KR20230003321A - 전단-박화 화장용 조성물 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 전단-박화(shear-thinning) 또는 유사가소성(pseudoplastic) 화장용 조성물에 관한 것이다. 제타 전위들이 하기와 같도록 해서 균형을 이룰 수 있다: 제1 제타 전위 대 제2 제타 전위의 제1 비는 대략 1:2일 수 있다. 제1 제타 전위 대 제3 제타 전위의 제2 비는 대략 1:2일 수 있다. 그리고, 제2 제타 전위 대 제3 제타 전위의 제3 비는 대략 1:1일 수 있다. 제타 전위들의 균형을 이루는 것은 전단-박화 화장용 조성물이 단일 디바이스를 통해 그의 원래의 점성 형태로 그리고 미세 미스트(fine mist)로서 분배될 수 있음을 보장할 수 있다.
Description
본 발명은 대체적으로 전단-박화(shear-thinning) 화장용 조성물에 관한 것이며, 더 상세하게는 균형을 이룬 제타 전위들을 갖는 전단-박화 화장용 조성물에 관한 것이다.
크림, 겔, 로션, 또는 달리 점성인 주도(consistency)를 갖는 조성물은 덜 점성인 형태로 분배되는 어려움을 겪을 수 있다. 시간 경과에 따라 점도에 있어서의 감소 또는 연속상(continuous phase)을 갖는, 본질적으로 요변성(thixotripic)인 전단-박화 조성물을 생성하는 것은 어려울 수 있다. 전단 응력 하에서 분배될 때, 통상적인 전단-박화 조성물은, 예를 들어 노즐 또는 오리피스 주위에 축적물(build-up)을 생성하거나 분출됨으로써 지저분하게 분배될 수 있다. 그러한 바와 같이, 통상적인 점성 조성물은 미세 미스트(fine mist)로서 분배되기에 충분한 연속상을 달성하는 능력이 결여되어 있다.
대체적으로, 본 발명의 실시 형태는 제1 제타 전위를 갖는 제1 활성 성분, 제2 제타 전위를 갖는 제2 활성 성분, 및 제3 제타 전위를 갖는 제3 활성 성분을 포함할 수 있는 화장용 조성물을 제공한다. 제1 제타 전위 대 제2 제타 전위의 제1 비는 대략 1:2일 수 있다. 제1 제타 전위 대 제3 제타 전위의 제2 비는 대략 1:2일 수 있다. 제2 제타 전위 대 제3 제타 전위의 제3 비는 대략 1:1일 수 있다. 제1 활성 성분, 제2 활성 성분, 제3 활성 성분, 및 기타 성분의 배합물이 그의 원래 형태로 그리고 미세 미스트로서 단일 디바이스를 통해 전달될 수 있다.
본 발명의 실시 형태는 제1 제타 전위를 갖는 제1 활성 성분, 제2 제타 전위를 갖는 제2 활성 성분, 및 제3 제타 전위를 갖는 제3 활성 성분을 포함할 수 있는 화장용 조성물을 제공할 수 있다. 제1 제타 전위 대 제2 제타 전위의 제1 비는 대략 1:2일 수 있다. 제1 제타 전위 대 제3 제타 전위의 제2 비는 대략 1:2일 수 있다. 제2 제타 전위 대 제3 제타 전위의 제3 비는 대략 1:1일 수 있다. 제1 활성 성분, 제2 활성 성분, 제3 활성 성분, 및 기타 성분의 배합물이 저전단 및 고전단 둘 모두 하에서 하나 이상의 노즐을 갖는 단일 디바이스를 통해 전달될 수 있다.
전술한 발명의 내용은 단지 상세한 설명에서 아래에 더 상세히 설명되는 선택된 특징부에 대한 간략한 소개를 제공하도록 의도된다. 다음의 도면, 설명 및 청구범위로부터 다른 기술적 특징부가 당업자에게 용이하게 명백할 수 있다. 이와 같이, 이 발명의 내용은 청구된 주제에 대해 핵심이 되거나 필수적인 것으로 여겨지는 특징부를 식별하거나, 나타내거나, 강조하도록 의도되지 않는다. 더욱이, 이 발명의 내용은 청구된 주제의 범주를 결정하는 데 도움이 되는 것으로 사용되도록 의도되지 않는다.
없음
본 발명의 이해를 용이하게 하기 위해, 몇 가지 용어가 하기에 정의된다. 본 명세서에 정의된 용어는 본 발명과 관련된 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 의미를 갖는다. 부정관사("a", "an") 및 정관사("the")와 같은 용어는 단지 단수 개체(entity) 만을 지칭하고자 하는 것이 아니라, 특정 예가 예시를 위해 사용될 수 있는 일반적인 부류를 포함한다. 본 명세서의 용어는 본 발명의 특정 실시 형태를 설명하기 위해 사용되지만, 그의 사용은 청구범위에 약술된 바를 제외하고는 본 발명을 제한하지 않는다.
본 명세서에 사용되는 바와 같이, "화장제" 또는 "화장용 성분" 또는 "성분"은 포유류 각질 조직 상에의 국소 적용에 적합한 제제 또는 활성 성분을 의미한다. 화장제는 대상의 피부 또는 외양(예를 들어, 색, 질감, 외관, 감촉 등) 또는 대상의 피부, 신체 또는 모발의 냄새를 세정하는 데 또는 이의 개선 또는 보호에 도움을 주는 물질일 수 있다. 화장제는 피부 또는 모발의 기본 구조를 변화시킬 수 있다.
본 명세서에 사용되는 바와 같이, 용어 "예방하다" 및 "예방하는"은 피부 또는 모발 상태의 재발, 확산 또는 발병의 예방을 포함한다. 본 발명은 완전한 예방으로 제한되는 것으로 의도되지 않는다.
