KR20220140320A - 박막태양전지 모듈 - Google Patents

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Abstract

박막태양전지 모듈을 제공한다. 본 출원의 실시예에 따른 박막태양전지 모듈은 기판(10), 상기 기판(10) 상에 형성되는 열전 소자(20), 상기 열전 소자(20) 상에 형성되고, 상기 열전 소자(20)의 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 하부 전극을 포함하는 제1 전극층(30), 상기 열전 소자(20) 상의 상기 복수의 하부 전극 사이의 제1 공간과 상기 제1 전극층(30) 상에 형성되되, 상기 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 광흡수부를 포함하는 광흡수층(40), 상기 광흡수층(40) 상에 형성되며, 상기 광흡수층(30)과 접하는 면에서 P-N 접합면 또는 N-P 접합면을 형성하는 버퍼층(50) 및 상기 제1 전극층(30) 상의 상기 복수의 광흡수층 사이의 제2 공간과, 상기 버퍼층(50)의 복수의 버퍼층 사이의 공간 및 상기 버퍼층(50) 상에 형성되되, 상기 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 상부 전극을 포함하는 제2 전극층(60)을 포함할 수 있다.

Description

박막태양전지 모듈{Thin Film Solar Cell Module}
본 발명은 열전소자와 박막태양전지를 결합하여 박막태양전지에서의 션트 전류에 의한 태양전지 효율 손실을 저감할 수 있는 기술에 관한 것이다.
박막태양전지 기술은 실리콘 태양전지 기술 대비 제조공정이 용이하고 비등한 발전효율을 가지기 때문에 차세대 에너지 기술로서 활발히 연구되고 있다.
박막태양전지의 가장 큰 장점은 단일집적 모듈화가 가능하다는 점이다. 독립적인 단위셀들을 제조한 뒤 이를 직렬 연결하는 실리콘 태양전지 모듈과 달리, 단일집적 모듈화 방식은 단일 기판에 박막층을 형성한 뒤 이를 스크라이빙(scribing)하여 단위셀을 규정하고 모듈을 구현하는 방식이다.
직렬 연결 방식은 개별셀 제조를 위한 다수의 공정이 필요하고, 단일집적 모듈화 방식은 한번의 공정으로 모듈화가 가능하기 때문에 대량생산에 용이하다. 특히 박막태양전지의 롤투롤(Roll-to-Roll) 방식의 제조는 단일집적 모듈의 생산성을 극대화할 수 있어, 박막태양전지의 발전단가를 실리콘 태양전지 대비 낮출 수 있을 것이라고 전망되고 있다.
박막태양전지 기술을 산업에 적용하기 위해서는 앞서 언급한 생산성 향상을 위한 요소기술 개발뿐 아니라, 실리콘 태양전지 대비 높은 셀-모듈 간 효율 손실 문제를 극복해야 하는 이슈가 있다.
첫째, 단일집적 모듈화 방식에서는 인접 셀 간 절연을 P1, P2, P3 스크라이빙을 통해 구현하며, 좁은 선폭을 갖는 레이저 혹은 기계적 스크라이빙을 이용하게 된다. 상기 P1, P2, P3 스크라이빙 공정에 의해 데드존(dead-zone)이 형성되고, 그 영역의 비율만큼 셀-모듈 간 광전류 손실을 유발하게 된다.
둘째, P1, P2, P3 스크라이빙 과정에서 절개가 충분하지 않거나 공정의 위치별 불균일성 등으로 박막 내 션트 전류 경로가 생성될 수 있고, 이로 인한 충진율 열화 및 광전류 손실을 유발할 수 있다.
셋째, 박막태양전지에 사용되는 투명전극의 대면적화에 따른 저항 증가로 광발전 손실이 유발될 수 있다.
이 중, 션트 전류 경로 형성에 의한 광발전 손실은 셀-모듈간 효율 손실을 유발하는 가장 큰 원인이 된다. 특히, P1 스크라이빙은 인접 셀 간 하부 전극의 절연을 위한 공정으로서, 하부 전극을 전기적으로 완전히 절연시키는 것이 아닌 광흡수층을 사이에 두고 어느 정도의 거리를 두고 이격되는 것이기 때문에 절개가 잘 이루어졌다고 하더라도 광흡수층을 통해 션트 전류가 흐를 수 있는 문제점을 가지고 있다. 통상적으로, 박막태양전지 기술에 사용되는 광흡수층은 P-N 접합을 위해 도핑된 반도체 박막을 사용하는데, 도핑에 의한 전하농도(n)가 높거나 전하의 이동도(μ)가 높을 경우 아래와 같은 관계식에 의해 P1 션트 전류가 생성될 수 있다.
Figure pat00001
jP1: P1 가공 영역에서의 횡방향 션트에 의한 전류밀도
q: elementary charge
n: carrier density
Figure pat00002
: carrier mobility
E: 기전력
통상적으로 P-N 접합 태양전지의 성능을 좌우하는 것은 박막의 두께 방향으로의 소수 캐리어들(minority carrier)의 움직임이지만, P1 가공영역의 션트 전류는 다수 캐리어들(majority carriers)의 움직임에 의해 결정된다. 즉, P1 가공영역에서의 션트 전류는 다수 캐리어의 전하 농도와 이동도에 의해 정의된다.
따라서, P1 션트 전류를 억제하기 위해 광흡수층의 다수 캐리어의 전하 농도를 낮추거나, 이동도를 감소시켜야 하는데, 이는 다음과 같은 문제를 야기한다.
첫째, 다수 캐리어의 전하농도를 낮추는 것은 광전압 손실을 야기한다.
Figure pat00003
Voc: 광전압
q: elementary charge
k: Boltzmann constant
T: temperature
Nd: donor concentration
Na: acceptor concentration
Ni: intrinsic carrier concentration
둘째, 이동도를 낮추는 것은 아인슈타인 방정식에 의해 전하의 확산을 감소시켜 광전류 추출을 열화시킬 수 있다.
Figure pat00004
Figure pat00005
: carrier mobility
D: diffusion coefficient
이러한 소재 특성에 의한 션트 손실은 단일집적 모듈화 과정에서 야기되는 매우 근본적인 문제로서, 차세대 박막태양전지 기술의 상업화를 위해 반드시 해결해야 하는 문제라고 할 수 있다.
관련 종래기술을 살펴보면 다음과 같다.
한국공개특허문헌 제10-2020-0071576호는 태양전지 열전 융합소자에 관한 것으로, 태양전지부와 열전소자부 사이에 열전도성이 높은 물질을 태양전지부의 후면전극으로 적용함으로써, 태양전지부의 광전변환효율 향상 및 열전소자부의 온도차 증대를 통해 에너지 변환효율을 향상시킨다.
