KR20220131228A - Base film for dicing tape - Google Patents

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KR20220131228A
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타카유키 이시모토
요스케 미구치
히토미 오노
히토시 스기야마
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다키론 씨아이 가부시키가이샤
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Abstract

다이싱 테이프용 기재 필름은, 폴리에틸렌계 수지와 폴리프로필렌계 수지를 포함하고, 100℃에서의 저장 탄성률이 20㎫ 이상 200㎫ 이하이고, 110℃에서의 저장 탄성률이 10㎫ 이상 170㎫ 이하이며, 120℃에서의 저장 탄성률이 5㎫ 이상 140㎫ 이하이고, MD에서의 응력(100% 신장 시)이 5㎫ 이상 20㎫ 미만이다.The base film for dicing tapes contains a polyethylene-based resin and a polypropylene-based resin, and has a storage elastic modulus at 100° C. of 20 MPa or more and 200 MPa or less, and a storage elastic modulus at 110° C. of 10 MPa or more and 170 MPa or less, The storage modulus at 120°C is 5 MPa or more and 140 MPa or less, and the stress in MD (at the time of 100% elongation) is 5 MPa or more and less than 20 MPa.

Description

다이싱 테이프용 기재 필름Base film for dicing tape

본 발명은, 다이싱 테이프용 기재 필름(이하, 단순히 "기재 필름"이라고 하는 경우가 있음)에 관한 것이다.The present invention relates to a base film for dicing tapes (hereinafter, simply referred to as a "base film" in some cases).

IC칩 등의 반도체 디바이스의 제조 방법으로는, 예를 들어, 대략 원판 형상의 반도체 웨이퍼 상에 회로가 형성된 웨이퍼 회로를, 웨이퍼용 다이싱 테이프 상에서 다이싱에 의하여 분할하여, 개개의 반도체 디바이스를 얻는 방법이 널리 이용되고 있다. 그리고 다이싱 후에는, 예를 들어, 다이싱 테이프를 연신시켜 반도체 디바이스 사이에 틈을 형성한(즉, 익스팬딩) 후, 각 반도체 디바이스가 로봇 등으로 픽업된다.As a method for manufacturing semiconductor devices such as IC chips, for example, a wafer circuit in which a circuit is formed on a semiconductor wafer having a substantially disk shape is divided by dicing on a dicing tape for wafers to obtain individual semiconductor devices. The method is widely used. And after dicing, for example, a dicing tape is stretched to form a gap between semiconductor devices (ie, expanding), and then each semiconductor device is picked up by a robot or the like.

다이싱 테이프는, 일반적으로, 웨이퍼를 고정하는 점착층과 폴리올레핀 등을 함유하는 기재 필름에 의해 구성된다. 이 기재 필름으로는, 예를 들어, 연질의 아크릴산 에스터계 수지로 이루어진 코어층과 반경질 내지 경질의 메타크릴산 에스터계 수지로 이루어진 쉘층에 의해 구성된 입자형의 열가소성 아크릴계 수지로부터 성형된 층과, 폴리에틸렌계 수지로 이루어진 층이 적층된 기재 필름(특허문헌 1 참조)이 제안되고 있다. 또한, 에틸렌-메타크릴산 공중합체 수지로 이루어진 외층과, 에틸렌-아세트산 바이닐 공중합체 수지 등으로 이루어진 내층이 적층된 기재 필름(특허문헌 2 참조)이 제안되고 있다. 또한, 예를 들어, 일방의 면에 점착제층을 구비하고, 폴리염화 바이닐, 폴리올레핀, 에틸렌-아세트산 바이닐 공중합체, 폴리에스터, 폴리이미드, 폴리아마이드 등에 의해 형성된 기재 필름이며, 기재의, 점착제층과는 반대측의 최외층 표면의 SUS430BA판에 대한 동적 마찰력이, 온도 23℃, 습도 50%에서 10.0N 미만인 것이 제안되고 있다. 그리고 이 기재 필름을 구비한 다이싱 테이프에서는, 종방향 및 횡방향으로 균일한 익스팬딩이 실현 가능하다고 기재되어 있다(특허문헌 3 참조).A dicing tape is generally comprised by the adhesive layer which fixes a wafer, and the base film containing polyolefin etc. As this base film, for example, a layer molded from a particulate thermoplastic acrylic resin composed of a core layer made of a soft acrylic acid ester-based resin and a shell layer made of a semi-rigid to hard methacrylic acid ester-based resin; The base film (refer patent document 1) in which the layer which consists of polyethylene-type resin was laminated|stacked is proposed. Moreover, the base film (refer patent document 2) which laminated|stacked the outer layer which consists of ethylene-methacrylic acid copolymer resin, and the inner layer which consists of ethylene- vinyl acetate copolymer resin etc. is proposed. Further, for example, it is a base film provided with a pressure-sensitive adhesive layer on one surface and formed of polyvinyl chloride, polyolefin, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyester, polyimide, polyamide, etc., the pressure-sensitive adhesive layer of the base material and It is proposed that the dynamic frictional force against the SUS430BA plate on the outermost layer on the opposite side is less than 10.0N at a temperature of 23°C and a humidity of 50%. And in the dicing tape provided with this base film, it is described that expanding uniformly in a longitudinal direction and a lateral direction is realizable (refer patent document 3).

특허문헌 1 : 일본 특허 제4643134호 공보Patent Document 1: Japanese Patent No. 4643134 특허문헌 2 : 일본 특허 제5568428호 공보Patent Document 2: Japanese Patent No. 5568428 특허문헌 3 : 일본 특허 제6211771호 공보Patent Document 3: Japanese Patent No. 6211771

그러나 상기 특허문헌 1~2에 기재된 기재 필름에서는, 폴리에틸렌계 수지가 사용되고 있으나, 융점이 낮은 수지가 사용되고 있으므로, 고온에서 열변형이 발생하고, 내열성이 부족하다는 문제가 있었다.However, in the base film described in Patent Documents 1 and 2, a polyethylene-based resin is used, but since a resin having a low melting point is used, there is a problem that thermal deformation occurs at a high temperature and heat resistance is insufficient.

