2-5][Formula 2-5]

Figure pat00012
Figure pat00012

[화학식 2-6][Formula 2-6]

Figure pat00013
Figure pat00013

상기 화학식 3으로 표시되는 쉘은 하기 화학식 3-1로 표시될 수 있다.The shell represented by Chemical Formula 3 may be represented by Chemical Formula 3-1 below.

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure pat00014
Figure pat00014

상기 화학식 3-1에서,In Formula 3-1,

R11은 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 *-C(=O)OR16(R16은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기)이고,R 11 is a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, or *-C(=O)OR 16 (R 16 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group);

R12 내지 R15는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 12 to R 15 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group;

n은 0 내지 3의 정수이다.n is an integer from 0 to 3;

상기 화학식 3으로 표시되는 쉘은 하기 화학식 3-1-1 내지 화학식 3-1-3 중 어느 하나로 표시될 수 있다.The shell represented by Chemical Formula 3 may be represented by any one of Chemical Formulas 3-1-1 to 3-1-3.

[화학식 3-1-1][Formula 3-1-1]

Figure pat00015
Figure pat00015

[화학식 3-1-2][Formula 3-1-2]

Figure pat00016
Figure pat00016

[화학식 3-1-3][Formula 3-1-3]

Figure pat00017
Figure pat00017

상기 화학식 3-1-1 내지 화학식 3-1-3에서,In Formula 3-1-1 to Formula 3-1-3,

R12 내지 R15는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 12 to R 15 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group;

R17 및 R18은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 *-C(=O)OR16(R16은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기)이다.R 17 and R 18 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, or *-C(=O)OR 16 (R 16 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group).

상기 화학식 3으로 표시되는 쉘은 6.5Å 내지 7.5Å의 케이지 너비를 가질 수 있다.The shell represented by Chemical Formula 3 may have a cage width of 6.5 Å to 7.5 Å.

상기 화학식 3으로 표시되는 쉘은 하기 화학식 3-A 내지 화학식 3-E 중 어느 하나로 표시될 수 있다.The shell represented by Chemical Formula 3 may be represented by any one of Chemical Formulas 3-A to 3-E.

[화학식 3-A][Formula 3-A]

Figure pat00018
Figure pat00018

[화학식 3-B][Formula 3-B]

Figure pat00019
Figure pat00019

[화학식 3-C][Formula 3-C]

Figure pat00020
Figure pat00020

[화학식 3-D][Formula 3-D]

Figure pat00021
Figure pat00021

[화학식 3-E][Formula 3-E]

Figure pat00022
Figure pat00022

상기 코어-쉘 구조의 염료는 상기 코어 및 상기 쉘을 1:1의 몰비로 포함할 수 있다.The core-shell structured dye may include the core and the shell in a molar ratio of 1:1.

상기 프탈로시아닌계 염료는 하기 화학식 4로 표시될 수 있다.The phthalocyanine-based dye may be represented by Formula 4 below.

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00023
Figure pat00023

상기 화학식 4에서,In Formula 4,

R101 내지 R116은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이고,R 101 to R 116 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, or a substituted or unsubstituted C3 to C20 aryl group. A cyclic C6 to C20 aryloxy group,

단, R101 내지 R104 중 적어도 하나, R105 내지 R108 중 적어도 하나 및 R109 내지 R112 중 적어도 하나는 각각 독립적으로 하기 화학식 5로 표시되고,However, at least one of R 101 to R 104 , at least one of R 105 to R 108 , and at least one of R 109 to R 112 are each independently represented by the following formula (5),

R113 내지 R116 중 적어도 하나는 할로겐 원자 또는 하기 화학식 5로 표시되고,At least one of R 113 to R 116 is represented by a halogen atom or the following formula (5),

[화학식 5][Formula 5]

Figure pat00024
Figure pat00024

상기 화학식 5에서,In Formula 5,

R117 및 R118은 각각 독립적으로 할로겐 원자, C1 내지 C10 알킬기로 치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 117 and R 118 are each independently a halogen atom, a C1 to C20 alkyl group substituted with a C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

n1 및 n2는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고, 단, 1 ≤ n1+n2 ≤ 5 이다.n1 and n2 are each independently an integer of 0 to 5, provided that 1 ≤ n1 + n2 ≤ 5.

상기 화학식 5는 하기 화학식 5-1 내지 화학식 5-4 중 어느 하나로 표시될 수 있다.Chemical Formula 5 may be represented by any one of Chemical Formulas 5-1 to 5-4.

[화학식 5-1][Formula 5-1]

Figure pat00025
Figure pat00025

[화학식 5-2][Formula 5-2]

Figure pat00026
Figure pat00026

[화학식 5-3][Formula 5-3]

Figure pat00027
Figure pat00027

[화학식 5-4][Formula 5-4]

Figure pat00028
Figure pat00028

상기 착색제는 안료를 더 포함할 수 있다.The colorant may further include a pigment.

상기 착색제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다.The colorant may be included in an amount of 1 wt% to 15 wt% based on the total amount of the photosensitive resin composition.

상기 감광성 수지 조성물은 바인더 수지, 광중합성 단량체, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include a binder resin, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and a solvent.

상기 감광성 수지 조성물은, 감광성 수지 조성물 총량에 대해, 상기 착색제 1 중량% 내지 15 중량%; 상기 바인더 수지 1 중량% 내지 20 중량%; 상기 광중합성 단량체 1 중량% 내지 20 중량%; 상기 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 10 중량%; 및 상기 용매 잔부량을 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition, based on the total amount of the photosensitive resin composition, 1% to 15% by weight of the colorant; 1% to 20% by weight of the binder resin; 1% to 20% by weight of the photopolymerizable monomer; 0.1% to 10% by weight of the photopolymerization initiator; And it may include the remaining amount of the solvent.

상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 비닐기 또는 (메타)아크릴옥시기를 포함하는 실란계 커플링제, 레벨링제, 계면활성제, 라디칼 중합 개시제 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition further contains malonic acid, 3-amino-1,2-propanediol, a silane-based coupling agent containing a vinyl group or a (meth)acryloxy group, a leveling agent, a surfactant, a radical polymerization initiator, or a combination thereof. can include

다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공한다.Another embodiment provides a photosensitive resin film prepared using the photosensitive resin composition.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다.Another embodiment provides a color filter including the photosensitive resin film.

또 다른 일 구현예는 상기 컬러필터를 포함하는 전자소자를 제공한다.Another embodiment provides an electronic device including the color filter.

기타 본 발명의 구현예들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Details of other embodiments of the present invention are included in the detailed description below.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 서로 상이한 3종의 염료를 혼합 사용함으로써, 녹색 영역의색순도를 높일 수 있으며, 나아가 염료 사용의 대표적인 문제점 중 하나인 내구성도 추가로 확보할 수 있다.The photosensitive resin composition according to an embodiment can increase the color purity of the green region by mixing and using three different kinds of dyes, and furthermore, durability, which is one of the representative problems of using dyes, can be additionally secured.

도 1은 화학식 3-E로 표시되는 쉘의 케이지 너비(cage width)를 나타낸 도면이다.1 is a diagram showing the cage width of a shell represented by Chemical Formula 3-E.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다.  다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, this is presented as an example, and the present invention is not limited thereby, and the present invention is only defined by the scope of the claims to be described later.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환"이란 화합물 중의 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 이미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그것의 염, 술폰산기 또는 그것의 염, 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C30 아릴기, C3 내지 C20 사이클로알킬기, C3 내지 C20 사이클로알케닐기, C3 내지 C20 사이클로알키닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Unless otherwise specified herein, "substitution" means that at least one hydrogen atom in a compound is a halogen atom (F, Cl, Br, I), a hydroxy group, a C1 to C20 alkoxy group, a nitro group, a cyano group, an amine group, No group, azido group, amidino group, hydrazino group, hydrazono group, carbonyl group, carbamyl group, thiol group, ester group, ether group, carboxyl group or its salt, sulfonic acid group or its salt, phosphoric acid or its salt. , C1 to C20 alkyl group, C2 to C20 alkenyl group, C2 to C20 alkynyl group, C6 to C30 aryl group, C3 to C20 cycloalkyl group, C3 to C20 cycloalkenyl group, C3 to C20 cycloalkynyl group, C2 to C20 heterocycloalkyl group , A C2 to C20 heterocycloalkenyl group, a C2 to C20 heterocycloalkynyl group, or a substituent of a combination thereof.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "헤테로사이클로알킬기", "헤테로사이클로알케닐기", "헤테로사이클로알키닐기" 및 "헤테로사이클로알킬렌기"란 각각 사이클로알킬, 사이클로알케닐, 사이클로알키닐 및 사이클로알킬렌의 고리 화합물 내에 적어도 하나의 N, O, S 또는 P의 헤테로 원자가 존재하는 것을 의미한다.Unless otherwise specified herein, "heterocycloalkyl group", "heterocycloalkenyl group", "heterocycloalkynyl group" and "heterocycloalkylene group" mean cycloalkyl, cycloalkenyl, cycloalkynyl and cycloalkyl, respectively. It means that at least one N, O, S or P heteroatom exists in the ring compound of ene.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미한다.Unless otherwise specified herein, "(meth)acrylate" means both "acrylate" and "methacrylate".

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다.In this specification, unless otherwise specified, "combination" means mixing or copolymerization.

본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학 결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져 있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.Unless otherwise defined in the chemical formula within this specification, if a chemical bond is not drawn at a position where a chemical bond is to be drawn, it means that a hydrogen atom is bonded to the position.

또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다. In addition, unless otherwise specified in this specification, "*" means a portion connected to the same or different atoms or chemical formulas.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 착색제를 포함하고, 상기 착색제는 하기 화학식 1로 표시되는 염료, 코어-쉘 구조의 염료 및 프탈로시아닌계 염료를 포함한다.The photosensitive resin composition according to an embodiment includes a colorant, and the colorant includes a dye represented by Formula 1 below, a core-shell structured dye, and a phthalocyanine-based dye.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00029
Figure pat00029

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

X는 산소 원자 또는 황 원자이고,X is an oxygen atom or a sulfur atom,

L1은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 1 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group;

R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이다.R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group.

CMOS image Sensor란 카메라가 받아들인 이미지를 디지털 신호로 전화해주는 비메모리 반도체를 말하며 DRAM과 동일한 CMOS 반도체 공정으로 제작된다. 구조는 Color filter, 포토 다이오드, 증폭기 등의 Pixel의 집합체 구조를 가지고 있으며 고화질, 초슬림 카메라 모듈 구현을 위해서는 Color filer 기술 확보가 핵심이다. 컬러필터 기술은 고해상도와 고감도 재료를 요구하며 상기 2가지 특성을 만족하기 위해서는 네가티브 포토레지스트의 특성과 감도를 제어할 수 있는 특정 파장을 컷팅(Cutting)할 수 있어야 한다.CMOS image sensor refers to a non-memory semiconductor that converts the image received by the camera into a digital signal, and is manufactured with the same CMOS semiconductor process as DRAM. The structure has an aggregate structure of pixels such as color filters, photodiodes, and amplifiers, and securing color filter technology is key to realizing high-definition and ultra-slim camera modules. Color filter technology requires a high-resolution and high-sensitivity material, and in order to satisfy the above two characteristics, it is necessary to be able to cut a specific wavelength capable of controlling the characteristics and sensitivity of the negative photoresist.

특정 파장을 컷팅(Cutting)하기 위해서, 기존에는 파장에 가장 유사한 안료를 선택하여 비율을 높여 파장을 제어하는 기술을 사용하였으나, 이 경우에는 포토레지스트 내 착색제의 함량이 증가하여 공정성 및 신뢰성이 열화되어, 실제 공정에 적용되지 않거나 원하는 특성을 맞출 수 없는 경우가 대부분이었다.In order to cut a specific wavelength, conventionally, a technology of selecting a pigment most similar to the wavelength and increasing the ratio has been used to control the wavelength, but in this case, the content of the colorant in the photoresist increases, which deteriorates fairness and reliability. , in most cases, it was not applied to the actual process or the desired characteristics could not be matched.

본 발명은 상기의 문제점을 개선하고 원하는 컷팅(Cutting) 특성을 가지는 감광성 수지 조성물에 대한 것이다. 구체적으로, 본 발명의 감광성 수지 조성물은 청색(Blue)와 녹색(Green) 사이에 있는 청록색 영역을 상기 화학식 1로 표시되는 염료의 파장을 조절하여 컷팅(Cutting)하고, 녹색(Green)과 청색(Blue) 사이의 황색(Yellow) 영역은 상기 코어-쉘 구조위 염료를 적용하여 컷팅(Cutting)을 진행하여 녹색(Green)의 색순도를 높일 수 있다. 나아가, 프탈로시아닌계 염료를 상기 2종의 염료와 함께 적용함으로써, 내구성까지 확보할 수 있다. 그리고, 상기와 같은 3종의 염료의 조합으로 인해, 착색제의 사용량을 크게 줄일 수 있다.The present invention relates to a photosensitive resin composition that improves the above problems and has desired cutting properties. Specifically, the photosensitive resin composition of the present invention is cut by adjusting the wavelength of the dye represented by the formula (1) in the blue-green region between blue and green (Green) and blue ( The yellow region between blue can be cut by applying the dye on the core-shell structure to increase the color purity of green. Furthermore, by applying a phthalocyanine-based dye together with the above two types of dyes, durability can be secured. And, due to the combination of the three types of dyes as described above, the amount of colorants used can be greatly reduced.

