KR20220089389A - Magnetic annealing apparatus including permanent magnet - Google Patents
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 81
- 238000000137 annealing Methods 0.000 title description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 58
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 20
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 claims description 17
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 239000002889 diamagnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005298 paramagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002907 paramagnetic material Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
- H10N50/01—Manufacture or treatment
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- H01L43/12—
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F7/00—Magnets
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/345—Arrangements for heating
-
- H01L43/08—
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
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- Power Engineering (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
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Abstract
본 발명은 자기저항 소자의 제조를 위해 사용되는 자기장 열처리 장치에 있어서, 영구자석을 효율적으로 이용하는 자기장 열처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에서는 자기장 열처리를 위한 피처리물이 배치되는 진공 챔버, 상기 진공 챔버 내에 배치되는 상기 피처리물에 대향하여 상기 진공 챔버 밖에 인접하여 배치되는 자기장 발생 수단 및 상기 피처리물을 가열하기 위한 가열 수단을 포함하고, 상기 피처리물은 상기 자기장 발생수단과 상기 가열 수단 사이에 배치되는, 자기장 열처리 장치를 제공할 수 있다. An object of the present invention is to provide a magnetic field heat treatment apparatus that efficiently uses a permanent magnet in a magnetic field heat treatment apparatus used for manufacturing a magnetoresistive element. In order to achieve the above object, in the present invention, a vacuum chamber in which a target object for magnetic field heat treatment is disposed, a magnetic field generating means disposed adjacent to the outside of the vacuum chamber to face the target disposed in the vacuum chamber, and the It is possible to provide a magnetic field heat treatment apparatus comprising a heating means for heating a target object, wherein the target object is disposed between the magnetic field generating means and the heating means.
Description
본 발명은 비용과 안전면에서 유리하도록 영구자석을 통해서 효율적으로 자기장을 인가할 수 있는 자기장 열처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a magnetic field heat treatment apparatus capable of efficiently applying a magnetic field through a permanent magnet to be advantageous in terms of cost and safety.
자기저항소자는 일반적으로 기판 상에 자성층이 단일 또는 복수로 적층된 구조를 가지고 형성된다. 이러한 자성층을 형성하기 위해서는 일정한 온도로 가열하면서 동시에 자기장을 인가하는 자기장 열처리가 필요하게 된다. A magnetoresistive element is generally formed to have a structure in which a single or a plurality of magnetic layers are stacked on a substrate. In order to form such a magnetic layer, a magnetic field heat treatment in which a magnetic field is applied while heating to a constant temperature is required.
자성층을 한 방향으로 자화하기 위해서는 기판 상에 자성 박막을 형성한 후, 자장 중에서 열처리를 실행할 필요가 있다. 통상 0.1T(테슬라) 이상의 배향 자장을 인가할 필요가 있다.In order to magnetize the magnetic layer in one direction, it is necessary to perform heat treatment in a magnetic field after forming the magnetic thin film on the substrate. Usually, it is necessary to apply an orientation magnetic field of 0.1T (Tesla) or more.
이러한 자기 어닐링 처리를 위해 종래에는 도 1에서 나타내는 바와 같은 진공 열처리로가 사용되었다. 이 진공 열처리로는 자기장 발생 수단(613)과, 자기장 발생 수단(613)의 내측에 설치한 가열을 위한 고주파 코일(614)과, 고주파 코일(614)의 내측에 설치되어 웨이퍼 기판(610)을 수용하는 진공 용기(620)로 이루어진다.For the self-annealing process, a vacuum heat treatment furnace as shown in FIG. 1 was used in the prior art. This vacuum heat treatment furnace includes a magnetic field generating means 613 , a
이러한 진공 열처리로의 자기장 발생 수단은 보통 전자석으로 이루어지는데, 이러한 자기장 발생 수단에는 웨이퍼 기판에 필요한 자기장을 인가하기 위해서 대전류를 흐르게 할 필요가 있다. 이렇게 대전류를 이용하기 위해서는 고가의 설비가 필요할 뿐만 아니라, 누설 자속이 매우 크기 때문에 안전성 면에서도 바람직하지 않다. 또한 인체에 주는 위험성을 고려하면 설비 스페이스 이외에 안전 확보를 위한 스페이스의 확보가 필요하게 된다. The magnetic field generating means of such a vacuum heat treatment furnace is usually made of an electromagnet, and it is necessary to flow a large current in this magnetic field generating means to apply a magnetic field required to the wafer substrate. In order to use such a large current, not only expensive equipment is required, but also the leakage magnetic flux is very large, which is undesirable in terms of safety. In addition, considering the risk to the human body, it is necessary to secure a space for safety in addition to the facility space.