하지만, 태양전지부에서 발생하는 열을 열전소자부에 전달하여, 열전소자부의 발전효율을 향상시키는 것에 주 목적이 있고, 그 과정에서 태양전지의 온도를 낮추어 태양전지의 광전변환효율을 향상시키는 부가적인 효과가 달성될뿐이며, 태양전지에서 발생하는 션트 전류를 저감하기 위한 내용을 전혀 제시하지 못한다. 설령, 열전소자부의 발전에 의해 하부 전계가 형성됨을 가정하더라도, 태양전지부의 하부 전극이 평판 형태로 구비됨에 따라, 열전소자부에서 형성된 전계가 태양전지에 미치지 못하게 된다.
한국공개특허문헌 제10-2019-0073895호는 광전 열전 융합소자에 관한 것으로, 열전소자부와 태양전지부를 포함하며 열전소자부와 태양전지부 사이에 발열전극이 형성된 구성을 제시한다.
발열전극이 적외선 영역의 광을 흡수하여 열전소자부에 열을 전달함으로써, 열전소자부의 발전 효율을 향상시키는 것에 주 목적이 있으며, 태양전지부에서 발생하는 션트 전류를 저감하기 위한 내용을 전혀 제시하지 못한다.
한국공개특허문헌 제10-2020-0071576호(2020.06.19.) 한국공개특허문헌 제10-2019-0073895호(2019.06.27.)
본 출원은 상기한 문제점을 해결하기 위해 도출된 것으로, 보다 구체적으로 박막태양전지와, 열전 소자 또는 전계형성층의 결합을 통해 박막태양전지의 션트 손실이 최소화되는 모듈을 제공하는 것에 그 목적이 있다.
또한, 본 출원은 열전 소자와 박막태양전지의 결합을 통해 박막태양전지에서 문제가 되고 있는 근적외선 영역의 광발전효율 열화특성이 개선된 모듈을 제공하는 것에 그 목적이 있다.
특히, 태양 에너지의 50%가량을 차지하는 적외선 영역대의 에너지가 태양전지에서 활용되지 못했었던 종래 기술의 단점을 해결하기 위해, 광흡수층을 포함한 종래의 태양전지 구조를 그대로 유지하면서, 외부 전계 효과에 의해 박막태양전지 효율이 향상되는 모듈을 제공하는 것에 그 목적이 있다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 출원의 일 실시예는, 기판(10), 상기 기판(10) 상에 형성되는 열전 소자(20), 상기 열전 소자(20) 상에 형성되고, 상기 열전 소자(20)의 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 하부 전극을 포함하는 제1 전극층(30), 상기 열전 소자(20) 상의 상기 복수의 하부 전극 사이의 제1 공간과 상기 제1 전극층(30) 상에 형성되되, 상기 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 광흡수부를 포함하는 광흡수층(40), 상기 광흡수층(40) 상에 형성되며, 상기 광흡수층(30)과 접하는 면에서 P-N 접합면 또는 N-P 접합면을 형성하는 버퍼층(50) 및 상기 제1 전극층(30) 상의 상기 복수의 광흡수층 사이의 제2 공간과, 상기 버퍼층(50)의 복수의 버퍼층 사이의 공간 및 상기 버퍼층(50) 상에 형성되되, 상기 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 상부 전극을 포함하는 제2 전극층(60)을 포함하는, 박막태양전지 모듈을 제공한다.
일 실시예에 있어서, 상기 복수의 하부 전극 사이의 제1 공간은 P1 가공 영역이고, 상기 복수의 광흡수부 사이의 제2 공간은 P2 가공 영역이고, 상기 복수의 상부 전극 사이의 제3 공간은 P3 가공 영역일 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 열전 소자(20)는, 상기 기판(10) 상에 형성되며 서로에 대해 소정 간격 이격되는 다수의 전극(21a, 21b)을 포함하는 제3 전극층(21), 상기 제3 전극층(21)의 다수의 전극(21a, 21b) 각각에 형성되는 반도체 기둥(22), 상기 반도체 기둥(22) 상에 형성되는 제4 전극층(23), 상기 제4 전극층(23) 상에 형성되는 제1 절연층(24), 상기 제1 절연층(24) 상에 형성되는 제5 전극층(25) 및 상기 제5 전극층(25) 상에 형성되는 제2 절연층(26)을 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제3 전극층(21)의 일단은 접지되어 있고, 상기 제3 전극층(21)의 타단과 상기 제5 전극층(25)을 서로 전기적으로 연결하는 연결부(W)를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 열전 소자(20)는, 외부로부터 입사되는 유입광에 따라 상기 제3 전극층(21)과 상기 제4 전극층(23) 사이에 전위차가 형성되고, 상기 연결부(W)를 통해 상기 전위차에 의한 전계(Electric Field)가 상기 복수의 하부 전극 사이의 공간에 인가될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 반도체 기둥(22)은, N형 반도체 기둥(22a) 및 P형 반도체 기둥(22b)을 포함하며, 상기 N형 반도체 기둥(22a) 및 상기 P형 반도체 기둥(22b)은 서로에 대해 소정 간격 이격되면서 상기 제3 전극층(21) 상에 교차 형성될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제3 전극층(21)에 포함된 다수의 전극(21a, 21b)은 서로에 대해 소정 간격 이격되면서 상기 기판(10) 상에 형성되며, 상기 제4 전극층(23)에 포함된 다수의 전극(23a, 23b)은 서로에 대해 소정 간격 이격되면서 상기 반도체 기둥(22) 상에 형성될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제3 전극층(21)에 포함된 다수의 전극(21a, 21b)과 상기 제4 전극층(23)에 포함된 다수의 전극(23a, 23b)은 좌우 방향으로 일부 중첩되면서 배열될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 기판(10)과 상기 제1 절연층(24) 사이의 빈 공간에는 제3 절연층(27)이 형성될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 전극층(50)은 가시광선 및 적외선 영역대의 파장을 투과시키는 재질로 이루어지고, 상기 제2 전극층(60)은 적외선 영역대의 파장을 투과시키는 재질로 이루어질 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제3 전극층(21), 상기 제4 전극층(23) 및 상기 제5 전극층(25)은 적외선 영역대의 파장을 흡수하는 재질로 이루어질 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 광흡수층(30)과 상기 버퍼층(40)은 각각 P형 반도체 또는 N형 반도체이되, 서로에 대해 반대 극성을 갖는 반도체일 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 절연층(24)의 열전도성은 상기 제2 절연층(26)의 열전도성보다 높을 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제3 전극층(21) 상에 형성되는 상기 N형 반도체 기둥(22a) 및 상기 P형 반도체 기둥은(22b) 온도 변화에 따라 전계를 형성하는 재질로 이루어지되, 상기 복수의 하부 전극 사이의 공간의 광흡수층(40)의 전자 에너지 준위를 낮추는 전계를 형성할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 열전 소자(20)에 의해 형성되는 전압(VTE)은 아래의 수식 4를 만족하는 것일 수 있다.