즉, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 특정 염료의 조합을 통해 적은 양의 착색제를 사용함에 따라 얇은 두께에서 공정성 및 신뢰성을 확보할 수 있기에, LCD 및 CIS용 공정 소재에 최적화되어, 투과도 저하없이 색 순도(Color gamut)을 증가시킬 수 있고, 이러한 부분은 기존 기술과의 차별화가 크다고 할 수 있다.That is, the photosensitive resin composition according to one embodiment can secure processability and reliability in a thin thickness by using a small amount of colorant through a combination of specific dyes, so it is optimized for process materials for LCD and CIS, without deterioration in transmittance. Color gamut can be increased, and this part can be said to be highly differentiated from existing technologies.

예컨대, 상기 화학식 1에서, L1은 하기 화학식 L-1로 표시될 수 있다.For example, in Chemical Formula 1, L 1 may be represented by the following Chemical Formula L-1.

[화학식 L-1][Formula L-1]

Figure pat00030
Figure pat00030

상기 화학식 L-1에서,In the above formula L-1,

R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 할로겐기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group unsubstituted or substituted with a halogen group.

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 염료는 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-3 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the dye represented by Chemical Formula 1 may be represented by any one of Chemical Formulas 1-1 to 1-3, but is not necessarily limited thereto.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure pat00031
Figure pat00031

[화학식 1-2][Formula 1-2]

Figure pat00032
Figure pat00032

[화학식 1-3][Formula 1-3]

Figure pat00033
Figure pat00033

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 염료는 상기 코어-쉘 구조의 염료보다 많은 함량으로 포함되고, 상기 화학식 1로 표시되는 염료는 상기 프탈로시아닌계 염료보다 많은 함량으로 포함될 수 있다. 이 경우, 색순도 및 내구성의 동시 확보에 유리할 수 있다.For example, the dye represented by Chemical Formula 1 may be included in an amount greater than that of the core-shell structured dye, and the dye represented by Chemical Formula 1 may be contained in an amount greater than that of the phthalocyanine-based dye. In this case, it may be advantageous to simultaneously secure color purity and durability.

나아가, 상기 프탈로시아닌계 염료는 상기 코어-쉘 구조의 염료보다 많은 함량으로 포함될 수 있다. 구체적으로, 상기 화학식 1로 표시되는 염료는 상기 프탈로시아닌계 염료보다 많은 함량으로 포함될 수 있고, 상기 프탈로시아닌계 염료는 상기 코어-쉘 구조의 염료보다 많은 함량으로 포함될 수 있고, 상기 화학식 1로 표시되는 염료는 상기 코어-쉘 구조의 염료 및 프탈로시아닌계 염료의 혼합 함량보다 많은 함량으로 포함될 수 있다. 이 경우, 색순도 및 내구성을 동시에 확보하는 게 더욱 유리할 수 있다.Furthermore, the phthalocyanine-based dye may be included in a larger amount than the core-shell dye. Specifically, the dye represented by Formula 1 may be included in an amount greater than that of the phthalocyanine-based dye, and the phthalocyanine-based dye may be included in an amount greater than that of the core-shell dye, and the dye represented by Formula 1 may be included in an amount greater than the mixed content of the core-shell structured dye and the phthalocyanine-based dye. In this case, it may be more advantageous to simultaneously secure color purity and durability.

예컨대, 상기 코어-쉘 구조의 염료는 하기 화학식 2로 표시되는 코어 및 하기 화학식 3으로 표시되는 쉘로 구성될 수 있다.For example, the dye having a core-shell structure may be composed of a core represented by Chemical Formula 2 and a shell represented by Chemical Formula 3 below.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00034
Figure pat00034

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

R7 내지 R10은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 7 to R 10 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group;

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00035
Figure pat00035

상기 화학식 3에서,In Formula 3,

R11은 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 *-C(=O)OR16(R16은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기)이고,R 11 is a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, or *-C(=O)OR 16 (R 16 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group);

R12 내지 R15는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 12 to R 15 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group;

m은 1 내지 10의 정수이고,m is an integer from 1 to 10;

n은 0 내지 3의 정수이고,n is an integer from 0 to 3;

L2 및 L3은 각각 독립적으로 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다.L 2 and L 3 are each independently a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group.

예컨대, 상기 코어-쉘 구조의 염료는 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 산소 원자 및 상기 화학식 3으로 표시되는 쉘의 질소 원자와 결합을 이루고 있는 수소 원자 간 비공유 결합, 즉 수소 결합을 포함할 수 있다.For example, the dye having a core-shell structure may include a non-covalent bond between an oxygen atom of the compound represented by Formula 2 and a hydrogen atom bonded to a nitrogen atom of the shell represented by Formula 3, that is, a hydrogen bond. .

상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 우수한 녹색 분광 특성과 높은 몰흡광계수를 가지기 때문에 녹색 염료로 사용될 수 있으나, 안료 대비 내구성의 열세로 컬러 레지스트를 제조한 후 베이킹 과정에서 휘도의 저하가 발생하는 문제점이 있다. 일 구현예에서는 상기 화학식 3으로 표시되는 쉘이 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 코어로 하여 코어-쉘 구조를 이루도록 함으로써, 상기 코어-쉘 구조의 화합물이 착색제로 적용된 컬러필터의 내구성을 향상시킬 수 있고, 이에 따라 고휘도 및 고명암비의 컬러필터를 구현할 수 있다. The compound represented by Formula 2 can be used as a green dye because it has excellent green spectral characteristics and a high molar extinction coefficient, but there is a problem in that luminance decreases during the baking process after manufacturing a color resist due to poor durability compared to pigments. there is. In one embodiment, the shell represented by Formula 3 has a core-shell structure using the compound represented by Formula 2 as a core, so that the compound of the core-shell structure is applied as a colorant. The durability of the color filter can be improved. Accordingly, it is possible to implement a color filter with high luminance and high contrast ratio.

구체적으로, 상기 코어-쉘 구조의 염료는, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 코어로 하고, 상기 코어를 둘러싸는 쉘로 이루어진 구조를 가지며, 상기 쉘은 상기 화학식 3으로 표시되는 거대 고리형 화합물로서, 상기 코어를 둘러싸면서 코팅층을 형성할 수 있다. 이러한 구조로 인해, 즉 상기 화학식 3으로 표시되는 고리 내부에 상기 화학식 2로 표시되는 화합물이 존재하는 구조를 가짐으로써, 코어-쉘 구조를 가지는 염료의 내구성을 향상시킬 수 있고, 이에 따라 고휘도 및 고명암비의 컬러필터를 구현할 수 있다. Specifically, the dye of the core-shell structure has a structure consisting of a shell surrounding the core and the compound represented by Formula 2 as a core, and the shell is a macrocyclic compound represented by Formula 3, A coating layer may be formed while surrounding the core. Due to this structure, that is, by having a structure in which the compound represented by Chemical Formula 2 exists inside the ring represented by Chemical Formula 3, durability of a dye having a core-shell structure can be improved, and thus high brightness and high A color filter with a contrast ratio can be implemented.

예컨대, 상기 화학식 3에서, L2 및 L3은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기일 수 있다. 이 경우 용해도가 우수하고, 쉘이 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 둘러싸는 구조를 형성하기 쉽다.For example, in Formula 3, L 2 and L 3 may each independently be a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group. In this case, the solubility is excellent, and it is easy to form a structure in which the shell surrounds the compound represented by Formula 2.

예컨대, 상기 화학식 2에서, R7 및 R9은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기이고, 상기 R8 및 R10는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기일 수 있다.For example, in Formula 2, R 7 and R 9 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, and R 8 and R 10 are each independently a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group. It may be an unsubstituted C6 to C20 aryl group.

예컨대, 상기 R7 및 R9은 각각 독립적으로 ‘C1 내지 C10 알콕시기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기’ 또는 ‘C1 내지 C10 알콕시기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기’일 수 있고, 상기 R8 및 R10은 각각 독립적으로 ‘C1 내지 C10 알킬기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기’일 수 있다.For example, R 7 and R 9 may each independently be a 'C1 to C20 alkyl group unsubstituted or substituted with a C1 to C10 alkoxy group' or a 'C3 to C20 cycloalkyl group unsubstituted or substituted with a C1 to C10 alkoxy group', The R 8 and R 10 may each independently be a 'C6 to C20 aryl group unsubstituted or substituted with a C1 to C10 alkyl group'.

예컨대, 상기 C1 내지 C10 알콕시기는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기 또는 C1 내지 C4 알킬기로 치환된 C1 내지 C6 알콕시기일 수 있다.For example, the C1 to C10 alkoxy group may be an unsubstituted C1 to C10 alkoxy group or a C1 to C6 alkoxy group substituted with a C1 to C4 alkyl group.

상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 하기 도식에서 보는 바와 같이, 3가지 공명구조를 가지나, 본 명세서에서는 편의 상 1가지의 공명구조로만 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 표시했을 뿐이다. 즉, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 상기 3가지 공명구조 중 어느 하나로 표시될 수 있다.As shown in the diagram below, the compound represented by Formula 2 has three resonance structures, but in this specification, only one resonance structure is shown for convenience. That is, the compound represented by Chemical Formula 2 may be represented by any one of the three resonance structures.

[도식][scheme]

Figure pat00036
Figure pat00036

예컨대, 상기 코어는 하기 화학식 2-1 내지 화학식 2-6 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the core may be represented by any one of Chemical Formulas 2-1 to 2-6, but is not necessarily limited thereto.

[화학식 2-1][Formula 2-1]

Figure pat00037
Figure pat00037

[화학식 2-2][Formula 2-2]

Figure pat00038
Figure pat00038

[화학식 2-3][Formula 2-3]

Figure pat00039
Figure pat00039

[화학식 2-4][Formula 2-4]

Figure pat00040
Figure pat00040

[화학식 2-5][Formula 2-5]

Figure pat00041
Figure pat00041

[화학식 2-6][Formula 2-6]

Figure pat00042
Figure pat00042

예컨대, 상기 화학식 2-1 내지 화학식 2-6로 표시되는 화합물이 감광성 수지 조성물 내에 (예컨대 염료로) 사용될 경우, 후술하는 용매에 대한 용해도가 5 이상, 예컨대 5 내지 10 일 수 있다.  상기 용해도는 상기 용매 100g에 녹는 상기 염료(화합물)의 양(g)으로 얻을 수 있다. 상기 화합물(예컨대 염료)의 용해도가 상기 범위 내일 경우, 감광성 수지 조성물 내의 다른 성분, 즉, 후술하는 바인더 수지, 광중합성 단량체 및 광중합 개시제와의 상용성 및 착색력을 확보할 수 있고, 염료의 석출이 방지될 수 있다.  For example, when the compounds represented by Chemical Formulas 2-1 to 2-6 are used in a photosensitive resin composition (eg, as a dye), the solubility in a solvent described below may be 5 or more, such as 5 to 10. The solubility can be obtained by the amount (g) of the dye (compound) dissolved in 100 g of the solvent. When the solubility of the compound (eg, dye) is within the above range, compatibility and coloring strength with other components in the photosensitive resin composition, that is, a binder resin, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerization initiator described later, may be secured, and precipitation of the dye may be prevented. can be prevented

예컨대, 상기 화학식 2-1 내지 화학식 2-6로 표시되는 화합물은 우수한 내열성을 가질 수 있다. 즉, 열중량 분석기(TGA)로 측정 시 열분해 온도가 200℃ 이상, 예컨대 200℃ 내지 300℃일 수 있다. For example, the compounds represented by Chemical Formulas 2-1 to 2-6 may have excellent heat resistance. That is, when measured by a thermogravimetric analyzer (TGA), the thermal decomposition temperature may be 200° C. or higher, for example, 200° C. to 300° C.

예컨대, 상기 코어에 포함되는, 또는 상기 코어를 구성하는 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 길이는 1nm 내지 3nm, 예컨대 1.5nm 내지 2nm일 수 있다.  상기 화학식 2로 표시되는 화합물이 상기 범위 내의 길이를 가지는 경우 코어-쉘 구조를 용이하게 형성할 수 있다. 다시 말하면, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물이 상기 범위 내의 길이를 가짐에 따라, 상기 화학식 3으로 표시되는 거대 고리형 화합물인 쉘이 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 둘러싸는 구조를 쉽게 형성할 수 있다. 상기 범위의 길이에 해당되지 않는 다른 화합물을 사용하는 경우 상기 쉘이 코어가 되는 화합물을 둘러싸는 구조를 형성하기 어려움에 따라, 내구성의 개선을 기대하기 어렵다.For example, the length of the compound represented by Chemical Formula 2 included in or constituting the core may be 1 nm to 3 nm, for example, 1.5 nm to 2 nm. When the compound represented by Chemical Formula 2 has a length within the above range, a core-shell structure can be easily formed. In other words, as the compound represented by Chemical Formula 2 has a length within the above range, a structure in which a shell, which is a macrocyclic compound represented by Chemical Formula 3, surrounds the compound represented by Chemical Formula 2 can be easily formed. . When using another compound that does not correspond to the length of the above range, it is difficult to expect improvement in durability as it is difficult to form a structure surrounding the compound that serves as the core of the shell.