자기장 발생 수단으로 전자석이 아닌 영구자석을 이용하는 경우에는 원하는 크기의 자기장 형성이 어려울 수 있는데, 특히 도 1에서 나타낸 것과 같이 웨이퍼 기판(610)과 자기장 발생 수단(613) 사이에 가열을 위한 고주파 코일(614)이 배치되는 경우 자기장이 인가되어야 하는 웨이퍼 기판(610)과 자기장 발생 수단(613) 사이 거리가 벌어지게 되어 웨이퍼 기판(610)에 인가되는 자기장이 더 약해질 수 있다. 또한 영구자석이 가열을 위한 고주파 코일(614)에 인접하여 배치되기 때문에 고온에서 열처리시 영구자석의 열화가 발생한다는 단점이 있다.When a permanent magnet other than an electromagnet is used as the magnetic field generating means, it may be difficult to form a magnetic field of a desired size. In particular, as shown in FIG. 1, a high-frequency coil for heating between the
본 발명은 자기저항 소자의 제조를 위해 사용되는 자기장 열처리 장치에 있어서, 영구자석을 효율적으로 이용하는 자기장 열처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a magnetic field heat treatment apparatus that efficiently uses a permanent magnet in a magnetic field heat treatment apparatus used for manufacturing a magnetoresistive element.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에서는 자기장 열처리를 위한 피처리물이 배치되는 진공 챔버, 상기 진공 챔버 내에 배치되는 상기 피처리물에 대향하여 상기 진공 챔버 밖에 인접하여 배치되는 자기장 발생 수단 및 상기 피처리물을 가열하기 위한 가열 수단을 포함하고, 상기 피처리물은 상기 자기장 발생 수단과 상기 가열 수단 사이에 배치되는, 자기장 열처리 장치를 제공할 수 있다. In order to achieve the above object, in the present invention, a vacuum chamber in which a target object for magnetic field heat treatment is disposed, a magnetic field generating means disposed adjacent to the outside of the vacuum chamber to face the target disposed in the vacuum chamber, and the and heating means for heating the object to be processed, wherein the object is disposed between the magnetic field generating means and the heating means.
본 발명에 따라 제공되는 자기장 열처리 장치는 영구자석을 활용함에 따라 운용 중 안전성 확보에 유리하면서 유지 보수 비용을 절감할 수 있고 설치 비용이 낮아 자기저항소자의 제조 비용을 낮출 수 있게 된다.The magnetic field heat treatment apparatus provided according to the present invention utilizes a permanent magnet, which is advantageous in securing safety during operation, can reduce maintenance costs, and lower the installation cost, thereby lowering the manufacturing cost of the magnetoresistive element.
도 1은 종래의 자기장 열처리 장치를 나타내는 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 자기장 열처리 장치를 나타내는 개략도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 자기장 열처리 장치를 나타내는 개략도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 자기장 열처리 장치를 나타내는 개략도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 자기장 열처리 장치를 나타내는 개략도이다. 1 is a schematic diagram showing a conventional magnetic field heat treatment apparatus.