VTE >VFB +2△Ф
여기서, VFE는 광흡수층(40)의 flat-band voltage이고, △Ф는 광흡수층(40)의 페르미 에너지 준위(EF)와 intrinsic 에너지 준위(Ei)의 차이일 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 기판(10)과 상기 열전 소자(20) 사이에 형성되는 열 발산층(70)을 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 기판(10), 상기 기판(10) 상에 형성되는 전계형성층(80), 상기 전계형성층(80) 상에 형성되고, 상기 전계형성층(80)의 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 하부 전극을 포함하는 제1 전극층(30), 상기 전계형성층(80) 상의 상기 복수의 하부 전극 사이의 제1 공간과 상기 제1 전극층(30) 상에 형성되되, 상기 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 광흡수층을 포함하는 광흡수층(40), 상기 광흡수층(40) 상에 형성되며, 상기 광흡수층(30)과 접하는 면에서 P-N 접합면 또는 N-P 접합면을 형성하는 버퍼층(50) 및 상기 제1 전극층(30) 상의 상기 복수의 광흡수층 사이의 제2 공간과, 상기 버퍼층(50)의 복수의 버퍼층 사이의 공간 및 상기 버퍼층(50) 상에 형성되되, 상기 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 상부 전극을 포함하는 제2 전극층(60)을 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 전계형성층(80)은, 상기 기판(10) 상에 형성되는 게이트 전극(81) 및 상기 게이트 전극(81) 상에 형성되는 게이트 절연체(82)를 포함하고, 상기 게이트 전극(81)에 문턱 전압(VT)보다 높은 게이트 전압(VG)이 인가되는 경우, 상기 광흡수층(40)의 전자 에너지 준위를 낮추는 전계를 형성할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 게이트 전극(81)에 인가되는 상기 게이트 전압(VG)은 아래의 수식 5를 만족하는 것일 수 있다.
VG >VFB +2△Ф
여기서, VFE는 광흡수층(40)의 flat-band voltage이고, △Ф는 광흡수층(40)의 페르미 에너지 준위(EF)와 intrinsic 에너지 준위(Ei)의 차이일 수 있다.
본 출원에 따르면 박막태양전지와, 열전 소자 또는 전계형성층의 결합을 통해 박막태양전지의 션트 손실이 최소화된다.
또한, 열전 소자와 박막태양전지의 결합을 통해 박막태양전지에서 문제가 되고 있는 근적외선 영역의 광발전효율 열화특성이 개선된다.
또한, 태양 에너지의 50%가량을 차지하는 적외선 영역대의 에너지가 태양전지에서 활용되지 못했었던 종래 기술의 단점을 해결하기 위해, 광흡수층을 포함한 종래의 태양전지 구조를 그대로 유지하면서, 외부 전계 효과에 의해 박막태양전지 효율이 향상된다.
또한, 열전소자를 독립적인 발전원으로 이용하는 것이 아닌, 태양전지에 전계를 형성하는 용도로 사용하기 때문에, N-P 접합쌍 증가에 따른 직렬저항의 증가로 인해 전류가 감소함으로써 그만큼 발전량이 감소하는 문제점이 해결된다.
또한, 건물 외부에 설치되는 태양전지모듈의 특성상 태양광의 적외선 영역대의 파장으로 인한 온도 상승이 불가피한데, 이를 태양전지 광흡수층의 후면전계형성에 활용할 수 있어 비용 경제적이다.
또한, 기존 태양전지와 비교하였을 때, 적외선 영역대의 태양광까지 발전에 이용되어 최대 20%의 발전 효율 향상을 이룰 수 있다.
또한, 기존 태양전지에서 활용되지 않았던 적외선 영역대의 태양광까지 발전에 이용되어 온실효과가 감소되는 효과를 누릴 수 있다.
도 1은 종래의 박막태양전지 구조를 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 도 1의 박막태양전지에서 발생하는 P1 션트 전류를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 출원의 실시예에 따른 박막태양전지 모듈의 구조를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 4는 도 3의 박막태양전지 모듈의 구조를 상세히 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 도 3의 박막태양전지 모듈의 Line 1에 따른 에너지 밴드를 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 도 3의 박막태양전지 모듈의 열전소자에 1쌍의 N형 반도체 기둥 및 P형 반도체 기둥을 포함하는 실시예를 보다 구체적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 도 3의 박막태양전지 모듈의 열전소자에 2쌍의 N형 반도체 기둥 및 P형 반도체 기둥을 포함하는 실시예를 보다 구체적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 도 3의 박막태양전지의 열전소자에 n쌍의 N형 반도체 기둥 및 P형 반도체 기둥을 포함하는 실시예를 보다 구체적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 본 출원의 다른 실시예에 따른 박막태양전지 모듈의 구조를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 10은 도 9의 박막태양전지 모듈의 구조를 상세히 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 도 1의 구조에 따른 박막태양전지 모듈에서 P1 션트전류 억제에 따른 셀-to-모듈 효율손실 감소를 보여주기 위해 수행된 실험 결과를 나타낸다.
도 12는 도 10의 박막태양전지 모듈의 구조를 설명하기 위한 회로도이다.
도 13은 도 9의 박막태양전지 모듈의 Line 1에 따른 에너지 밴드를 설명하기 위한 도면이다.
먼저, 도 1을 참조하여 종래의 박막 태양전지를 구체적으로 설명한다.
도 1은 종래의 박막 태양전지 구조를 설명하기 위한 도면으로써, 2개의 단위 셀(Cell)이 직렬로 연결된 구조를 도시한다.
기판(10) 위에 후면 전극을 증착하고, 레이저 또는 기계적 스크라이빙을 통해 P1 가공을 수행한다. P1 가공이 수행되면, 후면 전극들은 서로에 대해 소정 간격 이격되는 구조를 가지며, 이 사이의 공간을 P1 가공 영역으로 지칭한다.
다음, 광흡수층을 증착한 뒤, 레이저 또는 기계적 스크라이빙을 통해 P2 가공을 수행한다. 광흡수층은 필요에 따라 광흡수층 단독으로 증착되거나, 상부로부터 하부를 향해 버퍼층-광흡수층의 이중층으로 증착될 수 있다(도 1에서는 버퍼층-광흡수층의 이중층으로 증착된 실시예가 도시됨). 이 때, P2 가공은 P1 가공 영역으로부터 기판(10)의 길이 방향을 따라 일정 간격 이격되도록 수행한다. P2 가공이 수행되면, 광흡수층의 광흡수부들은 서로에 대해 소정 간격 이격되는 구조를 가지며, 이 사이의 공간을 P2 가공 영역으로 지칭한다.
마지막으로, 전면 전극을 증착한 뒤, 레이저 또는 기계적 스크라이빙을 통해 P3 가공을 수행한다. 이 때, P3 가공은 P2 가공 영역으로부터 기판(10)의 길이 방향을 따라 일정 간격 이격되도록 수행한다. P3 가공이 수행되면, 전면 전극들은 서로에 대해 소정 간격 이격되는 구조를 가지며, 이 사이의 공간을 P3 가공 영역으로 지칭한다.