예컨대, 상기 코어-쉘 구조의 화합물은 530nm 내지 680nm의 파장에서 최대 흡수 피크를 가질 수 있다. 상기 분광특성을 가지는 상기 코어-쉘 구조의 염료를 녹색 염료로 사용함으로써 고휘도 및 고명암비를 가지는 컬러필터용 감광성 수지 조성물을 얻을 수 있다. For example, the core-shell structure compound may have a maximum absorption peak at a wavelength of 530 nm to 680 nm. A photosensitive resin composition for a color filter having high luminance and high contrast ratio can be obtained by using the dye having the core-shell structure having the spectral characteristics as a green dye.

예컨대, 상기 코어-쉘 구조의 화합물은 상기 코어 및 상기 쉘을 1:1의 몰비로 포함할 수 있다. 상기 코어 및 쉘이 상기 몰비로 존재할 경우 상기 코어를 둘러싸는 코팅층(쉘)이 잘 형성될 수 있다.For example, the core-shell compound may include the core and the shell in a molar ratio of 1:1. When the core and the shell are present in the above molar ratio, a coating layer (shell) surrounding the core may be well formed.

예컨대, 상기 화학식 3으로 표시되는 쉘은 하기 화학식 3-1로 표시될 수 있다.For example, the shell represented by Chemical Formula 3 may be represented by Chemical Formula 3-1 below.

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure pat00043
Figure pat00043

상기 화학식 3-1에서,In Formula 3-1,

R11은 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 *-C(=O)OR16(R16은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기)이고,R 11 is a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, or *-C(=O)OR 16 (R 16 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group);

R12 내지 R15는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 12 to R 15 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group;

n은 0 내지 3의 정수이다.n is an integer from 0 to 3;

예컨대, 상기 화학식 3-1에서, R11은 수소 원자이고, R12 내지 R15는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 할로겐 원자일 수 있다.For example, in Formula 3-1, R 11 is a hydrogen atom, and R 12 to R 15 may each independently be a hydrogen atom or a substituted or halogen atom.

예컨대, 상기 화학식 3-1에서, R11은 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 *-C(=O)OR16(R16은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기)이고, R12 내지 R15는 각각 독립적으로 수소 원자일 수 있다.For example, in Formula 3-1, R 11 is a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, or *-C(=O)OR 16 (R 16 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group), R 12 to R 15 may each independently represent a hydrogen atom.

예컨대, R11은 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 *-C(=O)OR16(R16은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기)이고, R12 내지 R15 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기일 수 있다.For example, R 11 is a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, or *-C(=O)OR 16 (R 16 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group), and at least one of R 12 to R 15 One may be a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group.

예컨대, 상기 화학식 3으로 표시되는 쉘은 하기 화학식 3-1-1 내지 화학식 3-1-3 중 어느 하나로 표시될 수 있다.For example, the shell represented by Chemical Formula 3 may be represented by any one of Chemical Formulas 3-1-1 to 3-1-3 below.

[화학식 3-1-1][Formula 3-1-1]

Figure pat00044
Figure pat00044

[화학식 3-1-2][Formula 3-1-2]

Figure pat00045
Figure pat00045

[화학식 3-1-3][Formula 3-1-3]

Figure pat00046
Figure pat00046

상기 화학식 3-1-1 내지 화학식 3-1-3에서,In Formula 3-1-1 to Formula 3-1-3,

R12 내지 R15는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 12 to R 15 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group;

R17 및 R18은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 *-C(=O)OR16(R16은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기)이다.R 17 and R 18 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, or *-C(=O)OR 16 (R 16 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group).

예컨대, 상기 쉘의 케이지 너비(cage width)는 6.5Å 내지 7.5Å일 수 있으며, 상기 쉘의 체적은 10Å 내지 16Å일 수 있다. 본원에서 케이지 너비(cage width)라 함은 쉘 내부 거리, 예컨대 상기 화학식 3으로 표시되는 쉘에서, 양쪽에 메틸렌기가 연결된, 서로 다른 2개의 페닐렌기 사이의 거리를 의미한다(도 1 참조). 상기 쉘이 상기 범위 내의 케이지 너비를 가지는 경우, 스쿠아릴륨계 화합물을 둘러싸는 구조의 코어-쉘 염료를 얻을 수 있고, 이에 따라 상기 코어-쉘 염료를 감광성 수지 조성물을 구성하는 착색제로 사용함으로써, 내구성이 우수하고 고휘도를 가지는 컬러필터를 구현할 수 있다.For example, the cage width of the shell may be 6.5 Å to 7.5 Å, and the volume of the shell may be 10 Å to 16 Å. As used herein, the term "cage width" means the distance inside the shell, for example, the distance between two different phenylene groups to which methylene groups are connected to both sides in the shell represented by Chemical Formula 3 (see FIG. 1). When the shell has a cage width within the above range, a core-shell dye having a structure surrounding a squarylium-based compound can be obtained, and thus durability by using the core-shell dye as a colorant constituting the photosensitive resin composition, This excellent color filter having high luminance can be implemented.

예컨대, 상기 쉘은 하기 화학식 3-A 내지 화학식 3-E 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the shell may be represented by any one of Chemical Formulas 3-A to 3-E, but is not necessarily limited thereto.

[화학식 3-A][Formula 3-A]

Figure pat00047
Figure pat00047

[화학식 3-B][Formula 3-B]

Figure pat00048
Figure pat00048

[화학식 3-C][Formula 3-C]

Figure pat00049
Figure pat00049

[화학식 3-D][Formula 3-D]

Figure pat00050
Figure pat00050

[화학식 3-E][Formula 3-E]

Figure pat00051
Figure pat00051

예컨대, 상기 코어-쉘 구조의 염료는 하기 화학식 A-1 또는 화학식 A-2로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the core-shell structured dye may be represented by Chemical Formula A-1 or Chemical Formula A-2, but is not necessarily limited thereto.

[화학식 A-1][Formula A-1]

Figure pat00052
Figure pat00052

[화학식 A-2][Formula A-2]

Figure pat00053
Figure pat00053

상기 코어-쉘 염료는 녹색 염료로서 단독으로 사용할 수도 있고, 조색 염료와 혼합하여 사용할 수도 있다.The core-shell dye may be used alone as a green dye or may be used in combination with a toning dye.

상기 조색 염료로는 트리아릴메탄계 염료, 안트라퀴논계 염료, 벤질리덴계 염료, 시아닌계 염료, 프탈로시아닌계 염료, 아자포피린계 염료, 인디고계 염료, 크산텐계 염료, 피리돈 아조계 염료 등을 들 수 있다. Examples of the toning dye include triarylmethane-based dyes, anthraquinone-based dyes, benzylidene-based dyes, cyanine-based dyes, phthalocyanine-based dyes, azapophyrin-based dyes, indigo-based dyes, xanthene-based dyes, and pyridone-azo-based dyes. can

예컨대, 상기 프탈로시아닌계 염료는 하기 화학식 4로 표시될 수 있다.For example, the phthalocyanine-based dye may be represented by Formula 4 below.

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00054
Figure pat00054

상기 화학식 4에서,In Formula 4,

R101 내지 R116은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이고,R 101 to R 116 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, or a substituted or unsubstituted C3 to C20 aryl group. A cyclic C6 to C20 aryloxy group,

단, R101 내지 R104 중 적어도 하나, R105 내지 R108 중 적어도 하나 및 R109 내지 R112 중 적어도 하나는 각각 독립적으로 하기 화학식 5로 표시되고,However, at least one of R 101 to R 104 , at least one of R 105 to R 108 , and at least one of R 109 to R 112 are each independently represented by the following formula (5),

R113 내지 R116 중 적어도 하나는 할로겐 원자 또는 하기 화학식 5로 표시되고,At least one of R 113 to R 116 is represented by a halogen atom or the following formula (5),

[화학식 5][Formula 5]

Figure pat00055
Figure pat00055

상기 화학식 5에서,In Formula 5,

R117 및 R118은 각각 독립적으로 할로겐 원자, C1 내지 C10 알킬기로 치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 117 and R 118 are each independently a halogen atom, a C1 to C20 alkyl group substituted with a C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

n1 및 n2는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고, 단, 1 ≤ n1+n2 ≤ 5 이다.n1 and n2 are each independently an integer of 0 to 5, provided that 1 ≤ n1 + n2 ≤ 5.

예컨대, 상기 화학식 5는 하기 화학식 5-1 내지 화학식 5-4 중 어느 하나로 표시될 수 있다.For example, Chemical Formula 5 may be represented by any one of Chemical Formulas 5-1 to 5-4.

[화학식 5-1][Formula 5-1]

Figure pat00056
Figure pat00056

[화학식 5-2][Formula 5-2]

Figure pat00057
Figure pat00057

[화학식 5-3][Formula 5-3]

Figure pat00058
Figure pat00058

[화학식 5-4][Formula 5-4]

Figure pat00059
Figure pat00059

예컨대, 상기 프탈로시아닌계 염료는 하기 화학식 6 내지 화학식 8 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the phthalocyanine-based dye may be represented by any one of the following Chemical Formulas 6 to 8, but is not necessarily limited thereto.

[화학식 6][Formula 6]

Figure pat00060
Figure pat00060

[화학식 7][Formula 7]

Figure pat00061
Figure pat00061

[화학식 8][Formula 8]

Figure pat00062
Figure pat00062

상기 착색제는 안료를 더 포함할 수 있다.The colorant may further include a pigment.

상기 안료로는 적색 안료, 녹색 안료, 청색 안료, 황색 안료, 흑색 안료 등을 사용할 수 있다.As the pigment, a red pigment, a green pigment, a blue pigment, a yellow pigment, a black pigment, or the like may be used.

상기 적색 안료의 예로는 C.I. 적색 안료 254, C.I. 적색 안료 255, C.I. 적색 안료 264, C.I. 적색 안료 270, C.I. 적색 안료 272, C.I. 적색 안료 177, C.I. 적색 안료 89 등을 들 수 있다. 상기 녹색 안료의 예로는 C.I. 녹색 안료 7, C.I. 녹색 안료 36, C.I. 녹색 안료 58, C.I. 녹색 안료 59 등을 들 수 있다. 상기 청색 안료의 예로는 C.I. 청색 안료 15:6, C.I. 청색 안료 15, C.I. 청색 안료 15:1, C.I. 청색 안료 15:2, C.I. 청색 안료 15:3, C.I. 청색 안료 15:4, C.I. 청색 안료 15:5, C.I. 청색 안료 16 등과 같은 구리 프탈로시아닌 안료를 들 수 있다. 상기 황색 안료의 예로는 C.I. 황색 안료 139 등과 같은 이소인돌린계 안료, C.I. 황색 안료 138 등과 같은 퀴노프탈론계 안료, C.I. 황색 안료 150 등과 같은 니켈 컴플렉스 안료 등을 들 수 있다. 상기 흑색 안료의 예로는 아닐린 블랙, 퍼릴렌 블랙, 티타늄 블랙, 카본 블랙 등을 들 수 있다. 상기 안료는 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있으며, 이들의 예에 한정되는 것은 아니다. Examples of the red pigment include C.I. Red Pigment 254, C.I. Red Pigment 255, C.I. Red Pigment 264, C.I. Red Pigment 270, C.I. Red Pigment 272, C.I. Red Pigment 177, C.I. Red pigment 89 etc. are mentioned. Examples of the green pigment include C.I. Green Pigment 7, C.I. Green Pigment 36, C.I. Green Pigment 58, C.I. Green Pigment 59 etc. are mentioned. Examples of the blue pigment include C.I. blue pigment 15:6, C.I. Blue Pigment 15, C.I. blue pigment 15:1, C.I. blue pigment 15:2, C.I. blue pigment 15:3, C.I. blue pigment 15:4, C.I. blue pigment 15:5, C.I. and copper phthalocyanine pigments such as blue pigment 16 and the like. Examples of the yellow pigment include C.I. isoindoline-based pigments such as yellow pigment 139, C.I. quinophthalone pigments such as yellow pigment 138, C.I. nickel complex pigments such as Yellow Pigment 150 and the like; and the like. Examples of the black pigment include aniline black, perylene black, titanium black, and carbon black. The pigments may be used alone or in combination of two or more, but are not limited to these examples.

상기 안료는 분산액 형태로 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있다.  이러한 안료 분산액은 상기 안료와 용매, 분산제, 분산수지 등으로 이루어질 수 있다.The pigment may be included in the photosensitive resin composition for color filters in the form of a dispersion. The pigment dispersion may be composed of the pigment, a solvent, a dispersing agent, and a dispersing resin.