"대상"은 임의의 포유동물, 바람직하게는 인간을 지칭한다.
본 명세서에 사용되는 바와 같이, 용어 "국소"는 제제 또는 제제들(예를 들어, 화장품, 비타민 등)의 피부 상에의 투여를 지칭한다.
용어 "제타 전위"는, 제타 전위가 전단 평면에서의 전위임을 지칭한다.
작동 실시예 및 비교예에서 또는 달리 명시적으로 표시되는 경우를 제외하고는, 기질의 양 또는 비 또는 반응 조건, 기질의 물리적 특성 및/또는 사용을 나타내는 본 명세서의 모든 수치는 단어 "약"에 의해 수식되는 것으로 이해되어야 한다. 달리 명시되지 않는 한, 모든 양은 최종 조성물의 중량 백분율로서 제시된다.
용어 "중량 백분율"은 본 명세서에서 "중량%"로 표시될 수 있다.
모든 백분율, 부 및 비는 달리 명시되지 않는 한 본 발명의 조성물의 총 중량을 기준으로 한다. 달리 명시되지 않는 한, 열거된 성분에 관련된 그러한 모든 중량은 활성 수준에 기초하며, 따라서 이들은 구매가능한 재료에 포함될 수 있는 용매 또는 부산물을 포함하지 않는다.
대체적으로, 본 발명은 원래 형태로 그리고 미세 미스트로서 분배될 수 있는 전단-박화 화장용 조성물을 제공한다. 원래 형태는 점성 조성물, 예컨대 겔, 로션, 크림, 또는 다른 점성 조성물일 수 있다. 미세 미스트는 대략 1 마이크로미터(μm) 미만의 입자를 제공할 수 있는 액체일 수 있다.
조성물 및 기타 성분의 형태
본 발명의 바람직한 조성물은 단일 수성 상이고, 오일 또는 실리콘을 함유하지 않는다. 본 발명의 조성물은 전형적으로 총 조성물의 중량을 기준으로 대략 60% 내지 75%의 물을 포함할 수 있다. 물의 이러한 양은 모든 공급원으로부터의 것, 예컨대 Vinysol 2140L 및 Daitosol 5000AD 중의 것이다. 본 발명으로부터 벗어나지 않고서 중량 기준으로 75% 초과 또는 65% 미만의 물이 존재할 수 있음이 이해되어야 한다.
몇몇 잠재적인 성분의 제거 후에, 화장용 조성물의 제타 전위의 균형을 이루도록 하기 물질들을 선택하였으며, 이들은 하기 표 1에 열거된 바와 같다.
Merquat™ 100은 폴리쿼터늄-6(다이알릴 다이메틸 암모늄 클로라이드의 고도로 하전된 양이온성 단일중합체)의 39 내지 44% 수용액이며; Lubrizol Corporation으로부터 입수가능하다.
아크릴레이트 공중합체는, 예를 들어 Daito Kasei Kogyo Co.로부터 Daitosol™ 5000AD로 구매가능하다. Daitosol 5000AD는 아크릴레이트 공중합체의 50% 수성 혼합물이다. Daitosol 5000AD는 5.5 내지 7.5의 pH, 50 내지 100 mPa-s의 점도, 약 -14℃의 유리 전이 온도(Tg)를 갖는 것으로 보고되어 있다.
폴리글리세릴-2 아이소스테아레이트는, 예를 들어 Kokyu Alcohol Kogyo Co., Ltd.로부터 Risorex™ PGIS21로 구매가능하다.
수용성 홍조류 추출물은, 예를 들어 Knowde로부터 Gelalg™ SPE로 구매가능하다.
리튬 마그네슘 나트륨 규산염은, 예를 들어 Eckart America로부터 Laponite-XLG XR™로 구매가능하다.
나머지 성분은 제타 전위를 제공할 수 없거나 대략 0의 무시할 만한 제타 전위를 제공할 수 있음이 이해되어야 한다. 그렇기 때문에, 나머지 성분은 화장용 조성물의 제타 전위에 영향을 미치지 않는다.
성분들의 배합물은 하나 초과의 제타 전위를 제공할 수 있다. 예를 들어, 제1 활성 성분, 예컨대 Gelalg SPE는 제1 제타 전위를 갖는다. 제1 제타 전위는 제2 활성 성분, 예컨대 Laponite XLG XR의 제2 제타 전위의 대략 절반일 수 있다. 다시 말하면, 제1 제타 전위와 제2 제타 전위 사이의 비는 대략 1:2일 수 있다. 제1 제타 전위는 또한 제3 활성 성분, 예컨대 폴리쿼터늄-6의 제3 제타 전위의 대략 절반일 수 있다. 제1 제타 전위는 대략 +24.34 ㎷일 수 있다. 제2 제타 전위는 대략 +50.23 ㎷일 수 있다. 제3 제타 전위는 대략 +51.10 ㎷일 수 있다. 다시 말하면, 제1 제타 전위와 제3 제타 전위 사이의 비는 대략 1:2일 수 있다. 제1 제타 전위는 본 발명으로부터 벗어나지 않고서 +24.34 ㎷ 미만 또는 초과일 수 있음이 이해되어야 한다. 제2 제타 전위는 본 발명으로부터 벗어나지 않고서 +50.23 ㎷ 미만 또는 초과일 수 있음이 또한 이해되어야 한다. 추가로, 제3 제타 전위는 본 발명으로부터 벗어나지 않고서 +24.34 ㎷ 미만 또는 초과일 수 있음이 이해되어야 한다. 화장용 조성물의 제타 전위는 -40 내지 -50 ㎷일 수 있다.