또한, 상기 특허문헌 3에 기재된 기재 필름을 구비한 다이싱 테이프에서는, 수지의 배향에 따라, 기재 필름의 기계축(길이) 방향(이하, "MD"라고 함)에서의 응력이 현저히 커지기 때문에 기재 필름의 유연성(익스팬딩성)이 불충분하다는 문제가 있었다.In addition, in the dicing tape provided with the base film described in Patent Document 3, the stress in the machine axis (length) direction (hereinafter referred to as "MD") of the base film significantly increases depending on the orientation of the resin. There was a problem that the flexibility (expandability) of the film was insufficient.

이에, 본 발명은, 상기 문제를 감안하여 이루어진 것으로, 내열성과 유연성을 양립할 수 있는 다이싱 테이프용 기재 필름 제공을 목적으로 한다.Therefore, this invention was made|formed in view of the said problem, and an object of this invention is to provide the base film for dicing tapes which can make heat resistance and flexibility compatible.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 다이싱 테이프용 기재 필름은, 폴리에틸렌계 수지와 폴리프로필렌계 수지를 포함하는 다이싱 테이프용 기재 필름으로서, 100℃에서의 저장 탄성률이 20㎫ 이상 200㎫ 이하이고, 110℃에서의 저장 탄성률이 10㎫ 이상 170㎫ 이하이며, 120℃에서의 저장 탄성률이 5㎫ 이상 140㎫ 이하이고, MD에서의 응력(100% 신장 시)이 5㎫ 이상 20㎫ 미만인 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the base film for a dicing tape of the present invention is a base film for a dicing tape comprising a polyethylene-based resin and a polypropylene-based resin, and has a storage elastic modulus at 100°C of 20 MPa or more and 200 MPa or less. and the storage modulus at 110 ° C. is 10 MPa or more and 170 MPa or less, the storage modulus at 120 ° C. is 5 MPa or more and 140 MPa or less, and the stress in MD (at 100% elongation) is 5 MPa or more and less than 20 MPa. characterized.

본 발명에 의하면, 내열성과 유연성이 우수한 다이싱 테이프용 기재 필름을 제공할 수 있게 된다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it becomes possible to provide the base film for dicing tapes excellent in heat resistance and flexibility.

이하, 본 발명의 다이싱 테이프용 기재 필름에 대하여 구체적으로 설명한다. 여기서, 본 발명은, 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위에서 적절히 변경하여 적용할 수 있다.Hereinafter, the base film for dicing tapes of this invention is demonstrated concretely. Here, this invention is not limited to the following embodiment, It can change suitably and apply it in the range which does not change the summary of this invention.

본 발명의 기재 필름은, 폴리에틸렌계 수지와 폴리프로필렌계 수지를 포함하는 다이싱 테이프용 기재 필름이다. 보다 구체적으로, 본 발명의 기재 필름은, 예를 들어, 폴리올레핀계 수지로 형성된 필름이며, 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌과, 에틸렌과 공중합한 블록 폴리프로필렌(이하, 단순히 "블록 폴리프로필렌"이라고 하는 경우가 있음), 또는 프로필렌을 단독으로 중합한 호모 폴리프로필렌(이하, 단순히 "호모 폴리프로필렌"이라고 하는 경우가 있음)을 포함한다.The base film of this invention is a base film for dicing tapes containing polyethylene-type resin and polypropylene-type resin. More specifically, the base film of the present invention is, for example, a film formed of a polyolefin-based resin, and a block polypropylene copolymerized with linear low-density polyethylene and ethylene (hereinafter simply referred to as “block polypropylene” in some cases). ), or homo polypropylene obtained by polymerization of propylene alone (hereinafter, simply referred to as “homo polypropylene” in some cases).

<직쇄상 저밀도 폴리에틸렌><Linear Low Density Polyethylene>

직쇄상 저밀도 폴리에틸렌은, 고밀도 폴리에틸렌의 직쇄 구조에 측쇄 분기를 갖는다. 그리고 이 측쇄 분기가 단쇄고, 단쇄 분기수가 적으므로, 저밀도 폴리에틸렌과 비교하여, 결정화도가 높고, 내열성이 우수하다. 또한, 전술한 측쇄 분기를 가지므로 고밀도 폴리에틸렌과 비교하여 결정화도가 과하게 높아지지 않고, 유연성도 우수하다.The linear low-density polyethylene has a branched branch in the linear structure of the high-density polyethylene. And since this side chain branch is short and there are few short-chain branches, compared with low-density polyethylene, crystallinity is high and it is excellent in heat resistance. In addition, since it has the aforementioned branched side chains, the degree of crystallinity is not excessively increased as compared with high-density polyethylene, and flexibility is also excellent.

그리고 강도 관점에서 메탈로센계 촉매 또는 치글러 촉매를 이용하여 제조된 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌을 사용하여도 된다.In addition, from the viewpoint of strength, a linear low-density polyethylene prepared using a metallocene-based catalyst or a Ziegler catalyst may be used.

또한, 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌의 밀도는, 0.910~0.919g/㎤인 것이 바람직하다. 0.910g/㎤ 이상인 경우는 결정화도가 높아지므로 기재 필름의 내열성을 향상시킬 수 있고, 0.919g/㎤ 이하인 경우는 결정화도의 과도한 상승을 억제하여, 기재 필름의 등방성(균일한 익스팬딩성)을 향상시킬 수 있다.Moreover, it is preferable that the density of a linear low-density polyethylene is 0.910-0.919 g/cm<3>. When it is 0.910 g/cm 3 or more, the degree of crystallinity increases, so that the heat resistance of the base film can be improved. can

또한, 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌의 용융질량흐름률(MFR)은, 1.0~6.0g/10분인 것이 바람직하고, 1.5~4.0g/10분이 보다 바람직하며, 2.0~3.0g/10분이 더욱 바람직하다. 1.0g/10분 이상인 경우는 분자량이 너무 크지 않아 기재 필름의 유연성과 가공성을 향상시킬 수 있기 때문이며, 6.0g/10분 이하인 경우는 분자량이 너무 작지 않아 기재 필름의 내열성을 향상시킬 수 있기 때문이다.Further, the melt mass flow rate (MFR) of the linear low-density polyethylene is preferably 1.0 to 6.0 g/10 min, more preferably 1.5 to 4.0 g/10 min, and still more preferably 2.0 to 3.0 g/10 min. In the case of 1.0 g/10 min or more, the molecular weight is not too large, so the flexibility and processability of the base film can be improved, and in the case of 6.0 g/10 min or less, the molecular weight is not too small, so heat resistance of the base film can be improved. .