상기 용매로는 에틸렌 글리콜 아세테이트, 에틸 셀로솔브, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 에틸 락테이트, 폴리에틸렌 글리콜, 사이클로헥사논, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 등을 사용할 수 있으며, 이들 중에서 좋게는 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트를 사용할 수 있다. Ethylene glycol acetate, ethyl cellosolve, propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate, polyethylene glycol, cyclohexanone, propylene glycol methyl ether, etc. may be used as the solvent, and among these, propylene glycol methyl ether acetate is preferably used. can

상기 분산제는 상기 안료가 분산액 내에 균일하게 분산되도록 도와주며, 비이온성, 음이온성 또는 양이온성의 분산제 모두 사용할 수 있다. 구체적으로는 폴리알킬렌 글리콜 또는 이의 에스테르, 폴리옥시 알킬렌, 다가 알콜 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올 알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산 염, 카르복시산 에스테르, 카르복시산 염, 알킬 아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 사용할 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The dispersant helps to uniformly disperse the pigment in the dispersion, and all nonionic, anionic or cationic dispersants may be used. Specifically, polyalkylene glycol or its ester, polyoxyalkylene, polyhydric alcohol ester alkylene oxide adduct, alcohol alkylene oxide adduct, sulfonic acid ester, sulfonic acid salt, carboxylic acid ester, carboxylic acid salt, alkyl amide alkylene oxide adduct Water, alkyl amine, etc. may be used, and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 분산수지는 카르복시기를 포함한 아크릴계 수지를 사용할 수 있으며, 이는 안료 분산액의 안정성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 픽셀의 패턴성도 개선시킬 수 있다.As the dispersion resin, an acrylic resin containing a carboxyl group may be used, which may improve stability of the pigment dispersion and also improve pixel patternability.

다만, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 착색제는 상기 3종의 염료만으로 구성될 수도 있으며, 이 경우 안료를 추가로 포함하는 경우와 비교하여, 내구성 저하 등의 문제가 발생하지 않을 수 있다. 즉, 안료없이 상기 3종의 염료만으로 구성된 착색제를 사용할 경우, 착색제 사용량을 크게 줄일 수 있기에, 얇은 두께에서도 공정성 및 신뢰성의 확보가 가능할 수 있다.However, the colorant in the photosensitive resin composition according to one embodiment may be composed of only the above three kinds of dyes, and in this case, compared to the case where a pigment is additionally included, problems such as reduced durability may not occur. That is, when using a colorant composed of only the three kinds of dyes without a pigment, since the amount of colorant used can be greatly reduced, it is possible to secure fairness and reliability even in a thin thickness.

상기 착색제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 5 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 3 중량%로 포함될 수 있다. 착색제를 상기 범위 내로 사용할 경우, 원하는 색좌표에서 높은 휘도 및 명암비가 발현될 수 있다. The colorant may be included in an amount of 1 wt % to 15 wt %, for example, 1 wt % to 10 wt %, for example, 1 wt % to 5 wt %, for example, 1 wt % to 3 wt %, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the colorant is used within the above range, high luminance and contrast ratio can be expressed in a desired color coordinate.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 바인더 수지를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition according to one embodiment may further include a binder resin.

상기 바인더 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지(아크릴계 바인더 수지)일 수 있다.  The binder resin is a first ethylenically unsaturated monomer And a copolymer of a second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable therewith, and may be a resin (acrylic binder resin) containing at least one acrylic repeating unit.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산 또는 이들의 조합을 들 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer is an ethylenically unsaturated monomer containing at least one carboxy group, and specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, or a combination thereof.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 알칼리 가용성 수지 총량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer may be included in an amount of 5 wt% to 50 wt%, for example, 10 wt% to 40 wt%, based on the total amount of the alkali-soluble resin.

상기 제2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The second ethylenically unsaturated monomer may be an aromatic vinyl compound such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, or vinylbenzylmethyl ether; Methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxy butyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, unsaturated carboxylic acid ester compounds such as cyclohexyl (meth)acrylate and phenyl (meth)acrylate; Unsaturated carboxylic acid amino alkyl ester compounds, such as 2-aminoethyl (meth)acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth)acrylate; carboxylic acid vinyl ester compounds such as vinyl acetate and vinyl benzoate; unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl (meth)acrylate; vinyl cyanide compounds such as (meth)acrylonitrile; unsaturated amide compounds such as (meth)acrylamide; and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 바인더 수지의 구체적인 예로는 메타크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다. Specific examples of the binder resin include methacrylic acid/benzyl methacrylate copolymer, methacrylic acid/benzyl methacrylate/styrene copolymer, methacrylic acid/benzyl methacrylate/2-hydroxyethyl methacrylate copolymer , methacrylic acid/benzyl methacrylate/styrene/2-hydroxyethyl methacrylate copolymer and the like, but are not limited thereto, and may be used alone or in combination of two or more thereof.

상기 바인더 수지의 중량평균 분자량은 3,000 g/mol 내지 150,000 g/mol, 예컨대 5,000 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 20,000 g/mol 내지 30,000 g/mol일 수 있다. 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기의 범위일 때, 기판과의 밀착성이 우수하고 물리적, 화학적 물성이 좋으며, 점도가 적절하다. The weight average molecular weight of the binder resin may be 3,000 g/mol to 150,000 g/mol, such as 5,000 g/mol to 50,000 g/mol, such as 20,000 g/mol to 30,000 g/mol. When the weight average molecular weight of the binder resin is within the above range, adhesion to the substrate is excellent, physical and chemical properties are good, and the viscosity is appropriate.

상기 바인더 수지의 산가는 15 mgKOH/g 내지 60 mgKOH/g, 예컨대 20 mgKOH/g 내지 50 mgKOH/g일 수 있다. 바인더 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 우수한 픽셀의 해상도를 얻을 수 있다.The acid value of the binder resin may be 15 mgKOH/g to 60 mgKOH/g, for example, 20 mgKOH/g to 50 mgKOH/g. When the acid value of the binder resin is within the above range, excellent pixel resolution may be obtained.

상기 바인더 수지는 상기 아크릴계 바인더 수지와 함께, 에폭시계 바인더 수지를 더 포함할 수 있다.The binder resin may further include an epoxy-based binder resin together with the acrylic-based binder resin.

상기 에폭시계 바인더 수지는 열에 의해서 중합될 수 있는 모노머(monomer) 또는 올리고머(oligomer)로서, 탄소-탄소 불포화 결합 및 탄소-탄소 고리형 결합을 가지는 화합물 등을 포함할 수 있다.The epoxy-based binder resin is a monomer or oligomer that can be polymerized by heat, and may include a compound having a carbon-carbon unsaturated bond and a carbon-carbon cyclic bond.

상기 에폭시계 바인더 수지로는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 고리형 지방족 에폭시 수지 및 지방족 폴리글리시딜 에테르 등이 더욱 포함될 수 있다.The epoxy-based binder resin may further include a bisphenol A-type epoxy resin, a bisphenol F-type epoxy resin, a phenol novolak-type epoxy resin, a cyclic aliphatic epoxy resin, and an aliphatic polyglycidyl ether.

이러한 화합물의 시판품으로, 유까쉘 에폭시(주)社의 YX4000, YX4000H, YL6121H, YL6640, YL6677; 닛본 가야꾸(주)社의 EOCN-102, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025, EOCN-1027 및 유까쉘 에폭시(주)社의 에피코트 180S75; 비스페놀 A형 에폭시 수지에는 유까쉘 에폭시(주)社의 에피코트 1001, 1002, 1003, 1004, 1007, 1009, 1010 및 828; 비스페놀 F형 에폭시 수지에는 유까쉘 에폭시(주)社의 에피코트 807 및 834; 페놀 노블락형 에폭시 수지에는 유까쉘 에폭시(주)社의 에피코트 152, 154, 157H65 및 닛본 가야꾸(주)社의 EPPN 201, 202; 그 밖의 고리형 지방족 에폭시 수지에는 CIBA-GEIGY A.G 社의 CY175, CY177 및 CY179, U.C.C 社의 ERL-4234, ERL-4299, ERL-4221 및 ERL-4206, 쇼와 덴꼬(주)社의 쇼다인 509, CIBA-GEIGY A.G 社의 아랄다이트 CY-182, CY-192 및 CY-184, 다이닛본 잉크 고교(주)社의 에피크론 200 및 400, 유까쉘 에폭시(주)社의 에피코트 871, 872 및 EP1032H60, 셀라니즈 코팅(주)社의 ED-5661 및 ED-5662; 지방족 폴리글리시딜에테르에는 유까쉘 에폭시(주)社의 에피코트 190P 및 191P, 교에샤 유시 가가꾸 고교(주)社의 에포라이트 100MF, 닛본 유시(주)社의 에피올 TMP 등을 들 수 있다.As commercial products of these compounds, YX4000, YX4000H, YL6121H, YL6640, YL6677 from Ukashell Epoxy Co., Ltd.; EOCN-102, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025, EOCN-1027 from Nippon Kayaku Co., Ltd. and Epicoat 180S75 from Ukashell Epoxy Co., Ltd.; Bisphenol A type epoxy resins include Epicoat 1001, 1002, 1003, 1004, 1007, 1009, 1010 and 828 from Yukashell Epoxy Co., Ltd.; Bisphenol F-type epoxy resins include Epicoat 807 and 834 from Yukashell Epoxy Co., Ltd.; Phenol noblock type epoxy resins include Epicoat 152, 154, 157H65 from Yukashell Epoxy Co., Ltd. and EPPN 201, 202 from Nippon Kayaku Co., Ltd.; Other cyclic aliphatic epoxy resins include CY175, CY177 and CY179 from CIBA-GEIGY A.G, ERL-4234, ERL-4299, ERL-4221 and ERL-4206 from U.C.C, Shodyne 509 from Showa Denko Co., Ltd. , Araldite CY-182, CY-192 and CY-184 from CIBA-GEIGY A.G, Epichron 200 and 400 from Dainipbon Ink Kogyo Co., Ltd., Epicoat 871 and 872 from Ukashell Epoxy Co., Ltd. and EP1032H60, ED-5661 and ED-5662 from Celanese Coating Co., Ltd.; Examples of aliphatic polyglycidyl ether include Epicoat 190P and 191P from Yukashell Epoxy Co., Ltd., Epolite 100MF from Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo Co., Ltd., and Epiol TMP from Nippon Yushi Co., Ltd. can

상기 바인더 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다. 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함되는 경우 컬러필터 제조 시 현상성이 우수하며 가교성이 개선되어 우수한 표면 평활도를 얻을 수 있다. The binder resin may be included in an amount of 1 wt% to 20 wt%, for example, 1 wt% to 15 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the binder resin is included within the above range, it is possible to obtain excellent surface smoothness due to excellent developability and improved crosslinking property in manufacturing the color filter.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 광중합성 단량체를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition according to one embodiment may further include a photopolymerizable monomer.

상기 광중합성 단량체는 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.The photopolymerizable monomer may be a monofunctional or multifunctional ester of (meth)acrylic acid having at least one ethylenically unsaturated double bond.

상기 광중합성 단량체는 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써, 패턴 형성 공정에서 노광시 충분한 중합을 일으킴으로써 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.Since the photopolymerizable monomer has the ethylenically unsaturated double bond, it is possible to form a pattern having excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance by causing sufficient polymerization during exposure in the pattern forming process.

상기 광중합성 단량체의 구체적인 예로는, 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸 포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of the photopolymerizable monomer include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, and neopentyl glycol. Di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, bisphenol A di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate , pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol di(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate Acrylates, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, bisphenol A epoxy(meth)acrylate, ethylene glycol monomethyl ether (meth)acrylate, trimethylol propane tri( meth)acrylate, tris(meth)acryloyloxyethyl phosphate, novolac epoxy (meth)acrylate, and the like.

상기 광중합성 단량체의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다. 상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-101®, 동 M-111®, 동 M-114® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S®, 동 TC-120S® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-158®, V-2311® 등을 들 수 있다.  상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-210®, 동 M-240®, 동 M-6200® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA®, 동 HX-220®, 동 R-604® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-260®, V-312®, V-335 HP® 등을 들 수 있다.  상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M-400®, 동 M-405®, 동 M-450®, 동 M-7100®, 동 M-8030®, 동 M-8060® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA®, 동 DPCA-20®, 동-30®, 동-60®, 동-120® 등; 오사카 유끼 가야꾸 고교(주)社의 V-295®, 동-300®, 동-360®, 동-GPT®, 동-3PA®, 동-400® 등을 들 수 있다.  상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.Examples of commercially available products of the photopolymerizable monomer are as follows. Examples of monofunctional esters of (meth)acrylic acid include Aronix M- 101® , M- 111® , and M- 114® from Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.; KAYARAD TC-110S ® of Nippon Kayaku Co., Ltd., the same TC-120S ® , etc.; Osaka Yuki Kagaku Kogyo Co., Ltd.'s V- 158® , V- 2311® , etc. are mentioned. Examples of the bifunctional ester of (meth)acrylic acid include Aronix M- 210® , M- 240® , and M- 6200® of Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.; KAYARAD HDDA ® from Nippon Kayaku Co., Ltd., HX-220 ® , R-604 ® , etc.; Examples include V- 260® , V- 312® , and V-335 HP® of Osaka Yuki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Examples of the trifunctional ester of (meth)acrylic acid include Aronix M- 309® , M- 400® , M- 405® , M- 450® , and M from Toagosei Chemical Industry Co., Ltd. -7100 ® , M-8030 ® , M-8060 ® , etc.; KAYARAD TMPTA ® from Nippon Kayaku Co., Ltd., Copper DPCA-20 ® , Copper-30 ® , Copper-60 ® , Copper-120 ® , etc.; V-295 ® , Dong-300 ® , Dong-360 ® , Dong-GPT ® , Dong-3PA ® , Dong-400 ® and the like of Osaka Yuki Kayaku Kogyo Co., Ltd. These products may be used alone or in combination of two or more.