도 1에서는 편의상 p-type 반도체를 광흡수층으로 한 태양전지가 예시되나, 이에 제한되지 않고 n-type 반도체에도 동일한 원리 및 설명이 적용될 수 있다. 외부에서 광이 유입되면 파란색으로 표시된 화살표(jPhoto)에 따라 광전류가 흐르게 된다. 하지만, 이와 동시에 광흡수층을 사이에 둔 하부 전극을 따라 P1 션트 전류(jP1)가 흐르게 되며, 광전류 손실을 야기한다.
본 발명의 실시예에 따른 박막태양전지 모듈은 상기 P1 션트 전류(jP1)를 저감하기 위한 기술을 제안한다.
도 3은 본 출원의 실시예에 따른 박막태양전지 모듈의 구조를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
본 출원의 실시예에 따른 박막태양전지 모듈은 기판(10), 열전소자(20), 제1 전극층(30), 광흡수층(40), 버퍼층(50) 및 제2 전극층(60)을 포함할 수 있다. 다른 실시예에서는, 버퍼층(50)을 제외한 기판(10), 열전소자(20), 제1 전극층(30), 광흡수층(40) 및 제2 전극층(60)을 포함하는 것도 가능하다.
기판(10)은 열전소자(20)가 설치되는 베이스 부분으로, 단단한 재질의 기판 또는 유연성 재질의 기판이 사용될 수 있으며, 단단한 재질의 경우 유리 플레이트, 석영 플레이트, 실리콘 플레이트, 합성수지 플레이트, 금속 플레이트 등을 포함할 수 있으며, 유연성 재질의 경우 금속 또는 고분자 물질 중 적어도 하나를 포함할 수 있고, 스테인리스강 또는 폴리이미드 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
열전소자(20)는 양 말단에 온도 차가 형성되면, 그에 따라 전위 차가 발생하는 부분으로, 적외선 영역대의 태양광에 의해 본 발명의 광흡수층(40), 버퍼층(50) 및 제2 전극층(60)(또는 광흡수층 및 제2 전극층)을 포함하는 태양전지에 전계를 인가하는 부분이다. 자세한 설명은 후술하기로 한다.
제1 전극층(30)은 태양전지의 후면에서 전류 수집을 위한 기능을 수행하며, 일 예로 Mo, Cu, Al, Ni, W, Co, Ti 및 Au로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상의 재질로 형성될 수 있다.
제1 전극층(30)은 복수의 하부 전극(31, 32, 33)을 포함하며, 복수의 하부 전극(31, 32, 33)은 열전소자(20)의 길이 방향(도 2에서 좌우 방향)을 따라 서로에 대해 소정 간격 이격되도록 형성된다. 복수의 하부 전극(31, 32, 33) 사이의 공간은 P1 가공에 의한 결과물이다. 이를 P1 가공 영역으로 지칭한다.
광흡수층(40)은 빛을 흡수하여 전자-정공 쌍을 형성하고, 전자와 정공을 각각 다른 전극으로 전달하여 전류를 흐르게 하는 역할을 수행한다. 광흡수층(40)은 전구체층을 형성한 후 이를 황화 또는 셀렌화 처리하여 형성될 수 있으며, 전구체층은 Cu, Zn, Sn, CuS, ZnS, SnS, ZnSe, SnSe, CuSSe, ZnSSe 및 SnSSe 로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 물질이 스퍼터링법, 동시증발증착법, CVD법, 유기금속화학기상증착법, 근접승화법, 스프레이 피롤리시스, 화학 스프레이법, 스크린프린팅법, 비진공 액상성막법, CBD법, VTD법 및 전착법 중 어느 하나의 방법으로 형성될 수 있다.
광흡수층(40)은 복수의 광흡수부(41, 42)을 포함하며, 복수의 광흡수부(41, 42)는 열전소자(20)의 길이 방향을 따라 서로에 대해 소정 간격 이격되도록 형성된다. 복수의 광흡수부(41, 42) 사이의 공간은 P2 가공에 의한 결과물이다. 이를 P2 가공 영역으로 지칭한다.
P2 가공 영역은 상하 방향으로 P1 가공 영역과 중첩되지 않으며, 이로 인해 후면 전극, 전면 전극, 버퍼층, 광흡수층, 후면 전극 순으로 광전류가 흐르는 통로를 형성하게 된다.
버퍼층(50)은 광흡수층(40)과 P-N junction 또는 N-P junction을 형성하며, CdS, ZnS, Zn(O,S), 및 CdZnS으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 물질이 진공공정, 열 증착공정 및 화학적 용액 성장법 중 어느 하나의 방법으로 형성될 수 있다.
버퍼층(50)은 복수의 버퍼부(51, 52)를 포함하며, 복수의 버퍼부(51, 52)는 열전소자(20)의 길이 방향을 따라 서로에 대해 소정 간격 이격되도록 형성된다. 복수의 버퍼부(51, 52) 사이의 공간은 P2 가공에 의한 결과물이다. 이를 P2 가공 영역으로 지칭한다.
제2 전극층(60)은 태양전지의 표면에서 전류 수집을 위한 기능을 수행하며, 제1 전극층(30)의 재질과 동일한 재질로 형성될 수 있다.
제2 전극층(60)은 복수의 상부 전극(61, 62)을 포함하며, 복수의 상부 전극(61, 62)은 열전소자(20)의 길이 방향을 따라 서로에 대해 소정 간격 이격되도록 형성된다. 복수의 상부 전극(61, 62) 사이의 공간은 P3 가공에 의한 결과물이다. 이를 P3 가공 영역으로 지칭한다.
P3 가공 영역은 상하 방향으로 P1 가공 영역 및 P2 가공 영역과 중첩되지 않으며, 이로 인해 후면 전극, 전면 전극, 버퍼층, 광흡수층, 후면 전극 순으로 광전류가 흐르는 통로를 형성하게 된다.
본 출원의 실시예에 따른 박막태양전지 모듈은 기본적으로, 도 1에 도시된 박막 태양전지 구조와 유사하되, 기판(10)과 제1 전극층(30) 사이에 적층된 열전소자(20) 또는 전계형성층(80)을 더 포함하는 점에서 차이가 있다. 하지만, 태양전지의 하부 측에 전계를 인가함으로써 그 위에 존재하는 광흡수층(40)의 특성을 변화(예를 들어, n-type의 반도체를 p-type의 반도체로 변화시키거나, p-type의 반도체를 n-type의 반도체로 변화)시키는 것이면 특별히 이에 제한되지는 않는다.
도 4를 참조하여 본 출원의 실시예에 따른 박막태양전지 모듈의 열전소자(20)를 보다 상세히 설명한다. 도 4는 도 3의 박막태양전지 모듈을 보다 구체적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 4를 참조하면, 열전소자(20)는 기판(10) 위에 적층되는 제3 전극층(21), 반도체 기둥(22), 제4 전극층(23), 제1 절연층(24), 제5 전극층(25), 제2 절연층(26) 및 제3 절연층(27)을 포함할 수 있다.
