KR20220160491A - 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법 - Google Patents

핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법으로서, 강재를 어닐링하는 S1 단계; S1 단계가 완료된 강재를 알루미나이징하는 S2 단계; S2 단계가 완료된 강재 표면에 산화제 처리를 하여 산화층을 형성시키는 S3 단계; 및 상기 S3 단계가 완료된 강재를 오스테나이징하는 S4 단계를 포함한다.

Description

핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법{Al-based oxidized-layer coating method for reducing hydrogen absorption of hot stamping steel}
본 발명은 Al계 산화층 도금방법에 관한 것이다. 구체적으로는 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법에 관한 것이다.
기존의 핫스템핑 공정에서 오스테나이징(austenitizing) 열처리가 수행되고 있다. 그런데, 오스테나이징 열처리시 열처리 노내의 수증기와 강판의 도금층과의 화학반응을 통하여 수소가 발생하고, 강재 안으로 수소가 흡장되어 수소취성을 일으킨다는 문제가 있다.
여기서, 수소취성(hydrogen embrittlement)이란 금속재료 특히 철강중에 흡수된 수소에 의하여 강재의 연성과 인성이 저하하고 소성변형 없이도 파괴되는 경향이 증대되는 현상을 말한다. 수소흡수에 의한 파괴를 지연파괴라고도 부르며 이는 주로 결정입계나 응력 집중부위 또는 인장응력이 걸리는 부위에서 주로 일어난다.
수소취성은 강재가 고강도화가 될수록 더욱 발생이 용이하여 자동차용 고강도강 개발에 큰 장애가 된다. 이를 해결하기 위해서, 추가비용을 지불하면서, 노내의 수증기량 즉, 이슬점 온도를 낮게 하는 장비를 설치하고 있다.
(문헌 1) 한국공개특허공보 제10-2017-0056579호(2017.05.23)
본 발명에 따른 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방은 다음과 같은 해결과제를 가진다.
첫째, 핫스템핑 공정의 오스테나이징 열처리 중 이슬점 온도를 낮추는 추가 설비 없이도 강재 내로의 수소 흡장량을 크게 감소시키는 Al계 도금공법을 제시하고자 한다.
둘째, 핫스템핑 공정의 오스테나이징 시 흡수되는 확산성 수소량을 감소시키기 위한 Al계 산화층 도금 시 강재의 온도범위를 구체적으로 제시하고자 한다.
셋째, 평균 연신율 감소량이 최소화되는 Al계 산화층 도금 시 강재의 온도범위를 제시하고자 한다.
본 발명의 해결과제는 이상에서 언급한 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 해결과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법으로서, 강재를 어닐링하는 S1 단계; S1 단계가 완료된 강재를 알루미나이징하는 S2 단계; S2 단계가 완료된 강재 표면에 산화제 처리를 하여 산화층을 형성시키는 S3 단계; 및 상기 S3 단계가 완료된 강재를 오스테나이징하는 S4 단계를 포함한다.
본 발명에 있어서, S3 단계의 산화제는 물 또는 산소를 포함할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 산화제인 물은 스프레이로 분사되거나, 안개 형태로 분무되어 강재 표면에 공급될 수 있다.
본 발명에 있어서, S3 단계의 산화층은 MxOy 구조로 구비되며, M은 Al, Cr, Si, Mg 및 Ni 중 하나인 것을 포함할 수 있다.
본 발명에 있어서, S3 단계는 강재의 온도가 25℃~430℃의 온도범위에서 수행될 수 있다.
본 발명에 있어서, S3 단계는 강재의 온도가 65℃~430℃의 온도범위에서 수행될 수 있다.
본 발명에 있어서, S3 단계는 강재의 온도가 65℃~150℃의 온도범위에서 수행될 수 있다.
본 발명에 있어서, S3 단계는 강재의 온도가 100℃~430℃의 온도범위에서 수행될 수 있다.
본 발명에 있어서, S3 단계는 강재의 온도가 100℃~300℃의 온도범위에서 수행될 수 있다.
본 발명에 있어서, S3 단계는 S4 단계의 직전까지 수행될 수 있다.
본 발명에 따른 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법은 다음과 같은 효과를 가진다.
첫째, 핫스템핑 공정의 오스테나이징 열처리 중 이슬점 온도를 낮추는 추가 설비 없이도 강재 내로의 수소 흡장량을 크게 감소시키는 효과가 있다.
둘째, 핫스템핑 공정의 오스테나이징 시 흡수되는 확산성 수소량을 감소시키기 위한 Al계 산화층 도금 시 강재의 온도범위를 구체적으로 제시하는 효과가 있다.
셋째, 평균 연신율 감소량이 최소화되는 Al계 산화층 도금 시 강재의 온도범위를 제시하는 효과가 있다.
본 발명의 효과는 이상에서 언급된 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 시간-온도 그래프를 이용하여, 본 발명에 대한 산화제 처리 공정의 개요를 나타낸다.
도 2는 본 발명에 따른 Al계 산화층 도금방법의 기본 개요를 나타내는 모식도이다.
도 3은 산화제 처리 (물 분사)를 하지 않은 Al-Si 도금층의 미세조직 및 화학성분을 나타내는 사진자료이다.
도 4는 시편 온도 25℃에서 산화제 처리(물 분사)를 한 실시예에서의 화학 성분을 나타내는 사진자료이다.
도 5는 시편 온도 65℃에서 산화제 처리(물 분사)를 한 실시예에서의 화학 성분을 나타내는 사진자료이다.
도 6은 시편 온도 100℃에서 산화제 처리(물 분사)를 한 실시예에서의 화학 성분을 나타내는 사진자료이다.
도 7은 시편 온도 200℃에서 산화제 처리(물 분사)를 한 실시예에서의 화학 성분을 나타내는 사진자료이다.
도 8은 시편 온도 300℃에서 산화제 처리(물 분사)를 한 실시예에서의 화학 성분을 나타내는 사진자료이다.
도 9는 시편 온도 400℃에서 산화제 처리(물 분사)를 한 실시예에서의 화학 성분을 나타내는 사진자료이다.
도 10은 도 9의 실시예에서, 불균일한 산화층이 발생되는 것을 나타내는 사진자료이다.
도 11은 산화제 처리 (물 분사)를 할 때, 시편 온도에 따른 산화층 두께 변화를 나타내는 그래프이다.
도 12는 여러 온도(25~430℃)에서 산화제 처리(물 분사)한 시편들을 오스테나이징 열처리(900℃, 2분, 이슬점온도 10℃) 후 시편 내 흡장된 확산성 수소량 변화를 나타내는 그래프이다.
도 13은 여러 온도 구간 (35~55℃, 150℃, 400~550℃)에서 Al과 H2O 반응의 깁스 자유 에너지 변화량(△G)을 나타낸다.
도 14는 여러 온도(25~430℃)에서 산화제 처리(물 분사)한 시편들을 오스테나이징 열처리 (900℃, 2분, 이슬점온도 10℃) 후 측정한 물 분사 시 시편온도에 따른 연신율 감소 변화를 나타낸다.
도 15는 확산성 수소량에 따른 연신율 감소 변화를 나타내는 그래프이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 설명한다. 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 이해할 수 있는 바와 같이, 후술하는 실시예는 본 발명의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 형태로 변형될 수 있다. 가능한 한 동일하거나 유사한 부분은 도면에서 동일한 도면부호를 사용하여 나타낸다.
본 명세서에서 사용되는 전문용어는 단지 특정 실시예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지는 않는다. 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다.
본 명세서에서 사용되는 "포함하는"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.
본 명세서에서 사용되는 기술용어 및 과학용어를 포함하는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 일반적으로 이해하는 의미와 동일한 의미를 가진다. 사전에 정의된 용어들은 관련기술문헌과 현재 개시된 내용에 부합하는 의미를 가지는 것으로 추가 해석되고, 정의되지 않는 한 이상적이거나 매우 공식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하에서는 도면을 참고하여 본 발명을 설명하고자 한다. 참고로, 도면은 본 발명의 특징을 설명하기 위하여, 일부 과장되게 표현될 수도 있다. 이 경우, 본 명세서의 전 취지에 비추어 해석되는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 Al계 산화층 도금공법은 도금욕에서 꺼낸 후 핫스템핑 공정의 오스테나이징 직전까지 도금층 표면을 산화시킬 수 있는 산화제를 사용하여 최표면에 얇은 산화층을 형성시키는 방법에 관한 것이다. 본 발명을 통해 오스테나이징 열처리 중 이슬점 온도를 낮추는 추가 설비 없이도 강재 내로의 수소 흡장량을 크게 줄이는 것이 가능하다.
본 발명은 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법으로서, 강재를 어닐링하는 S1 단계; S1 단계가 완료된 강재를 알루미나이징하는 S2 단계; S2 단계가 완료된 강재 표면에 산화제 처리를 하는 S3 단계; 및 상기 S3 단계가 완료된 강재를 오스테나이징하는 S4 단계를 포함한다(도 1 참조).
본 발명에 따른 S3 단계의 산화제는 물 또는 산소를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 산화제가 물인 경우, 스프레이로 분사되거나, 안개 형태로 분무되어 강재 표면에 공급될 수 있다. 물은 기 설정된 온도에서 기 설정된 시간동안 분사될 수 있다. 본 발명에서는 물의 온도보다 강재의 온도가 물성변화의 주된 요소에 해당되므로, 물의 기 설정 온도는 다양하게 적용가능할 것이다.
본 발명에 따른 산화제가 산소 가스인 경우, 고압 기체 상태로 노즐을 이용하여 분사될 수 있다.
도 1은 시간-온도 그래프를 이용하여, 본 발명에 대한 산화제 처리 공정의 개요를 나타낸다. 도 2는 본 발명에 따른 Al계 산화층 도금방법의 기본 개요를 나타내는 모식도이다.
오스테나이징 공정 중 고온에서 2Al (l) + 3H2O (g) → Al2O3 (s) + 6H 화학 반응을 통해 도금층의 표면에 Al2O3가 생성됨과 동시에 수소(H) 또한 생성된다. 이때 생성된 H는 도금층을 통해 모재 내부로 흡장되게 된다.
따라서, S2 단계에 해당되는 도금욕에서 꺼낸 이후, S4 단계에 해당되는 핫스템핑 공정의 오스테나이징 직전 까지 도금층 표면을 산화시킬 수 있는 산화제를 사용하여 최표면에 얇은 산화층을 형성시킬 수 있다.
S3 단계의 산화층은 MxOy 구조로 구비되며, M은 Al, Cr, Si, Mg, 및 Ni 중 어느 하나인 것을 포함한다. 다만, 이에 국한되지 않고 다양한 물질의 산화층이 형성될 수 있다.
이와 같이 강재 표면에 형성된 산화층은 도금층의 Al과 H2O의 접촉을 막음으로써, 전술한 화학 반응을 억제시켜 수소의 흡장을 감소시킬 수 있다.
본 발명에 따른 S3 단계는 S4 단계의 직전까지 수행될 수 있다.
여기서, 'S4 단계의 직전'은 S4 단계에 해당되는 오스테나이징 단계의 온도의 직전 온도까지를 의미한다.
도 3은 산화제 처리(물 분사)를 하지 않은 Al-Si 도금층의 미세조직 및 화학성분을 나타내는 사진자료이다.
SEM 이미지를 통해 Al-Si 도금층의 상분석과 EDXS mapping을 통해 도금층 최표면부의 산화층을 분석하였다. 분석 결과, 모재는 페라이트(ferrite)와 펄라이트(pearlite)로 구성되며, 그 위에 Al-Si 도금층이 존재한다. Al-Si 도금층의 두께는 ~30μm 이며, 대부분 Al에 Si이 고용되어있는 상으로 구성되어 있다. 또한 Al-Si 도금층의 내부 및 직하에 Fe2SiAl7가 존재하며, Fe2SiAl7 층과 모재 사이에는 Fe2Al3, FeAl3가 얇은 층으로 존재한다. 도금층의 최표면부에는 ~0.52μm의 산화물층이 형성되어 있었다.
본 발명에 따른 S3 단계는 강재의 온도가 25℃~430℃인 온도범위에서 수행될 수 있다.
강재의 온도가 25℃ 미만이면, 산화제와 도금재가 반응하여 균일하고 치밀한 산화층이 형성될 충분한 온도가 되지 못하는 문제점이 있다. 또한, 강재의 온도가 430℃를 초과하면 강재 표면에 생성되는 산화층의 두께가 균일하지 못하고, 산화층이 형성이 되더라도 냉각 중 균열 생성 때문에 수소의 흡장을 저하시키는 능력이 감소한다는 문제점이 있다.
본 발명에 따른 S3 단계는 강재의 온도가 65℃~430℃의 온도범위에서 수행될 수 있다. 강재의 온도 범위가 65℃~430℃인 경우, 표 1과 같이 평균 확산성 수소량(maaa ppm)은 0.16~0.27로서 0.27 이하의 값을 가질 수 있다.
본 발명에 따른 S3 단계는 강재의 온도가 65℃~150℃의 온도범위에서 수행될 수 있다. 강재의 온도 범위가 65℃~150℃인 경우, 표 1과 같이 평균 확산성 수소량(maaa ppm)은 0.16~0.20로서 0.20 이하의 값을 가질 수 있다.
본 발명에 따른 S3 단계는 강재의 온도가 100℃~430℃의 온도범위에서 수행될 수 있다. 강재의 온도 범위가 100℃~430℃인 경우, 표 1과 같이 평균 확산성 수소량(maaa ppm)은 0.12~0.27로서 최저값 0.12를 포함하며 0.27 이하의 값을 가질 수 있다.
본 발명에 따른 S3 단계는 강재의 온도가 100℃~300℃의 온도범위에서 수행될 수 있다. 강재의 온도 범위가 100℃~300℃인 경우, 표 1과 같이 평균 확산성 수소량(maaa ppm)은 0.12~0.22의 값을 가지며, 또한 표 2와 같이, 평균 연신율 감소량(%)이 30% 미만의 값을 가질 수 있다.
이하에서는, S3 단계에서 강재 시편의 여러 온도 별로 산화제 처리(물 분사)를 한 실시예에 관한 도면 및 그래프 등의 자료를 통해, 본 발명을 설명하고자 한다.
본 실시예들의 경우, 본 발명이 적용가능한 자동차용 강판과 유사한 두께에 해당되는 약 1.5mm 두께를 가진 직육면체 형상의 강재 시편이 사용되었다.
본 명세서에서 강재 시편의 온도는 산화층이 형성되는 강재의 표면온도가 기준이 될 수 있다. 다만, 두께가 얇기 때문에, 강재의 표면온도와 중심온도의 편차가 크지 않기 때문에, 실무적으로는 혼용되어 사용되는 경우도 있을수 있다.
강재 시편 온도는 열전대(TC:Thermo Couple)와 멀티미터(multimeter)를 통해 측정되었다. 측정방법으로는 열전대(TC)를 시편 표면에 점용접으로 부착을 하거나, 시편의 RD(Rolling Direction) 면에 구멍을 만들어 열전대(TC)를 삽입하여 측정하였다.
도 4는 시편 온도 25℃에서 산화제 처리(물 분사)를 한 실시예에서의 화학 성분을 나타내는 사진자료이다. 시편 온도가 25℃일 때 ~0.57μm의 산화층이 형성되었는데, 이는 물 분사를 하지 않은 경우에 비해, 산화층이 다소 증가되었음을 알 수 있다.
도 5는 시편 온도 65℃에서 산화제 처리(물 분사)를 한 실시예에서의 화학 성분을 나타내는 사진자료이다. 도 6은 시편 온도 100℃에서 산화제 처리(물 분사)를 한 실시예에서의 화학 성분을 나타내는 사진자료이다. 도 7은 시편 온도 200℃에서 산화제 처리(물 분사)를 한 실시예에서의 화학 성분을 나타내는 사진자료이다. 도 8은 시편 온도 300℃에서 산화제 처리(물 분사)를 한 실시예에서의 화학 성분을 나타내는 사진자료이다. 도 9는 시편 온도 400℃에서 산화제 처리(물 분사)를 한 실시예에서의 화학 성분을 나타내는 사진자료이다. 도 10은 도 9의 실시예에서, 불균일한 산화층이 발생되는 것을 나타내는 사진자료이다.
도 11은 산화제 처리(물 분사)를 할 때, 시편 온도에 따른 산화층 두께 변화를 나타내는 그래프이다. 도 4 내지 도 10의 실시예를 보면, 강재 시편 온도가 높아질수록 산화층의 두께가 점차 증가하는 경향을 확인할 수 있다.
강재 시편 온도가 400℃인 경우, 도 9와 같이 ~1.8μm 까지 증가하였고, 도 10과 같이 ~3.9μm 두께의 산화층도 형성이 되었다. 이와 같이, 시편 온도가 높아질수록 산화층 두께 편차가 커지는 것으로 보아, 온도가 높아질수록 산화층이 불균일하게 형성되거나, 형성 후 냉각 중에 깨지는 것으로 판단된다.
도 12는 여러 온도(25~430 ℃)에서 산화제 처리(물 분사)한 시편들을 오스테나이징 열처리(900℃, 2분, 이슬점온도 10℃) 후 시편 내 흡장된 확산성 수소량 변화를 나타내는 그래프이다.
아래 표 1은 시편 강재 온도 별로 평균 확산성 수소량을 표시한 것이다.
Figure pat00001
확산성 수소는 관상로를 이용하여 시편을 200℃/h의 승온속도로 300℃ 까지 승온 시키며, 승온 과정에서 빠져나오는 수소를 열탈착분석법(TDA: Thermal desorption analysis)으로 측정하였다. 모든 시편들이 물 분사하지 않은 시편의 수소량(0.44 mass ppm) 보다 더 적은 수소량을 갖는다는 것을 알 수 있다. 특히, 물 분사 시 시편 온도가 100℃ 일 때, 오스테나이징 후 수소 흡장량이 가장 적고, 그 보다 온도가 낮거나 높으면 다시 수소 흡장량이 증가하였다.
이는, 물을 분사하더라도 강재 시편의 온도가 100℃ 보다 낮으면 산화층이 매우 적게 생기기 때문이다. 또한, 100℃ 보다 온도가 높으면 산화층이 더 두껍게 생기기는 하지만, 매우 불균일하고 산화층 내 균열 등이 생겨서 외부 수분의 침투를 막아주는 효과가 감소하기 때문으로 판단된다.
도 13은 여러 온도 구간 (35~55℃, 150℃, 400~550℃)에서 Al과 H2O 반응의 깁스 자유 에너지 변화량(△G)을 나타낸다.
△G 값은 열역학적 전산 해석 시뮬레이션 프로그램인 Factsage를 사용하여 계산하였다. 이론적으로 △G<0 인 경우 정반응이 자발적이고, 더 큰 음의 값을 가지는 반응이 우세하다. 따라서, △G값을 통해 여러 온도 구간(예를 들어 35~55℃, 400~550℃ 등)에서 산화층이 얼마나 자발적으로 생성될 수 있는지 확인할 수 있다.
본 발명에 따른 실시예의 경우, 550℃까지 가열된 강재 시편을 산화제 처리(물 분사) 장치까지 이동시키는 과정에서 발생되는 시편 온도 저하로 인해 430℃를 초과하는 온도는 측정이 곤란하였다.
따라서 Factsage를 사용하여 △G값을 계산하고, 이를 직접 실험한 온도대와 비교하였다. 계산 결과, 450~550℃ 구간과 400℃의 △G값의 차이는 미미하였고, 이를 통해 450~550℃ 구간에서도 강재 시편 온도 400℃에서 산화제 처리(물 분사)를 한 것과 유사한 산화층 두께 및 형상, 그리고 수소 흡장량을 나타낼 것으로 판단된다.
또한, 35~55℃ 구간은 150℃와 유사하고 400℃보다 낮은 △G값을 나타낸다. 따라서, 35~55℃ 구간에서의 수소 흡장량은 시편온도 150℃와 400℃ 사이의 수소 흡장량 값을 가질 것으로 판단된다.
도 14는 여러 온도(25~430℃)에서 산화제 처리(물 분사)한 시편들을 오스테나이징 열처리 (900℃, 2분, 이슬점온도 10℃) 후 측정한 물 분사 시 시편온도에 따른 연신율 감소 변화를 나타낸다.
아래 표 2는 강재 시편 온도 별로 평균 연신율 감소량을 표시한 것이다.
Figure pat00002
강재 시편 온도 25℃, 400℃, 430℃의 경우에는 물 분사하지 않은 시편의 연신율 감소(38.4%)와 유사하였다. 그러나, 그 이외의 온도들에서는 연신율 감소가 줄어들었다. 특히, 시편 온도가 100℃ 일 때 연신율 감소가 가장 적었다.
도 15는 확산성 수소량에 따른 연신율 감소 변화를 나타내는 그래프이다.
25℃, 400℃, 430℃를 제외한 모든 조건에서 물 분사하지 않은 시편보다 수소량과 연신율 감소가 줄어든 것을 확인할 수 있었다. 또한, 오스테나이트 중 흡장된 수소함량이 증가함에 따라 연신율 감소가 증가하는 것을 알 수 있었다. 시편 온도 100℃에서 물 분사한 시편이 오스테나이징 후 가장 적은 수소를 함유하여 가장 낮은 연신율 감소를 보여서 수소 취성에 대한 저항성이 가장 우수한 것으로 나타났다.
본 명세서에서 설명되는 실시예와 첨부된 도면은 본 발명에 포함되는 기술적 사상의 일부를 예시적으로 설명하는 것에 불과하다. 따라서, 본 명세서에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술적 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이므로, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아님은 자명하다. 본 발명의 명세서 및 도면에 포함된 기술적 사상의 범위 내에서 당업자가 용이하게 유추할 수 있는 변형 예와 구체적인 실시 예는 모두 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (10)

  1. 강재를 어닐링하는 S1 단계;
    S1 단계가 완료된 강재를 알루미나이징하는 S2 단계;
    S2 단계가 완료된 강재 표면에 산화제 처리를 하여 산화층을 형성시키는 S3 단계; 및
    상기 S3 단계가 완료된 강재를 오스테나이징하는 S4 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    S3 단계의 산화제는 물 또는 산소를 포함하는 것을 특징으로 하는 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 산화제인 물은 스프레이로 분사되거나, 안개 형태로 분무되어 강재 표면에 공급되는 것을 특징으로 하는 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법.
  4. 청구항 1에 있어서,
    S3 단계의 산화층은 MxOy 구조로 구비되며,
    M은 Al, Cr, Si, Mg 및 Ni 중 어느 하나인 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법.
  5. 청구항 1에 있어서,
    S3 단계는 강재의 온도가 25℃~430℃의 온도범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법.
  6. 청구항 5에 있어서,
    S3 단계는 강재의 온도가 65℃~430℃의 온도범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법.
  7. 청구항 5에 있어서,
    S3 단계는 강재의 온도가 65℃~150℃의 온도범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법.
  8. 청구항 5에 있어서,
    S3 단계는 강재의 온도가 100℃~430℃의 온도범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법.
  9. 청구항 5에 있어서,
    S3 단계는 강재의 온도가 100℃~300℃의 온도범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법.
  10. 청구항 1에 있어서,
    S3 단계는 S4 단계의 직전까지 수행되는 것을 특징으로 하는 핫스탬핑 강재의 수소흡장저감을 위한 Al계 산화층 도금방법.
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