2 is a schematic diagram showing a magnetic field heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic diagram illustrating a magnetic field heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a schematic diagram illustrating a magnetic field heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a schematic diagram illustrating a magnetic field heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
이하, 실시예를 통해 발명을 상세하게 설명한다. 실시예는 이하에서 개시된 내용에 한정되는 것이 아니라 발명의 요지가 변경되지 않는 한, 다양한 형태로 변형될 수 있다. 또한, 본 명세서에서 "포함"한다는 것은 특별한 기재가 없는 한 다른 구성요소를 더 포함할 수 있음을 의미한다. 또한, 본 명세서에 기재된 구성성분의 양, 반응 조건 등을 나타내는 모든 숫자 및 표현은 특별한 기재가 없는 한 모든 경우에 "약"이라는 용어로써 수식되는 것으로 이해하여야 한다.Hereinafter, the invention will be described in detail through examples. The embodiments are not limited to the contents disclosed below and may be modified in various forms as long as the gist of the invention is not changed. In addition, "comprising" in the present specification means that other components may be further included unless otherwise specified. In addition, it should be understood that all numbers and expressions indicating the amounts of components, reaction conditions, etc. described herein are modified by the term "about" in all cases unless otherwise specified.
본 발명에서는 비용과 안전면에서 유리하도록 영구자석을 통해서도 효율적으로 자기장을 인가할 수 있는 자기장 열처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 이를 위해 본 발명에서는 자기장 열처리를 위한 피처리물이 배치되는 진공 챔버, 상기 진공 챔버 내에 배치되는 상기 피처리물에 대향하여 상기 진공 챔버 밖에 인접하여 배치되는 자기장 발생 수단 및 상기 피처리물을 가열하기 위한 가열 수단을 포함하고, 상기 피처리물은 상기 자기장 발생 수단과 상기 가열 수단 사이에 배치되는, 자기장 열처리 장치를 제공할 수 있다. An object of the present invention is to provide a magnetic field heat treatment apparatus capable of efficiently applying a magnetic field even through a permanent magnet to be advantageous in terms of cost and safety. To this end, in the present invention, a vacuum chamber in which an object for magnetic field heat treatment is disposed, a magnetic field generating means disposed adjacent to the outside of the vacuum chamber to face the object disposed in the vacuum chamber, and heating the object It is possible to provide a magnetic field heat treatment apparatus including a heating means for the processing, wherein the object is disposed between the magnetic field generating means and the heating means.
종래에는 피처리물에 자기장을 인가하기 위한 자기장 발생 수단과 피처리물이 배치되는 진공용기 사이에 가열 수단이 배치됨으로써 자기장 발생 수단과 피처리물 사이의 거리가 벌어지게 되었다. 이렇게 거리가 벌어지면 처리물에 인가되는 자기장은 약해지게 되고 영구자석은 초전도 전자석과 같이 자유롭게 높은 자기장을 발생시킬 수 없기 때문에 자기장 발생 장치에 영구자석을 사용하기 어려움이 있었다. 영구자석을 사용하더라도 특수 제작되어 자력을 높이거나 다양한 배치를 통해 그 정밀도를 높이고자 하는 시도가 있었다. Conventionally, a heating means is disposed between a magnetic field generating means for applying a magnetic field to a target object and a vacuum container in which the target object is disposed, thereby increasing the distance between the magnetic field generating means and the target object. If the distance increases, the magnetic field applied to the object becomes weak, and since the permanent magnet cannot freely generate a high magnetic field like a superconducting electromagnet, it was difficult to use a permanent magnet in a magnetic field generator. Even if permanent magnets are used, attempts have been made to increase the magnetic force by specially manufacturing them or to increase the precision through various arrangements.
본 발명에서는 종래에 용기와 자기장 발생 수단 사이에 가열 수단이 배치되는 구조에서 벗어나 처리물이 배치되는 진공 챔버와 밀착하고 피처리물에 대향하여 자기장 발생 수단이 배치됨에 따라 자력이 비교적 작은 영구자석으로도 충분히 처리물을 자화 시킬 수 있게 된다.In the present invention, as the magnetic field generating means is disposed in close contact with the vacuum chamber in which the object to be processed is disposed, and the magnetic field generating means is disposed opposite the object to be processed, it is converted to a permanent magnet with relatively small magnetic force, away from the conventional structure in which the heating means is disposed between the container and the magnetic field generating means. It is also possible to sufficiently magnetize the treated material.