제3 전극층(21)은 기판(10) 위에 적층되는 층으로서, 다수의 전극(21a, 21b, 21c, 21d)으로 이루어질 수 있으며, 각각의 전극은 좌우 방향으로 소정 간격 이격되며 배치될 수 있다.
제3 전극층(21)의 양 말단에 위치한 전극(21a, 21d) 중 어느 하나의 전극(21a)은 접지되고, 다른 하나의 전극(21d)는 후술되는 제5 전극층(25)과 연결부(W)에 의해 전기적으로 연결될 수 있다. 전기적 연결 방식으로 와이어 방식이 이용될 수 있으나, 이에 제한되지 않고 서로가 전기적으로 연결될 수 있는 방식이면 어느 것이든 적용될 수 있다고 할 것이다. 제3 전극층(21)이 제5 전극층(25)과 전기적으로 연결됨에 따라, 열전소자(20)에 의해 형성된 전압(전위차)이 제5 전극층(25)을 통해 태양전지 내에 전계를 인가할 수 있게 된다. 자세한 구동원리는 후술한다.
제3 전극층(21)의 전극(21a, 21b, 21c, 21d) 위에는 다수의 반도체 기둥(22)이 적층될 수 있다. 여기서, 반도체 기둥(22)은 N형 반도체 기둥(22a) 및 P형 반도체 기둥(22b)을 포함하며, N형 반도체 기둥(22a)와 P형 반도체 기둥(22b)이 좌우 방향으로 교차 배열되면서 전극(21a, 21b, 22c, 22d) 위에 적층될 수 있다.
여기서, 반도체 기둥(22)은 PbTe, alkali-doped PbTe, Bi2Te3, AgSbSe2, AgSbTe2, AgPbxSbTex+18, SiGe, BiCuSe, Cu1.8S, Cu2S, Cu2Se, Cu2Se:I, Cu2Se:Al, SnS, SnSe, PbS 및 PbSe로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 물질로 형성될 수 있다.
보다 구체적으로, 1쌍의 N형 반도체 기둥(22a)과 P형 반도체 기둥(22b)은 하나의 전극(22b) 상의 좌우 말단에 각각 위치될 수 있으며, 달리 말하면 제3 전극층(21)의 다수의 전극(21a, 21b, 22c, 22d) 상에는 1쌍의 N형 반도체 기둥(22a)과 P형 반도체 기둥(22b)만이 적층되는 것이 바람직하다.
반도체 기둥(22)이 좌측으로부터 우측을 향해 N-P-N-P-N-P 배열을 가짐에 따라 열전소자(20)의 상면과 하면의 온도차에 의해 기전력이 발생하며, 발생된 기전력은 열전소자(20)의 상부에 위치한 태양전지 하부(구체적으로는, P1 영역)에 전계를 인가하게된다. 다시 말하면, 태양전지 하부에 인가된 전계는, 해당 영역의 전자 에너지 준위(electron energy level)를 낮추는 방향으로 적용된다.
반도체 기둥(22) 위에는 제4 전극층(23)이 적층될 수 있다. 제4 전극층(23) 역시 제3 전극층(21)과 마찬가지로 다수의 전극(23a, 23b, 23c)으로 이루어질 수 있으며, 각각의 전극은 좌우 방향으로 소정 간격 이격되며 배치될 수 있다.
제4 전극층(23)의 다수의 전극(23a, 23b, 23c)은 제3 전극층(21)의 다수의 전극(21a, 21b, 22c, 22d)과 교차 배열될 수 있으며, 보다 구체적으로 좌우 방향으로 일부만이 중첩되면서 교차 배열되는 구조를 가질 수 있다.
즉, 제4 전극층(23)의 전극(23a, 23b, 23c) 중 어느 하나의 전극(23a)과, 제3 전극층(21)의 전극(21a, 21b, 21c, 21d) 중 어느 하나의 전극(21b)과 P형 반도체 기둥(22b)만을 동시에 공유하며, 다른 N형 반도체 기둥(22a)은 동시에 공유하지 않도록 배치될 수 있는 것이다.
전술한 제3 전극층(21)의 전극(21a, 21b, 21c, 21d)은 좌우 방향으로 소정 간격 이격되어 배치되고, 반도체 기둥(22) 또한 좌우 방향으로 소정 간격 이격되어 배치되며, 제4 전극층(23)의 전극(23a, 23b, 23c) 역시 좌우 방향으로 소정 간격 이격되어 배치되는데, 서로 소정 간격 이격되어 배치된 곳은 빈 공간에 해당된다. 상기 빈 공간에는 제3 절연층(27)이 구비되어 각 구성 요소 간의 절연 기능을 담당하게 된다.
제4 전극층(23) 상에는 제1 절연층(24), 제5 전극층(25) 및 제2 절연층(26)이 순차 적층될 수 있다.
제3 전극층(21), 제4 전극층(23) 및 제5 전극층(25)은 제1 전극층(30) 및 제2 전극층(60)과 동일한 재질로 형성될 수 있다.
또한, 제1 절연층(24)은 제3 절연층(27)과 동일한 물질로 형성될 수 있으며, 제1 절연층(24)의 표면은 그 아래 반도체 기둥들로 인한 굴곡에 영향을 받지 않도록 평탄화 된 것이 바람직하다. 이는 제5 전극층(25) 및 그 위에 형성되는 태양전지가 안정적으로 구동되기 위함이다. 또한 제1 절연층(24)은 제4 전극층(23)에 의한 전계효과가 제5 전극층(25)에 영향을 주지 않기 위하여 유전율이 낮은 물질, 즉, SiO2 박막과 같은 산화물계열이나 유전율이 낮으면서도 스핀코팅이 용이한 폴리머 계열의 ABS(plastic), polyimide, polyamide, polycarbonate, polypropylene, polystyrene, 혹은 Teflon 중 하나 이상을 사용할 수 있다. 더불어 전계효과를 방지하는 방안으로 제1 절연층(24)의 두께를 500 nm 이상으로 할 수 있다. 더불어 전계효과를 방지하는 방안으로 제1 절연층(24)의 두께를 500 nm 이상으로 할 수 있다.
제1 절연층(24)과 제3 절연층(27)은 동일한 물질로 형성될 수 있으면서도, 제1 절연층(24)의 표면을 평탄화하기 위해서 스핀코팅 방식을 사용할 수 있다. 이때, 도포된 절연층이 그 아래에 위치한 N형 및 P형 반도체 기둥 사이를 채울뿐 아니라 제4 전극층(23) 상에 500 nm 이상의 충분한 두께가 형성될 수 있도록, 스핀코팅 용액의 농도, rpm, 그리고 코팅 시간이 정해질 수 있다.