인간 피부의 제타 전위는 전형적으로 대략 -25 ㎷이다. -25 ㎷ 초과의 제타 전위를 갖는 조성물이 사용자 또는 인간 피부에 최상으로 접착하거나 가장 효능적인 적용을 제공할 수 있다. 제타 전위의 크기는 분산물 중의 입자들 사이의 정전기 반발력 또는 인력의 정도를 나타낸다. 더 높은 크기는 입자들이 현탁 상태로 남아 있을 가능성이 매우 높고 더 큰 안정성을 제공한다는 것을 나타낼 수 있다. 일반적으로, 더 높은 제타 전위는 콜로이드성 시스템의 더 높은 안정성을 제공할 수 있다. 더 높은 표면 전하가 입자들의 전하에 대향할 때, 반발력이 인력보다 더 클 수 있다. 2개의 원자 사이의 안정한 상태는 서로 반발하는 힘과 동등한 힘을 가지면서 서로 인력을 제공한다는 것이 이해되어야 한다.
일부 실시 형태에서, 성분들의 제타 전위의 비는 약 1:1 내지 약 1:10, 그리고 가장 바람직하게는 13:1 내지 약 15:1의 범위일 수 있다.
조성물 제타 전위는 화장용 조성물의 점도를 파괴하고, 제타 전위는 약 -5 밀리볼트 내지 약 -90 밀리볼트, 바람직하게는 대략적으로 약 -46 밀리볼트(㎷), 그리고 더 바람직하게는 약 -10 내지 -70 밀리볼트(㎷)의 범위이다.
제1 활성 성분, 제2 활성 성분, 및 제3 활성 성분의 배합물은 대략 20 내지 25℃의 실온에서 고전단에서 그리고 저전단 - 약 1 내지 10 뉴턴/제곱미터(N/m2)의 범위임 - 에서 단일 디바이스의 하나 이상의 노즐을 통해 전달된다. 점도는 대략 20 내지 25℃에서 대략 80 내지 120 N/m2의 고전단에서 대략 100,000 cSt 내지 대략 500,000 cSt의 범위이다. 예를 들어, 로션은 대략 1 내지 10 N/m2의 저전단을 나타낼 수 있고, 미스트는 대략 80 내지 120 N/m2의 고전단을 나타낼 수 있다. 제타 전위 측정.
제1 활성 성분, 제2 활성 성분, 및 제3 활성 성분의 배합물은 대략 0 센티스토크(cSt) 내지 1500만 cSt, 바람직하게는 약 0 센티스토크(cSt) 내지 500만 cSt 범위의 점도를 갖는다.
제타 전위는 콜로이드성 분산물, 즉, 크림 및 로션의 안정성의 중요 지표이다. 제타 전위는 입자들 사이의 정전기 또는 전하 반발력/인력의 크기를 측정하고, 조성물의 안정성에 영향을 미치는 것으로 알려진 기본 파라미터들 중 하나이다. 다시 말하면, 제타 전위는 전단 평면에서의 전위이다. 제타 전위의 측정은 분산, 응집, 및/또는 플록화(flocculation)의 원인에 대한 통찰을 제공하고, 분산물, 에멀젼 및 현탁액의 제형을 개선하도록 적용될 수 있다.
일반적으로, 인간 피부의 제타 전위는 전형적으로 대략 -25 ㎷이다. 본 발명에 따른 조성물은 -25 ㎷ 초과의 제타 전위를 포함한다. 그러한 제타 전위를 갖는 그러한 조성물은 사용자 또는 인간 피부에 최상으로 접착하거나 가장 효능적인 적용을 제공할 수 있다. 제타 전위의 크기는 분산물 중의 입자들 사이의 정전기 반발력 또는 인력의 정도를 나타낸다. 더 높은 크기는 입자들이 현탁 상태로 남아 있을 가능성이 매우 높고 더 큰 안정성을 제공한다는 것을 나타낼 수 있다. 일반적으로, 더 높은 제타 전위는 콜로이드성 시스템의 더 높은 안정성을 제공할 수 있다. 더 높은 표면 전하가 입자들의 전하에 대향할 때, 반발력이 인력보다 더 클 수 있다. 2개의 원자 사이의 안정한 상태는 서로 반발하는 힘과 동등한 힘을 가지면서 서로 인력을 제공한다는 것이 이해되어야 한다.
본 발명의 전단-박화 조성물은 유사가소성(pseudoplastic)일 수 있으며, 유체의 비뉴턴 거동을 제공할 수 있다. 화장품 조성물은 본 발명으로부터 벗어나지 않고서, 필름 형성제를 함유하고/하거나 색소 또는 착색제를 포함하거나 배제시킨 국소 제형을 제공할 수 있음이 또한 이해되어야 한다. 화장용 조성물은 피부에 균일한 커버리지를 전달하는 분무기를 제공할 수 있는 세팅 프라이머(setting primer)일 수 있음이 또한 이해되어야 한다. 분무의 출력이 최적의 결과를 달성하기 위해 미세 미스트를 전달하도록 설계될 수 있음이 이해되어야 한다. 본 발명의 고점도를 갖는 전단-박화 또는 유사가소성 화장용 조성물은 본 발명으로부터 벗어나지 않고서 임의의 각도로 분무될 수 있음이 또한 이해되어야 한다.
나머지 성분은 제타 전위를 제공할 수 없거나 대략 0의 무시할 만한 제타 전위를 제공할 수 있음이 이해되어야 한다. 그렇기 때문에, 나머지 성분은 화장용 조성물의 제타 전위에 영향을 미치지 않는다.