그리고 상기 용융질량흐름률은, JIS K7210:1999의 규정에 준거하여 측정함으로써 얻을 수 있다.And the said melt mass flow rate can be obtained by measuring based on the prescription|regulation of JISK7210:1999.

이상으로, 기재 필름을 형성하는 수지로서 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌을 사용함으로써 내열성과 유연성 및 등방성이 우수한 기재 필름을 제공할 수 있다.As described above, it is possible to provide a base film excellent in heat resistance, flexibility, and isotropy by using a linear low-density polyethylene as a resin for forming the base film.

<에틸렌과 공중합한 블록 폴리프로필렌, 프로필렌을 단독으로 중합한 호모 폴리프로필렌><Block polypropylene copolymerized with ethylene, homopolypropylene obtained by polymerization of propylene alone>

폴리프로필렌으로는, 일반적으로, 프로필렌을 단독으로 중합한 호모 폴리프로필렌, 에틸렌과 프로필렌을 공중합한 랜덤 폴리프로필렌, 및 호모 폴리프로필렌을 중합한 후, 호모 폴리프로필렌의 존재 하에서, 에틸렌과 프로필렌을 공중합한 블록 폴리프로필렌(에틸렌과 공중합한 블록 폴리프로필렌)을 들 수 있다.As polypropylene, in general, homopolypropylene obtained by polymerization of propylene alone, random polypropylene obtained by copolymerizing ethylene and propylene, and homopolypropylene obtained by copolymerizing ethylene and propylene in the presence of homopolypropylene after polymerization Block polypropylene (block polypropylene copolymerized with ethylene) is mentioned.

이 중, 랜덤 폴리프로필렌은, 입체규칙성이 낮고 결정화도가 작으므로 유연성이 우수하지만, 융점이 낮다.Among these, random polypropylene has a low stereoregularity and a small degree of crystallinity, so it is excellent in flexibility, but has a low melting point.

한편, 호모 폴리프로필렌은, 입체규칙성이 높고 융점에 기여하는 결정화도가 크므로 내열성이 우수하다. 또한, 결정화도가 크므로 강성이 크지만, 전술한 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌을 혼합함으로써, 기재 필름의 익스팬딩성에 기여하는 유연성을 얻을 수 있다.On the other hand, since homopolypropylene has a high stereoregularity and a high degree of crystallinity contributing to the melting point, it is excellent in heat resistance. In addition, although the degree of crystallinity is large, rigidity is large, but by mixing the aforementioned linear low-density polyethylene, flexibility contributing to the expandability of the base film can be obtained.

또한, 에틸렌과 공중합한 블록 폴리프로필렌은, 프로필렌과 에틸렌에 의해 구성된 블록 폴리프로필렌이고, 호모 폴리프로필렌(해(sea) 성분) 중에 폴리에틸렌(도(island) 성분)이 분산된 해도 구조(sea-island structure)를 가지며, 폴리에틸렌의 주위에 EPR상(고무상)을 가진다. 따라서, 호모 폴리프로필렌이 가진 내열성을 보유하면서 해도의 경계선부에 EPR상이 형성되므로 유연성이 우수하다.In addition, the block polypropylene copolymerized with ethylene is a block polypropylene composed of propylene and ethylene, and has a sea-island structure in which polyethylene (island component) is dispersed in homopolypropylene (sea component). structure) and has an EPR phase (rubber phase) around the polyethylene. Therefore, while retaining the heat resistance possessed by the homo polypropylene, the EPR image is formed on the boundary line of the sea-island, and thus the flexibility is excellent.

이상으로, 기재 필름을 형성하는 수지로서, 전술한 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌과 함께, 에틸렌과 공중합한 블록 폴리프로필렌, 또는 프로필렌을 단독으로 중합한 호모 폴리프로필렌을 사용함으로써, 내열성과 유연성 및 등방성이 우수한 기재 필름을 제공할 수 있다.As described above, as a resin for forming the base film, by using a block polypropylene copolymerized with ethylene, or a homopolypropylene obtained by polymerization of propylene alone, together with the aforementioned linear low-density polyethylene, a substrate excellent in heat resistance, flexibility and isotropy A film may be provided.

<기재 필름><Base film>

본 발명의 기재 필름에서는, 100℃에서의 저장 탄성률(E')이 20㎫ 이상 200㎫ 이하이다. 20㎫ 이상인 경우는 가열 공정에서 기재 필름의 수축을 방지할 수 있고, 200㎫ 이하인 경우는 기재 필름의 강성의 과도한 상승을 억제하여, 유연성(익스팬딩성)을 향상시킬 수 있다.In the base film of this invention, the storage elastic modulus (E') in 100 degreeC is 20 MPa or more and 200 MPa or less. When it is 20 MPa or more, it is possible to prevent shrinkage of the base film in the heating process, and when it is 200 MPa or less, excessive increase in the rigidity of the base film is suppressed, and flexibility (expandability) can be improved.

그리고 100℃에서의 저장 탄성률(E')은 23~150㎫인 것이 바람직하고, 25~100㎫이 보다 바람직하다.And it is preferable that it is 23-150 Mpa, and, as for the storage elastic modulus (E') in 100 degreeC, 25-100 Mpa is more preferable.