상기 광중합성 단량체는보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.The photopolymerizable monomer may be used after being treated with an acid anhydride to impart better developability.

상기 광중합성 단량체는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다. 광중합성 단량체가 상기 범위 내로 포함되는 경우 컬러필터 제조 시 패턴 특성 및 현상성이 우수하다.The photopolymerizable monomer may be included in an amount of 1 wt % to 20 wt %, for example, 1 wt % to 15 wt %, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerizable monomer is included within the above range, pattern characteristics and developability are excellent when manufacturing a color filter.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 광중합 개시제를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition according to an embodiment may further include a photopolymerization initiator.

상기 광중합 개시제는 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 등을 사용할 수 있다.As the photopolymerization initiator, an acetophenone-based compound, a benzophenone-based compound, a thioxanthone-based compound, a benzoin-based compound, a triazine-based compound, or an oxime-based compound may be used.

상기 아세토페논계의 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone-based compound include 2,2'-diethoxy acetophenone, 2,2'-dibutoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, p-t-butyltrichloro acetophenone, p-t-butyldichloroacetophenone, 4-chloroacetophenone, 2,2'-dichloro-4-phenoxyacetophenone, 2-methyl-1-(4-(methylthio)phenyl)-2-morpholinopropane- 1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one, etc. are mentioned.

상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone-based compound include benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, hydroxy benzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4,4 '-bis(diethylamino)benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone, and the like.

상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone-based compound include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxanthone, 2- Chlorothioxanthone etc. are mentioned.

상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin-based compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyldimethylketal.

상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐 4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐 4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-트리 클로로메틸(피페로닐)-6-트리아진, 2-4-트리클로로메틸(4'-메톡시스티릴)-6-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine-based compound include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl 4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(3',4'- Dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-(p-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-tolyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-biphenyl 4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, bis(trichloromethyl)-6-styryl-s-triazine, 2-(naphtho1-yl)-4,6 -bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxynaphtho1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-4-trichloromethyl (piperonyl)-6-triazine, 2-4-trichloromethyl (4'-methoxystyryl)-6-triazine, and the like.

상기 옥심계 화합물의 예로는, 2-(o-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(o-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온 등을 들 수 있다.Examples of the oxime-based compound include 2-(o-benzoyloxime)-1-[4-(phenylthio)phenyl]-1,2-octanedione, 1-(o-acetyloxime)-1-[9- Ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]ethanone etc. are mentioned.

상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 플루오렌계 화합물 등을 사용할 수 있다.As the photopolymerization initiator, a carbazole-based compound, a diketone compound, a sulfonium borate-based compound, a diazo-based compound, an imidazole-based compound, a biimidazole-based compound, a fluorene-based compound, and the like may be used in addition to the above compounds.

상기 광중합 개시제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함되는 경우 컬러필터 제조를 위한 패턴 형성 공정에서 노광 시 광중합이 충분히 일어나게 되어 감도가 우수하며, 투과율이 개선된다. The photopolymerization initiator may be included in an amount of 0.1 wt % to 10 wt %, for example, 0.1 wt % to 5 wt %, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerization initiator is included within the above range, photopolymerization sufficiently occurs during exposure in a pattern forming process for manufacturing a color filter, resulting in excellent sensitivity and improved transmittance.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 용매를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition according to one embodiment may further include a solvent.

상기 용매는 특별한 제한은 없으나, 구체적으로 예를 들면, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르, n-부틸 에테르, 디이소아밀 에테르, 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌 글리콜 메틸에테르, 에틸렌 글리콜 에틸에테르, 프로필렌 글리콜 메틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케논, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 메틸 락테이트, 에틸 락테이트 등의 락트산 알킬 에스테르류; 메틸 히드록시아세테이트, 에틸 히드록시아세테이트, 부틸 히드록시아세테이트 등의 히드록시아세트산 알킬 에스테르류; 메톡시메틸 아세테이트, 메톡시에틸 아세테이트, 메톡시부틸 아세테이트, 에톡시메틸 아세테이트, 에톡시에틸 아세테이트 등의 아세트산 알콕시알킬 에스테르류; 메틸 3-히드록시프로피오네이트, 에틸 3-히드록시프로피오네이트 등의 3-히드록시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 메틸 3-에톡시프로피오네이트 등의 3-알콕시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-히드록시프로피오네이트, 에틸 2-히드록시프로피오네이트, 프로필 2-히드록시프로피오네이트 등의 2-히드록시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-메톡시프로피오네이트, 에틸 2-메톡시프로피오네이트, 에틸 2-에톡시프로피오네이트, 메틸 2-에톡시프로피오네이트 등의 2-알콕시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트 등의 2-히드록시-2-메틸프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-메톡시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-에톡시-2-메틸프로피오네이트 등의 2-알콕시-2-메틸프로피온산 알킬 에스테르류; 2-히드록시에틸 프로피오네이트, 2-히드록시-2-메틸에틸 프로피오네이트, 히드록시에틸 아세테이트, 메틸 2-히드록시-3-메틸부타노에이트 등의 에스테르류; 또는 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류의 화합물이 있으며, 또한 N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐리드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ-부티로락톤, 에틸렌 카보네이트, 프로필렌 카보네이트, 페닐 셀로솔브 아세테이트 등이 있으며, 이들 단독으로 사용되거나 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The solvent is not particularly limited, but specifically, for example, alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as dichloroethyl ether, n-butyl ether, diisoamyl ether, methylphenyl ether, and tetrahydrofuran; glycol ethers such as ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, and propylene glycol methyl ether; Cellosolve acetates, such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, and diethyl cellosolve acetate; carbitols such as methyl ethyl carbitol, diethyl carbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether; propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; Aromatic hydrocarbons, such as toluene and xylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-butyl ketone, methyl-n-amyl ketone, and 2-heptanone ; saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate and isobutyl acetate; lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate; hydroxyacetic acid alkyl esters such as methyl hydroxyacetate, ethyl hydroxyacetate, and butyl hydroxyacetate; acetic acid alkoxyalkyl esters such as methoxymethyl acetate, methoxyethyl acetate, methoxybutyl acetate, ethoxymethyl acetate, and ethoxyethyl acetate; 3-hydroxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-hydroxypropionate and ethyl 3-hydroxypropionate; 3-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, and methyl 3-ethoxypropionate; 2-hydroxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, and propyl 2-hydroxypropionate; 2-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, and methyl 2-ethoxypropionate; 2-hydroxy-2-methylpropionic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate and ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate; 2-alkoxy-2-methylpropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxy-2-methylpropionate and ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate; esters such as 2-hydroxyethyl propionate, 2-hydroxy-2-methylethyl propionate, hydroxyethyl acetate, and methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate; or ketonic acid ester compounds such as ethyl pyruvate, N-methylformamide, N,N-dimethylformamide, N-methylformanilide, N-methylacetamide, N,N-dimethylacetamide , N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, benzylethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, benzoic acid Ethyl, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, phenyl cellosolve acetate, etc. may be used alone or in combination of two or more thereof.

상기 용매 중 혼화성(miscibility) 및 반응성 등을 고려한다면, 좋게는 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시에틸 프로피오네이트 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르 등의 디에틸렌 글리콜류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류가 사용될 수 있다. Considering miscibility and reactivity in the solvent, preferably glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether; ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; esters such as 2-hydroxyethyl propionate; diethylene glycols such as diethylene glycol monomethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate may be used.

상기 용매는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 35 중량% 내지 90 중량%로 포함될 수 있다. 용매가 상기 범위 내로 포함되는 경우 감광성 수지 조성물의 도포성이 우수하고, 두께 3㎛ 이상의 막에서 우수한 평탄성을 유지할 수 있다.The solvent may be included as the remainder with respect to the total amount of the photosensitive resin composition, and specifically may be included in 35% by weight to 90% by weight. When the solvent is included within the above range, the coating property of the photosensitive resin composition is excellent, and excellent flatness can be maintained in a film having a thickness of 3 μm or more.

한편, 상기 감광성 수지 조성물은 도포시 얼룩이나 반점을 방지하고, 레벨링 성능을 개선하기 위해, 또한 미현상에 의한 잔사의 생성을 방지하기 위하여, 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 비닐기 또는 (메타)아크릴옥시기를 포함하는 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 라디칼 중합 개시제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.Meanwhile, the photosensitive resin composition may include malonic acid; 3-amino-1,2-propanediol; A silane-based coupling agent containing a vinyl group or a (meth)acryloxy group; leveling agent; fluorine-based surfactants; Additives such as a radical polymerization initiator may be further included.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해, 에폭시 화합물 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.In addition, the photosensitive resin composition may further include an additive such as an epoxy compound to improve adhesion to a substrate.

상기 에폭시 화합물의 예로는, 페놀 노볼락 에폭시 화합물, 테트라메틸 비페닐 에폭시 화합물, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 지환족 에폭시 화합물 또는 이들의 조합을 들 수 있다.Examples of the epoxy compound include a phenol novolak epoxy compound, a tetramethyl biphenyl epoxy compound, a bisphenol A type epoxy compound, an alicyclic epoxy compound, or a combination thereof.

상기 첨가제의 함량은 원하는 물성에 따라 용이하게 조절될 수 있다.The content of the additives can be easily adjusted according to desired physical properties.

다른 일 구현예는 전술한 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공한다.Another embodiment provides a photosensitive resin film prepared using the photosensitive resin composition described above.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다. 상기 컬러필터의 제조 방법은 다음과 같다. Another embodiment provides a color filter including the photosensitive resin film. A manufacturing method of the color filter is as follows.

아무 것도 도포되어 있지 않은 유리기판 위에, 또는 보호막인 SiNx가 500Å 내지 1500Å의 두께로 도포되어 있는 유리기판 위에, 전술한 컬러필터용 감광성 수지 조성물을 스핀 도포, 슬릿 도포 등의 적당한 방법을 사용하여, 3.1㎛ 내지 3.4㎛의 두께로 각각 도포한다. 도포 후에는 컬러필터에 필요한 패턴을 형성하도록 광을 조사한다. 광을 조사한 다음, 도포층을 알칼리 현상액으로 처리하면 도포층의 미조사 부분이 용해되고 컬러필터에 필요한 패턴이 형성된다. 이러한 과정을 필요한 R, G, B 색의 수에 따라 반복 수행함으로써, 원하는 패턴을 갖는 컬러필터를 수득할 수 있다.  On a glass substrate on which nothing is coated or on a glass substrate on which a protective film of SiN x is coated with a thickness of 500 Å to 1500 Å, the above-described photosensitive resin composition for a color filter is applied by using an appropriate method such as spin coating or slit coating. , each applied at a thickness of 3.1 μm to 3.4 μm. After application, light is irradiated to form a pattern required for the color filter. After light is irradiated, when the coating layer is treated with an alkaline developer, the unirradiated portion of the coating layer is dissolved and a pattern required for the color filter is formed. By repeating this process according to the required number of R, G, and B colors, a color filter having a desired pattern can be obtained.

또한 상기 과정에서, 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 다시 가열하거나 또는 활성선 조사 등에 의해 경화시킴으로써 내크랙성, 내용제성 등을 더욱 향상시킬 수 있다.  In addition, in the above process, crack resistance, solvent resistance, and the like can be further improved by heating the image pattern obtained by development again or curing by irradiation with actinic rays or the like.

또 다른 일 구현예는 상기 컬러필터를 포함하는 전자소자, 예컨대 디스플레이 장치, 카메라 등을 제공한다.  Another embodiment provides an electronic device including the color filter, such as a display device and a camera.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다.  다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. However, the following examples are only preferred examples of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

(염료 제조)(Dye manufacturing)

(제조예 1: 화학식 1-1로 표시되는 화합물의 제조)(Preparation Example 1: Preparation of a compound represented by Formula 1-1)

7- (Diethylamino) - 2- oxo- 2H- chromene- 3- carbaldehyde 8.15 mmol, 2,2-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane 4.08 mmol 및 아세트산나트륨 163mmol을 Acetic acid 40 mL에 용해하여, 90℃에서 10시간 교반하였다. 이어서, 반응 혼합물에 200 mL의 물을 넣었다. 생긴 침전물을 여과하여 diloromethane에 용해하고, 물과 함께 분액 깔대기에 넣어 세정하였다.Dissolve 7- (Diethylamino) -2- oxo- 2H- chromene- 3- carbaldehyde   8.15 mmol, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane 4.08 mmol and sodium acetate 163 mmol in acetic acid   40 mL, The mixture was stirred at 90°C for 10 hours. 200 mL of water was then added to the reaction mixture. The resulting precipitate was filtered, dissolved in diloromethane, and washed with water in a separatory funnel.