제형
본 발명의 태양에 따르면, 화장제를 포함하는 제형은 포유류 각질 조직에, 즉 인간 피부, 얼굴 또는 모발에 적용될 수 있다. 화장제를 포함하는 제형은 다양한 형태의 것일 수 있다. 예를 들어, 그러한 형태의 일부 비제한적인 예에는 용액, 현탁액, 로션, 크림, 겔, 에멀젼, 현탁액, 토너, 연고, 세정제, 각질제거제, 액체 샴푸 및 헤어 컨디셔너, 페이스트, 폼, 파우더, 무스, 면도 크림, 하이드로겔, 필름-형성 제품, 페이셜 및 피부 마스크 등이 포함된다.
자외광에 대한 노출은 각질층의 과도한 낙설(scaling) 및 질감 변화를 초래할 수 있다. 따라서, 본 발명의 화장제는 선택적으로 선스크린 활성제를 함유할 수 있다. 본 명세서에 사용되는 바와 같이, "선스크린 활성제"는 선스크린제 및 물리적 선블록 둘 모두를 포함한다. 적합한 선스크린 활성제는 유기 또는 무기일 수 있다.
본 발명에 유용한 무기 선스크린은 하기 금속 산화물을 포함한다: 평균 1차 입자 크기가 약 15 nm 내지 약 100 nm인 이산화티타늄, 평균 1차 입자 크기가 약 15 nm 내지 약 150 nm인 산화아연, 평균 1차 입자 크기가 약 15 nm 내지 약 150 nm인 산화지르코늄, 평균 1차 입자 크기가 약 15 nm 내지 약 500 nm인 산화철, 및 이들의 혼합물. 본 발명에 사용될 때, 무기 선스크린은 화장제의 중량 기준으로 약 0.1% 내지 약 20%, 바람직하게는 약 0.5% 내지 약 10%, 더 바람직하게는 약 1% 내지 약 5%의 양으로 존재한다.
매우 다양한 통상적인 유기 선스크린 활성제가 본 발명에 사용하기에 적합하다. 문헌[Sagarin, et al., at Chapter VIII, pages 189 et seq., of Cosmetics Science and Technology (1972)]은 다수의 적합한 활성제를 개시한다. 특히 적합한 선스크린 활성제는, 예를 들어 하기를 포함한다: p-아미노벤조산, 이의 염 및 이의 유도체(에틸, 아이소부틸, 글리세릴 에스테르; p-다이메틸아미노벤조산); 안트라닐레이트(즉, o-아미노-벤조에이트; 메틸, 멘틸, 페닐, 벤질, 페닐에틸, 리날릴, 테르피닐, 및 사이클로헥세닐 에스테르); 살리실레이트(아밀, 페닐, 옥틸, 벤질, 멘틸, 글리세릴, 및 다이-프로필렌글리콜 에스테르); 신남산 유도체(멘틸 및 벤질 에스테르, a-페닐 신나모니트릴; 부틸 신나모일 피루베이트); 다이하이드록시신남산 유도체(움벨리페론, 메틸움벨리페론, 메틸아세토-움벨리페론); 트라이하이드록시-신남산 유도체(에스쿨레틴, 메틸에스쿨레틴, 다프네틴, 및 글루코사이드, 에스쿨린 및 다프닌); 탄화수소(다이페닐부타디엔, 스틸벤); 다이벤잘아세톤 및 벤잘아세토페논, 나프톨설포네이트(2-나프톨-3,6-다이설폰산의 나트륨 염 및 2-나프톨-6,8-다이설폰산의 나트륨 염); 다이-하이드록시나프토산 및 이의 염; o- 및 p-하이드록시바이페닐다이설포네이트; 쿠마린 유도체(7-하이드록시, 7-메틸, 3-페닐); 다이아졸(2-아세틸-3-브로모인다졸, 페닐 벤조옥사졸, 메틸 나프토옥사졸, 다양한 아릴 벤조티아졸); 퀴닌 염(바이설페이트, 설페이트, 클로라이드, 올레에이트, 및 탄네이트); 퀴놀린 유도체(8-하이드록시퀴놀린 염, 2-페닐퀴놀린); 하이드록시- 또는 메톡시-치환된 벤조페논; 요산 및 비올루르산; 탄닌산 및 이의 유도체(예를 들어, 헥사에틸에테르); (부틸 카르보톨)(6-프로필 피페로닐) 에테르; 하이드로퀴논; 벤조페논(옥시벤젠, 술리소벤존, 다이옥시벤존, 벤조레조르시놀, 2,2,4,4-테트라하이드록시벤조페논, 2,2-다이하이드록시-4,4'-다이메톡시벤조페논, 옥타벤존; 4-아이소프로필다이벤조일메탄; 부틸메톡시다이벤조일메탄; 에토크릴렌; 옥토크릴렌; [3-(4'-메틸벤질리덴 보만-2-온), 테레프탈릴리덴 다이캄퍼 설폰산 및 4-아이소프로필-다이-벤조일메탄. 이들 중, 2-에틸헥실-p-메톡시신나메이트(PARSOL MCX로 구매가능함), 4,4-t-부틸 메톡시다이벤조일-메탄(PARSOL 1789로 구매가능함), 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 옥틸다이메틸-p-아미노벤조산, 다이갈로일트라이올레이트, 2,2-다이하이드록시-4-메톡시벤조페논, 에틸-4-(비스(하이드록시-프로필))아미노벤조에이트, 2-에틸헥실-2-시아노-3,3-다이페닐아크릴레이트, 2-에틸헥실-살리실레이트, 글리세릴-p-아미노벤조에이트, 3,3,5-트라이-메틸사이클로헥실살리실레이트, 메틸안트라닐레이트, p-다이메틸-아미노벤조산 또는 아미노벤조에이트, 2-에틸헥실-p-다이메틸-아미노-벤조에이트, 2-페닐벤즈이미다졸-5-설폰산, 2-(p-다이메틸아미노페닐)-5-설포닉벤즈옥사조산, 옥토크릴렌 및 이들 화합물의 혼합물이 바람직하다.