도 4를 다시 참조하면, 개별 N형 반도체 기둥(22a) 및 P형 반도체 기둥(22b)의 쌍은 서로 직렬로 연결되어 있고, 양 말단 중 어느 하나는 접지되며, 다른 하나는 연결부(W)를 통해 제5 전극층(25)과 전기적으로 연결된다. 도 4에는 3쌍의 N형 반도체 기둥(22a) 및 P형 반도체 기둥(22b)이 도시되나, 이에 제한되지 않고 3개 미만 또는 3개 초과의 개수를 가질 수 있음은 물론이다.
도 5는 도 3의 박막태양전지 모듈에 빛이 입사하였을 때의 Line 1에 따른 에너지 밴드 구조를 보이는 도면이다.
통상적인 태양전지는 1100nm 이하의 파장의 빛을 흡수하여 광발전을 하게 된다. 가시광선에 해당하는 400~700nm 파장 영역의 빛은 주로 P-N 접합층 부근에서 흡수되고, 이렇게 형성된 광전하는 확산전위구배에 의해 추출된다.
한편, 1100nm 이상의 단파장 적외선(short-wavelength infrared, SWR) 및 3000nm 이상의 중파장 적외선(middle-wavelength infrared, MWIR) 영역은 광흡수층 에너지 밴드갭보다 에너지가 작아 태양전지를 통과하여 본 출원의 박막태양전지 모듈의 열전소자의 표면에 도달하게 된다. 이러한 SWR 및 MWIR은 도 4에 도시된 제5 전극층(25) 및 제1 절연층(24)에서 대부분 흡수되어 열전소자의 상면(윗면)의 온도를 상승시키게 된다(즉, 열전소자의 상면을 hot side로 만듦). 이 때, 열전소자의 상면과 하면의 온도차에 의해 열전 전압(VTE)이 형성되는데, 이로 인하여 제5 전극층(25)의 전기적 위치에너지는 빛이 입사하지 않았을 경우와 비교했을 때, qVTE만큼 낮아지게 된다(도 5).
도 5에는 도 3의 Line 1을 따라 전도대 최소값(Conduction band minimum, Ec)이 도시되어 있다. 전술한 열전효과에 의해 제5 전극층(25)의 전기적 위치에너지(electronic potential)가 낮아지는 경우, 제1 공간에 위치하는 광흡수층(40)의 전도대최소값(EC)도 동반 낮아지게 되며, 이는 제2 전극층(60) 부근에 전계를 형성하게 된다. 후면 전계 형성으로 인해 P1 영역의 반전(inversion)이 일어날 수 있으며, 광흡수층(40)이 p-type 반도체인 경우 후면 전계 형성으로 인해 n-type 반도체로 반전이 이루어질 수 있다. 따라서, 하부 전극(31, 32)과 P1 영역을 통해 션트 전류(jP1)가 흐르는 문제가 방지된다.
도 6 내지 8은 본 출원의 실시예에 따른 열전소자의 N-P 접합쌍이 각각 1개, 2개, n개일 때의 구조를 보여주는 도면이다. 전술한 바와 같이, 열전소자를 이용하여 독립적인 발전을 할 경우에는 N-P 접합쌍의 개수와 열전 발전량(power)이 단순 비례하지 않게 된다. 이는 N-P 접합쌍이 증가할수록 VTE는 증가하지만 직렬저항도 증가하여 그만큼 전류가 감소하기 때문이다.
반면, 본 출원의 실시예에 따른 열전소자는 독립적인 발전원으로 활용되지 않고 태양전지에 전계를 가하는 용도로 쓰이기 때문에, 열전소자 내의 전류수준과 상관없이 최대한 많은 VTE를 형성하는 것이 강한 전계 형성에 유리하게 된다.
P1 영역에 강한 inversion 층의 형성을 위해, 도 5에 도시된 바와 같이 페르미 에너지 준위와 intrinsic 에너지의 준위 차(△Ф=EF-Ei)의 2배에 해당하는 에너지 band bending이 일어나는 것이 바람직하다.
즉, flat-band voltage를 VFE라고 했을 때, 열전소자(20)에 의한 VTE 형성이 아래의 조건을 만족할 때 P1 영역에 강한 inversion 층을 유도하는 것이 가능하다. 여기서 VFE는 광흡수층(40)의 에너지 밴드가 평탄화(선형화)되도록 인가되는 전압을 의미한다.
VTE >VFB +2△Ф
즉, 열전소자(20)가 VTE >VFB +2△Ф의 조건을 만족하는 N-P 접합쌍의 개수를 가지는 것이 바람직하다.
다음, 도 9 내지 13을 참조하여 본 출원의 다른 실시예에 따른 박막태양전지 모듈을 상세히 설명한다.
기판(10)과 제1 전극층(30) 사이에 열전소자(20)가 아닌 전계형성층(80)이 형성된다는 점에서 차이가 있고, 나머지 구성은 동일한바 이하에서는 전계형성층(80)을 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
전계형성층(80)은 기판(10) 상부에 형성되는 게이트 전극(81)과, 게이트 전극(81) 상부에 형성되는 게이트 절연체(82)를 포함한다.
즉, 전계형성층(80) 위에 태양전지가 적층되는 구조인데, 이를 회로도로 표시하면 도 12와 같다.
전계형성층(80)과 태양전지의 결합을 통해, 이른바 MOSFET 구조와 유사한 구조가 형성되며, 보다 구체적으로 MOSFET은 게이트 전압(VG)이 문턱 전압(VT)보다 높을 경우 턴온(turn-on)되는 증가형 MOSFET(enhancemant type MOSFET)과 게이트 전압(VG)이 문턱 전압(VT)보다 높을 경우 turn-off되는 공핍형 MOSFET(depletion type MOSFET)으로 나뉘는데, 본 출원의 실시예에서는 전계형성층(80)과 태양전지의 결합을 통해 공핍형 MOSFET과 유사한 구조가 형성된다.
즉, 게이트 전극(81)에 문턱 전압(VT)보다 높은 전압이 인가되는 경우, P1 가공 영역에 후면 전계를 형성하게 된다. 후면 전계 형성으로 인해 P1 가공 영역의 반전(inversion)이 일어날 수 있으며, 광흡수층(40)이 p-type 반도체인 경우 후면 전계 형성으로 인해 n-type 반도체로 반전이 이루어질 수 있다. 따라서, 하부 전극(31, 32)과 P1 영역을 통해 션트 전류(jP1)가 흐르는 문제가 방지된다(도 10 참조).
P1 영역에 강한 inversion 층의 형성을 위해, 도 13에 도시된 바와 같이 페르미 준위와 intrinsic 에너지의 준위 차(△Ф=EF-Ei)의 2배에 해당하는 에너지 band bending이 일어나는 것이 바람직하다.
즉, flat-band voltage를 VFE라고 했을 때, VG-VFE>2△Ф의 전압이 게이트 전극(81)에 인가되는 것이 바람직하며, 게이트 전극(81)에 인가되는 게이트 전압(VG)이 아래의 조건을 만족할 때 P1 영역에 강한 inversion 층을 유도하는 것이 가능하다.