피처리물을 열처리하기 위한 가열 수단은 자기장 발생 수단의 반대편에 배치됨으로써 피처리물은 가열 수단과 자기장 발생 수단 사이에 배치된다. 이를 통해 처리물의 한쪽에서는 자기장이 인가되고 반대편의 다른 한 쪽에서는 온도를 올리기 위한 열이 가해지게 된다. The heating means for heat-treating the object to be treated is disposed opposite to the magnetic field generating means so that the object is disposed between the heating means and the magnetic field generating means. Through this, a magnetic field is applied to one side of the treated object, and heat to raise the temperature is applied to the other side of the opposite side.
챔버는 진공 상태가 유지될 수 있는 챔버이어서 피처리물이 불순물에 의해 오염 또는 산화되는 것을 방지할 수 있다. 또한 챔버는 영구자석에 의한 자기장이 챔버를 통과하기 때문에 이러한 자기장의 자력선에 영향을 미치지 않도록 상자성체 또는 반자성체인 것이 바람직하다. Since the chamber is a chamber in which a vacuum state can be maintained, it is possible to prevent the object to be processed from being contaminated or oxidized by impurities. In addition, the chamber is preferably a paramagnetic or diamagnetic material so that the magnetic field of the permanent magnet does not affect the magnetic field lines of the magnetic field because the magnetic field passes through the chamber.
본 발명에서 대상으로 하는 피처리물은 반도체 기판일 수 있는데, 실리콘과 같은 반도체 기판 상에 패턴화된 박막을 형성하고 자기저항 소자를 만들기 위해 본 발명에 따른 자기장 열처리 장치를 활용할 수 있다. The object to be processed in the present invention may be a semiconductor substrate, and the magnetic field heat treatment apparatus according to the present invention may be used to form a patterned thin film on a semiconductor substrate such as silicon and to make a magnetoresistive element.
한편, 상기 가열 수단은 상기 진공 챔버 내에 배치될 수 있다. 가열 수단은 저항 코일 등이 사용될 수 있는데, 이렇게 진공 챔버 내에 배치됨에 따라 가열 수단의 산화를 막을 수 있고 가열 수단이 오염물에 의해 열화되는 것을 방지할 수 있게 된다. Meanwhile, the heating means may be disposed in the vacuum chamber. As the heating means, a resistance coil or the like may be used, and by being disposed in the vacuum chamber in this way, it is possible to prevent oxidation of the heating means and to prevent the heating means from being deteriorated by contaminants.
또한, 상기 자기장 발생 수단은 영구자석으로 1T(테슬라) 이하의 자기력을 가질 수 있다. 상술한 바와 같이 자기장 발생 수단을 최대한 피처리물과 가깝게 배치시킴으로써 특수 제작한 영구자석이 아니라 1T 이하의 자기력을 가지는 상용의 영구자석을 통해서도 충분히 피처리물에 자장이 형성되도록 할 수 있다. 또한, 챔버 내부의 피처리물을 자화시키기 위해서 영구자석은 0.1T 이상의 자기력을 가지는 것이 바람직하다.In addition, the magnetic field generating means may have a magnetic force of 1T (Tesla) or less as a permanent magnet. As described above, by arranging the magnetic field generating means as close as possible to the object to be processed, it is possible to sufficiently form a magnetic field in the object to be processed, not through a specially manufactured permanent magnet, but through a commercially available permanent magnet having a magnetic force of 1T or less. In addition, in order to magnetize the object to be processed inside the chamber, the permanent magnet preferably has a magnetic force of 0.1T or more.