본 발명에 유용한 화장제에 유용한 더 바람직한 유기 선스크린 활성제는 2-에틸헥실-p-메톡시신나메이트, 부틸메톡시다이벤조일-메탄, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-페닐벤즈이미다졸-5-설폰산, 옥틸다이메틸-p-아미노벤조산, 옥토크릴렌, 및 이들의 혼합물이다.
또한, 1990년 6월 26일에 Sabatelli에게 허여된 미국 특허 제4,937,370호, 및 1991년 3월 12일에 Sabatelli 및 Spirnak에게 허여된 미국 특허 제4,999,186호에 개시된 것들과 같은 선스크린 활성제가 화장제에 특히 유용하다. 거기에 개시된 선 스크리닝제는 단일 입자 내에, 상이한 자외 방사선 흡수 스펙트럼을 나타내는 2개의 별개의 발색단 모이어티(moiety)를 갖는다. 발색단 모이어티들 중 하나는 UVB 방사선 범위에서 주로 흡수하고, 나머지 다른 하나는 UVA 방사선 범위에서 강하게 흡수한다.
선 스크리닝제의 이 부류의 바람직한 구성원은 2,4-다이하이드록시벤조페논의 4-N,N-(2-에틸헥실)메틸-아미노벤조산 에스테르; 4-하이드록시다이벤조일메탄을 갖는 N,N-다이-(2-에틸헥실)-4-아미노벤조산 에스테르; 4-하이드록시다이벤조일메탄을 갖는 4-N,N-(2-에틸헥실)메틸-아미노벤조산 에스테르; 2-하이드록시-4-(2-하이드록시에톡시)벤조페논의 4-N,N-(2-에틸헥실)메틸- 아미노벤조산 에스테르; 4-(2-하이드록시에톡시)다이벤조일메탄의 4-N,N-(2-에틸헥실)-메틸아미노벤조산 에스테르; 2-하이드록시-4-(2-하이드록시에톡시)벤조페논의 N,N-다이-(2-에틸헥실)-4-아미노벤조산 에스테르; 및 4-(2-하이드록시에톡시)다이벤조일메탄의 N,N-다이-(2-에틸헥실)-4-아미노벤조산 에스테르, 및 이들의 혼합물이다.
특히 바람직한 선스크린 활성제는 4,4'-t-부틸메톡시다이벤조일메탄, 2-에틸헥실-p-메톡시신나메이트, 페닐 벤즈이미다졸 설폰산, 및 옥토크릴렌을 포함한다. 유기 선스크린 활성제의 안전하고 유효한 양이 사용되며, 전형적으로 화장제의 중량 기준으로 약 1% 내지 약 20%, 더 전형적으로는 약 2% 내지 약 10%이다. 정확한 양은 선택된 선스크린 또는 선스크린들 및 원하는 자외선 차단 지수(Sun Protection Factor, SPF)에 따라 변동될 것이다.
게다가, 국소 화장제는 통상적인 화장용 애쥬번트(adjuvant) 및 첨가제, 예컨대 방부제, 산화방지제, 지방 물질, 오일, 물, 유기 용매, 실리콘, 증점제, 연화제, 유화제, 선스크린, 소포제, 계면활성제 - 양이온성 계면활성제를 포함함 -, 충전제, 봉쇄제, 음이온성, 양이온성, 또는 비이온성 또는 양쪽성 중합체 또는 이들의 혼합물, 추진제, 산성화제 또는 염기성제, 염료, 착색제/착색화제, 연마제, 피부 감각제(skin sensate), 수렴제, 안료 또는 나노 안료 또는 가연성 안료, 예컨대 제한 없이, 산화철, 금속 산화물, 또는 화장용 조성물로 전형적으로 제형화되는 임의의 기타 성분을 함유할 수 있다. 본 발명의 화장용 조성물에 사용하기에 적합하고 피부 케어 산업에서 통상적으로 사용되는 그러한 화장용 성분은, 예를 들어 문헌[CTFA Cosmetic Ingredient Handbook, Second Edition (1992)]에 기재되어 있지만, 이로 한정되지 않는다.
본 발명의 화장제는, 제한 없이, 로션, 밀키 로션, 크림 및 오일, 에멀젼 형태의 오일, 워터리(watery) 물질, 겔, 하이드로겔, 샴푸, 헤어 린스, 헤어 컨디셔너, 헤어 크림, 모발 염료제, 모발 착색제, 모발 염색을 위한 전처리제 또는 후처리제, 및 갈라진 모발을 위한 코팅제 등의 형태로 존재할 수 있다.
본 발명의 화장제의 제형 유형은 용액 시스템, 가용성 시스템, 에멀젼 시스템, 겔 시스템, 파우더 분배 시스템 또는 유수(water-oil) 2상 시스템을 포함하는 임의의 유형의 것일 수 있다.
첨가제로서 적합할 수 있는 통상적인 화장 보조제에는, 예를 들어, 공동-유화제, 지방 및 왁스, 안정제, 증점제, 생체 제제(biogenic agent), 필름 형성제, 방향제, 염료, 진주광택제, 방부제, 안료, 전해질(예를 들어, 황산마그네슘) 및 pH 조절제가 있다. 공동-유화제는 또한 바람직하게는 W/O 및 O/W 유화제, 예컨대 폴리글리세롤 에스테르, 소르비탄 에스테르 또는 부분적으로 에스테르화된 글리세라이드가 알려져 있다. 지방의 전형적인 예는 글리세라이드이고; 친수화된 부분이 성장한 함께 언급될 수 있는 왁스로서, 특히 밀랍, 파라핀 왁스 또는 미정질 왁스이다.