또한, 마찬가지로, 본 발명의 기재 필름에서는, 110℃에서의 저장 탄성률(E')이 10㎫ 이상 170㎫ 이하이다. 10㎫ 이상인 경우는 가열 공정에서 기재 필름의 수축을 방지할 수 있고, 170㎫ 이하인 경우는 기재 필름의 강성의 과도한 상승을 억제하여, 유연성(익스팬딩성)을 향상시킬 수 있다.Moreover, similarly, in the base film of this invention, the storage elastic modulus (E') in 110 degreeC is 10 Mpa or more and 170 Mpa or less. When it is 10 MPa or more, it is possible to prevent shrinkage of the base film in the heating process, and when it is 170 MPa or less, excessive increase in the rigidity of the base film is suppressed, and flexibility (expandability) can be improved.

그리고 110℃에서의 저장 탄성률(E')은 15~120㎫인 것이 바람직하고, 20~80㎫이 보다 바람직하다.And it is preferable that it is 15-120 Mpa, and, as for the storage elastic modulus (E') in 110 degreeC, 20-80 Mpa is more preferable.

또한, 본 발명의 기재 필름에서는, 120℃에서의 저장 탄성률(E')이 5㎫ 이상 140㎫ 이하이다. 5㎫ 이상인 경우는 가열 공정에서 기재 필름의 수축을 방지할 수 있고, 140㎫ 이하인 경우는 기재 필름의 강성의 과도한 상승을 억제하여, 유연성(익스팬딩성)을 향상시킬 수 있다.Moreover, in the base film of this invention, the storage elastic modulus (E') in 120 degreeC is 5 Mpa or more and 140 Mpa or less. When it is 5 MPa or more, it is possible to prevent shrinkage of the base film in the heating process, and when it is 140 MPa or less, excessive increase in the rigidity of the base film is suppressed, and flexibility (expandability) can be improved.

그리고 120℃에서의 저장 탄성률(E')은 10~90㎫인 것이 바람직하고, 15~40㎫이 보다 바람직하다.And it is preferable that it is 10-90 Mpa, and, as for the storage elastic modulus (E') in 120 degreeC, 15-40 Mpa is more preferable.

또한, 상기 "저장 탄성률"이란, JIS-K7244-4에 준거하여 동적 점탄성 측정장치를 이용하여 측정되는 것을 말한다.In addition, the said "storage elastic modulus" means what is measured using the dynamic viscoelasticity measuring apparatus based on JIS-K7244-4.

또한, 본 발명의 기재 필름에서는, MD에서의 응력(100% 신장 시)이 5㎫ 이상 20㎫ 미만이다. 5㎫ 이상인 경우는 다이싱 시에 블레이드가 기재 필름 중에서 움직이지 않으므로, 웨이퍼의 절삭 단면에서의 치핑 발생을 방지할 수 있고, 또한, 과하게 부드럽지 않으므로, 픽업 공정에서도 니들에 의해 칩을 밀어 올릴 수 있다. 또한, 20㎫ 미만인 경우는 기재 필름의 강성의 과도한 상승을 억제하여, 유연성(익스팬딩성)을 향상시킬 수 있다.Moreover, in the base film of this invention, the stress (at the time of 100% elongation) in MD is 5 MPa or more and less than 20 MPa. In the case of 5 MPa or more, since the blade does not move in the base film during dicing, it is possible to prevent chipping at the cutting end surface of the wafer, and since it is not excessively soft, the chip can be pushed up by the needle even in the pickup process have. Moreover, when it is less than 20 Mpa, an excessive raise of the rigidity of a base film can be suppressed, and a softness|flexibility (expandability) can be improved.

또한, 마찬가지로, 본 발명의 기재 필름에서는, 기재 필름의 MD와 직교하는 방향(이하, "TD"라고 함)에서의 응력(100% 신장 시)이 5㎫ 이상 20㎫ 미만인 것이 바람직하다. 5㎫ 이상인 경우는 다이싱 시에 블레이드가 기재 필름 중에서 움직이지 않으므로, 웨이퍼의 절삭 단면에서의 치핑 발생을 방지할 수 있고, 또한, 과하게 부드럽지 않으므로, 픽업 공정에서도 니들에 의해 칩을 밀어 올릴 수 있다. 또한, 20㎫ 미만인 경우는 기재 필름의 강성의 과도한 상승을 억제하여, 유연성(익스팬딩성)을 향상시킬 수 있다.Similarly, in the base film of the present invention, it is preferable that the stress (at the time of 100% elongation) in the direction (hereinafter referred to as "TD") orthogonal to MD of the base film is 5 MPa or more and less than 20 MPa. In the case of 5 MPa or more, since the blade does not move in the base film during dicing, it is possible to prevent chipping at the cutting end surface of the wafer, and since it is not excessively soft, the chip can be pushed up by the needle even in the pickup process have. Moreover, when it is less than 20 Mpa, an excessive raise of the rigidity of a base film can be suppressed, and a softness|flexibility (expandability) can be improved.

그리고 MD, 및 TD에서의 응력(100% 신장 시)은, 7㎫ 이상 15㎫ 이하가 바람직하다.And, as for the stress (at the time of 100% elongation) in MD and TD, 7 MPa or more and 15 MPa or less are preferable.

또한, 본 발명의 기재 필름에서는, MD에서의 응력(100% 신장 시)과 TD에서의 응력(100% 신장 시)의 차의 절대값이 2㎫ 이하인 것이 바람직하다. 이와 같은 구성에 의해, 기재 필름의 등방성이 한층 더 향상된다.Moreover, in the base film of this invention, it is preferable that the absolute value of the difference of the stress in MD (at the time of 100% elongation) and TD (at the time of 100% elongation) is 2 MPa or less. By such a structure, the isotropy of a base film improves further.

그리고 상기 "응력"이란, JIS K7161-2:2014에 준거하여 측정되는 응력을 말한다.And the said "stress" means the stress measured based on JISK7161-2:2014.