분액 깔대기로부터 회수한 dichlromethane층을 MgSO4에 의해 건조한 후, 실리카겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여, 하기 화학식 1-1로 표시되는 화합물을 수득하였다.The dichlromethane layer recovered from the separatory funnel was dried with MgSO 4 and then purified by silica gel column chromatography to obtain a compound represented by Formula 1-1 below.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure pat00063
Figure pat00063

Maldi-tof MS : 816 m/zMaldi-tof MS : 816 m/z

(제조예 2: 화학식 1-2로 표시되는 화합물의 제조)(Preparation Example 2: Preparation of a compound represented by Formula 1-2)

7- (Diethylamino) - 2- oxo- 2H- chromene- 3- carbaldehyde 대신 7- (4-(2-isobutyl-2,4-dimetylphenyl)amino) - 2- oxo- 2H- chromene- 3- carbaldehyde로 변경한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 하여, 하기 화학식 1-2로 표시되는 화합물을 수득하였다. 7- (Diethylamino) - 2- oxo- 2H- chromene- 3- carbaldehyde instead of 7- (4- (2-isobutyl-2,4-dimetylphenyl) amino) - 2- oxo- 2H- chromene- 3- carbaldehyde A compound represented by Formula 1-2 was obtained in the same manner as in Preparation Example 1 except for one.

[화학식 1-2][Formula 1-2]

Figure pat00064
Figure pat00064

Maldi-tof MS : 1024 m/zMaldi-tof MS: 1024 m/z

(제조예 3: 화학식 1-3으로 표시되는 화합물의 제조)(Preparation Example 3: Preparation of a compound represented by Formula 1-3)

7- (Diethylamino) - 2- oxo- 2H- chromene- 3- carbaldehyde 대신 7- (4-diphenylamino) - 2- oxo- 2H- chromene- 3- carbaldehyde로 변경한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 하여, 하기 화학식 1-3으로 표시되는 화합물을 수득하였다. 7- (Diethylamino) - 2- oxo- 2H- chromene- 3- carbaldehyde   Instead of 7- (4-diphenylamino) - 2- oxo- 2H- chromene- 3- Carbaldehyde Same as in Preparation Example 1 except for changing Thus, a compound represented by Chemical Formula 1-3 was obtained.

[화학식 1-3][Formula 1-3]

Figure pat00065
Figure pat00065

Maldi-tof MS : 1008 m/zMaldi-tof MS: 1008 m/z

(제조예 4: 화학식 A-1로 표시되는 화합물의 제조)(Preparation Example 4: Preparation of a compound represented by Formula A-1)

2,4-디메틸디페닐아민(10 mol), 1,2-에폭시사이클로헥산(12 mol), 수소화나트륨(12 mol)을 N,N-디메틸포름아마이드에 넣고 90℃로 가열하여 24시간 동안 교반하였다. 추가로 아이오도메틸 15mmol을 투입 후 3시간 교반하였다.2,4-dimethyldiphenylamine (10 mol), 1,2-epoxycyclohexane (12 mol), and sodium hydride (12 mol) were added to N,N-dimethylformamide, heated to 90°C, and stirred for 24 hours. did After adding 15 mmol of iodomethyl, the mixture was stirred for 3 hours.

상기 용액에 에틸 아세테이트를 넣고 물로 2회 세정하여 유기층을 추출하였다. 추출한 유기층을 감압 증류하고 컬럼 크로마토 그래피로 분리하여 중간체1 화합물을 수득하였다.Ethyl acetate was added to the solution and washed twice with water to extract an organic layer. The extracted organic layer was distilled under reduced pressure and separated by column chromatography to obtain Intermediate 1 compound.

중간체1(60 mmol), 3,4-디하이드록시-3-사이클로부틴-1,2-다이온(30 mmol)을 톨루엔(200 mL) 및 부탄올(200 mL)에 넣고 환류하여 생성되는 물을 Dean-stark 증류장치로 제거하였다. 12 시간 동안 교반 후 녹색 반응물을 감압증류하고 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 중간체2 화합물을 수득하였다.Intermediate 1 (60 mmol) and 3,4-dihydroxy-3-cyclobutyn-1,2-dione (30 mmol) were added to toluene (200 mL) and butanol (200 mL) and refluxed to obtain water. It was removed with a Dean-stark distillation apparatus. After stirring for 12 hours, the green reactant was distilled under reduced pressure and purified by column chromatography to obtain an intermediate 2 compound.

중간체2(5 mmol)을 600mL 클로로포름 용매에 녹인 후 트리에틸아민(50mmol)을 넣고, 2,6-pyridinedicarbonyl dichloride(20 mmol) 및 p-xylylenediamine(20 mmol)을 60mL 클로로포름에 용해하여 상온에서 5시간 동안 동시 적하시킨다. 12시간 후 감압 증류하고 컬럼 크로마토그래피로 분리하여, 하기 화학식 A-1로 표시되는 화합물을 수득하였다.After dissolving Intermediate 2 (5 mmol) in 600 mL of chloroform solvent, triethylamine (50 mmol) was added, and 2,6-pyridinedicarbonyl dichloride (20 mmol) and p-xylylenediamine (20 mmol) were dissolved in 60 mL of chloroform for 5 hours at room temperature. simultaneous loading during After 12 hours, the mixture was distilled under reduced pressure and separated by column chromatography to obtain a compound represented by Formula A-1 below.

[화학식 A-1][Formula A-1]

Figure pat00066
Figure pat00066

Maldi-tof MS : 1231 m/zMaldi-tof MS: 1231 m/z

(제조예 5: 화학식 A-2로 표시되는 화합물의 제조)(Preparation Example 5: Preparation of a compound represented by Formula A-2)

화학식 A-1의 중간체 2까지는 동일하게 합성을 진행하였다. 중간체 2(5 mmol)을 600mL 클로로포름 용매에 녹인 후, 트리에틸아민(50mmol)을 넣고, 2,6-pyridinedicarbonyl dichloride(20 mmol) 및 Tetrafluoro-p-xylylenediamine(20 mmol)을 60mL 클로로포름에 용해하여 상온에서 5시간 동안 동시 적하시킨다. 12시간 후 감압 증류하고 컬럼 크로마토그래피로 분리하여, 하기 화학식 A-2로 표시되는 화합물을 수득하였다. Intermediate 2 of Formula A-1 was synthesized in the same manner. After dissolving Intermediate 2 (5 mmol) in 600mL chloroform solvent, triethylamine (50mmol) was added, 2,6-pyridinedicarbonyl dichloride (20 mmol) and Tetrafluoro-p-xylylenediamine (20 mmol) were dissolved in 60mL chloroform, and room temperature were dropped simultaneously for 5 hours. After 12 hours, the mixture was distilled under reduced pressure and separated by column chromatography to obtain a compound represented by Formula A-2 below.

[화학식 A-2][Formula A-2]

Figure pat00067
Figure pat00067

Maldi-tof MS : 1375 m/zMaldi-tof MS: 1375 m/z

(제조예 6: 화학식 6으로 표시되는 화합물의 제조)(Preparation Example 6: Preparation of a compound represented by Formula 6)

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5 g), 2,4-di-t-butylphenol (3.8 g), K2CO3 (3.898 g), N,N-Dimethylformamide (50 ml)을 넣고 70 ℃로 가열하면서 교반하였다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출한 후 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 EA/hexane 컬럼 정제한 액체를 농축하여 고체를 얻고, 상기 고체를 진공 건조하여 3,5,6-Trichloro-4-(2,4-di-tert-butylphenoxy)-phthalonitrile 을 얻었다. 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5 g), 2,4-di-t-butylphenol (3.8 g), K 2 CO 3 (3.898 g), and N,N-Dimethylformamide (50 ml) were added to a 100 ml flask. It was added and stirred while heating to 70 °C. After completion of the reaction, extraction with EA (ethyl acetate) and concentration of the EA/hexane column-purified liquid by column chromatography to obtain a solid, and vacuum drying of the solid to obtain 3,5,6-Trichloro-4-( 2,4-di- tert -butylphenoxy)-phthalonitrile was obtained.

100ml 플라스크에 3,5,6-Trichloro-4-(2,4-di-tert-butylphenoxy)-phthalonitrile (1.45 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.38 g), 1-펜탄올 (7 g)을 넣어 90 ℃로 가열하고, 고체가 녹은 후 Zinc acetate (0.15 g) 넣고 140 ℃로 계속 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 MeOH로 침전물을 여과한 후, 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피로 정제한다. 얻어진 고체에 소량의 디클로로메탄을 넣어 고체를 녹인 후 메탄올을 첨가하여 결정화하였다. 이때 얻어진 고체를 여과하고 진공 건조하여, 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물을 수득하였다.3,5,6-Trichloro-4-(2,4-di- tert -butylphenoxy)-phthalonitrile (1.45 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.38 g), 1-pentanol ( 7 g) was added and heated to 90 ° C. After the solid melted, zinc acetate (0.15 g) was added and stirred while continuously heating to 140 ° C. After completion of the reaction, the precipitate was filtered with MeOH and dried under vacuum. The dried solid is purified by column chromatography. A small amount of dichloromethane was added to the obtained solid to dissolve the solid, and methanol was added to crystallize the solid. At this time, the obtained solid was filtered and vacuum dried to obtain a compound represented by Formula 6 below.

[화학식 6][Formula 6]

Figure pat00068
Figure pat00068

Maldi-tof MS : 1809 m/zMaldi-tof MS : 1809 m/z

(제조예 7: 화학식 7로 표시되는 화합물의 제조)(Preparation Example 7: Preparation of a compound represented by Formula 7)

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 2-Phenylphenol(3.21g), K2CO3(3.9g), 아세톤(25ml)을 넣고 70℃로 가열하면서 교반하였다. 반응 종료 후 필터하고 아세톤으로 워싱하여 나온 액체를 증류하여 얻어진 고체를 소량의 디클로로메탄에 녹인 후, 핵산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공건조하여 4-(Biphenyl-2-yloxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile를 얻었다.3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5g), 2-Phenylphenol (3.21g), K 2 CO 3 (3.9g), and acetone (25ml) were added to a 100ml flask and stirred while heating to 70°C. After completion of the reaction, the solid obtained by distilling the liquid obtained by washing with acetone was filtered and dissolved in a small amount of dichloromethane, washed several times with nucleic acid, filtered, and vacuum dried to obtain 4-(Biphenyl-2-yloxy)-3,5, 6-trichloro-phthalonitrile was obtained.

100mL 플라스크에 4-(Biphenyl-2-yloxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile(1.6g), 3,4,6-Trichloro-5-(2,6-dichloro-phenoxy)-phthalonitrile(1.5g),1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.74g) 및1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.34g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반하였다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조하고, 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제하였다. 정제 후 얻어진 고체에 디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화하였다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여, 하기 화학식 7로 표시되는 화합물을 수득하였다.4-(Biphenyl-2-yloxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1.6 g), 3,4,6-Trichloro-5-(2,6-dichloro-phenoxy)-phthalonitrile (1.5 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.74g) and 1-pentanol (14g) were added and heated to 90°C to melt the solid, then zinc acetate (0.34g) was added and stirred while heating to 140°C. . After completion of the reaction, precipitation was confirmed with methanol, followed by filtration and vacuum drying, and the dried solid was purified by column chromatography. Dichloromethane was appropriately added to the solid obtained after purification to dissolve the solid, and then methanol was added to crystallize. The crystallized solid was filtered and vacuum dried to obtain a compound represented by Formula 7 below.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pat00069
Figure pat00069

Maldi-tof MS : 1650 m/zMaldi-tof MS: 1650 m/z

(제조예 8: 화학식 8로 표시되는 화합물의 제조)(Preparation Example 8: Preparation of a compound represented by Formula 8)

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5 g), 2-cyclohexylphenol(3.3143 g), K2CO3(3.898 g) 및 N,N-Dimethylformamide (50 ml)을 넣고 70 ℃로 가열하면서 교반하였다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출한 후 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 EA/hexane 컬럼 정제한 액체를 농축하여 고체를 얻고, 상기 고체를 진공 건조하여 3,5,6-Trichloro-4-(2-cyclohexylphenoxy)-phthalonitrile 화합물을 얻었다.3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5 g), 2-cyclohexylphenol (3.3143 g), K 2 CO 3 (3.898 g) and N,N-Dimethylformamide (50 ml) were added to a 100 ml flask and heated to 70 °C. Stir. After completion of the reaction, extraction with EA (ethyl acetate) and concentration of the EA/hexane column-purified liquid by column chromatography to obtain a solid, and vacuum drying of the solid to obtain 3,5,6-Trichloro-4-( A 2-cyclohexylphenoxy)-phthalonitrile compound was obtained.