마그네슘, 알루미늄 및/또는 아연 스테아레이트와 같은 지방산의 금속 염이 사용될 수 있다. 적합한 증점제는, 예를 들어 가교결합된 폴리아크릴산 및 그의 유도체, 다당류, 더욱 구체적으로는 잔탄 고무, 구아-구아, 아가-아가, 알기네이트 및 틸로스(tylose), 카르복시메틸셀룰로오스 및 하이드록시에틸셀룰로오스, 및 또한 지방 알코올, 모노글리세라이드 및 지방산, 폴리아크릴레이트, 폴리비닐 알코올 및 폴리비닐피롤리돈이다.
이해를 위하여, 생물기원 활성 식물 추출물, 단백질 가수분해물 및 비타민 복합체를 예로 들 수 있다. 통상적인 필름 형성제는, 예를 들어 하이드로콜로이드, 예컨대 키토산, 미정질 키토산 또는 4차화 키토산, 폴리비닐피롤리돈, 비닐피롤리돈-비닐 아세테이트 공중합체, 아크릴산 시리즈의 중합체, 4차 셀룰로오스 유도체 및 유사한 화합물이다.
적합한 방부제는, 예를 들어 포름알데히드 용액, p-하이드록시벤조에이트 또는 소르브산이다. 예를 들어, 에틸렌 글리콜 다이스테아르산 에스테르와 같은 진주화제는 콜다이스테아레이트(coldistearate)이지만, 지방산들 및 지방산이 또한 고려된다.
화장 목적에 적합한 염료 및 허가된 물질이 사용될 수 있다. 그러한 염료는 총 혼합물을 기준으로 0.001 내지 0.1 중량%의 농도로 보통 사용된다. 추가 함량의 산화방지제가 일반적으로 바람직하다. 따라서, 화장용 및/또는 피부과용 응용에 적합하거나 관행적인 모든 것이 유리한 산화방지제로서 사용될 수 있다.
따라서, 본 발명의 선스크린 조성물은, 예를 들어 유중수 크림, 수중유 크림 및 로션, 에어로졸 폼 크림, 겔, 오일, 그리스 펜슬, 더스팅 파우더, 스프레이 또는 하이드로알코올성 로션으로서 액체, 페이스트 또는 고체 형태일 수 있다.
용도
본 발명의 다른 태양은 화장 목적을 위한 용도로서, 이에는, 예컨대 제한 없이, 피부 노화의 징후를 예방 및/또는 치료하는 것 및 UV 선으로부터 피부를 보호하는 것과 같은 화장 용도가 포함된다.
다른 용도는 또한 밝기(luminosity)의 손상, 안색의 광채(radiance)의 손실, 피부의 표면 양상의 손상, 및/또는 피부결의 손상을 예방 및/또는 치료하는 것, 및/또는 피부의 생체역학 특성을 유지 및/또는 개선하기 위한 것, 및/또는 섬유아세포의 에너지 메커니즘을 자극하거나, 모발을 개선하거나, 모발 질감을 개선하거나, 피부 광채를 개선하거나, UV 방사선으로부터 피부를 보호하거나, 선스크린으로서 작용하거나, 피부 손상, 잔주름, 주름, 노화를 치료하거나, 또는 디퍼핑(depuffing)을 위한 것을 포함한다.
본 발명에 따른 조성물은 전단을 용이하게 하기 위하여 하나 이상의 노즐을 갖는 디바이스에 의해 전달될 수 있다. 디바이스는 단일 디바이스일 수 있으며, 또한 미세 스프레이 또는 미세 미스트로서 분배를 용이하게 할 수 있다.
본 발명의 특정한 실시 형태가 예시되고 설명되었지만, 다양한 다른 변경과 수정이 본 발명의 범주로부터 벗어남이 없이 이루어질 수 있음이 당업자에게 명백할 것이다. 따라서, 본 발명의 범주 내에 있는 모든 그러한 변경 및 수정을 첨부된 청구범위에서 포함하고자 한다.
실시예
실시예 1: 화장용 조성물 제형 I
실시예 2: 화장용 조성물 제형 II
레올로지 프로파일
전단-박화 화장용 조성물은 대략 20 내지 25℃의 실온에서 대략 1 내지 10 뉴턴/제곱미터(N/m2)의 저전단에서 대략 100,000 센티스토크(cSt) 내지 대략 500,000 cSt 범위의 점도를 제공할 수 있는 레올로지 프로파일을 제공할 수 있다. 점도는 대략 20 내지 25℃에서 대략 80 내지 120 N/m2의 고전단에서 대략 100,000 cSt 내지 대략 500,000 cSt의 범위이다. 예를 들어, 로션은 대략 1 내지 10 N/m2의 저전단을 나타낼 수 있고, 미스트는 대략 80 내지 120 N/m2의 고전단을 나타낼 수 있다.
제타 전위 측정
실시예 3: 전위(이하, "제타 전위")
제타 전위는 콜로이드성 분산물, 즉, 크림 및 로션의 안정성의 중요 지표이다. 제타 전위는 입자들 사이의 정전기 또는 전하 반발력/인력의 크기를 측정하고, 조성물의 안정성에 영향을 미치는 것으로 알려진 기본 파라미터들 중 하나이다. 다시 말하면, 제타 전위는 전단 평면에서의 전위이다. 제타 전위의 측정은 분산, 응집, 및/또는 플록화의 원인에 대한 통찰을 제공하고, 분산물, 에멀젼 및 현탁액의 제형을 개선하도록 적용될 수 있다.
하기 실시예는 미세 미스트로서 그리고 또한 원래 형태로 분배될 수 있는 전단-박화 화장용 조성물의 각각의 성분의 제타 전위를 포함하며, 제한적인 것으로 의도되지 않는다. 원래 형태는 겔, 크림, 로션 등을 포함할 수 있지만 이로 한정되지 않음이 이해되어야 한다. 미세 미스트는 대략 1 μm 미만의 입자를 제공할 수 있음이 이해되어야 한다.