또한, 기재 필름에서의 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌과, 에틸렌과 공중합한 블록 폴리프로필렌(또는, 프로필렌을 단독으로 중합한 호모 폴리프로필렌)과의 배합비는, 본 발명의 기재 필름의 특징을 악화시키지 않는 한 특별히 제한은 없으나, 기재 필름의 내열성과 등방성을 한층 더 향상시키는 관점에서, 질량비로, 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌:블록 폴리프로필렌(또는 호모 폴리프로필렌)=30:70~90:10의 범위가 바람직하고, 40:60~80:20의 범위가 보다 바람직하며, 50:50~80:20의 범위가 더욱 바람직하다.In addition, the blending ratio of the linear low-density polyethylene in the base film and the block polypropylene copolymerized with ethylene (or the homopolypropylene obtained by polymerization of propylene alone) is particularly limited unless the characteristics of the base film of the present invention are deteriorated. Although there is no restriction|limiting, from a viewpoint of further improving the heat resistance and isotropy of a base film, in a mass ratio, the range of linear low-density polyethylene:block polypropylene (or homo polypropylene) =30:70-90:10 is preferable, 40 The range of :60-80:20 is more preferable, and the range of 50:50-80:20 is still more preferable.

또한, 기재 필름의 전체를 100질량부로 한 경우, 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌과 에틸렌과 공중합한 블록 폴리프로필렌(또는, 프로필렌을 단독으로 중합한 호모 폴리프로필렌)으로 이루어진 수지 성분의 배합량은 90질량부 이상인 것이 바람직하다.In addition, when the entire base film is 100 parts by mass, the blending amount of the resin component composed of linear low-density polyethylene and block polypropylene copolymerized with ethylene (or homopolypropylene obtained by polymerization of propylene alone) is 90 parts by mass or more. desirable.

기재 필름의 두께는, 50~300㎛가 바람직하고, 70~200㎛가 보다 바람직하다. 기재 필름의 두께가 50㎛ 이상이면 기재 필름의 핸들링성이 향상되고, 두께가 300㎛ 이하면 기재 필름의 유연성(익스팬딩성)을 향상시킬 수 있다. 그리고 웨이퍼용 기재 필름의 경우는, 50~150㎛가 바람직하고, 70~100㎛가 보다 바람직하다. 또한, 패키지용 기재 필름의 경우는, 100~300㎛가 바람직하고, 150~200㎛가 보다 바람직하다.50-300 micrometers is preferable and, as for the thickness of a base film, 70-200 micrometers is more preferable. When the thickness of the base film is 50 µm or more, the handling property of the base film is improved, and when the thickness is 300 µm or less, the flexibility (expandability) of the base film can be improved. And in the case of the base film for wafers, 50-150 micrometers is preferable and 70-100 micrometers is more preferable. Moreover, in the case of the base film for packages, 100-300 micrometers is preferable and 150-200 micrometers is more preferable.

<제조 방법><Production method>

본 발명의 기재 필름은, 전술한 폴리에틸렌계 수지와 폴리프로필렌계 수지를 함유하는 수지 재료를 사용하고, 예를 들어, T다이를 구비하는 압출기에 의해, 소정의 온도로 압출 성형함으로써 제조된다. 그리고 공지의 캘린더법이나 인플레이션법에 의해, 본 발명의 기재 필름을 제조하여도 된다.The base film of this invention is manufactured by using the resin material containing the above-mentioned polyethylene-type resin and polypropylene-type resin, for example by extrusion-molding at predetermined temperature with the extruder provided with a T-die. And you may manufacture the base film of this invention by the well-known calendering method or inflation method.

<그 밖의 형태><Other forms>

본 발명의 기재 필름에는, 각종 첨가제가 함유되어도 된다. 첨가제로는, 다이싱 테이프에 통상적으로 사용되는 공지의 첨가제를 사용할 수 있고, 예를 들어, 가교조제, 대전방지제, 열 안정제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 활제, 블로킹방지제, 착색제 등을 들 수 있다. 그리고 이들 첨가제는, 1종을 단독으로 사용하거나 2종 이상을 병용하여도 된다.Various additives may be contained in the base film of this invention. As the additive, known additives commonly used in dicing tapes can be used, for example, a crosslinking aid, an antistatic agent, a heat stabilizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a lubricant, an antiblocking agent, a colorant, and the like. . And these additives may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

또한, 가교조제로는, 예를 들어 트라이알릴 아이소사이아누레이트 등을 들 수 있고, 기재 필름이 가교조제를 함유하는 경우, 기재 필름 중의 가교조제의 함유량은, 기재 필름을 형성하는 수지 100질량부에 대하여, 0.05~5질량부가 바람직하고, 1~3질량부가 보다 바람직하다.Further, examples of the crosslinking aid include triallyl isocyanurate and the like. When the base film contains a crosslinking aid, the content of the crosslinking aid in the base film is 100 parts by mass of a resin that forms the base film. With respect to this, 0.05-5 mass parts is preferable, and 1-3 mass parts is more preferable.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예에 기초하여 설명한다. 또, 본 발명은, 이들 실시예에 한정되는 것이 아니며, 이들 실시예를 본 발명의 취지에 기초하여 변형, 변경할 수 있고, 이들을 본 발명의 범위에서 제외하는 것이 아니다.Hereinafter, the present invention will be described based on examples. In addition, this invention is not limited to these Examples, These Examples can be modified and changed based on the meaning of this invention, and these are not excluded from the scope of the present invention.

다이싱 테이프용 기재 필름의 제작에 사용한 재료를 이하에 나타낸다.The material used for preparation of the base film for dicing tapes is shown below.