본 발명에서 상기 영구자석은 전자석과 같이 많은 열을 발생시키지는 않지만, 열처리 장치 가동에 따라 영구자석 자체의 온도가 상승하게 되면 자력이 약화될 수 있다. 따라서, 영구자석의 온도는 낮게 유지되는 것이 필요한데 이를 위해 본 발명에서는 영구자석을 냉각시키기 위한 냉각 수단을 더 포함할 수 있다. In the present invention, the permanent magnet does not generate as much heat as the electromagnet, but when the temperature of the permanent magnet itself rises according to the operation of the heat treatment device, the magnetic force may be weakened. Accordingly, the temperature of the permanent magnet needs to be kept low, and for this purpose, the present invention may further include a cooling means for cooling the permanent magnet.
이러한 냉각 수단으로는 냉매가 담겨진 냉각 장치를 영구자석과 직접 접촉시키는 방법이 있을 수 있고, 다른 방법으로는 액상 냉매 안으로 영구자석을 넣어서 영구자석을 직접 냉매와 접촉시킴으로써 보다 효율적으로 영구자석을 냉각시킬 수도 있다. 이렇게 액상 냉매와 직접 영구자석을 접촉시키는 경우 액상 냉매가 담겨진 케이스 안에는 온도를 낮춰줄 수 있는 냉각코일이 배치될 수 있다. 또한, 액상 냉매가 담기는 냉각 케이스는 외부 칠러(chiller)와 연결되어 냉매는 칠러를 통해 순환되면서 지속적으로 낮은 온도를 유지할 수 있게 되어 영구 자석을 효과적으로 냉각시킬 수도 있다. 액상 냉매는 물이 될 수 있는데, 물은 유지 보수를 위한 관리에 유리할 수 있다. As such a cooling means, there may be a method of directly contacting a cooling device containing a refrigerant with a permanent magnet, and as another method, a permanent magnet is put into liquid refrigerant and the permanent magnet is brought into direct contact with the refrigerant to cool the permanent magnet more efficiently. may be When the liquid refrigerant and the permanent magnet are brought into direct contact in this way, a cooling coil capable of lowering the temperature may be disposed in the case in which the liquid refrigerant is contained. In addition, the cooling case containing the liquid refrigerant is connected to an external chiller so that the refrigerant is circulated through the chiller to continuously maintain a low temperature, thereby effectively cooling the permanent magnet. The liquid refrigerant may be water, which may be beneficial to management for maintenance.
본 발명의 실시예는 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 아래의 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시예로 한정되는 것은 아니다. 오히려, 이들 실시예는 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하며 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다.The embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those of ordinary skill in the art, and the following examples may be modified in various other forms, and the scope of the present invention It is not limited to the following examples. Rather, these examples are provided so that this disclosure will be more thorough and complete, and will fully convey the spirit of the invention to those skilled in the art.
도 2는 본 발명에 따른 일 실시예를 나타내는 도면이다. 진공챔버(100) 내에 가열 수단(300)이 배치되고 그 위에 피처리물인 웨이퍼(500)가 배치된다. 가열 수단과 접촉하는 웨이퍼(500)의 반대면은 영구자석(200)이 마주보고 배치되고, 영구자석(200)은 냉각장치(400)의 액상 냉매(410) 안에 잠겨있게 된다. 냉각장치(400)에는 액상 냉매(410)가 지속적으로 낮은 온도를 유지하도록 냉각 코일(420)이 배치될 수 있다. 이러한 액상 냉매(410)는 물이 될 수 있다. 2 is a view showing an embodiment according to the present invention. A heating means 300 is disposed in the
도 3은 본 발명에 따른 또 다른 실시예를 나타낸다. 여기서는 가열 수단(300)은 진공 챔버(100) 밖에 배치되는 것이 도 2와 차이를 나타낸다. 이렇게 웨이퍼(500)만 진공을 유지함으로서 진공에 필요한 펌프 등의 설비가 간소화될 수 있고 더 높은 진공도를 유지할 수 있게 된다. 3 shows another embodiment according to the present invention. Here, the heating means 300 is disposed outside the