[표 1]
성분들의 배합물은 제1 제타 전위를 갖는 제1 활성 성분, 예컨대 Gelalg SPE를 제공할 수 있다. 제1 제타 전위는 제2 활성 성분, 예컨대 Laponite XLG XR의 제2 제타 전위의 대략 절반일 수 있다. 다시 말하면, 제1 제타 전위와 제2 제타 전위 사이의 비는 대략 1:2일 수 있다. 제1 제타 전위는 또한 제3 활성 성분, 예컨대 폴리쿼터늄-6의 제3 제타 전위의 대략 절반일 수 있다. 제1 제타 전위는 대략 +24.34 ㎷일 수 있다. 제2 제타 전위는 대략 +50.23 ㎷일 수 있다. 제3 제타 전위는 대략 +51.10 ㎷일 수 있다. 다시 말하면, 제1 제타 전위와 제3 제타 전위 사이의 비는 대략 1:2일 수 있다. 제1 제타 전위는 본 발명으로부터 벗어나지 않고서 +24.34 ㎷ 미만 또는 초과일 수 있음이 이해되어야 한다. 제2 제타 전위는 본 발명으로부터 벗어나지 않고서 +50.23 ㎷ 미만 또는 초과일 수 있음이 또한 이해되어야 한다. 추가로, 제3 제타 전위는 본 발명으로부터 벗어나지 않고서 +24.34 ㎷ 미만 또는 초과일 수 있음이 이해되어야 한다. 화장용 조성물의 제타 전위는 -40 내지 -50 ㎷일 수 있다.
피부의 제타 전위
인간 피부의 제타 전위는 전형적으로 대략 -25 ㎷이다. -25 ㎷ 초과의 제타 전위를 갖는 조성물이 사용자 또는 인간 피부에 최상으로 접착하거나 가장 효능적인 적용을 제공할 수 있다. 제타 전위의 크기는 분산물 중의 입자들 사이의 정전기 반발력 또는 인력의 정도를 나타낸다. 더 높은 크기는 입자들이 현탁 상태로 남아 있을 가능성이 매우 높고 더 큰 안정성을 제공한다는 것을 나타낼 수 있다. 일반적으로, 더 높은 제타 전위는 콜로이드성 시스템의 더 높은 안정성을 제공할 수 있다. 더 높은 표면 전하가 입자들의 전하에 대향할 때, 반발력이 인력보다 더 클 수 있다. 2개의 원자 사이의 안정한 상태는 서로 반발하는 힘과 동등한 힘을 가지면서 서로 인력을 제공한다는 것이 이해되어야 한다.
앞서 기재된 제형 I 및 제형 II 내의 각각의 활성 성분의 제타 전위는 하기에 기재된 절차를 사용하여 측정하였다.
1.
대략 49.8 g의 증류수 및 대략 0.2 g의 활성 성분을 2-온스 용기 내에 넣었다.
2.
용기를 뚜껑으로 덮고, 실온에서 대략 30분 동안 초음파 처리하였다.
3.
캐필러리 셀(capillary cell)을 도치시키고, 초음파 처리된 샘플을 그의 시린지로부터 캐필러리 셀 내로 서서히 주입하여 대략 50%를 약간 초과하도록 U-관을 충전하였다.
4.
공기 버블(air bubble)이 셀 내에서 형성되지 않았다.
5. 셀을 똑바로 세우고, 샘플을 전극 또는 금 금속의 상부에 놓고서 모니터링하여 버블이 셀 내에 없음을 다시 보장할 때까지 서서히 계속 주입하였다. 필요할 때에는, 셀을 온화하게 탭핑하여 어떠한 버블도 제거하였다.
6. 셀 내부에 있는 양쪽 전극을 샘플 중에 완전히 침지시켰다.
7. 셀 스토퍼를 각각의 포트 내로 삽입하였다.
8. 셀을 기기 내로 로딩하고, 셀의 삼각형을 나노의 정면을 향해 대면시켰다.
9. 셀이 정지될 때까지, 셀을 홀더 내로 로딩하거나 밀어넣었다.
10. 측정 챔버 뚜껑을 닫아서 셀을 덮었다.
11. 나노 및 컴퓨터에 전원을 공급하였다.
12. 표준 작동 절차(standard operating procedure, SOP)에 따라 측정 및 시험을 완료하였다.
입자 크기 범위가 대략 0.3 나노미터 내지 대략 -10 마이크로미터일 수 있음이 이해되어야 한다. 제타 전위는 다음을 제공할 수 있음이 이해되어야 한다: 대략 61 밀리볼트(㎷) 이상에서 탁월한 안정성; 대략 40 내지 60 ㎷에서 우수한 안정성; 대략 30 내지 40 ㎷에서 중간 정도의 안정성; 대략 10 내지 30 ㎷에서 초기 안정성; 및 대략 0 내지 5 ㎷에서 신속한 응고 또는 플록화.
본 전단-박화 조성물은 유사가소성일 수 있으며, 유체의 비뉴턴 거동을 제공할 수 있음이 이해되어야 한다. 화장품 조성물은 본 발명으로부터 벗어나지 않고서, 필름 형성제를 함유하고/하거나 색소 또는 착색제를 포함하거나 배제시킨 국소 제형을 제공할 수 있음이 또한 이해되어야 한다. 화장용 조성물은 피부에 균일한 커버리지를 전달하는 분무기를 제공할 수 있는 세팅 프라이머일 수 있음이 또한 이해되어야 한다. 분무의 출력이 최적의 결과를 달성하기 위해 미세 미스트를 전달하도록 설계될 수 있음이 이해되어야 한다. 본 발명의 고점도를 갖는 전단-박화 또는 유사가소성 화장용 조성물은 본 발명으로부터 벗어나지 않고서 임의의 각도로 분무될 수 있음이 또한 이해되어야 한다.