(1) LLDPE-1: 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌, 융점: 120℃, 밀도: 0.913g/㎤, MFR: 2.0g/10분(가부시키가이샤 토소제, 상품명: NIPOLON-Z, ZF220)(1) LLDPE-1: linear low-density polyethylene, melting point: 120°C, density: 0.913 g/cm 3 , MFR: 2.0 g/10 min (manufactured by Tosoh Corporation, trade names: NIPOLON-Z, ZF220)

(2) LLDPE-2: 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌, 융점: 124℃, 밀도: 0.919g/㎤, MFR: 2.0g/10분(가부시키가이샤 프라임 폴리머제, 상품명: ULT-ZEX, 2022F)(2) LLDPE-2: linear low-density polyethylene, melting point: 124°C, density: 0.919 g/cm 3 , MFR: 2.0 g/10 min (manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., trade name: ULT-ZEX, 2022F)

(3) LDPE: 저밀도 폴리에틸렌, 융점: 106℃, 밀도: 0.920g/㎤, MFR: 7.0g/10분(가부시키가이샤 스미토모가가쿠제, 상품명: SUMIKATHENE, CE4506)(3) LDPE: low density polyethylene, melting point: 106°C, density: 0.920 g/cm 3 , MFR: 7.0 g/10 min (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name: SUMIKATHENE, CE4506)

(4) 블록PP: 에틸렌과 공중합한 블록 폴리프로필렌, 융점: 164℃, 밀도: 0.900g/㎤, MFR: 0.6g/10분(가부시키가이샤 스미토모가가쿠제, 상품명: Noblen, AD571)(4) Block PP: Block polypropylene copolymerized with ethylene, melting point: 164° C., density: 0.900 g/cm 3 , MFR: 0.6 g/10 min (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name: Noblen, AD571)

(5) 호모PP: 프로필렌을 단독으로 중합한 호모 폴리프로필렌, 융점: 163℃, 밀도: 0.900g/㎤, MFR: 0.5g/10분(가부시키가이샤 스미토모가가쿠제, 상품명: Noblen, D101)(5) Homo PP: Homo polypropylene obtained by polymerization of propylene alone, melting point: 163° C., density: 0.900 g/cm 3 , MFR: 0.5 g/10 min (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name: Noblen, D101)

(6) 랜덤PP: 에틸렌과 프로필렌이 공중합한 랜덤 폴리프로필렌, 융점: 132℃, 밀도: 0.890g/㎤, MFR: 1.5g/10분(가부시키가이샤 스미토모가가쿠제, 상품명: Noblen, S131)(6) Random PP: Random polypropylene copolymerized with ethylene and propylene, melting point: 132°C, density: 0.890 g/cm 3 , MFR: 1.5 g/10 min (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name: Noblen, S131)

(7) 올레핀계 열가소성 엘라스토머: 에틸렌과 프로필렌이 공중합한 올레핀계 엘라스토머, 융점: 무, 밀도: 0.889g/㎤, MFR: 8.0g/10분(Exxon Mobil사제, 상품명: Vistamaxx, 3588FL)(7) Olefin-based thermoplastic elastomer: olefin-based elastomer copolymerized with ethylene and propylene, melting point: no, density: 0.889 g/cm 3 , MFR: 8.0 g/10 min (manufactured by Exxon Mobil, trade name: Vistamaxx, 3588FL)

(실시예 1)(Example 1)

<기재 필름의 제작><Production of base film>

먼저, 표 1에 나타내는 각 재료를 혼합하여, 표 1에 나타내는 조성(질량부)을 가진 실시예 1의 수지 재료를 준비하였다. 다음으로, 이 수지 재료를, 라보플라스토밀(가부시키가이샤 도요 세이키제)을 이용하여, 폭 230㎜의 T다이스에 의해, 다이스 온도 220~240℃의 조건에서 압출함으로써, 표 1의 두께를 가진 기재 필름을 얻었다.First, each material shown in Table 1 was mixed, and the resin material of Example 1 which had the composition (mass part) shown in Table 1 was prepared. Next, this resin material was extruded using a Laboplastomer (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) with a T dice having a width of 230 mm under conditions of a die temperature of 220 to 240 ° C. A base film with

<저장 탄성률(E')의 산출><Calculation of storage modulus (E')>

동적 점탄성 측정장치(가부시키가이샤 히타치 하이테크 사이언스제, 상품명: DMS6100)를 이용하여, 개시 온도 25℃, 종료 온도 250℃, 승온 속도 6℃/분의 조건 하에서, 제작한 기재 필름(MD)의 100℃, 110℃, 및 120℃에서의 저장 탄성률(E')을 산출하였다. 그리고 100℃에서의 저장 탄성률(E')이 20㎫ 이상, 110℃에서의 저장 탄성률(E')이 10㎫ 이상, 및 120℃에서의 저장 탄성률(E')이 5㎫ 이상인 경우에, 기재 필름의 내열성이 우수한 것으로 하였다. 이상의 결과를 표 1에 나타낸다.100 of the produced base film (MD) using a dynamic viscoelasticity measuring device (manufactured by Hitachi High-Tech Sciences, Ltd., trade name: DMS6100) under the conditions of a starting temperature of 25°C, an ending temperature of 250°C, and a temperature increase rate of 6°C/min. The storage modulus (E') at °C, 110 °C, and 120 °C was calculated. And when the storage elastic modulus (E') at 100 ° C. is 20 MPa or more, the storage elastic modulus (E') at 110 ° C. is 10 MPa or more, and the storage elastic modulus (E') at 120 ° C. is 5 MPa or more, the substrate It was set as the thing excellent in the heat resistance of a film. Table 1 shows the above results.