도 4는 영구자석(200)이 액상 냉매 안에 배치되지 않고 액상 냉매가 있는 냉각장치(400)와 접하여 있는 것을 나타낸다. 액상 냉매 안에 배치되는 경우보다 냉각 효율은 낮을 수 있지만 접하는 냉각장치(400)의 온도를 냉각코일(420)을 통해 충분히 낮춰줄 수 있기 때문에 원하는 냉각 효과는 얻을 수 있다.4 shows that the
도 5는 영구자석(200)이 냉각장치(400)의 액상 냉매 안에 배치되고, 액상 냉매(410)는 순환하면서 칠러(430)를 통과하면서 지속적으로 냉각되는 냉각장치를 나타낸다. 5 shows a cooling device in which the
Claims (5)
상기 진공 챔버 내에 배치되는 상기 피처리물에 대향하여 상기 진공 챔버 밖에 인접하여 배치되는 자기장 발생 수단; 및
상기 피처리물을 가열하기 위한 가열 수단을 포함하고
상기 피처리물은 상기 자기장 발생 수단과 상기 가열 수단 사이에 배치되는,
자기장 열처리 장치.a vacuum chamber in which an object to be processed for magnetic field heat treatment is disposed;
magnetic field generating means disposed adjacent to the outside of the vacuum chamber to face the object disposed in the vacuum chamber; and
a heating means for heating the object to be treated;
The object is disposed between the magnetic field generating means and the heating means,
Magnetic field heat treatment device.
상기 가열 수단은 상기 진공 챔버 내에 배치되는, 자기장 열처리 장치.The method of claim 1,
and the heating means is disposed in the vacuum chamber.
상기 자기장 발생 수단은 영구자석이고 1 테슬라 이하의 자기력을 가지는, 자기장 열처리 장치.The method of claim 1,
The magnetic field generating means is a permanent magnet and has a magnetic force of 1 Tesla or less, a magnetic field heat treatment apparatus.
상기 영구자석을 냉각시키기 위한 냉각 수단을 더 포함하는, 자기장 열처리 장치.The method of claim 1,
The magnetic field heat treatment apparatus further comprising a cooling means for cooling the permanent magnet.
상기 냉각 수단은 상기 영구자석을 액상 냉매와 직접 접촉시켜 냉각시키는, 자기장 열처리 장치.
5. The method of claim 4,
The cooling means cools the permanent magnet by directly contacting it with a liquid refrigerant, a magnetic field heat treatment device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020200179982A KR102453019B1 (en) | 2020-12-21 | 2020-12-21 | Magnetic annealing apparatus including permanent magnet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020200179982A KR102453019B1 (en) | 2020-12-21 | 2020-12-21 | Magnetic annealing apparatus including permanent magnet |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20220089389A true KR20220089389A (en) | 2022-06-28 |
| KR102453019B1 KR102453019B1 (en) | 2022-10-11 |
Family
ID=82268431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020200179982A KR102453019B1 (en) | 2020-12-21 | 2020-12-21 | Magnetic annealing apparatus including permanent magnet |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102453019B1 (en) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20120014043A (en) * | 2009-06-24 | 2012-02-15 | 캐논 아네르바 가부시키가이샤 | Vacuum heating/cooling apparatus and method of producing magnetoresistive element |
| KR20160028371A (en) * | 2014-09-03 | 2016-03-11 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | Magnetic annealing apparatus |
| KR20170069893A (en) * | 2015-12-11 | 2017-06-21 | 삼성전자주식회사 | variable resistance memory device and method of manufacturing the same |
-
2020
- 2020-12-21 KR KR1020200179982A patent/KR102453019B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20120014043A (en) * | 2009-06-24 | 2012-02-15 | 캐논 아네르바 가부시키가이샤 | Vacuum heating/cooling apparatus and method of producing magnetoresistive element |
| KR20160028371A (en) * | 2014-09-03 | 2016-03-11 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | Magnetic annealing apparatus |
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| KR102453019B1 (en) | 2022-10-11 |
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