대신에, 달리 명시되지 않는 한, 각각의 그러한 치수는 언급된 값과, 그 값 부근의 기능적으로 등가인 범위 둘 모두를 의미하도록 의도된다. 예를 들어, "40 mm"로 개시된 치수는 "대략 40 mm"를 의미하는 것으로 의도된다.
본 특허 문헌에서 사용된 특정 단어 및 어구의 정의를 설명하는 것이 유리할 수 있다. 용어 "포함하다(include, comprise)" 및 이의 파생어는 제한 없이 포함하는 것을 의미한다. 용어 "또는"은 및/또는을 의미하는 것을 포함한다. 어구 "~와 연관된" 및 "이와 연관된"뿐만 아니라 이의 파생어는 이들의 특성을 포함하거나, 그 내에 포함되거나, 이와 상호연결되거나, 수용하거나, 그 내에 수용되거나, 이에 또는 이와 연결되거나, 이에 또는 이와 결합되거나, 이와 연통가능하거나, 이와 협력하거나, 인터리빙(interleave)하거나, 병치하거나, 이에 근접하거나, 이에 또는 이와 묶이거나, 갖거나 등을 의미할 수 있다.
본 개시내용은 소정의 실시 형태들 및 대체적으로 연관된 방법들을 설명하였지만, 이들 실시 형태들 및 방법들의 변경들 및 치환들이 당업자에게 명백할 것이다. 따라서, 예시적인 실시 형태들의 상기 설명은 본 개시내용을 한정하거나 제한하지 않는다. 다음의 청구범위에 의해 정의된 바와 같이, 본 개시내용의 사상 및 범주로부터 벗어나지 않고 다른 변화들, 대체들 및 변경들이 또한 가능하다.
Claims (17)
- 화장용 조성물로서,
제1 제타 전위를 갖는 제1 활성 성분;
제2 제타 전위를 갖는 제2 활성 성분; 및
제3 제타 전위를 갖는 제3 활성 성분을 포함하며,
상기 제1 제타 전위 대 상기 제2 제타 전위의 제1 비는 대략 1:2이고,
상기 제1 제타 전위 대 상기 제3 제타 전위의 제2 비는 대략 1:2이고,
상기 제2 제타 전위 대 상기 제3 제타 전위의 제3 비는 대략 1:1이고,
상기 제1 활성 성분, 상기 제2 활성 성분, 상기 제3 활성 성분, 및 기타 성분의 배합물이 그의 원래 형태로 그리고 미세 미스트(fine mist)로서 단일 디바이스를 통해 전달되는, 화장용 조성물. - 제1항에 있어서, 상기 화장용 조성물은 하나 이상의 노즐을 경유하여 상기 단일 디바이스를 통해 전달되는, 화장용 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 화장용 조성물은 전단 응력 하에서 상기 단일 디바이스를 통해 전달되는, 화장용 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 활성 성분, 상기 제2 활성 성분, 및 상기 제3 활성 성분은 전단 민감성 물질인, 화장용 조성물.
- 제1항에 있어서, 조성물 제타 전위는 상기 화장용 조성물의 점도를 파괴하는, 화장용 조성물.
- 제5항에 있어서, 상기 조성물 제타 전위는 대략 -46 밀리볼트(㎷)인, 화장용 조성물.
- 제5항에 있어서, 상기 조성물 제타 전위는 대략 -10 내지 -70 밀리볼트(㎷)인, 화장용 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 활성 성분, 상기 제2 활성 성분, 및 상기 제3 활성 성분의 배합물이 고전단에서 그리고 저전단에서 상기 단일 디바이스의 하나 이상의 노즐을 통해 전달되는, 화장용 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 활성 성분, 상기 제2 활성 성분, 및 상기 제3 활성 성분의 배합물이 대략 0 센티스토크(cSt) 내지 500만 cSt 범위의 점도를 갖는, 화장용 조성물.
- 제1항에 있어서, 증점제를 추가로 포함하는, 화장용 조성물.
- 제1항에 있어서, 필름 형성제를 추가로 포함하는, 화장용 조성물.
- 제1항에 있어서, 양이온성 계면활성제를 추가로 포함하는, 화장용 조성물.
- 화장용 조성물로서,
제1 제타 전위를 갖는 제1 활성 성분;
제2 제타 전위를 갖는 제2 활성 성분; 및
제3 제타 전위를 갖는 제3 활성 성분을 포함하며,
상기 제1 활성 성분, 상기 제2 활성 성분, 상기 제3 활성 성분, 및 기타 성분의 배합물이 저전단 및 고전단 둘 모두 하에서 하나 이상의 노즐을 갖는 단일 디바이스를 통해 전달되는, 화장용 조성물. - 제13항에 있어서, 증점제, 필름 형성제, 및 양이온성 계면활성제를 추가로 포함하는, 화장용 조성물.
- 제13항에 있어서, 상기 제1 제타 전위 대 상기 제2 제타 전위의 제1 비는 대략 1:2이고,
상기 제1 제타 전위 대 상기 제3 제타 전위의 제2 비는 대략 1:2이고,
상기 제2 제타 전위 대 상기 제3 제타 전위의 제3 비는 대략 1:1인, 화장용 조성물. - 제13항에 있어서, 상기 화장용 조성물은 상기 단일 디바이스를 통해 전달되고 미세 미스트로서 분배되는, 화장용 조성물.
- 제13항에 있어서, 상기 제1 활성 성분, 상기 제2 활성 성분, 및 상기 제3 활성 성분의 배합물이 대략 0 센티스토크(cSt) 내지 500만 cSt 범위의 점도를 갖는, 화장용 조성물.
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