<MD, 및 TD에서의 응력(100% 신장 시)의 측정><Measurement of stress (at 100% elongation) in MD and TD>

제작한 기재 필름을 이용하여, JIS K7161-2:2014에 준거하여, 측정용 샘플을 얻었다. 다음으로, 얻어진 측정용 샘플을, 그리퍼 사이가 40㎜가 되도록 인장 시험기(가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼제, 상품명: AG-5000A)에 세팅하고, JIS K7161-2:2014에 준거하여, 온도가 23℃, 상대 습도가 40%의 환경 하에서, 인장 속도 300㎜/분으로 인장 시험을 실시하였다. 그리고 기재 필름의 MD, 및 TD에서의, 100% 신장 시의 응력(100% 응력)을 측정하고, 응력이 20㎫ 미만인 경우에, 기재 필름의 유연성이 우수한 것으로 하였다. 또한, MD에서의 응력(100% 신장 시)과 TD에서의 응력(100% 신장 시)의 차를 산출하고, 응력의 차의 절대값이 2㎫ 이하인 경우를 기재 필름의 등방성이 우수한 것으로 하였다. 이상의 결과를 표 1에 나타낸다.Based on JISK7161-2:2014 using the produced base film, the sample for a measurement was obtained. Next, the obtained measurement sample was set in a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, trade name: AG-5000A) so that the gap between the grippers was 40 mm, and the temperature was 23 according to JIS K7161-2:2014. A tensile test was performed at a tensile rate of 300 mm/min under an environment of 40°C and a relative humidity of 40%. And the stress (100% stress) at the time of 100% elongation in MD and TD of a base film was measured, and when a stress was less than 20 MPa, it was set as the thing excellent in the softness|flexibility of a base film. In addition, the difference between the stress in MD (at 100% elongation) and the stress in TD (at 100% elongation) was calculated, and the case where the absolute value of the difference in stress was 2 MPa or less was regarded as excellent in isotropy of the base film. Table 1 shows the above results.

(실시예 2~12, 비교예 1~6)(Examples 2-12, Comparative Examples 1-6)

수지 성분의 조성을 표 1에 나타내는 조성(질량부)으로 변경한 것 이외는, 전술한 실시예 1과 마찬가지로 하여, 표 1에 나타내는 두께를 가진 기재 필름을 제작하였다.Except having changed the composition of the resin component into the composition (part by mass) shown in Table 1, it carried out similarly to Example 1 mentioned above, and produced the base film which has the thickness shown in Table 1.

그리고 전술한 실시예 1과 마찬가지로 하여, 저장 탄성률(E')을 산출하고, 응력(100% 신장 시)을 측정하였다. 이상의 결과를 표 1에 나타낸다.And it carried out similarly to Example 1 mentioned above, the storage elastic modulus (E') was computed, and the stress (at the time of 100% elongation) was measured. Table 1 shows the above results.

Figure pct00001
Figure pct00001

표 1에 나타내는 바와 같이, 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌과, 에틸렌과 공중합한 블록 폴리프로필렌에 의해 구성된 실시예 1~8의 기재 필름, 및 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌과, 프로필렌을 단독으로 중합한 호모 폴리프로필렌에 의해 구성된 실시예 9~12의 기재 필름에서는, 100℃에서의 저장 탄성률(E')이 20㎫ 이상, 110℃에서의 저장 탄성률(E')이 10㎫ 이상, 및 120℃에서의 저장 탄성률(E')이 5㎫ 이상이므로, 내열성이 우수함을 알 수 있다. 또한, 기재 필름의 MD, 및 TD에서의 응력이 20㎫ 미만이므로 유연성이 우수함과 함께, 응력의 차의 절대값이 2㎫ 이하이므로 등방성이 우수함을 알 수 있다.As shown in Table 1, the base films of Examples 1 to 8 composed of linear low-density polyethylene and block polypropylene copolymerized with ethylene, and homopolypropylene obtained by polymerizing linear low-density polyethylene and propylene alone In the base film of Examples 9-12 comprised, the storage elastic modulus (E') in 100 degreeC is 20 MPa or more, the storage elastic modulus (E') in 110 degreeC is 10 MPa or more, and the storage elastic modulus in 120 degreeC (E) ') is 5 MPa or more, so it can be seen that the heat resistance is excellent. In addition, since the stress in MD and TD of the base film is less than 20 MPa, it is excellent in flexibility and, since the absolute value of the difference in stress is 2 MPa or less, it can be seen that the isotropy is excellent.

한편, 비교예 1의 기재 필름에서는, 에틸렌과 공중합한 블록 폴리프로필렌만으로 이루어지므로, 강성이 높아지고 유연성(익스팬딩성)이 저하된다. 따라서, 비교예 1의 기재 필름은 유연성과 등방성이 부족함을 알 수 있다.On the other hand, in the base film of Comparative Example 1, since it consists only of the block polypropylene copolymerized with ethylene, rigidity increases and flexibility (expandability) falls. Therefore, it can be seen that the base film of Comparative Example 1 lacks flexibility and isotropy.

또한, 비교예 2의 기재 필름에서는, 프로필렌을 단독으로 중합한 호모 폴리프로필렌만으로 이루어지므로, 강성이 높고 유연성이 저하하여, 표 1에 나타내는 바와 같이, 기재 필름의 MD에서의 응력이 20㎫보다 커짐과 함께, 기재 필름의 TD에서 필름이 파단되었다. 따라서, 비교예 2의 기재 필름은, 유연성과 등방성이 부족함을 알 수 있다.In addition, in the base film of Comparative Example 2, since it consists only of homopolypropylene obtained by polymerization of propylene alone, the rigidity is high and the flexibility is lowered, and as shown in Table 1, the stress in the MD of the base film is greater than 20 MPa. , and the film was broken at the TD of the base film. Therefore, it can be seen that the base film of Comparative Example 2 lacks flexibility and isotropy.

또한, 비교예 3의 기재 필름에서는, 에틸렌과 공중합한 블록 폴리프로필렌 대신에 랜덤 폴리프로필렌이 포함되고, 이 랜덤 폴리프로필렌은, 전술한 바와 같이, 유연성이 우수하나 융점이 낮으므로, 비교예 3의 기재 필름은, 저장 탄성률(E')이 낮아, 내열성이 부족함을 알 수 있다.In addition, in the base film of Comparative Example 3, random polypropylene is included instead of block polypropylene copolymerized with ethylene, and this random polypropylene, as described above, has excellent flexibility but has a low melting point. It can be seen that the base film has a low storage elastic modulus (E') and lacks heat resistance.