100ml 플라스크에 3,5,6-Trichloro-4-(2-cyclohexylphenoxy)-phthalonitrile (1.5 g), 상기 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (0.33 g)) 및 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.3g) 1-펜탄올(15 ml)을 넣어 90 ℃로 가열하고, 고체가 녹은 후 Zinc acetate(0.23 g) 넣고 140 ℃로 계속 가열하면서 교반하였다. 반응 종료 후 MeOH로 침전물을 여과한 후, 진공 건조하고, 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피로 정제하였다. 얻어진 고체에 소량의 디클로로메탄을 넣어 고체를 녹인 후 메탄올을 첨가하여 결정화하였다. 이때 얻어진 고체를 여과하고 진공 건조하여, 하기 화학식 8로 표시되는 화합물을 수득하였다.3,5,6-Trichloro-4-(2-cyclohexylphenoxy)-phthalonitrile (1.5 g), the above 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (0.33 g)) and 1,8-Diazabicycloundec-7-ene in a 100 ml flask (1.3g) 1-pentanol (15 ml) was added and heated to 90 °C, and after the solid melted, zinc acetate (0.23 g) was added and stirred while continuously heating to 140 °C. After completion of the reaction, the precipitate was filtered with MeOH, dried under vacuum, and the dried solid was purified by column chromatography. A small amount of dichloromethane was added to the obtained solid to dissolve the solid, and methanol was added to crystallize the solid. At this time, the obtained solid was filtered and vacuum dried to obtain a compound represented by Formula 8 below.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pat00070
Figure pat00070

Maldi-tof MS : 1548 m/zMaldi-tof MS: 1548 m/z

(감광성 수지 조성물 제조)(Preparation of photosensitive resin composition)

감광성 수지 조성물 제조에 사용되는 성분의 사양은 다음과 같다.The specifications of components used in the preparation of the photosensitive resin composition are as follows.

(A) 착색제(A) colorant

(염료)(dyes)

(A1) 제조예 1에서 제조된 염료(화학식 1-1로 표시)(A1) dye prepared in Preparation Example 1 (represented by Chemical Formula 1-1)

(A2) 제조예 2에서 제조된 염료(화학식 1-2로 표시)(A2) dye prepared in Preparation Example 2 (represented by Formula 1-2)

(A3) 제조예 3에서 제조된 염료(화학식 1-3으로 표시)(A3) dye prepared in Preparation Example 3 (represented by Chemical Formula 1-3)

(A4) 제조예 4에서 제조된 염료(화학식 A-1로 표시) (A4) dye prepared in Preparation Example 4 (represented by Formula A-1)

(A5) 제조예 5에서 제조된 염료(화학식 A-2로 표시)(A5) dye prepared in Preparation Example 5 (represented by Formula A-2)

(A6) 제조예 6에서 제조된 염료(화학식 6으로 표시)(A6) dye prepared in Preparation Example 6 (represented by Formula 6)

(A7) 제조예 7에서 제조된 염료(화학식 7로 표시)(A7) dye prepared in Preparation Example 7 (represented by Formula 7)

(A8) 제조예 8에서 제조된 염료(화학식 8로 표시)(A8) dye prepared in Preparation Example 8 (represented by Formula 8)

(안료)(Pigment)

(A9) C.I. 녹색 안료 58 (SANYO)(A9) C.I. Green Pigment 58 (SANYO)

(A10) C.I. 황색 안료 138 (SANYO)(A10) C.I. Yellow Pigment 138 (SANYO)

(B) 바인더 수지(B) binder resin

(B1) 아크릴계 바인더 수지(RY25, SHOWA DENKO)(B1) acrylic binder resin (RY25, SHOWA DENKO)

(B2) 에폭시계 바인더 수지(EHPE3150, DAICEL)(B2) Epoxy-based binder resin (EHPE3150, DAICEL)

(C) 광중합성 단량체(C) photopolymerizable monomer

디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(일본화약)Dipentaerythritol hexaacrylate (Japan Explosives)

(D) 광중합 개시제(D) photopolymerization initiator

SPI-03(삼양사)SPI-03 (Samyang Corporation)

(E) 용매(E) solvent

프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA)

실시예 1 내지 실시예 6 및 비교예 1 내지 비교예 4Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4

하기 표 1의 조성으로 각 성분을 혼합하여 감광성 수지 조성물을 제조하였다. 구체적으로는, 용매에 광중합 개시제를 용해시킨 후 2시간 동안 상온에서 교반한 후, 착색제를 투입하여 30분간 교반한 후, 바인더 수지와 광중합성 단량체를 첨가하여 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 상기 용액에 대하여 3회에 걸친 여과를 행하여 불순물을 제거하여 감광성 수지 조성물을 제조하였다. A photosensitive resin composition was prepared by mixing each component according to the composition shown in Table 1 below. Specifically, after dissolving the photopolymerization initiator in a solvent, stirring at room temperature for 2 hours, adding a colorant and stirring for 30 minutes, adding a binder resin and a photopolymerizable monomer, followed by stirring at room temperature for 2 hours. The solution was filtered three times to remove impurities to prepare a photosensitive resin composition.

(단위: 중량%)(Unit: % by weight) 실시예Example 비교예comparative example 1One 22 33 44 55 66 1One 22 33 44 (A) 착색제
(A) colorant
A1A1 1.11.1 -- -- -- -- -- -- -- 1.11.1 --
A2A2 -- 1.11.1 -- -- -- -- -- -- -- -- A3A3 -- -- 1.11.1 1.11.1 1.11.1 1.11.1 -- -- -- -- A4A4 0.20.2 0.20.2 0.20.2 -- -- -- -- 0.20.2 -- -- A5A5 -- -- -- 0.20.2 0.20.2 0.20.2 -- -- -- -- A6A6 -- -- -- -- -- 0.50.5 -- -- -- -- A7A7 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 -- -- 0.50.5 -- -- -- A8A8 -- -- -- -- 0.50.5 -- -- -- -- -- A9A9 -- -- -- -- -- -- 21.121.1 21.421.4 20.520.5 21.621.6 A10A10 12.112.1 12.112.1 12.112.1 12.112.1 12.112.1 12.112.1 7.07.0 7.07.0 7.07.0 7.07.0 (B) 바인더 수지(B) binder resin B1B1 8.08.0 8.08.0 8.08.0 8.08.0 8.08.0 8.08.0 8.08.0 8.08.0 8.08.0 8.08.0 B2B2 0.10.1 0.10.1 0.10.1 0.10.1 0.10.1 0.10.1 0.10.1 0.10.1 0.10.1 0.10.1 (C) 광중합성 단량체(C) photopolymerizable monomer 7.37.3 7.37.3 7.37.3 7.37.3 7.37.3 7.37.3 7.37.3 7.37.3 7.37.3 7.37.3 (D) 광중합 개시제(D) photopolymerization initiator 0.60.6 0.60.6 0.60.6 0.60.6 0.60.6 0.60.6 0.60.6 0.60.6 0.60.6 0.60.6 (E) 용매(E) solvent 70.170.1 70.170.1 70.170.1 70.170.1 70.170.1 70.170.1 55.955.9 55.955.9 55.955.9 55.955.9

(평가)(evaluation)

평가: 신뢰성 평가Rating: Reliability Rating

탈지 세척한 두께 1mm의 유리 기판 상에 1㎛ 내지 3㎛의 두께로 실시예 1 내지 실시예 6 및 비교예 1 내지 비교예 4에서 제조한 감광성 수지 조성물을 도포하고, 90℃의 핫플레이트 상에서 2분 동안 건조시켜 도막을 수득하였다. 계속해서 도막에 365nm의 주파장을 가진 고압수은램프를 사용하여 노광한 후, 200℃의 오븐에서 60 시간 동안 건조시킨 후, 접촉식 측정기(Tenco)를 이용하여 두께 및 MCPS 측정기를 이용항 투과도를 평가하였으며, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다. The photosensitive resin composition prepared in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 was applied to a thickness of 1 μm to 3 μm on a glass substrate having a thickness of 1 mm washed and degreased, and After drying for a minute, a coating was obtained. Subsequently, the coating film was exposed to light using a high-pressure mercury lamp with a dominant wavelength of 365 nm, dried in an oven at 200 ° C for 60 hours, and then the thickness and transmittance were measured using a contact type measuring instrument (Tenco) and an MCPS measuring instrument. It was evaluated, and the results are shown in Table 2 below.

실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 실시예5Example 5 실시예6Example 6 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 두께 (nm)(@Gy0.566)Thickness (nm) (@Gy0.566) 2.212.21 2.132.13 2.012.01 1.941.94 1.871.87 2..032..03 3.633.63 3.553.55 2.892.89 >5.00>5.00 투과도 (%)(@Gy0.566)Transmittance (%) (@Gy0.566) 104104 104104 104104 103103 102102 103.8103.8 100100 100.5100.5 98.898.8 <80<80

상기 표 2로부터, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 얇은 두께에서도 투과도가 우수하여, 공정성 및 신뢰성이 우수함을 확인할 수 있고, 투과도 저하가 없기에 색 순도 또한 우수할 것임을 쉽게 예상할 수 있다. From Table 2, it can be confirmed that the photosensitive resin composition according to one embodiment has excellent transmittance even at a thin thickness, so it is excellent in processability and reliability, and it can be easily expected that the color purity will also be excellent because there is no decrease in transmittance.

본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.The present invention is not limited to the above embodiments, but can be manufactured in a variety of different forms, and those skilled in the art to which the present invention pertains may take other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. It will be understood that it can be implemented as. Therefore, the embodiments described above should be understood as illustrative in all respects and not limiting.

Claims (25)

착색제를 포함하는 감광성 수지 조성물로서,
상기 착색제는 하기 화학식 1로 표시되는 염료, 코어-쉘 구조의 염료 및 프탈로시아닌계 염료를 포함하는 감광성 수지 조성물:
[화학식 1]
Figure pat00071

상기 화학식 1에서,
X는 산소 원자 또는 황 원자이고,
L1은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,
R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이다.
As a photosensitive resin composition containing a colorant,
The colorant is a photosensitive resin composition comprising a dye represented by Formula 1, a dye having a core-shell structure, and a phthalocyanine-based dye:
[Formula 1]
Figure pat00071

In Formula 1,
X is an oxygen atom or a sulfur atom,
L 1 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group;
R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group.
제1항에 있어서,
상기 L1은 하기 화학식 L-1로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 L-1]
Figure pat00072

상기 화학식 L-1에서,
R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 할로겐기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.
According to claim 1,
L 1 is a photosensitive resin composition represented by the following formula L-1:
[Formula L-1]
Figure pat00072

In the above formula L-1,
R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group unsubstituted or substituted with a halogen group.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 염료는 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-3 중 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물.
[화학식 1-1]
Figure pat00073

[화학식 1-2]
Figure pat00074

[화학식 1-3]
Figure pat00075

According to claim 1,
The dye represented by Chemical Formula 1 is a photosensitive resin composition represented by any one of Chemical Formulas 1-1 to 1-3.
[Formula 1-1]
Figure pat00073

[Formula 1-2]
Figure pat00074

[Formula 1-3]
Figure pat00075

제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 염료는 상기 코어-쉘 구조의 염료보다 많은 함량으로 포함되고,
상기 화학식 1로 표시되는 염료는 상기 프탈로시아닌계 염료보다 많은 함량으로 포함되는 감광성 수지 조성물.
According to claim 1,
The dye represented by Formula 1 is included in a higher content than the dye of the core-shell structure,
The dye represented by Formula 1 is included in a greater content than the phthalocyanine-based dye photosensitive resin composition.
제4항에 있어서,
상기 프탈로시아닌계 염료는 상기 코어-쉘 구조의 염료보다 많은 함량으로 포함되는 감광성 수지 조성물.
According to claim 4,
The photosensitive resin composition in which the phthalocyanine-based dye is included in a larger amount than the dye of the core-shell structure.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 염료는 상기 코어-쉘 구조의 염료의 함량 및 프탈로시아닌계 염료의 함량보다 많은 함량으로 포함되는 감광성 수지 조성물.
According to claim 1,
The dye represented by Chemical Formula 1 is included in an amount greater than the content of the dye of the core-shell structure and the content of the phthalocyanine-based dye.
제1항에 있어서,
상기 코어-쉘 구조의 염료는 하기 화학식 2로 표시되는 코어 및 하기 화학식 3으로 표시되는 쉘로 구성되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 2]
Figure pat00076

상기 화학식 2에서,
R7 내지 R10은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
[화학식 3]
Figure pat00077

상기 화학식 3에서,
R11은 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 *-C(=O)OR16(R16은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기)이고,
R12 내지 R15는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
m은 1 내지 10의 정수이고,
n은 0 내지 3의 정수이고,
L2 및 L3은 각각 독립적으로 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다.
According to claim 1,
The core-shell structured dye is a photosensitive resin composition composed of a core represented by the following formula (2) and a shell represented by the following formula (3):
[Formula 2]
Figure pat00076