VG >VFB +2△Ф
도 11은 도 1에 따른 박막태양전지 모듈 구조에서 P1 션트전류에 의한 셀-to-모듈 효율 손실 영향성을 보여주기 위해 수행된 결과를 나타낸다. 도 11의 좌측 도면을 참조하면, CIGS 박막이 단일 태양전지셀로 활용되었을때(검정색)는 다이오드의 정류특성이 뚜렷하게 나타나지만, 모듈로 활용되었을때(빨간색)는 P1 션트 전류 영향에 의해 정류특성이 열화되는 것을 보여준다. 이로 인한 셀-모듈간 효율손실은 30%에 가까운 것으로 측정되었다.
도 11에서 모듈의 전류-전압 곡선은 직렬 연결된 셀들의 평균적인 전류-전압 특성을 나타낸다. 좌측 도면에서 모듈의 P1 션트전류 영향이 큰 것은 CIGS의 p-type 전도성이 우수하기 때문이다. 우측 도면은 CIGS 증착과정에서 알칼리 도핑의 변화를 통해 CIGS 박막의 저항을 증가시킨 뒤 각각 셀과 모듈에 적용한 결과를 보여준다. CIGS 박막 저항 증가에 의한 P1 션트 전류 감소에 의해 모듈의 정류특성이 향상되는 것을 알 수 있고, 10% 이내의 셀-to-모듈 효율손실을 얻을 수 있었다.
도 14는 본 출원에서 제시하는 게이트 태양전지 모듈에 따른 우수성을 입증하기 위해 도 10에 따른 구조로 박막태양전지 모듈을 제작 후 광조사 하에 전류-전압 곡선을 측정한 결과를 보여준다. 게이트 전압(Vgate)을 가하기 전에는 P1 션트전류에 의한 손실이 매우 커 0.02%의 광전변환효율을 보인데 반해, 게이트 전압을 증가시킬수록 션트전류 손실이 감소되고 이에 따라 광전류가 증가함을 확인하였으며, 특히 4V의 게이트 전압 인가 시 광전변환효율이 0.67%로 향상됨을 확인할 수 있었다.
실험 결과, 본 출원의 실시예에 따른 박막태양전지 모듈에서 P1 션트 전류가 저감됨을 입증하였다.
전술한 본 출원에 따르면 박막태양전지와, 열전 소자 또는 전계형성층의 결합을 통해 박막태양전지의 션트 손실이 최소화된다.
또한, 열전 소자와 박막태양전지의 결합을 통해 박막태양전지에서 문제가 되고 있는 근적외선 영역의 광발전효율 열화특성이 개선된다.
또한, 태양 에너지의 50%가량을 차지하는 적외선 영역대의 에너지가 태양전지에서 활용되지 못했었던 종래 기술의 단점을 해결하기 위해, 광흡수층을 포함한 종래의 태양전지 구조를 그대로 유지하면서, 외부 전계 효과에 의해 박막태양전지 효율이 향상된다.
또한, 열전소자를 독립적인 발전원으로 이용하는 것이 아닌, 태양전지에 전계를 형성하는 용도로 사용하기 때문에, N-P 접합쌍 증가에 따른 직렬저항의 증가로 인해 전류가 감소함으로써 그만큼 발전량이 감소하는 문제점이 해결된다.
또한, 건물 외부에 설치되는 태양전지모듈의 특성상 태양광의 적외선 영역대의 파장으로 인한 온도 상승이 불가피한데, 이를 태양전지 광흡수층의 후면전계형성에 활용할 수 있어 비용 경제적이다.
또한, 기존 태양전지와 비교하였을 때, 적외선 영역대의 태양광까지 발전에 이용되어 최대 20%의 발전 효율 향상을 이룰 수 있다.
또한, 기존 태양전지에서 활용되지 않았던 적외선 영역대의 태양광까지 발전에 이용되어 온실효과가 감소되는 효과를 누릴 수 있다.
10: 기판
20: 열전소자
21: 제3 전극층
21a, 21b: 전극
22: 반도체 기둥
22a: N형 반도체 기둥
22b: P형 반도체 기둥
23: 제4 전극층
23a, 23b: 전극
24: 제1 절연층
25: 제5 전극층
26: 제2 절연층
27: 제3 절연층
30: 제1 전극층
31, 32, 33: 하부 전극
40: 광흡수층
41, 42: 광흡수부
50: 버퍼층
51, 52: 버퍼부
60: 제2 전극층
70: 열 발산층
80: 전계형성층
81: 게이트 전극
82: 게이트 절연체
Ec: 전도대 최소값(Conduction band minimum)
Ev: 가전자대 최대값(Valence band maximum)
EF: 페르미 에너지 준위(Fermi energy level)

Claims (19)

  1. 기판(10);
    상기 기판(10) 상에 형성되는 열전 소자(20);
    상기 열전 소자(20) 상에 형성되고, 상기 열전 소자(20)의 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 하부 전극을 포함하는 제1 전극층(30);
    상기 열전 소자(20) 상의 상기 복수의 하부 전극 사이의 제1 공간과 상기 제1 전극층(30) 상에 형성되되, 상기 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 광흡수부를 포함하는 광흡수층(40);
    상기 광흡수층(40) 상에 형성되며, 상기 광흡수층(30)과 접하는 면에서 P-N 접합면 또는 N-P 접합면을 형성하는 버퍼층(50); 및
    상기 제1 전극층(30) 상의 상기 복수의 광흡수층 사이의 제2 공간과, 상기 버퍼층(50)의 복수의 버퍼층 사이의 공간 및 상기 버퍼층(50) 상에 형성되되, 상기 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 상부 전극을 포함하는 제2 전극층(60);을 포함하는,
    박막태양전지 모듈.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 하부 전극 사이의 제1 공간은 P1 가공 영역이고,
    상기 복수의 광흡수부 사이의 제2 공간은 P2 가공 영역이고,
    상기 복수의 상부 전극 사이의 제3 공간은 P3 가공 영역인,
    박막태양전지 모듈.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 열전 소자(20)는,
    상기 기판(10) 상에 형성되며 서로에 대해 소정 간격 이격되는 다수의 전극(21a, 21b)을 포함하는 제3 전극층(21);
    상기 제3 전극층(21)의 다수의 전극(21a, 21b) 각각에 형성되는 반도체 기둥(22);
    상기 반도체 기둥(22) 상에 형성되는 제4 전극층(23);
    상기 제4 전극층(23) 상에 형성되는 제1 절연층(24);
    상기 제1 절연층(24) 상에 형성되는 제5 전극층(25); 및
    상기 제5 전극층(25) 상에 형성되는 제2 절연층(26);을 포함하는,
    박막태양전지 모듈.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제3 전극층(21)의 일단은 접지되어 있고,
    상기 제3 전극층(21)의 타단과 상기 제5 전극층(25)을 서로 전기적으로 연결하는 연결부(W);를 더 포함하는,
    박막태양전지 모듈.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 열전 소자(20)는, 외부로부터 입사되는 유입광에 따라 상기 제3 전극층(21)과 상기 제4 전극층(23) 사이에 전위차가 형성되고, 상기 연결부(W)를 통해 상기 전위차에 의한 전계(Electric Field)가 상기 복수의 하부 전극 사이의 공간에 인가되는,
    박막태양전지 모듈.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 반도체 기둥(22)은,
    N형 반도체 기둥(22a) 및 P형 반도체 기둥(22b)을 포함하며,
    상기 N형 반도체 기둥(22a) 및 상기 P형 반도체 기둥(22b)은 서로에 대해 소정 간격 이격되면서 상기 제3 전극층(21) 상에 교차 형성되는,
    박막태양전지 모듈.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 제3 전극층(21)에 포함된 다수의 전극(21a, 21b)은 서로에 대해 소정 간격 이격되면서 상기 기판(10) 상에 형성되며,
    상기 제4 전극층(23)에 포함된 다수의 전극(23a, 23b)은 서로에 대해 소정 간격 이격되면서 상기 반도체 기둥(22) 상에 형성되는,
    박막태양전지 모듈.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제3 전극층(21)에 포함된 다수의 전극(21a, 21b)과 상기 제4 전극층(23)에 포함된 다수의 전극(23a, 23b)은 좌우 방향으로 일부 중첩되면서 배열되는,
    박막태양전지 모듈.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 기판(10)과 상기 제1 절연층(24) 사이의 빈 공간에는 제3 절연층(27)이 형성되는,
    박막태양전지 모듈.
  10. 제3항에 있어서,
    상기 제1 전극층(50)은 가시광선 및 적외선 영역대의 파장을 투과시키는 재질로 이루어지고,
    상기 제2 전극층(60)은 적외선 영역대의 파장을 투과시키는 재질로 이루어진,
    박막태양전지 모듈.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제3 전극층(21), 상기 제4 전극층(23) 및 상기 제5 전극층(25)은 적외선 영역대의 파장을 흡수하는 재질로 이루어진,
    박막태양전지 모듈.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 광흡수층(30)과 상기 버퍼층(40)은 각각 P형 반도체 또는 N형 반도체이되, 서로에 대해 반대 극성을 갖는 반도체인,
    박막태양전지 모듈.
  13. 제3항에 있어서,
    상기 제1 절연층(24)의 열전도성은 상기 제2 절연층(26)의 열전도성보다 높은,
    박막태양전지 모듈.
  14. 제3항에 있어서,
    상기 제3 전극층(21) 상에 형성되는 상기 N형 반도체 기둥(22a) 및 상기 P형 반도체 기둥은(22b) 온도 변화에 따라 전계를 형성하는 재질로 이루어지되, 상기 복수의 하부 전극 사이의 공간의 광흡수층(40)의 전자 에너지 준위를 낮추는 전계를 형성하는,
    박막태양전지 모듈.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 열전 소자(20)에 의해 형성되는 전압(VTE)은 아래의 수식 1을 만족하는 것인,
    [수식 1]
    VTE >VFB +2△Ф
    여기서, VFE는 광흡수층(40)의 flat-band voltage이고,
    △Ф는 광흡수층(40)의 페르미 에너지 준위(EF)와 intrinsic 에너지 준위(Ei)의 차이인,
    박막태양전지 모듈.
  16. 제10항에 있어서,
    상기 기판(10)과 상기 열전 소자(20) 사이에 형성되는 열 발산층(70)을 더 포함하는,
    박막태양전지 모듈.
  17. 기판(10);
    상기 기판(10) 상에 형성되는 전계형성층(80);
    상기 전계형성층(80) 상에 형성되고, 상기 전계형성층(80)의 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 하부 전극을 포함하는 제1 전극층(30);
    상기 전계형성층(80) 상의 상기 복수의 하부 전극 사이의 제1 공간과 상기 제1 전극층(30) 상에 형성되되, 상기 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 광흡수층을 포함하는 광흡수층(40);
    상기 광흡수층(40) 상에 형성되며, 상기 광흡수층(30)과 접하는 면에서 P-N 접합면 또는 N-P 접합면을 형성하는 버퍼층(50); 및
    상기 제1 전극층(30) 상의 상기 복수의 광흡수층 사이의 제2 공간과, 상기 버퍼층(50)의 복수의 버퍼층 사이의 공간 및 상기 버퍼층(50) 상에 형성되되, 상기 길이 방향을 따라 소정의 간격을 두고 이격되는 복수의 상부 전극을 포함하는 제2 전극층(60);을 포함하는,
    박막태양전지 모듈.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 전계형성층(80)은,
    상기 기판(10) 상에 형성되는 게이트 전극(81); 및
    상기 게이트 전극(81) 상에 형성되는 게이트 절연체(82);를 포함하고,
    상기 게이트 전극(81)에 문턱 전압(VT)보다 높은 게이트 전압(VG)이 인가되는 경우, 상기 광흡수층(40)의 전자 에너지 준위를 낮추는 전계를 형성하는,
    박막태양전지 모듈.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 게이트 전극(81)에 인가되는 상기 게이트 전압(VG)은 아래의 수식 2를 만족하는 것인,
    [수식 2]
    VG >VFB +2△Ф
    여기서, VFE는 광흡수층(40)의 flat-band voltage이고,
    △Ф는 광흡수층(40)의 페르미 에너지 준위(EF)와 intrinsic 에너지 준위(Ei)의 차이인,
    박막태양전지 모듈.
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100042521A (ko) * 2008-10-16 2010-04-26 한양대학교 산학협력단 태양 에너지를 이용한 발전장치
KR20110133686A (ko) * 2010-06-07 2011-12-14 경북대학교 산학협력단 유기 광트랜지스터
KR101418321B1 (ko) * 2013-03-12 2014-07-16 한국에너지기술연구원 열전 태양전지 복합 모듈 및 이를 이용한 전력 발전방법
KR20150118605A (ko) * 2014-04-14 2015-10-23 에스케이이노베이션 주식회사 태양 전지 및 이의 제조방법
KR20190073895A (ko) 2017-12-19 2019-06-27 한국에너지기술연구원 태양전지 열전 융합소자
KR20200071576A (ko) 2018-12-11 2020-06-19 한국에너지기술연구원 광전 열전 융합소자 및 이를 포함하는 발전모듈

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100042521A (ko) * 2008-10-16 2010-04-26 한양대학교 산학협력단 태양 에너지를 이용한 발전장치
KR20110133686A (ko) * 2010-06-07 2011-12-14 경북대학교 산학협력단 유기 광트랜지스터
KR101418321B1 (ko) * 2013-03-12 2014-07-16 한국에너지기술연구원 열전 태양전지 복합 모듈 및 이를 이용한 전력 발전방법
KR20150118605A (ko) * 2014-04-14 2015-10-23 에스케이이노베이션 주식회사 태양 전지 및 이의 제조방법
KR20190073895A (ko) 2017-12-19 2019-06-27 한국에너지기술연구원 태양전지 열전 융합소자
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