또한, 비교예 4의 기재 필름은, 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌만으로 이루어지므로, 융점이 낮고, 고온에서 열변형이 발생한다. 따라서, 비교예 4의 기재 필름은, 저장 탄성률(E')이 낮아, 내열성이 부족함을 알 수 있다. 또한, 용융으로 인해 필름이 파단했으므로, 120℃에서의 저장 탄성률(E')을 측정할 수 없었다.In addition, since the base film of Comparative Example 4 is made of only linear low-density polyethylene, the melting point is low and thermal deformation occurs at high temperature. Therefore, it can be seen that the base film of Comparative Example 4 has a low storage elastic modulus (E') and lacks heat resistance. In addition, since the film fractured due to melting, the storage modulus (E') at 120°C could not be measured.

또한, 비교예 5의 기재 필름은, 밀도가 큰(0.920g/㎤) 저밀도 폴리에틸렌만으로 이루어지므로, 등방성이 부족하고, 또한, 당해 저밀도 폴리에틸렌의 MFR이 크고(7.0g/10분), 융점이 낮으므로, 내열성이 부족함을 알 수 있다. 또한, 용융으로 인해 필름이 파단했으므로, 120℃에서의 저장 탄성률(E')을 측정할 수 없었다.In addition, since the base film of Comparative Example 5 consists only of low-density polyethylene having a high density (0.920 g/cm 3 ), it lacks isotropy, and the MFR of the low-density polyethylene is large (7.0 g/10 min) and has a low melting point. Therefore, it can be seen that the heat resistance is insufficient. In addition, since the film fractured due to melting, the storage modulus (E') at 120°C could not be measured.

또한, 비교예 6의 기재 필름은, 올레핀계 열가소성 엘라스토머가 포함되고, 이 올레핀계 열가소성 엘라스토머는, 연화 온도가 낮으므로, 비교예 6의 기재 필름은, 저장 탄성률(E')이 낮아, 내열성이 부족함을 알 수 있다. 또한, 용융으로 인해 필름이 파단했으므로, 110℃, 및 120℃에서의 저장 탄성률(E')을 측정할 수 없었다.In addition, the base film of Comparative Example 6 contains an olefinic thermoplastic elastomer, and this olefinic thermoplastic elastomer has a low softening temperature. lack can be seen. In addition, the storage modulus (E') at 110°C and 120°C could not be measured because the film broke due to melting.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명은, 다이싱 테이프용 기재 필름에 적절하다.As explained above, this invention is suitable for the base film for dicing tapes.

Claims (7)

폴리에틸렌계 수지와 폴리프로필렌계 수지를 포함하는 다이싱 테이프용 기재 필름으로서,
100℃에서의 저장 탄성률이 20㎫ 이상 200㎫ 이하이고, 110℃에서의 저장 탄성률이 10㎫ 이상 170㎫ 이하이며, 120℃에서의 저장 탄성률이 5㎫ 이상 140㎫ 이하이고,
MD에서의 응력(100% 신장 시)이 5㎫ 이상 20㎫ 미만인
것을 특징으로 하는 다이싱 테이프용 기재 필름.
As a base film for a dicing tape comprising a polyethylene-based resin and a polypropylene-based resin,
The storage modulus at 100 ° C. is 20 MPa or more and 200 MPa or less, the storage modulus at 110 ° C. is 10 MPa or more and 170 MPa or less, and the storage modulus at 120 ° C. is 5 MPa or more and 140 MPa or less,
When the stress in MD (at 100% elongation) is 5 MPa or more and less than 20 MPa
A base film for a dicing tape, characterized in that.
제1항에 있어서,
TD에서의 응력(100% 신장 시)이 5㎫ 이상 20㎫ 미만인 것을 특징으로 하는 다이싱 테이프용 기재 필름.
According to claim 1,
Stress in TD (at the time of 100% elongation) is 5 Mpa or more and less than 20 Mpa, The base film for dicing tapes characterized by the above-mentioned.
제2항에 있어서,
상기 MD에서의 응력(100% 신장 시)과 상기 TD에서의 응력(100% 신장 시)의 차의 절대값이 2㎫ 이하인 것을 특징으로 하는 다이싱 테이프용 기재 필름.
3. The method of claim 2,
The base film for a dicing tape, characterized in that the absolute value of the difference between the stress in the MD (at the time of 100% elongation) and the stress at the TD (at the time of 100% elongation) is 2 MPa or less.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
직쇄상 저밀도 폴리에틸렌과,
에틸렌과 공중합한 블록 폴리프로필렌, 또는 프로필렌을 단독으로 중합한 호모 폴리프로필렌
을 포함하는 것을 특징으로 하는 다이싱 테이프용 기재 필름.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
linear low-density polyethylene;
Block polypropylene copolymerized with ethylene, or homo polypropylene obtained by polymerization of propylene alone
A base film for a dicing tape, comprising:
제4항에 있어서,
상기 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌과 상기 블록 폴리프로필렌과의 질량비가, 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌:블록 폴리프로필렌=30:70~90:10인 것을 특징으로 하는 다이싱 테이프용 기재 필름.
5. The method of claim 4,
The mass ratio of the said linear low-density polyethylene and the said block polypropylene is linear low-density polyethylene:block polypropylene =30:70-90:10, The base film for dicing tapes characterized by the above-mentioned.
제4항에 있어서,
상기 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌과 상기 호모 폴리프로필렌과의 질량비가, 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌:호모 폴리프로필렌=30:70~90:10인 것을 특징으로 하는 다이싱 테이프용 기재 필름.
5. The method of claim 4,
A mass ratio of the linear low-density polyethylene to the homopolypropylene is linear low-density polyethylene:homopolypropylene=30:70 to 90:10, The base film for dicing tapes.
제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌의 용융질량흐름률이, 1.0~6.0g/10분 이상인 것을 특징으로 하는 다이싱 테이프용 기재 필름.
7. The method according to any one of claims 4 to 6,
The base film for a dicing tape, characterized in that the melt mass flow rate of the linear low-density polyethylene is 1.0 to 6.0 g/10 min or more.
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