In Formula 2,
R 7 to R 10 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group;
[Formula 3]
Figure pat00077

In Formula 3,
R 11 is a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, or *-C(=O)OR 16 (R 16 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group);
R 12 to R 15 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group;
m is an integer from 1 to 10;
n is an integer from 0 to 3;
L 2 and L 3 are each independently a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group.
제7항에 있어서,
상기 화학식 2로 표시되는 코어의 길이는 1nm 내지 3nm인 감광성 수지 조성물.
According to claim 7,
The length of the core represented by the formula (2) is 1nm to 3nm photosensitive resin composition.
제7항에 있어서,
상기 화학식 2로 표시되는 코어는 530nm 내지 680nm의 파장에서 최대 흡수 피크를 가지는 감광성 수지 조성물.
According to claim 7,
The core represented by Formula 2 is a photosensitive resin composition having a maximum absorption peak at a wavelength of 530 nm to 680 nm.
제7항에 있어서,
상기 화학식 2로 표시되는 코어는 하기 화학식 2-1 내지 화학식 2-6 중 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물.
[화학식 2-1]
Figure pat00078

[화학식 2-2]
Figure pat00079

[화학식 2-3]
Figure pat00080

[화학식 2-4]
Figure pat00081

[화학식 2-5]
Figure pat00082

[화학식 2-6]
Figure pat00083

According to claim 7,
The core represented by Chemical Formula 2 is a photosensitive resin composition represented by any one of Chemical Formulas 2-1 to 2-6.
[Formula 2-1]
Figure pat00078

[Formula 2-2]
Figure pat00079

[Formula 2-3]
Figure pat00080

[Formula 2-4]
Figure pat00081

[Formula 2-5]
Figure pat00082

[Formula 2-6]
Figure pat00083

제7항에 있어서,
상기 화학식 3으로 표시되는 쉘은 하기 화학식 3-1로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 3-1]
Figure pat00084

상기 화학식 3-1에서,
R11은 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 *-C(=O)OR16(R16은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기)이고,
R12 내지 R15는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
n은 0 내지 3의 정수이다.
According to claim 7,
The shell represented by Chemical Formula 3 is a photosensitive resin composition represented by Chemical Formula 3-1:
[Formula 3-1]
Figure pat00084

In Formula 3-1,
R 11 is a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, or *-C(=O)OR 16 (R 16 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group);
R 12 to R 15 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group;
n is an integer from 0 to 3;
제7항에 있어서,
상기 화학식 3으로 표시되는 쉘은 하기 화학식 3-1-1 내지 화학식 3-1-3 중 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 3-1-1]
Figure pat00085

[화학식 3-1-2]
Figure pat00086

[화학식 3-1-3]
Figure pat00087

상기 화학식 3-1-1 내지 화학식 3-1-3에서,
R12 내지 R15는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R17 및 R18은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 *-C(=O)OR16(R16은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기)이다.
According to claim 7,
The shell represented by Chemical Formula 3 is a photosensitive resin composition represented by any one of the following Chemical Formulas 3-1-1 to 3-1-3:
[Formula 3-1-1]
Figure pat00085

[Formula 3-1-2]
Figure pat00086

[Formula 3-1-3]
Figure pat00087

In Formula 3-1-1 to Formula 3-1-3,
R 12 to R 15 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group;
R 17 and R 18 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, or *-C(=O)OR 16 (R 16 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group).
제7항에 있어서,
상기 화학식 3으로 표시되는 쉘은 6.5Å 내지 7.5Å의 케이지 너비를 가지는 감광성 수지 조성물.
According to claim 7,
The photosensitive resin composition in which the shell represented by Chemical Formula 3 has a cage width of 6.5 Å to 7.5 Å.
제7항에 있어서,
상기 화학식 3으로 표시되는 쉘은 하기 화학식 3-A 내지 화학식 3-E 중 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물.
[화학식 3-A]
Figure pat00088

[화학식 3-B]
Figure pat00089

[화학식 3-C]
Figure pat00090

[화학식 3-D]
Figure pat00091

[화학식 3-E]
Figure pat00092

According to claim 7,
The shell represented by Chemical Formula 3 is a photosensitive resin composition represented by any one of Chemical Formulas 3-A to 3-E.
[Formula 3-A]
Figure pat00088

[Formula 3-B]
Figure pat00089

[Formula 3-C]
Figure pat00090

[Formula 3-D]
Figure pat00091

[Formula 3-E]
Figure pat00092

제1항에 있어서,
상기 코어-쉘 구조의 염료는 상기 코어 및 상기 쉘을 1:1의 몰비로 포함하는 감광성 수지 조성물.
According to claim 1,
The dye of the core-shell structure comprises the core and the shell in a molar ratio of 1: 1 photosensitive resin composition.
제1항에 있어서,
상기 프탈로시아닌계 염료는 하기 화학식 4로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 4]
Figure pat00093

상기 화학식 4에서,
R101 내지 R116은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이고,
단, R101 내지 R104 중 적어도 하나, R105 내지 R108 중 적어도 하나 및 R109 내지 R112 중 적어도 하나는 각각 독립적으로 하기 화학식 5로 표시되고,
R113 내지 R116 중 적어도 하나는 할로겐 원자 또는 하기 화학식 5로 표시되고,
[화학식 5]
Figure pat00094

상기 화학식 5에서,
R117 및 R118은 각각 독립적으로 할로겐 원자, C1 내지 C10 알킬기로 치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
n1 및 n2는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고, 단, 1 ≤ n1+n2 ≤ 5 이다.
According to claim 1,
The phthalocyanine-based dye is a photosensitive resin composition represented by the following formula (4):
[Formula 4]
Figure pat00093

In Formula 4,
R 101 to R 116 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, or a substituted or unsubstituted C3 to C20 aryl group. A cyclic C6 to C20 aryloxy group,
However, at least one of R 101 to R 104 , at least one of R 105 to R 108 , and at least one of R 109 to R 112 are each independently represented by the following formula (5),
At least one of R 113 to R 116 is represented by a halogen atom or the following formula (5),
[Formula 5]
Figure pat00094

In Formula 5,
R 117 and R 118 are each independently a halogen atom, a C1 to C20 alkyl group substituted with a C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,
n1 and n2 are each independently an integer of 0 to 5, provided that 1 ≤ n1 + n2 ≤ 5.
제16항에 있어서,
상기 화학식 5는 하기 화학식 5-1 내지 화학식 5-4 중 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물.
[화학식 5-1]
Figure pat00095

[화학식 5-2]
Figure pat00096

[화학식 5-3]
Figure pat00097

[화학식 5-4]
Figure pat00098

According to claim 16,
Chemical Formula 5 is a photosensitive resin composition represented by any one of Chemical Formulas 5-1 to 5-4.
[Formula 5-1]
Figure pat00095

[Formula 5-2]
Figure pat00096

[Formula 5-3]
Figure pat00097

[Formula 5-4]
Figure pat00098

제1항에 있어서,
상기 착색제는 안료를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
According to claim 1,
The photosensitive resin composition further comprises a pigment.
제1항에 있어서,
상기 착색제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 15 중량%로 포함되는 감광성 수지 조성물.
According to claim 1,
The colorant is included in an amount of 1% to 15% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition.
제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 바인더 수지, 광중합성 단량체, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
According to claim 1,
The photosensitive resin composition further comprises a binder resin, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator and a solvent.
제20항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은, 감광성 수지 조성물 총량에 대해,
상기 착색제 1 중량% 내지 15 중량%;
상기 바인더 수지 1 중량% 내지 20 중량%;
상기 광중합성 단량체 1 중량% 내지 20 중량%;
상기 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 10 중량%; 및
상기 용매 잔부량
을 포함하는 감광성 수지 조성물.
According to claim 20,
The photosensitive resin composition, relative to the total amount of the photosensitive resin composition,
1% to 15% by weight of the colorant;
1% to 20% by weight of the binder resin;
1% to 20% by weight of the photopolymerizable monomer;
0.1% to 10% by weight of the photopolymerization initiator; and
The remaining amount of the solvent
Photosensitive resin composition comprising a.
제20항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 비닐기 또는 (메타)아크릴옥시기를 포함하는 실란계 커플링제, 레벨링제, 계면활성제, 라디칼 중합 개시제 또는 이들의 조합을 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
According to claim 20,
The photosensitive resin composition further contains malonic acid, 3-amino-1,2-propanediol, a silane-based coupling agent containing a vinyl group or a (meth)acryloxy group, a leveling agent, a surfactant, a radical polymerization initiator, or a combination thereof. A photosensitive resin composition comprising:
제1항 내지 제22항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막.
A photosensitive resin film prepared using the photosensitive resin composition of any one of claims 1 to 22.
제23항의 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터.
A color filter comprising the photosensitive resin film of claim 23 .
제24항의 컬러필터를 포함하는 전자소자.An electronic device comprising the color filter of claim 24.
KR1020210087302A 2021-07-02 2021-07-02 Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer including the same, color filter and electronic device KR20230006282A (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210087302A KR20230006282A (en) 2021-07-02 2021-07-02 Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer including the same, color filter and electronic device
JP2022103284A JP7411733B2 (en) 2021-07-02 2022-06-28 Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, color filter, and electronic device using the same
TW111124542A TW202302769A (en) 2021-07-02 2022-06-30 Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer including the same, color filter, and electronic device
CN202210755246.4A CN115629522A (en) 2021-07-02 2022-06-30 Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using same, color filter, and electronic device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210087302A KR20230006282A (en) 2021-07-02 2021-07-02 Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer including the same, color filter and electronic device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230006282A true KR20230006282A (en) 2023-01-10

Family

ID=84893882

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210087302A KR20230006282A (en) 2021-07-02 2021-07-02 Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer including the same, color filter and electronic device

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7411733B2 (en)
KR (1) KR20230006282A (en)
CN (1) CN115629522A (en)
TW (1) TW202302769A (en)

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6498929B2 (en) 2014-12-22 2019-04-10 住友化学株式会社 Colored curable resin composition
KR102247840B1 (en) 2016-03-18 2021-05-03 제이에스알 가부시끼가이샤 Substrate for display device, manufacturing method of the substrate for display device, and display device
KR102224054B1 (en) * 2017-12-26 2021-03-05 삼성에스디아이 주식회사 Photosensitive resin composition and photosensitive resin layer using the same, color filter and display device
KR20200125636A (en) 2018-02-26 2020-11-04 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Copolymer and colored resin composition
US20210024737A1 (en) 2018-02-26 2021-01-28 Sumitomo Chemical Company, Limited Colored resin composition
WO2019163733A1 (en) 2018-02-26 2019-08-29 住友化学株式会社 Green colored resin composition
KR102325836B1 (en) 2018-11-06 2021-11-11 삼성에스디아이 주식회사 Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same and color filter

Also Published As

Publication number Publication date
JP2023008877A (en) 2023-01-19
TW202302769A (en) 2023-01-16
JP7411733B2 (en) 2024-01-11
CN115629522A (en) 2023-01-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102325836B1 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same and color filter
KR102028641B1 (en) Novel compound, core-shell dye, photosensitive resin composition including the same, and color filter
KR102020917B1 (en) Core-shell dye, photosensitive resin composition including the same, and color filter
CN109715600B (en) Novel compound, core-shell dye, photosensitive resin composition containing the compound, and color filter
KR101413072B1 (en) Photosensitive resin composition for color filter and color filter using the same
KR102087259B1 (en) Novel compound, core-shell dye, photosensitive resin composition including the same, and color filter
KR20230024934A (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer including the same and color filter
KR101413075B1 (en) Photosensitive resin composition for color filter and color filter using the same
CN111221216A (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer and color filter layer
CN107805237B (en) Compound, photosensitive resin composition containing same, and color filter
KR102394252B1 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer including the same and color filter
KR102124126B1 (en) Novel compound, photosensitive resin composition including the same and color filter
KR102577766B1 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same and color filter
KR20230015746A (en) Novel compound, photosensitive resin composition including the same, color filter and cmos image sensor
KR20210146726A (en) Core-shell dye, photosensitive resin composition including the same, and color filter
KR20230006282A (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer including the same, color filter and electronic device
KR102144981B1 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer and color filter including the same
KR102603294B1 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same, color filter and display device
KR102624673B1 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same and color filter
JP7091418B2 (en) Compounds, photosensitive resin compositions containing them, photosensitive resin films, color filters and display devices.
KR20230149596A (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same, color filter comprising the photosensitive resin layer, cmos image sensor comprising the photosensitive resin layer, display device comprising the color filter and camera comprising the cmos image sensor
KR20210156125A (en) Core-shell dye, photosensitive resin composition including the same, and color filter
KR20210052193A (en) Compound, photosensitive resin composition comprising the same, photosensitive resin layer, color filter and display device
KR20220090399A (en) Core-shell dye, photosensitive resin composition including the same, photosensitive resin layer, color filter and cmos image sensor
KR20230061078A (en) Compound, photosensitive resin composition including the same and color filter

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal